JP2016512574A - Electrolytic production of manganese (III) ions in concentrated sulfuric acid - Google Patents

Electrolytic production of manganese (III) ions in concentrated sulfuric acid Download PDF

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Abstract

電解槽、及び電解槽中でのマンガン(II)イオンのマンガン(III)イオンへの電気化学的酸化方法が記載される。前記電解槽は、(1)少なくとも1種の酸の溶液中のマンガン(II)イオンの電解液と、(2)前記電解液中に浸漬されているカソードと、(3)前記電解液中に浸漬され、前記カソードから隔離されているアノードとを含む。ガラス状炭素、網状ガラス状炭素、、炭素繊維織物、鉛、及び鉛合金等の種々のアノード素材が記載される。前記電解液が酸化されてマンガン(III)イオンの準安定錯体を形成した後、めっき可能なプラスチックをエッチングするために、前記めっき可能なプラスチックが、前記準安定錯体に接触させられてもよい。また、前記めっき可能なプラスチックを前記準安定錯体と接触させる前に、プラスチックの表面を調整するために、前記めっき可能なプラスチックに前処理組工程が行われてもよい。An electrolytic cell and a method of electrochemical oxidation of manganese (II) ions to manganese (III) ions in the electrolytic cell are described. The electrolytic cell includes (1) an electrolytic solution of manganese (II) ions in a solution of at least one acid, (2) a cathode immersed in the electrolytic solution, and (3) in the electrolytic solution. And an anode that is immersed and isolated from the cathode. Various anode materials such as glassy carbon, reticulated glassy carbon, carbon fiber fabric, lead, and lead alloys are described. After the electrolyte is oxidized to form a metastable complex of manganese (III) ions, the plateable plastic may be contacted with the metastable complex to etch the plateable plastic. In addition, a pretreatment assembly process may be performed on the plateable plastic to adjust the surface of the plastic before contacting the plateable plastic with the metastable complex.

Description

関連出願の相互参照
本願は、現在係属中の米国特許出願第13/356,004号(2012年1月23日出願)の一部継続出願である、現在係属中の米国特許出願第13/677,798号(2012年11月15日出願)の一部継続出願であり、それぞれの主題を参照することにより全体を本願に援用する。
CROSS REFERENCE TO RELATED APPLICATIONS This application is a continuation-in-part of currently pending US patent application Ser. No. 13 / 356,004 (filed Jan. 23, 2012), now pending US patent application Ser. No. 13/677. 798 (filed on Nov. 15, 2012), which is incorporated herein by reference in its entirety.

本発明は、一般的に、ABS及びABS/PC等のめっき可能なプラスチックをエッチングするための改善された方法に関する。   The present invention generally relates to an improved method for etching plateable plastics such as ABS and ABS / PC.

当技術分野では、種々の目的で非導電性基板(即ちプラスチック)を金属によりめっきすることが周知である。プラスチック成形品は、製造が比較的安価であり、金属めっきされたプラスチックは多くの用途に用いられている。例えば、金属めっきされたプラスチックは、装飾や、電子デバイスの製造に用いられている。装飾用途の例としては、トリム等の自動車部品が挙げられる。電子的用途の例としては、選択的なパターンでめっきされた金属がプリント回路基板の導体を構成するプリント回路や、EMI遮蔽に用いられる金属めっきプラスチックが挙げられる。ABS樹脂は、装飾目的で最も一般的にめっきされるプラスチックであり、フェノール樹脂及びエポキシ樹脂は、プリント回路基板の製造用途で最も一般的にめっきされるプラスチックである。   It is well known in the art to plate non-conductive substrates (ie plastics) with metal for various purposes. Plastic molded products are relatively inexpensive to manufacture, and metal-plated plastics are used in many applications. For example, metal-plated plastic is used for decoration and manufacturing of electronic devices. Examples of decorative applications include automotive parts such as trim. Examples of electronic applications include printed circuits in which metal plated in a selective pattern constitutes the conductor of a printed circuit board, and metal plated plastics used for EMI shielding. ABS resins are the most commonly plated plastics for decorative purposes, and phenolic resins and epoxy resins are the most commonly plated plastics for printed circuit board manufacturing applications.

プラスチック表面に対するめっきは、様々な消費財の製造に用いられている。プラスチック成形品は、製造が比較的安価であり、めっきされたプラスチックは、自動車用トリム等の多くの用途に用いられている。プラスチックのめっきには多くの段階がある。第一段階は、後続の金属コーティングの機械的接着を提供し、一般的に自己触媒的なニッケル又は銅のめっき工程からの最初の金属層の堆積を触媒するために適用されるパラジウム触媒の吸着に適した表面を提供するために、プラスチックをエッチングする工程を含む。この後、銅、ニッケル及びクロムの少なくともいずれかの堆積物を適用することができる。   Plating on plastic surfaces is used in the manufacture of various consumer goods. Plastic molded articles are relatively inexpensive to manufacture, and plated plastic is used in many applications such as automotive trim. There are many stages in plastic plating. The first stage provides mechanical adhesion of subsequent metal coatings and adsorption of palladium catalysts generally applied to catalyze the deposition of the initial metal layer from an autocatalytic nickel or copper plating process Etching the plastic to provide a suitable surface. After this, a deposit of at least one of copper, nickel and chromium can be applied.

プラスチック部品の最初のエッチングは、全工程の重要な部分である。しかしながら、めっきに適するのは特定の種類のプラスチック部品のみである。電気めっき用の最も一般的な種類のプラスチックは、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン(ABS)、又はABSとポリカーボネートとの混合物(ABS/PC)である。ABSは、2相からなる。第1相は、アクリロニトリル/スチレン共重合体からなる比較的硬質の相であり、第2相は、より柔らかいポリブタジエン相である。   The initial etching of plastic parts is an important part of the whole process. However, only certain types of plastic parts are suitable for plating. The most common type of plastic for electroplating is acrylonitrile / butadiene / styrene (ABS) or a mixture of ABS and polycarbonate (ABS / PC). ABS consists of two phases. The first phase is a relatively hard phase made of acrylonitrile / styrene copolymer, and the second phase is a softer polybutadiene phase.

現在、この素材は、ABS及びABS/PCのエッチング液として非常に効果的なクロム酸と硫酸との混合物を用いて、ほぼ独占的にエッチングされる。プラスチックのポリブタジエン相は、ポリマー骨格中にクロム酸で酸化される二重結合を含むので、プラスチックの表面に露出したポリブタジエン相の完全な破壊及び溶解を引き起こし、これがプラスチックの表面に効果的なエッチングを付与する。   Currently, this material is etched almost exclusively using a mixture of chromic acid and sulfuric acid which is very effective as an etchant for ABS and ABS / PC. The polybutadiene phase of the plastic contains double bonds that are oxidized with chromic acid in the polymer backbone, causing complete destruction and dissolution of the polybutadiene phase exposed on the surface of the plastic, which effectively etches the plastic surface. Give.

従来のクロム酸のエッチング工程の1つの問題は、クロム酸は広く認められた発癌物質であり次第に制限されており、クロム酸の使用は、可能な限りより安全な代替物で置き換えられることが求められる点である。クロム酸エッチング液の使用はまた、その廃棄を困難にするクロム化合物の毒性、ポリマー表面上に残留して無電解析出を抑制するクロム酸残留物、及び処理に続くポリマー表面からのクロム酸残留物のすすぎの困難性等の、周知の重大な欠点を有している。更に、高温の六価クロム硫酸溶液は、当然ながら労働者に対して危険である。火傷や上気道出血は、これらのクロムエッチング液に日常的に関わる労働者に共通している。従って、より安全な酸性のクロムエッチング液の代替物を開発することが極めて望ましい。   One problem with the conventional chromic acid etching process is that chromic acid is a widely recognized carcinogen and is increasingly limited, and the use of chromic acid requires that it be replaced by a safer alternative whenever possible. It is a point. The use of chromic acid etchants also makes the chromic acid residue difficult to dispose of, the chromic acid residue remaining on the polymer surface to inhibit electroless deposition, and the chromic acid residue from the polymer surface following treatment It has well-known serious drawbacks such as difficulty in rinsing. Furthermore, hot hexavalent chromium sulfate solutions are naturally dangerous to workers. Burns and upper respiratory tract bleeding are common to workers routinely involved in these chromium etchants. Therefore, it is highly desirable to develop safer acidic chrome etchant alternatives.

プラスチックをエッチングするためのクロム酸の使用を置き換える初期の試みは、典型的にはクロム酸の代替として過マンガン酸イオンの使用に焦点を当てたものであった。酸と組み合わせた過マンガン酸塩の使用が、その主題の全体が参照することにより本明細書中に援用される特許文献1に記載されている。その後、イオン性パラジウム活性化段階と組み合わせた過マンガン酸塩の使用が、その主題の全体が参照することにより本明細書中に援用される特許文献2に示唆された。パーハロイオン(例えば、過塩素酸塩又は過ヨウ素酸塩)と組み合わせた酸過マンガン酸塩溶液の使用が、その主題の全体が参照することにより本明細書中に援用される特許文献3に記載されている。最後に、アルカリ金属カチオン又はアルカリ土類金属カチオンの非存在下での過マンガン酸イオンの使用が、その主題の全体が参照することにより本明細書中に援用される特許文献4に記載されている。   Early attempts to replace the use of chromic acid to etch plastics typically focused on the use of permanganate ions as an alternative to chromic acid. The use of permanganate in combination with an acid is described in U.S. Patent No. 6,053,028, which is incorporated herein by reference in its entirety. Subsequently, the use of permanganate in combination with an ionic palladium activation step was suggested in US Pat. No. 6,057,028, which is incorporated herein by reference in its entirety. The use of an acid permanganate solution in combination with a perhalo ion (eg, perchlorate or periodate) is described in US Pat. No. 6,057,028, which is incorporated herein by reference in its entirety. ing. Finally, the use of permanganate ions in the absence of alkali metal cations or alkaline earth metal cations is described in U.S. Patent No. 6,057,028, which is incorporated herein by reference in its entirety. Yes.

過マンガン酸塩溶液はまた、その主題の全体が参照することにより本明細書中に援用される特許文献5に記載されている。特許文献5は、表面を調製するためのクロム及び硫酸浴、又は過マンガン酸塩溶液のいずれかの適合性を示唆している。また、その主題の全体が参照することにより本明細書中に援用される特許文献6は、過マンガン酸塩溶液の酸化電位よりも高い酸化電位を有する、次亜塩素酸ナトリウム等の物質を更に含む高温のアルカリ性過マンガン酸塩溶液を記載している。その主題の全体が参照することにより本明細書中に援用される特許文献7は、過マンガン酸カリウムと水酸化ナトリウムとを含むアルカリ性過マンガン酸塩溶液であって、高温、即ち約165°F〜200°Fに維持されるアルカリ性過マンガン酸塩溶液の使用を記載している。   Permanganate solutions are also described in U.S. Patent No. 6,053,077, which is incorporated herein by reference in its entirety. U.S. Patent No. 6,057,059 suggests the suitability of either a chromium and sulfuric acid bath or a permanganate solution to prepare the surface. In addition, US Pat. No. 6,057,028, which is incorporated herein by reference in its entirety, further describes substances such as sodium hypochlorite having an oxidation potential higher than that of the permanganate solution. A hot alkaline permanganate solution containing is described. U.S. Patent No. 6,057,028, which is incorporated herein by reference in its entirety, is an alkaline permanganate solution comprising potassium permanganate and sodium hydroxide, at elevated temperatures, i.e., about 165 ° F. Describes the use of alkaline permanganate solutions maintained at ~ 200 ° F.

容易に理解されるように、金属化用の非導電性基材の調製工程におけるクロム酸の代替物として、多くのエッチング液が提案されている。しかしながら、これらの方法はいずれも、様々な経済的、性能上、及び環境上の少なくともいずれかの理由で十分に証明されておらず、従ってこれらの方法はいずれも、商業的成功を収めていないか、又はクロム酸エッチングの好適な代替物として産業界で受け入れられていない。また、これら過マンガン酸塩系のエッチング液の安定性も乏しく、二酸化マンガンのスラッジの形成をもたらすことがある。   As can be readily appreciated, many etchants have been proposed as an alternative to chromic acid in the process of preparing a non-conductive substrate for metallization. However, none of these methods has been well proven for at least one of various economic, performance, and environmental reasons, and thus none of these methods has achieved commercial success. Or is not accepted by the industry as a suitable alternative to chromic acid etching. In addition, the stability of these permanganate-based etchants is poor and may lead to the formation of manganese dioxide sludge.

スラッジを形成し、自己分解を受ける過マンガン酸系溶液の傾向は、本発明者らにより本明細書中で研究されている。強酸性条件下では、過マンガン酸イオンは、以下の反応に従い水素イオンと反応し、マンガン(II)イオンと水とを生成することがある。   The tendency of permanganate-based solutions to form sludge and undergo autolysis has been studied herein by the inventors. Under strongly acidic conditions, permanganate ions may react with hydrogen ions according to the following reaction to produce manganese (II) ions and water.

4MnO + 12H → 4Mn2+ + 6HO + 5O (1) 4MnO 4 + 12H + → 4Mn 2+ + 6H 2 O + 5O 2 (1)

この反応により形成されたマンガン(II)イオンは次いで、以下の反応に従い更なる反応を受け、二酸化マンガンのスラッジを形成することがある。   Manganese (II) ions formed by this reaction may then undergo further reactions according to the following reaction to form manganese dioxide sludge.

2MnO + 2HO + 3Mn2+ → 5MnO + 4H (2) 2MnO 4 + 2H 2 O + 3Mn 2+ → 5MnO 2 + 4H + (2)

従って、強酸性過マンガン酸塩溶液系の組成は、過マンガン酸イオンがアルカリ金属塩により追加されるか、又はその場で電気化学的に生成されるかどうかに関わらず、本質的に不安定である。酸性の過マンガン酸塩の化学的安定性は、現在使用されているクロム酸エッチング液と比較して乏しいために、その大規模な商業的利用は実用的でない。アルカリ性の過マンガン酸塩エッチング液は、より安定であり、エポキシ系のプリント回路基板をエッチングするためにプリント回路基板業界で広く使用されているが、アルカリ性の過マンガン酸塩は、ABS又はABS/PC等のプラスチックのエッチング液としては有効でない。従って、マンガン(VII)がこれらの素材のエッチング液として商業的に広く受け入れられる可能性は低い。   Thus, the composition of the strongly acidic permanganate solution system is essentially unstable regardless of whether permanganate ions are added by alkali metal salts or are generated electrochemically in situ. It is. Due to the poor chemical stability of acidic permanganate compared to currently used chromic acid etchants, its large-scale commercial use is impractical. Alkaline permanganate etchants are more stable and are widely used in the printed circuit board industry to etch epoxy-based printed circuit boards, but alkaline permanganate can be used as ABS or ABS / ABS / It is not effective as an etching solution for plastics such as PC. Therefore, it is unlikely that manganese (VII) is widely accepted commercially as an etchant for these materials.

クロム酸を使用せずにABSをエッチングしようとする試みは、電気化学的に生成される銀(II)又はコバルト(III)の使用を伴ってきた。ある種の金属は、陽極酸化されて高度に酸化した状態に酸化することができる。例えば、コバルトは、コバルト(II)からコバルト(III)に酸化することができ、銀は、銀(I)から銀(II)に酸化することができる。   Attempts to etch ABS without the use of chromic acid have involved the use of electrochemically produced silver (II) or cobalt (III). Certain metals can be anodized and oxidized to a highly oxidized state. For example, cobalt can be oxidized from cobalt (II) to cobalt (III), and silver can be oxidized from silver (I) to silver (II).

しかしながら、現在のところ、(酸性型又はアルカリ性型のいずれかの)過マンガン酸塩系、他の任意の酸化状態のマンガン系、或いは他の酸又は酸化剤を使用することによる、好適な商業的に成功したプラスチックのエッチング液はない。   However, currently suitable commercial by using permanganate (either acidic or alkaline), manganese of any other oxidation state, or other acids or oxidants No plastic etchant has been successfully developed.

従って、当技術分野においては、後続の電気めっきのためにプラスチック基材を調製するための、クロム酸を含有せずに商業的に許容される改善されたエッチング液の必要性が、依然として存在する。   Accordingly, there remains a need in the art for improved etchants that are commercially acceptable without containing chromic acid to prepare plastic substrates for subsequent electroplating. .

米国特許第4,610,895号明細書(Tubergen等)US Pat. No. 4,610,895 (Tubergen et al.) 米国特許出願公開第2005/019958号明細書(Bengston)US Patent Application Publication No. 2005/019958 (Bengston) 米国特許出願公開第2009/0092757号明細書(Satou)US Patent Application Publication No. 2009/0092757 (Satou) 国際公開第2009/023628号(Enthone)International Publication No. 2009/023628 (Enthone) 米国特許第3,625,758号明細書(Stahl等)US Pat. No. 3,625,758 (Stahl et al.) 米国特許第4,948,630号明細書(Courduvelis等)US Pat. No. 4,948,630 (Courduvelis et al.) 米国特許第5,648,125号明細書(Cane)US Pat. No. 5,648,125 (Cane)

本発明の目的は、クロム酸を含有しないプラスチック基材のエッチング液を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an etching solution for a plastic substrate which does not contain chromic acid.

本発明の別の目的は、商業的に許容可能なプラスチック基材のエッチング液を提供することにある。   It is another object of the present invention to provide a commercially acceptable plastic substrate etchant.

本発明の別の目的は、マンガンイオン系のプラスチック基材のエッチング液を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide an etching solution for a manganese ion-based plastic substrate.

本発明の更に別の目的は、強酸酸化性電解液中での使用に好適であるが、電解液により分解されない電極を提供することにある。   Yet another object of the present invention is to provide an electrode that is suitable for use in strong acid oxidizing electrolytes but is not decomposed by the electrolyte.

本発明の更に別の目的は、濃硫酸中でのマンガン(III)イオンの生成に好適な商業的に許容可能な電極を提供することにある。   Yet another object of the present invention is to provide a commercially acceptable electrode suitable for the production of manganese (III) ions in concentrated sulfuric acid.

本発明の更に別の目的は、エッチングの前にプラスチック基材を調整する改善された前処理工程を提供することにある。   Yet another object of the present invention is to provide an improved pretreatment process for conditioning a plastic substrate prior to etching.

一実施形態では、本発明は、一般的に、
硫酸と、メタンスルホン酸、メタンジスルホン酸及びこれらの組合せからなる群から選択される更なる酸との溶液中に、マンガン(III)イオンを含む電解液と、
前記電解液と接触しているカソードと、
前記電解液と接触しているアノードと、
を含むことを特徴とする電解槽に関する。
In one embodiment, the present invention generally comprises:
An electrolyte containing manganese (III) ions in a solution of sulfuric acid and a further acid selected from the group consisting of methanesulfonic acid, methanedisulfonic acid and combinations thereof;
A cathode in contact with the electrolyte;
An anode in contact with the electrolyte;
It is related with the electrolytic cell characterized by including.

別の実施形態では、本発明は、一般的に、
少なくとも1種の酸の溶液中にマンガン(III)イオンを含む電解液と、
前記電解液と接触しているカソードと、
前記電解液と接触しているアノードとを含み、
前記アノードが、ガラス状炭素、網状ガラス状炭素、炭素繊維織物、鉛、鉛合金、及びこれらの1以上の組合せからなる群から選択される素材を含むことを特徴とする電解槽に関する。
In another embodiment, the present invention generally comprises:
An electrolyte containing manganese (III) ions in a solution of at least one acid;
A cathode in contact with the electrolyte;
An anode in contact with the electrolyte solution,
The present invention relates to an electrolytic cell wherein the anode includes a material selected from the group consisting of glassy carbon, reticulated glassy carbon, carbon fiber fabric, lead, lead alloy, and one or more combinations thereof.

別の実施形態では、本発明は、一般的に、プラスチック基材をエッチング可能な溶液を調製する方法であって、
少なくとも1種の酸の溶液中にマンガン(II)イオン溶液を含む電解液を、電解槽中に提供する工程であって、前記電解槽がアノード及びカソードを含む工程と、
電流を前記電解槽の前記アノード及び前記カソードに印加する工程と、
前記電解液を酸化してマンガン(III)イオンを形成する工程であって、前記マンガン(III)イオンが準安定錯体を形成する工程と、
を含むことを特徴とする方法に関する。
In another embodiment, the present invention generally relates to a method for preparing a solution capable of etching a plastic substrate comprising:
Providing an electrolytic solution containing a manganese (II) ion solution in a solution of at least one acid in an electrolytic cell, wherein the electrolytic cell includes an anode and a cathode;
Applying a current to the anode and cathode of the electrolytic cell;
Oxidizing the electrolyte to form manganese (III) ions, the manganese (III) ions forming a metastable complex;
It is related with the method characterized by including.

別の実施形態では、本発明は、一般的に、強酸溶液中でのマンガン(II)イオンのマンガン(III)イオンへの電気化学的酸化に好適な電極に関する。   In another embodiment, the present invention generally relates to an electrode suitable for electrochemical oxidation of manganese (II) ions to manganese (III) ions in a strong acid solution.

別の実施形態では、本発明は、一般的に、マンガン(II)イオンのマンガン(III)イオンへの電気化学的酸化方法であって、
硫酸を含む少なくとも1種の酸と、メタンスルホン酸、メタンジスルホン酸及びこれらの組合せからなる群から選択される更なる酸とを含む溶液中にマンガン(II)イオン溶液を含む電解液を、電解槽中に提供する工程であって、前記電解槽が、アノード及びカソードを含む工程と、
前記アノードと前記カソードとの間に電流を印加する工程と、
前記電解液を酸化してマンガン(III)イオンを形成する工程であって、前記マンガン(III)イオンが準安定錯体を形成する工程と、
を含むことを特徴とする方法に関する。
In another embodiment, the present invention is generally a method of electrochemical oxidation of manganese (II) ions to manganese (III) ions comprising:
An electrolytic solution comprising a manganese (II) ion solution in a solution comprising at least one acid comprising sulfuric acid and a further acid selected from the group consisting of methanesulfonic acid, methanedisulfonic acid and combinations thereof; Providing in a bath, wherein the electrolyzer comprises an anode and a cathode;
Applying a current between the anode and the cathode;
Oxidizing the electrolyte to form manganese (III) ions, the manganese (III) ions forming a metastable complex;
It is related with the method characterized by including.

更に別の実施形態では、本発明は、一般的に、プラスチック部品をエッチングする方法であって、前記プラスチック部品を、マンガン(III)イオン、及び少なくとも1種の酸を含む溶液と接触させる工程を含むことを特徴とする方法に関する。   In yet another embodiment, the present invention generally relates to a method of etching a plastic part comprising contacting the plastic part with a solution comprising manganese (III) ions and at least one acid. It is related with the method characterized by including.

本発明者らは、強酸溶液、好ましくは濃硫酸溶液、最も好ましくは少なくとも8Mの硫酸溶液中で二価マンガンイオンを低電流密度で電気分解することにより、三価マンガンを容易に製造できることを見出した。より具体的には、本発明者らは、強酸性溶液中の三価マンガンイオン溶液が、ABSをエッチング可能であることを発見した。   The inventors have found that trivalent manganese can be easily produced by electrolyzing divalent manganese ions at low current density in a strong acid solution, preferably concentrated sulfuric acid solution, most preferably at least 8M sulfuric acid solution. It was. More specifically, the inventors have discovered that a trivalent manganese ion solution in a strongly acidic solution can etch ABS.

三価マンガンは不安定であり、酸化力が強い(標準水素電極に対して標準酸化還元電位が1.51である)。溶液中では、三価マンガンは、以下の反応により極めて迅速に二酸化マンガンと二価マンガンとに不均化する。   Trivalent manganese is unstable and has strong oxidizing power (standard redox potential is 1.51 with respect to a standard hydrogen electrode). In solution, trivalent manganese disproportionates to manganese dioxide and divalent manganese very rapidly by the following reaction.

2Mn3+ + 2HO → MnO + Mn2+ + 4H (3) 2Mn 3+ + 2H 2 O → MnO 2 + Mn 2+ + 4H + (3)

しかしながら、濃硫酸溶液中では、三価マンガンイオンが準安定となり、チェリー紫色/チェリー赤色の硫酸塩錯体を形成する。本発明者らは、この硫酸塩錯体がABSのエッチングに好適な媒質であり、従来技術のクロムを含有しないエッチング液に比べて多くの利点を有することを見出した。   However, in concentrated sulfuric acid solution, trivalent manganese ions become metastable and form cherry purple / cherry red sulfate complexes. The present inventors have found that this sulfate complex is a suitable medium for ABS etching and has many advantages over prior art chromium-free etchants.

従って、一実施形態では、本発明は、一般的に、プラスチック基材をエッチング可能な溶液を調製する方法であって、
少なくとも1種の酸の溶液中にマンガン(II)イオン溶液を含む電解液を、電解槽中に提供する工程であって、前記電解槽がアノード及びカソードを含む工程と、
電流を前記電解槽の前記アノード及び前記カソードに印加する工程と、
前記電解液を酸化してマンガン(III)イオンを形成する工程であって、前記マンガン(III)イオンが準安定錯体を形成する工程と、
を含む方法に関する。
Accordingly, in one embodiment, the present invention generally relates to a method for preparing a solution capable of etching a plastic substrate comprising:
Providing an electrolytic solution containing a manganese (II) ion solution in a solution of at least one acid in an electrolytic cell, wherein the electrolytic cell includes an anode and a cathode;
Applying a current to the anode and cathode of the electrolytic cell;
Oxidizing the electrolyte to form manganese (III) ions, the manganese (III) ions forming a metastable complex;
Relates to a method comprising:

好ましい実施形態では、プラスチック基材は、ABS又はABS/PCを含む。   In a preferred embodiment, the plastic substrate comprises ABS or ABS / PC.

リン酸及び硫酸は共に本発明の組成物に好適であろうと考えられるが、好ましい実施形態では、酸は硫酸である。環境温度では、7Mの硫酸中でのマンガン(III)イオンの半減期は、約2年である。比較して、類似する7Mのリン酸中でのマンガン(III)イオンの半減期は、約12日であった。マンガン(III)イオンの硫酸中での極めて高い安定性は、マンガン−硫酸塩錯体の形成、及び硫酸溶液中では利用可能な水素イオン濃度が高濃度であることによるものであることが示唆される。リン酸の使用の更なる問題点は、マンガン(III)リン酸塩の溶解度が限定的である点である。従って、リン酸等の無機酸は、本発明の組成物において利用可能となり得るが、一般的に硫酸を使用することが好ましい。   While it is believed that both phosphoric acid and sulfuric acid would be suitable for the composition of the present invention, in a preferred embodiment, the acid is sulfuric acid. At ambient temperature, the half-life of manganese (III) ions in 7M sulfuric acid is about 2 years. In comparison, the half-life of manganese (III) ions in similar 7M phosphoric acid was about 12 days. The very high stability of manganese (III) ions in sulfuric acid is suggested to be due to the formation of manganese-sulfate complexes and the high concentration of hydrogen ions available in sulfuric acid solutions. . A further problem with the use of phosphoric acid is the limited solubility of manganese (III) phosphate. Thus, although inorganic acids such as phosphoric acid may be available in the composition of the present invention, it is generally preferred to use sulfuric acid.

濃硫酸中でのマンガン(III)イオンの顕著な安定性は、使用時に以下のような利点を提供する。
1)低電流密度でMn(III)イオンが形成されるため、工程の所要電力が概して非常に低い。
2)非常に低い電流密度でアノードが動作するので、アノード表面積との関係で小さいカソードを使用してMn(III)イオンのカソード還元を防止することができる。これにより、分割された槽が不要となり、エッチング液の再生槽の技術が単純化される。
3)工程が過マンガン酸イオンを生成しないので、溶液中に七酸化マンガンが生成する可能性がない(七酸化マンガンは激しい爆発性であるので、重大な安全上の問題である)。
4)濃硫酸中のMn(III)イオンの高い安定性のため、エッチング液は、使える状態で販売することができる。製造において、エッチング液のMn(III)含有量を維持してMn(II)イオンの蓄積を防止するために、エッチング液が必要とするのは、タンク側の小さな再生槽のみである。
5)他のエッチング工程は、過マンガン酸塩系であるので、過マンガン酸塩とMn(II)イオンとの反応の結果、二酸化マンガンの「スラッジ」が急速に生じ、エッチング液の寿命が非常に短くなる。(時間の経過とともに、いくらか不均化はあるかもしれないが、)これは、Mn(III)系のエッチングでは問題とはならない。
6)本発明のマンガン(III)の電解生成は、何ら有毒ガスを発生しない。幾分かの水素がカソードで生成され得るが、低電流要件のため、これは多くのめっき工程により生成されるものよりも少ないであろう。
The remarkable stability of manganese (III) ions in concentrated sulfuric acid provides the following advantages when used:
1) Since the Mn (III) ions are formed at a low current density, the process power requirements are generally very low.
2) Since the anode operates at a very low current density, a small cathode in relation to the anode surface area can be used to prevent cathodic reduction of Mn (III) ions. This eliminates the need for a divided tank and simplifies the technique of an etching solution regeneration tank.
3) Since the process does not produce permanganate ions, there is no possibility of producing manganese heptaoxide in the solution (manganese heptaoxide is a serious safety problem since it is highly explosive).
4) Due to the high stability of Mn (III) ions in concentrated sulfuric acid, the etchant can be sold in a usable state. In manufacturing, in order to maintain the Mn (III) content of the etchant and prevent accumulation of Mn (II) ions, the etchant requires only a small regeneration tank on the tank side.
5) Since the other etching processes are permanganate-based, the reaction between the permanganate and Mn (II) ions results in the rapid formation of manganese dioxide “sludge” and the lifetime of the etchant is very high. Becomes shorter. This may not be a problem for Mn (III) based etching (although there may be some disproportionation over time).
6) The electrolytic production of manganese (III) of the present invention does not generate any toxic gas. Some hydrogen can be produced at the cathode, but due to the low current requirements this will be less than that produced by many plating processes.

本明細書中に記載するように、好ましい実施形態においては、酸は硫酸である。硫酸の濃度は、好ましくは少なくとも8mol/L、より好ましくは約9mol/L〜約15mol/Lである。工程中での硫酸の濃度が重要である。約9mol/L未満の濃度では、エッチングの速度が遅くなり、約14mol/Lより高いと、溶液中でのマンガンイオンの溶解度が低下する。また、非常に高濃度の硫酸は、空気から水分を吸収する傾向があり、取扱いが危険である。従って、最も好ましい実施形態においては、硫酸の濃度は、約12mol/L〜13mol/Lであり、これは、エッチング液へ水の安全な添加を許容するのに十分に希薄であり、プラスチックのエッチング速度を最適化するのに十分に高濃度である。この硫酸の濃度では、約0.08Mまでの硫酸マンガンを、エッチングの好ましい動作温度で溶解させることができる。最適なエッチングのためには、溶液中のマンガンイオンの濃度は、可能なだけ高くなければならない。   As described herein, in a preferred embodiment, the acid is sulfuric acid. The concentration of sulfuric acid is preferably at least 8 mol / L, more preferably from about 9 mol / L to about 15 mol / L. The concentration of sulfuric acid in the process is important. When the concentration is less than about 9 mol / L, the etching rate is slow. When the concentration is higher than about 14 mol / L, the solubility of manganese ions in the solution decreases. Also, very high concentrations of sulfuric acid tend to absorb moisture from the air and are dangerous to handle. Thus, in the most preferred embodiment, the concentration of sulfuric acid is about 12 mol / L to 13 mol / L, which is sufficiently dilute to allow safe addition of water to the etchant and etches plastic. Concentration high enough to optimize speed. At this sulfuric acid concentration, up to about 0.08M manganese sulfate can be dissolved at the preferred operating temperature for etching. For optimal etching, the concentration of manganese ions in the solution should be as high as possible.

マンガン(II)イオンは、好ましくは、硫酸マンガン、炭酸マンガン、及び水酸化マンガンからなる群から選択されるが、当技術分野で知られている他の類似のマンガン(II)イオンの供給源もまた、本発明の実施において使用可能であろう。マンガン(II)イオンの濃度は、約0.005mol/L〜飽和濃度の範囲とすることができる。一実施形態では、電解液は、コロイド状の二酸化マンガンを含む。これは、溶液中のマンガン(III)の不均化の自然な結果としてある程度まで形成してもよく、又は意図的に添加してもよい。   The manganese (II) ions are preferably selected from the group consisting of manganese sulfate, manganese carbonate, and manganese hydroxide, although other similar sources of manganese (II) ions known in the art are also available. It could also be used in the practice of the present invention. The concentration of manganese (II) ions can range from about 0.005 mol / L to a saturated concentration. In one embodiment, the electrolyte includes colloidal manganese dioxide. This may form to some extent as a natural consequence of the disproportionation of manganese (III) in solution, or may be intentionally added.

マンガン(III)イオンは、都合よく、マンガン(II)イオンの酸化により電気化学的手段により生成することができる。また、電解液は、一般的に何ら過マンガン酸イオンを含有しないことが好ましい。   Manganese (III) ions can be conveniently generated by electrochemical means by oxidation of manganese (II) ions. Moreover, it is preferable that electrolyte solution does not contain permanganate ion generally.

本明細書に記載のように、ABSプラスチックの迅速なエッチング速度を得るためには、高濃度の酸を用いる必要がある。マンガンイオンとの錯体を形成するためには、硫酸イオン又は重硫酸(bisulfate)イオンの存在が必要であり、エッチング液の良好な安定性を得るためには、少なくとも8Mの硫酸のモル濃度が必要である。プラスチックの良好なエッチングのためには、迅速なエッチングのために、少なくとも約12Mの硫酸の濃度が必要であることが見出された。これは、浴中のマンガンイオンの溶解度を低下させる効果を有し、動作温度における浴中のマンガンイオンの最大溶解度は約0.08Mである。エッチング速度は、溶液中のマンガン(III)イオンの濃度に依存し、安定性を維持するための最大変換率は約50%であるため、浴中に溶解することができるマンガンの量を増加させることが望ましいであろう。   As described herein, in order to obtain a rapid etch rate of ABS plastic, it is necessary to use a high concentration of acid. In order to form a complex with manganese ions, the presence of sulfate ions or bisulfate ions is necessary, and in order to obtain good stability of the etchant, a molar concentration of at least 8M sulfuric acid is required. It is. It has been found that for good etching of plastics, a concentration of sulfuric acid of at least about 12M is required for rapid etching. This has the effect of reducing the solubility of manganese ions in the bath, and the maximum solubility of manganese ions in the bath at the operating temperature is about 0.08M. The etch rate depends on the concentration of manganese (III) ions in the solution, and the maximum conversion to maintain stability is about 50%, thus increasing the amount of manganese that can be dissolved in the bath It would be desirable.

本発明者らは、硫酸の一部を、マンガンイオンがより溶解し易い別の酸で置き換えすることにより、浴中に溶解可能なマンガンの量を増加させることができることを見出した。   The inventors have found that the amount of manganese that can be dissolved in the bath can be increased by replacing a portion of the sulfuric acid with another acid in which manganese ions are more soluble.

好適な酸の選択は制限される。例えば、塩酸はアノードで塩素を生成し、硝酸はカソードで一酸化窒素を生成する。過塩素酸、及び過ヨウ素酸は、二酸化マンガンに分解し得る過マンガン酸イオンを発生することが予想される。有機酸は、一般的に、マンガン(III)イオンにより急速に酸化される。従って、酸化に対する必要な安定性と、浴中のマンガンイオンの溶解度を増加させる能力との両方を有する酸は、メタンスルホン酸、及びメタンジスルホン酸である。マンガン(II)の溶解度は、メタンジスルホン酸においてよりも、メタンスルホン酸(及び硫酸)において遥かに優れているため、前者の選択は、優れた成果を生む。従って、メタンスルホン酸が好ましい更なる酸であり、硫酸が好ましい主要な酸である。   The choice of suitable acid is limited. For example, hydrochloric acid produces chlorine at the anode and nitric acid produces nitric oxide at the cathode. Perchloric acid and periodic acid are expected to generate permanganate ions that can be decomposed into manganese dioxide. Organic acids are generally rapidly oxidized by manganese (III) ions. Thus, acids that have both the required stability to oxidation and the ability to increase the solubility of manganese ions in the bath are methanesulfonic acid and methanedisulfonic acid. Since the solubility of manganese (II) is much better in methanesulfonic acid (and sulfuric acid) than in methanedisulfonic acid, the former choice yields excellent results. Therefore, methanesulfonic acid is the preferred further acid and sulfuric acid is the preferred primary acid.

それに基づき、本発明はまた、一般的に、浴中でのマンガンイオンの優れた溶解性を得るために、メタンスルホン酸又はメタンジスルホン酸のいずれかとの組合せで硫酸を含有する、ABSプラスチック及びABS/PCプラスチックをエッチングするための電解液であって、少なくとも8Mの硫酸を含み、約0M〜約6Mのメタンスルホン酸又はメタンジスルホン酸、好ましくは約1M〜約6Mのメタンスルホン酸を含む電解液に関する。   Based thereon, the present invention also generally includes ABS plastics and ABS containing sulfuric acid in combination with either methanesulfonic acid or methanedisulfonic acid to obtain excellent solubility of manganese ions in the bath. / Electrolyte for etching PC plastics, comprising at least 8M sulfuric acid and comprising about 0M to about 6M methanesulfonic acid or methanedisulfonic acid, preferably about 1M to about 6M methanesulfonic acid About.

より詳細には、本発明は、一般的に、
硫酸と、メタンスルホン酸、メタンジスルホン酸及びこれらの組合せからなる群から選択される更なる酸との溶液中に、マンガン(III)イオンを含む電解液と、
前記電解液と接触しているカソードと、
前記電解液と接触しているアノードと、
を含む電解槽に関する。
More particularly, the present invention generally includes:
An electrolyte containing manganese (III) ions in a solution of sulfuric acid and a further acid selected from the group consisting of methanesulfonic acid, methanedisulfonic acid and combinations thereof;
A cathode in contact with the electrolyte;
An anode in contact with the electrolyte;
It is related with the electrolytic cell containing.

更に、本発明は、一般的に、
少なくとも1種の酸の溶液中にマンガン(III)イオンを含む電解液と、
前記電解液と接触しているカソードと、
前記電解液と接触しているアノードとを含み、
前記アノードが、ガラス状炭素、網状ガラス状炭素、炭素繊維織物、鉛、鉛合金、及びこれらの1以上の組合せからなる群から選択される素材を含む電解槽に関する。
Furthermore, the present invention generally includes:
An electrolyte containing manganese (III) ions in a solution of at least one acid;
A cathode in contact with the electrolyte;
An anode in contact with the electrolyte solution,
The anode relates to an electrolytic cell including a material selected from the group consisting of glassy carbon, reticulated glassy carbon, carbon fiber fabric, lead, lead alloy, and one or more combinations thereof.

更に、本発明は、一般的に、マンガン(II)イオンのマンガン(III)イオンへの電気化学的酸化方法であって、
少なくとも1種の酸の溶液中にマンガン(II)イオン溶液を含む電解液を、電解槽中に提供する工程であって、前記電解槽が、アノード及びカソードを含む工程と、
前記アノードと前記カソードとの間に電流を印加する工程と、
前記電解液を酸化してマンガン(III)イオンを形成する工程であって、前記マンガン(III)イオンが準安定錯体を形成する工程と、
を含む方法に関する。
Furthermore, the present invention generally relates to a method for electrochemical oxidation of manganese (II) ions to manganese (III) ions, comprising:
Providing an electrolytic solution containing a manganese (II) ion solution in a solution of at least one acid in an electrolytic cell, the electrolytic cell including an anode and a cathode;
Applying a current between the anode and the cathode;
Oxidizing the electrolyte to form manganese (III) ions, the manganese (III) ions forming a metastable complex;
Relates to a method comprising:

電解液が酸化されて準安定錯体を形成した後、めっき可能なプラスチックの表面をエッチングするために、めっき可能なプラスチックが、準安定錯体中に一定時間浸漬されてもよい。一実施形態では、めっき可能なプラスチックは、30℃〜80℃の温度で準安定錯体中に浸漬される。エッチング速度は温度とともに上昇し、50℃未満では低速である。   After the electrolyte is oxidized to form a metastable complex, the plateable plastic may be immersed in the metastable complex for a period of time to etch the surface of the plateable plastic. In one embodiment, the plateable plastic is immersed in the metastable complex at a temperature between 30 ° C and 80 ° C. The etching rate increases with temperature, and is slow below 50 ° C.

温度の上限は、エッチングされるプラスチックの性質により決定される。ABSは、70℃を超えると変形し始めるので、好ましい実施形態では、ABS素材をエッチングする場合は特に、電解液の温度は、約50℃〜約70℃に維持される。電解液中のプラスチックの浸漬時間は、好ましくは、約10分間〜約30分間である。   The upper temperature limit is determined by the nature of the plastic being etched. In the preferred embodiment, the temperature of the electrolyte is maintained at about 50 ° C. to about 70 ° C., especially when etching ABS material, because ABS begins to deform above 70 ° C. The immersion time of the plastic in the electrolyte is preferably about 10 minutes to about 30 minutes.

このような方法でエッチングされた物品は、次いで、めっきプラスチックの従来の前処理を用いて電気めっきすることができ、又はプラスチックのエッチングされた表面を、塗料、ラッカー、又は他の表面コーティングの接着性を高めるために用いることができる。   Articles etched in this manner can then be electroplated using conventional pretreatments of plated plastics, or the etched surfaces of plastics can be adhered to paints, lacquers, or other surface coatings. It can be used to enhance the properties.

本発明のエッチング液に使用されるマンガン(II)イオンの濃度は、サイクリックボルタンメトリーを用いて決定することができる。酸化は拡散律速なので、電解酸化工程中にエッチング液の効率的な撹拌が必要である。   The concentration of manganese (II) ions used in the etching solution of the present invention can be determined using cyclic voltammetry. Since oxidation is diffusion controlled, efficient stirring of the etchant is required during the electrolytic oxidation process.

本明細書中に記載の電解槽において使用可能なアノード及びカソードは、種々の素材を含むことができる。カソードは、白金、白金めっきチタン、ニオブ、酸化イリジウム被覆チタン、及び鉛からなる群から選択される素材を含むことができる。好ましい一実施形態では、カソードは、白金又は白金めっきチタンを含む。別の好ましい実施形態では、カソードは、鉛を含む。アノードはまた、白金めっきチタン、白金、酸化イリジウム/酸化タンタル、ニオブ、ホウ素ドープダイヤモンド、又は他の任意の好適な素材を含むことができる。   The anode and cathode that can be used in the electrolyzer described herein can include a variety of materials. The cathode can include a material selected from the group consisting of platinum, platinized titanium, niobium, iridium oxide coated titanium, and lead. In a preferred embodiment, the cathode comprises platinum or platinized titanium. In another preferred embodiment, the cathode comprises lead. The anode can also include platinized titanium, platinum, iridium oxide / tantalum oxide, niobium, boron doped diamond, or any other suitable material.

本発明者らは、マンガン(III)イオンと濃硫酸(即ち、8mol/L〜15mol/L)との組合せが、ABSプラスチックをエッチングすることができる一方、エッチング液は、マンガン(III)イオンを生成するために必要な電極に対して非常に腐食性でもあることを発見した。具体的には、チタン基材を有するアノードは、エッチング液により急速に分解される可能性がある。   We have found that the combination of manganese (III) ions and concentrated sulfuric acid (i.e., 8 mol / L to 15 mol / L) can etch ABS plastics, while the etchant contains manganese (III) ions. It has been found that it is also very corrosive to the electrodes required to produce. Specifically, an anode having a titanium substrate can be rapidly decomposed by an etchant.

従って、より好適な電極素材を決定する試みにおいて、鉛、及びグラファイト等の他の種々の電極素材を試験した。ガラス状炭素及び網状ガラス状炭素は、より堅牢であり、(公称表面積に基づき)好ましくは0.1A/dm〜0.4A/dmの電流が印加されたときに、マンガン(III)イオンを生成することができると見出した。また、ガラス状炭素、及び網状ガラス状炭素は、商業的用途において電極として使用するには費用対効果が悪い可能性があるため、アノードは炭素繊維織物から製造されてもよいことを更に見出した。 Therefore, various other electrode materials such as lead and graphite were tested in an attempt to determine a more suitable electrode material. Glassy carbon and reticulated vitreous carbon is more robust, (based on the nominal surface area) preferably when the current of 0.1A / dm 2 ~0.4A / dm 2 is applied, manganese (III) ions Found that can be generated. It has also been found that the anode may be made from a carbon fiber fabric because glassy carbon and reticulated glassy carbon can be cost-effective to use as electrodes in commercial applications. .

炭素繊維は、ポリアクリロニトリル(PAN)の繊維から製造される。これらの繊維は、温度上昇下での酸化工程に続き、不活性雰囲気中で非常に高温度下での炭素化工程を経る。炭素繊維は次いで、典型的には種々の樹脂系と組み合わせて用いられてシート状に織られ、高強度部品を製造する。炭素繊維シートはまた、良好な導電性を有し、繊維は典型的には、乱層(即ち、無秩序層)構造を有する。理論に拘束されることは望まないが、この構造が、炭素繊維を電極として効果的にしているものと考えられている。格子内のSP混成炭素原子が、良好な導電性を与える一方、SP混成炭素原子がグラファイト層を互いに結合してそれらを所定の位置に固定し、これにより良好な耐化学性を提供する。 Carbon fibers are made from polyacrylonitrile (PAN) fibers. These fibers go through an oxidation step at elevated temperature followed by a carbonization step at very high temperature in an inert atmosphere. The carbon fibers are then typically used in combination with various resin systems and woven into sheets to produce high strength parts. Carbon fiber sheets also have good electrical conductivity, and the fibers typically have a turbulent (ie, disordered layer) structure. Although not wishing to be bound by theory, it is believed that this structure makes carbon fiber an effective electrode. SP 2 hybrid carbon atoms in the lattice give good conductivity, while SP 3 hybrid carbon atoms bind the graphite layers together and fix them in place, thereby providing good chemical resistance. .

本発明の電極において使用するために好ましい素材は、炭素を少なくとも95%含有し、何ら樹脂を含浸していない炭素繊維織物を含む。取扱い性、及び製織工程を容易にするために、炭素繊維は、典型的にはエポキシ樹脂によりサイジングされており、これは繊維重量の2%まで含むことができる。この低い割合では、電極として使用される場合、エポキシのサイジングは、エッチング液が含有する濃硫酸により急速に除去される。これは、エッチング液の最初の僅かな変色の原因になることがあるが、性能には影響しない。この最初の「慣らし運転(running in)」段階に次いで、アノードは、電解液に対して耐性であり、マンガン(II)イオンをマンガン(III)に酸化するのに有効であると思われる。   Preferred materials for use in the electrodes of the present invention include carbon fiber fabrics that contain at least 95% carbon and are not impregnated with any resin. To facilitate handling and the weaving process, carbon fibers are typically sized with an epoxy resin, which can contain up to 2% of the fiber weight. At this low rate, when used as an electrode, epoxy sizing is rapidly removed by the concentrated sulfuric acid contained in the etchant. This may cause an initial slight discoloration of the etchant, but does not affect performance. Following this initial “running in” phase, the anode appears to be resistant to electrolyte and effective in oxidizing manganese (II) ions to manganese (III).

アノードは、電気的接触設備により、炭素繊維織物素材を好適な枠に取り付けることにより、構成することができる。マンガン(III)イオンの生成において、炭素繊維をカソードとして使用することも可能であるが、特に分割されていない槽を使用する場合、アノードよりもカソードの方が遥かに小さいので、鉛を用いる方が便利である。   The anode can be constructed by attaching the carbon fiber fabric material to a suitable frame with electrical contact equipment. Carbon fiber can be used as a cathode in the production of manganese (III) ions, but especially when using an undivided cell, the cathode is much smaller than the anode, so lead is used. Is convenient.

電解槽に印加することができる電流密度は、選択されたアノード素材への酸素過電圧により部分的に制限される。一例として、白金めっきチタンのアノードの場合は、電流密度が約0.4A/dmより大きいと、アノードの電位は、酸素を遊離するには十分に高い。この時点で、マンガン(II)イオンのマンガン(III)イオンへの変換効率が低下するので、電流密度の更なる増加は無駄となる。更に、高い電流密度を生成するのに必要な高い過電圧でアノードを動作させると、アノード表面に、マンガン(III)イオンではなく二酸化マンガンを生成する傾向がある。 The current density that can be applied to the electrolyzer is limited in part by the oxygen overvoltage to the selected anode material. As an example, for a platinized titanium anode, if the current density is greater than about 0.4 A / dm 2 , the potential of the anode is high enough to liberate oxygen. At this point, since the conversion efficiency of manganese (II) ions to manganese (III) ions decreases, further increase in current density is wasted. Furthermore, operating the anode at the high overvoltage required to produce a high current density tends to produce manganese dioxide on the anode surface rather than manganese (III) ions.

驚くべきことに、鉛のアノードを本明細書中に記載の電解槽に効果的に使用できることが見出された。鉛は、硫酸中での溶解性が非常に限定的な硫酸鉛の層を表面に形成することにより、濃硫酸中で不活性となる。これにより、非常に高い過電圧(標準水素電極に対して2V高い)に達するまでアノードが不活性となる。このレベルよりも大きい電圧で、酸素と二酸化鉛との混合物が生成する。一方で、このような高い動作電位が、マンガンイオン(III)イオンの形成よりも、酸素の生成及び過マンガン酸イオンの形成に有利に働き、鉛のアノードを用いた実験では、マンガン(III)イオンのみを生成し、過マンガン酸塩を生成しないことが予想される。これは、エッチング液を水で希釈することにより確認することができる。即ち、マンガン(III)イオンは、不均化を起こして褐色の二酸化マンガンとマンガン(II)イオンとを生成する。溶液の濾過により、過マンガン酸イオンの紫色ではなく、マンガン(II)イオンに特有の実質的に無色の溶液が生成する。   Surprisingly, it has been found that a lead anode can be effectively used in the electrolyzer described herein. Lead becomes inactive in concentrated sulfuric acid by forming a surface layer of lead sulfate with very limited solubility in sulfuric acid. This inactivates the anode until a very high overvoltage (2V higher than the standard hydrogen electrode) is reached. A voltage greater than this level produces a mixture of oxygen and lead dioxide. On the other hand, such a high operating potential favors oxygen generation and permanganate ion formation over manganese ion (III) ion formation, and in experiments using lead anodes, manganese (III) It is expected to produce only ions and not permanganate. This can be confirmed by diluting the etching solution with water. That is, manganese (III) ions cause disproportionation to produce brown manganese dioxide and manganese (II) ions. Filtration of the solution produces a substantially colorless solution characteristic of manganese (II) ions rather than the purple color of permanganate ions.

本発明者らは、鉛のアノードを使用する場合、これらのアノードはマンガン(II)イオンの酸化効率が非常に高いため、酸化速度を監視する必要があることを見出した。従って、酸化速度が監視及び制御されない場合、高過ぎる比率のマンガン(II)イオンが酸化され、残留するマンガン(II)の濃度は非常に低くなる。マンガン(II)イオンの非存在下では、アノードがマンガン(III)イオンをマンガン(IV)へと酸化し始め、これが急速に不溶性の二酸化マンガンを形成する。   The inventors have found that when using lead anodes, the oxidation rate of manganese (II) ions must be monitored because these anodes are very efficient in oxidizing manganese (II) ions. Thus, if the oxidation rate is not monitored and controlled, too high a proportion of manganese (II) ions will be oxidized and the remaining manganese (II) concentration will be very low. In the absence of manganese (II) ions, the anode begins to oxidize manganese (III) ions to manganese (IV), which rapidly forms insoluble manganese dioxide.

それに基づき、電解液の安定性を維持するためには、マンガン(III)イオンに酸化されるのは、最初のマンガン(II)イオン濃度の50%以下、好ましくは25%以下であることが重要である。鉛のアノードの場合には、これは、エッチング液の滴定又は酸化還元電極の使用によりマンガン(III)イオンの蓄積を監視し、マンガン(III)含有量が所望のレベルに達したときに電気分解を停止することを含む。12.5Mの硫酸の濃度では、有効なエッチング及び最大安定性のためには、0.08Mの総マンガン含有量に基づき、0.01Mを超え、0.04Mを超えないマンガン(III)イオン濃度を有する必要がある。   Based on this, in order to maintain the stability of the electrolyte, it is important that the manganese (III) ions are oxidized to 50% or less, preferably 25% or less of the initial manganese (II) ion concentration. It is. In the case of a lead anode, this monitors the accumulation of manganese (III) ions by titration of the etchant or the use of a redox electrode and electrolysis when the manganese (III) content reaches the desired level. Including stopping. At a concentration of 12.5M sulfuric acid, for effective etching and maximum stability, based on a total manganese content of 0.08M, manganese (III) ion concentration above 0.01M and not above 0.04M It is necessary to have.

アノードは、鉛又は好適な鉛合金を含むことができ、選択される合金の種類が、変換効率に影響し得る。純鉛、又は僅かな割合のスズを含む鉛が特に有効であり、約70%の変換効率を生む。また、適度の撹拌で、驚くほど高い電流密度を印加することができ、この変換率を維持できることが見出された。   The anode can include lead or a suitable lead alloy, and the type of alloy selected can affect the conversion efficiency. Pure lead, or lead containing a small percentage of tin, is particularly effective and produces a conversion efficiency of about 70%. It was also found that surprisingly high current density can be applied with moderate agitation and this conversion rate can be maintained.

鉛のアノードを用いて電気分解を延長すると、最終的に二酸化マンガンの膜が形成したことが観察された。一度顕著な量の二酸化マンガンが電極表面上に核形成すると、これが極めて迅速に厚く成長する傾向がある。しかしながら、二酸化マンガンは、容易に電気化学的に還元されてマンガン(II)イオンに戻る。従って、定期的にセル電流を反転させる工程により、二酸化マンガンの蓄積を軽減又は除去することができる。表面上に堆積した量の二酸化マンガンを還元してマンガン(II)イオンに戻すためには、反転相の間に十分なクーロン電荷が印加されている限り、電流反転の間の時間は重要ではない。   It was observed that when the electrolysis was extended using a lead anode, a final manganese dioxide film was formed. Once a significant amount of manganese dioxide nucleates on the electrode surface, it tends to grow very quickly and thickly. However, manganese dioxide is easily electrochemically reduced back to manganese (II) ions. Therefore, accumulation of manganese dioxide can be reduced or eliminated by periodically reversing the cell current. In order to reduce the amount of manganese dioxide deposited on the surface back to manganese (II) ions, the time between current reversals is not important as long as sufficient Coulomb charges are applied during the inversion phase. .

それに基づき、ABS又はABS/PCをエッチングする目的で、硫酸溶液中でマンガン(III)イオンを生成する目的で鉛及び鉛合金の電極を使用する場合、浴が安定で過剰な量の二酸化マンガンを析出しないように溶液中に有効な量のマンガン(II)イオンが残るように、電解工程は、好ましくは、マンガン(III)イオンが0.08Mの総マンガン含有量に基づき0.01M〜0.04Mの好適な動作濃度に達した際に中断される。好適な電極の素材としては、例えば、純鉛、約4%のアンチモンを含む鉛アンチモン、最大5%の錫を含む鉛錫のアノード、及び鉛/錫/カルシウムのアノードが挙げられる。他の好適な鉛合金もまた、本発明の実施において使用することができる。また、周期的に反転される電流の使用が、アノード上の二酸化マンガン膜の蓄積を防止する。これは、アノードの変換効率を維持し、エッチングタンク又は再生槽のアノードを取り除いて掃除する必要性を低減又は除去するのに便利である。   Based on that, when using lead and lead alloy electrodes for the purpose of etching ABS or ABS / PC to produce manganese (III) ions in sulfuric acid solution, the bath is stable and an excess amount of manganese dioxide is removed. The electrolysis process is preferably 0.01M-0.O based on a total manganese content of 0.08M manganese (III) ions so that an effective amount of manganese (II) ions remains in the solution so as not to precipitate. Interrupted when the preferred operating concentration of 04M is reached. Suitable electrode materials include, for example, pure lead, lead antimony containing about 4% antimony, lead tin anodes containing up to 5% tin, and lead / tin / calcium anodes. Other suitable lead alloys can also be used in the practice of the present invention. Also, the use of periodically reversed current prevents the accumulation of manganese dioxide film on the anode. This is useful for maintaining the conversion efficiency of the anode and reducing or eliminating the need to remove and clean the etching tank or regeneration tank anode.

また、効率的にマンガン(III)イオンを生成するためには、一般的に、カソードの面積と比較して大きいアノード面積を使用する必要がある。好ましくは、アノードのカソードに対する面積比は、少なくとも約10:1である。これにより、カソードを電解液中に直接浸漬することができ、分割された槽を有する必要がない。この過程は、分割された槽配置でも動作し得るが、これは不必要な複雑さ及び費用に繋がる。   In order to efficiently produce manganese (III) ions, it is generally necessary to use an anode area that is larger than the area of the cathode. Preferably, the anode to cathode area ratio is at least about 10: 1. This allows the cathode to be immersed directly in the electrolyte and does not need to have a divided bath. This process can work with a split tank arrangement, but this leads to unnecessary complexity and cost.

本発明を、以下の非限定的な実施例を参照して説明する。   The invention will now be described with reference to the following non-limiting examples.

比較例1
12.5mol/Lの硫酸中の0.08mol/Lの硫酸マンガン(II)溶液(500mL)を70℃に加熱し、めっき可能な品質のABS片を溶液中に浸漬した。この溶液に浸漬した1時間後であっても、試験パネルの識別可能なエッチングは認められず、すすぎの際、表面は「濡れる」ことなく、水膜を切れ目なく保持できなかった。
Comparative Example 1
A 0.08 mol / L manganese (II) sulfate solution (500 mL) in 12.5 mol / L sulfuric acid was heated to 70 ° C., and a piece of ABS of quality that could be plated was immersed in the solution. Even after 1 hour of immersion in this solution, no identifiable etching of the test panel was observed, and the surface was not “wetted” during rinsing, and the water film could not be retained without breaks.

実施例1
1dmの表面積の白金めっきチタンのアノードと、0.01dmの表面積の白金めっきチタンのカソードとを、溶液中に浸漬して200mAの電流を5時間印加することにより、比較例1の溶液を電気分解した。
Example 1
The anode of platinum-plated titanium surface area of 1 dm 2, and a cathode of platinized titanium surface area of 0.01Dm 2, by dipping to apply a current of 200 mA 5 hours in the solution, the solution of Comparative Example 1 Electrolyzed.

この電気分解の間、ほぼ無色から非常に深い紫色/赤色への溶液の色の変化が観察された。過マンガン酸イオンが存在しないことを確認した。   During this electrolysis, a color change of the solution from almost colorless to very deep purple / red was observed. It was confirmed that no permanganate ion was present.

次いでこの溶液を70℃に加熱し、めっき可能な品質のABS片を溶液中に浸漬した。10分間の浸漬後、試験片は完全に湿潤し、すすぎ後に水膜を切れ目なく保持していた。20分間の浸漬後、試料を水ですすぎ、乾燥し、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて観察した。この試験により、試験片は十分にエッチングされ、多くのエッチピットが観察された   The solution was then heated to 70 ° C. and a plateable quality ABS piece was immersed in the solution. After 10 minutes of immersion, the specimens were completely wetted and kept the water film unbroken after rinsing. After soaking for 20 minutes, the samples were rinsed with water, dried and observed using a scanning electron microscope (SEM). By this test, the specimen was sufficiently etched and many etch pits were observed.

実施例2
12.5Mの硫酸と0.08Mの硫酸マンガン(II)とを含有する溶液を、白金めっきチタンのアノードを用いて0.2A/dmの電流密度で電気分解した。アノードで生成されるMn(III)イオンのカソード還元を防止するために、アノードの表面積の1%未満の表面積を有する白金めっきチタンのカソードを使用した。全てのマンガン(II)イオンをマンガン(III)に酸化するために十分なクーロンを通すため、十分な長さの電気分解を行った。得られた溶液は、深いチェリー紫色/チェリー赤色であった。この工程の間、過マンガン酸イオンは何ら生成しなかった。これはまた、可視分光法により確認された。つまり、Mn(III)イオンは、過マンガン酸塩の溶液とは全く異なる吸収スペクトルを生じた。
Example 2
A solution containing 12.5 M sulfuric acid and 0.08 M manganese (II) sulfate was electrolyzed at a current density of 0.2 A / dm 2 using a platinum plated titanium anode. In order to prevent cathodic reduction of Mn (III) ions produced at the anode, a platinum plated titanium cathode having a surface area of less than 1% of the surface area of the anode was used. A sufficient length of electrolysis was performed to pass enough Coulomb to oxidize all the manganese (II) ions to manganese (III). The resulting solution was deep cherry purple / cherry red. No permanganate ions were produced during this step. This was also confirmed by visible spectroscopy. That is, the Mn (III) ion gave an absorption spectrum that was completely different from that of the permanganate solution.

実施例3
実施例2で上記したように調製したエッチング液を、マグネチックスターラー/ホットプレート上で65℃〜70℃に加熱し、ABSの試験片を、溶液中に20分間及び30分間浸漬した。これらの試験片の幾つかをSEMで観察し、幾つかを通常通りプラスチックの前処理順序でめっき処理した(Mの還元−中和、前浸漬、活性化、促進、無電解ニッケル、25μm〜30μmまでの銅めっき)。これらの試験片を次いでアニールし、インストロン試験機を用いて剥離強度試験にかけた。
Example 3
The etchant prepared as described above in Example 2 was heated to 65 ° C. to 70 ° C. on a magnetic stirrer / hot plate, and ABS specimens were immersed in the solution for 20 and 30 minutes. Some of these specimens were observed by SEM, and some were plated in the normal plastic pretreatment sequence (M reduction-neutralization, presoaking, activation, promotion, electroless nickel, 25 μm-30 μm). Up to copper plating). These specimens were then annealed and subjected to a peel strength test using an Instron testing machine.

30分間めっきした試験片について行った剥離強度試験は、約1.5N/cm〜4N/cmの間にわたる剥離強度を示した。   Peel strength tests performed on specimens plated for 30 minutes showed peel strengths ranging from about 1.5 N / cm to 4 N / cm.

0.196cmの表面積を有する白金回転ディスク電極(RDE)を様々な回転速度にて、12.5Mの硫酸及び0.08Mの硫酸マンガンを含有する溶液からサイクリックボルタモグラムを得た。モデル263Aポテンショスタットと銀/塩化銀参照電極とを、RDEと組み合わせて使用した。 Cyclic voltammograms were obtained from solutions containing 12.5 M sulfuric acid and 0.08 M manganese sulfate on platinum rotating disk electrodes (RDE) having a surface area of 0.196 cm 2 at various rotational speeds. A model 263A potentiostat and a silver / silver chloride reference electrode were used in combination with the RDE.

全ての場合において、順方向スキャンは、Ag/AgClに対して1.6V付近でピークを示し、1.75V付近までのプラトーがこれに続き、電流の増加がこれに続いた。逆方向スキャンは、類似したプラトー(僅かに低い電流において、1.52V付近のピーク)を生成した。これらの結果の電極の回転速度に対する依存性は、物質移動律速が本機構における主要因であることを示している。プラトーは、電気化学的酸化によりMn(III)イオンが形成されるポテンシャルレンジを示している。   In all cases, the forward scan peaked around 1.6V versus Ag / AgCl, followed by a plateau up to around 1.75V, followed by an increase in current. The reverse scan produced a similar plateau (peak near 1.52 V at slightly lower current). The dependence of these results on the rotation speed of the electrode indicates that mass transfer rate limiting is the main factor in this mechanism. The plateau indicates the potential range where Mn (III) ions are formed by electrochemical oxidation.

定電圧スキャンを1.7Vで行った。電流は最初に低下し、次いで時間とともに増大することが観察された。この電位での電流密度は、0.15A/dm〜0.4A/dmにわたる。 A constant voltage scan was performed at 1.7V. It was observed that the current first dropped and then increased with time. Current density at this potential spans 0.15A / dm 2 ~0.4A / dm 2 .

この実験に続いて、0.3A/dmの定電流密度で定電流測定を行った。当初は、印加した電流密度は電位約1.5Vで達成されたが、実験が進むにつれて、約2400秒後には、約1.75Vまでの電位の上昇が観察された。 Following this experiment, constant current measurement was performed at a constant current density of 0.3 A / dm 2 . Initially, the applied current density was achieved at a potential of about 1.5V, but as the experiment progressed, a potential increase to about 1.75V was observed after about 2400 seconds.

10分間以上のエッチング期間の後、ABS試験片の表面は完全に湿潤することが観察され、すすぎ後に水膜を切れ目なく保持できた。20分間又は30分間後、パネルは著しくエッチングされた。   After an etching period of 10 minutes or more, the surface of the ABS specimen was observed to be completely wetted, and the water film could be kept intact after rinsing. After 20 or 30 minutes, the panel was significantly etched.

実施例4
10.5Mの硫酸及び2Mのメタンスルホン酸を含有する溶液を配合した。68℃〜70℃の温度では、12.5Mの硫酸溶液中でマンガン硫酸塩を溶解する場合は、溶解可能なのは0.08Mのみであったのに対して、0.16Mのマンガン硫酸塩を容易に溶解することが可能であった。配合液は、電気分解して0.015Mのマンガン(III)イオン濃度のマンガン(III)を生成し、これは、0.015Mの濃度のマンガン(III)を有する12.5Mの硫酸溶液から得られたものと同等のエッチング速度を与えた。
Example 4
A solution containing 10.5 M sulfuric acid and 2 M methanesulfonic acid was formulated. At a temperature of 68 ° C. to 70 ° C., when dissolving manganese sulfate in 12.5M sulfuric acid solution, only 0.08M can be dissolved, whereas 0.16M manganese sulfate is easy It was possible to dissolve in The formulation is electrolyzed to produce manganese (III) with a manganese (III) ion concentration of 0.015 M, which is obtained from a 12.5 M sulfuric acid solution having a manganese (III) concentration of 0.015 M. An etching rate equivalent to that obtained was given.

マンガン(III)の含有量が0.04Mに達するまで、実施例4の浴中で電気分解を継続し、他のパネルをエッチングした。この高いマンガン(III)イオン濃度で、向上したエッチング速度(0.015Mの濃度で得られたものより約25%高い)が得られた。   Electrolysis was continued in the bath of Example 4 and the other panels were etched until the manganese (III) content reached 0.04M. With this high manganese (III) ion concentration, an improved etch rate (about 25% higher than that obtained with a concentration of 0.015 M) was obtained.

比較例2
グラファイトを含み1dmの公称測定表面積を有する電極を、12.5Mの硫酸中に0.08Mの硫酸マンガンを含む500mLの溶液中に65℃の温度で浸漬した。この槽のカソードは、0.1dmの公称測定表面積を有する鉛片であった。0.25Aの電流を槽に印加し、0.25A/dmの公称アノード電流密度、及び2.5A/dmの公称カソード電流密度を印加した。
Comparative Example 2
An electrode containing graphite and having a nominal measured surface area of 1 dm 2 was immersed at a temperature of 65 ° C. in a 500 mL solution containing 0.08 M manganese sulfate in 12.5 M sulfuric acid. The cathode of this cell was a lead piece having a nominal measured surface area of 0.1 dm 2 . Applying a current of 0.25A to the bath was applied nominal anode current density of 0.25A / dm 2, and the nominal cathode current density of 2.5A / dm 2.

グラファイトのアノードは急速に崩壊し、1時間未満の電気分解で分解することが観察された。また、マンガン(II)イオンからマンガン(III)への酸化は観察されなかった。   It was observed that the graphite anode collapsed rapidly and decomposed in less than 1 hour of electrolysis. Moreover, oxidation from manganese (II) ions to manganese (III) was not observed.

比較例3
酸化タンタル/酸化イリジウム混合コーティング(酸化タンタル50%、酸化イリジウム50%)を有し、1dmの公称測定表面積を有するチタン基材を含む電極を、12.5Mの硫酸中に0.08Mの硫酸マンガンを含む500mLの溶液中に65℃の温度で浸漬した。この槽のカソードは、0.1dmの公称測定表面積を有する鉛片であった。0.25Aの電流を槽に印加し、0.25A/dmの公称アノード電流密度、及び2.5A/dmの公称カソード電流密度を印加した。
Comparative Example 3
An electrode comprising a titanium substrate having a tantalum oxide / iridium oxide mixed coating (50% tantalum oxide, 50% iridium oxide) and having a nominal measured surface area of 1 dm 2 is 0.08 M sulfuric acid in 12.5 M sulfuric acid. It was immersed at a temperature of 65 ° C. in a 500 mL solution containing manganese. The cathode of this cell was a lead piece having a nominal measured surface area of 0.1 dm 2 . Applying a current of 0.25A to the bath was applied nominal anode current density of 0.25A / dm 2, and the nominal cathode current density of 2.5A / dm 2.

溶液中にマンガン(III)が急速に形成されたことが観察され、得られた溶液はABSプラスチックをエッチングして後続の処理されたプラスチックの電気めっきの際に良好な接着性を生むことが可能であった。しかしながら、2週間の動作期間(8時間/日の溶液の電気分解)の後、コーティングがチタン基材から浮き上がり、チタン基材自体が溶液中で溶解することが観察された。   It was observed that manganese (III) was rapidly formed in the solution, and the resulting solution can etch the ABS plastic to produce good adhesion during subsequent electroplating of the treated plastic Met. However, after a 2 week operating period (8 hours / day of electrolysis of the solution), it was observed that the coating lifted from the titanium substrate and the titanium substrate itself dissolved in the solution.

比較例4
白金で被覆されたチタン基材を含み、1dmの公称測定表面積を有する電極を、12.5Mの硫酸中に0.08Mの硫酸マンガンを含む500mLの溶液中に65℃の温度で浸漬した。この槽のカソードは、0.1dmの公称測定表面積を有する鉛片であった。0.25Aの電流を槽に印加し、0.25A/dmの公称アノード電流密度、及び2.5A/dmの公称カソード電流密度を印加した。
Comparative Example 4
An electrode comprising a titanium substrate coated with platinum and having a nominal measured surface area of 1 dm 2 was immersed in a 500 mL solution containing 0.08 M manganese sulfate in 12.5 M sulfuric acid at a temperature of 65 ° C. The cathode of this cell was a lead piece having a nominal measured surface area of 0.1 dm 2 . Applying a current of 0.25A to the bath was applied nominal anode current density of 0.25A / dm 2, and the nominal cathode current density of 2.5A / dm 2.

溶液中にマンガン(III)が急速に形成されたことが観察され、得られた溶液はABSプラスチックをエッチングして後続の処理されたプラスチックの電気めっきの際に良好な接着性を生むことが可能であった。しかしながら、2週間の動作期間(8時間/日の溶液の電気分解)の後、コーティングがチタン基材から浮き上がり、チタン基材自体が溶液中で溶解することが観察された。   It was observed that manganese (III) was rapidly formed in the solution, and the resulting solution can etch the ABS plastic to produce good adhesion during subsequent electroplating of the treated plastic Met. However, after a 2 week operating period (8 hours / day of electrolysis of the solution), it was observed that the coating lifted from the titanium substrate and the titanium substrate itself dissolved in the solution.

実施例5
ガラス状炭素を含み、0.125dmの公称測定表面積を有する電極を、12.5Mの硫酸中に0.08Mの硫酸マンガンを含む100mLの溶液中に65℃の温度で浸漬した。この槽のカソードは、0.0125dmの公称測定表面積を有する白金のワイヤであった。0.031Aの電流を槽に印加し、0.25A/dmの公称アノード電流密度、及び2.5A/dmの公称カソード電流密度を印加した。
Example 5
An electrode containing glassy carbon and having a nominal measured surface area of 0.125 dm 2 was immersed in a 100 mL solution containing 0.08 M manganese sulfate in 12.5 M sulfuric acid at a temperature of 65 ° C. The cathode of this cell was a platinum wire with a nominal measured surface area of 0.0125 dm 2 . And applying a current of 0.031A to the bath was applied nominal anode current density of 0.25A / dm 2, and the nominal cathode current density of 2.5A / dm 2.

溶液中にマンガン(III)が急速に形成されたことが観察され、得られた溶液はABSプラスチックをエッチングして後続の処理されたプラスチックの電気めっきの際に良好な接着性を生むことが可能であった。電極は、電気分解の期間を延長しても影響を受けていないと見うけられた。   It was observed that manganese (III) was rapidly formed in the solution, and the resulting solution can etch the ABS plastic to produce good adhesion during subsequent electroplating of the treated plastic Met. The electrode appeared to be unaffected by extending the period of electrolysis.

実施例6
炭素繊維織物片(Zoltek Corporationから入手可能な、1.5%エポキシサイジングされた、Panex 35 50K Tow)を含む電極を、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)で構成されたプラスチックフレームに取り付けた。1dmの公称測定表面積を有する電極を、12.5Mの硫酸中に0.08Mの硫酸マンガンを含む500mLの溶液中に65℃の温度で浸漬した。この槽のカソードは、0.1dmの公称測定表面積を有する鉛片であった。0.25Aの電流を槽に印加し、0.25A/dmの公称アノード電流密度、及び2.5A/dmの公称カソード電流密度を印加した。
Example 6
An electrode comprising carbon fiber fabric pieces (1.5% epoxy-sized, Panex 35 50K Tow, available from Zoltek Corporation) was attached to a plastic frame composed of polyvinylidene fluoride (PVDF). An electrode having a nominal measured surface area of 1 dm 2 was immersed at a temperature of 65 ° C. in a 500 mL solution containing 0.08 M manganese sulfate in 12.5 M sulfuric acid. The cathode of this cell was a lead piece having a nominal measured surface area of 0.1 dm 2 . Applying a current of 0.25A to the bath was applied nominal anode current density of 0.25A / dm 2, and the nominal cathode current density of 2.5A / dm 2.

溶液中にマンガン(III)が急速に形成されたことが観察され、得られた溶液はABSプラスチックをエッチングして後続の処理されたプラスチックの電気めっきの際に良好な接着性を生むことが可能であった。電極は、電気分解の期間を延長しても影響を受けていないと見うけられた。この電極を用いて2週間に渡り電気分解を行っても、観察可能な劣化は検出されなかった。この素材は、低コストであり入手し易い点で、多くの商業的用途に適している。   It was observed that manganese (III) was rapidly formed in the solution, and the resulting solution can etch the ABS plastic to produce good adhesion during subsequent electroplating of the treated plastic Met. The electrode appeared to be unaffected by extending the period of electrolysis. No observable deterioration was detected after electrolysis over 2 weeks using this electrode. This material is suitable for many commercial applications because of its low cost and availability.

実施例7
0.4dmの有効表面積(即ち、電極の裏側は合計していない)を有する鉛からなるアノードを、12.5Mの硫酸中に0.08Mの硫酸マンガンを含む溶液2Lを入れたビーカー中に、68℃〜70℃の温度で浸漬した。槽内の他の電極は、約0.04dmの表面積を有する鉛のカソードからなっていた。電解液の表面上に適度な攪拌を起こすために、マグネチックスターラーを用いて溶液を攪拌した。0.4A/dmの電流密度をアノードに印加し、電解時間に対するマンガン(III)の比率を測定した。マンガン(III)の量は、マンガン(III)の不均化を防止するために浴の試料をリン酸で希釈し、指示薬として酸に溶解したジフェニルアミンを使用して硫酸第一鉄アンモニウムの溶液で滴定することにより測定した。
Example 7
An anode made of lead having an effective surface area of 0.4 dm 2 (ie, the back side of the electrode is not totaled) is placed in a beaker containing 2 L of a solution containing 0.08 M manganese sulfate in 12.5 M sulfuric acid. And dipping at a temperature of 68 ° C to 70 ° C. The other electrode in the cell consisted of a lead cathode having a surface area of about 0.04 dm 2 . The solution was stirred using a magnetic stirrer to cause moderate stirring on the surface of the electrolyte. A current density of 0.4 A / dm 2 was applied to the anode and the ratio of manganese (III) to electrolysis time was measured. The amount of manganese (III) is determined by diluting the bath sample with phosphoric acid to prevent the disproportionation of manganese (III) and using diphenylamine dissolved in acid as an indicator in a solution of ammonium ferrous sulfate. It was measured by titration.

0.8A/dm及び1.6A/dmの電流密度を用いて実験を繰り返した。本実験の流体力学的条件下(即ち、マグネチックスターラーを用いた中程度の攪拌)では、変換効率は0.4Admで得られたものと同じ(70%)であり、1.6A/dmの電流密度では、酸化は物質移動により制限されるように見うけられなかった。3.2A/dmで更なる実験を行ったところ、変換効率は42%に落ち、マンガン(III)の生成速度は、1.6A/dmで得られたものよりも僅かに約10%高いだけであることが分かった。これは、本実験で用いた攪拌条件下では、マンガン生成のための全体的な限界電流密度は、約1.6A/dmであったことを示す。これは、白金めっきチタンのアノードで達成できるものよりも約4倍高い変換率に相当する。 The experiment was repeated using a current density of 0.8 A / dm 2 and 1.6A / dm 2. Under the hydrodynamic conditions of this experiment (ie, moderate agitation using a magnetic stirrer), the conversion efficiency is the same (70%) as obtained at 0.4 Adm 2 , 1.6 A / dm At a current density of 2 , oxidation did not appear to be limited by mass transfer. In further experiments at 3.2 A / dm 2 , the conversion efficiency dropped to 42% and the production rate of manganese (III) was only about 10% than that obtained at 1.6 A / dm 2. It turns out that it is only expensive. This is because, in the stirring conditions used in this experiment, the overall critical current density for manganese generation indicates was about 1.6A / dm 2. This corresponds to a conversion that is about four times higher than can be achieved with a platinum plated titanium anode.

これらの実験結果は、マンガン(III)イオンは、比較的高濃度の硫酸中でマンガン(II)イオンを使用し、白金又は白金めっきチタンのアノードを用いて低電流密度で動作させる電気合成により生成することができ、ガラス状炭素、炭素繊維、鉛、及び鉛合金のアノードを含む種々の他のアノード素材を用いることにより、この工程の更なる改善を実現できることを実証している。   These experimental results show that manganese (III) ions are produced by electrosynthesis using manganese (II) ions in a relatively high concentration of sulfuric acid and operating at a low current density using a platinum or platinum-plated titanium anode. It has been demonstrated that further improvements in this process can be realized by using various other anode materials, including glassy carbon, carbon fiber, lead, and lead alloy anodes.

更に、クロム酸エッチング液で得られるエッチング速度と比較して、本発明のマンガン系エッチング液のエッチング速度が遅いことは、接着強度を高め、エッチング時間の短縮を可能にする前処理工程を提供する必要性を示していた。   Further, the slow etching rate of the manganese-based etching solution of the present invention compared to the etching rate obtained with the chromic acid etching solution provides a pretreatment process that increases the adhesive strength and enables the etching time to be shortened. Showed the need.

前処理工程の目的は、プラスチックの表面がより迅速かつ均一にエッチングされて、エッチング時間の短縮及び優れた接着性をもたらすために、エッチングされるプラスチックの表面を調整することである。   The purpose of the pretreatment step is to condition the surface of the plastic to be etched so that the surface of the plastic is etched more quickly and uniformly, resulting in shorter etching times and better adhesion.

ABSプラスチックの表面を調整する溶剤の使用は、既知である。しかしながら、揮発性溶剤は、多くの場合可燃性であり、健康上及び安全性上の問題を有するため(多くは生殖毒性であり、肝臓障害を引き起こす可能性もある)、近年の規制は、めっきラインに揮発性溶剤を使用する実行可能性を厳しく制限している。従って、溶剤の選択は限られている。   The use of solvents to condition the surface of ABS plastics is known. However, since volatile solvents are often flammable and have health and safety issues (many are reproductive toxic and can cause liver damage), recent regulations have been The feasibility of using volatile solvents in the line is severely limited. Therefore, the choice of solvent is limited.

プロピレンカーボネートは、良好な水溶性を有し、低毒性であり、低燃焼性(引火点が135℃である)の比較的安全な溶剤であり、健康上及び安全性の観点から理想的である。γ−ブチロラクトンも機能するが、毒性がより強く、複数の国において娯楽目的での使用が規制されている薬品である。   Propylene carbonate is a relatively safe solvent with good water solubility, low toxicity, low flammability (with a flash point of 135 ° C) and is ideal from a health and safety standpoint . γ-Butyrolactone also functions, but is more toxic and is a drug that is regulated for recreational use in several countries.

本発明においては、プロピレンカーボネートの使用を、乳酸、グリコール酸、又はグルコン酸等の有機ヒドロキシ酸と組み合わせた場合に、本明細書に記載のマンガン系のエッチング溶液との組合せで、優れた結果が得られることが見出された。プロピレンカーボネートの単独使用、又は湿潤剤との組合せでの使用は、良好な接着性を付与し、エッチング時間を短縮するが、ピッチング(pitting)を起こす傾向があるため、エッチング、活性化、及び後続のめっき後のABS/PC混合物の美的外観は不十分である。前処理段階における、プロピレンカーボネートとこれらのヒドロキシ酸との組合せは、この問題を防止するのに有効である。   In the present invention, when the use of propylene carbonate is combined with an organic hydroxy acid such as lactic acid, glycolic acid, or gluconic acid, excellent results are obtained in combination with the manganese-based etching solution described herein. It was found to be obtained. The use of propylene carbonate alone or in combination with a wetting agent provides good adhesion and shortens the etching time, but tends to cause pitting, so etching, activation, and subsequent The aesthetic appearance of the ABS / PC mixture after plating is inadequate. The combination of propylene carbonate and these hydroxy acids in the pretreatment stage is effective in preventing this problem.

典型的には、プロピレンカーボネートの濃度は、約100mL/L〜約500mL/Lであり、有機酸の濃度は、約100mL/L〜約500mL/Lである。また、動作温度は、典型的には約20℃〜70℃であり、浸漬時間は、約2分間〜約10分間である。   Typically, the concentration of propylene carbonate is about 100 mL / L to about 500 mL / L, and the concentration of organic acid is about 100 mL / L to about 500 mL / L. Also, the operating temperature is typically about 20 ° C. to 70 ° C., and the immersion time is about 2 minutes to about 10 minutes.

従って、本発明はまた、一般的に、乳酸、グリコール酸、又はグルコン酸等の有機ヒドロキシ酸との組合せで、γ−ブチロラクトン又はプロピレンカーボネートを含む、めっき可能なプラスチック基材の前処理組成物に関する。   Thus, the present invention also generally relates to a pre-treatable composition for a platable plastic substrate comprising γ-butyrolactone or propylene carbonate in combination with an organic hydroxy acid such as lactic acid, glycolic acid, or gluconic acid. .

比較例5
45%のポリカーボネートからなるABS/PC混合物から構成される試験片を、表1に示す時間及び温度で、150mL/Lのプロピレンカーボネートを含有する溶液に浸漬した。これに続いて、パネルをすすぎ、12.5Mの硫酸及び0.08Mのマンガンを含み、0.015Mのマンガンイオンがマンガン(III)に酸化された溶液中でエッチングした。エッチングは、68℃〜70℃の温度で30分間行った。この処理に続いて、パネルをすすぎ、標準的なプラスチックめっきの前処理シーケンス(テクニカルデータシートに従った、MacDermidのD34パラジウム活性化剤、MacDermidの促進剤、及びMacDermidのJ64無電解ニッケル)を用いて活性化し、次いで銅で電気めっきした。パネルの美的外観を検査し、Instronの引張試験機を用いて基板から堆積物を引っ張ることにより、定量的な接着性試験を行った。得られた接着値を、表1に示す。
Comparative Example 5
A test piece composed of an ABS / PC mixture made of 45% polycarbonate was immersed in a solution containing 150 mL / L of propylene carbonate at the time and temperature shown in Table 1. Following this, the panel was rinsed and etched in a solution containing 12.5 M sulfuric acid and 0.08 M manganese, where 0.015 M manganese ions were oxidized to manganese (III). Etching was performed at a temperature of 68 ° C. to 70 ° C. for 30 minutes. Following this treatment, the panel is rinsed and using a standard plastic plating pretreatment sequence (According to Technical Data Sheet, MacDermid D34 Palladium Activator, MacDermid Accelerator, and MacDermid J64 Electroless Nickel). Activated and then electroplated with copper. The panel was examined for aesthetic appearance and a quantitative adhesion test was performed by pulling the deposit from the substrate using an Instron tensile tester. The adhesion values obtained are shown in Table 1.

Figure 2016512574
(表1:接着値)
Figure 2016512574
(Table 1: Adhesion values)

接着値は大きく変動し、めっき部位にスポット及びピッチングが観察されることが分かった。銅コーティングもまた、ピッチングを起こした。   It was found that the adhesion value fluctuated greatly, and spots and pitching were observed at the plating site. The copper coating also caused pitting.

実施例8
150mL/Lのプロピレンカーボネート、及び250mL/Lの88%乳酸溶液を含有する前処理液(pre−conditioner)を用いて、比較例5で行った実験を繰り返した。これらの試験の結果を、表2に示す。
Example 8
The experiment conducted in Comparative Example 5 was repeated using a pre-conditioner containing 150 mL / L of propylene carbonate and 250 mL / L of 88% lactic acid solution. The results of these tests are shown in Table 2.

Figure 2016512574
(表2:接着値)
Figure 2016512574
(Table 2: Adhesion values)

乳酸を含むこの前処理液を用いたところ、接着性の一貫性が改善した。めっき後、スポット及びピッチングがなく、美的外観が優れていることが分かった。   Using this pretreatment solution containing lactic acid improved the consistency of adhesion. After plating, it was found that there was no spot or pitching and the aesthetic appearance was excellent.

Claims (52)

硫酸と、メタンスルホン酸、メタンジスルホン酸及びこれらの組合せからなる群から選択される更なる酸とを含む溶液中に、マンガン(III)イオン及びマンガン(II)イオンを含む電解液と、
前記電解液と接触しているカソードと、
前記電解液と接触しているアノードと、
を含むことを特徴とする電解槽。
An electrolyte containing manganese (III) ions and manganese (II) ions in a solution containing sulfuric acid and a further acid selected from the group consisting of methanesulfonic acid, methanedisulfonic acid, and combinations thereof;
A cathode in contact with the electrolyte;
An anode in contact with the electrolyte;
An electrolytic cell comprising:
前記溶液が少なくとも8Mの硫酸を含む請求項1に記載の電解槽。   The electrolytic cell according to claim 1, wherein the solution contains at least 8 M sulfuric acid. 前記溶液が少なくとも12Mの硫酸を含む請求項2に記載の電解槽。   The electrolytic cell according to claim 2, wherein the solution contains at least 12 M sulfuric acid. 前記溶液が約1M〜約6Mの、メタンスルホン酸又はメタンジスルホン酸を含む請求項1に記載の電解槽。   The electrolytic cell of claim 1, wherein the solution comprises about 1M to about 6M methanesulfonic acid or methanedisulfonic acid. 前記溶液が9mol/L〜15mol/Lの硫酸、及び約1M〜約6Mのメタンスルホン酸を含む請求項1に記載の電解槽。   The electrolytic cell according to claim 1, wherein the solution comprises 9 mol / L to 15 mol / L sulfuric acid and about 1 M to about 6 M methanesulfonic acid. 前記アノードが、ガラス状炭素、網状ガラス状炭素、炭素繊維織物、鉛、鉛合金、白金めっきチタン、白金、酸化イリジウム/酸化タンタル、ニオブ、ホウ素ドープダイヤモンド、及びこれらの1以上の組合せからなる群から選択される素材を含む請求項1に記載の電解槽。   The anode is composed of glassy carbon, reticulated glassy carbon, carbon fiber fabric, lead, lead alloy, platinum-plated titanium, platinum, iridium oxide / tantalum oxide, niobium, boron-doped diamond, and a combination of one or more thereof. The electrolytic cell of Claim 1 containing the raw material selected from. 前記アノードが鉛又は鉛合金を含む請求項6に記載の電解槽。   The electrolytic cell according to claim 6, wherein the anode contains lead or a lead alloy. 前記カソードが、白金、白金めっきチタン、酸化イリジウム/酸化タンタル、ニオブ、及び鉛からなる群から選択される素材を含む請求項1に記載の電解槽。   The electrolytic cell according to claim 1, wherein the cathode includes a material selected from the group consisting of platinum, platinized titanium, iridium oxide / tantalum oxide, niobium, and lead. 前記カソードが鉛を含む請求項9に記載の電解槽。   The electrolytic cell according to claim 9, wherein the cathode contains lead. 前記溶液中のMn(II)の濃度を監視する手段を更に含む請求項7に記載の電解槽。   The electrolytic cell according to claim 7, further comprising means for monitoring the concentration of Mn (II) in the solution. 前記アノードの面積が前記カソードの面積よりも大きい請求項1に記載の電解槽。   The electrolytic cell according to claim 1, wherein an area of the anode is larger than an area of the cathode. 少なくとも1種の酸の溶液中にマンガン(III)イオン及びマンガン(II)イオンを含む電解液と、
前記電解液と接触しているカソードと、
前記電解液と接触しているアノードとを含み、
前記アノードが、ガラス状炭素、網状ガラス状炭素、炭素繊維織物、鉛、鉛合金、白金めっきチタン、白金、酸化イリジウム/酸化タンタル、ニオブ、ホウ素ドープダイヤモンド、及びこれらの1以上の組合せからなる群から選択される素材を含むことを特徴とする電解槽。
An electrolyte containing manganese (III) ions and manganese (II) ions in a solution of at least one acid;
A cathode in contact with the electrolyte;
An anode in contact with the electrolyte solution,
The anode is composed of glassy carbon, reticulated glassy carbon, carbon fiber fabric, lead, lead alloy, platinum-plated titanium, platinum, iridium oxide / tantalum oxide, niobium, boron-doped diamond, and a combination of one or more thereof. An electrolytic cell comprising a material selected from:
マンガン(II)イオンのマンガン(III)イオンへの電気化学的酸化方法であって、
少なくとも1種の酸と、メタンスルホン酸、メタンジスルホン酸及びこれらの組合せからなる群から選択される更なる酸との溶液中にマンガン(II)イオン溶液を含む電解液を、電解槽中に提供する工程であって、前記電解槽が、アノード及びカソードを含む工程と、
前記アノードと前記カソードとの間に電流を印加する工程と、
前記電解液を酸化してマンガン(III)イオンを形成する工程であって、前記マンガン(III)イオンが準安定錯体を形成する工程と、
を含むことを特徴とする方法。
An electrochemical oxidation method of manganese (II) ions to manganese (III) ions, comprising:
An electrolytic solution comprising a manganese (II) ion solution in a solution of at least one acid and a further acid selected from the group consisting of methanesulfonic acid, methanedisulfonic acid, and combinations thereof is provided in an electrolytic cell. And wherein the electrolytic cell includes an anode and a cathode;
Applying a current between the anode and the cathode;
Oxidizing the electrolyte to form manganese (III) ions, the manganese (III) ions forming a metastable complex;
A method comprising the steps of:
前記少なくとも1種の酸が硫酸溶液を含む請求項13に記載の方法。   The method of claim 13, wherein the at least one acid comprises a sulfuric acid solution. 前記少なくとも1種の酸が少なくとも8Mの濃度の硫酸を含む請求項14に記載の方法。   The method of claim 14, wherein the at least one acid comprises sulfuric acid at a concentration of at least 8M. 前記電解液が、少なくとも8Mの硫酸、及び約1M〜約6Mのメタンスルホン酸を含む請求項15に記載の方法。   The method of claim 15, wherein the electrolyte comprises at least 8 M sulfuric acid and from about 1 M to about 6 M methanesulfonic acid. 前記アノードが鉛又は鉛合金を含む請求項13に記載の方法。   The method of claim 13, wherein the anode comprises lead or a lead alloy. 前記溶液中のマンガン(III)イオンの蓄積を監視する工程を含む請求項17に記載の方法。   The method of claim 17, comprising monitoring the accumulation of manganese (III) ions in the solution. 最初のマンガン(II)イオン濃度の50%以下がマンガン(III)イオンに酸化される請求項18に記載の方法。   19. The method of claim 18, wherein 50% or less of the initial manganese (II) ion concentration is oxidized to manganese (III) ions. 最初のマンガン(II)イオン濃度の25%以下がマンガン(III)イオンに酸化される請求項19に記載の方法。   20. The method of claim 19, wherein 25% or less of the initial manganese (II) ion concentration is oxidized to manganese (III) ions. 酸化還元電極を使用してマンガン(III)イオンの蓄積を監視し、マンガン(III)含有量が所望のレベルに達したときに電気分解が停止される請求項18に記載の方法。   19. The method of claim 18, wherein the redox electrode is used to monitor the accumulation of manganese (III) ions and the electrolysis is stopped when the manganese (III) content reaches a desired level. 前記エッチング液の滴定によりマンガン(III)イオンの蓄積を監視し、マンガン(III)含有量が所望のレベルに達したときに電気分解が停止される請求項18に記載の方法。   19. The method of claim 18, wherein the accumulation of manganese (III) ions is monitored by titration of the etchant and electrolysis is stopped when the manganese (III) content reaches a desired level. 前記電解槽における電流を定期的に反転させる工程を含み、これにより前記アノードへの二酸化マンガンの蓄積が防止される請求項13に記載の方法。   14. The method of claim 13, comprising periodically reversing the current in the electrolytic cell, thereby preventing manganese dioxide accumulation on the anode. めっき可能なプラスチックを、前記準安定錯体と一定時間接触させ、前記めっき可能なプラスチックをエッチングする工程を更に含む請求項13に記載の方法。   14. The method of claim 13, further comprising contacting a plateable plastic with the metastable complex for a period of time and etching the plateable plastic. 前記めっき可能なプラスチックを前記準安定錯体と接触させる前に、前記めっき可能なプラスチックが、前記めっき可能なプラスチックの表面を調整するために前処理組成物と接触させられ、前記前処理組成物が、プロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、及びこれらの組合せからなる群から選択される溶剤を含む請求項24に記載の方法。   Prior to contacting the plateable plastic with the metastable complex, the plateable plastic is contacted with a pretreatment composition to condition the surface of the plateable plastic, the pretreatment composition being 25. The method of claim 24, comprising a solvent selected from the group consisting of: propylene carbonate, γ-butyrolactone, and combinations thereof. 前記溶剤がプロピレンカーボネートを含む請求項25に記載の方法。   26. The method of claim 25, wherein the solvent comprises propylene carbonate. 前記前処理液が有機ヒドロキシ酸を更に含む請求項25に記載の方法。   26. The method of claim 25, wherein the pretreatment liquid further comprises an organic hydroxy acid. 前記有機ヒドロキシ酸が、乳酸、グリコール酸、グルコン酸、及びこれらの1以上の組合せからなる群から選択される請求項27に記載の方法。   28. The method of claim 27, wherein the organic hydroxy acid is selected from the group consisting of lactic acid, glycolic acid, gluconic acid, and one or more combinations thereof. 前記溶液中のマンガン(II)イオンの濃度を監視する工程を更に含む請求項18に記載の方法。   19. The method of claim 18, further comprising monitoring the concentration of manganese (II) ions in the solution. 前記前処理組成物が約20℃〜約70℃の温度に維持され、前記めっき可能なプラスチックが前記前処理組成物に約2分間〜約10分間接触させられる請求項27に記載の方法。   28. The method of claim 27, wherein the pretreatment composition is maintained at a temperature of about 20 <0> C to about 70 <0> C, and the plateable plastic is contacted with the pretreatment composition for about 2 minutes to about 10 minutes. 前記マンガン(II)イオンが、硫酸マンガン、炭酸マンガン、及び水酸化マンガンからなる群から選択される化合物に由来する請求項13に記載の方法。   14. The method of claim 13, wherein the manganese (II) ion is derived from a compound selected from the group consisting of manganese sulfate, manganese carbonate, and manganese hydroxide. 前記溶液がコロイド状の二酸化マンガンを更に含む請求項13に記載の方法。   The method of claim 13, wherein the solution further comprises colloidal manganese dioxide. 前記電解液中の前記マンガン(II)イオンの濃度が約0.005mol/L〜飽和濃度である請求項13に記載の方法。   The method according to claim 13, wherein the concentration of the manganese (II) ion in the electrolytic solution is about 0.005 mol / L to a saturated concentration. 前記カソードが、白金、白金めっきチタン、酸化イリジウム/酸化タンタル、ニオブ、及び鉛からなる群から選択される素材を含む請求項13に記載の方法。   The method of claim 13, wherein the cathode comprises a material selected from the group consisting of platinum, platinized titanium, iridium oxide / tantalum oxide, niobium, and lead. 前記カソードが鉛を含む請求項34に記載の方法。   The method of claim 34, wherein the cathode comprises lead. 前記カソードが白金めっきチタン又は白金を含む請求項34に記載の方法。   35. The method of claim 34, wherein the cathode comprises platinized titanium or platinum. 前記アノードの電流密度が約0.1A/dm〜約0.4A/dmである請求項13に記載の方法。 The method of claim 13 the current density of the anode is about 0.1 A / dm 2 ~ about 0.4 A / dm 2. 前記電解液の温度が約30℃〜約80℃に維持される請求項13に記載の方法。   The method of claim 13, wherein the temperature of the electrolyte is maintained at about 30 ° C. to about 80 ° C. 前記電解液が過マンガン酸塩を含有しない請求項13に記載の方法。   The method of claim 13, wherein the electrolyte does not contain permanganate. 前記めっき可能なプラスチックが、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン、又はアクリロニトリル−ブタジエン−スチレン/ポリカーボネートを含む請求項24に記載の方法。   25. The method of claim 24, wherein the plateable plastic comprises acrylonitrile-butadiene-styrene or acrylonitrile-butadiene-styrene / polycarbonate. プラスチック部品をエッチングする方法であって、前記プラスチック部品を、マンガン(III)イオン及び少なくとも1種の酸を含む溶液と接触させる工程を含むことを特徴とする方法。   A method of etching a plastic part, the method comprising the step of contacting the plastic part with a solution comprising manganese (III) ions and at least one acid. 前記少なくとも1種の酸が硫酸を含む請求項41に記載の方法。   42. The method of claim 41, wherein the at least one acid comprises sulfuric acid. 前記少なくとも1種の酸が、メタンスルホン酸又はメタンジスルホン酸を更に含む請求項42に記載の方法。   43. The method of claim 42, wherein the at least one acid further comprises methane sulfonic acid or methane disulfonic acid. 前記酸の溶液が、少なくとも8Mの硫酸、及び約1M〜約6Mのメタンスルホン酸を含む請求項43に記載の方法。   44. The method of claim 43, wherein the acid solution comprises at least 8M sulfuric acid and from about 1M to about 6M methanesulfonic acid. 前記プラスチック部品がアクリロニトリル/ブタジエン/スチレンを含む請求項41に記載の方法。   42. The method of claim 41, wherein the plastic part comprises acrylonitrile / butadiene / styrene. マンガン(II)の電解酸化により前記溶液中に前記マンガン(III)イオンが生成される請求項43に記載の方法。   44. The method of claim 43, wherein the manganese (III) ions are generated in the solution by electrolytic oxidation of manganese (II). 前記電解酸化が前記溶液中のアノードで起こり、前記アノードが、ガラス状炭素、網状ガラス状炭素、炭素繊維織物、鉛、又は鉛合金を含む請求項46に記載の方法。   47. The method of claim 46, wherein the electrolytic oxidation occurs at an anode in the solution, the anode comprising glassy carbon, reticulated glassy carbon, carbon fiber fabric, lead, or lead alloy. 前記プラスチック部品を、前記マンガン(III)イオン及び少なくとも1種の酸を含む溶液と接触させる前に、前記プラスチック部品が、前記プラスチック部品の表面を調整するために前処理組成物と接触させられ、前記前処理組成物が、プロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、及びこれらの組合せからなる群から選択される溶剤を含む請求項41に記載の方法。   Prior to contacting the plastic part with a solution comprising manganese (III) ions and at least one acid, the plastic part is contacted with a pretreatment composition to condition the surface of the plastic part; 42. The method of claim 41, wherein the pretreatment composition comprises a solvent selected from the group consisting of propylene carbonate, [gamma] -butyrolactone, and combinations thereof. 前記溶剤がプロピレンカーボネートを含む請求項48に記載の方法。   49. The method of claim 48, wherein the solvent comprises propylene carbonate. 前記前処理液が有機ヒドロキシ酸を更に含む請求項48に記載の方法。   49. The method of claim 48, wherein the pretreatment liquid further comprises an organic hydroxy acid. 前記有機ヒドロキシ酸が、乳酸、グリコール酸、グルコン酸、及びこれらの1以上の組合せからなる群から選択される請求項50に記載の方法。   51. The method of claim 50, wherein the organic hydroxy acid is selected from the group consisting of lactic acid, glycolic acid, gluconic acid, and one or more combinations thereof. 前記前処理組成物が、約100mL/L〜約500mL/Lのプロピレンカーボネート、及び約100mL/L〜約500mL/Lの有機ヒドロキシ酸を含む請求項50に記載の方法。   51. The method of claim 50, wherein the pretreatment composition comprises about 100 mL / L to about 500 mL / L propylene carbonate, and about 100 mL / L to about 500 mL / L organic hydroxy acid.
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