JP2017005578A - Metamaterial structure, and antenna device - Google Patents

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貴裕 篠島
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勝美 佐久間
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a metamaterial structure, and an antenna device capable of interference among signals.SOLUTION: A metamaterial structure includes plural cells which are regularly disposed. Each of the cells has a metamaterial structure which has a first layer including: a first ring-shaped peripheral part; a first central part disposed inside the first peripheral part; and a first connection part which connects the first peripheral part and the first central part therebetween.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、メタマテリアル構造、アンテナ装置に関する。   The present invention relates to a metamaterial structure and an antenna device.

同一の回路基板の一面に複数の平面アンテナを形成するミリ波等のパターンアンテナがある。当該回路基板上のグラウンド(GND)は電気的な壁となり、電磁界を反射する性質がある。   There is a pattern antenna such as a millimeter wave that forms a plurality of planar antennas on one surface of the same circuit board. The ground (GND) on the circuit board serves as an electric wall and reflects the electromagnetic field.

特表2014−527366号公報Special table 2014-527366 gazette 特開2014−086949号公報JP 2014-086949 A 特表2013−532436号公報Special table 2013-532436 gazette 特開2005−094440号公報JP 2005-094440 A 特開平09−232822号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 09-232822 特開2006−245984号公報JP 2006-245984 A

ミリ波等のパターンアンテナでは、電磁界の反射によって所望信号波に対し干渉が発生し、その影響がリップルとして現れてくることがある。また、アンテナ間の距離が近傍であると、一方のアンテナからの送信波が他方のアンテナに回り込み、SN比(Signal to Noise ratio)が劣化し、パターンアンテナを含む装置の装置特性の低下につながること
がある。GNDとアンテナやアンテナ間の距離を離すことによりリップルを減衰させることができるが、これは、現代の高密度実装や製品の小型化に逆行する形となる。よって、高密度実装や製品の小型化とリップルの減衰との両立は、難しい。
In a pattern antenna such as a millimeter wave, interference with a desired signal wave may occur due to reflection of an electromagnetic field, and the effect may appear as a ripple. If the distance between the antennas is close, the transmission wave from one antenna wraps around the other antenna, the signal-to-noise ratio (SNR) deteriorates, and the device characteristics of the device including the pattern antenna deteriorate. Sometimes. Ripple can be attenuated by increasing the distance between GND and the antenna or the antenna, but this goes against modern high-density packaging and product miniaturization. Therefore, it is difficult to achieve both high-density mounting, product miniaturization, and ripple attenuation.

パターンアンテナを含む回路基板に、メタマテリアル構造の一種であるEBG(Electromagnetic Band Gap)構造を設けることによる干渉制御などを行うことがある。メタマテリアル構造は、自然界に存在しない特性を有する人工物等の構造である。EBG構造は、特定の周波数帯において電磁波伝搬が抑制される特性を有し、導体等で構成される複数個のセルを周期的に配列させて形成する構造である。EBG構造のセルとしてSRR(Sprit Ring Resonator)を用いる方法があるが、従来のSRRではSRRの周囲に所定の空間をとるためミリ波等の高周波域では広帯域化や十分な減衰量が確保できないといった問題がある。   Interference control may be performed by providing an EBG (Electromagnetic Band Gap) structure, which is a kind of metamaterial structure, on a circuit board including a pattern antenna. The metamaterial structure is a structure such as an artifact having characteristics that do not exist in nature. The EBG structure has a characteristic that electromagnetic wave propagation is suppressed in a specific frequency band, and is a structure formed by periodically arranging a plurality of cells composed of conductors or the like. Although there is a method using SRR (Sprit Ring Resonator) as an EBG cell, conventional SRR takes a predetermined space around the SRR, so that it is not possible to secure a wide band and sufficient attenuation in a high frequency region such as millimeter waves. There's a problem.

本発明は、信号の干渉を抑制するメタマテリアル構造、アンテナ装置を提供することを目的とする。   It is an object of the present invention to provide a metamaterial structure and an antenna device that suppress signal interference.

本発明は、上記課題を解決するために、以下の手段を採用する。
即ち、第1の態様は、
複数のセルが周期的に配置されるメタマテリアル構造であって、
前記セルは、
リング形状の第1周縁部と、
前記第1周縁部の内部に配置される第1中央部と、
前記第1周縁部と前記第1中央部とを接続する第1接続部とを有する第1層を含む、
メタマテリアル構造である。
第1の態様によると、第1層の第1周縁部と第1中央部と第1接続部とに囲まれる空間部分によりスプリットリングが形成される。
The present invention employs the following means in order to solve the above problems.
That is, the first aspect is
A metamaterial structure in which a plurality of cells are periodically arranged,
The cell is
A ring-shaped first peripheral edge;
A first central portion disposed inside the first peripheral edge;
Including a first layer having a first connection portion connecting the first peripheral edge portion and the first central portion;
Metamaterial structure.
According to the first aspect, the split ring is formed by the space portion surrounded by the first peripheral edge portion, the first central portion, and the first connection portion of the first layer.

本発明によれば、信号の干渉を抑制するメタマテリアル構造、アンテナ装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the metamaterial structure and antenna apparatus which suppress signal interference can be provided.

図1は、メタマテリアル構造の1つのセル(セル1)の上面図の例を示す図である。FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a top view of one cell (cell 1) of a metamaterial structure. 図2は、メタマテリアル構造の1つのセル(セル2)の斜視図の例を示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a perspective view of one cell (cell 2) having a metamaterial structure. 図3は、メタマテリアル構造の1つのセル(セル2)の第2層の上面図の例を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a top view of the second layer of one cell (cell 2) of the metamaterial structure. 図4は、メタマテリアル構造の1つのセル(セル2)の上面図の例を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a top view of one cell (cell 2) having a metamaterial structure. 図5は、メタマテリアル構造の1つのセル(セル3)の斜視図の例を示す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a perspective view of one cell (cell 3) having a metamaterial structure. 図6は、メタマテリアル構造の1つのセル(セル3)の第1層の上面図の例を示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating an example of a top view of the first layer of one cell (cell 3) of the metamaterial structure. 図7は、メタマテリアル構造の1つのセル(セル3)の上面図の例を示す図である。FIG. 7 is a diagram illustrating an example of a top view of one cell (cell 3) of the metamaterial structure. 図8は、セルの等価回路の例を示す図である。FIG. 8 is a diagram illustrating an example of an equivalent circuit of a cell. 図9は、図1で示したセル1の反射特性(S11)、減衰特性(S21)のグラフの例を示す図である。FIG. 9 is a diagram illustrating an example of a graph of the reflection characteristic (S11) and the attenuation characteristic (S21) of the cell 1 illustrated in FIG. 図10は、図2等で示したセル2の反射特性(S11)、減衰特性(S21)のグラフの例を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing an example of a graph of the reflection characteristic (S11) and attenuation characteristic (S21) of the cell 2 shown in FIG. 図11は、セルを含むミリ波のアンテナ装置の構成例を示す図である。FIG. 11 is a diagram illustrating a configuration example of a millimeter-wave antenna device including a cell.

以下、図面を参照して、本発明にかかるメタマテリアル構造、アンテナ装置について説明する。実施形態の構成は例示であり、本発明は開示の実施形態の構成に限定されない。   Hereinafter, a metamaterial structure and an antenna device according to the present invention will be described with reference to the drawings. The configuration of the embodiment is an exemplification, and the present invention is not limited to the configuration of the disclosed embodiment.

〔実施形態〕
(構成例1)
図1は、メタマテリアル構造(EBG構造)の1つのセルの例(セルパターン)を示す図である。図1のセル1は、正方形から当該正方形より小さい正方形をくり抜いたリング形状の周縁部11と、周縁部11の内部に形成される正方形状の中央部12と、周縁部11と中央部12とを接続する長方形状の接続部13とを含む。図1のセル1は、セル1の上面図である。
Embodiment
(Configuration example 1)
FIG. 1 is a diagram illustrating an example (cell pattern) of one cell of a metamaterial structure (EBG structure). A cell 1 in FIG. 1 includes a ring-shaped peripheral portion 11 obtained by hollowing out a square smaller than the square, a square-shaped central portion 12 formed inside the peripheral portion 11, a peripheral portion 11 and a central portion 12 And a rectangular connecting portion 13 for connecting the two. A cell 1 in FIG. 1 is a top view of the cell 1.

周縁部11、中央部12、接続部13は、導体である。導体として、例えば、銅等の金属が使用される。周縁部11、中央部12、接続部13は、電気的に接続している。周縁部11、中央部12、接続部13は、一体化して形成される。周縁部11、中央部12、接続部13は、略同一の平面上に存在する。周縁部11、中央部12、接続部13は、導体部分及び導体部分の周囲の空間部分によって所望のキャパシタンスC及びインダクタンスLを有するように設計される。C及びLは、セルの所望の共振周波数に依存する。セルの設計方法については後に説明する。セル1は、例えば、平面状の誘電体の一方の面に形成される。誘電体として、例えば、ガラスエポキシが使用される。セル1は、例えば、ガ
ラスエポキシ製の基板の一方の面に、銅によって形成される。周縁部11の内側、中央部12及び接続部13の外側によって形成される空間部分は、誘電体(気体または液体)で充填されてもよいし、真空であってもよい。誘電体として、誘電率の異なる複数の種類の誘電体が使用されてもよい。
The peripheral part 11, the center part 12, and the connection part 13 are conductors. For example, a metal such as copper is used as the conductor. The peripheral part 11, the center part 12, and the connection part 13 are electrically connected. The peripheral edge part 11, the central part 12, and the connection part 13 are integrally formed. The peripheral part 11, the central part 12, and the connection part 13 exist on substantially the same plane. The peripheral portion 11, the central portion 12, and the connecting portion 13 are designed to have a desired capacitance C and inductance L depending on a conductor portion and a space portion around the conductor portion. C and L depend on the desired resonant frequency of the cell. A cell design method will be described later. The cell 1 is formed on one surface of a planar dielectric, for example. For example, glass epoxy is used as the dielectric. The cell 1 is formed of copper on one surface of a glass epoxy substrate, for example. A space portion formed by the inside of the peripheral edge portion 11, the central portion 12 and the outside of the connecting portion 13 may be filled with a dielectric (gas or liquid) or may be a vacuum. As the dielectric, a plurality of types of dielectrics having different dielectric constants may be used.

周縁部11は、正方形(外側の正方形)から当該正方形より小さい正方形(内側の正方形)をくり抜いたリング形状である。外側の正方形のそれぞれの辺と、内側の正方形のそれぞれの辺とは、平行である。周縁部11の幅は、全周に亘って略均一である。周縁部11の外形及び内形は、正方形以外の形状(例えば、長方形)であってもよい。   The peripheral portion 11 has a ring shape obtained by hollowing out a square (inner square) smaller than the square from the square (outer square). Each side of the outer square and each side of the inner square are parallel. The width of the peripheral edge portion 11 is substantially uniform over the entire circumference. The outer shape and inner shape of the peripheral edge portion 11 may be a shape other than a square (for example, a rectangle).

中央部12は、周縁部11の内側の正方形よりも小さい正方形状であり、周縁部11の内部に配置される。中央部12の正方形の各辺は、周縁部11の正方形のいずれかの辺と平行である。中央部12の正方形の対角線の交点と、周縁部11の外側の正方形の対角線の交点とは、一致する。中央部12の形状は、ここに示す正方形に限定されず、円形などの他の形状であってもよい。   The central portion 12 has a square shape smaller than the square inside the peripheral edge portion 11 and is disposed inside the peripheral edge portion 11. Each side of the square of the central portion 12 is parallel to any side of the square of the peripheral portion 11. The intersection of the square diagonal lines of the central portion 12 and the intersection of the diagonal lines of the square outside the peripheral edge portion 11 coincide with each other. The shape of the central portion 12 is not limited to the square shown here, and may be other shapes such as a circle.

接続部13は、周縁部11の内側の一辺と中央部12の一辺とを接続する長方形状である。接続部13の幅方向の長さ(周縁部11との接続部分から中央部12との接続部分への方向と平面上で直角方向)は、中央部12の一辺の長さよりも短い。接続部13の長方形の各辺は周縁部11の正方形のいずれかの辺と平行である。接続部13は、周縁部11の内側の正方形の一辺の中央部分で周縁部11と接続する。接続部13は、中央部12の正方形の一辺の中央部分で中央部12と接続する。従って、中央部12及び接続部13の外側と周縁部11の内側部分によって形成される空間部分は、切り欠け部分を有するリング形状(スリットリング形状)である。接続部13が切り欠け部分に相当する。当該空間部分をスロットラインともいう。即ち、セル1では、スロットラインによって、SRRが形成されている。セル1の形状は、平面の正方形の導体から、スリットリング形状をくり抜いた残りの形状である。接続部13の形状は、ここに示す長方形に限定されず、他の形状であってもよい。   The connecting portion 13 has a rectangular shape that connects one side inside the peripheral portion 11 and one side of the central portion 12. The length of the connecting portion 13 in the width direction (the direction from the connecting portion with the peripheral edge portion 11 to the connecting portion with the central portion 12 and the direction perpendicular to the plane) is shorter than the length of one side of the central portion 12. Each side of the rectangle of the connecting portion 13 is parallel to any side of the square of the peripheral portion 11. The connecting portion 13 is connected to the peripheral edge portion 11 at the central portion of one side of the square inside the peripheral edge portion 11. The connecting portion 13 is connected to the central portion 12 at the central portion of one side of the square of the central portion 12. Therefore, the space part formed by the outer side of the center part 12 and the connection part 13, and the inner part of the peripheral part 11 is a ring shape (slit ring shape) having a notch portion. The connecting portion 13 corresponds to a notch portion. The space portion is also referred to as a slot line. That is, in the cell 1, the SRR is formed by the slot line. The shape of the cell 1 is a remaining shape obtained by hollowing out a slit ring shape from a planar square conductor. The shape of the connecting portion 13 is not limited to the rectangle shown here, and may be another shape.

ここでは、セル1のサイズの例を挙げる。セル1のサイズは、ここに示すものに限定されるものではなく、所望の共振周波数によって変更され得る。周縁部11の外側の正方形の一辺の長さは、0.9mmである。周縁部11の内側の正方形の一辺の長さは、0.7mmである。よって、周縁部11の幅の長さは、0.1mmである。また、中央部12の正方形の一辺の長さは0.3mmである。接続部13の幅の長さは、0.1mmである。周縁部11と中央部12との間の最短距離は、0.2mmである。セル1の厚さは、0.001mmである。   Here, an example of the size of the cell 1 is given. The size of the cell 1 is not limited to the one shown here, and can be changed according to a desired resonance frequency. The length of one side of the square outside the peripheral edge 11 is 0.9 mm. The length of one side of the square inside the peripheral edge 11 is 0.7 mm. Therefore, the width of the peripheral edge portion 11 is 0.1 mm. Moreover, the length of one side of the square of the center part 12 is 0.3 mm. The width of the connecting portion 13 is 0.1 mm. The shortest distance between the peripheral part 11 and the center part 12 is 0.2 mm. The thickness of the cell 1 is 0.001 mm.

メタマテリアル構造では、セル1の周縁部11、中央部12、接続部13が存在する平面において、複数のセルが1方向または2方向に周期的に配置される。メタマテリアル構造において、隣接するセル同士は、直接接続され、電気的に接続している。具体的には、セル1の周縁部11は、隣接するセルの周縁部と電気的に接続している。周縁部11は、接地されるため、隣接するセルの周縁部と電気的に接続することができる。   In the metamaterial structure, a plurality of cells are periodically arranged in one direction or two directions on the plane where the peripheral portion 11, the central portion 12, and the connection portion 13 of the cell 1 exist. In the metamaterial structure, adjacent cells are directly connected and electrically connected. Specifically, the peripheral edge 11 of the cell 1 is electrically connected to the peripheral edge of the adjacent cell. Since the peripheral edge 11 is grounded, it can be electrically connected to the peripheral edge of an adjacent cell.

(構成例2)
図2、図3、図4は、メタマテリアル構造の1つのセルの例を示す図である。図2は、セル2の斜視図の例である。図2のセル2は、第1層10及び第2層20を有する。セル2の第1層10は、図1のセル1と同様である。セル2の第2層20は、正方形から当該正方形より小さい正方形をくり抜いたリング形状の周縁部21と、周縁部21の内部に形成される正方形状の中央部22と、周縁部21と中央部22とを接続する長方形状の接続部23とを含む。第1層10の外形及び第2層20の外形は、正方形状の平面であり、そ
れぞれの正方形の大きさは同じである。また、第1層10及び第2層20は、各平面が平行になるように配置される。更に、第1層10の平面の法線方向から第1層10及び第2層20を見たとき、2つの正方形の各角の位置が一致し、接続部13と接続部23とは重ならない。
(Configuration example 2)
2, 3 and 4 are diagrams showing examples of one cell of the metamaterial structure. FIG. 2 is an example of a perspective view of the cell 2. The cell 2 in FIG. 2 has a first layer 10 and a second layer 20. The first layer 10 of the cell 2 is the same as the cell 1 of FIG. The second layer 20 of the cell 2 includes a ring-shaped peripheral portion 21 obtained by hollowing out a square smaller than the square from the square, a square-shaped central portion 22 formed inside the peripheral portion 21, and the peripheral portion 21 and the central portion. 22 and a rectangular connecting portion 23 that connects the two. The outer shape of the first layer 10 and the outer shape of the second layer 20 are square planes, and the size of each square is the same. Further, the first layer 10 and the second layer 20 are arranged so that the respective planes are parallel. Further, when the first layer 10 and the second layer 20 are viewed from the normal direction of the plane of the first layer 10, the positions of the corners of the two squares coincide with each other, and the connection portion 13 and the connection portion 23 do not overlap. .

周縁部21、中央部22、接続部23は、導体である。第1層10と第2層20とは、所定の距離、離れている。第1層10と第2層20との間は、真空であっても誘電体(気体または個体)が充填されてもよい。第1層10と第2層20の間は、間隔を置かずに接触していてもよい。第1層10及び第2層20は、導体部分及び導体部分の周囲の空間部分によって所望のインダクタンスL及びキャパシタンスCを有するように設計される。例えば、セル2の第1層10は、平面状の誘電体の一方の面に形成され、第2層20は、他方の面に形成される。このとき、第1層10と第2層20との間は、誘電体で充填される。誘電体として、例えば、ガラスエポキシが使用される。   The peripheral part 21, the center part 22, and the connection part 23 are conductors. The first layer 10 and the second layer 20 are separated by a predetermined distance. The space between the first layer 10 and the second layer 20 may be a vacuum or may be filled with a dielectric (gas or solid). The first layer 10 and the second layer 20 may be in contact with each other without a gap. The first layer 10 and the second layer 20 are designed to have a desired inductance L and capacitance C depending on a conductor portion and a space portion around the conductor portion. For example, the first layer 10 of the cell 2 is formed on one surface of a planar dielectric, and the second layer 20 is formed on the other surface. At this time, the space between the first layer 10 and the second layer 20 is filled with a dielectric. For example, glass epoxy is used as the dielectric.

図3は、セル2の第2層20の上面図の例を示す図である。セル2の第2層20の周縁部21と、中央部22と、接続部23は、第1層10の周縁部11と、中央部12と、接続部13と同様の構成を有する。ただし、第2層20の周縁部21の幅は、周縁部11の幅よりも小さい。また、第2層20の中央部22の正方形の一辺の長さは、中央部12の正方形の一辺の長さよりも長い。   FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a top view of the second layer 20 of the cell 2. The peripheral portion 21, the central portion 22, and the connecting portion 23 of the second layer 20 of the cell 2 have the same configuration as the peripheral portion 11, the central portion 12, and the connecting portion 13 of the first layer 10. However, the width of the peripheral portion 21 of the second layer 20 is smaller than the width of the peripheral portion 11. Further, the length of one side of the square of the central portion 22 of the second layer 20 is longer than the length of one side of the square of the central portion 12.

図4は、セル2を第1層10(第2層20)の平面の法線方向から、セル2を見た図である。図4(A)は、第1層10側から見た図であり、図4(B)は、第2層20側から見た図である。図4(A)では、第1層10の奥に第2層20の中央部22及び接続部23が見えている。図4(B)では、第2層20の奥に第1層10の周縁部11及び接続部13が見えている。   FIG. 4 is a view of the cell 2 as viewed from the normal direction of the plane of the first layer 10 (second layer 20). 4A is a view as seen from the first layer 10 side, and FIG. 4B is a view as seen from the second layer 20 side. In FIG. 4A, the central portion 22 and the connecting portion 23 of the second layer 20 are visible in the back of the first layer 10. In FIG. 4B, the peripheral edge portion 11 and the connection portion 13 of the first layer 10 are visible in the back of the second layer 20.

ここでは、セル2のサイズの例を挙げる。セル2のサイズは、ここに示すものに限定されるものではなく、所望の特性によって変更され得る。第1層10の周縁部11、中央部12、接続部13のサイズは、セル1と同様である。第2層20の周縁部21の外側の正方形の一辺の長さは、0.9mmである。周縁部21の内側の正方形の一辺の長さは、0.8mmである。よって、周縁部21の幅の長さは、0.05mmである。また、中央部22の正方形の一辺の長さは0.4mmである。接続部23の幅の長さは、0.1mmである。周縁部21と中央部22との間の最短距離は、0.2mmである。第1層10及び第2層20の厚さは、0.001mmである。第1層10と第2層20との間の距離は、0.05mmである。   Here, an example of the size of the cell 2 is given. The size of the cell 2 is not limited to the one shown here, and can be changed according to desired characteristics. The sizes of the peripheral portion 11, the central portion 12, and the connecting portion 13 of the first layer 10 are the same as those of the cell 1. The length of one side of the square outside the peripheral edge 21 of the second layer 20 is 0.9 mm. The length of one side of the square inside the peripheral edge 21 is 0.8 mm. Therefore, the width of the peripheral portion 21 is 0.05 mm. Moreover, the length of one side of the square of the center part 22 is 0.4 mm. The width of the connection part 23 is 0.1 mm. The shortest distance between the peripheral part 21 and the center part 22 is 0.2 mm. The thickness of the first layer 10 and the second layer 20 is 0.001 mm. The distance between the first layer 10 and the second layer 20 is 0.05 mm.

(構成例3)
図5、図6、図7は、メタマテリアル構造の1つのセルの例を示す図である。図5は、セル3の斜視図の例である。図5のセル3は、第1層30及び第2層20を有する。セル3の第2層20は、図2等のセル2の第2層20と同様である。
(Configuration example 3)
5, 6 and 7 are diagrams showing examples of one cell of the metamaterial structure. FIG. 5 is an example of a perspective view of the cell 3. The cell 3 in FIG. 5 has a first layer 30 and a second layer 20. The second layer 20 of the cell 3 is the same as the second layer 20 of the cell 2 in FIG.

セル3の第1層30は、正方形(外側の正方形)から当該正方形より小さい正方形をくり抜き、さらに、外側の正方形の一辺の中央部分からくり抜かれた小さい正方形に接続する長方形をくり抜かれた形状を有する。セル3の第1層30の形状は、セル1における周縁部11の内側と中央部12及び接続部13の外側とに囲まれる空間の形状と同様の形状である。ただし、セル3の第1層30のサイズは、セル1の空間のサイズとは異なる。セル3の第1層30は、切り欠け部分を有するリング形状である。セル3の第1層30は、導体によるスプリットリングである。くり抜かれた長方形の部分がスプリットリングにおける切り欠け部分(スプリット部分)に相当する。第1層30は、接地されない。   The first layer 30 of the cell 3 has a shape in which a square smaller than the square is cut out from a square (outer square), and a rectangle connected to a small square cut out from a central portion of one side of the outer square is cut out. . The shape of the first layer 30 of the cell 3 is similar to the shape of the space surrounded by the inside of the peripheral edge 11 and the outside of the central portion 12 and the connecting portion 13 in the cell 1. However, the size of the first layer 30 of the cell 3 is different from the size of the space of the cell 1. The first layer 30 of the cell 3 has a ring shape having a notch portion. The first layer 30 of the cell 3 is a split ring made of a conductor. The hollowed out rectangular portion corresponds to a cutout portion (split portion) in the split ring. The first layer 30 is not grounded.

また、第1層30及び第2層20は、各平面が平行になるように配置される。更に、第1層30の平面の法線方向から第1層30及び第2層20を見たとき、第1層30の外側の正方形の各角の位置と第2層20の周縁部21の内側の正方形の各角の位置とが一致し、第1層30の長方形部分と接続部23とは重ならない。第1層30と第2層20とは、所定の距離、離れている。第1層30と第2層20との間は、真空であっても誘電体が充填されてもよい。第1層30と第2層20とは、間隔を置かずに接触していてもよい。第1層30及び第2層20は、導体部分及び導体部分の周囲の空間部分によって所望のキャパシタンスC及びインダクタンスLを有するように設計される。第1層30は、接地されない。例えば、セル3の第1層30は、平面状の誘電体の一方の面に形成され、第2層20は、他方の面に形成される。このとき、第1層30と第2層20との間は、誘電体で充填される。誘電体として、例えば、ガラスエポキシが使用される。   Further, the first layer 30 and the second layer 20 are arranged so that the respective planes are parallel to each other. Further, when the first layer 30 and the second layer 20 are viewed from the normal direction of the plane of the first layer 30, the positions of the corners of the square outside the first layer 30 and the peripheral portion 21 of the second layer 20. The positions of the corners of the inner square coincide, and the rectangular portion of the first layer 30 and the connecting portion 23 do not overlap. The first layer 30 and the second layer 20 are separated by a predetermined distance. The space between the first layer 30 and the second layer 20 may be vacuum or filled with a dielectric. The first layer 30 and the second layer 20 may be in contact with each other without a gap. The first layer 30 and the second layer 20 are designed to have a desired capacitance C and inductance L depending on the conductor portion and the space around the conductor portion. The first layer 30 is not grounded. For example, the first layer 30 of the cell 3 is formed on one surface of a planar dielectric, and the second layer 20 is formed on the other surface. At this time, the space between the first layer 30 and the second layer 20 is filled with a dielectric. For example, glass epoxy is used as the dielectric.

図6は、セル3の第1層30の上面図の例を示す図である。第1層30は、中央部分のくり抜かれた正方形状及び中央部分の正方形と外枠とを接続するくり抜かれた長方形状により、切り欠きを含むリング(スプリットリング)を形成する。第1層30の外形は、第2層20の外形よりも小さい。第1層30は、導体である。   FIG. 6 is a diagram illustrating an example of a top view of the first layer 30 of the cell 3. The first layer 30 forms a ring (split ring) including a notch by a hollowed square shape in the central portion and a hollow rectangular shape that connects the square in the central portion and the outer frame. The outer shape of the first layer 30 is smaller than the outer shape of the second layer 20. The first layer 30 is a conductor.

図7は、セル3を第1層30(第2層20)の平面の法線方向から、セル3を見た図である。図7(A)は、第1層30側から見た図であり、図7(B)は、第2層20側から見た図である。図7(A)では、第1層30の奥に第2層20の中央部22及び接続部23が見えている。図7(B)では、第2層20の奥に第1層30が見えている。   FIG. 7 is a view of the cell 3 as viewed from the normal direction of the plane of the first layer 30 (second layer 20). FIG. 7A is a view seen from the first layer 30 side, and FIG. 7B is a view seen from the second layer 20 side. In FIG. 7A, the central portion 22 and the connecting portion 23 of the second layer 20 are visible in the back of the first layer 30. In FIG. 7B, the first layer 30 is visible behind the second layer 20.

ここでは、セル3のサイズの例を挙げる。セル3のサイズは、ここに示すものに限定されるものではなく、所望の特性によって変更され得る。第2層20の周縁部21、中央部22、接続部23のサイズは、セル2の第2層20と同様である。第1層30の外側の正方形の一辺の長さは、0.8mmである。第1層30の内側の正方形の一辺の長さは、0.2mmである。よって、第1層30のリングの幅の長さは、0.3mmである。また、中央部分と外周とを接続するくり抜かれた長方形状の幅の長さは、0.1mmである。第1層30及び第2層20の厚さは、0.001mmである。第1層30と第2層20との間の距離は、0.05mmである。   Here, an example of the size of the cell 3 is given. The size of the cell 3 is not limited to the one shown here and can be changed according to desired characteristics. The sizes of the peripheral portion 21, the central portion 22, and the connecting portion 23 of the second layer 20 are the same as those of the second layer 20 of the cell 2. The length of one side of the outer square of the first layer 30 is 0.8 mm. The length of one side of the square inside the first layer 30 is 0.2 mm. Therefore, the length of the width of the ring of the first layer 30 is 0.3 mm. Moreover, the length of the width | variety of the cut-out rectangular shape which connects a center part and outer periphery is 0.1 mm. The thickness of the first layer 30 and the second layer 20 is 0.001 mm. The distance between the first layer 30 and the second layer 20 is 0.05 mm.

ここでは、セル3の第2層20は、セル2の第2層20と同様のサイズであるとしたが、セル3の第2層20は、セル2の第1層10と同様のサイズであってもよい。   Here, the second layer 20 of the cell 3 has the same size as the second layer 20 of the cell 2, but the second layer 20 of the cell 3 has the same size as the first layer 10 of the cell 2. There may be.

構成例2及び構成例3では、2層のセルとしているが3層以上であってもよい。
上記の各構成例に記載される事項は、可能な限り組み合され得る。
In the configuration example 2 and the configuration example 3, the cell has two layers, but may have three or more layers.
The matters described in each of the above configuration examples can be combined as much as possible.

(設計方法)
セルの設計方法(セルのサイズの決定方法)について説明する。
図8は、セルの等価回路の例を示す図である。図8のように、セルの等価回路は、接地されたコイル及び当該コイルに接続されるコンデンサによって表される。セルにおいてコンデンサは、例えば、周縁部の導体と中央部の導体との間、第1層の導体と第2層の導体との間、等に形成される。セルにおいてコイルは、例えば、中央部、接続部、周縁部等の導体に形成される。セルは、隣接するセルと、直列に接続される。
(Design method)
A cell design method (a method for determining a cell size) will be described.
FIG. 8 is a diagram illustrating an example of an equivalent circuit of a cell. As shown in FIG. 8, the equivalent circuit of the cell is represented by a grounded coil and a capacitor connected to the coil. In the cell, the capacitor is formed, for example, between the peripheral conductor and the central conductor, between the first layer conductor and the second layer conductor, or the like. In the cell, the coil is formed on a conductor such as a central portion, a connecting portion, or a peripheral portion, for example. A cell is connected in series with an adjacent cell.

図8の等価回路の共振周波数fは、次のように求められる。   The resonance frequency f of the equivalent circuit of FIG. 8 is obtained as follows.

Figure 2017005578

ここで、LはコイルのインダクタンスL、CはコンデンサのキャパシタンスCである。この式により、所望の共振周波数fに対するL及びCの積が求まる。
Figure 2017005578

Here, L is the inductance L of the coil, and C is the capacitance C of the capacitor. From this equation, the product of L and C with respect to the desired resonance frequency f is obtained.

また、セルの形状と、コンデンサのキャパシタンスC及びコイルのインダクタンスLとの関係は、次のように表される。   The relationship between the cell shape, the capacitance C of the capacitor, and the inductance L of the coil is expressed as follows.

Figure 2017005578
Figure 2017005578

Figure 2017005578
Figure 2017005578

ここで、lは導体の長さ、Wは導体の幅、Hは導体の高さ、εは導体間の誘電率(真空であれば8.85×10−12)、Sは導体面積、dは導体間幅(誘電体厚)である。これらの式に基づいて、所望の共振周波数fとなるセルのサイズを決定することができる。導体間の誘電率を変更(導体間の誘電体を変更)することにより、セルのサイズを変更することもできる。 Here, l is the length of the conductor, W is the width of the conductor, H is the height of the conductor, ε is the dielectric constant between conductors (8.85 × 10 −12 if vacuum), S is the conductor area, d Is the width between conductors (dielectric thickness). Based on these equations, it is possible to determine the size of the cell having the desired resonance frequency f. The cell size can also be changed by changing the dielectric constant between conductors (changing the dielectric between conductors).

上記の各構成例に示したセルのサイズでは、70GHz帯において有効な特性を示すメタマテリアル構造を実現することができる。   With the cell size shown in each of the above configuration examples, a metamaterial structure that exhibits effective characteristics in the 70 GHz band can be realized.

(特性)
図9は、図1で示したセル1の反射特性(S11)、減衰特性(S21)のグラフの例を示す図である。図9のグラフの横軸は、周波数であり、縦軸は、S11に対しては反射特性であり、S21に対しては通過特性である。縦軸の値が大きいほど、電磁波が反射し(S11)、通過する(S21)。図9のグラフでは、76GHz近傍で、減衰特性、反射特性は低い値で緩やかであるため、セル1は、広帯域での適用が有効である。この特性から、スプリアスなどの不要輻射についても減衰することから、アンテナ間にメタマテリアル構造を配置して、アンテナ間のアイソレーション確保に有効である。セル1は、広帯域での電磁波の反射や通過を抑制する。
(Characteristic)
FIG. 9 is a diagram illustrating an example of a graph of the reflection characteristic (S11) and the attenuation characteristic (S21) of the cell 1 illustrated in FIG. The horizontal axis of the graph of FIG. 9 is the frequency, and the vertical axis is the reflection characteristic for S11 and the transmission characteristic for S21. As the value on the vertical axis is larger, the electromagnetic wave is reflected (S11) and passes (S21). In the graph of FIG. 9, since the attenuation characteristic and reflection characteristic are low and gentle in the vicinity of 76 GHz, the cell 1 is effectively applied in a wide band. Because of this characteristic, unnecessary radiation such as spurious is also attenuated. Therefore, a metamaterial structure is arranged between the antennas, which is effective for securing isolation between the antennas. The cell 1 suppresses reflection and passage of electromagnetic waves in a wide band.

図10は、図2等で示したセル2の反射特性(S11)、減衰特性(S21)のグラフ
の例を示す図である。図10のグラフの横軸は、周波数であり、縦軸は、S11に対しては反射特性であり、S21に対しては通過特性である。図10のグラフでは、76GHz近傍で、減衰特性、反射特性は急激に減少する。よって、セル2は、帯域が狭く、所望帯域で、有効であることが分かる。即ち、アンテナからの76GHz近傍の送信波が、セル2を含むメタマテリアル構造によって、吸収されやすく、反射されにくい。この特性を利用して、アンテナを有する基板のエッジにセル2を含むメタマテリアル構造を実装することで、アンテナからの送信波の不要な反射を抑制ことができる。セル2は、特に76GHz近傍の電磁波の反射や通過を抑制する。セル3についても、セル2と同様である。
FIG. 10 is a diagram showing an example of a graph of the reflection characteristic (S11) and attenuation characteristic (S21) of the cell 2 shown in FIG. The horizontal axis of the graph of FIG. 10 is the frequency, and the vertical axis is the reflection characteristic for S11 and the transmission characteristic for S21. In the graph of FIG. 10, the attenuation characteristic and the reflection characteristic decrease rapidly in the vicinity of 76 GHz. Therefore, it can be seen that the cell 2 has a narrow band and is effective in the desired band. That is, the transmission wave near 76 GHz from the antenna is easily absorbed and hardly reflected by the metamaterial structure including the cell 2. By utilizing this characteristic and mounting the metamaterial structure including the cell 2 on the edge of the substrate having the antenna, unnecessary reflection of the transmission wave from the antenna can be suppressed. The cell 2 suppresses reflection and passage of electromagnetic waves particularly near 76 GHz. Cell 3 is the same as cell 2.

(アンテナ装置)
図11は、セルを含むミリ波のアンテナ装置の構成例を示す図である。図11のアンテナ装置100は、第1アンテナ110、第2アンテナ120、メタマテリアル構造130を含む。第1アンテナ110、第2アンテナ120、メタマテリアル構造130は、略同一の平面(基板)に設けられる。メタマテリアル構造130は、第1アンテナ110の周囲、第2アンテナ120の周囲、第1アンテナ110と第2アンテナ120との間に、配置される。メタマテリアル構造130は、第1アンテナ110の周囲、第2アンテナ120の周囲、第1アンテナ110と第2アンテナ120との間のうちの一部に、配置されてもよい。図11の右側では、メタマテリアル構造130の一部が拡大されて示されている。
(Antenna device)
FIG. 11 is a diagram illustrating a configuration example of a millimeter-wave antenna device including a cell. The antenna device 100 of FIG. 11 includes a first antenna 110, a second antenna 120, and a metamaterial structure 130. The first antenna 110, the second antenna 120, and the metamaterial structure 130 are provided on substantially the same plane (substrate). The metamaterial structure 130 is disposed around the first antenna 110, around the second antenna 120, and between the first antenna 110 and the second antenna 120. The metamaterial structure 130 may be disposed around the first antenna 110, around the second antenna 120, or between the first antenna 110 and the second antenna 120. On the right side of FIG. 11, a portion of the metamaterial structure 130 is shown enlarged.

第1アンテナ110は、例えば、ミリ波を送信する送信アンテナである。第2アンテナ120は、例えば、ミリ波を受信する受信アンテナである。第1アンテナ110及び第2アンテナ120は、例えば、誘電体の基板(平面状の誘電体。誘電体板。例えば、エポキシガラスなどによる基板)の一方の面に形成されるパターンアンテナである。第1アンテナ110と第2アンテナ120とが、互いに異なる面に形成されてもよい。第1アンテナ110及び第2アンテナ120は、銅などの金属によって形成される。   The first antenna 110 is, for example, a transmission antenna that transmits millimeter waves. The second antenna 120 is a receiving antenna that receives millimeter waves, for example. The first antenna 110 and the second antenna 120 are, for example, pattern antennas formed on one surface of a dielectric substrate (planar dielectric, dielectric plate, eg, epoxy glass substrate). The first antenna 110 and the second antenna 120 may be formed on different surfaces. The first antenna 110 and the second antenna 120 are made of metal such as copper.

メタマテリアル構造130では、メタマテリアル構造130の範囲にわたって、上記のセル(セル1、セル2、または、セル3)が隣接して第1方向及び第2方向(図11では、x方向及びy方向)に空間的に周期的に配置されている。メタマテリアル構造130は、第1アンテナ110及び第2アンテナ120が形成される誘電体の基板に形成される。図11の例では、セルが周期的に配置されるx方向とy方向とは直交しているが、セルが周期的に配置される第1方向と第2方向とは直交していなくてもよい。また、隣接するセルは、間を置かずにセルの周縁部同士が接続している。よって、隣接するセルは、電気的に接続されている。メタマテリアル構造130の周囲は、接地されている。メタマテリアル構造130の周囲が接地されることで、各セルの周縁部が接地される。メタマテリアル構造130が、上記の構成例2又は構成例3のように2層構造を有するとき、第1層は誘電体の基板の一方の面に形成され、第2層は他方の面に形成される。このとき、第1アンテナ110及び第2アンテナは、誘電体の基板の一方の面または他方の面に形成される。メタマテリアル構造130内のセルは、すべて同じ形状であっても、異なる形状を含んでいてもよい。   In the metamaterial structure 130, the cells (cell 1, cell 2, or cell 3) are adjacent to each other over the range of the metamaterial structure 130 in the first direction and the second direction (in FIG. 11, the x direction and the y direction). ) Spatially and periodically. The metamaterial structure 130 is formed on a dielectric substrate on which the first antenna 110 and the second antenna 120 are formed. In the example of FIG. 11, the x direction in which cells are periodically arranged and the y direction are orthogonal to each other, but the first direction and the second direction in which cells are periodically arranged may not be orthogonal to each other. Good. In addition, adjacent cells are connected to each other at the periphery of the cell without any gap. Therefore, adjacent cells are electrically connected. The periphery of the metamaterial structure 130 is grounded. Since the periphery of the metamaterial structure 130 is grounded, the periphery of each cell is grounded. When the metamaterial structure 130 has a two-layer structure as in the above configuration example 2 or configuration example 3, the first layer is formed on one surface of the dielectric substrate, and the second layer is formed on the other surface. Is done. At this time, the first antenna 110 and the second antenna are formed on one surface or the other surface of the dielectric substrate. The cells in the metamaterial structure 130 may all have the same shape or may include different shapes.

例えば、メタマテリアル構造130が存在しない場合、第1アンテナ110から放出された電波は、第2アンテナ120へ直接回りこみ、第2アンテナの本来の受信電波と干渉する。アンテナ装置100では、メタマテリアル構造130を含むことで、第1アンテナ110から送出される電波の第2アンテナ120への回り込みが低減される。即ち、アンテナ間の干渉が抑制される。また、第1アンテナ110から送信される電波がメタマテリアル構造130で反射される成分が小さいため、第1アンテナ110において自己送信電力が干渉することを抑制することができる。また、メタマテリアル構造130により、誘電体の基板のエッジからの輻射を抑制することができる。   For example, when the metamaterial structure 130 does not exist, the radio wave emitted from the first antenna 110 goes directly to the second antenna 120 and interferes with the original received radio wave of the second antenna. In the antenna device 100, by including the metamaterial structure 130, the wraparound of the radio wave transmitted from the first antenna 110 to the second antenna 120 is reduced. That is, interference between antennas is suppressed. Moreover, since the component which the electromagnetic wave transmitted from the 1st antenna 110 reflects by the metamaterial structure 130 is small, it can suppress that self-transmission power interferes in the 1st antenna 110. FIG. Further, the metamaterial structure 130 can suppress radiation from the edge of the dielectric substrate.

また、従来のSRRによるセルでは、導体部分を接地しないため、セルの周囲に空間を設けることが求められていた。このため、従来のSRRによるセルによるメタマテリアル構造では、設置スペースを小さくすることが困難であった。上記のような周縁部を有するセルを周期的に配列したメタマテリアル構造130では、各セルの周縁部が接地されるため、隣接するセル同士を周縁部で接触させることができる。このためセルの配置するスペースを小さくすることができる。メタマテリアル構造130は、アンテナのアイソレーションに有効である。   Further, in the conventional SRR cell, since the conductor portion is not grounded, it is required to provide a space around the cell. For this reason, in the metamaterial structure by the cell by the conventional SRR, it was difficult to make installation space small. In the metamaterial structure 130 in which cells having peripheral portions as described above are periodically arranged, since the peripheral portions of the respective cells are grounded, adjacent cells can be brought into contact with each other at the peripheral portions. For this reason, the space which a cell arrange | positions can be made small. The metamaterial structure 130 is effective for antenna isolation.

(実施形態の作用、効果)
本実施形態のメタマテリアル構造は、セル内のSRRを、周縁部、中央部、接続部に囲まれる空間部分(スロットライン)によるスリットリング形状によって実現する。従来のセルの導体によるSRRは接地されないため、隣接するセルの間隔を空けることが求められるが、本実施形態の空間部分によるSRRでは、SRRの周囲の導体部分を接地するため、隣接するセルの間隔を空けなくてもよい。よって、SRRを空間部分によって実現することにより、SRRを導体で実現する場合に比べて、セルの密度を向上させることができる。例えば、セルの密度を向上させることで、アンテナ間により多くのセルを配置することができ、アンテナ間の信号干渉を抑制することができる。また、アンテナの周囲にセルを配置することで、基板のエッジの接地による反射を抑制することができる。即ち、本実施形態のメタマテリアル構造により、より減衰特性及び反射特性のよいアンテナ装置を実現することができる。また、セルの密度を向上より、アンテナ装置100の実装面積を低減することができる。
(Operation and effect of the embodiment)
The metamaterial structure of the present embodiment realizes the SRR in the cell by a slit ring shape by a space portion (slot line) surrounded by the peripheral portion, the central portion, and the connecting portion. Since the SRR by the conductor of the conventional cell is not grounded, it is required to make a space between adjacent cells. However, in the SRR by the space portion of this embodiment, the conductor portion around the SRR is grounded, It is not necessary to leave an interval. Therefore, by realizing the SRR by the space portion, the cell density can be improved as compared with the case where the SRR is realized by a conductor. For example, by increasing the cell density, more cells can be arranged between antennas, and signal interference between antennas can be suppressed. Further, by arranging the cell around the antenna, reflection due to grounding of the edge of the substrate can be suppressed. That is, the metamaterial structure of this embodiment can realize an antenna device with better attenuation characteristics and reflection characteristics. In addition, since the cell density is improved, the mounting area of the antenna device 100 can be reduced.

本実施形態のメタマテリアル構造によれば、構成例2及び構成例3のように、セルを2層とすることにより、層間にもキャパシタンスCを形成することができるため、所望の共振周波数をより適切なサイズで実現することができる。   According to the metamaterial structure of the present embodiment, as in the configuration example 2 and the configuration example 3, the capacitance C can be formed between the layers by making the cell into two layers. It can be realized with an appropriate size.

ミリ波等のパターンアンテナでは、同一の回路基板の一面に、複数の平面アンテナを形成することになるため、平面アンテナ同士が近接するので、平面アンテナ同士の相互干渉が問題となる。本実施形態のアンテナ装置100では、2つのアンテナ間に本実施形態のメタマテリアル構造が配置されるため、アンテナ間の干渉を抑制することができる。   In a pattern antenna such as a millimeter wave, a plurality of planar antennas are formed on one surface of the same circuit board, so that the planar antennas are close to each other, and mutual interference between the planar antennas becomes a problem. In the antenna device 100 of this embodiment, since the metamaterial structure of this embodiment is disposed between two antennas, interference between antennas can be suppressed.

1 メタマテリアル構造のセル
2 メタマテリアル構造のセル
3 メタマテリアル構造のセル
10 第1層
11 周縁部
12 中央部
13 接続部
20 第2層
21 周縁部
22 中央部
23 接続部
30 第1層
100 アンテナ装置
110 第1アンテナ
120 第2アンテナ
130 メタマテリアル構造
1 Metamaterial structure cell
2 Metamaterial structure cell
3 Metamaterial structure cells
10 1st layer
11 Perimeter
12 Central part
13 connections
20 Second layer
21 Edge
22 Central part
23 Connection
30 1st layer
100 Antenna device
110 First antenna
120 Second antenna
130 Metamaterial structure

Claims (6)

複数のセルが周期的に配置されるメタマテリアル構造であって、
前記セルは、
リング形状の第1周縁部と
前記第1周縁部の内部に配置される第1中央部と、
前記第1周縁部と前記第1中央部とを接続する第1接続部とを有する第1層を含む、
メタマテリアル構造。
A metamaterial structure in which a plurality of cells are periodically arranged,
The cell is
A ring-shaped first peripheral portion, a first central portion disposed inside the first peripheral portion,
Including a first layer having a first connection portion connecting the first peripheral edge portion and the first central portion;
Metamaterial structure.
前記セルは、
リング形状の第2周縁部と
前記第2周縁部の内部に配置される第2中央部と、
前記第2周縁部と前記第2中央部とを接続する第2接続部とを有する第2層を含み、
前記第1層と前記第2層とは、平行である
請求項1に記載のメタマテリアル構造。
The cell is
A ring-shaped second peripheral portion, a second central portion disposed inside the second peripheral portion,
A second layer having a second connection portion connecting the second peripheral edge portion and the second central portion;
The metamaterial structure according to claim 1, wherein the first layer and the second layer are parallel.
切り欠け部を含むリング形状のスプリットリング部を有する第2層を含み、
前記第1層と前記第2層とは、平行である
請求項1に記載のメタマテリアル構造。
A second layer having a ring-shaped split ring portion including a notch,
The metamaterial structure according to claim 1, wherein the first layer and the second layer are parallel.
平板状の誘電体板を含み、
誘電体板の一方の面に前記第1層が形成され、前記誘電体板の他方の面に前記第2層が形成される
請求項2または3に記載のメタマテリアル構造。
Including a flat dielectric plate;
The metamaterial structure according to claim 2 or 3, wherein the first layer is formed on one surface of the dielectric plate, and the second layer is formed on the other surface of the dielectric plate.
前記セルは、隣接するセルと電気的に接続している、
請求項1から4のいずれか1つに記載のメタマテリアル構造。
The cell is electrically connected to an adjacent cell;
The metamaterial structure according to any one of claims 1 to 4.
平板状の誘電体板と、
前記誘電体板に形成される第1アンテナと、
前記誘電体板に形成される第2アンテナと、
前記誘電体板において、前記第1アンテナ及び前記第2アンテナとの間に形成される請求項1から5のいずれか1つに記載のメタマテリアル構造とを含む、
アンテナ装置。
A flat dielectric plate;
A first antenna formed on the dielectric plate;
A second antenna formed on the dielectric plate;
In the dielectric plate, including the metamaterial structure according to any one of claims 1 to 5 formed between the first antenna and the second antenna.
Antenna device.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2018139390A (en) * 2017-02-24 2018-09-06 日本電信電話株式会社 Electromagnetic wave conversion plate

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