JP2016197157A - Liquid crystal panel and liquid crystal display - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal panel that maintains transmittance of light through a black matrix provided in a display area and has reduced transmittance of light through a peripheral area including a wiring area.SOLUTION: A substrate includes a display area R10 and a peripheral area R20. In a plan view, the peripheral area R20 includes a wiring area R20w provided with a wiring generating an electric field in a liquid crystal layer. The transmittance of light through a peripheral BM area of the peripheral area R20 where a black matrix is provided is smaller than the transmittance of light through a black matrix provided in the display area R10.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、特定の領域の光の透過率が調整された液晶パネルおよび液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal panel and a liquid crystal display device in which light transmittance in a specific region is adjusted.

昼間の屋外のような明るい環境で液晶表示装置を使用する際、当該液晶表示装置が表示する映像の視認性は悪い。そこで、上記の明るい環境における、液晶表示装置が表示する映像の視認性の向上が求められる。   When a liquid crystal display device is used in a bright environment such as outdoors in the daytime, the visibility of the image displayed by the liquid crystal display device is poor. Therefore, it is required to improve the visibility of the image displayed by the liquid crystal display device in the bright environment.

特許文献1では、映像の視認性を向上させるために、各画素を構成する開口領域の光の透過率を向上させる技術(以下、「関連技術A」ともいう)が開示されている。具体的には、関連技術Aでは、ブラックマトリクスが酸化コバルト粒子を含むように構成される。これにより、液晶層に印加される電界パターンを調整することにより、開口領域の光の透過率を向上させている。   Patent Document 1 discloses a technique (hereinafter, also referred to as “Related Art A”) for improving the light transmittance of an opening area constituting each pixel in order to improve the visibility of an image. Specifically, in Related Art A, the black matrix is configured to include cobalt oxide particles. Thereby, the light transmittance of the opening region is improved by adjusting the electric field pattern applied to the liquid crystal layer.

なお、映像の視認性を向上させるためには、バックライトが出射する光の輝度を大きくする構成、映像を表示するために使用される光の利用効率を向上させる構成等も考えられる。   In addition, in order to improve the visibility of an image, a configuration for increasing the luminance of light emitted from the backlight, a configuration for improving the utilization efficiency of light used for displaying an image, and the like are also conceivable.

一般に、液晶表示装置に含まれる液晶パネルでは、映像が表示される表示領域の周辺に設けられる周辺領域にも液晶層は存在する。なお、周辺領域の液晶層に対しても電界が印加されるため、周辺領域から意図しない光が生じるという光抜けが発生するという問題がある。   In general, in a liquid crystal panel included in a liquid crystal display device, a liquid crystal layer also exists in a peripheral region provided around a display region where an image is displayed. In addition, since an electric field is applied also to the liquid crystal layer in the peripheral region, there is a problem that light leakage occurs such that unintended light is generated from the peripheral region.

特許文献2では、上記の光抜けの対策として、表示領域の外周部(周辺領域)に、光学濃度(OD値)が大きいブラックマトリクスを設ける技術(以下、「関連技術B」ともいう)が開示されている。   Patent Document 2 discloses a technique (hereinafter also referred to as “Related Technology B”) in which a black matrix having a large optical density (OD value) is provided in the outer peripheral portion (peripheral region) of the display region as a countermeasure against the above-described light leakage. Has been.

特開平09−043590号公報(段落0056)JP 09-043590 A (paragraph 0056) 特開平10−170958号公報JP-A-10-170958

液晶パネルにおいて、表示領域の周辺に設けられる周辺領域には、電界を発生させる配線が設けられている領域(以下、「配線領域」ともいう)が存在する。当該配線は、表示領域に信号を供給するための配線である。当該配線は、例えば、接続配線(信号引き出し配線)、検査回路の配線等である。配線領域は、当該配線により電界が発生し、液晶層に電界が印加される領域であるため、周辺領域の他の領域よりも光抜けが発生しやすい。そのため、表示領域に設けられたブラックマトリクスの光の透過率(遮光度)を維持しつつ、配線領域を有する周辺領域の光の透過率を低くすることが求められる。   In a liquid crystal panel, a peripheral region provided around a display region includes a region where wiring for generating an electric field is provided (hereinafter also referred to as “wiring region”). The wiring is a wiring for supplying a signal to the display area. The wiring is, for example, connection wiring (signal lead-out wiring), inspection circuit wiring, or the like. Since the wiring region is a region where an electric field is generated by the wiring and an electric field is applied to the liquid crystal layer, light leakage is more likely to occur than other regions in the peripheral region. Therefore, it is required to reduce the light transmittance of the peripheral region having the wiring region while maintaining the light transmittance (light shielding degree) of the black matrix provided in the display region.

本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、表示領域に設けられたブラックマトリクスの光の透過率を維持しつつ、配線領域を有する周辺領域の光の透過率を低くした液晶パネル等を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve such a problem, and while maintaining the light transmittance of the black matrix provided in the display region, the light transmittance of the peripheral region having the wiring region is lowered. An object is to provide a liquid crystal panel and the like.

上記目的を達成するために、本発明の一態様に係る液晶パネルは、透光性を有する第1基板と、透光性を有し、前記第1基板と対向する第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に設けられる液晶層と、を備え、前記第2基板は、平面視において、映像を表示するための表示領域と、平面視において、前記表示領域の周辺に設けられる周辺領域とを有し、平面視において、前記周辺領域は配線領域を有し、前記配線領域には、前記液晶層において電界を発生させる配線が設けられ、前記第2基板のうち前記液晶層に接する面側には、樹脂で構成されたブラックマトリクスが設けられ、前記ブラックマトリクスは、前記第2基板が有する前記表示領域において画素を形成するように、当該表示領域の一部に設けられ、前記ブラックマトリクスは、さらに、前記第2基板が有する前記周辺領域の一部または全てに設けられ、前記周辺領域のうち前記ブラックマトリクスが設けられた領域である第1領域の光の透過率は、前記表示領域に設けられた前記ブラックマトリクスの光の透過率より小さい。   In order to achieve the above object, a liquid crystal panel according to one embodiment of the present invention includes a light-transmitting first substrate, a light-transmitting second substrate facing the first substrate, and the first substrate. A liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate, and the second substrate has a display area for displaying an image in plan view and a periphery of the display area in plan view. A peripheral region provided in a plan view, the peripheral region has a wiring region, and the wiring region is provided with wiring for generating an electric field in the liquid crystal layer, and the liquid crystal of the second substrate A black matrix made of a resin is provided on the side in contact with the layer, and the black matrix is provided in a part of the display area so as to form pixels in the display area of the second substrate. The black matri The second substrate is further provided in a part or all of the peripheral region of the second substrate, and the light transmittance of the first region which is the region where the black matrix is provided in the peripheral region is the display It is smaller than the light transmittance of the black matrix provided in the region.

本発明によれば、第2基板は、表示領域と周辺領域とを有する。平面視において、前記周辺領域は液晶層において電界を発生させる配線が設けられる配線領域を有する。前記周辺領域のうち前記ブラックマトリクスが設けられた領域である第1領域の光の透過率は、前記表示領域に設けられた前記ブラックマトリクスの光の透過率より小さい。   According to the present invention, the second substrate has a display area and a peripheral area. In a plan view, the peripheral region has a wiring region in which wiring for generating an electric field is provided in the liquid crystal layer. The light transmittance of the first region, which is the region where the black matrix is provided in the peripheral region, is smaller than the light transmittance of the black matrix provided in the display region.

これにより、表示領域に設けられたブラックマトリクスの光の透過率を維持しつつ、配線領域を有する周辺領域の光の透過率を低くした液晶パネルを提供することが実現できる。   Accordingly, it is possible to provide a liquid crystal panel that maintains the light transmittance of the black matrix provided in the display region and reduces the light transmittance of the peripheral region having the wiring region.

本発明の実施の形態1に係る液晶表示装置に含まれる液晶パネルの構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the liquid crystal panel contained in the liquid crystal display device which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る液晶表示装置に含まれる液晶パネルの断面図である。It is sectional drawing of the liquid crystal panel contained in the liquid crystal display device which concerns on Embodiment 1 of this invention. 画素部を説明するための図である。It is a figure for demonstrating a pixel part. 本発明の実施の形態1に係る液晶パネルの構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the liquid crystal panel which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る液晶パネルの断面図である。It is sectional drawing of the liquid crystal panel which concerns on Embodiment 1 of this invention. ブラックマトリクスおよび色材の厚みを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the thickness of a black matrix and a color material. リタデーションと透過率との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between retardation and the transmittance | permeability. 本発明の実施の形態1の変形構成X1aに係る液晶パネルの断面図である。It is sectional drawing of the liquid crystal panel which concerns on the deformation | transformation structure X1a of Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態2に係る液晶パネルの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the liquid crystal panel which concerns on Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態2の変形構成A1に係る液晶パネルの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the liquid crystal panel which concerns on deformation | transformation structure A1 of Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態2の変形構成A2に係る液晶パネルの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the liquid crystal panel which concerns on deformation | transformation structure A2 of Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態2の変形構成Axに係る液晶パネルの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the liquid crystal panel which concerns on the deformation | transformation structure Ax of Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態2の変形構成A1xに係る液晶パネルの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the liquid crystal panel which concerns on deformation | transformation structure A1x of Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態2の変形構成A2xに係る液晶パネルの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the liquid crystal panel which concerns on deformation | transformation structure A2x of Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態3に係る液晶パネルの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the liquid crystal panel which concerns on Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態4に係る液晶パネルの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the liquid crystal panel which concerns on Embodiment 4 of this invention. 本発明の実施の形態4の変形構成Cxに係る液晶パネルの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the liquid crystal panel which concerns on the deformation | transformation structure Cx of Embodiment 4 of this invention. 本発明の実施の形態5に係る液晶パネルの構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the liquid crystal panel which concerns on Embodiment 5 of this invention. 本発明の実施の形態5に係る液晶パネルの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the liquid crystal panel which concerns on Embodiment 5 of this invention. 本発明の実施の形態6に係る液晶パネルの構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the liquid crystal panel which concerns on Embodiment 6 of this invention. 本発明の実施の形態6に係る液晶パネルの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the liquid crystal panel which concerns on Embodiment 6 of this invention. 液晶パネルの製造方法のフローチャートである。It is a flowchart of the manufacturing method of a liquid crystal panel. 比較例に係る液晶パネルの平面図である。It is a top view of the liquid crystal panel which concerns on a comparative example. 色材の一部がBM開口側部上に設けられていない構成を示す図である。It is a figure which shows the structure where a part of coloring material is not provided on BM opening side part.

以下、図面を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明する。以下の説明では、同一の構成要素には同一の符号を付してある。それらの名称および機能も同じである。したがって、それらについての詳細な説明を省略する場合がある。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, the same components are denoted by the same reference numerals. Their names and functions are also the same. Therefore, detailed description thereof may be omitted.

なお、実施の形態において例示される各構成要素の寸法、材質、形状、それらの相対配置などは、本発明が適用される装置の構成や各種条件により適宜変更されるものであり、本発明はそれらの例示に限定されるものではない。また、各図における各構成要素の寸法は、実際の寸法と異なる場合がある。   It should be noted that the dimensions, materials, shapes, relative arrangements, and the like of the constituent elements exemplified in the embodiments are appropriately changed depending on the configuration of the apparatus to which the present invention is applied and various conditions. It is not limited to those examples. Moreover, the dimension of each component in each figure may differ from an actual dimension.

<実施の形態1>
(液晶表示装置(液晶パネル)の構成)
図1は、本発明の実施の形態1に係る液晶表示装置500に含まれる液晶パネル100の構成を示す平面図である。なお、図1では、液晶表示装置500に含まれる液晶パネル100の構成のみを示している。
<Embodiment 1>
(Configuration of liquid crystal display device (liquid crystal panel))
FIG. 1 is a plan view showing a configuration of a liquid crystal panel 100 included in a liquid crystal display device 500 according to Embodiment 1 of the present invention. In FIG. 1, only the configuration of the liquid crystal panel 100 included in the liquid crystal display device 500 is shown.

また、図1では、構成を分かり易くするために、一部の構成要素を、省略または簡略化して示している。例えば、図1では、構成を分かり易くするために、後述の基板120については、当該基板120の輪郭のみを示している。   In FIG. 1, some components are omitted or simplified for easy understanding of the configuration. For example, in FIG. 1, only the outline of the substrate 120 is shown for a substrate 120 described later for easy understanding of the configuration.

図1において、X方向、Y方向およびZ方向の各々は、互いに直交する。以下の図に示されるX方向、Y方向およびZ方向の各々も、互いに直交する。以下においては、X方向と、当該X方向の反対の方向(−X方向)とを含む方向を「X軸方向」ともいう。また、以下においては、Y方向と、当該Y方向の反対の方向(−Y方向)とを含む方向を「Y軸方向」ともいう。また、以下においては、Z方向と、当該Z方向の反対の方向(−Z方向)とを含む方向を「Z軸方向」ともいう。   In FIG. 1, the X direction, the Y direction, and the Z direction are orthogonal to each other. Each of the X direction, the Y direction, and the Z direction shown in the following figures is also orthogonal to each other. Hereinafter, a direction including the X direction and the direction opposite to the X direction (−X direction) is also referred to as “X axis direction”. In the following, the direction including the Y direction and the direction opposite to the Y direction (−Y direction) is also referred to as “Y-axis direction”. Hereinafter, a direction including the Z direction and a direction opposite to the Z direction (−Z direction) is also referred to as a “Z-axis direction”.

また、以下においては、X軸方向およびY軸方向を含む平面を、「XY面」ともいう。また、以下においては、X軸方向およびZ軸方向を含む平面を、「XZ面」ともいう。また、以下においては、Y軸方向およびZ軸方向を含む平面を、「YZ面」ともいう。   Hereinafter, a plane including the X-axis direction and the Y-axis direction is also referred to as an “XY plane”. Hereinafter, a plane including the X-axis direction and the Z-axis direction is also referred to as an “XZ plane”. Hereinafter, a plane including the Y-axis direction and the Z-axis direction is also referred to as a “YZ plane”.

図2は、本発明の実施の形態1に係る液晶表示装置500に含まれる液晶パネル100の断面図である。なお、図2では、液晶表示装置500に含まれる液晶パネル100の構成のみを示している。具体的には、図2は、図1のA1−A2線に沿った、液晶パネル100の断面図である。図2では、構成を分かり易くするために、一部の構成要素を、省略または簡略化して示している。   FIG. 2 is a cross-sectional view of liquid crystal panel 100 included in liquid crystal display device 500 according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 2 shows only the configuration of the liquid crystal panel 100 included in the liquid crystal display device 500. Specifically, FIG. 2 is a cross-sectional view of the liquid crystal panel 100 taken along line A1-A2 of FIG. In FIG. 2, some components are omitted or simplified for easy understanding of the configuration.

図1および図2を参照して、液晶表示装置500は、液晶パネル100と、後述のバックライトユニット(図示せず)等とを備える。なお、液晶表示装置500は、バックライトユニット(図示せず)が出射する光を利用して液晶パネル100の後述の表示領域R10に映像を表示する。   1 and 2, liquid crystal display device 500 includes a liquid crystal panel 100, a backlight unit (not shown), which will be described later, and the like. The liquid crystal display device 500 displays an image on a display region R10 (to be described later) of the liquid crystal panel 100 using light emitted from a backlight unit (not shown).

液晶パネル100は、一例として、TN(Twisted Nematic)モードの液晶パネルである。液晶パネル100は、制御基板135a,135bと、接続ケーブル136a,136bと、基板110,120と、液晶層30と、シール材SL1と、複数のスペーサSP1とを備える。   The liquid crystal panel 100 is, for example, a TN (Twisted Nematic) mode liquid crystal panel. The liquid crystal panel 100 includes control substrates 135a and 135b, connection cables 136a and 136b, substrates 110 and 120, a liquid crystal layer 30, a sealing material SL1, and a plurality of spacers SP1.

制御基板135a,135bは、液晶パネル100を制御するための回路等が実装された基板である。   The control boards 135a and 135b are boards on which a circuit for controlling the liquid crystal panel 100 is mounted.

基板110,120の各々は、透光性を有する。基板110は、液晶層30を制御するための構成を有するアレイ基板である。基板120は、当該基板120を透過する光を、色光として出射するカラーフィルタ基板である。当該色光は、例えば、赤色光、緑色光、青色光等である。基板120は、基板110と対向する。XY平面における基板110のサイズは、XY平面における基板120のサイズより大きい。   Each of the substrates 110 and 120 has translucency. The substrate 110 is an array substrate having a configuration for controlling the liquid crystal layer 30. The substrate 120 is a color filter substrate that emits light transmitted through the substrate 120 as color light. The color light is, for example, red light, green light, blue light, or the like. The substrate 120 faces the substrate 110. The size of the substrate 110 in the XY plane is larger than the size of the substrate 120 in the XY plane.

基板110および基板120は、シール材SL1により、互いに貼り合わせられる。シール材SL1は、例えば、樹脂で構成される。平面視(XY面)における、シール材SL1の形状は、閉ループ状(枠状)である。なお、基板110と基板120との間隔は、複数のスペーサSP1により、所定の間隔に設定されている。すなわち、各スペーサSP1は、基板110と基板120との間隔を規定するための部材である。すなわち、各スペーサSP1は、液晶層30の厚さを規定するための部材である。なお、平面視(XY面)において、各スペーサSP1は、後述の表示領域R10に設けられる。各スペーサSP1は、例えば、樹脂で構成される。スペーサSP1の形状は、例えば、柱状である。なお、スペーサSP1の形状は、球状であってもよい。   The substrate 110 and the substrate 120 are bonded to each other by the seal material SL1. The sealing material SL1 is made of resin, for example. The shape of the sealing material SL1 in a plan view (XY plane) is a closed loop shape (frame shape). In addition, the space | interval of the board | substrate 110 and the board | substrate 120 is set to the predetermined space | interval by several spacer SP1. That is, each spacer SP <b> 1 is a member for defining the distance between the substrate 110 and the substrate 120. That is, each spacer SP <b> 1 is a member for defining the thickness of the liquid crystal layer 30. Note that, in a plan view (XY plane), each spacer SP1 is provided in a display region R10 described later. Each spacer SP1 is made of resin, for example. The shape of the spacer SP1 is, for example, a columnar shape. The spacer SP1 may have a spherical shape.

液晶層30は、複数の液晶31を含む。なお、図2では、構成を見易くするために、2つの液晶31のみを示しているが、実際には、液晶層30は、非常に多くの液晶31を含む。基板110、基板120およびシール材SL1により形成される領域(空間)には、液晶層30が封入される。すなわち、液晶層30は、基板110と基板120との間に設けられる。   The liquid crystal layer 30 includes a plurality of liquid crystals 31. In FIG. 2, only two liquid crystals 31 are shown to make the configuration easy to see, but actually, the liquid crystal layer 30 includes a very large number of liquid crystals 31. A liquid crystal layer 30 is sealed in a region (space) formed by the substrate 110, the substrate 120, and the sealing material SL1. That is, the liquid crystal layer 30 is provided between the substrate 110 and the substrate 120.

なお、液晶パネル100は、滴下注入方式であるODF(One Drop Filling)方式により製造される。当該滴下注入方式では、シール材SL1が設けられた、基板110および基板120のいずれか一方の表面に、液滴としての複数の液晶が配置される。その後、各液晶は、基板110および基板120により挟まれる。これにより、基板110、基板120およびシール材SL1により形成される領域に液晶層30が封入されたが液晶パネル100が製造される。   The liquid crystal panel 100 is manufactured by an ODF (One Drop Filling) method which is a dropping injection method. In the dropping injection method, a plurality of liquid crystals as droplets are arranged on one surface of the substrate 110 and the substrate 120 provided with the sealing material SL1. Thereafter, each liquid crystal is sandwiched between the substrate 110 and the substrate 120. Thereby, the liquid crystal layer 30 is sealed in the region formed by the substrate 110, the substrate 120, and the sealing material SL1, but the liquid crystal panel 100 is manufactured.

従って、シール材SL1には、真空注入方式で製造される液晶パネルのように、液晶を注入するための開口部である注入口は形成されていない。そのため、シール材SL1は、当該シール材SL1に当該注入口を封止するための封止材が設けられていないという構造的な特徴を有する。   Accordingly, the sealing material SL1 is not formed with an injection port which is an opening for injecting liquid crystal unlike a liquid crystal panel manufactured by a vacuum injection method. Therefore, the sealing material SL1 has a structural feature that the sealing material for sealing the injection port is not provided in the sealing material SL1.

液晶パネル100は、表示領域R10と周辺領域R20とを有する。表示領域R10は、液晶パネル100が、平面視(XY面)において、映像を表示するための領域である。表示領域R10は、平面視(XY面)において行列状に配置された後述の複数の画素部5Pを含む。液晶パネル100は、当該複数の画素部5Pを利用して映像を表示する。   The liquid crystal panel 100 has a display region R10 and a peripheral region R20. The display area R10 is an area for the liquid crystal panel 100 to display an image in a plan view (XY plane). The display region R10 includes a plurality of pixel portions 5P described later arranged in a matrix in a plan view (XY plane). The liquid crystal panel 100 displays an image using the plurality of pixel units 5P.

図3は、画素部5Pを説明するための図である。画素部5Pは、画素5R,5G,5Bから構成される。画素5Rは、必要に応じて、赤色光を出射する画素である。画素5Gは、必要に応じて、緑色光を出射する画素である。画素5Bは、必要に応じて、青色光を出射する画素である。以下においては、画素5R,5G,5Bの各々を、「画素5」ともいう。また、以下においては、画素5が形成されている領域を、「画素領域」ともいう。   FIG. 3 is a diagram for explaining the pixel portion 5P. The pixel unit 5P includes pixels 5R, 5G, and 5B. The pixel 5R is a pixel that emits red light as necessary. The pixel 5G is a pixel that emits green light as necessary. The pixel 5B is a pixel that emits blue light as necessary. Hereinafter, each of the pixels 5R, 5G, and 5B is also referred to as a “pixel 5”. In the following, the region where the pixel 5 is formed is also referred to as a “pixel region”.

再び、図1および図2を参照して、周辺領域R20は、平面視(XY面)において、表示領域R10の周辺に設けられる。具体的には、周辺領域R20は、平面視(XY面)において、表示領域R10を囲む領域である。平面視(XY面)における周辺領域R20の形状は閉ループ状(額縁状)である。   Referring to FIGS. 1 and 2 again, peripheral region R20 is provided around display region R10 in plan view (XY plane). Specifically, the peripheral region R20 is a region surrounding the display region R10 in plan view (XY plane). The shape of the peripheral region R20 in a plan view (XY plane) is a closed loop shape (frame shape).

なお、表示領域R10および周辺領域R20は、液晶パネル100が構成される空間と、当該空間におけるXY面、XZ面およびYZ面とに対しても、液晶パネル100と同様に適用される。すなわち、表示領域R10および周辺領域R20は、液晶パネル100を構成する各構成要素(基板110,120、液晶層30等)に対しても、液晶パネル100と同様に適用される。そのため、例えば、液晶パネル100の基板120は、表示領域R10と周辺領域R20とを有する。   Note that the display region R10 and the peripheral region R20 are applied to the space in which the liquid crystal panel 100 is configured and the XY plane, XZ plane, and YZ plane in the space in the same manner as the liquid crystal panel 100. That is, the display region R10 and the peripheral region R20 are applied to each component (the substrates 110 and 120, the liquid crystal layer 30, etc.) constituting the liquid crystal panel 100 in the same manner as the liquid crystal panel 100. Therefore, for example, the substrate 120 of the liquid crystal panel 100 includes a display region R10 and a peripheral region R20.

なお、液晶層30は、平面視(XY面)において、表示領域R10全体に設けられる。また、液晶層30は、平面視(XY面)において、周辺領域R20の一部に設けられる。   The liquid crystal layer 30 is provided over the entire display region R10 in plan view (XY plane). Further, the liquid crystal layer 30 is provided in a part of the peripheral region R20 in plan view (XY plane).

次に、アレイ基板としての基板110について詳細に説明する。図1および図2を参照して、基板110は、偏光板51と、ガラス基板111と、複数の画素電極113と、複数のスイッチング素子SW1と、検査用配線119と、検査回路(図示せず)と、絶縁膜115と、配向膜112と、複数のゲート配線WG1と、複数のソース配線WS1と、端子116a,116bと、駆動IC(Integrated Circuit)141a,141bと、トランスファ電極(図示せず)とを含む。   Next, the substrate 110 as the array substrate will be described in detail. 1 and 2, a substrate 110 includes a polarizing plate 51, a glass substrate 111, a plurality of pixel electrodes 113, a plurality of switching elements SW1, an inspection wiring 119, and an inspection circuit (not shown). ), An insulating film 115, an alignment film 112, a plurality of gate wirings WG1, a plurality of source wirings WS1, terminals 116a and 116b, driving ICs (Integrated Circuits) 141a and 141b, and transfer electrodes (not shown). ).

偏光板51は、互いに直交する透過軸および吸収軸を有する。偏光板51は、吸収軸に沿って振動する光を吸収する。すなわち、偏光板51は、当該偏光板51の吸収軸に沿って振動する光を透過させない。   The polarizing plate 51 has a transmission axis and an absorption axis that are orthogonal to each other. The polarizing plate 51 absorbs light that vibrates along the absorption axis. That is, the polarizing plate 51 does not transmit light that vibrates along the absorption axis of the polarizing plate 51.

ガラス基板111は、透光性を有する透明基板である。ガラス基板111の一方の面には、複数のスイッチング素子SW1と検査用配線119とが設けられる。なお、前述の偏光板51は、ガラス基板111の他方の面に設けられる。   The glass substrate 111 is a transparent substrate having translucency. A plurality of switching elements SW1 and inspection wiring 119 are provided on one surface of the glass substrate 111. The polarizing plate 51 described above is provided on the other surface of the glass substrate 111.

各スイッチング素子SW1は、オン状態またはオフ状態に設定される。各スイッチング素子SW1は、例えば、TFT(Thin Film Transistor)である。検査用配線119は、各種の検査を行うための検査回路(図示せず)に接続されている。当該検査回路は、液晶表示装置500の製造が終了する前の状態(以下、「状態St1」ともいう)において使用される回路である。   Each switching element SW1 is set to an on state or an off state. Each switching element SW1 is, for example, a TFT (Thin Film Transistor). The inspection wiring 119 is connected to an inspection circuit (not shown) for performing various inspections. The inspection circuit is a circuit used in a state before the liquid crystal display device 500 is manufactured (hereinafter also referred to as “state St1”).

状態St1は、例えば、液晶パネル100に制御基板135a,135bが取付けられる直前の状態である。検査回路は、状態St1において、液晶パネル100の動作テストを行うための回路である。   The state St1 is a state immediately before the control boards 135a and 135b are attached to the liquid crystal panel 100, for example. The inspection circuit is a circuit for performing an operation test of the liquid crystal panel 100 in the state St1.

なお、ガラス基板111の一方の面には、さらに、図示されない複数の構成要素が設けられている。   Note that a plurality of constituent elements (not shown) are further provided on one surface of the glass substrate 111.

絶縁膜115は、当該絶縁膜115が、検査用配線119、各スイッチング素子SW1等を覆うように、ガラス基板111の一方の面に設けられている。   The insulating film 115 is provided on one surface of the glass substrate 111 so that the insulating film 115 covers the inspection wiring 119, each switching element SW1, and the like.

各画素電極113は、表示領域R10の各画素5に対応して設けられる。また、各画素電極113は、液晶層30において電界を発生させるための電極である。具体的には、各画素電極113は、液晶層30において、液晶31の向きを変化させるための電界を発生させるために使用される。なお、当該電界は、基板120に設けられる後述の共通電極123と各画素電極113との間の領域において発生する。   Each pixel electrode 113 is provided corresponding to each pixel 5 in the display region R10. Each pixel electrode 113 is an electrode for generating an electric field in the liquid crystal layer 30. Specifically, each pixel electrode 113 is used in the liquid crystal layer 30 to generate an electric field for changing the direction of the liquid crystal 31. Note that the electric field is generated in a region between a common electrode 123 (described later) provided on the substrate 120 and each pixel electrode 113.

配向膜112は、液晶31を配向させるための膜である。配向膜112は、当該配向膜112が各画素電極113を覆うように、絶縁膜115の一方の面に設けられる。   The alignment film 112 is a film for aligning the liquid crystal 31. The alignment film 112 is provided on one surface of the insulating film 115 so that the alignment film 112 covers each pixel electrode 113.

各ゲート配線WG1および各ソース配線WS1は、詳細は後述するが、各スイッチング素子SW1を制御するための信号を、当該各スイッチング素子SW1へ伝達するための配線である。   Each gate line WG1 and each source line WS1 are lines for transmitting a signal for controlling each switching element SW1 to each switching element SW1, although details will be described later.

各ゲート配線WG1は、図1のように、表示領域R10において、行方向(X軸方向)に延在するように設けられる。また、各ソース配線WS1は、図1のように、表示領域R10において、列方向(Y軸方向)に延在するように設けられる。なお、各ゲート配線WG1と各ソース配線WS1とが交差する部分の近傍には、スイッチング素子SW1が設けられる。すなわち、各スイッチング素子SW1は、行列状に設けられる。   As shown in FIG. 1, each gate line WG1 is provided to extend in the row direction (X-axis direction) in the display region R10. Further, each source line WS1 is provided so as to extend in the column direction (Y-axis direction) in the display region R10 as shown in FIG. A switching element SW1 is provided in the vicinity of a portion where each gate line WG1 and each source line WS1 intersect. That is, each switching element SW1 is provided in a matrix.

また、図1のように、各ゲート配線WG1と各ソース配線WS1とにより形成される各矩形(画素領域)内には、画素電極113(画素電極)が設けられる。すなわち、各画素電極113は、行列状に設けられる。画素電極113は、スイッチング素子SW1と電気的に接続される。   Further, as shown in FIG. 1, a pixel electrode 113 (pixel electrode) is provided in each rectangle (pixel region) formed by each gate wiring WG1 and each source wiring WS1. That is, the pixel electrodes 113 are provided in a matrix. The pixel electrode 113 is electrically connected to the switching element SW1.

駆動IC141a,141bは、詳細は後述するが、各画素領域(画素5)を制御する。駆動IC141aは、複数の接続配線(図示せず)により、各ソース配線WS1と接続される。また、駆動IC141bは、複数の接続配線(図示せず)により、各ゲート配線WG1と接続される。   The driving ICs 141a and 141b control each pixel region (pixel 5), as will be described in detail later. The drive IC 141a is connected to each source wiring WS1 by a plurality of connection wirings (not shown). The driving IC 141b is connected to each gate wiring WG1 by a plurality of connection wirings (not shown).

また、基板110には、端子116a,116bが設けられる。端子116a,116bの各々は、外部からの信号等を受信するための端子である。   The substrate 110 is provided with terminals 116a and 116b. Each of the terminals 116a and 116b is a terminal for receiving an external signal or the like.

端子116aは、接続ケーブル136aにより、制御基板135aと接続される。端子116bは、接続ケーブル136bにより、制御基板135bと接続される。制御基板135aには、駆動IC141aを制御する制御IC(図示せず)が設けられる。また、制御基板135bには、駆動IC141bを制御する制御IC(図示せず)が設けられる。接続ケーブル136a,136bの各々は、例えば、FFC(Flexible Flat Cable)である。   The terminal 116a is connected to the control board 135a by a connection cable 136a. The terminal 116b is connected to the control board 135b by a connection cable 136b. The control board 135a is provided with a control IC (not shown) for controlling the drive IC 141a. The control board 135b is provided with a control IC (not shown) that controls the drive IC 141b. Each of the connection cables 136a and 136b is, for example, an FFC (Flexible Flat Cable).

以下においては、制御基板135a,135bの各々を、総括的に、「制御基板135」ともいう。また、以下においては、駆動IC141a,141bの各々を、総括的に、「駆動IC141」ともいう。また、以下においては、端子116a,116bの各々を、総括的に、「端子116」ともいう。また、以下においては、接続ケーブル136a,136bの各々を、総括的に、「接続ケーブル136」ともいう。   Hereinafter, each of the control boards 135a and 135b is also collectively referred to as a “control board 135”. In the following, each of the drive ICs 141a and 141b is also collectively referred to as “drive IC 141”. In the following, each of the terminals 116a and 116b is also collectively referred to as “terminal 116”. Hereinafter, each of the connection cables 136a and 136b is also collectively referred to as a “connection cable 136”.

詳細は後述するが、制御基板135の制御IC(図示せず)が出力した制御信号は、端子116を介して、駆動IC141の入力端子へ送信される。これにより、駆動IC141の出力端子から制御信号が出力される。当該制御信号は、複数の接続配線(図示せず)を介して、表示領域R10内のスイッチング素子SW1へ送信される。   Although details will be described later, a control signal output from a control IC (not shown) of the control board 135 is transmitted to the input terminal of the drive IC 141 via the terminal 116. As a result, a control signal is output from the output terminal of the drive IC 141. The control signal is transmitted to the switching element SW1 in the display region R10 via a plurality of connection wires (not shown).

前述のトランスファ電極(図示せず)は、接続配線(図示せず)により端子116と接続される。当該トランスファ電極は、端子116が受信した信号を、基板120へ伝達するための電極である。   The aforementioned transfer electrode (not shown) is connected to the terminal 116 by a connection wiring (not shown). The transfer electrode is an electrode for transmitting a signal received by the terminal 116 to the substrate 120.

なお、端子116a,116b、トランスファ電極、接続配線、検査用配線119および検査回路は、周辺領域R20内の基板110に設けられる。   The terminals 116a and 116b, the transfer electrode, the connection wiring, the inspection wiring 119, and the inspection circuit are provided on the substrate 110 in the peripheral region R20.

次に、カラーフィルタ基板としての基板120について詳細に説明する。図1および図2を参照して、基板120は、偏光板52と、ガラス基板121と、複数の色材7と、ブラックマトリクス20と、共通電極123と、配向膜122とを含む。   Next, the substrate 120 as the color filter substrate will be described in detail. Referring to FIGS. 1 and 2, substrate 120 includes a polarizing plate 52, a glass substrate 121, a plurality of color materials 7, a black matrix 20, a common electrode 123, and an alignment film 122.

偏光板52は、偏光板51と同じ機能および構成を有する板である。具体的には、偏光板52は、平面視(XY面)において、当該偏光板52の吸収軸が偏光板51の吸収軸と直交するように、ガラス基板121に設けられる。言い換えれば、偏光板51は、平面視(XY面)において、当該偏光板51の吸収軸が偏光板52の吸収軸と直交するように、ガラス基板111に設けられる。   The polarizing plate 52 is a plate having the same function and configuration as the polarizing plate 51. Specifically, the polarizing plate 52 is provided on the glass substrate 121 so that the absorption axis of the polarizing plate 52 is orthogonal to the absorption axis of the polarizing plate 51 in plan view (XY plane). In other words, the polarizing plate 51 is provided on the glass substrate 111 so that the absorption axis of the polarizing plate 51 is orthogonal to the absorption axis of the polarizing plate 52 in plan view (XY plane).

ガラス基板121は、透光性を有する透明基板である。ガラス基板121の厚みは、例えば、約0.7mmである。ガラス基板121の一方の面には、複数の色材7およびブラックマトリクス20が設けられる。なお、前述の偏光板52は、ガラス基板121の他方の面に設けられる。   The glass substrate 121 is a transparent substrate having translucency. The thickness of the glass substrate 121 is about 0.7 mm, for example. A plurality of color materials 7 and a black matrix 20 are provided on one surface of the glass substrate 121. The polarizing plate 52 described above is provided on the other surface of the glass substrate 121.

図2および図3を参照して、各色材7は、透光性を有するカラーフィルタである。色材7は、例えば、樹脂内に、色を有する顔料を分散させることにより生成される。色材7は、赤、緑、青等に対応する特定の波長範囲の光を選択的に透過するフィルタとして機能する。   Referring to FIGS. 2 and 3, each color material 7 is a color filter having translucency. The color material 7 is generated, for example, by dispersing a pigment having a color in a resin. The color material 7 functions as a filter that selectively transmits light in a specific wavelength range corresponding to red, green, blue, and the like.

また、色材7は、当該色材7を透過する光を色光として出射する。すなわち、色材7は、当該色材7に光が照射されることにより色を表現するための部材である。なお、色材7は、当該色材7に光が照射された場合、当該光の一部を吸収する光量低減部材である。色材7は、表示領域R10に設けられる。   Further, the color material 7 emits light that passes through the color material 7 as color light. That is, the color material 7 is a member for expressing a color when the color material 7 is irradiated with light. The color material 7 is a light amount reducing member that absorbs part of the light when the color material 7 is irradiated with light. The color material 7 is provided in the display region R10.

以下においては、赤色光を出射する色材7を、「色材7R」ともいう。また、以下においては、緑色光を出射する色材7を、「色材7G」ともいう。また、以下においては、青色光を出射する色材7を、「色材7B」ともいう。   Hereinafter, the color material 7 that emits red light is also referred to as a “color material 7R”. Hereinafter, the color material 7 that emits green light is also referred to as a “color material 7G”. Hereinafter, the color material 7 that emits blue light is also referred to as a “color material 7B”.

色材7Rは、画素5Rを形成するための色材である。色材7Gは、画素5Gを形成するための色材である。色材7Bは、画素5Bを形成するための色材である。すなわち、平面視(XY面)において行列状に配置される各画素部5Pは、色材7R,7G,7Bが、図3のように、規則的に配置して構成される。   The color material 7R is a color material for forming the pixel 5R. The color material 7G is a color material for forming the pixel 5G. The color material 7B is a color material for forming the pixel 5B. That is, each pixel unit 5P arranged in a matrix in plan view (XY plane) is configured by regularly arranging the color materials 7R, 7G, and 7B as shown in FIG.

ブラックマトリクス20は、光の一部または全てを遮る遮光部材である。言い換えれば、ブラックマトリクス20は、当該ブラックマトリクス20に光が照射された場合、当該光の一部または全てを吸収する光量低減部材である。なお、ブラックマトリクス20の厚みが大きい程、当該ブラックマトリクス20の光の透過率は0に近くなる。すなわち、ブラックマトリクス20の厚みが小さい程、当該ブラックマトリクス20の光の透過率は100に近くなる。以下においては、光の透過率を、単に、「透過率」と表現する場合がある。また、以下においては、ブラックマトリクスを、単に、「BM」と表現する場合がある。   The black matrix 20 is a light blocking member that blocks part or all of light. In other words, the black matrix 20 is a light quantity reducing member that absorbs part or all of the light when the black matrix 20 is irradiated with light. Note that the greater the thickness of the black matrix 20, the closer the light transmittance of the black matrix 20 is to zero. That is, as the thickness of the black matrix 20 is smaller, the light transmittance of the black matrix 20 is closer to 100. In the following, the light transmittance may be simply expressed as “transmittance”. In the following, the black matrix may be simply expressed as “BM”.

ブラックマトリクス20は、樹脂で構成されている。具体的には、ブラックマトリクス20は、感光性樹脂内に黒色粒子を分散させることにより生成される黒色樹脂で構成される。当該黒色粒子は、カーボンブラック(炭素系黒色顔料)、チタンブラック(チタン系黒色顔料)等の粒子である。   The black matrix 20 is made of resin. Specifically, the black matrix 20 is composed of a black resin generated by dispersing black particles in a photosensitive resin. The black particles are particles such as carbon black (carbon black pigment) and titanium black (titanium black pigment).

また、ブラックマトリクス20は、基板120が有する表示領域R10において複数の画素5を形成するように、当該表示領域R10の一部に設けられる。具体的には、ブラックマトリクス20は、各画素5(画素領域)に形成される開口H1を有する。以下においては、開口H1に接する、ブラックマトリクス20の一部を、「BM開口側部」ともいう。   Further, the black matrix 20 is provided in a part of the display region R10 so as to form a plurality of pixels 5 in the display region R10 of the substrate 120. Specifically, the black matrix 20 has an opening H1 formed in each pixel 5 (pixel region). In the following, a part of the black matrix 20 in contact with the opening H1 is also referred to as “BM opening side part”.

色材7は、各画素領域の開口H1の内部から、BM開口側部の上面に渡って設けられる。例えば、色材7Rは、画素5Rが形成されている画素領域の開口H1の内部から、当該画素領域に存在するブラックマトリクス20のBM開口側部の上面に渡って設けられる。   The color material 7 is provided from the inside of the opening H1 of each pixel region to the upper surface of the side portion of the BM opening. For example, the color material 7R is provided from the inside of the opening H1 of the pixel region where the pixel 5R is formed to the upper surface of the BM opening side portion of the black matrix 20 existing in the pixel region.

以下においては、隣接する2つの色材7(画素5)の間に存在するブラックマトリクス20を、「画素形成部20x」ともいう。画素形成部20xは、隣接する2つの画素5の境界部に設けられる。画素形成部20xは、画素5の輪郭を形成する。   Hereinafter, the black matrix 20 existing between two adjacent color materials 7 (pixels 5) is also referred to as a “pixel forming portion 20x”. The pixel forming portion 20x is provided at the boundary portion between two adjacent pixels 5. The pixel forming unit 20 x forms the outline of the pixel 5.

なお、前述したように、色材7は、各画素領域の開口H1の内部から、BM開口側部の上面に渡って設けられる。すなわち、色材7の一部は、BM開口側部上に重なるように設けられる。この構成は、仮に、色材7の一部とBM開口側部との重なりのずれが生じた状態を考慮した構成である。具体的には、当該構成は、BM開口側部と色材7との間に隙間が存在することにより、意図されない無彩色の光が、基板120を透過することを防止する構成である。   As described above, the color material 7 is provided from the inside of the opening H1 of each pixel region to the upper surface of the BM opening side portion. That is, a part of the color material 7 is provided so as to overlap the BM opening side. This configuration is a configuration that takes into account a state in which an overlap shift between part of the color material 7 and the BM opening side portion occurs. Specifically, this configuration is a configuration that prevents unintended achromatic light from passing through the substrate 120 due to the presence of a gap between the BM opening side portion and the color material 7.

図2のように、ブラックマトリクス20は、映像の表示において不要な光を遮光するために、基板120が有する周辺領域R20のほぼ全体に設けられる。すなわち、図2のように、基板120が有する周辺領域R20において、ブラックマトリクス20が設けられていない領域が存在する。   As shown in FIG. 2, the black matrix 20 is provided in almost the entire peripheral region R <b> 20 of the substrate 120 in order to block unnecessary light in displaying an image. That is, as shown in FIG. 2, in the peripheral region R20 included in the substrate 120, there is a region where the black matrix 20 is not provided.

なお、ブラックマトリクス20は、基板120が有する周辺領域R20全体に設けられてもよい。すなわち、ブラックマトリクス20は、基板120が有する周辺領域R20の一部または全てに設けられる。   The black matrix 20 may be provided in the entire peripheral region R20 included in the substrate 120. That is, the black matrix 20 is provided in part or all of the peripheral region R20 included in the substrate 120.

共通電極123は、ブラックマトリクス20および各色材7を覆うように設けられる。共通電極123は、前述の各画素電極113を利用して、液晶層30において電界を発生させるための電極である。   The common electrode 123 is provided so as to cover the black matrix 20 and each color material 7. The common electrode 123 is an electrode for generating an electric field in the liquid crystal layer 30 using each of the pixel electrodes 113 described above.

配向膜122は、液晶31を配向させるための膜である。配向膜122は、当該配向膜122が表示領域R10内の共通電極123の一部を覆うように、設けられる。すなわち、基板120に含まれる配向膜122の一方の面と、ブラックマトリクス20を覆う共通電極123の一部の一方の面は、液晶層30に接する。そのため、ブラックマトリクス20は、基板120のうち液晶層30に接する面側に設けられる。   The alignment film 122 is a film for aligning the liquid crystal 31. The alignment film 122 is provided so that the alignment film 122 covers a part of the common electrode 123 in the display region R10. That is, one surface of the alignment film 122 included in the substrate 120 and one surface of a part of the common electrode 123 covering the black matrix 20 are in contact with the liquid crystal layer 30. Therefore, the black matrix 20 is provided on the side of the substrate 120 that is in contact with the liquid crystal layer 30.

また、基板110のトランスファ電極(図示せず)と共通電極123とは、トランスファ材により電気的に接続されている。当該トランスファ材は、樹脂内に導電性粒子を分散させた部材である。当該導電性粒子は、導通状態を安定的に保つために、弾性変形可能なものが好ましい。当該導電性粒子は、例えば、表面に金メッキが施された球形の樹脂である。   The transfer electrode (not shown) of the substrate 110 and the common electrode 123 are electrically connected by a transfer material. The transfer material is a member in which conductive particles are dispersed in a resin. The conductive particles are preferably elastically deformable in order to stably maintain a conductive state. The conductive particle is, for example, a spherical resin having a surface plated with gold.

なお、端子116は、外部から共通電極123へ向かう信号も受信する。当該信号は、端子116を介して、共通電極123へ送信される。   Note that the terminal 116 also receives a signal from the outside toward the common electrode 123. The signal is transmitted to the common electrode 123 via the terminal 116.

また、前述したように、液晶表示装置500は、さらに、光源としてのバックライトユニット(図示せず)を備える。当該バックライトユニットは、液晶パネル100が映像を表示するために使用される光を出射する。以下においては、バックライトユニットから出射される光を、「光La」ともいう。   As described above, the liquid crystal display device 500 further includes a backlight unit (not shown) as a light source. The backlight unit emits light used for the liquid crystal panel 100 to display an image. Hereinafter, the light emitted from the backlight unit is also referred to as “light La”.

バックライトユニットは、図2において、基板110の下方に設けられる。なお、液晶パネル100と、バックライトユニットとの間には、光学シート(図示せず)が設けられる。当該光学シートは、光の偏光状態、光の指向性等を制御するシートである。   The backlight unit is provided below the substrate 110 in FIG. An optical sheet (not shown) is provided between the liquid crystal panel 100 and the backlight unit. The optical sheet is a sheet that controls the polarization state of light, the directivity of light, and the like.

バックライトユニットは、液晶パネル100の基板110に向けて光Laを出射する。当該光Laは、表示領域R10において、基板110を透過して、液晶層30に入射する。液晶層30は、外部からの制御に従って、バックライトユニットから出射される光Laを透過させる量を変化させる。以下においては、液晶層30に光Laが入射されることにより、液晶層30から出射される光Laを、「出射光Lb」ともいう。   The backlight unit emits light La toward the substrate 110 of the liquid crystal panel 100. The light La passes through the substrate 110 and enters the liquid crystal layer 30 in the display region R10. The liquid crystal layer 30 changes an amount of transmitting the light La emitted from the backlight unit according to control from the outside. Hereinafter, the light La emitted from the liquid crystal layer 30 when the light La is incident on the liquid crystal layer 30 is also referred to as “emitted light Lb”.

液晶パネル100は、液晶層30から出射される出射光Lbを、基板120における前述の各色材7の一部または全てにおいて透過させることにより、表示領域R10に映像を表示する。以下においては、基板120のうち、表示領域R10に映像を表示する面を、「表示面」ともいう。表示面は、例えば、図2の基板120の上面である。   The liquid crystal panel 100 displays an image on the display region R10 by transmitting the emitted light Lb emitted from the liquid crystal layer 30 through part or all of the above-described color materials 7 on the substrate 120. Hereinafter, a surface of the substrate 120 that displays an image in the display region R10 is also referred to as a “display surface”. The display surface is, for example, the upper surface of the substrate 120 in FIG.

なお、液晶表示装置500は、さらに、筐体(図示せず)を備える。当該筐体は、表示面を外部に露出させるための開口が設けられる。液晶表示装置500の筐体は、当該液晶表示装置500が備える各構成要素を収容する。当該各構成要素は、例えば、液晶パネル100、バックライトユニット、光学シート等である。   The liquid crystal display device 500 further includes a housing (not shown). The housing is provided with an opening for exposing the display surface to the outside. The casing of the liquid crystal display device 500 accommodates each component included in the liquid crystal display device 500. The constituent elements are, for example, a liquid crystal panel 100, a backlight unit, an optical sheet, and the like.

次に、表示面に映像を表示するための処理(以下、「映像表示処理」ともいう)について簡単に説明する。映像表示処理では、例えば、制御基板135が出力した制御信号を、駆動IC141が受信する。当該駆動IC141は、各ゲート配線WG1、各ソース配線WS1および各スイッチング素子SW1を利用して、複数の画素領域(画素5)の一部または全てへ信号を送信する。   Next, a process for displaying an image on the display surface (hereinafter also referred to as “image display process”) will be briefly described. In the video display process, for example, the drive IC 141 receives a control signal output from the control board 135. The drive IC 141 transmits a signal to some or all of the plurality of pixel regions (pixels 5) using each gate line WG1, each source line WS1, and each switching element SW1.

これにより、信号を受信した各画素領域の画素電極113と共通電極123と間に、所定の駆動電圧が発生する。当該駆動電圧の発生に応じて、当該駆動電圧が発生した画素領域の液晶31の向きが変化する。そして、バックライトユニットが出射する光Laは、表示領域R10において、基板110を透過して、液晶層30に入射する。そして、前述の出射光Lbが、基板120における前述の各色材7の一部または全てにおいて透過することにより、表示面(表示領域R10)に映像が表示される。   As a result, a predetermined drive voltage is generated between the pixel electrode 113 and the common electrode 123 in each pixel region that has received the signal. In accordance with the generation of the drive voltage, the orientation of the liquid crystal 31 in the pixel region where the drive voltage is generated changes. Then, the light La emitted from the backlight unit passes through the substrate 110 and enters the liquid crystal layer 30 in the display region R10. Then, the emitted light Lb is transmitted through part or all of the above-described color materials 7 on the substrate 120, whereby an image is displayed on the display surface (display region R10).

(特徴的な構成)
次に、本実施の形態における特徴的な構成(以下、「特徴構成X1」ともいう)について詳細に説明する。図4は、本発明の実施の形態1に係る液晶パネル100の構成を示す平面図である。なお、図4では、構成を分かり易くするために、一部の構成要素を簡略化して示している。また、図4では、特徴構成X1を分かり易くするために、周辺領域R20の一部の幅を、実際の幅よりも大きくしている。
(Characteristic configuration)
Next, a characteristic configuration (hereinafter also referred to as “characteristic configuration X1”) in the present embodiment will be described in detail. FIG. 4 is a plan view showing the configuration of the liquid crystal panel 100 according to Embodiment 1 of the present invention. In FIG. 4, some components are simplified for easy understanding of the configuration. In FIG. 4, in order to make the feature configuration X1 easy to understand, the width of a part of the peripheral region R20 is made larger than the actual width.

図4を参照して、液晶パネル100は、平面視(XY面)において、周辺領域R20は配線領域R20wを有する。配線領域R20wは、平面視(XY面)において、液晶層30、配線、回路等が設けられる領域である。配線領域R20wには、平面視(XY面)において、配線W1が設けられる。配線W1は、前述の検査用配線119、前述の検査回路(図示せず)を構成する配線、前述の接続配線(図示せず)等である。すなわち、配線領域R20wには、液晶層30において電界を発生させる配線W1が設けられる。つまり、配線領域R20wは、液晶層30に電界が印加されることにより液晶31の向きが変化する領域である。   Referring to FIG. 4, liquid crystal panel 100 has a wiring region R20w in peripheral region R20 in plan view (XY plane). The wiring region R20w is a region where the liquid crystal layer 30, wiring, circuits, and the like are provided in plan view (XY plane). In the wiring region R20w, the wiring W1 is provided in a plan view (XY plane). The wiring W1 is the above-described inspection wiring 119, the wiring constituting the above-described inspection circuit (not shown), the above-described connection wiring (not shown), or the like. That is, the wiring W1 that generates an electric field in the liquid crystal layer 30 is provided in the wiring region R20w. That is, the wiring region R20w is a region in which the orientation of the liquid crystal 31 changes when an electric field is applied to the liquid crystal layer 30.

なお、前述したように、平面視(XY面)において、ブラックマトリクス20は、周辺領域R20に設けられる。なお、平面視(XY面)において、ブラックマトリクス20は、配線領域R20w全体に設けられる。なお、平面視(XY面)において、ブラックマトリクス20は、配線領域R20wの一部に設けられてもよい。   As described above, the black matrix 20 is provided in the peripheral region R20 in plan view (XY plane). Note that, in a plan view (XY plane), the black matrix 20 is provided over the entire wiring region R20w. Note that the black matrix 20 may be provided in a part of the wiring region R20w in plan view (XY plane).

図5は、本発明の実施の形態1に係る液晶パネル100の断面図である。具体的には、図5は、図4のB1−B2線に沿った、液晶パネル100の断面図である。すなわち、図5は、液晶パネル100の配線領域R20wの断面図である。なお、図5では、特徴構成X1を分かり易くするために、図2に示される一部の構成要素を、省略または簡略化して示している。例えば、図5では、図2に示される、スペーサSP1等は示していない。   FIG. 5 is a cross-sectional view of liquid crystal panel 100 according to Embodiment 1 of the present invention. Specifically, FIG. 5 is a cross-sectional view of the liquid crystal panel 100 taken along line B1-B2 of FIG. That is, FIG. 5 is a cross-sectional view of the wiring region R20w of the liquid crystal panel 100. In FIG. 5, some components shown in FIG. 2 are omitted or simplified for easy understanding of the feature configuration X1. For example, FIG. 5 does not show the spacer SP1 or the like shown in FIG.

以下においては、平面視(XY面)において、周辺領域R20のうちブラックマトリクス20が設けられた領域を、「周辺BM領域」ともいう。すなわち、周辺BM領域には、光量低減部材であるブラックマトリクス20が設けられる。   Hereinafter, the area where the black matrix 20 is provided in the peripheral area R20 in plan view (XY plane) is also referred to as “peripheral BM area”. That is, the black matrix 20 that is a light amount reducing member is provided in the peripheral BM region.

また、以下においては、平面視(XY面)において、表示領域R10のうちブラックマトリクス20が設けられた領域を、「表示BM領域」ともいう。すなわち、平面視(XY面)において、表示領域R10は、表示BM領域を有する。   In the following, the area where the black matrix 20 is provided in the display area R10 in plan view (XY plane) is also referred to as a “display BM area”. That is, in the plan view (XY plane), the display area R10 has a display BM area.

また、以下においては、表示領域R10に設けられたブラックマトリクス20を、「表示領域用BM」ともいう。表示領域用BMは、例えば、図3における前述の画素形成部20xである。また、以下においては、周辺BM領域に設けられたブラックマトリクス20を、「周辺領域用BM」ともいう。   Hereinafter, the black matrix 20 provided in the display region R10 is also referred to as “display region BM”. The display area BM is, for example, the above-described pixel formation unit 20x in FIG. Hereinafter, the black matrix 20 provided in the peripheral BM area is also referred to as “peripheral area BM”.

特徴構成X1は、周辺領域R20の周辺BM領域の光の透過率を、表示領域用BMの光の透過率より小さくするための構成である。すなわち、特徴構成X1は、周辺領域用BMの光の透過率を、表示領域用BMの光の透過率より小さくするための構成である。   The characteristic configuration X1 is a configuration for making the light transmittance of the peripheral BM region of the peripheral region R20 smaller than the light transmittance of the display region BM. That is, the characteristic configuration X1 is a configuration for making the light transmittance of the BM for the peripheral region smaller than the light transmittance of the BM for the display region.

特徴構成X1では、平面視(XY面)において周辺BM領域に存在する液晶層30の厚みが、平面視(XY面)において表示BM領域に存在する液晶層30の厚みより小さくなるように、周辺領域用BMの厚みが、表示領域用BMの厚みより大きくされる。具体的には、特徴構成X1では、表示領域用BMを単層で構成し、周辺領域用BMを複数の層で構成する。   In the characteristic configuration X1, the thickness of the liquid crystal layer 30 existing in the peripheral BM region in plan view (XY plane) is smaller than the thickness of the liquid crystal layer 30 existing in the display BM region in plan view (XY plane). The thickness of the region BM is made larger than the thickness of the display region BM. Specifically, in the feature configuration X1, the display region BM is configured by a single layer, and the peripheral region BM is configured by a plurality of layers.

また、特徴構成X1では、基板120が有する表示領域R10および周辺領域R20において、ブラックマトリクス21が設けられる。ブラックマトリクス21は、ブラックマトリクス20を構成する前述した材料と同じ材料で構成される。ブラックマトリクス21は、ガラス基板121の一方の面に設けられる。すなわち、特徴構成X1では、表示領域R10に設けられるブラックマトリクス20(表示領域用BM)は、ブラックマトリクス21のみで構成される。   In the feature configuration X1, the black matrix 21 is provided in the display region R10 and the peripheral region R20 of the substrate 120. The black matrix 21 is made of the same material as that described above that forms the black matrix 20. The black matrix 21 is provided on one surface of the glass substrate 121. That is, in the feature configuration X1, the black matrix 20 (display region BM) provided in the display region R10 includes only the black matrix 21.

また、図2および図5のように、周辺BM領域のブラックマトリクス21の一方の面にはブラックマトリクス22が設けられる。すなわち、周辺BM領域に設けられたブラックマトリクス20(周辺領域用BM)は、ブラックマトリクス21,22で構成される。ブラックマトリクス22は、ブラックマトリクス20を構成する前述した材料と同じ材料で構成される。また、ブラックマトリクス22の厚みは、ブラックマトリクス21の厚みと同じまたは同等である。なお、ブラックマトリクス22の厚みは、ブラックマトリクス21の厚みと同等でなくてもよい。   2 and 5, a black matrix 22 is provided on one surface of the black matrix 21 in the peripheral BM region. That is, the black matrix 20 (peripheral region BM) provided in the peripheral BM region is composed of the black matrices 21 and 22. The black matrix 22 is made of the same material as the above-described material constituting the black matrix 20. The thickness of the black matrix 22 is the same as or equivalent to the thickness of the black matrix 21. Note that the thickness of the black matrix 22 may not be equal to the thickness of the black matrix 21.

以上により、特徴構成X1では、平面視(XY面)において周辺BM領域に存在する液晶層30の厚みが、平面視(XY面)において表示BM領域に存在する液晶層30の厚みより小さい。また、周辺領域用BMの厚みは、表示領域用BMの厚みより大きい。そのため、周辺BM領域の光の透過率は、表示領域用BMの光の透過率より小さい。したがって、特徴構成X1により、以下の比較例に係る液晶パネルの周辺領域R20、特に、配線領域R20wにおける光抜けの発生を、抑制または防ぐことができる。   As described above, in the feature configuration X1, the thickness of the liquid crystal layer 30 existing in the peripheral BM region in the plan view (XY plane) is smaller than the thickness of the liquid crystal layer 30 existing in the display BM region in the plan view (XY plane). The thickness of the peripheral area BM is larger than the thickness of the display area BM. For this reason, the light transmittance of the peripheral BM region is smaller than the light transmittance of the display region BM. Therefore, the feature configuration X1 can suppress or prevent the occurrence of light leakage in the peripheral region R20 of the liquid crystal panel according to the following comparative example, particularly in the wiring region R20w.

図23は、比較例に係る液晶パネル900の平面図である。液晶パネル900は、図4および図5の液晶パネル100と比較して、上記の特徴構成X1を有さない。液晶パネル900のそれ以外の構成は、液晶パネル100と同様なので詳細な説明は繰り返さない。   FIG. 23 is a plan view of a liquid crystal panel 900 according to a comparative example. The liquid crystal panel 900 does not have the characteristic configuration X1 as compared with the liquid crystal panel 100 of FIGS. Since the other configuration of liquid crystal panel 900 is the same as that of liquid crystal panel 100, detailed description will not be repeated.

図23のように、液晶パネル900では、周辺領域R20内の配線領域R20wにおいて光抜け部LP1が発生している。光抜け部LP1とは、液晶パネル900が映像(例えば、白色のベタ)を表示している際に、バックライトユニットからの出射光が、基板120を透過した部分である。すなわち、液晶パネル900では、配線領域R20wにおいて光抜けが発生している。光抜け部LP1は、例えば、配線W1が設けられた領域に存在する。配線W1は、前述したように、検査用配線119、検査回路を構成する配線、接続配線等である。   As shown in FIG. 23, in the liquid crystal panel 900, the light leakage portion LP1 occurs in the wiring region R20w in the peripheral region R20. The light omission portion LP1 is a portion where the light emitted from the backlight unit has transmitted through the substrate 120 when the liquid crystal panel 900 displays an image (for example, white solid). That is, in the liquid crystal panel 900, light leakage occurs in the wiring region R20w. The light omission portion LP1 exists, for example, in a region where the wiring W1 is provided. As described above, the wiring W1 is the inspection wiring 119, the wiring constituting the inspection circuit, the connection wiring, or the like.

なお、本実施の形態では、表示領域用BMの厚みは大きくしない。そのため、図6のように、表示領域用BM(ブラックマトリクス20,21)の厚みを色材7の厚みよりも小さくすることができる。   In the present embodiment, the thickness of the display area BM is not increased. Therefore, as shown in FIG. 6, the thickness of the display area BM (black matrixes 20, 21) can be made smaller than the thickness of the color material 7.

また、本実施の形態では、図3を用いて説明したように、色材7の一部は、BM開口側部上に重なるように設けられる。すなわち、色材7は、図6のように設けられる。そのため、図24のように、色材7の一部がBM開口側部上に設けられていない構成の領域R9を起因とする光抜けは発生しない。図24の矢印は、光抜けに関わる光を示す。図6および図24の領域R9は、BM開口側部(ブラックマトリクス20,21)と色材7との段差が存在する領域である。図24の構成の光抜けは、領域R9における上記の段差による液晶の配向異常を起因とする光抜けである。   In the present embodiment, as described with reference to FIG. 3, a part of the color material 7 is provided so as to overlap the BM opening side. That is, the color material 7 is provided as shown in FIG. Therefore, as shown in FIG. 24, light leakage due to the region R9 having a configuration in which part of the color material 7 is not provided on the BM opening side portion does not occur. The arrows in FIG. 24 indicate light related to light leakage. A region R9 in FIGS. 6 and 24 is a region where a step between the BM opening side portion (black matrixes 20 and 21) and the color material 7 exists. The light leakage in the configuration of FIG. 24 is light leakage caused by liquid crystal alignment abnormality due to the step in the region R9.

また、本実施の形態では、周辺BM領域に存在する液晶層30の厚みが、表示BM領域に存在する液晶層30の厚みより小さい。これにより、周辺領域R20における基板110と基板120とのギャップを狭くすることができる。そのため、周辺BM領域に存在する液晶層30のリタデーション値を、表示BM領域に存在する液晶層30のリタデーション値よりも小さくすることが出来る。リタデーション値とは、液晶層を光が通過する際に発生する常光および異常光の位相差を示す値である。したがって、周辺BM領域に存在する液晶層30の透過率を、表示BM領域に存在する液晶層30の透過率より小さくすることができる。   In the present embodiment, the thickness of the liquid crystal layer 30 existing in the peripheral BM region is smaller than the thickness of the liquid crystal layer 30 existing in the display BM region. Thereby, the gap between the substrate 110 and the substrate 120 in the peripheral region R20 can be narrowed. Therefore, the retardation value of the liquid crystal layer 30 existing in the peripheral BM region can be made smaller than the retardation value of the liquid crystal layer 30 existing in the display BM region. The retardation value is a value indicating a phase difference between ordinary light and abnormal light generated when light passes through the liquid crystal layer. Therefore, the transmittance of the liquid crystal layer 30 existing in the peripheral BM region can be made smaller than the transmittance of the liquid crystal layer 30 existing in the display BM region.

なお、この場合、リタデーション値と透過率との関係は、図7のようになる。図7において、横軸は、リタデーション値である。縦軸は、透過率を示す。図7を参照して、周辺領域R20のリタデーション値に対応する透過率は、表示領域R10のリタデーション値に対応する透過率より小さい。   In this case, the relationship between the retardation value and the transmittance is as shown in FIG. In FIG. 7, the horizontal axis represents the retardation value. The vertical axis represents the transmittance. Referring to FIG. 7, the transmittance corresponding to the retardation value of peripheral region R20 is smaller than the transmittance corresponding to the retardation value of display region R10.

以下においては、平面視(XY面)において、周辺領域R20のうち液晶層30が設けられた領域を、「周辺液晶領域R2c」ともいう。また、以下においては、平面視(XY面)において、周辺液晶領域R2cのうち、配線W1が設けられている領域を、「周辺液晶領域R2cw」ともいう。周辺液晶領域R2cwは、液晶層30に電界が印加されることにより、液晶31の向きが変化する領域である。   Hereinafter, the region where the liquid crystal layer 30 is provided in the peripheral region R20 in plan view (XY plane) is also referred to as “peripheral liquid crystal region R2c”. In the following, the area where the wiring W1 is provided in the peripheral liquid crystal region R2c in plan view (XY plane) is also referred to as “peripheral liquid crystal region R2cw”. The peripheral liquid crystal region R2cw is a region in which the orientation of the liquid crystal 31 changes when an electric field is applied to the liquid crystal layer 30.

また、以下においては、平面視(XY面)において、周辺液晶領域R2cに存在する液晶31を、「液晶31a」ともいう。液晶31aは、周辺液晶領域R2cに存在する液晶層30に電界が印加されることにより、当該液晶31aの向きが変化する液晶である。   In the following, the liquid crystal 31 present in the peripheral liquid crystal region R2c in plan view (XY plane) is also referred to as “liquid crystal 31a”. The liquid crystal 31a is a liquid crystal that changes the orientation of the liquid crystal 31a when an electric field is applied to the liquid crystal layer 30 existing in the peripheral liquid crystal region R2c.

また、以下においては、平面視(XY面)において、周辺液晶領域R2cのうち周辺液晶領域R2cw以外の領域に存在する液晶31を、「液晶31n」ともいう。液晶31nは、周辺液晶領域R2cに存在する液晶層30に電界が印加された場合においても、当該液晶31nの向きが変化しない液晶である。   In the following, the liquid crystal 31 existing in a region other than the peripheral liquid crystal region R2cw in the peripheral liquid crystal region R2c in plan view (XY plane) is also referred to as “liquid crystal 31n”. The liquid crystal 31n is a liquid crystal in which the orientation of the liquid crystal 31n does not change even when an electric field is applied to the liquid crystal layer 30 existing in the peripheral liquid crystal region R2c.

なお、特徴構成X1は、以下の変形構成X1aであってもよい。当該変形構成X1aは、例えば、図8のように、ブラックマトリクス22を周辺液晶領域R2cのみに設ける構成である。   The feature configuration X1 may be the following modified configuration X1a. The modified configuration X1a is a configuration in which the black matrix 22 is provided only in the peripheral liquid crystal region R2c, for example, as shown in FIG.

図8の変形構成X1aによれば、ギャップ長d1bは、ギャップ長d1aより大きい。ギャップ長d1bは、図8の変形構成X1aにおいて、基板120のうち周辺液晶領域R2c以外の領域に存在する部分と基板110との間隔である。ギャップ長d1aは、図5の構成における、基板120と基板110との間隔である。すなわち、図8の変形構成X1aでは、シール材SL1を形成するための領域のギャップが小さくなることはない。そのため、図8の変形構成X1aでは、シール材SL1の形成を、図5の構成よりも安定的に行うことができる。   According to the modified configuration X1a of FIG. 8, the gap length d1b is larger than the gap length d1a. The gap length d1b is the distance between the portion of the substrate 120 existing in the region other than the peripheral liquid crystal region R2c and the substrate 110 in the modified configuration X1a of FIG. The gap length d1a is the distance between the substrate 120 and the substrate 110 in the configuration of FIG. That is, in the modified configuration X1a of FIG. 8, the gap of the region for forming the sealing material SL1 is not reduced. Therefore, in the modified configuration X1a of FIG. 8, the sealing material SL1 can be formed more stably than the configuration of FIG.

なお、変形構成X1aは、ブラックマトリクス22を、周辺液晶領域R2cwのみに設ける構成であってもよい。   The modified configuration X1a may be a configuration in which the black matrix 22 is provided only in the peripheral liquid crystal region R2cw.

また、本実施の形態のブラックマトリクス20(BM)は、例えば、公知のハーフトーン露光技術を使用して生成される。当該ブラックマトリクス20(BM)は、BM形成用の露光マスクにハーフトーンマスクを使用する技術である。これにより、BMの形成工程は、1工程で完了するので、液晶パネルを製造するための工程数が増えることはない。   The black matrix 20 (BM) of the present embodiment is generated using, for example, a known halftone exposure technique. The black matrix 20 (BM) is a technique that uses a halftone mask as an exposure mask for BM formation. As a result, the BM formation process is completed in one process, so the number of processes for manufacturing the liquid crystal panel does not increase.

以上説明したように、本実施の形態によれば、基板120は、表示領域R10と周辺領域R20とを有する。平面視(XY面)において、周辺領域R20は液晶層30において電界を発生させる配線W1が設けられる配線領域R20wを有する。周辺領域R20のうちブラックマトリクス20が設けられた周辺BM領域の光の透過率は、表示領域R10に設けられたブラックマトリクス20の光の透過率より小さい。   As described above, according to the present embodiment, the substrate 120 has the display region R10 and the peripheral region R20. In plan view (XY plane), the peripheral region R20 has a wiring region R20w provided with a wiring W1 for generating an electric field in the liquid crystal layer 30. The light transmittance of the peripheral BM region where the black matrix 20 is provided in the peripheral region R20 is smaller than the light transmittance of the black matrix 20 provided in the display region R10.

これにより、表示領域R10に設けられたブラックマトリクス20の光の透過率を維持しつつ、配線領域R20wを有する周辺領域R20の光の透過率を低くした液晶パネルを提供することが実現できる。すなわち、表示領域R10に配置されるブラックマトリクス20の特性および膜厚を変えることなく、周辺領域R20の光抜けを改善することができる。   Accordingly, it is possible to provide a liquid crystal panel in which the light transmittance of the peripheral region R20 having the wiring region R20w is reduced while maintaining the light transmittance of the black matrix 20 provided in the display region R10. That is, light leakage in the peripheral region R20 can be improved without changing the characteristics and film thickness of the black matrix 20 arranged in the display region R10.

また、本実施の形態では、周辺BM領域に存在する液晶層30の厚みが、表示BM領域に存在する液晶層30の厚みより小さい。すなわち、周辺領域R20における基板110と基板120とのギャップを狭くすることができる。そのため、周辺BM領域に存在する液晶層30のリタデーション値を、表示BM領域に存在する液晶層30のリタデーション値よりも小さくすることが出来る。そのため、周辺BM領域に存在する液晶層30の透過率を、表示BM領域に存在する液晶層30の透過率より小さくすることができる。これにより、周辺領域R20の光抜けに関わる光量を低減することができる。   In the present embodiment, the thickness of the liquid crystal layer 30 existing in the peripheral BM region is smaller than the thickness of the liquid crystal layer 30 existing in the display BM region. That is, the gap between the substrate 110 and the substrate 120 in the peripheral region R20 can be narrowed. Therefore, the retardation value of the liquid crystal layer 30 existing in the peripheral BM region can be made smaller than the retardation value of the liquid crystal layer 30 existing in the display BM region. Therefore, the transmittance of the liquid crystal layer 30 present in the peripheral BM region can be made smaller than the transmittance of the liquid crystal layer 30 present in the display BM region. Thereby, the light quantity related to the light omission in the peripheral region R20 can be reduced.

また、本実施の形態では、周辺領域R20(周辺BM領域)における光量低減部材(ブラックマトリクス20)の厚みが、表示領域R10のブラックマトリクス20の厚みより大きい。そのため、所望の領域(周辺BM領域)においてのみ、光抜けに関わる光量を効果的に減らすことが出来る。   In the present embodiment, the thickness of the light amount reducing member (black matrix 20) in the peripheral region R20 (peripheral BM region) is larger than the thickness of the black matrix 20 in the display region R10. Therefore, it is possible to effectively reduce the amount of light related to light leakage only in a desired region (peripheral BM region).

また、光量低減部材が厚いことにより、周辺領域R20(周辺BM領域)の液晶層30の厚みは小さくなる。そのため、当該液晶層30の透過率を下げるができる。これにより、周辺領域R20(周辺BM領域)の光抜けを、抑制または防止する効果も得られる。   Further, since the light amount reducing member is thick, the thickness of the liquid crystal layer 30 in the peripheral region R20 (peripheral BM region) is reduced. Therefore, the transmittance of the liquid crystal layer 30 can be lowered. Thereby, the effect of suppressing or preventing light leakage from the peripheral region R20 (peripheral BM region) is also obtained.

以上により、本実施の形態では、高輝度な光を出射するバックライトを使用する構成においても、配線領域R20wを含む周辺領域R20(周辺BM領域)の光抜けを、抑制または防止することができる。   As described above, in the present embodiment, even in a configuration using a backlight that emits high-luminance light, light leakage from the peripheral region R20 (peripheral BM region) including the wiring region R20w can be suppressed or prevented. .

なお、本実施の形態では、液晶パネル100は、制御基板135a,135bおよび接続ケーブル136a,136bを含む構成としたが、これに限定されない。液晶パネル100は、例えば、制御基板135a,135bおよび接続ケーブル136a,136bを含まない構成としてもよい。当該構成では、液晶表示装置500が、制御基板135a,135bおよび接続ケーブル136a,136bを含む。   In the present embodiment, the liquid crystal panel 100 includes the control boards 135a and 135b and the connection cables 136a and 136b. However, the present invention is not limited to this. The liquid crystal panel 100 may be configured not to include, for example, the control boards 135a and 135b and the connection cables 136a and 136b. In this configuration, the liquid crystal display device 500 includes control boards 135a and 135b and connection cables 136a and 136b.

なお、前述したように、一般に、液晶表示装置に含まれる液晶パネルでは、表示領域の周辺に設けられる周辺領域にも液晶層は存在する。なお、周辺領域の液晶層に対しても電界が印加される。そのため、液晶パネルが白色のベタ画像を表示した場合、周辺領域から意図しない光が発生するという光抜けが発生するという問題がある。   As described above, in general, in a liquid crystal panel included in a liquid crystal display device, a liquid crystal layer also exists in a peripheral region provided around the display region. An electric field is also applied to the liquid crystal layer in the peripheral region. Therefore, when the liquid crystal panel displays a white solid image, there is a problem that light leakage occurs that unintended light is generated from the peripheral area.

この光抜けを防ぐ方法には、電界を発生させるアレイ配線側の電界を遮蔽する方法がある。この方法は、IPS(In Plane Switching)モードの液晶パネルのように、対向する2つの基板間において電界が生じないものに対しては有効である。しかしながら、TNモードまたはVAモードの液晶パネルのように、対向する2つの基板間に電界が生じるものに対しては有効でない。   As a method for preventing this light leakage, there is a method of shielding the electric field on the array wiring side that generates the electric field. This method is effective for an IPS (In Plane Switching) mode liquid crystal panel in which an electric field is not generated between two opposing substrates. However, it is not effective for a device in which an electric field is generated between two opposing substrates, such as a TN mode or VA mode liquid crystal panel.

また、アレイ配線側の電界の遮蔽には、当該配線より上層に、別途、絶縁膜を介してシールド層を形成する必要がある。シールド層を形成する場合、プロセス増加によるコストの増加、設計における制約の発生等の新たな問題が発生する。   Further, in order to shield the electric field on the array wiring side, it is necessary to separately form a shield layer via an insulating film above the wiring. When the shield layer is formed, new problems such as an increase in cost due to an increase in processes and generation of constraints in design occur.

また、前述の関連技術Bでは、IPS方式(モード)の液晶表示装置に設けられる、周辺領域の遮光層(ブラックマトリクス)は、十分な遮光性を実現するOD値を有し、かつ、高い比抵抗を有する。これにより、関連技術Bにおける、IPS方式の液晶表示装置のカラーフィルタ基板は十分な遮光性を有する。しかしながら、関連技術Bは、TNモードまたはVAモードの液晶パネルに対し、バックライトが高輝度の光を照射する構成における周辺領域の光抜けの問題を解決する技術ではない。   In the related art B described above, the light shielding layer (black matrix) in the peripheral region provided in the IPS mode liquid crystal display device has an OD value that realizes sufficient light shielding properties, and has a high ratio. Has resistance. Accordingly, the color filter substrate of the IPS liquid crystal display device in the related art B has a sufficient light shielding property. However, the related art B is not a technique for solving the problem of light leakage in the peripheral region in a configuration in which the backlight emits high-luminance light to the TN mode or VA mode liquid crystal panel.

また、関連技術Bは、周辺領域、特に配線領域における液晶の駆動による光抜けの問題を解決する技術ではない。当該配線領域は、電界が印加され液晶が駆動される領域である。例えば、当該配線領域は、接続配線(信号引き出し配線)および検査回路の配線の近傍の領域である。   Related technology B is not a technology for solving the problem of light leakage due to driving of liquid crystal in the peripheral region, particularly the wiring region. The wiring region is a region where an electric field is applied and the liquid crystal is driven. For example, the wiring area is an area near the connection wiring (signal lead-out wiring) and the inspection circuit wiring.

そこで、本実施の形態の液晶パネル100(液晶表示装置500)は上記のように構成されるため、上記の問題点を解決することができる。   Therefore, since the liquid crystal panel 100 (liquid crystal display device 500) of the present embodiment is configured as described above, the above problems can be solved.

<実施の形態2>
実施の形態1では、周辺領域R20のBMの厚みを大きくするためにブラックマトリクス22を使用した。本実施の形態の構成は、周辺領域R20のBMの厚みを大きくするために色材を用いる構成(以下、「変形構成A」ともいう)である。以下においては、変形構成Aを適用した液晶パネル100を、「液晶パネル100A」ともいう。
<Embodiment 2>
In the first embodiment, the black matrix 22 is used to increase the thickness of the BM in the peripheral region R20. The configuration of the present embodiment is a configuration (hereinafter also referred to as “deformation configuration A”) in which a color material is used to increase the thickness of the BM in the peripheral region R20. Hereinafter, the liquid crystal panel 100 to which the modified configuration A is applied is also referred to as a “liquid crystal panel 100A”.

図9は、本発明の実施の形態2に係る液晶パネル100Aの構成を示す断面図である。図9は、図5の構成が設けられる位置と同じ位置における液晶パネル100Aの構成を示す。すなわち、図9は、図4のB1−B2線に沿った、変形構成Aを適用した液晶パネル100Aの断面図である。つまり、図9は、配線領域R20wにおける、液晶パネル100Aの一部の構成を示す。   FIG. 9 is a cross-sectional view showing a configuration of a liquid crystal panel 100A according to Embodiment 2 of the present invention. FIG. 9 shows the configuration of the liquid crystal panel 100A at the same position where the configuration of FIG. 5 is provided. That is, FIG. 9 is a cross-sectional view of the liquid crystal panel 100A to which the modified configuration A is applied, taken along line B1-B2 of FIG. That is, FIG. 9 shows a partial configuration of the liquid crystal panel 100A in the wiring region R20w.

液晶パネル100Aは、図5の液晶パネル100と比較して、基板120の代わりに基板120Aを備える点が異なる。液晶パネル100Aのそれ以外の構成は、液晶パネル100と同様なので詳細な説明は繰り返さない。   The liquid crystal panel 100A is different from the liquid crystal panel 100 of FIG. 5 in that a substrate 120A is provided instead of the substrate 120. Since the other configuration of liquid crystal panel 100A is the same as that of liquid crystal panel 100, detailed description will not be repeated.

基板120Aは、図5の基板120と比較して、ブラックマトリクス22の代わりに色材7Aを含む点が異なる。基板120Aのそれ以外の構成は、基板120と同様なので詳細な説明は繰り返さない。   The substrate 120A is different from the substrate 120 of FIG. 5 in that it includes a color material 7A instead of the black matrix 22. Since the other configuration of substrate 120A is the same as that of substrate 120, detailed description will not be repeated.

色材7Aは、色材7を構成する材料と同じ材料で構成される色材である。すなわち、色材7Aは、当該色材7Aに光が照射された場合、当該光の一部を吸収する光量低減部材である。   The color material 7A is a color material composed of the same material as that constituting the color material 7. That is, the color material 7A is a light amount reducing member that absorbs part of the light when the color material 7A is irradiated with light.

なお、図9を参照して、周辺BM領域に設けられたブラックマトリクス20(周辺領域用BM)は、ブラックマトリクス21のみで構成される。また、図9の構成によれば、平面視(XY面)において、周辺領域R20の前述の周辺BM領域には色材7A(光量低減部材)が設けられる。すなわち、周辺領域用BM上には、色材7A(光量低減部材)が設けられる。   Referring to FIG. 9, the black matrix 20 (peripheral region BM) provided in the peripheral BM region includes only the black matrix 21. Further, according to the configuration of FIG. 9, the color material 7A (light quantity reducing member) is provided in the above-described peripheral BM region of the peripheral region R20 in plan view (XY plane). That is, the color material 7A (light quantity reducing member) is provided on the peripheral region BM.

色材7Aは、単層で構成される。色材7Aは、例えば、色材7R,7G,7Bのうち、最も透過率が低い色材7Bで構成される。なお、図9の色材7Aは、前述の色材7Rまたは色材7Gで構成されてもよい。   The color material 7A is composed of a single layer. The color material 7A is composed of, for example, the color material 7B having the lowest transmittance among the color materials 7R, 7G, and 7B. Note that the color material 7A in FIG. 9 may be configured by the color material 7R or the color material 7G described above.

また、図9の構成では、実施の形態1と同様、周辺BM領域に存在する液晶層30の厚みが、表示BM領域に存在する液晶層30の厚みより小さい。これにより、周辺領域R20における基板110と基板120Aとのギャップを狭くすることができる。そのため、周辺BM領域に存在する液晶層30のリタデーション値を、表示BM領域に存在する液晶層30のリタデーション値よりも小さくすることが出来る。したがって、周辺BM領域に存在する液晶層30の透過率を、表示BM領域に存在する液晶層30の透過率より小さくすることができる。   9, the thickness of the liquid crystal layer 30 existing in the peripheral BM region is smaller than the thickness of the liquid crystal layer 30 existing in the display BM region, as in the first embodiment. Thereby, the gap between the substrate 110 and the substrate 120A in the peripheral region R20 can be narrowed. Therefore, the retardation value of the liquid crystal layer 30 existing in the peripheral BM region can be made smaller than the retardation value of the liquid crystal layer 30 existing in the display BM region. Therefore, the transmittance of the liquid crystal layer 30 existing in the peripheral BM region can be made smaller than the transmittance of the liquid crystal layer 30 existing in the display BM region.

なお、変形構成Aにおける色材7Aは、図10のように、複数の層で構成されてもよい。当該複数の層は、透過光の波長依存性の異なる複数の色材である。すなわち、色材7Aは、波長領域が殆ど重ならない、高透過率の2種類以上の色材を積み重ねて構成される。以下においては、図10の構成を、「変形構成A1」ともいう。   Note that the color material 7A in the modified configuration A may be composed of a plurality of layers as shown in FIG. The plurality of layers are a plurality of color materials having different wavelength dependencies of transmitted light. In other words, the color material 7A is configured by stacking two or more kinds of color materials having high transmittance and having almost no overlapping wavelength regions. In the following, the configuration of FIG. 10 is also referred to as “deformed configuration A1”.

具体的には、図10の変形構成A1では、色材7Aは、互いに異なる色を示す色材7a,7bを積み重ねて構成される。色材7aは、例えば、色材7Bである。色材7bは、例えば、色材7Gである。これにより、変形構成A1では、色材7Aを単層で構成した場合よりも、遮光性能を向上させることができる。したがって、変形構成A1では、周辺領域R20、特に、配線領域R20wにおける光抜けの発生を、十分に抑制することができる。   Specifically, in the modified configuration A1 of FIG. 10, the color material 7A is configured by stacking color materials 7a and 7b showing different colors. The color material 7a is, for example, the color material 7B. The color material 7b is, for example, a color material 7G. Thereby, in modification structure A1, light-shielding performance can be improved rather than the case where 7 A of color materials are comprised by a single layer. Therefore, in the modified configuration A1, the occurrence of light leakage in the peripheral region R20, particularly the wiring region R20w, can be sufficiently suppressed.

なお、図10の構成において、色材7Aを構成する色材の数は2に限定されず、3以上であってもよい。   In the configuration of FIG. 10, the number of color materials constituting the color material 7 </ b> A is not limited to 2 and may be 3 or more.

色材7Aを構成する各色材(各層)は、周辺領域R20に対して必要とされる遮光性能に適応した方法により生成される。例えば、色材7Aを構成する各色材は、ハーフトーンマスクを使用したハーフトーン露光技術を使用して生成される。また、例えば、色材7Aを構成する各色材の一部のみがハーフトーン露光技術を使用して生成されてもよい。また、例えば、色材7Aを構成する各色材は、ハーフトーン露光技術を使用せずに生成されてもよい。   Each color material (each layer) constituting the color material 7A is generated by a method adapted to the light shielding performance required for the peripheral region R20. For example, each color material constituting the color material 7A is generated using a halftone exposure technique using a halftone mask. Further, for example, only a part of each color material constituting the color material 7A may be generated using a halftone exposure technique. For example, each color material constituting the color material 7A may be generated without using the halftone exposure technique.

なお、図10の変形構成A1でも、図9の構成と同様、周辺BM領域に存在する液晶層30の厚みが、表示BM領域に存在する液晶層30の厚みより小さい。そのため、周辺BM領域に存在する液晶層30の透過率を、表示BM領域に存在する液晶層30の透過率より小さくすることができる。   10, the thickness of the liquid crystal layer 30 present in the peripheral BM region is smaller than the thickness of the liquid crystal layer 30 present in the display BM region, as in the configuration of FIG. 9. Therefore, the transmittance of the liquid crystal layer 30 present in the peripheral BM region can be made smaller than the transmittance of the liquid crystal layer 30 present in the display BM region.

また、図11のように、変形構成Aにおける色材7Aの厚みは、図9の色材7Aの厚みより大きくなるように構成されてもよい。なお、図11では、構成を分かりやすくするために、配線領域R20wには存在しない色材7(表示領域R10の色材7R,7G,7B)を示している。以下においては、図11の構成を、「変形構成A2」ともいう。   Further, as shown in FIG. 11, the thickness of the color material 7A in the modified configuration A may be configured to be larger than the thickness of the color material 7A in FIG. In FIG. 11, in order to make the configuration easy to understand, the color material 7 that does not exist in the wiring region R20w (the color materials 7R, 7G, and 7B in the display region R10) is illustrated. In the following, the configuration of FIG. 11 is also referred to as “deformed configuration A2”.

図11の色材7Aの厚さは、ハーフトーンマスクを使用したハーフトーン露光技術を使用して設定される。図11の変形構成A2においても、図10の変形構成A1と同様の効果が得られる。   The thickness of the color material 7A in FIG. 11 is set using a halftone exposure technique using a halftone mask. Also in the modified configuration A2 of FIG. 11, the same effect as that of the modified configuration A1 of FIG. 10 is obtained.

また、図11の変形構成A2でも、図9の構成と同様、周辺BM領域に存在する液晶層30の厚みが、表示BM領域に存在する液晶層30の厚みより小さい。そのため、周辺BM領域に存在する液晶層30の透過率を、表示BM領域に存在する液晶層30の透過率より小さくすることができる。   Also in the modified configuration A2 of FIG. 11, the thickness of the liquid crystal layer 30 existing in the peripheral BM region is smaller than the thickness of the liquid crystal layer 30 existing in the display BM region, as in the configuration of FIG. Therefore, the transmittance of the liquid crystal layer 30 present in the peripheral BM region can be made smaller than the transmittance of the liquid crystal layer 30 present in the display BM region.

なお、図9、図10および図11の構成は、色材7Aを、周辺液晶領域R2cのみ、または、周辺液晶領域R2cwのみに設ける構成であってもよい。   9, 10 and 11 may be configured such that the color material 7A is provided only in the peripheral liquid crystal region R2c or only in the peripheral liquid crystal region R2cw.

図12の構成(以下、「変形構成Ax」ともいう)は、一例として、図9の構成の色材7Aを、周辺液晶領域R2cのみに設けた構成である。また、図13の構成(以下、「変形構成A1x」ともいう)は、一例として、図10の構成の色材7Aを、周辺液晶領域R2cのみに設けた構成である。また、図14の構成(以下、「変形構成A2x」ともいう)は、一例として、図11の構成の色材7Aを、周辺液晶領域R2cのみに設けた構成である。   The configuration in FIG. 12 (hereinafter, also referred to as “modified configuration Ax”) is a configuration in which the color material 7A having the configuration in FIG. 9 is provided only in the peripheral liquid crystal region R2c as an example. In addition, the configuration in FIG. 13 (hereinafter, also referred to as “modified configuration A1x”) is, for example, a configuration in which the color material 7A having the configuration in FIG. 10 is provided only in the peripheral liquid crystal region R2c. In addition, the configuration in FIG. 14 (hereinafter, also referred to as “modified configuration A2x”) is, for example, a configuration in which the color material 7A having the configuration in FIG. 11 is provided only in the peripheral liquid crystal region R2c.

図12の変形構成Axによれば、ギャップ長d21bは、ギャップ長d21aより大きい。ギャップ長d21bは、変形構成Axにおいて、基板120Aのうち周辺液晶領域R2c以外の領域に存在する部分と基板110との間隔である。ギャップ長d21aは、図9の構成における、基板120Aと基板110との間隔である。   According to the modified configuration Ax in FIG. 12, the gap length d21b is larger than the gap length d21a. The gap length d21b is a distance between a portion of the substrate 120A existing in a region other than the peripheral liquid crystal region R2c and the substrate 110 in the modified configuration Ax. The gap length d21a is the distance between the substrate 120A and the substrate 110 in the configuration of FIG.

また、図13の変形構成A1xによれば、ギャップ長d22bは、ギャップ長d22aより大きい。ギャップ長d22bは、変形構成A1xにおいて、基板120Aのうち周辺液晶領域R2c以外の領域に存在する部分と基板110との間隔である。ギャップ長d22aは、図10の変形構成A1において、基板120Aと基板110との間隔である。   Further, according to the modified configuration A1x of FIG. 13, the gap length d22b is larger than the gap length d22a. The gap length d22b is a distance between a portion of the substrate 120A existing in a region other than the peripheral liquid crystal region R2c and the substrate 110 in the modified configuration A1x. The gap length d22a is the distance between the substrate 120A and the substrate 110 in the modified configuration A1 of FIG.

また、図14の変形構成A2xによれば、ギャップ長d23bは、ギャップ長d23aより大きい。ギャップ長d23bは、変形構成A2xにいて、基板120Aのうち周辺液晶領域R2c以外の領域に存在する部分と基板110との間隔である。ギャップ長d23aは、図11の変形構成A2において、基板120Aと基板110との間隔である。   Further, according to the modified configuration A2x of FIG. 14, the gap length d23b is larger than the gap length d23a. The gap length d23b is the distance between the substrate 110 and the portion of the substrate 120A existing in the region other than the peripheral liquid crystal region R2c in the modified configuration A2x. The gap length d23a is the distance between the substrate 120A and the substrate 110 in the modified configuration A2 of FIG.

図12、図13および図14の構成によれば、実施の形態1の図8の変形構成X1aと同様な効果を得ることができる。すなわち、シール材SL1の形成を、安定的に行うことができる。   According to the configurations of FIGS. 12, 13, and 14, the same effect as that of the modified configuration X1a of FIG. 8 of the first embodiment can be obtained. That is, the sealing material SL1 can be stably formed.

また、本実施の形態では、光量低減部材である色材7Aは、色材7を構成する材料と同じ材料で構成される色材である。そのため、色材7Aを、表示領域R10の色材7と、同時に形成することができる。したがって、色材7Aを低コストで形成することができる。   In the present embodiment, the color material 7 </ b> A, which is a light amount reducing member, is a color material made of the same material as that constituting the color material 7. Therefore, the color material 7A can be formed simultaneously with the color material 7 in the display region R10. Therefore, the color material 7A can be formed at a low cost.

また、色材7Aは、図10の変形構成A1のように、複数の層で構成されてもよい。すなわち、色材7Aは、前述したように、当該複数の層は、透過光の波長依存性の異なる複数の色材である。すなわち、色材7Aは、波長領域が殆ど重ならない2種類の色材を積み重ねて構成される。これにより、色材7Aを、遮光作用の高い遮光部材として機能させることができる。   Further, the color material 7A may be composed of a plurality of layers as in the modified configuration A1 of FIG. In other words, as described above, in the color material 7A, the plurality of layers are a plurality of color materials having different wavelength dependencies of transmitted light. That is, the color material 7A is configured by stacking two kinds of color materials whose wavelength regions hardly overlap each other. Thereby, the color material 7A can function as a light shielding member having a high light shielding effect.

また、光量低減部材である色材7Aが厚いことにより、周辺領域R20(周辺BM領域)の液晶層30の厚みは小さくなる。そのため、当該液晶層30の透過率を下げるができる。これにより、周辺領域R20(周辺BM領域)の光抜けを、抑制または防止する効果も得られる。   Further, since the color material 7A that is a light amount reducing member is thick, the thickness of the liquid crystal layer 30 in the peripheral region R20 (peripheral BM region) is reduced. Therefore, the transmittance of the liquid crystal layer 30 can be lowered. Thereby, the effect of suppressing or preventing light leakage from the peripheral region R20 (peripheral BM region) is also obtained.

<実施の形態3>
本実施の形態の構成は、周辺BM領域のブラックマトリクスを、光学濃度であるOD(Optical Density)値が高い材料で生成した構成(以下、「変形構成B」ともいう)である。以下においては、変形構成Bを適用した液晶パネル100を、「液晶パネル100B」ともいう。
<Embodiment 3>
The configuration of the present embodiment is a configuration in which the black matrix in the peripheral BM region is generated from a material having a high OD (Optical Density) value that is an optical density (hereinafter also referred to as “deformed configuration B”). Hereinafter, the liquid crystal panel 100 to which the modified configuration B is applied is also referred to as a “liquid crystal panel 100B”.

図15は、本発明の実施の形態3に係る液晶パネル100Bの構成を示す断面図である。図15は、図5の構成が設けられる位置と同じ位置における液晶パネル100Bの構成を示す。すなわち、図15は、図4のB1−B2線に沿った、変形構成Bを適用した液晶パネル100Bの断面図である。つまり、図15は、配線領域R20wにおける、液晶パネル100Bの一部の構成を示す。   FIG. 15 is a cross-sectional view showing a configuration of a liquid crystal panel 100B according to Embodiment 3 of the present invention. FIG. 15 shows the configuration of the liquid crystal panel 100B at the same position where the configuration of FIG. 5 is provided. That is, FIG. 15 is a cross-sectional view of the liquid crystal panel 100B to which the modified configuration B is applied, taken along the line B1-B2 of FIG. That is, FIG. 15 shows a partial configuration of the liquid crystal panel 100B in the wiring region R20w.

液晶パネル100Bは、図5の液晶パネル100と比較して、基板120の代わりに基板120Bを備える点が異なる。液晶パネル100Bのそれ以外の構成は、液晶パネル100と同様なので詳細な説明は繰り返さない。   The liquid crystal panel 100B is different from the liquid crystal panel 100 of FIG. 5 in that a substrate 120B is provided instead of the substrate 120. Since the other configuration of liquid crystal panel 100B is the same as that of liquid crystal panel 100, detailed description will not be repeated.

基板120Bは、図5の基板120と比較して、色材7Aを含まない点と、ブラックマトリクス20がブラックマトリクス20dのみで構成される点とが異なる。基板120Bのそれ以外の構成は、基板120と同様なので詳細な説明は繰り返さない。   The substrate 120B is different from the substrate 120 of FIG. 5 in that it does not include the color material 7A and that the black matrix 20 is configured only by the black matrix 20d. Since the other configuration of substrate 120B is the same as that of substrate 120, detailed description will not be repeated.

変形構成Bでは、周辺BM領域に設けられたブラックマトリクス20(周辺領域用BM)を、ブラックマトリクス20dのみで構成する。すなわち、配線領域R20w(周辺BM領域)には、ブラックマトリクス20dが設けられる。   In the modified configuration B, the black matrix 20 (peripheral region BM) provided in the peripheral BM region is configured by only the black matrix 20d. That is, the black matrix 20d is provided in the wiring region R20w (peripheral BM region).

なお、変形構成Bでは、表示領域R10に設けられるブラックマトリクス20(表示領域用BM)は、ブラックマトリクス21のみで構成される。すなわち、表示領域R10には、ブラックマトリクス21が設けられる。なお、後述のように、表示領域R10に設けられたブラックマトリクス20も、ブラックマトリクス20dのみで構成されてもよい。   In the modified configuration B, the black matrix 20 (display region BM) provided in the display region R <b> 10 includes only the black matrix 21. That is, the black matrix 21 is provided in the display region R10. As will be described later, the black matrix 20 provided in the display region R10 may also be configured by only the black matrix 20d.

ブラックマトリクス20dは、ブラックマトリクス21よりも、光学濃度(OD値)が高い材料で構成される。すなわち、周辺BM領域に設けられたブラックマトリクス20dの光学濃度(OD値)は、表示領域R10に設けられたブラックマトリクス21の光学濃度(OD値)より大きい。これにより、実施の形態1と同様、周辺領域R20、特に、配線領域R20wにおける光抜けの発生を、抑制または防ぐことができる。   The black matrix 20 d is made of a material having an optical density (OD value) higher than that of the black matrix 21. That is, the optical density (OD value) of the black matrix 20d provided in the peripheral BM region is larger than the optical density (OD value) of the black matrix 21 provided in the display region R10. Thereby, similarly to the first embodiment, the occurrence of light leakage in the peripheral region R20, particularly the wiring region R20w, can be suppressed or prevented.

なお、表示領域R10に設けられたブラックマトリクス20も、ブラックマトリクス20dのみで構成(以下、「変形構成Ba」ともいう)するようにしてもよい。変形構成Baでは、表示領域R10および周辺領域R20にわたって設けられるブラックマトリクス20を、ブラックマトリクス20dのみで構成する。これにより、液晶パネル100Bに設けられるブラックマトリクスを1回の工程で生成することができる。そのため、液晶パネルを製造するための工程数の増加を抑制できる。さらに、高価なハーフトーンマスクを使用せずに、ブラックマトリクス20dは生成される。そのため、液晶パネルの製造における費用の削減を行うことができる。   The black matrix 20 provided in the display region R10 may also be configured only by the black matrix 20d (hereinafter also referred to as “modified configuration Ba”). In the modified configuration Ba, the black matrix 20 provided over the display region R10 and the peripheral region R20 is configured by only the black matrix 20d. Thereby, the black matrix provided in the liquid crystal panel 100B can be generated in one step. Therefore, an increase in the number of steps for manufacturing a liquid crystal panel can be suppressed. Furthermore, the black matrix 20d is generated without using an expensive halftone mask. Therefore, it is possible to reduce the cost in manufacturing the liquid crystal panel.

なお、変形構成Baにおいて、周辺領域R20のブラックマトリクス20dの厚みを、表示領域R10のブラックマトリクス20dの厚みより大きくしてもよい。この構成により、ブラックマトリクス20dの厚みは以下のようになる。すなわち、周辺BM領域に設けられたブラックマトリクス20dの厚みは、表示領域R10に設けられたブラックマトリクス20dの厚みより大きい。したがって、液晶層30の厚みは以下のようになる。すなわち、周辺BM領域に存在する液晶層30の厚みは、表示BM領域に存在する液晶層30の厚みより小さい。そのため、実施の形態1と同様、周辺BM領域に存在する液晶層30の透過率を、表示BM領域に存在する液晶層30の透過率より小さくすることができる。   In the modified configuration Ba, the thickness of the black matrix 20d in the peripheral region R20 may be larger than the thickness of the black matrix 20d in the display region R10. With this configuration, the thickness of the black matrix 20d is as follows. That is, the thickness of the black matrix 20d provided in the peripheral BM region is larger than the thickness of the black matrix 20d provided in the display region R10. Therefore, the thickness of the liquid crystal layer 30 is as follows. That is, the thickness of the liquid crystal layer 30 existing in the peripheral BM region is smaller than the thickness of the liquid crystal layer 30 existing in the display BM region. Therefore, as in the first embodiment, the transmittance of the liquid crystal layer 30 existing in the peripheral BM region can be made smaller than the transmittance of the liquid crystal layer 30 existing in the display BM region.

また、本実施の形態では、ブラックマトリクス20dを構成する光学濃度(OD値)を調整することにより、所望の領域(周辺BM領域)においてのみ、光抜けに関わる光量を効果的に減らすことが出来る。   In the present embodiment, by adjusting the optical density (OD value) constituting the black matrix 20d, it is possible to effectively reduce the amount of light related to light leakage only in a desired region (peripheral BM region). .

<実施の形態4>
本実施の形態の構成は、位相差膜を使用した構成(以下、「変形構成C」ともいう)である。以下においては、変形構成Cを適用した液晶パネル100を、「液晶パネル100C」ともいう。
<Embodiment 4>
The configuration of the present embodiment is a configuration using a retardation film (hereinafter also referred to as “deformed configuration C”). Hereinafter, the liquid crystal panel 100 to which the modified configuration C is applied is also referred to as a “liquid crystal panel 100C”.

図16は、本発明の実施の形態4に係る液晶パネル100Cの構成を示す断面図である。図16は、図5の構成が設けられる位置と同じ位置における液晶パネル100Cの構成を示す。すなわち、図16は、図4のB1−B2線に沿った、変形構成Cを適用した液晶パネル100Cの断面図である。つまり、図16は、配線領域R20wにおける、液晶パネル100Cの一部の構成を示す。   FIG. 16 is a cross-sectional view showing a configuration of a liquid crystal panel 100C according to Embodiment 4 of the present invention. FIG. 16 shows the configuration of the liquid crystal panel 100C at the same position where the configuration of FIG. 5 is provided. That is, FIG. 16 is a cross-sectional view of the liquid crystal panel 100C to which the modified configuration C is applied, taken along line B1-B2 of FIG. That is, FIG. 16 shows a partial configuration of the liquid crystal panel 100C in the wiring region R20w.

液晶パネル100Cは、図5の液晶パネル100と比較して、基板120の代わりに基板120Cを備える点が異なる。液晶パネル100Cのそれ以外の構成は、液晶パネル100と同様なので詳細な説明は繰り返さない。   The liquid crystal panel 100 </ b> C is different from the liquid crystal panel 100 of FIG. 5 in that a substrate 120 </ b> C is provided instead of the substrate 120. Since the other configuration of liquid crystal panel 100C is the same as that of liquid crystal panel 100, detailed description will not be repeated.

基板120Cは、図5の基板120と比較して、位相差膜13をさらに含む点が異なる。基板120Aのそれ以外の構成は、基板120と同様なので詳細な説明は繰り返さない。なお、図16を参照して、周辺BM領域に設けられたブラックマトリクス20(周辺領域用BM)は、ブラックマトリクス21のみで構成される。   The substrate 120C is different from the substrate 120 in FIG. 5 in that the substrate 120C further includes a retardation film 13. Since the other configuration of substrate 120A is the same as that of substrate 120, detailed description will not be repeated. Referring to FIG. 16, the black matrix 20 (peripheral region BM) provided in the peripheral BM region includes only the black matrix 21.

位相差膜13は、周辺BM領域に設けられたブラックマトリクス21上に設けられる。位相差膜13は、詳細は後述するが、周辺BM領域の光の透過率が、表示領域R10に設けられた周辺領域用BMの光の透過率より小さくなるように、当該位相差膜13を通過する光の位相を変化させるように構成される。   The retardation film 13 is provided on the black matrix 21 provided in the peripheral BM region. Although the details of the retardation film 13 will be described later, the retardation film 13 is set so that the light transmittance of the peripheral BM region is smaller than the light transmittance of the peripheral region BM provided in the display region R10. It is configured to change the phase of light passing therethrough.

位相差膜13は、振動方向が互いに直交する2種類の偏光の間に位相差を発生させる膜である。当該2種類の偏光は、位相差膜13を光が通過する際に発生する光である。位相差膜13は、遅相軸および進相軸を有する。   The phase difference film 13 is a film that generates a phase difference between two types of polarized light whose vibration directions are orthogonal to each other. The two types of polarized light are light generated when light passes through the retardation film 13. The retardation film 13 has a slow axis and a fast axis.

なお、変形構成Cでは、基板110の偏光板51は、平面視(XY面)において、当該偏光板51の吸収軸が基板120Cの偏光板52の吸収軸と直交するように、設けられる。   In the modified configuration C, the polarizing plate 51 of the substrate 110 is provided so that the absorption axis of the polarizing plate 51 is orthogonal to the absorption axis of the polarizing plate 52 of the substrate 120C in plan view (XY plane).

また、変形構成Cでは、偏光板51と偏光板52との間に位相差膜13が存在する。そのため、偏光板51および液晶層30を通過した光が当該位相差膜13を通過する際、当該光(偏光)の位相が変化する。位相差膜13から出射する、Z方向へ向かう光は、偏光板52に入射する。そのため、偏光板52に入射した光の振動方向が、偏光板52の透過軸に沿った方向である場合、偏光板52から光が出射する。したがって、位相差膜13の特性を変化させることにより、偏光板52から出射される光の強度は変化する。   In the modified configuration C, the retardation film 13 exists between the polarizing plate 51 and the polarizing plate 52. Therefore, when the light that has passed through the polarizing plate 51 and the liquid crystal layer 30 passes through the retardation film 13, the phase of the light (polarized light) changes. The light emitted from the retardation film 13 toward the Z direction enters the polarizing plate 52. Therefore, when the vibration direction of the light incident on the polarizing plate 52 is a direction along the transmission axis of the polarizing plate 52, the light is emitted from the polarizing plate 52. Therefore, the intensity of light emitted from the polarizing plate 52 changes by changing the characteristics of the retardation film 13.

そこで、位相差膜13は、当該位相差膜13から出射する光であって、かつ、偏光板52に照射される光に対し、人が視認出来ない程度の位相差を発生させるように構成される。例えば、位相差膜13は、λ/2板またはλ/4板の機能と同じ機能を有するように構成される。例えば、λ/2板は、振動方向が互いに直交する2種類の偏光の間に180度の位相差を発生させる板である。   Therefore, the phase difference film 13 is configured to generate a phase difference that is not visible to humans with respect to the light emitted from the phase difference film 13 and irradiated to the polarizing plate 52. The For example, the retardation film 13 is configured to have the same function as that of a λ / 2 plate or a λ / 4 plate. For example, a λ / 2 plate is a plate that generates a phase difference of 180 degrees between two types of polarized light whose vibration directions are orthogonal to each other.

位相差膜13がλ/2板の機能と同じ機能を有するように構成されている場合、位相差膜13の遅延軸は、偏光板51の吸収軸と偏光板52の吸収軸との両方に重ならないように設定される。なお、このように設定された複数の位相差膜13を積み重ねる構成としてもよい。この構成では、各位相差膜13の遅延軸は、偏光板51の吸収軸と偏光板52の吸収軸との両方に重ならないように設定される。   When the retardation film 13 is configured to have the same function as the λ / 2 plate, the retardation axis of the retardation film 13 is set to both the absorption axis of the polarizing plate 51 and the absorption axis of the polarizing plate 52. It is set not to overlap. A plurality of retardation films 13 set in this manner may be stacked. In this configuration, the delay axis of each retardation film 13 is set so as not to overlap both the absorption axis of the polarizing plate 51 and the absorption axis of the polarizing plate 52.

位相差膜13がλ/4板の機能と同じ機能を有するように構成されている場合、当該位相差膜13は、楕円偏光を発生させる機能を有する。そのため、位相差膜13がλ/4板の機能と同じ機能を有するように構成されている場合、位相差膜13の遅延軸は、偏光板51の吸収軸と偏光板52の吸収軸との両方に重ならないように設定される。この構成の場合、上記のように、複数の位相差膜13を積み重ねる構成とする必要はない。   When the retardation film 13 is configured to have the same function as that of the λ / 4 plate, the retardation film 13 has a function of generating elliptically polarized light. Therefore, when the retardation film 13 is configured to have the same function as that of the λ / 4 plate, the retardation axis of the retardation film 13 is the absorption axis of the polarizing plate 51 and the absorption axis of the polarizing plate 52. It is set not to overlap both. In the case of this configuration, it is not necessary to have a configuration in which the plurality of retardation films 13 are stacked as described above.

以上のように、位相差膜13を設定することにより、例えば、液晶パネル100Cが白色のベタ画像を表示した場合においても、配線領域R20wにおける光抜けの発生を抑制することができる。   As described above, by setting the retardation film 13, for example, even when the liquid crystal panel 100 </ b> C displays a white solid image, occurrence of light leakage in the wiring region R <b> 20 w can be suppressed.

なお、仮に、偏光板51の吸収軸と偏光板52の吸収軸とが直交しない構成であっても、位相差膜13の遅延軸の配置角度(位相差値)を変えることにより、上記と同様の効果が得られる。   Even if the absorption axis of the polarizing plate 51 and the absorption axis of the polarizing plate 52 are not orthogonal to each other, by changing the arrangement angle (phase difference value) of the retardation axis of the retardation film 13, the same as above. The effect is obtained.

また、変形構成Cでは、位相差膜13の厚みの分だけ、ギャップ長を小さくすることができる。具体的には、変形構成Cでは、周辺BM領域に存在する液晶層30の厚みは、平面視(XY面)において表示BM領域に存在する液晶層30の厚みより小さい。これにより、周辺領域R20における基板110と基板120Cとのギャップを狭くすることができる。そのため、周辺BM領域に存在する液晶層30のリタデーション値を、表示BM領域に存在する液晶層30のリタデーション値よりも小さくすることが出来る。したがって、周辺BM領域に存在する液晶層30の透過率を、表示BM領域に存在する液晶層30の透過率より小さくすることができる。   Further, in the modified configuration C, the gap length can be reduced by the thickness of the retardation film 13. Specifically, in the modified configuration C, the thickness of the liquid crystal layer 30 present in the peripheral BM region is smaller than the thickness of the liquid crystal layer 30 present in the display BM region in plan view (XY plane). Thereby, the gap between the substrate 110 and the substrate 120C in the peripheral region R20 can be narrowed. Therefore, the retardation value of the liquid crystal layer 30 existing in the peripheral BM region can be made smaller than the retardation value of the liquid crystal layer 30 existing in the display BM region. Therefore, the transmittance of the liquid crystal layer 30 existing in the peripheral BM region can be made smaller than the transmittance of the liquid crystal layer 30 existing in the display BM region.

なお、変形構成Cは、図17のように、位相差膜13を周辺液晶領域R2cのみに設ける構成であってもよい。また、変形構成Cは、位相差膜13を、周辺液晶領域R2cwのみに設ける構成であってもよい。   The modified configuration C may be a configuration in which the retardation film 13 is provided only in the peripheral liquid crystal region R2c as shown in FIG. Further, the modified configuration C may be a configuration in which the retardation film 13 is provided only in the peripheral liquid crystal region R2cw.

図17の構成(以下、「変形構成Cx」ともいう)によれば、ギャップ長d3bは、ギャップ長d3aより大きい。ギャップ長d3bは、図17の変形構成Cxにおいて、基板120Cのうち周辺液晶領域R2c以外の領域に存在する部分と基板110との間隔である。ギャップ長d3aは、図16の構成における、基板120Cと基板110との間隔である。すなわち、図17の変形構成Cxでは、シール材SL1を形成するための領域のギャップが小さくなることはない。そのため、変形構成Cxでは、シール材SL1の形成を、図16の構成よりも安定的に行うことができる。   According to the configuration of FIG. 17 (hereinafter, also referred to as “modified configuration Cx”), the gap length d3b is larger than the gap length d3a. The gap length d3b is a distance between a portion of the substrate 120C existing in a region other than the peripheral liquid crystal region R2c and the substrate 110 in the modified configuration Cx of FIG. The gap length d3a is the distance between the substrate 120C and the substrate 110 in the configuration of FIG. That is, in the modified configuration Cx of FIG. 17, the gap of the region for forming the sealing material SL1 is not reduced. Therefore, in the deformed configuration Cx, the seal material SL1 can be formed more stably than in the configuration of FIG.

また、本実施の形態によれば、例えば、液晶パネル100Cが白色のベタ画像を表示した場合においても、周辺BM領域の透過率を下げることができる。   Further, according to the present embodiment, for example, even when the liquid crystal panel 100C displays a white solid image, the transmittance of the peripheral BM region can be lowered.

また、本実施の形態によれば、位相差膜13は、周辺BM領域の光の透過率が、表示領域R10に設けられた周辺領域用BMの光の透過率より小さくなるように、当該位相差膜13を通過する光の位相を変化させるように構成される。そのため、液晶パネル100Cが白色のベタ画像を表示した場合における、当該液晶層30および位相差膜13の働きにより、周辺BM領域の光の透過率を下げることができる。したがって、周辺領域R20(周辺BM領域)の光抜けに関わる光量を効果的に減らすことが出来る。   Further, according to the present embodiment, the retardation film 13 is arranged in such a manner that the light transmittance of the peripheral BM region is smaller than the light transmittance of the peripheral region BM provided in the display region R10. The phase of light passing through the phase difference film 13 is changed. Therefore, when the liquid crystal panel 100C displays a white solid image, the light transmittance of the peripheral BM region can be lowered by the action of the liquid crystal layer 30 and the retardation film 13. Therefore, it is possible to effectively reduce the amount of light related to light leakage in the peripheral region R20 (peripheral BM region).

<実施の形態5>
本実施の形態の構成は、周辺領域R20に液晶層30を設けない構成(以下、「変形構成D」ともいう)である。以下においては、変形構成Dを適用した液晶パネル100を、「液晶パネル100D」ともいう。
<Embodiment 5>
The configuration of the present embodiment is a configuration in which the liquid crystal layer 30 is not provided in the peripheral region R20 (hereinafter also referred to as “modified configuration D”). Hereinafter, the liquid crystal panel 100 to which the modified configuration D is applied is also referred to as “liquid crystal panel 100D”.

図18は、本発明の実施の形態5に係る液晶パネル100Dの構成を示す平面図である。図19は、本発明の実施の形態5に係る液晶パネル100Dの構成を示す断面図である。具体的には、図19は、図18のC1−C2線に沿った、液晶パネル100Dの断面図である。なお、図19では、構成を見やすくするために、後述のスペーサSP2のうちXZ面と平行な部分は示していない。   FIG. 18 is a plan view showing a configuration of a liquid crystal panel 100D according to Embodiment 5 of the present invention. FIG. 19 is a cross-sectional view showing a configuration of a liquid crystal panel 100D according to Embodiment 5 of the present invention. Specifically, FIG. 19 is a cross-sectional view of the liquid crystal panel 100D taken along line C1-C2 of FIG. In FIG. 19, in order to make the configuration easy to see, a portion parallel to the XZ plane is not shown in a spacer SP2 described later.

液晶パネル100Dは、図5の液晶パネル100と比較して、スペーサSP2をさらに備える点が異なる。液晶パネル100Dのそれ以外の構成は、液晶パネル100と同様なので詳細な説明は繰り返さない。   The liquid crystal panel 100D is different from the liquid crystal panel 100 of FIG. 5 in that it further includes a spacer SP2. Since the other configuration of liquid crystal panel 100D is the same as that of liquid crystal panel 100, detailed description will not be repeated.

なお、変形構成Dでは、表示領域R10および周辺BM領域(周辺領域R20)に設けられたブラックマトリクス20は、ブラックマトリクス21のみで構成される。   In the modified configuration D, the black matrix 20 provided in the display region R10 and the peripheral BM region (peripheral region R20) is configured by only the black matrix 21.

スペーサSP2は、基板110と基板120との間に設けられる。前述したように、各スペーサSP1は、表示領域R10に設けられる。スペーサSP2は、以下の前提Aにおいては、スペーサSP1を構成する材料と同じ材料で構成されることが好ましい。前提Aは、表示領域R10に設けられるスペーサSP1が、有機樹脂膜をパターニングすることにより形成される柱状のスペーサであるという前提である。スペーサSP2がスペーサSP1を構成する材料と同じ材料で構成される場合、共通の有機樹脂膜をパターニングすることにより、スペーサSP2およびスペーサSP1を形成することができる。そのため、新たな工程を追加することなく低コストでスペーサSP2およびスペーサSP1を形成することができる。なお、スペーサSP2は、基板110および基板120のいずれに形成されてもよい。スペーサSP2の形状は、例えば、柱状である。   The spacer SP2 is provided between the substrate 110 and the substrate 120. As described above, each spacer SP1 is provided in the display region R10. The spacer SP2 is preferably made of the same material as that of the spacer SP1 under the following premise A. The premise A is a premise that the spacer SP1 provided in the display region R10 is a columnar spacer formed by patterning the organic resin film. When the spacer SP2 is formed of the same material as that of the spacer SP1, the spacer SP2 and the spacer SP1 can be formed by patterning a common organic resin film. Therefore, the spacer SP2 and the spacer SP1 can be formed at a low cost without adding a new process. The spacer SP2 may be formed on either the substrate 110 or the substrate 120. The shape of the spacer SP2 is, for example, a columnar shape.

図18および図19を参照して、平面視(XY面)におけるスペーサSP2の形状は、閉ループ状(枠状)である。平面視(XY面)において、スペーサSP2は、表示領域R10と周辺領域R20との境界部に設けられる。また、平面視(XY面)において、スペーサSP2は、周辺領域R20の周辺BM領域と表示領域R10との境界部に設けられる。   Referring to FIGS. 18 and 19, the shape of spacer SP2 in a plan view (XY plane) is a closed loop shape (frame shape). In a plan view (XY plane), the spacer SP2 is provided at the boundary between the display region R10 and the peripheral region R20. Further, in a plan view (XY plane), the spacer SP2 is provided at a boundary portion between the peripheral BM region of the peripheral region R20 and the display region R10.

また、平面視(XY面)において、液晶層30は、周辺領域R20の周辺BM領域に設けられず、表示領域R10に設けられる。   In plan view (XY plane), the liquid crystal layer 30 is not provided in the peripheral BM region of the peripheral region R20 but is provided in the display region R10.

スペーサSP2は、スペーサを形成する工程において、表示領域R10の周縁部(端部)に形成される。そして、滴下注入方式により、周辺領域R20(周辺BM領域)に液晶が入らないように、表示領域R10のみに液晶が配置(滴下)される。このとき、スペーサSP2は土手として機能する。   The spacer SP2 is formed on the peripheral edge (end) of the display region R10 in the step of forming the spacer. Then, the liquid crystal is arranged (dropped) only in the display region R10 by the dropping injection method so that the liquid crystal does not enter the peripheral region R20 (peripheral BM region). At this time, the spacer SP2 functions as a bank.

次に、スペーサSP2は、基板110および基板120により挟まれる。基板110および基板120は、シール材SL1により、互いに貼り合わせられる。次に、通常の工程(切断、洗浄、偏光板の貼り付け、IC実装、バックライト組立)等が行われる。これにより、液晶パネル100Dが製造される。   Next, the spacer SP2 is sandwiched between the substrate 110 and the substrate 120. The substrate 110 and the substrate 120 are bonded to each other by the seal material SL1. Next, normal processes (cutting, cleaning, attaching a polarizing plate, IC mounting, backlight assembly) and the like are performed. Thereby, the liquid crystal panel 100D is manufactured.

変形構成Dが適用された液晶パネル100Dでは、配線領域R20wを有する周辺領域R20(周辺BM領域)に液晶層30が存在しない。そのため、液晶層30に電界が印加された場合でも、周辺領域R20(周辺BM領域)において光抜けが発生することはない。   In the liquid crystal panel 100D to which the modified configuration D is applied, the liquid crystal layer 30 does not exist in the peripheral region R20 (peripheral BM region) having the wiring region R20w. Therefore, even when an electric field is applied to the liquid crystal layer 30, no light leakage occurs in the peripheral region R20 (peripheral BM region).

なぜならば、前述したように、偏光板51の吸収軸は偏光板52の吸収軸と直交し、かつ、偏光板51と偏光板52との間の空間には、ガラス、空気およびスペーサSP2が存在するためである。当該ガラスおよび空気は、当該ガラスおよび空気を通過する光の位相を変化させない。   This is because, as described above, the absorption axis of the polarizing plate 51 is orthogonal to the absorption axis of the polarizing plate 52, and glass, air, and the spacer SP2 exist in the space between the polarizing plate 51 and the polarizing plate 52. It is to do. The glass and air do not change the phase of light passing through the glass and air.

なお、スペーサSP2は、ブラックマトリクス、色材等で構成されてもよいし、それらが積み重ねられて構成されてもよい。   The spacer SP2 may be configured by a black matrix, a color material, or the like, or may be configured by stacking them.

本実施の形態では、上記のように、配線領域R20wを有する周辺領域R20(周辺BM領域)に液晶層30が存在しない。そのため、周辺領域R20(配線領域R20w)において液晶の向きが変化することに起因する、光の位相差の発生を防ぐことができる。これにより、周辺領域R20(配線領域R20w)の遮光性を向上させることが出来る。   In the present embodiment, as described above, the liquid crystal layer 30 does not exist in the peripheral region R20 (peripheral BM region) having the wiring region R20w. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of a light phase difference caused by the change in the orientation of the liquid crystal in the peripheral region R20 (wiring region R20w). Thereby, the light shielding property of the peripheral region R20 (wiring region R20w) can be improved.

<実施の形態6>
本実施の形態の構成は、周辺領域R20に液晶層30を設けない別の構成(以下、「変形構成E」ともいう)である。以下においては、変形構成Eを適用した液晶パネル100を、「液晶パネル100E」ともいう。
<Embodiment 6>
The configuration of the present embodiment is another configuration in which the liquid crystal layer 30 is not provided in the peripheral region R20 (hereinafter, also referred to as “modified configuration E”). Hereinafter, the liquid crystal panel 100 to which the modified configuration E is applied is also referred to as “liquid crystal panel 100E”.

図20は、本発明の実施の形態6に係る液晶パネル100Eの構成を示す平面図である。図21は、本発明の実施の形態6に係る液晶パネル100Eの構成を示す断面図である。具体的には、図21は、図20のD1−D2線に沿った、液晶パネル100Eの断面図である。なお、図21では、構成を見やすくするために、後述のシール材SL2のうちXZ面と平行な部分は示していない。   FIG. 20 is a plan view showing a configuration of a liquid crystal panel 100E according to Embodiment 6 of the present invention. FIG. 21 is a cross-sectional view showing a configuration of a liquid crystal panel 100E according to Embodiment 6 of the present invention. Specifically, FIG. 21 is a cross-sectional view of the liquid crystal panel 100E along the line D1-D2 of FIG. In FIG. 21, in order to make the configuration easy to see, a portion parallel to the XZ plane is not shown in a later-described sealing material SL2.

液晶パネル100Eは、図19の液晶パネル100Dと比較して、スペーサSP2のかわりにシール材SL2を備える点が異なる。液晶パネル100Eのそれ以外の構成は、液晶パネル100Dと同様なので詳細な説明は繰り返さない。   The liquid crystal panel 100E is different from the liquid crystal panel 100D of FIG. 19 in that a sealing material SL2 is provided instead of the spacer SP2. Since the other configuration of liquid crystal panel 100E is the same as that of liquid crystal panel 100D, detailed description will not be repeated.

シール材SL2は、基板110と基板120との間に設けられる。シール材SL2は、シール材SL1を構成する材料と同じ材料で構成される。   The sealing material SL2 is provided between the substrate 110 and the substrate 120. The sealing material SL2 is made of the same material as that constituting the sealing material SL1.

図20および図21を参照して、平面視(XY面)におけるシール材SL2の形状は、閉ループ状(枠状)である。平面視(XY面)において、シール材SL2は、表示領域R10と周辺領域R20との境界部に設けられる。また、平面視(XY面)において、シール材SL2は、周辺領域R20の周辺BM領域と表示領域R10との境界部に設けられる。   Referring to FIGS. 20 and 21, the shape of sealing material SL2 in a plan view (XY plane) is a closed loop shape (frame shape). In plan view (XY plane), the sealing material SL2 is provided at the boundary between the display region R10 and the peripheral region R20. Further, in plan view (XY plane), the sealing material SL2 is provided at a boundary portion between the peripheral BM region of the peripheral region R20 and the display region R10.

また、平面視(XY面)において、液晶層30は、周辺領域R20の周辺BM領域に設けられず、表示領域R10に設けられる。   In plan view (XY plane), the liquid crystal layer 30 is not provided in the peripheral BM region of the peripheral region R20 but is provided in the display region R10.

変形構成Eが適用された液晶パネル100Eでは、周辺領域R20(周辺BM領域)に液晶層30が存在しない。そのため、液晶層30に電界が印加された場合でも、周辺領域R20(周辺BM領域)において光抜けが発生することはない。   In the liquid crystal panel 100E to which the modified configuration E is applied, the liquid crystal layer 30 does not exist in the peripheral region R20 (peripheral BM region). Therefore, even when an electric field is applied to the liquid crystal layer 30, no light leakage occurs in the peripheral region R20 (peripheral BM region).

なぜならば、前述したように、偏光板51の吸収軸は偏光板52の吸収軸と直交し、かつ、偏光板51と偏光板52との間の空間には、ガラス、空気およびシール材SL2が存在するためである。   This is because, as described above, the absorption axis of the polarizing plate 51 is orthogonal to the absorption axis of the polarizing plate 52, and in the space between the polarizing plate 51 and the polarizing plate 52, glass, air, and the sealing material SL2 are present. This is because it exists.

本実施の形態では、上記のように、配線領域R20wを有する周辺領域R20(周辺BM領域)に液晶層30が存在しない。そのため、周辺領域R20(配線領域R20w)において液晶の向きが変化することに起因する、光の位相差の発生を防ぐことができる。これにより、周辺領域R20(配線領域R20w)の遮光性を向上させることが出来る。   In the present embodiment, as described above, the liquid crystal layer 30 does not exist in the peripheral region R20 (peripheral BM region) having the wiring region R20w. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of a light phase difference caused by the change in the orientation of the liquid crystal in the peripheral region R20 (wiring region R20w). Thereby, the light shielding property of the peripheral region R20 (wiring region R20w) can be improved.

また、本実施の形態では、基板110と基板120との間にシール材SL2がさらに追加されるため、基板110と基板120とが密着する強度を向上させることができる。   In this embodiment, since the sealant SL2 is further added between the substrate 110 and the substrate 120, the strength with which the substrate 110 and the substrate 120 are in close contact with each other can be improved.

(液晶表示装置の製造)
次に、上記各実施の形態の液晶表示装置の製造方法について説明する。なお、ここでは、一例として、主に、実施の形態1に係る液晶表示装置500の主要部分である液晶パネル100の製造方法について、図22のフローチャートにしたがって説明する。
(Manufacture of liquid crystal display devices)
Next, a method for manufacturing the liquid crystal display device of each of the above embodiments will be described. Here, as an example, a method for manufacturing liquid crystal panel 100, which is a main part of liquid crystal display device 500 according to Embodiment 1, will be mainly described with reference to the flowchart of FIG.

なお、液晶パネルは、通常、最終的な液晶パネルのサイズよりも大きなマザー基板から切り出される1枚以上の基板を使用して製造される。図22のステップS1〜S9およびステップS10の途中までのプロセスは、当該マザー基板に対し行われるプロセスである。   The liquid crystal panel is usually manufactured by using one or more substrates cut out from a mother substrate larger than the final size of the liquid crystal panel. The process up to the middle of steps S1 to S9 and step S10 in FIG. 22 is a process performed on the mother substrate.

まず、基板準備工程において、マザー基板の状態で、基板110,120が準備される。基板110,120の製造工程は、一般的な工程を用いても良いため、簡単に説明する。   First, in the substrate preparation process, the substrates 110 and 120 are prepared in a mother substrate state. Since the manufacturing process of the substrates 110 and 120 may be a general process, it will be briefly described.

基板110の製造においては、まず、ガラス基板111の一方の面に各スイッチング素子SW1、配線W1、画素電極113、端子116、トランスファ電極(図示せず)等が形成される。なお、配線W1は、前述したように、検査用配線119、検査回路を構成する配線、接続配線等である。これらは、成膜、フォトリソグラフィー法によるパターンニング、エッチング等のパターン形成工程が繰り返し行われることにより、形成される。   In the manufacture of the substrate 110, first, each switching element SW1, wiring W1, pixel electrode 113, terminal 116, transfer electrode (not shown), etc. are formed on one surface of the glass substrate 111. As described above, the wiring W1 is the inspection wiring 119, the wiring constituting the inspection circuit, the connection wiring, and the like. These are formed by repeatedly performing pattern formation processes such as film formation, patterning by photolithography, and etching.

また、基板120は、基板110と同様な工程により形成される。これにより、ガラス基板121の一方の面に、各色材7、ブラックマトリクス20、共通電極123等が形成される。なお、有機樹脂膜をパターニングすることにより、ガラス基板121の一方の面には、さらに、スペーサSP1が形成される。   Further, the substrate 120 is formed by the same process as the substrate 110. Thereby, each color material 7, the black matrix 20, the common electrode 123, and the like are formed on one surface of the glass substrate 121. Note that the spacer SP1 is further formed on one surface of the glass substrate 121 by patterning the organic resin film.

なお、ブラックマトリクス20の製造方法は、前述の実施の形態1〜3において、具体的に説明をしているため、詳細な説明は省略する。   Since the manufacturing method of the black matrix 20 has been specifically described in the first to third embodiments, detailed description thereof will be omitted.

また、実施の形態2の色材7Aは、前述したように、表示領域R10の色材7を構成する材料と同じ材料で構成される。周辺領域用BM上に設けられる、単層の色材7Aは、基板120を構成する色材(カラーレジスト)のパターニングの際に同時に形成される。なお、複数の層で構成される色材7Aも、上記と同様な方法により形成される。   Further, the color material 7A of the second embodiment is made of the same material as the material constituting the color material 7 of the display region R10 as described above. The single-layer color material 7A provided on the peripheral region BM is formed simultaneously with the patterning of the color material (color resist) constituting the substrate 120. The color material 7A composed of a plurality of layers is also formed by the same method as described above.

単層または複数の層で構成される色材7Aの形成は、平面パターンの設計のみを変更すれば実施できる。そのため、単層または複数の層で構成される色材7Aは、従来のカラー基板の製造方法の延長で容易に形成することが可能である。   The color material 7A formed of a single layer or a plurality of layers can be formed by changing only the planar pattern design. Therefore, the color material 7A composed of a single layer or a plurality of layers can be easily formed by extension of a conventional method for manufacturing a color substrate.

また、実施の形態5のスペーサSP2(土手)は、基板120の形成工程において、表示領域R10のスペーサSP1を形成するのと同時に、有機樹脂膜をパターニングすることにより形成すれば良い。   Further, the spacer SP2 (bank) according to the fifth embodiment may be formed by patterning the organic resin film simultaneously with the formation of the spacer SP1 in the display region R10 in the step of forming the substrate 120.

まず、ステップS1の基板洗浄工程では、配線W1が形成されている基板110が洗浄される。配線W1は、前述したように、検査用配線119、検査回路を構成する配線、接続配線等である。   First, in the substrate cleaning process in step S1, the substrate 110 on which the wiring W1 is formed is cleaned. As described above, the wiring W1 is the inspection wiring 119, the wiring constituting the inspection circuit, the connection wiring, or the like.

次に、ステップS2の配向膜材料塗布工程では、基板110の一方の面に、配向膜材料が塗布される。続いて、ホットプレートなどを使用して、塗布された配向膜材料を焼成処理し、乾燥させる。   Next, in the alignment film material application process in step S <b> 2, the alignment film material is applied to one surface of the substrate 110. Subsequently, the applied alignment film material is baked and dried using a hot plate or the like.

次に、ステップS3の配向処理工程において、上記の配向膜材料に対し配向処理が行われる。当該配向処理は、例えば、配向膜材料の表面に特定方向に沿った微細な溝、傷等を形成するラビング処理である。これにより、配向膜112が形成される。なお、配向膜112に対して行われる配向処理はラビング処理に限られず、光配向処理などの公知の配向処理であってもよい。   Next, in the alignment process step of step S3, the alignment process is performed on the alignment film material. The alignment treatment is, for example, a rubbing treatment that forms fine grooves, scratches, and the like along a specific direction on the surface of the alignment film material. Thereby, the alignment film 112 is formed. Note that the alignment process performed on the alignment film 112 is not limited to the rubbing process, and may be a known alignment process such as an optical alignment process.

また、共通電極123等が形成されている基板120に対しても、上記と同様に、ステップS1,S2,S3が行われる。これにより、配向膜122が形成される。   Also, steps S1, S2, and S3 are performed on the substrate 120 on which the common electrode 123 and the like are formed in the same manner as described above. Thereby, the alignment film 122 is formed.

なお、より詳細には、基板120上に形成されるスペーサSP1上も配向膜122で覆われる。しかしながら、スペーサSP1の高さよりも、配向膜122の厚みは十分に薄い。そのため、図では、スペーサSP1上に塗布された配向膜は図示していない。   In more detail, the spacer SP1 formed on the substrate 120 is also covered with the alignment film 122. However, the alignment film 122 is sufficiently thinner than the spacer SP1. Therefore, in the drawing, the alignment film applied on the spacer SP1 is not shown.

次に、ステップS4において、スペーサSP1の高さが測定される。実施の形態1では、スペーサSP1は基板120上に形成される。そのため、基板120上における、初期のスペーサSP1の高さを測定すれば良い。   Next, in step S4, the height of the spacer SP1 is measured. In the first embodiment, the spacer SP1 is formed on the substrate 120. Therefore, the initial height of the spacer SP1 on the substrate 120 may be measured.

なお、スペーサSP1の高さの測定は、以降でも再度説明を行うが、滴下注入(ODF)方式で液晶を注入する工程における、液晶の滴下量を決定するために行われる。従って、液晶を満たす空間の容積に関係するセルギャップを決定するために、スペーサSP1の高さが測定される。なお、デュアルスペーサ構造が用いられる場合、メインスペーサの高さが測定される。   The measurement of the height of the spacer SP1 will be described again later, but is performed in order to determine the amount of liquid crystal dropped in the step of injecting liquid crystal by the drop injection (ODF) method. Accordingly, the height of the spacer SP1 is measured in order to determine the cell gap related to the volume of the space filling the liquid crystal. When a dual spacer structure is used, the height of the main spacer is measured.

次に、ステップS5のシール材塗布工程では、スクリーン印刷装置が、基板110または基板120の主面に、シール材を塗布する。当該シール材は、弾性変形する樹脂ビーズを含む部材である。また、当該シール材は、液晶パネルの表示領域を囲むように塗布される。これにより、シール材SL1が形成される。   Next, in the sealing material application process in step S <b> 5, the screen printing apparatus applies the sealing material to the main surface of the substrate 110 or the substrate 120. The sealing material is a member including resin beads that are elastically deformed. The sealing material is applied so as to surround the display area of the liquid crystal panel. Thereby, sealing material SL1 is formed.

また、実施の形態5のシール材SL2は、このシール材塗布工程において、シール材SL1の形成と同時に形成される。   Further, the sealing material SL2 of Embodiment 5 is formed simultaneously with the formation of the sealing material SL1 in this sealing material application step.

なお、基板110または基板120の主面に、シール材SL1を形成するための、導電性粒子を含むシール材を塗布してもよい。具体的には、基板110または基板120の主面のうち、基板110上のトランスファ電極と基板120の共通電極123とが重なる領域に、導電性粒子を含むシール材を塗布してもよい。これにより、基板110,120間において導通機能を持たせることができる。   Note that a sealing material containing conductive particles for forming the sealing material SL1 may be applied to the main surface of the substrate 110 or the substrate 120. Specifically, a sealing material containing conductive particles may be applied to a region of the main surface of the substrate 110 or the substrate 120 where the transfer electrode on the substrate 110 and the common electrode 123 of the substrate 120 overlap. Thereby, a conduction function can be provided between the substrates 110 and 120.

また、トランスファ電極と共通電極123とが重なる領域に、別途、トランスファ材を塗布する構成としてもよい。当該トランスファ材は導電性粒子を含む樹脂ペーストからなる。当該構成では、トランスファ材塗布工程が、上記のステップS5の後に行われる。当該トランスファ材塗布工程は、上記のように、基板110または基板120の主面にトランスファ材を塗布する工程である。   Alternatively, a transfer material may be separately applied to a region where the transfer electrode and the common electrode 123 overlap. The transfer material is made of a resin paste containing conductive particles. In the said structure, a transfer material application | coating process is performed after said step S5. The transfer material application step is a step of applying the transfer material to the main surface of the substrate 110 or the substrate 120 as described above.

また、実施の形態1では、基板110と基板120との間隔を規定するスペーサSP1の形状は、柱状としたがこれに限定されない。当該スペーサSP1の形状は、球状とする構成としてもよい。当該構成では、基板110または基板120の一方の面に球状のスペーサが散布される。この場合、上記のトランスファ材塗布工程と同様に、ステップS5の後に、スペーサ散布工程が行われる。   In Embodiment 1, the shape of the spacer SP1 that defines the distance between the substrate 110 and the substrate 120 is a columnar shape, but is not limited to this. The spacer SP1 may have a spherical shape. In this configuration, spherical spacers are dispersed on one surface of the substrate 110 or the substrate 120. In this case, similarly to the transfer material application process described above, a spacer spraying process is performed after step S5.

次に、ステップS6の液晶滴下工程では、シール材SL1が形成された基板の当該シール材SL1により形成される空間に液晶が滴下される。この液晶の滴下される量は、ステップS4において測定されたスペーサSP1の高さに基づいて決定される。   Next, in the liquid crystal dropping process of step S6, the liquid crystal is dropped into the space formed by the sealing material SL1 of the substrate on which the sealing material SL1 is formed. The amount of the liquid crystal dropped is determined based on the height of the spacer SP1 measured in step S4.

次に、ステップS7の貼り合わせ工程では、真空状態において、マザー基板の状態の基板110,120が互いに貼り合わせられる。これにより、マザーセル基板が形成される。   Next, in the bonding process of step S7, the substrates 110 and 120 in the state of the mother substrate are bonded together in a vacuum state. Thereby, a mother cell substrate is formed.

次に、ステップS8の紫外線照射工程では、当該マザーセル基板に紫外線が照射される。これにより、シール材SL1を、ある程度硬化させる。   Next, in the ultraviolet irradiation process of step S8, the mother cell substrate is irradiated with ultraviolet rays. Thereby, sealing material SL1 is hardened to some extent.

その後、ステップS9では、加熱を行うアフターキュアが行われる。これにより、シール材SL1が完全に硬化する。その結果、硬化したシール材SL1が得られる。   Thereafter, in step S9, after-curing for heating is performed. Thereby, the sealing material SL1 is completely cured. As a result, a cured sealing material SL1 is obtained.

次に、ステップS10のセル分断工程では、マザーセル基板がスクライブラインに沿って切断される。これにより、マザーセル基板が、複数の液晶パネルに分断される。   Next, in the cell dividing step of step S10, the mother cell substrate is cut along the scribe line. Thereby, the mother cell substrate is divided into a plurality of liquid crystal panels.

以上のように分断された各液晶パネルに対して、ステップS11の偏光板貼り付け工程、ステップS12の制御基板実装工程などが行われる。これにより、図1の液晶パネル100の製造が完了する。   For each liquid crystal panel divided as described above, a polarizing plate attaching process in step S11, a control board mounting process in step S12, and the like are performed. Thereby, the manufacture of the liquid crystal panel 100 of FIG. 1 is completed.

更に、液晶パネル100の基板110の裏面側(非視認側)に、位相差板などの光学フィルムを介して、バックライトユニット(図示せず)が設けられる。そして、前述の筐体に、液晶パネル100と、バックライトユニット(図示せず)等の周辺部材が収容される。これにより、液晶表示装置500の製造が完了する。   Further, a backlight unit (not shown) is provided on the back side (non-viewing side) of the substrate 110 of the liquid crystal panel 100 via an optical film such as a retardation plate. Then, peripheral members such as the liquid crystal panel 100 and a backlight unit (not shown) are accommodated in the above-described casing. Thereby, the manufacture of the liquid crystal display device 500 is completed.

なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。   It should be noted that the present invention can be freely combined with each other within the scope of the invention, and each embodiment can be appropriately modified or omitted.

例えば、液晶パネル100,100A,100B,100C,100D,100Eの一部または全てにおいて、カラーフィルタ基板にオーバーコート層を設けてもよい。オーバーコート層は、カラーフィルタ基板の表面全体の平坦化のために使用される。また、オーバーコート層は、透明樹脂膜で構成される。例えば、液晶パネル100には、オーバーコート層が、配向膜122およびブラックマトリクス20を覆うように、カラーフィルタ基板である基板120に設けられてもよい。すなわち、オーバーコート層は、平面視(XY面)において、各色材7、配向膜122およびブラックマトリクス20を覆うように設けられる。これにより、カラーフィルタ基板(基板120)の表面全体が平坦化される。   For example, in some or all of the liquid crystal panels 100, 100A, 100B, 100C, 100D, and 100E, an overcoat layer may be provided on the color filter substrate. The overcoat layer is used for planarizing the entire surface of the color filter substrate. The overcoat layer is made of a transparent resin film. For example, in the liquid crystal panel 100, an overcoat layer may be provided on the substrate 120, which is a color filter substrate, so as to cover the alignment film 122 and the black matrix 20. That is, the overcoat layer is provided so as to cover each color material 7, the alignment film 122, and the black matrix 20 in plan view (XY plane). Thereby, the entire surface of the color filter substrate (substrate 120) is planarized.

また、例えば、液晶パネル100,100A,100B,100C,100D,100Eの一部または全ては、TNモードの液晶パネルに限定されず、例えば、IPSモードの液晶パネルであってもよい。例えば、液晶パネル100がIPSモードの液晶パネルである場合、基板120に共通電極123は形成されず、当該共通電極123に信号を伝達するためのトランスファ電極、トランスファ材よりなる構成等は省略される。   In addition, for example, some or all of the liquid crystal panels 100, 100A, 100B, 100C, 100D, and 100E are not limited to TN mode liquid crystal panels, and may be IPS mode liquid crystal panels, for example. For example, when the liquid crystal panel 100 is an IPS mode liquid crystal panel, the common electrode 123 is not formed on the substrate 120, and a transfer electrode for transmitting a signal to the common electrode 123, a configuration made of a transfer material, and the like are omitted. .

7,7a,7A,7b,7B,7G,7R 色材、13 位相差膜、20,20d,21,22 ブラックマトリクス、20x 画素形成部、30 液晶層、100,100A,100B,100C,100D,100E,900 液晶パネル、110,120,120A,120B,120C 基板、500 液晶表示装置、R10 表示領域、R20 周辺領域、R20w 配線領域、SL1,SL2 シール材、SP1,SP2 スペーサ、W1 配線。   7, 7a, 7A, 7b, 7B, 7G, 7R Color material, 13 retardation film, 20, 20d, 21, 22 black matrix, 20x pixel forming portion, 30 liquid crystal layer, 100, 100A, 100B, 100C, 100D, 100E, 900 liquid crystal panel, 110, 120, 120A, 120B, 120C substrate, 500 liquid crystal display device, R10 display area, R20 peripheral area, R20w wiring area, SL1, SL2 sealing material, SP1, SP2 spacer, W1 wiring.

Claims (13)

透光性を有する第1基板と、
透光性を有し、前記第1基板と対向する第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に設けられる液晶層と、を備え、
前記第2基板は、
平面視において、映像を表示するための表示領域と、
平面視において、前記表示領域の周辺に設けられる周辺領域とを有し、
平面視において、前記周辺領域は配線領域を有し、
前記配線領域には、前記液晶層において電界を発生させる配線が設けられ、
前記第2基板のうち前記液晶層に接する面側には、樹脂で構成されたブラックマトリクスが設けられ、
前記ブラックマトリクスは、前記第2基板が有する前記表示領域において画素を形成するように、当該表示領域の一部に設けられ、
前記ブラックマトリクスは、さらに、前記第2基板が有する前記周辺領域の一部または全てに設けられ、
前記周辺領域のうち前記ブラックマトリクスが設けられた領域である第1領域の光の透過率は、前記表示領域に設けられた前記ブラックマトリクスの光の透過率より小さい
液晶パネル。
A first substrate having translucency;
A second substrate having translucency and facing the first substrate;
A liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate,
The second substrate is
A display area for displaying an image in plan view;
In a plan view, it has a peripheral area provided around the display area,
In plan view, the peripheral area has a wiring area,
The wiring region is provided with a wiring for generating an electric field in the liquid crystal layer,
A black matrix made of resin is provided on the side of the second substrate that contacts the liquid crystal layer,
The black matrix is provided in a part of the display area so as to form pixels in the display area of the second substrate,
The black matrix is further provided in a part or all of the peripheral region of the second substrate,
The light transmittance of the 1st area | region which is an area | region in which the said black matrix was provided among the said peripheral areas is smaller than the light transmittance of the said black matrix provided in the said display area. Liquid crystal panel.
前記表示領域は、平面視において、当該表示領域のうち前記ブラックマトリクスが設けられた領域である第2領域を有し、
平面視において前記第1領域に存在する前記液晶層の厚みは、平面視において前記第2領域に存在する前記液晶層の厚みより小さい
請求項1に記載の液晶パネル。
The display area has a second area that is an area where the black matrix is provided in the display area in plan view;
The liquid crystal panel according to claim 1, wherein a thickness of the liquid crystal layer existing in the first region in plan view is smaller than a thickness of the liquid crystal layer existing in the second region in plan view.
平面視において、前記周辺領域の前記第1領域には光量低減部材が設けられ、
前記光量低減部材は、当該光量低減部材に光が照射された場合、当該光の一部または全てを吸収する部材である
請求項1または2に記載の液晶パネル。
In plan view, a light amount reducing member is provided in the first region of the peripheral region,
The liquid crystal panel according to claim 1, wherein the light quantity reducing member is a member that absorbs part or all of the light when the light quantity reducing member is irradiated with light.
前記周辺領域の前記第1領域に設けられた前記ブラックマトリクスの光学濃度は、前記表示領域に設けられた前記ブラックマトリクスの光学濃度より大きい
請求項1または2に記載の液晶パネル。
The liquid crystal panel according to claim 1, wherein an optical density of the black matrix provided in the first area of the peripheral area is greater than an optical density of the black matrix provided in the display area.
前記第1領域に設けられた前記ブラックマトリクスの厚みは、前記表示領域に設けられた前記ブラックマトリクスの厚みより大きい
請求項1または4に記載の液晶パネル。
The liquid crystal panel according to claim 1, wherein a thickness of the black matrix provided in the first region is larger than a thickness of the black matrix provided in the display region.
前記表示領域には色材が設けられ、
前記色材は、当該色材に光が照射されることにより色を表現するための部材であり、
前記光量低減部材は、前記色材を構成する材料と同じ材料で構成される別の色材である
請求項3に記載の液晶パネル。
The display area is provided with a color material,
The color material is a member for expressing a color by irradiating the color material with light,
The liquid crystal panel according to claim 3, wherein the light quantity reducing member is another color material made of the same material as that of the color material.
前記別の色材である前記光量低減部材は、少なくとも第1色材および第2色材を積み重ねて構成される
請求項6に記載の液晶パネル。
The liquid crystal panel according to claim 6, wherein the light amount reducing member that is another color material is configured by stacking at least a first color material and a second color material.
前記周辺領域の前記第1領域に設けられた前記ブラックマトリクス上には位相差膜が設けられ、
前記位相差膜は、前記周辺領域の前記第1領域の光の透過率が、前記表示領域に設けられた前記ブラックマトリクスの光の透過率より小さくなるように、当該位相差膜を通過する光の位相を変化させるように構成される
請求項1に記載の液晶パネル。
A retardation film is provided on the black matrix provided in the first region of the peripheral region,
The retardation film is light that passes through the retardation film so that light transmittance of the first area in the peripheral area is smaller than light transmittance of the black matrix provided in the display area. The liquid crystal panel according to claim 1, configured to change a phase of the liquid crystal panel.
前記表示領域には、前記液晶層の厚さを規定するための第1スペーサが設けられ、
前記液晶パネルは、さらに、
前記第1基板と前記第2基板との間に設けられる第2スペーサを備え、
平面視において、前記第2スペーサは、前記周辺領域の前記第1領域と前記表示領域との境界部に設けられ、
平面視において、前記液晶層は、前記周辺領域の前記第1領域に設けられず、前記表示領域に設けられる
請求項1に記載の液晶パネル。
The display area is provided with a first spacer for defining the thickness of the liquid crystal layer,
The liquid crystal panel further includes:
A second spacer provided between the first substrate and the second substrate;
In plan view, the second spacer is provided at a boundary portion between the first region and the display region in the peripheral region,
The liquid crystal panel according to claim 1, wherein the liquid crystal layer is provided not in the first area of the peripheral area but in the display area in a plan view.
前記第2スペーサは、前記第1スペーサを構成する材料と同じ材料で構成される
請求項9に記載の液晶パネル。
The liquid crystal panel according to claim 9, wherein the second spacer is made of the same material as that of the first spacer.
前記第1基板および前記第2基板は、第1シール材により、互いに貼り合わせられ、
前記液晶パネルは、さらに、
前記第1基板と前記第2基板との間に設けられる第2シール材を備え、
平面視において、前記第2シール材は、前記周辺領域の前記第1領域と前記表示領域との境界部に設けられ、
平面視において、前記液晶層は、前記周辺領域の前記第1領域に設けられず、前記表示領域に設けられる
請求項1に記載の液晶パネル。
The first substrate and the second substrate are bonded together by a first sealing material,
The liquid crystal panel further includes:
A second sealing material provided between the first substrate and the second substrate;
In plan view, the second sealing material is provided at a boundary portion between the first region and the display region in the peripheral region,
The liquid crystal panel according to claim 1, wherein the liquid crystal layer is provided not in the first area of the peripheral area but in the display area in a plan view.
前記第2シール材は、前記第1シール材を構成する材料と同じ材料で構成される
請求項11に記載の液晶パネル。
The liquid crystal panel according to claim 11, wherein the second sealing material is made of the same material as that of the first sealing material.
請求項1から12のいずれか1項に記載の液晶パネルを備える液晶表示装置であって、
前記液晶表示装置は、光を利用して前記液晶パネルの前記表示領域に前記映像を表示する
液晶表示装置。
A liquid crystal display device comprising the liquid crystal panel according to any one of claims 1 to 12,
The liquid crystal display device displays the image on the display area of the liquid crystal panel using light.
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