JP2016160282A - Curable resin composition and method for producing the same, and sealing material for optical semiconductor, die bond material for optical semiconductor, and optical semiconductor package - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable resin composition which has excellent dispersibility of inorganic particles, and has resistance against yellowing by heat, light resistance, transparency and a high refractive index and a method for producing the same; a sealing material for an optical semiconductor; a die bond material for an optical semiconductor; and an optical semiconductor package.SOLUTION: A curable resin composition contains 100 pts.mass of organopolysiloxane (I) which has an organopolysiloxane constitutional unit F1 having an unsaturated bond-containing group and an organopolysiloxane constitutional unit M1 having an Si-OR-containing group, as a unit constituting cyclic organopolysiloxane; and 10-200 pts.mass of inorganic particles. A refractive index of the inorganic particles is 1.8 or more.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、硬化性樹脂組成物及びその製造方法、並びに、光半導体用封止材、光半導体用ダイボンド材、及び光半導体パッケージに関する。   The present invention relates to a curable resin composition and a method for producing the same, and an optical semiconductor sealing material, an optical semiconductor die bond material, and an optical semiconductor package.

従来から、酸無水物系硬化剤を用いたエポキシ樹脂組成物は、透明な硬化物を形成し、発光ダイオード及びフォトダイオード等の光半導体素子の封止材料として好適であることが知られている。   Conventionally, it is known that an epoxy resin composition using an acid anhydride curing agent forms a transparent cured product and is suitable as a sealing material for optical semiconductor elements such as light emitting diodes and photodiodes. .

例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、及び(3’,4’−エポキシシクロヘキシル)メチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等の有機樹脂骨格のエポキシ樹脂を主成分とするエポキシ樹脂組成物が、光半導体素子の分野において用いられている。   For example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, and epoxy resin mainly composed of organic resin skeleton epoxy resin such as (3 ′, 4′-epoxycyclohexyl) methyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate Compositions are used in the field of optical semiconductor devices.

しかし、近年の光半導体の高性能化が進むに従い、光半導体素子の封止材料に対しては、より優れた耐熱性、耐光性等が要求されており、前記従来公知のエポキシ樹脂組成物では、十分な特性が得られなくなってきている。   However, as the performance of optical semiconductors in recent years progresses, more excellent heat resistance, light resistance, etc. are required for sealing materials for optical semiconductor elements. Sufficient characteristics cannot be obtained.

上述した問題に鑑み、従来から各種光半導体用途の樹脂組成物に関する提案がなされている。   In view of the above-mentioned problems, various proposals have been made regarding resin compositions for various optical semiconductor applications.

例えば、特定のシリコーン組成物をヒドロシリル化反応により硬化させる光半導体用途の熱硬化性樹脂組成物が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。   For example, a thermosetting resin composition for use in an optical semiconductor in which a specific silicone composition is cured by a hydrosilylation reaction has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

また、硬度を改善した特定のシリコーン組成物を光半導体用途へと適用する技術が提案されている(例えば、特許文献2参照。)。   Moreover, the technique which applies the specific silicone composition which improved hardness to an optical semiconductor use is proposed (for example, refer patent document 2).

さらに、メタアクリロキシ基含有シリコーン組成物を、光半導体用途へと適用する技術が提案されている(例えば、特許文献3参照。)。   Furthermore, a technique for applying a methacryloxy group-containing silicone composition to optical semiconductor applications has been proposed (see, for example, Patent Document 3).

また、特定の構造を有するエポキシ基含有シリコーン組成物を用いることで、硬化物の機械特性を制御する技術が提案されている(例えば、特許文献4参照。)。 Moreover, the technique which controls the mechanical characteristic of hardened | cured material by using the epoxy-group-containing silicone composition which has a specific structure is proposed (for example, refer patent document 4).

一方で、特定構造を有するオルガノポリシロキサンの組成物が開示されている(例えば、特許文献5参照。)。   On the other hand, a composition of an organopolysiloxane having a specific structure is disclosed (for example, see Patent Document 5).

さらに最近では、光半導体から発生する光を効率よく利用するため、樹脂の高屈折率化が求められるようになった。   More recently, in order to efficiently use the light generated from the optical semiconductor, it has been required to increase the refractive index of the resin.

特開2010−1358号公報JP 2010-1358 A 特開2008−274185号公報JP 2008-274185 A 特開2008−131009号公報JP 2008-131209 A 特許第4322949号公報Japanese Patent No. 4322949 特開2011−213868号公報JP 2011-213868 A

しかしながら、上述した従来提案されている技術は、下記のような問題点を有している。   However, the above-described conventionally proposed technology has the following problems.

特許文献1に提案されている熱硬化性樹脂組成物は、耐熱黄変性や耐光性は優れているが、屈折率が低く、光半導体用封止材用途へ好適に用いることができない。   The thermosetting resin composition proposed in Patent Document 1 is excellent in heat-resistant yellowing and light resistance, but has a low refractive index and cannot be suitably used for an optical semiconductor sealing material.

特許文献2に提案されているシリコーン組成物は、屈折率を高くするためにフェニル基を用いているが、そのフェニル基が耐熱黄変性や耐光性を低下させる原因となってしまうため、光半導体用封止材用途へ好適に用いることができない。   The silicone composition proposed in Patent Document 2 uses a phenyl group in order to increase the refractive index. However, the phenyl group causes heat-resistant yellowing and light resistance to deteriorate, so that an optical semiconductor is used. It cannot be used suitably for a sealing material application.

特許文献3に提案されているシリコーン組成物は、特許文献1に提案されている熱硬化性樹脂組成物と同様に、耐熱黄変性や耐光性は優れているが、屈折率が低いため光半導体用封止材用途へ好適に用いることができない。   Similar to the thermosetting resin composition proposed in Patent Document 1, the silicone composition proposed in Patent Document 3 is excellent in heat yellowing and light resistance, but has a low refractive index, so that it is an optical semiconductor. It cannot be used suitably for a sealing material application.

特許文献4に提案されている材料は、密着性は優れるものの、いずれも黄変を起こしやすいエポキシ樹脂組成物であるため、耐熱黄変性、耐光性の点で満足できるレベルには至っていない。   Although the materials proposed in Patent Document 4 are excellent in adhesion, they are all epoxy resin compositions that easily cause yellowing, and thus have not reached a satisfactory level in terms of heat yellowing and light resistance.

特許文献5で開示される組成物の場合、耐熱黄変性や耐光性、硬化物の硬度は優れるものの、屈折率が低く、光半導体封止剤用途への適応が難しい。また、屈折率を高くするために、有機樹脂に無機粒子を分散することも検討されている。しかし、これら開示されている一般的なシリコーン樹脂に、無機粒子を均一に分散させることは難しく、透明性と高屈折率を両立することはできない。   In the case of the composition disclosed in Patent Document 5, although heat-resistant yellowing, light resistance, and hardness of a cured product are excellent, the refractive index is low and it is difficult to adapt to use as an optical semiconductor encapsulant. In addition, in order to increase the refractive index, it has been studied to disperse inorganic particles in an organic resin. However, it is difficult to uniformly disperse inorganic particles in these disclosed general silicone resins, and it is impossible to achieve both transparency and high refractive index.

上述したように、従来提案されている樹脂組成物は、耐熱黄変性、耐光性、透明性、及び高屈折率の、全特性について、光半導体用途等の分野において要求されるレベルをバランス良く十分に満足する硬化物が得られていない。   As described above, the conventionally proposed resin composition has a well-balanced level required in the field of optical semiconductor applications, etc. for all properties of heat-resistant yellowing, light resistance, transparency, and high refractive index. A cured product satisfying the above has not been obtained.

本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、無機粒子の分散性に優れ、耐熱黄変性、耐光性、透明性、及び高屈折率の、全特性について、特に光半導体用途において要求されるレベルをバランス良く十分に満足し、かつ、硬化物を形成することが可能な硬化性樹脂組成物及びその製造方法を提供し、さらには上記特性が必要とされる、光半導体用封止材、光半導体用ダイボンド材、及び光半導体パッケージを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and is excellent in dispersibility of inorganic particles, and has all the characteristics of heat yellowing resistance, light resistance, transparency, and high refractive index, particularly required for optical semiconductor applications. A curable resin composition capable of forming a cured product and a method for producing the same, and further, the above-mentioned characteristics are required. An object of the present invention is to provide an optical semiconductor die-bonding material and an optical semiconductor package.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の構造のオルガノポリシロキサン及び所定の無機粒子を含有する硬化性樹脂組成物により、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the above object can be achieved by a curable resin composition containing an organopolysiloxane having a specific structure and predetermined inorganic particles. It came to complete.

すなわち本発明は、以下の通りである。
〔1〕
下記一般式(1)で表される構成単位F1と、下記一般式(2)で表される構成単位M1と、を、環状オルガノポリシロキサンを構成する単位として有する、オルガノポリシロキサン(I)100質量部と、
無機粒子10〜200質量部と、を含有し、
前記無機粒子の屈折率が、1.8以上である、
硬化性樹脂組成物。

Figure 2016160282
(上記一般式(1)中、R1は、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、R2は、炭素数2〜10の不飽和結合含有基を示し、Xは、炭素数2〜10の二価の炭化水素基を示し、aは、前記構成単位F1の含有割合を表し、1以上の整数を示す。)
Figure 2016160282
(上記一般式(2)中、R1及びR3は、各々独立して、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、Yは、炭素数2〜10の二価の炭化水素基を示し、nは、1〜3の整数を示し、bは、前記構成単位M1の含有割合を表し、1以上の整数を示す。)
〔2〕
前記bに対する前記aの比率(a/b)が、0.010以上5.0以下である、前項〔1〕に記載の硬化性樹脂組成物。
〔3〕
下記一般式(3)で表される構成単位M2を、環状オルガノポリシロキサンを構成する単位としてさらに有する、前項〔1〕又は〔2〕に記載の硬化性樹脂組成物。
Figure 2016160282
(上記一般式(3)中、R1及びR4は、各々独立して、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、Zは、炭素数2〜10の二価の炭化水素基を示し、cは、前記構成単位M2の含有割合を表し、1以上の整数を示す。)
〔4〕
前記cに対する前記aの比率(a/c)が、0.0010以上3.0以下である、前項〔3〕に記載の硬化性樹脂組成物。
〔5〕
前記無機粒子の平均粒径が、0.1〜100nmである、前項〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
〔6〕
前記無機粒子が、ジルコニア、チタン、亜鉛、鉄、銅、クロム、カドミウム、炭素、タングステン、アンチモン、ニッケル、及び白金からなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を含む、前項〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
〔7〕
前記R2が、アクリロキシ基又はメタアクリロキシ基である、前項〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
〔8〕
下記一般式(4)で表される構成単位Sを、環状オルガノポリシロキサンを構成する単位としてさらに有する、前項〔1〕〜〔7〕のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
Figure 2016160282
(上記一般式(4)中、R1は、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、dは、前記構成単位Sの含有割合を表し、1以上の整数を示す。)
〔9〕
前記aに対する前記dの比率(d/a)が、0.10以下である、前項〔8〕に記載の硬化性樹脂組成物。
〔10〕
前記R2を含有する構成単位として、前記一般式(1)で表される構成単位F1のみを含有する、前項〔1〕〜〔9〕のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
〔11〕
前記R1が、炭素数1〜10のアルキル基である、前項〔1〕〜〔10〕のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
〔12〕
前記R1が、メチル基である、前項〔1〕〜〔11〕のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
〔13〕
前記R2で表される不飽和結合含有基の官能基当量が、20〜10000g/molである、前項〔1〕〜〔12〕のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
〔14〕
前記オルガノポリシロキサン(I)の重量平均分子量が、500〜1000000であり、
前記オルガノポリシロキサン(I)の25℃における粘度が、1.0〜1000000mPa・sである、
前項〔1〕〜〔13〕のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
〔15〕
下記一般式(5)で表される構成単位F1’と、下記一般式(6)で表される構成単位T’と、を環状オルガノポリシロキサンを構成する単位として有するオルガノポリシロキサン(II)0.10〜100質量部をさらに含有する、
前項〔1〕〜〔14〕のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
Figure 2016160282
(上記一般式(5)中、R1'は、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、R2'は、炭素数2〜10の不飽和結合含有基を示し、X’は、炭素数2〜10の二価の炭化水素基を示し、eは、前記構成単位F1’の含有割合を表し、1以上の整数を示す。)
Figure 2016160282
(上記一般式(6)中、R1'は、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、fは、前記構成単位T’の含有割合を表し、0以上の整数を示し、e及びfの合計は、3〜20の整数を示す。)
〔16〕
前記R1'が、炭素数1〜10のアルキル基である、前項〔15〕に記載の硬化性樹脂組成物。
〔17〕
前記R1'が、メチル基である、前項〔15〕又は〔16〕に記載の硬化性樹脂組成物。
〔18〕
前記R2'が、アクリロキシ基又はメタアクリロキシ基である、前項〔15〕〜〔17〕のいずれか一項に記載のオルガノポリシロキサンを含有する硬化性樹脂組成物。
〔19〕
前記R2及び前記R2'で表される不飽和結合含有基の総官能基当量が、20〜10000g/molである、前項〔15〕〜〔18〕のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
〔20〕
前記オルガノポリシロキサン(II)の重量平均分子量が、500〜1000000であり、
前記オルガノポリシロキサン(II)の25℃における粘度が、1.0〜1000000mPa・sである、
前項〔15〕〜〔19〕のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
〔21〕
熱ラジカル発生剤をさらに含有し、
該熱ラジカル発生剤の含有量が、前記オルガノポリシロキサン(I)及び前記オルガノポリシロキサン(II)の合計100質量部に対して、0.50〜10質量部である、前項〔1〕〜〔20〕のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
〔22〕
ヒドロシリル化反応触媒をさらに含有し、
該ヒドロシリル化反応触媒の含有量が、前記オルガノポリシロキサン(I)及び前記オルガノポリシロキサン(II)の合計100質量部に対して、0.0010質量部以下である、前項〔1〕〜〔21〕のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
〔23〕
下記一般式(7)で表される構成単位を、環状オルガノポリシロキサンを構成する単位として有するハイドロジェンポリシロキサン(a)と、
Figure 2016160282
(上記一般式(7)中、R1''は、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、jは、前記構成単位の含有割合を表し、1以上の整数を示す。)
ケイ素原子に直接結合したビニル基を1個有し、加水分解性基を1個以上含有するオルガノシロキサン(b1)と、
不飽和結合含有基を2個以上有する有機化合物(c)と、を、
ヒドロシリル化反応触媒(d)の存在下で付加反応させて、オルガノポリシロキサンを得る付加反応工程と、
前記オルガノポリシロキサンと、屈折率が、1.8以上である無機粒子(e)と、を混合する混合工程と、を有する、
硬化性樹脂組成物の製造方法。
〔24〕
前記ハイドロジェンポリシロキサン(a)は、下記一般式(8)で表される構成単位を
さらに有する、前項〔23〕に記載の硬化性樹脂組成物の製造方法。
Figure 2016160282
(上記一般式(8)中、R1''は、各々独立して、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、kは、前記構成単位の含有割合を表し、0以上の整数を示し、j+kは3〜20の整数である。)
〔25〕
前記付加反応工程において、ケイ素原子に直接結合したビニル基を1個有し、加水分解性基を有しないオルガノシロキサン(b2)を、さらに付加反応させる、前項〔23〕又は〔24〕に記載の硬化性樹脂組成物の製造方法。
〔26〕
前項〔1〕〜〔22〕のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物を含む、光半導体用封止材。
〔27〕
前項〔1〕〜〔22〕のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物を含む、光半導体用ダイボンド材。
〔28〕
前項〔26〕に記載の光半導体用封止材を成形した、光半導体パッケージ。 That is, the present invention is as follows.
[1]
Organopolysiloxane (I) 100 having a structural unit F1 represented by the following general formula (1) and a structural unit M1 represented by the following general formula (2) as units constituting the cyclic organopolysiloxane. Part by mass;
Containing 10 to 200 parts by mass of inorganic particles,
The inorganic particles have a refractive index of 1.8 or more.
Curable resin composition.
Figure 2016160282
(In the general formula (1), R 1 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group, Alternatively, it represents a substituted or unsubstituted aralkyl group, R 2 represents an unsaturated bond-containing group having 2 to 10 carbon atoms, X represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms, and a represents Represents the content ratio of the structural unit F1, and represents an integer of 1 or more.)
Figure 2016160282
(In the general formula (2), R 1 and R 3 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, A substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted aralkyl group, Y represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms, n represents an integer of 1 to 3, and b Represents the content ratio of the structural unit M1 and represents an integer of 1 or more.)
[2]
The curable resin composition according to [1], wherein the ratio of a to b (a / b) is 0.010 or more and 5.0 or less.
[3]
The curable resin composition according to the above item [1] or [2], further comprising a structural unit M2 represented by the following general formula (3) as a unit constituting the cyclic organopolysiloxane.
Figure 2016160282
(In the general formula (3), R 1 and R 4 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, A substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted aralkyl group; Z represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms; and c represents a content ratio of the structural unit M2. 1 represents an integer of 1 or more.)
[4]
The curable resin composition according to [3], wherein the ratio of a to c (a / c) is 0.0010 or more and 3.0 or less.
[5]
Curable resin composition in any one of the preceding clauses [1]-[4] whose average particle diameter of the said inorganic particle is 0.1-100 nm.
[6]
[1] to [5], wherein the inorganic particles contain at least one element selected from the group consisting of zirconia, titanium, zinc, iron, copper, chromium, cadmium, carbon, tungsten, antimony, nickel, and platinum. ] The curable resin composition in any one of.
[7]
The curable resin composition according to any one of [1] to [6] above, wherein R 2 is an acryloxy group or a methacryloxy group.
[8]
Curable resin composition in any one of the preceding clauses [1]-[7] which has further the structural unit S represented by following General formula (4) as a unit which comprises cyclic organopolysiloxane.
Figure 2016160282
(In the general formula (4), R 1 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group, Or a substituted or unsubstituted aralkyl group is shown, d represents the content rate of the said structural unit S, and shows an integer greater than or equal to 1.)
[9]
The curable resin composition according to [8], wherein the ratio of d to a (d / a) is 0.10 or less.
[10]
Wherein the structural unit containing R 2, containing only structural units F1 represented by the general formula (1), the curable resin composition according to any one of items [1] to [9].
[11]
The curable resin composition according to any one of [1] to [10] above, wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
[12]
The curable resin composition according to any one of [1] to [11], wherein R 1 is a methyl group.
[13]
The curable resin composition according to any one of [1] to [12] above, wherein a functional group equivalent of the unsaturated bond-containing group represented by R 2 is 20 to 10,000 g / mol.
[14]
The organopolysiloxane (I) has a weight average molecular weight of 500 to 1,000,000,
The viscosity of the organopolysiloxane (I) at 25 ° C. is 1.0 to 1000000 mPa · s.
The curable resin composition according to any one of [1] to [13] above.
[15]
Organopolysiloxane (II) 0 having a structural unit F1 ′ represented by the following general formula (5) and a structural unit T ′ represented by the following general formula (6) as units constituting the cyclic organopolysiloxane. Further containing 10 to 100 parts by mass,
The curable resin composition according to any one of [1] to [14] above.
Figure 2016160282
(In the general formula (5), R 1 ′ is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group. Or a substituted or unsubstituted aralkyl group, R 2 ′ represents an unsaturated bond-containing group having 2 to 10 carbon atoms, and X ′ represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms. E represents the content ratio of the structural unit F1 ′ and represents an integer of 1 or more.)
Figure 2016160282
(In the general formula (6), R 1 ′ is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group. Alternatively, it represents a substituted or unsubstituted aralkyl group, f represents the content of the structural unit T ′, represents an integer of 0 or more, and the sum of e and f represents an integer of 3 to 20.)
[16]
The curable resin composition according to [15], wherein R 1 ′ is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
[17]
The curable resin composition according to [15] or [16] above, wherein R 1 ′ is a methyl group.
[18]
The curable resin composition containing the organopolysiloxane according to any one of [15] to [17] above, wherein R 2 ′ is an acryloxy group or a methacryloxy group.
[19]
The curable resin composition according to any one of [15] to [18] above, wherein the total functional group equivalent of the unsaturated bond-containing group represented by R 2 and R 2 ′ is 20 to 10,000 g / mol. object.
[20]
The organopolysiloxane (II) has a weight average molecular weight of 500 to 1,000,000.
The viscosity of the organopolysiloxane (II) at 25 ° C. is 1.0 to 1000000 mPa · s.
The curable resin composition according to any one of [15] to [19] above.
[21]
Further containing a thermal radical generator,
The content of the thermal radical generator is 0.50 to 10 parts by mass relative to 100 parts by mass in total of the organopolysiloxane (I) and the organopolysiloxane (II). 20] The curable resin composition according to any one of the above.
[22]
Further containing a hydrosilylation reaction catalyst,
[1] to [21], wherein the content of the hydrosilylation reaction catalyst is 0.0010 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass in total of the organopolysiloxane (I) and the organopolysiloxane (II). ] The curable resin composition in any one of.
[23]
Hydrogen polysiloxane (a) having a structural unit represented by the following general formula (7) as a unit constituting a cyclic organopolysiloxane;
Figure 2016160282
(In the general formula (7), R 1 ″ represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group. A group or a substituted or unsubstituted aralkyl group, and j represents the content of the structural unit and represents an integer of 1 or more.)
An organosiloxane (b1) having one vinyl group directly bonded to a silicon atom and containing one or more hydrolyzable groups;
An organic compound (c) having two or more unsaturated bond-containing groups,
An addition reaction step of obtaining an organopolysiloxane by addition reaction in the presence of a hydrosilylation reaction catalyst (d);
A mixing step of mixing the organopolysiloxane and inorganic particles (e) having a refractive index of 1.8 or more,
A method for producing a curable resin composition.
[24]
The said hydrogen polysiloxane (a) is a manufacturing method of the curable resin composition of the preceding clause [23] which further has a structural unit represented by following General formula (8).
Figure 2016160282
(In the general formula (8), each R 1 ″ is independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and a substituted group. Or an unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted aralkyl group, k represents the content of the structural unit, represents an integer of 0 or more, and j + k is an integer of 3 to 20.)
[25]
In the addition reaction step, the organosiloxane (b2) having one vinyl group directly bonded to a silicon atom and not having a hydrolyzable group is further subjected to addition reaction, according to the above item [23] or [24]. A method for producing a curable resin composition.
[26]
The sealing material for optical semiconductors containing the curable resin composition in any one of said [1]-[22].
[27]
The die-bonding material for optical semiconductors containing the curable resin composition in any one of said clause [1]-[22].
[28]
The optical semiconductor package which shape | molded the sealing material for optical semiconductors of the preceding clause [26].

本発明によれば、無機粒子の分散性に優れ、耐熱黄変性、耐光性、透明性、及び高屈折率の、全特性について、特に光半導体用途において要求されるレベルをバランス良く十分に満足し、かつ、硬化物を形成することが可能な硬化性樹脂組成物及びその製造方法を提供することができる。   According to the present invention, the dispersibility of the inorganic particles is excellent, and all the properties of heat yellowing resistance, light resistance, transparency, and high refractive index satisfy the level required particularly in optical semiconductor applications in a well-balanced manner. And the curable resin composition which can form hardened | cured material, and its manufacturing method can be provided.

さらに、本発明によれば、上記特性を有する光半導体用封止材、光半導体用ダイボンド材等で有用な材料、及び前記光半導体用封止材を成形した光半導体パッケージを提供することができる。   Furthermore, according to the present invention, it is possible to provide an optical semiconductor encapsulant having the above characteristics, a material useful as an optical semiconductor die-bonding material, and the like, and an optical semiconductor package in which the optical semiconductor encapsulant is molded. .

以下、本発明を実施するための形態(以下、「本実施形態」と言う。)について詳細に説明する。なお、本発明は以下の記載に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施できる。   Hereinafter, a mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as “the present embodiment”) will be described in detail. In addition, this invention is not limited to the following description, It can implement by changing variously within the range of the summary.

〔硬化性樹脂組成物〕
本実施形態の硬化性樹脂組成物は、下記一般式(1)で表される構成単位F1と、下記一般式(2)で表される構成単位M1と、を、環状オルガノポリシロキサンを構成する単位として有する、オルガノポリシロキサン(I)100質量部と、無機粒子10〜200質量部と、を、含有し、前記無機粒子の屈折率が、1.8以上である。
[Curable resin composition]
In the curable resin composition of the present embodiment, a structural unit F1 represented by the following general formula (1) and a structural unit M1 represented by the following general formula (2) constitute a cyclic organopolysiloxane. It contains 100 parts by mass of organopolysiloxane (I) as a unit and 10 to 200 parts by mass of inorganic particles, and the refractive index of the inorganic particles is 1.8 or more.

〔オルガノポリシロキサン(I)〕
オルガノポリシロキサン(I)は、下記一般式(1)で表される構成単位F1と、下記一般式(2)で表される構成単位M1と、を、環状オルガノポリシロキサンを構成する単位として有する。

Figure 2016160282
(上記一般式(1)中、R1は、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、R2は、炭素数2〜10の不飽和結合含有基を示し、Xは、炭素数2〜10の二価の炭化水素基を示し、aは、前記構成単位F1の含有割合を表し、1以上の整数を示す。)
Figure 2016160282
(上記一般式(2)中、R1及びR3は、各々独立して、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、Yは、炭素数2〜10の二価の炭化水素基を示し、nは、1〜3の整数を示し、bは、前記構成単位M1の含有割合を表し、1以上の整数を示す。) [Organopolysiloxane (I)]
The organopolysiloxane (I) has a structural unit F1 represented by the following general formula (1) and a structural unit M1 represented by the following general formula (2) as units constituting the cyclic organopolysiloxane. .
Figure 2016160282
(In the general formula (1), R 1 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group, Alternatively, it represents a substituted or unsubstituted aralkyl group, R 2 represents an unsaturated bond-containing group having 2 to 10 carbon atoms, X represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms, and a represents Represents the content ratio of the structural unit F1, and represents an integer of 1 or more.)
Figure 2016160282
(In the general formula (2), R 1 and R 3 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, A substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted aralkyl group, Y represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms, n represents an integer of 1 to 3, and b Represents the content ratio of the structural unit M1 and represents an integer of 1 or more.)

〔構成単位F1〕
上記一般式(1)で表される構成単位F1は、環状オルガノポリシロキサンを構成する単位である。
[Structural unit F1]
The structural unit F1 represented by the general formula (1) is a unit constituting the cyclic organopolysiloxane.

一般式(1)中、R1は、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示す。このようなR1としては、特に限定されないが、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基、ターシャリーブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、及びオクチル基等の炭素数1〜10のアルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロデカン基等の炭素数3〜10のシクロアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、及びメシチル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基、及びフェニルプロピル基等のアラルキル基;又は、これらの基の炭素原子に結合している水素原子の1部若しくは全部を置換基で置換した基が挙げられる。 In general formula (1), R 1 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group, or A substituted or unsubstituted aralkyl group is shown. Such R 1 is not particularly limited, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tertiary butyl group, a pentyl group, a neopentyl group, a hexyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, And an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms such as an octyl group; a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclooctyl group, and a cyclodecane group; a phenyl group and a tolyl group Aryl groups such as xylyl group, cumenyl group and mesityl group; aralkyl groups such as benzyl group, phenethyl group and phenylpropyl group; or part or all of hydrogen atoms bonded to carbon atoms of these groups And a group substituted with a substituent.

置換基としては、特に限定されないが、例えば、ヒドロキシ基、シアノ基、及びハロゲン原子等が挙げられる。置換の炭素数1〜10のアルキル基としては、特に限定されないが、例えば、ヒドロキシプロピル基、シアノエチル基、1−クロロプロピル基、及び3,3,3−トリフルオロピル基等が挙げられる。   Although it does not specifically limit as a substituent, For example, a hydroxyl group, a cyano group, a halogen atom, etc. are mentioned. The substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is not particularly limited, and examples thereof include a hydroxypropyl group, a cyanoethyl group, a 1-chloropropyl group, and a 3,3,3-trifluoropyr group.

これらの中でも、一般式(1)中のR1としては、炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。このような基を用いることにより、耐熱黄変性・耐光性がより向上する傾向にある。 Among these, R 1 in the general formula (1) is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a methyl group. By using such a group, heat yellowing resistance and light resistance tend to be further improved.

一般式(1)中、R2は、炭素数2〜10の不飽和結合含有基を示す。炭素数2〜10の不飽和結合含有基としては、特に限定されないが、例えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、3−ブテニル基、2−メチルプロペニル基、4−ペンテニル基、5−ヘキセニル基、6−ヘプテニル基、7−オクテニル基、8−ノネニル基、9−デセニル基等の不飽和鎖状炭化水素基;シクロヘキセニル基、ノルボルネニル基等の不飽和環状炭化水素基;ビニルエーテル基、アリルエーテル基等のエーテル結合含有不飽和炭化水素基;シクロヘキセニル基等の環式不飽和炭化水素基;アクリロキシ基、メタクリロキシ基等の不飽和脂肪酸エステル基が挙げられる。 In general formula (1), R 2 represents an unsaturated bond-containing group having 2 to 10 carbon atoms. Although it does not specifically limit as a C2-C10 unsaturated bond containing group, For example, a vinyl group, an allyl group, an isopropenyl group, 3-butenyl group, 2-methylpropenyl group, 4-pentenyl group, 5-hexenyl Group, 6-heptenyl group, 7-octenyl group, 8-nonenyl group, 9-decenyl group and other unsaturated chain hydrocarbon groups; cyclohexenyl group, norbornenyl group and other unsaturated cyclic hydrocarbon groups; vinyl ether group, allyl group Examples include ether bond-containing unsaturated hydrocarbon groups such as ether groups; cyclic unsaturated hydrocarbon groups such as cyclohexenyl groups; unsaturated fatty acid ester groups such as acryloxy groups and methacryloxy groups.

これらの中でも、R2としては、下記一般式(9)で表されるアクリロキシ基、又は下記一般式(10)で表されるメタクリロキシ基(以下、これらをまとめて「(メタ)アクリロキシ基」ともいう。)が好ましい。(メタ)アクリロキシ基を用いることにより、硬化性樹脂組成物の反応性、すなわち熱硬化がしやすく速やかに反応が進行する性質がより向上する傾向にある。

Figure 2016160282
Among these, as R 2 , acryloxy group represented by the following general formula (9) or methacryloxy group represented by the following general formula (10) (hereinafter, these are collectively referred to as “(meth) acryloxy group”). Is preferred). By using the (meth) acryloxy group, the reactivity of the curable resin composition, that is, the property of being easily heat-cured and promptly reacting, tends to be further improved.
Figure 2016160282

オルガノポリシロキサン(I)は、R2を含有する構成単位として、上記一般式(1)で表される構成単位F1のみを含有することが好ましい。このような構成とすることにより、屈折率がより向上する傾向にある。 The organopolysiloxane (I) preferably contains only the structural unit F1 represented by the general formula (1) as a structural unit containing R 2 . By adopting such a configuration, the refractive index tends to be further improved.

2で表される不飽和結合含有基の官能基当量は、好ましくは20〜10000g/molであり、より好ましくは50〜9000g/molであり、さらに好ましくは100〜8000g/molである。R2で表される不飽和結合含有基の官能基当量が20g/mol以上であることにより、硬化性樹脂組成物の硬化物の耐熱黄変性、耐光性がより向上する傾向にある。また、R2で表される不飽和結合含有基の官能基当量が10000g/mol以下であることにより、硬化性樹脂組成物の屈折率がより向上する傾向にある。R2で表される不飽和結合含有基の官能基当量は、後述する実施例に記載の方法により測定することができる。 The functional group equivalent of the unsaturated bond-containing group represented by R 2 is preferably 20 to 10000 g / mol, more preferably 50 to 9000 g / mol, and still more preferably 100 to 8000 g / mol. When the functional group equivalent of the unsaturated bond-containing group represented by R 2 is 20 g / mol or more, the heat-resistant yellowing and light resistance of the cured product of the curable resin composition tend to be further improved. Moreover, when the functional group equivalent of the unsaturated bond-containing group represented by R 2 is 10,000 g / mol or less, the refractive index of the curable resin composition tends to be further improved. The functional group equivalent of the unsaturated bond-containing group represented by R 2 can be measured by the method described in Examples described later.

一般式(1)中、Xは、炭素数2〜10の二価の炭化水素基を示す。炭素数2〜10の二価の炭化水素基としては、特に限定されないが、例えば、−(CH22−、−(CH23−、−(CH24−、−(CH25−、−(CH26−、−(CH27−、−(CH28−、−(CH29−、−(CH210−、−CH(CH3)CH2−、及び−C(CH32−等が挙げられる。このなかでも、−(CH22−、−(CH23−、及び−(CH24−が原料の入手のし易さ及び反応性、すなわち熱硬化がしやすく速やかに反応が進行するという観点から好ましい。 In the general formula (1), X represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms. Examples of the divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms is not particularly limited, for example, - (CH 2) 2 - , - (CH 2) 3 -, - (CH 2) 4 -, - (CH 2 ) 5 -,-(CH 2 ) 6 -,-(CH 2 ) 7 -,-(CH 2 ) 8 -,-(CH 2 ) 9 -,-(CH 2 ) 10- , -CH (CH 3 ) CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 — and the like can be mentioned. Among these, — (CH 2 ) 2 —, — (CH 2 ) 3 —, and — (CH 2 ) 4 — are readily available and reactive, that is, they are easily cured by heat and react quickly. It is preferable from the viewpoint of progress.

〔構成単位M1〕
上記一般式(2)で表される構成単位M1は、環状オルガノポリシロキサンを構成する単位である。
[Structural unit M1]
The structural unit M1 represented by the general formula (2) is a unit constituting the cyclic organopolysiloxane.

一般式(2)中、R1及びR3は、各々独立して、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示す。具体的には、R1及びR3としては、上記一般式(1)で例示した基と同様の基を例示することができる。なお、上記一般式(1)中のR1と一般式(2)中のR1とは、同一でも異なっていてもよい。 In general formula (2), R 1 and R 3 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted group. An unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted aralkyl group is shown. Specifically, as R 1 and R 3 , the same groups as those exemplified in the general formula (1) can be exemplified. Note that R 1 in R 1 and the general formula of the general formula (1) (2) may be the same or different.

これらの中でも、一般式(2)中のR1及び/又はR3としては、炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。このような基を用いることにより、耐熱黄変性・耐光性がより向上する傾向にある。 Among these, as R < 1 > and / or R < 3 > in General formula (2), a C1-C10 alkyl group is preferable and a methyl group is more preferable. By using such a group, heat yellowing resistance and light resistance tend to be further improved.

一般式(2)中、Yは、炭素数2〜10の二価の炭化水素基を示す。炭素数2〜10の二価の炭化水素基としては、特に限定されないが、例えば、上記一般式(1)中のXで例示した基と同様の基を例示することができる。このなかでも、−(CH23−、−(CH24−、及び−(CH26−が原料の入手のし易さ及び反応性、すなわち熱硬化がしやすく速やかに反応が進行するという観点から好ましい。なお、上記一般式(1)中のXと一般式(2)中のYとは、同一でも異なっていてもよい。 In general formula (2), Y represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms. Although it does not specifically limit as a C2-C10 bivalent hydrocarbon group, For example, the group similar to the group illustrated by X in the said General formula (1) can be illustrated. Among these, — (CH 2 ) 3 —, — (CH 2 ) 4 —, and — (CH 2 ) 6 — are readily available and reactive, that is, they are easily heat-cured and react quickly. It is preferable from the viewpoint of progress. X in the general formula (1) and Y in the general formula (2) may be the same or different.

一般式(2)中、nは、1〜3の整数である。密着性が向上する観点から、好ましくは2〜3の整数であり、より好ましくは3の整数である。保存安定性の観点から、好ましくは1の整数である。   In general formula (2), n is an integer of 1-3. From the viewpoint of improving the adhesion, it is preferably an integer of 2 to 3, more preferably an integer of 3. From the viewpoint of storage stability, it is preferably an integer of 1.

bに対するaの比率(a/b)は、好ましくは0.010以上5.0以下であり、より好ましくは0.020以上4.5以下であり、さらに好ましくは0.050以上4.0以下である。比率(a/b)が0.010以上であることにより、F1単位の比率が比較的多くなり、硬化性樹脂組成物の屈折率がより向上する傾向にある。また、比率(a/b)が5.0以下であることにより、M1単位の比率が比較的多くなり、耐光性がより向上する傾向にある。   The ratio of a to b (a / b) is preferably 0.010 or more and 5.0 or less, more preferably 0.020 or more and 4.5 or less, and further preferably 0.050 or more and 4.0 or less. It is. When the ratio (a / b) is 0.010 or more, the ratio of F1 units is relatively increased, and the refractive index of the curable resin composition tends to be further improved. Further, when the ratio (a / b) is 5.0 or less, the ratio of M1 units is relatively increased, and the light resistance tends to be further improved.

〔構成単位M2〕
オルガノポリシロキサン(I)は、下記一般式(3)で表される構成単位M2を、環状オルガノポリシロキサンを構成する単位としてさらに有してもよい。

Figure 2016160282
(上記一般式(3)中、R1及びR4は、各々独立して、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、Zは、炭素数2〜10の二価の炭化水素基を示し、cは、前記構成単位M2の含有割合を表し、1以上の整数を示す。) [Structural unit M2]
The organopolysiloxane (I) may further have a structural unit M2 represented by the following general formula (3) as a unit constituting the cyclic organopolysiloxane.
Figure 2016160282
(In the general formula (3), R 1 and R 4 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, A substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted aralkyl group; Z represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms; and c represents a content ratio of the structural unit M2. 1 represents an integer of 1 or more.)

一般式(3)中、R1及びR4は、各々独立して、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示す。具体的には、R1及びR4としては、上記一般式(1)で例示した基と同様の基を例示することができる。なお、上記一般式(1)中のR1と一般式(3)中のR1とは、同一でも異なっていてもよい。 In general formula (3), R 1 and R 4 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted group, An unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted aralkyl group is shown. Specifically, as R 1 and R 4 , the same groups as those exemplified in the general formula (1) can be exemplified. Note that R 1 in R 1 and the general formula of the general formula (1) in (3) in may be the same or different.

これらの中でも、一般式(3)中、R1及び/又はR4としては、炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。このような基を用いることにより、耐熱黄変性・耐光性がより向上する傾向にある。 Among these, in General Formula (3), as R < 1 > and / or R < 4 >, a C1-C10 alkyl group is preferable and a methyl group is more preferable. By using such a group, heat yellowing resistance and light resistance tend to be further improved.

一般式(3)中、Zは、炭素数2〜10の二価の炭化水素基を示す。炭素数2〜10の二価の炭化水素基としては、特に限定されないが、例えば、上記一般式(1)中のXで例示した基と同様の基を例示することができる。このなかでも、−(CH23−、−(CH24−、及び−(CH26−が原料の入手のし易さ及び反応性、すなわち熱硬化がしやすく速やかに反応が進行するという観点から好ましい。なお、上記一般式(1)中のXと一般式(3)中のZとは、同一でも異なっていてもよい。 In the general formula (3), Z represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms. Although it does not specifically limit as a C2-C10 bivalent hydrocarbon group, For example, the group similar to the group illustrated by X in the said General formula (1) can be illustrated. Among these, — (CH 2 ) 3 —, — (CH 2 ) 4 —, and — (CH 2 ) 6 — are readily available and reactive, that is, they are easily heat-cured and react quickly. It is preferable from the viewpoint of progress. X in the general formula (1) and Z in the general formula (3) may be the same or different.

cに対するaの比率(a/c)は、好ましくは0.0010以上3.0以下であり、より好ましくは0.0020以上2.8以下であり、さらに好ましくは0.0050以上2.5以下である。比率(a/c)が0.0010以上であることにより、F1単位の比率が比較的多くなり、硬化性樹脂組成物の屈折率がより向上する傾向にある。また、比率(a/c)が3.0以下であることにより、M2単位の比率が比較的多くなり、保存安定性がより向上する傾向にある。   The ratio of a to c (a / c) is preferably 0.0010 or more and 3.0 or less, more preferably 0.0020 or more and 2.8 or less, and further preferably 0.0050 or more and 2.5 or less. It is. When the ratio (a / c) is 0.0010 or more, the ratio of F1 units is relatively increased, and the refractive index of the curable resin composition tends to be further improved. Further, when the ratio (a / c) is 3.0 or less, the ratio of M2 units is relatively increased, and the storage stability tends to be further improved.

〔構成単位S〕
オルガノポリシロキサン(I)は、下記一般式(4)で表される構成単位Sを、環状オルガノポリシロキサンを構成する単位としてさらに有してもよい。

Figure 2016160282
(上記一般式(4)中、R1は、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、dは、前記構成単位Sの含有割合を表し、1以上の整数を示す。) [Structural unit S]
The organopolysiloxane (I) may further have a structural unit S represented by the following general formula (4) as a unit constituting the cyclic organopolysiloxane.
Figure 2016160282
(In the general formula (4), R 1 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group, Or a substituted or unsubstituted aralkyl group is shown, d represents the content rate of the said structural unit S, and shows an integer greater than or equal to 1.)

一般式(4)中、R1は、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示す。具体的には、R1としては、上記一般式(1)で例示した基と同様の基を例示することができる。なお、上記一般式(1)中のR1と一般式(4)中のR1とは、同一でも異なっていてもよい。 In General Formula (4), R 1 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group, or A substituted or unsubstituted aralkyl group is shown. Specifically, examples of R 1 include the same groups as those exemplified in the general formula (1). The above general formula (1) R 1 and the general formula in the (4) R 1 in may be the same or different.

これらの中でも、一般式(4)中、R1としては、炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。このような基を用いることにより、耐熱黄変性・耐光性がより向上する傾向にある。 Among these, in the general formula (4), the R 1, preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a methyl group. By using such a group, heat yellowing resistance and light resistance tend to be further improved.

aに対するdの比率(d/a)は、好ましくは0.10以下であり、より好ましくは0.0001以上0.08以下であり、さらに好ましくは0.001以上0.06以下である。比率(d/a)が0.0001以上であることにより、耐熱黄変性がより向上する傾向にある。また、比率(d/a)が0.10以下であることにより、溶媒留去時や保存時にSiHが不飽和結合と反応してゲル化することを抑制でき、製品の生産安定性や保存安定性がより向上するがより向上する傾向にある。   The ratio of d to a (d / a) is preferably 0.10 or less, more preferably 0.0001 or more and 0.08 or less, and further preferably 0.001 or more and 0.06 or less. When the ratio (d / a) is 0.0001 or more, heat yellowing tends to be further improved. In addition, when the ratio (d / a) is 0.10 or less, it is possible to suppress SiH from reacting with an unsaturated bond and gelling at the time of distilling off the solvent or at the time of storage. However, it tends to be improved.

オルガノポリシロキサン(I)に含まれている不飽和結合含有基の総官能基当量は、好ましくは20〜10000g/molであり、より好ましくは50〜9000g/molであり、さらに好ましくは100〜8000g/molである。不飽和結合含有基の総官能基当量が20g/mol以上であることにより、硬化性樹脂組成物の硬化物の耐熱黄変性、耐光性がより向上する傾向にある。また、不飽和結合含有基の総官能基当量が10000g/mol以下であることにより、硬化性樹脂組成物の屈折率がより向上する傾向にある。不飽和結合含有基の総官能基当量は、後述する実施例に記載の方法により測定することができる。   The total functional group equivalent of the unsaturated bond-containing group contained in the organopolysiloxane (I) is preferably 20 to 10000 g / mol, more preferably 50 to 9000 g / mol, and still more preferably 100 to 8000 g. / Mol. When the total functional group equivalent of the unsaturated bond-containing group is 20 g / mol or more, the heat-resistant yellowing and light resistance of the cured product of the curable resin composition tend to be further improved. Moreover, it exists in the tendency which the refractive index of curable resin composition improves more because the total functional group equivalent of an unsaturated bond containing group is 10000 g / mol or less. The total functional group equivalent of the unsaturated bond-containing group can be measured by the method described in Examples described later.

オルガノポリシロキサン(I)の重量平均分子量は、好ましくは500〜1000000であり、より好ましくは700〜800000であり、さらに好ましくは1000〜500000である。オルガノポリシロキサン(I)の重量平均分子量が500以上であることにより、無機粒子の分散安定性がより向上する傾向にある。また、オルガノポリシロキサン(I)の重量平均分子量が1000000以下であることにより、硬化性樹脂組成物の硬度がより向上する傾向にある。なお、重量平均分子量は、実施例に記載の方法により測定することができる。   The weight average molecular weight of the organopolysiloxane (I) is preferably 500 to 1,000,000, more preferably 700 to 800,000, and still more preferably 1,000 to 500,000. When the weight average molecular weight of the organopolysiloxane (I) is 500 or more, the dispersion stability of the inorganic particles tends to be further improved. Moreover, when the weight average molecular weight of organopolysiloxane (I) is 1000000 or less, the hardness of the curable resin composition tends to be further improved. In addition, a weight average molecular weight can be measured by the method as described in an Example.

オルガノポリシロキサン(I)の25℃における粘度は、好ましくは1.0〜1000000mPa・sであり、より好ましくは5.0〜500000mPa・sであり、さらに好ましくは10〜100000mPa・sである。オルガノポリシロキサン(I)の25℃における粘度が1.0mPa・s以上であることにより、無機粒子の分散安定性がより向上する傾向にある。また、オルガノポリシロキサン(I)の25℃における粘度が1000000mPa・s以下であることにより、取扱い性がより向上する傾向にある。なお、25℃における粘度は、実施例に記載の方法により測定することができる。   The viscosity of the organopolysiloxane (I) at 25 ° C. is preferably 1.0 to 1,000,000 mPa · s, more preferably 5.0 to 500,000 mPa · s, and further preferably 10 to 100,000 mPa · s. When the viscosity of the organopolysiloxane (I) at 25 ° C. is 1.0 mPa · s or more, the dispersion stability of the inorganic particles tends to be further improved. Further, when the viscosity of the organopolysiloxane (I) at 25 ° C. is 1000000 mPa · s or less, the handleability tends to be further improved. The viscosity at 25 ° C. can be measured by the method described in the examples.

〔無機粒子〕
本実施形態において無機粒子とは、無機単体又は無機化合物からなる粒子である。具体的には、炭化水素を含まない化合物を指す。無機粒子を用いることにより、屈折率がより向上する。
[Inorganic particles]
In the present embodiment, the inorganic particles are particles composed of an inorganic simple substance or an inorganic compound. Specifically, it refers to a compound that does not contain hydrocarbons. By using inorganic particles, the refractive index is further improved.

無機粒子を構成する元素としては、例えば、周期律表1〜16族の元素が挙げられる。この元素は、特に限定されるものではないが、周期律表2〜14族に属する元素が好ましい。その具体例としては、2族元素(Mg、Ca、Ba等)、3族元素(La、Ce、Eu、Ac、Th等)、4族元素(Ti、Zr、Hf等)、5族元素(V、Nb、Ta等)、6族元素(Cr、Mo、W等)、7族元素(Mn、Re等)、8族元素(Fe、Ru、Os等)、9族元素(Co、Rh、Ir等)、10族元素(Ni、Pd、Pt等)、11族元素(Cu、Ag、Au等)、12族元素(Zn、Cd等)、13族元素(Al、Ga、In等)、及び14族元素(Si、Ge、Sn、Pb等)が挙げられる。   As an element which comprises an inorganic particle, the periodic table group 1-16 group element is mentioned, for example. Although this element is not specifically limited, the element which belongs to periodic table group 2-14 is preferable. Specific examples thereof include group 2 elements (Mg, Ca, Ba, etc.), group 3 elements (La, Ce, Eu, Ac, Th, etc.), group 4 elements (Ti, Zr, Hf, etc.), group 5 elements ( V, Nb, Ta, etc.), Group 6 elements (Cr, Mo, W, etc.), Group 7 elements (Mn, Re, etc.), Group 8 elements (Fe, Ru, Os, etc.), Group 9 elements (Co, Rh, etc.) Ir, etc.), Group 10 elements (Ni, Pd, Pt, etc.), Group 11 elements (Cu, Ag, Au, etc.), Group 12 elements (Zn, Cd, etc.), Group 13 elements (Al, Ga, In, etc.), And Group 14 elements (Si, Ge, Sn, Pb, etc.).

これら元素を含む無機化合物としては、例えば、酸化物(複合酸化物を含む)、ハロゲン化物(フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物)、オキソ酸塩(硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩、過塩素酸塩、炭酸塩等)、一酸化炭素、二酸化炭素及び二硫化炭素等の陰性の元素と上記元素とから形成される化合物、並びに、青酸、青酸塩、シアン酸塩、チオシアン酸塩及び炭化物などの塩が挙げられる。   Examples of inorganic compounds containing these elements include oxides (including complex oxides), halides (fluorides, chlorides, bromides, iodides), oxo acid salts (nitrates, sulfates, phosphates, borons). Acid salts, perchlorates, carbonates, etc.), compounds formed from negative elements such as carbon monoxide, carbon dioxide and carbon disulfide and the above elements, as well as cyanic acid, cyanate, cyanate, thiocyanate And salts such as acid salts and carbides.

炭素化合物のうち、例外的に無機化合物に分類されるものには、例えば、ダイヤモンド、ロンズデーライト、グラファイト、グラフェン、フラーレン類(バックミンスターフラーレン、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン等)、ガラス状炭素、カルビン、アモルファス炭素、カーボンナノフォームなど炭素の同素体等が挙げられる。   Among the carbon compounds, those that are exceptionally classified as inorganic compounds include, for example, diamond, ronsdaylite, graphite, graphene, fullerenes (buckminsterfullerene, carbon nanotube, carbon nanohorn, etc.), glassy carbon, and calvin. And carbon allotropes such as amorphous carbon and carbon nanofoam.

1つの無機粒子は、上記元素のうち1種又は2種以上を含んでいてもよい。複数種の元素は、粒子中に均一に存在していても、偏在していてもよく、ある元素の化合物の粒子の表面が、別の元素の化合物によって被覆されていてもよい。これら無機粒子は、単独で使用しても、複数を組み合わせて使用してもよい。   One inorganic particle may contain 1 type (s) or 2 or more types among the said elements. The plural kinds of elements may be present uniformly or unevenly in the particle, and the surface of the particle of a compound of one element may be coated with a compound of another element. These inorganic particles may be used alone or in combination.

このなかでも好ましい無機粒子は、特に限定されるものではないが、例えば、ジルコニア、チタン、亜鉛、鉄、銅、クロム、カドミウム、炭素、タングステン、アンチモン、ニッケル、及び白金からなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を含む。より具体的には、酸化ジルコニウム、ジルコン等のジルコニア酸化物及びジルコニア複合酸化物;酸化チタン、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム等のチタン酸化物及びチタン複合酸化物;亜鉛、酸化亜鉛、硫化亜鉛等の亜鉛、亜鉛酸化物及び亜鉛複合酸化物;鉄、酸化第二鉄、三酸化二鉄等の鉄及び鉄酸化物;銅、酸化銅、塩化第一銅等の銅、銅酸化物及び銅化合物;酸化クロム等のクロム酸化物;酸化カドミウム、硫化カドミウム等のカドミウム酸化物及びカドミウム化合物;ダイヤモンド等の炭素化合物;タングステン化合物;アンチモン化合物;ニッケル化合物;白金等が挙げられる。これらのうち、入手し易さと安定性の観点から、酸化ジルコニウム、ジルコン等のジルコニア酸化物及びジルコニア複合酸化物、酸化チタン、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム等のチタン酸化物及びチタン複合酸化物がより好ましい。これら粒子の表面はSiO2、及びAl23等で被覆されていてもよい。また、これらは単独で使用しても、複数を組み合わせて使用してもよい。このような無機粒子を用いることにより、屈折率がより向上する傾向にある。 Among these, preferable inorganic particles are not particularly limited, but for example, at least selected from the group consisting of zirconia, titanium, zinc, iron, copper, chromium, cadmium, carbon, tungsten, antimony, nickel, and platinum. Contains one element. More specifically, zirconia oxide and zirconia composite oxide such as zirconium oxide and zircon; titanium oxide and titanium composite oxide such as titanium oxide, barium titanate and strontium titanate; zinc, zinc oxide and zinc sulfide Zinc, zinc oxide and zinc composite oxides; iron and iron oxides such as iron, ferric oxide and ferric trioxide; copper such as copper, copper oxide and cuprous chloride, copper oxides and copper compounds Chromium oxides such as chromium oxide; cadmium oxides and cadmium compounds such as cadmium oxide and cadmium sulfide; carbon compounds such as diamond; tungsten compounds; antimony compounds; nickel compounds; Among these, from the viewpoint of availability and stability, zirconia oxides such as zirconium oxide and zircon and zirconia composite oxides, titanium oxides such as titanium oxide, barium titanate, strontium titanate and titanium composite oxides. More preferred. The surface of these particles may be coated with SiO 2 , Al 2 O 3 or the like. These may be used alone or in combination. By using such inorganic particles, the refractive index tends to be further improved.

無機粒子(特に球状粒子)の平均粒径(粒子の外径の平均値)は、好ましくは0.1〜100nmであり、より好ましくは0.5〜50nmであり、さらに好ましくは1〜30nmである。無機粒子の平均粒径が100nm以下であることにより、硬化性樹脂組成物を光学材料として使用したときに、光の散乱などの問題が発生し難くなる傾向にある。また、無機粒子の平均粒径が0.1nm以上であることにより、無機粒子を構成する物質固有の特性が変化することを抑制できる傾向にある。なお、無機粒子の平均粒径は、透過型電子顕微鏡により測定することができる。   The average particle diameter (average value of the outer diameter of the particles) of the inorganic particles (particularly spherical particles) is preferably 0.1 to 100 nm, more preferably 0.5 to 50 nm, and further preferably 1 to 30 nm. is there. When the average particle diameter of the inorganic particles is 100 nm or less, problems such as light scattering tend to hardly occur when the curable resin composition is used as an optical material. Moreover, it exists in the tendency which can suppress that the characteristic intrinsic | native to the substance which comprises an inorganic particle changes because the average particle diameter of an inorganic particle is 0.1 nm or more. The average particle size of the inorganic particles can be measured with a transmission electron microscope.

無機粒子の屈折率は、高屈折率化の観点から1.8以上である。また、屈折率設計と成膜性のバランスの観点から、無機粒子の屈折率は、好ましくは1.8〜4.5であり、より好ましくは1.8〜3.0、さらに好ましくは1.8〜2.5である。無機粒子の屈折率は、実施例に記載の方法により測定することができる。   The refractive index of the inorganic particles is 1.8 or more from the viewpoint of increasing the refractive index. Moreover, from the viewpoint of the balance between the refractive index design and the film formability, the refractive index of the inorganic particles is preferably 1.8 to 4.5, more preferably 1.8 to 3.0, and still more preferably 1. 8-2.5. The refractive index of the inorganic particles can be measured by the method described in the examples.

高屈折率の無機粒子の密度は、特に限定されるものではないが、成形品等で高い屈折率を得やすくするためには、好ましくは2.5〜8g/cm3である。また、屈折率設計と成形性のバランスの観点からは、無機粒子の密度は、より好ましくは3.5〜5.5g/cm3である。 The density of the high refractive index inorganic particles is not particularly limited, but is preferably 2.5 to 8 g / cm 3 in order to easily obtain a high refractive index in a molded product or the like. Moreover, from the viewpoint of the balance between the refractive index design and the moldability, the density of the inorganic particles is more preferably 3.5 to 5.5 g / cm 3 .

無機粒子の形状や結晶形は、特に限定されるものではなく、例えば、球状、結晶状、鱗片状、柱状、管状、繊維状、中空状、多孔質状、数珠状等、様々な形状であってよい。   The shape and crystal form of the inorganic particles are not particularly limited, and may be various shapes such as, for example, spherical, crystalline, scale-like, columnar, tubular, fibrous, hollow, porous, and beaded. It's okay.

無機粒子の含有量は、上記オルガノポリシロキサン(I)100質量部に対して、10〜200質量部であり、好ましくは15〜180質量部であり、より好ましくは20〜160質量部である。無機粒子の含有量が10質量部以上であることにより、高屈折率を得ることができる。また、無機粒子の含有量が200質量部以下であることにより、透明性に優れる硬化性樹脂組成物及び硬化物が得られる。   Content of an inorganic particle is 10-200 mass parts with respect to 100 mass parts of said organopolysiloxane (I), Preferably it is 15-180 mass parts, More preferably, it is 20-160 mass parts. A high refractive index can be obtained when the content of the inorganic particles is 10 parts by mass or more. Moreover, when content of an inorganic particle is 200 mass parts or less, the curable resin composition and hardened | cured material which are excellent in transparency are obtained.

〔オルガノポリシロキサン(II)〕
本実施形態の硬化性樹脂組成物は、上記オルガノポリシロキサン(I)100質量部に対して、下記一般式(5)で表される構成単位F1’と、下記一般式(6)で表される構成単位T’と、を環状オルガノポリシロキサンを構成する単位として有するオルガノポリシロキサン(II)0.10〜100質量部をさらに含有してもよい。オルガノポリシロキサン(II)を含有することにより、硬化性樹脂組成物により得られる硬化物の架橋密度が増加し、屈折率がより向上する傾向にある。

Figure 2016160282
(上記一般式(5)中、R1'は、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、R2'は、炭素数2〜10の不飽和結合含有基を示し、X’は、炭素数2〜10の二価の炭化水素基を示し、eは、前記構成単位F1’の含有割合を表し、1以上の整数を示す。)
Figure 2016160282
(上記一般式(6)中、R1'は、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、fは、前記構成単位T’の含有割合を表し、0以上の整数を示し、e及びfの合計は、3〜20の整数を示す。) [Organopolysiloxane (II)]
The curable resin composition of this embodiment is represented by the structural unit F1 ′ represented by the following general formula (5) and the following general formula (6) with respect to 100 parts by mass of the organopolysiloxane (I). In addition, 0.10 to 100 parts by mass of organopolysiloxane (II) having the structural unit T ′ as a unit constituting the cyclic organopolysiloxane may be further contained. By containing organopolysiloxane (II), the crosslinking density of the cured product obtained from the curable resin composition increases, and the refractive index tends to be further improved.
Figure 2016160282
(In the general formula (5), R 1 ′ is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group. Or a substituted or unsubstituted aralkyl group, R 2 ′ represents an unsaturated bond-containing group having 2 to 10 carbon atoms, and X ′ represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms. E represents the content ratio of the structural unit F1 ′ and represents an integer of 1 or more.)
Figure 2016160282
(In the general formula (6), R 1 ′ is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group. Alternatively, it represents a substituted or unsubstituted aralkyl group, f represents the content of the structural unit T ′, represents an integer of 0 or more, and the sum of e and f represents an integer of 3 to 20.)

〔構成単位F1’〕
上記一般式(5)で表される構成単位F1’は、環状オルガノポリシロキサンを構成する単位である。
[Structural unit F1 ′]
The structural unit F1 ′ represented by the general formula (5) is a unit constituting the cyclic organopolysiloxane.

一般式(5)中、R1'は、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示す。具体的には、R1'としては、上記一般式(1)で例示した基と同様の基を例示することができる。なお、上記一般式(1)中のR1と一般式(5)中のR1'とは、同一でも異なっていてもよい。 In General Formula (5), R 1 ′ represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group, or Represents a substituted or unsubstituted aralkyl group. Specifically, as R 1 ′ , the same groups as those exemplified in the general formula (1) can be exemplified. In addition, R < 1 > in the said General formula (1) and R < 1 ' > in General formula (5) may be same or different.

これらの中でも、一般式(5)中のR1'としては、炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。このような基を用いることにより、耐熱黄変性・耐光性がより向上する傾向にある。 Among these, as R < 1 ' > in General formula (5), a C1-C10 alkyl group is preferable and a methyl group is more preferable. By using such a group, heat yellowing resistance and light resistance tend to be further improved.

一般式(5)中、R2'は、炭素数2〜10の不飽和結合含有基を示す。炭素数2〜10の不飽和結合含有基としては、特に限定されないが、例えば、上記一般式(1)中のR2で例示した基と同様の基を例示することができる。このなかでも、(メタ)アクリロキシ基が好ましい。(メタ)アクリロキシ基を用いることにより、硬化性樹脂組成物の反応性、すなわち熱硬化がしやすく速やかに反応が進行する性質がより向上する傾向にある。なお、上記一般式(1)中のR2と一般式(5)中のR2'とは、同一でも異なっていてもよい。 In General Formula (5), R 2 ′ represents an unsaturated bond-containing group having 2 to 10 carbon atoms. Examples of the unsaturated bond-containing group having 2 to 10 carbon atoms is not particularly limited, for example, can be exemplified the same groups as exemplified for R 2 in formula (1). Among these, a (meth) acryloxy group is preferable. By using the (meth) acryloxy group, the reactivity of the curable resin composition, that is, the property of being easily heat-cured and promptly reacting, tends to be further improved. In addition, R 2 in the general formula (1) and R 2 ′ in the general formula (5) may be the same or different.

一般式(5)中、X’は、炭素数2〜10の二価の炭化水素基を示す。炭素数2〜10の二価の炭化水素基としては、特に限定されないが、例えば、上記一般式(1)中のXで例示した基と同様の基を例示することができる。このなかでも、−(CH23−、−(CH24−、及び−(CH26−が原料の入手のし易さ及び反応性、すなわち熱硬化がしやすく速やかに反応が進行するという観点から好ましい。なお、上記一般式(1)中のXと一般式(5)中のX’とは、同一でも異なっていてもよい。 In the general formula (5), X ′ represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms. Although it does not specifically limit as a C2-C10 bivalent hydrocarbon group, For example, the group similar to the group illustrated by X in the said General formula (1) can be illustrated. Among these, — (CH 2 ) 3 —, — (CH 2 ) 4 —, and — (CH 2 ) 6 — are readily available and reactive, that is, they are easily heat-cured and react quickly. It is preferable from the viewpoint of progress. X in the general formula (1) and X ′ in the general formula (5) may be the same or different.

〔構成単位T’〕
上記一般式(6)で表される構成単位T’は、環状オルガノポリシロキサンを構成する単位である。
[Structural unit T ']
The structural unit T ′ represented by the general formula (6) is a unit constituting the cyclic organopolysiloxane.

一般式(6)中、R1'は、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示す。具体的には、R1'としては、上記一般式(1)で例示した基と同様の基を例示することができる。なお、上記一般式(1)中のR1と一般式(6)中のR1'とは、同一でも異なっていてもよい。 In General Formula (6), R 1 ′ represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group, or Represents a substituted or unsubstituted aralkyl group. Specifically, as R 1 ′ , the same groups as those exemplified in the general formula (1) can be exemplified. In addition, R < 1 > in the said General formula (1) and R < 1 ' > in General formula (6) may be same or different.

これらの中でも、一般式(6)中のR1'としては、炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。このような基を用いることにより、耐熱黄変性・耐光性がより向上する傾向にある。 Among these, as R < 1 ' > in General formula (6), a C1-C10 alkyl group is preferable and a methyl group is more preferable. By using such a group, heat yellowing resistance and light resistance tend to be further improved.

オルガノポリシロキサン(II)の含有量は、オルガノポリシロキサン(I)100質量部に対して、好ましくは0.10〜100質量部であり、より好ましくは1〜90質量部であり、さらに好ましくは5〜80質量部である。オルガノポリシロキサン(II)の含有量が0.10質量部以上であることにより、粘度が低下するため作業性がより向上する傾向にある。また、オルガノポリシロキサン(II)の含有量が100質量部以下であることにより、耐光性がより向上する傾向にある。   The content of the organopolysiloxane (II) is preferably 0.10 to 100 parts by mass, more preferably 1 to 90 parts by mass, further preferably 100 parts by mass of the organopolysiloxane (I). 5 to 80 parts by mass. When the content of the organopolysiloxane (II) is 0.10 parts by mass or more, workability tends to be further improved because the viscosity is lowered. Moreover, it exists in the tendency for light resistance to improve more because content of organopolysiloxane (II) is 100 mass parts or less.

2'で表される不飽和結合含有基の官能基当量は、好ましくは20〜10000g/molであり、より好ましくは50〜9000g/molであり、さらに好ましくは100〜8000g/molである。R2'で表される不飽和結合含有基の官能基当量が20g/mol以上であることにより、硬化性樹脂組成物の硬化物の耐光性がより向上する傾向にある。また、R2'で表される不飽和結合含有基の官能基当量が10000g/mol以下であることにより、硬化性樹脂組成物の屈折率がより向上する傾向にある。なお、R2'で表される不飽和結合含有基の官能基当量は、後述する実施例に記載の方法により測定することができる。 The functional group equivalent of the unsaturated bond-containing group represented by R 2 ′ is preferably 20 to 10000 g / mol, more preferably 50 to 9000 g / mol, and still more preferably 100 to 8000 g / mol. When the functional group equivalent of the unsaturated bond-containing group represented by R 2 ′ is 20 g / mol or more, the light resistance of the cured product of the curable resin composition tends to be further improved. Moreover, when the functional group equivalent of the unsaturated bond-containing group represented by R 2 ′ is 10,000 g / mol or less, the refractive index of the curable resin composition tends to be further improved. In addition, the functional group equivalent of the unsaturated bond-containing group represented by R 2 ′ can be measured by the method described in Examples described later.

オルガノポリシロキサン(II)の重量平均分子量は、好ましくは500〜1000000であり、より好ましくは700〜800000であり、さらに好ましくは1000〜500000である。オルガノポリシロキサン(II)の重量平均分子量が500以上であることにより、無機粒子の分散安定性がより向上する傾向にある。また、オルガノポリシロキサン(II)の重量平均分子量が1000000以下であることにより、硬化性樹脂組成物の屈折率がより向上する傾向にある。なお、重量平均分子量は、実施例に記載の方法により測定することができる。   The weight average molecular weight of the organopolysiloxane (II) is preferably 500 to 1,000,000, more preferably 700 to 800,000, and still more preferably 1,000 to 500,000. When the weight average molecular weight of the organopolysiloxane (II) is 500 or more, the dispersion stability of the inorganic particles tends to be further improved. Moreover, when the weight average molecular weight of organopolysiloxane (II) is 1,000,000 or less, the refractive index of the curable resin composition tends to be further improved. In addition, a weight average molecular weight can be measured by the method as described in an Example.

また、オルガノポリシロキサン(II)の25℃における粘度は、好ましくは1.0〜1000000mPa・sであり、より好ましくは5.0〜500000mPa・sであり、さらに好ましくは10〜100000mPa・sである。オルガノポリシロキサン(II)の25℃における粘度が1.0mPa・s以上であることにより、無機粒子の分散安定性がより向上する傾向にある。また、オルガノポリシロキサン(II)の25℃における粘度が1000000mPa・s以下であることにより、硬化性樹脂組成物の取扱い性がより向上する傾向にある。なお、25℃における粘度は、後述する実施例に記載の方法により測定することができる。   The viscosity of the organopolysiloxane (II) at 25 ° C. is preferably 1.0 to 1,000,000 mPa · s, more preferably 5.0 to 500,000 mPa · s, and further preferably 10 to 100,000 mPa · s. . When the viscosity of the organopolysiloxane (II) at 25 ° C. is 1.0 mPa · s or more, the dispersion stability of the inorganic particles tends to be further improved. Moreover, when the viscosity at 25 ° C. of the organopolysiloxane (II) is 1000000 mPa · s or less, the handleability of the curable resin composition tends to be further improved. The viscosity at 25 ° C. can be measured by the method described in Examples described later.

〔オルガノポリシロキサン(III)〕
本実施形態の硬化性樹脂組成物は、上記オルガノポリシロキサン(I)100質量部に対して、炭素数2〜10の不飽和結合含有基を有する直鎖のオルガノポリシロキサン(III)0.10〜100質量部をさらに含有してもよい。オルガノポリシロキサン(III)を含有することにより、硬化性樹脂組成物により得られる硬化物の耐光性が向上する傾向にある。
[Organopolysiloxane (III)]
The curable resin composition of this embodiment is a linear organopolysiloxane (III) 0.10 having an unsaturated bond-containing group having 2 to 10 carbon atoms with respect to 100 parts by mass of the organopolysiloxane (I). You may further contain -100 mass parts. By containing organopolysiloxane (III), the light resistance of the cured product obtained from the curable resin composition tends to be improved.

オルガノポリシロキサン(III)の含有量は、オルガノポリシロキサン(I)100質量部に対して、好ましくは0.10〜100質量部であり、より好ましくは1〜90質量部であり、さらに好ましくは5〜80質量部である。   The content of the organopolysiloxane (III) is preferably 0.10 to 100 parts by mass, more preferably 1 to 90 parts by mass, further preferably 100 parts by mass of the organopolysiloxane (I). 5 to 80 parts by mass.

硬化性樹脂組成物中、R2及びR2'で表される不飽和結合含有基の総官能基当量は、好ましくは20〜10000g/molであり、より好ましくは50〜9000g/molであり、さらに好ましくは100〜8000g/molである。R2及びR2'で表される不飽和結合含有基の総官能基当量が20g/mol以上であることにより、硬化性樹脂組成物の硬化物の耐熱黄変性、耐光性がより向上する傾向にある。また、R2及びR2'で表される不飽和結合含有基の総官能基当量が10000g/mol以下であることにより、硬化性樹脂組成物の屈折率がより向上する傾向にある。なお、R2及びR2'で表される不飽和結合含有基の総官能基当量は、後述する実施例に記載の方法により測定することができる。 In the curable resin composition, the total functional group equivalent of the unsaturated bond-containing group represented by R 2 and R 2 ′ is preferably 20 to 10,000 g / mol, more preferably 50 to 9000 g / mol, More preferably, it is 100-8000 g / mol. When the total functional group equivalent of the unsaturated bond-containing group represented by R 2 and R 2 ′ is 20 g / mol or more, heat-resistant yellowing and light resistance of the cured product of the curable resin composition tend to be further improved. It is in. Moreover, when the total functional group equivalent of the unsaturated bond-containing group represented by R 2 and R 2 ′ is 10,000 g / mol or less, the refractive index of the curable resin composition tends to be further improved. In addition, the total functional group equivalent of the unsaturated bond-containing group represented by R 2 and R 2 ′ can be measured by the method described in Examples described later.

オルガノポリシロキサン(I)及びオルガノポリシロキサン(II)を併せた重量平均分子量は、好ましくは500〜1000000であり、より好ましくは700〜800000であり、さらに好ましくは1000〜500000である。オルガノポリシロキサン(I)及びオルガノポリシロキサン(II)を併せた重量平均分子量が500以上であることにより、無機粒子の分散安定性がより向上する傾向にある。また、オルガノポリシロキサン(I)及びオルガノポリシロキサン(II)を併せた重量平均分子量が1000000以下であることにより、硬化性樹脂組成物の屈折率がより向上する傾向にある。なお、重量平均分子量は、実施例に記載の方法により測定することができる。   The combined weight average molecular weight of the organopolysiloxane (I) and the organopolysiloxane (II) is preferably 500 to 1,000,000, more preferably 700 to 800,000, and still more preferably 1,000 to 500,000. When the weight average molecular weight of the organopolysiloxane (I) and the organopolysiloxane (II) is 500 or more, the dispersion stability of the inorganic particles tends to be further improved. Further, when the weight average molecular weight of the organopolysiloxane (I) and the organopolysiloxane (II) is 1,000,000 or less, the refractive index of the curable resin composition tends to be further improved. In addition, a weight average molecular weight can be measured by the method as described in an Example.

また、オルガノポリシロキサン(I)及びオルガノポリシロキサン(II)を併せた25℃における粘度は、好ましくは1.0〜1000000mPa・sであり、より好ましくは5.0〜500000mPa・sであり、さらに好ましくは10〜100000mPa・sである。オルガノポリシロキサン(I)及びオルガノポリシロキサン(II)を併せた25℃における粘度が1.0mPa・s以上であることにより、無機粒子の分散安定性がより向上する傾向にある。また、オルガノポリシロキサン(I)及びオルガノポリシロキサン(II)を併せた25℃における粘度が1000000mPa・s以下であることにより、硬化性樹脂組成物の取扱い性がより向上する傾向にある。なお、25℃における粘度は、後述する実施例に記載の方法により測定することができる。   The viscosity at 25 ° C. of the organopolysiloxane (I) and the organopolysiloxane (II) is preferably 1.0 to 1000000 mPa · s, more preferably 5.0 to 500000 mPa · s, Preferably it is 10-100,000 mPa * s. When the viscosity at 25 ° C. in which the organopolysiloxane (I) and the organopolysiloxane (II) are combined is 1.0 mPa · s or more, the dispersion stability of the inorganic particles tends to be further improved. Moreover, when the viscosity at 25 ° C. of the organopolysiloxane (I) and the organopolysiloxane (II) is 1,000,000 mPa · s or less, the handleability of the curable resin composition tends to be further improved. The viscosity at 25 ° C. can be measured by the method described in Examples described later.

〔熱ラジカル発生剤〕
本実施形態の硬化性樹脂組成物は、熱ラジカル発生剤をさらに有していてもよい。熱ラジカル発生剤は、熱によって不飽和結合含有基中の不飽和結合同士をラジカル重合させるものであれば特に制限されず、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、t−ブチルパーオキサイド、及びクメンヒドロパーオキサイドのような有機過酸化物;アゾビスイソブチロニトリルのようなアゾ化合物が挙げられる。より具体的には、2,2−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)(V−70、和光純薬製)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(V−65、和光純薬製)2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(V−60、和光純薬製)、及び2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)(V−59、和光純薬製)等のアゾニトリル化合物;オクタノイルパーオキシド(パーロイルO、日本油脂製)、ラウロイルパーオキシド(パーロイルL、日本油脂製)、ステアロイルパーオキシド(パーロイルS、日本油脂製)、スクシニックアシッドパーオキシド(パーロイルSA、日本油脂製)、ベンゾイルパーオキサイド(ナイパーBW、日本油脂製)、イソブチリルパーオキサイド(パーロイルIB、日本油脂製)、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキシド(ナイパーCS、日本油脂製)、及び3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキシド(パーロイル355、日本油脂製)等のジアシルパーオキサイド類;ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート(パーロイルNPP−50M、日本油脂製)、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート(パーロイルIPP−50、日本油脂製)、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート(パーロイルTCP、日本油脂製)、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート(パーロイルEEP、日本油脂製)、ジ−2−エトキシヘキシルパーオキシジカーボネート(パーロイルOPP、日本油脂製)、ジ−2−メトキシブチルパーオキシジカーボネート(パーロイルMBP、日本油脂製)、及びジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート(パーロイルSOP、日本油脂製)等のパーオキシジカーボネート類;t−ブチルヒドロパーオキサイド(パーブチルH−69、日本油脂製)、及び1,1,3,3−テトラメチルブチルヒドロパーオキサイド(パーオクタH、日本油脂製)、等のヒドロパーオキサイド類;ジ−t−ブチルパーオキサイド(パーブチルD、日本油脂製)、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン(パーヘキサ25B、日本油脂製)等のジアルキルパーオキサイド類;α,α’−ビス(ネオデカノイルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン(ダイパーND、日本油脂製)、クミルパーオキシネオデカノエート(パークミルND、日本油脂製)、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート(パーオクタND、日本油脂製)、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシネオデカノエート(パーシクロND、日本油脂製)、t−ヘキシルパーオキシネオデカノエート(パーヘキシルND、日本油脂製)、t−ブチルパーオキシネオデカノエート(パーブチルND、日本油脂製)、t−ヘキシルパーオキシピバレート(パーヘキシルPV、日本油脂製)、t−ブチルパーオキシピバレート(パーブチルPV、日本油脂製)、1,1,3,3,−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート(パーオクタO、日本油脂製)2,5−ジメチル−2,5−ビス(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン(パーヘキサ250、日本油脂製)、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート(パーシクロO、日本油脂製)、t−ヘキシルパーオキシ2−エチルヘキサノエート(パーヘキシルO、日本油脂製)、t−ブチルパーオキシ2−エチルヘキサノエート(パーブチルO、日本油脂製)、t−ブチルパーオキシイソブチレート(パーブチルIB、日本油脂製)、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート(パーヘキシルI、日本油脂製)、及びt−ブチルパーオキシマレイックアシッド(パーブチルMA、日本油脂製)、t−アミルパーオキシ2−エチルヘキサノエート(トリゴノックス121、化薬アクゾ製)、t−アミルパーオキシ3,5,5−トリメチルヘキサノエート(カヤエステルAN、化薬アクゾ製)等のパーオキシエステル類等の有機過酸化物等が挙げられる。
[Thermal radical generator]
The curable resin composition of this embodiment may further have a thermal radical generator. The thermal radical generator is not particularly limited as long as unsaturated bonds in the unsaturated bond-containing group are radically polymerized by heat, and examples thereof include benzoyl peroxide, lauryl peroxide, t-butyl peroxide, and cumene. And organic peroxides such as hydroperoxide; azo compounds such as azobisisobutyronitrile. More specifically, 2,2-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) (V-70, manufactured by Wako Pure Chemical Industries), 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (V-65, manufactured by Wako Pure Chemical Industries), 2,2'-azobisisobutyronitrile (V-60, manufactured by Wako Pure Chemical Industries), and 2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile) (V- 59, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.); octanoyl peroxide (Perroyl O, manufactured by Nippon Oil & Fats), lauroyl peroxide (Perroyl L, manufactured by Nippon Oil & Fats), stearoyl peroxide (Perroyl S, manufactured by Nippon Oil & Fats), SC Cynic acid peroxide (Perroyl SA, manufactured by Nippon Oil & Fats), Benzoyl peroxide (Niper BW, manufactured by Nippon Oil & Fats), Isobutyryl peroxide (Perroyl IB, Nippon Oil) Diacyl peroxides such as 2,4-dichlorobenzoyl peroxide (Niper CS, manufactured by NOF Corporation) and 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide (Perroyl 355, manufactured by NOF Corporation); -Propyl peroxydicarbonate (paroyl NPP-50M, manufactured by NOF Corporation), diisopropyl peroxydicarbonate (paroyl IPP-50, manufactured by NOF Corporation), bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate (paroyl TCP, Nippon Oil & Fats), di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate (Perroyl EEP, manufactured by Nippon Oil & Fats), di-2-ethoxyhexyl peroxydicarbonate (Perroyl OPP, manufactured by Nippon Oil & Fats), di-2-methoxybutyl per Oxydicarbonate (Parroyl MB Peroxydicarbonates such as di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate (Perroyl SOP, manufactured by Nippon Oil &Fats); t-butyl hydroperoxide (perbutyl H-69, Hydroperoxides such as Nippon Oil & Fats) and 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide (Perocta H, manufactured by Nippon Oil &Fats); Di-t-butyl peroxide (Perbutyl D, manufactured by Nippon Oil & Fats) ), 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexane (Perhexa 25B, manufactured by NOF Corporation); α, α′-bis (neodecanoylperoxy) diisopropyl Benzene (Dyper ND, manufactured by Nippon Oil & Fats), Cumylperoxyneodecanoate (Park Mill ND, manufactured by Nippon Oil & Fats), , 1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate (Perocta ND, manufactured by NOF Corporation), 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxyneodecanoate (PercycloND, manufactured by NOF Corporation), t- Hexyl peroxyneodecanoate (perhexyl ND, manufactured by NOF Corporation), t-butyl peroxyneodecanoate (perbutyl ND, manufactured by NOF Corporation), t-hexyl peroxypivalate (perhexyl PV, manufactured by NOF Corporation), t-butyl peroxypivalate (perbutyl PV, manufactured by NOF Corporation), 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate (Perocta O, manufactured by NOF Corporation) 2,5-dimethyl -2,5-bis (2-ethylhexanoylperoxy) hexane (Perhexa 250, manufactured by NOF Corporation), 1- Chlohexyl-1-methylethylperoxy-2-ethylhexanoate (Percyclo O, manufactured by NOF Corporation), t-hexylperoxy 2-ethylhexanoate (Perhexyl O, manufactured by NOF Corporation), t-butylperoxy-2 -Ethylhexanoate (perbutyl O, manufactured by NOF Corporation), t-butyl peroxyisobutyrate (perbutyl IB, manufactured by NOF Corporation), t-hexyl peroxyisopropyl monocarbonate (perhexyl I, manufactured by NOF Corporation), and t -Butyl peroxymaleic acid (Perbutyl MA, manufactured by NOF Corporation), t-amylperoxy 2-ethylhexanoate (Trigonox 121, manufactured by Kayaku Akzo), t-amylperoxy 3,5,5-trimethylhexa Peroxyesters such as Noate (Kaya Ester AN, Kayaku Akzo) Organic peroxides, etc.

熱ラジカル発生剤は、1種単独で用いても、2種以上を併用してもよい。   A thermal radical generator may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

熱ラジカル発生剤の含有量は、上記オルガノポリシロキサン(I)及びオルガノポリシロキサン(II)の合計100質量部に対して、好ましくは0.50〜10質量部であり、より好ましくは1.0〜8.0質量部であり、さらに好ましくは2.0〜5.0質量部である。熱ラジカル発生剤の含有量が0.5質量部以上であることにより、硬化性がより向上する傾向にある。また、熱ラジカル発生剤の含有量が10質量部以下であることにより、耐熱黄変性がより向上する傾向にある。なお、硬化性樹脂組成物がオルガノポリシロキサン(II)を含有しない場合には、熱ラジカル発生剤の含有量は、上記オルガノポリシロキサン(I)100質量部に対する領となる。   The content of the thermal radical generator is preferably 0.50 to 10 parts by mass, more preferably 1.0 to 100 parts by mass in total of the organopolysiloxane (I) and organopolysiloxane (II). It is -8.0 mass parts, More preferably, it is 2.0-5.0 mass parts. When the content of the thermal radical generator is 0.5 parts by mass or more, the curability tends to be further improved. Moreover, it exists in the tendency which heat-resistant yellowing improves more because content of a thermal radical generator is 10 mass parts or less. In addition, when curable resin composition does not contain organopolysiloxane (II), content of a thermal radical generator becomes a region with respect to 100 mass parts of said organopolysiloxane (I).

〔ヒドロシリル化反応触媒〕
本実施形態の硬化性樹脂組成物は、ヒドロシリル化反応触媒をさらに含有していてもよい。ヒドロシリル化反応触媒としては、後述するものが挙げられる。
[Hydrosilylation catalyst]
The curable resin composition of this embodiment may further contain a hydrosilylation reaction catalyst. Examples of the hydrosilylation reaction catalyst include those described later.

ヒドロシリル化反応触媒の含有量は、上記オルガノポリシロキサン(I)及びオルガノポリシロキサン(II)の合計100質量部に対して、好ましくは0.0010質量部以下であり、より好ましくは0〜0.00080質量部であり、さらに好ましくは0〜0.00050質量部である。ヒドロシリル化反応触媒の含有量が上記範囲内であることにより、耐熱黄変性・耐光性がより向上する傾向にある。なお、硬化性樹脂組成物がオルガノポリシロキサン(II)を含有しない場合には、ヒドロシリル化反応触媒の含有量は、上記オルガノポリシロキサン(I)100質量部に対する領となる。   The content of the hydrosilylation reaction catalyst is preferably 0.0010 parts by mass or less, more preferably 0 to 0.0. Part by mass, with respect to 100 parts by mass in total of the organopolysiloxane (I) and the organopolysiloxane (II). 0,080,000 parts by mass, more preferably 0-0.00050 parts by mass. When the content of the hydrosilylation reaction catalyst is within the above range, heat-resistant yellowing and light resistance tend to be further improved. In addition, when curable resin composition does not contain organopolysiloxane (II), content of a hydrosilylation reaction catalyst becomes a region with respect to 100 mass parts of said organopolysiloxane (I).

〔その他の成分〕
本実施形態の硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、熱エネルギーに対する硬化性を促進する(感度の向上)目的で、(メタ)アクリレートモノマー類やオリゴマー類及びビニル(メタ)アクリレート等のラジカル重合性化合物等を添加してもよい。
[Other ingredients]
In the curable resin composition of this embodiment, for the purpose of accelerating curability with respect to thermal energy (improvement of sensitivity) as required, (meth) acrylate monomers, oligomers, vinyl (meth) acrylate, etc. A radical polymerizable compound or the like may be added.

その他、本発明の範囲を逸脱しない量的質的範囲内で、劣化防止剤、離型剤、希釈剤、酸化防止剤、熱安定化剤、難燃剤、可塑剤、及び界面活性剤等の添加剤を配合することができる。   In addition, addition of deterioration inhibitors, mold release agents, diluents, antioxidants, thermal stabilizers, flame retardants, plasticizers, surfactants, and the like within the quantitative and qualitative range not departing from the scope of the present invention An agent can be blended.

〔硬化性樹脂組成物の製造方法〕
本実施形態の硬化性樹脂組成物の製造方法は、
下記一般式(7)で表される構成単位を、環状オルガノポリシロキサンを構成する単位として有するハイドロジェンポリシロキサン(a)と、

Figure 2016160282
(上記一般式(7)中、R1''は、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、jは、前記構成単位の含有割合を表し、1以上の整数を示す。)
ケイ素原子に直接結合したビニル基を1個有し、加水分解性基を1個以上含有するオルガノシロキサン(b1)と、
不飽和結合含有基を2個以上有する有機化合物(c)と、を、
ヒドロシリル化反応触媒(d)の存在下で付加反応させて、オルガノポリシロキサンを得る付加反応工程と、
前記オルガノポリシロキサンと、屈折率が、1.8以上である無機粒子(e)と、を混合する混合工程と、を有する。 [Method for producing curable resin composition]
The method for producing the curable resin composition of the present embodiment is as follows.
Hydrogen polysiloxane (a) having a structural unit represented by the following general formula (7) as a unit constituting a cyclic organopolysiloxane;
Figure 2016160282
(In the general formula (7), R 1 ″ represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group. A group or a substituted or unsubstituted aralkyl group, and j represents the content of the structural unit and represents an integer of 1 or more.)
An organosiloxane (b1) having one vinyl group directly bonded to a silicon atom and containing one or more hydrolyzable groups;
An organic compound (c) having two or more unsaturated bond-containing groups,
An addition reaction step of obtaining an organopolysiloxane by addition reaction in the presence of a hydrosilylation reaction catalyst (d);
A mixing step of mixing the organopolysiloxane and the inorganic particles (e) having a refractive index of 1.8 or more.

〔付加反応工程〕
〔ハイドロジェンポリシロキサン(a)〕
ハイドロジェンポリシロキサン(a)は、上記一般式(7)で表される構成単位を、環状オルガノポリシロキサンを構成する単位として有する化合物である。
[Addition reaction step]
[Hydrogen polysiloxane (a)]
The hydrogen polysiloxane (a) is a compound having the structural unit represented by the general formula (7) as a unit constituting the cyclic organopolysiloxane.

一般式(7)中、R1''は、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示す。具体的には、R1''としては、上記一般式(1)で例示した基と同様の基を例示することができる。 In General Formula (7), R 1 ″ represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group, Or a substituted or unsubstituted aralkyl group is shown. Specifically, as R 1 ″, the same groups as those exemplified in the general formula (1) can be exemplified.

これらの中でも、一般式(7)中のR1''としては、炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。このような基を用いることにより、耐熱黄変性・耐光性がより向上する傾向にある。 Among these, as R < 1 '' in General formula (7), a C1-C10 alkyl group is preferable and a methyl group is more preferable. By using such a group, heat yellowing resistance and light resistance tend to be further improved.

ハイドロジェンポリシロキサン(a)は、下記一般式(8)で表される構成単位をさらに有することが好ましい。下記一般式(8)で表される構成単位をさらに有することにより、耐熱黄変性・耐光性がより向上する傾向にある。

Figure 2016160282
(上記一般式(8)中、R1''は、各々独立して、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、kは、前記構成単位の含有割合を表し、0以上の整数を示し、j+kは3〜20の整数である。) The hydrogen polysiloxane (a) preferably further has a structural unit represented by the following general formula (8). By further having a structural unit represented by the following general formula (8), heat-resistant yellowing and light resistance tend to be further improved.
Figure 2016160282
(In the general formula (8), each R 1 ″ is independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and a substituted group. Or an unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted aralkyl group, k represents the content of the structural unit, represents an integer of 0 or more, and j + k is an integer of 3 to 20.)

また、ハイドロジェンポリシロキサン(a)としては、特に限定されないが、例えば、下記一般式(11)〜(13)で表される化合物が挙げられる。ハイドロジェンポリシロキサン(a)は、1種単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。

Figure 2016160282
In addition, the hydrogen polysiloxane (a) is not particularly limited, and examples thereof include compounds represented by the following general formulas (11) to (13). Hydrogen polysiloxane (a) may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
Figure 2016160282

〔オルガノシロキサン(b1)〕
オルガノシロキサン(b1)は、ケイ素原子に直接結合したビニル基を1個有し、加水分解性基を1個以上含有する化合物である。このようなオルガノシロキサン(b1)としては、特に限定されないが、例えば、下記一般式(14)で表される化合物が挙げられる。なお、オルガノシロキサン(b1)には、オルガノポリシロキサンも含まれうる。

Figure 2016160282
(上記一般式(14)中、R3''は、各々独立して、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、及び置換又は非置換のアラルキル基からなる群より選ばれるいずれかを示し、Y’’は、炭素数0〜8の二価の炭化水素基を示し、nは1〜3の整数である。) [Organosiloxane (b1)]
Organosiloxane (b1) is a compound having one vinyl group directly bonded to a silicon atom and containing one or more hydrolyzable groups. The organosiloxane (b1) is not particularly limited, and examples thereof include compounds represented by the following general formula (14). The organosiloxane (b1) can also include an organopolysiloxane.
Figure 2016160282
(In the general formula (14), each R 3 ″ is independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, or a substituted group. Or any one selected from the group consisting of an unsubstituted aryl group and a substituted or unsubstituted aralkyl group, Y ″ represents a divalent hydrocarbon group having 0 to 8 carbon atoms, and n represents 1 to 1 It is an integer of 3.)

なお、加水分解性基としては、特に限定されないが、例えば、メトキシ基やエトキシ基が挙げられる。   In addition, although it does not specifically limit as a hydrolysable group, For example, a methoxy group and an ethoxy group are mentioned.

オルガノシロキサン(b1)は、1種単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。   Organosiloxane (b1) may be used alone or in combination of two or more.

〔オルガノシロキサン(b2)〕
付加反応工程において、ケイ素原子に直接結合したビニル基を1個有し、加水分解性基を有しないオルガノシロキサン(b2)を、さらに付加反応させてもよい。オルガノシロキサン(b2)としては、特に限定されないが、例えば、下記一般式(15)で表される化合物が挙げられる。なお、オルガノシロキサン(b2)には、オルガノポリシロキサンも含まれうる。

Figure 2016160282
(上記一般式(15)中、R4''は、各々独立して、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、及び置換又は非置換のアラルキル基からなる群より選ばれるいずれかを示し、Z’’は、炭素数0〜8の二価の炭化水素基を示す。 [Organosiloxane (b2)]
In the addition reaction step, an organosiloxane (b2) having one vinyl group directly bonded to a silicon atom and having no hydrolyzable group may be further subjected to an addition reaction. Although it does not specifically limit as organosiloxane (b2), For example, the compound represented by following General formula (15) is mentioned. The organosiloxane (b2) can also include an organopolysiloxane.
Figure 2016160282
(In the general formula (15), each R 4 ″ is independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, or a substituted group. Or any one selected from the group consisting of an unsubstituted aryl group and a substituted or unsubstituted aralkyl group, and Z ″ represents a divalent hydrocarbon group having 0 to 8 carbon atoms.

オルガノシロキサン(b2)は、1種単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。   Organosiloxane (b2) may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

〔有機化合物(c)〕
有機化合物(c)は、不飽和結合含有基を2個以上有する化合物である。有機化合物(c)としては、特に限定されないが、例えば、下記一般式(16)で表される化合物が挙げられる。

Figure 2016160282
(上記一般式(16)中、R2''は炭素数2〜10の不飽和結合含有基を示し、X’’は、炭素数0〜8の二価の炭化水素基を示す。) [Organic compound (c)]
The organic compound (c) is a compound having two or more unsaturated bond-containing groups. Although it does not specifically limit as an organic compound (c), For example, the compound represented by following General formula (16) is mentioned.
Figure 2016160282
(In the general formula (16), R 2 ″ represents an unsaturated bond-containing group having 2 to 10 carbon atoms, and X ″ represents a divalent hydrocarbon group having 0 to 8 carbon atoms.)

特に、X’’は、炭素数1〜4の二価の炭化水素基が好ましい。これにより、ヒドロシリル化反応がより効率よく進行する傾向にある。また、X’’が炭素数1〜4の二価の炭化水素基であることにより、有機化合物(c)の沸点が低下し、反応溶液から余剰の有機化合物(c)をより容易に留去できる傾向にある。   In particular, X ″ is preferably a divalent hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms. As a result, the hydrosilylation reaction tends to proceed more efficiently. In addition, when X ″ is a divalent hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, the boiling point of the organic compound (c) decreases, and the excess organic compound (c) is more easily distilled off from the reaction solution. It tends to be possible.

有機化合物(c)は、1種単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。   An organic compound (c) may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

付加反応工程における、有機化合物(c)の使用量(モル量)は、SiH基を残さず最後まで反応させる観点から、ハイドロジェンポリシロキサン(a)のSiH基のモル量、並びに、オルガノシロキサン(b1)及びオルガノシロキサン(b2)のビニル基のモル量の和よりも多くなるように添加することが好ましい。   In the addition reaction step, the amount of use (molar amount) of the organic compound (c) is determined from the viewpoint of reacting to the end without leaving any SiH groups, and the amount of SiH groups in the hydrogen polysiloxane (a), as well as organosiloxane ( It is preferable to add so that it may become larger than the sum of the molar amount of the vinyl group of b1) and organosiloxane (b2).

具体的には、下記式で表される有機化合物(c)の使用量割合は、好ましくは1.2〜3.0であり、より好ましくは1.3〜2.5であり、さらに好ましくは1.4〜2.0である。有機化合物(c)の使用量割合が1.2以上であることにより、反応性がより向上する傾向にある。また、有機化合物(c)の使用量割合が3.0以下であることにより、精製の負荷を低減できる傾向にある。
有機化合物(c)の使用量割合=[有機化合物(c)のモル量]/[(ハイドロジェンポリシロキサン(a)のSiH基のモル量)−(オルガノシロキサン(b1)のビニル基のモル量+オルガノシロキサン(b2)のビニル基のモル量]
Specifically, the usage-amount ratio of the organic compound (c) represented by a following formula becomes like this. Preferably it is 1.2-3.0, More preferably, it is 1.3-2.5, More preferably 1.4-2.0. When the amount of the organic compound (c) used is 1.2 or more, the reactivity tends to be further improved. Moreover, it exists in the tendency which can reduce the load of refinement | purification because the usage-amount ratio of an organic compound (c) is 3.0 or less.
Use amount ratio of organic compound (c) = [molar amount of organic compound (c)] / [(molar amount of SiH group of hydrogen polysiloxane (a)) − (molar amount of vinyl group of organosiloxane (b1)) + Mole amount of vinyl group of organosiloxane (b2)]

〔ヒドロシリル化反応触媒(d)〕
ヒドロシリル化反応触媒(d)としては、特に限定されず、従来公知のものを全て使用することができる。より具体的には、白金黒、塩化第2白金、塩化白金酸、塩化白金酸と一価アルコールとの反応生成物、塩化白金酸とオレフィン類との錯体、白金ビスアセトアセテート等の白金系触媒;パラジウム系触媒、ロジウム系触媒等の、白金系触媒以外の白金族金属系触媒が挙げられる。ヒドロシリル化反応触媒(d)は、1種単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。
[Hydrosilylation reaction catalyst (d)]
The hydrosilylation reaction catalyst (d) is not particularly limited, and any conventionally known catalyst can be used. More specifically, platinum-based catalysts such as platinum black, secondary platinum chloride, chloroplatinic acid, reaction products of chloroplatinic acid and monohydric alcohol, complexes of chloroplatinic acid and olefins, platinum bisacetoacetate, etc. A platinum group metal catalyst other than the platinum catalyst, such as a palladium catalyst and a rhodium catalyst; The hydrosilylation reaction catalyst (d) may be used alone or in combination of two or more.

ヒドロシリル化反応触媒(d)の使用量は、生成物であるオルガノポリシロキサン100質量部に対して、好ましくは0.010〜100ppmであり、より好ましくは0.020〜50ppmであり、さらに好ましくは0.050〜20ppmである。ヒドロシリル化反応触媒(d)の使用量が0.010ppm以上であることにより、十分な触媒効果が得られる傾向にある。また、ヒドロシリル化反応触媒(d)の使用量が100ppm以下であることにより、コストがより低下する傾向にある。   The amount of the hydrosilylation reaction catalyst (d) used is preferably 0.010 to 100 ppm, more preferably 0.020 to 50 ppm, and still more preferably based on 100 parts by mass of the product organopolysiloxane. 0.050 to 20 ppm. When the amount of the hydrosilylation reaction catalyst (d) used is 0.010 ppm or more, a sufficient catalytic effect tends to be obtained. Moreover, it exists in the tendency for cost to fall more because the usage-amount of a hydrosilylation reaction catalyst (d) is 100 ppm or less.

付加反応温度は、好ましくは室温〜110℃であり、より好ましくは40℃〜100℃であり、さらに好ましくは50〜90℃である。また、R2が(メタ)アクリロキシ基の場合は、付加反応温度は、好ましくは40℃〜100℃である。付加反応温度が上記範囲内であることにより、不飽和結合含有基の反応に由来するゲル化をより抑制できる傾向にある。 The addition reaction temperature is preferably room temperature to 110 ° C, more preferably 40 ° C to 100 ° C, and further preferably 50 to 90 ° C. When R 2 is a (meth) acryloxy group, the addition reaction temperature is preferably 40 ° C to 100 ° C. When the addition reaction temperature is within the above range, gelation derived from the reaction of the unsaturated bond-containing group tends to be further suppressed.

〔溶剤〕
上記付加反応は、必要に応じて溶剤中で行ってもよい。溶剤としては、特に限定されないが、例えば、トルエン及びキシレン等の芳香族系溶剤;ヘキサン及びオクタン等の脂肪族系溶剤;メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤;酢酸エチル及び酢酸イソブチル等のエステル系溶剤;ジイソプロピルエーテル、1,4−ジオキサン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエーテル系溶剤;並びに、イソプロパノール等のアルコール系溶剤;又はこれらの混合溶剤が挙げられる。
〔solvent〕
You may perform the said addition reaction in a solvent as needed. The solvent is not particularly limited. For example, aromatic solvents such as toluene and xylene; aliphatic solvents such as hexane and octane; ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; esters such as ethyl acetate and isobutyl acetate Solvents; ether solvents such as diisopropyl ether, 1,4-dioxane, diethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate; and alcohol solvents such as isopropanol; or a mixture thereof A solvent is mentioned.

付加反応の雰囲気は、空気中、不活性気体中のいずれでもよい。このなかでも、得られるオルガノポリシロキサンの着色が少ない点で、窒素、アルゴン、及びヘリウム等の不活性気体中が好ましい。また、R2が(メタ)アクリロキシ基の場合は、(メタ)アクリロキシ基の重合反応を防止する目的で少量の酸素を導入することもできる。 The atmosphere for the addition reaction may be either air or inert gas. Among these, in an inert gas such as nitrogen, argon, and helium is preferable in that the resulting organopolysiloxane is less colored. Further, when R 2 is a (meth) acryloxy group, a small amount of oxygen can be introduced for the purpose of preventing the polymerization reaction of the (meth) acryloxy group.

また、R2が(メタ)アクリロキシ基の場合は、(メタ)アクリロキシ基の重合反応を防止する目的で、反応系に、フェノチアジン,ヒンダードフェノール系化合物、アミン系化合物、及びキノン系化合物等の重合禁止剤を添加しておくことが好ましい。このような重合禁止剤の種類と量は、それらの添加によってヒドロシリル化反応の進行を妨げることなく、(メタ)アクリロキシ基、すなわち、アクリロキシ基又はメタアクリロキシ基の重合反応を防止することができれば特に限定されない。 Further, when R 2 is a (meth) acryloxy group, for the purpose of preventing the polymerization reaction of the (meth) acryloxy group, the reaction system includes phenothiazine, a hindered phenol compound, an amine compound, and a quinone compound. It is preferable to add a polymerization inhibitor. The type and amount of such a polymerization inhibitor are particularly limited as long as the addition of them can prevent the polymerization reaction of (meth) acryloxy groups, that is, acryloxy groups or methacryloxy groups, without hindering the progress of the hydrosilylation reaction. Not.

〔触媒除去工程〕
オルガノポリシロキサンの製造方法は、付加反応後に、オルガノポリシロキサンからヒドロシリル化反応触媒(d)を除去する触媒除去工程を有してもよい。触媒除去としては、特に限定されないが、例えば、水洗、活性アルミナや活性炭等の吸着材によって除去する方法が挙げられる。
[Catalyst removal step]
The method for producing an organopolysiloxane may have a catalyst removal step of removing the hydrosilylation reaction catalyst (d) from the organopolysiloxane after the addition reaction. Although it does not specifically limit as catalyst removal, For example, the method of removing with adsorption materials, such as washing with water and activated alumina, activated carbon, is mentioned.

ヒドロシリル化反応触媒(d)の残留量(含有量)は、生成物であるオルガノポリシロキサン100質量部に対して、好ましくは0〜0.0010質量部であり、より好ましくは0〜0.00080質量部であり、さらに好ましくは0〜0.00050質量部である。ヒドロシリル化反応触媒(d)の残留量が0.0010質量部以下であることにより、耐熱黄変性、耐光性がより向上する傾向にある。ヒドロシリル化反応触媒(d)の残留量は、硬化性樹脂組成物を分析することにより測定できる。   The residual amount (content) of the hydrosilylation reaction catalyst (d) is preferably 0 to 0.0010 parts by mass, more preferably 0 to 0.00080 parts with respect to 100 parts by mass of the product organopolysiloxane. It is a mass part, More preferably, it is 0-0.00050 mass part. When the residual amount of the hydrosilylation reaction catalyst (d) is 0.0010 parts by mass or less, heat yellowing resistance and light resistance tend to be further improved. The residual amount of the hydrosilylation reaction catalyst (d) can be measured by analyzing the curable resin composition.

また、余剰の有機化合物(c)及び必要に応じて用い得る溶剤等は、加熱及び/又は減圧下で留去してもよい。   The surplus organic compound (c) and the solvent that can be used as necessary may be distilled off under heating and / or reduced pressure.

なお、上記製造方法において、ハイドロジェンポリシロキサン(a)、オルガノシロキサン(b1)、オルガノシロキサン(b2)、及び有機化合物(c)の使用量を調整することにより、オルガノポリシロキサン(I)と、オルガノポリシロキサン(II)とを同時に製造することができる。また、上記オルガノポリシロキサンの製造方法により製造したオルガノポリシロキサン(I)と、別途製造したオルガノポリシロキサン(II)とを混合する方法も挙げられる。   In addition, in the said manufacturing method, by adjusting the usage-amount of hydrogen polysiloxane (a), organosiloxane (b1), organosiloxane (b2), and organic compound (c), organopolysiloxane (I), Organopolysiloxane (II) can be produced simultaneously. Moreover, the method of mixing organopolysiloxane (I) manufactured with the manufacturing method of the said organopolysiloxane, and organopolysiloxane (II) manufactured separately is also mentioned.

〔混合工程〕
混合工程は、得られたオルガノポリシロキサンと、無機粒子と、を混合する工程である。当該工程により、硬化性樹脂組成物中に無機粒子が分散する。混合方法としては、特に限定されないが、オルガノポリシロキサンを含む溶液と、無機粒子を含む溶液とを混合して溶媒を除去する湿式法、ビーズミル分散法、ジェットミル分散法、ボールミル分散法、超音波ホモジナイザ分散法、ペイントシェイカー分散法等が挙げられる。このうち、分散性と簡易性の観点から、湿式法、ビーズミル分散法、ジェットミル分散法がより好ましい。
[Mixing process]
The mixing step is a step of mixing the obtained organopolysiloxane and inorganic particles. By this step, inorganic particles are dispersed in the curable resin composition. The mixing method is not particularly limited, but is a wet method in which a solution containing an organopolysiloxane and a solution containing inorganic particles are mixed to remove the solvent, a bead mill dispersion method, a jet mill dispersion method, a ball mill dispersion method, an ultrasonic wave. Examples thereof include a homogenizer dispersion method and a paint shaker dispersion method. Among these, from the viewpoint of dispersibility and simplicity, a wet method, a bead mill dispersion method, and a jet mill dispersion method are more preferable.

〔用途〕
本実施形態の硬化性樹脂組成物は、硬化前は、液状又は固形であり、所定の処理を施すことにより硬化物となりうる。例えば、加熱処理を施すことにより、硬化物が得られる。
硬化温度は通常100〜250℃である。
[Use]
The curable resin composition of the present embodiment is liquid or solid before curing, and can be cured by applying a predetermined treatment. For example, a cured product can be obtained by heat treatment.
The curing temperature is usually 100 to 250 ° C.

硬化性樹脂組成物の硬化方法、成形方法は、特に限定されない。硬化性樹脂組成物が液状の場合は、例えば、注型、低圧トランスファ成形、ポッティング、ディッピング、加圧成形、及び射出成形によって成形することができる。   The curing method and molding method of the curable resin composition are not particularly limited. When the curable resin composition is liquid, it can be molded by, for example, casting, low-pressure transfer molding, potting, dipping, pressure molding, and injection molding.

硬化性樹脂組成物が固形の場合は、プレス機、低圧トランスファ成形機等を用いて加圧下で加熱硬化させて、成形することができる。   When the curable resin composition is solid, it can be molded by heating and curing under pressure using a press machine, a low-pressure transfer molding machine or the like.

本実施形態の硬化性樹脂組成物は、光半導体用封止材、ダイボンディングペースト等の光半導体用ダイボンド材、チップの周囲を被覆するコーティング材、レンズ材等の光半導体装置用途に好適に使用することができる。   The curable resin composition of this embodiment is suitably used for optical semiconductor device applications such as optical semiconductor encapsulants, die bonding materials for optical semiconductors such as die bonding paste, coating materials covering the periphery of chips, and lens materials. can do.

この場合、光半導体としては、LEDランプ、チップLED、半導体レーザ、フォトカプラ、及びフォトダイオード等が挙げられる。   In this case, examples of the optical semiconductor include an LED lamp, a chip LED, a semiconductor laser, a photocoupler, and a photodiode.

また、本実施形態の硬化性樹脂組成物の硬化物を、光半導体の封止材として使用する前記光半導体装置は、ハウジング材と、当該ハウジング内に設けられたシリコンチップと、本実施形態の硬化性樹脂組成物の硬化物であり前記シリコンチップを封止する封止材とを具備する構成を有している。   Further, the optical semiconductor device using the cured product of the curable resin composition of the present embodiment as a sealing material for the optical semiconductor includes a housing material, a silicon chip provided in the housing, It is the hardened | cured material of curable resin composition, and has the structure which comprises the sealing material which seals the said silicon chip.

ハウジング材の材料は、特に限定されないが、例えば、ポリフタルアミド等の芳香族ポリアミド、66ナイロン等のエニジニアリングプラスチック、セラミック等が挙げられ、ポリフタルアミドの場合、特に高い密着性が発現される。   The material of the housing material is not particularly limited, and examples thereof include aromatic polyamides such as polyphthalamide, engineering plastics such as 66 nylon, and ceramics. In the case of polyphthalamide, particularly high adhesion is exhibited. The

ハウジング材にガラス繊維を含有させることにより接着強度が高くなり好ましい。ガラス繊維の含有量は、ハウジング材の質量に対して、好ましくは5〜40質量%であり、より好ましくは10〜30質量%であり、特に好ましくは15〜25質量%である。ガラス繊維の含有量がこれら数値範囲内にあることにより、密着性がより向上する傾向にある。   It is preferable to add glass fiber to the housing material because the adhesive strength is increased. The glass fiber content is preferably 5 to 40% by mass, more preferably 10 to 30% by mass, and particularly preferably 15 to 25% by mass with respect to the mass of the housing material. When the glass fiber content is within these numerical ranges, the adhesion tends to be further improved.

本実施形態の硬化性樹脂組成物は、その耐熱黄変性や高い透明性を活かして、眼鏡レンズ、光学機器用レンズ、CDやDVDのピックアップ用レンズ、自動車ヘッドランプ用レンズ、及びプロジェクター用レンズ等のレンズ材料、光ファイバー、光導波路、光フィルター、光学用接着剤、光ディスク基板、ディスプレイ基板、ナノインプリント用硬化性樹脂等、各種光学部材にも好適に使用される。   The curable resin composition of the present embodiment utilizes the heat-resistant yellowing property and high transparency to provide spectacle lenses, optical device lenses, CD and DVD pickup lenses, automobile headlamp lenses, projector lenses, and the like. It is also suitably used for various optical members such as lens materials, optical fibers, optical waveguides, optical filters, optical adhesives, optical disk substrates, display substrates, and curable resins for nanoimprinting.

また、本実施形態の硬化性樹脂組成物は、光半導体用封止材としても用いることができ、その硬化物は、半導体パッケージ用の透明樹脂として好適である。本実施形態の光半導体パッケージは、上記光半導体用封止材を成形することにより得られるものである。   Moreover, the curable resin composition of this embodiment can also be used as a sealing material for optical semiconductors, and the cured product is suitable as a transparent resin for semiconductor packages. The optical semiconductor package of the present embodiment is obtained by molding the optical semiconductor sealing material.

前記光半導体用封止材は、プラズマ処理後にプライマー処理された被処理物に、直接ディスペンサーやスピンナー等の塗布装置を用いて塗布することにより形成される。当該塗布された光半導体用封止材は、硬化させたり、成型機等を用いて硬化させたりしてもよい。   The optical semiconductor encapsulant is formed by directly applying an application material such as a dispenser or a spinner to an object to be processed with a primer after the plasma treatment. The applied optical semiconductor sealing material may be cured or cured using a molding machine or the like.

以下、具体的な実施例、比較例を挙げて本発明を説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described with reference to specific examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.

実施例、比較例においては以下の方法により測定及び評価を行った。   In Examples and Comparative Examples, measurement and evaluation were performed by the following methods.

<SiHの反応率の算出>
反応開始前の溶液と、サンプリングした反応溶液(後述する実施例、比較例中のオルガノポリシロキサン合成における反応溶液であって、反応開始から72時間経過後の溶液)0.05gを重水素化クロロホルム溶媒1gにそれぞれ溶解して測定試料とした。この測定試料の1H NMRの測定を、日本分光社製α−400(400MHz)を用いて積算回数100回にて行い、得られた結果を解析した。
<Calculation of reaction rate of SiH>
Deuterated chloroform was added to 0.05 g of the solution before the start of the reaction and the sampled reaction solution (the reaction solution in the synthesis of organopolysiloxane in the examples and comparative examples described later and 72 hours after the start of the reaction). Each sample was dissolved in 1 g of a solvent to prepare a measurement sample. This measurement sample was subjected to 1 H NMR measurement using α-400 (400 MHz) manufactured by JASCO Corporation, and the obtained results were analyzed.

SiHの反応率は、反応前と反応後のSi−CH3に由来する0.2ppmのピークとSiHに由来する4.6ppmのピークとの面積比を求め、下記式に従い、算出した。
SiHの反応率(%)=[((X1−Y1)/X1]×100
X1:反応前のピーク面積比:(反応前のSiHのピーク面積)/(反応前のSi−CH3のピーク面積)
Y1:反応後のピーク面積比:(反応後のSiHのピーク面積)/(反応後のSi−CH3のピーク面積)
The reaction rate of SiH was calculated according to the following formula by determining the area ratio between the 0.2 ppm peak derived from Si—CH 3 before the reaction and the 4.6 ppm peak derived from SiH.
SiH reaction rate (%) = [((X1-Y1) / X1] × 100
X1: Ratio of peak area before reaction: (peak area of SiH before reaction) / (peak area of Si—CH 3 before reaction)
Y1: Peak area ratio after reaction: (SiH peak area after reaction) / (peak area of Si—CH 3 after reaction)

<分子構造の同定>
後述する実施例、比較例において作製したオルガノポリシロキサン(A1)〜(A2)及び(B1)の各サンプル20mgを、1gの重水素化クロロホルム溶媒にそれぞれ溶解した溶液を測定試料とした。この測定試料の1H NMRの測定を、日本分光社製α−400(400MHz)を用いて積算回数200回にて行い、得られた結果を解析した。
<Identification of molecular structure>
A solution obtained by dissolving 20 mg of each of the organopolysiloxanes (A1) to (A2) and (B1) prepared in Examples and Comparative Examples described later in 1 g of deuterated chloroform solvent was used as a measurement sample. 1 H NMR measurement was performed on this measurement sample using α-400 (400 MHz) manufactured by JASCO Corporation, and the obtained results were analyzed.

また、各サンプル0.3gを、1gの重水素化クロロホルム溶媒に溶解したそれぞれ溶液を測定試料とした。この測定試料の13C NMRの測定を、日本分光社製α−400(400MHz)を用いて積算回数20000回にて行い、得られた結果を解析した。 In addition, each solution obtained by dissolving 0.3 g of each sample in 1 g of deuterated chloroform solvent was used as a measurement sample. The measurement of 13 C NMR of this measurement sample was performed using α-400 (400 MHz) manufactured by JASCO Corporation at an integration number of 20000 times, and the obtained results were analyzed.

さらに、各サンプル0.15gを、1gの重水素化クロロホルム溶媒にそれぞれ溶解し、クロム(III)アセチルアセトネート(Cr(acac)3)をサンプルに対して8質量%添加した溶液を測定試料とした。この測定試料の29Si NMRの測定を、日本分光社製α−400(400MHz)を用いて積算回数4000回にて行い、得られた結果を解析した。 Further, 0.15 g of each sample was dissolved in 1 g of deuterated chloroform solvent, and a solution in which 8 mass% of chromium (III) acetylacetonate (Cr (acac) 3 ) was added to the sample was used as a measurement sample. did. The measurement of 29 Si NMR of this measurement sample was performed using α-400 (400 MHz) manufactured by JASCO Corporation at a total number of 4000 times, and the obtained results were analyzed.

1H NMR、13C NMR、及び29Si NMRにより得られた結果を解析して、オルガノポリシロキサン(A1)〜(A2)及び(B1)の分子構造を同定した。 The results obtained by 1 H NMR, 13 C NMR, and 29 Si NMR were analyzed to identify the molecular structures of organopolysiloxanes (A1) to (A2) and (B1).

<不飽和結合含有基の官能基当量の算出>
後述する実施例、比較例において作製したオルガノポリシロキサン(A1)〜(A2)及び(B1)の各サンプル30mgを、1gの重水素化クロロホルム溶媒にそれぞれ溶解した溶液を測定試料とした。この測定試料の1H NMRの測定を、日本分光社製α−400(400MHz)を用いて積算回数200回にて行い、得られた結果を解析してオルガノポリシロキサン1分子中の平均組成を求めた。
<Calculation of functional group equivalent of unsaturated bond-containing group>
A solution obtained by dissolving 30 mg of each of the organopolysiloxanes (A1) to (A2) and (B1) prepared in Examples and Comparative Examples described later in 1 g of deuterated chloroform solvent was used as a measurement sample. The measurement of 1 H NMR of this measurement sample was carried out using α-400 (400 MHz) manufactured by JASCO Corporation at a total number of 200 times, and the obtained results were analyzed to determine the average composition in one molecule of organopolysiloxane. Asked.

また、各サンプル0.15gを、1gの重水素化クロロホルム溶媒にそれぞれ溶解し、Cr(acac)3をサンプルに対して8質量%添加した溶液を測定試料とした。この測定試料の29Si NMRの測定を、日本分光社製α−400(400MHz)を用いて積算回数4000回にて行い、得られた結果を解析してオルガノポリシロキサン1分子中の平均組成を求めた。 Further, 0.15 g of each sample was dissolved in 1 g of deuterated chloroform solvent, and a solution obtained by adding 8 mass% of Cr (acac) 3 to the sample was used as a measurement sample. The measurement of 29 Si NMR of this measurement sample was performed using α-400 (400 MHz) manufactured by JASCO Corporation at a total number of 4000 times, and the obtained results were analyzed to determine the average composition in one molecule of organopolysiloxane. Asked.

1H NMR及び29Si NMRにより得られた結果を解析して、不飽和結合含有基((メタ)アクリロキシ基)の官能基当量(官能基1モル当たりの質量)を算出した。 The results obtained by 1 H NMR and 29 Si NMR were analyzed, and the functional group equivalent (mass per mole of functional group) of the unsaturated bond-containing group ((meth) acryloxy group) was calculated.

<重量平均分子量の算出>
後述する実施例、比較例において作製したオルガノポリシロキサン(A1)〜(A2)及び(B1)の各サンプル100mgを、2gのクロロホルム溶媒にそれぞれ溶解し、0.45μmのフィルターにて濾過したものを測定試料溶液とした。
<Calculation of weight average molecular weight>
100 mg of each sample of organopolysiloxanes (A1) to (A2) and (B1) prepared in Examples and Comparative Examples described later were dissolved in 2 g of a chloroform solvent and filtered through a 0.45 μm filter. A measurement sample solution was obtained.

カラム温度40℃にて、溶離液(クロロホルム)を流量1mL/分の条件下で、下記構成のカラムに通した。
(カラム構成)
ガードカラム:東ソー(株)社製TskguardcolumnH−H(登録商標)
分離カラム :東ソー(株)製Tskgel(登録商標)G5000H、及び東ソー(株)製Tskgel(登録商標)G3000H、東ソー(株)製Tskgel(登録商標)G1000Hの各1本ずつを直列に配置
The eluent (chloroform) was passed through a column having the following constitution at a column temperature of 40 ° C. under a flow rate of 1 mL / min.
(Column configuration)
Guard column: Tsquardcolumn H-H (registered trademark) manufactured by Tosoh Corporation
Separation column: Tskgel (registered trademark) G5000H manufactured by Tosoh Corporation, Tskel (registered trademark) G3000H manufactured by Tosoh Corporation, and Tskel (registered trademark) G1000H manufactured by Tosoh Corporation are arranged in series.

また、Polymer Laboratories社製の分子量7,500,000、2,560,000、841,700、320,000、148,000、59,500、28,500、10,850、2,930、580の、分子量既知の単分散ポリポリスチレン標準物質、及びスチレンモノマー(分子量104)のRI検出による溶出時間から求めた検量線を予め作成した。測定試料溶液の溶出時間と検出強度から、上記の検量線を用いて分子量を算出した。   In addition, molecular weights 7,500,000, 2,560,000, 841,700, 320,000, 148,000, 59,500, 28,500, 10,850, 2,930, 580 manufactured by Polymer Laboratories A calibration curve obtained in advance from the elution time by RI detection of a monodisperse polypolystyrene standard substance having a known molecular weight and a styrene monomer (molecular weight 104) was prepared in advance. From the elution time and detection intensity of the measurement sample solution, the molecular weight was calculated using the above calibration curve.

<無機粒子の屈折率>
無機粒子の屈折率は、標準屈折液(Cargill社製)を使用して、以下の方法により求めた。但し、所望の屈折率の標準屈折液が入手出来ない場合は、屈折率既知の試薬で代用した。
(1)無機粒子の分散液をエバポレーターに採り、分散媒を蒸発させた。
(2)これを120℃の真空乾燥機で乾燥し、粉末にした。
(3)屈折率既知の標準屈折液を、2〜3滴ガラス板上に滴下し、これに上記粉末を混合した。
(4)上記(3)の操作を種々の標準屈折液で行い、混合液が透明になったときの標準屈折液の屈折率を無機粒子の屈折率とした。
<Refractive index of inorganic particles>
The refractive index of the inorganic particles was determined by the following method using a standard refractive liquid (manufactured by Cargill). However, when a standard refractive liquid having a desired refractive index was not available, a reagent with a known refractive index was substituted.
(1) The dispersion liquid of inorganic particles was taken in an evaporator and the dispersion medium was evaporated.
(2) This was dried with a vacuum dryer at 120 ° C. to obtain powder.
(3) Two to three drops of a standard refractive liquid with a known refractive index was dropped on the glass plate, and the above powder was mixed therewith.
(4) The operation of (3) above was performed with various standard refractive liquids, and the refractive index of the standard refractive liquid when the mixed liquid became transparent was defined as the refractive index of the inorganic particles.

<粘度測定>
後述する実施例、比較例において作製したオルガノポリシロキサン(A1)〜(A2)及び(B1)の25℃における粘度を、東機産業社製TVE−22Hを用い、測定した。
<Viscosity measurement>
The viscosity at 25 ° C. of organopolysiloxanes (A1) to (A2) and (B1) prepared in Examples and Comparative Examples described later was measured using TVE-22H manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.

<耐熱黄変性>
後述する実施例、比較例において作製した厚さ3mmの硬化物を測定用サンプルとして用い、コニカミノルタ社製、分光測色計CM−3600d(商品名)でYI(黄色度)を測定した。次に、各硬化物をアルミホイルに包み、空気下で150℃、150時間加熱処理を行った。その後、再びコニカミノルタ社製、分光測色計CM−3600d(商品名)でYI(黄色度)を測定した。この加熱処理前後におけるYIの変化をΔYIとし、下記評価基準により、耐熱黄変性を評価した。
(評価基準)
◎:ΔYIが1.0未満である場合
○:ΔYIが1.0以上3.0未満である場合
×:ΔYIが3.0以上である場合
<Heat resistant yellowing>
YI (yellowness) was measured with a spectrocolorimeter CM-3600d (trade name) manufactured by Konica Minolta, Inc. using a cured product having a thickness of 3 mm prepared in Examples and Comparative Examples described later. Next, each cured product was wrapped in aluminum foil and heat-treated at 150 ° C. for 150 hours under air. Thereafter, YI (yellowness) was measured again with a spectrocolorimeter CM-3600d (trade name) manufactured by Konica Minolta. The change in YI before and after the heat treatment was ΔYI, and heat yellowing was evaluated according to the following evaluation criteria.
(Evaluation criteria)
◎: When ΔYI is less than 1.0 ○: When ΔYI is 1.0 or more and less than 3.0 ×: When ΔYI is 3.0 or more

<耐光性>
後述する実施例、比較例において作製した厚さ3mmの硬化物を測定用サンプルとして用い、コニカミノルタ社製、分光測色計CM−3600d(商品名)でYI(黄色度)を測定した。次に、各硬化物を50℃一定にした恒温乾燥機中にセットし、365nmバンドパスフィルターを備えたUV照射装置(ウシオ電機社製、商品名:SP−7)を用いて、365nmの波長の光を照度4W/cm2で100時間照射した。その後、再びコニカミノルタ社製分光測色計CM−3600d(商品名)でYI(黄色度)を測定した。このUV照射前後におけるYIの変化をΔYIとし、下記評価基準により、耐光性を評価した。
(評価基準)
◎:ΔYIが1.0未満である場合
○:ΔYIが1.0以上3.0未満である場合
×:ΔYIが3.0以上である場合
<Light resistance>
YI (yellowness) was measured with a spectrocolorimeter CM-3600d (trade name) manufactured by Konica Minolta, Inc. using a cured product having a thickness of 3 mm prepared in Examples and Comparative Examples described later. Next, each cured product is set in a constant temperature dryer set at 50 ° C., and a wavelength of 365 nm is used using a UV irradiation apparatus (trade name: SP-7, manufactured by USHIO INC.) Equipped with a 365 nm bandpass filter. Was irradiated at an illuminance of 4 W / cm 2 for 100 hours. Thereafter, YI (yellowness) was again measured with a spectrocolorimeter CM-3600d (trade name) manufactured by Konica Minolta. The change in YI before and after the UV irradiation was ΔYI, and the light resistance was evaluated according to the following evaluation criteria.
(Evaluation criteria)
◎: When ΔYI is less than 1.0 ○: When ΔYI is 1.0 or more and less than 3.0 ×: When ΔYI is 3.0 or more

<透明性>
後述する実施例、比較例において作製した厚さ1mmの硬化物を測定用サンプルとして用い、日本電色工業株式会社製ヘーズメーターNDH 5000W(商品名)を用いて、「JIS K7105:プラスチックの光学的特性試験方法」に準じて、全光線透過率を測定した。得られた全光線透過率に基づいて、下記評価基準により、透明性を評価した。
(評価基準)
◎:全光線透過率が95%以上である場合
○:全光線透過率が85%以上95%未満である場合
×:全光線透過率が85%未満である場合
<Transparency>
A cured product having a thickness of 1 mm prepared in Examples and Comparative Examples described later was used as a measurement sample, and a haze meter NDH 5000W (trade name) manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. was used. “JIS K7105: Plastic optical The total light transmittance was measured according to the “characteristic test method”. Based on the obtained total light transmittance, transparency was evaluated according to the following evaluation criteria.
(Evaluation criteria)
◎: When the total light transmittance is 95% or more ○: When the total light transmittance is 85% or more and less than 95% ×: When the total light transmittance is less than 85%

<屈折率>
後述する実施例、比較例において作製した厚さ1mmの硬化物を測定用サンプルとして用い、Metricon社製MODEL 2010 PRISM COUPLER(商品名)を用いて、モード:シングルフィルムモード、測定波長:633nm、25℃で屈折率を測定した。
(評価基準)
◎:屈折率が1.60以上である場合
○:屈折率が1.50以上1.60未満である場合
×:屈折率が1.50未満である場合
<Refractive index>
A cured product having a thickness of 1 mm prepared in Examples and Comparative Examples described later is used as a measurement sample, and using MODEL 2010 PRISM COUPLER (trade name) manufactured by Metricon, mode: single film mode, measurement wavelength: 633 nm, 25 The refractive index was measured at ° C.
(Evaluation criteria)
◎: When the refractive index is 1.60 or more ○: When the refractive index is 1.50 or more and less than 1.60 ×: When the refractive index is less than 1.50

[実施例1]
<オルガノポリシロキサン(A1)の製造>
撹拌装置、温度計、還流冷却器を取り付けた0.5Lの3つ口フラスコに、下記成分を添加し、窒素ガス雰囲気下で攪拌しながら80℃に加温した。
(a)成分 :1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン15g(0.06モル)
(b1)成分:ビニルトリメトキシシラン3.7g(0.03モル)
(b2)成分:ジメチルフェニルビニルシラン28.34(0.18モル)
(c)成分 :3−ブテニルメタクリレート14g(0.1モル)
溶媒 :トルエン216g、
重合禁止剤 :ハイドロキノンモノメチルエーテル0.05g
[Example 1]
<Production of organopolysiloxane (A1)>
The following components were added to a 0.5 L three-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a reflux condenser, and heated to 80 ° C. with stirring in a nitrogen gas atmosphere.
(A) Component: 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane 15 g (0.06 mol)
Component (b1): 3.7 g (0.03 mol) of vinyltrimethoxysilane
Component (b2): Dimethylphenylvinylsilane 28.34 (0.18 mol)
(C) Component: 14 g (0.1 mol) of 3-butenyl methacrylate
Solvent: 216 g of toluene,
Polymerization inhibitor: Hydroquinone monomethyl ether 0.05 g

その後、塩化白金酸のイソプロパノール溶液を、白金金属が、付加反応生成物であるオルガノポリシロキサンの重量に対して20ppmとなる量添加した。ヒドロシリル化反応の開始を確認した後、この反応系を保温、水冷又は空冷によって55〜65℃に保ちながら、72時間攪拌した。なお、「付加反応生成物であるオルガノポリシロキサンの重量」とは、(a)成分に対して(b1)成分及び(b2)成分がすべて反応し、かつ残る反応点に対し(c)成分が反応した場合のオルガノポリシロキサンの重量をいう。   Thereafter, an isopropanol solution of chloroplatinic acid was added in an amount such that the platinum metal was 20 ppm based on the weight of the organopolysiloxane as an addition reaction product. After confirming the start of the hydrosilylation reaction, the reaction system was stirred for 72 hours while being kept at 55 to 65 ° C. by heat insulation, water cooling or air cooling. The “weight of the organopolysiloxane that is an addition reaction product” means that the component (b1) and the component (b2) all react with the component (a) and the component (c) with respect to the remaining reaction point. The weight of organopolysiloxane when reacted.

反応開始から72時間経過後のフラスコ内容物の分析を行ったところ、SiH基の反応率は95%であった。その後、活性炭処理し、揮発成分を留去して、下記一般式(15)で表されるオルガノポリシロキサン(A1)51gを得た。得られたオルガノポリシロキサン(A1)の不飽和結合含有基の官能基当量は1083g/molであり、GPC測定から算出した重量平均分子量は800であり、25℃における粘度は37mPa・sであった。また、ICP/MSにより残存するヒドロシリル化反応触媒量を測定したところ、得られたオルガノポリシロキサン100質量部に対して0.0002質量部であった。

Figure 2016160282
29Si NMR測定の結果、構成単位に相当する次に示すピークが観察された。
F1:−19.9ppm
M1:−41.5ppm
M2:−1.2ppm
S:−34.6ppm
構成単位F1と構成単位M1の比率(a/b)は、2.0であった。
構成単位F1と構成単位Sの比率(d/a)は、0.05であった。 When the contents of the flask after 72 hours from the start of the reaction were analyzed, the reaction rate of SiH groups was 95%. Then, activated carbon treatment was performed, and volatile components were distilled off to obtain 51 g of an organopolysiloxane (A1) represented by the following general formula (15). The functional group equivalent of the unsaturated bond-containing group of the obtained organopolysiloxane (A1) was 1083 g / mol, the weight average molecular weight calculated from GPC measurement was 800, and the viscosity at 25 ° C. was 37 mPa · s. . Moreover, when the amount of hydrosilylation reaction catalyst remaining by ICP / MS was measured, it was 0.0002 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the obtained organopolysiloxane.
Figure 2016160282
As a result of 29 Si NMR measurement, the following peaks corresponding to the structural units were observed.
F1: -19.9 ppm
M1: -41.5ppm
M2: -1.2 ppm
S: -34.6 ppm
The ratio (a / b) between the structural unit F1 and the structural unit M1 was 2.0.
The ratio (d / a) between the structural unit F1 and the structural unit S was 0.05.

<硬化性樹脂組成物及び硬化物の製造と特性評価>
オルガノポリシロキサン(A1)100質量部に、酸化ジルコニウム(E1)のメタノール分散液(堺化学社製、商品名:SZR−M、平均粒径:3nm、屈折率:2.2、30質量%溶液)を酸化ジルコニウム換算で100質量部混合し、50℃で12時間撹拌した。その後、揮発成分を留去して硬化性樹脂組成物を得た。
<Manufacture and characteristic evaluation of curable resin composition and cured product>
In 100 parts by mass of organopolysiloxane (A1), a methanol dispersion of zirconium oxide (E1) (manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd., trade name: SZR-M, average particle size: 3 nm, refractive index: 2.2, 30% by mass solution) ) Was mixed with 100 parts by mass in terms of zirconium oxide and stirred at 50 ° C. for 12 hours. Thereafter, volatile components were distilled off to obtain a curable resin composition.

得られた硬化性樹脂組成物100質量部に、熱ラジカル発生剤としてtert−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノアート(化薬アクゾ社製、商品名:トリゴノックス121−50E、50質量%溶液)2.5質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌し、その後、脱泡した。   To 100 parts by mass of the obtained curable resin composition, tert-amylperoxy-2-ethylhexanoate (manufactured by Kayaku Akzo, trade name: Trigonox 121-50E, 50% by mass solution) as a thermal radical generator. 2.5 parts by mass were mixed under nitrogen, stirred until the whole became uniform, and then degassed.

この硬化性樹脂組成物をSUS316製の型枠に流し込み、100℃で4時間、更に150℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の特性の評価結果を下記表1に示す。   This curable resin composition was poured into a mold made of SUS316 and cured at 100 ° C. for 4 hours and further at 150 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. The evaluation results of the properties of the obtained cured product are shown in Table 1 below.

[実施例2]
<硬化性樹脂組成物及び硬化物の製造と特性評価>
オルガノポリシロキサン(A1)100質量部に、チタン酸バリウム(E2)のメチルセロソルブ分散液(日揮触媒化成社製、平均粒径:10nm、屈折率:2.3、10質量%溶液)をチタン酸バリウム換算で100質量部混合し、50℃で12時間撹拌した。その後、揮発成分を留去して硬化性樹脂組成物を得た。
[Example 2]
<Manufacture and characteristic evaluation of curable resin composition and cured product>
Methyl cellosolve dispersion of barium titanate (E2) (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd., average particle size: 10 nm, refractive index: 2.3, 10 mass% solution) is titanic acid to 100 parts by mass of organopolysiloxane (A1). 100 parts by mass in terms of barium were mixed and stirred at 50 ° C. for 12 hours. Thereafter, volatile components were distilled off to obtain a curable resin composition.

得られた硬化性樹脂組成物100質量部に、熱ラジカル発生剤としてtert−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノアート(化薬アクゾ社製、商品名:トリゴノックス121−50E、50質量%溶液)2.5質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌し、その後、脱泡した。   To 100 parts by mass of the obtained curable resin composition, tert-amylperoxy-2-ethylhexanoate (manufactured by Kayaku Akzo, trade name: Trigonox 121-50E, 50% by mass solution) as a thermal radical generator. 2.5 parts by mass were mixed under nitrogen, stirred until the whole became uniform, and then degassed.

この硬化性樹脂組成物をSUS316製の型枠に流し込み、100℃で4時間、更に150℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の特性の評価結果を下記表1に示す。   This curable resin composition was poured into a mold made of SUS316 and cured at 100 ° C. for 4 hours and further at 150 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. The evaluation results of the properties of the obtained cured product are shown in Table 1 below.

[実施例3]
<不飽和結合含有基を有するオルガノポリシロキサン(A2)の製造>
撹拌装置、温度計、還流冷却器を取り付けた0.5Lの3つ口フラスコに、下記成分を添加し、窒素ガス雰囲気下で攪拌しながら80℃に加温した。
(a)成分 :1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン20g(0.08モル)
(b1)成分:ビニルトリメトキシシラン4.9g(0.03モル)
(b2)成分:ビニルトリメチルシラン23.3g(0.2モル)
(c)成分 :3−ブテニルメタクリレート19g(0.1モル)
溶媒 :トルエン230g、
重合禁止剤 :ハイドロキノンモノメチルエーテル0.05g
[Example 3]
<Production of organopolysiloxane (A2) having an unsaturated bond-containing group>
The following components were added to a 0.5 L three-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a reflux condenser, and heated to 80 ° C. with stirring in a nitrogen gas atmosphere.
(A) Component: 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane 20 g (0.08 mol)
Component (b1): 4.9 g (0.03 mol) vinyltrimethoxysilane
Component (b2): 23.3 g (0.2 mol) of vinyltrimethylsilane
(C) component: 19 g (0.1 mol) of 3-butenyl methacrylate
Solvent: 230 g of toluene,
Polymerization inhibitor: Hydroquinone monomethyl ether 0.05 g

その後、塩化白金酸のイソプロパノール溶液を、白金金属が、付加反応生成物であるオルガノポリシロキサンの重量に対して20ppmとなる量添加した。ヒドロシリル化反応の開始を確認した後、この反応系を保温、水冷又は空冷によって55〜65℃に保ちながら、72時間攪拌した。   Thereafter, an isopropanol solution of chloroplatinic acid was added in an amount such that the platinum metal was 20 ppm based on the weight of the organopolysiloxane as an addition reaction product. After confirming the start of the hydrosilylation reaction, the reaction system was stirred for 72 hours while being kept at 55 to 65 ° C. by heat insulation, water cooling or air cooling.

反応開始から72時間経過後のフラスコ内容物の分析を行ったところ、SiH基の反応率は96%であった。その後、活性炭処理し、揮発成分を留去して、下記一般式(16)で表されるオルガノポリシロキサン(A2)53gを得た。得られたオルガノポリシロキサン(A2)の官能基当量は867g/molであり、GPC測定から算出した重量平均分子量は700であり、25℃における粘度は29mPa・sであった。また、ICP/MSにより残存するヒドロシリル化反応触媒量を測定したところ、得られたオルガノポリシロキサン100質量部に対して0.0003質量部であった。

Figure 2016160282
29Si NMR測定の結果、構成単位に相当する次に示すピークが観察された。
F1:−20.0ppm
M1:−41.5ppm
M2:3.1ppm
S :−34.6ppm
構成単位F1と構成単位M1の比率(a/b)は、2.0であった。
構成単位F1と構成単位Sの比率(d/a)は、0.04であった。 When the contents of the flask were analyzed after 72 hours from the start of the reaction, the reaction rate of SiH groups was 96%. Then, activated carbon treatment was performed, and volatile components were distilled off to obtain 53 g of an organopolysiloxane (A2) represented by the following general formula (16). The functional group equivalent of the obtained organopolysiloxane (A2) was 867 g / mol, the weight average molecular weight calculated from GPC measurement was 700, and the viscosity at 25 ° C. was 29 mPa · s. Further, when the amount of the hydrosilylation reaction catalyst remaining by ICP / MS was measured, it was 0.0003 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the obtained organopolysiloxane.
Figure 2016160282
As a result of 29 Si NMR measurement, the following peaks corresponding to the structural units were observed.
F1: -20.0 ppm
M1: -41.5ppm
M2: 3.1 ppm
S: -34.6 ppm
The ratio (a / b) between the structural unit F1 and the structural unit M1 was 2.0.
The ratio (d / a) between the structural unit F1 and the structural unit S was 0.04.

<硬化性樹脂組成物及び硬化物の製造と特性評価>
不飽和結合含有オルガノポリシロキサン(A2)100質量部に、酸化ジルコニウム(E1)のメタノール分散液(堺化学社製、商品名:SZR−M、平均粒径:3nm、屈折率:2.2、30質量%溶液)を酸化ジルコニウム換算で100質量部混合し、50℃で12時間撹拌した。その後、揮発成分を留去して硬化性樹脂組成物を得た。
<Manufacture and characteristic evaluation of curable resin composition and cured product>
To 100 parts by mass of the unsaturated bond-containing organopolysiloxane (A2), a methanol dispersion of zirconium oxide (E1) (manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd., trade name: SZR-M, average particle size: 3 nm, refractive index: 2.2, 30 mass% solution) was mixed with 100 parts by mass in terms of zirconium oxide and stirred at 50 ° C. for 12 hours. Thereafter, volatile components were distilled off to obtain a curable resin composition.

得られた硬化性樹脂組成物100質量部に、熱ラジカル発生剤としてtert−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノアート(化薬アクゾ社製、商品名:トリゴノックス121−50E、50質量%溶液)2.5質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌し、その後、脱泡した。   To 100 parts by mass of the obtained curable resin composition, tert-amylperoxy-2-ethylhexanoate (manufactured by Kayaku Akzo, trade name: Trigonox 121-50E, 50% by mass solution) as a thermal radical generator. 2.5 parts by mass were mixed under nitrogen, stirred until the whole became uniform, and then degassed.

この硬化性樹脂組成物をSUS316製の型枠に流し込み、100℃で4時間、更に150℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の特性の評価結果を下記表1に示す。   This curable resin composition was poured into a mold made of SUS316 and cured at 100 ° C. for 4 hours and further at 150 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. The evaluation results of the properties of the obtained cured product are shown in Table 1 below.

[実施例4]
<オルガノポリシロキサン(B1)の製造>
撹拌装置、温度計、還流冷却器を取り付けた0.5Lの3つ口フラスコに、下記成分を添加し、窒素ガス雰囲気下で攪拌しながら80℃に加温した。
(a)成分:1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン15g(0.06モル)
(c)成分:3−ブテニルメタクリレート70g(0.5モル)
溶媒 :トルエン200g、
重合禁止剤:ハイドロキノンモノメチルエーテル0.05g
[Example 4]
<Production of organopolysiloxane (B1)>
The following components were added to a 0.5 L three-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a reflux condenser, and heated to 80 ° C. with stirring in a nitrogen gas atmosphere.
(A) Component: 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane 15 g (0.06 mol)
(C) Component: 70 g (0.5 mol) of 3-butenyl methacrylate
Solvent: 200 g of toluene,
Polymerization inhibitor: Hydroquinone monomethyl ether 0.05 g

その後、塩化白金酸のイソプロパノール溶液を、白金金属が、付加反応生成物であるオルガノポリシロキサンの重量に対して20ppmとなる量添加した。ヒドロシリル化反応の開始を確認した後、この反応系を保温、水冷又は空冷によって55〜65℃に保ちながら、72時間攪拌した。   Thereafter, an isopropanol solution of chloroplatinic acid was added in an amount such that the platinum metal was 20 ppm based on the weight of the organopolysiloxane as an addition reaction product. After confirming the start of the hydrosilylation reaction, the reaction system was stirred for 72 hours while being kept at 55 to 65 ° C. by heat insulation, water cooling or air cooling.

反応開始から72時間経過後のフラスコ内容物の分析を行ったところ、SiH基の反応率は99%であった。その後、活性炭処理し、揮発成分を留去して、下記一般式(17)で表されるオルガノポリシロキサン(B1)44gを得た。得られたオルガノポリシロキサン(B1)の官能基当量は200g/molであり、GPC測定から算出した重量平均分子量は600であり、25℃における粘度は20mPa・sであった。また、ICP/MSにより残存するヒドロシリル化反応触媒量を測定したところ、得られたオルガノポリシロキサン100質量部に対して0.0003質量部であった。

Figure 2016160282
29Si NMR測定の結果、構成単位に相当する次に示すピークが観察された。
F1:−19.9ppm When the contents of the flask after 72 hours from the start of the reaction were analyzed, the reaction rate of SiH groups was 99%. Then, activated carbon treatment was performed, and volatile components were distilled off to obtain 44 g of an organopolysiloxane (B1) represented by the following general formula (17). The functional group equivalent of the obtained organopolysiloxane (B1) was 200 g / mol, the weight average molecular weight calculated from GPC measurement was 600, and the viscosity at 25 ° C. was 20 mPa · s. Further, when the amount of the hydrosilylation reaction catalyst remaining by ICP / MS was measured, it was 0.0003 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the obtained organopolysiloxane.
Figure 2016160282
As a result of 29 Si NMR measurement, the following peaks corresponding to the structural units were observed.
F1: -19.9 ppm

<硬化性樹脂組成物及び硬化物の製造と特性評価>
オルガノポリシロキサン(A1)50質量部、オルガノポリシロキサン(B1)50質量部に、酸化ジルコニウム(E1)のメタノール分散液(堺化学社製、商品名:SZR−M、平均粒径:3nm、屈折率:2.2、30質量%溶液)を酸化ジルコニウム換算で100質量部混合し、50℃で12時間撹拌した。その後、揮発成分を留去して硬化性樹脂組成物を得た。
<Manufacture and characteristic evaluation of curable resin composition and cured product>
50 parts by mass of organopolysiloxane (A1), 50 parts by mass of organopolysiloxane (B1), a methanol dispersion of zirconium oxide (E1) (product name: SZR-M, average particle size: 3 nm, refractive index) 100 parts by mass in terms of zirconium oxide were mixed and stirred at 50 ° C. for 12 hours. Thereafter, volatile components were distilled off to obtain a curable resin composition.

得られた硬化性樹脂組成物100質量部に、熱ラジカル発生剤としてtert−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノアート(化薬アクゾ社製、商品名:トリゴノックス121−50E、50質量%溶液)2.5質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌し、その後、脱泡した。   To 100 parts by mass of the obtained curable resin composition, tert-amylperoxy-2-ethylhexanoate (manufactured by Kayaku Akzo, trade name: Trigonox 121-50E, 50% by mass solution) as a thermal radical generator. 2.5 parts by mass were mixed under nitrogen, stirred until the whole became uniform, and then degassed.

この硬化性樹脂組成物をSUS316製の型枠に流し込み、100℃で4時間、更に150℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の特性の評価結果を下記表1に示す。   This curable resin composition was poured into a mold made of SUS316 and cured at 100 ° C. for 4 hours and further at 150 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. The evaluation results of the properties of the obtained cured product are shown in Table 1 below.

[実施例5]
<オルガノポリシロキサン(B2)>
オルガノポリシロキサン(B2)は、下記一般式(18)で示される信越化学社製X−22−164Bを用いた。

Figure 2016160282
[Example 5]
<Organopolysiloxane (B2)>
As the organopolysiloxane (B2), X-22-164B manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. represented by the following general formula (18) was used.
Figure 2016160282

<硬化性樹脂組成物及び硬化物の製造と特性評価>
オルガノポリシロキサン(A1)50質量部、オルガノポリシロキサン(B2)50質量部に、酸化ジルコニウム(E1)のメタノール分散液(堺化学社製、商品名:SZR−M、平均粒径:3nm、屈折率:2.2、30質量%溶液)を酸化ジルコニウム換算で100質量部混合し50℃で12時間撹拌した。その後、揮発成分を留去して硬化性樹脂組成物を得た。
<Manufacture and characteristic evaluation of curable resin composition and cured product>
50 parts by mass of organopolysiloxane (A1), 50 parts by mass of organopolysiloxane (B2), a methanol dispersion of zirconium oxide (E1) (product name: SZR-M, average particle size: 3 nm, refractive index) 100 parts by mass in terms of zirconium oxide were mixed and stirred at 50 ° C. for 12 hours. Thereafter, volatile components were distilled off to obtain a curable resin composition.

得られた硬化性樹脂組成物100質量部に、熱ラジカル発生剤としてtert−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノアート(化薬アクゾ社製、商品名:トリゴノックス121−50E、50質量%溶液)2.5質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌し、その後、脱泡した。   To 100 parts by mass of the obtained curable resin composition, tert-amylperoxy-2-ethylhexanoate (manufactured by Kayaku Akzo, trade name: Trigonox 121-50E, 50% by mass solution) as a thermal radical generator. 2.5 parts by mass were mixed under nitrogen, stirred until the whole became uniform, and then degassed.

この硬化性樹脂組成物をSUS316製の型枠に流し込み、100℃で4時間、更に150℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の特性の評価結果を下記表1に示す。   This curable resin composition was poured into a mold made of SUS316 and cured at 100 ° C. for 4 hours and further at 150 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. The evaluation results of the properties of the obtained cured product are shown in Table 1 below.

[実施例6]
<硬化性樹脂組成物及び硬化物の製造と特性評価>
オルガノポリシロキサン(A1)100質量部に、酸化ジルコニウム(E1)のメタノール分散液(堺化学社製、商品名:SZR−M、平均粒径:3nm、屈折率:2.2、30質量%溶液)を酸化ジルコニウム換算で10質量部混合し、50℃で12時間撹拌した。その後、揮発成分を留去して硬化性樹脂組成物を得た。
[Example 6]
<Manufacture and characteristic evaluation of curable resin composition and cured product>
In 100 parts by mass of organopolysiloxane (A1), a methanol dispersion of zirconium oxide (E1) (manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd., trade name: SZR-M, average particle size: 3 nm, refractive index: 2.2, 30% by mass solution) ) Was mixed with 10 parts by mass in terms of zirconium oxide and stirred at 50 ° C. for 12 hours. Thereafter, volatile components were distilled off to obtain a curable resin composition.

得られた硬化性樹脂組成物100質量部に、熱ラジカル発生剤としてtert−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノアート(化薬アクゾ社製、商品名:トリゴノックス121−50E、50質量%溶液)2.5質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌し、その後、脱泡した。   To 100 parts by mass of the obtained curable resin composition, tert-amylperoxy-2-ethylhexanoate (manufactured by Kayaku Akzo, trade name: Trigonox 121-50E, 50% by mass solution) as a thermal radical generator. 2.5 parts by mass were mixed under nitrogen, stirred until the whole became uniform, and then degassed.

この硬化性樹脂組成物をSUS316製の型枠に流し込み、100℃で4時間、更に150℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の特性の評価結果を下記表1に示す。   This curable resin composition was poured into a mold made of SUS316 and cured at 100 ° C. for 4 hours and further at 150 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. The evaluation results of the properties of the obtained cured product are shown in Table 1 below.

[実施例7]
<硬化性樹脂組成物及び硬化物の製造と特性評価>
オルガノポリシロキサン(A1)100質量部に、酸化ジルコニウム(E1)のメタノール分散液(堺化学社製、商品名:SZR−M、平均粒径:3nm、屈折率:2.2、30質量%溶液)を酸化ジルコニウム換算で200質量部混合し、50℃で12時間撹拌した。その後、揮発成分を留去して硬化性樹脂組成物を得た。
[Example 7]
<Manufacture and characteristic evaluation of curable resin composition and cured product>
In 100 parts by mass of organopolysiloxane (A1), a methanol dispersion of zirconium oxide (E1) (manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd., trade name: SZR-M, average particle size: 3 nm, refractive index: 2.2, 30% by mass solution) ) Was mixed with 200 parts by mass in terms of zirconium oxide and stirred at 50 ° C. for 12 hours. Thereafter, volatile components were distilled off to obtain a curable resin composition.

得られた硬化性樹脂組成物100質量部に、熱ラジカル発生剤としてtert−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノアート(化薬アクゾ社製、商品名:トリゴノックス121−50E、50質量%溶液)2.5質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌し、その後、脱泡した。   To 100 parts by mass of the obtained curable resin composition, tert-amylperoxy-2-ethylhexanoate (manufactured by Kayaku Akzo, trade name: Trigonox 121-50E, 50% by mass solution) as a thermal radical generator. 2.5 parts by mass were mixed under nitrogen, stirred until the whole became uniform, and then degassed.

この硬化性樹脂組成物をSUS316製の型枠に流し込み、100℃で4時間、更に150℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の特性の評価結果を下記表1に示す。   This curable resin composition was poured into a mold made of SUS316 and cured at 100 ° C. for 4 hours and further at 150 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. The evaluation results of the properties of the obtained cured product are shown in Table 1 below.

[比較例1]
<硬化性樹脂組成物及び硬化物の製造と特性評価>
オルガノポリシロキサン(B1)100質量部に、酸化ジルコニウム(E1)のメタノール分散液(堺化学社製、商品名:SZR−M、平均粒径:3nm、屈折率:2.2、30質量%溶液)を酸化ジルコニウム換算で100質量部混合し50℃で12時間撹拌した。その後、揮発成分を留去して硬化性樹脂組成物を得た。
[Comparative Example 1]
<Manufacture and characteristic evaluation of curable resin composition and cured product>
In 100 parts by mass of organopolysiloxane (B1), a methanol dispersion of zirconium oxide (E1) (trade name: SZR-M, average particle size: 3 nm, refractive index: 2.2, 30% by mass solution manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.) ) Was mixed with 100 parts by mass in terms of zirconium oxide and stirred at 50 ° C. for 12 hours. Thereafter, volatile components were distilled off to obtain a curable resin composition.

得られた硬化性樹脂組成物100質量部に、熱ラジカル発生剤としてtert−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノアート(化薬アクゾ社製、商品名:トリゴノックス121−50E、50質量%溶液)2.5質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌し、その後、脱泡した。   To 100 parts by mass of the obtained curable resin composition, tert-amylperoxy-2-ethylhexanoate (manufactured by Kayaku Akzo, trade name: Trigonox 121-50E, 50% by mass solution) as a thermal radical generator. 2.5 parts by mass were mixed under nitrogen, stirred until the whole became uniform, and then degassed.

この硬化性樹脂組成物をSUS316製の型枠に流し込み、100℃で4時間、更に150℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の特性の評価結果を下記表1に示す。   This curable resin composition was poured into a mold made of SUS316 and cured at 100 ° C. for 4 hours and further at 150 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. The evaluation results of the properties of the obtained cured product are shown in Table 1 below.

[比較例2]
<硬化性樹脂組成物及び硬化物の製造と特性評価>
オルガノポリシロキサン(B2)100質量部に、酸化ジルコニウム(E1)のメタノール分散液(堺化学社製、商品名:SZR−M、平均粒径:3nm、屈折率:2.2、30質量%溶液)を酸化ジルコニウム換算で100質量部混合し50℃で12時間撹拌した。その後、揮発成分を留去して硬化性樹脂組成物を得た。
[Comparative Example 2]
<Manufacture and characteristic evaluation of curable resin composition and cured product>
A methanol dispersion of zirconium oxide (E1), trade name: SZR-M, average particle size: 3 nm, refractive index: 2.2, 30% by mass solution with 100 parts by mass of organopolysiloxane (B2) ) Was mixed with 100 parts by mass in terms of zirconium oxide and stirred at 50 ° C. for 12 hours. Thereafter, volatile components were distilled off to obtain a curable resin composition.

得られた硬化性樹脂組成物100質量部に、熱ラジカル発生剤としてtert−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノアート(化薬アクゾ社製、商品名:トリゴノックス121−50E、50質量%溶液)2.5質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌し、その後、脱泡した。   To 100 parts by mass of the obtained curable resin composition, tert-amylperoxy-2-ethylhexanoate (manufactured by Kayaku Akzo, trade name: Trigonox 121-50E, 50% by mass solution) as a thermal radical generator. 2.5 parts by mass were mixed under nitrogen, stirred until the whole became uniform, and then degassed.

この硬化性樹脂組成物をSUS316製の型枠に流し込み、100℃で4時間、更に150℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の特性の評価結果を下記表1に示す。   This curable resin composition was poured into a mold made of SUS316 and cured at 100 ° C. for 4 hours and further at 150 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. The evaluation results of the properties of the obtained cured product are shown in Table 1 below.

[比較例3]
<硬化性樹脂組成物(C1)>
硬化性樹脂組成物(C1)は、光半導体封止材用硬化性樹脂として市販されている、信越化学製KER−2500を用いた。
[Comparative Example 3]
<Curable resin composition (C1)>
As the curable resin composition (C1), KE-2500 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., which is commercially available as a curable resin for optical semiconductor encapsulating materials, was used.

<硬化性樹脂組成物及び硬化物の製造と特性評価>
市販のKER−2500AとKER−2500Bを100質量部ずつ混合し、全体が均一になるまで撹拌し、その後、脱泡した。
<Manufacture and characteristic evaluation of curable resin composition and cured product>
Commercially available KER-2500A and KER-2500B were mixed by 100 parts by mass, stirred until the whole became uniform, and then defoamed.

この硬化性樹脂組成物をSUS316製の型枠に流し込み、100℃で1時間、更に150℃で5時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の特性の評価結果を下記表1に示す。   This curable resin composition was poured into a mold made of SUS316 and cured at 100 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 5 hours to obtain a cured product. The evaluation results of the properties of the obtained cured product are shown in Table 1 below.

[比較例4]
<硬化性樹脂組成物(C2)>
硬化性樹脂組成物(C2)は、光半導体封止材用硬化性樹脂として市販されている、信越化学製ASP−1010を用いた。
[Comparative Example 4]
<Curable resin composition (C2)>
As the curable resin composition (C2), ASP-1010 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., which is commercially available as a curable resin for optical semiconductor encapsulants, was used.

<硬化性樹脂組成物及び硬化物の製造と特性評価>
市販のASP−1010A(商品名、信越化学製)とASP−1010B(商品名、信越化学製)を100質量部ずつ混合し、全体が均一になるまで撹拌し、その後、脱泡した。
<Manufacture and characteristic evaluation of curable resin composition and cured product>
Commercially available ASP-1010A (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and ASP-1010B (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical) were mixed by 100 parts by mass, stirred until the whole became uniform, and then defoamed.

この硬化性樹脂組成物をSUS316製の型枠に流し込み、100℃で1時間、更に150℃で5時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の特性の評価結果を下記表1に示す。   This curable resin composition was poured into a mold made of SUS316 and cured at 100 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 5 hours to obtain a cured product. The evaluation results of the properties of the obtained cured product are shown in Table 1 below.

[比較例5]
<硬化性樹脂組成物及び硬化物の製造と特性評価>
オルガノポリシロキサン(A1)100質量部に、コロイダルシリカ(E3)のメチルエチルケトン分散液(日産化学工業製、商品名:MEK−ST、平均粒径:15nm、屈折率:1.4、30質量%溶液)をコロイダルシリカ換算で100質量部混合し、50℃で12時間撹拌した。その後、揮発成分を留去して硬化性樹脂組成物を得た。
[Comparative Example 5]
<Manufacture and characteristic evaluation of curable resin composition and cured product>
100 parts by mass of organopolysiloxane (A1), methyl ethyl ketone dispersion of colloidal silica (E3) (manufactured by Nissan Chemical Industries, trade name: MEK-ST, average particle size: 15 nm, refractive index: 1.4, 30% by mass solution ) Was mixed with 100 parts by mass in terms of colloidal silica and stirred at 50 ° C. for 12 hours. Thereafter, volatile components were distilled off to obtain a curable resin composition.

得られた硬化性樹脂組成物100質量部に、熱ラジカル発生剤としてtert−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノアート(化薬アクゾ社製、商品名:トリゴノックス121−50E、50質量%溶液)2.5質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌し、その後、脱泡した。   To 100 parts by mass of the obtained curable resin composition, tert-amylperoxy-2-ethylhexanoate (manufactured by Kayaku Akzo, trade name: Trigonox 121-50E, 50% by mass solution) as a thermal radical generator. 2.5 parts by mass were mixed under nitrogen, stirred until the whole became uniform, and then degassed.

この硬化性樹脂組成物をSUS316製の型枠に流し込み、100℃で4時間、更に150℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の特性の評価結果を下記表1に示す。   This curable resin composition was poured into a mold made of SUS316 and cured at 100 ° C. for 4 hours and further at 150 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. The evaluation results of the properties of the obtained cured product are shown in Table 1 below.

Figure 2016160282
Figure 2016160282

1分子中に1つ以上の不飽和結合含有基を含み、前記一般式(1)〜(2)で表される構成単位F1、M1の組み合わせの構成単位を有する、オルガノポリシロキサンが得られた。構成単位F1からなる架橋構造を形成する部位と、構成単位M1を含むシロキサンからなる部位を、分子構造中に局部的に有することにより、無機粒子を均一に分散することができた。   An organopolysiloxane having one or more unsaturated bond-containing groups in one molecule and having a structural unit of a combination of structural units F1 and M1 represented by the general formulas (1) to (2) was obtained. . The inorganic particles can be uniformly dispersed by locally including in the molecular structure a site that forms a cross-linked structure composed of the structural unit F1 and a site that consists of siloxane that includes the structural unit M1.

また、実施例1〜7によれば、耐熱黄変性、耐光性、透明性、及び高屈折率のいずれの点でも、特に光半導体用途において要求されるレベルを十分に満足する透明な硬化物を形成することが可能なオルガノポリシロキサン及びそれを用いた硬化性樹脂組成物が得られた。   Moreover, according to Examples 1-7, the transparent hardened | cured material which fully satisfy | fills the level requested | required especially in an optical semiconductor use in any point of heat-resistant yellowing, light resistance, transparency, and a high refractive index. An organopolysiloxane that can be formed and a curable resin composition using the same were obtained.

比較例1〜5は、上述した本実施形態の構成を具備していないため、耐熱黄変性、耐光性、透明性、及び高屈折率のうちの所定の特性や、これらの特性バランスの観点から、実用上、十分な特性が得られなかった。   Since Comparative Examples 1 to 5 do not have the configuration of the present embodiment described above, from the viewpoint of predetermined characteristics among heat-resistant yellowing, light resistance, transparency, and high refractive index, and a balance of these characteristics. In practice, sufficient characteristics were not obtained.

本発明のオルガノポリシロキサン及びそれを用いた硬化性樹脂組成物は、光半導体用封止材、光半導体用ダイボンド材として、産業上の利用可能性を有している。   The organopolysiloxane of the present invention and the curable resin composition using the organopolysiloxane have industrial applicability as a sealing material for optical semiconductors and a die bond material for optical semiconductors.

Claims (28)

下記一般式(1)で表される構成単位F1と、下記一般式(2)で表される構成単位M1と、を、環状オルガノポリシロキサンを構成する単位として有する、オルガノポリシロキサン(I)100質量部と、
無機粒子10〜200質量部と、を含有し、
前記無機粒子の屈折率が、1.8以上である、
硬化性樹脂組成物。
Figure 2016160282
(上記一般式(1)中、R1は、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、R2は、炭素数2〜10の不飽和結合含有基を示し、Xは、炭素数2〜10の二価の炭化水素基を示し、aは、前記構成単位F1の含有割合を表し、1以上の整数を示す。)
Figure 2016160282
(上記一般式(2)中、R1及びR3は、各々独立して、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、Yは、炭素数2〜10の二価の炭化水素基を示し、nは、1〜3の整数を示し、bは、前記構成単位M1の含有割合を表し、1以上の整数を示す。)
Organopolysiloxane (I) 100 having a structural unit F1 represented by the following general formula (1) and a structural unit M1 represented by the following general formula (2) as units constituting the cyclic organopolysiloxane. Part by mass;
Containing 10 to 200 parts by mass of inorganic particles,
The inorganic particles have a refractive index of 1.8 or more.
Curable resin composition.
Figure 2016160282
(In the general formula (1), R 1 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group, Alternatively, it represents a substituted or unsubstituted aralkyl group, R 2 represents an unsaturated bond-containing group having 2 to 10 carbon atoms, X represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms, and a represents Represents the content ratio of the structural unit F1, and represents an integer of 1 or more.)
Figure 2016160282
(In the general formula (2), R 1 and R 3 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, A substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted aralkyl group, Y represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms, n represents an integer of 1 to 3, and b Represents the content ratio of the structural unit M1 and represents an integer of 1 or more.)
前記bに対する前記aの比率(a/b)が、0.010以上5.0以下である、請求項1に記載の硬化性樹脂組成物。   The curable resin composition according to claim 1, wherein a ratio (a / b) of the a to the b is 0.010 or more and 5.0 or less. 下記一般式(3)で表される構成単位M2を、環状オルガノポリシロキサンを構成する単位としてさらに有する、請求項1又は2に記載の硬化性樹脂組成物。
Figure 2016160282
(上記一般式(3)中、R1及びR4は、各々独立して、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、Zは、炭素数2〜10の二価の炭化水素基を示し、cは、前記構成単位M2の含有割合を表し、1以上の整数を示す。)
The curable resin composition of Claim 1 or 2 which has further the structural unit M2 represented by following General formula (3) as a unit which comprises cyclic organopolysiloxane.
Figure 2016160282
(In the general formula (3), R 1 and R 4 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, A substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted aralkyl group; Z represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms; and c represents a content ratio of the structural unit M2. 1 represents an integer of 1 or more.)
前記cに対する前記aの比率(a/c)が、0.0010以上3.0以下である、請求項3に記載の硬化性樹脂組成物。   The curable resin composition according to claim 3, wherein the ratio of a to c (a / c) is 0.0010 or more and 3.0 or less. 前記無機粒子の平均粒径が、0.1〜100nmである、請求項1〜4のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。   The curable resin composition in any one of Claims 1-4 whose average particle diameter of the said inorganic particle is 0.1-100 nm. 前記無機粒子が、ジルコニア、チタン、亜鉛、鉄、銅、クロム、カドミウム、炭素、タングステン、アンチモン、ニッケル、及び白金からなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を含む、請求項1〜5のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。   6. The method according to claim 1, wherein the inorganic particles contain at least one element selected from the group consisting of zirconia, titanium, zinc, iron, copper, chromium, cadmium, carbon, tungsten, antimony, nickel, and platinum. A curable resin composition according to claim 1. 前記R2が、アクリロキシ基又はメタアクリロキシ基である、請求項1〜6のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to any one of claims 1 to 6, wherein R 2 is an acryloxy group or a methacryloxy group. 下記一般式(4)で表される構成単位Sを、環状オルガノポリシロキサンを構成する単位としてさらに有する、請求項1〜7のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
Figure 2016160282
(上記一般式(4)中、R1は、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、dは、前記構成単位Sの含有割合を表し、1以上の整数を示す。)
The curable resin composition in any one of Claims 1-7 which has further the structural unit S represented by following General formula (4) as a unit which comprises cyclic organopolysiloxane.
Figure 2016160282
(In the general formula (4), R 1 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group, Or a substituted or unsubstituted aralkyl group is shown, d represents the content rate of the said structural unit S, and shows an integer greater than or equal to 1.)
前記aに対する前記dの比率(d/a)が、0.10以下である、請求項8に記載の硬化性樹脂組成物。   The curable resin composition according to claim 8, wherein a ratio of d to the a (d / a) is 0.10 or less. 前記R2を含有する構成単位として、前記一般式(1)で表される構成単位F1のみを含有する、請求項1〜9のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。 Wherein the structural unit containing R 2, containing only structural units F1 represented by the general formula (1), the curable resin composition according to any one of claims 1 to 9. 前記R1が、炭素数1〜10のアルキル基である、請求項1〜10のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to any one of claims 1 to 10, wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. 前記R1が、メチル基である、請求項1〜11のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 1, wherein R 1 is a methyl group. 前記R2で表される不飽和結合含有基の官能基当量が、20〜10000g/molである、請求項1〜12のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。 Functional group equivalent of the unsaturated bond-containing group represented by R 2 is 20~10000g / mol, the curable resin composition according to any one of claims 1 to 12. 前記オルガノポリシロキサン(I)の重量平均分子量が、500〜1000000であり、
前記オルガノポリシロキサン(I)の25℃における粘度が、1.0〜1000000mPa・sである、
請求項1〜13のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
The organopolysiloxane (I) has a weight average molecular weight of 500 to 1,000,000,
The viscosity of the organopolysiloxane (I) at 25 ° C. is 1.0 to 1000000 mPa · s.
Curable resin composition in any one of Claims 1-13.
下記一般式(5)で表される構成単位F1’と、下記一般式(6)で表される構成単位T’と、を環状オルガノポリシロキサンを構成する単位として有するオルガノポリシロキサン(II)0.10〜100質量部をさらに含有する、
請求項1〜14のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
Figure 2016160282
(上記一般式(5)中、R1'は、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、R2'は、炭素数2〜10の不飽和結合含有基を示し、X’は、炭素数2〜10の二価の炭化水素基を示し、eは、前記構成単位F1’の含有割合を表し、1以上の整数を示す。)
Figure 2016160282
(上記一般式(6)中、R1'は、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、fは、前記構成単位T’の含有割合を表し、0以上の整数を示し、e及びfの合計は、3〜20の整数を示す。)
Organopolysiloxane (II) 0 having a structural unit F1 ′ represented by the following general formula (5) and a structural unit T ′ represented by the following general formula (6) as units constituting the cyclic organopolysiloxane. Further containing 10 to 100 parts by mass,
The curable resin composition in any one of Claims 1-14.
Figure 2016160282
(In the general formula (5), R 1 ′ is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group. Or a substituted or unsubstituted aralkyl group, R 2 ′ represents an unsaturated bond-containing group having 2 to 10 carbon atoms, and X ′ represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms. E represents the content ratio of the structural unit F1 ′ and represents an integer of 1 or more.)
Figure 2016160282
(In the general formula (6), R 1 ′ is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group. Alternatively, it represents a substituted or unsubstituted aralkyl group, f represents the content of the structural unit T ′, represents an integer of 0 or more, and the sum of e and f represents an integer of 3 to 20.)
前記R1'が、炭素数1〜10のアルキル基である、請求項15に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 15, wherein R 1 ′ is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. 前記R1'が、メチル基である、請求項15又は16に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 15 or 16, wherein R 1 ' is a methyl group. 前記R2'が、アクリロキシ基又はメタアクリロキシ基である、請求項15〜17のいずれか一項に記載のオルガノポリシロキサンを含有する硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition containing an organopolysiloxane according to any one of claims 15 to 17, wherein R 2 ' is an acryloxy group or a methacryloxy group. 前記R2及び前記R2'で表される不飽和結合含有基の総官能基当量が、20〜10000g/molである、請求項15〜18のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。 Total functional group equivalent of the unsaturated bond-containing group represented by R 2 and the R 2 'is a 20~10000g / mol, the curable resin composition according to any one of claims 15 to 18. 前記オルガノポリシロキサン(II)の重量平均分子量が、500〜1000000であり、
前記オルガノポリシロキサン(II)の25℃における粘度が、1.0〜1000000mPa・sである、
請求項15〜19のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
The organopolysiloxane (II) has a weight average molecular weight of 500 to 1,000,000.
The viscosity of the organopolysiloxane (II) at 25 ° C. is 1.0 to 1000000 mPa · s.
The curable resin composition in any one of Claims 15-19.
熱ラジカル発生剤をさらに含有し、
該熱ラジカル発生剤の含有量が、前記オルガノポリシロキサン(I)及び前記オルガノポリシロキサン(II)の合計100質量部に対して、0.50〜10質量部である、請求項1〜20のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
Further containing a thermal radical generator,
The content of the thermal radical generator is 0.50 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the organopolysiloxane (I) and the organopolysiloxane (II). The curable resin composition according to any one of the above.
ヒドロシリル化反応触媒をさらに含有し、
該ヒドロシリル化反応触媒の含有量が、前記オルガノポリシロキサン(I)及び前記オルガノポリシロキサン(II)の合計100質量部に対して、0.0010質量部以下である、請求項1〜21のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
Further containing a hydrosilylation reaction catalyst,
The content of the hydrosilylation reaction catalyst is 0.0010 parts by mass or less with respect to a total of 100 parts by mass of the organopolysiloxane (I) and the organopolysiloxane (II). A curable resin composition according to claim 1.
下記一般式(7)で表される構成単位を、環状オルガノポリシロキサンを構成する単位として有するハイドロジェンポリシロキサン(a)と、
Figure 2016160282
(上記一般式(7)中、R1''は、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、jは、前記構成単位の含有割合を表し、1以上の整数を示す。)
ケイ素原子に直接結合したビニル基を1個有し、加水分解性基を1個以上含有するオルガノシロキサン(b1)と、
不飽和結合含有基を2個以上有する有機化合物(c)と、を、
ヒドロシリル化反応触媒(d)の存在下で付加反応させて、オルガノポリシロキサンを得る付加反応工程と、
前記オルガノポリシロキサンと、屈折率が、1.8以上である無機粒子(e)と、を混合する混合工程と、を有する、
硬化性樹脂組成物の製造方法。
Hydrogen polysiloxane (a) having a structural unit represented by the following general formula (7) as a unit constituting a cyclic organopolysiloxane;
Figure 2016160282
(In the general formula (7), R 1 ″ represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group. A group or a substituted or unsubstituted aralkyl group, and j represents the content of the structural unit and represents an integer of 1 or more.)
An organosiloxane (b1) having one vinyl group directly bonded to a silicon atom and containing one or more hydrolyzable groups;
An organic compound (c) having two or more unsaturated bond-containing groups,
An addition reaction step of obtaining an organopolysiloxane by addition reaction in the presence of a hydrosilylation reaction catalyst (d);
A mixing step of mixing the organopolysiloxane and inorganic particles (e) having a refractive index of 1.8 or more,
A method for producing a curable resin composition.
前記ハイドロジェンポリシロキサン(a)は、下記一般式(8)で表される構成単位を
さらに有する、請求項23に記載の硬化性樹脂組成物の製造方法。
Figure 2016160282
(上記一般式(8)中、R1''は、各々独立して、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は非置換の炭素数3〜10のシクロアルキル基、置換又は非置換のアリール基、或いは、置換又は非置換のアラルキル基を示し、kは、前記構成単位の含有割合を表し、0以上の整数を示し、j+kは3〜20の整数である。)
The said hydrogen polysiloxane (a) is a manufacturing method of the curable resin composition of Claim 23 which further has a structural unit represented by following General formula (8).
Figure 2016160282
(In the general formula (8), each R 1 ″ is independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and a substituted group. Or an unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted aralkyl group, k represents the content of the structural unit, represents an integer of 0 or more, and j + k is an integer of 3 to 20.)
前記付加反応工程において、ケイ素原子に直接結合したビニル基を1個有し、加水分解性基を有しないオルガノシロキサン(b2)を、さらに付加反応させる、請求項23又は24に記載の硬化性樹脂組成物の製造方法。   25. The curable resin according to claim 23 or 24, wherein in the addition reaction step, an organosiloxane (b2) having one vinyl group directly bonded to a silicon atom and having no hydrolyzable group is further subjected to an addition reaction. A method for producing the composition. 請求項1〜22のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物を含む、光半導体用封止材。   The sealing material for optical semiconductors containing the curable resin composition in any one of Claims 1-22. 請求項1〜22のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物を含む、光半導体用ダイボンド材。   The die-bonding material for optical semiconductors containing the curable resin composition in any one of Claims 1-22. 請求項26に記載の光半導体用封止材を成形した、光半導体パッケージ。   An optical semiconductor package, wherein the optical semiconductor sealing material according to claim 26 is molded.
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