JP2016155328A - Transparent conductive film - Google Patents

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和成 安村
Kazunari Yasumura
和成 安村
隆司 大西
Takashi Onishi
隆司 大西
佳之 塩谷
Yoshiyuki Shiotani
佳之 塩谷
洋平 今泉
Yohei IMAIZUMI
洋平 今泉
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent conductive film having acrylic resin used as a base film, the transparent conductive film having excellent heat resistance and suppressing the occurrence of interference unevenness.SOLUTION: A transparent conductive film has a primer layer, a hard coat layer, and a transparent conductive layer put on at least one side of a base film in the stated order, where the base film comprises acrylic resin having a ring structure in a main chain, and having a glass transition temperature of 140°C or more.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、透明導電性フィルムに関するものである。   The present invention relates to a transparent conductive film.

近年、画像表示素子として液晶表示素子が注目され、液晶表示素子の上に透明なタッチパネルを搭載した入力装置が情報端末等に用いられている。タッチパネルにおいては、透明な基材フィルム上に透明導電層が設けられた透明導電性フィルムが一般に用いられており、透明導電層は、インジウムとスズの複合酸化物(以下、「ITO」と称する場合がある)等の金属酸化物を用いて、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法等の加工処理を行うことによって、基材フィルム上に透明導電層が形成される。   In recent years, a liquid crystal display element has attracted attention as an image display element, and an input device in which a transparent touch panel is mounted on the liquid crystal display element is used for an information terminal or the like. In a touch panel, a transparent conductive film in which a transparent conductive layer is provided on a transparent base film is generally used, and the transparent conductive layer is a composite oxide of indium and tin (hereinafter referred to as “ITO”). A transparent conductive layer is formed on the base film by performing processing such as sputtering, ion plating, and vacuum deposition using a metal oxide.

透明基材を構成する基材フィルムとしては、透明性の高さや価格などの点から、例えば、PETフィルム、ポリカーボネートフィルム等のフィルムが用いられており、近年では、基材フィルムに、透明性に加え屈性率の低いフィルム材料として、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のアクリル系樹脂が注目されている。アクリル系樹脂は、光線透過率等の光学特性に優れるとともに、機械的強度、成形加工性および表面硬度のバランスに優れている点で、透明導電性フィルムの基材フィルムとして適したものとなる。その一方で、アクリル系樹脂は耐熱性が低いため、スパッタリング等によって導電性膜(透明導電層)を形成して透明導電性フィルムを得ることが難しいといった問題があった。そこで、耐熱性に優れ、スパッタリング等によって導電性膜を形成可能なアクリル系樹脂として、特許文献1には、主鎖にラクトン環等の環構造を有し、ガラス転移温度が120℃以上のアクリル系樹脂が開示され、当該アクリル系樹脂から形成された基材フィルムの少なくとも片面に透明導電層が設けられた透明導電性フィルムが開示されている。   As the base film constituting the transparent base material, for example, a film such as a PET film or a polycarbonate film is used from the viewpoint of high transparency and price. In recent years, the base film is made transparent. In addition, an acrylic resin such as polymethyl methacrylate (PMMA) has attracted attention as a film material having a low refractive index. The acrylic resin is suitable as a base film for a transparent conductive film because it is excellent in optical properties such as light transmittance and has a good balance of mechanical strength, molding processability and surface hardness. On the other hand, since acrylic resins have low heat resistance, there is a problem that it is difficult to obtain a transparent conductive film by forming a conductive film (transparent conductive layer) by sputtering or the like. Therefore, as an acrylic resin having excellent heat resistance and capable of forming a conductive film by sputtering or the like, Patent Document 1 discloses an acrylic resin having a ring structure such as a lactone ring in the main chain and having a glass transition temperature of 120 ° C. or higher. A transparent resin in which a transparent conductive layer is provided on at least one surface of a base film formed from the acrylic resin is disclosed.

特開2008−179677号公報JP 2008-179677 A

特許文献1に開示される透明導電性フィルムは、透明導電層と基材フィルムとの間の密着性がある程度確保され、一定の耐久性を有するものの、タッチパネルの品質に対する要求はますます高まっており、透明導電性フィルムに対してもさらなる耐熱性や耐久性が求められている。一方、透明導電性フィルムにおいては、耐擦傷性や耐久性等を向上させることを目的として、基材フィルム上に透明ハードコート層が設けられる場合があり、この場合、当該ハードコート層の上に透明導電層が設けられることとなる。しかしながら、アクリル系樹脂から形成された基材フィルムの上にハードコート層を設け、さらにその上にITO等からなる透明導電層を設けたところ、干渉ムラ(虹色干渉)が観察されるという問題が起こることが分かった。   Although the transparent conductive film disclosed in Patent Document 1 has a certain degree of adhesion between the transparent conductive layer and the base film and has a certain durability, there is an increasing demand for the quality of the touch panel. Further, further heat resistance and durability are required for transparent conductive films. On the other hand, in the transparent conductive film, a transparent hard coat layer may be provided on the base film for the purpose of improving scratch resistance, durability, etc. In this case, on the hard coat layer, A transparent conductive layer will be provided. However, when a hard coat layer is provided on a base film formed from an acrylic resin and a transparent conductive layer made of ITO or the like is further provided thereon, interference unevenness (rainbow interference) is observed. It turns out that happens.

本発明は、前記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、アクリル系樹脂を基材フィルムとして用いた透明導電性フィルムであって、耐熱性に優れ、干渉ムラの発生が抑えられた透明導電性フィルムを提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and the object thereof is a transparent conductive film using an acrylic resin as a base film, which has excellent heat resistance and suppresses occurrence of interference unevenness. The object is to provide a transparent conductive film.

アクリル系樹脂から形成された基材フィルムの上にハードコート層と透明導電層を積層した場合に干渉ムラ(虹色干渉)が発生する原因について、本発明者らが検討したところ、透明導電層をハードコート層上に形成して例えばITO層を結晶化させた際に、基材フィルムとハードコート層の間にわずかな界面のずれが生じ、界面での光の反射等により干渉ムラが発生することが分かった。そして、干渉ムラの発生を抑えるためには、基材フィルムとハードコート層の間にプライマー層を設けることが有効であることが明らかになった。   The present inventors have investigated the cause of interference unevenness (rainbow interference) when a hard coat layer and a transparent conductive layer are laminated on a base film formed from an acrylic resin. For example, when the ITO layer is crystallized on the hard coat layer, a slight interface shift occurs between the base film and the hard coat layer, and interference unevenness occurs due to light reflection at the interface. I found out that And it became clear that it is effective to provide a primer layer between the base film and the hard coat layer in order to suppress the occurrence of uneven interference.

すなわち、本発明の透明導電性フィルムとは、基材フィルムの少なくとも片面に、プライマー層、ハードコート層、透明導電層がこの順に積層された透明導電性フィルムであって、基材フィルムが、主鎖に環構造を有し、ガラス転移温度が140℃以上であるアクリル系樹脂を含有するところに特徴を有するものである。本発明の透明導電性フィルムは、透明導電層が形成されたハードコート層と基材フィルムの間にプライマー層が設けられているため、基材フィルムとハードコート層の間で界面のずれが生じても、プライマー層によって基材フィルムとハードコート層の間にわずかな隙間が生じるのが抑えられ、干渉ムラの発生を防ぐことができる。また、基材フィルムを構成するアクリル系樹脂が高い耐熱性を有するため、スパッタリング等によって導電性膜を形成しても、基材フィルムの透明性や平面性が確保される。その結果、耐熱性に優れ、干渉ムラの発生が抑えられた透明導電性フィルムを得ることができる。   That is, the transparent conductive film of the present invention is a transparent conductive film in which a primer layer, a hard coat layer, and a transparent conductive layer are laminated in this order on at least one side of a base film, and the base film is a main film. It is characterized by containing an acrylic resin having a ring structure in the chain and a glass transition temperature of 140 ° C. or higher. In the transparent conductive film of the present invention, since a primer layer is provided between the hard coat layer on which the transparent conductive layer is formed and the base film, an interface shift occurs between the base film and the hard coat layer. However, it is possible to suppress the occurrence of a slight gap between the base film and the hard coat layer by the primer layer, and it is possible to prevent the occurrence of interference unevenness. Moreover, since acrylic resin which comprises a base film has high heat resistance, even if it forms a conductive film by sputtering etc., transparency and flatness of a base film are ensured. As a result, it is possible to obtain a transparent conductive film that is excellent in heat resistance and in which occurrence of interference unevenness is suppressed.

前記アクリル系樹脂は、下記式(1)で表される繰り返し単位と、下記式(2)で表される繰り返し単位を有することが好ましい。アクリル系樹脂が、下記式(1)で表される繰り返し単位と、下記式(2)で表される繰り返し単位を有していれば、得られる基材フィルムは、透明性や耐熱性に加えて低複屈折を有するものとなる。そのため、透明導電性フィルムは、光学特性に優れたものとなる。   The acrylic resin preferably has a repeating unit represented by the following formula (1) and a repeating unit represented by the following formula (2). If the acrylic resin has a repeating unit represented by the following formula (1) and a repeating unit represented by the following formula (2), the resulting base film can be added to transparency and heat resistance. Thus, it has a low birefringence. Therefore, the transparent conductive film has excellent optical characteristics.

[式(1)中、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を表し、R3は環構造を表す。] [In Formula (1), R < 1 > and R < 2 > represent a hydrogen atom or a C1-C8 alkyl group each independently, and R < 3 > represents a ring structure. ]

[式(2)中、R4およびR5は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を表し、R6は、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基または炭素数6〜10のアリール基を表す。] [In the formula (2), R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R 6 represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms or 3 to 3 carbon atoms. 12 represents a cycloalkyl group or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. ]

前記アクリル系樹脂は、式(1)で表される繰り返し単位を5質量%以上85質量%以下、式(2)で表される繰り返し単位を15質量%以上95質量%以下の含有率で有することが好ましい。式(1)で表される繰り返し単位と式(2)で表される繰り返し単位がこのような含有率で含まれていれば、基材フィルムの耐熱性や透明性が向上し、複屈折を小さくすることができるとともに、フィルムへの成形性が向上し、基材フィルムの機械的強度を高めることができる。   The acrylic resin has a repeating unit represented by the formula (1) in a content of 5% by mass to 85% by mass and a repeating unit represented by the formula (2) in a content of 15% by mass to 95% by mass. It is preferable. If the repeating unit represented by the formula (1) and the repeating unit represented by the formula (2) are contained in such a content, the heat resistance and transparency of the base film are improved, and birefringence is improved. While being able to make small, the moldability to a film improves and the mechanical strength of a base film can be raised.

前記アクリル系樹脂は、応力光学係数(Cr)の絶対値が0.3×10-9Pa-1以下であることが好ましい。アクリル系樹脂の応力光学係数の値がこのような範囲にあれば、アクリル系樹脂を延伸させて得られる延伸フィルムの屈折率の異方性が抑制され、複屈折を小さくすることができる。 The acrylic resin preferably has an absolute value of stress optical coefficient (Cr) of 0.3 × 10 −9 Pa −1 or less. If the value of the stress optical coefficient of the acrylic resin is in such a range, the anisotropy of the refractive index of the stretched film obtained by stretching the acrylic resin is suppressed, and birefringence can be reduced.

前記プライマー層は、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、およびこれらの複合樹脂よりなる群より選ばれる樹脂を含有することが好ましい。プライマー層がこのような樹脂から構成されていれば、プライマー層の基材フィルムやハードコート層との密着性を高めることができ、また透明導電性フィルムの干渉ムラの発生を効果的に抑制することができる。なお、プライマー層の密着性を高める点から、プライマー層はさらに水溶性樹脂および/または微粒子を含有することが好ましい。   The primer layer preferably contains a resin selected from the group consisting of polyester resins, acrylic resins, urethane resins, and composite resins thereof. If the primer layer is composed of such a resin, the adhesion of the primer layer to the base film or hard coat layer can be improved, and the occurrence of uneven interference in the transparent conductive film can be effectively suppressed. be able to. In addition, it is preferable that a primer layer contains water-soluble resin and / or microparticles | fine-particles further from the point which improves the adhesiveness of a primer layer.

本発明の透明導電性フィルムは、透明導電層が形成されたハードコート層と基材フィルムの間にプライマー層が設けられているため、基材フィルムとハードコート層の間で界面のずれが生じても、プライマー層によって基材フィルムとハードコート層の間にわずかな隙間が生じるのが抑えられ、干渉ムラの発生を防ぐことができる。また、基材フィルムを構成するアクリル系樹脂が高い耐熱性を有するため、スパッタリング等によって導電性膜を形成しても、基材フィルムの透明性や平面性が確保される。その結果、耐熱性に優れ、干渉ムラの発生が抑えられた透明導電性フィルムを得ることができる。   In the transparent conductive film of the present invention, since a primer layer is provided between the hard coat layer on which the transparent conductive layer is formed and the base film, an interface shift occurs between the base film and the hard coat layer. However, it is possible to suppress the occurrence of a slight gap between the base film and the hard coat layer by the primer layer, and it is possible to prevent the occurrence of interference unevenness. Moreover, since acrylic resin which comprises a base film has high heat resistance, even if it forms a conductive film by sputtering etc., transparency and flatness of a base film are ensured. As a result, it is possible to obtain a transparent conductive film that is excellent in heat resistance and in which occurrence of interference unevenness is suppressed.

本発明の透明導電性フィルムは、基材フィルムの少なくとも片面に、プライマー層、ハードコート層、透明導電層がこの順に積層された透明導電性フィルムであって、基材フィルムが、主鎖に環構造を有し、ガラス転移温度が140℃以上であるアクリル系樹脂を含有しているものである。本発明の透明導電性フィルムは、基材フィルムが耐熱性に優れたアクリル系樹脂を含有し、当該基材フィルムの上に透明導電層が形成されたハードコート層が積層されているため、スパッタリング等によって導電性膜を形成しても、基材フィルムの透明性や平面性が確保され、耐熱性に優れた透明導電性フィルムを得ることができる。また、透明導電層が形成されたハードコート層と基材フィルムの間にプライマー層が設けられているため、基材フィルムとハードコート層の間で界面のずれが生じても、プライマー層によって基材フィルムとハードコート層の間にわずかな隙間が生じるのが抑えられ、干渉ムラの発生を防ぐことができる。   The transparent conductive film of the present invention is a transparent conductive film in which a primer layer, a hard coat layer, and a transparent conductive layer are laminated in this order on at least one surface of a base film, and the base film has a ring in the main chain. It has a structure and contains an acrylic resin having a glass transition temperature of 140 ° C. or higher. The transparent conductive film of the present invention contains an acrylic resin having excellent heat resistance as a base film, and a hard coat layer having a transparent conductive layer formed on the base film is laminated. Even if the conductive film is formed by the above method, the transparency and flatness of the base film are ensured, and a transparent conductive film excellent in heat resistance can be obtained. In addition, since the primer layer is provided between the hard coat layer on which the transparent conductive layer is formed and the base film, even if an interface shift occurs between the base film and the hard coat layer, the primer layer It is possible to suppress a slight gap between the material film and the hard coat layer, and to prevent occurrence of interference unevenness.

例えば、基材フィルムの上に直接ハードコート層を形成した場合は、基材フィルムとハードコート層の間に目視では判別不能なわずかな隙間が形成され、このわずかな隙間が干渉ムラの発生を引き起こす。しかし、基材フィルムとハードコート層の間にプライマー層を設けることで、基材フィルムとハードコート層の間にわずかな隙間が生じるのが抑えられ、干渉ムラの発生を防ぐことができる。以下、本発明の透明導電性フィルムについて、構成要素ごとに詳しく説明する。   For example, when the hard coat layer is formed directly on the base film, a slight gap that cannot be visually recognized is formed between the base film and the hard coat layer, and this slight gap causes the occurrence of interference unevenness. cause. However, by providing a primer layer between the base film and the hard coat layer, it is possible to suppress the occurrence of a slight gap between the base film and the hard coat layer, and to prevent occurrence of interference unevenness. Hereinafter, the transparent conductive film of this invention is demonstrated in detail for every component.

〔1.基材フィルム〕
基材フィルムとしては、主鎖に環構造を有し、ガラス転移温度が140℃以上であるアクリル系樹脂を用いる。基材フィルムが、主鎖に環構造を有し、ガラス転移温度が140℃以上であるアクリル系樹脂を含有していれば、耐熱性に優れた透明導電性フィルムを得ることができる。
[1. (Base film)
As the base film, an acrylic resin having a ring structure in the main chain and having a glass transition temperature of 140 ° C. or higher is used. If the base film contains an acrylic resin having a ring structure in the main chain and a glass transition temperature of 140 ° C. or higher, a transparent conductive film excellent in heat resistance can be obtained.

基材フィルムを構成するアクリル系樹脂は、α,β−不飽和カルボニル化合物を単独または共重合することにより得られるものであればよい。すなわち、α,β−不飽和カルボニル化合物は(メタ)アクリル酸およびそのエステルなどの(メタ)アクリル酸化合物が好ましいものの、(メタ)アクリル酸化合物以外の化合物であってもよく、こうした(メタ)アクリル酸以外の化合物では、β位炭素に水素原子以外の置換基が結合していてもよく、α位炭素に水素原子やメチル基以外の置換基が結合していてもよい。なお、β位炭素に結合していてもよい水素原子以外の置換基としては、例えば、炭素数1〜8のアルキル基が挙げられる。α位炭素に結合していてもよい水素原子とメチル基以外の置換基としては、例えば、炭素数2〜8のアルキル基が挙げられる。α,β−不飽和カルボニル化合物のカルボニル基は、例えば、カルボン酸やその塩、エステル、酸無水物、酸塩化物等として存在していればよい。   The acrylic resin that constitutes the base film may be any resin that is obtained by homo- or copolymerizing an α, β-unsaturated carbonyl compound. That is, the α, β-unsaturated carbonyl compound is preferably a (meth) acrylic acid compound such as (meth) acrylic acid and its ester, but may be a compound other than the (meth) acrylic acid compound. In compounds other than acrylic acid, a substituent other than a hydrogen atom may be bonded to the β-position carbon, and a substituent other than a hydrogen atom or a methyl group may be bonded to the α-position carbon. In addition, as a substituent other than the hydrogen atom which may be couple | bonded with (beta) -position carbon, a C1-C8 alkyl group is mentioned, for example. Examples of the substituent other than the hydrogen atom and the methyl group that may be bonded to the α-position carbon include an alkyl group having 2 to 8 carbon atoms. The carbonyl group of the α, β-unsaturated carbonyl compound may be present as, for example, a carboxylic acid or a salt thereof, an ester, an acid anhydride, or an acid chloride.

アクリル系樹脂は、α,β−不飽和カルボニル化合物のカルボニル炭素とα位とβ位の炭素により、環構造の一部が形成されていることが好ましい。アクリル系樹脂の主鎖の環構造としては、例えば、N−置換マレイミド構造、無水マレイン酸構造、グルタルイミド構造、無水グルタル酸構造、ラクトン環構造等が挙げられる。N−置換マレイミド構造としては、例えば、シクロヘキシルマレイミド構造、メチルマレイミド構造、フェニルマレイミド構造、ベンジルマレイミド構造等が挙げられる。アクリル系樹脂が主鎖に環構造を有していれば、基材フィルムの耐熱性や硬度が向上する。基材フィルムの耐熱性をより向上させる点からは、主鎖の環構造は、グルタルイミド構造であることが好ましい。   In the acrylic resin, a part of the ring structure is preferably formed by the carbonyl carbon of the α, β-unsaturated carbonyl compound and the carbons at the α-position and the β-position. Examples of the ring structure of the main chain of the acrylic resin include an N-substituted maleimide structure, a maleic anhydride structure, a glutarimide structure, a glutaric anhydride structure, and a lactone ring structure. Examples of the N-substituted maleimide structure include a cyclohexylmaleimide structure, a methylmaleimide structure, a phenylmaleimide structure, and a benzylmaleimide structure. If the acrylic resin has a ring structure in the main chain, the heat resistance and hardness of the base film are improved. From the viewpoint of further improving the heat resistance of the base film, the ring structure of the main chain is preferably a glutarimide structure.

基材フィルムを構成するアクリル系樹脂は、140℃以上のガラス転移温度を有する。アクリル系樹脂のガラス転移温度が140℃以上であれば、基材フィルムの耐熱性が向上し、スパッタリング等によって基材フィルム上に導電性膜を形成しても、透明性や平面性に優れた透明導電性フィルムを得やすくなる。アクリル系樹脂のガラス転移温度は、基材フィルムの耐熱性を向上させる観点から、好ましくは145℃以上、より好ましくは150℃以上、さらに好ましくは155℃以上である。また、アクリル系樹脂のガラス転移温度は、フィルムへの成形加工性を向上させる観点から、好ましくは250℃以下、より好ましくは230℃以下、さらに好ましくは210℃以下、特に好ましくは200℃以下である。   The acrylic resin constituting the base film has a glass transition temperature of 140 ° C. or higher. If the glass transition temperature of the acrylic resin is 140 ° C. or higher, the heat resistance of the base film is improved, and even if a conductive film is formed on the base film by sputtering or the like, the transparency and flatness are excellent. It becomes easy to obtain a transparent conductive film. From the viewpoint of improving the heat resistance of the base film, the glass transition temperature of the acrylic resin is preferably 145 ° C. or higher, more preferably 150 ° C. or higher, and further preferably 155 ° C. or higher. In addition, the glass transition temperature of the acrylic resin is preferably 250 ° C. or less, more preferably 230 ° C. or less, further preferably 210 ° C. or less, and particularly preferably 200 ° C. or less, from the viewpoint of improving the moldability to a film. is there.

アクリル系樹脂のガラス転移温度は、JIS K 7121の規定に準拠して求める。具体的には、示差走査熱量計(リガク社製、商品名:Thermo plus EVO DSC−8230)を用い、また参照としてα−アルミナを用い、窒素ガス雰囲気中でアクリル系樹脂約10mgを室温から200℃まで昇温速度20℃/minで昇温し、得られたDSC曲線から始点法によって求めたときの温度をガラス転移温度とする。   The glass transition temperature of the acrylic resin is determined in accordance with JIS K 7121. Specifically, a differential scanning calorimeter (trade name: Thermo plus EVO DSC-8230, manufactured by Rigaku Corporation) is used, and α-alumina is used as a reference, and about 10 mg of acrylic resin from room temperature to 200 in a nitrogen gas atmosphere. The temperature is raised to 20 ° C. at a rate of temperature rise of 20 ° C./min, and the temperature obtained by the starting point method from the obtained DSC curve is defined as the glass transition temperature.

〔1−1.アクリル系樹脂の構成〕
アクリル系樹脂は、主鎖に環構造を有し、ガラス転移温度が140℃以上であれば、特に制限なく用いることができるが、下記式(1)で表される繰り返し単位(グルタルイミド単位)と下記式(2)で表される繰り返し単位を有するものであることが好ましい。アクリル系樹脂が式(1)と式(2)で表される繰り返し単位を有していれば、得られる基材フィルムは、透明性や耐熱性に加えて低複屈折を有するものとなる。すなわち、式(1)と式(2)で表される繰り返し単位を有するアクリル系樹脂は、式(1)で表される繰り返し単位に基づき弱い正の複屈折を示し、式(2)で表される繰り返し単位に基づき弱い負の複屈折を示し、両者の複屈折が互いに打ち消しあうので、全体として低複屈折を有するものとなる。
[1-1. Configuration of acrylic resin)
The acrylic resin has a ring structure in the main chain and can be used without particular limitation as long as the glass transition temperature is 140 ° C. or higher, but the repeating unit (glutarimide unit) represented by the following formula (1) And preferably having a repeating unit represented by the following formula (2). If acrylic resin has the repeating unit represented by Formula (1) and Formula (2), the obtained base film will have low birefringence in addition to transparency and heat resistance. That is, the acrylic resin having the repeating unit represented by the formula (1) and the formula (2) exhibits weak positive birefringence based on the repeating unit represented by the formula (1), and is represented by the formula (2). The birefringence of both of them is canceled out based on the repeating unit, and the birefringence of the two cancels each other, so that the whole has low birefringence.

[式(1)中、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を表し、R3は環構造を表す。] [In Formula (1), R < 1 > and R < 2 > represent a hydrogen atom or a C1-C8 alkyl group each independently, and R < 3 > represents a ring structure. ]

[式(2)中、R4およびR5は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を表し、R6は、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基または炭素数6〜10のアリール基を表す。] [In the formula (2), R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R 6 represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms or 3 to 3 carbon atoms. 12 represents a cycloalkyl group or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. ]

式(1)で表される繰り返し単位において、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を表す。炭素数1〜8のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、n−ヘキシル基、イソへキシル基、n−ヘプチル基、イソヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基等が挙げられる。なかでも、R1およびR2としては、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基が好ましく、これにより、耐熱性に優れ、複屈折が小さい基材フィルムを得やすくなる。 In the repeating unit represented by the formula (1), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, n- Examples include a hexyl group, an isohexyl group, an n-heptyl group, an isoheptyl group, an n-octyl group, and a 2-ethylhexyl group. Especially, as R < 1 > and R < 2 >, a hydrogen atom or a C1-C4 alkyl group is preferable, and it becomes easy to obtain a base film which is excellent in heat resistance and has small birefringence.

式(1)で表される繰り返し単位において、R3は環構造を表す。環構造としては、例えば、炭素数3〜12のシクロアルキル基、炭素数6〜10のアリール基等が挙げられる。炭素数3〜12のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。炭素数6〜10のアリール基としては、フェニル基、ベンジル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、2,3−キシリル基、2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キシリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、ビナフチル基、アントリル基等が挙げられる。R3としては、炭素数3〜12のシクロアルキル基(より好ましくは炭素数3〜6のシクロアルキル基)または炭素数6〜10のアリール基が好ましく、シクロヘキシル基、フェニル基またはトリル基がさらに好ましく、シクロヘキシル基またはフェニル基が特に好ましい。R3がこのような置換基であれば、耐熱性に優れ、複屈折が小さい基材フィルムを得やすくなる。 In the repeating unit represented by the formula (1), R 3 represents a ring structure. Examples of the ring structure include a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms and an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. Examples of the cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group. Examples of the aryl group having 6 to 10 carbon atoms include phenyl, benzyl, o-tolyl, m-tolyl, p-tolyl, 2,3-xylyl, 2,4-xylyl, 2,5- Examples include xylyl group, 2,6-xylyl group, 3,4-xylyl group, 3,5-xylyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, binaphthyl group, anthryl group and the like. R 3 is preferably a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms (more preferably a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms) or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and further a cyclohexyl group, a phenyl group or a tolyl group. A cyclohexyl group or a phenyl group is particularly preferable. When R 3 is such a substituent, it becomes easy to obtain a base film having excellent heat resistance and low birefringence.

式(1)で表される繰り返し単位において、耐熱性に優れ、複屈折が小さい基材フィルムを得る観点から、R1およびR2が、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基であることが好ましく、水素原子またはメチル基がより好ましく、また、R3がシクロヘキシル基またはフェニル基であることが好ましく、フェニル基がより好ましい。なお、アクリル系樹脂は、式(1)で表される繰り返し単位を2種類以上含んでいてもよい。 In the repeating unit represented by the formula (1), from the viewpoint of obtaining a base film having excellent heat resistance and low birefringence, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or a group having 1 to 4 carbon atoms. An alkyl group is preferred, a hydrogen atom or a methyl group is more preferred, R 3 is preferably a cyclohexyl group or a phenyl group, and a phenyl group is more preferred. In addition, acrylic resin may contain 2 or more types of repeating units represented by Formula (1).

式(2)で表される繰り返し単位において、R4およびR5は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を表す。炭素数1〜8のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、n−ヘキシル基、イソへキシル基、n−ヘプチル基、イソヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基等が挙げられる。なかでも、R4およびR5としては、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基が好ましく、これにより、アクリル系樹脂の応力光学係数を小さくして、耐熱性に優れ、複屈折が小さく、光弾性係数が小さい基材フィルムを得やすくなる。 In the repeating unit represented by the formula (2), R 4 and R 5 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, n- Examples include a hexyl group, an isohexyl group, an n-heptyl group, an isoheptyl group, an n-octyl group, and a 2-ethylhexyl group. Among them, as R 4 and R 5 , a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, thereby reducing the stress optical coefficient of the acrylic resin, excellent heat resistance, and low birefringence, It becomes easy to obtain a base film having a small photoelastic coefficient.

式(2)で表される繰り返し単位において、R6は、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基または炭素数6〜10のアリール基を表す。炭素数1〜18のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基等が挙げられる。炭素数3〜12のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。炭素数6〜10のアリール基としては、フェニル基、ベンジル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、2,3−キシリル基、2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キシリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、ビナフチル基、アントリル基等が挙げられる。これらのなかでも、R6としては、炭素数1〜18のアルキル基が好ましく、炭素数1〜8のアルキル基がより好ましく、炭素数1〜4のアルキル基がさらに好ましく、メチル基、エチル基またはn−ブチル基が特に好ましく、これにより、アクリル系樹脂の応力光学係数を小さくして、耐熱性に優れ、複屈折が小さく、光弾性係数が小さい基材フィルムを得やすくなる。 In the repeating unit represented by the formula (2), R 6 represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, and octyl. Group, decyl group, dodecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group and the like. Examples of the cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group. Examples of the aryl group having 6 to 10 carbon atoms include phenyl, benzyl, o-tolyl, m-tolyl, p-tolyl, 2,3-xylyl, 2,4-xylyl, 2,5- Examples include xylyl group, 2,6-xylyl group, 3,4-xylyl group, 3,5-xylyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, binaphthyl group, anthryl group and the like. Among these, as R < 6 >, a C1-C18 alkyl group is preferable, a C1-C8 alkyl group is more preferable, a C1-C4 alkyl group is more preferable, a methyl group, an ethyl group Alternatively, an n-butyl group is particularly preferable, which makes it easy to obtain a base film having a small stress optical coefficient of the acrylic resin, excellent heat resistance, small birefringence, and a small photoelastic coefficient.

式(2)で表される繰り返し単位において、アクリル系樹脂の応力光学係数を小さくし、耐熱性に優れ、複屈折が小さく、光弾性係数が小さい基材フィルムを得る点から、R4およびR5は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基であることが好ましく、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基がさらに好ましく、またR6は、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基または炭素数6〜10のアリール基であることが好ましく、炭素数1〜18のアルキル基がより好ましく、炭素数1〜8のアルキル基がさらに好ましく、炭素数1〜4のアルキル基がさらにより好ましく、メチル基、エチル基またはn−ブチル基が特に好ましい。なお、アクリル系樹脂は、式(2)で表される繰り返し単位を2種類以上含んでいてもよい。 In the repeating unit represented by the formula (2), R 4 and R are obtained from the viewpoint of obtaining a base film having a small stress optical coefficient of acrylic resin, excellent heat resistance, low birefringence, and low photoelastic coefficient. 5 are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, still more preferably a hydrogen atom or a methyl group, R 6 is preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, An alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is still more preferable, and a methyl group, an ethyl group, or an n-butyl group is particularly preferable. In addition, acrylic resin may contain 2 or more types of repeating units represented by Formula (2).

アクリル系樹脂は、式(1)で表される繰り返し単位の含有率が5質量%以上であることが好ましく、10質量%以上がより好ましく、15質量%以上がさらに好ましく、また85質量%以下が好ましく、80質量%以下がより好ましく、75質量%以下がさらに好ましい。式(1)で表される繰り返し単位の含有率が5質量%以上であれば、耐熱性および透明性が向上し、基材フィルムの複屈折を小さくすることが容易になる。式(1)で表される繰り返し単位の含有率が85質量%以下であれば、フィルムへの成形性が向上し、機械的強度を高めやすくなり、また基材フィルムの複屈折を小さくすることが容易になる。   In the acrylic resin, the content of the repeating unit represented by the formula (1) is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, further preferably 15% by mass or more, and 85% by mass or less. Is preferable, 80 mass% or less is more preferable, and 75 mass% or less is further more preferable. If the content rate of the repeating unit represented by Formula (1) is 5 mass% or more, heat resistance and transparency will improve and it will become easy to make birefringence of a base film small. When the content of the repeating unit represented by the formula (1) is 85% by mass or less, the formability to the film is improved, the mechanical strength is easily increased, and the birefringence of the base film is reduced. Becomes easier.

アクリル系樹脂は、式(2)で表される繰り返し単位の含有率が15質量%以上であることが好ましく、20質量%以上がより好ましく、25質量%以上がさらに好ましく、また95質量%以下が好ましく、90質量%以下がより好ましく、85質量%以下がさらに好ましい。式(2)で表される繰り返し単位の含有率が15質量%以上であれば、フィルムへの成形性が向上し、機械的強度を高めやすくなり、また基材フィルムの複屈折を小さくすることが容易になる。式(2)で表される繰り返し単位の含有率が95質量%以下であれば、耐熱性および透明性が向上し、基材フィルムの複屈折を小さくすることが容易になる。   In the acrylic resin, the content of the repeating unit represented by the formula (2) is preferably 15% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, further preferably 25% by mass or more, and 95% by mass or less. Is preferable, 90 mass% or less is more preferable, and 85 mass% or less is further more preferable. If the content of the repeating unit represented by the formula (2) is 15% by mass or more, the moldability to the film is improved, the mechanical strength is easily increased, and the birefringence of the base film is reduced. Becomes easier. If the content rate of the repeating unit represented by Formula (2) is 95 mass% or less, heat resistance and transparency will improve and it will become easy to make birefringence of a base film small.

アクリル系樹脂には、式(1)と式(2)で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位が含まれていてもよい。なお、アクリル系樹脂は、式(1)と式(2)で表される繰り返し単位を主成分として含むことが好ましく、従ってアクリル系樹脂中、式(1)で表される繰り返し単位と式(2)で表される繰り返し単位とを合わせた含有率が50質量%以上となることが好ましく、60質量%以上がより好ましく、70質量%以上がさらに好ましい。アクリル系樹脂は、例えば、繰り返し単位としてスチレン単位を有していてもよいが、スチレン単位はあまり多く含まれないことが好ましい。従って、アクリル系樹脂中のスチレン単位の含有率は10質量%以下であることが好ましく、5質量%以下がより好ましく、2質量%以下がさらに好ましく、1質量%以下が特に好ましい。   The acrylic resin may contain a repeating unit other than the repeating units represented by the formulas (1) and (2). In addition, it is preferable that acrylic resin contains the repeating unit represented by Formula (1) and Formula (2) as a main component, Therefore, in the acrylic resin, the repeating unit represented by Formula (1) and Formula ( The combined content of the repeating unit represented by 2) is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and further preferably 70% by mass or more. The acrylic resin may have, for example, a styrene unit as a repeating unit, but it is preferable that the styrene unit is not included so much. Accordingly, the content of styrene units in the acrylic resin is preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, further preferably 2% by mass or less, and particularly preferably 1% by mass or less.

アクリル系樹脂の重量平均分子量は、基材フィルムの機械的強度を高める観点から、10,000以上が好ましく、30,000以上がより好ましく、またフィルムへの成形性を向上させる観点から、500,000以下が好ましく、300,000以下がより好ましい。アクリル系樹脂の重量平均分子量は、実施例に記載の方法に基づき求める。   From the viewpoint of increasing the mechanical strength of the base film, the weight average molecular weight of the acrylic resin is preferably 10,000 or more, more preferably 30,000 or more, and from the viewpoint of improving the moldability to the film, 000 or less is preferable, and 300,000 or less is more preferable. The weight average molecular weight of acrylic resin is calculated | required based on the method as described in an Example.

アクリル系樹脂の酸価は、当該樹脂をフィルム成形する際の加工性を向上させる観点から、1.4mmol/g以下であることが好ましく、0.8mmol/g以下がより好ましく、0.5mmol/g以下がさらに好ましく、0.3mmol/g以下が特に好ましい。アクリル系樹脂の酸価は、実施例に記載の方法に基づき求める。   The acid value of the acrylic resin is preferably 1.4 mmol / g or less, more preferably 0.8 mmol / g or less, more preferably 0.5 mmol / g from the viewpoint of improving processability when the resin is film-formed. g or less is more preferable, and 0.3 mmol / g or less is particularly preferable. The acid value of the acrylic resin is determined based on the method described in the examples.

アクリル系樹脂の応力光学係数(Cr)の絶対値は、当該樹脂を延伸させて得られる延伸フィルムの屈折率の異方性を抑制し、複屈折を小さくする観点から、0.3×10-9Pa-1以下が好ましく、0.2×10-9Pa-1以下がより好ましく、0.1×10-9Pa-1以下がさらに好ましい。アクリル系樹脂の応力光学係数(Cr)は、実施例に記載の方法に基づき求める。 The absolute value of the stress optical coefficient (Cr) of the acrylic resin is 0.3 × 10 from the viewpoint of suppressing the birefringence by suppressing the anisotropy of the refractive index of the stretched film obtained by stretching the resin. 9 Pa −1 or less is preferable, 0.2 × 10 −9 Pa −1 or less is more preferable, and 0.1 × 10 −9 Pa −1 or less is more preferable. The stress optical coefficient (Cr) of the acrylic resin is determined based on the method described in the examples.

〔1−2.アクリル系樹脂(グルタルイミド樹脂)の製造方法〕
式(1)で表される繰り返し単位と式(2)で表される繰り返し単位を有するアクリル系樹脂は、例えば、式(2)で表される繰り返し単位を有するアクリル系樹脂をイミド化剤でイミド化させることによって得ることができる。式(2)で表される繰り返し単位を有するアクリル系樹脂は、例えば、下記式(3)で表されるモノマーを重合させることによって得ることができる。なお、この場合、式(3)で表されるモノマー以外の他のモノマーが含まれていてもよく、例えば当該他のモノマーとして(メタ)アクリル酸を使用する場合は、式(3)で表されるモノマーに加えて、(メタ)アクリル酸を45質量%以下、好ましくは40質量%以下の含有率で含有させることができる。
[1-2. Manufacturing method of acrylic resin (glutarimide resin)]
The acrylic resin having the repeating unit represented by the formula (1) and the repeating unit represented by the formula (2) is obtained by, for example, converting an acrylic resin having the repeating unit represented by the formula (2) with an imidizing agent. It can be obtained by imidization. The acrylic resin having a repeating unit represented by the formula (2) can be obtained, for example, by polymerizing a monomer represented by the following formula (3). In this case, another monomer other than the monomer represented by the formula (3) may be contained. For example, when (meth) acrylic acid is used as the other monomer, the monomer represented by the formula (3) is used. In addition to the monomer to be produced, (meth) acrylic acid can be contained at a content of 45% by mass or less, preferably 40% by mass or less.

[式中、R4、R5およびR6は前記と同じ。] [Wherein, R 4 , R 5 and R 6 are the same as described above. ]

式(3)で表されるモノマーとしては、アルキル基の炭素数が1〜18のアルキル(メタ)アクリレート、シクロアルキル基の炭素数が3〜12のシクロアルキル(メタ)アクリレート、アリール基の炭素数が6〜10のアリール(メタ)アクリレート等が挙げられる。   The monomer represented by the formula (3) includes alkyl (meth) acrylates having 1 to 18 carbon atoms in the alkyl group, cycloalkyl (meth) acrylates having 3 to 12 carbon atoms in the cycloalkyl group, and carbons in the aryl group. Examples include aryl (meth) acrylates having 6 to 10 numbers.

アルキル基の炭素数が1〜18のアルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート、ペンタデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、ヘプタデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート等が挙げられる。シクロアルキル基の炭素数が3〜12のシクロアルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば、シクロプロピル(メタ)アクリレート、シクロブチル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート等が挙げられる。アリール基の炭素数が6〜10のアリール(メタ)アクリレートとしては、例えば、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、o−トリル(メタ)アクリレート、m−トリル(メタ)アクリレート、p−トリル(メタ)アクリレート、2,3−キシリル(メタ)アクリレート、2,4−キシリル(メタ)アクリレート、2,5−キシリル(メタ)アクリレート、2,6−キシリル(メタ)アクリレート、3,4−キシリル(メタ)アクリレート、3,5−キシリル(メタ)アクリレート、1−ナフチル(メタ)アクリレート、2−ナフチル(メタ)アクリレート、ビナフチル(メタ)アクリレート、アントリル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの(メタ)アクリレートは、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl ( (Meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, dodecyl ( Examples include meth) acrylate, tetradecyl (meth) acrylate, pentadecyl (meth) acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, heptadecyl (meth) acrylate, and octadecyl (meth) acrylate. Examples of the cycloalkyl (meth) acrylate having 3 to 12 carbon atoms in the cycloalkyl group include cyclopropyl (meth) acrylate, cyclobutyl (meth) acrylate, cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, and the like. . Examples of the aryl (meth) acrylate having 6 to 10 carbon atoms in the aryl group include phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, o-tolyl (meth) acrylate, m-tolyl (meth) acrylate, p- Tolyl (meth) acrylate, 2,3-xylyl (meth) acrylate, 2,4-xylyl (meth) acrylate, 2,5-xylyl (meth) acrylate, 2,6-xylyl (meth) acrylate, 3,4- Examples include xylyl (meth) acrylate, 3,5-xylyl (meth) acrylate, 1-naphthyl (meth) acrylate, 2-naphthyl (meth) acrylate, binaphthyl (meth) acrylate, anthryl (meth) acrylate, and the like. These (meth) acrylates may be used alone or in combination of two or more.

式(3)で表されるモノマーを重合させる方法としては、例えば、塊状重合法、溶液重合法、乳化重合法、懸濁重合法等が挙げられる。式(3)で表されるモノマーを重合させることにより、式(2)で表される繰り返し単位を有するアクリル系樹脂を得ることができ、これをイミド化剤でイミド化することにより、式(1)で表される繰り返し単位と式(2)で表される繰り返し単位を有するアクリル系樹脂が得られる。   Examples of the method for polymerizing the monomer represented by the formula (3) include a bulk polymerization method, a solution polymerization method, an emulsion polymerization method, and a suspension polymerization method. By polymerizing the monomer represented by the formula (3), an acrylic resin having a repeating unit represented by the formula (2) can be obtained. By imidizing this with an imidizing agent, the formula (3) An acrylic resin having a repeating unit represented by 1) and a repeating unit represented by formula (2) is obtained.

重合の際に用いる重合開始剤としては、公知の重合開始剤を用いることができ、例えば、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)・二塩酸塩、4,4’−アゾビス(4−シアノペンタン酸)等の水溶性アゾ化合物;過硫酸カリウム等の過硫酸塩類;過酸化水素、過酢酸、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド等の過酸化物等を用いればよい。これらは1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。重合開始剤の使用量は、例えば、モノマー100質量部に対して0.01〜1質量部とすることが好ましい。   As the polymerization initiator used in the polymerization, known polymerization initiators can be used. For example, 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2-amidinopropane) · 2 Water-soluble azo compounds such as hydrochloride, 4,4′-azobis (4-cyanopentanoic acid); persulfates such as potassium persulfate; hydrogen peroxide, peracetic acid, benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide A peroxide or the like may be used. These may use only 1 type and may use 2 or more types together. It is preferable that the usage-amount of a polymerization initiator shall be 0.01-1 mass part with respect to 100 mass parts of monomers, for example.

イミド化剤としては、例えば、シクロヘキシルアミン等の炭素数3〜12のシクロアルキル基を有するシクロアルキルアミン;アニリン、ベンジルアミン、トルイジン、トリクロロアニリンなどの炭素数6〜10のアリール基を有するアリールアミン等が挙げられる。これらのイミド化剤は、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。イミド化剤としては、耐熱性に優れ、複屈折が小さい基材フィルムを得る点から、シクロヘキシルアミン、アニリンおよびトルイジンが好ましく、アニリンがより好ましい。   Examples of the imidizing agent include cycloalkylamines having 3 to 12 carbon atoms such as cyclohexylamine; arylamines having 6 to 10 carbon atoms such as aniline, benzylamine, toluidine, and trichloroaniline. Etc. These imidizing agents may be used alone or in combination of two or more. As the imidizing agent, cyclohexylamine, aniline and toluidine are preferable, and aniline is more preferable from the viewpoint of obtaining a base film having excellent heat resistance and low birefringence.

イミド化剤の量は、得られるアクリル系樹脂における式(1)で表される繰り返し単位の含有率および式(2)で表される繰り返し単位の含有率によって異なるので、一概には決定することができない。そのため、イミド化剤の量は、アクリル系樹脂に式(1)で表される繰り返し単位および式(2)で表される繰り返し単位が所定の含有率で含有されるように調整することが好ましい。換言すれば、アクリル系樹脂中の式(1)で表される繰り返し単位および式(2)で表される繰り返し単位の含有率は、イミド化剤の量を調節することによって容易に調整することができる。イミド化剤の量は、例えば、イミド化反応に供するアクリル系樹脂100質量部に対して、5〜100質量部の範囲で調整すればよく、10〜70質量部の範囲で調整することがより好ましい。   The amount of the imidizing agent varies depending on the content of the repeating unit represented by the formula (1) and the content of the repeating unit represented by the formula (2) in the acrylic resin to be obtained. I can't. Therefore, the amount of the imidizing agent is preferably adjusted so that the repeating unit represented by the formula (1) and the repeating unit represented by the formula (2) are contained in the acrylic resin at a predetermined content rate. . In other words, the content of the repeating unit represented by the formula (1) and the repeating unit represented by the formula (2) in the acrylic resin can be easily adjusted by adjusting the amount of the imidizing agent. Can do. The amount of the imidizing agent may be adjusted in the range of 5 to 100 parts by mass, for example, in the range of 10 to 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic resin used for the imidization reaction. preferable.

式(2)で表される繰り返し単位を有するアクリル系樹脂のイミド化は、無水グルタル酸構造を経由するものであってもよい。例えば、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等を1級アミンでイミド化させることによってグルタルイミド樹脂が得られるが、このイミド化の際には無水グルタル酸構造を経由することが知られている。グルタルイミド構造の含有量が多いアクリル系樹脂を製造するためには、無水グルタル酸構造を効率よく生成させることが重要であり、式(2)で表される繰り返し単位を有するアクリル系樹脂の無水グルタル酸化(無水グルタル酸構造への環化反応)の反応促進には、高温かつ減圧条件で反応を行うことが効果的である。このような条件で反応を行う方法として、押出機等を用いる方法が有効である。   The imidization of the acrylic resin having a repeating unit represented by the formula (2) may be via a glutaric anhydride structure. For example, a glutarimide resin can be obtained by imidizing polymethyl methacrylate (PMMA) or the like with a primary amine, and it is known that this imidization passes through a glutaric anhydride structure. In order to produce an acrylic resin having a large content of glutarimide structure, it is important to efficiently produce a glutaric anhydride structure. An anhydrous acrylic resin having a repeating unit represented by formula (2) In order to promote the reaction of glutaroxidation (cyclization reaction to a glutaric anhydride structure), it is effective to carry out the reaction under high temperature and reduced pressure conditions. As a method for performing the reaction under such conditions, a method using an extruder or the like is effective.

無水グルタル酸構造への環化反応に当たっては、触媒を用いてもよい。当該反応を促進させる触媒としては、酸、塩基およびそれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも1種を用いることができる。酸、塩基およびそれらの塩の種類は、特に限定されない。   A catalyst may be used in the cyclization reaction to a glutaric anhydride structure. As the catalyst for promoting the reaction, at least one selected from the group consisting of acids, bases and salts thereof can be used. Kinds of acids, bases and salts thereof are not particularly limited.

酸としては、例えば、塩酸、硫酸、p−トルエンスルホン酸、リン酸、亜リン酸、フェニルホスホン酸、リン酸メチル等が挙げられる。塩基としては、例えば、金属水酸化物、アミン類、イミン類、アルカリ金属誘導体、アルコキシド類、水酸化アンモニウム塩等が挙げられる。酸および塩基の塩としては、例えば、酢酸金属塩、ステアリン酸金属塩、炭酸金属塩等が挙げられる。これらの触媒のなかでは、少量で優れた反応促進効果を示すことから、アルカリ金属を有する化合物が好ましい。アルカリ金属を有する化合物としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムフェノキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムフェノキシド等のアルカリ金属アルコキシド化合物、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、ステアリン酸ナトリウム等の有機カルボン酸アルカリ金属塩等が挙げられる。これらのアルカリ金属を有する化合物のなかでは、水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、酢酸リチウムおよび酢酸ナトリウムが好ましく、ナトリウムメトキシドおよび酢酸リチウムがより好ましい。   Examples of the acid include hydrochloric acid, sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, phosphoric acid, phosphorous acid, phenylphosphonic acid, methyl phosphate, and the like. Examples of the base include metal hydroxides, amines, imines, alkali metal derivatives, alkoxides, ammonium hydroxide salts and the like. Examples of the acid and base salts include metal acetates, metal stearates, metal carbonates, and the like. Among these catalysts, a compound having an alkali metal is preferable because an excellent reaction promoting effect is exhibited even in a small amount. Examples of the compound having an alkali metal include alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium phenoxide, potassium methoxide, potassium ethoxide and potassium phenoxide. And alkali metal alkoxide compounds such as lithium acetate, sodium acetate, potassium acetate, and organic carboxylic acid alkali metal salts such as sodium stearate. Among these compounds having an alkali metal, sodium hydroxide, sodium methoxide, lithium acetate and sodium acetate are preferable, and sodium methoxide and lithium acetate are more preferable.

触媒の量は特に限定されないが、アクリル系樹脂に着色などの悪影響を及ぼさず、アクリル系樹脂の透明性が低下しない範囲内で使用することが好ましい。触媒の量は、例えば、無水グルタル酸化に供するアクリル系樹脂100質量部に対して、0.01〜1質量部程度であることが好ましい。   The amount of the catalyst is not particularly limited, but it is preferably used within the range where the acrylic resin is not adversely affected such as coloring and the transparency of the acrylic resin is not lowered. The amount of the catalyst is preferably about 0.01 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic resin to be subjected to anhydrous glutar oxidation, for example.

式(2)で表される繰り返し単位を有するアクリル系樹脂を無水グルタル酸構造を経由してイミド化する場合、生成した無水グルタル酸樹脂(無水グルタル酸構造を有する樹脂)を単離した後、得られた無水グルタル酸樹脂をイミド化させることにより、グルタルイミド構造を効率よく生成させることができる。この方法は、例えば、メチルアミンなどのアルキルアミンと比べて求核性が低いアニリンなどをイミド化剤として用いたときに特に有効である。   In the case of imidizing an acrylic resin having a repeating unit represented by the formula (2) via a glutaric anhydride structure, the resulting glutaric anhydride resin (resin having a glutaric anhydride structure) is isolated, By imidizing the obtained glutaric anhydride resin, a glutarimide structure can be efficiently generated. This method is particularly effective when, for example, aniline having a low nucleophilicity compared to alkylamine such as methylamine is used as an imidizing agent.

式(2)で表される繰り返し単位を有するアクリル系樹脂(以下、「原料アクリル系樹脂」と称する場合がある)をイミド化剤によりイミド化反応を行う方法は、公知の方法を用いることができ、例えば、(1)イミド化に対して不活性な溶媒に原料アクリル系樹脂を溶解させ、得られた原料アクリル系樹脂溶液にイミド化剤を添加し、原料アクリル系樹脂とイミド化剤とを反応させる方法(バッチ式反応法)、(2)押出機等を用いて溶融状態の原料アクリル系樹脂にイミド化剤を添加し、原料アクリル系樹脂とイミド化剤とを反応させる方法(溶融混練法)等が挙げられる。   As a method of performing an imidation reaction of an acrylic resin having a repeating unit represented by the formula (2) (hereinafter sometimes referred to as “raw material acrylic resin”) with an imidizing agent, a known method may be used. For example, (1) The raw material acrylic resin is dissolved in a solvent inert to imidization, an imidizing agent is added to the obtained raw material acrylic resin solution, and the raw material acrylic resin and the imidizing agent are added. (2) Method of adding an imidizing agent to a raw material acrylic resin in a molten state using an extruder or the like, and reacting the raw material acrylic resin and the imidizing agent (melting) Kneading method).

バッチ式反応法には、バッチ式反応槽(圧力容器)を用いることができる。バッチ式反応槽(圧力容器)は、原料アクリル系樹脂を溶媒に溶解させた溶液を加熱し、撹拌することができ、イミド化剤を添加することができる構造を有することが好ましく、イミド化反応の進行に伴って前記溶液の粘度が高くなることがあるので、撹拌効率に優れていることがより好ましい。バッチ式反応槽(圧力容器)としては、例えば、住友重機械工業社製、マックスブレンド(登録商標)撹拌槽等が挙げられる。   A batch type reaction vessel (pressure vessel) can be used for the batch type reaction method. The batch-type reaction vessel (pressure vessel) preferably has a structure in which a raw material acrylic resin dissolved in a solvent can be heated and stirred, and an imidizing agent can be added. Since the viscosity of the solution may increase as the process proceeds, it is more preferable that the stirring efficiency is excellent. Examples of the batch type reaction tank (pressure vessel) include a Max Blend (registered trademark) stirring tank manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd.

バッチ式反応法において、イミド化に対して不活性な溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール等の脂肪族アルコール;ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、クロロトルエン等の芳香族系化合物;エーテル系化合物等が挙げられる。これらの溶媒は、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの溶媒のなかでは、トルエン、およびトルエンとメタノールとの混合溶媒が好ましい。   In the batch reaction method, examples of the solvent inert to imidization include aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, and isobutanol; benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, Aromatic compounds such as chlorotoluene; ether compounds. These solvents may use only 1 type and may use 2 or more types together. Among these solvents, toluene and a mixed solvent of toluene and methanol are preferable.

バッチ式反応法において、原料アクリル系樹脂とイミド化剤とを反応させる際の反応温度は、原料アクリル系樹脂をイミド化剤で効率よくイミド化させるとともに、過剰な熱履歴による原料アクリル系樹脂の分解、着色などを抑制する点から、160℃以上が好ましく、180℃以上がより好ましく、200℃以上がさらに好ましく、また400℃以下が好ましく、350℃以下がより好ましく、300℃以下がさらに好ましい。   In the batch reaction method, the reaction temperature when reacting the raw acrylic resin and the imidizing agent is such that the raw acrylic resin is efficiently imidized with the imidizing agent, and the raw acrylic resin due to excessive heat history 160 degreeC or more is preferable from the point which suppresses decomposition | disassembly, coloring, etc., 180 degreeC or more is more preferable, 200 degreeC or more is more preferable, 400 degreeC or less is preferable, 350 degreeC or less is more preferable, 300 degreeC or less is more preferable. .

溶融混練法では、押出機を用いることができる。押出機としては、例えば、単軸押出機、二軸押出機、多軸押出機等が挙げられる。これらの押出機のなかでは、原料アクリル系樹脂とイミド化剤とを効率よく混合することができることから、二軸押出機が好ましい。二軸押出機としては、例えば、非噛合い型同方向回転式二軸押出機、噛合い型同方向回転式二軸押出機、非噛合い型異方向回転式二軸押出機、噛合い型異方向回転式二軸押出機等が挙げられる。これらの押出機は、それぞれ単独で用いてもよく、2機以上を直列に接続してもよい。二軸押出機のなかでは、噛合い型同方向回転式二軸押出機は、高速回転が可能であり、原料アクリル系樹脂とイミド化剤とを効率よく混合することができるので好ましい。なお、押出機には、未反応のイミド化剤や副生物を除去するために、大気圧以下に減圧させることができるベントが備えられることが好ましい。ベントの数は、1つだけであってもよく、複数であってもよい。   In the melt-kneading method, an extruder can be used. Examples of the extruder include a single screw extruder, a twin screw extruder, and a multi-screw extruder. Among these extruders, a twin screw extruder is preferable because the raw acrylic resin and the imidizing agent can be mixed efficiently. Examples of the twin screw extruder include, for example, a non-meshing type co-rotating twin screw extruder, a meshing type co-rotating twin screw extruder, a non-meshing different direction rotating twin screw extruder, and a meshing type. A different direction rotation type twin screw extruder etc. are mentioned. These extruders may be used singly or two or more may be connected in series. Among the twin screw extruders, the meshing type co-rotating twin screw extruder is preferable because it can rotate at a high speed and can efficiently mix the raw acrylic resin and the imidizing agent. The extruder is preferably provided with a vent that can be depressurized to atmospheric pressure or lower in order to remove unreacted imidizing agent and by-products. The number of vents may be only one or plural.

溶融混練法において、原料アクリル系樹脂のイミド化は、例えば、原料アクリル系樹脂を押出機の原料投入部から投入し、原料アクリル系樹脂を溶融させ、シリンダ内に充満させた後、イミド化剤を添加ポンプで押出機中に注入することにより、行うことができる。   In the melt-kneading method, the raw material acrylic resin is imidized by, for example, charging the raw material acrylic resin from the raw material charging part of the extruder, melting the raw material acrylic resin, and filling the cylinder, and then imidizing agent. Can be injected into the extruder with an addition pump.

溶融混練法において、押出機中の反応ゾーンの温度(樹脂温度)は、原料アクリル系樹脂のイミド化反応を効率よく進行させるとともに、耐薬品性および耐熱性を向上させる観点から、180℃以上が好ましく、220℃以上がより好ましく、また原料アクリル系樹脂の分解を抑制し、基材フィルムの耐折り曲げ性を向上させる観点から、380℃以下が好ましく、350℃以下がより好ましく、300℃以下がさらに好ましい。なお、押出機中の反応ゾーンは、押出機のシリンダにおいて、イミド化剤の注入位置から樹脂吐出口(ダイス部)までの間の領域を意味する。   In the melt-kneading method, the temperature of the reaction zone (resin temperature) in the extruder is 180 ° C. or higher from the viewpoint of efficiently progressing the imidization reaction of the raw acrylic resin and improving the chemical resistance and heat resistance. Preferably, 220 ° C. or higher is more preferable, and from the viewpoint of suppressing the decomposition of the raw acrylic resin and improving the bending resistance of the base film, 380 ° C. or lower is preferable, 350 ° C. or lower is more preferable, and 300 ° C. or lower is preferable. Further preferred. In addition, the reaction zone in an extruder means the area | region between the injection position of an imidizing agent and the resin discharge port (die part) in the cylinder of an extruder.

溶融混練法においては、押出機中の反応ゾーンにおける原料アクリル系樹脂とイミド化剤との反応時間を長くすることにより、原料アクリル系樹脂のイミド化を促進させることができる。押出機中の反応ゾーン内におけるアクリル系樹脂のイミド化に要する時間は、原料アクリル系樹脂のイミド化を十分に行う観点から、10秒間以上が好ましく、30秒間以上がより好ましい。押出機内におけるアクリル系樹脂の圧力は、イミド化剤の溶解性を向上させる観点から、大気圧以上であることが好ましく、1MPa以上がより好ましく、また押出機の耐圧性を考慮して、50MPa以下であることが好ましく、30MPa以下がより好ましい。なお、本明細書において、圧力の値は絶対圧で表す。   In the melt-kneading method, imidization of the raw acrylic resin can be promoted by increasing the reaction time of the raw acrylic resin and the imidizing agent in the reaction zone in the extruder. The time required for imidization of the acrylic resin in the reaction zone in the extruder is preferably 10 seconds or longer, more preferably 30 seconds or longer from the viewpoint of sufficiently imidating the raw acrylic resin. From the viewpoint of improving the solubility of the imidizing agent, the pressure of the acrylic resin in the extruder is preferably atmospheric pressure or higher, more preferably 1 MPa or higher, and 50 MPa or lower in consideration of the pressure resistance of the extruder. It is preferable that it is 30 MPa or less. In the present specification, the pressure value is expressed in absolute pressure.

溶融混練法によってアクリル系樹脂をイミド化させる際には、押出機の代わりに、例えば、横型二軸反応装置(住友重機械工業社製、商品名:バイボラック)、竪型同心二軸撹拌槽(住友重機械工業社製、商品名:スーパーブレンド)等の高粘度に対応することができる反応装置を用いることもできる。   When the acrylic resin is imidized by the melt-kneading method, instead of the extruder, for example, a horizontal biaxial reactor (manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd., trade name: Vivolac), vertical concentric biaxial stirring tank ( A reactor capable of dealing with a high viscosity such as a product name: Super Blend manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd. can also be used.

原料アクリル系樹脂をイミド化剤でイミド化させた際には、カルボキシル基または酸無水物基が副生することがある。また、イミド化させる際の条件によっては、アクリル系樹脂にカルボキシル基または酸無水物基が多く残存することがある。カルボキシル基または酸無水物基がアクリル系樹脂に残存している場合、アクリル系樹脂の粘度が上昇することから、例えば、フィルム化などを行う際の成形加工性が低下するおそれがある。また、湿熱条件下では、酸無水物基の加水分解が進行し、樹脂およびフィルムの耐久性が低下するおそれがある。そのため、イミド化されたアクリル系樹脂に含まれているカルボキシル基および酸無水物基をエステルに変換することが好ましい。イミド化されたアクリル系樹脂に含まれているカルボキシル基および酸無水物基をエステルに変換させる方法としては、例えば、米国特許第4727117号明細書に記載のエステルに変換させる方法などが挙げられる。   When the raw acrylic resin is imidized with an imidizing agent, a carboxyl group or an acid anhydride group may be by-produced. Depending on the conditions for imidization, a large amount of carboxyl groups or acid anhydride groups may remain in the acrylic resin. When the carboxyl group or the acid anhydride group remains in the acrylic resin, the viscosity of the acrylic resin increases, and thus, for example, there is a possibility that the molding processability when filming or the like is lowered. Moreover, under wet heat conditions, hydrolysis of the acid anhydride group proceeds, and the durability of the resin and film may be reduced. Therefore, it is preferable to convert the carboxyl group and acid anhydride group contained in the imidized acrylic resin into an ester. Examples of the method for converting the carboxyl group and acid anhydride group contained in the imidized acrylic resin into an ester include a method for converting into an ester described in US Pat. No. 4,727,117.

アクリル系樹脂をエステル化剤でエステル化させる方法としては、原料アクリル系樹脂をイミド化剤でイミド化させる方法と同様に、例えば、(1)エステル化に対して不活性な溶媒にイミド化されたアクリル系樹脂を溶解させ、得られたアクリル系樹脂溶液にエステル化剤を添加し、アクリル系樹脂とエステル化剤とを反応させる方法(バッチ式反応法)、(2)押出機等を用いて溶融状態のアクリル系樹脂にエステル化剤を添加し、アクリル系樹脂とエステル化剤とを反応させる方法(溶融混練法)等を採用することができる。   As a method of esterifying an acrylic resin with an esterifying agent, for example, (1) Imidation in a solvent inert to esterification is similar to the method of imidizing a raw acrylic resin with an imidizing agent. A method in which an acrylic resin is dissolved, an esterifying agent is added to the resulting acrylic resin solution, and the acrylic resin and the esterifying agent are reacted (batch type reaction method), (2) using an extruder, etc. A method of adding an esterifying agent to the molten acrylic resin and reacting the acrylic resin with the esterifying agent (melt kneading method) or the like can be employed.

エステル化剤としては、例えば、炭酸ジメチル、2,2−ジメトキシプロパン、ジメチルスルホキシド、トリエチルオルトホルメート、トリメチルオルトアセテート、トリメチルオルトホルメート、ジフェニルカーボネート、ジメチルサルフェート、メチルトルエンスルホネート、メチルトリフルオロメチルスルホネート、メチルアセテート、メタノール、エタノール、メチルイソシアネート、p−クロロフェニルイソシアネート、ジメチルカルボジイミド、ジメチル−tert−ブチルシリルクロライド、イソプロペニルアセテート、ジメチルウレア、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ジメチルジエトキシシラン、テトラ−N−ブトキシシラン、ジメチル(トリメチルシラン)フォスファイト、トリメチルフォスファイト、トリメチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、ジアゾメタン、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ベンジルグリシジルエーテル等が挙げられる。これらのエステル化剤は、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらのエステル化剤の中でも、コストを低減し、アクリル系樹脂に着色などの悪影響が出ないようにする点から、炭酸ジメチルが好ましい。エステル化剤の量は特に限定されないが、通常、原料アクリル系樹脂100質量部に対して、好ましくは0〜32質量部、より好ましくは0〜16質量部である。   Examples of the esterifying agent include dimethyl carbonate, 2,2-dimethoxypropane, dimethyl sulfoxide, triethyl orthoformate, trimethyl orthoacetate, trimethyl orthoformate, diphenyl carbonate, dimethyl sulfate, methyl toluene sulfonate, methyl trifluoromethyl sulfonate. , Methyl acetate, methanol, ethanol, methyl isocyanate, p-chlorophenyl isocyanate, dimethylcarbodiimide, dimethyl-tert-butylsilyl chloride, isopropenyl acetate, dimethylurea, tetramethylammonium hydroxide, dimethyldiethoxysilane, tetra-N-butoxy Silane, dimethyl (trimethylsilane) phosphite, trimethyl phosphite, Trimethyl phosphate, tricresyl phosphate, diazomethane, ethylene oxide, propylene oxide, cyclohexene oxide, 2-ethylhexyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, benzyl glycidyl ether. These esterifying agents may be used alone or in combination of two or more. Among these esterifying agents, dimethyl carbonate is preferable from the viewpoint of reducing cost and preventing adverse effects such as coloring on the acrylic resin. The amount of the esterifying agent is not particularly limited, but is usually preferably 0 to 32 parts by mass, and more preferably 0 to 16 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the raw acrylic resin.

エステル化剤は、触媒と併用してもよい。触媒としては、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン等の脂肪族3級アミン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン等の塩基触媒等が挙げられる。これらの触媒は、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの触媒の中でも、コストを低減し、アクリル系樹脂に着色などの悪影響が出ないようにする点から、ジアザビシクロウンデセンが好ましい。触媒の量は、特に限定されないが、通常、原料アクリル系樹脂100質量部に対して、好ましくは0〜10質量部、より好ましくは0〜5質量部、さらに好ましくは0〜2質量部である。   The esterifying agent may be used in combination with a catalyst. Examples of the catalyst include aliphatic tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, and tributylamine, and base catalysts such as diazabicycloundecene and diazabicyclononene. These catalysts may use only 1 type and may use 2 or more types together. Among these catalysts, diazabicycloundecene is preferable from the viewpoint of reducing cost and preventing adverse effects such as coloring on the acrylic resin. The amount of the catalyst is not particularly limited, but is usually preferably 0 to 10 parts by mass, more preferably 0 to 5 parts by mass, and still more preferably 0 to 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the raw acrylic resin. .

〔1−3.基材フィルムの構成および形成方法〕
本発明において、透明導電性フィルムに使用される基材フィルムは、主鎖に環構造を有し、ガラス転移温度が140℃以上のアクリル系樹脂を含有しているが、基材フィルムは、当該アクリル系樹脂を主成分として含有することが好ましい。従って、基材フィルム中の当該アクリル系樹脂の含有率は、50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上がより好ましく、85質量%以上がさらに好ましく、95質量%以上がさらにより好ましい。基材フィルムは、実質的に、主鎖に環構造を有し、ガラス転移温度が140℃以上のアクリル系樹脂のみから構成されていてもよい。アクリル系樹脂が式(1)で表される繰り返し単位と式(2)で表される繰り返し単位を有するものである場合も、このような含有率で基材フィルム中に含まれることが好ましい。
[1-3. Structure and forming method of base film]
In the present invention, the base film used for the transparent conductive film has a cyclic structure in the main chain and contains an acrylic resin having a glass transition temperature of 140 ° C. or higher. It is preferable to contain an acrylic resin as a main component. Therefore, the content of the acrylic resin in the base film is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, still more preferably 85% by mass or more, and even more preferably 95% by mass or more. . The base film may be substantially composed only of an acrylic resin having a ring structure in the main chain and having a glass transition temperature of 140 ° C. or higher. Even when the acrylic resin has a repeating unit represented by the formula (1) and a repeating unit represented by the formula (2), it is preferably contained in the base film with such a content.

基材フィルムは、主鎖に環構造を有するアクリル系樹脂以外の重合体を含有していてもよい。主鎖に環構造を有するアクリル系樹脂以外の重合体としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ(4−メチル−1−ペンテン)等のオレフィン重合体;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル等のハロゲン化ビニル重合体;ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系重合体;ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体等のスチレン系重合体;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル;セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等のセルロースアシレート;ナイロン6、ナイロン66、ナイロン610等のポリアミド;ポリアセタール;ポリカーボネート;ポリフェニレンオキシド;ポリフェニレンスルフィド;ポリエーテルエーテルケトン;ポリスルホン;ポリエーテルスルホン;ポリオキシベンジレン;ポリアミドイミド;ポリブタジエン系ゴムあるいはアクリル系ゴムを配合したABS樹脂、ASA樹脂等のゴム質重合体;等が挙げられる。   The base film may contain a polymer other than an acrylic resin having a ring structure in the main chain. Examples of polymers other than acrylic resins having a ring structure in the main chain include olefin polymers such as polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, poly (4-methyl-1-pentene); polyvinyl chloride, Vinyl halide polymers such as polyvinylidene chloride and polyvinyl chloride; acrylic polymers such as polymethyl methacrylate; polystyrene, styrene-methyl methacrylate copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene block Styrenic polymers such as copolymers; Polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; Cellulose such as cellulose triacetate, cellulose acetate propionate, and cellulose acetate butyrate Acylate; polyamide such as nylon 6, nylon 66, nylon 610; polyacetal; polycarbonate; polyphenylene oxide; polyphenylene sulfide; polyetheretherketone; polysulfone; polyethersulfone; polyoxybenzylene; polyamidoimide; And rubber polymers such as ABS resin and ASA resin.

基材フィルムは、種々の添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤等の酸化防止剤;耐光安定化剤、耐候安定化剤、熱安定化剤等の安定化剤;ガラス繊維、炭素繊維等の補強材;近赤外線吸収剤;トリス(ジブロモプロピル)ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモン等の難燃化剤;アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン界面活性剤等の帯電防止剤;無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤;有機充填材、無機充填材等の充填材;樹脂改質剤;可塑剤;滑剤等が挙げられる。これらの添加剤の基材フィルム中の含有率は、好ましくは0〜5質量%、より好ましくは0〜2質量%、さらに好ましくは0〜0.5質量%である。   The base film may contain various additives. Examples of additives include antioxidants such as hindered phenol antioxidants, phosphorus antioxidants, sulfur antioxidants; stabilization of light stabilizers, weather stabilizers, heat stabilizers, etc. Agents: Reinforcing materials such as glass fibers and carbon fibers; near infrared absorbers; flame retardants such as tris (dibromopropyl) phosphate, triallyl phosphate, antimony oxide; anionic surfactants, cationic surfactants, nonions Antistatic agents such as surfactants; colorants such as inorganic pigments, organic pigments and dyes; fillers such as organic fillers and inorganic fillers; resin modifiers; plasticizers; The content of these additives in the base film is preferably 0 to 5% by mass, more preferably 0 to 2% by mass, and still more preferably 0 to 0.5% by mass.

基材フィルムは、アクリル系樹脂を用い、例えば、Tダイ法、インフレーション法等の溶融押出成形法、キャスト成形法、プレス成形法等によって製造することができる。基材フィルムを溶融押出法によって製造する場合、例えば、単軸押出機、二軸押出機等を用いることができる。   The base film can be manufactured using an acrylic resin, for example, by a melt extrusion molding method such as a T-die method or an inflation method, a cast molding method, or a press molding method. When manufacturing a base film by a melt extrusion method, a single screw extruder, a twin screw extruder, etc. can be used, for example.

基材フィルムは、機械的強度を高める観点から、一軸延伸または二軸延伸されていることが好ましく、二軸延伸されていることがより好ましい。基材フィルムを二軸延伸させる方法としては、例えば、逐次二軸延伸法、同時二軸延伸法等が挙げられる。   The base film is preferably uniaxially stretched or biaxially stretched, and more preferably biaxially stretched from the viewpoint of increasing mechanical strength. Examples of the method of biaxially stretching the base film include a sequential biaxial stretching method and a simultaneous biaxial stretching method.

基材フィルムを延伸させる際の延伸温度は、破断させずに基材フィルムを延伸させるとともに、十分に分子配向させる観点から、延伸に供する樹脂組成物のガラス転移温度よりも20℃低い温度から当該ガラス転移温度よりも50℃高い温度までの温度範囲であることが好ましく、より好ましくは延伸に供する樹脂組成物のガラス転移温度よりも10℃低い温度から当該ガラス転移温度よりも30℃高い温度までの温度範囲である。   The stretching temperature when stretching the base film is from the temperature lower by 20 ° C. than the glass transition temperature of the resin composition to be stretched from the viewpoint of stretching the base film without breaking and sufficiently molecular orientation. It is preferably a temperature range up to a temperature that is 50 ° C. higher than the glass transition temperature, more preferably from a temperature that is 10 ° C. lower than the glass transition temperature of the resin composition subjected to stretching to a temperature that is 30 ° C. higher than the glass transition temperature. Temperature range.

基材フィルムの延伸倍率は、縦方向および当該縦方向に直交する横方向のいずれの方向においても、機械的強度を高める観点から、それぞれ、1.5〜3倍程度であることが好ましく、1.5〜2.5倍程度であることがより好ましい。   The stretching ratio of the base film is preferably about 1.5 to 3 times from the viewpoint of increasing mechanical strength in both the longitudinal direction and the transverse direction perpendicular to the longitudinal direction. More preferably, it is about 5 to 2.5 times.

延伸された基材フィルムの寸法変化率は、透明導電性フィルムへの二次加工が施されたフィルムの耐久性を向上させる観点から、1.0%以下であることが好ましく、0.7%以下がより好ましく、0.5%以下がさらに好ましく、0.2%以下が特に好ましい。   The dimensional change rate of the stretched base film is preferably 1.0% or less from the viewpoint of improving the durability of the film subjected to the secondary processing to the transparent conductive film, and is 0.7% The following is more preferable, 0.5% or less is more preferable, and 0.2% or less is particularly preferable.

基材フィルムの厚さは、透明導電性フィルムへの適用を考慮すると、20μm以上が好ましく、30μm以上がより好ましく、40μm以上がさらに好ましく、また400μm以下が好ましく、350μm以下がより好ましく、300μm以下がさらに好ましい。基材フィルムの厚さは、例えば、デジマチックマイクロメーター(ミツトヨ社製)を用いて測定する。   The thickness of the base film is preferably 20 μm or more, more preferably 30 μm or more, further preferably 40 μm or more, more preferably 400 μm or less, more preferably 350 μm or less, and more preferably 300 μm or less in consideration of application to a transparent conductive film. Is more preferable. The thickness of the base film is measured, for example, using a digimatic micrometer (manufactured by Mitutoyo Corporation).

基材フィルムの面内位相差Reは、基材フィルムの屈折率の異方性を抑制し、複屈折を小さくする観点から、20nm以下が好ましく、10nm以下がより好ましく、5nm以下がさらに好ましく、3nm以下が特に好ましい。また、基材フィルムの厚さ方向位相差Rthの絶対値は、面内位相差Reと同様に、基材フィルムの屈折率の異方性を抑制し、複屈折を小さくする観点から、20nm以下が好ましく、10nm以下がより好ましく、5nm以下がさらに好ましく、3nm以下が特に好ましい。例えば、上記に説明した応力光学係数(Cr)の絶対値を0.3×10-9Pa-1以下に制御することにより、二軸延伸後における基材フィルムの厚さ方向位相差Rthの絶対値を20nm以下とすることができる。 The in-plane retardation Re of the base film is preferably 20 nm or less, more preferably 10 nm or less, and even more preferably 5 nm or less, from the viewpoint of suppressing the anisotropy of the refractive index of the base film and reducing the birefringence. 3 nm or less is particularly preferable. In addition, the absolute value of the thickness direction retardation Rth of the substrate film is 20 nm or less from the viewpoint of suppressing the birefringence by suppressing the anisotropy of the refractive index of the substrate film, similarly to the in-plane retardation Re. Is preferably 10 nm or less, more preferably 5 nm or less, and particularly preferably 3 nm or less. For example, the absolute value of the thickness direction retardation Rth of the base film after biaxial stretching is controlled by controlling the absolute value of the stress optical coefficient (Cr) described above to 0.3 × 10 −9 Pa −1 or less. The value can be 20 nm or less.

基材フィルムの面内位相差Reおよび厚さ方向位相差Rthは、位相差フィルム・光学材料検査装置(大塚電子社製、品番:RETS−100)を用い、波長590nmの光で、入射角40°の条件で測定することにより求める。基材フィルムの面内位相差Reは、式:Re=(nx−ny)×d(式中、nxは波長590nmの光に対する遅相軸方向(基材フィルムの面内において最大の屈折率を示す方向)の屈折率、nyは進相軸方向(基材フィルムの面内におけるnxと垂直な方向)の屈折率、dは基材フィルムの厚さ(nm)を表す)に基づいて求められる。また、厚さ方向位相差Rthは、式:Rth={(nx+ny)/2−nz}×d(式中、nxは波長590nmの光に対する遅相軸方向の屈折率、nyは進相軸方向の屈折率、nzはフィルムの厚さ方向の屈折率、dはフィルムの厚さ(nm)を表す)に基づき求められる。   The in-plane retardation Re and the thickness direction retardation Rth of the base film were measured using a retardation film / optical material inspection apparatus (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., product number: RETS-100), and with an incident angle of 40 nm. Obtained by measuring under the condition of °. The in-plane retardation Re of the base film is expressed by the formula: Re = (nx−ny) × d (where nx is the slow axis direction with respect to light having a wavelength of 590 nm (the maximum refractive index in the plane of the base film) Ny is calculated based on the fast axis direction (direction perpendicular to nx in the plane of the base film), and d is the thickness (nm) of the base film). . The thickness direction phase difference Rth is expressed by the formula: Rth = {(nx + ny) / 2−nz} × d (where nx is the refractive index in the slow axis direction with respect to light having a wavelength of 590 nm, and ny is in the fast axis direction) Nz is the refractive index in the thickness direction of the film, and d is the thickness (nm) of the film).

基材フィルムの光弾性係数の絶対値は、光漏れ、特に高温高湿度の環境下における光漏れを抑制する観点から、10×10-12Pa-1以下が好ましく、6×10-12Pa-1以下がより好ましい。なお、基材フィルムの光弾性係数は次の方法に従い求める。すなわち、基材フィルムの延伸方向を長辺として20mm×50mmに切り出してサンプルを作製し、このサンプルをエリプソメーター(日本分光社製、品番:M−150)の光弾性計測ユニットに装着し、延伸方向と平行に5〜25Nの応力荷重を印加しながら複屈折を3点で計測し、波長590nmの光を用い、応力に対する複屈折の傾きを光弾性係数として求める。 The absolute value of the photoelastic coefficient of the base film is preferably 10 × 10 −12 Pa −1 or less, preferably 6 × 10 −12 Pa from the viewpoint of suppressing light leakage, particularly light leakage in a high temperature and high humidity environment. 1 or less is more preferable. In addition, the photoelastic coefficient of a base film is calculated | required according to the following method. That is, the sample was cut into 20 mm × 50 mm with the stretching direction of the base film as the long side to prepare a sample, and this sample was attached to a photoelasticity measurement unit of an ellipsometer (manufactured by JASCO Corporation, product number: M-150) and stretched. Birefringence is measured at three points while applying a stress load of 5 to 25 N in parallel to the direction, and the inclination of the birefringence with respect to the stress is obtained as a photoelastic coefficient using light having a wavelength of 590 nm.

基材フィルムの60〜100℃の温度範囲における線膨張係数は、高温環境下における寸法変化を抑制する観点から、80×10-6-1以下が好ましく、70×10-6-1以下がより好ましい。基材フィルムの60〜100℃における線膨張係数は、熱機械測定装置(島津製作所社製、品番:TMA−60)を用い、測定荷重5g、昇温速度5℃/minで、60℃から100℃に昇温する際の傾きとして求める。なお、測定用のサンプルは、基材フィルムを延伸方向を長辺として5mm×20mmの大きさに切り出し、これを60℃で15時間の前処理を行った後、室温まで冷却することにより調製する。 The linear expansion coefficient in the temperature range of 60 to 100 ° C. of the base film is preferably 80 × 10 −6 K −1 or less, and 70 × 10 −6 K −1 or less, from the viewpoint of suppressing dimensional changes in a high temperature environment. Is more preferable. The linear expansion coefficient of the base film at 60 to 100 ° C. was measured from 60 ° C. to 100 at a measurement load of 5 g and a heating rate of 5 ° C./min using a thermomechanical measuring device (manufactured by Shimadzu Corporation, product number: TMA-60). Calculated as the slope when the temperature is raised to ° C. The sample for measurement is prepared by cutting the base film into a size of 5 mm × 20 mm with the stretching direction as the long side, pretreating it at 60 ° C. for 15 hours, and then cooling to room temperature. .

基材フィルムの吸水率は、透明導電性フィルムへの成形加工性を向上させる観点から、3.0%以下であることが好ましく、2.5%以下がより好ましく、2.0%以下がさらに好ましい。基材フィルムの吸水率は次の方法により求める。すなわち、手動式加熱プレス機(井元製作所社製、IMC−180C型)を用い、250℃の温度で20MPaの圧力にて樹脂ペレットを2分間溶融プレス成形し、厚さが200μmの未延伸フィルムを作製し、得られた未延伸フィルムを80℃で24時間乾燥させた後、その質量Xを測定する。次に、前記で得られた未延伸フィルムを85℃、相対湿度85%の恒温槽内で保管することによって吸水させ、250時間経過後に恒温槽から取り出し、吸水後の未延伸フィルムの質量Yを測定する。測定した質量X,Yの値から、式:{(Y−X)/X}×100に基づき、吸水率を求める。   The water absorption rate of the base film is preferably 3.0% or less, more preferably 2.5% or less, and further preferably 2.0% or less, from the viewpoint of improving the molding processability to the transparent conductive film. preferable. The water absorption rate of the base film is determined by the following method. That is, using a manual heating press machine (IMC-180C, manufactured by Imoto Seisakusho Co., Ltd.), resin pellets were melt-pressed at a pressure of 20 MPa at a temperature of 250 ° C. for 2 minutes, and an unstretched film having a thickness of 200 μm was formed. The prepared and obtained unstretched film was dried at 80 ° C. for 24 hours, and then its mass X was measured. Next, the unstretched film obtained above is absorbed in water by storing it in a thermostatic bath at 85 ° C. and a relative humidity of 85%. After 250 hours, the unstretched film is taken out of the thermostat, and the mass Y of the unstretched film after water absorption is taking measurement. From the measured values of mass X and Y, the water absorption is determined based on the formula: {(Y−X) / X} × 100.

〔2.プライマー層〕
プライマー層は、基材フィルムの少なくとも片面に設けられ、基材フィルムとハードコート層との密着性を高めるように作用する。従って、プライマー層は、基材フィルムとハードコート層の間に、基材フィルムとハードコート層のそれぞれと接するように設けられる。プライマー層は、基材フィルムが有する面のうち、基材フィルムの厚み方向における面ではなく、基材フィルムの長手方向の辺と幅方向の辺とで決まる面、つまり表面および/または裏面に設けられる。
[2. (Primer layer)
The primer layer is provided on at least one side of the base film, and acts to enhance the adhesion between the base film and the hard coat layer. Accordingly, the primer layer is provided between the base film and the hard coat layer so as to be in contact with each of the base film and the hard coat layer. The primer layer is provided not on the surface of the base film in the thickness direction of the base film but on the surface determined by the side in the longitudinal direction and the side in the width direction of the base film, that is, the front surface and / or the back surface. It is done.

プライマー層の厚さは特に限定されず、基材フィルムの厚さによって異なるが、例えば、1nm以上が好ましく、10nm以上がより好ましく、50nm以上がさらに好ましく、また10μm以下が好ましく、5μm以下がより好ましく、1.5μm以下がさらに好ましい。プライマー層の厚さがこのような範囲にあれば、基材フィルムとハードコート層との密着性を高めやすくなり、またプライマー層自体によって位相差が発現することを抑えることができる。   The thickness of the primer layer is not particularly limited and varies depending on the thickness of the substrate film. For example, it is preferably 1 nm or more, more preferably 10 nm or more, further preferably 50 nm or more, and preferably 10 μm or less, more preferably 5 μm or less. Preferably, it is 1.5 μm or less. If the thickness of the primer layer is within such a range, it is easy to improve the adhesion between the base film and the hard coat layer, and it is possible to suppress the development of a phase difference due to the primer layer itself.

プライマー層は、基材フィルムやハードコート層と屈折率が近い材料から構成されることが好ましく、樹脂を含有することが好ましい。プライマー層に含まれる樹脂としては、易接着性を有する公知の樹脂またはその複合樹脂を用いることができ、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリオール樹脂、ポリカルボン酸樹脂、またはこれらの複合樹脂が挙げられる。これらの樹脂は、1種のみを用いても、2種以上を併用してもよい。好ましくは、プライマー層は、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、およびこれらの複合樹脂よりなる群よりから選ばれる樹脂を含有し、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、およびポリエステル−アクリル複合樹脂から選ばれる少なくとも1種を含むことがより好ましい。   The primer layer is preferably composed of a material having a refractive index close to that of the base film or the hard coat layer, and preferably contains a resin. As the resin contained in the primer layer, a known resin having easy adhesion or a composite resin thereof can be used. For example, a polyester resin, an acrylic resin, a urethane resin, a cellulose resin, a polyol resin, a polycarboxylic acid resin, or These composite resins are mentioned. These resins may be used alone or in combination of two or more. Preferably, the primer layer contains a resin selected from the group consisting of a polyester resin, an acrylic resin, a urethane resin, and a composite resin thereof, and at least one selected from a urethane resin, an acrylic resin, and a polyester-acrylic composite resin. More preferably it contains a seed.

基材フィルムへのプライマー層の形成方法は限定されず、公知の方法に従えばよい。プライマー層は、易接着性を有する樹脂を含有する易接着用組成物を基材フィルムに塗布して、当該組成物の塗布膜を形成した後、形成した塗布膜を乾燥させて形成することが好ましい。   The formation method of the primer layer to a base film is not limited, What is necessary is just to follow a well-known method. The primer layer may be formed by applying an easy-adhesion composition containing an easily-adhesive resin to a base film, forming a coating film of the composition, and then drying the formed coating film. preferable.

〔2−1.ポリエステル樹脂〕
易接着性を有する樹脂として用いられるポリエステル樹脂は、水分散性であることが好ましい。ポリエステル樹脂は、公知の製造方法により、例えばジカルボン酸成分とグリコール成分とをエステル化あるいはエステル交換反応後、重縮合反応させることによって得ることができるが、その製造方法については何ら限定されるものではない。例えば、ジカルボン酸成分とグリコール成分とを130〜200℃でエステル化あるいはエステル交換反応させ、次いで減圧条件下において200〜250℃で重縮合反応させことにより、易接着性を有するポリエステル樹脂を得ることができる。この際に用いられる触媒としては、酢酸亜鉛、酢酸マンガン等の酢酸金属塩、酸化アンチモン、酸化ゲルマニウム等の金属酸化物、チタン化合物等が挙げられる。
[2-1. Polyester resin)
The polyester resin used as the resin having easy adhesion is preferably water dispersible. The polyester resin can be obtained by a known production method, for example, by subjecting a dicarboxylic acid component and a glycol component to a polycondensation reaction after esterification or transesterification, but the production method is not limited in any way. Absent. For example, a dicarboxylic acid component and a glycol component are esterified or transesterified at 130 to 200 ° C., and then subjected to a polycondensation reaction at 200 to 250 ° C. under reduced pressure conditions to obtain a polyester resin having easy adhesion. Can do. Examples of the catalyst used in this case include metal acetates such as zinc acetate and manganese acetate, metal oxides such as antimony oxide and germanium oxide, and titanium compounds.

ポリエステル樹脂の共重合成分であるジカルボン酸成分は、エステル形成性スルホン酸アルカリ金属塩化合物を必須的に含むことが好ましい。エステル形成性スルホン酸アルカリ金属塩化合物としては、スルホテレフタル酸、5−スルホイソフタル酸、4−スルホイソフタル酸、4−スルホナフタレン酸−2,7−ジカルボン酸等のアルカリ金属塩(スルホン酸のアルカリ金属塩)、およびこれらのエステル形成性誘導体が挙げられ、5−スルホイソフタル酸のナトリウム塩、およびそのエステル形成性誘導体が好ましく用いられる。   It is preferable that the dicarboxylic acid component which is a copolymerization component of the polyester resin essentially contains an ester-forming sulfonic acid alkali metal salt compound. Examples of the ester-forming alkali metal salt of sulfonic acid include alkali metal salts such as sulfoterephthalic acid, 5-sulfoisophthalic acid, 4-sulfoisophthalic acid, 4-sulfonaphthalenic acid-2,7-dicarboxylic acid (alkali sulfonic acid alkali). Metal salts), and ester-forming derivatives thereof, and the sodium salt of 5-sulfoisophthalic acid and ester-forming derivatives thereof are preferably used.

ジカルボン酸成分中のエステル形成性スルホン酸アルカリ金属塩化合物の含有量は、6モル%以上であることが好ましく、10モル%以上がより好ましく、また20モル%以下が好ましく、18モル%以下がより好ましい。ジカルボン酸成分中のエステル形成性スルホン酸アルカリ金属塩化合物の含有量が6モル%未満では、水に対する樹脂の分散時間が長くなり、プライマー層の耐溶剤性が不十分となるおそれがある。一方、前記含有量が20モル%を超えると、プライマー層の耐水性が低下する傾向がある。   The content of the ester-forming sulfonic acid alkali metal salt compound in the dicarboxylic acid component is preferably 6 mol% or more, more preferably 10 mol% or more, and preferably 20 mol% or less, preferably 18 mol% or less. More preferred. When the content of the ester-forming alkali metal sulfonate compound in the dicarboxylic acid component is less than 6 mol%, the dispersion time of the resin in water becomes long, and the solvent resistance of the primer layer may be insufficient. On the other hand, if the content exceeds 20 mol%, the water resistance of the primer layer tends to decrease.

ジカルボン酸成分は、エステル形成性スルホン酸アルカリ金属塩化合物以外に含有可能なその他のジカルボン酸成分を含んでいてもよい。その他のジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、テレフタル酸ジメチル、イソフタル酸、イソフタル酸ジメチル、2,5−ジメチルテレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、オルソフタル酸等の芳香族ジカルボン酸;コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸;シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環族ジカルボン酸等が挙げられる。なかでも、その他のジカルボン酸成分としては、芳香族ジカルボン酸が好ましく、テレフタル酸、またはイソフタル酸がより好ましい。その他のジカルボン酸成分として芳香族ジカルボン酸を用いれば、芳香族ジカルボン酸の芳香核によって基材フィルムやハードコート層との親和性を高めることができ、密着性の向上効果が期待できる。   The dicarboxylic acid component may contain other dicarboxylic acid components that can be contained in addition to the ester-forming sulfonic acid alkali metal salt compound. Other dicarboxylic acid components include fragrances such as phthalic acid, terephthalic acid, dimethyl terephthalate, isophthalic acid, dimethyl isophthalate, 2,5-dimethylterephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, biphenyldicarboxylic acid, orthophthalic acid, etc. An aliphatic dicarboxylic acid such as succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, and dodecane dicarboxylic acid; an alicyclic dicarboxylic acid such as cyclohexane dicarboxylic acid, and the like. Especially, as other dicarboxylic acid components, aromatic dicarboxylic acid is preferable, and terephthalic acid or isophthalic acid is more preferable. When aromatic dicarboxylic acid is used as the other dicarboxylic acid component, the affinity with the base film or the hard coat layer can be increased by the aromatic nucleus of the aromatic dicarboxylic acid, and the effect of improving adhesion can be expected.

ポリエステル樹脂の共重合成分であるグリコール成分としては、炭素数2〜8の脂肪族グリコール、炭素数6〜12の脂環族グリコ−ル、芳香族グリコール等が挙げられる。炭素数2〜8の脂肪族グリコールとしては、エチレングリコ−ル、1,3−プロパンジオ−ル、1,2−プロピレングリコ−ル、ネオペンチルグリコ−ル、1,4−ブタンジオ−ル、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコ−ル等が挙げられる。炭素数6〜12の脂環族グリコ−ルとしては、1,4−シクロヘキサンジメタノ−ル、1,3−シクロヘキサンジメタノ−ル、1,2−シクロヘキサンジメタノ−ル等が挙げられる。芳香族グリコールとしては、p−キシリレングリコ−ル等が挙げられる。これらのグリコール類は、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the glycol component that is a copolymer component of the polyester resin include aliphatic glycols having 2 to 8 carbon atoms, alicyclic glycols having 6 to 12 carbon atoms, and aromatic glycols. Examples of the aliphatic glycol having 2 to 8 carbon atoms include ethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,2-propylene glycol, neopentyl glycol, 1,4-butanediol, , 6-hexanediol, diethylene glycol, triethylene glycol and the like. Examples of the alicyclic glycol having 6 to 12 carbon atoms include 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,2-cyclohexanedimethanol and the like. Examples of the aromatic glycol include p-xylylene glycol. These glycols may use only 1 type and may use 2 or more types together.

グリコール成分は、ジエチレングリコールを必須的に含むことが好ましい。この場合、グリコール成分中のジエチレングリコールの含有量は20〜80モル%の範囲内となることが好ましい。ジエチレングリコールがこのような含有量で含まれていれば、有機溶剤(例えば、アルコールや、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤)に対する耐溶剤性を高めることができる。   It is preferable that the glycol component essentially contains diethylene glycol. In this case, the content of diethylene glycol in the glycol component is preferably in the range of 20 to 80 mol%. When diethylene glycol is contained in such a content, the solvent resistance against organic solvents (for example, alcohols, aromatic solvents such as toluene and xylene) can be improved.

ポリエステル樹脂は、数平均分子量が2,000以上であることが好ましく、2,500以上がより好ましく、また30,000以下が好ましく、25,000以下がより好ましい。ポリエステル樹脂の数平均分子量が2,000以上であれば、耐溶剤性を高めやすくなり、数平均分子量が30,000以下であれば、樹脂の水分散性が高まり、取り扱い性が向上する。   The polyester resin preferably has a number average molecular weight of 2,000 or more, more preferably 2,500 or more, preferably 30,000 or less, and more preferably 25,000 or less. When the number average molecular weight of the polyester resin is 2,000 or more, the solvent resistance is easily improved, and when the number average molecular weight is 30,000 or less, the water dispersibility of the resin is increased and the handleability is improved.

ポリエステル樹脂を水分散性とする場合は、水または水性溶剤を含む水に50〜90℃加温撹拌下で均一に分散させて用いることが好ましい。なお、このようにして得られる水分散体は、固形分濃度が高くなると均一な分散体が得られにくいため、水分散体中のポリエステル固形分濃度は30質量%以下とすることが好ましい。水性溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール等の低級アルコール;エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコール;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。   When making a polyester resin water-dispersible, it is preferable to use it uniformly dispersed in water containing water or an aqueous solvent at 50 to 90 ° C. with heating and stirring. In addition, since the water dispersion obtained in this way cannot obtain a uniform dispersion when the solid content concentration becomes high, the polyester solid content concentration in the water dispersion is preferably 30% by mass or less. Examples of the aqueous solvent include lower alcohols such as methanol, ethanol, normal propanol, and isopropanol; polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, and glycerin; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, Examples include propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol acetate, diethylene glycol monomethyl ether, and dipropylene glycol monomethyl ether.

ポリエステル樹脂は、好ましくは、カルボキシル基を有する。カルボキシル基を有することにより、基材フィルムやハードコート層との密着性が向上する。この効果は、特に高温・高湿の環境下において顕著である。カルボキシル基を有するポリエステル樹脂は公知の製造技術により製造されればよい。カルボキシル基を有するポリエステル樹脂は、例えば、三価以上の多価カルボン酸またはそのエステル形成性誘導体(以下、総称して「三価以上の多価カルボン酸等」と称する)を用いて縮合反応または重縮合反応を行うことにより、三価以上の多価カルボン酸等に起因するカルボキシル基が樹脂骨格中に残存するために得られる。三価以上の多価カルボン酸等としては、例えば、ヘミメリット酸、トリメリット酸、トリメジン酸、メロファン酸、ピロメリット酸、ベンゼンペンタカルボン酸、メリット酸、シクロプロパン−1,2,3−トリカルボン酸、シクロペンタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸、エタンテトラカルボン酸等の多価カルボン酸、およびこれらのエステル形成性誘導体が挙げられる。これらの中でも特に無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、およびこれらのエステル形成性誘導体を使用すると、ポリエステル樹脂の三次元架橋が十分に抑制され、ポリエステル樹脂中にカルボキシル基を有効に残存させることができる。   The polyester resin preferably has a carboxyl group. By having a carboxyl group, the adhesion to the base film and the hard coat layer is improved. This effect is particularly remarkable in a high temperature / high humidity environment. The polyester resin having a carboxyl group may be produced by a known production technique. The polyester resin having a carboxyl group may be, for example, a condensation reaction using a trivalent or higher polyvalent carboxylic acid or an ester-forming derivative thereof (hereinafter collectively referred to as “a trivalent or higher polyvalent carboxylic acid or the like”). By carrying out the polycondensation reaction, a carboxyl group resulting from a trivalent or higher polyvalent carboxylic acid or the like remains in the resin skeleton. Examples of the trivalent or higher polyvalent carboxylic acid include hemimellitic acid, trimellitic acid, trimedic acid, merophanic acid, pyromellitic acid, benzenepentacarboxylic acid, meritic acid, and cyclopropane-1,2,3-tricarboxylic acid. Examples include acids, polyvalent carboxylic acids such as cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid and ethanetetracarboxylic acid, and ester-forming derivatives thereof. Among these, especially when trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, and ester-forming derivatives thereof are used, the three-dimensional crosslinking of the polyester resin is sufficiently suppressed, and the carboxyl group can be effectively left in the polyester resin. it can.

〔2−2.アクリル樹脂〕
易接着性を有する樹脂として用いられるアクリル樹脂は、水性(メタ)アクリル系樹脂分散体で形成されることが好ましい。水性(メタ)アクリル系樹脂分散体は、代表的には、乳化剤を用いて、モノマー組成物を乳化重合させて得られる。
[2-2. acrylic resin〕
The acrylic resin used as the resin having easy adhesion is preferably formed of an aqueous (meth) acrylic resin dispersion. The aqueous (meth) acrylic resin dispersion is typically obtained by emulsion polymerization of a monomer composition using an emulsifier.

前記モノマー組成物に含まれるモノマーとしては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等の水酸基を有するモノマー;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、tert−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロオクチル(メタ)アクリレート、シクロドデシル(メタ)アクリレート、イソボルニルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペンタニルアクリレー、4−メチロールシクロヘキシルメチルアクリレート、4−メチルシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート等のシクロアルキル基を有するモノマー;グリシジル(メタ)アクリレート、α−メチルグリシジルアクリレート、グリシジルアリルエーテル、オキソシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、α−メチルグリシジルメタクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート等のエポキシ基を有するモノマーが挙げられる。また、他のモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸−2−エチルヘキシル等の(メタ)アクリル酸エステル類;(メタ)アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、無水マレイン酸、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノブチル、イタコン酸モノメチル、イタコン酸モノブチル、ビニル安息香酸、シュウ酸モノヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジブチル等のカルボキシル基を有するモノマー;(メタ)アクリロイルアジリジン、(メタ)アクリル酸2−アジリジニルエチル等のアジリジニル基を有するモノマー;2−イソプロペニル−2−オキサゾリン、2−ビニルー2−オキサゾリン等のオキサゾリン基を有するモノマー;(メタ)アクリルアミド、N−モノエチル(メタ)アクリルアミド、N−モノメチル(メタ)アクリルアミド、N、N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−n−プロピル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−n−ブチル(メタ)アクリルアミド等のアクリルアミド誘導体類;スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、クロルメチルスチレン等のスチレン誘導体類;(メタ)アクリルニトリル等のシアノ基を有するモノマー;(メタ)アクリル酸ジメチルアミノエチル、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルピロリドン、ポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルモルホリンおよびヒドロキシアルキル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。   Examples of the monomer contained in the monomer composition include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4 A monomer having a hydroxyl group such as hydroxybutyl (meth) acrylate; cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, tert-butylcyclohexyl (meth) acrylate, cyclooctyl (meth) acrylate, cyclododecyl (meth) acrylate, Isobornyl methacrylate, isobornyl acrylate, dicyclopentanyl methacrylate, dicyclopentanyl acrylate, 4-methylolcyclohexylmethyl acrylate, 4- Monomers having a cycloalkyl group such as tilcyclohexylmethyl (meth) acrylate and cyclohexylmethyl (meth) acrylate; glycidyl (meth) acrylate, α-methylglycidyl acrylate, glycidyl allyl ether, oxocyclohexylmethyl (meth) acrylate, 3, 4 -Monomers having an epoxy group such as epoxy cyclohexyl methyl acrylate, α-methyl glycidyl methacrylate, and 3,4-epoxy cyclohexyl methyl methacrylate. Examples of other monomers include (meth) acrylic acid esters such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid-2-ethylhexyl; (Meth) acrylic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, itaconic acid, citraconic acid, maleic anhydride, monomethyl maleate, monobutyl maleate, monomethyl itaconate, monobutyl itaconate, vinylbenzoic acid, monohydroxyethyl oxalate Monomers having a carboxyl group such as (meth) acrylate, dimethyl maleate, diethyl maleate, dibutyl maleate, dimethyl fumarate, diethyl fumarate, dibutyl fumarate; (meth) acryloylaziridine, (meth) acrylic acid 2-azi Aziri such as lysinylethyl A monomer having an nyl group; a monomer having an oxazoline group such as 2-isopropenyl-2-oxazoline and 2-vinyl-2-oxazoline; (meth) acrylamide, N-monoethyl (meth) acrylamide, N-monomethyl (meth) acrylamide, Acrylamide derivatives such as N, N-dimethyl (meth) acrylamide, Nn-propyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, Nn-butyl (meth) acrylamide; styrene, vinyltoluene, α- Styrene derivatives such as methylstyrene and chloromethylstyrene; monomers having a cyano group such as (meth) acrylonitrile; dimethylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylamide, vinylpyridine, vinylimidazo And vinyl pyrrolidone, polyalkylene glycol (meth) acrylate, (meth) acryloylmorpholine, and hydroxyalkyl (meth) acrylamide.

前記乳化剤としては、任意の適切な乳化剤を用いればよく、例えば、アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、高分子界面活性剤、分子中に1個以上の重合可能な炭素−炭素不飽和結合を有する重合性界面活性剤等が挙げられる。これらは、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Any appropriate emulsifier may be used as the emulsifier. For example, an anionic surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an amphoteric surfactant, a polymer surfactant, and 1 in a molecule. Examples thereof include polymerizable surfactants having at least one polymerizable carbon-carbon unsaturated bond. These may use only 1 type and may use 2 or more types together.

乳化剤として用いられるアニオン性界面活性剤としては、例えば、ナトリウムドデシルサルフェート、カリウムドデシルサルフェート等のアルカリ金属アルキルサルフェート類;アンモニウムドデシルサルフェート等のアンモニウムアルキルサルフェート類;ナトリウムドデシルポリグリコールエーテルサルフェート、ナトリウムスルホシノエート、スルホン化パラフィンのアルカリ金属塩類;スルホン化パラフィンのアンモニウム塩等のアルキルスルホネート類;ナトリウムラウリレート、トリエタノールアミンオレエート、トリエタノールアミンアビエテート等の脂肪酸塩類;ナトリウムドデシルベンゼンスルホネート、アルカリフェノールヒドロキシエチレンのアルカリ金属サルフェート等のアルキルアリールスルホネート類;高級アルキルナフタレンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルサルフェート塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールサルフェート塩等が挙げられる。   Examples of the anionic surfactant used as an emulsifier include alkali metal alkyl sulfates such as sodium dodecyl sulfate and potassium dodecyl sulfate; ammonium alkyl sulfates such as ammonium dodecyl sulfate; sodium dodecyl polyglycol ether sulfate and sodium sulfosinoate Alkali metal salts of sulfonated paraffins; alkyl sulfonates such as ammonium salts of sulfonated paraffins; fatty acid salts such as sodium laurate, triethanolamine oleate, triethanolamine abiate; sodium dodecylbenzene sulfonate, alkali phenol hydroxyethylene Alkyl aryl sulfonates such as alkali metal sulfates; Kill naphthalenesulfonates, naphthalenesulfonic acid-formalin condensates, dialkyl sulfosuccinates, polyoxyethylene alkyl sulfates salts, polyoxyethylene alkylaryl sulfate salts.

乳化剤として用いられるノニオン性界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、グリセロールのモノラウレート等の脂肪酸モノグリセライド類、ポリオキシエチレンオキシプロピレン共重合体、エチレンオキサイドと脂肪酸アミン、アミドまたは酸との縮合生成物等が挙げられる。   Nonionic surfactants used as emulsifiers include, for example, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, fatty acid monoglycerides such as glycerol monolaurate, poly Examples thereof include oxyethyleneoxypropylene copolymers, condensation products of ethylene oxide and fatty acid amines, amides or acids.

乳化剤として用いられるカチオン性界面活性剤としては、例えば、アルキルピリジニルクロライド、アルキルアンモニウムクロライド等が挙げられる。   Examples of the cationic surfactant used as an emulsifier include alkyl pyridinyl chloride and alkyl ammonium chloride.

乳化剤として用いられる両性界面活性剤としては、例えば、ラウリルペタイン、ステアリルペタイン、ラウリルジメチルアミンオキサイド等が挙げられる。   Examples of the amphoteric surfactant used as an emulsifier include lauryl petaine, stearyl petaine, lauryl dimethylamine oxide, and the like.

乳化剤として用いられる高分子界面活性剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリ(メタ)アクリル酸ナトリウム、ポリ(メタ)アクリル酸カリウム、ポリ(メタ)アクリル酸アンモニウム、ポリヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ポリヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、これらの重合体の構成単位である重合性単量体の2種以上の共重合体または他の単量体との共重合体、クラウンエーテル類の相関移動触媒等が挙げられる。   Examples of the polymer surfactant used as an emulsifier include polyvinyl alcohol, sodium poly (meth) acrylate, potassium poly (meth) acrylate, ammonium poly (meth) acrylate, polyhydroxyethyl (meth) acrylate, poly Hydroxypropyl (meth) acrylate, copolymers of two or more polymerizable monomers that are constituent units of these polymers or copolymers with other monomers, phase transfer catalysts for crown ethers, etc. Can be mentioned.

乳化剤として用いられる重合性界面活性剤としては、例えば、プロペニル−2−エチルヘキシルベンゼンスルホコハク酸エステルナトリウム、(メタ)アクリル酸ポリオキシエチレンの硫酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルプロペニルエーテル硫酸アンモニウム塩、(メタ)アクリル酸ポリオキシエチレンエステルのリン酸エステル等のアニオン性重合性界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキルベンゼンエーテル(メタ)アクリル酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル(メタ)アクリル酸エステル等のノニオン性重合性界面活性剤等が挙げられる。   Examples of the polymerizable surfactant used as an emulsifier include sodium propenyl-2-ethylhexylbenzenesulfosuccinate, sulfate of polyoxyethylene (meth) acrylate, polyoxyethylene alkylpropenyl ether sulfate ammonium salt, and (meth) acrylic. Anionic polymerizable surfactants such as phosphoric acid esters of acid polyoxyethylene esters; nonionic polymerizable surfactants such as polyoxyethylene alkylbenzene ether (meth) acrylic acid esters and polyoxyethylene alkyl ether (meth) acrylic acid esters Agents and the like.

水性(メタ)アクリル系樹脂分散体を得る際の乳化重合の方法としては、公知の方法を採用すればよく、例えば、モノマー組成物、乳化剤、重合開始剤、水性媒体を一括添加して重合する方法や、いわゆるモノマー滴下法、プレエマルジョン法等を用いることができる。また、シード重合、コア・シェル重合、パワーフィード重合等の多段重合を行い、エマルジョン粒子を異相構造化させてもよい。   As a method of emulsion polymerization for obtaining an aqueous (meth) acrylic resin dispersion, a known method may be employed. For example, a monomer composition, an emulsifier, a polymerization initiator, and an aqueous medium are added at a time for polymerization. A method, a so-called monomer dropping method, a pre-emulsion method, or the like can be used. Further, the emulsion particles may be made into a heterophasic structure by performing multi-stage polymerization such as seed polymerization, core-shell polymerization, and power feed polymerization.

乳化剤の配合量(合計配合量)は適宜設定すればよく、例えば、モノマー組成物100質量部に対して0.5〜10質量部とすることが好ましい。乳化重合の際の水性媒体としては、通常、水が用いられ、必要に応じて低級アルコールやケトン等の親水性溶媒を併用することができる。   What is necessary is just to set the compounding quantity (total compounding quantity) of an emulsifier suitably, for example, it is preferable to set it as 0.5-10 mass parts with respect to 100 mass parts of monomer compositions. As the aqueous medium for emulsion polymerization, water is usually used, and a hydrophilic solvent such as a lower alcohol or a ketone can be used in combination as necessary.

乳化重合に用いる重合開始剤としては、公知の重合開始剤を用いることができ、例えば、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)・二塩酸塩、4,4’−アゾビス(4−シアノペンタン酸)等の水溶性アゾ化合物;過硫酸カリウム等の過硫酸塩類;過酸化水素、過酢酸、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド等の過酸化物等が挙げられる。これらは1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。重合開始剤の配合量は、例えば、モノマー組成物100質量部に対して0.01〜1質量部とすることが好ましい。   As a polymerization initiator used for emulsion polymerization, a known polymerization initiator can be used. For example, 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2-amidinopropane) / dihydrochloric acid Salts, water-soluble azo compounds such as 4,4′-azobis (4-cyanopentanoic acid); persulfates such as potassium persulfate; hydrogen peroxide, peracetic acid, benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, etc. And the like. These may use only 1 type and may use 2 or more types together. It is preferable that the compounding quantity of a polymerization initiator shall be 0.01-1 mass part with respect to 100 mass parts of monomer compositions, for example.

乳化重合に際し、重合速度を促進させるため、または、低温で重合する場合には、連鎖移動剤を用いてもよい。連鎖移動剤としては、例えば、重亜硫酸ナトリウム、塩化第一鉄、アスコルビン酸塩、ロンガリット等の還元剤を用い得る。また、上記乳化重合に際し、t−ドデシルメルカプタン、n−オクチルメルカプタン、n−ドデシルメルカプタン、メルカプト酢酸、メルカプトプロピオン酸、2−メルカプトエタノール等の連鎖移動剤を用い得る。   In the case of emulsion polymerization, a chain transfer agent may be used in order to accelerate the polymerization rate or when polymerization is performed at a low temperature. As the chain transfer agent, for example, a reducing agent such as sodium bisulfite, ferrous chloride, ascorbate, or longalite can be used. In the above emulsion polymerization, a chain transfer agent such as t-dodecyl mercaptan, n-octyl mercaptan, n-dodecyl mercaptan, mercaptoacetic acid, mercaptopropionic acid, 2-mercaptoethanol and the like can be used.

乳化重合を行う際の反応温度と反応時間は適宜設定すればよい。反応温度は、好ましくは0〜100℃、より好ましくは50〜90℃である。反応時間は、好ましくは1時間〜15時間である。   What is necessary is just to set suitably the reaction temperature and reaction time at the time of performing emulsion polymerization. The reaction temperature is preferably 0 to 100 ° C, more preferably 50 to 90 ° C. The reaction time is preferably 1 hour to 15 hours.

水性(メタ)アクリル系樹脂分散体は、当該分散体の安定性を向上させるため、中和剤により中和されていることが好ましい。水性(メタ)アクリル系樹脂分散体のpHは、好ましくは5〜10、より好ましくは6〜9.5、さらに好ましくは7〜9.5である。pHが5未満であると、当該分散体の安定性、機械的安定性が低下するおそれがある。pHが10を超えると、耐水性の低下や臭気の発生など、実用性に問題があるおそれがある。   The aqueous (meth) acrylic resin dispersion is preferably neutralized with a neutralizing agent in order to improve the stability of the dispersion. The pH of the aqueous (meth) acrylic resin dispersion is preferably 5 to 10, more preferably 6 to 9.5, and even more preferably 7 to 9.5. If the pH is less than 5, the dispersion and mechanical stability of the dispersion may be lowered. When pH exceeds 10, there exists a possibility that there may be a problem in practicality, such as a fall of water resistance and generation | occurrence | production of an odor.

前記中和剤としては、任意の適切な中和剤を用いればよく、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属化合物類;水酸化カルシウム、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属化合物類;アンモニア;ジメチルアミノエタノール、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノプロピルアミン、ジメチルプロピルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン等の水溶性有機アミン類等が挙げられる。これら中和剤は、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、アンモニアや、ジメチルアミノエタノール、トリエタノールアミン、トリメチルアミン等の3級アミン類が好ましく用いられ、より好ましくは、アンモニアや、ジメチルアミノエタノール、トリメチルアミン等の低沸点アミン類である。このような中和剤を用いることにより、耐水性に優れたプライマー層を得ることができる。   Any appropriate neutralizing agent may be used as the neutralizing agent, for example, alkali metal compounds such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkaline earth metal compounds such as calcium hydroxide and calcium carbonate; Ammonia: Water-soluble organic amines such as dimethylaminoethanol, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monopropylamine, dimethylpropylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, ethylenediamine, diethylenetriamine, etc. Is mentioned. These neutralizing agents may be used alone or in combination of two or more. Among these, tertiary amines such as ammonia, dimethylaminoethanol, triethanolamine, and trimethylamine are preferably used, and more preferably low-boiling amines such as ammonia, dimethylaminoethanol, and trimethylamine. By using such a neutralizing agent, a primer layer having excellent water resistance can be obtained.

プライマー層に含有し得るアクリル樹脂は、カルボキシル基および/またはエポキシ基を有することが好ましい。すなわち、アクリル樹脂は、カルボキシル基とエポキシ基のどちらか一方または両方を有することが好ましい。プライマー層に含まれるアクリル樹脂がカルボキシル基および/またはエポキシ基を有していれば、プライマー層の基材フィルムやハードコート層への密着性を向上させることができる。この効果は、特に高温・高湿の環境下において顕著である。   The acrylic resin that can be contained in the primer layer preferably has a carboxyl group and / or an epoxy group. That is, the acrylic resin preferably has one or both of a carboxyl group and an epoxy group. If the acrylic resin contained in the primer layer has a carboxyl group and / or an epoxy group, the adhesion of the primer layer to the base film or hard coat layer can be improved. This effect is particularly remarkable in a high temperature / high humidity environment.

カルボキシル基やエポキシ基を含有するアクリル樹脂は公知の方法により製造すればよい。カルボキシル基含有アクリル樹脂は、例えば、(メタ)アクリル酸、マレイン酸等のカルボキシル基を有するモノマー組成物を重合することで得られる。エポキシ基含有アクリル樹脂は、グリシジル(メタ)アクリレート、α−メチルグリシジルアクリレート等のエポキシ基を有するモノマー組成物を重合することで得られる。カルボキシル基とエポキシ基の両方を含有するアクリル樹脂は、カルボキシル基を有するモノマーおよびエポキシ基を有するモノマーの両方を含むモノマー組成物を重合することで得られる。   An acrylic resin containing a carboxyl group or an epoxy group may be produced by a known method. The carboxyl group-containing acrylic resin can be obtained, for example, by polymerizing a monomer composition having a carboxyl group such as (meth) acrylic acid or maleic acid. The epoxy group-containing acrylic resin can be obtained by polymerizing a monomer composition having an epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate and α-methylglycidyl acrylate. The acrylic resin containing both a carboxyl group and an epoxy group can be obtained by polymerizing a monomer composition containing both a monomer having a carboxyl group and a monomer having an epoxy group.

〔2−3.ウレタン樹脂〕
易接着性を有する樹脂として用いられるウレタン樹脂は、典型的には、ポリイソシアネートとポリオールとを反応させて得ることができる。ウレタン樹脂は水分散性であることが好ましい。
[2-3. Urethane resin)
The urethane resin used as a resin having easy adhesion can typically be obtained by reacting a polyisocyanate and a polyol. The urethane resin is preferably water-dispersible.

ポリイソシアネートとしては、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、1,4−ブタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、2−メチルペンタン−1,5−ジイソシアネート、3−メチルペンタン−1,5−ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート;イソホロンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、4,4’−シクロヘキシルメタンジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート;トリレンジイソシアネート、2,2’−ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、4,4’−ジベンジルジイソシアネート、1,5−ナフチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、1,3−フェニレンジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート;ジアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、テトラアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、α,α,α,α−テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香脂肪族ジイソシアネート等を用いることができる。   Examples of polyisocyanates include tetramethylene diisocyanate, dodecamethylene diisocyanate, 1,4-butane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, and lysine diisocyanate. Aliphatic diisocyanates such as 2-methylpentane-1,5-diisocyanate, 3-methylpentane-1,5-diisocyanate; isophorone diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, 4,4′-cyclohexylmethane diisocyanate, 1,4- Cycloaliphatic diisocyanate, methylcyclohexylene diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, etc. Cyanate; tolylene diisocyanate, 2,2′-diphenylmethane diisocyanate, 2,4′-diphenylmethane diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 4,4′-diphenyldimethylmethane diisocyanate, 4,4′-dibenzyl diisocyanate, 1 , 5-naphthylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, 1,3-phenylene diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate and other aromatic diisocyanates; dialkyldiphenylmethane diisocyanate, tetraalkyldiphenylmethane diisocyanate, α, α, α, α-tetramethylxylylene An araliphatic diisocyanate such as range isocyanate can be used.

ポリオールは、分子中にヒドロキシル基を2個以上有する、任意のポリオールを用いることができる。ポリオールとしては、例えば、ポリアクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール等が挙げられる。これらのポリオールは、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   As the polyol, any polyol having two or more hydroxyl groups in the molecule can be used. Examples of the polyol include polyacryl polyol, polyester polyol, polyether polyol and the like. These polyols may use only 1 type and may use 2 or more types together.

ポリアクリルポリオールとしては、典型的には、(メタ)アクリル酸エステル単量体と、水酸基を有する単量体との共重合体が挙げられる。(メタ)アクリル酸エステル単量体は、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル等を用いることができる。水酸基を有する単量体は、例えば、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシペンチル等の(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル;グリセリン、トリメチロールプロパン等の多価アルコールの(メタ)アクリル酸モノエステル;N−メチロール(メタ)アクリルアミド等を用いることができる。   Typically, the polyacryl polyol includes a copolymer of a (meth) acrylic acid ester monomer and a monomer having a hydroxyl group. As the (meth) acrylic acid ester monomer, for example, methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, or the like can be used. Examples of the monomer having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, (Meth) acrylic acid hydroxyalkyl esters such as (meth) acrylic acid 4-hydroxybutyl and (meth) acrylic acid 2-hydroxypentyl; (meth) acrylic acid monoesters of polyhydric alcohols such as glycerin and trimethylolpropane; N -Methylol (meth) acrylamide etc. can be used.

ポリアクリルポリオールは、さらなる他の単量体との共重合体であってもよい。他の単量体は、(メタ)アクリル酸エステル単量体および水酸基を有する単量体と共重合が可能である限り、特に限定されない。他の単量体としては、例えば、(メタ)アクリル酸等の不飽和モノカルボン酸;マレイン酸等の不飽和ジカルボン酸ならびにその無水物およびモノまたはジエステル類;(メタ)アクリロニトリル等の不飽和ニトリル類;(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド等の不飽和アミド類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル類;メチルビニルエーテル等のビニルエーテル類;エチレン、プロピレン等のα−オレフィン類;塩化ビニル、塩化ビニリデン等のハロゲン化α,β−不飽和脂肪族単量体;スチレン、α−メチルスチレン等のα,β−不飽和芳香族単量体等が挙げられる。   The polyacryl polyol may be a copolymer with further other monomers. The other monomer is not particularly limited as long as it can be copolymerized with a (meth) acrylic acid ester monomer and a monomer having a hydroxyl group. Examples of other monomers include unsaturated monocarboxylic acids such as (meth) acrylic acid; unsaturated dicarboxylic acids such as maleic acid and anhydrides and mono- or diesters thereof; unsaturated nitriles such as (meth) acrylonitrile Unsaturated amides such as (meth) acrylamide and N-methylol (meth) acrylamide; Vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; Vinyl ethers such as methyl vinyl ether; α-olefins such as ethylene and propylene; Examples include halogenated α, β-unsaturated aliphatic monomers such as vinyl chloride and vinylidene chloride; α, β-unsaturated aromatic monomers such as styrene and α-methylstyrene.

ポリエステルポリオールは、例えば、多塩基酸成分とポリオール成分との反応により得ることができる。   The polyester polyol can be obtained, for example, by a reaction between a polybasic acid component and a polyol component.

多塩基酸成分としては、例えば、オルトフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、2,5−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、テトラヒドロフタル酸等の芳香族ジカルボン酸;シュウ酸、コハク酸、マロン酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、デカンジカルボン酸、ドデカンジカルボン酸、オクタデカンジカルボン酸、酒石酸、アルキルコハク酸、リノレイン酸、マレイン酸、フマル酸、メサコン酸、シトラコン酸、イタコン酸等の脂肪族ジカルボン酸;ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環式ジカルボン酸;あるいは、これらの酸無水物、アルキルエステル、酸ハライド等の反応性誘導体等を用いることができる。   Examples of the polybasic acid component include orthophthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 2,5-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, biphenyldicarboxylic acid, tetrahydrophthalic acid and the like. Aromatic dicarboxylic acids: oxalic acid, succinic acid, malonic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, decanedicarboxylic acid, dodecanedicarboxylic acid, octadecanedicarboxylic acid, tartaric acid, alkylsuccinic acid Aliphatic dicarboxylic acids such as linolenic acid, maleic acid, fumaric acid, mesaconic acid, citraconic acid, itaconic acid; hexahydrophthalic acid, tetrahydrophthalic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, etc. The alicyclic dicarboxylic acid ; Or, it is possible to use their anhydrides, alkyl esters, reactive derivatives such as acid halides and the like.

ポリオール成分としては、例えば、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオール、1,10−デカンジオール、1−メチル−1,3−ブチレングリコール、2−メチル−1,3−ブチレングリコール、1−メチル−1,4−ペンチレングリコール、2−メチル−1,4−ペンチレングリコール、1,2−ジメチル−ネオペンチルグリコール、2,3−ジメチル−ネオペンチルグリコール、1−メチル−1,5−ペンチレングリコール、2−メチル−1,5−ペンチレングリコール、3−メチル−1,5−ペンチレングリコール、1,2−ジメチルブチレングリコール、1,3−ジメチルブチレングリコール、2,3−ジメチルブチレングリコール、1,4−ジメチルブチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジオール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールF等を用いることができる。   Examples of the polyol component include ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, pentanediol, and 1,6-hexane. Diol, 1,8-octanediol, 1,10-decanediol, 1-methyl-1,3-butylene glycol, 2-methyl-1,3-butylene glycol, 1-methyl-1,4-pentylene glycol, 2-methyl-1,4-pentylene glycol, 1,2-dimethyl-neopentyl glycol, 2,3-dimethyl-neopentyl glycol, 1-methyl-1,5-pentylene glycol, 2-methyl-1, 5-pentylene glycol, 3-methyl-1,5-pentylene glycol, 1,2-dimethylbuty Glycol, 1,3-dimethylbutylene glycol, 2,3-dimethylbutylene glycol, 1,4-dimethylbutylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol 1,4-cyclohexanediol, bisphenol A, bisphenol F, hydrogenated bisphenol A, hydrogenated bisphenol F, and the like can be used.

ポリエーテルポリオールは、典型的には、多価アルコールにアルキレンオキシドを開環重合して付加させることにより得ることができる。   The polyether polyol can be typically obtained by adding an alkylene oxide to a polyhydric alcohol by ring-opening polymerization.

多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパンである。アルキレンオキシドは、例えば、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、スチレンオキシド、テトラヒドロフラン等を用いることができる。   Examples of the polyhydric alcohol include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, glycerin, and trimethylolpropane. As the alkylene oxide, for example, ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, styrene oxide, tetrahydrofuran or the like can be used.

プライマー層に含有し得るウレタン樹脂は、好ましくは、カルボキシル基を有する。プライマー層に含まれるウレタン樹脂がカルボキシル基を有していれば、プライマー層の基材フィルムやハードコート層への密着性を向上させることができる。この効果は、特に高温・高湿の環境下において顕著である。   The urethane resin that can be contained in the primer layer preferably has a carboxyl group. If the urethane resin contained in the primer layer has a carboxyl group, the adhesion of the primer layer to the base film or hard coat layer can be improved. This effect is particularly remarkable in a high temperature / high humidity environment.

カルボキシル基を有するウレタン樹脂は、例えば、ポリイソシアネートとポリオールとに加え、遊離カルボキシル基を有する鎖長剤を反応させることにより得ることができる。遊離カルボキシル基を有する鎖長剤としては、例えば、ジヒドロキシカルボン酸、ジヒドロキシスクシン酸等を用いることができる。ジヒドロキシカルボン酸は、例えば、ジメチロールアルカン酸(例えば、ジメチロール酢酸、ジメチロールブタン酸、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロール酪酸、ジメチロールペンタン酸)等のジアルキロールアルカン酸が挙げられる。   The urethane resin having a carboxyl group can be obtained, for example, by reacting a chain extender having a free carboxyl group in addition to polyisocyanate and polyol. As a chain extender having a free carboxyl group, for example, dihydroxycarboxylic acid, dihydroxysuccinic acid and the like can be used. Examples of the dihydroxycarboxylic acid include dialkylolalkanoic acids such as dimethylolalkanoic acid (for example, dimethylolacetic acid, dimethylolbutanoic acid, dimethylolpropionic acid, dimethylolbutyric acid, dimethylolpentanoic acid).

ウレタン樹脂の酸価は、10mgKOH/g以上が好ましく、20mgKOH/g以上がより好ましく、また50mgKOH/g以下が好ましく、45mgKOH/g以下がより好ましい。ウレタン樹脂の酸価をこのように調整することにより、プライマー層の基材フィルムやハードコート層への密着性をより高めることができる。   The acid value of the urethane resin is preferably 10 mgKOH / g or more, more preferably 20 mgKOH / g or more, preferably 50 mgKOH / g or less, more preferably 45 mgKOH / g or less. By adjusting the acid value of the urethane resin in this way, the adhesion of the primer layer to the base film or hard coat layer can be further enhanced.

ウレタン樹脂は、上述した各成分に加えて、さらに他のポリオールあるいは他の鎖長剤との反応によって得られるものでもよい。他のポリオールとしては、例えば、ソルビトール、1,2,3,6−ヘキサンテトラオール、1,4−ソルビタン、1,2,4−ブタントリオール、1,2,5−ペンタントリオール、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等、3以上の水酸基を有するポリオールが挙げられる。他の鎖長剤としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、プロピレングリコール等のグリコール類;エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、1,4−ブタンジアミン、アミノエチルエタノールアミン等の脂肪族ジアミン;イソホロンジアミン、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジアミン等の脂環族ジアミン;キシリレンジアミン、トリレンジアミン等の芳香族ジアミンが挙げられる。   The urethane resin may be obtained by reaction with other polyols or other chain extenders in addition to the components described above. Examples of other polyols include sorbitol, 1,2,3,6-hexanetetraol, 1,4-sorbitan, 1,2,4-butanetriol, 1,2,5-pentanetriol, glycerin, and trimethylol. Examples include ethane, trimethylolpropane, pentaerythritol and other polyols having three or more hydroxyl groups. Examples of other chain extenders include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, pentanediol, 1,6 -Glycols such as hexanediol and propylene glycol; aliphatic diamines such as ethylenediamine, propylenediamine, hexamethylenediamine, 1,4-butanediamine, and aminoethylethanolamine; isophoronediamine, 4,4'-dicyclohexylmethanediamine, etc. Alicyclic diamines; and aromatic diamines such as xylylenediamine and tolylenediamine.

ウレタン樹脂は、公知の方法を応用して製造することができ、例えば、各成分を一度に反応させるワンショット法、段階的に反応させる多段法等を採用すればよい。カルボキシル基を有するウレタン樹脂は、カルボキシル基の導入が容易であることから、多段法により製造することが好ましい。ウレタン樹脂の製造に用いる触媒は、特に限定されない。   The urethane resin can be produced by applying a known method. For example, a one-shot method in which each component is reacted at a time, a multistage method in which the components are reacted stepwise, and the like may be employed. The urethane resin having a carboxyl group is preferably produced by a multistage method because the introduction of the carboxyl group is easy. The catalyst used for the production of the urethane resin is not particularly limited.

〔2−4.ポリエステル−アクリル複合樹脂〕
易接着性を有する樹脂としてポリエステル−アクリル複合樹脂が用いられる場合、ポリエステル−アクリル複合樹脂は、ポリエステル樹脂とアクリル樹脂との混合物から形成してもよいし、ポリエステル樹脂に(メタ)アクリル単量体を共重合した樹脂から形成してもよい。なお、環境規制の観点から、プライマー層を形成する際には溶剤系よりも水系が有利であるため、ポリエステル−アクリル複合樹脂は水分散性であることが好ましく、特にポリエステル樹脂は水分散性であることがより好ましい。
[2-4. Polyester-acrylic composite resin)
When a polyester-acrylic composite resin is used as the resin having easy adhesion, the polyester-acrylic composite resin may be formed from a mixture of a polyester resin and an acrylic resin, or a (meth) acrylic monomer is added to the polyester resin. You may form from resin which copolymerized. From the viewpoint of environmental regulations, when forming the primer layer, since the aqueous system is more advantageous than the solvent system, the polyester-acrylic composite resin is preferably water-dispersible, and in particular, the polyester resin is water-dispersible. More preferably.

ポリエステル−アクリル複合樹脂を形成するポリエステル樹脂は、易接着性を有する樹脂として用いられるポリエステル樹脂として上記に説明したものを用いることができる。ポリエステル−アクリル複合樹脂を形成するアクリル樹脂も、易接着性を有する樹脂として用いられるアクリル樹脂として上記に説明したものを用いることができる。   As the polyester resin forming the polyester-acrylic composite resin, those described above as the polyester resin used as the resin having easy adhesion can be used. As the acrylic resin forming the polyester-acrylic composite resin, those described above as the acrylic resin used as the resin having easy adhesion can be used.

ポリエステル−アクリル複合樹脂のポリエステル樹脂成分とアクリル樹脂成分との配合比は特に限定されないが、ポリエステル樹脂/アクリル樹脂の固形分質量比は、10/90以上が好ましく、20/80以上がより好ましく、また80/20以下が好ましく、70/30以下がより好ましい。   The compounding ratio of the polyester resin component and the acrylic resin component of the polyester-acrylic composite resin is not particularly limited, but the solid content mass ratio of the polyester resin / acrylic resin is preferably 10/90 or more, more preferably 20/80 or more, Moreover, 80/20 or less is preferable and 70/30 or less is more preferable.

ポリエステル−アクリル複合樹脂はエポキシ基を有することが好ましい。具体的には、ポリエステル樹脂に複合化するアクリル樹脂は、エポキシ基を有していることが好ましい。ポリエステル−アクリル複合樹脂がエポキシ基を有することにより、プライマー層の耐溶剤性が向上し、また基材フィルムやハードコート層との密着性が向上する。   The polyester-acrylic composite resin preferably has an epoxy group. Specifically, the acrylic resin compounded with the polyester resin preferably has an epoxy group. When the polyester-acrylic composite resin has an epoxy group, the solvent resistance of the primer layer is improved, and the adhesion to the base film or the hard coat layer is improved.

エポキシ基含有アクリル樹脂は、エポキシ基含有ラジカル重合性不飽和モノマーを単独重合したり、エポキシ基含有ラジカル重合性不飽和モノマーとこれに共重合することができる他のラジカル重合性不飽和モノマーとを共重合することにより得ることができる。エポキシ基含有ラジカル重合性不飽和モノマーは、エポキシ基含有アクリル樹脂の内部架橋を進めることにより、耐水性や耐溶剤性を向上させると考えられる。特にアセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶剤や、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤に対する耐溶剤性を高めることができる。   The epoxy group-containing acrylic resin is obtained by homopolymerizing an epoxy group-containing radical polymerizable unsaturated monomer, or an epoxy group-containing radical polymerizable unsaturated monomer and another radical polymerizable unsaturated monomer that can be copolymerized therewith. It can be obtained by copolymerization. The epoxy group-containing radically polymerizable unsaturated monomer is considered to improve water resistance and solvent resistance by advancing internal crosslinking of the epoxy group-containing acrylic resin. In particular, the solvent resistance to ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone and ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate can be enhanced.

エポキシ基含有ラジカル重合性不飽和モノマーとしては、例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、アリルグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル類が挙げられる。   Examples of the epoxy group-containing radical polymerizable unsaturated monomer include glycidyl ethers such as glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, and allyl glycidyl ether.

エポキシ基含有ラジカル重合性不飽和モノマーと共重合することができるラジカル重合性不飽和モノマーとしては、ビニルエステル、不飽和カルボン酸エステル、不飽和カルボン酸アミド、不飽和ニトリル、不飽和カルボン酸、アリル化合物、含窒素系ビニルモノマー、炭化水素ビニルモノマー、およびビニルシラン化合物が挙げられる。   Examples of the radical polymerizable unsaturated monomer that can be copolymerized with the epoxy group-containing radical polymerizable unsaturated monomer include vinyl ester, unsaturated carboxylic acid ester, unsaturated carboxylic acid amide, unsaturated nitrile, unsaturated carboxylic acid, and allyl. Examples include compounds, nitrogen-containing vinyl monomers, hydrocarbon vinyl monomers, and vinyl silane compounds.

ビニルエステルとしては、例えば、プロピオン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、高級第3級ビニルエステル、塩化ビニル、臭化ビニル等が挙げられる。   Examples of the vinyl ester include vinyl propionate, vinyl stearate, higher tertiary vinyl ester, vinyl chloride, vinyl bromide and the like.

不飽和カルボン酸エステルとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、マレイン酸ブチル、マレイン酸オクチル、フマル酸ブチル、フマル酸オクチル、メタクリル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸ヒドロキシエチル、メタクリル酸ヒドロキシプロピル、アクリル酸ヒドロキシプロピル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、アクリル酸ジメチルアミノエチル、エチレングリコールジメタクリル酸エステル、エチレングリコールジアクリル酸エステル、ポリエチレングリコールジメタクリル酸エステル、ポリエチレングリコールジアクリル酸エステル等が挙げられる。   Examples of unsaturated carboxylic acid esters include methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, butyl maleate, octyl maleate, and fumaric acid. Butyl, octyl fumarate, hydroxyethyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, hydroxypropyl methacrylate, hydroxypropyl acrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, dimethylaminoethyl acrylate, ethylene glycol dimethacrylate, ethylene glycol diacrylic acid Examples thereof include esters, polyethylene glycol dimethacrylic acid esters, and polyethylene glycol diacrylic acid esters.

不飽和カルボン酸アミドとしては、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、メチロールアクリルアミド、ブトキシメチロールアクリルアミド等が挙げられる。   Examples of the unsaturated carboxylic acid amide include acrylamide, methacrylamide, methylol acrylamide, butoxymethylol acrylamide and the like.

不飽和ニトリルとしては、例えば、アクリロニトリル等が挙げられる。   Examples of unsaturated nitriles include acrylonitrile.

不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、マレイン酸酸性エステル、フマル酸酸性エステル、イタコン酸酸性エステル等が挙げられる。   Examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, maleic acid acidic ester, fumaric acid acidic ester, itaconic acid acidic ester, and the like.

アリル化合物としては、例えば、酢酸アリル、メタクリル酸アリル、アクリル酸アリル、イタコン酸ジアリル等が挙げられる。   Examples of the allyl compound include allyl acetate, allyl methacrylate, allyl acrylate, diallyl itaconate, and the like.

含窒素系ビニルモノマーとしては、例えば、ビニルピリジン、ビニルイミダゾールが、また炭化水素ビニルモノマーとしてはエチレン、プロピレン、ヘキセン、オクテン、スチレン、ビニルトルエン、ブタジエン等が挙げられる。   Examples of the nitrogen-containing vinyl monomer include vinyl pyridine and vinyl imidazole, and examples of the hydrocarbon vinyl monomer include ethylene, propylene, hexene, octene, styrene, vinyl toluene, and butadiene.

ビニルシラン化合物としては、例えば、ジメチルビニルメトキシシラン、ジメチルビニルエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルジメトキシシラン等が挙げられる。   Examples of the vinylsilane compound include dimethylvinylmethoxysilane, dimethylvinylethoxysilane, methylvinyldimethoxysilane, methylvinyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyldimethoxysilane, and the like.

エポキシ基含有ラジカル重合性不飽和モノマーは、アクリル樹脂を形成する全モノマー中、10〜100質量%含まれることが好ましく、20〜100質量%含まれることがより好ましい。なお、エポキシ基含有ラジカル重合性不飽和モノマーの含有量が10質量%未満の場合は、アルコールに対する耐溶剤性は得られるが、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤に対する耐溶剤性が不十分となるおそれがある。   The epoxy group-containing radically polymerizable unsaturated monomer is preferably contained in an amount of 10 to 100% by mass, more preferably 20 to 100% by mass, based on all monomers forming the acrylic resin. In addition, when the content of the epoxy group-containing radical polymerizable unsaturated monomer is less than 10% by mass, solvent resistance to alcohol can be obtained, but ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, and the like. There is a risk that the solvent resistance to the system solvent will be insufficient.

ポリエステル−アクリル複合樹脂は、エポキシ基に加え、さらにカルボキシル基を有することが好ましい。具体的には、ポリエステル樹脂に複合化するアクリル樹脂が、エポキシ基に加え、さらにカルボキシル基を有していることが好ましい。カルボキシル基を有するアクリル樹脂は、ラジカル重合性不飽和モノマーとして、アクリル酸、メタクリル酸等の不飽和カルボン酸を用いることにより得ることができる。ラジカル重合性不飽和モノマーとして、アクリル酸、メタクリル酸等の不飽和カルボン酸を用いると、エポキシ基との架橋により、プライマー層の耐溶剤性が向上し、基材フィルムやハードコート層との密着性をより向上させることができる。   The polyester-acrylic composite resin preferably further has a carboxyl group in addition to the epoxy group. Specifically, it is preferable that the acrylic resin compounded with the polyester resin has a carboxyl group in addition to the epoxy group. The acrylic resin having a carboxyl group can be obtained by using an unsaturated carboxylic acid such as acrylic acid or methacrylic acid as the radical polymerizable unsaturated monomer. When an unsaturated carboxylic acid such as acrylic acid or methacrylic acid is used as the radical polymerizable unsaturated monomer, the solvent resistance of the primer layer is improved due to crosslinking with the epoxy group, and adhesion to the base film or hard coat layer is improved. The sex can be further improved.

不飽和カルボン酸モノマーは、アクリル樹脂を形成する全モノマー中、5〜20質量%含まれることが好ましい。不飽和カルボン酸モノマーの含有量が5質量%以上とすることにより、エポキシ基との併用効果を高めることができる。一方、不飽和カルボン酸モノマーの含有量が20質量%を超えると、重合中の粘度が高くなりすぎたり、経時的に液がゲル化し、貯蔵安定性が低下しやすくなる。   It is preferable that 5-20 mass% of unsaturated carboxylic acid monomers are contained in all the monomers which form an acrylic resin. When the content of the unsaturated carboxylic acid monomer is 5% by mass or more, the combined effect with the epoxy group can be enhanced. On the other hand, when the content of the unsaturated carboxylic acid monomer exceeds 20% by mass, the viscosity during polymerization becomes too high, or the liquid gels with time, and the storage stability tends to be lowered.

エポキシ基含有アクリル樹脂は公知の方法により製造することができる。例えば、反応槽にイオン交換水、重合開始剤、界面活性剤を仕込み、一方、滴下槽にイオン交換水と界面活性剤を仕込み、モノマーを投入して乳化物を作製し、乳化物を反応槽に滴下して反応を行うことにより、エポキシ基含有アクリル樹脂を得ることができる。この際、反応温度は60〜100℃とし、反応は4時間〜10時間行うことが好ましい。なお、エポキシ基含有アクリル樹脂は当該製造方法に限定されるものではない。   The epoxy group-containing acrylic resin can be produced by a known method. For example, ion-exchanged water, a polymerization initiator, and a surfactant are charged into a reaction tank, while ion-exchanged water and a surfactant are charged into a dropping tank, and monomers are added to prepare an emulsion. An epoxy group-containing acrylic resin can be obtained by performing a reaction by dropping the solution onto the epoxy resin. At this time, the reaction temperature is preferably 60 to 100 ° C., and the reaction is preferably performed for 4 to 10 hours. The epoxy group-containing acrylic resin is not limited to the production method.

乳化重合に使用する界面活性剤としては、アニオン性またはノニオン性の反応性または非反応性の界面活性剤を用いることが好ましい。反応性界面活性剤としては、例えば、アルキルアリルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルプロペニルフェニルエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシアルキレンアルケニルエーテル硫酸塩、(メタ)アクリレート硫酸エステル塩等のアニオン系界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキルプロペニルフェニルエーテル、ポリオキシアルキレンアルケニルエーテル、(メタ)アクリレート硫酸エステル等のノニオン系界面活性剤等が挙げられる。非反応性界面活性剤としては、例えば、アルキル硫酸エステル、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、ポリオキシエチレンアルキル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル等のアニオン系界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンジフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル等のノニオン系界面活性剤等が挙げられる。これらの界面活性剤は、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   As the surfactant used for emulsion polymerization, an anionic or nonionic reactive or non-reactive surfactant is preferably used. Examples of the reactive surfactant include anionic surfactants such as alkylallylsulfosuccinate, polyoxyethylene alkylpropenyl phenyl ether sulfate, polyoxyalkylene alkenyl ether sulfate, and (meth) acrylate sulfate; Nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylpropenyl phenyl ether, polyoxyalkylene alkenyl ether, (meth) acrylate sulfate and the like can be mentioned. Non-reactive surfactants include, for example, anionic interfaces such as alkyl sulfates, alkylbenzene sulfonates, alkyl sulfosuccinates, alkyl diphenyl ether disulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl phosphates, etc. Activators: Nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, polyoxyethylene diphenyl ether, polyoxyethylene fatty acid ester, and the like. These surfactants may be used alone or in combination of two or more.

乳化重合に使用する重合開始剤としては、一般的なラジカル重合性開始剤(例えば、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素等の水溶性過酸化物;過酸化ベンゾイル、t−ブチルハイドロパーオキサイド等の油溶性過酸化物;アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物等)を用いることができる。   As a polymerization initiator used for emulsion polymerization, a general radical polymerizable initiator (for example, a water-soluble peroxide such as potassium persulfate, ammonium persulfate, hydrogen peroxide; benzoyl peroxide, t-butyl hydroperoxide). Oil-soluble peroxides such as azo compounds such as azobisisobutyronitrile).

〔2−5.ウレタン−アクリル複合樹脂〕
易接着性を有する樹脂としてウレタン−アクリル複合樹脂が用いられる場合、ウレタン−アクリル複合樹脂は、例えば、上記に説明したポリエステル−アクリル複合樹脂の製造方法において、ポリエステルをウレタンに変更することによって、あるいは前述のようにウレタン樹脂製造時にポリアクリルポリオールを使用することによって製造することができる。
[2-5. Urethane-acrylic composite resin)
When the urethane-acrylic composite resin is used as the resin having easy adhesion, the urethane-acrylic composite resin is obtained by, for example, changing the polyester to urethane in the method for producing the polyester-acrylic composite resin described above, or As described above, it can be produced by using a polyacryl polyol at the time of producing a urethane resin.

〔2−6.ポリエステル−ウレタン複合樹脂〕
易接着性を有する樹脂としてポリエステル−ウレタン複合樹脂が用いられる場合、ポリエステル−ウレタン複合樹脂は、例えば、上記に説明したウレタン樹脂の製造方法において、ポリエステルポリオールを使用することによって製造することができる。
[2-6. Polyester-urethane composite resin)
When a polyester-urethane composite resin is used as the resin having easy adhesion, the polyester-urethane composite resin can be produced by using a polyester polyol in the urethane resin production method described above, for example.

〔2−7.水溶性樹脂〕
プライマー層は、水溶性樹脂を含有していてもよい。プライマー層が水溶性樹脂を含有していれば、プライマー層の基材フィルムやハードコート層への密着性を高めることができる。
[2-7. Water-soluble resin)
The primer layer may contain a water-soluble resin. If the primer layer contains a water-soluble resin, the adhesion of the primer layer to the base film or hard coat layer can be enhanced.

水溶性樹脂の種類は特に限定されず、公知の水溶性樹脂またはその複合樹脂を用いることができる。水溶性樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ポリアクリル酸およびその塩、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等が挙げられる。これらの中でも、ポリビニルアルコールまたはポリビニルピロリドンが好ましく用いられる。   The kind of water-soluble resin is not particularly limited, and a known water-soluble resin or a composite resin thereof can be used. Examples of the water-soluble resin include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene glycol, polyacrylic acid and salts thereof, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, and the like. Among these, polyvinyl alcohol or polyvinyl pyrrolidone is preferably used.

プライマー層は、易接着性を有する樹脂を含有する易接着用組成物を基材フィルムに塗布することに形成することができるが、水溶性樹脂は、易接着用組成物が基材フィルムに塗布される際に、易接着用組成物に含まれるようにすればよい。易接着用組成物は、予め水溶性樹脂を含有していても、水溶性樹脂を含有している組成物との混合物であってもよい。   The primer layer can be formed by applying an easy-adhesive composition containing an easily adhesive resin to the base film, but the water-soluble resin is applied to the base film by an easy-adhesive composition. What is necessary is just to make it contain in the composition for easy-bonding. The composition for easy adhesion may contain a water-soluble resin in advance or may be a mixture with a composition containing a water-soluble resin.

水溶性樹脂を含有する易接着用組成物は、易接着性を有する樹脂と水溶性樹脂とを混合することによって得ることができ、また、水溶性樹脂を含有していない易接着用組成物と水溶性樹脂を含有している組成物とを混合することによって得ることもできる。これらの組成物は、水系の組成物であることが好ましく、易接着性を有する樹脂および/または水溶性樹脂の分散体であることがより好ましく、典型的には、易接着性を有する樹脂のエマルジョンおよび/または水溶性樹脂のエマルジョンである。易接着性を有する樹脂および水溶性樹脂のエマルジョンは、乾燥によって、易接着性を有する樹脂および水溶性樹脂を含有する樹脂層となる。   The easy-adhesion composition containing a water-soluble resin can be obtained by mixing an easily-adhesive resin and a water-soluble resin, and the easy-adhesion composition not containing a water-soluble resin It can also be obtained by mixing with a composition containing a water-soluble resin. These compositions are preferably water-based compositions, more preferably a resin having easy adhesion and / or a dispersion of a water-soluble resin, and typically a resin having easy adhesion. An emulsion and / or an emulsion of a water-soluble resin. The emulsion of the easily adhesive resin and the water-soluble resin becomes a resin layer containing the easily adhesive resin and the water-soluble resin by drying.

易接着用組成物において、易接着性を有する樹脂と水溶性樹脂との配合比は特に限定されないが、易接着性を有する樹脂/水溶性樹脂の固形分質量比は、10/90以上が好ましく、20/80以上がより好ましく、30/70以上がさらに好ましく、また100/0以下が好ましく、90/10以下がより好ましく、80/20以下がさらに好ましい。易接着性を有する樹脂と水溶性樹脂との配合比をこのような範囲に調整することで、プライマー層の密着性と耐水性を高めることができる。   In the easy-adhesion composition, the compounding ratio of the easily-adhesive resin and the water-soluble resin is not particularly limited, but the solid content mass ratio of the easily-adhesive resin / water-soluble resin is preferably 10/90 or more. 20/80 or more is more preferable, 30/70 or more is more preferable, 100/0 or less is preferable, 90/10 or less is more preferable, and 80/20 or less is more preferable. By adjusting the blending ratio of the resin having easy adhesion and the water-soluble resin to such a range, the adhesion and water resistance of the primer layer can be enhanced.

〔2−8.微粒子成分〕
プライマー層は、微粒子を含有していてもよい。プライマー層が微粒子を含有していれば、耐ブロッキング性を高めることができる。
[2-8. Fine particle component)
The primer layer may contain fine particles. If the primer layer contains fine particles, the blocking resistance can be improved.

微粒子としては、任意の適切な微粒子を用いることができ、好ましくは、水分散性の微粒子である。微粒子としては、無機系微粒子、有機系微粒子のいずれも用いることができ、有機無機複合微粒子であってもよい。   Any appropriate fine particles can be used as the fine particles, and water-dispersible fine particles are preferable. As the fine particles, either inorganic fine particles or organic fine particles can be used, and organic-inorganic composite fine particles may be used.

無機系微粒子としては、例えば、シリカ、チタニア、アルミナ、ジルコニア等の無機酸化物、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、燐酸カルシウム等が挙げられる。有機系微粒子としては、例えば、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂等が挙げられる。これらの中でも、好ましくは、シリカである。シリカは、ブロッキング抑制能や透明性に優れ、ヘイズを生じず、着色もないので、透明導電性フィルムの光学特性に悪影響をほとんど及ぼさない。またシリカは、易接着用組成物への分散性および分散安定性が良好となるため、プライマー層の形成時の作業性にも優れ、さらに基材フィルムやハードコート層との密着性にも優れるものとなる。   Examples of the inorganic fine particles include inorganic oxides such as silica, titania, alumina, zirconia, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate, calcium phosphate, and the like. Can be mentioned. Examples of the organic fine particles include silicone resins, fluorine resins, (meth) acrylic resins, and the like. Among these, silica is preferable. Silica is excellent in blocking inhibition ability and transparency, does not cause haze, and is not colored, so it hardly affects the optical properties of the transparent conductive film. Silica has excellent dispersibility and dispersion stability in the easy-adhesion composition, so that it is excellent in workability at the time of forming the primer layer, and also excellent in adhesion to the base film and the hard coat layer. It will be a thing.

プライマー層を形成する組成物(易接着用組成物)が水系の場合、好ましくは、微粒子は水分散体として配合される。例えば微粒子としてシリカを採用する場合は、コロイダルシリカを用いることができる。コロイダルシリカとしては、例えば、扶桑化学工業社製のクォートロン(登録商標)PLシリーズ、日産化学工業社製のスノーテックス(登録商標)シリーズ、日本アエロジル社製のAERODISP(登録商標)シリーズおよびAEROSIL(登録商標)シリーズ等を用いることができる。   When the composition forming the primer layer (composition for easy adhesion) is water-based, the fine particles are preferably blended as an aqueous dispersion. For example, when silica is employed as the fine particles, colloidal silica can be used. Examples of colloidal silica include Quartron (registered trademark) PL series manufactured by Fuso Chemical Industries, Snowtex (registered trademark) series manufactured by Nissan Chemical Industries, Aerodisp (registered trademark) series and Aerosil (registered trademark) manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. Trademark) series or the like can be used.

プライマー層における微粒子の含有率は、10質量%未満が好ましく、5質量%未満がより好ましく、2質量%未満がさらに好ましい。微粒子の含有率が10質量%を超えると、プライマー層の塗膜強度が低下したり透明性が損なわれたりすることがある。プライマー層における微粒子の含有率の下限は、プライマー層に微粒子を含有させる効果を発現させる点から、0.1質量%以上が好ましく、0.15質量%以上がより好ましく、0.2質量%以上がさらに好ましい。なお、プライマー層には微粒子が含まれていなくてもよい。   The content of fine particles in the primer layer is preferably less than 10% by mass, more preferably less than 5% by mass, and still more preferably less than 2% by mass. When the content of the fine particles exceeds 10% by mass, the coating film strength of the primer layer may be lowered or the transparency may be impaired. The lower limit of the content rate of the fine particles in the primer layer is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.15% by mass or more, and more preferably 0.2% by mass or more from the viewpoint of expressing the effect of containing the fine particles in the primer layer. Is more preferable. The primer layer may not contain fine particles.

基材フィルムとハードコート層との密着性を高めるために、微粒子の粒子径(平均一次粒子径)は、1nm以上が好ましく、10nm以上がより好ましく、20nm以上がさらに好ましく、30nm以上が特に好ましく、また300nm以下が好ましく、200nm以下がより好ましく、150nm以下がさらに好ましい。このような粒子径の微粒子を用いることにより、透明導電性フィルムの光学特性が良好になる。特に、平均一次粒子径が可視光波長よりも小さく、かつ小さければ小さいほど、微粒子による光散乱を抑制できるので、光学特性に与える影響をより抑制することができる。また、このような粒子径の微粒子を用いることにより、プライマー層の表面に適当な大きさの凹凸が形成され、これにより表面摩擦力が低減し、耐ブロッキング性を効果的に高めることができる。   In order to improve the adhesion between the base film and the hard coat layer, the particle diameter (average primary particle diameter) of the fine particles is preferably 1 nm or more, more preferably 10 nm or more, further preferably 20 nm or more, particularly preferably 30 nm or more. Moreover, 300 nm or less is preferable, 200 nm or less is more preferable, and 150 nm or less is more preferable. By using fine particles having such a particle size, the optical properties of the transparent conductive film are improved. In particular, as the average primary particle diameter is smaller than the visible light wavelength and smaller, the light scattering by the fine particles can be suppressed, so that the influence on the optical characteristics can be further suppressed. Further, by using fine particles having such a particle size, irregularities having an appropriate size are formed on the surface of the primer layer, whereby the surface friction force is reduced and the blocking resistance can be effectively enhanced.

微粒子は、粒度ができるだけ揃っていることが好ましい。この点から、微粒子の粒度分布指数(d25/d75)は、1.0以上が好ましく、また1.4以下が好ましく、1.2以下がより好ましい。   The fine particles are preferably as uniform in particle size as possible. In this respect, the particle size distribution index (d25 / d75) of the fine particles is preferably 1.0 or more, preferably 1.4 or less, and more preferably 1.2 or less.

微粒子の平均一次粒子径および粒度分布指数は、レーザー回折・散乱式の粒度分布測定装置(例えば、Particle Sizing Systems社製、Submicron Particle Sizer NICOMP380)により求めることができる。具体的には、媒体中に分散した状態にある微粒子に対して、上記測定装置により、その等価球形分布を求める。次に、求めた分布における、大粒子側から積算した積算体積分率50%の粒子の粒子径を求め、これを微粒子の平均一次粒子径(d50)とする。これとは別に、当該分布における、大粒子側から積算した積算体積分率25%の粒子の粒子径(d25)および75%の粒子の粒子径(d75)を求め、その比(d25/d75)を微粒子の粒度分布指数とする。なお、媒体は、粒度分布装置の構成および能力に応じて適宜選択でき、例えば水を用いることができるが、液体に限られない。   The average primary particle size and particle size distribution index of the fine particles can be determined by a laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring apparatus (for example, Submicron Particle Sizer NICOM 380 manufactured by Particle Sizing Systems). Specifically, the equivalent spherical distribution of the fine particles dispersed in the medium is obtained by the measuring device. Next, in the obtained distribution, the particle diameter of particles with an integrated volume fraction of 50% accumulated from the large particle side is obtained, and this is used as the average primary particle diameter (d50) of the fine particles. Separately from this, the particle diameter (d25) of particles with an integrated volume fraction of 25% and the particle diameter (d75) of 75% of particles accumulated from the large particle side in the distribution are obtained, and the ratio (d25 / d75) Is the particle size distribution index of the fine particles. In addition, although a medium can be suitably selected according to the structure and capability of a particle size distribution apparatus, for example, water can be used, it is not restricted to a liquid.

〔2−9.水〕
易接着用組成物は、水系の組成物であることが好ましい。水系の組成物は、有機溶剤系の組成物に比べて、プライマー層を形成する際の環境への負荷が小さく、作業性に優れる。水系の組成物は、例えば、易接着性を有する樹脂の分散体である。分散体は、典型的には、易接着性を有する樹脂のエマルジョンである。易接着性を有する樹脂のエマルジョンは、乾燥によって、易接着性を有する樹脂を含有する樹脂層となる。当該エマルジョンに微粒子が含まれる場合は、微粒子がそのまま樹脂層に残留する。
[2-9. water〕
The easy adhesion composition is preferably an aqueous composition. Compared to organic solvent-based compositions, water-based compositions are less burdensome on the environment when forming the primer layer and are excellent in workability. The aqueous composition is, for example, a resin dispersion having easy adhesion. The dispersion is typically an emulsion of resin having easy adhesion. The emulsion of the resin having easy adhesion becomes a resin layer containing the resin having easy adhesion by drying. When the emulsion contains fine particles, the fine particles remain in the resin layer as they are.

易接着用組成物が水系である場合、プライマー層を構成する樹脂を形成する際に、水と相溶する有機溶媒を用いることが好ましい。有機溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセロソルブアセテート等のエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;ジオキサン、テトラハイドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒が挙げられる。   When the easy-adhesion composition is aqueous, it is preferable to use an organic solvent that is compatible with water when forming the resin constituting the primer layer. Examples of the organic solvent include ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, and ethyl cellosolve acetate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; ether solvents such as dioxane, tetrahydrofuran, and propylene glycol monomethyl ether Is mentioned.

〔2−10.架橋剤〕
易接着用組成物は、架橋剤を含有することが好ましい。易接着用組成物が架橋剤を含有していれば、プライマー層の接着性が向上する。
[2-10. Crosslinking agent]
It is preferable that the composition for easy adhesion contains a crosslinking agent. If the easy-adhesion composition contains a cross-linking agent, the adhesion of the primer layer is improved.

架橋剤の種類は特に限定されない。プライマー層を構成する樹脂がカルボキシル基を有する場合、架橋剤は、当該カルボキシル基と反応し得る基を有するポリマーが好ましい。カルボキシル基と反応し得る基は、例えば、有機アミノ基、オキサゾリン基、エポキシ基、カルボジイミド基であり、オキサゾリン基が好ましい。オキサゾリン基を有する架橋剤は、プライマー層を構成する樹脂と混合したときの室温でのポットライフが長く、加熱によって架橋反応が進行するため、作業性が良好となる。当該ポリマーは、例えば、(メタ)アクリルポリマー、スチレン・アクリルポリマーであり、(メタ)アクリルポリマーが好ましい。架橋剤が(メタ)アクリルポリマーである場合、プライマー層の性能がさらに向上する。これに加えて、(メタ)アクリルポリマーは、水系の易接着用組成物に安定的に相溶し、プライマー層を構成する樹脂を良好に架橋する。   The type of the crosslinking agent is not particularly limited. When the resin constituting the primer layer has a carboxyl group, the crosslinking agent is preferably a polymer having a group capable of reacting with the carboxyl group. Examples of the group capable of reacting with a carboxyl group are an organic amino group, an oxazoline group, an epoxy group, and a carbodiimide group, and an oxazoline group is preferable. The cross-linking agent having an oxazoline group has a long pot life at room temperature when mixed with the resin constituting the primer layer, and the cross-linking reaction proceeds by heating, so that workability is improved. The polymer is, for example, a (meth) acrylic polymer or a styrene / acrylic polymer, and a (meth) acrylic polymer is preferable. When the crosslinking agent is a (meth) acrylic polymer, the performance of the primer layer is further improved. In addition to this, the (meth) acrylic polymer is stably compatible with the water-based easy-adhesion composition and well crosslinks the resin constituting the primer layer.

易接着用組成物において、プライマー層を構成する樹脂の含有率は、易接着用組成物を基材フィルムの表面に塗布する際の塗工性が高める点から、1.5質量%以上が好ましく、2質量%以上がより好ましく、また15質量%以下が好ましく、10質量%がより好ましい。易接着用組成物が架橋剤を含有する場合、架橋剤の含有量は、プライマー層を構成する樹脂(固形分)100質量部に対して、1質量部以上が好ましく、3質量部以上がより好ましく、また30質量部以下が好ましく、20質量部以下がより好ましい。易接着用組成物が微粒子を含有する場合、微粒子の含有量は、プライマー層を構成する樹脂(固形分)100質量部に対して、0.3質量部以上が好ましく、0.5質量部以上がより好ましく、また10質量部以下が好ましく、1質量部以下がより好ましい。   In the easy-adhesion composition, the content of the resin constituting the primer layer is preferably 1.5% by mass or more from the viewpoint of improving the coating property when the easy-adhesion composition is applied to the surface of the base film. 2 mass% or more is more preferable, 15 mass% or less is preferable, and 10 mass% is more preferable. When the composition for easy adhesion contains a crosslinking agent, the content of the crosslinking agent is preferably 1 part by mass or more and more preferably 3 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the resin (solid content) constituting the primer layer. It is preferably 30 parts by mass or less, and more preferably 20 parts by mass or less. When the composition for easy adhesion contains fine particles, the content of the fine particles is preferably 0.3 parts by mass or more, and 0.5 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the resin (solid content) constituting the primer layer. Is more preferable, 10 parts by mass or less is preferable, and 1 part by mass or less is more preferable.

〔3.ハードコート層〕
ハードコート層は、透明導電性フィルムの耐擦傷性や耐久性等を向上させることを目的として、基材フィルム上に粘着層を介して設けられる。ハードコート層を設けることにより、透明導電層の成膜の際に基材フィルムの損傷を防止でき、また透明導電層をハードコート層に強固に設けることができる。
[3. Hard coat layer)
The hard coat layer is provided on the base film via an adhesive layer for the purpose of improving the scratch resistance and durability of the transparent conductive film. By providing the hard coat layer, the base film can be prevented from being damaged during the formation of the transparent conductive layer, and the transparent conductive layer can be firmly provided on the hard coat layer.

ハードコート層は樹脂を含有することが好ましい。ハードコート層に含まれる樹脂としては当該分野で公知のものを用いることができ、例えば、多官能アクリレートを用いることが好ましい。ハードコート層は、例えば、多官能アクリレートと光重合開始剤を有機溶剤に溶解あるいは分散させた塗布液をプライマー層上に塗布し、乾燥させ、光硬化させることにより形成することができる。多官能アクリレートとしては、1分子中にアクリロイル基を2個以上(好ましくは3個以上)有する化合物であれば特に限定されない。   The hard coat layer preferably contains a resin. As the resin contained in the hard coat layer, those known in the art can be used. For example, polyfunctional acrylate is preferably used. The hard coat layer can be formed, for example, by applying a coating solution in which a polyfunctional acrylate and a photopolymerization initiator are dissolved or dispersed in an organic solvent on the primer layer, drying and photocuring. The polyfunctional acrylate is not particularly limited as long as it is a compound having 2 or more (preferably 3 or more) acryloyl groups in one molecule.

〔4.透明導電層〕
透明導電層は、ハードコート層上に形成され、ハードコート層のプライマー層とは反対側の面に形成される。透明導電層は、ハードコート層に接して設けられても、他の層を介して設けられてもよい。透明導電層を構成する材料としては、従来、当該分野で導電性材料として用いられているものはいずれも使用可能であり、具体的には、有機導電性化合物;有機導電性ポリマー;酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム−スズ酸化物(ITO)、アンチモン−スズ酸化物(ATO)、亜鉛−アルミニウム酸化物、インジウム−亜鉛酸化物(IZO)等の金属酸化物;金、銀、銅、パラジウム、アルミニウム等の金属が挙げられる。これらの中でも、酸化亜鉛または酸化インジウムを含むものが好ましく、酸化インジウムを含むものがより好ましい。なかでも、インジウム−スズ酸化物は、高い透明性と導電性を兼ね備えているため好ましい。すなわち、透明導電層としては、インジウム−スズ酸化物(ITO)層であることが好ましい。
[4. Transparent conductive layer)
The transparent conductive layer is formed on the hard coat layer and is formed on the surface of the hard coat layer opposite to the primer layer. The transparent conductive layer may be provided in contact with the hard coat layer or may be provided via another layer. As the material constituting the transparent conductive layer, any material conventionally used as a conductive material in the field can be used. Specifically, an organic conductive compound; an organic conductive polymer; indium oxide; Metal oxides such as tin oxide, zinc oxide, indium-tin oxide (ITO), antimony-tin oxide (ATO), zinc-aluminum oxide, indium-zinc oxide (IZO); gold, silver, copper, Examples include metals such as palladium and aluminum. Among these, those containing zinc oxide or indium oxide are preferable, and those containing indium oxide are more preferable. Among these, indium-tin oxide is preferable because it has both high transparency and conductivity. That is, the transparent conductive layer is preferably an indium-tin oxide (ITO) layer.

透明導電層の厚みは、導電性を確保する点から、0.001μm以上が好ましく、0.005μm以上がより好ましく、0.01μm以上がさらに好ましく、また光透過性を向上させる点から、10μm以下が好ましく、1μm以下がより好ましく、0.5μm以下がさらに好ましい。   The thickness of the transparent conductive layer is preferably 0.001 μm or more, more preferably 0.005 μm or more, further preferably 0.01 μm or more from the viewpoint of ensuring conductivity, and 10 μm or less from the viewpoint of improving light transmittance. Is preferably 1 μm or less, and more preferably 0.5 μm or less.

ハードコート層上に透明導電層を形成する方法としては、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法等の薄膜形成手段が挙げられる。これらの中でも、透明導電層の膜厚および組成の制御が容易で、基材フィルムへの密着性、生産性に優れる点で、スパッタリング法を採用するのが好ましい。   Examples of the method for forming the transparent conductive layer on the hard coat layer include thin film forming means such as sputtering, ion plating, and vacuum deposition. Among these, it is preferable to employ the sputtering method in terms of easy control of the film thickness and composition of the transparent conductive layer and excellent adhesion to the substrate film and productivity.

スパッタリング法を採用する場合、所望の透明導電層と同一の組成を有する金属酸化物ターゲットを用いる通常のスパッタリング法や、金属のターゲットを用い、スパッタリングガスに酸素、窒素等を混合したものを用い、ターゲットまたは基板上で反応させることによって所望の組成の透明導電層を成膜してもよい。スパッタの方式も特に限定されず、2極スパッタ、3極スパッタ、4極スパッタ、マグネトロンスパッタ、対向ターゲット式スパッタ(FTS)法、アンバランスドマグネトロンスパッタ等のプラズマ方式、イオンビームスパッタ、ECR(電子サイクロトロン共鳴)スパッタ等のビーム方式等が挙げられる。これらの中でも、マグネトロンスパッタ法、対向ターゲット式スパッタ(FTS)法が好ましい。なお、使用する電源は、高周波電源(RF)、直流電源(DC)のいずれであってもよい。   When adopting the sputtering method, using a normal sputtering method using a metal oxide target having the same composition as the desired transparent conductive layer, or using a metal target, a mixture of sputtering gas, oxygen, nitrogen, etc., A transparent conductive layer having a desired composition may be formed by reacting on a target or a substrate. The sputtering method is not particularly limited, and plasma methods such as dipole sputtering, tripolar sputtering, quadrupole sputtering, magnetron sputtering, facing target sputtering (FTS), unbalanced magnetron sputtering, ion beam sputtering, ECR (electron) (Cyclotron resonance) Sputtering and other beam methods. Among these, the magnetron sputtering method and the opposed target sputtering (FTS) method are preferable. The power source to be used may be either a high frequency power source (RF) or a direct current power source (DC).

スパッタリング法で透明導電層を形成する際のスパッタガスとしては、アルゴン、ヘリウム、ネオン等の希ガスを用いることができる。また、反応性ガスとして、酸素や窒素等を用いてもよい。なお、スパッタリング時の真空度は、0.01〜2.0Paとするのが好ましい。より好ましくは0.1〜1.0Paである。真空度が上記範囲内であれば、放電が安定に起こるため、スパッタリングが安定し、均一な膜厚、組成の透明導電膜(層)を容易に得ることができる。   As a sputtering gas for forming the transparent conductive layer by a sputtering method, a rare gas such as argon, helium, or neon can be used. Further, oxygen, nitrogen, or the like may be used as the reactive gas. In addition, it is preferable that the vacuum degree at the time of sputtering shall be 0.01-2.0 Pa. More preferably, it is 0.1-1.0 Pa. If the degree of vacuum is within the above range, discharge occurs stably, so that sputtering is stable, and a transparent conductive film (layer) having a uniform film thickness and composition can be easily obtained.

〔5.その他の層〕
本発明の透明導電性フィルムは、基材フィルムの片面のみに、プライマー層、ハードコート層、透明導電層がこの順に積層されていてもよく、基材フィルムの両面に、プライマー層、ハードコート層、透明導電層がこの順に積層されていてもよい。
[5. Other layers]
In the transparent conductive film of the present invention, the primer layer, the hard coat layer, and the transparent conductive layer may be laminated in this order only on one side of the base film, and the primer layer and the hard coat layer are formed on both sides of the base film. The transparent conductive layer may be laminated in this order.

基材フィルムの片面のみに、プライマー層、ハードコート層、透明導電層が積層される場合、基材フィルムの反対側の片面には他の層が設けられていてもよい。また、透明導電層のさらに上にも他の層が設けられていてもよい。他の層としては、例えば、帯電防止層、防眩(ノングレア)層、光学調整層、光触媒層、防汚層、反射防止層、ハードコート層、紫外線遮蔽層、熱線遮蔽層、電磁波遮蔽層、ガスバリヤー層等が挙げられる。   When the primer layer, the hard coat layer, and the transparent conductive layer are laminated only on one side of the base film, another layer may be provided on the one side on the opposite side of the base film. Further, another layer may be provided on the transparent conductive layer. Other layers include, for example, an antistatic layer, an antiglare layer (non-glare) layer, an optical adjustment layer, a photocatalyst layer, an antifouling layer, an antireflection layer, a hard coat layer, an ultraviolet shielding layer, a heat ray shielding layer, an electromagnetic wave shielding layer, Gas barrier layer and the like.

透明導電性フィルムは、ハードコート層と透明導電層の間に他の層が設けられていてもよい。例えば、ハードコート層と透明導電層の間には光学調整層が設けられることが好ましく、これにより、入射される光線の透過率または反射率を適宜調整することができる。光学調整層は、例えば、特開2006−201450号公報等に記載されているように、屈折率が相対的に低い低屈折率層と屈折率が相対的に高い高屈折率層とを交互に積層させることによって形成させることができる。   In the transparent conductive film, another layer may be provided between the hard coat layer and the transparent conductive layer. For example, an optical adjustment layer is preferably provided between the hard coat layer and the transparent conductive layer, whereby the transmittance or reflectance of incident light can be appropriately adjusted. As described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-201450, the optical adjustment layer is formed by alternately arranging a low refractive index layer having a relatively low refractive index and a high refractive index layer having a relatively high refractive index. It can be formed by laminating.

以下に、実施例を示すことにより本発明を更に詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で変更実施をすることは全て本発明の技術的範囲に包含される。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the scope of the present invention is not limited to these examples, and all modifications made without departing from the spirit of the present invention are described in the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

(1) 分析方法
(1−1) イミド化率
アクリル系樹脂のイミド化率は、1803cm-1付近のカルボン酸無水物基に由来する吸収と、1720cm-1付近のエステルカルボニル基に由来する吸収と、1680cm-1付近のイミドカルボニル基に由来する吸収との強度比から求める。ここで、イミド化率は、全カルボニル基においてイミドカルボニル基が占める割合である。
(1) the fraction of imide units of the analytical method (1-1) imidization ratio acrylic resin, derived from the absorption derived from a carboxylic acid anhydride group in the vicinity of 1803cm -1, to the ester carbonyl group in the vicinity of 1720 cm -1 absorption And an intensity ratio with absorption derived from an imidecarbonyl group in the vicinity of 1680 cm −1 . Here, the imidization rate is a ratio of imide carbonyl groups in all carbonyl groups.

(1−2) 式(2)で表される繰り返し単位の含有率
アクリル系樹脂において、式(2)で表される繰り返し単位の含有率は、NMR測定装置(Varian社製、商品名:Unity Plus400)を用いて1H−NMRスペクトルを測定することによって求める。具体的には、重アセトンにアクリル系樹脂(質量:a)と、内標として1,1,2,2−テトラクロロエタン(分子量:167.85、質量:b)を溶解させ、内標(5.9ppm、2プロトン分)とエステルカルボニル基に隣接したR6のプロトンに由来するピークの面積比、すなわちエステルカルボニル基に隣接したR6のプロトンに由来するピーク面積Aと内標プロトンに由来するピーク面積Bとの比(ピーク面積A/ピーク面積B)から、式(2)で表される繰り返し単位の含有率を算出する。
例えば、式(2)で表される繰り返し単位のR4が水素原子であり、R5がメチル基であり、R6がメチル基である場合(繰り返し単位の分子量は100.12)、式(2)で表される繰り返し単位の含有率(質量%)は、式:[(ピーク面積A/ピーク面積B)×(2/3)×(b/167.85)×(1/100.12)]×(100/a)から算出することができる。
(1-2) Content of repeating unit represented by formula (2) In the acrylic resin, the content of the repeating unit represented by formula (2) is measured by an NMR measuring apparatus (manufactured by Varian, trade name: Unity). It is determined by measuring 1 H-NMR spectrum using Plus400). Specifically, acrylic resin (mass: a) and 1,1,2,2-tetrachloroethane (molecular weight: 167.85, mass: b) as an internal standard are dissolved in heavy acetone, and the internal standard (5 .9 ppm, 2 protons) and the peak area ratio derived from the R 6 proton adjacent to the ester carbonyl group, that is, the peak area A derived from the R 6 proton adjacent to the ester carbonyl group and the internal standard proton From the ratio to the peak area B (peak area A / peak area B), the content of the repeating unit represented by the formula (2) is calculated.
For example, when R 4 of the repeating unit represented by the formula (2) is a hydrogen atom, R 5 is a methyl group, and R 6 is a methyl group (the molecular weight of the repeating unit is 100.12), the formula ( The content (% by mass) of the repeating unit represented by 2) is expressed by the formula: [(peak area A / peak area B) × (2/3) × (b / 167.85) × (1 / 100.12). )] × (100 / a).

(1−3) 重量平均分子量
アクリル系樹脂の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により、以下の条件で求める。
−システム:東ソー社製、商品名:GPCシステムHLC−8220
−展開溶媒:テトラヒドロフラン(和光純薬工業社、特級)
−溶媒流量:0.6mL/min
−標準試料:TSK標準ポリスチレン(東ソー社製、商品名:PS−オリゴマーキット)
−測定側カラム構成:ガードカラム(東ソー社製、商品名:TSK−GEL super HZM−M 6.0×150を2本直列接続、東ソー社製、商品名:TSK−GEL super HZ−Lを1本使用)
−リファレンス側カラムの構成:リファレンスカラム(東ソー社製、商品名:TSK−GEL SuperH−RC 6.0×150、2本直列接続)
−カラム温度:40℃
(1-3) Weight average molecular weight The weight average molecular weight of acrylic resin is calculated | required on condition of the following by gel permeation chromatography (GPC).
-System: manufactured by Tosoh Corporation, trade name: GPC system HLC-8220
-Developing solvent: Tetrahydrofuran (Wako Pure Chemical Industries, special grade)
-Solvent flow rate: 0.6 mL / min
-Standard sample: TSK standard polystyrene (trade name: PS-oligomer kit, manufactured by Tosoh Corporation)
-Measurement side column configuration: guard column (manufactured by Tosoh Corporation, trade name: TSK-GEL super HZM-M 6.0 × 150 in series, two manufactured by Tosoh Corporation, trade name: TSK-GEL super HZ-L 1 Use)
-Configuration of the reference side column: Reference column (product name: TSK-GEL SuperH-RC 6.0 × 150, two in series connection, manufactured by Tosoh Corporation)
-Column temperature: 40 ° C

(1−4) 応力光学係数(Cr)
アクリル系樹脂の応力光学係数(Cr)は、次の方法により求める。まず、未延伸フィルムを60mm×20mmの長方形に切り出し、1N/mm2以下の応力となるように重りを選択し、未延伸フィルムの下端に取り付ける。この未延伸フィルムを、アクリル系樹脂のガラス転移温度よりも3℃高い温度で定温乾燥機(アズワン社製、品番:DOV−450A)にチャック間距離40mmでセットし、当該温度で約30分間保持して延伸を行った後、加熱を停止し、アクリル系樹脂のガラス転移温度よりも40℃低い温度となるまで約1℃/minの冷却速度で冷却する。その後、得られた延伸フィルムを定温乾燥機から取り出し、延伸後のフィルムの長さと厚さ、および重りの質量を測定し、延伸後のフィルムの面内位相差Reを測定する。さらに、応力が1N/mm2以下となるように4種類の質量の重りを用いて前記と同様にして延伸後のフィルムの長さと厚さ、および重りの質量を測定し、延伸後のフィルムの面内位相差Reを測定する。
(1-4) Stress optical coefficient (Cr)
The stress optical coefficient (Cr) of the acrylic resin is determined by the following method. First, an unstretched film is cut into a 60 mm × 20 mm rectangle, a weight is selected so as to have a stress of 1 N / mm 2 or less, and the unstretched film is attached to the lower end of the unstretched film. This unstretched film is set in a constant temperature dryer (manufactured by ASONE, product number: DOV-450A) at a temperature 3 ° C. higher than the glass transition temperature of the acrylic resin at a chuck distance of 40 mm and held at that temperature for about 30 minutes. Then, after the stretching, the heating is stopped, and cooling is performed at a cooling rate of about 1 ° C./min until the temperature becomes 40 ° C. lower than the glass transition temperature of the acrylic resin. Then, the obtained stretched film is taken out from the constant temperature dryer, and the length and thickness of the stretched film and the weight of the weight are measured, and the in-plane retardation Re of the stretched film is measured. Further, the length and thickness of the stretched film and the weight of the weight were measured in the same manner as described above using four kinds of weights so that the stress was 1 N / mm 2 or less. The in-plane phase difference Re is measured.

以上の結果に基づき、高分子学会編「透明プラスチックの最前線(ポリマーフロンティア21シリーズ)」、(株)エヌ・ティー・エス、2006年10月、37−44頁に記載の測定方法に基づいて応力光学係数(Cr)を算出する。具体的には、Δn(nx−ny)をy軸に、σをx軸にプロットし、最小二乗法で得られた直線の傾きを求め、その傾きの値を応力光学係数(Cr)とする。なお、nxはフィルムの面内における遅相軸方向(フィルム面内において最大の屈折率を示す方向)の屈折率を表し、nyはフィルムの面内における進相軸方向(フィルム面内においてnxと垂直な方向)の屈折率を表し、σは延伸に対する応力(N/m2)を表す。 Based on the above results, based on the measurement method described in Polymer Science Society, “Frontier of Transparent Plastics (Polymer Frontier 21 Series)”, NTS, October 2006, pages 37-44. The stress optical coefficient (Cr) is calculated. Specifically, Δn (nx−ny) is plotted on the y-axis and σ is plotted on the x-axis, the slope of the straight line obtained by the least square method is obtained, and the value of the slope is defined as the stress optical coefficient (Cr). . In addition, nx represents the refractive index in the slow axis direction in the film plane (direction showing the maximum refractive index in the film plane), and ny represents the fast axis direction in the film plane (nx in the film plane). (Vertical direction) represents the refractive index, and σ represents the stress (N / m 2 ) for stretching.

(1−5) 酸価
アクリル系樹脂の酸価は、次の方法により求める。塩化メチレン24.94gにサンプル(樹脂)0.15gを溶解させ、メタノール14.85gを添加し、3時間撹拌する。その後、この溶液に1質量%フェノールフタレインエタノール溶液を2滴添加し、撹拌しながら、0.1N水酸化ナトリウム水溶液を加え、室温で1時間撹拌を継続し、このときの0.1N水酸化ナトリウム水溶液の使用量をA(mL)とする。この溶液に0.1N塩酸を滴下して溶液の赤紫色が消失するまでの0.1N塩酸の滴下量B(mL)を測定する。次に、塩化メチレン24.94gとメタノール14.85gの混合液に1質量%フェノールフタレインエタノール溶液を2滴添加し、撹拌しながら、0.1N水酸化ナトリウム水溶液を加え、室温で1時間撹拌を継続し、このときの0.1N水酸化ナトリウム水溶液の使用量をC(mL)とする。この溶液に0.1N塩酸を滴下して溶液の赤紫色が消失するまでの0.1N塩酸の滴下量D(mL)を測定する。樹脂中に残存するカルボキシル基の割合E(mmol/g)を次式により求める:E=0.1×{(A−B)−(C−D)}/0.15。
(1-5) Acid value The acid value of the acrylic resin is determined by the following method. Dissolve 0.15 g of sample (resin) in 24.94 g of methylene chloride, add 14.85 g of methanol, and stir for 3 hours. Thereafter, 2 drops of a 1% by weight phenolphthalein ethanol solution were added to this solution, while stirring, a 0.1N sodium hydroxide aqueous solution was added, and stirring was continued for 1 hour at room temperature. Let the usage-amount of sodium aqueous solution be A (mL). To this solution, 0.1N hydrochloric acid is added dropwise, and a drop amount B (mL) of 0.1N hydrochloric acid until the reddish purple color of the solution disappears is measured. Next, 2 drops of a 1% by weight phenolphthalein ethanol solution were added to a mixed solution of 24.94 g of methylene chloride and 14.85 g of methanol, and a 0.1N sodium hydroxide aqueous solution was added while stirring, followed by stirring at room temperature for 1 hour. The amount of 0.1N sodium hydroxide aqueous solution used at this time is C (mL). 0.1N hydrochloric acid is added dropwise to this solution, and a drop amount D (mL) of 0.1N hydrochloric acid until the reddish purple color of the solution disappears is measured. The ratio E (mmol / g) of the carboxyl group remaining in the resin is obtained by the following formula: E = 0.1 × {(A−B) − (C−D)} / 0.15.

(2) 透明導電性フィルムの構成原料の製造
(2−1) 製造例1(未延伸フィルムA1の製造)
撹拌装置、温度センサー、冷却管、および窒素導入管を備えた反応容器に、メタクリル酸メチル79.4質量部、メタクリル酸20.6質量部、重合溶媒としてトルエン90.0質量部とメタノール22.5質量部の混合溶媒、および酸化防止剤(ADEKA社製、商品名:アデカスタブ2112)0.05質量部を仕込み、反応容器内に窒素ガスを通じながら73℃まで昇温させた。昇温に伴う還流が始まった時点で、重合開始剤としてジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)(和光純薬工業社製、商品名:V−601)0.25質量部を反応容器内に添加するとともに、トルエン7.3質量部とメタノール1.8質量部の混合溶媒に上記ジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)0.35質量部を溶解した溶液を2時間かけて反応容器内に滴下しながら、約71〜76℃の還流下で溶液重合を行った。ジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)の滴下終了後、さらに4時間かけて熟成を行った。得られた重合溶液に含まれるアクリル系樹脂におけるメタクリル酸に由来の繰り返し単位の含有率は20.6質量%であった。また、アクリル系樹脂の重量平均分子量は、11万であった。
(2) Production of constituent raw materials of transparent conductive film (2-1) Production example 1 (production of unstretched film A1)
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling pipe, and a nitrogen introduction pipe, 79.4 parts by mass of methyl methacrylate, 20.6 parts by mass of methacrylic acid, 90.0 parts by mass of toluene as a polymerization solvent and 22. 5 parts by mass of a mixed solvent and 0.05 parts by mass of an antioxidant (trade name: ADK STAB 2112 manufactured by ADEKA) were charged, and the temperature was raised to 73 ° C. while passing nitrogen gas through the reaction vessel. At the point of time when reflux accompanying the temperature rise starts, dimethyl-2,2′-azobis (2-methylpropionate) (trade name: V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a polymerization initiator is 0.25 mass. And 0.35 parts by mass of the above dimethyl-2,2′-azobis (2-methylpropionate) in a mixed solvent of 7.3 parts by mass of toluene and 1.8 parts by mass of methanol. While the dissolved solution was dropped into the reaction vessel over 2 hours, solution polymerization was performed under reflux at about 71 to 76 ° C. After completion of the dropwise addition of dimethyl-2,2′-azobis (2-methylpropionate), the mixture was further aged for 4 hours. The content rate of the repeating unit derived from methacrylic acid in the acrylic resin contained in the obtained polymerization solution was 20.6% by mass. The weight average molecular weight of the acrylic resin was 110,000.

次に、得られた重合溶液に、5.0質量部のメタノールに、環化縮合反応の触媒(環化触媒)であるナトリウムメトキシド0.05質量部を溶解した溶液を、20分間かけて、約65〜70℃の反応容器内に滴下し、均一な重合溶液とした。このようにして得られた重合溶液を、バレル温度300℃、回転数238rpm、減圧度13.3〜400hPa(10〜300mmHg)、リアベント数1個、フォアベント数2個のベントタイプスクリュー二軸押出機(口径:15mm、L/D:45)内に、樹脂量換算で576g/hの処理速度で導入し、この押出機内で脱揮を行い、軸内滞留時間2.8分程度で押出すことにより、透明なペレットP1を得た。なお減圧度は、真空状態が0hPaである。ペレットP1のアクリル系樹脂の重量平均分子量は10万であり、ガラス転移温度は130℃であった。   Next, a solution obtained by dissolving 0.05 parts by mass of sodium methoxide, which is a catalyst for the cyclization condensation reaction (cyclization catalyst), in 5.0 parts by mass of methanol was added to the obtained polymerization solution over 20 minutes. The solution was dropped into a reaction vessel at about 65 to 70 ° C. to obtain a uniform polymerization solution. The polymerization solution thus obtained was subjected to a vent type screw twin screw extrusion with a barrel temperature of 300 ° C., a rotation speed of 238 rpm, a degree of vacuum of 13.3 to 400 hPa (10 to 300 mmHg), a rear vent number of 1, and a forevent number of 2. Introduced into a machine (caliber: 15 mm, L / D: 45) at a processing rate of 576 g / h in terms of resin amount, devolatilized in this extruder, and extruded in a shaft residence time of about 2.8 minutes As a result, a transparent pellet P1 was obtained. The degree of vacuum is 0 hPa in a vacuum state. The weight average molecular weight of the acrylic resin in the pellet P1 was 100,000, and the glass transition temperature was 130 ° C.

次に、ペレットP1を、バレル温度330℃、回転数300rpm、減圧度13.3〜400hPa(10〜300mmHg)、ベント数1個のベントタイプスクリュー二軸押出機(口径:15mm、L/D:45)内に、樹脂量換算で432g/hの処理速度でホッパーより導入し、ホッパーの後よりアニリンを液添ポンプにて207g/hの投入速度で注入し、軸内滞留時間4.6分程度で押出すことにより、透明なペレットP2を得た。ペレットP2のアクリル系樹脂の重量平均分子量は9.4万であった。このアクリル系樹脂は、式(1)において、R1がメチル基であり、R2が水素原子であり、R3がフェニル基である繰り返し単位と、式(2)において、R4が水素原子であり、R5がメチル基であり、R6がメチル基である繰り返し単位を有し、ガラス転移温度が180℃であるアクリル系樹脂であった。ペレットP2のアクリル系樹脂のイミド化率は55.6%、式(2)で表される繰り返し単位の含有率は27.4質量%、応力光学係数(Cr)は0.20×10-9Pa-1、酸価は1.32mmol/gであった。 Next, the pellet P1 is a vent type screw twin screw extruder having a barrel temperature of 330 ° C., a rotation speed of 300 rpm, a degree of vacuum of 13.3 to 400 hPa (10 to 300 mmHg), and a single vent (caliber: 15 mm, L / D: 45) is introduced from the hopper at a treatment rate of 432 g / h in terms of resin amount, and aniline is injected from the hopper after the hopper at a charging rate of 207 g / h, and the residence time in the shaft is 4.6 minutes. By extruding at a degree, transparent pellets P2 were obtained. The weight average molecular weight of the acrylic resin of the pellet P2 was 94,000. This acrylic resin has a repeating unit in which R 1 is a methyl group, R 2 is a hydrogen atom and R 3 is a phenyl group in formula (1), and R 4 is a hydrogen atom in formula (2). R 5 is a methyl group, R 6 is an acrylic resin having a repeating unit having a methyl group and a glass transition temperature of 180 ° C. The imidation ratio of the acrylic resin of the pellet P2 is 55.6%, the content of the repeating unit represented by the formula (2) is 27.4% by mass, and the stress optical coefficient (Cr) is 0.20 × 10 −9. Pa −1 , acid value was 1.32 mmol / g.

次に、ペレットP2を、バレル温度280℃、回転数300rpm、減圧度13.3〜400hPa(10〜300mmHg)、ベント数1個のベントタイプスクリュー二軸押出機(口径:15mm、L/D:45)内に、樹脂量換算で900g/hの処理速度でホッパーより導入し、ホッパーの後より、原料樹脂に対して16.0質量部の炭酸ジメチルと0.2質量部のジアザビシクロウンデセンの混合液を液添ポンプにて注入し、軸内滞留時間1.9分程度で押出すことにより、透明なペレットP3を得た。ペレットP3のアクリル系樹脂の重量平均分子量は8万であった。このアクリル系樹脂は、式(1)において、R1がメチル基であり、R2が水素原子であり、R3がフェニル基である繰り返し単位と、式(2)において、R4が水素原子であり、R5がメチル基であり、R6がメチル基である繰り返し単位を有し、ガラス転移温度が159℃であるアクリル系樹脂であった。ペレットP3のアクリル系樹脂のイミド化率は52.3%、式(2)で表される繰り返し単位の含有率は48.8質量%、応力光学係数(Cr)は−0.15×10-9Pa-1、酸価は0.05mmol/gであった。 Next, the pellet P2 is a vent type screw twin screw extruder having a barrel temperature of 280 ° C., a rotation speed of 300 rpm, a reduced pressure of 13.3 to 400 hPa (10 to 300 mmHg), and a vent number of 1 (caliber: 15 mm, L / D: 45), introduced from the hopper at a processing rate of 900 g / h in terms of resin amount, and after the hopper, 16.0 parts by mass of dimethyl carbonate and 0.2 parts by mass of diazabicyclone with respect to the raw material resin. A mixed liquid of decene was injected with a liquid pump and extruded with an in-shaft residence time of about 1.9 minutes to obtain transparent pellets P3. The weight average molecular weight of the acrylic resin of the pellet P3 was 80,000. This acrylic resin has a repeating unit in which R 1 is a methyl group, R 2 is a hydrogen atom and R 3 is a phenyl group in formula (1), and R 4 is a hydrogen atom in formula (2). R 5 is a methyl group, R 6 is a methyl group, and the acrylic resin has a glass transition temperature of 159 ° C. The imidation ratio of the acrylic resin of the pellet P3 is 52.3%, the content of the repeating unit represented by the formula (2) is 48.8% by mass, and the stress optical coefficient (Cr) is −0.15 × 10 −. 9 Pa −1 , and the acid value was 0.05 mmol / g.

次に、ペレットP3を、単軸押出機(口径:20mm、L/D:25)に入れ、Tダイ温度を285℃に調節し、コートハンガータイプTダイ(幅150mm)から溶融押出しを行い、ロール温度155℃の冷却ロール上に吐出し、厚さ160μmの未延伸フィルムA1を作製した。   Next, the pellet P3 is put into a single screw extruder (caliber: 20 mm, L / D: 25), the T die temperature is adjusted to 285 ° C., and melt extrusion is performed from a coat hanger type T die (width 150 mm). It discharged on the cooling roll with a roll temperature of 155 degreeC, and produced 160 micrometer-thick unstretched film A1.

(2−2) 製造例2(易接着用組成物B1の製造)
エポキシ基を有するポリエステル−アクリル複合樹脂(高松油脂社製、ペスレジンA−645GH、固形分30質量%)25質量部、エポキシ基とカルボキシル基を有するポリエステル−アクリル複合樹脂(高松油脂社製、ペスレジンA−647GEX、固形分20質量%)30質量部、ポリビニルアルコール(クラレ社製、PVA205)の10質量%水溶液15質量部、アモルファスシリカ微粒子を含むエマルジョン(日本触媒社製、シーホスターKE−W10、平均粒径(一次粒子径)0.11μm、粒度分布指数1.1、固形分15質量%)1.0質量部、および純水80質量部を混合して、エマルジョン状の分散体である易接着用組成物B1を得た。
(2-2) Production Example 2 (Production of Easy Adhesive Composition B1)
Polyester-acrylic composite resin having epoxy group (Takamatsu Yushi Co., Ltd., Pesresin A-645GH, solid content 30% by mass) 25 parts by mass, polyester-acrylic composite resin having epoxy group and carboxyl group (Takamatsu Yushi Co., Ltd., Pesresin A -647GEX, solid content 20 mass%) 30 mass parts, polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd., PVA205) 10 mass% aqueous solution 15 mass parts, emulsion containing amorphous silica fine particles (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., Seahoster KE-W10, average particle size) Mixing 1.0 parts by mass (primary particle size) 0.11 μm, particle size distribution index 1.1, solid content 15% by mass) and 80 parts by mass of pure water, an emulsion-like dispersion for easy adhesion Composition B1 was obtained.

(2−3) 製造例3(易接着用組成物B2の製造)
エポキシ基を有するアクリル樹脂(高松油脂社製、MYX1065、固形分30質量%)20質量部、ポリビニルアルコール(クラレ社製、PVA205)の10質量%水溶液90質量部、アモルファスシリカ微粒子を含むエマルジョン(日本触媒社製、シーホスターKE−W10、平均粒径(一次粒子径)0.11μm、粒度分布指数1.1、固形分15質量%)1.0質量部、および純水40質量部を混合して、エマルジョン状の分散体である易接着用組成物B2を得た。
(2-3) Production Example 3 (Production of Easy Adhesive Composition B2)
Epoxy group-containing acrylic resin (Takamatsu Yushi Co., Ltd., MYX1065, solid content 30% by mass) 20 parts by mass, polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., PVA205) 10% by mass aqueous solution, emulsion containing amorphous silica fine particles (Japan) A catalyst company, Seahoster KE-W10, an average particle diameter (primary particle diameter) of 0.11 μm, a particle size distribution index of 1.1, a solid content of 15% by mass, 1.0 part by mass, and 40 parts by mass of pure water were mixed. Thus, an easy-adhesion composition B2 which is an emulsion-like dispersion was obtained.

(2−4) 製造例4(ハードコート用コーティング組成物H1の製造)
4官能アクリレート(新中村化学社製、AD−TMP)15質量部、光重合開始剤(チバスペシャリティケミカルズ(現BASFジャパン)社製、イルガキュア(登録商標)184)0.6質量部、およびメチルエチルケトン14.4質量部を混合して、ハードコート用コーティング組成物H1を得た。
(2-4) Production Example 4 (Production of Hard Coat Coating Composition H1)
15 parts by mass of tetrafunctional acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., AD-TMP), 0.6 parts by mass of photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals (currently BASF Japan), Irgacure (registered trademark) 184), and methyl ethyl ketone 14 .4 parts by mass was mixed to obtain a hard coat coating composition H1.

(3) 透明導電性フィルムの製造
(3−1) 実施例1
製造例1で作製した未延伸フィルムA1の片面に、製造例2で作製した易接着用組成物B1を、乾燥後の塗布膜の厚さが400nmとなるように塗布した後、フィルムを96mm×96mmに切り出し、逐次二軸延伸機(東洋精機製作所社製、品番:X−6S)を用い、179℃の温度にて、240mm/分の延伸速度で縦方向(MD方向)および横方向(TD方向)の順でそれぞれ延伸倍率が2倍となるように逐次二軸延伸を行った。延伸後、得られた延伸フィルムを速やかに延伸機から取り出して冷却することにより、基材フィルムの厚さ40μm、プライマー層の厚さ100nmのフィルムF1を得た。得られた延伸フィルムF1の面内位相差、厚さ方向位相差はそれぞれ、4.5nm、−13.3nmであった。
(3) Production of transparent conductive film (3-1) Example 1
After coating the easy-adhesion composition B1 prepared in Production Example 2 on one side of the unstretched film A1 produced in Production Example 1 so that the thickness of the coating film after drying is 400 nm, the film is 96 mm × Cut into 96 mm, using a sequential biaxial stretching machine (product number: X-6S, manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.) at a temperature of 179 ° C. at a stretching speed of 240 mm / min in the machine direction (MD direction) and the transverse direction (TD Biaxial stretching was sequentially performed so that the stretching ratio was 2 times in the order of (direction). After stretching, the obtained stretched film was quickly taken out from the stretching machine and cooled to obtain a film F1 having a base film thickness of 40 μm and a primer layer thickness of 100 nm. The stretched film F1 obtained had an in-plane retardation and a thickness direction retardation of 4.5 nm and −13.3 nm, respectively.

次に、製造例4で作製したコーティング組成物H1を、乾燥後の塗布膜の厚さが2μmとなるようにフィルムF1のプライマー層面に塗布し、100℃で2分間乾燥した。続いて、積算照射量500mJ/cm2のUV光を照射して、コーティング組成物H1を硬化させ、表面にハードコート層を有するフィルムF2を得た。 Next, the coating composition H1 produced in Production Example 4 was applied to the primer layer surface of the film F1 so that the thickness of the coating film after drying was 2 μm, and dried at 100 ° C. for 2 minutes. Subsequently, UV light having an integrated irradiation amount of 500 mJ / cm 2 was irradiated to cure the coating composition H1 to obtain a film F2 having a hard coat layer on the surface.

次に、得られたフィルムF2に、スパッタ装置(大阪真空機器製作所社製、対向ターゲット式スパッタリング装置)を用いてITO層を形成した。スパッタリングには、酸化スズを10質量%含む酸化インジウム−酸化スズのターゲットを用い、真空度0.5Paで、5体積%酸素を添加したアルゴンガス雰囲気下、0.4Å/secの速度で20分間スパッタリングを行い、厚さ30nmのITOの非晶質層を形成した。続いて、ITOの非晶質層が形成されたフィルムF2をスパッタ装置から取り出して、150℃の加熱オーブン内で90分間加熱し、結晶化処理することで、目的とする透明導電性フィルムI1を得た。得られた透明導電性フィルムI1の表面抵抗値は130Ω/□であった。また、透明導電性フィルムI1を目視で確認したところ、虹色のような干渉は見られなかった。   Next, an ITO layer was formed on the obtained film F2 using a sputtering apparatus (Osaka Vacuum Equipment Co., Ltd., opposed target type sputtering apparatus). For sputtering, an indium oxide-tin oxide target containing 10% by mass of tin oxide was used, and a vacuum degree of 0.5 Pa and an argon gas atmosphere added with 5% by volume of oxygen at a rate of 0.4 liter / sec for 20 minutes. Sputtering was performed to form an amorphous layer of ITO having a thickness of 30 nm. Subsequently, the film F2 on which the ITO amorphous layer is formed is taken out from the sputtering apparatus, heated in a heating oven at 150 ° C. for 90 minutes, and subjected to crystallization treatment, whereby the intended transparent conductive film I1 is obtained. Obtained. The surface resistance value of the obtained transparent conductive film I1 was 130Ω / □. Further, when the transparent conductive film I1 was visually confirmed, no rainbow-like interference was observed.

(3−2) 実施例2
易接着用組成物B1の代わりに、製造例3で作製した易接着用組成物B2を用いた以外は、実施例1と同様にして、基材フィルムの厚さ40μm、プライマー層の厚さ100nmのフィルムF3を得た。得られた延伸フィルムF3の面内位相差、厚さ方向位相差はそれぞれ、4.2nm、−12.7nmであった。
(3-2) Example 2
A substrate film having a thickness of 40 μm and a primer layer having a thickness of 100 nm was used in the same manner as in Example 1 except that the easy-adhesion composition B2 prepared in Production Example 3 was used instead of the easy-adhesion composition B1. Film F3 was obtained. The stretched film F3 obtained had an in-plane retardation and a thickness direction retardation of 4.2 nm and −12.7 nm, respectively.

次に、実施例1と同様にして、フィルムF3のプライマー層面にコーティング組成物H1を塗布し、硬化させることにより、表面にハードコート層を有するフィルムF4を得た。得られたフィルムF4上に、実施例1と同様にして、ITO層を形成し、結晶化処理することにより、透明導電性フィルムI2を得た。得られた透明導電性フィルムI2の表面抵抗値は128Ω/□であった。また、透明導電性フィルムI2を目視で確認したところ、虹色のような干渉は見られなかった。   Next, in the same manner as in Example 1, the coating composition H1 was applied to the primer layer surface of the film F3 and cured to obtain a film F4 having a hard coat layer on the surface. On the obtained film F4, an ITO layer was formed and crystallized in the same manner as in Example 1 to obtain a transparent conductive film I2. The surface resistance value of the obtained transparent conductive film I2 was 128Ω / □. Further, when the transparent conductive film I2 was visually confirmed, no rainbow-like interference was observed.

(3−3) 比較例1
製造例1で作製した未延伸フィルム(A1)を96mm×96mmに切り出し、逐次二軸延伸機(東洋精機製作所社製、品番:X−6S)を用い、179℃の温度にて、240mm/分の延伸速度で縦方向(MD方向)および横方向(TD方向)の順にそれぞれ延伸倍率が2倍となるように逐次二軸延伸を行った。延伸後、得られた延伸フィルムを速やかに延伸機から取り出して冷却することにより、基材フィルムの厚さ40μmのフィルムF5を得た。得られた延伸フィルムF5の面内位相差、厚さ方向位相差はそれぞれ、4.3nm、−13.0nmであった。
(3-3) Comparative Example 1
The unstretched film (A1) produced in Production Example 1 was cut into 96 mm × 96 mm, and 240 mm / min at a temperature of 179 ° C. using a sequential biaxial stretching machine (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho, product number: X-6S). Biaxial stretching was performed sequentially so that the stretching ratio was doubled in the order of the machine direction (MD direction) and the transverse direction (TD direction) at the stretching speed of. After stretching, the obtained stretched film was quickly taken out from the stretching machine and cooled to obtain a film F5 having a base film thickness of 40 μm. The stretched film F5 obtained had an in-plane retardation and a thickness direction retardation of 4.3 nm and -13.0 nm, respectively.

次に、製造例4で作製したコーティング組成物H1を、乾燥後の塗布膜の厚さが2μmとなるようにフィルムF5の片面に塗布し、100℃で2分間乾燥した。続いて、積算照射量500mJ/cm2のUV光を照射して、コーティング組成物H1を硬化させ、表面にハードコート層を有するフィルムF6を得た。得られたフィルムF6上に、実施例1と同様にして、ITO層を形成し、結晶化処理することにより、透明導電性フィルムI3を得た。得られた透明導電性フィルムI3の表面抵抗値は126Ω/□であった。また、透明導電性フィルムI3を目視で確認したところ、虹色のような干渉が確認された。 Next, the coating composition H1 produced in Production Example 4 was applied to one side of the film F5 so that the thickness of the coating film after drying was 2 μm, and dried at 100 ° C. for 2 minutes. Subsequently, UV light with an integrated irradiation amount of 500 mJ / cm 2 was irradiated to cure the coating composition H1 to obtain a film F6 having a hard coat layer on the surface. On the obtained film F6, an ITO layer was formed and crystallized in the same manner as in Example 1 to obtain a transparent conductive film I3. The obtained transparent conductive film I3 had a surface resistance value of 126Ω / □. Moreover, when the transparent conductive film I3 was confirmed visually, interference like iridescent was confirmed.

本発明の透明導電性フィルムは、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の表示素子と組み合わせて用いられるタッチパネル等に好適に適用できる。   The transparent conductive film of the present invention can be suitably applied to a touch panel used in combination with a display element such as a liquid crystal display or a plasma display.

Claims (7)

基材フィルムの少なくとも片面に、プライマー層、ハードコート層、透明導電層がこの順に積層された透明導電性フィルムであって、
前記基材フィルムが、主鎖に環構造を有し、ガラス転移温度が140℃以上であるアクリル系樹脂を含有することを特徴とする透明導電性フィルム。
A transparent conductive film in which a primer layer, a hard coat layer, and a transparent conductive layer are laminated in this order on at least one side of a base film,
The said base film contains acrylic resin which has a ring structure in a principal chain and whose glass transition temperature is 140 degreeC or more, The transparent conductive film characterized by the above-mentioned.
前記アクリル系樹脂が、下記式(1)で表される繰り返し単位と、下記式(2)で表される繰り返し単位を有する請求項1に記載の透明導電性フィルム。
[式(1)中、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を表し、R3は環構造を表す。]
[式(2)中、R4およびR5は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を表し、R6は、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基または炭素数6〜10のアリール基を表す。]
The transparent conductive film according to claim 1, wherein the acrylic resin has a repeating unit represented by the following formula (1) and a repeating unit represented by the following formula (2).
[In Formula (1), R < 1 > and R < 2 > represent a hydrogen atom or a C1-C8 alkyl group each independently, and R < 3 > represents a ring structure. ]
[In the formula (2), R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R 6 represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms or 3 to 3 carbon atoms. 12 represents a cycloalkyl group or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. ]
前記アクリル系樹脂が、式(1)で表される繰り返し単位を5質量%以上85質量%以下、式(2)で表される繰り返し単位を15質量%以上95質量%以下の含有率で有する請求項2に記載の透明導電性フィルム。   The acrylic resin has a repeating unit represented by the formula (1) in a content of 5% by mass to 85% by mass and a repeating unit represented by the formula (2) in a content of 15% by mass to 95% by mass. The transparent conductive film according to claim 2. 前記アクリル系樹脂の応力光学係数(Cr)の絶対値が0.3×10-9Pa-1以下である請求項1〜3のいずれか一項に記載の透明導電性フィルム。 The absolute value of the stress optical coefficient (Cr) of the acrylic resin is 0.3 × 10 −9 Pa −1 or less. The transparent conductive film according to claim 1. 前記プライマー層が、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、およびこれらの複合樹脂よりなる群より選ばれる樹脂を含有する請求項1〜4のいずれか一項に記載の透明導電性フィルム。   The transparent conductive film as described in any one of Claims 1-4 in which the said primer layer contains resin chosen from the group which consists of a polyester resin, an acrylic resin, a urethane resin, and these composite resins. 前記プライマー層が、さらに水溶性樹脂を含有する請求項5に記載の透明導電性フィルム。   The transparent conductive film according to claim 5, wherein the primer layer further contains a water-soluble resin. 前記プライマー層が、さらに微粒子を含有する請求項5または6に記載の透明導電性フィルム。   The transparent conductive film according to claim 5 or 6, wherein the primer layer further contains fine particles.
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Cited By (3)

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