JP2016069271A - Glass substrate manufacturing method and agitating device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass substrate manufacturing method and an agitating device capable of reducing foreign matters mixed into a glass substrate.SOLUTION: An agitating device used in a glass substrate manufacturing method comprises: an agitator which is formed of a material comprising a platinum group metal and includes an agitation vessel formed of a material comprising a platinum group metal, a vessel cover installed above the agitation vessel, a shaft having a projection part projecting upward from the vessel cover, and a blade mounted to the shaft; a heat resistant member that is installed outside the agitation vessel and forms a heating space installed with the agitation vessel therein; a plurality of heating parts which are installed in a place outside the agitation vessel in the heating space; and a holding member that is installed on the projection part and holds a foreign matter formed by condensation of volatile substances including volatile platinum group metal or glass material. The holding member is installed on the projection part inside the heating space at a position where temperature becomes not less than the condensation temperature of the volatile substances.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、ガラス基板の製造方法、及び、攪拌装置に関する。   The present invention relates to a glass substrate manufacturing method and a stirring device.

ガラス基板は、一般的に、ガラス原料から熔融ガラスを生成させた後、熔融ガラスをガラス基板へと成形する工程を経て製造される。化学的および熱的均質性は、優れたガラス基板の成形工程において極めて重要な部分である。上述のガラス基板の製造工程において、化学的に異なった相または、粘性差により筋(脈理)が形成されることがある。ガラス基板のこのような不均質成分は、難溶性物質の溶解、熔融物の成層化、ガラス表面の揮発、および温度の相違を含む、熔融処理中の種々の通常の事象から生じる。この脈理は、色および/または屈折率の差により、目で見える状態でガラス基板の中に筋状に生成される。したがって、このようなガラスの不均質性を改善するために、熔融ガラスを攪拌することが重要である。溶解槽の下流に設けた攪拌装置に熔融ガラスを通すことにより、熔融ガラスは攪拌される。一般的に、熔融ガラスを攪拌するための攪拌装置は、熔融ガラスを収納する攪拌容器と、攪拌容器の上方に設けられ、上部を覆う蓋(容器カバー)と、攪拌容器の内部に配置される攪拌機と、備えている(特許文献1、特許文献2)。攪拌機は、モータ等で回転する回転シャフトと、回転シャフトの外周面に溶接によって取り付けられる攪拌翼(羽根)とを有している。回転シャフトは、上記蓋の一部を貫通している。攪拌装置は、熔融ガラスが攪拌容器の内部を上方から下方へ、または、下方から上方へと通過するときに、上述の回転シャフトに取り付けられた攪拌翼が熔融ガラスを攪拌混合するように構成されている。このように熔融ガラスを攪拌することにより、ガラス製品の脈理や縞等の欠陥を防止している。   Generally, a glass substrate is produced through a process of forming molten glass from a glass raw material and then forming the molten glass into a glass substrate. Chemical and thermal homogeneity is a very important part in the process of forming excellent glass substrates. In the manufacturing process of the glass substrate described above, streaks (streaks) may be formed due to chemically different phases or viscosity differences. Such inhomogeneous components of the glass substrate result from various normal events during the melting process, including dissolution of sparingly soluble materials, stratification of the melt, volatilization of the glass surface, and temperature differences. This striae are streaked in the glass substrate in a visible state due to the difference in color and / or refractive index. Therefore, it is important to stir the molten glass in order to improve such glass heterogeneity. The molten glass is stirred by passing the molten glass through a stirring device provided downstream of the melting tank. In general, a stirring device for stirring molten glass is disposed above a stirring container for storing molten glass, a stirring container, and a lid (container cover) for covering the upper part, and the stirring container. And a stirrer (Patent Document 1, Patent Document 2). The stirrer has a rotating shaft that is rotated by a motor or the like, and a stirring blade (blade) that is attached to the outer peripheral surface of the rotating shaft by welding. The rotating shaft passes through a part of the lid. The stirring device is configured such that when the molten glass passes through the inside of the stirring vessel from the top to the bottom or from the bottom to the top, the stirring blade attached to the rotating shaft described above stirs and mixes the molten glass. ing. By stirring the molten glass in this manner, defects such as striae and stripes of the glass product are prevented.

攪拌容器内には、熔融ガラスや、攪拌槽内に存在している任意の成分から、揮発物が生成され得る。最も揮発性が高くかつ不利な酸化物のいくつかは、Pt、B、およびSnから形成されるものである。熔融ガラス内で、凝集(凝結)し得る酸化物の主な発生源として、PtOについては高温の白金表面、そしてB、およびSnOについては熔融ガラスの自由表面が挙げられる。熔融ガラスの自由表面とは、攪拌容器内の雰囲気に露出している熔融ガラス表面を意味する。熔融ガラスの自由表面上の雰囲気は、前述のまたは他の揮発性材料のいずれかまたは全てを含んでいる可能性があるが、この雰囲気は攪拌容器外部の雰囲気よりも高温であるため、熔融ガラスの自由表面上の雰囲気には、例えば撹拌機の回転シャフトと攪拌容器の上部を覆う蓋との間の環状の空間など、任意の開口を通って、揮発物は上方に流れていく。回転シャフトは、熔融ガラスの自由表面との距離が離れるにつれ概して冷たくなるため、回転シャフトおよび/または蓋(カバー)の温度がその酸化物の露点よりも低い場合、攪拌槽の雰囲気に含まれる揮発物が回転シャフトの表面上に凝集することがある。凝集は、撹拌機の表面の他、撹拌機の環状領域を含む、他の比較的低温の表面にも生じる可能性がある。生じた凝集物が十分な大きさに達すると、この凝集物が壊れて攪拌槽内のガラスに落下し、成形後のガラス製品内に含有物またはブリスタ欠陥を生じさせることがある。特許文献1には、攪拌槽の蓋と熔融ガラスの表面との間の気相空間が存在し、落下する異物を受ける鍔部(保持部材)が記載されている。 In the stirring vessel, volatiles can be generated from molten glass or any component present in the stirring vessel. Some of the most volatile and disadvantageous oxides are those formed from Pt, B, and Sn. The main sources of oxides that can agglomerate (condense) in the molten glass include the hot platinum surface for PtO 2 and the free surface of the molten glass for B 2 O 3 and SnO 2 . The free surface of the molten glass means the surface of the molten glass that is exposed to the atmosphere in the stirring vessel. The atmosphere on the free surface of the molten glass may contain any or all of the aforementioned or other volatile materials, but since this atmosphere is hotter than the atmosphere outside the stirring vessel, the molten glass In the atmosphere on the free surface, the volatiles flow upward through an arbitrary opening such as an annular space between the rotating shaft of the stirrer and the lid covering the top of the stirring vessel. The rotating shaft generally cools as the distance from the free surface of the molten glass increases, so if the temperature of the rotating shaft and / or the cover (cover) is lower than the dew point of its oxide, the volatilization contained in the atmosphere of the stirred tank Objects may agglomerate on the surface of the rotating shaft. Agglomeration can occur on the surface of the agitator as well as on other relatively cool surfaces including the annular region of the agitator. When the generated aggregate reaches a sufficient size, the aggregate may break and fall onto the glass in the stirring vessel, causing inclusions or blister defects in the glass product after molding. Patent Document 1 describes a collar portion (holding member) that receives a falling foreign substance in which a gas phase space exists between the lid of the stirring tank and the surface of the molten glass.

特開2000−100462号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2000-1000046 特開2014−9136号公報JP 2014-9136 A

近年、攪拌槽に流入する熔融ガラスの温度が高くなっている。攪拌槽内の熔融ガラスの温度が高くなると、攪拌槽の蓋と熔融ガラス表面との間に存在する気相空間における揮発物の濃度(蒸気圧)が高くなり、回転シャフト等に凝集し、落下する揮発物を保持する保持部材の底面に揮発物が凝集していた。保持部材の底面に凝集した凝集物の一部が落下して熔融ガラスに異物として混入するとガラス基板の品質の低下を招くおそれがあった。特に、高精細ディスプレイ用のガラス基板では、異物混入に関する品質の要求が厳しい。   In recent years, the temperature of the molten glass flowing into the stirring tank has increased. When the temperature of the molten glass in the stirring tank rises, the concentration (vapor pressure) of volatiles in the gas phase space existing between the lid of the stirring tank and the surface of the molten glass increases, and it aggregates on the rotating shaft and falls. Volatile substances aggregated on the bottom surface of the holding member that holds the volatile substances. If a part of the aggregate aggregated on the bottom surface of the holding member falls and enters the molten glass as a foreign substance, the quality of the glass substrate may be deteriorated. In particular, in a glass substrate for a high-definition display, quality requirements regarding foreign matter contamination are severe.

そこで本発明は、ガラス基板中に混入する異物を低減することができるガラス基板の製造方法、及び、攪拌装置を提供することを目的とする。また、保持部材表面に揮発物が凝集することを抑制し、異物が撹拌装置内の熔融ガラスに混入するのを防止できるガラス基板の製造方法、及び、攪拌装置を提供することを目的とする。   Then, an object of this invention is to provide the manufacturing method of a glass substrate which can reduce the foreign material mixed in a glass substrate, and a stirring apparatus. Moreover, it aims at providing the manufacturing method of a glass substrate which can suppress that a volatile substance aggregates on the holding member surface, and can prevent a foreign material from mixing in the molten glass in a stirring apparatus, and a stirring apparatus.

本発明は、以下の形態を含む。   The present invention includes the following forms.

[形態1]
ガラス原料を熔解して生成された熔融ガラスを、攪拌装置で攪拌する攪拌工程と、前記熔融ガラスを板状に成形する成形工程とを備えるガラス基板の製造方法であって、
前記攪拌装置は、
熔融ガラスを収納する、白金族金属を含む材料で構成された攪拌容器と、
前記攪拌容器の上方に設けられる容器カバーと、
前記容器カバーから前記容器カバーの上方に突出する突出部を有する、白金族金属を含む材料で構成されたシャフトと、前記シャフトに取り付けられる、白金族金属を含む材料で構成された羽根とを有し、前記攪拌容器内の前記熔融ガラスを攪拌するための攪拌機と、
前記攪拌容器の外部に設置され、前記攪拌容器が内側に設置される加熱空間を形成する耐熱部材と、
前記加熱空間内の前記攪拌容器の外部の場所に設置される複数の加熱部と、
揮発する前記白金族金属又は前記ガラス原料を含む揮発物が凝集してできた凝集物を保持する、前記突出部に設けられた保持部材と、を有し、
前記保持部材は、前記加熱空間内の前記突出部のうち、前記揮発物の凝集する温度以上になる位置に設けられる、ことを特徴とするガラス基板の製造方法。
[Form 1]
A glass substrate manufacturing method comprising a stirring step of stirring a molten glass produced by melting a glass raw material with a stirrer, and a forming step of forming the molten glass into a plate shape,
The stirring device
A stirring vessel made of a material containing a platinum group metal and containing molten glass;
A container cover provided above the stirring container;
A shaft made of a material containing a platinum group metal and having a protrusion protruding from the container cover to the upper side of the container cover; and a blade made of a material containing a platinum group metal attached to the shaft. A stirrer for stirring the molten glass in the stirring vessel;
A heat-resistant member that is installed outside the stirring vessel and forms a heating space in which the stirring vessel is installed inside;
A plurality of heating units installed at locations outside the stirring vessel in the heating space;
Holding the agglomerates formed by agglomerating the volatiles containing the platinum group metal or the glass raw material that volatilizes, and holding members provided on the protrusions,
The said holding member is provided in the position which becomes more than the temperature which the said volatile substance aggregates among the said protrusion parts in the said heating space, The manufacturing method of the glass substrate characterized by the above-mentioned.

[形態2]
前記突出部の温度は、前記熔融ガラスから離れるほど低下し、
前記保持部材は、前記保持部材の温度が前記揮発物の露点より高い、前記回転シャフトの前記突出部上の位置に設けられる、形態1に記載のガラス基板の製造方法。
[Form 2]
The temperature of the protruding portion decreases as the distance from the molten glass increases.
The said holding member is a manufacturing method of the glass substrate of the form 1 provided in the position on the said protrusion part of the said rotating shaft where the temperature of the said holding member is higher than the dew point of the said volatile matter.

[形態3]
前記揮発物が、前記容器カバーと前記シャフトの間のクリアランスを通じて上方に流れるにつれて低下する揮発物の蒸気圧が、前記熔融ガラスから離れて上方に向かうにつれて低下する揮発物の飽和蒸気圧より小さくなる位置に、前記保持部材が設けられる、形態1又は2に記載のガラス基板の製造方法。
[Form 3]
The vapor pressure of the volatiles that decreases as the volatiles flow upward through the clearance between the container cover and the shaft is less than the saturated vapor pressure of the volatiles that decreases as they move upward away from the molten glass. The manufacturing method of the glass substrate of the form 1 or 2 with which the said holding member is provided in a position.

[形態4]
前記攪拌工程では、前記突出部周りの前記加熱空間の白金蒸気圧を0.3Pa〜5Paとし、前記突出部の温度を前記白金蒸気圧が飽和蒸気圧となる温度以上とするように、前記加熱部により前記突出部が加熱される、形態1〜3のいずれか1つに記載のガラス基板の製造方法。
[Form 4]
In the stirring step, the heating space is set such that a platinum vapor pressure in the heating space around the protrusion is 0.3 Pa to 5 Pa, and a temperature of the protrusion is equal to or higher than a temperature at which the platinum vapor pressure becomes a saturated vapor pressure. The manufacturing method of the glass substrate as described in any one of the forms 1-3 with which the said protrusion part is heated by a part.

[形態5]
ガラス原料を熔解して生成された熔融ガラスを、攪拌装置で攪拌する攪拌工程と、前記熔融ガラスを板状に成形する成形工程とを備えるガラス基板の製造方法であって、
前記攪拌装置は、
熔融ガラスを収納する白金族金属を含む材料で構成された攪拌容器と、
前記攪拌容器の上方に設けられる容器カバーと、
前記容器カバーから前記容器カバーの上方に突出する突出部を有する、白金族金属を含む材料で構成されたシャフトと、前記シャフトに取り付けられる、白金族金属を含む材料で構成された羽根とを有し、前記攪拌容器内の前記熔融ガラスを攪拌するための攪拌機と、
前記攪拌容器の外部に設置され、前記攪拌容器が内側に設置される加熱空間を形成する耐熱部材と、
前記加熱空間内の前記攪拌容器の外部の場所に設置される複数の加熱部と、を有し、
前記攪拌工程では、前記突出部周りの前記加熱空間の白金蒸気圧を0.3Pa〜5Paとし、前記突出部の温度を前記白金蒸気圧が飽和蒸気圧となる温度以上とするように、前記加熱部により前記突出部が加熱される、ことを特徴とするガラス基板の製造方法。
[Form 5]
A glass substrate manufacturing method comprising a stirring step of stirring a molten glass produced by melting a glass raw material with a stirrer, and a forming step of forming the molten glass into a plate shape,
The stirring device
A stirring vessel made of a material containing a platinum group metal that houses molten glass;
A container cover provided above the stirring container;
A shaft made of a material containing a platinum group metal and having a protrusion protruding from the container cover to the upper side of the container cover; and a blade made of a material containing a platinum group metal attached to the shaft. A stirrer for stirring the molten glass in the stirring vessel;
A heat-resistant member that is installed outside the stirring vessel and forms a heating space in which the stirring vessel is installed inside;
A plurality of heating units installed at locations outside the stirring vessel in the heating space,
In the stirring step, the heating space is set such that a platinum vapor pressure in the heating space around the protrusion is 0.3 Pa to 5 Pa, and a temperature of the protrusion is equal to or higher than a temperature at which the platinum vapor pressure becomes a saturated vapor pressure. The protrusion is heated by the portion, and the method for manufacturing a glass substrate.

[形態6]
前記加熱空間は、
鉛直方向における前記加熱空間の中間の高さ位置より上方の上部加熱空間と、
前記中間の高さ位置より下方の下部加熱空間と、を有し、
前記上部加熱空間に配置される前記加熱部の出力の合計は、前記下部加熱空間に配置される前記加熱部の出力の合計よりも大きい、形態5に記載のガラス基板の製造方法。
[Form 6]
The heating space is
An upper heating space above a middle height position of the heating space in the vertical direction;
A lower heating space below the intermediate height position,
The total output of the heating units arranged in the upper heating space is a method for manufacturing a glass substrate according to mode 5, wherein the total output of the heating units arranged in the lower heating space is larger.

[形態7]
前記ガラス基板の歪点は、680℃以上である、形態1〜6のいずれか1つに記載のガラス基板の製造方法。
[Form 7]
The strain point of the said glass substrate is a manufacturing method of the glass substrate as described in any one of the forms 1-6 which is 680 degreeC or more.

[形態8]
ガラス原料を熔解して生成された熔融ガラスを攪拌する攪拌装置であって、
熔融ガラスを収納する、白金族金属を含む材料で構成された攪拌容器と、
前記攪拌容器の上方に設けられる容器カバーと、
前記容器カバーから前記容器カバーの上方に突出する突出部を有する、白金族金属を含む材料で構成されたシャフトと、前記シャフトに取り付けられる、白金族金属を含む材料で構成された羽根とを有し、前記攪拌容器内の前記熔融ガラスを攪拌するための攪拌機と、
前記攪拌容器の外部に設置され、前記攪拌容器が内側に設置される加熱空間を形成する耐熱部材と、
前記加熱空間内の前記攪拌容器の外部の場所に設置される複数の加熱部と、
揮発する前記白金族金属又は前記ガラス原料を含む揮発物が凝集してできる凝集物を保持する、前記突出部に設けられた保持部材と、を有し、
前記保持部材は、前記加熱空間内の前記突出部のうち、前記揮発物の凝集する温度以上になる位置に設けられる、ことを特徴とする攪拌装置。
[Form 8]
A stirring device for stirring molten glass produced by melting glass raw materials,
A stirring vessel made of a material containing a platinum group metal and containing molten glass;
A container cover provided above the stirring container;
A shaft made of a material containing a platinum group metal and having a protrusion protruding from the container cover to the upper side of the container cover; and a blade made of a material containing a platinum group metal attached to the shaft. A stirrer for stirring the molten glass in the stirring vessel;
A heat-resistant member that is installed outside the stirring vessel and forms a heating space in which the stirring vessel is installed inside;
A plurality of heating units installed at locations outside the stirring vessel in the heating space;
Holding the agglomerates formed by agglomeration of the platinum group metal or the glass raw material that volatilizes, and holding members provided on the protrusions,
The said holding member is provided in the position which becomes more than the temperature which the said volatile substance aggregates among the said protrusion parts in the said heating space, The stirring apparatus characterized by the above-mentioned.

[形態9]
ガラス原料を熔解して生成された熔融ガラスを攪拌する攪拌装置であって、
熔融ガラスを収納する、白金族金属を含む材料で構成された攪拌容器と、
前記攪拌容器の上方に設けられる容器カバーと、
前記容器カバーから前記容器カバーの上方に突出する突出部を有する、白金族金属を含む材料で構成されたシャフトと、前記シャフトに取り付けられる、白金族金属を含む材料で構成された羽根とを有し、前記攪拌容器内の前記熔融ガラスを攪拌するための攪拌機と、
前記攪拌容器の外部に設置され、前記攪拌容器が内側に設置される加熱空間を形成する耐熱部材と、
前記加熱空間内の前記攪拌容器の外部の場所に設置される複数の加熱部と、を有し、
前記加熱部は、前記突出部周りの前記加熱空間の白金蒸気圧を0.3Pa〜5Paとし、前記突出部の温度を前記白金蒸気圧が飽和蒸気圧となる温度以上とするように、前記突出部を加熱する、ことを特徴とする攪拌装置。
[Form 9]
A stirring device for stirring molten glass produced by melting glass raw materials,
A stirring vessel made of a material containing a platinum group metal and containing molten glass;
A container cover provided above the stirring container;
A shaft made of a material containing a platinum group metal and having a protrusion protruding from the container cover to the upper side of the container cover; and a blade made of a material containing a platinum group metal attached to the shaft. A stirrer for stirring the molten glass in the stirring vessel;
A heat-resistant member that is installed outside the stirring vessel and forms a heating space in which the stirring vessel is installed inside;
A plurality of heating units installed at locations outside the stirring vessel in the heating space,
The heating part has a platinum vapor pressure in the heating space around the protrusion of 0.3 Pa to 5 Pa, and the protrusion has a temperature equal to or higher than a temperature at which the platinum vapor pressure becomes a saturated vapor pressure. A stirrer characterized by heating the part.

上述の形態によれば、保持部材表面に揮発物が凝集することを抑制し、異物が撹拌装置内の熔融ガラスに混入するのを防止できる。さらに、ガラス基板中に混入する異物を低減することができる。   According to the above-mentioned form, it can suppress that a volatile substance aggregates on the holding member surface, and can prevent that a foreign material mixes in the molten glass in a stirring apparatus. Furthermore, foreign substances mixed in the glass substrate can be reduced.

本発明のガラス基板の製造方法のフローの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the flow of the manufacturing method of the glass substrate of this invention. 本発明における熔解工程乃至切断工程を行う装置の一例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically an example of the apparatus which performs the melting process thru | or cutting process in this invention. 実施形態1における攪拌装置の一例を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows an example of the stirring apparatus in Embodiment 1. 熔融ガラスの表面から保持部材までの距離とその保持部材の温度との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the distance from the surface of a molten glass to a holding member, and the temperature of the holding member. 熔融ガラスの表面から保持部材までの距離と揮発した白金の飽和蒸気圧及び蒸気圧との関係を示した図である。It is the figure which showed the relationship between the distance from the surface of a molten glass to a holding member, and the saturated vapor pressure and vapor pressure of volatilized platinum. 熔融ガラスの表面から保持部材までの距離と白金の飽和蒸気圧から白金の蒸気圧を引いた蒸気圧差との関係を示した図である。It is the figure which showed the relationship between the distance from the surface of a molten glass to a holding member, and the vapor pressure difference which pulled the vapor pressure of platinum from the saturated vapor pressure of platinum. 実施形態2の攪拌装置の一例を示す側面図である。It is a side view which shows an example of the stirring apparatus of Embodiment 2. 図7に示す攪拌装置の攪拌容器および攪拌機のみの上面図である。It is a top view of only the stirring container and the stirrer of the stirring apparatus shown in FIG. 実施形態2における攪拌装置で攪拌される熔融ガラスの流れを説明する図である。It is a figure explaining the flow of the molten glass stirred with the stirring apparatus in Embodiment 2. FIG. 実施例において使用された発熱体を説明する図である。It is a figure explaining the heat generating body used in the Example.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
(ガラス基板の製造方法の全体概要)
図1は、本発明の実施形態であるガラス基板の製造方法のフローを示す図である。
ガラス基板の製造方法は、熔解工程(ST1)と、清澄工程(ST2)と、均質化工程(ST3)と、供給工程(ST4)と、成形工程(ST5)と、冷却工程(ST6)と、切断工程(ST7)と、を主に有する。また、ガラス基板の製造方法は、研削工程、研磨工程、洗浄工程、検査工程、梱包工程等の他の工程を有する。梱包工程で積層された複数のガラス板は、納入先の業者(顧客)に搬送される。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
(Overall overview of glass substrate manufacturing method)
FIG. 1 is a diagram showing a flow of a glass substrate manufacturing method according to an embodiment of the present invention.
The glass substrate manufacturing method includes a melting step (ST1), a clarification step (ST2), a homogenization step (ST3), a supply step (ST4), a forming step (ST5), a cooling step (ST6), Cutting step (ST7). Moreover, the manufacturing method of a glass substrate has other processes, such as a grinding process, a grinding | polishing process, a washing | cleaning process, an inspection process, and a packing process. The plurality of glass plates stacked in the packing process are transported to a supplier (customer) as a delivery destination.

図2は、熔解工程(ST1)〜切断工程(ST7)を行う装置を模式的に示す図である。当該装置は、図2に示すように、熔解装置100と、成形装置200と、切断装置300とを主に有する。熔解装置100は、熔解槽101と、清澄槽102と、攪拌槽(攪拌容器)103と、第1配管104と、第2配管105と、第3配管106とを有する。熔解槽101と清澄槽102とは第1配管104によって接続され、清澄槽102と攪拌槽103とは第2配管105によって接続され、攪拌槽103と成形装置200とは、第3配管106によって接続されている。上記攪拌槽103を含む攪拌装置については後述する。   FIG. 2 is a diagram schematically showing an apparatus for performing the melting step (ST1) to the cutting step (ST7). As shown in FIG. 2, the apparatus mainly includes a melting apparatus 100, a forming apparatus 200, and a cutting apparatus 300. The melting apparatus 100 includes a melting tank 101, a clarification tank 102, a stirring tank (stirring container) 103, a first pipe 104, a second pipe 105, and a third pipe 106. The melting tank 101 and the clarification tank 102 are connected by a first pipe 104, the clarification tank 102 and the stirring tank 103 are connected by a second pipe 105, and the stirring tank 103 and the molding apparatus 200 are connected by a third pipe 106. Has been. The stirring device including the stirring tank 103 will be described later.

熔解工程(ST1)では、熔解槽101内に供給されたガラス原料を、図示されない火焔及び電気ヒータで加熱して熔解することで、例えば1520℃〜1620℃の熔融ガラスMGを得る。清澄工程(ST2)は、清澄槽102において行われ、熔解槽101から第1配管104を通って供給された清澄槽102内の熔融ガラスMGを、加熱することにより、熔融ガラスMG中に含まれる酸素やSOの気泡が、清澄剤の酸化還元反応により放出されたOに吸収されて成長し熔融ガラス表面に浮上して放出される、あるいは、気泡中のガス成分が熔融ガラスMG中に吸収されて、気泡が消滅する。清澄槽102内の熔融ガラスMGの温度は、好ましくは1600℃〜1800℃、より好ましくは1630℃〜1750℃、さらに好ましくは1650℃〜1750℃である。 In the melting step (ST1), for example, molten glass MG of 1520 ° C. to 1620 ° C. is obtained by melting the glass raw material supplied in the melting tank 101 by heating with a flame and an electric heater (not shown). The clarification step (ST2) is performed in the clarification tank 102, and is included in the molten glass MG by heating the molten glass MG in the clarification tank 102 supplied from the melting tank 101 through the first pipe 104. Oxygen and SO 2 bubbles are absorbed by O 2 released by the redox reaction of the fining agent and grow and float on the surface of the molten glass, or gas components in the bubbles are contained in the molten glass MG. Absorbed and the bubbles disappear. The temperature of the molten glass MG in the clarification tank 102 is preferably 1600 ° C to 1800 ° C, more preferably 1630 ° C to 1750 ° C, and further preferably 1650 ° C to 1750 ° C.

均質化工程(ST3)では、清澄槽102から第2配管105を通って供給された攪拌槽103内の熔融ガラスMGを、攪拌機107を用いて攪拌することにより、ガラス成分の均質化を行う。具体的には、熔融ガラスMGは第2配管105を通過する際に冷却されるので、攪拌槽103では、清澄槽102の熔融ガラスMGよりも低い温度の熔融ガラスMGが攪拌される。攪拌槽103では、熔融ガラスMGの温度を、例えば1400℃〜1550℃の範囲内に設定し、かつ、熔融ガラスGの粘度を例えば2500dPa・s〜450dPa・sの範囲内に調整して、熔融ガラスMGの攪拌が行われることが好ましい。熔融ガラスMGは、攪拌槽103において攪拌されることで均質化される。   In the homogenization step (ST3), the glass component MG is homogenized by stirring the molten glass MG in the stirring tank 103 supplied from the clarification tank 102 through the second pipe 105 using the stirrer 107. Specifically, since the molten glass MG is cooled when passing through the second pipe 105, the molten glass MG having a temperature lower than that of the molten glass MG in the clarification tank 102 is stirred in the stirring tank 103. In the stirring tank 103, the temperature of the molten glass MG is set within a range of 1400 ° C. to 1550 ° C., for example, and the viscosity of the molten glass G is adjusted within a range of 2500 dPa · s to 450 dPa · s, for example. It is preferable that stirring of the glass MG is performed. Molten glass MG is homogenized by being stirred in stirring tank 103.

なお、図2に示す攪拌槽103は、攪拌槽103の上部から供給された熔融ガラスMGを攪拌機107で攪拌しながら下降させ、下降した熔融ガラスMGを第3配管106から流出するが、後述するように、攪拌槽103の下部から供給された熔融ガラスMGを攪拌機107で攪拌しながら上昇させ、上昇した熔融ガラスMGを第3配管106から流出する形態であってもよい。   2 is lowered while the molten glass MG supplied from the upper part of the stirring tank 103 is stirred by the stirrer 107, and the lowered molten glass MG flows out of the third pipe 106, which will be described later. Thus, the molten glass MG supplied from the lower part of the stirring tank 103 may be raised while being stirred by the stirrer 107, and the elevated molten glass MG may be discharged from the third pipe 106.

供給工程(ST4)では、熔融ガラスMGが、攪拌槽103から第3配管106を通って成形装置200に供給される。熔融ガラスMGは第3配管106を通過する際に、成形装置200での成形に適した温度、例えば、1200℃まで冷却される。   In the supply step (ST4), the molten glass MG is supplied from the stirring vessel 103 to the molding apparatus 200 through the third pipe 106. When the molten glass MG passes through the third pipe 106, it is cooled to a temperature suitable for molding by the molding apparatus 200, for example, 1200 ° C.

成形装置200では、成形工程(ST5)及び冷却工程(ST6)が行われる。
成形工程(ST5)では、熔融ガラスMGをシートガラスSGに成形し、シートガラスSGの流れを作る。例えば成形体210を用いたオーバーフローダウンドロー法を用いる。この場合、シートガラスSGの流れ方向は、鉛直下方となる。冷却工程(ST6)では、成形されて流れるシートガラスSGが所望の厚さになり、冷却に起因する反り及び歪が生じないように冷却される。
具体的には、成形装置200の上部から溢れた熔融ガラスMGが、成形装置200の成形体の側壁に沿って下方へと流れることで、成形体の下端からシートガラスSGが連続的に成形される。シートガラスリボンSGは下方へ向かうに従って徐冷される。ガラス基板の歪点は、680℃以上であることが好ましく、700℃以上であることがより好ましい。
In the molding apparatus 200, a molding process (ST5) and a cooling process (ST6) are performed.
In the forming step (ST5), the molten glass MG is formed into a sheet glass SG to make a flow of the sheet glass SG. For example, an overflow down draw method using the molded body 210 is used. In this case, the flow direction of the sheet glass SG is vertically downward. In the cooling step (ST6), the sheet glass SG that is formed and flows has a desired thickness, and is cooled so that warpage and distortion due to cooling do not occur.
Specifically, the molten glass MG overflowing from the upper part of the molding apparatus 200 flows downward along the side wall of the molded body of the molding apparatus 200, so that the sheet glass SG is continuously molded from the lower end of the molded body. The The sheet glass ribbon SG is gradually cooled as it goes downward. The strain point of the glass substrate is preferably 680 ° C. or higher, and more preferably 700 ° C. or higher.

切断工程(ST7)では、切断装置300において、成形装置200から供給されたシートガラスSGが所定の長さに切断されることで、板状のガラス基板を得る。
この後、ガラス基板の端面の研削・研磨が行われた後、ガラス基板の洗浄が行われ、さらに、気泡や脈理等の異常欠陥の有無が検査された後、検査合格品のガラス基板が最終製品として梱包される。
In the cutting step (ST7), the sheet glass SG supplied from the forming apparatus 200 is cut into a predetermined length in the cutting apparatus 300, thereby obtaining a plate-shaped glass substrate.
After this, after the end surface of the glass substrate is ground and polished, the glass substrate is cleaned, and further, the presence or absence of abnormal defects such as bubbles and striae is inspected. Packaged as a final product.

下記実施形態1、2や変形例において製造されるガラス基板は、例えば、液晶ディスプレイ用ガラス基板、有機ELディスプレイ用ガラス基板、カバーガラスに好適に用いられる。また、このガラス基板は、その他、携帯端末機器などのディスプレイや筐体用のカバーガラス、タッチパネル板、太陽電池のガラス基板やカバーガラスとしても用いることができる。特に、ポリシリコンTFT(Thin Film Transistor)を用いた液晶ディスプレイ用ガラス基板に好適である。
また、ガラス基板の厚さは、例えば0.05mm〜1.5mmである。好ましくは0.05〜1.2mm、より好ましくは0.3〜1.0mm、さらにより好ましくは0.3〜0.8mm、特に好ましくは0.3〜0.5mmである。
さらに、ガラス基板の幅方向の長さは、例えば500mm〜3500mmであり、1000mm〜3500mmであることが好ましく、2000mm〜3500mmであることがより好ましい。一方、ガラス基板の縦方向の長さも、例えば500mm〜3500mmであり、1000mm〜3500mmであることが好ましく、2000mm〜3500mmであることがより好ましい。
The glass substrates manufactured in the following Embodiments 1 and 2 and modifications are suitably used for, for example, a liquid crystal display glass substrate, an organic EL display glass substrate, and a cover glass. In addition, the glass substrate can also be used as a display for a portable terminal device, a cover glass for a housing, a touch panel plate, a glass substrate for a solar cell, or a cover glass. In particular, it is suitable for a glass substrate for a liquid crystal display using a polysilicon TFT (Thin Film Transistor).
Moreover, the thickness of a glass substrate is 0.05 mm-1.5 mm, for example. The thickness is preferably 0.05 to 1.2 mm, more preferably 0.3 to 1.0 mm, still more preferably 0.3 to 0.8 mm, and particularly preferably 0.3 to 0.5 mm.
Furthermore, the length of the glass substrate in the width direction is, for example, 500 mm to 3500 mm, preferably 1000 mm to 3500 mm, and more preferably 2000 mm to 3500 mm. On the other hand, the length of the glass substrate in the vertical direction is, for example, 500 mm to 3500 mm, preferably 1000 mm to 3500 mm, and more preferably 2000 mm to 3500 mm.

(ガラス基板の組成)
ガラス基板に用いるガラスは、例えば、ボロシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、アルミノボロシリケートガラス、ソーダライムガラス、アルカリシリケートガラス、アルカリアルミノシリケートガラス、アルカリアルミノゲルマネイトガラスなどを適用することができる。なお、本発明に適用できるガラスは上記に限定されるものではない。
(Composition of glass substrate)
As the glass used for the glass substrate, for example, borosilicate glass, aluminosilicate glass, aluminoborosilicate glass, soda lime glass, alkali silicate glass, alkali aluminosilicate glass, and alkali aluminogermanate glass can be applied. The glass applicable to the present invention is not limited to the above.

ガラス基板のガラス組成は例えば以下のものを挙げることができる。以下示す組成の含有率表示は、質量%である。
SiO 50〜70%、
Al 0〜25%、
0〜15%、
MgO 0〜10%、
CaO 0〜20%、
SrO 0〜20%、
BaO 0〜15%、
RO 5〜30%(ただし、RはMg、Ca、Sr及びBaの合量)、
を含有する無アルカリガラスであることが、好ましい。
The glass composition of a glass substrate can mention the following, for example. The content rate display of the composition shown below is mass%.
SiO 2 50~70%,
Al 2 O 3 0-25%,
B 2 O 3 0-15%,
MgO 0-10%,
CaO 0-20%,
SrO 0-20%,
BaO 0-15%,
RO 5-30% (where R is the total amount of Mg, Ca, Sr and Ba),
It is preferable that it is an alkali free glass containing.

なお、上記のガラス組成例では無アルカリガラスとしたが、ガラス基板はアルカリ金属を微量含んだアルカリ微量含有ガラスであってもよい。アルカリ金属を含有させる場合、R'Oの合計が0.10%以上0.5%以下、好ましくは0.20%以上0.5%以下 (ただし、R'はLi、Na及びKから選ばれる少なくとも1種であり、ガラス基板Gが含有するものである)含むことが好ましい。勿論、R’Oの合計が0.10%未満であってもよい。また、ガラスの熔解を容易にするために、比抵抗を低下させるという観点から、ガラス中の酸化鉄の含有量が0.01〜0.2%(好ましくは0.01〜0.08%)であることがさらに好ましい。また、清澄剤として添加される酸化錫(SnO)の含有量が0.01〜1%(好ましくは0.01〜0.5%)であることがさらに好ましい。 In addition, although it was set as the alkali free glass in said glass composition example, the glass substrate may be the alkali trace amount containing glass containing a trace amount of alkali metals. When an alkali metal is contained, the total of R ′ 2 O is 0.10% or more and 0.5% or less, preferably 0.20% or more and 0.5% or less (where R ′ is selected from Li, Na, and K) It is preferable that the glass substrate G contains at least one kind. Of course, the total of R ′ 2 O may be less than 0.10%. In order to facilitate melting of the glass, the content of iron oxide in the glass is 0.01 to 0.2% (preferably 0.01 to 0.08%) from the viewpoint of reducing the specific resistance. More preferably. Further, the content of tin oxide (SnO 2 ) added as a fining agent is more preferably 0.01 to 1% (preferably 0.01 to 0.5%).

また、ガラスの組成の一例として、無アルカリガラスおよび微アルカリガラスは、SiO2 57質量%〜70質量%、
Al23 15質量%〜25質量%、
23 0質量%〜13質量%、
MgO 0質量%〜15質量%、
CaO 0質量%〜20質量%、
SrO 0質量%〜20質量%、
BaO 0質量%〜10質量%、
Na2O 0質量%〜1質量%、
2O 0質量%〜1質量%、
As23 0質量%〜1質量%、
Sb23 0質量%〜1質量%、
SnO2 0質量%〜1質量%、
Fe23 0質量%〜1質量%、
ZrO2 0質量%〜1質量%からなる。
ここで、上記の組成を有するガラスに関して、Fe23、As23、Sb23およびSnO2の各含有率は、複数の価数を有するFe、As、SbまたはSnの成分を、それぞれFe23、As23、Sb23またはSnO2として換算した値である。
Moreover, as an example of the composition of glass, non-alkali glass and fine alkali glass are SiO 2 57 mass% to 70 mass%,
Al 2 O 3 15% by mass to 25% by mass,
B 2 O 3 0% by mass to 13% by mass,
MgO 0% by mass to 15% by mass,
CaO 0% by mass to 20% by mass,
SrO 0% by mass to 20% by mass,
BaO 0% by mass to 10% by mass,
Na 2 O 0% by mass to 1% by mass,
K 2 O 0% by mass to 1% by mass,
As 2 O 3 0% by mass to 1% by mass,
Sb 2 O 3 0% by mass to 1% by mass,
SnO 2 0% by mass to 1% by mass,
Fe 2 O 3 0% by mass to 1% by mass,
It consists of 0 to 1% by mass of ZrO 2 .
Here, regarding the glass having the above composition, each content of Fe 2 O 3 , As 2 O 3 , Sb 2 O 3 and SnO 2 is a component of Fe, As, Sb or Sn having a plurality of valences. These are values converted as Fe 2 O 3 , As 2 O 3 , Sb 2 O 3 or SnO 2 , respectively.

以下説明する実施形態1,2は、ガラス原料を熔融して熔融ガラスを得る熔融工程(上述の熔解工程)と、該熔融工程で得られた前記熔融ガラスを攪拌装置にて攪拌する攪拌工程(上述の均質化工程)と、該攪拌工程で攪拌された前記熔融ガラスからガラス基板を成形する成形工程と、を有するガラス基板の製造方法である。   In Embodiments 1 and 2 described below, a melting step (the above-described melting step) for melting a glass raw material to obtain a molten glass, and a stirring step for stirring the molten glass obtained in the melting step with a stirring device ( And a forming step of forming a glass substrate from the molten glass stirred in the stirring step.

(実施形態1)
図3は、実施形態1の攪拌装置120の一例を示す縦断面図である。
図3に示す攪拌装置120は、攪拌槽(攪拌容器)103と、該攪拌槽103の上部を覆う蓋(容器カバー)110と、該攪拌槽103の内部に配置された攪拌機107とを備える。前記攪拌機107は、鉛直方向に配置される回転シャフト108と、該回転シャフト108の下方の側周面に取り付けられた攪拌翼(羽根)109とを有する。回転シャフト108は、蓋(容器カバー)110から蓋110の上方に突出した突出部を有する。回転シャフト108は、落下してくるPt、Sn等の凝集物を保持するための保持部材117を突出部に有する。前述したように、前記攪拌槽103には、第2配管105及び第3配管106が接続されており、清澄槽102から第2配管105を通って攪拌槽103内に供給された熔融ガラスMGは、攪拌機107を用いて攪拌することにより、ガラス成分の均質化が行われ、均質化された熔融ガラスMGは、攪拌槽103から第3配管106を通って成形装置200に供給される。
なお、前述の図2では、上記攪拌槽103と攪拌機107のみが図示されているが、詳細な構成は図3に示すとおりである。
(Embodiment 1)
FIG. 3 is a longitudinal sectional view illustrating an example of the stirring device 120 according to the first embodiment.
A stirring device 120 shown in FIG. 3 includes a stirring tank (stirring container) 103, a lid (container cover) 110 that covers an upper part of the stirring tank 103, and a stirrer 107 disposed inside the stirring tank 103. The stirrer 107 includes a rotating shaft 108 arranged in a vertical direction, and a stirring blade (blade) 109 attached to a side peripheral surface below the rotating shaft 108. The rotating shaft 108 has a protruding portion that protrudes from the lid (container cover) 110 to above the lid 110. The rotation shaft 108 has a holding member 117 for holding agglomerates such as falling Pt and Sn at the protruding portion. As described above, the second pipe 105 and the third pipe 106 are connected to the stirring tank 103, and the molten glass MG supplied from the clarification tank 102 through the second pipe 105 into the stirring tank 103 is The glass components are homogenized by stirring using the stirrer 107, and the homogenized molten glass MG is supplied from the stirring tank 103 to the molding apparatus 200 through the third pipe 106.
In FIG. 2 described above, only the agitation tank 103 and the agitator 107 are shown, but the detailed configuration is as shown in FIG.

攪拌槽103及び該撹拌槽103の上部を覆う蓋110の周囲は第1の耐火材料111で覆われている。そして、該第1の耐火材料111の外側の雰囲気(加熱空間112)を加熱する発熱体からなる加熱部(図示してない)を有している。つまり、実施形態1では、攪拌槽103を加熱する方法として間接加熱法を採用している。加熱手段が加熱する加熱空間112は、さらに第2の耐火材料(耐熱部材)113で覆われている。上記第1の耐火材料111および第2の耐火材料113は、耐火レンガ、耐火断熱レンガ、あるいはファイバー系断熱材等の耐火物である。   The periphery of the stirring tank 103 and the lid 110 covering the upper part of the stirring tank 103 is covered with a first refractory material 111. And it has the heating part (not shown) which consists of a heat generating body which heats the atmosphere (heating space 112) outside this 1st refractory material 111. That is, in the first embodiment, an indirect heating method is employed as a method for heating the stirring vessel 103. The heating space 112 heated by the heating means is further covered with a second refractory material (heat resistant member) 113. The first refractory material 111 and the second refractory material 113 are refractories such as refractory bricks, refractory heat insulating bricks, or fiber heat insulating materials.

上記第1の耐火材料111および第2の耐火材料113は、耐火レンガ、耐火断熱レンガ、あるいはファイバー系断熱材等の耐火物であり、耐熱部材である。また耐火煉瓦113の天井面に、断熱性のある煉瓦を設置することにより加熱空間112の上部の温度は上昇し、回転シャフト108、保持部材117の部分の温度も上がるため、熔融ガラスからのPtO、SnO揮発物が温度差の縮小により、PtO、SnO揮発物が、回転シャフト108、保持部材117の表面で凝集することを抑制する。ここで、揮発物は、ガラス原料や攪拌槽内に存在している成分から形成されるものであり、例えば、PtO、B、SnOが挙げられる。 The first refractory material 111 and the second refractory material 113 are refractories such as refractory bricks, refractory heat insulating bricks, or fiber-based heat insulating materials, and are heat resistant members. Further, by installing a heat insulating brick on the ceiling surface of the refractory brick 113, the temperature of the upper portion of the heating space 112 rises and the temperature of the rotating shaft 108 and the holding member 117 also rises. 2 , SnO 2 volatiles are prevented from aggregating on the surfaces of the rotating shaft 108 and the holding member 117 due to the reduction of the temperature difference of PtO 2 and SnO 2 volatiles. Here, the volatile matter is formed from components existing in the glass raw material or the stirring tank, and examples thereof include PtO 2 , B 2 O 3 , and SnO 2 .

また、前記回転シャフト108の上方は、前記蓋110及びその上の第1の耐火材料111を貫通し、さらに前記第2の耐火材料113を貫通し、回転手段(図示していない)に接続されている。回転シャフト108は撹拌槽103に内装され、回転シャフト108を回転自在に支持する、撹拌槽103上部の蓋110及び第1の耐火材料111近傍に設けられる支持部材(図示していない)によって支持されている。回転手段が支持部材を回転させることにより、支持部材に支持された回転シャフト108が回転する。なお、前記回転シャフト108と、蓋110およびその上の第1の耐火材料111との間には、第1の間隙(クリアランス)115が設けられており、また、回転シャフト108と第2の耐火材料113との間には、第2の間隙(クリアランス)116が設けられている。   Further, the upper portion of the rotating shaft 108 passes through the lid 110 and the first refractory material 111 thereon, and further passes through the second refractory material 113 and is connected to a rotating means (not shown). ing. The rotating shaft 108 is built in the stirring tank 103 and is supported by a support member (not shown) provided in the vicinity of the lid 110 on the stirring tank 103 and the first refractory material 111 that rotatably supports the rotating shaft 108. ing. When the rotation means rotates the support member, the rotation shaft 108 supported by the support member rotates. A first gap (clearance) 115 is provided between the rotary shaft 108 and the lid 110 and the first refractory material 111 thereon, and the rotary shaft 108 and the second refractory material. A second gap (clearance) 116 is provided between the material 113.

そして、前記回転シャフト108が貫通する第1の耐火材料111より上方に位置する回転シャフト108の、蓋110及び第1の耐火材料111から突出した突出部に、前記回転シャフト108と蓋110及び第1の耐火材料111との間に存在する第1の間隙115をほぼ覆う大きさを有する保持部材117を設けている。このため、保持部材117は、第2の耐火材料113の天井等から落下した揮発物の凝集物等が第1の間隙115を通過して熔融ガラスMG中に混入することを防止する遮蔽部材である。
実施形態1においては、第1の耐火材料111より上方の加熱空間112に位置する回転シャフト108の突出部に保持部材117を設けている。
なお、上記の攪拌装置120を構成する攪拌槽103、撹拌機107(回転シャフト108、攪拌翼109)の材料は、白金または白金合金等の白金族金属が用いられるが、上記保持部材117についても、同様の白金族金属を用いるのが好適である。
Then, the rotating shaft 108, the lid 110, and the first projection of the rotating shaft 108, which is located above the first refractory material 111 through which the rotating shaft 108 penetrates, protrude from the lid 110 and the first refractory material 111. A holding member 117 having a size that substantially covers the first gap 115 existing between the one refractory material 111 is provided. For this reason, the holding member 117 is a shielding member that prevents agglomerates of volatiles dropped from the ceiling or the like of the second refractory material 113 from entering the molten glass MG through the first gap 115. is there.
In the first embodiment, the holding member 117 is provided on the protruding portion of the rotary shaft 108 located in the heating space 112 above the first refractory material 111.
In addition, as a material of the stirring tank 103 and the stirrer 107 (the rotating shaft 108 and the stirring blade 109) constituting the stirring device 120, a platinum group metal such as platinum or a platinum alloy is used, but the holding member 117 is also used. It is preferable to use the same platinum group metal.

上述の攪拌装置120を用いる攪拌工程において、前記清澄槽102から第2配管105を通って攪拌槽103内に供給された熔融ガラスMGは、前記攪拌槽103の内部を上方から下方へ導かれながら、前記撹拌機107によって攪拌され、ガラス成分が均質化された熔融ガラスMGは、攪拌槽103から第3配管106を通って成形装置200に供給される。なお、上記攪拌装置120に熔融ガラスMGを通過させて攪拌する際に、熔融ガラスMGの表面の位置が多少は上下するため、攪拌槽103の上部を覆う蓋110と熔融ガラスMGの表面との間に一定広さの気相空間114を有するように攪拌槽103と配管105との位置関係が調節される。また、実施形態1では、攪拌槽103内に供給された熔融ガラスMGは、攪拌槽103の内部を上方から下方へ導かれるように構成されているが、これに限らず、攪拌槽103の内部を下方から上方へ導かれるように構成されてもよい。   In the stirring process using the stirring device 120 described above, the molten glass MG supplied from the clarification tank 102 to the stirring tank 103 through the second pipe 105 is guided from above to below in the stirring tank 103. The molten glass MG that has been stirred by the stirrer 107 and whose glass components are homogenized is supplied from the stirring vessel 103 to the molding apparatus 200 through the third pipe 106. In addition, when the molten glass MG is passed through the stirring device 120 and stirred, the position of the surface of the molten glass MG slightly moves up and down, so the lid 110 covering the upper part of the stirring tank 103 and the surface of the molten glass MG The positional relationship between the stirring tank 103 and the pipe 105 is adjusted so as to have a gas phase space 114 having a certain width therebetween. Further, in the first embodiment, the molten glass MG supplied into the stirring tank 103 is configured to be guided from the upper side to the lower side of the stirring tank 103, but not limited thereto, the inside of the stirring tank 103 is configured. May be configured to be guided from below to above.

このような攪拌工程において、上記のとおり、熔融ガラスMGを通過させて攪拌する際に、熔融ガラスMGの表面レベルが上下するため、攪拌槽103の蓋110と熔融ガラスMGの表面との間に一定広さの気相空間114を設けている。この気相空間114には酸素が含まれており、また、攪拌槽103は高温で加熱されるため、気相空間114に接する白金族金属(攪拌槽103および攪拌機107の材料)が揮発する。気相空間114において揮発した白金族金属の揮発物(以降、白金揮発物という)、あるいは熔融ガラスから揮発したBおよびSnO等の揮発物(以降、錫等の揮発物という)を含む気体は、攪拌機107の回転シャフト108と攪拌槽103の蓋110との間に存在する間隙115を通って上方に流れる。 In such a stirring step, as described above, when the molten glass MG is passed and stirred, the surface level of the molten glass MG goes up and down, so that the gap between the lid 110 of the stirring vessel 103 and the surface of the molten glass MG is increased. A gas phase space 114 having a certain size is provided. Since the gas phase space 114 contains oxygen, and the stirring vessel 103 is heated at a high temperature, the platinum group metal (material of the stirring vessel 103 and the stirrer 107) in contact with the gas phase space 114 is volatilized. Volatile platinum group metal volatiles (hereinafter referred to as platinum volatiles) in the vapor phase space 114 or volatiles such as B 2 O 3 and SnO 2 volatilized from molten glass (hereinafter referred to as tin volatiles). The contained gas flows upward through a gap 115 existing between the rotating shaft 108 of the stirrer 107 and the lid 110 of the stirring tank 103.

実施形態1では、攪拌槽103及び該撹拌槽103の蓋110の周囲を覆う第1の耐火材料111の外側の雰囲気(加熱空間112)を加熱する間接加熱法を採用しているため、気相空間114内の回転シャフト108、第2の耐火材料113の内壁と、撹拌槽103内の雰囲気との雰囲気温度差は生じる。それゆえ、回転シャフト108、第2の耐火材料113の内壁等に揮発物が凝集し付着する。回転シャフト108、第2の耐火材料113の内壁等に凝集し付着した揮発物の凝集物が落下して、第1の間隙115を通じて熔融ガラスMGに入り込むのを防ぐために、第1の間隙115をほぼ覆う大きさを有する保持部材117を設けている。   In the first embodiment, since the indirect heating method of heating the atmosphere (heating space 112) outside the first refractory material 111 covering the periphery of the stirring tank 103 and the lid 110 of the stirring tank 103 is employed, the gas phase An atmospheric temperature difference occurs between the rotary shaft 108 in the space 114, the inner wall of the second refractory material 113, and the atmosphere in the stirring vessel 103. Therefore, volatile substances aggregate and adhere to the rotary shaft 108 and the inner wall of the second refractory material 113. In order to prevent agglomerates of volatile matter that have aggregated and adhered to the rotary shaft 108, the inner wall of the second refractory material 113, and the like to fall and enter the molten glass MG through the first gap 115, the first gap 115 is provided. A holding member 117 having a size that substantially covers is provided.

第1の間隙115を通って上方の加熱空間112内に流入した白金揮発物あるいは錫等の揮発物を含む気体は、さらに回転シャフト108と第2の耐火材料113との間に存在する間隙116を通って上方に流れていく。上述のように、加熱空間112を加熱しているため、この加熱空間112内において雰囲気温度の低下は小さいが、白金揮発物、錫等の揮発物を含む気体が、上記間隙116を通って上方に流れていく過程において、雰囲気温度が下がり、例えばその温度が低下する位置における回転シャフト108に設けられる保持部材117の温度がその揮発物の露点よりも低い場合、雰囲気に含まれる白金、錫等の揮発物が、保持部材117の表面上に凝集し付着する。白金の蒸気圧が飽和蒸気圧を超える温度になると析出する。このようにして保持部材117の表面上に凝集し付着した白金、錫等の揮発物の凝集物の一部が、凝集物から離脱して熔融ガラスMG内に落下することがある。   The gas containing platinum volatile matter or volatile matter such as tin, which has flowed into the upper heating space 112 through the first gap 115, further exists in the gap 116 existing between the rotary shaft 108 and the second refractory material 113. It flows upward through. As described above, since the heating space 112 is heated, the decrease in the atmospheric temperature in the heating space 112 is small, but a gas containing volatile materials such as platinum volatile matter and tin is passed through the gap 116 and is upward. When the temperature of the holding member 117 provided on the rotary shaft 108 is lower than the dew point of the volatile matter, for example, platinum, tin, etc. contained in the atmosphere. The volatile matter is aggregated and attached on the surface of the holding member 117. It deposits when the vapor pressure of platinum exceeds the saturated vapor pressure. In this way, a part of the aggregate of the volatile matter such as platinum and tin that has aggregated and adhered to the surface of the holding member 117 may be detached from the aggregate and fall into the molten glass MG.

回転シャフト108の下端は、図3に示すように、熔融ガラスMG中にあるため、熔融ガラスMGにより回転シャフト108が加熱されている(温められている)。熔融ガラスMGの温度は、耐火材料111、気相空間114等の温度と比べて高温であるため、回転シャフト108の温度は、熔融ガラスMGと接する下端において最も高く、熔融ガラスMGから離れて上端に向かうにつれて低下していく。保持部材117は、回転シャフト108の突出部に取り付けられており、回転シャフト108の下方から熱が伝わって温められる。このため、保持部材117の温度Tは、熔融ガラスMGの表面から保持部材117までの距離Lに応じて変化する。なお、保持部材117の温度Tは、熔融ガラスMGの表面からの距離Lだけでなく、気相空間114の温度、加熱空間112の温度に依存する。気相空間114の温度及び加熱空間112の温度も、熔融ガラスMGの表面から離れるほど低下するため、ここでは説明を容易にするため、保持部材117の温度Tは、熔融ガラスMGの表面からの距離Lに依存するものとして説明する。図4は、熔融ガラスMGの表面から保持部材117までの距離Lとその保持部材117の温度Tとの関係を示す図である。回転シャフト108の突出部の温度は、熔融ガラスMGから離れるほど低下する。このため、図4に示すように、保持部材117の温度Tは、保持部材117の位置が熔融ガラスMGの表面から離れるほど、つまり、距離Lが大きいほど低下する。保持部材117の温度Tが下がる場合、保持部材117周辺の加熱空間112の温度も下がっているため、揮発物の飽和蒸気圧が低下する。すると、保持部材117の表面(おもに底面)に揮発物が凝集し、保持部材117の表面に揮発物の凝集物が付着し、この凝集物の一部が落下して熔融ガラスMGに入り込むおそれがある。このため、熔融ガラスMGの表面から保持部材117までの距離Lを短くして、保持部材117の温度Tが低下しないようにすることにより、保持部材117の表面で白金等が凝集することを抑制し、保持部材117の表面に異物が付着することを防ぐことができる。
また、回転シャフト108の突出部の温度は、攪拌槽103に収容される熔融ガラスから離れるほど低下する。このとき保持部材117は、保持部材117の温度が揮発物の露点より高い、回転シャフト108上の位置に設けられることが好ましい。
As shown in FIG. 3, since the lower end of the rotating shaft 108 is in the molten glass MG, the rotating shaft 108 is heated (heated) by the molten glass MG. Since the temperature of the molten glass MG is higher than the temperatures of the refractory material 111, the gas phase space 114, etc., the temperature of the rotating shaft 108 is highest at the lower end in contact with the molten glass MG, and away from the molten glass MG. It goes down as it goes to. The holding member 117 is attached to the protruding portion of the rotating shaft 108, and heat is transmitted from below the rotating shaft 108 to warm it. For this reason, the temperature T of the holding member 117 changes according to the distance L from the surface of the molten glass MG to the holding member 117. The temperature T of the holding member 117 depends not only on the distance L from the surface of the molten glass MG but also on the temperature of the gas phase space 114 and the temperature of the heating space 112. Since the temperature of the gas phase space 114 and the temperature of the heating space 112 also decrease as the distance from the surface of the molten glass MG decreases, the temperature T of the holding member 117 is determined from the surface of the molten glass MG for ease of explanation here. A description will be given assuming that it depends on the distance L. FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the distance L from the surface of the molten glass MG to the holding member 117 and the temperature T of the holding member 117. The temperature of the protrusion of the rotating shaft 108 decreases as the distance from the molten glass MG increases. Therefore, as shown in FIG. 4, the temperature T of the holding member 117 decreases as the position of the holding member 117 moves away from the surface of the molten glass MG, that is, as the distance L increases. When the temperature T of the holding member 117 is lowered, the temperature of the heating space 112 around the holding member 117 is also lowered, so that the saturated vapor pressure of the volatile matter is lowered. Then, the volatiles aggregate on the surface (mainly the bottom surface) of the holding member 117, the volatile aggregates adhere to the surface of the holding member 117, and a part of the aggregate may fall and enter the molten glass MG. is there. For this reason, the distance L from the surface of the molten glass MG to the holding member 117 is shortened so that the temperature T of the holding member 117 does not decrease, thereby suppressing aggregation of platinum or the like on the surface of the holding member 117. In addition, it is possible to prevent foreign matters from adhering to the surface of the holding member 117.
Moreover, the temperature of the protrusion part of the rotating shaft 108 falls, so that it leaves | separates from the molten glass accommodated in the stirring tank 103. FIG. At this time, the holding member 117 is preferably provided at a position on the rotary shaft 108 where the temperature of the holding member 117 is higher than the dew point of the volatile matter.

一方、白金揮発物の質量モル濃度は、熔融ガラスMGの表面から離れるほど低くなる。これは、気相空間114において白金揮発物、錫等の揮発物を含む気体は、攪拌機107の回転シャフト108と攪拌槽103の蓋110との間に存在する間隙115を通って上方に流れていくことにより拡散されるためである。質量モル濃度は、ラウールの法則により、蒸気圧の降下に比例するため、揮発物の蒸気圧は、熔融ガラスMGの表面に近いほど高く、熔融ガラスMGの表面から離れるほど低くなる。近年、攪拌槽103に流入する熔融ガラスMGの温度が高くなっているため、白金揮発物あるいは錫等の揮発物の質量モル濃度及び蒸気圧は高くなっている。このため、回転シャフト108に設けられた保持部材117の位置が熔融ガラスMGの表面に近いほど、白金揮発物あるいは錫等の揮発物が、保持部材117の表面で凝集しやすくなる。従って、熔融ガラスMGの表面から離れた位置に保持部材117を設けることにより、保持部材117の表面で揮発物が凝集することを抑制し、保持部材117の表面に揮発物の凝集物が付着することを防ぐことができる。   On the other hand, the molar mass concentration of the platinum volatiles decreases as the distance from the surface of the molten glass MG increases. This is because the gas containing platinum volatiles, tin, and other volatiles in the gas phase space 114 flows upward through a gap 115 existing between the rotating shaft 108 of the stirrer 107 and the lid 110 of the stirring tank 103. It is because it spreads by going. Since the molar mass is proportional to the drop in vapor pressure according to Raoul's law, the vapor pressure of the volatile matter is higher as it is closer to the surface of the molten glass MG and lower as it is farther from the surface of the molten glass MG. In recent years, since the temperature of the molten glass MG flowing into the stirring vessel 103 has increased, the mass molar concentration and vapor pressure of volatiles such as platinum volatiles or tin have increased. For this reason, the closer the position of the holding member 117 provided on the rotating shaft 108 is to the surface of the molten glass MG, the more easily volatile substances such as platinum volatiles or tin aggregate on the surface of the holding member 117. Therefore, by providing the holding member 117 at a position away from the surface of the molten glass MG, the volatiles are prevented from aggregating on the surface of the holding member 117, and the volatile aggregates adhere to the surface of the holding member 117. Can be prevented.

上述したように、保持部材117を設ける位置は、白金揮発物あるいは錫等の揮発物(以降、単に揮発物ということがある)の飽和蒸気圧と揮発物の蒸気圧との関係で定める必要がある。図5は、熔融ガラスMGの表面から保持部材117までの距離Lと揮発物の飽和蒸気圧及び蒸気圧との関係を示した図である。揮発物の飽和蒸気圧は、気相空間114、加熱空間112の温度によって変化するが、気相空間114、加熱空間112の温度は、熔融ガラスMGの表面から離れるほど低くなるため、熔融ガラスMGの表面から保持部材117までの距離Lが長いほど低くなる。このため、同図の実線に示すように、距離Lが大きく長くなるにつれて揮発物の飽和蒸気圧は小さくなっていく。また、揮発物の蒸気圧は、上述したように、熔融ガラスMGの表面から離れるほど小さくなるため、同図の破線に示すように、距離Lが長いほど揮発物の蒸気圧は小さくなっていく。ここで、揮発物の蒸気圧が、揮発物の飽和蒸気圧より小さい場合、保持部材117の表面で揮発物が凝集することを抑制することができる。このため、揮発物の蒸気圧が揮発物の飽和蒸気圧より小さい位置に、保持部材117を設ける。揮発物とは、白金族金属の揮発物あるいは錫等の揮発物をいう。また、保持部材117は、揮発物の凝集する温度以上になる、回転シャフト108の突出部上の位置に設けられる。図5に示すように、揮発物の蒸気圧が揮発物の飽和蒸気圧より小さくなる距離は、距離L1から距離L2であるため、熔融ガラスMGの表面から距離L1から距離L2の範囲に保持部材117を設けることにより、保持部材117の表面で揮発物が凝集することを抑制することができる。すなわち、白金揮発物あるいは錫等の揮発物が、容器カバー110と回転シャフト108の間の第1の間隙(クリアランス)115を通じて上方に流れるにつれて低下する上記揮発物の蒸気圧が、熔融ガラスMGから離れて上方に向かうにつれて低下する揮発物の飽和蒸気圧より小さくなる位置に、保持部材117が設けられることが好ましい。例えば、保持部材117の温度Tが1310℃〜1405℃となる回転シャフト108の突出部上の位置、加熱空間112、気相空間114の温度が1310℃〜1405℃となる回転シャフト108上の位置、又は、回転シャフト108の突出部の温度が1310℃〜1405℃となる回転シャフト108の突出部上の位置に、保持部材117は設けられる。この場合、保持部材117の温度Tが1310℃となる位置は距離L2であり、保持部材117の温度Tが1405℃となる位置は距離L1である。この温度範囲内となる距離L1〜L2となる位置に保持部材117を設けることにより、保持部材117の表面で揮発物が凝集することを抑制できる。   As described above, the position where the holding member 117 is provided needs to be determined by the relationship between the saturation vapor pressure of volatile matter such as platinum volatile matter or tin (hereinafter sometimes simply referred to as volatile matter) and the vapor pressure of the volatile matter. is there. FIG. 5 is a diagram showing the relationship between the distance L from the surface of the molten glass MG to the holding member 117 and the saturated vapor pressure and vapor pressure of the volatile matter. The saturated vapor pressure of the volatile matter changes depending on the temperatures of the gas phase space 114 and the heating space 112, but the temperatures of the gas phase space 114 and the heating space 112 become lower as the distance from the surface of the molten glass MG decreases. As the distance L from the surface to the holding member 117 is longer, the distance is lower. For this reason, as shown by the solid line in the figure, the saturated vapor pressure of the volatile matter decreases as the distance L increases. Further, as described above, the vapor pressure of the volatile matter becomes smaller as the distance from the surface of the molten glass MG becomes smaller, and as shown by the broken line in FIG. . Here, when the vapor pressure of the volatile matter is smaller than the saturated vapor pressure of the volatile matter, the aggregation of the volatile matter on the surface of the holding member 117 can be suppressed. For this reason, the holding member 117 is provided at a position where the vapor pressure of the volatile matter is smaller than the saturated vapor pressure of the volatile matter. Volatile substances refer to volatile substances such as platinum group metal volatiles or tin. In addition, the holding member 117 is provided at a position on the protruding portion of the rotating shaft 108 that is equal to or higher than the temperature at which the volatiles aggregate. As shown in FIG. 5, the distance at which the vapor pressure of the volatile matter becomes smaller than the saturated vapor pressure of the volatile matter is from the distance L1 to the distance L2, and thus the holding member is within the range of the distance L1 to the distance L2 from the surface of the molten glass MG. By providing 117, it is possible to suppress volatiles from aggregating on the surface of the holding member 117. That is, the vapor pressure of the volatile matter that decreases as the volatile matter such as platinum volatile matter or tin flows upward through the first gap (clearance) 115 between the container cover 110 and the rotating shaft 108 is from the molten glass MG. It is preferable that the holding member 117 is provided at a position that is smaller than the saturated vapor pressure of the volatile matter that decreases as it moves away upward. For example, the position on the protruding portion of the rotating shaft 108 where the temperature T of the holding member 117 is 1310 ° C. to 1405 ° C., the position on the rotating shaft 108 where the temperature of the heating space 112 and the gas phase space 114 is 1310 ° C. to 1405 ° C. Alternatively, the holding member 117 is provided at a position on the protruding portion of the rotating shaft 108 where the temperature of the protruding portion of the rotating shaft 108 is 1310 ° C. to 1405 ° C. In this case, the position where the temperature T of the holding member 117 is 1310 ° C. is the distance L2, and the position where the temperature T of the holding member 117 is 1405 ° C. is the distance L1. By providing the holding member 117 at a position where the distances L1 and L2 are within this temperature range, aggregation of volatile substances on the surface of the holding member 117 can be suppressed.

揮発物の蒸気圧が揮発物の飽和蒸気圧より小さくなる場合、つまり、揮発物の飽和蒸気圧から揮発物の蒸気圧を引いた蒸気圧差が0より大きくなる場合、保持部材117の表面で揮発物が凝集することを抑制することができるが、熔融ガラスMGの表面から上方に向かう気流によって発生する上下方向の温度分布により、揮発物の飽和蒸気圧、揮発物の蒸気圧は微妙に変化する。このため、保持部材117が距離L1又は距離L2近傍にある場合には、保持部材117の表面で揮発物が凝集する可能性がある。保持部材117の表面で揮発物が凝集するのを防止するためには、気流によって加熱空間112の上下方向の温度分布が変化した場合であっても、揮発物の蒸気圧が揮発物の飽和蒸気圧より大きくなるようにする必要がある。例えば、所定の距離にある(同一の高さ位置する)揮発物の蒸気圧の変化量が0からP1である場合、蒸気圧差が最大の蒸気圧変化量であるP1より大きくなる位置に、保持部材117を設けることにより保持部材117の表面で揮発物が凝集するのを防止できる。図6は、熔融ガラスMGの表面から保持部材117までの距離Lと揮発物の飽和蒸気圧から揮発物の蒸気圧を引いた蒸気圧差との関係を示している。同図に示すように、蒸気圧差がP1より大きくなる範囲に対応する熔融ガラスMGの表面から保持部材117までの距離Lは、距離L3から距離L4である。このため、距離L3から距離L4の範囲に保持部材117を設けることにより、保持部材117の表面で揮発物が凝集するのを防止できる。   When the vapor pressure of the volatile material becomes smaller than the saturated vapor pressure of the volatile material, that is, when the vapor pressure difference obtained by subtracting the vapor pressure of the volatile material from the saturated vapor pressure of the volatile material becomes larger than 0, the volatilization occurs on the surface of the holding member 117. Although it is possible to suppress the agglomeration of the material, the saturated vapor pressure of the volatile matter and the vapor pressure of the volatile matter slightly change due to the temperature distribution in the vertical direction generated by the air flow upward from the surface of the molten glass MG. . For this reason, when the holding member 117 is in the vicinity of the distance L <b> 1 or the distance L <b> 2, volatile substances may aggregate on the surface of the holding member 117. In order to prevent the volatiles from aggregating on the surface of the holding member 117, the vapor pressure of the volatiles is saturated with the volatiles even when the temperature distribution in the vertical direction of the heating space 112 is changed by the air flow. It must be greater than the pressure. For example, when the amount of change in the vapor pressure of a volatile substance at a predetermined distance (positioned at the same height) is 0 to P1, the vapor pressure difference is held at a position where it is larger than P1, which is the maximum amount of change in vapor pressure. By providing the member 117, it is possible to prevent volatile substances from aggregating on the surface of the holding member 117. FIG. 6 shows the relationship between the distance L from the surface of the molten glass MG to the holding member 117 and the vapor pressure difference obtained by subtracting the vapor pressure of the volatile matter from the saturated vapor pressure of the volatile matter. As shown in the figure, the distance L from the surface of the molten glass MG to the holding member 117 corresponding to the range where the vapor pressure difference is larger than P1 is the distance L3 to the distance L4. For this reason, by providing the holding member 117 in the range from the distance L3 to the distance L4, it is possible to prevent volatile substances from aggregating on the surface of the holding member 117.

なお、保持部材117の表面で揮発物が凝集するのを防止できる熔融ガラスMGの表面から保持部材117までの距離L1からL2、距離L3から距離L4は、熔融ガラスMGの温度、第1の間隙115の大きさ、加熱手段により加熱された加熱空間112の温度、気相空間114の温度、保持部材117及び回転シャフト108の材質等により変化するものであり、任意に変更できる。   The distances L1 to L2 from the surface of the molten glass MG that can prevent the volatiles from aggregating on the surface of the holding member 117 to the holding member 117, and the distance L4 from the distance L3 are the temperature of the molten glass MG and the first gap. It changes depending on the size of 115, the temperature of the heating space 112 heated by the heating means, the temperature of the gas phase space 114, the material of the holding member 117 and the rotating shaft 108, etc., and can be arbitrarily changed.

実施形態1によれば、熔融ガラスを攪拌装置にて攪拌する攪拌工程において、保持部材117に、白金揮発物あるいは錫等の揮発物が凝集しないように、揮発物の蒸気圧が、揮発物の飽和蒸気圧より小さくなる位置に、保持部材117を設けている。このため、保持部材117の表面に揮発物が凝集するのを抑制でき、凝集した白金等の凝集物の一部が異物として熔融ガラスMGに入り込むのを防止することができる。
なお、保持部材117に白金揮発物あるいは錫等の揮発物が凝集することを抑制するように、加熱空間112の雰囲気を調整することが好ましい。この場合、加熱空間112内には、攪拌槽(攪拌容器)103の外部に設置される発熱体である複数の加熱部が設けられ、加熱空間112内の回転シャフト108の突出部周りの白金蒸気圧を0.3Pa〜5Paとし、回転シャフト108の突出部の温度を、白金蒸気圧が白金揮発物の飽和蒸気圧となる温度以上とする(白金揮発物の飽和蒸気圧が白金蒸気圧以上となる)ように、上記加熱部により回転シャフト108の突出部が加熱されることが好ましい。この点については、実施形態2で説明する。
According to the first embodiment, in the stirring step of stirring the molten glass with the stirring device, the vapor pressure of the volatiles is adjusted so that the volatiles such as platinum volatiles or tin do not aggregate on the holding member 117. A holding member 117 is provided at a position lower than the saturated vapor pressure. For this reason, it can suppress that a volatile substance aggregates on the surface of the holding member 117, and can prevent some aggregates, such as aggregated platinum, entering molten glass MG as a foreign material.
Note that it is preferable to adjust the atmosphere of the heating space 112 so as to suppress aggregation of platinum volatiles or volatiles such as tin on the holding member 117. In this case, the heating space 112 is provided with a plurality of heating portions, which are heating elements installed outside the stirring tank (stirring vessel) 103, and platinum vapor around the protruding portion of the rotating shaft 108 in the heating space 112. The pressure is set to 0.3 Pa to 5 Pa, and the temperature of the protruding portion of the rotating shaft 108 is set to a temperature equal to or higher than a temperature at which the platinum vapor pressure becomes a saturated vapor pressure of the platinum volatiles. As described above, it is preferable that the protruding portion of the rotating shaft 108 is heated by the heating portion. This point will be described in the second embodiment.

(実施形態2)
図7は、実施形態2の攪拌装置120の一例を示す側面図である。攪拌装置120は、主として、攪拌容器121と、容器カバー121aと、攪拌機122と、耐熱槽131と、複数の発熱体132とを備えている。攪拌容器121および攪拌機122は、白金または白金合金等の白金族金属を含む材料で構成されている。図8は、攪拌装置120の攪拌容器121および攪拌機122のみの上面図である。図8では、後述する遮蔽部材125bが省略されている。
(Embodiment 2)
FIG. 7 is a side view showing an example of the stirring device 120 of the second embodiment. The stirring device 120 mainly includes a stirring container 121, a container cover 121a, a stirrer 122, a heat-resistant tank 131, and a plurality of heating elements 132. The stirring vessel 121 and the stirrer 122 are made of a material containing a platinum group metal such as platinum or a platinum alloy. FIG. 8 is a top view of only the stirring container 121 and the stirrer 122 of the stirring device 120. In FIG. 8, a shielding member 125b described later is omitted.

攪拌容器121は、円筒形状の容器である。攪拌容器121は、下部側面に取り付けられる上流側導管123、および、上部側面に取り付けられる下流側導管124を有している。上流側導管123は、図2に示す第2配管105に対応し、下流側導管124は、図2に示す第3配管106に対応する。図8に示されるように、上流側導管123は、攪拌容器121を挟んで下流側導管124の反対側に位置している。攪拌装置120において、熔融ガラスMGは、上流側導管123から攪拌容器121内に流入し、攪拌容器121内において下方から上方に導かれながら攪拌機122によって攪拌され、攪拌容器121内から下流側導管124へ流出する。なお、攪拌容器121の水平方向の断面形状は、楕円であってもよい。   The stirring container 121 is a cylindrical container. The stirring vessel 121 has an upstream side conduit 123 attached to the lower side surface and a downstream side conduit 124 attached to the upper side surface. The upstream conduit 123 corresponds to the second pipe 105 shown in FIG. 2, and the downstream conduit 124 corresponds to the third pipe 106 shown in FIG. As shown in FIG. 8, the upstream side conduit 123 is located on the opposite side of the downstream side conduit 124 with the stirring vessel 121 interposed therebetween. In the stirring device 120, the molten glass MG flows into the stirring vessel 121 from the upstream side conduit 123, and is stirred by the stirrer 122 while being guided upward from below in the stirring vessel 121, and from the inside of the stirring vessel 121 to the downstream side conduit 124. Spill to The horizontal cross-sectional shape of the stirring vessel 121 may be an ellipse.

容器カバー121aは、攪拌容器121の上方に設けられている。容器カバー121aは、攪拌容器121の上端面と接触し、攪拌容器121の蓋に相当する。容器カバー121aは、攪拌容器121の上方から落下した異物が攪拌容器121内の熔融ガラスG中に混入することを防止する。容器カバー121aは、攪拌容器121内の熔融ガラスMGの温度が低下することを抑制する。   The container cover 121a is provided above the stirring container 121. The container cover 121 a is in contact with the upper end surface of the stirring container 121 and corresponds to the lid of the stirring container 121. The container cover 121 a prevents foreign matter dropped from above the stirring container 121 from being mixed into the molten glass G in the stirring container 121. The container cover 121a suppresses the temperature of the molten glass MG in the stirring container 121 from decreasing.

容器カバー121aには、上部開口121bが形成されている。上部開口121bは、後述する回転シャフト125が貫通する孔である。攪拌容器121の底面には、排出口121cが形成されている。排出口121cは、鉛直方向に延びる排出管128が接続されている。排出管128は、白金または白金合金等の白金族金属を含む材料で構成されている。排出管128は、攪拌容器121内の熔融ガラスMGを攪拌容器121から排出するための管である。   An upper opening 121b is formed in the container cover 121a. The upper opening 121b is a hole through which a rotation shaft 125 described later passes. A discharge port 121 c is formed on the bottom surface of the stirring vessel 121. A discharge pipe 128 extending in the vertical direction is connected to the discharge port 121c. The discharge pipe 128 is made of a material containing a platinum group metal such as platinum or a platinum alloy. The discharge pipe 128 is a pipe for discharging the molten glass MG in the stirring vessel 121 from the stirring vessel 121.

攪拌機122は、攪拌容器121内に配置され、熔融ガラスMGを攪拌するために用いられる。攪拌機122は、回転シャフト125と、回転シャフト125に取り付けられる攪拌翼(羽根)126とを有する。回転シャフト125は、容器カバー121aから容器カバー121aの上方に突出する突出部を有する。攪拌機122は、白金族金属を含む材料で構成され、より詳しくは、強化白金で構成されている。強化白金は、白金または白金合金にジルコニア等の酸化物を分散させて、圧延した素材である。強化白金は、層状の白金粒界構造を有し、白金または白金合金と比べて、高温下におけるクリープ強度および引張強度が高い。そのため、強化白金は、高温の熔融ガラスMGが接触する攪拌機122にとって、好適な材料である。   The stirrer 122 is arrange | positioned in the stirring container 121, and is used in order to stir the molten glass MG. The stirrer 122 includes a rotating shaft 125 and a stirring blade (blade) 126 attached to the rotating shaft 125. The rotation shaft 125 has a protruding portion that protrudes from the container cover 121a to above the container cover 121a. The stirrer 122 is made of a material containing a platinum group metal, and more specifically, made of reinforced platinum. Reinforced platinum is a material rolled by dispersing an oxide such as zirconia in platinum or a platinum alloy. Reinforced platinum has a layered platinum grain boundary structure, and has higher creep strength and tensile strength at higher temperatures than platinum or platinum alloys. Therefore, reinforced platinum is a suitable material for the stirrer 122 in contact with the high-temperature molten glass MG.

攪拌機122は、鉛直方向に沿って配置される円柱形状の回転シャフト125と、回転シャフト125の外周面に連結される攪拌翼126を有している。回転シャフト125は、図8の矢印の方向に、その円柱形状の上面の中心と下面の中心とを連結する中心線L(図7参照)の周りを軸回転する。回転シャフト125は、内部が空洞である管状の部材である。攪拌翼126は、回転シャフト125よりも細い管状の部材から構成されている。攪拌翼126は、回転シャフト125を貫通する複数の支持管126aと、支持管126aの両端部を連結する枠管126bとから構成されている。図8に示されるように、中心線Lの軸線方向から攪拌装置120を見た場合、複数の支持管126aと枠管126bとは、互いに重なっている。支持管126aおよび枠管126bは、回転シャフト125の外周面に、溶接によって取り付けられている。なお、支持管126aと枠管126bとは、一体の部材であってもよい。   The stirrer 122 includes a cylindrical rotary shaft 125 disposed along the vertical direction, and a stirring blade 126 connected to the outer peripheral surface of the rotary shaft 125. The rotary shaft 125 rotates in the direction of the arrow in FIG. 8 around a center line L (see FIG. 7) that connects the center of the cylindrical upper surface and the center of the lower surface. The rotating shaft 125 is a tubular member having a hollow inside. The stirring blade 126 is formed of a tubular member that is thinner than the rotating shaft 125. The stirring blade 126 is composed of a plurality of support pipes 126a penetrating the rotating shaft 125 and a frame pipe 126b connecting both ends of the support pipe 126a. As shown in FIG. 8, when the stirring device 120 is viewed from the axial direction of the center line L, the plurality of support tubes 126a and the frame tube 126b overlap each other. The support tube 126a and the frame tube 126b are attached to the outer peripheral surface of the rotating shaft 125 by welding. The support tube 126a and the frame tube 126b may be an integral member.

耐熱槽131は、攪拌容器121の外部空間に設置され、加熱空間133を形成する。加熱空間133は、加熱空間133内に攪拌容器121が設置される、耐熱槽131の内部空間である。耐熱槽131は、耐火断熱レンガやアルミナセメント等の耐熱部材から構成される。排出管128は、耐熱槽131の底部を鉛直方向に貫通している。図示されないが、耐熱槽131の下方において、排出管128は、耐熱部材によって覆われた状態で加熱される。加熱空間133は、上部加熱空間133aと下部加熱空間133bとから構成される。上部加熱空間133aは、鉛直方向における加熱空間133の中間の高さ位置より上方の空間である。下部加熱空間133bは、鉛直方向における加熱空間133の中間の高さ位置より下方の空間である。図7には、加熱空間133の中間の高さ位置が破線で示されている。   The heat-resistant tank 131 is installed in the external space of the stirring vessel 121 and forms a heating space 133. The heating space 133 is an internal space of the heat-resistant tank 131 in which the stirring vessel 121 is installed in the heating space 133. The heat-resistant tank 131 is comprised from heat-resistant members, such as a fireproof heat insulation brick and an alumina cement. The discharge pipe 128 penetrates the bottom of the heat-resistant tank 131 in the vertical direction. Although not shown, below the heat-resistant tank 131, the discharge pipe 128 is heated while being covered with a heat-resistant member. The heating space 133 includes an upper heating space 133a and a lower heating space 133b. The upper heating space 133a is a space above the intermediate height position of the heating space 133 in the vertical direction. The lower heating space 133b is a space below the intermediate height position of the heating space 133 in the vertical direction. In FIG. 7, the intermediate height position of the heating space 133 is indicated by a broken line.

回転シャフト125は、容器カバー121aとの間に環状隙間(クリアランス)121dを形成している状態で、上部開口121bを鉛直方向に沿って貫通している。回転シャフト125は、容器カバー121aの上方に突出している突出部125aを有する。突出部125aは、回転シャフト125の一部であって、加熱空間133に位置している部分である。回転シャフト125は、突出部125aの上方において耐熱槽131の天井面を貫通し、耐熱槽131の上方において図示されないモータと接続されている。モータは、回転シャフト125を回転させる駆動源である。   The rotating shaft 125 penetrates the upper opening 121b along the vertical direction in a state where an annular gap (clearance) 121d is formed between the rotating shaft 125 and the container cover 121a. The rotating shaft 125 has a protruding portion 125a protruding above the container cover 121a. The protrusion 125 a is a part of the rotating shaft 125 and is located in the heating space 133. The rotating shaft 125 passes through the ceiling surface of the heat-resistant tank 131 above the projecting portion 125a, and is connected to a motor (not shown) above the heat-resistant tank 131. The motor is a drive source that rotates the rotary shaft 125.

回転シャフト125の突出部125aには、円柱形状の遮蔽部材125bが取り付けられている。遮蔽部材125bは、実施形態1における、図3に示される保持部材117と同じである。図8に示されるように、遮蔽部材125bは、鉛直方向の上から見た場合に、環状隙間(クリアランス)121dを覆う。遮蔽部材125bは、耐熱槽131の天井等から落下した異物が環状隙間121dを通過して熔融ガラスMG中に混入することを防止するための部材である。
遮蔽部材125bの突出部125a上の設置位置も、実施形態1の保持部材117と同様の条件を満足するような位置である。
すなわち、突出部125aの温度は、熔融ガラスMGから離れるほど低下し、遮蔽部材125bは、遮蔽部材125bの温度が揮発物の露点より高い、突出部125a上の位置に設けられる。また、揮発物が、容器カバー121と回転シャフト125の間の環状隙間(クリアランス)121dを通じて上方に流れるにつれて低下する揮発物の蒸気圧が、熔融ガラスMGから離れて上方に向かうにつれて低下する揮発物の飽和蒸気圧より小さくなる位置に、遮蔽部材125bが設けられる。
A cylindrical shielding member 125 b is attached to the protrusion 125 a of the rotating shaft 125. The shielding member 125b is the same as the holding member 117 shown in FIG. As shown in FIG. 8, the shielding member 125b covers the annular gap (clearance) 121d when viewed from above in the vertical direction. The shielding member 125b is a member for preventing foreign matter dropped from the ceiling or the like of the heat-resistant tank 131 from passing through the annular gap 121d and entering the molten glass MG.
The installation position of the shielding member 125b on the protrusion 125a is also a position that satisfies the same conditions as those of the holding member 117 of the first embodiment.
That is, the temperature of the protrusion 125a decreases as the distance from the molten glass MG increases, and the shielding member 125b is provided at a position on the protrusion 125a where the temperature of the shielding member 125b is higher than the dew point of the volatile matter. In addition, the volatile matter pressure, which decreases as the volatile matter flows upward through the annular gap (clearance) 121d between the container cover 121 and the rotary shaft 125, decreases as it moves away from the molten glass MG. The shielding member 125b is provided at a position smaller than the saturated vapor pressure.

複数の発熱体132は、加熱空間133に設置される。発熱体132は、通電により発熱し、炭化ケイ素等から構成される棒状の部材である。発熱体132は、その長手方向が水平方向に沿うように配置されている。各発熱体132の出力は、個別に調整される。発熱体132は、攪拌容器121および攪拌機122を輻射により加熱して、攪拌容器121および攪拌機122と接触する熔融ガラスMGの温度の低下を抑制する。また、後述するように、発熱体132は、回転シャフト125の突出部125aを選択的に加熱する。   The plurality of heating elements 132 are installed in the heating space 133. The heating element 132 is a rod-like member that generates heat when energized and is made of silicon carbide or the like. The heating element 132 is arranged such that its longitudinal direction is along the horizontal direction. The output of each heating element 132 is individually adjusted. The heating element 132 heats the stirring vessel 121 and the stirrer 122 by radiation, and suppresses a decrease in the temperature of the molten glass MG in contact with the stirring vessel 121 and the stirrer 122. Further, as will be described later, the heating element 132 selectively heats the protruding portion 125a of the rotary shaft 125.

実施形態2では、図7に示されるように、12本の発熱体132が加熱空間133に設置されている。上部加熱空間133aには6本の発熱体132が設置され、下部加熱空間133bには6本の発熱体132が設置されている。上流側導管123の上方には5本の発熱体132が設置され、上流側導管123の下方には1本の発熱体132が設置されている。下流側導管124の上方には1本の発熱体132が設置され、下流側導管124の下方には5本の発熱体132が設置されている。上流側導管123の上方に設置される5本の発熱体132は、それぞれ、異なる高さ位置に設置されている。下流側導管124の下方に設置される5本の発熱体132は、それぞれ、異なる高さ位置に設置されている。   In the second embodiment, as shown in FIG. 7, twelve heating elements 132 are installed in the heating space 133. Six heating elements 132 are installed in the upper heating space 133a, and six heating elements 132 are installed in the lower heating space 133b. Five heating elements 132 are installed above the upstream conduit 123, and one heating element 132 is installed below the upstream conduit 123. One heating element 132 is installed above the downstream conduit 124, and five heating elements 132 are installed below the downstream conduit 124. The five heating elements 132 installed above the upstream conduit 123 are installed at different height positions. The five heating elements 132 installed below the downstream conduit 124 are installed at different height positions.

図9は、攪拌装置120で攪拌される熔融ガラスMGの流れを説明する図である。図9に示される矢印は、熔融ガラスMGの流れの向きを表す。攪拌容器121の内部には、上流側導管123から熔融ガラスMGが流入する。攪拌装置120を上面視した場合において、攪拌機122は、回転シャフト125の中心線Lの周りを回転する。攪拌器122の回転方向は、上流側導管123および下流側導管124の位置関係等から決定され、時計回りまたは反時計回りのいずれであってもよい。実施形態2では、攪拌機122は、反時計回りに回転する。攪拌容器121の内部において、熔融ガラスMGは、下方から上方に向かって徐々に導かれながら、攪拌機122によって攪拌される。攪拌された熔融ガラスMGは、攪拌容器121の内部から下流側導管124に流出する。   FIG. 9 is a diagram illustrating the flow of the molten glass MG stirred by the stirring device 120. The arrow shown by FIG. 9 represents the direction of the flow of molten glass MG. Inside the stirring vessel 121, the molten glass MG flows from the upstream side conduit 123. When the stirring device 120 is viewed from above, the stirrer 122 rotates around the center line L of the rotating shaft 125. The rotation direction of the stirrer 122 is determined based on the positional relationship between the upstream conduit 123 and the downstream conduit 124, and may be either clockwise or counterclockwise. In the second embodiment, the stirrer 122 rotates counterclockwise. Inside the stirring vessel 121, the molten glass MG is stirred by the stirrer 122 while being gradually guided from below to above. The stirred molten glass MG flows out from the inside of the stirring vessel 121 to the downstream conduit 124.

また、攪拌装置120による熔融ガラスMGの攪拌工程を長時間行うと、熔融ガラスMGとは異なるガラス成分を有するガラス異物が、攪拌容器121の底部に徐々に蓄積される。ガラス異物は、熔融ガラスMGに含まれるガラス成分のうち、主として、他の成分と比べて比重が大きい成分から構成される熔融ガラスである。ガラス異物は、ガラス製造装置100により製造されるガラス基板の脈理の原因となるため、排出管128を介して攪拌容器121の外部に排出される。
なお、攪拌装置120によって攪拌される熔融ガラスMGの温度は、102.5dPa・sの粘度を有する場合において、1450℃〜1750℃である場合に好適であり、1500℃〜1750℃である場合により好適であり、1530℃〜1750℃である場合にさらに好適である。
Moreover, when the stirring process of the molten glass MG by the stirring apparatus 120 is performed for a long time, the glass foreign material which has a glass component different from the molten glass MG will be accumulate | stored gradually in the bottom part of the stirring container 121. FIG. The glass foreign material is a molten glass mainly composed of components having a higher specific gravity than other components among the glass components contained in the molten glass MG. Since the glass foreign matter causes the striae of the glass substrate manufactured by the glass manufacturing apparatus 100, it is discharged outside the stirring vessel 121 through the discharge pipe 128.
In addition, the temperature of the molten glass MG stirred by the stirring device 120 is suitable when it has a viscosity of 10 2.5 dPa · s and is 1450 ° C. to 1750 ° C., and is 1500 ° C. to 1750 ° C. It is more suitable in some cases, and it is more suitable in the case of 1530 ° C to 1750 ° C.

次に、加熱空間133に設置されている発熱体132による、回転シャフト125の突出部125aの選択的な加熱について説明する。実施形態2では、突出部125a周りの加熱空間133の白金蒸気圧を0.3Pa〜5Paとし、突出部125aの温度を白金蒸気圧が飽和蒸気圧となる温度以上とするように、発熱体132により突出部125aが選択的に加熱される。ここで、突出部125a周りの加熱空間133とは、環状隙間121dの上方の空間である。   Next, the selective heating of the protrusion 125a of the rotating shaft 125 by the heating element 132 installed in the heating space 133 will be described. In the second embodiment, the heating element 132 is set so that the platinum vapor pressure in the heating space 133 around the protrusion 125a is 0.3 Pa to 5 Pa and the temperature of the protrusion 125a is equal to or higher than the temperature at which the platinum vapor pressure becomes the saturated vapor pressure. Thus, the protrusion 125a is selectively heated. Here, the heating space 133 around the protrusion 125a is a space above the annular gap 121d.

また、発熱体132により突出部125aが上記のように選択的に加熱されるように、少なくとも一部の発熱体132の高さ位置および出力は、攪拌装置120の使用前に決定されている。例えば、突出部125a近傍に設置されている発熱体132の高さ位置および出力が、発熱体132からの輻射熱によって突出部125aが効率的に加熱されるように、予め調整されている。ここで、突出部125a近傍に設置されている発熱体132とは、例えば、上部加熱空間133aに配置される6本の発熱体132である。また、他の例として、上部加熱空間133aに配置される6本の発熱体132の出力の合計が、下部加熱空間133bに配置される6本の発熱体132の出力の合計よりも大きくなるように、発熱体132の出力が調整されてもよい。   Further, the height positions and outputs of at least some of the heating elements 132 are determined before using the stirring device 120 so that the protrusion 125a is selectively heated by the heating elements 132 as described above. For example, the height position and output of the heating element 132 installed in the vicinity of the protrusion 125 a are adjusted in advance so that the protrusion 125 a is efficiently heated by the radiant heat from the heating element 132. Here, the heating elements 132 installed in the vicinity of the protruding portion 125a are, for example, six heating elements 132 arranged in the upper heating space 133a. As another example, the total output of the six heating elements 132 arranged in the upper heating space 133a is larger than the total output of the six heating elements 132 arranged in the lower heating space 133b. In addition, the output of the heating element 132 may be adjusted.

実施形態2のガラス基板の製造方法では、攪拌容器121の外部の加熱空間143内に設置される加熱部132によって、回転シャフト125の突出部125aが、白金蒸気圧が飽和蒸気圧となる温度以上に選択的に加熱される。回転シャフト125の突出部125aは、加熱空間133に存在し、攪拌容器121内の高温の熔融ガラスMGと接触しない。そのため、突出部125aは、回転シャフト125の他の部分と比較して放熱により温度が低下しやすい部分である。   In the manufacturing method of the glass substrate of the second embodiment, the protruding portion 125a of the rotating shaft 125 is equal to or higher than the temperature at which the platinum vapor pressure becomes the saturated vapor pressure by the heating unit 132 installed in the heating space 143 outside the stirring vessel 121. Is selectively heated. The protrusion 125a of the rotating shaft 125 exists in the heating space 133 and does not contact the high temperature molten glass MG in the stirring vessel 121. Therefore, the protruding portion 125a is a portion where the temperature is likely to decrease due to heat radiation as compared with other portions of the rotating shaft 125.

実施形態2では、回転シャフト125の突出部125aを加熱部132によって選択的に加熱することで、熔融ガラスMGから揮発した錫等の揮発物、および、攪拌容器121や攪拌器122から揮発した白金揮発物が、突出部125a近傍の加熱空間133で凝集して、突出部125aの表面や遮蔽部材125bに付着することを抑制できる。種種の揮発物のうち、白金揮発物は、ある蒸気圧の値を示すときの温度が最も高い成分である。言い換えると、ある温度における種々の揮発成分の飽和蒸気圧を比較した場合に、白金揮発物は、最も小さい飽和蒸気圧を示す揮発成分である。そのため、白金揮発物が凝集して析出しないように、白金蒸気圧が白金揮発物の飽和蒸気圧となる温度以上に突出部125aを加熱することで、突出部125a周りの加熱空間133において、揮発物の凝集が抑制される。これにより、凝集して突出部125a及び遮蔽部材125bに付着した揮発物が突出部125a及び遮蔽部材125bから剥がれ落ちて、環状隙間121dを通過して、攪拌容器121内の熔融ガラスMG中に落下することが防止されるので、揮発物に由来する異物が熔融ガラスMGに混入することが防止される。   In the second embodiment, the protrusion 125a of the rotating shaft 125 is selectively heated by the heating unit 132, so that volatiles such as tin volatilized from the molten glass MG and platinum volatilized from the stirring vessel 121 or the stirrer 122 are used. Volatile substances can be prevented from aggregating in the heating space 133 in the vicinity of the protruding portion 125a and adhering to the surface of the protruding portion 125a and the shielding member 125b. Of the various volatiles, platinum volatiles are the components with the highest temperature when showing a certain vapor pressure value. In other words, when comparing the saturated vapor pressure of various volatile components at a certain temperature, platinum volatiles are the volatile components that exhibit the lowest saturated vapor pressure. Therefore, in order to prevent platinum volatiles from aggregating and precipitating, the protrusion 125a is heated above the temperature at which the platinum vapor pressure becomes the saturation vapor pressure of the platinum volatiles, so that volatilization occurs in the heating space 133 around the protrusion 125a. Aggregation of objects is suppressed. As a result, the volatile matter that aggregates and adheres to the protrusion 125a and the shielding member 125b peels off from the protrusion 125a and the shielding member 125b, passes through the annular gap 121d, and falls into the molten glass MG in the stirring vessel 121. Therefore, foreign matters derived from volatile substances are prevented from being mixed into the molten glass MG.

したがって、実施形態2に係るガラス基板の製造方法は、攪拌装置120の回転シャフト125の突出部125a周りで凝集する揮発物の量を低減し、熔融ガラスMGに異物が混入することを抑制して、成形されたガラス基板中に残存する異物を低減することができる。異物が混入された熔融ガラスMGから製造されたガラス基板は、脈理が発生する可能性が高い。そのため、攪拌容器121内の熔融ガラスMGに異物が混入することを抑制することで、攪拌装置120において熔融ガラスMGを均質に攪拌することができる。これにより、脈理の発生が抑制され、高品質のガラス製品を得ることができる。
また、実施形態2では、ガラス基板の歪点は、680℃以上であり、好ましくは700℃以上である。ガラス基板の歪点が高いほど、熔融ガラスMGの揮発成分の揮発量が増加する傾向にあるので、熔融ガラスMGに異物が混入することが抑制される効果が顕著となる。
Therefore, the manufacturing method of the glass substrate which concerns on Embodiment 2 reduces the quantity of the volatile matter which aggregates around the protrusion part 125a of the rotating shaft 125 of the stirring apparatus 120, and suppresses that a foreign material mixes into molten glass MG. Foreign substances remaining in the molded glass substrate can be reduced. The glass substrate manufactured from the molten glass MG mixed with foreign substances is likely to cause striae. Therefore, the molten glass MG can be homogeneously agitated in the agitator 120 by suppressing foreign matter from being mixed into the molten glass MG in the agitation vessel 121. Thereby, generation | occurrence | production of striae is suppressed and a high quality glass product can be obtained.
In Embodiment 2, the strain point of the glass substrate is 680 ° C. or higher, preferably 700 ° C. or higher. Since the volatilization amount of the volatile component of the molten glass MG tends to increase as the strain point of the glass substrate increases, the effect of suppressing foreign matters from entering the molten glass MG becomes remarkable.

変形例A:
実施形態2では、回転シャフト125の突出部125aには、円柱形状の遮蔽部材125bが取り付けられているが、突出部125aには、遮蔽部材125bが取り付けられていなくてもよい。この場合においても、突出部125aを加熱部132によって選択的に加熱することで、突出部125a近傍で凝集する揮発物の量を低減して、成形されたガラス基板中に残存する異物を低減することができる。
Modification A:
In the second embodiment, the cylindrical shielding member 125b is attached to the protruding portion 125a of the rotating shaft 125, but the shielding member 125b may not be attached to the protruding portion 125a. Also in this case, the protrusion 125a is selectively heated by the heating unit 132, thereby reducing the amount of volatiles that aggregate in the vicinity of the protrusion 125a and reducing foreign matters remaining in the molded glass substrate. be able to.

変形例B:
実施形態2では、突出部125aが発熱体132により選択的に加熱されるように、発熱体132の高さ位置および出力が、攪拌装置120の使用前に決定されている。ここで、発熱体132の高さ位置および出力は、コンピュータシミュレーションによって決定されてもよい。例えば、熱流体解析シミュレーションにより、突出部125a周りの加熱空間133の温度が算出され、発熱体132の高さ位置および出力が決定されてもよい。
Modification B:
In the second embodiment, the height position and output of the heating element 132 are determined before the stirring device 120 is used so that the protrusion 125 a is selectively heated by the heating element 132. Here, the height position and output of the heating element 132 may be determined by computer simulation. For example, the temperature of the heating space 133 around the protrusion 125a may be calculated by a thermal fluid analysis simulation, and the height position and output of the heating element 132 may be determined.

変形例C:
実施形態2では、攪拌容器121の内部において、熔融ガラスMGは、下方から上方に向かって徐々に導かれながら、攪拌機122によって攪拌される。しかし、熔融ガラスMGは、実施形態1のように、上方から下方に向かって徐々に導かれながら、攪拌機122によって攪拌されてもよい。
Modification C:
In the second embodiment, inside the stirring vessel 121, the molten glass MG is stirred by the stirrer 122 while being gradually guided upward from below. However, the molten glass MG may be stirred by the stirrer 122 while being gradually guided downward from above as in the first embodiment.

変形例D:
実施形態1及び実施形態2では、攪拌装置120は、清澄槽102と成形装置200との間に設置され、清澄槽102で清澄された熔融ガラスMGを攪拌する。しかし、施形態1及び実施形態2の攪拌装置120は、熔解槽101と清澄槽102との間に設置されてもよい。この場合、攪拌装置120は、熔解槽101で生成された熔融ガラスMGを攪拌して、均質化された熔融ガラスMGを清澄槽102に供給する。なお、2つの攪拌装置120が、熔解槽101と清澄槽102との間、および、清澄槽102と成形装置200との間に設置されてもよい。
Modification D:
In Embodiment 1 and Embodiment 2, the stirring device 120 is installed between the clarification tank 102 and the molding apparatus 200, and stirs the molten glass MG clarified in the clarification tank 102. However, the stirring device 120 of the first embodiment and the second embodiment may be installed between the melting tank 101 and the clarification tank 102. In this case, the stirring device 120 stirs the molten glass MG generated in the melting tank 101 and supplies the homogenized molten glass MG to the clarification tank 102. In addition, the two stirring apparatuses 120 may be installed between the melting tank 101 and the clarification tank 102, and between the clarification tank 102 and the shaping | molding apparatus 200. FIG.

(実施例)
実施形態2における攪拌装置120と同じ構成を有するモデルを用いて、攪拌装置120内部の温度分布を算出するための熱流体解析シミュレーションを実行した。図7に示されるように、攪拌機122の攪拌翼126の主表面が、攪拌容器121内の熔融ガラスMGの流れ方向と平行になった瞬間における熔融ガラスMGの流速分布を、熔融ガラスMGの流れが層流であるという条件の下で算出した。次に、解析時に設定した各種パラメータについて説明する。実施形態2と同じ構成要素には、同じ参照符号が用いられている。
(a)熔融ガラスMGの流入温度:1460℃、
(b)熔融ガラスMGの流入量:18(t/day)、
(c)耐熱槽131および攪拌装置120の放射率:0.9、
(d)耐熱槽131の対流熱伝達の熱伝達係数:10W/mK、
(e)発熱体132の出力:2.0kW〜8.0kW
以上のパラメータの下、次の7種類のモデルについて、攪拌装置120内部の温度分布を算出した。
(Example)
A thermal fluid analysis simulation for calculating the temperature distribution inside the stirring device 120 was performed using a model having the same configuration as the stirring device 120 in the second embodiment. As shown in FIG. 7, the flow velocity distribution of the molten glass MG at the moment when the main surface of the stirring blade 126 of the stirrer 122 is parallel to the flow direction of the molten glass MG in the stirring vessel 121 is represented by the flow of the molten glass MG. Was calculated under the condition that is a laminar flow. Next, various parameters set at the time of analysis will be described. The same reference numerals are used for the same components as those in the second embodiment.
(A) Inflow temperature of molten glass MG: 1460 ° C.
(B) Inflow of molten glass MG: 18 (t / day),
(C) Emissivity of heat-resistant tank 131 and stirring device 120: 0.9,
(D) Heat transfer coefficient of convection heat transfer in the heat-resistant tank 131: 10 W / m 2 K,
(E) Output of heating element 132: 2.0 kW to 8.0 kW
Under the above parameters, the temperature distribution inside the stirring device 120 was calculated for the following seven models.

(モデル1)図7に示される12本全ての発熱体132を使用した。発熱体132の出力は、2kWに設定した。
(モデル2)モデル1の構成において、上流側導管133の上方に設置される5本の発熱体132の高さ位置を、モデル1の場合よりも60mm上方に設定した。
(モデル3)モデル2の構成において、12本の発熱体132のうち、6本の発熱体132を使用した。使用した6本の発熱体132は、上流側導管133の上方に設置される5本の発熱体132のうち、最も下方に位置する発熱体132を除いた4本の発熱体132と、下流側導管134の上方に設置される1本の発熱体132と、下流側導管124の下方に設置される5本の発熱体132のうち、最も上方に位置する発熱体132である。図10には、使用した6本の発熱体132が、ハッチングされて示されている。発熱体132の出力は、2kWに設定した。
(モデル4)12本の発熱体132のうち、6本の発熱体132を使用した。使用した6本の発熱体132は、モデル3と同じであるが、発熱体132の位置は、モデル1と同じである。発熱体132の出力は、2kWに設定した。
(モデル5)モデル4の構成において、発熱体132の出力は、4kWに設定した。
(モデル6)モデル4の構成において、発熱体132の出力は、6kWに設定した。
(モデル7)モデル4の構成において、発熱体132の出力は、8kWに設定した。
(Model 1) All twelve heating elements 132 shown in FIG. 7 were used. The output of the heating element 132 was set to 2 kW.
(Model 2) In the configuration of Model 1, the height positions of the five heating elements 132 installed above the upstream side conduit 133 were set 60 mm above the case of Model 1.
(Model 3) In the configuration of Model 2, six of the twelve heating elements 132 were used. The six heating elements 132 used are the four heating elements 132 excluding the heating element 132 located at the lowermost position among the five heating elements 132 installed above the upstream conduit 133, and the downstream side. The heating element 132 is located at the uppermost position among the one heating element 132 installed above the conduit 134 and the five heating elements 132 installed below the downstream conduit 124. In FIG. 10, the six heating elements 132 used are hatched. The output of the heating element 132 was set to 2 kW.
(Model 4) Of the twelve heating elements 132, six heating elements 132 were used. The six heating elements 132 used are the same as in the model 3, but the positions of the heating elements 132 are the same as in the model 1. The output of the heating element 132 was set to 2 kW.
(Model 5) In the configuration of Model 4, the output of the heating element 132 was set to 4 kW.
(Model 6) In the configuration of Model 4, the output of the heating element 132 was set to 6 kW.
(Model 7) In the configuration of Model 4, the output of the heating element 132 was set to 8 kW.

発熱体132によって突出部125aが選択的に加熱される効果を確認するために、突出部125aの遮蔽部材125bより20mm上方の地点の第1温度、および、突出部125aの遮蔽部材125bより20mm下方の地点の第2温度の解析結果について比較検討した。次に、その検討結果について説明する。   In order to confirm the effect that the protrusion 125a is selectively heated by the heating element 132, the first temperature at a point 20 mm above the shielding member 125b of the protrusion 125a and 20 mm below the shielding member 125b of the protrusion 125a. The results of the analysis of the second temperature at this point were compared. Next, the examination result will be described.

モデル3では、モデル1と比較して、第1温度および第2温度がより高い値を示した。すなわち、加熱空間133において上方に設置される発熱体132(図10では、ハッチングされた6本の発熱体132)を発熱させることにより、突出部125aを選択的に加熱できることが確認された。
また、モデル4〜7に関して、発熱体132の出力が高いほど、第1温度および第2温度がより高い値を示した。発熱体132の出力に対する、第1温度および第2温度の変化率は、13.5℃/kW〜15.9℃/kWであった。すなわち、発熱体132の出力を上げることにより、突出部125aを選択的に加熱できることが確認された。
In the model 3, compared with the model 1, the first temperature and the second temperature showed higher values. That is, it was confirmed that the projecting portion 125a can be selectively heated by generating heat from the heating elements 132 (the six heating elements 132 hatched in FIG. 10) installed above in the heating space 133.
Moreover, regarding the models 4 to 7, the higher the output of the heating element 132, the higher the first temperature and the second temperature. The rate of change of the first temperature and the second temperature with respect to the output of the heating element 132 was 13.5 ° C./kW to 15.9 ° C./kW. That is, it was confirmed that the protrusion 125a can be selectively heated by increasing the output of the heating element 132.

以上、本発明のガラス基板の製造方法および攪拌装置について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。   As mentioned above, although the manufacturing method and stirring apparatus of the glass substrate of this invention were demonstrated in detail, this invention is not limited to the said embodiment, In the range which does not deviate from the main point of this invention, even if various improvement and a change are carried out. Of course it is good.

100 熔解装置
101 熔解槽
102 清澄槽
103 攪拌槽
104 第1配管
105 第2配管
106 第3配管
107 攪拌機
108,125 回転シャフト
109,126 攪拌翼
110 蓋
111 第1の耐火材料
112,133 加熱空間
113 第2の耐火材料
114 気相空間
115,116 間隙
117 保持部材
120 攪拌装置
121 攪拌容器
121a 容器カバー
121b 上部開口
121c 排出口
121d 環状隙間
122 攪拌機
123 上流側導管
124 下流側導管
125 回転シャフト
125a 突出部
125b 遮蔽部材
126a 支持管
126b 枠管
128 排出管
131 耐熱部材
132 発熱体(加熱部)
133 加熱空間
133a 上部加熱空間
133b 下部加熱空間
200 成形装置
210 成形体
300 切断装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Melting apparatus 101 Melting tank 102 Clarification tank 103 Agitation tank 104 1st piping 105 2nd piping 106 3rd piping 107 Agitation machine 108,125 Rotating shaft 109,126 Stirring blade 110 Lid 111 1st refractory material 112,133 Heating space 113 Second refractory material 114 Gas phase space 115, 116 Gap 117 Holding member 120 Stirrer 121 Stirrer 121a Container cover 121b Upper opening 121c Discharge port 121d Annular gap 122 Stirrer 123 Upstream conduit 124 Downstream conduit 125 Rotating shaft 125a Projection 125b Shield member 126a Support tube 126b Frame tube 128 Discharge tube 131 Heat-resistant member 132 Heating element (heating unit)
133 Heating space 133a Upper heating space 133b Lower heating space 200 Molding device 210 Molded body 300 Cutting device

Claims (9)

ガラス原料を熔解して生成された熔融ガラスを、攪拌装置で攪拌する攪拌工程と、前記熔融ガラスを板状に成形する成形工程とを備えるガラス基板の製造方法であって、
前記攪拌装置は、
熔融ガラスを収納する、白金族金属を含む材料で構成された攪拌容器と、
前記攪拌容器の上方に設けられる容器カバーと、
前記容器カバーから前記容器カバーの上方に突出する突出部を有する、白金族金属を含む材料で構成されたシャフトと、前記シャフトに取り付けられる、白金族金属を含む材料で構成された羽根とを有し、前記攪拌容器内の前記熔融ガラスを攪拌するための攪拌機と、
前記攪拌容器の外部に設置され、前記攪拌容器が内側に設置される加熱空間を形成する耐熱部材と、
前記加熱空間内の前記攪拌容器の外部の場所に設置される複数の加熱部と、
揮発する前記白金族金属又は前記ガラス原料を含む揮発物が凝集してできた凝集物を保持する、前記突出部に設けられた保持部材と、を有し、
前記保持部材は、前記加熱空間内の前記突出部のうち、前記揮発物の凝集する温度以上になる位置に設けられる、ことを特徴とするガラス基板の製造方法。
A glass substrate manufacturing method comprising a stirring step of stirring a molten glass produced by melting a glass raw material with a stirrer, and a forming step of forming the molten glass into a plate shape,
The stirring device
A stirring vessel made of a material containing a platinum group metal and containing molten glass;
A container cover provided above the stirring container;
A shaft made of a material containing a platinum group metal and having a protrusion protruding from the container cover to the upper side of the container cover; and a blade made of a material containing a platinum group metal attached to the shaft. A stirrer for stirring the molten glass in the stirring vessel;
A heat-resistant member that is installed outside the stirring vessel and forms a heating space in which the stirring vessel is installed inside;
A plurality of heating units installed at locations outside the stirring vessel in the heating space;
Holding the agglomerates formed by agglomerating the volatiles containing the platinum group metal or the glass raw material that volatilizes, and holding members provided on the protrusions,
The said holding member is provided in the position which becomes more than the temperature which the said volatile substance aggregates among the said protrusion parts in the said heating space, The manufacturing method of the glass substrate characterized by the above-mentioned.
前記突出部の温度は、前記熔融ガラスから離れるほど低下し、
前記保持部材は、前記保持部材の温度が前記揮発物の露点より高い、前記回転シャフトの前記突出部上の位置に設けられる、請求項1に記載のガラス基板の製造方法。
The temperature of the protruding portion decreases as the distance from the molten glass increases.
The method of manufacturing a glass substrate according to claim 1, wherein the holding member is provided at a position on the protruding portion of the rotating shaft where the temperature of the holding member is higher than a dew point of the volatile matter.
前記揮発物が、前記容器カバーと前記シャフトの間のクリアランスを通じて上方に流れるにつれて低下する揮発物の蒸気圧が、前記熔融ガラスから離れて上方に向かうにつれて低下する揮発物の飽和蒸気圧より小さくなる位置に、前記保持部材が設けられる、請求項1又は2に記載のガラス基板の製造方法。   The vapor pressure of the volatiles that decreases as the volatiles flow upward through the clearance between the container cover and the shaft is less than the saturated vapor pressure of the volatiles that decreases as they move upward away from the molten glass. The manufacturing method of the glass substrate of Claim 1 or 2 with which the said holding member is provided in a position. 前記攪拌工程では、前記突出部周りの前記加熱空間の白金蒸気圧を0.3Pa〜5Paとし、前記突出部の温度を前記白金蒸気圧が飽和蒸気圧となる温度以上とするように、前記加熱部により前記突出部が加熱される、請求項1〜3のいずれか1項に記載のガラス基板の製造方法。   In the stirring step, the heating space is set such that a platinum vapor pressure in the heating space around the protrusion is 0.3 Pa to 5 Pa, and a temperature of the protrusion is equal to or higher than a temperature at which the platinum vapor pressure becomes a saturated vapor pressure. The manufacturing method of the glass substrate of any one of Claims 1-3 with which the said protrusion part is heated by a part. ガラス原料を熔解して生成された熔融ガラスを、攪拌装置で攪拌する攪拌工程と、前記熔融ガラスを板状に成形する成形工程とを備えるガラス基板の製造方法であって、
前記攪拌装置は、
熔融ガラスを収納する白金族金属を含む材料で構成された攪拌容器と、
前記攪拌容器の上方に設けられる容器カバーと、
前記容器カバーから前記容器カバーの上方に突出する突出部を有する、白金族金属を含む材料で構成されたシャフトと、前記シャフトに取り付けられる、白金族金属を含む材料で構成された羽根とを有し、前記攪拌容器内の前記熔融ガラスを攪拌するための攪拌機と、
前記攪拌容器の外部に設置され、前記攪拌容器が内側に設置される加熱空間を形成する耐熱部材と、
前記加熱空間内の前記攪拌容器の外部の場所に設置される複数の加熱部と、を有し、
前記攪拌工程では、前記突出部周りの前記加熱空間の白金蒸気圧を0.3Pa〜5Paとし、前記突出部の温度を前記白金蒸気圧が飽和蒸気圧となる温度以上とするように、前記加熱部により前記突出部が加熱される、ことを特徴とするガラス基板の製造方法。
A glass substrate manufacturing method comprising a stirring step of stirring a molten glass produced by melting a glass raw material with a stirrer, and a forming step of forming the molten glass into a plate shape,
The stirring device
A stirring vessel made of a material containing a platinum group metal that houses molten glass;
A container cover provided above the stirring container;
A shaft made of a material containing a platinum group metal and having a protrusion protruding from the container cover to the upper side of the container cover; and a blade made of a material containing a platinum group metal attached to the shaft. A stirrer for stirring the molten glass in the stirring vessel;
A heat-resistant member that is installed outside the stirring vessel and forms a heating space in which the stirring vessel is installed inside;
A plurality of heating units installed at locations outside the stirring vessel in the heating space,
In the stirring step, the heating space is set such that a platinum vapor pressure in the heating space around the protrusion is 0.3 Pa to 5 Pa, and a temperature of the protrusion is equal to or higher than a temperature at which the platinum vapor pressure becomes a saturated vapor pressure. The protrusion is heated by the portion, and the method for manufacturing a glass substrate.
前記加熱空間は、
鉛直方向における前記加熱空間の中間の高さ位置より上方の上部加熱空間と、
前記中間の高さ位置より下方の下部加熱空間と、を有し、
前記上部加熱空間に配置される前記加熱部の出力の合計は、前記下部加熱空間に配置される前記加熱部の出力の合計よりも大きい、請求項5に記載のガラス基板の製造方法。
The heating space is
An upper heating space above a middle height position of the heating space in the vertical direction;
A lower heating space below the intermediate height position,
The glass substrate manufacturing method according to claim 5, wherein a total output of the heating units arranged in the upper heating space is larger than a total output of the heating units arranged in the lower heating space.
前記ガラス基板の歪点は、680℃以上である、請求項1〜6のいずれか1項に記載のガラス基板の製造方法。   The strain point of the said glass substrate is a manufacturing method of the glass substrate of any one of Claims 1-6 which is 680 degreeC or more. ガラス原料を熔解して生成された熔融ガラスを攪拌する攪拌装置であって、
熔融ガラスを収納する、白金族金属を含む材料で構成された攪拌容器と、
前記攪拌容器の上方に設けられる容器カバーと、
前記容器カバーから前記容器カバーの上方に突出する突出部を有する、白金族金属を含む材料で構成されたシャフトと、前記シャフトに取り付けられる、白金族金属を含む材料で構成された羽根とを有し、前記攪拌容器内の前記熔融ガラスを攪拌するための攪拌機と、
前記攪拌容器の外部に設置され、前記攪拌容器が内側に設置される加熱空間を形成する耐熱部材と、
前記加熱空間内の前記攪拌容器の外部の場所に設置される複数の加熱部と、
揮発する前記白金族金属又は前記ガラス原料を含む揮発物が凝集してできる凝集物を保持する、前記突出部に設けられた保持部材と、を有し、
前記保持部材は、前記加熱空間内の前記突出部のうち、前記揮発物の凝集する温度以上になる位置に設けられる、ことを特徴とする攪拌装置。
A stirring device for stirring molten glass produced by melting glass raw materials,
A stirring vessel made of a material containing a platinum group metal and containing molten glass;
A container cover provided above the stirring container;
A shaft made of a material containing a platinum group metal and having a protrusion protruding from the container cover to the upper side of the container cover; and a blade made of a material containing a platinum group metal attached to the shaft. A stirrer for stirring the molten glass in the stirring vessel;
A heat-resistant member that is installed outside the stirring vessel and forms a heating space in which the stirring vessel is installed inside;
A plurality of heating units installed at locations outside the stirring vessel in the heating space;
Holding the agglomerates formed by agglomeration of the platinum group metal or the glass raw material that volatilizes, and holding members provided on the protrusions,
The said holding member is provided in the position which becomes more than the temperature which the said volatile substance aggregates among the said protrusion parts in the said heating space, The stirring apparatus characterized by the above-mentioned.
ガラス原料を熔解して生成された熔融ガラスを攪拌する攪拌装置であって、
熔融ガラスを収納する、白金族金属を含む材料で構成された攪拌容器と、
前記攪拌容器の上方に設けられる容器カバーと、
前記容器カバーから前記容器カバーの上方に突出する突出部を有する、白金族金属を含む材料で構成されたシャフトと、前記シャフトに取り付けられる、白金族金属を含む材料で構成された羽根とを有し、前記攪拌容器内の前記熔融ガラスを攪拌するための攪拌機と、
前記攪拌容器の外部に設置され、前記攪拌容器が内側に設置される加熱空間を形成する耐熱部材と、
前記加熱空間内の前記攪拌容器の外部の場所に設置される複数の加熱部と、を有し、
前記加熱部は、前記突出部周りの前記加熱空間の白金蒸気圧を0.3Pa〜5Paとし、前記突出部の温度を前記白金蒸気圧が飽和蒸気圧となる温度以上とするように、前記突出部を加熱する、ことを特徴とする攪拌装置。
A stirring device for stirring molten glass produced by melting glass raw materials,
A stirring vessel made of a material containing a platinum group metal and containing molten glass;
A container cover provided above the stirring container;
A shaft made of a material containing a platinum group metal and having a protrusion protruding from the container cover to the upper side of the container cover; and a blade made of a material containing a platinum group metal attached to the shaft. A stirrer for stirring the molten glass in the stirring vessel;
A heat-resistant member that is installed outside the stirring vessel and forms a heating space in which the stirring vessel is installed inside;
A plurality of heating units installed at locations outside the stirring vessel in the heating space,
The heating part has a platinum vapor pressure in the heating space around the protrusion of 0.3 Pa to 5 Pa, and the protrusion has a temperature equal to or higher than a temperature at which the platinum vapor pressure becomes a saturated vapor pressure. A stirrer characterized by heating the part.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107382031A (en) * 2017-09-08 2017-11-24 蚌埠玻璃工业设计研究院 A kind of sealing device for electronical display glass platinum channel
CN112135800A (en) * 2018-06-25 2020-12-25 日本电气硝子株式会社 Method for manufacturing glass article
CN113461311A (en) * 2021-06-30 2021-10-01 甘肃旭盛显示科技有限公司 Method for eliminating glass stripe defect
KR102463497B1 (en) * 2022-03-25 2022-11-03 장인환 Material mixing and preheating device for manufacturing glass substrates of next-generation display panels

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012504096A (en) * 2008-09-29 2012-02-16 コーニング インコーポレイテッド Method and apparatus for homogenizing glass melt
JP2014009136A (en) * 2012-06-29 2014-01-20 Avanstrate Inc Glass substrate manufacturing method, glass substrate manufacturing device, and agitation device
JP2014047124A (en) * 2012-09-04 2014-03-17 Avanstrate Inc Glass substrate manufacturing method, and glass substrate manufacturing device

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012504096A (en) * 2008-09-29 2012-02-16 コーニング インコーポレイテッド Method and apparatus for homogenizing glass melt
JP2014009136A (en) * 2012-06-29 2014-01-20 Avanstrate Inc Glass substrate manufacturing method, glass substrate manufacturing device, and agitation device
JP2014047124A (en) * 2012-09-04 2014-03-17 Avanstrate Inc Glass substrate manufacturing method, and glass substrate manufacturing device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107382031A (en) * 2017-09-08 2017-11-24 蚌埠玻璃工业设计研究院 A kind of sealing device for electronical display glass platinum channel
CN112135800A (en) * 2018-06-25 2020-12-25 日本电气硝子株式会社 Method for manufacturing glass article
CN113461311A (en) * 2021-06-30 2021-10-01 甘肃旭盛显示科技有限公司 Method for eliminating glass stripe defect
KR102463497B1 (en) * 2022-03-25 2022-11-03 장인환 Material mixing and preheating device for manufacturing glass substrates of next-generation display panels

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