JP2017001904A - ガラス基板のレーザ加工装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】曲線部を含む割断予定線をレーザ加工する際、加熱領域の幅を一定に保ち、レーザ光による加熱領域と冷却系による冷却領域との相対的な位置バランスを精度よく維持することができるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】
ガラス基板を載置しXおよびY方向に駆動可能なガラス載置テーブルと、炭酸ガスレーザ発振器から出射されたレーザビームをXおよびY方向に偏向するガルバノミラーと、レーザビームをガラス基板上に集光する集光レンズと、レーザビームの照射領域に流体を噴射する流体噴射ノズルとを有し、ガラス載置テーブルのXおよびY方向への移動量および移動方向の制御と、ガルバノメータによるレーザビームの偏向方向の制御によってガラス載置テーブル上に照射されるレーザビームの照射位置およびスキャン形状を制御して、ガラス基板の割断予定線にそって流体噴射ノズルから流体を噴射しつつレーザビームを照射する。
【選択図】 図1

Description

本発明はガラス基板上に想定された分割予定線に沿って、熱応力割断加工するガラス基板のレーザ加工装置に関する。
近年、ガラスをレーザ光による熱応力によって切断加工するレーザスクライブ加工方法が、量産製造工程での新たな加工方法として採用されつつある。 レーザスクライブ加工によれば、機械的方法に固有の欠点、すなわちマイクロクラック発生によるガラス強度の低下、割断時のカレット発生による汚染、適用板厚の下限値の存在などが一掃できる。
従来のレーザスクライブ加工方法は専ら直線形状の切断用途に限られている。この理由は熱応力加工において、その加工を実現するために必要な3つの要素が同一直線上に正確に並ばなければならないという制約があるためである。その3つの要素とは、(1)加工開始点となるガラス上に形成される微少なキズの初亀裂、(2)レーザ照射による細長い加熱領域、(3)加熱領域に続く流体噴出領域の3つである。この3つの要素をガラス上で同一線上に並べるという都合上で直線形状加工が最も実現しやすく、装置化にも適しているという実情がある。
一方、高機能ガラスの適用範囲の広がりに伴って、鏡面でクラックフリーの高品質な切断面を備えたガラスの曲線形状加工を行うことが求められている。このガラスの曲線形状加工方法として、下記のような先行技術が開示されている。コールドスポットで追従される線状ビームプロフィールを有するレーザビームを、特定の輪郭を有する分割線に沿って移動させる方法において、線状焦点がレーザビームを走査することによってガラス上に形成され、線状焦点が分割線の輪郭の曲率に対応する曲率になり、線状焦点の長さも走査振幅を調節することによって分割線の輪郭の曲率の関数として調節されるように各走査作動時に分割線からの軌道データを利用する方法(特許文献1)、レーザビームにより直線部と曲線部を交互に含む軌道にそって溝又は切断加工するレーザ加工方法において、減速領域においてXYテーブルを減速し、曲線部においてXYテーブルをそのまま減速させながらX方向のガルバノミラー及びY方向のガルバノミラーを駆動し、かつXYテーブルをY方向への加速も開始させ、それらの合成速度でビームを円運動させ、90°の円運動の終了と同時にXYステージが初期移動方向の移動を停止するようにしたレーザ加工方法(特許文献2)、脆性材料基板表面の加工ラインに沿ってレーザビームを照射し、加工ラインに沿ってクラックを形成するためのレーザスクライブ装置において、脆性材料基板が載置されるテーブルを冷却スポットが常にビームスポットの終端部に位置するように移動制御し、テーブルの移動に連動させて、ビームスポットが加工ラインに沿って走査するようにし、レーザビームと冷却ノズルとが干渉するのを避けるために冷却ノズルを退避させるレーザスクライブ装置(特許文献3)が提案されている。
特許第4731082号公報 特開2014−111259号公報 特許第5416445号公報
レーザにより割断予定線に沿って加熱する細長い形状の加熱領域を用いて曲線加工する場合、下記に述べる2つの課題がある。その1つは加熱領域の形状がほぼ真っ直ぐな形状であるので、曲線の割断予定線に追従しようとすると、加熱領域の幅が広がってしまうという課題である。例えて説明すると、この課題は細長い大型トレーラーが交差点を直角方向に曲がろうとする場合に生じる前輪と後輪の軌跡のズレ、すなわち内輪差の現象に似ていると言える。つまり、従来のガラス加熱方法では、曲線部分において加熱領域の幅が広がってしまい、加熱と冷却のバランスが崩れてしまうので加工に適した最適な加工条件を維持して曲線部を切断することはできなかった。たとえ曲線部を切断することができたとしても、高い切断品質を維持できないという問題、あるいは曲線部の曲率半径が大きくなり半径100mm以上でないと切断しづらいというような問題があった。
もう1つの課題としては、加熱領域と冷却領域との相対的な位置精度に関することである。直線を割断加工する場合には、加熱領域と冷却領域とは一直線上で左右対称に正確に並んで配置されるので、加熱領域と冷却領域との距離も正確に一定の値が保たれ、加熱と冷却との微妙なバランスを維持しつつガラス亀裂を進展させることができる。しかし、曲線加工の場合はこの相対的な位置関係を維持することは難しい。解り易い例として、円弧形状の場合で、曲率中心に近い側(内側)は加熱が強くなり、曲率中心から遠い側(外側)は加熱が弱くなるので、割断の予定線に沿って分割することができないという課題がある。
更に、曲線加工の場合は曲率半径や円弧の長さなどのバリエーションは多様であるが、それらの多様な形状に合わせて加熱と冷却のバランスを維持できるような解決方法は提案されていない。
特許文献1によるレーザ加工方法は、曲線加工方法の概念的な説明がなされているが、曲線加工方法の具体的構成に関する記載はなく曲線加工を具体的にどのように行うか不明である。特許文献2に記載されている曲線加工方法は、曲線加工における加熱領域の幅の変化をどのように解決するか提案されていない。特許文献3記載されている曲線加工方法は、冷却スポットが常にビームスポットの終端部に位置するように移動制御しているが、曲線加工における曲率半径や円弧の長さなどのバリエーションに対して加熱と冷却の微妙なバランスを維持する方法について具体的な提案はされていない。
本発明はこれらの従来技術の課題を解決するもので、曲線部を含む割断予定線をレーザ加工する場合に、加熱領域の幅を一定に保ち、レーザ光による加熱領域と冷却系による冷却領域との相対的な位置バランスを精度よく維持することができるレーザ加工装置を提供するものである。
上記目的を達成するために、本発明によるガラス基板のレーザ加工装置は、ガラス基板を載置しX方向およびY方向に駆動可能なガラス載置テーブルと、炭酸ガスレーザ発振器から出射されたレーザビームをXおよびY方向に偏向するガルバノミラーと、レーザビームをガラス基板上に集光する集光レンズと、レーザビームの照射領域に流体を噴射する流体噴射ノズルとを有し、ガラス載置テーブルのXおよびY方向への移動量および移動方向の制御と、ガルバノメータによるレーザビームの偏向方向の制御によってガラス載置テーブル上に照射されるレーザビームの照射位置およびスキャン形状を制御して、ガラス基板の割断予定線にそって流体噴射ノズルから流体を噴射しつつレーザビームを照射するものである。
ガラス基板の割断予定線は直線または曲線もしくは直線と曲線が混在した線のいずれでもよい。またこのような直線あるいは曲線の組み合わせによって囲まれた閉曲線でもよい。
流体噴射ノズルは圧縮空気を噴射してガラス基板を下方に押圧し、または、冷却液を噴射してガラス基板を局所的に冷却する機能を有する。望ましくは、ガルバノスキャナがビームを照射することができるビーム照射可能範囲のほぼ中心の位置に流体噴射領域が形成される。
本発明によれば、ガラス基板を直線および曲線の少なくとも一方を含む割断線や閉曲線を熱応力割断することができるので、割断部にマイクロクラック発生によるガラス強度の低下や割断時のカレット発生による汚染などがなく、適用可能な板厚の下限値の存在などもない。
本発明によるガラス基板のレーザ加工装置の実施例における全体構成を示す概念的斜視図 図1におけるレーザ照射系および液体噴射部の構成を示す概念的斜視図 図2におけるレーザビーム照射可能エリアを真上から見た平面図 本発明によるガラス基板の曲線加工における曲線切断形状の一例を示す平面図 図4の曲線加工における切断当初の直線切断部における加工軌跡およびレーザビームの照射方向を説明する図で、(a)は加工軌跡を説明する図(b)はレーザビームの照射方向を説明する図 図4の曲線加工における第1コーナーの曲線切断部における加工軌跡およびレーザビームの照射方向を説明する図で、 (a)は加工軌跡を説明する図 (b)はビームスキャン動作を説明する図 図4の曲線加工における第1コーナーの曲線切断部に続く直線切断部における加工軌跡およびレーザビームの照射方向を説明する図で、(a)は加工軌跡を説明する図(b)はレーザビームの照射方向を説明する図 図4の曲線加工における第2コーナーの曲線切断部における加工軌跡およびレーザビームの照射方向を説明する図で、 (a)は加工軌跡を説明する図 (b)はビームスキャン動作を説明する図 図4の曲線加工における第3コーナーの曲線切断部に続く直線切断部における加工軌跡およびレーザビームの照射方向を説明する図で、(a)は加工軌跡を説明する図(b)はレーザビームの照射方向を説明する図 図9の直線切断部に続く曲線加工を図4の直線切断に変えて第4コーナーとしての曲線加工に変更した場合の加工軌跡およびレーザビームの照射方向を説明する図で、(a)は加工軌跡を説明する図(b)はビームスキャン動作を説明する図(c)は(a)の加工軌跡の終端部の様子を説明する図 本発明によるガラス基板のレーザ加工装置の他の実施例における要部の全体構成を示す概念的斜視図 本発明によるガラス基板のレーザ加工装置の他の実施例におけるレーザビーム集光レンズの構成を示す概念的側面図
以下、本発明の好適な実施形態を図面に基づいて説明する。以下の説明ではガラス基板に直線部と曲線部が混在する閉曲線形状の割断加工を例に説明する。
図1は本発明によるガラス基板のレーザ加工装置の実施例における全体構成を示す概念的斜視図である。直線加工だけでなく曲線加工ができる。図1には上下に分離した2つのユニットが示されている。すなわち上側に配置された薄板ガラス用の「曲線加工用レーザ装置」と、下側に配置された「XY駆動テーブルユニット」とに分離している。
下方に配置された「XY駆動テーブルユニット」には、X軸方向に移動可能なX軸ステージ26と、Y軸方向に移動可能なY軸ステージ24とが含まれる。X軸ステージ26の上にはガラス載置テーブル22が配置され、その上には薄板ガラス28が置かれる。図においては、ステージを平行スライドさせるためのガイドレールのみが示されており、シャフト軸や駆動モータや駆動制御装置などの駆動系は図示省略している。
上側に配置された薄板ガラス用の「曲線加工用レーザ装置」は、炭酸ガスレーザ30と、ガルバノスキャナ32と、エフシータレンズ34、レーザ初亀裂形成モジュール42、流体噴射部36などの構成部品が含まれる。炭酸ガスレーザ30から発射されたレーザビームは、ガルバノスキャナ32およびfθレンズ34からなるレーザ照射系を介してガラス載置テーブル22上に置かれた薄板ガラス28に向けて照射される。fθレンズ34のほぼ真下の位置には、レーザビームを照射することが可能なエリアを想定することができて、その想定エリアの内側の一部分には流体が噴射されるように流体噴射ノズル38が設けられる。
流体噴射ノズル38は、レーザ加工装置内に設けられたガラス載置テーブル22の上面に対して流体を噴射する機能を備えており、薄板ガラス28の表面に対して圧縮空気を噴射して薄板ガラス28を下方に押圧する押圧力を発生させ、あるいは冷却液を噴射して薄板ガラス28を局所的に冷却させる。流体噴射ノズル38はノズル先端部36と流体量調整部40を備えている。ノズル先端部38は、ガルバノスキャナ32の下方の位置で、レーザビームを照射できるビーム照射領域のほぼ中心の位置に固定して配置されている。すなわち、スキャナの動作範囲に対応するビーム照射可能範囲に対してほぼ中心位置に設けられていて、ガラス載置テーブル22のXY方向への移動によりガラス載置テーブル22対して相対的に移動することにより位置決め移動することができる。一方、流体量調整部40はビーム照射領域から外れたスペースに配置される。
ガラス載置テーブル22上に載置された薄板ガラス28に対しては、炭酸ガスレーザ30から発射されたレーザビームが照射される。そのレーザビームは、ガルバノスキャナ32およびfθレンズ34で構成されたレーザ照射系を通して伝送される。レーザビームは薄板ガラス28の表面でフォーカスを結ぶ必要はなく、例えば一定の直径(約φ2mm)をもったデフォーカスの状態でビームスポットを形成して加熱する。このビームスポットは、ガルバノスキャナ32のXYスキャン動作によって、その照射位置を任意に変えることができる。
レーザ初亀裂カッター42は薄板ガラス28を曲線状に加工する際に薄板ガラス28に初亀裂を形成するものである。
図2は図1におけるレーザ照射系および液体噴射部の構成を示す概念的斜視図である。ガルバノスキャナ32はXミラー48およびYミラー46を有しており、各々Xミラーモータ47およびYミラーモータ45により制御されて炭酸ガスレーザ30からのレーザビームの反射方向を定める。fθレンズ34はガルバノスキャナ32からのレーザビーム52あるいはレーザビーム54を薄板ガラス28の表面上に向けて照射する。図2の上ではレーザビーム52と54と2つのビームのように示してあるが、これらはレーザを連続発振で打ち続けながらXミラー48を高速で往復スキャン動作させた場合に、本来1本のビームがライン状に広がって見える状態を表現している。fθレンズ34には、この例ではテレセントリックfθレンズを使用した例を図示しおり、fθレンズ34のほぼ真下の位置にはビームの照射可能エリア60が形成される。照射可能エリア60の形状は、ガルバノスキャナ32の動作範囲を示していてこの例においては直径70mm程度の円形である。もちろん四角形の照射可能エリアであっても構わない。照射可能エリア60の中であれば、ガルバノスキャナ32の位置制御をすることによって、どの位置にでも炭酸ガスレーザのビームスポットを位置指定して照射することができる。
さらに、ガルバノスキャナ32を走査制御することにより、本来は1ヵ所のビームスポットを高速に掃引移動できるので、ビームスポットよりも大きなビーム照射領域56を形成することができる。照射可能エリア60のほぼ中心位置には流体噴射領域58が形成される。流体噴射領域58は、流体噴射ノズル38の先端から噴射される流体が、ガラス載置テーブル22上の薄板ガラス28に向けて吹き付けられることによって形成される。ビーム照射領域56は、その細長い形状の一端が流体噴射領域58の付近に形成される。
図3には、図2のレーザビームの照射可能エリア60を真上から見た状態が図示されている。レーザビームの照射可能エリア60のほぼ中心の位置に流体噴射領域58が位置し、ビーム照射領域56はガラス基板上に細長い加熱領域を形成する。この例での大まかな寸法は、流体噴射領域58の直径が約3mm程度、ビーム照射領域56は長手方向に約20mmで幅方向に約2mmである。ビーム照射領域56は、例えば直径2mmのビームスポットがビーム照射領域56の端から端までを何回も往復することで形成されている。つまりは、ガルバノユニット内のミラーを高速に往復スキャンする際に、薄板ガラス28の上でのビームスポットの移動速度を約5メートル/秒程度の高速の設定にする。ビーム照射領域56は長さ20mm程度しかないので、ビームスポットはビーム照射領域56の端から端までを1秒間に何百回も往復する。そのような走査をすることにより、ガラス基板上では、均等に熱分散されたビーム照射領域56が形成されるので、ガラスが溶けてしまうほどの大きな熱量が局所的に集中することは避けられる。また、ビーム照射領域56の幅は前述のように約2mmであるが、この値はビームスポット径の値2mmと同じである。よってこの例ではガルバノ走査の軌跡を1本の線分を往復するように設定すれば、ビーム照射領域56の幅2mmが確保できる。
このビーム照射領域56と流体噴射領域58との位置関係は、ガラスをどの方向に切断するかに応じて決定される。図3の場合では、流体噴射領域58の位置を中心と見た場合に、ビーム照射領域56は3時の時計方向に延びるように形成されている。熱応力加工においては、はじめに加熱し次に冷却という順番で熱応力を発生させるために、実際にガラスを分断する亀裂の成長点は流体噴射領域58に極めて近い位置にある。従って、この例ではガラスを3時の方向に切断するための加熱と冷却の配置になっている。本実施例においては、ガラス載置テーブル22(図1参照)に置かれたガラスの方が動いて、ガルバノスキャナ34やノズル先端部36は固定で動かないという関係である。よって、図3においてはガラスが3時から9時の方向に移動(例えば100mm/秒の速度で)、つまりガラスが左に移動することで、水平な横方向への直線割断加工ができる。
ビーム照射領域56がレーザビームの照射可能エリア60内において薄板ガラス28に照射され、照射可能エリア60のほぼ中心の位置に流体が噴射されると、薄板ガラス28は熱応力加工により割断予定線に沿って割断されるが、ビーム照射領域56は割断予定線と直交方向に左右均等な熱バランスを有しているのでビームスキャンも割断予定線と直交方向に左右均等な熱バランスを取ることができる。また本実施例においては、直線形状のビーム照射領域56を流体噴射領域58を中心にして上下左右のいずれの方向にも形成できるので、直線の切断をする方向について、上下左右あるいはいずれの向きであっても選択できるという利点がある。
次に、図1〜図3で説明したレーザ加工装置とその機能を用いて、図4に示す曲線切断形状の曲線加工をする場合の動作を図5〜図9とともに説明する。図4に示す曲線切断形状は、直線部104→曲線状の第1コーナー部105→直線部106→曲線状で第1コーナー部105とは異なる曲率の第2コーナー部107→直線部108→曲線状で第1コーナー部105と同一の曲率の第3コーナー部109→直線部110→直線部104との交差点に至る形状である。 直線部110と直線部104との交差部は互いに直角にした例であり、薄板ガラス28の端部には加工開始点となる初亀裂12から直線部103から伸張し、直線部104に向かって直線部が連結される加工形状の例である。
まず、直線部103から直線部104に向かって加工する場合を図5により説明する。説明の都合上、以下の各図において、図の紙面における上下左右方向を単に上、下、左、右として説明する。
図5(a)において、レーザ初亀裂カッター42で薄板ガラス28の下端部の加工開始点の位置に初亀裂12を形成する。つぎに、レーザビームが初亀裂を入れた薄板ガラス28の下端部の初亀裂12から真上に延びる直線部103を経て直線部104を走査する方向にレーザビームを照射する。この場合、ガラス載置テーブル22を図5(b)に示す矢印マイナスY方向に移動させ、レーザビームの照射方向を図5(b)に示すようにレーザビームの照射可能エリア60内において12時の方向に細長く伸びるビーム照射領域203にする。この図5(b)に示す加熱と冷却の位置関係は維持された状態で、加工線が直線部103から直線部104に延びて直線部104の終端部である第1コーナー部105との交点の位置に到達するまでの間、ガラスはマイナスYの方向に移動する。
図5(a)には円形61を示してあるが、これは直線加工の途中のタイミングでの照射可能エリア60の瞬時の位置を示したものである。 円形61の中身は、図5(b)に示された加熱と冷却の配置の様子と同一である。ガラスの熱応力加工においては、ガラスの亀裂が成長する先端部は、流体噴射領域のすぐ近くに存在する。それゆえに直線103まで切断を完了し、これから直線104の切断が開始されようとするタイミングでの照射可能エリア60の位置が円形61に示されている。
つぎに、直線部104に連結する第1コーナー部105の加工について図6により説明する。図6(a)において、第1コーナー部105は、ある曲率、たとえば曲率半径がR20mm程度の曲率を持った円状曲線をしており、説明上曲線部105a、105b、105cの3つに分けて説明する。このような曲線形状を加工する場合は、図6(b)に示すようにレーザビームのビーム照射領域205a、205b、205cの形状も円弧形にする必要がある。さらに、ビームの照射方向を12時から9時の方向に移動させる必要がある。
第1コーナー部105の曲線部105aを加工する場合は、ガラス載置テーブル22を図6(b)に示す矢印+X方向および−Y方向に同時に移動させ、レーザビームの照射方向を図6(b)に示すようにレーザビームの照射可能エリア60内において12時から9時の方向に移動させてスキャン形状を円弧形のビーム照射領域205aのような細長く伸びる形状にする。このときのテーブルの移動方向は+X方向かつ−Y方向の円弧補間動作であり、+X方向および−Y方向への移動量および移動方向に応じてスキャン形状が円弧形のレーザビーム照射領域205aの位置及び形状が制御される。
この動作をさらに継続させると、レーザビームの照射方向は図6(b)のように矢印A方向に回転して円弧形のビーム照射領域205b、205cのようになり、図6(a)のように第1コーナー部105の曲線部105b、105cが加工されていく。この動作も+X方向および−Y方向への移動量を制御して行う。レーザビームの照射方向がレーザビームの照射可能エリア60内における9時の位置に到達したとき第1コーナー部105の割断加工が完了する。
つぎに、第1コーナー部105に連結する直線部106の加工について図7により説明する。図7において、レーザビームが第1コーナー部105に連結する直線部106を走査するようにレーザビームを照射する。このとき、ガラス載置テーブル22を図7(b)に示す矢印+X方向に移動させ、レーザビームの照射方向を図7(b)に示すようにレーザビームの照射可能エリア60内において9時の方向に細長く伸びる方向のビーム照射領域206にする。この状態で加工線が直線部106から直線部106の終端部である第2コーナー部107との交点の位置に到達するまで割断加工する。
つぎに、直線部105に連結する第2コーナー部107の加工について図8により説明する。図8(a)において、第2コーナー部107は第1コーナー部105とは異なる小曲率半径、たとえば、半径R10mm程度の曲率を持った円弧曲線をしている場合である。この場合も第2コーナー部107を曲線部107a、107b、107cの3つに分けて説明する。このような曲線形状を切る場合も、図8(b)に示すようにレーザビームのスキャン形状も円弧状のビーム照射領域207a、207b、207cとし、ビームの照射位置は9時から6時の方向に移動させる。第2コーナー部107は第1コーナー部105とは異なる曲率を有しているので、ビーム照射領域の形状も異なる。つまり、レーザビームのスキャン形状であるビーム照射領域207a、207b、207cは、図6で説明した第1コーナー部105の加工におけるレーザビームのスキャン形状であるビーム照射領域205a、205b、205cとは異なる形状の円弧形状となる。
第2コーナー部107の加工も第1コーナー部105の加工と本質的には同様である。まず、第2コーナー部107の曲線部107aを加工する場合は、ガラス載置テーブル22を図8(b)に示す矢印+X方向および+Y方向に円弧の形状に沿って、円弧補間動作で移動させ、レーザビームの照射方向を図8(b)に示すようにレーザビームの照射可能エリア60内において9時から6時の方向に移動させてビーム照射領域207aを円弧状の細長く伸びた形状にする。このとき+X方向および+Y方向への移動量すなわち円弧補間動作の位置座標は時間と共に刻々と変わっていき、その位置座標に応じてビーム照射領域207aの形状は都度定められる。円弧107は半径が小さいので、ビーム加熱領域の形状は円弧形状と直線形状とを組み合わせたような形状になる。
この動作をさらに継続させると、ビーム照射領域は図8(b)のように矢印A方向に回転して円弧形のビーム照射領域207b、207cのようになり、図8(a)のように第2コーナー部107の曲線部107b、107cが加工されていく。この動作も+X方向および+Y方向への移動量を制御して行う。レーザビームの照射方向がレーザビームの照射可能エリア60内における6時の位置に到達したとき第2コーナー部107の加工が完了する。
図4における第2コーナー部107に連結する直線部108の加工は、図5を用いて説明した直線の加工方法の場合と本質的に同一である。つまりガラス載置テーブル22の移動方向を図5(b)に示す矢印−Y方向とは逆の+Y方向に移動させてレーザビームの照射方向を照射可能エリア60内において6時の方向にしてビーム照射領域を細長く伸びる形状にして行う以外は同一であるので説明は繰り返さない。
図4における直線部108に連結する第3コーナー部109の曲線加工も、その方法については同一である。つまり、図6で説明した第1コーナー部105の加工方法におけるガラス載置テーブル22の移動方向を図6(b)に示す矢印−Y方向および矢印+Xとは逆の+Y方向および−X方向に移動させて、レーザビーム照射領域をレーザビームの照射可能エリア60内において円弧形のレーザビーム照射領域とし、レーザビームの照射方向を照射可能エリア60内において9時から6時の方向に変化させて行う以外は同一であるので説明は繰り返さない。
つぎに、直線部110の加工について図9により説明する。図9において、レーザビームが第3コーナー部109に連結する直線部110を走査するようにレーザビームを照射する。このとき、ガラス載置テーブル22を図9(b)に示す矢印−X方向に移動させ、レーザビームの照射方向を図9(b)に示すようにレーザビームの照射可能エリア60内において3時の方向にして細長く伸びるビーム照射領域210にする。この状態で加工線が直線部110から直線部104の始端部との交点の位置に到達するまで加工する。この場合、レーザビームは既に加工されている直線部103と直交するが、直交した部分には初亀裂がないためにそれ以上に割断加工が進展することはなく、薄板ガラス28は図4に示す閉曲線状に加工される。直線部110の終端と直線部104の始端を直交させた場合は加工がしやすく、また、加工形状が閉じた形であっても、流体噴射ノズル38とレーザビームとが干渉するという次段落に記載した欠点が発生しない。
図10は図9における直線部110が直線部104の始端部に連結する代わりに、直線部110が第4コーナー部111を介して直線部104に連結させる場合の実施例である。図10(a)において、第4コーナー部111は第1コーナー部105と同様にある曲率、たとえば、曲率半径がR20mm程度の曲率を持った円状曲線をしており、説明上曲線部111a、111b、111cの3つに分けて説明する。このような曲線形状を加工する場合は、図10(b)に示すようにビーム照射領域211a、211b、211cの形状も円弧形にする必要がある。また、ビームの照射方向は3時から12時の方向に移動させる。
図4に示した加工形状、すなわち右下が直角で円弧形状でない場合には、図5から図9においては、流体噴射ノズル38はレーザビームの照射可能エリア60でビームの照射経路に干渉しない位置に配置されているので、レーザビームと流体噴射ノズル38が干渉することがない。それに対して、図10に示した、第4コーナー部111の円弧加工時は、流体噴射ノズル38がレーザビームの照射経路に干渉してしまう。流体噴射ノズル38はレーザ加工装置に固定されているので、薄板ガラス28の加工時に流体噴射ノズル38とレーザビームの干渉は避けられないので、流体噴射ノズル38とレーザビームが干渉する影響を最小限にする位置に流体噴射ノズル38のノズル先端部36が配置されるようにすることが好ましい。
本実施例においては、図10(b)に示すように、ノズル先端部36の引き出し方向がレーザビームの照射可能エリア60内で1時の方向になるように設置したときレーザビームと流体噴射ノズル38の干渉が最小になることを確認した。この場合、第4コーナー部111の加工位置が曲線111の終端の曲線部111cに達し、レーザビームの照射場所が1時の方向に移動したときレーザビームのスキャン形状である円弧形211cの位置が流体噴射ノズル38のノズル先端部36に接近してレーザビームと流体噴射ノズル38が干渉することがある。図10(c)はこのときの曲線部111cと直線部103、104との位置関係の拡大図である。曲線部111cの終端は位置114から直線部103、104との交点に達するが、このときレーザビームが流体噴射ノズル36の影になってしまって切断などの加工が上手く加工できない恐れがある。そこで、本実施例においては、曲線部111cの終端部の加工時には初亀裂カッターによって亀裂を入れて所定の円弧形状を切り出す。
このように、曲線加工の形状が一周して元に戻ってくるような閉曲線(スタート位置とエンド位置が重なる一筆書きの形状)である場合には、流体噴射ノズル38の一部がレーザビームの影になって、薄板ガラス28上でレーザビームによる加熱が弱まるという欠点が発生するけれども、実際には、流体噴射ノズル36の金属管の直径は最大でもφ2mm程度できわめて細いので、そのような細い管がレーザビームの影になって悪影響を及ぼす影響は極めて小さいと考えられる。仮に影響があってもこの加熱が弱まる箇所に炭酸ガスレーザ以外の加工方法、たとえば本実施例で採用しているパルス発振型のビーム初亀裂形成モジュールを用いて亀裂をつなぐことによって、閉曲線をつなぐ加工方法を実現することができる。
図11は流体噴射ノズル38の一部がレーザビームの影になって、薄板ガラス28上でレーザビームによる加熱が弱まるという問題を加工工具以外の方法で解決する場合の実施例である。
図11(a)のように、図1、図2におけるfθレンズ34から下方に照射されるレーザビーム52、54の光路内に、ZnSe製の細長いシリンドリカルレンズ70、72を上下に2枚使って、1対1のビームエキスパンダのような共役の光学配置74を設ける。この2枚のシリンドリカルレンズ70、72の間に流体噴射ノズル38のノズル先端部36を構成する金属管を配置し、この金属管36を図11(b)に示すようにレーザビームが集光しない位置に金属管36を配置する。
fθレンズ34から下方に照射されたレーザビーム52、54は、上側のシリンドリカルレンズ70通過することで一度集光され、その後、下側のシリンドリカルレンズ72を通過することによって元のビーム径に戻って、ガラス基板の表面に照射される。こうして、流体噴射ノズル38とレーザビームの干渉を防止することができる。
図12は、本発明によるガラス基板のレーザ加工装置の他の実施例におけるレーザ照射系の構成を示している。出射されたレーザビームは、Xミラー48で反射され、fθレンズ34を通過し、更にアキシコンレンズ64を通過して、ガラス載置テーブルに向けて照射される。fθレンズ34とアキシコンレンズ64とは、上下に互いの光軸が一直線上に配置される。図12に示す実施例によれば、アキシコンレンズ64を経由したビームが、徐々に光軸中心に近づいて進行するビームパスとなる。ビームパスは光軸に回転対象なので、この例においては小さな円形の範囲のビーム照射可能エリア62となる。ビーム照射可能エリア62が小さくなることは好ましくないが、ガラスに照射されるビームに角度が付くという別のメリットが得られる。ノズル先端部36を配置することで、ビーム照射可能エリアにはノズル先端部36の影の影響が現れてしまうが、ビームに角度を付けることで影の部分にまでビームを回り込ますことができる。
すなわち、ノズル先端部36が置かれて発生する遮光の悪影響を軽減し、流体噴射領域58を囲む円周の近傍部分にまで、ビーム加熱エリアを寄せて形成できる。場合によっては、流体噴射領域58の真上にビームを重ねて照射もできる。
このような光学的手段で、ビーム照射領域と流体噴射領域58とを極めて近くに配置できるので、加熱と冷却のバランスを緻密に設定することが出来て、良好な加工条件の設定範囲を広げられる。
図12の例では、アキシコンレンズ64の平面側からビームを入射する方向に配置したが、反転させて円錐面からビーム入射させてもよい。円錐面からビーム入射した方が、アキシコンレンズ62の表裏2回の屈折が生じるので、より曲げられて大きな入射角度を得ることができる。高価なアキシコンレンズの代わりに平凸レンズを用いて、光軸に回転対象なビームパスを形成することもできる。これらのアキシコンレンズや平凸レンズまたは両凸レンズに例示される収束レンズ(集束作用レンズ)は、fθレンズの次段に配置される。エフシータレンズと収束レンズは、個別に配置されずに一体の集光ユニットである方が好ましい。
また、本発明の別の応用例を示す。前述した図1の説明または図12を用いた説明では、いずれの場合も、流体噴射ノズル先端部の配置が、ビーム照射領域のほぼ中心に配置されている。しかし、応用の範囲では、ビーム照射領域の中心位置に配置しなくても良い。例えば、図1の実施例において、流体噴射ノズル先端部36をfθレンズの光軸中心から外れた位置に配置した場合には、fθレンズを通過して下方に照射されるビームが、もともと角度をもって薄板ガラス28に照射されることになる。つまりガラスへの入射角度が0度ではなくなるが、目安として5度〜45度程度のビーム入射角度を持たせてもよい。この場合は、前述の図4のような閉じた形状の割断加工が難しくなるが、その反面、ビーム入射角度があるので、流体噴射領域のすぐ近傍の位置までビームを照射できるというメリットと、流体噴射ノズルの外形寸法を大きくしてもよいというメリットが得られる。
流体噴射ノズル先端部36をfθレンズの光軸中心から外れた位置に配置した場合には、図4のような閉じた形状の割断加工について、1行程の1周加工で閉じた形状を切り出すことが難しいが、2行程であれば、図4とほぼ同一の形状を切り出すことができる。
また、本発明を実施する場合において、厚さ0.2mm以下の薄板ガラスを加工対象とする場合、フルカット状態で割断される。フルカットであれば、加工最中の割断面の様子をCCDカメラ等を用いた画像モニタによって観測する必要が生じると思われる。その場合には、CCDカメラの観測視野を、その薄板ガラスの割断方向に応じて変化させる必要があり、CCDカメラを水平の円周方向に回転させるための回転テーブルに搭載して、回転テーブルの回転角度をステッピングモータで位置制御することが必要となる。次の課題としてフルカットの割断最中に、モニタの撮影視野の範囲内に捉えられるようにするため、ガルバノスキャナの制御とXY駆動テーブルの位置制御とCCDカメラを搭載した回転テーブルとを動作協調させる必要が生じる。
以上のように、本発明によれば、ガラス基板のかつ断面が鏡面でクラックフリーの高品質な切断面を備えた曲線の形状加工を行うことができる。したがって、近年、高機能ガラスの適用範囲の広がりに伴って要望されている各種のガラス基板をかつ断面が鏡面でクラックフリーの高品質な切断面を備えた直線や曲線、あるいは直線と曲線が混在した形状の割断加工を行うことができる。このようなレーザ加工による割断方法は、鏡のような理想的な切断面を得られる方法であり、ガラスを分断した後に、研磨処理のような後加工を要しない点が優れている。
最近においては、薄板ガラスと呼ばれる厚さ100μm以下の極めて厚さの薄いガラスが新素材として様々な分野で採用され始めている。薄板ガラスの加工については、従来のダイヤモンドカッタを用いたメカニカル加工よりも、レーザを用いた熱応力加工の方が切断面品質の点で優位である。レーザ熱応力加工の方がより好適である理由は、薄板ガラスが容易に曲げやすい性質を持っているからである。ガラス基板が曲げやすいと、切断面に極微なクラックが一箇所でも入ってしまっていると曲げ応力が集中しやすくなり、不測の割れにつながる恐れがあるが、本発明によればこのような事態を防止することができる。
また、薄板ガラスにレーザスクライブ加工を施した場合にはフルボディ割断が可能であり、ブレイクの後工程を必要としないという利点もある。
22 ガラス載置テーブル
24 Y軸ステージ
26 X軸ステージ
28 ガラス基板
30 炭酸ガスレーザ
32 ガルバノスキャナ
34 fθレンズ
36 ノズル先端部
38 体噴射ノズル
40 流体量調整部
42 レーザ初亀裂カッター
45 Y駆動系
46 Yミラー
47 X駆動系
48 Xミラー
52、54 レーザビーム
56 ビーム照射領域
58 流体噴射領域
60 レーザビームの照射可能エリア
70、72 シリンドリカルレンズ
74光学配置
103、104、106、107,108、110 直線部
105 第1コーナー部
105a、105b、105c、107a、107b、107c、111a、111b、111c 曲線部
107 第2コーナー部
109 第3コーナー部
111 第4コーナー部
203 ビーム照射領域
205a、205b、205c、207a、207b、207c、210、211a、211b、211cビーム照射領域
206 ビーム照射領域

Claims (6)

  1. ガラス基板を載置しXあるいはY方向に相対的に移動可能なガラス載置テーブルと、炭酸ガスレーザ発振器から出射されたレーザビームをXY平面内の所定の位置に反射するガルバノミラーと、レーザビームをガラス基板上に集光する集光レンズと、前記レーザビームの照射領域に流体を噴射する流体噴射ノズルとを有し、
    前記ガラス載置テーブルのXおよびY方向への移動量および移動方向の制御ならびに前記ガルバノメータによるレーザビームの偏向方向の制御によって前記ガラス載置テーブル上に照射されるレーザビームの照射位置およびスキャン形状を制御して、前記ガラス基板の割断予定線にそって前記流体噴射ノズルから流体を噴射しつつレーザビームを照射することを特徴とするレーザ加工装置。
  2. 割断予定線が直線および曲線のいずれか一方であることを特徴とする請求項1に記載のレーザ加工装置。
  3. 割断予定線が直線部および曲線部を含む線であることを特徴とする請求項1又は2に記載のレーザ加工装置。
  4. 割断予定線が閉曲線であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のレーザ加工装置。
  5. 流体が冷却液または圧縮空気であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のレーザ加工装置。
  6. 流体噴射ノズルはノズル先端部と流体量調整部を備え、前記ノズル先端部は、レーザビームの照射領域のほぼ中心の位置に固定されて配置され、ガラス載置テーブルの移動により前記ガラス載置テーブル対して相対的に移動することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のレーザ加工装置。

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2020003548A (ja) * 2018-06-26 2020-01-09 クアーズテック株式会社 フォトマスク用基板およびその製造方法

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