JP2016156968A - Positive lithographic printing plate precursor and method for manufacturing lithographic printing plate - Google Patents

Positive lithographic printing plate precursor and method for manufacturing lithographic printing plate Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive lithographic printing plate precursor that gives a lithographic printing plate excellent in printing durability and chemical resistance even when the printing plate is subjected to a burning treatment, in a lithographic printing plate using a binder resin that easily induces pyrolysis (for example, a polyurea resin or a polyurethane resin), and a method for manufacturing a lithographic printing plate.SOLUTION: The positive lithographic printing plate precursor has an image recording layer described below on a support body: the image recording layer comprises a polymer having a urea bond and/or a urethane bond in the main chain as a component A, an infrared ray-absorbing material as component B, and a compound having a block isocyanate group as component C.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、ポジ型平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法に関するものであり、特に、バーニング処理工程を含むポジ型平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法に関する。   The present invention relates to a positive lithographic printing plate precursor and a method for producing a lithographic printing plate, and more particularly to a positive lithographic printing plate precursor including a burning treatment step and a lithographic printing plate production method.

従来、種々の感光性組成物が可視画像形成材料や平版印刷版材料として使用されている。特に、平版印刷分野における近年におけるレーザーの発展は目ざましく、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザー・半導体レーザーは、高出力、かつ、小型の物が容易に入手できるようになっている。平版印刷の分野においては、コンピュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源として、これらのレーザーは非常に有用である。
赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版は、アルカリ可溶性のバインダー樹脂と、光を吸収し熱を発生するIR染料等とを必須成分とする。このIR染料等が、未露光部(画像部)では、バインダー樹脂との相互作用によりバインダー樹脂の現像液に対する溶解性を実質的に低下させる現像抑制剤として働き、露光部(非画像部)では、発生した熱によりIR染料等とバインダー樹脂との相互作用が弱まり、アルカリ現像液に溶解して平版印刷版を形成する。
従来の平版印刷版原版としては、特許文献1〜3に記載されたものが知られている。
Conventionally, various photosensitive compositions have been used as visible image forming materials and lithographic printing plate materials. In particular, the development of lasers in the field of lithographic printing has been remarkable in recent years. Particularly, solid lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from the near infrared to the infrared can be easily obtained with high output and small size. ing. In the field of lithographic printing, these lasers are very useful as an exposure light source for making a plate directly from digital data such as a computer.
The positive lithographic printing plate precursor for infrared laser contains an alkali-soluble binder resin and an IR dye that absorbs light and generates heat as essential components. The IR dye or the like acts as a development inhibitor that substantially reduces the solubility of the binder resin in the developer by interaction with the binder resin in the unexposed area (image area), and in the exposed area (non-image area). The generated heat weakens the interaction between the IR dye and the binder resin and dissolves in an alkaline developer to form a lithographic printing plate.
As conventional lithographic printing plate precursors, those described in Patent Documents 1 to 3 are known.

特開2007−17913号公報JP 2007-17913 A 特開平10−268512号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-268512 特開2005−215651号公報JP 2005-215651 A

ポジ型平版印刷版原版に要求される性能としては、例えば、露光部の現像性の他、得られた平版印刷版の耐刷性、印刷中に使用されるプレートクリーナ等に対する耐薬品性などがある。このような要求に対して、ポジ型平版印刷版では、露光及び現像後に高温加熱処理(いわゆる、バーニング処理)を行うことで、高い耐刷性が得られるものがある。
また、バインダー樹脂の1つとして、ウレアポリマーやウレタンポリマーを使うことで、耐刷性に優れた印刷版が得られることも知られている(例えば、特許文献1参照)。しかし、ウレアポリマーやウレタンポリマーを用いた印刷版の耐薬品性及び耐刷性を更に高めるために、バーニング処理を行うと、加熱によりポリマーが分解し、返って耐刷性及び耐薬品性が低下してしまう場合があった。そこで、そのような耐熱性の高くないバインダー樹脂を用いた印刷版をバーニング処理した場合でも、耐刷性及び耐薬品性が向上する技術が望まれていた。
従来のバーニング処理による耐刷性・耐薬品性向上技術としては、例えば、ノボラック樹脂を主たるバインダーとして用いる技術が提案されており(例えば、特許文献2参照)、これにより、バーニング処理を行うことで耐刷性の向上が実現されている。しかしながら、この記録層は耐薬品性に劣るという問題があった。また、変性フェノール樹脂を用いる方法(例えば、特許文献3参照)なども知られているが、耐熱性の低いバインダー樹脂を主とした印刷版において適用した場合その効果は不十分であった。
The performance required for the positive type lithographic printing plate precursor includes, for example, developability of the exposed portion, printing durability of the obtained lithographic printing plate, chemical resistance to a plate cleaner used during printing, etc. is there. In response to such demands, some positive lithographic printing plates can obtain high printing durability by performing high-temperature heat treatment (so-called burning treatment) after exposure and development.
It is also known that a printing plate having excellent printing durability can be obtained by using a urea polymer or urethane polymer as one of the binder resins (see, for example, Patent Document 1). However, in order to further improve the chemical resistance and printing durability of printing plates using urea polymers and urethane polymers, when the burning treatment is performed, the polymer is decomposed by heating, and the printing durability and chemical resistance are lowered. There was a case. Thus, there has been a demand for a technique that improves the printing durability and chemical resistance even when a printing plate using such a binder resin having a low heat resistance is burned.
As a conventional technique for improving printing durability and chemical resistance by a burning process, for example, a technique using a novolac resin as a main binder has been proposed (see, for example, Patent Document 2). Improvement in printing durability has been realized. However, this recording layer has a problem of poor chemical resistance. In addition, a method using a modified phenolic resin (see, for example, Patent Document 3) is also known, but the effect was insufficient when applied to a printing plate mainly composed of a binder resin having low heat resistance.

本発明が解決しようとする課題は、熱分解が生じやすいバインダー樹脂(例えば、ポリウレア樹脂やポリウレタン樹脂)を用いた平版印刷版において、バーニング処理を行っても耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版が得られるポジ型平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法を提供することである。   The problem to be solved by the present invention is that the lithographic printing plate using a binder resin (for example, a polyurea resin or a polyurethane resin) that easily undergoes thermal decomposition has excellent printing durability and chemical resistance even when performing a burning treatment. A positive lithographic printing plate precursor from which a lithographic printing plate can be obtained and a method for producing the lithographic printing plate.

本発明の上記課題は、以下の<1>又は<21>に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である<2>〜<20>及び<22>と共に以下に記載する。
<1>成分Aとして、主鎖にウレア結合及び/又はウレタン結合を有するポリマー、成分Bとして、赤外線吸収材料、並びに、成分Cとして、ブロック化イソシアネート基を有する化合物、を含む画像記録層を、支持体上に有することを特徴とするポジ型平版印刷版原版、
<2>上記ブロック化イソシアネート基が、下記式C−1で表される基である、<1>に記載のポジ型平版印刷版原版、
The above-described problems of the present invention have been solved by the means described in <1> or <21> below. It describes below with <2>-<20> and <22> which are preferable embodiments.
<1> An image recording layer comprising, as component A, a polymer having a urea bond and / or a urethane bond in the main chain, an infrared absorbing material as component B, and a compound having a blocked isocyanate group as component C, A positive lithographic printing plate precursor having a support on a support,
<2> The positive lithographic printing plate precursor as described in <1>, wherein the blocked isocyanate group is a group represented by the following formula C-1.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

式C−1中、Zは一価の有機基を表す。   In formula C-1, Z represents a monovalent organic group.

<3>成分Aが、主鎖にウレア結合を有するポリマーである、<1>又は<2>に記載のポジ型平版印刷版原版、
<4>成分Cが、ブロック化イソシアネート基を有するポリマーである、<1>〜<3>のいずれか1つに記載のポジ型平版印刷版原版、
<5>上記ブロック化イソシアネート基を有するポリマーが、下記式C−2で表される構成単位を有する、<4>に記載のポジ型平版印刷版原版、
<3> The positive lithographic printing plate precursor as described in <1> or <2>, wherein the component A is a polymer having a urea bond in the main chain,
<4> The positive planographic printing plate precursor according to any one of <1> to <3>, wherein Component C is a polymer having a blocked isocyanate group,
<5> The positive lithographic printing plate precursor as described in <4>, wherein the polymer having a blocked isocyanate group has a structural unit represented by the following formula C-2.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

式C−2中、RC1は水素原子又はメチル基を表し、X及びYはそれぞれ独立に、二価の連結基又は単結合を表し、Zは一価の有機基を表す。 In Formula C-2, R C1 represents a hydrogen atom or a methyl group, X and Y each independently represent a divalent linking group or a single bond, and Z represents a monovalent organic group.

<6>上記Xが、アリーレン基又は−C(=O)−である、<5>に記載のポジ型平版印刷版原版、
<7>上記Xが、−C(=O)−である、<6>に記載のポジ型平版印刷版原版、
<8>上記ブロック化イソシアネート基を有するポリマーが、酸性基を更に有する、<4>〜<7>のいずれか1つに記載のポジ型平版印刷版原版、
<9>上記酸性基が、フェノール性水酸基、スルホンアミド基及びカルボン酸基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基である、<8>に記載のポジ型平版印刷版原版、
<10>上記Zが、フェノール性水酸基を有する化合物、オキシム化合物、ピラゾール構造を有する化合物、ラクタム化合物、及び、脂肪族アルコール化合物よりなる群から選ばれた化合物から活性水素を1つ除いた基である、<2>又は<5>に記載のポジ型平版印刷版原版、
<11>成分Cが、ブロック化イソシアネート基を有する分子量1,000未満の化合物である、<1>〜<3>のいずれか1つに記載のポジ型平版印刷版原版、
<12>成分Cが、3つ以上のブロック化イソシアネート基を有する分子量1,000未満の化合物である、<11>に記載のポジ型平版印刷版原版、
<13>成分Cの含有量が、成分Aの含有量100質量部に対して、1〜30質量部である、<1>〜<12>のいずれか1つに記載のポジ型平版印刷版原版、
<14>上記画像記録層が、成分Dとして、フェノール樹脂を更に含む、<1>〜<13>のいずれか1つに記載のポジ型平版印刷版原版、
<15>成分Aが、酸性基を更に有する、<1>〜<14>のいずれか1つに記載のポジ型平版印刷版原版、
<16>成分Aにおける上記酸性基が、主鎖に直接結合した酸性基である、<15>に記載のポジ型平版印刷版原版、
<17>成分Aにおける上記酸性基が、フェノール性水酸基、スルホンアミド基及びカルボン酸基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基である、<15>又は<16>に記載のポジ型平版印刷版原版、
<18>成分Aにおける上記酸性基が、フェノール性水酸基である、<17>に記載のポジ型平版印刷版原版、
<19>画像記録層が、下層と上層とで構成され、成分A〜成分Cを含む上記画像記録層が、少なくとも上記下層及び上記上層のいずれかである、<1>〜<18>のいずれか1つに記載のポジ型平版印刷版原版、
<20>成分A〜成分Cを含む上記画像記録層が、少なくとも上記下層である、<19>に記載のポジ型平版印刷版原版、
<21><1>〜<20>のいずれか1つに記載のポジ型平版印刷版原版を画像露光する露光工程、及び、pH8.5〜13.5のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程、をこの順で含むことを特徴とする、平版印刷版の作製方法、
<22>上記現像工程の後に、加熱処理を行う加熱工程を更に含む、<21>に記載の平版印刷版の作製方法。
<6> The positive planographic printing plate precursor according to <5>, wherein X is an arylene group or —C (═O) —.
<7> The positive lithographic printing plate precursor as described in <6>, wherein X is —C (═O) —,
<8> The positive lithographic printing plate precursor as described in any one of <4> to <7>, wherein the polymer having a blocked isocyanate group further has an acidic group,
<9> The positive lithographic printing plate precursor according to <8>, wherein the acidic group is at least one group selected from the group consisting of a phenolic hydroxyl group, a sulfonamide group, and a carboxylic acid group,
<10> Z is a group obtained by removing one active hydrogen from a compound selected from the group consisting of a compound having a phenolic hydroxyl group, an oxime compound, a compound having a pyrazole structure, a lactam compound, and an aliphatic alcohol compound. A positive lithographic printing plate precursor as described in <2> or <5>,
<11> The positive lithographic printing plate precursor as described in any one of <1> to <3>, wherein Component C is a compound having a blocked isocyanate group and a molecular weight of less than 1,000,
<12> The positive lithographic printing plate precursor as described in <11>, wherein Component C is a compound having a molecular weight of less than 1,000 and having three or more blocked isocyanate groups,
<13> The positive planographic printing plate according to any one of <1> to <12>, wherein the content of component C is 1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of component A Original,
<14> The positive-type planographic printing plate precursor according to any one of <1> to <13>, wherein the image recording layer further contains a phenol resin as component D,
<15> The positive lithographic printing plate precursor as described in any one of <1> to <14>, wherein the component A further has an acidic group,
<16> The positive lithographic printing plate precursor as described in <15>, wherein the acidic group in component A is an acidic group directly bonded to the main chain,
<17> The positive lithographic plate according to <15> or <16>, wherein the acidic group in component A is at least one group selected from the group consisting of a phenolic hydroxyl group, a sulfonamide group, and a carboxylic acid group. Printing plate master,
<18> The positive lithographic printing plate precursor as described in <17>, wherein the acidic group in component A is a phenolic hydroxyl group,
<19> Any of <1> to <18>, wherein the image recording layer is composed of a lower layer and an upper layer, and the image recording layer containing component A to component C is at least one of the lower layer and the upper layer Or positive lithographic printing plate precursor as described in
<20> The positive planographic printing plate precursor as described in <19>, wherein the image recording layer containing component A to component C is at least the lower layer,
<21> An exposure process for image exposure of the positive planographic printing plate precursor according to any one of <1> to <20>, and a development process for developing using an alkaline aqueous solution having a pH of 8.5 to 13.5 A method for producing a lithographic printing plate, comprising:
<22> The method for preparing a lithographic printing plate as described in <21>, further comprising a heating step of performing a heat treatment after the developing step.

本発明によれば、熱分解が生じやすいバインダー樹脂(例えば、ウレア樹脂やウレタン樹脂)を用いた平版印刷版において、バーニング処理を行っても耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版が得られるポジ型平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法を提供することができる。   According to the present invention, in a lithographic printing plate using a binder resin (for example, a urea resin or a urethane resin) that easily undergoes thermal decomposition, a lithographic printing plate excellent in printing durability and chemical resistance can be obtained even when performing a burning treatment. The positive type lithographic printing plate precursor obtained and a method for producing the lithographic printing plate can be provided.

以下において、本発明の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
本明細書における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
更に、各一般式における二重結合の置換様式である幾何異性体は、表示の都合上、異性体の一方を記載したとしても、特段の断りがない限り、E体であってもZ体であっても、これらの混合物であっても構わない。
また、本明細書における化学構造式は、水素原子を省略した簡略構造式で記載する場合もある。
なお、本明細書中において、“(メタ)アクリレート”はアクリレート及びメタクリレートを表し、“(メタ)アクリル”はアクリル及びメタクリルを表し、“(メタ)アクリロイル”はアクリロイル及びメタクリロイルを表し、“(メタ)アクリルアミド”はアクリルアミド及びメタクリルアミドを表す。また、“アクリル樹脂”は、(メタ)アクリレート化合物及び(メタ)アクリルアミド化合物よりなる群から選ばれた化合物の単独重合体又は共重合体であり、共重合体の場合は、上記化合物を樹脂全体の50質量%以上共重合した樹脂であるものとする。
また、本発明において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
また、本発明において、2以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail. The description of the constituent elements described below may be made based on typical embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments. In the specification of the present application, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.
In the description of the group (atomic group) in this specification, the description which does not describe substitution and non-substitution includes what does not have a substituent and what has a substituent. For example, the “alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
Furthermore, the geometrical isomer which is the substitution mode of the double bond in each general formula is not limited to the E-form or the Z-form unless otherwise specified. Or a mixture thereof.
In addition, the chemical structural formula in this specification may be expressed as a simplified structural formula in which a hydrogen atom is omitted.
In this specification, “(meth) acrylate” represents acrylate and methacrylate, “(meth) acryl” represents acryl and methacryl, “(meth) acryloyl” represents acryloyl and methacryloyl, and “(meth) ) Acrylamide "refers to acrylamide and methacrylamide. The “acrylic resin” is a homopolymer or copolymer of a compound selected from the group consisting of a (meth) acrylate compound and a (meth) acrylamide compound. It is assumed that the resin is copolymerized by 50% by mass or more.
In the present invention, “mass%” and “wt%” are synonymous, and “part by mass” and “part by weight” are synonymous.
In the present invention, a combination of two or more preferred embodiments is a more preferred embodiment.

本発明では、特に断りのない限り、ポリマー成分における分子量は、テトラヒドロフラン(THF)を溶剤とした場合のゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)で測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)である。   In the present invention, unless otherwise specified, the molecular weight in the polymer component is a weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran (THF) as a solvent.

(ポジ型平版印刷版原版)
本発明のポジ型平版印刷版原版(以下、単に「平版印刷版原版」ともいう。)は、成分Aとして、主鎖にウレア結合及び/又はウレタン結合を有するポリマー、成分Bとして、赤外線吸収材料、並びに、成分Cとして、ブロック化イソシアネート基を有する化合物、を含む画像記録層(「感光層」ともいう。)を、支持体上に有することを特徴とする。
(Positive planographic printing plate precursor)
The positive-type planographic printing plate precursor (hereinafter also simply referred to as “lithographic printing plate precursor”) of the present invention is a component A, a polymer having a urea bond and / or a urethane bond in the main chain, and a component B as an infrared absorbing material. And an image recording layer (also referred to as “photosensitive layer”) containing, as Component C, a compound having a blocked isocyanate group, on the support.

本発明者は鋭意検討した結果、上記の成分A〜成分Cを含む画像記録層を有することにより、熱分解が生じやすいバインダー樹脂(例えば、ウレア樹脂やウレタン樹脂)を用いた平版印刷版において、バーニング処理を行っても耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版が得られることを見出し、本発明を完成するに到った。
本発明における効果発現のメカニズムは定かではないが、以下のように推測される。
ウレアポリマー及びウレタンポリマーは、バーニング処理により分子量数千程度のオリゴマー又は分子量数百程度のモノマー単位まで分解していると考えられ、そのため、バーニング前に比べて耐刷性及び耐薬品性の劣化を招いていると推察される。この際、分解物であるオリゴマー又はモノマーの末端はアミノ基を有していると考えられる。一方、ブロック化イソシアネート基を有する化合物のブロック化イソシアネート基は、加熱により脱保護され、反応性のイソシアネート基が生成していると考えられる。それらイソシアネート基が、分解物のアミノ基と反応し、再び結合を形成することで耐刷性及び耐薬品性を向上させていると推測している。
また、このとき、ブロック化イソシアネート基を有する化合物が3官能以上であると、再重合による生成物が3次元網目構造を取り得るために、発明の効果がより大きくなると推定している。
As a result of diligent study, the present inventor has an image recording layer containing the above components A to C, so that in a lithographic printing plate using a binder resin (for example, a urea resin or a urethane resin) that easily undergoes thermal decomposition, It has been found that a lithographic printing plate excellent in printing durability and chemical resistance can be obtained even by performing the burning treatment, and the present invention has been completed.
The mechanism of the effect in the present invention is not clear, but is presumed as follows.
Urea polymers and urethane polymers are considered to have decomposed into oligomers with molecular weights of about several thousand or monomer units with molecular weights of about several hundreds by the burning treatment, so that the printing durability and chemical resistance are deteriorated compared to before burning. It is inferred that he has been invited. At this time, it is considered that the terminal of the oligomer or monomer which is a decomposition product has an amino group. On the other hand, the blocked isocyanate group of the compound having a blocked isocyanate group is considered to be deprotected by heating to generate a reactive isocyanate group. It is speculated that these isocyanate groups react with the amino group of the decomposition product to form bonds again, thereby improving the printing durability and chemical resistance.
At this time, if the compound having a blocked isocyanate group is trifunctional or more, the product of repolymerization can take a three-dimensional network structure, and therefore the effect of the invention is estimated to be greater.

成分A:主鎖にウレア結合及び/又はウレタン結合を有するポリマー
本発明のポジ型平版印刷版原版は、上記画像記録層に、成分Aとして、主鎖にウレア結合及び/又はウレタン結合を有するポリマー(単に「成分A」又は「ウレア/ウレタン樹脂」ともいう。)を含む。
本発明に使用されるウレア/ウレタン樹脂は、従来公知のものであれば特に制限はなく、主鎖に、ウレア結合若しくはウレタン結合のいずれか、又は、ウレア結合及びウレタン結合の両方を有するポリマーであればよいが、例えば以下のようなものが使用される。
Component A: Polymer having urea bond and / or urethane bond in main chain The positive planographic printing plate precursor of the present invention is a polymer having urea bond and / or urethane bond in main chain as component A in the image recording layer. (Also simply referred to as “component A” or “urea / urethane resin”).
The urea / urethane resin used in the present invention is not particularly limited as long as it is a conventionally known resin, and is a polymer having either a urea bond or a urethane bond, or both a urea bond and a urethane bond in the main chain. For example, the following is used.

成分Aは、主鎖にウレア結合を少なくとも有するポリマーであることが好ましく、主鎖にウレア結合を少なくとも有するポリウレア樹脂であることがより好ましい。上記態様であると、得られる平版印刷版の耐刷性及び耐薬品性により優れる。
ウレア結合は、下記式U−1で表される結合であり、成分Aにおいては、ウレア結合が下記式U−2で表される結合であることが好ましい。
Component A is preferably a polymer having at least a urea bond in the main chain, and more preferably a polyurea resin having at least a urea bond in the main chain. The above aspect is more excellent in printing durability and chemical resistance of the resulting lithographic printing plate.
The urea bond is a bond represented by the following formula U-1, and in Component A, the urea bond is preferably a bond represented by the following formula U-2.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

式中、RU1及びRU2はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
U1及びRU2はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等)であることが好ましく、水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基であることがより好ましく、水素原子又はメチル基であることが更に好ましい。
In the formula, R U1 and R U2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and a wavy line represents a bonding position with another structure.
R U1 and R U2 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, etc.). It is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group.

ウレア結合は、如何なる手段を用いて形成されてもよいが、イソシアネート化合物とアミン化合物との反応で得ることができる。また、1,3−ビス(2−アミノエチル)ウレア、1,3−ビス(2−ヒドロキシエチル)ウレア、1,3−ビス(2−ヒドロキシプロピル)ウレア等の様に、末端にヒドロキシル基又はアミノ基を有するアルキル基で置換されたウレア化合物を原料としてマクロモノマーを合成してもよい。   The urea bond may be formed by any means, but can be obtained by a reaction between an isocyanate compound and an amine compound. In addition, a hydroxyl group or a terminal is formed at the terminal, such as 1,3-bis (2-aminoethyl) urea, 1,3-bis (2-hydroxyethyl) urea, 1,3-bis (2-hydroxypropyl) urea, and the like. A macromonomer may be synthesized using a urea compound substituted with an alkyl group having an amino group as a raw material.

原料として使用するイソシアネート化合物は、分子内にイソシアネート基を2つ以上有するポリイソシアネート化合物であれば特に構わないが、ジイソシアネート化合物が好ましい。
ポリイソシアネート化合物として、例えば、1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、ジイソシアン酸イソホロン、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、1,3−シクロペンタンジイソシアネート、9H−フルオレン−2,7−ジイソシアネート、9H−フルオレン−9−オン−2,7−ジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアナート、1,3−フェニレンジイソシアナート、トリレン−2,4−ジイソシアナート、トリレン−2,6−ジイソシアナート、1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、2,2−ビス(4−イソシアナトフェニル)ヘキサフルオロプロパン、1,5−ジイソシアナトナフタレン等が挙げられる。
The isocyanate compound used as a raw material is not particularly limited as long as it is a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in the molecule, but a diisocyanate compound is preferable.
Examples of the polyisocyanate compound include 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, isophorone diisocyanate, trimethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 1,3-cyclopentane diisocyanate, 9H-fluorene. -2,7-diisocyanate, 9H-fluoren-9-one-2,7-diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 1,3-phenylene diisocyanate, tolylene-2,4-diisocyanate, Tolylene-2,6-diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, 2,2-bis (4-isocyanatophenyl) hexafluoropropane, 1,5-diisocyanate And naphthalene.

原料として使用するアミン化合物は、分子内にアミノ基を2つ以上有するポリアミン化合物が好ましく、ジアミン化合物がより好ましい。
ポリアミン化合物として、例えば、2,7−ジアミノ−9H−フルオレン、3,6−ジアミノアクリジン、アクリフラビン、アクリジンイエロー、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、ビス(4−アミノフェニル)スルホン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、ビス(4−アミノフェニル)スルフィド、1,1−ビス(4−アミノフェニル)シクロヘキサン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルジフェニルメタン、4−(フェニルジアゼニル)ベンゼン−1,3−ジアミン、1,5−ジアミノナフタレン、1,3−フェニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、2,6−ジアミノトルエン、1,8−ジアミノナフタレン、1,3−ジアミノプロパン、1,3−ジアミノペンタン、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジアミン、1,5−ジアミノペンタン、2−メチル−1,5−ジアミノペンタン、1,7−ジアミノヘプタン、N,N−ビス(3−アミノプロピル)メチルアミン、1,3−ジアミノ−2−プロパノール、ジエチレングリコールビス(3−アミノプロピル)エーテル、m−キシリレンジアミン、テトラエチレンペンタミン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ベンゾグアナミン、2,4−ジアミノ−1,3,5−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−メチル−1,3,5−トリアジン、6−クロロ−2,4−ジアミノピリミジン、2−クロロ−4,6−ジアミノ−1,3,5−トリアジン等が挙げられる。これらのポリアミン化合物にホスゲン又はトリホスゲンを反応させて、ポリイソシアネート化合物を合成し、マクロモノマーの原料として用いてもよい。
The amine compound used as a raw material is preferably a polyamine compound having two or more amino groups in the molecule, and more preferably a diamine compound.
Examples of polyamine compounds include 2,7-diamino-9H-fluorene, 3,6-diaminoacridine, acriflavine, acridine yellow, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 4,4′-diamino Benzophenone, bis (4-aminophenyl) sulfone, 4,4′-diaminodiphenyl ether, bis (4-aminophenyl) sulfide, 1,1-bis (4-aminophenyl) cyclohexane, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 3 3,3'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diaminobenzophenone, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldiphenylmethane, 4- (phenyldiazenyl) benzene-1,3-diamine, 1,5-diaminonaphthalene 1,3-phenylenediamine, 2,4-diaminoto Ruene, 2,6-diaminotoluene, 1,8-diaminonaphthalene, 1,3-diaminopropane, 1,3-diaminopentane, 2,2-dimethyl-1,3-propanediamine, 1,5-diaminopentane, 2-methyl-1,5-diaminopentane, 1,7-diaminoheptane, N, N-bis (3-aminopropyl) methylamine, 1,3-diamino-2-propanol, diethylene glycol bis (3-aminopropyl) Ether, m-xylylenediamine, tetraethylenepentamine, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, benzoguanamine, 2,4-diamino-1,3,5-triazine, 2,4-diamino-6-methyl- 1,3,5-triazine, 6-chloro-2,4-diaminopyrimidine, 2-chloro-4,6-diamino- , 3,5-triazine. These polyamine compounds may be reacted with phosgene or triphosgene to synthesize polyisocyanate compounds and used as macromonomer raw materials.

成分Aにおけるポリウレア樹脂は、直鎖のポリウレア樹脂であることが好ましく、ジイソシアネート化合物とジアミン化合物とを重縮合したポリウレア樹脂であることがより好ましい。   The polyurea resin in component A is preferably a linear polyurea resin, and more preferably a polyurea resin obtained by polycondensation of a diisocyanate compound and a diamine compound.

成分Aとしては、主鎖にウレタン結合を少なくとも有するポリマーを用いることもできる。
ウレタン結合は、下記式T−1で表される結合であり、成分Aにおいては、ウレタン結合が下記式T−2で表される結合であることが好ましい。
As the component A, a polymer having at least a urethane bond in the main chain can also be used.
The urethane bond is a bond represented by the following formula T-1, and in Component A, the urethane bond is preferably a bond represented by the following formula T-2.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

式中、RT1は水素原子又はアルキル基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
T1は、水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等)であることが好ましく、水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基であることがより好ましく、水素原子又はメチル基であることが更に好ましい。
In the formula, R T1 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and a wavy line portion represents a bonding position with another structure.
R T1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, etc.), hydrogen It is more preferably an atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and further preferably a hydrogen atom or a methyl group.

ウレタン結合は、如何なる手段を用いて形成されてもよいが、イソシアネート化合物とヒドロキシ基を有する化合物との反応で得ることができる。
原料として用いるイソシアネート化合物は、分子内にイソシアネート基を2つ以上有するポリイソシアネート化合物が好ましく、ジイソシアネート化合物が更に好ましい。ポリイソシアネート化合物としては、上記ウレア結合で挙げたポリイソシアネート化合物を挙げることができる。
原料として用いるヒドロキシ基を有する化合物としては、ポリオール化合物、アミノアルコール化合物、アミノフェノール化合物、アルキルアミノフェノール化合物等を挙げることができるが、ポリオール化合物又はアミノアルコール化合物が好ましく挙げられる。
ポリオール化合物は、分子内に少なくとも2つ以上のヒドロキシ基を有する化合物であり、ジオール化合物であることが好ましい。また、分子内にエステル結合又はエーテル結合を有していてもよい。
ポリオール化合物として、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ペンタエリスリトール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、ポリ(エチレンアジペート)、ポリ(ジエチレンアジペート)、ポリ(プロピレンアジペート)、ポリ(テトラメチレンアジペート)、ポリ(ヘキサメチレンアジペート)、ポリ(ネオペンチレンアジペート)等を挙げることができる。
アミノアルコール化合物は、分子内にアミノ基とヒドロキシ基とを有する化合物であり、更に分子内にエーテル結合を有していてもよい。アミノアルコール化合物として、例えば、アミノエタノール、3−アミノ−1−プロパノール、2−(2−アミノエトキシ)エタノール、2−アミノ−1,3−プロパンジオール、2−アミノ−2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,3−ジアミノ−2−プロパノール等を挙げることができる。
The urethane bond may be formed by any means, but can be obtained by a reaction between an isocyanate compound and a compound having a hydroxy group.
The isocyanate compound used as a raw material is preferably a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in the molecule, and more preferably a diisocyanate compound. As a polyisocyanate compound, the polyisocyanate compound mentioned by the said urea bond can be mentioned.
Examples of the compound having a hydroxy group used as a raw material include a polyol compound, an aminoalcohol compound, an aminophenol compound, and an alkylaminophenol compound, and a polyol compound or an aminoalcohol compound is preferable.
The polyol compound is a compound having at least two or more hydroxy groups in the molecule, and is preferably a diol compound. Moreover, you may have an ester bond or an ether bond in a molecule | numerator.
Examples of the polyol compound include ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, polyethylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,4-cyclohexane. Dimethanol, pentaerythritol, 3-methyl-1,5-pentanediol, poly (ethylene adipate), poly (diethylene adipate), poly (propylene adipate), poly (tetramethylene adipate), poly (hexamethylene adipate), poly (Neopentylene adipate) and the like.
The amino alcohol compound is a compound having an amino group and a hydroxy group in the molecule, and may further have an ether bond in the molecule. Examples of amino alcohol compounds include aminoethanol, 3-amino-1-propanol, 2- (2-aminoethoxy) ethanol, 2-amino-1,3-propanediol, and 2-amino-2-methyl-1,3. -Propanediol, 1,3-diamino-2-propanol, etc. can be mentioned.

また、ウレア結合及びウレタン結合の両方を有するポリマーを形成する場合は、例えば、上記ポリイソシアネート化合物に対し、上記アミノアルコール化合物を反応させるか、又は、上記ポリアミン化合物及び上記ポリオール化合物の両方を反応させることにより得ることができる。   When forming a polymer having both a urea bond and a urethane bond, for example, the amino alcohol compound is reacted with the polyisocyanate compound, or both the polyamine compound and the polyol compound are reacted. Can be obtained.

成分Aは、酸性基を更に有することが好ましい。酸性基を有することにより、現像性に優れる。
成分Aにおける上記酸性基は、フェノール性水酸基、スルホンアミド基、活性イミド基、カルボン酸基、リン酸基及びスルホン酸基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基であることが好ましく、フェノール性水酸基、スルホンアミド基及びカルボン酸基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基であることがより好ましく、フェノール性水酸基であることが更に好ましい。
なお、本発明における活性イミド基は、窒素原子にカルボニル基が2つ結合した基であり、現像時の現像液の水分や層中の水分等により平衡的にカルボン酸基が生じ得る酸性基である。
上記酸性基は、ポリマーの主鎖若しくは側鎖のどちらか、又は、主鎖及び側鎖の両方に有してもよいが、成分Aにおける酸性基は、主鎖に直接結合した酸性基であることが好ましい。
成分Aに酸性基を導入する方法としては、特に制限はなく、上記ポリイソシアネート化合物に対し、酸性基を有するポリアミン化合物や酸性基を有するポリオール化合物を反応させて得ることもできるし、また、高分子反応により重縮合後に導入してもよい。
Component A preferably further has an acidic group. By having an acidic group, the developability is excellent.
The acidic group in component A is preferably at least one group selected from the group consisting of a phenolic hydroxyl group, a sulfonamide group, an active imide group, a carboxylic acid group, a phosphoric acid group and a sulfonic acid group. It is more preferably at least one group selected from the group consisting of a hydrophilic hydroxyl group, a sulfonamide group and a carboxylic acid group, and even more preferably a phenolic hydroxyl group.
The active imide group in the present invention is a group in which two carbonyl groups are bonded to a nitrogen atom, and is an acidic group that can generate a carboxylic acid group in equilibrium due to water in the developer during development, moisture in the layer, or the like. is there.
The acidic group may have either the main chain or the side chain of the polymer, or both the main chain and the side chain, but the acidic group in Component A is an acidic group directly bonded to the main chain. It is preferable.
The method for introducing an acidic group into Component A is not particularly limited, and can be obtained by reacting the polyisocyanate compound with a polyamine compound having an acidic group or a polyol compound having an acidic group. It may be introduced after polycondensation by molecular reaction.

成分Aは、フェノール性水酸基を主鎖に有する構成単位として、下記式AF−1で表される構成単位を有することが好ましい。   Component A preferably has a structural unit represented by the following formula AF-1 as a structural unit having a phenolic hydroxyl group in the main chain.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

式AF−1中、RA1は、単結合又は二価の連結基を表す。
A1は単結合、炭素数1〜6のアルキレン基又はスルホニル基であることが好ましく、単結合又は炭素数1〜5のアルキレン基であることがより好ましく、単結合又はメチレン基であることが更に好ましく、単結合であることが特に好ましい。
A1におけるアルキレン基は直鎖状、分岐鎖状又は環状のいずれであってもよい。また、RA1におけるアルキレン基は置換されていてもよく、置換基としては炭素数1〜4のアルキル基、アリール基、ハロゲン原子が好ましく例示される。また、上記アリール基は更に置換されていてもよく、好ましい置換基としてはヒドロキシ基が挙げられる。
また、式AF−1におけるフェノール性水酸基は、−NH−が結合した位置のオルト位に結合していることが好ましい。上記態様であると、現像性に優れた平版印刷版原版が得られる。
上記式AF−1で表される構成単位を形成するジアミン化合物としては、以下の化合物が好ましく挙げられる。
In formula AF-1, R A1 represents a single bond or a divalent linking group.
R A1 is preferably a single bond, an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms or a sulfonyl group, more preferably a single bond or an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and a single bond or a methylene group. More preferably, it is a single bond.
The alkylene group in R A1 may be linear, branched or cyclic. The alkylene group in R A1 may be substituted, and preferred examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group, and a halogen atom. The aryl group may be further substituted, and a preferable substituent is a hydroxy group.
Moreover, it is preferable that the phenolic hydroxyl group in Formula AF-1 is couple | bonded with the ortho position of the position which -NH- couple | bonded. In the above embodiment, a lithographic printing plate precursor excellent in developability can be obtained.
Preferred examples of the diamine compound that forms the structural unit represented by Formula AF-1 include the following compounds.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

Figure 2016156968
Figure 2016156968

上記ジアミン化合物の中でも、DADHB、1,3−DAP、DAMDH、PDABP、AHPHFP又はAHPFLが好ましく、DADHBがより好ましい。   Among the diamine compounds, DADHB, 1,3-DAP, DAMDH, PDABP, AHPPHFP or AHPFL are preferable, and DADHB is more preferable.

また、成分Aは、スルホンアミド基を主鎖に有する構成単位として、下記式AF−2で表される構成単位を有することが好ましい。   Component A preferably has a structural unit represented by the following formula AF-2 as a structural unit having a sulfonamide group in the main chain.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

式AF−2中、RA2、RA3及びRA4はそれぞれ独立に、二価の連結基を表す。
A2及びRA4はそれぞれ独立に、アルキレン基又はアリーレン基であることが好ましく、炭素数1〜4のアルキレン基又は炭素数6〜10のアリーレン基であることがより好ましく、フェニレン基であることが更に好ましい。
また、RA2及びRA4は、共にアリーレン基であることが好ましく、共にフェニレン基であることがより好ましい。
A2及びRA4におけるアリーレン基又はアルキレン基は置換されていてもよく、置換基としては、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、ハロゲン原子が好ましく、炭素数1〜4のアルキル基がより好ましい。
A3は、アリーレン基、−RA5−O−RA6−、又は、−RA5−SO−RA6−であることが好ましく、アリーレン基であることがより好ましく、フェニレン基であることが更に好ましい。RA5及びRA6はそれぞれ独立に、アリーレン基を表し、フェニレン基であることが好ましい。
A3におけるアリーレン基は置換されていてもよく、置換基としては、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、ハロゲン原子が好ましく、炭素数1〜4のアルキル基がより好ましい。
上記式AF−2で表される構成単位を形成するジアミン化合物としては、以下の化合物が好ましく挙げられる。
In formula AF-2, R A2 , R A3 and R A4 each independently represent a divalent linking group.
R A2 and R A4 are each independently preferably an alkylene group or an arylene group, more preferably an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or an arylene group having 6 to 10 carbon atoms, and a phenylene group. Is more preferable.
R A2 and R A4 are preferably both an arylene group, and more preferably a phenylene group.
The arylene group or alkylene group in R A2 and R A4 may be substituted, and the substituent is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom. An alkyl group of ˜4 is more preferred.
R A3 is preferably an arylene group, —R A5 —O—R A6 —, or —R A5 —SO 2 —R A6 —, more preferably an arylene group, and preferably a phenylene group. Further preferred. R A5 and R A6 each independently represent an arylene group, preferably a phenylene group.
The arylene group in R A3 may be substituted, and the substituent is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. More preferred.
Preferred examples of the diamine compound that forms the structural unit represented by Formula AF-2 include the following compounds.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

また、成分Aは、スルホンアミド基を主鎖に有する構成単位として、下記式AF−3で表される構成単位を有することが好ましい。   Component A preferably has a structural unit represented by the following formula AF-3 as a structural unit having a sulfonamide group in the main chain.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

式AF−3中、RA7、RA8及びRA9はそれぞれ独立に、二価の連結基を表す。
A7及びRA9はそれぞれ独立に、アルキレン基又はアリーレン基であることが好ましく、炭素数2〜6のアルキレン基又は炭素数6〜10のアリーレン基であることがより好ましく、炭素数2〜4のアルキレン基であることが更に好ましい。
また、RA7及びRA9は、共にアルキレン基であることが好ましく、共にエチレン基であることがより好ましい。
A7及びRA9におけるアリーレン基又はアルキレン基は置換されていてもよく、置換基としては、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、ハロゲン原子が好ましく、炭素数1〜4のアルキル基がより好ましい。
A8は、アリーレン基、−RA10−O−RA11−、又は、−RA10−SO−RA11−であることが好ましく、アリーレン基であることがより好ましく、フェニレン基であることが更に好ましい。RA10及びRA11はそれぞれ独立に、アリーレン基を表し、フェニレン基であることが好ましい。
A8におけるアリーレン基は置換されていてもよく、置換基としては、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、ハロゲン原子が好ましく、炭素数1〜4のアルキル基がより好ましい。
上記式AF−3で表される構成単位を形成するジオール化合物としては、以下の化合物が好ましく挙げられる。
In formula AF-3, R A7 , R A8 and R A9 each independently represent a divalent linking group.
R A7 and R A9 are each independently preferably an alkylene group or an arylene group, more preferably an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms or an arylene group having 6 to 10 carbon atoms, and 2 to 4 carbon atoms. More preferably, it is an alkylene group.
R A7 and R A9 are preferably both alkylene groups, more preferably ethylene groups.
The arylene group or alkylene group in R A7 and R A9 may be substituted, and the substituent is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom. An alkyl group of ˜4 is more preferred.
R A8 is preferably an arylene group, —R A10 —O—R A11 —, or —R A10 —SO 2 —R A11 —, more preferably an arylene group, and preferably a phenylene group. Further preferred. R A10 and R A11 each independently represent an arylene group, preferably a phenylene group.
The arylene group in R A8 may be substituted. The substituent is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. More preferred.
Preferred examples of the diol compound that forms the structural unit represented by the formula AF-3 include the following compounds.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

また、成分Aにカルボン酸基を導入する化合物としては、特に制限はなく、例えば、ジアミノ安息香酸や2−カルボキシピペラジン等の化合物が挙げられ、また、下記酸無水物基を有する化合物にポリオール化合物を反応させてもよい。   Moreover, there is no restriction | limiting in particular as a compound which introduce | transduces a carboxylic acid group into the component A, For example, compounds, such as diaminobenzoic acid and 2-carboxy piperazine, are mentioned, Moreover, a polyol compound is mentioned in the compound which has the following acid anhydride groups. May be reacted.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

Figure 2016156968
Figure 2016156968

成分Aの重量平均分子量は、1,000以上であることが好ましく、5,000〜300,000であることがより好ましく、10,000〜200,000であることが更に好ましく、30,000〜100,000であることが特に好ましい。上記範囲であると、得られる平版印刷版の耐刷性及び耐薬品性により優れる。   The weight average molecular weight of Component A is preferably 1,000 or more, more preferably 5,000 to 300,000, still more preferably 10,000 to 200,000, and more preferably 30,000 to Particularly preferred is 100,000. Within the above range, the lithographic printing plate obtained is more excellent in printing durability and chemical resistance.

成分Aは、1種単独で含有しても、2種以上を含有してもよい。
上記画像記録層中における成分Aの含有量は、上記画像記録層の全質量に対して、10〜90質量%であることが好ましく、20〜80質量%であることがより好ましく、40〜70質量%であることが更に好ましい。上記範囲であると、現像した際のパターン形成性が良好となり、また、得られる平版印刷版の耐刷性及び耐薬品性により優れる。
Component A may be contained singly or in combination of two or more.
The content of Component A in the image recording layer is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, and more preferably 40 to 70% with respect to the total mass of the image recording layer. More preferably, it is mass%. When it is within the above range, the pattern formability upon development is good, and the lithographic printing plate obtained is more excellent in printing durability and chemical resistance.

成分B:赤外線吸収材料
上記画像記録層は、成分Bとして、赤外線吸収材料(単に「成分B」ともいう。)を含有する。
赤外線吸収材料としては、赤外光を吸収し熱を発生する染料であれば特に制限はなく、赤外線吸収材料として知られる種々の染料を用いることができる。
本発明に用いることができる赤外線吸収材料としては、市販の染料及び文献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料などの染料が挙げられる。本発明において、これらの染料のうち、赤外光又は近赤外光を少なくとも吸収するものが、赤外光又は近赤外光を発光するレーザーでの利用に適する点で好ましく、シアニン染料が特に好ましい。
Component B: Infrared Absorbing Material The image recording layer contains an infrared absorbing material (also simply referred to as “component B”) as component B.
The infrared absorbing material is not particularly limited as long as it is a dye that absorbs infrared light and generates heat, and various dyes known as infrared absorbing materials can be used.
As the infrared absorbing material that can be used in the present invention, commercially available dyes and known materials described in literature (for example, “Dye Handbook” edited by Organic Synthetic Chemistry Association, published in 1970) can be used. Specific examples include azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, and cyanine dyes. In the present invention, among these dyes, those that absorb at least infrared light or near-infrared light are preferable because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near-infrared light, and cyanine dyes are particularly preferred. preferable.

そのような赤外光又は近赤外光を少なくとも吸収する染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等の各公報に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等の各公報に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等の各公報に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号公報等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号明細書記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Examples of the dye that absorbs at least infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-. Cyanine dyes described in each publication such as 78787, methine dyes described in each publication such as JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, Japanese Laid-Open Patent Publication Nos. 58-112793, 58-224793, 59-48187, 59-73996, 60-52940, 60-63744, etc. Naphthoquinone dyes described in JP-A-58-112792, squarylium dyes described in JP-A-58-112792, cyanine dyes described in British Patent 434,875, etc. Can.

また、染料として米国特許第5,156,938号明細書記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号明細書記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号公報(米国特許第4,327,169号明細書)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号の各公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号公報記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号公報に開示されているピリリウム化合物等が、市販品としては、エポリン社製のEpolight III−178、Epolight III−130、Epolight III−125等が特に好ましく用いられる。
また、染料として特に好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式I、IIとして記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
Further, near-infrared absorption sensitizers described in US Pat. No. 5,156,938 are also preferably used as dyes, and substituted arylbenzoates described in US Pat. No. 3,881,924 are also preferred. (Thio) pyrylium salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (U.S. Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, JP-A-58-2220143, 59-41363, 59-84248, 59-84249, 59-146063, 59-146061, and pyrium compounds described in JP-A-59-216146. Cyanine dyes, pentamethine thiopyrylium salts described in US Pat. No. 4,283,475, etc., and Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 Pyrylium compounds disclosed in distribution is, as commercially available products, Epolight III-178 of Eporin Co., Epolight III-130, Epolight III-125 and the like are particularly preferably used.
Another particularly preferable example of the dye includes near infrared absorbing dyes described as formulas I and II in US Pat. No. 4,756,993.

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノール染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリリウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。更に、下記式aで表されるシアニン色素は、本発明における上層に使用した場合に、高い重合活性を与え、かつ、安定性、経済性に優れるため最も好ましい。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, phthalocyanine dyes, oxonol dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, thiopyrylium dyes, and nickel thiolate complexes. Furthermore, the cyanine dye represented by the following formula a is most preferable because it gives high polymerization activity and is excellent in stability and economy when used in the upper layer in the present invention.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

式a中、Xは、水素原子、ハロゲン原子、ジアリールアミノ基(−NPh)、X−L又は以下に示す基を表す。Xは、酸素原子又は硫黄原子を表す。Lは、炭素数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環又はヘテロ原子を含む炭素数1〜12の炭化水素基を表す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを表す。 In formula a, X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a diarylamino group (—NPh 2 ), X 2 -L 2 or a group shown below. X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom. L 2 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms including a hetero atom. Here, the hetero atom represents N, S, O, a halogen atom, or Se.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

上記式中、X は後述するZ と同様に定義され、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基及びハロゲン原子よりなる群から選択された置換基を表す。 In the above formulas, X a - is Z a which will be described below - has the same definition as, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group substitution, selected from the group consisting of substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom Represents a group.

21及びR22はそれぞれ独立に、炭素数1〜12の炭化水素基を表す。感光層塗布液の保存安定性から、R21及びR22は、炭素数2〜12の炭化水素基であることが好ましく、更に、R21とR22とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。
Ar及びArは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素数1〜12の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルコキシ基が挙げられる。
11及びY12は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素数3〜12のジアルキルメチレン基を表す。R23及びR24は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を表す。好ましい置換基としては、炭素数1〜12のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。
25、R26、R27及びR28は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を表す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Z は、対アニオンを表す。ただし、式aで示されるシアニン色素がその構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合は、Z は必要ない。好ましいZ は、感光層塗布液の保存安定性から、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及び、スルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及び、アリールスルホン酸イオンである。
R 21 and R 22 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the photosensitive layer coating solution, R 21 and R 22 are preferably a hydrocarbon group having 2 to 12 carbon atoms, and R 21 and R 22 are bonded to each other to form a 5-membered ring or 6 It is particularly preferable that a member ring is formed.
Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C1-C12 hydrocarbon group, a halogen atom, and a C1-C12 alkoxy group are mentioned.
Y 11 and Y 12 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a C 3-12 dialkylmethylene group. R 23 and R 24 may be the same or different and each represents a C 1-20 hydrocarbon group which may have a substituent. Preferable substituents include an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, a carboxyl group, and a sulfo group.
R 25 , R 26 , R 27 and R 28 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Further, Z a - represents a counter anion. However, when the cyanine dye represented by the formula a has an anionic substituent in the structure and neutralization of charge is not necessary, Z a is not necessary. Preferred Z a is a halide ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably perchloric acid, from the storage stability of the photosensitive layer coating solution. Ions, hexafluorophosphate ions, and aryl sulfonate ions.

好適に用いることのできる式aで示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969号公報の段落0017〜0019、特開2002−40638号公報の段落0012〜0038、特開2002−23360号公報の段落0012〜0023に記載されたものを挙げることができる。
上層が含有する赤外線吸収材料として特に好ましくは、以下に示すシアニン染料Aである。
Specific examples of the cyanine dye represented by formula a that can be suitably used include paragraphs 0017 to 0019 of JP-A No. 2001-133969, paragraphs 0012 to 0038 of JP-A No. 2002-40638, and JP-A No. 2002-23360. And those described in paragraphs [0012] to [0023] of the publication.
Particularly preferred as the infrared absorbing material contained in the upper layer is the cyanine dye A shown below.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

上記画像記録層における赤外線吸収材料の含有量としては、上記画像記録層の全質量に対し、0.01〜50質量%であることが好ましく、0.1〜30質量%であることがより好ましく、1.0〜30質量%であることが特に好ましい。添加量が0.01質量%以上であると、高感度となり、また、50質量%以下であると、層の均一性が良好であり、層の耐久性に優れる。   The content of the infrared absorbing material in the image recording layer is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 30% by mass, based on the total mass of the image recording layer. 1.0 to 30% by mass is particularly preferable. When the addition amount is 0.01% by mass or more, high sensitivity is obtained, and when it is 50% by mass or less, the uniformity of the layer is good and the durability of the layer is excellent.

成分C:ブロック化イソシアネート基を有する化合物
上記画像記録層は、成分Cとして、ブロック化イソシアネート基を有する化合物(単に「成分C」ともいう。)を含む。
本発明において、ブロック化イソシアネート基とは、イソシアネート基と反応可能な水素原子を有する化合物(通常、ブロック剤と呼ばれる。)を反応させて、イソシアネート基を保護した保護基である。導入された保護基は、ブロック剤から水素原子が外れたものであり、通常ブロック基と呼ばれる。例えば、A’−C(=O)−NH−で表される構造において、A’が保護基である。
Component C: Compound Having Blocked Isocyanate Group The image recording layer contains, as Component C, a compound having a blocked isocyanate group (also simply referred to as “Component C”).
In the present invention, the blocked isocyanate group is a protective group obtained by reacting a compound having a hydrogen atom capable of reacting with an isocyanate group (usually called a blocking agent) to protect the isocyanate group. The introduced protecting group is a hydrogen atom removed from the blocking agent and is usually called a blocking group. For example, in the structure represented by A′—C (═O) —NH—, A ′ is a protecting group.

本発明に用いられるブロック剤としては、例えば、特開平5−186564号公報の段落0009に記載のブロック化剤、特開2002−275231号公報の段落0022に記載のブロック剤を用いることができ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
具体的には、フェノール、ナフトール、クレゾール、キシレノール、ハロゲン置換フェノール等のフェノール性水酸基を有する化合物;アセトキシム、ホルムアルドキシム、シクロヘキサンオキシム、メチルエチルケトオキシム等のオキシム化合物;ピラゾール、メチルピラゾール、ジメチルピラゾール等のピラゾール構造を有する化合物;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、エチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキル等の脂肪族アルコール化合物;アセト酢酸エチル、マロン酸ジエチル、アセチルアセトン等の活性メチレン構造を有する化合物;アルキルメルカプタン、アリールメルカプタン等のメルカプタン化合物;α−ラクタム、β−ラクタム、γ−ラクタム、δ−ラクタム等のラクタム化合物、その他、イミド化合物、イミダゾール化合物、第一級アミン化合物、第二級アミン化合物等が挙げられる。
As the blocking agent used in the present invention, for example, the blocking agent described in paragraph 0009 of JP-A-5-186564, the blocking agent described in paragraph 0022 of JP-A-2002-275231 can be used, These contents are incorporated herein.
Specifically, compounds having a phenolic hydroxyl group such as phenol, naphthol, cresol, xylenol, halogen-substituted phenol; oxime compounds such as acetoxime, formaldoxime, cyclohexaneoxime, methylethylketoxime; pyrazole, methylpyrazole, dimethylpyrazole, etc. Compounds having a pyrazole structure; aliphatic alcohol compounds such as methanol, ethanol, propanol, butanol, cyclohexanol, ethylene glycol monoalkyl ether, propylene glycol monoalkyl ether, and alkyl lactate; activities such as ethyl acetoacetate, diethyl malonate, and acetylacetone Compound having methylene structure; mercaptan compound such as alkyl mercaptan and aryl mercaptan; α-lactam, β -Lactam compounds, such as lactam, (gamma) -lactam, (delta) -lactam, an imide compound, an imidazole compound, a primary amine compound, a secondary amine compound, etc. are mentioned.

上記ブロック化イソシアネート基としては、フェノール性水酸基を有する化合物、オキシム化合物、ピラゾール構造を有する化合物、脂肪族アルコール化合物、活性メチレン構造を有する化合物、メルカプタン化合物、ラクタム化合物、イミド化合物、イミダゾール化合物、第一級アミン化合物、及び、第二級アミン化合物よりなる群から選ばれた化合物によりイソシアネート基が保護されたブロック化イソシアネート基であることが好ましく、フェノール性水酸基を有する化合物、オキシム化合物、及び、脂肪族アルコール化合物よりなる群から選ばれた化合物によりイソシアネート基が保護されたブロック化イソシアネート基であることがより好ましく、オキシム化合物、及び、脂肪族アルコール化合物よりなる群から選ばれた化合物によりイソシアネート基が保護されたブロック化イソシアネート基であることが更に好ましく、オキシム化合物によりイソシアネート基が保護されたブロック化イソシアネート基であることが特に好ましい。上記態様であると、バーニング時の熱分解性に優れ、バーニング処理を行っても耐刷性及び耐薬品性により優れる。
また、上記ブロック化イソシアネート基は、下記式C−1で表される基であることが好ましい。
Examples of the blocked isocyanate group include a compound having a phenolic hydroxyl group, an oxime compound, a compound having a pyrazole structure, an aliphatic alcohol compound, a compound having an active methylene structure, a mercaptan compound, a lactam compound, an imide compound, an imidazole compound, first It is preferably a blocked isocyanate group in which an isocyanate group is protected by a compound selected from the group consisting of a secondary amine compound and a secondary amine compound, a compound having a phenolic hydroxyl group, an oxime compound, and an aliphatic group More preferably, it is a blocked isocyanate group in which an isocyanate group is protected by a compound selected from the group consisting of alcohol compounds, and a compound selected from the group consisting of oxime compounds and aliphatic alcohol compounds. More preferably an isocyanate group is protected blocked isocyanate groups Ri, it is particularly preferred by an oxime compound isocyanate group is a protected blocked isocyanate groups. In the above embodiment, the thermal decomposability at the time of burning is excellent, and even when the burning treatment is performed, the printing durability and chemical resistance are excellent.
Further, the blocked isocyanate group is preferably a group represented by the following formula C-1.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

式C−1中、Zは一価の有機基を表す。
Zは、加熱により脱離される基であることが好ましい。ここで、加熱により脱離される基とは、例えば、90〜250℃で加熱した場合に脱離される基のことをいう。
また、Zとしては、フェノール性水酸基を有する化合物、オキシム化合物、ピラゾール構造を有する化合物、脂肪族アルコール化合物、活性メチレン構造を有する化合物、メルカプタン化合物、ラクタム化合物、イミド化合物、イミダゾール化合物、第一級アミン化合物、及び、第二級アミン化合物よりなる群から選ばれた化合物から活性水素を1つ除いた基であることが好ましく、フェノール性水酸基を有する化合物、オキシム化合物、ピラゾール構造を有する化合物、ラクタム化合物、及び、脂肪族アルコール化合物よりなる群から選ばれた化合物から活性水素を1つ除いた基であることがより好ましく、オキシム化合物、及び、脂肪族アルコール化合物よりなる群から選ばれた化合物から活性水素を1つ除いた基であることが更に好ましく、オキシム化合物から活性水素である=N−OHの水素原子を除いた基であることが特に好ましい。
また、Zの炭素数は、1〜40であることが好ましく、1〜20であることがより好ましく、2〜12であることが更に好ましく、3〜8であることが特に好ましい。
更に、Zは、式C−1におけるカルボニル基の炭素原子とヘテロ原子により結合する基であることが好ましく、式C−1におけるカルボニル基の炭素原子と酸素原子により結合する基であることがより好ましい。
上記ブロック化イソシアネート基は、下記式C−1−1で表される基であることがより好ましい。
In formula C-1, Z represents a monovalent organic group.
Z is preferably a group that can be eliminated by heating. Here, the group that is eliminated by heating refers to a group that is eliminated when heated at 90 to 250 ° C., for example.
As Z, a compound having a phenolic hydroxyl group, an oxime compound, a compound having a pyrazole structure, an aliphatic alcohol compound, a compound having an active methylene structure, a mercaptan compound, a lactam compound, an imide compound, an imidazole compound, a primary amine It is preferably a group obtained by removing one active hydrogen from a compound selected from the group consisting of a compound and a secondary amine compound, a compound having a phenolic hydroxyl group, an oxime compound, a compound having a pyrazole structure, and a lactam compound And more preferably a group obtained by removing one active hydrogen from a compound selected from the group consisting of aliphatic alcohol compounds, active from a compound selected from the group consisting of oxime compounds and aliphatic alcohol compounds. It is even more preferred that it is a group without one hydrogen. Ku, and particularly preferably a group formed by removing a hydrogen atom of the = N-OH is in the active hydrogen from an oxime compound.
Moreover, it is preferable that it is 1-40, as for carbon number of Z, it is more preferable that it is 1-20, it is still more preferable that it is 2-12, and it is especially preferable that it is 3-8.
Furthermore, Z is preferably a group bonded to the carbon atom of the carbonyl group in Formula C-1 by a hetero atom, and more preferably a group bonded to the carbon atom of the carbonyl group in Formula C-1 by an oxygen atom. preferable.
The blocked isocyanate group is more preferably a group represented by the following formula C-1-1.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

式C−1−1中、ROX1及びROX2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
OX1及びROX2はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基であることが好ましく、アルキル基であることが更に好ましく、メチル基又はエチル基であることが特に好ましい。
また、ROX1及びROX2は、互いに結合して環を形成してもよい。
また、ROX1及びROX2の炭素数はそれぞれ独立に、1〜20であることが好ましく、1〜12であることがより好ましく、1〜6であることが更に好ましく、1又は2であることが特に好ましい。
In formula C-1-1, R OX1 and R OX2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group.
R OX1 and R OX2 are each independently preferably an alkyl group or an aryl group, more preferably an alkyl group, and particularly preferably a methyl group or an ethyl group.
R OX1 and R OX2 may be bonded to each other to form a ring.
Moreover, it is preferable that carbon number of ROX1 and ROX2 is respectively independently 1-20, It is more preferable that it is 1-12, It is further more preferable that it is 1-6, It is 1 or 2 Is particularly preferred.

本発明に用いられるブロック化イソシアネート基を有する化合物は、1分子中に1つのブロック化イソシアネート基を有していれば、ポリマーであってもよく、1分子中に2つ以上のブロック化イソシアネート基を有していることが好ましく、1分子中に3つ以上のブロック化イソシアネート基を有していることがより好ましく、側鎖にブロック化イソシアネート基を有するポリマーであることが特に好ましい。   The compound having a blocked isocyanate group used in the present invention may be a polymer as long as it has one blocked isocyanate group in one molecule, and two or more blocked isocyanate groups in one molecule. It is preferable that it has 3 or more blocked isocyanate groups in one molecule, and a polymer having a blocked isocyanate group in the side chain is particularly preferable.

<ブロック化イソシアネート基を有するポリマー>
本発明で用いられるブロック化イソシアネート基を有するポリマーとしては、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、又は、これらの共重合体であることが好ましく、下記式C−2−0で表される構成単位を有するポリマーであることがより好ましい。
<Polymer having blocked isocyanate group>
The polymer having a blocked isocyanate group used in the present invention is preferably an acrylic resin, a polystyrene resin, or a copolymer thereof, and a polymer having a structural unit represented by the following formula C-2-0 It is more preferable that

Figure 2016156968
Figure 2016156968

式C−2−0中、RC1は水素原子又はメチル基を表し、Wは二価の連結基を表し、Zは一価の有機基を表す。
式C−2−0中、Wは二価の連結基を表す。
二価の連結基としては、直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキレン基、アリーレン基、−O−、−COO−、−S−、−NR−、−CO−、−NRCO−、−SO−等の二価の基、又は、これらの基の組み合わせからなるものが挙げられる。ここで、Rは、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表し、水素原子が好ましい。
二価の連結基としては、−(CH−(mは1〜10の整数を表し、好ましくは1〜6の整数、より好ましくは1〜4の整数である。)、炭素数5〜10の環状のアルキレン基、炭素数6〜10のアリーレン基、又は、これらの基と、−O−、−COO−、−S−、−NH−及び−CO−の少なくとも1つの基との組み合わせからなる基が好ましい。
式C−2−0におけるZは、上記式C−1におけるZと同義であり、好ましい態様も同様である。
上記ブロック化イソシアネート基を有するポリマーは、下記式C−2で表される構成単位を有することがより好ましい。
In formula C-2-0, R C1 represents a hydrogen atom or a methyl group, W represents a divalent linking group, and Z represents a monovalent organic group.
In formula C-2-0, W represents a divalent linking group.
Examples of the divalent linking group include a linear, branched or cyclic alkylene group, an arylene group, -O-, -COO-, -S-, -NR-, -CO-, -NRCO-, -SO. Examples thereof include a divalent group such as 2- or a combination of these groups. Here, R represents a hydrogen atom or a C1-C4 alkyl group, and a hydrogen atom is preferable.
Examples of the divalent linking group, - (CH 2) m - (. M represents an integer of 1 to 10, preferably an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 4), 5 carbon atoms A cyclic alkylene group having 10 to 10 carbon atoms, an arylene group having 6 to 10 carbon atoms, or these groups and at least one group of -O-, -COO-, -S-, -NH- and -CO-. Groups consisting of combinations are preferred.
Z in formula C-2-0 has the same meaning as Z in formula C-1, and the preferred embodiment is also the same.
The polymer having a blocked isocyanate group more preferably has a structural unit represented by the following formula C-2.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

式C−2中、RC1は水素原子又はメチル基を表し、X及びYはそれぞれ独立に、二価の連結基又は単結合を表し、Zは一価の有機基を表す。 In Formula C-2, R C1 represents a hydrogen atom or a methyl group, X and Y each independently represent a divalent linking group or a single bond, and Z represents a monovalent organic group.

式C−2中、Xはアリーレン基又は−C(=O)−であることが好ましく、−C(=O)−であることがより好ましい。Xがアリーレン基の場合、フェニレン基が好ましい。
式C−2中、Yは二価の連結基を表す。
二価の連結基としては、直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキレン基、−O−、−COO−、−S−、−NR−、−CO−、−NRCO−、−SO−等の二価の基、又は、これらの基の組み合わせからなるものが挙げられる。ここで、Rは、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表し、水素原子が好ましい。
二価の連結基としては、−(CH−(mは1〜10の整数を表し、好ましくは1〜6の整数、より好ましくは1〜4の整数である。)、炭素数5〜10の環状のアルキレン基、又は、これらの基と、−O−、−COO−、−S−、−NH−及び−CO−の少なくとも1つの基との組み合わせからなる基が好ましく、−(CH−(mは1〜4の整数を表す)が特に好ましい。
式C−2におけるZは、上記式C−1におけるZと同義であり、好ましい態様も同様である。
上記ブロック化イソシアネート基を有するポリマーは、下記式C−2−1で表される構成単位を有することが更に好ましい。
In formula C-2, X is preferably an arylene group or —C (═O) —, and more preferably —C (═O) —. When X is an arylene group, a phenylene group is preferable.
In formula C-2, Y represents a divalent linking group.
Examples of the divalent linking group include a linear, branched or cyclic alkylene group, —O—, —COO—, —S—, —NR—, —CO—, —NRCO—, —SO 2 — and the like. And those consisting of a combination of these groups. Here, R represents a hydrogen atom or a C1-C4 alkyl group, and a hydrogen atom is preferable.
Examples of the divalent linking group, - (CH 2) m - (. M represents an integer of 1 to 10, preferably an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 4), 5 carbon atoms 10 to 10 cyclic alkylene groups, or a group composed of a combination of these groups with at least one of —O—, —COO—, —S—, —NH— and —CO—, is preferable. CH 2 ) m — (m represents an integer of 1 to 4) is particularly preferable.
Z in Formula C-2 has the same meaning as Z in Formula C-1, and the preferred embodiment is also the same.
More preferably, the polymer having a blocked isocyanate group has a structural unit represented by the following formula C-2-1.

Figure 2016156968
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式C−2−1中、RC1は水素原子又はメチル基を表し、Yは二価の連結基又は単結合を表し、Zは一価の有機基を表す。 In formula C-2-1, R C1 represents a hydrogen atom or a methyl group, Y represents a divalent linking group or a single bond, and Z represents a monovalent organic group.

式C−2−1におけるY及びZは、上記式C−1におけるY及びZと同義であり、好ましい態様も同様である。
ブロック化イソシアネート基を有する構成単位の具体例を以下に挙げるが、本発明はこれらに限定されない。なお、下記具体例において、Rは水素原子又はメチル基を表し、下記式BU−1又は式BU−2で表される構成単位が好ましい。
Y and Z in formula C-2-1 have the same meanings as Y and Z in formula C-1, and the preferred embodiments are also the same.
Specific examples of the structural unit having a blocked isocyanate group are listed below, but the present invention is not limited to these. In the following specific examples, R x represents a hydrogen atom or a methyl group, and a structural unit represented by the following formula BU-1 or formula BU-2 is preferable.

Figure 2016156968
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また、上記ブロック化イソシアネート基を有するポリマーは、酸性基を更に有することが好ましい。酸性基を有することにより、現像性に優れる。
成分Cにおける上記酸性基は、フェノール性水酸基、スルホンアミド基、活性イミド基、カルボン酸基、リン酸基及びスルホン酸基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基であることが好ましく、フェノール性水酸基、スルホンアミド基及びカルボン酸基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基であることがより好ましく、スルホンアミド基及び/又はカルボン酸基であることが更に好ましい。
成分Cにおける上記酸性基は、ポリマーの主鎖若しくは側鎖のどちらか、又は、主鎖及び側鎖の両方に有してもよい。
上記ブロック化イソシアネート基を有するポリマーに酸性基を導入する方法としては、特に制限はなく、カルボキシ基を有するエチレン性不飽和化合物を共重合してもよいし、また、高分子反応により重縮合後に導入してもよい。
中でも、上記ブロック化イソシアネート基を有するポリマーは、(メタ)アクリル酸由来の構成単位を有することが好ましい。
The polymer having a blocked isocyanate group preferably further has an acidic group. By having an acidic group, the developability is excellent.
The acidic group in Component C is preferably at least one group selected from the group consisting of a phenolic hydroxyl group, a sulfonamide group, an active imide group, a carboxylic acid group, a phosphoric acid group and a sulfonic acid group. It is more preferably at least one group selected from the group consisting of a functional hydroxyl group, a sulfonamide group, and a carboxylic acid group, and more preferably a sulfonamide group and / or a carboxylic acid group.
The acidic group in component C may be present in either the main chain or the side chain of the polymer, or in both the main chain and the side chain.
The method for introducing an acidic group into the polymer having a blocked isocyanate group is not particularly limited, and an ethylenically unsaturated compound having a carboxy group may be copolymerized or after polycondensation by a polymer reaction. It may be introduced.
Especially, it is preferable that the polymer which has the said blocked isocyanate group has a structural unit derived from (meth) acrylic acid.

−ブロック化イソシアネート基を有するポリマーの好ましい態様−
ブロック化イソシアネート基を有するポリマー中、ブロック化イソシアネート基を有する構成単位は、1モル%以上が好ましく、10モル%以上がより好ましく、50モル%以上が更に好ましい。上記範囲であると、バーニング処理後の耐刷性及び耐薬品性が良好となる。なお、本発明において、「構成単位」の含有量をモル比で規定する場合、当該「構成単位」は「モノマー単位」と同義であるものとする。また、本発明において当該「モノマー単位」は、高分子反応等により重合後に修飾されていてもよい。以下においても同様である。
上記ブロック化イソシアネート基を有するポリマーは、重量平均分子量が1,000以上であることが好ましく、5,000以上であることがより好ましい。また、重量平均分子量の上限は特に限定されないが、50,000以下であることが好ましく、30,000以下であることがより好ましい。
重量平均分子量を5,000以上とすることにより、バーニング処理後の架橋構造の分子量が向上し、耐刷性・耐薬品性の向上が効果的に発揮されると推定される。また、分子量が30,000以下であると、現像性及び現像カス分散性に優れる。
-Preferred embodiment of polymer having blocked isocyanate group-
In the polymer having a blocked isocyanate group, the constituent unit having a blocked isocyanate group is preferably 1 mol% or more, more preferably 10 mol% or more, and still more preferably 50 mol% or more. When it is in the above range, the printing durability and chemical resistance after the burning treatment are improved. In the present invention, when the content of the “structural unit” is defined in terms of molar ratio, the “structural unit” is synonymous with the “monomer unit”. In the present invention, the “monomer unit” may be modified after polymerization by a polymer reaction or the like. The same applies to the following.
The polymer having a blocked isocyanate group preferably has a weight average molecular weight of 1,000 or more, and more preferably 5,000 or more. The upper limit of the weight average molecular weight is not particularly limited, but is preferably 50,000 or less, and more preferably 30,000 or less.
By setting the weight average molecular weight to 5,000 or more, it is presumed that the molecular weight of the crosslinked structure after the burning treatment is improved, and the improvement in printing durability and chemical resistance is effectively exhibited. Further, when the molecular weight is 30,000 or less, the developability and development residue dispersibility are excellent.

<ブロック化イソシアネート基を有する分子量1,000未満の化合物>
本発明では、ブロック化イソシアネート基を有するポリマーが好ましく用いられるが、ブロック化イソシアネート基を有する分子量1,000未満の化合物も好適に使用することができる。
ブロック化イソシアネート基を有する分子量1,000未満の化合物は、ブロック化イソシアネート基を有するものであれば特に限定されないが、1分子中に2つ以上のブロック化イソシアネート基を有することが好ましく、1分子中に3つ以上のブロック化イソシアネート基を有することがより好ましい。
ブロック化イソシアネート基を有する分子量1,000未満の化合物としては、下記式C−3又は式C−4で表される化合物が好ましく挙げられる。
<Compound having a blocked isocyanate group and a molecular weight of less than 1,000>
In the present invention, a polymer having a blocked isocyanate group is preferably used, but a compound having a blocked isocyanate group and having a molecular weight of less than 1,000 can also be suitably used.
The compound having a blocked isocyanate group and a molecular weight of less than 1,000 is not particularly limited as long as it has a blocked isocyanate group, but preferably has two or more blocked isocyanate groups in one molecule. More preferably, it has three or more blocked isocyanate groups.
Preferred examples of the compound having a blocked isocyanate group and having a molecular weight of less than 1,000 include compounds represented by the following formula C-3 or formula C-4.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

式C−3中、Lはそれぞれ独立に、炭素数1〜30の二価の有機基を表す。 In formula C-3, L C each independently represents a divalent organic group having 1 to 30 carbon atoms.

は、分岐していても、不飽和結合となっていてもよく、芳香環及び/又は脂肪族環の環状構造を有してもよい。また、環状構造を構成する原子の一部が、酸素原子、硫黄原子、窒素原子であってもよい。更に、有機基または有機基が有する置換基が、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、リン原子、ホウ素原子、ハロゲン原子を含む基で置換されていてもよく、それら置換基同士が互いに結合を形成していてもよい。
式C−3中の3つのLは、同じであっても異なっていてもよい。
式C−3におけるLは、炭素数1〜20の二価の炭化水素基であることが好ましく、炭素数3〜15の二価の炭化水素基であることがより好ましい。
式C−3で表される化合物の分子量は、700以上1,000未満であることが好ましい。
具体的なLとしては、アルキレン基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリーレン基、カルボニル基、及び、これらを組み合わせた基が挙げられる。また、Lが上述の基を含む場合に、エーテル構造(−O−)、チオエーテル構造(−S−)が組み合わされていてもよい。Lはアルキレン基、シクロアルキル基、アリーレン基、カルボニル基、及び、これらを組み合わせた基であることが好ましく、下記式C−3−1又は式C−3−2で表される構造が特に好ましい。
L C may be branched, may be an unsaturated bond, and may have an aromatic ring and / or an aliphatic ring cyclic structure. Further, some of the atoms constituting the cyclic structure may be an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom. Furthermore, the organic group or the substituent that the organic group has may be substituted with a group containing an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, a phosphorus atom, a boron atom, or a halogen atom, and these substituents form a bond with each other. You may do it.
The three L C in formula C-3 may be the same or different.
L C in Formula C-3 is preferably a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably a divalent hydrocarbon group having 3 to 15 carbon atoms.
The molecular weight of the compound represented by Formula C-3 is preferably 700 or more and less than 1,000.
Specific examples of L C include an alkylene group, an alkenyl group, an alkynyl group, a cycloalkyl group, a cycloalkenyl group, an arylene group, a carbonyl group, and a group obtained by combining these. Further, when L C contains the aforementioned groups, ether structure (-O-), thioether structures (-S-) may have been combined. L C is preferably an alkylene group, a cycloalkyl group, an arylene group, a carbonyl group, or a group obtained by combining these, and particularly has a structure represented by the following formula C-3-1 or C-3-2. preferable.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

式中、RN1はイソシアヌレート母核との結合位置を表し、RN2はブロック化イソシアネート基との結合位置を表し、mは3〜9の整数を表し、nは1〜6の整数を表す。 In the formula, R N1 represents a bonding position with the isocyanurate mother nucleus, R N2 represents a bonding position with the blocked isocyanate group, m represents an integer of 3 to 9, and n represents an integer of 1 to 6. .

上記式C−3で表される化合物の具体例としては、デスモジュールBL4265SN、デスモジュールBL3575/1 MPA/SN、デスモジュールBL3272 MPA(いずれも住化バイエルウレタン(株)製)、デュラネートTPA−B80E(旭化成ケミカルズ(株)製)などが挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the formula C-3 include Death Module BL4265SN, Death Module BL3575 / 1 MPA / SN, Death Module BL3272 MPA (all manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.), Duranate TPA-B80E. (Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.).

Figure 2016156968
Figure 2016156968

式C−4中、Lはそれぞれ独立に、炭素数1〜20の二価の有機基を表す。 In formula C-4, L C each independently represents a divalent organic group having 1 to 20 carbon atoms.

式C−4におけるLは、下記に示す以外は、式C−3におけるLと同義であり、好ましい態様も同様である。
式C−4におけるLは、炭素数1〜12の二価の炭化水素基であることが好ましく、炭素数3〜9の二価の炭化水素基であることがより好ましい。
式C−4で表される化合物の分子量は、600〜900であることが好ましい。
L C in Formula C-4 is synonymous with L C in Formula C-3, except for the following, and the preferred embodiments are also the same.
L C in Formula C-4 is preferably a divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and more preferably a divalent hydrocarbon group having 3 to 9 carbon atoms.
The molecular weight of the compound represented by Formula C-4 is preferably 600 to 900.

上記式C−4で表される化合物の具体例としては、デュラネート17B−60P、デュラネート17B−60PX(いずれも旭化成ケミカルズ(株)製)が挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the formula C-4 include Duranate 17B-60P and Duranate 17B-60PX (both manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation).

上記画像記録層中におけるブロック化イソシアネート基を有する化合物の配合量は、上記画像記録層の全質量に対し、1〜50質量%であることが好ましく、5〜30質量%であることがより好ましい。
また、上記画像記録層中におけるブロック化イソシアネート基を有する化合物の配合量は、上記画像記録層中における成分Aの全質量に対し、1〜50質量%であることが好ましく、10〜30質量%であることがより好ましい。
また、ブロック化イソシアネート基を有する化合物は、1種単独で用いるのみならず、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
The compounding amount of the compound having a blocked isocyanate group in the image recording layer is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 30% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. .
The compounding amount of the compound having a blocked isocyanate group in the image recording layer is preferably 1 to 50% by mass, and preferably 10 to 30% by mass, based on the total mass of component A in the image recording layer. It is more preferable that
Moreover, the compound which has a blocked isocyanate group may be used not only individually by 1 type but in combination of 2 or more types.

本発明の感光性樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない限りにおいて、所望により他の成分を含有してもよい。
以下、本発明の感光性樹脂組成物の任意成分である、他のアルカリ可溶性樹脂、酸発生剤、酸増殖剤、及び、その他の添加剤について説明する。
The photosensitive resin composition of the present invention may contain other components as desired as long as the effects of the present invention are not impaired.
Hereinafter, other alkali-soluble resins, acid generators, acid multipliers, and other additives, which are optional components of the photosensitive resin composition of the present invention, will be described.

成分D:フェノール樹脂
本発明において、上記画像記録層は、成分Aと共に、成分Dとして、フェノール樹脂(単に「成分D」ともいう。)を含むことが好ましく、構成単位としてフェノール、あるいは置換フェノール類を含むフェノール樹脂であることがより好ましく、ノボラック樹脂であることが更に好ましい。
ノボラック樹脂は、未露光部において強い水素結合性を生起し、露光部において一部の水素結合が容易に解除されるといった点から、本発明における画像記録層に好ましく用いられるアルカリ可溶性樹脂である。
このノボラック樹脂は、分子内に構造単位としてフェノール類を含むものであれば特に制限はない。
Component D: Phenol Resin In the present invention, the image recording layer preferably contains a phenol resin (also simply referred to as “component D”) as component D together with component A, and phenol or substituted phenols as a structural unit. More preferably, it is a phenolic resin containing novolak resin.
The novolak resin is an alkali-soluble resin that is preferably used for the image recording layer in the invention from the viewpoint that strong hydrogen bonding occurs in the unexposed area and that some hydrogen bonds are easily released in the exposed area.
The novolak resin is not particularly limited as long as it contains phenols as a structural unit in the molecule.

本発明におけるノボラック樹脂は、フェノール、以下に示される置換フェノール類と、アルデヒド類との縮合反応により得られる樹脂であり、フェノール類としては、具体的には、フェノール、イソプロピルフェノール、t−ブチルフェノール、t−アミルフェノール、ヘキシルフェノール、シクロヘキシルフェノール、3−メチル−4−クロロ−6−t−ブチルフェノール、イソプロピルクレゾール、t−ブチルクレゾール、t−アミルクレゾールが挙げられる。好ましくはt−ブチルフェノール、t−ブチルクレゾールである。
また、アルデヒド類の例としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アクロレイン、クロトンアルデヒド等の脂肪族及び芳香族アルデヒドが挙げられる。好ましくはホルムアルデヒド、アセトアルデヒドである。
より具体的には、本発明におけるノボラック樹脂しては、例えば、フェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体(フェノールホルムアルデヒド樹脂)、m−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体(m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂)、p−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体(p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂)、m−/p−混合クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体(m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂)、フェノールとクレゾール(m−、p−又はm−/p−混合のいずれでもよい。)とホルムアルデヒドとの縮重合体(フェノール/クレゾール(m−、p−又はm−/p−混合のいずれでもよい。)混合ホルムアルデヒド樹脂)等が挙げられる。
また、ノボラック樹脂としては、更に、米国特許第4,123,279号明細書に記載されているように、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体が挙げられる。
これらノボラック樹脂の中でも、特に好ましいものとして、フェノールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール混合ホルムアルデヒド樹脂が挙げられる。
The novolak resin in the present invention is a resin obtained by a condensation reaction of phenol, a substituted phenol shown below and an aldehyde. Specifically, the phenols include phenol, isopropylphenol, t-butylphenol, Examples thereof include t-amylphenol, hexylphenol, cyclohexylphenol, 3-methyl-4-chloro-6-t-butylphenol, isopropylcresol, t-butylcresol, and t-amylresole. T-butylphenol and t-butylcresol are preferred.
Examples of aldehydes include aliphatic and aromatic aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, acrolein, and crotonaldehyde. Preferred are formaldehyde and acetaldehyde.
More specifically, the novolak resin in the present invention includes, for example, a condensation polymer of phenol and formaldehyde (phenol formaldehyde resin), a condensation polymer of m-cresol and formaldehyde (m-cresol formaldehyde resin), p. -Condensation polymer of cresol and formaldehyde (p-cresol formaldehyde resin), m- / p-mixed cresol and formaldehyde (m- / p-mixed cresol formaldehyde resin), phenol and cresol (m-, Any of p- or m- / p-mixed) and a condensation polymer of formaldehyde (phenol / cresol (may be any of m-, p- or m- / p-mixed) mixed formaldehyde resin), etc. Is mentioned.
Further, as the novolak resin, as described in U.S. Pat. No. 4,123,279, an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin is used. Examples thereof include a condensation polymer of phenol and formaldehyde as a substituent.
Among these novolak resins, phenol formaldehyde resins and phenol / cresol mixed formaldehyde resins are particularly preferable.

フェノール樹脂の重量平均分子量は、500〜50,000であることが好ましく、700〜20,000であることがより好ましく、1,000〜10,000であることが特に好ましい。また、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10であることが好ましい。
このようなフェノール樹脂は1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
本発明における画像記録層中のフェノール樹脂の添加量は、バーニング適性、及び、画像形成性の観点から、成分Aの含有量100質量部に対するフェノール樹脂の含有比(質量比)として、1〜90質量部が好ましく、5〜50質量部であることがより好ましく、10〜30質量部であることが特に好ましい。
The weight average molecular weight of the phenol resin is preferably 500 to 50,000, more preferably 700 to 20,000, and particularly preferably 1,000 to 10,000. Further, the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.
Only 1 type may be used for such a phenol resin, and 2 or more types may be mixed and used for it.
The addition amount of the phenol resin in the image recording layer in the present invention is 1 to 90 as the content ratio (mass ratio) of the phenol resin with respect to 100 parts by mass of the component A from the viewpoints of burning suitability and image formability. Part by mass is preferable, 5 to 50 parts by mass is more preferable, and 10 to 30 parts by mass is particularly preferable.

<酸発生剤>
上記画像記録層には、感度向上の観点から、酸発生剤を含有することが好ましい。
本発明において酸発生剤とは、光又は熱により酸を発生する化合物であり、赤外線の照射や、100℃以上の加熱によって分解し酸を発生する化合物を指す。発生する酸としては、スルホン酸、塩酸等のpKaが2以下の強酸であることが好ましい。この酸発生剤から発生した酸が触媒として機能し、上記酸分解性基における化学結合が開裂して酸基となり、画像記録層のアルカリ水溶液に対する溶解性がより向上するものである。
<Acid generator>
The image recording layer preferably contains an acid generator from the viewpoint of improving sensitivity.
In this invention, an acid generator is a compound which generate | occur | produces an acid with light or a heat | fever, and points out the compound which decomposes | disassembles and generate | occur | produces an acid by infrared irradiation or a heating of 100 degreeC or more. The acid generated is preferably a strong acid having a pKa of 2 or less, such as sulfonic acid and hydrochloric acid. The acid generated from the acid generator functions as a catalyst, the chemical bond in the acid-decomposable group is cleaved to become an acid group, and the solubility of the image recording layer in an alkaline aqueous solution is further improved.

本発明において好適に用いられる酸発生剤としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩等のオニウム塩が挙げられる。具体的には、米国特許第4,708,925号明細書や特開平7−20629号公報に記載されている化合物を挙げることができる。特に、スルホン酸イオンを対イオンとするヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩が好ましい。ジアゾニウム塩としては、米国特許第3,867,147号明細書記載のジアゾニウム化合物、米国特許第2,632,703号明細書記載のジアゾニウム化合物や特開平1−102456号及び特開平1−102457号の各公報に記載されているジアゾ樹脂も好ましい。また、米国特許第5,135,838号や米国特許第5,200,544号の各明細書に記載されているベンジルスルホナート類も好ましい。更に、特開平2−100054号、特開平2−100055号及び特開平9−197671号の各公報に記載されている活性スルホン酸エステルやジスルホニル化合物類も好ましい。他にも、特開平7−271029号公報に記載されている、ハロアルキル置換されたS−トリアジン類も好ましい。
更に、上記特開平8−220752号公報において、「酸前駆体」として記載されている化合物、あるいは、特開平9−171254号公報において「(a)活性光線の照射により酸を発生し得る化合物」として記載されている化合物なども本発明の酸発生剤として適用し得る。
中でも、感度と安定性の観点から、酸発生剤としてオニウム塩化合物を用いることが好ましい。以下、オニウム塩化合物について説明する。
Examples of the acid generator suitably used in the present invention include onium salts such as iodonium salts, sulfonium salts, phosphonium salts, and diazonium salts. Specific examples include compounds described in US Pat. No. 4,708,925 and JP-A-7-20629. In particular, iodonium salts, sulfonium salts, and diazonium salts having a sulfonate ion as a counter ion are preferable. Examples of the diazonium salt include a diazonium compound described in U.S. Pat. No. 3,867,147, a diazonium compound described in U.S. Pat. No. 2,632,703, and JP-A-1-102456 and JP-A-1-102457. The diazo resin described in each of the above publications is also preferred. Also preferred are benzyl sulfonates described in US Pat. Nos. 5,135,838 and 5,200,544. Furthermore, active sulfonic acid esters and disulfonyl compounds described in JP-A-2-100054, JP-A-2-100055 and JP-A-9-197671 are also preferred. In addition, haloalkyl-substituted S-triazines described in JP-A-7-271029 are also preferable.
Furthermore, the compound described as “acid precursor” in the above-mentioned JP-A-8-220552, or “(a) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays” in JP-A-9-171254. Can be applied as the acid generator of the present invention.
Among these, from the viewpoint of sensitivity and stability, it is preferable to use an onium salt compound as the acid generator. Hereinafter, the onium salt compound will be described.

本発明において好適に用いることができるオニウム塩化合物としては、赤外線露光、及び、露光により赤外線吸収剤から発生する熱エネルギーにより分解して酸を発生する化合物として知られる化合物を挙げることができる。本発明に好適なオニウム塩化合物としては、感度の観点から、公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する、以下に述べるオニウム塩構造を有するものを挙げることができる。
本発明において好適に用いられるオニウム塩としては、公知のジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アンモニウム塩、ピリジニウム塩、アジニウム塩等が挙げられ、中でも、トリアリールスルホニウム、又は、ジアリールヨードニウムのスルホン酸塩、カルボン酸塩、BF 、PF 、ClO などが好ましい。
本発明において酸発生剤として用いることができるオニウム塩としては、特開2008−195018号公報の段落0031〜0056において、ラジカル重合開始剤の例として記載されたオニウム塩を、本発明における酸発生剤として好適に用いることができる。これら化合物は、赤外線吸収剤から発生する熱エネルギーにより分解されると容易に酸を発生する。
また、特開昭63−138345号、特開昭63−142345号、特開昭63−142346号、特開昭63−143537号並びに特公昭46−42363号の各公報に記載のN−O結合を有する化合物群もまた、本発明における酸発生剤として好適に用いられる。
本発明に用いることができる酸発生剤のより好ましい例として、下記化合物PAG−1〜PAG−5が挙げられる。なお、Meはメチル基を表す。
Examples of the onium salt compound that can be suitably used in the present invention include compounds known as compounds that generate an acid upon decomposition by thermal energy generated from an infrared absorber by infrared exposure and exposure. Examples of the onium salt compound suitable for the present invention include known thermal polymerization initiators and compounds having an onium salt structure described below having a bond with small bond dissociation energy from the viewpoint of sensitivity.
Examples of the onium salt suitably used in the present invention include known diazonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, ammonium salts, pyridinium salts, azinium salts, and the like. Among them, triarylsulfonium or diaryliodonium sulfonate , Carboxylate, BF 4 , PF 6 , ClO 4 — and the like are preferable.
As an onium salt that can be used as an acid generator in the present invention, an onium salt described as an example of a radical polymerization initiator in paragraphs 0031 to 0056 of JP-A-2008-195018 is used as the acid generator in the present invention. Can be suitably used. These compounds easily generate an acid when decomposed by the thermal energy generated from the infrared absorber.
In addition, N—O bonds described in JP-A-63-138345, JP-A-63-142345, JP-A-63-142346, JP-A-63-143537, and JP-B-46-42363 are disclosed. A group of compounds having the above is also suitably used as the acid generator in the present invention.
More preferable examples of the acid generator that can be used in the present invention include the following compounds PAG-1 to PAG-5. Me represents a methyl group.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

これらの酸発生剤を上記画像記録層中に含有させる場合、これらの化合物は単独で使用してもよく、また2種以上を組み合わせて使用してもよい。
上記画像記録層中における酸発生剤の添加量は、上記画像記録層の全質量に対し、0.01〜50質量%であることが好ましく、0.1〜40質量%であることがより好ましく、0.5〜30質量%であることが更に好ましい。添加量が上記範囲であると、酸発生剤添加の効果である感度の向上が見られると共に、非画像部における残膜の発生が抑制される。
When these acid generators are contained in the image recording layer, these compounds may be used alone or in combination of two or more.
The addition amount of the acid generator in the image recording layer is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 40% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. More preferably, it is 0.5-30 mass%. When the addition amount is in the above range, an improvement in sensitivity, which is an effect of adding an acid generator, is observed, and generation of a residual film in a non-image area is suppressed.

<酸増殖剤>
上記画像記録層には、酸増殖剤を添加してもよい。
本発明における酸増殖剤とは、比較的に強い酸の残基で置換された化合物であって、酸触媒の存在下で容易に脱離して新たに酸を発生する化合物である。すなわち、酸触媒反応によって分解し、再び酸を発生する。1反応で1つ以上の酸が増えており、反応の進行に伴って加速的に酸濃度が増加することにより、飛躍的に感度が向上する。この発生する酸の強度は、酸解離定数(pKa)として3以下であることが好ましく、2以下であることがより好ましい。上記範囲であると、酸触媒による脱離反応を容易に引き起こすことができる。
このような酸触媒に使用される酸としては、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、フェニルスルホン酸等が挙げられる。
<Acid multiplication agent>
An acid proliferation agent may be added to the image recording layer.
The acid proliferating agent in the present invention is a compound substituted with a relatively strong acid residue, and is a compound that is easily eliminated in the presence of an acid catalyst to newly generate an acid. That is, it decomposes by an acid catalytic reaction and generates an acid again. One or more acids are increased in one reaction, and the sensitivity is dramatically improved by increasing the acid concentration at an accelerated rate as the reaction proceeds. The strength of the acid generated is preferably 3 or less, more preferably 2 or less, as an acid dissociation constant (pKa). Within the above range, the elimination reaction by the acid catalyst can be easily caused.
Examples of the acid used for such an acid catalyst include dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, and phenylsulfonic acid.

酸増殖剤は、国際公開第95/29968号、国際公開第98/24000号、特開平8−305262号、特開平9−34106号、特開平8−248561号、特表平8−503082号、米国特許第5,445,917号、特表平8−503081号、米国特許第5,534,393号、米国特許第5,395,736号、米国特許第5,741,630号、米国特許第5,334,489号、米国特許第5,582,956号、米国特許第5,578,424号、米国特許第5,453,345号、米国特許第5,445,917号、欧州特許第665,960号、欧州特許第757,628号、欧州特許第665,961号、米国特許第5,667,943号、特開平10−1598号等の各公報に記載のものが例示できる。
また、酸増殖剤は、1種、あるいは2種以上組み合わせて用いることができる。
Examples of the acid proliferating agent include International Publication No. 95/29968, International Publication No. 98/24000, JP-A-8-305262, JP-A-9-34106, JP-A-8-248561, JP-A-8-503082, US Pat. No. 5,445,917, JP-T-8-503081, US Pat. No. 5,534,393, US Pat. No. 5,395,736, US Pat. No. 5,741,630, US Pat. No. 5,334,489, US Pat. No. 5,582,956, US Pat. No. 5,578,424, US Pat. No. 5,453,345, US Pat. No. 5,445,917, European patent Nos. 665,960, 757,628, 665,961, U.S. Pat. No. 5,667,943, and JP-A-10-1598.
Moreover, an acid growth agent can be used 1 type or in combination of 2 or more types.

本発明における酸増殖剤の好ましい具体例としては、例えば、特開2001−66765号公報の段落0056〜0067に記載される化合物を挙げることができる。中でも、例示化合物(ADD−1)、(ADD−2)、(ADD−3)として記載された下記化合物を好適に用いることができる。   Preferable specific examples of the acid proliferating agent in the present invention include compounds described in paragraphs 0056 to 0067 of JP-A No. 2001-66765. Among these, the following compounds described as exemplary compounds (ADD-1), (ADD-2), and (ADD-3) can be preferably used.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

これらの酸増殖剤の添加量としては、上記画像記録層の全質量に対し、0.01〜20質量%であることが好ましく、0.01〜10質量%であることがより好ましく、0.1〜5質量%であることが更に好ましい。酸増殖剤の添加量が上記範囲であると、酸増殖剤を添加する効果が充分に得られ、感度向上が達成されると共に、画像部の膜強度低下が抑制される。   The addition amount of these acid proliferating agents is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.01 to 10% by mass, and preferably 0. 0% by mass relative to the total mass of the image recording layer. More preferably, it is 1-5 mass%. When the addition amount of the acid proliferating agent is within the above range, the effect of adding the acid proliferating agent is sufficiently obtained, sensitivity is improved, and a decrease in the film strength of the image area is suppressed.

<その他の添加剤>
上記画像記録層は、その他の添加剤として、現像促進剤、界面活性剤、焼き出し剤/着色剤、可塑剤、ワックス剤等を含んでもよい。
<Other additives>
The image recording layer may contain, as other additives, a development accelerator, a surfactant, a printout / coloring agent, a plasticizer, a wax agent, and the like.

−現像促進剤−
上記画像記録層には、感度を向上させる目的で、酸無水物類、フェノール類、有機酸類等の現像促進剤を添加してもよい。
酸無水物類としては環状酸無水物が好ましく、具体的に環状酸無水物としては、米国特許第4,115,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシテトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、無水マレイン酸、クロロ無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。非環状の酸無水物としては、無水酢酸などが挙げられる。
フェノール類としては、ビスフェノールA、2,2’−ビスヒドロキシスルホン、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4’,3”,4”−テトラヒドロキシ−3,5,3’,5’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。
有機酸類としては、特開昭60−88942号公報、特開平2−96755号公報などに記載されており、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。
上記画像記録層における上記の酸無水物、フェノール類及び有機酸類の含有量は、上記画像記録層の全質量に対し、0.05〜20質量%が好ましく、0.1〜15質量%がより好ましく、0.1〜10質量%が特に好ましい。
-Development accelerator-
A development accelerator such as acid anhydrides, phenols, and organic acids may be added to the image recording layer for the purpose of improving sensitivity.
As the acid anhydrides, cyclic acid anhydrides are preferable. Specific examples of the cyclic acid anhydrides include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, and hexahydro anhydride described in US Pat. No. 4,115,128. Phthalic acid, 3,6-endooxytetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used. Examples of acyclic acid anhydrides include acetic anhydride.
Examples of phenols include bisphenol A, 2,2′-bishydroxysulfone, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4′-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4- Examples include hydroxybenzophenone, 4,4 ′, 4 ″ -trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ′, 3 ″, 4 ″ -tetrahydroxy-3,5,3 ′, 5′-tetramethyltriphenylmethane. .
Examples of the organic acids are described in JP-A-60-88942, JP-A-2-96755, and the like. Specifically, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, Ethyl sulfuric acid, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene Examples include -1,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbic acid and the like.
The content of the acid anhydride, phenols and organic acids in the image recording layer is preferably 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. Preferably, 0.1-10 mass% is especially preferable.

−界面活性剤−
上記画像記録層には、層形成時における塗布性を良化するため、また、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、界面活性剤を含んでいてもよい。
界面活性剤としては、例えば、特開昭62−251740号公報や特開平3−208514号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13149号公報に記載されているような両性界面活性剤、特開昭62−170950号公報、特開平11−288093号公報、特開2003−57820号公報に記載されているようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することができる。
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
両性活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名「アモーゲンK」:第一工業製薬(株)製)等が挙げられる。
上記画像記録層における界面活性剤の含有量は、上記画像記録層の全質量に対し、0.01〜15質量%が好ましく、0.01〜5質量%がより好ましく、0.05〜2.0質量%が更に好ましい。
-Surfactant-
The image recording layer may contain a surfactant in order to improve the coating property at the time of forming the layer and to expand the stability of the processing with respect to the developing conditions.
Examples of the surfactant include nonionic surfactants such as those described in JP-A-62-251740 and JP-A-3-208514, JP-A-59-121044, and JP-A-4- Amphoteric surfactants as described in JP-A-13149, fluorine-containing monomers as described in JP-A-62-170950, JP-A-11-288093, JP-A-2003-57820 A copolymer can be added.
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether and the like.
Specific examples of amphoteric activators include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine. Type (for example, trade name “Amorgen K” manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.).
The content of the surfactant in the image recording layer is preferably from 0.01 to 15% by mass, more preferably from 0.01 to 5% by mass, based on the total mass of the image recording layer. 0% by mass is more preferable.

−焼き出し剤/着色剤−
上記画像記録層には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼き出し剤及び着色剤としては、例えば、特開2009−229917号公報の段落0122〜0123に詳細に記載され、ここに記載の化合物を本発明にも適用し得る。
上記画像記録層におけるこれらの焼き出し剤及び着色剤の含有量は、上記画像記録層の全質量に対し、0.01〜10質量%の割合で添加することが好ましく、0.1〜3質量%の割合で添加することがより好ましい。
-Print-out agent / colorant-
A print-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, or a dye or pigment as an image colorant can be added to the image recording layer.
Examples of the print-out agent and the colorant are described in detail in paragraphs 0122 to 0123 of JP-A-2009-229917, and the compounds described herein can be applied to the present invention.
The content of these print-out agent and colorant in the image recording layer is preferably added in a proportion of 0.01 to 10% by mass, based on the total mass of the image recording layer. It is more preferable to add at a ratio of%.

−可塑剤−
上記画像記録層には、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を添加してもよい。
例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。
上記画像記録層におけるこれらの可塑剤は、上記画像記録層の全質量に対し、0.5〜10質量%の割合で添加することが好ましく、1.0〜5質量%の割合で添加することがより好ましい。
-Plasticizer-
A plasticizer may be added to the image recording layer in order to impart flexibility and the like of the coating film.
For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid These oligomers and polymers are used.
These plasticizers in the image recording layer are preferably added at a rate of 0.5 to 10% by mass, and added at a rate of 1.0 to 5% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. Is more preferable.

−ワックス剤−
上記画像記録層には、傷に対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低下させる化合物、例えば、ワックス剤を添加することもできる。具体的には、米国特許第6,117,913号明細書、特開2003−149799号公報、特開2003−302750号公報、又は、特開2004−12770号公報に記載されているような、長鎖アルキルカルボン酸のエステルを有する化合物などを挙げることができる。
上記画像記録層におけるワックス剤の含有量は、上記画像記録層の全質量に対し、0.1〜10質量%であることが好ましく、0.5〜5質量%であることがより好ましい。
-Wax agent-
In the image recording layer, for the purpose of imparting scratch resistance, a compound that lowers the static friction coefficient of the surface, for example, a wax agent may be added. Specifically, as described in US Pat. No. 6,117,913, JP-A No. 2003-149799, JP-A No. 2003-302750, or JP-A No. 2004-12770, A compound having an ester of a long-chain alkyl carboxylic acid can be exemplified.
The content of the wax agent in the image recording layer is preferably 0.1 to 10% by mass, and more preferably 0.5 to 5% by mass with respect to the total mass of the image recording layer.

<各成分の好ましい組成比>
上記画像記録層において、上記画像記録層の全質量に対して、成分Aの含有量は10〜90質量%であることが好ましく、赤外線吸収材料の含有量は0.01〜50質量%であることが好ましく、ブロック化イソシアネート基を有する化合物の含有量は1〜50質量%であることが好ましく、フェノール樹脂の含有量は0〜50質量%であることが好ましく、酸発生剤の含有量は0〜30質量%であることが好ましく、酸増殖剤の含有量は0〜20質量%であることが好ましく、現像促進剤の含有量は0〜20質量%であることが好ましく、界面活性剤の含有量は0〜5質量%であることが好ましく、焼き出し剤/着色剤の含有量は0〜10質量%であることが好ましく、可塑剤の含有量は0〜10質量%であることが好ましく、ワックス剤の含有量は0〜10質量%であることが好ましい。
<Preferred composition ratio of each component>
In the image recording layer, the content of the component A is preferably 10 to 90% by mass and the content of the infrared absorbing material is 0.01 to 50% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. Preferably, the content of the compound having a blocked isocyanate group is preferably 1 to 50% by mass, the content of the phenol resin is preferably 0 to 50% by mass, and the content of the acid generator is It is preferably 0 to 30% by mass, the content of the acid proliferating agent is preferably 0 to 20% by mass, the content of the development accelerator is preferably 0 to 20% by mass, and the surfactant The content of is preferably 0 to 5% by mass, the content of the baking agent / colorant is preferably 0 to 10% by mass, and the content of the plasticizer is 0 to 10% by mass. Preferably, wax agent The content is preferably 0 to 10 mass%.

<溶剤>
本発明に用いられる画像記録層は、上記各成分を溶剤に溶かして、適当な支持体上に塗布し、必要に応じて乾燥することにより形成することができる。
ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独又は混合して使用される。
<Solvent>
The image recording layer used in the present invention can be formed by dissolving each of the above components in a solvent, coating the solution on a suitable support, and drying as necessary.
Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene, 1,3-dimethyl-2- Although imidazolidinone etc. can be mentioned, it is not limited to this. These solvents are used alone or in combination.

<下層及び上層の形成>
また、本発明における画像記録層は、支持体上に下層及び上層をこの順に配設した画像記録層(以下、「2層構造の平版印刷版原版」ともいう。)であることが好ましい。
より詳細には、本発明のポジ型平版印刷版原版は、画像記録層が、下層と上層とで構成され、成分A〜成分Cを含む上記画像記録層が、少なくとも上記下層及び上記上層のいずれかであることが好ましく、成分A〜成分Cを含む上記画像記録層が、少なくとも上記下層であることがより好ましく、上記下層が成分A〜成分Cを含む上記画像記録層であり、かつ上記上層が成分A〜成分Cのうち少なくとも1種を含まないその他の画像記録層であることが更に好ましい。
下層及び上層は、原則的に2つの層を分離して形成することが好ましい。
2つの層を分離して形成する方法としては、例えば、特開2011−209343号公報の段落0068〜0069に記載されているように、下層に含まれる成分と、上層に含まれる成分との溶剤溶解性の差を利用する方法、又は、上層を塗布した後、急速に溶剤を乾燥、除去さる方法等が挙げられる。後者の方法を併用することにより、層間の分離が一層良好に行われることになるため好ましい。
<Formation of lower layer and upper layer>
The image recording layer in the present invention is preferably an image recording layer in which a lower layer and an upper layer are disposed in this order on a support (hereinafter also referred to as “two-layer planographic printing plate precursor”).
More specifically, in the positive planographic printing plate precursor of the present invention, the image recording layer is composed of a lower layer and an upper layer, and the image recording layer containing component A to component C is at least any one of the lower layer and the upper layer. The image recording layer containing component A to component C is more preferably at least the lower layer, the lower layer is the image recording layer containing component A to component C, and the upper layer. Is more preferably other image recording layer not containing at least one of component A to component C.
In principle, the lower layer and the upper layer are preferably formed by separating the two layers.
As a method for forming the two layers separately, for example, as described in paragraphs 0068 to 0069 of JP2011-209343A, a solvent of a component contained in the lower layer and a component contained in the upper layer Examples thereof include a method utilizing the difference in solubility, or a method of rapidly drying and removing the solvent after applying the upper layer. Use of the latter method in combination is preferable because separation between layers can be performed more satisfactorily.

上層及び/又は下層に含まれる成分Aの含有量は、成分Aが含まれる上層及び/又は下層の全質量に対して、10〜100質量%であることが好ましく、50〜98質量%であることがより好ましく、60〜95質量%であることが更に好ましい。含有量がこの範囲であると、現像した際のパターン形成性が良好となる。   The content of the component A contained in the upper layer and / or the lower layer is preferably 10 to 100% by mass, and 50 to 98% by mass with respect to the total mass of the upper layer and / or the lower layer in which the component A is contained. It is more preferable, and it is still more preferable that it is 60-95 mass%. When the content is within this range, the pattern formability upon development is good.

本発明の平版印刷版原版の支持体上に塗布される下層成分の乾燥後の塗布量は、0.5〜4.0g/mの範囲にあることが好ましく、0.6〜2.5g/mの範囲にあることがより好ましい。0.5g/m以上であると、耐刷性に優れ、4.0g/m以下であると、画像再現性及び感度に優れる。
また、上層成分の乾燥後の塗布量は、0.05〜1.0g/mの範囲にあることが好ましく、0.08〜0.7g/mの範囲であることがより好ましい。0.05g/m以上であると、現像ラチチュード、及び、耐傷性に優れ、1.0g/m以下であると、感度に優れる。
下層及び上層を合わせた乾燥後の塗布量としては、0.6〜4.0g/mの範囲にあることが好ましく、0.7〜2.5g/mの範囲にあることがより好ましい。0.6g/m以上であると、耐刷性に優れ、4.0g/m以下であると、画像再現性及び感度に優れる。
The coating amount after drying of the lower layer component coated on the support of the lithographic printing plate precursor according to the present invention is preferably in the range of 0.5 to 4.0 g / m 2 , 0.6 to 2.5 g. / M 2 is more preferable. When it is 0.5 g / m 2 or more, printing durability is excellent, and when it is 4.0 g / m 2 or less, image reproducibility and sensitivity are excellent.
Moreover, it is preferable that it is the range of 0.05-1.0 g / m < 2 >, and, as for the application quantity after drying of an upper layer component, it is more preferable that it is the range of 0.08-0.7 g / m < 2 >. If it is 0.05 g / m 2 or more, development latitude, and excellent scratch resistance, if it is 1.0 g / m 2 or less, excellent sensitivity.
The lower layer and the coating amount after drying of the combined upper layer, preferably in the range of 0.6~4.0g / m 2, more preferably in the range of 0.7 to 2.5 g / m 2 . When it is 0.6 g / m 2 or more, printing durability is excellent, and when it is 4.0 g / m 2 or less, image reproducibility and sensitivity are excellent.

<上層>
本発明における2層構造の平版印刷版原版の上層は、成分A〜成分Cを含む上記画像形成層であってもよいし、成分A〜成分Cのうち少なくとも1種を含まないその他の画像記録層であってもよいが、成分A〜成分Cのうち少なくとも1種を含まないその他の画像記録層であることが好ましい。
本発明における2層構造の平版印刷版原版の上層は、熱によりアルカリ水溶液への溶解性が向上する赤外線感応性のポジ型記録層であることが好ましい。
上層における熱によりアルカリ水溶液への溶解性が向上する機構には特に制限はなく、バインダー樹脂を含み、加熱された領域の溶解性が向上するものであれば、いずれも用いることができる。画像形成に利用される熱としては、赤外線吸収剤を含む下層が露光された場合に発生する熱が挙げられる。
熱によりアルカリ水溶液への溶解性が向上する上層としては、例えば、ノボラック、ウレタン等の水素結合能を有するアルカリ可溶性樹脂を含む層、水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂と溶解抑制作用のある化合物とを含む層、アブレーション可能な化合物を含む層、などが好ましく挙げられる。
<Upper layer>
The upper layer of the lithographic printing plate precursor having a two-layer structure in the present invention may be the image forming layer containing Component A to Component C, or other image recording not containing at least one of Component A to Component C. Although it may be a layer, it is preferably another image recording layer that does not contain at least one of component A to component C.
The upper layer of the lithographic printing plate precursor having a two-layer structure in the present invention is preferably an infrared-sensitive positive recording layer whose solubility in an alkaline aqueous solution is improved by heat.
There is no particular limitation on the mechanism for improving the solubility in an aqueous alkali solution by heat in the upper layer, and any mechanism can be used as long as it includes a binder resin and improves the solubility of the heated region. As heat utilized for image formation, heat generated when a lower layer containing an infrared absorber is exposed can be used.
The upper layer whose solubility in an alkaline aqueous solution is improved by heat includes, for example, a layer containing an alkali-soluble resin having a hydrogen bonding ability such as novolak and urethane, a water-insoluble and alkali-soluble resin, and a compound having a dissolution inhibiting action. Preferred examples include a layer and a layer containing a compound capable of ablation.

また、上層に、更に赤外線吸収材料を添加することにより、上層で発生する熱も画像形成に利用することができる。赤外線吸収材料を含む上層の構成としては、例えば、赤外線吸収材料と水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂と溶解抑制作用のある化合物とを含む層、赤外線吸収材料と水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂と酸発生剤とを含む層などが好ましく挙げられる。   Further, by adding an infrared absorbing material to the upper layer, the heat generated in the upper layer can also be used for image formation. Examples of the structure of the upper layer containing the infrared absorbing material include, for example, a layer containing the infrared absorbing material, a water-insoluble and alkali-soluble resin, and a compound having a dissolution inhibiting action, an infrared absorbing material, a water-insoluble and alkali-soluble resin, and an acid generator. A layer containing is preferred.

−水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂−
本発明における上層は、水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂を含有することが好ましい。水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂を含有することで、赤外線吸収材料と水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂が有する極性基との間に相互作用が形成され、ポジ型の感光性を有する層が形成される。
一般的な水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂については以下に詳述するが、中でも、例えば、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂等を好ましく挙げることができる。
本発明に用いることができる水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ性現像液に接触すると溶解する特性を有するものであれば特に制限はないが、高分子中の主鎖及び/又は側鎖に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体、又は、これらの混合物であることが好ましい。
このような酸性基を有する水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂としては、フェノール性水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基、スルホンアミド基、活性イミド基等の官能基を有することが好ましい。したがって、このような樹脂は、上記官能基を有するエチレン性不飽和モノマーを1つ以上含むモノマー混合物を共重合することによって好適に生成することができる。上記官能基を有するエチレン性不飽和モノマーは、アクリル酸、メタクリル酸の他に、下式で表される化合物及びその混合物が好ましく例示できる。なお、下式中、R40は水素原子又はメチル基を表す。
-Water-insoluble and alkali-soluble resin-
The upper layer in the present invention preferably contains a water-insoluble and alkali-soluble resin. By containing the water-insoluble and alkali-soluble resin, an interaction is formed between the infrared absorbing material and the polar group of the water-insoluble and alkali-soluble resin, and a positive-type photosensitive layer is formed.
General water-insoluble and alkali-soluble resins are described in detail below. Among them, for example, polyamide resins, epoxy resins, polyacetal resins, acrylic resins, methacrylic resins, polystyrene resins, novolak type phenol resins, and the like are preferable. be able to.
The water-insoluble and alkali-soluble resin that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it has a property of dissolving when contacted with an alkaline developer, but the main chain and / or side chain in the polymer is acidic. It is preferably a homopolymer containing a group, a copolymer thereof, or a mixture thereof.
The water-insoluble and alkali-soluble resin having such an acidic group preferably has a functional group such as a phenolic hydroxyl group, a carboxy group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a sulfonamide group, or an active imide group. Accordingly, such a resin can be suitably produced by copolymerizing a monomer mixture containing one or more ethylenically unsaturated monomers having the above functional group. Preferred examples of the ethylenically unsaturated monomer having the functional group include a compound represented by the following formula and a mixture thereof in addition to acrylic acid and methacrylic acid. In the following formulae, R 40 represents a hydrogen atom or a methyl group.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

本発明に用いることができる水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂としては、上記重合性モノマーの他に、他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物であることが好ましい。この場合の共重合比としては、フェノール性水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基、スルホンアミド基、活性イミド基等の官能基を有するモノマーのようなアルカリ可溶性を付与するモノマーを10モル%以上含むことが好ましく、20モル%以上含むものがより好ましい。アルカリ可溶性を付与するモノマーの共重合成分が10モル%以上であると、アルカリ可溶性が十分得られ、また、現像性に優れる。   The water-insoluble and alkali-soluble resin that can be used in the present invention is preferably a polymer compound obtained by copolymerizing other polymerizable monomers in addition to the polymerizable monomer. The copolymerization ratio in this case is 10 mol of a monomer that imparts alkali solubility such as a monomer having a functional group such as a phenolic hydroxyl group, a carboxy group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a sulfonamide group, or an active imide group. %, Preferably 20 mol% or more. When the copolymerization component of the monomer that imparts alkali solubility is 10 mol% or more, sufficient alkali solubility is obtained and the developability is excellent.

使用可能な他の重合性モノマーとしては、下記に挙げる化合物を例示することができる。
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、等のアルキルアクリレートやアルキルメタクリレート。
2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類及びメタクリル酸エステル類。
アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
N−ビニルピロリドン、N−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のその他の窒素原子含有モノマー。
N−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−プロピルマレイミド、N−ブチルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−2−メチルフェニルマレイミド、N−2,6−ジエチルフェニルマレイミド、N−2−クロロフェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−ラウリルマレイミド、N−ヒドロキシフェニルマレイミド等のマレイミド類。
これらの他のエチレン性不飽和モノマーのうち、好適に使用されるのは、(メタ)アクリル酸エステル類、(メタ)アクリルアミド類、マレイミド類、(メタ)アクリロニトリルである。
Examples of other polymerizable monomers that can be used include the compounds listed below.
Alkyl acrylates and alkyl methacrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, benzyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, and benzyl methacrylate.
Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate.
Acrylamide or methacrylamide such as acrylamide, methacrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-phenylacrylamide, etc.
Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.
Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, and chloromethylstyrene.
Other nitrogen atom-containing monomers such as N-vinylpyrrolidone, N-vinylpyridine, acrylonitrile and methacrylonitrile.
N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-propylmaleimide, N-butylmaleimide, N-phenylmaleimide, N-2-methylphenylmaleimide, N-2,6-diethylphenylmaleimide, N-2-chlorophenylmaleimide, Maleimides such as N-cyclohexylmaleimide, N-laurylmaleimide and N-hydroxyphenylmaleimide.
Among these other ethylenically unsaturated monomers, (meth) acrylic acid esters, (meth) acrylamides, maleimides, and (meth) acrylonitrile are preferably used.

また、アルカリ可溶性樹脂としては、成分Dとして挙げたノボラック樹脂も好ましく挙げられる。
また、上記の水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂を1層型の上記画像記録層に用いることも可能である。
Further, as the alkali-soluble resin, the novolak resin mentioned as the component D is also preferable.
It is also possible to use the above water-insoluble and alkali-soluble resin for the single-layer image recording layer.

更に、本発明における上層中には、本発明の効果を損なわない範囲で他の樹脂を併用することができる。上層自体は、特に非画像部領域において、アルカリ可溶性を発現することを要するため、この特性を損なわない樹脂を選択する必要がある。この観点から、併用可能な樹脂としては、水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂が挙げられる。一般的な水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂については以下に詳述するが、中でも、例えば、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂等を好ましく挙げることができる。
また、混合する量としては、上記水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂に対して50質量%以下であることが好ましい。
Furthermore, in the upper layer in the present invention, other resins can be used in combination as long as the effects of the present invention are not impaired. Since the upper layer itself needs to express alkali solubility particularly in the non-image area, it is necessary to select a resin that does not impair this property. From this viewpoint, examples of resins that can be used in combination include water-insoluble and alkali-soluble resins. General water-insoluble and alkali-soluble resins will be described in detail below. Among them, for example, polyamide resins, epoxy resins, polyacetal resins, acrylic resins, polystyrene resins, novolac type phenol resins and the like can be preferably exemplified. .
The amount to be mixed is preferably 50% by mass or less based on the water-insoluble and alkali-soluble resin.

上記水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂は、重量平均分子量が2,000以上、かつ数平均分子量が500以上のものが好ましく、重量平均分子量が5,000〜300,000で、かつ数平均分子量が800〜250,000であることがより好ましい。また、上記アルカリ可溶性樹脂の分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10であることが好ましい。
アルカリ可溶性樹脂は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
上記アルカリ可溶性樹脂の含有量は、上層の全質量に対し、2.0〜99.5質量%であることが好ましく、10.0〜99.0質量%であることがより好ましく、20.0〜90.0質量%であることが更に好ましい。アルカリ可溶性樹脂の添加量が2.0質量%以上であると画像記録層(感光層)の耐久性に優れ、また、99.5質量%以下であると、感度、及び、耐久性の両方に優れる。
The water-insoluble and alkali-soluble resin preferably has a weight average molecular weight of 2,000 or more and a number average molecular weight of 500 or more, a weight average molecular weight of 5,000 to 300,000 and a number average molecular weight of 800 to More preferably, it is 250,000. Moreover, it is preferable that the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) of the alkali-soluble resin is 1.1 to 10.
Alkali-soluble resin may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
The content of the alkali-soluble resin is preferably 2.0 to 99.5% by mass, more preferably 10.0 to 99.0% by mass, more preferably 20.0% with respect to the total mass of the upper layer. More preferably, it is -90.0 mass%. When the addition amount of the alkali-soluble resin is 2.0% by mass or more, the durability of the image recording layer (photosensitive layer) is excellent, and when it is 99.5% by mass or less, both sensitivity and durability are obtained. Excellent.

−赤外線吸収材料−
成分A〜成分Cのうち少なくとも1種を含まない上層には、赤外線吸収材料を含んでもよい。
赤外線吸収材料としては、赤外光を吸収し熱を発生する染料であれば特に制限はなく、上述した赤外線吸収材料を同様に用いることができる。
特に好ましい染料は、上記式aで表されるシアニン染料である。
-Infrared absorbing material-
The upper layer not including at least one of component A to component C may include an infrared absorbing material.
The infrared absorbing material is not particularly limited as long as it is a dye that absorbs infrared light and generates heat, and the above-described infrared absorbing material can be similarly used.
Particularly preferred dyes are cyanine dyes represented by the above formula a.

上層に赤外線吸収材料を含有することで、感度が良好となる。
上層における赤外線吸収材料の添加量としては、上層の全質量に対し、0.01〜50質量%であることが好ましく、0.1〜30質量%であることがより好ましく、1.0〜10質量%であることが特に好ましい。添加量が0.01質量%以上であることで感度が改良され、また、50質量%以下であると、層の均一性が良好であり、層の耐久性に優れる。
By including an infrared absorbing material in the upper layer, the sensitivity is improved.
The addition amount of the infrared absorbing material in the upper layer is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 30% by mass, and more preferably 1.0 to 10% with respect to the total mass of the upper layer. It is particularly preferable that the content is% by mass. When the addition amount is 0.01% by mass or more, the sensitivity is improved, and when it is 50% by mass or less, the uniformity of the layer is good and the durability of the layer is excellent.

−その他の成分−
その他、2層構造の平版印刷版原版における上層は、酸発生剤、酸増殖剤、現像促進剤、界面活性剤、焼き出し剤/着色剤、可塑剤、ワックス剤等を含んでもよい。
これらの成分は、上述したそれぞれの成分を同様に用いることができ、好ましい態様も同様である。
-Other ingredients-
In addition, the upper layer in the lithographic printing plate precursor having a two-layer structure may contain an acid generator, an acid proliferation agent, a development accelerator, a surfactant, a bake-out / coloring agent, a plasticizer, a wax agent, and the like.
These components can use each component mentioned above similarly, A preferable aspect is also the same.

<下層>
本発明における2層構造の平版印刷版原版の下層は、成分A〜成分Cを含む上記画像記録層であることが好ましい。
成分A〜成分Cを下層に含むことにより、画像形成性や耐刷性に優れた印刷版を得ることができる。
また、成分A〜成分Cを下層に含むことにより、特に低品質のインキ、紙等の資材を用いた場合に耐刷性が向上する。
上記のような効果が得られる詳細な機構は不明であるが、印刷における耐刷性は下層に用いられる樹脂の膜強度が重要であると推測されることから、バインダー間の相互作用が強いため膜強度の高くなると推定される成分A〜成分Cを含む上記画像記録層を下層に用いることにより、耐刷性が向上すると推定している。
<Lower layer>
The lower layer of the lithographic printing plate precursor having a two-layer structure in the invention is preferably the image recording layer containing Component A to Component C.
By containing Component A to Component C in the lower layer, a printing plate having excellent image forming properties and printing durability can be obtained.
Further, by including the components A to C in the lower layer, the printing durability is improved particularly when materials such as low-quality ink and paper are used.
The detailed mechanism for obtaining the above effects is unknown, but the printing durability in printing is presumed to be important for the film strength of the resin used in the lower layer, so the interaction between the binders is strong. It is estimated that the printing durability is improved by using the image recording layer containing the components A to C, which are estimated to have high film strength, as the lower layer.

上層が成分A〜成分Cを含む上記画像記録層である場合、下層も成分A〜成分Cを含む上記画像記録層であることが好ましいが、下層を成分A〜成分Cのうち少なくとも1種を含まないその他の画像記録層としてもよい。その場合の下層の好ましい態様は、上記で説明した上層の好ましい態様と同様である。   When the upper layer is the image recording layer containing component A to component C, the lower layer is preferably the image recording layer containing component A to component C, but the lower layer is at least one of component A to component C. Other image recording layers not included may be used. In this case, the preferred embodiment of the lower layer is the same as the preferred embodiment of the upper layer described above.

<支持体>
本発明に使用される支持体としては、必要な強度と耐久性を備えた寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された紙、又は、プラスチックフィルム等が挙げられる。
<Support>
The support used in the present invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate having necessary strength and durability. For example, paper, plastic (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene) Etc.) laminated paper, metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate) , Polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper on which a metal as described above is laminated or vapor-deposited, or a plastic film.

なお、本発明の平版印刷版原版に用いる支持体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸度安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネート又は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は10質量%以下であることが好ましい。   The support used in the lithographic printing plate precursor according to the invention is preferably a polyester film or an aluminum plate, and particularly preferably an aluminum plate having good dimensional stability and relatively low cost. A suitable aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less.

支持体として特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
このように本発明されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。
本発明で用いられるアルミニウム板の厚みは、0.1〜0.6mmであることが好ましく、0.15〜0.4mmであることがより好ましく、0.2〜0.3mmであることが特に好ましい。
Aluminum that is particularly suitable as the support is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, and therefore may contain slightly different elements.
Thus, the composition of the aluminum plate of the present invention is not specified, and conventionally known and used aluminum plates can be appropriately used.
The thickness of the aluminum plate used in the present invention is preferably 0.1 to 0.6 mm, more preferably 0.15 to 0.4 mm, and particularly preferably 0.2 to 0.3 mm. preferable.

このようなアルミニウム板には、必要に応じて粗面化処理、陽極酸化処理などの表面処理を行ってもよい。アルミニウム支持体の表面処理については、例えば、特開2009−175195号公報の段落0167〜0169に詳細に記載されるような、界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理、表面の粗面化処理、陽極酸化処理などが適宜、施される。
陽極酸化処理を施されたアルミニウム表面は、必要により親水化処理が施される。
親水化処理としては、特開2009−175195号公報の段落0169に開示されているような、アルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法、フッ化ジルコン酸カリウム、あるいは、ポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
また、特開2011−245844号公報に記載された支持体も好ましく用いられる。
Such an aluminum plate may be subjected to a surface treatment such as a roughening treatment or an anodizing treatment as necessary. As for the surface treatment of the aluminum support, for example, degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution, or the like, as described in detail in paragraphs 0167 to 0169 of JP-A-2009-175195, Anodizing treatment, anodizing treatment or the like is appropriately performed.
The anodized aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment as necessary.
As the hydrophilization treatment, treatment with an alkali metal silicate (for example, sodium silicate aqueous solution) method, potassium fluoride zirconate or polyvinylphosphonic acid as disclosed in paragraph 0169 of JP-A-2009-175195 is performed. A method or the like is used.
Moreover, the support body described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-245844 is also preferably used.

<下塗層>
本発明の平版印刷版原版は、必要に応じて支持体と画像記録層(下層)との間に下塗層を有していてもよい。
下塗層成分としては、種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン等のアミノ基を有するホスホン酸類、有機ホスホン酸、有機リン酸、有機ホスフィン酸、アミノ酸類、並びに、ヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等が好ましく挙げられる。また、これら下塗層成分は、1種単独で用いても、2種以上混合して用いてもよい。下塗層に使用される化合物の詳細、下塗層の形成方法は、特開2009−175195号公報の段落0171〜0172に記載され、これらの記載は本発明にも適用される。
下塗層の被覆量は、2〜200mg/mであることが好ましく、5〜100mg/mであることがより好ましい。被覆量が上記範囲であると、十分な耐刷性能が得られる。
<Undercoat layer>
The lithographic printing plate precursor according to the invention may have an undercoat layer between the support and the image recording layer (lower layer) as necessary.
As an undercoat layer component, various organic compounds are used. For example, phosphonic acids having amino groups such as carboxymethylcellulose and dextrin, organic phosphonic acids, organic phosphoric acids, organic phosphinic acids, amino acids, and hydroxy groups. Preferred examples thereof include hydrochlorides of amines and the like. These undercoat layer components may be used singly or in combination of two or more. Details of the compounds used for the undercoat layer and the method for forming the undercoat layer are described in paragraphs 0171 to 0172 of JP-A-2009-175195, and these descriptions also apply to the present invention.
The coverage of the undercoat layer is preferably 2 to 200 mg / m 2, and more preferably 5 to 100 mg / m 2. When the coating amount is in the above range, sufficient printing durability can be obtained.

<バックコート層>
本発明の平版印刷版原版の支持体裏面、すなわち、画像記録層が設けられている面とは反対の面には、必要に応じてバックコート層が設けられる。
かかるバックコート層としては、特開平5−45885号公報記載の有機高分子化合物及び特開平6−35174号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆層のうち、Si(OCH、Si(OC、Si(OC、Si(OCなどのケイ素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れており特に好ましい。
<Back coat layer>
A back coat layer is provided on the back surface of the support of the planographic printing plate precursor of the present invention, that is, the surface opposite to the surface on which the image recording layer is provided, as necessary.
Such a back coat layer comprises a metal oxide obtained by hydrolysis and polycondensation of an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174. A coating layer is preferably used. Among these coating layers, silicon alkoxy compounds such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4 are available at a low price. The coating layer of the metal oxide obtained therefrom is particularly preferable because of its excellent developer resistance.

(平版印刷版の作製方法)
本発明の平版印刷版の作製方法は、本発明のポジ型平版印刷版原版を画像露光する露光工程、及び、pH8.5〜13.5のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程、並びに、必要に応じて、加熱処理(バーニング処理)を行う加熱工程、をこの順で含むことが好ましい。
本発明の平版印刷版の作製方法によれば、非画像部の残膜に起因する汚れの発生がなく、バーニング処理後の耐刷性、耐薬品性が良好となる。
また、本発明の平版印刷版は、本発明のポジ型平版印刷版原版より作製された平版印刷版であり、本発明の平版印刷版の作製方法により作製された平版印刷版であることが好ましい。
以下、本発明の平版印刷版の作製方法の各工程について詳細に説明する。
(Preparation method of lithographic printing plate)
The preparation method of the lithographic printing plate of the present invention comprises an exposure step of image exposure of the positive lithographic printing plate precursor of the present invention, a development step of developing using an alkaline aqueous solution of pH 8.5 to 13.5, and necessary. Accordingly, it is preferable to include a heating process for performing a heating process (burning process) in this order.
According to the method for producing a lithographic printing plate of the present invention, there is no occurrence of stains due to the remaining film in the non-image area, and the printing durability and chemical resistance after the burning treatment are improved.
The lithographic printing plate of the present invention is a lithographic printing plate prepared from the positive lithographic printing plate precursor of the present invention, and is preferably a lithographic printing plate prepared by the method of preparing a lithographic printing plate of the present invention. .
Hereafter, each process of the preparation method of the lithographic printing plate of this invention is demonstrated in detail.

<露光工程>
本発明の平版印刷版の作製方法は、本発明のポジ型平版印刷版原版を画像露光する露光工程を含む。
本発明のポジ型平版印刷版原版の画像露光に用いられる活性光線の光源としては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザー、半導体レーザーがより好ましい。中でも、本発明においては、波長750〜1,400nmの赤外線を放射する固体レーザー又は半導体レーザーにより画像露光されることが特に好ましい。
レーザーの出力は、100mW以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、1画素あたりの露光時間は20μ秒以内であることが好ましい。
ポジ型平版印刷版原版に照射されるエネルギーは、10〜300mJ/cmであることが好ましい。上記範囲であると、レーザーアブレーションを抑制し、画像が損傷を防ぐことができる。
<Exposure process>
The method for producing a lithographic printing plate of the present invention includes an exposure step of image-exposing the positive lithographic printing plate precursor of the present invention.
As a light source of actinic rays used for image exposure of the positive planographic printing plate precursor of the present invention, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid laser or a semiconductor laser is more preferable. Among them, in the present invention, it is particularly preferable that the image exposure is performed by a solid laser or a semiconductor laser that emits infrared rays having a wavelength of 750 to 1,400 nm.
The laser output is preferably 100 mW or more, and a multi-beam laser device is preferably used in order to shorten the exposure time. The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec.
The energy applied to the positive planographic printing plate precursor is preferably 10 to 300 mJ / cm 2 . Within the above range, laser ablation can be suppressed and the image can be prevented from being damaged.

本発明における露光は、光源の光ビームをオーバーラップさせて露光することができる。オーバーラップとは、副走査ピッチ幅がビーム径より小さいことをいう。オーバーラップは、例えば、ビーム径をビーム強度の半値幅(FWHM)で表したとき、FWHM/副走査ピッチ幅(オーバーラップ係数)で定量的に表現することができる。本発明ではこのオーバーラップ係数が、0.1以上であることが好ましい。   The exposure in the present invention can be performed by overlapping the light beams of the light sources. Overlap means that the sub-scanning pitch width is smaller than the beam diameter. The overlap can be expressed quantitatively by FWHM / sub-scanning pitch width (overlap coefficient), for example, when the beam diameter is expressed by the full width at half maximum (FWHM) of the beam intensity. In the present invention, the overlap coefficient is preferably 0.1 or more.

本発明に使用することができる露光装置の光源の走査方式は、特に限定はなく、円筒外面走査方式、円筒内面走査方式、平面走査方式などを用いることができる。また、光源のチャンネルは単チャンネルでもマルチチャンネルでもよいが、円筒外面方式の場合にはマルチチャンネルが好ましく用いられる。   The scanning method of the light source of the exposure apparatus that can be used in the present invention is not particularly limited, and a cylindrical outer surface scanning method, a cylindrical inner surface scanning method, a planar scanning method, and the like can be used. The channel of the light source may be a single channel or a multi-channel, but the multi-channel is preferably used in the case of a cylindrical outer surface type.

<現像工程>
本発明の平版印刷版の作製方法は、pH8.5〜13.5のアルカリ水溶液(以下、「現像液」ともいう。)を用いて現像する現像工程を含む。
現像工程に使用される現像液は、pH12.5〜13.5であることが好ましい。
また、上記現像液は、界面活性剤を含むことが好ましく、アニオン性界面活性剤又はノニオン性界面活性剤を少なくとも含むことがより好ましい。界面活性剤は処理性の向上に寄与する。
上記現像液に用いられる界面活性剤は、アニオン性、ノニオン性、カチオン性、及び、両性の界面活性剤のいずれも用いることができるが、既述のように、アニオン性、ノニオン性の界面活性剤が好ましい。
本発明における現像液に用いられるアニオン性、ノニオン性、カチオン性、及び、両性界面活性剤としては、特開2013−134341号公報の段落0128〜0131に記載のものを使用することができる。
<Development process>
The method for producing a lithographic printing plate of the present invention includes a development step of developing using an alkaline aqueous solution (hereinafter also referred to as “developer”) having a pH of 8.5 to 13.5.
The developer used in the development step is preferably pH 12.5 to 13.5.
The developer preferably contains a surfactant, and more preferably contains at least an anionic surfactant or a nonionic surfactant. Surfactant contributes to the improvement of processability.
As the surfactant used in the developer, any of anionic, nonionic, cationic and amphoteric surfactants can be used. As described above, anionic and nonionic surfactants are used. Agents are preferred.
As the anionic, nonionic, cationic, and amphoteric surfactants used in the developer in the present invention, those described in paragraphs 0128 to 0131 of JP2013-134341A can be used.

また、水に対する安定な溶解性あるいは混濁性の観点から、界面活性剤のHLB値が、6以上であることが好ましく、8以上であることがより好ましい。
上記現像液に用いられる界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤が好ましく、スルホン酸又はスルホン酸塩を含有するアニオン性界面活性剤及び、芳香環とエチレンオキサイド鎖を有するノニオン性界面活性剤が特に好ましい。
界面活性剤は、単独又は組み合わせて使用することができる。
界面活性剤の現像液中における含有量は、0.01〜10質量%が好ましく、0.01〜5質量%がより好ましい。
Further, from the viewpoint of stable solubility or turbidity in water, the HLB value of the surfactant is preferably 6 or more, and more preferably 8 or more.
The surfactant used in the developer is preferably an anionic surfactant or a nonionic surfactant, and has an anionic surfactant containing a sulfonic acid or a sulfonate, an aromatic ring, and an ethylene oxide chain. Nonionic surfactants are particularly preferred.
Surfactants can be used alone or in combination.
The content of the surfactant in the developer is preferably from 0.01 to 10% by mass, and more preferably from 0.01 to 5% by mass.

上記現像液をpH8.5〜13.5に保つためには、緩衝剤として炭酸イオン、及び、炭酸水素イオンが存在することで、現像液を長期間使用してもpHの変動を抑制でき、pHの変動による現像性低下、現像カス発生等を抑制できる。炭酸イオン、及び、炭酸水素イオンを現像液中に存在させるには、炭酸塩と炭酸水素塩とを現像液に加えてもよいし、炭酸塩又は炭酸水素塩を加えた後にpHを調整することで、炭酸イオンと炭酸水素イオンとを発生させてもよい。
炭酸塩及び炭酸水素塩は、特に限定されないが、アルカリ金属塩であることが好ましい。アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウムが挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。これらは単独でも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
In order to maintain the developer at pH 8.5 to 13.5, the presence of carbonate ions and hydrogen carbonate ions as buffering agents can suppress pH fluctuations even when the developer is used for a long period of time. It is possible to suppress developability degradation, development residue generation, and the like due to pH fluctuations. In order for carbonate ions and hydrogen carbonate ions to be present in the developer, carbonate and bicarbonate may be added to the developer, or the pH is adjusted after adding carbonate or bicarbonate. Thus, carbonate ions and hydrogen carbonate ions may be generated.
The carbonate and bicarbonate are not particularly limited, but are preferably alkali metal salts. Examples of the alkali metal include lithium, sodium, and potassium, and sodium is particularly preferable. These may be used alone or in combination of two or more.

炭酸塩及び炭酸水素塩の総含有量は、現像液の全質量に対して、0.3〜20質量%が好ましく、0.5〜10質量%がより好ましく、1〜5質量%が特に好ましい。総量が0.3質量%以上であると現像性、処理能力が低下せず、20質量%以下であると沈殿や結晶を生成し難くなり、更に現像液の廃液処理時、中和の際にゲル化し難くなり、廃液処理に支障をきたさない。   The total content of carbonate and bicarbonate is preferably 0.3 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 10% by mass, and particularly preferably 1 to 5% by mass with respect to the total mass of the developer. . When the total amount is 0.3% by mass or more, developability and processing capacity do not deteriorate, and when it is 20% by mass or less, it becomes difficult to form precipitates and crystals. It becomes difficult to gel and does not interfere with waste liquid treatment.

また、アルカリ濃度の微少な調整、非画像部感光層の溶解を補助する目的で、補足的に他のアルカリ剤、例えば有機アルカリ剤を併用してもよい。有機アルカリ剤としては、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等を挙げることができる。これらの他のアルカリ剤は、単独又は2種以上を組み合わせて用いられる。
上記現像液には、上記の他に、湿潤剤、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、有機溶剤、無機酸、無機塩などを含有することができる。ただし、水溶性高分子化合物を添加すると、特に現像液が疲労した際に版面がベトツキやすくなるため、添加しないことが好ましい。
Further, for the purpose of assisting the fine adjustment of the alkali concentration and the dissolution of the non-image area photosensitive layer, another alkali agent such as an organic alkali agent may be supplementarily used together. Examples of the organic alkali agent include monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, Examples thereof include diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine, tetramethylammonium hydroxide and the like. These other alkaline agents are used alone or in combination of two or more.
In addition to the above, the developer may contain a wetting agent, preservative, chelate compound, antifoaming agent, organic acid, organic solvent, inorganic acid, inorganic salt, and the like. However, when a water-soluble polymer compound is added, the plate surface tends to become sticky especially when the developer is fatigued, so it is preferable not to add it.

湿潤剤としては、特開2013−134341号公報の段落0141に記載の湿潤剤を好適に用いることができる。湿潤剤は単独で用いてもよいが、2種以上併用してもよい。湿潤剤は、現像剤の全質量に対し、0.1〜5質量%の量で使用されることが好ましい。   As the wetting agent, the wetting agent described in paragraph 0141 of JP2013-134341A can be suitably used. The wetting agent may be used alone or in combination of two or more. The wetting agent is preferably used in an amount of 0.1 to 5% by mass relative to the total mass of the developer.

防腐剤としては、特開2013−134341号公報の段落0142に記載の防腐剤を好適に用いることができる。種々のカビ、細菌に対して効力のあるように2種以上の防腐剤を併用することが好ましい。防腐剤の添加量は、細菌、カビ、酵母等に対して、安定に効力を発揮する量であって、細菌、カビ、酵母の種類によっても異なるが、現像液の全質量に対して、0.01〜4質量%の範囲が好ましい。   As the preservative, the preservative described in paragraph 0142 of JP2013-134341A can be suitably used. Two or more preservatives are preferably used in combination so as to be effective against various molds and bacteria. The addition amount of the preservative is an amount that exhibits a stable effect on bacteria, fungi, yeast, etc., and varies depending on the type of bacteria, fungi, yeast, etc., but is 0 with respect to the total mass of the developer. The range of 0.01 to 4% by mass is preferable.

キレート化合物としては、特開2013−134341号公報の段落0143に記載のキレート化合物を好適に用いることができる。キレート剤は現像液組成中に安定に存在し、印刷性を阻害しないものが選ばれる。添加量は、現像液の全質量に対して、0.001〜1.0質量%が好適である。   As the chelate compound, a chelate compound described in paragraph 0143 of JP2013-134341A can be suitably used. A chelating agent is selected that is stably present in the developer composition and does not impair the printability. The addition amount is preferably 0.001 to 1.0 mass% with respect to the total mass of the developer.

消泡剤としては、特開2013−134341号公報の段落0144に記載の消泡剤を好適に用いることができる。消泡剤の含有量は、現像液の全重量に対して、0.001〜1.0質量%の範囲が好適である。   As the antifoaming agent, the antifoaming agent described in paragraph 0144 of JP2013-134341A can be suitably used. The content of the antifoaming agent is preferably in the range of 0.001 to 1.0% by mass with respect to the total weight of the developer.

有機酸としては、特開2013−134341号公報の段落0145に記載の消泡剤を好適に用いることができる。有機酸の含有量は、現像液の全質量に対して、0.01〜0.5質量%が好ましい。   As the organic acid, an antifoaming agent described in paragraph 0145 of JP2013-134341A can be suitably used. The content of the organic acid is preferably 0.01 to 0.5% by mass with respect to the total mass of the developer.

有機溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、“アイソパーE、H、G”(エッソ化学(株)製)、ガソリン、若しくは、灯油等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、又は、ハロゲン化炭化水素(メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、モノクロルベンゼン等)や、極性溶剤が挙げられる。
極性溶剤としては、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、2−エトキシエタノール等)、ケトン類(メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等)、エステル類(酢酸エチル、乳酸メチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等)、その他(トリエチルホスフェート、トリクレジルホスフェート、N−フェニルエタノールアミン、N−フェニルジエタノールアミン等)等が挙げられる。
また、上記有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能である。現像液が有機溶剤を含有する場合は、安全性、引火性の観点から、溶剤の濃度は40質量%未満が好ましい。
Examples of the organic solvent include aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, “Isopar E, H, G” (Esso Chemical Co., Ltd.), gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, Xylene, etc.), halogenated hydrocarbons (methylene dichloride, ethylene dichloride, trichlene, monochlorobenzene, etc.) and polar solvents.
Polar solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, isopropanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, 2-ethoxyethanol, etc.), ketones (methyl ethyl ketone, cyclohexanone, etc.), esters (ethyl acetate, methyl lactate, propylene) Glycol monomethyl ether acetate, etc.) and others (triethyl phosphate, tricresyl phosphate, N-phenylethanolamine, N-phenyldiethanolamine, etc.).
When the organic solvent is insoluble in water, it can be used after being solubilized in water using a surfactant or the like. When the developer contains an organic solvent, the concentration of the solvent is preferably less than 40% by mass from the viewpoint of safety and flammability.

無機酸及び無機塩としては、リン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、第一リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、硝酸マグネシウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸ニッケルなどが挙げられる。無機塩の含有量は、現像液の全質量に対し、0.01〜0.5質量%が好ましい。   Examples of inorganic acids and inorganic salts include phosphoric acid, metaphosphoric acid, primary ammonium phosphate, secondary ammonium phosphate, primary sodium phosphate, secondary sodium phosphate, primary potassium phosphate, secondary potassium phosphate, Examples thereof include sodium tripolyphosphate, potassium pyrophosphate, sodium hexametaphosphate, magnesium nitrate, sodium nitrate, potassium nitrate, ammonium nitrate, sodium sulfate, potassium sulfate, ammonium sulfate, sodium sulfite, ammonium sulfite, sodium hydrogen sulfate, nickel sulfate and the like. The content of the inorganic salt is preferably 0.01 to 0.5% by mass with respect to the total mass of the developer.

現像の温度は、現像可能であれば特に制限はないが、60℃以下であることが好ましく、15℃〜40℃であることがより好ましい。自動現像機を用いる現像処理においては、処理量に応じて現像液が疲労してくることがあるので、補充液又は新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。また、特開平9−96910号公報に記載されているような自動現像装置を用いて、現像補充液を補充するタイミングを決定する基準電導度を処理疲労と炭酸ガス疲労との比を配慮して適性な値に、自動的に設定することにより、現像液の活性度を長期に渡って良好な状態に維持してもよい。
現像及び現像後の処理の一例としては、アルカリ現像を行い、後水洗工程でアルカリを除去し、ガム引き工程でガム処理を行い、乾燥工程で乾燥する方法が例示できる。また、他の例としては、炭酸イオン、炭酸水素イオン及び界面活性剤を含有する水溶液を用いることにより、前水洗、現像及びガム引きを同時に行う方法が好ましく例示できる。よって、前水洗工程は特に行わなくともよく、一液を用いるだけで、更には一浴で前水洗、現像及びガム引きを行ったのち、乾燥工程を行うことが好ましい。現像の後は、スクイズローラ等を用いて余剰の現像液を除去してから乾燥を行うことが好ましい。得られた平版印刷版に不必要な画像部がある場合には、その不必要な画像部の消去が行われる。このような消去は、例えば特公平2−13293号公報に記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより行う方法が好ましいが、特開平5−174842号公報に記載されているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用できる。
The development temperature is not particularly limited as long as development is possible, but it is preferably 60 ° C. or lower, more preferably 15 ° C. to 40 ° C. In the development processing using an automatic developing machine, the developing solution may be fatigued depending on the processing amount. Therefore, the processing capability may be restored using a replenishing solution or a fresh developing solution. In addition, using an automatic developing apparatus as described in JP-A-9-96910, the reference conductivity for determining the timing of replenishing the developer replenisher is set in consideration of the ratio between processing fatigue and carbon dioxide fatigue. By automatically setting an appropriate value, the activity of the developer may be maintained in a good state for a long time.
An example of development and post-development processing is a method in which alkali development is performed, alkali is removed in a post-water washing step, gumming is performed in a gumming step, and drying is performed in a drying step. As another example, a method in which pre-water washing, development and gumming are simultaneously performed by using an aqueous solution containing carbonate ions, hydrogen carbonate ions and a surfactant can be preferably exemplified. Therefore, the pre-water washing step is not particularly required, and it is preferable to perform the drying step after performing pre-water washing, development and gumming in one bath only by using one liquid. After development, it is preferable to dry after removing excess developer using a squeeze roller or the like. When the obtained lithographic printing plate has an unnecessary image portion, the unnecessary image portion is erased. Such erasing is preferably performed by applying an erasing solution as described in, for example, Japanese Patent Publication No. 2-13293 to an unnecessary image portion, leaving it for a predetermined time, and then washing with water. A method of developing after irradiating an unnecessary image portion with an actinic ray guided by an optical fiber as described in JP-A-5-174842 can also be used.

現像工程は、擦り部材を備えた自動処理機により好適に実施することができる。自動処理機としては、例えば、画像露光後の平版印刷版原版を搬送しながら擦り処理を行う、特開平2−220061号公報、特開昭60−59351号公報に記載の自動処理機や、シリンダー上にセットされた画像露光後の平版印刷版原版を、シリンダーを回転させながら擦り処理を行う、米国特許第5148746号、同5568768号、英国特許第2297719号の各明細書に記載の自動処理機等が挙げられる。中でも、擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動処理機が特に好ましい。   The development process can be preferably carried out by an automatic processor equipped with a rubbing member. As an automatic processor, for example, an automatic processor described in JP-A-2-220061 and JP-A-60-59351, which performs a rubbing process while conveying a lithographic printing plate precursor after image exposure, or a cylinder An automatic processing machine described in the specifications of US Pat. Nos. 5,148,746, 5,568,768 and British Patent 2,297,719, which rubs the lithographic printing plate precursor after image exposure set thereon while rotating the cylinder Etc. Among these, an automatic processor using a rotating brush roll as the rubbing member is particularly preferable.

本発明に使用する回転ブラシロールは、画像部の傷つき難さ、更には、平版印刷版原版の支持体における腰の強さ等を考慮して適宜選択することができる。
回転ブラシロールとしては、ブラシ素材をプラスチック又は金属のロールに植え付けて形成された公知のものが使用できる。例えば、特開昭58−159533号公報、特開平3−100554号公報に記載のものや、実公昭62−167253号公報に記載されているような、ブラシ素材を列状に植え込んだ金属又はプラスチックの溝型材を芯となるプラスチック又は金属のロールに隙間なく放射状に巻き付けたブラシロールが使用できる。
ブラシ素材としては、プラスチック繊維(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系、ナイロン6,6、ナイロン6,10等のポリアミド系、ポリアクリロニトリル、ポリ(メタ)アクリル酸アルキル等のポリアクリル系、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン系の合成繊維)を使用することができ、例えば、繊維の毛の直径は20〜400μm、毛の長さは5〜30mmのものが好適に使用できる。
回転ブラシロールの外径は30〜200mmが好ましく、版面を擦るブラシの先端の周速は0.1〜5m/secが好ましい。回転ブラシロールは、複数本用いることが好ましい。
The rotating brush roll used in the present invention can be appropriately selected in consideration of the difficulty of scratching the image area and the strength of the waist of the lithographic printing plate precursor.
As the rotating brush roll, a known one formed by planting a brush material on a plastic or metal roll can be used. For example, a metal or plastic in which brush materials are implanted in a row, as described in JP-A-58-159533, JP-A-3-100554, or JP-A-62-167253 A brush roll in which the groove mold material is radially wound around a plastic or metal roll as a core without any gap can be used.
Brush materials include plastic fibers (for example, polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyamides such as nylon 6,6 and nylon 6,10, polyacrylonitriles such as polyacrylonitrile and poly (meth) acrylate). , Polyolefin synthetic fibers such as polypropylene and polystyrene). For example, fibers having a hair diameter of 20 to 400 μm and a hair length of 5 to 30 mm can be preferably used.
The outer diameter of the rotating brush roll is preferably 30 to 200 mm, and the peripheral speed at the tip of the brush rubbing the plate surface is preferably 0.1 to 5 m / sec. It is preferable to use a plurality of rotating brush rolls.

回転ブラシロールの回転方向は、平版印刷版原版の搬送方向に対し、同一方向であっても、逆方向であってもよいが、2本以上の回転ブラシロールを使用する場合は、少なくとも1本の回転ブラシロールが同一方向に回転し、少なくとも1本の回転ブラシロールが逆方向に回転することが好ましい。これにより、非画像部の感光層の除去が更に確実となる。更に、回転ブラシロールをブラシロールの回転軸方向に揺動させることも効果的である。   The rotating direction of the rotating brush roll may be the same or opposite to the conveying direction of the lithographic printing plate precursor. However, when two or more rotating brush rolls are used, at least one rotating brush roll is used. It is preferred that the rotating brush rolls rotate in the same direction and at least one rotating brush roll rotates in the opposite direction. This further ensures the removal of the photosensitive layer in the non-image area. It is also effective to swing the rotating brush roll in the direction of the rotation axis of the brush roll.

現像工程の後、連続的又は不連続的に乾燥工程を設けることが好ましい。乾燥は熱風、赤外線、遠赤外線等によって行う。
本発明の平版印刷版の作製方法においては、平版印刷版原版に対して、現像槽で、現像とガム引きとが行われ、その後、乾燥部で乾燥されて平版印刷版が得られる自動処理機を用いてもよい。
It is preferable to provide a drying step continuously or discontinuously after the development step. Drying is performed by hot air, infrared rays, far infrared rays, or the like.
In the method for preparing a lithographic printing plate according to the present invention, an automatic processor capable of obtaining a lithographic printing plate by performing development and gumming on a lithographic printing plate precursor in a developing tank and then drying in a drying section. May be used.

<加熱工程(バーニング処理工程)>
本発明の平版印刷版の作製方法は、現像工程の後、加熱処理(バーニング処理)を行う加熱工程(バーニング処理工程)を含むことが好ましい。
また、本発明においては、現像工程後の平版印刷版に、必要により不感脂化ガムを塗布した後、加熱処理(バーニング処理)が施されることが好ましい。
<Heating process (burning process)>
The lithographic printing plate production method of the present invention preferably includes a heating step (burning treatment step) for performing a heating treatment (burning treatment) after the development step.
Moreover, in this invention, it is preferable to heat-process (burning process), after apply | coating the desensitizing gum if necessary to the lithographic printing plate after a image development process.

バーニング処理は、バーニングプロセッサー(例えば、富士フイルム(株)より販売されているバーニングプロセッサー:「BP−1300」)などで、150℃以上350℃以下の範囲に加熱することにより行われる。
加熱温度は、150℃以上350℃以下の範囲であることが好ましく、160℃以上300℃以下がより好ましく、180℃以上270℃以下が更に好ましい。また、加熱時間は、1分以上20分以下の範囲が好ましく、1分以上15分以下がより好ましく、1分以上10分以下が更に好ましい。
加熱温度及び加熱時間については、画像を形成している成分の種類を考慮して、最適な条件が選択される。
The burning process is performed by heating in a range of 150 ° C. or more and 350 ° C. or less with a burning processor (for example, a burning processor sold by FUJIFILM Corporation: “BP-1300”) or the like.
The heating temperature is preferably in the range of 150 ° C to 350 ° C, more preferably 160 ° C to 300 ° C, and still more preferably 180 ° C to 270 ° C. The heating time is preferably in the range of 1 minute to 20 minutes, more preferably 1 minute to 15 minutes, and still more preferably 1 minute to 10 minutes.
As for the heating temperature and the heating time, optimum conditions are selected in consideration of the types of components forming the image.

バーニング処理に際しては、バーニング処理前に、特公昭61−2518号、同55−28062号、特開昭62−31859号、同61−159655号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。その方法としては、整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、整面液を平版印刷版上に塗布する方法、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法、自動コーターにより塗布する方法などが適用される。また、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
整面液の塗布量は、0.03〜0.8g/m(乾燥質量)であることが好ましい。
In the burning process, before the burning process, a surface-conditioning liquid as described in JP-B-61-2518, JP-A-55-28062, JP-A-62-31859, JP-A-61-159655 is used. It is preferable to process. As the method, a method of applying the surface-adjusting liquid onto the lithographic printing plate with a sponge or absorbent cotton soaked with the surface-adjusting liquid, or immersing and applying the printing plate in a vat filled with the surface-adjusting liquid The method, the method of apply | coating with an automatic coater etc. are applied. Further, it is more preferable to make the coating amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after coating.
The coating amount of the surface conditioning liquid is preferably 0.03 to 0.8 g / m 2 (dry mass).

バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行われている処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合には、ガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。
この様な処理によって得られた平版印刷版は、オフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。本発明の平版印刷版は、オフセット印刷に好適に用いることができる。
The lithographic printing plate that has been subjected to the burning treatment can be subjected to conventional treatments such as washing and gumming as needed, but a surface-conditioning solution containing a water-soluble polymer compound or the like is used. If so, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted.
The lithographic printing plate obtained by such processing is applied to an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets. The planographic printing plate of the present invention can be suitably used for offset printing.

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本実施例において、「部」、「%」とは、特に断りのない限り、「質量部」、「質量%」を意味する。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these. In this example, “parts” and “%” mean “parts by mass” and “mass%” unless otherwise specified.

(合成例)
<重合体A−1の合成例>
3つ口フラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(89部)を入れ、窒素雰囲気下において90℃に昇温した。MOI−BMを溶解させたPGMEA溶液を、3つ口フラスコのPGMEAに2時間かけて滴下した。滴下終了後2時間撹拌し、反応を終了させた。それにより重合体A−1を得た。なお、PGMEAと固形分との合計量の比を60:40とした。すなわち、固形分濃度40%の重合体溶液を調製した。(Mw:14,000、Mw/Mn:1.8)
MOI−BM:(昭和電工(株)製、下記化合物)
(Synthesis example)
<Synthesis Example of Polymer A-1>
Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) (89 parts) was placed in a three-necked flask and heated to 90 ° C. in a nitrogen atmosphere. A PGMEA solution in which MOI-BM was dissolved was added dropwise to PGMEA in a three-necked flask over 2 hours. After completion of the dropwise addition, the reaction was terminated by stirring for 2 hours. Thereby, a polymer A-1 was obtained. The ratio of the total amount of PGMEA and solid content was 60:40. That is, a polymer solution having a solid content concentration of 40% was prepared. (Mw: 14,000, Mw / Mn: 1.8)
MOI-BM: (Showa Denko Co., Ltd., the following compound)

Figure 2016156968
Figure 2016156968

<重合体A−2の合成例>
MOI−BMの代わりに、MOI−BPを使用した以外は、重合体A−1と同様に合成した。(Mw:13,000、Mw/Mn:1.9)
MOI−BP:(昭和電工(株)製、下記化合物)
<Synthesis Example of Polymer A-2>
The polymer was synthesized in the same manner as the polymer A-1, except that MOI-BP was used instead of MOI-BM. (Mw: 13,000, Mw / Mn: 1.9)
MOI-BP: (Showa Denko Co., Ltd., the following compound)

Figure 2016156968
Figure 2016156968

<重合体A−3の合成例>
モノマー種類を、MOI−BM(全モノマー成分中の80mol%となる量)、MAA(全モノマー成分中の20mol%となる量)に変更し、重合体A−1と同様に重合体を合成した。固形分濃度は40質量部とした。(Mw:16,000、Mw/Mn:2.5)
MAA:メタクリル酸(和光純薬工業(株)製)
<Synthesis Example of Polymer A-3>
The monomer type was changed to MOI-BM (amount to be 80 mol% in all monomer components) and MAA (amount to be 20 mol% in all monomer components), and a polymer was synthesized in the same manner as the polymer A-1. . The solid content concentration was 40 parts by mass. (Mw: 16,000, Mw / Mn: 2.5)
MAA: Methacrylic acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

<重合体A−4の合成例>
モノマー種類を、MAAに代えて、4−メタクリルアミドベンゼンスルホンアミド(富士フイルムファインケミカルズ(株)製)を使用した以外は、重合体A−3と同様に合成した。(Mw:19,000、Mw/Mn:2.7)
<Synthesis Example of Polymer A-4>
The monomer type was synthesized in the same manner as the polymer A-3 except that 4-methacrylamideamidobenzenesulfonamide (manufactured by FUJIFILM Fine Chemicals Co., Ltd.) was used instead of MAA. (Mw: 19,000, Mw / Mn: 2.7)

<ポリウレア樹脂(PU−1)の合成例>
コンデンサー及び撹拌機を取り付けた3つ口フラスコに、3,3’−ジヒドロキシベンジジン(DADHB、東京化成工業(株)製)を4.32部、シクロヘキシルアミン(東京化成工業(株)製)0.0083部、N,N−ジメチルアセトアミド(関東化学(株)製)33.6部を秤取し、反応液を室温(25℃、以下同様)とし、均一溶液とした。
ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI、東京化成工業(株)製)3.36部をN,N−ジメチルアセトアミド(関東化学(株)製)10.00部に溶解させ、室温中、滴下ロートを用いて15分かけて滴下し、その後室温で30分撹拌して反応させた後、シクロヘキシルアミン(東京化成工業(株)製)0.30部、添加し、15分間撹拌した。次いで、メタノール11.9部を反応液に加え、65℃、2時間反応させた後、室温まで冷却し、溶解させた。
上記反応液を純水300部、メタノール237部の混合液にあけ、ポリマーを析出させた。これを濾取、洗浄、乾燥し、重量平均分子量56,000のバインダーポリマー(PU−1)7.01部を得た。
目的物であることは、NMRスペクトル、IRスペクトル、GPC(ポリスチレン換算)から確認した。
<Synthesis example of polyurea resin (PU-1)>
To a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer, 4.32 parts of 3,3′-dihydroxybenzidine (DADHB, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and cyclohexylamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 0. 0083 parts, 33.6 parts of N, N-dimethylacetamide (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) were weighed, and the reaction solution was allowed to reach room temperature (25 ° C., the same applies hereinafter) to obtain a uniform solution.
Hexamethylene diisocyanate (HDI, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) (3.36 parts) was dissolved in N, N-dimethylacetamide (Kanto Chemical Co., Ltd.) (10.00 parts), and the solution was added at room temperature using a dropping funnel. After dropwise addition over a period of time, the mixture was allowed to react at room temperature for 30 minutes, and then 0.30 part of cyclohexylamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added and stirred for 15 minutes. Next, 11.9 parts of methanol was added to the reaction solution, reacted at 65 ° C. for 2 hours, then cooled to room temperature and dissolved.
The said reaction liquid was poured into the liquid mixture of 300 parts of pure waters, and 237 parts of methanol, and the polymer was deposited. This was collected by filtration, washed, and dried to obtain 7.01 parts of a binder polymer (PU-1) having a weight average molecular weight of 56,000.
It was confirmed from the NMR spectrum, IR spectrum, and GPC (polystyrene conversion) that it was the target product.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

<ポリウレア樹脂(PU−2〜5)の合成例>
ジアミン成分及び/又はジイソシアネート成分を下記表1に示すとおりに変更し、PU−1と同様にしてPU−2〜5を合成した。
<Synthesis example of polyurea resin (PU-2 to 5)>
The diamine component and / or diisocyanate component was changed as shown in Table 1 below, and PU-2 to 5 were synthesized in the same manner as PU-1.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

表1に記載のDADHB、PDABP(東京化成工業(株)製)、AHPHFP(東京化成工業(株)製)及びHDIは、上述した化合物であり、DABAは、下記化合物(東京化成工業(株)製)であり、XDIはm−キシリレンジイソシアネートである。   DADHB, PDABP (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), AHPPHFP (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and HDI described in Table 1 are the compounds described above, and DABA is the following compound (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.). XDI is m-xylylene diisocyanate.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

<スルホンアミド含有ジアミン(SA−1)の合成例>
コンデンサー及び撹拌機を取り付けた3つ口フラスコに、クロロスルホン酸350.0部を秤取し、次いで、氷冷中、トルエン(和光純薬工業(株)製)46.1部を添加し、氷冷にて1時間撹拌した。反応液を60℃まで昇温し、3時間撹拌した。本反応液を撹拌しながら、室温まで冷却し、1,000部の氷水と1,492部のクロロホルム混合液に滴下し、30分撹拌した後、これを分液ロートに移し、有機層(クロロホルム層)を取り出した。本クロロホルム溶液を再度分液ロートに移し、飽和重層水にて洗浄した後、純水にて2回分液洗浄し、次いで、飽和食塩水にて分液洗浄した。有機層(クロロホルム層)を三角フラスコに移し、硫酸マグネシウム30部を添加し、撹拌し、固形物を濾過で取り除いた後、エバポレーターを用いてクロロホルムを留去し、室温で24時間真空乾燥し、目的物の前駆体S−1(4−メチルベンゼン−1,3−ジスルホン酸クロリド体)を70.0g得た。前駆体(S−1)であることはNMRスペクトルから確認した。前駆体S−1についてHNMRによる分析を行った。その結果を以下に示す。
HNMRデータ(重クロロホルム、400MHz、内部標準:テトラメチルシラン)δ(ppm)=2.95(s,3H)、7.73−7.75(d,1H)、8.24−8.27(d,1H)、8.70(s,1H)
<Synthesis Example of Sulfonamide-Containing Diamine (SA-1)>
To a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer, 350.0 parts of chlorosulfonic acid was weighed, and then 46.1 parts of toluene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added while cooling with ice. The mixture was stirred for 1 hour under ice cooling. The reaction solution was heated to 60 ° C. and stirred for 3 hours. While stirring this reaction solution, it was cooled to room temperature, dropped into 1,000 parts of ice water and 1,492 parts of chloroform mixed solution, stirred for 30 minutes, transferred to a separatory funnel, and the organic layer (chloroform Layer). The chloroform solution was again transferred to a separating funnel, washed with saturated multistory water, then separated and washed twice with pure water, and then separated and washed with saturated saline. The organic layer (chloroform layer) was transferred to an Erlenmeyer flask, 30 parts of magnesium sulfate was added and stirred, and after removing the solid matter by filtration, the chloroform was distilled off using an evaporator and vacuum-dried at room temperature for 24 hours. 70.0 g of the precursor S-1 (4-methylbenzene-1,3-disulfonic acid chloride) of the target product was obtained. The precursor (S-1) was confirmed from the NMR spectrum. The precursor S-1 was analyzed by 1 HNMR. The results are shown below.
1 HNMR data (deuterated chloroform, 400 MHz, internal standard: tetramethylsilane) δ (ppm) = 2.95 (s, 3H), 7.73-7.75 (d, 1H), 8.24-8.27 (D, 1H), 8.70 (s, 1H)

コンデンサー及び撹拌機を取り付けた3つ口フラスコに、1,4−フェニレンジアミン(東京化成工業(株)製)97.3部、アセトニトリル400部を秤量し、0〜5℃に冷却しながら撹拌した。上記で得られた前駆体(S−1)43.4部をテトラヒドロフラン400部に溶解した後、滴下ロートに移し、撹拌中の上記3つ口フラスコ内に1時間かけて滴下し、次いで1時間撹拌した。本反応液を室温に戻し、2時間撹拌した後、1M水酸化ナトリウム水溶液615部、純水500部を添加し、溶解した。本反応液を分液ロートに移し、酢酸エチル401部で3回分液洗浄し、水層を回収した。ビーカーに塩化アンモニウム(関東化学(株)製)33.7部を秤量し、純水2,000部に溶解し、室温にて撹拌した。上記水層をビーカーに滴下し、析出した結晶を濾収し、結晶を純水1,000部でリスラリー洗浄後、結晶を濾収し、次いで結晶をクロロホルム746部でリスラリー洗浄後、結晶を濾収し、40℃で24時間真空乾燥し、目的物(SA−1)56.5gを得た。目的物であることはNMRスペクトルから確認した。   In a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer, 97.3 parts of 1,4-phenylenediamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 400 parts of acetonitrile were weighed and stirred while cooling to 0 to 5 ° C. . After 43.4 parts of the precursor (S-1) obtained above was dissolved in 400 parts of tetrahydrofuran, it was transferred to a dropping funnel and dropped into the stirring three-necked flask over 1 hour, and then 1 hour. Stir. The reaction solution was returned to room temperature and stirred for 2 hours, and then 615 parts of 1M aqueous sodium hydroxide solution and 500 parts of pure water were added and dissolved. The reaction mixture was transferred to a separatory funnel and separated and washed three times with 401 parts of ethyl acetate to recover the aqueous layer. In a beaker, 33.7 parts of ammonium chloride (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) was weighed, dissolved in 2,000 parts of pure water, and stirred at room temperature. The aqueous layer is dropped into a beaker, the precipitated crystals are collected by filtration, the crystals are reslurry washed with 1,000 parts of pure water, the crystals are collected by filtration, and then the crystals are reslurry washed with 746 parts of chloroform, and then the crystals are filtered. The product was collected and vacuum dried at 40 ° C. for 24 hours to obtain 56.5 g of the desired product (SA-1). The desired product was confirmed from the NMR spectrum.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

<ポリウレア樹脂(PU−6)の合成例>
コンデンサー及び撹拌機を取り付けた3つ口フラスコに、上記で得られたSA−1を5.19部、スルファニルアミド(東京化成工業(株)製)0.04部、N,N−ジメチルアセトアミド25.8部を秤取し、反応液を室温とし、均一溶液とした。
ヘキサメチレンジイソシアネート(東京化成工業(株)製)4.04部、ネオスタンU−600(日東化成(株)製:ビスマス触媒)0.01部をこの順に添加し、室温で1時間撹拌後、60℃、3時間反応させた。次いで、メタノールを5部添加し、90℃、2時間反応させ、重量平均分子量52,000のバインダーポリマー(PU−6)を得た。目的物であることは、NMRスペクトル、IRスペクトル、GPC(ポリスチレン換算)から確認した。
<Synthesis example of polyurea resin (PU-6)>
To a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer, 5.19 parts of SA-1 obtained above, 0.04 part of sulfanilamide (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), N, N-dimethylacetamide 25 .8 parts were weighed, and the reaction solution was brought to room temperature to obtain a uniform solution.
Hexamethylene diisocyanate (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 4.04 parts, Neostan U-600 (Nitto Kasei Co., Ltd .: bismuth catalyst) 0.01 parts were added in this order, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour, then 60 The reaction was carried out at 3 ° C. for 3 hours. Subsequently, 5 parts of methanol was added and reacted at 90 ° C. for 2 hours to obtain a binder polymer (PU-6) having a weight average molecular weight of 52,000. It was confirmed from the NMR spectrum, IR spectrum, and GPC (polystyrene conversion) that it was the target product.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

<スルホンアミド含有ジオール(SP−1)の合成例>
コンデンサー及び撹拌機を取り付けた3つ口フラスコに、2−アミノエタノール(東京化成工業(株)製)30.54部、テトラヒドロフラン30.0部を秤量し、0〜5℃に冷却しながら撹拌した。上記で得られた前駆体(S−1)20.76部をテトラヒドロフラン170部に溶解した後、滴下ロートに移し、撹拌中の上記3つ口フラスコ内に1時間かけて滴下し、1時間撹拌した。本反応液を室温に戻し、2時間撹拌した後、反応液を分液ロートに移し、酢酸エチル902部に溶解させ、塩酸水溶液、水、飽和食塩水で3回分液洗浄し、有機層を回収した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、これをろ濾過した後、エバポレーターを使って、酢酸エチルを留去し、結晶を得た。結晶を40℃で24時間真空乾燥し、目的物(SP−1)20.1部を得た。目的物であることはNMRスペクトルから確認した
<Synthesis Example of Sulfonamide-Containing Diol (SP-1)>
In a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer, 30.54 parts of 2-aminoethanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 30.0 parts of tetrahydrofuran were weighed and stirred while cooling to 0 to 5 ° C. . After dissolving 20.76 parts of the precursor (S-1) obtained above in 170 parts of tetrahydrofuran, it was transferred to a dropping funnel, and dropped into the stirring three-necked flask over 1 hour, followed by stirring for 1 hour. did. The reaction solution is returned to room temperature and stirred for 2 hours. The reaction solution is transferred to a separatory funnel, dissolved in 902 parts of ethyl acetate, and separated and washed three times with aqueous hydrochloric acid, water, and saturated brine, and the organic layer is recovered. did. The organic layer was dried over magnesium sulfate, filtered, and then ethyl acetate was distilled off using an evaporator to obtain crystals. The crystals were vacuum dried at 40 ° C. for 24 hours to obtain 20.1 parts of the desired product (SP-1). It was confirmed from the NMR spectrum that it was the target product.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

<ポリウレタン樹脂(PT−1)の合成例>
コンデンサー及び撹拌機を取り付けた3つ口フラスコに、SP−1を18.58部、N,N−ジメチルアセトアミド(関東化学(株)製)65.76部を秤取し、反応液を室温とし、均一溶液とした。
ヘキサメチレンジイソシアナート(東京化成工業(株)製)8.41部を室温中、滴下ロートを用いて10分かけて滴下し、次いでネオスタンU−600(日東化成(株)製:ビスマス触媒)0.01部添加し、10分撹拌した後、反応液を60℃に昇温し、6時間撹拌した。次いで、メタノール7.9部を反応液に加え、60℃、2時間反応させた後、室温まで冷却した。
上記反応液を純水1,000部、メタノール791部の混合液にあけ、ポリマーを析出させた。これを濾取、洗浄、乾燥し、重量平均分子量56,000のバインダーポリマー(PT−1)26.2部を得た。
目的物であることは、NMRスペクトル、IRスペクトル、GPC(ポリスチレン換算)から確認した。
<Synthesis example of polyurethane resin (PT-1)>
In a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer, weigh out 18.58 parts of SP-1 and 65.76 parts of N, N-dimethylacetamide (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.), and bring the reaction solution to room temperature. A homogeneous solution was obtained.
8.41 parts of hexamethylene diisocyanate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added dropwise at room temperature using a dropping funnel over 10 minutes, and then Neostan U-600 (manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd .: bismuth catalyst) After adding 0.01 part and stirring for 10 minutes, the reaction liquid was heated to 60 ° C. and stirred for 6 hours. Subsequently, 7.9 parts of methanol was added to the reaction liquid, reacted at 60 ° C. for 2 hours, and then cooled to room temperature.
The reaction solution was poured into a mixed solution of 1,000 parts of pure water and 791 parts of methanol to precipitate a polymer. This was collected by filtration, washed and dried to obtain 26.2 parts of a binder polymer (PT-1) having a weight average molecular weight of 56,000.
It was confirmed from the NMR spectrum, IR spectrum, and GPC (polystyrene conversion) that it was the target product.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

<ポリウレタン樹脂(PT−2)の合成例>
濃縮器及び撹拌機を備えた丸底三首フラスコ内に2.7部の4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、14.5部のトルエン−2,4−ジイソシアネート、7.0部のネオペンチルグリコール、35.8部の2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、及び、280部の3−ペンタノンを導入した。0.3部のジブチル錫ジドデカノエートを添加し、反応混合物を撹拌しながら80℃に加熱した。反応を80℃で6時間継続した。こうしてポリウレタン樹脂(PT−2)を得た。GPCによる重量平均分子量は、24,000であった。酸価は125mgKOH/gであった。
<Synthesis example of polyurethane resin (PT-2)>
2.7 parts 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 14.5 parts toluene-2,4-diisocyanate, 7.0 parts neopentyl glycol in a round bottom three-necked flask equipped with a concentrator and stirrer; 35.8 parts 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid and 280 parts 3-pentanone were introduced. 0.3 part dibutyltin didodecanoate was added and the reaction mixture was heated to 80 ° C. with stirring. The reaction was continued at 80 ° C. for 6 hours. A polyurethane resin (PT-2) was thus obtained. The weight average molecular weight by GPC was 24,000. The acid value was 125 mgKOH / g.

(実施例1〜21、及び、比較例1〜3:平版印刷版原版の作製)
<支持体の作製>
厚さ0.3mmの材質1Sのアルミニウム合金板に対し、下記(a)〜(k)に示す処理を施し、平版印刷版用支持体を製造した。なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施し、水洗処理の後にはニップローラーで液切りを行った。
(Examples 1-21 and Comparative Examples 1-3: Production of planographic printing plate precursor)
<Production of support>
The treatment shown in the following (a) to (k) was applied to an aluminum alloy plate of material 1S having a thickness of 0.3 mm to produce a lithographic printing plate support. In addition, the water washing process was performed between all the process processes, and the liquid draining was performed with the nip roller after the water washing process.

<処理>
(a)機械的粗面化処理(ブラシグレイン法)
パミスの懸濁液(比重1.1g/cm)を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行った。
研磨材のメジアン径(μm)を30μm、ブラシ本数を4本、ブラシの回転数(rpm)を250rpmとした。束植ブラシの材質は6・10ナイロンで、ブラシ毛の直径0.3mm、毛長50mmであった。ブラシは、φ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。束植ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。束植ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、束植ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して10kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。
<Processing>
(A) Mechanical roughening treatment (brush grain method)
While supplying a suspension of pumice (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) as a polishing slurry liquid to the surface of the aluminum plate, mechanical surface roughening was performed with a rotating bundle-planting brush.
The median diameter (μm) of the abrasive was 30 μm, the number of brushes was 4, and the rotation speed (rpm) of the brushes was 250 rpm. The material of the bunch planting brush was 6 · 10 nylon, with a bristle diameter of 0.3 mm and a bristle length of 50 mm. The brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel tube having a diameter of 300 mm. The distance between the two support rollers (φ200 mm) at the bottom of the bundle-planting brush was 300 mm. The bundle brush was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 10 kW plus with respect to the load before the bundle brush was pressed against the aluminum plate. The rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate.

(b)アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度70℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、10g/mであった。
(B) Alkaline etching treatment The aluminum plate obtained above was etched by spraying a caustic soda aqueous solution having a caustic soda concentration of 26 mass% and an aluminum ion concentration of 6.5 mass% with a spray tube at a temperature of 70 ° C. Then, water washing by spraying was performed. The amount of dissolved aluminum was 10 g / m 2 .

(c)酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は35℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
(C) Desmutting treatment in acidic aqueous solution Next, desmutting treatment was performed in an aqueous nitric acid solution. The nitric acid aqueous solution used for the desmut treatment was a nitric acid waste solution used for electrochemical roughening in the next step. The liquid temperature was 35 ° C. The desmutting liquid was sprayed and sprayed for 3 seconds.

(d)電気化学的粗面化処理
硝酸電解60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度35℃、硝酸10.4g/Lの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては、電流値がゼロからピークに達するまでの時間tpが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。電気量(C/dm)はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で185C/dmであった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(D) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of nitric acid electrolysis 60 Hz. As the electrolytic solution at this time, an electrolytic solution in which aluminum nitrate was adjusted to 4.5 g / L by adding aluminum nitrate to an aqueous solution having a temperature of 35 ° C. and nitric acid of 10.4 g / L was used. As the AC power supply waveform, the time tp until the current value reaches a peak from zero is 0.8 msec, the duty ratio is 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave AC is used to electrochemically roughen the surface using a carbon electrode as a counter electrode. Processed. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. Amount of electricity (C / dm 2) the aluminum plate was 185C / dm 2 as the total quantity of electricity when the anode. Then, water washing by spraying was performed.

(e)アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度50℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、0.5g/mであった。
(E) Alkaline etching treatment The aluminum plate obtained above was etched by spraying an aqueous caustic soda solution having a caustic soda concentration of 5 mass% and an aluminum ion concentration of 0.5 mass% with a spray tube at a temperature of 50C. Then, water washing by spraying was performed. The amount of dissolved aluminum was 0.5 g / m 2 .

(f)酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硫酸水溶液は、硫酸濃度170g/L、アルミニウムイオン濃度5g/Lの液を用いた。その液温は、30℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
(F) Desmutting treatment in acidic aqueous solution Next, desmutting treatment was performed in an aqueous sulfuric acid solution. The sulfuric acid aqueous solution used for the desmut treatment was a solution having a sulfuric acid concentration of 170 g / L and an aluminum ion concentration of 5 g / L. The liquid temperature was 30 ° C. The desmutting liquid was sprayed and sprayed for 3 seconds.

(g)電気化学的粗面化処理
塩酸電解60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。電解液は、液温35℃、塩酸6.2g/Lの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lに調整した電解液を用いた。電流値がゼロからピークに達するまでの時間tpが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。
電流密度は電流のピーク値で25A/dmであり、塩酸電解における電気量(C/dm)はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で63C/dmであった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(G) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of hydrochloric acid electrolysis 60 Hz. As the electrolytic solution, an electrolytic solution in which aluminum chloride was adjusted to 4.5 g / L by adding aluminum chloride to an aqueous solution having a liquid temperature of 35 ° C. and hydrochloric acid of 6.2 g / L was used. An electrochemical surface roughening treatment was performed using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time tp of 0.8 msec until the current value reached a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. Ferrite was used for the auxiliary anode.
The current density was 25A / dm 2 at the peak of electric current amount of hydrochloric acid electrolysis (C / dm 2) the aluminum plate was 63C / dm 2 as the total quantity of electricity when the anode. Then, water washing by spraying was performed.

(h)アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度50℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、0.1g/mであった。
(H) Alkaline etching treatment The aluminum plate obtained above was etched by spraying a caustic soda aqueous solution having a caustic soda concentration of 5 mass% and an aluminum ion concentration of 0.5 mass% with a spray tube at a temperature of 50C. Then, water washing by spraying was performed. The amount of aluminum dissolved was 0.1 g / m 2 .

(i)酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。具体的には、陽極酸化処理工程で発生した廃液(硫酸170g/L水溶液中にアルミニウムイオン5g/Lを溶解)を用い、液温35℃で4秒間デスマット処理を行った。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
(I) Desmutting treatment in acidic aqueous solution Next, desmutting treatment was performed in an aqueous sulfuric acid solution. Specifically, desmutting treatment was performed for 4 seconds at a liquid temperature of 35 ° C. using the waste liquid generated in the anodizing treatment step (dissolving 5 g / L of aluminum ions in a 170 g / L aqueous solution of sulfuric acid). The desmutting liquid was sprayed and sprayed for 3 seconds.

(j)陽極酸化処理
二段給電電解処理法の陽極酸化装置(第一及び第二電解部長各6m、第一及び第二給電部長各3m、第一及び第二給電極部長各2.4m)を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度50g/L(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、温度20℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(J) Anodizing treatment Anodizing device of two-stage feeding electrolytic treatment method (first and second electrolytic section length 6 m each, first and second feeding section length 3 m each, first and second feeding electrode section length 2.4 m each) Anodizing was performed using this. Sulfuric acid was used as the electrolytic solution supplied to the first and second electrolysis units. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 50 g / L (containing 0.5 mass% of aluminum ions) and a temperature of 20 ° C. Then, water washing by spraying was performed.

(k)シリケート処理
非画像部の親水性を確保するため、2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて50℃で7秒間ディップしてシリケート処理を施した。Siの付着量は10mg/mであった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(K) Silicate treatment In order to ensure the hydrophilicity of the non-image area, a silicate treatment was performed by dipping at 50 ° C. for 7 seconds using a 2.5 mass% No. 3 sodium silicate aqueous solution. The adhesion amount of Si was 10 mg / m 2 . Then, water washing by spraying was performed.

<下塗層の形成>
上述の様に作製された支持体上に、以下に示す下塗り層塗布液1を塗布した後、80℃で15秒間乾燥し、下塗層を設けた支持体Aを作製した。乾燥後の被覆量は、15mg/mであった。
<Formation of undercoat layer>
The undercoat layer coating solution 1 shown below was applied onto the support produced as described above, and then dried at 80 ° C. for 15 seconds to produce a support A provided with an undercoat layer. The coating amount after drying was 15 mg / m 2 .

−下塗層塗布液1−
・重量平均分子量2.8万の下記共重合体:0.3部
・メタノール:100部
・水:1部
-Undercoat layer coating solution 1-
-The following copolymer having a weight average molecular weight of 28,000: 0.3 parts-Methanol: 100 parts-Water: 1 part

Figure 2016156968
Figure 2016156968

上記式中、Etはエチル基を表す。   In the above formula, Et represents an ethyl group.

<画像記録層の形成>
上記のように得られた下塗層を設けた支持体Aに、下記組成の下層形成用塗布液組成物(I)を、ワイヤーバーで塗布したのち、150℃の乾燥オーブンで40秒間乾燥して表2に記載の塗布量となるようにし、下層を設けた。下層を設けた後、下記組成の上層形成用塗布液組成物(II)をワイヤーバーで塗布し、150℃、40秒間の乾燥を行い0.2g/mの塗布量となるようにし、上層を設けることで、平版印刷版原版を得た。
<Formation of image recording layer>
After coating the lower layer forming coating liquid composition (I) having the following composition on the support A provided with the undercoat layer obtained as described above with a wire bar, it is dried in a drying oven at 150 ° C. for 40 seconds. The coating amount was as shown in Table 2, and a lower layer was provided. After providing the lower layer, the upper layer forming coating liquid composition (II) having the following composition was applied with a wire bar, dried at 150 ° C. for 40 seconds to obtain a coating amount of 0.2 g / m 2 , and the upper layer. A lithographic printing plate precursor was obtained.

−下層形成用塗布液組成物(I)−
・表2に記載のポリマー:3.5部
・表2に記載のブロック化イソシアネート基を有する化合物:表2に記載の添加量
・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量6,000):表2に記載の添加量
・赤外線吸収剤(IR色素(1):下記構造):0.2部
・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン:0.3部
・テトラヒドロフタル酸:0.4部
・p−トルエンスルホン酸:0.02部
・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミンヘキサフルオロホスフェート:0.06部
・エチルバイオレットの対イオンを6−ヒドロキシナフタレンスルホン酸に変えたもの:0.15部
・フッ素系界面活性剤(メガファックF−780、DIC(株)製):0.07部
・メチルエチルケトン:30部
・1−メトキシ−2−プロパノール:15部
・N,N−ジメチルアセトアミド:15部
-Coating liquid composition (I) for lower layer formation-
-Polymers listed in Table 2: 3.5 parts-Compounds having blocked isocyanate groups listed in Table 2: Addition amounts listed in Table 2-m, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, Weight average molecular weight 6,000): Addition amount described in Table 2 Infrared absorber (IR dye (1): structure shown below): 0.2 part 4,4′-bishydroxyphenylsulfone: 0.3 part Tetrahydrophthalic acid: 0.4 parts p-Toluenesulfonic acid: 0.02 parts 3-methoxy-4-diazodiphenylamine hexafluorophosphate: 0.06 parts Ethyl violet counter ion to 6-hydroxynaphthalenesulfonic acid Changed: 0.15 part Fluorosurfactant (Megafac F-780, manufactured by DIC Corporation): 0.07 part Methyl ethyl ketone: 30 parts 1-methoxy 2-propanol: 15 parts · N, N-dimethylacetamide: 15 parts

Figure 2016156968
Figure 2016156968

−上層形成用塗布液組成物(II)−
・ノボラック樹脂(m−クレゾール/p−クレゾール/フェノール=3/2/5(モル比)、Mw8,000):0.68部
・赤外線吸収剤(IR色素(1):上記構造):0.045部
・フッ素系界面活性剤(メガファックF−780、DIC(株)製):0.03部
・メチルエチルケトン:15.0部
・1−メトキシ−2−プロパノール:30.0部
・1−(4−メチルベンジル)−1−フェニルピペリジニウムの5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ−2−メトキシベンゼンスルホン酸塩:0.01部
-Upper layer forming coating composition (II)-
Novolac resin (m-cresol / p-cresol / phenol = 3/2/5 (molar ratio), Mw 8,000): 0.68 part Infrared absorber (IR dye (1): the above structure): 0. 045 parts-Fluorosurfactant (Megafac F-780, manufactured by DIC Corporation): 0.03 parts-Methyl ethyl ketone: 15.0 parts-1-methoxy-2-propanol: 30.0 parts-1- ( 4-Methylbenzyl) -1-phenylpiperidinium 5-benzoyl-4-hydroxy-2-methoxybenzenesulfonate: 0.01 parts

<画像形成性の評価>
作製した上記各平版印刷版原版を、富士フイルム(株)製現像液XP−D(希釈して、電導度を43mS/cmとしたもの、pH13.1、30℃)を入れた容器に2秒ごとに時間を変えて浸漬し、その後水洗し、記録層が完全に溶解するのに要した最低時間を求めた。
次いで、Creo社製Trendsetterにてビーム強度15W、ドラム回転速度150rpmで全面露光し、上記と同様にして記録層の溶解に要する時間を求めた。未露光での溶解時間をaとし、露光後の溶解時間をbとしたとき、a/bの値を求め、画像形成性評価の基準とした。得られた値が大きいほど、露光時の溶解促進効果が大きく、溶解ディスクリミネーションに優れ、画像形成性にも優れると評価する。
結果を表2に示す。
<Evaluation of image formability>
Each of the prepared lithographic printing plate precursors was placed in a container containing a developer XP-D manufactured by Fuji Film Co., Ltd. (diluted to a conductivity of 43 mS / cm, pH 13.1, 30 ° C.) for 2 seconds. Each time, the time was changed and immersed, and then washed with water, and the minimum time required for the recording layer to completely dissolve was determined.
Next, the entire surface was exposed with a Trend setter manufactured by Creo at a beam intensity of 15 W and a drum rotation speed of 150 rpm, and the time required for dissolving the recording layer was determined in the same manner as described above. When the dissolution time in unexposed was a, and the dissolution time after exposure was b, the value of a / b was determined and used as a reference for image forming property evaluation. It is evaluated that the larger the obtained value, the greater the effect of promoting dissolution during exposure, the better dissolution discrimination, and the better the image formability.
The results are shown in Table 2.

<耐刷性の評価>
−露光及び現像−
上記のようにして得られた各ポジ型平版印刷版原版を、Creo社製Trendsetterにて、ビーム強度9W、ドラム回転速度150rpmで、テストパターンを画像状に描き込みを行った。その後、富士フイルム(株)製現像液XP−D(希釈して、電導度43mS/cmとしたもの、pH13.1)を仕込んだ富士フイルム(株)製PSプロセッサーLP940Hを用い、現像温度30℃、現像時間12秒で現像を行った。
<Evaluation of printing durability>
-Exposure and development-
Each positive type lithographic printing plate precursor obtained as described above was used to draw a test pattern in an image with a Trendsetter manufactured by Creo at a beam intensity of 9 W and a drum rotation speed of 150 rpm. Thereafter, a developing solution XP-D (manufactured by Fuji Film Co., Ltd., diluted to a conductivity of 43 mS / cm, pH 13.1) was used, and a developing temperature 30 ° C. using a PS processor LP940H manufactured by Fuji Film Co., Ltd. The development was performed with a development time of 12 seconds.

<加熱処理(バーニング処理)>
実施例1〜21及び比較例1〜3について、現像後の平版印刷版の一部に対して、以下のベーキングガム溶液を用いて、加熱処理を235℃で5分間行った。
<Heat treatment (burning treatment)>
About Examples 1-21 and Comparative Examples 1-3, it heat-processed for 5 minutes at 235 degreeC using the following baking gum solutions with respect to a part of lithographic printing plate after image development.

−ベーキングガム溶液−
ベーキングガム溶液としては、富士フイルム(株)製バ−ニング整面液BC−7を使用した。
-Baking gum solution-
As the baking gum solution, a burning surface-conditioning solution BC-7 manufactured by Fuji Film Co., Ltd. was used.

以上のようにして、実施例1〜21及び比較例1〜3の平版印刷版(それぞれのバーニング処理有無)を得た。   As described above, lithographic printing plates of Examples 1 to 21 and Comparative Examples 1 to 3 (the presence or absence of each burning treatment) were obtained.

<印刷>
得られた平版印刷版(バーニング前後)を、小森コーポレーション(株)製印刷機リスロンを用いて連続して印刷した。インキとしては、低品位資材のモデルとして、炭酸カルシウムを含有させた東洋特練墨インキを使用した。この際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷できるかを目視にて測定し、耐刷性を評価した。枚数が多いほど耐刷性に優れるものと評価する。結果を表2に示す。
また、PSプロセッサーLP940Hの代わりに富士フイルム(株)製PSプロセッサーXP−940Rを用い、電導度を管理しながら現像を行った以外は、上記と同じ条件で耐刷性を評価したところ、全ての実施例及び比較例において、PSプロセッサーLP940Hを使用した場合と結果は変わらなかった。
<Printing>
The obtained lithographic printing plate (before and after burning) was continuously printed using a printing machine Lithlon manufactured by Komori Corporation. As the ink, Toyo Ink ink containing calcium carbonate was used as a model for low-grade materials. At this time, the number of sheets that can be printed while maintaining a sufficient ink density was measured visually to evaluate the printing durability. The larger the number, the better the printing durability. The results are shown in Table 2.
In addition, when printing performance was evaluated under the same conditions as described above except that development was performed while controlling conductivity using a PS processor XP-940R manufactured by FUJIFILM Corporation instead of the PS processor LP940H, In the examples and comparative examples, the results were the same as when the PS processor LP940H was used.

<耐薬品性の評価>
上記耐刷性の評価と同様にして印刷を行った。この際、5,000枚印刷する毎に、クリーナー(富士フイルム(株)製、MC−E)を含ませたPSスポンジで版面を5往復拭く工程を加え、耐薬品性を評価した。この時の耐刷性が、上述の耐刷枚数の95〜100%であるものを4、80%以上95%未満であるものを3、60%以上80%未満であるものを2、60%未満を1とした。クリーナーで版面を拭く工程を加えた場合であっても、耐刷枚数に変化が小さいほど耐薬品性に優れるものと評価する。結果を以下の表2に示す。
<Evaluation of chemical resistance>
Printing was performed in the same manner as in the evaluation of printing durability. At this time, every time 5,000 sheets were printed, a process of wiping the plate surface 5 times with a PS sponge containing a cleaner (manufactured by Fuji Film Co., Ltd., MC-E) was added to evaluate chemical resistance. In this case, the printing durability is 4, from 100% to less than 95%, 3, from 60% to less than 80%, and from 2, 60% to 80%. Less than 1 was assigned. Even when the process of wiping the printing plate with a cleaner is added, the smaller the change in the number of printing sheets, the better the chemical resistance. The results are shown in Table 2 below.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

表2、並びに、後述する表3及び表4に記載の「ポリマー比質量部」は、PU−1等のポリマーの添加量100質量部に対する各該当成分の添加量を表す。
表2に記載の上述した以外の成分の詳細を以下に示す。
CP−1:下記メタクリル酸−メタクリル酸メチル共重合体(モル比15:85)、Mw:41,000
B−1:デスモジュールBL4265SN(住化バイエルウレタン(株)製、上記式C−3で表される化合物に該当する。)
B−2:デュラネート17B−60P(旭化成ケミカルズ(株)製、上記式C−4で表される化合物に該当する。)
B−3:デュラネートTPA−B80E(旭化成ケミカルズ(株)製、上記式C−3で表される化合物に該当する。)
B−4:デスモジュールBL3575/1 MPA/SN(住化バイエルウレタン(株)製、上記式C−3で表される化合物に該当する。)
B−5:デスモジュールBL3272 MPA(住化バイエルウレタン(株)製、上記式C−3で表される化合物に該当する。)
“Polymer specific mass parts” described in Table 2 and Table 3 and Table 4 described below represent the amount of each corresponding component added to 100 parts by mass of the polymer such as PU-1.
Details of components other than those described in Table 2 are shown below.
CP-1: The following methacrylic acid-methyl methacrylate copolymer (molar ratio 15:85), Mw: 41,000
B-1: Desmodur BL4265SN (manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd., corresponding to the compound represented by the above formula C-3)
B-2: Duranate 17B-60P (Asahi Kasei Chemicals Corporation, corresponding to the compound represented by the above formula C-4)
B-3: Duranate TPA-B80E (Asahi Kasei Chemicals Corporation, corresponding to the compound represented by the formula C-3)
B-4: Desmodur BL3575 / 1 MPA / SN (manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd., corresponding to the compound represented by the above formula C-3)
B-5: Desmodur BL3272 MPA (manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd., corresponding to the compound represented by the above formula C-3)

Figure 2016156968
Figure 2016156968

表2の結果から明らかなように、ブロック化イソシアネート基を有する化合物を含む本発明の平版印刷版原版を用いた場合、バーニング処理後の耐刷性、耐薬品性が向上していることが分かる。また、フェノール樹脂を含むことで、バーニング後の耐刷性・画像形成性が向上することも分かる。一方で、ブロック化イソシアネート基を有する化合物を過剰に添加した場合、バーニング後の耐刷性は向上するが、画像形成性劣化の懸念があることがわかる。   As is apparent from the results in Table 2, it can be seen that when the planographic printing plate precursor of the present invention containing a compound having a blocked isocyanate group is used, the printing durability and chemical resistance after the burning treatment are improved. . It can also be seen that the inclusion of the phenolic resin improves the printing durability and image forming property after burning. On the other hand, when the compound having a blocked isocyanate group is added excessively, the printing durability after burning is improved, but it is understood that there is a concern about deterioration of image formability.

(実施例22、及び、比較例4)
<支持体の作製>
実施例1と同様にして、支持体を作製した。
(Example 22 and Comparative Example 4)
<Production of support>
A support was prepared in the same manner as in Example 1.

<下塗層の形成>
上述のように作製された支持体上に、以下に示す下塗層塗布液2を塗布した後、80℃で15秒間乾燥し、下塗層を設けて支持体Bとした。乾燥後の被覆量は、15mg/mであった。
<Formation of undercoat layer>
On the support prepared as described above, the undercoat layer coating solution 2 shown below was applied, followed by drying at 80 ° C. for 15 seconds to provide an undercoat layer to obtain a support B. The coating amount after drying was 15 mg / m 2 .

−下塗層塗布液2−
・β−アラニン:0.5部
・メタノール:95部
・水:5部
-Undercoat layer coating solution 2-
・ Β-Alanine: 0.5 part ・ Methanol: 95 parts ・ Water: 5 parts

<画像記録層の形成>
得られた支持体Bに、下記組成の下層形成用塗布液組成物(V)を、塗布量が1.5g/mとなるようワイヤーバーで塗布したのち、160℃の乾燥オーブンで40秒間乾燥し、直ちに17〜20℃の冷風で支持体の温度が35℃になるまで冷却し、下層を設けた。下層を設けた後、下記組成の上層形成用塗布液組成物(VI)を塗布量が0.5g/mになるようワイヤーバーで塗布したのち、130℃で40秒間乾燥し、更に20〜26℃の風で徐冷し、上層を設け、平版印刷版原版を得た。
<Formation of image recording layer>
After applying the lower layer forming coating liquid composition (V) having the following composition to the obtained support B with a wire bar so that the coating amount becomes 1.5 g / m 2 , the coating is performed in a 160 ° C. drying oven for 40 seconds. It dried and immediately cooled with the cold air of 17-20 degreeC until the temperature of the support body became 35 degreeC, and provided the lower layer. After providing the lower layer, the upper layer forming coating liquid composition (VI) having the following composition was coated with a wire bar so that the coating amount was 0.5 g / m 2 , dried at 130 ° C. for 40 seconds, and further 20 to 20 Slow cooling was performed with 26 ° C. wind, and an upper layer was provided to obtain a lithographic printing plate precursor.

−下層形成用塗布液組成物(V)−
・N−フェニルマレイミド/メタクリル酸/メタクリルアミド共重合体(モル比:59/15/26、分子量:50,000):0.8部
・赤外線吸収剤(IR色素(1):上記構造):0.017部
・クリスタルヴァイオレット(保土ヶ谷化学(株)製):0.017部
・メガファックF−177(DIC(株)製、フッ素系界面活性剤):0.015部
・N,N−ジメチルアセトアミド:10部
・メチルエチルケトン:10部
・1−メトキシ−2−プロパノール:8部
-Coating liquid composition for lower layer formation (V)-
N-phenylmaleimide / methacrylic acid / methacrylamide copolymer (molar ratio: 59/15/26, molecular weight: 50,000): 0.8 part Infrared absorber (IR dye (1): the above structure): 0.017 part ・ Crystal violet (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.): 0.017 part ・ Megafac F-177 (manufactured by DIC Corporation, fluorosurfactant): 0.015 part ・ N, N-dimethyl Acetamide: 10 parts Methyl ethyl ketone: 10 parts 1-methoxy-2-propanol: 8 parts

−上層形成用塗布液組成物(VI)−
・ポリウレタン(PT−2):10部
・ブロック化イソシアネート基を有する化合物(A−1):表3に記載の量
・エチルバイオレット:0.03部
・メガファックF−177(DIC(株)製、フッ素系界面活性剤):0.05部
・3−ペンタノン:60部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル−2−アセテート:8部
-Upper layer forming coating solution composition (VI)-
-Polyurethane (PT-2): 10 parts-Compound having blocked isocyanate group (A-1): Amount described in Table 3-Ethyl violet: 0.03 parts-MegaFac F-177 (manufactured by DIC Corporation) , Fluorosurfactant): 0.05 parts-3-pentanone: 60 parts-Propylene glycol monomethyl ether-2-acetate: 8 parts

得られた平版印刷版原版に対して、現像処理にKodak社製現像液Goldstar Premium Plate Developer(pH13.0)を仕込んだ富士フイルム(株)製PSプロセッサー FLH 85Pを用い、液温を23℃に保ち、現像時間を40秒とした以外は実施例1と同様の条件で評価を行った。評価結果を表3に示す。   The resulting lithographic printing plate precursor was developed using a Fuji processor PS processor FLH 85P charged with Kodak developer Goldstar Premium Plate Developer (pH 13.0) for development, and the liquid temperature was set to 23 ° C. The evaluation was performed under the same conditions as in Example 1 except that the development time was 40 seconds. The evaluation results are shown in Table 3.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

表3から明らかなように、ブロック化イソシアネート基を有する化合物を含むことでバーニング後の耐刷性、耐薬品性が向上していることがわかる。   As is apparent from Table 3, it can be seen that the printing durability and chemical resistance after burning are improved by including a compound having a blocked isocyanate group.

(実施例23、及び、比較例5)
<支持体の作製>
実施例1と同様にして、支持体を作製した。
(Example 23 and Comparative Example 5)
<Production of support>
A support was prepared in the same manner as in Example 1.

<下塗層の形成>
実施例1、下塗層を有する支持体Aを作製した。
<Formation of undercoat layer>
Example 1, Support A having an undercoat layer was produced.

<画像記録層の形成>
得られた支持体Aに、下記組成の塗布液組成物(IX)を、ワイヤーバーで塗布したのち、140℃の乾燥オーブンで50秒間乾燥して表4に記載の塗布量となる平版印刷版原版を得た。
<Formation of image recording layer>
A coating liquid composition (IX) having the following composition is coated on the obtained support A with a wire bar, and then dried in a drying oven at 140 ° C. for 50 seconds to obtain a coating amount described in Table 4. I got the original version.

−塗布液組成物(IX)−
・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量5,000):0.474部
・特定高分子化合物(PU−1):2.37部
・ブロック化イソシアネート基を有する化合物:表4に記載の量
・赤外線吸収剤(上記IR色素(1)):0.155部
・2−メトキシ−4−(N−フェニルアミノ)ベンゼンジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート:0.03部
・テトラヒドロ無水フタル酸:0.19部
・エチルバイオレット対イオンを6−ヒドロキシ−β−ナフタレンスルホン酸にしたもの:0.11部
・フッ素系界面活性剤(メガファックF−780、DIC(株)製):0.07部
・p−トルエンスルホン酸:0.008部
・ビス−p−ヒドロキシフェニルスルホン:0.13部
・3,3’−チオジプロピオン酸ジミリスチル:0.04部
・ラウリルステアレート:0.02部
・N,N−ジメチルアセトアミド:13部
・メチルエチルケトン:24部
・1−メトキシ−2−プロパノール:11部
-Coating liquid composition (IX)-
M, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 5,000): 0.474 parts Specific polymer compound (PU-1): 2.37 parts Blocked isocyanate group Compounds: Amounts listed in Table 4 Infrared absorber (IR dye (1) above): 0.155 parts 2-methoxy-4- (N-phenylamino) benzenediazonium hexafluorophosphate: 0.03 parts -Tetrahydrophthalic anhydride: 0.19 parts-Ethyl violet counter ion in the form of 6-hydroxy-β-naphthalenesulfonic acid: 0.11 parts-Fluorosurfactant (Megafac F-780, DIC Corporation) Manufactured): 0.07 part p-Toluenesulfonic acid: 0.008 part Bis-p-hydroxyphenylsulfone: 0.13 part 3,3'-thiodipropion Dimyristyl acid: 0.04 part ・ Lauryl stearate: 0.02 part ・ N, N-dimethylacetamide: 13 parts ・ Methyl ethyl ketone: 24 parts ・ 1-methoxy-2-propanol: 11 parts

得られた平版印刷版原版に対して、現像処理に富士フイルム(株)製現像液LH−DS(pH13.5)を用いた以外は実施例1と同様の条件で評価を行った。評価結果を下記表4に示す。   The obtained lithographic printing plate precursor was evaluated under the same conditions as in Example 1 except that the developer LH-DS (pH 13.5) manufactured by Fuji Film Co., Ltd. was used for the development treatment. The evaluation results are shown in Table 4 below.

Figure 2016156968
Figure 2016156968

表4から明らかなように、ブロック化イソシアネート基を有する化合物を含むことでバーニング後の耐刷性、耐薬品性が向上していることがわかる。   As is apparent from Table 4, it can be seen that the printing durability and chemical resistance after burning are improved by including a compound having a blocked isocyanate group.

Claims (22)

成分Aとして、主鎖にウレア結合及び/又はウレタン結合を有するポリマー、
成分Bとして、赤外線吸収材料、並びに、
成分Cとして、ブロック化イソシアネート基を有する化合物、
を含む画像記録層を、支持体上に有することを特徴とする
ポジ型平版印刷版原版。
As component A, a polymer having a urea bond and / or a urethane bond in the main chain,
As component B, an infrared absorbing material, and
As component C, a compound having a blocked isocyanate group,
A positive lithographic printing plate precursor comprising: an image recording layer comprising: on a support.
前記ブロック化イソシアネート基が、下記式C−1で表される基である、請求項1に記載のポジ型平版印刷版原版。
Figure 2016156968
式C−1中、Zは一価の有機基を表す。
The positive lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the blocked isocyanate group is a group represented by the following formula C-1.
Figure 2016156968
In formula C-1, Z represents a monovalent organic group.
成分Aが、主鎖にウレア結合を有するポリマーである、請求項1又は2に記載のポジ型平版印刷版原版。   The positive planographic printing plate precursor according to claim 1 or 2, wherein Component A is a polymer having a urea bond in the main chain. 成分Cが、ブロック化イソシアネート基を有するポリマーである、請求項1〜3のいずれか1項に記載のポジ型平版印刷版原版。   The positive planographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 3, wherein Component C is a polymer having a blocked isocyanate group. 前記ブロック化イソシアネート基を有するポリマーが、下記式C−2で表される構成単位を有する、請求項4に記載のポジ型平版印刷版原版。
Figure 2016156968
式C−2中、RC1は水素原子又はメチル基を表し、X及びYはそれぞれ独立に、二価の連結基又は単結合を表し、Zは一価の有機基を表す。
The positive-type planographic printing plate precursor according to claim 4, wherein the polymer having a blocked isocyanate group has a structural unit represented by the following formula C-2.
Figure 2016156968
In Formula C-2, R C1 represents a hydrogen atom or a methyl group, X and Y each independently represent a divalent linking group or a single bond, and Z represents a monovalent organic group.
前記Xが、アリーレン基又は−C(=O)−である、請求項5に記載のポジ型平版印刷版原版。   The positive lithographic printing plate precursor according to claim 5, wherein X is an arylene group or —C (═O) —. 前記Xが、−C(=O)−である、請求項6に記載のポジ型平版印刷版原版。   The positive planographic printing plate precursor according to claim 6, wherein X is -C (= O)-. 前記ブロック化イソシアネート基を有するポリマーが、酸性基を更に有する、請求項4〜7のいずれか1項に記載のポジ型平版印刷版原版。   The positive-type planographic printing plate precursor according to any one of claims 4 to 7, wherein the polymer having a blocked isocyanate group further has an acidic group. 前記酸性基が、フェノール性水酸基、スルホンアミド基及びカルボン酸基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基である、請求項8に記載のポジ型平版印刷版原版。   The positive-type planographic printing plate precursor according to claim 8, wherein the acidic group is at least one group selected from the group consisting of a phenolic hydroxyl group, a sulfonamide group, and a carboxylic acid group. 前記Zが、フェノール性水酸基を有する化合物、オキシム化合物、ピラゾール構造を有する化合物、ラクタム化合物、及び、脂肪族アルコール化合物よりなる群から選ばれた化合物から活性水素を1つ除いた基である、請求項2又は5に記載のポジ型平版印刷版原版。   Z is a group obtained by removing one active hydrogen from a compound selected from the group consisting of a compound having a phenolic hydroxyl group, an oxime compound, a compound having a pyrazole structure, a lactam compound, and an aliphatic alcohol compound, Item 6. The positive planographic printing plate precursor according to Item 2 or 5. 成分Cが、ブロック化イソシアネート基を有する分子量1,000未満の化合物である、請求項1〜3のいずれか1項に記載のポジ型平版印刷版原版。   The positive planographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 3, wherein Component C is a compound having a blocked isocyanate group and a molecular weight of less than 1,000. 成分Cが、3つ以上のブロック化イソシアネート基を有する分子量1,000未満の化合物である、請求項11に記載のポジ型平版印刷版原版。   The positive-type planographic printing plate precursor according to claim 11, wherein Component C is a compound having a molecular weight of less than 1,000 and having three or more blocked isocyanate groups. 成分Cの含有量が、成分Aの含有量100質量部に対して、1〜30質量部である、請求項1〜12のいずれか1項に記載のポジ型平版印刷版原版。   The positive-type planographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 12, wherein the content of Component C is 1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of Component A. 前記画像記録層が、成分Dとして、フェノール樹脂を更に含む、請求項1〜13のいずれか1項に記載のポジ型平版印刷版原版。   The positive planographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 13, wherein the image recording layer further contains a phenol resin as component D. 成分Aが、酸性基を更に有する、請求項1〜14のいずれか1項に記載のポジ型平版印刷版原版。   The positive type lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 14, wherein Component A further has an acidic group. 成分Aにおける前記酸性基が、主鎖に直接結合した酸性基である、請求項15に記載のポジ型平版印刷版原版。   The positive planographic printing plate precursor according to claim 15, wherein the acidic group in component A is an acidic group directly bonded to the main chain. 成分Aにおける前記酸性基が、フェノール性水酸基、スルホンアミド基及びカルボン酸基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基である、請求項15又は16に記載のポジ型平版印刷版原版。   The positive planographic printing plate precursor according to claim 15 or 16, wherein the acidic group in Component A is at least one group selected from the group consisting of a phenolic hydroxyl group, a sulfonamide group, and a carboxylic acid group. 成分Aにおける前記酸性基が、フェノール性水酸基である、請求項17に記載のポジ型平版印刷版原版。   The positive planographic printing plate precursor according to claim 17, wherein the acidic group in Component A is a phenolic hydroxyl group. 画像記録層が、下層と上層とで構成され、
成分A〜成分Cを含む前記画像記録層が、少なくとも前記下層及び前記上層のいずれかである、請求項1〜18のいずれか1項に記載のポジ型平版印刷版原版。
The image recording layer is composed of a lower layer and an upper layer,
The positive planographic printing plate precursor according to any one of Claims 1 to 18, wherein the image recording layer containing Component A to Component C is at least one of the lower layer and the upper layer.
成分A〜成分Cを含む前記画像記録層が、少なくとも前記下層である、請求項19に記載のポジ型平版印刷版原版。   The positive planographic printing plate precursor according to claim 19, wherein the image recording layer containing Component A to Component C is at least the lower layer. 請求項1〜20のいずれか1項に記載のポジ型平版印刷版原版を画像露光する露光工程、及び、
pH8.5〜13.5のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程、
をこの順で含むことを特徴とする、平版印刷版の作製方法。
An exposure step for image-exposing the positive planographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 20, and
a development step of developing using an alkaline aqueous solution of pH 8.5 to 13.5,
Are prepared in this order, and a method for preparing a lithographic printing plate.
前記現像工程の後に、加熱処理を行う加熱工程を更に含む、請求項21に記載の平版印刷版の作製方法。   The method of preparing a lithographic printing plate according to claim 21, further comprising a heating step of performing a heat treatment after the developing step.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018150687A1 (en) * 2017-02-17 2018-08-23 富士フイルム株式会社 Positive lithographic printing original plate and method for producing lithographic printing plate
WO2020137144A1 (en) * 2018-12-27 2020-07-02 富士フイルム株式会社 Photosensitive transfer material, laminate, touch panel, method for producing patterned substrate, method for producing circuit board, and method for producing touch panel

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018150687A1 (en) * 2017-02-17 2018-08-23 富士フイルム株式会社 Positive lithographic printing original plate and method for producing lithographic printing plate
CN110178082A (en) * 2017-02-17 2019-08-27 富士胶片株式会社 The production method of eurymeric original edition of lithographic printing plate and lithographic printing plate
WO2020137144A1 (en) * 2018-12-27 2020-07-02 富士フイルム株式会社 Photosensitive transfer material, laminate, touch panel, method for producing patterned substrate, method for producing circuit board, and method for producing touch panel
JPWO2020137144A1 (en) * 2018-12-27 2021-10-21 富士フイルム株式会社 Photosensitive transfer material, laminate, touch panel, patterned substrate manufacturing method, circuit board manufacturing method, and touch panel manufacturing method

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