JP2016207041A - Transparent Conductive Laminate and Method for Producing the Same - Google Patents

Transparent Conductive Laminate and Method for Producing the Same Download PDF

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浩一 梅本
Koichi Umemoto
浩一 梅本
善道 岡野
Yoshimichi Okano
善道 岡野
西村 協
Kyo Nishimura
協 西村
岡田 和之
Kazuyuki Okada
和之 岡田
敬之 八重樫
Noriyuki Yaegashi
敬之 八重樫
鈴木 健
Takeshi Suzuki
健 鈴木
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent conducive laminate having high flexibility, transparency and conductivity.SOLUTION: A transparent conductive laminate is prepared by sequentially combining a base material layer containing at least one transparent resin selected from the group consisting of polyester, polycarbonate, polyimide, a polysulfonic resin and polyarylketone, a functional layer containing a cyclic olefin resin containing an olefin unit having an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms in the side chain, and a transparent conductive layer. The transparent conductive layer may contain a metal oxide. The transparent conductive laminate further contains an anchor coat layer containing a chlorine-containing resin, and the anchor coat layer may be interposed between the functional layer and the base material layer. The transparent conductive laminate may have the total light transmittance of 80% or more, and a haze of 2% or less. A surface resistance value of the transparent conductive layer may be 50-200 Ω/square.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、パターン化された透明導電層を有する表示装置(タッチパネルディスプレイなど)などに利用できる透明導電性積層体及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a transparent conductive laminate that can be used for a display device (such as a touch panel display) having a patterned transparent conductive layer, and a method for producing the same.

近年、マンマシンインターフェースとしての電子ディスプレイの進歩に伴い、対話型の入力システムが普及し、なかでもタッチパネル(座標入力装置)をディスプレイと一体化した装置がATM(現金自動受払機)、商品管理、アウトワーカー(外交、セールス)、案内表示、娯楽機器などで広く使用されている。液晶ディスプレイなどの軽量・薄型ディスプレイでは、キーボードレスにでき、その特長が生きることから、モバイル機器にもタッチパネルが使用されるケースが増えている。タッチパネルは、位置検出の方法により、光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などに分類できる。これらの方式のうち、静電容量方式は、静電容量の変化を利用し、位置の検出を行う方式であるが、近年、機能性に優れる点から、ITOグリッド方式を採用する投影型静電容量方式タッチパネルが、スマートフォン、携帯電話、電子ペーパー、タブレット型パーソナルコンピュータ(PC)、ペンタブレット、遊戯機器などのモバイル機器で採用されて脚光を浴びている。ITOグリッド方式では、透明基材の上にパターン化されたITO(酸化インジウム−酸化錫系複合酸化物)膜が形成されているが、透明基材としては、通常、透明性や耐熱性に優れるガラス基材が汎用されている。しかし、ガラス基材は、割れ易く、ロール・ツー・ロール方式での生産もできない点から、プラスチック基材の利用も検討されている。   In recent years, with the advancement of electronic displays as man-machine interfaces, interactive input systems have become widespread. Among them, devices that integrate a touch panel (coordinate input device) with a display are ATMs (automated teller machines), merchandise management, Widely used in outworkers (diplomatic, sales), information display, entertainment equipment. Lightweight and thin displays such as liquid crystal displays can be made keyboard-less, and their features are alive, so the number of cases where touch panels are used in mobile devices is increasing. The touch panel can be classified into an optical method, an ultrasonic method, a capacitance method, a resistance film method, and the like according to a position detection method. Among these methods, the electrostatic capacitance method is a method for detecting a position by using a change in electrostatic capacitance. However, in recent years, the electrostatic capacitance method adopts an ITO grid method because of its excellent functionality. Capacitive touch panels are in the spotlight as they are used in mobile devices such as smartphones, mobile phones, electronic paper, tablet personal computers (PCs), pen tablets, and game machines. In the ITO grid method, a patterned ITO (indium oxide-tin oxide composite oxide) film is formed on a transparent substrate, but the transparent substrate is usually excellent in transparency and heat resistance. Glass substrates are widely used. However, since glass substrates are easily broken and cannot be produced on a roll-to-roll basis, the use of plastic substrates is also being considered.

一方、透明プラスチック基材としては、安価で透明性にも優れるため、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナフタレート(PEN)などのポリエステル基材が広く普及している。しかし、ポリエステル基材では、耐熱性が低いため、ITO膜の高緻密(結晶)化が困難であり、透明性が高く、低抵抗な導電膜の形成は困難であった。さらに、ITO膜の屈折率は、ポリエステル基材に比べて高いため、ITO膜によるパターンが視認されてしまう現象(いわゆる「パターン見え」又は「骨見え」現象)も生じ易い。   On the other hand, polyester substrates such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN) are widely used as transparent plastic substrates because they are inexpensive and excellent in transparency. However, since the polyester substrate has low heat resistance, it is difficult to make the ITO film highly dense (crystallized), and it is difficult to form a conductive film having high transparency and low resistance. Furthermore, since the refractive index of the ITO film is higher than that of the polyester base material, a phenomenon that the pattern by the ITO film is visually recognized (so-called “pattern appearance” or “bone appearance” phenomenon) is likely to occur.

これに対し、ポリエステル基材とITO膜との間に光学調整層を介在させることにより、これらの諸特性のバランスをとっている。しかし、近年のタブレット型PCなどで、比較的画面の大きい静電容量方式タッチパネルで要求される低抵抗は実現できていない。なお、耐熱性の高い透明プラスチック基材として、ポリイミドフィルムも検討されているが、導電層に対する密着性が低く、吸水もし易い。   On the other hand, these characteristics are balanced by interposing an optical adjustment layer between the polyester substrate and the ITO film. However, low resistance required for a capacitive touch panel having a relatively large screen has not been realized in recent tablet PCs and the like. In addition, although the polyimide film is also examined as a transparent plastic base material with high heat resistance, the adhesiveness with respect to a conductive layer is low, and it is easy to absorb water.

一方、透明性や耐熱性に優れる透明基材として環状ポリオレフィンの利用も検討されている。特開2011−43628号公報(特許文献1)には、ノルボルネンとエチレンとの共重合比率が80:20〜90:10、MVR(メルトボリュームレート)が0.8〜2.0cm/10分であり、ガラス転移温度が170〜200℃の環状オレフィンの付加(共)重合体よりなるリタデーション100〜150nmの基板(位相差フィルム)と、この基板の少なくとも片面に形成されたITO透明導電膜とを備えた静電容量方式タッチパネルが開示されている。この文献には、前記基板の温度を−10〜150℃に保って透明導電膜を形成した後、140〜180℃で熱処理して抵抗値100〜1000Ω/□の透明導電膜を形成することが記載され、実施例では、90℃でスパッタリング法によりITO透明導電膜を形成した後、165℃で熱処理する方法及び150℃でスパッタリング法によりITO透明導電膜を形成する方法で、236〜256Ω/□の抵抗値を有するタッチパネル用透明導電性積層体が作製されている。 On the other hand, utilization of cyclic polyolefin as a transparent base material excellent in transparency and heat resistance is also being studied. JP-A-2011-43628 (Patent Document 1), the copolymerization ratio of norbornene and ethylene 80: 20~90: 10, MVR (melt volume rate) of 0.8 to 2.0 3/10 min And a substrate (retardation film) having a retardation of 100 to 150 nm made of an addition (co) polymer of a cyclic olefin having a glass transition temperature of 170 to 200 ° C., and an ITO transparent conductive film formed on at least one surface of the substrate, There is disclosed a capacitive touch panel including In this document, after forming a transparent conductive film while maintaining the temperature of the substrate at -10 to 150 ° C., a transparent conductive film having a resistance value of 100 to 1000 Ω / □ is formed by heat treatment at 140 to 180 ° C. In the examples, after forming an ITO transparent conductive film by sputtering at 90 ° C., a method of heat-treating at 165 ° C. and a method of forming an ITO transparent conductive film by sputtering at 150 ° C., 236 to 256 Ω / □ A transparent conductive laminate for a touch panel having a resistance value of is prepared.

しかし、このような環状オレフィンの付加重合体で形成された基板であっても、耐熱性は十分でなく、タブレット型PCなどで要求される低抵抗化は実現できない。   However, even a substrate formed of such an addition polymer of a cyclic olefin does not have sufficient heat resistance and cannot achieve the low resistance required for tablet PCs.

特開2011−43628号公報(特許請求の範囲、実施例)JP 2011-43628 A (Claims, Examples)

従って、本発明の目的は、可撓性、透明性及び導電性が高い透明導電性積層体及びその製造方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a transparent conductive laminate having high flexibility, transparency and conductivity and a method for producing the same.

本発明の他の目的は、ロール・ツー・ロール方式で製造でき、生産性が高いだけでなく、折り曲げができ、フレキシブルデバイスが実現可能な透明導電性積層体及びその製造方法を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a transparent conductive laminate that can be manufactured by a roll-to-roll method, is not only high in productivity, but can be bent, and can realize a flexible device, and a method for manufacturing the same. is there.

本発明者らは、前記課題を達成するため、側鎖に炭素数2〜10のアルキル基を有するオレフィン単位を含む環状オレフィン系樹脂を含む機能層と透明導電層とを組み合わせることにより、可撓性を保持しながら、透明性及び導電性も向上できることを見出し、本発明を完成した。   In order to achieve the above object, the inventors of the present invention are flexible by combining a functional layer containing a cyclic olefin resin containing an olefin unit having an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms in the side chain and a transparent conductive layer. The present invention was completed by finding that the transparency and conductivity can be improved while maintaining the properties.

すなわち、本発明の透明導電性積層体は、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリスルホン系樹脂及びポリアリールケトンからなる群より選択された少なくとも1種の透明樹脂を含む基材層と、側鎖に炭素数2〜10のアルキル基を有するオレフィン単位を含む環状オレフィン系樹脂を含む機能層と、透明導電層とを順次(この順に)含む。前記環状オレフィン系樹脂は、繰り返し単位として、炭素数2〜10のアルキル基を有する鎖状オレフィン単位及び/又は炭素数2〜10のアルキル基を有する環状オレフィン単位を含んでいてもよく、特に、炭素数2〜10のアルキル基を有さない環状オレフィン単位(A)と、炭素数2〜10のアルキル基を有する鎖状又は環状オレフィン単位(B)とを含む共重合体であってもよい。前記鎖状又は環状オレフィン単位(B)は、炭素数4〜8の直鎖状アルキル基を有するエチレン又はノルボルネン単位であってもよい。前記環状オレフィン単位(A)と鎖状又は環状オレフィン単位(B)との割合(モル比)は、前者/後者=50/50〜99/1程度であってもよい。前記環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度は210〜350℃程度であってもよい。前記機能層のアルミニウム含量が50ppm以下であってもよい。前記透明導電層は金属酸化物を含んでいてもよい。   That is, the transparent conductive laminate of the present invention has a base material layer containing at least one transparent resin selected from the group consisting of polyester, polycarbonate, polyimide, polysulfone-based resin, and polyaryl ketone, and has carbon atoms in the side chain. A functional layer including a cyclic olefin-based resin including an olefin unit having 2 to 10 alkyl groups and a transparent conductive layer are sequentially (in this order) included. The cyclic olefin-based resin may include a chain olefin unit having an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms and / or a cyclic olefin unit having an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms as a repeating unit, It may be a copolymer containing a cyclic olefin unit (A) having no alkyl group having 2 to 10 carbon atoms and a chain or cyclic olefin unit (B) having an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms. . The chain or cyclic olefin unit (B) may be an ethylene or norbornene unit having a linear alkyl group having 4 to 8 carbon atoms. The ratio (molar ratio) between the cyclic olefin unit (A) and the chain or cyclic olefin unit (B) may be about the former / the latter = 50/50 to 99/1. About 210-350 degreeC may be sufficient as the glass transition temperature of the said cyclic olefin resin. The aluminum content of the functional layer may be 50 ppm or less. The transparent conductive layer may contain a metal oxide.

本発明の透明導電性積層体は、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリスルホン系樹脂及びポリアリールケトンからなる群より選択された少なくとも1種の透明樹脂を含む基材層をさらに含み、この基材層と前記透明導電層との間に前記機能層が介在してもよい。このような基材層を含む透明導電性積層体は、塩素含有樹脂を含むアンカーコート層をさらに含み、前記機能層と前記基材層との間にこのアンカーコート層が介在してもよい。   The transparent conductive laminate of the present invention further comprises a base material layer containing at least one transparent resin selected from the group consisting of polyester, polycarbonate, polyimide, polysulfone resin and polyaryl ketone, The functional layer may be interposed between the transparent conductive layer. The transparent conductive laminate including such a base material layer may further include an anchor coat layer containing a chlorine-containing resin, and the anchor coat layer may be interposed between the functional layer and the base material layer.

本発明の透明導電性積層体は、全光線透過率が80%以上であり、かつヘーズが2%以下であってもよい。前記透明導電層の表面抵抗値は50〜200Ω/□であってもよい。本発明の透明導電性積層体は、JIS K5600−5−1に準拠した耐屈曲性試験におけるマンドレルの直径が4mm以下であってもよい。   The transparent conductive laminate of the present invention may have a total light transmittance of 80% or more and a haze of 2% or less. The surface resistance value of the transparent conductive layer may be 50 to 200Ω / □. The transparent conductive laminate of the present invention may have a mandrel diameter of 4 mm or less in a bending resistance test according to JIS K5600-5-1.

本発明には、前記機能層の上に、金属酸化物を含む透明導電層を形成する透明導電層形成工程を含む前記透明導電性積層体の製造方法であって、前記透明導電層形成工程において、180℃以上の温度でスパッタリングして透明導電層を形成するか、スパッタリングした後、180℃以上の温度で加熱して透明導電層を形成する製造方法も含まれる。本発明の製造方法は、基材層の上にコーティングにより機能層を形成する機能層形成工程をさらに含んでいてもよい。   In this invention, it is a manufacturing method of the said transparent conductive laminated body including the transparent conductive layer formation process which forms the transparent conductive layer containing a metal oxide on the said functional layer, Comprising: In the said transparent conductive layer formation process, Also included is a production method in which a transparent conductive layer is formed by sputtering at a temperature of 180 ° C. or higher, or after being sputtered and heated at a temperature of 180 ° C. or higher to form a transparent conductive layer. The production method of the present invention may further include a functional layer forming step of forming a functional layer on the base material layer by coating.

本発明では、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリスルホン系樹脂及びポリアリールケトンからなる群より選択された少なくとも1種の透明樹脂を含む基材層と側鎖に炭素数2〜10のアルキル基を有するオレフィン単位を含む環状オレフィン系樹脂を含む機能層と透明導電層とを順次組み合わせているため、可撓性を保持しながら、透明性及び導電性も向上できる。そのため、ロール・ツー・ロール方式で製造でき、生産性も向上できるだけでなく、折り曲げができ、フレキシブルデバイスも実現できる。   In the present invention, a base layer containing at least one transparent resin selected from the group consisting of polyester, polycarbonate, polyimide, polysulfone resin and polyaryl ketone, and an olefin having an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms in the side chain Since the functional layer containing the cyclic olefin-based resin containing the unit and the transparent conductive layer are sequentially combined, transparency and conductivity can be improved while maintaining flexibility. Therefore, it can be manufactured by a roll-to-roll method, and not only can productivity be improved, but also bending and flexible devices can be realized.

[透明導電性積層体]
(機能層)
本発明の透明導電性積層体は、側鎖に炭素数2〜10のアルキル基を有するオレフィン単位を含む環状オレフィン系樹脂を含む機能層を含む。この機能層は、耐熱性が高く、取り扱い性に優れるとともに、透明性も高いため、光学用途に適している。特に、透明導電層をITO膜の金属酸化物層で形成した場合、金属酸化物層の結晶化を促進でき、透明導電層の導電性を向上できる。
[Transparent conductive laminate]
(Functional layer)
The transparent conductive laminate of the present invention includes a functional layer containing a cyclic olefin-based resin containing an olefin unit having an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms in the side chain. This functional layer is suitable for optical applications because it has high heat resistance, excellent handleability, and high transparency. In particular, when the transparent conductive layer is formed of a metal oxide layer of an ITO film, crystallization of the metal oxide layer can be promoted, and the conductivity of the transparent conductive layer can be improved.

環状オレフィン系樹脂は、側鎖に炭素数2〜10のアルキル基(例えばC3−10アルキル基)を有するオレフィン単位を含んでいればよく、C2−10アルキル基は、環状オレフィン系樹脂の主鎖に対して、自由度の高い側鎖として存在することにより、変形により生じるエネルギーを熱エネルギーに変換できるためか、環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度を上昇させて耐熱性を向上させても、弾性及び靱性を保持できる。特に、α−オレフィンにおいて、末端アルキル基の炭素数が3以上になると、室温で液体となるが、本発明でも、側鎖のアルキル基の炭素数が3以上になると、前述の効果が発現する。一方、炭素数が10を超えると、ガラス転移温度が低下しすぎる。 The cyclic olefin resin only needs to contain an olefin unit having an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms (for example, a C 3-10 alkyl group) in the side chain, and the C 2-10 alkyl group is a cyclic olefin resin. Even if the heat generated by increasing the glass transition temperature of the cyclic olefin-based resin is increased because the energy generated by deformation can be converted into thermal energy by being present as a side chain with a high degree of freedom relative to the main chain. , Can retain elasticity and toughness. In particular, in an α-olefin, when the carbon number of the terminal alkyl group is 3 or more, it becomes liquid at room temperature. However, even in the present invention, when the carbon number of the side chain alkyl group is 3 or more, the above-described effects are exhibited. . On the other hand, if the carbon number exceeds 10, the glass transition temperature is too low.

2−10アルキル基としては、例えば、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ノニル基、デカニル基などの直鎖状又は分岐鎖状アルキル基などが挙げられる。これらのC2−10アルキル基は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、耐熱性と弾性と靱性とのバランスに優れる点から、好ましくは直鎖状C3−10アルキル基(例えばn−ブチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基などの直鎖状C4−9アルキル基)であり、さらに好ましくは直鎖状C4−8アルキル基(特にn−ヘキシル基などの直鎖状C5−7アルキル基)である。 As the C 2-10 alkyl group, for example, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, pentyl group, neopentyl group, hexyl group, heptyl group, Examples thereof include linear or branched alkyl groups such as octyl group, 2-ethylhexyl group, nonyl group and decanyl group. These C 2-10 alkyl groups can be used alone or in combination of two or more. Of these, a linear C 3-10 alkyl group (for example, a linear chain such as an n-butyl group, an n-hexyl group, and an n-octyl group) is preferable because of its excellent balance between heat resistance, elasticity, and toughness. C 4-9 alkyl group), more preferably a linear C 4-8 alkyl group (particularly a linear C 5-7 alkyl group such as an n-hexyl group).

このような環状オレフィン系樹脂としては、繰り返し単位として、前記環状オレフィン系樹脂は、繰り返し単位として、C2−10アルキル基を有する鎖状オレフィン単位及び/又はC2−10アルキル基を有する環状オレフィン単位(特に炭素数4〜8の直鎖状アルキル基を有するエチレン又はノルボルネン単位)を含んでいてもよく、単独重合体であってもよいが、所望の特性を調整し易い点から、前記鎖状オレフィン単位及び/又は前記環状オレフィン単位と、他の共重合性単位との共重合体が好ましく、C2−10アルキル基を有さない環状オレフィン単位(A)と、C2−10アルキル基を有する鎖状又は環状オレフィン単位(B)とを含む共重合体が特に好ましい。 As such a cyclic olefin resin, the cyclic olefin resin as a repeating unit is a cyclic olefin having a chain olefin unit having a C 2-10 alkyl group and / or a C 2-10 alkyl group as a repeating unit. The chain may contain a unit (particularly an ethylene or norbornene unit having a linear alkyl group having 4 to 8 carbon atoms), and may be a homopolymer. and Jo olefin units and / or the cyclic olefin unit is preferably a copolymer with other copolymerizable units, a cyclic olefin units having no C 2-10 alkyl group (a), C 2-10 alkyl group A copolymer containing a linear or cyclic olefin unit (B) having

環状オレフィン単位(A)を形成するための重合成分(単量体)は、環内にエチレン性二重結合を有する重合性の環状オレフィンであり、単環式オレフィン、二環式オレフィン、三環以上の多環式オレフィンなどに分類できる。   The polymerization component (monomer) for forming the cyclic olefin unit (A) is a polymerizable cyclic olefin having an ethylenic double bond in the ring, and includes a monocyclic olefin, a bicyclic olefin, and a tricyclic ring. It can be classified into the above polycyclic olefins.

単環式オレフィンとしては、例えば、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどの環状C4−12シクロオレフィン類などが挙げられる。 Examples of monocyclic olefins include cyclic C 4-12 cycloolefins such as cyclobutene, cyclopentene, cycloheptene, and cyclooctene.

二環式オレフィンとしては、例えば、2−ノルボルネン;5−メチル−2−ノルボルネン、5,5−ジメチル−2−ノルボルネンなどのメチル基を有するノルボルネン類;5−エチリデン−2−ノルボルネンなどのアルケニル基を有するノルボルネン類;5−メトキシカルボニル−2−ノルボルネン、5−メチル−5−メトキシカルボニル−2−ノルボルネンなどのアルコキシカルボニル基を有するノルボルネン類;5−シアノ−2−ノルボルネンなどのシアノ基を有するノルボルネン類;5−フェニル−2−ノルボルネン、5−フェニル−5−メチル−2−ノルボルネンなどのアリール基を有するノルボルネン類;オクタリン;6−メチル−オクタヒドロナフタレンなどのメチル基を有するオクタリンなどが例示できる。   Examples of the bicyclic olefin include 2-norbornene; norbornenes having a methyl group such as 5-methyl-2-norbornene and 5,5-dimethyl-2-norbornene; alkenyl groups such as 5-ethylidene-2-norbornene Norbornenes having an alkoxycarbonyl group such as 5-methoxycarbonyl-2-norbornene and 5-methyl-5-methoxycarbonyl-2-norbornene; norbornene having a cyano group such as 5-cyano-2-norbornene Examples: Norbornenes having an aryl group such as 5-phenyl-2-norbornene and 5-phenyl-5-methyl-2-norbornene; Octaline; Octaline having a methyl group such as 6-methyl-octahydronaphthalene .

多環式オレフィンとしては、例えば、ジシクロペンタジエン;2,3−ジヒドロジシクロペンタジエン、メタノオクタヒドロフルオレン、ジメタノオクタヒドロナフタレン、ジメタノシクロペンタジエノナフタレン、メタノオクタヒドロシクロペンタジエノナフタレンなどの誘導体;6−メチル−オクタヒドロナフタレンなどの置換基を有する誘導体;シクロペンタジエンとテトラヒドロインデンなどとの付加物;シクロペンタジエンの3〜4量体などが挙げられる。   Examples of the polycyclic olefin include dicyclopentadiene; 2,3-dihydrodicyclopentadiene, methanooctahydrofluorene, dimethanooctahydronaphthalene, dimethanocyclopentadienonaphthalene, methanooctahydrocyclopentadienaphthalene, and the like. Derivatives having substituents such as 6-methyl-octahydronaphthalene; adducts of cyclopentadiene and tetrahydroindene; 3-pentamers of cyclopentadiene and the like.

これらの環状オレフィンは、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの環状オレフィンのうち、剥離性と柔軟性とのバランスに優れる点から、二環式オレフィンが好ましい。C2―10アルキル基を有さない環状オレフィン(環状オレフィン単位(A)を形成するための環状オレフィン)全体に対して二環式オレフィン(特にノルボルネン類)の割合は10モル%以上であってもよく、例えば、30モル%以上、好ましくは50モル%以上、さらに好ましくは80モル%以上(特に90モル%以上)であり、二環式オレフィン単独(100モル%)であってもよい。特に、三環以上の多環式オレフィンの割合が大きくなると、ロール・ツー・ロール方式での製造に用いることが困難となる。 These cyclic olefins can be used alone or in combination of two or more. Of these cyclic olefins, bicyclic olefins are preferred because they have a good balance between peelability and flexibility. The proportion of bicyclic olefins (particularly norbornenes) is 10 mol% or more with respect to the total cyclic olefins having no C 2-10 alkyl group (cyclic olefins for forming cyclic olefin units (A)). For example, it is 30 mol% or more, preferably 50 mol% or more, more preferably 80 mol% or more (particularly 90 mol% or more), and may be a bicyclic olefin alone (100 mol%). In particular, when the ratio of the tricyclic or higher polycyclic olefin is increased, it becomes difficult to use for production in a roll-to-roll system.

代表的な二環式オレフィンとしては、例えば、C2−10アルキル基以外の置換基を有していてもよいノルボルネン(2−ノルボルネン)、C2−10アルキル基以外の置換基を有していてもよいオクタリン(オクタヒドロナフタレン)などが例示できる。前記置換基としては、メチル基、アルケニル基、アリール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、シアノ基、アミド基、ハロゲン原子などが例示できる。これらの置換基は、単独で又は二種以上組み合わせてもよい。これらの置換基のうち、剥離性を損なわない点から、メチル基などの非極性基が好ましい。これらの二環式オレフィンのうち、ノルボルネンやメチル基を有するノルボルネンなどのノルボルネン類(特にノルボルネン)が特に好ましい。 Exemplary bicyclic olefins, e.g., C 2-10 alkyl which may norbornene have a substituent group other than group (2-norbornene), have a substituent other than C 2-10 alkyl group An example is octalin (octahydronaphthalene). Examples of the substituent include a methyl group, an alkenyl group, an aryl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, a cyano group, an amide group, and a halogen atom. These substituents may be used alone or in combination of two or more. Of these substituents, a nonpolar group such as a methyl group is preferable because it does not impair the peelability. Among these bicyclic olefins, norbornenes such as norbornene and norbornene having a methyl group (particularly norbornene) are particularly preferable.

鎖状又は環状オレフィン単位(B)を形成するための重合成分(単量体)は、環状オレフィン系樹脂の主鎖に対して側鎖としてC2−10アルキル基を形成可能であり、かつエチレン性二重結合を有する重合性のオレフィンであり、C2−10アルキル基を有する鎖状オレフィン単位を形成するための鎖状オレフィン、C2−10アルキル基を有する環状オレフィン単位を形成するための環状オレフィンに分類できる。なお、鎖状オレフィン単位は、環状オレフィンの開環により生じた鎖状オレフィン単位であってもよいが、両単位の割合を制御し易い点から、鎖状オレフィンを重合成分とする単位が好ましい。 The polymerization component (monomer) for forming the chain or cyclic olefin unit (B) can form a C 2-10 alkyl group as a side chain with respect to the main chain of the cyclic olefin resin, and ethylene. a polymerizable olefins having sex double bond, to form a cyclic olefin units having linear olefins, C 2-10 alkyl group to form a linear olefin units having C 2-10 alkyl group Can be classified as cyclic olefins. The chain olefin unit may be a chain olefin unit generated by ring-opening of a cyclic olefin, but a unit having a chain olefin as a polymerization component is preferable from the viewpoint of easily controlling the ratio of both units.

前記鎖状オレフィンとしては、例えば、1−ブテン、1−ペンテン、3−メチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン、1−ウンデセン、1−ドデセンなどのα−鎖状C4−12オレフィンなどが挙げられる。これらの鎖状オレフィンは、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの鎖状オレフィンのうち、好ましくはα−鎖状C5−12オレフィン(例えばα−鎖状C6−11オレフィン)であり、ポリマーの生産性など、諸特性のバランスに優れる点から、さらに好ましくはα−鎖状C6−10オレフィン(特に1−オクテンなどのα−鎖状C7−9オレフィン)である。 Examples of the chain olefin include 1-butene, 1-pentene, 3-methyl-1-pentene, 4-methyl-1-pentene, 1-hexene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, 1 Examples include α-chain C 4-12 olefins such as -undecene and 1-dodecene. These chain olefins can be used alone or in combination of two or more. Among these chain olefins, α-chain C 5-12 olefins (for example, α-chain C 6-11 olefins) are preferable, and in terms of excellent balance of various properties such as polymer productivity, Preferred are α-chain C 6-10 olefins (particularly α-chain C 7-9 olefins such as 1-octene).

前記環状オレフィンは、前記環状オレフィン単位(A)の項で例示された環状オレフィン骨格にC2−10アルキル基が置換した環状オレフィンであってもよい。環状オレフィン骨格としては、二環式オレフィン(特にノルボルネン)が好ましい。好ましいC2−10アルキル基を有する環状オレフィンとしては、例えば、5−エチル−2−ノルボルネン、5−プロピル−2−ノルボルネン、5−ブチル−2−ノルボルネン、5−ペンチル−2−ノルボルネン、5−ヘキシル−2−ノルボルネン、5−オクチル−2−ノルボルネン、5−デシル−2−ノルボルネンなどの直鎖状又は分岐鎖状C2−10アルキルノルボルネンなどが挙げられる。これらの環状オレフィンは、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの環状オレフィンのうち、好ましくは直鎖状C3−10アルキルノルボルネンであり、さらに好ましくは直鎖状C4−9アルキルノルボルネン(特に5−ヘキシル−2−ノルボルネンなどの直鎖状C4−8アルキルノルボルネン)である。 The cyclic olefin may be a cyclic olefin in which a C 2-10 alkyl group is substituted on the cyclic olefin skeleton exemplified in the paragraph of the cyclic olefin unit (A). As the cyclic olefin skeleton, a bicyclic olefin (particularly norbornene) is preferable. Preferred cyclic olefins having a C 2-10 alkyl group include, for example, 5-ethyl-2-norbornene, 5-propyl-2-norbornene, 5-butyl-2-norbornene, 5-pentyl-2-norbornene, 5- Examples thereof include linear or branched C 2-10 alkyl norbornene such as hexyl-2-norbornene, 5-octyl-2-norbornene, and 5-decyl-2-norbornene. These cyclic olefins can be used alone or in combination of two or more. Among these cyclic olefin, preferably linear C is 3-10 alkyl norbornene, still preferably linear C such as linear C 4-9 alkyl norbornene (particularly 5-hexyl-2-norbornene 4- 8 alkyl norbornene).

環状オレフィン単位(A)と鎖状又は環状オレフィン単位(B)との割合(モル比)は、例えば、前者/後者=50/50〜99/1、好ましくは60/40〜95/5、さらに好ましくは70/30〜90/10(特に75/25〜90/10)程度である。環状オレフィン単位(A)の割合が少なすぎると、耐熱性が低下し、多すぎると靱性が低下し易い。   The ratio (molar ratio) between the cyclic olefin unit (A) and the chain or cyclic olefin unit (B) is, for example, the former / the latter = 50/50 to 99/1, preferably 60/40 to 95/5, Preferably it is about 70 / 30-90 / 10 (especially 75 / 25-90 / 10). When the ratio of the cyclic olefin unit (A) is too small, the heat resistance is lowered, and when it is too much, the toughness is easily lowered.

環状オレフィン系樹脂は、環状オレフィン単位(A)及び鎖状又は環状オレフィン単位(B)以外に他の共重合性単位を含んでいてもよい。他の共重合性単位を形成するための重合成分(単量体)としては、例えば、α−鎖状C2−3オレフィン(エチレン、プロピレンなど)、ビニルエステル系単量体(例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなど)、ジエン系単量体(例えば、ブタジエン、イソプレンなど)、(メタ)アクリル系単量体[例えば、(メタ)アクリル酸、又はこれらの誘導体((メタ)アクリル酸エステルなど)など]などが挙げられる。これらの重合成分は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、エチレンやプロピレンなどのα−鎖状C2−3オレフィンなどが汎用される。他の共重合性単位の割合は、環状オレフィン単位(A)及び鎖状又は環状オレフィン単位(B)の合計に対して、例えば、10モル%以下、好ましくは5モル%以下、さらに好ましくは1モル%以下である。 The cyclic olefin resin may contain other copolymerizable units in addition to the cyclic olefin unit (A) and the chain or cyclic olefin unit (B). Examples of polymerization components (monomers) for forming other copolymerizable units include α-chain C 2-3 olefins (ethylene, propylene, etc.), vinyl ester monomers (eg, vinyl acetate). , Vinyl propionate, etc.), diene monomers (eg, butadiene, isoprene, etc.), (meth) acrylic monomers [eg, (meth) acrylic acid, or derivatives thereof ((meth) acrylic esters, etc.) ) Etc.]. These polymerization components can be used alone or in combination of two or more. Of these, α-chain C 2-3 olefins such as ethylene and propylene are widely used. The ratio of the other copolymerizable unit is, for example, 10 mol% or less, preferably 5 mol% or less, more preferably 1%, based on the total of the cyclic olefin unit (A) and the chain or cyclic olefin unit (B). It is less than mol%.

環状オレフィン系樹脂の数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)において、ポリスチレン換算で、例えば10000〜300000、好ましくは20000〜250000、さらに好ましくは30000〜200000(特に50000〜150000)程度である。分子量が小さすぎると、製膜性が低下し易く、大きすぎると、粘度が高くなるため、取り扱い性が低下し易い。   The number average molecular weight of the cyclic olefin-based resin is, for example, 10,000 to 300,000, preferably 20,000 to 250,000, and more preferably 30,000 to 200,000 (particularly 50,000 to 150,000) in terms of polystyrene in gel permeation chromatography (GPC). If the molecular weight is too small, the film-forming property is liable to be lowered, and if it is too large, the viscosity is increased, so that the handleability is liable to be lowered.

環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度(Tg)は210〜350℃程度の範囲から選択でき、耐熱性と機械的特性とのバランスの点から、例えば210〜340℃、好ましくは220〜330℃(例えば220〜310℃)、さらに好ましくは230〜300℃(特に260〜290℃)程度であってもよい。ガラス転移温度が低すぎると、耐熱性が低下して、高温での処理が困難となり易く、高すぎると、生産が困難となる。なお、本明細書において、ガラス転移温度は、示差走査熱量計(DSC)を用いて測定できる。   The glass transition temperature (Tg) of the cyclic olefin-based resin can be selected from a range of about 210 to 350 ° C., and is, for example, 210 to 340 ° C., preferably 220 to 330 ° C. (for example, from the point of balance between heat resistance and mechanical properties) 220-310 ° C), more preferably about 230-300 ° C (especially 260-290 ° C). If the glass transition temperature is too low, the heat resistance is lowered and the treatment at high temperature tends to be difficult, and if it is too high, the production becomes difficult. In the present specification, the glass transition temperature can be measured using a differential scanning calorimeter (DSC).

環状オレフィン系樹脂の重合方法に特に制限はなく、慣用の方法、例えば、チーグラー型触媒を用いた付加重合、メタロセン系触媒を用いた付加重合などを利用できる。具体的な重合方法としては、例えば、特開2004−107442号公報、特開2007−119660号公報、特開2008−255341号公報、Macromolecules, 43, 4527(2010)、Polyhedron, 24, 1269(2005)、J. Appl. Polym. Sci, 128(1), 216(2013)、Polymer Journal, 43, 331(2011)に記載の方法などを利用できる。また、重合に用いる触媒も、これらの文献に記載の方法で合成された触媒などを利用できる。   There is no particular limitation on the polymerization method of the cyclic olefin-based resin, and a conventional method such as addition polymerization using a Ziegler-type catalyst or addition polymerization using a metallocene-based catalyst can be used. Specific polymerization methods include, for example, JP-A No. 2004-107442, JP-A No. 2007-119660, JP-A No. 2008-255341, Macromolecules, 43, 4527 (2010), Polyhedron, 24, 1269 (2005). ), J. Appl. Polym. Sci, 128 (1), 216 (2013), Polymer Journal, 43, 331 (2011). Moreover, the catalyst used for superposition | polymerization can utilize the catalyst etc. which were synthesize | combined by the method as described in these literature.

触媒の割合は、環状オレフィン系単量体100質量部に対して、例えば0.0001〜0.05質量部、好ましくは0.0005〜0.01質量部、さらに好ましくは0.001〜0.01質量部程度である。   The ratio of the catalyst is, for example, 0.0001 to 0.05 parts by weight, preferably 0.0005 to 0.01 parts by weight, and more preferably 0.001 to 0.005 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the cyclic olefin monomer. About 01 parts by mass.

さらに、環状のオレフィン系樹脂の重合には、慣用の助触媒を用いてもよい。助触媒としては、通常、トリメチルアルミニウムなどのアルキルアルミニウム(原料)の部分加水分解物であるアルミノキサン化合物が利用される。アルミノキサン化合物としては、例えば、メチルイソブチルアルミノキサン、メチルアルミノキサンなどのC1−6アルキルアルミノキサン、ポリメチルアルミノキサンなどのポリC1−6アルキルアルミノキサンなどが挙げられる。これらのアルミノキサン化合物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。 Further, a conventional promoter may be used for the polymerization of the cyclic olefin resin. As the promoter, an aluminoxane compound that is a partial hydrolyzate of alkylaluminum (raw material) such as trimethylaluminum is usually used. Examples of the aluminoxane compound include C 1-6 alkylaluminoxanes such as methyl isobutylaluminoxane and methylaluminoxane, and poly C 1-6 alkylaluminoxanes such as polymethylaluminoxane. These aluminoxane compounds can be used alone or in combination of two or more.

助触媒の割合は、十分な触媒活性を発現させることができる割合であれば、特に制限はなく、触媒活性に応じて選択できる。アルミノキサン化合物を用いる場合、通常、触媒1分子当たりのアルミニウム原子の割合が、等量から10,000倍量、好ましくは10〜5,000倍量、さらに好ましくは50〜2,000倍量程度である。   The proportion of the cocatalyst is not particularly limited as long as it is a proportion capable of exhibiting sufficient catalytic activity, and can be selected according to the catalytic activity. When an aluminoxane compound is used, the proportion of aluminum atoms per catalyst molecule is usually from an equivalent amount to 10,000 times the amount, preferably 10 to 5,000 times the amount, more preferably about 50 to 2,000 times the amount. is there.

機能層には、さらに慣用の添加剤が含まれていてもよい。慣用の添加剤としては、例えば、充填剤、帯電防止剤、安定剤(酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤など)、難燃剤、粘度調整剤、増粘剤、滑剤、消泡剤などが含まれていてもよい。また、表面平滑性を損なわない範囲で、有機又は無機粒子(特にゼオライトなどのアンチブロッキング剤)を含んでいてもよい。   The functional layer may further contain a conventional additive. Examples of conventional additives include fillers, antistatic agents, stabilizers (antioxidants, heat stabilizers, light stabilizers, etc.), flame retardants, viscosity modifiers, thickeners, lubricants, antifoaming agents, etc. May be included. In addition, organic or inorganic particles (particularly, anti-blocking agents such as zeolite) may be included as long as the surface smoothness is not impaired.

機能層中の環状オレフィン系樹脂の割合は、例えば、機能層全体に対して80質量%以上、好ましくは90質量%以上、さらに好ましくは95質量%以上(例えば95〜100質量%)であってもよい。   The ratio of the cyclic olefin-based resin in the functional layer is, for example, 80% by mass or more, preferably 90% by mass or more, more preferably 95% by mass or more (for example, 95 to 100% by mass) with respect to the entire functional layer. Also good.

特に、本発明では、環状オレフィン系樹脂の製造過程で混入する金属成分(特にアルミニウム)の含量(含有量)が少ないのが好ましく、金属成分(特にアルミニウム)の含量は100ppm以下であってもよく、例えば50ppm以下(例えば0.001〜50ppm)、好ましくは10ppm以下(例えば0.05〜10ppm)、さらに好ましくは5ppm以下(例えば0.1〜5ppm)程度であってもよい。金属成分(特にアルミニウム)の含有量が多すぎると、機能層の高結晶化や透明性を低下させる虞がある。機能層(環状オレフィン系樹脂)中での金属含量を低減する方法としては、触媒及び助触媒の使用量を少なくするとともに、重合終了後の反応液を酸処理やアルカリ処理など公知の方法で処理する方法などを利用できる。   In particular, in the present invention, it is preferable that the content (content) of the metal component (especially aluminum) mixed in the production process of the cyclic olefin resin is small, and the content of the metal component (particularly aluminum) may be 100 ppm or less. For example, it may be about 50 ppm or less (for example, 0.001 to 50 ppm), preferably about 10 ppm or less (for example, 0.05 to 10 ppm), and more preferably about 5 ppm or less (for example, 0.1 to 5 ppm). When there is too much content of a metal component (especially aluminum), there exists a possibility that the high crystallization and transparency of a functional layer may be reduced. As a method of reducing the metal content in the functional layer (cyclic olefin resin), the amount of the catalyst and the cocatalyst is reduced, and the reaction solution after the polymerization is treated by a known method such as acid treatment or alkali treatment. Can be used.

機能層の平均厚みは、例えば0.1〜300μm、好ましくは0.2〜100μm、さらに好ましくは0.3〜50μm程度である。基材層を用いることなく、機能層を単独で基材として用いる場合、機能層の平均厚みは、例えば10〜200μm、好ましくは50〜150μm程度である。   The average thickness of the functional layer is, for example, about 0.1 to 300 μm, preferably about 0.2 to 100 μm, and more preferably about 0.3 to 50 μm. When the functional layer is used alone as a base material without using the base material layer, the average thickness of the functional layer is, for example, about 10 to 200 μm, preferably about 50 to 150 μm.

特に、機能層がコーティング膜である場合、薄肉であってもよく、機能層の平均厚みは、例えば0.1〜3μm、好ましくは0.15〜2μm、さらに好ましくは0.2〜1μm(特に0.25〜0.5μm)程度であってもよい。機能層が薄肉であると、取り扱い性に優れ、ロール・ツー・ロール方式などに適するとともに、経済性も向上する。なお、平均厚みは、コーティング膜の場合、機能層の塗工量(単位面積当たりの固形分重量)及び密度に基づいて算出できる。   In particular, when the functional layer is a coating film, it may be thin, and the average thickness of the functional layer is, for example, 0.1 to 3 μm, preferably 0.15 to 2 μm, more preferably 0.2 to 1 μm (particularly It may be about 0.25 to 0.5 μm. If the functional layer is thin, it is easy to handle, suitable for a roll-to-roll method, etc., and economically improved. In the case of a coating film, the average thickness can be calculated based on the coating amount (solid content weight per unit area) and density of the functional layer.

(透明導電層)
本発明の導電性積層体は、さらに透明導電層を含み、この透明導電層は、通常、前記機能層の一方の面に積層される。この透明導電層は、透明電極などに利用されている慣用の透明導電層を利用でき、透明であり、かつ導電性を有していれば、特に限定されず、導電性ポリマーで形成された透明導電層などであってもよいが、高温で形成され、耐熱性に優れる前記機能性による効果を顕著に発現できる点から、導電性無機化合物で形成された透明導電層が好ましい。
(Transparent conductive layer)
The conductive laminate of the present invention further includes a transparent conductive layer, and this transparent conductive layer is usually laminated on one surface of the functional layer. The transparent conductive layer is not particularly limited as long as a conventional transparent conductive layer used for a transparent electrode or the like can be used, is transparent, and has conductivity, and is formed of a conductive polymer. Although it may be a conductive layer or the like, a transparent conductive layer formed of a conductive inorganic compound is preferable from the viewpoint that the effect of the above-described functionality that is formed at a high temperature and excellent in heat resistance can be remarkably exhibited.

導電性無機化合物としては、例えば、金属酸化物[例えば、酸化インジウム(InO、In、In−SnO複合酸化物(ITO)など)、酸化錫(SnO、SnO−Sb複合酸化物、フッ素ドープ酸化錫(FTO)など)、酸化亜鉛(ZnO、ZnO−Al複合酸化物など)]、金属(例えば、金、銀、白金、パラジウム)などが挙げられる。これらの導電性無機化合物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの導電性無機化合物のうち、透明性及び導電性の点から、金属酸化物が好ましく、ITOなどの酸化インジウムが汎用される。 The electrically conductive inorganic compound, for example, metal oxides [e.g., (such as InO 2, In 2 O 3, In 2 O 3 -SnO 2 composite oxide (ITO)) indium oxide, tin oxide (SnO 2, SnO 2 —Sb 2 O 5 composite oxide, fluorine-doped tin oxide (FTO), etc.), zinc oxide (ZnO, ZnO—Al 2 O 3 composite oxide, etc.)], metal (eg, gold, silver, platinum, palladium), etc. Is mentioned. These conductive inorganic compounds can be used alone or in combination of two or more. Of these conductive inorganic compounds, metal oxides are preferable from the viewpoint of transparency and conductivity, and indium oxide such as ITO is widely used.

In−SnO複合酸化物(ITO)において、酸化錫(SnO)の割合は、複合酸化物全体に対して5質量%以上であってもよく、例えば5〜20質量%、好ましくは6〜15質量%、さらに好ましくは7〜12質量%である。本発明では、酸化錫の割合が10質量%程度のITOを用いて高結晶性の透明導電膜を得ることができる。 In the In 2 O 3 —SnO 2 composite oxide (ITO), the ratio of tin oxide (SnO 2 ) may be 5% by mass or more, for example, 5 to 20% by mass, preferably Is 6 to 15% by mass, more preferably 7 to 12% by mass. In the present invention, a highly crystalline transparent conductive film can be obtained using ITO having a tin oxide ratio of about 10% by mass.

導電性無機化合物で形成された透明導電層は、慣用の方法、例えば、スパッタリング、蒸着、化学的気相成長法など(通常、スパッタリング)により形成できる。このような透明導電層は、例えば、特開2009−76544号公報、特許第4165173号公報、特開2004−149884号公報に記載の透明導電層であってもよい。これらの方法のうち、均一な薄肉膜を形成し易い上に、真空の条件で処理され、機能層により高い導電性を維持できる効果が顕著な点から、スパッタリングで形成された透明導電層が好ましい。   The transparent conductive layer formed of a conductive inorganic compound can be formed by a conventional method, for example, sputtering, vapor deposition, chemical vapor deposition, etc. (usually sputtering). Such a transparent conductive layer may be, for example, the transparent conductive layer described in JP-A-2009-76544, JP-A-4165173, and JP-A-2004-14984. Among these methods, a transparent conductive layer formed by sputtering is preferable because it is easy to form a uniform thin film and is also effective in maintaining high conductivity by the functional layer under vacuum conditions. .

透明導電層(特にITOなどの金属酸化物で形成された透明導電層)の表面抵抗値は、機能層がプラスチック層であるにも拘わらず、低抵抗を実現でき、例えば200Ω/□以下(例えば50〜200Ω/□)、好ましくは60〜150Ω/□、さらに好ましくは70〜120Ω/□程度であってもよい。   The surface resistance value of the transparent conductive layer (particularly a transparent conductive layer formed of a metal oxide such as ITO) can realize a low resistance even though the functional layer is a plastic layer, for example, 200Ω / □ or less (for example, 50 to 200Ω / □), preferably 60 to 150Ω / □, and more preferably about 70 to 120Ω / □.

透明導電層は、用途に応じて選択でき、例えば、タッチパネルの場合、通常、アナログ方式では面状に形成され、デジタル方式ではストライプ状に形成される。透明導電層を面状又はストライプ状に形成する方法としては、例えば、機能層の全面に透明導電層を形成した後、エッチングにより面状、ストライプ状又は格子状(ダイヤ又は菱形形状)にパターン化する方法、予めパターン状に形成する方法などが挙げられる。本発明の透明導電性積層体は、透明導電層を薄肉に形成することにより、表示装置(特に静電容量方式タッチパネル)におけるパターン見え現象も抑制できるため、パターン化された透明導電層が好ましい。   The transparent conductive layer can be selected depending on the application. For example, in the case of a touch panel, the transparent conductive layer is usually formed in a planar shape in the analog method and in a stripe shape in the digital method. As a method for forming the transparent conductive layer into a planar shape or a stripe shape, for example, after forming the transparent conductive layer on the entire surface of the functional layer, it is patterned into a planar shape, a stripe shape, or a lattice shape (diamond or rhombus shape) by etching. And a method of forming a pattern in advance. The transparent conductive laminate of the present invention is preferably a patterned transparent conductive layer because the transparent conductive layer can be formed thin to suppress the phenomenon of pattern appearance in a display device (particularly a capacitive touch panel).

透明導電層の平均厚みは、透明性を損なわない限り、特に限定されず、1〜1000nm程度の範囲から選択でき、透明性に優れる点から、例えば5〜100nm、好ましくは10〜80nm、さらに好ましくは15〜50nm(特に20〜40nm)程度であってもよい。本発明では、機能層の上に透明導電層を積層することにより、金属酸化物で形成されていても、薄肉で高結晶の透明導電層を形成できるため、透明性と導電性とを両立できる。   The average thickness of the transparent conductive layer is not particularly limited as long as the transparency is not impaired, and can be selected from a range of about 1 to 1000 nm. From the viewpoint of excellent transparency, for example, 5 to 100 nm, preferably 10 to 80 nm, and more preferably. May be about 15 to 50 nm (particularly 20 to 40 nm). In the present invention, by laminating a transparent conductive layer on a functional layer, a thin and highly crystalline transparent conductive layer can be formed even if it is formed of a metal oxide, so that both transparency and conductivity can be achieved. .

(基材層)
本発明の導電性積層体は、さらに基材層を含んでおり、この基材層と前記透明導電層との間に前記機能層が介在する。前記機能層に対して基材層を組み合わせることにより、基材層の上に機能層をコーティングにより形成できるため、薄肉で均一な機能層を形成し易くなる。
(Base material layer)
The conductive laminate of the present invention further includes a base material layer, and the functional layer is interposed between the base material layer and the transparent conductive layer. By combining a base material layer with the functional layer, the functional layer can be formed on the base material layer by coating, so that a thin and uniform functional layer can be easily formed.

基材層は、透明性及び可撓性を損なわない材料であり、耐熱性に優れる点から、ポリエステル(PETやPENなどのポリC2−4アルキレンアリレート系樹脂や、ポリアリレート系樹脂など)、ポリカーボネート(ビスフェノールA型ポリカーボネートなど)、ポリイミド[熱硬化性ポリイミド(ピロメリット酸系ポリイミド、ビスマレイミド系ポリイミド、ナジック酸系ポリイミド、アセチレン末端系ポリイミドなど)、熱可塑性ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミドなど]、ポリスルホン系樹脂(ポリスルホン、ポリエーテルスルホンなど)、ポリアリールエーテル(ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトンなど)などが好ましく利用される。 The base material layer is a material that does not impair transparency and flexibility, and from the viewpoint of excellent heat resistance, polyester (poly C 2-4 alkylene arylate resin such as PET and PEN, polyarylate resin, etc.), Polycarbonate (such as bisphenol A type polycarbonate), polyimide [thermosetting polyimide (such as pyromellitic acid-based polyimide, bismaleimide-based polyimide, nadic acid-based polyimide, acetylene-terminated polyimide), thermoplastic polyimide, polyetherimide, polyamideimide, etc. ], Polysulfone resins (polysulfone, polyethersulfone, etc.), polyaryl ethers (polyetherketone, polyetheretherketone, etc.) are preferably used.

これらの透明樹脂は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの透明樹脂のうち、ポリエステル系樹脂、ポリイミドなどが汎用され、耐熱性、透明性、経済性のバランスに優れる点から、ポリエチレンナフタレートなどのポリC2−4アルキレンナフタレート系樹脂が特に好ましい。 These transparent resins can be used alone or in combination of two or more. Of these transparent resins, polyester resins, polyimides, and the like are widely used, and poly C 2-4 alkylene naphthalate resins such as polyethylene naphthalate are particularly preferable from the viewpoint of excellent balance of heat resistance, transparency, and economy. .

基材層は、位相差の付与や、フィルム強度を向上させる点から、延伸フィルムで形成されていてもよい。延伸は、一軸延伸であってもよいが、フィルム強度を向上できる点から、二軸延伸が好ましい。延伸倍率は、縦及び横方向において、それぞれ、例えば1.2倍以上(例えば1.2〜6倍)であってもよく、好ましくは1.5〜5倍、さらに好ましくは2〜4倍程度である。延伸倍率が低すぎると、フィルム強度が不十分となり易い。   The base material layer may be formed of a stretched film from the viewpoint of imparting retardation and improving film strength. The stretching may be uniaxial stretching, but biaxial stretching is preferred from the viewpoint that the film strength can be improved. The stretching ratio may be, for example, 1.2 times or more (for example, 1.2 to 6 times), preferably 1.5 to 5 times, and more preferably about 2 to 4 times in the longitudinal and transverse directions. It is. If the draw ratio is too low, the film strength tends to be insufficient.

基材層の平均厚みは、例えば5〜300μm、好ましくは10〜200μm、さらに好ましくは30〜100μm程度である。   The average thickness of a base material layer is 5-300 micrometers, for example, Preferably it is 10-200 micrometers, More preferably, it is about 30-100 micrometers.

基材層も、前記機能層の項で例示された慣用の添加剤を含んでいてもよい。基材層中の透明樹脂の割合は、例えば、基材層全体に対して80質量%以上、好ましくは90質量%以上、さらに好ましくは95質量%以上(例えば95〜100質量%)であってもよい。   The base material layer may also contain a conventional additive exemplified in the section of the functional layer. The ratio of the transparent resin in the substrate layer is, for example, 80% by mass or more, preferably 90% by mass or more, more preferably 95% by mass or more (for example, 95 to 100% by mass) with respect to the entire substrate layer. Also good.

(下地層)
本発明の導電性積層体は、透明導電層と機能層との間に、機能層との密着性や透明導電層の導電性を向上させるため、慣用の下地層を形成してもよい。下地層は、透明導電層の種類に応じて、慣用の下地層を利用できる。透明導電層が酸化インジウムなどの金属酸化物で形成されている場合、下地層は、酸化ケイ素(SiO)を含む層であってもよい。下地層の平均厚みは、透明性を損なわない限り、特に限定されず、例えば3〜100nm、好ましくは5〜50nm、さらに好ましくは10〜30nm程度であってもよい。
(Underlayer)
In the conductive laminate of the present invention, a conventional underlayer may be formed between the transparent conductive layer and the functional layer in order to improve the adhesion to the functional layer and the conductivity of the transparent conductive layer. As the underlayer, a conventional underlayer can be used depending on the type of the transparent conductive layer. When the transparent conductive layer is formed of a metal oxide such as indium oxide, the base layer may be a layer containing silicon oxide (SiO 2 ). The average thickness of the underlayer is not particularly limited as long as the transparency is not impaired, and may be, for example, 3 to 100 nm, preferably 5 to 50 nm, and more preferably about 10 to 30 nm.

[アンカーコート層]
前記基材層と前記機能層との間には、両層の密着性を向上させるため、さらにアンカーコート層を介在させてもよい。アンカーコート層は、慣用の接着層であってもよいが、環状オレフィン系樹脂を含む機能層の基材層に対する密着性を向上できる点から、塩素含有樹脂を含むのが好ましい。
[Anchor coat layer]
An anchor coat layer may be further interposed between the base material layer and the functional layer in order to improve the adhesion between the two layers. The anchor coat layer may be a conventional adhesive layer, but preferably contains a chlorine-containing resin from the viewpoint that the adhesion of the functional layer containing the cyclic olefin resin to the base material layer can be improved.

塩素含有樹脂は、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレンなどの塩素化された樹脂であってもよいが、通常、塩素含有モノマーを重合成分とする重合体である。塩素含有モノマーとしては、例えば、塩化ビニルモノマー、塩化ビニリデンモノマーなどが挙げられる。これらの塩素含有モノマーは、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、基材フィルムに対する密着性の点から、塩化ビニリデンモノマーが好ましい。   The chlorine-containing resin may be a chlorinated resin such as chlorinated polyethylene or chlorinated polypropylene, but is usually a polymer having a chlorine-containing monomer as a polymerization component. Examples of the chlorine-containing monomer include a vinyl chloride monomer and a vinylidene chloride monomer. These chlorine-containing monomers can be used alone or in combination of two or more. Of these, vinylidene chloride monomer is preferred from the viewpoint of adhesion to the base film.

塩素含有樹脂は、塩素含有モノマー以外の他の共重合性単位を含んでいてもよい。他の共重合性単位を形成するための重合成分としては、例えば、前記機能層の項で例示された環状オレフィン系樹脂の共重合性単量体などが挙げられる。前記共重合性単量体は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。前記共重合性単量体のうち、酢酸ビニル、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロニトリルなどが汎用される。   The chlorine-containing resin may contain other copolymerizable units other than the chlorine-containing monomer. Examples of the polymerization component for forming other copolymerizable units include a copolymerizable monomer of a cyclic olefin resin exemplified in the section of the functional layer. The copolymerizable monomers can be used alone or in combination of two or more. Among the copolymerizable monomers, vinyl acetate, (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid alkyl ester, (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester, glycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylonitrile, etc. are widely used. The

他の共重合性単位(共重合性モノマー)の割合は、塩素含有樹脂の特性を損なわない程度であればよく、塩素含有樹脂全体に対して、通常、0.1〜50質量%(例えば、0.3〜25質量%)、好ましくは0.5〜20質量%、さらに好ましくは1〜15質量%(例えば、3〜10質量%)程度であってもよい。   The proportion of the other copolymerizable units (copolymerizable monomer) may be such that the properties of the chlorine-containing resin are not impaired, and is generally 0.1 to 50% by mass (for example, 0.3 to 25% by mass), preferably 0.5 to 20% by mass, and more preferably about 1 to 15% by mass (for example, 3 to 10% by mass).

塩素含有樹脂としては、例えば、塩化ビニル系重合体[塩化ビニルモノマーの単独重合体(ポリ塩化ビニル)、塩化ビニル系共重合体(塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−(メタ)アクリル酸エステル共重合体など)など]、塩化ビニリデン系重合体[塩化ビニリデンの単独重合体(ポリ塩化ビニリデン)、塩化ビニリデン系共重合体(塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニリデン−(メタ)アクリル酸共重合体、塩化ビニリデン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニリデン−(メタ)アクリロニトリル共重合体など)など]などが挙げられる。これらの塩素含有樹脂は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。   Examples of the chlorine-containing resin include a vinyl chloride polymer [a vinyl chloride monomer homopolymer (polyvinyl chloride), a vinyl chloride copolymer (vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride- (meth) acrylic). Acid ester copolymer, etc.)], vinylidene chloride polymer [vinylidene chloride homopolymer (polyvinylidene chloride), vinylidene chloride copolymer (vinylidene chloride-vinyl chloride copolymer, vinylidene chloride-vinyl acetate copolymer) Polymer, vinylidene chloride- (meth) acrylic acid copolymer, vinylidene chloride- (meth) acrylic acid ester copolymer, vinylidene chloride- (meth) acrylonitrile copolymer, etc.)] and the like. These chlorine-containing resins can be used alone or in combination of two or more.

これらの塩素含有樹脂のうち、機能層と基材層との密着性を向上できる点から、塩化ビニリデン系重合体(特に、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体などの塩化ビニリデン系共重合体)が好ましい。塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体において、塩化ビニリデン単位と塩化ビニル単位との割合(モル比)は、例えば、前者/後者=99/1〜5/95、好ましくは97/3〜10/90、さらに好ましくは95/5〜50/50程度である。塩化ビニリデン系重合体は、水性エマルジョンに含有される乳化剤、界面活性剤などを含んでいなくてもよい。   Among these chlorine-containing resins, vinylidene chloride polymers (particularly, vinylidene chloride copolymers such as vinylidene chloride-vinyl chloride copolymers) are used because the adhesion between the functional layer and the base material layer can be improved. preferable. In the vinylidene chloride-vinyl chloride copolymer, the ratio (molar ratio) between the vinylidene chloride unit and the vinyl chloride unit is, for example, the former / the latter = 99/1 to 5/95, preferably 97/3 to 10/90, More preferably, it is about 95/5 to 50/50. The vinylidene chloride polymer may not contain an emulsifier, a surfactant and the like contained in the aqueous emulsion.

塩素含有樹脂の数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)において、ポリスチレン換算で、例えば、10,000〜500,000、好ましくは20,000〜250,000、さらに好ましくは25,000〜100,000程度であってもよい。   The number average molecular weight of the chlorine-containing resin is, for example, 10,000 to 500,000, preferably 20,000 to 250,000, more preferably 25,000 to 100 in terms of polystyrene in gel permeation chromatography (GPC). It may be about 1,000.

アンカーコート層は、機能層と基材層との密着性を高めるために、必要により、接着成分をさらに含んでいてもよい。前記接着成分としては、ポリオレフィン系樹脂(ポリエチレン系グラフトコポリマーなどの変性ポリエチレンなど)、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂(熱可塑性共重合ポリエステルなど)、反応性接着成分[イソシアネート系化合物、イミノ基含有ポリマー(ポリエチレンイミンなど)など]などが挙げられる。これらの接着成分は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。   The anchor coat layer may further contain an adhesive component as necessary in order to improve the adhesion between the functional layer and the base material layer. Examples of the adhesive component include polyolefin resin (modified polyethylene such as polyethylene graft copolymer), acrylic resin, polyamide resin, polyester resin (such as thermoplastic copolymer polyester), reactive adhesive component [isocyanate compound, Imino group-containing polymer (polyethyleneimine and the like)] and the like. These adhesive components can be used alone or in combination of two or more.

これらの接着成分のうち、反応接着成分が好ましく、イソシアネート化合物が特に好ましい。   Of these adhesive components, reactive adhesive components are preferred, and isocyanate compounds are particularly preferred.

前記イソシアネート系化合物は、末端イソシアネート基を有するプレポリマー又はオリゴマーなどであってもよいが、通常、ポリイソシアネート、例えば、脂肪族イソシアネート、脂環族イソシアネート、芳香族イソシアネート、これらの誘導体などであってもよい。   The isocyanate compound may be a prepolymer or an oligomer having a terminal isocyanate group, but is usually a polyisocyanate such as an aliphatic isocyanate, an alicyclic isocyanate, an aromatic isocyanate, or a derivative thereof. Also good.

前記脂肪族イソシアネートとしては、例えば、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)などが挙げられる。前記脂環族イソシアネートとしては、例えば、1,3−シクロペンタンジイソシアネート、1,3−シクロペンテンジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、1,3−シクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、水添トリレンジイソシアネート(水添TDI)、水添キシリレンジイソシアネート(水添XDI)、水添ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート(水添MDI)などが挙げられる。前記芳香族イソシアネートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート(TDI)、キシリレンジイソシアネート(XDI)、テトラメチルキシリレンジイソシアネート(TMXDI)、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート(MDI)などが挙げられる。   Examples of the aliphatic isocyanate include trimethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI), and the like. Examples of the alicyclic isocyanate include 1,3-cyclopentane diisocyanate, 1,3-cyclopentene diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate, 1,3-cyclohexane diisocyanate, isophorone diisocyanate (IPDI), and hydrogenated tolylene diisocyanate. (Hydrogenated TDI), hydrogenated xylylene diisocyanate (hydrogenated XDI), hydrogenated diphenylmethane-4,4′-diisocyanate (hydrogenated MDI), and the like. Examples of the aromatic isocyanate include tolylene diisocyanate (TDI), xylylene diisocyanate (XDI), tetramethylxylylene diisocyanate (TMXDI), diphenylmethane-4,4'-diisocyanate (MDI), and the like.

また、イソシアネートの誘導体としては、例えば、上記イソシアネートの多量体[2量体(ウレットジオン基含有イソシアネート)、3量体(イソシアヌレート環含有イソシアネート)、5量体、7量体など]、上記イソシアネートの変性体(アロハネート変性イソシアネート、ビュレット変性イソシアネート、ウレア変性イソシアネート、カルボジイミド変性イソシアネートなど)、多価アルコールと前記イソシアネートとの付加体などが挙げられる。   Examples of the isocyanate derivative include, for example, the above-mentioned isocyanate multimer [dimer (uretdione group-containing isocyanate), trimer (isocyanurate ring-containing isocyanate), pentamer, heptamer, etc.], Examples include modified products (such as allophanate-modified isocyanate, burette-modified isocyanate, urea-modified isocyanate, and carbodiimide-modified isocyanate), adducts of polyhydric alcohols and the above isocyanates, and the like.

これらのイソシアネート化合物のうち、TDI、MDI、XDI、TMXDIなどの芳香族イソシアネート及びこれらの誘導体が好ましい。   Of these isocyanate compounds, aromatic isocyanates such as TDI, MDI, XDI and TMXDI and derivatives thereof are preferred.

接着成分の割合は、前記塩素含有樹脂100質量部に対して、0.1〜30質量部、好ましくは0.5〜20質量部、さらに好ましくは1〜10質量部程度であってもよい。   The proportion of the adhesive component may be about 0.1 to 30 parts by mass, preferably 0.5 to 20 parts by mass, and more preferably about 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the chlorine-containing resin.

アンカーコート層も、前記機能層の項で例示された慣用の添加剤を含んでいてもよい。アンカーコート層中の塩素含有樹脂及び接着成分の合計割合は、例えば、アンカーコート層全体に対して80質量%以上、好ましくは90質量%以上、さらに好ましくは95質量%以上(例えば95〜100質量%)であってもよい。   The anchor coat layer may also contain a conventional additive exemplified in the section of the functional layer. The total ratio of the chlorine-containing resin and the adhesive component in the anchor coat layer is, for example, 80% by mass or more, preferably 90% by mass or more, more preferably 95% by mass or more (for example, 95 to 100% by mass) with respect to the entire anchor coat layer. %).

アンカーコート層の平均厚みは、例えば0.01〜80μm、好ましくは0.05〜50μm、さらに好ましくは0.1〜20μm(特に0.2〜10μm)程度であってもよい。   The average thickness of the anchor coat layer may be, for example, about 0.01 to 80 μm, preferably 0.05 to 50 μm, and more preferably about 0.1 to 20 μm (particularly 0.2 to 10 μm).

(透明導電性積層体の特性)
本発明の透明導電性積層体は、前述のように、透明導電層が高い導電性を示すだけでなく、透明性にも優れており、全光線透過率が80%以上であってもよく、例えば80〜99%、好ましくは82〜95%、さらに好ましくは84〜92%(特に85〜90%)程度である。本発明では、全光線透過率は、JIS K7361−1法に準拠して測定でき、詳細には後述する実施例に記載の方法で測定できる。
(Characteristics of transparent conductive laminate)
As described above, the transparent conductive laminate of the present invention not only exhibits high conductivity in the transparent conductive layer, but also has excellent transparency, and the total light transmittance may be 80% or more. For example, it is 80 to 99%, preferably 82 to 95%, more preferably about 84 to 92% (especially 85 to 90%). In the present invention, the total light transmittance can be measured in accordance with the JIS K7361-1 method, and can be measured in detail by the method described in Examples described later.

本発明の透明導電性積層体は、光散乱性も低く、ヘーズは5%以下(例えば0.1〜5%)であってもよく、例えば2%以下(例えば0.2〜2%)、好ましくは0.3〜1.5%、さらに好ましくは0.4〜1%(特に0.5〜0.8%)程度である。本発明では、ヘーズは、JIS K7136法に準拠して測定でき、詳細には後述する実施例に記載の方法で測定できる。   The transparent conductive laminate of the present invention has a low light scattering property, and haze may be 5% or less (for example, 0.1 to 5%), for example, 2% or less (for example, 0.2 to 2%), Preferably it is 0.3-1.5%, More preferably, it is about 0.4-1% (especially 0.5-0.8%). In the present invention, the haze can be measured according to JIS K7136 method, and can be measured in detail by the method described in the examples described later.

本発明の透明導電性積層体は、導電性及び光学特性(透明性)に優れているだけでなく、可撓性及び耐屈曲性も優れており、耐屈曲性試験におけるマンドレルの直径が4mm以下であってもよい。本発明では、耐屈曲性試験は、JIS K5600−5−1に準拠して測定でき、詳細には後述する実施例に記載の方法で測定できる。   The transparent conductive laminate of the present invention not only has excellent conductivity and optical properties (transparency), but also has excellent flexibility and bending resistance, and the mandrel diameter in the bending resistance test is 4 mm or less. It may be. In the present invention, the bending resistance test can be measured according to JIS K5600-5-1, and can be measured in detail by the method described in the examples described later.

本発明の導電性積層体は、さらに他の光学層、例えば、ハードコート層、防眩層、アンチニュートンリング層、光散乱層、反射防止層、低屈折率層、高屈折率層、位相差層などを含んでいてもよい。   The conductive laminate of the present invention further includes other optical layers such as a hard coat layer, an antiglare layer, an anti-Newton ring layer, a light scattering layer, an antireflection layer, a low refractive index layer, a high refractive index layer, a phase difference. Layers and the like may be included.

[透明導電性積層体の製造方法]
(透明導電層形成工程)
本発明の導電性積層体は、機能層の上に透明導電層を形成する透明導電層形成工程を含む製造方法により得られる。透明導電層の形成方法は、特に限定されず、透明導電層の種類に応じて、慣用の製膜(成膜)方法を利用して形成できる。導電層が導電性無機化合物で形成されている場合、製膜方法としては、例えば、物理的気相法(PVD)[例えば、真空蒸着法、フラッシュ蒸着法、電子ビーム蒸着法、イオンビーム蒸着法、イオンプレーティング法(例えば、HCD法、エレクトロンビームRF法、アーク放電法など)、スパッタリング法(例えば、直流放電法、高周波(RF)放電法、マグネトロン法など)、分子線エピタキシー法、レーザーアブレーション法など]、化学的気相法(CVD)[例えば、熱CVD法、プラズマCVD法、MOCVD法(有機金属気相成長法)、光CVD法など]、イオンビームミキシング法、イオン注入法などが例示できる。これらの成膜方法のうち、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法などの物理的気相法、化学的気相法などが汎用され、均一で薄肉の膜を形成でき、機能層による効果が顕著に発現する点から、スパッタリング法が特に好ましい。
[Method for producing transparent conductive laminate]
(Transparent conductive layer forming process)
The conductive laminate of the present invention is obtained by a production method including a transparent conductive layer forming step of forming a transparent conductive layer on a functional layer. The formation method of a transparent conductive layer is not specifically limited, According to the kind of transparent conductive layer, it can form using a conventional film forming (film formation) method. When the conductive layer is formed of a conductive inorganic compound, the film forming method may be, for example, physical vapor deposition (PVD) [for example, vacuum deposition, flash deposition, electron beam deposition, ion beam deposition, , Ion plating method (for example, HCD method, electron beam RF method, arc discharge method, etc.), sputtering method (for example, direct current discharge method, radio frequency (RF) discharge method, magnetron method, etc.), molecular beam epitaxy method, laser ablation Etc.], chemical vapor deposition (CVD) [for example, thermal CVD, plasma CVD, MOCVD (metal organic chemical vapor deposition), photo CVD, etc.], ion beam mixing, ion implantation, etc. It can be illustrated. Among these deposition methods, physical vapor phase methods such as vacuum deposition, ion plating, and sputtering, and chemical vapor phase are widely used, and uniform and thin films can be formed. Sputtering is particularly preferred from the standpoint of remarkably developing.

スパッタリング法において、製膜温度は、例えば60〜300℃、好ましくは80〜250℃、さらに好ましくは100〜200℃程度である。さらに、本発明では、機能層が耐熱に優れるため、高温でのスパッタリングも可能であり、スパッタリング温度は180℃以上であってもよく、例えば180〜300℃、好ましくは185〜250℃、さらに好ましくは190〜220℃程度であってもよい。本発明では、高温でのスパッタリングが可能であるため、透明導電層がITOなどの金属酸化物で形成されている場合、透明導電層の結晶化を促進でき、緻密で低抵抗な透明導電層を形成できる。   In the sputtering method, the film forming temperature is, for example, about 60 to 300 ° C, preferably about 80 to 250 ° C, and more preferably about 100 to 200 ° C. Furthermore, in the present invention, since the functional layer is excellent in heat resistance, sputtering at a high temperature is possible, and the sputtering temperature may be 180 ° C. or higher, for example, 180 to 300 ° C., preferably 185 to 250 ° C., more preferably. 190-220 degreeC may be sufficient. In the present invention, since sputtering at a high temperature is possible, when the transparent conductive layer is formed of a metal oxide such as ITO, crystallization of the transparent conductive layer can be promoted, and a dense and low resistance transparent conductive layer is formed. Can be formed.

透明導電層形成工程では、スパッタリングした後、さらに加熱処理してもよい。特に、透明導電層がITOなどの金属酸化物で形成されている場合、加熱処理により金属酸化物の結晶化を促進できる。加熱処理は、スパッタリングを比較的低温で行った場合に有効である。加熱処理の温度は180℃以上であってもよく、例えば180〜300℃、好ましくは185〜250℃、さらに好ましくは190〜220℃程度である。加熱処理温度が低すぎると、結晶化が促進されず、透明導電層の導電性が低下する虞がある。   In the transparent conductive layer forming step, heat treatment may be performed after sputtering. In particular, when the transparent conductive layer is formed of a metal oxide such as ITO, crystallization of the metal oxide can be promoted by heat treatment. The heat treatment is effective when sputtering is performed at a relatively low temperature. 180 degreeC or more may be sufficient as the temperature of heat processing, for example, 180-300 degreeC, Preferably it is 185-250 degreeC, More preferably, it is about 190-220 degreeC. If the heat treatment temperature is too low, crystallization is not promoted and the conductivity of the transparent conductive layer may be reduced.

スパッタリング及び熱処理は、真空下で行ってもよく、不活性ガス(アルゴンガスなど)及び/又は活性ガス(酸素ガスなど)の存在下で行ってもよい。通常、金属酸化物で透明導電層を形成するためのスパッタリング処理では、高真空域に減圧する予備真空工程、さらに電圧を印加してグロー放電が発生する真空域まで不活性ガスを導入し、不活性ガスをプラズマ化してターゲットをスパッタリングするスパッタリング工程、さらにスパッタリングに必要な不活性ガスに代えて反応性ガスを導入することにより酸化物を製膜する製膜工程を経て透明導電層が形成される。そのため、緻密な透明導電層を形成するためには、予備真空工程やスパッタリング工程における真空工程において、基材からの揮発分(水分やモノマーなど)の発生を抑制する必要がある。本発明では、機能層からの揮発分の発生が抑制されているため、緻密な透明導電層が形成できると推定できる。   Sputtering and heat treatment may be performed under vacuum or in the presence of an inert gas (such as argon gas) and / or an active gas (such as oxygen gas). Usually, in the sputtering process for forming a transparent conductive layer with a metal oxide, a pre-vacuum process in which pressure is reduced to a high vacuum region, and further, an inert gas is introduced to a vacuum region where glow discharge is generated by applying a voltage. A transparent conductive layer is formed through a sputtering process in which the active gas is turned into plasma and the target is sputtered, and a reactive gas is introduced instead of the inert gas necessary for sputtering to form an oxide film. . Therefore, in order to form a dense transparent conductive layer, it is necessary to suppress the generation of volatile components (moisture, monomer, etc.) from the base material in the vacuum process in the preliminary vacuum process or the sputtering process. In this invention, since generation | occurrence | production of the volatile matter from a functional layer is suppressed, it can be estimated that a precise | minute transparent conductive layer can be formed.

(下地層形成工程)
下地層を形成する場合、透明導電層形成工程の前工程として、透明導電層形成工程と同様の方法で機能層の上に下地層を形成してもよい。
(Underlayer forming process)
When forming the underlayer, the underlayer may be formed on the functional layer by the same method as the transparent conductive layer forming step as a pre-process of the transparent conductive layer forming step.

(機能層形成工程)
さらに、前記製造方法において、透明導電層形成工程の前工程として、機能層を形成する機能層形成工程もさらに含まれる。機能層の形成方法は、特に限定されず、押出成形などの成形方法であってもよいが、均一で薄肉の機能層を形成し易い点から、基材層の上にコーティングにより機能層を形成する機能層形成工程が好ましい。
(Functional layer formation process)
Furthermore, in the said manufacturing method, the functional layer formation process which forms a functional layer is further included as a pre-process of a transparent conductive layer formation process. The method for forming the functional layer is not particularly limited and may be a molding method such as extrusion molding. However, the functional layer is formed on the base material layer by coating from the viewpoint that a uniform and thin functional layer can be easily formed. A functional layer forming step is preferable.

コーティングによる機能層形成工程では、基材層の上に前記環状オレフィン系樹脂を含む溶液をコーティング(又は流延)した後、乾燥する方法が好ましい。コーティング方法としては、慣用の方法、例えば、ロールコーター、エアナイフコーター、ブレードコーター、ロッドコーター、リバースコーター、バーコーター、コンマコーター、ダイコーター、グラビアコーター、スクリーンコーター法、スプレー法、スピナー法などが挙げられる。これらの方法のうち、ブレードコーター法、バーコーター法、グラビアコーター法などが汎用される。   In the functional layer forming step by coating, a method of drying after coating (or casting) a solution containing the cyclic olefin-based resin on the base material layer is preferable. As the coating method, conventional methods such as roll coater, air knife coater, blade coater, rod coater, reverse coater, bar coater, comma coater, die coater, gravure coater, screen coater method, spray method, spinner method and the like can be mentioned. It is done. Of these methods, the blade coater method, the bar coater method, the gravure coater method and the like are widely used.

溶媒としては、前記環状オレフィン系樹脂を溶解できれば、特に限定されず、通常、非極性溶媒を利用できる。そのような非極性溶媒としては、例えば、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、シクロヘキサンなどの脂環族炭化水素類、トルエンやキシレンなどの芳香族炭化水素類、ソルベントナフサなどの芳香族系油などを利用できる。これらの溶媒は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。これらのうち、トルエンなどの芳香族炭化水素類、ソルベントナフサなどの芳香族系油が好ましい。   The solvent is not particularly limited as long as the cyclic olefin resin can be dissolved, and a nonpolar solvent can be usually used. Examples of such nonpolar solvents include aliphatic hydrocarbons such as hexane, alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and aromatic oils such as solvent naphtha. Can be used. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Of these, aromatic hydrocarbons such as toluene and aromatic oils such as solvent naphtha are preferred.

溶液中における固形分濃度は、例えば0.1〜50重量%、好ましくは0.3〜30重量%、さらに好ましくは0.5〜20重量%(特に0.8〜15重量%)程度である。   The solid content concentration in the solution is, for example, about 0.1 to 50% by weight, preferably about 0.3 to 30% by weight, and more preferably about 0.5 to 20% by weight (particularly 0.8 to 15% by weight). .

乾燥は、自然乾燥であってもよいが、加熱して乾燥することにより溶媒を蒸発させてもよい。乾燥温度は、50℃以上であってもよく、例えば50〜350℃、好ましくは60〜300℃、さらに好ましくは80〜270℃程度である。   Drying may be natural drying, or the solvent may be evaporated by heating and drying. 50 degreeC or more may be sufficient as drying temperature, for example, 50-350 degreeC, Preferably it is 60-300 degreeC, More preferably, it is about 80-270 degreeC.

(アンカーコート層形成工程)
本発明の透明導電性積層体がアンカーコート層をさらに含む場合、機能層形成工程の前工程として、アンカーコート層を形成するアンカーコート層形成工程もさらに含まれる。アンカーコート層形成工程も、特に限定されず、押出成形などの成形方法であってもよいが、均一で薄肉のアンカーコート層を形成し易い点から、基材層の上にコーティングによりアンカーコート層を形成するアンカーコート層形成工程が好ましい。この場合、前記機能層は、基材層ではなく、アンカーコート層の上に形成される。
(Anchor coat layer formation process)
When the transparent conductive laminate of the present invention further includes an anchor coat layer, an anchor coat layer forming step of forming the anchor coat layer is further included as a pre-step of the functional layer forming step. The anchor coat layer forming step is also not particularly limited, and may be a molding method such as extrusion molding. However, from the viewpoint that a uniform and thin anchor coat layer can be easily formed, the anchor coat layer is coated on the base material layer by coating. An anchor coat layer forming step of forming is preferable. In this case, the functional layer is formed not on the base material layer but on the anchor coat layer.

コーティングによるアンカーコート層形成工程では、基材層の上に塩素含有樹脂を含む溶液をコーティング(又は流延)した後、乾燥する方法が好ましい。コーティング方法としては、前記機能層形成工程と同様のコーティング方法を利用できる。   In the anchor coat layer forming step by coating, a method of drying after coating (or casting) a solution containing a chlorine-containing resin on the base material layer is preferable. As the coating method, the same coating method as in the functional layer forming step can be used.

溶媒としては、塩素含有樹脂を溶解できれば、特に限定されず、例えば、機能層形成工程で例示された非極性溶媒の他、極性溶媒も利用できる。極性溶媒としては、例えば、アセトンやメチルエチルケトンなどのジアルキルケトン類、テトラヒドロフランやジオキンサンなどのエーテル類などを利用できる。これらの溶媒は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、非極性溶媒と極性溶媒との組み合わせが好ましく、両者の質量割合は、非極性溶媒/極性溶媒=1/99〜50/50(特に10/90〜30/70)程度である。特に、非極性溶媒は、芳香族炭化水素類(トルエンなど)であってもよい。また、極性溶媒は、ジアルキルケトン類(メチルエチルケトンなど)と環状エーテル類(テトラヒドロフランなど)との組み合わせであってもよく、両者の質量割合は、ジアルキルケトン類/環状エーテル類=1/99〜50/50(特に10/90〜40/60)程度である。   The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the chlorine-containing resin. For example, in addition to the nonpolar solvent exemplified in the functional layer forming step, a polar solvent can also be used. Examples of polar solvents that can be used include dialkyl ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, and ethers such as tetrahydrofuran and dioquinsan. These solvents can be used alone or in combination of two or more. Among these, the combination of a nonpolar solvent and a polar solvent is preferable, and the mass ratio of both is a nonpolar solvent / polar solvent = 1 / 99-50 / 50 (especially 10 / 90-30 / 70) grade. In particular, the nonpolar solvent may be an aromatic hydrocarbon (such as toluene). In addition, the polar solvent may be a combination of dialkyl ketones (such as methyl ethyl ketone) and cyclic ethers (such as tetrahydrofuran), and the mass ratio of the two is dialkyl ketones / cyclic ethers = 1/99 to 50 / It is about 50 (especially 10 / 90-40 / 60).

溶液中における固形分濃度は、例えば0.1〜50重量%、好ましくは0.3〜20重量%、さらに好ましくは0.5〜10重量%(特に0.8〜5重量%)程度である。   The solid concentration in the solution is, for example, about 0.1 to 50% by weight, preferably about 0.3 to 20% by weight, more preferably about 0.5 to 10% by weight (particularly about 0.8 to 5% by weight). .

乾燥は、自然乾燥であってもよいが、加熱して乾燥することにより溶媒を蒸発させてもよい。乾燥温度は、50℃以上であってもよく、例えば50〜200℃、好ましくは80〜180℃、さらに好ましくは100〜150℃程度である。   Drying may be natural drying, or the solvent may be evaporated by heating and drying. 50 degreeC or more may be sufficient as drying temperature, for example, 50-200 degreeC, Preferably it is 80-180 degreeC, More preferably, it is about 100-150 degreeC.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。実施例及び比較例で得られた透明導電性積層体の特性は、以下の方法で評価した。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples. The characteristics of the transparent conductive laminates obtained in Examples and Comparative Examples were evaluated by the following methods.

[ガラス転移温度]
示差走査熱量計(エスアイアイ・ナノテクノロジー(株)製「DSC6200」)を用い、JIS K7121に準じ、窒素気流下、昇温速度10℃/分で測定を行った。
[Glass-transition temperature]
Using a differential scanning calorimeter (“DSC6200” manufactured by SII Nanotechnology Co., Ltd.), the measurement was performed at a temperature rising rate of 10 ° C./min in a nitrogen stream according to JIS K7121.

[環状オレフィン系樹脂の組成比(A)/(B)]
環状オレフィン単位(A)と鎖状又は環状オレフィン単位(B)との割合(モル比)は、13C−NMRで測定した。
[Composition ratio of cyclic olefin resin (A) / (B)]
The ratio (molar ratio) between the cyclic olefin unit (A) and the chain or cyclic olefin unit (B) was measured by 13 C-NMR.

[表面抵抗値]
各透明導電性積層体について、表面抵抗計((株)三菱アナリテック製「ロレスタGP MCP−T610型」)を用いて、四端子法で表面抵抗値を測定した。
[Surface resistance value]
About each transparent conductive laminated body, the surface resistance value was measured by the four-terminal method using the surface resistance meter ("Loresta GP MCP-T610 type | mold" by Mitsubishi Analytech Co., Ltd.).

[全光線透過率]
各透明導電性積層体について、JIS K7361−1法に準拠し、D65蛍光ランプを光源として使用し、ヘーズメータ(日本電色工業(株)製「NDH−5000W」)を用いて、全光線透過率を測定した。
[Total light transmittance]
About each transparent conductive laminated body, based on JISK7361-1, using a D65 fluorescent lamp as a light source, using a haze meter ("NDH-5000W" by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.), total light transmittance Was measured.

[ヘーズ]
各透明導電性積層体について、JIS K7136法に準拠し、D65蛍光ランプを光源として使用し、ヘーズメータ(日本電色工業(株)製「NDH−5000W」)を用いて、ヘーズを測定した。
[Haze]
About each transparent conductive laminated body, based on JISK7136 method, D65 fluorescent lamp was used as a light source, and the haze was measured using the haze meter (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. "NDH-5000W").

[耐屈曲性]
各透明導電性積層体を1×10cm角に裁断して試料片を調製し、耐屈曲性を以下の方法に基づいて判定した。すなわち、円筒形マンドレル法(JIS K5600−5−1)に準拠し、直径の異なる複数のマンドレルに、試料片を巻き付け、その巻き付け部分にクラックが生じるか否かを目視で観察し、以下の基準で評価した。
[Flexibility]
Each transparent conductive laminate was cut into 1 × 10 cm squares to prepare sample pieces, and the bending resistance was determined based on the following method. That is, based on the cylindrical mandrel method (JIS K5600-5-1), a sample piece is wound around a plurality of mandrels having different diameters, and whether or not a crack is generated in the wound portion is visually observed. It was evaluated with.

○:直径4mm以下のマンドレルでクラックが生じない
×:直径4mm以下のマンドレルでクラックが生じた。
○: No crack is generated in a mandrel having a diameter of 4 mm or less. ×: A crack is generated in a mandrel having a diameter of 4 mm or less.

[X線回折(XRD)]
比較例1及び実施例1〜2の透明導電膜について、全自動水平型多目的X線回折装置((株)リガク製「SmartLab」)を用いて、XRDパターンを分析した。
[X-ray diffraction (XRD)]
About the transparent conductive film of the comparative example 1 and Examples 1-2, the XRD pattern was analyzed using the fully automatic horizontal multi-purpose X-ray-diffraction apparatus (Rigaku Co., Ltd. "SmartLab").

[共重合体の作製]
(実施例1〜4)
乾燥したガラス反応器に、表1に示す各モノマー及び表2に示す触媒及び助触媒を添加した。なお、触媒及び助触媒は、それぞれトルエンに溶解させた状態で反応器に添加した。表3に示す重合温度及び重合時間で、反応器内を撹拌して重合を継続した後、2−プロパノール1質量部を添加して反応を終了させた。次いで、得られた重合反応液に表3に示す濃塩酸を室温で添加し30分間撹拌した後、溶液量(体積)の1/3量のイオン交換水を添加し、さらに10分間撹拌した。得られた重合反応液及び水層の混合物を分液ロートに移し、水層を分離、廃棄した。次いで、重合反応液が入った分液ロートに先と同量のイオン交換水を添加して重合反応液を洗浄した後、水層を分離した。イオン交換水による重合反応液の洗浄を数回繰り返して水層が中性になった後、重合反応液を多量のメタノールに注いで重合体を完全に析出させ、濾別及び洗浄を行った後、60℃以上で1日間以上減圧乾燥して各共重合体を得た。得られた共重合体の重量を測定した(表3中の「収量」)。使用した触媒量に対する得られた共重合体の割合を算出した(表3中の「g(共重合体)/g(触媒)」)。
[Production of copolymer]
(Examples 1-4)
Each monomer shown in Table 1 and the catalyst and promoter shown in Table 2 were added to the dried glass reactor. The catalyst and the cocatalyst were each added to the reactor in a state dissolved in toluene. At the polymerization temperature and polymerization time shown in Table 3, the inside of the reactor was stirred and polymerization was continued, and then 1 part by mass of 2-propanol was added to terminate the reaction. Next, after adding concentrated hydrochloric acid shown in Table 3 to the obtained polymerization reaction liquid at room temperature and stirring for 30 minutes, 1/3 amount of ion-exchanged water of the solution amount (volume) was added, and further stirred for 10 minutes. The resulting mixture of the polymerization reaction solution and the aqueous layer was transferred to a separatory funnel, and the aqueous layer was separated and discarded. Next, the same amount of ion exchange water as above was added to the separatory funnel containing the polymerization reaction solution to wash the polymerization reaction solution, and then the aqueous layer was separated. After washing the polymerization reaction solution with ion-exchanged water several times to neutralize the aqueous layer, after pouring the polymerization reaction solution into a large amount of methanol to completely precipitate the polymer, filtering and washing Each copolymer was obtained by drying under reduced pressure at 60 ° C. or more for 1 day or more. The weight of the obtained copolymer was measured (“Yield” in Table 3). The ratio of the obtained copolymer to the amount of catalyst used was calculated (“g (copolymer) / g (catalyst)” in Table 3).

なお、使用した触媒及び助触媒の種類は下記の通りである。   The types of catalyst and cocatalyst used are as follows.

触媒A:[(t−BuNSiMeFlu)TiMe
助触媒A:6.5質量%(Al原子の含有量として)MMAO−3Aトルエン溶液([(CH)0.7(iso−C)0.3AlO]nで表されるメチルイソブチルアルミノキサンの溶液、東ソー・ファインケム(株)製、全Al量に対して6mol%のトリメチルアルミニウムを含有する)
助触媒B:9.0質量%(Al原子の含有量として)TMAO−211トルエン溶液(メチルアルミノキサンの溶液、東ソー・ファインケム(株)製、全Al量に対して26mol%のトリメチルアルミニウムを含有する)
Catalyst A: [(t-BuNSiMe 2 Flu) TiMe 2 ]
Cocatalyst A: 6.5% by mass (as Al atom content) MMAO-3A toluene solution ([(CH 3 ) 0.7 (iso-C 4 H 9 ) 0.3 AlO] n represented by methyl (A solution of isobutylaluminoxane, manufactured by Tosoh Finechem Co., Ltd., containing 6 mol% of trimethylaluminum based on the total amount of Al)
Cocatalyst B: 9.0% by mass (as Al atom content) TMAO-211 toluene solution (methylaluminoxane solution, manufactured by Tosoh Finechem Co., Ltd.), containing 26 mol% trimethylaluminum with respect to the total Al amount )

表1及び2中の「部」の値は、2−ノルボルネン100質量部に対する値(質量部)である。また、表2中の助触媒A及び助触媒Bについて、「部」の値はトルエン溶液としての値(質量部)である。   The value of “part” in Tables 1 and 2 is a value (part by mass) with respect to 100 parts by mass of 2-norbornene. Moreover, about the promoter A and the promoter B of Table 2, the value of "part" is a value (mass part) as a toluene solution.

さらに、各共重合体の数平均分子量、ガラス転移温度(Tg)、組成比(A)/(B)(モル比)、Al含量を表4に示す。   Further, Table 4 shows the number average molecular weight, glass transition temperature (Tg), composition ratio (A) / (B) (molar ratio), and Al content of each copolymer.

Figure 2016207041
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Figure 2016207041
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[透明フィルムの作製]
実施例1〜4の各共重合体20質量部、トルエン80質量部を密閉容器に入れ、ゆっくり撹拌しながら24時間かけて各共重合体を溶解させた。得られた溶液を10μmメッシュで加圧ろ過した後、さらに24時間静置し、溶液中の泡を除いた。次いで、バーコーターを用いて、PET基材(東レ(株)製、商品名「T−60」)の表面に、各溶液(溶液温度20℃)を流延した。流延後、PET基材を密閉し、表面を均一にする(レベリングする)ために1分間静置した。レベリング後、PET基材を、温風乾燥機によって60℃で5分間乾燥させた後、PET基材からフィルムを剥離した。次いで、このフィルムをステンレス製の枠に固定し、減圧乾燥機によって減圧した状態で、210℃で30分間乾燥させ、透明フィルム(膜厚100μm)を得た。
[Preparation of transparent film]
20 parts by mass of each copolymer of Examples 1 to 4 and 80 parts by mass of toluene were placed in a sealed container, and each copolymer was dissolved over 24 hours with slow stirring. The obtained solution was pressure filtered through a 10 μm mesh, and then allowed to stand for 24 hours to remove bubbles in the solution. Next, each solution (solution temperature 20 ° C.) was cast on the surface of a PET base material (trade name “T-60”, manufactured by Toray Industries, Inc.) using a bar coater. After casting, the PET substrate was sealed and allowed to stand for 1 minute in order to make the surface uniform (leveling). After leveling, the PET substrate was dried at 60 ° C. for 5 minutes by a hot air dryer, and then the film was peeled from the PET substrate. Next, this film was fixed to a stainless steel frame and dried at 210 ° C. for 30 minutes in a state where the pressure was reduced by a vacuum dryer, to obtain a transparent film (film thickness 100 μm).

(比較例1)
2−ノルボルネン・エチレン共重合体フィルム(TOPAS Advanced Polymers,GmbH社製「TOPAS(登録商標)6017S−04」)を用いた。
(Comparative Example 1)
A 2-norbornene / ethylene copolymer film ("TOPAS (registered trademark) 6017S-04" manufactured by TOPAS Advanced Polymers, GmbH) was used.

(比較例2)
透明フィルムの代わりに、ガラス板(厚さ1mm、10cm角のソーダライムガラス板)を用いた。
(Comparative Example 2)
Instead of the transparent film, a glass plate (1 mm thick, 10 cm square soda lime glass plate) was used.

(比較例3)
二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルム(帝人デュポンフィルム(株)製「テオネックスQ65HA」厚み50μm)を用いた。
(Comparative Example 3)
A biaxially stretched polyethylene naphthalate film (“Teonex Q65HA” thickness 50 μm, manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.) was used.

[透明導電層の形成]
実施例1〜4で得られた各透明フィルム(10cm角にカット)、比較例1又は3の透明フィルム(10cm角にカット)、又は比較例2のガラス板の上にアルゴンガスの流量を150sccm、酸素ガスの流量を6sccm、製膜温度195℃として第一層である酸化ケイ素層を20nm、第二層であるインジウムスズ酸化物層(酸化スズの含有量10%)を25nmスパッタリングにて積層し、透明導電性積層体を得た。
[Formation of transparent conductive layer]
On each transparent film (cut to 10 cm square) obtained in Examples 1 to 4, the transparent film of Comparative Example 1 or 3 (cut to 10 cm square), or the glass plate of Comparative Example 2, the flow rate of argon gas was 150 sccm. Then, the flow rate of oxygen gas is 6 sccm, the film forming temperature is 195 ° C., the first layer of silicon oxide layer is 20 nm, the second layer of indium tin oxide layer (tin oxide content 10%) is laminated by 25 nm sputtering. Thus, a transparent conductive laminate was obtained.

なお、比較例1で得られた透明フィルムは溶融し、透明導電性積層体を得ることはできなかった。一方、他の透明フィルムは溶融することなく、透明導電膜を得ることができた。各々の透明導電性積層体の各種特性値を表4に示す。   In addition, the transparent film obtained in Comparative Example 1 was melted, and a transparent conductive laminate could not be obtained. On the other hand, a transparent conductive film could be obtained without melting other transparent films. Various characteristic values of each transparent conductive laminate are shown in Table 4.

Figure 2016207041
Figure 2016207041

なお、比較例1及び実施例1〜2の透明導電膜について、XRDを測定したところ、いずれもインジウムスズ酸化物の結晶成分に起因する回折ピークが観察できた。   In addition, when XRD was measured about the transparent conductive film of the comparative example 1 and Examples 1-2, all were able to observe the diffraction peak resulting from the crystal component of an indium tin oxide.

(実施例5)
(第一層の塗布液の調製)
トルエン、メチルエチルケトン、及びテトラヒドロフラン(トルエン:メチルエチルケトン:テトラヒドロフラン(質量部)=1.5:1.5:7)を混合し、撹拌して均一な溶媒(溶剤)を調製した。この溶媒に、塩化ビニリデン系重合体(旭化成ケミカルズ(株)製「PVDCレジンR204」)100質量部、及びトリレンジイソシアネート(TDI)3質量部を溶解し、固形分濃度3質量%の塗布液Pを得た。
(Example 5)
(Preparation of coating solution for the first layer)
Toluene, methyl ethyl ketone, and tetrahydrofuran (toluene: methyl ethyl ketone: tetrahydrofuran (parts by mass) = 1.5: 1.5: 7) were mixed and stirred to prepare a uniform solvent (solvent). In this solvent, 100 parts by mass of vinylidene chloride polymer (“PVDC Resin R204” manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation) and 3 parts by mass of tolylene diisocyanate (TDI) are dissolved, and the coating solution P having a solid content concentration of 3% by mass is dissolved. Got.

(第二層の塗布液の調製)
実施例1で得られた共重合体をトルエンに撹拌溶解し、固形分濃度5質量%の塗布液Cを得た。
(Preparation of coating solution for the second layer)
The copolymer obtained in Example 1 was stirred and dissolved in toluene to obtain a coating liquid C having a solid content concentration of 5% by mass.

(積層フィルムの製造)
プラスチック基材として、二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルム(帝人デュポンフィルム(株)製「テオネックスQ65HA」、厚み50μm)を用い、塗布液Pをメイヤーバーコーティング法によりコーティングし、130℃の温度で1分間乾燥して第一層を形成した。さらに、第一層に塗布液Cをメイヤーバーコーティング法によりコーティングし、100℃の温度で1分間乾燥して第二層を形成し透明積層フィルムを得た。第一層の厚みは0.15μm、第二層の厚みは0.35μmであった。
(Manufacture of laminated film)
A biaxially stretched polyethylene naphthalate film (“Teonex Q65HA” manufactured by Teijin DuPont Films Co., Ltd., thickness 50 μm) is used as a plastic substrate, and coating solution P is coated by the Mayer bar coating method at a temperature of 130 ° C. for 1 minute. Dry to form the first layer. Further, the coating liquid C was coated on the first layer by the Mayer bar coating method, and dried at a temperature of 100 ° C. for 1 minute to form a second layer to obtain a transparent laminated film. The thickness of the first layer was 0.15 μm, and the thickness of the second layer was 0.35 μm.

(実施例6)
実施例2で得られた共重合体を使用した以外は実施例5に準じて透明積層フィルムを作製した。
(Example 6)
A transparent laminated film was produced according to Example 5 except that the copolymer obtained in Example 2 was used.

(実施例7)
実施例3で得られた共重合体を使用した以外は実施例5に準じて透明積層フィルムを作製した。
(Example 7)
A transparent laminated film was produced according to Example 5 except that the copolymer obtained in Example 3 was used.

(実施例8)
実施例4で得られた共重合体を使用した以外は実施例5に準じて透明積層フィルムを作製した。
(Example 8)
A transparent laminated film was produced according to Example 5 except that the copolymer obtained in Example 4 was used.

(比較例4)
プラスチック基材として、二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルム(帝人デュポンフィルム(株)製「テオネックスQ65HA」、厚み50μm)を用い、その一面に脂肪族ウレタンアクリレート(ADEKA(株)製「HC−500−60」)をメイヤーバーコーティング法によりコーティングし、100℃の温度で1分間乾燥し、紫外線を照射(100mJ/cm)することで透明積層フィルムを得た。脂肪族ウレタンアクリレートの厚みは1.5μmであった。
(Comparative Example 4)
As a plastic substrate, a biaxially stretched polyethylene naphthalate film (“Teonex Q65HA” manufactured by Teijin DuPont Films Co., Ltd., thickness 50 μm) was used, and aliphatic urethane acrylate (“ADEKA Co., Ltd.“ HC-500-60 ”was used on one side thereof. )) Was coated by the Mayer bar coating method, dried at a temperature of 100 ° C. for 1 minute, and irradiated with ultraviolet rays (100 mJ / cm 2 ) to obtain a transparent laminated film. The thickness of the aliphatic urethane acrylate was 1.5 μm.

[透明導電層の形成]
実施例5〜8及び比較例4で得られた各透明積層フィルム(10cm角にカット)上にアルゴンガスの流量を150sccm、酸素ガスの流量を6sccm、製膜温度100℃として第一層である酸化ケイ素層を20nm、第二層であるインジウムスズ酸化物層(酸化スズの含有量10%)を25nmスパッタリングにて積層した。さらに200℃で60分間熱処理した。熱処理前後で表面抵抗値を測定した。得られた透明導電性積層体の各種特性を表5に示す。
[Formation of transparent conductive layer]
On each transparent laminated film (cut to 10 cm square) obtained in Examples 5 to 8 and Comparative Example 4, the flow rate of argon gas is 150 sccm, the flow rate of oxygen gas is 6 sccm, and the film forming temperature is 100 ° C., which is the first layer. A silicon oxide layer was laminated by 20 nm, and an indium tin oxide layer (content of tin oxide 10%) as a second layer was laminated by 25 nm sputtering. Further, heat treatment was performed at 200 ° C. for 60 minutes. The surface resistance value was measured before and after the heat treatment. Various characteristics of the obtained transparent conductive laminate are shown in Table 5.

Figure 2016207041
Figure 2016207041

実施例5〜8で得られた透明導電性積層体は、比較例4で得られた透明導電性積層体よりもインジウムスズ酸化物層の結晶化が進んでおり、表面抵抗値は低かった。   In the transparent conductive laminates obtained in Examples 5 to 8, the indium tin oxide layer was crystallized more than the transparent conductive laminate obtained in Comparative Example 4, and the surface resistance value was low.

本発明の透明導電性積層体は、透明導電層をパターン化して利用する各種の光学表示装置に利用でき、例えば、パーソナルコンピューター、テレビ、携帯電話(スマートフォン)、電子ペーパー、遊技機器、モバイル機器、時計、電卓などの電気・電子又は精密機器の表示部において、表示装置(液晶表示装置、プラズマディスプレイ装置、有機又は無機EL表示装置など)と組み合わせて用いられるタッチパネルに利用できる。特に、優れた視認性から、ITOグリッド方式を採用する投影型静電容量方式タッチパネルの視認側の上部電極板に有用である。   The transparent conductive laminate of the present invention can be used in various optical display devices that use a transparent conductive layer in a pattern, such as a personal computer, a television, a mobile phone (smartphone), electronic paper, a game machine, a mobile device, It can be used for a touch panel used in combination with a display device (a liquid crystal display device, a plasma display device, an organic or inorganic EL display device, etc.) in a display unit of an electric / electronic or precision instrument such as a clock or a calculator. In particular, because of excellent visibility, it is useful for the upper electrode plate on the viewing side of a projected capacitive touch panel employing an ITO grid method.

Claims (14)

ポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリスルホン系樹脂及びポリアリールケトンからなる群より選択された少なくとも1種の透明樹脂を含む基材層と、側鎖に炭素数2〜10のアルキル基を有するオレフィン単位を含む環状オレフィン系樹脂を含む機能層と、透明導電層とを順次含む透明導電性積層体。   A base material layer containing at least one transparent resin selected from the group consisting of polyester, polycarbonate, polyimide, polysulfone resin and polyaryl ketone, and an olefin unit having an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms in the side chain A transparent conductive laminate comprising a functional layer containing a cyclic olefin-based resin and a transparent conductive layer sequentially. 環状オレフィン系樹脂が、繰り返し単位として、炭素数2〜10のアルキル基を有する鎖状オレフィン単位及び/又は炭素数2〜10のアルキル基を有する環状オレフィン単位を含む請求項1記載の透明導電性積層体。   The transparent electroconductivity of Claim 1 in which cyclic olefin resin contains the cyclic olefin unit which has a chain olefin unit which has a C2-C10 alkyl group, and / or a C2-C10 alkyl group as a repeating unit. Laminated body. 環状オレフィン系樹脂が、繰り返し単位として、炭素数2〜10のアルキル基を有さない環状オレフィン単位(A)と、炭素数2〜10のアルキル基を有する鎖状又は環状オレフィン単位(B)とを含む共重合体である請求項1又は2記載の透明導電性積層体。   The cyclic olefin-based resin has, as repeating units, a cyclic olefin unit (A) having no alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, a chain or cyclic olefin unit (B) having an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, and The transparent conductive laminate according to claim 1, which is a copolymer containing 鎖状又は環状オレフィン単位(B)が、炭素数4〜8の直鎖状アルキル基を有するエチレン又はノルボルネン単位である請求項3記載の透明導電性積層体。   The transparent conductive laminate according to claim 3, wherein the chain or cyclic olefin unit (B) is an ethylene or norbornene unit having a linear alkyl group having 4 to 8 carbon atoms. 環状オレフィン単位(A)と鎖状又は環状オレフィン単位(B)との割合(モル比)が、前者/後者=50/50〜99/1である請求項3又は4記載の透明導電性積層体。   The transparent conductive laminate according to claim 3 or 4, wherein the ratio (molar ratio) between the cyclic olefin unit (A) and the chain or cyclic olefin unit (B) is the former / the latter = 50/50 to 99/1. . 環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度が210〜350℃である請求項1〜5のいずれかに記載の透明導電性積層体。   The glass transition temperature of cyclic olefin resin is 210-350 degreeC, The transparent conductive laminated body in any one of Claims 1-5. 機能層のアルミニウム含量が50ppm以下である請求項1〜6のいずれかに記載の透明導電性積層体。   The transparent conductive laminate according to any one of claims 1 to 6, wherein the functional layer has an aluminum content of 50 ppm or less. 透明導電層が金属酸化物を含む請求項1〜7のいずれかに記載の透明導電性積層体。   The transparent conductive laminate according to claim 1, wherein the transparent conductive layer contains a metal oxide. 塩素含有樹脂を含むアンカーコート層をさらに含み、機能層と基材層との間に前記アンカーコート層が介在する請求項1〜8のいずれかに記載の透明導電性積層体。   The transparent conductive laminate according to claim 1, further comprising an anchor coat layer containing a chlorine-containing resin, wherein the anchor coat layer is interposed between the functional layer and the base material layer. 全光線透過率が80%以上であり、かつヘーズが2%以下である請求項1〜9のいずれかに記載の透明導電性積層体。   The transparent conductive laminate according to claim 1, having a total light transmittance of 80% or more and a haze of 2% or less. 透明導電層の表面抵抗値が50〜200Ω/□である請求項1〜10のいずれかに記載の透明導電性積層体。   The transparent conductive laminate according to claim 1, wherein the transparent conductive layer has a surface resistance value of 50 to 200Ω / □. JIS K5600−5−1に準拠した耐屈曲性試験におけるマンドレルの直径が4mm以下である請求項1〜11のいずれかに記載の透明導電性積層体。   The transparent conductive laminate according to any one of claims 1 to 11, wherein the mandrel has a diameter of 4 mm or less in a bending resistance test according to JIS K5600-5-1. 請求項1〜7のいずれかに記載の機能層の上に、金属酸化物を含む透明導電層を形成する透明導電層形成工程を含む透明導電性積層体の製造方法であって、前記透明導電層形成工程において、180℃以上の温度でスパッタリングして透明導電層を形成するか、スパッタリングした後、180℃以上の温度で加熱して透明導電層を形成する製造方法。   It is a manufacturing method of the transparent conductive laminated body including the transparent conductive layer formation process which forms the transparent conductive layer containing a metal oxide on the functional layer in any one of Claims 1-7, Comprising: The said transparent conductive layer In the layer forming step, a transparent conductive layer is formed by sputtering at a temperature of 180 ° C. or higher, or after the sputtering, a transparent conductive layer is formed by heating at a temperature of 180 ° C. or higher. 基材層の上にコーティングにより機能層を形成する機能層形成工程をさらに含む請求項13に記載の製造方法。   The manufacturing method of Claim 13 which further includes the functional layer formation process which forms a functional layer by coating on a base material layer.
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