JP2017010296A

JP2017010296A - Position sensor

Info

Publication number: JP2017010296A
Application number: JP2015125398A
Authority: JP
Inventors: 直哉杉本; Naoya Sugimoto; 裕介清水; Yusuke Shimizu
Original assignee: Nitto Denko Corp
Current assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 2015-06-23
Filing date: 2015-06-23
Publication date: 2017-01-12

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a position sensor increased in durability against cracks in optical waveguide.SOLUTION: A position sensor is equipped with a sheet-shaped optical waveguide W in which a grating-shaped core 2 is held between a sheet-shaped under-clad layer 1 and an over-clad layer 3; a slidability-providing layer S disposed on a rear face part, matching the grating-shaped core 2, of the under-clad layer 1; an elastic layer R disposed on the rear face of the under-clad layer 1 with this slidability-providing layer S in-between; a light emitting element 4 supplying light to the grating-shaped core 2; and a light receiving element 5 receiving the supplied light via the grating-shaped core 2. Then, the slidability-providing layer S sets the dynamic friction coefficient of the optical waveguide W relative to the elastic layer R at no more than 1.0.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、押圧位置を光学的に検知する位置センサに関するものである。 The present invention relates to a position sensor that optically detects a pressed position.

押圧位置を光学的に検知する位置センサとして、光導波路を利用したものが提案されている（例えば、特許文献１参照）。このものは、光路となる複数の線状のコアを縦横方向に配置し、それらコアをクラッドで覆うことによりシート状の光導波路を形成し、上記各コアの一端面に発光素子からの光を入射させ、各コア内を伝播してきた光を、各コアの他端面で受光素子により受光するようになっている。そして、上記コアの縦横配置部分に対応する、光導波路の表面の一部をペン先等で押圧すると、その押圧部分のコアが変形し、その押圧部分のコアでは、上記受光素子での光の受光レベルが低下することから、上記押圧部分の縦横位置（座標）を検知できるようになっている。その位置検知を利用して、文字等の入力も検知できるようになっている。 As a position sensor for optically detecting the pressing position, a position sensor using an optical waveguide has been proposed (see, for example, Patent Document 1). In this structure, a plurality of linear cores serving as optical paths are arranged in the vertical and horizontal directions, and the cores are covered with a clad to form a sheet-like optical waveguide, and light from the light emitting element is applied to one end face of each of the cores. Light that has entered and propagated through each core is received by the light receiving element at the other end surface of each core. When a part of the surface of the optical waveguide corresponding to the vertical and horizontal arrangement portions of the core is pressed with a pen tip or the like, the core of the pressed portion is deformed, and the core of the pressed portion is configured to transmit light from the light receiving element. Since the light reception level is lowered, the vertical and horizontal positions (coordinates) of the pressed portion can be detected. Using this position detection, it is possible to detect input of characters and the like.

特開平８−２３４８９５号公報JP-A-8-234895

しかしながら、上記位置センサの光導波路の厚みは、一般に約１ｍｍ以下と非常に薄いことから、上記光導波路が、机等の硬い物の上に直接接していると、ペン先等による押圧に対し、凹みにくくなっている。押圧の検知感度を向上させる点では、上記光導波路が小さな押圧力で凹むことが要求される。一方、ペン先等による押圧が解除される（入力が終了する）と、つぎの押圧に備えるために、光導波路が素早く元の平坦な形状に回復することが要求される。 However, since the thickness of the optical waveguide of the position sensor is generally very thin, about 1 mm or less, when the optical waveguide is in direct contact with a hard object such as a desk, It is hard to dent. In order to improve the detection sensitivity of pressing, the optical waveguide is required to be recessed with a small pressing force. On the other hand, when the pressing by the pen tip or the like is released (input is completed), the optical waveguide is required to quickly recover to the original flat shape in order to prepare for the next pressing.

そこで、本出願人は、光導波路の裏面に、特定の硬さおよび弾性率を有する弾性層を設けることにより、光導波路が小さな押圧力で凹み、かつ、押圧が解除されると、光導波路が素早く元の形状に回復するようにした位置センサを発明し、既に出願している（特願２０１４−７６８９２）。 Therefore, the present applicant provides an elastic layer having a specific hardness and elastic modulus on the back surface of the optical waveguide so that the optical waveguide is recessed with a small pressing force, and when the pressure is released, the optical waveguide is A position sensor that quickly recovers its original shape has been invented and has already been filed (Japanese Patent Application No. 2014-76892).

しかしながら、本出願人が先に出願した上記位置センサは、場合によって、押圧位置の検知が正確にできないことがあった。そこで、本発明者らがその原因を追究した結果、押圧位置の検知が正確にできないときは、光導波路に割れが生じており、そのため、コアでの光伝播が適正に行われていないことがわかった。また、その割れは、上記位置センサの使用頻度があまり多くない時点で生じることもあった。すなわち、上記位置センサは、場合によって、光導波路の割れに対する耐久性があまり高くないことがあった。この点で上記位置センサは改善の余地がある。 However, in some cases, the position sensor previously filed by the applicant of the present application cannot accurately detect the pressed position. Therefore, as a result of the investigation of the cause by the inventors, when the detection of the pressed position cannot be accurately performed, the optical waveguide is cracked, and therefore, the light propagation in the core is not properly performed. all right. In addition, the crack may occur at a time when the position sensor is not frequently used. That is, in some cases, the position sensor may not have very high durability against cracking of the optical waveguide. In this respect, the position sensor has room for improvement.

本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、光導波路の割れに対する耐久性を高めた位置センサの提供をその目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to provide a position sensor having improved durability against cracking of an optical waveguide.

上記の目的を達成するため、本発明の位置センサは、格子状に形成された複数の線状のコアと、その格子状のコアを上下から挟持するシート状のクラッド層とを有するシート状の光導波路と、この光導波路の格子状のコアに光を供給する発光素子と、その供給された光を上記格子状のコアを介して受光する受光素子と、上記格子状のコアに対応する光導波路の裏面部分に設けられた滑り性付与層と、この滑り性付与層を介して上記光導波路の裏面に設けられた弾性層とを備えた位置センサであって、上記滑り性付与層により、上記弾性層に対する上記光導波路の動摩擦係数が１．０以下に設定されており、上記格子状のコアに対応する位置センサの表面部分を入力領域とし、その入力領域における押圧位置を、その押圧により変化したコアの光伝播量によって特定するという構成をとる。 In order to achieve the above object, a position sensor of the present invention has a sheet-like shape having a plurality of linear cores formed in a lattice shape and a sheet-like clad layer that sandwiches the lattice-like core from above and below. An optical waveguide; a light-emitting element that supplies light to the lattice-shaped core of the optical waveguide; a light-receiving element that receives the supplied light through the lattice-shaped core; and an optical element corresponding to the lattice-shaped core A position sensor comprising a slipperiness-imparting layer provided on the back surface portion of the waveguide, and an elastic layer provided on the back surface of the optical waveguide via the slipperiness-imparting layer, the slipperiness-imparting layer, The dynamic friction coefficient of the optical waveguide with respect to the elastic layer is set to 1.0 or less, and the surface portion of the position sensor corresponding to the lattice-shaped core is set as an input region, and the pressing position in the input region is determined by the pressing. Changed core A configuration that identifies the amount of propagation.

本発明者らは、位置センサにおいて、光導波路の割れに対する耐久性を高めるべく、まず、従来技術において、光導波路に割れが生じる原因を追究した。その結果、その原因は、弾性層と光導波路の間に働く摩擦力が大きいことにあることが判明した。すなわち、位置センサの表面をペン先等で押圧すると、その押圧した光導波路の部分が弾性層に沈むように凹み、その押圧を解除すると、弾性層の弾性を利用して、光導波路が元の平坦な形状に回復する。そのように光導波路が変形する際、弾性層と光導波路の間に働く摩擦力が大きいと、弾性層に対して光導波路が滑りにくく、光導波路に生じる応力も大きくなる。位置センサでは、その光導波路に上記変形が繰り返される。そのため、光導波路は、その繰り返し生じる大きな応力に耐えられなくなり、疲労して割れるのである。 In order to increase the durability against cracking of the optical waveguide in the position sensor, the present inventors first investigated the cause of cracking in the optical waveguide in the prior art. As a result, it has been found that the cause is a large frictional force acting between the elastic layer and the optical waveguide. That is, when the surface of the position sensor is pressed with a pen tip or the like, the pressed optical waveguide portion is recessed so as to sink into the elastic layer, and when the pressure is released, the elasticity of the elastic layer is utilized to restore the optical waveguide to its original flat shape. Recover to a proper shape. When the optical waveguide is deformed as described above, if the frictional force acting between the elastic layer and the optical waveguide is large, the optical waveguide is difficult to slip with respect to the elastic layer, and the stress generated in the optical waveguide is also increased. In the position sensor, the above deformation is repeated in the optical waveguide. For this reason, the optical waveguide cannot withstand the repeated large stress and fatigues and cracks.

そこで、本発明者らは、弾性層と光導波路の間に働く摩擦力を小さくするべく、弾性層と光導波路の間に、滑り性付与層を設けることを着想した。そして、その滑り性付与層を設けた状態での、弾性層に対する光導波路の動摩擦係数について、研究を重ねた。その結果、その動摩擦係数を１．０以下に設定すると、押圧等により光導波路が変形する際に、弾性層に対して光導波路が適度に滑り、光導波路に生じる応力が小さくなることを突き止めた。それにより、光導波路の割れに対する耐久性が高まることを見出し、本発明に到達した。 Accordingly, the present inventors have conceived of providing a slipperiness-imparting layer between the elastic layer and the optical waveguide in order to reduce the frictional force acting between the elastic layer and the optical waveguide. And the research was repeated about the dynamic friction coefficient of the optical waveguide with respect to an elastic layer in the state which provided the slipperiness | lubricity provision layer. As a result, when the dynamic friction coefficient was set to 1.0 or less, it was found that when the optical waveguide was deformed by pressing or the like, the optical waveguide was appropriately slipped with respect to the elastic layer, and the stress generated in the optical waveguide was reduced. . As a result, the inventors have found that durability against cracking of the optical waveguide is increased, and the present invention has been achieved.

なお、上記滑り性付与層を設けない従来技術において、光導波路に割れが生じる場合、弾性層に対する光導波路の動摩擦係数は、５．０以上であった。 In the prior art in which the slipperiness-imparting layer is not provided, when the optical waveguide is cracked, the dynamic friction coefficient of the optical waveguide with respect to the elastic layer was 5.0 or more.

本発明の位置センサは、格子状のコアに対応する光導波路の裏面部分において、その光導波路と弾性層との間に、滑り性付与層を設け、その滑り性付与層により、弾性層に対する光導波路の動摩擦係数を１．０以下に設定している。そのため、本発明の位置センサの表面を押圧しその押圧を解除する際に、弾性層に対して光導波路が適度に滑り、光導波路に生じる応力を小さくすることができる。そして、本発明の位置センサの表面に対する押圧およびその解除を繰り返しても、光導波路に割れが生じにくくなるようにすることができる。すなわち、本発明の位置センサは、光導波路の割れに対する耐久性を高めることができる。 The position sensor of the present invention provides a slipperiness-imparting layer between the optical waveguide and the elastic layer at the back surface portion of the optical waveguide corresponding to the lattice-shaped core, and the slipperiness-imparting layer provides light to the elastic layer. The dynamic friction coefficient of the waveguide is set to 1.0 or less. For this reason, when the surface of the position sensor of the present invention is pressed and released, the optical waveguide slides moderately with respect to the elastic layer, and the stress generated in the optical waveguide can be reduced. And even if it repeats the press with respect to the surface of the position sensor of this invention, and its cancellation | release, it can make it difficult to produce a crack in an optical waveguide. That is, the position sensor of the present invention can enhance the durability against cracking of the optical waveguide.

特に、上記動摩擦係数の下限値が、０．０１に設定されている場合には、光導波路が弾性層に対して滑りすぎないようになるため、ペン等の入力体による文字等の書き味が良好になる。 In particular, when the lower limit value of the dynamic friction coefficient is set to 0.01, the optical waveguide does not slide too much with respect to the elastic layer. Become good.

また、上記滑り性付与層が、樹脂フィルム，不織布，薄葉紙，無機粉体，有機粉体および潤滑剤のいずれかからなる層である場合には、上記動摩擦係数の設定が容易にできる。 Further, when the slipperiness-imparting layer is a layer made of any one of a resin film, a nonwoven fabric, a thin paper, an inorganic powder, an organic powder, and a lubricant, the dynamic friction coefficient can be easily set.

そして、上記滑り性付与層の厚みが、０．０１〜１．０ｍｍの範囲内に設定されている場合には、上記滑り性付与層が薄すぎないことにより、上記滑り性付与層の耐久性を維持し、上記滑り性付与層が厚すぎないことにより、弾性層による効果（光導波路の凹み性および形状回復性）を適正に得ることができる。 And when the thickness of the said slipperiness | lubricity provision layer is set in the range of 0.01-1.0 mm, the durability of the said slipperiness | lubricity provision layer is because the said slipperiness | lubricity provision layer is not too thin. By maintaining the above and the slipperiness-imparting layer is not too thick, the effect of the elastic layer (the dentability and shape recoverability of the optical waveguide) can be appropriately obtained.

（ａ）は、本発明の位置センサの一実施の形態を模式的に示す平面図であり、（ｂ）は、その中央部分を模式的に示す拡大断面図である。(A) is a top view which shows typically one Embodiment of the position sensor of this invention, (b) is an expanded sectional view which shows the center part typically. 上記位置センサの使用状態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows the use condition of the said position sensor typically. 上記位置センサを構成する光導波路の変形例を模式的に示す、その光導波路の中央部分の拡大断面図である。It is an expanded sectional view of the central part of the optical waveguide which shows typically the modification of the optical waveguide which constitutes the above-mentioned position sensor. （ａ）〜（ｆ）は、上記位置センサにおける格子状のコアの交差形態を模式的に示す拡大平面図である。(A)-(f) is an enlarged plan view which shows typically the cross | intersection form of the grid | lattice-like core in the said position sensor. （ａ），（ｂ）は、上記格子状のコアの交差部における光の進路を模式的に示す拡大平面図である。(A), (b) is an enlarged plan view which shows typically the course of the light in the cross | intersection part of the said grid | lattice-like core.

つぎに、本発明の実施の形態を図面にもとづいて詳しく説明する。 Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図１（ａ）は、本発明の位置センサの一実施の形態を示す平面図であり、図１（ｂ）は、その中央部の断面を拡大した図である。この実施の形態の位置センサは、格子状のコア２が四角形シート状のアンダークラッド層１とオーバークラッド層３とで挟持された四角形シート状の光導波路Ｗと、上記格子状のコア２に対応するアンダークラッド層１の裏面部分に設けられた滑り性付与層Ｓと、この滑り性付与層Ｓを介して上記アンダークラッド層１の裏面に設けられた弾性層Ｒと、上記格子状のコア２に光を供給する発光素子４と、その供給された光を上記格子状のコア２を介して受光する受光素子５とを備えている。そして、上記滑り性付与層Ｓにより、上記弾性層Ｒに対する上記光導波路Ｗの動摩擦係数が１．０以下に設定されている。 Fig.1 (a) is a top view which shows one Embodiment of the position sensor of this invention, FIG.1 (b) is the figure which expanded the cross section of the center part. The position sensor of this embodiment corresponds to a rectangular sheet-shaped optical waveguide W in which a lattice-shaped core 2 is sandwiched between a rectangular sheet-shaped underclad layer 1 and an overcladding layer 3, and the lattice-shaped core 2 described above. A slipperiness-imparting layer S provided on the back surface portion of the under-cladding layer 1, an elastic layer R provided on the back surface of the under-cladding layer 1 via the slip-ness-imparting layer S, and the lattice-like core 2 And a light receiving element 5 for receiving the supplied light through the lattice-shaped core 2. Further, due to the slipperiness-imparting layer S, the dynamic friction coefficient of the optical waveguide W with respect to the elastic layer R is set to 1.0 or less.

より詳しく説明すると、上記光導波路Ｗは、四角形シート状のアンダークラッド層１の表面に、シート状のコアパターン部材が形成され、そのコアパターン部材を被覆した状態で、上記アンダークラッド層１の表面に、四角形シート状のオーバークラッド層３が形成されたものとなっている。上記コアパターン部材は、この実施の形態では、複数の線状の光路用のコア２を縦横に配置してなる格子状部分２Ａと、この格子状部分２Ａの外周部の一横辺および一縦辺〔図１（ａ）では上側の辺および右側の辺〕にそれぞれ位置し、上記格子状部分２Ａの各縦コア２の先端〔図１（ａ）では上端〕および各横コア２の先端〔図１（ａ）では右端〕に分岐する第１外周コア部２Ｂと、上記格子状部分２Ａを介して上記一横辺および一縦辺にそれぞれ対面する他横辺および他縦辺〔図１（ａ）では下側の辺および左側の辺〕に位置し、上記格子状部分２Ａの各縦コア２の後端〔図１（ａ）では下端〕および各横コア２の後端〔図１（ａ）では左端〕から延設された第２外周コア部２Ｃとを備えている。そして、上記第１外周コア部２Ｂの端面に、上記発光素子４が接続され、上記第２外周コア部２Ｃの端面に、上記受光素子５が接続されている。 More specifically, the optical waveguide W is formed by forming a sheet-like core pattern member on the surface of the rectangular sheet-like under cladding layer 1 and covering the core pattern member. Further, a quadrangular sheet-like over clad layer 3 is formed. In this embodiment, the core pattern member includes a lattice-shaped portion 2A formed by arranging a plurality of linear optical path cores 2 vertically and horizontally, one horizontal side and one vertical side of the outer peripheral portion of the lattice-shaped portion 2A. The top ends of the vertical cores 2 (upper ends in FIG. 1A) and the front ends of the horizontal cores 2 are located on the sides (the upper side and the right side in FIG. 1A), respectively. A first outer peripheral core portion 2B that branches to the right end in FIG. 1 (a), and another horizontal side and other vertical side that face the one horizontal side and one vertical side through the lattice portion 2A [FIG. a) is located on the lower side and the left side), and the rear end (lower end in FIG. 1 (a)) and the rear end of each horizontal core 2 (FIG. 1 (a)). a) the second outer peripheral core portion 2C extending from the left end]. And the said light emitting element 4 is connected to the end surface of the said 1st outer periphery core part 2B, and the said light receiving element 5 is connected to the end surface of the said 2nd outer periphery core part 2C.

また、上記アンダークラッド層１の裏面の周縁部分と、上記弾性層Ｒの表面の周縁部分とは、上記滑り性付与層Ｓを介することなく、接着されている。それにより、上記光導波路Ｗは、上記弾性層Ｒに対し、位置ずれしないようになっており、さらに、上記滑り性付与層Ｓは、上記光導波路Ｗおよび弾性層Ｒに対し、位置ずれしないようになっている。そして、格子状のコア２に対応するオーバークラッド層３の表面部分〔図１（ａ）の中央に一点鎖線で示す長方形部分〕が、入力領域３Ａとなっている。なお、図１（ａ）では、コア２を鎖線で示しており、鎖線の太さがコア２の太さを示している。また、図１（ａ）では、コア２の数を略して図示している。そして、図１（ａ）の矢印は、光の進む方向を示している。 Further, the peripheral portion of the back surface of the undercladding layer 1 and the peripheral portion of the surface of the elastic layer R are bonded without the slipperiness-imparting layer S interposed therebetween. Thereby, the optical waveguide W is not displaced relative to the elastic layer R, and the slipperiness imparting layer S is not displaced relative to the optical waveguide W and elastic layer R. It has become. The surface portion of the over clad layer 3 corresponding to the lattice-like core 2 (rectangular portion indicated by a one-dot chain line in the center of FIG. 1A) is an input region 3A. In FIG. 1A, the core 2 is indicated by a chain line, and the thickness of the chain line indicates the thickness of the core 2. In FIG. 1A, the number of cores 2 is omitted. And the arrow of Fig.1 (a) has shown the direction where light travels.

上記位置センサへの文字等の入力は、例えば、図２に断面図で示すように、位置センサを、弾性層Ｒが机３０等の硬い物の表面に接するようにして載置した状態で、上記入力領域３Ａに、直接または樹脂フィルムもしくは紙等を介して（図２では直接）、ペン等の入力体で文字等を書くことにより行われる。このとき、上記入力領域３Ａの部分が、ペン先１０ａ等により押圧され、弾性層Ｒの軟らかさを利用して、押圧方向に光導波路Ｗが、滑り性付与層Ｓと共に、凹みやすくなっている。そして、上記入力を終えると、上記ペン先１０ａ等による押圧が解除され、弾性層Ｒの弾性を利用して、光導波路Ｗが素早く元の平坦な形状〔図１（ｂ）参照〕に回復するようになっている。このように、文字等の入力の際には、光導波路Ｗの変形が繰り返される。 For example, as shown in a cross-sectional view in FIG. 2, the position sensor is placed with the elastic layer R in contact with the surface of a hard object such as a desk 30 as shown in FIG. This is performed by writing characters or the like in the input area 3A directly or through a resin film or paper (directly in FIG. 2) with an input body such as a pen. At this time, the portion of the input area 3A is pressed by the pen tip 10a or the like, and the optical waveguide W is easily recessed along with the slipperiness-imparting layer S in the pressing direction using the softness of the elastic layer R. . When the input is completed, the pressure applied by the pen tip 10a is released, and the optical waveguide W quickly recovers to its original flat shape (see FIG. 1B) using the elasticity of the elastic layer R. It is like that. As described above, the deformation of the optical waveguide W is repeated when characters or the like are input.

ここで、上記位置センサは、弾性層Ｒと光導波路Ｗの間に、滑り性付与層Ｓが設けられ、その滑り性付与層Ｓにより、弾性層Ｒに対する上記光導波路Ｗの動摩擦係数が１．０以下に設定されている。そのため、光導波路Ｗが上記のように変形を繰り返しても、弾性層Ｒに対して光導波路Ｗが適度に滑り、光導波路Ｗに生じる応力が小さくなるようになっている。それにより、光導波路Ｗに疲労による割れが生じにくくなるようにしている。すなわち、上記位置センサは、光導波路Ｗの割れに対する耐久性を高めたものとなっている。 Here, in the position sensor, a slipperiness imparting layer S is provided between the elastic layer R and the optical waveguide W, and the slipperiness imparting layer S causes the dynamic friction coefficient of the optical waveguide W to the elastic layer R to be 1. It is set to 0 or less. Therefore, even if the optical waveguide W is repeatedly deformed as described above, the optical waveguide W appropriately slides with respect to the elastic layer R, and the stress generated in the optical waveguide W is reduced. Thereby, the optical waveguide W is not easily cracked due to fatigue. That is, the position sensor has improved durability against cracking of the optical waveguide W.

さらに、この実施の形態では、上記動摩擦係数を０．０１以上に設定している。この設定により、上記位置センサの表面に、ペン等の入力体で文字等の情報を入力する際、光導波路Ｗが弾性層Ｒに対して滑りすぎないようになっている。そのため、ペン等の入力体による文字等の書き味が良好になっている。 Furthermore, in this embodiment, the dynamic friction coefficient is set to 0.01 or more. With this setting, the optical waveguide W is prevented from slipping too much with respect to the elastic layer R when information such as characters is input to the surface of the position sensor with an input body such as a pen. Therefore, the writing quality of characters and the like by an input body such as a pen is good.

上記滑り性付与層Ｓとしては、例えば、樹脂フィルム，不織布，薄葉紙，無機粉体，有機粉体および潤滑剤のいずれかからなる層があげられる。また、それらを組み合わせて用いてもよい。そして、滑り性付与層Ｓの厚みは、０．０１〜１．０ｍｍの範囲内に設定されることが好ましく、より好ましくは、０．０２〜０．５ｍｍの範囲内である。その理由は、滑り性付与層Ｓが薄すぎると、その強度が低下し、耐久性が悪化する傾向にあり、滑り性付与層Ｓが厚すぎると、弾性層Ｒによる効果を得にくくなるからである。すなわち、滑り性付与層Ｓが厚すぎると、弾性層Ｒの軟らかさを利用できにくくなって、押圧部分が凹みにくくなり、検知感度が鈍る傾向にあるだけでなく、弾性層Ｒの弾性も利用できにくくなって、光導波路Ｗが素早く元の平坦な形状に回復しにくくなるのである。 Examples of the slipperiness imparting layer S include a layer made of any one of a resin film, a nonwoven fabric, a thin paper, an inorganic powder, an organic powder, and a lubricant. Moreover, you may use combining them. And it is preferable that the thickness of the slipperiness | lubricity provision layer S is set in the range of 0.01-1.0 mm, More preferably, it exists in the range of 0.02-0.5 mm. The reason is that if the slipperiness-imparting layer S is too thin, the strength tends to decrease and the durability tends to deteriorate. If the slipperiness-imparting layer S is too thick, it is difficult to obtain the effect of the elastic layer R. is there. That is, if the slipperiness-imparting layer S is too thick, it becomes difficult to use the softness of the elastic layer R, the pressing part is difficult to dent, and the detection sensitivity tends to be dull, and the elasticity of the elastic layer R is also used. This makes it difficult to quickly restore the optical waveguide W to its original flat shape.

上記樹脂フィルムとしては、例えば、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）フィルム等があげられる。具体的には、中興化成工業社製のスカイブドテープ，日東電工社製のニトフロン（登録商標）９２０ＵＬがあげられる。 Examples of the resin film include a PTFE (polytetrafluoroethylene) film. Specific examples include skived tape manufactured by Chuko Kasei Kogyo Co., Ltd. and Nittofuron (registered trademark) 920UL manufactured by Nitto Denko Corporation.

上記不織布としては、例えば、湿式不織布，液晶ポリマー不織布，ポリウレタン不織布，スパンボンド不織布，長繊維不織布，配向性不織布等があげられる。上記湿式不織布としては、旭化成ケミカルズ社製のシルキーファイン（登録商標）ＷＡ７Ａ０５−６，ＷＡ７ＲＲ０２−６等があげられる。上記液晶ポリマー不織布としては、クラレクラフレックス社製のベクルス（登録商標）ＭＢＢＫ６Ｆ−Ｆ，ＭＢＢＫ６Ｃ等があげられる。上記ポリウレタン不織布としては、ＫＢセーレン社製のエスパンシオーネ（登録商標）ＵＨＯ−２５，ＦＨＯ−５０等があげられる。スパンボンド不織布としては、旭化成せんい社製のプレシゼ（登録商標）ＡＣＳ０２０等があげられる。上記長繊維不織布としては、旭化成せんい社製のベンリーゼ（登録商標）ＳＮ１４０，帝人社製のユニセル（登録商標）Ｂ−７２０２Ｗ等があげられる。上記配向性不織布としては、ＪＸ日鉱日石社製のミライフ（登録商標）Ｔ０５，Ｔ３０，ＴＹ０５０３ＦＥ等があげられる。 Examples of the nonwoven fabric include wet nonwoven fabrics, liquid crystal polymer nonwoven fabrics, polyurethane nonwoven fabrics, spunbond nonwoven fabrics, long fiber nonwoven fabrics, and oriented nonwoven fabrics. Examples of the wet nonwoven fabric include Silky Fine (registered trademark) WA7A05-6, WA7RR02-6 manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation. Examples of the liquid crystal polymer non-woven fabric include VECRUZ (registered trademark) MBBK6F-F, MBBK6C, and the like manufactured by Klarek Laurex. Examples of the polyurethane nonwoven fabric include Espancione (registered trademark) UHO-25, FHO-50 manufactured by KB Seiren. Examples of the spunbond nonwoven fabric include Precise (registered trademark) ACS020 manufactured by Asahi Kasei Fibers. Examples of the long-fiber nonwoven fabric include Benlyse (registered trademark) SN140 manufactured by Asahi Kasei Fibers, Unicel (registered trademark) B-7202W manufactured by Teijin Limited, and the like. Examples of the oriented nonwoven fabric include Milife (registered trademark) T05, T30, TY0503FE manufactured by JX Nippon Mining & Metals.

上記薄葉紙としては、具体的には、阿波製紙社製のＰＹ１２０−１８，ＰＹ１１０−２１等、廣瀬製紙社製の０５ＴＨ−８Ｓ，０１２ＴＨ−６Ｓ，０１２ＴＨ−１０等があげられる。 Specific examples of the thin paper include PY120-18 and PY110-21 manufactured by Awa Paper Co., Ltd., and 05TH-8S, 012TH-6S, 012TH-10 manufactured by Hirose Paper Co., Ltd. and the like.

上記無機粉体および上記有機粉体のいずれかからなる層の形成は、コアパターン部材の格子状部分２Ａ（格子状の部分コア２）に対応する、アンダークラッド層１の裏面部分または弾性層Ｒの表面部分に、その粉体を散布等することによりなされる。その粉体の形状は、滑り性付与の観点から、球状であることが好ましい。無機粉体の形成材料としては、例えば、シリカ，アルミナ，マイカ，シリコーン等があげられ、有機粉体の形成材料としては、例えば、ウレタンゴム，ＰＴＦＥ等があげられる。具体的には、シリカ粉体としては、アドマテック社製のアドマファイン（登録商標）ＳＥシリーズ，アドマファイン（登録商標）ＳＣシリーズ等があげられる。アルミナ粉体としては、電気化学工業社製のデンカＤＡＭグレード，デンカＤＡＷグレード等があげられる。マイカ粉体としては、コープケミカル社製のミクロマイカ（登録商標）ＭＫ−１００，ソマシフ（登録商標）ＭＥ−１００等があげられる。シリコーン粉体としては、信越化学工業社製のＫＭＰ−６００，Ｘ−２２−７０３０等、東レダウコーニング社製のＥＰ−５５００，ＥＰ−９２１５等があげられる。ウレタンゴム粉体としては、大日精化社製のダイナミックビーズ（登録商標）ＵＣＮ−８０７０ＣＭ等，根上工業社製のウレタンビーズＣシリーズ等があげられる。ＰＴＦＥ粉体としては、３Ｍ社製のダイニオンＰＴＦＥパウダーＴＦ９２０１Ｚ，ＴＦ９２０７Ｚ等があげられる。 Formation of the layer composed of either the inorganic powder or the organic powder is performed by forming the back surface portion of the undercladding layer 1 or the elastic layer R corresponding to the lattice portion 2A (lattice portion core 2) of the core pattern member. This is done by, for example, spraying the powder on the surface portion of the material. The shape of the powder is preferably spherical from the viewpoint of imparting slipperiness. Examples of the inorganic powder forming material include silica, alumina, mica, and silicone, and examples of the organic powder forming material include urethane rubber and PTFE. Specifically, examples of the silica powder include Admafine (registered trademark) SE series and Admafine (registered trademark) SC series manufactured by Admatech. Examples of the alumina powder include Denka DAM grade and Denka DAW grade manufactured by Denki Kagaku Kogyo. Examples of the mica powder include Micro Mica (registered trademark) MK-100 and Somasif (registered trademark) ME-100 manufactured by Corp Chemical. Examples of the silicone powder include KMP-600 and X-22-7030 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., and EP-5500 and EP-9215 manufactured by Toray Dow Corning. Examples of the urethane rubber powder include dynamic beads (registered trademark) UCN-8070CM manufactured by Dainichi Seika Co., Ltd., and urethane beads C series manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd. Examples of the PTFE powder include Dinion PTFE powder TF9201Z and TF9207Z manufactured by 3M.

上記潤滑剤からなる層の形成は、コアパターン部材の格子状部分２Ａ（格子状のコア２）に対応する、アンダークラッド層１の裏面部分または弾性層Ｒの表面部分に、その潤滑剤を塗布または散布等することによりなされる。上記潤滑剤としては、具体的には、信越化学工業社製のシリコーンコーティング剤ＫＰ−９１１，Ｘ−９３−１７１０等、アクロス社製のα−ＣＲ８４，Ｘ−６５１−３５等があげられる。 The lubricant layer is formed by applying the lubricant to the back portion of the undercladding layer 1 or the surface portion of the elastic layer R corresponding to the lattice portion 2A (lattice core 2) of the core pattern member. Or it is done by spraying. Specific examples of the lubricant include silicone coating agents KP-911, X-93-1710 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., and α-CR84, X-651-35 manufactured by Across.

一方、上記弾性層Ｒの形成材料としては、例えば、シリコーンゴム，エポキシゴム等があげられる。そして、入力領域３Ａに対する押圧力が小さくても、光導波路Ｗを凹みやすくして、押圧位置の検知感度を高める観点から、上記弾性層Ｒのデュロメータ硬さを２０〜４０の範囲内と低く設定することが好ましい。さらに、上記押圧を解除したときに、光導波路Ｗを素早く元の平坦な形状に回復させて、押圧位置の連続検知性を高める観点から、上記弾性層Ｒの反発弾性率を７０％以上と高く設定することが好ましい。また、上記弾性層Ｒ自体を薄くしつつ、光導波路Ｗの凹み性および形状回復性をより良好にする観点から、上記弾性層Ｒの厚みを０．０２〜２．００ｍｍの範囲内に設定することが好ましい。 On the other hand, examples of the material for forming the elastic layer R include silicone rubber and epoxy rubber. And even if the pressing force to the input region 3A is small, the durometer hardness of the elastic layer R is set to a low value in the range of 20 to 40 from the viewpoint of making the optical waveguide W easy to dent and increasing the detection sensitivity of the pressed position. It is preferable to do. Further, when the pressure is released, the optical waveguide W is quickly restored to the original flat shape, and the rebound elastic modulus of the elastic layer R is as high as 70% or more from the viewpoint of improving the continuous detection of the pressed position. It is preferable to set. Further, from the viewpoint of making the dent and shape recoverability of the optical waveguide W better while reducing the thickness of the elastic layer R itself, the thickness of the elastic layer R is set within a range of 0.02 to 2.00 mm. It is preferable.

このような位置センサにおいて、先に述べたように、文字等を入力した際には、入力領域３Ａがペン先１０ａ等で押圧される（図２参照）。このとき、その押圧部分のコア２が変形し、そのコア２の光伝播量が低下する。そのため、上記押圧部分のコア２では、上記受光素子５での光の受光レベルが低下することから、上記押圧位置（ＸＹ座標）を検知できるようになっている。 In such a position sensor, as described above, when a character or the like is input, the input area 3A is pressed by the pen tip 10a or the like (see FIG. 2). At this time, the core 2 of the pressed portion is deformed, and the light propagation amount of the core 2 is reduced. For this reason, in the core 2 of the pressing portion, the light receiving level of the light receiving element 5 is lowered, so that the pressing position (XY coordinate) can be detected.

また、上記光導波路Ｗでは、コア２の弾性率がアンダークラッド層１およびオーバークラッド層３の弾性率よりも大きく設定されていることが好ましい。その理由は、弾性率の設定がその逆であると、コア２の周辺が硬くなるため、オーバークラッド層３の入力領域３Ａの部分を押圧するペン先等の面積よりもかなり広い面積の光導波路Ｗの部分が凹み、押圧位置を正確に検知し難くなる傾向にあるからである。そこで、各弾性率としては、例えば、コア２の弾性率は、１ＧＰａ以上１０ＧＰａ以下の範囲内に設定され、オーバークラッド層３の弾性率は、０．１ＧＰａ以上１０ＧＰａ未満の範囲内に設定され、アンダークラッド層１の弾性率は、０．１ＭＰａ以上１ＧＰａ以下の範囲内に設定されることが好ましい。この場合、コア２の弾性率が大きいため、小さな押圧力では、コア２はつぶれない（コア２の断面積は小さくならない）ものの、押圧により光導波路Ｗが凹むため、その凹んだ部分に対応するコア２の曲がった部分から光の漏れ（散乱）が発生し、そのコア２では、受光素子５での光の受光レベルが低下することから、押圧位置を検知することができる。 In the optical waveguide W, the elastic modulus of the core 2 is preferably set to be larger than the elastic modulus of the under cladding layer 1 and the over cladding layer 3. The reason is that if the elastic modulus is set in the opposite direction, the periphery of the core 2 becomes hard, so that the optical waveguide having an area considerably larger than the area of the pen tip or the like that presses the input region 3A portion of the over clad layer 3 This is because the W portion is recessed and it is difficult to accurately detect the pressed position. Therefore, as each elastic modulus, for example, the elastic modulus of the core 2 is set within a range of 1 GPa or more and 10 GPa or less, and the elastic modulus of the over clad layer 3 is set within a range of 0.1 GPa or more and less than 10 GPa, The elastic modulus of the under cladding layer 1 is preferably set within a range of 0.1 MPa to 1 GPa. In this case, since the elastic modulus of the core 2 is large, the core 2 is not crushed by a small pressing force (the cross-sectional area of the core 2 is not reduced), but the optical waveguide W is recessed by the pressing, and therefore corresponds to the recessed portion. Light leakage (scattering) occurs from the bent portion of the core 2, and in the core 2, the light receiving level of the light receiving element 5 is lowered, so that the pressed position can be detected.

上記アンダークラッド層１，コア２およびオーバークラッド層３の形成材料としては、感光性樹脂，熱硬化性樹脂等があげられ、その形成材料に応じた製法により、光導波路Ｗを作製することができる。また、コア２の屈折率は、アンダークラッド層１およびオーバークラッド層３の屈折率よりも大きく設定されている。その屈折率および上記弾性率の調整は、例えば、各形成材料の種類の選択や組成比率を調整して行うことができる。そして、各層の厚みは、例えば、アンダークラッド層１が１０〜５００μｍの範囲内、コア２が５〜１００μｍの範囲内、オーバークラッド層３が１〜２００μｍの範囲内に設定される。なお、上記アンダークラッド層１として、ゴムシートを用い、そのゴムシート上にコア２を格子状に形成するようにしてもよい。 Examples of the material for forming the under cladding layer 1, the core 2 and the over cladding layer 3 include a photosensitive resin, a thermosetting resin, and the like, and the optical waveguide W can be manufactured by a manufacturing method corresponding to the forming material. . The refractive index of the core 2 is set to be larger than the refractive indexes of the under cladding layer 1 and the over cladding layer 3. The refractive index and the elastic modulus can be adjusted by, for example, selecting the type of each forming material and adjusting the composition ratio. The thickness of each layer is set, for example, such that the under cladding layer 1 is in the range of 10 to 500 μm, the core 2 is in the range of 5 to 100 μm, and the over cladding layer 3 is in the range of 1 to 200 μm. Note that a rubber sheet may be used as the undercladding layer 1 and the cores 2 may be formed in a lattice shape on the rubber sheet.

なお、上記実施の形態では、光導波路Ｗの断面構造を、図１（ｂ）に示すものとしたが、他でもよく、例えば、図３に断面図で示すように、図１（ｂ）に示すものを上下逆さまにした構造のものとしてもよい。すなわち、その光導波路Ｗは、シート状のアンダークラッド層１の表面部分に、コア２が埋設されて、上記アンダークラッド層１の表面とコア２の頂面とが面一に形成され、それらアンダークラッド層１の表面とコア２の頂面とを被覆した状態で、シート状のオーバークラッド層３が形成されたものとなっている。 In the above embodiment, the cross-sectional structure of the optical waveguide W is as shown in FIG. 1B, but may be other, for example, as shown in the cross-sectional view of FIG. The structure shown may be upside down. That is, in the optical waveguide W, the core 2 is embedded in the surface portion of the sheet-like underclad layer 1, and the surface of the underclad layer 1 and the top surface of the core 2 are formed flush with each other. A sheet-like over clad layer 3 is formed in a state where the surface of the clad layer 1 and the top surface of the core 2 are covered.

また、上記実施の形態において、格子状部分のコア２の各交差部は、通常、図４（ａ）に拡大平面図で示すように、交差する４方向の全てが連続した状態に形成されているが、他でもよい。例えば、図４（ｂ）に示すように、交差する１方向のみが、隙間Ｇにより分断され、不連続になっているものでもよい。上記隙間Ｇは、アンダークラッド層１またはオーバークラッド層３の形成材料で形成されている。その隙間Ｇの幅ｄは、０（零）を超え（隙間Ｇが形成されていればよく）、通常、２０μｍ以下に設定される。それと同様に、図４（ｃ），（ｄ）に示すように、交差する２方向〔図４（ｃ）は対向する２方向、図４（ｄ）は隣り合う２方向〕が不連続になっているものでもよいし、図４（ｅ）に示すように、交差する３方向が不連続になっているものでもよいし、図４（ｆ）に示すように、交差する４方向の全てが不連続になっているものでもよい。さらに、図４（ａ）〜（ｆ）に示す上記交差部のうちの２種類以上の交差部を備えた格子状としてもよい。すなわち、本発明において、複数の線状のコア２により形成される「格子状」とは、一部ないし全部の交差部が上記のように形成されているものを含む意味である。 Moreover, in the said embodiment, each cross | intersection part of the core 2 of a grid | lattice-like part is normally formed in the state where all the four directions which cross | intersect are continuous, as shown in an enlarged plan view in FIG.4 (a). There are others. For example, as shown in FIG. 4B, only one intersecting direction may be divided by the gap G and discontinuous. The gap G is formed of a material for forming the under cladding layer 1 or the over cladding layer 3. The width d of the gap G exceeds 0 (zero), and is usually set to 20 μm or less. Similarly, as shown in FIGS. 4C and 4D, two intersecting directions [FIG. 4C is two opposing directions, and FIG. 4D is two adjacent directions] are discontinuous. As shown in FIG. 4 (e), the three intersecting directions may be discontinuous, or as shown in FIG. 4 (f), all the four intersecting directions may be discontinuous. It may be discontinuous. Furthermore, it is good also as a grid | lattice shape provided with the 2 or more types of cross | intersection part of the said cross | intersection part shown to Fig.4 (a)-(f). That is, in the present invention, the “lattice shape” formed by the plurality of linear cores 2 means that a part or all of the intersections are formed as described above.

なかでも、図４（ｂ）〜（ｆ）に示すように、交差する少なくとも１方向を不連続とすると、光の交差損失を低減させることができる。すなわち、図５（ａ）に示すように、交差する４方向の全てが連続した交差部では、その交差する１方向〔図５（ａ）では上方向〕に注目すると、交差部に入射する光の一部は、その光が進んできたコア２と直交するコア２の側面２ａに到達し、その側面での入射角が小さいことから、コア２を透過する〔図５（ａ）の二点鎖線の矢印参照〕。このような光の透過が、交差する上記と反対側の方向〔図５（ａ）では下方向〕でも発生する。これに対し、図５（ｂ）に示すように、交差する１方向〔図５（ｂ）では上方向〕が隙間Ｇにより不連続になっていると、上記隙間Ｇとコア２との界面が形成され、図５（ａ）においてコア２を透過する光の一部は、上記界面での入射角が大きくなることから、透過することなく、その界面で反射し、コア２を進み続ける〔図５（ｂ）の二点鎖線の矢印参照〕。このことから、先に述べたように、交差する少なくとも１方向を不連続とすると、光の交差損失を低減させることができるのである。その結果、ペン先等による押圧位置の検知感度を高めることができる。 In particular, as shown in FIGS. 4B to 4F, when at least one intersecting direction is discontinuous, the light crossing loss can be reduced. That is, as shown in FIG. 5 (a), in an intersection where all four intersecting directions are continuous, if one of the intersecting directions [upward in FIG. 5 (a)] is noted, the light incident on the intersection Part of the light reaches the side surface 2a of the core 2 orthogonal to the core 2 through which the light has traveled, and is transmitted through the core 2 because the incident angle on the side surface is small [two points in FIG. (See chain line arrow). Such transmission of light also occurs in the direction opposite to the above (downward in FIG. 5A). On the other hand, as shown in FIG. 5B, when the intersecting one direction [upward in FIG. 5B] is discontinuous by the gap G, the interface between the gap G and the core 2 is Part of the light formed and transmitted through the core 2 in FIG. 5 (a) is reflected at the interface without being transmitted and continues to travel through the core 2 because the incident angle at the interface is increased [FIG. (Refer to the arrow of the two-dot chain line in 5 (b)). From this, as described above, if at least one intersecting direction is discontinuous, the light crossing loss can be reduced. As a result, it is possible to increase the detection sensitivity of the pressed position by the pen tip or the like.

また、上記実施の形態では、光導波路Ｗを四角形シート状としたが、格子状のコア２を有するものであれば、他の多角形シート状としてもよい。 Moreover, in the said embodiment, although the optical waveguide W was made into the square sheet form, as long as it has the lattice-shaped core 2, it is good also as another polygonal sheet form.

つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。但し、本発明は、実施例に限定されるわけではない。 Next, examples will be described together with comparative examples. However, the present invention is not limited to the examples.

〔アンダークラッド層およびオーバークラッド層の形成材料〕
成分ａ：エポキシ樹脂（三菱化学社製、ＹＬ７４１０）６０重量部。
成分ｂ：エポキシ樹脂（ダイセル社製、ＥＨＰＥ３１５０）４０重量部。
成分ｃ：光酸発生剤（サンアプロ社製、ＣＰＩ１０１Ａ）４重量部。
これら成分ａ〜ｃを混合することにより、アンダークラッド層およびオーバークラッド層の形成材料を調製した。 [Formation material of under clad layer and over clad layer]
Component a: 60 parts by weight of an epoxy resin (Mitsubishi Chemical Corporation YL7410).
Component b: 40 parts by weight of epoxy resin (manufactured by Daicel, EHPE3150).
Component c: 4 parts by weight of a photoacid generator (manufactured by Sun Apro, CPI101A).
By mixing these components a to c, materials for forming the under cladding layer and the over cladding layer were prepared.

〔コアの形成材料〕
成分ｄ：エポキシ樹脂（ダイセル社製、ＥＨＰＥ３１５０）９０重量部。
成分ｅ：エポキシ樹脂（三菱化学社製、エピコート１００２）１０重量部。
成分ｆ：光酸発生剤（ＡＤＥＫＡ社製、ＳＰ１７０）１重量部。
成分ｇ：乳酸エチル（和光純薬工業社製、溶剤）５０重量部。
これら成分ｄ〜ｇを混合することにより、コアの形成材料を調製した。 [Core forming material]
Component d: 90 parts by weight of an epoxy resin (manufactured by Daicel Corporation, EHPE3150).
Component e: 10 parts by weight of an epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, Epicoat 1002).
Component f: 1 part by weight of a photoacid generator (manufactured by ADEKA, SP170).
Component g: 50 parts by weight of ethyl lactate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., solvent).
A core forming material was prepared by mixing these components d to g.

〔光導波路の作製〕
上記アンダークラッド層の形成材料を用いて、スピンコート法により、アンダークラッド層を形成した。このアンダークラッド層の厚みは５０μｍ、弾性率は２４０ＭＰａ、屈折率は１．４９６であった。なお、弾性率の測定は、粘弾性測定装置（TA instruments Japan Inc. 社製、ＲＳＡ３）を用いた。 [Production of optical waveguide]
Using the under cladding layer forming material, an under cladding layer was formed by spin coating. The under cladding layer had a thickness of 50 μm, an elastic modulus of 240 MPa, and a refractive index of 1.496. The elastic modulus was measured using a viscoelasticity measuring device (TA instruments Japan Inc., RSA3).

ついで、上記アンダークラッド層の表面に、上記コアの形成材料を用いて、フォトリソグラフィ法により、複数の線状のコアからなる格子状部分と第１および第２外周コア部とを備えたシート状のコアパターン部材を形成した。格子状部分のコアの幅は３０μｍ、厚みは５０μｍ、弾性率は１．５８ＧＰａ、屈折率は１．５１６であった。 Next, the surface of the under-cladding layer is formed into a sheet-like shape having a lattice-shaped portion composed of a plurality of linear cores and first and second outer core portions by photolithography using the core forming material. The core pattern member was formed. The width of the core of the lattice portion was 30 μm, the thickness was 50 μm, the elastic modulus was 1.58 GPa, and the refractive index was 1.516.

つぎに、上記コアを被覆するように、上記アンダークラッド層の表面に、上記オーバークラッド層の形成材料を用いて、スピンコート法により、オーバークラッド層を形成した。このオーバークラッド層の厚み（コアの表面からの厚み）は２５μｍ、弾性率は２４０ＭＰａ、屈折率は１．４９６であった。このようにして、四角形シート状の光導波路を作製した。 Next, an over clad layer was formed on the surface of the under clad layer by spin coating using the over clad layer forming material so as to cover the core. The overcladding layer had a thickness (thickness from the core surface) of 25 μm, an elastic modulus of 240 MPa, and a refractive index of 1.496. In this way, a rectangular sheet-shaped optical waveguide was produced.

〔滑り性付与層〕
後記の表１に示す滑り性付与層を準備した。 [Slidability imparting layer]
A slipperiness-imparting layer shown in Table 1 below was prepared.

〔弾性層〕
シリコーンゴム製の弾性層（厚み０．６ｍｍ）を準備した。この弾性層のデュロメータ硬さは２８であり、反発弾性率は８５％であった。なお、デュロメータ硬さの測定は、デュロメータを用いた。また、反発弾性率の測定は、ＩＳＯ４６６２に準拠したＳｃｈｏｂ式反発弾性測定器を用いた。 [Elastic layer]
An elastic layer (thickness 0.6 mm) made of silicone rubber was prepared. The elastic layer had a durometer hardness of 28 and a rebound resilience of 85%. In addition, the durometer was used for the measurement of durometer hardness. The impact resilience was measured using a Schob rebound resilience measuring instrument based on ISO4662.

〔位置センサの作製〕
上記光導波路のコアパターン部材の格子状部分に対応する、アンダークラッド層の裏面部分に、上記滑り性付与層を設け、その滑り性付与層を介して、上記弾性層を設けた。そして、上記アンダークラッド層の裏面の周縁部分と、上記弾性層の表面の周縁部分とを、上記滑り性付与層を介することなく、接着した。なお、比較例は、上記滑り性付与層を設けないものとした。 [Production of position sensor]
The slipperiness-imparting layer was provided on the back surface portion of the under cladding layer corresponding to the lattice-shaped portion of the core pattern member of the optical waveguide, and the elastic layer was provided via the slipperiness-imparting layer. And the peripheral part of the back surface of the said under clad layer and the peripheral part of the surface of the said elastic layer were adhere | attached without passing the said slipperiness | lubricity provision layer. In the comparative example, the slipperiness-imparting layer was not provided.

つぎに、上記第１外周コア部の端面に、発光素子（Optowell社製、XH85-S0603-2s ）を接続し、上記第２外周コア部の端面に、受光素子（浜松ホトニクス社製、s10226）を接続した。このようにして、実施例および比較例の位置センサを作製した。 Next, a light emitting element (Optowell, XH85-S0603-2s) is connected to the end face of the first outer core part, and a light receiving element (Hamamatsu Photonics, s10226) is connected to the end face of the second outer core part. Connected. Thus, the position sensor of the Example and the comparative example was produced.

〔弾性層に対する光導波路の動摩擦係数の算出〕
弾性層に対する光導波路の動摩擦力を測定した。この測定は、ＪＩＳＫ７１２５：１９９９（プラスチック−フィルムおよびシート−摩擦係数試験方法）に従って行った。すなわち、まず、弾性層および光導波路を８ｃｍ×２０ｃｍの大きさに切断し、その弾性層を、評価装置（アイコーエンジニアリング社製、デジタルフォースゲージＲＺ−１）の測定ステージに固定した。ついで、その弾性層の表面に、８ｃｍ×８ｃｍの大きさの滑り性付与層を設け、その滑り性付与層の表面に、上記光導波路を載置した。つぎに、その光導波路の表面に、質量２００ｇの滑り片を載置した。そして、上記滑り性付与層の一端を、牽引索を介して上記評価装置に接続した状態で、上記測定ステージを２００ｍｍ／分で移動させた。その移動の際の上記評価装置の値（動摩擦力Ｆｄ〔Ｎ〕）を読み取った。この測定を５回行い、その平均値を下記の式（１）に用い、動摩擦係数μｄを算出した。その動摩擦係数μｄを下記の表に示した。 [Calculation of dynamic friction coefficient of optical waveguide against elastic layer]
The dynamic friction force of the optical waveguide against the elastic layer was measured. This measurement was performed according to JIS K7125: 1999 (plastic-film and sheet-friction coefficient test method). That is, first, the elastic layer and the optical waveguide were cut into a size of 8 cm × 20 cm, and the elastic layer was fixed to a measurement stage of an evaluation apparatus (Aiko Engineering Co., Ltd., Digital Force Gauge RZ-1). Subsequently, a slipperiness imparting layer having a size of 8 cm × 8 cm was provided on the surface of the elastic layer, and the optical waveguide was placed on the surface of the slipperiness imparting layer. Next, a sliding piece having a mass of 200 g was placed on the surface of the optical waveguide. And the said measurement stage was moved at 200 mm / min in the state which connected the end of the said slipperiness | lubricity provision layer to the said evaluation apparatus via the tow rope. The value (dynamic frictional force Fd [N]) of the evaluation device during the movement was read. This measurement was performed 5 times, and the average value was used in the following formula (1) to calculate the dynamic friction coefficient μd. The dynamic friction coefficient μd is shown in the following table.

〔耐久性試験〕
まず、弾性層，滑り性付与層，光導波路をこの順に積層した積層体を、ガラス基板の表面に、上記弾性層と上記ガラス基板とが接触する状態で、固定した。それを、摺動試験機のステージに固定するとともに、先端直径０．５ｍｍのペンを、摺動試験機のペンホルダーに固定した。そして、質量２５０ｇの試験錘により、上記ペンに荷重を加え、上記ペンのペン先で、上記積層体の光導波路の表面を押圧した状態で、上記ステージを、振幅２ｃｍ、速度４ｃｍ／秒で摺動させ、１０往復ごとに上記ステージの摺動を止め、光導波路の割れの有無を顕微鏡で確認した。その光導波路の割れが生じた往復回数を下記の表に示した。 [Durability test]
First, the laminated body which laminated | stacked the elastic layer, the slipperiness | lubricity provision layer, and the optical waveguide in this order was fixed to the surface of a glass substrate in the state which the said elastic layer and the said glass substrate contact. It was fixed to the stage of the sliding tester, and a pen with a tip diameter of 0.5 mm was fixed to the pen holder of the sliding tester. Then, a load is applied to the pen by a test weight having a mass of 250 g, and the stage is slid at an amplitude of 2 cm and a speed of 4 cm / sec while pressing the surface of the optical waveguide of the laminate with the pen tip. The stage was stopped from sliding every 10 reciprocations, and the presence or absence of cracks in the optical waveguide was confirmed with a microscope. The following table shows the number of reciprocations in which the optical waveguide was cracked.

上記表１の結果から、実施例は、比較例と比較して、光導波路の割れに対する耐久性が非常に高いことがわかる。そして、その結果の違いは、弾性層に対する光導波路の動摩擦係数に依存していることがわかる。 From the results of Table 1 above, it can be seen that the example has a very high durability against cracking of the optical waveguide as compared with the comparative example. The difference in the results depends on the dynamic friction coefficient of the optical waveguide with respect to the elastic layer.

なお、上記実施例および比較例は、いずれも、光導波路に割れが生じるまでは、押圧位置を良好な感度で検知することができた。 In each of the above examples and comparative examples, the pressed position could be detected with good sensitivity until the optical waveguide was cracked.

本発明の位置センサは、光導波路の割れに対する耐久性を高める場合に利用可能である。 The position sensor of the present invention can be used for enhancing durability against cracking of the optical waveguide.

Ｒ弾性層
Ｓ滑り性付与層
Ｗ光導波路
１アンダークラッド層
２コア
３オーバークラッド層
４発光素子
５受光素子 R Elastic layer S Sliding layer W Optical waveguide 1 Under clad layer 2 Core 3 Over clad layer 4 Light emitting element 5 Light receiving element

Claims

A sheet-like optical waveguide having a plurality of linear cores formed in a lattice shape and a sheet-like cladding layer that sandwiches the lattice-like core from above and below, and light is applied to the lattice-like core of the optical waveguide. A light-emitting element to be supplied, a light-receiving element that receives the supplied light through the lattice-shaped core, a slipperiness-imparting layer provided on a back surface portion of an optical waveguide corresponding to the lattice-shaped core, A position sensor including an elastic layer provided on a back surface of the optical waveguide via a slipperiness-imparting layer, wherein the slipperiness-imparting layer causes a dynamic friction coefficient of the optical waveguide to the elastic layer to be 1.0 or less. The surface portion of the position sensor corresponding to the grid-shaped core is set as an input region, and the pressing position in the input region is specified by the amount of light propagation of the core changed by the pressing. Position Sen .

The position sensor according to claim 1, wherein a lower limit value of the dynamic friction coefficient is set to 0.01.

The position sensor according to claim 1 or 2, wherein the slipperiness-imparting layer is a layer made of any one of a resin film, a nonwoven fabric, a thin paper, an inorganic powder, an organic powder, and a lubricant.

The position sensor as described in any one of Claims 1-3 in which the thickness of the said slipperiness | lubricity provision layer is set in the range of 0.01-1.0 mm.