JP2016079129A - Carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound, epoxy resin composition containing the same and cured product thereof - Google Patents

Carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound, epoxy resin composition containing the same and cured product thereof Download PDF

Info

Publication number
JP2016079129A
JP2016079129A JP2014212330A JP2014212330A JP2016079129A JP 2016079129 A JP2016079129 A JP 2016079129A JP 2014212330 A JP2014212330 A JP 2014212330A JP 2014212330 A JP2014212330 A JP 2014212330A JP 2016079129 A JP2016079129 A JP 2016079129A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
epoxy resin
carboxylic acid
acid anhydride
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014212330A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6376692B2 (en
Inventor
直房 宮川
Naofusa Miyagawa
直房 宮川
将輝 舘野
Masaki Tateno
将輝 舘野
直佑 谷口
Naosuke Taniguchi
直佑 谷口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Kayaku Co Ltd filed Critical Nippon Kayaku Co Ltd
Priority to JP2014212330A priority Critical patent/JP6376692B2/en
Publication of JP2016079129A publication Critical patent/JP2016079129A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6376692B2 publication Critical patent/JP6376692B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound that suppresses excessive viscosity increase when used to form an epoxy resin composition, has excellent curability with little volatilization when cured, and gives a cured product excellent in transparency and hardness.SOLUTION: The cyclic siloxane compound (A) is represented by formula (1). For example, it shows an NMR spectrum shown in Fig. 1 (Ris a hydrocarbon group; X is a hydrocarbon group- or carboxylic acid anhydride group-containing organic group; n is an integer of 1 to 3; at least two of a plurality of Xs are a carboxylic acid anhydride group-containing organic group).SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は特に光半導体封止用などの高い透明性が求められる部分や高耐熱性が求められる部分に用いるに好適なエポキシ樹脂硬化剤、それを含有するエポキシ樹脂組成物およびその硬化物に関する。 The present invention relates to an epoxy resin curing agent suitable for use in a part requiring high transparency, such as for optical semiconductor sealing, and a part requiring high heat resistance, an epoxy resin composition containing the same, and a cured product thereof.

エポキシ樹脂組成物は、耐熱性に優れた樹脂として、建築、土木、自動車、航空機などの分野で使用されている。近年、特に半導体関連材料の分野においてはカメラ付き携帯電話、超薄型の液晶やプラズマTV、軽量ノート型パソコンなど、軽・薄・短・小がキーワードとなるような製品があふれ、これによりエポキシ樹脂に代表されるパッケージ材料にも非常に高い特性が求められてきている。
さらに、近年オプトエレクトロニクス関連分野における利用が注目されており、高度情報化に伴い、膨大な情報を円滑に伝送、処理するために、従来の電気配線による信号伝送に変わり、光信号を生かした技術が開発されていく中で、光導波路、青色LED、および光半導体等の光学部品の分野においては透明性に優れた硬化物を与える樹脂組成物の開発が望まれている。
一般にオプトエレクトロニクス関連分野で用いられるエポキシ樹脂の硬化剤としては酸無水物系の化合物が挙げられる。特に飽和炭化水素で形成された酸無水物は硬化物が耐光性に優れることから、利用されることが多い。これら酸無水物としては、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸等の脂環式酸無水物が一般的であり、中でも常温で液状であるメチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸等が取扱いの容易さから主に使用されている。
しかしながら上記脂環式酸無水物をエポキシ樹脂の硬化剤として用いた場合、これらの化合物は蒸気圧が高く、硬化時に一部が蒸発するため、エポキシ樹脂の硬化剤として用いて開放系で熱硬化させる際には、酸無水物自体が大気中に揮発してしまう。この結果、大気への有害物質の放出による環境汚染、人体への悪影響、生産ラインの汚染、硬化物中に所定量のカルボン酸無水物(硬化剤)が存在しないことに起因するエポキシ樹脂組成物の硬化不良が起こるなどの問題が発生する。硬化剤の揮発による硬化条件のバラつきが、硬化物の物性のバラつきとなり、安定して目的とした性能を有する硬化物を得ることが困難となる。
また、揮発の問題は、従来の酸無水物を硬化剤として用いて構成された光半導体封止用硬化性樹脂組成物でLED、特にSMD(Surface Mount Device)を封止した際は顕著であり、使用する樹脂量が少ないため、へこみが発生、ひどい場合には、ワイヤーが露出してしまう。さらには半田リフロー時のクラック、剥離、長期点灯にも耐えることが困難であるという問題が発生する。
そこで、カルボキシル基を分子内に複数有する多価カルボン酸化合物と液状の低分子酸無水物化合物を混合して用いることでへこみに対処する検討もなされているが(特許文献1)、この多価カルボン酸を含有する混合物は粘度が高くなる傾向にあり、室温(25℃)にて液状で使用される用途において作業性に難があった。
Epoxy resin compositions are used in the fields of architecture, civil engineering, automobiles, aircraft and the like as resins having excellent heat resistance. In recent years, especially in the field of semiconductor-related materials, products such as mobile phones with cameras, ultra-thin liquid crystals, plasma TVs, and light-weight notebook computers have become a key word. Very high characteristics have been demanded for packaging materials represented by resins.
Furthermore, in recent years, the use in the fields related to optoelectronics has attracted attention. With the advancement of advanced information technology, in order to smoothly transmit and process vast amounts of information, technology that uses optical signals instead of conventional signal transmission using electrical wiring. In the field of optical components such as optical waveguides, blue LEDs, and optical semiconductors, development of a resin composition that gives a cured product having excellent transparency is desired.
An epoxy resin curing agent generally used in the field of optoelectronics includes acid anhydride compounds. In particular, acid anhydrides formed with saturated hydrocarbons are often used because the cured product has excellent light resistance. As these acid anhydrides, alicyclic acid anhydrides such as methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and tetrahydrophthalic anhydride are generally used. Phthalic anhydride is mainly used because of its ease of handling.
However, when these alicyclic acid anhydrides are used as curing agents for epoxy resins, these compounds have high vapor pressure and partly evaporate during curing. When this is done, the acid anhydride itself volatilizes into the atmosphere. As a result, epoxy resin composition resulting from environmental pollution due to the release of harmful substances to the atmosphere, adverse effects on human bodies, production line contamination, and the absence of a predetermined amount of carboxylic acid anhydride (curing agent) in the cured product Problems such as poor curing occur. Variations in curing conditions due to volatilization of the curing agent result in variations in the physical properties of the cured product, making it difficult to stably obtain a cured product having the intended performance.
In addition, the problem of volatilization is significant when LEDs, particularly SMD (Surface Mount Device) are sealed with a curable resin composition for encapsulating optical semiconductors that is formed using a conventional acid anhydride as a curing agent. Since the amount of resin used is small, dents are generated, and in severe cases, the wires are exposed. Furthermore, there is a problem that it is difficult to endure cracking, peeling, and long-term lighting during solder reflow.
Then, although examination which copes with a dent by mixing and using the polyvalent carboxylic acid compound which has multiple carboxyl groups in a molecule | numerator, and a liquid low molecular acid anhydride compound is also made | formed (patent document 1), this polyvalent A mixture containing a carboxylic acid tends to have a high viscosity, and there is a difficulty in workability in an application where the mixture is used in a liquid state at room temperature (25 ° C.).

再表特許WO2010/150524号Listed Patent WO2010 / 150524

本発明は、エポキシ樹脂組成物とした際の過度な粘度上昇を抑え、硬化時に揮発が少なく硬化性に優れ、その硬化物は優れた透明性、硬さの硬化物を与えるカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物、それを含むエポキシ樹脂組成物またその硬化物を提供することを目的とする。 The present invention suppresses excessive viscosity increase when used as an epoxy resin composition, has low volatilization at the time of curing and is excellent in curability, and the cured product has a carboxylic acid anhydride group that provides a cured product with excellent transparency and hardness. It is an object of the present invention to provide a containing cyclic siloxane compound, an epoxy resin composition containing the same, and a cured product thereof.

本発明者らは前記したような実状に鑑み、鋭意検討した結果、環状シロキサン骨格を含有するカルボン酸無水物化合物、およびそれを含有するエポキシ樹脂組成物とその硬化物が上記課題を解決することを見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち本発明は、下記(1)〜(11)に関する。
(1)下記式(1)で表されるカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)。

Figure 2016079129
(式(1)中、Rは炭素数1〜10の炭化水素基を、Xは炭素数1〜20炭化水素基又はカルボン酸無水物基含有の有機基を、nは1〜3の整数をそれぞれ表す。式(1)中、複数存在するR、Xはそれぞれ同一であっても異なっていても構わない。ただし、複数存在するX中、少なくとも2つはカルボン酸無水物基含有の有機基である。)
(2)カルボン酸無水物基含有の有機基が、下記式(2)〜(5)より選ばれる一種以上である、(1)に記載のカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)。
Figure 2016079129
(式中、*で式(1)のSi原子と結合していることを表す。また、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。)
(3)下記工程を経る、(1)に記載のカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)の製造方法。
工程1)ハイドロジェンシロキサン化合物とカルボン酸無水物基を有するオレフィン化合物を、ハイドロジェンシロキサン化合物中のSi−H基1モルに対しカルボン酸無水物基を有するオレフィン化合物を0.2〜0.9モル当量仕込んで付加反応させる工程。
工程2)モノオレフィン化合物を、残存Si−H基1モルに対し、1.1〜20モル当量仕込み付加反応させる工程。
(4)(1)または(2)に記載のカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)を含有するエポキシ樹脂硬化剤。
(5)(1)または(2)のいずれか一項に記載のカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)、または(4)に記載のエポキシ樹脂硬化剤と、エポキシ樹脂(B)を含有するエポキシ樹脂組成物。
(6)エポキシ樹脂(B)がシリコーン変性エポキシ樹脂である、(5)に記載のエポキシ樹脂組成物。
(7)シリコーン変性エポキシ樹脂が下記式(6)で表される化合物である、(6)に記載のエポキシ樹脂組成物。
Figure 2016079129
(式(6)中、R、nは前記と同じ意味を表し、Yは炭素数1〜10炭化水素基又はエポキシ基含有の有機基をそれぞれ表す。式(6)中、複数存在するR、Yはそれぞれ同一であっても異なっていても構わない。ただし、複数存在するY中、2つ以上はエポキシ基含有の有機基の有機基である。)
(8)さらにエポキシ樹脂硬化促進剤(C)を含有する、(5)〜(7)のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物。
(9)(5)〜(8)のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物。
(10)(5)〜(8)のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物からなる、光半導体封止用樹脂組成物。
(11)(9)に記載の光半導体封止用樹脂組成物で光半導体素子を封止した光半導体装置。 As a result of intensive studies in view of the actual situation as described above, the present inventors have found that a carboxylic acid anhydride compound containing a cyclic siloxane skeleton, an epoxy resin composition containing the compound, and a cured product thereof solve the above problems. As a result, the present invention has been completed.
That is, the present invention relates to the following (1) to (11).
(1) A carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) represented by the following formula (1).
Figure 2016079129
(In the formula (1), the R 1 is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, X is a number from 1 to 20 hydrocarbon group or carboxylic anhydride group-containing organic group having a carbon, n represents an integer of 1 to 3 In the formula (1), a plurality of R 1 and X may be the same or different from each other, provided that at least two of the plurality of X contain a carboxylic acid anhydride group. Organic group.)
(2) The carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) according to (1), wherein the carboxylic acid anhydride group-containing organic group is at least one selected from the following formulas (2) to (5).
Figure 2016079129
(In the formula, * represents bonding to the Si atom of formula (1). R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.)
(3) The manufacturing method of the carboxylic acid anhydride group containing cyclic siloxane compound (A) as described in (1) which passes through the following process.
Step 1) An olefin compound having a carboxylic acid anhydride group and a olefin compound having a carboxylic acid anhydride group with respect to 1 mole of Si-H groups in the hydrogen siloxane compound is 0.2 to 0.9. A step of adding a molar equivalent to cause an addition reaction.
Step 2) A step in which a monoolefin compound is charged in an amount of 1.1 to 20 molar equivalents per 1 mol of the remaining Si—H group.
(4) An epoxy resin curing agent containing the carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) according to (1) or (2).
(5) The carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) according to any one of (1) or (2), or the epoxy resin curing agent according to (4) and the epoxy resin (B). Contains epoxy resin composition.
(6) The epoxy resin composition according to (5), wherein the epoxy resin (B) is a silicone-modified epoxy resin.
(7) The epoxy resin composition according to (6), wherein the silicone-modified epoxy resin is a compound represented by the following formula (6).
Figure 2016079129
(In Formula (6), R < 1 >, n represents the same meaning as the above, Y represents a C1-C10 hydrocarbon group or an organic group containing an epoxy group. In Formula (6), multiple R exists. 1 and Y may be the same as or different from each other, provided that two or more of Y are organic groups of an organic group containing an epoxy group.
(8) The epoxy resin composition according to any one of (5) to (7), further containing an epoxy resin curing accelerator (C).
(9) A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to any one of (5) to (8).
(10) A resin composition for encapsulating an optical semiconductor, comprising the epoxy resin composition according to any one of (5) to (8).
(11) An optical semiconductor device in which an optical semiconductor element is sealed with the optical semiconductor sealing resin composition according to (9).

本発明によれば、環状シロキサン骨格を含有するカルボン酸無水物化合物、およびそれを含有するエポキシ樹脂組成物は、作業性に優れた粘度であり、硬化時の揮発が少なく硬化性に優れ、その硬化物は優れた透明性、硬さを有する硬化物を与えるため、高い透明性且つ薄膜の硬化物形成が求められ材料、特に光半導体(LEDなど)の封止用樹脂としてきわめて有用である。   According to the present invention, a carboxylic acid anhydride compound containing a cyclic siloxane skeleton and an epoxy resin composition containing the carboxylic acid anhydride compound have excellent workability, low volatilization during curing, and excellent curability. Since the cured product gives a cured product having excellent transparency and hardness, it is required to form a cured product having high transparency and a thin film, and is extremely useful as a sealing resin for materials, particularly optical semiconductors (LEDs, etc.).

本発明のカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)は、下記式(1)で表される、環状シロキサン構造を有するカルボン酸無水物化合物である。   The carboxylic anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) of the present invention is a carboxylic anhydride compound having a cyclic siloxane structure represented by the following formula (1).

Figure 2016079129
Figure 2016079129

式(1)中、Rは炭素数1〜10の炭化水素基を、Xは炭素数1〜20炭化水素基又はカルボン酸無水物基含有の有機基を、nは1〜3の整数をそれぞれ表す。式(1)中、複数存在するR、Xはそれぞれ同一であっても異なっていても構わない。ただし、複数存在するX中、少なくとも2つはカルボン酸無水物基含有の有機基である。
Xとしては、2〜3つがカルボン酸無水物基含有の有機基であることが好ましい。また、Xにおいて、比率としては強度と強靭性のバランスの観点からカルボン酸無水物基含有の有機基:炭素数1〜20の炭化水素基は、1:9〜9:1であることが好ましく、3:7〜7:3であることがより好ましい。
また、式(1)を含有する組成物においては、カルボン酸無水物基の値が異なる2種類の組成物としてもよく、カルボン酸無水物基数が2の化合物とカルボン酸無水物基数が3の混合物が好ましく、カルボン酸無水物基数が2の化合物:カルボン酸無水物基数が3の化合物がLC−MS分析の面積%において7:3〜3:7であることが好ましく、6:4〜4:6であることがより好ましい。
In formula (1), R 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, X represents an organic group containing a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a carboxylic acid anhydride group, and n represents an integer of 1 to 3. Represent each. In the formula (1), a plurality of R 1 and X may be the same or different. However, in the plurality of Xs, at least two are carboxylic anhydride group-containing organic groups.
As X, 2 to 3 are preferably organic groups containing a carboxylic anhydride group. In X, the ratio of the organic group containing carboxylic anhydride group: the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms is preferably 1: 9 to 9: 1 from the viewpoint of the balance between strength and toughness. It is more preferable that it is 3: 7-7: 3.
Moreover, in the composition containing Formula (1), it is good also as two types of compositions from which the value of a carboxylic anhydride group differs, a carboxylic anhydride group number is 2 and a carboxylic anhydride group number is 3. A mixture is preferable, and a compound having 2 carboxylic anhydride groups: a compound having 3 carboxylic anhydride groups is preferably 7: 3 to 3: 7 in area% of LC-MS analysis, and 6: 4 to 4 : 6 is more preferable.

の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、フェニル基等が挙げられるが、硬化物の耐熱透明性の観点から、メチル基、フェニル基が好ましく、製造容易性の観点からメチル基が特に好ましい。
Xにおける有機基とは、C、H、N、O原子からなる化合物を表し、カルボン酸無水物基含有の有機基の具体例としては、シクロヘキサンジカルボン酸無水物、エチルシクロヘキサンジカルボン酸無水物、プロピルシクロヘキサンジカルボン酸無水物、ノルボルナンジカルボンサン無水物、エチルノルボルナンジカルボン酸無水物、プロピルノルボルナンジカルボン酸無水物、エチルコハク酸無水物、プロピルコハク酸無水物などが挙げられ、中でも下記式(2)〜(5)で表されるカルボン酸無水物基含有の有機基が、製造容易性、後述するエポキシ樹脂(B)との相溶性の観点から好ましい。
Specific examples of R 1 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, and a phenyl group. From the viewpoint of transparency, a methyl group and a phenyl group are preferable, and from the viewpoint of ease of production, a methyl group is particularly preferable.
The organic group in X represents a compound composed of C, H, N, and O atoms. Specific examples of the organic group containing a carboxylic acid anhydride group include cyclohexanedicarboxylic acid anhydride, ethylcyclohexanedicarboxylic acid anhydride, propyl Examples include cyclohexane dicarboxylic acid anhydride, norbornane dicarboxylic acid anhydride, ethyl norbornane dicarboxylic acid anhydride, propyl norbornane dicarboxylic acid anhydride, ethyl succinic acid anhydride, propyl succinic acid anhydride, among which the following formulas (2) to (5) ) Is preferable from the viewpoint of ease of production and compatibility with the epoxy resin (B) described later.

Figure 2016079129
(式中、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。)
Figure 2016079129
(In the formula, R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.)

式(2)〜(5)中、*で式(1)のSi原子と結合していることを表す。   In formulas (2) to (5), it represents that it is bonded to the Si atom of formula (1) by *.

式(1)中、Xにおける炭素数1〜20の炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、シクロヘキシル基、ノルボルナニル基、シクロヘキサンエチル基、ノルボルナンエチル基、フェニル基、エチルベンゼン基等が挙げられるが、硬化物の耐熱透明性の観点からはメチル基、フェニル基が好ましく、カルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)の融点を下げたり、エポキシ樹脂組成物の粘度を下げたりする観点からはヘキシル基、オクチル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基が好ましい。
式(1)中、nは化合物の製造容易性から2が好ましい。
In formula (1), specific examples of the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in X include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, Decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, pentadecyl group, octadecyl group, cyclohexyl group, norbornanyl group, cyclohexaneethyl group, norbornaneethyl group, phenyl group, ethylbenzene group, etc. From the viewpoint of heat-resistant transparency of the product, a methyl group and a phenyl group are preferable, and from the viewpoint of lowering the melting point of the carboxylic anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) or lowering the viscosity of the epoxy resin composition. An octyl group, a hexadecyl group, and an octadecyl group are preferable.
In formula (1), n is preferably 2 in view of the ease of production of the compound.

式(1)で表されるカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)は、環状ハイドロジェンシロキサン化合物とカルボン酸無水物基を有するオレフィン化合物と、式(1)中のXに炭素数2〜20の炭化水素基を導入する場合は炭素数2〜20の炭化水素モノオレフィン化合物とのハイドロシリレーション反応によって得ることができる。
環状ハイドロジェンシロキサン化合物の具体例としては、トリメチルトリシクロシロキサン、トリフェニルトリシクロシロキサン、テトラメチルテトラシクロシロキサン、テトラフェニルテトラシクロシロキサン、ペンタメチルペンタシクロシロキサン、ペンタフェニルペンタシクロシロキサン等が挙げられ、製造の容易性からテトラメチルテトラシロキサンが好ましい。
分子内にカルボン酸無水物基を有するオレフィン化合物としては、シクロヘキセンジカルボン酸無水物、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物、ビニルシクロヘキサンジカルボン酸無水物、アリルシクロヘキサンジカルボン酸無水物、ノルボルネンジカルボン酸無水物、メチルノルボルネンジカルボン酸無水物、ビニルコハク酸、アリルコハク酸等が挙げられ、製造の容易性、硬化物の耐熱透明性の観点からノルボルネンジカルボン酸無水物、アリルコハク酸無水物が好ましい。
炭素数2〜20の炭化水素モノオレフィン化合物としては、エチレン、プロペン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、ヘプテン、オクテン、ノネン、デセン、ドデセン、トリデセン、テトラデセン、ペンタデセン、ヘキサデセン、ヘプタデセン、オクタデセン、シクロヘキセン、ビニルシクロヘキサン、ノルボルネン、ビニルノルボルナン、スチレン等が挙げられ、カルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)の融点を下げたり、エポキシ樹脂組成物の粘度を下げたりする観点からはヘキセン、オクテン、ヘキサデセン、オクタデセンが好ましい。また、反応性が良く、沸点も低いことからヘキセン、オクテンが特に好ましい。
The carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) represented by the formula (1) includes a cyclic hydrogen siloxane compound and an olefin compound having a carboxylic anhydride group, and X in the formula (1) has 2 carbon atoms. When -20 hydrocarbon groups are introduced, they can be obtained by a hydrosilylation reaction with a hydrocarbon monoolefin compound having 2 to 20 carbon atoms.
Specific examples of the cyclic hydrogensiloxane compound include trimethyltricyclosiloxane, triphenyltricyclosiloxane, tetramethyltetracyclosiloxane, tetraphenyltetracyclosiloxane, pentamethylpentacyclosiloxane, pentaphenylpentacyclosiloxane, and the like. Tetramethyltetrasiloxane is preferred because of ease of production.
Examples of the olefin compound having a carboxylic acid anhydride group in the molecule include cyclohexene dicarboxylic acid anhydride, methylcyclohexene dicarboxylic acid anhydride, vinylcyclohexanedicarboxylic acid anhydride, allylcyclohexanedicarboxylic acid anhydride, norbornene dicarboxylic acid anhydride, methylnorbornene. Examples thereof include dicarboxylic acid anhydride, vinyl succinic acid, allyl succinic acid and the like, and norbornene dicarboxylic acid anhydride and allyl succinic acid anhydride are preferable from the viewpoint of ease of production and heat-resistant transparency of the cured product.
Examples of the hydrocarbon monoolefin compound having 2 to 20 carbon atoms include ethylene, propene, butene, pentene, hexene, heptene, octene, nonene, decene, dodecene, tridecene, tetradecene, pentadecene, hexadecene, heptadecene, octadecene, cyclohexene, vinylcyclohexane , Norbornene, vinyl norbornane, styrene and the like. From the viewpoint of lowering the melting point of the carboxylic anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) or lowering the viscosity of the epoxy resin composition, hexene, octene, hexadecene, octadecene Is preferred. Further, hexene and octene are particularly preferred because of their good reactivity and low boiling point.

ハイドロシリレーション反応は、その触媒として例えば、ロジウム、パラジウム、白金などの公知の金属錯体を用いることができる。具体的には、トリストリフェニルホスフィンロジウムクロリド、ヘキサクロロ白金酸・6水和物、ジビニルテトラメチルジシロキサン白金コンプレックス、テトラビニルテトラメチルシクロテトラシロキサン白金コンプレックス等が挙げられ、本発明のカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)の透明性、硬化物の透明性の観点からヘキサクロロ白金酸・6水和物、ジビニルテトラメチルジシロキサン白金コンプレックス、テトラビニルテトラメチルシクロテトラシロキサン白金コンプレックスが好ましい。 In the hydrosilylation reaction, a known metal complex such as rhodium, palladium, or platinum can be used as the catalyst. Specific examples include tristriphenylphosphine rhodium chloride, hexachloroplatinic acid hexahydrate, divinyltetramethyldisiloxane platinum complex, tetravinyltetramethylcyclotetrasiloxane platinum complex and the like, and the carboxylic acid anhydride of the present invention. From the viewpoints of the transparency of the group-containing cyclic siloxane compound (A) and the transparency of the cured product, hexachloroplatinic acid hexahydrate, divinyltetramethyldisiloxane platinum complex, and tetravinyltetramethylcyclotetrasiloxane platinum complex are preferred.

ハイドロシリレーション反応に用いる触媒は、触媒が液状の場合はそのまま無溶剤で用いることもできるが、触媒が固体の場合は溶媒に溶解して溶液にして用いることが、作業性の観点から好ましい。用いうる溶媒は、触媒を溶解する溶媒であれば用いることができるが、溶解性、作業性の観点から、テトラヒドロフラン、トルエン、エタノール、イソプロパノールが好ましい。
溶液として用いる場合、触媒を0.05〜50質量%に調整して反応液に添加する。
触媒の添加量は、白金量として0.1〜1000ppmの範囲で添加する。カルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)の透明性、その硬化物の透明性の観点から、カルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)を製造する原料質量の1〜100ppmが好ましく、2〜10ppmが特に好ましい。添加量が0.1ppmを下回ると付加反応が遅くなる懸念があり、1000ppmより大きいとカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)の着色がひどくなる懸念がある。
The catalyst used for the hydrosilylation reaction can be used without a solvent when the catalyst is in a liquid state, but when the catalyst is a solid, it is preferably used in the form of a solution dissolved in a solvent from the viewpoint of workability. Any solvent can be used as long as it dissolves the catalyst. From the viewpoint of solubility and workability, tetrahydrofuran, toluene, ethanol, and isopropanol are preferable.
When used as a solution, the catalyst is adjusted to 0.05 to 50% by mass and added to the reaction solution.
The addition amount of the catalyst is added in the range of 0.1 to 1000 ppm as the platinum amount. From the viewpoint of the transparency of the carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) and the transparency of the cured product, 1 to 100 ppm of the raw material mass for producing the carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) is preferable, 2 to 10 ppm is particularly preferable. If the addition amount is less than 0.1 ppm, there is a concern that the addition reaction will be delayed, and if it is more than 1000 ppm, there is a concern that coloring of the carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) will be serious.

ハイドロシリレーション反応の後は、水洗、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー、吸着(活性炭、各種鉱物)など、公知の方法で精製することができる。
反応および/または精製に用いた溶媒は減圧蒸留等によって除去することができる。
After the hydrosilylation reaction, it can be purified by known methods such as washing with water, distillation, recrystallization, column chromatography, adsorption (activated carbon, various minerals) and the like.
The solvent used for the reaction and / or purification can be removed by distillation under reduced pressure or the like.

式(1)中のXはカルボン酸無水物基を含有する有機基の他に、炭素数1〜20の炭化水素基を含むことが、式(1)で表されるカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)の製造安定性の観点から好ましい。
式(1)で表されるカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)中、Xがすべてカルボン酸無水物基であるものを製造する場合、ハイドロジェンシロキサン化合物中のSi−H基に対して、1.0モル当量以上のカルボン酸無水物基を有するオレフィン化合物を仕込む必要がある。カルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)を純度良く得るためには過剰のカルボン酸無水物基を有するオレフィン化合物を除去する必要があるが、一般的にカルボン酸無水物基を有するオレフィン化合物は沸点が高いものが多く、簡便に完全に除去することは困難である。
X in Formula (1) contains a carboxylic anhydride group represented by Formula (1), in addition to an organic group containing a carboxylic anhydride group, including a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. From the viewpoint of production stability of the cyclic siloxane compound (A), it is preferable.
In the case of producing a carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) represented by the formula (1) wherein all X are carboxylic acid anhydride groups, the Si-H group in the hydrogen siloxane compound Thus, it is necessary to charge an olefin compound having a carboxylic acid anhydride group of 1.0 molar equivalent or more. In order to obtain the carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) with high purity, it is necessary to remove the olefin compound having an excess of carboxylic acid anhydride group, but generally the olefin compound having a carboxylic acid anhydride group. Many have high boiling points, and it is difficult to remove them easily and completely.

前記のことから、本発明のカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)の製造方法において、下記工程を経ることが好ましい。
工程1)ハイドロジェンシロキサン化合物とカルボン酸無水物基を有するオレフィン化合物を、ハイドロジェンシロキサン化合物中のSi−H基1モルに対しカルボン酸無水物基を有するオレフィン化合物を0.2〜0.9モル当量仕込んで付加反応させる工程。
工程2)モノオレフィン化合物を、残存Si−H基1モルに対し、1.1〜20モル当量仕込み付加反応させる工程。
このようにすることで、カルボン酸無水物基を有するオレフィン化合物が1.0モル以下であったとしても、残ったSi-H基には、モノオレフィン化合物が付加することから得られた化合物が安定するためである。また、このようにモノオレフィン化合物を反応させることで増粘性を抑えることが可能となる。
From the above, in the method for producing a carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) of the present invention, it is preferable to go through the following steps.
Step 1) An olefin compound having a carboxylic acid anhydride group and a olefin compound having a carboxylic acid anhydride group with respect to 1 mole of Si-H groups in the hydrogen siloxane compound is 0.2 to 0.9. A step of adding a molar equivalent to cause an addition reaction.
Step 2) A step in which a monoolefin compound is charged in an amount of 1.1 to 20 molar equivalents per 1 mol of the remaining Si—H group.
By doing in this way, even if the olefin compound which has a carboxylic anhydride group is 1.0 mol or less, the compound obtained from the addition of a monoolefin compound to the remaining Si-H group This is to stabilize. Moreover, it becomes possible to suppress a thickening by making a monoolefin compound react in this way.

具体的には、ハイドロジェンシロキサン化合物中のSi−H基に対して、0.2〜0.9モル当量、さらに好ましくは0.5〜0.7モル当量のカルボン酸無水物基を有するオレフィン化合物を付加反応(工程1)させた後、残存しているSi−H基に対し過剰のモノオレフィン化合物を付加反応(工程2)させ、反応後、過剰のモノオレフィン化合物を減圧除去することが、製造容易性の観点から好ましい製造方法である。
この際のモノオレフィン化合物の仕込み量は、残存しているSi−H基に対し、1.01モル当量以上であれば良いが、1.1〜20モル当量が製造後のモノオレフィン化合物の除去の容易性から好ましく、1.2〜5モル当量がさらに好ましく、1.3〜2.0当量が特に好ましい。
Specifically, the olefin having 0.2 to 0.9 mole equivalent, more preferably 0.5 to 0.7 mole equivalent of a carboxylic acid anhydride group with respect to the Si-H group in the hydrogen siloxane compound. After the compound is subjected to an addition reaction (step 1), an excess monoolefin compound is added to the remaining Si-H group (step 2), and after the reaction, the excess monoolefin compound is removed under reduced pressure. This is a preferable production method from the viewpoint of ease of production.
The charged amount of the monoolefin compound at this time may be 1.01 molar equivalent or more with respect to the remaining Si-H group, but 1.1 to 20 molar equivalent is the removal of the monoolefin compound after production. From the easiness of, 1.2-5 molar equivalent is further more preferable, and 1.3-2.0 equivalent is especially preferable.

式(1)中の、Xにおいて、カルボン酸無水物基を含有する有機基と、炭素数1〜10の炭化水素基の平均存在比は、カルボン酸無水物基を含有する有機基が、20〜95モル%が好ましく、40〜80モル%がさらに好ましく、50〜70モル%がさらに好ましい。20モル%を下回ると硬化物の機械強度が劣るおそれがあり、95モル%を上回ると製造時間に長時間を要するため工業的に好ましくない。   In X in the formula (1), the average abundance ratio of the organic group containing a carboxylic acid anhydride group and the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms is 20% for the organic group containing a carboxylic acid anhydride group. -95 mol% is preferable, 40-80 mol% is more preferable, 50-70 mol% is more preferable. If it is less than 20 mol%, the mechanical strength of the cured product may be inferior, and if it exceeds 95 mol%, it takes a long time for production, which is not industrially preferable.

本発明のカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)は、エポキシ樹脂の硬化剤として機能するものであり、他のエポキシ樹脂硬化剤を含有して用いることができる。
例えば、カルボン酸無水物硬化剤、アミン系硬化剤、フェノール系硬化剤、多価カルボン酸樹脂が挙げられ、そのうち酸無水物系硬化剤、多価カルボン酸樹脂が好ましい。
具体的には酸無水物系硬化剤としては、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、4−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、3−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸と4−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸との混合物、テトラヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸、ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチルノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、2,4−ジエチルグルタル酸無水物などを挙げることができ、これらのうち、ヘキサヒドロ無水フタル酸及びその誘導体が好ましい。
The carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) of the present invention functions as an epoxy resin curing agent, and can be used by containing other epoxy resin curing agents.
For example, a carboxylic acid anhydride curing agent, an amine-based curing agent, a phenol-based curing agent, and a polyvalent carboxylic acid resin may be mentioned, among which an acid anhydride-based curing agent and a polyvalent carboxylic acid resin are preferable.
Specifically, the acid anhydride curing agent includes phthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3-methyl-hexahydrophthalic anhydride, 4-methyl-hexahydro. Phthalic anhydride, a mixture of 3-methyl-hexahydrophthalic anhydride and 4-methyl-hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, nadic anhydride, methyl nadic anhydride, norbornane-2,3-dicarboxylic anhydride, Examples thereof include methylnorbornane-2,3-dicarboxylic acid anhydride and 2,4-diethylglutaric acid anhydride. Among these, hexahydrophthalic anhydride and derivatives thereof are preferable.

次に、多価カルボン酸樹脂について説明する。
多価カルボン酸樹脂は少なくとも2つ以上のカルボキシル基を有し、脂肪族炭化水素基またはシロキサン骨格を主骨格とすることを特徴とする化合物である。本発明においては多価カルボン酸樹脂とは単一の構造を有する多価カルボン酸化合物だけでなく、置換基の位置が異なる、あるいは置換基の異なる複数の化合物の混合体、すなわち多価カルボン酸組成物も含包し、本発明においてはそれらをまとめて多価カルボン酸樹脂と称す。
Next, the polyvalent carboxylic acid resin will be described.
The polycarboxylic acid resin is a compound having at least two or more carboxyl groups and having an aliphatic hydrocarbon group or a siloxane skeleton as a main skeleton. In the present invention, the polyvalent carboxylic acid resin is not only a polyvalent carboxylic acid compound having a single structure, but also a mixture of a plurality of compounds having different substituent positions or different substituents, that is, a polyvalent carboxylic acid. A composition is also included, and in the present invention, they are collectively referred to as a polyvalent carboxylic acid resin.

多価カルボン酸樹脂としては、特に2〜6官能のカルボン酸が好ましく、(a);分子内に2つ以上の水酸基を含有する多価アルコール化合物と(b);分子内に1つ以上の酸無水物基を含有する化合物との反応により得られた化合物がより好ましい。ここで、上記(a)及び(b)の反応物においては、さらに別のアルコール化合物を反応してもよく、(a)または(b)成分に該当する化合物を2種類以上使用しても良い。
(a);分子内に2つ以上の水酸基を含有する多価アルコール化合物としては、分子内に2つ以上のアルコール性水酸基を有する化合物であれば特に限定されないがエチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、2,4−ジエチルペンタンジオール、2−エチル−2−ブチル−1.3−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、トリシクロデカンジメタノール、ノルボルネンジオール、2,2’-ビス(4-ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン、2−(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル)−5−エチル−5−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキサン等のジオール類、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメチロールブタン、2−ヒドロキシメチル−1,4−ブタンジオール等のトリオール類、ペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパン等のテトラオール類、ジペンタエリスリトールなどのヘキサオール等、末端アルコールポリエステル、末端アルコールポリカーボネート、末端アルコールポリエーテル、シロキサン構造を有する多価アルコール等が挙げられる。
特に好ましいアルコール類としては炭素数が5以上のアルコールであり、特に1,6-ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,2−シクロヘキサンジメタノール、2,4−ジエチルペンタンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、トリシクロデカンジメタノール、ノルボルネンジオール、2,2’-ビス(4-ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン、2−(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル)−5−エチル−5−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキサン等の化合物が挙げられ、中でも2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、2,4−ジエチルペンタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、ノルボルネンジオール、2,2’-ビス(4-ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン、2−(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル)−5−エチル−5−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキサン等の化合物等の分岐鎖状構造や環状構造を有するアルコール類がより好ましい。高い耐硫化性を付与する観点から、2,4−ジエチルペンタンジオール、トリシクロデカンジメタノール、2,2’-ビス(4-ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン、2−(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル)−5−エチル−5−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキサン等の化合物が特に好ましい。中でも、特に分岐鎖状構造においては、分岐鎖を2つ以上有することが好ましく、特に分岐鎖が異なる炭素原子から伸びていることが好ましい。ここで、当該分岐鎖状構造や環状構造を有するアルコール類は炭素数が5〜25であることが好ましく、5〜20であることが特に好ましい。
シロキサン構造を有する多価アルコールは特に限定されないが、例えば下記式で表されるシリコーンオイルを使用することができる。
As the polyvalent carboxylic acid resin, a bi- to hexafunctional carboxylic acid is particularly preferable. (A); a polyhydric alcohol compound containing two or more hydroxyl groups in the molecule; and (b); one or more in the molecule. More preferred are compounds obtained by reaction with compounds containing acid anhydride groups. Here, in the reactants (a) and (b), another alcohol compound may be reacted, and two or more compounds corresponding to the component (a) or (b) may be used. .
(A): The polyhydric alcohol compound containing two or more hydroxyl groups in the molecule is not particularly limited as long as it is a compound having two or more alcoholic hydroxyl groups in the molecule, but ethylene glycol, propylene glycol, 1, 3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, cyclohexanedimethanol, 2,4-diethylpentanediol, 2-ethyl-2 -Butyl-1.3-propanediol, neopentyl glycol, tricyclodecane dimethanol, norbornenediol, 2,2'-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane, 2- (1,1-dimethyl-2-hydroxyethyl) ) Diols such as 5-ethyl-5-hydroxymethyl-1,3-dioxane , Triols such as glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, trimethylolbutane, 2-hydroxymethyl-1,4-butanediol, tetraols such as pentaerythritol and ditrimethylolpropane, hexa such as dipentaerythritol Examples thereof include terminal alcohol polyester, terminal alcohol polycarbonate, terminal alcohol polyether, and polyhydric alcohol having a siloxane structure.
Particularly preferred alcohols are alcohols having 5 or more carbon atoms, particularly 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,2-cyclohexanedimethanol, 2, 4-diethylpentanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, neopentyl glycol, tricyclodecane dimethanol, norbornenediol, 2,2′-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane, 2- And compounds such as (1,1-dimethyl-2-hydroxyethyl) -5-ethyl-5-hydroxymethyl-1,3-dioxane, among which 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, Neopentyl glycol, 2,4-diethylpentanediol, 1,4-cyclohexane Sandimethanol, tricyclodecane dimethanol, norbornenediol, 2,2′-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane, 2- (1,1-dimethyl-2-hydroxyethyl) -5-ethyl-5-hydroxymethyl- Alcohols having a branched chain structure or a cyclic structure such as a compound such as 1,3-dioxane are more preferable. From the viewpoint of imparting high sulfidation resistance, 2,4-diethylpentanediol, tricyclodecane dimethanol, 2,2'-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane, 2- (1,1-dimethyl-2-hydroxy Compounds such as ethyl) -5-ethyl-5-hydroxymethyl-1,3-dioxane are particularly preferred. Among them, particularly in a branched chain structure, it is preferable to have two or more branched chains, and it is particularly preferable that the branched chains extend from different carbon atoms. Here, the alcohol having the branched chain structure or the cyclic structure preferably has 5 to 25 carbon atoms, and particularly preferably 5 to 20 carbon atoms.
Although the polyhydric alcohol which has a siloxane structure is not specifically limited, For example, the silicone oil represented by a following formula can be used.

Figure 2016079129
Figure 2016079129

式(7)中、Aはエーテル結合を介しても良い炭素総数1〜10アルキレン基を表し、Aはメチル基又はフェニル基を表す。また、nは繰り返し数であり平均値を意味し、1〜100である。 In the formula (7), A 1 represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms that may be bonded via an ether bond, and A 2 represents a methyl group or a phenyl group. N is the number of repetitions, which means an average value, and is 1 to 100.

前記した、(a);分子内に2つ以上の水酸基を含有する多価アルコール化合物は単独で使用しても良いし、2種以上混合して使用しても良い。
得られる多価カルボン酸樹脂を液状で使用し、高い耐硫化性を付与するため、前述したシロキサン構造を有する多価アルコールと、炭素数が5〜25の分岐鎖状構造や環状構造を有するアルコール類を混合して用いることが好ましい。
シロキサン構造を有する多価アルコールと炭素数が5〜25の分岐鎖状構造や環状構造を有するアルコール類を混合して用いる場合、その使用量は全アルコール化合物中(シロキサン構造を有する多価アルコール)/(炭素数が5〜25の分岐鎖状構造や環状構造を有するアルコール類)は1〜20が好ましく、硬化物の耐熱透明性、多価カルボン酸樹脂の適度な粘度の観点から5〜15が好ましく、6〜10が特に好ましい。
As described above, (a): the polyhydric alcohol compound containing two or more hydroxyl groups in the molecule may be used alone or in combination of two or more.
In order to use the obtained polycarboxylic acid resin in a liquid state and impart high resistance to sulfidation, the polyhydric alcohol having the siloxane structure described above and the alcohol having a branched chain structure or a cyclic structure having 5 to 25 carbon atoms. It is preferable to use a mixture.
When using a mixture of a polyhydric alcohol having a siloxane structure and an alcohol having a branched chain structure or a cyclic structure having 5 to 25 carbon atoms, the amount used is in the total alcohol compound (polyhydric alcohol having a siloxane structure). / (Alcohols having a branched chain structure or cyclic structure having 5 to 25 carbon atoms) is preferably 1 to 20, and 5 to 15 from the viewpoint of heat-resistant transparency of the cured product and appropriate viscosity of the polyvalent carboxylic acid resin. Is preferable, and 6 to 10 is particularly preferable.

(b);分子内に1つ以上の酸無水物基を含有する化合物としては特にメチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水ナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ブタンテトラカルボン酸無水物、ビシクロ[2,2,1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチルビシクロ[2,2,1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物、シクロヘキサン−1,3,4−トリカルボン酸−3,4−無水物、グルタル酸無水物、2,4−ジエチルグルタル酸無水物、コハク酸無水物等が好ましく、中でもメチルヘキサヒドロ無水フタル酸、シクロヘキサン−1,3,4−トリカルボン酸−3,4−無水物、2,4−ジエチルグルタル酸無水物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物が好ましい。ここで、硬度を上げるためには、シクロヘキサン−1,3,4−トリカルボン酸−3,4−無水物が好ましく、照度保持率を上げるためにはメチルヘキサヒドロ無水フタル酸無水物が好ましく、多価カルボン酸樹脂の過度な粘度上昇を抑えるには2,4−ジエチルグルタル酸、グルタル酸が好ましい。
付加反応の条件としては特に指定はないが、具体的な反応条件の1つとしては酸無水物、多価アルコールを無触媒、無溶剤の条件下、40〜150℃で反応させ加熱し、反応終了後、そのまま取り出す。という手法である。ただし、本反応条件に限定されない。
(B); compounds containing one or more acid anhydride groups in the molecule include, in particular, methyltetrahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, butane Tetracarboxylic anhydride, bicyclo [2,2,1] heptane-2,3-dicarboxylic anhydride, methylbicyclo [2,2,1] heptane-2,3-dicarboxylic anhydride, cyclohexane-1,3 , 4-tricarboxylic acid-3,4-anhydride, glutaric anhydride, 2,4-diethylglutaric anhydride, succinic anhydride and the like are preferred, and among them, methylhexahydrophthalic anhydride, cyclohexane-1,3, 4-tricarboxylic acid-3,4-anhydride, 2,4-diethylglutaric anhydride, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride Cyclohexane tetracarboxylic dianhydride, cyclopentane tetracarboxylic dianhydride is preferred. Here, cyclohexane-1,3,4-tricarboxylic acid-3,4-anhydride is preferable for increasing hardness, and methylhexahydrophthalic anhydride is preferable for increasing illuminance retention. In order to suppress an excessive increase in viscosity of the polyvalent carboxylic acid resin, 2,4-diethylglutaric acid and glutaric acid are preferable.
Although there is no particular designation as a condition for the addition reaction, one specific reaction condition is that the acid anhydride and polyhydric alcohol are reacted in a non-catalytic and solvent-free condition at 40 to 150 ° C. and heated to react. After completion, take it out as it is. It is a technique. However, it is not limited to this reaction condition.

このようにして得られる多価カルボン酸樹脂として特に下記式(8)で表される化合物が好ましい。   The polycarboxylic acid resin thus obtained is particularly preferably a compound represented by the following formula (8).

Figure 2016079129
Figure 2016079129

式(8)中、複数存在するAは、水素原子、メチル基、カルボキシル基の少なくとも1種を表す。Aは分子内に2つ以上の水酸基を含有する多価アルコール化合物由来の炭素数2〜20の鎖状、環状の脂肪族基である。mは2〜4である。 In Formula (8), a plurality of A 3 represent at least one of a hydrogen atom, a methyl group, and a carboxyl group. A 4 is a polyhydric alcohol compound from 2-20 chain atoms, and a cyclic aliphatic group containing two or more hydroxyl groups in the molecule. m is 2-4.

カルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)を含有するエポキシ樹脂硬化剤中の、カルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)の含有量は10質量%以上が好ましく、15質量%以上がさらに好ましく、20質量%以上が特に好ましい。含有量が10質量%を下回ると硬化物の機械強度が劣る可能性がある。   The content of the carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) in the epoxy resin curing agent containing the carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) is preferably 10% by mass or more, and more preferably 15% by mass or more. More preferred is 20% by mass or more. If the content is less than 10% by mass, the mechanical strength of the cured product may be inferior.

カルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)を含有するエポキシ樹脂硬化剤の配合量は、全エポキシ基の合計1モルに対して、エポキシ基と反応性を有する官能基(酸無水物系硬化剤の場合には−CO−O−CO−で表される酸無水物基)が0.3〜1.0モルとなる量、好ましくは0.4〜0.8モルとなる量である。エポキシ基と反応性を有する官能基が0.3モル以上であれば、硬化物の耐熱性、透明性が向上するため望ましく、1.0モル以下であれば硬化物の機械特性が向上するため、好ましい。ここで、「エポキシ基と反応性を有する官能基」とは、アミン系硬化剤が有するアミノ基、フェノール系硬化剤が有するフェノール性水酸基、酸無水物系硬化剤が有する酸無水物基、多価カルボン酸樹脂が有するカルボキシル基である。   The compounding amount of the epoxy resin curing agent containing the carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) is a functional group (acid anhydride curing) having reactivity with the epoxy group with respect to 1 mol in total of all epoxy groups. In the case of an agent, the amount of the acid anhydride group represented by -CO-O-CO-) is 0.3 to 1.0 mol, preferably 0.4 to 0.8 mol. If the functional group having reactivity with the epoxy group is 0.3 mol or more, the heat resistance and transparency of the cured product are improved, and if it is 1.0 mol or less, the mechanical properties of the cured product are improved. ,preferable. Here, “functional group having reactivity with epoxy group” means an amino group possessed by an amine curing agent, a phenolic hydroxyl group possessed by a phenol curing agent, an acid anhydride group possessed by an acid anhydride curing agent, It is a carboxyl group that the polyvalent carboxylic acid resin has.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、カルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)および/またはカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)を含有するエポキシ樹脂硬化剤と、エポキシ樹脂(B)を含有する。
エポキシ樹脂(B)としては、フェノール化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物とそれ以外の他の重合性不飽和化合物との共重合体、エポキシ基をもつケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物との縮合物、シリコーン変性エポキシ樹脂等が挙げられる。
The epoxy resin composition of the present invention comprises an epoxy resin curing agent containing a carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) and / or a carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A), and an epoxy resin (B). Containing.
The epoxy resin (B) includes an epoxy resin that is a glycidyl etherified product of a phenol compound, an epoxy resin that is a glycidyl etherified product of various novolak resins, an alicyclic epoxy resin, an aliphatic epoxy resin, a heterocyclic epoxy resin, and glycidyl. Ester epoxy resins, glycidyl amine epoxy resins, epoxy resins obtained by glycidylation of halogenated phenols, copolymers of polymerizable unsaturated compounds with epoxy groups and other polymerizable unsaturated compounds, epoxy groups Examples thereof include condensates of silicon compounds having other and other silicon compounds, silicone-modified epoxy resins, and the like.

前記フェノール類化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂としては、例えば2−[4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル]−2−[4−[1,1−ビス[4−(2,3−ヒドロキシ)フェニル]エチル]フェニル]プロパン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、4,4'−ビフェノール、テトラメチルビスフェノールA、ジメチルビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールF、ジメチルビスフェノールF、テトラメチルビスフェノールS、ジメチルビスフェノールS、テトラメチル−4,4'−ビフェノール、ジメチル−4,4'−ビフェノール、1−(4−ヒドロキシフェニル)−2−[4−(1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)エチル)フェニル]プロパン、2,2'−メチレン−ビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、4,4'−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、トリスヒドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、フロログリシノール、ジイソプロピリデン骨格を有するフェノール類、1,1−ジ−4−ヒドロキシフェニルフルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類、フェノール化ポリブタジエン等のポリフェノール化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂等が挙げられる。 Examples of the epoxy resin that is a glycidyl etherified product of a phenol compound include 2- [4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] -2- [4- [1,1-bis [4- (2,3 -Hydroxy) phenyl] ethyl] phenyl] propane, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, 4,4'-biphenol, tetramethyl bisphenol A, dimethyl bisphenol A, tetramethyl bisphenol F, dimethyl bisphenol F, tetramethyl bisphenol S, Dimethylbisphenol S, tetramethyl-4,4′-biphenol, dimethyl-4,4′-biphenol, 1- (4-hydroxyphenyl) -2- [4- (1,1-bis- (4-hydroxyphenyl) Ethyl) phenyl] propane, 2,2′-methylene- Bis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylphenol), trishydroxyphenylmethane, resorcinol, hydroquinone, pyrogallol, phloroglicinol, diisopropyl Examples thereof include phenols having a redene skeleton, phenols having a fluorene skeleton such as 1,1-di-4-hydroxyphenylfluorene, and epoxy resins which are glycidyl etherified products of polyphenol compounds such as phenolized polybutadiene.

前記各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂としては、例えばフェノール、クレゾール類、エチルフェノール類、ブチルフェノール類、オクチルフェノール類、ビスフェノールA、ビスフェノールF及びビスフェノールS等のビスフェノール類、ナフトール類等の各種フェノールを原料とするノボラック樹脂、キシリレン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ビフェニル骨格含有フェノールノボラック樹脂、フルオレン骨格含有フェノールノボラック樹脂等の各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物等が挙げられる。   Examples of epoxy resins that are glycidyl etherified products of various novolak resins include phenols, cresols, ethylphenols, butylphenols, octylphenols, bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F and bisphenol S, and various phenols such as naphthols. And glycidyl etherified products of various novolac resins such as a novolak resin, a phenol novolac resin containing a xylylene skeleton, a phenol novolak resin containing a dicyclopentadiene skeleton, a phenol novolak resin containing a biphenyl skeleton, and a phenol novolac resin containing a fluorene skeleton.

前記脂環式エポキシ樹脂としては、例えば3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−(3,4−エポキシ)シクロヘキシルカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート等の脂肪族環骨格を有する脂環式エポキシ樹脂が挙げられる。
前記脂肪族系エポキシ樹脂としては、例えば1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ポリエチレングリコール、ペンタエリスリトール等の多価アルコールのグリシジルエーテル類が挙げられる。
複素環式エポキシ樹脂としては、例えばイソシアヌル環、ヒダントイン環等の複素環を有する複素環式エポキシ樹脂が挙げられる。
前記グリシジルエステル系エポキシ樹脂としては、例えばヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等のカルボン酸エステル類からなるエポキシ樹脂が挙げられる。
グリシジルアミン系エポキシ樹脂としては、例えばアニリン、トルイジン等のアミン類をグリシジル化したエポキシ樹脂が挙げられる。
前記ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂としては、例えばブロム化ビスフェノールA、ブロム化ビスフェノールF、ブロム化ビスフェノールS、ブロム化フェノールノボラック、ブロム化クレゾールノボラック、クロル化ビスフェノールS、クロル化ビスフェノールA等のハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂が挙げられる。
Examples of the alicyclic epoxy resin include alicyclic rings having an aliphatic ring skeleton such as 3,4-epoxycyclohexylmethyl- (3,4-epoxy) cyclohexylcarboxylate and bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate. An epoxy resin is mentioned.
Examples of the aliphatic epoxy resin include glycidyl ethers of polyhydric alcohols such as 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, polyethylene glycol, and pentaerythritol.
Examples of the heterocyclic epoxy resin include heterocyclic epoxy resins having a heterocyclic ring such as an isocyanuric ring and a hydantoin ring.
Examples of the glycidyl ester-based epoxy resin include epoxy resins made of carboxylic acid esters such as hexahydrophthalic acid diglycidyl ester.
Examples of the glycidylamine-based epoxy resin include epoxy resins obtained by glycidylating amines such as aniline and toluidine.
Examples of epoxy resins obtained by glycidylating halogenated phenols include brominated bisphenol A, brominated bisphenol F, brominated bisphenol S, brominated phenol novolac, brominated cresol novolac, chlorinated bisphenol S, chlorinated bisphenol A, and the like. An epoxy resin obtained by glycidylating any of the halogenated phenols.

前記エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物とそれ以外の他の重合性不飽和化合物との共重合体としては、市場から入手可能な製品ではマープルーフG−0115S、同G−0130S、同G-0250S、同G−1010S、同G−0150M、同G−2050M (日油(株)製)等が挙げられ、エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物としては、例えばアクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、4−ビニル−1−シクロヘキセン−1,2−エポキシド等が挙げられる。また他の重合性不飽和化合物の共重合体としては、例えばメチル(メタ)アクリレート、エーテル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、ビニルシクロヘキサンなどが挙げられる。   Examples of the copolymer of the polymerizable unsaturated compound having an epoxy group and other polymerizable unsaturated compound include Marproof G-0115S, G-0130S, G- 0250S, G-1010S, G-0150M, G-2050M (manufactured by NOF Corporation), and the like. Examples of the polymerizable unsaturated compound having an epoxy group include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, Examples include 4-vinyl-1-cyclohexene-1,2-epoxide. Examples of other polymerizable unsaturated compound copolymers include methyl (meth) acrylate, ether (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, styrene, and vinylcyclohexane.

前記エポキシ基をもつケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物との縮合物とは、例えばエポキシ基をもつアルコキシシラン化合物とメチル基やフェニル基を持つアルコキシシランとの加水分解縮合物や、エポキシ基をもつアルコキシシラン化合物とシラノール基をもつポリジメチルシロキサン、シラノール基をもつポリジメチルジフェニルシロキサン、シラノール基をもつポリフェニルシロキサンとの縮合物、またはそれらを併用し得られた縮合化合物のことである。エポキシ基をもつアルコキシシラン化合物としては、例えば2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。メチル基やフェニル基をもつアルコキシシラン化合物としては、例えばメチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等が挙げられる。シラノール基をもつポリジメチルシロキサン、シラノール基をもつポリジメチルジフェニルシロキサンとしては、例えば市場から入手可能な製品では、X−21−5841、KF−9701(信越化学工業(株)製)BY16−873、PRX413(東レ・ダウコーニング(株)製)XC96−723、YF3804、YF3800、XF3905、YF3057(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社)DMS−S12、DMS−S14、DMS−S15、DMS−S21、DMS−S27、DMS−S31、PDS−0338、PDS−1615(Gelest社製)等が挙げられる。   Examples of the condensate of the silicon compound having an epoxy group and another silicon compound include a hydrolysis condensate of an alkoxysilane compound having an epoxy group and an alkoxysilane having a methyl group or a phenyl group, or an epoxy group. It is a condensate of an alkoxysilane compound and a polydimethylsiloxane having a silanol group, a polydimethyldiphenylsiloxane having a silanol group, a polyphenylsiloxane having a silanol group, or a condensate obtained by using them in combination. Examples of the alkoxysilane compound having an epoxy group include 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, and 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane. , 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane and the like. Examples of the alkoxysilane compound having a methyl group or a phenyl group include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, and methylphenyldimethoxysilane. . As polydimethylsiloxane having a silanol group and polydimethyldiphenylsiloxane having a silanol group, for example, X-21-5841, KF-9701 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) BY16-873 are available from the market. PRX413 (Toray Dow Corning Co., Ltd.) XC96-723, YF3804, YF3800, XF3905, YF3057 (Momentive Performance Materials Japan GK) DMS-S12, DMS-S14, DMS-S15, DMS-S21, Examples thereof include DMS-S27, DMS-S31, PDS-0338, and PDS-1615 (manufactured by Gelest).

前記シリコーン変性エポキシ樹脂とは、分子内にシリコーン骨格(Si−O骨格)と、エポキシ基を2つ以上含有する樹脂である。   The silicone-modified epoxy resin is a resin containing a silicone skeleton (Si-O skeleton) and two or more epoxy groups in the molecule.

前記エポキシ樹脂の中でも下記式(6)で表されるシリコーン変性エポキシ樹脂が、硬化物の透明性に優れるため好ましい。 Among the epoxy resins, a silicone-modified epoxy resin represented by the following formula (6) is preferable because of excellent transparency of the cured product.

Figure 2016079129
Figure 2016079129

式(6)中、R、nは前記と同じ意味を表し、Yは炭素数1〜10炭化水素基又はエポキシ基含有の有機基をそれぞれ表す。式(6)中、複数存在するR、Yはそれぞれ同一であっても異なっていても構わない。ただし、複数存在するY中、2つ以上はエポキシ基含有の有機基の有機基である。 In formula (6), R < 1 >, n represents the same meaning as the above, Y represents a C1-C10 hydrocarbon group or an epoxy group containing organic group, respectively. In formula (6), a plurality of R 1 and Y may be the same or different. However, in the plurality of Y, two or more are organic groups of an organic group containing an epoxy group.

式(6)中、Yにおける有機基とは、C、H、N、O原子からなる化合物を表し、エポキシ基含有の有機基の具体例としては、2,3−エポキシシクロヘキシルエチル基、3―グリシドキシプロピル基が挙げられ、硬化物の耐熱透明性の観点から2,3−エポキシシクロヘキシルエチル基が好ましい。ここで、有機基における炭素数は1〜20であることが好ましく、3〜15であることがより好ましい。また、炭素数1〜5のアルキレン基を介在して2,3−エポキシシクロヘキシルエチル基、3―グリシドキシプロピル基が付加している基であることが好ましい。
Yにおける炭素数1〜10の炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、シクロヘキシル基、ノルボルナニル基、シクロヘキサンエチル基、ノルボルナンエチル基、フェニル基、エチルベンゼン基等が挙げられるが、硬化物の耐熱透明性の観点からはメチル基、フェニル基が好ましく、硬化物の耐熱透明性の観点からはメチル基、フェニル基が好ましい。
In formula (6), the organic group in Y represents a compound composed of C, H, N, and O atoms, and specific examples of the epoxy group-containing organic group include 2,3-epoxycyclohexylethyl group, 3- A glycidoxypropyl group is mentioned, and 2,3-epoxycyclohexylethyl group is preferable from the viewpoint of heat-resistant transparency of the cured product. Here, the number of carbon atoms in the organic group is preferably 1-20, and more preferably 3-15. Further, it is preferably a group to which a 2,3-epoxycyclohexylethyl group or 3-glycidoxypropyl group is added via an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms.
Specific examples of the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms in Y include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, a cyclohexyl group, Examples include norbornanyl group, cyclohexaneethyl group, norbornaneethyl group, phenyl group, ethylbenzene group, etc., but from the viewpoint of heat resistance and transparency of the cured product, methyl group and phenyl group are preferable, and from the viewpoint of heat resistance and transparency of the cured product. A methyl group and a phenyl group are preferred.

前記したエポキシ樹脂は1種又は2種以上を混合して用いても良い。   The aforementioned epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

前記したエポキシ樹脂の中でも、透明性、耐熱透明性、耐光透明性の観点から、脂環式エポキシ樹脂、エポキシ基をもつケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物との縮合物、式(6)で表される環状シロキサン骨格を有するシリコーン変性エポキシ樹脂の併用は好ましい。その中でも、骨格にエポキシシクロヘキサン構造を有する化合物が好ましい。 Among the above-mentioned epoxy resins, from the viewpoint of transparency, heat-resistant transparency, and light-resistant transparency, an alicyclic epoxy resin, a condensate of a silicon compound having an epoxy group and another silicon compound, represented by formula (6) The combined use of a silicone-modified epoxy resin having a cyclic siloxane skeleton is preferred. Among these, a compound having an epoxycyclohexane structure in the skeleton is preferable.

本発明のエポキシ樹脂組成物において、式(6)で表される環状シロキサン骨格を有するシリコーン変性エポキシ樹脂を用いる場合、エポキシ樹脂中30質量%以上用いることが好ましく、50質量%以上用いることがさらに好ましく、70質量%以上用いることが特に好ましい。式(6)で表される環状シロキサン骨格を有するシリコーン変性エポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂組成物は増粘率が高いが、本願発明の式(1)で表されるカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物との組成物とすることで増粘を抑えることが可能となる。この際、環状シロキサン骨格を有するシリコーン変性エポキシ樹脂に対して質量比で、式(1)で表されるカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物を0.2以上入れることで増粘を効果的に抑えることが可能となる。   In the epoxy resin composition of the present invention, when a silicone-modified epoxy resin having a cyclic siloxane skeleton represented by the formula (6) is used, it is preferably used in an amount of 30% by mass or more, more preferably 50% by mass or more. It is particularly preferable to use 70% by mass or more. Although the epoxy resin composition containing the silicone-modified epoxy resin having a cyclic siloxane skeleton represented by the formula (6) has a high viscosity increase rate, the carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane represented by the formula (1) of the present invention It becomes possible to suppress thickening by setting it as a composition with a compound. At this time, by adding 0.2 or more of the carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound represented by the formula (1) by mass ratio with respect to the silicone-modified epoxy resin having a cyclic siloxane skeleton, thickening is effectively performed. It becomes possible to suppress.

エポキシ樹脂組成物はカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)と、エポキシ樹脂(B)を常温もしくは加温下で均一に混合することにより得られる。例えば、薬匙、押出機、ニーダー、三本ロール、万能ミキサー、プラネタリーミキサー、ホモミキサー、ホモディスパー、ビーズミル等を用いて均一になるまで充分に混合し、必要によりSUSメッシュ等によりろ過処理を行うことにより調製される。
調製する際、前述した他のエポキシ樹脂硬化剤、後述するエポキシ樹脂硬化促進剤(C)、接着助剤、酸化防止剤、光安定剤等を一緒に混合してもよい。
The epoxy resin composition can be obtained by uniformly mixing the carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) and the epoxy resin (B) at room temperature or under heating. For example, mix thoroughly until uniform using a cartridge case, extruder, kneader, three rolls, universal mixer, planetary mixer, homomixer, homodisper, bead mill, etc., and if necessary, filter with SUS mesh etc. It is prepared by doing.
When preparing, you may mix together the other epoxy resin hardening | curing agent mentioned above, the epoxy resin hardening accelerator (C) mentioned later, an adhesion assistant, antioxidant, a light stabilizer, etc. together.

本発明のエポキシ樹脂組成物をLED封止材として用いる場合、その粘度は25℃において、500〜10000mPa・sが好ましく、1000〜4000mPa・sがさらに好ましい。25℃における粘度が500mPa・s未満であると、特に白色LED封止材に混合して用いられる蛍光体が短時間で沈殿する事があり、一方、10000mPa・sよりも大きいと、特にサイズの小さいパッケージへの注型の際に作業性に問題がでる事がある。   When the epoxy resin composition of the present invention is used as an LED sealing material, the viscosity is preferably 500 to 10,000 mPa · s, more preferably 1000 to 4000 mPa · s at 25 ° C. When the viscosity at 25 ° C. is less than 500 mPa · s, the phosphor used by mixing with the white LED encapsulant may precipitate in a short time, while when larger than 10000 mPa · s, the size is particularly large. There may be a problem in workability when casting small packages.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、さらにエポキシ樹脂硬化促進剤(C)を含有することが好ましい。
エポキシ樹脂硬化促進剤(C)としては本発明のカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)と、エポキシ樹脂(B)の硬化反応を促進する能力のあるものは何れも使用可能であるが、使用できるエポキシ樹脂硬化促進剤(C)の例としては、アンモニウム塩系硬化促進剤、ホスホニウム塩系硬化促進剤、金属石鹸系硬化促進剤、イミダゾ−ル系硬化促進剤、アミン系硬化促進剤、ホスフィン系硬化促進剤、ホスファイト系硬化促進剤、ルイス酸系硬化促進剤等が挙げられる。
本発明のエポキシ樹脂組成物においてエポキシ樹脂硬化促進剤(C)の配合比率は、エポキシ樹脂組成物100質量部に対して0.001〜15質量部の硬化促進剤を使用することが好ましい。
The epoxy resin composition of the present invention preferably further contains an epoxy resin curing accelerator (C).
As the epoxy resin curing accelerator (C), any of those capable of accelerating the curing reaction of the carboxylic anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) of the present invention and the epoxy resin (B) can be used. Examples of epoxy resin curing accelerators (C) that can be used include ammonium salt curing accelerators, phosphonium salt curing accelerators, metal soap curing accelerators, imidazole curing accelerators, and amine curing accelerators. Phosphine-based curing accelerators, phosphite-based curing accelerators, Lewis acid-based curing accelerators, and the like.
In the epoxy resin composition of the present invention, the mixing ratio of the epoxy resin curing accelerator (C) is preferably 0.001 to 15 parts by mass of the curing accelerator with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin composition.

本発明のエポキシ樹脂組成物において、使用できるエポキシ樹脂硬化促進剤(C)の具体例としては、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6(2'−メチルイミダゾール(1'))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2'−ウンデシルイミダゾール(1'))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2'−エチル,4−メチルイミダゾール(1'))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2'−メチルイミダゾール(1'))エチル−s−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、2-メチルイミダゾールイソシアヌル酸の2:3付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−3,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−ヒドロキシメチル−5−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニル−3,5−ジシアノエトキシメチルイミダゾールの各種イミダゾール類、および、それらイミダゾール類とフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ナフタレンジカルボン酸、マレイン酸、蓚酸等の多価カルボン酸との塩類、ジシアンジアミド等のアミド類、1,8−ジアザ−ビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7等のジアザ化合物およびそれらのテトラフェニルボレート、フェノールノボラック等の塩類、前記多価カルボン酸類、又はホスフィン酸類との塩類、テトラブチルアンモニュウムブロマイド、セチルトリメチルアンモニュウムブロマイド、トリオクチルメチルアンモニュウムブロマイド等のアンモニュウム塩、トリフェニルホスフィン、トリ(トルイル)ホスフィン、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート等のホスフィン類やホスホニウム化合物、2,4,6−トリスアミノメチルフェノール等のフェノール類、アミンアダクト、オクチル酸スズ等の金属化合物等、およびこれら硬化促進剤をマイクロカプセルにしたマイクロカプセル型硬化促進剤等が挙げられる。これら硬化促進剤のどれを用いるかは、例えば透明性、硬化速度、作業条件といった得られる透明樹脂組成物に要求される特性によって適宜選択される。 Specific examples of the epoxy resin curing accelerator (C) that can be used in the epoxy resin composition of the present invention include 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, and 2-phenyl. -4-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecyl Imidazole, 2,4-diamino-6 (2′-methylimidazole (1 ′)) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2′-undecylimidazole (1 ′)) ethyl-s-triazine 2,4-diamino-6 (2′-ethyl, 4-methylimidazole ( ')) Ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2'-methylimidazole (1')) ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2: 3 adduct of 2-methylimidazole isocyanuric acid 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-3,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-hydroxymethyl-5-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenyl-3,5-dicyanoethoxy Various imidazoles of methylimidazole, and salts of these imidazoles with polyvalent carboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, naphthalenedicarboxylic acid, maleic acid and oxalic acid, dicyandiamide, etc. Amides of 1,8-diaza-bicyclo (5.4 0) Diaza compounds such as undecene-7 and salts thereof such as tetraphenylborate and phenol novolac, salts with the above polyvalent carboxylic acids or phosphinic acids, tetrabutylammonium bromide, cetyltrimethylammonium bromide, trioctylmethylammonium bromide Ammonium salts such as triphenylphosphine, tri (toluyl) phosphine, tetraphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate and other phosphines and phosphonium compounds, phenols such as 2,4,6-trisaminomethylphenol, amines Examples thereof include metal compounds such as adducts, tin octylate and the like, and microcapsule type curing accelerators in which these curing accelerators are formed into microcapsules. . Which of these curing accelerators is used is appropriately selected depending on characteristics required for the obtained transparent resin composition, such as transparency, curing speed, and working conditions.

これらの中でも、硬化物の透明性の観点から、金属石鹸硬化促進剤が優れ、金属石鹸硬化促進剤の中でもカルボン酸亜鉛化合物が硬化物の透明性の観点から特に好ましい。
金属石鹸系硬化促進剤としては、例えばオクチル酸スズ、オクチル酸コバルト、オクチル酸亜鉛、オクチル酸マンガン、オクチル酸カルシウム、オクチル酸ナトリウム、オクチル酸カリウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、12−ヒドロキシリン酸カルシウム、12−ヒドロキシステアリン酸亜鉛、12−ヒドロキシステアリン酸マグネシウム、12−ヒドロキシステアリン酸アルミニウム、12−ヒドロキシステアリン酸バリウム、12−ヒドロキシステアリン酸リチウム、12−ヒドロキシステアリン酸ナトリウム、モンタン酸カルシウム、モンタン酸亜鉛、モンタン酸マグネシウム、モンタン酸アルミニウム、モンタン酸リチウム、モンタン酸ナトリウム、ベヘン酸カルシウム、ベヘン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシウム、ベヘン酸リチウム、ベヘン酸ナトリウム、ベヘン酸銀、ラウリン酸カルシウム、ラウリン酸亜鉛、ラウリン酸バリウム、ラウリン酸リチウム、ウンデシレン酸亜鉛、リシノール酸亜鉛、リシノール酸バリウム、ミリスチン酸亜鉛、パルミチン酸亜鉛等が挙げられる。これら触媒は1種又は2種以上を混合して用いても良い。
透明性、耐硫化性に優れる硬化物を得るために、特にステアリン酸亜鉛、モンタン酸亜鉛、ベヘン酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ウンデシレン酸亜鉛、リシノール酸亜鉛、ミリスチン酸亜鉛、パルミチン酸亜鉛等の炭素数10〜30のカルボン酸亜鉛、12−ヒドロキシステアリン酸亜鉛等の水酸基を有する炭素数10〜30のモノカルボン酸化合物からなる亜鉛塩が好ましく使用できる。これらの中でも特に、ポットライフ、耐硫化性に優れる観点から、ステアリン酸亜鉛、ウンデシレン酸亜鉛等の炭素数10〜20のモノカルボン酸化合物からなる亜鉛塩、12−ヒドロキシステアリン酸亜鉛等の水酸基を有する炭素数15〜20のモノカルボン酸化合物からなる亜鉛塩が好ましく使用でき、さらに好ましくはステアリン酸亜鉛、ウンデシレン酸亜鉛、12−ヒドロキシステアリン酸亜鉛が使用でき、特に好ましくはステアリン酸亜鉛、12−ヒドロキシステアリン酸亜鉛が使用できる。
Among these, from the viewpoint of transparency of the cured product, the metal soap curing accelerator is excellent, and among the metal soap curing accelerators, a zinc carboxylate compound is particularly preferable from the viewpoint of transparency of the cured product.
Examples of the metal soap hardening accelerator include tin octylate, cobalt octylate, zinc octylate, manganese octylate, calcium octylate, sodium octylate, potassium octylate, calcium stearate, zinc stearate, magnesium stearate, stearin Aluminum oxide, barium stearate, lithium stearate, sodium stearate, potassium stearate, 12-hydroxy calcium phosphate, zinc 12-hydroxystearate, magnesium 12-hydroxystearate, aluminum 12-hydroxystearate, 12-hydroxystearic acid Barium, lithium 12-hydroxystearate, sodium 12-hydroxystearate, calcium montanate, zinc montanate, mon Magnesium phosphate, aluminum montanate, lithium montanate, sodium montanate, calcium behenate, zinc behenate, magnesium behenate, lithium behenate, sodium behenate, silver behenate, calcium laurate, zinc laurate, barium laurate , Lithium laurate, zinc undecylate, zinc ricinoleate, barium ricinoleate, zinc myristate, zinc palmitate and the like. These catalysts may be used alone or in combination of two or more.
Carbons such as zinc stearate, zinc montanate, zinc behenate, zinc laurate, zinc undecylenate, zinc ricinoleate, zinc myristate, and zinc palmitate are used to obtain cured products with excellent transparency and sulfidation resistance. A zinc salt composed of a monocarboxylic acid compound having 10 to 30 carbon atoms and having a hydroxyl group such as zinc carbonate having several tens to thirty or zinc 12-hydroxystearate can be preferably used. Among these, from the viewpoint of excellent pot life and sulfidation resistance, a zinc salt composed of a monocarboxylic acid compound having 10 to 20 carbon atoms such as zinc stearate and zinc undecylenate, and a hydroxyl group such as 12-hydroxyzinc stearate. A zinc salt composed of a monocarboxylic acid compound having 15 to 20 carbon atoms is preferably used, more preferably zinc stearate, zinc undecylenate, zinc 12-hydroxystearate, particularly preferably zinc stearate, 12- Zinc hydroxystearate can be used.

アンモニウム塩系硬化促進剤としては、例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルプロピルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルセチルアンモニウムヒドロキシド、トリオクチルメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニウムヨージド、テトラメチルアンモニウムアセテート、トリオクチルメチルアンモニウムアセテート等が挙げられる。ホスホニウム塩系硬化促進剤としては、例えばエチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリブチルホスホニウムジメチルホスフェート、メチルトリブチルホスホニウムジエチルホスフェート等が挙げられる。 Examples of the ammonium salt curing accelerator include tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, trimethylethylammonium hydroxide, trimethylpropylammonium hydroxide, trimethylbutylammonium hydroxide. , Trimethylcetylammonium hydroxide, trioctylmethylammonium hydroxide, tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetramethylammonium iodide, tetramethylammonium acetate, trioctylmethylammonium acetate and the like. Examples of the phosphonium salt curing accelerator include ethyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, methyltributylphosphonium dimethylphosphate, methyltributylphosphonium diethylphosphate, and the like.

その他の汎用用途には、上記アンモニウム塩系硬化促進剤、ホスホニウム塩系硬化促進剤、金属石鹸系硬化促進剤の他、イミダゾール系硬化促進剤、アミン系硬化促進剤、複素環化合物系硬化促進剤、ホスフィン系硬化促進剤、ホスファイト系硬化促進剤、ルイス酸系硬化促進剤等が使用できる。 In addition to the above-mentioned ammonium salt-based curing accelerators, phosphonium salt-based curing accelerators, metal soap-based curing accelerators, imidazole-based curing accelerators, amine-based curing accelerators, and heterocyclic compound-based curing accelerators. A phosphine-based curing accelerator, a phosphite-based curing accelerator, a Lewis acid-based curing accelerator, or the like can be used.

前記したエポキシ樹脂硬化促進剤(C)は、室温(25℃)において固体の化合物でも液体の化合物でも使用することができる。本発明のエポキシ樹脂組成物を室温(25℃)にて液状であることが必要な用途に使用する場合で室温(25℃)にて固体の化合物を硬化促進剤として使用する場合、予め樹脂に溶解させて使用することもできる。また、室温(25℃)において固体の化合物を樹脂に分散させて使用することもできる。   The epoxy resin curing accelerator (C) described above can be used as a solid compound or a liquid compound at room temperature (25 ° C.). When the epoxy resin composition of the present invention is used for an application that needs to be liquid at room temperature (25 ° C.), when a solid compound is used as a curing accelerator at room temperature (25 ° C.), the resin is previously added to the resin. It can also be used after being dissolved. Further, it is also possible to use a solid compound dispersed in a resin at room temperature (25 ° C.).

本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じてカップリング剤を使用することで、組成物の粘度調整、硬化物の硬度を補完することが可能である。
使用できるカップリング剤としては、例えば3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルメチルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、N−(2−(ビニルベンジルアミノ)エチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン等のシラン系カップリング剤;イソプロピル(N−エチルアミノエチルアミノ)チタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、チタニウムジ(ジオクチルピロフォスフェート)オキシアセテート、テトライソプロピルジ(ジオクチルフォスファイト)チタネート、ネオアルコキシトリ(p−N−(β−アミノエチル)アミノフェニル)チタネート等のチタン系カップリング剤;Zr−アセチルアセトネート、Zr−メタクリレート、Zr−プロピオネート、ネオアルコキシジルコネート、ネオアルコキシトリスネオデカノイルジルコネート、ネオアルコキシトリス(ドデカノイル)ベンゼンスルフォニルジルコネート、ネオアルコキシトリス(エチレンジアミノエチル)ジルコネート、ネオアルコキシトリス(m−アミノフェニル)ジルコネート、アンモニウムジルコニウムカーボネート、Al−アセチルアセトネート、Al−メタクリレート、Al−プロピオネート等のジルコニウム、或いはアルミニウム系カップリング剤等が挙げられる。
これらカップリング剤は1種又は2種以上を混合して用いても良い。
カップリング剤は、本発明のエポキシ樹脂組成物において通常0.05〜20重量部、好ましくは0.1〜10重量部が必要に応じて含有される。
In the epoxy resin composition of the present invention, it is possible to supplement the viscosity adjustment of the composition and the hardness of the cured product by using a coupling agent as necessary.
Examples of coupling agents that can be used include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, and 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl. Trimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropylmethyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltri Methoxysilane, vinyltrimethoxysilane, N- (2- (vinylbenzylamino) ethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloro Silane coupling agents such as propyltrimethoxysilane; isopropyl (N-ethylaminoethylamino) titanate, isopropyl triisostearoyl titanate, titanium di (dioctyl pyrophosphate) oxyacetate, tetraisopropyl di (dioctyl phosphite) titanate, Titanium coupling agents such as neoalkoxytri (pN- (β-aminoethyl) aminophenyl) titanate; Zr-acetylacetonate, Zr-methacrylate, Zr-propionate, neoalkoxyzirconate, neoalkoxytrisneodeca Noyl zirconate, neoalkoxytris (dodecanoyl) benzenesulfonyl zirconate, neoalkoxytris (ethylenediaminoethyl) zirconate, neoalco Examples include zirconium such as xylitol (m-aminophenyl) zirconate, ammonium zirconium carbonate, Al-acetylacetonate, Al-methacrylate, and Al-propionate, or an aluminum coupling agent.
These coupling agents may be used alone or in combination of two or more.
A coupling agent is 0.05-20 weight part normally in the epoxy resin composition of this invention, Preferably 0.1-10 weight part is contained as needed.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じてナノオーダーレベルの無機充填材を使用することで、透明性を阻害せずに機械強度などを補完することが可能である。ナノオーダーレベルとしての目安は、平均粒径が500nm以下、特に平均粒径が200nm以下の充填材を使用することが透明性の観点では好ましい。無機充填剤としては、結晶シリカ、溶融シリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素、ジルコニア、フォステライト、ステアタイト、スピネル、チタニア、タルク等の粉体またはこれらを球形化したビーズ等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これら充填材は、単独で用いてもよく、2種以上を用いてもよい。これら無機充填剤の含有量は、本発明のエポキシ樹脂組成物中において0〜95重量%を占める量が用いられる。 The epoxy resin composition of the present invention can be supplemented with mechanical strength and the like without impairing transparency by using a nano-order level inorganic filler as necessary. As a standard for the nano-order level, it is preferable from the viewpoint of transparency to use a filler having an average particle size of 500 nm or less, particularly an average particle size of 200 nm or less. Examples of inorganic fillers include crystalline silica, fused silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, zirconia, fosterite, steatite, spinel, titania, talc, and the like. However, the present invention is not limited to these. These fillers may be used alone or in combination of two or more. The content of these inorganic fillers is 0 to 95% by weight in the epoxy resin composition of the present invention.

本発明のエポキシ樹脂組成物に着色防止目的のため、光安定剤としてのアミン化合物又は、酸化防止材としてのリン系化合物およびフェノール系化合物を含有することができる。
前記アミン化合物としては、例えば、テトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシラート、テトラキス(2,2,6,6−トトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシラート、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールおよび3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカンとの混合エステル化物、デカン二酸ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1−ウンデカンオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)カーボネート、2,2,6,6,−テトラメチル−4−ピペリジルメタクリレート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−〔2−〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕エチル〕−4−〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル−メタアクリレート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)〔〔3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル〕メチル〕ブチルマロネート、デカン二酸ビス(2,2,6,6−テトラメチル−1(オクチルオキシ)−4−ピペリジニル)エステル,1,1−ジメチルエチルヒドロペルオキシドとオクタンの反応生成物、N,N’,N″,N″′−テトラキス−(4,6−ビス−(ブチル−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ)−トリアジン−2−イル)−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン、ジブチルアミン・1,3,5−トリアジン・N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル−1,6−ヘキサメチレンジアミンとN−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンの重縮合物、ポリ〔〔6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル〕〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕ヘキサメチレン〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕〕、コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールの重合物、2,2,4,4−テトラメチル−20−(β−ラウリルオキシカルボニル)エチル−7−オキサ−3,20−ジアザジスピロ〔5・1・11・2〕ヘネイコサン−21−オン、β−アラニン,N,−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)−ドデシルエステル/テトラデシルエステル、N−アセチル−3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)ピロリジン−2,5−ジオン、2,2,4,4−テトラメチル−7−オキサ−3,20−ジアザジスピロ〔5,1,11,2〕ヘネイコサン−21−オン、2,2,4,4−テトラメチル−21−オキサ−3,20−ジアザジシクロ−〔5,1,11,2〕−ヘネイコサン−20−プロパン酸ドデシルエステル/テトラデシルエステル、プロパンジオイックアシッド,〔(4−メトキシフェニル)−メチレン〕−ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)エステル、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノールの高級脂肪酸エステル、1,3−ベンゼンジカルボキシアミド,N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)等のヒンダートアミン系、オクタベンゾン等のベンゾフェノン系化合物、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−〔2−ヒドロキシ−3−(3,4,5,6−テトラヒドロフタルイミド−メチル)−5−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾール、2−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ペンチルフェニル)ベンゾトリアゾール、メチル3−(3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートとポリエチレングリコールの反応生成物、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−ドデシル−4−メチルフェノール等のベンゾトリアゾール系化合物、2,4−ジ−tert−ブチルフェニル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート等のベンゾエート系、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−〔(ヘキシル)オキシ〕フェノール等のトリアジン系化合物等が挙げられるが、特に好ましくは、ヒンダートアミン系化合物である。
For the purpose of preventing coloring, the epoxy resin composition of the present invention may contain an amine compound as a light stabilizer, or a phosphorus compound and a phenol compound as an antioxidant.
Examples of the amine compound include tetrakis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate, tetrakis (2,2,6,6-6- Totramethyl-4-piperidyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid and 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol and 3 , 9-bis (2-hydroxy-1,1-dimethylethyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane mixed ester, decanedioic acid bis (2,2,6 , 6-Tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1-undecanoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) carbonate, 2,2,6,6, -tetrame Ru-4-piperidyl methacrylate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, 4-benzoyloxy -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1- [2- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl] -4- [3- (3 , 5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl-methacrylate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl) [[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] bu Lumalonate, decanedioic acid bis (2,2,6,6-tetramethyl-1 (octyloxy) -4-piperidinyl) ester, reaction product of 1,1-dimethylethyl hydroperoxide and octane, N, N ′, N ", N"'-tetrakis- (4,6-bis- (butyl- (N-methyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) amino) -triazin-2-yl)- 4,7-diazadecane-1,10-diamine, dibutylamine, 1,3,5-triazine, N, N′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl-1,6-hexa Polycondensate of methylenediamine and N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butylamine, poly [[6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) amino-1,3 , 5-Triazine- , 4-diyl] [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] hexamethylene [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino]], dimethyl succinate And 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidineethanol, 2,2,4,4-tetramethyl-20- (β-lauryloxycarbonyl) ethyl-7-oxa- 3,20-diazadispiro [5 · 1 · 11 · 2] heneicosan-21-one, β-alanine, N,-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) -dodecyl ester / tetradecyl ester N-acetyl-3-dodecyl-1- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) pyrrolidine-2,5-dione, 2,2,4,4-tetramethyl-7-oxa 3,20-diazadispiro [5,1,11,2] heneicosane-21-one, 2,2,4,4-tetramethyl-21-oxa-3,20-diazadicyclo- [5,1,11,2] -Heneicosane-20-propanoic acid dodecyl ester / tetradecyl ester, propanedioic acid, [(4-methoxyphenyl) -methylene] -bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl) ester, 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinol higher fatty acid ester, 1,3-benzenedicarboxamide, N, N′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) Hindered amines such as octabenzone, benzophenone compounds such as octabenzone, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4- (1,1,3, -Tetramethylbutyl) phenol, 2- (2-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- [2-hydroxy-3- (3,4,5,6-tetrahydrophthalimido-methyl) -5-methylphenyl Benzotriazole, 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2-hydroxy-3,5-di-tert-pentylphenyl) benzotriazole, Reaction product of methyl 3- (3- (2H-benzotriazol-2-yl) -5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate and polyethylene glycol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl)- Benzotriazole compounds such as 6-dodecyl-4-methylphenol, 2,4 Benzoate series such as di-tert-butylphenyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoate, 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5 Examples include triazine compounds such as [(hexyl) oxy] phenol, and hindered amine compounds are particularly preferable.

前記光安定材であるアミン化合物として、次に示す市販品を使用することができる。
市販されているアミン系化合物としては特に限定されず、例えば、チバスペシャリティケミカルズ製として、TINUVIN765、TINUVIN770DF、TINUVIN144、TINUVIN123、TINUVIN622LD、TINUVIN152、CHIMASSORB944、ADEKA製として、LA−52、LA−57、LA−62、LA−63P、LA−77Y、LA−81、LA−82、LA−87などが挙げられる。
The following commercially available products can be used as the amine compound that is the light stabilizer.
The commercially available amine compound is not particularly limited, and for example, TINUVIN765, TINUVIN770DF, TINUVIN144, TINUVIN123, TINUVIN622LD, TINUVIN152, CHIMASSORB944, ADEKA manufactured by Ciba Specialty Chemicals, LA-52, LA-57, LA- 62, LA-63P, LA-77Y, LA-81, LA-82, LA-87 and the like.

前記リン系化合物としては特に限定されず、例えば、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ジトリデシルホスファイト−5−tert−ブチルフェニル)ブタン、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、フェニルビスフェノールAペンタエリスリトールジホスファイト、ジシクロヘキシルペンタエリスリトールジホスファイト、トリス(ジエチルフェニル)ホスファイト、トリス(ジ−イソプロピルフェニル)ホスファイト、トリス(ジ−n−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、2,2'−メチレンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェニル)(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、2,2'−メチレンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェニル)(2−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、2,2'−メチレンビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェニル)(2−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、2,2'−エチリデンビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェニル)(2−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,3'−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−3,3'−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,3'−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−3,3'−ビフェニレンジホスホナイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−3−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,6−ジ−n−ブチルフェニル)−3−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−3−フェニル−フェニルホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチル−5−メチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、トリブチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクロルフェニルホスフェート、トリエチルホスフェート、ジフェニルクレジルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェートなどが挙げられる。 The phosphorus compound is not particularly limited, and for example, 1,1,3-tris (2-methyl-4-ditridecyl phosphite-5-tert-butylphenyl) butane, distearyl pentaerythritol diphosphite, bis (2,4-di-tert-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite, phenylbisphenol A pentaerythritol diphosphite, Dicyclohexylpentaerythritol diphosphite, tris (diethylphenyl) phosphite, tris (di-isopropylphenyl) phosphite, tris (di-n-butylphenyl) phosphite, tris (2,4-di-tert-butylphenyl) Hosuf Ite, tris (2,6-di-tert-butylphenyl) phosphite, tris (2,6-di-tert-butylphenyl) phosphite, 2,2′-methylenebis (4,6-di-tert-butyl) Phenyl) (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, 2,2′-methylenebis (4,6-di-tert-butylphenyl) (2-tert-butyl-4-methylphenyl) phosphite, 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenyl) (2-tert-butyl-4-methylphenyl) phosphite, 2,2′-ethylidenebis (4-methyl-6-tert-butyl) Phenyl) (2-tert-butyl-4-methylphenyl) phosphite, tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) -4,4 -Biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) -4,3'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) -3,3'-biphenyl Range phosphonite, tetrakis (2,6-di-tert-butylphenyl) -4,4'-biphenylene diphosphonite, tetrakis (2,6-di-tert-butylphenyl) -4,3'-biphenylene diphospho Knight, tetrakis (2,6-di-tert-butylphenyl) -3,3'-biphenylenediphosphonite, bis (2,4-di-tert-butylphenyl) -4-phenyl-phenylphosphonite, bis ( 2,4-di-tert-butylphenyl) -3-phenyl-phenylphosphonite, bis (2,6-di-n-butyl) Phenyl) -3-phenyl-phenylphosphonite, bis (2,6-di-tert-butylphenyl) -4-phenyl-phenylphosphonite, bis (2,6-di-tert-butylphenyl) -3-phenyl -Phenylphosphonite, tetrakis (2,4-di-tert-butyl-5-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tributyl phosphate, trimethyl phosphate, tricresyl phosphate, triphenyl phosphate, trichlorophenyl Examples include phosphate, triethyl phosphate, diphenyl cresyl phosphate, diphenyl monoorthoxenyl phosphate, tributoxyethyl phosphate, dibutyl phosphate, dioctyl phosphate, diisopropyl phosphate, etc.

上記リン系化合物は、市販品を用いることもできる。市販されているリン系化合物としては特に限定されず、例えば、ADEKA製として、アデカスタブPEP−4C、アデカスタブPEP−8、アデカスタブPEP−24G、アデカスタブPEP−36、アデカスタブHP−10、アデカスタブ2112、アデカスタブ260、アデカスタブ522A、アデカスタブ1178、アデカスタブ1500、アデカスタブC、アデカスタブ135A A commercial item can also be used for the said phosphorus compound. It does not specifically limit as a phosphorus compound marketed, For example, the product made from ADEKA, ADK STAB PEP-4C, ADK STAB PEP-8, ADK STAB PEP-24G, ADK STAB PEP-36, ADK STAB HP-10, ADK STAB 2112, ADK STAB 260 , Adekas tab 522A, Adekas tab 1178, Adekas tab 1500, Adekas tab C, Adekas tab 135A

フェノール化合物としては特に限定はされず、例えば、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、n−オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、テトラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェノール、1,6−ヘキサンジオール−ビス−[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレイト、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、ペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、3,9−ビス−〔2−[3−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−プロピオニルオキシ]−1,1−ジメチルエチル〕−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,2'−ブチリデンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、2,2'−メチレンビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、2,2'−メチレンビス(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール)、2−tert−ブチル−6−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェノールアクリレート、2−[1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ペンチルフェニル)エチル]−4,6−ジ−tert−ペンチルフェニルアクリレート、4,4’−チオビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、2−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2,4−ジ−tert−ブチルフェノール、2,4−ジ−tert−ペンチルフェノール、4,4’−チオビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、ビス−[3,3−ビス−(4’−ヒドロキシ−3'−tert−ブチルフェニル)−ブタノイックアシッド]−グリコールエステル、2,4−ジ−tert−ブチルフェノール、2,4−ジ−tert−ペンチルフェノール、2−[1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ペンチルフェニル)エチル]−4,6−ジ−tert−ペンチルフェニルアクリレート、ビス−[3,3−ビス−(4’−ヒドロキシ−3'−tert−ブチルフェニル)−ブタノイックアシッド]−グリコールエステル等が挙げられる。 The phenol compound is not particularly limited, and examples thereof include 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol and n-octadecyl-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate. Tetrakis [methylene-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane, 2,4-di-tert-butyl-6-methylphenol, 1,6-hexanediol-bis -[3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -isocyanurate, 1,3,5 -Trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, pentaerythrine Lithyl-tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 3,9-bis- [2- [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5- Methylphenyl) -propionyloxy] -1,1-dimethylethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5 -Methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,2'-butylidenebis (4,6-di-tert-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2 '-Methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-ethyl-6-tert-butylphenol) 2), 2-tert-butyl-6- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenol acrylate, 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-) tert-pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-tert-pentylphenyl acrylate, 4,4′-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-butylidenebis (3-methyl-6) -Tert-butylphenol), 2-tert-butyl-4-methylphenol, 2,4-di-tert-butylphenol, 2,4-di-tert-pentylphenol, 4,4'-thiobis (3-methyl-6) -Tert-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), bis [3,3-bis- (4′-hydroxy-3′-tert-butylphenyl) -butanoic acid] -glycol ester, 2,4-di-tert-butylphenol, 2,4-di-tert-pentyl Phenol, 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-tert-pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-tert-pentylphenyl acrylate, bis- [3,3-bis- (4 ′ -Hydroxy-3'-tert-butylphenyl) -butanoic acid] -glycol ester and the like.

上記フェノール系化合物は、市販品を用いることもできる。市販されているフェノール系化合物としては特に限定されず、例えば、チバスペシャリティケミカルズ製としてIRGANOX1010、IRGANOX1035、IRGANOX1076、IRGANOX1135、IRGANOX245、IRGANOX259、IRGANOX295、IRGANOX3114、IRGANOX1098、IRGANOX1520L、アデカ製としては、アデカスタブAO−20、アデカスタブAO−30、アデカスタブAO−40、アデカスタブAO−50、アデカスタブAO−60、アデカスタブAO−70、アデカスタブAO−80、アデカスタブAO−90、アデカスタブAO−330、住友化学工業製として、SumilizerGA−80、Sumilizer MDP−S、Sumilizer BBM−S、Sumilizer GM、Sumilizer GS(F)、Sumilizer GPなどが挙げられる。 A commercial item can also be used for the said phenolic compound. There are no particular limitations on the commercially available phenolic compounds. For example, IRGANOX 1010, IRGANOX 1035, IRGANOX 1076, IRGANOX 1135, IRGANOX 245, IRGANOX 259, IRGANOX 295, IRGANOX 3114, IRGANOX 1098, AGANOX 1520L, Adeka 1520L, and AGANOX 1520L manufactured by Ciba Specialty Chemicals , ADK STAB AO-30, ADK STAB AO-40, ADK STAB AO-50, ADK STAB AO-60, ADK STAB AO-70, ADK STAB AO-80, ADK STAB AO-90, ADK STAB AO-330, Sumitizer GA-80 , Sumilizer MDP-S, Sumil zer BBM-S, Sumilizer GM, Sumilizer GS (F), and the like Sumilizer GP.

このほか、樹脂の着色防止剤として市販されている添加材を使用することができる。例えば、チバスペシャリティケミカルズ製として、THINUVIN328、THINUVIN234、THINUVIN326、THINUVIN120、THINUVIN477、THINUVIN479、CHIMASSORB2020FDL、CHIMASSORB119FLなどが挙げられる。 In addition, commercially available additives can be used as an anti-coloring agent for the resin. For example, THINUVIN 328, THINUVIN 234, THINUVIN 326, THINUVIN 120, THINUVIN 477, THINUVIN 479, CHIMASSORB 2020FDL, CHIMASSORB 119FL and the like can be cited as those manufactured by Ciba Specialty Chemicals.

上記リン系化合物、アミン化合物、フェノール系化合物の中から少なくとも1種以上を含有することが好ましく、その配合量としては特に限定されないが、本発明のエポキシ樹脂組成物の全重量に対して、0.005〜5.0重量%の範囲である。 It is preferable to contain at least one of the phosphorus compounds, amine compounds, and phenol compounds, and the amount of the compound is not particularly limited, but is 0 with respect to the total weight of the epoxy resin composition of the present invention. 0.005 to 5.0% by weight.

さらに本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じてバインダー樹脂を配合することも出来る。バインダー樹脂としてはブチラール系樹脂、アセタール系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ−ナイロン系樹脂、NBR−フェノール系樹脂、エポキシ−NBR系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、シリコーン系樹脂などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。バインダー樹脂の配合量は、硬化物の難燃性、耐熱性を損なわない範囲であることが好ましく、樹脂成分100重量部に対して通常0.05〜50重量部、好ましくは0.05〜20重量部が必要に応じて用いられる。 Furthermore, a binder resin can also be mix | blended with the epoxy resin composition of this invention as needed. Examples of the binder resin include butyral resins, acetal resins, acrylic resins, epoxy-nylon resins, NBR-phenol resins, epoxy-NBR resins, polyamide resins, polyimide resins, and silicone resins. However, it is not limited to these. The blending amount of the binder resin is preferably in a range that does not impair the flame retardancy and heat resistance of the cured product, and is usually 0.05 to 50 parts by weight, preferably 0.05 to 20 parts per 100 parts by weight of the resin component. Part by weight is used as needed.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じて無機充填剤を添加することができる。無機充填剤としては、結晶シリカ、溶融シリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素、ジルコニア、フォステライト、ステアタイト、スピネル、チタニア、タルク等の粉体またはこれらを球形化したビーズ等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上を用いてもよい。これら無機充填剤の含有量は、本発明の硬化性樹脂組成物中において0〜95重量%を占める量が用いられる。更に本発明の硬化性樹脂組成物には、シランカップリング剤、ステアリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の離型剤、顔料等の種々の配合剤、各種熱硬化性樹脂を添加することができる。 If necessary, an inorganic filler can be added to the epoxy resin composition of the present invention. Examples of inorganic fillers include crystalline silica, fused silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, zirconia, fosterite, steatite, spinel, titania, talc, and the like. However, the present invention is not limited to these. These may be used alone or in combination of two or more. The content of these inorganic fillers is 0 to 95% by weight in the curable resin composition of the present invention. Furthermore, a silane coupling agent, a release agent such as stearic acid, palmitic acid, zinc stearate, and calcium stearate, various compounding agents such as pigments, and various thermosetting resins are added to the curable resin composition of the present invention. can do.

本発明のエポキシ樹脂組成物は前記各成分を常温もしくは加温下で均一に混合することにより得られる。例えば、押出機、ニーダー、三本ロール、万能ミキサー、プラネタリーミキサー、ホモミキサー、ホモディスパー、ビーズミル等を用いて均一になるまで充分に混合し、必要によりSUSメッシュ等によりろ過処理を行うことにより調製される。 The epoxy resin composition of the present invention can be obtained by uniformly mixing the above components at room temperature or under heating. For example, mix thoroughly until uniform using an extruder, kneader, three rolls, universal mixer, planetary mixer, homomixer, homodisper, bead mill, etc., and if necessary, filter with SUS mesh etc. Prepared.

本発明のエポキシ樹脂組成物をトルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等の溶剤に溶解させ、硬化性樹脂組成物ワニスとし、ガラス繊維、カ−ボン繊維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維、アルミナ繊維、紙などの基材に含浸させて加熱乾燥して得たプリプレグを熱プレス成形することにより、本発明の硬化性樹脂組成物の硬化物とすることができる。この際の溶剤は、本発明のエポキシ樹脂組成物と該溶剤の混合物中で通常10〜70重量%、好ましくは15〜70重量%を占める量を用いる。また液状組成物のままRTM方式でカーボン繊維を含有するエポキシ樹脂硬化物を得ることもできる。 The epoxy resin composition of the present invention is dissolved in a solvent such as toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone to obtain a curable resin composition varnish, and glass Curing of the curable resin composition of the present invention by hot press molding a prepreg obtained by impregnating a substrate such as fiber, carbon fiber, polyester fiber, polyamide fiber, alumina fiber, paper, etc. and drying by heating. It can be a thing. The solvent used here is usually 10 to 70% by weight, preferably 15 to 70% by weight in the mixture of the epoxy resin composition of the present invention and the solvent. Moreover, the epoxy resin hardened | cured material which contains a carbon fiber by a RTM system with a liquid composition can also be obtained.

また本発明のエポキシ樹脂組成物をフィルム型組成物の改質剤としても使用できる。具体的にはB−ステージにおけるフレキ性等を向上させる場合に用いることができる。このようなフィルム型の樹脂組成物を得る場合は、本発明のエポキシ樹脂組成物を剥離フィルム上に前記ワニスを塗布し加熱下で溶剤を除去、Bステージ化を行うことによりシート状の接着剤を得る。このシート状接着剤は多層基板などにおける層間絶縁層として使用することが出来る。 Moreover, the epoxy resin composition of this invention can be used also as a modifier of a film type composition. Specifically, it can be used to improve the flexibility of the B-stage. In the case of obtaining such a film-type resin composition, the epoxy resin composition of the present invention is coated with the varnish on a release film, the solvent is removed under heating, and a B-stage adhesive is formed. Get. This sheet-like adhesive can be used as an interlayer insulating layer in a multilayer substrate or the like.

更に、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂が使用される一般の用途が挙げられ、例えば、接着剤、塗料、コーティング剤、成形材料(シート、フィルム、FRP等を含む)、絶縁材料(プリント基板、電線被覆等を含む)、封止材の他、封止材、基板用のシアネート樹脂組成物や、レジスト用硬化剤としてアクリル酸エステル系樹脂等、他樹脂等への添加剤等が挙げられる。 Furthermore, general applications in which a thermosetting resin such as an epoxy resin is used are mentioned, for example, adhesives, paints, coating agents, molding materials (including sheets, films, FRP, etc.), insulating materials (printed boards, In addition to the encapsulating material, the encapsulating material, a cyanate resin composition for the substrate, and an additive to other resins such as an acrylate-based resin as the curing agent for the resist may be used.

接着剤としては、土木用、建築用、自動車用、一般事務用、医療用の接着剤の他、電子材料用の接着剤が挙げられる。これらのうち電子材料用の接着剤としては、ビルドアップ基板等の多層基板の層間接着剤、ダイボンディング剤、アンダーフィル等の半導体用接着剤、BGA補強用アンダーフィル、異方性導電性フィルム(ACF)、異方性導電性ペースト(ACP)等の実装用接着剤等が挙げられる。 Examples of the adhesive include civil engineering, architectural, automotive, general office, and medical adhesives, and electronic material adhesives. Among these, adhesives for electronic materials include interlayer adhesives for multilayer substrates such as build-up substrates, die bonding agents, semiconductor adhesives such as underfills, BGA reinforcing underfills, anisotropic conductive films ( ACF) and an adhesive for mounting such as anisotropic conductive paste (ACP).

封止剤としては、コンデンサ、トランジスタ、ダイオード、発光ダイオード、IC、LSIなど用のポッティング、ディッピング、トランスファーモールド封止、IC、LSI類のCOB、COF、TABなど用のといったポッティング封止、フリップチップなどの用のアンダーフィル、QFP、BGA、CSPなどのICパッケージ類実装時の封止(補強用アンダーフィルを含む)などを挙げることができる。 As sealing agents, potting, dipping, transfer mold sealing for capacitors, transistors, diodes, light-emitting diodes, ICs, LSIs, potting sealings for ICs, LSIs such as COB, COF, TAB, flip chip For example, underfill for QFP, BGA, CSP, etc., and sealing (including reinforcing underfill) can be used.

本発明で得られる硬化物は光学部品材料をはじめ各種用途に使用できる。光学用材料とは、可視光、赤外線、紫外線、X線、レーザーなどの光をその材料中を通過させる用途に用いる材料一般を示す。より具体的には、ランプタイプ、SMDタイプ等のLED用封止材の他、以下のようなものが挙げられる。液晶ディスプレイ分野における基板材料、導光板、プリズムシート、偏向板、位相差板、視野角補正フィルム、接着剤、偏光子保護フィルムなどの液晶用フィルムなどの液晶表示装置周辺材料である。また、次世代フラットパネルディスプレイとして期待されるカラーPDP(プラズマディスプレイ)の封止材、反射防止フィルム、光学補正フィルム、ハウジング材、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、またLED表示装置に使用されるLEDのモールド材、LEDの封止材、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、またプラズマアドレス液晶(PALC)ディスプレイにおける基板材料、導光板、プリズムシート、偏向板、位相差板、視野角補正フィルム、接着剤、偏光子保護フィルム、また有機EL(エレクトロルミネッセンス)ディスプレイにおける前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、またフィールドエミッションディスプレイ(FED)における各種フィルム基板、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤である。光記録分野では、VD(ビデオディスク)、CD/CD−ROM、CD−R/RW、DVD−R/DVD−RAM、MO/MD、PD(相変化ディスク)、光カード用のディスク基板材料、ピックアップレンズ、保護フィルム、封止材、接着剤などである。 The cured product obtained in the present invention can be used for various applications including optical component materials. The optical material refers to general materials used for applications in which light such as visible light, infrared light, ultraviolet light, X-rays, and lasers passes through the material. More specifically, in addition to LED sealing materials such as lamp type and SMD type, the following may be mentioned. It is a peripheral material for liquid crystal display devices such as a substrate material, a light guide plate, a prism sheet, a deflection plate, a retardation plate, a viewing angle correction film, an adhesive, and a film for a liquid crystal such as a polarizer protective film in the liquid crystal display field. In addition, color PDP (plasma display) sealing materials, antireflection films, optical correction films, housing materials, front glass protective films, front glass replacement materials, adhesives, and LED displays that are expected as next-generation flat panel displays LED molding materials, LED sealing materials, front glass protective films, front glass substitute materials, adhesives, and substrate materials for plasma addressed liquid crystal (PALC) displays, light guide plates, prism sheets, deflection plates , Phase difference plate, viewing angle correction film, adhesive, polarizer protective film, front glass protective film in organic EL (electroluminescence) display, front glass substitute material, adhesive, and various in field emission display (FED) Film substrate Front glass protective films, front glass substitute material, an adhesive. In the optical recording field, VD (video disc), CD / CD-ROM, CD-R / RW, DVD-R / DVD-RAM, MO / MD, PD (phase change disc), disc substrate material for optical cards, Pickup lenses, protective films, sealing materials, adhesives and the like.

光学機器分野では、スチールカメラのレンズ用材料、ファインダプリズム、ターゲットプリズム、ファインダーカバー、受光センサー部である。また、ビデオカメラの撮影レンズ、ファインダーである。またプロジェクションテレビの投射レンズ、保護フィルム、封止材、接着剤などである。光センシング機器のレンズ用材料、封止材、接着剤、フィルムなどである。光部品分野では、光通信システムでの光スイッチ周辺のファイバー材料、レンズ、導波路、素子の封止材、接着剤などである。光コネクタ周辺の光ファイバー材料、フェルール、封止材、接着剤などである。光受動部品、光回路部品ではレンズ、導波路、LEDの封止材、CCDの封止材、接着剤などである。光電子集積回路(OEIC)周辺の基板材料、ファイバー材料、素子の封止材、接着剤などである。光ファイバー分野では、装飾ディスプレイ用照明・ライトガイドなど、工業用途のセンサー類、表示・標識類など、また通信インフラ用および家庭内のデジタル機器接続用の光ファイバーである。半導体集積回路周辺材料では、LSI、超LSI材料用のマイクロリソグラフィー用のレジスト材料である。自動車・輸送機分野では、自動車用のランプリフレクタ、ベアリングリテーナー、ギア部分、耐蝕コート、スイッチ部分、ヘッドランプ、エンジン内部品、電装部品、各種内外装品、駆動エンジン、ブレーキオイルタンク、自動車用防錆鋼板、インテリアパネル、内装材、保護・結束用ワイヤーネス、燃料ホース、自動車ランプ、ガラス代替品である。また、鉄道車輌用の複層ガラスである。また、航空機の構造材の靭性付与剤、エンジン周辺部材、保護・結束用ワイヤーネス、耐蝕コートである。建築分野では、内装・加工用材料、電気カバー、シート、ガラス中間膜、ガラス代替品、太陽電池周辺材料である。農業用では、ハウス被覆用フィルムである。次世代の光・電子機能有機材料としては、有機EL素子周辺材料、有機フォトリフラクティブ素子、光−光変換デバイスである光増幅素子、光演算素子、有機太陽電池周辺の基板材料、ファイバー材料、素子の封止材、接着剤などである。 In the optical equipment field, they are still camera lens materials, finder prisms, target prisms, finder covers, and light receiving sensor sections. It is also a photographic lens and viewfinder for video cameras. Projection lenses for projection televisions, protective films, sealing materials, adhesives, and the like. These include lens materials, sealing materials, adhesives, and films for optical sensing devices. In the field of optical components, they are fiber materials, lenses, waveguides, element sealing materials, adhesives and the like around optical switches in optical communication systems. Optical fiber materials, ferrules, sealing materials, adhesives, etc. around the optical connector. For optical passive components and optical circuit components, there are lenses, waveguides, LED sealing materials, CCD sealing materials, adhesives, and the like. These are substrate materials, fiber materials, device sealing materials, adhesives, etc. around an optoelectronic integrated circuit (OEIC). In the field of optical fiber, it is an optical fiber for lighting, light guides for decorative displays, sensors for industrial use, displays / signs, etc., and for communication infrastructure and home digital equipment connection. As the semiconductor integrated circuit peripheral material, it is a resist material for microlithography for LSI and VLSI material. In the field of automobiles and transport equipment, automotive lamp reflectors, bearing retainers, gear parts, anti-corrosion coatings, switch parts, headlamps, engine internal parts, electrical parts, various interior and exterior parts, drive engines, brake oil tanks, automobile protection Rusted steel plates, interior panels, interior materials, protective / bundling wireness, fuel hoses, automobile lamps, glass replacements. In addition, it is a multilayer glass for railway vehicles. Further, they are toughness imparting agents for aircraft structural materials, engine peripheral members, protective / bundling wireness, and corrosion-resistant coatings. In the construction field, it is interior / processing materials, electrical covers, sheets, glass interlayers, glass substitutes, and solar cell peripheral materials. For agriculture, it is a house covering film. Next-generation optical / electronic functional organic materials include organic EL element peripheral materials, organic photorefractive elements, optical amplification elements that are light-to-light conversion devices, optical arithmetic elements, substrate materials around organic solar cells, fiber materials, elements Sealing material, adhesive and the like.

光学用材料の他の用途としては、硬化性樹脂組成物が使用される一般の用途が挙げられ、例えば、接着剤、塗料、コーティング剤、成形材料(シート、フィルム、FRP等を含む)、絶縁材料(プリント基板、電線被覆等を含む)、封止剤の他、他樹脂等への添加剤等が挙げられる。接着剤としては、土木用、建築用、自動車用、一般事務用、医療用の接着剤の他、電子材料用の接着剤が挙げられる。これらのうち電子材料用の接着剤としては、ビルドアップ基板等の多層基板の層間接着剤、ダイボンディング剤、アンダーフィル等の半導体用接着剤、BGA補強用アンダーフィル、異方性導電性フィルム(ACF)、異方性導電性ペースト(ACP)等の実装用接着剤等が挙げられる。 Other uses of optical materials include general uses in which curable resin compositions are used, such as adhesives, paints, coating agents, molding materials (including sheets, films, FRP, etc.), insulation. In addition to materials (including printed circuit boards, wire coatings, etc.), sealants, additives to other resins, and the like. Examples of the adhesive include civil engineering, architectural, automotive, general office, and medical adhesives, and electronic material adhesives. Among these, adhesives for electronic materials include interlayer adhesives for multilayer substrates such as build-up substrates, die bonding agents, semiconductor adhesives such as underfills, BGA reinforcing underfills, anisotropic conductive films ( ACF) and an adhesive for mounting such as anisotropic conductive paste (ACP).

高輝度白色LED等の光半導体素子は、一般的にサファイア、スピネル、SiC、Si、ZnO等の基板上に積層させたGaAs、GaP、GaAlAs,GaAsP、AlGa、InP、GaN、InN、AlN、InGaN等の半導体チップを、接着剤(ダイボンド材)を用いてリードフレームや放熱板、パッケージに接着させてなる。電流を流すために金ワイヤー等のワイヤーが接続されているタイプもある。その半導体チップを、熱や湿気から守り、かつレンズ機能の役割を果たすためにエポキシ樹脂等の封止材で封止されている。本発明のエポキシ樹脂組成物はこの封止材に用いることができる。 Optical semiconductor elements such as high-intensity white LEDs are generally GaAs, GaP, GaAlAs, GaAsP, AlGa, InP, GaN, InN, AlN, InGaN laminated on a substrate of sapphire, spinel, SiC, Si, ZnO or the like. Such a semiconductor chip is bonded to a lead frame, a heat sink, or a package using an adhesive (die bond material). There is also a type in which a wire such as a gold wire is connected to pass an electric current. The semiconductor chip is sealed with a sealing material such as an epoxy resin in order to protect it from heat and moisture and play a role of a lens. The epoxy resin composition of this invention can be used for this sealing material.

封止材の成形方式としては、光半導体素子が固定された基板を挿入した型枠内に封止材を注入した後に加熱硬化を行い成形する注入方式、金型上に封止材をあらかじめ注入し、そこに基板上に固定された光半導体素子を浸漬させて加熱硬化をした後に金型から離形する圧縮成形方式等が用いられている。
注入方法としては、ディスペンサー等が挙げられる。
加熱は、熱風循環式、赤外線、高周波等の方法が使用できる。加熱条件は例えば80〜230℃で1分〜24時間程度が好ましい。加熱硬化の際に発生する内部応力を低減する目的で、例えば80〜120℃、30分〜5時間予備硬化させた後に、120〜180℃、30分〜10時間の条件で後硬化させることができる。
As a molding method of the sealing material, an injection method in which the sealing material is injected into the mold frame in which the optical semiconductor element is fixed is inserted and then heat-cured and then molded, and the sealing material is injected on the mold in advance. A compression molding method is used in which an optical semiconductor element fixed on a substrate is immersed therein and heat-cured and then released from a mold.
Examples of the injection method include a dispenser.
For the heating, methods such as hot air circulation, infrared rays and high frequency can be used. The heating condition is preferably about 80 to 230 ° C. and about 1 minute to 24 hours, for example. For the purpose of reducing internal stress generated during heat curing, for example, after pre-curing at 80 to 120 ° C. for 30 minutes to 5 hours, post-curing is performed at 120 to 180 ° C. for 30 minutes to 10 hours. it can.

本明細書において、比率、パーセント、部などは、特に断りのない限り、質量に基づくものである。本明細書において、「X〜Y」という表現は、XからYまでの範囲を示し、その範囲はX、Yを含む。 In this specification, ratios, percentages, parts and the like are based on mass unless otherwise specified. In the present specification, the expression “X to Y” indicates a range from X to Y, and the range includes X and Y.

以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明する。尚、本発明はこれら合成例、実施例に限定されるものではない。なお、合成例、実施例中の各物性値は以下の方法で測定した。ここで、部は特に断りのない限り質量部を表す。
○GPC:ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)は下記条件にて測定した。
装置メーカー:ウォーターズ
カラム:SHODEX GPC LF−G(ガードカラム)、KF−603、KF−602.5、KF−602、KF−601(2本)
流速:0.4ml/min.
カラム温度:40℃
使用溶剤:THF(テトラヒドロフラン)
検出器:RI(示差屈折検出器)
○官能基当量:以下の方法により測定した。
多価カルボン酸組成物を約0.15g秤量し、メタノール(試薬特級)40mlで溶解したのち、20〜28℃で60分間撹拌し、測定サンプルとした。測定サンプルを、京都電子工業製滴定装置AT−610を使用し、0.1Nの水酸化ナトリウム溶液を用いて滴定し、酸価として得られた値を官能基当量として算出した。
○DSCを用いた融点:
JIS K7121に記載の方法で測定し、融解ピークの頂点を融点とした。
○粘度:東機産業株式会社製E型粘度計(TV−20)を用い、25℃で測定した。
○熱重量減少:島津製作所製TG/DTA6200を用い、30℃から20℃/minで昇温させ、120℃まで加熱し、120℃で60分保持した後の重量減少率(%)を測定した。測定中、200ml/minで空気を流した。
○LC−MS:液体クロマトグラフィー−マススペクトル(LC−MS)は測定サンプルの測定前処理をした後、下記条件にて測定した。
測定前処理:測定サンプル5mgをエタノール2mLに溶解させ、70℃で2時間加熱した。
装置メーカー:ウォーターズ
カラム:BEH Shield RP18
オーブン:40℃
移動相:5mM酢酸アンモニウム/アセトニトリル
流速:0.25ml/min.
検出器:PDA254nm,ESI±(Mass Range 50〜2000)
H−NMR:日本電子株式会社製 JNM−ECS400を用いて、重クロロホルム溶媒(0.03体積%テトラメチルシラン含有)で測定した。
○エポキシ当量:JIS K7236に記載の方法で測定した。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to synthesis examples and examples. The present invention is not limited to these synthesis examples and examples. In addition, each physical-property value in a synthesis example and an Example was measured with the following method. Here, a part represents a mass part unless otherwise specified.
○ GPC: Gel permeation chromatography (GPC) was measured under the following conditions.
Equipment manufacturer: Waters column: SHODEX GPC LF-G (guard column), KF-603, KF-602.5, KF-602, KF-601 (2)
Flow rate: 0.4 ml / min.
Column temperature: 40 ° C
Solvent: THF (tetrahydrofuran)
Detector: RI (differential refraction detector)
○ Functional group equivalent: Measured by the following method.
About 0.15 g of the polyvalent carboxylic acid composition was weighed and dissolved in 40 ml of methanol (special grade reagent), and then stirred at 20 to 28 ° C. for 60 minutes to obtain a measurement sample. The measurement sample was titrated with a 0.1N sodium hydroxide solution using a titrator AT-610 manufactured by Kyoto Electronics Industry Co., Ltd., and the value obtained as the acid value was calculated as the functional group equivalent.
○ Melting point using DSC:
It was measured by the method described in JIS K7121, and the peak of the melting peak was defined as the melting point.
Viscosity: Measured at 25 ° C. using an E-type viscometer (TV-20) manufactured by Toki Sangyo Co.
○ Decrease in thermal weight: Using a TG / DTA6200 manufactured by Shimadzu Corporation, the temperature was increased from 30 ° C. at 20 ° C./min. . During the measurement, air was flowed at 200 ml / min.
LC-MS: Liquid chromatography-mass spectrum (LC-MS) was measured under the following conditions after pre-measurement of the measurement sample.
Pretreatment for measurement: 5 mg of a measurement sample was dissolved in 2 mL of ethanol and heated at 70 ° C. for 2 hours.
Equipment manufacturer: Waters Column: BEH Shield RP18
Oven: 40 ° C
Mobile phase: 5 mM ammonium acetate / acetonitrile flow rate: 0.25 ml / min.
Detector: PDA 254 nm, ESI ± (Mass Range 50-2000)
1 H-NMR: Japan using electronic Ltd. JNM-ECS400, was measured in deuterated chloroform solvent (0.03% by volume tetramethyl silane-containing).
○ Epoxy equivalent: Measured by the method described in JIS K7236.

実施例1;カルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A−1)の製造
ガラス製300ml四つ口フラスコに、窒素パージを施しながらノルボルネンジカルボン酸無水物20.6g(0.125モル)、ジビニルテトラメチルジシロキサン‐白金コンプレックスのキシレン溶液(白金含有量2質量%)40mg、トルエン50gを仕込み、ジムロートコンデンサ、撹拌装置、温度計を設置し、オイルバスにフラスコを浸した。オイルバスを加熱し、内温を70−80℃にし、テトラメチルシクロテトラシロキサン12.0g(0.050モル)を30分かけて滴下した。
滴下後、内温を75−80℃に保ち5時間撹拌した後、内温100℃で5時間、さらに内温120℃で4時間撹拌した。さらに、ジビニルテトラメチルジシロキサン‐白金コンプレックスのキシレン溶液(白金含有量2質量%)100mgを追加し、内温100℃で8時間撹拌した。
内温を50℃まで放冷した後、ヘキセン11.4g(0.135モル)を50分かけて滴下し、滴下後12時間撹拌反応した。
反応後、活性炭(味の素ファインテクノ製 CP)3.5gを加え、室温で4時間攪拌後、ろ過した。得られたろ液の有機溶剤を留去することで、下記式(9)、(10)を主成分とするカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A−1)33.8gを得た。
得られた化合物のGPC純度(GPC面積%)は89%、官能基当量は178mgKOH/g、外観は白色の固体であった。また、DSCを用いた融点(ピーク頂点値)は47.6℃、熱重量減少は−0.8%であった。また、LC−MSの分析の結果、式(9)で表される化合物のピーク面積比が44%、式(10)で表される化合物のピーク面積比が53%、式(11)で表される化合物のピーク面積比が3%であった。得られた化合物のH−NMRスペクトルを図1に示し、GPCチャートを図2に示す。
Example 1 Production of Cyclic Siloxane Compound (A-1) Containing Carboxylic Anhydride Group 20.6 g (0.125 mol) of norbornene dicarboxylic anhydride and divinyl were added to a glass 300 ml four-necked flask while purging with nitrogen. 40 mg of xylene solution of tetramethyldisiloxane-platinum complex (platinum content 2 mass%) and 50 g of toluene were charged, a Dimroth condenser, a stirrer, and a thermometer were installed, and the flask was immersed in an oil bath. The oil bath was heated, the internal temperature was set to 70-80 ° C., and 12.0 g (0.050 mol) of tetramethylcyclotetrasiloxane was added dropwise over 30 minutes.
After the dropping, the internal temperature was kept at 75-80 ° C. and stirred for 5 hours, and then stirred at an internal temperature of 100 ° C. for 5 hours and further at an internal temperature of 120 ° C. for 4 hours. Further, 100 mg of a xylene solution of divinyltetramethyldisiloxane-platinum complex (platinum content 2 mass%) was added, and the mixture was stirred at an internal temperature of 100 ° C. for 8 hours.
After allowing the internal temperature to cool to 50 ° C., 11.4 g (0.135 mol) of hexene was added dropwise over 50 minutes, followed by stirring and reaction for 12 hours.
After the reaction, 3.5 g of activated carbon (CP made by Ajinomoto Fine Techno) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 4 hours and filtered. By distilling off the organic solvent in the obtained filtrate, 33.8 g of a carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A-1) having the following formulas (9) and (10) as main components was obtained.
The obtained compound had a GPC purity (GPC area%) of 89%, a functional group equivalent of 178 mgKOH / g, and a white solid in appearance. The melting point (peak peak value) using DSC was 47.6 ° C., and the thermal weight loss was −0.8%. As a result of LC-MS analysis, the peak area ratio of the compound represented by the formula (9) was 44%, the peak area ratio of the compound represented by the formula (10) was 53%, and the formula (11) The peak area ratio of the obtained compound was 3%. A 1 H-NMR spectrum of the obtained compound is shown in FIG. 1, and a GPC chart is shown in FIG.

Figure 2016079129
Figure 2016079129

実施例2;カルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A−1)を含有するエポキシ樹脂硬化剤(A−2)の製造
ガラス製30mlビンに、実施例1で得られたカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A−1)3g、リカシッドMH−T(四国化成工業製 4−メチルヘキサヒドロフタル酸)7gを仕込み、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)で被覆された回転子を入れ、100℃に加温したマグネチックスターラー付きホットプレート上に乗せ加温しながら撹拌した。そのまま4時間撹拌したところ、A−1はリカシッドMH−Tに完全に溶解し、カルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A−1)を含有するエポキシ樹脂硬化剤(A−2)10gが得られた。A−2の外観は無色透明液体、官能基当量は282mgKOH/g、粘度は400mPa・s、熱重量減少は−23.8%であった。
Example 2: Production of an epoxy resin curing agent (A-2) containing a carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A-1)
In a glass 30 ml bottle, 3 g of the carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A-1) obtained in Example 1 and 7 g of Ricacid MH-T (4-methylhexahydrophthalic acid manufactured by Shikoku Kasei Kogyo) were charged. A rotor coated with PTFE (polytetrafluoroethylene) was placed, and the mixture was placed on a hot plate with a magnetic stirrer heated to 100 ° C. and stirred while heating. When stirred for 4 hours, A-1 was completely dissolved in Ricacid MH-T, and 10 g of an epoxy resin curing agent (A-2) containing a carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A-1) was obtained. It was. The appearance of A-2 was a colorless transparent liquid, the functional group equivalent was 282 mgKOH / g, the viscosity was 400 mPa · s, and the thermal weight loss was −23.8%.

実施例3;カルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A−1)を含有するエポキシ樹脂硬化剤(A−3)の製造
ガラス製30mlビンに、実施例1で得られたカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A−1)4g、リカシッドMH−T(四国化成工業製 4−メチルヘキサヒドロフタル酸)6gを仕込み、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)で被覆された回転子を入れ、100℃に加温したマグネチックスターラー付きホットプレート上に乗せ加温しながら撹拌した。そのまま4時間撹拌したところ、A−1はリカシッドMH−Tに完全に溶解し、カルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A−1)を含有するエポキシ樹脂硬化剤(A−3)10gが得られた。A−3の外観は無色透明液体、官能基当量は273mgKOH/g、粘度は1045mPa・s、熱重量減少は−23.3%であった。
Example 3 Production of an epoxy resin curing agent (A-3) containing a carboxylic anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A-1)
In a glass 30 ml bottle, 4 g of the carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A-1) obtained in Example 1 and 6 g of Ricacid MH-T (4-methylhexahydrophthalic acid manufactured by Shikoku Kasei Kogyo) were charged. A rotor coated with PTFE (polytetrafluoroethylene) was placed, and the mixture was placed on a hot plate with a magnetic stirrer heated to 100 ° C. and stirred while heating. When stirred for 4 hours, A-1 was completely dissolved in Ricacid MH-T, and 10 g of an epoxy resin curing agent (A-3) containing a carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A-1) was obtained. It was. The appearance of A-3 was a colorless transparent liquid, the functional group equivalent was 273 mgKOH / g, the viscosity was 1045 mPa · s, and the thermal weight loss was −23.3%.

実施例4;カルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A−1)を含有するエポキシ樹脂硬化剤(A−4)の製造
ガラス製30mlビンに、実施例1で得られたカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A−1)5g、リカシッドMH−T(四国化成工業製 4−メチルヘキサヒドロフタル酸)5gを仕込み、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)で被覆された回転子を入れ、100℃に加温したマグネチックスターラー付きホットプレート上に乗せ加温しながら撹拌した。そのまま4時間撹拌したところ、A−1はリカシッドMH−Tに完全に溶解し、カルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A−1)を含有するエポキシ樹脂硬化剤(A−4)10gが得られた。A−4の外観は無色透明液体、官能基当量は256mgKOH/g、粘度は3052mPa・s、熱重量減少は−22.6%であった。
Example 4 Production of Epoxy Resin Curing Agent (A-4) Containing Carboxylic Anhydride Group-Containing Cyclic Siloxane Compound (A-1)
A glass 30 ml bottle was charged with 5 g of the carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A-1) obtained in Example 1 and 5 g of Ricacid MH-T (4-methylhexahydrophthalic acid manufactured by Shikoku Kasei Kogyo). A rotor coated with PTFE (polytetrafluoroethylene) was placed, and the mixture was placed on a hot plate with a magnetic stirrer heated to 100 ° C. and stirred while heating. When stirred as it is for 4 hours, A-1 completely dissolves in Ricacid MH-T, and 10 g of an epoxy resin curing agent (A-4) containing a carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A-1) is obtained. It was. The appearance of A-4 was a colorless transparent liquid, the functional group equivalent was 256 mgKOH / g, the viscosity was 3052 mPa · s, and the thermal weight loss was −22.6%.

実施例5;カルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A−5)の製造
ガラス製200ml四つ口フラスコに、窒素パージを施しながらアリルコハク酸無水物8.8g(0.063モル)、ジビニルテトラメチルジシロキサン‐白金コンプレックスのキシレン溶液(白金含有量2質量%)20mg、トルエン25gを仕込み、ジムロートコンデンサ、撹拌装置、温度計を設置し、オイルバスにフラスコを浸した。オイルバスを加熱し、内温を100℃にし、テトラメチルシクロテトラシロキサン6.0g(0.025モル)を40分かけて滴下した。
滴下後、内温を90−100℃に保ち9時間撹拌した後、さらに、ジビニルテトラメチルジシロキサン‐白金コンプレックスのキシレン溶液(白金含有量2質量%)20mgを追加し、内温90−100℃で3時間撹拌した。
内温を50℃まで放冷した後、ヘキセン5.7g(0.068モル)を40分かけて滴下し、滴下後3.5時間撹拌反応した。
反応後、活性炭(味の素ファインテクノ製 CP)2.0gを加え、室温で3時間攪拌後、ろ過した。得られたろ液の有機溶剤を留去することで、下記式(12)、(13)を主成分とするカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A−5)16.2gを得た。
得られた化合物のGPC純度(GPC面積%)は92%、官能基当量は256mgKOH/g、外観は淡黄色の粘ちょう液体であった。また、熱重量減少は−0.9%であった。また、LC−MSの分析の結果、式(12)で表される化合物のピーク面積比が32%、式(13)で表される化合物のピーク面積比が49%、式(14)で表される化合物のピーク面積比が19%であった。得られた化合物のH−NMRスペクトルを図3に示し、GPCチャートを図4に示す。
Example 5 Production of Cyclic Siloxane Compound (A-5) Containing Carboxylic Anhydride Group A glass 200 ml four-necked flask was charged with 8.8 g (0.063 mol) of allyl succinic anhydride and divinyltetra with a nitrogen purge. A methyldisiloxane-platinum complex xylene solution (platinum content 2 mass%) 20 mg and toluene 25 g were charged, a Dimroth condenser, a stirrer, and a thermometer were installed, and the flask was immersed in an oil bath. The oil bath was heated, the internal temperature was 100 ° C., and 6.0 g (0.025 mol) of tetramethylcyclotetrasiloxane was added dropwise over 40 minutes.
After dropping, the inner temperature was kept at 90-100 ° C. and stirred for 9 hours, and then 20 mg of xylene solution (platinum content 2% by mass) of divinyltetramethyldisiloxane-platinum complex was added, and the inner temperature was 90-100 ° C. For 3 hours.
After allowing the internal temperature to cool to 50 ° C., 5.7 g (0.068 mol) of hexene was added dropwise over 40 minutes, and the reaction was stirred for 3.5 hours after the addition.
After the reaction, 2.0 g of activated carbon (CP made by Ajinomoto Fine Techno) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours and filtered. By distilling off the organic solvent in the obtained filtrate, 16.2 g of a carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A-5) having the following formulas (12) and (13) as main components was obtained.
The obtained compound had a GPC purity (GPC area%) of 92%, a functional group equivalent of 256 mgKOH / g, and an appearance of a pale yellow viscous liquid. The thermogravimetric decrease was -0.9%. As a result of LC-MS analysis, the peak area ratio of the compound represented by formula (12) was 32%, the peak area ratio of the compound represented by formula (13) was 49%, and represented by formula (14). The peak area ratio of the obtained compound was 19%. A 1 H-NMR spectrum of the obtained compound is shown in FIG. 3, and a GPC chart is shown in FIG.

Figure 2016079129
Figure 2016079129

比較例1;多価カルボン酸(CA−1)を含有するエポキシ樹脂硬化剤(CA−2)の製造
ガラス製500mlセパラブルフラスコに、窒素パージを施しながらトリシクロデカンジメタノール41.2g、リカシッドMH−T(四国化成工業製 4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物)182.5gを仕込み、ジムロートコンデンサ、撹拌装置、温度計を設置し、オイルバスにフラスコを浸した。オイルバスを加熱し、内温を50℃に保ち、そのまま4時間反応させた。GPCでトリシクロデカンジメタノールのピーク1面積%以下を確認し、下記式(15)で表される多価カルボン酸(CA−1)とカルボン酸無水物化合物の混合物である比較例のエポキシ樹脂硬化剤(CA−2)223gが得られた。得られた混合物は無色透明の液状であり、官能基当量は294g/eq熱重量減少は−25.5%であったが、粘度は高すぎて測定できなかった。
Comparative Example 1 Production of Epoxy Resin Curing Agent (CA-2) Containing Polyvalent Carboxylic Acid (CA-1) 41.2 g of Tricyclodecane Dimethanol and Ricacid 182.5 g of MH-T (4-methylhexahydrophthalic anhydride manufactured by Shikoku Kasei Kogyo) was charged, a Dimroth condenser, a stirrer, and a thermometer were installed, and the flask was immersed in an oil bath. The oil bath was heated, the internal temperature was kept at 50 ° C., and the reaction was allowed to proceed for 4 hours. The epoxy resin of the comparative example which is a mixture of polycarboxylic acid (CA-1) and a carboxylic acid anhydride compound represented by the following formula (15) after confirming a peak of 1 area% or less of tricyclodecane dimethanol by GPC 223 g of a curing agent (CA-2) was obtained. The resulting mixture was a colorless and transparent liquid, and the functional group equivalent was 294 g / eq thermal weight loss of -25.5%, but the viscosity was too high to be measured.

Figure 2016079129
Figure 2016079129

(評価試験)
実施例1〜5、比較例1、比較例Aとして4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物(新日本理化社製、リカシッドMH−T)の、各成分の含有量、官能基当量、粘度、融点、熱重量減少の測定結果を表1にまとめた。
(Evaluation test)
Examples 1 to 5, Comparative Example 1 and Comparative Example A as 4-methylhexahydrophthalic anhydride (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd., Ricacid MH-T), content of each component, functional group equivalent, viscosity, melting point Table 1 summarizes the measurement results of thermal weight loss.

Figure 2016079129
Figure 2016079129

表1の結果から明らかなように、カルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A−1)を含有するエポキシ樹脂硬化剤(A−2〜A−4)は加熱時の重量減少が少なく、25℃での粘度も作業性に優れるものであるのに対し、比較例1の多価カルボン酸を含有するエポキシ樹脂硬化剤は、加熱時の重量減少は少ないものの、25℃における粘度が高すぎて作業性に劣る。また、比較例Aの4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物は重量減少が大きい。以上のことから、カルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A−1)を含有するエポキシ樹脂硬化剤(A−2〜A−4)は特に室温(25℃)において液状で使用されることが求められる用途での使用に適している。 As is apparent from the results in Table 1, the epoxy resin curing agent (A-2 to A-4) containing the carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A-1) has a small weight loss upon heating. The epoxy resin curing agent containing the polyvalent carboxylic acid of Comparative Example 1 has a small weight loss during heating, but the viscosity at 25 ° C. is too high, whereas the viscosity at ° C. is excellent in workability. Inferior workability. Further, 4-methylhexahydrophthalic anhydride of Comparative Example A has a large weight loss. From the above, the epoxy resin curing agent (A-2 to A-4) containing the carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A-1) is used in liquid form at room temperature (25 ° C.). Suitable for use in required applications.

合成例1;分子内に4つのエポキシ基を有するシリコーン変性エポキシ樹脂の製造例
ガラス製200ml四つ口フラスコに、4−ビニル−1,2−エポキシシクロヘキサン33g、1%ヘキサクロロ白金酸・6水和物のテトラヒドロフラン溶液0.03gを仕込み、ジムロートコンデンサ、撹拌装置、温度計を設置し、オイルバスにフラスコを浸した。オイルバスを加熱し、内温を80℃に保ち、そこに1,3,5,7−テトラメチルテトラシクロシロキサン12gを1時間かけて滴下し、そのまま1時間反応させた。
得られた反応液に窒素ガスを吹き込みながら、110℃で減圧濃縮し、テトラヒドロフランと過剰の4−ビニル−1,2−エポキシシクロヘキサンを除去することで、分子内に4つのエポキシ基を有する環状シロキサン化合物(B−1)36gを得た。得られた化合物のエポキシ当量は190g/eq、粘度は2800mPa・s、外観は無色透明液体であった。
Synthesis Example 1 Production Example of Silicone Modified Epoxy Resin Having Four Epoxy Groups in the Molecule In a 200 ml glass four-necked flask, 33 g of 4-vinyl-1,2-epoxycyclohexane, 1% hexachloroplatinic acid, hexahydrate A 0.03 g tetrahydrofuran solution was charged, a Dimroth condenser, a stirrer, and a thermometer were installed, and the flask was immersed in an oil bath. The oil bath was heated, the internal temperature was kept at 80 ° C., and 12 g of 1,3,5,7-tetramethyltetracyclosiloxane was added dropwise over 1 hour, and the reaction was allowed to proceed for 1 hour.
Cyclic siloxane having four epoxy groups in the molecule by concentrating under reduced pressure at 110 ° C. while blowing nitrogen gas into the resulting reaction solution to remove tetrahydrofuran and excess 4-vinyl-1,2-epoxycyclohexane. 36 g of compound (B-1) was obtained. The epoxy equivalent of the obtained compound was 190 g / eq, the viscosity was 2800 mPa · s, and the appearance was a colorless transparent liquid.

実施例6;エポキシ樹脂組成物の調整
実施例2で得られたエポキシ樹脂硬化剤(A−2)、エポキシ樹脂として合成例1で得られたシリコーン変性エポキシ樹脂(B−1)、硬化促進剤としてU−CAT5003(サンアプロ製、第4級ホスホニウムブロマイド塩)、酸化防止剤としてAO−60(ADEKA製、ヒンダードフェノール酸化防止剤)を、下記表2に記載の量比でポリプロピレン製容器に入れ、混合、5分間脱泡を行い、本発明のエポキシ樹脂組成物を得た。
Example 6: Preparation of epoxy resin composition Epoxy resin curing agent (A-2) obtained in Example 2, silicone-modified epoxy resin (B-1) obtained in Synthesis Example 1 as an epoxy resin, curing accelerator As a U-CAT5003 (manufactured by San Apro, quaternary phosphonium bromide salt) and as an antioxidant, AO-60 (made by ADEKA, hindered phenol antioxidant) are put in a polypropylene container in the quantity ratio shown in Table 2 below. , Mixing and defoaming for 5 minutes to obtain an epoxy resin composition of the present invention.

実施例7;エポキシ樹脂組成物の調整
実施例6のエポキシ樹脂硬化剤(A−2)を、実施例3で得られたエポキシ樹脂硬化剤(A−3)に変更した他は実施例6と同様に行い、本発明のエポキシ樹脂組成物を得た。
Example 7: Preparation of epoxy resin composition Example 6 except that the epoxy resin curing agent (A-2) of Example 6 was changed to the epoxy resin curing agent (A-3) obtained in Example 3. It carried out similarly and the epoxy resin composition of this invention was obtained.

実施例8;エポキシ樹脂組成物の調整
実施例6のエポキシ樹脂硬化剤(A−2)を、実施例3で得られたエポキシ樹脂硬化剤(A−4)に変更した他は実施例6と同様に行い、本発明のエポキシ樹脂組成物を得た。
Example 8: Preparation of epoxy resin composition Example 6 except that the epoxy resin curing agent (A-2) of Example 6 was changed to the epoxy resin curing agent (A-4) obtained in Example 3 It carried out similarly and the epoxy resin composition of this invention was obtained.

比較例2;エポキシ樹脂組成物の調整
エポキシ樹脂硬化剤として比較例1で得られたエポキシ樹脂硬化剤(CA−2)、エポキシ樹脂として合成例1で得られたシリコーン変性エポキシ樹脂(B−1)、硬化促進剤としてU−CAT5003(サンアプロ製、第4級ホスホニウムブロマイド塩)、酸化防止剤としてAO−60(ADEKA製、ヒンダードフェノール酸化防止剤)を、下記表2に記載の量比でポリプロピレン製容器に入れ、混合、5分間脱泡を行い、比較例のエポキシ樹脂組成物を得た。
Comparative Example 2 Adjustment of Epoxy Resin Composition Epoxy resin curing agent (CA-2) obtained in Comparative Example 1 as an epoxy resin curing agent, and silicone-modified epoxy resin (B-1) obtained in Synthesis Example 1 as an epoxy resin ), U-CAT5003 (manufactured by San Apro, quaternary phosphonium bromide salt) as a curing accelerator, and AO-60 (manufactured by ADEKA, hindered phenol antioxidant) as an antioxidant in the quantitative ratios shown in Table 2 below. It put into the container made from a polypropylene, mixed and deaerated for 5 minutes, and the epoxy resin composition of the comparative example was obtained.

比較例3;エポキシ樹脂組成物の調整
エポキシ樹脂硬化剤としてリカシッドMH−T(新日本理化社製、4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物)、エポキシ樹脂として合成例1で得られたシリコーン変性エポキシ樹脂(B−1)、硬化促進剤としてU−CAT5003(サンアプロ製、第4級ホスホニウムブロマイド塩)、酸化防止剤としてAO−60(ADEKA製、ヒンダードフェノール酸化防止剤)を、下記表2に記載の量比でポリプロピレン製容器に入れ、混合、5分間脱泡を行い、比較例のエポキシ樹脂組成物を得た。
Comparative Example 3: Preparation of epoxy resin composition Ricacid MH-T (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd., 4-methylhexahydrophthalic anhydride) as an epoxy resin curing agent, silicone modified epoxy obtained in Synthesis Example 1 as an epoxy resin The resin (B-1), U-CAT5003 (manufactured by San Apro, quaternary phosphonium bromide salt) as a curing accelerator, and AO-60 (manufactured by ADEKA, hindered phenol antioxidant) as an antioxidant are shown in Table 2 below. It put into the container made from a polypropylene by the described quantity ratio, mixed and defoamed for 5 minutes, and obtained the epoxy resin composition of the comparative example.

実施例6〜8、比較例2、3で得られたエポキシ樹脂組成物の配合比とその粘度、25℃5時間放置後増粘率、硬化時の重量減少、硬化物透過率、硬化物の硬さ、金ワイヤー露出の有無の結果を表2に示す。表2における試験は以下のように行った。
調整後粘度
実施例6〜8、比較例2、3で得られたエポキシ樹脂組成物を調整後、15分以内に東機産業株式会社製E型粘度計(TV−20)を用い、25℃で測定した。
調整後25℃5時間放置後増粘
実施例6〜8、比較例2、3で得られたエポキシ樹脂組成物を調整後、25℃環境で5時間放置した後に東機産業株式会社製E型粘度計(TV−20)を用い、25℃で粘度を測定し、(1)で得られた調整後粘度からの増粘を算出した。
硬化時の重量減少
実施例6〜8、比較例2、3で得られたエポキシ樹脂組成物を真空脱泡5分間実施後、予め質量を秤量しておいた、30mm×20mm×高さ0.8mmになるように耐熱テープでダムを作成したガラス基板上に静かに注型し、注型後の質量を秤量した。その注型物を、120℃×1時間の予備硬化の後150℃×3時間で硬化させ、硬化後の質量を秤量し、硬化時のエポキシ樹脂組成物の硬化時の重量減少率を算出した。
硬化物透過率
実施例6〜8、比較例2、3で得られたエポキシ樹脂組成物を真空脱泡5分間実施後、30mm×20mm×高さ0.8mmになるように耐熱テープでダムを作成したガラス基板上に静かに注型した。その注型物を、120℃×1時間の予備硬化の後150℃×3時間で硬化させ、厚さ0.8mmの透過率用試験片を得た。得られた試験片を、ガラス基板から取り出し、下記条件にて450nmの光線透過率を測定した。
<分光光計測定条件>
メーカー:株式会社日立ハイテクノロジーズ
機種:U−3300
スリット幅:2.0nm
スキャン速度:120nm/分
硬化物硬さ
JIS K6253に記載の方法でデュロメータ硬さを測定した。
Example 6-8, blending ratio and viscosity of epoxy resin compositions obtained in Comparative Examples 2 and 3, viscosity increase after standing at 25 ° C. for 5 hours, weight loss at curing, cured product permeability, cured product Table 2 shows the results of the hardness and the presence or absence of gold wire exposure. The test in Table 2 was performed as follows.
Viscosity after adjustment After adjusting the epoxy resin compositions obtained in Examples 6 to 8 and Comparative Examples 2 and 3, using an E-type viscometer (TV-20) manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd. within 25 minutes, 25 ° C. Measured with
After leaving the mixture at 25 ° C. for 5 hours, the thickened resin compositions obtained in Examples 6 to 8 and Comparative Examples 2 and 3 were prepared, and then allowed to stand at 25 ° C. for 5 hours. Using a viscometer (TV-20), the viscosity was measured at 25 ° C., and the increase in viscosity from the adjusted viscosity obtained in (1) was calculated.
Weight reduction during curing After the epoxy resin compositions obtained in Examples 6 to 8 and Comparative Examples 2 and 3 were vacuum degassed for 5 minutes, the mass was weighed in advance, 30 mm × 20 mm × height 0. It was gently cast on a glass substrate on which a dam was created with a heat-resistant tape so as to be 8 mm, and the mass after casting was weighed. The casting was cured at 120 ° C. for 3 hours after pre-curing at 120 ° C. for 1 hour, the mass after curing was weighed, and the weight reduction rate during curing of the epoxy resin composition during curing was calculated. .
Cured product transmittance After carrying out the vacuum defoaming for 5 minutes with the epoxy resin compositions obtained in Examples 6 to 8 and Comparative Examples 2 and 3, a dam was formed with a heat-resistant tape so as to be 30 mm × 20 mm × height 0.8 mm The casting was gently performed on the prepared glass substrate. The cast was cured at 120 ° C. for 3 hours after pre-curing at 120 ° C. for 1 hour to obtain a test piece for transmittance having a thickness of 0.8 mm. The obtained test piece was taken out from the glass substrate, and the light transmittance at 450 nm was measured under the following conditions.
<Spectrophotometer measurement conditions>
Manufacturer: Hitachi High-Technologies Corporation Model: U-3300
Slit width: 2.0nm
Scanning speed: 120 nm / min Hardness of cured product The durometer hardness was measured by the method described in JIS K6253.

Figure 2016079129
Figure 2016079129

表2の結果から明らかなように実施例6〜8の組成物は、LED封止材として用いるには適度な粘度であり、25℃で5時間放置後の増粘も小さいため作業性に優れる。また、硬化時の熱重量減少なく、それらの硬化物は高い硬化物透過率、硬さを有したのに対し、多価カルボン酸を含有するエポキシ樹脂硬化剤であるCA−2を用いて硬化した比較例2は、高い硬化物透過率、硬さを有したが、調整後の粘度が高いことに加え、25℃5時間放置後の増粘が大きく作業性に劣った。また、4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物のみで硬化した比較例3は硬化時の重量減少が著しかった。以上の事から、本発明のカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物を用いたエポキシ樹脂組成物は、特に光半導体封止用硬化性樹脂組成物として好適である。
As is apparent from the results in Table 2, the compositions of Examples 6 to 8 have an appropriate viscosity for use as an LED sealing material, and are excellent in workability because of little viscosity increase after standing at 25 ° C. for 5 hours. . In addition, these cured products had high cured product transmittance and hardness without decreasing the thermogravimetricity at the time of curing, whereas they were cured using CA-2 which is an epoxy resin curing agent containing polyvalent carboxylic acid. Comparative Example 2 had high cured product transmittance and hardness, but in addition to high viscosity after adjustment, the viscosity increased after standing at 25 ° C. for 5 hours was inferior in workability. Further, Comparative Example 3 cured with only 4-methylhexahydrophthalic anhydride had a significant weight loss upon curing. From the above, the epoxy resin composition using the carboxylic anhydride group-containing cyclic siloxane compound of the present invention is particularly suitable as a curable resin composition for optical semiconductor encapsulation.

実施例1で得られたカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A−1)のH−NMRスペクトルである。1 is a 1 H-NMR spectrum of a carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A-1) obtained in Example 1. 実施例1で得られたカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A−1)のGPCチャートである。2 is a GPC chart of a carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A-1) obtained in Example 1. 実施例5で得られたカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A−5)のH−NMRスペクトルである。3 is a 1 H-NMR spectrum of a carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A-5) obtained in Example 5. 実施例5で得られたカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A−5)のGPCチャートである。4 is a GPC chart of a carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A-5) obtained in Example 5.

Claims (11)

下記式(1)で表されるカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)。
Figure 2016079129
(式(1)中、Rは炭素数1〜10の炭化水素基を、Xは炭素数1〜20炭化水素基又はカルボン酸無水物基含有の有機基を、nは1〜3の整数をそれぞれ表す。式(1)中、複数存在するR、Xはそれぞれ同一であっても異なっていても構わない。ただし、複数存在するX中、少なくとも2つはカルボン酸無水物基含有の有機基である。)
Carboxylic anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) represented by the following formula (1).
Figure 2016079129
(In the formula (1), the R 1 is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, X is a number from 1 to 20 hydrocarbon group or carboxylic anhydride group-containing organic group having a carbon, n represents an integer of 1 to 3 In the formula (1), a plurality of R 1 and X may be the same or different from each other, provided that at least two of the plurality of X contain a carboxylic acid anhydride group. Organic group.)
カルボン酸無水物基含有の有機基が、下記式(2)〜(5)より選ばれる一種以上である、請求項1に記載のカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)。
Figure 2016079129
(式中、*で式(1)のSi原子と結合していることを表す。また、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。)
The carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) according to claim 1, wherein the carboxylic acid anhydride group-containing organic group is at least one selected from the following formulas (2) to (5).
Figure 2016079129
(In the formula, * represents bonding to the Si atom of formula (1). R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.)
下記工程を経る、請求項1に記載のカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)の製造方法。
工程1)ハイドロジェンシロキサン化合物とカルボン酸無水物基を有するオレフィン化合物を、ハイドロジェンシロキサン化合物中のSi−H基1モルに対しカルボン酸無水物基を有するオレフィン化合物を0.2〜0.9モル当量仕込んで付加反応させる工程。
工程2)モノオレフィン化合物を、残存Si−H基1モルに対し、1.1〜20モル当量仕込み付加反応させる工程。
The manufacturing method of the carboxylic acid anhydride group containing cyclic siloxane compound (A) of Claim 1 which passes through the following process.
Step 1) An olefin compound having a carboxylic acid anhydride group and a olefin compound having a carboxylic acid anhydride group with respect to 1 mole of Si-H groups in the hydrogen siloxane compound is 0.2 to 0.9. A step of adding a molar equivalent to cause an addition reaction.
Step 2) A step in which a monoolefin compound is charged in an amount of 1.1 to 20 molar equivalents per 1 mol of the remaining Si—H group.
請求項1または2に記載のカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)を含有するエポキシ樹脂硬化剤。 An epoxy resin curing agent containing the carboxylic acid anhydride group-containing cyclic siloxane compound (A) according to claim 1 or 2. 請求項1または2のいずれか一項に記載のカルボン酸無水物基含有環状シロキサン化合物(A)、または請求項4に記載のエポキシ樹脂硬化剤と、エポキシ樹脂(B)を含有するエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition containing the carboxylic acid anhydride group containing cyclic siloxane compound (A) as described in any one of Claim 1 or 2, or the epoxy resin hardening | curing agent of Claim 4, and an epoxy resin (B). object. エポキシ樹脂(B)がシリコーン変性エポキシ樹脂である、請求項5に記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to claim 5, wherein the epoxy resin (B) is a silicone-modified epoxy resin. シリコーン変性エポキシ樹脂が下記式(6)で表される化合物である、請求項6に記載のエポキシ樹脂組成物。
Figure 2016079129
(式(6)中、R、nは前記と同じ意味を表し、Yは炭素数1〜10炭化水素基又はエポキシ基含有の有機基をそれぞれ表す。式(6)中、複数存在するR、Yはそれぞれ同一であっても異なっていても構わない。ただし、複数存在するY中、2つ以上はエポキシ基含有の有機基の有機基である。)
The epoxy resin composition according to claim 6, wherein the silicone-modified epoxy resin is a compound represented by the following formula (6).
Figure 2016079129
(In Formula (6), R < 1 >, n represents the same meaning as the above, Y represents a C1-C10 hydrocarbon group or an organic group containing an epoxy group. In Formula (6), multiple R exists. 1 and Y may be the same as or different from each other, provided that two or more of Y are organic groups of an organic group containing an epoxy group.
さらにエポキシ樹脂硬化促進剤(C)を含有する、請求項5〜7のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物。   Furthermore, the epoxy resin composition as described in any one of Claims 5-7 containing an epoxy resin hardening accelerator (C). 請求項5〜8のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物。   Hardened | cured material formed by hardening | curing the epoxy resin composition as described in any one of Claims 5-8. 請求項5〜8のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物からなる、光半導体封止用樹脂組成物。   The resin composition for optical semiconductor sealing which consists of an epoxy resin composition as described in any one of Claims 5-8. 請求項9に記載の光半導体封止用樹脂組成物で光半導体素子を封止した光半導体装置。   The optical semiconductor device which sealed the optical semiconductor element with the resin composition for optical semiconductor sealing of Claim 9.
JP2014212330A 2014-10-17 2014-10-17 Carboxylic anhydride group-containing cyclic siloxane compound, epoxy resin composition containing the same, and cured product thereof Active JP6376692B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014212330A JP6376692B2 (en) 2014-10-17 2014-10-17 Carboxylic anhydride group-containing cyclic siloxane compound, epoxy resin composition containing the same, and cured product thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014212330A JP6376692B2 (en) 2014-10-17 2014-10-17 Carboxylic anhydride group-containing cyclic siloxane compound, epoxy resin composition containing the same, and cured product thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016079129A true JP2016079129A (en) 2016-05-16
JP6376692B2 JP6376692B2 (en) 2018-08-22

Family

ID=55957693

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014212330A Active JP6376692B2 (en) 2014-10-17 2014-10-17 Carboxylic anhydride group-containing cyclic siloxane compound, epoxy resin composition containing the same, and cured product thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6376692B2 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05339279A (en) * 1992-06-09 1993-12-21 Shin Etsu Chem Co Ltd Silicone-modified acid anhydride and its production
JPH06157551A (en) * 1992-11-27 1994-06-03 Shin Etsu Chem Co Ltd Silicone-modified acid anhydride and its production
JPH06157723A (en) * 1992-11-27 1994-06-07 Shin Etsu Chem Co Ltd Epoxy resin composition
JP2013032498A (en) * 2011-07-06 2013-02-14 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Succinic anhydride group-containing cyclic organosiloxane, method for producing the same, organosiloxane composition, and thermosetting resin composition

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05339279A (en) * 1992-06-09 1993-12-21 Shin Etsu Chem Co Ltd Silicone-modified acid anhydride and its production
JPH06157551A (en) * 1992-11-27 1994-06-03 Shin Etsu Chem Co Ltd Silicone-modified acid anhydride and its production
JPH06157723A (en) * 1992-11-27 1994-06-07 Shin Etsu Chem Co Ltd Epoxy resin composition
JP2013032498A (en) * 2011-07-06 2013-02-14 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Succinic anhydride group-containing cyclic organosiloxane, method for producing the same, organosiloxane composition, and thermosetting resin composition

Also Published As

Publication number Publication date
JP6376692B2 (en) 2018-08-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6595329B2 (en) Polyvalent carboxylic acid and polyvalent carboxylic acid composition, epoxy resin composition, thermosetting resin composition, cured product thereof, and optical semiconductor device containing the same
JP5574447B2 (en) Polyvalent carboxylic acid composition and method for producing the same, and curable resin composition containing the polyvalent carboxylic acid composition
JP5878862B2 (en) Curable resin composition and cured product thereof
JP5730852B2 (en) Method for producing organopolysiloxane, organopolysiloxane obtained by the production method, and composition containing the organopolysiloxane
JP5948317B2 (en) Polyvalent carboxylic acid resin and composition thereof
JP6143359B2 (en) Silicone-modified epoxy resin and composition thereof
JP5698453B2 (en) Epoxy resin composition
WO2011155613A1 (en) Curable resin composition and substance obtained by curing same
WO2011155583A1 (en) Curable resin composition and cured product thereof
WO2014050978A1 (en) Polycarboxylic acid resin and epoxy resin composition
JP6671222B2 (en) Epoxy resin, epoxy resin composition containing the same and cured product thereof
JP6501359B2 (en) Curable resin composition containing a sulfur-based antioxidant, epoxy resin composition and cured product thereof
JP6377445B2 (en) Epoxy resin composition and cured product thereof
JP6884192B2 (en) Epoxy resin curing agent composition, epoxy resin composition containing it, cured product thereof
JP6602170B2 (en) Polyvalent carboxylic acid resin and polyvalent carboxylic acid resin composition, epoxy resin composition, thermosetting resin composition, cured product thereof, and semiconductor device containing the same
JP6376692B2 (en) Carboxylic anhydride group-containing cyclic siloxane compound, epoxy resin composition containing the same, and cured product thereof
JP6478808B2 (en) Polyvalent carboxylic acid, polyvalent carboxylic acid composition containing the same, and epoxy resin composition
JP2017082073A (en) Epoxy resin curing agent composition, epoxy resin composition comprising the same, and cured product thereof
JP6767816B2 (en) Polycarboxylic acid and polyvalent carboxylic acid composition containing it, epoxy resin composition, cured products thereof, and optical semiconductor device
JP2014225685A (en) Curable resin composition, and cured product thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170410

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180122

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180129

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180319

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20180509

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180625

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20180705

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180720

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180723

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6376692

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250