JP2016115694A - Mounting structure of optical module and manufacturing method - Google Patents

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圭介 山本
Keisuke Yamamoto
圭介 山本
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve a problem in which, in a manufacturing step of an optical module, when a component is joined onto a substrate, a deviation in an in-plane direction is generated and a position of a product in the in-plane direction is inaccurate.SOLUTION: In an optical module including: a substrate; a pedestal joined to the substrate; a joint material joined to the substrate; and a component, being in contact with the pedestal, joined to the joint material. The pedestal includes a structure that helps to prevent the component from being deviated in an in-plane direction roughly parallel to a surface of the substrate on which the pedestal is formed.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、光モジュール及びその製造方法に関し、特に光通信用の半導体素子や光導波路基板等を組み合わせて光電気信号変換を行う光モジュール及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an optical module and a method for manufacturing the same, and more particularly to an optical module that performs photoelectric signal conversion by combining a semiconductor element for optical communication, an optical waveguide substrate, and the like, and a method for manufacturing the same.

近年のLSI等のデバイスの高速化技術の発展にともなって電気的な通信方法の速度限界が問題となっている。そのため電気的な通信方法の代替として光通信や光情報処理等の研究開発が進められている。光モジュールは光信号と電気信号を変換する光通信用の半導体素子や光信号の伝送路である光導波路を備えた光導波路基板等の要素部品から構成されるモジュールであり、光信号または電気信号の入力を受け付け、相互に変換し、出力を行う機能部品である。   With the recent development of high-speed technology for devices such as LSI, the speed limit of electrical communication methods has become a problem. For this reason, research and development of optical communication, optical information processing, and the like are underway as an alternative to electrical communication methods. An optical module is a module composed of component parts such as an optical communication semiconductor element for converting an optical signal and an electric signal and an optical waveguide substrate having an optical waveguide as a transmission path of the optical signal. Is a functional component that accepts inputs, converts them to each other, and outputs them.

特許文献1及び特許文献2には、このような光モジュールの要素部品を組み立てる製造方法の例が示されている。   Patent Documents 1 and 2 show examples of manufacturing methods for assembling such optical module element parts.

特許文献1に記載された光モジュールの製造方法には、下記工程が記載されている。すなわち、はんだを用いて光素子を基板に搭載する場合において、基板の実装面側に所定の高さの突起が設けられる。そして、基板の実装面に対して平行な面内方向(以下、「面内方向」という。)での光素子の位置が決定された後に、接合用のはんだが加熱される。これにより、はんだが溶融して、光素子の位置が基板の実装面に対して垂直な方向(以下、「高さ方向」という。)に密着する際に光素子の実装面と基板の突起とが突き当たる。   The following steps are described in the method of manufacturing an optical module described in Patent Document 1. That is, when an optical element is mounted on a substrate using solder, a protrusion having a predetermined height is provided on the mounting surface side of the substrate. Then, after the position of the optical element in the in-plane direction parallel to the mounting surface of the substrate (hereinafter referred to as “in-plane direction”) is determined, the bonding solder is heated. As a result, when the solder melts and the position of the optical element comes into close contact with the direction perpendicular to the mounting surface of the substrate (hereinafter referred to as the “height direction”), the mounting surface of the optical device and the protrusions of the substrate Hits.

また、特許文献2には、位置決め台を形成した基板上に形成したはんだバンプに、光素子チップを押し当て、その後にはんだを加熱し、はんだを溶融する光素子の実装方法が開示されている。このはんだの溶融により、光素子チップが位置決め台に押し当てられ、基板と光素子チップとの距離が設定される。   Patent Document 2 discloses a method for mounting an optical element in which an optical element chip is pressed against a solder bump formed on a substrate on which a positioning table is formed, and then the solder is heated to melt the solder. . By melting the solder, the optical element chip is pressed against the positioning table, and the distance between the substrate and the optical element chip is set.

特開平6−120225号公報JP-A-6-120225 特開平7−235566号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-235666

しかし、一方で、近年、光モジュールを25Gbpsを超える通信の高速化に対応できるようにしたいという要請がある。そのために、電気回路パターンに存在する静電容量低減の目的から光素子の受発光領域が例えばφ10μm未満といった微小な面積である光素子を適用する事や、小型化や低コスト化のために、例えばφ2μmという微小な径の光導波路を有するシリコン導波路基板の適用の検討が進んでいる。   However, on the other hand, in recent years, there has been a demand for making it possible to cope with an increase in communication speed exceeding 25 Gbps. Therefore, for the purpose of reducing the capacitance existing in the electric circuit pattern, for example, to apply an optical element having a small area such as a light receiving and emitting region of the optical element of less than φ10 μm, for miniaturization and cost reduction, For example, application of a silicon waveguide substrate having an optical waveguide with a small diameter of φ2 μm has been studied.

また、レーザ光の発振や変調、光経路のスイッチング等といった異なる機能を有する複数の光素子を組み合わせたハイブリッド型の光モジュールの開発も進んでいる。それらの複数の光素子の相互の光結合を得るための位置決め精度としては、例えば±0.1μm以下の、従来に比べて極めて厳しい精度が求められている。   In addition, development of a hybrid optical module in which a plurality of optical elements having different functions such as laser light oscillation and modulation, optical path switching, and the like are combined is also progressing. As positioning accuracy for obtaining mutual optical coupling of the plurality of optical elements, for example, ± 0.1 μm or less, which is extremely strict accuracy compared to the conventional art, is required.

しかしながら、特許文献1に記載された光モジュールは、はんだが溶融する際の、はんだの表面張力や要素部品の熱膨張差のため、はんだ溶融前に決定した光素子の面内方向での位置が、例えば0.5μm以上変化するという問題があった。また、接合後のはんだが、その中央部がくびれて細くなっている鼓状であるため、その接合強度が劣るという問題もあった。   However, in the optical module described in Patent Document 1, the position in the in-plane direction of the optical element determined before the solder melting is due to the surface tension of the solder and the difference in thermal expansion of the component parts when the solder melts. For example, there is a problem that the thickness changes by 0.5 μm or more. Moreover, since the solder after joining is in the shape of a drum whose center is narrowed, there is also a problem that the joining strength is inferior.

また、特許文献2に記載された光モジュールは、光素子チップを基板上に押し当てる際に、光素子チップが、位置決め台より前に基板上に形成したバンプに当たるため、面内方向での位置決め精度の確保に課題があった。   Further, the optical module described in Patent Document 2 is positioned in the in-plane direction because the optical element chip hits a bump formed on the substrate before the positioning table when the optical element chip is pressed onto the substrate. There was a problem in ensuring accuracy.

すなわち、特許文献1及び2記載の製造方法は、いずれも、要素部品を基板上に接合する際に、接合材が溶融もしくは変形して基板上の電極に接触さらに接合して、要素部品と基板とが構造的に接続されるその過程において、光素子が面内方向にずれを生じる場合があり、その面内方向での位置精度に課題があった。   That is, in both of the manufacturing methods described in Patent Documents 1 and 2, when joining the component parts onto the substrate, the joining material melts or deforms to contact and join the electrodes on the substrate, and the component parts and the substrate In the process in which and are structurally connected, the optical element may be displaced in the in-plane direction, and there has been a problem in positional accuracy in the in-plane direction.

本発明の目的は、基板上に部品を接合する工程において、接合材が溶融または変形する際の部品の面内方向での位置ずれを抑制し、併せて接合強度を確保できる、光モジュールおよびその製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an optical module capable of suppressing a positional shift in the in-plane direction of a component when a bonding material is melted or deformed in a process of bonding the component on a substrate, and also ensuring a bonding strength. It is to provide a manufacturing method.

基体と、前記基体上に形成された台座と、前記基体に接合された接合材と、前記台座と接触し、前記接合材と接合された部品とを備える。さらに、前記台座が、前記部品が前記基体の前記台座が形成された面と略平行な面内方向にずれにくくする構造を備える。   A base, a base formed on the base, a bonding material bonded to the base, and a component that contacts the base and is bonded to the bonding material. Further, the pedestal includes a structure in which the component is less likely to be displaced in an in-plane direction substantially parallel to a surface of the base on which the pedestal is formed.

本発明の光モジュールは、基体に対する部品の面内方向での位置が変化しにくく、製品におけるその部品の面内方向の位置精度が向上する。また、部品の基体に対する高さは、部品が台座上に設置されることにより確保されるので、高さ方向の精度も確保できる。   In the optical module of the present invention, the position of the component in the in-plane direction with respect to the base body hardly changes, and the positional accuracy of the component in the in-plane direction of the product is improved. Further, since the height of the component relative to the base is ensured by installing the component on the pedestal, the accuracy in the height direction can be ensured.

第一実施形態の光モジュールの構造を表わす側面概念図である。It is a side conceptual diagram showing the structure of the optical module of 1st embodiment. 第二実施形態の光モジュールの構造を表わす上面概念図である。It is a top surface conceptual diagram showing the structure of the optical module of a second embodiment. 第二実施形態の光モジュールの側面概念図である。It is a side surface conceptual diagram of the optical module of 2nd embodiment. 第二実施形態の光モジュールにおける台座を表わす上面概念図である。It is a top surface conceptual diagram showing the base in the optical module of 2nd embodiment. 図3に示した拡大部分を表わす部分拡大概念図である。FIG. 4 is a partial enlarged conceptual diagram showing an enlarged portion shown in FIG. 3. 第二実施形態の光モジュールのバリエーションを表わす側面概念図である。It is a side surface conceptual diagram showing the variation of the optical module of 2nd embodiment. 第二実施形態の光モジュールの製造工程を表わす概念図である。It is a conceptual diagram showing the manufacturing process of the optical module of 2nd embodiment. 第二実施形態の光モジュールにおける、上部にくぼみの設けられた台座の製造工程を表わす概念図である。It is a conceptual diagram showing the manufacturing process of the base in which the hollow was provided in the upper part in the optical module of 2nd embodiment. 図8に示した各工程において台座が形成される様子を表わす説明図である。It is explanatory drawing showing a mode that a base is formed in each process shown in FIG. 第三実施形態の光モジュールの構造を表わす側面概念図である。It is a side surface conceptual diagram showing the structure of the optical module of 3rd embodiment. 図10に示した拡大部分の部分拡大概念図である。It is the partial expansion conceptual diagram of the expansion part shown in FIG. 第三実施形態の光モジュールの、台座に設ける樹脂パターンの例を示した概念図である。It is the conceptual diagram which showed the example of the resin pattern provided in the base of the optical module of 3rd embodiment. 第三実施形態の光モジュールの製造工程の第一の例を表わす概念図である。It is a conceptual diagram showing the 1st example of the manufacturing process of the optical module of 3rd embodiment. 第三実施形態の光モジュールの製造工程の第二の例を表わす概念図である。It is a conceptual diagram showing the 2nd example of the manufacturing process of the optical module of 3rd embodiment. 第三実施形態の光モジュールの製造工程の第三の例を表わす概念図である。It is a conceptual diagram showing the 3rd example of the manufacturing process of the optical module of 3rd embodiment. 第四実施形態の光モジュールにおける台座の上部付近の構造を表わす側面概念図である。It is a side surface conceptual diagram showing the structure of the upper part vicinity of the base in the optical module of 4th embodiment. 第四実施形態の光モジュールの台座に設ける樹脂パターンの例を示した概念図である。It is the conceptual diagram which showed the example of the resin pattern provided in the base of the optical module of 4th embodiment. 第四実施形態の光モジュールの製造工程を表わす概念図である。It is a conceptual diagram showing the manufacturing process of the optical module of 4th embodiment. 第五実施形態の光モジュールにおける台座の上部付近の構造を表わす側面概念図である。It is a side surface conceptual diagram showing the structure near the upper part of the base in the optical module of 5th embodiment. 第五実施形態の光モジュールの製造工程を表わす概念図である。It is a conceptual diagram showing the manufacturing process of the optical module of 5th embodiment. 第六実施形態の光モジュールを表わす上面概念図である。It is a top surface conceptual diagram showing the optical module of 6th embodiment. 第六実施形態の光モジュールの製造工程を表わす概念図である。It is a conceptual diagram showing the manufacturing process of the optical module of 6th embodiment.

以下、本発明を実施するための形態について説明する。
[第一実施形態]
第一実施形態は、本発明の最小限の光モジュールについての実施形態である。
[本実施形態の光モジュールの構造]
図1は、第一実施形態の光モジュールの構造を表わす側面概念図である。同図には、光モジュールを面内方向から見た場合を想定した概念図を示してある。
Hereinafter, modes for carrying out the present invention will be described.
[First embodiment]
The first embodiment is an embodiment of the minimum optical module of the present invention.
[Structure of optical module of this embodiment]
FIG. 1 is a conceptual side view showing the structure of the optical module of the first embodiment. FIG. 2 is a conceptual diagram assuming a case where the optical module is viewed from the in-plane direction.

本実施形態の光モジュールは、基体110と、台座210と、部品2410と、接合材810とを備える。   The optical module of this embodiment includes a base 110, a pedestal 210, a component 2410, and a bonding material 810.

台座210は、基体110上に形成される。   The pedestal 210 is formed on the base 110.

部品2410は、台座210と接合材810とを介して基体110上に配置されている。部品2410と台座210とは接触している。   The component 2410 is disposed on the base 110 via the base 210 and the bonding material 810. The component 2410 and the base 210 are in contact with each other.

台座210の部品2410と接触する部分又はその近傍には、部品2410が面内方向にずれにくくする構造が設けられている。   A structure that prevents the component 2410 from shifting in the in-plane direction is provided at or near the portion of the base 210 that contacts the component 2410.

ここで、本明細書において、ある構造を設けることにより「ずれにくくする」とは、その構造を設けない場合と比較して、ずれ始めるために要する力が大きいか、その構造を設けない場合と同様にずれ始めたとしても、そのずれがすぐに収まるようにすることの、少なくとも一方をいう。
[本実施形態の効果]
本発明の光モジュールでは、基体上に設けた台座に、その上に設置される部品を面内方向にずれにくくする構造が設けられているため、基体に対する部品の面内方向での位置が変化しにくく、製品における部品の面内方向の位置精度が向上する。また、部品の基体に対する高さは、部品が台座上に設置されることにより確保されるので、高さ方向の精度も確保できる。
[第二実施形態]
第二実施形態は、光素子をずれにくくする台座の構造が、台座に設けたくぼみによる段差である光モジュールについての実施形態である。
[本実施形態の光モジュールの構造]
図2は、第二実施形態の光モジュールの構造を表わす上面概念図、図3は同光モジュールを表わす側面概念図である。図3は、図2に記載の矢印920の方向に本実施形態の光モジュールを見た場合を想定した概念図である。
Here, in this specification, “to make it difficult to shift” by providing a certain structure means that the force required to start shifting is greater than the case where the structure is not provided or the case where the structure is not provided. Similarly, even if the deviation starts, it means at least one of making the deviation immediately settled.
[Effect of this embodiment]
In the optical module of the present invention, since the pedestal provided on the base is provided with a structure that makes it difficult to shift the component installed on the base in the in-plane direction, the position of the component in the in-plane direction with respect to the base changes. This increases the positional accuracy in the in-plane direction of the part in the product. Further, since the height of the component relative to the base is ensured by installing the component on the pedestal, the accuracy in the height direction can be ensured.
[Second Embodiment]
The second embodiment is an embodiment of an optical module in which the structure of the pedestal that makes it difficult to shift the optical element is a step due to a recess provided in the pedestal.
[Structure of optical module of this embodiment]
FIG. 2 is a conceptual top view showing the structure of the optical module of the second embodiment, and FIG. 3 is a conceptual side view showing the optical module. FIG. 3 is a conceptual diagram assuming that the optical module of the present embodiment is viewed in the direction of the arrow 920 illustrated in FIG.

本実施形態の光モジュールは、基体120と、台座221乃至226と、基体電極321乃至324と、接合材821乃至824と、光素子420とを備える。   The optical module of this embodiment includes a base 120, bases 221 to 226, base electrodes 321 to 324, bonding materials 821 to 824, and an optical element 420.

光素子420は、素子電極521乃至524と、受発光部720と、絶縁膜620とを備える。   The optical element 420 includes element electrodes 521 to 524, a light emitting / receiving unit 720, and an insulating film 620.

台座221乃至226及び基体電極321乃至324は、基体120上に形成される。   The bases 221 to 226 and the base electrodes 321 to 324 are formed on the base 120.

光素子420は、台座221乃至226と基体電極321乃至324上に形成された接合材821乃至824とを介して基体120上に配置されている。光素子420と台座221乃至226とは接触している。素子電極521乃至524と接合材810とは接触している。   The optical element 420 is disposed on the base 120 via bases 221 to 226 and bonding materials 821 to 824 formed on the base electrodes 321 to 324. The optical element 420 and the bases 221 to 226 are in contact with each other. The element electrodes 521 to 524 are in contact with the bonding material 810.

受発光部720は、受光部または発光部であり、出入射方向端面1820に露出している。これにより、受発光部720が発光部である場合は、受発光部720の出入射方向端面1820に露出している部分から発光する。また、受発光部720が受光部である時は、同部分から受光する。受発光部720は、例えば、レーザ光の出射部、受光素子の受光部または光導波路の端部等である。   The light emitting / receiving unit 720 is a light receiving unit or a light emitting unit, and is exposed to the end face 1820 in the light incident / incident direction. Thereby, when the light emitting / receiving unit 720 is a light emitting unit, light is emitted from the portion exposed to the end surface 1820 in the light incident / incident direction of the light emitting / receiving unit 720. When the light emitting / receiving unit 720 is a light receiving unit, light is received from the same part. The light emitting / receiving unit 720 is, for example, a laser beam emitting unit, a light receiving unit of a light receiving element, or an end of an optical waveguide.

受発光部720が発光部である場合は、基体電極321/接合材821/素子電極521の積層体等を通じて、基体120から電力が供給される。これにより、受発光部720は、発光する。   In the case where the light emitting / receiving unit 720 is a light emitting unit, power is supplied from the base 120 through a laminated body of the base electrode 321 / bonding material 821 / element electrode 521 or the like. Thereby, the light emitting / receiving unit 720 emits light.

受発光部720が受光部である場合は、受光して変換した、その電力が、基体電極321/接合材821/素子電極521の積層体等を通じて、取り出される。   In the case where the light emitting / receiving unit 720 is a light receiving unit, the power received and converted is taken out through a laminated body of the base electrode 321 / bonding material 821 / element electrode 521 or the like.

台座221乃至226の光素子420と接触する部分又はその近傍には、光素子420をずれにくくする構造として、段差が設けられている。   Steps are provided in the portions of the bases 221 to 226 that are in contact with the optical element 420 or in the vicinity thereof as a structure that makes the optical element 420 difficult to shift.

図4は図2に示した台座221及び223の上面概念図であり、図5は図3に示した拡大部分1020の拡大概念図である。同図において、台座221及び223の斜線を表示した部分が、斜線を表示していない部分より低くなっている。この低くなっている部分を以下「くぼみ」という。斜線を表示したくぼみの部分と表示していない部分との境界が段差部である。   4 is a top conceptual view of the bases 221 and 223 shown in FIG. 2, and FIG. 5 is an enlarged conceptual view of the enlarged portion 1020 shown in FIG. In the figure, the hatched portions of the bases 221 and 223 are lower than the portions not displaying the hatched lines. This lowered portion is hereinafter referred to as “recess”. The step between the indented portion and the non-displayed portion is a stepped portion.

ここで、図5を参酌すると、くぼみ1121による段差部1421と光素子端部1521との間にわずかながら余裕1621がある。すなわち、段差部1421は、光素子420が台座221に接触する接触部1721の近傍に設けられている。このため、本光モジュールの製造工程において光素子420を基体上に配置する際に、光素子をくぼみに収めることができる。また、光素子が同図に示したA方向にずれる場合は、光素子端部1521が段差部1421に当たることにより、それ以上はずれにくくなる。すなわち、段差部1421は光素子420をずれにくくする構造である。   Here, referring to FIG. 5, there is a slight margin 1621 between the stepped portion 1421 due to the depression 1121 and the optical element end portion 1521. In other words, the stepped portion 1421 is provided in the vicinity of the contact portion 1721 where the optical element 420 contacts the pedestal 221. For this reason, when the optical element 420 is disposed on the substrate in the manufacturing process of the present optical module, the optical element can be accommodated in the recess. Further, when the optical element is shifted in the A direction shown in the figure, the optical element end portion 1521 hits the stepped portion 1421, so that the optical element is hardly displaced further. That is, the step portion 1421 has a structure that makes the optical element 420 difficult to shift.

ここでは、台座の数が6の場合を示したが、台座の数は3以上の任意の数があり得る。ただし、光素子420の4隅の4ヶ所を含む外周に沿った位置であることがより好ましい。4隅に配置した場合には、隅の角に沿ってくぼみの段差を配置することにより、すべての面内方向に光素子420をずれにくくすることができるからである。   Here, the case where the number of pedestals is six is shown, but the number of pedestals may be any number of three or more. However, the position along the outer periphery including the four corners of the optical element 420 is more preferable. This is because, when arranged at the four corners, it is possible to make it difficult to shift the optical element 420 in all in-plane directions by arranging the steps of the depressions along the corners of the corners.

次に、上記光モジュールの各構成要素に用いることのできる材料及び製造方法等の候補について説明する。   Next, candidates for materials and manufacturing methods that can be used for each component of the optical module will be described.

基体120は、例えばシリコン基板を用いることができる。   As the base 120, for example, a silicon substrate can be used.

台座221乃至226は例えば石英を主材料とする材料を用いることができる。石英を主材料とする材料は、例えば、基体120上に半導体プロセスで用いるようなレジストパターンを形成し、その上にスパッタ、蒸着、CVD(Chemical Vapor Deposition)等により製膜し、前記レジストパターンをその上に形成された石英を主材料とする膜ごと除去するリフトオフ工程により形成することができる。あるいは、基体120上に製膜し、レジストパターンを形成して、ミリングやエッチングによりレジストパターンが形成されていない部分を削ることにより形成してもよい。   For the bases 221 to 226, for example, a material mainly made of quartz can be used. The material mainly composed of quartz is formed, for example, by forming a resist pattern on the substrate 120 for use in a semiconductor process, and forming the resist pattern thereon by sputtering, vapor deposition, CVD (Chemical Vapor Deposition), etc. It can be formed by a lift-off process that removes the entire quartz film formed thereon. Alternatively, a film may be formed on the substrate 120, a resist pattern may be formed, and a portion where the resist pattern is not formed may be cut by milling or etching.

基体電極321乃至324は、チタン、白金、金、又はこれらの組み合わせ等を用いることができ、スパッタや蒸着等により形成することができる。   The base electrodes 321 to 324 can be formed using titanium, platinum, gold, a combination thereof, or the like, and can be formed by sputtering, vapor deposition, or the like.

光素子420には、InPやGaAsなどの化合物半導体やSiを用いた、発光もしくは受光等の機能を有する素子を用いることができる。   As the optical element 420, an element having a function of light emission or light reception using a compound semiconductor such as InP or GaAs or Si can be used.

素子電極521乃至524は、チタン、白金、金又はこれらの組み合わせ等を用いることができ、スパッタや蒸着等により形成することができる。。   The element electrodes 521 to 524 can be formed using titanium, platinum, gold, a combination thereof, or the like, and can be formed by sputtering, vapor deposition, or the like. .

絶縁膜620は、窒化シリコン等を用いることができ、スパッタ等により形成することができる。   The insulating film 620 can be formed using silicon nitride or the like, and can be formed by sputtering or the like.

接合材821乃至824は例えば加熱により溶融もしくは変形するはんだ材や熱可塑性の導電性樹脂材を用いることができる。接合材821乃至824は、特に、後工程の実装時の加熱に耐え得る耐熱性を有する、例えば高融点はんだや耐熱導電性樹脂がより好ましい。接合材821乃至824がはんだである場合、例えば半導体プロセスにおいてよく知られている、均一かつ高精度な厚さ寸法ではんだを積層する方法や、はんだを加熱溶融しながら一部の平面形状を有するツールを用いて形状を矯正してその形態を保ちつつ冷却硬化して成形する方法を用いることができる。また接合材821乃至824が熱可塑性導電性樹脂である場合、例えば一部に平面形状を有するツールを用いて、光素子420を基体120に加圧する事で接合材を成形することができる。   As the bonding materials 821 to 824, for example, a solder material or a thermoplastic conductive resin material that is melted or deformed by heating can be used. In particular, the bonding materials 821 to 824 are more preferably a high melting point solder or a heat resistant conductive resin, for example, having heat resistance capable of withstanding heating during mounting in a subsequent process. When the bonding materials 821 to 824 are solders, for example, a method of laminating solder with a uniform and highly accurate thickness dimension, which is well known in the semiconductor process, or a part of a planar shape while heating and melting the solder. It is possible to use a method in which the shape is corrected using a tool and cooled and cured while maintaining the shape. In the case where the bonding materials 821 to 824 are thermoplastic conductive resins, for example, the bonding material can be formed by pressurizing the optical element 420 against the base 120 using a tool partially having a planar shape.

図6は、第二実施形態の光モジュールのバリエーションの構造を表わす側面概念図である。図2に示した構造との違いは、接合材825及び826の形状が丸みを帯びている点である。接合材825及び826として典型的にははんだを用いることができることを前述した。接合材にはんだを用いた場合には、その製造の際に、はんだと基体電極325及び326との接合状況を良好にするために光モジュールをはんだの融点以上の温度に加熱する熱処理工程を行うことが有効である。この工程により、はんだが溶融し、丸みを帯びた形状になることがある。本バリエーションは、そのような場合の、本実施形態の光モジュールの例である。
[本実施形態の光モジュールの製造工程等]
次に、本実施形態の光モジュールの製造工程等について説明する。
FIG. 6 is a side conceptual view showing a variation structure of the optical module of the second embodiment. The difference from the structure shown in FIG. 2 is that the shapes of the bonding materials 825 and 826 are rounded. As described above, solder can be typically used as the bonding materials 825 and 826. When solder is used as the bonding material, a heat treatment process is performed during the production to heat the optical module to a temperature equal to or higher than the melting point of the solder in order to improve the bonding condition between the solder and the base electrodes 325 and 326. It is effective. This process may melt the solder and form a rounded shape. This variation is an example of the optical module of this embodiment in such a case.
[Manufacturing process of optical module of this embodiment]
Next, the manufacturing process of the optical module of the present embodiment will be described.

図7は、第二実施形態の光モジュールの製造工程を表わす概念図である。図6に示した構造において、接合材825及び826にはんだを用いた場合を例に示してある。   FIG. 7 is a conceptual diagram showing the manufacturing process of the optical module of the second embodiment. In the structure shown in FIG. 6, the case where solder is used for the bonding materials 825 and 826 is shown as an example.

図7において、(a)は製造工程を表わすフローチャート、(b)は(a)に示した各工程における製造途中の光モジュールの側面概念図、(c)は(b)に示した拡大部分1021の拡大概念図である。   7A is a flowchart showing a manufacturing process, FIG. 7B is a conceptual side view of an optical module in the middle of manufacturing in each process shown in FIG. 7A, and FIG. 7C is an enlarged portion 1021 shown in FIG. 7B. FIG.

初めに、光素子421を用意する(S201)。光素子421は、製造してもよいし、購入してもよい。   First, the optical element 421 is prepared (S201). The optical element 421 may be manufactured or purchased.

次に、光素子421における素子電極525上に接合材825を、素子電極526上に接合材826を、それぞれ形成する(S202)。この形成は、例えば、素子電極上に接合材であるはんだのチップを置き、加熱により、素子電極とはんだを溶着させ、はんだ上面を平坦化処理することにより行うことができる。   Next, the bonding material 825 and the bonding material 826 are formed on the device electrode 525 and the device electrode 526 in the optical element 421 (S202). This formation can be performed, for example, by placing a solder chip as a bonding material on the element electrode, welding the element electrode and the solder by heating, and flattening the upper surface of the solder.

次に、基体121上に基体電極325及び326を形成する(S203)。   Next, substrate electrodes 325 and 326 are formed on the substrate 121 (S203).

さらに、基体121上に、上部にくぼみの設けられた台座227及び228を形成する(S204)。このくぼみの形成方法の具体例は後述する。   Further, pedestals 227 and 228 having depressions formed in the upper part are formed on the base 121 (S204). A specific example of the method for forming the recess will be described later.

次に、基体121を、所定の位置に設置する(S205)。   Next, the base 121 is installed at a predetermined position (S205).

さらに、基体121に対向する位置において、光素子421の位置決めをする(S206)。   Further, the optical element 421 is positioned at a position facing the base 121 (S206).

そして、台座227及び228およびその他の台座に、光素子421を押し当てる(S207)。この押し当てる際の加圧力は、光素子がInPやGaAsなどの化合物半導体である場合、5gf程度である事が好適であった。この程度の加圧力であれば、台座227及び228およびその他の台座と光素子421とが密着している狭い領域に加わる力により、台座227及び228およびその他の台座もしくは光素子421の破損を生じず、かつ押し当てる十分な大きさであるためである。   Then, the optical element 421 is pressed against the bases 227 and 228 and other bases (S207). When the optical element is a compound semiconductor such as InP or GaAs, the pressing force at the time of pressing is preferably about 5 gf. With this level of pressure, the pedestals 227 and 228 and the other pedestals or the optical element 421 are damaged by the force applied to the narrow areas where the pedestals 227 and 228 and the other pedestals are in close contact with the optical element 421. This is because it is large enough to be pressed.

次に、上記工程により作成した光モジュール全体を加熱する(S208)。   Next, the entire optical module produced by the above process is heated (S208).

加熱により、接合材825であるはんだが基体電極325と、接合材826であるはんだが基体電極326と、それぞれ溶着され、光モジュールが製造される。この状態において、接合材825は変形して丸みを帯びた接合材825に、接合材826は変形して丸みを帯びた接合材826になっている。   By heating, the solder that is the bonding material 825 is welded to the base electrode 325 and the solder that is the bonding material 826 is welded to the base electrode 326, respectively, and the optical module is manufactured. In this state, the bonding material 825 is deformed and rounded, and the bonding material 826 is deformed and rounded.

上記製造工程において、S201乃至S204の工程は、S202の工程がS201の工程の後になるという条件の下に、任意に順番を入れ替えることができる。   In the above manufacturing process, the order of steps S201 to S204 can be arbitrarily changed under the condition that the process of S202 is after the process of S201.

(c)に示したように、326と825との間にはギャップ2320を設けることが望ましい。S207の工程において光素子を台座に押し当てる際に、接合材825が基体電極326にまた接合材826が基体電極325にそれぞれ接触しない状態で、光素子421が台座227及び228に接触する。これにより、光素子421をずれにくくする台座227及び228の構造により、光素子421の面内方向の位置ずれが生じにくくなり、完成後の光素子421の面内方向の位置精度が向上するためである。   As shown in (c), it is desirable to provide a gap 2320 between 326 and 825. When the optical element is pressed against the pedestal in step S207, the optical element 421 contacts the pedestals 227 and 228 in a state where the bonding material 825 does not contact the base electrode 326 and the bonding material 826 does not contact the base electrode 325, respectively. Thereby, the structure of the bases 227 and 228 that make the optical element 421 difficult to shift makes it difficult for the optical element 421 to be displaced in the in-plane direction and improves the positional accuracy of the completed optical element 421 in the in-plane direction. It is.

このギャップ2320の大きさを0.5〜1ミクロン程度にした場合に、S208における加熱により良好な接合強度を含む接合特性が得られた。ただし、基体電極325及び素子電極525の寸法を200ミクロン角、基体電極326の上面と光素子421の絶縁膜621の下面との間のギャップを5ミクロンとした場合においてである。またこの場合において、接合材827であるはんだの体積としては255、000立方ミクロン程度が好適であった。   When the size of the gap 2320 was set to about 0.5 to 1 micron, bonding characteristics including good bonding strength were obtained by heating in S208. However, this is a case where the dimensions of the base electrode 325 and the element electrode 525 are 200 micron squares, and the gap between the upper surface of the base electrode 326 and the lower surface of the insulating film 621 of the optical element 421 is 5 microns. In this case, the volume of the solder which is the bonding material 827 is preferably about 255,000 cubic microns.

次に、上部にくぼみの設けられた台座227の製造工程の例を説明する。   Next, an example of a manufacturing process of the pedestal 227 provided with a depression at the top will be described.

図8は、上部にくぼみの設けられた台座の製造工程を表わす概念図、図9は図8の各工程における台座が形成される様子を表わす説明図である。   FIG. 8 is a conceptual diagram showing a manufacturing process of a pedestal provided with a recess in the upper part, and FIG. 9 is an explanatory diagram showing how the pedestal is formed in each process of FIG.

まず、基体121上に、レジストパターン1921を形成する。レジストパターン1921の形成には、半導体プロセスで一般に用いられる、レジスト塗布、マスク設置、光照射及びレジストの部分溶解、除去を用いた方法を用いることができる。   First, a resist pattern 1921 is formed on the base 121. The resist pattern 1921 can be formed by a method using resist coating, mask placement, light irradiation, and partial dissolution and removal of the resist, which are generally used in a semiconductor process.

次に、基体121及びレジストパターン1921の上から台座材料2020を形成する。この形成には、スパッタ、蒸着及びCVD等を用いることができる。   Next, a base material 2020 is formed on the base 121 and the resist pattern 1921. For this formation, sputtering, vapor deposition, CVD, or the like can be used.

そして、レジストパターン1921を、レジストパターン1921を溶かす溶媒等に浸すことにより除去する。この除去により、レジストパターン1921の上部に形成された台座材料2020がレジストパターン1921とともに除去される。   Then, the resist pattern 1921 is removed by dipping in a solvent or the like that dissolves the resist pattern 1921. By this removal, the base material 2020 formed on the resist pattern 1921 is removed together with the resist pattern 1921.

さらに、レジストパターン1922を形成する。   Further, a resist pattern 1922 is formed.

次に、ミリング処理により、台座材料2020を削り、レジストパターン1922が形成されていない部分の台座材料の厚みを薄くする。   Next, the base material 2020 is shaved by milling to reduce the thickness of the base material where the resist pattern 1922 is not formed.

そして、レジストパターン1922を、レジストパターン1922を溶かす溶媒等につけて除去する。   Then, the resist pattern 1922 is removed by applying a solvent or the like that dissolves the resist pattern 1922.

これらの工程により、くぼみ1124及び段差部1422が設けられた台座227が基体121上に形成される。   Through these steps, a base 227 provided with the recess 1124 and the stepped portion 1422 is formed on the base 121.

台座228についても、その製造工程は同様である。
[本実施形態の効果]
本実施形態の光モジュールは、まず、第一実施形態の光モジュールと同じ効果を奏する。
The manufacturing process of the pedestal 228 is the same.
[Effect of this embodiment]
First, the optical module of this embodiment has the same effect as the optical module of the first embodiment.

また、本実施形態の光モジュールを、次に説明する第三実施形態や第四実施形態の光モジュールと比較すると、本実施形態の光モジュールは、光モジュールを加熱する工程において、光モジュールに樹脂やその溶媒がほぼ存在しないため、樹脂やその溶媒による汚染が原因となる問題の発生が少ない。
[第三実施形態]
第三実施形態では、光素子をずれにくくする台座の構造を、第二実施形態において説明した台座に設けたくぼみによる段差ではなく、台座に設けた樹脂パターンによる段差としている。
[本実施形態の光モジュールの構造]
図10は、第三実施形態の光モジュールの構造を表わす側面概念図である。上面概念図は第二実施形態の図2と同様であるので省略する。
In addition, when the optical module of the present embodiment is compared with the optical modules of the third embodiment and the fourth embodiment described below, the optical module of the present embodiment is made of resin in the optical module in the process of heating the optical module. Since there is almost no solvent and its solvent, there are few problems caused by contamination by the resin and its solvent.
[Third embodiment]
In the third embodiment, the structure of the pedestal that makes it difficult to shift the optical element is not a step due to the depression provided in the pedestal described in the second embodiment, but a step due to the resin pattern provided in the pedestal.
[Structure of optical module of this embodiment]
FIG. 10 is a conceptual side view showing the structure of the optical module of the third embodiment. Since the top view conceptual diagram is the same as FIG. 2 of the second embodiment, it is omitted.

本実施形態の光モジュールは、基体130と、台座231及び232と、基体電極331及び332と、接合材831及び832と、光素子430とを備える。   The optical module of this embodiment includes a base 130, pedestals 231 and 232, base electrodes 331 and 332, bonding materials 831 and 832, and an optical element 430.

光素子430は、素子電極531及び532と、受発光部730と、絶縁膜630とを備える。   The optical element 430 includes element electrodes 531 and 532, a light emitting / receiving unit 730, and an insulating film 630.

台座231は樹脂パターン1231を、台座232は樹脂パターン1232を、それぞれ備える。この樹脂パターン1231及び1232を備える点のみが第二実施形態の光モジュールと異なる。従い、他の点については説明を省略し、この点にフォーカスした説明を以下において行う。   The base 231 includes a resin pattern 1231, and the base 232 includes a resin pattern 1232. Only the point provided with the resin patterns 1231 and 1232 is different from the optical module of the second embodiment. Therefore, description of other points will be omitted, and a description focusing on this point will be given below.

図11は、図10に示した拡大部分1030の部分拡大概念図である。   FIG. 11 is a partial enlarged conceptual view of the enlarged portion 1030 shown in FIG.

台座231上には樹脂パターン1231が形成されており、その端部が段差部1430となっている。段差部1430と光素子端部1531との間にわずかながら余裕1630があってもよい。ただし、本実施形態の場合において、樹脂パターンの樹脂が柔らかい素材である場合には、その樹脂がわずかに光素子430の下部に存在しても、光素子430を台座231に押し当てる際の圧力で変形等し、問題にならない場合もある。この場合等は、余裕1630は存在しない場合もあり得る。同図において、段差部1430は、光素子430が台座231に接触する接触部1730もしくはその近傍に設けられている。また、光素子が同図の横方向にずれる場合は光素子端部1531が段差部1430に当たることによりそれ以上はずれにくい。すなわち、樹脂パターン1231及びその段差部1430は光素子430をずれにくくする構造である。   A resin pattern 1231 is formed on the pedestal 231, and an end portion thereof is a stepped portion 1430. There may be a slight margin 1630 between the stepped portion 1430 and the optical element end portion 1531. However, in the case of this embodiment, when the resin of the resin pattern is a soft material, the pressure when pressing the optical element 430 against the pedestal 231 even if the resin is slightly below the optical element 430. In some cases, it does not become a problem due to deformation. In this case, the margin 1630 may not exist. In the drawing, the step portion 1430 is provided at or near the contact portion 1730 where the optical element 430 contacts the pedestal 231. In addition, when the optical element is shifted in the horizontal direction in the figure, the optical element end portion 1531 hits the stepped portion 1430 so that the optical element is not easily displaced further. That is, the resin pattern 1231 and the stepped portion 1430 have a structure that makes the optical element 430 difficult to shift.

台座232に形成された樹脂パターン1232についても、その説明は同様である。   The description of the resin pattern 1232 formed on the base 232 is the same.

本実施形態において用いる樹脂パターンは、その段差部により光素子がずれにくくなるのであればどのようなものでもよい。   The resin pattern used in the present embodiment may be any pattern as long as the optical element is not easily displaced by the stepped portion.

図12は、台座上に設ける樹脂パターンの例を示した図である。台座を上面から見た様子を示してある。   FIG. 12 is a diagram showing an example of a resin pattern provided on the pedestal. The pedestal is shown as seen from above.

(a)に示した樹脂パターン1233は、台座233上の、光素子431が配置されていない領域のほぼ全面に形成されている。このパターンが形成する段差が、光素子431を、図に示したA方向及びB方向にずれにくいようにする。   The resin pattern 1233 shown in (a) is formed on substantially the entire surface of the base 233 where the optical element 431 is not disposed. The step formed by this pattern makes the optical element 431 difficult to shift in the A direction and the B direction shown in the figure.

(b)に示した樹脂パターン1234は、台座234上の、光素子432が配置されていない領域の一部に形成された一つのパターンである。このパターンが形成する段差が、光素子432を、同図に示したA方向及びB方向にずれにくいようにする。   The resin pattern 1234 shown in (b) is one pattern formed on a part of the region on the base 234 where the optical element 432 is not disposed. The step formed by this pattern makes the optical element 432 difficult to shift in the A direction and the B direction shown in FIG.

(c)に示した樹脂パターン1235は、台座235上の、光素子433が配置されていない領域の一部に形成された3つのパターンである。これらのパターンが形成する段差が、光素子433を、同図に示したA方向及びB方向にずれにくいようにする。   The resin pattern 1235 shown in (c) is three patterns formed on part of the region on the pedestal 235 where the optical element 433 is not disposed. The steps formed by these patterns make the optical element 433 difficult to shift in the A direction and the B direction shown in FIG.

(c)に示した樹脂パターン1236は、台座236上の、光素子434が配置されていない領域の一部に形成された2つのパターンである。このパターンが形成する段差が、光素子434を、同図に示したA方向及びB方向にずれにくいようにする。   The resin pattern 1236 shown in (c) is two patterns formed in a part of the region on the base 236 where the optical element 434 is not arranged. The step formed by this pattern makes the optical element 434 difficult to shift in the A direction and the B direction shown in FIG.

樹脂パターンにはこれら以外にも種々のバリエーションがあり得る。   There may be various variations other than these in the resin pattern.

樹脂パターン1231及び1232としては、例えばポリイミドといった加熱又は加圧により変形を生じる有機材料をはじめとして、さまざまな有機材料を用いることができる。
[本実施形態の光モジュールの製造工程等]
本実施形態の光モジュールの製造工程の概念図の例を図13乃至図15に表わす。図13に示したように、先に台座上に樹脂パターンを形成(S334)してから台座に光素子を押し当て(S338)てもよい。あるいは、図14に示したように、先に台座に光素子を押し当て(S357)てから樹脂パターンを形成し(S358)てもよい。さらに、図15に表わすように、加熱前の光モジュールを加熱し(S378)てから樹脂パターンを形成し(S379)てもよい。
As the resin patterns 1231 and 1232, various organic materials such as an organic material that is deformed by heating or pressurizing such as polyimide can be used.
[Manufacturing process of optical module of this embodiment]
Examples of conceptual diagrams of the manufacturing process of the optical module of the present embodiment are shown in FIGS. As shown in FIG. 13, a resin pattern may first be formed on the pedestal (S334), and then the optical element may be pressed against the pedestal (S338). Alternatively, as shown in FIG. 14, the resin element may be formed (S358) after the optical element is first pressed against the pedestal (S357). Further, as shown in FIG. 15, the resin pattern may be formed (S379) after heating the optical module before heating (S378).

樹脂パターンは、パターン状に切断した樹脂シートを、台座上に配置又は配置後に押圧することにより形成することができる。あるいは、樹脂を溶媒に溶かし、所定の形状に塗布し、塗布後に溶媒を蒸発させて形成してもよい。あるいは、半導体プロセスにおいて常識的に用いられるような、光で変質する樹脂を用い、そのような樹脂の塗布、マスクの設置、光照射、溶媒を用いた樹脂の部分溶解による方法により形成してもよい。
[本実施形態の効果]
本実施形態の光モジュールは、第一実施形態の光モジュールと同じ効果を奏する。第二実施形態の光モジュールと比較した場合には、本実施形態の光モジュールは、台座上のくぼみ及び段差を樹脂で形成するため、その製造がより容易である。
The resin pattern can be formed by placing a resin sheet cut into a pattern on the pedestal or pressing it after placement. Alternatively, the resin may be dissolved in a solvent, applied in a predetermined shape, and the solvent may be evaporated after application. Alternatively, it is possible to use a resin that is altered by light, as is commonly used in semiconductor processes, and to form such a resin by coating, setting a mask, irradiating light, or partially dissolving the resin using a solvent. Good.
[Effect of this embodiment]
The optical module of this embodiment has the same effect as the optical module of the first embodiment. When compared with the optical module of the second embodiment, the optical module of this embodiment is easier to manufacture because the indentations and steps on the pedestal are formed of resin.

[第四実施形態]
第四実施形態は、光素子をずれにくくする台座の構造が、台座上の光素子が配置される領域の下部に設けられる樹脂である光モジュールについての実施形態である。
[本実施形態の光モジュールの構造]
本実施形態の光モジュールにおける、台座上部以外の構成要素についての説明は、第二実施形態の光モジュールについての説明と同様であるので、ここではその説明を省略し、台座上部付近の構造についてのみ説明する。
[Fourth embodiment]
The fourth embodiment is an embodiment of an optical module in which the structure of the pedestal that makes it difficult to shift the optical element is a resin provided in the lower part of the region where the optical element on the pedestal is arranged.
[Structure of optical module of this embodiment]
In the optical module of this embodiment, the description of the components other than the pedestal upper part is the same as the description of the optical module of the second embodiment, so the description thereof is omitted here, and only the structure near the pedestal upper part is described. explain.

図16は、第四実施形態の光モジュールにおける台座の上部付近の構造を表わす側面概念図である。   FIG. 16 is a conceptual side view showing the structure near the upper portion of the pedestal in the optical module of the fourth embodiment.

台座240の上部には樹脂パターン1240が形成されている。台座240上には樹脂パターン1240を介して、光素子440の端部1541の近傍の部分が配置されている。光素子440の絶縁層640の下部は樹脂パターン1240と接触し、接触部1740を形成している。   A resin pattern 1240 is formed on the pedestal 240. A portion in the vicinity of the end portion 1541 of the optical element 440 is disposed on the pedestal 240 via the resin pattern 1240. A lower portion of the insulating layer 640 of the optical element 440 is in contact with the resin pattern 1240 to form a contact portion 1740.

樹脂は一般的に、石英等と比較して、その上に設置される材料と間で大きな摩擦力を生み出しやすいことが知られている。樹脂として粘性に富む材料を用いた場合にはなおさらである。   It is known that a resin generally tends to generate a large frictional force with a material placed on the resin as compared with quartz or the like. This is especially true when a highly viscous material is used as the resin.

このため、上記構造により、接触部1740において大きな摩擦力が生じ、面内方向にずれにくくなる。   For this reason, due to the above structure, a large frictional force is generated in the contact portion 1740 and it is difficult to shift in the in-plane direction.

すなわち、樹脂パターン1240は、台座240と光素子440とが接触する接触部1740又はその近傍に設けられた、光素子440を面内方向にずれにくくする構造である。   That is, the resin pattern 1240 is a structure that is provided at or near the contact portion 1740 where the pedestal 240 and the optical element 440 are in contact with each other, and makes the optical element 440 difficult to shift in the in-plane direction.

図17は、台座上に設ける樹脂パターンの例を示した図である。同図には、台座を上面から見た様子を示してある。   FIG. 17 is a diagram showing an example of a resin pattern provided on the pedestal. This figure shows the pedestal as viewed from above.

(a)に示した樹脂パターン1243は、台座243上の全面に形成されており、光素子441の下部にも樹脂パターン2141が形成されている。樹脂パターン1243が、光素子441を面内方向にずれにくいようにする。   The resin pattern 1243 shown in (a) is formed on the entire surface of the pedestal 243, and the resin pattern 2141 is also formed below the optical element 441. The resin pattern 1243 makes the optical element 441 difficult to shift in the in-plane direction.

(b)に示した樹脂パターン1244は、台座244上の、一部に形成された一つのパターンである。光素子442の下部に樹脂パターン2142が形成されている。樹脂パターン1244が、光素子442を面内方向にずれにくいようにする。   The resin pattern 1244 shown in (b) is one pattern formed in part on the base 244. A resin pattern 2142 is formed below the optical element 442. The resin pattern 1244 makes the optical element 442 difficult to shift in the in-plane direction.

(c)に示した樹脂パターン1245は、台座245上に形成された3個のパターンである。光素子443の下部に樹脂パターン2143が形成されている。樹脂パターン1245が、光素子443を面内方向にずれにくいようにする。   The resin pattern 1245 shown in (c) is three patterns formed on the pedestal 245. A resin pattern 2143 is formed below the optical element 443. The resin pattern 1245 makes the optical element 443 difficult to shift in the in-plane direction.

(d)に示した樹脂パターン1246は、台座246上に形成された1個のパターンである。光素子444の下部のみに樹脂パターン1246が形成されている。樹脂パターン1246が、光素子444を面内方向にずれにくいようにする。   The resin pattern 1246 shown in (d) is a single pattern formed on the pedestal 246. A resin pattern 1246 is formed only under the optical element 444. The resin pattern 1246 makes the optical element 444 difficult to shift in the in-plane direction.

樹脂パターンは、パターン状に切断した樹脂シートを、台座上に配置又は押圧することにより形成することができる。あるいは、樹脂を溶媒に溶かし、塗布し、塗布後に溶媒を蒸発させて形成してもよい。
[本実施形態の光モジュールの製造工程等]
図18は、第四実施形態の光モジュールの製造工程を表わす概念図である。本実施形態の光モジュールの製造においては、台座上に樹脂パターンを形成(S404)したのちに、光素子を台座に押し当てる(S408)。その他の工程については第二実施形態の工程と同様であるので、その説明を省略する。
[本実施形態の効果]
本実施形態の光モジュールは、まず、第三実施形態の光モジュールと同じ効果を奏する。加えて、本実施形態の光モジュールは、台座に設けられる樹脂パターンが光素子の下部にあれば光素子を面内方向に滑りにくくする効果を奏する。そのため、樹脂パターンについて面内方向の位置精度が要求されないので、第三実施形態の光モジュールよりもその製造が容易である。
The resin pattern can be formed by placing or pressing a resin sheet cut into a pattern on a pedestal. Alternatively, the resin may be dissolved in a solvent, applied, and the solvent may be evaporated after application.
[Manufacturing process of optical module of this embodiment]
FIG. 18 is a conceptual diagram showing manufacturing steps of the optical module of the fourth embodiment. In the manufacture of the optical module of this embodiment, after forming a resin pattern on the pedestal (S404), the optical element is pressed against the pedestal (S408). The other steps are the same as those in the second embodiment, and a description thereof will be omitted.
[Effect of this embodiment]
First, the optical module of this embodiment has the same effect as the optical module of the third embodiment. In addition, the optical module of the present embodiment has an effect of making the optical element difficult to slip in the in-plane direction if the resin pattern provided on the pedestal is below the optical element. Therefore, since the positional accuracy of the resin pattern in the in-plane direction is not required, the manufacture is easier than the optical module of the third embodiment.

[第五実施形態]
第五実施形態は、光素子をずれにくくする台座の構造が、台座の上面に設けられた鏡面である光モジュールについての実施形態である。
[Fifth embodiment]
The fifth embodiment is an embodiment of an optical module in which the structure of the pedestal that makes it difficult to shift the optical element is a mirror surface provided on the upper surface of the pedestal.

台座の上面以外の構成要素は、第二実施形態の光モジュールと同様であるので、その説明を省略し、ここでは、台座上面付近の構造についてのみ説明する。   Since the components other than the upper surface of the pedestal are the same as those of the optical module of the second embodiment, the description thereof will be omitted, and only the structure near the upper surface of the pedestal will be described here.

図19は、第五実施形態の光モジュールにおける台座の上部付近の構造を表わす側面概念図である。   FIG. 19 is a conceptual side view showing the structure near the top of the pedestal in the optical module of the fifth embodiment.

台座250の上面には鏡面2260が形成されている。同図では鏡面を太い線で示したが、これは鏡面であることを強調する趣旨であり、厚さがあるわけではない。   A mirror surface 2260 is formed on the upper surface of the base 250. In the figure, the mirror surface is indicated by a thick line, but this is intended to emphasize that it is a mirror surface and does not have a thickness.

鏡面2260上には、光素子450の端部1551の近傍の部分が配置されている。光素子450の絶縁層650の下部が鏡面2260と接触し、接触部1750を形成している。   On the mirror surface 2260, a portion in the vicinity of the end portion 1551 of the optical element 450 is disposed. A lower portion of the insulating layer 650 of the optical element 450 is in contact with the mirror surface 2260 to form a contact portion 1750.

光素子450の絶縁層650の表面にも鏡面2260同様な平滑性を有する鏡面が形成されている。光素子450を鏡面2260上に配置した場合には、絶縁層650表面と鏡面2260とが密着することにより静電気による結合力が発生する。その静電気による結合力により、光素子420を面内方向でずれにくくすることが可能になる。   A mirror surface having the same smoothness as the mirror surface 2260 is also formed on the surface of the insulating layer 650 of the optical element 450. In the case where the optical element 450 is disposed on the mirror surface 2260, the insulating layer 650 surface and the mirror surface 2260 are brought into close contact with each other, thereby generating a binding force due to static electricity. The coupling force due to the static electricity makes it difficult to shift the optical element 420 in the in-plane direction.

鏡面2260は、例えば、鏡面2260を設ける前の台座250の上面に対して、細かい研磨剤を用いた研磨を行うことで製造することができる。
[本実施形態の光モジュールの製造工程等]
図20は第五実施形態の光モジュールの製造工程を表わす概念図である。台座を形成(S504)したのちに台座の上面を研磨する(S505)。それ以外の製造工程については、第二実施形態の光モジュールの製造工程と同様であるので、その説明を省略する。
[本実施形態の効果]
本実施形態の光モジュールは、まず、第二実施形態の光モジュールと同じ効果を奏する。本実施形態の光モジュールは、さらに、光素子を設置した台座上の位置に静電気による強い拘束力により拘束させることができる。従い、基体上への光素子の位置決め精度が十分に確保できる場合には、第二実施形態の光モジュールよりもさらに高精度の、光素子の面内方向での位置精度を確保することができる。
[第六実施形態]
第六実施形態は、一つの基体上に、複数の光素子を配置する光モジュールについての実施形態である。一つの基体上に配置する光素子の数は任意であるが、ここではその数が2個であり、その一方が発光素子、他方が受光素子の場合の例について説明する。
[本実施形態の光モジュールの構造]
図21は、第六実施形態の光モジュールを表わす上面概念図である。側面概念図はここまで説明した第二乃至第五実施形態で説明したものと同様のものを適用することができるので、ここでは省略する。
The mirror surface 2260 can be manufactured by, for example, performing polishing using a fine abrasive on the upper surface of the base 250 before the mirror surface 2260 is provided.
[Manufacturing process of optical module of this embodiment]
FIG. 20 is a conceptual diagram showing the manufacturing process of the optical module of the fifth embodiment. After forming the pedestal (S504), the upper surface of the pedestal is polished (S505). Since other manufacturing processes are the same as those of the optical module according to the second embodiment, the description thereof is omitted.
[Effect of this embodiment]
First, the optical module of this embodiment has the same effect as the optical module of the second embodiment. The optical module of the present embodiment can be further restrained by a strong restraining force due to static electricity at a position on the base on which the optical element is installed. Therefore, when the positioning accuracy of the optical element on the substrate can be sufficiently secured, the positional accuracy in the in-plane direction of the optical element can be secured with higher accuracy than the optical module of the second embodiment. .
[Sixth embodiment]
The sixth embodiment is an embodiment of an optical module in which a plurality of optical elements are arranged on a single substrate. The number of optical elements arranged on one substrate is arbitrary, but here, an example in which the number is two, one of which is a light emitting element and the other is a light receiving element will be described.
[Structure of optical module of this embodiment]
FIG. 21 is a top conceptual view showing the optical module of the sixth embodiment. Since the same concept as that described in the second to fifth embodiments described so far can be applied to the side view conceptual diagram, it is omitted here.

本実施形態の光モジュールは、基体160と、台座261乃至270と、基体電極361乃至365と、接合材861乃至865と、第一光素子461と、第二光素子462とを備える。   The optical module of the present embodiment includes a base 160, bases 261 to 270, base electrodes 361 to 365, bonding materials 861 to 865, a first optical element 461, and a second optical element 462.

第一光素子461は、素子電極561乃至564と、発光部761とを備える。   The first optical element 461 includes element electrodes 561 to 564 and a light emitting unit 761.

第二光素子462は、素子電極565と、受光部762とを備える。   The second optical element 462 includes an element electrode 565 and a light receiving unit 762.

第一光素子461と第二光素子462は同一基体160上に形成されている。また、発光部761は発光を行うが受光を行わず、受光部762は受光を行うが発光を行わない。その他の各構成についての説明は第二乃至第四実施形態の光モジュールについての説明と同様なので、ここではその説明を省略する。
[本実施形態の光モジュールの製造工程等]
図22は、第六実施形態の光モジュールの製造工程を表わす概念図である。
The first optical element 461 and the second optical element 462 are formed on the same substrate 160. The light emitting unit 761 emits light but does not receive light, and the light receiving unit 762 receives light but does not emit light. Since the description of the other components is the same as the description of the optical modules of the second to fourth embodiments, the description thereof is omitted here.
[Manufacturing process of optical module of this embodiment]
FIG. 22 is a conceptual diagram showing a manufacturing process of the optical module of the sixth embodiment.

まず、第一光素子461及び第二光素子462を用意する(S601)。第一光素子461及び第二光素子462は、製造しても、購入等により入手してもよい。   First, the first optical element 461 and the second optical element 462 are prepared (S601). The first optical element 461 and the second optical element 462 may be manufactured or obtained by purchase or the like.

次に、光素子421における素子電極525上に接合材827を、素子電極526上に接合材827を、それぞれ形成する(S602)。この形成は、例えば、素子電極上に接合材であるはんだのチップを置き、加熱により、素子電極とはんだを溶着させ、はんだ上面を平坦化処理することにより行う。   Next, the bonding material 827 and the bonding material 827 are formed on the device electrode 525 and the device electrode 526 in the optical element 421 (S602). This formation is performed, for example, by placing a solder chip, which is a bonding material, on the element electrode, welding the element electrode and the solder by heating, and flattening the upper surface of the solder.

次に、基体160に基体電極361乃至365を作成する(S602)。基体電極361乃至365は、例えば、半導体プロセスで一般的に用いられる方法により作成することができる。   Next, substrate electrodes 361 to 365 are formed on the substrate 160 (S602). The base electrodes 361 to 365 can be formed by, for example, a method generally used in a semiconductor process.

さらに、基体160上に、台座261乃至270を形成する(S603)。台座261乃至270のうちの少なくとも一部の上面には、第二実施形態乃至第五実施形態で説明した、光素子を面内方向にずれにくくする構造が設けられている。   Further, pedestals 261 to 270 are formed on the base 160 (S603). On the upper surface of at least a part of the pedestals 261 to 270, the structure that makes it difficult to shift the optical element in the in-plane direction as described in the second to fifth embodiments is provided.

そして、素子電極561乃至565上に接合材861乃至865を形成する(S604)。   Then, bonding materials 861 to 865 are formed on the device electrodes 561 to 565 (S604).

次に、基体160を、所定の位置に設置する(S605)。   Next, the base 160 is installed at a predetermined position (S605).

さらに、基体160上で、第一光素子461及び第二光素子462の位置決めをする(S606)。   Further, the first optical element 461 and the second optical element 462 are positioned on the base 160 (S606).

そして、台座261乃至270に、第一光素子461及び第二光素子462を押し当てる(S607)。   Then, the first optical element 461 and the second optical element 462 are pressed against the bases 261 to 270 (S607).

次に、上記工程により作成した光モジュール全体を加熱する(S208)。   Next, the entire optical module produced by the above process is heated (S208).

加熱により、接合材であるはんだが対応する基体電極にそれぞれ接合され、光モジュールが製造される。   By heating, the solder as the bonding material is bonded to the corresponding base electrode, and the optical module is manufactured.

S601乃至S603の工程は任意にその順番を入れ替えることができる。   The order of steps S601 to S603 can be arbitrarily changed.

発光部を備える光素子と受光部を備える光素子とを組み合わせて、発光部からの光を受光部に入射させる光モジュールにおいて、発光部の光軸と受光部の光軸とのずれの許容範囲は0.1μm以下である。本実施形態の光モジュールを適用することにより、そのような許容範囲に含まれる小さい光軸のずれを実現することができる。
[本実施形態の効果]
本実施形態は、その光モジュールに適用する台座上に設ける光素子を面内方向にずれにくくする構造として、第二乃至第五実施形態の光モジュールのいずれの構造を用いるかにより、その用いた実施形態の光モジュールと同じ効果を奏する。
In an optical module that combines an optical element including a light emitting unit and an optical element including a light receiving unit to make light from the light emitting unit enter the light receiving unit, an allowable range of deviation between the optical axis of the light emitting unit and the optical axis of the light receiving unit Is 0.1 μm or less. By applying the optical module of the present embodiment, it is possible to realize a small deviation of the optical axis included in such an allowable range.
[Effect of this embodiment]
In this embodiment, the optical element provided on the pedestal applied to the optical module is used depending on which structure of the optical module of the second to fifth embodiments is used as a structure that makes it difficult to shift in the in-plane direction. The same effect as the optical module of the embodiment is achieved.

また、その用いた構造により、複数の光素子同士の光軸のずれを、許容範囲以内の小さい値におさめることができる。   In addition, due to the structure used, the deviation of the optical axes of the plurality of optical elements can be kept to a small value within the allowable range.

以上好ましい実施形態をあげて本発明を説明したが、本発明は必ずしも上記実施形態に限定されるものではなく、その技術的思想の範囲内において様々に変形し実施することが出来る。   Although the present invention has been described with reference to the preferred embodiments, the present invention is not necessarily limited to the above embodiments, and various modifications can be made within the scope of the technical idea.

また、上記の実施形態の一部または全部は、以下の付記のようにも記述され得るが、以下には限られない。
(付記1)
基体と、
前記基体上に形成された台座と、
前記基体に接合された接合材と、
前記台座と接触し、前記接合材と接合された部品とを備え、
前記台座が、前記部品が前記基体の前記台座が形成された面と略平行な面内方向にずれにくくする構造を備える、光モジュール。
(付記2)
前記構造を、前記台座と前記部品とが接触する部分又はその近傍に備える、付記1に記載された光モジュール。
(付記3)
前記部品が光素子である、付記1又は2に記載された光モジュール。
(付記4)
前記接合材が基体と接合する部分に第一の電極を、前記接合材が部品と接合する部分に第二の電極を、さらに備える、付記1乃至3のうちのいずれか一に記載された光モジュール。
(付記5)
前記構造が、前記部品が接触する前記台座の部分及びその近傍に設けられた前記台座の段差である付記1乃至4のうちのいずれか一に記載された光モジュール。
(付記6)
前記段差が、前記台座に設けられた樹脂パターンより形成される付記1乃至5のうちのいずれか一に記載された光モジュール。
(付記7)
前記構造が、前記台座の表面に設けられた鏡面構造である、付記1乃至4のいずれか一に記載された光モジュール。
(付記8)
前記接合材がはんだである、付記1乃至7のいずれかに記載された光モジュール。
(付記9)
基体上に台座を形成するステップと、
前記台座に接触する部品を前記基体の前記台座が形成される面に略平行な面内方向にずれにくくする構造を形成するステップと、
前記基体と前記部品との間に接合材を形成するステップと、
前記台座と前記部品とを接触させるステップと、
前記接合材と前記基体とを接触させるステップと、
前記接合材と前記部品とを接触させるステップと、
を含む光モジュールの製造方法。
(付記10)
前記部品が光素子である、付記9に記載された光モジュールの製造方法。
(付記11)
前記基体と前記接合材との接合をするステップをさらに含む付記10に記載された光モジュールの製造方法。
(付記12)
前記基体上に第一電極を形成するステップをさらに含み、
前記基体と前記接合材との前記接合が、前記第一電極と前記接合材との接合である付記11に記載された光モジュールの製造方法。
(付記13)
前記基体と前記接合材との前記接合が、前記基体と前記接合材とを加熱により接合する接合である、付記11又は12に記載された光モジュールの製造方法。
(付記14)
前記基体と前記接合材とを加熱により接合する前記接合が、前記加熱前には接触していなかった前記基体と前記接合材とを加熱により接合する接合である、付記13に記載された光モジュールの製造方法。
(付記15)
前記接合材と、前記部品が備える第二の電極とを接合するステップをさらに含む付記11乃至14のうちのいずれか1に記載された光モジュールの製造方法。
(付記16)
前記接合材と、前記第二の電極とを接合する前記接合が、前記接合材と前記第二の電極を加熱により接合する接合である、付記15に記載された光モジュールの製造方法。
(付記17)
前記接合材がはんだである付記9乃至16のうちのいずれか一に記載された光モジュールの製造方法。
Moreover, although a part or all of said embodiment may be described also as the following additional remarks, it is not restricted to the following.
(Appendix 1)
A substrate;
A pedestal formed on the substrate;
A bonding material bonded to the substrate;
A component in contact with the pedestal and joined with the joining material;
An optical module, wherein the pedestal includes a structure in which the component is not easily displaced in an in-plane direction substantially parallel to a surface of the base on which the pedestal is formed.
(Appendix 2)
The optical module according to appendix 1, wherein the structure is provided in a portion where the base and the component are in contact with each other or in the vicinity thereof.
(Appendix 3)
The optical module according to appendix 1 or 2, wherein the component is an optical element.
(Appendix 4)
The light described in any one of appendices 1 to 3, further comprising a first electrode at a portion where the bonding material is bonded to the base, and a second electrode at a portion where the bonding material is bonded to the component. module.
(Appendix 5)
The optical module according to any one of supplementary notes 1 to 4, wherein the structure is a step of the pedestal in contact with the component and a step of the pedestal provided in the vicinity thereof.
(Appendix 6)
The optical module according to any one of supplementary notes 1 to 5, wherein the step is formed from a resin pattern provided on the pedestal.
(Appendix 7)
The optical module according to any one of appendices 1 to 4, wherein the structure is a mirror surface structure provided on a surface of the pedestal.
(Appendix 8)
8. The optical module according to any one of appendices 1 to 7, wherein the bonding material is solder.
(Appendix 9)
Forming a pedestal on the substrate;
Forming a structure that makes the component that contacts the pedestal difficult to shift in an in-plane direction substantially parallel to a surface of the base on which the pedestal is formed;
Forming a bonding material between the base and the component;
Contacting the pedestal and the component;
Contacting the bonding material and the substrate;
Contacting the bonding material and the component;
An optical module manufacturing method including:
(Appendix 10)
The method for manufacturing an optical module according to appendix 9, wherein the component is an optical element.
(Appendix 11)
The method for manufacturing an optical module according to appendix 10, further comprising a step of bonding the base body and the bonding material.
(Appendix 12)
Forming a first electrode on the substrate;
The method for manufacturing an optical module according to appendix 11, wherein the bonding between the base and the bonding material is a bonding between the first electrode and the bonding material.
(Appendix 13)
The method of manufacturing an optical module according to appendix 11 or 12, wherein the bonding between the base and the bonding material is a bonding in which the base and the bonding material are bonded by heating.
(Appendix 14)
The optical module according to appendix 13, wherein the bonding for bonding the base body and the bonding material by heating is a bonding for bonding the base body and the bonding material that were not in contact before the heating by heating. Manufacturing method.
(Appendix 15)
15. The method of manufacturing an optical module according to any one of appendices 11 to 14, further including a step of bonding the bonding material and a second electrode provided in the component.
(Appendix 16)
The method for manufacturing an optical module according to appendix 15, wherein the joining for joining the joining material and the second electrode is joining for joining the joining material and the second electrode by heating.
(Appendix 17)
The method for manufacturing an optical module according to any one of appendices 9 to 16, wherein the bonding material is solder.

110、120、121、130、160 基体
210、221、222、223、224、225、226、227、228、231、232、233、234、235、236、241、242、243、244、245、246、261、262、263、264、265、266、267、268、269、270 台座
321、322、323、324、325、326、331、332、361、362、363、364、365 基体電極
420、421、430、431、432、433、434、440、461、462 光素子
521、522、523、524、525、526、531、532、561、562、563、564、565 素子電極
620、621、630、640 絶縁膜
720、721、730、740 受発光部
761 発光部
762 受光部
810、821、822、823、824、825、826、831、832、861、862、863、864、865 接合材
920 矢印
1020、1021、1030 拡大部分
1121、1123、1124 くぼみ
1231、1232、1233、1234、1235、1236、1240、1243、1244、1245、1246 樹脂パターン
1421、1422、1430 段差部
1521、1531、1541 光素子端部
1621、1630 余裕
1721、1730、1740、1750 接触部
1820 出入射方向端面
1921、1922 レジストパターン
2020 台座材料
2141、2142、2143 光素子下の樹脂パターン
2260 鏡面
2320 ギャップ
2410 部品
110, 120, 121, 130, 160 substrate 210, 221, 222, 223, 224, 225, 226, 227, 228, 231, 232, 233, 234, 235, 236, 241, 242, 243, 244, 245, 246, 261, 262, 263, 264, 265, 266, 267, 268, 269, 270 Base 321, 322, 323, 324, 325, 326, 331, 332, 361, 362, 363, 364, 365 Base electrode 420 , 421, 430, 431, 432, 433, 434, 440, 461, 462 Optical elements 521, 522, 523, 524, 525, 526, 531, 532, 561, 562, 563, 564, 565 Element electrodes 620, 621 , 630, 640 Insulating film 720, 721, 730, 7 0 Light emitting / receiving unit 761 Light emitting unit 762 Light receiving unit 810, 821, 822, 823, 824, 825, 826, 831, 832, 861, 862, 863, 864, 865 Bonding material 920 Arrow 1020, 1021, 1030 Enlarged portion 1121, 1123, 1124 Indentation 1231, 1232, 1233, 1234, 1235, 1236, 1240, 1243, 1244, 1245, 1246 Resin pattern 1421, 1422, 1430 Stepped portion 1521, 1531, 1541 Optical element end 1621, 1630 Margin 1721, 1730 , 1740, 1750 Contact portion 1820 End face in incident direction 1921, 1922 Resist pattern 2020 Base material 2141, 2142, 2143 Resin pattern under optical element 2260 Mirror surface 2320 Gap 2 10 parts

Claims (10)

基体と、
前記基体上に形成された台座と、
前記基体に接合された接合材と、
前記台座と接触し、前記接合材と接合された部品とを備え、
前記台座が、前記部品が前記基体の前記台座が形成された面と略平行な面内方向にずれにくくする構造を備える、光モジュール。
A substrate;
A pedestal formed on the substrate;
A bonding material bonded to the substrate;
A component in contact with the pedestal and joined with the joining material;
An optical module, wherein the pedestal includes a structure in which the component is not easily displaced in an in-plane direction substantially parallel to a surface of the base on which the pedestal is formed.
前記構造を、前記台座と前記部品とが接触する部分又はその近傍に備える、請求項1に記載された光モジュール。   The optical module according to claim 1, wherein the structure is provided in a portion where the base and the component are in contact with each other or in the vicinity thereof. 前記部品が光素子である、請求項1又は2に記載された光モジュール。   The optical module according to claim 1, wherein the component is an optical element. 前記接合材が基体と接合する部分に第一の電極を、前記接合材が部品と接合する部分に第二の電極を、さらに備える、請求項1乃至3のうちのいずれか一に記載された光モジュール。   4. The device according to claim 1, further comprising a first electrode at a portion where the bonding material is bonded to a base, and a second electrode at a portion where the bonding material is bonded to a component. Optical module. 前記構造が、前記部品が接触する前記台座の部分及びその近傍に設けられた前記台座の段差である請求項1乃至4のうちのいずれか一に記載された光モジュール。   5. The optical module according to claim 1, wherein the structure is a portion of the pedestal in contact with the component and a step of the pedestal provided in the vicinity thereof. 6. 前記段差が、前記台座に設けられた樹脂パターンより形成される請求項1乃至5のうちのいずれか一に記載された光モジュール。   The optical module according to claim 1, wherein the step is formed from a resin pattern provided on the pedestal. 前記構造が、前記台座の表面に設けられた鏡面構造である、請求項1乃至4のいずれか一に記載された光モジュール。   The optical module according to claim 1, wherein the structure is a mirror surface structure provided on a surface of the pedestal. 基体上に台座を形成するステップと、
前記台座に接触する部品を前記基体の前記台座が形成される面に略平行な面内方向にずれにくくする構造を形成するステップと、
前記基体と前記部品との間に接合材を形成するステップと、
前記台座と前記部品とを接触させるステップと、
前記接合材と前記基体とを接触させるステップと、
前記接合材と前記部品とを接触させるステップと、
を含む光モジュールの製造方法。
Forming a pedestal on the substrate;
Forming a structure that makes the component that contacts the pedestal difficult to shift in an in-plane direction substantially parallel to a surface of the base on which the pedestal is formed;
Forming a bonding material between the base and the component;
Contacting the pedestal and the component;
Contacting the bonding material and the substrate;
Contacting the bonding material and the component;
An optical module manufacturing method including:
前記基体と前記接合材との接合をするステップをさらに含む請求項8に記載された光モジュールの製造方法。   The method of manufacturing an optical module according to claim 8, further comprising a step of bonding the base and the bonding material. 前記基体と前記接合材とを接合する前記接合が、前記加熱前には接触していなかった前記基体と前記接合材とを加熱により接合する接合である、請求項9に記載された光モジュールの製造方法。   The optical module according to claim 9, wherein the bonding for bonding the base body and the bonding material is a bonding for bonding the base body and the bonding material that were not in contact before the heating by heating. Production method.
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