JP2016212286A - Color filter, color filter substrate, and display - Google Patents

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竹 一 義 佐
Kazuyoshi Satake
竹 一 義 佐
本 健 秀 岸
Takehide Kishimoto
本 健 秀 岸
敦 子 千吉良
Atsuko Chigira
敦 子 千吉良
野 和 幸 日
Kazuyuki Hino
野 和 幸 日
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve display characteristics and suppress a reduction in accuracy of positioning.SOLUTION: A color filter 10 for display comprises: a transparent substrate 11; first colored layers 20, 30, and 40 and an alignment mark 60 that are provided on the transparent substrate; and a scattering layer 14 that is provided on the transparent substrate to cover the first colored layers and alignment mark. The thickness t3 of the scattering layer on the alignment mark is smaller than the thickness t4 of the scattering layer on the first colored layers.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、散乱層を有する表示装置用のカラーフィルタ、カラーフィルタ基板及び表示装置に関する。   The present invention relates to a color filter for a display device having a scattering layer, a color filter substrate, and a display device.

近年、平面ディスプレイとして液晶表示装置や有機EL表示装置などが実用化されている。これらの表示装置においては、一般に、光源からの光のうち所望の波長の光のみを取り出すため、または、光源からの光の色純度を向上させるため、カラーフィルタが設けられている。   In recent years, liquid crystal display devices and organic EL display devices have been put to practical use as flat displays. In these display devices, in general, a color filter is provided in order to extract only light having a desired wavelength from the light from the light source or to improve the color purity of the light from the light source.

また、フラットタイプの表示装置である電子ペーパーの開発も進められている。電子ペーパーは、周囲の光(以下、「環境光」とも言う)の反射光を制御することで、文字や画像等を表示する。このような電子ペーパーは、低消費電力である、目が疲れない、及び、直射日光下での視認性が良い等の優れた特性を有する。   Development of electronic paper, which is a flat type display device, is also underway. Electronic paper displays characters, images, and the like by controlling reflected light of ambient light (hereinafter also referred to as “environmental light”). Such electronic paper has excellent characteristics such as low power consumption, no eye fatigue, and good visibility under direct sunlight.

カラー表示可能な電子ペーパーとして、複数色の着色層を有するカラーフィルタと、白表示および黒表示を行うことが可能な反射型表示素子と、を備えるものが知られている(例えば、特許文献1参照)。この電子ペーパーは、反射型表示素子を用いて白表示を行うことによって環境光を反射させ、反射光をカラーフィルタに透過させることによって所望のカラー画像表示を行うことができる。   As an electronic paper capable of color display, one that includes a color filter having a plurality of colored layers and a reflective display element capable of performing white display and black display is known (for example, Patent Document 1). reference). This electronic paper can display a desired color image by reflecting ambient light by performing white display using a reflective display element and transmitting the reflected light through a color filter.

このような表示装置において、広い視野角の表示特性及び紙に近い表示特性が望まれている。このような表示特性を実現するためには、カラーフィルタ上に散乱層を設け、カラーフィルタを透過した光を散乱層で散乱させる構成が考えられる。   In such a display device, display characteristics with a wide viewing angle and display characteristics close to paper are desired. In order to realize such display characteristics, a configuration in which a scattering layer is provided on the color filter and light transmitted through the color filter is scattered by the scattering layer is conceivable.

ところで、表示装置の製造効率を向上するため、複数のカラーフィルタが多面付けされたカラーフィルタ基板と、画素駆動用電極が設けられた複数の電極形成領域を有する対向基板と、を用いて表示装置を製造する方法が知られている。対向基板としては、TFT(Thin Film Transistor)基板等が挙げられる。   By the way, in order to improve the manufacturing efficiency of the display device, a display device using a color filter substrate having a plurality of color filters and a counter substrate having a plurality of electrode forming regions provided with pixel driving electrodes. A method of manufacturing is known. An example of the counter substrate is a TFT (Thin Film Transistor) substrate.

カラーフィルタ基板及び対向基板には、それぞれアライメントマークが設けられている。カラーフィルタ基板のアライメントマークと、対向基板のアライメントマークとが重なるように、カラーフィルタ基板と対向基板とが位置決めされ、カラーフィルタ基板及び対向基板は張り合わされる。これにより、各カラーフィルタは、対応する電極形成領域と向かい合う。   An alignment mark is provided on each of the color filter substrate and the counter substrate. The color filter substrate and the counter substrate are positioned so that the alignment mark of the color filter substrate and the alignment mark of the counter substrate overlap, and the color filter substrate and the counter substrate are bonded to each other. Thereby, each color filter faces the corresponding electrode formation region.

この後、張り合わされたカラーフィルタ基板及び対向基板を、カラーフィルタの周りに沿って切断することにより、複数の表示装置が製造できる。   Then, a plurality of display devices can be manufactured by cutting the bonded color filter substrate and counter substrate along the periphery of the color filter.

図10は、従来のカラーフィルタ基板200Xの縦断面図である。着色層20,30,40及びアライメントマーク60Xは、散乱層14Xに覆われている。アライメントマーク60Xは、散乱層14X側から見て、例えば十字形になっている。   FIG. 10 is a longitudinal sectional view of a conventional color filter substrate 200X. The colored layers 20, 30, 40 and the alignment mark 60X are covered with the scattering layer 14X. The alignment mark 60X has, for example, a cross shape when viewed from the scattering layer 14X side.

位置決めの際には、カラーフィルタ基板200Xのアライメントマーク60Xの読み取りが行われる。読み取りは、例えば、図10に示すように、透明基材11側から撮像用の光L1をアライメントマーク60X付近に照射し、透過した光を用いて、散乱層14X側からカメラ等でアライメントマーク60Xを撮像して行う。アライメントマーク60Xは撮像用の光L1を遮光するので、アライメントマーク60Xの像が取得できる。   At the time of positioning, the alignment mark 60X of the color filter substrate 200X is read. For example, as shown in FIG. 10, the alignment mark 60 </ b> X is irradiated from the transparent base material 11 side to the vicinity of the alignment mark 60 </ b> X with the imaging light L <b> 1 and the transmitted light is used from the scattering layer 14 </ b> X side with a camera or the like. This is done by imaging. Since the alignment mark 60X blocks the imaging light L1, an image of the alignment mark 60X can be acquired.

特開2003−280044号公報JP 2003-280044 A

しかしながら、図10に示すように、散乱層14Xに入射した光L1は、アライメントマーク60X上の散乱層14Xで散乱される。そのため、このように散乱された光により、図11に示すように、アライメントマーク60Xのエッジ(輪郭)が惚けた像が取得されてしまう。   However, as shown in FIG. 10, the light L1 incident on the scattering layer 14X is scattered by the scattering layer 14X on the alignment mark 60X. For this reason, as shown in FIG. 11, an image in which the edge (outline) of the alignment mark 60 </ b> X is blurred is acquired by the scattered light.

このようなエッジが惚けた像を用いて位置決めを行うと、アライメントマーク60Xと対向基板のアライメントマークとを正確に重ねることができないため、カラーフィルタ基板200Xと対向基板との位置を正確に合わせることができない。即ち、位置決め精度が低下してしまう。   When positioning is performed using such an image with a blurred edge, the alignment mark 60X and the alignment mark of the counter substrate cannot be accurately overlapped, so that the position of the color filter substrate 200X and the counter substrate is accurately aligned. I can't. That is, the positioning accuracy is lowered.

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、表示特性を向上した上で、位置決め精度の低下を抑制できるカラーフィルタ、カラーフィルタ基板及び表示装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of such points, and an object of the present invention is to provide a color filter, a color filter substrate, and a display device that can suppress deterioration in positioning accuracy while improving display characteristics. .

本発明の一実施形態に係るカラーフィルタは、
表示装置用のカラーフィルタであって、
透明基材と、
前記透明基材上に設けられた第1着色層及びアライメントマークと、
前記透明基材上に前記第1着色層及びアライメントマークを覆って設けられた散乱層と、を備え、
前記アライメントマーク上の前記散乱層の厚みは、前記第1着色層上の前記散乱層の厚みより小さい。
The color filter according to an embodiment of the present invention is
A color filter for a display device,
A transparent substrate;
A first colored layer and an alignment mark provided on the transparent substrate;
A scattering layer provided on the transparent substrate so as to cover the first colored layer and the alignment mark,
The thickness of the scattering layer on the alignment mark is smaller than the thickness of the scattering layer on the first colored layer.

上記カラーフィルタにおいて、
前記透明基材上に設けられ、複数の開口が形成された第1ブラックマトリクス層を備え、
前記第1着色層は、前記第1ブラックマトリクス層の前記複数の開口内に設けられ、
前記アライメントマークは、第2ブラックマトリクス層を有してもよい。
In the above color filter,
A first black matrix layer provided on the transparent substrate and having a plurality of openings formed thereon;
The first colored layer is provided in the plurality of openings of the first black matrix layer;
The alignment mark may have a second black matrix layer.

上記カラーフィルタにおいて、
前記第2ブラックマトリクス層の厚みは、前記第1ブラックマトリクス層の厚みより大きくてもよい。
In the above color filter,
The thickness of the second black matrix layer may be greater than the thickness of the first black matrix layer.

上記カラーフィルタにおいて、
前記アライメントマークは、前記第2ブラックマトリクス層上に積層された第2着色層を有してもよい。
In the above color filter,
The alignment mark may include a second colored layer stacked on the second black matrix layer.

上記カラーフィルタにおいて、
前記アライメントマークは、前記第2ブラックマトリクス層上に積層された複数色の第2着色層を有してもよい。
In the above color filter,
The alignment mark may include a plurality of second colored layers stacked on the second black matrix layer.

上記カラーフィルタにおいて、
前記透明基材上に前記第1ブラックマトリクス層及び前記第1着色層を覆って設けられた第1保護層を備え、
前記散乱層は、前記第1保護層及び前記アライメントマークを覆って設けられ、
前記アライメントマークは、前記第2ブラックマトリクス層上に積層された第2保護層を有してもよい。
In the above color filter,
A first protective layer provided on the transparent substrate to cover the first black matrix layer and the first colored layer;
The scattering layer is provided to cover the first protective layer and the alignment mark,
The alignment mark may include a second protective layer stacked on the second black matrix layer.

上記カラーフィルタにおいて、
前記第1ブラックマトリクス層上に設けられた柱状の第1スペーサーを備え、
前記アライメントマークは、前記第2ブラックマトリクス層上に設けられた第2スペーサーを有してもよい。
In the above color filter,
A columnar first spacer provided on the first black matrix layer;
The alignment mark may include a second spacer provided on the second black matrix layer.

本発明の一実施形態に係る表示装置は、
上記カラーフィルタと、
前記カラーフィルタに対向するように配置された表示素子と、
を備える。
A display device according to an embodiment of the present invention includes:
The above color filter;
A display element arranged to face the color filter;
Is provided.

本発明の一実施形態に係るカラーフィルタ基板は、
表示装置用の複数のカラーフィルタを有するカラーフィルタ基板であって、
透明基材と、
前記透明基材上に設けられた第1着色層及びアライメントマークと、
前記透明基材上に前記第1着色層及びアライメントマークを覆って設けられた散乱層と、を備え、
前記アライメントマーク上の前記散乱層の厚みは、前記第1着色層上の前記散乱層の厚みより小さい。
The color filter substrate according to one embodiment of the present invention,
A color filter substrate having a plurality of color filters for a display device,
A transparent substrate;
A first colored layer and an alignment mark provided on the transparent substrate;
A scattering layer provided on the transparent substrate so as to cover the first colored layer and the alignment mark,
The thickness of the scattering layer on the alignment mark is smaller than the thickness of the scattering layer on the first colored layer.

本発明によれば、表示特性を向上した上で、位置決め精度の低下を抑制できる。   According to the present invention, it is possible to suppress a decrease in positioning accuracy while improving display characteristics.

第1の実施形態に係る電子ペーパーの概略構成を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows schematic structure of the electronic paper which concerns on 1st Embodiment. (a)は、第1の実施形態に係るカラーフィルタ基板の平面図であり、(b)は、対向基板の平面図である。(A) is a top view of the color filter substrate which concerns on 1st Embodiment, (b) is a top view of a counter substrate. (a)〜(c)は、アライメントマークの平面図である。(A)-(c) is a top view of an alignment mark. 図2(a)のカラーフィルタ基板のA−A線に沿った縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view along the AA line of the color filter board | substrate of Fig.2 (a). (a)は、第2の実施形態に係るカラーフィルタ基板の平面図であり、(b)は、対向基板の平面図である。(A) is a top view of the color filter substrate which concerns on 2nd Embodiment, (b) is a top view of a counter substrate. 第3の実施形態に係るカラーフィルタ基板の概略構成を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows schematic structure of the color filter board | substrate which concerns on 3rd Embodiment. 第4の実施形態に係るカラーフィルタ基板の概略構成を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows schematic structure of the color filter board | substrate which concerns on 4th Embodiment. 第5の実施形態に係るカラーフィルタ基板の概略構成を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows schematic structure of the color filter board | substrate which concerns on 5th Embodiment. 第6の実施形態に係るカラーフィルタ基板の概略構成を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows schematic structure of the color filter board | substrate which concerns on 6th Embodiment. 従来のカラーフィルタ基板の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of a conventional color filter substrate. 従来のアライメントマークの像を示す図である。It is a figure which shows the image of the conventional alignment mark.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the drawings attached to the present specification, for the sake of illustration and ease of understanding, the scale, the vertical / horizontal dimension ratio, and the like are appropriately changed and exaggerated from those of the actual ones.

(第1の実施形態)
まず図1を参照して、電子ペーパー(表示装置)100全体について説明する。なお、一例として電子ペーパー100について説明するが、本実施形態のカラーフィルタ10は、反射型又は透過型の各種表示装置、例えば、液晶表示装置や有機EL表示装置に適用することもできる。
(First embodiment)
First, the entire electronic paper (display device) 100 will be described with reference to FIG. Although the electronic paper 100 will be described as an example, the color filter 10 of the present embodiment can be applied to various reflective or transmissive display devices such as a liquid crystal display device and an organic EL display device.

電子ペーパー
図1は、第1の実施形態に係る電子ペーパー100の概略構成を示す縦断面図である。図1に示すように、電子ペーパー100は、電子ペーパー用のカラーフィルタ10と、カラーフィルタ10に対向するように配置された、白表示及び黒表示を行う反射型表示素子80と、を備えている。
Electronic Paper FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of an electronic paper 100 according to the first embodiment. As shown in FIG. 1, the electronic paper 100 includes a color filter 10 for electronic paper, and a reflective display element 80 arranged to face the color filter 10 and performing white display and black display. Yes.

カラーフィルタ10は、透明基材11と、透明基材11上に設けられたBM層(第1ブラックマトリクス層)12と、透明基材11上に設けられた複数の着色層(第1着色層)20,30,40と、透明基材11上にBM層12及び着色層20,30,40を覆って設けられた散乱層14と、を備える。   The color filter 10 includes a transparent substrate 11, a BM layer (first black matrix layer) 12 provided on the transparent substrate 11, and a plurality of colored layers (first colored layers) provided on the transparent substrate 11. ) 20, 30, 40, and a scattering layer 14 provided on the transparent substrate 11 so as to cover the BM layer 12 and the colored layers 20, 30, 40.

BM層12は、複数の開口が形成されている。複数の着色層20,30,40は、BM層12の複数の開口内に設けられている。着色層20,30,40のそれぞれは、1つの画素に対応する。   The BM layer 12 has a plurality of openings. The plurality of colored layers 20, 30, and 40 are provided in the plurality of openings of the BM layer 12. Each of the colored layers 20, 30, and 40 corresponds to one pixel.

カラーフィルタ10は、散乱層14と反射型表示素子80とが対向するように配置されている。従って、観察者は、透明基材11側(z方向側)から電子ペーパー100を観察する。   The color filter 10 is disposed so that the scattering layer 14 and the reflective display element 80 face each other. Therefore, an observer observes the electronic paper 100 from the transparent base material 11 side (z direction side).

反射型表示素子80には、観察者側からカラーフィルタ10を介して環境光が入射する。反射型表示素子80は、画素毎に環境光を反射させるか否か制御可能に構成されており、環境光を反射させることにより白表示を行い、環境光を反射させないことにより黒表示を行う。従って、反射型表示素子80は、バックライトを用いることなく文字や画像を表示することができる。なお、環境光が弱い場合に観察者側から反射型表示素子80に光を照射するフロントライトを設けてもよい。   Ambient light enters the reflective display element 80 through the color filter 10 from the viewer side. The reflective display element 80 is configured to control whether or not ambient light is reflected for each pixel. The reflective display element 80 performs white display by reflecting the ambient light and performs black display by not reflecting the ambient light. Therefore, the reflective display element 80 can display characters and images without using a backlight. A front light that irradiates light to the reflective display element 80 from the observer side when the ambient light is weak may be provided.

反射型表示素子80の表示方式としては、特に限定されず、公知のものを適用することができ、例えば、電気泳動方式、ツイストボール方式、粉体移動方式(電子粉流体方式、帯電トナー型方式)、液晶表示方式、サーマル方式(発色方式、光散乱方式)、エレクトロクロミック方式、エレクトロウェッティング方式、磁気泳動方式などが挙げられる。   The display method of the reflective display element 80 is not particularly limited, and a known one can be applied. For example, an electrophoresis method, a twist ball method, a powder movement method (an electronic powder fluid method, a charged toner type method). ), Liquid crystal display method, thermal method (coloring method, light scattering method), electrochromic method, electrowetting method, and magnetophoresis method.

ここでは、一例としてエレクトロウェッティング方式の反射型表示素子80について概略的に説明する。反射型表示素子80は、白色基板81と、白色基板81上に設けられた複数の第1透明電極82と、第1透明電極82上に設けられた疎水性絶縁層83と、疎水性絶縁層83上に設けられた複数の画素側壁84と、隣り合う画素側壁84間に設けられたオイル層85と、オイル層85及び画素側壁84上に設けられた透明な液体86と、液体86上に設けられた第2透明電極87と、を有する。第2透明電極87上に透明基材が設けられてもよい。   Here, as an example, an electrowetting reflective display element 80 will be schematically described. The reflective display element 80 includes a white substrate 81, a plurality of first transparent electrodes 82 provided on the white substrate 81, a hydrophobic insulating layer 83 provided on the first transparent electrode 82, and a hydrophobic insulating layer. 83, a plurality of pixel side walls 84 provided on 83, an oil layer 85 provided between adjacent pixel side walls 84, a transparent liquid 86 provided on the oil layer 85 and the pixel side walls 84, and a liquid 86 And a second transparent electrode 87 provided. A transparent substrate may be provided on the second transparent electrode 87.

それぞれのオイル層85は、対応する第1透明電極82上に位置している。1組の第1透明電極82とオイル層85は、1つの画素に対応している。   Each oil layer 85 is located on the corresponding first transparent electrode 82. One set of the first transparent electrode 82 and the oil layer 85 corresponds to one pixel.

第1透明電極82と第2透明電極87との間に電圧が印加されていない時には、図示するように、オイル層85は、隣り合う画素側壁84間の疎水性絶縁層83を覆っている。オイル層85は、例えば黒色に着色されているため、入射した環境光はオイル層85において反射されず、黒表示が行われる。   When no voltage is applied between the first transparent electrode 82 and the second transparent electrode 87, the oil layer 85 covers the hydrophobic insulating layer 83 between the adjacent pixel side walls 84 as shown in the figure. Since the oil layer 85 is colored, for example, black, the incident ambient light is not reflected by the oil layer 85 and black display is performed.

一方、ある画素に対応する第1透明電極82と、第2透明電極87との間に電圧が印加された時には、図示は省略するが、この画素に対応するオイル層85は、一方の画素側壁84側に移動し、この画素に対応する位置の疎水性絶縁層83には液体86が接するようになる。これにより、この画素においては、入射した環境光は白色基板81に到達し、白色基板81で反射されて白表示が行われる。   On the other hand, when a voltage is applied between the first transparent electrode 82 corresponding to a certain pixel and the second transparent electrode 87, the oil layer 85 corresponding to this pixel is not shown in FIG. The liquid 86 comes into contact with the hydrophobic insulating layer 83 at the position corresponding to this pixel. Thereby, in this pixel, the incident environmental light reaches the white substrate 81 and is reflected by the white substrate 81 to perform white display.

このように、電子ペーパー100は、反射型表示素子80を用いて白表示を行うことによって環境光を反射させ、反射光をカラーフィルタ10に透過させることによって所望のカラー画像表示を行うことができる。ここで、反射型表示素子80からの反射光は散乱層14で散乱されてからカラーフィルタ10を透過するため、紙に近い表示特性、及び、広い視野角の表示特性が得られる。   In this way, the electronic paper 100 can perform a desired color image display by reflecting the ambient light by performing white display using the reflective display element 80 and transmitting the reflected light to the color filter 10. . Here, since the reflected light from the reflective display element 80 is scattered by the scattering layer 14 and then passes through the color filter 10, display characteristics close to paper and display characteristics with a wide viewing angle can be obtained.

次に、電子ペーパー100の製造方法を概略的に説明する。電子ペーパー100は、以下に説明するように、複数のカラーフィルタ10が多面付けされたカラーフィルタ基板200と、複数の反射型表示素子80の部材が設けられた対向基板300と、を張り合わせて製造される。   Next, a method for manufacturing the electronic paper 100 will be schematically described. The electronic paper 100 is manufactured by bonding together a color filter substrate 200 on which a plurality of color filters 10 are provided and a counter substrate 300 on which members of a plurality of reflective display elements 80 are provided, as will be described below. Is done.

図2(a)は、第1の実施形態に係るカラーフィルタ基板200の平面図である。図2(a)に示すように、カラーフィルタ基板200は、透明基材11上に設けられた、マトリクス状に並んだ複数のアクティブ領域210を有する。各アクティブ領域210には、カラーフィルタ10のBM層12及び着色層20,30,40が設けられている。1つのアクティブ領域210は、1つのカラーフィルタ10に対応する。即ち、カラーフィルタ基板200は、複数のカラーフィルタ10を有する。   FIG. 2A is a plan view of the color filter substrate 200 according to the first embodiment. As shown in FIG. 2A, the color filter substrate 200 has a plurality of active regions 210 arranged on a transparent substrate 11 and arranged in a matrix. In each active region 210, the BM layer 12 and the colored layers 20, 30, and 40 of the color filter 10 are provided. One active area 210 corresponds to one color filter 10. That is, the color filter substrate 200 has a plurality of color filters 10.

図2(b)は、対向基板300の平面図である。対向基板300は、白色基板81上に設けられ、マトリクス状に並んだ複数の電極形成領域310を有する。各電極形成領域310には、例えば、反射型表示素子80の第1透明電極82、疎水性絶縁層83、画素側壁84及びオイル層85が設けられている。   FIG. 2B is a plan view of the counter substrate 300. The counter substrate 300 is provided on the white substrate 81 and has a plurality of electrode formation regions 310 arranged in a matrix. In each electrode formation region 310, for example, the first transparent electrode 82, the hydrophobic insulating layer 83, the pixel side wall 84, and the oil layer 85 of the reflective display element 80 are provided.

カラーフィルタ基板200は、縁部分に設けられた複数のアライメントマーク60を備える。対向基板300は、縁部分に設けられた複数のアライメントマーク70を備える。   The color filter substrate 200 includes a plurality of alignment marks 60 provided at the edge portion. The counter substrate 300 includes a plurality of alignment marks 70 provided at the edge portion.

カラーフィルタ基板200の複数のアライメントマーク60は、対向基板300の複数のアライメントマーク70に対応する位置に設けられている。   The plurality of alignment marks 60 on the color filter substrate 200 are provided at positions corresponding to the plurality of alignment marks 70 on the counter substrate 300.

アライメントマーク60,70が設けられる位置は、アクティブ領域210及び電極形成領域310以外であれば、特に限定されず、それらの数も限定されない。   The positions where the alignment marks 60 and 70 are provided are not particularly limited as long as they are other than the active region 210 and the electrode formation region 310, and the number thereof is not limited.

図3(a)〜(c)は、アライメントマーク60,70の平面図である。アライメントマーク60,70の形状は特に限定されず、例えば、図3(a)のように十字形でもよく、図3(b)のように#形でもよく、図3(c)のように四角形でもよい。   3A to 3C are plan views of the alignment marks 60 and 70. FIG. The shape of the alignment marks 60 and 70 is not particularly limited, and may be, for example, a cross shape as shown in FIG. 3A, a # shape as shown in FIG. 3B, or a square shape as shown in FIG. But you can.

カラーフィルタ基板200の複数のアライメントマーク60と、対向基板300の複数のアライメントマーク70とが重なるように、カラーフィルタ基板200と対向基板300とが位置決めされる。この状態で、カラーフィルタ基板200と対向基板300とを張り合わせる。これにより、各アクティブ領域210は、対応する電極形成領域310と向かい合って固定される。   The color filter substrate 200 and the counter substrate 300 are positioned so that the plurality of alignment marks 60 on the color filter substrate 200 and the plurality of alignment marks 70 on the counter substrate 300 overlap. In this state, the color filter substrate 200 and the counter substrate 300 are bonded together. Thereby, each active region 210 is fixed so as to face the corresponding electrode formation region 310.

次に、張り合わされたカラーフィルタ基板200及び対向基板300をアクティブ領域210毎に切断する。そして、必要な製造工程を経て、複数の電子ペーパー100が完成する。   Next, the bonded color filter substrate 200 and counter substrate 300 are cut for each active region 210. And the several electronic paper 100 is completed through a required manufacturing process.

カラーフィルタ及びアライメントマーク
次に、図4を参照して、カラーフィルタ基板200の構造、即ちカラーフィルタ10及びアライメントマーク60の構造について詳細に説明する。図4は、図2(a)のカラーフィルタ基板200のA−A線に沿った縦断面図である。
Color Filter and Alignment Mark Next, the structure of the color filter substrate 200, that is, the structure of the color filter 10 and the alignment mark 60 will be described in detail with reference to FIG. FIG. 4 is a longitudinal sectional view taken along the line AA of the color filter substrate 200 of FIG.

アライメントマーク60は、透明基材11上に設けられている。アライメントマーク60は、BM層(第2ブラックマトリクス層)61を有する。本実施形態では、アライメントマーク60は、BM層61から構成されている。アライメントマーク60のBM層61の厚みt1は、アクティブ領域210のBM層12の厚みt2より大きい。BM層61の厚みt1は、着色層20,30,40の厚みより大きくてもよい。BM層61は、BM層12と同一材料で形成されている。   The alignment mark 60 is provided on the transparent substrate 11. The alignment mark 60 has a BM layer (second black matrix layer) 61. In the present embodiment, the alignment mark 60 is composed of the BM layer 61. The thickness t1 of the BM layer 61 of the alignment mark 60 is larger than the thickness t2 of the BM layer 12 of the active region 210. The thickness t1 of the BM layer 61 may be larger than the thickness of the colored layers 20, 30, and 40. The BM layer 61 is made of the same material as the BM layer 12.

散乱層14は、透明基材11上にBM層12、着色層20,30,40及びアライメントマーク60を覆って設けられている。   The scattering layer 14 is provided on the transparent substrate 11 so as to cover the BM layer 12, the colored layers 20, 30, 40 and the alignment mark 60.

(透明基材)
透明基材11としては、BM層12、着色層20,30,40、散乱層14及びアライメントマーク60を適切に支持することができ、かつ透明性を有する様々な材料が用いられ、例えばガラスやポリマーなどが用いられる。
(Transparent substrate)
As the transparent substrate 11, various materials having transparency that can appropriately support the BM layer 12, the colored layers 20, 30, 40, the scattering layer 14, and the alignment mark 60 are used. A polymer or the like is used.

(BM層)
BM層12は、観察者側からの環境光および反射型表示素子80からの反射光を遮蔽するよう構成されている。本実施形態では、BM層12はマトリックス状のパターンを有している。BM層12によって画定される各領域の具体的なパターンは特には限定されない。
(BM layer)
The BM layer 12 is configured to shield ambient light from the observer side and reflected light from the reflective display element 80. In the present embodiment, the BM layer 12 has a matrix pattern. The specific pattern of each region defined by the BM layer 12 is not particularly limited.

BM層12,61の材料としては、所望の遮光性を有するものであれば特に限定されない。例えば、カーボンブラック、チタンブラック等の黒色着色材を含有する樹脂組成物等が挙げられる。この樹脂組成物に用いられる樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が使用される。   The material of the BM layers 12 and 61 is not particularly limited as long as it has a desired light shielding property. For example, a resin composition containing a black colorant such as carbon black or titanium black can be used. As the resin used in this resin composition, for example, a photosensitive resin having a reactive vinyl group such as acrylate, methacrylate, polyvinyl cinnamate, or cyclized rubber is used.

BM層12,61は、BM層形成用塗工液を透明基材11上に塗布して、露光工程および現像工程を含むフォトリソグラフィー法によりパターニングすることによって形成してもよい。この時、ハーフトーンマスクなどの多階調マスクを用いて露光を行ってもよい。これにより、BM層12が形成される領域と、BM層61が形成される領域とにおいて露光量を異ならせることができる。そのため、現像により、BM層12の厚みt2とBM層61の厚みt1とを異ならせることができる。   The BM layers 12 and 61 may be formed by applying a BM layer forming coating solution on the transparent substrate 11 and patterning it by a photolithography method including an exposure step and a development step. At this time, exposure may be performed using a multi-tone mask such as a halftone mask. Thereby, the exposure amount can be varied between the region where the BM layer 12 is formed and the region where the BM layer 61 is formed. Therefore, the thickness t2 of the BM layer 12 and the thickness t1 of the BM layer 61 can be made different by development.

なお、フォトリソグラフィー法を用いて同じ厚みt2のBM層12,61を形成した後、再度、フォトリソグラフィー法を用いてBM層61の厚みを増加させてもよい。   Note that after forming the BM layers 12 and 61 having the same thickness t2 by using the photolithography method, the thickness of the BM layer 61 may be increased again by using the photolithography method.

(着色層)
着色層20,30,40は、BM層12によって画定された領域、即ちBM層12間に設けられている。
(Colored layer)
The colored layers 20, 30, and 40 are provided between regions defined by the BM layer 12, that is, between the BM layers 12.

例えば、着色層20は、青色光を透過させる青色着色層からなり、着色層30は、緑色光を透過させる緑色着色層からなり、着色層40は、赤色光を透過させる赤色着色層からなる。白色光を透過させる白色着色層などを設けてもよい。   For example, the colored layer 20 includes a blue colored layer that transmits blue light, the colored layer 30 includes a green colored layer that transmits green light, and the colored layer 40 includes a red colored layer that transmits red light. You may provide the white colored layer etc. which permeate | transmit white light.

着色層20,30,40のそれぞれは、感光性を有する着色層用材料を、露光工程および現像工程を含むフォトリソグラフィー法によりパターニングすることによって形成される層である。フォトリソグラフィー法によりパターニングされる着色層用材料としては、ネガ型およびポジ型のいずれの着色層用材料も使用され得る。着色層20,30,40を形成する順序は、任意の順序でよい。   Each of the colored layers 20, 30, and 40 is a layer formed by patterning a photosensitive colored layer material by a photolithography method including an exposure step and a development step. As the coloring layer material to be patterned by the photolithography method, any of negative and positive coloring layer materials can be used. The order in which the colored layers 20, 30, 40 are formed may be any order.

次に、各着色層20,30,40を構成する第1着色層用材料(以下、第1材料)、第2着色層用材料(以下、第2材料)、及び、第3着色層用材料(以下、第3材料)について説明する。各第1〜第3材料は、各色の顔料や染料および分散剤を含む顔料分散体、光開始剤、ポリマーやモノマーを含むクリア剤、および界面活性剤などを含んでいる。このうち光開始剤は、光を照射されることによりラジカル成分を発生するものである。またクリア剤には、光開始剤によって発生されたラジカルにより重合反応を起こして硬化する成分と、その後の現像により未露光部が溶解可能となる成分とが少なくとも含まれている。   Next, a first colored layer material (hereinafter referred to as a first material), a second colored layer material (hereinafter referred to as a second material), and a third colored layer material constituting each colored layer 20, 30, 40 (Hereinafter, the third material) will be described. Each of the first to third materials includes a pigment dispersion including pigments and dyes of each color and a dispersant, a photoinitiator, a clearing agent including a polymer and a monomer, a surfactant, and the like. Of these, the photoinitiator generates a radical component when irradiated with light. Further, the clearing agent contains at least a component that causes a polymerization reaction by a radical generated by the photoinitiator and cures, and a component that can dissolve the unexposed portion by subsequent development.

このように、各着色層20,30,40は、対応する色の光を透過させるよう構成されており、一方、BM層12は、光を遮蔽するよう構成されている。   Thus, each colored layer 20, 30, 40 is configured to transmit the corresponding color light, while the BM layer 12 is configured to shield the light.

(散乱層)
散乱層14の可視光の透過率は、35%以上であることが好ましく、より好ましくは75%以上である。散乱層14のヘイズ値は、5〜65程度であってもよい。
(Scattering layer)
The visible light transmittance of the scattering layer 14 is preferably 35% or more, and more preferably 75% or more. The haze value of the scattering layer 14 may be about 5 to 65.

散乱層14は、透明樹脂と、透明樹脂中に分散され、光散乱作用を発揮する散乱粒子と、を含む。   The scattering layer 14 includes a transparent resin and scattering particles that are dispersed in the transparent resin and exhibit a light scattering action.

散乱層14は、BM層12、着色層20,30,40及びアライメントマーク60が形成された後、透明樹脂及び散乱粒子を含有すると共に感光性を有する散乱層形成用塗工液を透明基材11、BM層12、着色層20,30,40及びアライメントマーク60上に塗布して、硬化させることによって形成することができる。   After the BM layer 12, the colored layers 20, 30, 40, and the alignment mark 60 are formed, the scattering layer 14 contains a transparent resin and scattering particles, and has a photosensitive scattering layer forming coating solution. 11, the BM layer 12, the colored layers 20, 30, 40 and the alignment mark 60 may be applied and cured.

前述のように、BM層61の厚みt1はBM層12の厚みt2より大きいので、液状の散乱層形成用塗工液を塗布した後、BM層61上の散乱層形成用塗工液の厚みは、BM層12上の散乱層形成用塗工液の厚みより小さくなる。また、BM層61上の散乱層形成用塗工液の厚みは、着色層20,30,40上の散乱層形成用塗工液の厚みより小さくなる。   As described above, since the thickness t1 of the BM layer 61 is larger than the thickness t2 of the BM layer 12, the thickness of the scattering layer forming coating solution on the BM layer 61 is applied after the liquid scattering layer forming coating solution is applied. Is smaller than the thickness of the scattering layer forming coating solution on the BM layer 12. The thickness of the scattering layer forming coating solution on the BM layer 61 is smaller than the thickness of the scattering layer forming coating solution on the colored layers 20, 30, 40.

そのため、アライメントマーク60上の散乱層14の厚みt3は、着色層20,30,40上の散乱層14の厚みt4より小さくなる。   Therefore, the thickness t3 of the scattering layer 14 on the alignment mark 60 is smaller than the thickness t4 of the scattering layer 14 on the colored layers 20, 30, and 40.

透明樹脂は、透明性を有するものであれば特に限定されず、散乱粒子との屈折率差等を考慮して適宜選択される。透明樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂等を挙げることができる。   The transparent resin is not particularly limited as long as it has transparency, and is appropriately selected in consideration of the difference in refractive index from the scattering particles. Examples of the transparent resin include acrylic resins and epoxy resins.

散乱粒子の材料としては、光散乱作用を有するものであれば特に限定されない。例えば、酸化チタン、ジルコニア、二酸化珪素、酸化アルミニウム、硫酸バリウム等の無機物、アクリル系樹脂、ジビニルベンゼン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、スチレン系樹脂、メラミン系樹脂、アクリル−スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂等の有機物、又は、これらの2種以上の混合系等の微粒子を挙げることができる。   The material of the scattering particles is not particularly limited as long as it has a light scattering action. For example, inorganic substances such as titanium oxide, zirconia, silicon dioxide, aluminum oxide, barium sulfate, acrylic resins, divinylbenzene resins, benzoguanamine resins, styrene resins, melamine resins, acrylic-styrene resins, polycarbonate resins, Examples thereof include organic substances such as polyethylene resins and polyvinyl chloride resins, and fine particles such as a mixture of two or more thereof.

散乱粒子は、透明性を有していることが好ましい。これにより、散乱層14の透過率を向上させることができるためである。このような散乱粒子としては、例えば、メラミン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂等が用いられてもよい。   It is preferable that the scattering particles have transparency. This is because the transmittance of the scattering layer 14 can be improved. As such scattering particles, for example, a melamine resin, a benzoguanamine resin, or the like may be used.

散乱粒子の平均粒径は、例えば、50nm以上、600nm以下の範囲内にある。散乱粒子の形状は、例えば、球状であってもよい。散乱粒子の屈折率は、透明樹脂の屈折率より大きくてもよい。散乱粒子の含有量は、光を散乱させることができ、散乱層14の透明性を損なわない程度の量であれば、特に限定されない。   The average particle diameter of the scattering particles is, for example, in the range of 50 nm or more and 600 nm or less. The shape of the scattering particles may be spherical, for example. The refractive index of the scattering particles may be larger than the refractive index of the transparent resin. The content of the scattering particles is not particularly limited as long as it is an amount that can scatter light and does not impair the transparency of the scattering layer 14.

カラーフィルタ基板200と対向基板300との位置決めの際には、カラーフィルタ基板200のアライメントマーク60の読み取りが行われる。読み取りは、例えば図4に示すように、透明基材11側から撮像用の光L1をアライメントマーク60付近に照射し、光L1の透過光を用いて、カメラ等で散乱層14側からアライメントマーク60を撮像して行う。なお、散乱層14側から光L1をアライメントマーク60付近に照射して、光L1の反射光を用いて、カメラ等で散乱層14側からアライメントマーク60を撮像してもよい。   When the color filter substrate 200 and the counter substrate 300 are positioned, the alignment mark 60 on the color filter substrate 200 is read. For example, as shown in FIG. 4, the alignment mark 60 is irradiated with light L1 for imaging from the transparent substrate 11 side, and the alignment mark is transmitted from the scattering layer 14 side with a camera or the like using the transmitted light of the light L1. 60 is imaged. Alternatively, the light L1 may be irradiated near the alignment mark 60 from the scattering layer 14 side, and the alignment mark 60 may be imaged from the scattering layer 14 side by a camera or the like using the reflected light of the light L1.

ここで、アライメントマーク60上の散乱層14の厚みt3は、着色層20,30,40上の散乱層14の厚みt4より小さい。そのため、着色層20,30,40上の散乱層14における光の散乱と比較して、アライメントマーク60上の散乱層14では光が散乱され難くなる。   Here, the thickness t3 of the scattering layer 14 on the alignment mark 60 is smaller than the thickness t4 of the scattering layer 14 on the colored layers 20, 30, 40. Therefore, compared to light scattering in the scattering layer 14 on the colored layers 20, 30, 40, light is less likely to be scattered in the scattering layer 14 on the alignment mark 60.

従って、図10の例と比較して、アライメントマーク60上の散乱層14で光L1が散乱され難く、アライメントマーク60のエッジが惚け難くなる。よって、アライメントマーク60を精度良く読み取ることができる。   Therefore, as compared with the example of FIG. 10, the light L <b> 1 is less likely to be scattered by the scattering layer 14 on the alignment mark 60, and the edge of the alignment mark 60 is difficult to burn. Therefore, the alignment mark 60 can be read with high accuracy.

また、厚みt4は、アライメントマーク60のエッジの惚けには影響しないので、必要な散乱特性を得ることができる値に設定することができる。そのため、着色層20,30,40の部分では必要な散乱特性を得ることができ、効果的に散乱された光により、広い視野角の表示特性、及び、紙に近い表示特性を得ることができる。   Further, since the thickness t4 does not affect the blurring of the edge of the alignment mark 60, it can be set to a value that can obtain the necessary scattering characteristics. Therefore, necessary scattering characteristics can be obtained in the colored layers 20, 30, and 40, and display characteristics with a wide viewing angle and display characteristics close to paper can be obtained by effectively scattered light. .

このように、本実施形態によれば、アライメントマーク60上の散乱層14の厚みt3を着色層20,30,40上の散乱層14の厚みt4より小さくしているので、表示特性を向上した上で、位置決め精度の低下を抑制できる。   As described above, according to the present embodiment, the thickness t3 of the scattering layer 14 on the alignment mark 60 is made smaller than the thickness t4 of the scattering layer 14 on the colored layers 20, 30, 40, so that the display characteristics are improved. In the above, a decrease in positioning accuracy can be suppressed.

(第2の実施形態)
第2の実施形態では、カラーフィルタがアライメントマークを備えている点において、第1の実施形態と異なる。以下、第1の実施形態との相違点を中心に説明する。
(Second Embodiment)
The second embodiment is different from the first embodiment in that the color filter includes an alignment mark. Hereinafter, a description will be given focusing on differences from the first embodiment.

図5(a)は、第2の実施形態に係るカラーフィルタ基板200Aの平面図である。カラーフィルタ基板200Aは、透明基材11上に設けられた、マトリクス状に並んだ複数のアクティブ領域210を有する。各アクティブ領域210には、カラーフィルタ10AのBM層12及び着色層20,30,40が設けられている。各アクティブ領域210の四つの角の外側には、それぞれアライメントマーク60が設けられている。1つのアクティブ領域210及び4つのアライメントマーク60は、1つのカラーフィルタ10Aに対応する。つまり、各カラーフィルタ10Aは、第1の実施形態の構成に加え、4つのアライメントマーク60を備えている。   FIG. 5A is a plan view of a color filter substrate 200A according to the second embodiment. The color filter substrate 200 </ b> A has a plurality of active regions 210 arranged on the transparent substrate 11 and arranged in a matrix. In each active region 210, the BM layer 12 and the colored layers 20, 30, and 40 of the color filter 10A are provided. Alignment marks 60 are provided outside the four corners of each active area 210. One active region 210 and four alignment marks 60 correspond to one color filter 10A. That is, each color filter 10 </ b> A includes four alignment marks 60 in addition to the configuration of the first embodiment.

カラーフィルタ基板200AのA−A線に沿った縦断面図は、第1の実施形態の図4と同一である。   A longitudinal sectional view taken along the line AA of the color filter substrate 200A is the same as FIG. 4 of the first embodiment.

図5(b)は、第2の実施形態に係る対向基板300Aの平面図である。各電極形成領域310の4つの角の外側には、それぞれアライメントマーク70が設けられている。カラーフィルタ基板200Aの複数のアライメントマーク60は、対向基板300Aの複数のアライメントマーク70に対応する位置に設けられている。   FIG. 5B is a plan view of the counter substrate 300A according to the second embodiment. Alignment marks 70 are respectively provided outside the four corners of each electrode formation region 310. The plurality of alignment marks 60 on the color filter substrate 200A are provided at positions corresponding to the plurality of alignment marks 70 on the counter substrate 300A.

本実施形態においても、アライメントマーク60,70は、アクティブ領域210及び電極形成領域310以外であれば、図示した位置以外に設けられてもよく、それらの数も限定されない。   Also in the present embodiment, the alignment marks 60 and 70 may be provided at positions other than the illustrated positions as long as they are other than the active region 210 and the electrode formation region 310, and the number thereof is not limited.

電子ペーパー100の製造方法としては、まず、カラーフィルタ基板200Aを図5(a)の切断線CL1に沿って切断し、複数のカラーフィルタ10Aを得る。同様に、対向基板300Aを図5(b)の切断線CL1に沿って切断し、複数の反射型表示素子80の部材80Aを得る。   As a method for manufacturing the electronic paper 100, first, the color filter substrate 200A is cut along the cutting line CL1 in FIG. 5A to obtain a plurality of color filters 10A. Similarly, the counter substrate 300A is cut along the cutting line CL1 in FIG. 5B to obtain the members 80A of the plurality of reflective display elements 80.

次に、カラーフィルタ10Aの4つのアライメントマーク60と、反射型表示素子80の部材80Aの4つのアライメントマーク70とが重なるように、カラーフィルタ10Aと反射型表示装置80の部材80Aとが位置決めされる。この状態で、カラーフィルタ10Aと反射型表示装置80の部材80Aとを張り合わせる。   Next, the color filter 10A and the member 80A of the reflective display device 80 are positioned so that the four alignment marks 60 of the color filter 10A and the four alignment marks 70 of the member 80A of the reflective display element 80 overlap. The In this state, the color filter 10A and the member 80A of the reflective display device 80 are bonded together.

そして、必要な製造工程を経て、電子ペーパー100が完成する。即ち、本実施形態においては、電子ペーパー100にもアライメントマーク60,70が存在している。   And the electronic paper 100 is completed through a required manufacturing process. That is, in the present embodiment, the alignment marks 60 and 70 are also present on the electronic paper 100.

これらの工程を繰り返すことにより、複数の電子ペーパー100を製造できる。   A plurality of electronic papers 100 can be manufactured by repeating these steps.

本実施形態においても、アライメントマーク60のエッジが惚け難いため、アライメントマーク60を精度良く読み取ることができる。従って、第1の実施形態の効果が得られる。   Also in the present embodiment, since the edge of the alignment mark 60 is difficult to blur, the alignment mark 60 can be read with high accuracy. Therefore, the effect of the first embodiment can be obtained.

(第3の実施形態)
第3の実施形態では、アライメントマークが着色層を有する点において第1の実施形態と異なる。以下、第1の実施形態との相違点を中心に説明する。
(Third embodiment)
The third embodiment is different from the first embodiment in that the alignment mark has a colored layer. Hereinafter, a description will be given focusing on differences from the first embodiment.

図6は、第3の実施形態に係るカラーフィルタ基板200Bの概略構成を示す縦断面図である。図6は、図4の縦断面図に対応する。   FIG. 6 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of a color filter substrate 200B according to the third embodiment. 6 corresponds to the longitudinal sectional view of FIG.

アライメントマーク60Aは、BM層61A上に積層された着色層(第2着色層)30Aを有する。BM層61Aの厚みは、BM層12の厚みt2と略等しい。従って、本実施形態では、図10の構成のカラーフィルタ基板200Xと同様に、多階調マスクを用いることなく、同一工程でBM層12,61Aを形成できる。   The alignment mark 60A has a colored layer (second colored layer) 30A laminated on the BM layer 61A. The thickness of the BM layer 61A is substantially equal to the thickness t2 of the BM layer 12. Therefore, in the present embodiment, the BM layers 12 and 61A can be formed in the same process without using a multi-tone mask, similarly to the color filter substrate 200X having the configuration of FIG.

着色層30Aは、着色層30と同一材料を用いて同一工程で形成される。即ち、図10の構成のカラーフィルタ基板200Xの製造工程において、着色層30を露光するためのマスクの形状を変更してBM層61A上にも着色層30Aが形成されるようにすれば、カラーフィルタ基板200Bを製造することができる。そのため、第1の実施形態よりも製造が容易である。   The colored layer 30 </ b> A is formed in the same process using the same material as the colored layer 30. That is, in the manufacturing process of the color filter substrate 200X having the configuration shown in FIG. 10, the color layer 30A can be formed on the BM layer 61A by changing the shape of the mask for exposing the colored layer 30. The filter substrate 200B can be manufactured. Therefore, manufacture is easier than in the first embodiment.

アライメントマーク60Aの厚みt1は、BM層12の厚みt2より大きい。従って、本実施形態においても、アライメントマーク60A上の散乱層14の厚みt3は、着色層20,30,40上の散乱層14の厚みt4より小さくなる。よって、第1の実施形態と同様の効果が得られる。   The thickness t1 of the alignment mark 60A is larger than the thickness t2 of the BM layer 12. Accordingly, also in this embodiment, the thickness t3 of the scattering layer 14 on the alignment mark 60A is smaller than the thickness t4 of the scattering layer 14 on the colored layers 20, 30, and 40. Therefore, the same effect as the first embodiment can be obtained.

なお、BM層61A上に積層される着色層は、着色層20又は40と同一材料を用いて同一工程で形成される層であってもよい。   The colored layer laminated on the BM layer 61A may be a layer formed in the same process using the same material as the colored layer 20 or 40.

(第4の実施形態)
第4の実施形態では、アライメントマークが複数色の着色層を有する点において第3の実施形態と異なる。以下、第3の実施形態との相違点を中心に説明する。
(Fourth embodiment)
The fourth embodiment differs from the third embodiment in that the alignment mark has a plurality of colored layers. Hereinafter, the difference from the third embodiment will be mainly described.

図7は、第4の実施形態に係るカラーフィルタ基板200Cの概略構成を示す縦断面図である。図7は、図4の縦断面図に対応する。   FIG. 7 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of a color filter substrate 200C according to the fourth embodiment. FIG. 7 corresponds to the longitudinal sectional view of FIG.

アライメントマーク60Bは、BM層61A上に積層された複数色の着色層(第2着色層)20B,30B,40Bを有する。着色層20Bは、着色層20と同一材料を用いて同一工程で形成される。着色層30Bは、着色層30と同一材料を用いて同一工程で形成される。着色層40Bは、着色層40と同一材料を用いて同一工程で形成される。そのため、本実施形態では、第3の実施形態と同様に、第1の実施形態よりも製造が容易である。   The alignment mark 60B includes a plurality of colored layers (second colored layers) 20B, 30B, and 40B stacked on the BM layer 61A. The colored layer 20B is formed in the same process using the same material as the colored layer 20. The colored layer 30 </ b> B is formed in the same process using the same material as the colored layer 30. The colored layer 40B is formed in the same process using the same material as the colored layer 40. Therefore, in the present embodiment, as in the third embodiment, manufacturing is easier than in the first embodiment.

アライメントマーク60Bの厚みt1は、BM層12の厚みt2より大きい。従って、本実施形態においても、アライメントマーク60B上の散乱層14の厚みt3は、着色層20,30,40上の散乱層14の厚みt4より小さくなる。   The thickness t1 of the alignment mark 60B is larger than the thickness t2 of the BM layer 12. Therefore, also in this embodiment, the thickness t3 of the scattering layer 14 on the alignment mark 60B is smaller than the thickness t4 of the scattering layer 14 on the colored layers 20, 30, and 40.

よって、第1の実施形態と同様の効果が得られる。また、複数色の着色層20B,30B,40Bを積層するので、第3の実施形態よりも容易にアライメントマーク60Bの厚みt1を大きくすることができる。   Therefore, the same effect as the first embodiment can be obtained. Moreover, since the colored layers 20B, 30B, and 40B of a plurality of colors are laminated, the thickness t1 of the alignment mark 60B can be easily increased as compared with the third embodiment.

なお、着色層20B,30B,40Bの積層数は特に限定されない。   Note that the number of the colored layers 20B, 30B, and 40B is not particularly limited.

(第5の実施形態)
第5の実施形態では、カラーフィルタ基板が保護層を有する点において第1の実施形態と異なる。以下、第1の実施形態との相違点を中心に説明する。
(Fifth embodiment)
The fifth embodiment is different from the first embodiment in that the color filter substrate has a protective layer. Hereinafter, a description will be given focusing on differences from the first embodiment.

図8は、第5の実施形態に係るカラーフィルタ基板200Dの概略構成を示す縦断面図である。図8は、図4の縦断面図に対応する。   FIG. 8 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of a color filter substrate 200D according to the fifth embodiment. FIG. 8 corresponds to the longitudinal sectional view of FIG.

カラーフィルタ基板200Dは、透明基材11上にBM層12及び着色層20,30,40を覆って設けられた保護層(第1保護層)15を備える。保護層15によって、着色層20,30,40およびBM層12を外部環境から保護するとともに、着色層20,30,40およびBM層12に含まれる不純物などが外部に流出することを防ぐことができる。   The color filter substrate 200 </ b> D includes a protective layer (first protective layer) 15 provided on the transparent substrate 11 so as to cover the BM layer 12 and the colored layers 20, 30, and 40. The protective layer 15 protects the colored layers 20, 30, 40 and the BM layer 12 from the external environment, and prevents the impurities contained in the colored layers 20, 30, 40 and the BM layer 12 from flowing out to the outside. it can.

アライメントマーク60Cは、BM層61A上に積層された保護層(第2保護層)15Aを有する。保護層15Aは、保護層15と同一材料を用いて同一工程で形成される。保護層15Aの厚みは、BM層12上の保護層15の厚みより大きい。そのため、多階調マスクを用いて露光を行ってもよい。   The alignment mark 60C includes a protective layer (second protective layer) 15A stacked on the BM layer 61A. The protective layer 15 </ b> A is formed in the same process using the same material as the protective layer 15. The thickness of the protective layer 15 </ b> A is larger than the thickness of the protective layer 15 on the BM layer 12. Therefore, exposure may be performed using a multi-tone mask.

散乱層14は、保護層15及びアライメントマーク60Cを覆って設けられている。アライメントマーク60Cの厚みt1は、BM層12の厚みt2より大きい。保護層15Aの厚みは、BM層12上の保護層15の厚みより大きいため、保護層15Aの上端部の位置は、保護層15の上端部の位置よりも観察者側とは反対側に位置している。従って、本実施形態においても、アライメントマーク60C上の散乱層14の厚みt3は、着色層20,30,40上の散乱層14の厚みt4より小さくなる。よって、第1の実施形態と同様の効果が得られる。   The scattering layer 14 is provided so as to cover the protective layer 15 and the alignment mark 60C. The thickness t1 of the alignment mark 60C is larger than the thickness t2 of the BM layer 12. Since the thickness of the protective layer 15 </ b> A is larger than the thickness of the protective layer 15 on the BM layer 12, the position of the upper end portion of the protective layer 15 </ b> A is positioned on the side opposite to the observer side than the position of the upper end portion of the protective layer 15. doing. Accordingly, also in this embodiment, the thickness t3 of the scattering layer 14 on the alignment mark 60C is smaller than the thickness t4 of the scattering layer 14 on the colored layers 20, 30, and 40. Therefore, the same effect as the first embodiment can be obtained.

(第6の実施形態)
第6の実施形態では、カラーフィルタ基板がスペーサーを有する点において第1の実施形態と異なる。以下、第1の実施形態との相違点を中心に説明する。
(Sixth embodiment)
The sixth embodiment is different from the first embodiment in that the color filter substrate has a spacer. Hereinafter, a description will be given focusing on differences from the first embodiment.

図9は、第6の実施形態に係るカラーフィルタ基板200Eの概略構成を示す縦断面図である。図9は、図4の縦断面図に対応する。   FIG. 9 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of a color filter substrate 200E according to the sixth embodiment. FIG. 9 corresponds to the longitudinal sectional view of FIG.

カラーフィルタ基板200Eは、BM層12上に設けられた柱状のスペーサー(第1スペーサー)16を備える。スペーサー16は、フォトスペーサーとも称される。スペーサー16は、画素毎に1つ設けられてもよい。スペーサー16により、BM層12と、反射型表示素子80の白色基板81との間の距離を一定に保持することができる。   The color filter substrate 200E includes a columnar spacer (first spacer) 16 provided on the BM layer 12. The spacer 16 is also referred to as a photo spacer. One spacer 16 may be provided for each pixel. The distance between the BM layer 12 and the white substrate 81 of the reflective display element 80 can be kept constant by the spacer 16.

散乱層14は、BM層12、着色層20,30,40、スペーサー16及びアライメントマーク60Dを覆って設けられている。   The scattering layer 14 is provided to cover the BM layer 12, the colored layers 20, 30, 40, the spacer 16, and the alignment mark 60D.

アライメントマーク60Dは、BM層61A上に設けられたスペーサー(第2スペーサー)16Aを有する。スペーサー16Aは、スペーサー16と同一材料を用いて同一工程で形成される。従って、アライメントマーク60Dを形成するために製造工程を追加する必要はない。   The alignment mark 60D has a spacer (second spacer) 16A provided on the BM layer 61A. The spacer 16 </ b> A is formed in the same process using the same material as the spacer 16. Therefore, it is not necessary to add a manufacturing process to form the alignment mark 60D.

アライメントマーク60Dの厚みt1は、BM層12の厚みt2より大きい。従って、本実施形態においても、アライメントマーク60D上の散乱層14の厚みt3は、着色層20,30,40上の散乱層14の厚みt4より小さくなる。よって、第1の実施形態と同様の効果が得られる。   The thickness t1 of the alignment mark 60D is larger than the thickness t2 of the BM layer 12. Therefore, also in this embodiment, the thickness t3 of the scattering layer 14 on the alignment mark 60D is smaller than the thickness t4 of the scattering layer 14 on the colored layers 20, 30, and 40. Therefore, the same effect as the first embodiment can be obtained.

なお、第3から第6の実施形態のそれぞれを第2の実施形態に適用してもよい。つまり、カラーフィルタ10B〜10Eのそれぞれは、対応するアライメントマーク60A〜60Dを備えていてもよい。
また、第3から第6の実施形態において、BM層61Aの厚みは、BM層12の厚みt2より大きくてもよい。
Each of the third to sixth embodiments may be applied to the second embodiment. That is, each of the color filters 10B to 10E may include a corresponding alignment mark 60A to 60D.
In the third to sixth embodiments, the thickness of the BM layer 61A may be larger than the thickness t2 of the BM layer 12.

以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。   As mentioned above, although some embodiment of this invention was described, these embodiment is shown as an example and is not intending limiting the range of invention. These embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the spirit of the invention. These embodiments and their modifications are included in the scope and gist of the invention, and are also included in the invention described in the claims and the equivalents thereof.

10,10A〜10E カラーフィルタ
11 透明基材
12 BM層(第1ブラックマトリクス層)
14 散乱層
15 保護層(第1保護層)
15A 保護層(第2保護層)
16 スペーサー(第1スペーサー)
16A スペーサー(第2スペーサー)
20,30,40 着色層(第1着色層)
20B,30A,30B,40B 着色層(第2着色層)
60,60A〜60D,70 アライメントマーク
61,61A BM層(第2ブラックマトリクス層)
80 反射型表示素子
100 電子ペーパー
200,200A〜200E カラーフィルタ基板
210 アクティブ領域
300,300A 対向基板
310 電極形成領域
10, 10A to 10E Color filter 11 Transparent substrate 12 BM layer (first black matrix layer)
14 Scattering layer 15 Protective layer (first protective layer)
15A protective layer (second protective layer)
16 Spacer (first spacer)
16A spacer (second spacer)
20, 30, 40 Colored layer (first colored layer)
20B, 30A, 30B, 40B Colored layer (second colored layer)
60, 60A-60D, 70 Alignment mark 61, 61A BM layer (second black matrix layer)
80 Reflective display element 100 Electronic paper 200, 200A to 200E Color filter substrate 210 Active region 300, 300A Counter substrate 310 Electrode formation region

Claims (9)

表示装置用のカラーフィルタであって、
透明基材と、
前記透明基材上に設けられた第1着色層及びアライメントマークと、
前記透明基材上に前記第1着色層及びアライメントマークを覆って設けられた散乱層と、を備え、
前記アライメントマーク上の前記散乱層の厚みは、前記第1着色層上の前記散乱層の厚みより小さいカラーフィルタ。
A color filter for a display device,
A transparent substrate;
A first colored layer and an alignment mark provided on the transparent substrate;
A scattering layer provided on the transparent substrate so as to cover the first colored layer and the alignment mark,
The thickness of the scattering layer on the alignment mark is a color filter smaller than the thickness of the scattering layer on the first colored layer.
前記透明基材上に設けられ、複数の開口が形成された第1ブラックマトリクス層を備え、
前記第1着色層は、前記第1ブラックマトリクス層の前記複数の開口内に設けられ、
前記アライメントマークは、第2ブラックマトリクス層を有する、請求項1に記載のカラーフィルタ。
A first black matrix layer provided on the transparent substrate and having a plurality of openings formed thereon;
The first colored layer is provided in the plurality of openings of the first black matrix layer;
The color filter according to claim 1, wherein the alignment mark includes a second black matrix layer.
前記第2ブラックマトリクス層の厚みは、前記第1ブラックマトリクス層の厚みより大きい、請求項2に記載のカラーフィルタ。   The color filter according to claim 2, wherein a thickness of the second black matrix layer is larger than a thickness of the first black matrix layer. 前記アライメントマークは、前記第2ブラックマトリクス層上に積層された第2着色層を有する、請求項2又は請求項3に記載のカラーフィルタ。   4. The color filter according to claim 2, wherein the alignment mark has a second colored layer laminated on the second black matrix layer. 5. 前記アライメントマークは、前記第2ブラックマトリクス層上に積層された複数色の第2着色層を有する、請求項2又は請求項3に記載のカラーフィルタ。   4. The color filter according to claim 2, wherein the alignment mark has a plurality of second colored layers stacked on the second black matrix layer. 5. 前記透明基材上に前記第1ブラックマトリクス層及び前記第1着色層を覆って設けられた第1保護層を備え、
前記散乱層は、前記第1保護層及び前記アライメントマークを覆って設けられ、
前記アライメントマークは、前記第2ブラックマトリクス層上に積層された第2保護層を有する、請求項2又は請求項3に記載のカラーフィルタ。
A first protective layer provided on the transparent substrate to cover the first black matrix layer and the first colored layer;
The scattering layer is provided to cover the first protective layer and the alignment mark,
4. The color filter according to claim 2, wherein the alignment mark has a second protective layer stacked on the second black matrix layer. 5.
前記第1ブラックマトリクス層上に設けられた柱状の第1スペーサーを備え、
前記アライメントマークは、前記第2ブラックマトリクス層上に設けられた第2スペーサーを有する、請求項2又は請求項3に記載のカラーフィルタ。
A columnar first spacer provided on the first black matrix layer;
The color filter according to claim 2, wherein the alignment mark has a second spacer provided on the second black matrix layer.
請求項1から請求項7の何れかに記載のカラーフィルタと、
前記カラーフィルタに対向するように配置された表示素子と、
を備える表示装置。
The color filter according to any one of claims 1 to 7,
A display element arranged to face the color filter;
A display device comprising:
表示装置用の複数のカラーフィルタを有するカラーフィルタ基板であって、
透明基材と、
前記透明基材上に設けられた第1着色層及びアライメントマークと、
前記透明基材上に前記第1着色層及びアライメントマークを覆って設けられた散乱層と、を備え、
前記アライメントマーク上の前記散乱層の厚みは、前記第1着色層上の前記散乱層の厚みより小さいカラーフィルタ基板。
A color filter substrate having a plurality of color filters for a display device,
A transparent substrate;
A first colored layer and an alignment mark provided on the transparent substrate;
A scattering layer provided on the transparent substrate so as to cover the first colored layer and the alignment mark,
The color filter substrate, wherein a thickness of the scattering layer on the alignment mark is smaller than a thickness of the scattering layer on the first colored layer.
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