JP2016225126A - Conductive coating and method for producing the same - Google Patents

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外村 卓也
Takuya Tonomura
卓也 外村
祐樹 新谷
Yuki Shintani
祐樹 新谷
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive coating that has a blackened layer having excellent antireflection ability against external light, and can suppress increase in the resistance value of a coating comprising a silver nanoparticle.SOLUTION: A conductive coating has base material, a coating comprising a silver nanoparticle formed in at least part of the base material, and a deposition layer formed in at least part of the coating and comprising metal, oxide of the metal or chloride of the metal.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル(PDP)等のディスプレイから発生する電磁波を遮断する電磁波シールドや、スマートフォンやタブレット等のタッチパネル等に使用可能な透明な導電性被膜、及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an electromagnetic shield that blocks electromagnetic waves generated from a display such as a plasma display panel (PDP), a transparent conductive film that can be used for touch panels such as smartphones and tablets, and a method for manufacturing the same.

従来から、基板の全面にスパッタや蒸着等で金属薄膜を形成させた後、フォトリソグラフィ法によって不要な部分をエッチングして必要な導電膜パターンを形成させる方法が知られている。しかしながら、当該方法は工程が煩雑であることに加え、高価な真空装置を用いる必要がある。   Conventionally, a method is known in which after a metal thin film is formed on the entire surface of a substrate by sputtering or vapor deposition, unnecessary portions are etched by photolithography to form a necessary conductive film pattern. However, this method requires complicated vacuum processes and an expensive vacuum apparatus.

このため、より簡便かつ安価な導電膜パターンの形成方法が求められており、近年、凸版印刷法、凹版印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法等の印刷法を用いた方法が提案されている。更に、より高精細なパターンが形成できる印刷手法として、反転印刷法やマイクロコンタクト印刷法等を用いた方法が提案されており、これらの印刷法に適した導電性インク、絶縁性インク、及び抵抗インク等の各種インクが開発されている。   For this reason, a simpler and less expensive method for forming a conductive film pattern has been demanded. In recent years, methods using printing methods such as letterpress printing, intaglio printing, screen printing, and ink jet printing have been proposed. . Furthermore, as a printing method capable of forming a higher-definition pattern, a method using a reverse printing method, a microcontact printing method, or the like has been proposed, and conductive ink, insulating ink, and resistance suitable for these printing methods are proposed. Various inks such as ink have been developed.

また、近年、各種電子機器の入力装置としてタッチパネルが普及している。スマートフォンやタブレット等に使用されているタッチパネル用電極部材には、一般的にITO(インジウムスズ酸化物)からなる透明導電膜が使用されているが、ITOは抵抗値が高いため、大画面におけるタッチパネル化に適していない等の問題点がある。   In recent years, touch panels have become widespread as input devices for various electronic devices. A transparent conductive film made of ITO (Indium Tin Oxide) is generally used for electrode members for touch panels used in smartphones, tablets, etc., but since ITO has a high resistance value, it is a touch panel on a large screen. There are problems such as being unsuitable for conversion.

そのようななか、ITOの代替として、金属配線をメッシュ状に形成した、メタルメッシュが提案されている。メタルメッシュはITOよりも低抵抗であるため、大画面化へ適用し易いという利点があり、種々の形成方法が提案されている。   Under such circumstances, as an alternative to ITO, a metal mesh in which metal wiring is formed in a mesh shape has been proposed. Since the metal mesh has a lower resistance than ITO, there is an advantage that it can be easily applied to a large screen, and various formation methods have been proposed.

例えば上述したフォトリソグラフィ法による形成方法(特許文献1:特開2009−181736号公報)や、印刷によって形成する方法(特許文献2:特開2012−003901号公報)が提案されている。   For example, a formation method by the above-described photolithography method (Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-181736) and a method of forming by printing (Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-003901) have been proposed.

ところが、これらの方法によって形成される金属配線は、高い反射率を有し視認性に劣るため、外光に対する優れた反射防止能を有する黒化層を形成する種々の黒化処理方法が提案されている。   However, since the metal wiring formed by these methods has high reflectivity and poor visibility, various blackening treatment methods for forming a blackening layer having excellent antireflection performance against external light have been proposed. ing.

例えば、上記の特許文献2、特許文献3(特開2011−082211号公報)及び特許文献4(特表2014−514648号公報)において、かかる黒化処理の方法が提案されている。   For example, in the above Patent Document 2, Patent Document 3 (Japanese Patent Laid-Open No. 2011-082221) and Patent Document 4 (Japanese Patent Publication No. 2014-514648), such a blackening method is proposed.

特開2009−181736号公報JP 2009-181736 A 特開2012−003901号公報JP 2012-003901 A 特開2011−082211号公報JP 2011-082211 A 特表2014−514648号公報Special table 2014-514648 gazette

しかしながら、上記特許文献2〜4で提案されている黒化処理は、特定の膜厚を有する銅や銀の細線を黒化処理する手段として有効であるものの、導電性被膜が薄い場合には、黒化処理することによって抵抗値が著しく増大する場合もあり、改善の余地があった。   However, although the blackening treatment proposed in Patent Documents 2 to 4 is effective as a means for blackening copper or silver thin wires having a specific film thickness, when the conductive film is thin, The blackening treatment may increase the resistance value significantly, and there is room for improvement.

そこで、本発明は上記問題に鑑みてなされたものであって、外光に対する優れた反射防止能を有する黒化層を有し、銀ナノ粒子を含む被膜の抵抗値の増加を抑えることができる導電性被膜及びその製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and has a blackening layer having an excellent antireflection ability against external light, and can suppress an increase in the resistance value of a film containing silver nanoparticles. It aims at providing a conductive film and its manufacturing method.

本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、外光に対する優れた反射防止能を有する黒化層を有し、銀ナノ粒子を含む被膜の抵抗値の増加を抑えることができる導電性被膜を得るためには、銀ナノ粒子を含む被膜の少なくとも一部に金属、前記金属の酸化物又は前記金属の塩化物を含む付着層を形成することが、上記目的を達成する上で極めて有効であることを見出し、本発明に到達した。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has a blackening layer having an excellent antireflection ability against external light, and can suppress an increase in the resistance value of a film containing silver nanoparticles. In order to obtain a conductive film that can be formed, an adhesion layer containing a metal, an oxide of the metal, or a chloride of the metal is formed on at least a part of the film containing silver nanoparticles. As a result, the present invention was reached.

即ち、本発明は、
基材と、
前記基材の少なくとも一部に形成された銀ナノ粒子を含む被膜と、
前記被膜の少なくとも一部に形成された金属、前記金属の酸化物又は前記金属の塩化物を含む付着層と、
を有すること、を特徴とする導電性被膜、を提供するものである。
That is, the present invention
A substrate;
A coating containing silver nanoparticles formed on at least a portion of the substrate;
An adhesion layer containing a metal, an oxide of the metal or a chloride of the metal formed on at least a part of the coating;
A conductive film characterized by comprising:

このような構成を有する本発明の導電性被膜においては、上記付着層が、外光に対する優れた反射防止能を有する黒化層を構成し、銀ナノ粒子を含む被膜の抵抗値の増加を有効に抑えることができる。   In the conductive film of the present invention having such a configuration, the adhesion layer constitutes a blackening layer having an excellent antireflection performance against external light, and effective in increasing the resistance value of the film containing silver nanoparticles. Can be suppressed.

上記の本発明の導電性被膜においては、
前記金属がパラジウム又はテルルであること、
が好ましい。
In the above conductive film of the present invention,
The metal is palladium or tellurium;
Is preferred.

このような構成を有する本発明の導電性被膜においては、パラジウム又はテルルが、単体又は酸化物又は塩化物として上記付着層を構成することにより、より確実に、外光に対する優れた反射防止能を有する黒化層を構成しながら、銀ナノ粒子を含む被膜の抵抗値の増加を有効に抑えることができる。   In the conductive coating of the present invention having such a configuration, palladium or tellurium constitutes the above adhesion layer as a single substance, oxide or chloride, thereby ensuring more excellent antireflection performance against external light. The increase in the resistance value of the film containing silver nanoparticles can be effectively suppressed while the blackening layer is formed.

上記の本発明の導電性被膜においては、
前記付着層が前記被膜よりも薄いこと、
が好ましい。
In the above conductive film of the present invention,
The adhesion layer is thinner than the coating;
Is preferred.

このような構成を有する本発明の導電性被膜においては、上記付着層が上記被膜よりも薄いために上記被膜の導電性を阻害せず抵抗値の増大を有効に抑制することができる。なかでも、上記付着層の厚さは上記被膜の厚さの半分以下であるのが望ましく、20%以下であるのが望ましい。こうすることで視認されにくくし、かつ抵抗値の望ましくない増大をより確実に防ぐことができる。   In the conductive film of the present invention having such a configuration, since the adhesion layer is thinner than the film, the increase in resistance value can be effectively suppressed without inhibiting the conductivity of the film. In particular, the thickness of the adhesion layer is desirably less than half of the thickness of the coating film, and desirably 20% or less. By doing so, it is difficult to be visually recognized, and an undesirable increase in resistance value can be prevented more reliably.

また、上記の本発明の導電性被膜においては、
前記被膜が0.5μm以下であること、
が好ましい。
In the conductive film of the present invention,
The coating is 0.5 μm or less,
Is preferred.

このような構成を有する本発明の導電性被膜は、膜厚を稼ぐために導電性インクの使用量が増えることがないためコスト面で好ましい。より詳細には、上記被膜は1μm以下があるのが好ましく、0.5μm以下であるのがより好ましい。1μm以上であっても導電性の面では望ましいが、膜厚をかせぐためにインク使用量が増えるため、コスト面で望ましくない。   The conductive coating of the present invention having such a configuration is preferable in terms of cost because the amount of conductive ink used does not increase in order to increase the film thickness. More specifically, the film preferably has a thickness of 1 μm or less, more preferably 0.5 μm or less. Even if it is 1 μm or more, it is desirable in terms of conductivity, but it is not desirable in terms of cost because the amount of ink used increases to increase the film thickness.

また、本発明は、
基材の少なくとも一部に銀ナノ粒子を含む被膜を形成する工程と、
前記被膜の少なくとも一部に酸性溶液中に金属が溶解した液を接触させて付着層を形成する工程と、
を含むこと、を特徴とする前記被膜と前記付着層とを含む導電性被膜の製造方法をも提供する。
The present invention also provides:
Forming a film containing silver nanoparticles on at least a portion of the substrate;
Forming an adhesion layer by contacting a solution in which a metal is dissolved in an acidic solution with at least a part of the coating; and
A method for producing a conductive coating film including the coating film and the adhesion layer is also provided.

このような構成を有する本発明の導電性被膜の製造方法においては、外光に対する優れた反射防止能を有する黒化層を構成する上記付着層を形成し、銀ナノ粒子を含む被膜の抵抗値の増加を有効に抑えることができる導電性被膜を確実に製造することができる。   In the method for producing a conductive film of the present invention having such a structure, the adhesion layer constituting the blackening layer having an excellent antireflection ability against external light is formed, and the resistance value of the film containing silver nanoparticles is formed. Thus, it is possible to reliably produce a conductive film that can effectively suppress the increase in the amount of the above.

上記の本発明の導電性被膜の製造方法においては、
前記金属がパラジウム又はテルルであること、
が好ましい。
In the above method for producing a conductive coating of the present invention,
The metal is palladium or tellurium;
Is preferred.

このような構成を有する本発明の導電性被膜の製造方法においては、パラジウム又はテルルが外光に対する優れた反射防止能を有する黒化層を構成する上記付着層を形成し、銀ナノ粒子を含む被膜の抵抗値の増加を有効に抑えることができる導電性被膜を確実に製造することができる。   In the method for producing a conductive film of the present invention having such a structure, palladium or tellurium forms the adhesion layer constituting the blackening layer having an excellent antireflection performance against external light, and contains silver nanoparticles. A conductive coating that can effectively suppress an increase in the resistance value of the coating can be reliably produced.

前記付着層が前記被膜よりも薄いこと、
が好ましい。
The adhesion layer is thinner than the coating;
Is preferred.

このような構成を有する本発明の導電性被膜の製造方法においては、上記付着層が上記被膜よりも薄いために上記被膜の導電性を阻害せず抵抗値の増大を抑制することができる導電性被膜を確実に製造することができる。   In the method for producing a conductive coating film of the present invention having such a configuration, since the adhesion layer is thinner than the coating film, the conductivity can be suppressed without inhibiting the conductivity of the coating film. A film can be produced reliably.

また、上記の本発明の導電性被膜の製造方法においては、
前記被膜が0.5μm以下であること、
が好ましい。
In the method for producing the conductive film of the present invention,
The coating is 0.5 μm or less,
Is preferred.

このような構成を有する本発明の導電性被膜の製造方法も、膜厚を稼ぐために導電性インクの使用量が増えることがないためコスト面で好ましい。より詳細には、上記被膜は1μm以下があるのが好ましく、0.5μm以下であるのがより好ましい。1μm以上であっても導電性の面では望ましいが、膜厚をかせぐためにインク使用量が増えるため、コスト面で望ましくない。   The method for producing a conductive film of the present invention having such a configuration is also preferable in terms of cost because the amount of conductive ink used does not increase in order to increase the film thickness. More specifically, the film preferably has a thickness of 1 μm or less, more preferably 0.5 μm or less. Even if it is 1 μm or more, it is desirable in terms of conductivity, but it is not desirable in terms of cost because the amount of ink used increases to increase the film thickness.

本発明によれば、外光に対する優れた反射防止能を有する黒化層を有し、銀ナノ粒子を含む被膜の抵抗値の増加を抑えることができる導電性被膜及びその製造方法を提供することができる。   According to the present invention, there are provided a conductive film having a blackening layer having an excellent antireflection performance against external light and capable of suppressing an increase in the resistance value of a film containing silver nanoparticles, and a method for producing the same. Can do.

以下、本発明の導電性被膜及びその製造方法の好適な実施形態について詳細に説明するが、本発明はこれらのみに限定されるものではない。なお、以下の説明では重複する説明は省略することがある。   Hereinafter, preferred embodiments of the conductive coating and the method for producing the same according to the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited to these. In the following description, overlapping description may be omitted.

本実施形態の導電性被膜は、基材と、前記基材の少なくとも一部に形成された銀ナノ粒子(以下、単に「銀微粒子」ともいう。)を含む被膜と、前記被膜の少なくとも一部に形成された金属、前記金属の酸化物又は前記金属の塩化物を含む付着層と、を有すること、を特徴とする。   The conductive film of the present embodiment includes a base material, a film containing silver nanoparticles (hereinafter also simply referred to as “silver fine particles”) formed on at least a part of the base material, and at least a part of the film. And an adhesion layer containing an oxide of the metal or a chloride of the metal.

このような構成を有する本実施形態の導電性被膜は、主として、基材の少なくとも一部に銀ナノ粒子を含む被膜を形成する工程と、前記被膜の少なくとも一部に酸性溶液中に金属が溶解した液を接触させて付着層を形成する工程と、により製造することができる。以下、この製造方法に沿って本発明について詳細に説明する。   The conductive coating of this embodiment having such a configuration mainly includes a step of forming a coating containing silver nanoparticles on at least a part of a substrate, and a metal is dissolved in an acidic solution in at least a part of the coating. And a step of forming an adhesion layer by bringing the liquid into contact therewith. Hereinafter, the present invention will be described in detail along this manufacturing method.

(1)第一工程(焼成前被膜の形成)
第一工程においては、銀ナノ粒子を主成分とする導電性インクを用いて基板上に印刷又は塗布をして焼成前被膜を形成する。この第一工程における印刷や塗布の方法については、従来公知の方法を採用することができる。焼成前被膜の形状やパターンについても、従来公知のものでよい。
(1) 1st process (formation of the film before baking)
In the first step, a pre-firing film is formed by printing or coating on a substrate using a conductive ink mainly composed of silver nanoparticles. Conventionally known methods can be employed for the printing and coating methods in the first step. The shape and pattern of the pre-firing film may also be a conventionally known one.

この導電性インクは、本実施形態では、銀微粒子(銀ナノ粒子)と、炭素数が5以下である短鎖アミンと、高極性溶媒と、前記銀微粒子を分散させるための酸価を有する分散剤と、を含む銀微粒子分散体で構成されている。なかでも、前記短鎖アミンの分配係数logPが−1.0〜1.4であるのが好ましい。   In this embodiment, this conductive ink is a dispersion having silver fine particles (silver nanoparticles), a short-chain amine having 5 or less carbon atoms, a highly polar solvent, and an acid value for dispersing the silver fine particles. And a silver fine particle dispersion containing the agent. Especially, it is preferable that the distribution coefficient logP of the said short chain amine is -1.0-1.4.

上記銀微粒子分散体は、種々の溶媒(特に高極性溶媒)に銀微粒子が均一分散した低温焼結性を有する銀微粒子分散体であり、導電性被膜を当該銀微粒子複合体の焼結によって形成することで、良好な導電性を有する導電性被膜を低温で形成することができる。   The above-mentioned silver fine particle dispersion is a silver fine particle dispersion having a low temperature sintering property in which silver fine particles are uniformly dispersed in various solvents (especially highly polar solvents), and a conductive film is formed by sintering the silver fine particle composite. By doing so, a conductive film having good conductivity can be formed at a low temperature.

アミンの一分子内におけるアミノ基は、比較的高い極性を有し、水素結合による相互作用を生じ易いが、これら官能基以外の部分は比較的低い極性を有する。更に、アミノ基は、それぞれアルカリ性的性質を示し易い。したがって、アミンは、銀微粒子の表面の少なくとも一部に局在化(付着)すると(即ち、銀微粒子の表面の少なくとも一部を被覆すると)、有機成分と無機粒子とを十分に親和させることができ、銀微粒子同士の凝集を防ぐことができる(分散性を向上させる)。即ち、アミンは官能基が銀微粒子の表面に適度の強さで吸着し、銀微粒子同士の相互の接触を妨げるため、保管状態での銀微粒子の安定性に寄与する。また、加熱によって銀微粒子の表面から移動及び又は揮発することにより、銀微粒子同士の融着を促進するものと考えられる。   An amino group in one molecule of the amine has a relatively high polarity and is likely to cause an interaction due to hydrogen bonding, but a portion other than these functional groups has a relatively low polarity. Furthermore, each amino group tends to exhibit alkaline properties. Accordingly, when the amine is localized (attached) on at least a part of the surface of the silver fine particles (that is, when at least a part of the surface of the silver fine particles is coated), the amine and the inorganic particles can sufficiently have an affinity. And aggregation of silver fine particles can be prevented (dispersibility is improved). That is, the functional group of amine is adsorbed on the surface of the silver fine particles with an appropriate strength and prevents mutual contact between the silver fine particles, thereby contributing to the stability of the silver fine particles in the storage state. Moreover, it is thought that the fusion | melting of silver fine particles is accelerated | stimulated by moving and / or volatilizing from the surface of silver fine particles by heating.

また、銀微粒子分散体を構成するアミンを炭素数が5以下である短鎖アミンとすることで、加熱によって銀微粒子の表面の少なくとも一部に付着したアミンを容易に除去することができ、銀微粒子の良好な低温焼結性(例えば、100〜350℃における焼結性)を担保することができる。   Further, by making the amine constituting the silver fine particle dispersion a short chain amine having 5 or less carbon atoms, the amine attached to at least a part of the surface of the silver fine particles by heating can be easily removed. Good low-temperature sinterability (for example, sinterability at 100 to 350 ° C.) of the fine particles can be ensured.

また、短鎖アミンの分配係数logPを−1.0〜1.4とするのは、分配係数logPが−1.0以下になれば、短鎖アミンの極性が高すぎるため、銀の還元が急速に進んでしまい銀微粒子生成の制御が困難となり、分配係数logPが1.5以上になれば、銀に配位するアミンの極性が低い為に高極性溶媒に分散しづらくなるからである。   Moreover, the distribution coefficient logP of the short-chain amine is set to -1.0 to 1.4. If the distribution coefficient logP is -1.0 or less, the polarity of the short-chain amine is too high. This is because it rapidly proceeds and it becomes difficult to control the formation of silver fine particles, and if the distribution coefficient logP is 1.5 or more, it is difficult to disperse in a highly polar solvent because the polarity of amine coordinated to silver is low.

分配係数logPは、溶媒としてn−オクタノールと水を用いたオクタノール/水分配係数を意味しており、オクタノール中の濃度Coと水中の濃度Cwをそれぞれ求め、濃度比P=Co/Cwの常用対数 logPを分配係数として算出する。そのため、分配係数logPは銀微粒子がどの範囲の極性溶媒で分散させうることが可能かどうかを表す一つの指標であることを意味する。分配係数logPの測定方法は特に限定されず、例えば、フラスコ振盪法、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)法、及び定量的構造活性相関アルゴリズムを用いた計算等によって求めることができるが、国立生物工学情報センター等のウェブサイトで公表されている文献値を用いてもよい。   The partition coefficient logP means an octanol / water partition coefficient using n-octanol and water as solvents, and obtains a concentration Co in octanol and a concentration Cw in water, respectively, and a common logarithm of concentration ratio P = Co / Cw. Log P is calculated as a distribution coefficient. Therefore, the distribution coefficient logP means that it is one index that indicates whether or not a range of polar solvent can disperse the silver fine particles. The method for measuring the partition coefficient logP is not particularly limited, and can be determined by, for example, flask shaking method, high performance liquid chromatography (HPLC) method, and calculation using a quantitative structure-activity relationship algorithm. Literature values published on websites such as centers may be used.

更に、銀微粒子分散体は、銀微粒子合成後に添加される酸価を有する分散剤(即ち、銀微粒子を分散させるための酸価を有する分散剤)を含むことを特徴とする。ここでいう「酸価を有する分散剤」とは、吸着基乃至は官能基としてアミン価や水酸基価等を有さない分散剤全てを包含するものである。かかる分散剤を用いることで、溶媒中の銀微粒子の分散安定性を向上させることができる。当該分散剤の酸価は5〜200であることが好ましく、また、当該分散剤がリン酸由来の官能基を有することが好ましい。「酸価を有する分散剤」が好ましい理由は、必ずしも明らかではないが、本発明者らは、金属への吸着作用だけではなく、短鎖アミンと相互作用することによって、より密な形態で吸着することができ、低温焼結性を有しつつ高い分散性を発現させているものと考えている。   Further, the silver fine particle dispersion includes an acid value dispersant added after the synthesis of the silver fine particles (that is, a dispersant having an acid value for dispersing the silver fine particles). The “dispersant having an acid value” as used herein includes all dispersants that do not have an amine value or a hydroxyl value as an adsorbing group or a functional group. By using such a dispersant, the dispersion stability of the silver fine particles in the solvent can be improved. The acid value of the dispersant is preferably 5 to 200, and the dispersant preferably has a functional group derived from phosphoric acid. The reason why the “dispersant having an acid value” is preferable is not necessarily clear, but the present inventors not only adsorb metal, but also adsorb in a denser form by interacting with a short chain amine. It is thought that it exhibits high dispersibility while having low-temperature sinterability.

後述する高極性溶剤に銀微粒子を分散させたい場合は、一般的に極性の高い分散剤を使用することが有効である。例えばlogPがより小さい短鎖アミンを用いることが考えられるが、短鎖アミンは一般的に還元性を発揮して反応速度を適切に保てない場合がある。具体的には、反応速度を過剰に高めてしまい、分散性に優れた銀微粒子を形成できない場合がある。そこで、より高極性な分散剤を銀微粒子合成後に添加することで、銀微粒子はそのままに分散媒に対する相溶性のみを高めること(表面改質)が可能となる。   When it is desired to disperse silver fine particles in a highly polar solvent described later, it is generally effective to use a highly polar dispersant. For example, it is conceivable to use a short-chain amine having a lower log P, but the short-chain amine generally exhibits reducibility and may not keep the reaction rate properly. Specifically, the reaction rate is excessively increased, and silver fine particles having excellent dispersibility may not be formed. Therefore, by adding a more polar dispersant after the synthesis of the silver fine particles, it is possible to improve only the compatibility with the dispersion medium (surface modification) while leaving the silver fine particles intact.

分散剤の酸価が5以上であるとアミンと配位し粒子表面が塩基性となっている金属物への酸塩基相互作用での吸着が起こり始め、200以下であると過度に吸着サイトを有さないため好適な形態で吸着するから好ましい。また、分散剤がリン酸由来の官能基を有することでリンPが酸素Oを介して金属Mと相互作用し引き合うので金属や金属化合物との吸着には最も効果的であり、必要最小限の吸着量で好適な分散性を得ることができるから好ましい。ここで「酸価」とは、試料1g中に含まれる酸性成分を中和するのに要する水酸化カリウムのmg数で表される。酸価の測定法として、指示薬法(p−ナフトールベンゼイン指示薬)や電位差滴定法をあげることができる。
・ISO6618−1997:指示薬滴定法による中和価試験法→指示薬滴定法(酸価)に対応
・ISO6619−1988:電位差滴定法(酸価)→電位差滴定法(酸価)に対応
When the acid value of the dispersant is 5 or more, adsorption by an acid-base interaction starts to occur on a metal substance coordinated with an amine and the particle surface is basic, and if it is 200 or less, an adsorption site is excessively formed. Since it does not have, it adsorb | sucks in a suitable form, and is preferable. In addition, since the dispersant has a functional group derived from phosphoric acid, phosphorus P interacts with and attracts the metal M through the oxygen O, and is therefore most effective for adsorption with metals and metal compounds. It is preferable because suitable dispersibility can be obtained by the amount of adsorption. Here, the “acid value” is expressed in mg of potassium hydroxide required to neutralize the acidic component contained in 1 g of the sample. Examples of the acid value measurement method include an indicator method (p-naphtholbenzein indicator) and a potentiometric titration method.
ISO6618-1997: Neutralization titration method by indicator titration method → Corresponding to indicator titration method (acid value) ISO6619-1988: Corresponding to potentiometric titration method (acid value) → Potentiometric titration method (acid value)

銀微粒子分散体は、更に、銀微粒子合成前に添加される保護剤としての酸価を有する分散剤(保護分散剤)を含んでいてもよい。ここでいう「保護分散剤」は、上記の銀微粒子合成後に添加される「酸価を有する分散剤」と同じであってもよい。   The silver fine particle dispersion may further contain a dispersant (protective dispersant) having an acid value as a protective agent added before the synthesis of the silver fine particles. The “protective dispersant” herein may be the same as the “dispersant having an acid value” added after the synthesis of the silver fine particles.

また、銀微粒子分散体においては、溶媒として種々の溶媒、特に高極性溶媒を用いることができる。高極性溶媒とは、一般的に水や炭素数の短いアルコールなど、ヘキサンやトルエンのような低極性溶剤と相溶しにくいものを意味するが、本発明においては炭素数1〜6のアルコールを用いることがより好ましい。高極性溶媒として炭素数1〜6のアルコールとすることで、低極性溶媒を用いた時の不具合、例えば樹脂上で銀微粒子分散体を積層した際に、溶媒が下地の樹脂層を侵すことを回避できる。ここで、アミンにはアルコキシアミンを用いることが好ましい。アミンをアルコキシアミンとすることで、銀微粒子を高極性溶媒に良好に分散させることができる。さらに、必ずしもその機構は明らかではないが、アルコキシアミンのアルコキシ基が水蒸気と効率良く相互作用するために、十分な粒成長を促すことができる点においても好ましい。   In the silver fine particle dispersion, various solvents, particularly high polarity solvents can be used as the solvent. A highly polar solvent means a solvent that is generally incompatible with a low polarity solvent such as hexane or toluene, such as water or an alcohol having a short carbon number. In the present invention, an alcohol having 1 to 6 carbon atoms is used. More preferably, it is used. By using an alcohol having 1 to 6 carbon atoms as a high polarity solvent, it is possible to cause problems when a low polarity solvent is used, for example, when a silver fine particle dispersion is laminated on a resin, the solvent invades the underlying resin layer. Can be avoided. Here, it is preferable to use an alkoxyamine as the amine. By using alkoxyamine as the amine, the silver fine particles can be favorably dispersed in the highly polar solvent. Furthermore, although the mechanism is not necessarily clear, the alkoxy group of alkoxyamine interacts efficiently with water vapor, which is preferable in that sufficient grain growth can be promoted.

銀微粒子分散体を構成する銀微粒子の粒径は、融点降下が生じるようなナノメートルサイズ、望ましくは1〜200nmが適切であるが、必要に応じてミクロンメートルサイズの粒子が含まれていてもよい。   The particle size of the silver fine particles constituting the silver fine particle dispersion is suitably a nanometer size that desirably causes a melting point drop, preferably 1 to 200 nm. However, if necessary, even if particles of a micrometer size are included. Good.

本実施形態において得られる導電性被膜は銀微粒子から形成され、それを外部加熱によって形成した焼結体であり、銀微粒子が本来有する導電性と同程度の良好な導電性を有している。導電性被膜の形成に用いる銀微粒子分散体(導電性インク)について、以下において更に詳細に述べる。   The conductive film obtained in the present embodiment is a sintered body formed from silver fine particles and formed by external heating, and has good conductivity comparable to that inherent in the silver fine particles. The silver fine particle dispersion (conductive ink) used for forming the conductive film will be described in more detail below.

導電性被膜の形成に用いる銀微粒子分散体(導電性インク)は、本発明の効果を損なわない限りにおいて特に限定されず、従来公知の種々の銀微粒子分散体を用いることができるが、銀微粒子と、炭素数が5以下である短鎖アミンと、高極性溶媒と、銀微粒子を分散させるための酸価を有する分散剤と、を含む短鎖アミンの分配係数logPが−1.0〜1.4である銀微粒子分散体を用いることが好ましい。   The silver fine particle dispersion (conductive ink) used for forming the conductive film is not particularly limited as long as the effects of the present invention are not impaired, and various conventionally known silver fine particle dispersions can be used. A short chain amine having a carbon number of 5 or less, a highly polar solvent, and a dispersant having an acid value for dispersing silver fine particles, the partition coefficient log P of the short chain amine is -1.0 to 1 It is preferable to use a silver fine particle dispersion of .4.

上記銀微粒子分散体は、種々の溶媒(特に高極性溶媒)に銀微粒子が均一分散した低温焼結性を有する銀微粒子分散体であり、導電性被膜を当該銀微粒子複合体の焼結によって形成することで、良好な導電性を有する導電性被膜を低温で形成することができる。   The above-mentioned silver fine particle dispersion is a silver fine particle dispersion having a low temperature sintering property in which silver fine particles are uniformly dispersed in various solvents (especially highly polar solvents), and a conductive film is formed by sintering the silver fine particle composite. By doing so, a conductive film having good conductivity can be formed at a low temperature.

(A)銀微粒子
本実施形態の銀微粒子分散体における銀微粒子の平均粒径は、本発明の効果を損なわない範囲であれば特に制限されるものではないが、融点降下が生じるような平均粒径を有するのが好ましく、例えば、1〜200nmであればよい。更には、2〜100nmであるのが好ましい。銀微粒子の平均粒径が1nm以上であれば、銀微粒子が良好な低温焼結性を具備すると共に銀微粒子製造がコスト高とならず実用的である。また、200nm以下であれば、銀微粒子の分散性が経時的に変化しにくく、好ましい。
(A) Silver fine particles The average particle size of the silver fine particles in the silver fine particle dispersion of the present embodiment is not particularly limited as long as the effect of the present invention is not impaired. It is preferable to have a diameter, for example, it may be 1 to 200 nm. Furthermore, it is preferable that it is 2-100 nm. If the average particle diameter of the silver fine particles is 1 nm or more, the silver fine particles have good low-temperature sinterability, and the production of silver fine particles is practical without increasing the cost. Moreover, if it is 200 nm or less, the dispersibility of a silver fine particle does not change easily over time, and it is preferable.

銀微粒子分散体を、例えばマイグレーションの問題を考慮して、イオン化列が水素より貴である金属、即ち金、銅、白金、パラジウム等の粒子を添加してもよい。   The silver fine particle dispersion may be added with a metal whose ionization column is more noble than hydrogen, that is, gold, copper, platinum, palladium, or the like in consideration of migration problems.

なお、本実施形態の銀微粒子分散体における銀微粒子の粒径は、一定でなくてもよい。また、銀微粒子分散体が、任意成分として、後述する分散剤等を含む場合、平均粒径が200nm超の金属粒子成分を含む場合があるが、凝集を生じたりせず、本発明の効果を著しく損なわない成分であればかかる200nm超の平均粒径を有する金属粒子成分を含んでもよい。   Note that the particle size of the silver fine particles in the silver fine particle dispersion of the present embodiment may not be constant. In addition, when the silver fine particle dispersion contains a dispersant described later as an optional component, it may contain a metal particle component having an average particle size of more than 200 nm, but it does not cause aggregation, and the effect of the present invention is achieved. A metal particle component having an average particle diameter of more than 200 nm may be included as long as the component is not significantly impaired.

ここで、本実施形態の銀微粒子分散体における銀微粒子の粒径は、動的光散乱法、小角X線散乱法、広角X線回折法で測定することができる。ナノサイズの銀微粒子の融点降下を示すためには、広角X線回折法で求めた結晶子径が適当である。例えば広角X線回折法では、より具体的には、理学電機(株)製のRINT−UltimaIIIを用いて、回折法で2θが30〜80°の範囲で測定することができる。この場合、試料は、中央部に深さ0.1〜1mm程度の窪みのあるガラス板に表面が平坦になるように薄くのばして測定すればよい。また、理学電機(株)製のJADEを用い、得られた回折スペクトルの半値幅を下記のシェラー式に代入することにより算出された結晶子径(D)を粒径とすればよい。
D=Kλ/Bcosθ
ここで、K:シェラー定数(0.9)、λ:X線の波長、B:回折線の半値幅、θ:ブラッグ角である。
Here, the particle size of the silver fine particles in the silver fine particle dispersion of the present embodiment can be measured by a dynamic light scattering method, a small-angle X-ray scattering method, and a wide-angle X-ray diffraction method. In order to show the melting point drop of nano-sized silver fine particles, the crystallite diameter determined by the wide-angle X-ray diffraction method is appropriate. For example, in the wide-angle X-ray diffraction method, more specifically, Rθ-UtimaIII manufactured by Rigaku Corporation can be used to measure 2θ in the range of 30 to 80 ° by the diffraction method. In this case, the sample may be measured by extending it thinly so that the surface is flat on a glass plate having a depression of about 0.1 to 1 mm in depth at the center. The crystallite diameter (D) calculated by substituting the half width of the obtained diffraction spectrum into the following Scherrer equation using JADE manufactured by Rigaku Corporation may be used as the particle diameter.
D = Kλ / Bcos θ
Here, K: Scherrer constant (0.9), λ: wavelength of X-ray, B: half width of diffraction line, θ: Bragg angle.

(B)炭素数が5以下である短鎖アミン
本実施形態の銀微粒子分散体において、銀微粒子の表面の少なくとも一部には炭素数が5以下である短鎖アミンが付着している。なお、銀微粒子の表面には、原料に最初から不純物として含まれる微量有機物、後述する製造過程で混入する微量有機物、洗浄過程で除去しきれなかった残留還元剤、残留分散剤等のように、微量の有機物が付着していてもよい。
(B) Short-chain amine having 5 or less carbon atoms In the silver fine particle dispersion of this embodiment, a short-chain amine having 5 or less carbon atoms is attached to at least a part of the surface of the silver fine particles. In addition, on the surface of the silver fine particles, a trace amount of organic matter contained as an impurity from the beginning, a trace amount of organic matter mixed in the manufacturing process described later, a residual reducing agent that could not be removed in the cleaning process, a residual dispersant, etc. A trace amount of organic matter may be attached.

炭素数が5以下である短鎖アミンは分配係数logPが−1.0〜1.4であれば特に限定されず、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、また、側鎖を有していてもよい。当該短鎖アミンとしては、例えば、エチルアミン(−0.3)プロピルアミン(0.5)、ブチルアミン(1.0)、N−(3−メトキシプロピル)プロパン−1,3−ジアミン(−0.6)、1,2−エタンジアミン、N−(3−メトキシプロピル)ホルムアミド(−0.2),2−メトキシエチルアミン(−0.9)、3−メトキシプロピルアミン(−0.5)、3−エトキシプロピルアミン(−0.1)、1,4−ブタンジアミン(−0.9)、1,5−ペンタンジアミン(−0.6)、ペンタノールアミン(−0.3)、アミノイソブタノール(−0.8)等が挙げられるが、なかでもアルコキシアミンを用いることが好ましい。   The short-chain amine having 5 or less carbon atoms is not particularly limited as long as the distribution coefficient logP is −1.0 to 1.4, and may be linear or branched. You may have a chain. Examples of the short chain amine include ethylamine (−0.3) propylamine (0.5), butylamine (1.0), N- (3-methoxypropyl) propane-1,3-diamine (−0. 6), 1,2-ethanediamine, N- (3-methoxypropyl) formamide (-0.2), 2-methoxyethylamine (-0.9), 3-methoxypropylamine (-0.5), 3 -Ethoxypropylamine (-0.1), 1,4-butanediamine (-0.9), 1,5-pentanediamine (-0.6), pentanolamine (-0.3), aminoisobutanol (-0.8) and the like are mentioned, among which alkoxyamine is preferably used.

上記短鎖アミンは、例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、カルボニル基、エステル基、メルカプト基等の、アミン以外の官能基を含む化合物であってもよい。また、上記アミンは、それぞれ単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。加えて、常温での沸点が300℃以下、更には250℃以下であることが好ましい。   The short chain amine may be a compound containing a functional group other than an amine, such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkoxy group, a carbonyl group, an ester group, or a mercapto group. Moreover, the said amine may be used independently, respectively and may use 2 or more types together. In addition, the boiling point at normal temperature is preferably 300 ° C. or lower, more preferably 250 ° C. or lower.

本実施形態の銀粒子分散体は、本発明の効果を損なわない範囲であれば、上記の炭素数が5以下である短鎖アミンに加えて、カルボン酸を含んでいてもよい。カルボン酸の一分子内におけるカルボキシル基が、比較的高い極性を有し、水素結合による相互作用を生じ易いが、これら官能基以外の部分は比較的低い極性を有する。更に、カルボキシル基は、酸性的性質を示し易い。また、カルボン酸は、本実施形態の銀粒子分散体中で、銀微粒子の表面の少なくとも一部に局在化(付着)すると(即ち、銀微粒子の表面の少なくとも一部を被覆すると)、溶媒と銀微粒子とを十分に親和させることができ、銀微粒子同士の凝集を防ぐことができる(分散性を向上させる。)。   The silver particle dispersion of the present embodiment may contain a carboxylic acid in addition to the short-chain amine having 5 or less carbon atoms as long as the effects of the present invention are not impaired. The carboxyl group in one molecule of the carboxylic acid has a relatively high polarity and tends to cause an interaction due to a hydrogen bond, but a portion other than these functional groups has a relatively low polarity. Furthermore, the carboxyl group tends to exhibit acidic properties. In addition, when the carboxylic acid is localized (attached) on at least a part of the surface of the silver fine particles (that is, covers at least a part of the surface of the silver fine particles) in the silver particle dispersion of this embodiment, the solvent And silver fine particles can be made to sufficiently adhere to each other and aggregation of silver fine particles can be prevented (dispersibility is improved).

カルボン酸としては、少なくとも1つのカルボキシル基を有する化合物を広く用いることができ、例えば、ギ酸、シュウ酸、酢酸、ヘキサン酸、アクリル酸、オクチル酸、オレイン酸等が挙げられる。カルボン酸の一部のカルボキシル基が金属イオンと塩を形成していてもよい。なお、当該金属イオンについては、2種以上の金属イオンが含まれていてもよい。   As the carboxylic acid, compounds having at least one carboxyl group can be widely used, and examples thereof include formic acid, oxalic acid, acetic acid, hexanoic acid, acrylic acid, octylic acid, and oleic acid. A part of carboxyl groups of the carboxylic acid may form a salt with a metal ion. In addition, about the said metal ion, 2 or more types of metal ions may be contained.

上記カルボン酸は、例えば、アミノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボニル基、エステル基、メルカプト基等の、カルボキシル基以外の官能基を含む化合物であってもよい。この場合、カルボキシル基の数が、カルボキシル基以外の官能基の数以上であることが好ましい。また、上記カルボン酸は、それぞれ単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。加えて、常温での沸点が300℃以下、更には250℃以下であることが好ましい。また、アミンとカルボン酸はアミドを形成する。当該アミド基も銀微粒子表面に適度に吸着するため、銀微粒子表面にはアミド基が付着していてもよい。   The carboxylic acid may be a compound containing a functional group other than a carboxyl group, such as an amino group, a hydroxyl group, an alkoxy group, a carbonyl group, an ester group, or a mercapto group. In this case, the number of carboxyl groups is preferably equal to or greater than the number of functional groups other than carboxyl groups. Moreover, the said carboxylic acid may be used independently, respectively and may use 2 or more types together. In addition, the boiling point at normal temperature is preferably 300 ° C. or lower, more preferably 250 ° C. or lower. Also, amines and carboxylic acids form amides. Since the amide group also adsorbs moderately on the surface of the silver fine particles, the amide group may adhere to the surface of the silver fine particles.

銀微粒子と当該銀微粒子の表面に付着した有機物(上記炭素数が5以下である短鎖アミン等)によってコロイドが構成される場合、当該コロイド中の有機成分の含有量は、0.5〜50質量%であることが好ましい。有機成分含有量が0.5質量%以上であれば、得られる銀微粒子分散体の貯蔵安定性が良くなる傾向があり、50質量%以下であれば、銀微粒子分散体を加熱して得られる焼成体の導電性が良い傾向がある。有機成分のより好ましい含有量は1〜30質量%であり、更に好ましい含有量は2〜15質量%である。   When the colloid is constituted by silver fine particles and organic substances (such as the short-chain amine having 5 or less carbon atoms) attached to the surface of the silver fine particles, the content of the organic component in the colloid is 0.5 to 50 It is preferable that it is mass%. If the organic component content is 0.5% by mass or more, the storage stability of the resulting silver fine particle dispersion tends to be improved, and if it is 50% by mass or less, the silver fine particle dispersion is obtained by heating. There exists a tendency for the electroconductivity of a sintered body to be good. The more preferable content of the organic component is 1 to 30% by mass, and the more preferable content is 2 to 15% by mass.

(C)高極性溶媒
本実施形態の銀微粒子分散体は、種々の高極性溶媒に銀微粒子が分散したものである。
(C) High Polar Solvent The silver fine particle dispersion of the present embodiment is obtained by dispersing silver fine particles in various high polar solvents.

上記溶媒としては、本発明の効果を損なわない範囲で、種々の高極性溶媒を用いることができる。高極性溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、2−ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、イソアミルアルコール、フルフリルアルコール、ニトロメタン、アセトニトリル、ピリジン、アセトンクレゾール、ジメチルホルムアミド、ジオキサン、エチレングリコール、グリセリン、フェノール、p−クレゾール、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、tert−ブタノール、1−ペンタノール、2−ペンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、3−メチル−1−ペンタノール、3−メチル−2−ペンタノール、2−ブタノール、1−ヘキサノール、2−ヘキサノール2−ペンタノン、2−ヘプタノン、酢酸2−(2−エトキシエトキシ)エチル、酢酸−2−ブトキシエチル、酢酸2−(2−ブトキシエトキシ)エチル、酢酸−2−メトキシエチル、2−ヘキシルオキシエタノール等を例示することができるが、本発明では前記炭素数が5以下の短鎖アミンと相溶性が良好であるため、炭素数1〜6のアルコールを用いることが好ましい。なお、これらの溶媒はそれぞれ単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   As the solvent, various highly polar solvents can be used as long as the effects of the present invention are not impaired. High polar solvents include methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, 2-butanol, pentanol, hexanol, isoamyl alcohol, furfuryl alcohol, nitromethane, acetonitrile, pyridine, acetone cresol, dimethylformamide, dioxane, ethylene Glycol, glycerin, phenol, p-cresol, propyl acetate, isopropyl acetate, tert-butanol, 1-pentanol, 2-pentanol, 4-methyl-2-pentanol, 3-methyl-1-pentanol, 3- Methyl-2-pentanol, 2-butanol, 1-hexanol, 2-hexanol 2-pentanone, 2-heptanone, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl acetate, 2-butoxy acetate Examples include chill, 2- (2-butoxyethoxy) ethyl acetate, 2-methoxyethyl acetate, 2-hexyloxyethanol, etc., but the present invention is compatible with the short-chain amine having 5 or less carbon atoms. Is preferable, alcohol having 1 to 6 carbon atoms is preferably used. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

(D)分散剤
本実施形態の銀粒子分散体には、更に、銀微粒子を分散させるために銀微粒子合成後に添加される「酸価を有する分散剤」を含む。かかる分散剤を用いることで、溶媒中の銀微粒子の分散安定性を向上させることができる。ここで、当該分散剤の酸価は5〜200であることがより好ましく、また、当該分散剤がリン酸由来の官能基を有することが更に好ましい。
(D) Dispersant The silver particle dispersion of the present embodiment further includes a “dispersant having an acid value” added after the synthesis of silver fine particles in order to disperse the silver fine particles. By using such a dispersant, the dispersion stability of the silver fine particles in the solvent can be improved. Here, the acid value of the dispersant is more preferably 5 to 200, and the dispersant further preferably has a functional group derived from phosphoric acid.

分散剤の酸価が5以上であるとアミンと配位し粒子表面が塩基性となっている金属物への酸塩基相互作用での吸着が起こり始めるからであり、200以下であると過度に吸着サイトを有さないため好適な形態で吸着するからである。また、分散剤がリン酸由来の官能基を有することでリンPが酸素Oを介して金属Mと相互作用し引き合うので金属や金属化合物との吸着には最も効果的であり、必要最小限の吸着量で好適な分散性を得ることができるからである。   If the acid value of the dispersant is 5 or more, adsorption with an acid-base interaction starts to occur on a metal substance that coordinates with the amine and the particle surface is basic. This is because it does not have an adsorption site and adsorbs in a suitable form. In addition, since the dispersant has a functional group derived from phosphoric acid, phosphorus P interacts with and attracts the metal M through the oxygen O, and is therefore most effective for adsorption with metals and metal compounds. This is because suitable dispersibility can be obtained by the amount of adsorption.

なお、酸価が5〜200の高分子分散剤としては、例えば、ルーブリゾール社のSOLSPERSEシリーズではSOLSPERSE−16000、21000、41000、41090、43000、44000、46000、54000等が挙げられ、ビックケミー社DISPERBYKシリーズではDISPERBYK−102、110、111、170、190.194N、2015.2090、2096等が挙げられ、エボニック社のTEGODispersシリーズでは610、610S、630、651、655、750W、755W等が挙げられ、楠本化成(株)製のディスパロンシリーズではDA−375、DA−1200等が挙げられ、共栄化学工業(株)製のフローレンシリーズではWK−13E、G−700、G−900、GW−1500、GW−1640、WK−13Eを例示することができる。   Examples of the polymer dispersant having an acid value of 5 to 200 include SOLPERSE-16000, 21000, 41000, 41090, 43000, 44000, 46000, 54000 and the like in the SOLPERSE series of Lubrizol, and Big Chemie's DISPERBYK. In the series, DISPERBYK-102, 110, 111, 170, 190.194N, 2015.2090, 2096, etc. can be mentioned, and in Evonik's TEGO Dispers series, 610, 610S, 630, 651, 655, 750W, 755W, etc. can be mentioned, In the Dispalon series manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd., DA-375, DA-1200 and the like are listed, and in the Floren series manufactured by Kyoei Chemical Industry Co., Ltd., WK-13E, G-700, G- The 00, GW-1500, GW-1640, WK-13E can be exemplified.

本実施形態の銀微粒子分散体に分散剤を含有させる場合の含有量は、粘度などの所望の特性によって調整すれば良いが、例えば、銀微粒子分散体を銀インクとして用いる場合は、分散剤の含有量を0.5〜20質量%とすることが好ましく、銀ペーストとして用いる場合は、分散剤の含有量を0.1〜10質量%とすることが好ましい。   The content when the dispersant is contained in the silver fine particle dispersion of the present embodiment may be adjusted according to desired properties such as viscosity. For example, when the silver fine particle dispersion is used as a silver ink, The content is preferably 0.5 to 20% by mass, and when used as a silver paste, the content of the dispersant is preferably 0.1 to 10% by mass.

高分子分散剤の含有量は0.1〜15質量%であることが好ましい。高分子分散剤の含有量が0.1%以上であれば得られる銀微粒子分散体の分散安定性が良くなるが、含有量が多過ぎる場合は低温焼結性が低下することとなる。このような観点から、高分子分散剤のより好ましい含有量は0.3〜10質量%であり、更に好ましい含有量は0.5〜8質量%である。   The content of the polymer dispersant is preferably 0.1 to 15% by mass. When the content of the polymer dispersant is 0.1% or more, the dispersion stability of the obtained silver fine particle dispersion is improved. However, when the content is too large, the low-temperature sinterability is lowered. From such a viewpoint, the more preferable content of the polymer dispersant is 0.3 to 10% by mass, and the more preferable content is 0.5 to 8% by mass.

本実施形態の分散体は、更に、熱分析によって室温から200℃まで加熱したときの重量減少率が20質量%以下であり、かつ、200℃から500℃まで加熱したときの重量減少率が10質量%以下であることが好ましい。ここで、200℃までの重量減少率は主として低温焼結性に寄与する低温成分である短鎖アミンの含有量を示し、200〜500℃での高温性分の重量減少率は主として分散安定性に寄与する酸価の分散剤の含有量を示す。短鎖アミンや高温成分が過剰になると低温焼結性が損なわれる。即ち、室温から200℃まで加熱したときの重量減少率が20質量%以下で、200℃から500℃まで加熱したときの重量減少率が10質量%以下であれば低温焼結性がより優れる。   The dispersion of this embodiment further has a weight reduction rate of 20% by mass or less when heated from room temperature to 200 ° C. by thermal analysis, and a weight reduction rate of 10% when heated from 200 ° C. to 500 ° C. It is preferable that it is below mass%. Here, the weight reduction rate up to 200 ° C. mainly indicates the content of the short-chain amine, which is a low-temperature component contributing to low-temperature sinterability, and the weight reduction rate of the high-temperature property at 200 to 500 ° C. is mainly dispersion stability. The content of the dispersant having an acid value that contributes to If the short-chain amine or the high temperature component is excessive, the low temperature sintering property is impaired. That is, if the weight reduction rate when heated from room temperature to 200 ° C. is 20% by mass or less and the weight reduction rate when heated from 200 ° C. to 500 ° C. is 10% by mass or less, the low temperature sinterability is more excellent.

(E)保護剤(保護分散剤)
本実施形態の銀微粒子分散体は、更に、銀微粒子合成前に添加される保護剤としての酸価を有する分散剤(保護分散剤)を含んでいてもよい。ここでいう「保護分散剤」は、上記の銀微粒子合成後に添加される「酸価を有する分散剤」と同じ種類のものでも異なる種類のものであってもよい。
(E) Protective agent (protective dispersant)
The silver fine particle dispersion of this embodiment may further contain a dispersant (protective dispersant) having an acid value as a protective agent added before the synthesis of the silver fine particles. The “protective dispersant” referred to here may be of the same type or different type as the “dispersant having an acid value” added after the synthesis of the silver fine particles.

(F)その他の成分
本実施形態の銀微粒子分散体には、上記の成分に加えて、本発明の効果を損なわない範囲で、使用目的に応じた適度な粘性、密着性、乾燥性又は印刷性等の機能を付与するために、例えばバインダーとしての役割を果たすオリゴマー成分、樹脂成分、有機溶剤(固形分の一部を溶解又は分散していてよい。)、界面活性剤、増粘剤又は表面張力調整剤等の任意成分を添加してもよい。かかる任意成分としては、特に限定されない。
(F) Other components In addition to the above components, the silver fine particle dispersion of the present embodiment has an appropriate viscosity, adhesion, drying property or printing depending on the purpose of use within a range not impairing the effects of the present invention. For example, an oligomer component, a resin component, an organic solvent (a part of the solid content may be dissolved or dispersed), a surfactant, a thickener, You may add arbitrary components, such as a surface tension regulator. Such optional components are not particularly limited.

樹脂成分としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ブロックドイソシアネート等のポリウレタン系樹脂、ポリアクリレート系樹脂、ポリアクリルアミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、メラミン系樹脂又はテルペン系樹脂等を挙げることができ、これらはそれぞれ単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the resin component include polyester resins, polyurethane resins such as blocked isocyanate, polyacrylate resins, polyacrylamide resins, polyether resins, melamine resins, and terpene resins. May be used alone or in combination of two or more.

増粘剤としては、例えば、クレイ、ベントナイト又はヘクトライト等の粘土鉱物、例えば、ポリエステル系エマルジョン樹脂、アクリル系エマルジョン樹脂、ポリウレタン系エマルジョン樹脂又はブロックドイソシアネート等のエマルジョン、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースのセルロース誘導体、キサンタンガム又はグアーガム等の多糖類等が挙げられ、これらはそれぞれ単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the thickener include clay minerals such as clay, bentonite or hectorite, for example, emulsions such as polyester emulsion resins, acrylic emulsion resins, polyurethane emulsion resins or blocked isocyanates, methyl cellulose, carboxymethyl cellulose, and hydroxyethyl cellulose. , Hydroxypropylcellulose, cellulose derivatives of hydroxypropylmethylcellulose, polysaccharides such as xanthan gum or guar gum, etc., and these may be used alone or in combination of two or more.

上記有機成分とは異なる界面活性剤を添加してもよい。多成分溶媒系の無機コロイド分散液においては、乾燥時の揮発速度の違いによる被膜表面の荒れ及び固形分の偏りが生じ易い。本実施形態の銀微粒子分散体に界面活性剤を添加することによってこれらの不利益を抑制し、均一な導電性被膜を形成することができる銀微粒子分散体が得られる。   A surfactant different from the organic component may be added. In a multi-component solvent-based inorganic colloidal dispersion, the coating surface becomes rough and the solid content tends to be uneven due to the difference in volatilization rate during drying. By adding a surfactant to the silver fine particle dispersion of this embodiment, a silver fine particle dispersion capable of suppressing these disadvantages and forming a uniform conductive film can be obtained.

本実施形態において用いることのできる界面活性剤としては、特に限定されず、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤の何れかを用いることができ、例えば、アルキルベンゼンスルホン酸塩、4級アンモニウム塩等が挙げられる。なかでも、少量の添加量で効果が得られるので、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤が好ましい。   The surfactant that can be used in the present embodiment is not particularly limited, and any of an anionic surfactant, a cationic surfactant, and a nonionic surfactant can be used. For example, alkylbenzene sulfonic acid Salt, quaternary ammonium salt and the like. Of these, fluorine-based surfactants and silicone-based surfactants are preferred because an effect can be obtained with a small amount of addition.

本実施形態の銀微粒子分散体に含まれる銀微粒子は、表面の少なくとも一部に分配係数logPが−1.0〜1.4であり炭素数が5以下であるアルコキシアミンが付着した銀微粒子であるのが好ましい。   The silver fine particles contained in the silver fine particle dispersion of the present embodiment are silver fine particles in which an alkoxyamine having a distribution coefficient log P of −1.0 to 1.4 and a carbon number of 5 or less is attached to at least a part of the surface. Preferably there is.

銀微粒子の表面の少なくとも一部に分配係数logPが−1.0〜1.4である炭素数が5以下のアルコキシアミンを付着させることで、銀微粒子に種々の溶媒(特に高極性溶媒)に対する優れた分散性と低温焼結性とを付与することができる。   By attaching an alkoxyamine having a partition coefficient logP of −1.0 to 1.4 and having 5 or less carbon atoms to at least a part of the surface of the silver fine particles, the silver fine particles can be applied to various solvents (particularly highly polar solvents). Excellent dispersibility and low-temperature sinterability can be imparted.

上記溶媒としては、本発明の効果を損なわない範囲で、種々の溶媒を用いることができ、SP値(溶解パラメーター)が7.0〜15.0である溶媒を用いることができる。ここで、高極性溶媒中においても銀微粒子が均一に分散していることが本発明の銀微粒子分散体の特徴の一つであり、本発明では前記炭素数が5以下の短鎖アミンと相溶性が良好であるため、炭素数1〜6のアルコールを用いることが好ましい。なお、これらの溶媒はそれぞれ単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   As said solvent, a various solvent can be used in the range which does not impair the effect of this invention, and the solvent whose SP value (solubility parameter) is 7.0-15.0 can be used. Here, it is one of the characteristics of the silver fine particle dispersion of the present invention that the silver fine particles are uniformly dispersed even in a highly polar solvent. In the present invention, the phase is combined with the short-chain amine having 5 or less carbon atoms. Since solubility is favorable, it is preferable to use a C1-C6 alcohol. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

SP値(溶解パラメーター)が7.0〜15.0である溶媒としては、例えば、ヘキサン(7.2)、トリエチルアミン(7.3)、エチルエーテル(7.7)、n−オクタン(7.8)、シクロヘキサン(8.3)、n−アミルアセテート(8.3)、酢酸イソブチル(8.3)、メチルイソプロピルケトン(8.4)、アミルベンゼン(8.5)酢酸ブチル(8.5)、四塩化炭素(8.6)、エチルベンゼン(8.7)、p−キシレン(8.8)、トルエン(8.9)、メチルプロピルケトン(8.9)酢酸エチル(8.9)、テトラヒドロフラン(9.2)、メチルエチルケトン(9.3)、クロロホルム(9.4)、アセトン(9.8)、ジオキサン(10.1)、ピリジン(10.8)、イソブタノール(11.0)、n−ブタノール(11.1)、ニトロエタン(11.1)イソプロピルアルコール(11.2)、m−クレゾール(11.4)、アセトニトリル(11.9)、n−プロパノール(12.1)、フルフリルアルコール(12.5)、ニトロメタン(12.7)、エタノール(12.8)、クレゾール(13.3)、エチレングリコール(14.2)、メタノール(14.8)フェノール、p−クレゾール、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、tert−ブタノール、1−ペンタノール、2−ペンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、3−メチル−1−ペンタノール、3−メチル−2−ペンタノール、2−ブタノール、1−ヘキサノール、2−ヘキサノール2−ペンタノン、2−ヘプタノン、酢酸2−(2−エトキシエトキシ)エチル、酢酸−2−ブトキシエチル、酢酸2−(2−ブトキシエトキシ)エチル、酢酸−2−メトキシエチル、2−ヘキシルオキシエタノール等を例示することができる。   Examples of the solvent having an SP value (solubility parameter) of 7.0 to 15.0 include hexane (7.2), triethylamine (7.3), ethyl ether (7.7), and n-octane (7. 8), cyclohexane (8.3), n-amyl acetate (8.3), isobutyl acetate (8.3), methyl isopropyl ketone (8.4), amyl benzene (8.5) butyl acetate (8.5) ), Carbon tetrachloride (8.6), ethylbenzene (8.7), p-xylene (8.8), toluene (8.9), methylpropylketone (8.9) ethyl acetate (8.9), Tetrahydrofuran (9.2), methyl ethyl ketone (9.3), chloroform (9.4), acetone (9.8), dioxane (10.1), pyridine (10.8), isobutanol (11.0), n-pig (11.1), nitroethane (11.1) isopropyl alcohol (11.2), m-cresol (11.4), acetonitrile (11.9), n-propanol (12.1), furfuryl alcohol (12.5), nitromethane (12.7), ethanol (12.8), cresol (13.3), ethylene glycol (14.2), methanol (14.8) phenol, p-cresol, propyl acetate, Isopropyl acetate, tert-butanol, 1-pentanol, 2-pentanol, 4-methyl-2-pentanol, 3-methyl-1-pentanol, 3-methyl-2-pentanol, 2-butanol, 1- Hexanol, 2-hexanol 2-pentanone, 2-heptanone, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl acetate, acetic acid-2 Butoxyethyl, 2- (2-butoxyethoxy) ethyl acetate, acetic acid-2-methoxyethyl, can be exemplified 2-hexyloxy ethanol.

本実施形態の銀微粒子の粒径は、融点降下が生じるようなナノメートルサイズ、望ましくは1〜200nmが適切であるが、必要に応じてミクロンメートルサイズの粒子が含まれていてもよい。   The particle size of the silver fine particles of this embodiment is a nanometer size that desirably causes a melting point drop, preferably 1 to 200 nm, but may contain micrometer size particles as necessary.

ここで、本実施形態における導電性インクとして転写印刷用導電性インクを用いる場合、当該転写印刷用導電性インクは、より具体的には、金属粒子と、エタノールを含む溶媒と、水酸基を有する高沸点溶剤0.1〜3.0質量%と、を含むことを特徴とする。また、金属粒子と有機成分とからなる金属粒子分散体(換言すれば金属コロイド粒子)を主成分とする固形分と、これら固形分を分散する分散媒とを含むものである。ただし、上記コロイド液において、「分散媒」は上記固形分の一部を溶解していても構わない。   Here, when the conductive ink for transfer printing is used as the conductive ink in the present embodiment, more specifically, the conductive ink for transfer printing is a metal particle, a solvent containing ethanol, and a high hydroxyl group-containing polymer. And 0.1 to 3.0% by mass of a boiling point solvent. Moreover, the solid content which has the metal particle dispersion (in other words, metal colloid particle) which consists of a metal particle and an organic component as a main component, and the dispersion medium which disperse | distributes these solid content are included. However, in the colloid liquid, the “dispersion medium” may dissolve a part of the solid content.

このような金属コロイド液によれば、有機成分を含んでいるため、金属コロイド液中での金属コロイド粒子の分散性を向上させることができ、したがって、金属コロイド液中の金属成分の含有量を増やしても金属コロイド粒子が凝集しにくく、良好な分散安定性を保つことができる。なお、ここでいう「分散性」とは、金属コロイド液を調製した直後において、当該金属コロイド液中での金属粒子の分散状態が優れているか否か(均一か否か)を示すものであり、「分散安定性」とは、金属コロイド液を調整して所定の時間を経過した後において、当該金属コロイド液中での金属粒子の分散状態が維持されているか否かを示すものであり、「低沈降凝集性」ともいえる。   According to such a metal colloid liquid, since it contains an organic component, the dispersibility of the metal colloid particles in the metal colloid liquid can be improved. Therefore, the content of the metal component in the metal colloid liquid can be reduced. Even if it is increased, the colloidal metal particles are less likely to aggregate and good dispersion stability can be maintained. The “dispersibility” as used herein indicates whether or not the dispersion state of the metal particles in the metal colloid liquid is excellent immediately after the metal colloid liquid is prepared (whether it is uniform or not). , "Dispersion stability" indicates whether or not the dispersion state of the metal particles in the metal colloid liquid is maintained after a predetermined time has elapsed after adjusting the metal colloid liquid, It can also be said to be “low sedimentation aggregation”.

ここで、上記の金属コロイド液において、金属コロイド粒子中の「有機成分」は、上記金属成分とともに実質的に金属コロイド粒子を構成する有機物のことである。当該有機成分には、金属中に最初から不純物として含まれる微量有機物、後述する製造過程で混入した微量の有機物が金属成分に付着した有機物、洗浄過程で除去しきれなかった残留還元剤、残留分散剤等のように、金属成分に微量付着した有機物等は含まれない。なお、上記「微量」とは、具体的には、金属コロイド粒子中1質量%未満が意図される。
本実施形態における金属コロイド粒子は、有機成分を含んでいるため、金属コロイド液中での分散安定性が高い。そのため、金属コロイド液中の金属成分の含有量を増大させても金属コロイド粒子が凝集しにくく、その結果、良好な分散性が保たれる。
Here, in the metal colloid liquid, the “organic component” in the metal colloid particle is an organic substance that substantially constitutes the metal colloid particle together with the metal component. The organic component includes trace organic substances contained in the metal as impurities from the beginning, organic substances adhering to the metal component from trace organic substances mixed in the manufacturing process described later, residual reducing agent that could not be removed in the cleaning process, residual dispersion It does not include organic substances that adhere to trace amounts of metal components such as agents. The “trace amount” is specifically intended to be less than 1% by mass in the metal colloid particles.
Since the metal colloid particles in this embodiment contain an organic component, the dispersion stability in the metal colloid liquid is high. Therefore, even if the content of the metal component in the metal colloid liquid is increased, the metal colloid particles are less likely to aggregate, and as a result, good dispersibility is maintained.

また、本実施形態における金属コロイド液の「固形分」とは、シリカゲル等を用いて金属コロイド液から分散媒を取り除いた後、例えば、30℃以下の常温(例えば25℃)で24時間乾燥させたときに残存する固形分のことをいい、通常は、金属粒子、残存有機成分及び残留還元剤等を含むものである。なお、シリカゲルを用いて金属コロイド液から分散媒を取り除く方法としては、種々の方法を採用することが可能であるが、例えばガラス基板上に金属コロイド液を塗布し、シリカゲルを入れた密閉容器に塗膜付ガラス基板を24時間以上放置することにより分散媒を取り除けばよい。   In addition, the “solid content” of the metal colloid liquid in the present embodiment means that after removing the dispersion medium from the metal colloid liquid using silica gel or the like, for example, it is dried at room temperature of 30 ° C. or lower (for example, 25 ° C.) for 24 hours. In general, the solid content that remains is usually contained metal particles, residual organic components, residual reducing agent, and the like. Various methods can be employed as a method of removing the dispersion medium from the metal colloid liquid using silica gel. For example, a metal colloid liquid is applied on a glass substrate and placed in a sealed container containing silica gel. What is necessary is just to remove a dispersion medium by leaving a glass substrate with a coating film for 24 hours or more.

本実施形態の金属コロイド液において、好ましい固形分の濃度は1〜60質量%である。固形分の濃度が1質量%以上であれば、転写印刷用導電性インクにおける金属の含有量を確保することができ、導電効率が低くならない。また、固形分の濃度が60質量%以下であれば、金属コロイド液の粘度が増加せず取り扱いが容易で、工業的に有利であり、平坦な薄膜を形成することができる。より好ましい固形分の濃度は5〜40質量%である。   In the metal colloid liquid of the present embodiment, a preferable solid content concentration is 1 to 60% by mass. When the solid content concentration is 1% by mass or more, the metal content in the conductive ink for transfer printing can be secured, and the conductive efficiency does not decrease. In addition, when the solid content concentration is 60% by mass or less, the viscosity of the metal colloid liquid does not increase, the handling is easy, it is industrially advantageous, and a flat thin film can be formed. A more preferable solid content concentration is 5 to 40% by mass.

転写印刷用導電性インクは、水酸基を有する高沸点溶剤を0.1〜3.0質量%含むことを特徴とする。水酸基を有する高沸点溶剤は、1,3−ブチレングリコール(沸点:203℃)、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール(沸点:150℃/5mmHg、1気圧では200℃以上)又はオクタンジオール(沸点:243℃)から選択されるのが好ましい。   The conductive ink for transfer printing contains 0.1 to 3.0% by mass of a high boiling point solvent having a hydroxyl group. The high boiling point solvent having a hydroxyl group is 1,3-butylene glycol (boiling point: 203 ° C.), 2,4-diethyl-1,5-pentanediol (boiling point: 150 ° C./5 mmHg, 200 ° C. or more at 1 atm) or octane. It is preferably selected from diols (boiling point: 243 ° C.).

「高沸点溶剤」とは、200℃以上の沸点を有する溶剤のことをいう。また、水酸基を有することによって水に対して適度な親和性を有し、空気中の水分を吸収乃至は吸着等して保湿する傾向があるため、少ない添加量で転写印刷法に好適なインクとすることができる。更に、高沸点溶剤の添加量を必要最小限とすることで、シリコーンブランケット上に塗布したインクを短時間に半乾燥させることができ、印刷タクトを短くすることができるという効果を奏する。   “High boiling point solvent” refers to a solvent having a boiling point of 200 ° C. or higher. In addition, since it has a suitable affinity for water by having a hydroxyl group and tends to absorb or absorb moisture in the air and moisturize it, an ink suitable for transfer printing with a small addition amount can be obtained. can do. Furthermore, by minimizing the amount of the high-boiling solvent added, the ink applied on the silicone blanket can be semi-dried in a short time, and the printing tact can be shortened.

水酸基を有する高沸点溶剤の添加量は、0.1〜3.0質量%である。0.1質量%未満であると、量が少なすぎて転写印刷法に好適なインク状になりにくく、3.0質量%を超えると、転写印刷法に好適な半乾燥状態に到達する時間が長くなり印刷タクトの面で不利となる。水酸基を有する高沸点溶剤の添加量は、0.3〜2.0質量%であるのが、より確実に、転写印刷法に好適なインク状になり易く、転写印刷法に好適な半乾燥状態に到達する時間を短くでき印刷タクトの面で有利となるという観点から、特に好ましい。   The addition amount of the high boiling point solvent having a hydroxyl group is 0.1 to 3.0% by mass. If the amount is less than 0.1% by mass, the amount is too small to easily form an ink suitable for the transfer printing method. If the amount exceeds 3.0% by mass, the time to reach a semi-dry state suitable for the transfer printing method is reached. It becomes longer and disadvantageous in terms of printing tact. The amount of the high-boiling solvent having a hydroxyl group added is 0.3 to 2.0% by mass, but it is more sure that the ink is suitable for the transfer printing method, and it is a semi-dry state suitable for the transfer printing method. This is particularly preferable from the viewpoint of shortening the time required to reach the position and being advantageous in terms of printing tact.

また、転写印刷用導電性インクにおいては、インクの乾燥性を高めるためにエタノール等の高揮発性溶剤を添加する。当該溶剤を添加することにより、転写印刷用導電性インクを素早く印刷に適した粘度に調整することができる。高揮発性溶剤としては、エタノールの他、メタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、アセトン、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール等の沸点100℃未満の溶剤の群から選ばれる1又は2以上の低沸点溶剤を用いることができる。   In addition, in the conductive ink for transfer printing, a highly volatile solvent such as ethanol is added to improve the drying property of the ink. By adding the solvent, the transfer printing conductive ink can be quickly adjusted to a viscosity suitable for printing. As the highly volatile solvent, in addition to ethanol, one or two or more selected from the group of solvents having a boiling point of less than 100 ° C. such as methanol, propyl alcohol, isopropyl alcohol, acetone, n-butanol, sec-butanol, tert-butanol and the like Low boiling solvents can be used.

更に、転写印刷用導電性インクにおいては、ハイドロフルオロエーテル等のフッ素溶剤を含んでいることが好ましい。フッ素溶剤は、表面張力が低いためにシリコーンブランケットに対し良好な濡れ性を発揮させることができ、沸点が比較的低いために良好な乾燥性を付与することができる。なかでも、オゾン破壊係数の観点から、ハロゲン原子を含むフッ素溶剤よりもハイドロフルオロエーテルのほうが好ましい。   Further, the conductive ink for transfer printing preferably contains a fluorine solvent such as hydrofluoroether. Since the fluorine solvent has a low surface tension, it can exhibit good wettability with respect to the silicone blanket, and since the boiling point is relatively low, it can provide good drying properties. Of these, hydrofluoroethers are more preferable than fluorine solvents containing halogen atoms from the viewpoint of the ozone depletion coefficient.

また、ハイドロフルオロエーテルは、ハイドロフルオロカーボン類よりもエーテル結合を有しているために極性が高く、シリコーンブランケットをほとんど膨潤させないという利点を有しており、エタノール等のアルコールとの相溶性が良く、アルコールに分散した金属粒子との相溶性にも優れるという効果を奏するため、より好ましい。   In addition, hydrofluoroether has an ether bond than hydrofluorocarbons, so it has a high polarity and has the advantage of hardly causing the silicone blanket to swell, and has good compatibility with alcohols such as ethanol, This is more preferable because it has an effect of being excellent in compatibility with metal particles dispersed in alcohol.

転写印刷用導電性インクにおいては、シリコーンブランケットに対する濡れ性を向上させる目的で、フッ素原子を有するフッ素系界面活性剤を添加してもよい。ただし、この場合、添加量が多過ぎると転写印刷用導電性インクを用いて作製した導電性被膜の導電性が低下し、添加量が少な過ぎると濡れ性改善の効果が不十分であるため、0.01〜2質量%であるのが好適である。   In the conductive ink for transfer printing, a fluorine-based surfactant having a fluorine atom may be added for the purpose of improving the wettability with respect to the silicone blanket. However, in this case, if the addition amount is too large, the conductivity of the conductive film produced using the conductive ink for transfer printing is lowered, and if the addition amount is too small, the effect of improving the wettability is insufficient. It is suitable that it is 0.01-2 mass%.

転写印刷用導電性インクにおいては、表面張力が22mN/m以下である。表面張力を22mN/m以下と十分に下げることで、シリコーン樹脂等のブランケットへの転写印刷用導電性インクの濡れ性を十分に担保することができる。表面張力を22mN/m以下にすることは、上記の本発明の転写印刷用導電性インクの成分比を調整することによって実現できる。表面張力の下限は13mN/m程度であればよい。なお、本発明においていう表面張力とは、プレート法(Wilhelmy法)という原理で測定して得られるものであり、例えば、協和界面科学(株)製の全自動表面張力計CBVP−Z等により測定することができる。   In the conductive ink for transfer printing, the surface tension is 22 mN / m or less. By sufficiently lowering the surface tension to 22 mN / m or less, the wettability of the conductive ink for transfer printing onto a blanket such as a silicone resin can be sufficiently ensured. The surface tension of 22 mN / m or less can be realized by adjusting the component ratio of the conductive ink for transfer printing according to the present invention. The lower limit of the surface tension may be about 13 mN / m. The surface tension referred to in the present invention is obtained by measurement based on the principle of the plate method (Wilhelmy method), and is measured by, for example, a fully automatic surface tension meter CBVP-Z manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. can do.

次に、本実施形態の銀微粒子及び銀微粒子分散体の製造方法は、銀微粒子を生成する工程と、前記銀微粒子に、前記銀微粒子を分散させるための酸価を有する分散剤を添加・混合する工程と、を有するものであるが、更に、還元により分解して金属銀を生成しうる銀化合物と、分配係数logPが−1.0〜1.4である短鎖アミンと、の混合液を調整する第1前工程と、当該混合液中の前記銀化合物を還元することで表面の少なくとも一部に炭素数が5以下である短鎖アミンが付着した銀微粒子を生成する第2前工程と、を含んでいる。   Next, the method for producing silver fine particles and the silver fine particle dispersion according to the present embodiment includes a step of producing silver fine particles, and a dispersant having an acid value for dispersing the silver fine particles is added to and mixed with the silver fine particles. A mixed solution of a silver compound that can be decomposed by reduction to form metallic silver and a short-chain amine having a partition coefficient log P of -1.0 to 1.4. And a second pre-process for generating silver fine particles in which a short-chain amine having 5 or less carbon atoms is attached to at least a part of the surface by reducing the silver compound in the mixed solution. And.

上記第1前工程においては、短鎖アミンを金属銀1molに対して2mol以上添加すること、が好ましい。短鎖アミンの添加量を金属銀1molに対して2mol以上とすることで、還元によって生成される銀微粒子の表面に短鎖アミンを適量付着させることができ、当該銀微粒子に種々の溶媒(特に高極性溶媒)に対する優れた分散性と低温焼結性とを付与することができる。   In the first pre-process, it is preferable to add 2 mol or more of short chain amine to 1 mol of metallic silver. By setting the addition amount of the short chain amine to 2 mol or more with respect to 1 mol of metallic silver, an appropriate amount of the short chain amine can be attached to the surface of the silver fine particles produced by the reduction, and various solvents (particularly, Excellent dispersibility and low-temperature sinterability with respect to a highly polar solvent) can be imparted.

なお、上記第1前工程における混合液の組成及び上記第2前工程における還元条件(例えば、加熱温度及び加熱時間等)によって、得られる銀微粒子の粒径を融点降下が生じるようなナノメートルサイズとすることが好ましく、1〜200nmとすることがより好ましい。ここで、必要に応じてミクロンメートルサイズの粒子が含まれていてもよい。   It should be noted that the particle size of the silver fine particles obtained is a nanometer size that causes a melting point drop depending on the composition of the liquid mixture in the first pre-process and the reduction conditions (for example, heating temperature, heating time, etc.) in the second pre-process. Preferably, the thickness is 1 to 200 nm. Here, particles of micrometer size may be included as necessary.

上記第2前工程で得られる銀微粒子分散体から銀微粒子を取り出す方法は特に限定されないが、例えば、その銀微粒子分散体の洗浄を行う方法等が挙げられる。   The method for taking out the silver fine particles from the silver fine particle dispersion obtained in the second pre-process is not particularly limited, and examples thereof include a method for washing the silver fine particle dispersion.

有機物(分配係数logPが−1.0〜1.4である短鎖アミン)で被覆された銀微粒子を得るための出発材料としては、種々の公知の銀化合物(金属塩又はその水和物)を用いることができ、例えば、硝酸銀、硫酸銀、塩化銀、酸化銀、酢酸銀、シュウ酸銀、ギ酸銀、亜硝酸銀、塩素酸銀、硫化銀等の銀塩が挙げられる。これらは還元可能なものであれば特に限定されず、適当な溶媒中に溶解させても、溶媒中に分散させたまま使用してもよい。また、これらは単独で用いても複数併用してもよい。   Various known silver compounds (metal salts or hydrates thereof) are used as starting materials for obtaining silver fine particles coated with an organic substance (short chain amine having a partition coefficient log P of −1.0 to 1.4). Examples of the silver salt include silver salts such as silver nitrate, silver sulfate, silver chloride, silver oxide, silver acetate, silver oxalate, silver formate, silver nitrite, silver chlorate, and silver sulfide. These are not particularly limited as long as they can be reduced, and may be dissolved in an appropriate solvent or may be used as dispersed in a solvent. These may be used alone or in combination.

また、上記原料液においてこれらの銀化合物を還元する方法は特に限定されず、例えば、還元剤を用いる方法、紫外線等の光、電子線、超音波又は熱エネルギーを照射する方法、加熱する方法等が挙げられる。なかでも、操作の容易の観点から、還元剤を用いる方法が好ましい。   In addition, the method for reducing these silver compounds in the raw material liquid is not particularly limited. For example, a method using a reducing agent, a method of irradiating light such as ultraviolet rays, an electron beam, ultrasonic waves or thermal energy, a method of heating, etc. Is mentioned. Among these, a method using a reducing agent is preferable from the viewpoint of easy operation.

上記還元剤としては、例えば、ジメチルアミノエタノール、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、フェニドン、ヒドラジン等のアミン化合物;例えば、水素化ホウ素ナトリウム、ヨウ素化水素、水素ガス等の水素化合物;例えば、一酸化炭素、亜硫酸等の酸化物;例えば、硫酸第一鉄、酸化鉄、フマル酸鉄、乳酸鉄、シュウ酸鉄、硫化鉄、酢酸スズ、塩化スズ、二リン酸スズ、シュウ酸スズ、酸化スズ、硫酸スズ等の低原子価金属塩;例えば、エチレングリコール、グリセリン、ホルムアルデヒド、ハイドロキノン、ピロガロール、タンニン、タンニン酸、サリチル酸、D−グルコース等の糖等が挙げられるが、分散媒に溶解し上記金属塩を還元し得るものであれば特に限定されない。上記還元剤を使用する場合は、光及び/又は熱を加えて還元反応を促進させてもよい。   Examples of the reducing agent include amine compounds such as dimethylaminoethanol, methyldiethanolamine, triethanolamine, phenidone, and hydrazine; for example, hydrogen compounds such as sodium borohydride, hydrogen iodide, and hydrogen gas; for example, carbon monoxide. Oxides such as sulfurous acid; for example, ferrous sulfate, iron oxide, iron fumarate, iron lactate, iron oxalate, iron sulfide, tin acetate, tin chloride, tin diphosphate, tin oxalate, tin oxide, sulfuric acid Low valent metal salts such as tin; for example, sugars such as ethylene glycol, glycerin, formaldehyde, hydroquinone, pyrogallol, tannin, tannic acid, salicylic acid, D-glucose, etc. There is no particular limitation as long as it can be reduced. When the reducing agent is used, light and / or heat may be added to promote the reduction reaction.

上記金属塩、有機成分、溶媒及び還元剤を用いて、有機物で被覆された銀微粒子を調製する具体的な方法としては、例えば、上記金属塩を有機溶媒(例えばトルエン等)に溶かして金属塩溶液を調製し、当該金属塩溶液に分散剤としての短鎖アミンや酸価をもつ保護分散剤を添加し、ついで、ここに還元剤が溶解した溶液を徐々に滴下する方法等が挙げられる。   As a specific method for preparing silver fine particles coated with an organic substance using the above metal salt, organic component, solvent and reducing agent, for example, the above metal salt is dissolved in an organic solvent (for example, toluene) to form a metal salt. Examples of the method include preparing a solution, adding a short-chain amine as a dispersant or a protective dispersant having an acid value to the metal salt solution, and then gradually dropping a solution in which the reducing agent is dissolved.

上記のようにして得られた短鎖アミンや酸価をもつ保護分散剤で被覆された銀微粒子を含む分散液には、銀微粒子の他に、金属塩の対イオン、還元剤の残留物や分散剤が存在しており、液全体の電解質濃度や有機物濃度が高い傾向にある。このような状態の液は、電導度が高い等の理由で銀微粒子の凝析が起こり、沈殿し易い。あるいは、沈殿しなくても、金属塩の対イオン、還元剤の残留物、又は分散に必要な量以上の過剰な分散剤が残留していると、導電性を悪化させるおそれがある。そこで、上記銀微粒子を含む溶液を洗浄して余分な残留物を取り除くことにより、有機物で被覆された銀微粒子を確実に得ることができる。   In the dispersion containing silver fine particles coated with the short-chain amine and the protective dispersant having an acid value obtained as described above, in addition to the silver fine particles, a metal ion counter ion, a reducing agent residue, There is a dispersant, and the concentration of the electrolyte and the organic matter in the whole liquid tend to be high. In the liquid in such a state, the silver fine particles are agglomerated due to high electrical conductivity, etc., and are easily precipitated. Alternatively, even if precipitation does not occur, the conductivity of the metal salt may deteriorate if the counter ion of the metal salt, the residue of the reducing agent, or an excessive amount of dispersant remaining in the amount necessary for dispersion remains. Therefore, by washing the solution containing silver fine particles to remove excess residues, silver fine particles coated with an organic substance can be obtained with certainty.

上記洗浄方法としては、例えば、有機成分で被覆された銀微粒子を含む分散液を一定時間静置し、生じた上澄み液を取り除いた上で、銀微粒子を沈殿させる溶媒(例えば、水、メタノール、メタノール/水混合溶媒等)を加えて再度撹枠し、更に一定期間静置して生じた上澄み液を取り除く工程を幾度か繰り返す方法、上記の静置の代わりに遠心分離を行う方法、限外濾過装置やイオン交換装置等により脱塩する方法等が挙げられる。このような洗浄によって余分な残留物を取り除くと共に有機溶媒を除去することにより、本実施形態の「短鎖アミンや酸価をもつ分散剤」で被覆された銀微粒子を得ることができる。   As the washing method, for example, a dispersion containing silver fine particles coated with an organic component is allowed to stand for a certain period of time, and after removing the resulting supernatant, a solvent for precipitating silver fine particles (for example, water, methanol, Methanol / water mixed solvent, etc.) is added and stirred again, and the method of removing the supernatant liquid after standing for a certain period of time is repeated several times, the method of performing centrifugation instead of the above standing, Examples thereof include a desalting method using a filtration device, an ion exchange device, and the like. By removing excess residue and removing the organic solvent by such washing, silver fine particles coated with the “short-chain amine or the dispersant having an acid value” of the present embodiment can be obtained.

本実施形態のうち、金属コロイド分散液は、上記において得た短鎖アミンや酸価をもつ保護分散剤で被覆された銀微粒子と、上記本実施形態で説明した分散媒と、を混合することにより得られる。かかる「短鎖アミンや酸価をもつ保護分散剤」で被覆された銀微粒子と分散媒との混合方法は特に限定されるものではなく、攪拌機やスターラー等を用いて従来公知の方法によって行うことができる。スパチュラのようなもので撹拌したりして、適当な出力の超音波ホモジナイザーを当ててもよい。   Among the present embodiments, the metal colloid dispersion liquid is a mixture of the silver fine particles coated with the short-chain amine obtained in the above or the protective dispersant having an acid value and the dispersion medium described in the present embodiment. Is obtained. The method of mixing the silver fine particles coated with the “short-chain amine or the protective dispersant having an acid value” and the dispersion medium is not particularly limited, and is performed by a conventionally known method using a stirrer or a stirrer. Can do. An ultrasonic homogenizer with an appropriate output may be applied by stirring with a spatula or the like.

複数の金属を含む金属コロイド分散液を得る場合、その製造方法としては特に限定されず、例えば、銀とその他の金属とからなる金属コロイド分散液を製造する場合には、上記の有機物で被覆された銀微粒子の調製において、銀微粒子を含む分散液と、その他の金属粒子を含む分散液とを別々に製造し、その後混合してもよく、銀イオン溶液とその他の金属イオン溶液とを混合し、その後に還元してもよい。   When obtaining a metal colloid dispersion liquid containing a plurality of metals, the production method is not particularly limited. For example, when producing a metal colloid dispersion liquid composed of silver and other metals, the metal colloid dispersion liquid is coated with the above organic substance. In the preparation of silver fine particles, a dispersion containing silver fine particles and a dispersion containing other metal particles may be produced separately and then mixed, or a silver ion solution and other metal ion solution may be mixed. Thereafter, reduction may be performed.

還元により分解して金属銀を生成しうる銀化合物と、分配係数logPが−1.0〜1.4である短鎖アミンと、の混合液を調整する第1工程と、当該混合液中の前記銀化合物を還元することで表面の少なくとも一部に炭素数が5以下である短鎖アミンが付着した銀微粒子を生成する第2工程により、銀微粒子を製造してもよい。   A first step of adjusting a mixed solution of a silver compound that can be decomposed by reduction to form metallic silver and a short-chain amine having a partition coefficient log P of -1.0 to 1.4; Silver fine particles may be produced by the second step of producing silver fine particles in which a short-chain amine having 5 or less carbon atoms is attached to at least a part of the surface by reducing the silver compound.

例えば、銀を含むシュウ酸銀等の金属化合物と短鎖アミンから生成される錯化合物を加熱して、当該錯化合物に含まれるシュウ酸イオン等の金属化合物を分解して生成する原子状の銀を凝集させることにより、短鎖アミンの保護膜に保護された銀微粒子を製造することができる。   For example, atomic silver produced by heating a complex compound generated from a metal compound such as silver oxalate containing silver and a short-chain amine and decomposing the metal compound such as oxalate ion contained in the complex compound By agglomerating, silver fine particles protected by a short-chain amine protective film can be produced.

このように、金属化合物の錯化合物をアミンの存在下で熱分解することで、アミンにより被覆された銀微粒子を製造する金属アミン錯体分解法においては、単一種の分子である金属アミン錯体の分解反応により原子状金属が生成するため、反応系内に均一に原子状金属を生成することが可能であり、複数の成分間の反応により金属原子を生成する場合に比較して、反応を構成する成分の組成揺らぎに起因する反応の不均一が抑制され、特に工業的規模で多量の銀微粒子を製造する際に有利である。   Thus, in the metal amine complex decomposition method for producing silver fine particles coated with amine by thermally decomposing a complex compound of a metal compound in the presence of amine, decomposition of the metal amine complex which is a single kind of molecule is performed. Since the atomic metal is generated by the reaction, it is possible to generate the atomic metal uniformly in the reaction system, and the reaction is configured as compared with the case where the metal atom is generated by the reaction between multiple components. Inhomogeneity of the reaction due to fluctuations in the composition of the components is suppressed, which is particularly advantageous when producing a large amount of silver fine particles on an industrial scale.

また、金属アミン錯体分解法においては、生成する金属原子に短鎖アミン分子が配位結合しており、当該金属原子に配位した短鎖アミン分子の働きにより凝集を生じる際の金属原子の運動がコントロールされるものと推察される。この結果として、金属アミン錯体分解法によれば非常に微細で、粒度分布が狭い銀微粒子を製造することが可能となる。   In the metal amine complex decomposition method, a short chain amine molecule is coordinated to the metal atom to be generated, and the movement of the metal atom when aggregation occurs due to the action of the short chain amine molecule coordinated to the metal atom. Is assumed to be controlled. As a result, it is possible to produce silver fine particles that are very fine and have a narrow particle size distribution according to the metal amine complex decomposition method.

更に、製造される銀微粒子の表面にも多数の短鎖アミン分子が比較的弱い力の配位結合を生じており、これらが銀微粒子の表面に緻密な保護被膜を形成するため、保存安定性に優れる表面の清浄な被覆銀微粒子を製造することが可能となる。また、当該被膜を形成する短鎖アミン分子は加熱等により容易に脱離可能であるため、非常に低温で焼結可能な銀微粒子を製造することが可能となる。   In addition, many short-chain amine molecules have a relatively weak coordination bond on the surface of the silver fine particles to be produced, and these form a dense protective film on the surface of the silver fine particles. It is possible to produce coated silver fine particles having an excellent surface and excellent surface. In addition, since the short-chain amine molecules forming the film can be easily detached by heating or the like, it is possible to produce silver fine particles that can be sintered at a very low temperature.

また、固体状の金属化合物とアミンを混合して錯化合物等の複合化合物が生成する際に、被覆銀微粒子の被膜を構成する酸価をもつ分散剤に対して、炭素数が5以下である短鎖アミンを混合して用いることにより、錯化合物等の複合化合物の生成が容易になり、短時間の混合で複合化合物を製造可能となる。また、当該短鎖アミンを混合して用いることにより、各種の用途に応じた特性を有する被覆銀微粒子の製造が可能である。   In addition, when a solid metal compound and an amine are mixed to produce a complex compound such as a complex compound, the number of carbon atoms is 5 or less with respect to the dispersant having an acid value constituting the coating of the coated silver fine particles. By mixing and using a short-chain amine, it becomes easy to produce a complex compound such as a complex compound, and the complex compound can be produced by mixing in a short time. Further, by mixing and using the short chain amine, it is possible to produce coated silver fine particles having characteristics according to various uses.

以上のような本実施形態の分散体は、そのままの状態で使用することができるが、導電インク、導電性ペーストの分散安定性及び低温焼結性を損なわない範囲で種々の無機成分や有機成分を添加することができる。   The dispersion of this embodiment as described above can be used as it is, but various inorganic components and organic components can be used as long as the dispersion stability and low-temperature sinterability of the conductive ink and conductive paste are not impaired. Can be added.

(2)第二工程(焼成による被膜の形成)
ついで、上記の第一工程で経た前記焼成前被膜を焼成する。この焼成は従来公知の方法及び条件で実施すればよい。
(2) Second step (formation of film by firing)
Next, the pre-firing film that has passed through the first step is fired. This firing may be performed by a conventionally known method and conditions.

例えば従来公知のギアオーブン等を用いて、上記の第一工程及び第二工程を経た焼成前被膜をその温度が300℃以下(好ましくは180℃未満)となるように焼成することによって導電性被膜(導電膜パターン)を形成することができる。   For example, by using a conventionally known gear oven or the like, the conductive film is formed by baking the pre-fired film that has undergone the first and second steps so that the temperature is 300 ° C. or lower (preferably less than 180 ° C.). (Conductive film pattern) can be formed.

上記焼成の温度の下限は必ずしも限定されず、基材上に導電膜パターンを形成できる温度であって、かつ、本発明の効果を損なわない範囲で上記有機成分等を蒸発又は分解により除去できる温度であることが好ましい(本発明の効果を損なわない範囲で一部が残存していてもよいが、望ましくは全て除去されるのが好ましい。)。   The lower limit of the firing temperature is not necessarily limited, and is a temperature at which a conductive film pattern can be formed on a substrate, and a temperature at which the organic components and the like can be removed by evaporation or decomposition within a range not impairing the effects of the present invention. (A part may remain within a range that does not impair the effects of the present invention, but it is desirable that all be removed desirably).

本実施形態の導電性インクによれば、100℃程度の低温加熱処理でも高い導電性を発現する導電膜パターンを形成することができるため、比較的熱に弱い基材上にも導電膜パターンを形成することができる。また、焼成時間は特に限定されるものではなく、焼成温度に応じて、基材上に導電膜パターンを形成できる。   According to the conductive ink of the present embodiment, a conductive film pattern exhibiting high conductivity can be formed even by a low-temperature heat treatment at about 100 ° C. Therefore, the conductive film pattern can be formed on a relatively heat-sensitive substrate. Can be formed. Moreover, baking time is not specifically limited, A conductive film pattern can be formed on a base material according to baking temperature.

(3)第三工程(付着層の形成)
本実施形態においては、上記第一工程において銀ナノ粒子で形成された上記被膜を、上記第二工程で焼成した後、酸性溶液中に金属が溶解した液に接触させることによって、被膜の一部に金属、金属酸化物又は金属塩化物のいずれかを付着させて付着層を形成する。
(3) Third step (formation of adhesion layer)
In the present embodiment, after the film formed of silver nanoparticles in the first step is baked in the second step, a part of the film is brought into contact with a solution in which a metal is dissolved in an acidic solution. Either a metal, a metal oxide or a metal chloride is attached to the substrate to form an adhesion layer.

この付着層は、面全体で連続しているのが好ましいが、一部が欠けている不連続なアイランド状であってもよい。また、連続する部分と不連続な部分との両方を有していてもよい。   The adhesion layer is preferably continuous over the entire surface, but may be a discontinuous island shape with a part missing. Moreover, you may have both a continuous part and a discontinuous part.

本実施形態において、上記金属はパラジウム又はテルルであり、パラジウムの場合には上記液にはパラジウムが0.01〜10g/Lの濃度で含まれているのが好ましく、パラジウムを均一に溶解させるために硝酸又は硫酸とキレートとが含まれている酸性溶液を用いるのが好ましい。また、テルルの場合には、上記液にはテルルが0.01〜10g/Lの濃度で含まれているのが好ましく、テルルを均一に溶解させるために硝酸又は硫酸とが含まれている酸性溶液を用いるのが好ましい。   In the present embodiment, the metal is palladium or tellurium, and in the case of palladium, the liquid preferably contains palladium at a concentration of 0.01 to 10 g / L, so that the palladium is uniformly dissolved. It is preferable to use an acidic solution containing nitric acid or sulfuric acid and a chelate. In the case of tellurium, the liquid preferably contains tellurium in a concentration of 0.01 to 10 g / L, and contains nitric acid or sulfuric acid in order to dissolve tellurium uniformly. It is preferable to use a solution.

このような酸性溶液としては、パラジウムの場合には、例えば市販品である奥野製薬工業(株)製の「OPCブラックカッパー」等を好適に利用することができる。   As such an acidic solution, in the case of palladium, for example, “OPC black copper” manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd., which is a commercially available product, can be suitably used.

ここで、パラジウムの場合、濃度が低すぎると導電被膜の上に金属(パラジウム)の付着が効率的に行われず、濃度が高すぎると一気にパラジウムが付着することになり、導電被膜の抵抗値を大幅に増大させる。より好ましくは、0.1〜1g/Lである。   Here, in the case of palladium, if the concentration is too low, the metal (palladium) is not efficiently deposited on the conductive film, and if the concentration is too high, the palladium is deposited at once, and the resistance value of the conductive film is reduced. Increase significantly. More preferably, it is 0.1-1 g / L.

また、テルルの場合は、濃度が低すぎると導電被膜の上にテルル化合物(酸化物や塩化物)の付着が効率的に行われず、濃度が高すぎると一気に付着することになり、導電被膜の抵抗値を大幅に増大させる。より好ましくは、0.5〜5g/Lである。   In the case of tellurium, if the concentration is too low, the tellurium compound (oxide or chloride) does not adhere efficiently on the conductive film, and if the concentration is too high, the tellurium adheres at once. The resistance value is greatly increased. More preferably, it is 0.5-5 g / L.

上記の被膜をパラジウム又はテルルを含む酸性溶液に接触させる際、パラジウム又はテルルの濃度を制御する以外に、塩酸濃度、硫酸濃度を制御したり、さらには温度や時間を制御したりすることによっても、任意に付着量(即ち、付着層の厚さ)を制御することができる。   When contacting the above film with an acidic solution containing palladium or tellurium, in addition to controlling the concentration of palladium or tellurium, the concentration of hydrochloric acid and sulfuric acid can be controlled, and the temperature and time can also be controlled. The amount of adhesion (that is, the thickness of the adhesion layer) can be controlled arbitrarily.

ただし、温度を高くし過ぎると一気に反応が進んでしまうし、時間を長くとってゆっくりと付着させると制御し易いが、時間がかかりすぎるという問題点がある。生産面から好ましくは、室温、接触時間10〜60秒間程度で好ましい付着量が得られるように液を調整することが望ましい。   However, if the temperature is too high, the reaction proceeds at a stretch, and if it takes a long time and is deposited slowly, it is easy to control, but there is a problem that it takes too much time. From the viewpoint of production, it is preferable to adjust the liquid so that a preferable adhesion amount is obtained at room temperature and a contact time of about 10 to 60 seconds.

このように第三工程による付着層の形成によって被膜を黒化処理することによって、抵抗値の増大を抑えつつ、視認性が向上した導電性被膜を得ることができる。視認性の変化の度合いは、例えば、反射率計による反射率や色差計による色座標より見積もることができ、黒化処理を施さない場合に比べて、反射率の低下や色座標の例えばL(明るさ)の低下が認められる。また、黒化処理をより均一に行うために、黒化処理前に市販の脱脂剤を用いて被膜に付着している脂分を除去することが好ましい。市販の脱脂剤として、例えば奥野製薬工業(株)製の「DPクリーン320」を例示することができる。 Thus, by conducting the blackening treatment of the coating by forming the adhesion layer in the third step, it is possible to obtain a conductive coating with improved visibility while suppressing an increase in resistance value. The degree of change in visibility can be estimated from, for example, reflectivity by a reflectometer or color coordinates by a color difference meter. Compared to the case where blackening processing is not performed, the decrease in reflectivity and color coordinates, for example, L * A decrease in (brightness) is observed. Moreover, in order to perform a blackening process more uniformly, it is preferable to remove the fat adhering to the film using a commercially available degreasing agent before the blackening process. As a commercially available degreasing agent, for example, “DP Clean 320” manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd. can be exemplified.

以上、本発明の代表的な実施形態について説明したが、特に記載していない内容については従来公知の技術を援用すればよく、また、種々の設計変更が可能であり、それらは全て本発明の技術的範囲に含まれる。   The exemplary embodiments of the present invention have been described above. However, conventionally known techniques may be used for the contents that are not particularly described, and various design changes are possible. Included in the technical scope.

なお、導電性インクを印刷又は塗布するのに用いることのできる基材としては、導電性インクを印刷又は塗布して加熱により焼成して導電膜パターンを搭載することのできる、少なくとも1つの主面を有するものであれば、特に制限はないが、耐熱性に優れた基材であるのが好ましい。また、先に述べたように、本実施形態の導電性インクは、従来の導電性インクに比較して低い温度で加熱して焼成しても十分な導電性を有する導電膜パターンを得ることができるため、この低い焼成温度よりも高い温度範囲で、従来よりも耐熱温度の低い基材を用いることが可能である。   In addition, as a base material that can be used to print or apply the conductive ink, at least one main surface on which the conductive ink can be printed or applied and baked by heating to be mounted with a conductive film pattern If it has, there will be no restriction | limiting in particular, However, It is preferable that it is a base material excellent in heat resistance. In addition, as described above, the conductive ink of this embodiment can obtain a conductive film pattern having sufficient conductivity even when heated and baked at a lower temperature than the conventional conductive ink. Therefore, it is possible to use a base material having a lower heat-resistant temperature than the conventional one in a temperature range higher than this low firing temperature.

このような基材を構成する材料としては、例えば、ポリアミド(PA)、ポリイミド(PI)、ポリアミドイミド(PAI)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル、ポリカーボネート(PC)、ポリエーテルスルホン(PES)、ビニル樹脂、フッ素樹脂、液晶ポリマー、セラミックス、ガラス又は金属等を挙げることができる。また、基材は、例えば板状又はストリップ状等の種々の形状であってよく、リジッドでもフレキシブルでもよい。基材の厚さも適宜選択することができる。接着性若しくは密着性の向上又はその他の目的ために、表面層が形成された基材や親水化処理等の表面処理を施した基材を用いてもよい。   Examples of the material constituting such a base material include polyamide (PA), polyimide (PI), polyamideimide (PAI), polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene naphthalate (PEN), and the like. Polyester, polycarbonate (PC), polyethersulfone (PES), vinyl resin, fluororesin, liquid crystal polymer, ceramics, glass or metal can be used. Further, the substrate may have various shapes such as a plate shape or a strip shape, and may be rigid or flexible. The thickness of the substrate can also be selected as appropriate. In order to improve adhesiveness or adhesion, or for other purposes, a substrate on which a surface layer is formed or a substrate that has been subjected to a surface treatment such as a hydrophilic treatment may be used.

本実施形態においては、上記基材と導電膜パターンとの密着性を更に高めるため、上記基材の表面処理を行ってもよい。上記表面処理方法としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、UV処理、電子線処理等のドライ処理を行う方法、基材上にあらかじめプライマー層や導電性インク受容層を設ける方法等が挙げられる。   In this embodiment, in order to further improve the adhesion between the substrate and the conductive film pattern, the substrate may be subjected to a surface treatment. Examples of the surface treatment method include a method of performing a dry treatment such as a corona treatment, a plasma treatment, a UV treatment, and an electron beam treatment, and a method of previously providing a primer layer and a conductive ink receiving layer on a substrate.

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明の導電性被膜の製造方法について更に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。   Hereinafter, although the Example and a comparative example are given and the manufacturing method of the electroconductive film of this invention is further demonstrated, this invention is not limited to these Examples at all.

≪調製例1≫
3−メトキシプロピルアミン(和光純薬工業(株)製試薬一級、炭素数:4、logP:−0.5)8.9gと、高分子分散剤であるDISPERBYK−111を0.3gと、を混合し、マグネティックスターラにてよく撹拌してアミン混合液を生成した(添加したアミンのモル比は銀に対して10)。次いで、撹拌を行いながら、シュウ酸銀3.0gを添加した。シュウ酸銀の添加後、室温で攪拌を続けることでシュウ酸銀を粘性のある白色の物質へと変化させ、当該変化が外見的に終了したと認められる時点で撹拌を終了した。
得られた混合液をオイルバスに移し、120℃で加熱撹拌を行った。撹拌の開始直後に二酸化炭素の発生を伴う反応が開始し、その後、二酸化炭素の発生が完了するまで撹拌を行うことで、銀微粒子がアミン混合物中に懸濁した懸濁液を得た。
次に、当該懸濁液の分散媒を置換するため、メタノール/水の混合溶媒10mLを加えて撹拌した後、遠心分離により銀微粒子を沈殿させて分離し、分離した銀微粒子に対して再度メタノール/水の混合溶媒10mLを加え、撹拌、遠心分離を行うことで銀微粒子を沈殿させて分離し、分散溶媒としてエタノール/イソブタノール/IPA(40/40/30 v/v)混合溶媒2.1gを加えることで固形分濃度48質量%の銀微粒子分散体Aを得た。
<< Preparation Example 1 >>
8.9 g of 3-methoxypropylamine (Wako Pure Chemical Industries, Ltd., first grade reagent, carbon number: 4, log P: -0.5), 0.3 g of DISPERBYK-111 which is a polymer dispersant, The mixture was mixed and stirred well with a magnetic stirrer to form an amine mixture (molar ratio of added amine was 10 with respect to silver). Next, 3.0 g of silver oxalate was added while stirring. After the addition of silver oxalate, stirring was continued at room temperature to change the silver oxalate to a viscous white substance, and stirring was terminated when the change was found to be apparently finished.
The obtained mixed solution was transferred to an oil bath and heated and stirred at 120 ° C. Immediately after the start of stirring, a reaction involving the generation of carbon dioxide started, and then stirring was performed until the generation of carbon dioxide was completed, thereby obtaining a suspension in which silver fine particles were suspended in the amine mixture.
Next, in order to replace the dispersion medium of the suspension, 10 mL of a mixed solvent of methanol / water is added and stirred, and then silver fine particles are precipitated and separated by centrifugation, and methanol is again added to the separated silver fine particles. 10 mL of a mixed solvent of water / water is added, and silver fine particles are precipitated and separated by stirring and centrifuging, and 2.1 g of an ethanol / isobutanol / IPA (40/40/30 v / v) mixed solvent is used as a dispersion solvent. Was added to obtain a silver fine particle dispersion A having a solid content of 48% by mass.

≪調製例2≫
3−メトキシプロピルアミン(和光純薬工業(株)製試薬一級、炭素数:4、logP:−0.5)8.9gと、高分子分散剤であるDISPERBYK−102を0.3gと、を混合し、マグネティックスターラにてよく撹拌してアミン混合液を生成した(添加したアミンのモル比は銀に対して5)。次いで、撹拌を行いながら、シュウ酸銀3.0gを添加した。シュウ酸銀の添加後、室温で攪拌を続けることでシュウ酸銀を粘性のある白色の物質へと変化させ、当該変化が外見的に終了したと認められる時点で撹拌を終了した。
得られた混合液をオイルバスに移し、120℃で加熱撹拌を行った。撹拌の開始直後に二酸化炭素の発生を伴う反応が開始し、その後、二酸化炭素の発生が完了するまで撹拌を行うことで、銀微粒子がアミン混合物中に懸濁した懸濁液を得た。
次に、当該懸濁液の分散媒を置換するため、メタノール/水の混合溶媒10mLを加えて撹拌した後、遠心分離により銀微粒子を沈殿させて分離し、分離した銀微粒子に対して再度メタノール/水の混合溶媒10mLを加え、撹拌、遠心分離を行うことで銀微粒子を沈殿させて分離し、SOLSPERSE41000(日本ルーブリゾール(株)製)0.06gを含むエタノール2.1gを加えることで固形分濃度48質量%の銀微粒子分散体Bを得た。
<< Preparation Example 2 >>
8.9 g of 3-methoxypropylamine (Wako Pure Chemical Industries, Ltd., first grade reagent, carbon number: 4, log P: -0.5) and 0.3 g of DISPERBYK-102, which is a polymer dispersant, The mixture was mixed and stirred well with a magnetic stirrer to form an amine mixture (molar ratio of added amine was 5 with respect to silver). Next, 3.0 g of silver oxalate was added while stirring. After the addition of silver oxalate, stirring was continued at room temperature to change the silver oxalate to a viscous white substance, and stirring was terminated when the change was found to be apparently finished.
The obtained mixed solution was transferred to an oil bath and heated and stirred at 120 ° C. Immediately after the start of stirring, a reaction involving the generation of carbon dioxide started, and then stirring was performed until the generation of carbon dioxide was completed, thereby obtaining a suspension in which silver fine particles were suspended in the amine mixture.
Next, in order to replace the dispersion medium of the suspension, 10 mL of a mixed solvent of methanol / water is added and stirred, and then silver fine particles are precipitated and separated by centrifugation, and methanol is again added to the separated silver fine particles. 10 mL of a mixed solvent of water / water is added, and silver fine particles are precipitated and separated by stirring and centrifuging. By adding 2.1 g of ethanol containing SOLPERSE 41000 (manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd.) A silver fine particle dispersion B having a partial concentration of 48% by mass was obtained.

上記のようにして調製した銀微粒子分散体A及びBと、表1に示すその他の成分を添加・混合して、導電性インクA及びBを得た。なお、表1に示す成分の量は質量%で示している。

Figure 2016225126
Silver fine particle dispersions A and B prepared as described above and other components shown in Table 1 were added and mixed to obtain conductive inks A and B. In addition, the quantity of the component shown in Table 1 is shown by the mass%.
Figure 2016225126

≪実施例1≫
導電性インクAをシリコーン製ブランケット上にバーコーター(No.7)を用いて塗布し、ガラス凸版を押圧し、非画像部(不要部分)を転写して除去した。更に、ブランケット材に基材(PEN:ポリエチレンナフタレート)を押圧することでパターンを基材に転写した。パターンは、線幅10μm、ピッチ300μmの格子パターンとした。得られたパターンを120℃×30分間の条件で焼成し、導電性を有する被膜を形成した。得られた被膜の膜厚は0.4μmであった。
その後、奥野製薬工業(株)製の「OPCブラックカッパー」溶液中に30秒間浸漬し、次いで、純水にてリンスすることで、上記の被膜上にPdの付着層を形成し、上記被膜と上記付着層とを有する導電性被膜1を得た。なお、「OPCブラックカッパー液中に含まれるPd濃度は0.5g/Lであった。
Example 1
Conductive ink A was applied onto a silicone blanket using a bar coater (No. 7), the glass relief was pressed, and non-image areas (unnecessary areas) were transferred and removed. Furthermore, the pattern was transferred to the base material by pressing the base material (PEN: polyethylene naphthalate) against the blanket material. The pattern was a lattice pattern having a line width of 10 μm and a pitch of 300 μm. The obtained pattern was baked under the conditions of 120 ° C. × 30 minutes to form a conductive film. The film thickness obtained was 0.4 μm.
After that, the film was immersed in an “OPC black copper” solution manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd. for 30 seconds, and then rinsed with pure water to form an adhesion layer of Pd on the above film. A conductive film 1 having the above adhesion layer was obtained. “The concentration of Pd contained in the OPC black copper solution was 0.5 g / L.

≪実施例2≫
導電性インクBを用いて実施例1と同様にして被膜を形成し、当該被膜を実施例1と同様にして「OPCブラックカッパー」の液に浸漬する前に、奥野製薬工業(株)製の脱脂液「DPクリーン320(100g/L)に45℃で30秒間浸漬して脱脂し、純水にてリンスした。また「OPCブラックカッパー」の液への浸漬時間は20秒間とした。このようにして導電性被膜2を得た。
<< Example 2 >>
A film was formed using the conductive ink B in the same manner as in Example 1, and before the film was immersed in the “OPC black copper” solution in the same manner as in Example 1, it was manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd. The degreasing liquid “DP Clean 320 (100 g / L) was immersed in 45 ° C. for 30 seconds for degreasing and rinsed with pure water. The immersion time of the“ OPC black copper ”in the liquid was 20 seconds. In this way, a conductive film 2 was obtained.

≪実施例3≫
実施例2と同様にして上記被膜を脱脂して純水にてリンスした後、二酸化テルル0.17g、濃塩酸(35%)12.5g及び50%希硫酸17gを水100gに添加して得た溶液中に20秒間浸漬し、次いで純水にてリンスすることで、テルルを含む物質で形成された付着層を形成し、上記被膜と付着層とを有する導電性被膜3を得た。
≪実施例4≫
DIC社製の「ハイドランHW−312B」をエタノールで3倍希釈することで樹脂層形成インクとした。スピンコーターを用いて、ガラス基板上に樹脂層形成インクを2000rpm、30秒の条件で成膜した後、120℃で30分加熱することで樹脂層を形成させた。その後、浸漬時間を30秒間としたこと以外は、実施例3と同様の操作を行った。
Example 3
After degreasing and rinsing with pure water in the same manner as in Example 2, 0.17 g of tellurium dioxide, 12.5 g of concentrated hydrochloric acid (35%) and 17 g of 50% dilute sulfuric acid were added to 100 g of water. The film was immersed in the solution for 20 seconds and then rinsed with pure water to form an adhesion layer formed of a substance containing tellurium, thereby obtaining a conductive film 3 having the film and the adhesion layer.
Example 4
“Hydran HW-312B” manufactured by DIC was diluted with ethanol three times to obtain a resin layer forming ink. Using a spin coater, a resin layer forming ink was formed on a glass substrate under the conditions of 2000 rpm and 30 seconds, and then heated at 120 ° C. for 30 minutes to form a resin layer. Thereafter, the same operation as in Example 3 was performed except that the immersion time was 30 seconds.

≪比較例1≫
実施例1と同様にして導電性インクAを用いてパターン印刷及び焼成したのみで、比較用被膜1を形成した(OPCブラックカッパー未使用)。
≪Comparative example 1≫
The coating film 1 for comparison was formed only by pattern printing and baking using the conductive ink A in the same manner as in Example 1 (no OPC black copper was used).

≪比較例2≫
実施例2と同様にして脱脂までの工程を行い、比較用被膜2を形成した(OPCブラックカッパー未使用)。
≪Comparative example 2≫
The steps up to degreasing were carried out in the same manner as in Example 2 to form a comparative coating 2 (OPC black copper not used).

[評価試験]
(1)体積抵抗値
得られた導電性被膜1〜3及び比較用被膜1〜2について、(株)三菱化学アナリテック社製の「ロレスタGP MCP−T610」を用いて表面抵抗を測定し、膜厚を乗することで体積抵抗値を算出した。体積抵抗値が4.0×10−5Ω・cmを超えると好ましくない。結果を表2に示した。
(2)色座標及び外観
得られた導電性被膜1〜3及び比較用被膜1〜2について、(株)スガ試験機製の色差計「CC−i」を用い、SCE(正反射成分を除外、de:8度)、光源(D65光10度)及び試料面積φ15mmの条件で、色座標Lを測定した。Lが6を超えると好ましくない。結果を表2に示した。

Figure 2016225126
[Evaluation test]
(1) Volume resistance value About the obtained conductive films 1-3 and comparative films 1-2, the surface resistance was measured using "Loresta GP MCP-T610" manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd. The volume resistance value was calculated by multiplying the film thickness. It is not preferable that the volume resistance value exceeds 4.0 × 10 −5 Ω · cm. The results are shown in Table 2.
(2) Color Coordinate and Appearance For the obtained conductive coatings 1 to 3 and comparative coatings 1 to 2, using a color difference meter “CC-i” manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., SCE (excluding regular reflection components, de: 8 degrees), the color coordinate L * was measured under the conditions of a light source (D65 light 10 degrees) and a sample area φ15 mm. It is not preferable that L * exceeds 6. The results are shown in Table 2.
Figure 2016225126

表2に示す結果から、本発明の導電性被膜は、外光に対する優れた反射防止能を有する黒化層を有することにより、銀ナノ粒子を含む被膜の抵抗値の増加を抑えることができる導電性被膜を実現していることがわかる。
From the results shown in Table 2, the conductive film of the present invention has a blackening layer having an excellent antireflection ability against external light, and thus can suppress an increase in the resistance value of the film containing silver nanoparticles. It can be seen that the protective film is realized.

Claims (8)

基材と、
前記基材の少なくとも一部に形成された銀ナノ粒子を含む被膜と、
前記被膜の少なくとも一部に形成された金属、前記金属の酸化物又は前記金属の塩化物を含む付着層と、
を有すること、を特徴とする導電性被膜。
A substrate;
A coating containing silver nanoparticles formed on at least a portion of the substrate;
An adhesion layer containing a metal, an oxide of the metal or a chloride of the metal formed on at least a part of the coating;
A conductive film characterized by comprising:
前記金属がパラジウム又はテルルであること、を特徴とする請求項1に記載の導電性被膜。   The conductive film according to claim 1, wherein the metal is palladium or tellurium. 前記付着層が前記被膜よりも薄いこと、を特徴とする請求項1又は2に記載の導電性被膜。   The conductive film according to claim 1, wherein the adhesion layer is thinner than the film. 前記被膜が0.5μm以下であること、を特徴とする請求項1〜3のうちのいずれかに記載の導電性被膜。   The conductive film according to claim 1, wherein the film is 0.5 μm or less. 基材の少なくとも一部に銀ナノ粒子を含む被膜を形成する工程と、
前記被膜の少なくとも一部に酸性溶液中に金属が溶解した液を接触させて付着層を形成する工程と、
を含むこと、を特徴とする前記被膜と前記付着層とを含む導電性被膜の製造方法。
Forming a film containing silver nanoparticles on at least a portion of the substrate;
Forming an adhesion layer by contacting a solution in which a metal is dissolved in an acidic solution with at least a part of the coating; and
The manufacturing method of the electroconductive film containing the said film and the said adhesion layer characterized by including these.
前記金属がパラジウム又はテルルであること、を特徴とする請求項5に記載の導電性被膜の製造方法。   The method for producing a conductive film according to claim 5, wherein the metal is palladium or tellurium. 前記付着層が前記被膜よりも薄いこと、を特徴とする請求項5又は6に記載の導電性被膜の製造方法。   The method for producing a conductive film according to claim 5, wherein the adhesion layer is thinner than the film. 前記被膜が0.5μm以下であること、を特徴とする請求項5〜7のうちのいずれかに記載の導電性被膜の製造方法。

The said coating film is 0.5 micrometer or less, The manufacturing method of the electroconductive film in any one of Claims 5-7 characterized by the above-mentioned.

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