JP2016093892A - Laminate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、積層体に関する。 The present invention relates to a laminate.
従来、住宅・ビルなどの開口部、例えば窓のガラスに金属薄膜/金属酸化物薄膜を交互に積層した熱線反射層、保護層を順に形成した積層体が使用されている。これら積層体は金属薄膜の赤外線反射機能により、室外から室内への日射熱(近赤外線)の流入、ならびに室内から室外への暖房熱(遠赤外腺)の流出を抑制することが可能であり、年間を通じて省エネ効果を得ることができる。さらに、高屈折率の金属酸化物薄膜を積層することにより透明性を向上させ外観視認性を確保し、保護層を積層することにより金属薄膜、金属酸化物薄膜を保護し、耐傷付性ならびに耐候性を発現させている。 2. Description of the Related Art Conventionally, a laminate in which a heat ray reflective layer in which metal thin films / metal oxide thin films are alternately laminated on a glass of an opening of a house / building, for example, a window, and a protective layer are sequentially formed has been used. These laminated bodies can suppress the inflow of solar heat (near infrared) from the outside to the room and the outflow of heating heat (far infrared gland) from the room to the outside by the infrared reflective function of the metal thin film. , Energy saving effect can be obtained throughout the year. Furthermore, by laminating a metal oxide thin film with a high refractive index, the transparency is improved and the appearance visibility is secured, and by laminating a protective layer, the metal thin film and the metal oxide thin film are protected, and the scratch resistance and weather resistance. Sex is expressed.
上述した積層体として、例えば透明高分子フィルム上に金、銀、銅等の金属薄膜と金属酸化物膜を交互に積層した後、さらに保護層として酸化ケイ素またはアクリル樹脂を積層した熱線遮蔽性能を有する透明積層体が提案されている(特許文献1参照)。 As the above-mentioned laminate, for example, after alternately laminating metal thin films such as gold, silver, and copper and metal oxide films on a transparent polymer film, the heat ray shielding performance is obtained by further laminating silicon oxide or acrylic resin as a protective layer. The transparent laminated body which has is proposed (refer patent document 1).
上記特許文献1に記載の透明積層体においては、高い日射遮蔽性と高い断熱性を両立した窓貼りに好適な透明積層体を得るため、保護層に酸化ケイ素またはアクリル樹脂を含む材料を使用し、同保護層の厚みを薄膜化することにより保護層の修正放射率(赤外線の吸収率)を低下させている。しかし、本発明者は、保護層に使用している酸化ケイ素またはアクリル樹脂では、修正放射率を低減するため薄膜化した場合に窓貼り用途に充分なレベルでの耐傷付性、耐候性を発現することができないとの課題を見出した。すなわち、上記の保護層を薄膜化すると、修正放射率が低く日射遮蔽性と断熱性に優れた透明積層体を得られる一方で、耐傷付性と耐候性が低下してしまうとの課題を見出したのである。 In the transparent laminate described in Patent Document 1, a material containing silicon oxide or acrylic resin is used for the protective layer in order to obtain a transparent laminate suitable for window pasting that has both high solar shielding properties and high heat insulation properties. The modified emissivity (infrared absorptance) of the protective layer is reduced by reducing the thickness of the protective layer. However, the present inventor has shown that the silicon oxide or acrylic resin used in the protective layer exhibits scratch resistance and weather resistance at a level sufficient for window pasting when it is thinned to reduce the modified emissivity. I found a problem that I could not do. That is, when the protective layer is made thin, a transparent laminate having a low correction emissivity and excellent solar radiation shielding properties and heat insulation properties can be obtained, while the scratch resistance and weather resistance are reduced. It was.
そこで、本発明はかかる課題に鑑み、日射遮蔽性および断熱性を高いレベルで発現させるべく保護層を薄膜化した場合であっても、優れた耐傷付性と優れた耐候性を有する窓貼り用途に好適な積層体を提供せんとするものである。 Therefore, in view of such problems, the present invention is a window pasting application that has excellent scratch resistance and excellent weather resistance even when the protective layer is thinned to express solar radiation shielding and heat insulation at a high level. It is intended to provide a suitable laminate.
本発明は、かかる課題を解決するために、次のような手段を採用するものである。
(1)基材の片面に、少なくとも熱線反射層およびハードコート層が基材側からこの順に積層され、前記熱線反射層が金属薄膜と金属酸化物薄膜とを有し、前記ハードコート層がリン酸基、スルホン酸基およびアミド基からなる群から選ばれる1種以上の極性基を有する架橋樹脂(A)および無機粒子(B)を含み、かつ、前記無機粒子(B)の含有量が、ハードコート層に含まれる全成分100質量%対し40〜60質量%であることを特徴とする積層体、
(2)前記架橋樹脂(A)がリン酸基を含有する架橋樹脂であることを特徴とする(1)の積層体、
(3)前記無機粒子(B)がシリカであることを特徴とする(1)または(2)の積層体、
(4)前記シリカが疎水処理されていないことを特徴とする(3)の積層体、
(5)前記ハードコート層の厚みが0.5〜1.5μmであり、かつ、波長5.5〜15μmの赤外線反射率が50%以上であることを特徴とする(1)〜(4)のいずれかの積層体。
The present invention employs the following means in order to solve such problems.
(1) At least a heat ray reflective layer and a hard coat layer are laminated in this order from the substrate side on one side of the substrate, the heat ray reflective layer has a metal thin film and a metal oxide thin film, and the hard coat layer is phosphorus It contains a crosslinked resin (A) having at least one polar group selected from the group consisting of an acid group, a sulfonic acid group and an amide group, and inorganic particles (B), and the content of the inorganic particles (B) is A laminate characterized by 40 to 60% by mass with respect to 100% by mass of all components contained in the hard coat layer;
(2) The laminate of (1), wherein the crosslinked resin (A) is a crosslinked resin containing a phosphate group,
(3) The laminate according to (1) or (2), wherein the inorganic particles (B) are silica.
(4) The laminate according to (3), wherein the silica is not subjected to a hydrophobic treatment,
(5) The thickness of the hard coat layer is 0.5 to 1.5 μm, and the infrared reflectance at a wavelength of 5.5 to 15 μm is 50% or more (1) to (4) Any laminate of.
本発明によれば、日射遮蔽性および断熱性を高いレベル発現させるべく保護層を薄膜化した場合であっても、優れた耐傷付性と優れた耐候性を有する窓貼り用途に好適な積層体を得ることができる。 According to the present invention, even when the protective layer is thinned to achieve high levels of solar shading and heat insulating properties, the laminate is suitable for window pasting applications having excellent scratch resistance and excellent weather resistance. Can be obtained.
本発明の積層体は、基材の片面に、少なくとも熱線反射層、ハードコート層が基材側からこの順に積層された積層体において、前記熱線反射層が金属薄膜と金属酸化物薄膜とを有し、前記ハードコート層がリン酸基、スルホン酸基およびアミド基からなる群から選ばれる1種以上の極性基を有する架橋樹脂(A)および無機粒子(B)を含み、かつ、前記無機粒子(B)の含有量が、ハードコート層に含まれる全成分100質量%に対し40〜60質量%である。 The laminate of the present invention is a laminate in which at least a heat ray reflective layer and a hard coat layer are laminated in this order from the substrate side on one side of the substrate, and the heat ray reflective layer has a metal thin film and a metal oxide thin film. The hard coat layer includes a crosslinked resin (A) having at least one polar group selected from the group consisting of a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, and an amide group, and inorganic particles (B), and the inorganic particles Content of (B) is 40-60 mass% with respect to 100 mass% of all the components contained in a hard-coat layer.
本発明で用いる基材は、可視光透過性能、耐候性に優れたものであれば特に限定されることはないが、窓貼り用途に使用する場合、可撓性を有し取り扱い性に優れる観点から合成樹脂を含むものであることが好ましい。ここで、合成樹脂とは、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル、ナイロンなどが好ましく、金属薄膜と金属酸化物薄膜からなる熱線反射層(以下、熱線反射層とする)を形成する際に必要となる耐熱性、コストなどを考慮するとポリエチレンテレフタレートがより好ましい。また、基材と熱線反射層との層間の密着性を向上させる観点から、熱線反射層を積層する基材の面に易接着層を設けたり、コロナ処理、プラズマ処理、ケン化などの表面処理を施すことが好ましい。ここで、易接着層に用いる樹脂は、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。本基材の厚みについては、特に制限はないが機械的強度、耐熱性、窓貼り用途に用いた場合の取り扱い性を考慮すると10〜150μmであることが好ましい。厚みを10μm以上とすることで、基材の表面処理工程や、金属層、金属酸化物層の形成工程で熱収縮による皺の発生を抑制することができるとともに、窓の破損の防止性能および防犯性能等を付与することができる。一方、厚みを150μm以下とすることで、必要となる材料の量を低減することができ環境負荷低減に繋がるとともに、積層体を窓などに施工する際の施工性をより良好なものとすることができる。 The substrate used in the present invention is not particularly limited as long as it has excellent visible light transmission performance and weather resistance. However, when used for window pasting applications, it has flexibility and excellent handleability. It is preferable that the synthetic resin is included. Here, the synthetic resin is preferably, for example, polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic, nylon, or the like, and is required when forming a heat ray reflective layer (hereinafter referred to as a heat ray reflective layer) composed of a metal thin film and a metal oxide thin film. In view of heat resistance, cost, etc., polyethylene terephthalate is more preferable. In addition, from the viewpoint of improving the adhesion between the substrate and the heat ray reflective layer, an easy adhesion layer is provided on the surface of the substrate on which the heat ray reflective layer is laminated, or surface treatment such as corona treatment, plasma treatment, saponification, etc. It is preferable to apply. Here, examples of the resin used for the easy adhesion layer include a polyester resin, an acrylic resin, and a urethane resin. Although there is no restriction | limiting in particular about the thickness of this base material, It is preferable that it is 10-150 micrometers when the handleability at the time of using mechanical strength, heat resistance, and a window sticking use is considered. By setting the thickness to 10 μm or more, generation of wrinkles due to thermal shrinkage can be suppressed in the surface treatment process of the base material and the formation process of the metal layer and metal oxide layer, and the window breakage prevention performance and crime prevention Performance and the like can be imparted. On the other hand, by making the thickness 150 μm or less, the amount of necessary materials can be reduced, leading to a reduction in the environmental burden, and making the workability when constructing the laminated body to a window or the like better. Can do.
次に熱線反射層は、金属薄膜と金属酸化物薄膜を基材上に積層したものであり、
最も単純な構成として、金属薄膜の上下いずれかの片面に金属酸化物薄膜を積層した構成を挙げることができる。また、金属薄膜と金属酸化物薄膜を交互に積層し、金属酸化物薄膜/金属薄膜/金属酸化物薄膜とした3層構成としても良い。
本構成を採用することで、金属薄膜とハードコート層、若しくは、金属薄膜と基材との可視光線の界面反射を抑制することができ、可視光透過性能を向上させることが可能となる。さらに、熱線反射層を(I)金属酸化物薄膜/金属薄膜/金属酸化物薄膜/金属薄膜/金属酸化物薄膜とした5層構成、または(II)金属酸化物薄膜/金属薄膜/金属酸化物薄膜/金属薄膜/金属酸化物薄膜/金属薄膜/金属酸化物薄膜とした7層構成とすることで可視光透過性能の向上に加え、赤外線反射性能を向上させることが可能となる。一般的に層の数を増やすほど可視光透過性能、赤外線反射性能に優れた積層体を得られる傾向にあるが、性能の向上と積層体の取り扱い性のバランスの観点から、本発明の積層体が有する層の数は、上限としては7層以下であることが好ましい。
Next, the heat ray reflective layer is a laminate of a metal thin film and a metal oxide thin film on a substrate,
As the simplest configuration, a configuration in which a metal oxide thin film is laminated on one of upper and lower surfaces of a metal thin film can be exemplified. Alternatively, a metal thin film and a metal oxide thin film may be alternately stacked to have a three-layer structure of metal oxide thin film / metal thin film / metal oxide thin film.
By adopting this configuration, it is possible to suppress visible light interface reflection between the metal thin film and the hard coat layer, or between the metal thin film and the substrate, and to improve the visible light transmission performance. Further, the heat ray reflective layer is composed of (I) metal oxide thin film / metal thin film / metal oxide thin film / metal thin film / metal oxide thin film, or (II) metal oxide thin film / metal thin film / metal oxide. The seven-layer structure of thin film / metal thin film / metal oxide thin film / metal thin film / metal oxide thin film can improve the infrared light reflection performance in addition to the improvement of the visible light transmission performance. Generally, as the number of layers is increased, there is a tendency to obtain a laminate excellent in visible light transmission performance and infrared reflection performance, but from the viewpoint of balance between improvement in performance and handleability of the laminate, the laminate of the present invention. The number of layers possessed by is preferably 7 or less as the upper limit.
本発明で用いる金属薄膜については、赤外線反射性能に優れたものであれば特に限定されることはないが、例えば、銀、金、白金、銅、アルミニウムなどが好ましく、中でも赤外線反射性能に特に優れる銀を主成分とすることが好ましい。ここで、上記の主成分とは、金属薄膜に含まれる銀の含有量が、金属薄膜の全成分を100質量%とした場合に50質量%をこえることをいい、銀の含有量としては90質量%以上であることが好ましい。さらに、銀の耐腐食性を向上させる目的で上述した金属に加え、パラジウム、ビスマス、ニッケル、ニオブ、マグネシウム、亜鉛などを1種以上添加した合金とすることも好ましいことである。これら金属のうち、赤外線反射性能と耐腐食性を両立させる観点から、金および/またはパラジウムを含有することが特に好ましい。また、金および/またはパラジウムの含有量に特に制限はないが、耐腐食性とコストの観点から、金属薄膜の全成分を100質量%とした場合に、金原子およびパラジウム原子を合計で2〜5質量%含むことが好ましい。少ないと銀の腐食を抑制する効果が得られない。また、多すぎると、コストが上がるだけでコストアップに見合う改善効果を得ることができない。金属薄膜の厚みについては、特に制限はないが、必要とする赤外線反射性能と可視光透過性能を考慮し、5〜20nmの範囲で適宜選択することが好ましい。厚みが薄いと可視光透過性能に優れるが、赤外線反射性能が低下してしまう。逆に厚すぎると可視光透過性能が低下し、金属の使用量が増加し経済的にも好ましくない。 The metal thin film used in the present invention is not particularly limited as long as it is excellent in infrared reflection performance. For example, silver, gold, platinum, copper, aluminum and the like are preferable, and particularly excellent in infrared reflection performance. It is preferable that silver is a main component. Here, the above-mentioned main component means that the silver content contained in the metal thin film exceeds 50 mass% when all the components of the metal thin film are 100 mass%, and the silver content is 90%. It is preferable that it is mass% or more. Furthermore, it is also preferable to use an alloy in which at least one kind of palladium, bismuth, nickel, niobium, magnesium, zinc or the like is added in addition to the above-described metal for the purpose of improving the corrosion resistance of silver. Among these metals, it is particularly preferable to contain gold and / or palladium from the viewpoint of achieving both infrared reflection performance and corrosion resistance. Further, the content of gold and / or palladium is not particularly limited, but from the viewpoint of corrosion resistance and cost, when all the components of the metal thin film are 100% by mass, the total number of gold atoms and palladium atoms is 2 to 2. It is preferable to contain 5 mass%. If it is less, the effect of suppressing silver corrosion cannot be obtained. On the other hand, if the amount is too large, an improvement effect commensurate with the cost increase cannot be obtained only by an increase in cost. Although there is no restriction | limiting in particular about the thickness of a metal thin film, It is preferable to select suitably in the range of 5-20 nm in view of the required infrared reflective performance and visible light transmission performance. If the thickness is thin, the visible light transmission performance is excellent, but the infrared reflection performance is degraded. On the other hand, if it is too thick, the visible light transmission performance is lowered, the amount of metal used is increased, and this is not economically preferable.
次に、本発明で用いる金属酸化物薄膜には、500nmの波長における屈折率が高い金属酸化物を用いることが可視光線の界面反射を低減し、可視光透過性能を向上させる点で好ましい。具体的にはチタン、ニオブ、亜鉛、錫、インジウム、ジルコニウムなどの酸化物を挙げることができ、これら金属酸化物を1種以上選択して用いることが好ましい。金属酸化物薄膜の厚みについては、10nm以上であることが好ましく、30nm以上であることがより好ましい。一方、上限は、100nm以下であることが好ましく、60nm以下であることがより好ましい。金属酸化物薄膜の厚みを10nm以上とすることで、可視光線の反射を抑制でき可視光透過性能に優れた積層体を得ることができる。一方、金属酸化物薄膜の厚みを100nmを越えて積層しても、材料費が上がるばかりではなく、可視光透過性能をさらに向上させることができない。 Next, for the metal oxide thin film used in the present invention, it is preferable to use a metal oxide having a high refractive index at a wavelength of 500 nm from the viewpoint of reducing visible light interface reflection and improving visible light transmission performance. Specific examples include oxides such as titanium, niobium, zinc, tin, indium, and zirconium. One or more of these metal oxides are preferably selected and used. The thickness of the metal oxide thin film is preferably 10 nm or more, and more preferably 30 nm or more. On the other hand, the upper limit is preferably 100 nm or less, and more preferably 60 nm or less. By setting the thickness of the metal oxide thin film to 10 nm or more, it is possible to suppress the reflection of visible light and obtain a laminate having excellent visible light transmission performance. On the other hand, even if the thickness of the metal oxide thin film exceeds 100 nm, not only the material cost increases but also the visible light transmission performance cannot be further improved.
また、金属酸化物薄膜は、可視光透過性を向上させる観点や、金属薄膜と金属酸化物薄膜との密着力を向上させ積層体の耐久性を向上させる観点から、充分に酸素を含有するものであることが好ましい。しかし、金属酸化物薄膜を十分に酸素を含有するものとすべく、金属酸化物薄膜を酸素が多く含有される雰囲気下で成膜すると、金属酸化物薄膜の下地である金属薄膜が酸化されることとなり、積層体の赤外線反射性能が低下する傾向がある。よって、十分に酸素を含有する金属酸化物層の形成の際に、その下地の金属薄膜の酸化を抑制すべく、金属薄膜と金属酸化物薄膜との間にバリア層が形成されていることが好ましい。ここで、バリア層とは、金属酸化物薄膜より酸素の含有量が少ない層であり、バリア層を成膜する際の雰囲気における体積ベースの流量率(以下、流量率とする。)を2%以上5%以下とすることで得ることができる。なお、金属酸化物薄膜を成膜する際の雰囲気における流量率は5%超15%以下であることが好ましく、金属酸化物薄膜に含まれる酸素をより十分なものとする観点から、下限は、10%以上であることがより好ましく、15%以上であることがさらに好ましい。 In addition, the metal oxide thin film sufficiently contains oxygen from the viewpoint of improving the visible light transmission and improving the adhesion between the metal thin film and the metal oxide thin film and improving the durability of the laminate. It is preferable that However, if the metal oxide thin film is formed in an oxygen-rich atmosphere so that the metal oxide thin film contains sufficient oxygen, the metal thin film underlying the metal oxide thin film is oxidized. As a result, the infrared reflecting performance of the laminate tends to decrease. Therefore, when forming a metal oxide layer sufficiently containing oxygen, a barrier layer is formed between the metal thin film and the metal oxide thin film so as to suppress oxidation of the underlying metal thin film. preferable. Here, the barrier layer is a layer having a lower oxygen content than the metal oxide thin film, and a volume-based flow rate (hereinafter referred to as a flow rate) in the atmosphere when forming the barrier layer is 2%. It can be obtained by setting it to 5% or less. Note that the flow rate in the atmosphere when forming the metal oxide thin film is preferably more than 5% and 15% or less, and from the viewpoint of making oxygen contained in the metal oxide thin film more sufficient, the lower limit is It is more preferably 10% or more, and further preferably 15% or more.
また、バリア層の厚みについては、1nm以上であることが好ましく、2nm以上であることがより好ましい。バリア層の厚みを、1nm以上とすることで金属酸化物薄膜を形成する際に金属薄膜の酸化が抑制され、赤外線反射性能により優れる積層体を得ることができる。バリア層の厚みを、2nm以上とすることで上記の効果はより顕著なものとなる。一方、上限は、10nm以下であることが好ましく、8nm以下であることがより好ましく、6nm以下であることが更に好ましく、4nm以下であることが特に好ましい。バリア層の厚みを、10nm以下とすることで、可視光透過性能により優れた積層体を得ることができる。この傾向は、バリア層の厚みが薄くなるほど顕著なものとなる。なお、金属薄膜、金属酸化物薄膜、バリア層の厚みについては、透過型電子顕微鏡(TEM)、または光学膜厚計などの公知の方法を適宜用いることで分析することができる。これら金属薄膜、金属酸化物薄膜およびバリア層は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの気相成長法で成膜することができるが、成膜できる材料の種類が多岐にわたり、高品位な膜が得られるスパッタリング法を用いることが好ましい。 Further, the thickness of the barrier layer is preferably 1 nm or more, and more preferably 2 nm or more. When the thickness of the barrier layer is 1 nm or more, oxidation of the metal thin film is suppressed when the metal oxide thin film is formed, and a laminate that is more excellent in infrared reflection performance can be obtained. By making the thickness of the barrier layer 2 nm or more, the above effect becomes more remarkable. On the other hand, the upper limit is preferably 10 nm or less, more preferably 8 nm or less, still more preferably 6 nm or less, and particularly preferably 4 nm or less. By setting the thickness of the barrier layer to 10 nm or less, a laminate superior in visible light transmission performance can be obtained. This tendency becomes more prominent as the barrier layer becomes thinner. The thickness of the metal thin film, metal oxide thin film, and barrier layer can be analyzed by appropriately using a known method such as a transmission electron microscope (TEM) or an optical film thickness meter. These metal thin films, metal oxide thin films, and barrier layers can be formed by vapor deposition methods such as vacuum deposition, sputtering, and ion plating, but there are a wide variety of materials that can be formed. It is preferable to use a sputtering method by which a quality film can be obtained.
次に、本発明で用いるハードコート層は金属薄膜および金属酸化物薄膜を保護する機能を有するもの、すなわち保護層であり、リン酸基、スルホン酸基およびアミド基からなる群から選ばれる1種以上の極性基を有する架橋樹脂(A)を含むことが必須である。前記架橋樹脂(A)は、単官能、2官能、多官能いずれかのアクリレート、メタアクリレート、ウレタンアクリレートまたはエポキシアクリレートなどの架橋樹脂にリン酸基、スルホン酸基およびアミド基からなる群から選ばれる1種以上の極性基を導入したものである。架橋樹脂に極性基を導入し架橋樹脂(A)を得る方法としては、架橋樹脂にリン酸、アミド、スルホン酸などの極性基を有するアクリル酸誘導体やメタクリル酸誘導体を混合し、紫外線、電子線などの電磁波を照射する方法が挙げられる。上述したアクリル酸誘導体やメタクリル酸誘導体としては、リン酸基を有するものが好ましく、例えば、リン酸水素=ビス[2−(メタクリロイルオキシ)エチル]、リン酸2−[メタクリロイルオキシ]エチルなどを挙げることができる。ハードコート層に、リン酸基、スルホン酸基およびアミド基からなる群から選ばれる1種以上の極性基を有する架橋樹脂(A)を含むことにより、ハードコート層の下地である金属酸化物薄膜との密着性を向上させることが可能となり、耐傷付性、耐候性を向上させることができる。ここで、上述した効果をより顕著に得る観点から、架橋樹脂(A)はリン酸基を含有する架橋樹脂であることが好ましい。
また、本発明で用いる架橋樹脂は、窓貼りフィルムとして必要となる耐擦過性、可撓性をより向上させる観点から高硬度で伸長性に優れる多官能ウレタンアクリレートを主成分とし、架橋時の硬化収縮を低減しカールを抑制する観点から2官能のアクリレート、メタアクリレート、ウレタンアクリレートおよびエポキシアクリレートからなる群から選ばれる1種以上を併用することが好ましい。ここで、上記の主成分とは、ハードコート層に含まれる多官能ウレタンアクリレートの含有量が、架橋樹脂(A)の全質量を100質量%とした場合に50質量%をこえることをいう。
Next, the hard coat layer used in the present invention has a function of protecting the metal thin film and the metal oxide thin film, that is, a protective layer, which is one kind selected from the group consisting of a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, and an amide group. It is essential to include the crosslinked resin (A) having the above polar group. The cross-linked resin (A) is selected from the group consisting of monofunctional, bifunctional, and polyfunctional acrylates, methacrylates, urethane acrylates, epoxy acrylates, and the like, and a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, and an amide group. One or more polar groups are introduced. As a method of obtaining a crosslinked resin (A) by introducing a polar group into the crosslinked resin, an acrylic acid derivative or a methacrylic acid derivative having a polar group such as phosphoric acid, amide, or sulfonic acid is mixed with the crosslinked resin, and ultraviolet rays or electron beams are mixed. The method of irradiating electromagnetic waves, such as, is mentioned. As the above-mentioned acrylic acid derivative and methacrylic acid derivative, those having a phosphoric acid group are preferable, and examples thereof include hydrogen phosphate = bis [2- (methacryloyloxy) ethyl] and 2- [methacryloyloxy] ethyl phosphate. be able to. A metal oxide thin film that is a base of the hard coat layer by including in the hard coat layer a cross-linked resin (A) having at least one polar group selected from the group consisting of a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, and an amide group It is possible to improve the adhesion to the surface and improve the scratch resistance and weather resistance. Here, from the viewpoint of more prominently obtaining the effects described above, the crosslinked resin (A) is preferably a crosslinked resin containing a phosphate group.
In addition, the crosslinked resin used in the present invention is mainly composed of a polyfunctional urethane acrylate having high hardness and excellent extensibility from the viewpoint of further improving the scratch resistance and flexibility required for a window pasting film, and curing at the time of crosslinking. From the viewpoint of reducing shrinkage and suppressing curling, it is preferable to use one or more selected from the group consisting of bifunctional acrylates, methacrylates, urethane acrylates and epoxy acrylates. Here, the main component means that the content of the polyfunctional urethane acrylate contained in the hard coat layer exceeds 50% by mass when the total mass of the crosslinked resin (A) is 100% by mass.
また、本発明のハードコート層は、ハードコート層に含まれる全成分を100質量%とした場合に無機粒子(B)を40〜60質量%含むことが必須である。
窓貼りフィルムは、昼間の日射熱、昼夜の寒暖差などの影響により熱膨張・熱収縮を繰り返すため、ハードコート層と下地である金属酸化物薄膜等との熱膨張係数が大きく異なると金属酸化物薄膜とハードコート層間の密着性が経時的に低下し、ハードコート層に亀裂や剥離が発生するといった問題が生じ、耐候性に劣る積層体となってしまう。よって、有機物である架橋樹脂(A)に無機粒子(B)を添加し、ハードコート層の熱膨張係数を無機物である金属酸化物薄膜に近づける必要がある。無機粒子(B)の添加量が40質量%を下回るとハードコート層の熱膨張係数が大きくなり上述した効果を得ることができない。一方、60質量%を上回るとハードコート層中の架橋樹脂(A)が少なくなり、ハードコート層の硬度が低下し、耐傷付性が低下してしまう。無機粒子(B)の添加量下限については45質量%以上であることがより好ましく、上限については55質量%以下であることがより好ましい。無機粒子(B)の添加量を上述した範囲とすることで、耐傷付性、耐候性のバランスにより優れた積層体を得ることができる。
In addition, the hard coat layer of the present invention must contain 40 to 60% by mass of inorganic particles (B) when all components contained in the hard coat layer are 100% by mass.
Window pasting film repeats thermal expansion and contraction due to the effects of solar heat in the daytime and the difference in temperature between day and night, so if the thermal expansion coefficient of the hard coat layer and the underlying metal oxide thin film differ greatly, metal oxidation will occur. The adhesion between the physical thin film and the hard coat layer decreases with time, causing a problem that cracks and peeling occur in the hard coat layer, resulting in a laminate having poor weather resistance. Therefore, it is necessary to add the inorganic particles (B) to the crosslinked resin (A) that is an organic substance so that the thermal expansion coefficient of the hard coat layer is close to that of the metal oxide thin film that is an inorganic substance. When the addition amount of the inorganic particles (B) is less than 40% by mass, the thermal expansion coefficient of the hard coat layer is increased and the above-described effects cannot be obtained. On the other hand, when it exceeds 60% by mass, the amount of the crosslinked resin (A) in the hard coat layer is decreased, the hardness of the hard coat layer is lowered, and the scratch resistance is lowered. The lower limit of the added amount of the inorganic particles (B) is more preferably 45% by mass or more, and the upper limit is more preferably 55% by mass or less. By making the addition amount of the inorganic particles (B) in the above-described range, a laminate excellent in the balance of scratch resistance and weather resistance can be obtained.
本発明で用いる無機粒子(B)としては、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ、アンチモンおよびセリウムのうち少なくとも一つの元素を含む酸化物の粒子であることが好ましい。上述した粒子の酸化物として、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化セリウムなどが挙げられる。これら粒子の酸化物を1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。また、これら酸化物粒子のうち、ケイ素の酸化物を用いることが好ましく、より好ましくはシリカを用いることが積層体としての耐久性を発現させる上で好ましい。 The inorganic particles (B) used in the present invention are preferably oxide particles containing at least one element of silicon, aluminum, zirconium, titanium, zinc, germanium, indium, tin, antimony and cerium. Examples of the oxide of the particles described above include silica, alumina, zirconia, titanium oxide, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, antimony oxide, cerium oxide, and the like. These oxides of particles can be used alone or in combination of two or more. Of these oxide particles, it is preferable to use an oxide of silicon, and more preferable to use silica in order to develop durability as a laminate.
さらに、これら無機粒子(B)は表面処理されていないものを用いることが、ハードコート層と下地である金属酸化物薄膜との密着性を向上させ、耐傷付性、耐候性を向上させる上で好ましい。なお、ここで言う表面処理とはシランカップリング剤等で疎水処理することなどをいう。疎水処理されていない無機粒子を用いることにより、架橋樹脂(A)と無機粒子(B)の密着性が向上し、耐候性がより向上する。 Furthermore, these inorganic particles (B) are not subjected to surface treatment, so that the adhesion between the hard coat layer and the metal oxide thin film as the base is improved, and the scratch resistance and weather resistance are improved. preferable. In addition, the surface treatment mentioned here means hydrophobic treatment with a silane coupling agent or the like. By using inorganic particles that have not been subjected to hydrophobic treatment, the adhesion between the crosslinked resin (A) and the inorganic particles (B) is improved, and the weather resistance is further improved.
また、ハードコート層は単層構成でも良いが、異なる2種類以上の層から形成されていても良い。例えば、極性基を含まない架橋樹脂と無機粒子(B)からなる層と極性基を含む架橋樹脂(A)と無機粒子(B)からなる2層構成であっても良い。但し、この場合は金属酸化物薄膜と接する層に極性基を含む架橋樹脂(A)と無機粒子(B)の層を形成することが、密着性を向上させる点で好ましい。 Further, the hard coat layer may have a single layer structure, but may be formed of two or more different layers. For example, a two-layer structure including a layer composed of a crosslinked resin not containing a polar group and inorganic particles (B), a crosslinked resin containing a polar group (A) and inorganic particles (B) may be used. However, in this case, it is preferable to form a layer of a crosslinked resin (A) containing a polar group and an inorganic particle (B) in a layer in contact with the metal oxide thin film from the viewpoint of improving adhesion.
ハードコート層の厚みについては0.5〜1.5μmであることが好ましい。ハードコート層の厚みを0.5μm以上とすることで、積層体の耐傷付性をより向上させることができ、ハードコート層の厚みを1.5μm以下とすることでハードコート層の赤外線吸収量をより低減させることができ、積層体の赤外線反射性能をより向上させることができる。さらに、積層体の赤外線反射率を向上させるためには、架橋樹脂(A)に使用する架橋樹脂の種類を適宜選択し、架橋樹脂の赤外線吸収ピークである波長5.5〜15μmの赤外線反射率を50%以上とすることが積層体としての赤外線反射率を高めるうえで好ましい。ここで、耐傷付性に優れ、赤外線反射率の高い積層体を得る観点から、ハードコート層は、その厚みが0.5〜1.5μmであり、かつ波長5.5〜15μmの赤外線反射率が50%以上であることがより好ましい。 The thickness of the hard coat layer is preferably 0.5 to 1.5 μm. By setting the thickness of the hard coat layer to 0.5 μm or more, the scratch resistance of the laminate can be further improved, and by setting the thickness of the hard coat layer to 1.5 μm or less, the infrared absorption amount of the hard coat layer Can be further reduced, and the infrared reflection performance of the laminate can be further improved. Furthermore, in order to improve the infrared reflectance of the laminate, the type of the crosslinked resin used for the crosslinked resin (A) is appropriately selected, and the infrared reflectance at a wavelength of 5.5 to 15 μm, which is the infrared absorption peak of the crosslinked resin. Is preferably 50% or more in order to increase the infrared reflectance of the laminate. Here, from the viewpoint of obtaining a laminate having excellent scratch resistance and high infrared reflectance, the hard coat layer has an infrared reflectance of 0.5 to 1.5 μm and a wavelength of 5.5 to 15 μm. Is more preferably 50% or more.
また、ハードコート層は樹脂の溶液を、グラビアコーティング法、リバースロールコーティング法、ロールコーティング法、ディップコーティング法などの方法で塗布し乾燥した後、紫外線、電子線などを照射し架橋させることで形成することができる。 The hard coat layer is formed by applying a resin solution using a gravure coating method, reverse roll coating method, roll coating method, dip coating method, etc., drying, and then irradiating with ultraviolet rays, electron beams, etc. can do.
次に基材と熱線反射層との間にアンダーコート層を形成しても良い。アンダーコート層を形成することにより、基材と熱線反射層との層間の密着性が向上し、金属薄膜の腐食を抑制することができるため好ましい。アンダーコート層を形成するものとしては、樹脂が好ましく、さらに高透明で耐久性があるものが好ましい。例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂などを単独、またはそれらの混合物を使用することができる。これらアンダーコート層は、樹脂を含む溶液を、グラビアコーティング法、リバースロールコーティング法、ロールコーティング法、ディップコーティング法などの公知の技術で塗布し、乾燥した後、必要に応じて紫外線、電子線などを照射し硬化させることにより形成することができる。アンダーコート層の厚みについては、0.5μm以上であることが好ましく、1.0μm以上であることがより好ましい。一方、5μm以下であることが好ましく、3μm以下であることがより好ましい。アンダーコート層の厚みを0.5μm以上とすることで基材表面をより均一に被覆することができ、耐傷付性を十分に向上させることができる。一方、アンダーコート層の厚みを5μm以下とすることで、取扱い性をより向上させることができる。 Next, an undercoat layer may be formed between the substrate and the heat ray reflective layer. By forming the undercoat layer, the adhesion between the base material and the heat ray reflective layer is improved, and corrosion of the metal thin film can be suppressed, which is preferable. As the material for forming the undercoat layer, a resin is preferable, and a material having high transparency and durability is preferable. For example, an acrylic resin, a urethane resin, a fluorine resin, a silicone resin, or the like can be used alone or a mixture thereof. These undercoat layers are coated with a resin-containing solution by a known technique such as a gravure coating method, reverse roll coating method, roll coating method, dip coating method, etc., dried, and then, if necessary, ultraviolet rays, electron beams, etc. Can be formed by irradiating and curing. The thickness of the undercoat layer is preferably 0.5 μm or more, and more preferably 1.0 μm or more. On the other hand, it is preferably 5 μm or less, and more preferably 3 μm or less. By setting the thickness of the undercoat layer to 0.5 μm or more, the substrate surface can be coated more uniformly, and the scratch resistance can be sufficiently improved. On the other hand, handling property can be improved more by making the thickness of an undercoat layer into 5 micrometers or less.
なお、本発明の積層体は、基材の熱戦反射層およびハードコート層が積層されている面の反対側の面に粘着層を設けることで、窓ガラスなどに貼り付けることが可能となる。 In addition, the laminated body of this invention can be affixed on a window glass etc. by providing an adhesion layer in the surface on the opposite side to the surface where the thermal warfare reflection layer and hard-coat layer of a base material are laminated | stacked.
以下に本発明について、実施例を用いてさらに具体的に説明する。実施例中に示す特性値の測定に供する評価用試験体の作製方法ならびに特性値の測定・算出方法は次のとおりである。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. The production method of the test specimen for evaluation used for the measurement of the characteristic values shown in the examples and the measurement / calculation method of the characteristic values are as follows.
A.評価用試験体の作製
(1)積層体を50mm角正方形にカットする。
(2)前記(1)項でカットしたフィルムのハードコート層を形成した面と反対面に粘着層を形成する。
(3)次に、(2)項で形成した粘着層を介して、3mm厚のフロートガラスに貼合する。
A. Preparation of test specimen for evaluation (1) The laminate is cut into a 50 mm square.
(2) An adhesive layer is formed on the surface opposite to the surface on which the hard coat layer of the film cut in the above (1) is formed.
(3) Next, it is bonded to a 3 mm thick float glass through the adhesive layer formed in the item (2).
B.耐傷付性
(1)測定方法:
i)学振型摩擦試験機(例えば、株式会社大栄科学精器製作所製 RT−200)を用い試験体の表面をスチールウール(日本スチールウール株式会社製 ボンスター#0000)にて50往復する。なお、摩擦子:30mm×10mm、荷重:500gとする。ii)評価後試験体の表面を目視にて確認する。
(2)判定基準
「◎」:傷の発生が5本以下/10mm)、「○」:傷の発生が10本以下/10mm、「×」:傷の発生が11本以上/10mm
C.耐候性
(1)規格:JIS A5759−2008に準拠
(2)測定方法:
i)サンシャインウェザーメーター(スガ試験機株式会社製)を用い、試験体のガラス面側から紫外線を照射する。なお、照射条件はJIS A5759の表10記載のとおりとし(ブラックパネル温度63℃、相対湿度50%、放射強度255W/m2、120分照射中に18分間散水)、照射時間は1000時間、2000時間とする。
(3)判定基準:
「◎」:2000時間試験終了後において、ハードコート層の剥離およびクラック無し、「○」:1000時間試験終了後において、ハードコート層の剥離およびクラック無し、「×」:1000時間以下でハードコート層の剥離またはクラック有り。
B. Scratch resistance (1) Measuring method:
i) The surface of the specimen is reciprocated 50 times with steel wool (Bonster # 0000, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.) using a Gakushin type friction tester (for example, RT-200 manufactured by Daiei Kagaku Seisakusho Co., Ltd.). In addition, a friction element: 30 mm × 10 mm and a load: 500 g. ii) Visually confirm the surface of the test specimen after evaluation.
(2) Judgment criteria “:”: occurrence of flaws of 5 or less / 10 mm), “◯”: occurrence of flaws of 10 or less / 10 mm, “x”: occurrence of flaws of 11 or more / 10 mm
C. Weather resistance (1) Standard: Conforms to JIS A5759-2008 (2) Measurement method:
i) Using a sunshine weather meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), irradiate ultraviolet rays from the glass surface side of the specimen. The irradiation conditions are as described in Table 10 of JIS A5759 (black panel temperature 63 ° C., relative humidity 50%, radiation intensity 255 W / m 2 , water spraying for 18 minutes during 120 minutes irradiation), irradiation time 1000 hours, 2000 Time.
(3) Criteria:
“◎”: Hard coat layer peeling and no crack after 2000 hour test, “◯”: Hard coat layer peeling and no crack after 1000 hour test, “×”: Hard coat in 1000 hours or less Layer peeling or cracking.
D.遠赤外線反射率(断熱性)
(1)規格:JIS R3106−1998に準拠
(2)測定方法:
i)分光測光器「IR Prestige−21(株式会社島津製作所製)」、正反射測定ユニット「SRM−8000A(株式会社島津製作所製)」を用い、評価用試験体の波長5〜25μmの分光反射率を測定する。なお、標準板にはAl蒸着鏡を用いる。
ii)前記分光反射率からJIS本文付表3に記載の番号λ1(波長5.5μm)〜λ30(波長50μm)の選定波長における分光反射率を抽出する。なお、λ25(波長25.2μm)〜λ30(波長50μm)の反射率はλ24(波長23.3μm)の値を用いる。
iii)抽出した分光反射率にそれぞれJIS本文付表3に記載のAl蒸着鏡の標準反射率を乗じ、λ1〜λ30の選定波長における評価試験体の反射率とする。
iV)前記反射率の平均値を遠赤外線反射率とする。
(3)測定条件:波長範囲「5〜25μm」アボダイス係数「Happ−Genzel」、積算回数「20回」、分解能「4.0cm−1」。
D. Far-infrared reflectance (thermal insulation)
(1) Standard: based on JIS R3106-1998 (2) Measurement method:
i) Using a spectrophotometer “IR Prestige-21 (manufactured by Shimadzu Corporation)” and a specular reflection measurement unit “SRM-8000A (manufactured by Shimadzu Corporation)”, spectral reflection of a test specimen for evaluation having a wavelength of 5 to 25 μm. Measure the rate. An Al vapor deposition mirror is used for the standard plate.
ii) Extract the spectral reflectance at the selected wavelengths of the numbers λ1 (wavelength 5.5 μm) to λ30 (wavelength 50 μm) described in Appendix 3 of the JIS text from the spectral reflectance. In addition, the value of (lambda) 24 (wavelength 23.3 micrometers) is used for the reflectance of (lambda) 25 (wavelength 25.2 micrometers)-(lambda) 30 (wavelength 50 micrometers).
iii) Multiply the extracted spectral reflectance by the standard reflectance of the Al vapor deposition mirror described in Appendix 3 of the JIS text to obtain the reflectance of the evaluation specimen at the selected wavelength of λ1 to λ30.
iV) The average value of the reflectance is defined as the far-infrared reflectance.
(3) Measurement conditions: Wavelength range “5 to 25 μm”, avodis coefficient “Happ-Genzel”, integration count “20 times”, resolution “4.0 cm −1”.
E.日射熱取得率(日射遮蔽性)
(1)規格:JIS R3106−1998に準拠
(2)測定方法:
i)分光測光器「UV−3150(株式会社島津製作所製)」を用い、評価用試験体の波長300〜2500nmの分光透過率と分光反射率を1nm間隔で測定する。ii)前記透過率・反射率にJIS本文付表2に記載の重価係数を乗じた後、合計値を算出し、日射透過率・日射反射率(%)とする。iii)JIS本文8.4項の算出式を用い日射熱取得率を算出する。
(3)測定条件:スキャンスピード「高速」、分解能力「10nm」。
E. Solar heat acquisition rate (sunlight shielding)
(1) Standard: based on JIS R3106-1998 (2) Measurement method:
i) Using a spectrophotometer “UV-3150 (manufactured by Shimadzu Corporation)”, the spectral transmittance and spectral reflectance of the test specimen for evaluation at a wavelength of 300 to 2500 nm are measured at 1 nm intervals. ii) After multiplying the transmittance / reflectance by the weight coefficient described in Appendix 2 of the JIS text, the total value is calculated to be the solar transmittance / reflectance (%). iii) The solar heat acquisition rate is calculated using the calculation formula in 8.4 of the JIS text.
(3) Measurement conditions: scan speed “high speed”, resolution capability “10 nm”.
[実施例1]
50μm厚のPETフィルムの片面にアクリル系ハードコート剤「”レイクイーン”(登録商標。以下同じ)RQ−5105(三菱レイヨン株式会社製)」を塗布し、乾燥した後にUV照射して厚さ3μm厚のアンダーコート層を形成し、積層体の基材とした。次に当該基材のアンダーコート層上に、金属組成が錫:亜鉛=65質量%:35質量%のスパッタリングターゲット材を用いて厚さ40nmの第1層目の金属酸化物薄膜を製膜した(スパッタガスはアルゴン:酸素=90%:10%(流量比))。続いて、第1層目の金属酸化物薄膜上に、銀中に金を3質量%含有するスパッタリングターゲット材を用いて厚さ16nmの金属薄膜を製膜した(スパッタリングガスはアルゴン=100%)。さらに、第1層目の金属酸化物薄膜と同一のスパッタリングターゲット材を用いて厚さ2nmのバリア層を成膜し(スパッタガスはアルゴン:酸素=98%:2%(流量比))、金属薄膜をマスキングした。次に、バリア層上に第1層目の金属酸化物薄膜と同一のスパッタリングターゲット材を用いて厚さ50nmの第2層目の金属酸化物薄膜を成膜し(スパッタリングガスはアルゴン:酸素=90%:10%(流量比))、PETフィルム上に第1金属酸化物薄膜/金属薄膜/バリア層/第2金属酸化物薄膜からなる熱線反射を形成した。
[Example 1]
An acrylic hard coating agent “Ray Queen” (registered trademark, the same applies hereinafter) RQ-5105 (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) was applied to one side of a 50 μm thick PET film, dried, and then irradiated with UV to a thickness of 3 μm. A thick undercoat layer was formed to provide a base material for the laminate. Next, a 40 nm thick first metal oxide thin film was formed on the undercoat layer of the base material using a sputtering target material having a metal composition of tin: zinc = 65 mass%: 35 mass%. (The sputtering gas is argon: oxygen = 90%: 10% (flow rate ratio)). Subsequently, a metal thin film having a thickness of 16 nm was formed on the first metal oxide thin film using a sputtering target material containing 3% by mass of gold in silver (sputtering gas is argon = 100%). . Further, a barrier layer having a thickness of 2 nm was formed using the same sputtering target material as the first metal oxide thin film (sputtering gas was argon: oxygen = 98%: 2% (flow rate ratio)), and metal The thin film was masked. Next, a second-layer metal oxide thin film having a thickness of 50 nm is formed on the barrier layer using the same sputtering target material as the first-layer metal oxide thin film (sputtering gas is argon: oxygen = 90%: 10% (flow rate ratio)) On the PET film, heat ray reflection formed of the first metal oxide thin film / metal thin film / barrier layer / second metal oxide thin film was formed.
次に、当該熱線反射層上にアクリル系ハードコート剤を塗布し、乾燥した後にUV照射し、厚み約0.7μmのハードコート層形成し、積層体を得た。 Next, an acrylic hard coat agent was applied on the heat ray reflective layer, dried, and then irradiated with UV to form a hard coat layer having a thickness of about 0.7 μm to obtain a laminate.
なお、ハードコート層であるアクリル系ハードコート剤については、6官能ウレタンアクリレート:2官能アクリレート=80質量%:20質量%からなる架橋樹脂50質量%、リン酸基を有するメタクリル酸誘導体2質量%、シリカ(疎水処理有り)40質量%および重合開始剤8質量%を等量の溶剤で希釈したものを使用した。 In addition, about the acrylic hard coat agent which is a hard-coat layer, 6 functional urethane acrylate: 2 functional acrylate = 80 mass%: 50 mass% of crosslinked resin which consists of 20 mass%, 2 mass% of methacrylic acid derivatives which have a phosphate group Silica (with hydrophobic treatment) 40% by mass and polymerization initiator 8% by mass diluted with an equal amount of solvent were used.
[実施例2]ハードコート剤の組成を架橋樹脂40質量%、リン酸基を有するメタクリル酸誘導体2質量%、シリカ(疎水処理有り)50質量%および重合開始剤8質量%に変更したことを除き、実施例1と同様の方法で積層体を得た。 [Example 2] The composition of the hard coating agent was changed to 40% by mass of a crosslinked resin, 2% by mass of a methacrylic acid derivative having a phosphoric acid group, 50% by mass of silica (with hydrophobic treatment) and 8% by mass of a polymerization initiator. Except for the above, a laminate was obtained in the same manner as in Example 1.
[実施例3]ハードコート剤の組成を架橋樹脂30質量%、リン酸基を有するメタクリル酸誘導体2質量%、シリカ(疎水処理有り)60質量%および重合開始剤8質量%に変更したことを除き、実施例1と同様の方法で積層体を得た。 [Example 3] The composition of the hard coat agent was changed to 30% by mass of a crosslinked resin, 2% by mass of a methacrylic acid derivative having a phosphoric acid group, 60% by mass of silica (with hydrophobic treatment) and 8% by mass of a polymerization initiator. Except for the above, a laminate was obtained in the same manner as in Example 1.
[実施例4]ハードコート剤に使用するシリカを「疎水処理無し」に変更したことを除き、実施例1と同様の方法で積層体を得た。 [Example 4] A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the silica used in the hard coating agent was changed to "no hydrophobic treatment".
[実施例5]ハードコート剤に使用するシリカを「疎水処理無し」に変更したことを除き、実施例3と同様の方法で積層体を得た。 [Example 5] A laminate was obtained in the same manner as in Example 3 except that the silica used in the hard coating agent was changed to "no hydrophobic treatment".
[比較例1]ハードコート剤の組成を架橋樹脂52質量%、シリカ(疎水処理有り)40質量%および重合開始剤8質量%に変更したことを除き、実施例1と同様の方法で積層体を得た。 [Comparative Example 1] A laminate in the same manner as in Example 1 except that the composition of the hard coat agent was changed to 52% by mass of the crosslinked resin, 40% by mass of silica (with hydrophobic treatment) and 8% by mass of the polymerization initiator. Got.
[比較例2]ハードコート剤の組成を架橋樹脂20質量%、メタクリル酸誘導体2質量%、シリカ(疎水処理有り)70質量%および重合開始剤8質量%に変更したことを除き、実施例1と同様の方法で積層体を得た。 [Comparative Example 2] Example 1 except that the composition of the hard coat agent was changed to 20% by mass of a crosslinked resin, 2% by mass of a methacrylic acid derivative, 70% by mass of silica (with hydrophobic treatment) and 8% by mass of a polymerization initiator. A laminate was obtained in the same manner as above.
[比較例3]ハードコート剤の組成を架橋樹脂60質量%、メタクリル酸誘導体2質量%、シリカ(疎水処理有り)30質量%および重合開始財8質量%に変更したことを除き、実施例1と同様の方法で積層体を得た。 [Comparative Example 3] Example 1 except that the composition of the hard coating agent was changed to 60% by mass of a crosslinked resin, 2% by mass of a methacrylic acid derivative, 30% by mass of silica (with hydrophobic treatment) and 8% by mass of a polymerization initiator. A laminate was obtained in the same manner as above.
実施例1〜5および比較例1、2の各試験体について、上述した測定方法を用い、耐傷付性、耐候性、遠赤外腺反射率、日射熱取得率を測定した結果を表1および表2に示す。 About each test body of Examples 1-5 and Comparative Examples 1 and 2, the results of measuring scratch resistance, weather resistance, far-infrared gland reflectivity, and solar heat gain using the measurement method described above are shown in Table 1 and It shows in Table 2.
ハードコート層にリン酸基を有する架橋樹脂(A)を用い、無機粒子(B)としてシリカを40、50、60質量%添加した実施例1、2、3はいずれも耐傷付性、耐候性に優れ、判定は「○」以上であった。また、疎水処理していないシリカを用いた実施例4、5はさらに耐傷付性、耐候性が向上することを確認した。さらに全ての試験体で断熱性の指標である遠赤外線反射率、日射遮蔽性の指標である日射取得率はいずれも良好な値であった。 In Examples 1, 2, and 3 in which a crosslinked resin (A) having a phosphoric acid group was used in the hard coat layer and silica was added in an amount of 40, 50, or 60% by mass as inorganic particles (B), all of Examples 1, 2, and 3 were scratch resistant and weather resistant It was excellent and the judgment was “◯” or more. Further, it was confirmed that Examples 4 and 5 using silica not subjected to hydrophobic treatment further improved the scratch resistance and weather resistance. Furthermore, the far-infrared reflectance, which is an index of heat insulation, and the solar radiation acquisition rate, which is an index of solar radiation shielding property, were good values in all the test specimens.
一方、ハードコート層にリン酸基を有しない架橋樹脂を用いた比較例1は、下地との密着性に劣り、耐傷付性、耐候性ともに判定は「×」であった。また、無機粒子(B)としてシリカを70質量%添加した比較例2は、耐候性の判定は「○」であったが、ハードコート層の硬度が低く耐傷付性が「×」であった。さらに、無機粒子(B)としてシリカを30質量%添加した比較例3は、耐傷付性に優れる一方で、ハードコート層と下地との熱膨張係数の差が大きいため、耐候性試験によりハードコート層の剥離・クラックが発生し、判定は「×」であった。 On the other hand, Comparative Example 1 using a cross-linked resin having no phosphate group in the hard coat layer was inferior in adhesion to the base, and both the scratch resistance and weather resistance were judged as “x”. In Comparative Example 2 in which 70% by mass of silica was added as the inorganic particles (B), the weather resistance was judged as “◯”, but the hardness of the hard coat layer was low and the scratch resistance was “x”. . Further, Comparative Example 3 in which 30% by mass of silica was added as the inorganic particles (B) was excellent in scratch resistance, but the difference in thermal expansion coefficient between the hard coat layer and the base was large, so that the hard coat was tested by a weather resistance test. Peeling / cracking of the layer occurred and the judgment was “x”.
本発明の積層体は、日射遮蔽性および断熱性を高いレベルで備え、かつ耐傷付性と耐候性に優れているので、住宅・ビル等の窓ガラスに好適に使用できる。 Since the laminated body of the present invention has high levels of solar shading and heat insulation, and is excellent in scratch resistance and weather resistance, it can be suitably used for window glass in houses and buildings.
Claims (5)
前記熱線反射層が金属薄膜と金属酸化物薄膜とを有し、
前記ハードコート層がリン酸基、スルホン酸基およびアミド基からなる群から選ばれる1種以上の極性基を有する架橋樹脂(A)および無機粒子(B)を含み、かつ、
前記無機粒子(B)の含有量が、ハードコート層に含まれる全成分100質量%対し40〜60質量%であることを特徴とする積層体。 On one side of the substrate, at least the heat ray reflective layer and the hard coat layer are laminated in this order from the substrate side,
The heat ray reflective layer has a metal thin film and a metal oxide thin film,
The hard coat layer includes a crosslinked resin (A) having at least one polar group selected from the group consisting of a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, and an amide group, and inorganic particles (B); and
Content of the said inorganic particle (B) is 40-60 mass% with respect to 100 mass% of all the components contained in a hard-coat layer, The laminated body characterized by the above-mentioned.
波長5.5〜15μmの赤外線反射率が50%以上であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の積層体。 The hard coat layer has a thickness of 0.5 to 1.5 μm, and
The laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein an infrared reflectance at a wavelength of 5.5 to 15 µm is 50% or more.
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