JP2017011177A - Optical modulation signal generation device and optical modulation signal generation method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To achieve suppression of a code error due to pulse-to-pulse interference of a transmission optical signal with a simple and low-cost configuration.SOLUTION: The optical modulation signal generation device includes: a semiconductor laser 1 for outputting a frequency-modulated optical signal; an EA modulator 2 for intensity-modulating light output from the semiconductor laser 1; a capacitor C1 inserted between a voltage signal Vfor driving the EA modulator 2 and an electrode of the semiconductor laser 1; and a resistor R1 inserted in series to the capacitor C1 between the voltage signal Vand the electrode of the semiconductor laser 1. The optical modulation signal generation device executes frequency modulation so that a frequency deviation Δf generated when a voltage signal is branched by the capacitor C1 and the resistor R1 and is applied to the semiconductor laser 1 satisfies Δf=(B/2)×{(ER-1)/(ER+1)}, where a frequency deviation by frequency modulation is Δf, a bit rate is B and an extinction ratio is ER.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、光通信用の光変調信号を生成する光変調信号生成装置および光変調信号生成方法に関するものである。   The present invention relates to an optical modulation signal generation apparatus and an optical modulation signal generation method for generating an optical modulation signal for optical communication.

メトロ・アクセス系の光源として、電界吸収型光変調器(EA変調器、Electro-Absorption Modulator)と分布帰還型の半導体レーザ(DFBレーザ、Distributed FeedBack Laser)とを集積した光源(EA−DFB)が広く利用されている。この光源を用いた波長1.5μm帯の強度変調光の光ファイバによる伝送距離は、EA変調器のチャープに起因する光ファイバの分散制限により、10Gbit/sの信号速度において概ね80km程度である。   As a light source for a metro access system, there is a light source (EA-DFB) in which an electroabsorption optical modulator (EA modulator, Electro-Absorption Modulator) and a distributed feedback semiconductor laser (DFB laser, Distributed FeedBack Laser) are integrated. Widely used. The transmission distance of the intensity-modulated light having a wavelength of 1.5 μm using this light source through the optical fiber is approximately 80 km at a signal speed of 10 Gbit / s due to the dispersion limitation of the optical fiber caused by the chirp of the EA modulator.

将来のアクセス網の長延化、メトロ網との統合化のためには、低コストかつ低消費電力でありながら、長距離伝送を可能とする光源が重要である。そこで、EA−DFBを基盤とした光源を用いた、長距離伝送を可能とする方法が特許文献1や非特許文献1,2にて提案されている。これら文献に開示された方法では分散補償の技術を用いることなく、100km超の長距離伝送が可能であることが示されている。しかしながら、EA変調器を駆動するための駆動信号用RFポートとは別に周波数変調器として動作させるためのもう1つのRFポートが必要となるため、光送信器としての構成が複雑になるという課題があった。   For future extension of the access network and integration with the metro network, a light source capable of long-distance transmission with low cost and low power consumption is important. Therefore, Patent Document 1 and Non-Patent Documents 1 and 2 propose a method that enables long-distance transmission using a light source based on EA-DFB. The methods disclosed in these documents indicate that long distance transmission exceeding 100 km is possible without using dispersion compensation technology. However, since another RF port for operating as a frequency modulator is required separately from the RF port for driving signal for driving the EA modulator, there is a problem that the configuration as an optical transmitter becomes complicated. there were.

一方、特許文献2においては、波長可変レーザとEA変調器とを集積した光源を用いて、EA変調器を駆動する信号の一部を微分回路を介して、波長可変レーザの波長制御に印加することにより、EA変調器で生じるチャープに対して、そのチャープを相殺するように波長可変レーザの波長を可変させることで、チャープを抑える方法が提案されている。この方法では、通常のDFBレーザとは異なり、波長可変機構を有するレーザとEA変調器とを集積するため、一般的なEA−DFBと比較して光源の構造そのものが複雑となる。また、波長可変レーザを駆動するための信号を生成するために微分回路の他にインバータ回路やブリッジ回路を用いるため低コスト化に課題があった。   On the other hand, in Patent Document 2, using a light source in which a wavelength tunable laser and an EA modulator are integrated, a part of a signal for driving the EA modulator is applied to wavelength control of the wavelength tunable laser through a differentiation circuit. Thus, there has been proposed a method for suppressing the chirp by varying the wavelength of the wavelength tunable laser so as to cancel out the chirp generated by the EA modulator. In this method, unlike a normal DFB laser, since a laser having a wavelength variable mechanism and an EA modulator are integrated, the structure of the light source itself becomes complicated as compared with a general EA-DFB. Further, since an inverter circuit and a bridge circuit are used in addition to the differentiation circuit in order to generate a signal for driving the wavelength tunable laser, there is a problem in cost reduction.

特開2011−159752号公報JP 2011-159552 A 特開平7−38188号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-38188

K.Hasebe et al.,“Directly Frequency Modulated DFB Laser Integrated with EA modulator for Extended Transmission Reach”,ECOC2010,Th.9.D.5,2010K. Hasebe et al., “Directly Frequency Modulated DFB Laser Integrated with EA modulator for Extended Transmission Reach”, ECOC2010, Th.9.D.5, 2010 H.Kim et al.,“A Novel Way to Improve the Dispersion-Limited Transmission Distance of Electroabsorption Modulated Lasers”,IEEE Photonics Technology Letters,Vol.18,No.8,2006H. Kim et al., “A Novel Way to Improve the Dispersion-Limited Transmission Distance of Electroabsorption Modulated Lasers”, IEEE Photonics Technology Letters, Vol. 18, No. 8, 2006

光ファイバ伝送後の送信信号エラーの主たる要因は、信号のパルス間干渉により、0,1のレベルの判定を誤ることである。特に1,0,1等のように2つの1レベルの信号の間に0レベルの信号を1ビット含んだような信号列の場合、0レベルの前後のパルスが光ファイバ伝送に伴うパルス広がりによって干渉を受ける結果、0レベルを1レベルと誤って判定し、エラーとなる。
さらに、EA変調器の動作原理上、変調動作に伴うチャープをゼロとすることは困難である。このチャープのために光ファイバによる伝送距離は更に制限される。
The main cause of transmission signal error after optical fiber transmission is erroneous determination of 0 and 1 levels due to inter-pulse interference of signals. In particular, in the case of a signal train including 1 bit of a 0 level signal between two 1 level signals such as 1, 0, 1, etc., pulses before and after the 0 level are caused by pulse spreading accompanying optical fiber transmission. As a result of receiving the interference, the 0 level is erroneously determined as the 1 level and an error occurs.
Furthermore, it is difficult to make the chirp associated with the modulation operation zero due to the operating principle of the EA modulator. Because of this chirp, the transmission distance by the optical fiber is further limited.

[従来技術によるパルス間干渉抑圧の基本原理]
特許文献1や非特許文献1,2に開示された従来の技術では、パルス間干渉による送信エラーを抑制するために、変調信号0レベルと1レベルの2値によって強度変調された光信号に対して、この強度変調と同期するように周波数変調を行っている。周波数変調によって、0レベル1レベルに応じて、Δf(GHz)の周波数偏移を与えるとき、ビットレートB(Gb/s)と周波数偏移Δfと強度変調の消光比ERとが以下の関係となるときに、1ビット分の0レベル前後のパルス間に180°の位相差を与えることができ、分散耐性の向上が可能となることが知られている。なお、消光比ERは、1レベルの光強度I1と0レベルの光強度I0との比I1/I0により定義される。
[Basic principle of inter-pulse interference suppression by conventional technology]
In the conventional techniques disclosed in Patent Document 1 and Non-Patent Documents 1 and 2, in order to suppress a transmission error due to inter-pulse interference, an optical signal that is intensity-modulated by binary values of the modulated signal 0 level and 1 level is used. Thus, frequency modulation is performed so as to synchronize with this intensity modulation. When a frequency shift of Δf (GHz) is given by frequency modulation according to the 0 level 1 level, the bit rate B (Gb / s), the frequency shift Δf, and the extinction ratio ER of the intensity modulation have the following relationship: In this case, it is known that a phase difference of 180 ° can be given between pulses of around 0 level for 1 bit, and dispersion tolerance can be improved. The extinction ratio ER is defined by the ratio I1 / I0 between the 1-level light intensity I1 and the 0-level light intensity I0.

このような強度変調と周波数変調を実現するために、特許文献1や非特許文献1,2に開示された従来技術では、図11に示すように、半導体レーザ1の直接変調による周波数変調とEA変調器2の強度変調とをそれぞれ個別に実施し、式(1)を満足する条件で動作させることで、分散耐性を向上させ、伝送距離の延伸を実現していた。図11におけるR50は終端抵抗、S1はEA変調器2を駆動するための電圧信号を出力する信号源、S2は半導体レーザ1に印加される電圧信号を出力する信号源である。 In order to realize such intensity modulation and frequency modulation, in the prior art disclosed in Patent Document 1 and Non-Patent Documents 1 and 2, as shown in FIG. 11, frequency modulation and EA by direct modulation of the semiconductor laser 1 are performed. The intensity modulation of the modulator 2 is individually performed and operated under the condition satisfying the expression (1), thereby improving the dispersion resistance and realizing the extension of the transmission distance. In FIG. 11, R 50 is a termination resistor, S 1 is a signal source that outputs a voltage signal for driving the EA modulator 2, and S 2 is a signal source that outputs a voltage signal applied to the semiconductor laser 1.

図11の構成の光変調信号生成装置で生成される光変調信号は、ASK(Amplitude Shift Keying)−CPFSK(Continuous Phase Frequency Shift Keying)の信号となるが、強度変調信号を直接検波することで受信が可能な信号である。
しかしながら、図11に示した従来の構成では、周波数変調のための信号源S2と接続するRFポートP2と強度変調のための信号源S1と接続するRFポートP1の2つが光変調信号生成装置に必要であり、装置の構成が複雑かつ高コストになるという課題があった。
The optical modulation signal generated by the optical modulation signal generation apparatus having the configuration shown in FIG. 11 is an ASK (Amplitude Shift Keying) -CPFSK (Continuous Phase Frequency Shift Keying) signal, but is received by directly detecting the intensity modulation signal. Is a possible signal.
However, in the conventional configuration shown in FIG. 11, the RF port P2 connected to the signal source S2 for frequency modulation and the RF port P1 connected to the signal source S1 for intensity modulation are in the optical modulation signal generation device. There is a problem that it is necessary and the configuration of the apparatus is complicated and expensive.

本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、簡単かつ低コストな構成で伝送光信号のパルス間干渉による符号誤りを抑制し、伝送可能な距離を延伸することができる光変調信号生成装置および光変調信号生成方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and an optical modulation signal capable of suppressing a code error due to inter-pulse interference of a transmission optical signal and extending a transmittable distance with a simple and low-cost configuration. An object of the present invention is to provide a generation device and an optical modulation signal generation method.

本発明の光変調信号生成装置は、周波数変調された光信号を出力する周波数変調光源と、この周波数変調光源から出力された光を強度変調する光強度変調器と、この光強度変調器を駆動する電圧信号と前記周波数変調光源の電極との間に挿入された第1のコンデンサと、前記電圧信号と前記周波数変調光源の電極との間に、前記第1のコンデンサと直列に挿入された抵抗とを備え、周波数変調による周波数偏移をΔf、ビットレートをB、消光比をERとしたとき、前記第1のコンデンサおよび抵抗によって前記電圧信号を分岐させて前記周波数変調光源に印加したときの前記周波数偏移Δfが、
を満たすように、周波数変調を実施し、前記第1のコンデンサのキャパシタンスをC、前記抵抗の値をR、前記周波数変調光源の抵抗値をRLD、角周波数ωの前記電圧信号をVSとしたとき、前記周波数変調光源に印加される電圧VLDは、
によって与えられることを特徴とするものである。
An optical modulation signal generation device of the present invention includes a frequency modulation light source that outputs a frequency modulated optical signal, a light intensity modulator that intensity modulates light output from the frequency modulation light source, and drives the light intensity modulator. A first capacitor inserted between the voltage signal and the electrode of the frequency modulation light source, and a resistor inserted in series with the first capacitor between the voltage signal and the electrode of the frequency modulation light source When the frequency shift due to frequency modulation is Δf, the bit rate is B, and the extinction ratio is ER, the voltage signal is branched by the first capacitor and resistor and applied to the frequency modulation light source. The frequency shift Δf is
Frequency modulation is performed so that the capacitance of the first capacitor is C, the resistance value is R, the resistance value of the frequency modulation light source is R LD , and the voltage signal of the angular frequency ω is V S. Then, the voltage V LD applied to the frequency modulation light source is
It is characterized by being given by.

また、本発明の光変調信号生成装置の1構成例において、前記周波数変調光源は、直接周波数変調が可能な半導体レーザであり、前記周波数変調による周波数偏移Δfと前記周波数変調光源に印加される電圧VLDとの関係が、
によって表される、比例定数βを有する線形な周波数偏移‐電圧特性の領域を用いることを特徴とするものである。
また、本発明の光変調信号生成装置の1構成例において、前記抵抗の値および前記周波数変調光源の駆動条件は、前記周波数変調による周波数偏移Δfが、
を満たすように設定されることを特徴とするものである。
In the configuration example of the optical modulation signal generation device of the present invention, the frequency modulation light source is a semiconductor laser capable of direct frequency modulation, and is applied to the frequency shift Δf by the frequency modulation and the frequency modulation light source. The relationship with voltage V LD is
A linear frequency shift-voltage characteristic region having a proportionality constant β expressed by the above equation is used.
Further, in one configuration example of the optical modulation signal generation device of the present invention, the value of the resistance and the driving condition of the frequency modulation light source are such that the frequency shift Δf by the frequency modulation is:
It is characterized by being set to satisfy.

また、本発明の光変調信号生成装置の1構成例において、前記光強度変調器によって生じるチャープは、正のチャープまたは負のチャープであって、かつ前記周波数変調による周波数偏移Δfより小さいことを特徴とするものである。
また、本発明の光変調信号生成装置の1構成例は、さらに、前記周波数変調光源の電極と接地との間に挿入された第2のコンデンサを備え、この第2のコンデンサのキャパシタンスをCdとしたとき、前記周波数変調光源に印加される電圧VLDDは、
によって与えられることを特徴とするものである。
Further, in one configuration example of the optical modulation signal generating device of the present invention, the chirp generated by the optical intensity modulator is a positive chirp or a negative chirp and is smaller than a frequency shift Δf by the frequency modulation. It is a feature.
In addition, one configuration example of the optical modulation signal generation device of the present invention further includes a second capacitor inserted between the electrode of the frequency modulation light source and the ground, and the capacitance of the second capacitor is represented by C d. The voltage V LDD applied to the frequency modulation light source is
It is characterized by being given by.

また、本発明の光変調信号生成方法は、電圧信号を光強度変調器に印加すると共に、前記電圧信号を第1のコンデンサおよび抵抗を介して周波数変調光源の電極に印加する電圧印加ステップと、前記第1のコンデンサおよび抵抗を介して印加される電圧に応じた前記周波数変調光源の動作により周波数変調された光信号を生成する周波数変調ステップと、前記電圧信号に応じた前記光強度変調器の動作により前記周波数変調光源の出力光を強度変調する強度変調ステップとを含み、周波数変調による周波数偏移をΔf、ビットレートをB、消光比をERとしたとき、前記第1のコンデンサおよび抵抗によって前記電圧信号を分岐させて前記周波数変調光源に印加したときの前記周波数偏移Δfが、
を満たすように、周波数変調を実施し、前記第1のコンデンサのキャパシタンスをC、前記抵抗の値をR、前記周波数変調光源の抵抗値をRLD、角周波数ωの前記電圧信号をVSとしたとき、前記周波数変調光源に印加される電圧VLDは、
によって与えられることを特徴とするものである。
Further, the light modulation signal generation method of the present invention applies a voltage signal to the light intensity modulator, and applies a voltage signal to the electrode of the frequency modulation light source through the first capacitor and resistor, A frequency modulation step of generating an optical signal frequency-modulated by an operation of the frequency-modulated light source according to a voltage applied via the first capacitor and a resistor, and a light intensity modulator according to the voltage signal. An intensity modulation step of intensity-modulating the output light of the frequency-modulated light source by operation, when the frequency shift due to frequency modulation is Δf, the bit rate is B, and the extinction ratio is ER, the first capacitor and the resistor The frequency shift Δf when the voltage signal is branched and applied to the frequency-modulated light source,
Frequency modulation is performed so that the capacitance of the first capacitor is C, the resistance value is R, the resistance value of the frequency modulation light source is R LD , and the voltage signal of the angular frequency ω is V S. Then, the voltage V LD applied to the frequency modulation light source is
It is characterized by being given by.

本発明によれば、光強度変調器を駆動する電圧信号と周波数変調光源の電極との間に第1のコンデンサと抵抗とを設けることにより、簡単かつ低コストな構成で伝送光信号のパルス間干渉による符号誤りを抑制し、伝送可能な距離を延伸することができる。   According to the present invention, by providing the first capacitor and the resistor between the voltage signal for driving the light intensity modulator and the electrode of the frequency modulation light source, it is possible to provide a simple and low-cost configuration between the pulses of the transmitted optical signal. It is possible to suppress a code error due to interference and extend a transmittable distance.

従来の光変調信号生成装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the conventional optical modulation signal generation apparatus. 本発明の第1の実施の形態に係る光変調信号生成装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the optical modulation signal generation apparatus which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施の形態に係る光変調信号生成装置の等価回路図である。1 is an equivalent circuit diagram of an optical modulation signal generation device according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施の形態においてEA変調器を駆動する電圧信号と半導体レーザに印加される分岐電圧の時間変化の1例を示す図である。It is a figure which shows one example of the time change of the voltage signal which drives an EA modulator, and the branch voltage applied to a semiconductor laser in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施の形態における光変調信号を説明する図である。It is a figure explaining the optical modulation signal in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施の形態においてEA変調器を駆動する電圧信号と半導体レーザとの間に挿入される抵抗と、半導体レーザに印加される分岐電圧との関係の1例を示す図である。It is a figure which shows an example of the relationship between the resistance inserted between the voltage signal which drives an EA modulator, and a semiconductor laser in the 1st Embodiment of this invention, and the branch voltage applied to a semiconductor laser. . 本発明の第1の実施の形態において半導体レーザに印加される分岐電圧の振幅と周波数変調による光変調信号の周波数偏移との関係の1例を示す図である。It is a figure which shows one example of the relationship between the amplitude of the branch voltage applied to a semiconductor laser, and the frequency shift of the optical modulation signal by frequency modulation in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施の形態に係るEA変調器集積光源の模式図である。It is a schematic diagram of the EA modulator integrated light source which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 従来の光変調信号生成装置および本発明の第1の実施の形態に係る光変調信号生成装置から出力された光変調信号の100km伝送後の信号波形のアイパターンを示す図である。It is a figure which shows the eye pattern of the signal waveform after 100-km transmission of the optical modulation signal output from the conventional optical modulation signal generation apparatus and the optical modulation signal generation apparatus which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施の形態に係る光変調信号生成装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the optical modulation signal generation apparatus which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 従来の光変調信号生成装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the conventional optical modulation signal generation apparatus.

[第1の実施の形態]
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。強度変調のみを行う通常のEA変調器集積光源の電気配線においては、図1に示すように単一の配線板を用いてEA変調器2のみに高周波の電圧信号を印加するように配線される。EA変調器2のみに電圧信号を印加する理由は、半導体レーザ1に電圧信号を印加することでEA変調器2と別のチャープが発生することを避けるためである。
[First Embodiment]
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the electrical wiring of a normal EA modulator integrated light source that performs only intensity modulation, wiring is performed so that a high-frequency voltage signal is applied only to the EA modulator 2 using a single wiring board as shown in FIG. . The reason why the voltage signal is applied only to the EA modulator 2 is to avoid the occurrence of another chirp from the EA modulator 2 by applying the voltage signal to the semiconductor laser 1.

一方、特許文献1や非特許文献1,2に開示された光変調信号生成装置では、式(1)を満足する条件で、半導体レーザ1の直接変調による周波数変調とEA変調器2による強度変調とをそれぞれ個別に実施することにより、伝送距離の延伸を実現していたが、上記のとおり光源の構成が複雑かつ高コストになるという課題があった。   On the other hand, in the optical modulation signal generation apparatus disclosed in Patent Document 1 and Non-Patent Documents 1 and 2, frequency modulation by direct modulation of the semiconductor laser 1 and intensity modulation by the EA modulator 2 are performed under the condition that satisfies Expression (1). However, there is a problem in that the configuration of the light source is complicated and expensive as described above.

これに対して、本実施の形態では、EA変調器2のみに高周波の電圧信号を印加する差動駆動用等の配線板を用いて意図的に半導体レーザ1側に高周波の電圧信号が印加されるように配線または実装を行う。図2は本実施の形態に係る光変調信号生成装置の構成を示すブロック図である。本実施の形態では、以下のようにEA変調器2を駆動するための電圧信号VSのみで、半導体レーザ1の直接周波数変調を実施することが可能となるので、図1に示した通常の構成と同様に、変調駆動のために必要なRFポートを、信号源S1と接続するRFポートP1のみにすることができる。 In contrast, in the present embodiment, a high-frequency voltage signal is intentionally applied to the semiconductor laser 1 side using a wiring board for differential driving or the like that applies a high-frequency voltage signal only to the EA modulator 2. Wiring or mounting as shown. FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of the optical modulation signal generating apparatus according to the present embodiment. In the present embodiment, the direct frequency modulation of the semiconductor laser 1 can be performed only by the voltage signal V S for driving the EA modulator 2 as described below. Similar to the configuration, the RF port required for the modulation drive can be only the RF port P1 connected to the signal source S1.

従来と同様に、EA変調器2の駆動用の電極には、信号源S1からRFポートP1を介して電圧信号VSが印加される。
一方、RFポートP1と半導体レーザ1の電流注入用の電極との間には、半導体レーザ用のバイアス電流がEA変調器2に流れることを抑止するためのコンデンサC1とEA変調器2を駆動する電圧信号VSを分圧するための抵抗R1とが直列に挿入されている。このようなコンデンサC1および抵抗R1の追加により、電圧信号VSを分岐し、半導体レーザ1に印加することで、半導体レーザ1の直接周波数変調を実現する。
As in the prior art, the voltage signal V S is applied from the signal source S1 to the driving electrode of the EA modulator 2 via the RF port P1.
On the other hand, between the RF port P1 and the current injection electrode of the semiconductor laser 1, the capacitor C1 and the EA modulator 2 for driving the bias current for the semiconductor laser from flowing into the EA modulator 2 are driven. A resistor R1 for dividing the voltage signal V S is inserted in series. By adding the capacitor C1 and the resistor R1, the voltage signal V S is branched and applied to the semiconductor laser 1, thereby realizing direct frequency modulation of the semiconductor laser 1.

図3は本実施の形態の光変調信号生成装置の等価回路を示している。図3において、Iは半導体レーザ1へのバイアス電流、Lは半導体レーザ1へバイアス電流Iを印加するために用いられるバイアスティのインダクタンスである。コンデンサC1のキャパシタンスをC、抵抗R1の値をR、半導体レーザ1の抵抗値をRLDとすると、これらキャパシタンスCと抵抗値R,RLDと角周波数ωの電圧信号VSとから、半導体レーザ1に印加される電圧の大きさVLDは、以下の式(2)のように表すことができる。 FIG. 3 shows an equivalent circuit of the optical modulation signal generating apparatus of this embodiment. In FIG. 3, I is a bias current to the semiconductor laser 1, and L is an inductance of a bias tee used for applying the bias current I to the semiconductor laser 1. If the capacitance of the capacitor C1 is C, the value of the resistor R1 is R, and the resistance value of the semiconductor laser 1 is R LD , the semiconductor laser is obtained from the capacitance C, the resistance values R and R LD and the voltage signal V S of the angular frequency ω. The magnitude V LD of the voltage applied to 1 can be expressed as the following formula (2).

上記のとおり、Lはバイアスティのインダクタンスを示しているが、EA変調器2を駆動するための高周波の電圧信号VSに対しては、開放となるため無視できる。
図4は、図3に示した等価回路に基づく数値計算によって得られた電圧信号VSと半導体レーザ1に印加される分岐電圧VLDの時間変化の1例を示す図である。図4より明らかなように、半導体レーザ1に印加される分岐電圧VLDとEA変調器2に印加される電圧信号VSとが同期していることから、これらの信号を用いて周波数変調と強度変調とを同時に行うことによって、図5(A)、図5(B)に示すような光変調信号が得られることになる。図5(A)は本実施の形態の光変調信号生成装置から出力される光変調信号の光強度−時間特性を示し、図5(B)は光変調信号生成装置から出力される光変調信号の周波数−時間特性を示している。
As described above, L represents the inductance of the bias tee, but it can be ignored for the high-frequency voltage signal V S for driving the EA modulator 2 because it is open.
FIG. 4 is a diagram showing an example of a time change of the voltage signal V S obtained by numerical calculation based on the equivalent circuit shown in FIG. 3 and the branch voltage V LD applied to the semiconductor laser 1. As apparent from FIG. 4, since the branch voltage V LD applied to the semiconductor laser 1 and the voltage signal V S applied to the EA modulator 2 are synchronized, frequency modulation is performed using these signals. By performing the intensity modulation simultaneously, an optical modulation signal as shown in FIGS. 5A and 5B can be obtained. FIG. 5A shows the light intensity-time characteristic of the optical modulation signal output from the optical modulation signal generation device of this embodiment, and FIG. 5B shows the optical modulation signal output from the optical modulation signal generation device. The frequency-time characteristic is shown.

図6は抵抗R1の値Rと分岐電圧VLDとの関係を計算した1例を示す図である。ここでは、半導体レーザ1の抵抗値RLD=5Ω、電圧信号VS=2V、キャパシタンスC=1pF、周波数f=10GHzとして計算している。図6によれば、分岐電圧VLDの大きさは、抵抗R1の値Rによって調整できることが分かる。
また、コンデンサC1のキャパシタンスCの大きさは、半導体レーザ1のバイアス電流がEA変調器2へ流れることを抑止することができればよく、数ピコF〜数百ピコFの広い範囲の大きさで十分である。
FIG. 6 is a diagram showing an example in which the relationship between the value R of the resistor R1 and the branch voltage V LD is calculated. Here, the calculation is performed assuming that the resistance value R LD of the semiconductor laser 1 is 5Ω, the voltage signal V S = 2V, the capacitance C = 1 pF, and the frequency f = 10 GHz. As can be seen from FIG. 6, the magnitude of the branch voltage V LD can be adjusted by the value R of the resistor R1.
The capacitance C of the capacitor C1 only needs to be able to prevent the bias current of the semiconductor laser 1 from flowing to the EA modulator 2, and the size in a wide range of several pico F to several hundred pico F is sufficient. It is.

図7は、半導体レーザ1に印加される分岐電圧VLDの振幅と周波数変調による光変調信号の周波数偏移Δfとの関係の1例を示す図である。この分岐電圧VLDと周波数偏移Δfとの関係は、半導体レーザ1の駆動条件となるバイアス電流や温度に依存するが、標準的な駆動条件下の場合、例えば電流―光出力の関係が線形となる領域を用いる場合には、周波数偏移Δfも線形となることから、式(3)のように表すことができる。 FIG. 7 is a diagram showing an example of the relationship between the amplitude of the branch voltage V LD applied to the semiconductor laser 1 and the frequency shift Δf of the optical modulation signal by frequency modulation. The relationship between the branch voltage V LD and the frequency shift Δf depends on the bias current and temperature that are the driving conditions of the semiconductor laser 1, but in the case of standard driving conditions, for example, the relationship between current and optical output is linear. Is used, the frequency shift Δf is also linear, and therefore can be expressed as in Equation (3).

式(3)におけるβは比例定数であり、半導体レーザ1の駆動条件(バイアス電流や温度)によって変化するパラメータである。
本実施の形態では、式(2)と式(3)とによって規定される周波数偏移Δfが式(1)を満たすように半導体レーザ1の直接変調による周波数変調を実施すると同時に、EA変調器2による強度変調を実施する。周波数変調による光変調信号の周波数偏移Δfが式(1)を満たすようにするためには、半導体レーザ1の駆動条件(バイアス電流や温度)の設定によって定数βを調整したり、抵抗R1の値Rの設定によって分岐電圧VLDを調整したりすればよい。
In Expression (3), β is a proportionality constant and is a parameter that varies depending on the driving conditions (bias current and temperature) of the semiconductor laser 1.
In the present embodiment, the EA modulator is simultaneously performed while performing frequency modulation by direct modulation of the semiconductor laser 1 so that the frequency shift Δf defined by the equations (2) and (3) satisfies the equation (1). 2. Intensity modulation by 2. In order for the frequency shift Δf of the optical modulation signal by frequency modulation to satisfy the equation (1), the constant β is adjusted by setting the driving conditions (bias current and temperature) of the semiconductor laser 1, or the resistance R1 The branch voltage V LD may be adjusted by setting the value R.

図8は、本実施の形態で用いる半導体レーザ1とEA変調器2とを集積したEA変調器集積光源の模式図である。EA変調器集積光源は、半導体基板100と、半導体基板100上に形成された半導体レーザ1のコア層(活性層)101と、コア層101上に形成された半導体レーザ1の回折格子層102と、半導体レーザ1から出射された光をEA変調器2へ伝搬させるパッシブ層103と、半導体基板100上に形成されたEA変調器2のコア層(吸収層)104と、回折格子層102とパッシブ層103とコア層104との上に形成されたクラッド層105と、半絶縁半導体またはポリイミド等からなる電流ブロック層106と、クラッド層105上に形成されたコンタクト層107と、電流ブロック層106上に形成されたパッシベーション膜108と、パッシベーション膜108上に形成された半導体レーザ1の電極109と、パッシベーション膜108上に形成されたEA変調器2の電極110とから構成される。   FIG. 8 is a schematic diagram of an EA modulator integrated light source in which the semiconductor laser 1 and the EA modulator 2 used in the present embodiment are integrated. The EA modulator integrated light source includes a semiconductor substrate 100, a core layer (active layer) 101 of the semiconductor laser 1 formed on the semiconductor substrate 100, and a diffraction grating layer 102 of the semiconductor laser 1 formed on the core layer 101. The passive layer 103 for propagating light emitted from the semiconductor laser 1 to the EA modulator 2, the core layer (absorption layer) 104 of the EA modulator 2 formed on the semiconductor substrate 100, the diffraction grating layer 102, and the passive layer 103 A cladding layer 105 formed on the layer 103 and the core layer 104; a current blocking layer 106 made of semi-insulating semiconductor or polyimide; a contact layer 107 formed on the cladding layer 105; and a current blocking layer 106 The passivation film 108 formed on the passivation film 108, the electrode 109 of the semiconductor laser 1 formed on the passivation film 108, and the passivation film 108. Composed of the EA modulator 2 of electrode 110. formed on the film 108.

EA変調器集積光源の構成は、半絶縁性半導体の埋め込み再成長によって半導体レーザ1とEA変調器2とを構成するものや、リッジ構造とポリイミド系の樹脂による埋め込み構造を用いるものであっても構わない。   The EA modulator integrated light source may be configured such that the semiconductor laser 1 and the EA modulator 2 are formed by burying regrowth of a semi-insulating semiconductor, or a ridge structure and a burying structure made of a polyimide resin. I do not care.

図9(A)は図1に示した従来の光変調信号生成装置から出力された光変調信号の100km伝送後の信号波形のアイパターンを示す図、図9(B)は本実施の形態の光変調信号生成装置から出力された光変調信号の100km伝送後の信号波形のアイパターンを示す図である。ここでは、ビットレートを10Gbit/sとしている。本実施の形態によれば、従来の光変調信号生成装置と比較して、良好なアイ開口が得られることが確認できる。   9A is a diagram showing an eye pattern of a signal waveform after 100 km transmission of an optical modulation signal output from the conventional optical modulation signal generation device shown in FIG. 1, and FIG. 9B is an embodiment of the present embodiment. It is a figure which shows the eye pattern of the signal waveform after 100-km transmission of the optical modulation signal output from the optical modulation signal generation apparatus. Here, the bit rate is 10 Gbit / s. According to the present embodiment, it can be confirmed that a favorable eye opening can be obtained as compared with the conventional optical modulation signal generation device.

以上のようにして、本実施の形態では、RFポートが1つのみの簡単かつ低コストな構成で伝送光信号のパルス間干渉による符号誤りを抑制し、伝送可能な距離を延伸することができる。   As described above, in this embodiment, a simple and low-cost configuration with only one RF port can suppress a code error due to interpulse interference of a transmission optical signal, and can extend a transmission distance. .

なお、本実施の形態および以下の第2の実施の形態では、EA変調器2の持つ固有のチャープに対して、付加的に周波数変調を与えるようにしているため、EA変調器2の駆動条件によって変化するチャープの符合については、正負どちらであっても構わない。ただし、このチャープは、周波数変調による光変調信号の周波数偏移Δfよりも小さいことが望ましい。   In the present embodiment and the second embodiment described below, since the frequency modulation is additionally applied to the inherent chirp of the EA modulator 2, the driving conditions for the EA modulator 2 are the same. The sign of the chirp that changes depending on whether it is positive or negative. However, this chirp is preferably smaller than the frequency shift Δf of the optical modulation signal by frequency modulation.

[第2の実施の形態]
次に、本発明の第2の実施の形態について説明する。図10は本発明の第2の実施の形態に係る光変調信号生成装置の構成を示すブロック図であり、図2と同一の構成には同一の符号を付してある。本実施の形態の光変調信号生成装置は、第1の実施の形態の光変調信号生成装置に対して、半導体レーザ1による周波数変調とEA変調器2による強度変調のタイミング調整のために、半導体レーザ1と並列に遅延調整のためのコンデンサC2を追加したものである。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 10 is a block diagram showing the configuration of the optical modulation signal generating apparatus according to the second embodiment of the present invention. The same components as those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals. The optical modulation signal generation apparatus according to the present embodiment is different from the optical modulation signal generation apparatus according to the first embodiment in that a semiconductor is used for timing adjustment of frequency modulation by the semiconductor laser 1 and intensity modulation by the EA modulator 2. A capacitor C2 for delay adjustment is added in parallel with the laser 1.

このコンデンサC2は、具体的には、図8の電極109と半導体基板100の下面に形成される接地(GND)側の電極(不図示)との間に挿入すればよい。コンデンサC2としては、キャパシタンスのオーダーが数ピコF程度のものを用いればよい。コンデンサC2のキャパシタンスをCdとすると、コンデンサC2が無い場合の半導体レーザ1への印加電圧VLDに対して、コンデンサC2を追加した場合の半導体レーザ1への印加電圧VLDDは次のように示される。 Specifically, the capacitor C <b> 2 may be inserted between the electrode 109 in FIG. 8 and a ground (GND) side electrode (not shown) formed on the lower surface of the semiconductor substrate 100. As the capacitor C2, a capacitor having an order of capacitance of about several pico F may be used. When the capacitance of the capacitor C2 and C d, with respect to the applied voltage V LD of the semiconductor laser 1 when the capacitor C2 is no applied voltage V LDD to the semiconductor laser 1 in the case of adding the capacitor C2 is as follows Indicated.

このように、本実施の形態では、周波数変調に対する強度変調の遅延時間を調整するために、コンデンサC2のキャパシタンスCdの設定によってコンデンサC2へのチャージ時間を調整することができ、半導体レーザ1への印加電圧VLDDのタイミングを調整することができるので、半導体レーザ1による周波数変調とEA変調器2による強度変調とを精度良く同期させることが可能となる。 Thus, in this embodiment, in order to adjust the delay time of the intensity modulation for frequency modulation, it is possible to adjust the charge time of the capacitor C2 by setting the capacitance C d of the capacitor C2, to the semiconductor laser 1 Since the timing of the applied voltage V LDD can be adjusted, the frequency modulation by the semiconductor laser 1 and the intensity modulation by the EA modulator 2 can be accurately synchronized.

なお、第1、第2の実施の形態では、周波数変調による周波数偏移Δfを得るための周波数変調光源として、半導体レーザ1、具体的には直接周波数変調が可能なDFBレーザを用いたが、これに限るものではなく、DBR(Distributed Bragg Reflector)レーザ、二重共振型リングレーザ、SSG(Super Structure Grating)−DBRレーザ等の波長可変レーザの可変機構を電圧または電流によって制御することで、式(1)、式(4)を満たす動作が可能なものであれば、本発明の周波数変調光源として用いることが可能である。   In the first and second embodiments, the semiconductor laser 1, specifically the DFB laser capable of direct frequency modulation, is used as the frequency modulation light source for obtaining the frequency shift Δf by frequency modulation. The present invention is not limited to this, and a variable mechanism of a wavelength tunable laser such as a DBR (Distributed Bragg Reflector) laser, a double-resonance ring laser, an SSG (Super Structure Grating) -DBR laser, or the like is controlled by voltage or current. As long as the operation satisfying the expressions (1) and (4) is possible, it can be used as the frequency modulation light source of the present invention.

また、第1、第2の実施の形態では、光強度変調器として、EA変調器を用いたが、マッハ・ツェンダ型光変調器を用いることも可能である。   In the first and second embodiments, the EA modulator is used as the light intensity modulator, but a Mach-Zehnder type optical modulator may be used.

本発明は、光通信用の光変調信号を生成する技術に適用することができる。   The present invention can be applied to a technique for generating an optical modulation signal for optical communication.

1…半導体レーザ、2…EA変調器、R50…終端抵抗、R1…抵抗、C1,C2…コンデンサ、P1…RFポート、S1…信号源。 1 ... semiconductor laser, 2 ... EA modulator, R 50 ... terminating resistor, R1 ... resistor, C1, C2 ... capacitor, P1 ... RF port, S1 ... signal source.

Claims (6)

周波数変調された光信号を出力する周波数変調光源と、
この周波数変調光源から出力された光を強度変調する光強度変調器と、
この光強度変調器を駆動する電圧信号と前記周波数変調光源の電極との間に挿入された第1のコンデンサと、
前記電圧信号と前記周波数変調光源の電極との間に、前記第1のコンデンサと直列に挿入された抵抗とを備え、
周波数変調による周波数偏移をΔf、ビットレートをB、消光比をERとしたとき、前記第1のコンデンサおよび抵抗によって前記電圧信号を分岐させて前記周波数変調光源に印加したときの前記周波数偏移Δfが、
を満たすように、周波数変調を実施し、
前記第1のコンデンサのキャパシタンスをC、前記抵抗の値をR、前記周波数変調光源の抵抗値をRLD、角周波数ωの前記電圧信号をVSとしたとき、前記周波数変調光源に印加される電圧VLDは、
によって与えられることを特徴とする光変調信号生成装置。
A frequency-modulated light source that outputs a frequency-modulated optical signal;
A light intensity modulator for intensity modulating light output from the frequency modulation light source;
A first capacitor inserted between a voltage signal for driving the light intensity modulator and an electrode of the frequency modulation light source;
A resistor inserted in series with the first capacitor between the voltage signal and the electrode of the frequency modulation light source;
When the frequency shift due to frequency modulation is Δf, the bit rate is B, and the extinction ratio is ER, the frequency shift when the voltage signal is branched by the first capacitor and resistor and applied to the frequency modulation light source. Δf is
Perform frequency modulation to satisfy
When the capacitance of the first capacitor is C, the resistance value is R, the resistance value of the frequency modulation light source is R LD , and the voltage signal of the angular frequency ω is V S , the capacitance is applied to the frequency modulation light source. The voltage V LD is
An optical modulation signal generating device provided by:
請求項1記載の光変調信号生成装置において、
前記周波数変調光源は、直接周波数変調が可能な半導体レーザであり、
前記周波数変調による周波数偏移Δfと前記周波数変調光源に印加される電圧VLDとの関係が、
によって表される、比例定数βを有する線形な周波数偏移‐電圧特性の領域を用いることを特徴とする光変調信号生成装置。
The optical modulation signal generating device according to claim 1,
The frequency modulation light source is a semiconductor laser capable of direct frequency modulation,
The relationship between the frequency shift Δf due to the frequency modulation and the voltage V LD applied to the frequency modulation light source is:
An optical modulation signal generating device using a linear frequency shift-voltage characteristic region having a proportionality constant β expressed by:
請求項1または2記載の光変調信号生成装置において、
前記抵抗の値および前記周波数変調光源の駆動条件は、前記周波数変調による周波数偏移Δfが、
を満たすように設定されることを特徴とする光変調信号生成装置。
In the optical modulation signal generation device according to claim 1 or 2,
The value of the resistance and the driving condition of the frequency modulation light source are the frequency shift Δf due to the frequency modulation,
An optical modulation signal generation device characterized by being set to satisfy
請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光変調信号生成装置において、
前記光強度変調器によって生じるチャープは、正のチャープまたは負のチャープであって、かつ前記周波数変調による周波数偏移Δfより小さいことを特徴とする光変調信号生成装置。
In the optical modulation signal generation device according to any one of claims 1 to 3,
The chirp generated by the light intensity modulator is a positive chirp or a negative chirp, and is smaller than the frequency shift Δf by the frequency modulation.
請求項1乃至4のいずれか1項に記載の光変調信号生成装置において、
さらに、前記周波数変調光源の電極と接地との間に挿入された第2のコンデンサを備え、
この第2のコンデンサのキャパシタンスをCdとしたとき、前記周波数変調光源に印加される電圧VLDDは、
によって与えられることを特徴とする光変調信号生成装置。
In the optical modulation signal generation device according to any one of claims 1 to 4,
A second capacitor inserted between the electrode of the frequency modulation light source and the ground;
When the capacitance of the second capacitor is C d , the voltage V LDD applied to the frequency modulation light source is
An optical modulation signal generating device provided by:
電圧信号を光強度変調器に印加すると共に、前記電圧信号を第1のコンデンサおよび抵抗を介して周波数変調光源の電極に印加する電圧印加ステップと、
前記第1のコンデンサおよび抵抗を介して印加される電圧に応じた前記周波数変調光源の動作により周波数変調された光信号を生成する周波数変調ステップと、
前記電圧信号に応じた前記光強度変調器の動作により前記周波数変調光源の出力光を強度変調する強度変調ステップとを含み、
周波数変調による周波数偏移をΔf、ビットレートをB、消光比をERとしたとき、前記第1のコンデンサおよび抵抗によって前記電圧信号を分岐させて前記周波数変調光源に印加したときの前記周波数偏移Δfが、
を満たすように、周波数変調を実施し、
前記第1のコンデンサのキャパシタンスをC、前記抵抗の値をR、前記周波数変調光源の抵抗値をRLD、角周波数ωの前記電圧信号をVSとしたとき、前記周波数変調光源に印加される電圧VLDは、
によって与えられることを特徴とする光変調信号生成方法。
Applying a voltage signal to the light intensity modulator and applying the voltage signal to the electrode of the frequency modulation light source via a first capacitor and a resistor;
A frequency modulation step of generating an optical signal frequency-modulated by an operation of the frequency-modulated light source according to a voltage applied via the first capacitor and a resistor;
An intensity modulation step of intensity-modulating the output light of the frequency modulation light source by the operation of the light intensity modulator according to the voltage signal,
When the frequency shift due to frequency modulation is Δf, the bit rate is B, and the extinction ratio is ER, the frequency shift when the voltage signal is branched by the first capacitor and resistor and applied to the frequency modulation light source. Δf is
Perform frequency modulation to satisfy
When the capacitance of the first capacitor is C, the resistance value is R, the resistance value of the frequency modulation light source is R LD , and the voltage signal of the angular frequency ω is V S , the capacitance is applied to the frequency modulation light source. The voltage V LD is
A method for generating an optical modulation signal, comprising:
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019029649A (en) * 2017-08-02 2019-02-21 日本オクラロ株式会社 Semiconductor light emitting device
CN112993753A (en) * 2021-02-07 2021-06-18 桂林雷光科技有限公司 Monolithic integrated waveguide device and integrated semiconductor chip thereof
WO2023218532A1 (en) * 2022-05-10 2023-11-16 日本電信電話株式会社 Optical transmission device, optical communication system, and optical transmission device

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5282067A (en) * 1975-12-29 1977-07-08 Chino Works Ltd Thyristor control circuit
US20070237193A1 (en) * 2006-04-11 2007-10-11 David Finzi Electro-absorption modulated laser using coupling for chirp correction
JP2011159752A (en) * 2010-01-29 2011-08-18 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Optical modulation signal generation device and optical modulation signal generation method

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5282067A (en) * 1975-12-29 1977-07-08 Chino Works Ltd Thyristor control circuit
US20070237193A1 (en) * 2006-04-11 2007-10-11 David Finzi Electro-absorption modulated laser using coupling for chirp correction
JP2011159752A (en) * 2010-01-29 2011-08-18 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Optical modulation signal generation device and optical modulation signal generation method

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
"Directly Frequency Modulated DFB Laser Integrated with EA modulator for Extended Transmission Reach", OPTICAL COMMUNICATION(ECOC), 2010 36TH EUROPEAN CONFERENCE AND EXHIBITION ON, JPN6018019556, 4 November 2010 (2010-11-04), IT, pages 9 - 5, ISSN: 0003804733 *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019029649A (en) * 2017-08-02 2019-02-21 日本オクラロ株式会社 Semiconductor light emitting device
CN112993753A (en) * 2021-02-07 2021-06-18 桂林雷光科技有限公司 Monolithic integrated waveguide device and integrated semiconductor chip thereof
WO2023218532A1 (en) * 2022-05-10 2023-11-16 日本電信電話株式会社 Optical transmission device, optical communication system, and optical transmission device

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