JP2016180650A - Calibration device and calibration system - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable a plurality of calibration objects to be calibrated with the same quality of calibration.SOLUTION: The need for the calibration of a calibration object pressure sensor 120 is determined on the basis of a difference ΔSp between a measurement output signal Sc obtained when a fluid FL of reference pressure Pr to be measured that is reproduced on the basis of a reference output signal Spr stored in an initial state storage unit 101 acts upon the diaphragm of the calibration object pressure sensor 120 and the reference output signal Spr. When it is determined that the calibration object pressure sensor 120 needs to be calibrated, it is possible to calibrate the calibration object pressure sensor 120 on the basis of output signals Sr, Sr' from a calibration reference pressure sensor 110, and, therefore, it is possible to calibrate a plurality of calibration objects by one calibration reference pressure sensor 110 with the same quality of calibration.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、校正装置および校正システムに関し、特に、被測定流体の圧力を受けて撓むダイアフラムの変化を静電容量の変化として検出する静電容量型圧力センサを校正する校正装置および校正システムに関する。   The present invention relates to a calibration device and a calibration system, and more particularly, to a calibration device and a calibration system for calibrating a capacitance-type pressure sensor that detects a change in a diaphragm that is bent under the pressure of a fluid to be measured as a change in capacitance. .

従来、例えば、半導体製造装置などにおける薄膜形成プロセスにおいては、真空状態の圧力を計測するために隔膜真空計が利用されている。   Conventionally, for example, in a thin film forming process in a semiconductor manufacturing apparatus or the like, a diaphragm vacuum gauge is used to measure the pressure in a vacuum state.

この隔膜真空計は、被測定流体の圧力導入部と基準真空室とを隔絶するダイアフラムを備え、被測定流体の圧力と基準空気室の圧力との差圧によって弾性変形するダイアフラムの変位から被測定流体の圧力を測定する圧力計である。   This diaphragm vacuum gauge has a diaphragm that isolates the pressure introduction part of the fluid to be measured and the reference vacuum chamber, and is measured from the displacement of the diaphragm that is elastically deformed by the differential pressure between the pressure of the fluid to be measured and the pressure of the reference air chamber. It is a pressure gauge that measures the pressure of fluid.

例えば特許文献1には、被測定流体の圧力導入部を有するハウジング内にセンサユニットを収容した圧力センサが開示されている(特許文献1を参照)。この圧力センサにおいて、センサユニットは、被測定流体の圧力導入部と基準真空室とを隔絶するダイアフラムと、このダイアフラムに設けられた可動電極と、この可動電極から離間して対向配置された固定電極とを備えている。   For example, Patent Document 1 discloses a pressure sensor in which a sensor unit is accommodated in a housing having a pressure introducing portion for a fluid to be measured (see Patent Document 1). In this pressure sensor, the sensor unit includes a diaphragm that isolates the pressure introducing portion of the fluid to be measured and the reference vacuum chamber, a movable electrode provided in the diaphragm, and a fixed electrode that is disposed opposite to the movable electrode. And.

このようなセンサユニットを有する圧力センサは、被測定流体の圧力に応じて弾性変形するダイアフラムの変位を、可動電極と固定電極との間の静電容量の変化として検出することから、容量式圧力センサとも呼ばれる。   A pressure sensor having such a sensor unit detects displacement of a diaphragm that is elastically deformed according to the pressure of a fluid to be measured as a change in capacitance between the movable electrode and the fixed electrode. Also called a sensor.

このような隔膜真空計を薄膜形成プロセスにおいて使用すると、ダイアフラムの被測定流体の圧力導入側の表面には、プロセス対象の薄膜物質の材料やその副生成物等が堆積する。以下、ダイアフラムの表面に堆積された薄膜物質の材料や副生成物等の堆積物もしくはこの堆積物からなる膜を単に「堆積物」と呼ぶ。   When such a diaphragm vacuum gauge is used in the thin film forming process, the material of the thin film substance to be processed, its by-products, etc. are deposited on the surface of the diaphragm on the pressure introduction side of the fluid to be measured. Hereinafter, a deposit such as a material of a thin film substance and a by-product deposited on the surface of the diaphragm or a film made of the deposit is simply referred to as a “deposit”.

このようにダイアフラムの一方の表面のみに堆積物が堆積されることによって、ダイアフラムの厚さ方向での力のバランスが崩れ、実際にはダイアフラムの両側で圧力差が無い状態でも、ダイアフラムの表面が撓んでしまう。また、堆積物の影響により、被測定流体の圧力導入部と基準真空室とを隔絶する隔膜としてのダイアフラムのヤング率が変化してしまう。   By depositing deposits on only one surface of the diaphragm in this way, the balance of force in the thickness direction of the diaphragm is lost, and in fact, even when there is no pressure difference on both sides of the diaphragm, the surface of the diaphragm is It will bend. Further, the Young's modulus of the diaphragm as a diaphragm that separates the pressure introducing portion of the fluid to be measured and the reference vacuum chamber changes due to the influence of the deposit.

この堆積物の影響によって、隔膜真空計の測定値に誤差が生じてしまうため、特に薄膜形成プロセスに用いられる隔膜真空計に対しては、別の基準となる真空計を用いて定期的に校正を行う必要がある。   Due to the influence of this deposit, the measurement value of the diaphragm vacuum gauge will cause an error. Therefore, especially for the diaphragm vacuum gauge used in the thin film formation process, it is periodically calibrated using another standard vacuum gauge. Need to do.

隔膜真空計の校正に関しては、校正の基準となる真空計と校正の対象となる真空計とを一体化した一体型真空計が提案されている(例えば特許文献2を参照。)。   Regarding the calibration of the diaphragm vacuum gauge, an integrated vacuum gauge has been proposed in which a vacuum gauge to be calibrated and a vacuum gauge to be calibrated are integrated (see, for example, Patent Document 2).

特開2012−207986号公報JP 2012-207986 A 特開平5−346364号公報JP-A-5-346364

しかしながら、一つの半導体製造装置に取り付けられる複数の真空計として、特許文献2に記載された一体型真空計を用いた場合、複数の一体型真空計がそれぞれ自身の校正の基準となる真空計を用いて校正を行うため、校正の品質が揃わないという問題があった。これは、複数の一体型真空計が個々に備える校正の基準となる真空計の特性にばらつきがあるためである。   However, when the integrated vacuum gauge described in Patent Document 2 is used as a plurality of vacuum gauges attached to a single semiconductor manufacturing apparatus, the plurality of integrated vacuum gauges each serve as a reference for its own calibration. Since calibration is performed using this method, there is a problem that the quality of calibration is not uniform. This is because there are variations in the characteristics of the vacuum gauges that serve as the calibration reference for each of the plurality of integrated vacuum gauges.

本発明はこのような問題を解決するためのものであり、複数の校正対象を一定の品質で校正する校正装置および校正システムを提供することを目的とする。   The present invention is intended to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a calibration apparatus and a calibration system that calibrate a plurality of calibration objects with a certain quality.

この目的を達成するために、本発明は、被測定流体(FL)の圧力を受けたときのダイアフラムの変位に応じた電気信号を出力する複数の圧力センサ(120)を、他の1つの校正基準圧力センサ(110)を用いて校正する校正装置(100)であって、校正の基準となる校正基準圧力センサ(110)のダイアフラムまたは校正の対象となる校正対象圧力センサ(120)のダイアフラムに所定の基準圧力(Pr)の被測定流体(FL)が作用したときに得られる基準出力信号(Spr)を記憶する初期状態記憶部(101)と、前記初期状態記憶部(101)に記憶された前記基準出力信号(Spr)に基づいて再現した前記基準圧力(Pr)の被測定流体(FL)が前記校正対象圧力センサ(120)のダイアフラムに作用したときに得られる測定出力信号(Sc)と前記基準出力信号(Spr)との差(ΔSp)を所定の閾値(th1)とを比較し、前記校正対象圧力センサ(120)に対する校正の要否を判定する校正要否判定部(102)と、前記校正要否判定部(102)により前記校正が必要であると判定された場合、前記校正基準圧力センサ(110)からの出力信号(Sr、Sr´)に基づいて前記校正対象圧力センサ(120)を校正する校正処理部(105)とを備えるようにする。   In order to achieve this object, the present invention provides a plurality of pressure sensors (120) that output an electrical signal in accordance with the displacement of the diaphragm when subjected to the pressure of the fluid to be measured (FL). A calibration device (100) for calibrating using a reference pressure sensor (110), comprising a diaphragm of a calibration reference pressure sensor (110) serving as a calibration reference or a diaphragm of a calibration target pressure sensor (120) serving as a calibration target. An initial state storage unit (101) for storing a reference output signal (Spr) obtained when a fluid to be measured (FL) having a predetermined reference pressure (Pr) acts, and stored in the initial state storage unit (101). When the fluid to be measured (FL) of the reference pressure (Pr) reproduced based on the reference output signal (Spr) acts on the diaphragm of the calibration target pressure sensor (120) The difference (ΔSp) between the obtained measurement output signal (Sc) and the reference output signal (Spr) is compared with a predetermined threshold (th1) to determine whether or not the calibration target pressure sensor (120) needs to be calibrated. When the calibration necessity determination unit (102) and the calibration necessity determination unit (102) determine that the calibration is necessary, output signals (Sr, Sr ′) from the calibration reference pressure sensor (110) And a calibration processing unit (105) for calibrating the calibration target pressure sensor (120) based on the above.

本発明において、前記校正処理部(105)は、前記ダイアフラムの変位に応じて検出される物理量と、前記測定出力信号(Sc)との関係を表す関係式を、前記校正基準圧力センサ(120)の前記出力信号(Sr、Sr´)を用いて修正する関係式修正部(103)と、前記関係式修正部(103)により修正された前記関係式を前記校正対象圧力センサ(120)に出力する出力部(104)とを備えるようにする。   In the present invention, the calibration processing unit (105) uses the calibration reference pressure sensor (120) as a relational expression representing a relationship between a physical quantity detected according to the displacement of the diaphragm and the measurement output signal (Sc). The relational expression correcting unit (103) that corrects the output using the output signals (Sr, Sr ′) and the relational expression corrected by the relational expression correcting part (103) are output to the calibration target pressure sensor (120). Output unit (104).

本発明において、前記校正基準圧力センサ(110)および前記複数の校正対象圧力センサ(120)は、前記被測定流体(FL)が供給される主配管(2)から分岐された複数の分岐配管(2a、2b、2c)の末端に接続されるとともに、前記校正基準圧力センサ(110)と接続されている前記分岐配管(2a)に仕切弁(V1)が設置されているようにする。   In the present invention, the calibration reference pressure sensor (110) and the plurality of calibration target pressure sensors (120) include a plurality of branch pipes branched from a main pipe (2) supplied with the fluid to be measured (FL). 2a, 2b, and 2c) and a branch valve (V1) is installed in the branch pipe (2a) connected to the calibration reference pressure sensor (110).

本発明において、前記複数の校正対象圧力センサ(120、130)は、これら複数の校正対象圧力センサ(120、130)にそれぞれ対応した別系統の被測定流体(FL1、FL2)が供給される複数の主配管(3、4)の末端にそれぞれ接続され、前記校正基準圧力センサ(110)は、前記複数の主配管(3、4)からそれぞれ分岐された分岐配管(3a、4a)の末端に接続されるとともに、前記複数の分岐配管(3a、4a)には、それぞれ仕切弁(V2、V3)が設置されているようにする。   In the present invention, the plurality of calibration target pressure sensors (120, 130) are supplied with different systems of fluids to be measured (FL1, FL2) respectively corresponding to the plurality of calibration target pressure sensors (120, 130). The calibration reference pressure sensor (110) is connected to the ends of the branch pipes (3a, 4a) branched from the plurality of main pipes (3, 4), respectively. In addition to being connected, gate valves (V2, V3) are respectively installed in the plurality of branch pipes (3a, 4a).

本発明において、前記校正対象圧力センサ(120)の累積使用時間または前記校正対象圧力センサ(120)の前記測定出力信号(Sc)が示す圧力値に基づいて校正処理を行うタイミングになったか否かを判定する校正時期判定部(106)とを更に備えるようにする。   In the present invention, whether or not it is time to perform a calibration process based on the accumulated usage time of the calibration target pressure sensor (120) or the pressure value indicated by the measurement output signal (Sc) of the calibration target pressure sensor (120). And a calibration time determination unit (106) for determining the above.

本発明において、被測定流体(FL)の圧力(P)をダイアフラムで受けたときの前記ダイアフラムの変位に応じた電気信号を出力する校正の対象となる複数の校正対象圧力センサ(120)と、校正の基準となる1つの校正基準圧力センサ(110)と、前記校正基準圧力センサ(110)のダイアフラムまたは前記校正対象圧力センサ(120)のダイアフラムに所定の基準圧力(Pr)の被測定流体(FL)が作用したときに得られる基準出力信号(Spr)を記憶する初期状態記憶部(101)と、前記初期状態記憶部(101)に記憶された前記基準出力信号(Spr)に基づいて再現した前記基準圧力(Pr)の被測定流体(FL)が前記校正対象圧力センサ(120)のダイアフラムに作用したときに得られる測定出力信号(Sc)と、前記基準出力信号(Spr)との差(ΔSp)を所定の閾値(th1)とを比較し、前記校正対象圧力センサ(120)に対する校正の要否を判定する校正要否判定部(102)と、前記校正要否判定部(102)により前記校正が必要であると判定された場合、前記校正基準圧力センサ(110)からの出力信号(Sr、Sr´)に基づいて前記校正対象圧力センサ(120)を校正する校正処理部(105)とを備えるようにする。   In the present invention, a plurality of calibration target pressure sensors (120) to be calibrated for outputting an electrical signal corresponding to the displacement of the diaphragm when the pressure (P) of the fluid to be measured (FL) is received by the diaphragm; One calibration reference pressure sensor (110) serving as a calibration reference, and a fluid to be measured having a predetermined reference pressure (Pr) on the diaphragm of the calibration reference pressure sensor (110) or the diaphragm of the calibration target pressure sensor (120) The initial state storage unit (101) for storing the reference output signal (Spr) obtained when the (FL) is actuated, and the reproduction based on the reference output signal (Spr) stored in the initial state storage unit (101) The measured output signal (F) obtained when the fluid to be measured (FL) having the reference pressure (Pr) acts on the diaphragm of the calibration target pressure sensor (120). c) and a difference (ΔSp) between the reference output signal (Spr) and a predetermined threshold (th1) to determine whether or not the calibration target pressure sensor (120) needs to be calibrated. (102) and the calibration necessity determination unit (102) determines that the calibration is necessary, the calibration is performed based on the output signals (Sr, Sr ′) from the calibration reference pressure sensor (110). A calibration processing unit (105) for calibrating the target pressure sensor (120).

本発明によれば、初期状態記憶部(101)に記憶された基準出力信号(Spr)に基づいて再現した基準圧力(Pr)の被測定流体(FL)が校正対象圧力センサ(120)のダイアフラムに作用したときに得られる測定出力信号(Sc)と、基準出力信号(Spr)との差(ΔSp)に基づいて校正対象圧力センサ(120)に対する校正の要否を判定し、校正対象圧力センサ(120)について校正する必要があると判断した場合に、校正基準圧力センサ(110)からの出力信号(Sr、Sr´)に基づいて校正対象圧力センサ(120)を校正することができるので、複数の校正対象を一つの校正基準圧力センサ(110)により同一の校正品質で校正することができる。   According to the present invention, the fluid to be measured (FL) of the reference pressure (Pr) reproduced based on the reference output signal (Spr) stored in the initial state storage unit (101) is the diaphragm of the calibration target pressure sensor (120). The calibration target pressure sensor (120) is determined based on the difference (ΔSp) between the measurement output signal (Sc) and the reference output signal (Spr) obtained when acting on the calibration target pressure sensor. When it is determined that it is necessary to calibrate (120), the calibration target pressure sensor (120) can be calibrated based on the output signals (Sr, Sr ′) from the calibration reference pressure sensor (110). A plurality of calibration objects can be calibrated with the same calibration quality by one calibration reference pressure sensor (110).

本発明によれば、同一系統の主配管(2)に接続された複数の校正対象圧力センサ(120、130)だけではなく、別系統の被測定流体(FL1、FL2)が供給される複数の主配管(3、4)に接続された複数の校正対象圧力センサ(150、160)についても、1つの校正基準圧力センサ(110)だけを用いて校正することができるので、複数の校正対象を同一の校正品質で校正することができる。   According to the present invention, not only a plurality of calibration target pressure sensors (120, 130) connected to the main pipe (2) of the same system, but also a plurality of fluids to be measured (FL1, FL2) of different systems are supplied. Since a plurality of calibration target pressure sensors (150, 160) connected to the main pipe (3, 4) can also be calibrated using only one calibration reference pressure sensor (110), a plurality of calibration targets are selected. Calibration can be performed with the same calibration quality.

第1の実施の形態における1台の基準校正隔膜真空計、複数台の校正対象隔膜真空計、および、校正装置の接続状態を示すシステム計装図である。It is a system instrumentation figure which shows the connection state of the one reference | standard calibration diaphragm vacuum gauge in 1st Embodiment, the several calibration object diaphragm vacuum gauge, and a calibration apparatus. 第1の実施の形態における校正装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the calibration apparatus in 1st Embodiment. 第2の実施の形態における1台の基準校正隔膜真空計と複数台の校正対象隔膜真空計、および、校正装置の接続状態を示すシステム計装図である。It is a system instrumentation figure which shows the connection state of the one reference | standard calibration diaphragm vacuum gauge in 2nd Embodiment, the several calibration object diaphragm vacuum gauge, and a calibration apparatus.

以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態について説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

<第1の実施の形態>
<校正システムの全体構成>
図1に示すように、第1の実施の形態における校正システム1は、校正の基準となる1台の隔膜真空計(以下、これを「校正基準隔膜真空計」と呼ぶ。)110と、校正の対象とされる複数台の隔膜真空計(以下、これを「校正対象隔膜真空計」と呼ぶ。)120、130と、校正装置100を備えている。なお、校正対象隔膜真空計120、130は、2台に限るものではないが、便宜上、2台の場合を例として説明する。
<First Embodiment>
<Overall configuration of calibration system>
As shown in FIG. 1, a calibration system 1 according to the first embodiment includes one diaphragm vacuum gauge (hereinafter referred to as a “calibration reference diaphragm vacuum gauge”) 110 serving as a calibration reference, and calibration. A plurality of diaphragm vacuum gauges (hereinafter referred to as “calibration target diaphragm vacuum gauges”) 120 and 130 and a calibration device 100 are provided. Note that the number of diaphragm vacuum gauges 120 and 130 to be calibrated is not limited to two.

校正基準隔膜真空計110および校正対象隔膜真空計120、130には、被測定流体FLが供給される主配管2が接続されている。主配管2は、校正基準隔膜真空計110および校正対象隔膜真空計120、130の総数と同数の分岐配管2a、2b、2cに分岐されている。   A main pipe 2 to which a fluid to be measured FL is supplied is connected to the calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 and the calibration target diaphragm vacuum gauges 120 and 130. The main pipe 2 is branched into branch pipes 2a, 2b, and 2c having the same number as the total number of calibration reference diaphragm vacuum gauges 110 and calibration target diaphragm vacuum gauges 120 and 130.

分岐配管2aの末端には、校正基準隔膜真空計110が接続されており、その分岐配管2aには被測定流体FLの流入を仕切るバルブV1が設定されている。また、分岐配管2b、2cの末端には、校正対象隔膜真空計120、130が接続されている。   A calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 is connected to the end of the branch pipe 2a, and a valve V1 for partitioning the inflow of the fluid FL to be measured is set in the branch pipe 2a. In addition, calibration target diaphragm vacuum gauges 120 and 130 are connected to the ends of the branch pipes 2b and 2c.

なお、校正基準隔膜真空計110および校正対象隔膜真空計120、130は、基本的な機能および性能が同一の隔膜真空計である。なお、校正対象隔膜真空計120、130については、同一系統の被測定流体FLの圧力Pを測定するのであれば、互いに測定する圧力の範囲(レンジ)が異なっていたり、互いの測定分解能が異なっていてもよい。   The calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 and the calibration target diaphragm vacuum gauges 120 and 130 are diaphragm vacuum gauges having the same basic function and performance. As for the diaphragm vacuum gauges 120 and 130 to be calibrated, if the pressure P of the fluid FL to be measured of the same system is measured, the pressure ranges to be measured are different from each other, or the measurement resolutions are different from each other. It may be.

ここで、校正基準隔膜真空計110および校正対象隔膜真空計120、130は同一の構造を有する隔膜真空計であり、校正対象隔膜真空計120を一例としてその構造を説明する。   Here, the calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 and the calibration target diaphragm vacuum gauges 120 and 130 are diaphragm vacuum gauges having the same structure, and the structure thereof will be described by taking the calibration target diaphragm vacuum gauge 120 as an example.

校正対象隔膜真空計120は、校正対象センサユニット120sと、センサ出力算出部120cとを有している。校正対象センサユニット120sは、被測定流体FLの圧力導入部と基準真空室とを隔絶するダイアフラムと、このダイアフラムに設けられた可動電極と、この可動電極から離間して対向配置された固定電極とを備えている。   The calibration target diaphragm vacuum gauge 120 includes a calibration target sensor unit 120s and a sensor output calculation unit 120c. The calibration target sensor unit 120s includes a diaphragm that isolates the pressure introducing portion of the fluid FL to be measured and the reference vacuum chamber, a movable electrode provided in the diaphragm, and a fixed electrode that is spaced from the movable electrode and opposed to the movable electrode. It has.

この校正対象センサユニット120sは、被測定流体FLの圧力Pと基準空気室の圧力との差圧によって弾性変形するダイアフラムの変位を、可動電極と固定電極との間の静電容量Cの変化として検出し、この静電容量Cをセンサ出力算出部120cへ出力する。   The sensor unit 120s to be calibrated uses the displacement of the diaphragm that is elastically deformed by the pressure difference between the pressure P of the fluid FL to be measured and the pressure of the reference air chamber as a change in the capacitance C between the movable electrode and the fixed electrode. The capacitance C is detected and output to the sensor output calculation unit 120c.

センサ出力算出部120cは、その静電容量Cの値に基づいて被測定流体FLの圧力Pを測定する。ここで、静電容量Cと被測定流体の圧力Pとの関係式は、次の(式1)のような1次式で表すことができ、センサ出力算出部120cは、この関係式を内部メモリに保持している。ここで、a、bは、静電容量Cに基づいて圧力Pを求めるための係数(パラメータ)である。
P=a×C+b…………………………………………………………………………(式1)
The sensor output calculation unit 120c measures the pressure P of the fluid FL to be measured based on the value of the capacitance C. Here, the relational expression between the capacitance C and the pressure P of the fluid to be measured can be expressed by a linear expression such as the following (Expression 1), and the sensor output calculation unit 120c Held in memory. Here, a and b are coefficients (parameters) for obtaining the pressure P based on the capacitance C.
P = a × C + b ………………………………………………………………………… (Formula 1)

校正基準隔膜真空計110および校正対象隔膜真空計130の構成についても、校正対象隔膜真空計120と同様であり、校正基準センサユニット110r、校正対象センサユニット130s、センサ出力算出部110c、130cが設けられている。   The configurations of the calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 and the calibration target diaphragm vacuum gauge 130 are the same as those of the calibration target diaphragm vacuum gauge 120, and are provided with a calibration reference sensor unit 110r, a calibration target sensor unit 130s, and sensor output calculation units 110c and 130c. It has been.

<校正装置の構成>
校正装置100は、初期状態記憶部101、校正要否判定部102、校正処理部105、および、校正時期判定部106を備えている。
<Configuration of calibration device>
The calibration apparatus 100 includes an initial state storage unit 101, a calibration necessity determination unit 102, a calibration processing unit 105, and a calibration time determination unit 106.

この校正装置100は、CPU(Central Processing Unit)、メモリ、インタフェース等からなるコンピュータ(ハードウェア)にコンピュータプログラム(ソフトウェア)をインストールすることによって実現され、当該校正装置100の各部の機能は、コンピュータの各種ハードウェア資源とコンピュータプログラムとが協働することによって実現される。   The calibration apparatus 100 is realized by installing a computer program (software) in a computer (hardware) including a CPU (Central Processing Unit), a memory, an interface, and the like. This is realized by cooperation between various hardware resources and a computer program.

初期状態記憶部101は、基準圧力Prの被測定流体FLが校正基準隔膜真空計110に供給されたときに得られるセンサ出力信号Sr0に対応する圧力値を初期値として記憶する校正基準記憶部101aを有している。   The initial state storage unit 101 stores a pressure value corresponding to the sensor output signal Sr0 obtained when the fluid FL to be measured having the reference pressure Pr is supplied to the calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 as an initial value. have.

また、初期状態記憶部101は、基準圧力Prの被測定流体FLが使用開始前や校正処理直後の初期状態にある校正対象隔膜真空計120に供給されたときに得られるセンサ出力信号Sc0に対応する圧力値を初期値として記憶する校正対象記憶部101bを有している。なお、センサ出力信号Sr0、および、センサ出力信号Sc0を、総称して基準出力信号Sprと呼ぶ。   The initial state storage unit 101 corresponds to a sensor output signal Sc0 obtained when the fluid FL to be measured having the reference pressure Pr is supplied to the calibration target diaphragm vacuum gauge 120 in the initial state before the start of use or immediately after the calibration process. The calibration target storage unit 101b stores the pressure value to be stored as an initial value. The sensor output signal Sr0 and the sensor output signal Sc0 are collectively referred to as a reference output signal Spr.

因みに、初期状態記憶部101は、基準圧力Prよりも大きいまたは小さい他の基準圧力Pr´に対応した校正基準隔膜真空計110のセンサ出力信号、校正対象隔膜真空計120のセンサ出力信号を初期値としてそれぞれ記憶しておくことができる。   Incidentally, the initial state storage unit 101 sets initial values of the sensor output signal of the calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 and the sensor output signal of the calibration target diaphragm vacuum gauge 120 corresponding to another reference pressure Pr ′ larger or smaller than the reference pressure Pr. Can be stored respectively.

校正要否判定部102は、校正対象センサユニット120sに対する校正の要否を判定するものであり、比較部と保持部とを有している。   The calibration necessity determination unit 102 determines whether or not calibration is required for the calibration target sensor unit 120s, and includes a comparison unit and a holding unit.

比較部は、例えば、初期値として校正基準記憶部101aに記憶されたセンサ出力信号Sr0が校正基準隔膜真空計110により検出されるように基準圧力Prの被測定流体FLを供給する状態が再現されたとき、任意の時間使用した後の校正前の校正対象隔膜真空計120により得られるセンサ出力信号Scと、初期状態記憶部101に記憶された基準出力信号Spr(センサ出力信号SroまたはSco)との差ΔSpを、次の(式2)により算出し、その差ΔSpを閾値値th1と比較する。保持部は、比較対象となる閾値th1を保持している。
ΔSp=Sc−Spr……………………………………………………………………(式2)
For example, the comparison unit reproduces the state in which the fluid FL to be measured having the reference pressure Pr is supplied so that the sensor output signal Sr0 stored in the calibration reference storage unit 101a as the initial value is detected by the calibration reference diaphragm vacuum gauge 110. The sensor output signal Sc obtained by the diaphragm vacuum gauge 120 before calibration after being used for an arbitrary time, and the reference output signal Spr (sensor output signal Sro or Sco) stored in the initial state storage unit 101. The difference ΔSp is calculated by the following (Expression 2), and the difference ΔSp is compared with the threshold value th1. The holding unit holds a threshold value th1 to be compared.
ΔSp = Sc−Spr …………………………………………………………………… (Formula 2)

校正要否判定部102は、比較部により算出した差ΔSpと閾値th1と比較したとき、この差ΔSpが閾値th1を超えている場合、校正対象隔膜真空計120を校正する必要があると判定し、校正命令を校正処理部103へ出力する。   When the difference ΔSp calculated by the comparison unit and the threshold value th1 are compared with the threshold value th1, the calibration necessity determination unit 102 determines that the diaphragm vacuum gauge 120 to be calibrated needs to be calibrated. The calibration command is output to the calibration processing unit 103.

なお、校正要否判定部102は、上述したように基準圧力Prに加えて、基準圧力Pr´に対応した校正基準隔膜真空計110のセンサ出力信号、校正対象隔膜真空計120のセンサ出力信号を初期値としてそれぞれ記憶している場合には、複数の基準圧力Pr、Pr´に対応した差ΔSp、ΔSp´を求め、これら双方の差ΔSp、ΔSp´に基づいて校正対象隔膜真空計120に対する校正の要否を判定することが可能である。   Note that the calibration necessity determination unit 102 receives the sensor output signal of the calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 and the sensor output signal of the calibration target diaphragm vacuum gauge 120 corresponding to the reference pressure Pr ′ in addition to the reference pressure Pr as described above. When stored as initial values, differences ΔSp and ΔSp ′ corresponding to a plurality of reference pressures Pr and Pr ′ are obtained, and calibration of the diaphragm vacuum gauge 120 to be calibrated is performed based on the differences ΔSp and ΔSp ′ of both. It is possible to determine whether or not it is necessary.

校正処理部105は、関係式修正部103および出力部104を備えている。関係式修正部103は、校正基準隔膜真空計110により得られるセンサ出力信号Srを用いて、任意の時間使用された後であり校正前の校正対象隔膜真空計120により出力されるセンサ出力信号Scに対応した測定圧力Pを表す(式1)の関係式の係数(パラメータ)a、bを修正するものである。   The calibration processing unit 105 includes a relational expression correcting unit 103 and an output unit 104. The relational expression correcting unit 103 uses the sensor output signal Sr obtained by the calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 to output the sensor output signal Sc output from the calibration target diaphragm vacuum gauge 120 after being used for an arbitrary time and before calibration. The coefficients (parameters) a and b of the relational expression of (Expression 1) representing the measurement pressure P corresponding to are corrected.

出力部104は、関係式修正部103により修正された係数(パラメータ)a、bにより表される新たな関係式を校正対象隔膜真空計120のセンサ出力算出部120cに出力するものであり、そのセンサ出力算出部120cの内部メモリに予め保持されているセンサ出力信号Scに対応した測定圧力Pの関係式を新たな関係式で更新する。   The output unit 104 outputs a new relational expression represented by the coefficients (parameters) a and b corrected by the relational expression correction unit 103 to the sensor output calculation unit 120c of the calibration target diaphragm vacuum gauge 120. The relational expression of the measured pressure P corresponding to the sensor output signal Sc held in advance in the internal memory of the sensor output calculation unit 120c is updated with a new relational expression.

校正時期判定部105は、どのようなタイミングで任意時間使用後の校正前の校正対象隔膜真空計120を校正するかの時期を判定するものである。また、校正時期判定部105は、校正時期になったか否かを判定するための予め規定された基準の圧力値Pbを記憶する内部メモリを備えている。   The calibration time determination unit 105 determines the timing at which the calibration target diaphragm vacuum gauge 120 before calibration after use for an arbitrary time is calibrated. The calibration time determination unit 105 includes an internal memory that stores a predetermined reference pressure value Pb for determining whether or not the calibration time has come.

校正時期判定部105は、校正対象隔膜真空計120から受信したセンサ出力信号Scの圧力値が、当該校正時期判定部105の内部メモリに記憶された基準の圧力値Pbと一致したことを検出したとき、校正時期になったと認識し、そのことを示す信号を外部の通知装置(図示せず)へ出力する。   The calibration time determination unit 105 detects that the pressure value of the sensor output signal Sc received from the calibration target diaphragm vacuum gauge 120 matches the reference pressure value Pb stored in the internal memory of the calibration time determination unit 105. At this time, it is recognized that the calibration time has come, and a signal indicating this is output to an external notification device (not shown).

ここで、通知装置は、校正時期判定部105から受信した信号に基づいてオペレータに何らかの通知を行うものである。ここで、通知装置としては、例えば、警告音発生手段や、警告灯点灯手段である。ただし、これに限るものではなく、その他種々の手段であってよい。   Here, the notification device performs some notification to the operator based on the signal received from the calibration time determination unit 105. Here, the notification device is, for example, a warning sound generating unit or a warning lamp lighting unit. However, the present invention is not limited to this, and various other means may be used.

<校正動作>
次に、校正装置100により任意の時間使用された後の校正対象隔膜真空計120を校正するまでの一連の校正動作を、初期状態記憶段階、校正要否判定段階、および、校正処理段階に分けて説明する。
<Calibration operation>
Next, a series of calibration operations until the calibration target diaphragm vacuum gauge 120 is calibrated after being used for an arbitrary time by the calibration apparatus 100 is divided into an initial state storage stage, a calibration necessity judgment stage, and a calibration processing stage. I will explain.

≪初期状態記憶段階≫
最初に、オペレータは、校正基準隔膜真空計110に接続された分岐配管2aのバルブV1を開く。この状態で、オペレータは被測定流体FLの圧力Pを操作し、校正対象隔膜真空計120により測定される被測定流体FLの圧力測定結果であるセンサ出力信号Sc0に対応する圧力値が、予め規定された基準圧力Spr(例えば0[Pa])となる初期状態に設定する。ここで、半導体製造装置には、被測定流体FLの圧力Pを調整する圧力調整機構が備えられており、オペレータはこの圧力調整機構を利用して被測定流体FLの圧力Pを基準圧力Sprになるように調整すれば良い。
≪Initial state storage stage≫
First, the operator opens the valve V1 of the branch pipe 2a connected to the calibration reference diaphragm vacuum gauge 110. In this state, the operator operates the pressure P of the fluid FL to be measured, and the pressure value corresponding to the sensor output signal Sc0 that is the pressure measurement result of the fluid FL to be measured measured by the diaphragm vacuum gauge 120 to be calibrated is specified in advance. Is set to the initial state where the reference pressure Spr is set (eg, 0 [Pa]). Here, the semiconductor manufacturing apparatus is provided with a pressure adjusting mechanism for adjusting the pressure P of the fluid to be measured FL, and the operator uses the pressure adjusting mechanism to change the pressure P of the fluid to be measured FL to the reference pressure Spr. It may be adjusted so that

校正対象隔膜真空計120により測定される被測定流体FLのセンサ出力信号Sc0に対応する圧力値が基準圧力Prになった初期状態において、校正基準隔膜真空計110により測定されたセンサ出力信号Sr0に対応する圧力値を初期値として校正基準記憶部101aに記憶しておく。   In the initial state where the pressure value corresponding to the sensor output signal Sc0 of the fluid FL to be measured measured by the calibration target diaphragm vacuum gauge 120 becomes the reference pressure Pr, the sensor output signal Sr0 measured by the calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 is obtained. The corresponding pressure value is stored in the calibration reference storage unit 101a as an initial value.

同様の圧力状態において、校正対象隔膜真空計120により測定されたセンサ出力信号Sc0に対応する圧力値を初期値として校正対象記憶部101bに記憶しておく。   In the same pressure state, the pressure value corresponding to the sensor output signal Sc0 measured by the calibration target diaphragm gauge 120 is stored in the calibration target storage unit 101b as an initial value.

ここで、校正対象隔膜真空計120のセンサ出力信号Sc0に対応する圧力値は、校正基準隔膜真空計110が設置された場所との相違や、基準圧の取り方の違い等の何らかの理由により、校正基準隔膜真空計110のセンサ出力信号Sr0に対応する圧力値と同一とならずに僅かな圧力差が生じていることがある。   Here, the pressure value corresponding to the sensor output signal Sc0 of the calibration target diaphragm vacuum gauge 120 is different from the place where the calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 is installed, for some reason such as the difference in how to take the reference pressure, There may be a slight pressure difference that is not the same as the pressure value corresponding to the sensor output signal Sr0 of the calibration reference diaphragm gauge 110.

この僅かな圧力差は、誤差ではなく、校正対象隔膜真空計120のセンサ出力信号Sc0に対応する圧力値と、校正基準隔膜真空計110のセンサ出力信号Sr0に対応する圧力値との間に一定の差が存在する比例関係が存在すると考え、両者を次の(式3)で表すことができる。このように僅かな圧力差を予め把握しておくことにより、校正基準隔膜真空計110のセンサ出力信号Srと校正対象隔膜真空計120のセンサ出力信号Scとの間にセンサ出力値のズレが存在している場合でも、校正処理を実行することができる。なお、この圧力差については、校正対象記憶部101bに記憶しておく。
Sr0∝Sc0……………………………………………………………………………(式3)
This slight pressure difference is not an error and is constant between the pressure value corresponding to the sensor output signal Sc0 of the calibration target diaphragm vacuum gauge 120 and the pressure value corresponding to the sensor output signal Sr0 of the calibration reference diaphragm vacuum gauge 110. It is considered that there is a proportional relationship in which there is a difference between the two, and both can be expressed by the following (formula 3). By grasping the slight pressure difference in advance as described above, there is a deviation in the sensor output value between the sensor output signal Sr of the calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 and the sensor output signal Sc of the calibration target diaphragm vacuum gauge 120. Even in this case, the calibration process can be executed. This pressure difference is stored in the calibration target storage unit 101b.
Sr0∝Sc0 …………………………………………………………………………… (Formula 3)

≪校正要否判定段階≫
最初に、校正装置100の校正時期判定部105は、初期状態記憶段階の後、校正対象隔膜真空計120により被測定流体FLの圧力Pを測定したときのセンサ出力信号Scの圧力値が、当該校正時期判定部105の内部メモリに記憶された基準の圧力値Pb(例えば0[Pa])と一致したことを検出すると、校正時期になったと認識し、そのことを示す信号を外部の通知装置(図示せず)へ出力する。ここで基準の圧力値Pbとは、例えば半導体製造装置のプロセスにおいて、校正対象隔膜真空計120により測定された被測定流体FLの圧力Pが圧力値Pbと一致したときには、必ず校正を行うように予め設定された圧力値である。
≪Calibration necessity judgment stage≫
First, the calibration time determination unit 105 of the calibration apparatus 100 determines that the pressure value of the sensor output signal Sc when the pressure P of the fluid FL to be measured is measured by the calibration target diaphragm vacuum gauge 120 after the initial state storage stage is When it is detected that the reference pressure value Pb (for example, 0 [Pa]) stored in the internal memory of the calibration time determination unit 105 coincides, it is recognized that the calibration time has come, and a signal indicating this is sent to an external notification device. (Not shown). Here, the reference pressure value Pb means that calibration is always performed when the pressure P of the fluid FL to be measured measured by the diaphragm vacuum gauge 120 to be calibrated matches the pressure value Pb in the process of the semiconductor manufacturing apparatus, for example. It is a preset pressure value.

通知装置は、校正時期判定部105からの信号に基づいて例えばブザー音を出力する。オペレータは、ブザー音を確認することにより、予め規定された校正処理のタイミングになったことを認識する。   The notification device outputs, for example, a buzzer sound based on a signal from the calibration time determination unit 105. By checking the buzzer sound, the operator recognizes that a predetermined calibration processing timing has come.

ブザー音を確認したオペレータは、校正基準隔膜真空計110に接続された分岐配管2aのバルブV1を開く。この状態で、オペレータは被測定流体FLの圧力Pを操作し、校正基準隔膜真空計110により測定される被測定流体FLのセンサ出力信号Srの圧力値が、校正基準記憶部101aに予め記憶されている初期状態記憶段階のセンサ出力信号Sr0の圧力値(初期値)となるように設定する。この結果、初期状態記憶段階で設定した基準圧力Prの被測定流体FLが主配管2から供給されている初期状態を再現することができる。なお、この場合も、半導体製造装置の圧力調整機構を利用して被測定流体FLの圧力Pを調整する。   The operator who has confirmed the buzzer sound opens the valve V1 of the branch pipe 2a connected to the calibration reference diaphragm vacuum gauge 110. In this state, the operator operates the pressure P of the fluid to be measured FL, and the pressure value of the sensor output signal Sr of the fluid to be measured FL measured by the calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 is stored in advance in the calibration reference storage unit 101a. The pressure value (initial value) of the sensor output signal Sr0 in the initial state storage stage is set. As a result, it is possible to reproduce the initial state in which the fluid to be measured FL having the reference pressure Pr set in the initial state storage stage is supplied from the main pipe 2. In this case as well, the pressure P of the fluid FL to be measured is adjusted using the pressure adjustment mechanism of the semiconductor manufacturing apparatus.

因みに、校正対象隔膜真空計120に校正の必要性が生じていない場合、すなわち、校正対象隔膜真空計120のセンサ出力信号Scの圧力値が、校正対象記憶部101bに記憶された校正対象隔膜真空計120のセンサ出力信号Sc0の初期値のまま変化していない場合、校正対象センサユニット120sから基準圧力Prと同じ圧力値が計測されることになる。   Incidentally, when there is no necessity for calibration in the calibration target diaphragm vacuum gauge 120, that is, the pressure value of the sensor output signal Sc of the calibration target diaphragm vacuum gauge 120 is stored in the calibration target storage unit 101b. When the initial value of the sensor output signal Sc0 of the meter 120 remains unchanged, the same pressure value as the reference pressure Pr is measured from the calibration target sensor unit 120s.

その後、校正要否判定部102は、基準圧力Prの被測定流体FLが主配管2に供給されている初期状態を再現した際、任意の時間使用した後の校正前の校正対象隔膜真空計120sにより基準圧力Prの被測定流体FLを測定したことにより得られるセンサ出力信号Scを取得する。   After that, the calibration necessity determination unit 102 reproduces the initial state in which the fluid to be measured FL having the reference pressure Pr is supplied to the main pipe 2, and then the calibration target diaphragm vacuum gauge 120 s before calibration after use for an arbitrary time. The sensor output signal Sc obtained by measuring the fluid to be measured FL at the reference pressure Pr is acquired.

また、校正要否判定部102は、初期状態記憶段階において校正基準記憶部101aに記憶しておいた校正基準隔膜真空計110のセンサ出力信号Sr0を読み出す。校正要否判定部102は、センサ出力信号Scとセンサ出力信号Sr0との差ΔSpを、上述した(式2)により算出する。   Further, the calibration necessity determination unit 102 reads the sensor output signal Sr0 of the calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 stored in the calibration reference storage unit 101a in the initial state storage stage. The calibration necessity determination unit 102 calculates the difference ΔSp between the sensor output signal Sc and the sensor output signal Sr0 according to (Equation 2) described above.

なお、校正要否判定部102は、(式2)により差ΔSpを求めるようにしたが、校正対象隔膜真空計120のセンサ出力信号Scと、初期状態記憶段階において校正対象記憶部101bに記憶しておいたセンサ出力信号Sc0との差を求めてもよい。   The calibration necessity determination unit 102 obtains the difference ΔSp by (Equation 2), but stores the sensor output signal Sc of the calibration target diaphragm vacuum gauge 120 and the calibration target storage unit 101b in the initial state storage stage. A difference from the previously described sensor output signal Sc0 may be obtained.

校正要否判定部102は、(式2)により表される差ΔSpが所定の閾値th1を超えていたことを認識すると、校正対象隔膜真空計120を校正する必要が有るという校正要判定を行い、校正処理命令を校正処理部105の関係式修正部103へ出力する。なお、校正要否判定部102は、差ΔSpが閾値th1を超えていないことを認識すると、校正対象隔膜真空計120を校正する必要はないという校正否判定を行い、校正処理命令を出力することはない。   When it is recognized that the difference ΔSp represented by (Equation 2) exceeds the predetermined threshold th1, the calibration necessity determination unit 102 performs a calibration necessity determination that it is necessary to calibrate the diaphragm vacuum gauge 120 to be calibrated. The calibration processing command is output to the relational expression correcting unit 103 of the calibration processing unit 105. When the calibration necessity determination unit 102 recognizes that the difference ΔSp does not exceed the threshold th1, the calibration necessity determination unit 102 determines that the calibration target diaphragm vacuum gauge 120 does not need to be calibrated, and outputs a calibration processing command. There is no.

≪校正処理段階≫
ところで、圧力Pの被測定流体FLを測定した結果である校正対象隔膜真空計120のセンサ出力信号Scと、そのセンサ出力信号Scに対応する圧力の真値Pとの間には誤差αが存在する場合があり、この場合の真値Pは、上述した(式3)を用いて次の(式4)により表される。ここで、Sr∝Sc0、α=Sc−Sc0である。
P=Sr=Sc−α………………………………………………(式4)
≪Calibration process stage≫
By the way, there is an error α between the sensor output signal Sc of the diaphragm vacuum gauge 120 to be calibrated, which is the result of measuring the fluid FL to be measured at the pressure P, and the true value P of the pressure corresponding to the sensor output signal Sc. In this case, the true value P is expressed by the following (Expression 4) using (Expression 3) described above. Here, Sr∝Sc0, α = Sc-Sc0.
P = Sr = Sc−α ……………………………………………… (Formula 4)

ここで、「Sc0」は、初期状態の校正対象隔膜真空計120のセンサ出力信号であり、次の(式5)により表される。また、「Sc」は、要校正状態における校正前の校正対象隔膜真空計120のセンサ出力信号であり、次の(式6)により表される。
Sc0=a0×C0+b0………………………………………………………………(式5)
Sc=a0×C1+b0…………………………………………………………………(式6)
Here, “Sc0” is the sensor output signal of the diaphragm vacuum gauge 120 to be calibrated in the initial state, and is expressed by the following (Equation 5). “Sc” is a sensor output signal of the calibration target diaphragm vacuum gauge 120 before calibration in the calibration required state, and is expressed by the following (formula 6).
Sc0 = a0 × C0 + b0 ……………………………………………………………… (Formula 5)
Sc = a0 × C1 + b0 ……………………………………………………………… (Formula 6)

ここで、a0、b0、a1、b1は、(式5)、(式6)の関係式を構成している係数(パラメータ)である。C0は、初期状態における校正対象隔膜真空計120の校正対象センサユニット120sの固定電極と可動電極とで構成されたコンデンサの容量値(静電容量)である。同様に、C1は、校正対象隔膜真空計120のセンサ出力信号Scに誤差が生じた後の校正対象センサユニット120sの固定電極と可動電極とで構成されたコンデンサの容量値(静電容量)である。したがって、誤差要因ΔCは、次の(式7)により表される。
ΔC=C1−C0…………………………………………………………………………(式7)
Here, a0, b0, a1, and b1 are coefficients (parameters) constituting the relational expressions of (Expression 5) and (Expression 6). C0 is a capacitance value (capacitance) of a capacitor formed by the fixed electrode and the movable electrode of the calibration target sensor unit 120s of the calibration target diaphragm gauge 120 in the initial state. Similarly, C1 is a capacitance value (capacitance) of a capacitor composed of a fixed electrode and a movable electrode of the calibration target sensor unit 120s after an error occurs in the sensor output signal Sc of the calibration target diaphragm gauge 120. is there. Therefore, the error factor ΔC is expressed by the following (Equation 7).
ΔC = C1-C0 ………………………………………………………………………… (Formula 7)

(式6)に示されたように、校正前の校正対象隔膜真空計120のセンサ出力信号Scは係数a0、b0により決定されるが、センサ出力信号Scに誤差が生じている場合には、この係数a0、b0を用いることはできない。そこで、新たな係数(パラメータ)a1、b1を後述する計算方法により求め、(式6)の係数a0、b0を係数a1、b1に更新する必要がある。   As shown in (Equation 6), the sensor output signal Sc of the calibration target diaphragm vacuum gauge 120 before calibration is determined by the coefficients a0 and b0. If an error occurs in the sensor output signal Sc, These coefficients a0 and b0 cannot be used. Therefore, it is necessary to obtain new coefficients (parameters) a1 and b1 by a calculation method to be described later, and update the coefficients a0 and b0 in (Equation 6) to the coefficients a1 and b1.

この場合、関係式修正部103は、基準圧力Prおよび圧力P´にそれぞれ対応する校正基準センサユニット110rのセンサ出力信号SrおよびSr´を用いて、次の(式8)および(式9)により係数a1を求めればよい。
P´−Pr=Sr´−Sr=(a1×C1´+b1)−(a1×C1+b1)
=a1×(C1´−C1)………………………………………………………………(式8)
a1=(Sr´−Sr)/(C1´−C1)…………………………………………(式9)
In this case, the relational expression correcting unit 103 uses the sensor output signals Sr and Sr ′ of the calibration reference sensor unit 110r corresponding to the reference pressure Pr and the pressure P ′, respectively, according to the following (Expression 8) and (Expression 9). What is necessary is just to obtain | require the coefficient a1.
P′−Pr = Sr′−Sr = (a1 × C1 ′ + b1) − (a1 × C1 + b1)
= A1 × (C1′−C1) ………………………………………………………… (Formula 8)
a1 = (Sr′−Sr) / (C1′−C1) ………………………………………… (Formula 9)

また、基準圧力Prを真空状態の圧力として0[Pa]とすると、次の(式10)が成立する。
Pr=0=Sr∝Sc(=Sc0)…………………………………………………(式10)
Further, when the reference pressure Pr is set to 0 [Pa] as a vacuum pressure, the following (Expression 10) is established.
Pr = 0 = Sr∝Sc (= Sc0) …………………………………………… (Formula 10)

この(式9)によるa1の値、(式10)によるScの値を、(式6)に代入すれば、係数b1の値を求めることができる。校正処理部105は、このようにして求めた係数a1、b1を、(式5)で表される係数a0、b0と置換すれば、校正処理後の校正対象隔膜真空計120のセンサ出力信号Scを表す次の(式11)に示される新たな関係式を得ることができる。
Sc=a1×C0+b1………………………………………………………………(式11)
By substituting the value of a1 according to (Equation 9) and the value of Sc according to (Equation 10) into (Equation 6), the value of the coefficient b1 can be obtained. The calibration processing unit 105 replaces the coefficients a1 and b1 obtained in this way with the coefficients a0 and b0 expressed by (Equation 5), and the sensor output signal Sc of the calibration target diaphragm vacuum gauge 120 after the calibration process. A new relational expression represented by the following (Expression 11) can be obtained.
Sc = a1 × C0 + b1 ……………………………………………………………… (Formula 11)

校正処理部105の出力部104は、校正処理後の校正対象隔膜真空計120のセンサ出力信号Scを表す(式11)で示すような新たな関係式を校正対象隔膜真空計120のセンサ出力算出部120cに送信し、内部メモリに保持していた(式5)の関係式を(式11)の関係式に置き換えることにより更新する。これにより、校正対象隔膜真空計120のセンサ出力信号の校正処理を終了する。   The output unit 104 of the calibration processing unit 105 calculates a sensor output of the calibration target diaphragm vacuum gauge 120 based on a new relational expression such as (Expression 11) that represents the sensor output signal Sc of the calibration target diaphragm vacuum gauge 120 after the calibration process. The relational expression of (Expression 5) transmitted to the unit 120c and stored in the internal memory is updated by replacing it with the relational expression of (Expression 11). Thereby, the calibration process of the sensor output signal of the diaphragm vacuum gauge 120 to be calibrated is completed.

なお、出力部104は、(式11)で示す新たな関係式を校正対象隔膜真空計120のセンサ出力算出部120cに送信するのではなく、係数a1、b1だけを校正対象隔膜真空計120のセンサ出力算出部120cに送信し、係数a0、b0と入れ替えさせるようにしても良い。   The output unit 104 does not transmit the new relational expression represented by (Equation 11) to the sensor output calculation unit 120c of the calibration target diaphragm vacuum gauge 120, but only the coefficients a1 and b1 of the calibration target diaphragm vacuum gauge 120. You may make it transmit to the sensor output calculation part 120c, and make it replace with the coefficients a0 and b0.

<効果>
校正装置100は、校正基準隔膜真空計110を用いて、校正対象隔膜真空計120に対する校正処理と同様の校正処理を他の校正対象隔膜真空計130についても行うことにより、1台の校正装置100だけで、複数台の校正対象隔膜真空計120、130を校正することができるので、複数台の校正対象隔膜真空計120、130に対する校正の品質を揃えることができる。
<Effect>
The calibration apparatus 100 uses the calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 to perform a calibration process similar to the calibration process for the calibration target diaphragm vacuum gauge 120 on the other calibration target diaphragm vacuum gauges 130, thereby providing a single calibration apparatus 100. Therefore, the plurality of calibration target diaphragm vacuum gauges 120 and 130 can be calibrated, so that the quality of calibration for the plurality of calibration target diaphragm vacuum gauges 120 and 130 can be made uniform.

また、校正装置100は、校正対象隔膜真空計120、130と一体型ではなく分離型であるため、半導体製造装置に設けられている校正対象隔膜真空計120、130の近傍に校正装置100を用意して接続すれば、校正対象隔膜真空計120、130を半導体製造装置から取り外すことなく同一の校正品質で校正することができる。これにより、校正対象隔膜真空計120、130を取り外す必要がないので、校正処理を行うに際しても、半導体製造装置を停止するダウンタイムを減少させることができる。   Further, since the calibration apparatus 100 is not integrated with the calibration target diaphragm vacuum gauges 120 and 130 but separate, the calibration apparatus 100 is prepared in the vicinity of the calibration target diaphragm vacuum gauges 120 and 130 provided in the semiconductor manufacturing apparatus. Thus, the diaphragms 120 and 130 to be calibrated can be calibrated with the same calibration quality without being removed from the semiconductor manufacturing apparatus. Thereby, since it is not necessary to remove the calibration subject diaphragm vacuum gauges 120 and 130, downtime for stopping the semiconductor manufacturing apparatus can be reduced even when performing the calibration process.

<第2の実施の形態>
<校正システムの全体構成>
図3に示すように、第2の実施の形態における校正システム200は、第1の実施の形態と同様に、校正の基準となる1台の校正基準隔膜真空計110と、校正の対象となる複数台の校正対象隔膜真空計150、160と、校正装置100を備えている。なお、第2の実施の形態において、図1に示された校正装置100、校正基準隔膜真空計110には同一の符号を用い、その詳細な説明は省略する。
<Second Embodiment>
<Overall configuration of calibration system>
As shown in FIG. 3, the calibration system 200 according to the second embodiment is a calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 that serves as a calibration reference and a calibration target, as in the first embodiment. A plurality of calibration object diaphragm vacuum gauges 150 and 160 and a calibration apparatus 100 are provided. In the second embodiment, the same reference numerals are used for the calibration device 100 and the calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 shown in FIG. 1, and detailed descriptions thereof are omitted.

ここで、校正基準隔膜真空計110および校正対象隔膜真空計150、160は、基本的な機能および性能が同一の隔膜真空計である。ただし、校正対象隔膜真空計150、160は、同一の隔膜真空計であっても良いし、レンジ、分解能、および機能等が異なる隔膜真空計であっても良い。   Here, the calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 and the calibration target diaphragm vacuum gauges 150 and 160 are diaphragm vacuum gauges having the same basic function and performance. However, the diaphragm vacuum gauges 150 and 160 to be calibrated may be the same diaphragm vacuum gauge, or may be diaphragm vacuum gauges having different ranges, resolutions, functions, and the like.

校正対象隔膜真空計150は、圧力PAの被測定流体FL1が供給される主配管3の末端に接続されている。校正対象隔膜真空計160は、圧力PBの被測定流体FL2が供給される主配管4の末端に接続されている。この主配管3、4は、互いに異なる圧力および種類の被測定流体FL1、FL2を供給する別系統の導圧管である。   The diaphragm to be calibrated 150 is connected to the end of the main pipe 3 to which the fluid to be measured FL1 having the pressure PA is supplied. The diaphragm to be calibrated 160 is connected to the end of the main pipe 4 to which the fluid to be measured FL2 having the pressure PB is supplied. The main pipes 3 and 4 are pressure guiding pipes of different systems that supply different pressures and types of fluids to be measured FL1 and FL2.

校正基準隔膜真空計110は、被測定流体FL1が供給される主配管3および被測定流体FL2が供給される主配管4の双方と接続されている。主配管3は、その配管の途中で分岐された分岐配管3aを有し、主配管4も主配管3と同様に、その配管の途中で分岐された分岐配管4aを有している。   The calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 is connected to both the main pipe 3 to which the fluid to be measured FL1 is supplied and the main pipe 4 to which the fluid to be measured FL2 is supplied. The main pipe 3 has a branch pipe 3 a branched in the middle of the pipe, and the main pipe 4 has a branch pipe 4 a branched in the middle of the pipe, similarly to the main pipe 3.

分岐配管3a、4aは、その先端同士が結合され、その結合部分に校正基準隔膜真空計110へ被測定流体FL1又はFL2を導出する共通配管5が接続されている。この共通配管5の末端に校正基準隔膜真空計110が接続されている。なお、分岐配管3a、4aは、先端同士で結合されている必要は必ずしもなく、分岐配管3a、4aの末端がそれぞれ校正基準隔膜真空計110に接続されていてもよい。   The branch pipes 3a and 4a are joined at their tips, and a common pipe 5 for connecting the fluid to be measured FL1 or FL2 to the calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 is connected to the joint. A calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 is connected to the end of the common pipe 5. The branch pipes 3a and 4a do not necessarily have to be joined to each other at the ends, and the ends of the branch pipes 3a and 4a may be connected to the calibration reference diaphragm vacuum gauge 110, respectively.

分岐配管3aには、被測定流体FL1の流入を仕切るバルブV2が設置されている。また、分岐配管4aには、被測定流体FL2の流入を仕切るバルブV3が設置されている。バルブV2は、バルブV3が開かれているときには閉じられ、バルブV2が開かれているときにはバルブV3が閉じられるように用いられる。   The branch pipe 3a is provided with a valve V2 for partitioning the inflow of the fluid to be measured FL1. The branch pipe 4a is provided with a valve V3 that partitions the inflow of the fluid to be measured FL2. The valve V2 is used so that the valve V3 is closed when the valve V3 is opened, and the valve V3 is closed when the valve V2 is opened.

校正基準隔膜真空計110は、第1の実施の形態と同様の構成を有している。また、校正対象隔膜真空計150には、被測定流体FL1の圧力PAを受けて撓むダイアフラムの変位を静電容量Cの変化として検出する校正対象センサユニット150sが設けられている。同様に、校正対象隔膜真空計160には、被測定流体FL2の圧力PBを受けて撓むダイアフラムの変位を静電容量Cの変化として検出する校正対象センサユニット160sが設けられている。   The calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 has the same configuration as that of the first embodiment. Further, the calibration target diaphragm vacuum gauge 150 is provided with a calibration target sensor unit 150s that detects the displacement of the diaphragm that is bent by receiving the pressure PA of the fluid FL1 to be measured as a change in the capacitance C. Similarly, the calibration target diaphragm vacuum gauge 160 is provided with a calibration target sensor unit 160s that detects the displacement of the diaphragm that receives the pressure PB of the fluid FL2 to be measured as a change in the capacitance C.

なお、校正対象隔膜真空計150、160の校正対象センサユニット150s、160sには、第1の実施の形態における校正対象隔膜真空計120、130と同様に、センサ出力算出部150c、160cが接続されている。このセンサ出力算出部150c、160cは、校正対象センサユニット150s、160sの静電容量Cに基づいて被測定流体FLの測定圧力Pを示すセンサ出力信号Scを生成するものであり、センサ出力信号Scを表す関係式を内部メモリに保持している。   The sensor output calculation units 150c and 160c are connected to the calibration target sensor units 150s and 160s of the calibration target diaphragm vacuum gauges 150 and 160 in the same manner as the calibration target diaphragm vacuum gauges 120 and 130 in the first embodiment. ing. The sensor output calculation units 150c and 160c generate a sensor output signal Sc indicating the measured pressure P of the fluid FL to be measured based on the capacitance C of the calibration target sensor units 150s and 160s. The sensor output signal Sc Is stored in the internal memory.

校正基準隔膜真空計110は、センサ出力算出部110cにより生成されたセンサ出力信号Srを校正装置100に出力する。校正対象隔膜真空計150、160は、センサ出力算出部150c、160cにより生成したセンサ出力信号Scを校正装置100に出力する。   The calibration reference diaphragm gauge 110 outputs the sensor output signal Sr generated by the sensor output calculation unit 110c to the calibration device 100. The diaphragm vacuum gauges 150 and 160 to be calibrated output the sensor output signal Sc generated by the sensor output calculators 150 c and 160 c to the calibration device 100.

この場合、校正装置100は、校正対象隔膜真空計150、160を校正するに当たり、第1の実施の形態と同様に初期状態記憶段階、校正要否判定段階、および、校正処理段階に分けて校正動作を行うが、校正対象隔膜真空計150について校正する場合には、バルブV2を開けるがバルブV3は閉じた状態と設定し、校正対象隔膜真空計160について校正する場合には、バルブV3を開けるがバルブV2は閉じた状態と設定する。   In this case, when calibrating the diaphragm vacuum gauges 150 and 160 to be calibrated, the calibration apparatus 100 divides into the initial state storage stage, the calibration necessity judgment stage, and the calibration processing stage in the same manner as in the first embodiment. Although the operation is performed, when calibrating the diaphragm vacuum gauge 150 to be calibrated, the valve V2 is opened but the valve V3 is set to be closed. When calibrating the diaphragm vacuum gauge 160 to be calibrated, the valve V3 is opened. However, the valve V2 is set in a closed state.

これにより、2系統の被測定流体FL1、FL2をそれぞれ測定する校正対象隔膜真空計150、160に対する校正処理を1台の校正基準隔膜真空計110だけで交互に行うことができる。かくして校正システム200においても、1台の校正基準隔膜真空計110だけで、別系統の主配管3、4にそれぞれ接続された複数台の校正対象隔膜真空計150、160の校正品質を揃えることができる。   Thereby, the calibration process for the calibration subject diaphragm vacuum gauges 150 and 160 for measuring the two systems of fluids to be measured FL1 and FL2 can be alternately performed by only one calibration reference diaphragm vacuum gauge 110. Thus, also in the calibration system 200, the calibration quality of a plurality of calibration target diaphragm vacuum gauges 150 and 160 connected to the main pipes 3 and 4 of different systems can be made uniform with only one calibration reference diaphragm vacuum gauge 110, respectively. it can.

<他の実施の形態>
なお、上述した実施の形態においては、基準圧力Prおよび圧力P´の2点にそれぞれ対応する校正基準隔膜真空計110のセンサ出力信号Sr、Sr´を用いて係数a1、b1を求めるようにした場合について述べたが、本発明はこれに限らず、3点、4点、……、のように主配管2に印加する被測定流体FLの圧力の印加点数を増やすようにしても良い。この場合、高次式を用いて係数を求めることが可能となり、校正対象隔膜真空計120を更に高精度に校正することができる。
<Other embodiments>
In the embodiment described above, the coefficients a1 and b1 are obtained using the sensor output signals Sr and Sr ′ of the calibration reference diaphragm vacuum gauge 110 corresponding to the two points of the reference pressure Pr and the pressure P ′, respectively. Although the case has been described, the present invention is not limited to this, and the number of application points of the pressure of the fluid to be measured FL applied to the main pipe 2 may be increased such as three points, four points,. In this case, the coefficient can be obtained using a higher order expression, and the diaphragm for vacuum membrane 120 to be calibrated can be calibrated with higher accuracy.

また、上述した実施の形態においては、センサ出力算出部120cから受信したセンサ出力信号Scの圧力値と、内部メモリに記憶された基準の圧力値Pbとが一致したことを校正時期判定部106が検出したとき、校正時期になったと認識し、校正時期であることを示す信号を外部の通知装置(図示せず)へ出力するようにした場合について述べた。しかしながら、本発明はこれに限らず、校正対象隔膜真空計120の未使用状態または校正処理直後からの累積使用時間を校正時期判定部106において計時しておき、その累積使用時間に到達したときに校正時期であると判定し、外部の通知装置(図示せず)へ出力するとともに、その旨を示す信号を校正要否判定部102に出力し、その信号をトリガとして当該校正要否判定部102において校正対象隔膜真空計120を校正する必要が有るか否かの校正要否判定を行うようにしてもよい。   In the embodiment described above, the calibration time determination unit 106 confirms that the pressure value of the sensor output signal Sc received from the sensor output calculation unit 120c matches the reference pressure value Pb stored in the internal memory. A case has been described in which, when detected, it is recognized that the calibration time has come, and a signal indicating the calibration time is output to an external notification device (not shown). However, the present invention is not limited to this, and the accumulated use time from the unused state of the diaphragm vacuum gauge 120 to be calibrated or immediately after the calibration process is measured in the calibration time determination unit 106, and when the accumulated use time is reached. It is determined that it is the calibration time, and is output to an external notification device (not shown), and a signal indicating that is output to the calibration necessity determination unit 102, and the calibration necessity determination unit 102 is triggered by the signal. It may be determined whether or not it is necessary to calibrate the diaphragm vacuum gauge 120 to be calibrated.

1……校正システム、2、3、4……主配管、110……校正基準隔膜真空計(校正基準圧力センサ)、110r……校正基準センサユニット、120、130、150、160……校正対象隔膜真空計(校正対象圧力センサ)、120s、130s、150s、160s……校正対象センサユニット、100……校正装置、101……初期状態記憶部、102……校正要否判定部、103……関係式修正部、104……出力部、105……校正処理部、106……校正時期判定部。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Calibration system 2, 3, 4 ... Main piping, 110 ... Calibration standard diaphragm gauge (calibration standard pressure sensor), 110r ... Calibration standard sensor unit, 120, 130, 150, 160 ... Calibration object Diaphragm vacuum gauge (calibration target pressure sensor), 120 s, 130 s, 150 s, 160 s ... calibration target sensor unit, 100... Calibration device, 101... Initial state storage unit, 102. Relational expression correction unit 104... Output unit 105... Calibration processing unit 106.

Claims (6)

被測定流体の圧力を受けたときのダイアフラムの変位に応じた電気信号を出力する複数の圧力センサを、他の1つの圧力センサを用いて校正する校正装置であって、
校正の基準となる校正基準圧力センサのダイアフラムまたは校正の対象となる校正対象圧力センサのダイアフラムに所定の基準圧力の被測定流体が作用したときに得られる基準出力信号を記憶する初期状態記憶部と、
前記初期状態記憶部に記憶された前記基準出力信号に基づいて再現した前記基準圧力の被測定流体が前記校正対象圧力センサのダイアフラムに作用したときに得られる測定出力信号と前記基準出力信号との差を所定の閾値とを比較し、前記校正対象圧力センサに対する校正の要否を判定する校正要否判定部と、
前記校正要否判定部により前記校正が必要であると判定された場合、前記校正基準圧力センサからの出力信号に基づいて前記校正対象圧力センサを校正する校正処理部と
を備えることを特徴とする校正装置。
A calibration device that calibrates a plurality of pressure sensors that output an electrical signal corresponding to the displacement of a diaphragm when the pressure of a fluid to be measured is received using another one pressure sensor,
An initial state storage unit for storing a reference output signal obtained when a fluid to be measured having a predetermined reference pressure acts on a diaphragm of a calibration reference pressure sensor serving as a calibration reference or a diaphragm of a calibration target pressure sensor serving as a calibration target; ,
The measurement output signal obtained when the fluid under measurement having the reference pressure reproduced based on the reference output signal stored in the initial state storage unit acts on the diaphragm of the calibration target pressure sensor, and the reference output signal. A calibration necessity determination unit that compares the difference with a predetermined threshold and determines whether calibration is required for the calibration target pressure sensor;
A calibration processing unit configured to calibrate the calibration target pressure sensor based on an output signal from the calibration reference pressure sensor when the calibration is determined to be necessary by the calibration necessity determination unit. Calibration device.
前記校正処理部は、前記ダイアフラムの変位に応じて検出される物理量と、前記測定出力信号との関係を表す関係式を、前記校正基準圧力センサの前記出力信号を用いて修正する関係式修正部と、
前記関係式修正部により修正された前記関係式を前記校正対象圧力センサに出力する出力部と
を備えることを特徴とする請求項1に記載の校正装置。
The calibration processing unit corrects a relational expression representing a relationship between a physical quantity detected according to the displacement of the diaphragm and the measurement output signal by using the output signal of the calibration reference pressure sensor. When,
The calibration apparatus according to claim 1, further comprising: an output unit that outputs the relational expression modified by the relational expression modification unit to the calibration target pressure sensor.
前記校正基準圧力センサおよび前記複数の校正対象圧力センサは、前記被測定流体が供給される主配管から分岐された複数の分岐配管の末端に接続されるとともに、前記校正基準圧力センサと接続されている前記分岐配管に仕切弁が設置されている
ことを備えることを特徴とする請求項1に記載の校正装置。
The calibration reference pressure sensor and the plurality of calibration target pressure sensors are connected to ends of a plurality of branch pipes branched from a main pipe to which the fluid to be measured is supplied, and are connected to the calibration reference pressure sensors. The calibrating device according to claim 1, further comprising: a gate valve installed on the branch pipe.
前記複数の校正対象圧力センサは、これら複数の校正対象圧力センサにそれぞれ対応した別系統の被測定流体が供給される複数の主配管の末端にそれぞれ接続され、
前記校正基準圧力センサは、前記複数の主配管からそれぞれ分岐された分岐配管の末端に接続されるとともに、
前記複数の分岐配管には、それぞれ仕切弁が設置されている
ことを特徴とする請求項1に記載の校正装置。
The plurality of calibration target pressure sensors are respectively connected to the ends of a plurality of main pipes to which fluids to be measured of different systems corresponding to the plurality of calibration target pressure sensors are respectively supplied.
The calibration reference pressure sensor is connected to an end of a branch pipe branched from each of the plurality of main pipes,
The calibration apparatus according to claim 1, wherein a gate valve is installed in each of the plurality of branch pipes.
前記校正対象圧力センサの累積使用時間または前記校正対象圧力センサの前記測定出力信号が示す圧力値に基づいて校正処理を行うタイミングになったか否かを判定する校正時期判定部と
を更に備えることを特徴とする請求項2乃至4に記載の校正装置。
A calibration time determination unit that determines whether or not it is time to perform a calibration process based on the accumulated usage time of the calibration target pressure sensor or the pressure value indicated by the measurement output signal of the calibration target pressure sensor. The calibration apparatus according to claim 2, wherein the calibration apparatus is characterized in that:
被測定流体の圧力をダイアフラムで受けたときの前記ダイアフラムの変位に応じた電気信号を出力する校正の対象となる複数の校正対象圧力センサと、
校正の基準となる1つの校正基準圧力センサと、
前記校正基準圧力センサのダイアフラムまたは前記校正対象圧力センサのダイアフラムに所定の基準圧力の被測定流体が作用したときに得られる基準出力信号を記憶する初期状態記憶部と、
前記初期状態記憶部に記憶された前記基準出力信号に基づいて再現した前記基準圧力の被測定流体が前記校正対象圧力センサのダイアフラムに作用したときに得られる測定出力信号と前記第基準出力信号との差を所定の閾値とを比較し、前記校正対象圧力センサに対する校正の要否を判定する校正要否判定部と、
前記校正要否判定部により前記校正が必要であると判定された場合、前記校正基準圧力センサからの前記基準出力信号に基づいて前記校正対象圧力センサを校正する校正処理部と
を備えることを特徴とする校正システム。
A plurality of calibration target pressure sensors to be calibrated for outputting an electrical signal corresponding to the displacement of the diaphragm when the pressure of the fluid to be measured is received by the diaphragm;
One calibration reference pressure sensor that serves as a reference for calibration;
An initial state storage unit that stores a reference output signal obtained when a fluid to be measured having a predetermined reference pressure acts on the diaphragm of the calibration reference pressure sensor or the diaphragm of the calibration target pressure sensor;
A measurement output signal obtained when the fluid under measurement having the reference pressure reproduced based on the reference output signal stored in the initial state storage unit acts on a diaphragm of the pressure sensor to be calibrated, and the first reference output signal; A calibration necessity determining unit that compares the difference between the pressure sensor and a predetermined threshold value to determine whether the calibration target pressure sensor needs to be calibrated,
A calibration processing unit that calibrates the calibration target pressure sensor based on the reference output signal from the calibration reference pressure sensor when the calibration is determined to be necessary by the calibration necessity determination unit. Calibration system.
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