JP2016149292A - Insulation wire - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は絶縁電線に係り、特に自動車、電機・電子機器等に好適に使用される絶縁電線に関するものである。 The present invention relates to an insulated wire, and more particularly to an insulated wire that is suitably used in automobiles, electrical equipment, electronic devices, and the like.
自動車、電気・電子機器に使用される部材や絶縁材料には、機械特性、難燃性、耐熱性、耐寒性等の種々の特性が要求される。従来、この種の絶縁材料として、ポリ塩化ビニル樹脂や、分子中に臭素原子や塩素原子を含むハロゲン系難燃剤を配合したコンパウンドが使用されてきた。 Various properties such as mechanical properties, flame retardancy, heat resistance, and cold resistance are required for members and insulating materials used in automobiles, electric / electronic devices. Conventionally, as this type of insulating material, a polyvinyl chloride resin or a compound containing a halogen flame retardant containing a bromine atom or a chlorine atom in the molecule has been used.
しかし上記のようなハロゲン原子を含む組成物を用いた材料は、焼却廃棄した場合に多量の腐食ガスが発生する恐れがある。そのため、腐食ガスが多量に発生する恐れのない、ノンハロゲン難燃材料が提案されている（例えば、特許文献１参照）。 However, a material using a composition containing a halogen atom as described above may generate a large amount of corrosive gas when discarded by incineration. Therefore, a non-halogen flame retardant material that does not cause a large amount of corrosive gas has been proposed (see, for example, Patent Document 1).
上記従来のノンハロゲン系難燃材料においては、シリコーンゴムにフィラーとして水酸化アルミニウムが添加されている。しかし水酸化アルミニウムは、架橋反応実施の際、脱水温度が低いので、発泡し易く、外観不良になる恐れがある。 In the conventional non-halogen flame retardant material, aluminum hydroxide is added as a filler to the silicone rubber. However, since aluminum hydroxide has a low dehydration temperature during the cross-linking reaction, it tends to foam and may have a poor appearance.
上記の外観不良を避けるためには、水酸化アルミニウムを添加しないことである。しかしフィラーを使用しないと、耐摩耗性が低下する恐れがある。そこで、シリコーンゴムの硬度を高くして、所定の値以上に規定することで、耐摩耗性の低下を防ぐことが可能である。 In order to avoid the above appearance defects, aluminum hydroxide is not added. However, if no filler is used, the wear resistance may be reduced. Therefore, it is possible to prevent the wear resistance from deteriorating by increasing the hardness of the silicone rubber and defining it to a predetermined value or more.
またシリコーンゴムにフィラーを添加しない場合、シリコーンゴムだけでは耐バッテリー液性が悪いという問題があった。 Further, when no filler is added to the silicone rubber, there is a problem that the battery liquid resistance is poor with the silicone rubber alone.
本発明の解決しようとする課題は、架橋シリコーンゴムを含む絶縁層を有する絶縁電線において、外観が良好であり、耐摩耗性、耐バッテリー液性等が良好な絶縁電線を提供することにある。 The problem to be solved by the present invention is to provide an insulated electric wire having an insulating layer containing a crosslinked silicone rubber, which has a good external appearance and good wear resistance, battery liquid resistance and the like.
本発明に係る絶縁電線は、
導体の周囲が架橋シリコーンゴムを含む絶縁層で被覆されている絶縁電線であって、
前記架橋シリコーンゴムのショアＡ硬度が５０以上であり、
前記絶縁層の周囲にポリテトラフルオロエチレンを含む薄膜層が形成されていることを要旨とするものである。
The insulated wire according to the present invention is
An insulated wire in which the periphery of the conductor is covered with an insulating layer containing a crosslinked silicone rubber,
The crosslinked silicone rubber has a Shore A hardness of 50 or more,
The gist is that a thin film layer containing polytetrafluoroethylene is formed around the insulating layer.
本発明の絶縁電線において、前記薄膜層の厚みが、５〜２００μｍの範囲内であることが好ましい。 In the insulated wire of the present invention, the thickness of the thin film layer is preferably in the range of 5 to 200 μm.
本発明の絶縁電線において、前記薄膜層が、バインダー樹脂を含むことが好ましい。 The insulated wire of this invention WHEREIN: It is preferable that the said thin film layer contains binder resin.
本発明の絶縁電線において、前記薄膜層が、ポリテトラフルオロエチレンが溶媒に分散された分散液の塗工により形成されたものであることが好ましい。 In the insulated wire of the present invention, it is preferable that the thin film layer is formed by applying a dispersion liquid in which polytetrafluoroethylene is dispersed in a solvent.
本発明の絶縁電線において、前記絶縁層が、無機フィラーを含まないことが好ましい。 The insulated wire of this invention WHEREIN: It is preferable that the said insulating layer does not contain an inorganic filler.
本発明に係る絶縁電線は、導体の周囲が架橋シリコーンゴムを含む絶縁層で被覆されている絶縁電線であって、前記架橋シリコーンゴムのショアＡ硬度が５０以上であり、前記絶縁層の周囲にポリテトラフルオロエチレンを含む薄膜層が形成されている構成を採用したことにより、外観が良好であり、十分な耐摩耗性を得ることが可能であると共に、耐バッテリー液性の良好な絶縁電線を得ることができる。 The insulated wire according to the present invention is an insulated wire in which the periphery of the conductor is covered with an insulating layer containing a crosslinked silicone rubber, and the Shore A hardness of the crosslinked silicone rubber is 50 or more. By adopting a configuration in which a thin film layer containing polytetrafluoroethylene is formed, it is possible to obtain an insulated wire with good appearance, sufficient wear resistance, and good battery liquid resistance. Can be obtained.
本発明の実施形態について詳細に説明する。図１は本発明の絶縁電線の一例を示す一部切欠き斜視図であり、図２は図１のＢ−Ｂ線断面図である。図１及び図２に示すように、絶縁電線１は、導体２と、該導体２の周囲を被覆する絶縁層３とを有している。絶縁層３は、架橋シリコーンゴムを含む。更に絶縁層３の周囲に、ポリテトラフルオロエチレン（以下、ＰＴＦＥということもある）を含む薄膜層４が形成されている。
Embodiments of the present invention will be described in detail. FIG. 1 is a partially cutaway perspective view showing an example of the insulated wire of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line BB of FIG. As shown in FIGS. 1 and 2, the insulated
絶縁電線１の絶縁層３の表面を被覆している薄膜層４は、該薄膜層４に含まれるＰＴＦＥが、バッテリー液に対して耐性を有する。絶縁電線１は、表面にＰＴＦＥを含む薄膜層４が形成されていることにより、耐バッテリー性を向上させることができる。
In the
絶縁層３は、架橋シリコーンゴムのショアＡ硬度が５０以上である。絶縁層３に用いられる架橋シリコーンゴムは、水酸化アルミニウム等のフィラーを含まないと、耐摩耗性が低下する。これに対し本発明は、架橋シリコーンゴムの硬度を高くして、所定の数値以上に規定している。そのため、フィラーを含有しない場合でも、架橋シリコーンゴムの耐摩耗性が向上しているので、絶縁電線１に十分な耐摩耗性を与えることができる。
The
上記架橋シリコーンゴムのショアーＡ硬度とは、ＪＩＳ Ｋ ６２５３ デュロメータタイプＡスプリング式硬さ試験で測定される硬さのことである。架橋シリコーンゴムのショアＡ硬度は、シリコーンゴムの種類、架橋剤の種類、配合量等を適宜、調節することで、５０以上に形成することが可能である。 The Shore A hardness of the crosslinked silicone rubber is a hardness measured by a JIS K 6253 durometer type A spring type hardness test. The Shore A hardness of the crosslinked silicone rubber can be formed to 50 or more by appropriately adjusting the type of the silicone rubber, the type of the crosslinking agent, the blending amount, and the like.
また架橋シリコーンゴムを含む絶縁層３が、フィラーを含まない場合、耐バッテリー液性が低下する。すなわちシリコーンゴムは、ケイ素−酸素結合が酸の影響により加水分解を受けやすい。そのためシリコーンゴムはバッテリー液に対する耐性が低くなる。これに対し、ＰＴＦＥは酸に対する耐性に優れる。絶縁層３の外側周囲のＰＴＦＥを含んでいる薄膜層４は、絶縁層３の表面を保護して、耐バッテリー液性を向上させる。絶縁電線１は、薄膜層４により、十分な耐バッテリー液性を得ることができる。
Further, when the
薄膜層４の厚みは、絶縁層３の厚みよりも薄く形成されている。薄膜層４の厚みは、通常、１〜１０００μｍ程度であり、絶縁層３の厚み、電線の線径等によって適宜決定することができる。好ましい薄膜層４の厚みは、５〜２００μｍの範囲内である。更に好ましい薄膜層４の厚みは、５〜１００μｍの範囲内である。ＰＴＦＥを含む薄膜層４の厚みが厚くなりすぎると、電線のコストが上昇する恐れがある。またＰＴＦＥを含む薄膜層４が厚くなると、絶縁層３の機械的特性に与える影響が大きくなる。その結果、架橋シリコーン電線として所望の機械的特性が得られなくなる恐れがある。
The
薄膜層４の形成は、ＰＴＦＥの粒子が溶媒に分散された分散液（ディスパージョン）の塗工（コーティング）により形成することが好ましい。ＰＴＦＥを含む薄膜層の場合、デイスパージョンのコーティングにより、ＰＴＦＥを含むフッ素樹脂層を薄く形成することが容易である。
The
絶縁層の耐バッテリー液性を上げるために、ＰＴＦＥ以外のフッ素樹脂（例えば、ＦＥＰ、ＰＦＡ等）を押出し成形により、絶縁層の上にフッ素樹脂層を形成することが考えられる。しかし、ＦＥＰ、ＰＦＡ等を押出し成形してフッ素樹脂層を形成しようとすると、薄膜に形成することは困難である。押出し法ではフッ素樹脂層が厚く形成されてしまう。その結果、フッ素樹脂は高価であるから、絶縁電線のコストが上昇してしまう。 In order to increase the battery liquid resistance of the insulating layer, it is conceivable to form a fluororesin layer on the insulating layer by extruding a fluororesin other than PTFE (for example, FEP, PFA, etc.). However, when a fluororesin layer is formed by extruding FEP, PFA or the like, it is difficult to form a thin film. In the extrusion method, the fluororesin layer is formed thick. As a result, since the fluororesin is expensive, the cost of the insulated wire is increased.
また絶縁層の耐バッテリー性を向上させる方法として、シリコーンゴムの合成の際に、炭素−フッ素結合、シリコーン−フッ素結合等を導入する方法も考えられる。しかし、上記の方法は、合成が難しく、コスト高になってしまう。 Further, as a method for improving the battery resistance of the insulating layer, a method of introducing a carbon-fluorine bond, a silicone-fluorine bond, or the like when synthesizing the silicone rubber can be considered. However, the above method is difficult to synthesize and is expensive.
薄膜層４は、例えば、ＰＴＦＥを溶媒中に分散させたディスパージョン（組成物）を用いて、絶縁層３の表面に塗工することで形成することができる。上記ＰＴＦＥは、懸濁重合品と乳化重合品がある。ＰＴＦＥのディスパージョンは、一般に乳化重合によるＰＴＦＥに界面活性剤を加えて分散させた分散物を濃縮したものが用いられる。上記溶媒としては、例えば、水、プロプレングリコール、トルエン、アセトン、ＭＥＫ、ブチルセロソルブ等が挙げられる。
The
薄膜層４には、バインダー樹脂を含むことが好ましい。上記バインダー樹脂は、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。バインダー樹脂は、融点が高いものが、高い温度で焼成することが可能であり、耐熱性が向上する。シリコーン樹脂は、耐熱性が高いという利点がある。
The
薄膜層４の中のバインダー樹脂の配合量は、ＰＴＦＥ１００質量部に対し、５〜５０質量部の範囲内であるのが好ましい。バインダー樹脂が５質量部未満では、下地との密着力が低く剥がれる恐れがあり、５０質量部を超えると表面のＰＴＦＥが少なく電線特性が向上しない恐れがある。
It is preferable that the compounding quantity of the binder resin in the
上記薄膜層４の組成物に、バインダー樹脂を添加して、溶媒中に分散させることで、薄膜層４中にバインダー樹脂を含有させることができる。
The binder resin can be contained in the
薄膜層４を形成するには、例えば、導体２の周囲に絶縁層３を押出し成形した電線に、薄膜層４の組成物をコーティングした後、加熱して溶媒を揮発させて成膜する。その後、更に加熱して絶縁層３のシリコーンゴムを架橋させることで、絶縁電線１が得られる。また、薄膜層４の形成は、絶縁層３のシリコーンゴムを形成して一度巻き取った電線をオフラインで処理してもよい。薄膜層４の形成は、上記のように絶縁層３の形成とオンラインで連続的に処理することが、効率的である。
In order to form the
薄膜層４を形成する場合の、組成物のコーティング法としては、スプレーコート法、オーバーコート法等が挙げられる。
Examples of the coating method for forming the
薄膜層４を形成するために用いられる、ＰＴＦＥを含む薄膜層の組成物は、市販の材料を使用することが可能である。市販の組成物は、ＰＴＦＥ、バインダー樹脂、溶媒を含むデスパージョンの形態で供給されていて、スプレーコート等が可能な形態になっている。市販の上記組成物として例えば、関西ポリマー社の商品名で、「ＫＰ‐９５２‐１」、「ＫＰ‐４３６‐１」、「ＫＰ‐１４‐１」、「ＫＰ‐８３１８‐１」、「ＫＰ‐８３１４‐１」、「ＫＰ‐８３１７‐１」、「ＫＰ‐８３４８‐１」、「ＫＰ‐８０１８‐１」、「ＫＰ‐８０１４‐１」、「ＫＰ‐８０４８‐１」、千代田交易社の商品名「ＺＺＲ‐０９１」、「Ｄ３２１３」、シャイン工芸社の商品名「モルテイアコートＲ２３００」、「モルテイアコートＲ２３１０」、「モルテイアコートＲ２３２０」、「モルテイアコートＲ２３３０」、「モルテイアコートＲ２３４１」、「モルテイアコートＰ２４１０」、「モルテイアコートＰ２４２０」、「モルテイアコートＰ２４３０」、「モルテイアコートＰ２４４０」等を挙げることができる。
A commercially available material can be used for the composition of the thin film layer containing PTFE used for forming the
絶縁層３は、未架橋のシリコーンゴムを含む組成物を導体の周囲に押し出て被覆層として成形した後、架橋させることで、架橋シリコーンゴムを含むように構成することができる。
The insulating
上記未架橋のシリコーンゴムは、架橋剤を混練した後、加熱架橋させることで弾性体となるミラブル型（加熱架橋型）、或いは架橋前は液状である液状ゴム型のいずれを用いてもよい。液状ゴム型シリコーンゴムは、室温付近で架橋が可能な室温架橋型（ＲＴＶ）と、混合後１００℃付近で加熱すると架橋する低温架橋型（ＬＴＶ）がある。 The uncrosslinked silicone rubber may be either a millable type (heat cross-linked type) that becomes an elastic body by kneading a cross-linking agent and then cross-linking by heating, or a liquid rubber type that is liquid before cross-linking. The liquid rubber type silicone rubber includes a room temperature crosslinking type (RTV) capable of crosslinking near room temperature and a low temperature crosslinking type (LTV) capable of crosslinking when heated near 100 ° C. after mixing.
ミラブル型シリコーンゴムは、直鎖状のオルガノポリシロキサンを主原料（生ゴム）として、分散促進剤、その他添加剤等を配合したゴムコンパウンドとして市販されているものを用いてもよい。 As the millable silicone rubber, a commercially available rubber compound containing a linear organopolysiloxane as a main raw material (raw rubber) and a dispersion accelerator and other additives may be used.
絶縁層用のゴム組成物において、未架橋のシリコーンゴムは、加熱等により架橋することが可能であるが、組成物中に架橋剤（加硫剤）を添加して架橋させても良い。 In the rubber composition for the insulating layer, the uncrosslinked silicone rubber can be crosslinked by heating or the like, but may be crosslinked by adding a crosslinking agent (vulcanizing agent) to the composition.
架橋剤は、未架橋のゴムの種類や架橋条件等に応じて適宜選択することができる。架橋剤としては、例えば、有機過酸化物等のラジカル発生剤、金属石けん、アミン、チオール、チオカルバミン酸塩、有機カルボン酸等の化合物を挙げることができる。架橋剤としては、有機過酸化物等が、架橋速度の向上の点から好ましい。 The crosslinking agent can be appropriately selected depending on the type of uncrosslinked rubber, the crosslinking conditions, and the like. Examples of the crosslinking agent include radical generators such as organic peroxides, compounds such as metal soaps, amines, thiols, thiocarbamates, and organic carboxylic acids. As the crosslinking agent, an organic peroxide or the like is preferable from the viewpoint of improving the crosslinking rate.
有機過酸化物としては、例えば、日本油脂社の製品名で、パーヘキシルＤ、パークミルＤ，パーヘキサＶ、パーブチルＤ、パーヘキサ２５Ｂ等が挙げられる。 Examples of the organic peroxide include Perhexyl D, Park Mill D, Perhexa V, Perbutyl D, Perhexa 25B, and the like under the product name of Nippon Oil & Fats Co., Ltd.
絶縁層３の組成物中の架橋剤の配合量は、適宜決定することができる。架橋剤の配合量は、例えば、未架橋のシリコーンゴムと架橋剤の合計量に対し、０．０１〜１０質量％の範囲で配合するのが好ましい。
The amount of the crosslinking agent in the composition of the insulating
絶縁層３の組成物は、架橋シリコーンゴム、架橋剤等の他に、絶縁層の特性を損なわない範囲で、各種の添加剤を含有していても良い。このような添加剤としては、絶縁電線の絶縁層に用いられる一般的な添加剤を挙げることができる。具体的には、難燃剤、酸化防止剤、老化防止剤、顔料等が挙げられる。
The composition of the insulating
また絶縁層３には、絶縁電線１の外観や物性を低下させない範囲であれば、フィラー等の充填剤を添加してもよいが、好ましいのはフィラーを添加しないことである。フィラーは、例えば、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、クレー、タルク、水酸化マグネシウ、酸化マグネシウムム等が挙げられる。上記フィラーは表面処理されたもの、表面処理されていない未処理のもの、いずれでもよい。尚、水酸化アルミニウムは、架橋反応の際に発泡するおそれがあるので使用しないのが好ましい。
In addition, a filler such as a filler may be added to the insulating
本発明に係る絶縁電線１は、例えば次のようにして製造することができる。まず、絶縁層３を形成するための絶縁層用の樹脂組成物を調製する。次いで、調製した樹脂組成物を導体２の周囲に押出して、導体２の周囲に絶縁層３を成形する。次いで、絶縁層３の表面にＰＴＦＥを含む薄膜層をコーティング法により形成した後、加熱して溶媒を揮発させた後、更に絶縁層３のシリコーンゴムを架橋させる。絶縁層のシリコーンゴムが架橋シリコーンゴムとなって、絶縁電線１が得られる。
The
絶縁層３の形成に用いられる組成物の調製は、各成分を混練することにより行われる。組成物の成分を混練する際には、例えば、バンバリーミキサー、加圧ニーダー、混練押出機、二軸混練押出機、ロール等の通常の混練機を用いて均一に分散可能である。
The composition used for forming the insulating
組成物の押出成形には、通常の絶縁電線の製造に用いられる電線押出成形機等を用いることができる。 For the extrusion molding of the composition, an electric wire extrusion molding machine or the like used for production of a normal insulated wire can be used.
絶縁電線１の導体２は、通常の絶縁電線に使用されるものを利用できる。導体２は、例えば、銅系材料やアルミニウム系材料よりなる単線や撚線等が挙げられる。また、導体２の径や絶縁層３の厚み等は特に限定されず、絶縁電線１の用途等に応じて適宜決めることができる。
The
本発明の絶縁電線は、上記の形態に何ら限定されるものではない。例えば、上記態様の絶縁電線は、絶縁層を単一層から構成したが、絶縁層を２層以上の複数層から構成してもよい。 The insulated wire of this invention is not limited to said form at all. For example, although the insulated wire of the said aspect comprised the insulating layer from the single layer, you may comprise an insulating layer from two or more layers.
本発明に係る絶縁電線は、自動車、電子・電気機器に使用される耐熱性が要求される用途の絶縁電線として好適である。 The insulated wire according to the present invention is suitable as an insulated wire for applications requiring heat resistance used in automobiles, electronic and electrical equipment.
以下、本発明の実施例、比較例を示す。
[実施例１〜７]
表１に示す絶縁層の配合組成で、市販のシリコーンゴム、架橋剤を含む組成物をバンバリーミキサーを用いて常温にて混合した。その後、押出成形機を用いて、軟銅線を７本撚り合わせた軟銅より線の導体（断面積０．５ｍｍ２）の外周にシリコーンゴムを含む組成物を０．２ｍｍ厚に押出し被覆して絶縁層を形成した後、巻き取る直前の電線の絶縁層の上から表１に示すＰＴＦＥを含む組成物をスプレーコートで塗布して、溶媒を揮発させてＰＴＦＥ薄膜層を成膜した。その後、２００℃×４時間加熱処理して絶縁層のシリコーンゴムの架橋を完了させて絶縁電線を得た。ＰＴＦＥ薄膜層は表１に示す厚みに形成した。
Examples of the present invention and comparative examples are shown below.
[Examples 1-7]
In the composition of the insulating layer shown in Table 1, a composition containing a commercially available silicone rubber and a crosslinking agent was mixed at room temperature using a Banbury mixer. After that, using an extrusion molding machine, a composition containing silicone rubber was extruded and coated to a thickness of 0.2 mm on the outer periphery of a conductor (cross-sectional area 0.5 mm 2 ) of an annealed copper twisted wire obtained by twisting seven annealed copper wires. After forming the layer, a composition containing PTFE shown in Table 1 was applied by spray coating from above the insulating layer of the electric wire just before winding, and the solvent was evaporated to form a PTFE thin film layer. Thereafter, heat treatment was carried out at 200 ° C. for 4 hours to complete the crosslinking of the silicone rubber of the insulating layer to obtain an insulated wire. The PTFE thin film layer was formed to the thickness shown in Table 1.
比較例１〜７
表２に示す絶縁層の組成物を用いて実施例と同様に絶縁層を形成し、ＰＴＦＥ薄膜層を形成せずに、比較例１〜７の絶縁電線を得た。
Comparative Examples 1-7
Using the composition of the insulating layer shown in Table 2, an insulating layer was formed in the same manner as in Example, and the insulated wires of Comparative Examples 1 to 7 were obtained without forming the PTFE thin film layer.
実施例１〜７、比較例１〜７の絶縁電線について、耐寒性、耐摩耗性、耐バッテリー液性について試験を行い評価した。その結果を表１、表２に合わせて示す。尚、表１、表２の各成分の詳細、各試験方法及び評価方法は、下記の通りである。 About the insulated wire of Examples 1-7 and Comparative Examples 1-7, it tested and evaluated about cold resistance, abrasion resistance, and battery liquid resistance. The results are shown in Tables 1 and 2. In addition, the detail of each component of Table 1 and Table 2, each test method, and the evaluation method are as follows.
〔シリコーンゴム〕
商品名の後に記載した硬度は、架橋後のシリコーンゴムのショアＡ硬度である。
・シリコーンゴム１：旭化成社製、商品名「Ｒ４０１‐５０」、硬度５０
・シリコーンゴム２：旭化成社製、商品名「Ｒ４０１‐６０」、硬度６０
・シリコーンゴム３：旭化成社製、商品名「Ｒ４０１‐７０」、硬度７０
・シリコーンゴム４：旭化成社製、商品名「Ｒ４０１‐８０」、硬度８０
・シリコーンゴム５：旭化成社製、商品名「Ｒ４０１‐４０」、硬度４０
・シリコーンゴム６：旭化成社製、商品名「Ｒ４０１‐３０」、硬度３０
・シリコーンゴム７：旭化成社製、商品名「Ｒ４０１‐２０」、硬度２０
・シリコーンゴム８：ＫＣＣ社製、商品名「ＳＨ００３０Ｕ」、硬度３０
〔silicone rubber〕
The hardness described after the product name is the Shore A hardness of the silicone rubber after crosslinking.
Silicone rubber 1: manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., trade name “R401-50”, hardness 50
Silicone rubber 2: manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., trade name “R401-60”, hardness 60
Silicone rubber 3: manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., trade name “R401-70”, hardness 70
Silicone rubber 4: manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., trade name “R401-80”, hardness 80
Silicone rubber 5: manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., trade name “R401-40”, hardness 40
Silicone rubber 6: manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., trade name “R401-30”, hardness 30
Silicone rubber 7: Asahi Kasei Co., Ltd., trade name “R401-20”, hardness 20
Silicone rubber 8: manufactured by KCC, trade name “SH0030U”, hardness 30
〔架橋剤〕
・ジクミルパーオキサイド：日油社製、商品名「パークミルＤ」
[Crosslinking agent]
・ Dicumyl peroxide: NOF Corporation, trade name “Park Mill D”
〔ＰＴＦＥを含む組成物〕
・ＰＴＦＥ１：関西ポリマー社製、商品名「ＫＰ‐９５２‐１」
・ＰＴＦＥ２：関西ポリマー社製、商品名「ＫＰ‐４３６‐１」
[Composition containing PTFE]
-PTFE1: manufactured by Kansai Polymer Co., Ltd., trade name "KP-952-1"
PTFE2: manufactured by Kansai Polymer Co., Ltd., trade name “KP-436-1”
〔耐寒性試験方法〕
耐寒性試験は、ＪＩＳ Ｃ３０５５に準拠して行った。すなわち作製した絶縁電線を３８ｍｍの長さに切断し試験片とした。この試験片を耐寒性試験機に装着し、所定の温度まで冷却し、打撃具で打撃して、試験片の打撃後の状態を観察した。５本の試験片を用いて、５本の試験片が全て割れた温度を耐寒温度とした。
[Cold resistance test method]
The cold resistance test was performed in accordance with JIS C3055. That is, the produced insulated wire was cut into a length of 38 mm to obtain a test piece. The test piece was mounted on a cold resistance tester, cooled to a predetermined temperature, hit with a hitting tool, and the state after hitting the test piece was observed. Using five test pieces, the temperature at which all five test pieces were broken was defined as the cold resistant temperature.
〔耐摩耗性試験方法〕
耐摩耗性試験は、社団法人自動車技術規格「ＪＡＳＯ Ｄ６１８」に準拠して、ブレード往復法により試験を行った。すなわち、実施例、比較例の各絶縁電線を７５０ｍｍの長さに切り出して試験片とした。そして、２３±５℃の室温下で試験片の被覆材（絶縁層）に対し軸方向に１０ｍｍ以上の長さでブレードを毎分５０回の速さで往復させ、ブレードが導体に接するまでの往復回数を測定した。この際、ブレードにかかる荷重は、７Ｎとした。評価は、往復回数が２００回以上のものを良好（○）とし、３００回以上のものを優良（◎）とし、２００回未満のものを不良（×）とした。
[Abrasion resistance test method]
The abrasion resistance test was performed by a blade reciprocation method in accordance with the automobile technical standard “JASO D618”. That is, each insulated wire of an Example and a comparative example was cut out to 750 mm length, and it was set as the test piece. Then, the blade is reciprocated at a speed of 50 times per minute with a length of 10 mm or more in the axial direction with respect to the coating material (insulating layer) of the test piece at room temperature of 23 ± 5 ° C. until the blade contacts the conductor. The number of round trips was measured. At this time, the load applied to the blade was 7N. In the evaluation, a case where the number of reciprocations was 200 times or more was judged as good (◯), a case where 300 times or more was taken was judged as excellent (◎), and a case where it was less than 200 times was judged as bad (×).
〔耐バッテリー液性試験方法〕
耐バッテリー液性は、ＩＳＯ６７２２（２０１１年版）のメソッド２に準拠した。すなわち密度１．２６の硫酸水溶液を電線に垂らして９０℃の恒温槽に投入する。そして、８時間後、１６時間後、３２時間後に再度液を垂らして、４８時間後に取り出した。その後、３％の塩水に１０分間浸漬後、１ｋＶ×１分間の耐電圧試験を実施した。耐電圧試験の結果、絶縁破壊しなかったものを良好（○）とし、絶縁破壊したものを不良（×）とした。
[Battery liquid resistance test method]
The battery liquid resistance was in accordance with
表１に示すように実施例１〜７のＰＴＦＥを含む薄膜層を有する絶縁電線は、耐摩耗性、耐バッテリー液性がいずれも良好であった。これに対し表２に示すように、ＰＴＦＥ薄膜層を形成しなかった比較例１〜７の絶縁電線は、耐摩耗性、耐バッテリー液性が不良であった。また実施例１〜７の耐寒性は、比較例１〜７と比較して、大きな低下はなく、問題のない範囲であった。 As shown in Table 1, the insulated wire having the thin film layer containing PTFE of Examples 1 to 7 had good wear resistance and battery liquid resistance. On the other hand, as shown in Table 2, the insulated wires of Comparative Examples 1 to 7 in which the PTFE thin film layer was not formed had poor wear resistance and battery liquid resistance. Moreover, the cold resistance of Examples 1-7 did not have a big fall compared with Comparative Examples 1-7, and was a range without a problem.
以上、本発明の実施の形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。 Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.
１ 絶縁電線
２ 導体
３ 架橋シリコーンゴムを含む絶縁層
４ ＰＴＦＥを含む薄膜層
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記架橋シリコーンゴムのショアＡ硬度が５０以上であり、
前記絶縁層の周囲にポリテトラフルオロエチレンを含む薄膜層が形成されていることを特徴とする絶縁電線。 An insulated wire in which the periphery of the conductor is covered with an insulating layer containing a crosslinked silicone rubber,
The crosslinked silicone rubber has a Shore A hardness of 50 or more,
An insulated wire, wherein a thin film layer containing polytetrafluoroethylene is formed around the insulating layer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2015026343A JP2016149292A (en) | 2015-02-13 | 2015-02-13 | Insulation wire |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP2015026343A JP2016149292A (en) | 2015-02-13 | 2015-02-13 | Insulation wire |
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Family
ID=56691293
Family Applications (1)
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| JP2015026343A Pending JP2016149292A (en) | 2015-02-13 | 2015-02-13 | Insulation wire |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP2016149292A (en) |
-
2015
- 2015-02-13 JP JP2015026343A patent/JP2016149292A/en active Pending
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