JP2016079304A - Resin sheet, resin sheet cured product, resin sheet laminate, resin sheet laminate cured product and method for producing the same, semiconductor device, and led device - Google Patents

Resin sheet, resin sheet cured product, resin sheet laminate, resin sheet laminate cured product and method for producing the same, semiconductor device, and led device Download PDF

Info

Publication number
JP2016079304A
JP2016079304A JP2014213018A JP2014213018A JP2016079304A JP 2016079304 A JP2016079304 A JP 2016079304A JP 2014213018 A JP2014213018 A JP 2014213018A JP 2014213018 A JP2014213018 A JP 2014213018A JP 2016079304 A JP2016079304 A JP 2016079304A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin sheet
resin
inorganic filler
cured
heat
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2014213018A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
智雄 西山
Tomoo Nishiyama
智雄 西山
重充 吉江
Shigemitsu Yoshie
重充 吉江
原 直樹
Naoki Hara
直樹 原
恵太 湧口
Keita Wakiguchi
恵太 湧口
桑野 敦司
Atsushi Kuwano
敦司 桑野
靖夫 宮崎
Yasuo Miyazaki
靖夫 宮崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2014213018A priority Critical patent/JP2016079304A/en
Publication of JP2016079304A publication Critical patent/JP2016079304A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Epoxy Resins (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin sheet excellent in shear adhesion, insulation properties and thermal conductivity after curing.SOLUTION: A resin sheet contains a resin and an inorganic filler, and has a melt viscosity at 100°C of 1×10Pa s to 1×10Pa s. A specific area of the inorganic filler is 1.0 m/g to 6.5 m/g. A ratio of particles having a particle size of 25 μm to 100 μm with respect to the inorganic filler when measured by a laser diffraction method is 30 vol.% to 80 vol.%, and a reactivity ratio is 20% or less.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、樹脂シート、樹脂シート硬化物、樹脂シート積層体、樹脂シート積層体硬化物及びその製造方法、半導体装置並びにLED装置に関する。   The present invention relates to a resin sheet, a resin sheet cured product, a resin sheet laminate, a resin sheet laminate cured product, a manufacturing method thereof, a semiconductor device, and an LED device.

半導体を用いた電子機器の小型化、大容量化、高性能化等の進行に伴い、高密度に実装された半導体からの発熱量は益々大きくなっている。例えば、パソコンの中央演算装置及び電気自動車のモーターの制御に用いられる半導体装置の安定動作には、放熱のためにヒートシンク、放熱フィン等が不可欠になっており、半導体装置とヒートシンク等を結合する部材として絶縁性と熱伝導性を両立し、且つ、高温の動作環境でも信頼性が高い素材が求められている。   With the progress of miniaturization, large capacity, high performance, etc. of electronic devices using semiconductors, the amount of heat generated from semiconductors mounted at high density is increasing. For example, for stable operation of a semiconductor device used to control a central processing unit of a personal computer and a motor of an electric vehicle, a heat sink, a heat radiating fin, etc. are indispensable for heat dissipation, and a member that couples the semiconductor device and the heat sink, etc. Therefore, there is a demand for a material that achieves both insulation and thermal conductivity and has high reliability even in a high-temperature operating environment.

また一般に、半導体装置等が実装されるプリント基板等の絶縁材料には有機材料が広く用いられている。これらの有機材料は、絶縁性は高いものの熱伝導性が低く、半導体装置等の放熱への寄与は大きくなかった。一方、半導体装置等の放熱のために、無機セラミックス等の無機材料が用いられる場合がある。これらの無機材料は、熱伝導性は高いものの、半導体装置等はグリースを介して無機セラミックス等の無機材料と結合されるため、有機材料と比較して接続信頼性が十分とは言い難かった。   In general, an organic material is widely used as an insulating material for a printed circuit board or the like on which a semiconductor device or the like is mounted. Although these organic materials have high insulation properties, they have low thermal conductivity and do not contribute significantly to heat dissipation of semiconductor devices and the like. On the other hand, inorganic materials such as inorganic ceramics are sometimes used for heat dissipation of semiconductor devices and the like. Although these inorganic materials have high thermal conductivity, since semiconductor devices and the like are bonded to inorganic materials such as inorganic ceramics via grease, it is difficult to say that connection reliability is sufficient compared to organic materials.

上記に関連して、樹脂にフィラーと呼ばれる熱伝導性の高い無機充填剤を複合した材料が種々検討されている。例えば、溶融粘度が低く高フィラー充填が可能であるエポキシ樹脂組成物が知られている(例えば、特許文献1参照。)。また、一般的なビスフェノールA型エポキシ樹脂とアルミナフィラーとの複合系からなる硬化物が知られており、キセノンフラッシュ法では3.8W/mK、温度波熱分析法では4.5W/mKの熱伝導率が達成可能とされている(例えば、特許文献2参照。)。同様に、特殊なエポキシ樹脂とアミン系の硬化剤とアルミナフィラーとの複合系からなる硬化物が知られており、最大9.8W/mKの熱伝導率が達成可能とされている(例えば、特許文献3参照。)。また、特許文献4では、熱伝導性、接着強度及び絶縁性の全てに優れる樹脂シート硬化物、並びに該樹脂シート硬化物を形成し得る樹脂シート及び樹脂組成物を得ることができるとされている。特に、高温高湿下での絶縁性に優れた樹脂シートを提供することができるとされている。   In relation to the above, various materials in which a resin is combined with an inorganic filler with high thermal conductivity called a filler have been studied. For example, an epoxy resin composition having a low melt viscosity and capable of being filled with a high filler is known (see, for example, Patent Document 1). Further, a cured product composed of a composite system of a general bisphenol A type epoxy resin and an alumina filler is known. The heat of 3.8 W / mK in the xenon flash method and 4.5 W / mK in the temperature wave thermal analysis method. The conductivity can be achieved (for example, see Patent Document 2). Similarly, a cured product composed of a composite system of a special epoxy resin, an amine curing agent and an alumina filler is known, and a thermal conductivity of up to 9.8 W / mK can be achieved (for example, (See Patent Document 3). Moreover, in patent document 4, it is supposed that the resin sheet hardened | cured material excellent in all of heat conductivity, adhesive strength, and insulation, and the resin sheet and resin composition which can form this resin sheet hardened | cured material can be obtained. . In particular, it is said that a resin sheet excellent in insulation under high temperature and high humidity can be provided.

特開2001−055425号公報JP 2001-055425 A 特開2008−013759号公報JP 2008-013759 A 国際公開第2011/040416号International Publication No. 2011/040416 国際公開第2012/133587号International Publication No. 2012/133587

特許文献1に記載の樹脂硬化物は、反応点が密になる高架橋のエポキシ樹脂とジヒドロキシベンゼン由来のフェノール樹脂を用い、高ガラス転移温度を有していることが特徴である。しかし、反応点が多くなっており、副生成物であるエポキシ基由来の水酸基により、硬化物中の吸水率が高くなり、絶縁性(特に吸湿時の絶縁性)に悪影響を及ぼす可能性があると考えられる。   The cured resin described in Patent Document 1 is characterized by having a high glass transition temperature using a highly cross-linked epoxy resin with a dense reaction point and a phenolic resin derived from dihydroxybenzene. However, there are many reactive sites, and the hydroxyl group derived from the epoxy group as a by-product increases the water absorption rate in the cured product, which may adversely affect the insulating properties (especially the insulating properties when absorbing moisture). it is conceivable that.

特許文献2に記載の樹脂硬化物では、熱伝導性及び被着体との接着強度を高いレベルで両立することが困難である場合があると考えられる。硬化剤としてフェノール化合物を用いると、樹脂組成物の粘度が高くなる傾向があり、被着体との接着強度を得る際に硬化時のプレス圧力及び温度を高くする必要がある。特に、フィラーに酸化アルミニウムを用いているため、十分な強度は得られないと考えられる。   In the cured resin described in Patent Document 2, it is considered that it may be difficult to achieve both high thermal conductivity and adhesive strength with an adherend at a high level. When a phenol compound is used as the curing agent, the viscosity of the resin composition tends to increase, and it is necessary to increase the press pressure and temperature during curing when obtaining adhesive strength with the adherend. In particular, since aluminum oxide is used for the filler, it is considered that sufficient strength cannot be obtained.

特許文献3では、メソゲン構造を有する特殊なエポキシ樹脂モノマーを用いている。特許文献3は、樹脂を溶融させ、流動時及び硬化時にメソゲン構造を自己配列させることで、樹脂自体の熱伝導率を高くすることが特徴である。このような樹脂は、樹脂骨格中のメソゲン部位の割合を大きくする必要があり、その分、硬化前のモノマーは高融点になり、モノマーの硬化物は高弾性率になるため、異種金属との接着は不利になると考えられる。   In Patent Document 3, a special epoxy resin monomer having a mesogenic structure is used. Patent Document 3 is characterized by increasing the thermal conductivity of the resin itself by melting the resin and self-aligning the mesogenic structure during flow and curing. Such a resin needs to increase the proportion of the mesogen site in the resin skeleton, and accordingly, the monomer before curing has a high melting point, and the cured product of the monomer has a high elastic modulus. Adhesion is considered disadvantageous.

また、特許文献4に記載の樹脂硬化物は室温付近での熱伝導性及びせん断接着強度に優れているとされている。しかし、強度の低い窒化ホウ素が樹脂組成物中に多く含有されていること、Bステージ化するために液状エポキシ樹脂を添加する必要があること、ガラス転移温度に関する記載がないこと等から、実使用温度である100℃以上での接着強度の低下が懸念される。   Further, the cured resin described in Patent Document 4 is said to be excellent in thermal conductivity and shear bond strength near room temperature. However, since it contains a lot of low-strength boron nitride in the resin composition, it is necessary to add a liquid epoxy resin for B-stage, there is no description about the glass transition temperature, etc. There is concern about a decrease in adhesive strength at a temperature of 100 ° C. or higher.

特許文献1〜4に示す技術の課題として、メソゲン構造含有のエポキシ樹脂、ノボラック樹脂等を用いると、硬化前では融点が高いことから、ハンドリング性に難があり、十分な接着強度が得られ難く、被着体に対して濡れにくいことがあると考えられる。硬化後では、高弾性率であるため、異種金属との接着の際に熱応力が課題となる場合がある。   As a technical problem shown in Patent Documents 1 to 4, when a mesogenic structure-containing epoxy resin, novolac resin, or the like is used, since the melting point is high before curing, it is difficult to handle and it is difficult to obtain sufficient adhesive strength. It is considered that it may be difficult to wet the adherend. Since it has a high elastic modulus after curing, thermal stress may be a problem during bonding with dissimilar metals.

本発明は、硬化後のせん断接着性、絶縁性及び熱伝導性に優れる樹脂シート、並びにそれを用いた樹脂シート硬化物、樹脂シート積層体、樹脂シート積層体硬化物及びその製造方法、半導体装置並びにLED(Light Emitting Diode)装置を提供することである。   The present invention relates to a resin sheet excellent in shearing adhesiveness, insulation and thermal conductivity after curing, a cured resin sheet using the same, a resin sheet laminate, a resin sheet laminate cured product, a method for producing the same, and a semiconductor device In addition, an LED (Light Emitting Diode) device is provided.

前記課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
<1> 樹脂と無機フィラーとを含有し、
100℃における溶融粘度が1.0×10Pa・s〜1.0×10Pa・sであり、
前記無機フィラーの比表面積が1.0m/g〜6.5m/gであり、
レーザー回折法で測定したときに、前記無機フィラーに占める25μm〜100μmの粒子径を有する粒子の割合が30体積%〜80体積%であり、
反応率が20%以下である樹脂シート。
Specific means for achieving the above object are as follows.
<1> Contains a resin and an inorganic filler,
The melt viscosity at 100 ° C. is 1.0 × 10 5 Pa · s to 1.0 × 10 8 Pa · s,
The specific surface area of the inorganic filler is 1.0m 2 /g~6.5m 2 / g,
When measured by a laser diffraction method, the proportion of particles having a particle diameter of 25 μm to 100 μm in the inorganic filler is 30% by volume to 80% by volume,
A resin sheet having a reaction rate of 20% or less.

<2> 前記無機フィラーの比表面積から求める平均粒子径が、0.4μm〜2.7μmである<1>に記載の樹脂シート。 <2> The resin sheet according to <1>, wherein an average particle diameter determined from a specific surface area of the inorganic filler is 0.4 μm to 2.7 μm.

<3> 前記樹脂がエポキシ樹脂を含み、更に硬化剤を含有してなる<1>又は<2>に記載の樹脂シート。 <3> The resin sheet according to <1> or <2>, wherein the resin contains an epoxy resin and further contains a curing agent.

<4> 前記エポキシ樹脂が、分子中にナフタレン環を2つ含み前記2つのナフタレン環がアルキレン鎖で連結されている構造を有する3官能以上の第1のエポキシ樹脂を含有する<3>に記載の樹脂シート。 <4> The above epoxy resin contains a trifunctional or higher functional first epoxy resin having a structure in which two naphthalene rings are included in a molecule and the two naphthalene rings are connected by an alkylene chain. Resin sheet.

<5> 前記第1のエポキシ樹脂が、下記一般式(I)で表される化合物を含む<4>に記載の樹脂シート。 <5> The resin sheet according to <4>, wherein the first epoxy resin contains a compound represented by the following general formula (I).

(一般式(I)において、Rは、炭素数が1〜7のアルキレン基を表す。) (In General Formula (I), R 1 represents an alkylene group having 1 to 7 carbon atoms.)

<6> 前記無機フィラーが、窒化ホウ素、酸化アルミニウム及び水酸化アルミニウムからなる群より選択される少なくとも一種を含む<1>〜<5>のいずれか1項に記載の樹脂シート。 <6> The resin sheet according to any one of <1> to <5>, wherein the inorganic filler includes at least one selected from the group consisting of boron nitride, aluminum oxide, and aluminum hydroxide.

<7> Cステージ状態における引張弾性率が0.1GPa〜30GPaであり、Cステージ状態における引張破壊ひずみが0.10%〜0.70%である<1>〜<6>のいずれか1項に記載の樹脂シート。 <7> Any one of <1> to <6>, wherein the tensile elastic modulus in the C stage state is 0.1 GPa to 30 GPa, and the tensile fracture strain in the C stage state is 0.10% to 0.70%. The resin sheet as described in 2.

<8> 前記樹脂と前記無機フィラーとを含有する第1の樹脂層と、前記第1の樹脂層上に積層される前記樹脂と前記無機フィラーとを含有する第2の樹脂層と、を有する<1>〜<7>のいずれか1項に記載の樹脂シート。 <8> A first resin layer containing the resin and the inorganic filler, and a second resin layer containing the resin and the inorganic filler laminated on the first resin layer. The resin sheet according to any one of <1> to <7>.

<9> <1>〜<8>のいずれか1項に記載の樹脂シートの熱処理物である樹脂シート硬化物。 <9> A cured resin sheet, which is a heat-treated product of the resin sheet according to any one of <1> to <8>.

<10> <1>〜<8>のいずれか1項に記載の樹脂シートと、前記樹脂シートの少なくとも一方の面上に配置される金属板又は放熱板と、を有する樹脂シート積層体。 <10> A resin sheet laminate comprising the resin sheet according to any one of <1> to <8> and a metal plate or a heat radiating plate disposed on at least one surface of the resin sheet.

<11> 前記樹脂シートの前記金属板又は放熱板の配置される面とは反対の面に被着体を更に有する<10>に記載の樹脂シート積層体。 <11> The resin sheet laminate according to <10>, further including an adherend on a surface opposite to a surface on which the metal plate or the heat radiating plate of the resin sheet is disposed.

<12> <10>又は<11>に記載の樹脂シート積層体の熱処理物である樹脂シート積層体硬化物。 <12> A cured resin sheet laminate, which is a heat-treated product of the resin sheet laminate according to <10> or <11>.

<13> <1>〜<8>のいずれか1項に記載の樹脂シートの少なくとも一方の面上に、金属板又は放熱板を配置する工程と、
前記樹脂シートに熱を与えて前記樹脂シートを硬化させる工程と、
を有する樹脂シート積層体硬化物の製造方法。
<13> A step of arranging a metal plate or a heat radiating plate on at least one surface of the resin sheet according to any one of <1> to <8>,
Curing the resin sheet by applying heat to the resin sheet;
The manufacturing method of the resin sheet laminated body hardened | cured material which has this.

<14> 半導体素子と、
前記半導体素子上に配置される<9>に記載の樹脂シート硬化物と、
を備える半導体装置。
<14> a semiconductor element;
The resin sheet cured product according to <9>, which is disposed on the semiconductor element,
A semiconductor device comprising:

<15> LED素子と、<9>に記載の樹脂シート硬化物と、基板と、がこの順に積層されるLED装置。 The LED device by which a <15> LED element, the resin sheet hardened | cured material as described in <9>, and a board | substrate are laminated | stacked in this order.

本発明によれば、硬化後のせん断接着性、絶縁性及び熱伝導性に優れる樹脂シート、並びにそれを用いた樹脂シート硬化物、樹脂シート積層体、樹脂シート積層体硬化物及びその製造方法、半導体装置並びにLED装置が提供される。   According to the present invention, a cured resin sheet having excellent shear adhesion, insulation and thermal conductivity, and a cured resin sheet using the resin sheet, a resin sheet laminate, a resin sheet laminate cured product, and a method for producing the same, Semiconductor devices and LED devices are provided.

本発明の樹脂シート硬化物を用いて構成されるパワー半導体装置の構成の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows an example of a structure of the power semiconductor device comprised using the resin sheet hardened | cured material of this invention. 本発明の樹脂シート硬化物を用いて構成されるパワー半導体装置の構成の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows an example of a structure of the power semiconductor device comprised using the resin sheet hardened | cured material of this invention. 本発明の樹脂シート硬化物を用いて構成されるパワー半導体装置の構成の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows an example of a structure of the power semiconductor device comprised using the resin sheet hardened | cured material of this invention. 本発明の樹脂シート硬化物を用いて構成されるパワー半導体装置の構成の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows an example of a structure of the power semiconductor device comprised using the resin sheet hardened | cured material of this invention. 本発明の樹脂シート硬化物を用いて構成されるパワー半導体装置の構成の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows an example of a structure of the power semiconductor device comprised using the resin sheet hardened | cured material of this invention. 本発明の樹脂シート硬化物を用いて構成されるパワー半導体装置の構成の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows an example of a structure of the power semiconductor device comprised using the resin sheet hardened | cured material of this invention. 本発明の樹脂シート硬化物を用いて構成されるLEDライトバーの構成の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows an example of a structure of the LED light bar comprised using the resin sheet hardened | cured material of this invention. 本発明の樹脂シート硬化物を用いて構成されるLED電球の構成の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows an example of a structure of the LED light bulb comprised using the resin sheet hardened | cured material of this invention. 本発明の樹脂シート硬化物を用いて構成されるLED電球の構成の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows an example of a structure of the LED light bulb comprised using the resin sheet hardened | cured material of this invention. 本発明の樹脂シート硬化物を用いて構成されるLED基板の構成の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows an example of a structure of the LED board comprised using the resin sheet hardened | cured material of this invention.

本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。また「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。更に組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
本明細書において「層」との語は、平面図として観察したときに、全面に形成されている形状の構成に加え、一部に形成されている形状の構成も包含される。
本明細書において「積層」との語は、層を積み重ねることを示し、二以上の層が結合されていてもよく、二以上の層が着脱可能であってもよい。
In this specification, the term “process” is not limited to an independent process, and is included in the term if the intended purpose of the process is achieved even when it cannot be clearly distinguished from other processes. . Moreover, the numerical range shown using "to" shows the range which includes the numerical value described before and behind "to" as a minimum value and a maximum value, respectively. Furthermore, the content of each component in the composition means the total amount of the plurality of substances present in the composition unless there is a specific notice when there are a plurality of substances corresponding to each component in the composition.
In this specification, the term “layer” includes a configuration formed in a part in addition to a configuration formed in the entire surface when observed as a plan view.
In this specification, the term “lamination” indicates that layers are stacked, and two or more layers may be combined, or two or more layers may be detachable.

本発明の樹脂シートは、樹脂と無機フィラーとを含有し、100℃における溶融粘度が1.0×10Pa・s〜1.0×10Pa・sであり、前記無機フィラーの比表面積が1.0m/g〜6.5m/gであり、レーザー回折法で測定したときに、前記無機フィラーに占める25μm〜100μmの粒子径を有する粒子の割合が30体積%〜80体積%であり、反応率が20%以下である樹脂シートである。
本発明の樹脂シートは必要に応じてその他の成分を更に含んでいてもよい。
The resin sheet of the present invention contains a resin and an inorganic filler, has a melt viscosity at 100 ° C. of 1.0 × 10 5 Pa · s to 1.0 × 10 8 Pa · s, and has a specific surface area of the inorganic filler. There is 1.0m 2 /g~6.5m 2 / g, when measured by a laser diffraction method, the ratio of particles having a particle size of 25μm~100μm occupied in the inorganic filler is 30 vol% to 80 vol% It is a resin sheet having a reaction rate of 20% or less.
The resin sheet of the present invention may further contain other components as necessary.

かかる構成の樹脂シートを硬化すると、せん断接着性、絶縁性及び熱伝導性に優れる樹脂シート硬化物を得ることができる。これは下記の様に考えることができる。
本発明の樹脂シートを金属板、放熱板、被着体等の部材間に介在させてこれら部材を接着する際に、接着界面にボイドを生ずることなくこれら部材を接着できる可能性が高くなる。また、本発明の樹脂シートが、比表面積が1.0m/g以上といった比表面積の大きい無機フィラーを含有することで、樹脂にチキソトロピック性が付与されて接着時の樹脂流出が防止される一方、比表面積が6.5m/g以下といった比表面積が大き過ぎない無機フィラーを含有することで、樹脂シートの流動性を確保することもできるようになる。その結果、絶縁性が確保される。
また、無機フィラーに占める25μm〜100μmの粒子径を有する粒子の割合を30体積%〜80体積%とすることで、熱伝導性を向上することもできる。更に、熱伝導性が高いと、無機フィラーを樹脂シート中で高充填にする必要性も無くなるため、樹脂シートの弾性率の高まりの抑制及び伸び率の向上も達成できるため、その結果、せん断接着性も向上することができる。
このため、硬化後のせん断接着性、絶縁性及び熱伝導性に優れる硬化物を得ることができる。
また、本発明の樹脂シートの反応率は、20%以下とされる。樹脂シートの反応率が20%を超えると、接着不良及び絶縁不良を生ずることがある。本発明の樹脂シートの反応率は、18%以下が好ましく、15%以下がより好ましい。
本発明において、樹脂シートの反応率とは、以下の方法により測定された値をいう。
30℃48時間加熱処理前の樹脂シートについての硬化反応の熱量を、示差走査熱量計にて測定し、これを、(30℃48時間加熱処理前の樹脂シートの硬化反応の熱量)とする。一方、30℃48時間加熱処理後の樹脂シートについての硬化反応の熱量を、示差走査熱量計にて測定し、これを、(30℃48時間加熱処理後の樹脂シートの硬化反応の熱量)とする。得られた(30℃48時間加熱処理前の樹脂シートの硬化反応の熱量)の値及び(30℃48時間加熱処理後の樹脂シートの硬化反応の熱量)の値に基づき、下記式から樹脂シートの反応率が算出される。
When the resin sheet having such a configuration is cured, a cured resin sheet having excellent shear adhesion, insulation, and thermal conductivity can be obtained. This can be thought of as follows.
When the resin sheet of the present invention is interposed between members such as a metal plate, a heat radiating plate, and an adherend, these members are more likely to be bonded without causing voids at the bonding interface. Further, the resin sheet of the present invention contains an inorganic filler having a large specific surface area such as a specific surface area of 1.0 m 2 / g or more, so that thixotropic property is imparted to the resin and the resin outflow at the time of adhesion is prevented. On the other hand, the fluidity of the resin sheet can be ensured by containing an inorganic filler having a specific surface area of not more than 6.5 m 2 / g. As a result, insulation is ensured.
Moreover, thermal conductivity can also be improved by making the ratio of the particle | grains which have a particle diameter of 25 micrometers-100 micrometers in an inorganic filler into 30 volume%-80 volume%. Furthermore, if the thermal conductivity is high, there is no need to make the inorganic filler highly filled in the resin sheet, so that the increase in the elastic modulus of the resin sheet and the improvement in the elongation rate can be achieved. Can also be improved.
For this reason, the hardened | cured material which is excellent in the shear adhesiveness after hardening, insulation, and heat conductivity can be obtained.
Moreover, the reaction rate of the resin sheet of this invention shall be 20% or less. When the reaction rate of the resin sheet exceeds 20%, adhesion failure and insulation failure may occur. The reaction rate of the resin sheet of the present invention is preferably 18% or less, and more preferably 15% or less.
In the present invention, the reaction rate of the resin sheet refers to a value measured by the following method.
The amount of heat of the curing reaction for the resin sheet before the heat treatment at 30 ° C. for 48 hours is measured by a differential scanning calorimeter, and this is defined as (the amount of heat for the curing reaction of the resin sheet before the heat treatment at 30 ° C. for 48 hours). On the other hand, the amount of heat of the curing reaction for the resin sheet after heat treatment at 30 ° C. for 48 hours was measured with a differential scanning calorimeter, and this was calculated as (the amount of heat for the curing reaction of the resin sheet after heat treatment at 30 ° C. for 48 hours). To do. Based on the value of (the amount of heat of the curing reaction of the resin sheet before heat treatment at 30 ° C. for 48 hours) and the value of (the amount of heat of the curing reaction of the resin sheet after heat treatment at 30 ° C. for 48 hours), The reaction rate is calculated.

(樹脂シートの反応率(%))={1−(30℃48時間加熱処理後の樹脂シートの硬化反応の熱量)/(30℃48時間加熱処理前の樹脂シートの硬化反応の熱量)}×100 (Reaction rate of resin sheet (%)) = {1- (heat amount of resin sheet curing reaction after heat treatment at 30 ° C. for 48 hours) / (heat amount of resin sheet curing reaction before heat treatment at 30 ° C. for 48 hours)} × 100

以下、本発明の樹脂シートを構成する各成分について詳細に説明する。   Hereinafter, each component which comprises the resin sheet of this invention is demonstrated in detail.

(無機フィラー)
本発明の樹脂シートは、無機フィラーを含有する。無機フィラーの材質としては、絶縁性を有する無機化合物であれば特に制限はない。無機フィラーの材質としては、高い熱伝導性と体積抵抗率を有するものであることが好ましい。具体例としては、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化アルミニウムの水和物、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、タルク、マイカ、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム等を挙げることができる。中でも、熱伝導性と絶縁性の観点から、酸化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化アルミニウム及び水酸化アルミニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種であることが好ましく、窒化ホウ素、酸化アルミニウム及び水酸化アルミニウムからなる群より選択される少なくとも一種がより好ましく、窒化ホウ素が更に好ましい。無機フィラーは、一種単独で用いても、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Inorganic filler)
The resin sheet of the present invention contains an inorganic filler. The material of the inorganic filler is not particularly limited as long as it is an inorganic compound having insulating properties. The material of the inorganic filler is preferably one having high thermal conductivity and volume resistivity. Specific examples include aluminum oxide (alumina), aluminum oxide hydrate, magnesium oxide, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, talc, mica, aluminum hydroxide, barium sulfate, and the like. Among these, from the viewpoint of thermal conductivity and insulation, it is preferably at least one selected from the group consisting of aluminum oxide, boron nitride, aluminum nitride and aluminum hydroxide, and a group consisting of boron nitride, aluminum oxide and aluminum hydroxide At least one selected from the above is more preferable, and boron nitride is more preferable. An inorganic filler may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more type.

本発明の樹脂シートに含有される無機フィラーは、比表面積が1.0m/g〜6.5m/gであり、レーザー回折法で測定したときに、無機フィラーに占める25μm〜100μmの粒子径の粒子の割合が30体積%〜80体積%の範囲とされるものである。この範囲の無機フィラーを含むことで、せん断接着性、絶縁性及び熱伝導性に優れる硬化物を得られる傾向がある。
無機フィラーの比表面積が1.0m/g未満であると、接着時に樹脂が流出する場合がある。一方、無機フィラーの比表面積が6.5m/gを超えると、樹脂シートの流動性を確保できないことがある。
本発明で用いられる無機フィラーの比表面積は、1.1m/g〜6.0m/gが好ましく、1.2m/g〜5.5m/gがより好ましく、1.3m/g〜5.0m/gが更に好ましい。
Inorganic filler contained in the resin sheet of the present invention is a specific surface area of 1.0m 2 /g~6.5m 2 / g, when measured by a laser diffraction method, of 25μm~100μm occupying the inorganic filler particles The ratio of the diameter particles is in the range of 30% to 80% by volume. By containing an inorganic filler in this range, there is a tendency to obtain a cured product having excellent shear adhesion, insulation and thermal conductivity.
If the specific surface area of the inorganic filler is less than 1.0 m 2 / g, the resin may flow out during bonding. On the other hand, if the specific surface area of the inorganic filler exceeds 6.5 m 2 / g, the fluidity of the resin sheet may not be ensured.
The specific surface area of the inorganic filler used in the present invention is preferably 1.1m 2 /g~6.0m 2 / g, more preferably 1.2m 2 /g~5.5m 2 / g, 1.3m 2 / More preferably, it is g-5.0m < 2 > / g.

無機フィラーに占める25μm〜100μmの粒子径を有する粒子の割合が30体積%未満であると、熱伝導率が低くなる傾向にある。一方、無機フィラーに占める25μm〜100μmの粒子径を有する粒子の割合が80体積%を超えると、接着性が低下する傾向にある。
本発明で用いられる無機フィラーは、レーザー回折法で測定したときに、該無機フィラーに占める25μm〜100μmの粒子径を有する粒子の割合が33体積%〜80体積%であることが好ましく、36体積%〜80体積%であることがより好ましく、39体積%〜75体積%であることが更に好ましい。
When the proportion of particles having a particle diameter of 25 μm to 100 μm in the inorganic filler is less than 30% by volume, the thermal conductivity tends to be low. On the other hand, when the ratio of particles having a particle diameter of 25 μm to 100 μm in the inorganic filler exceeds 80% by volume, the adhesiveness tends to decrease.
In the inorganic filler used in the present invention, the proportion of particles having a particle diameter of 25 μm to 100 μm in the inorganic filler when measured by a laser diffraction method is preferably 33% by volume to 80% by volume, and 36% by volume. % To 80% by volume is more preferable, and 39% to 75% by volume is still more preferable.

本発明において、無機フィラーの比表面積は、JIS Z8830−2013に準じて窒素吸着能から測定するBET比表面積をいう。   In the present invention, the specific surface area of the inorganic filler refers to the BET specific surface area measured from the nitrogen adsorption capacity according to JIS Z8830-2013.

本発明において、無機フィラーに占める特定範囲の粒子径を有する粒子の割合(体積%)の測定方法は、以下のとおりである。
前記無機フィラーの粒子径分布は、レーザー回折法で測定することができる。レーザー回折法を用いる場合、まず、樹脂シート、樹脂シート硬化物等から無機フィラーを抽出し、レーザー回折散乱粒度分布測定装置を用いることで、前記無機フィラーの粒子径分布を測定可能である。
In the present invention, the method for measuring the ratio (volume%) of particles having a particle diameter in a specific range in the inorganic filler is as follows.
The particle size distribution of the inorganic filler can be measured by a laser diffraction method. When using the laser diffraction method, first, an inorganic filler is extracted from a resin sheet, a cured resin sheet, or the like, and a particle size distribution of the inorganic filler can be measured by using a laser diffraction scattering particle size distribution measuring device.

また、樹脂シート、樹脂シート硬化物等に含まれる無機フィラーは、有機溶剤、硝酸、王水等を用いて抽出し、超音波分散機等で充分に分散して分散液を調製し、この分散液を用いて粒子径分布を測定することができる。そして、無機フィラーの粒子径分布における各ピークに属する粒子群の体積を算出することで、無機フィラーの総体積中における各ピークに属する粒子群の体積含有率を算出することができる。   The inorganic filler contained in the resin sheet, cured resin sheet, etc. is extracted using an organic solvent, nitric acid, aqua regia, etc., and sufficiently dispersed with an ultrasonic disperser to prepare a dispersion. The particle size distribution can be measured using the liquid. And the volume content rate of the particle group which belongs to each peak in the total volume of an inorganic filler is computable by calculating the volume of the particle group which belongs to each peak in the particle diameter distribution of an inorganic filler.

また、樹脂シート又はその硬化物の断面を走査型電子顕微鏡にて観察することで無機フィラーの粒子径分布を測定することができる。具体的には、これらの樹脂シート又はその硬化物を透明なエポキシ樹脂に埋め込み、ポリッシャーとスラリー、イオンミリング、FIB(集束イオンビーム)等で研磨して、樹脂シート又はその硬化物の断面を露出させる。この断面を走査型電子顕微鏡にて観察することで、無機フィラーの粒子径分布を実測することが可能になる。またFIB装置(集束イオンビームSEM)等を用いて、研磨と二次元の断面観察を繰り返し行い、三次元構造解析を行なって無機フィラーの粒子径分布を測定することもできる。更に無機フィラーの粒子径分布における各ピークに属する粒子群の体積を算出することで、無機フィラーの総体積中における各ピークに属する粒子群の体積含有率を算出することができる。   Moreover, the particle diameter distribution of an inorganic filler can be measured by observing the cross section of a resin sheet or its hardened | cured material with a scanning electron microscope. Specifically, these resin sheets or their cured products are embedded in a transparent epoxy resin and polished with a polisher and slurry, ion milling, FIB (focused ion beam), etc., and the cross section of the resin sheet or its cured product is exposed. Let By observing this cross section with a scanning electron microscope, the particle size distribution of the inorganic filler can be actually measured. Further, using a FIB apparatus (focused ion beam SEM) or the like, polishing and two-dimensional cross-sectional observation can be repeated, and a three-dimensional structural analysis can be performed to measure the particle size distribution of the inorganic filler. Furthermore, by calculating the volume of the particle group belonging to each peak in the particle size distribution of the inorganic filler, the volume content of the particle group belonging to each peak in the total volume of the inorganic filler can be calculated.

なお、本発明において、無機フィラーに占める25μm〜100μmの粒子径を有する粒子の割合を規定したのは、熱伝導率の向上、高弾性率化の抑制及び樹脂の伸び率の向上に対して無機フィラーに占める25μm〜100μmの粒子径を有する粒子の割合が大きな影響を与えるためである。無機フィラーに占める25μm〜100μmの粒子径を有する粒子の割合を特定の範囲とすることで、優れた熱伝導率とせん断強度の両立が可能になる。   In the present invention, the ratio of the particles having a particle diameter of 25 μm to 100 μm in the inorganic filler is specified for the purpose of improving the thermal conductivity, suppressing the increase in the elastic modulus, and improving the elongation of the resin. This is because the proportion of particles having a particle diameter of 25 μm to 100 μm in the filler has a great influence. By setting the ratio of particles having a particle diameter of 25 μm to 100 μm in the inorganic filler within a specific range, both excellent thermal conductivity and shear strength can be achieved.

本発明において、二種以上の無機フィラーを併用した場合における無機フィラーの比表面積は、二種以上の無機フィラーの混合物の比表面積をいう。
また、本発明において、二種以上の無機フィラーを併用した場合における、無機フィラーに占める25μm〜100μmの粒子径を有する粒子の割合は、二種以上の無機フィラーの混合物の総体積に占める25μm〜100μmの粒子径を有する粒子の体積割合をいう。
In the present invention, the specific surface area of the inorganic filler when two or more inorganic fillers are used in combination refers to the specific surface area of a mixture of two or more inorganic fillers.
In the present invention, when two or more inorganic fillers are used in combination, the proportion of particles having a particle diameter of 25 to 100 μm in the inorganic filler is 25 μm to the total volume of the mixture of two or more inorganic fillers. This refers to the volume ratio of particles having a particle diameter of 100 μm.

本発明の樹脂シートにおいては、無機フィラーの、比表面積から求める平均粒子径が0.4μm〜2.7μmであることが好ましく、0.6μm〜2.5μmであることがより好ましく、0.8μm〜2.3μmであることが更に好ましい。   In the resin sheet of the present invention, the average particle diameter obtained from the specific surface area of the inorganic filler is preferably 0.4 μm to 2.7 μm, more preferably 0.6 μm to 2.5 μm, and 0.8 μm. More preferably, it is -2.3 micrometers.

比表面積Sから粒子径Rを計算する手法としては、無機フィラーを球形と仮定して、無機フィラーの密度ρを用いる方法が挙げられる。Vを無機フィラーの体積、Sを無機フィラーの表面積、Sを無機フィラーの比表面積とし、下式を用いて比表面積Sから粒子径Rが算出される。 As a method for calculating the particle diameter R from the specific surface area S m, there is a method using the density ρ of the inorganic filler assuming that the inorganic filler is spherical. V is the volume of the inorganic filler, S is the surface area of the inorganic filler, S m is the specific surface area of the inorganic filler, and the particle diameter R is calculated from the specific surface area S m using the following equation.

実際は無機フィラー表面に凹凸があるため、球形から外れていくと、この式で求めたRはレーザー回折法又は実測で求めた値よりもやや小さくなる。この評価方法を用いることで、無機フィラーを構成する1次粒子径を評価することができる。1次粒子径が小さいと、流動性の悪化に繋がる。逆に1次粒子径が大きいと無機フィラーの添加量を多くしても、成形性は悪化しないが、無機フィラー全体としての異方性が出てしまうことがある。しかし、本発明の樹脂シートにおいて使用される無機フィラーの、比表面積から求める平均粒子径が0.4μm〜2.7μmとされるため、上述のような1次粒子径による問題点が生じにくい。   Actually, since the surface of the inorganic filler has irregularities, R deviated from the spherical shape becomes slightly smaller than the value obtained by the laser diffraction method or actual measurement. By using this evaluation method, the primary particle diameter constituting the inorganic filler can be evaluated. When the primary particle size is small, the fluidity is deteriorated. On the other hand, if the primary particle size is large, even if the amount of inorganic filler added is increased, the moldability does not deteriorate, but anisotropy of the entire inorganic filler may occur. However, since the average particle diameter calculated | required from the specific surface area of the inorganic filler used in the resin sheet of this invention shall be 0.4 micrometer-2.7 micrometers, the problem by the above primary particle diameters does not arise easily.

また、樹脂シート、樹脂シート硬化物等に含まれる無機フィラーを、有機溶剤、硝酸、王水等を用いて抽出し、超音波分散機等で充分に分散して分散液を調製し、この分散液の粒子径分布を、レーザー回折法を用いて測定することで、平均粒子径を測定することができる。また、樹脂を加熱除去して、抽出した無機フィラーから上記の手法にて分散液を調製し、平均粒子径を測定してもよい。レーザー回折法を用いて測定された無機フィラーの体積平均粒子径は、10μm〜100μmであることが好ましく、15μm〜80μmであることがより好ましく、20μm〜80μmであることが更に好ましい。   In addition, the inorganic filler contained in the resin sheet, cured resin sheet, etc. is extracted using an organic solvent, nitric acid, aqua regia, etc., and sufficiently dispersed with an ultrasonic disperser to prepare a dispersion. The average particle size can be measured by measuring the particle size distribution of the liquid using a laser diffraction method. Alternatively, the resin may be removed by heating, a dispersion may be prepared from the extracted inorganic filler by the above method, and the average particle size may be measured. The volume average particle diameter of the inorganic filler measured using a laser diffraction method is preferably 10 μm to 100 μm, more preferably 15 μm to 80 μm, and still more preferably 20 μm to 80 μm.

上述のように、本発明において用いられる無機フィラーとしては、窒化ホウ素が更に好ましい。窒化ホウ素のモース硬度は2であり、酸化アルミニウム(アルミナ)、窒化アルミニウム等の他の絶縁性セラミックス(例えば、モース硬度8)と比較して、モース硬度が低くて柔らかい。更に球形又は丸み状といった粒子形状の窒化ホウ素は1次粒子が凝集した形になっており、凝集粒子内部に空洞が存在し、溶融した樹脂よりは硬いながら、凝集粒子自体も変形しやすいものになっている。   As described above, boron nitride is more preferable as the inorganic filler used in the present invention. Boron nitride has a Mohs hardness of 2, which is lower and softer than other insulating ceramics such as aluminum oxide (alumina) and aluminum nitride (for example, Mohs hardness 8). Further, the boron nitride having a particle shape such as a spherical shape or a round shape has a shape in which the primary particles are aggregated, and there are cavities inside the aggregated particles, which are harder than the molten resin, but the aggregated particles themselves are easily deformed. It has become.

このため、本発明の樹脂シートを用いた加熱加圧工程、ラミネート工程、又はプレス工程の際に、樹脂シート中の窒化ホウ素粒子の変形が可能であり、その変形の際に無機フィラー間に存在する樹脂を押し除けることで、無機フィラー同士が容易に接近することができる。例えば、粒子径が25μm〜100μmである窒化ホウ素粒子を含む無機フィラー及び窒化ホウ素以外の他の無機フィラーが併存すると、他の硬い無機フィラー粒子間に窒化ホウ素粒子が変形しつつ充填することができる。これにより、樹脂シート及び樹脂シート硬化物の厚み方向に無機フィラーが連続して接触している構造(「熱伝導パス」ともいう)が形成しやすくなり、熱伝導率が向上すると考えることができる。   For this reason, the boron nitride particles in the resin sheet can be deformed during the heating and pressurizing step, laminating step, or pressing step using the resin sheet of the present invention, and exist between the inorganic fillers during the deformation. By removing the resin to be removed, the inorganic fillers can easily approach each other. For example, when an inorganic filler containing boron nitride particles having a particle size of 25 μm to 100 μm and an inorganic filler other than boron nitride coexist, boron nitride particles can be filled while deforming between other hard inorganic filler particles. . Thereby, it becomes easy to form a structure (also referred to as “thermal conduction path”) in which the inorganic filler is continuously in contact with the thickness direction of the resin sheet and the cured resin sheet, and it can be considered that the thermal conductivity is improved. .

なお、窒化ホウ素粒子よりも熱伝導性が高い無機フィラーとして窒化アルミニウム粒子が知られているが、粒子として硬くて変形し難いため、熱伝導パスが生じ難い。そのため、窒化アルミニウム粒子は、窒化ホウ素粒子より熱伝導性の向上効果が小さいと考えられる。   Aluminum nitride particles are known as inorganic fillers having higher thermal conductivity than boron nitride particles. However, since the particles are hard and difficult to deform, a heat conduction path hardly occurs. Therefore, it is considered that the aluminum nitride particles are less effective in improving the thermal conductivity than the boron nitride particles.

本発明の樹脂シートは、体積平均粒子径が1μm以下の無機粒子を無機フィラーとして更に含有してもよい。そうすることで、樹脂シートの流動性が抑制され、本発明の樹脂シートを接着剤として使用する場合に、樹脂の染み出しを抑制できる傾向にある。体積平均粒子径が1μm以下の無機粒子としては、アルミナ、水酸化アルミニウム、窒化ホウ素、酸化ケイ素等が好ましく、アルミナ又は水酸化アルミニウムがより好ましい。   The resin sheet of the present invention may further contain inorganic particles having a volume average particle diameter of 1 μm or less as an inorganic filler. By doing so, the fluidity | liquidity of a resin sheet is suppressed, and when using the resin sheet of this invention as an adhesive agent, it exists in the tendency which can suppress the seepage of resin. As the inorganic particles having a volume average particle diameter of 1 μm or less, alumina, aluminum hydroxide, boron nitride, silicon oxide and the like are preferable, and alumina or aluminum hydroxide is more preferable.

なお、本発明において、無機フィラーは粒子径分布において単一のピークを有するものでも、複数のピークを有するものであってもよい。   In the present invention, the inorganic filler may have a single peak or a plurality of peaks in the particle size distribution.

無機フィラーの粒子形状としては特に制限はなく、球状、丸み状、破砕状、りん片状、凝集粒子状等が挙げられる。無機フィラーの粒子形状は、充填性と熱伝導性の観点から、丸み状、球状又は凝集粒子状が好ましい。   The particle shape of the inorganic filler is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape, a round shape, a crushed shape, a flake shape, and an aggregated particle shape. The particle shape of the inorganic filler is preferably rounded, spherical, or agglomerated from the viewpoints of fillability and thermal conductivity.

無機フィラーとして窒化ホウ素が含有される場合、無機フィラーに含まれる窒化ホウ素の含有率は、熱伝導性の観点から、無機フィラーの総体積を100体積%とした場合、10体積%〜100体積%であることが好ましく、15体積%〜97体積%であることがより好ましく、接着性の観点から、20体積%〜95体積%であることが更に好ましい。
また、無機フィラーに含まれる無機化合物粒子の含有率は、熱伝導性の観点から、無機フィラーの総体積を100体積%とした場合、90体積%〜100体積%であることが好ましく、接着性の観点から95体積%〜100体積%であることがより好ましい。
本発明の樹脂シートに含有される無機フィラーの含有率は、樹脂シートの全固形分体積に対して40体積%〜85体積%が好ましく、42体積%〜82体積%がより好ましく、44体積%〜79体積%が更に好ましい。
無機フィラーの含有率が40体積%〜80体積%であると、樹脂に粘性が付与されて接着時の樹脂流出が防止できる傾向にある。また、無機フィラーの含有率が80体積%以下であれば、樹脂の流動性の悪化が抑制され、定着性が向上する傾向にある。無機フィラーの含有率が40体積%以上であれば、樹脂の流動性が高くなりすぎることが抑制され、ボイドの発生が抑制される傾向にある。
なお、樹脂シートの全固形分体積とは、樹脂シートを構成する成分のうち非揮発性成分の総体積を意味する。
When boron nitride is contained as the inorganic filler, the content of boron nitride contained in the inorganic filler is 10% by volume to 100% by volume when the total volume of the inorganic filler is 100% by volume from the viewpoint of thermal conductivity. It is preferable that it is 15 volume%-97 volume%, and it is still more preferable that it is 20 volume%-95 volume% from an adhesive viewpoint.
Further, the content of the inorganic compound particles contained in the inorganic filler is preferably 90% by volume to 100% by volume when the total volume of the inorganic filler is 100% by volume from the viewpoint of thermal conductivity. In view of the above, it is more preferably 95% by volume to 100% by volume.
The content of the inorganic filler contained in the resin sheet of the present invention is preferably 40% by volume to 85% by volume, more preferably 42% by volume to 82% by volume, and 44% by volume with respect to the total solid content volume of the resin sheet. -79 volume% is still more preferable.
When the content of the inorganic filler is 40% by volume to 80% by volume, viscosity is imparted to the resin and the resin tends to be prevented from flowing out during bonding. Moreover, if the content rate of an inorganic filler is 80 volume% or less, the deterioration of the fluidity | liquidity of resin will be suppressed and it exists in the tendency for fixability to improve. If the content rate of an inorganic filler is 40 volume% or more, it will suppress that the fluidity | liquidity of resin becomes high too much, and there exists a tendency for generation | occurrence | production of a void to be suppressed.
In addition, the total solid content volume of a resin sheet means the total volume of a non-volatile component among the components which comprise a resin sheet.

(樹脂)
本発明の樹脂シートは、樹脂の少なくとも一種を含む。前記樹脂としては通常接着剤に用いられる一般的な樹脂を特に制限なく用いることができる。なかでも硬化前では低粘度であり、フィラー充填性及び成形性に優れ、熱硬化後には高い耐熱性及び接着性に加えて高い熱伝導性を有するものであることが好ましい。
本発明で使用される樹脂の具体例としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ビスマレイミド樹脂、ポリイミド樹脂が挙げられる。
(resin)
The resin sheet of the present invention contains at least one kind of resin. As the resin, a general resin usually used for an adhesive can be used without particular limitation. In particular, it is preferable that it has a low viscosity before curing, is excellent in filler filling property and moldability, and has high heat conductivity in addition to high heat resistance and adhesiveness after thermosetting.
Specific examples of the resin used in the present invention include, for example, epoxy resins, phenoxy resins, acrylic resins, polyimide resins, polyamide resins, polycarbonate resins, bismaleimide resins, and polyimide resins.

本発明の樹脂シートにおいては、熱伝導の媒体であるフォノン散乱を抑制することができ、高次構造を形成して、高い熱伝導性を達成することができるエポキシ樹脂を用いてもよい。これはエポキシ樹脂が、特定の構造単位を有するノボラック樹脂とともに樹脂硬化物を形成することで、樹脂硬化物中に共有結合又は分子間力に由来する規則性の高い高次構造を形成することができるためである。   In the resin sheet of this invention, you may use the epoxy resin which can suppress the phonon scattering which is a heat conductive medium, can form a higher order structure, and can achieve high thermal conductivity. This is because an epoxy resin forms a cured resin together with a novolak resin having a specific structural unit, thereby forming a highly ordered higher order structure derived from a covalent bond or intermolecular force in the cured resin. This is because it can.

本発明の樹脂シートがエポキシ樹脂を含有する場合、エポキシ樹脂として、分子中にナフタレン環を2つ含み前記2つのナフタレン環がアルキレン鎖で連結されている構造を有する3官能以上の第1のエポキシ樹脂を含有してもよい。また、本発明の樹脂シートが前記第1のエポキシ樹脂を含有する場合、エポキシ樹脂として分子中にメソゲン構造を有する2官能の第2のエポキシ樹脂を併用してもよい。本発明の樹脂シートがエポキシ樹脂を含有する場合、必要に応じて、エポキシ樹脂として、第1のエポキシ樹脂及び第2のエポキシ樹脂以外のその他のエポキシ樹脂を含有してもよい。   When the resin sheet of the present invention contains an epoxy resin, as the epoxy resin, a trifunctional or higher functional first epoxy having a structure in which two naphthalene rings are included in the molecule and the two naphthalene rings are connected by an alkylene chain A resin may be contained. Moreover, when the resin sheet of this invention contains the said 1st epoxy resin, you may use together the bifunctional 2nd epoxy resin which has a mesogen structure in a molecule | numerator as an epoxy resin. When the resin sheet of this invention contains an epoxy resin, you may contain other epoxy resins other than a 1st epoxy resin and a 2nd epoxy resin as an epoxy resin as needed.

本発明に係る第1のエポキシ樹脂は、下記一般式(I)で表される化合物であることが好ましい。   The first epoxy resin according to the present invention is preferably a compound represented by the following general formula (I).

一般式(I)において、Rは、炭素数が1〜7のアルキレン基を表す。Rは、炭素数が1〜5のアルキレン基であることが好ましく、1〜3のアルキレン基であることがより好ましく、メチレン基であることが更に好ましい。Rで表されるアルキレン基は、必要に応じて置換基を更に有していてもよい。該置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、水酸基等を挙げることができる。
ナフタレン環におけるRの結合する位置は特に限定されるものではなく、1位の位置であっても2位の位置であってもよく、1位の位置が好ましい。Rの結合する位置は、各ナフタレン環において同じ位置であってもよいし、異なる位置であってもよい。
In the general formula (I), R 1 represents an alkylene group having 1 to 7 carbon atoms. R 1 is preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, and still more preferably a methylene group. The alkylene group represented by R 1 may further have a substituent, if necessary. Examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, and a hydroxyl group.
The position to which R 1 is bonded in the naphthalene ring is not particularly limited, and may be the 1-position or the 2-position, and the 1-position is preferred. The position to which R 1 is bonded may be the same position or a different position in each naphthalene ring.

一般式(I)で表される化合物としては、下記一般式(IA)で表される化合物であることがより好ましい。   The compound represented by the general formula (I) is more preferably a compound represented by the following general formula (IA).

本発明に係る第2のエポキシ樹脂は、分子中にメソゲン構造を有する2官能のものであれば、特に限定はない。
メソゲン構造を有するエポキシ樹脂が特定の温度で硬化した後に、良好な熱伝導性を得られることが知られている。なお、本発明においてメソゲン構造を有するエポキシ樹脂を用いることで、エポキシ樹脂が特定の温度で硬化剤と反応し樹脂硬化物を形成した場合に、樹脂硬化物中にメソゲン構造に由来する規則性のある高次構造を形成することができる。また、高次構造とは、樹脂シートの硬化後にメソゲン構造により分子が配列している状態を意味する。
The second epoxy resin according to the present invention is not particularly limited as long as it is a bifunctional one having a mesogenic structure in the molecule.
It is known that good thermal conductivity can be obtained after an epoxy resin having a mesogenic structure is cured at a specific temperature. In the present invention, by using an epoxy resin having a mesogenic structure, when the epoxy resin reacts with a curing agent at a specific temperature to form a cured resin, regularity derived from the mesogenic structure in the cured resin is obtained. A higher order structure can be formed. The higher order structure means a state in which molecules are arranged in a mesogenic structure after the resin sheet is cured.

本発明に係る第2のエポキシ樹脂は、下記一般式(II)で表される化合物及び下記一般式(III)で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種であることが好ましい。   The second epoxy resin according to the present invention is preferably at least one selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula (II) and a compound represented by the following general formula (III).

一般式(III)において、Rは、各々独立して、アルキル基、アルコキシ基、アリール基又はアラルキル基を表す。mは、各々独立して、0〜2の整数を表す。Rとしては、アルキル基又はアルコキシ基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
として表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ブチル基等が挙げられる。
として表されるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
として表されるアリール基としては、フェニル基等が挙げられる。
として表されるアラルキル基としては、ベンジル基等が挙げられる。
で表されるアルキル基、アルコキシ基、アリール基及びアラルキル基は、必要に応じて置換基を更に有していてもよい。該置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、水酸基等を挙げることができる。
としては、メチル基、及びエチル基が好ましい。
In the general formula (III), each R 2 independently represents an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or an aralkyl group. Each m independently represents an integer of 0 to 2. R 2 is preferably an alkyl group or an alkoxy group, and more preferably an alkyl group.
Examples of the alkyl group represented by R 2 include a methyl group, an ethyl group, and a butyl group.
Examples of the alkoxy group represented by R 2 include a methoxy group, an ethoxy group, and a butoxy group.
Examples of the aryl group represented by R 2 include a phenyl group.
The aralkyl group represented by R 2, include a benzyl group.
The alkyl group, alkoxy group, aryl group and aralkyl group represented by R 2 may further have a substituent as necessary. Examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, and a hydroxyl group.
R 2 is preferably a methyl group or an ethyl group.

本発明でいうメソゲン基とは、エポキシ樹脂が硬化剤と反応し樹脂硬化物を形成した場合に、樹脂硬化物中に高次構造を形成することができる基をいう。
なお、本発明でいう高次構造とは、樹脂シートの硬化後に分子が配向配列している状態を意味し、例えば、樹脂硬化物中に結晶構造体が存在することをいう。このような結晶構造体は、例えば、直交ニコル下での偏光顕微鏡による観察又はX線散乱スペクトルにより、その存在を直接確認することができる。また温度変化に対する貯蔵弾性率の変化が小さくなることでも、結晶構造体の存在を間接的に確認できる。
The mesogenic group referred to in the present invention refers to a group that can form a higher order structure in a cured resin when the epoxy resin reacts with a curing agent to form a cured resin.
In addition, the higher order structure as used in the field of this invention means the state by which the molecule | numerator is orientated after hardening of a resin sheet, for example, means that a crystal structure exists in cured resin. The presence of such a crystal structure can be directly confirmed by, for example, observation with a polarizing microscope under crossed Nicols or an X-ray scattering spectrum. The presence of the crystal structure can also be indirectly confirmed by a small change in the storage elastic modulus with respect to the temperature change.

前記メソゲン基を有するエポキシ樹脂モノマーとして、具体的には、例えば、4,4’−ビフェノールグリシジルエーテル、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビフェノールグリシジルエーテル、1−{(3−メチル−4−オキシラニルメトキシ)フェニル}−4−(4−オキシラニルメトキシフェニル)−1−シクロヘキセン、4−(オキシラニルメトキシ)安息香酸−1,8−オクタンジイルビス(オキシ−1,4−フェニレン)エステル及び2,6−ビス[4−[4−[2−(オキシラニルメトキシ)エトキシ]フェニル]フェノキシ]ピリジンを挙げることができる。中でも、熱伝導性の向上の観点から、4,4’−ビフェノールグリシジルエーテル又は3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビフェノールグリシジルエーテルであることが好ましい。   Specific examples of the epoxy resin monomer having a mesogenic group include 4,4′-biphenol glycidyl ether, 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-biphenol glycidyl ether, 1- {(3-Methyl-4-oxiranylmethoxy) phenyl} -4- (4-oxiranylmethoxyphenyl) -1-cyclohexene, 4- (oxiranylmethoxy) benzoic acid-1,8-octanediylbis Mention may be made of (oxy-1,4-phenylene) ester and 2,6-bis [4- [4- [2- (oxiranylmethoxy) ethoxy] phenyl] phenoxy] pyridine. Among these, 4,4′-biphenol glycidyl ether or 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-biphenol glycidyl ether is preferable from the viewpoint of improving thermal conductivity.

その他のエポキシ樹脂としては、硬化前では低粘度であり、フィラー充填性及び成形性に優れ、熱硬化後には高い耐熱性及び接着性に加えて高い熱伝導性を有するものであることが好ましい。例えば、その他のエポキシ樹脂は25℃で液状であること(以下「液状エポキシ樹脂」と称する場合がある)が好ましい。これにより、本発明の樹脂シートの柔軟性又は積層時の流動性が発現し易くなる。また、液状エポキシ樹脂を使用することにより、樹脂シートのAステージ状態及びBステージ状態における樹脂軟化点を低下させることが可能となる。具体的には、液状エポキシ樹脂の使用により、樹脂シートの柔軟性が向上し取り扱い性に優れることがあり、更に接着時に溶融粘度を低下させることがある。液状エポキシ樹脂は硬化後のガラス転移温度及び熱伝導性が低い場合があるので、液状エポキシ樹脂の含有量は樹脂硬化物の物性との兼ね合いで適宜選択できる。   The other epoxy resin preferably has a low viscosity before curing, is excellent in filler filling property and moldability, and has high heat conductivity in addition to high heat resistance and adhesiveness after thermosetting. For example, the other epoxy resin is preferably liquid at 25 ° C. (hereinafter sometimes referred to as “liquid epoxy resin”). Thereby, the softness | flexibility of the resin sheet of this invention or the fluidity | liquidity at the time of lamination | stacking becomes easy to express. Moreover, it becomes possible by using a liquid epoxy resin to reduce the resin softening point in the A-stage state and B-stage state of the resin sheet. Specifically, the use of a liquid epoxy resin may improve the flexibility of the resin sheet and excel in handleability, and may lower the melt viscosity during bonding. Since the liquid epoxy resin may have a low glass transition temperature and thermal conductivity after curing, the content of the liquid epoxy resin can be appropriately selected in view of the physical properties of the cured resin.

このような25℃で液状のエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、水素添加したビスフェノールA型エポキシ樹脂、水素添加したビスフェノールAD型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂及び反応性希釈剤とよばれるエポキシ基を1つだけ有しているエポキシ樹脂が挙げられる。25℃で液状のエポキシ樹脂は、硬化後の温度に対する弾性率変化及び熱物性の観点から、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂及びナフタレン型エポキシ樹脂からなる群より選択される少なくとも一種であることが好ましい。   Examples of such epoxy resins that are liquid at 25 ° C. include bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, bisphenol AD type epoxy resins, hydrogenated bisphenol A type epoxy resins, and hydrogenated bisphenol AD type epoxy resins. And an epoxy resin having only one epoxy group called a naphthalene type epoxy resin and a reactive diluent. The epoxy resin that is liquid at 25 ° C. is from the group consisting of bisphenol A-type epoxy resin, bisphenol F-type epoxy resin, bisphenol AD-type epoxy resin, and naphthalene-type epoxy resin, from the viewpoint of the change in elastic modulus with respect to the temperature after curing and the thermal properties. It is preferable that it is at least one selected.

また、上記の25℃で液状のエポキシ樹脂の数平均分子量としては特には制限されず、例えば、積層時の流動性の観点から、100以上100000以下であることが好ましく、200以上50000以下であることがより好ましく、300以上10000以下であることが更に好ましい。なお、数平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定した値である。GPC測定の条件については、実施例で後述する。   The number average molecular weight of the epoxy resin that is liquid at 25 ° C. is not particularly limited. For example, from the viewpoint of fluidity during lamination, the number average molecular weight is preferably 100 or more and 100,000 or less, and 200 or more and 50,000 or less. More preferably, it is 300 or more and 10,000 or less. The number average molecular weight is a value measured by gel permeation chromatography (GPC). The conditions for GPC measurement will be described later in Examples.

特に、分子量が500以下のビスフェノールA型エポキシ樹脂及びビスフェノールF型エポキシ樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種の液状エポキシ樹脂を含むと、本発明の樹脂シートの柔軟性又は積層時の流動性をより向上することができる。   In particular, when at least one liquid epoxy resin selected from the group consisting of a bisphenol A type epoxy resin and a bisphenol F type epoxy resin having a molecular weight of 500 or less is included, the flexibility of the resin sheet of the present invention or the fluidity at the time of lamination is further improved. Can be improved.

本発明の樹脂シートに含まれる樹脂の含有率には特に制限はない。熱伝導性と接着性の観点から、樹脂含有率は、樹脂シートを構成する全固形分質量中に3質量%〜30質量%であることが好ましく、熱伝導性の観点から、5質量%〜25質量%であることがより好ましく、5質量%〜20質量%であることが更に好ましい。
本発明の樹脂シートが樹脂として特にエポキシ樹脂を含有する場合における樹脂シートに含まれるエポキシ樹脂の含有率には特に制限はない。熱伝導性と接着性の観点から、エポキシ樹脂の含有率は、樹脂シートを構成する全固形分質量中に3質量%〜30質量%であることが好ましく、熱伝導性の観点から、5質量%〜25質量%であることがより好ましく、5質量%〜20質量%であることが更に好ましい。
There is no restriction | limiting in particular in the content rate of resin contained in the resin sheet of this invention. From the viewpoints of thermal conductivity and adhesiveness, the resin content is preferably 3% by mass to 30% by mass in the total solid mass constituting the resin sheet, and from the viewpoint of thermal conductivity, 5% by mass to It is more preferably 25% by mass, and further preferably 5% by mass to 20% by mass.
There is no restriction | limiting in particular in the content rate of the epoxy resin contained in the resin sheet in case the resin sheet of this invention contains an epoxy resin especially as resin. From the viewpoint of thermal conductivity and adhesiveness, the content of the epoxy resin is preferably 3% by mass to 30% by mass in the total solid mass constituting the resin sheet, and 5% by mass from the viewpoint of thermal conductivity. % To 25% by mass is more preferable, and 5% to 20% by mass is even more preferable.

本発明の樹脂シートにおいて、樹脂として第1のエポキシ樹脂と第2のエポキシ樹脂とが併用される場合、第1のエポキシ樹脂と第2のエポキシ樹脂との含有比(質量基準)は、25:75〜85:15であることが好ましく、30:70〜80:20であることがより好ましく、35:65〜75:25であることが更に好ましい。   In the resin sheet of the present invention, when the first epoxy resin and the second epoxy resin are used together as the resin, the content ratio (mass basis) of the first epoxy resin and the second epoxy resin is 25: It is preferably 75 to 85:15, more preferably 30:70 to 80:20, and still more preferably 35:65 to 75:25.

なお、第1のエポキシ樹脂として一般式(I)で表される化合物を用い、第2のエポキシ樹脂として一般式(II)で表される化合物を用いた場合の第1のエポキシ樹脂と第2のエポキシ樹脂との含有比(質量基準)は、25:75〜85:15であることが好ましく、30:70〜80:20であることがより好ましく、35:65〜75:25であることが更に好ましい。
また、第1のエポキシ樹脂として一般式(I)で表される化合物を用い、第2のエポキシ樹脂として一般式(III)で表される化合物を用いた場合の第1のエポキシ樹脂と第2のエポキシ樹脂との含有比(質量基準)は、25:75〜85:15であることが好ましく、35:65〜75:25であることがより好ましく、40:60〜65:35であることが更に好ましい。
The first epoxy resin and the second epoxy resin when the compound represented by the general formula (I) is used as the first epoxy resin and the compound represented by the general formula (II) is used as the second epoxy resin. The content ratio (by mass) of the epoxy resin is preferably 25:75 to 85:15, more preferably 30:70 to 80:20, and 35:65 to 75:25. Is more preferable.
In addition, when the compound represented by the general formula (I) is used as the first epoxy resin and the compound represented by the general formula (III) is used as the second epoxy resin, the second epoxy resin and the second epoxy resin are used. The content ratio of the epoxy resin to the epoxy resin (mass basis) is preferably 25:75 to 85:15, more preferably 35:65 to 75:25, and 40:60 to 65:35. Is more preferable.

.
(硬化剤)
本発明の樹脂シートに含まれる樹脂がエポキシ樹脂を含む場合、本発明の樹脂シートは硬化剤を含有してもよい。
本発明において使用可能な硬化剤は、エポキシ樹脂と硬化反応が可能な化合物であれば特に制限されるものではない。本発明における硬化剤の具体例としては、ノボラック樹脂、芳香族アミン硬化剤、脂肪族アミン硬化剤、メルカプタン硬化剤、酸無水物硬化剤等の重付加型硬化剤などを挙げることができる。
これらの中でも、ノボラック樹脂が好ましく、下記一般式(IV)で表される構造単位を含むノボラック樹脂(以下、特定ノボラック樹脂と称することがある)がより好ましい。
特定ノボラック樹脂は、硬化剤として作用し、上述のエポキシ樹脂と反応して樹脂硬化物を形成し、絶縁性、接着性及び熱伝導性を発現する。上述の特定のエポキシ樹脂と特定ノボラック樹脂とを含むことで、硬化前にはより優れた柔軟性を示し、硬化後にはより優れた熱伝導性及び高温接着性を示すことができる。
.
(Curing agent)
When the resin contained in the resin sheet of the present invention contains an epoxy resin, the resin sheet of the present invention may contain a curing agent.
The curing agent that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound capable of curing reaction with an epoxy resin. Specific examples of the curing agent in the present invention include novolak resins, aromatic amine curing agents, aliphatic amine curing agents, mercaptan curing agents, polyaddition curing agents such as acid anhydride curing agents, and the like.
Among these, novolak resins are preferable, and novolak resins containing a structural unit represented by the following general formula (IV) (hereinafter sometimes referred to as specific novolak resins) are more preferable.
The specific novolac resin acts as a curing agent, reacts with the above-described epoxy resin to form a cured resin, and exhibits insulation, adhesiveness, and thermal conductivity. By including the above-mentioned specific epoxy resin and specific novolak resin, it is possible to exhibit more excellent flexibility before curing, and to exhibit better thermal conductivity and high-temperature adhesiveness after curing.

一般式(IV)において、Rは、各々独立して、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。R及びRは、各々独立して、水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。mは0〜2の整数を表す。 In general formula (IV), R < 3 > represents an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group each independently. R 4 and R 5 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group. m represents an integer of 0-2.

mは0〜2の整数を表し、mが2の場合、2つのRは同一であっても異なってもよい。mは、接着性と熱伝導性の観点から、0又は1であることが好ましく、0であることがより好ましい。 m represents an integer of 0 to 2, and when m is 2, two R 3 may be the same or different. m is preferably 0 or 1 and more preferably 0 from the viewpoints of adhesiveness and thermal conductivity.

特定ノボラック樹脂は、上記一般式(IV)で表される構造単位を有する化合物の少なくとも一種を含むものであればよく、上記一般式(IV)で表される構造単位を有する化合物の二種以上を含むものであってもよい。   The specific novolak resin only needs to include at least one compound having the structural unit represented by the general formula (IV), and two or more compounds having the structural unit represented by the general formula (IV). May be included.

特定ノボラック樹脂は、一般式(IV)で表される構造単位を有する化合物を含むことから、フェノール化合物としてレゾルシノールに由来する部分構造を少なくとも含む。特定ノボラック樹脂は、レゾルシノール以外のフェノール化合物に由来する部分構造の少なくとも一種を更に含んでいてもよい。レゾルシノール以外のフェノール化合物としては、フェノール、クレゾール、カテコール、ヒドロキノン、1,2,3−トリヒドロキシベンゼン、1,2,4−トリヒドロキシベンゼン、1,3,5−トリヒドロキシベンゼン等を挙げることができる。特定ノボラック樹脂は、これらに由来する部分構造を一種単独でも、二種以上組み合わせて含んでいてもよい。ここでフェノール化合物に由来する部分構造とは、フェノール化合物のベンゼン環部分から水素原子を1個又は2個取り除いて構成される1価又は2価の基を意味する。水素原子が取り除かれる位置は特に限定されない。   Since the specific novolac resin includes a compound having a structural unit represented by the general formula (IV), it includes at least a partial structure derived from resorcinol as a phenol compound. The specific novolac resin may further include at least one partial structure derived from a phenol compound other than resorcinol. Examples of phenol compounds other than resorcinol include phenol, cresol, catechol, hydroquinone, 1,2,3-trihydroxybenzene, 1,2,4-trihydroxybenzene, 1,3,5-trihydroxybenzene, and the like. it can. The specific novolak resin may contain a partial structure derived from these alone or in combination of two or more. Here, the partial structure derived from a phenol compound means a monovalent or divalent group constituted by removing one or two hydrogen atoms from the benzene ring portion of the phenol compound. The position where the hydrogen atom is removed is not particularly limited.

特定ノボラック樹脂におけるレゾルシノール以外のフェノール化合物に由来する部分構造としては、熱伝導性、接着性及び保存安定性の観点から、フェノール、クレゾール、カテコール、ヒドロキノン、1,2,3−トリヒドロキシベンゼン、1,2,4−トリヒドロキシベンゼン、及び1,3,5−トリヒドロキシベンゼンからなる群より選ばれる少なくとも一種に由来する部分構造であることが好ましく、ヒドロキノン、1,2,4−トリヒドロキシベンゼン、及び1,3,5−トリヒドロキシベンゼンからなる群より選ばれる少なくとも一種に由来する部分構造であることがより好ましい。   As a partial structure derived from a phenol compound other than resorcinol in the specific novolak resin, from the viewpoint of thermal conductivity, adhesiveness and storage stability, phenol, cresol, catechol, hydroquinone, 1,2,3-trihydroxybenzene, 1 , 2,4-trihydroxybenzene, and a partial structure derived from at least one selected from the group consisting of 1,3,5-trihydroxybenzene, hydroquinone, 1,2,4-trihydroxybenzene, And a partial structure derived from at least one selected from the group consisting of 1,3,5-trihydroxybenzene.

特定ノボラック樹脂におけるレゾルシノールに由来する部分構造の含有率については特に制限はない。熱伝導性の観点から、特定ノボラック樹脂の全質量中において、レゾルシノールに由来する部分構造の含有率が20質量%以上であることが好ましく、更なる高い熱伝導性の観点から、50質量%以上であることがより好ましい。特定ノボラック樹脂の全質量中におけるレゾルシノールに由来する部分構造の含有率の上限値は特に制限されず、例えば95質量%以下であることが好ましい。   There is no restriction | limiting in particular about the content rate of the partial structure derived from resorcinol in specific novolak resin. From the viewpoint of thermal conductivity, the content of the partial structure derived from resorcinol is preferably 20% by mass or more in the total mass of the specific novolak resin, and from the viewpoint of further high thermal conductivity, 50% by mass or more. It is more preferable that The upper limit of the content of the partial structure derived from resorcinol in the total mass of the specific novolak resin is not particularly limited, and is preferably 95% by mass or less, for example.

一般式(IV)において、R及びRは、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。R及びRで表されるアルキル基、アリール基及びアラルキル基は、必要に応じて置換基を更に有していてもよい。該置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、水酸基等を挙げることができる。 In general formula (IV), R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. The alkyl group, aryl group and aralkyl group represented by R 4 and R 5 may further have a substituent, if necessary. Examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, and a hydroxyl group.

及びRとしては、保存安定性と熱伝導性の観点から、水素原子、アルキル基、又はアリール基であることが好ましく、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、又は炭素数6〜10のアリール基であることがより好ましく、水素原子又はフェニル基であることが更に好ましく、水素原子であることが特に好ましい。更に耐熱性の観点からは、R及びRの少なくとも一方が炭素数6〜10のアリール基(より好ましくは、フェニル基)であることもまた好ましい。 R 4 and R 5 are preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group from the viewpoint of storage stability and thermal conductivity, and are preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a carbon number 6 Is more preferably a hydrogen atom or a phenyl group, and particularly preferably a hydrogen atom. Furthermore, from the viewpoint of heat resistance, it is also preferable that at least one of R 4 and R 5 is an aryl group having 6 to 10 carbon atoms (more preferably, a phenyl group).

特定ノボラック樹脂は具体的には、以下に示す一般式(IVa)〜一般式(IVf)のいずれかで表される構造単位を有する化合物を含むノボラック樹脂であることが好ましい。   Specifically, the specific novolac resin is preferably a novolac resin containing a compound having a structural unit represented by any one of the following general formulas (IVa) to (IVf).

一般式(IVa)〜一般式(IVf)において、i及びjは、それぞれのフェノール化合物に由来する構造単位の含有比率(質量%)を表す。iは2質量%以上30質量%以下、jは70質量%以上98質量%以下であり、iとjの合計は100質量%である。   In general formula (IVa)-general formula (IVf), i and j represent the content rate (mass%) of the structural unit derived from each phenol compound. i is 2 mass% or more and 30 mass% or less, j is 70 mass% or more and 98 mass% or less, and the sum total of i and j is 100 mass%.

特定ノボラック樹脂は、熱伝導性の観点から、一般式(IVa)及び一般式(IVf)からなる群より選択される少なくとも1つで表される構造単位を含み、iが2質量%〜20質量%であって、jが80質量%〜98質量%であることが好ましく、弾性率と線膨張率の観点から、一般式(IVa)で表される構造単位を含み、iが5質量%〜10質量%であって、jが90質量%〜95質量%であることがより好ましい。   The specific novolac resin includes a structural unit represented by at least one selected from the group consisting of general formula (IVa) and general formula (IVf) from the viewpoint of thermal conductivity, and i is 2% by mass to 20% by mass. It is preferable that j is 80% by mass to 98% by mass, and includes a structural unit represented by the general formula (IVa) from the viewpoint of elastic modulus and linear expansion coefficient, and i is 5% by mass to More preferably, it is 10% by mass and j is 90% by mass to 95% by mass.

特定ノボラック樹脂は、上記一般式(IV)で表される構造単位を有する化合物を含み、好ましくは、下記一般式(V)で表される化合物の少なくとも一種を含むものである。   The specific novolac resin includes a compound having a structural unit represented by the general formula (IV), and preferably includes at least one compound represented by the following general formula (V).

一般式(V)中、Rは、水素原子又は下記一般式(Vp)で表されるフェノール化合物に由来する1価の基を表し、Rはフェノール化合物に由来する1価の基を表す。また、R、R、R及びmは、一般式(IV)におけるR、R、R及びmとそれぞれ同義である。Rで表されるフェノール化合物に由来する1価の基は、フェノール化合物のベンゼン環部分から水素原子を1個取り除いて構成される1価の基であり、水素原子が取り除かれる位置は特に限定されない。
nは1〜7の数であり、一般式(IV)で表される構造単位の繰り返し数である。特定ノボラック樹脂が単一の化合物である場合、nは整数である。特定ノボラック樹脂が複数の分子種から構成される場合、nは一般式(IV)で表される構造単位の含有数の平均値であり、有理数となる。特定ノボラック樹脂が一般式(IV)で表される構造単位を有する複数種の化合物を含む場合、nは、接着性と熱伝導性の観点から、その平均値が1.7〜6.5であることが好ましく、2.4〜6.1であることがより好ましい。
In general formula (V), R 6 represents a hydrogen atom or a monovalent group derived from a phenol compound represented by the following general formula (Vp), and R 7 represents a monovalent group derived from a phenol compound. . Also, R 3, R 4, R 5 and m are respectively the same as R 3, R 4, R 5 and m in the general formula (IV). The monovalent group derived from the phenol compound represented by R 7 is a monovalent group formed by removing one hydrogen atom from the benzene ring portion of the phenol compound, and the position at which the hydrogen atom is removed is particularly limited. Not.
n is a number of 1 to 7, and is the number of repeating structural units represented by the general formula (IV). When the specific novolac resin is a single compound, n is an integer. When the specific novolac resin is composed of a plurality of molecular species, n is an average value of the number of structural units represented by the general formula (IV) and is a rational number. When the specific novolac resin includes a plurality of types of compounds having the structural unit represented by the general formula (IV), n has an average value of 1.7 to 6.5 from the viewpoints of adhesiveness and thermal conductivity. It is preferable that it is 2.4 to 6.1.

一般式(Vp)中、pは1〜3の数を表す。また、R、R、R及びmは、一般式(IV)におけるR、R、R及びmとそれぞれ同義である。 In general formula (Vp), p represents the number of 1-3. Also, R 3, R 4, R 5 and m are respectively the same as R 3, R 4, R 5 and m in the general formula (IV).

及びRにおけるフェノール化合物は、フェノール性水酸基を有する化合物であれば特に限定されない。フェノール化合物として具体的には、フェノール、クレゾール、カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノン等を挙げることができる。中でも熱伝導性と保存安定性の観点から、クレゾール、カテコール、及びレゾルシノールからなる群より選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。 The phenol compound in R 6 and R 7 is not particularly limited as long as it is a compound having a phenolic hydroxyl group. Specific examples of the phenol compound include phenol, cresol, catechol, resorcinol, and hydroquinone. Among these, from the viewpoint of thermal conductivity and storage stability, at least one selected from the group consisting of cresol, catechol, and resorcinol is preferable.

特定ノボラック樹脂の数平均分子量は、熱伝導性及び成形性の観点から、800以下であることが好ましく、また弾性率と線膨張率の観点から、300以上750以下であることがより好ましく、更に成形性と接着強度の観点から、350以上550以下であることが更に好ましい。
特定ノボラック樹脂の数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定した値である。GPC測定の条件については実施例で後述する。
The number average molecular weight of the specific novolak resin is preferably 800 or less from the viewpoint of thermal conductivity and moldability, more preferably from 300 to 750 from the viewpoint of elastic modulus and linear expansion coefficient, and further From the viewpoint of moldability and adhesive strength, it is more preferably 350 or more and 550 or less.
The number average molecular weight of the specific novolac resin is a value measured by gel permeation chromatography (GPC). The conditions for GPC measurement will be described later in Examples.

また、特定ノボラック樹脂は、柔軟性の観点から、ノボラック樹脂を構成するフェノール化合物であるモノマーを更に含むことが好ましい。一般にノボラック樹脂はフェノール化合物とアルデヒド化合物とを縮重合することで合成される。従ってノボラック樹脂を構成するフェノール化合物とは、ノボラック樹脂の合成に用いられるフェノール化合物を意味する。特定ノボラック樹脂に含まれるフェノール化合物は、ノボラック樹脂の合成の際に残存したフェノール化合物であってもよく、ノボラック樹脂の合成後に添加したフェノール化合物であってもよい。
特定ノボラック樹脂に含まれるフェノール化合物の含有率としては、5質量%〜60質量%が好ましく、10質量%〜55質量%がより好ましく、15質量%〜50質量%が更に好ましい。
Moreover, it is preferable that specific novolak resin further contains the monomer which is a phenol compound which comprises a novolak resin from a softness | flexibility viewpoint. In general, a novolac resin is synthesized by condensation polymerization of a phenol compound and an aldehyde compound. Therefore, the phenol compound constituting the novolak resin means a phenol compound used for the synthesis of the novolak resin. The phenolic compound contained in the specific novolak resin may be a phenolic compound remaining during the synthesis of the novolac resin or a phenolic compound added after the synthesis of the novolac resin.
As a content rate of the phenol compound contained in specific novolak resin, 5 mass%-60 mass% are preferable, 10 mass%-55 mass% are more preferable, 15 mass%-50 mass% are still more preferable.

特定ノボラック樹脂にモノマーとして含まれるフェノール化合物は、特定ノボラック樹脂の構造に応じて選択される。中でもフェノール化合物は、レゾルシノール、カテコール、1,2,4−トリヒドロキシベンゼン、1,3,5−トリヒドロキシベンゼン及び1,2,3−トリヒドロキシベンゼンからなる群より選択される少なくとも一種であることが好ましく、レゾルシノール及びカテコールからなる群より選択される少なくとも一種であることがより好ましい。   The phenol compound contained as a monomer in the specific novolak resin is selected according to the structure of the specific novolak resin. Among them, the phenol compound is at least one selected from the group consisting of resorcinol, catechol, 1,2,4-trihydroxybenzene, 1,3,5-trihydroxybenzene and 1,2,3-trihydroxybenzene. And at least one selected from the group consisting of resorcinol and catechol is more preferable.

本発明の樹脂シートが硬化剤を含む場合、樹脂シート中の硬化剤の総含有率としては特に制限されない。熱伝導性と接着性の観点から、硬化剤の総含有率は、樹脂シートの全固形分質量中に、1質量%〜10質量%であることが好ましく、1.2質量%〜8質量%であることがより好ましく、1.4質量%〜7質量%であることが更に好ましい。   When the resin sheet of the present invention contains a curing agent, the total content of the curing agent in the resin sheet is not particularly limited. From the viewpoint of thermal conductivity and adhesiveness, the total content of the curing agent is preferably 1% by mass to 10% by mass, and 1.2% by mass to 8% by mass in the total solid content of the resin sheet. It is more preferable that it is 1.4 mass%-7 mass%.

本発明の樹脂シートが硬化剤として特定ノボラック樹脂を含有する場合、樹脂シート中の特定ノボラック樹脂の含有率は特に制限されない。特定ノボラック樹脂の含有率は、熱伝導性と接着性の観点から、樹脂組成物の全固形分質量中に0.3質量%〜10質量%であることが好ましく、熱伝導性の観点から、0.5質量%〜8質量%であることがより好ましく、0.7質量%〜7質量%であることが更に好ましい。   When the resin sheet of the present invention contains a specific novolak resin as a curing agent, the content of the specific novolak resin in the resin sheet is not particularly limited. The content of the specific novolac resin is preferably 0.3% by mass to 10% by mass in the total solid content mass of the resin composition from the viewpoint of thermal conductivity and adhesiveness, and from the viewpoint of thermal conductivity, More preferably, it is 0.5 mass%-8 mass%, and it is still more preferable that it is 0.7 mass%-7 mass%.

本発明の樹脂シートは、絶縁性と耐熱性の観点から、特定ノボラック樹脂に加えて、一般式(IV)で表される構造単位を含まないその他のノボラック樹脂の少なくとも一種を含むことが好ましい。前記その他のノボラック樹脂としては、一般式(IV)で表される構造単位を含まないノボラック樹脂であれば特に制限はなく、エポキシ樹脂の硬化剤として通常用いられるノボラック樹脂から適宜選択することができる。   From the viewpoint of insulation and heat resistance, the resin sheet of the present invention preferably contains at least one kind of other novolac resin not containing the structural unit represented by the general formula (IV) in addition to the specific novolac resin. The other novolak resin is not particularly limited as long as it is a novolak resin that does not contain the structural unit represented by the general formula (IV), and can be appropriately selected from novolak resins that are usually used as curing agents for epoxy resins. .

本発明の樹脂シートが特定ノボラック樹脂以外のその他の硬化剤を更に含む場合、その他の硬化剤の含有率は特に制限されない。熱伝導性の観点から、特定ノボラック樹脂に対して30質量%以下であることが好ましく、20質量%以下であることがより好ましく、10質量%以下であることが更に好ましい。   When the resin sheet of the present invention further contains other curing agent other than the specific novolak resin, the content of the other curing agent is not particularly limited. From the viewpoint of thermal conductivity, it is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, and still more preferably 10% by mass or less with respect to the specific novolac resin.

また本発明の樹脂シートが硬化剤を含み、樹脂としてエポキシ樹脂を含む場合、樹脂シート中の硬化剤の含有量は、エポキシ樹脂に対して当量基準で、0.8〜1.2であることが好ましく、0.9〜1.1であることがより好ましい。ここで、当量とは反応当量であり、例えば、ノボラック樹脂の当量は、エポキシ基1個に対しフェノール性水酸基1個が反応するものとして計算され、アミンの当量は、エポキシ基1個に対しアミノ基の活性水素1個が反応するものとして計算され、酸無水物の無水酸当量は、エポキシ基1個に対し酸無水物基1個が反応するものとして計算される。   Moreover, when the resin sheet of this invention contains a hardening | curing agent and contains an epoxy resin as resin, content of the hardening | curing agent in a resin sheet is 0.8-1.2 on an equivalent basis with respect to an epoxy resin. Is preferable, and it is more preferable that it is 0.9-1.1. Here, the equivalent is the reaction equivalent. For example, the equivalent of novolak resin is calculated as one phenolic hydroxyl group reacts with one epoxy group, and the equivalent of amine is amino with respect to one epoxy group. One active hydrogen of the group is calculated to react, and the acid anhydride equivalent of the acid anhydride is calculated as one acid anhydride group reacts to one epoxy group.

(その他の成分)
本発明の樹脂シートは、上記成分に加えて必要に応じてその他の成分を含むことができる。その他の成分としては、硬化促進剤、分散剤等を挙げることができる。
硬化促進剤としては、イミダゾール、トリフェニルホスフィン、これらの化合物に側鎖を導入した誘導体等が挙げられる。
分散剤としては、ポリマー系、シリコン系、これらの化合物を化学修飾したもの等が挙げられ、これに限定するものではない。
(Other ingredients)
The resin sheet of the present invention can contain other components as needed in addition to the above components. Examples of other components include a curing accelerator and a dispersant.
Examples of the curing accelerator include imidazole, triphenylphosphine, derivatives obtained by introducing side chains into these compounds, and the like.
Examples of the dispersant include, but are not limited to, polymers, silicon, and those obtained by chemically modifying these compounds.

本発明の樹脂シートの平均厚みは40μm〜250μmであることが好ましく、熱伝導性と絶縁性との両立の観点から、50μm〜240μmであることがより好ましく、60μm〜230μmであることが更に好ましく、70μm〜220μmであることが特に好ましい。樹脂シートの平均厚みは、絶縁する電圧値、電流値等の電気特性、及び発熱体と樹脂シート間の熱抵抗値との兼ね合いで適宜選択することができる。要求される熱抵抗値が満足可能であれば、絶縁性の観点から樹脂シートの平均厚みは厚い方が好ましい。なお、樹脂シートの平均厚みは、マイクロメータ(例えば、(株)ミツトヨ、マイクロメータ IP65)を用いて、9点の厚みを測定し、その算術平均値として与えられる。   The average thickness of the resin sheet of the present invention is preferably 40 μm to 250 μm, more preferably 50 μm to 240 μm, and still more preferably 60 μm to 230 μm, from the viewpoint of achieving both thermal conductivity and insulation. 70 μm to 220 μm is particularly preferable. The average thickness of the resin sheet can be selected as appropriate in consideration of the electrical characteristics such as the voltage value to be insulated and the current value, and the thermal resistance value between the heating element and the resin sheet. If the required thermal resistance value can be satisfied, the average thickness of the resin sheet is preferably thick from the viewpoint of insulation. The average thickness of the resin sheet is given as an arithmetic average value obtained by measuring the thickness of nine points using a micrometer (for example, Mitutoyo Corporation, Micrometer IP65).

本発明の樹脂シートは、少なくとも一方の面上に支持体を有することが好ましく、両方の面上に支持体を有することがより好ましい。これにより外的環境からの樹脂シートの接着面への異物の付着を防止すること及び衝撃から樹脂シートを保護することができる。すなわち、支持体は、保護フィルムとして機能する。また前記支持体は、使用時には適宜剥離して用いることが好ましい。   The resin sheet of the present invention preferably has a support on at least one surface, and more preferably has a support on both surfaces. As a result, it is possible to prevent foreign matter from adhering to the adhesive surface of the resin sheet from the external environment and to protect the resin sheet from impact. That is, the support functions as a protective film. The support is preferably peeled off when used.

前記支持体としては、ポリテトラフルオロエチレンフィルム、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリイミドフィルム等のプラスチックフィルムなどが挙げられる。これらのプラスチックフィルムに対しては、必要に応じてプライマー塗布、UV処理、コロナ放電処理、研磨処理、エッチング処理、離型処理等の表面処理を行ってもよい。また前記支持体として、銅箔、アルミニウム箔等の金属箔、アルミニウム板等の金属板などを用いることもできる。   Examples of the support include a plastic film such as a polytetrafluoroethylene film, a polyethylene terephthalate (PET) film, a polyethylene film, a polypropylene film, a polymethylpentene film, and a polyimide film. These plastic films may be subjected to surface treatment such as primer coating, UV treatment, corona discharge treatment, polishing treatment, etching treatment, mold release treatment and the like as necessary. Further, as the support, a metal foil such as a copper foil or an aluminum foil, a metal plate such as an aluminum plate, or the like can be used.

前記支持体がプラスチックフィルムである場合、その平均厚みは特に制限されない。平均厚みは、形成する樹脂シートの平均厚み及び樹脂シートの用途に応じて、当業者の知識に基づいて適宜定められる。プラスチックフィルムの平均厚みは、経済性がよく、取り扱い性が良好な点で、10μm〜150μmであることが好ましく、25μm〜110μmであることがより好ましい。   When the support is a plastic film, the average thickness is not particularly limited. The average thickness is appropriately determined based on the knowledge of those skilled in the art depending on the average thickness of the resin sheet to be formed and the application of the resin sheet. The average thickness of the plastic film is preferably 10 μm to 150 μm, and more preferably 25 μm to 110 μm, in terms of good economic efficiency and good handleability.

また前記支持体が金属箔である場合、その平均厚みは特に制限されず、樹脂シートの用途等に応じて適宜選択することができる。例えば、金属箔の平均厚みは、10μm〜400μmとすることができ、ロール箔としての取り扱い性の観点から、好ましくは18μm〜300μmである。   Moreover, when the said support body is metal foil, the average thickness in particular is not restrict | limited, According to the use etc. of a resin sheet, it can select suitably. For example, the average thickness of the metal foil can be 10 μm to 400 μm, and preferably 18 μm to 300 μm from the viewpoint of handleability as a roll foil.

本発明の樹脂シートは、樹脂と無機フィラーと必要に応じて用いられる硬化剤等のその他の成分を含有する第1の樹脂層と、第1の樹脂層上に積層される樹脂と無機フィラーと必要に応じて用いられる硬化剤等のその他の成分を含有する第2の樹脂層を含むことが好ましい。例えば、本発明の樹脂シートは、第1の樹脂層と、第2の樹脂層との積層体であることが好ましい。これにより絶縁耐圧をより向上させることができる。第1の樹脂層を構成する成分及び第2の樹脂層を構成する成分は、同一の組成であっても互いに異なる組成を有していてもよい。第1の樹脂層を構成する成分及び第2の樹脂層を構成する成分は、熱伝導性の観点から、同一の組成であることが好ましい。   The resin sheet of the present invention includes a first resin layer containing a resin, an inorganic filler, and other components such as a curing agent used as necessary, and a resin and an inorganic filler laminated on the first resin layer. It is preferable to include a second resin layer containing other components such as a curing agent used as necessary. For example, the resin sheet of the present invention is preferably a laminate of a first resin layer and a second resin layer. Thereby, the withstand voltage can be further improved. The component constituting the first resin layer and the component constituting the second resin layer may have the same composition or different compositions. It is preferable that the component which comprises a 1st resin layer and the component which comprises a 2nd resin layer are the same compositions from a heat conductive viewpoint.

本発明の樹脂シートは、一方の面上に金属箔を有し、前記金属箔を有する面とは反対の面上にプラスチックフィルムを有する構成であってもよい。
また、本発明の樹脂シートは、樹脂と無機フィラーと必要に応じて用いられる硬化剤等のその他の成分を含有する第1の樹脂層と、第1の樹脂層上に積層される樹脂と無機フィラーと必要に応じて用いられる硬化剤等のその他の成分を含有する第2の樹脂層とを有する積層体であり、前記積層体の一方の面上に金属箔を更に有し、他方の面上にプラスチックフィルム等の保護フィルムを更に有することが好ましい。すなわち樹脂シートは更に金属箔及びプラスチックフィルム等の保護フィルムを有していてもよく、金属箔、第1の樹脂層、第2の樹脂層及びプラスチックフィルム等の保護フィルムの順に設けられてなることが好ましい。これによりボイドの穴埋め効果が得られ、絶縁耐圧がより向上する傾向がある。
The resin sheet of the present invention may have a metal foil on one surface and a plastic film on a surface opposite to the surface having the metal foil.
The resin sheet of the present invention includes a first resin layer containing a resin, an inorganic filler, and other components such as a curing agent used as necessary, and a resin and an inorganic layer laminated on the first resin layer. It is a laminate having a filler and a second resin layer containing other components such as a curing agent used as necessary, further having a metal foil on one surface of the laminate, and the other surface It is preferable to further have a protective film such as a plastic film on the top. That is, the resin sheet may further have a protective film such as a metal foil and a plastic film, and is provided in the order of a protective film such as a metal foil, a first resin layer, a second resin layer, and a plastic film. Is preferred. As a result, a void filling effect is obtained, and the withstand voltage tends to be further improved.

(樹脂シートの製造方法)
樹脂シートの製造方法は、本発明の樹脂シートを構成する成分を含む樹脂組成物を用いて、平均厚みが40μm〜250μmのシート状の樹脂層を形成可能な方法であれば特に制限されず、通常用いられるシートの製造方法から適宜選択することができる。樹脂シートの製造方法として具体的には、本発明の樹脂シートを構成する成分と共に有機溶剤を含む樹脂組成物を、支持体上に、所望の平均厚みとなるように付与して樹脂組成物層を形成し、形成された樹脂組成物層を乾燥処理して有機溶剤の少なくとも一部を除去して樹脂層を形成する方法等を挙げることができる。
(Production method of resin sheet)
The method for producing the resin sheet is not particularly limited as long as it is a method capable of forming a sheet-like resin layer having an average thickness of 40 μm to 250 μm, using the resin composition containing the components constituting the resin sheet of the present invention. It can select suitably from the manufacturing method of the sheet | seat normally used. Specifically, as a method for producing a resin sheet, a resin composition containing an organic solvent together with the components constituting the resin sheet of the present invention is applied on a support so as to have a desired average thickness. And forming the resin layer by removing at least a part of the organic solvent by drying the formed resin composition layer.

樹脂組成物の付与方法、及び乾燥方法については特に制限なく、通常用いられる方法から適宜選択することができる。付与方法としては、コンマコータ法、ダイコータ法、ディップ塗工法等が挙げられる。また乾燥方法としては、常圧下又は減圧下での加熱乾燥、自然乾燥、凍結乾燥等が挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular about the provision method of a resin composition, and the drying method, It can select suitably from the method used normally. Examples of the application method include a comma coater method, a die coater method, and a dip coating method. Examples of the drying method include heat drying under normal pressure or reduced pressure, natural drying, freeze drying, and the like.

樹脂組成物層の厚さは、乾燥処理後の樹脂層が所望の平均厚みとなるように適宜選択することができる。乾燥後の樹脂層の平均厚みは40μm〜250μmであることが好ましく、50μm〜250μmとなるように樹脂組成物層の厚さを調整することが好ましい。乾燥後の樹脂層の平均厚みが40μm以上であると樹脂層内に空洞が形成されにくくなり、作製尤度が大きくなる傾向がある。また、乾燥後の樹脂層の平均厚みが250μm以下であると樹脂ロールを形成する場合でも、樹脂の粉末が飛散することを抑制できる傾向がある。   The thickness of the resin composition layer can be appropriately selected so that the resin layer after the drying treatment has a desired average thickness. The average thickness of the resin layer after drying is preferably 40 μm to 250 μm, and the thickness of the resin composition layer is preferably adjusted to be 50 μm to 250 μm. When the average thickness of the resin layer after drying is 40 μm or more, cavities are hardly formed in the resin layer, and the production likelihood tends to increase. Moreover, even when forming the resin roll as the average thickness of the resin layer after drying is 250 micrometers or less, it exists in the tendency which can suppress scattering of the resin powder.

本発明の樹脂シートが積層体である場合、第1の樹脂層と第2の樹脂層とを重ね合わせて製造されることが好ましい。かかる構成であることにより、絶縁耐圧がより向上する。   When the resin sheet of this invention is a laminated body, it is preferable to manufacture by superimposing the 1st resin layer and the 2nd resin layer. With such a configuration, the withstand voltage is further improved.

これは例えば以下のように考えることができる。すなわち、2つの樹脂層を重ねることで、一方の樹脂層中に存在しうる厚さの薄くなる箇所(ピンホール又はボイド)がもう一方の樹脂層により補填されることになる。これにより、最小絶縁厚みを大きくすることができ、絶縁耐圧がより向上すると考えることができる。樹脂シートの製造方法におけるピンホール又はボイドの発生確率は高くはないが、2つの樹脂層を重ねることで薄い部分の重なり合う確率はその2乗になり、ピンホール又はボイドの個数はゼロに近づくことになる。絶縁破壊は最も絶縁的に弱い箇所で起こることから、2つの樹脂層を重ねることにより絶縁耐圧がより向上する効果が得られると考えることができる。更に、2つの樹脂層を重ねることにより、無機フィラー同士の接触確率も向上し、熱伝導性の向上効果も生じると考えることができる。   This can be considered as follows, for example. That is, by overlapping two resin layers, a thinned portion (pinhole or void) that may exist in one resin layer is compensated by the other resin layer. Thereby, it can be considered that the minimum insulation thickness can be increased and the withstand voltage is further improved. The probability of occurrence of pinholes or voids in the resin sheet manufacturing method is not high, but by overlapping two resin layers, the probability of overlap of thin parts becomes the square, and the number of pinholes or voids approaches zero. become. Since dielectric breakdown occurs at a place where the insulation is weakest, it can be considered that the effect of further improving the withstand voltage can be obtained by overlapping two resin layers. Furthermore, it can be considered that by overlapping the two resin layers, the contact probability between the inorganic fillers is improved, and the effect of improving the thermal conductivity is also produced.

樹脂シートの製造方法は、樹脂と無機フィラーと必要に応じて用いられる硬化剤等のその他の成分を含有する第1の樹脂層上に、樹脂と無機フィラーと必要に応じて用いられる硬化剤等のその他の成分を含有する第二の樹脂層を重ねて積層体を得る工程と、得られた積層体を加熱加圧処理する工程とを含むことが好ましい。かかる製造方法であることにより、絶縁耐圧がより向上する。   The resin sheet manufacturing method includes a resin, an inorganic filler, and a curing agent used as necessary on the first resin layer containing other components such as a curing agent used as needed. It is preferable to include a step of obtaining a laminate by superimposing the second resin layer containing the other components, and a step of subjecting the obtained laminate to a heat and pressure treatment. With such a manufacturing method, the withstand voltage is further improved.

また、本発明の樹脂シートは、前記積層体の一方の面上に金属箔を更に有し、他方の面上にプラスチックフィルム等の保護フィルムを更に有することが好ましい。このような構成の樹脂シートの製造方法は、金属箔上に設けられ、樹脂と無機フィラーと必要に応じて用いられる硬化剤等のその他の成分を含有する第一の樹脂層と、プラスチックフィルム等の保護フィルム上に設けられ、樹脂と無機フィラーと必要に応じて用いられる硬化剤等のその他の成分を含有する第二の樹脂層とを互いに接するように重ねる工程を有することが好ましい。これにより穴埋め効果がより効果的に得られる。   Moreover, it is preferable that the resin sheet of this invention further has metal foil on one surface of the said laminated body, and further has protective films, such as a plastic film, on the other surface. A method for producing a resin sheet having such a structure includes a first resin layer provided on a metal foil, containing a resin, an inorganic filler, and other components such as a curing agent used as necessary, a plastic film, and the like. It is preferable to have a step of stacking the resin, the inorganic filler, and the second resin layer containing other components such as a curing agent used as necessary so as to contact each other. Thereby, the hole filling effect can be obtained more effectively.

前記第1の樹脂層は例えば、金属箔上に、本発明の樹脂シートを構成する成分と共に有機溶剤を含む樹脂組成物を付与して樹脂組成物層を形成し、形成された樹脂組成物層を乾燥処理して有機溶剤の少なくとも一部を除去することで形成することができる。また前記第2の樹脂層は、例えば、プラスチックフィルム上に、本発明の樹脂シートを構成する成分と共に有機溶剤を含む樹脂組成物を付与して樹脂組成物層を形成し、形成された樹脂組成物層を乾燥処理して有機溶剤の少なくとも一部を除去することで形成することができる。   The first resin layer is formed, for example, by forming a resin composition layer on a metal foil by applying a resin composition containing an organic solvent together with the components constituting the resin sheet of the present invention. Can be formed by drying to remove at least a portion of the organic solvent. The second resin layer is formed, for example, by forming a resin composition layer on a plastic film by applying a resin composition containing an organic solvent together with components constituting the resin sheet of the present invention. It can be formed by drying the material layer to remove at least part of the organic solvent.

前記第1の樹脂層及び第2の樹脂層の平均厚みは、積層体を構成した場合に積層体の平均厚みが40μm〜250μmとなるように適宜選択することが好ましい。前記第1の樹脂層及び第2の樹脂層の平均厚みは、例えば、それぞれ10μm〜240μmとすることができ、20μm〜230μmであることが好ましい。前記平均厚みが10μm以上であると樹脂層内に空洞(ボイド)が形成されにくくなり、作製尤度が大きくなる傾向がある。前記平均厚みが240μm以下であるとシートに割れ目が入りにくい傾向がある。前記第1の樹脂層及び第2の樹脂層の平均厚みは、互いに同一であっても異なっていてもよい。   It is preferable that the average thicknesses of the first resin layer and the second resin layer are appropriately selected so that the average thickness of the laminate is 40 μm to 250 μm when the laminate is configured. The average thicknesses of the first resin layer and the second resin layer can be, for example, 10 μm to 240 μm, respectively, and preferably 20 μm to 230 μm. When the average thickness is 10 μm or more, voids are hardly formed in the resin layer, and the production likelihood tends to increase. When the average thickness is 240 μm or less, there is a tendency that cracks are not easily formed in the sheet. The average thicknesses of the first resin layer and the second resin layer may be the same or different from each other.

更に前記第1の樹脂層と第2の樹脂層とを重ねた積層体は、加熱加圧処理されることが好ましい。これにより熱伝導性がより向上した樹脂シートを製造することができる。加熱加圧処理する方法としては、所定の圧力及び熱を加えることができる方法であれば特に制限されず、通常用いられる加熱加圧処理方法から適宜選択することができる。具体的には、ラミネート処理、プレス処理、金属ロール処理等が挙げられる。また加熱加圧処理には、常圧で処理を行う手法と、減圧下で処理を行う真空処理とがある。真空処理の方が好ましいが、その限りではない。   Furthermore, it is preferable that the laminate in which the first resin layer and the second resin layer are stacked is subjected to a heat and pressure treatment. Thereby, a resin sheet with improved thermal conductivity can be produced. The method for heat and pressure treatment is not particularly limited as long as it can apply a predetermined pressure and heat, and can be appropriately selected from commonly used heat and pressure treatment methods. Specific examples include laminating, pressing, and metal roll processing. In addition, the heat and pressure treatment includes a method of performing treatment at normal pressure and a vacuum treatment of performing treatment under reduced pressure. Vacuum treatment is preferred, but not limited.

本発明の樹脂シートを構成する成分を含む樹脂組成物により樹脂層を形成する場合、加熱加圧処理前の積層体の表面は無機フィラー等により凸凹が生じており、平滑ではない場合がある。このような積層体を加熱加圧処理して得られる本発明の樹脂シートの厚さは、樹脂層の厚みの和には一致せずに小さくなる場合がある。これは、例えば、加熱加圧処理の前後で、フィラー充填性が変化すること、表面の凸と凹が重ね合わされること、シートの均一性が向上すること及びボイドが埋まることに拠るものと考えることができる。   When the resin layer is formed from the resin composition containing the component constituting the resin sheet of the present invention, the surface of the laminate before the heat and pressure treatment is uneven due to an inorganic filler or the like, and may not be smooth. The thickness of the resin sheet of the present invention obtained by subjecting such a laminate to heat and pressure treatment may be small without matching the sum of the thicknesses of the resin layers. This is considered to be because, for example, the filler filling property changes before and after the heat and pressure treatment, the convexity and the concaveness of the surface are superimposed, the uniformity of the sheet is improved, and the void is filled. be able to.

(樹脂組成物の製造方法)
本発明の樹脂シートを構成する成分を含む樹脂組成物の製造方法としては、通常行なわれる樹脂組成物の製造方法を特に制限なく用いることができる。樹脂と無機フィラーと必要に応じて用いられる硬化剤等のその他の成分とを混合する方法としては、通常の撹拌機、らいかい機、三本ロール、ボールミル等の分散機を適宜組み合わせて行うことができる。また、適当な有機溶剤を添加して、分散又は溶解を行うことができる。
(Production method of resin composition)
As a method for producing a resin composition containing the components constituting the resin sheet of the present invention, a usual method for producing a resin composition can be used without particular limitation. As a method of mixing the resin, the inorganic filler, and other components such as a curing agent used as necessary, an ordinary agitator, a raking machine, a three-roller, a ball mill or the like is appropriately combined. Can do. Further, dispersion or dissolution can be performed by adding an appropriate organic solvent.

具体的には例えば、樹脂と無機フィラーと必要に応じて用いられる硬化剤等のその他の成分を適当な有機溶剤に溶解又は分散したものに、必要に応じて硬化促進剤等のその他の成分を混合することで、樹脂組成物を得ることができる。   Specifically, for example, a resin, an inorganic filler, and other components such as a curing agent used as necessary are dissolved or dispersed in an appropriate organic solvent, and other components such as a curing accelerator are added as necessary. By mixing, a resin composition can be obtained.

前記有機溶剤は樹脂シートの製造方法における乾燥工程にて、少なくともその一部が乾燥処理により除去されるものであることから、沸点が低いか又は蒸気圧が高いものが望ましい。有機溶剤が樹脂シート中に大量に残留していると、熱伝導性又は絶縁性能に影響を及ぼす場合がある。一方、有機溶剤が除去されると、シートが硬くなりすぎて接着性能が失われてしまう場合がある。したがって有機溶剤の選択は、乾燥方法及び乾燥条件との適合が必要である。また有機溶剤は、用いる樹脂の種類、無機フィラーの種類、シート作製時の乾燥のしやすさ等により適宜選択することができる。有機溶剤としては、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、シクロヘキサノール等のアルコール溶剤、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の含窒素溶剤などを挙げることができる。また有機溶剤は一種単独でも二種以上を組み合わせて用いることもできる。   The organic solvent is preferably a solvent having a low boiling point or a high vapor pressure because at least a part of the organic solvent is removed by a drying process in the drying step in the method for producing a resin sheet. If a large amount of the organic solvent remains in the resin sheet, it may affect the thermal conductivity or the insulation performance. On the other hand, if the organic solvent is removed, the sheet may become too hard and the adhesion performance may be lost. Therefore, the selection of the organic solvent needs to be compatible with the drying method and drying conditions. The organic solvent can be appropriately selected depending on the type of resin to be used, the type of inorganic filler, the ease of drying during sheet preparation, and the like. Examples of organic solvents include alcohol solvents such as methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, and cyclohexanol, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and cyclopentanone, dimethylformamide, dimethylacetamide, and the like. And nitrogen-containing solvents. Further, the organic solvents can be used alone or in combination of two or more.

本発明の樹脂シートは、100℃における溶融粘度が1.0×10Pa・s〜1.0×10Pa・sとされる。なお、溶融粘度は、動的粘弾性測定(周波数1ヘルツ、荷重40g、昇温速度3℃/分)によって測定された値をいう。100℃における溶融粘度は、1.5×10Pa・s〜8.0×10Pa・sが好ましく、3.0×10Pa・s〜6.0×10Pa・sがより好ましい。
なお、本明細書においては、樹脂組成物から形成された樹脂組成物層を乾燥して得られる樹脂シートをAステージシート、Aステージシートを更に加熱加圧処理して得られる樹脂シートをBステージシートと称する場合がある。なお、Aステージ、Bステージ、及び後述するCステージについては、JIS K6900−1994に規定を参照するものとする。
100℃における溶融粘度が1.0×10Pa・s〜1.0×10Pa・sとされる本発明の樹脂シートは、所謂Bステージシートに属するものである。
The resin sheet of the present invention has a melt viscosity at 100 ° C. of 1.0 × 10 5 Pa · s to 1.0 × 10 8 Pa · s. The melt viscosity is a value measured by dynamic viscoelasticity measurement (frequency 1 Hz, load 40 g, temperature increase rate 3 ° C./min). Melt viscosity at 100 ° C. is preferably 1.5 × 10 5 Pa · s~8.0 × 10 7 Pa · s, 3.0 × 10 5 Pa · s~6.0 × 10 7 Pa · s Gayori preferable.
In this specification, a resin sheet obtained by drying a resin composition layer formed from a resin composition is an A stage sheet, and a resin sheet obtained by further heating and pressing the A stage sheet is a B stage. Sometimes referred to as a sheet. For the A stage, the B stage, and the C stage, which will be described later, the specifications are referred to JIS K6900-1994.
The resin sheet of the present invention having a melt viscosity at 100 ° C. of 1.0 × 10 5 Pa · s to 1.0 × 10 8 Pa · s belongs to a so-called B stage sheet.

本発明の樹脂シートの100℃における溶融粘度が1.0×10Pa・s〜1.0×10Pa・sであることで、樹脂シートの取り扱い性が向上する。これはAステージシートと比較して硬化が進行していることで弾性率が上昇し、強度が向上しているためである。一方で、本発明の樹脂シートの硬化度は、樹脂シートを柔軟に取り扱いできる程度に抑えることが好ましい。また、前記樹脂層を半硬化状態にして樹脂シートの100℃における溶融粘度を1.0×10Pa・s〜1.0×10Pa・sの範囲とする方法としては、例えば、樹脂層を加熱加圧処理する方法を挙げることができる。 When the melt viscosity at 100 ° C. of the resin sheet of the present invention is 1.0 × 10 5 Pa · s to 1.0 × 10 8 Pa · s, the handleability of the resin sheet is improved. This is because the elastic modulus is increased and the strength is improved by the progress of curing as compared with the A stage sheet. On the other hand, the degree of cure of the resin sheet of the present invention is preferably suppressed to such an extent that the resin sheet can be handled flexibly. Moreover, as a method of making the resin layer semi-cured and setting the melt viscosity at 100 ° C. of the resin sheet to a range of 1.0 × 10 5 Pa · s to 1.0 × 10 8 Pa · s, for example, resin The method of heat-pressing a layer can be mentioned.

樹脂層を加熱加圧処理する方法は、前記樹脂層を半硬化状態にできれば特に制限はない。例えば、熱プレス及びラミネータを用いて樹脂層を加熱加圧処理することができる。また樹脂層を半硬化状態とする加熱加圧条件は、樹脂組成物の構成に応じて適宜選択でき、例えば、加熱温度40℃〜200℃、圧力0.1MPa〜100MPa及び0.3分間〜30分間の条件を挙げることができる。   The method for heat-pressing the resin layer is not particularly limited as long as the resin layer can be in a semi-cured state. For example, the resin layer can be heated and pressurized using a hot press and a laminator. Moreover, the heating and pressurizing conditions for setting the resin layer in a semi-cured state can be appropriately selected according to the structure of the resin composition. The minute conditions can be mentioned.

本発明のCステージ状態の樹脂シートは、引張弾性率が0.1GPa〜30GPaであり、引張破壊ひずみが0.10%〜0.70%であることが好ましく、引張弾性率が1GPa〜28GPaであり、引張破壊ひずみが0.14%〜0.65%であることがより好ましく、引張弾性率が2GPa〜26GPaであり、引張破壊ひずみが0.18%〜0.60%であることが更に好ましい。
本発明のCステージ状態の樹脂シートの引張弾性率及び引張破壊ひずみを所定の範囲とすることで、線膨張率の異なる被着体を貼り付けたときの接着強度を向上できる利点がある。
なお、本発明のCステージ状態の樹脂シートの引張弾性率及び引張破壊ひずみを所定の範囲とするには、樹脂と無機フィラーと必要に応じて用いられる硬化剤等のその他の成分の種類及び含有率を適宜選択することで達成される。本発明では、無機フィラーの組成がこれらの物性パラメータに影響することが多く、例えば、無機フィラーの含有率を上げると引張破壊ひずみは小さくなるが、破断強度は大きくなる。一方で、無機フィラーの含有率を下げると、引張破壊ひずみが大きくなり、破断強度は小さくなる。また、無機フィラーの種類を変えても調整可能であり、例えば、アルミナと窒化ホウ素の比率を変えても調整可能である。アルミナを多くすると、引張破壊ひずみは小さくなるが、破断強度は大きくなる。一方で、窒化ホウ素を多くすると、この逆が起きる。これらの技術は単独で用いてもよいし、組み合わせて用いてもよい。
The resin sheet in the C stage state of the present invention preferably has a tensile modulus of 0.1 GPa to 30 GPa, a tensile fracture strain of 0.10% to 0.70%, and a tensile modulus of 1 GPa to 28 GPa. More preferably, the tensile fracture strain is 0.14% to 0.65%, the tensile modulus is 2 GPa to 26 GPa, and the tensile fracture strain is further 0.18% to 0.60%. preferable.
There exists an advantage which can improve the adhesive strength when adhere | attaching the to-be-adhered body from which a linear expansion coefficient differs by making the tensile elasticity modulus and tensile fracture strain of the resin sheet of the C-stage state of this invention into a predetermined range.
In addition, in order to make the tensile elastic modulus and tensile fracture strain of the resin sheet in the C-stage state of the present invention within a predetermined range, the types and contents of other components such as a resin, an inorganic filler, and a curing agent used as necessary This is achieved by appropriately selecting the rate. In the present invention, the composition of the inorganic filler often affects these physical property parameters. For example, when the content of the inorganic filler is increased, the tensile fracture strain decreases, but the fracture strength increases. On the other hand, when the content of the inorganic filler is lowered, the tensile fracture strain increases and the breaking strength decreases. Further, it can be adjusted by changing the kind of the inorganic filler, for example, it can be adjusted by changing the ratio of alumina and boron nitride. When alumina is increased, the tensile fracture strain decreases, but the fracture strength increases. On the other hand, when boron nitride is increased, the reverse occurs. These techniques may be used alone or in combination.

なお、引張弾性率及び引張破壊ひずみは、JIS K7161−1994に準じて測定された値をいう。   In addition, a tensile elasticity modulus and a tensile fracture strain say the value measured according to JISK7161-1994.

<樹脂シート硬化物>
本発明の樹脂シート硬化物は、本発明の樹脂シートの熱処理物である。すなわち本発明の樹脂シート硬化物は、本発明の樹脂シートを熱処理することで樹脂シートを構成する樹脂組成物を硬化させて形成される。従って、樹脂シート硬化物は、樹脂と無機フィラーと必要に応じて用いられる硬化剤等のその他の成分を含む樹脂組成物の硬化物を含有する。
<Hardened resin sheet>
The cured resin sheet of the present invention is a heat-treated product of the resin sheet of the present invention. That is, the cured resin sheet of the present invention is formed by curing the resin composition constituting the resin sheet by heat-treating the resin sheet of the present invention. Therefore, the cured resin sheet contains a cured product of a resin composition including a resin, an inorganic filler, and other components such as a curing agent used as necessary.

また本発明の樹脂シート硬化物は、一般式(I)で表される化合物、一般式(II)で表される化合物及び一般式(III)で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種並びに硬化剤に由来する樹脂硬化物を含有することが好ましい。   The cured resin sheet of the present invention is at least selected from the group consisting of a compound represented by general formula (I), a compound represented by general formula (II), and a compound represented by general formula (III). It is preferable to contain a cured resin derived from one kind and a curing agent.

本発明の樹脂シート硬化物においては、無機フィラー同士が互いに接触すると高い熱伝導性を発揮する。樹脂と無機フィラーとでは熱伝導性が大きく異なるため、樹脂と無機フィラーとの混合物では、高熱伝導性である無機フィラー同士をなるべく接近させ、無機フィラー間の距離を短くすることが好ましい。例えば、樹脂と比較して熱伝導率が高い無機フィラーが樹脂を間に介さずに接触すると、熱伝導パスが形成し、熱伝導しやすい経路が形成できるため、高熱伝導性になりやすい。   In the cured resin sheet of the present invention, high thermal conductivity is exhibited when the inorganic fillers come into contact with each other. Since the thermal conductivity differs greatly between the resin and the inorganic filler, it is preferable that in the mixture of the resin and the inorganic filler, the inorganic fillers having high thermal conductivity are brought as close as possible to reduce the distance between the inorganic fillers. For example, when an inorganic filler having a higher thermal conductivity than a resin contacts without interposing the resin, a heat conduction path is formed, and a path that easily conducts heat can be formed.

樹脂シート硬化物を製造する際の熱処理条件は、本発明の樹脂シートの構成に応じて適宜選択することができる。例えば、本発明の樹脂シートを、120℃〜250℃、1分間〜300分間の条件で加熱処理することができる。また、樹脂がエポキシ樹脂を含む場合、当該エポキシ樹脂のガラス転移温度、熱伝導性、及び接着性の観点から、加熱処理条件は、三次元架橋構造を形成しやすくするため、徐々に温度を上昇させる工程を含むことが好ましい。例えば、本発明の樹脂シートに対して、100℃〜160℃及び160℃〜250℃の少なくとも2段階の加熱を行うことがより好ましく、上記の温度範囲にて、3段階以上の多段階の加熱処理を行うことが更に好ましい。これはエポキシ樹脂と硬化剤との未反応箇所を少なくすることで、架橋密度の上昇による特性の向上の他に、未反応箇所の熱分解を防ぎ、反応熱による樹脂中央部の過熱を防ぐ効果もある。   The heat treatment conditions for producing the cured resin sheet can be appropriately selected according to the configuration of the resin sheet of the present invention. For example, the resin sheet of the present invention can be heat-treated under conditions of 120 ° C. to 250 ° C. and 1 minute to 300 minutes. In addition, when the resin contains an epoxy resin, from the viewpoint of glass transition temperature, thermal conductivity, and adhesiveness of the epoxy resin, the heat treatment conditions gradually increase the temperature in order to facilitate the formation of a three-dimensional crosslinked structure. It is preferable to include the process to make. For example, it is more preferable to perform at least two stages of heating at 100 ° C. to 160 ° C. and 160 ° C. to 250 ° C. with respect to the resin sheet of the present invention. More preferably, the treatment is performed. By reducing the number of unreacted parts between the epoxy resin and the curing agent, the effect of preventing the thermal decomposition of the unreacted parts and the overheating of the resin center due to the reaction heat, in addition to improving the characteristics due to the increase in the crosslink density. There is also.

エポキシ樹脂としてメソゲン構造を有するエポキシ樹脂を用い、硬化剤と特定温度で反応させ樹脂硬化物を構成することで、高い熱伝導性を達成することができることが知られている。これは例えば、以下のように考えることができる。
すなわち、分子中にメソゲン構造を有するエポキシ樹脂と特定ノボラック樹脂とを用いて樹脂硬化物を形成することで、樹脂硬化物中に規則性の高い高次構造を形成することができる。しかし、特定の温度範囲でなければ、規則性の高い構造が得られない場合があることから、所望の熱伝導率が得られないことがある。上述の樹脂シート硬化物を製造する際の熱処理条件によれば、分子中にメソゲン構造を有するエポキシ樹脂と特定ノボラック樹脂とを用いて樹脂硬化物を形成する場合に、規則性の高い構造の硬化物が得られやすく、熱伝導率を向上させやすい傾向にある。
It is known that high thermal conductivity can be achieved by using an epoxy resin having a mesogenic structure as an epoxy resin and reacting with a curing agent at a specific temperature to form a cured resin. For example, this can be considered as follows.
That is, by forming a cured resin using an epoxy resin having a mesogenic structure in the molecule and a specific novolac resin, a highly ordered higher order structure can be formed in the cured resin. However, if the temperature is not within a specific temperature range, a highly ordered structure may not be obtained, and thus a desired thermal conductivity may not be obtained. According to the heat treatment conditions for producing the cured resin sheet described above, when a cured resin is formed using an epoxy resin having a mesogenic structure in the molecule and a specific novolac resin, a highly regular structure is cured. It is easy to obtain a product and tends to improve the thermal conductivity.

<樹脂シート積層体>
本発明の樹脂シート積層体は、本発明の樹脂シートと、前記樹脂シートの少なくとも一方の面上に配置される金属板又は放熱板とを有する。本発明の樹脂シート積層体を構成する本発明の樹脂シートの詳細については既述の通りである。また金属板又は放熱板としては、銅板、アルミ板、セラミック板等が挙げられる。なお、金属板又は放熱板の厚みは特に限定されず、目的等に応じて適宜選択することができる。また、金属板又は放熱板として、銅箔、アルミニウム箔等の金属箔を使用してもよい。
<Resin sheet laminate>
The resin sheet laminated body of this invention has the resin sheet of this invention, and the metal plate or heat sink which are arrange | positioned on the at least one surface of the said resin sheet. The details of the resin sheet of the present invention constituting the resin sheet laminate of the present invention are as described above. Moreover, as a metal plate or a heat sink, a copper plate, an aluminum plate, a ceramic plate, etc. are mentioned. In addition, the thickness of a metal plate or a heat sink is not specifically limited, According to the objective etc., it can select suitably. Moreover, you may use metal foil, such as copper foil and aluminum foil, as a metal plate or a heat sink.

本発明の樹脂シート積層体においては、本発明の樹脂シートの少なくとも一方の面上に金属板又は放熱板が配置され、好ましくは両方の面上に配置される。   In the resin sheet laminated body of this invention, a metal plate or a heat sink is arrange | positioned on the at least one surface of the resin sheet of this invention, Preferably it arrange | positions on both surfaces.

本発明の樹脂シート積層体は、本発明の樹脂シートの少なくとも一方の面上に、金属板又は放熱板を配置して積層体を得る工程を含む製造方法で製造することができる。   The resin sheet laminated body of this invention can be manufactured with the manufacturing method including the process of arrange | positioning a metal plate or a heat sink on at least one surface of the resin sheet of this invention, and obtaining a laminated body.

樹脂シート上に、金属板又は放熱板を配置する方法としては、通常用いられる方法を特に制限なく用いることができる。例えば、樹脂シートの少なくとも一方の面上に、金属板又は放熱板を貼り合わせる方法を挙げることができる。貼り合わせ方法としては、樹脂シートに含まれる樹脂成分による接着による方法であっても、樹脂シート表面に塗布したグリースの粘着による方法であってもよい。これらの方法は、必要な物性、樹脂シート積層体を用いて構成される半導体装置の形態等に応じて適宜使い分けることができる。具体的な貼り合わせ方法としては、プレス法、ラミネート法等が挙げられる。プレス法及びラミネート法の条件は樹脂シートの構成に応じて適宜選択することができる。プレス工程における加熱加圧方法は、特に制限されない。例えば、プレス装置、ラミネート装置、金属ロールプレス装置及び真空プレス装置を用いて加熱加圧する方法を挙げることができる。   As a method of disposing a metal plate or a heat radiating plate on the resin sheet, a commonly used method can be used without particular limitation. For example, the method of bonding a metal plate or a heat sink on at least one surface of a resin sheet can be mentioned. The bonding method may be a method by adhesion with a resin component contained in the resin sheet or a method by adhesion of grease applied to the surface of the resin sheet. These methods can be appropriately used depending on the required physical properties, the form of the semiconductor device formed using the resin sheet laminate, and the like. Specific bonding methods include a pressing method and a laminating method. The conditions for the pressing method and the laminating method can be appropriately selected according to the configuration of the resin sheet. The heating and pressing method in the pressing step is not particularly limited. For example, the method of heat-pressing using a press apparatus, a lamination apparatus, a metal roll press apparatus, and a vacuum press apparatus can be mentioned.

加熱加圧する条件は、例えば、温度を60℃〜250℃とし、圧力を0.5MPa〜100MPaとして、時間を0.1分間〜360分間とすることができ、温度を70℃〜240℃とし、圧力を1MPa〜80MPaとして、時間を0.5分間〜300分間とすることが好ましい。また加熱加圧処理は、大気圧(常圧下)でも行うことが可能であるが、減圧下にて行うことが好ましい。減圧条件としては30000Pa以下であることが好ましく、10000Pa以下であることがより好ましい。   Conditions for heating and pressurizing can be, for example, a temperature of 60 ° C. to 250 ° C., a pressure of 0.5 MPa to 100 MPa, a time of 0.1 minutes to 360 minutes, a temperature of 70 ° C. to 240 ° C., The pressure is preferably 1 to 80 MPa, and the time is preferably 0.5 to 300 minutes. The heat and pressure treatment can be performed at atmospheric pressure (under normal pressure), but is preferably performed under reduced pressure. The decompression condition is preferably 30000 Pa or less, more preferably 10,000 Pa or less.

また本発明の樹脂シート積層体は、前記樹脂シートの一方の面上に金属板又は放熱板を有し、前記金属板又は放熱板の配置される面とは反対の面に被着体を有していてもよい。樹脂シート積層体を熱処理して、樹脂シート積層体に含まれる樹脂シートを硬化することで、被着体と金属板又は放熱板との間の熱伝導性に優れる樹脂シート積層体硬化物を形成することができる。   Further, the resin sheet laminate of the present invention has a metal plate or a heat radiating plate on one surface of the resin sheet, and has an adherend on the surface opposite to the surface on which the metal plate or the heat radiating plate is arranged. You may do it. Heat-treating the resin sheet laminate to cure the resin sheet contained in the resin sheet laminate, thereby forming a cured resin sheet laminate that has excellent thermal conductivity between the adherend and the metal plate or heat sink can do.

前記被着体としては特に制限されない。被着体の材質としては、金属、樹脂、セラミックス、それらの混合物である樹脂/セラミックス、樹脂/金属といった複合材料等を挙げることができる。被着体の形状としては、薄膜状、板状、箱状等、様々な形態が挙げられる。
本発明の樹脂シート積層体は、前記樹脂シートの一方の面上に金属板又は放熱板を有し、前記金属板又は放熱板の配置される面とは反対の面に金属箔を有していてもよい。
The adherend is not particularly limited. Examples of the material of the adherend include metals, resins, ceramics, composite materials such as resins / ceramics and resins / metals that are mixtures thereof. Examples of the shape of the adherend include various forms such as a thin film, a plate, and a box.
The resin sheet laminate of the present invention has a metal plate or a heat radiating plate on one surface of the resin sheet, and has a metal foil on the surface opposite to the surface on which the metal plate or the heat radiating plate is arranged. May be.

<樹脂シート積層体硬化物及びその製造方法>
本発明の樹脂シート積層体硬化物は、前記樹脂シート積層体の熱処理物である。本発明の樹脂シート積層体硬化物の製造方法は、前記樹脂シートの少なくとも一方の面上に、金属板又は放熱板を配置する工程と、前記樹脂シートに熱を与えて前記樹脂シートを硬化させる工程とを有し、必要に応じてその他の工程を含んでもよい。
<Resin sheet laminate cured product and production method thereof>
The cured resin sheet laminate of the present invention is a heat-treated product of the resin sheet laminate. The method for producing a cured resin sheet laminate of the present invention includes a step of placing a metal plate or a heat sink on at least one surface of the resin sheet, and curing the resin sheet by applying heat to the resin sheet. And may include other steps as necessary.

樹脂シート上に、金属板又は放熱板を配置する方法としては、樹脂シート積層体の項で開示した方法及び条件を適用できる。   As a method of disposing a metal plate or a heat sink on the resin sheet, the method and conditions disclosed in the section of the resin sheet laminate can be applied.

本発明の樹脂シート積層体硬化物の製造方法においては、前記金属板又は放熱板を配置する工程後に加熱処理して、本発明の樹脂シートを硬化させる。樹脂シート積層体の加熱処理を行うことで熱伝導性がより向上する。樹脂シート積層体の加熱処理は、例えば、120℃〜250℃、10分間〜300分間で行うことができる。また、樹脂シート積層体の加熱処理条件は、熱伝導性の観点から、硬化物が高次構造を形成しやすい温度を含むことが好ましい。例えば、樹脂シート積層体の加熱処理では、100℃〜160℃と160℃〜250℃の少なくとも2段階の加熱を行うことがより好ましく、更に、上記の温度範囲にて、3段階以上の多段階の加熱を行うことが更に好ましい。   In the manufacturing method of the resin sheet laminated body cured product of the present invention, the resin sheet of the present invention is cured by heat treatment after the step of arranging the metal plate or the heat sink. Thermal conductivity improves more by performing the heat processing of the resin sheet laminated body. The heat treatment of the resin sheet laminate can be performed, for example, at 120 ° C. to 250 ° C. for 10 minutes to 300 minutes. Moreover, it is preferable that the heat processing conditions of a resin sheet laminated body include the temperature which a hardened | cured material tends to form a higher order structure from a heat conductive viewpoint. For example, in the heat treatment of the resin sheet laminate, it is more preferable to perform at least two steps of heating at 100 ° C. to 160 ° C. and 160 ° C. to 250 ° C. Furthermore, in the above temperature range, there are three or more steps. It is more preferable to perform the heating.

<半導体装置>
本発明の半導体装置は、半導体素子と、前記半導体素子上に配置される本発明の樹脂シート硬化物とを備える。前記半導体装置は必要に応じてその他の部材を更に有していてもよい。前記半導体素子としては、通常用いられる半導体素子を特に制限なく用いることができる。半導体素子として具体的には、IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)、サイリスタ等のパワー半導体素子、LED素子などを挙げることができる。以下、図面を参照しながら半導体装置の構成例について説明する。
<Semiconductor device>
The semiconductor device of this invention is equipped with a semiconductor element and the resin sheet hardened | cured material of this invention arrange | positioned on the said semiconductor element. The semiconductor device may further include other members as necessary. As the semiconductor element, a commonly used semiconductor element can be used without particular limitation. Specific examples of the semiconductor element include an IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor), a power semiconductor element such as a thyristor, and an LED element. Hereinafter, a configuration example of a semiconductor device will be described with reference to the drawings.

図1〜図6には、本発明の樹脂シート硬化物を用いて構成されるパワー半導体装置の構成例を示す。各図において、同じ符号については説明を省略する場合がある。
図1は、ハウジング103内に、パワー半導体素子110が、はんだ層112を介して配置される銅板104と、樹脂シート硬化物102と、グリース層108を介して水冷ジャケット120上に配置される放熱ベース106とで構成されたパワー半導体装置100の構成例を示す模式断面図である。パワー半導体素子110の周囲は、封止樹脂146で封止されている。パワー半導体素子110を含む発熱体が、樹脂シート硬化物102を介して放熱部材と接触していることで、効率よく放熱が行なわれる。なお、放熱ベース106は、熱伝導性を有する銅、アルミニウム等を用いて構成することができる。またパワー半導体素子110としては、IGBT、サイリスタ等を挙げることができる。
1 to 6 show configuration examples of a power semiconductor device configured using the cured resin sheet of the present invention. In each figure, description of the same reference numerals may be omitted.
FIG. 1 shows heat dissipation in which a power semiconductor element 110 is disposed in a housing 103 on a water cooling jacket 120 via a copper plate 104 disposed via a solder layer 112, a cured resin sheet 102, and a grease layer 108. 3 is a schematic cross-sectional view showing a configuration example of a power semiconductor device 100 configured with a base 106. FIG. The periphery of the power semiconductor element 110 is sealed with a sealing resin 146. Since the heating element including the power semiconductor element 110 is in contact with the heat radiating member via the cured resin sheet 102, heat is efficiently radiated. The heat dissipation base 106 can be configured using copper, aluminum, or the like having thermal conductivity. Examples of the power semiconductor element 110 include an IGBT and a thyristor.

図2は、パワー半導体素子110の両面に、冷却部材を配置して構成されたパワー半導体装置150の構成例を示す模式断面図である。パワー半導体装置150においては、パワー半導体素子110の上面に配置される冷却部材が、はんだ層112を介して設けられた2層の銅板104を含んで構成されている。かかる構成であることにより、チップ割れ及びはんだ割れの発生を、より効果的に抑制することができる。図2では、半導体素子110から遠い側に配置される銅板104は、樹脂シート硬化物102及びグリース層108を介して水冷ジャケット120に接続している。一方、半導体素子110の下面に配置される冷却部材では、1層の銅板104が樹脂シート硬化物102及びグリース層108を介して水冷ジャケット120に接続している。また、樹脂シート硬化物102のグリース層108側の面に、銅箔、アルミ箔等が接着されていてもよい。図2では、樹脂シート硬化物102と水冷ジャケット120とがグリース層108を介して配置されているが、樹脂シート硬化物102と水冷ジャケット120とが直接接触するように配置されていてもよい。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a configuration example of a power semiconductor device 150 configured by arranging cooling members on both surfaces of the power semiconductor element 110. In the power semiconductor device 150, the cooling member disposed on the upper surface of the power semiconductor element 110 includes a two-layer copper plate 104 provided via a solder layer 112. With such a configuration, generation of chip cracks and solder cracks can be more effectively suppressed. In FIG. 2, the copper plate 104 disposed on the side far from the semiconductor element 110 is connected to the water cooling jacket 120 via the resin sheet cured product 102 and the grease layer 108. On the other hand, in the cooling member disposed on the lower surface of the semiconductor element 110, one layer of the copper plate 104 is connected to the water cooling jacket 120 via the resin sheet cured product 102 and the grease layer 108. Further, a copper foil, an aluminum foil, or the like may be bonded to the surface of the cured resin sheet 102 on the grease layer 108 side. In FIG. 2, the cured resin sheet 102 and the water cooling jacket 120 are arranged via the grease layer 108, but the cured resin sheet 102 and the water cooling jacket 120 may be arranged so as to be in direct contact with each other.

図3は、パワー半導体素子110の両面に、冷却部材を配置して構成されたパワー半導体装置200の構成例を示す模式断面図である。パワー半導体装置200においては、パワー半導体素子110の両面に配置される冷却部材が、それぞれ1層の銅板104を含んで構成されている。また、樹脂シート硬化物102のグリース層108側の面に、銅箔、アルミ箔等が接着されていてもよい。図3では樹脂シート硬化物102と水冷ジャケット120とがグリース層108を介して配置されているが、樹脂シート硬化物102と水冷ジャケット120とが直接接触するように配置されていてもよい。   FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration example of a power semiconductor device 200 configured by disposing cooling members on both surfaces of the power semiconductor element 110. In the power semiconductor device 200, the cooling members disposed on both surfaces of the power semiconductor element 110 are each configured to include one layer of copper plate 104. Further, a copper foil, an aluminum foil, or the like may be bonded to the surface of the cured resin sheet 102 on the grease layer 108 side. In FIG. 3, the cured resin sheet 102 and the water cooling jacket 120 are disposed via the grease layer 108, but the cured resin sheet 102 and the water cooling jacket 120 may be disposed so as to be in direct contact with each other.

図4は、パワー半導体素子110の両面に、冷却部材を配置して構成されたパワー半導体装置250の構成例を示す模式断面図である。パワー半導体装置250においては、パワー半導体素子110の上面に配置される冷却部材が、はんだ層112を介して設けられた銅板104を含んで構成されている。かかる構成であることにより、チップ割れ及びはんだ割れの発生を、より効果的に抑制することができる。また、モジュール内に樹脂シート硬化物102を含有することで、シート割れ、外界の振動等による影響を防ぐことができ、信頼性が高まる。図4では、上面及び下面に配置される銅板104は、それぞれ、樹脂シート硬化物102、放熱ベース106及びグリース層108を介して水冷ジャケット120に接続している。放熱ベース106としては、銅箔、アルミ箔等が挙げられる。またパワー半導体素子110は、配線部材114を介して外部端子116と接続されている。図4では、樹脂シート硬化物102と水冷ジャケット120とが、樹脂シート硬化物102上に配置される放熱ベース106とグリース層108とを介して配置されているが、樹脂シート硬化物102と水冷ジャケット120とが直接接触するように配置されていてもよい。   FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a configuration example of a power semiconductor device 250 configured by disposing cooling members on both surfaces of the power semiconductor element 110. In the power semiconductor device 250, the cooling member disposed on the upper surface of the power semiconductor element 110 includes the copper plate 104 provided via the solder layer 112. With such a configuration, generation of chip cracks and solder cracks can be more effectively suppressed. Further, by including the cured resin sheet 102 in the module, it is possible to prevent the influence of sheet cracking, external vibration, and the like, and the reliability is improved. In FIG. 4, the copper plates 104 disposed on the upper surface and the lower surface are connected to the water cooling jacket 120 via the resin sheet cured product 102, the heat dissipation base 106, and the grease layer 108, respectively. Examples of the heat dissipation base 106 include copper foil and aluminum foil. The power semiconductor element 110 is connected to the external terminal 116 through the wiring member 114. In FIG. 4, the cured resin sheet 102 and the water cooling jacket 120 are disposed via the heat radiation base 106 and the grease layer 108 disposed on the cured resin sheet 102. You may arrange | position so that the jacket 120 may contact directly.

図5は、パワー半導体素子110の両面に、冷却部材を配置して構成されたパワー半導体装置300の構成例を示す模式断面図である。パワー半導体装置300においては、パワー半導体素子110の両面に配置される冷却部材が、それぞれ1層の銅板104を含んで構成されている。なお、パワー半導体素子110の一方の面には、スペーサ101を介して銅板104が配置される。また、モジュール内に樹脂シート硬化物102を含有することで、シート割れ、外界の振動等による影響を防ぐことができ、信頼性が高まる。図5では、銅板104は、樹脂シート硬化物102、放熱ベース106及びグリース層108を介して水冷ジャケット120に接続している。また前記パワー半導体素子110は、配線部材114を介して外部端子116と接続されている。図5では樹脂シート硬化物102と水冷ジャケット120とが、樹脂シート硬化物102上に配置される放熱ベース106とグリース層108とを介して配置されているが、樹脂シート硬化物102と水冷ジャケット120とが直接接触するように配置されていてもよい。   FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a configuration example of a power semiconductor device 300 configured by disposing cooling members on both surfaces of the power semiconductor element 110. In the power semiconductor device 300, the cooling members disposed on both surfaces of the power semiconductor element 110 are each configured to include one layer of the copper plate 104. A copper plate 104 is disposed on one surface of the power semiconductor element 110 with a spacer 101 interposed therebetween. Further, by including the cured resin sheet 102 in the module, it is possible to prevent the influence of sheet cracking, external vibration, and the like, and the reliability is improved. In FIG. 5, the copper plate 104 is connected to the water cooling jacket 120 through the cured resin sheet 102, the heat dissipation base 106 and the grease layer 108. The power semiconductor element 110 is connected to an external terminal 116 through a wiring member 114. In FIG. 5, the cured resin sheet 102 and the water cooling jacket 120 are disposed via the heat dissipation base 106 and the grease layer 108 disposed on the cured resin sheet 102. You may arrange | position so that 120 may contact directly.

図6は、パワー半導体素子110が、はんだ層112を介して配置される銅板104と、樹脂シート硬化物102と、グリース層108を介して水冷ジャケット120上に配置される放熱ベース106とで構成されたパワー半導体装置350の構成例を示す模式断面図である。パワー半導体素子110を含む発熱体が樹脂シート硬化物102を介して放熱部材と接触していることで、効率よく放熱が行なわれる。なお、前記放熱ベース106は、熱伝導性を有する銅、アルミニウム等を用いて構成することができる。   In FIG. 6, the power semiconductor element 110 includes a copper plate 104 disposed via a solder layer 112, a cured resin sheet 102, and a heat radiation base 106 disposed on a water cooling jacket 120 via a grease layer 108. 2 is a schematic cross-sectional view showing a configuration example of a power semiconductor device 350. Since the heating element including the power semiconductor element 110 is in contact with the heat radiating member via the cured resin sheet 102, heat is efficiently radiated. The heat dissipation base 106 can be configured using copper, aluminum, or the like having thermal conductivity.

<LED装置>
本発明のLED装置は、LED素子と、本発明の樹脂シート硬化物と、基板とがこの順に積層されて構成される。本発明のLED装置は、必要に応じてその他の部材を更に有していてもよい。前記基板としては、アルミニウム基板を挙げることができる。
<LED device>
The LED device of the present invention is configured by laminating an LED element, a cured resin sheet of the present invention, and a substrate in this order. The LED device of the present invention may further include other members as necessary. An example of the substrate is an aluminum substrate.

図7〜図10には、本発明の樹脂シート硬化物を用いて構成されるLED装置の構成例を示す。
図7は、本発明の樹脂シート硬化物を用いて構成されるLEDライトバー400の構成の一例を示す模式断面図である。LEDライトバー400は、ハウジング138と、グリース層136と、アルミニウム基板134と、樹脂シート硬化物132と、LEDチップ130とがこの順に配置され、ビス140で固定されて構成される。発熱体であるLEDチップ130が樹脂シート硬化物132を介してアルミニウム基板134上に配置されることで、効率よく放熱することができる。
In FIGS. 7-10, the structural example of the LED apparatus comprised using the resin sheet hardened | cured material of this invention is shown.
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing an example of the configuration of the LED light bar 400 configured using the cured resin sheet of the present invention. The LED light bar 400 includes a housing 138, a grease layer 136, an aluminum substrate 134, a cured resin sheet 132, and an LED chip 130 arranged in this order and fixed with screws 140. By disposing the LED chip 130 as a heating element on the aluminum substrate 134 through the cured resin sheet 132, it is possible to efficiently dissipate heat.

図8は、LED電球の発光部450の構成例を示す模式断面図である。LED電球の発光部450は、ハウジング138と、グリース層136と、アルミニウム基板134と、樹脂シート硬化物132と、回路層142と、LEDチップ130とがこの順に配置され、ビス140で固定されて構成される。また図9は、LED電球500の全体の構成の一例を示す模式断面図である。LED電球の発光部を構成するハウジング138は、電源部材148を内包する封止樹脂146上に配置されている。   FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing a configuration example of the light emitting unit 450 of the LED bulb. The light emitting unit 450 of the LED bulb includes a housing 138, a grease layer 136, an aluminum substrate 134, a resin sheet cured product 132, a circuit layer 142, and an LED chip 130 arranged in this order and fixed with screws 140. Composed. FIG. 9 is a schematic cross-sectional view showing an example of the overall configuration of the LED bulb 500. A housing 138 that constitutes a light emitting portion of the LED bulb is disposed on a sealing resin 146 that encloses a power supply member 148.

図10は、LED基板550の構成の一例を示す模式断面図である。LED基板550は、アルミニウム基板134と、樹脂シート硬化物132と、回路層142と、LEDチップ130とがこの順に配置されて構成される。発熱体であるLEDチップ130が回路層142と樹脂シート硬化物132とを介してアルミニウム基板134上に配置されることで、効率よく放熱することができる。   FIG. 10 is a schematic cross-sectional view showing an example of the configuration of the LED substrate 550. The LED substrate 550 includes an aluminum substrate 134, a cured resin sheet 132, a circuit layer 142, and an LED chip 130 arranged in this order. By disposing the LED chip 130 as a heating element on the aluminum substrate 134 via the circuit layer 142 and the cured resin sheet 132, heat can be efficiently radiated.

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「%」は質量基準である。     EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass.

以下に樹脂シートの作製に用いた材料とその略号を示す。   The materials used for the production of the resin sheet and their abbreviations are shown below.

(窒化ホウ素フィラー)
窒化ホウ素フィラーの比表面積、一次粒径及び二次粒径をまとめて表1に示す。
HP:水島合金鉄(株)、製品名 HP40
RP:電気化学工業(株)、製品名FP40
MP:住友3M(株)、製品名Agglomerates
GP:電気化学工業(株)、製品名GP
SGP:電気化学工業(株)、製品名SGP
HGP:電気化学工業(株)、製品名HGP
SP−2:電気化学工業(株)、製品名SP−2
(Boron nitride filler)
Table 1 summarizes the specific surface area, primary particle size, and secondary particle size of the boron nitride filler.
HP: Mizushima Alloy Iron Co., Ltd., product name HP40
RP: Electrochemical Industry Co., Ltd., product name FP40
MP: Sumitomo 3M Co., Ltd., product name Agglomerates
GP: Electrochemical Industry Co., Ltd., product name GP
SGP: Electrochemical Industry Co., Ltd., product name SGP
HGP: Electrochemical Industry Co., Ltd., product name HGP
SP-2: Electrochemical Industry Co., Ltd., product name SP-2

(アルミナフィラー)
・AA−18:酸化アルミニウム粒子、製品名:AA−18、住友化学(株)、体積平均粒子径18μm
・AA−3:酸化アルミニウム粒子、製品名:AA−3、住友化学(株)、体積平均粒子径3μm
・AA−04:酸化アルミニウム粒子、製品名:AA−04、住友化学(株)、体積平均粒子径0.4μm
(Alumina filler)
AA-18: aluminum oxide particles, product name: AA-18, Sumitomo Chemical Co., Ltd., volume average particle diameter 18 μm
AA-3: aluminum oxide particles, product name: AA-3, Sumitomo Chemical Co., Ltd., volume average particle diameter 3 μm
AA-04: aluminum oxide particles, product name: AA-04, Sumitomo Chemical Co., Ltd., volume average particle size 0.4 μm

(硬化剤(ノボラック樹脂を含む))
・CRN:カテコールレゾルシノールノボラック樹脂、数平均分子量425、フェノール化合物の含有率35%
(Curing agent (including novolak resin))
CRN: catechol resorcinol novolak resin, number average molecular weight 425, phenol compound content 35%

(エポキシ樹脂)
・TN:2,2’,7,7’−テトラ(2,3−エポキシプロポキシ)−1,1’−メチレンビスナフタレン型エポキシ樹脂、製品名:HP4710、DIC(株)
・BP:ビフェニル型エポキシ樹脂、型番YL6121H、三菱化学(株)
・BIS−A/F:ビスフェノールA/F混合型エポキシ樹脂、型番ZX−1059、新日鉄住金化学(株)
(Epoxy resin)
TN: 2,2 ′, 7,7′-tetra (2,3-epoxypropoxy) -1,1′-methylenebisnaphthalene type epoxy resin, product name: HP4710, DIC Corporation
-BP: biphenyl type epoxy resin, model number YL6121H, Mitsubishi Chemical Corporation
・ BIS-A / F: Bisphenol A / F mixed epoxy resin, model number ZX-1059, Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.

(添加剤)
・TPP:トリフェニルホスフィン(硬化促進剤、和光純薬工業(株))
(Additive)
・ TPP: Triphenylphosphine (curing accelerator, Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

(有機溶剤)
・CHN:シクロヘキサノン(和光純薬工業(株)、1級)
(Organic solvent)
CHN: cyclohexanone (Wako Pure Chemical Industries, Ltd., 1st grade)

(支持体)
・PETフィルム:製品名A31、帝人デュポンフィルム(株)
・銅箔:製品名CF−T9D−SV、福田金属箔粉工業(株)、厚み35μm
(Support)
・ PET film: Product name A31, Teijin DuPont Films Ltd.
Copper foil: product name CF-T9D-SV, Fukuda Metal Foil Powder Co., Ltd., thickness 35 μm

<合成例>
(ノボラック樹脂の合成)
窒素雰囲気下でセパラブルフラスコに、フェノール化合物のモノマーとしてレゾルシノール105g及びカテコール5g、触媒としてシュウ酸0.11g(対モノマー比 0.1%)、並びに溶剤としてメタノール15gをそれぞれ量り取った後、内容物を撹拌し、40℃以下になるように油浴で冷却しながらホルマリン30gを加えた。2時間撹拌した後、油浴の温度を100℃にして、加温しながら水及びメタノールを減圧留去した。水及びメタノールが留出しなくなったことを確認した後、CHNをノボラック樹脂の含有率が50%となるように加えて、カテコールレゾルシノールノボラック樹脂(CRN)溶液を得た。
<Synthesis example>
(Synthesis of novolac resin)
In a separable flask under a nitrogen atmosphere, 105 g of resorcinol and 5 g of catechol as monomers of a phenol compound, 0.11 g of oxalic acid as a catalyst (0.1% monomer ratio), and 15 g of methanol as a solvent were measured, respectively. The product was stirred and 30 g of formalin was added while cooling in an oil bath to 40 ° C. or lower. After stirring for 2 hours, the temperature of the oil bath was set to 100 ° C., and water and methanol were distilled off under reduced pressure while heating. After confirming that water and methanol were no longer distilled, CHN was added so that the content of novolak resin was 50% to obtain a catechol resorcinol novolak resin (CRN) solution.

得られた生成物のGPCによる分子量測定で数平均分子量、モノマー含有比率を定量した。また得られた生成物のNMRスペクトルを測定し、一般式(IV)で表される構造単位が含まれていることを確認した。なお、GPC測定及びNMR測定の条件については、後述する。   The number average molecular weight and monomer content ratio were quantified by molecular weight measurement of the obtained product by GPC. Moreover, the NMR spectrum of the obtained product was measured and it confirmed that the structural unit represented by general formula (IV) was contained. The conditions for GPC measurement and NMR measurement will be described later.

<実施例1>
アルミナ(AA−04)3.13部と、HP 58.6部と、エポキシ樹脂の硬化剤としてCRNを固形分として19.6部と、CHN 52.5部とを混合した。均一になったことを確認した後に、エポキシ樹脂としてTN 15.2部、BP 2.75部及びBIS−A/F8.89部と、TPP 0.11部とを更に加えて混合した後、3時間〜40時間ボールミル粉砕を行って、樹脂組成物として樹脂層形成用塗工液を得た。
<Example 1>
3.13 parts of alumina (AA-04), 58.6 parts of HP, 19.6 parts of CRN as a solid content of an epoxy resin curing agent, and 52.5 parts of CHN were mixed. After confirming that it became uniform, 15.2 parts of TN, 2.75 parts of BP, 8.89 parts of BIS-A / F and 0.11 part of TPP were added and mixed as an epoxy resin, and then 3 Ball milling was performed for 40 hours to obtain a resin layer forming coating solution as a resin composition.

片面が離型処理されたPETフィルム(厚み50μm、帝人デュポンフィルム(株) A31を支持体とし、その離型処理面上に厚みが約100μmになるように、樹脂層形成用塗工液をテーブルコータ(テスター産業(株))を用いて塗布して塗布層を形成した。100℃のボックス型オーブンで5分乾燥し、PETフィルム上にAステージ状態の樹脂層が形成された樹脂シート1(Aステージシートともいう)を形成した。   A PET film (thickness 50 μm, Teijin DuPont Films Co., Ltd.) A31 is used as a support, and a resin layer-forming coating solution is placed on a table so that the thickness is approximately 100 μm on the release-treated surface. A coating layer was formed by coating using a coater (Tester Sangyo Co., Ltd.) Resin sheet 1 (A stage resin layer formed on a PET film after drying for 5 minutes in a box oven at 100 ° C. ( A stage sheet) was also formed.

上記で得られたAステージシートを2枚用い、樹脂層同士が対向するように重ねた。熱プレス装置(熱板100℃、圧力10MPa、処理時間1分)を用いて、加熱加圧処理して貼り合わせ、平均厚さが188μmであるBステージ状態の樹脂シート1(Bステージシートともいう)を得た。   Two A-stage sheets obtained as described above were used and overlapped so that the resin layers face each other. Using a hot press apparatus (hot plate 100 ° C., pressure 10 MPa, treatment time 1 minute), heat-pressing and bonding, the B-stage resin sheet 1 having an average thickness of 188 μm (also called a B-stage sheet) )

[樹脂シート積層体硬化物の作製]
上記で得られたBステージシートの両面からPETフィルムを剥離し、その両面に35μm厚の銅箔(福田金属箔粉工業(株)、CF−T9D−SV)をそれぞれ重ねた後、プレス処理を行った。プレス処理条件は熱板温度150℃、真空度10kPa以下、圧力10MPa、処理時間3分とした。更にボックス型オーブン中、140℃で2時間、165℃で2時間、190℃で2時間、順次加熱処理することにより、両面に銅箔が設けられたCステージ状態の樹脂シート積層体硬化物1を得た。
[Preparation of cured resin sheet laminate]
The PET film was peeled off from both sides of the B stage sheet obtained above, and a 35 μm thick copper foil (Fukuda Metal Foil Powder Co., Ltd., CF-T9D-SV) was stacked on each side, followed by press treatment. went. The press treatment conditions were a hot plate temperature of 150 ° C., a vacuum degree of 10 kPa or less, a pressure of 10 MPa, and a treatment time of 3 minutes. Further, the cured resin sheet laminate 1 in a C-stage state in which copper foil is provided on both sides by sequentially heat-treating in a box-type oven at 140 ° C. for 2 hours, 165 ° C. for 2 hours, and 190 ° C. for 2 hours. Got.

<実施例2>
アルミナ(AA−18、AA−3、AA−04)をそれぞれ7.67部、5.56部、9.16部と、HP 48.2部と、エポキシ樹脂の硬化剤としてCRNを固形分として15.3部と、CHN 43.8部とを混合した。均一になったことを確認した後に、エポキシ樹脂としてTN 11.8部、BP 2.14部及びBIS−A/F6.93部と、TPP 0.09部とを更に加えて混合したこと以外は実施例1と同様にして、Aステージ状態の樹脂シート2、Bステージ状態の樹脂シート2、両面に銅箔が設けられたCステージ状態の樹脂シート積層体硬化物2をそれぞれ得た。
<Example 2>
Alumina (AA-18, AA-3, AA-04) 7.67 parts, 5.56 parts, 9.16 parts, HP 48.2 parts, respectively, CRN as a solid content of epoxy resin curing agent 15.3 parts and 43.8 parts of CHN were mixed. After confirming that it became uniform, except that TN 11.8 parts, BP 2.14 parts and BIS-A / F 6.93 parts, and TPP 0.09 parts were further added and mixed as an epoxy resin. In the same manner as in Example 1, a resin sheet 2 in an A stage state, a resin sheet 2 in a B stage state, and a cured resin sheet laminate 2 in a C stage state in which copper foils were provided on both surfaces were obtained.

<実施例3>
実施例1において、アルミナ(AA−18、AA−3、AA−04)をそれぞれ7.84部、5.68部、9.37部と、HP 49.3部と、エポキシ樹脂の硬化剤としてCRNを固形分として14.4部と、CHN 41.3部とを混合した。均一になったことを確認した後に、エポキシ樹脂としてTN 11.2部、BP 2.02部及びBIS−A/F6.53部と、TPP 0.08部とを更に加えて混合したこと以外は実施例1と同様にして、Aステージ状態の樹脂シート3、Bステージ状態の樹脂シート3、両面に銅箔が設けられたCステージ状態の樹脂シート積層体硬化物3をそれぞれ得た。
<Example 3>
In Example 1, alumina (AA-18, AA-3, AA-04) was 7.84 parts, 5.68 parts, 9.37 parts, HP 49.3 parts, and a curing agent for epoxy resin, respectively. 14.4 parts of CRN as a solid content and 41.3 parts of CHN were mixed. After confirming that it became uniform, except that 11.2 parts of TN, 2.02 parts of BP, 6.53 parts of BIS-A / F, and 0.08 parts of TPP were further added and mixed as an epoxy resin. In the same manner as in Example 1, a resin sheet 3 in an A stage state, a resin sheet 3 in a B stage state, and a cured resin sheet laminate 3 in a C stage state in which copper foils were provided on both surfaces were obtained.

<実施例4>
実施例2において、HPをRP 48.2部に置き換え、CHNを65.7部用いたこと以外は実施例2と同様にして、Aステージ状態の樹脂シート4、Bステージ状態の樹脂シート4、両面に銅箔が設けられたCステージ状態の樹脂シート積層体硬化物4をそれぞれ得た。
<Example 4>
In Example 2, except that HP was replaced with 48.2 parts of RP and 65.7 parts of CHN were used, the same as in Example 2, the resin sheet 4 in the A stage state, the resin sheet 4 in the B stage state, C-stage resin sheet cured products 4 each having a copper foil provided on both surfaces were obtained.

<実施例5>
実施例2において、HPをMP 48.2部に置き換え、CHNを65.7部用いたこと以外は実施例2と同様にして、Aステージ状態の樹脂シート5、Bステージ状態の樹脂シート5、両面に銅箔が設けられたCステージ状態の樹脂シート積層体硬化物5をそれぞれ得た。
<Example 5>
In Example 2, except that HP was replaced with 48.2 parts of MP and 65.7 parts of CHN were used, the same as in Example 2, the resin sheet 5 in the A stage state, the resin sheet 5 in the B stage state, C-stage resin sheet cured products 5 each having a copper foil provided on both surfaces were obtained.

<実施例6>
アルミナ(AA−18、AA−3、AA−04)をそれぞれ17.4部、5.97部、9.81部と、RP 47.6部と、エポキシ樹脂の硬化剤としてCRNを固形分として10.3部と、CHN 74.3部とを混合した。均一になったことを確認した後に、エポキシ樹脂としてTN 8.06部、BP 1.46部及びBIS−A/F4.71部と、TPP 0.16部とを更に加えて混合したこと以外は実施例1と同様にして、Aステージ状態の樹脂シート6、Bステージ状態の樹脂シート6、両面に銅箔が設けられたCステージ状態の樹脂シート積層体硬化物6をそれぞれ得た。
<Example 6>
Alumina (AA-18, AA-3, AA-04) 17.4 parts, 5.97 parts, 9.81 parts, RP 47.6 parts, respectively, CRP as a solid content of epoxy resin curing agent 10.3 parts and 74.3 parts of CHN were mixed. After confirming that it became uniform, except that TN 8.06 parts, BP 1.46 parts and BIS-A / F 4.71 parts and TPP 0.16 parts were further added and mixed as an epoxy resin. In the same manner as in Example 1, a resin sheet 6 in the A stage state, a resin sheet 6 in the B stage state, and a cured resin sheet laminate 6 in the C stage state in which copper foil was provided on both surfaces were obtained.

<実施例7>
アルミナ(AA−18、AA−3、AA−04)をそれぞれ24.73部、5.54部、9.11部と、RP 44.2部と、エポキシ樹脂の硬化剤としてCRNを固形分として8.21部と、CHN 59.1部とを混合した。均一になったことを確認した後に、エポキシ樹脂としてTN 6.41部、BP 1.16部及びBIS−A/F 3.75部と、TPP 0.13部とを更に加えて混合したこと以外は実施例1と同様にして、Aステージ状態の樹脂シート7、Bステージ状態の樹脂シート7、両面に銅箔が設けられたCステージ状態の樹脂シート積層体硬化物7をそれぞれ得た。
<Example 7>
Alumina (AA-18, AA-3, AA-04) 24.73 parts, 5.54 parts, 9.11 parts, RP 44.2 parts, respectively, CRN as a solid content of epoxy resin curing agent 8.21 parts and 59.1 parts of CHN were mixed. After confirming that it became uniform, TN 6.41 parts, BP 1.16 parts and BIS-A / F 3.75 parts, and TPP 0.13 parts were further added and mixed as an epoxy resin. In the same manner as in Example 1, a resin sheet 7 in the A stage state, a resin sheet 7 in the B stage state, and a cured resin sheet laminate 7 in the C stage state in which copper foil was provided on both surfaces were obtained.

<実施例8>
アルミナ(AA−18、AA−3、AA−04)をそれぞれ31.67部、5.27部、8.67部と、RP 42.1部と、エポキシ樹脂の硬化剤としてCRNを固形分として6.51部と、CHN 46.9部とを混合した。均一になったことを確認した後に、エポキシ樹脂としてTN 5.09部、BP 0.92部及びBIS−A/F 2.98部と、TPP 0.10部とを更に加えて混合したこと以外は実施例1と同様にして、Aステージ状態の樹脂シート8、Bステージ状態の樹脂シート8、両面に銅箔が設けられたCステージ状態の樹脂シート積層体硬化物8をそれぞれ得た。
<Example 8>
Alumina (AA-18, AA-3, AA-04) 31.67 parts, 5.27 parts, 8.67 parts, RP 42.1 parts, respectively, CRP as a solid content as a curing agent for epoxy resin 6.51 parts and 46.9 parts of CHN were mixed. After confirming that it became uniform, TN 5.09 parts, BP 0.92 parts and BIS-A / F 2.98 parts, and TPP 0.10 parts were further added and mixed as an epoxy resin. In the same manner as in Example 1, a resin sheet 8 in an A stage state, a resin sheet 8 in a B stage state, and a cured resin sheet laminate 8 in a C stage state in which copper foils were provided on both surfaces were obtained.

<比較例1>
アルミナ(AA−18、AA−3、AA−04)をそれぞれ7.67部、5.56部、9.16部と、GP 48.2部と、エポキシ樹脂の硬化剤としてCRNを固形分として15.3部と、CHN 43.8部とを混合した。均一になったことを確認した後に、エポキシ樹脂としてTN 11.8部、BP 2.14部及びBIS−A/F6.93部と、TPP 0.09部とを更に加えて混合したこと以外は実施例1と同様にして、Aステージ状態の樹脂シートC1、Bステージ状態の樹脂シートC1、両面に銅箔が設けられたCステージ状態の樹脂シート積層体硬化物C1をそれぞれ得た。
<Comparative Example 1>
Alumina (AA-18, AA-3, AA-04) 7.67 parts, 5.56 parts, 9.16 parts, GP 48.2 parts respectively, CRN as a solid content of epoxy resin curing agent 15.3 parts and 43.8 parts of CHN were mixed. After confirming that it became uniform, except that TN 11.8 parts, BP 2.14 parts and BIS-A / F 6.93 parts, and TPP 0.09 parts were further added and mixed as an epoxy resin. In the same manner as in Example 1, a resin sheet C1 in the A stage state, a resin sheet C1 in the B stage state, and a cured resin sheet laminate C1 in the C stage state in which copper foil was provided on both surfaces were obtained.

<比較例2>
比較例1において、GPをSGP 48.2部に置き換えたこと以外は比較例1と同様にして、Aステージ状態の樹脂シートC2、Bステージ状態の樹脂シートC2、両面に銅箔が設けられたCステージ状態の樹脂シート積層体硬化物C2をそれぞれ得た。
<Comparative Example 2>
In Comparative Example 1, except that GP was replaced with 48.2 parts of SGP, a resin sheet C2 in the A stage state, a resin sheet C2 in the B stage state, and copper foils were provided on both sides in the same manner as in Comparative Example 1. C-stage resin sheet laminates C2 were obtained.

<比較例3>
比較例1において、GPをHGP 48.2部に置き換えたこと以外は比較例1と同様にして、Aステージ状態の樹脂シートC3、Bステージ状態の樹脂シートC3、両面に銅箔が設けられたCステージ状態の樹脂シート積層体硬化物C3をそれぞれ得た。
<Comparative Example 3>
In Comparative Example 1, except that GP was replaced with 48.2 parts of HGP, a resin sheet C3 in the A stage state, a resin sheet C3 in the B stage state, and copper foils were provided on both sides in the same manner as in Comparative Example 1. C-stage resin sheet laminates C3 were obtained.

<比較例4>
比較例1において、GPをSP−2 48.2部に置き換えたこと以外は比較例1と同様にして、Aステージ状態の樹脂シートC4、Bステージ状態の樹脂シートC4、両面に銅箔が設けられたCステージ状態の樹脂シート積層体硬化物C4をそれぞれ得た。
<Comparative example 4>
In Comparative Example 1, except that GP was replaced with 48.2 parts of SP-2, in the same manner as Comparative Example 1, a resin sheet C4 in the A stage state, a resin sheet C4 in the B stage state, and copper foil provided on both surfaces The obtained C-stage resin sheet laminate cured product C4 was obtained.

<評価>
上記で得られたBステージ状態の樹脂シート及びCステージ状態の樹脂シート積層体硬化物について、以下の評価を行った。評価結果を表2〜表3に示す。なお、表2〜表3の樹脂組成物における数値の単位は質量部である。
<Evaluation>
The following evaluation was performed about the resin sheet laminated body of the B-stage state resin sheet obtained above and the C-stage state. The evaluation results are shown in Tables 2 to 3. In addition, the unit of the numerical value in the resin composition of Table 2-Table 3 is a mass part.

(樹脂シートの溶融粘度)
Bステージ状態の樹脂シートの100℃における溶融粘度は、アントンパール社、粘弾性装置MCRにフィルム測定用の治具をセットし、測定温度25℃から180℃、昇温速度5℃/分、樹脂シート厚さを0.6mm以上にして測定した。
(Melt viscosity of resin sheet)
The melt viscosity at 100 ° C. of the resin sheet in the B-stage state is set at a measuring temperature of 25 ° C. to 180 ° C., a temperature increase rate of 5 ° C./min, Anton Paar Co., Ltd., a viscoelastic device MCR, The sheet thickness was measured at 0.6 mm or more.

(無機フィラーの比表面積)
無機フィラーの比表面積は、JIS Z8830−2001に準じて窒素吸着能から測定するBET比表面積をいう。評価装置としては、QUANTACHROME社:AUTOSORB−1(商品名)等を用いることができる。BET比表面積の測定を行う際には、試料表面及び構造中に吸着している水分がガス吸着能に影響を及ぼすと考えられることから、まず、加熱による水分除去の前処理を行う。
前記前処理では、0.05gの測定試料を投入した測定用セルを、真空ポンプで10Pa以下に減圧した後、110℃で加熱し、3時間以上保持した後、減圧した状態を保ったまま常温(25℃)まで自然冷却する。この前処理を行った後、評価温度を77Kとし、評価圧力範囲を相対圧(飽和蒸気圧に対する平衡圧力)にて1未満として測定する。また、各試料を3回測定し、その平均値を比表面積とする。
(Specific surface area of inorganic filler)
The specific surface area of the inorganic filler refers to the BET specific surface area measured from the nitrogen adsorption capacity according to JIS Z8830-2001. As the evaluation device, QUANTACHROME: AUTOSORB-1 (trade name) or the like can be used. When measuring the BET specific surface area, it is considered that the moisture adsorbed on the sample surface and the structure affects the gas adsorption capacity. Therefore, pretreatment for removing moisture by heating is first performed.
In the pretreatment, the measurement cell charged with 0.05 g of the measurement sample is depressurized to 10 Pa or less with a vacuum pump, heated at 110 ° C., held for 3 hours or more, and kept at a normal temperature while maintaining the depressurized state. Cool naturally to (25 ° C). After performing this pretreatment, the evaluation temperature is 77K, and the evaluation pressure range is measured as a relative pressure (equilibrium pressure with respect to saturated vapor pressure) of less than 1. Moreover, each sample is measured 3 times and let the average value be a specific surface area.

(無機フィラーの比表面積から求める平均粒子径の算出)
比表面積Sから粒子径Rを計算する手法として、無機フィラーを球形と仮定して、無機フィラーの密度ρを用いる方法を用いた。Vを無機フィラーの体積、Sを無機フィラーの表面積、Sを無機フィラーの比表面積とし、下式を用いて比表面積Sから粒子径Rを算出した。
(Calculation of average particle size determined from specific surface area of inorganic filler)
As a method for calculating the particle diameter R from the specific surface area S m, a method using the inorganic filler density ρ, assuming that the inorganic filler is spherical, was used. V is the volume of the inorganic filler, S is the surface area of the inorganic filler, S m is the specific surface area of the inorganic filler, and the particle diameter R is calculated from the specific surface area S m using the following equation.

(無機フィラーに占める25μm〜100μmの粒子径を有する粒子の割合)
各実施例及び比較例に係る樹脂シートに含まれる無機フィラーに占める25μm〜100μmの粒子径を有する粒子の割合は、粒子径分布測定装置、日機装(株)、MT3300EXを用い、有機溶媒中に樹脂シートを溶解することで測定した。具体的には、樹脂シートを有機溶剤に溶解させて、樹脂を取り除き、無機フィラーが分散した液体を作製する。この無機フィラーの分散液を上記の装置を用いて、3回測定を繰り返すことで測定を行う。
具体的には、まず、溶媒(水)に、0.01質量%〜0.1質量%の分散剤(ヘキサメタリン酸ナトリウム)とともに、無機フィラーを1質量%〜5質量%の範囲内で添加し試料液を調製する。この試料液を超音波振動機(シャープマニュファクチャリングシステム(株)、型番 UT−106、出力100W)で温度23℃、3分〜5分振動して分散する。分散した試料液の約2mL程度をセルに注入し、25℃で、例えば、アルミナの屈折率を1.77、窒化ホウ素の屈折率を2.17、として粒子径分布を測定する。
(Ratio of particles having a particle diameter of 25 μm to 100 μm in the inorganic filler)
The proportion of particles having a particle size of 25 μm to 100 μm in the inorganic filler contained in the resin sheet according to each of Examples and Comparative Examples is a resin in an organic solvent using a particle size distribution measuring device, Nikkiso Co., Ltd., MT3300EX. It was measured by dissolving the sheet. Specifically, the resin sheet is dissolved in an organic solvent, the resin is removed, and a liquid in which the inorganic filler is dispersed is produced. This inorganic filler dispersion is measured by repeating the measurement three times using the above apparatus.
Specifically, first, an inorganic filler is added to the solvent (water) within a range of 1% by mass to 5% by mass with 0.01% by mass to 0.1% by mass of a dispersant (sodium hexametaphosphate). Prepare sample solution. This sample solution is vibrated and dispersed with an ultrasonic vibrator (Sharp Manufacturing System Co., Ltd., model number UT-106, output 100 W) at a temperature of 23 ° C. for 3 to 5 minutes. About 2 mL of the dispersed sample solution is poured into the cell, and the particle size distribution is measured at 25 ° C., for example, with the refractive index of alumina being 1.77 and the refractive index of boron nitride being 2.17.

(樹脂シート積層体硬化物の熱伝導率)
上記の実験で得られたCステージ状態の樹脂シート積層体硬化物から、過硫酸ナトリウム溶液を用いて銅箔をエッチング除去した。これを10mm角に切断し、グラファイトスプレーにより黒化処理し、熱拡散率をNETZSCH社Nanoflash LFA447型を用いて測定した。
測定条件は、測定温度25±1℃、測定電圧270V、Amplitude5000及びパルス幅0.06msとした。
上記で測定された熱拡散率と、アルキメデス法で測定した密度、DSC(示差走査熱量計)により測定した比熱の積から熱伝導率を算出した。
(Thermal conductivity of cured resin sheet laminate)
The copper foil was removed by etching using a sodium persulfate solution from the cured C-stage resin sheet laminate obtained in the above experiment. This was cut into 10 mm squares, blackened with graphite spray, and the thermal diffusivity was measured using a Nanoflash LFA447 model from NETZSCH.
The measurement conditions were a measurement temperature of 25 ± 1 ° C., a measurement voltage of 270 V, Amplitude 5000, and a pulse width of 0.06 ms.
The thermal conductivity was calculated from the product of the thermal diffusivity measured above, the density measured by the Archimedes method, and the specific heat measured by DSC (differential scanning calorimeter).

(樹脂シート積層体硬化物の絶縁破壊電圧)
上記で得られたCステージ状態の樹脂シート積層体硬化物から、片面の銅箔をそのまま残し、反対面の銅箔に直径が20mmの円形パターンを20mmずつ離して5個形成して、評価用基板を作製した。ヤマヨ試験機(有)YST−243−100RHOを用い、積層体硬化物上に作製した電極間に電圧を印加することで、絶縁破壊電圧を測定した。測定条件としては、昇圧方法として、1kVから0.2kVずつ昇圧することとし、それぞれの電圧を5秒間保持した。測定温度23℃±2℃、フロリナート中にて測定を行った。
(Dielectric breakdown voltage of cured resin sheet laminate)
From the cured resin sheet laminate in the C-stage state obtained above, one side of the copper foil is left as it is, and five circular patterns with a diameter of 20 mm are formed on the opposite side copper foil by 20 mm each for evaluation. A substrate was produced. The dielectric breakdown voltage was measured by applying a voltage between the electrodes produced on the laminate cured product using a Yamayo Tester (with) YST-243-100RHO. As measurement conditions, the voltage was boosted by 1 kV to 0.2 kV at a time, and each voltage was held for 5 seconds. Measurement was performed at a measurement temperature of 23 ° C. ± 2 ° C. in Fluorinert.

(耐湿絶縁性の評価)
上記で得られたCステージ状態の樹脂シート積層体硬化物から、片面の銅箔をそのまま残し、反対面の銅箔に直径が20mmの円形パターンを20mmずつ離して4個形成して、評価用基板を作製した。1つの実施例又は比較例につき、評価用基板を2枚用いて計8つの円形パターンについて、以下のようにして耐湿絶縁性を評価した。
円形パターンのそれぞれに750Vの直流電圧を、85℃85%RHの環境下にて1000時間印加して絶縁破壊の有無を判定した。評価結果を、試験に供した円形パターンの総数(8)に対する絶縁破壊が発生しなかった円形パターン数の比の形式として表2〜表3に示した。
(Evaluation of moisture resistance insulation)
From the cured C-stage resin sheet laminate obtained above, the copper foil on one side is left as it is, and four circular patterns with a diameter of 20 mm are formed on the opposite side copper foil by 20 mm each for evaluation. A substrate was produced. With respect to one example or comparative example, moisture resistance was evaluated as follows for a total of eight circular patterns using two evaluation substrates.
A DC voltage of 750 V was applied to each of the circular patterns in an environment of 85 ° C. and 85% RH for 1000 hours to determine the presence or absence of dielectric breakdown. The evaluation results are shown in Tables 2 to 3 as the form of the ratio of the number of circular patterns in which dielectric breakdown did not occur with respect to the total number (8) of circular patterns subjected to the test.

(引張弾性率、引張破壊ひずみ及び引張応力の評価)
つかみ治具間距離50mm、幅5mm、厚さ0.2mmのダンベル型試験片をBステージシートから切り出し、100℃、120℃、140℃、180℃のそれぞれの温度にて1時間保持して加熱硬化し、試験片を作製した。試験条件は引っ張り速度を1mm/分、試験温度を23℃とし、引っ張ったときの伸びと荷重を測定した。引張破壊ひずみは試験前の試験片長さと伸びの比の百分率として計算した。引張応力は試験時の最大荷重と破断箇所の面積の比を計算することで算出した。引張弾性率は引張応力をその時の歪みで除した値とした。
(Evaluation of tensile modulus, tensile fracture strain and tensile stress)
A dumbbell-shaped test piece having a distance between gripping jigs of 50 mm, a width of 5 mm, and a thickness of 0.2 mm is cut out from the B-stage sheet and heated at 100 ° C., 120 ° C., 140 ° C., and 180 ° C. for 1 hour. It hardened | cured and produced the test piece. The test conditions were a tensile speed of 1 mm / min, a test temperature of 23 ° C., and the elongation and load when it was pulled were measured. Tensile fracture strain was calculated as a percentage of the ratio of specimen length to elongation before testing. The tensile stress was calculated by calculating the ratio of the maximum load during the test and the area of the fractured part. The tensile modulus was a value obtained by dividing the tensile stress by the strain at that time.

(せん断強度の評価)
Bステージシートの両面からPETフィルムを剥がし、両面に金属板を貼り合わせ、引っ張りせん断接着強度(せん断強度)の測定を行った。具体的には100mm×25mm×3mmの銅板とアルミ板を12.5mm×25mm×0.2mmのBステージシートに互い違いに重ねて接着し、硬化処理した。これを試験速度2mm/分、測定温度は23℃にて、株式会社島津製作所AGC−100型で引っ張ることで測定を行った。なお、接着、硬化処理は以下のようにして行った。真空熱プレス(熱板温度180℃、真空度1kPa以下、圧力1MPa、処理時間30分)を行って接着した。
(Evaluation of shear strength)
The PET film was peeled off from both sides of the B stage sheet, a metal plate was bonded to both sides, and the tensile shear bond strength (shear strength) was measured. Specifically, a 100 mm × 25 mm × 3 mm copper plate and an aluminum plate were alternately stacked and bonded to a 12.5 mm × 25 mm × 0.2 mm B stage sheet and cured. This was measured by pulling it with an AGC-100 type Shimadzu Corporation at a test speed of 2 mm / min and a measurement temperature of 23 ° C. In addition, adhesion | attachment and a hardening process were performed as follows. Bonding was performed by vacuum hot pressing (hot plate temperature 180 ° C., degree of vacuum 1 kPa or less, pressure 1 MPa, treatment time 30 minutes).

(反応率の測定)
Bステージシート(樹脂シート)の硬化反応の熱量を示差走査熱量計にて測定した。この時に得られた熱量を100%とし、保管後又は圧着後等のシートの硬化反応の熱量との比を下式で計算することで反応率を計算した。
(Measurement of reaction rate)
The amount of heat of the B stage sheet (resin sheet) curing reaction was measured with a differential scanning calorimeter. The amount of heat obtained at this time was defined as 100%, and the reaction rate was calculated by calculating the ratio with the amount of heat of the curing reaction of the sheet after storage or after compression bonding by the following formula.

(樹脂シートの反応率(%))={1−(30℃48時間加熱処理後の樹脂シートの硬化反応の熱量)/(30℃48時間加熱処理前の樹脂シートの硬化反応の熱量)}×100 (Reaction rate of resin sheet (%)) = {1- (heat amount of resin sheet curing reaction after heat treatment at 30 ° C. for 48 hours) / (heat amount of resin sheet curing reaction before heat treatment at 30 ° C. for 48 hours)} × 100

示差走査熱量計による硬化反応の熱量の測定条件及び測定方法の詳細は、以下の通りである。
示差走査熱量計としてパーキンエルマー製Pyris1を用い、試験片は樹脂シートを小片化し、シートに含有される樹脂重量が1mg以上となる様にサンプルパンに詰めることで作製した。測定雰囲気は窒素とし、昇温速度を10℃/分、30℃で5分間温度を安定させてから昇温を開始し250℃までの熱量変化を測定し、その際の発熱量を硬化反応の熱量とした。
Details of the measurement conditions and measurement method of the calorific value of the curing reaction with a differential scanning calorimeter are as follows.
A test piece was prepared by using Pyris 1 manufactured by Perkin Elmer as a differential scanning calorimeter, and slicing the resin sheet into a sample pan so that the resin weight contained in the sheet was 1 mg or more. The measurement atmosphere is nitrogen, the temperature rise rate is 10 ° C./min, the temperature is stabilized at 30 ° C. for 5 minutes, then the temperature rise is started and the calorific value up to 250 ° C. is measured. Calorific value.

(GPC測定)
上記合成例で得られたCRNをテトラヒドロフラン(液体クロマトグラフ用)に溶解し、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)製フィルタ(クラボウ(株)、HPLC前処理用、クロマトディスク、型番:13N、孔径:0.45μm)を通して不溶分を除去した。GPC〔ポンプ:L6200 Pump((株)日立製作所)、検出器:示差屈折率検出器L3300 RI Monitor((株)日立製作所)、カラム:TSKgel−G5000HXLとTSKgel−G2000HXL(計2本)(共に東ソー(株))を直列に繋いだ、カラム温度:30℃、溶離液:テトラヒドロフラン、流速:1.0ml/分、標準物質:ポリスチレン、検出器:RI〕を用い、数平均分子量を測定した。
(GPC measurement)
CRN obtained in the above synthesis example was dissolved in tetrahydrofuran (for liquid chromatograph), and PTFE (polytetrafluoroethylene) filter (Kurabo Co., Ltd., for HPLC pretreatment, chromatodisc, model number: 13N, pore size: 0 .45 μm) to remove insoluble matter. GPC [Pump: L6200 Pump (Hitachi, Ltd.), Detector: Differential refractive index detector L3300 RI Monitor (Hitachi, Ltd.), Column: TSKgel-G5000HXL and TSKgel-G2000HXL (both in total) (both Tosoh) The number average molecular weight was measured using a column temperature: 30 ° C., eluent: tetrahydrofuran, flow rate: 1.0 ml / min, standard material: polystyrene, detector: RI].

(NMR測定)
上記の合成例で得られたCRNを重ジメチルスルホキシド(DMSO−d)に溶解し、プロトン核磁気共鳴法(H−NMR)(BRUKER社、AV−300(300MHz)を用いて、H−NMRスペクトルを測定した。化学シフトの基準は、内部基準物質であるテトラメチルシランを0ppmとした。
(NMR measurement)
The CRN obtained in the above example was dissolved in deuterated dimethyl sulfoxide (DMSO-d 6), proton nuclear magnetic resonance method (1 H-NMR) (BRUKER Co., with AV-300 a (300 MHz), 1 H -NMR spectrum was measured, and the standard of chemical shift was set to 0 ppm for tetramethylsilane as an internal reference material.

表2及び表3において、「粒子の割合」は、無機フィラーに占める25μm〜100μmの粒子径を有する粒子の割合を表す。   In Tables 2 and 3, “particle ratio” represents the ratio of particles having a particle diameter of 25 μm to 100 μm in the inorganic filler.

表2及び表3から、実施例の樹脂シートに係る無機フィラーの比表面積が1.0m/g〜6.5m/gであり、レーザー回折法で測定したときの無機フィラーに占める25μm〜100μmの粒子径を有する粒子の割合が30体積%〜80体積%である場合、硬化後のせん断接着性(せん断強度)、絶縁性及び熱伝導性に優れることがわかる。 Table 2 and Table 3, the specific surface area of the inorganic filler according to the resin sheets of Examples are 1.0m 2 /g~6.5m 2 / g, 25μm~ occupying the inorganic filler when measured by a laser diffraction method It can be seen that when the proportion of the particles having a particle diameter of 100 μm is 30% by volume to 80% by volume, the cured adhesiveness (shear strength), insulation and thermal conductivity are excellent.

100:パワー半導体装置、102:樹脂シート硬化物、103:ハウジング、104:銅板、106:放熱ベース、108:グリース層、110:パワー半導体素子、120:水冷ジャケット、150:パワー半導体装置、200:パワー半導体装置、250:パワー半導体装置、300:パワー半導体装置、350:パワー半導体装置、130:LEDチップ、132:樹脂シート硬化物、134:アルミニウム基板、136:グリース層、138:ハウジング、140:ビス、142:回路層、146:封止樹脂、148:電源部材。   100: power semiconductor device, 102: cured resin sheet, 103: housing, 104: copper plate, 106: heat dissipation base, 108: grease layer, 110: power semiconductor element, 120: water cooling jacket, 150: power semiconductor device, 200: Power semiconductor device, 250: Power semiconductor device, 300: Power semiconductor device, 350: Power semiconductor device, 130: LED chip, 132: Hardened resin sheet, 134: Aluminum substrate, 136: Grease layer, 138: Housing, 140: Screws 142: circuit layer, 146: sealing resin, 148: power supply member.

Claims (15)

樹脂と無機フィラーとを含有し、
100℃における溶融粘度が1.0×10Pa・s〜1.0×10Pa・sであり、
前記無機フィラーの比表面積が1.0m/g〜6.5m/gであり、
レーザー回折法で測定したときに、前記無機フィラーに占める25μm〜100μmの粒子径を有する粒子の割合が30体積%〜80体積%であり、
反応率が20%以下である樹脂シート。
Containing a resin and an inorganic filler,
The melt viscosity at 100 ° C. is 1.0 × 10 5 Pa · s to 1.0 × 10 8 Pa · s,
The specific surface area of the inorganic filler is 1.0m 2 /g~6.5m 2 / g,
When measured by a laser diffraction method, the proportion of particles having a particle diameter of 25 μm to 100 μm in the inorganic filler is 30% by volume to 80% by volume,
A resin sheet having a reaction rate of 20% or less.
前記無機フィラーの比表面積から求める平均粒子径が、0.4μm〜2.7μmである請求項1に記載の樹脂シート。   2. The resin sheet according to claim 1, wherein an average particle diameter determined from a specific surface area of the inorganic filler is 0.4 μm to 2.7 μm. 前記樹脂がエポキシ樹脂を含み、更に硬化剤を含有してなる請求項1又は請求項2に記載の樹脂シート。   The resin sheet according to claim 1, wherein the resin contains an epoxy resin and further contains a curing agent. 前記エポキシ樹脂が、分子中にナフタレン環を2つ含み前記2つのナフタレン環がアルキレン鎖で連結されている構造を有する3官能以上の第1のエポキシ樹脂を含有する請求項3に記載の樹脂シート。   4. The resin sheet according to claim 3, wherein the epoxy resin contains a first or more trifunctional epoxy resin having a structure in which two naphthalene rings are included in a molecule and the two naphthalene rings are connected by an alkylene chain. . 前記第1のエポキシ樹脂が、下記一般式(I)で表される化合物を含む請求項4に記載の樹脂シート。

(一般式(I)において、Rは、炭素数が1〜7のアルキレン基を表す。)
The resin sheet according to claim 4, wherein the first epoxy resin contains a compound represented by the following general formula (I).

(In General Formula (I), R 1 represents an alkylene group having 1 to 7 carbon atoms.)
前記無機フィラーが、窒化ホウ素、酸化アルミニウム及び水酸化アルミニウムからなる群より選択される少なくとも一種を含む請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の樹脂シート。   The resin sheet according to any one of claims 1 to 5, wherein the inorganic filler includes at least one selected from the group consisting of boron nitride, aluminum oxide, and aluminum hydroxide. Cステージ状態における引張弾性率が0.1GPa〜30GPaであり、Cステージ状態における引張破壊ひずみが0.10%〜0.70%である請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の樹脂シート。   The tensile elastic modulus in the C stage state is 0.1 GPa to 30 GPa, and the tensile fracture strain in the C stage state is 0.10% to 0.70%. 7. Resin sheet. 前記樹脂と前記無機フィラーとを含有する第1の樹脂層と、前記第1の樹脂層上に積層される前記樹脂と前記無機フィラーとを含有する第2の樹脂層と、を有する請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の樹脂シート。   2. A first resin layer containing the resin and the inorganic filler, and a second resin layer containing the resin and the inorganic filler laminated on the first resin layer. The resin sheet according to claim 7. 請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の樹脂シートの熱処理物である樹脂シート硬化物。   A cured resin sheet, which is a heat-treated product of the resin sheet according to any one of claims 1 to 8. 請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の樹脂シートと、前記樹脂シートの少なくとも一方の面上に配置される金属板又は放熱板と、を有する樹脂シート積層体。   The resin sheet laminated body which has a resin sheet of any one of Claims 1-8, and the metal plate or heat sink arrange | positioned on the at least one surface of the said resin sheet. 前記樹脂シートの前記金属板又は放熱板の配置される面とは反対の面に被着体を更に有する請求項10に記載の樹脂シート積層体。   The resin sheet laminated body of Claim 10 which further has a to-be-adhered body in the surface opposite to the surface where the said metal plate or heat sink of the said resin sheet is arrange | positioned. 請求項10又は請求項11に記載の樹脂シート積層体の熱処理物である樹脂シート積層体硬化物。   A cured resin sheet laminate, which is a heat-treated product of the resin sheet laminate according to claim 10 or 11. 請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の樹脂シートの少なくとも一方の面上に、金属板又は放熱板を配置する工程と、
前記樹脂シートに熱を与えて前記樹脂シートを硬化させる工程と、
を有する樹脂シート積層体硬化物の製造方法。
A step of disposing a metal plate or a heat radiating plate on at least one surface of the resin sheet according to any one of claims 1 to 8,
Curing the resin sheet by applying heat to the resin sheet;
The manufacturing method of the resin sheet laminated body hardened | cured material which has this.
半導体素子と、
前記半導体素子上に配置される請求項9に記載の樹脂シート硬化物と、
を備える半導体装置。
A semiconductor element;
The resin sheet cured product according to claim 9, which is disposed on the semiconductor element,
A semiconductor device comprising:
LED素子と、請求項9に記載の樹脂シート硬化物と、基板と、がこの順に積層されるLED装置。   The LED device by which an LED element, the resin sheet hardened | cured material of Claim 9, and a board | substrate are laminated | stacked in this order.
JP2014213018A 2014-10-17 2014-10-17 Resin sheet, resin sheet cured product, resin sheet laminate, resin sheet laminate cured product and method for producing the same, semiconductor device, and led device Pending JP2016079304A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014213018A JP2016079304A (en) 2014-10-17 2014-10-17 Resin sheet, resin sheet cured product, resin sheet laminate, resin sheet laminate cured product and method for producing the same, semiconductor device, and led device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014213018A JP2016079304A (en) 2014-10-17 2014-10-17 Resin sheet, resin sheet cured product, resin sheet laminate, resin sheet laminate cured product and method for producing the same, semiconductor device, and led device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2016079304A true JP2016079304A (en) 2016-05-16

Family

ID=55957824

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014213018A Pending JP2016079304A (en) 2014-10-17 2014-10-17 Resin sheet, resin sheet cured product, resin sheet laminate, resin sheet laminate cured product and method for producing the same, semiconductor device, and led device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2016079304A (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018069708A (en) * 2016-11-04 2018-05-10 Dic株式会社 Laminate, electronic member and thermally conductive member
JP6399176B1 (en) * 2017-09-15 2018-10-03 東洋インキScホールディングス株式会社 Thermally conductive insulating sheet and composite member
WO2019124391A1 (en) * 2017-12-22 2019-06-27 日立化成株式会社 Sealing composition and semiconductor device
JP2019178300A (en) * 2018-03-30 2019-10-17 Tdk株式会社 Resin composition, resin sheet, core material, and heat radiation substrate
WO2021206038A1 (en) * 2020-04-08 2021-10-14 三菱ケミカル株式会社 Method for producing resin composition layer, resin composition layer produced by said production method, and composite molded article including said resin composition layer
WO2024053614A1 (en) * 2022-09-05 2024-03-14 大日本印刷株式会社 Adhesive sheet, adhesive agent composition, and structure

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3137202B2 (en) * 1990-10-30 2001-02-19 大日本インキ化学工業株式会社 Epoxy resin, method for producing the same, and epoxy resin composition
WO2009041300A1 (en) * 2007-09-26 2009-04-02 Mitsubishi Electric Corporation Heat conductive sheet and power module
JP2012054518A (en) * 2010-09-03 2012-03-15 Sekisui Chem Co Ltd Adhesive for bonding semiconductor, adhesive film for bonding semiconductor, method for mounting semiconductor chip and semiconductor device
WO2012133587A1 (en) * 2011-03-28 2012-10-04 日立化成工業株式会社 Resin composition, resin sheet, cured resin sheet, resin sheet laminate, cured resin sheet laminate and method for manufacturing same, semiconductor device, and led device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3137202B2 (en) * 1990-10-30 2001-02-19 大日本インキ化学工業株式会社 Epoxy resin, method for producing the same, and epoxy resin composition
WO2009041300A1 (en) * 2007-09-26 2009-04-02 Mitsubishi Electric Corporation Heat conductive sheet and power module
JP2012054518A (en) * 2010-09-03 2012-03-15 Sekisui Chem Co Ltd Adhesive for bonding semiconductor, adhesive film for bonding semiconductor, method for mounting semiconductor chip and semiconductor device
WO2012133587A1 (en) * 2011-03-28 2012-10-04 日立化成工業株式会社 Resin composition, resin sheet, cured resin sheet, resin sheet laminate, cured resin sheet laminate and method for manufacturing same, semiconductor device, and led device

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018069708A (en) * 2016-11-04 2018-05-10 Dic株式会社 Laminate, electronic member and thermally conductive member
JP6399176B1 (en) * 2017-09-15 2018-10-03 東洋インキScホールディングス株式会社 Thermally conductive insulating sheet and composite member
WO2019054486A1 (en) * 2017-09-15 2019-03-21 東洋インキScホールディングス株式会社 Thermally conductive insulating sheet, and composite member
JP2019052264A (en) * 2017-09-15 2019-04-04 東洋インキScホールディングス株式会社 Thermally conductive insulating sheet and composite member
KR20200054216A (en) 2017-09-15 2020-05-19 토요잉크Sc홀딩스주식회사 Thermally conductive insulating sheet and composite member
US11825632B2 (en) 2017-09-15 2023-11-21 Toyo Ink Sc Holdings Co., Ltd. Thermally conductive insulating sheet, and composite member
WO2019124391A1 (en) * 2017-12-22 2019-06-27 日立化成株式会社 Sealing composition and semiconductor device
JP2019178300A (en) * 2018-03-30 2019-10-17 Tdk株式会社 Resin composition, resin sheet, core material, and heat radiation substrate
WO2021206038A1 (en) * 2020-04-08 2021-10-14 三菱ケミカル株式会社 Method for producing resin composition layer, resin composition layer produced by said production method, and composite molded article including said resin composition layer
WO2024053614A1 (en) * 2022-09-05 2024-03-14 大日本印刷株式会社 Adhesive sheet, adhesive agent composition, and structure

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5431595B2 (en) Resin composition, resin sheet, resin sheet cured product, resin sheet laminate, resin sheet laminate cured product and method for manufacturing the same, semiconductor device, and LED device
WO2015141797A1 (en) Resin composition, resin sheet, resin sheet cured product, resin sheet laminate, resin sheet laminate cured product and method for producing same, semiconductor device, and led device.
JP6402763B2 (en) Multilayer resin sheet, resin sheet laminate, cured multilayer resin sheet and method for producing the same, multilayer resin sheet with metal foil, and semiconductor device
WO2014208694A1 (en) Resin composition, resin sheet, cured resin sheet, resin sheet structure, cured resin sheet structure, method for producing cured resin sheet structure, semiconductor device, and led device
JP5397476B2 (en) Resin composition, resin sheet, and cured resin and method for producing the same
JP5348332B2 (en) Multilayer resin sheet and method for producing the same, resin sheet laminate and method for producing the same, multilayer resin sheet cured product, multilayer resin sheet with metal foil, and semiconductor device
WO2011040415A1 (en) Multilayer resin sheet and method for producing same, method for producing multilayer resin sheet cured product, and highly thermally conductive resin sheet laminate and method for producing same
JP2016079304A (en) Resin sheet, resin sheet cured product, resin sheet laminate, resin sheet laminate cured product and method for producing the same, semiconductor device, and led device
JP6536045B2 (en) Resin composition, resin sheet and cured resin sheet
JPWO2017209208A1 (en) Manufacturing method of laminate
TWI455657B (en) Multilayer resin sheet and resin sheet laminate
JP2017066336A (en) Resin composition, resin sheet, resin sheet cured product, resin sheet laminate, resin sheet laminate cured product and method for producing the same, semiconductor device and led device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170908

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180709

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180717

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180831

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181113

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20190521