JP2016185896A - Tempered glass, and marking method for tempered glass - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a tempered glass having a mark formed thereon, and a marking method for a tempered glass, whereby it is possible to reduce the risk that the glass breaks.SOLUTION: A tempered glass has both surfaces and compressive stress layers formed in the vicinity of them, where a mark is formed at a position inside the compressive stress layer.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、強化ガラス、および、強化ガラスのマーキング方法に関する。   The present invention relates to tempered glass and a method for marking tempered glass.

強化ガラスは板状のガラスの両表面及びそれらの近傍に圧縮応力層を形成したガラスであるが、このような強化ガラスに対して、認証、メーカーのロゴ、製造ロット等を表示するマーキングが求められることがある。近年ではトレーサビリティ確保や工程管理のためにますますその必要性が増してきた。   Tempered glass is a glass with compression stress layers formed on and near both surfaces of plate-like glass. For such tempered glass, marking that displays certification, manufacturer's logo, production lot, etc. is required. May be. In recent years, the necessity for ensuring traceability and process management has increased.

強化ガラス(以下、単に「ガラス」とも云う。)にマーキングする従来の方法として、サンドブラストや化学エッチングが挙げられる。サンドブラストは強化ガラス表面にマスクを配置してマーク形成部に硬質粒子を衝突させて、強化ガラスの表面を削りとってマーキングする方法である。化学エッチングは強化ガラス表面にマスクを配置してフッ化水素溶液に浸すことにより、強化ガラスの表面を溶かしてマーキングする方法である。最近はレーザ光によるマーキングもおこなわれており、強化ガラスの表面のみでなく内部のマーキングが試みられるようになった。   Conventional methods for marking tempered glass (hereinafter also simply referred to as “glass”) include sand blasting and chemical etching. Sand blasting is a method in which a mask is placed on the surface of tempered glass, hard particles collide with a mark forming portion, and the surface of tempered glass is shaved and marked. Chemical etching is a method of marking by melting the surface of the tempered glass by placing a mask on the surface of the tempered glass and immersing it in a hydrogen fluoride solution. Recently, marking with a laser beam has been performed, and not only the surface of the tempered glass but also the internal marking has been tried.

内部へのマーキングは、強化ガラスを透過する波長のレーザ光を強化ガラスの内部に集光しておこなわれる。その際には、レーザ光を微細なビーム径に集光し、レーザ発振のパルス幅を短くして、強化ガラス内部で空間的あるいは時間的にレーザ光のエネルギーを集中させることが必要となる。強化ガラス内部にマーキングすることのメリットは、マーキングによって発生するガラス粒子が外部に排出されないことである。すなわち、ガラス粒子によるガラス表面や製造工程の装置、環境の汚染等の問題の発生を未然に防ぐことができる。また、表面にマーキングがおこなわれると強化ガラスの破壊が生じやすくなるが、内部マーキングによればこのような破壊を防止できることが期待される。   The marking on the inside is performed by condensing a laser beam having a wavelength that passes through the tempered glass inside the tempered glass. In that case, it is necessary to concentrate the laser beam energy spatially or temporally inside the tempered glass by condensing the laser beam into a fine beam diameter, shortening the pulse width of the laser oscillation. The merit of marking inside the tempered glass is that glass particles generated by the marking are not discharged to the outside. That is, it is possible to prevent the occurrence of problems such as contamination of the glass surface, manufacturing process equipment, and environment due to glass particles. Further, when marking is performed on the surface, the tempered glass is easily broken, but it is expected that the internal marking can prevent such breakage.

ここで、内部マーキングのためにガラス内部に不連続部や変質部を形成する技術として、例えば、圧縮応力層内部にレーザ光によってマーキングする技術(特許文献1)や、強化ガラスにレーザ光を照射することで非架橋酸素ホールセンタまたは屈折率変調部位を形成して着色させる技術(特許文献2)等では、強化ガラスが破壊するおそれが生じ、また、ガラス板にレーザ光を照射してマイクロクラックを発生させたのちに、加熱急冷して強化ガラスとする技術(特許文献3)では加熱急冷時やその後にマイクロクラックの成長により破壊する恐れがある。   Here, as a technique for forming discontinuous parts and altered parts inside the glass for internal marking, for example, a technique for marking the inside of the compressive stress layer with laser light (Patent Document 1), or irradiating laser light to tempered glass With the technique of forming a non-crosslinked oxygen hole center or a refractive index modulation part (Patent Document 2) or the like, there is a risk that the tempered glass is broken, and the glass plate is irradiated with laser light to form microcracks. In the technology (Patent Document 3) in which the glass is tempered by heating and quenching, there is a risk of breaking due to the growth of microcracks during or after heating and cooling.

本発明は、上記の問題を解決する、すなわち、破壊の生じる恐れを軽減することが可能な、マークが形成された強化ガラス、および、強化ガラスのマーキング方法を提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the tempered glass in which the mark was formed, and the marking method of tempered glass which can solve said problem, ie, can reduce the possibility that destruction will occur.

本発明の強化ガラスは、上記課題を解決するために、請求項1に記載の通り、両表面及びそれらの近傍に圧縮応力層が形成されている強化ガラスにおいて、前記圧縮応力層よりも内側の箇所にマークが形成されていることを特徴とする。   In order to solve the above-described problem, the tempered glass of the present invention is a tempered glass in which a compressive stress layer is formed on both surfaces and in the vicinity thereof, as described in claim 1. A mark is formed at a location.

本発明の強化ガラスは、圧縮応力層よりも内側の箇所にマークが形成されているために、強化ガラス表面でのクラック発生を抑えることができ、マークが形成されていながらも、破壊の生じる恐れを軽減することが可能となっている。   In the tempered glass of the present invention, since a mark is formed at a position inside the compressive stress layer, crack generation on the surface of the tempered glass can be suppressed, and there is a risk of destruction even though the mark is formed. Can be reduced.

マーキングに用いるレーザ加工装置の一例を示すモデル図である。It is a model figure which shows an example of the laser processing apparatus used for marking. 本発明の強化ガラスのマーキング方法の一例を示すモデル図である。It is a model figure which shows an example of the marking method of the tempered glass of this invention. 本発明の強化ガラスのマーキング方法の一例により形成されたマークの写真である。It is a photograph of the mark formed by an example of the marking method of the tempered glass of this invention. 図2に示したマーキング方法により形成されたマークの位置を示すモデル断面図である。FIG. 3 is a model cross-sectional view showing the position of a mark formed by the marking method shown in FIG. 2. 本発明の強化ガラスのマーキング方法の他の例を示すモデル図である。It is a model figure which shows the other example of the marking method of the tempered glass of this invention. 図5に示したマーキング方法により形成されたマークの位置を示すモデル断面図である。FIG. 6 is a model cross-sectional view showing the position of a mark formed by the marking method shown in FIG. 5. マーキング位置の強化ガラス表面からの距離(深さ)と表面のクラックの発生率との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the distance (depth) from the tempered glass surface of a marking position, and the incidence rate of the crack of a surface. 比較例での強化ガラスのマーキング方法を示すモデル図である。It is a model figure which shows the marking method of the tempered glass in a comparative example. 比較例のマーキング方法で形成されたマークの写真である。It is a photograph of the mark formed with the marking method of the comparative example.

本発明で用いる強化ガラスとしては、両表面及びそれらの近傍に圧縮応力層が一体に形成されている強化ガラスであれば、その圧縮応力層が、イオン交換法によって形成されているものであっても、風冷強化法によるものであってもよい。   The tempered glass used in the present invention is a tempered glass in which a compressive stress layer is integrally formed on both surfaces and in the vicinity thereof, and the compressive stress layer is formed by an ion exchange method. Alternatively, the air cooling strengthening method may be used.

マークの大きさとしては、通常、視認できる大きさであることが好ましいが、各種光学機器を用いて検出できる程度の大きさとしてもよい。   The size of the mark is usually preferably a size that can be visually recognized, but may be a size that can be detected using various optical devices.

このようなマークは、例えば、加工対象の強化ガラスを透過する波長のレーザ光を、圧縮応力層より強化ガラスの内側の箇所に数μmから数十μmオーダーの微細スポットとして集光することで形成可能である。あるいは、加工対象の強化ガラスを透過する波長で、かつ、フェムト秒、ピコ秒、ナノ秒などの短パルス幅のレーザ光を、圧縮応力層より内側の箇所に集光することでも形成できる。   Such a mark is formed, for example, by condensing a laser beam having a wavelength that passes through the tempered glass to be processed as a fine spot on the order of several μm to several tens of μm at a location inside the tempered glass from the compressive stress layer. Is possible. Alternatively, it can also be formed by condensing a laser beam having a wavelength that transmits the tempered glass to be processed and a short pulse width such as femtosecond, picosecond, and nanosecond at a position inside the compression stress layer.

ここで、レーザ光でマークを形成する、すなわち、マーキングをおこなう場合には、圧縮応力層よりも圧縮ガラスの内側でかつ圧縮応力層に近い箇所におこなうことが好ましい。すなわち、強化ガラスにおける圧縮応力層とその内側の強化処理の影響を受けていない部分(以下、「内層」とも云う。)との界面近傍ではマークを形成するためのエネルギーの加工閾値が低くなり、比較的低出力の安価なレーザ発振器によるマーキングが可能となる。そして、このように低出力のレーザ発振器を使用することは、加工対象の強化ガラスに過大なエネルギーを与えることを防止することにつながる。このため、強化ガラスの表面(圧縮応力層)でのクラック発生を抑えることができ、加工歩留まりが向上するとともに、強化ガラスの破壊の恐れをより低減させることが可能となる。   Here, when the mark is formed by the laser beam, that is, when marking is performed, it is preferable that the mark is formed inside the compression glass and closer to the compression stress layer than the compression stress layer. That is, in the vicinity of the interface between the compressive stress layer in the tempered glass and the portion not affected by the tempering treatment inside thereof (hereinafter also referred to as “inner layer”), the energy processing threshold for forming a mark is lowered, Marking with an inexpensive laser oscillator with relatively low output is possible. Using such a low-power laser oscillator leads to preventing excessive energy from being applied to the tempered glass to be processed. For this reason, generation | occurrence | production of the crack in the surface (compressive stress layer) of tempered glass can be suppressed, and while processing yield improves, it becomes possible to further reduce the fear of destruction of tempered glass.

このように、吸収されたレーザ光によって強化ガラスが変質し、マークが形成される。その変質とは、屈折率や透過率の変化のような光学的な変質である。また、レーザ光によりガラスを部分的に加熱することで、ガラスに不連続部分を形成することでマークを形成してもよい。不連続部分として、マイクロクラック、すなわち、微少なひびを複数発生させることでマークを形成することができる。このようなマイクロクラックによるマークの形成は容易であり、かつ、視認性も良好であるために好ましい。   In this way, the tempered glass is altered by the absorbed laser light, and a mark is formed. The alteration is an optical alteration such as a change in refractive index or transmittance. Alternatively, the mark may be formed by forming a discontinuous portion in the glass by partially heating the glass with laser light. As a discontinuous portion, a mark can be formed by generating a plurality of micro cracks, that is, micro cracks. Formation of such a mark by microcracks is easy and visibility is good, which is preferable.

本発明において、このようなマークが形成される位置としては、圧縮応力層よりも強化ガラスの内側である必要がある。圧縮応力層内にマークを形成すると、ガラス表面へのクラック進展が起りやすく、強化ガラスの破壊の恐れが大きくなる。   In the present invention, the position where such a mark is formed needs to be inside the tempered glass rather than the compressive stress layer. When a mark is formed in the compressive stress layer, cracks tend to develop on the glass surface, and the risk of breaking the tempered glass increases.

ここで、圧縮応力層の厚さは、強化ガラスの強化特性を表す指標として、DOL(depth of layer:応力深さ)で表される。本発明では、圧縮応力層より深い位置、すなわち、強化ガラスの両表面からDOL相当の厚さよりも深い位置にマークを形成することが必要である。   Here, the thickness of the compressive stress layer is represented by DOL (depth of layer) as an index representing the strengthening characteristics of the tempered glass. In the present invention, it is necessary to form a mark at a position deeper than the compressive stress layer, that is, at a position deeper than the thickness corresponding to DOL from both surfaces of the tempered glass.

以上、本発明について、好ましい実施形態を挙げて説明したが、本発明の強化ガラス、および、強化ガラスのマーキング方法は上記実施形態の構成に限定されるものではない。   As mentioned above, although this invention was demonstrated and mentioned with preferable embodiment, the marking method of the tempered glass of this invention and tempered glass is not limited to the structure of the said embodiment.

当業者は、従来公知の知見に従い、本発明の強化ガラス、および、強化ガラスのマーキング方法を適宜改変することができる。このような改変によってもなお強化ガラス、および、強化ガラスのマーキング方法の構成を具備する限り、もちろん、本発明の範疇に含まれるものである。   A person skilled in the art can appropriately modify the tempered glass of the present invention and the marking method of the tempered glass according to known knowledge. Of course, such modifications are included in the scope of the present invention as long as they have the configuration of the tempered glass and the marking method of the tempered glass.

以下に、実施例を示して本発明について具体的に説明する。
<実施例1>
イオン交換法による化学強化ガラスを対象として、レーザ光による強化ガラス内部へのマーキングをおこなった。用いた化学強化ガラスは、DOLが50μmで全体の厚さが500μmである。使用したレーザ光はYVO4レーザの3倍波(波長:355nm)で、パルス幅が15ns(ナノ秒)である。マーキングの条件は、平均出力が0.7W、繰返し周波数は30kHz、ビーム径が10μmである。
The present invention will be specifically described below with reference to examples.
<Example 1>
Marking the inside of tempered glass with laser light was performed for chemically tempered glass by ion exchange. The used chemically strengthened glass has a DOL of 50 μm and an overall thickness of 500 μm. The laser beam used is a third harmonic wave (wavelength: 355 nm) of the YVO 4 laser and has a pulse width of 15 ns (nanoseconds). The marking conditions are an average output of 0.7 W, a repetition frequency of 30 kHz, and a beam diameter of 10 μm.

図1にマーキングに用いるレーザ加工装置をモデル的に示した。制御部23はレーザ装置22、及び、マーキング対象の強化ガラス10を保持するステージ21と、それぞれ信号線24a、及び、信号線24bで接続されている。   FIG. 1 schematically shows a laser processing apparatus used for marking. The control unit 23 is connected to the laser device 22 and the stage 21 holding the tempered glass 10 to be marked by a signal line 24a and a signal line 24b, respectively.

レーザ装置22の内部(図示しない。)のレーザ発振器から出射したレーザ光はガルバノミラーで走査されて、fθレンズによって集光される。この集光されたレーザ光Lを強化ガラス10に照射する。制御部23からの制御信号によってレーザ装置22のレーザ光LのONやOFFの制御や、ステージ21の位置合わせが制御されて、強化ガラス10に所定の形状のマークが形成される。   Laser light emitted from a laser oscillator (not shown) inside the laser device 22 is scanned by a galvanometer mirror and collected by an fθ lens. The condensed laser beam L is irradiated to the tempered glass 10. A control signal from the control unit 23 controls the ON / OFF of the laser beam L of the laser device 22 and the alignment of the stage 21 to form a mark having a predetermined shape on the tempered glass 10.

図2にモデル的に示すように、レーザ光Lが強化ガラス10の内層10b内、すなわち、圧縮応力層10aより内側で、かつ、入射側(符号10a1を付して入射面を示す。)の圧縮応力層10aの近傍の箇所に集光するように、fθレンズ2と強化ガラス10との位置関係を設定して、「12345678」という8桁の数字を表す2次元コードのデータマトリックスをマークとして形成した。   As shown in FIG. 2 as a model, the laser light L is in the inner layer 10b of the tempered glass 10, that is, on the inner side of the compressive stress layer 10a and on the incident side (the reference numeral 10a1 is attached to indicate the incident surface). The positional relationship between the fθ lens 2 and the tempered glass 10 is set so that the light is condensed at a location in the vicinity of the compressive stress layer 10a, and a data matrix of a two-dimensional code representing an 8-digit number “12345678” is used as a mark. Formed.

図2にそのマークの写真を示す。このマークの白く見える部分は、約5μmのマイクロクラックが複数集合して形成されている。ここで、図3のモデル断面図で示されるように、マーク3は、その位置(強化ガラス10の入射面10a1からの深さ)が、強化ガラス10の内層10b内でかつ出射側の圧縮応力層10a近傍となるように形成されたものである。このように集光位置を内層10b内としたことにより、そして、マイクロクラックは内層10b内のみに存在し、また、入射面10a1にはクラックは発生しなかった。このマーク3は市販の2次元コードリーダーを使用して読み取ることができた。   FIG. 2 shows a photograph of the mark. A portion of the mark that appears white is formed by a collection of a plurality of microcracks of about 5 μm. Here, as shown in the model cross-sectional view of FIG. 3, the position of the mark 3 (depth from the incident surface 10a1 of the tempered glass 10) is within the inner layer 10b of the tempered glass 10 and the compressive stress on the emission side. It is formed so as to be in the vicinity of the layer 10a. Thus, by setting the condensing position in the inner layer 10b, the microcracks exist only in the inner layer 10b, and no cracks occurred on the incident surface 10a1. This mark 3 could be read using a commercially available two-dimensional code reader.

<実施例2>
イオン交換法による化学強化ガラスをマーキング対象として、レーザ光による強化ガラス内部へのマーキングをおこなった。ここで用いた強化ガラスは、DOLが50μmで全体の厚さが500μmのものである。
<Example 2>
Marking the inside of the tempered glass with a laser beam was performed on the chemically tempered glass by the ion exchange method. The tempered glass used here has a DOL of 50 μm and an overall thickness of 500 μm.

使用したレーザ光はYAGレーザの基本波(波長:1064nm)で、パルス幅が100ps(ピコ秒)である。マーキングの条件としては、平均出力が3W、繰返し周波数が100kHz、ビーム径が30μmである。   The laser beam used is a fundamental wave (wavelength: 1064 nm) of a YAG laser and has a pulse width of 100 ps (picoseconds). The marking conditions are an average output of 3 W, a repetition frequency of 100 kHz, and a beam diameter of 30 μm.

図5にモデル断面図を示すように、レーザ光が強化ガラス10の内層10b内でかつ出射側の圧縮応力層10a近傍の箇所に集光するように設定して、マーキングをおこなった。   As shown in the model cross-sectional view in FIG. 5, marking was performed by setting the laser beam so as to be condensed in the inner layer 10 b of the tempered glass 10 and in the vicinity of the compressive stress layer 10 a on the emission side.

マークが形成された強化ガラス10のモデル断面図を図6に示す。
このマーク3は実施例1の場合と同様に2次元コードのデータマトリックスであり、マイクロクラックによって形成されている。本実施例のように強化ガラス10の圧縮応力層10aより内側でかつ出射側(符号10a2を付して出射面を示す。)の圧縮応力層10a近傍の箇所にマーキングをおこなった場合においても、マーク3が圧縮応力層10aより強化ガラス10aの内側に存在することが必要である。このように集光位置を内層内としたことにより、本実施例においても強化ガラス10の表面にはクラックは発生しなかった。このマーク3は市販の2次元コードリーダーで読み取ることができた。
A model cross-sectional view of the tempered glass 10 on which the mark is formed is shown in FIG.
The mark 3 is a data matrix of a two-dimensional code as in the first embodiment, and is formed by microcracks. Even in the case where marking is performed on a portion in the vicinity of the compressive stress layer 10a on the inner side of the compressive stress layer 10a of the tempered glass 10 and the outgoing side (the reference numeral 10a2 is attached to indicate the outgoing surface) as in this example, It is necessary that the mark 3 exists inside the tempered glass 10a from the compressive stress layer 10a. In this way, no cracks were generated on the surface of the tempered glass 10 by setting the light condensing position in the inner layer. This mark 3 could be read with a commercially available two-dimensional code reader.

<実施例3>
風冷強化法によって強化された強化ガラスを対象として、レーザ光による強化ガラス内部へのマーキングをおこなった。この強化ガラスは、DOLが1mmで全体の厚さが5mmである。使用したレーザ光はYVO4レーザの基本波(波長:1064nm)で、パルス幅が10ns(ナノ秒)である。マーキングの条件は、平均出力が2W、繰返し周波数が10kHz、ビーム径が20μmである。
<Example 3>
For the tempered glass strengthened by the air-cooling tempering method, the inside of the tempered glass was marked with laser light. This tempered glass has a DOL of 1 mm and an overall thickness of 5 mm. The laser beam used is a fundamental wave (wavelength: 1064 nm) of a YVO 4 laser and has a pulse width of 10 ns (nanoseconds). The marking conditions are an average output of 2 W, a repetition frequency of 10 kHz, and a beam diameter of 20 μm.

実施例1と同様に、レーザ光が強化ガラスの内層内でかつ入射側の圧縮応力層近傍の箇所に集光するように、2次元コードのデータマトリックスのマーキングをおこなった。形成されたマークは約10μmのマイクロクラックの集合から構成されていた。このように集光位置を内層内としたことにより、これらマイクロクラックは、強化ガラスの圧縮応力層より内側の内層の内部のみに形成され、また、ガラスの表面にはクラックは発生しなかった。このマークは市販の2次元コードリーダーで読み取ることができた。   In the same manner as in Example 1, the data matrix of the two-dimensional code was marked so that the laser light was condensed in the inner layer of the tempered glass and in the vicinity of the compressive stress layer on the incident side. The formed mark was composed of a collection of about 10 μm microcracks. Thus, by setting the condensing position in the inner layer, these micro cracks were formed only in the inner layer inside the compressive stress layer of the tempered glass, and no crack was generated on the surface of the glass. This mark could be read with a commercially available two-dimensional code reader.

<マーキング位置に関する検討>
マーキング位置の強化ガラス表面からの距離と表面クラック発生頻度との関係を調べた。すなわち、イオン交換法による化学強化ガラス(DOL:50μm、全体の厚さ:500μm)を対象とし、ガラス表面からのマーキングする距離を0μm〜200μmの範囲で変更した以外は実施例1と同様にしてマークを形成したサンプルを作製し、そのときの表面のクラック発生頻度を評価した。結果を図7に示す。
<Examination on marking position>
The relationship between the distance from the tempered glass surface at the marking position and the frequency of surface cracks was investigated. That is, it is the same as in Example 1 except that chemically tempered glass (DOL: 50 μm, overall thickness: 500 μm) by ion exchange method is targeted, and the marking distance from the glass surface is changed in the range of 0 μm to 200 μm. A sample in which a mark was formed was produced, and the frequency of occurrence of cracks on the surface at that time was evaluated. The results are shown in FIG.

図7により、強化ガラスの表面にマークを形成したときは、表面のクラック発生頻度はほぼ100%であり、強化ガラス表面から50μmの厚さの圧縮応力層の内部にマークを形成したときには、表面のクラック発生頻度が30%以上であることが判る。そして、強化ガラスの圧縮応力層より内側にマーキングを施したときには、強化ガラス表面のクラック発生を防止することができることも理解される。なお、イオン強化法による強化ガラスの代わりに、風冷強化法によって強化された強化ガラスを用いても同様の結果が得られた。   According to FIG. 7, when the mark is formed on the surface of the tempered glass, the frequency of occurrence of cracks on the surface is almost 100%, and when the mark is formed inside the compression stress layer having a thickness of 50 μm from the surface of the tempered glass, It can be seen that the occurrence frequency of cracks is 30% or more. It is also understood that cracking on the surface of the tempered glass can be prevented when marking is performed on the inner side of the compressive stress layer of the tempered glass. In addition, the same result was obtained even if it used the tempered glass tempered by the air-cooling tempering method instead of the tempered glass by the ion tempering method.

<比較例>
実施例1と同様にして、ただし、図8にモデル的に示すように、レーザ光が強化ガラスの入射側の圧縮応力層10a内(ガラス表面から25μmの位置)に集光するようにして、マーキングをおこなった。マーキングの結果、強化ガラス表面にクラックが生じて、読み取りができなかった。
<Comparative example>
As in Example 1, except that the laser beam is focused in the compressive stress layer 10a on the incident side of the tempered glass (position of 25 μm from the glass surface), as schematically shown in FIG. Marking was performed. As a result of marking, cracks occurred on the surface of the tempered glass, and reading was impossible.

このために、ガラス表面のクラックを低減するために平均出力を0.7Wから0.4Wに低下させて、再度マーキングを試みた。その結果、平均出力を減少させたためにマークが薄く、コントラストが低いものとなったが、強化ガラス表面にはやはりクラックが生じ、読み取りができなかった。このときの得られたマークの写真を図9に示す。   For this reason, in order to reduce cracks on the glass surface, the average output was reduced from 0.7 W to 0.4 W, and marking was attempted again. As a result, since the average output was reduced, the mark was thin and the contrast was low, but cracks were still generated on the tempered glass surface, and reading was impossible. A photograph of the mark obtained at this time is shown in FIG.

L レーザ光
2 fθレンズ
3 マーク
10 強化ガラス
10a 圧縮応力層
10a1 入射面
10a2 出射面
10b 内層
21 ステージ
22 レーザ装置
23 制御部
L laser beam 2 fθ lens 3 mark 10 tempered glass 10a compressive stress layer 10a1 entrance surface 10a2 exit surface 10b inner layer 21 stage 22 laser device 23 controller

特開2004−323252号公報JP 2004-323252 A 特開2004−2056号公報JP 2004-2056 A 特開2005−324997号公報JP 2005-324997 A

Claims (7)

両表面及びそれらの近傍に圧縮応力層が形成されている強化ガラスにおいて、前記圧縮応力層よりも内側の箇所にマークが形成されていることを特徴とする強化ガラス。   A tempered glass in which a compressive stress layer is formed on both surfaces and in the vicinity thereof, wherein a mark is formed at a location inside the compressive stress layer. 前記マークが前記圧縮応力層の近傍に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の強化ガラス。   The tempered glass according to claim 1, wherein the mark is formed in the vicinity of the compressive stress layer. 前記マークが、前記強化ガラスが部分的に変質されたか、または、前記強化ガラスが部分的に不連続となることにより形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の強化ガラス。   The tempered glass according to claim 1 or 2, wherein the mark is formed by partially modifying the tempered glass or by partially discontinuing the tempered glass. Glass. 前記マークが、前記強化ガラスを部分的に不連続とするマイクロクラックにより形成されていることを特徴とする請求項3に記載の強化ガラス。   The tempered glass according to claim 3, wherein the mark is formed by a microcrack that makes the tempered glass partially discontinuous. 前記マークが、レーザ光を集光することにより形成されたことを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の強化ガラス。   The tempered glass according to any one of claims 1 to 4, wherein the mark is formed by condensing a laser beam. 両表面及びそれらの近傍に圧縮応力層が形成されている強化ガラスのマーキング方法であって、前記圧縮応力層よりも内側の箇所にレーザ光を集光してマークを形成することを特徴とする強化ガラスのマーキング方法。   A method of marking tempered glass in which a compressive stress layer is formed on both surfaces and in the vicinity thereof, wherein the mark is formed by condensing a laser beam at a location inside the compressive stress layer. Marking method for tempered glass. 前記マークを前記圧縮応力層の近傍に形成することを特徴とする請求項6に記載の強化ガラスのマーキング方法。   The tempered glass marking method according to claim 6, wherein the mark is formed in the vicinity of the compressive stress layer.
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