JP2016162370A - タッチパネルおよび透明導電性基板 - Google Patents

Abstract

【課題】電極部が、透過率の高い透明導電膜からなり、ＩＭ層（Index Matching Layer）を必要としない構造を備えることにより、優れた視認性を有するタッチパネルを提供する。【解決手段】本発明のタッチパネル１０は、透明基板１１と、前記透明基板の表示領域１６内に設けられた透明導電膜１２からなる複数の電極部１２Ｌとを含む。前記透明導電膜は、平坦な膜表面を有し、かつ、その膜面内に局在する低抵抗部１２Ｌと高抵抗部１２Ｈから構成されている。前記電極部は、該透明導電膜のうち前記低抵抗部からなり、該電極部どうしの間には前記高抵抗部が配されている。【選択図】図１

Description

本発明は、タッチパネルおよび透明導電性基板に係る。より詳細には、一面上に離間して配された電極部の存在に起因して生じる視認性に関わる問題を解消することが可能なタッチパネルおよび透明導電性基板に関する。

タッチパネルは、表示画面上の透明な面を操作者が指またはペンでタッチすることにより、接触した位置を検出してデータ入力できる入力装置の構成要素となるものであって、キー入力より直接的、かつ直感的な入力を可能とする。このため、近年、テレビやコンピュータの他に、携帯電話機、スマートフォンやタブレットに代表される携帯情報端末、カーナビゲーションシステムなど、様々な電子機器の操作部に多用されている。

前記タッチパネルは、入力装置として、液晶パネル等の平面型表示装置の表示画面上に貼り合わせて使用することができる。たとえば、図１５に示すように、タッチパネルは液晶パネル等の上に配置され、操作面１１１ａに触って操作される。
このようなタッチパネルの検出方式には、抵抗式、静電容量式、超音波式、光学式等多種あり、その構造は多様となる。
静電容量式タッチパネルは、表面型と投影型とに大別できる。表面型は２点以上の接触点を同時に検知することは困難である。投影型は２点以上の接触点を同時に検知できることから、マルチタッチ仕様が要求される分野において注目されている。

静電容量式タッチパネルの投影型における表示領域には、透明基板に、透明導電膜などの素材を用いた、Ｘ，Ｙ方向のマトリクス状をなす電極部が形成されている。このような電極部の構成例としては、たとえば田形電極と菱形電極が挙げられる。田形電極は、上下に位置する配線を直交させて田形状に電極を配置したものであり、相互容量方式に用いられる。これに対して、菱形電極は、菱形状の電極をＸ方向、Ｙ方向に接続し格子状に配置したものであり、自己容量方式に用いられる（特許文献１）。

図１４は、田形電極の構成例を示す模式図であり、（ａ）電極部が配される表示領域（有効タッチ領域とも呼ぶ）を備えたタッチパネルの一例を示す平面図、（ｂ）表示領域内の特定領域σにおける電極部の拡大平面図、（ｃ）特定領域σにおける電極部の拡大断面図である。
図１４に示したタッチパネル１１０の表示領域（有効タッチ領域とも呼ぶ）１１６においては、透明基板１１１に第一電極層（ＲＸ）１１２、絶縁層１１３、第二電極層（ＴＸ）１１４が順に積層されている。第一電極層（ＲＸ）１１２と第二電極層（ＴＸ）１１４は何れも、ＩＴＯなどの透明導電膜からなり、所定間隔で離間して平行に配置された複数本の電極部を構成している。

透明基板１１１としては、たとえばガラスやＰＥＴなどの耐熱透明プラスチック等の透明な基板が用いられる。第一電極層（ＲＸ）１１２と第二電極層（ＴＸ）１１４は、導電性と透過性を兼ね備えた材料、たとえばＩＴＯ（酸化インジウム：Indium Tin Oxide）等の透明導電材料により形成される。
また、表示領域１１６の周囲には、図１０に示すように、第一電極層（ＲＸ）１１２からなる複数のＸ電極部の各々と、第二電極層（ＴＸ）１１４からなる複数のＹ電極部の各々とからの配線を、縦横方向の周辺部に導いて端子部（不図示）に至る複数の配線１１７が配置されている。

田形電極においては、第一電極層（ＲＸ）１１２からなる下部電極の長手方向と、第二電極層（ＴＸ）１１４からなる上部電極の長手方向とが、直交するように配置されている。この構成においては、以下に示す２つの課題があった。
（ａ）直交する交差部Ｋ［図１４（ｂ）のハッチング領域］では、３層［第一電極層（ＲＸ）１１２と絶縁層１１３と第二電極層（ＴＸ）１１４］を重ねた厚みとなるのに対して、下部電極の離間部では、第一電極層（ＲＸ）１１２が欠損した分だけ厚みが目減りした状況となる［図１４（ｃ）］。ゆえに、上部電極は、その平坦性が損なわれ、導通性が不安定となる。
（ｂ）透明基板２１側から目視した場合、下部電極が有る領域（交差部Ｋ）と、下部電極が無い領域（離間部）との間で膜の積層構造が異なるため、電極パターンが見え易くなり、視認性が低下する（特許文献１における「骨見え現象」）。

従来、上記（ｂ）の解決策としては、透明基板２１と第一電極層（ＲＸ）１１２との間に、光学調整層としてインデックス・マッチング層（Index Matching Layer：ＩＭ層）を設ける手法が採用されている（特許文献２）。このＩＭ層は、エッチング処理後のＩＴＯ電極パターンが見え難くするように機能するものであるが、反面その存在は表示領域１１６の全体にわたって透過性の低下をもたらす原因となっていた。

特開２０１３−１４０２２９号公報 特開２０１４−６７２３６号公報

本発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、電極部が、透過率の高い透明導電膜からなり、この透明導電膜が平坦な膜表面を有することで導電膜としての機能が安定化し、かつ、ＩＭ層を必要としない構造を備えることにより、優れた視認性を有するタッチパネルを提供することを目的とする。

本発明の請求項１に記載のタッチパネルは、透明基板と、前記透明基板の表示領域内に設けられた透明導電膜からなる複数の電極部とを含むタッチパネルにおいて、前記透明導電膜は、平坦な膜表面を有し、かつ、その膜面内に局在する低抵抗部と高抵抗部から構成されており、前記電極部は、該透明導電膜のうち前記低抵抗部からなり、該電極部どうしの間には前記高抵抗部が配されていることを特徴とする。
本発明の請求項２に記載のタッチパネルは、請求項１において、前記表示領域内において、前記透明導電膜の構成を有する、第一透明導電膜、第二透明導電膜、及び第三透明導電膜を、前記透明基板側から順に重ねて備え、前記表示領域を平面視する方向から見て、前記第一透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と、前記第三透明導電膜の低抵抗部からなる他方の電極部とが交差部を有しており、前記二透明導電膜は、少なくとも前記交差部と重なる領域が、高抵抗部から構成されていることを特徴とする。
本発明の請求項３に記載のタッチパネルは、請求項２において、前記表示領域内とともに、前記表示領域を囲む外周領域においても、前記透明導電膜の構成を有する、第一透明導電膜、第二透明導電膜、及び第三透明導電膜を、前記透明基板側から順に重ねて備え、前記外周領域を断面視する方向から見て、前記第三透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が各々、前記外周領域のうち、異なる一辺を構成する範囲に配置されており、かつ、請求項２の前記表示領域内における構成と電気的に接続されていることを特徴とする。

本発明の請求項４に記載のタッチパネルは、請求項１において、前記表示領域内において、前記透明導電膜の構成を有する、第四透明導電膜、第五透明導電膜、及び第六透明導電膜を、前記透明基板側から順に重ねて備え、前記表示領域を平面視する方向から見て、前記第四透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が交差部を有しており、前記交差部には、前記他方の電極部を跨いで、前記一方の電極部が１つおきに電気的に接続されるように、前記第五透明導電膜の高抵抗部を挟んで、前記第五透明導電膜の低抵抗部と前記第六透明導電膜の低抵抗部からなる導通部を有することを特徴とする。

本発明の請求項５に記載のタッチパネルは、請求項１において、前記表示領域内において、前記透明導電膜の構成を有する、第七透明導電膜、第八透明導電膜、第九透明導電膜、及び第十透明導電膜を、前記透明基板側から順に重ねて備え、前記第十透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が、階層の異なる前記第七〜第九透明導電膜から選択される何れかの導電膜と、それぞれ電気的に接続されるように、配されていることを特徴とする。
本発明の請求項６に記載のタッチパネルは、請求項５において、前記表示領域を断面視する方向から見て、前記第十透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が、階層の異なる前記第七透明導電膜の低抵抗部と前記第八透明導電膜の低抵抗部に、それぞれ電気的に接続されており、前記表示領域を平面視する方向から見て、前記第七透明導電膜の低抵抗部が延設される方向と、前記第八透明導電膜の低抵抗部が延設される方向とが、並行をなすように構成されていることを特徴とする。
本発明の請求項７に記載のタッチパネルは、請求項５において、前記表示領域を断面視する方向から見て、前記第十透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が、階層の異なる前記第七透明導電膜の低抵抗部と前記第九透明導電膜の低抵抗部に、それぞれ電気的に接続されており、前記表示領域を平面視する方向から見て、前記第七透明導電膜の低抵抗部が延設される方向と、前記第九透明導電膜の低抵抗部が延設される方向とが、直交をなすように構成されていることを特徴とする。

本発明の請求項８に記載のタッチパネルは、請求項６又は７において、前記表示領域内とともに、前記表示領域を囲む外周領域においても、前記透明導電膜の構成を有する、第七透明導電膜、第八透明導電膜、第九透明導電膜、及び第十透明導電膜を、前記透明基板側から順に重ねて備え、前記外周領域を断面視する方向から見て、前記第十透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が各々、前記外周領域のうち、異なる一辺を構成する範囲に配置されており、かつ、請求項６又は７の前記表示領域内における構成と電気的に接続されていることを特徴とする。
本発明の請求項９に記載のタッチパネルは、請求項１乃至８のいずれか一項において、前記透明基板と前記透明導電膜との間、及び、前記透明導電膜上、あるいは何れか一方に、反射防止層が配されてなることを特徴とする。

本発明の請求項１０に記載の透明導電性基板は、透明基板と、前記透明基板に配された透明導電膜とを含む透明導電性基板において、前記透明導電膜は、平坦な膜表面を有し、かつ、その膜面内に局在する低抵抗部と高抵抗部から構成されており、前記低抵抗部どうしの間には前記高抵抗部が配されていることを特徴とする。
本発明の請求項１１に記載の透明導電性基板は、請求項１０において、前記透明基板と前記透明導電膜との間、及び、前記透明導電膜上、あるいは何れか一方に、反射防止層が配されてなることを特徴とする。

本発明のタッチパネルにおける複数の電極部をなす透明導電膜は、従来のように一部が除去され残部が電極部をなす構造ではなく、膜面内に局在する低抵抗部と高抵抗部から構成されている。そして、本発明のタッチパネルにおける電極部は、該透明導電膜のうち前記低抵抗部から構成され、該電極部どうしの間には前記高抵抗部が配されている。
つまり、本発明のタッチパネルにおける透明導電膜の表面は、膜が連続しているので、従来のような膜が除去された部位と膜が残された部位（電極部）との間に生じる段差に起因した問題、すなわち、「電極パターンが見え易く、視認性が低下するという問題」を解消することが可能となる。
ゆえに、本発明は、電極部が、透過率の高い透明導電膜からなり、ＩＭ層を必要としない構造を備えることにより、優れた視認性を有するタッチパネルの提供に貢献する。

本発明に係るタッチパネルの一実施形態を示す図であり、（ａ）は全体平面図、（ｂ）は表示領域の一部αを示す拡大平面図、（ｃ）は（ｂ）に対応する拡大断面図。 本発明に係るタッチパネルを備える表示装置の一例を示す模式断面図。 酸化膜および透明導電膜を形成する製造装置の一例を示す概略構成図。 透明導電膜の低抵抗部を高抵抗値へ置換させる方法を示す模式断面図。 図４の方法を用いて抵抗値が変化した結果を示すグラフ。 本発明に係るタッチパネルの他の実施形態を示す図であり、（ａ）は模式平面図、（ｂ）は表示領域の一部β１を示す拡大平面図、（ｃ）は（ｂ）に対応する拡大断面図。 本発明に係るタッチパネルの他の実施形態を示す図であり、（ａ）は模式平面図、（ｂ）は表示領域の周囲の一部β２を示す拡大平面図、（ｃ）は（ｂ）に対応する２箇所の拡大断面図。 本発明に係るタッチパネルの他の実施形態を示す図であり、（ａ）は模式平面図、（ｂ）は表示領域の一部γを示す拡大平面図、（ｃ）は（ｂ）に対応する拡大断面図。 本発明に係るタッチパネルの他の実施形態を示す図であり、（ａ）は模式平面図、（ｂ）は表示領域の一部δ１を示す拡大平面図、（ｃ）は（ｂ）に対応する拡大断面図。 本発明に係るタッチパネルの他の実施形態を示す図であり、（ａ）は模式平面図、（ｂ）は表示領域の一部δ２を示す拡大平面図、（ｃ）は（ｂ）に対応する拡大断面図。 本発明に係るタッチパネルの他の実施形態を示す図であり、（ａ）は模式平面図、（ｂ）は表示領域の一部δ３を示す拡大平面図、（ｃ）は（ｂ）に対応する拡大断面図。 本発明に係るタッチパネルの他の実施形態を示す図であり、（ａ）は模式平面図、（ｂ）は表示領域の周囲の一部εを示す拡大平面図、（ｃ）は（ｂ）に対応する拡大断面図。 本発明に係るタッチパネルの他の実施形態を示す図であり、反射防止層を設けた構成例を示す模式断面図。 従来のタッチパネルを示す図であり、（ａ）は模式平面図、（ｂ）は表示領域の一部σを示す拡大平面図、（ｃ）は（ｂ）に対応する拡大断面図。 従来のタッチパネルを備える表示装置の一例を示す模式断面図。

以下、本発明に係るタッチパネルの一実施形態を、図面に基づいて説明する。
＜第一実施形態＞
図１は、本実施形態におけるタッチパネルを示す図であり、（ａ）は全体平面図、（ｂ）は表示領域の一部αを示す拡大平面図、（ｃ）は（ｂ）に対応する拡大断面図である。図２は、タッチパネルを備える表示装置の一例を示す模式断面図である。

本実施形態におけるタッチパネル１０は、図１及び図２に示すように、液晶や有機ＥＬなどの表示パネル２上に配置され、操作面１１ａに触って操作される静電容量方式のタッチパネルである。
このようなタッチパネル１０は、図１に示すように、透明基板１１と、透明基板１１の操作面１１ａの裏面１１ｂ側にあって、表示領域１６内に設けられた透明導電膜１２からなる複数の電極部１２Ｌ（１２Ｌａ、１２Ｌｂ）とを含んでいる。

そして、この透明導電膜１２は、後述する手法により、その膜面内に局在する低抵抗部１２Ｌと高抵抗部１２Ｈから構成されており、前述のとおり電極部１２Ｌ（１２Ｌａ、１２Ｌｂ）は、透明導電膜１２のうち低抵抗部から構成される。そして、電極部１２Ｌ（１２Ｌａ、１２Ｌｂ）どうしの間には、前記高抵抗部１２Ｈが配されている。

また、表示領域１６の周囲１６ｏｓには、図１に示すように、透明導電膜１２からなる複数の電極部１２Ｌ（１２Ｌａ、１２Ｌｂ）からの配線を、縦横方向の周辺部に導いて端子部（不図示）に至る複数の配線１７が配置されている。

上記構成によれば、本発明のタッチパネル１０における透明導電膜１２は、その膜面内が局在した低抵抗部１２Ｌと高抵抗部１２Ｈから構成されているが、その膜表面は「膜が連続したプロファイル」を有している。これにより、従来のような「膜が残された部位（電極部）」と「膜が除去された部位（離間部）」との間に生じる段差に起因した問題が、本発明のタッチパネル１０を構成する透明導電膜１２では原理的に発生しない。ゆえに、本発明のタッチパネル１０においては、「電極パターンが見え易く、視認性が低下するという問題」が解消される。

従来は、電極部を得るためにエッチング処理等により離間部を形成する必要があり、透明導電膜にはエッチング容易性が求められていた。ゆえに、エッチング容易性を満たすことが優先であり、透過率の高い透明導電膜を選択することができず、視認性は犠牲にされていた。これに対して、本発明は、従来の電極部を得るためには必須であったエッチング容易性を必要としないので、透過率の高い透明導電膜を選択することが可能となった。

また、従来のタッチパネルは、前述したとおり、内在する段差の影響を低減するために、ＩＭ層を備えることを必須としていた。これに対して、本発明のタッチパネル１０を構成する透明導電膜１２には、従来のような段差は存在しないので、本発明のタッチパネル１０はＩＭ層を設ける必要がない。ゆえに、本発明のタッチパネル１０は、ＩＭ層を設けたことによる、透過率の低下など光学的な不利益を解消することもできる。
したがって、本発明は、電極部が、透過率の高い透明導電膜からなり、ＩＭ層を必要としない構造を備えることにより、優れた視認性を有するタッチパネルの提供に貢献する。

さらに、本発明のタッチパネル１０においては、上記構成からなる透明導電膜１２を採用したことにより、透明基板１１と透明導電膜１２との界面、および、透明導電膜の表面は何れも、連続した膜形状、すなわち平坦な膜表面が維持されている。
ゆえに、本発明によれば、透明導電膜１２の上に積層される絶縁膜および上部電極層の平坦性を確保することができ、導通性などの膜の機能の安定性を確保することができる。
さらに、透明基板１１と透明導電膜１２との間、または、透明導電膜１２の表面に、反射防止層（Anti Reflection Layer：ＡＲ層）を追加して配置する構成（図１３に示す構成）を採用することにより、極めて安定した反射防止能力も備えたタッチパネルを構築することができる。

＜作製方法＞
以下では、上述した本発明のタッチパネル１０を構成する透明導電膜１２の作製方法について説明する。透明導電膜１２には、膜面内に局在する低抵抗部１２Ｌと高抵抗部１２Ｈから構成されており、電極部１２Ｌ（１２Ｌａ、１２Ｌｂ）が、透明導電膜１２のうち低抵抗部から構成され、電極部１２Ｌ（１２Ｌａ、１２Ｌｂ）どうしの間には、前記高抵抗部１２Ｈが配されている。

以下の作製方法では、透明導電膜を成膜する前に、下地層として酸化膜を設ける層構成を前提として説明する。この酸化膜は、透明基板として、ＰＥＴ等の耐熱透明プラスチック基板を使用する場合に、基板からの放出ガスを抑制する構造として機能するが、基板がガラスの場合などには、必ずしも酸化膜を設ける必要はない。

（１）酸化膜と透明導電膜の作製
透明基板上に、酸化膜と透明導電膜を形成するための製造装置としては、たとえば図３に示すようなインターバック式のスパッタリング装置が用いられる。
図３の製造装置５０においては、基板５８（透明基板１１に相当）は、不図示の搬送手段により、仕込取出室（Ｌ／ＵＬ）５１、加熱室（Ｈ）５２、第一成膜室（Ｓ１）５３、第二成膜室（Ｓ２）５４の内部を移動可能とされている。
上記の各室５１，５２、５３、５４には個別に、その内部空間を減圧可能とするための排気手段５１Ｐ、５２Ｐ、５３Ｐ、５４Ｐが配されている。

まず、基板５８は製造装置から外部（大気雰囲気）から大気圧とされた仕込取出室５１へ導入される。その後、仕込取出室５１は排気手段５１Ｐを用いて減圧雰囲気とされる。次いで、基板５８は減圧雰囲気とされた仕込取出室５１から加熱室５２へ搬送され、加熱手段５９により所望の熱処理が施される。

次に、熱処理後の基板５８は、加熱室５２から第一成膜室５３へ搬送され、第一成膜室５３の内面５３ｂ側に配された、酸化シリコンからなるターゲット６２の前を通過させることにより、基板５８上に酸化膜（ＳｉＯ_２ ）を形成する。その際、第一成膜室５３の内面５３ｂと対向する内面５３ａ側に設けた温度調整手段６１により、基板５８は所望の温度とされる。ターゲット６２はバッキングプレート６３に載置されており、スパッタ時にはガス供給源６５から所望のプロセスガスが導入されるとともに、バッキングプレート６３には電源６４から所望の電力が供給される。

その後、酸化膜が形成された基板５８は、第一成膜室５３から第二成膜室５４へ搬送され、ＩＴＯからなるターゲット７２の前を通過させることにより、酸化膜上に透明導電膜（ＩＴＯ）を形成する。その際、温度調整手段７１により、基板５８は所望の温度とされる。ターゲット７２はバッキングプレート７３に載置されており、スパッタ時にはガス供給源７５から所望のプロセスガスが導入されるとともに、バッキングプレート７３には電源７４から所望の電力が供給される。

そして、酸化膜と透明導電膜が形成された基板５８は、第二成膜室５４から仕込取出室５１へ搬送され、製造装置から外部（大気雰囲気）へ取り出される。
次いで、酸化膜と透明導電膜が形成された基板５８に対して、後処理（大気雰囲気、１３５℃、６０ｍｉｎのアニール処理）を行う。このような後処理を施すことにより、比抵抗が約１５０Ω／□の透明導電膜が得られる。

上述した酸化膜および透明導電膜の代表的な作製条件を、表１に示す。
（２）透明導電膜に対する低抵抗部と高抵抗部の作製
上記工程（１）により得られた基板５８の透明導電膜に対して、反応性イオンエッチング装置を用い、酸素プラズマ処理を行う。
図４は、透明導電膜に対してプラズマ処理を行っている状態を示すイメージ図である。
図４に示すように、開口部を有するマスクを挟んで、透明導電膜に対して酸素プラズマ（「小円の中にＯ」と表示）を照射することにより、透明導電膜の中に低抵抗部と高抵抗部とを作り分ける。
すなわち、透明導電膜のうち、マスクが存在するためにプラズマから遮蔽された領域は、膜中に含まれるキャリア量に変動がなく、比抵抗の低い（約１５０Ω／□）状態が維持され、低抵抗部Ｌとなる。
これに対して、透明導電膜のうち、マスクの開口部を通してプラズマが照射された領域は、膜中に含まれるキャリア量が減少することにより、比抵抗の高い（約７４０Ω／□）状態に変化し、高抵抗部Ｈとなる。
上述したプラズマ処理の前後における透明導電膜の比抵抗を、図５のグラフに示す。

ゆえに、低抵抗部から高抵抗部へ変化させたい領域に合せた、開口部を有するマスクを介して、透明導電膜の表面に対してプラズマ処理を行うだけで、透明導電膜の中に低抵抗部と高抵抗部とが所望のパターンで局在した状態を形成できることが分かった。
上述したプラズマ処理により低抵抗部から高抵抗部を形成する作製条件を、表２に示す。

酸素プラズマ処理により、マスクの開口を通してプラズマが照射された領域は、酸素プラズマによるエッチングが発生するため、未処理部分に対して、膜厚の減少が僅かながら発生する。しかし、図１４（ｃ）に示されるような電極膜自体が欠損するような構成に比べ、低抵抗部と高抵抗部とが所望のパターンで局在した透明導電膜の表面は平坦であるということができ、上層に形成する上部電極の平坦性を確保することが可能となる。

透明導電膜のうち、低抵抗部から高抵抗部へ変化させる方法としては、上述したプラズマ処理に限定されるものではなく、たとえば、イオンドープ法を用いても同様の作用・効果を得ることができる。
また、透明導電膜の中に低抵抗部と高抵抗部とを作り分ける作製方法は、上記の手法に限定されるものではない。すなわち、最初に高抵抗部の透明導電膜をスパッタ法により形成した後、たとえば、レーザー照射やランプ加熱などのアニール処理により、高抵抗部のうち特定の領域を酸化還元作用によって低抵抗部に変化させる方法を採用してもよい。

＜第二実施形態＞
図６は、本実施形態におけるタッチパネルを示す図であり、（ａ）は全体平面図、（ｂ）は表示領域の一部β１を示す拡大平面図、（ｃ）は（ｂ）に示した線分Ｂ−Ｂに対応する拡大断面図である。
本実施形態は、電極構造が田形電極をなす場合であり、各層２２、２３、２４は全て透明導電膜から構成されている。すなわち、
本実施形態に係るタッチパネル２０は、表示領域２６内において、透明基板２１側から順に重ねて積層された、第一透明導電膜２２、第二透明導電膜２３、第三透明導電膜２４は何れも、上述した透明導電膜の構成（第一実施形態にて説明した、透明導電膜の中に低抵抗部と高抵抗部とが局在した構成）を備えている。

前記表示領域２６を平面視する方向から見て、第一透明導電膜２２の低抵抗部Ｌからなる一方の電極部ＲＸと、第三透明導電膜２４の低抵抗部Ｌからなる他方の電極部ＴＸとが交差部Ｋ［図６（ｂ）のハッチング領域］を有している。
そして、第二透明導電膜２３は、少なくとも前記交差部Ｋと重なる領域が、高抵抗部Ｈから構成されている。

また、表示領域２６の周囲には、図６に示すように、第一電極層（ＲＸ）２２からなる複数のＸ電極部の各々と、第二電極層（ＴＸ）２４からなる複数のＹ電極部の各々とからの配線を、縦横方向の周辺部に導いて端子部（不図示）に至る複数の配線２７が配置されている。

第一透明導電膜２２、第二透明導電膜２３、第三透明導電膜２４における低抵抗部Ｌと高抵抗部Ｈは、第一実施形態において説明した手法により作製する。
これにより、タッチパネル２０は、以下に述べる作用・効果が得られる。
（２ａ）透明基板２１上に配された第一透明導電膜２２は、巨視的に平坦な表面を有する連続した膜である。電極部をなす低抵抗部Ｌと、電極部どうしの間に位置する高抵抗部Ｈとは、電気的な特性が異なるだけであり、同じ膜厚を有する。ゆえに、両者の間には膜厚の差が無いので、電極パターンが見え難く、良好な視認性が確保される。

（２ｂ）本実施形態における電極構造（田形電極）は、巨視的に平坦な表面を有する連続した膜である、３つの膜（第一透明導電膜２２、第二透明導電膜２３、第三透明導電膜２４）が積層されたものとなる。ゆえに、透明基板上に３つの膜（第一透明導電膜２２、第二透明導電膜２３、第三透明導電膜２４）が積層された最表面、すなわち、第三透明導電膜２４の表面は、３つの膜が全て連続した膜であることから、自ずと巨視的に平坦な表面プロファイルとなる。そのため、交差部Ｋが存在するにも拘わらず、交差部Ｋとそれ以外との境界において段差が発生しない。よって、本実施形態に係るタッチパネルでは、「交差部に起因して段差が生じ、上部電極の平坦性が損なわれ、導通性が不安定となる問題」が、表示領域２６の全域にわたって解消される。

＜第三実施形態＞
図７は、本実施形態におけるタッチパネルを示す図であり、（ａ）は全体平面図、（ｂ）は表示領域と外周領域を含む一部β２を示す拡大平面図、（ｃ）は（ｂ）に示した線分Ｂ２−Ｂ２に対応する拡大断面図、（ｄ）は（ｂ）に示した線分Ｂ３−Ｂ３に対応する拡大断面図である。

本実施形態（第三実施形態）は、上述した第二実施形態（電極構造が田形電極をなす場合）の派生形であり、各層２２、２３、２４は全て透明導電膜から構成されている。すなわち、
本実施形態に係るタッチパネル２０は、表示領域２６内とともに、この表示領域２６を囲む外周領域２６ｏｓにおいても、前記透明導電膜の構成を有する。つまり、透明基板２１側から順に重ねて積層された、第一透明導電膜２２、第二透明導電膜２３、及び第三透明導電膜２４は何れも、上述した透明導電膜の構成（第一、第二実施形態にて説明した、透明導電膜の中に低抵抗部と高抵抗部とが局在した構成）を備えている。

また、前記外周領域２６ｏｓを断面視する方向から見て、前記第三透明導電膜２４の低抵抗部からなる一方の電極部２４（ＲＸ）と他方の電極部２４（ＴＸ）が各々、前記外周領域のうち、異なる一辺を構成する範囲［図７（ｂ）においては、一方の電極部２４（ＲＸ）は上辺側、他方の電極部２４（ＴＸ）は右辺側］に配置されており、かつ、第二実施形態（電極構造が田形電極をなす場合）の前記表示領域２６内における構成と電気的に接続されている。

ここで、第二実施形態（電極構造が田形電極をなす場合）の表示領域２６内における構成とは、「表示領域２６を平面視する方向から見て、第一透明導電膜２２の低抵抗部Ｌからなる一方の電極部ＲＸと、第三透明導電膜２４の低抵抗部Ｌからなる他方の電極部ＴＸとが交差部Ｋ［図６（ｃ）のハッチング領域］を有すること」を意味する。

第一透明導電膜２２、第二透明導電膜２３、第三透明導電膜２４における低抵抗部Ｌと高抵抗部Ｈは、第一及び第二実施形態において説明した手法により作製する。
これにより、タッチパネル２０は、上述した第二実施形態の作用・効果（２ａ）、（２ｂ）に加えて、以下の作用・効果が得られる。
（２ｃ）表示領域２６を囲む外周領域２６ｏｓにおいても、透明導電膜の構成は表示領域２６と同一の積層構造が維持される。ゆえに、第三実施形態のタッチパネル２０は、表示領域２６とこれを囲む外周領域２６ｏｓとが、完全に平坦な形状を有することが可能となる。よって、第三実施形態によれば、表示領域２６のみならず、これを囲む外周領域２６ｏｓにおいても、電極パターンが見え難く、良好な視認性が確保される。

＜第四実施形態＞
図８は、本実施形態におけるタッチパネルを示す図であり、（ａ）は全体平面図、（ｂ）は表示領域の一部γを示す拡大平面図、（ｃ）は（ｂ）に示した線分Ｃ−Ｃに対応する拡大断面図である。
本実施形態は、電極構造が菱形電極をなす場合であり、各層３２、３３、３４は全て透明導電膜から構成されている。すなわち、
本実施形態に係るタッチパネル３０は、表示領域３６内において、透明基板３１側から順に重ねて積層された、第四透明導電膜３２、第五透明導電膜３３、第六透明導電膜３４は何れも、上述した透明導電膜の構成（第一実施形態にて説明した、透明導電膜の中に低抵抗部と高抵抗部とが局在した構成）を備えている。

前記表示領域３６を平面視する方向から見て、第四透明導電膜３２の低抵抗部Ｌからなる一方の電極部ＴＸと他方の電極部ＲＸが「交差部」を有している。
図８（ｂ）において、一方の電極部ＴＸは、菱形領域３２Ｙｂと、菱形領域３２Ｙｂどうしを接続する連結領域３２Ｙａから構成されており、Ｙ軸方向に電気的に接続される。同様に、他方の電極部ＲＸは、菱形領域３２Ｘｂと、菱形領域３２Ｘｂどうしを接続する連結領域３２Ｘａから構成されており、Ｘ軸方向に電気的に接続される。
すなわち、本実施形態における「交差部」とは、連結領域３２Ｙａと連結領域３２Ｘａの交わる部位を意味する。

そして、この「交差部」には、他方の電極部ＲＸをなす菱形領域３２Ｘｂどうしを接続する連結領域３２Ｘａを跨いで、一方の電極部ＴＸが電気的に接続されるように、第五透明導電膜３３の高抵抗部Ｈを挟んで、第五透明導電膜３３の低抵抗部Ｌと第六透明導電膜３４の低抵抗部Ｌからなる導通部Ｊを有する。
つまり、この「導通部Ｊ」がジャンパー部として機能し、一方の電極部ＴＸを構成する菱形領域３２Ｙｂどうしを接続する「連結領域３２Ｙａ」の役割を果たす。

第四透明導電膜３２、第五透明導電膜３３、第六透明導電膜３４における低抵抗部Ｌと高抵抗部Ｈは、第一実施形態において説明した手法により作製する。
これにより、タッチパネル３０は、以下に述べる作用・効果が得られる。
（３ａ）透明基板３１上に順に積層された第四透明導電膜３２、第五透明導電膜３３、第六透明導電膜３４は何れも、巨視的に平坦な表面を有する連続した膜である。電極部（ＲＸ、ＴＸ）をなす低抵抗部Ｌと、電極部（ＲＸ、ＴＸ）どうしの間に位置する高抵抗部Ｈとは、電気的な特性が異なるだけであり、同じ膜厚を有する。ゆえに、両者の間には膜厚の差が無いので、交差部が存在するにもかかわらず、電極パターンが見え難く、良好な視認性が確保される。

（３ｂ）本実施形態における電極構造（菱形電極）は、巨視的に平坦な表面を有する連続した膜である、３つの膜（第四透明導電膜３２、第五透明導電膜３３、第六透明導電膜３４）が積層されたものとなる。ゆえに、透明基板上に３つの膜（第四透明導電膜３２、第五透明導電膜３３、第六透明導電膜３４）が積層されたものであり、最表面、すなわち、第六透明導電膜３４の表面は、３つの膜が全て連続した膜であることから、自ずと巨視的に平坦な表面プロファイルとなる。そのため、交差部において、ジャンパー部として機能する「導通部Ｊ」が存在するにも拘わらず、交差部とそれ以外との境界において段差が発生しない。よって、本実施形態に係るタッチパネルでは、「交差部に起因して段差が生じ、上部電極の平坦性が損なわれ、導通性が不安定となる問題」が、表示領域３６の全域にわたって解消される。

＜第五実施形態＞
図９は、本実施形態におけるタッチパネルを示す図であり、（ａ）は全体平面図、（ｂ）は表示領域の一部δを示す拡大平面図、（ｃ）は（ｂ）に示した線分Ｄ１−Ｄ１に対応する拡大断面図である。
本実施形態は、電極構造が３次元電極をなす場合であり、各層４２、４３、４４、４５は全て透明導電膜から構成されている。すなわち、
本実施形態に係るタッチパネル４０は、表示領域４６内において、透明基板４１側から順に重ねて積層された、第七透明導電膜４２、第八透明導電膜４３、第九透明導電膜４４、第十透明導電膜４５は何れも、上述した透明導電膜の構成（第一実施形態にて説明した、透明導電膜の中に低抵抗部と高抵抗部とが局在した構成）を備えている。

前記表示領域４６を断面視する方向から見て、第十透明導電膜４５の低抵抗部Ｌからなる一方の電極部ＴＸと他方の電極部ＲＸが、階層の異なる第七透明導電膜４２の低抵抗部Ｌと第八透明導電膜４３の低抵抗部Ｌに、それぞれ電気的に接続されるように、第八透明導電膜４３と第九透明導電膜４４の低抵抗部Ｌと高抵抗部Ｈが配されている。
換言すると、前記第十透明導電膜４５の低抵抗部からなる一方の電極部Ｌ（Ｘ）と他方の電極部Ｌ（Ｙ）が、階層の異なる前記第七〜第九透明導電膜から選択される何れかの導電膜と、それぞれ電気的に接続されるように、配されている。
これにより、一方の電極部ＴＸどうしがＹ軸方向に電気的に接続され、他方の電極部ＲＸどうしがＸ軸方向に電気的に接続される構成とした場合、Ｙ軸方向の電気的接続とＸ軸方向の電気的接続は、それぞれ異なる階層に設けられたものとなる。

第七透明導電膜４２、第八透明導電膜４３、第九透明導電膜４４、第十透明導電膜４５における低抵抗部Ｌと高抵抗部Ｈは、第一実施形態において説明した手法により作製する。
これにより、タッチパネル４０は、以下に述べる作用・効果が得られる。
（４ａ）透明基板４１上に順に積層された第七透明導電膜４２、第八透明導電膜４３、第九透明導電膜４４、第十透明導電膜４５は何れも、巨視的に平坦な表面を有する連続した膜である。第十透明導電膜４５おいて電極部（ＲＸ、ＴＸ）をなす低抵抗部Ｌと、電極部（ＲＸ、ＴＸ）どうしの間に位置する高抵抗部Ｈとは、電気的な特性が異なるだけであり、同じ膜厚を有する。ゆえに、両者の間には膜厚の差が無いので、電極パターンが見え難く、良好な視認性が確保される。

（４ｂ）本実施形態における電極構造（３次元電極）は、巨視的に平坦な表面を有する連続した膜である、４つの膜（第七透明導電膜４２、第八透明導電膜４３、第九透明導電膜４４、第十透明導電膜４５）が積層されたものとなる。ゆえに、透明基板上に４つの膜（第七透明導電膜４２、第八透明導電膜４３、第九透明導電膜４４、第十透明導電膜４５）が積層された最表面、すなわち、第十透明導電膜４５の表面は、４つの膜が全て連続した膜であることから、自ずと巨視的に平坦な表面プロファイルとなる。

そのため、第十透明導電膜４５の下層に位置する３つの膜（第七透明導電膜４２、第八透明導電膜４３、第九透明導電膜４４）に内在する低抵抗部Ｌを接続させることにより、第十透明導電膜４５の電極部（ＲＸ、ＴＸ）から延びる配線部が、たとえ交差するようなレイアウトを採用したとしても、配線部とそれ以外との境界において段差が発生しない。よって、本実施形態に係るタッチパネルでは、「交差部に起因して段差が生じ、上部電極の平坦性が損なわれ、導通性が不安定となる問題」が、表示領域４６の全域にわたって解消される。

（４ｃ）表示領域において各電極部（第十透明導電膜４５）から延びる配線は全て、第十透明導電膜４５の下層に位置する３つの膜（第七透明導電膜４２、第八透明導電膜４３、第九透明導電膜４４）に内在する低抵抗部Ｌを接続させることにより構成されている。ゆえに、第十透明導電膜４５からなる表示領域内の各電極部の形状は、極めて高い自由度をもつことが可能となる。図９（ｂ）には、各電極部が円形をなす一例を示したが、円形に限定されるものではなく、三角形、四角形、矩形、楕円形、あるいは不定形でも良いし、これらの組み合わせとしても構わない。またその大きさ（面積）も調整可能である。これにより、たとえば、表示領域内において、中央部は高密度に検出可能な領域として、周縁部は低密度となるように各電極部を配置することにより、面内感度が局所的に制御されたタッチパネルの提供も可能となる。

＜第六実施形態＞
図１０は、本実施形態におけるタッチパネルを示す図であり、（ａ）は全体平面図、（ｂ）は表示領域の一部δを示す拡大平面図、（ｃ）は（ｂ）に示した線分Ｄ２−Ｄ２に対応する拡大断面図である。

本実施形態（第六実施形態）は、第五実施形態の派生形の一例である。具体的には、図１０（ｃ）に示すとおり、表示領域４６を断面視する方向から見て、第十透明導電膜４５の低抵抗部からなる一方の電極部Ｌ（Ｘ）と他方の電極部Ｌ（Ｙ）が、階層の異なる第七透明導電膜４２の低抵抗部と第八透明導電膜４３の低抵抗部に、それぞれ電気的に接続されている。これに加えて、表示領域４６を平面視する方向から見て、第七透明導電膜４２の低抵抗部が延設される方向（図１０ではＸ方向）と、第八透明導電膜４３の低抵抗部が延設される方向（図１０ではＸ方向）とが、並行をなすように構成されている。
すなわち、本実施形態は、図１０（ｂ）に示すとおり、一方の電極部Ｌ（Ｘ）と他方の電極部Ｌ（Ｙ）が、碁盤目状に配列された構成例である。

本実施形態の構成によれば、タッチパネル４０における表示領域４６を囲む外周領域４６ｏｓのうち、特定の一辺（たとえば、図１０（ａ）において上辺）、あるいは、対向する側に位置する二辺（たとえば、図１０（ａ）において上辺と下辺）に、第十透明導電膜４５の低抵抗部からなる一方の電極部Ｌ（Ｘ）と他方の電極部Ｌ（Ｙ）が、それぞれ電気的に接続されるように、配線を構築することができる。

＜第七実施形態＞
図１１は、本実施形態におけるタッチパネルを示す図であり、（ａ）は全体平面図、（ｂ）は表示領域の一部δを示す拡大平面図、（ｃ）は（ｂ）に示した線分Ｄ３−Ｄ３に対応する拡大断面図である。

本実施形態（第七実施形態）は、第五実施形態の派生形の一例である。具体的には、図１１（ｃ）に示すとおり、表示領域４６を断面視する方向から見て、第十透明導電膜４５の低抵抗部からなる一方の電極部Ｌ（Ｘ）と他方の電極部Ｌ（Ｙ）が、階層の異なる第七透明導電膜４２の低抵抗部と第九透明導電膜４４の低抵抗部に、それぞれ電気的に接続されている。これに加えて、表示領域４６を平面視する方向から見て、第七透明導電膜４２の低抵抗部が延設される方向（図１１ではＸ方向）と、第九透明導電膜４４の低抵抗部が延設される方向（図１１ではＹ方向）とが、直交をなすように構成されている。
すなわち、本実施形態は、図１１（ｂ）に示すとおり、一方の電極部Ｌ（Ｘ）と他方の電極部Ｌ（Ｙ）が、千鳥状に配列された構成例である。

本実施形態の構成によれば、タッチパネル４０における表示領域４６を囲む外周領域４６ｏｓのうち、特定の近接する二辺（たとえば、図１０（ａ）において上辺と右辺）に、第十透明導電膜４５の低抵抗部からなる一方の電極部Ｌ（Ｘ）と他方の電極部Ｌ（Ｙ）が、それぞれ電気的に接続されるように、配線を構築することができる。

＜第八実施形態＞
図１２は、本実施形態におけるタッチパネルを示す図であり、（ａ）は全体平面図、（ｂ）は表示領域と外周領域を含む一部εを示す拡大平面図、（ｃ）は（ｂ）に示した線分Ｄ４−Ｄ４に対応する拡大断面図、（ｄ）は（ｂ）に示した線分Ｄ５−Ｄ５に対応する拡大断面図である。

本実施形態（第八実施形態）は、上述した第五実施形態の派生形であり、各層４２、４３、４４、４５は全て透明導電膜から構成されている。すなわち、
本実施形態に係るタッチパネル４０は、表示領域４６内とともに、この表示領域４６を囲む外周領域４６ｏｓにおいても、前記透明導電膜の構成を有する。つまり、透明基板４１側から順に重ねて積層された、第七透明導電膜４２、第八透明導電膜４３、第九透明導電膜４４、第十透明導電膜４５は何れも、上述した透明導電膜の構成（第五〜第七実施形態にて説明した、透明導電膜の中に低抵抗部と高抵抗部とが局在した構成）を備えている。

また、外周領域４６ｏｓを断面視する方向から見て、第十透明導電膜４５の低抵抗部からなる一方の電極部Ｌ（Ｘ）と他方の電極部Ｌ（Ｙ）が各々、外周領域４６ｏｓのうち、異なる一辺を構成する範囲に配置されており、かつ、上述した第六実施形態または第七実施形態の表示領域４６内における構成と電気的に接続されている。

ここで、上述した第六実施形態または第七実施形態の表示領域４６内における構成とは、「表示領域４６を断面視する方向から見て、第七透明導電膜４２、第八透明導電膜４３、第九透明導電膜４４、第十透明導電膜４５の中の低抵抗部Ｌ（Ｘ）、Ｌ（Ｙ）が、図１２（ｃ）、（ｄ）に示すように、電気的に接続された構成を意味する。

第七透明導電膜４２、第八透明導電膜４３、第九透明導電膜４４、第十透明導電膜４５の中の低抵抗部Ｌ（Ｘ）、Ｌ（Ｙ）と高抵抗部Ｈは、第一及び第二実施形態において説明した手法により作製する。
これにより、タッチパネル４０は、上述した第五実施形態の作用・効果（４ａ）〜（４ｃ）に加えて、以下の作用・効果が得られる。
（４ｄ）表示領域４６を囲む外周領域４６ｏｓにおいても、透明導電膜の構成は表示領域４６と同一の積層構造が維持される。ゆえに、第八実施形態のタッチパネル４０は、表示領域４６とこれを囲む外周領域４６ｏｓとが、完全に平坦な形状を有することが可能となる。よって、第八実施形態によれば、表示領域４６のみならず、これを囲む外周領域４６ｏｓにおいても、電極パターンが見え難く、良好な視認性が確保される。

＜第九実施形態＞
図１３は、本実施形態におけるタッチパネルを示す図であり、反射防止層（Anti Reflection Layer：ＡＲ層）を設けた構成例である。図１３（ａ）は反射防止層が透明基板と前記透明導電膜との間に配置された場合であり、図１３（ｂ）は反射防止層が透明導電膜上に配置された場合を示している。すなわち、図１３は、本発明に係るタッチパネルを備える表示装置（図２）において、反射防止層ＡＲＬを追加した２種類の構成例を表すものである。さらに、反射防止層が、透明基板と透明導電膜との間と透明導電膜の上に、透明導電膜を挟むように配置される構成、すなわち、図１３（ａ）と図１３（ｂ）の構成を重ね合わせた配置も可能である。

第一乃至第八実施形態に説明したように、本発明における電極部として機能する透明導電膜は何れも、巨視的に平坦な表面を有する連続した膜である。ゆえに、たとえ２層以上を重ねた積層構造とした場合でも、界面や最表面は連続した膜のプロファイルが維持されることになる。よって、図１３（ａ）や図１３（ｂ）に示すように、反射防止層が配置される積層位置に依存することなく、どちらの構成例においても、反射防止層は自ずと巨視的に平坦な表面を有する連続した膜となる。
したがって、反射防止層を付加した構成を採用することにより、さらに優れた視認性を有するタッチパネルを提供することが可能となる。

＜第十実施形態＞
第一乃至第九実施形態においては、図１に示した基本構造（透明基板／透明導電膜、透明導電膜は、その膜面内に局在する低抵抗部と高抵抗部から構成されており、前記低抵抗部どうしの間には前記高抵抗部が配置される）を、タッチパネルに適用する事例について詳細に説明した。

しかしながら、図１の基本構造を有する透明導電性基板、すなわち、「透明基板と、前記透明基板に配された透明導電膜とを含み、前記透明導電膜は、膜表面が平坦であり、かつ、膜面内に局在する低抵抗部と高抵抗部から構成されており、前記低抵抗部どうしの間には前記高抵抗部が配されている透明導電性基板」は、タッチパネル以外の用途にも十分に使用することができる。たとえば、各種デバイスを載置する配線基板、多層配線構造を有する配線基板、各種デバイス間に配置されるインターポーザー、熱電回路を設けた窓ガラスやレンズ、ミラーなど、多種多様な用途において活用することができる。

何れの用途先においても、透明導電膜が、「巨視的に平坦な表面を有する連続した膜であり、その膜面内に局在する低抵抗部と高抵抗部から構成され、前記低抵抗部どうしの間には前記高抵抗部が配置される」という基本構成は、極めて有効に機能する。すなわち、透明導電膜はその最表面が平坦性が確保されているので、配線基板やインターポーザー用途においては、デバイスを載置する場合の安定性に優れるとともに、デバイスのピン配置に応じて自由に導電部を設定することが可能となる。窓ガラスやレンズ、ミラー用途においては、それぞれの光学設計に影響を及ぼすことなく、自由に導電部を設定することが可能となる。

このような透明導電性基板においても、図１３に示したように、反射防止機能を備えることは有効である。すなわち、「透明基板と透明導電膜との間、及び、透明導電膜上、あるいは何れか一方に反射防止膜を配置」することにより、光学的にさらに優れた特性を有する透明導電性基板が得られる。

本発明は、タッチパネルおよび透明導電性基板に広く適用可能である。このようなタッチパネルおよび透明導電性基板は、たとえば、優れた視認性が求められる高品位な表示画面などに好適に用いられる。

α 表示領域の一部、１０ タッチパネル、１１ 透明基板、１１ａ 操作面、１１ｂ 裏面、１２ 透明導電膜、１２Ｌ（１２Ｌａ、１２Ｌｂ） 低抵抗部（電極部）、１２Ｈ 高抵抗部、１６ 表示領域、１６ｏｓ 表示領域の周囲、１７ 配線。

Claims (11)

1. 透明基板と、前記透明基板の表示領域内に設けられた透明導電膜からなる複数の電極部とを含むタッチパネルにおいて、
   前記透明導電膜は、平坦な膜表面を有し、かつ、その膜面内に局在する低抵抗部と高抵抗部から構成されており、
   前記電極部は、該透明導電膜のうち前記低抵抗部からなり、該電極部どうしの間には前記高抵抗部が配されていることを特徴とするタッチパネル。
2. 前記表示領域内において、前記透明導電膜の構成を有する、第一透明導電膜、第二透明導電膜、及び第三透明導電膜を、前記透明基板側から順に重ねて備え、
   前記表示領域を平面視する方向から見て、前記第一透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と、前記第三透明導電膜の低抵抗部からなる他方の電極部とが交差部を有しており、
   前記二透明導電膜は、少なくとも前記交差部と重なる領域が、高抵抗部から構成されていることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
3. 前記表示領域内とともに、前記表示領域を囲む外周領域においても、前記透明導電膜の構成を有する、第一透明導電膜、第二透明導電膜、及び第三透明導電膜を、前記透明基板側から順に重ねて備え、
   前記外周領域を断面視する方向から見て、前記第三透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が各々、前記外周領域のうち、異なる一辺を構成する範囲に配置されており、かつ、請求項２の前記表示領域内における構成と電気的に接続されていることを特徴とする請求項２に記載のタッチパネル。
4. 前記表示領域内において、前記透明導電膜の構成を有する、第四透明導電膜、第五透明導電膜、及び第六透明導電膜を、前記透明基板側から順に重ねて備え、
   前記表示領域を平面視する方向から見て、前記第四透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が交差部を有しており、
   前記交差部には、前記他方の電極部を跨いで、前記一方の電極部が１つおきに電気的に接続されるように、前記第五透明導電膜の高抵抗部を挟んで、前記第五透明導電膜の低抵抗部と前記第六透明導電膜の低抵抗部からなる導通部を有することを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
5. 前記表示領域内において、前記透明導電膜の構成を有する、第七透明導電膜、第八透明導電膜、第九透明導電膜、及び第十透明導電膜を、前記透明基板側から順に重ねて備え、
   前記第十透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が、階層の異なる前記第七〜第九透明導電膜から選択される何れかの導電膜と、それぞれ電気的に接続されるように、配されていることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
6. 前記表示領域を断面視する方向から見て、前記第十透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が、階層の異なる前記第七透明導電膜の低抵抗部と前記第八透明導電膜の低抵抗部に、それぞれ電気的に接続されており、
   前記表示領域を平面視する方向から見て、前記第七透明導電膜の低抵抗部が延設される方向と、前記第八透明導電膜の低抵抗部が延設される方向とが、並行をなすように構成されていることを特徴とする請求項５に記載のタッチパネル。
7. 前記表示領域を断面視する方向から見て、前記第十透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が、階層の異なる前記第七透明導電膜の低抵抗部と前記第九透明導電膜の低抵抗部に、それぞれ電気的に接続されており、
   前記表示領域を平面視する方向から見て、前記第七透明導電膜の低抵抗部が延設される方向と、前記第九透明導電膜の低抵抗部が延設される方向とが、直交をなすように構成されていることを特徴とする請求項５に記載のタッチパネル。
8. 前記表示領域内とともに、前記表示領域を囲む外周領域においても、前記透明導電膜の構成を有する、第七透明導電膜、第八透明導電膜、第九透明導電膜、及び第十透明導電膜を、前記透明基板側から順に重ねて備え、
   前記外周領域を断面視する方向から見て、前記第十透明導電膜の低抵抗部からなる一方の電極部と他方の電極部が各々、前記外周領域のうち、異なる一辺を構成する範囲に配置されており、かつ、請求項６又は７の前記表示領域内における構成と電気的に接続されていることを特徴とする請求項６又は７に記載のタッチパネル。
9. 前記透明基板と前記透明導電膜との間、及び、前記透明導電膜上、あるいは何れか一方に、反射防止層が配されてなることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載のタッチパネル。
10. 透明基板と、前記透明基板に配された透明導電膜とを含む透明導電性基板において、
    前記透明導電膜は、平坦な膜表面を有し、かつ、その膜面内に局在する低抵抗部と高抵抗部から構成されており、前記低抵抗部どうしの間には前記高抵抗部が配されていることを特徴とする透明導電性基板。
11. 前記透明基板と前記透明導電膜との間、及び、前記透明導電膜上、あるいは何れか一方に、反射防止層が配されてなることを特徴とする請求項１０に記載の透明導電性基板。

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