JP2016064530A - Conductive laminate and touch panel using the same - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive laminate which has high visibility, preferable hardness and elongation property and exhibits extremely high adhesion with a transparent polymer substrate, especially high adhesion even after damp-heat test for a long time.SOLUTION: There is provided a conductive laminate obtained by laminating a hard coat layer and a conductive layer on at least one surface of a polycarbonate substrate, where the hard coat layer is formed from a hard coating composition which comprises (A) an acrylic resin having an acrylate group on the side chain in which the acrylate group equivalent is 500 to 2000 g/mol, (B) a specific phenol novolac-type acrylate, (C) a specific bisphenol skeleton-containing diacrylate and (D) a polyfunctional acrylate having 3 or more acrylate groups.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、ポリカーボネート基材の少なくとも一方の面上に、ハードコート層および導電層を積層した導電性積層体、特に高い視認性および良好な硬度を有すると共に、伸長性をも有し、且つポリカーボネート基材との優れた密着力を発揮するハードコート層を有する導電性積層体、およびそれを用いるタッチパネルに関する。   The present invention relates to a conductive laminate in which a hard coat layer and a conductive layer are laminated on at least one surface of a polycarbonate substrate, and particularly has high visibility and good hardness, and also has extensibility, and polycarbonate. The present invention relates to a conductive laminate having a hard coat layer that exhibits excellent adhesion to a substrate, and a touch panel using the same.

液晶表示装置(液晶ディスプレイ)は、薄型、軽量、低消費電力などの利点を有しており、コンピュータ、ワードプロセッサ、テレビジョン、携帯電話、携帯情報端末機器等の様々な分野で使用されている。またこれらの液晶表示装置において、画面上の表示を押さえることによって機器を操作する機構を有する、いわゆるタッチパネルが急速に普及している。このようなタッチパネルは、その優れた操作性により、例えば、スマートフォンなどの携帯電話、タブレットPC、携帯情報端末機器、銀行ATM、自動販売機、携帯情報端末(PDA)、複写機、ファクシミリ、ゲーム機、博物館およびデパートなどの施設に設置される案内表示装置、カーナビゲーション、マルチメディアステーション(コンビニエンスストアに設置される多機能端末機)、鉄道車両のモニタ装置などにおいて広く用いられている。   Liquid crystal display devices (liquid crystal displays) have advantages such as thinness, light weight, and low power consumption, and are used in various fields such as computers, word processors, televisions, mobile phones, and portable information terminal devices. In these liquid crystal display devices, so-called touch panels having a mechanism for operating devices by holding down the display on the screen are rapidly spreading. Such a touch panel has, for example, a mobile phone such as a smartphone, a tablet PC, a personal digital assistant device, a bank ATM, a vending machine, a personal digital assistant (PDA), a copier, a facsimile machine, and a game machine due to its excellent operability. It is widely used in guidance display devices installed in facilities such as museums and department stores, car navigation systems, multimedia stations (multifunctional terminals installed in convenience stores), monitoring devices for railway vehicles, and the like.

タッチパネルにおいては、一般に、透明基材上に設けられた透明導電層を有する透明導電性積層体が一般に用いられている。透明導電層の形成は、一般に、インジウム−スズ酸化物(ITO)などが用いられている。   Generally in the touch panel, the transparent conductive laminated body which has the transparent conductive layer provided on the transparent base material is generally used. For the formation of the transparent conductive layer, indium-tin oxide (ITO) or the like is generally used.

透明導電層を有するフィルムを構成する基材フィルムとしては、透明性の高さおよび価格などの点から、PETフィルム、ポリカーボネートフィルムなどのフィルムが用いられることが多い。そしてこれらの基材フィルムには、耐擦傷性および耐久性などを向上させることを目的として、透明ハードコート層が設けられることがある。一方で、透明基材フィルム上に透明ハードコート層を設けることによって、干渉縞が発生するという問題がある。この干渉縞の発生は、視認性の低下をもたらす。   As a base film constituting a film having a transparent conductive layer, a film such as a PET film or a polycarbonate film is often used from the viewpoint of high transparency and price. These base films may be provided with a transparent hard coat layer for the purpose of improving scratch resistance and durability. On the other hand, there is a problem that interference fringes are generated by providing a transparent hard coat layer on a transparent substrate film. Generation | occurrence | production of this interference fringe brings about the fall of visibility.

干渉縞の発生は、本発明者等はすでに特開2013−209481号公報(特許文献1)や特開2013−209482号公報(特許文献2)によりハードコーティング組成物を提案して、屈折率がポリカーボネート基材に近いもの提供し、解消した。また、本発明者らは、上記ハードコーティング組成物の密着性を改良するために新たな提案を行い、既に特許を得た(特許第5490954号公報(特許文献3)および特許第5490955号公報(特許文献4))。   The generation of interference fringes has already been proposed by the present inventors in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-209482 (Patent Document 1) and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-209482 (Patent Document 2). Provided a material close to a polycarbonate base material and solved it. Further, the present inventors have made a new proposal to improve the adhesion of the hard coating composition, and have already obtained patents (Patent No. 5490954 (Patent Document 3) and Patent No. 5490955 ( Patent Document 4)).

上記2件の特許は、前述のように密着性の改良が行われたものであり、その密着性能は十分使用に耐えるものであった。しかし、2件の特許の密着性は、湿熱条件下(即ち、高温度高湿度条件下)で長時間耐えられるものではなかった。現実には、高湿度(85%)高温(80℃)で750時間の密着試験にも耐えなければならないが、上記2件の特許の技術ではそれが不足していた。   The two patents mentioned above were improved in adhesion as described above, and the adhesion performance sufficiently withstands use. However, the adhesion of the two patents has not been able to withstand for a long time under wet heat conditions (that is, high temperature and high humidity conditions). In reality, it has to withstand a 750 hour adhesion test at high humidity (85%) and high temperature (80 ° C.), but the above-mentioned two patent techniques lacked that.

特開2013−209481号公報JP 2013-209481 A 特開2013−209482号公報JP 2013-209482 A 特許第5490954号公報Japanese Patent No. 5490954 特許第5490955号公報Japanese Patent No. 5490955

本発明は上記の問題点を解決することを課題とする。より特定すれば、本発明は、これまで本発明者等が開発した導電性積層体において、ハードコート層を改善して、基材であるポリカーボネート基材との密着性をより高くし、湿熱条件下でも長期間密着性が維持できるようにすることを課題とする。   An object of the present invention is to solve the above problems. More specifically, the present invention improves the hard coat layer in the conductive laminates developed by the present inventors so far, and increases the adhesion with the polycarbonate substrate, which is a substrate, under wet heat conditions. It is an object to maintain the adhesion for a long time even underneath.

本発明は、ポリカーボネート基材の少なくとも一方の面上に、ハードコート層、導電層が積層された導電性積層体であり、
前記ハードコート層が、
(A)側鎖にアクリレート基を有し、そのアクリレート基当量が500〜2000g/molを有するアクリル樹脂、
(B)2またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート(C)炭素数2または3のアルキレンオキシド単位をモノマー一分子中に2〜4モル当量有する、ビスフェノール骨格含有ジアクリレート、および
(D)3またはそれ以上のアクリレート基を有する多官能アクリレート
を含有するハードコーティング組成物から形成され、
前記ハードコーティング組成物中に含まれる全樹脂成分100質量部に対して、成分(A)は10〜30質量部、成分(B)は15〜25質量部、成分(C)は20〜40質量部、成分(D)は5〜55質量部含まれることを特徴とする導電性積層体を提供するものであり、これにより上記課題が解決される。
The present invention is a conductive laminate in which a hard coat layer and a conductive layer are laminated on at least one surface of a polycarbonate substrate,
The hard coat layer is
(A) an acrylic resin having an acrylate group in the side chain and an acrylate group equivalent of 500 to 2000 g / mol;
(B) a phenol novolak acrylate having 2 or more acrylate groups (C) a bisphenol skeleton-containing diacrylate having 2 to 4 mole equivalents of an alkylene oxide unit having 2 or 3 carbon atoms in one monomer molecule; D) formed from a hard coating composition containing a polyfunctional acrylate having 3 or more acrylate groups,
The component (A) is 10 to 30 parts by mass, the component (B) is 15 to 25 parts by mass, and the component (C) is 20 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total resin components contained in the hard coating composition. Part and a component (D) provide the conductive laminated body characterized by containing 5-55 mass parts, and the said subject is solved by this.

前記アクリル樹脂(A)は、好ましくはアクリレート当量700〜1500g/molを有する。   The acrylic resin (A) preferably has an acrylate equivalent of 700 to 1500 g / mol.

前記アクリル樹脂(A)は、下記式(a)と下記式(b)で表される共重合体であるのが好ましい:

Figure 2016064530

(I)
[式中、RとRは水素原子またはメチル基であり、Rは炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖アルキル基または炭素数3〜10のシクロアルキル基であり、Rは水素原子またはメチル基である。mとnは二重結合当量で変動する値である。] The acrylic resin (A) is preferably a copolymer represented by the following formula (a) and the following formula (b):
Figure 2016064530

(I)
[Wherein, R 1 and R 2 are a hydrogen atom or a methyl group, R 3 is a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and R 4 is A hydrogen atom or a methyl group. m and n are values that vary depending on the double bond equivalent. ]

好ましくは、前記ハードコーティング組成物は、酸化防止剤を全樹脂成分100質量部に対して1.1〜1.9質量部含み、前記酸化防止剤が下記一般式(II)を有するヒンダードフェノール系酸化防止剤である。

Figure 2016064530
(II) Preferably, the hard coating composition includes 1.1 to 1.9 parts by mass of an antioxidant with respect to 100 parts by mass of the total resin component, and the antioxidant has the following general formula (II). It is a system antioxidant.
Figure 2016064530
(II)

前記ハードコート層は屈折率1.535〜1.545を有するのが好ましい。   The hard coat layer preferably has a refractive index of 1.535 to 1.545.

前記ハードコート層は、ZnO、TiO、CeO、SnO、ZrOまたはインジウム−スズ酸化物を実質上含まず、それらの総含有量がハードコート層の固形分重量の0.0001質量%以下であるのが好ましい。 The hard coat layer is substantially free of ZnO, TiO 2 , CeO 2 , SnO 2 , ZrO 2 or indium-tin oxide, and their total content is 0.0001% by mass of the solid content weight of the hard coat layer It is preferable that:

前記導電層の厚さは、好ましくは5〜100nmである。   The thickness of the conductive layer is preferably 5 to 100 nm.

本発明では、好ましくは、前記ハードコート層および導電層以外に、色差調整層がハードコート層側に存在し、
色差調整層が、硬化性樹脂(i)および平均一次粒子径100nm以下の金属酸化物粒子(ii)または平均一次粒子径100nm以下の金属フッ化物粒子(iii)のいずれか一方または両方を含有する組成物から形成され、
粒子(ii)および(iii)の総質量は、硬化樹脂(i)100質量部に対して0〜200質量部であり、
導電性積層体に対して波長500〜750nmの範囲の光を照射した場合における反射率(R1)、および、導電性積層体を12N塩酸、16N硝酸および水を12N塩酸:16N硝酸:水=3.3:1.0:7.6の質量比で混合して得られた強酸水溶液中に40℃で3分間浸漬した後、乾燥させた後の導電性積層体に対して波長500〜750nmの範囲の光を照射した場合における反射率(R2)とした場合に、R1およびR2の差ΔRが1以下である導電性積層体を提供する。
In the present invention, preferably, in addition to the hard coat layer and the conductive layer, a color difference adjusting layer is present on the hard coat layer side,
The color difference adjusting layer contains one or both of the curable resin (i) and metal oxide particles (ii) having an average primary particle diameter of 100 nm or less or metal fluoride particles (iii) having an average primary particle diameter of 100 nm or less. Formed from the composition,
The total mass of the particles (ii) and (iii) is 0 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cured resin (i).
Reflectivity (R1) when light having a wavelength in the range of 500 to 750 nm is irradiated on the conductive laminate, and the conductive laminate is 12N hydrochloric acid, 16N nitric acid and water is 12N hydrochloric acid: 16N nitric acid: water = 3 .3: 1.0: 7.6 After mixing in a strong acid aqueous solution obtained by mixing at a mass ratio of 40.degree. C. for 3 minutes, the conductive laminate after drying has a wavelength of 500 to 750 nm. Provided is a conductive laminate in which the difference ΔR between R1 and R2 is 1 or less when the reflectance (R2) when a range of light is irradiated is used.

前記導電層の上部に、更に補助電極層が存在し、導電層と補助電極層の総膜厚が20〜500nmであるのが好ましい。   It is preferable that an auxiliary electrode layer further exists on the conductive layer, and the total thickness of the conductive layer and the auxiliary electrode layer is 20 to 500 nm.

本発明では、ポリカーボネート基材のハードコート層がない方の面上に、アンチブロッキング層が形成され、
前記アンチブロッキング層が、不飽和二重結合含有アクリル共重合体である第1成分および多官能性アクリレートである第2成分を含み、
第1成分のSP値(SP1)および第2成分のSP値(SP2)の差ΔSPが1〜2の範囲であるアンチブロッキング層形成組成物から形成され、
前記アンチブロッキング層形成組成物を塗装した後に、第1成分と第2成分が層分離を生じ、表面に微細な凹凸が形成されるのが好ましい。
In the present invention, an anti-blocking layer is formed on the surface of the polycarbonate base that does not have a hard coat layer,
The anti-blocking layer includes a first component that is an unsaturated double bond-containing acrylic copolymer and a second component that is a polyfunctional acrylate;
A difference ΔSP between the SP value (SP1) of the first component and the SP value (SP2) of the second component is formed from the anti-blocking layer forming composition in the range of 1 to 2,
After coating the anti-blocking layer forming composition, it is preferable that the first component and the second component cause layer separation, and fine irregularities are formed on the surface.

本発明は、更に、少なくとも片面に導電層が設けられた電極基盤を用いたタッチパネルにおいて、少なくとも1枚の電極基板として上記の導電性積層体を用いるタッチパネルを提供する。   The present invention further provides a touch panel using the above-mentioned conductive laminate as at least one electrode substrate in a touch panel using an electrode substrate provided with a conductive layer on at least one side.

本発明の導電性積層体は、特定組成のハードコーティング組成物をポリカーボネート基材に塗布することにより形成されるハードコート層を有している。本発明のハードコート層は、良好な硬度を有すると共に、高い視認性および伸長性を有することを特徴とする。本発明のハードコート層は、平滑性が非常に高い。その為、ポリカーボネートフィルムなどの屈折率が高い基材フィルム上に、本発明におけるハードコート層を設けた場合であっても、干渉縞が発生しないという利点がある。   The conductive laminate of the present invention has a hard coat layer formed by applying a hard coating composition having a specific composition to a polycarbonate substrate. The hard coat layer of the present invention is characterized by having good hardness and high visibility and extensibility. The hard coat layer of the present invention has very high smoothness. Therefore, even when the hard coat layer in the present invention is provided on a base film having a high refractive index such as a polycarbonate film, there is an advantage that no interference fringes are generated.

本発明のハードコート層は、金属酸化物などの高屈折率剤を含まないことを特徴とする。そのため、得られるハードコート層は、高い伸長性を有するという特徴がある。   The hard coat layer of the present invention is characterized by not containing a high refractive index agent such as a metal oxide. Therefore, the obtained hard coat layer is characterized by having high extensibility.

本発明は、上記特許文献4の改良であり、特許文献4に配合しているエステル骨格を有する多官能ウレタンアクリレートを、本発明では側鎖にアクリレート基を有し、そのアクリレート基当量が500〜2000g/molを有するアクリル樹脂に変更した。特許文献4の多官能ウレタンアクリレートは、その骨格がエステル骨格であり、酸素や水で加水分解する傾向がある。本発明ではこの成分を、アクリル骨格を有するアクリル樹脂に変更することにより、加水分解による影響を抑え、高温高湿度の湿熱条件下でも長期間密着性を確保することができる。   The present invention is an improvement of the above-mentioned Patent Document 4, and the polyfunctional urethane acrylate having an ester skeleton blended in Patent Document 4 has an acrylate group in the side chain in the present invention, and the acrylate group equivalent is 500 to 500. The acrylic resin was changed to 2000 g / mol. The polyfunctional urethane acrylate of Patent Document 4 has an ester skeleton and tends to be hydrolyzed with oxygen or water. In the present invention, by changing this component to an acrylic resin having an acrylic skeleton, the influence of hydrolysis can be suppressed, and adhesion can be ensured for a long period of time even under high temperature and high humidity conditions.

本発明のハードコート層を形成するハードコーティング組成物中には、特定のアクリル樹脂が含まれており、上述のようにより高いレベルの密着性試験においても高い密着性(特に、湿熱条件下でも長期間の密着性)が確保でき、しかもポリカーボネート基材上にハードコート層を形成した場合においても高い平滑性を有しているので干渉縞を発生させない効果が得られる。本発明で用いるハードコーティング層は、1.535−1.545という屈折率を有していても、干渉縞を発生させない効果が見られる。   The hard coating composition for forming the hard coat layer of the present invention contains a specific acrylic resin, and as described above, even in a higher level of adhesion test, it has high adhesion (especially even under wet heat conditions). Period adhesiveness) can be ensured, and even when a hard coat layer is formed on a polycarbonate substrate, it has high smoothness, so that an effect of not generating interference fringes can be obtained. Even if the hard coating layer used in the present invention has a refractive index of 1.535 to 1.545, an effect of not generating interference fringes is seen.

エッチング処理された透明導電性積層体を示す概略説明図である。It is a schematic explanatory drawing which shows the transparent conductive laminated body by which the etching process was carried out.

本発明の導電性積層体は、ポリカーボネート基材の少なくとも一方の面上に、ハードコート層、色差調整層および導電層が積層された、導電性積層体である。尚、色差調整層は、形成されない場合も本発明に含まれるが、便宜上色差調整層が存在する態様について説明する。また、各層の形成順序も必ずしもこの順序に特定されないが、説明を簡単にするため、この順序で形成する態様について説明する。更に、本発明の導電性積層体は、基本的に透明な導電性積層体として用いられる場合が多いと考えるが、必ずしも透明である態様に限定されず、導電層などは不透明なものであっても本発明の範囲に含まれる。以下、本発明の導電性積層体を構成する各層について説明する。   The conductive laminate of the present invention is a conductive laminate in which a hard coat layer, a color difference adjusting layer and a conductive layer are laminated on at least one surface of a polycarbonate substrate. In addition, although the case where a color difference adjustment layer is not formed is also included in the present invention, a mode in which a color difference adjustment layer exists will be described for convenience. Further, the order of forming the layers is not necessarily specified in this order, but in order to simplify the description, a mode of forming in this order will be described. Furthermore, the conductive laminate of the present invention is basically used in many cases as a transparent conductive laminate, but is not necessarily limited to a transparent embodiment, and the conductive layer is opaque. Are also included within the scope of the present invention. Hereinafter, each layer which comprises the electroconductive laminated body of this invention is demonstrated.

ポリカーボネート基材
本発明の導電性積層体に用いるポリカーボネート基材としては、透明であるものが一般的であるが、上述のように本発明の導電性積層体は透明で無いものもふくまれるので、必ずしも透明でなくても良い。透明の場合、光学的に複屈折の少ないもの、あるいは位相差を波長(例えば550nm)の1/4(λ/4)や波長の1/2(λ/2)に制御したもの、さらには複屈折をまったく制御していないものを、用途に応じて適宜選択することができる。ここで言うように用途に応じて適宜選択を行う場合としては、例えば液晶ディスプレイに使用する偏光板や位相差フィルム、インナー型のタッチパネルのように、直線偏光、楕円偏光、円偏光などの偏光によって機能を発現するディスプレイと共に、本発明の透明導電性積層体を用いる場合をあげることができる。
As the polycarbonate substrate used in the conductive laminate of the present invention is generally transparent, the conductive laminate of the present invention includes non-transparent ones as described above. It is not necessarily transparent. In the case of transparency, optically low birefringence, or a phase difference controlled to 1/4 (λ / 4) of wavelength (for example, 550 nm) or 1/2 (λ / 2) of wavelength, or more Those whose refraction is not controlled at all can be appropriately selected according to the application. As mentioned here, when selecting appropriately according to the application, for example, by using polarized light such as linearly polarized light, elliptically polarized light, circularly polarized light, etc. A case where the transparent conductive laminate of the present invention is used together with a display exhibiting a function can be given.

ポリカーボネート基材の屈折率は、その構成モノマーによって変化するが、通常は1.5以上1.6未満程度である。また、ポリカーボネートフィルムの位相差R(550)は0〜160nmであって、下記式(1)、(2)を満たすフィルムであることが望ましい。
0.60<R(450)/R(550)<1.20 (1)
0.80<R(650)/R(550)<1.40 (2)
(但し、R(450)、R(550)およびR(650)は夫々、波長450nm、550nm、650nmにおけるフィルム面内の位相差である。)
ポリカーボネート基材の屈折率は、好ましくは1.56以上1.60未満を満たすフィルムであることが望ましい。さらに好ましくは、屈折率1.57以上1.59未満であって、位相差R(550)は0〜10nmであって、下記式(3)、(4)を満たすフィルムであることが望ましい。
1.01<R(450)/R(550)<1.20 (3)
0.80<R(650)/R(550)<0.99 (4)
Although the refractive index of a polycarbonate base material changes with the structural monomers, it is about 1.5 or more and less than 1.6 normally. Further, the retardation R (550) of the polycarbonate film is 0 to 160 nm, and it is desirable that the film satisfies the following formulas (1) and (2).
0.60 <R (450) / R (550) <1.20 (1)
0.80 <R (650) / R (550) <1.40 (2)
(However, R (450), R (550), and R (650) are in-plane retardations at wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm, respectively.)
The refractive index of the polycarbonate base material is preferably a film satisfying 1.56 or more and less than 1.60. More preferably, the film has a refractive index of 1.57 or more and less than 1.59, a phase difference R (550) of 0 to 10 nm, and satisfies the following formulas (3) and (4).
1.01 <R (450) / R (550) <1.20 (3)
0.80 <R (650) / R (550) <0.99 (4)

ポリカーボネート基材の厚さは適宜に決定し得るが、一般には強度や取扱性等の作業性などの点より10〜500μm程度であり、特に20〜300μmが好ましく、30〜200μmがより好ましい。   Although the thickness of a polycarbonate base material can be determined suitably, generally it is about 10-500 micrometers from points, such as workability | operativity, such as intensity | strength and handling property, 20-300 micrometers is especially preferable, and 30-200 micrometers is more preferable.

ハードコート層
本発明の導電性積層体が有するハードコート層は、
(A)側鎖にアクリレート基を有し、そのアクリレート基当量が500〜2000g/molを有するアクリル樹脂、
(B)2またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、
(C)炭素数2または3のアルキレンオキシド単位をモノマー一分子中に2〜4モル当量有する、ビスフェノール骨格含有ジアクリレート、および
(D)3またはそれ以上のアクリレート基を有する多官能アクリレート
を含むハードコーティング組成物を塗装して硬化させることによって得られたハードコー
ト層である。ここで、前記ハードコーティング組成物中に含まれる全樹脂成分100質量部に対して、成分(A)は10〜30質量部、成分(B)は15〜25質量部、成分(C)は20〜40質量部、成分(D)は5〜55質量部含まれることを条件とする。
Hard coat layer The hard coat layer of the conductive laminate of the present invention is:
(A) an acrylic resin having an acrylate group in the side chain and an acrylate group equivalent of 500 to 2000 g / mol;
(B) a phenol novolac acrylate having two or more acrylate groups,
(C) a hard containing bisphenol skeleton-containing diacrylate having 2 or 4 molar equivalents of an alkylene oxide unit having 2 or 3 carbon atoms in a monomer molecule, and (D) a polyfunctional acrylate having 3 or more acrylate groups It is a hard coat layer obtained by applying and curing a coating composition. Here, the component (A) is 10 to 30 parts by mass, the component (B) is 15 to 25 parts by mass, and the component (C) is 20 with respect to 100 parts by mass of the total resin components contained in the hard coating composition. -40 mass parts and a component (D) are on condition that 5-55 mass parts is contained.

(A)側鎖にアクリレート基を有し、そのアクリレート基当量が500〜2000g/molを有するアクリル樹脂
本発明のハードコーティング組成物は、側鎖にアクリレート基を有し、そのアクリレート基当量が500〜2000g/molを有するアクリル樹脂(A)を含む。この特定のアクリル樹脂(A)を含むことによって、得られるハードコート層がポリカーボネート基材へ十分な密着性と平滑性を発揮し、また、形成するハードコート層の屈折率が1.535−1.545であっても、干渉縞を防ぐことができる。アクリレート基の当量は、500〜2000g/molであり、好ましくは700〜1500g/molである。アクリレート基の当量が500g/molより少ないと、硬化収縮による密着性が低下し、アクリレート基の当量が2000g/molより大きすぎると、反応性が低下し、密着性を低下させる懸念がある。
(A) Acrylic resin having an acrylate group in the side chain and an acrylate group equivalent of 500 to 2000 g / mol The hard coating composition of the present invention has an acrylate group in the side chain, and the acrylate group equivalent is 500. Acrylic resin (A) having ˜2000 g / mol is included. By including this specific acrylic resin (A), the obtained hard coat layer exhibits sufficient adhesion and smoothness to the polycarbonate substrate, and the refractive index of the hard coat layer to be formed is 1.535-1. .545, interference fringes can be prevented. The equivalent of an acrylate group is 500-2000 g / mol, Preferably it is 700-1500 g / mol. If the equivalent of the acrylate group is less than 500 g / mol, the adhesion due to curing shrinkage is lowered, and if the equivalent of the acrylate group is more than 2000 g / mol, there is a concern that the reactivity is lowered and the adhesion is lowered.

本発明で用いるアクリル樹脂(A)は、好ましくは重量平均分子量5000〜100000、より好ましくは10000〜20000を有するが、必ずしもこれらに限定されない。分子量が高くなり過ぎると、粘度が高くなる傾向があり、平滑性が損なわれ干渉縞が悪化し、分子量が低すぎると、粘度が下がる傾向があり、塗面の平滑性が保てず干渉縞が悪化する。   The acrylic resin (A) used in the present invention preferably has a weight average molecular weight of 5,000 to 100,000, more preferably 10,000 to 20,000, but is not necessarily limited thereto. If the molecular weight is too high, the viscosity tends to increase, the smoothness is impaired and the interference fringes deteriorate, and if the molecular weight is too low, the viscosity tends to decrease, and the smoothness of the coating surface cannot be maintained and the interference fringes Gets worse.

本明細書において、各成分の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によって測定することができる。重量平均分子量の測定においては、HLC−8220GPC(東ソー株式会社製)などの高速GPC装置などを用いることができる。HLC−8220GPC(東ソー株式会社製)を用いた、重量平均分子量の具体的な測定条件として、試験サンプル2gを秤量し、真空乾燥機内にて40℃2時間処理し水分を除去した後、THF溶液にて0.2%の濃度となるように希釈し、カラム注入量:10μl、流速:0.35ml/minの条件で測定する態様が挙げられる。   In this specification, the weight average molecular weight of each component can be measured by a gel permeation chromatography method. In the measurement of the weight average molecular weight, a high-speed GPC apparatus such as HLC-8220 GPC (manufactured by Tosoh Corporation) can be used. As a specific measurement condition of weight average molecular weight using HLC-8220GPC (manufactured by Tosoh Corporation), 2 g of a test sample was weighed and treated in a vacuum dryer at 40 ° C. for 2 hours to remove moisture, and then a THF solution. And a measurement is performed under the conditions of a column injection amount: 10 μl and a flow rate: 0.35 ml / min.

前記アクリル樹脂(A)は、上記のアクリレート基当量を満たし、かつアクリル骨格を有すれば特に限定的ではないが、好ましくは前記アクリル樹脂(A)が下記式(a)と(b)で表されるような繰返し単位を有する共重合体である

Figure 2016064530
(I)
[式中、RとRは水素原子またはメチル基であり、Rは炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖アルキル基または炭素数3〜10のシクロアルキル基であり、Rは水素原子またはメチル基である。mとnは整数であるが、二重結合当量で変動する値であり、重合度により変化する値である。] The acrylic resin (A) is not particularly limited as long as it satisfies the above acrylate group equivalent and has an acrylic skeleton. Preferably, the acrylic resin (A) is represented by the following formulas (a) and (b). Is a copolymer having repeating units
Figure 2016064530
(I)
[Wherein, R 1 and R 2 are a hydrogen atom or a methyl group, R 3 is a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and R 4 is A hydrogen atom or a methyl group. Although m and n are integers, they are values that vary depending on the double bond equivalent, and are values that vary depending on the degree of polymerization. ]

上記アクリル樹脂(A)の繰返し単位(a)は、(メタ)アクリル酸とアルキルアルコールとのエステル(以下、「(メタ)アクリル酸アルキルエステル(a)」と言う。)から誘導される部分であり、アルキルアルコールは炭素数1〜12直鎖または分岐鎖アルキルアルコールまたは炭素数3〜10のシクロアルキルアルコールである。(メタ)アクリル酸アルキルエステル(a)の例としては、たとえば(メタ)アクリル酸メチルエステル、(メタ)アクリル酸エチルエステル、(メタ)アクリル酸n−ブチルエステル、(メタ)アクリル酸i−ブチルエステル、(メタ)アクリル酸t−ブチルエステル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシルエステル、(メタ)アクリル酸ベンジルエステル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシルエステル、(メタ)アクリル酸イソボニルエステル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチルエステル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシプロピルエステル、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、(メタ)アクリル酸ジエチルアミノエチルエステルなどが挙げられる。また(メタ)アクリル酸アルキルエステル(a)は、1種単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。   The repeating unit (a) of the acrylic resin (A) is a portion derived from an ester of (meth) acrylic acid and an alkyl alcohol (hereinafter referred to as “(meth) acrylic acid alkyl ester (a)”). Yes, the alkyl alcohol is a linear or branched alkyl alcohol having 1 to 12 carbon atoms or a cycloalkyl alcohol having 3 to 10 carbon atoms. Examples of the (meth) acrylic acid alkyl ester (a) include, for example, (meth) acrylic acid methyl ester, (meth) acrylic acid ethyl ester, (meth) acrylic acid n-butyl ester, (meth) acrylic acid i-butyl. Ester, (meth) acrylic acid t-butyl ester, (meth) acrylic acid 2-ethylhexyl ester, (meth) acrylic acid benzyl ester, (meth) acrylic acid cyclohexyl ester, (meth) acrylic acid isobornyl ester, (meth) Examples include acrylic acid hydroxyethyl ester, (meth) acrylic acid hydroxypropyl ester, (meth) acrylic acid dimethylaminoethyl ester, and (meth) acrylic acid diethylaminoethyl ester. The (meth) acrylic acid alkyl ester (a) may be used alone or in combination of two or more.

上記アクリル樹脂(A)の繰返し単位(b)は、(メタ)アクリル酸とグリシジルアルコールとの反応により、(メタ)グリシジル酸グリシジルエステルを得て、それと上記(メタ)アクリル酸アルキルエステル(a)と反応して共重合体を得た後に、共重合体中に存在するグリシジル基と(メタ)アクリル酸とを反応することにより形成する。   The repeating unit (b) of the acrylic resin (A) is obtained by reacting (meth) acrylic acid with glycidyl alcohol to obtain a (meth) glycidyl glycidyl ester, and the (meth) acrylic acid alkyl ester (a). After obtaining a copolymer by reacting with glycidyl, it is formed by reacting a glycidyl group present in the copolymer with (meth) acrylic acid.

本発明においては、ハードコーティング組成物中に含まれる全樹脂成分100質量部に対して、成分(A)のアクリル樹脂は10〜30質量部含まれることを条件とする。成分(A)の量が10質量部より少ないもしくは30質量部を超える場合は、密着力を損なう。   In this invention, the acrylic resin of a component (A) is contained on the condition that 10-30 mass parts is contained with respect to 100 mass parts of all the resin components contained in a hard-coating composition. When the amount of the component (A) is less than 10 parts by mass or exceeds 30 parts by mass, the adhesion is impaired.

(B)2またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリ
レート
上記ハードコーティング組成物は、成分(B)2またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレートを含む。ハードコーティング組成物がフェノールノボラック型アクリレート(B)を含むことによって、得られるハードコート層が、透明であり、かつ、高い硬度を有する高屈折率層となる。
(B) A phenol novolac type acrylic having two or more acrylate groups
Rate The hard coating composition comprises a phenol novolac acrylate having component (B) 2 or more acrylate groups. When the hard coating composition contains the phenol novolac acrylate (B), the resulting hard coat layer is transparent and has a high refractive index layer having high hardness.

フェノールノボラック型アクリレート(B)は、下記式(III)

Figure 2016064530
(III)
[式(III)中、Rは、HまたはCHOHであり、Rは、HまたはOHであり、kは2〜5であり、pは0〜5である。]
で示される、フェノールノボラック型アクリレートであるのが好ましい。上記式(III)中、mは2〜4でありpは0〜3であるであるのがより好ましく、mは2〜4でありpは0〜1であるのがさらに好ましい。 The phenol novolac acrylate (B) has the following formula (III)
Figure 2016064530
(III)
[In Formula (III), R 5 is H or CH 2 OH, R 6 is H or OH, k is 2 to 5, and p is 0 to 5. ]
It is preferable that it is a phenol novolak-type acrylate shown by these. In said formula (III), it is more preferable that m is 2-4 and p is 0-3, m is 2-4, and it is still more preferable that p is 0-1.

フェノールノボラック型アクリレート(B)の重量平均分子量は、400〜2500であるのが好ましく、450〜2000であるのがさらに好ましい。また、フェノールノボラック型アクリレート(B)の水酸基価は、100〜180mgKOH/gであるのが好ましく、120〜160mgKOH/gであるのがさらに好ましい。   The weight average molecular weight of the phenol novolak acrylate (B) is preferably 400 to 2500, and more preferably 450 to 2000. Further, the hydroxyl value of the phenol novolac acrylate (B) is preferably 100 to 180 mgKOH / g, and more preferably 120 to 160 mgKOH / g.

上記フェノールノボラック型アクリレート(B)は、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分100質量部に対して15〜25質量部含まれることを条件とする。フェノールノボラック型アクリレート(B)の量が15質量部未満である場合、得られるハードコート層の屈折率が低くなることで視認性の悪化、フェノールノボラック型アクリレート(A)の量が25質量部を超える場合は、ポリカーボネートフィルムとの密着性が低下する不具合がある。   The said phenol novolak-type acrylate (B) is on condition that 15-25 mass parts is contained with respect to 100 mass parts of resin components contained in a hard-coating composition. When the amount of the phenol novolac acrylate (B) is less than 15 parts by mass, the refractive index of the resulting hard coat layer is lowered so that the visibility is deteriorated, and the amount of the phenol novolac acrylate (A) is 25 parts by mass. When exceeding, there exists a malfunction which adhesiveness with a polycarbonate film falls.

(C)炭素数2または3のアルキレンオキシド構造を分子中に2〜4mol有する、ビスフェノール骨格含有のジアクリレート
本発明のハードコーティング組成物は、(C)アルキレンオキシド構造を分子中に2〜4mol有する、ビスフェノール骨格含有のジアクリレートを含む。このジアクリレート(C)は、ビスフェノール骨格を含有することでポリカーボネートフィルムなどポリカーボネート基材との濡れ性を向上させ、ハードコート層との密着力を高める利点がある。ジアクリレート(C)の具体例は、ビスフェノールAをエチレンオキシドで鎖延長し、それに(メタ)アクリル酸を反応したものが挙げられる。
(C) A diacrylate having a bisphenol skeleton having 2 or 4 mol of an alkylene oxide structure having 2 or 3 carbon atoms in the molecule. The hard coating composition of the present invention has (C) 2 to 4 mol of an alkylene oxide structure in the molecule. And diacrylate containing a bisphenol skeleton. This diacrylate (C) has the advantage of improving wettability with a polycarbonate base material such as a polycarbonate film by containing a bisphenol skeleton, and increasing adhesion with the hard coat layer. Specific examples of the diacrylate (C) include those obtained by extending the chain of bisphenol A with ethylene oxide and reacting it with (meth) acrylic acid.

本発明においては、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分100質量部に対して、成分(C)は20〜40質量部含まれることを条件とする。成分(C)の量が20質量部より少ない場合は、密着性の低下及び得られるハードコート層の屈折率が低下し、視認性を損なう不具合があり、(C)の量が40質量部を超える場合は、反応性の低下による密着力が損なう不具合がある。   In this invention, it is on condition that 20-40 mass parts of components (C) are contained with respect to 100 mass parts of resin components contained in a hard-coating composition. When the amount of the component (C) is less than 20 parts by mass, there is a problem that the adhesiveness is lowered and the refractive index of the obtained hard coat layer is lowered, and the visibility is impaired, and the amount of (C) is 40 parts by mass. When exceeding, there exists a malfunction which the adhesive force by the fall of reactivity impairs.

(D)3またはそれ以上のアクリレート基を有する多官能アクリレート
本発明のハードコーティング組成物は、3またはそれ以上のアクリレート基を有する多官能アクリレートを含む。この多官能アクリレートは通常モノマーと言われる分子量であるが、2以上の分子が結合したオリゴマーであっても良い。これらの多官能アクリレートモノマーは、ハードコーティング組成物を塗装した後の活性エネルギー線の照射により、(メタ)アクリロイル基の反応に基づく硬化反応が生じ、高硬度を有するハードコート層が得られるという利点がある。
(D) Polyfunctional acrylate having 3 or more acrylate groups The hard coating composition of the present invention comprises a polyfunctional acrylate having 3 or more acrylate groups. The polyfunctional acrylate has a molecular weight generally referred to as a monomer, but may be an oligomer in which two or more molecules are bonded. These polyfunctional acrylate monomers have the advantage that a hard reaction layer based on the reaction of (meth) acryloyl groups occurs by irradiation with active energy rays after applying the hard coating composition, and a hard coat layer having high hardness can be obtained. There is.

3またはそれ以上のアクリレート基を有する多官能アクリレートの例としては、例えば、ヒドロキシプロピル化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、およびこれらのオリゴマーなどが挙げられる。これらの多官能アクリレートは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。   Examples of polyfunctional acrylates having 3 or more acrylate groups include, for example, hydroxypropylated trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tris (acryloxyethyl) ) Isocyanurate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and oligomers thereof. These polyfunctional acrylates may be used alone or in combination of two or more.

本発明においては、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分100質量部に対して、成分(D)は5〜55質量部含まれることを条件とする。成分(D)の量が5質量部より少ない場合は、ポリカーボネートフィルムなどの透明高分子基材との密着力が低下する不具合があり、成分(D)の量が55質量部を超える場合は、得られるハードコート層の屈折率が低下し、視認性を損なう。   In the present invention, the component (D) is included in an amount of 5 to 55 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component contained in the hard coating composition. When the amount of the component (D) is less than 5 parts by mass, there is a problem that the adhesive force with a transparent polymer substrate such as a polycarbonate film is reduced, and when the amount of the component (D) exceeds 55 parts by mass, The refractive index of the resulting hard coat layer is lowered, and visibility is impaired.

光重合開始剤など
本発明のハードコーティング組成物は光重合開始剤を含むのが好ましい。光重合開始剤が存在することによって、紫外線などの活性エネルギー線照射により樹脂成分が良好に重合することとなる。光重合開始剤の例として、例えば、アルキルフェノン系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、チタノセン系光重合開始剤、オキシムエステル系重合開始剤などが挙げられる。アルキルフェノン系光重合開始剤として、例えば2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノンなどが挙げられる。アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤として、例えば2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。チタノセン系光重合開始剤として、例えば、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウムなどが挙げられる。オキシムエステル系重合開始剤として、例えば、1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(0−アセチルオキシム)、オキシフェニル酢酸、2−[2−オキソ−2−フェニルアセトキシエトキシ]エチルエステル、2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチルエステルなどが挙げられる。これらの光重合開始剤は、1種を単独で用いてもよく、また2種以上を併用してもよい。
The hard coating composition of the present invention such as a photopolymerization initiator preferably contains a photopolymerization initiator. Due to the presence of the photopolymerization initiator, the resin component is favorably polymerized by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays. Examples of photopolymerization initiators include alkylphenone photopolymerization initiators, acylphosphine oxide photopolymerization initiators, titanocene photopolymerization initiators, and oxime ester polymerization initiators. Examples of alkylphenone photopolymerization initiators include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane. -1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2 -Hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propan-1-one, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2- Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl 1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone and the like. Examples of the acylphosphine oxide photopolymerization initiator include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, and the like. Examples of titanocene-based photopolymerization initiators include bis (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) titanium. Is mentioned. Examples of oxime ester polymerization initiators include 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime)], ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2 -Methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (0-acetyloxime), oxyphenylacetic acid, 2- [2-oxo-2-phenylacetoxyethoxy] ethyl ester, 2- (2-hydroxy And ethoxy) ethyl ester. These photoinitiators may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

上記光重合開始剤のうち、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1および2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オンなどがより好ましく用いられる。   Among the photopolymerization initiators, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2 -Morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one and the like More preferably used.

光重合開始剤の好ましい量は、上記成分(A)、(B)、(C)および(D)100質量部に対して、0.01〜20質量部であり、より好ましくは1〜10質量部である。   A preferable amount of the photopolymerization initiator is 0.01 to 20 parts by mass, more preferably 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the components (A), (B), (C) and (D). Part.

本発明で用いられるハードコーティング組成物は、溶媒を含んでもよい。溶媒は、特に限定されるものではなく、組成物中に含まれる成分、塗装される基材の種類および組成物の塗装方法などを考慮して適時選択することができる。用いることができる溶媒の具体例としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒;メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒;ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、アニソール、フェネトールなどのエーテル系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、エチレングリコールジアセテートなどのエステル系溶媒;ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド系溶媒;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロソルブ系溶媒;メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール系溶媒;ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒;などが挙げられる。これらの溶媒を単独で使用してもよく、また2種以上を併用して使用してもよい。これらの溶媒のうち、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒およびケトン系溶媒が好ましく使用される。   The hard coating composition used in the present invention may contain a solvent. The solvent is not particularly limited, and can be appropriately selected in consideration of the components contained in the composition, the type of base material to be coated, the coating method of the composition, and the like. Specific examples of the solvent that can be used include aromatic solvents such as toluene and xylene; ketone solvents such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; diethyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, and ethylene glycol. Ether solvents such as dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, anisole, and phenetol; ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, isopropyl acetate, and ethylene glycol diacetate; dimethylformamide, Amide solvents such as diethylformamide and N-methylpyrrolidone; methyl Cellosolve, ethyl cellosolve, cellosolve solvents such as butyl cellosolve; methanol, ethanol, alcohol solvents such as propanol; and the like; dichloromethane, halogenated solvents such as chloroform. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Of these solvents, ester solvents, ether solvents, alcohol solvents and ketone solvents are preferably used.

本発明のハードコーティング組成物は、必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。このような添加剤として、帯電防止剤、可塑剤、界面活性剤、酸化防止剤などの常用の添加剤が挙げられる。   Various additives can be added to the hard coating composition of the present invention as necessary. Examples of such additives include conventional additives such as antistatic agents, plasticizers, surfactants, and antioxidants.

上記添加剤の中で酸化防止剤は、種々の公知のものを使用することができるが、例えばフェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤またはリン系酸化防止剤等種々のものが用いられるが、それらの中でヒンダードフェノール系酸化防止剤が好ましく、更に下記化学式(II)を有するヒンダードフェノール系酸化防止剤が最も好ましい。   Among the above-mentioned additives, various known antioxidants can be used. For example, various antioxidants such as phenol-based antioxidants, sulfur-based antioxidants or phosphorus-based antioxidants can be used. Of these, hindered phenolic antioxidants are preferred, and hindered phenolic antioxidants having the following chemical formula (II) are most preferred.

Figure 2016064530
(II)
Figure 2016064530
(II)

上記化学式(II)のヒンダードフェノール系酸化防止剤は、全樹脂成分100質量部に対して1.1〜1.9質量部の量でハードコーティング組成物中に配合することにより、湿熱密着性試験で750時間を超えて、1500時間でも密着性が維持できるようになる。   The hindered phenolic antioxidant of the above chemical formula (II) is blended in the hard coating composition in an amount of 1.1 to 1.9 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total resin components, thereby allowing wet heat adhesion. The adhesion can be maintained even after 1500 hours in the test over 750 hours.

上記ハードコーティング組成物は、上記構成によって、ZnO、TiO、CeO、SnO、ZrOまたはインジウム−スズ酸化物などの金属酸化物からなる高屈折率剤などを含ませなくても、高い屈折率を有するハードコート層を形成することができることに特徴がある。そのため、上記ハードコーティング組成物は、ZnO、TiO、CeO、SnO、ZrOおよびインジウム−スズ酸化物からなる群から選択される金属酸化物などの高屈折率剤を含まないのが好ましい。より詳しくは、上記ハードコーティング組成物を用いて形成されるハードコート層中に含まれる、ZnO、TiO、CeO、SnO、ZrOおよびインジウム−スズ酸化物の総含有量がハードコート層中の0.0001質量%以下であるのが好ましい。金属酸化物などの高屈折率剤が、ハードコート層中に存在する場合は、樹脂成分のみの層と比較して、一般に伸長性および耐屈曲性が劣ることとなるためである。 The hard coating composition is high even if it does not contain a high refractive index agent composed of a metal oxide such as ZnO, TiO 2 , CeO 2 , SnO 2 , ZrO 2, or indium-tin oxide due to the above configuration. It is characterized in that a hard coat layer having a refractive index can be formed. Therefore, the hard coating composition preferably does not contain a high refractive index agent such as a metal oxide selected from the group consisting of ZnO, TiO 2 , CeO 2 , SnO 2 , ZrO 2 and indium-tin oxide. . More specifically, the total content of ZnO, TiO 2 , CeO 2 , SnO 2 , ZrO 2 and indium-tin oxide contained in the hard coat layer formed using the hard coating composition is a hard coat layer. The content is preferably 0.0001% by mass or less. This is because when a high refractive index agent such as a metal oxide is present in the hard coat layer, the stretchability and the bending resistance are generally inferior as compared with the layer containing only the resin component.

上記ハードコーティング組成物を用いて設けられるハードコート層は、高い視認性および良好な硬度といったハードコート層において求められる性能に加えて、高い伸長性とポリカーボネート基材に対する高い密着性を有することも特徴とする。そしてこの伸長性の高さによって、透明な導電性積層体の視認性が飛躍的に向上するという利点がある。透明導電性積層体の製造において、透明導電層を設けるための加工処理時において、ハードコート層を有する基材フィルムに部分的負荷が生じる傾向がある。例えば、ハードコート層を有する基材フィルムにおいて、部分的負荷がかかることによって、ハードコート層と基材フィルムとの間における熱収縮率・熱膨張率の相違に基づくフィルムのうねり・よれが生じることがある。これらのフィルムのうねり・よれが、ITOなどの透明導電層が存在する部分と存在しない部分とが視覚的に区別される視認性低下をもたらすこととなる。これは、タッチパネルなどにおいて視認性を大きく低下することとなる。   The hard coat layer provided by using the hard coating composition is characterized by having high extensibility and high adhesion to a polycarbonate substrate in addition to the performance required in the hard coat layer such as high visibility and good hardness. And And this high extensibility has the advantage that the visibility of the transparent conductive laminate is dramatically improved. In the production of a transparent conductive laminate, a partial load tends to be generated on a base film having a hard coat layer during processing for providing a transparent conductive layer. For example, in a base film having a hard coat layer, when a partial load is applied, the film swells or twists based on the difference in thermal shrinkage / thermal expansion between the hard coat layer and the base film. There is. The waviness / twisting of these films brings about a decrease in visibility in which a portion where a transparent conductive layer such as ITO is present and a portion where it is not present are visually distinguished. This greatly reduces visibility in a touch panel or the like.

本発明において用いられるハードコーティング組成物を用いて設けられるハードコート層は、高い視認性および良好な硬度といったハードコート層において求められる性能に加えて、高い伸長性を有することを特徴とする。本発明におけるハードコート層が高い伸長性を有することによって、透明導電層を設ける段階における加熱などにより、基材フィルムが局所的に熱膨張した場合であっても、ハードコート層が良好に追随し、その結果、ITOなどの透明導電層が存在する部分と存在しない部分とが視覚的に区別される視認性低下の不具合が解消されるという利点がある。また、本発明の導電性積層体はポリカーボネート基材との密着性が高く、高度な密着性試験(湿熱密着性試験で750時間を超える高度な密着性)でも良好な状態を確保する。   The hard coat layer provided using the hard coating composition used in the present invention is characterized by having high extensibility in addition to the performance required for the hard coat layer such as high visibility and good hardness. Since the hard coat layer in the present invention has high extensibility, the hard coat layer follows well even when the base film is locally thermally expanded by heating in the stage of providing the transparent conductive layer. As a result, there is an advantage that the problem of reduced visibility in which the portion where the transparent conductive layer such as ITO is present and the portion where the transparent conductive layer is not present is visually distinguished is eliminated. In addition, the conductive laminate of the present invention has high adhesion to the polycarbonate substrate, and ensures a good state even in an advanced adhesion test (advanced adhesion exceeding 750 hours in the wet heat adhesion test).

ハードコート層は、ポリカーボネート基材上に、上記のハードコーティング組成物を塗布することにより形成される。ハードコーティング組成物の塗布方法は、ハードコーティング組成物および塗装工程の状況に応じて適時選択することができ、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法(米国特許2681294号明細書)などにより塗布することができる。   A hard-coat layer is formed by apply | coating said hard-coating composition on a polycarbonate base material. The coating method of the hard coating composition can be selected as appropriate according to the situation of the hard coating composition and the painting process. For example, dip coating method, air knife coating method, curtain coating method, roller coating method, wire bar coating method It can be applied by a gravure coating method or an extrusion coating method (US Pat. No. 2,681,294).

ハードコート層の厚みは、特に制限されるものではなく、種々の要因を考慮して適時設定することができる。例えば、0.01〜20μmのハードコート層が得られるようにハードコーティング組成物を塗布することができる。   The thickness of the hard coat layer is not particularly limited, and can be set as appropriate in consideration of various factors. For example, the hard coating composition can be applied so that a hard coat layer of 0.01 to 20 μm is obtained.

ハードコーティング組成物の塗布により得られた塗膜を硬化させることによって、ハードコート層が形成される。この硬化は、必要に応じた波長の活性エネルギー線を発する光源を用いて照射することによって行うことができる。照射する活性エネルギー線として、例えば露光量0.1〜1.5J/cmの光、好ましくは0.3〜1.5J/cmの光を用いることができる。またこの照射光の波長は特に限定されるものではないが、例えば360nm以下の波長を有する照射光などを用いることができる。このような光は、高圧水銀灯、超高圧水銀灯などを用いて得ることができる。 A hard coat layer is formed by curing the coating film obtained by applying the hard coating composition. This curing can be performed by irradiation using a light source that emits an active energy ray having a wavelength as required. As the active energy ray to be irradiated, for example, light having an exposure amount of 0.1 to 1.5 J / cm 2 , preferably 0.3 to 1.5 J / cm 2 can be used. The wavelength of the irradiation light is not particularly limited, and for example, irradiation light having a wavelength of 360 nm or less can be used. Such light can be obtained using a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, or the like.

本発明のハードコート層は、ガラス転位温度60〜80℃を有するのが好ましい。この範囲にあると、タッチパネル電極を製造する工程にて高い伸張性を発揮し、透明導電層のパターンを見えにくくする利点を有する。ハードコート層のガラス転位温度が60℃より低いと、ハードコート膜に十分な硬度が得られず、透明導電層の製膜時に白化を発生させる。逆に、ハードコート層のガラス転位温度が80℃より高いと、伸張性が損われ、透明導電層のパターンを見えにくくする効果が得られなくなる。   The hard coat layer of the present invention preferably has a glass transition temperature of 60 to 80 ° C. Within this range, there is an advantage that high extensibility is exhibited in the process of manufacturing the touch panel electrode, and the pattern of the transparent conductive layer is difficult to see. If the glass transition temperature of the hard coat layer is lower than 60 ° C., sufficient hardness cannot be obtained in the hard coat film, and whitening occurs during the formation of the transparent conductive layer. On the other hand, if the glass transition temperature of the hard coat layer is higher than 80 ° C., the extensibility is impaired, and the effect of making the transparent conductive layer pattern difficult to see cannot be obtained.

色差調整層
本発明の導電性積層体は、ハードコート層の上に色差調整層を形成してもよい。色差調整層は、ハードコート層と透明導電層の間に存在するのが好ましい。色差調整層は、1層であってもよく、2層またはそれ以上からなる層であってもよい。色差調整層は、層間の密着性および透明導電性積層体の光学特性(透過率および色調など)を改良する層である。
Color Difference Adjustment Layer The conductive laminate of the present invention may form a color difference adjustment layer on the hard coat layer. The color difference adjusting layer is preferably present between the hard coat layer and the transparent conductive layer. The color difference adjusting layer may be a single layer or a layer composed of two layers or more. The color difference adjusting layer is a layer that improves adhesion between layers and optical properties (such as transmittance and color tone) of the transparent conductive laminate.

本発明において、この色差調整層は、
硬化樹脂成分(i)、そして
平均一次粒子径100nm以下である金属酸化物粒子(ii)および/または平均一次粒子径100nm以下である金属フッ化物粒子(iii)
を含む層である。ここで、色差調整層中における粒子(ii)および(iii)の総質量は、硬化樹脂成分(i)100質量部に対して0〜200質量部の範囲内であることを条件とする。
In the present invention, this color difference adjusting layer is
Cured resin component (i) and metal oxide particles (ii) having an average primary particle size of 100 nm or less and / or metal fluoride particles (iii) having an average primary particle size of 100 nm or less
It is a layer containing. Here, the total mass of the particles (ii) and (iii) in the color difference adjusting layer is conditional on being in the range of 0 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cured resin component (i).

上記硬化樹脂成分(i)として、紫外線硬化型樹脂または熱硬化型樹脂を用いることができる。本発明における色差調整層は、硬化樹脂成分(i)として、紫外線硬化型樹脂を用いるのがより好ましい。   As the curable resin component (i), an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin can be used. In the color difference adjusting layer of the present invention, it is more preferable to use an ultraviolet curable resin as the cured resin component (i).

紫外線硬化型樹脂は、紫外線硬化性能を有するモノマーを含む組成物によって得ることができる。紫外線硬化性能を有するモノマーとしては、例えば、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、変性スチレンアクリレート、メラミンアクリレート、シリコン含有アクリレートなどの単官能および多官能アクリレートが挙げられる。   The ultraviolet curable resin can be obtained by a composition containing a monomer having ultraviolet curing performance. Examples of the monomer having ultraviolet curing performance include monofunctional and polyfunctional acrylates such as polyol acrylate, polyester acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate, modified styrene acrylate, melamine acrylate, and silicon-containing acrylate.

具体的なモノマーとしては、例えばトリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性アクリレート、イソシアヌール酸アルキレンオキサイド変性アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、トリプロピレングリコールトリアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、エポキシ変性アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレートなどのウレタン変性アクリレート、エポキシ変性アクリレートなどの多官能モノマーが挙げられる。これらのモノマーは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Specific monomers include, for example, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified acrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified acrylate, isocyanuric acid alkylene oxide modified acrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, diester Multifunctional monomers such as methylol tricyclodecane diacrylate, tripropylene glycol triacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, epoxy-modified acrylate, urethane-modified acrylate such as urethane (meth) acrylate, and epoxy-modified acrylate Can be mentioned. These monomers may be used independently and may use 2 or more types together.

これらの紫外線硬化性能を有するモノマーの中でも、ウレタン変性アクリレートが好ましい。ウレタン変性アクリレートは市販品を使用することができ、例えば、日本合成化学工業(株)製の紫光シリーズ、例えば、UV1700B、UV6300B、UV765B、UV7640B、UV7600Bなど;根上工業(株)製のアートレジンシリーズ、例えば、アートレジンHDP、アートレジンUN9000H、アートレジンUN3320HA、アートレジンUN3320HB、アートレジンUN3320HC、アートレジンUN3320HS、アートレジンUN901M、アートレジンUN902MS、アートレジンUN903など;新中村化学工業(株)製のUA100H、U4H、U6H、U15HA、UA32P、U6LPA、U324A、U9HAMIなど;ダイセル・ユーシービー(株)製のEbecrylシリーズ、例えば、1290、5129、254、264、265、1259、1264、 4866、9260、8210、204、205、6602、220、4450など;荒川化学工業(株)製のビームセットシリーズ、例えば、371、371MLV、371S、577、577BV、577AKなど;三菱レイヨン(株)製のRQシリーズなど;DIC(株)製のユニディックシリーズなど;DPHA40H(日本化薬(株)製)、CN9006、CN968(SARTOMER社製)などを用いることができる。   Among these monomers having ultraviolet curing performance, urethane-modified acrylate is preferable. A commercially available product can be used as the urethane-modified acrylate. For example, a purple light series manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., for example, UV1700B, UV6300B, UV765B, UV7640B, UV7600B, etc .; Art Resin HDP, Art Resin UN 9000H, Art Resin UN 3320HA, Art Resin UN 3320HB, Art Resin UN 3320HC, Art Resin UN 3320HS, Art Resin UN 901M, Art Resin UN 902MS, Art Resin UN 903; UA manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. H , U4H, U6H, U15HA, UA32P, U6LPA, U324A, U9HAMI, etc .; Ebecryl series made by Daicel UCB Co., Ltd., For example, 1290, 5129, 254, 264, 265, 1259, 1264, 4866, 9260, 8210, 204, 205, 6602, 220, 4450, etc .; Beam set series manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., for example, 371, 371MLV 371S, 577, 577BV, 577AK, etc .; RQ series, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd .; Unidic series, manufactured by DIC Corporation, etc .; ) Etc. can be used.

硬化樹脂成分(i)が、紫外線硬化型樹脂である場合は、色差調整層を形成する組成物が光重合開始剤を含むのが好ましい。光重合開始剤として、例えば、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾイン、ベンゾイルベンゾエート、チオキサンソンなどの、一般的に用いられる光重合開始剤を用いることができる。   When the curable resin component (i) is an ultraviolet curable resin, the composition forming the color difference adjusting layer preferably contains a photopolymerization initiator. As the photopolymerization initiator, commonly used photopolymerization initiators such as acetophenone, benzophenone, benzoin, benzoylbenzoate, and thioxanthone can be used.

色差調整層を形成する組成物はさらに、光増感剤を含んでもよい。光増感剤として、例えば、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィンなどの一般的に用いられる光増感剤を用いることができる。   The composition forming the color difference adjusting layer may further contain a photosensitizer. As the photosensitizer, for example, commonly used photosensitizers such as triethylamine and tri-n-butylphosphine can be used.

色差調整層を形成する組成物はさらに、各種アルコキシシランの加水分解物を含んでもよい。   The composition forming the color difference adjusting layer may further contain hydrolysates of various alkoxysilanes.

硬化樹脂成分(i)が、熱硬化性樹脂である場合は、色差調整層を形成する組成物は、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシランなどのシラン化合物をモノマーとしたオルガノシラン系熱硬化性モノマー、エーテル化メチロールメラミンなどをモノマーとしたメラミン系熱硬化性モノマー、イソシアネート系熱硬化性モノマー、フェノール系熱硬化性モノマー、エポキシ系熱硬化性モノマー、などの熱硬化性モノマーを含んでもよい。これらの熱硬化性モノマーは、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。上記熱硬化性モノマーに加えて、必要に応じた熱可塑性樹脂成分を含んでもよい。   When the curable resin component (i) is a thermosetting resin, the composition for forming the color difference adjusting layer is an organosilane thermosetting monomer having a silane compound such as methyltriethoxysilane or phenyltriethoxysilane as a monomer. A thermosetting monomer such as a melamine thermosetting monomer, an isocyanate thermosetting monomer, a phenol thermosetting monomer, or an epoxy thermosetting monomer using a monomer or etherified methylol melamine as a monomer may be included. These thermosetting monomers may be used alone or in combination of two or more. In addition to the said thermosetting monomer, you may contain the thermoplastic resin component as needed.

硬化樹脂成分(i)が、熱硬化性樹脂である場合は、色差調整層を形成する組成物は、反応促進剤または硬化剤を含むのが好ましい。反応促進剤としては、例えば、トリエチレンジアミン、ジブチル錫ジラウレート、ベンジルメチルアミン、ピリジンなどが挙げられる。硬化剤としては、例えば、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジエチルジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォンなどが挙げられる。   When the cured resin component (i) is a thermosetting resin, the composition forming the color difference adjusting layer preferably contains a reaction accelerator or a curing agent. Examples of the reaction accelerator include triethylenediamine, dibutyltin dilaurate, benzylmethylamine, pyridine and the like. Examples of the curing agent include methylhexahydrophthalic anhydride, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-diethyldiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, and the like.

本発明において、色差調整層は、上記硬化樹脂成分(i)に加えて、平均一次粒子径100nm以下である金属酸化物粒子(ii)および/または平均一次粒子径100nm以下である金属フッ化物粒子(iii)が含まれる。そしてこれらの粒子(ii)および(iii)の総質量は、硬化樹脂成分(i)100質量部に対して0〜200質量部の範囲内であることを条件とする。粒子(ii)および(iii)の総質量は、所望の光学特性を得るために(i)、(ii)、(iii)それぞれの屈折率に応じ適宜調整できるが、硬化後の膜強度の観点から硬化樹脂成分(i)100質量部に対して0〜150質量部の範囲内であるのが好ましく、0〜100質量部の範囲内であるのがより好ましい。   In the present invention, in addition to the cured resin component (i), the color difference adjusting layer includes metal oxide particles (ii) having an average primary particle diameter of 100 nm or less and / or metal fluoride particles having an average primary particle diameter of 100 nm or less. (Iii) is included. And the total mass of these particle | grains (ii) and (iii) is on condition that it exists in the range of 0-200 mass parts with respect to 100 mass parts of cured resin components (i). The total mass of the particles (ii) and (iii) can be adjusted as appropriate according to the refractive index of each of (i), (ii), and (iii) in order to obtain desired optical properties, but from the viewpoint of film strength after curing Is preferably in the range of 0 to 150 parts by mass, more preferably in the range of 0 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cured resin component (i).

色差調整層中における粒子(ii)および(iii)の総質量が200質量部を超える場合は、層間密着性が劣る不具合がある。   When the total mass of the particles (ii) and (iii) in the color difference adjusting layer exceeds 200 parts by mass, there is a problem that interlayer adhesion is inferior.

上記金属酸化物粒子(ii)の具体例として、例えば、ZnO、TiO、CeO、SnO、ZrOおよびインジウム−スズ酸化物などが挙げられる。これらの金属酸化物粒子(ii)は何れも、高屈折率を有することを特徴とする。そのため、金属酸化物粒子(ii)が含まれる色差調整層は、基本的には、高屈折率層となる。この金属酸化物粒子(ii)として、ZnO、TiO、ZrOが、より好ましく用いられる。金属酸化物粒子(ii)は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Specific examples of the metal oxide particles (ii) include ZnO, TiO 2 , CeO 2 , SnO 2 , ZrO 2 and indium-tin oxide. These metal oxide particles (ii) are all characterized by having a high refractive index. Therefore, the color difference adjusting layer containing the metal oxide particles (ii) is basically a high refractive index layer. As the metal oxide particles (ii), ZnO, TiO 2 and ZrO 2 are more preferably used. As the metal oxide particles (ii), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.

なお、上述の通り、これらの金属酸化物粒子(ii)は、いずれも、平均一次粒子径が100nm以下であることを条件とする。平均一次粒子径が100nmを超える場合は、色差調整層形成時に粒子の凝集等により、視認可能なサイズとなりやすいため、ヘイズ値が上昇するまたは異物状の外観欠点となるなどの不具合がある。本明細書において、平均一次粒子径は、粒子をn−BuOH等の溶媒に分散した液体を粒度分布計で測定した時の50%体積粒子径を表す。   In addition, as above-mentioned, all of these metal oxide particles (ii) are on condition that an average primary particle diameter is 100 nm or less. When the average primary particle diameter exceeds 100 nm, the size is easily visible due to aggregation of particles during the formation of the color difference adjusting layer, so that there are problems such as an increase in haze value or a foreign appearance defect. In this specification, the average primary particle diameter represents a 50% volume particle diameter when a liquid in which particles are dispersed in a solvent such as n-BuOH is measured with a particle size distribution meter.

上記金属フッ化物粒子(iii)を構成する金属の具体例として、例えば、カルシウム、バリウム、マグネシウム、ストロンチウムなどが挙げられる。これらの金属の中でも、マグネシウムであるのがより好ましい。これらの金属フッ化物粒子(iii)は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。なお、必要に応じて、上記金属フッ化物粒子(iii)とSiOとを組みあわせて用いてもよい。 Specific examples of the metal constituting the metal fluoride particles (iii) include calcium, barium, magnesium, strontium and the like. Among these metals, magnesium is more preferable. These metal fluoride particles (iii) may be used alone or in combination of two or more. If necessary, it may be used in combination the metal fluoride particles (iii) and SiO 2.

これらの金属フッ化物粒子(iii)は何れも、低屈折率を有することを特徴とする。そのため、金属フッ化物粒子(iii)が含まれる色差調整層は、基本的には、低屈折率層となる。なお、上述の通り、これらの金属フッ化物粒子(iii)は、いずれも、平均一次粒子径が100nm以下であることを条件とする。平均一次粒子径が100nmを超える場合は、色差調整層形成時に粒子の凝集等により、視認可能なサイズとなりやすいため、ヘイズ値が上昇するまたは異物状の外観欠点となるなどの不具合がある。   These metal fluoride particles (iii) are all characterized by having a low refractive index. Therefore, the color difference adjusting layer containing the metal fluoride particles (iii) is basically a low refractive index layer. In addition, as above-mentioned, as for these metal fluoride particles (iii), all are on condition that an average primary particle diameter is 100 nm or less. When the average primary particle diameter exceeds 100 nm, the size is easily visible due to aggregation of particles during the formation of the color difference adjusting layer, so that there are problems such as an increase in haze value or a foreign appearance defect.

本発明における色差調整層は、1層で構成されていてもよく、2層以上で構成されていてもよい。例えば色差調整層が1層である場合は、上記金属酸化物粒子(ii)を含む高屈折率層であるのが好ましい。他の態様として、例えば、上記金属酸化物粒子(ii)および金属フッ化物粒子(iii)の両方を含む態様が挙げられる。色差調整層が1層である場合における色差調整層の厚さは、30〜300nmであるのが好ましく、50nm〜200nmであるのがより好ましい   The color difference adjusting layer in the present invention may be composed of one layer or may be composed of two or more layers. For example, when the color difference adjusting layer is a single layer, it is preferably a high refractive index layer containing the metal oxide particles (ii). As another aspect, the aspect containing both the said metal oxide particle (ii) and metal fluoride particle (iii) is mentioned, for example. When the color difference adjusting layer is one layer, the thickness of the color difference adjusting layer is preferably 30 to 300 nm, and more preferably 50 nm to 200 nm.

また、例えば色差調整層が2層である場合は、上記金属酸化物粒子(ii)を含む高屈折率層および上記金属フッ化物粒子(iii)を含む低屈折率層からなる2層構造であるのが好ましい。この場合においては、ハードコート層と高屈折率層とが接する態様であるのがより好ましい。色差調整層が一層の高屈折率層および一層の低屈折率層からなる2層で構成される場合は、色差調整層全体の厚さは、30〜300nmであるのが好ましく、50nm〜200nmであるのがより好ましい。   For example, when the color difference adjusting layer is a two-layer structure, it has a two-layer structure including a high refractive index layer containing the metal oxide particles (ii) and a low refractive index layer containing the metal fluoride particles (iii). Is preferred. In this case, it is more preferable that the hard coat layer and the high refractive index layer are in contact with each other. When the color difference adjusting layer is composed of two layers consisting of one high refractive index layer and one low refractive index layer, the total thickness of the color difference adjusting layer is preferably 30 to 300 nm, preferably 50 nm to 200 nm. More preferably.

色差調整層の形成は、例えば、紫外線硬化性能を有するモノマー、そして上記金属酸化物粒子(ii)および/または金属フッ化物粒子(iii)を含む組成物を、ハードコート層を有する透明高分子基材のハードコート層上に塗装し、次いで、紫外線などの活性エネルギー線を照射して硬化させることによって形成することができる。あるいは、熱硬化性モノマー、そして上記金属酸化物粒子(ii)および/または金属フッ化物粒子(iii)を含む組成物を、ハードコート層を有する透明高分子基材のハードコート層上に塗装し、次いで加熱硬化させることによって形成することができる。   The color difference adjusting layer is formed by, for example, converting a composition containing a monomer having ultraviolet curing performance and the metal oxide particles (ii) and / or metal fluoride particles (iii) into a transparent polymer group having a hard coat layer. It can be formed by coating on a hard coat layer of the material and then irradiating and curing with an active energy ray such as ultraviolet rays. Alternatively, a composition containing a thermosetting monomer and the metal oxide particles (ii) and / or metal fluoride particles (iii) is applied onto the hard coat layer of a transparent polymer substrate having a hard coat layer. Then, it can be formed by heat curing.

色差調整層が2層である場合の一例として、まず、金属酸化物粒子(ii)を含む組成物をハードコート層上に塗装して硬化させた後、金属フッ化物粒子(iii)を含む組成物を塗装して硬化させることによって、2層からなる色差調整層を形成することができる。   As an example of the case where the color difference adjusting layer has two layers, first, a composition containing metal oxide particles (ii) is coated on a hard coat layer and cured, and then a composition containing metal fluoride particles (iii). By coating and curing the object, a color difference adjusting layer composed of two layers can be formed.

色差調整層が2層である場合の他の一例として、まず、金属フッ化物粒子(iii)を含む組成物を塗装して硬化させた後、金属酸化物粒子(ii)を含む組成物をハードコート層上に塗装して硬化させることによって、2層からなる色差調整層を形成することができる。   As another example when the color difference adjusting layer has two layers, first, a composition containing metal fluoride particles (iii) is coated and cured, and then a composition containing metal oxide particles (ii) is hardened. By coating and curing on the coat layer, a color difference adjusting layer comprising two layers can be formed.

上記組成物を塗装する方法として、ドクターナイフ、バーコーター、グラビアロールコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、スピンコーターなどの当業者において通常行われる塗工機械を用いる塗装方法、スプレーを用いた塗装方法、浸漬による塗装方法などが挙げられる。   As a method for coating the above composition, a coating method using a coating machine usually used by those skilled in the art such as a doctor knife, bar coater, gravure roll coater, curtain coater, knife coater, spin coater, a coating method using a spray, Examples of the coating method include immersion.

また、上記組成物は、必要に応じた有機溶媒を含んでもよい。有機溶媒として、例えば、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノールなどのアルコール系溶媒、ヘキサン、シクロヘキサン、リグロイン、シクロヘキサノンなどの炭化水素系溶媒、メチルイソブチルケトン、酢酸イソブチルなどのケトン系溶媒、キシレン、トルエンなどの芳香族系溶媒などが挙げられる。これらの有機溶媒は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Moreover, the said composition may also contain the organic solvent as needed. Examples of the organic solvent include alcohol solvents such as ethanol, isopropyl alcohol, butanol, and 1-methoxy-2-propanol, hydrocarbon solvents such as hexane, cyclohexane, ligroin, and cyclohexanone, and ketone solvents such as methyl isobutyl ketone and isobutyl acetate. Examples of the solvent include aromatic solvents such as xylene and toluene. These organic solvents may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

紫外線硬化性能を有するモノマーを含む組成物を硬化させる場合は、この硬化は、必要に応じた波長の活性エネルギー線を発する光源を用いて照射することによって行うことができる。照射する活性エネルギー線として、例えば露光量0.1〜1.5J/cmの光、好ましくは0.3〜1.5J/cmの光を用いることができる。またこの照射光の波長は特に限定されるものではないが、例えば360nm以下の波長を有する照射光などを用いることができる。このような光は、高圧水銀灯、超高圧水銀灯などを用いて得ることができる。 In the case of curing a composition containing a monomer having ultraviolet curing performance, this curing can be performed by irradiating with a light source that emits an active energy ray having a wavelength as required. As the active energy ray to be irradiated, for example, light having an exposure amount of 0.1 to 1.5 J / cm 2 , preferably 0.3 to 1.5 J / cm 2 can be used. The wavelength of the irradiation light is not particularly limited, and for example, irradiation light having a wavelength of 360 nm or less can be used. Such light can be obtained using a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, or the like.

また、熱硬化性モノマーを含む組成物を硬化させる場合は、例えば、60〜140℃で1〜60分間加熱することによって硬化させることができる。ここで、加熱温度および加熱時間は、組成物に含まれる熱硬化性モノマーの種類に応じて選択することができる。   Moreover, when hardening the composition containing a thermosetting monomer, it can be hardened by heating at 60-140 degreeC for 1 to 60 minutes, for example. Here, the heating temperature and the heating time can be selected according to the type of the thermosetting monomer contained in the composition.

導電層および導電性積層体
本発明の導電性積層体は、通常、ハードコート層の上、または色差調整層の上に、導電層が形成されている。導電層は、導電性積層体の全体が透明の時は、透明導電層であり、透明でない場合は通常の金属の導電層であっても良い。透明導電層の構成材料としては、特に制限は無いが、例えば、金属層、または金属化合物層を挙げることができる。透明導電層を構成する成分としては、例えば酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫等の金属酸化物の層が挙げられる。これらのうち酸化インジウムを主成分とした結晶質の層であることが好ましく、特に結晶質のITO(Indium Tin Oxide)からなる層が好ましく用いられる。
Conductive layer and conductive laminate In the conductive laminate of the present invention, a conductive layer is usually formed on a hard coat layer or a color difference adjusting layer. The conductive layer may be a transparent conductive layer when the entire conductive laminate is transparent, and may be a normal metal conductive layer when not transparent. The constituent material of the transparent conductive layer is not particularly limited, and examples thereof include a metal layer or a metal compound layer. Examples of the component constituting the transparent conductive layer include metal oxide layers such as silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, magnesium oxide, zinc oxide, indium oxide, and tin oxide. Of these, a crystalline layer mainly composed of indium oxide is preferable, and a layer made of crystalline ITO (Indium Tin Oxide) is particularly preferably used.

また、透明導電層が結晶質ITOの場合、結晶粒径は、特に上限を設ける必要はないが500nm以下であることが好ましい。結晶粒径が500nmを超えると屈曲耐久性が悪くなるため好ましくない。ここで結晶粒径とは、透過型電子顕微鏡(TEM)下で観察される多角形状または長円状の各領域における対角線または直径の中で最大のものと定義される。透明導電層が非晶質ITOの場合には、環境信頼性が低下することがある。   In the case where the transparent conductive layer is crystalline ITO, the crystal grain size need not be particularly limited, but is preferably 500 nm or less. If the crystal grain size exceeds 500 nm, the bending durability deteriorates, which is not preferable. Here, the crystal grain size is defined as the largest diagonal line or diameter in each polygonal or oval region observed under a transmission electron microscope (TEM). When the transparent conductive layer is amorphous ITO, environmental reliability may be lowered.

導電層は、公知の手法にて形成することが可能であり、例えばDCマグネトロンスパッタリング法、RFマグネトロンスパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、パルスレーザーデポジション法等の物理的形成法等を用いることができる。大面積に対して均一な膜厚の金属化合物層を形成するという工業生産性に着目すると、DCマグネトロンスパッタリング法が望ましい。なお、上記物理的形成法(PVD)のほかに、化学気相堆積法、ゾルゲル法などの化学的形成法を用いることもできるが、膜厚制御の観点からはやはりスパッタリング法が望ましい。   The conductive layer can be formed by a known method. For example, a physical formation method such as a DC magnetron sputtering method, an RF magnetron sputtering method, an ion plating method, a vacuum deposition method, a pulse laser deposition method, or the like can be used. Can be used. Focusing on industrial productivity of forming a metal compound layer having a uniform film thickness over a large area, the DC magnetron sputtering method is desirable. In addition to the physical formation method (PVD), a chemical formation method such as a chemical vapor deposition method or a sol-gel method can be used, but the sputtering method is desirable from the viewpoint of film thickness control.

導電層の膜厚は、導電性の点から5〜50nmであることが好ましい。更に好ましくは5〜30nmである。導電層の膜厚が5nm未満では抵抗値の経時安定性に劣る傾向があり、また50nmを超えると屈曲耐久性の低下のためタッチパネルとして好ましくない。   The film thickness of the conductive layer is preferably 5 to 50 nm from the viewpoint of conductivity. More preferably, it is 5-30 nm. If the thickness of the conductive layer is less than 5 nm, the resistance value tends to be inferior in stability over time, and if it exceeds 50 nm, the bending durability is lowered, which is not preferable as a touch panel.

本発明の導電性積層体をタッチパネルに用いる場合、タッチパネルの消費電力の低減と回路処理上の必要等から、膜厚10〜40nmにおいて透明導電層の表面抵抗値が10〜2000Ω/□、より好ましくは30〜1000Ω/□の範囲を示す透明導電層を用いることが好ましい。   When the conductive laminate of the present invention is used for a touch panel, the surface resistance value of the transparent conductive layer is more preferably 10 to 2000Ω / □ at a film thickness of 10 to 40 nm because of reduction in power consumption of the touch panel and circuit processing. Is preferably a transparent conductive layer showing a range of 30 to 1000Ω / □.

なお、導電層が透明の場合、金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ、導電性酸化物微粒子等を分散した分散液を高分子基材上に湿式法(例えば、スピンコート法、グラビア、スロットダイ、印刷など)によって形成した層を用いることもできる。   In addition, when the conductive layer is transparent, a wet dispersion method (for example, spin coating method, gravure, slot die, printing, etc.) on a polymer substrate with a dispersion of metal nanowires, carbon nanotubes, conductive oxide fine particles, etc. It is also possible to use a layer formed by (1).

こうして形成された導電層は、エッチング処理によるパターン形成が行われる。このエッチング処理は、一般に、導電層を、パターン形成マスクで覆い、次いで酸性水溶液などのエッチング液を用いて導電層をエッチングすることによって行われる。エッチング液として、例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸などの無機酸、酢酸などの有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液が挙げられる。より具体的なエッチング液として、12N塩酸、16N硝酸および水を12N塩酸:16N硝酸:水=3.3:1.0:7.6の質量比で混合して得られる強酸水溶液が挙げられる。   The conductive layer thus formed is patterned by an etching process. This etching process is generally performed by covering the conductive layer with a pattern formation mask and then etching the conductive layer using an etching solution such as an acidic aqueous solution. Examples of the etchant include inorganic acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide, sulfuric acid, nitric acid, and phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, and mixtures thereof, and aqueous solutions thereof. As a more specific etching solution, a strong acid aqueous solution obtained by mixing 12N hydrochloric acid, 16N nitric acid and water in a mass ratio of 12N hydrochloric acid: 16N nitric acid: water = 3.3: 1.0: 7.6 can be mentioned.

なお、導電層をパターン化する前もしくは後に、必要に応じて、熱処理してもよい。導電層が熱処理により結晶化するITOの場合、熱処理を行うことによって、透明性および導電性を向上させることができるという利点がある。熱処理は、例えば、100〜150℃で、15〜180分加熱することによって行うことができる。   In addition, you may heat-process as needed before or after patterning a conductive layer. In the case of ITO in which the conductive layer is crystallized by heat treatment, there is an advantage that transparency and conductivity can be improved by performing the heat treatment. The heat treatment can be performed, for example, by heating at 100 to 150 ° C. for 15 to 180 minutes.

本発明の導電性積層体は、導電性積層体に対して波長500〜750nmの範囲の光源を照射した場合における反射率(R1)、および、導電性積層体を、12N塩酸、16N硝酸および水を12N塩酸:16N硝酸:水=3.3:1.0:7.6の質量比で混合して得られた強酸水溶液中に40℃で3分間浸漬した後、乾燥させた後の導電性積層体に対して、波長500〜750nmの範囲の光源を照射した場合における反射率(R2)において、R1およびR2の差△Rが1以下であることを特徴とする。   The conductive laminate of the present invention has a reflectance (R1) when the conductive laminate is irradiated with a light source having a wavelength in the range of 500 to 750 nm, and the conductive laminate comprises 12N hydrochloric acid, 16N nitric acid and water. After being immersed in a strong acid aqueous solution obtained by mixing 12N hydrochloric acid: 16N nitric acid: water at a mass ratio of 3.3: 1.0: 7.6 at 40 ° C. for 3 minutes, and then dried. A difference ΔR between R1 and R2 is 1 or less in reflectance (R2) when the laminate is irradiated with a light source having a wavelength of 500 to 750 nm.

上記強酸水溶液は、エッチング処理において一般的に用いられる、いわゆる王水と言われる強酸水溶液である。上記強酸水溶液を用いてエッチング処理を行うことによって、導電層はエッチングされることとなる。図1は、エッチング処理された導電性積層体を示す概略説明図である。導電性積層体(10)は、ポリカーボネート基材(1)の一方の面上に、ハードコート層(3)、色差調整層(5)および透明導電層(7)が順次積層された構造を有する。ここで、(11)で示される部分が、エッチング処理によるパターニングによって、導電層(7)が取り除かれた部分であり、そして(13)で示される部分が、エッチング処理においてマスクされていた部分であり、導電層がそのまま残された部分である。ここで、上記反射率R1は、図1中の(13)の部分における反射率を意味し、そして上記反射率R2は、図1中の(11)の部分における反射率を意味する。そして本発明の導電性積層体においては、波長500〜750nmの範囲の光源を照射した場合における反射率において、R1およびR2の差△Rが1以下であることを特徴とする。つまり、本発明の導電性積層体においては、導電層(7)が存在する部分および存在しない部分において、反射率の差がほとんど生じていない。これにより、極めて高い視認性が達成されることとなった。   The strong acid aqueous solution is a so-called aqua regia strong acid aqueous solution that is generally used in an etching process. By conducting an etching process using the strong acid aqueous solution, the conductive layer is etched. FIG. 1 is a schematic explanatory view showing a conductive laminate subjected to etching. The conductive laminate (10) has a structure in which a hard coat layer (3), a color difference adjusting layer (5), and a transparent conductive layer (7) are sequentially laminated on one surface of a polycarbonate substrate (1). . Here, the portion indicated by (11) is a portion where the conductive layer (7) has been removed by patterning by the etching process, and the portion indicated by (13) is a portion masked in the etching process. There is a portion where the conductive layer is left as it is. Here, the reflectance R1 means the reflectance at the portion (13) in FIG. 1, and the reflectance R2 means the reflectance at the portion (11) in FIG. And in the electroconductive laminated body of this invention, the difference (DELTA) R of R1 and R2 is 1 or less in the reflectance at the time of irradiating the light source of the wavelength range of 500-750 nm, It is characterized by the above-mentioned. That is, in the conductive laminate of the present invention, there is almost no difference in reflectance between the portion where the conductive layer (7) is present and the portion where it is not present. Thereby, extremely high visibility was achieved.

導電性積層体の反射率の測定は、例えば日立製作所U−3000などの分光光度計を用いて、入射角10度における分光反射率をJIS K5600−4−5に準拠して測定することができる。   The reflectance of the conductive laminate can be measured using a spectrophotometer such as Hitachi U-3000, for example, and the spectral reflectance at an incident angle of 10 degrees can be measured according to JIS K5600-4-5. .

アンチブロッキング層
本発明の導電性積層体は、ポリカーボネート基材の一方の面上に、ハードコート層、色差調整層および導電層が順に積層された構造を有する。この導電性積層体は、必要に応じて、ポリカーボネート基材の他の一方の面上に、アンチブロッキング層が形成されていてもよい。他の一方の面上にアンチブロッキング層を形成することによって、導電性積層体の製造工程におけるブロッキング現象の発生を抑えることができ、製造時における保存安定性が向上するという利点がある。
Anti-blocking layer The conductive laminate of the present invention has a structure in which a hard coat layer, a color difference adjusting layer, and a conductive layer are sequentially laminated on one surface of a polycarbonate substrate. In this conductive laminate, an anti-blocking layer may be formed on the other surface of the polycarbonate substrate as necessary. By forming the anti-blocking layer on the other surface, it is possible to suppress the occurrence of the blocking phenomenon in the production process of the conductive laminate, and there is an advantage that the storage stability during production is improved.

アンチブロッキング層を形成する組成物として、例えば、第1成分および第2成分を含むアンチブロッキング層形成組成物が挙げられる。第1成分のSP値(SP1)および第2成分のSP値(SP2)の差△SPが1〜2の範囲内であり、アンチブロッキング層形成組成物を塗装した後に、第1成分と第2成分が相分離を生じ、表面に微細な凹凸を有するアンチブロッキング層が形成される、アンチブロッキング層形成組成物であるのがより好ましい。   As a composition which forms an antiblocking layer, the antiblocking layer forming composition containing a 1st component and a 2nd component is mentioned, for example. The difference ΔSP between the SP value (SP1) of the first component and the SP value (SP2) of the second component is in the range of 1 to 2, and after coating the anti-blocking layer forming composition, the first component and the second component More preferably, the composition is an anti-blocking layer-forming composition in which the component causes phase separation and an anti-blocking layer having fine irregularities on the surface is formed.

第1成分として、不飽和二重結合含有アクリル共重合体が用いられる。不飽和二重結合含有アクリル共重合体は、例えば(メタ)アクリルモノマーと他のエチレン性不飽和二重結合を有するモノマーとを共重合した樹脂、(メタ)アクリルモノマーと他のエチレン性不飽和二重結合およびエポキシ基を有するモノマーとを反応させた樹脂、(メタ)アクリルモノマーと他のエチレン性不飽和二重結合およびイソシアネート基を有するモノマーとを反応させた樹脂などにアクリル酸やグリシジルアクリレートなどの不飽和二重結合を有しかつ他の官能基を有する成分を付加させたものなどが挙げられる。これらの不飽和二重結合含有アクリル共重合体は1種を単独で用いてもよく、また2種以上を混合して用いてもよい。この不飽和二重結合含有アクリル共重合体は、重量平均分子量で2000〜100000であるのが好ましく、5000〜50000であるのがより好ましい。   As the first component, an unsaturated double bond-containing acrylic copolymer is used. An unsaturated double bond-containing acrylic copolymer is, for example, a resin obtained by copolymerizing a (meth) acrylic monomer and another monomer having an ethylenically unsaturated double bond, a (meth) acrylic monomer and another ethylenically unsaturated Acrylic acid or glycidyl acrylate for resins reacted with monomers having double bonds and epoxy groups, resins made by reacting (meth) acrylic monomers with other monomers having ethylenically unsaturated double bonds and isocyanate groups, etc. And those having an unsaturated double bond and other functional groups added thereto. One of these unsaturated double bond-containing acrylic copolymers may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used. The unsaturated double bond-containing acrylic copolymer preferably has a weight average molecular weight of 2,000 to 100,000, more preferably 5,000 to 50,000.

第2成分のモノマーまたはオリゴマーとして、多官能性不飽和二重結合含有モノマーまたはそのオリゴマーであるのがより好ましい。なお、本明細書でいう「オリゴマー」とは、繰り返し単位を有する重合体であって、この繰り返し単位の数が3〜10であるものをいう。多官能性不飽和二重結合含有モノマーとして、例えば、多価アルコールと(メタ)アクリレートとの脱アルコール反応物である多官能アクリレート、具体的には、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレートなどを用いることができる。この他にも、ポリエチレングリコール#200ジアクリレート(共栄社化学(株)社製)などの、ポリエチレングリコール骨格を有するアクリレートモノマーを使用することもできる。これらの多官能性不飽和二重結合含有モノマーは1種を単独で用いてもよく、また2種以上を混合して用いてもよい。第2成分は、多官能アクリレートであるのがより好ましい。   The monomer or oligomer of the second component is more preferably a polyfunctional unsaturated double bond-containing monomer or an oligomer thereof. The “oligomer” in the present specification refers to a polymer having a repeating unit and having 3 to 10 repeating units. As the polyfunctional unsaturated double bond-containing monomer, for example, a polyfunctional acrylate which is a dealcoholization reaction product of a polyhydric alcohol and (meth) acrylate, specifically, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipenta Erythritol penta (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and the like can be used. In addition, an acrylate monomer having a polyethylene glycol skeleton such as polyethylene glycol # 200 diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) can also be used. One of these polyfunctional unsaturated double bond-containing monomers may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used. The second component is more preferably a polyfunctional acrylate.

第1成分および第2成分が上記組み合わせである場合に好ましい有機溶媒として、例えば、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒;メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノールなどのアルコール系溶媒;アニソール、フェネトールプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル系溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は1種を単独で用いてもよく、また2種以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。   Preferred organic solvents when the first component and the second component are the above combinations include, for example, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, and butanol An ether solvent such as anisole, phenetol propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, and diethylene glycol diethyl ether; One of these solvents may be used alone, or two or more organic solvents may be mixed and used.

上記アンチブロッキング層形成組成物は、光重合開始剤を含むのが好ましい。光重合開始剤として、例えば、2−ヒドロキシ−2メチル−1フェニル−プロパン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタンノン−1などが挙げられる。   The anti-blocking layer forming composition preferably contains a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include 2-hydroxy-2methyl-1phenyl-propan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2. -Morpholinopropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, etc. Can be mentioned.

上記アンチブロッキング層形成組成物は、第1成分および第2成分それぞれのSP値の差によって相分離がもたらされる。この相分離によって、表面に微細な凹凸を有するアンチブロッキング層が形成されることとなる。第1成分のSP値と第2成分のSP値との差は1以上であるのが好ましく、1〜2の範囲内であるのがより好ましい。第1成分のSP値と第2成分のSP値との差が1以上ある場合は、互いの樹脂の相溶性が低く、それによりアンチブロッキング層形成組成物の塗布後に第1成分と第2成分との相分離がもたらされると考えられる。   In the anti-blocking layer forming composition, phase separation is caused by the difference in SP value between the first component and the second component. By this phase separation, an anti-blocking layer having fine irregularities on the surface is formed. The difference between the SP value of the first component and the SP value of the second component is preferably 1 or more, and more preferably in the range of 1 to 2. When the difference between the SP value of the first component and the SP value of the second component is 1 or more, the compatibility of the resins with each other is low, whereby the first component and the second component are applied after application of the anti-blocking layer forming composition. It is thought that phase separation is brought about.

SP値とは、solubility parameter(溶解性パラメーター)の略であり、溶解性の尺度となるものである。SP値は数値が大きいほど極性が高く、逆に数値が小さいほど極性が低いことを示す。   The SP value is an abbreviation for solubility parameter (solubility parameter) and is a measure of solubility. The SP value indicates that the polarity is higher as the numerical value is larger, and the polarity is lower as the numerical value is smaller.

例えば、SP値は次の方法によって実測することができる[参考文献:SUH、CLARKE、J.P.S.A−1、5、1671〜1681(1967)]。   For example, the SP value can be measured by the following method [references: SUH, CLARKE, J. et al. P. S. A-1, 5, 1671-1681 (1967)].

測定温度:20℃
サンプル:樹脂0.5gを100mlビーカーに秤量し、良溶媒10mlをホールピペットを用いて加え、マグネティックスターラーにより溶解する。
溶媒:
良溶媒…ジオキサン、アセトンなど
貧溶媒…n−ヘキサン、イオン交換水など
濁点測定:50mlビュレットを用いて貧溶媒を滴下し、濁りが生じた点を滴下量とする。
Measurement temperature: 20 ° C
Sample: Weigh 0.5 g of resin in a 100 ml beaker, add 10 ml of good solvent using a whole pipette, and dissolve with a magnetic stirrer.
solvent:
Good solvent: Dioxane, acetone, etc. Poor solvent: n-hexane, ion-exchanged water, etc. Muddy point measurement: The poor solvent is added dropwise using a 50 ml burette, and the point at which turbidity occurs is defined as the amount added.

樹脂のSP値δは次式によって与えられる。   The SP value δ of the resin is given by the following equation.

Figure 2016064530
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Vi:溶媒の分子容(ml/mol)
φi:濁点における各溶媒の体積分率
δi:溶媒のSP値
ml:低SP貧溶媒混合系
mh:高SP貧溶媒混合系
Vi: Molecular volume of solvent (ml / mol)
φi: Volume fraction of each solvent at cloud point δi: SP value of solvent ml: Low SP poor solvent mixed system mh: High SP poor solvent mixed system

上記アンチブロッキング層形成組成物は、必要に応じて、帯電防止剤、可塑剤、界面活性剤、酸化防止剤、および紫外線吸収剤などの常用の添加剤を含んでもよい。   The anti-blocking layer forming composition may contain conventional additives such as an antistatic agent, a plasticizer, a surfactant, an antioxidant, and an ultraviolet absorber, if necessary.

アンチブロッキング層形成組成物には、上記の第1成分および第2成分のほかに、通常使用される樹脂が含まれてもよい。上記アンチブロッキング層形成組成物は、上記のような第1成分および第2成分を用いることによって、樹脂粒子などを含ませなくても、凹凸を有する樹脂層を形成することができることに特徴がある。そのため、上記アンチブロッキング層形成組成物は、樹脂粒子を含まないのが好ましい。しかしながら、上記アンチブロッキング層形成組成物は、必要に応じて、無機粒子または有機粒子、若しくはそれらの複合物を少なくとも一種以上含んでもよい。これらの粒子は、特に表面に凹凸を形成する目的のために添加されるのではなく、相分離や析出を制御して、より均一で微細な凹凸を形成する為に添加される。これらの粒子の粒径は、平均粒径で0.5μm以下、好ましくは0.01〜0.3μmである。0.5μmを超えると、若干透明性が低下する。   In addition to the first component and the second component, the anti-blocking layer forming composition may contain a resin that is usually used. The anti-blocking layer forming composition is characterized in that, by using the first component and the second component as described above, a resin layer having irregularities can be formed without including resin particles or the like. . Therefore, it is preferable that the anti-blocking layer forming composition does not contain resin particles. However, the anti-blocking layer forming composition may contain at least one or more inorganic particles, organic particles, or a composite thereof, if necessary. These particles are not particularly added for the purpose of forming irregularities on the surface, but are added to form more uniform and fine irregularities by controlling phase separation and precipitation. These particles have an average particle size of 0.5 μm or less, preferably 0.01 to 0.3 μm. When it exceeds 0.5 μm, the transparency slightly decreases.

無機粒子の例としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ゼオライト、雲母、合成雲母、酸化カルシウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、フッ化マグネシウム、スメクタイト、合成スメクタイト、バーミキュライト、ITO(酸化インジウム/酸化錫)、ATO(酸化アンチモン/酸化錫)、酸化錫、酸化インジウムおよび酸化アンチモンからなる群から選択される少なくとも1種類が挙げられる。   Examples of inorganic particles include silica, alumina, titania, zeolite, mica, synthetic mica, calcium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, magnesium fluoride, smectite, synthetic smectite, vermiculite, ITO (indium oxide / tin oxide), ATO There may be mentioned at least one selected from the group consisting of (antimony oxide / tin oxide), tin oxide, indium oxide and antimony oxide.

有機粒子の例としては、アクリル、オレフィン、ポリエーテル、ポリエステル、ウレタン、ポリエステル、シリコーン、ポリシラン、ポリイミドおよびフッ素粒子からなる群から選択される少なくとも1種類が挙げられる。   Examples of the organic particles include at least one selected from the group consisting of acrylic, olefin, polyether, polyester, urethane, polyester, silicone, polysilane, polyimide, and fluorine particles.

上記アンチブロッキング層形成組成物は、第1成分および第2成分、そして必要に応じた溶媒、光重合開始剤、触媒、光増感剤などの添加剤を混合することにより調製される。アンチブロッキング層形成組成物中における第1成分と第2成分との比率は、0.1:99.9〜50:50が好ましく、0.3:99.7〜20:80がより好ましく、0.5:99.5〜10:90がさらに好ましい。重合開始剤、触媒および光増感剤を用いる場合は、第1成分および第2成分そして必要に応じた他の樹脂(これらを合わせて「樹脂成分」という。)100質量部に対して、0.01〜20質量部、好ましくは1〜10質量部加えることができる。溶媒を用いる場合は、上記樹脂成分100質量部に対して、1〜9900質量部、好ましくは10〜900質量部加えることができる。   The anti-blocking layer forming composition is prepared by mixing the first component and the second component, and additives such as a solvent, a photopolymerization initiator, a catalyst, and a photosensitizer as necessary. The ratio of the first component and the second component in the anti-blocking layer forming composition is preferably 0.1: 99.9 to 50:50, more preferably 0.3: 99.7 to 20:80, and 0 5: 99.5-10: 90 is more preferable. When a polymerization initiator, a catalyst, and a photosensitizer are used, the first component, the second component, and other resin as necessary (referred to collectively as “resin component”) are 100 parts by mass. 0.01 to 20 parts by mass, preferably 1 to 10 parts by mass can be added. When using a solvent, it is 1-9900 mass parts with respect to 100 mass parts of said resin components, Preferably 10-900 mass parts can be added.

上記アンチブロッキング層形成組成物を塗装し、次いで硬化させることによって、表面に微細な凹凸を有するアンチブロッキング層を形成することができる。アンチブロッキング層形成組成物の塗装方法として、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法などが挙げられる。アンチブロッキング層の厚さとして、例えば、0.01〜20μmの厚さである態様が挙げられる。   By coating the anti-blocking layer forming composition and then curing, an anti-blocking layer having fine irregularities on the surface can be formed. Examples of the coating method of the anti-blocking layer forming composition include dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, and extrusion coating. Examples of the thickness of the anti-blocking layer include an embodiment having a thickness of 0.01 to 20 μm.

アンチブロッキング層形成組成物を塗装した後、光を照射することによって、相分離および硬化させることができる。照射する光として、例えば露光量0.1〜3.5J/cmの光、好ましくは0.5〜1.5J/cmの光を用いることができる。またこの照射光の波長は特に限定されるものではないが、例えば、360nm以下の波長を有する照射光などを用いることができる。このような光は、高圧水銀灯、超高圧水銀灯などを用いて得ることができる。このように光を照射することによって、相分離および硬化が生じることとなる。 After coating the anti-blocking layer forming composition, it can be phase-separated and cured by irradiating light. As light to irradiate, for example, light having an exposure amount of 0.1 to 3.5 J / cm 2 , preferably 0.5 to 1.5 J / cm 2 can be used. Further, the wavelength of the irradiation light is not particularly limited, and for example, irradiation light having a wavelength of 360 nm or less can be used. Such light can be obtained using a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, or the like. By irradiating light in this way, phase separation and curing will occur.

タッチパネル
本発明のタッチパネルは、透明な導電性積層体を有する。本発明のタッチパネルとして、例えば、静電容量方式のタッチパネルが挙げられる。また、本発明の透明な導電性積層体を、抵抗膜方式のタッチパネルに用いてもよい。
タッチパネル
本発明のタッチパネルは、透明な導電性積層体を有する。本発明のタッチパネルとして、例えば、静電容量方式のタッチパネルが挙げられる。また、本発明の透明な導電性積層体を、抵抗膜方式のタッチパネルに用いてもよい。
Touch panel The touch panel of the present invention has a transparent conductive laminate. Examples of the touch panel of the present invention include a capacitive touch panel. Moreover, you may use the transparent conductive laminated body of this invention for a resistive film type touch panel.
Touch panel The touch panel of the present invention has a transparent conductive laminate. Examples of the touch panel of the present invention include a capacitive touch panel. Moreover, you may use the transparent conductive laminated body of this invention for a resistive film type touch panel.

本発明の透明な導電性積層体をタッチパネル用基板として用いる場合における、具体的な層構成として、例えば下記の層構成が挙げられる:
透明導電層/色差調整層/ハードコート層/ポリカーボネート基材、
透明導電層/ハードコート層/ポリカーボネート基材、
透明導電層/色差調整層/ハードコート層/ポリカーボネート基材/アンチブロッキング層、
透明導電層/ハードコート層/ポリカーボネート基材/アンチブロッキング層、
透明導電層/色差調整層/ハードコート層/ポリカーボネート基材/ハードコート層/色差調整層/透明導電層、
透明導電層/ハードコート層/ポリカーボネート基材/ハードコート層/色差調整層/透明導電層、
補助電極層/透明導電層/色差調整層/ハードコート層/ポリカーボネート基材、
補助電極層/透明導電層/ハードコート層/ポリカーボネート基材、
補助電極層/透明導電層/色差調整層/ハードコート層/ポリカーボネート基材/アンチブロッキング層、補助電極層/透明導電層/色差調整層/ハードコート層/透明高分子基材/アンチブロッキング層、
補助電極層/透明導電層/色差調整層/ハードコート層/ポリカーボネート基材/ハードコート層/色差調整層/透明導電層/補助電極層、
補助電極層/透明導電層/ハードコート層/ポリカーボネート基材/ハードコート層/透明導電層/補助電極層。尚、上記層構成は、最上層から最下層に向けて層を順に記載している。上記透明導電層のすぐ下層に、色差調整のためまたは密着性を改善するために金属酸化物層(具体的には、二酸化ケイ素、酸化ニオブ、酸化モリブデンなど金属酸化物からなる層)を形成してもよい。最上層の透明導電層のさらに上層に表面保護を目的としたハードコート層を設けても良い。その場合、ハードコート層は、本発明のハードコート層であっても良いが、本発明以外の通常のハードコート層であっても良い。
Specific examples of the layer structure in the case where the transparent conductive laminate of the present invention is used as a touch panel substrate include the following layer structures:
Transparent conductive layer / color difference adjusting layer / hard coat layer / polycarbonate substrate,
Transparent conductive layer / hard coat layer / polycarbonate substrate,
Transparent conductive layer / color difference adjusting layer / hard coat layer / polycarbonate substrate / anti-blocking layer,
Transparent conductive layer / hard coat layer / polycarbonate substrate / anti-blocking layer,
Transparent conductive layer / color difference adjusting layer / hard coat layer / polycarbonate substrate / hard coat layer / color difference adjusting layer / transparent conductive layer,
Transparent conductive layer / hard coat layer / polycarbonate substrate / hard coat layer / color difference adjusting layer / transparent conductive layer,
Auxiliary electrode layer / transparent conductive layer / color difference adjusting layer / hard coat layer / polycarbonate substrate,
Auxiliary electrode layer / transparent conductive layer / hard coat layer / polycarbonate substrate,
Auxiliary electrode layer / transparent conductive layer / color difference adjusting layer / hard coat layer / polycarbonate substrate / anti-blocking layer, auxiliary electrode layer / transparent conductive layer / color difference adjusting layer / hard coat layer / transparent polymer substrate / anti-blocking layer,
Auxiliary electrode layer / transparent conductive layer / color difference adjusting layer / hard coat layer / polycarbonate substrate / hard coat layer / color difference adjusting layer / transparent conductive layer / auxiliary electrode layer,
Auxiliary electrode layer / transparent conductive layer / hard coat layer / polycarbonate substrate / hard coat layer / transparent conductive layer / auxiliary electrode layer. In the above layer configuration, layers are described in order from the uppermost layer to the lowermost layer. A metal oxide layer (specifically, a layer made of a metal oxide such as silicon dioxide, niobium oxide, molybdenum oxide) is formed immediately below the transparent conductive layer in order to adjust color difference or improve adhesion. May be. A hard coat layer for the purpose of surface protection may be provided on the upper layer of the uppermost transparent conductive layer. In this case, the hard coat layer may be the hard coat layer of the present invention, but may be a normal hard coat layer other than the present invention.

ここで言う補助電極層とは、配線用の電極材として使用可能な層を意味する。補助電極層の材料としては、比抵抗が1×10−6Ωcm以上1×10−4Ωcm以下のものが望ましい。比抵抗が1×10−6Ωcm未満の金属材料を使用すると用途機能上では不安定であり、薄膜として形成することが難しくなる。一方、比抵抗が1×10−4Ωcmより大きい金属材料を使用すると、抵抗値が高すぎるために、細線加工した際に抵抗値が高くなってしまう。以上の理由から、実使用に適する金属は、Cu、Ag、Al、Au、Ni、Ni/Cr、Ti群から選ばれる単一金属、または複数種からなる合金が推奨される。特に、電気導電性が高く、パターンエッチング、電気メッキ等の加工性に優れる金属で、電極と回路等のリード部との電気的機械的接続性(ハンダ、異方導電性コネクター等)が良く、曲げに強く、熱伝導性が高い上に、安価という点においてCu、Al等が好ましく、特にCuが好ましい。 The auxiliary electrode layer mentioned here means a layer that can be used as an electrode material for wiring. As a material for the auxiliary electrode layer, a material having a specific resistance of 1 × 10 −6 Ωcm or more and 1 × 10 −4 Ωcm or less is desirable. When a metal material having a specific resistance of less than 1 × 10 −6 Ωcm is used, it is unstable in terms of application functions, and it becomes difficult to form a thin film. On the other hand, when a metal material having a specific resistance larger than 1 × 10 −4 Ωcm is used, the resistance value is too high, and thus the resistance value is increased when thin wire processing is performed. For the above reasons, a metal suitable for practical use is recommended to be a single metal selected from the group consisting of Cu, Ag, Al, Au, Ni, Ni / Cr, and Ti, or an alloy composed of a plurality of types. In particular, it is a metal with high electrical conductivity and excellent workability such as pattern etching and electroplating, and has good electrical and mechanical connectivity (solder, anisotropic conductive connector, etc.) between the electrode and the lead portion of the circuit, Cu, Al, and the like are preferable in terms of bending resistance, high thermal conductivity, and low cost, and Cu is particularly preferable.

補助電極層の厚さとしては、特に限定されるものではないが、通常の設計仕様として0.001〜100μm、好ましくは0.01〜25μmの範囲が推奨される。補助電極の形成には、公知の処理方法を使用できるが、スパッタリング法で形成することが好ましい。また、必要に応じてその後電解・無電解湿式金属メッキ等でさらに膜厚を厚くして導電性を上げても良い。   The thickness of the auxiliary electrode layer is not particularly limited, but a normal design specification of 0.001 to 100 μm, preferably 0.01 to 25 μm is recommended. A known treatment method can be used for forming the auxiliary electrode, but it is preferable to form the auxiliary electrode by a sputtering method. Further, if necessary, the electroconductivity may be increased by further increasing the film thickness by electrolysis / electroless wet metal plating.

また、必要に応じて、上記補助電極層の保護(主に酸化防止)を目的に、補助電極層の上下層にNi、Ni/Cr、Cr、Ti、Mo他からなる高融点金属層およびこれらの酸化物層を設けても良い。   In addition, for the purpose of protecting (mainly preventing oxidation) the auxiliary electrode layer, if necessary, a refractory metal layer made of Ni, Ni / Cr, Cr, Ti, Mo or the like on the upper and lower layers of the auxiliary electrode layer, and these An oxide layer may be provided.

以下の実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。実施例中、「部」および「%」は、ことわりのない限り、質量基準による。   The following examples further illustrate the present invention, but the present invention is not limited thereto. In the examples, “parts” and “%” are based on mass unless otherwise specified.

製造例1 アクリル樹脂(1)の製造
撹拌羽根、温度計、滴下装置、温度制御装置、ガス導入口および冷却管を備えた反応装置に、酢酸ブチル70部を仕込み、窒素ガスを導入しつつ、撹拌下110℃まで昇温した。次に、グリシジルメタクリレート15.3部、メチルメタクリレート76.8部、n−ブチルアクリレート7.9部からなる混合物と、パーブチルO(日本油脂社製)2.0部を酢酸ブチル25.0部に溶解した溶液とを、反応装置中に3時間かけて滴下した。滴下終了後、1時間熟成させ、さらに、パーブチルO(日本油脂社製)1.0部を酢酸ブチル25.0部に溶解した溶液を、反応装置中に1時間かけて滴下した。滴下終了後1時間110度を維持した後、120℃に昇温し更に2時間熟成させ反応を完結させた。次に窒素ガスから空気に変更して90℃まで攪拌下冷却しアクリル酸7.8部、P−メトキシフェノール0.3部を仕込んだ。更に臭化テトラブチルアンモニウム0.6部を酢酸ブチル3.0部に溶解した溶液を投入して105℃まで昇温して反応させた。反応は酸価によりモニタリングし、固形分の酸価が5以下になるまで反応させた。尚、酸価はJIS−5601−2−1に準じて行い、反応溶液を0.1N-水酸化カリウム溶液で滴定して次式により計算した。
Production Example 1 Production of Acrylic Resin (1) While stirring 70 parts of butyl acetate into a reactor equipped with a stirring blade, thermometer, dropping device, temperature control device, gas inlet and cooling pipe, and introducing nitrogen gas, The temperature was raised to 110 ° C. with stirring. Next, a mixture consisting of 15.3 parts of glycidyl methacrylate, 76.8 parts of methyl methacrylate and 7.9 parts of n-butyl acrylate, and 2.0 parts of perbutyl O (manufactured by NOF Corporation) into 25.0 parts of butyl acetate. The dissolved solution was dropped into the reactor over 3 hours. After completion of the dropwise addition, the mixture was aged for 1 hour, and a solution obtained by dissolving 1.0 part of perbutyl O (manufactured by NOF Corporation) in 25.0 parts of butyl acetate was dropped into the reactor over 1 hour. After maintaining the temperature at 110 ° C. for 1 hour after the completion of the dropping, the temperature was raised to 120 ° C., and the reaction was completed by aging for 2 hours. Next, the gas was changed from nitrogen gas to air and cooled to 90 ° C. with stirring, and 7.8 parts of acrylic acid and 0.3 part of P-methoxyphenol were charged. Further, a solution in which 0.6 part of tetrabutylammonium bromide was dissolved in 3.0 parts of butyl acetate was added, and the temperature was raised to 105 ° C. for reaction. The reaction was monitored by the acid value, and the reaction was continued until the acid value of the solid content was 5 or less. The acid value was determined according to JIS-5601-2-1, and the reaction solution was titrated with a 0.1N potassium hydroxide solution and calculated according to the following formula.

酸価={(KOH溶液の滴下量[mL])×(KOH溶液のモル濃度[mol/L])}/(固形分の重量[g])   Acid value = {(Drop amount of KOH solution [mL]) × (Molar concentration of KOH solution [mol / L])} / (Weight of solid content [g])

反応終了後、酢酸ブチルを12.0部投入して冷却し、アクリル当量1000のアクリル樹脂(1)を得た。105℃×3時間後の不揮発分は45.1%であった。   After completion of the reaction, 12.0 parts of butyl acetate was added and cooled to obtain an acrylic resin (1) having an acrylic equivalent of 1000. The nonvolatile content after 3 hours at 105 ° C. was 45.1%.

製造例2〜5 アクリル樹脂(2)〜(5)の製造
上記製造例1と同様な方法で表1に示す配合にてアクリル樹脂(2)〜(5)を製造した。
Production Examples 2 to 5 Production of Acrylic Resins (2) to (5) Acrylic resins (2) to (5) were produced in the same manner as in Production Example 1 with the formulation shown in Table 1.

Figure 2016064530
Figure 2016064530

製造例6 フェノールノボラック型アクリレートの製造
攪拌装置、温度計、滴下漏斗および還流装置のついた反応装置に、フェノールノボラック樹脂(重量平均分子量700〜900、エポキシ当量150〜200)150gおよびエピクロルヒドリン550gを混合し、100℃、100〜200mgの減圧条件下にて48.5%の水酸化ナトリウム水溶液110gを2時間かけて滴下した。反応終了後、温度を室温まで冷却し過剰の水酸化ナトリウム水溶液を酸で中和、減圧下にて加熱し過剰のエピクロルヒドリンを除去した後、生成物をメチルイソブチルケトンに溶解させ、水洗濾別により副生成塩を除去してフェノールノボラック型のエポキシ樹脂溶液を得た。
得られたフェノールノボラック型のエポキシ樹脂の固形分100重量部に対し、メトキノン1000ppm、トリフェニルホスフィン2000ppmを加え、100℃にてアクリル酸を滴下し、酸価が1mgKOH/g以下になるまで反応させフェノールノボラック型エポキシアクリレート(1)を得た。
Production Example 6 Production of phenol novolac acrylate 150 g of phenol novolac resin (weight average molecular weight 700 to 900, epoxy equivalent 150 to 200) and epichlorohydrin 550 g were mixed in a reactor equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel and refluxing device. Then, 110 g of 48.5% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise over 2 hours under reduced pressure conditions of 100 ° C. and 100 to 200 mg. After completion of the reaction, the temperature is cooled to room temperature, an excess aqueous sodium hydroxide solution is neutralized with an acid, heated under reduced pressure to remove excess epichlorohydrin, the product is dissolved in methyl isobutyl ketone, washed with water and filtered. By-product salts were removed to obtain a phenol novolac type epoxy resin solution.
Metoquinone 1000 ppm and triphenylphosphine 2000 ppm are added to 100 parts by weight of the solid content of the obtained phenol novolac type epoxy resin, and acrylic acid is added dropwise at 100 ° C. until the acid value becomes 1 mgKOH / g or less. A phenol novolac type epoxy acrylate (1) was obtained.

得られたフェノールノボラック型エポキシアクリレートは、重量平均分子量が950であり、水酸基価は140mgKOH/g、屈折率は1.572であった。   The obtained phenol novolac epoxy acrylate had a weight average molecular weight of 950, a hydroxyl value of 140 mgKOH / g, and a refractive index of 1.572.

製造例7 多官能ウレタンアクリレートの製造
温度計、冷却管、攪拌装置を備えた1Lの4口フラスコに1,5−ペンタンジオールと1,6−ヘキサンジオールとのポリカーボネートジオール(旭化成ケミカルズ社製PCDL T−5652、数平均分子量:2000)341gと、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物(昭和高分子社製リポキシSP−16LDA)17gと、イソホロンジイソシアネート43gと、ジブチルスズジラウレート(反応触媒)0.2g、メチルエチルケトン(有機溶媒)400gとを投入し、70℃において約24時間攪拌し、反応させた。反応後、赤外線吸収スペクトルによりイソシアネート残基が観測されなくなったのを確認した。このようにして、数平均分子量30000、不飽和度0.23mol/kgの不飽和基含有ウレタン樹脂を得た。
Production Example 7 Production of Polyfunctional Urethane Acrylate Polycarbonate diol (PCDL T manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.) of 1,5-pentanediol and 1,6-hexanediol was added to a 1 L four-necked flask equipped with a thermometer, a condenser, and a stirring device. -5652, number average molecular weight: 2000) 341 g, acrylic acid adduct of 1,6-hexanediol diglycidyl ether (Lipoxy SP-16LDA manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.), 43 g of isophorone diisocyanate, dibutyltin dilaurate (reaction catalyst) ) 0.2 g and methyl ethyl ketone (organic solvent) 400 g were added and stirred at 70 ° C. for about 24 hours to be reacted. After the reaction, it was confirmed by the infrared absorption spectrum that no isocyanate residue was observed. In this way, an unsaturated group-containing urethane resin having a number average molecular weight of 30000 and an unsaturation degree of 0.23 mol / kg was obtained.

実施例1
ハードコーティング組成物の調製
成分(A)として、製造例1で得られたアクリル樹脂(1)、成分(B)として、製造例6で得られたフェノールノボラック型エポキシアクリレート(1)を、成分(C)として、ビスフェノールAエチレンオキサイド2mol変性ジアクリレート、成分(D)として、ペンタエリスリトールトリアクリレートを用いてハードコーティング組成物を調製した。表1に示された原料を、表1に示された固形分質量で順次混合し、撹拌して、ハードコーティング組成物を得た。
Example 1
As the preparation component (A) of the hard coating composition, the acrylic resin (1) obtained in Production Example 1 and the component (B) as the component (B) are the phenol novolac epoxy acrylate (1) obtained in Production Example 6 and the component ( A hard coating composition was prepared using bisphenol A ethylene oxide 2 mol modified diacrylate as C) and pentaerythritol triacrylate as component (D). The raw materials shown in Table 1 were sequentially mixed at the solid content mass shown in Table 1 and stirred to obtain a hard coating composition.

ハードコートフィルムの作成
得られたハードコーティング組成物を、帝人化成製100μm光学用PCフィルム(ピュアエース)上に滴下し、バーコーター#9を用いて塗工した。塗工後、70℃にて1分間乾燥させ、紫外線照射機(Fusion製)にて350mJの紫外線を照射し、ポリカーボネートフィルムおよび膜厚3.0μmのハードコート層を有するハードコートフィルムを得た。ハードコート層の屈折率は、JIS K0062に準拠した方法により、アッベ屈折率計を用いて測定し、1.542であった。
Preparation of Hard Coat Film The obtained hard coating composition was dropped onto a 100 μm optical PC film (Pure Ace) manufactured by Teijin Chemicals and coated using a bar coater # 9. After coating, it was dried at 70 ° C. for 1 minute, and irradiated with 350 mJ of ultraviolet rays with an ultraviolet irradiator (manufactured by Fusion) to obtain a hard coat film having a polycarbonate film and a hard coat layer having a thickness of 3.0 μm. The refractive index of the hard coat layer was 1.542 as measured using an Abbe refractometer by a method based on JIS K0062.

透明導電性積層体の作成
得られたハードコートフィルムのハードコート層上に、酸化インジウムと酸化錫が重量比95:5の組成で充填密度98%の酸化インジウム−酸化錫ターゲットを用いるスパッタリング法によって、ITO層を形成し、可動電極基板となる透明導電性積層体を作製した。形成されたITO層の膜厚は約30nm、製膜後の表面抵抗値は約150Ω/□であった。
Production of transparent conductive laminate On the hard coat layer of the obtained hard coat film, a sputtering method using an indium oxide-tin oxide target having a weight ratio of 95: 5 and a packing density of 98% is used. Then, an ITO layer was formed to produce a transparent conductive laminate that would be a movable electrode substrate. The thickness of the formed ITO layer was about 30 nm, and the surface resistance value after film formation was about 150Ω / □.

実施例2〜20
成分(A)の種類および量を表2に記載されたものに変更し、また成分(B)〜(D)の量を表2に記載されたものに変更し、実施例1と同様にして、ハードコーティング組成物を調製した。得られたハードコーティング組成物を用いて、実施例1と同様にしてハードコートフィルムを得た。ハードコート層の膜厚は3.0μmで、屈折率はJIS K0062に準拠するアッベ屈折率計で測定して1.542であった。得られたハードコートフィルムのハードコート層上に、酸化インジウムと酸化錫が重量比95:5の組成で充填密度98%の酸化インジウム−酸化錫ターゲットを用いるスパッタリング法によって、ITO層を形成し、可動電極基板となる透明導電性積層体を作製した。形成されたITO層の膜厚は約30nm、製膜後の表面抵抗値は約150Ω/□であった。
Examples 2-20
The type and amount of the component (A) were changed to those described in Table 2, and the amounts of the components (B) to (D) were changed to those described in Table 2, and the same as in Example 1. A hard coating composition was prepared. A hard coat film was obtained in the same manner as in Example 1 using the obtained hard coating composition. The thickness of the hard coat layer was 3.0 μm, and the refractive index was 1.542 as measured with an Abbe refractometer in accordance with JIS K0062. On the hard coat layer of the obtained hard coat film, an ITO layer is formed by a sputtering method using an indium oxide-tin oxide target having an indium oxide and tin oxide composition of 95: 5 by weight and a filling density of 98%, A transparent conductive laminate to be a movable electrode substrate was produced. The thickness of the formed ITO layer was about 30 nm, and the surface resistance value after film formation was about 150Ω / □.

比較例1
この例では、特許文献4の発明に該当する組成で、本願のアクリル樹脂に代えて製造例7で得られたポリエステル系ウレタンアクリレートを用いた例を示す。その組成は表3の比較例1の配合でハードコーティング組成物を調製し、実施例1と同様にしてハードコートフィルムを得た。ハードコート層の膜厚は3.0μmで、屈折率はJIS K0062に準拠するアッベ屈折率計で測定して1.542であった。得られたハードコートフィルムのハードコート層上に、酸化インジウムと酸化錫が重量比95:5の組成で充填密度98%の酸化インジウム−酸化錫ターゲットを用いるスパッタリング法によって、ITO層を形成し、可動電極基板となる透明導電性積層体を作製した。形成されたITO層の膜厚は約30nm、製膜後の表面抵抗値は約150Ω/□であった。
Comparative Example 1
In this example, an example is shown in which the polyester urethane acrylate obtained in Production Example 7 is used instead of the acrylic resin of the present application with a composition corresponding to the invention of Patent Document 4. The composition prepared the hard coating composition by the mixing | blending of the comparative example 1 of Table 3, and it carried out similarly to Example 1, and obtained the hard coat film. The thickness of the hard coat layer was 3.0 μm, and the refractive index was 1.542 as measured with an Abbe refractometer in accordance with JIS K0062. On the hard coat layer of the obtained hard coat film, an ITO layer is formed by a sputtering method using an indium oxide-tin oxide target having an indium oxide and tin oxide composition of 95: 5 by weight and a filling density of 98%, A transparent conductive laminate to be a movable electrode substrate was produced. The thickness of the formed ITO layer was about 30 nm, and the surface resistance value after film formation was about 150Ω / □.

比較例2〜10
表3の比較例2〜10に示された配合により、ハードコーティング組成物を、実施例1と同様にして調製した。得られたハードコーティング組成物を用いて、実施例1と同様にしてハードコートフィルムを得た。ハードコート層の膜厚は3.0μmで、屈折率はJIS K0062に準拠するアッベ屈折率計で測定して1.542であった。得られたハードコートフィルムのハードコート層上に、酸化インジウムと酸化錫が重量比95:5の組成で充填密度98%の酸化インジウム−酸化錫ターゲットを用いるスパッタリング法によって、ITO層を形成し、可動電極基板となる透明導電性積層体を作製した。形成されたITO層の膜厚は約30nm、製膜後の表面抵抗値は約150Ω/□であった。
Comparative Examples 2-10
A hard coating composition was prepared in the same manner as in Example 1 with the formulation shown in Comparative Examples 2 to 10 in Table 3. A hard coat film was obtained in the same manner as in Example 1 using the obtained hard coating composition. The thickness of the hard coat layer was 3.0 μm, and the refractive index was 1.542 as measured with an Abbe refractometer in accordance with JIS K0062. On the hard coat layer of the obtained hard coat film, an ITO layer is formed by a sputtering method using an indium oxide-tin oxide target having an indium oxide and tin oxide composition of 95: 5 by weight and a filling density of 98%, A transparent conductive laminate to be a movable electrode substrate was produced. The thickness of the formed ITO layer was about 30 nm, and the surface resistance value after film formation was about 150Ω / □.

上記実施例1〜20および比較例1〜10において得られたハードコーティング組成物、ハードコートフィルムおよび透明導電性積層体について、下記評価を行った。評価結果を表2および3に示す。   The following evaluation was performed about the hard-coating composition, hard-coat film, and transparent conductive laminated body which were obtained in the said Examples 1-20 and Comparative Examples 1-10. The evaluation results are shown in Tables 2 and 3.

反射率の差△Rの測定
上記実施例1〜20および比較例1〜10において得られた透明導電性積層体の反射率を、分光光度計(日立製作所U−3000)を用いて、入射角10度でJIS K5600−4−5に準拠して、反射率R1を測定した。反射率の測定において用いた光源の波長は500〜750nmであった。
Measurement of Reflectance Difference ΔR The reflectance of the transparent conductive laminates obtained in Examples 1 to 20 and Comparative Examples 1 to 10 was measured using a spectrophotometer (Hitachi U-3000). The reflectance R1 was measured at 10 degrees in accordance with JIS K5600-4-5. The wavelength of the light source used in the reflectance measurement was 500 to 750 nm.

次いで、得られた透明導電性積層体を、12N塩酸、16N硝酸および水を12N塩酸:16N硝酸:水=3.3:1.0:7.6の質量比で混合して得られた強酸水溶液中に40℃で3分間浸漬し、乾燥させた。この透明導電性積層体に対して、波長500〜750nmの光を照射し、反射率R2を測定した。なお、反射率R1は、図1中の(13)の部分に示されるような、透明導電層が存在する部分の反射率を意味し、反射率R2は、図1中の(11)の部分に示されるような、透明導電層が存在しない部分の反射率を意味する。   Next, the obtained transparent conductive laminate was mixed with 12N hydrochloric acid, 16N nitric acid and water in a mass ratio of 12N hydrochloric acid: 16N nitric acid: water = 3.3: 1.0: 7.6. It was immersed in an aqueous solution at 40 ° C. for 3 minutes and dried. The transparent conductive laminate was irradiated with light having a wavelength of 500 to 750 nm, and the reflectance R2 was measured. The reflectance R1 means the reflectance of the portion where the transparent conductive layer is present as shown in the portion (13) in FIG. 1, and the reflectance R2 is the portion (11) in FIG. The reflectance of the part where a transparent conductive layer does not exist as shown in FIG.

こうして得られたR1およびR2の差を△Rとした。波長500〜750nmの間で△Rが最大値となった△Rの値を表1、2に示した。   The difference between R1 and R2 thus obtained was taken as ΔR. Tables 1 and 2 show the values of ΔR at which ΔR became the maximum between wavelengths of 500 to 750 nm.

干渉縞評価
ポリカーボネート基材上に各実施例1〜20または比較例1〜10のハードコーティング組成物をバーコーターで塗工した後、70℃の乾燥炉に1分間放置し、更にFusion−H光源で露光してそれぞれの実施例または比較例に対応する試験片を得た。得られた試験片を100×100mmの黒色アクリル板に光学フィルム用粘着剤を用いハードコート塗工面が表面にくるように貼り合せた。スタンド式3波長蛍光灯(TWINBARD製 SLH−399型)の蛍光管から垂直下10cmの距離にサンプルを設置して目視観察をし、評価結果が○以上のサンプルについては、更に太陽光下での目視観察を実施し、下記の評価基準に基づき、判定した。
Interference fringe evaluation After coating the hard coating compositions of Examples 1 to 20 or Comparative Examples 1 to 10 on a polycarbonate substrate with a bar coater, they were left in a drying oven at 70 ° C. for 1 minute, and then a Fusion-H light source. The test piece corresponding to each Example or Comparative Example was obtained. The obtained test piece was bonded to a 100 × 100 mm black acrylic plate using an optical film pressure-sensitive adhesive so that the hard coat coated surface was on the surface. A sample is placed at a distance of 10 cm vertically from the fluorescent tube of a stand-type three-wavelength fluorescent lamp (SLH-399, manufactured by TWINBARD) and visually observed. Visual observation was performed and judged based on the following evaluation criteria.

◎ : 干渉縞(干渉模様)が3波長蛍光灯下でも太陽光下でも視認されない。
○ : 3波長蛍光灯下で干渉縞(干渉模様)が視認されないが太陽光下では僅かに視認される。
△ : 干渉縞(干渉模様)が僅かに視認される。
× : 干渉縞(干渉模様)がはっきりと視認される。
A: Interference fringes (interference patterns) are not visually recognized under a three-wavelength fluorescent lamp or in sunlight.
○: Interference fringes (interference patterns) are not visually recognized under a three-wavelength fluorescent lamp, but slightly visible under sunlight.
Δ: Interference fringes (interference patterns) are slightly visible.
X: Interference fringes (interference patterns) are clearly visible.

エッチングマーク(目視評価)
上記実施例1〜20および比較例1〜10において得られた透明導電性積層体を、塩酸(12規定):硝酸(16規定):純水を質量比で3.3:1.0:7.6の割合で混合した強酸中に40℃で3分間浸漬し、エッチング処理して、パターニングを施したサンプルを用いて、スタンド式3波長蛍光灯(TWINBARD製 SLH−399型)の蛍光管から垂直下10cmの距離にサンプルを設置して目視観察をし、評価結果が○以上のサンプルは更に、太陽光の下で目視観察をし、下記基準で見た目の評価を行った。
Etching mark (visual evaluation)
The transparent conductive laminates obtained in Examples 1 to 20 and Comparative Examples 1 to 10 were mixed with hydrochloric acid (12 N): nitric acid (16 N): pure water in a mass ratio of 3.3: 1.0: 7. From a fluorescent tube of a stand-type three-wavelength fluorescent lamp (SLH-399, manufactured by TWINBARD) using a sample that was immersed in strong acid mixed at a ratio of 6 at 40 ° C. for 3 minutes, etched, and patterned. A sample was placed at a distance of 10 cm vertically and visually observed. Samples with an evaluation result of ◯ or more were further visually observed under sunlight and evaluated according to the following criteria.

◎:太陽光下及び3波長蛍光灯下でパターン部と非パターン部の判別が困難
○:太陽光下ではパターン部と非パターン部の判別がわずかに可能だが、3波長蛍光灯下ではパターン部と非パターン部の判別が困難
△:3波長蛍光灯下でパターン部と非パターン部の判別がわずかに可能
×:3波長蛍光灯下でパターン部と非パターン部の判別が容易に可能
◎: Difficult to distinguish between pattern part and non-pattern part under sunlight and under 3-wavelength fluorescent lamp ○: Pattern part and non-pattern part are slightly distinguishable under sunlight, but pattern part under 3-wavelength fluorescent lamp Difficult to distinguish between non-patterned part and Δ: Slightly distinguishable between pattern part and non-patterned part under three-wavelength fluorescent lamp x: Easy to distinguish between pattern part and non-patterned part under three-wavelength fluorescent lamp

密着性試験1(密着性 [初期])
JIS K5400に準拠して密着性試験を実施した。上記実施例1〜20および比較例1〜10において得られた透明導電性積層体に、カッターナイフを用いて、1mmのカット(碁盤目)が100個できるようにクロスカットを施した。次いで、作成した碁盤目の上にセロハン粘着テープを完全に付着させ、テープの一方の端を持ち上げて上方に剥がした。この剥離動作を同一箇所で3回実施した。その後、剥がれた碁盤目の数を、以下に記載の基準に沿って判定した。下記評価基準で8以上を合格とする。
Adhesion test 1 (Adhesion [initial])
An adhesion test was performed in accordance with JIS K5400. The transparent conductive laminates obtained in Examples 1 to 20 and Comparative Examples 1 to 10 were cross-cut using a cutter knife so that 100 1 mm 2 cuts (cross cuts) could be made. Next, the cellophane adhesive tape was completely adhered on the created grid, and one end of the tape was lifted and peeled upward. This peeling operation was performed three times at the same location. Thereafter, the number of peeled grids was determined according to the criteria described below. The following evaluation criteria are passed 8 or more.

10:剥がれなし
8:剥がれが5目以内である
6:剥がれが5目を超えて15目以内である
4:剥がれが15目を超えて35目以内である
2:剥がれが35目を超えて65目以内である
0:剥がれが65目を超えて100目以内である
10: No peeling 8: Peeling is within 5 eyes 6: Peeling is over 5 eyes and within 15 eyes 4: Peeling is over 15 eyes and within 35 eyes 2: Peeling is over 35 eyes It is within 65 eyes 0: Peeling exceeds 65 eyes and is within 100 eyes

湿熱密着性試験(85℃×85%×500H後)
実施例1〜20及び比較例1〜10で得られたハードコートフィルムを、85℃×85%RHの湿熱試験にて500時間処理した。湿熱処理1時間後にカッターナイフを用いて、1mmのカット(碁盤目)が100個できるようにクロスカットを施した。次いで、作成した碁盤目の上にセロハン粘着テープを完全に付着させ、テープの一方の端を持ち上げて上方に剥がした。この剥離動作を同一箇所で3回実施した。その後、剥がれた碁盤目の数を、密着性試験1と同様の基準にて6段階評価で判定した。
Wet heat adhesion test (after 85 ° C x 85% x 500H)
The hard coat films obtained in Examples 1 to 20 and Comparative Examples 1 to 10 were treated for 500 hours in a wet heat test at 85 ° C. × 85% RH. One hour after the wet heat treatment, a cross-cut was performed using a cutter knife so that 100 1 mm 2 cuts (cross cuts) could be made. Next, the cellophane adhesive tape was completely adhered on the created grid, and one end of the tape was lifted and peeled upward. This peeling operation was performed three times at the same location. Thereafter, the number of grids that were peeled off was determined by 6-step evaluation based on the same criteria as in the adhesion test 1.

湿熱密着性試験(85℃×85%×750H後)
実施例1〜20及び比較例1〜10で得られたハードコートフィルムを、85℃×85%RHの湿熱試験にて750時間処理した。湿熱処理1時間後にカッターナイフを用いて、1mmのカット(碁盤目)が100個できるようにクロスカットを施した。次いで、作成した碁盤目の上にセロハン粘着テープを完全に付着させ、テープの一方の端を持ち上げて上方に剥がした。この剥離動作を同一箇所で3回実施した。その後、剥がれた碁盤目の数を、密着性試験1と同様の基準にて6段階評価で判定した。
Wet heat adhesion test (after 85 ° C x 85% x 750H)
The hard coat films obtained in Examples 1 to 20 and Comparative Examples 1 to 10 were treated for 750 hours in a wet heat test of 85 ° C. × 85% RH. One hour after the wet heat treatment, a cross-cut was performed using a cutter knife so that 100 1 mm 2 cuts (cross cuts) could be made. Next, the cellophane adhesive tape was completely adhered on the created grid, and one end of the tape was lifted and peeled upward. This peeling operation was performed three times at the same location. Thereafter, the number of grids that were peeled off was determined by 6-step evaluation based on the same criteria as in the adhesion test 1.

湿熱密着性試験(85℃×85%×1500H後)
実施例1〜20及び比較例1〜10で得られたハードコートフィルムを、85℃×85%RHの湿熱試験にて1500時間処理した。湿熱処理1時間後にカッターナイフを用いて、1mmのカット(碁盤目)が100個できるようにクロスカットを施した。次いで、作成した碁盤目の上にセロハン粘着テープを完全に付着させ、テープの一方の端を持ち上げて上方に剥がした。この剥離動作を同一箇所で3回実施した。その後、剥がれた碁盤目の数を、密着性試験1と同様の基準にて6段階評価で判定した。
Wet heat adhesion test (after 85 ° C x 85% x 1500H)
The hard coat films obtained in Examples 1 to 20 and Comparative Examples 1 to 10 were treated for 1500 hours in a wet heat test at 85 ° C. × 85% RH. One hour after the wet heat treatment, a cross-cut was performed using a cutter knife so that 100 1 mm 2 cuts (cross cuts) could be made. Next, the cellophane adhesive tape was completely adhered on the created grid, and one end of the tape was lifted and peeled upward. This peeling operation was performed three times at the same location. Thereafter, the number of grids that were peeled off was determined by 6-step evaluation based on the same criteria as in the adhesion test 1.

Figure 2016064530
Figure 2016064530

Figure 2016064530
Figure 2016064530

上記表2および表3中
・ビスフェノールA EO変性(2mol)ジアクリレート:東亜合成株式会社製、アロニックスM−211B、ビスフェノールA EO(2mol)変性ジアクリレート
・イルガキュアー184:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、光重合開始剤
・ヒンダードフェノール系酸化防止剤(1)イルガノックス1726
このヒンダードフェノール系酸化防止剤(1)は以下の化学式(I)を有する:

Figure 2016064530
(II)

・ヒンダードフェノール系酸化防止剤(2)イルガノックス1010を示す。 In Tables 2 and 3 above: Bisphenol A EO-modified (2 mol) diacrylate: manufactured by Toagosei Co., Ltd., Aronix M-211B, bisphenol A EO (2 mol) -modified diacrylate Irgacure 184: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, Photopolymerization initiator Hindered phenolic antioxidant (1) Irganox 1726
This hindered phenolic antioxidant (1) has the following chemical formula (I):
Figure 2016064530
(II)

-Hindered phenolic antioxidant (2) Irganox 1010 is shown.

実施例のハードコーティング組成物を用いて形成されたハードコート層を有するハードコーティングフィルムは、何れも、干渉縞の発生がなく、良好な硬度を有していた。さらに得られたハードコーティングフィルムは、伸長性および耐屈曲性も高く、初期密着性の他、ハードコートフィルムとしての密着性、湿熱密着性試験においても750時間を超えても密着性に問題の無いものであった。実施例14〜20は、特にヒンダードフェノール系酸化防止剤を含むものであるが、上記の化学式(II)を有するヒンダードフェノール系酸化防止剤の量が適量の場合(実施例15〜17)、湿熱密着性が1500時間を超えてもよい状態が続いていることがわかる。   Any hard coating film having a hard coat layer formed using the hard coating composition of the example had no interference fringes and had good hardness. Further, the obtained hard coating film has high extensibility and bending resistance, and there is no problem in the adhesion even if it exceeds 750 hours in the adhesion as a hard coat film and the wet heat adhesion test in addition to the initial adhesion. It was a thing. Examples 14-20 contain hindered phenolic antioxidant especially, but when the quantity of hindered phenolic antioxidant which has said Chemical formula (II) is a suitable quantity (Examples 15-17), wet heat It can be seen that the state where the adhesiveness may exceed 1500 hours continues.

比較例1は本発明の先願である特許文献4の実施例を示すものであるが、湿熱密着性試験で500時間後では良い性能であるものの、750時間を超える湿熱密着性試験では悪い結果が出ている。比較例2は、製造例4のアクリレート基の当量が2200g/molであるアクリル樹脂(4)を用いたものであり、湿熱密着性試験で750時間を超える時に密着性が劣った。比較例3では、製造例5のアクリレート樹脂のアクリレート基当量が400g/molであるアクリル樹脂(5)を用いたもので、湿潤密着性試験で750実感を超える時に密着性が劣る。比較例4は、成分(B)のフェノールノボラック型アクリレートの量が10重量部と少ない場合であり、やはり湿潤密着性試験で750時間を超えると、密着性が劣る。比較例5は、成分(A)のアクリル樹脂と成分(C)のビスフェノール骨格含有ジアクリレートの量が本発明の範囲より少ない場合の例であり、やはり湿熱密着性試験で750時間を超えると、密着性が劣る。比較例6および7は、成分(A)のアクリル樹脂が本発明の範囲より少ない場合(比較例6)および多い場合(比較例7)を示す例であり、共に湿熱密着性試験で750時間を超えると密着性が悪くなる。比較例8は成分(D)の多官能アクリレートを含まない態様であり、密着性が初期から悪い。比較例9と10は、共に成分(A)が共に本発明の範囲より少なく、かつ成分(B)の量が多い場合(比較例9)と成分(C)の量が多い場合(比較例10)の態様であり、共に湿熱密着性試験で750時間を超えると密着性が悪くなる。   Comparative Example 1 shows an example of Patent Document 4 which is a prior application of the present invention. Although the performance is good after 500 hours in the wet heat adhesion test, the result is bad in the wet heat adhesion test exceeding 750 hours. Is out. In Comparative Example 2, the acrylic resin (4) having an acrylate group equivalent of 2200 g / mol of Production Example 4 was used, and the adhesion was poor when the wet heat adhesion test exceeded 750 hours. In Comparative Example 3, the acrylic resin (5) in which the acrylate group equivalent of the acrylate resin of Production Example 5 is 400 g / mol is used, and the adhesion is poor when the wet adhesion test exceeds 750 actual feeling. The comparative example 4 is a case where the amount of the phenol novolak acrylate of the component (B) is as small as 10 parts by weight, and when the wet adhesion test exceeds 750 hours, the adhesion is inferior. Comparative Example 5 is an example in which the amount of the acrylic resin of component (A) and the amount of the bisphenol skeleton-containing diacrylate of component (C) is less than the range of the present invention, and when the wet heat adhesion test again exceeds 750 hours, Adhesion is poor. Comparative Examples 6 and 7 are examples showing the case where the acrylic resin of the component (A) is less than the range of the present invention (Comparative Example 6) and the case where the acrylic resin is large (Comparative Example 7), and both are 750 hours in the wet heat adhesion test. When it exceeds, adhesiveness will worsen. The comparative example 8 is an aspect which does not contain the polyfunctional acrylate of a component (D), and adhesiveness is bad from the beginning. In Comparative Examples 9 and 10, both the component (A) is less than the range of the present invention and the amount of the component (B) is large (Comparative Example 9) and the amount of the component (C) is large (Comparative Example 10). ), And when both exceed 750 hours in the wet heat adhesion test, the adhesion deteriorates.

また、これらの実施例および比較例の結果からも、本発明によって得られるハードコート層において、優れた干渉縞抑制効果、高い密着性効果(特に湿熱密着性試験で750時間を超える密着性)が達成されていることがわかる。   Also, from the results of these Examples and Comparative Examples, the hard coat layer obtained by the present invention has an excellent interference fringe suppressing effect and high adhesion effect (particularly adhesion exceeding 750 hours in the wet heat adhesion test). You can see that it has been achieved.

本発明は、高い視認性および良好な硬度を有すると共に、伸長性をも有し、且つポリカーボネート基材との優れた密着力を発揮するハードコート層を提供する。本発明のハードコーティング組成物によって形成される透明ハードコート層は、平滑性が非常に高いことを特徴とする。そのため、ポリカーボネートフィルムなどの屈折率が高い基材フィルム上に、本発明における透明ハードコート層を設けた場合であっても、干渉縞が発生せず、かつ、高い伸長性が達成されているという利点があり、高い密着性を発現することから、湿熱密着性試験でも750時間を超えて耐えることができ、使用用途が大きく広がる。   The present invention provides a hard coat layer that has high visibility and good hardness, has extensibility, and exhibits excellent adhesion to a polycarbonate substrate. The transparent hard coat layer formed by the hard coating composition of the present invention is characterized by extremely high smoothness. Therefore, even when the transparent hard coat layer in the present invention is provided on a substrate film having a high refractive index such as a polycarbonate film, interference fringes are not generated and high extensibility is achieved. Since it has advantages and exhibits high adhesion, it can withstand more than 750 hours even in a wet heat adhesion test, and the use application is greatly expanded.

1… ポリカーボネート基材
3… ハードコート層
5… 色差調整層
7… 導電層
10… 導電性積層体
11… 反射率R2を示す部分
13… 反射率R1を示す部分
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Polycarbonate base material 3 ... Hard-coat layer 5 ... Color difference adjustment layer 7 ... Conductive layer 10 ... Conductive laminated body 11 ... Part which shows reflectance R2 13 ... Part which shows reflectance R1

Claims (11)

ポリカーボネート基材の少なくとも一方の面上に、ハードコート層、導電層が積層された導電性積層体であり、
前記ハードコート層が、
(A)側鎖にアクリレート基を有し、そのアクリレート基当量が500〜2000g/molを有するアクリル樹脂、
(B)2またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、
(C)炭素数2または3のアルキレンオキシド単位をモノマー一分子中に2〜4モル当量有する、ビスフェノール骨格含有ジアクリレート、および
(D)3またはそれ以上のアクリレート基を有する多官能アクリレートを含有するハードコーティング組成物から形成され、
前記ハードコーティング組成物中に含まれる全樹脂成分100質量部に対して、成分(A)は10〜30質量部、成分(B)は15〜25質量部、成分(C)は20〜40質量部、成分(D)は5〜55質量部含まれることを特徴とする導電性積層体。
A conductive laminate in which a hard coat layer and a conductive layer are laminated on at least one surface of a polycarbonate substrate,
The hard coat layer is
(A) an acrylic resin having an acrylate group in the side chain and an acrylate group equivalent of 500 to 2000 g / mol;
(B) a phenol novolac acrylate having two or more acrylate groups,
(C) a bisphenol skeleton-containing diacrylate having 2 to 4 mole equivalents of an alkylene oxide unit having 2 or 3 carbon atoms in a monomer molecule, and (D) a polyfunctional acrylate having 3 or more acrylate groups Formed from a hard coating composition;
The component (A) is 10 to 30 parts by mass, the component (B) is 15 to 25 parts by mass, and the component (C) is 20 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total resin components contained in the hard coating composition. 5 to 55 parts by mass of the component and the component (D) are contained.
前記アクリル樹脂(A)がアクリレート当量700〜1500g/molを有する請求項1記載の導電性積層体。   The conductive laminate according to claim 1, wherein the acrylic resin (A) has an acrylate equivalent of 700 to 1500 g / mol. 前記アクリル樹脂(A)が下記式(a)と下記式(b)で表される共重合体である、請求項1または2記載の導電性積層体:
Figure 2016064530

(I)
[式中、RとRは水素原子またはメチル基であり、Rは炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖アルキル基または炭素数3〜10のシクロアルキル基であり、Rは水素原子またはメチル基である。mとnは二重結合当量で変動する値である。]
The conductive laminate according to claim 1 or 2, wherein the acrylic resin (A) is a copolymer represented by the following formula (a) and the following formula (b):
Figure 2016064530

(I)
[Wherein, R 1 and R 2 are a hydrogen atom or a methyl group, R 3 is a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and R 4 is A hydrogen atom or a methyl group. m and n are values that vary depending on the double bond equivalent. ]
前記ハードコーティング組成物が酸化防止剤を全樹脂成分100質量部に対して1.1〜1.9質量部含み、前記酸化防止剤が下記一般式(II)を有するヒンダードフェノール系酸化防止剤である、請求項1〜3いずれかに記載の導電性積層体。
Figure 2016064530
(II)
The hard coating composition contains 1.1 to 1.9 parts by mass of an antioxidant with respect to 100 parts by mass of the total resin component, and the antioxidant has the following general formula (II). The conductive laminate according to claim 1, wherein
Figure 2016064530
(II)
前記ハードコート層が屈折率1.535〜1.545を有する、請求項1〜4いずれかに記載の導電性積層体。   The conductive laminate according to claim 1, wherein the hard coat layer has a refractive index of 1.535 to 1.545. 前記ハードコート層がZnO、TiO、CeO、SnO、ZrOまたはインジウム−スズ酸化物を実質上含まず、それらの総含有量がハードコート層の固形分重量の0.0001質量%以下である、請求項1〜5いずれかに記載の導電性積層体。 The hard coat layer is substantially free of ZnO, TiO 2 , CeO 2 , SnO 2 , ZrO 2 or indium-tin oxide, and the total content thereof is 0.0001% by mass or less of the solid content weight of the hard coat layer The conductive laminate according to any one of claims 1 to 5, wherein 前記導電層の厚さが5〜100nmである、請求項1〜6いずれかに記載の導電性積層体。   The conductive laminate according to claim 1, wherein the conductive layer has a thickness of 5 to 100 nm. 前記ハードコート層および導電層以外に、色差調整層がハードコート層側に存在し、
色差調整層が、硬化性樹脂(i)および平均一次粒子径100nm以下の金属酸化物粒子(ii)または平均一次粒子径100nm以下の金属フッ化物粒子(iii)のいずれか一方または両方を含有する組成物から形成され、
粒子(ii)および(iii)の総質量は、硬化樹脂(i)100質量部に対して0〜200質量部であり、
導電性積層体に対して波長500〜750nmの範囲の光を照射した場合における反射率(R1)、および、導電性積層体を12N塩酸、16N硝酸および水を12N塩酸:16N硝酸:水=3.3:1.0:7.6の質量比で混合して得られた強酸水溶液中に40℃で3分間浸漬した後、乾燥させた後の導電性積層体に対して波長500〜750nmの範囲の光を照射した場合における反射率(R2)とした場合に、R1およびR2の差ΔRが1以下であることを特徴とする請求項1〜7いずれかに記載の導電性積層体。
In addition to the hard coat layer and the conductive layer, a color difference adjusting layer exists on the hard coat layer side,
The color difference adjusting layer contains one or both of the curable resin (i) and metal oxide particles (ii) having an average primary particle diameter of 100 nm or less or metal fluoride particles (iii) having an average primary particle diameter of 100 nm or less. Formed from the composition,
The total mass of the particles (ii) and (iii) is 0 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cured resin (i).
Reflectivity (R1) when light having a wavelength in the range of 500 to 750 nm is irradiated on the conductive laminate, and the conductive laminate is 12N hydrochloric acid, 16N nitric acid and water is 12N hydrochloric acid: 16N nitric acid: water = 3 .3: 1.0: 7.6 After mixing in a strong acid aqueous solution obtained by mixing at a mass ratio of 40.degree. C. for 3 minutes, the conductive laminate after drying has a wavelength of 500 to 750 nm. The conductive laminate according to any one of claims 1 to 7, wherein a difference ΔR between R1 and R2 is 1 or less when the reflectance (R2) when a range of light is irradiated is used.
前記導電層の上部に、補助電極層が存在し、導電層と補助電極層の総膜厚が20〜500nmである請求項1〜8いずれかに記載の導電性積層体。   The conductive laminate according to any one of claims 1 to 8, wherein an auxiliary electrode layer is present on the conductive layer, and a total film thickness of the conductive layer and the auxiliary electrode layer is 20 to 500 nm. ポリカーボネート基材のハードコート層がない方の面上に、アンチブロッキング層が形成され、
前記アンチブロッキング層が、不飽和二重結合含有アクリル共重合体である第1成分および多官能性アクリレートである第2成分を含み、
第1成分のSP値(SP1)および第2成分のSP値(SP2)の差ΔSPが1〜2の範囲であるアンチブロッキング層形成組成物から形成され、
前記アンチブロッキング層形成組成物を塗装した後に、第1成分と第2成分が層分離を生じ、表面に微細な凹凸が形成されることを特徴とする請求項1〜9いずれかに記載の導電性積層体。
An anti-blocking layer is formed on the surface of the polycarbonate base that does not have a hard coat layer,
The anti-blocking layer includes a first component that is an unsaturated double bond-containing acrylic copolymer and a second component that is a polyfunctional acrylate;
A difference ΔSP between the SP value (SP1) of the first component and the SP value (SP2) of the second component is formed from the anti-blocking layer forming composition in the range of 1 to 2,
The conductive material according to any one of claims 1 to 9, wherein the first component and the second component cause layer separation after the anti-blocking layer forming composition is applied, and fine irregularities are formed on the surface. Laminate.
少なくとも片面に導電層が設けられた電極基盤を用いたタッチパネルにおいて、少なくとも1枚の電極基板として請求項1〜10いずれかに記載の導電性積層体を用いることを特徴とするタッチパネル。   In the touch panel using the electrode base | substrate with which the conductive layer was provided in the at least single side | surface, the conductive laminated body in any one of Claims 1-10 is used as an at least 1 electrode board | substrate.
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