JP2016100367A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体集積回路に関するものである。 The present invention relates to a semiconductor integrated circuit.
半導体集積回路の微細化が進展する一方で、依然、低消費電力化は定常的な課題であり続けている。微細化でトランジスタ1つ当たりの電力は小さくなっても、トランジスタの集積度の向上やデバイスの改善によるトランジスタ単体の導通性の向上によって、結果的に電力は増加するため、プロセスの進化がする度に低電力化の対策が考えられてきた。 While miniaturization of semiconductor integrated circuits progresses, the reduction of power consumption continues to be a constant problem. Even if the power per transistor is reduced due to miniaturization, the power increases as a result of the improvement of transistor integration and the improvement of device continuity by improving the device. Therefore, measures to reduce power consumption have been considered.
このような状況に対応するためのデバイスレベルでの低消費電力化の方法の一つとして、トランジスタの基板バイアスの電圧を制御する方法が用いられている。即ち、プレナー型FET(Field Effect Transistor)の場合、ゲート、ソース、ドレイン、バイアスの4電極があり、電源の電圧に対し基板バイアスの電圧をどのように制御するかでデバイスの動作特性を制御するものである。 As one method for reducing power consumption at the device level to cope with such a situation, a method of controlling the substrate bias voltage of a transistor is used. That is, in the case of a planar FET (Field Effect Transistor), there are four electrodes of a gate, a source, a drain, and a bias, and the operation characteristics of the device are controlled by how the substrate bias voltage is controlled with respect to the power supply voltage. Is.
例えば、NMOS−FET(N−channel Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor、以下、単にNMOSと表記)では、通常、バイアス電極はグランドの電圧に接続する。ここで、NMOSのバイアス電極にグランドよりもやや低い電圧を与えるとバックバイアスの状態になり、NMOSの反応速度に関係するオン状態の電流が流れにくくなる一方でリーク電流が減少する。逆に、NMOSのバイアス電極にグランドよりもやや高い電圧を与えるとフォワードバイアスの状態になり、NMOSの反応速度に関係するオン状態の電流が流れやすくなる一方でリーク電流が増加する。 For example, in an NMOS-FET (N-channel Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor, hereinafter simply referred to as NMOS), the bias electrode is usually connected to a ground voltage. Here, when a voltage slightly lower than the ground is applied to the NMOS bias electrode, a back bias state occurs, and an on-state current related to the NMOS reaction speed becomes difficult to flow, while a leakage current decreases. Conversely, when a voltage slightly higher than the ground is applied to the NMOS bias electrode, a forward bias state is entered, and an on-state current related to the NMOS reaction speed is likely to flow, while a leakage current increases.
また、PMOS−FET(P−channel Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor、以下、単にPMOSと表記)では、通常、バイアス電極は電源の電圧に接続する。ここで、PMOSのバイアス電極に電源の電圧よりもやや高い電圧を与えるとバックバイアスの状態になり、PMOSの反応速度に関係するオン状態の電流が流れにくくなる一方でリーク電流が減少する。逆に、PMOSのバイアス電極にグランドよりもやや低い電圧を与えるとフォワードバイアスの状態になり、PMOSの反応速度に関係するオン状態の電流が流れやすくなる一方でリーク電流が増加する。 In a PMOS-FET (P-channel Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor, hereinafter simply referred to as PMOS), the bias electrode is usually connected to the power supply voltage. Here, if a voltage slightly higher than the voltage of the power supply is applied to the bias electrode of the PMOS, it becomes a back bias state, and it becomes difficult for an on-state current related to the reaction speed of the PMOS to flow, while reducing a leakage current. Conversely, when a voltage slightly lower than the ground is applied to the PMOS bias electrode, a forward bias state is entered, and an on-state current related to the PMOS reaction speed is likely to flow, while a leakage current increases.
このように、NMOSとPMOSのバイアス電極に与える電圧を変えることで反応速度やリーク電流を制御することができる。この特性を利用して、NMOSとPMOSで構成されるCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)回路全体のバイアス電極に与える電圧を制御して動作電力やリーク電力を削減する技術がある。 Thus, the reaction speed and the leakage current can be controlled by changing the voltage applied to the bias electrodes of the NMOS and PMOS. Using this characteristic, there is a technique for reducing operating power and leakage power by controlling a voltage applied to a bias electrode of an entire CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) circuit composed of NMOS and PMOS.
従来のバイアス電圧を制御する低消費電力化の技術として、例えば、特許文献1では、内部回路に含まれるMOSトランジスタのバックゲートに与える電圧レベルを動作モードに応じた選択信号により切り替える方法が提案されている。この方法によると、動作モードに応じてMOSトランジスタの閾値電圧を調節することで電流量を制御し低消費電力を達成する例が開示されている。また、例えば、特許文献2では、CMOSに接続する基準電圧を可変にして閾値電圧を調節する方法が提案されている。この方法によると、回路がスタンバイ状態の場合は閾値電圧を高くしてリーク電力を小さくし、回路の動作性能が要求される場合は閾値電圧を低くして高速化する例が開示されている。
As a conventional technique for reducing power consumption for controlling a bias voltage, for example,
しかしながら、今後の微細化で、デバイスがプレナー型FET(Field Effect Transistor)から3次元立体型FET、特に、フィン型FETに移り変わる。フィン型FETでは、3次元のフィン状に突き出た立体形状のためシリコン基板との接触面が小さく、かつ、絶縁素材で遮断されているため、プレナー型FETのような基板バイアスの電圧を直接変化させるような制御ができない。一方、フィン型半導体ではフィン構造のチャネルをフロントゲートとバックゲートが挟むような構造になっており、フロントゲートとバックゲートの双方が互いのバイアス電圧として作用する。このため、前段のCMOS回路の出力の電圧に応じてフォワードバイアスとバックバイアスの状態が切り替わるという特徴の回路となるため、従来のプレナー型FETのバックゲートのような直接的なバイアス制御の機構を利用することはできない。 However, with future miniaturization, the device will change from a planar FET (Field Effect Transistor) to a three-dimensional three-dimensional FET, particularly a fin FET. The fin type FET has a three-dimensional fin shape that protrudes into a three-dimensional fin shape, so the contact surface with the silicon substrate is small and is blocked by an insulating material. It is impossible to control. On the other hand, a fin-type semiconductor has a structure in which a fin-shaped channel is sandwiched between a front gate and a back gate, and both the front gate and the back gate act as mutual bias voltages. For this reason, since the circuit is characterized in that the state of the forward bias and the back bias is switched according to the output voltage of the preceding CMOS circuit, a direct bias control mechanism like the back gate of the conventional planar FET is provided. It cannot be used.
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、電力を適切に調整することができる技術を提供することを目的とする。 This invention is made | formed in view of said subject, and it aims at providing the technique which can adjust electric power appropriately.
上記の目的を達成するための本発明による半導体集積回路は以下の構成を備える。即ち、
半導体集積回路であって、
電源ノードが接続されているCMOS回路を複数、含む回路ブロックと、
前記回路ブロックに構成される複数のCMOS回路の内、連携して動作する2つのCMOS回路の間で、一方の電源ノードに供給する電圧が他方の電源ノードに供給する電圧を上回ることのないように電圧を調節する調節手段と
を備える。
In order to achieve the above object, a semiconductor integrated circuit according to the present invention has the following arrangement. That is,
A semiconductor integrated circuit,
A circuit block including a plurality of CMOS circuits to which power supply nodes are connected;
The voltage supplied to one power supply node does not exceed the voltage supplied to the other power supply node between two CMOS circuits operating in cooperation among the plurality of CMOS circuits configured in the circuit block. And adjusting means for adjusting the voltage.
本発明によれば、電力を適切に調整することができる。 According to the present invention, electric power can be adjusted appropriately.
以下、本発明の実施形態について図面を用いて詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
従来、一般にプレナー型FETには、ゲート、ソース、ドレイン、バイアスの4端子がある。この様子を図9に示す。図9(a)はプレナー型FETのPMOSの模式図を示しており、Gp、Sp、Dp、Bpが、各々ゲート、ソース、ドレイン、バイアスの電極に対応する。図9(b)はプレナー型FETのNMOSの模式図を示しており、Gn、Sn、Dn、Bnが、各々ゲート、ソース、ドレイン、バイアスの電極に対応する。プレナー型FETでは、バイアス電極はシリコン基板上にソースとドレインを囲むウェルに対してバイアスとして作用する電圧を与える部位を設けることによって形成される。通常、プレナー型FETでは、バイアス電極は、トランジスタ単体で見た場合、ゲート、ソース、ドレインのどの電極とも独立して存在しており、基本的にバイアス電圧はこれら他の電極とは独立に変えることができる。 Conventionally, a planar FET generally has four terminals: a gate, a source, a drain, and a bias. This is shown in FIG. FIG. 9A is a schematic diagram of a PMOS of a planar FET. Gp, Sp, Dp, and Bp correspond to gate, source, drain, and bias electrodes, respectively. FIG. 9B shows a schematic diagram of an NMOS of a planar FET, and Gn, Sn, Dn, and Bn correspond to gate, source, drain, and bias electrodes, respectively. In the planar FET, the bias electrode is formed by providing a portion on the silicon substrate for applying a voltage acting as a bias to the well surrounding the source and drain. Normally, in a planar FET, the bias electrode exists independently of any of the gate, source, and drain electrodes when viewed as a single transistor, and basically the bias voltage changes independently of these other electrodes. be able to.
図10にプレナー型FETで構成したCMOS回路の従来例として、バイアス電圧の制御を行う構成とてプレナー型FETによりバッファを形成した場合の回路図を示す。図10では、PMOS1003及び1006のソースに印加される電圧Vddを与える第1の正電源ノード311と、NMOS1004及び1007のソースに印加される電圧Vssを与える第1の負電源ノード316が存在する。これら出力ノードを駆動する電源とは別にPMOS1003及び1006のバイアス電圧VddBを印加する第2の正電源ノード1001と、NMOS1004及び1007のバイアス電圧VssBを印加する第2の負電源ノード1002が存在する。
FIG. 10 shows a circuit diagram in the case where a buffer is formed by a planar FET as a conventional example of a CMOS circuit configured by a planar FET, in which the bias voltage is controlled. In FIG. 10, there is a first positive
PMOS1003及び1006では、ソースは第1の正電源ノード311に接続され、バイアスは第2の正電源ノード1001に接続されている。NMOS1004及び1007では、ソースは第1の負電源ノード316に接続され、バイアスは第2の負電源ノード1002に接続されている。PMOS1003とNMOS1004はゲートとドレインのノードを各々共有し出力側のインバータ1005を形成する。また、PMOS1006とNMOS1007はゲートとドレインのノードを各々共有し入力側のインバータ1008を形成する。インバータ1008の出力ノードとインバータ1005の入力ノードを接続することにより、バッファを形成する。
In the
また、図10に示すような電源供給方法は、NAND、NOR、フリップフロップ等の他のCMOS論理回路でも同様に適用することが可能であり、それら他のCMOS論理回路に対しても駆動電源供給とバイアス電源を分割して供給することができる。 The power supply method as shown in FIG. 10 can be similarly applied to other CMOS logic circuits such as NAND, NOR, flip-flop, etc., and drive power supply is also applied to these other CMOS logic circuits. The bias power can be divided and supplied.
図10に示すバッファは、出力ノードを駆動する電圧Vdd及びVssと、バイアス電圧VddB及びVssBが各々別々の電圧を与えることができる構造であり、必要な応答性や電力に合わせてバイアス電圧を設定することができる。高速動作させる場合はオン状態の電流が多くなるフォワードバイアス状態で駆動し、リーク電力を減らす場合はバックバイアス状態にする。 The buffer shown in FIG. 10 has a structure in which the voltages Vdd and Vss for driving the output node and the bias voltages VddB and VssB can provide different voltages, and the bias voltage is set in accordance with the required responsiveness and power. can do. When operating at high speed, it is driven in a forward bias state where the on-state current increases, and when reducing leakage power, it is set in the back bias state.
今後、微細化と性能向上のため、デバイスがプレナー型FETからフィン型FETに移行する。フィン型FETでは、フィン状に形成されたゲートとこれに直行するように形成されたソース、ドレインにより、フィン状のチャネル上面だけでなく側面もチャネルを形成する三次元構造を有する。ソース、ドレイン、及びチャネル部分は、シリコン基板とは絶縁層で絶縁されており、プレナー型FETのようなウェルを通じたバイアス電圧の制御は行わない。しかしながら、フィン状に形成された薄いチャネル部分を取り巻くようにゲートが設けられるため、一方の側面のチャネルに対するゲートが他方の側面のチャネルに対するバイアスとして作用する。更に、一方の側面のゲートと他方の側面のゲートはフィン状のチャネル上面で繋がっている。 In the future, devices will move from planar FETs to fin-type FETs for miniaturization and performance improvement. The fin-type FET has a three-dimensional structure in which a channel is formed not only on the upper surface of the fin-shaped channel but also on the side surface by a gate formed in a fin shape and a source and a drain formed so as to be orthogonal to the gate. The source, drain, and channel portions are insulated from the silicon substrate by an insulating layer, and the bias voltage is not controlled through a well like a planar FET. However, since the gate is provided so as to surround the thin channel portion formed in a fin shape, the gate for the channel on one side acts as a bias for the channel on the other side. Furthermore, the gate on one side and the gate on the other side are connected by a fin-shaped channel upper surface.
図11にフィン型FETの模式図を示す。図11(a)は、フィン型FETのPMOSの模式図を示しており、Gp、Sp、Dpが、各々ゲート、ソース、ドレインの電極に対応する。フィン型FETでは、シリコン基板からバイアス電圧は供給されず、一方の側面のゲートが他方の側面のゲートのバイアスとして作用し、かつ、両面のゲートが短絡されている。そのため、図11(a)では、ゲートGpとバイアス電極が繋がった模式図を使用している。 FIG. 11 shows a schematic diagram of a fin-type FET. FIG. 11A is a schematic diagram of a PMOS of a fin-type FET, and Gp, Sp, and Dp correspond to gate, source, and drain electrodes, respectively. In the fin type FET, no bias voltage is supplied from the silicon substrate, the gate on one side acts as a bias for the gate on the other side, and the gates on both sides are short-circuited. Therefore, in FIG. 11A, a schematic diagram in which the gate Gp and the bias electrode are connected is used.
図11(b)はフィン型FETのNMOSの模式図を示しており、Gn、Sn、Dnが、各々ゲート、ソース、ドレインの電極に対応する。図11(a)と同様に、図11(b)でも、ゲートGnとバイアス電極が繋がった模式図を使用する。 FIG. 11B is a schematic diagram of an NMOS of a fin-type FET, and Gn, Sn, and Dn correspond to gate, source, and drain electrodes, respectively. Similarly to FIG. 11A, FIG. 11B uses a schematic diagram in which the gate Gn and the bias electrode are connected.
図12はフィン型FETでバッファを構成した例を示している。図10に対し、図12では、第1の正電源ノード311と、第1の負電源ノード316が存在し、2つのインバータ1203及び1206によりバッファを形成するのは同じである。しかし、プレナー型FETとは異なり、フィン型FETのPMOS1201とPMOS1204とNMOS1202とNMOS1205の各々ゲートとバイアスが短絡されている。そのため、図10に示すような第2の正電源ノード1001と第2の負電源ノード1002からバイアス電圧を制御することはできない。また、図10ではバッファを例に挙げているが、NAND、NOR、フリップフロップ等のバッファ以外のCMOS論理回路でも、フィン型FETを使う限りバイアス電圧を直接制御することができないのは同様である。
FIG. 12 shows an example in which a buffer is constituted by a fin-type FET. In contrast to FIG. 10, in FIG. 12, the first positive
このため、フィン型FETのCMOS回路でバイアス電圧の制御を実施する場合、TCMS(Threshold voltage Control through Multiple Supply voltages)という回路実装法を用いる。 For this reason, when the bias voltage is controlled in the CMOS circuit of the fin-type FET, a circuit mounting method called TCMS (Threshold Voltage Control Multiple Supply Voltages) is used.
図13はTCMSを用いて構成したバッファを示している。図12に対し、図13では、PMOS1204とNMOS1205のソースに印加する電圧が異なる。第2の正電源ノード312は、第1の正電源ノード311よりもバイアス分だけ高い電圧VddHであり、第2の負電源ノード317は、第1の負電源ノード316よりもバイアス分だけ低い電圧VssHである。
FIG. 13 shows a buffer configured using TCMS. FIG. 13 differs from FIG. 12 in the voltages applied to the sources of the
このような電源構造を採用することで、バッファの出力側インバータのバイアス状態を制御することができる。即ち、図13の入力VinがLowレベルの入力を検出した場合、PMOS1204のゲートがスイッチングし、NMOS1202がフォワードバイアス状態となり、PMOS1201がバックバイアス状態になる。このとき、NMOS1202のオン電流が増し、PMOS1201のリーク電流が減少する。また、図13の入力VinがHighレベルの入力を検出した場合、NMOS1205のゲートがスイッチングし、PMOS1201がフォワードバイアス状態となり、NMOS1202がバックバイアス状態になる。このとき、PMOS1201のオン電流が増し、NMOS1202のリーク電流が減少する。
By adopting such a power supply structure, the bias state of the output side inverter of the buffer can be controlled. That is, when the input Vin of FIG. 13 detects a low level input, the gate of the
尚、NANDやNORをはじめとする論理ゲートもバッファと同様にTCMS回路で構成することができる。また、TCMS回路は、通常の単一電源からなるゲートとの混在も可能である。 Note that logic gates such as NAND and NOR can also be formed of TCMS circuits in the same way as buffers. Further, the TCMS circuit can be mixed with a gate composed of a normal single power source.
以上のようなバイアス電圧を制御することで、消費電力を調節する実施形態について、以下、図を参照して説明する。 An embodiment in which power consumption is adjusted by controlling the bias voltage as described above will be described below with reference to the drawings.
<実施形態1>
実施形態1として、TCMS回路の構成でバイアス電圧を制御する方法を説明する。
<
As a first embodiment, a method of controlling a bias voltage with a TCMS circuit configuration will be described.
図1は実施形態1の半導体集積回路の全体を示しており、フィン型FETを用いた半導体集積回路に対しTCMSの方式によりバイアス電圧を制御する場合を示している。 FIG. 1 shows the entire semiconductor integrated circuit according to the first embodiment, and shows a case where a bias voltage is controlled by a TCMS method for a semiconductor integrated circuit using fin-type FETs.
即ち、図1では、半導体集積回路100内に回路ブロック101が存在し、回路ブロック101内に第1のCMOS回路群102と第2のCMOS回路群103を含む複数の回路が存在している。第1のCMOS回路群102(より詳しくは、PMOS−FETのソース)には、第1の正電源ノード105、及び、第1の負電源ノード106と接続されている。第2のCMOS回路群103(より詳しくは、PMOS−FETのソース)には、第2の正電源ノード107、及び、第2の負電源ノード108と接続されている。
That is, in FIG. 1, a
電源調節部109は、正電圧Vddとその正電圧Vddよりもバイアス電圧分だけ高い電圧VddHを選択したり、これらから特定の電圧を生成したりして、第1の正電源ノード105と第2の正電源ノード107の電圧を調節する。電源調節部110は、負電圧Vssとその負電圧Vssよりもバイアス電圧分だけ低い電圧VssHを選択したり、これらから特定の電圧を生成したりして、第1の負電源ノード106と第2の負電源ノード108の電圧を調節する。
The power
電源制御部111は、電源調節部109が第1の正電源ノード105及び第2の正電源ノード107に対して行う電圧の調節、また、電源調節部110が第1の負電源ノード106及び第2の負電源ノード108に対して行う電圧の調節を制御する。この調節の際、第2の正電源ノード107の電圧は常に第1の正電源ノード105と同じか、それよりも高い状態が保たれる。また、第2の負電源ノード108の電圧は常に第1の負電源ノード106と同じか、それよりも低い状態が保たれる。
The power supply control unit 111 adjusts the voltage that the power
第1のCMOS回路群102は、第2のCMOS回路群103の出力ノード(出力信号)104によって駆動される。つまり、第1のCMOS回路群102と第2のCMOS回路群103とは、出力ノード104によって連携して動作する。このとき、第2の正電源ノード107の電圧が第1の正電源ノード105よりも高く、第2の負電源ノード108の電圧が第1の負電源ノード106よりも低い状態では、第1のCMOS回路群102、第2のCMOS回路群103、出力ノード104で構成される回路はTCMSの構造となる。
The first
また、図1ではTCMS方式の一例としてバッファを構成する状態を示している。第1のCMOS回路群102に含まれる論理回路としてインバータ112の入力と、第2のCMOS回路群103に含まれる論理回路としてインバータ113の出力を接続する。ここで、第2の正電源ノード107の電圧が第1の正電源ノード105よりも高く、第2の負電源ノード108の電圧が第1の負電源ノード106よりも低い状態では、TCMS方式のバッファの構成となる。
FIG. 1 shows a state in which a buffer is configured as an example of the TCMS system. The input of the
図2は実施形態1の半導体集積回路上に図1の構成を実装した状態を示している。 FIG. 2 shows a state in which the configuration of FIG. 1 is mounted on the semiconductor integrated circuit of the first embodiment.
図2(a)は半導体集積回路に回路ブロックと正電源切替部と負電源切替部の実装例を示している。即ち、図2では、半導体集積回路100の内部に回路ブロック101が存在し、正電源切替部である電源調節部109と負電源切替部である電源調節部110がこれを囲むように配置した例を示している。
FIG. 2A shows a mounting example of a circuit block, a positive power source switching unit, and a negative power source switching unit in a semiconductor integrated circuit. That is, in FIG. 2, an example in which the
尚、電源調節部109と電源調節部110は必ずしも回路ブロック101を囲む形状でなくともよい。第1のCMOS回路群102と第2のCMOS回路群103に属するCMOS回路が印加される電圧を調節できる構成になっていれば、離散的に配置される構成を用いても構わない。例えば、第1のCMOS回路群102または第2のCMOS回路群103に属する個々のCMOS回路、あるいは、CMOS回路の幾つかをまとめた単位で電圧を切り替える実装方式とすることもできる。
The power
また、図1に示す電源制御部111の配置位置は、回路ブロック101の外部に実装されていても良いし、内部に実装されていても良く、また、外部と内部に分割して実装されていても構わない。また、回路ブロック101と電源調節部109と電源調節部110、及び、電源制御部111からなる構成は、半導体集積回路100の中に複数あっても良い。
1 may be mounted on the outside of the
次に、図2(b)は、図2(a)の回路ブロック101内のCMOS回路内部のある領域201の配置を拡大した様子を示している。図2(b)に示す通り、回路ブロック101の内部は、第1のCMOS回路群102と第2のCMOS回路群103が混在して配置されている。また、図2(b)は図1のバッファを含んでおり、インバータ112とインバータ113が配置されている様子を示している。TCMSの方式により実装された回路は、このインバータ112とインバータ113のように、第2のCMOS回路群側を入力とし第1の回路群を出力側としてこの間が近接して配置されることが望ましい。このため、インバータ112、インバータ113は別々のセルとして配置されている様子を示しているが、第1のCMOS回路群102に属する回路と第2のCMOS回路群103に属する回路を一つのセルとして構成して配置を行っても構わない。
Next, FIG. 2B shows a state in which the arrangement of a
図3は実施形態1の半導体集積回路上に図1における電源調節部109と電源調節部110の詳細構成を示している。
FIG. 3 shows a detailed configuration of the power
図3(a)は、電源調節部109の内部構造を示している。電源ノード301には電圧Vddが与えられ、第1の正電源ノード105に直接電圧Vddを供給する。電源ノード302には第1のCMOS回路群102にとって電圧Vddよりもバイアス分だけ高い電圧VddHが与えられている。第2の正電源ノード107は、制御信号EN_P_BiasをもとにPMOS303とPMOS304と電源スイッチ制御部305により、電圧Vddと電圧VddHを切り替えることができる。
FIG. 3A shows the internal structure of the power
図3(b)は、電源調節部110の内部構造を示している。電源ノード306には電圧Vssが与えられ、第1の負電源ノード106に直接電圧Vssを供給する。電源ノード307には第1のCMOS回路群102にとって電圧Vssよりもバイアス分だけ低い電圧VssHが与えられている。第2の負電源ノード108は、制御信号EN_N_BiasをもとにNMOS308とNMOS309と電源スイッチ制御部310により、電圧Vssと電圧VssHを切り替えることができる。
FIG. 3B shows the internal structure of the power
また、図3(a)及び図3(b)では、制御信号EN_P_Biasと制御EN_N_Biasを電源スイッチの制御信号として用いているが、制御のタイミングに特に制約はなく、同一のタイミングであっても独立した別々のタイミングであっても良い。 In FIGS. 3A and 3B, the control signal EN_P_Bias and the control EN_N_Bias are used as the control signals for the power switch. However, the control timing is not particularly limited and is independent even at the same timing. Different timings may be used.
また、図3(a)及び図3(b)に示す構成は、必ずしも両方をセットで用いる必要は無く、図3(a)及び図3(b)に示す構成どちらか一方のみを用いても構わない。 Further, the configurations shown in FIGS. 3A and 3B do not necessarily need to be used as a set, and only one of the configurations shown in FIGS. 3A and 3B may be used. I do not care.
以上説明したように、本実施形態によれば、図1で示す構造を用い、電源調節部109と電源調節部110に対して、図3(a)及び図3(b)に示す構造(電源スイッチ制御部)を適用することで、消費電力を調節することができる。
As described above, according to the present embodiment, the structure shown in FIG. 3A and FIG. 3B is used for the power
即ち、高速動作が可能でリーク電力は小さいものの動作電力を多く消費するTCMS方式のCMOS回路と、やや動作速度は劣りリーク電力が多くなるが、動作電力が少ない通常のフィン型FETのCMOS回路とを切り替えが可能になる。 That is, a TCMS-type CMOS circuit that can operate at high speed and consumes a large amount of operating power while having a small leakage power, and a normal fin-type FET CMOS circuit that has a slightly lower operating speed but a higher leakage power, but a lower operating power. Can be switched.
このように、フィン型FETの回路の特徴を活かしつつ、バイアス制御を行うことで電力を調節することができるようになり、動作モードによって電力を調節できる低消費電力の回路を構成することができる。 As described above, the power can be adjusted by performing bias control while utilizing the characteristics of the circuit of the fin-type FET, and a low power consumption circuit capable of adjusting the power according to the operation mode can be configured. .
<実施形態2>
実施形態2として、TCMS回路の構成でバイアス電圧を制御する別の方法を説明する。
<Embodiment 2>
As a second embodiment, another method for controlling the bias voltage with the configuration of the TCMS circuit will be described.
実施形態2における半導体集積回路の全体の構成は、実施形態1の図1の半導体集積回路100と同様の構成を採り、実施形態1とは電源調節部109と電源調節部110の内部構成が異なる。
The overall configuration of the semiconductor integrated circuit in the second embodiment is the same as that of the semiconductor integrated
図4は実施形態2の半導体集積回路上での図1における電源調節部109と電源調節部110の構成例を示している。
FIG. 4 shows a configuration example of the power
図4(a)は、電源調節部109の内部構造の一例を示している。第2の正電源ノード107の電圧制御は図3(a)と同じで、第1の正電源ノード105の制御が異なる。即ち、第1の正電源ノード105は、PMOS401、PMOS402及び電源スイッチ制御部403からなる電源スイッチにより電圧Vddと電圧VddHを切り替えることができる。
FIG. 4A shows an example of the internal structure of the power
図4(b)は、電源調節部110の内部構造の一例を示している。第2の負電源ノード108の電圧制御は図3(b)と同じで、第2の負電源ノード106の制御が異なる。即ち、第1の負電源ノード106は、NMOS404、NMOS405及び電源スイッチ制御部406からなる電源スイッチにより電圧Vddと電圧VddHを切り替えることができる。
FIG. 4B shows an example of the internal structure of the power
図5の真理値表は、図4で示す電源調節部109と電源調節部110の入力信号と出力電圧の関係を示している。
The truth table in FIG. 5 shows the relationship between the input signal and the output voltage of the power
図5(a)では、図4(a)の電源調節部109の入力信号と出力電圧の関係を示している。制御信号EN_P_Biasが0の値をとるときは、制御信号SelVddHがいかなる値をとろうと、第2の正電源ノード107、第1の正電源ノード105は共に電圧Vddを示す。制御信号EN_P_Biasと制御信号SelVddHとがそれぞれ1の値をとり、第2の正電源ノード107が電圧VddHをとるときに限り、第1の正電源ノード105は電圧VddHをとることができる。
FIG. 5A shows the relationship between the input signal and the output voltage of the power
即ち、第1の正電源ノード105は、第2の正電源ノード107の電圧を上回ることのないように制御される。第2の正電源ノード107が電圧VddHをとるときのみ、第1の正電源ノード105は、TCMS回路となる電圧Vddと、TCMS回路とはならない電圧VddHの2つの電圧を選択することができる。つまり、実施形態1の図1で示す半導体集積回路100が取り得る動作状態に加え、電圧VddHでドライブされ、TCMS回路よりはリーク電力は若干増加するがスイッチングの電力はやや少なくなるオーバードライブの状態をとることができる。
That is, the first positive
図5(b)では、図4(b)の電源調節部110の入力信号と出力電圧の関係を示している。制御信号EN_N_Biasが0の値をとるときは、制御信号SelVssHがいかなる値をとろうと、第2の負電源ノード108、第1の負電源ノード106は共に電圧Vssを示す。制御信号EN_N_Biasと制御信号SelVssHとがそれぞれ1の値をとり、第2の負電源ノード108が電圧VssHをとるときに限り、第1の負電源ノード106は電圧VssHをとることができる。
FIG. 5B shows the relationship between the input signal and the output voltage of the power
即ち、第1の負電源ノード106は、第2の負電源ノード108の電圧を下回ることのないように制御される。第2の負電源ノード108が電圧VssHをとるときのみ、第1の負電源ノード106は、TCMS回路となる電圧Vssと、TCMS回路とはならない電圧VssHの2つの電圧を選択することができる。つまり、実施形態1の図1で示す半導体集積回路100が取り得る動作状態に加え、電圧VssHでドライブされ、TCMS回路よりはリーク電力は若干増加するがスイッチングの電力はやや少なくなるオーバードライブの状態をとることができる。
That is, the first negative
尚、図4(a)と図4(b)に示す構成では、個々の制御信号EN_P_BiasとSelVddH、及び、制御信号EN_N_BiasとSelVssHを電源スイッチの制御信号として用いている。各々の制御信号は消費電力の制御の要求に応じて制御し、同一のタイミングで切り替えても構わないし、独立して別々のタイミングで制御を行っても良い。 In the configuration shown in FIGS. 4A and 4B, the individual control signals EN_P_Bias and SelVddH and the control signals EN_N_Bias and SelVssH are used as control signals for the power switch. Each control signal is controlled according to a request for control of power consumption, and may be switched at the same timing, or may be controlled independently at different timings.
また、図4(a)と図4(b)に示す構成は必ずしも両方をセットで用いる必要は無く、図3(a)や図3(b)に示す構成と併用させたり、組み合わせたりしても構わない。また、実施形態2では、図4(a)と図4(b)に示す構成を基本としているが、以降の実施形態で示す電源調節部109と電源調節部110の構成を併用しても良い。
4 (a) and 4 (b) are not necessarily used as a set, and may be used together or combined with the configurations shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b). It doesn't matter. In the second embodiment, the configurations shown in FIGS. 4A and 4B are basically used. However, the configurations of the power
以上説明したように、本実施形態によれば、図1に示す構造の電源調節部109と電源調節部110に対して、図4(a)や図4(b)に示す構造(電源スイッチ)を適用することで、より細かく消費電力を調節することができる。即ち、実施形態1の半導体集積回路が取り得る動作状態に加え、要求される消費電力に合わせて通常動作のモードとTCMSモードとオーバードライブモードの状態とを切り替えることができる。
As described above, according to the present embodiment, the structure (power switch) shown in FIGS. 4A and 4B is used for the power
<実施形態3>
実施形態3として、TCMS回路の構成でバイアス電圧を制御する別の方法を説明する。
<Embodiment 3>
As a third embodiment, another method for controlling the bias voltage with the configuration of the TCMS circuit will be described.
実施形態3における半導体集積回路の全体の構成は、実施形態1の図1の半導体集積回路と同様の構成を採り、実施形態1とは電源調節部109と電源調節部110の内部の構成が異なる。
The overall configuration of the semiconductor integrated circuit in the third embodiment is the same as that of the semiconductor integrated circuit in FIG. 1 of the first embodiment, and the internal configurations of the power
図6は、実施形態3の半導体集積回路上での図1における電源調節部109と電源調節部110の構成例を示している。
FIG. 6 shows a configuration example of the power
図6(a)は、電源調節部109の内部構造の一例を示している。ここでは、図3(a)の第2の正電源ノード107と第1の正電源ノード105の前段に電源遮断用のスイッチを設けた構造をとる。即ち、第1の正電源ノード105は、制御信号P_offで制御されたPMOS601とPMOS602からなる電源遮断機構により電源遮断を行うことができる。図6(a)は、P_offが論理値1のとき、電源が遮断される例を示している。
FIG. 6A shows an example of the internal structure of the power
図6(b)は、電源調節部110の内部構造の一例を示している。ここでは、図3(b)の第2の負電源ノード108と第1の負電源ノード106の前段に電源遮断用のスイッチを設けた構造をとる。即ち、第1の負電源ノード106は、制御信号P_onで制御されたPMOS603とPMOS603からなる電源遮断機構により電源遮断を行うことができる。図6(b)は、P_onが論理値1のとき、電源が遮断される例を示している。
FIG. 6B shows an example of the internal structure of the power
尚、図6(a)と図6(b)に示す構成では、個々の制御信号EN_P_BiasとP_off、及び、制御信号EN_N_BiasとP_onを電源スイッチの制御信号として用いている。各々の制御信号は消費電力の制御の要求に応じて制御し、同一のタイミングで切り替えても構わないし、独立して別々のタイミングで制御を行っても良い。 In the configuration shown in FIGS. 6A and 6B, the individual control signals EN_P_Bias and P_off and the control signals EN_N_Bias and P_on are used as control signals for the power switch. Each control signal is controlled according to a request for control of power consumption, and may be switched at the same timing, or may be controlled independently at different timings.
また、図6(a)と図6(b)に示す構成は必ずしも両方をセットで用いる必要は無く、図3(a)や図3(b)に示す構成と併用させたり、組み合わせたりしても電源遮断を実施することができる。また、実施形態3では、図6(a)と図6(b)の構成を基本としているが、図4(a)と図4(b)を基本とした構成や、以降の実施形態で示す電源調節部109と電源調節部110の構成を併用しても良い。
In addition, the configurations shown in FIGS. 6A and 6B do not necessarily need to be used together, and may be combined with or combined with the configurations shown in FIGS. 3A and 3B. Can also be turned off. Further, in the third embodiment, the configurations of FIG. 6A and FIG. 6B are based, but the configurations based on FIG. 4A and FIG. 4B and the following embodiments are shown. The configurations of the power
以上説明したように、本実施形態によれば、図1に示す構造の電源調節部109と電源調節部110に対して、図6(a)や図6(b)に示す構造(電源遮断機構)を適用することで、より細かな電圧の調節と電源遮断の両方の機構を利用することができる。即ち、実施形態1の半導体集積回路が取り得る動作状態に加え、要求される消費電力に合わせてTCMSモードと他のモードとの切り替えに加えて、電源遮断の状態をとることができる。
As described above, according to the present embodiment, the structure (power cutoff mechanism) shown in FIGS. 6A and 6B is different from the power
<実施形態4>
実施形態4として、TCMS回路の構成でバイアス電圧を制御する別の方法を説明する。
<Embodiment 4>
As a fourth embodiment, another method for controlling the bias voltage with the configuration of the TCMS circuit will be described.
実施形態4における半導体集積回路の全体の構成は、実施形態1の図1の半導体集積回路と同様の構成を採り、実施形態1とは電源調節部109と電源調節部110の内部の構成が異なる。
The overall configuration of the semiconductor integrated circuit in the fourth embodiment is the same as that of the semiconductor integrated circuit of FIG. 1 in the first embodiment, and the internal configurations of the power
図7は、実施形態4の半導体集積回路上での図1における電源調節部109と電源調節部110の構成例を示している。
FIG. 7 shows a configuration example of the power
図7(a)は、電源調節部109の内部構造の一例を示している。ここでは、図3(a)の電源ノード302と電源ノード301との電圧差を分圧で設定する構造をとる。即ち、電源ノード302には電圧生成部701から電圧VddHが供給される。また、抵抗702と抵抗703で分圧された電圧Vddが電源ノード301の電圧となる。第2の正電源ノード107は電源ノード302により電圧VddHが設定され、第1の正電源ノード105は電源ノード301により電圧Vddが設定される。このような分圧の構造を有する電源調節部109では、制御信号dVdd_cntに従い電圧生成部701の出力電圧が電圧VddHから変更されても、第2の正電源ノード107の電圧は、第1の正電源ノード105の電圧よりも常に高い状態が保たれる。
FIG. 7A shows an example of the internal structure of the power
図7(b)は、電源調節部110の内部構造の一例を示している。ここでは、図3(b)の電源ノード307と電源ノード306との電圧差を分圧で設定する構造をとる。即ち、電源ノード306には電圧生成部704で供給される電圧を抵抗705と抵抗706で分圧した電圧Vssが供給される。また、図7(b)では電圧VssHは電源ノード307で接地電圧となる構成を用いているが、電源ノード306より低い電圧を保つことができるならば別の構成を採用しても構わない。第2の負電源ノード108は電源ノード307により接地電圧が設定され、第1の負電源ノード106は電源ノード306により電圧Vssが設定される。このような分圧の構造を有する電源調節部110では、制御信号dVss_cntに従い電圧生成部704の出力電圧が変更されても、第1の負電源ノード106の電圧は、第2の負電源ノード108よりも常に高い状態が保たれる。
FIG. 7B shows an example of the internal structure of the power
また、図7(b)では、抵抗705を無くして電圧生成部704から直接電圧を電源ノード306に与える構成を採用しても構わない。
In FIG. 7B, a configuration in which the
また、図7(a)と図7(b)に示す構成は、必ずしも両方をセットで用いる必要は無く、図3(a)や図3(b)、図4(a)と図4(b)、及び図6(a)と図6(b)に示す構成と併用させたり、組み合わせたりしても電源遮断を実施することができる。 Further, it is not always necessary to use both of the configurations shown in FIGS. 7A and 7B as a set. FIG. 3A, FIG. 3B, FIG. 4A, and FIG. ) And the configuration shown in FIG. 6A and FIG. 6B can be combined or combined, and the power can be shut off.
以上説明したように、本実施形態によれば、図1に示す構造の電源調節部109と電源調節部110に対して、図7(a)や図7(b)に示す構造(分圧構造)を適用することで、TCMS回路が様々な電源電圧をとり得る場合でもバイアス状態を追従させることができる。
As described above, according to the present embodiment, the structure (voltage dividing structure) shown in FIGS. 7A and 7B with respect to the power
<実施形態5>
実施形態5として、TCMS回路の構成でバイアス電圧を制御する別の方法を説明する。
<Embodiment 5>
As a fifth embodiment, another method for controlling the bias voltage with the configuration of the TCMS circuit will be described.
実施形態5における半導体集積回路の全体の構成は、実施形態1の図1の半導体集積回路と同様の構成を採り、実施形態4とは電源調節部109と電源調節部110の内部の分圧の機構が異なる。
The overall configuration of the semiconductor integrated circuit according to the fifth embodiment is the same as that of the semiconductor integrated circuit of FIG. 1 according to the first embodiment, which is different from that of the fourth embodiment in the partial pressure inside the power
図8は、実施形態4の半導体集積回路上に図1における電源調節部109と電源調節部110の構成例を示している。
FIG. 8 shows a configuration example of the power
図8(a)は、電源調節部109の内部構造の一例を示している。ここでは、図7(a)の抵抗702を可変抵抗801に置換した構造をとる。即ち、電源ノード302には電圧生成部701から電圧VddHが供給される。また、可変抵抗801と抵抗703で分圧された電圧が電源ノード301の電圧となる。第2の正電源ノード107は、電源ノード302により電圧VddHが設定され、第1の正電源ノード105は電源ノード301により可変抵抗801と抵抗703で分圧された電圧が設定される。このような分圧の構造を有する電源調節部109では、電源ノード302と電源ノード301の電圧差を自由に調節できる。また、制御信号dVdd_cntに従い電圧生成部701の出力電圧が電圧VddHから変更されても、第2の正電源ノード107の電圧は、第1の正電源ノード105の電圧よりも常に高い状態が保たれる。また、可変抵抗801を用いることで適切なバイアス電圧の設定が可能である。
FIG. 8A shows an example of the internal structure of the power
また、図8(a)では、図7(a)の抵抗702を可変抵抗801に置換した構成としているが、図7(a)の抵抗702ではなく抵抗703を可変抵抗で置換する形でも同様の効果を得ることができる。その際、抵抗702の抵抗値を適切に選択することで適切なバイアス電圧の設定が可能である。
8A, the
図8(b)は、電源調節部110の内部構造の一例を示している。ここでは、図7(b)の抵抗706を可変抵抗802で置換した構造をとる。即ち、電源ノード306には電圧生成部704で供給される電圧を抵抗705と可変抵抗802で分圧された電圧が供給される。また、図8(b)では、電圧VssHは電源ノード307で接地電圧となる構成を用いている。第2の負電源ノード108は電源ノード307により接地電圧が設定され、第1の負電源ノード106は電源ノード306により抵抗705と可変抵抗802で分圧された電圧が設定される。このような分圧の構造を有する電源調節部110では、電源ノード307と電源ノード306の電圧差を自由に調節できる。また、制御信号dVss_cntに従い電圧生成部704の出力電圧が変更されても第1の負電源ノード106の電圧は第2の負電源ノード108よりも常に高い状態が保たれる。また、可変抵抗802を用いることで適切なバイアス電圧の設定が可能である。
FIG. 8B shows an example of the internal structure of the power
また、図8(b)では、抵抗705を無くして電圧生成部704から直接電圧を電源ノード306に供給する構成を採用しても構わない。
In FIG. 8B, a configuration in which the
また、図8(b)では、図7(b)の抵抗706を可変抵抗802に置換した構成としているが、図7(b)の抵抗706ではなく抵抗705を可変抵抗で置換する形でも同様の効果を得ることができる。その際、抵抗706の抵抗値を適切に選択することで適切なバイアス電圧を設定が可能である。
8B, the
以上説明したように、本実施形態によれば、図1に示す構造の電源調節部109と電源調節部110に対して、図8(a)や図8(b)に示す構造(分圧構造)を適用することで、TCMS回路が様々な電源電圧をとり得る場合でもバイアス状態を追従させ、かつ、バイアス電圧を細かく調節することができる。
As described above, according to the present embodiment, the structure (voltage dividing structure) shown in FIGS. 8A and 8B is different from the power
尚、本発明は、上述の実施形態の1以上の機能を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける1つ以上のプロセッサがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。また、1以上の機能を実現する回路(例えば、ASIC)によっても実現可能である。 Note that the present invention supplies a program that realizes one or more functions of the above-described embodiments to a system or apparatus via a network or a storage medium, and one or more processors in a computer of the system or apparatus execute the program. It can also be realized by a process of reading and executing. It can also be realized by a circuit (for example, ASIC) that realizes one or more functions.
100:半導体集積回路、101:回路ブロック、102:第1のCMOS回路群、103:第2のCMOS回路群、104:出力ノード、105:第1の正電源ノード、106:第1の負電源ノード、107:第2の正電源ノード、108:第2の負電源ノード、109:電源調節部、110:電源調節部、111:電源制御部、112:インバータ、113:インバータ DESCRIPTION OF SYMBOLS 100: Semiconductor integrated circuit, 101: Circuit block, 102: 1st CMOS circuit group, 103: 2nd CMOS circuit group, 104: Output node, 105: 1st positive power supply node, 106: 1st negative power supply Node 107: second positive power supply node 108: second negative power supply node 109: power supply adjustment unit 110: power supply adjustment unit 111: power supply control unit 112: inverter 113: inverter
Claims (13)
電源ノードが接続されているCMOS回路を複数、含む回路ブロックと、
前記回路ブロックに構成される複数のCMOS回路の内、連携して動作する2つのCMOS回路の間で、一方の電源ノードに供給する電圧が他方の電源ノードに供給する電圧を上回ることのないように電圧を調節する調節手段と
を備えることを特徴とする半導体集積回路。 A semiconductor integrated circuit,
A circuit block including a plurality of CMOS circuits to which power supply nodes are connected;
The voltage supplied to one power supply node does not exceed the voltage supplied to the other power supply node between two CMOS circuits operating in cooperation among the plurality of CMOS circuits configured in the circuit block. A semiconductor integrated circuit, comprising: adjusting means for adjusting voltage.
電源ノードとして、それぞれに正電源ノードと負電源ノードとが接続されている、第1のCMOS回路群と第2のCMOS回路群を含む回路ブロックと、
前記第1のCMOS回路群と前記第2のCMOS回路群との間で、それぞれに接続されている正電源ノードと負電源ノードの少なくとも一方の電源ノードについて、一方の電源ノードに供給する電圧が、他方の電源ノードに供給する電圧を上回ることのないように電圧を調節する調節手段と
を備えることを特徴とする半導体集積回路。 A semiconductor integrated circuit,
A circuit block including a first CMOS circuit group and a second CMOS circuit group, each having a positive power supply node and a negative power supply node connected to each other as a power supply node;
Between at least one of the positive power supply node and the negative power supply node connected between the first CMOS circuit group and the second CMOS circuit group, a voltage supplied to one power supply node is And adjusting means for adjusting the voltage so as not to exceed the voltage supplied to the other power supply node.
前記選択手段は、前記他方の電源ノードが前記第2の電圧を選択した場合に限って、前記一方の電源ノードは前記第1の電圧と前記第2の電圧とを選択する
ことを特徴とする請求項1または2に記載の半導体集積回路。 The adjusting means includes selection means for selecting a first voltage supplied to the other power supply node and a second voltage higher than the first voltage when supplying a voltage to the one power supply node. ,
The selection means selects the first voltage and the second voltage only when the other power supply node selects the second voltage. The semiconductor integrated circuit according to claim 1.
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体集積回路。 4. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the adjusting unit includes a blocking unit that blocks supply of power to the one power supply node and the other power supply node. 5.
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の半導体集積回路。 5. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the adjusting unit includes a setting unit that sets a voltage difference between the one power supply node and the other power supply node. 6.
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the adjusting unit includes a changing unit that changes a voltage difference between the one power supply node and the other power supply node.
前記第1のCMOS回路群の第1の正電源ノードに供給する電圧が前記第2のCMOS回路群の第2の正電源ノードに供給する電圧を上回ることのないように電圧を調節する第1の調節手段と
前記第1のCMOS回路群の第1の負電源ノードに供給する電圧が前記第2のCMOS回路群の第2の負電源ノードに供給する電圧を下回ることのないように電圧を調節する第2の調節手段と
を備えることを特徴とする請求項2に記載の半導体集積回路。 The adjusting means is
The first voltage is adjusted so that the voltage supplied to the first positive power supply node of the first CMOS circuit group does not exceed the voltage supplied to the second positive power supply node of the second CMOS circuit group. And the voltage supplied to the first negative power supply node of the first CMOS circuit group so as not to fall below the voltage supplied to the second negative power supply node of the second CMOS circuit group. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, further comprising second adjusting means for adjusting.
前記第2の電源調節手段は、前記第2の負電源ノードに電圧を供給する際、前記第1の負電源ノードに供給する第1の負の電圧と前記第1の負の電圧よりも低い第2の負の電圧とを選択する第2の選択手段を備える
ことを特徴とする請求項7に記載の半導体集積回路。 When the first adjustment means supplies a voltage to the second positive power supply node, the first adjustment means supplies a first positive voltage supplied to the first positive power supply node and a first voltage higher than the first positive voltage. First selection means for selecting a positive voltage of 2;
The second power supply adjusting means, when supplying a voltage to the second negative power supply node, is lower than the first negative voltage and the first negative voltage supplied to the first negative power supply node. The semiconductor integrated circuit according to claim 7, further comprising second selection means for selecting a second negative voltage.
前記第2の選択手段は、前記第2の負電源ノードが前記第2の負の電圧を選択した場合に限って、前記第1の負電源ノードは前記第1の負の電圧と前記第2の負の電圧とを選択する
ことを特徴とする請求項8に記載の半導体集積回路。 The first selection means is configured such that the first positive power supply node is connected to the first positive voltage and the second positive voltage node only when the second positive power supply node selects the second positive voltage. Select the positive voltage and
The second selection means is arranged such that the first negative power supply node is connected to the first negative voltage and the second negative voltage node only when the second negative power supply node selects the second negative voltage. The semiconductor integrated circuit according to claim 8, wherein the negative voltage is selected.
前記第2の調節手段は、前記第1の負電源ノードと前記第2の負電源ノードへの電源の供給を遮断する第2の遮断手段を備える
ことを特徴とする請求項7乃至9のいずれか1項に記載の半導体集積回路。 The first adjusting means includes first cutoff means for cutting off power supply to the first positive power supply node and the second positive power supply node,
The second adjustment unit includes a second blocking unit that blocks the supply of power to the first negative power supply node and the second negative power supply node. 2. A semiconductor integrated circuit according to claim 1.
前記第2の調節手段は、前記第1の負電源ノードと前記第2の負電源ノードとの電圧差を設定する第2の設定手段を備える
ことを特徴とする請求項7乃至10のいずれか1項に記載の半導体集積回路。 The first adjusting means includes first setting means for setting a voltage difference between the first positive power supply node and the second positive power supply node,
The said 2nd adjustment means is provided with the 2nd setting means which sets the voltage difference of a said 1st negative power supply node and a said 2nd negative power supply node. The one of the Claims 7 thru | or 10 characterized by the above-mentioned. 2. The semiconductor integrated circuit according to item 1.
前記第2の調節手段は、前記第1の負電源ノードと前記第2の負電源ノードとの電圧差を変更する第2の変更手段を備える
ことを特徴とする請求項7乃至11のいずれか1項に記載の半導体集積回路。 The first adjusting means includes first changing means for changing a voltage difference between the first positive power supply node and the second positive power supply node,
The second adjusting means includes second changing means for changing a voltage difference between the first negative power supply node and the second negative power supply node. 2. The semiconductor integrated circuit according to item 1.
ことを特徴とする請求項1乃至12のいずれか1項に記載の半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 1, further comprising a control unit that controls an operation of the adjusting unit.
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