JP2016501087A5

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Publication number: JP2016501087A5
Application number: JP2015547124A
Authority: JP
Filing date: 2013-12-12
Publication date: 2016-10-13
Anticipated expiration: 2033-12-12

Description

異方形状の粒子は、好適には、エナメル層の総重量の０．０５から１０重量％、好ましくは０．１から７重量％、かつ更に良好には１から５重量％を占めることができる。理想的には、異方形状の粒子は、エナメル層の総重量の２から３重量％を占める。

本発明の特に好適な第６の実施形態によれば、本発明による保護コーティングは、
− エナメル層であって、
・磁化可能な粒子のない、かつ透明なまたは着色した下層であって、連続し、かつ支持体上に配置されるための下層と、
・着色した層であるか、磁化可能な粒子が分散した磁化可能な層である少なくとも１つの中央の層であって、連続し、かつ前記下層を部分的または完全に被覆する中央の層と
を含むエナメル層と、
− 連続し、かつ磁化可能な粒子が分散した第１の磁化可能なワニス層であって、中央エナメル層を部分的または完全に被覆する第１のワニス層と、
− 無色かつ透明で、磁化不可能で、連続し、かつ耐化学性および食器洗い機に対する耐性を保証するように、第１の磁化可能なワニス層を完全に被覆する第２のワニス層と、を含んでも良い。

本発明による加熱用品が調理用品である場合に、外部エナメル層は、好適には球形であり、直径が５から４０μｍ、かつ好ましくは１５から２０μｍである、丸くした装填材料も含んでも良く、外部層の厚さは、１０から３０μｍの間で変化する。これらのボールは、外部エナメル層の表面で張り出す。

好ましくは、エナメル層の塗布ステップｂ）は、ステップｂ２）の後であるが、焼成ｅ）に先立って、非焼成の第２の仕上げのエナメル層を形成するために、磁化可能な粒子が同様に分散した、少なくとも１種の第２の仕上げのエナメル組成物を、前記非焼成の仕上げのエナメル層に対して噴霧するステップｂ３）をさらに、含んでも良い。

第１の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図である。（２つの下位変形形態２ａおよび２ｂのうちの前者を示す）第２の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図である。（２つの下位変形形態２ａおよび２ｂのうちの後者を示す）第２の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図である。（２つの下位変形形態３ａおよび３ｂのうちの前者を示す）第３の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図である。（２つの下位変形形態３ａおよび３ｂのうちの後者を示す）第３の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図である。第４の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図である。（４つの下位変形形態５ａから５ｄのうちの一形態である５ａを示す）第５の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図である。（４つの下位変形形態５ａから５ｄのうちの一形態である５ｂを示す）第５の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図である。（４つの下位変形形態５ａから５ｄのうちの一形態である５ｃを示す）第５の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図である。（４つの下位変形形態５ａから５ｄのうちの一形態である５ｄを示す）第５の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図である。第６の実施変形形態による本発明に従った調理用品の支持体の一部の略断面図である。第７の実施変形形態による本発明に従ったアイロンの底の一部の略断面図である。図７に表したアイロンの底の底面図である。磁化ステップを行うためにコーティングされた用品の支持体の下の磁石の配置の略断面図である。（２つの磁石の縁部および磁極間隙によって画定される）領域Ｚのレベルでの図９の詳細な図である。三角形の輪郭を有する帯形状の永久磁石をその下に配置した、アイロンの底の一部の平面図（写真）である。（２つの磁石の縁部および磁極間隙によって画定される）特定の領域Ｚのレベルでの図１の詳細な図である。特定の領域Ｚのレベルで行われた、図３のアイロンの底の断面の走査電子顕微鏡検査（ＭＥＢ）の一連の３つの画像１３ａから１３ｃのうちの１３ａの図である。特定の領域Ｚのレベルで行われた、図３のアイロンの底の断面の走査電子顕微鏡検査（ＭＥＢ）の一連の３つの画像１３ａから１３ｃのうちの１３ｂの図である。特定の領域Ｚのレベルで行われた、図３のアイロンの底の断面の走査電子顕微鏡検査（ＭＥＢ）の一連の３つの画像１３ａから１３ｃのうちの１３ｃの図である。

図１に、第１の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部を表した。支持体２の面２１の１つは、異方形状の粒子４、４１が分散した、連続し、かつエナメルコーティングの単層の膜３１を備える。

領域５における異方性粒子４１のこの特定の配向は、異方性粒子４、４１が磁化可能な粒子を含む場合、例えば磁化によって得ることができる。実際には、次のように行う：支持体２の下で、コーティングされない面２２の側に、永久磁石、特にエラストマタイプの永久磁石（このことは、磁化条件を８０℃未満の温度に限定する）または電磁石を配置する。フェライトもしくはネオジムタイプの永久磁石、または電気的に誘導された磁石を使用することも可能である。この場合に、磁化が実行される条件の最大温度の値は８０℃を超えても良いが、使用される磁石のキュリー温度未満に留まられねばならない。特定のホログラフィー画像を得るために、永久強磁性材料または電気的に誘導された材料内で切断および／または加工される、所望の形状を有する磁石を使用する。

図２は、それぞれ図２ａおよび図２ｂに例示された２つの下位変形形態を示す、第２の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体２の一部の略断面図を表す。図２ａおよび図２ｂに例示された２つの下位変形形態は、膜の形状のエナメルコーティング３１が二層であることにおいて、図１に例示された実施変形形態と異なる。

図２ａおよび図２ｂに例示された２つの下位変形形態に関して、二層コーティング３１は、（異方形状の粒子のない）支持体２の面２１の１つに配置された下層３１０と、下層３１０を被覆する連続したエナメル膜の形状を呈する仕上げ層３１１とを含み、異方性粒子４、４１は、仕上げ層３１１に含まれる。下層３１０は、図２ａに示すように着色されていても良いか、または図２ｂに示すように透明でも良い。異方性粒子４１の配向は、第１の実施変形形態と同じように、これらの異方性粒子４１が磁気粒子を含む場合、磁化によって行っても良い。

図３は、それぞれ図３ａおよび図３ｂに例示された２つの下位変形形態を同様に示す、第３の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図を表す。これら下位変形形態３ａおよび図３ｂの各々は、エナメルコーティング３１が、異方性粒子４、４１が同様に分散した第２の仕上げ層３１２を、さらに含むことにおいて、それぞれ図２ａおよび図２ｂに例示された実施変形形態と異なる。

図３は、図３の二層のエナメルコーティング３１が、コーティング３１に本質的に平行な異方性粒子４を有する領域６、および膜に本質的に垂直な異方性粒子４１を有する領域５の交互の繰り返しによって形成される三次元の模様を含むことを同様に示す。

コーティングされるためのほぼ三角形状のカバーを有するアイロンの底の場合に、例えば支持体２２の強化すべき領域の下で、コーティングされない面２２の側に磁石の帯（例えばエラストマー）を配置する。これらの帯は、連続するか、または不連続であっても良く、かつカバーのほぼ三角形状を有しても良い。それらは、同じ強度の、または異なる強度の、例えば独立して測定される約８０ｍＴの磁界を放出する。

図４は、下層３１０が、異方性粒子４、４１を含むことにおいて、図２ａに例示された実施の下位変形形態と異なる、第４の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図を表す。図３ａおよび図３ｂに例示された第３の実施変形形態と同じように、図３の二層のエナメルコーティング３１は、コーティング３１に本質的に平行な異方性粒子４を有する領域６、および膜に本質的に垂直な異方性粒子４１を有する領域５の交互の繰り返しによって形成される三次元の模様を含む。異方性粒子４１が磁気粒子を含むかまたは磁気粒子である場合、領域５における粒子の配向は、磁石を支持体２の下に配置して得ることができる。

図５は、それぞれ図５ａから図５ｄに例示された４つの下位変形形態を示す、第５の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図を表す。これらの図は、支持体２の面２１の１つが、
・磁化可能な粒子４、４１のない、かつ（図５ａおよび図５ｂに例示されるように）透明であるか、または（図５ｃおよび図５ｄに例示されるように）着色した下層３１０と、
・（図５ｂおよび図５ｄに例示されるように）着色した層であるか、（図５ａおよび図５ｃに例示されるように）異方性粒子４、４１、好ましくは磁化可能な異方性粒子が分散した磁化可能な層である、中央の層３１３であって、連続し、かつ下層３１０を被覆する中央の層３１３と、を含むエナメル層３１でコーティングされることを示す。

中央の層３１３は、それ自体が：
・連続し、かつ好ましくは磁化可能である異方性粒子４，４１が分散した第１の透明なまたは着色したワニス層３２１と、
・連続し、かつ第１のワニス層３２１を完全かつ／または部分的に被覆する第２の無色のワニス層３２２と
によって被覆されている。

図６は、第６の実施変形形態による本発明に従った調理用品の支持体の一部の略断面図を表す。フライパン１のような調理用品に特有のこの変形形態において、支持体２は、フライパン１内に受けられる可能性のある食品の側に配向された面である内面２２と、外部の熱源に向けて配置されるための外面２１とを含む。支持体２は、その内面２２上に、（例えばゾルゲル材料、またはフッ化炭素樹脂製の）接着防止コーティング７を含み、かつその外面２１上に、
・顔料で着色され、かつ磁化可能な粒子４，４１を含む、連続したエナメル層３１と、
・磁化可能な粒子４，４１が分散した、連続した無色なワニス層３２と、
・シルクスクリーン印刷またはパッド印刷によって得られ、（銅、青銅または耐熱鋼製の）金属ボール３４を含む、不連続な外部エナメル層３３と、を含むコーティング３を含む。

擦り傷の形成後、どの強さから金属までのコーティングの剥落が目に見えるかを顕微鏡下で判定する（結果の表９を参照せよ）。

（丸くした装填材料を有する、および有さない）シルクスクリーン印刷のペーストの組成物
組成が下記表８において以下に与えられる、装填材料を有するシルクスクリーン印刷のペーストＰ３の第１の組成物を調製する。

組成が下記表８において同様に以下に与えられる、装填材料のないシルクスクリーン印刷のペーストＰ４の第２の組成物を調製する。

アルミニウム合金の調理用品の支持体の外面上に、（厚さ３５μｍの）エナメル層３１を形成するために、組成が表１に与えられたスラリーＢ１を噴霧によって塗布する。次に、このエナメル層３１上に、（厚さ３５μｍの）ワニス層３２を形成するために、組成が表５に与えられたワニスＶ１の組成物を塗布する。

これらの層は、次に不連続な外部エナメル層３３を形成するために、組成が表８に与えられた（鋼ボールを含む）エナメルペーストＰ３をシルクスクリーン印刷によって塗布した、乾燥した素焼き（ｂｉｓｃｕｉｔｓｅｃ）を得るために、１５０℃未満、好ましくは６０から８０℃の温度で乾燥させる。次にコーティングすべき支持体に応じて、５００から１０００℃で、５から３０分間、従来の対流式の炉または放射炉で用品の焼成を行う。

予めショットブラストを施され、かつ脱脂された鋳鋼の調理用品の支持体の内壁および外壁上に、一般的に不透明な、エナメルのスラリーＢ２（表３および表４を参照せよ）の第１の層を噴霧によって塗布する。この層は、８００℃から８５０℃で４から１２分間、焼成される。

実施例２と同じように、ワニス層３２、次にシルクスクリーン印刷のエナメル層３３を堆積させた、エナメル層３１を含む保護コーティングを製作する。比較例４の保護コーティングは、エナメル層３１、ワニス層３２、およびシルクスクリーン印刷のエナメル層３３内での磁化可能なフレークの欠如によって実施例１のそれと異なる。

実施例５：アルミニウムの調理用品上での剥落に対する耐性の評価
先に表示した検査に従って、領域ＢおよびＣのレベルでの実施例１及び２の、ならびに比較例４（磁化がないので、特定の領域はない）における保護コーティングの剥落に耐える適性を評価する。得られた結果は、下記表９に示される。

表９に表示した剥離の値は、試料当たり４回の測定に関する、金属での破片の平均値に対応する。

実施例１または２の領域Ｂのレベルで測定された剥離の値の比較例４のそれとの比較は、水平のフレークが剥離を容易にする可能性があるので、金属での剥離を得るために検査時に加えられる力が、磁化可能なフレークのない場合よりも、粒子がコーティングに平行に配向される場合の方が低いことを示す。

Claims

少なくとも一方（２１）が保護コーティング（３）で被覆されている、２つの対向する面（２１、２２）を有する支持体（２）を含むことを特徴とする加熱用品（１）であって、
前記保護コーティング（３）は、異方形状の粒子（４、４１）が分散した少なくとも１つのエナメル層（３１）を含み、前記層は、前記異方性粒子（４、４１）が膜の形状の前記エナメル層（３１）に垂直な粒子（４１）を本質的に含む、少なくとも１つの領域（５）を含むことを特徴とする加熱用品。
前記粒子（４、４１）が、前記エナメル層（３１）の総重量に対して０．０５から１０重量を占めることを特徴とする請求項１に記載の用品。
前記粒子（４、４１）が、機械的または物理的手段によって配向できる粒子（４１）を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の用品。
配向できる前記粒子（４１）が、磁化可能な粒子であることを特徴とする請求項３に記載の用品。
前記磁化可能な粒子（４１）が、少なくとも１つの強磁性金属を含むことを特徴とする請求項４に記載の用品。
前記エナメル層（３１）が、磁化不可能な粒子を更に含むことを特徴とする請求項４または５に記載の用品。
前記領域（５）に隣接して、前記異方形状の粒子（４）が、無作為に、または前記エナメル層（３１）に本質的に平行に配置されている少なくとも１つの領域（６）を更に含むことを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の用品。
前記エナメル層（３１）が、
− 連続し、かつ支持体上に配置されるための、磁化可能な粒子（４１）のない、透明または着色した下層（３１０）と、
− 前記磁化可能な粒子（４１）が分散した少なくとも１つの仕上げ層（３１１）であって、連続し、かつ前記下層（３１０）を部分的または完全に被覆する仕上げ層（３１１）と、を含むことを特徴とする請求項４から７のいずれかに記載の用品。
加熱用品（１）の支持体（２）上に、異方形状の粒子（４、４１）が分散した少なくとも１つのエナメル層（３１）を含む保護コーティング（３）を製作する方法であって、
前記エナメル層（３１）の少なくとも１つの領域（５）内での、物理的または機械的手段による前記異方性粒子（４１）の配向ステップを含むことを特徴とする方法。
ａ）前記支持体（２）の供給ステップと、
ｂ）磁化可能な粒子（４１）を含む異方性粒子が分散した、少なくとも１種のエナメル組成物の前記支持体（２）の面の１つに対する噴霧による塗布ステップと、
ｃ）磁界を印加することによる、前記磁化可能な粒子（４１）の磁化による配向ステップであって、前記磁化ｃ）が、前記支持体に対する前記エナメル組成物の塗布ｂ）中に、または前記塗布ステップｂ）の直後に行われる配向ステップと、次に
ｄ）任意選択で、好ましくは周囲温度から１５０℃の間の温度での乾燥ステップと、その後に続く、
ｄ）少なくとも５００℃の温度で行われる焼成ステップと
を含むことを特徴とする請求項９記載の方法。