JP2016184084A - Photosensitive conductive ink and use of the same - Google Patents

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岳 柏村
Gaku Kashiwamura
岳 柏村
直人 荻原
Naoto Ogiwara
直人 荻原
中山 雄二
Yuji Nakayama
雄二 中山
野上 孝幸
Takayuki Nogami
孝幸 野上
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive conductive paste having excellent developability with a diluted alkali aqueous solution, a cured product of the paste, and a laminate with a conductive pattern.SOLUTION: A photosensitive conductive ink is provided, which comprises: a component (A) having an acidic functional group, an acid value of 5-200 (mgKOH/g), and a number average molecular weight of 2,000 or more; a compound (B) having a functional group that can neutralize at least a part of the acidic functional group in the component (A); conductive particles (C); a photopolymerization initiator (D); and a monomer (E) having an active energy ray-reactive functional group and a number average molecular weight of less than 2,000.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、活性エネルギー線に対する感光性と現像性に優れた導電性インキ、およびその導電性インキを用いて得られる導電パターン付き積層体に関する。   The present invention relates to a conductive ink excellent in photosensitivity to active energy rays and developability, and a laminate with a conductive pattern obtained using the conductive ink.

電子部品、電磁波シールド用の薄膜形成手段あるいは導電回路の形成手段として、エッチング法および印刷法が知られている。エッチング法は、金属の表面や形状を化学的あるいは電気化学的に溶解除去する方法であり、その表面処理を含めた広義の加工技術である。エッチングは、主に金属膜に希望のパターン形状を得るために行われるが、一般的に工程が煩雑であり、また後工程で廃液処理が必要であるため、費用もかかり問題が多い。また、エッチング法によって形成された導電回路は、アルミニウムや銅など金属材料等で形成されたものであるため、折り曲げ等の物理的衝撃に対して弱いという問題がある。   Etching methods and printing methods are known as means for forming thin parts for electronic parts, electromagnetic wave shields, or means for forming conductive circuits. The etching method is a method of dissolving or removing the surface or shape of a metal chemically or electrochemically, and is a processing technique in a broad sense including the surface treatment. Etching is mainly performed in order to obtain a desired pattern shape on the metal film. However, since the process is generally complicated and the waste liquid treatment is necessary in the subsequent process, it is expensive and problematic. In addition, since the conductive circuit formed by the etching method is formed of a metal material such as aluminum or copper, there is a problem that the conductive circuit is weak against physical impact such as bending.

これらの問題を解決してより安価に導電回路を形成する技術として、導電性インキが注目を集めている。導電性インキを用いて印刷することにより、容易に導電回路を形成できる。更に、電子部品の小型軽量化、生産性の向上、低コスト化の実現が期待できる。このため、印刷可能な導電性インキについての研究開発が精力的になされ、多くの提案がなされている。   As a technique for solving these problems and forming a conductive circuit at a lower cost, conductive ink is attracting attention. A conductive circuit can be easily formed by printing using conductive ink. In addition, electronic components can be expected to be smaller and lighter, improve productivity, and reduce costs. For this reason, research and development on printable conductive ink has been energetically performed, and many proposals have been made.

また、特許文献1には、セラミックス回路基板上に導体パターンを形成するための感光性導電ペーストとして、側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体の利用が開示されている。セラミックス回路基板用なので、パターン形成した後、ペースト中に含まれていた前記アクリル系共重合体等の有機物が完全に酸化、蒸発するよう、400〜550℃で1〜3時間保持後、600〜1000℃で焼成し、回路パターンが形成される。   Patent Document 1 discloses the use of an acrylic copolymer having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group in the side chain as a photosensitive conductive paste for forming a conductor pattern on a ceramic circuit board. Yes. Since it is for a ceramic circuit board, after pattern formation, the organic substance such as the acrylic copolymer contained in the paste is completely oxidized and evaporated, held at 400 to 550 ° C. for 1 to 3 hours, and then 600 to Baking at 1000 ° C. forms a circuit pattern.

特許文献2には、有機バインダー(B)と(E)熱硬化性樹脂とを含有する、焼成不要の光硬化性熱硬化性導電組成物が開示されている。   Patent Document 2 discloses a photocurable thermosetting conductive composition that contains an organic binder (B) and (E) a thermosetting resin and does not require firing.

特許文献3、4には、感光性ペーストの感光性樹脂として、側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有するエポキシ系樹脂が提案されている。   Patent Documents 3 and 4 propose an epoxy resin having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group in the side chain as the photosensitive resin of the photosensitive paste.

なお、導電性インキの例ではないが、特許文献5には、40℃の温水で2分程度の時間をかけて現像可能な印刷版を形成するための光重合性組成物として、第2級または第3級の窒素原子を有するビニル化合物を含む光重合性組成物が開示されている。
また特許文献6には、色純度向上のために、カルボキシル基を有する親水性樹脂(A)中のカルボキシル基の少なくとも一部が超強塩基性化合物(E)で中和されているカラーフィルター形成用感光性樹脂組成物が開示されている。
In addition, although it is not an example of conductive ink, Patent Document 5 discloses a second grade as a photopolymerizable composition for forming a printing plate that can be developed with warm water at 40 ° C. for about 2 minutes. Alternatively, a photopolymerizable composition containing a vinyl compound having a tertiary nitrogen atom is disclosed.
Patent Document 6 discloses the formation of a color filter in which at least a part of the carboxyl group in the hydrophilic resin (A) having a carboxyl group is neutralized with a super strong basic compound (E) in order to improve color purity. A photosensitive resin composition is disclosed.

特開平05−271576号公報JP 05-271576 A 特開2003−162921号公報JP 2003-162921 A 特開2010−95597号公報JP 2010-95597 A 特開2010−195860号公報JP 2010-195860 A 特開昭61−22339公報Japanese Patent Laid-Open No. 61-22339 特開2010−102169公報JP 2010-102169 A

しかし、特許文献1〜4に記載されるような感光性導電性インキは現像性が不十分だった。
また、特許文献5、6記載の発明は、印刷版形成用もしくはカラーフィルタ形成用の組成物に関するものであって、導電性インキに関するものではない。
However, the photosensitive conductive inks described in Patent Documents 1 to 4 have insufficient developability.
The inventions described in Patent Documents 5 and 6 relate to a composition for forming a printing plate or a color filter, and not a conductive ink.

本発明は、希アルカリ水溶液による現像に優れた感光性導電ペースト及びその硬化物、並びに導電パターン付き積層体を提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the photosensitive electrically conductive paste excellent in the image development by dilute alkaline aqueous solution, its hardened | cured material, and a laminated body with a conductive pattern.

本発明者らは前記の課題を解決するため、鋭意検討の結果、酸性官能基を有する成分(A)と、前記成分(A)中の酸性官能基の少なくとも一部を中和し得る官能基を有する化合物(B)とを含有する感光性導電性インキが前記課題を解決するものであると見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は、酸性官能基を有し酸価が5〜200(mgKOH/g)であり、数平均分子量が2,000以上である成分(A)と、前記成分(A)中の酸性官能基の少なくとも一部を中和し得る官能基を有する化合物(B)、導電性粒子(C)、光重合開始剤(D)および活性エネルギー線反応性官能基を有し、数平均分子量が2,000未満であるモノマー(E)とを含有する、感光性導電性インキに関する。
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have intensively studied and as a result, a component (A) having an acidic functional group and a functional group capable of neutralizing at least a part of the acidic functional group in the component (A). The present inventors have found that a photosensitive conductive ink containing a compound (B) having a salt that solves the above-mentioned problems, and has completed the present invention.
That is, the present invention has a component (A) having an acidic functional group, an acid value of 5 to 200 (mgKOH / g), and a number average molecular weight of 2,000 or more, and the acidity in the component (A). A compound (B) having a functional group capable of neutralizing at least a part of the functional group, a conductive particle (C), a photopolymerization initiator (D) and an active energy ray-reactive functional group, and having a number average molecular weight The present invention relates to a photosensitive conductive ink containing a monomer (E) that is less than 2,000.

本発明において、前記化合物(B)は沸点が200℃以下の有機塩基であることが好ましく、また四級アンモニウム塩であることが好ましい。
さらに、本発明においては化合物(B)の含有量が、成分(A)の有する酸性官能基のうちの5〜95%を中和し得る量であることが好ましい。
In the present invention, the compound (B) is preferably an organic base having a boiling point of 200 ° C. or less, and is preferably a quaternary ammonium salt.
Furthermore, in this invention, it is preferable that content of a compound (B) is an quantity which can neutralize 5-95% of the acidic functional groups which a component (A) has.

本発明において、前記成分(A)の数平均分子量は2,000以上、1,000,000以下であることが好ましい。
前記成分(A)は活性エネルギー線反応性官能基を有する成分(A1)であることが好ましく、成分(A1)の有する活性エネルギー線反応性官能基当量は300〜5000(g/mol)であることが好ましい。
In the present invention, the number average molecular weight of the component (A) is preferably 2,000 or more and 1,000,000 or less.
The component (A) is preferably a component (A1) having an active energy ray-reactive functional group, and the active energy ray-reactive functional group equivalent of the component (A1) is 300 to 5000 (g / mol). It is preferable.

前記成分(A)は、フェノキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ウレア系樹脂、ウレタンウレア系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。
また、前記成分(A)の有する酸性官能基は、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基、フェノール性水酸基からなる群より選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。
The component (A) is a group consisting of a phenoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, a polyester resin, a polyolefin resin, a urea resin, a urethane urea resin, an epoxy resin, a polyamide resin, and a polyimide resin. It is preferable that it is at least one selected from more.
Moreover, it is preferable that the acidic functional group which the said component (A) has is at least 1 chosen from the group which consists of a carboxyl group, a sulfo group, a phosphoric acid group, and a phenolic hydroxyl group.

本発明において、感光性導電性インキの固形分100質量%中、導電性粒子(C)の含有量が60〜95質量%であることが好ましい。   In this invention, it is preferable that content of electroconductive particle (C) is 60-95 mass% in solid content of 100 mass% of photosensitive conductive ink.

さらに本発明は、酸性官能基を有し酸価が5〜200(mgKOH/g)であり、数平均分子量が2,000以上である成分(A)を、前記成分(A)中の酸性官能基の少なくとも一部を中和し得る官能基を有する化合物(B)で中和してなる中和物(AB)、
導電性粒子(C)、光重合開始剤(D)および活性エネルギー線反応性官能基を有し数平均分子量が2,000未満であるモノマー(E)を含有する感光性導電性インキに関する。
Furthermore, the present invention relates to a component (A) having an acidic functional group, an acid value of 5 to 200 (mgKOH / g), and a number average molecular weight of 2,000 or more. A neutralized product (AB) obtained by neutralizing with a compound (B) having a functional group capable of neutralizing at least a part of the group,
The present invention relates to a photosensitive conductive ink containing a monomer (E) having conductive particles (C), a photopolymerization initiator (D) and an active energy ray-reactive functional group and having a number average molecular weight of less than 2,000.

さらにまた本発明は、酸性官能基を有し酸価が5〜200(mgKOH/g)であり、数平均分子量が2,000以上である成分(A)に、前記成分(A)中の酸性官能基の少なくとも一部を中和し得る官能基を有する化合物(B)を配合し、前記成分(A)の中和物(AB)を得、
次いで、前記中和物(AB)、導電性粒子(C)、光重合開始剤(D)および活性エネルギー線反応性官能基を有し数平均分子量が2,000未満であるモノマー(B)を混合する、感光性導電性インキの製造方法に関する。
Furthermore, the present invention provides the component (A) having an acidic functional group with an acid value of 5 to 200 (mgKOH / g) and a number average molecular weight of 2,000 or more. Compound (B) having a functional group capable of neutralizing at least a part of the functional group, to obtain a neutralized product (AB) of the component (A),
Next, the neutralized product (AB), conductive particles (C), photopolymerization initiator (D), and monomer (B) having an active energy ray-reactive functional group and a number average molecular weight of less than 2,000 The present invention relates to a method for producing a photosensitive conductive ink to be mixed.

本発明は、前記本発明の感光性導電性インキを硬化してなる硬化物に関する。   The present invention relates to a cured product obtained by curing the photosensitive conductive ink of the present invention.

また、本発明は、基材と前記基材上に形成された導電パターンとを具備する導電パターン付き積層体であって、前記導電パターンが、前記本発明の感光性導電性インキにより形成されている導電パターン付き積層体に関する。
前記導電パターンを被覆するように積層された絶縁層をさらに具備することが好ましい。
また、前記導電パターン付き積層体は、前記導電パターンと電気的に接続され、所定のパターンを有する他の導電パターンが、前記基材と前記導電パターンと間にさらに設けられていることが好ましい。
前記他の導電膜は、錫がドープされた酸化インジウムを主成分とする透明導電膜であることが好ましい。
さらに本発明の導電パターン付き積層体は、タッチスクリーンパネル用途に用いられるものであることが好ましい。
Moreover, this invention is a laminated body with a conductive pattern which comprises the base material and the conductive pattern formed on the said base material, Comprising: The said conductive pattern is formed with the photosensitive conductive ink of the said this invention. It is related with the laminated body with a conductive pattern.
It is preferable to further include an insulating layer laminated so as to cover the conductive pattern.
Moreover, it is preferable that the said laminated body with a conductive pattern is electrically connected with the said conductive pattern, and the other conductive pattern which has a predetermined pattern is further provided between the said base material and the said conductive pattern.
The other conductive film is preferably a transparent conductive film mainly composed of indium oxide doped with tin.
Furthermore, it is preferable that the laminated body with a conductive pattern of this invention is used for a touch screen panel use.

本発明により、希アルカリ水溶液による現像性に優れた感光性導電ペースト及びその硬化物、並びに導電パターン付き積層体を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a photosensitive conductive paste excellent in developability with a dilute alkaline aqueous solution, a cured product thereof, and a laminate with a conductive pattern.

本発明の導電性インキを配線構造に適用した抵抗膜式タッチスクリーンパネルの一例の要部の概略断面構成図であり、図2のA−A'切断線に相当する。It is a schematic sectional block diagram of the principal part of an example of the resistive film type touch screen panel which applied the conductive ink of this invention to the wiring structure, and is equivalent to the AA 'cut line of FIG. 本発明の導電性インキを配線構造に適用して好適な抵抗膜式タッチスクリーンパネルの積層状態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the lamination | stacking state of a suitable resistive film type touch screen panel by applying the conductive ink of this invention to a wiring structure.

以下、本発明の実施の形態を詳細に説明する。なお、本発明の趣旨に合致する限り、他の実施形態も本発明の範疇に属し得る。また、本明細書において「任意の数A〜任意の数B」なる記載は、数A及び数Aより大きい範囲であって、数B及び数Bより小さい範囲を意味する。また、本明細書及び請求の範囲において記載する「(メタ)アクリロ」という表記は、「アクリロ」に読み替えた化合物、及び「メタクリロ」に読み替えた化合物の何れも含むものとする。また、「(メタ)アクリル」及び「(メタ)アクリレート」においても同様に定義する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. In addition, as long as it agree | coincides with the meaning of this invention, other embodiment can also belong to the category of this invention. In the present specification, the description “any number A to any number B” means a range larger than the numbers A and A but smaller than the numbers B and B. In addition, the expression “(meth) acrylo” described in the present specification and claims includes both the compound read as “acrylo” and the compound read as “methacrylo”. The same definition applies to “(meth) acryl” and “(meth) acrylate”.

[感光性導電性インキ]
感光性導電性インキは、酸性官能基を有する成分(A)、酸性官能基の少なくとも一部を中和し得る官能基を有する化合物(B)、導電性粒子(C)、光重合開始剤(D)および活性エネルギー線反応性官能基を有するモノマー(E)を含有するものである。
[Photosensitive conductive ink]
The photosensitive conductive ink comprises a component (A) having an acidic functional group, a compound (B) having a functional group capable of neutralizing at least a part of the acidic functional group, conductive particles (C), a photopolymerization initiator ( D) and a monomer (E) having an active energy ray-reactive functional group.

[成分(A)]
本発明で用いられる成分(A)は、酸性官能基を有する化合物であればよいが、好ましくはフェノキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ウレア系樹脂、ウレタンウレア系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂であり、より好ましくはアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、フェノキシ系樹脂である。
[Component (A)]
The component (A) used in the present invention may be any compound having an acidic functional group, but preferably a phenoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, a polyester resin, a polyolefin resin, a urea resin, a urethane. Urea-based resins, epoxy-based resins, polyamide-based resins, and polyimide-based resins are preferable, and acrylic resins, urethane-based resins, and phenoxy-based resins are more preferable.

ここで本発明でいうフェノキシ系樹脂とは、ビスフェノール類とエピクロルヒドリンより合成されるものの他、ビスフェノール類と分子中にエポキシ基を 2個以上含むエポキシ化合物を重合して得た樹脂状物質を含む。   Here, the phenoxy resin referred to in the present invention includes a resinous substance obtained by polymerizing bisphenols and an epoxy compound having two or more epoxy groups in the molecule, in addition to those synthesized from bisphenols and epichlorohydrin.

成分(A)の数平均分子量は、2000以上であり、好ましくは、3000〜1000000である。数平均分子量が小さい場合は、塗工時の粘度やハンドリング、及び、光硬化後の現像性を向上させることができる。一方、数平均分子量が大きい場合には、最終的に得られる塗膜の耐熱性、耐湿熱性等を向上することができる。また数平均分子量を大きくすることにより柔軟性を高め、密着性確保が困難な基材への密着性等を向上することができる。
成分(A)の酸価は、5〜200mgKOH/gであり、好ましくは、10〜170mgKOH/gである。成分(A)の酸価が5〜200mgKOH/gであることにより、優れた現像性を付与しやすくなる。
The number average molecular weight of a component (A) is 2000 or more, Preferably, it is 3000-1 million. When the number average molecular weight is small, viscosity at the time of coating, handling, and developability after photocuring can be improved. On the other hand, when the number average molecular weight is large, the heat resistance, heat resistance, etc. of the finally obtained coating film can be improved. In addition, by increasing the number average molecular weight, flexibility can be improved, and adhesion to a substrate for which it is difficult to ensure adhesion can be improved.
The acid value of a component (A) is 5-200 mgKOH / g, Preferably, it is 10-170 mgKOH / g. When the acid value of the component (A) is from 5 to 200 mgKOH / g, excellent developability is easily imparted.

成分(A)の酸性官能基は特に限定されるものではないが、好ましくはカルボキシル基、スルホ基、リン酸基、フェノール性水酸基であり、より好ましくはカルボキシル基、スルホ基である。   Although the acidic functional group of a component (A) is not specifically limited, Preferably they are a carboxyl group, a sulfo group, a phosphoric acid group, and a phenolic hydroxyl group, More preferably, they are a carboxyl group and a sulfo group.

また本発明における成分(A)はエチレン性不飽和基を有すことが好ましく、そのエチレン性不飽和基当量は、300〜5000g/eqであることが好ましく、より好ましくは、300〜3000g/eqである。エチレン性不飽和基当量を300g/eqに近い範囲で設計する場合、得られる塗膜の光感度が高くなるため、現像時に良好なパターン形状を得やすくなる。一方、5000g/eqに近い範囲で設計する場合、適度な光架橋点となるため、最終的に得られる塗膜の柔軟性を増す事による密着性確保が困難な基材への密着性等を向上することができる。
なお、本発明でいう「エチレン性不飽和基当量」とは、樹脂の合成時に使用した原材料の重量から算出される理論値であって、樹脂の重量を、樹脂中に存在するエチレン性不飽和基の数で除したものであり、エチレン性不飽和基1モルあたりの樹脂の重量、すなわち、エチレン性不飽和基濃度の逆数に相当するものである。
Moreover, it is preferable that the component (A) in this invention has an ethylenically unsaturated group, It is preferable that the ethylenically unsaturated group equivalent is 300-5000 g / eq, More preferably, it is 300-3000 g / eq. It is. When the ethylenically unsaturated group equivalent is designed in a range close to 300 g / eq, the photosensitivity of the resulting coating film is increased, so that a good pattern shape can be easily obtained during development. On the other hand, when designing in a range close to 5000 g / eq, since it becomes an appropriate photocrosslinking point, adhesion to a base material that makes it difficult to ensure adhesion by increasing the flexibility of the finally obtained coating film, etc. Can be improved.
The “ethylenically unsaturated group equivalent” as used in the present invention is a theoretical value calculated from the weight of raw materials used during the synthesis of the resin, and the weight of the resin is the ethylenically unsaturated group present in the resin. It is divided by the number of groups and corresponds to the weight of the resin per mole of ethylenically unsaturated groups, that is, the reciprocal of the ethylenically unsaturated group concentration.

成分(A)の合成に使用する溶剤は、最終用途や、反応物の溶解性に応じて適宜選択することができる。
例えば、スクリーン印刷により粗パターンを形成してからフォトリソ法により微細回路を形成する工程で使用する場合、スクリーン印刷工程において、溶剤乾燥によるスクリーンメッシュでのインキ固化を抑制する必要があるため、高沸点の溶剤を用いることが好ましい。この場合の高沸点溶剤としては、例えばエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルなどのジアルキレングリコールモノアルキレンエーテル化合物、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルなどのトリアルキレングリコールモノアルキレンエーテル化合物が挙げられる。
本発明において、これらの溶剤は、必要に応じて一種のみを単独で用いても良いし、複数を併用しても良く、又、反応過程で脱溶剤を行ったり、脱溶剤後、新たに別の溶剤を添加したりしても良い。
The solvent used for the synthesis | combination of a component (A) can be suitably selected according to a final use and the solubility of a reaction material.
For example, when it is used in the process of forming a fine pattern by photolithography after forming a rough pattern by screen printing, it is necessary to suppress ink solidification on the screen mesh due to solvent drying in the screen printing process. It is preferable to use the solvent. Examples of the high boiling point solvent in this case include ethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monobutyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, and dipropylene glycol monobutyl ether. Examples include dialkylene glycol monoalkylene ether compounds, trialkylene glycol monoalkylene ether compounds such as triethylene glycol monomethyl ether and triethylene glycol monoethyl ether.
In the present invention, these solvents may be used alone or in combination, if necessary, and may be used in combination. Or a solvent may be added.

[酸性官能基を中和し得る化合物(B)]
本発明の感光性導電性インキ組成物には、樹脂の現像性を上げるために酸性官能基を中和し得る化合物(B)が用いられる。本発明で使用することのできる塩基性化合物(B)としては、無機塩基のほか、有機塩基などが挙げられる。
[Compound capable of neutralizing acidic functional group (B)]
In the photosensitive conductive ink composition of the present invention, a compound (B) capable of neutralizing an acidic functional group is used in order to improve the developability of the resin. Examples of the basic compound (B) that can be used in the present invention include inorganic bases and organic bases.

無機塩基としては、アンモニアのほか、アルカリ金属酸化物、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属過酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属重炭酸塩、アルカリ土類金属酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ土類金属過酸化物、アルカリ土類金属炭酸塩などが挙げられる。   Inorganic bases include ammonia, alkali metal oxides, alkali metal hydroxides, alkali metal peroxides, alkali metal carbonates, alkali metal bicarbonates, alkaline earth metal oxides, alkaline earth metal hydroxides Products, alkaline earth metal peroxides, alkaline earth metal carbonates and the like.

また有機塩基としては、例えばメタノールアミン、エタノールアミン、プロパノールアミン、ブタノールアミン、N−メチルメタノールアミン、N−エチルメタノールアミン、N−プロピルメタノールアミン、N−ブチルメタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、N−エチルエタノールアミン、N−プロピルエタノールアミン、N−ブチルエタノールアミン、N−メチルプロパノールアミン、N−エチルプロパノールアミン、N−プロピルプロパノールアミン、N−ブチルプロパノールアミン、N−メチルブタノールアミン、N−エチルブタノールアミン、N−プロピルブタノールアミン、N−ブチルブタノールアミン、N,N−ジメチルメタノールアミン、N,N−ジエチルメタノールアミン、N,N−ジプロピルメタノールアミン、N,N−ジブチルメタノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、N,N−ジエチルエタノールアミン、N,N−ジプロピルエタノールアミン、N,N−ジブチルエタノールアミン、N,N−ジメチルプロパノールアミン、N,N−ジエチルプロパノールアミン、N,N−ジプロピルプロパノールアミン、N,N−ジブチルプロパノールアミン、N,N−ジメチルブタノールアミン、N,N−ジエチルブタノールアミン、N,N−ジプロピルブタノールアミン、N,N−ジブチルブタノールアミン、N−メチルジメタノールアミン、N−エチルジメタノールアミン、N−プロピルジメタノールアミン、N−ブチルジメタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、N−プロピルジエタノールアミン、N−ブチルジエタノールアミン、N−メチルジプロパノールアミン、N−エチルジプロパノールアミン、N−プロピルジプロパノールアミン、N−ブチルジプロパノールアミン、N−メチルジブタノールアミン、N−エチルジブタノールアミン、N−プロピルジブタノールアミン、N−ブチルジブタノールアミン、N−(アミノメチル)メタノールアミン、N−(アミノメチル)エタノールアミン、N−(アミノメチル)プロパノールアミン、N−(アミノメチル)ブタノールアミン、N−(アミノエチル)メタノールアミン、N−(アミノエチル)エタノールアミン、N−(アミノエチル)プロパノールアミン、N−(アミノエチル)ブタノールアミン、N−(アミノプロピル)メタノールアミン、N−(アミノプロピル)エタノールアミン、N−(アミノプロピル)プロパノールアミン、N−(アミノプロピル)ブタノールアミン、N−(アミノブチル)メタノールアミン、N−(アミノブチル)エタノールアミン、N−(アミノブチル)プロパノールアミン、N−(アミノブチル)ブタノールアミン、メトキシメチルアミン、メトキシエチルアミン、メトキシプロピルアミン、メトキシブチルアミン、エトキシメチルアミン、エトキシエチルアミン、エトキシプロピルアミン、エトキシブチルアミン、プロポキシメチルアミン、プロポキシエチルアミン、プロポキシプロピルアミン、プロポキシブチルアミン、ブトキシメチルアミン、ブトキシエチルアミン、ブトキシプロピルアミン、ブトキシブチルアミン、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、N,N−ジメチルアミン、N,N−ジエチルアミン、N,N−ジプロピルアミン、N,N−ジブチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロキサイド、テトラプロピルアンモニウムハイドロキサイド、テトラブチルアンモニウムハイドロキサイド、テトラメチルエチレンジアミン、テトラエチルエチレンジアミン、テトラプロピルエチレンジアミン、テトラブチルエチレンジアミン、メチルアミノメチルアミン、メチルアミノエチルアミン、メチルアミノプロピルアミン、メチルアミノブチルアミン、エチルアミノメチルアミン、エチルアミノエチルアミン、エチルアミノプロピルアミン、エチルアミノブチルアミン、プロピルアミノメチルアミン、プロピルアミノエチルアミン、プロピルアミノプロピルアミン、プロピルアミノブチルアミン、ブチルアミノメチルアミン、ブチルアミノエチルアミン、ブチルアミノプロピルアミン、ブチルアミノブチルアミン、ピリジン、ピロール、ピペラジン、ピロリジン、ピペリジン、ピコリン、モルホリン、メチルモルホリン、ジアザビシクロオクラン、ジアザビシクロノナン、ジアザビシクロウンデセン、さらに四級アンモニウム塩としてテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチル(2−ヒドロキシエチル)アンモニウムヒドロキシド、テトラメチルアンモニウムボロヒドリド、テトラブチルアンモニウムボロヒドリドなどが挙げられるがこれに限定されるものではない。 これらは単独で、または2種以上を混合して用いることができる。
感光性導電インキを印刷して得られた印刷インキ塗膜の耐水性向上の点から、例えばアンモニア、トリエチルアミン、モルホリン、N−メチルモルホリン、N−エチルモルホリン、N、N−ジメチルエタノールアミン、N、N−ジエチルエタノールアミンのような760mmHg下の沸点が200℃以下の揮発性塩基性化合物を使用することが好ましく、特に有機塩基化合物が好ましい。
Examples of the organic base include methanolamine, ethanolamine, propanolamine, butanolamine, N-methylmethanolamine, N-ethylmethanolamine, N-propylmethanolamine, N-butylmethanolamine, N-methylethanolamine, N -Ethylethanolamine, N-propylethanolamine, N-butylethanolamine, N-methylpropanolamine, N-ethylpropanolamine, N-propylpropanolamine, N-butylpropanolamine, N-methylbutanolamine, N-ethyl Butanolamine, N-propylbutanolamine, N-butylbutanolamine, N, N-dimethylmethanolamine, N, N-diethylmethanolamine, N, N-dipropylmethanolamine N, N-dibutylmethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N, N-diethylethanolamine, N, N-dipropylethanolamine, N, N-dibutylethanolamine, N, N-dimethylpropanolamine, N, N-diethylpropanolamine, N, N-dipropylpropanolamine, N, N-dibutylpropanolamine, N, N-dimethylbutanolamine, N, N-diethylbutanolamine, N, N-dipropylbutanolamine, N, N-dibutylbutanolamine, N-methyldimethanolamine, N-ethyldimethanolamine, N-propyldimethanolamine, N-butyldimethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, N-propyldiethanol Min, N-butyldiethanolamine, N-methyldipropanolamine, N-ethyldipropanolamine, N-propyldipropanolamine, N-butyldipropanolamine, N-methyldibutanolamine, N-ethyldibutanolamine, N -Propyldibutanolamine, N-butyldibutanolamine, N- (aminomethyl) methanolamine, N- (aminomethyl) ethanolamine, N- (aminomethyl) propanolamine, N- (aminomethyl) butanolamine, N -(Aminoethyl) methanolamine, N- (aminoethyl) ethanolamine, N- (aminoethyl) propanolamine, N- (aminoethyl) butanolamine, N- (aminopropyl) methanolamine, N- (aminopropyl) Ethanor Ruamine, N- (aminopropyl) propanolamine, N- (aminopropyl) butanolamine, N- (aminobutyl) methanolamine, N- (aminobutyl) ethanolamine, N- (aminobutyl) propanolamine, N- ( Aminobutyl) butanolamine, methoxymethylamine, methoxyethylamine, methoxypropylamine, methoxybutylamine, ethoxymethylamine, ethoxyethylamine, ethoxypropylamine, ethoxybutylamine, propoxymethylamine, propoxyethylamine, propoxypropylamine, propoxybutylamine, butoxymethyl Amine, butoxyethylamine, butoxypropylamine, butoxybutylamine, methylamine, ethylamine, propylamine, butylamine N, N-dimethylamine, N, N-diethylamine, N, N-dipropylamine, N, N-dibutylamine, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium Hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, tetramethylethylenediamine, tetraethylethylenediamine, tetrapropylethylenediamine, tetrabutylethylenediamine, methylaminomethylamine, methylaminoethylamine, methylaminopropylamine, methylaminobutylamine , Ethylaminomethylamine, ethylaminoethylamine, ethylaminopropylamine, ethylamino Butylamine, propylaminomethylamine, propylaminoethylamine, propylaminopropylamine, propylaminobutylamine, butylaminomethylamine, butylaminoethylamine, butylaminopropylamine, butylaminobutylamine, pyridine, pyrrole, piperazine, pyrrolidine, piperidine, picoline, Morpholine, methylmorpholine, diazabicycloocrane, diazabicyclononane, diazabicycloundecene, and tetramethylammonium hydroxide, trimethyl (2-hydroxyethyl) ammonium hydroxide, tetramethylammonium borohydride as quaternary ammonium salts , Tetrabutylammonium borohydride and the like, but are not limited thereto. These can be used alone or in admixture of two or more.
From the viewpoint of improving the water resistance of a printing ink coating film obtained by printing a photosensitive conductive ink, for example, ammonia, triethylamine, morpholine, N-methylmorpholine, N-ethylmorpholine, N, N-dimethylethanolamine, N, It is preferable to use a volatile basic compound having a boiling point below 760 mmHg, such as N-diethylethanolamine, of 200 ° C. or less, and an organic basic compound is particularly preferable.

本発明における中和剤の添加時期としては、成分(A)の合成の際、感光性導電性インキの製造時、印刷作業直前、印刷中、等が挙げられる。いずれも成分(A)の酸性官能基を中和して樹脂の溶解性を上げるために行われる。添加は必要に応じて何度でも行うことができる。
前記化合物(B)の含有量は、現像液への溶解性の点から成分(A)の有する酸性官能基のうちの5%以上を中和し得る量であることが好ましく、耐水性向上の点から成分(A)の有する酸性官能基のうちの95%以下を中和し得る量であることが好ましい。
Examples of the timing for adding the neutralizing agent in the present invention include the synthesis of the component (A), the production of the photosensitive conductive ink, just before the printing operation, and the printing. Both are performed to neutralize the acidic functional group of component (A) and increase the solubility of the resin. Addition can be performed as many times as necessary.
The content of the compound (B) is preferably an amount capable of neutralizing 5% or more of the acidic functional groups of the component (A) from the viewpoint of solubility in a developer, and improves water resistance. From the standpoint, the amount is preferably an amount capable of neutralizing 95% or less of the acidic functional groups of the component (A).

[導電性粒子(C)]
本発明の導電性インキに用いる導電性粒子としては、例えば金、銀、銅、銀メッキ銅粉、銀−銅複合粉、銀−銅合金、アモルファス銅、ニッケル、クロム、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、インジウム、ケイ素、アルミニウム、タングステン、モルブテン、白金等の金属粉、これらの金属で被覆した無機物粉体、酸化銀、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ルテニウム等の金属酸化物の粉末、これらの金属酸化物で被覆した無機物粉末、おとびカーボンブラック、グラファイト等を用いることができる。これらの導電性粒子は、1種または2種以上組み合わせて用いても良い。これらの導電性粒子のなかでも、コスト、高導電性で酸化による抵抗率の上昇が少ないことから銀が好ましい。
[Conductive particles (C)]
Examples of the conductive particles used in the conductive ink of the present invention include gold, silver, copper, silver-plated copper powder, silver-copper composite powder, silver-copper alloy, amorphous copper, nickel, chromium, palladium, rhodium, ruthenium, Metal powder such as indium, silicon, aluminum, tungsten, morphbutene, platinum, inorganic powder coated with these metals, powder of metal oxide such as silver oxide, indium oxide, tin oxide, zinc oxide, ruthenium oxide, these Inorganic powders coated with metal oxides, carbon black, graphite and the like can be used. These conductive particles may be used alone or in combination of two or more. Among these conductive particles, silver is preferable because of its cost, high conductivity, and little increase in resistivity due to oxidation.

この導電性粒子の形状は、上記特性を満たしていれば特に限定されず、不定形、凝集状、鱗片状、微結晶状、球状、フレーク状等を適宜用いることができる。高精細パターンの印刷性の観点や導体パターンの基材への密着性の観点から、粒径の小さな球状のものや、凝集状のものであっても、凝集体として比較的小さいものが好ましい。
本発明に係る導電性インキに用いられる導電性粒子のD50粒子径は0.5〜8μmであり、1〜5μmの範囲であることが好ましく、2〜4μmの範囲であることがさらに好ましい。
また、BET比表面積は0.3〜5m2/gであり、0.8〜2.3m2/gの範囲であることが好ましく、0.8〜2m2/gの範囲であることがさらに好ましい。
The shape of the conductive particles is not particularly limited as long as the above properties are satisfied, and an indeterminate shape, an aggregated shape, a scale shape, a microcrystalline shape, a spherical shape, a flake shape, and the like can be appropriately used. From the viewpoint of the printability of the high-definition pattern and the adhesiveness of the conductor pattern to the substrate, a spherical or small aggregate having a small particle size is preferable as a relatively small aggregate.
The D50 particle diameter of the conductive particles used in the conductive ink according to the present invention is 0.5 to 8 μm, preferably in the range of 1 to 5 μm, and more preferably in the range of 2 to 4 μm.
Further, BET specific surface area of 0.3 to 5 m 2 / g, preferably in the range of 0.8~2.3m 2 / g, still in the range of 0.8~2m 2 / g preferable.

導電性粒子のD50粒子径が0.5μm未満であると、導電性インキにしたときに導電性粒子の分散性が悪くなるために導電性粒子同士の接触不良が生じ、印刷物の抵抗値が大きくなる可能性がある。また、導電性粒子のコストが高くなる。
一方、D50粒子径が8μmを越えると、高精細パターンの印刷性が劣る可能性がある。
なお、導電性粒子のD50粒子径は、島津製作所社製レーザー回折粒度分布測定装置「SALAD−3000」を用いて、体積粒度分布の累積粒度(D50)を測定した。
If the D50 particle diameter of the conductive particles is less than 0.5 μm, the dispersibility of the conductive particles deteriorates when the conductive ink is used, resulting in poor contact between the conductive particles, resulting in a large printed resistance value. There is a possibility. In addition, the cost of the conductive particles increases.
On the other hand, if the D50 particle diameter exceeds 8 μm, the printability of the high-definition pattern may be inferior.
In addition, the D50 particle diameter of the conductive particles was determined by measuring the cumulative particle size (D50) of the volume particle size distribution using a laser diffraction particle size distribution measuring device “SALAD-3000” manufactured by Shimadzu Corporation.

導電性粒子のBET比表面積が0.3m2/g未満であると導電性粒子同士の接触点が小さくなり、接触抵抗が大きくなる。
また、BET比表面積が5m2/gを超えると導電性粒子の表面を被覆するのに多くの樹脂を必要とするため、バインダー樹脂であるエポキシ樹脂に対する濡れが劣り、導電性インキにした場合の流動性が悪くなり印刷塗膜の表面のレベリング性が低下するので好ましくない。また、導電性粒子の表面を被覆するのに多くの樹脂を必要とするため、基材に対する導電パターンの密着性も低下する。
BET比表面積とは、粉体粒子表面に吸着占有面積の分かった分子を液体窒素の温度で吸着させ、その量から試料の比表面積を求める方法であり、不活性気体の低温低湿物理吸着を利用したものがBET法である。BET比表面積は、島津製作所製流動式比表面積測定装置「フローソーブII」を用いて測定した表面積を、以下の式(1)を用いて算出した値と定義する。
式(1) 比表面積(m2/g)=表面積(m2)/粉末質量(g)
When the BET specific surface area of the conductive particles is less than 0.3 m 2 / g, the contact point between the conductive particles decreases, and the contact resistance increases.
In addition, when the BET specific surface area exceeds 5 m 2 / g, a large amount of resin is required to coat the surface of the conductive particles. Therefore, the wetness with respect to the epoxy resin as the binder resin is inferior. This is not preferable because the fluidity is deteriorated and the leveling property of the surface of the printed coating film is lowered. Moreover, since many resin is required to coat | cover the surface of electroconductive particle, the adhesiveness of the electroconductive pattern with respect to a base material also falls.
BET specific surface area is a method of adsorbing molecules whose adsorption occupation area is known to the powder particle surface at the temperature of liquid nitrogen, and obtaining the specific surface area of the sample from the amount, using low-temperature low-humidity physical adsorption of inert gas This is the BET method. The BET specific surface area is defined as a value calculated by using the following formula (1) as a surface area measured using a flow type specific surface area measuring device “Flowsorb II” manufactured by Shimadzu Corporation.
Formula (1) Specific surface area (m 2 / g) = surface area (m 2 ) / powder mass (g)

本発明の感光性導電性インキは、インキの固形分100質量%中に、導電性粒子(C)を60〜95質量%含むことが好ましく、70〜95質量%含むことがより好ましく、85〜95質量%含むことがさらに好ましい。硬化塗膜の導電性の点から導電性粒子を60質量%以上とすることが好ましく、硬化塗膜の基材への密着性、機械強度の点から95質量%以下とすることが好ましい。   The photosensitive conductive ink of the present invention preferably contains 60 to 95% by mass of conductive particles (C), more preferably 70 to 95% by mass, and more preferably 85 to 95% by mass in 100% by mass of the solid content of the ink. More preferably, the content is 95% by mass. The conductive particles are preferably 60% by mass or more from the viewpoint of the conductivity of the cured coating film, and preferably 95% by mass or less from the viewpoints of adhesion of the cured coating film to the substrate and mechanical strength.

[光重合開始剤(D)]
光重合開始剤(D)は、活性エネルギー線により感光性導電性インキを硬化させるために用いる。光重合開始剤としては、光励起によってビニル重合を開始できる機能を有するものであれば特に限定はなく、例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アシルフォスフィンオキシド化合物、アミノカルボニル化合物等が使用できる。活性エネルギー線としては紫外線が好ましい。
[Photoinitiator (D)]
The photopolymerization initiator (D) is used for curing the photosensitive conductive ink with active energy rays. The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it has a function capable of initiating vinyl polymerization by photoexcitation. For example, a monocarbonyl compound, a dicarbonyl compound, an acetophenone compound, a benzoin ether compound, an acylphosphine oxide compound, an aminocarbonyl A compound etc. can be used. As the active energy ray, ultraviolet rays are preferable.

具体的にモノカルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、4−メチル−ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−3−(4−ベンゾイル−フェノキシ)−N,N,N−トリメチル−1−プロパンアミン塩酸塩、4−ベンゾイル−N,N−ジメチル−n−[2−(1−オキソ−2−プロペニルオキシエチル)]メタアンモニウム臭酸塩、2−/4−iso−プロピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、2−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメチル−9−オキソ−9Hチオキサントン−2−イロキシ)−N,N,N−トリメチル−1−プロパンアミン塩酸塩、ベンゾイルメチレン−3−メチルナフト(1,2−d)チアゾリン等が挙げられる。   Specific examples of the monocarbonyl compound include benzophenone, 4-methyl-benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 2-hydroxy-3- (4-benzoyl-phenoxy) -N, N, N-trimethyl-1- Propanamine hydrochloride, 4-benzoyl-N, N-dimethyl-n- [2- (1-oxo-2-propenyloxyethyl)] methammonium bromide, 2- / 4-iso-propylthioxanthone, 2, 4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, 2-hydroxy-3- (3,4-dimethyl-9-oxo-9Hthioxanthone-2-yloxy) -N, N, N-trimethyl-1-propanamine hydrochloride, benzoylmethylene-3-methylnaphtho (1,2- ) Thiazoline, and the like.

ジカルボニル化合物としては、1,7,7−トリメチル-ビシクロ[2.1.1]ヘプン−2,3−ジオン、ベンザイル、2−エチルアントラキノン、9,10−フェナントレンキノン、メチル−α−オキソベンゼンアセテート、4−フェニルベンザイル等が挙げられる。   Examples of the dicarbonyl compound include 1,7,7-trimethyl-bicyclo [2.1.1] heptane-2,3-dione, benzyl, 2-ethylanthraquinone, 9,10-phenanthrenequinone, and methyl-α-oxobenzene. Examples include acetate and 4-phenylbenzyl.

アセトフェノン化合物としては、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)2−ヒドロキシ−ジ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−スチリルプロパン−1−オン重合物、ジエトキシアセトフェノン、ジブトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2,2−ジエトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノ−フェニル)ブタン−1−オン、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、3,6−ビス(2−メチル−2−モルホリノ−プロパノニル)−9−ブチルカルバゾール等が挙げられる。   Examples of the acetophenone compound include 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- ( 4-Isopropylphenyl) 2-hydroxy-di-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-styrylpropan-1-one polymerization , Diethoxyacetophenone, dibutoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2,2-diethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2-methyl-1- [4- (Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethyla No-1- (4-morpholino-phenyl) butan-1-one, 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 3,6-bis (2-methyl-2- Morpholino-propanonyl) -9-butylcarbazole and the like.

ベンゾインエーテル化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインノルマルブチルエーテル等が挙げられる。   Examples of the benzoin ether compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzoin normal butyl ether.

アシルフォスフィンオキシド化合物としては、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4−n−プロピルフェニル-ジ(2,6−ジクロロベンゾイ
ル)ホスフィンオキシド等が挙げられる。
Examples of the acylphosphine oxide compound include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and 4-n-propylphenyl-di (2,6-dichlorobenzoyl) phosphine oxide.

アミノカルボニル化合物としては、メチル−4−(ジメチルアミノ)ベンゾエート、エチル−4−(ジメチルアミノ)ベンゾエート、2−nブトキシエチル−4−(ジメチルアミノ)ベンゾエート、イソアミル−4−(ジメチルアミノ)ベンゾエート、2−(ジメチルアミノ)エチルベンゾエート、4,4’−ビス−4−ジメチルアミノベンゾフェノン、等が挙げられる。
中でも、本発明において、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オンとチオキサントン類とを組み合わせて使用する場合は、安価でありながら感光性が非常に優れるため、特に好ましい。
これらは前記化合物に限定されず、紫外線により重合を開始させる能力があればどのようなものでも構わない。これらは単独使用または併用することができ、使用量に制限はないが、成分(A):100質量部に対して1〜20質量部の範囲で添加されるのが好ましい。又、増感剤として公知の有機アミンを加えることもできる。
Examples of aminocarbonyl compounds include methyl-4- (dimethylamino) benzoate, ethyl-4- (dimethylamino) benzoate, 2-nbutoxyethyl-4- (dimethylamino) benzoate, isoamyl-4- (dimethylamino) benzoate, 2- (dimethylamino) ethyl benzoate, 4,4′-bis-4-dimethylaminobenzophenone, and the like.
In particular, in the present invention, when 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one and thioxanthones are used in combination, the photosensitivity is very low, though it is inexpensive. It is particularly preferred because of its superiority.
These are not limited to the above-mentioned compounds, and any compounds can be used as long as they have the ability to initiate polymerization by ultraviolet rays. These can be used alone or in combination, and the amount used is not limited, but is preferably added in the range of 1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of component (A). Moreover, a well-known organic amine can also be added as a sensitizer.

[活性エネルギー線反応性官能基を有するモノマー(E)]
本発明の感光性導電性インキは、数平均分子量が2000未満のエチレン性不飽和化合物(E)をさらに含む。
数平均分子量が2000未満のエチレン性不飽和化合物(E)としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、又はポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等の単官能(メタ)アクリレート類;
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロプレングリコールポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、又はネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート等の二官能(メタ)アクリレート類;
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、又はジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等の三官能以上の多官能(メタ)アクリレート類;あるいは、
1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルの(メタ)アクリル酸付加物、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルの(メタ)アクリル酸付加物、グリセロールジグリシジルエーテルの(メタ)アクリル酸付加物、ビスフェノールAジグリシジルエーテルの(メタ)アクリル酸付加物、ビスフェノールF型エポキシの(メタ)アクリル酸付加物、又はノボラック型エポキシの(メタ)アクリル酸付加物等のエポキシ(メタ)アクリレート類等が挙げられる。
[Monomer (E) having an active energy ray-reactive functional group]
The photosensitive conductive ink of the present invention further contains an ethylenically unsaturated compound (E) having a number average molecular weight of less than 2000.
Examples of the ethylenically unsaturated compound (E) having a number average molecular weight of less than 2000 include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meta ) Acrylates or monofunctional (meth) acrylates such as polyethylene glycol di (meth) acrylate;
Ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol polyethylene glycol di (meth) acrylate, or neopentyl glycol modified trimethylol Bifunctional (meth) acrylates such as propanedi (meth) acrylate;
Trifunctional or more polyfunctional compounds such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, or dipentaerythritol penta (meth) acrylate Functional (meth) acrylates; or
(Meth) acrylic acid adduct of 1,6-hexanediol diglycidyl ether, (meth) acrylic acid adduct of neopentyl glycol diglycidyl ether, (meth) acrylic acid adduct of glycerol diglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl Examples include (meth) acrylic acid adducts of ether, (meth) acrylic acid adducts of bisphenol F type epoxy, and (meth) acrylic acid adducts of novolac type epoxy.

又、以上挙げた(メタ)アクリレートを、更に(ポリ)アルキレンオキシドや(ポリ)カプロラクトン等で変性したものも使用することができる。   Moreover, what modified | denatured the (meth) acrylate mentioned above further by (poly) alkylene oxide, (poly) caprolactone, etc. can also be used.

又、他に、トリス[2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)]イソシアヌレート、又はジイソシアネート類のイソシアヌレートとヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとの反応物等も挙げることができる。   Other examples include tris [2- (meth) acryloyloxyethyl)] isocyanurate or a reaction product of isocyanurate of diisocyanates and hydroxyalkyl (meth) acrylate.

又、ヒドロキシエチルビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、又はペンタエリスリトールトリビニルエーテル等のビニルエーテル類;
(メタ)アクリル酸、スチレン、又は酢酸ビニル等の単価能モノマー類;あるいは、
(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ビニルホルムアミド、又はアクリロニトリル等の窒素元素を有する単官能モノマー等も使用できる。
In addition, vinyl ethers such as hydroxyethyl vinyl ether, ethylene glycol divinyl ether, or pentaerythritol trivinyl ether;
Unit cost monomers such as (meth) acrylic acid, styrene, or vinyl acetate; or
A monofunctional monomer having a nitrogen element such as (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, N-vinylformamide, or acrylonitrile can also be used.

更に、ポリウレタン、ポリエステル、メチロールメラミン樹脂、ポリジメチルシロキサン、又はロジン等のオリゴマーを(メタ)アクリロイル基で変性したものも使用できる。   Furthermore, what modified | denatured oligomers, such as a polyurethane, polyester, a methylol melamine resin, polydimethylsiloxane, or rosin, with the (meth) acryloyl group can also be used.

その他、(メタ)アクリル酸、スチレン、酢酸ビニル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ビニルホルムアミド、又はアクリロニトリル等も挙げることができる。   Other examples include (meth) acrylic acid, styrene, vinyl acetate, hydroxyethyl vinyl ether, (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, N-vinylformamide, and acrylonitrile.

本発明において、エチレン性不飽和化合物(E)は、一種のみを単独で用いてもよいし、複数を併用しても良い。エチレン性不飽和化合物(E)の使用量は、本発明の感光性導電性インキの用途等を考慮して決定すればよく、特に限定されるものではないが、インキ固形分100質量%中に1〜30質量%の割合で加えることが好ましい。エチレン性不飽和化合物(E)の使用量を1質量%より多くすると、エチレン性不飽和化合物添加による感度向上の効果が得られる。30質量%より少ない場合は、露光表面付近で硬化が進行し内部硬化が進行しにくくなることがなく、十分な塗膜強度を持つパターン形成が可能となる。   In this invention, an ethylenically unsaturated compound (E) may be used individually by 1 type, and may use multiple together. The amount of the ethylenically unsaturated compound (E) used may be determined in consideration of the use of the photosensitive conductive ink of the present invention, and is not particularly limited. It is preferable to add in the ratio of 1-30 mass%. When the amount of the ethylenically unsaturated compound (E) used is more than 1% by mass, the effect of improving the sensitivity by adding the ethylenically unsaturated compound can be obtained. When it is less than 30% by mass, curing proceeds near the exposed surface and internal curing does not easily proceed, and a pattern having sufficient coating strength can be formed.

[その他添加剤]
この他、本発明の感光性樹脂組成物には目的を損なわない範囲で任意成分として、更に溶剤、染料、顔料、難燃剤、酸化防止剤、重合禁止剤、連鎖移動剤、レベリング剤、保湿剤、粘度調整剤、防腐剤、抗菌剤、アンチブロッキング剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、電磁波シールド剤、フィラー等を添加することができる。
[Other additives]
In addition to the above, the photosensitive resin composition of the present invention includes, as an optional component, a solvent, a dye, a pigment, a flame retardant, an antioxidant, a polymerization inhibitor, a chain transfer agent, a leveling agent, and a humectant as long as the purpose is not impaired. Viscosity modifiers, antiseptics, antibacterial agents, antiblocking agents, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, electromagnetic wave shielding agents, fillers, and the like can be added.

本発明の感光性導電性インキは、前述の通り、インキ固形分100質量%中、導電性粒子(C)を60〜95質量%含むことが好ましく、70〜95質量%含むことがより好ましく、85〜95質量%含むことがさらに好ましい。
従って、感光性導電性インキとしては、インキ固形分の残り5〜40質量%のうち、成分(A)を2〜38質量%、光重合開始剤(D)を0.1〜5質量%、エチレン性不飽和化合物(E)を1〜30質量%含むことが好ましく、インキ固形分の残り5〜30質量%のうち、成分(A)を4〜28質量%、光重合開始剤(D)を0.5〜4質量%、エチレン性不飽和化合物(E)を1〜20質量%含むことがより好ましく、インキ固形分の残り5〜15質量%のうち、成分(A)を4〜13質量%、光重合開始剤(D)を1〜3質量%、エチレン性不飽和化合物(E)を1〜9質量%含むことがさらに好ましい。
As described above, the photosensitive conductive ink of the present invention preferably contains 60 to 95% by weight, more preferably 70 to 95% by weight of conductive particles (C) in 100% by weight of the ink solid content. More preferably, the content is 85 to 95% by mass.
Therefore, as the photosensitive conductive ink, among the remaining 5 to 40% by mass of the ink solid content, the component (A) is 2 to 38% by mass, the photopolymerization initiator (D) is 0.1 to 5% by mass, It is preferable that the ethylenically unsaturated compound (E) is contained in an amount of 1 to 30% by mass. Among the remaining 5 to 30% by mass of the ink solid content, the component (A) is 4 to 28% by mass, and the photopolymerization initiator (D). It is more preferable that 0.5 to 4% by mass and 1 to 20% by mass of the ethylenically unsaturated compound (E) are contained, and among the remaining 5 to 15% by mass of the ink solid content, the component (A) is 4 to 13%. More preferably, it contains 1-3% by mass of the photopolymerization initiator (D) and 1-9% by mass of the ethylenically unsaturated compound (E).

本発明の感光性導電性インキは、基材として、金属、セラミックス、ガラス、プラスチック、木材、スレート等に塗工することができ、特に制限されるものではない。
具体的なプラスチックの種類としては、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース樹脂、ABS樹脂、AS樹脂、ポリアミド、エポキシ樹脂、メラミン樹脂等が挙げられる。又、基材の形状としてはフィルムシート、板状パネル、レンズ形状、ディスク形状、ファイバー状の物が挙げられるが、特に制限されるものではない。
The photosensitive conductive ink of the present invention can be applied to a metal, ceramics, glass, plastic, wood, slate or the like as a substrate, and is not particularly limited.
Specific types of plastic include polyester, polyolefin, polycarbonate, polystyrene, polymethyl methacrylate, triacetyl cellulose resin, ABS resin, AS resin, polyamide, epoxy resin, melamine resin, and the like. Examples of the shape of the substrate include a film sheet, a plate-like panel, a lens shape, a disk shape, and a fiber shape, but are not particularly limited.

本発明の導電性インキは、特にスクリーン印刷に好適に適用することができるが、従来公知の種々の印刷法に適用してもよい。スクリーン印刷法においては、導電回路パターンの高精細化に対応すべく微細なメッシュ、特に好ましくは400〜650メッシュ程度の微細なメッシュのスクリーンを用いることが好ましい。この時のスクリーンの開放面積は約20〜50%が好ましい。スクリーン線径は約10〜70μmが好ましい。
スクリーン版の種類としては、ポリエステルスクリーン、コンビネーションスクリーン、メタルスクリーン、ナイロンスクリーン等が挙げられる。また、高粘度なペースト状態のものを印刷する場合は、高張力ステンレススクリーンを使用することができる。
スクリーン印刷のスキージは丸形、長方形、正方形いずれの形状であっても良く、またアタック角度(印刷時の版とスキージの角度)を小さくするために研磨スキージも使用することができる。その他の印刷条件等は従来公知の条件を適宜設計すればよい。
The conductive ink of the present invention can be suitably applied particularly to screen printing, but may be applied to various conventionally known printing methods. In the screen printing method, it is preferable to use a fine mesh screen, particularly preferably a fine mesh screen of about 400 to 650 mesh, in order to cope with high definition of the conductive circuit pattern. At this time, the open area of the screen is preferably about 20 to 50%. The screen wire diameter is preferably about 10 to 70 μm.
Examples of the screen plate include polyester screens, combination screens, metal screens, and nylon screens. Moreover, when printing the thing of a highly viscous paste state, a high tension | tensile_strength stainless steel screen can be used.
The screen printing squeegee may be round, rectangular or square, and an abrasive squeegee can be used to reduce the attack angle (angle between printing plate and squeegee). Other printing conditions and the like may be appropriately designed according to conventionally known conditions.

本発明の感光性導電性インキは、公知のラジエーション硬化方法により硬化させ硬化物とすることができ、活性エネルギー線としては、電子線、紫外線、400〜500nmの可視光を使用することができる。照射する電子線の線源には熱電子放射銃、電界放射銃等が使用できる。又、紫外線および400〜500nmの可視光の線源(光源)には、例えば、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ガリウムランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ等を使用することができる。具体的には、点光源であること、輝度の安定性から、超高圧水銀ランプ、キセノン水銀ランプ、メタルハライドランプ、が用いられることが多い。照射する活性エネルギー線量は、5〜2000mJ/cm2の範囲で適時設定できるが、工程上管理しやすい50〜1000mJ/cm2の範囲であることが好ましい。又、これら活性エネルギー線と、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱の併用も可能である。 The photosensitive conductive ink of the present invention can be cured by a known radiation curing method to obtain a cured product, and as active energy rays, electron beams, ultraviolet rays, and visible light of 400 to 500 nm can be used. A thermionic emission gun, a field emission gun, or the like can be used as the electron beam source to be irradiated. For example, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a gallium lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp, or the like can be used as a source (light source) for ultraviolet light and visible light of 400 to 500 nm. Specifically, an ultra-high pressure mercury lamp, a xenon mercury lamp, or a metal halide lamp is often used because of the point light source and the stability of luminance. The active energy dose to be irradiated, can be set appropriately in the range of 5~2000mJ / cm 2, it is preferably in the range on the easy of 50~1000mJ / cm 2 management process. Further, these active energy rays can be used in combination with heat by infrared rays, far infrared rays, hot air, high-frequency heating or the like.

なお、活性エネルギー線による露光感度を上げるために、感光性導電性インキを塗布乾燥後、水溶性あるいはアルカリ可溶性樹脂、例えばポリビニルアルコールや水溶性アクリル樹脂等を塗布乾燥し酸素による重合阻害を防止する膜を形成した後、組成物塗布面側から活性エネルギー線を照射することもできる。   In order to increase exposure sensitivity by active energy rays, after applying and drying photosensitive conductive ink, water-soluble or alkali-soluble resin such as polyvinyl alcohol or water-soluble acrylic resin is applied and dried to prevent polymerization inhibition by oxygen. After the film is formed, active energy rays can be irradiated from the composition application surface side.

更に、本発明の感光性導電性インキは、フォトマスクを介して組成物塗布面側から活性エネルギー線を照射し、溶剤又はアルカリ現像液に漬浸するかスプレー等により現像液を噴霧して未照射部、すなわち未硬化部を除去して現像を行うことにより、形成することができる。アルカリ現像液としては、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液が使用され、ジメチルベンジルアミン、トリエタノールアミン等の有機アルカリを用いることもできる。又、現像液には、消泡剤や界面活性剤を添加することもできる。   Furthermore, the photosensitive conductive ink of the present invention is irradiated with an active energy ray from the composition coated surface side through a photomask and immersed in a solvent or an alkaline developer, or sprayed with a developer by spraying or the like. It can be formed by removing the irradiated portion, that is, the uncured portion and developing. As the alkali developer, an aqueous solution such as sodium carbonate or sodium hydroxide is used, and an organic alkali such as dimethylbenzylamine or triethanolamine can also be used. An antifoaming agent or a surfactant can also be added to the developer.

更に、本発明の感光性導電性インキは、ラジエーション硬化/現像によるパターン形成後、ポストキュアとして加熱乾燥させることで各種耐久性、導電性に優れる塗膜を形成する。ポストキュアは、100℃〜200℃で30分〜2時間が好ましい。又、更に塗膜の耐性を向上するために、ポストキュアの後にも必要に応じて活性エネルギー線を照射することができる。ポストキュアの後に活性エネルギー線を照射することで、各種耐久性、導電性などを更に向上することができる。   Furthermore, the photosensitive conductive ink of this invention forms the coating film which is excellent in various durability and electroconductivity by heat-drying as a post-cure after pattern formation by radiation hardening / development. The post cure is preferably 30 to 2 hours at 100 to 200 ° C. Further, in order to further improve the resistance of the coating film, an active energy ray can be irradiated as necessary after post-curing. By irradiating active energy rays after post-cure, various durability, conductivity, etc. can be further improved.

本発明に係る導電パターン付き積層体は、特にタッチスクリーンパネルの透明電極上に配線構造を形成する際に好適に用いることができる。
ここで、本発明の導電性インキを抵抗膜方式のタッチスクリーンパネルに適用した場合の一例を図1及び図2を用いつつ説明する。なお、本図1、2は抵抗膜式タッチスクリーンパネルの簡易的な概念図であり、配線の本数、配線幅、配線と配線の間隔は概念図として表している。なお、図2では、三層の中間、粘着材5の位置に視点を置き、下部基板1側は見下ろす状態で、上部基板2側は見上げる状態で各基板側の積層状態を模式的に示した。
The laminate with a conductive pattern according to the present invention can be suitably used particularly when a wiring structure is formed on a transparent electrode of a touch screen panel.
Here, an example in which the conductive ink of the present invention is applied to a resistive film type touch screen panel will be described with reference to FIGS. 1 and 2 are simple conceptual diagrams of the resistive touch screen panel, and the number of wirings, the wiring width, and the interval between the wirings are represented as conceptual diagrams. In FIG. 2, the laminated state of each substrate side is schematically shown with the viewpoint placed in the middle of the three layers, the position of the adhesive material 5, with the lower substrate 1 side looking down and the upper substrate 2 side looking up. .

タッチスクリーンパネルは、ガラス又はプラスチックフィルム(ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、アクリル樹脂フィルム、ポリカーボネートフィルム等)の基材からなる下部基板1及び上部基板2を具備する。下部基板1及び上部基板2上には、ITO等の透明電極6,7がそれぞれ部分的に形成されている。その結果、下部基板1及び上部基板2と、透明電極6,7とがそれぞれ露出することとなる。
そして、下部基板1上の透明電極6の両端部には、導電性インキパターン層3からなる下側駆動電極13,14がそれぞれ形成されている。導電性インキ層3は、絶縁層4によって被覆されている。導電性インキパターン層3は、図1に示すように、基材1、ITO等の透明電極6、そして絶縁層4に接する。
同様に上部基板2上の透明導電7の両端部にも、導電性インキ層3からなる上部駆動電極9,10がそれぞれ形成されている。
The touch screen panel includes a lower substrate 1 and an upper substrate 2 made of a base material of glass or plastic film (polyethylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, acrylic resin film, polycarbonate film, or the like). Transparent electrodes 6 and 7 such as ITO are partially formed on the lower substrate 1 and the upper substrate 2, respectively. As a result, the lower substrate 1 and the upper substrate 2 and the transparent electrodes 6 and 7 are exposed.
Lower drive electrodes 13 and 14 made of the conductive ink pattern layer 3 are formed on both ends of the transparent electrode 6 on the lower substrate 1, respectively. The conductive ink layer 3 is covered with an insulating layer 4. As shown in FIG. 1, the conductive ink pattern layer 3 is in contact with the substrate 1, the transparent electrode 6 such as ITO, and the insulating layer 4.
Similarly, upper drive electrodes 9 and 10 made of the conductive ink layer 3 are formed on both ends of the transparent conductor 7 on the upper substrate 2.

具体的には、上部基板2側の透明電極7端部に、本発明の導電性インキを用い、スクリーン印刷し、予備乾燥、露光、現像、乾燥工程を順番に行い、低抵抗の導電性インキパターン層3を形成する。次いで、導電性インキ層3及び該導電性インキパターン層3の近傍の上部基板2、透明電極7端部の上に、絶縁レジスト(図示省略)をスクリーン印刷等により印刷する。その後、乾燥・硬化し、絶縁層を形成し、本発明の絶縁レジスト付き積層体を形成する。下部基板1側も同様である。   Specifically, the conductive ink of the present invention is used for the end of the transparent electrode 7 on the upper substrate 2 side, screen-printed, preliminary drying, exposure, development, and drying steps are performed in this order, and the low-resistance conductive ink. The pattern layer 3 is formed. Next, an insulating resist (not shown) is printed on the conductive ink layer 3 and the upper substrate 2 in the vicinity of the conductive ink pattern layer 3 and the end of the transparent electrode 7 by screen printing or the like. Then, it dries and hardens | cures, forms an insulating layer, and forms the laminated body with an insulating resist of this invention. The same applies to the lower substrate 1 side.

下部基板1上に設けられた透明電極6上の適所には、本来の目的である入力の時以外に透明電極6、7とが接触することを防ぐために、図1に示すように透明電極6上の適所には、微小なドットスペーサー8が一定の間隔で設けられる。
の間隔(例えば、10〜150μmの間隔)を開け(図1参照)、下部基板1側の絶縁層4と上部基板2、下部基板1と上部基板2、下部基板1と上部基板2側の絶縁層4が、それぞれ粘着材5により貼り合わされ、積層される。粘着材5は、額縁状に配置することができる。また、図2に示されるように、下部基板1側の駆動電極13,14と、前記上部基板2側の上側駆動電極9,10とは、平面視上において直交するように形成され得る。 更に、前記上部基板2側の駆動電極9,10には、接続電極11,12がそれぞれ導電性接着剤で接続されている。同様に、前記下部基板1側の駆動電極13,14には、接続電極15,16に導電性接着剤でそれぞれ接続されている。
In order to prevent the transparent electrodes 6 and 7 from coming into contact with the transparent electrodes 6 and 7 at an appropriate place on the transparent electrode 6 provided on the lower substrate 1 except when the input is the original purpose, as shown in FIG. Small dot spacers 8 are provided at regular intervals at appropriate positions above.
(See FIG. 1), the insulating layer 4 on the lower substrate 1 side and the upper substrate 2, the lower substrate 1 and the upper substrate 2, and the lower substrate 1 and the upper substrate 2 side are insulated. The layers 4 are each bonded and laminated by the adhesive material 5. The adhesive material 5 can be arranged in a frame shape. In addition, as shown in FIG. 2, the drive electrodes 13 and 14 on the lower substrate 1 side and the upper drive electrodes 9 and 10 on the upper substrate 2 side may be formed to be orthogonal to each other in plan view. Furthermore, connection electrodes 11 and 12 are connected to the drive electrodes 9 and 10 on the upper substrate 2 side by a conductive adhesive, respectively. Similarly, the drive electrodes 13 and 14 on the lower substrate 1 side are connected to the connection electrodes 15 and 16 with a conductive adhesive, respectively.

下部基板1側および上部基板2側のそれぞれに本発明の導電性インキを用いて導電性インキパターン層3を形成したタッチスクリーンパネルは、抵抗値安定性が良好であり、長期間にわたり各種電子機器の機能を切り替える部品として安定して使用できると共に、電気的特性に優れたものである。   The touch screen panel in which the conductive ink pattern layer 3 is formed using the conductive ink of the present invention on each of the lower substrate 1 side and the upper substrate 2 side has good resistance value stability and can be used for various electronic devices over a long period of time. It can be used stably as a component for switching the functions of the above, and has excellent electrical characteristics.

以下に、実施例により、本発明をさらに詳細に説明するが、以下の実施例は本発明の権利範囲を何ら制限するものではない。なお、実施例における「部」は、「質量部」を表す。   EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the following examples do not limit the scope of rights of the present invention. In the examples, “part” represents “part by mass”.

GPCの測定条件は以下のとおりである。
<数平均分子量(Mn)の測定>
Mnの測定は東ソー株式会社製GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)「HPC−8020」を用いた。GPCは溶媒(THF;テトラヒドロフラン)に溶解した物質をその分子サイズの差によって分離定量する液体クロマトグラフィーである。本発明における測定は、カラムに「LF−604」(昭和電工株式会社製:迅速分析用GPCカラム:6mmID×150mmサイズ)を直列に2本接続して用い、流量0.6ml/min、カラム温度40℃の条件で行い、数平均分子量(Mn)の決定はポリスチレン換算で行った。
The measurement conditions for GPC are as follows.
<Measurement of number average molecular weight (Mn)>
For measurement of Mn, GPC (gel permeation chromatography) “HPC-8020” manufactured by Tosoh Corporation was used. GPC is liquid chromatography that separates and quantifies substances dissolved in a solvent (THF; tetrahydrofuran) based on the difference in molecular size. In the measurement of the present invention, “LF-604” (manufactured by Showa Denko KK: GPC column for rapid analysis: 6 mm ID × 150 mm size) is connected in series to the column, the flow rate is 0.6 ml / min, the column temperature. The determination was performed under the condition of 40 ° C., and the number average molecular weight (Mn) was determined in terms of polystyrene.

酸価はJIS K0070に準じて測定した。
<酸価の測定>
共栓三角フラスコ中に試料約1gを精密に量り採り、トルエン/エタノール(容量比:トルエン/エタノール=2/1)混合液100mlを加えて溶解する。これに、フェノールフタレイン試液を指示薬として加え、0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液で滴定し、指示薬が淡紅色を30秒間保持した時を終点とした。酸価は次式により求めた(単位:mgKOH/g)。
酸価(mgKOH/g)=(5.611×a×F)/S
ただし、
S:試料の採取量(g)
a:0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液の消費量(ml)
F:0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液の力価
The acid value was measured according to JIS K0070.
<Measurement of acid value>
About 1 g of a sample is accurately weighed in a stoppered Erlenmeyer flask, and 100 ml of a toluene / ethanol (volume ratio: toluene / ethanol = 2/1) mixed solution is added and dissolved. To this was added a phenolphthalein test solution as an indicator and titrated with a 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution. The end point was when the indicator retained a light red color for 30 seconds. The acid value was determined by the following formula (unit: mgKOH / g).
Acid value (mgKOH / g) = (5.611 × a × F) / S
However,
S: Sample collection amount (g)
a: Consumption of 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution (ml)
F: Potency of 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution

<エチレン性不飽和基当量の計算>
本発明において、感光性樹脂(A)のエチレン性不飽和基当量は、次式により求めた。(単位:g/mol)
エチレン性不飽和基当量(g/mol)=原料のトータル固形分(g)/エチレン性不飽和基含有化合物の仕込みモル数(mol)
<Calculation of ethylenically unsaturated group equivalent>
In this invention, the ethylenically unsaturated group equivalent of the photosensitive resin (A) was calculated | required by following Formula. (Unit: g / mol)
Ethylenically unsaturated group equivalent (g / mol) = total solid content of raw material (g) / number of moles of charged ethylenically unsaturated group-containing compound (mol)

<成分(A)の合成>
[製造例1]
工程1
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、メチルメタクリレート43.2部、スチレン43.2部、メタクリル酸13.6部、溶剤としてジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート100部、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル1部を入れ、窒素雰囲気下、80℃で2〜6時間撹拌し、アクリル樹脂溶液を得た。酸価は88.64mgKOH/gであった。
<Synthesis of Component (A)>
[Production Example 1]
Process 1
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube and thermometer, 43.2 parts of methyl methacrylate, 43.2 parts of styrene, 13.6 parts of methacrylic acid, diethylene glycol monoethyl ether as a solvent 100 parts of acetate and 1 part of azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator were added and stirred at 80 ° C. for 2 to 6 hours under a nitrogen atmosphere to obtain an acrylic resin solution. The acid value was 88.64 mgKOH / g.

工程2
次に、このフラスコに、窒素導入管からの窒素を停止し乾燥空気の導入に切り替え、攪拌しながら、グリシジルメタクリレート13.39部、重合禁止剤としてヒドロキノン0.12部を投入し、80℃で8時間反応させた。反応終了後、この溶液にジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートを加えて固形分が50%になるように調整し、成分(A)を得た。
Process 2
Next, the nitrogen from the nitrogen introduction tube was stopped and switched to introduction of dry air into this flask, and while stirring, 13.39 parts of glycidyl methacrylate and 0.12 part of hydroquinone as a polymerization inhibitor were added at 80 ° C. The reaction was allowed for 8 hours. After completion of the reaction, diethylene glycol monoethyl ether acetate was added to this solution to adjust the solid content to 50% to obtain component (A).

[製造例2〜6]
表1に示す原料を用い、製造例1と同様な操作を行うことにより、製造例2〜6の成分(A)を得た。各成分(A)の数平均分子量、酸価、エチレン性不飽和基当量を表1に示す。
[Production Examples 2 to 6]
Using the raw materials shown in Table 1, the same operations as in Production Example 1 were carried out to obtain Components (A) in Production Examples 2 to 6. Table 1 shows the number average molecular weight, acid value, and ethylenically unsaturated group equivalent of each component (A).

[製造例7]
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、メチルメタクリレート48.5部、スチレン48.5部、メタクリル酸3部、溶剤としてジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート100部、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル1部を入れ、窒素雰囲気下、80℃で2〜6時間撹拌し、成分(A)を得た。
[Production Example 7]
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube, and thermometer, 48.5 parts of methyl methacrylate, 48.5 parts of styrene, 3 parts of methacrylic acid, and diethylene glycol monoethyl ether acetate 100 as a solvent And 1 part of azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator were added and stirred at 80 ° C. for 2 to 6 hours under a nitrogen atmosphere to obtain component (A).

[製造例8〜12]
表1に示す原料を用い、製造例7と同様な操作を行うことにより、製造例8〜12の成分(A)を得た。各成分(A)の数平均分子量、エチレン性不飽和基当量、酸価等を表1に示す。
[Production Examples 8 to 12]
Using the raw materials shown in Table 1, the same operations as in Production Example 7 were performed to obtain Components (A) in Production Examples 8 to 12. Table 1 shows the number average molecular weight, ethylenically unsaturated group equivalent, acid value and the like of each component (A).

[製造例13]
工程1
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、エポキシ基を2個以上有するエポキシ化合物として、jER825(三菱化学株式会社製、ビスフェノールA型エポキシ化合物、エポキシ当量176g/eq)54.27部、EX830(ナガセケムテックス株式会社製、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、エポキシ当量268g/eq)82.63部、フェノール性OH基を2個以上有するフェノール化合物としてビスフェノールA84.47部、触媒としてトリフェニルホスフィン(以下、TPPという)1.71部、ジアザビシクロウンデンセン(以下、DBUという)1.71部、溶剤としてジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート100部を仕込み、窒素気流下、撹拌しながら80℃に昇温し12時間反応させ、樹脂溶液を得た。
[Production Example 13]
Process 1
As an epoxy compound having two or more epoxy groups in a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet pipe, inlet pipe, and thermometer, jER825 (Mitsubishi Chemical Corporation, bisphenol A type epoxy compound, epoxy Equivalent 176 g / eq) 54.27 parts, EX830 (manufactured by Nagase ChemteX Corporation, polyethylene glycol diglycidyl ether, epoxy equivalent 268 g / eq) 82.63 parts, bisphenol A84 as a phenol compound having two or more phenolic OH groups .47 parts, 1.71 parts of triphenylphosphine (hereinafter referred to as TPP) as a catalyst, 1.71 parts of diazabicycloundenecene (hereinafter referred to as DBU), 100 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate as a solvent, and nitrogen flow Under stirring 80 reacted heated 12 hours ° C., to obtain a resin solution.

工程2
次に、酸無水物基含有化合物としてリカシッドTH(新日本理化株式会社製、テトラヒドロ無水フタル酸)14.07部投入し、80℃のまま8時間反応させた。FT−IR測定にて酸無水物基の吸収が消失しているのを確認後、室温まで冷却し側鎖ヒドロキシル基カルボキシル基含有樹脂を得た。酸価は22.04mgKOH/gであった。
Process 2
Next, 14.07 parts of Rikacid TH (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd., tetrahydrophthalic anhydride) was added as an acid anhydride group-containing compound, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 8 hours. After confirming that the absorption of the acid anhydride group disappeared by FT-IR measurement, the mixture was cooled to room temperature to obtain a side chain hydroxyl group carboxyl group-containing resin. The acid value was 22.04 mgKOH / g.

工程3
次に、このフラスコに、窒素導入管からの窒素を停止し乾燥空気の導入に切り替え、攪拌しながら、イソシアネート基とエチレン性不飽和基とを有する化合物(e)としてMOI(昭和電工株式会社製、メタクリロイルオキシエチルイソシアネート)42.29部、重合禁止剤としてヒドロキノン0.12部を投入し、40℃で8時間反応させた。反応終了後、この溶液にジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートを加えて固形分が50%になるように調整し、成分(A)を得た。
Process 3
Next, the MOI (made by Showa Denko KK) was used as the compound (e) having an isocyanate group and an ethylenically unsaturated group while stirring and switching to introduction of dry air into the flask while switching to introduction of dry air and stirring. , Methacryloyloxyethyl isocyanate) 42.29 parts and 0.12 part of hydroquinone as a polymerization inhibitor were added and reacted at 40 ° C. for 8 hours. After completion of the reaction, diethylene glycol monoethyl ether acetate was added to this solution to adjust the solid content to 50% to obtain component (A).

[製造例14〜18]
表1に示す原料を用い、製造例13と同様な操作を行うことにより、製造例14〜18の成分(A)を得た。各成分(A)の数平均分子量、エチレン性不飽和基当量、酸価等を表1に示す。
[Production Examples 14 to 18]
By performing the same operations as in Production Example 13 using the raw materials shown in Table 1, Components (A) in Production Examples 14 to 18 were obtained. Table 1 shows the number average molecular weight, ethylenically unsaturated group equivalent, acid value and the like of each component (A).

[製造例19]
工程1
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、エポキシ基を2個以上有するエポキシ化合物として、jER825(三菱化学株式会社製、ビスフェノールA型エポキシ化合物、エポキシ当量176g/eq)54.27部、EX830(ナガセケムテックス株式会社製、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、エポキシ当量268g/eq)82.63部、フェノール性水酸基を2個以上有するフェノール化合物としてビスフェノールA84.47部、触媒としてトリフェニルホスフィン1.71部、ジアザビシクロウンデンセン1.71部、溶剤としてジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート100部を仕込み、窒素気流下、撹拌しながら80℃に昇温し12時間反応させ、樹脂溶液を得た。
[Production Example 19]
Process 1
As an epoxy compound having two or more epoxy groups in a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet pipe, inlet pipe, and thermometer, jER825 (Mitsubishi Chemical Corporation, bisphenol A type epoxy compound, epoxy Equivalent 176 g / eq) 54.27 parts, EX830 (manufactured by Nagase ChemteX Corporation, polyethylene glycol diglycidyl ether, epoxy equivalent 268 g / eq) 82.63 parts, bisphenol A 84. as a phenol compound having two or more phenolic hydroxyl groups. 47 parts, 1.71 parts of triphenylphosphine as a catalyst, 1.71 parts of diazabicycloundenecene, 100 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate as a solvent, heated to 80 ° C. with stirring in a nitrogen stream, and 12 hours React and let the resin solution It was.

工程2
次に、酸無水物基含有化合物としてリカシッドTH(新日本理化株式会社製、テトラヒドロ無水フタル酸)11.26部投入し、80℃のまま8時間反応させた。FT−IR測定にて酸無水物基の吸収が消失しているのを確認後、室温まで冷却し、成分(A)を得た。
Process 2
Next, 11.26 parts of Ricacid TH (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd., tetrahydrophthalic anhydride) was added as an acid anhydride group-containing compound, and the reaction was continued for 8 hours at 80 ° C. After confirming that the absorption of the acid anhydride group disappeared by FT-IR measurement, the mixture was cooled to room temperature to obtain component (A).

[製造例20〜24]
表1に示す原料を用い、製造例19と同様な操作を行うことにより、製造例20〜24の成分(A)を得た。各成分(A)の数平均分子量、エチレン性不飽和基当量、酸価等を表1に示す。
[Production Examples 20 to 24]
By performing the same operations as in Production Example 19 using the raw materials shown in Table 1, Components (A) in Production Examples 20 to 24 were obtained. Table 1 shows the number average molecular weight, ethylenically unsaturated group equivalent, acid value and the like of each component (A).

[製造例25]
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、PTG1000SN(保土ヶ谷化学株式会社製、ポリテトラメチレングリコール、水酸基価110mgKOH/g)88.57部、ジメチロールブタン酸(日本化成株式会社製)38.41部、溶剤としてジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート100部を仕込み、窒素雰囲気下、撹拌しながら60℃まで昇温し、均一に溶解させた。続いてこのフラスコに、イソホロンジイソシアネート73.02部を投入し、撹拌しながら90℃に昇温し8時間反応させウレタン樹脂溶液を得た。
[Production Example 25]
In a 4-neck flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube, thermometer, PTG1000SN (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd., polytetramethylene glycol, hydroxyl value 110 mgKOH / g) 88.57 parts, dimethylol 38.41 parts of butanoic acid (manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.) and 100 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate as a solvent were added, and the mixture was heated to 60 ° C. with stirring in a nitrogen atmosphere to be uniformly dissolved. Subsequently, 73.02 parts of isophorone diisocyanate was added to the flask, and the temperature was raised to 90 ° C. while stirring and reacted for 8 hours to obtain a urethane resin solution.

工程2
次に、このフラスコに、窒素導入管からの窒素を停止し乾燥空気の導入に切り替え、攪拌しながら、グリシジルメタクリレート34.65部、重合禁止剤としてヒドロキノン0.12部を投入し、90℃のまま8時間反応させ、水酸基含有のウレタン樹脂溶液を得た。
Process 2
Next, the nitrogen from the nitrogen introduction tube was stopped and switched to introduction of dry air, and 34.65 parts of glycidyl methacrylate and 0.12 part of hydroquinone as a polymerization inhibitor were added to the flask while stirring. The reaction was allowed to proceed for 8 hours to obtain a hydroxyl group-containing urethane resin solution.

工程3
次にこのフラスコにリカシッドSA(新日本理化株式会社製、無水コハク酸)7.07部を投入し、乾燥空気雰囲気下、90℃のままさらに6時間反応させた。FT−IR測定にて酸無水物基の吸収が消失しているのを確認後、室温まで冷却した。次いでこの溶液にジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートを加えて固形分が50%になるように調整し、成分(A)を得た。
Process 3
Next, 7.07 parts of Ricacid SA (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd., succinic anhydride) was added to the flask, and the mixture was further reacted for 6 hours at 90 ° C. in a dry air atmosphere. After confirming that the absorption of the acid anhydride group disappeared by FT-IR measurement, it was cooled to room temperature. Next, diethylene glycol monoethyl ether acetate was added to this solution to adjust the solid content to 50%, and component (A) was obtained.

[製造例26〜28]
表1に示す原料を用い、製造例26と同様な操作を行うことにより、製造例26〜28の成分(A)を得た。各成分(A)の数平均分子量、エチレン性不飽和基当量、酸価を表1に示す。
[Production Examples 26 to 28]
By performing the same operations as in Production Example 26 using the raw materials shown in Table 1, Components (A) in Production Examples 26 to 28 were obtained. Table 1 shows the number average molecular weight, ethylenically unsaturated group equivalent, and acid value of each component (A).

[製造例29]
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、PTG1000SN(保土ヶ谷化学株式会社製、ポリテトラメチレングリコール、水酸基価110mgKOH/g)144.22部、ジメチロールブタン酸(日本化成株式会社製)10.74部、溶剤としてジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート100部を仕込み、窒素雰囲気下、撹拌しながら60℃まで昇温し、均一に溶解させた。続いてこのフラスコに、イソホロンジイソシアネート45.04部を投入し、撹拌しながら90℃に昇温し8時間反応させた。反応終了後、この溶液にジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートを加えて固形分が50%になるように調整した、成分(A)を得た。
[Production Example 29]
In a 4-neck flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube, thermometer, PTG1000SN (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd., polytetramethylene glycol, hydroxyl value 110 mgKOH / g) 144.22 parts, dimethylol 10.74 parts of butanoic acid (manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.) and 100 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate as a solvent were charged, and the temperature was raised to 60 ° C. with stirring in a nitrogen atmosphere to dissolve uniformly. Subsequently, 45.04 parts of isophorone diisocyanate was added to the flask, and the temperature was raised to 90 ° C. with stirring and reacted for 8 hours. After completion of the reaction, diethylene glycol monoethyl ether acetate was added to this solution to obtain a component (A) which was adjusted to a solid content of 50%.

[製造例30〜32]
表1に示す原料を用い、製造例29と同様な操作を行うことにより、製造例30〜32の成分(A)を得た。各成分(A)の数平均分子量、エチレン性不飽和基当量、酸価を表1に示す。
[Production Examples 30 to 32]
By performing the same operations as in Production Example 29 using the raw materials shown in Table 1, Components (A) in Production Examples 30 to 32 were obtained. Table 1 shows the number average molecular weight, ethylenically unsaturated group equivalent, and acid value of each component (A).

<感光性導電性インキ>
[比較例1]
製造例1で得られた成分(A)の溶液14質量部(固形分7質量部)、導電性粒子(C)として球状銀粉(D50粒子径2.8μm、比表面積0.36m/g)86質量部、光重合開始剤(D)としてIRGACURE 907(BASF株式会社製、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン)3質量部を溶解させたジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート6質量部、活性エネルギー線反応性官能基を有するモノマー(E)としてアロニックスM310(東亞合成株式会社製、トリメチロールプロパンPO変性トリアクリレート)4質量部、をディスパーにて混合後、3本ロールにより分散し、比較例の感光性導電性インキを得た。
得られた感光性導電性インキについて、後述する方法で現像性、導電性(体積抵抗値)を評価した。結果を表2に示す。
<Photosensitive conductive ink>
[Comparative Example 1]
14 parts by mass (7 parts by mass of solid content) of the component (A) obtained in Production Example 1, and spherical silver powder (D50 particle size 2.8 μm, specific surface area 0.36 m 2 / g) as conductive particles (C) 86 parts by mass, IRGACURE 907 (manufactured by BASF Corporation, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one) as a photopolymerization initiator (D) was dissolved. After mixing 6 parts by mass of diethylene glycol monoethyl ether acetate and 4 parts by mass of Aronix M310 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., trimethylolpropane PO-modified triacrylate) as a monomer (E) having an active energy ray-reactive functional group. A photosensitive conductive ink of Comparative Example was obtained by dispersing with three rolls.
About the obtained photosensitive conductive ink, developability and electroconductivity (volume resistance value) were evaluated by the method mentioned later. The results are shown in Table 2.

[実施例1]
製造例1で得られた成分(A)の溶液14質量部(固形分7質量部)に対し、塩基性化合物(B)としてテトラメチルアンモニウムボロヒドリド0.28質量部(中和率20%に相当する量)を加え、導電性粒子(C)、光重合開始剤(D)、活性エネルギー線反応性官能基を有するモノマー(E)等とをディスパーにて混合後、3本ロールにより分散し、本発明の感光性導電性インキを得た。
得られた感光性導電性インキについて、後述する方法で現像性等を評価した。結果を表2に示す。
[Example 1]
With respect to 14 parts by mass (7 parts by mass of solid content) of the component (A) obtained in Production Example 1, 0.28 parts by mass of tetramethylammonium borohydride as a basic compound (B) (to a neutralization rate of 20%) Equivalent amount), and the conductive particles (C), photopolymerization initiator (D), active energy ray-reactive functional group-containing monomer (E) and the like are mixed with a disper and dispersed by a three-roll. The photosensitive conductive ink of the present invention was obtained.
About the obtained photosensitive conductive ink, developability etc. were evaluated by the method mentioned later. The results are shown in Table 2.

ここでいう中和率とは、下記の関係式で表される値である。
中和率(%)=100×(塩基性化合物(B)の仕込み塩基性官能基モル数(mol))×(塩基の価数)/(成分(A)の酸性官能基モル数(mol))
The neutralization rate here is a value represented by the following relational expression.
Neutralization rate (%) = 100 x (number of moles of basic functional group charged in basic compound (B) (mol)) x (base valence) / (number of moles of acidic functional group in component (A) (mol) )

[実施例2〜139]、[比較例2〜36]
表2〜4に示した組成、および量(固形分)で、成分(A)、塩基性化合物(B)、エチレン性不飽和化合物(E)を用いた以外は、実施例1と同様にして、感光性導電性インキを得、同様に評価した。
[Examples 2-139], [Comparative Examples 2-36]
Except having used the component (A), the basic compound (B), and the ethylenically unsaturated compound (E) in the composition and amount (solid content) shown in Tables 2 to 4, the same manner as in Example 1 was performed. A photosensitive conductive ink was obtained and evaluated in the same manner.

[中和し得る官能基を有する化合物(B)]
・B1:テトラメチルアンモニウムボロヒドリド 沸点:205℃
・B2:テトラメチルアンモニウムヒドロキシド 沸点:140℃(分解)
・B3:水酸化ナトリウム 沸点:1388℃
・B4:N,N−ジメチルアミノエタノール 沸点:134℃
・B5:トリエチルアミン 沸点:90℃
[Compound (B) having a functional group capable of neutralization]
B1: Tetramethylammonium borohydride Boiling point: 205 ° C
B2: Tetramethylammonium hydroxide Boiling point: 140 ° C. (decomposition)
B3: Sodium hydroxide Boiling point: 1388 ° C
B4: N, N-dimethylaminoethanol Boiling point: 134 ° C
・ B5: Triethylamine Boiling point: 90 ° C

[エチレン性不飽和化合物(E)]
・アロニックスM310(東亞合成株式会社製、トリメチロールプロパンPO変性トリアクリレート)
・A−200(新中村化学株式会社製、ポリエチレングリコールジアクリレート)
・R−167(日本化薬株式会社製、1,6−ヘキサンジオールジエポキシアクリレート)
[Ethylenically unsaturated compound (E)]
・ Aronix M310 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., trimethylolpropane PO-modified triacrylate)
A-200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., polyethylene glycol diacrylate)
R-167 (Nippon Kayaku Co., Ltd., 1,6-hexanediol diepoxy acrylate)

<感光性導電性インキとしての評価> <Evaluation as photosensitive conductive ink>

[現像性]
感光性導電性インキをスクリーン印刷によりガラス基板に塗工した後、70℃で15分間乾燥し、塗膜を得た。膜厚を測定したところ、膜厚は8〜10μmであった。紫外線を照射せずに、0.5%炭酸ナトリウム水溶液を用い、スピン現像機にて、スプレー圧0.2MPaで未露光の塗膜にスプレーし、感光性導電性インキの乾燥塗膜が消失する時間を測定した。測定時間を測定膜厚で除し、単位膜厚当たりの時間(秒/μm)を現像速度とした。
なお、膜厚は、仙台ニコン社製MH−15M型測定器を用いて測定した。
[Developability]
The photosensitive conductive ink was applied to a glass substrate by screen printing and then dried at 70 ° C. for 15 minutes to obtain a coating film. When the film thickness was measured, the film thickness was 8 to 10 μm. Without irradiating ultraviolet rays, spray the unexposed film with 0.5% sodium carbonate aqueous solution with a spray pressure of 0.2MPa using a spin developer, and the dry film of photosensitive conductive ink disappears. Time was measured. The measurement time was divided by the measured film thickness, and the time per unit film thickness (seconds / μm) was taken as the development speed.
The film thickness was measured using a MH-15M type measuring instrument manufactured by Sendai Nikon.

[現像時間短縮率]
ここでいう現像時間短縮率とは、塩基性化合物(B)を含まない比較例の現像性を基準とし、塩基性化合物(B)を含まないこと以外は、同一の組成、および量(固形分)で、成分(A)、エチレン性不飽和化合物(E)を含む実施例の現像性を、下記の式に従い、求めた値である。
現像時間短縮率(%)=100×[(比較例の現像性)−(実施例の現像性)]/(比較例の現像性)
[Development time reduction rate]
The development time shortening rate here is based on the developability of the comparative example not containing the basic compound (B), and the same composition and amount (solid content) except that the basic compound (B) is not included. ), The developability of the examples containing the component (A) and the ethylenically unsaturated compound (E) is a value determined according to the following formula.
Development time shortening rate (%) = 100 × [(developability of comparative example) − (developability of example)] / (developability of comparative example)

[導電性(体積抵抗値)]
厚さ75μmのポリエチレンテレフタレート(以下、PETという)フィルムに実施例1〜139、比較例1〜36記載の導電性インキを3mm×90mmのパターンをスクリーン印刷し、150 ℃のボックス型オーブンにて10分間乾燥後、得られた印刷物の抵抗率を三和電気計器株式会社製三和デジタルマルチメーターにて測定した。
なお、膜厚は、仙台ニコン社製MH−15M型測定器を用いて測定した。
[Conductivity (Volume resistance)]
A conductive ink described in Examples 1 to 139 and Comparative Examples 1 to 36 was screen-printed on a 75 μm thick polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as PET) film with a 3 mm × 90 mm pattern, and was printed in a box oven at 150 ° C. 10 After drying for a minute, the resistivity of the obtained printed material was measured with a Sanwa Digital Multimeter manufactured by Sanwa Electric Meter Co., Ltd.
The film thickness was measured using a MH-15M type measuring instrument manufactured by Sendai Nikon.

〔体積抵抗率の算出〕
上記方法で測定された抵抗率、および膜厚より、体積抵抗値を算出した。
評価基準は以下の通りである。
<評価>
◎:1.0×10-5Ω・cm未満
○:1.0×10-5Ω・cm以上5.0×10-5Ω・cm未満
△:5.0×10-5Ω・cm以上1.0×10-4Ω・cm未満
×:1.0×10-4Ω・cm以上
[Calculation of volume resistivity]
The volume resistance value was calculated from the resistivity measured by the above method and the film thickness.
The evaluation criteria are as follows.
<Evaluation>
◎: less than 1.0 × 10 -5 Ω · cm ○ : 1.0 × 10 -5 Ω · cm or more 5.0 × 10 below -5 Ω · cm △: 5.0 × 10 -5 Ω · cm or more Less than 1.0 × 10 −4 Ω · cm ×: 1.0 × 10 −4 Ω · cm or more

この表2〜5に示す結果から明らかなように、本発明の感光性導電性インキによれば、現像性の良化が容易であることが確認できた。さらに、中和し得る官能基を有する化合物(B)として四級アンモニウム塩を用いると導電性も向上する。   As is clear from the results shown in Tables 2 to 5, it was confirmed that the photosensitive conductive ink of the present invention can easily improve the developability. Furthermore, when a quaternary ammonium salt is used as the compound (B) having a functional group that can be neutralized, the conductivity is also improved.

本発明の感光性導電性インキは、導電性インキ用途に広範に利用できる。特に、タッチスクリーンパネルの額縁部分に形成される微細導電回路として好適に用いることができる。さらに、本発明の感光性導電性インキは導電性に優れ、高精細なパターンを形成できるので、透明に見える微細パターン形成が可能であり、タッチスクリーンパネルの表示部に用いる透明電極としても適用可能である。   The photosensitive conductive ink of the present invention can be widely used for conductive ink applications. In particular, it can be suitably used as a fine conductive circuit formed in the frame portion of the touch screen panel. Furthermore, since the photosensitive conductive ink of the present invention is excellent in conductivity and can form a high-definition pattern, it is possible to form a fine pattern that looks transparent, and it can also be applied as a transparent electrode used in the display part of a touch screen panel. It is.

1:下部基板
2:上部基板
3:導電性インキパターン層
4:絶縁層
5:粘着材(貼り合わせ)
6:下部基板の透明電極
7:上部基板の透明電極
8:ドットスペーサー
9,10:上部側駆動電極
11,12:上部側接続電極
13,14:下部側駆動電極
15,16:下部側接続電極
17:取り回し回路
1: Lower substrate 2: Upper substrate 3: Conductive ink pattern layer 4: Insulating layer 5: Adhesive material (bonding)
6: Transparent electrode on the lower substrate 7: Transparent electrode on the upper substrate 8: Dot spacer 9, 10: Upper drive electrode 11, 12: Upper connection electrode 13, 14: Lower drive electrode 15, 16: Lower connection electrode 17: Handling circuit

Claims (18)

酸性官能基を有し酸価が5〜200(mgKOH/g)であり、数平均分子量が2,000以上である成分(A)、前記成分(A)中の酸性官能基の少なくとも一部を中和し得る官能基を有する化合物(B)、導電性粒子(C)、光重合開始剤(D)および活性エネルギー線反応性官能基を有し、数平均分子量が2,000未満であるモノマー(E)を含有する感光性導電性インキ。   Component (A) having an acidic functional group, an acid value of 5 to 200 (mg KOH / g), and a number average molecular weight of 2,000 or more, at least a part of the acidic functional group in the component (A) Monomer having a compound (B) having a functional group capable of neutralization, conductive particles (C), a photopolymerization initiator (D) and an active energy ray-reactive functional group and having a number average molecular weight of less than 2,000 A photosensitive conductive ink containing (E). 化合物(B)が沸点200℃以下の有機塩基である、請求項1に記載の感光性導電性インキ。   The photosensitive conductive ink of Claim 1 whose compound (B) is an organic base with a boiling point of 200 degrees C or less. 化合物(B)が、四級アンモニウム塩である、請求項1または2記載の感光性導電性インキ。   The photosensitive conductive ink of Claim 1 or 2 whose compound (B) is a quaternary ammonium salt. 化合物(B)の含有量が、成分(A)の有する酸性官能基のうちの5〜95%を中和し得る量である、請求項1〜3いずれか1項に記載の感光性導電性インキ。   The photosensitive electroconductivity of any one of Claims 1-3 whose content of a compound (B) is an quantity which can neutralize 5-95% of the acidic functional groups which a component (A) has. ink. 成分(A)の数平均分子量が2,000以上、1,000,000以下である、請求項1〜4いずれか1項に記載の感光性導電性インキ。   The photosensitive conductive ink of any one of Claims 1-4 whose number average molecular weights of a component (A) are 2,000 or more and 1,000,000 or less. 成分(A)が活性エネルギー線反応性官能基を有する成分(A1)である、請求項1〜5いずれか1項に記載の感光性導電性インキ。   The photosensitive conductive ink of any one of Claims 1-5 whose component (A) is a component (A1) which has an active energy ray reactive functional group. 成分(A)がフェノキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ウレア系樹脂、ウレタンウレア系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1つである、請求項1〜6いずれか1項に記載の感光性導電性インキ。   Component (A) is selected from the group consisting of phenoxy resins, acrylic resins, urethane resins, polyester resins, polyolefin resins, urea resins, urethane urea resins, epoxy resins, polyamide resins, and polyimide resins. The photosensitive conductive ink according to claim 1, wherein the photosensitive conductive ink is at least one. 成分(A)の有する酸性官能基が、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基、フェノール性水酸基からなる群より選ばれる少なくとも1つである、請求項1〜7いずれか1項に記載の感光性導電性インキ。   The photosensitivity according to any one of claims 1 to 7, wherein the acidic functional group of the component (A) is at least one selected from the group consisting of a carboxyl group, a sulfo group, a phosphate group, and a phenolic hydroxyl group. Conductive ink. 感光性導電性インキの固形分100質量%中、導電性粒子(C)の含有量が60〜95質量%である、請求項1〜8いずれか1項に記載の感光性導電性インキ。   The photosensitive conductive ink of any one of Claims 1-8 whose content of electroconductive particle (C) is 60-95 mass% in solid content of 100 mass% of photosensitive conductive ink. 成分(A1)の有する活性エネルギー線反応性官能基当量が300〜5000(g/mol)である、請求項4〜9いずれか1項に記載の感光性導電性インキ。   The photosensitive conductive ink of any one of Claims 4-9 whose active energy ray reactive functional group equivalent which a component (A1) has is 300-5000 (g / mol). 酸性官能基を有し酸価が5〜200(mgKOH/g)であり、数平均分子量が2,000以上である成分(A)を、前記成分(A)中の酸性官能基の少なくとも一部を中和し得る官能基を有する化合物(B)で中和してなる中和物(AB)、
導電性粒子(C)、光重合開始剤(D)および活性エネルギー線反応性官能基を有し数平均分子量が2,000未満であるモノマー(E)を含有する感光性導電性インキ。
Component (A) having an acidic functional group and an acid value of 5 to 200 (mgKOH / g) and a number average molecular weight of 2,000 or more is at least a part of the acidic functional group in component (A). A neutralized product (AB) obtained by neutralizing with a compound (B) having a functional group capable of neutralizing
A photosensitive conductive ink comprising a conductive particle (C), a photopolymerization initiator (D), and a monomer (E) having an active energy ray-reactive functional group and a number average molecular weight of less than 2,000.
酸性官能基を有し酸価が5〜200(mgKOH/g)であり、数平均分子量が2,000以上である成分(A)に、前記成分(A)中の酸性官能基の少なくとも一部を中和し得る官能基を有する化合物(B)を配合し、前記成分(A)の中和物(AB)を得、
次いで、前記中和物(AB)、導電性粒子(C)、光重合開始剤(D)および活性エネルギー線反応性官能基を有し数平均分子量が2,000未満であるモノマー(B)を混合する、感光性導電性インキの製造方法。
The component (A) having an acidic functional group and an acid value of 5 to 200 (mgKOH / g) and a number average molecular weight of 2,000 or more includes at least a part of the acidic functional group in the component (A). Compound (B) having a functional group capable of neutralizing the above, to obtain a neutralized product (AB) of the component (A),
Next, the neutralized product (AB), conductive particles (C), photopolymerization initiator (D), and monomer (B) having an active energy ray-reactive functional group and a number average molecular weight of less than 2,000 A method for producing a photosensitive conductive ink to be mixed.
請求項1〜11いずれか記載の感光性導電性インキを硬化してなる硬化物。   Hardened | cured material formed by hardening | curing the photosensitive conductive ink in any one of Claims 1-11. 基材と前記基材上に形成された導電パターンとを具備している導電パターン付き積層体であって、
前記導電パターンが、請求項1〜11いずれか1項に記載の感光性導電性インキにより形成されている、導電パターン付き積層体。
A laminate with a conductive pattern comprising a substrate and a conductive pattern formed on the substrate,
The laminated body with a conductive pattern in which the said conductive pattern is formed with the photosensitive conductive ink of any one of Claims 1-11.
前記導電パターンを被覆するように積層された絶縁層をさらに具備する、請求項14記載の導電パターン付き積層体。   The laminated body with a conductive pattern of Claim 14 which further comprises the insulating layer laminated | stacked so that the said conductive pattern might be coat | covered. 前記導電パターンと電気的に接続され、所定のパターンを有する他の導電パターンが、前記基材と前記導電パターンと間にさらに設けられている、請求項14または15に記載の導電パターン付き積層体。   The laminate with a conductive pattern according to claim 14 or 15, wherein another conductive pattern electrically connected to the conductive pattern and having a predetermined pattern is further provided between the base material and the conductive pattern. . 前記他の導電パターンが、錫がドープされた酸化インジウムを主成分とする透明導電パターンである、請求項14〜16のいずれか1項に記載の導電パターン付き積層体。   The laminated body with a conductive pattern according to any one of claims 14 to 16, wherein the other conductive pattern is a transparent conductive pattern mainly composed of indium oxide doped with tin. タッチスクリーンパネル用途に用いられる、請求項14〜17のいずれか1項に記載の導電パターン付き積層体。   The laminated body with a conductive pattern of any one of Claims 14-17 used for a touch screen panel use.
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