JP2016061794A - Antireflection film, polarizing plate, cover glass, image display device, and production method of antireflection film - Google Patents

Antireflection film, polarizing plate, cover glass, image display device, and production method of antireflection film Download PDF

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美帆 朝日
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一男 蒲原
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection film having a moth-eye structure having a low reflectance, no cloudiness and excellent scratch resistance, and a production method of an antireflection film by which an antireflection film can be produced in an easy process, and to provide a polarizing plate, a cover glass and an image display device including the antireflection film.SOLUTION: The antireflection film includes, in the following order, a plastic substrate, a permeation layer, and an antireflection layer that comprises metal oxide fine particles having an average primary particle diameter of 50 nm or more and 250 nm or less and a thickening compound. The permeation layer comprises a polymerized product of a (meth)acrylate compound having a molecular weight of 400 or less. The antireflection layer has a moth-eye structure having a rugged pattern formed by the metal oxide fine particles.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、反射防止フィルム、偏光板、カバーガラス、画像表示装置、及び反射防止フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to an antireflection film, a polarizing plate, a cover glass, an image display device, and a method for producing an antireflection film.

陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、蛍光表示ディスプレイ(VFD)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)、及び液晶表示装置(LCD)のような画像表示装置では、表示面での外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために反射防止フィルムを設けることがある。   In image display devices such as cathode ray tube display (CRT), plasma display (PDP), electroluminescence display (ELD), fluorescent display (VFD), field emission display (FED), and liquid crystal display (LCD), An antireflection film may be provided in order to prevent a decrease in contrast and reflection of an image due to reflection of external light on the display surface.

反射防止フィルムとして、基材表面に周期が可視光の波長以下の微細な凹凸形状を有する反射防止フィルム、いわゆるモスアイ(moth eye)構造を有する反射防止フィルムが知られている。モスアイ構造により、擬似的に空気から基材の内部のバルク材料に向かって屈折率が連続的に変化する屈折率傾斜層を作り出し、光の反射を防止することができる。   As an antireflection film, an antireflection film having a fine uneven shape with a period equal to or less than the wavelength of visible light on the surface of the substrate, that is, an antireflection film having a so-called moth eye structure is known. With the moth-eye structure, it is possible to create a refractive index gradient layer in which the refractive index continuously changes from air to the bulk material inside the substrate, thereby preventing light reflection.

モスアイ構造を有する反射防止フィルムとして、特許文献1には、透明樹脂モノマーと微粒子を含有する塗布液を透明基材上に塗布し、硬化して微粒子が分散した透明樹脂を形成し、その後、透明樹脂をエッチングすることにより製造されたモスアイ構造を有する反射防止フィルムが記載されている。   As an antireflection film having a moth-eye structure, Patent Document 1 discloses that a coating liquid containing a transparent resin monomer and fine particles is applied on a transparent substrate and cured to form a transparent resin in which the fine particles are dispersed. An anti-reflection film having a moth-eye structure manufactured by etching a resin is described.

また、特許文献2には、ウレタン(メタ)アクリレート及びエステル(メタ)アクリレートを含有する(メタ)アクリル系重合性組成物を重合させて得られるモスアイ構造を有する反射防止膜が記載されている。   Patent Document 2 describes an antireflection film having a moth-eye structure obtained by polymerizing a (meth) acrylic polymerizable composition containing urethane (meth) acrylate and ester (meth) acrylate.

特開2009−139796号公報JP 2009-139796 A 特開2011−002759号公報JP 2011-002759 A

しかしながら、特許文献1及び2の技術では、透明樹脂に対してエッチング又は型を用いた転写による賦型を施す必要があり、反射防止フィルムの製造工程が複雑になることがある。また、特許文献2の技術では、硬い材料を用いることができないために、耐擦傷性が不十分にあることもあった。   However, in the techniques of Patent Documents 1 and 2, it is necessary to perform shaping by etching or transfer using a mold on the transparent resin, and the manufacturing process of the antireflection film may be complicated. Further, in the technique of Patent Document 2, since a hard material cannot be used, the scratch resistance may be insufficient.

そこで、本発明者は、エッチング又は型を用いた転写による賦型を行わずに、モスアイ構造を作製することについて検討した。
基材上に、粒子とバインダー樹脂又はバインダー樹脂形成用化合物とを含む組成物(塗布液)を塗布、硬化させるのみでモスアイ構造を有する膜を設けようとしたところ、
(1)塗布前の段階で、粒子の含有率が高く、バインダー樹脂又はバインダー樹脂形成用化合物の含有率が低いと、塗布液を塗布してから膜になるまでに粒子同士が凝集してしまい、表面が均一な凹凸構造(モスアイ構造)ができない。その結果、反射防止機能が悪化してしまう。さらに、粒子同士が凝集しすぎると凝集部分が大きな散乱体として作用するため、膜が白濁し、ヘイズを生じてしまう。その結果、コントラストを悪化させ、反射防止フィルムによる画面の美しい黒締りも損ねてしまう。
(2)塗布後の段階で、粒子の含有率が低く、バインダー樹脂又はバインダー樹脂形成用化合物の含有率が高いと、粒子がバインダー樹脂又はバインダー樹脂形成用化合物中に埋まってしまい、凹凸構造が形成できず、十分な反射防止性能が得られない、という問題があることを発見した。
Therefore, the present inventor has examined the production of a moth-eye structure without performing shaping by etching or transfer using a mold.
On the base material, a composition (coating liquid) containing particles and a binder resin or a binder resin forming compound was applied and a film having a moth-eye structure was simply formed by curing.
(1) If the content of the particles is high and the content of the binder resin or binder resin-forming compound is low at the stage before coating, the particles aggregate from the coating solution to the film. , Uneven structure (moth eye structure) with a uniform surface is not possible. As a result, the antireflection function is deteriorated. Furthermore, if the particles are aggregated too much, the aggregated part acts as a large scatterer, so that the film becomes cloudy and haze is generated. As a result, the contrast is deteriorated, and the beautiful blackening of the screen by the antireflection film is also lost.
(2) When the content of the particles is low and the content of the binder resin or the binder resin forming compound is high at the stage after coating, the particles are buried in the binder resin or the binder resin forming compound, resulting in a concavo-convex structure. It has been found that there is a problem that it cannot be formed and sufficient antireflection performance cannot be obtained.

すなわち、本発明の課題は、反射率が低く、白濁感がなく、耐擦傷性に優れたモスアイ構造を有する反射防止フィルム、及び簡便な方法で作製できる反射防止フィルムの製造方法を提供することにある。また、本発明の別の課題は、反射防止フィルムを含む偏光板、カバーガラス、及び画像表示装置を提供することにある。   That is, an object of the present invention is to provide an antireflection film having a moth-eye structure with low reflectance, no cloudiness, and excellent scratch resistance, and a method for producing an antireflection film that can be produced by a simple method. is there. Another object of the present invention is to provide a polarizing plate, a cover glass, and an image display device including an antireflection film.

本発明者らが鋭意検討した結果、反射防止層形成用の塗布液に、基材又は下層に染込みやすい低分子量のモノマーと、粒子の凝集力を妨げやすい化合物(増粘性化合物)を含有させることにより、粒子同士が凝集することを防止することができ、かつモノマーの染込みにより粒子が突出することで、膜の完成時には、粒子によって形成される凹凸構造における凸部の高さ及び凸部間の間隔を最適に調整することができることを見出した。その結果、低反射でかつ面の均一性に優れ、耐擦傷性に優れたモスアイ構造を容易に作製できることを見出した。
モノマーの染込みが起こると塗膜内のみかけの粒子の含有率は高くなるため、増粘性化合物が存在しなければ、塗布液を塗布してから膜になるまでに粒子同士が凝集してしまう。増粘性化合物の増粘効果によって粒子の凝集力を妨げ、塗膜内のみかけの粒子の含有率が高くなっても粒子が凝集しないまま粒子が突出し、所望の凹凸構造を得ることが出来る。
この効果は、単に塗布液の固形分濃度を上げて、塗布液の粘度を上げることでは得ることが出来ない。これは、塗布液を塗布した後、乾燥によって溶媒が揮発するが、その後も基材又は下層へモノマーが染込みこみ、塗膜内のみかけの粒子の含有率が上昇するため、塗布液の固形分濃度の上昇では、この過程における粒子の凝集力を妨げることができないからであると推定できる。
As a result of intensive studies by the present inventors, the coating solution for forming the antireflection layer contains a low molecular weight monomer that easily permeates the base material or the lower layer and a compound that tends to hinder the cohesive force of the particles (thickening compound). The particles can be prevented from agglomerating with each other, and the particles protrude due to the infiltration of the monomer, so that when the film is completed, the height of the protrusions and the protrusions in the uneven structure formed by the particles It was found that the interval between them can be adjusted optimally. As a result, it was found that a moth-eye structure having low reflection, excellent surface uniformity, and excellent scratch resistance can be easily produced.
When the soaking of the monomer occurs, the apparent particle content in the coating film increases, so if there is no thickening compound, the particles will aggregate between the application of the coating solution and the film formation. . The thickening effect of the thickening compound hinders the cohesive force of the particles, and even if the apparent content of particles in the coating film increases, the particles protrude without being aggregated, and a desired uneven structure can be obtained.
This effect cannot be obtained simply by increasing the solid content concentration of the coating solution and increasing the viscosity of the coating solution. This is because the solvent is volatilized by drying after the coating solution is applied, but the monomer infiltrates into the substrate or the lower layer thereafter, and the apparent particle content in the coating film increases, so the coating solution solids. It can be presumed that the increase in the partial concentration cannot prevent the cohesive force of the particles in this process.

すなわち、上記課題は、以下の構成によって解決される。   That is, the said subject is solved by the following structures.

[1]
プラスチック基材と、浸透層と、平均一次粒子径が50nm以上250nm以下の金属酸化物微粒子及び増粘性化合物を含む反射防止層と、をこの順に有する反射防止フィルムであって、
上記浸透層は、分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物の重合物を含み、
上記反射防止層は、上記金属酸化物微粒子により形成された凹凸形状からなるモスアイ構造を有する、反射防止フィルム。
[2]
上記反射防止層が、更にバインダー樹脂を含む[1]に記載の反射防止フィルム。
[3]
上記反射防止層に含まれる上記増粘性化合物が、バインダー樹脂を兼ねるものである[1]に記載の反射防止フィルム。
[4]
上記浸透層が、更に上記増粘性化合物を含む[1]〜[3]のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
[5]
上記浸透層中における上記増粘性化合物の濃度が、上記反射防止層中における上記増粘性化合物の濃度よりも低い、[4]に記載の反射防止フィルム。
[6]
上記反射防止層の凹凸形状は、隣り合う凸部の頂点間の距離Aと、隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離Bとの比であるB/Aが0.6以上である[1]〜[5]のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
[7]
上記金属酸化物微粒子として、平均一次粒径が50nm以上250nm以下の金属酸化物微粒子のみを含有する[1]〜[6]のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
[8]
上記増粘性化合物は、ウレタン化合物である[1]〜[7]のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
[9]
上記ウレタン化合物は、4官能以上のウレタン(メタ)アクリレートである[8]に記載の反射防止フィルム。
[10]
上記増粘性化合物は、100℃における粘度が15〜100000mPa・sである[1]〜[9]のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
[11]
上記プラスチック基材は、セルロースアシレートを含有する基材である[1]〜[10]のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
[12]
上記金属酸化物微粒子がシリカ粒子である[1]〜[11]のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
[13]
上記金属酸化物微粒子の押し込み硬度が400MPa以上である[1]〜[12]のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
[14]
上記金属酸化物微粒子が、(メタ)アクリロイル基を有する化合物で表面修飾された焼成シリカ粒子である、[1]〜[13]のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
[15]
上記距離Aの分布の半値幅が200nm以下である[6]〜[14]のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
[16]
[1]〜[15]のいずれか1項に記載の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして有する偏光板。
[17]
[1]〜[15]のいずれか1項に記載の反射防止フィルムを保護フィルムとして有するカバーガラス。
[18]
[1]〜[15]のいずれか1項に記載の反射防止フィルム、又は[16]に記載の偏光板を有する画像表示装置。
[19]
プラスチック基材と、浸透層と、平均一次粒径が50nm以上250nm以下の金属酸化物微粒子及び増粘性化合物を含む反射防止層と、をこの順に有し、上記反射防止層が、上記プラスチック基材側の界面とは反対側の表面に上記金属酸化物微粒子により形成された凹凸形状からなるモスアイ構造を有する反射防止フィルムの製造方法であって、
プラスチック基材又はプラスチック基材の上に設けられた機能層に、増粘性化合物と、分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物と、平均一次粒子径が50nm以上250nm以下の金属酸化物微粒子と、溶媒とを含む反射防止層形成用組成物を塗布し、上記(メタ)アクリレート化合物を上記プラスチック基材又はプラスチック基材の上に設けられた機能層中に浸透させ、上記金属酸化物微粒子を上記プラスチック基材側の界面とは反対側の表面から突出させる工程と、
上記(メタ)アクリレート化合物を重合させて、上記(メタ)アクリレート化合物の重合物を含む浸透層、及び上記金属酸化物微粒子により形成されたモスアイ構造を有する反射防止層を形成する工程と、
を有する反射防止フィルムの製造方法。
[20]
上記反射防止層形成用組成物は、100℃における粘度が15〜100mPa・sである[19]に記載の反射防止フィルムの製造方法。
[1]
An antireflection film having a plastic substrate, a permeation layer, an antireflection layer containing metal oxide fine particles having an average primary particle size of 50 nm to 250 nm and a thickening compound in this order,
The penetration layer includes a polymer of a (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less,
The antireflection layer is an antireflection film having a moth-eye structure having an uneven shape formed by the metal oxide fine particles.
[2]
The antireflection film according to [1], wherein the antireflection layer further contains a binder resin.
[3]
The antireflection film as described in [1], wherein the thickening compound contained in the antireflection layer also serves as a binder resin.
[4]
The antireflection film according to any one of [1] to [3], wherein the permeation layer further contains the thickening compound.
[5]
The antireflection film according to [4], wherein the concentration of the thickening compound in the permeation layer is lower than the concentration of the thickening compound in the antireflection layer.
[6]
The concave / convex shape of the antireflection layer is such that B / A, which is a ratio of the distance A between the apexes of adjacent convex portions and the distance B between the centers of the adjacent convex portions and the concave portions, is 0.6 or more. The antireflection film according to any one of [1] to [5].
[7]
The antireflection film according to any one of [1] to [6], wherein the metal oxide fine particles contain only metal oxide fine particles having an average primary particle size of 50 nm to 250 nm.
[8]
The anti-reflection film according to any one of [1] to [7], wherein the thickening compound is a urethane compound.
[9]
The said urethane compound is an antireflection film as described in [8] which is a tetrafunctional or more urethane (meth) acrylate.
[10]
The said thickening compound is an antireflection film of any one of [1]-[9] whose viscosity in 100 degreeC is 15-100000 mPa * s.
[11]
The plastic substrate according to any one of [1] to [10], wherein the plastic substrate is a substrate containing cellulose acylate.
[12]
The antireflection film according to any one of [1] to [11], wherein the metal oxide fine particles are silica particles.
[13]
The antireflection film according to any one of [1] to [12], wherein the indentation hardness of the metal oxide fine particles is 400 MPa or more.
[14]
The antireflection film according to any one of [1] to [13], wherein the metal oxide fine particles are fired silica particles whose surface is modified with a compound having a (meth) acryloyl group.
[15]
The antireflection film according to any one of [6] to [14], wherein the half width of the distribution of the distance A is 200 nm or less.
[16]
A polarizing plate having the antireflection film according to any one of [1] to [15] as a protective film for a polarizing plate.
[17]
A cover glass having the antireflection film according to any one of [1] to [15] as a protective film.
[18]
An image display device comprising the antireflection film according to any one of [1] to [15] or the polarizing plate according to [16].
[19]
A plastic substrate, a permeation layer, and an antireflection layer containing metal oxide fine particles having an average primary particle size of 50 nm or more and 250 nm or less and a thickening compound in this order, and the antireflection layer includes the plastic substrate. A method for producing an antireflection film having a moth-eye structure having a concavo-convex shape formed by the metal oxide fine particles on the surface opposite to the side interface,
A functional layer provided on a plastic substrate or a plastic substrate, a thickening compound, a (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less, metal oxide fine particles having an average primary particle size of 50 nm or more and 250 nm or less, A composition for forming an antireflection layer containing a solvent is applied, the (meth) acrylate compound is allowed to permeate into the plastic substrate or a functional layer provided on the plastic substrate, and the metal oxide fine particles are introduced into the functional layer. Projecting from the surface opposite to the plastic substrate side interface;
Polymerizing the (meth) acrylate compound to form a permeation layer containing a polymer of the (meth) acrylate compound, and an antireflection layer having a moth-eye structure formed by the metal oxide fine particles;
The manufacturing method of the antireflection film which has this.
[20]
The composition for forming an antireflective layer is the method for producing an antireflective film according to [19], wherein the viscosity at 100 ° C. is 15 to 100 mPa · s.

本発明によれば、反射率が低く、白濁感がなく、耐擦傷性に優れたモスアイ構造を有する反射防止フィルム、及び簡便な方法で作製できる反射防止フィルムの製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、上記反射防止フィルムを含む偏光板、カバーガラス、及び画像表示装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an antireflection film having a moth-eye structure having a low reflectance, no cloudiness, and excellent scratch resistance, and a method for producing an antireflection film that can be produced by a simple method. Moreover, according to this invention, the polarizing plate, the cover glass, and image display apparatus containing the said antireflection film can be provided.

本発明の反射防止フィルムの一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the antireflection film of this invention.

本発明の反射防止フィルムは、プラスチック基材と、浸透層と、平均一次粒子径が50nm以上250nm以下の金属酸化物微粒子、及び増粘性化合物を含む反射防止層と、をこの順に有する反射防止フィルムであって、上記浸透層は、分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物の重合物を含み、上記反射防止層は、上記金属酸化物微粒子により形成された凹凸形状からなるモスアイ構造を有する、反射防止フィルムである。   The antireflection film of the present invention has an antireflection film comprising a plastic substrate, a permeation layer, metal oxide fine particles having an average primary particle diameter of 50 nm to 250 nm, and an antireflection layer containing a thickening compound in this order. The penetration layer includes a polymer of a (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less, and the antireflection layer has a moth-eye structure having an uneven shape formed by the metal oxide fine particles. It is a prevention film.

以下、本発明の反射防止フィルムについて詳細に説明する。   Hereinafter, the antireflection film of the present invention will be described in detail.

本発明の反射防止フィルムの好ましい実施形態の一例を図1に示す。
図1の反射防止フィルム10は、プラスチック基材1と、浸透層5と、反射防止層2とを有する。反射防止層2は、浸透層5側の界面とは反対側の表面に金属酸化物微粒子3により形成された凹凸形状からなるモスアイ構造を有する。
反射防止層2は、金属酸化物微粒子3と増粘性化合物とを含むものであり、増粘性化合物は好ましくはバインダー樹脂4に含まれる。後述するように、増粘性化合物がバインダー樹脂を兼ねるものでもよい。
An example of a preferred embodiment of the antireflection film of the present invention is shown in FIG.
An antireflection film 10 in FIG. 1 includes a plastic substrate 1, a permeation layer 5, and an antireflection layer 2. The antireflection layer 2 has a moth-eye structure having a concavo-convex shape formed by the metal oxide fine particles 3 on the surface opposite to the interface on the penetrating layer 5 side.
The antireflection layer 2 contains metal oxide fine particles 3 and a thickening compound, and the thickening compound is preferably contained in the binder resin 4. As will be described later, the thickening compound may also serve as the binder resin.

(モスアイ構造)
反射防止層の基材側の界面とは反対側の表面は、金属酸化物微粒子によって形成された凹凸形状からなるモスアイ構造を有する。
ここで、モスアイ構造とは、光の反射を抑制するための物質(材料)の加工された表面であって、周期的な微細構造パターンをもった構造のことを指す。特に、可視光の反射を抑制する目的の場合には、780nm未満の周期の微細構造パターンをもった構造のことを指す。微細構造パターンの周期が380nm未満であると、反射光の色味がなくなり好ましい。また、周期が100nm以上であると波長380nmの光が微細構造パターンを認識でき、反射防止性に優れるため好ましい。モスアイ構造の有無は、走査型電子顕微鏡(SEM)、原子間力顕微鏡(AFM)等により表面形状を観察し、上記微細構造パターンが出来ているかどうか調べることによって確認することができる。
(Moth eye structure)
The surface of the antireflection layer on the side opposite to the interface on the substrate side has a moth-eye structure having a concavo-convex shape formed by metal oxide fine particles.
Here, the moth-eye structure refers to a processed surface of a substance (material) for suppressing light reflection, and a structure having a periodic fine structure pattern. In particular, for the purpose of suppressing the reflection of visible light, it refers to a structure having a fine structure pattern with a period of less than 780 nm. It is preferable that the period of the fine structure pattern is less than 380 nm because the color of the reflected light is eliminated. A period of 100 nm or more is preferable because light with a wavelength of 380 nm can recognize a fine structure pattern and is excellent in antireflection properties. The presence or absence of the moth-eye structure can be confirmed by observing the surface shape with a scanning electron microscope (SEM), an atomic force microscope (AFM), or the like, and examining whether the fine structure pattern is formed.

本発明の反射防止フィルムの反射防止層の凹凸形状は、隣り合う凸部の頂点間の距離Aと、隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離(凹部の深さ又は凸部の高さ)Bとの比であるB/Aが0.6以上であることが好ましい。B/Aが0.6以上であると、凸部同士の距離に対して凹部の深さが大きくなり、空気から反射防止層内部にかけてより緩やかに屈折率が変化する屈折率傾斜層を作ることができるため、反射率をより低減できる。
B/Aは、反射防止層形成用組成物中において、金属酸化物微粒子、増粘性化合物、及び分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物を適切量で含むことにより制御することができる。そのため、増粘性化合物、金属酸化物微粒子、及び分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物の配合比を適切に設計することが好ましい。また、増粘性化合物及び分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物がモスアイ構造を作製する工程の中で基材又は下層に浸透したり、揮発したりすることにより、反射防止層における増粘性化合物と金属酸化物微粒子の体積比が、反射防止層形成用組成物中の配合比と異なる場合もあるため、基材とのマッチングを適切に設定することが好ましい。
更に、B/Aを0.6以上にし、反射率を低減させるためには凸部を形成する金属酸化物微粒子は均一に、高い充填率で敷き詰められていることが好ましいが、また充填率は高すぎないことも好ましい。充填率が高すぎると隣り合う粒子同士が接触して凹凸構造のB/Aを小さくしてしまうためである。上記観点から、凸部を形成する金属酸化物微粒子の含有量は、反射防止層全体で均一になるように調整されるのが好ましい。充填率は、SEMなどにより表面から凸部を形成する金属酸化物微粒子を観察したときの最も表面側に位置した粒子の面積占有率として測定することができ、30%〜95%が好ましく、40〜90%がより好ましく、50〜85%が更に好ましい。
The concavo-convex shape of the antireflection layer of the antireflection film of the present invention is such that the distance A between the vertices of the adjacent convex portions and the distance between the vertices of the adjacent convex portions and the concave portion (the depth of the concave portion or the convex portion). It is preferable that B / A, which is a ratio to (height) B, is 0.6 or more. When B / A is 0.6 or more, the depth of the concave portion increases with respect to the distance between the convex portions, and a refractive index gradient layer in which the refractive index changes more gradually from the air to the inside of the antireflection layer is formed. Therefore, the reflectance can be further reduced.
B / A can be controlled by including an appropriate amount of metal oxide fine particles, a thickening compound, and a (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less in the composition for forming an antireflection layer. Therefore, it is preferable to appropriately design the blending ratio of the thickening compound, the metal oxide fine particles, and the (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less. Further, the thickening compound and the (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less permeate into the base material or the lower layer or volatilize in the step of producing the moth-eye structure, Since the volume ratio of the metal oxide fine particles may be different from the blending ratio in the composition for forming an antireflection layer, it is preferable to appropriately set matching with the substrate.
Furthermore, in order to make B / A 0.6 or more and to reduce the reflectance, it is preferable that the metal oxide fine particles forming the convex portions are uniformly spread at a high filling rate, but the filling rate is It is also preferred that it is not too high. This is because if the filling rate is too high, adjacent particles come into contact with each other to reduce the B / A of the concavo-convex structure. From the above viewpoint, it is preferable that the content of the metal oxide fine particles forming the convex portion is adjusted so as to be uniform throughout the antireflection layer. The filling rate can be measured as the area occupancy of the particles located on the most surface side when observing the metal oxide fine particles forming convex portions from the surface by SEM or the like, preferably 30% to 95%, 40 -90% is more preferable, and 50-85% is still more preferable.

隣り合う凸部の頂点間の距離Aと、隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離Bとの比であるB/Aの測定方法について、以下に、より具体的に説明する。
B/Aは、反射防止フィルムの断面SEM観察により測定することができる。反射防止フィルム試料をミクロトームで切削して断面を出し、適切な倍率(5000倍程度)でSEM観察する。観察し易いように、試料にはカーボン蒸着、エッチング等適切な処理を施してもよい。B/Aは、空気と試料が作る界面において、隣り合う凸部の頂点間の距離をA、隣り合う凸部の頂点を含み基材面と垂直な面内にて、隣り合う凸部の頂点を結ぶ直線とその垂直二等分線が粒子又はバインダー樹脂に到達する点である凹部との距離をBとして、100点測長したとき、B/Aの平均値として算出する。
SEM写真においては、写っているすべての凹凸について、隣り合う凸部の頂点間の距離Aと、隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離Bとを正確に測長できない場合もあるが、その場合はSEM画像で手前側に写っている凸部と凹部に着目して測長すればよい。
なお、凹部は、SEM画像で測長する2つの隣り合う凸部を形成する粒子と同じ深度において測長することが必要である。より手前側に写っている粒子などまでの距離をBとして測長してしまうと、Bを小さく見積もってしまう場合があるからである。
A method for measuring B / A, which is a ratio of the distance A between the apexes of adjacent convex portions and the distance B between the center between the apexes of adjacent convex portions and the concave portion, will be described in more detail below.
B / A can be measured by cross-sectional SEM observation of the antireflection film. The antireflection film sample is cut with a microtome to obtain a cross section, and SEM observation is performed at an appropriate magnification (about 5000 times). For easy observation, the sample may be subjected to appropriate processing such as carbon deposition and etching. B / A is the distance between the vertices of adjacent protrusions at the interface between the air and the sample, and the vertices of adjacent protrusions in the plane perpendicular to the substrate surface including the vertices of the adjacent protrusions. The distance between the straight line connecting the two and the vertical bisector reaching the particle or the binder resin is defined as B, and when 100 points are measured, the average value of B / A is calculated.
In the SEM photograph, there are cases where the distance A between the vertices of the adjacent convex portions and the distance B between the vertices of the adjacent convex portions and the concave portion B cannot be measured accurately with respect to all the projected and recessed portions. However, in that case, the length may be measured by paying attention to the convex portion and the concave portion shown on the near side in the SEM image.
Note that the concave portion needs to be measured at the same depth as the particles forming the two adjacent convex portions to be measured in the SEM image. This is because if the distance to a particle or the like reflected on the near side is measured as B, B may be estimated small.

B/Aは、0.6以上であることが好ましく、0.7以上であることがより好ましく、0.8以上であることが更に好ましい。また、モスアイ構造が強固に固定化でき、耐擦傷性に優れるという観点からは、0.9以下であることが好ましい。   B / A is preferably 0.6 or more, more preferably 0.7 or more, and still more preferably 0.8 or more. Moreover, from the viewpoint that the moth-eye structure can be firmly fixed and has excellent scratch resistance, it is preferably 0.9 or less.

[プラスチック基材]
本発明の反射防止フィルムにおけるプラスチック基材について説明する。
上記プラスチック基材としては、種々用いることができ、例えば、セルロース系樹脂;セルロースアシレート(トリアセテートセルロース、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース)等、ポリエステル樹脂;ポリエチレンテレフタレート等、(メタ)アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、オレフィン系樹脂等を含有する基材が挙げられ、浸透層を作製し易い観点から、セルロースアシレート、ポリエチレンテレフタレート、又は(メタ)アクリル系樹脂を含有する基材が好ましく、セルロースアシレート又は(メタ)アクリル系樹脂を含有する基材がより好ましく、セルロースアシレートを含有する基材が更に好ましい。セルロースアシレートとしては、特開2012−093723に記載の基材等を好ましく用いることが出来る。
[Plastic substrate]
The plastic substrate in the antireflection film of the present invention will be described.
The plastic substrate can be variously used, for example, cellulose resin; cellulose acylate (triacetate cellulose, diacetyl cellulose, acetate butyrate cellulose), polyester resin; polyethylene terephthalate, (meth) acrylic resin, Examples include base materials containing polyurethane-based resins, polycarbonates, polystyrenes, olefin-based resins, etc. From the viewpoint of easy production of a permeation layer, base materials containing cellulose acylate, polyethylene terephthalate, or (meth) acrylic resins. Preferably, a substrate containing cellulose acylate or (meth) acrylic resin is more preferable, and a substrate containing cellulose acylate is still more preferable. As the cellulose acylate, a substrate described in JP 2012-093723 A or the like can be preferably used.

また、(メタ)アクリル系樹脂を含有するプラスチック基材としては、(メタ)アクリル系重合体を主成分とする(メタ)アクリル系樹脂からなる熱可塑性樹脂を用いることができる。但し、(メタ)アクリル系重合体を主成分とするとは、基材中に(メタ)アクリル系重合体を50質量%以上含有することを意味する。
なお、(メタ)アクリル系重合体は、メタクリル系重合体とアクリル系重合体の両方を含む概念である。また、(メタ)アクリル系重合体には、アクリレート/メタクリレートの誘導体、特にアクリレートエステル/メタクリレートエステルの(共)重合体も含まれる。より具体的には、特開2014−95731号記載の基材を用いることができる。
Moreover, as a plastic base material containing (meth) acrylic-type resin, the thermoplastic resin which consists of (meth) acrylic-type resin which has a (meth) acrylic-type polymer as a main component can be used. However, having a (meth) acrylic polymer as a main component means that the base material contains 50% by mass or more of a (meth) acrylic polymer.
The (meth) acrylic polymer is a concept including both a methacrylic polymer and an acrylic polymer. The (meth) acrylic polymer also includes acrylate / methacrylate derivatives, in particular, acrylate ester / methacrylate ester (co) polymers. More specifically, a base material described in JP-A No. 2014-95731 can be used.

プラスチック基材の厚さは、通常、10μm〜1000μm程度であるが、取り扱い性が良好で、透明性が高く、かつ十分な強度が得られるという観点から20μm〜200μmが好ましく、25μm〜100μmがより好ましい。プラスチック基材の透明性としては、透過率90%以上のものが好ましい。   The thickness of the plastic substrate is usually about 10 μm to 1000 μm, but is preferably 20 μm to 200 μm, more preferably 25 μm to 100 μm from the viewpoint of good handleability, high transparency, and sufficient strength. preferable. As the transparency of the plastic substrate, those having a transmittance of 90% or more are preferable.

プラスチック基材は、反射防止層を積層したときに浸透層を形成することが出来る場合には、表面に別の機能層を備えていても良い。例えば、基材にハードコート性を付与するためのハードコート層、他の層との密着性を付与するための易接着層、帯電防止性を付与するための層等を備えていても良く、それらを複数備えていても良い。   The plastic substrate may be provided with another functional layer on the surface when the permeation layer can be formed when the antireflection layer is laminated. For example, it may be provided with a hard coat layer for imparting hard coat properties to the substrate, an easy adhesion layer for imparting adhesion to other layers, a layer for imparting antistatic properties, etc. A plurality of them may be provided.

[浸透層]
本発明の反射防止フィルムは、プラスチック基材と反射防止層との間に、浸透層を有する。
本発明において、浸透層とは、プラスチック基材成分又は機能層に含まれる成分と分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物の重合物とを含む層(領域)であり、浸透層には増粘性化合物が含まれていてもよい。本発明における浸透層は、プラスチック基材又はプラスチック基材の上に設けられた機能層に、増粘性化合物と、分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物と、平均一次粒子径が50nm以上250nm以下の金属酸化物微粒子と、溶媒とを含む反射防止層形成用組成物を塗布し、分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物をプラスチック基材又はプラスチック基材の上に設けられた機能層中に浸透させることにより得られる。このとき、増粘性化合物がプラスチック基材中に浸透してもよい。
なお、増粘性化合物とは、これを含有させることにより固形分の粘度が増大するものを指し、
本発明では以後、プラスチック基材とは、プラスチック基材成分を含み、かつ、増粘性化合物及び分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物の重合物を含まない部分を指すこととする。また、反射防止層とは、金属酸化物微粒子と増粘性化合物とを含み、かつ、浸透層とは異なる部分を指すこととする。
また、浸透層は、本発明の反射防止フィルムをミクロトームで切削し、断面を飛行時間型二次イオン質量分析装置(TOF−SIMS)で分析した時に、プラスチック基材成分と、分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物の重合物が共に検出される部分として測定することができ、この領域の膜厚も同様にTOF−SIMSの断面情報から測定することができる。
また、浸透層は、例えば光の干渉を利用した反射分光膜厚計やTEM(透過型電子顕微鏡)による断面観察により、基材と反射防止層の中間に別の1層を検出することによっても測定することが出来る。反射分光膜厚計としては、FE−3000(大塚電子(株)製)等を用いることが出来る。
浸透層の厚さは、塗布組成物中の粒子含率を高くしすぎずにモスアイ層を形成できる観点から、0.1μm以上5μm以下が好ましい。
浸透層は、効率よく浸透層が形成できる観点から、基材浸透性溶媒を含有することが好ましく、基材への浸透性を有していて且つ基材を膨潤させない溶媒を含有することがより好ましい。反射防止層形成用組成物における基材浸透性溶媒の含有量は、10〜95質量%が好ましく、20〜90質量%がより好ましい。
[Penetration layer]
The antireflection film of the present invention has a permeation layer between the plastic substrate and the antireflection layer.
In the present invention, the osmotic layer is a layer (region) containing a component contained in a plastic substrate component or a functional layer and a polymer of a (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less. A compound may be included. The permeation layer in the present invention is a plastic substrate or a functional layer provided on a plastic substrate, a thickening compound, a (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less, and an average primary particle size of 50 nm to 250 nm. In the functional layer provided on the plastic substrate or the plastic substrate, the composition for forming an antireflection layer containing the metal oxide fine particles and the solvent is applied, and the (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less is applied. Obtained by infiltration. At this time, the thickening compound may penetrate into the plastic substrate.
In addition, the thickening compound refers to a compound in which the viscosity of the solid content is increased by containing it.
In the present invention, hereinafter, the plastic substrate refers to a portion that contains a plastic substrate component and does not contain a thickening compound and a polymer of a (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less. The antireflection layer includes a metal oxide fine particle and a thickening compound and refers to a portion different from the permeation layer.
In addition, the permeation layer is obtained by cutting the antireflection film of the present invention with a microtome and analyzing the cross section with a time-of-flight secondary ion mass spectrometer (TOF-SIMS), and the plastic substrate component and the molecular weight are 400 or less. It can be measured as a portion where the polymer of the (meth) acrylate compound is detected together, and the film thickness in this region can also be measured from the cross-sectional information of TOF-SIMS.
In addition, the permeation layer can also be detected by detecting another layer between the base material and the antireflection layer, for example, by cross-sectional observation using a reflection spectral film thickness meter or TEM (transmission electron microscope) using light interference. It can be measured. As the reflective spectral film thickness meter, FE-3000 (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.) or the like can be used.
The thickness of the permeation layer is preferably 0.1 μm or more and 5 μm or less from the viewpoint of forming a moth-eye layer without increasing the particle content in the coating composition.
From the viewpoint that the osmotic layer can be efficiently formed, the osmotic layer preferably contains a base material permeable solvent, and more preferably contains a solvent that is permeable to the base material and does not swell the base material. preferable. 10-95 mass% is preferable and, as for content of the base-material penetrating solvent in the composition for antireflection layer formation, 20-90 mass% is more preferable.

(分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物)
本発明の反射防止フィルムの浸透層は、分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物を重合して得られる重合物を含む。
分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物は、塗布前の段階においては粒子の含有率が低く、バインダー樹脂又はバインダー樹脂形成用化合物の含有率が高い状態として粒子を凝集させず、さらに、塗布後には基材に浸透して浸透層を形成し粒子を突出させる機能を有する。分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物としては、分子量が400以下で、(メタ)アクリロイル基を有する重合性化合物であれば制限なく用いることが出来るが、重合硬化後の膜強度を上げられることから、(メタ)アクリロイル基は1分子中に2個以上有することが好ましい。さらに、基材に浸透後に重合硬化して浸透層を形成するので、透過率や光散乱の観点から基材を構成する素材との相溶性が良いことが好ましい。
分子量が400以下の(メタ)アクリレートの具体例としては、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル(HEMA)、1,4−ブタンジオールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、アルキレンオキシド変性アクリレートなどを好ましく用いることが出来る。また、上市品では、ビスコート#195、ビスコート#295(大阪有機化学工業(株)製)、ブレンマーG、ブレンマーGMR、ブレンマーPDE−200(日油(株)社製)、KAYARAD PET30(日本化薬(株)社製)、NKエステルA−TMPT(新中村化学(株)社製)などを用いることができる。
分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物の分子量は、150〜400が好ましく、200〜350がより好ましい。下限以上であることにより製造工程で揮発して製造機内の工程の汚染を抑制することができ、上限以下であることにより、基材または機能層に浸透しやすくなる。
((Meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less)
The permeation layer of the antireflection film of the present invention contains a polymer obtained by polymerizing a (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less.
The (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less has a low particle content in the stage before coating, and does not aggregate the particles with a high content of binder resin or binder resin forming compound. Has a function of penetrating the base material to form a permeation layer and projecting the particles. The (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less can be used without limitation as long as it is a polymerizable compound having a molecular weight of 400 or less and having a (meth) acryloyl group, but the film strength after polymerization and curing can be increased. Therefore, it is preferable to have two or more (meth) acryloyl groups in one molecule. Furthermore, since the penetration layer is formed by polymerization and curing after penetrating into the base material, it is preferable that the compatibility with the material constituting the base material is good from the viewpoint of transmittance and light scattering.
Specific examples of (meth) acrylate having a molecular weight of 400 or less include 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA), 1,4-butanediol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, trimethylolpropane triacrylate, Glycidyl (meth) acrylate, alkylene oxide-modified acrylate and the like can be preferably used. In addition, among the products on the market, Biscote # 195, Biscote # 295 (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), Blemmer G, Blemmer GMR, Blemmer PDE-200 (manufactured by NOF Corporation), KAYARAD PET30 (Nippon Kayaku) NK ester A-TMPT (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and the like can be used.
The molecular weight of the (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less is preferably 150 to 400, more preferably 200 to 350. By being more than a lower limit, it can volatilize in a manufacturing process and can suppress the contamination of the process in a manufacturing machine, and by being below an upper limit, it becomes easy to osmose | permeate a base material or a functional layer.

[反射防止層]
反射防止層は、平均一次粒子径が50nm以上250nm以下の金属酸化物微粒子と増粘性化合物とを含む。
反射防止層の浸透層側の界面とは反対側の表面には、上記金属酸化物微粒子によってモスアイ構造が形成されている。本発明における反射防止層は、例えば、後述の製造方法において、プラスチック基材上に、上記反射防止層形成用組成物を塗布し、分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物をプラスチック基材中に浸透させることにより浸透層が形成される際に、浸透層上に形成される。反射防止層中には、更にバインダー樹脂を含んでいてもよいし、増粘性化合物がバインダー樹脂を兼ねるものでもよい。
[Antireflection layer]
The antireflection layer includes metal oxide fine particles having an average primary particle diameter of 50 nm or more and 250 nm or less and a thickening compound.
A moth-eye structure is formed by the metal oxide fine particles on the surface of the antireflection layer opposite to the interface on the permeation layer side. The antireflection layer in the present invention is prepared by, for example, applying the antireflection layer forming composition on a plastic substrate in the production method described later, and applying a (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less in the plastic substrate. When the permeation layer is formed by permeation, it is formed on the permeation layer. The antireflection layer may further contain a binder resin, or a thickening compound may also serve as the binder resin.

反射防止層の膜厚は、0.05〜5μmであることが好ましく、0.1〜1μmであることがより好ましい。   The thickness of the antireflection layer is preferably 0.05 to 5 μm, and more preferably 0.1 to 1 μm.

(金属酸化物微粒子)
反射防止層のモスアイ構造を形成する金属酸化物微粒子について説明する。
金属酸化物微粒子は、平均一次粒径が50nm以上250nm以下である。
(Metal oxide fine particles)
The metal oxide fine particles forming the moth-eye structure of the antireflection layer will be described.
The metal oxide fine particles have an average primary particle size of 50 nm or more and 250 nm or less.

金属酸化物微粒子は、平均一次粒径が50nm以上250nm以下であり、さらに平均一次粒径の分散度Cv値が10%以下である金属酸化物微粒子を好適に用いることが出来る。分散度Cv値は、
Cv値=([平均一次粒径の標準偏差]/[平均粒径])×100 (1)
によって計算して求めることができる値(単位:%)であり、小さいほど平均一次粒径がそろっていることを意味する。平均一次粒径の測定は、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて行う。金属酸化物微粒子の平均粒径及びその標準偏差は、200個以上の金属酸化物微粒子の粒径の測定値に基づいて算出する。また、ここにいう平均粒径とは、粒子が球形でない場合には外接円の最大直径をいう。平均一次粒径の異なる複数種の粒子の混合物の場合も、粒子全体としてのCv値を算出する。
平均一次粒径が50nm以上であることによりモスアイ構造の反射防止層として機能でき、250nm以下であることにより金属酸化物微粒子が規則的に配列することによるBragg回折が可視光領域で起こりにくいため、これに由来する発色(着色)現象を示さない。よって、Cv値が小さいほど粒子凝集が起こりにくく、着色がないまま低反射率で高透過率のモスアイ構造の反射防止層を形成できるため好ましい。平均一次粒径は、100nm以上220nm以下が好ましく、120nm以上200nm以下がより好ましい。Cv値としては、1〜10%が好ましく、1〜5%がより好ましい。
Cv値を小さく出来るという理由から、金属酸化物微粒子として、一次粒径が50nm以上250nm以下の金属酸化物微粒子のみを含有することが好ましく、一次粒径が100nm以上220nm以下の金属酸化物微粒子のみを含有することがより好ましく、一次粒径が120nm以上200nm以下の金属酸化物微粒子のみを含有することが更に好ましい。
金属酸化物微粒子の平均一次粒径は、体積平均粒径の累積の50%粒径を指す。反射防止層中に含まれる金属酸化物微粒子の平均一次粒径を測定する場合には、電子顕微鏡写真により測定することが出来る。例えば、反射防止フィルムを表面側からSEM観察により適切な倍率(5000倍程度)で観察し、一次粒子100個のそれぞれの直径を測長してその体積を算出し、累積の50%粒径を平均一次粒径とすることができる。粒子が球形でない場合には、長径と短径の平均値をその一次粒子の直径とみなす。このとき、観察し易いように、試料にはカーボン蒸着、エッチング処理などを適宜施してよい。
As the metal oxide fine particles, metal oxide fine particles having an average primary particle diameter of 50 nm or more and 250 nm or less and a dispersion degree Cv value of the average primary particle diameter of 10% or less can be suitably used. The degree of dispersion Cv is
Cv value = ([standard deviation of average primary particle size] / [average particle size]) × 100 (1)
Is a value (unit:%) that can be obtained by calculation, and the smaller the value, the greater the average primary particle size. The average primary particle size is measured using a scanning electron microscope (SEM). The average particle diameter of the metal oxide fine particles and the standard deviation thereof are calculated based on the measured values of the particle diameters of 200 or more metal oxide fine particles. In addition, the average particle diameter here means the maximum diameter of a circumscribed circle when the particles are not spherical. Also in the case of a mixture of a plurality of types of particles having different average primary particle sizes, the Cv value as a whole particle is calculated.
When the average primary particle size is 50 nm or more, it can function as an antireflection layer having a moth-eye structure, and when it is 250 nm or less, Bragg diffraction due to regular arrangement of metal oxide fine particles hardly occurs in the visible light region. The color development (coloring) phenomenon derived from this is not shown. Therefore, it is preferable that the Cv value is small because particle aggregation is less likely to occur and an antireflection layer having a low reflectance and a high transmittance can be formed without coloring. The average primary particle size is preferably from 100 nm to 220 nm, and more preferably from 120 nm to 200 nm. The Cv value is preferably 1 to 10%, more preferably 1 to 5%.
From the reason that the Cv value can be reduced, it is preferable that the metal oxide fine particles contain only metal oxide fine particles having a primary particle size of 50 nm to 250 nm, and only metal oxide fine particles having a primary particle size of 100 nm to 220 nm. It is more preferable to contain only metal oxide fine particles having a primary particle size of 120 nm to 200 nm.
The average primary particle size of the metal oxide fine particles refers to a cumulative 50% particle size of the volume average particle size. When measuring the average primary particle size of the metal oxide fine particles contained in the antireflection layer, it can be measured by an electron micrograph. For example, the antireflection film is observed from the surface side by SEM observation at an appropriate magnification (about 5000 times), the diameter of each of the 100 primary particles is measured, the volume is calculated, and the cumulative 50% particle size is calculated. The average primary particle size can be obtained. When the particles are not spherical, the average value of the major and minor diameters is regarded as the diameter of the primary particles. At this time, for easy observation, the sample may be appropriately subjected to carbon deposition, etching, or the like.

本発明において、金属酸化物微粒子の押し込み硬度は400MPa以上であることが好ましく、450MPa以上であることがより好ましく、550MPa以上であることが最も好ましい。金属酸化物微粒子の押し込み硬度が400MPa以上であるとモスアイ構造の厚み方向の圧力に対する耐久性が高くなるため好ましい。また、脆くて割れやすくならないようにするために金属酸化物微粒子の押し込み硬度は1000MPa以下であることが好ましい。
金属酸化物微粒子の押し込み硬度は、ナノインデンター等によって測定することが出来る。具体的な測定手法としては、試料は、金属酸化物微粒子をそれ自身より硬い基板(ガラス板、石英板等)に一段以上重なりが生じないように並べてダイヤモンド圧子で押し込んで測定することができる。この際、粒子が動かないように、樹脂などで固定することが好ましい。ただし、樹脂で固定する場合には粒子の一部が露出するように調節して行う。また、トライボインデンターにより押し込み位置を特定することが好ましい。
本発明においても、基板上に粒子を並べ、測定値に影響を及ぼさない様に微量の硬化性樹脂を用いて粒子同士を結着・固定させた試料を作成し、その試料を圧子による測定方法を用いて金属酸化物微粒子の押し込み硬度を求めた。
In the present invention, the indentation hardness of the metal oxide fine particles is preferably 400 MPa or more, more preferably 450 MPa or more, and most preferably 550 MPa or more. It is preferable that the indentation hardness of the metal oxide fine particles is 400 MPa or more because durability against pressure in the thickness direction of the moth-eye structure is increased. Further, the indentation hardness of the metal oxide fine particles is preferably 1000 MPa or less so as not to be brittle and easy to break.
The indentation hardness of the metal oxide fine particles can be measured with a nanoindenter or the like. As a specific measuring method, the sample can be measured by arranging metal oxide fine particles on a substrate (glass plate, quartz plate, etc.) harder than itself so as not to overlap one or more stages and pushing with a diamond indenter. At this time, it is preferable to fix with a resin or the like so that the particles do not move. However, when fixing with resin, it adjusts so that a part of particle | grain may be exposed. Moreover, it is preferable to specify a pushing position with a tribo indenter.
Also in the present invention, particles are arranged on a substrate, a sample in which particles are bound and fixed using a small amount of curable resin so as not to affect the measurement value, and the sample is measured by an indenter. Was used to determine the indentation hardness of the metal oxide fine particles.

金属酸化物微粒子としては、シリカ粒子、チタニア粒子、ジルコニア粒子、五酸化アンチモン粒子などが挙げられるが、多くのバインダーと屈折率が近いためヘイズを発生しにくく、かつモスアイ構造が形成し易い観点からシリカ粒子が好ましい。   Examples of the metal oxide fine particles include silica particles, titania particles, zirconia particles, and antimony pentoxide particles. From the viewpoint that moth-eye structures are easily formed because haze is not easily generated because the refractive index is close to that of many binders. Silica particles are preferred.

金属酸化物微粒子は、表面のヒドロキシル基量が適度に多く、かつ硬い粒子であるという理由から、焼成シリカ粒子であることが特に好ましい。
焼成シリカ粒子は、加水分解が可能なシリコン化合物を水と触媒とを含む有機溶媒中で加水分解、縮合させることによってシリカ粒子を得た後、シリカ粒子を焼成するという公知の技術により製造することができ、たとえば特開2003−176121号公報、特開2008−137854号公報などを参照することができる。
焼成シリカ粒子を製造する原料のシリコン化合物としては特に限定されないが、テトラクロロシラン、メチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、メチルビニルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、メチルジフェニルクロロシラン等のクロロシラン化合物;テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、トリメトキシビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−(2−アミノエチルアミノ)プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン等のアルコキシシラン化合物;テトラアセトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、ジフェニルジアセトキシシラン、トリメチルアセトキシシラン等のアシロキシシラン化合物;ジメチルシランジオール、ジフェニルシランジオール、トリメチルシラノール等のシラノール化合物;等が挙げられる。上記例示のシラン化合物のうち、アルコキシシラン化合物が、より入手し易く、かつ、得られる焼成シリカ粒子に不純物としてハロゲン原子が含まれることが無いので特に好ましい。本発明にかかる焼成シリカ粒子の好ましい形態としては、ハロゲン原子の含有量が実質的に0%であり、ハロゲン原子が検出されないことが好ましい。
焼成温度は特に限定されないが、800〜1300℃が好ましく、1000℃〜1200℃がより好ましい。
The metal oxide fine particles are particularly preferably calcined silica particles because the surface hydroxyl group amount is moderately large and the particles are hard particles.
The calcined silica particles are manufactured by a known technique in which silica particles are obtained by hydrolyzing and condensing a hydrolyzable silicon compound in an organic solvent containing water and a catalyst, and then the silica particles are calcined. For example, JP2003-176121A, JP2008-137854A, and the like can be referred to.
Although it does not specifically limit as a raw material silicon compound which manufactures a burning silica particle, Chlorosilanes, such as tetrachlorosilane, methyltrichlorosilane, phenyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane, diphenyldichlorosilane, methylvinyldichlorosilane, trimethylchlorosilane, methyldiphenylchlorosilane Compounds: tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, trimethoxyvinylsilane, triethoxyvinylsilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-chloro Propyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3- (2-aminoethylamino) propyltrimethoxy Silane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, Alkoxysilane compounds such as diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, dimethoxydiethoxysilane, trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane; tetraacetoxysilane, methyltriacetoxysilane, phenyltriacetoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, diphenyldiacetoxysilane Acyloxysilane compounds such as trimethylacetoxysilane; dimethylsilanediol, diphenylsilanediol, tri Silanol compounds such as chill silanol; and the like. Of the above-exemplified silane compounds, the alkoxysilane compound is particularly preferred because it is more easily available and the resulting fired silica particles do not contain halogen atoms as impurities. As a preferred form of the calcined silica particles according to the present invention, it is preferred that the halogen atom content is substantially 0% and no halogen atoms are detected.
Although a calcination temperature is not specifically limited, 800-1300 degreeC is preferable and 1000 degreeC-1200 degreeC is more preferable.

焼成シリカ粒子としては、(メタ)アクリロイル基を有する化合物で表面修飾された焼成シリカ粒子であることが好ましい。(メタ)アクリロイル基を有する化合物で表面修飾された焼成シリカ粒子を用いることで、反射防止層を形成するための組成物中での分散性向上、膜強度向上、凝集防止などの効果が期待できる。表面処理方法の具体例及びその好ましい例は、特開2007−298974号公報の[0119]〜[0147]の記載を参照できる。   The calcined silica particles are preferably calcined silica particles whose surface is modified with a compound having a (meth) acryloyl group. By using calcined silica particles whose surface is modified with a compound having a (meth) acryloyl group, effects such as improvement in dispersibility in the composition for forming an antireflection layer, improvement in film strength, and prevention of aggregation can be expected. . For specific examples of the surface treatment method and preferred examples thereof, reference can be made to the descriptions in [0119] to [0147] of JP-A-2007-298974.

金属酸化物微粒子の形状は、球形が最も好ましいが、不定形等の球形以外であっても問題無い。   The shape of the metal oxide fine particles is most preferably spherical, but there is no problem even if the shape is not spherical such as indefinite.

金属酸化物微粒子は市販されている粒子を焼成して用いてもよい。具体的な例としては、IPA−ST−L(平均一次粒径50nm、日産化学工業(株)製シリカゾル)、IPA−ST−ZL(平均一次粒径80nm、日産化学工業(株)製シリカゾル)、スノーテックスMP−1040(平均一次粒径100nm、日産化学工業(株)製シリカ)、スノーテックスMP−2040(平均一次粒径200nm、日産化学工業(株)製シリカ)、シーホスターKE−P10(平均一次粒径150nm、日本触媒(株)製アモルファスシリカ)、シーホスターKE−P20(平均一次粒径200nm、日本触媒(株)製アモルファスシリカ)、ASFP−20(平均一次粒径200nm、日本電気化学工業(株)製アルミナ)などを好ましく用いることができる。さらに、本発明の金属酸化物微粒子の要件を満たすものであれば、市販されている粒子をそのまま用いても良い。   The metal oxide fine particles may be used by firing commercially available particles. As specific examples, IPA-ST-L (average primary particle size 50 nm, silica sol manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), IPA-ST-ZL (average primary particle size 80 nm, silica sol manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) , Snowtex MP-1040 (average primary particle size 100 nm, silica manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), Snowtex MP-2040 (average primary particle size 200 nm, silica manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), Seahoster KE-P10 ( Average primary particle size 150 nm, Nippon Shokubai Co., Ltd. amorphous silica), Seahoster KE-P20 (average primary particle size 200 nm, Nippon Shokubai Co., Ltd. amorphous silica), ASFP-20 (average primary particle size 200 nm, Nippon Electrochemical) (Alumina manufactured by Kogyo Co., Ltd.) and the like can be preferably used. Furthermore, as long as the requirements of the metal oxide fine particles of the present invention are satisfied, commercially available particles may be used as they are.

反射防止層における隣り合う凸部の頂点間の距離Aの分布の半値幅は、200nm以下であることが好ましい。Aの分布の半値幅が200nm以下であることは、粒子間距離の分布が狭く(シャープで)、粒子同士が寄ったり極度に離れたりせずに均一に存在することを表しており、ヘイズの低下、反射率の低下の観点で好ましい。Aの分布の半値幅は、125nm以下であることがより好ましく、100nm以下であることが更に好ましい。   The half-value width of the distribution of the distance A between the vertices of adjacent convex portions in the antireflection layer is preferably 200 nm or less. The half-value width of the distribution of A is 200 nm or less, which means that the distribution of the distance between particles is narrow (sharp), and the particles are uniformly present without coming close or extremely separated. It is preferable from the viewpoint of reduction and reflectance reduction. The half width of the A distribution is more preferably 125 nm or less, and further preferably 100 nm or less.

反射防止層における金属酸化物微粒子の含有量は、反射防止層の全質量に対して、50〜95質量%であることが好ましく、60〜90質量%であることがより好ましい。金属酸化物微粒子の含有量が50質量%以上であると、粒径にもよるが表面がモスアイ構造となりやすく。また、金属酸化物微粒子の含有量が95質量%以下であると粒子をフィルムに結着させることが出来る。   The content of the metal oxide fine particles in the antireflection layer is preferably 50 to 95% by mass, and more preferably 60 to 90% by mass with respect to the total mass of the antireflection layer. When the content of the metal oxide fine particles is 50% by mass or more, although depending on the particle diameter, the surface tends to have a moth-eye structure. Further, when the content of the metal oxide fine particles is 95% by mass or less, the particles can be bound to the film.

(増粘性化合物)
本発明の反射防止層には、金属酸化物微粒子の凝集を抑制するために、増粘性化合物が含まれる。ここでいう増粘性化合物とは、それが含有されることにより固形分の粘度が増大するものを意味し、分子量400以下の(メタ)アクリレート化合物よりも粘度が高いものを言う。また、増粘性化合物は、反射防止層形成用組成物に溶解するものであれば特に制限はなく、金属酸化物微粒子、分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物との相溶性の観点などから、適切なものを選定することが出来る。増粘性化合物としては、例えば、有機高分子増粘剤、無機酸化物系増粘剤などが挙げられ、粒子の凝集抑制効果が高く、金属酸化物微粒子や分子量が400以下の(メタ)アクリレートとの相溶性か良好な観点からウレタン化合物であることが好ましく、耐擦傷性に優れる観点から4官能以上のウレタン(メタ)アクリレートであることがより好ましい。また、増粘性化合物は、バインダーを兼ねるものであっても良い。このときは、増粘性化合物は、有機アクリル系低分子化合物などを好ましく用いることが出来る。
増粘性化合物は、100℃における粘度が15〜100000mPa・sであることが好ましく、30〜10000mPa・sであることがより好ましい。上記の範囲であることにより、分子量400以下の(メタ)アクリレート化合物を基材に染込ませる加熱乾燥工程において粒子の凝集抑制効果が発現できるためである。
(Thickening compound)
The antireflection layer of the present invention contains a thickening compound in order to suppress aggregation of the metal oxide fine particles. As used herein, the thickening compound means that the viscosity of the solid content increases when it is contained, and the viscosity is higher than that of the (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less. The thickening compound is not particularly limited as long as it is soluble in the composition for forming an antireflection layer. From the viewpoint of compatibility with metal oxide fine particles, a (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less, and the like. Appropriate ones can be selected. Examples of the thickening compound include organic polymer thickeners, inorganic oxide thickeners, and the like, which are highly effective in suppressing aggregation of particles, and include metal oxide fine particles and (meth) acrylate having a molecular weight of 400 or less. From the viewpoint of good compatibility, it is preferably a urethane compound, and from the viewpoint of excellent scratch resistance, it is more preferably a tetrafunctional or higher functional urethane (meth) acrylate. The thickening compound may also serve as a binder. In this case, an organic acrylic low molecular weight compound or the like can be preferably used as the thickening compound.
The viscosity of the thickening compound is preferably 15 to 100,000 mPa · s, more preferably 30 to 10,000 mPa · s at 100 ° C. It is because the aggregation suppression effect of particle | grains can be expressed in the heat-drying process by which a (meth) acrylate compound with a molecular weight of 400 or less is infiltrated into a base material by being in said range.

<有機高分子増粘剤>
有機高分子増粘剤としては、以下のものが挙げられるが、これに限定されない。
ポリ−ε−カプロラクトン、ポリ−ε−カプロラクトン ジオール、ポリ−ε−カプロラクトン トリオール、ポリビニルアセテート、ポリ(エチレン アジペート)、ポリ(1,4−ブチレン アジペート)、ポリ(1,4−ブチレン グルタレート)、ポリ(1,4−ブチレン スクシネート)、ポリ(1,4−ブチレン テレフタレート)、ポリ(エチレンテレフタレート)、ポリ(2−メチル−1,3−プロピレンアジペート)、ポリ(2−メチル−1,3−プロピレン グルタレート)、ポリ(ネオペンチルグリコールアジペート)、ポリ(ネオペンチルグリコール セバケート)、ポリ(1,3−プロピレンアジペート)、ポリ(1,3−プロピレン グルタレート)、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリビニルプロパナール、ポリビニルヘキサナール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリスチレン、ポリウレタンなどが挙げられる。
<Organic polymer thickener>
Examples of organic polymer thickeners include, but are not limited to:
Poly-ε-caprolactone, poly-ε-caprolactone diol, poly-ε-caprolactone triol, polyvinyl acetate, poly (ethylene adipate), poly (1,4-butylene adipate), poly (1,4-butylene glutarate), poly (1,4-butylene succinate), poly (1,4-butylene terephthalate), poly (ethylene terephthalate), poly (2-methyl-1,3-propylene adipate), poly (2-methyl-1,3-propylene) Glutarate), poly (neopentyl glycol adipate), poly (neopentyl glycol sebacate), poly (1,3-propylene adipate), poly (1,3-propylene glutarate), polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl acetal, poly Examples include livinylpropanal, polyvinylhexanal, polyvinylpyrrolidone, polyacrylic acid ester, polymethacrylic acid ester, cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose acetate butyrate, polystyrene, and polyurethane.

有機高分子増粘剤の分子量は数平均分子量で0.3万〜40万が好ましく、0.4万〜30万がより好ましく、0.5万〜20万が特に好ましい。   The molecular weight of the organic polymer thickener is preferably from 30,000 to 400,000 in terms of number average molecular weight, more preferably from 4,000 to 300,000, particularly preferably from 50,000 to 200,000.

増粘性化合物が重合性基を有するモノマーの重合体である場合、増粘性化合物の架橋間分子量の計算値は500以上が好ましく、550以上がより好ましく、700以上が更に好ましい。架橋間分子量が大きいほど増粘効果が高くなる。架橋間分子量の計算値とは、モノマーの重合性基が全て重合した重合体において、合わせて3個以上炭素原子及び/又はケイ素原子が置換した炭素原子を(a)、合わせて3個以上炭素原子及び/又は酸素原子が置換したケイ素原子を(b)とするときに、(a)と(a)、(b)と(b)、又は(a)と(b)で挟まれた原子団の原子量の合計をいう。但し、フッ素原子、及びケイ素原子を含む化合物は、これらの原子を含まない化合物よりも屈折率が低いため、反射防止層のバインダー樹脂として用いた場合、基材によってはやや反射率を損する場合があるので、フッ素原子、及びケイ素原子を含まない化合物のほうがより好ましい。   When the thickening compound is a polymer of a monomer having a polymerizable group, the calculated value of the molecular weight between crosslinks of the thickening compound is preferably 500 or more, more preferably 550 or more, and still more preferably 700 or more. The thickening effect increases as the molecular weight between crosslinks increases. The calculated value of the molecular weight between crosslinks is a polymer in which all the polymerizable groups of the monomer are polymerized, and (a) a total of 3 or more carbon atoms substituted with 3 or more carbon atoms and / or silicon atoms. An atomic group sandwiched between (a) and (a), (b) and (b), or (a) and (b), where (b) is a silicon atom substituted with an atom and / or an oxygen atom The total atomic weight of However, since a compound containing a fluorine atom and a silicon atom has a lower refractive index than a compound not containing these atoms, when used as a binder resin for an antireflection layer, the reflectance may be slightly impaired depending on the substrate. Therefore, a compound containing no fluorine atom or silicon atom is more preferable.

<無機酸化物増粘剤>
無機酸化物増粘剤としては、以下のものが挙げられるが、これに限定されない。
特開平8−325491号記載のスメクタイト、フッ素四珪素雲母、ベントナイト、シリカ、モンモリロナイト及びポリアクリル酸ソーダ、特開平10−219136エチルセルロース、ポリアクリル酸、有機粘土など、公知の粘度調整剤やチキソトロピー性付与剤を使用することが出来る。
<Inorganic oxide thickener>
Examples of the inorganic oxide thickener include, but are not limited to, the following.
Known viscosity modifiers and thixotropic properties such as smectite, tetrasilica mica, bentonite, silica, montmorillonite and polyacrylic acid soda described in JP-A-8-325491, JP10-219136 ethylcellulose, polyacrylic acid, organic clay, etc. Agents can be used.

増粘性化合物はバインダー樹脂を兼ねるものであっても良い。このときは、増粘性化合物は、有機アクリル系低分子化合物を好ましく用いることが出来、粘度が高いものが好ましい。また、モスアイ構造以外の領域においても、屈折率がなだらかに変化する方が好ましいため、増粘性化合物は基材に浸透してもよい。増粘性化合物が浸透層中に存在する場合には、増粘性化合物は反射防止層の粒子の凝集抑制に有効に用いられる方が好ましいため、浸透層中における増粘性化合物の濃度は、上記反射防止層中における増粘性化合物の濃度よりも低いことが好ましい。   The thickening compound may also serve as a binder resin. In this case, as the thickening compound, an organic acrylic low molecular weight compound can be preferably used, and a high viscosity compound is preferable. Moreover, since it is preferable that the refractive index changes gently also in regions other than the moth-eye structure, the thickening compound may penetrate into the substrate. When the thickening compound is present in the permeation layer, the thickening compound is preferably used more effectively for suppressing the aggregation of particles in the antireflection layer. The concentration is preferably lower than the concentration of the thickening compound in the layer.

反射防止層における増粘性化合物の含有量は、反射防止層の質量に対して、1〜 50質量%であることが好ましく、5〜40質量%であることがより好ましい。増粘性化合物の含有量が1質量%以上であると粒子の凝集抑制効果十分に得られ易く、増粘性化合物の含有量が50質量%以下であると粒径にもよるが表面がモスアイ構造となりやすい。   The content of the thickening compound in the antireflection layer is preferably from 1 to 50 mass%, more preferably from 5 to 40 mass%, based on the mass of the antireflection layer. When the content of the thickening compound is 1% by mass or more, the effect of suppressing the aggregation of particles is sufficiently obtained, and when the content of the thickening compound is 50% by mass or less, the surface has a moth-eye structure depending on the particle size. Cheap.

<バインダー樹脂>
前述の通り、反射防止層には更にバインダー樹脂が含まれていてもよい。
バインダー樹脂は、重合性基を有する化合物である硬化性化合物(好ましくは電離放射線硬化性化合物)の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性化合物としては、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを用いることができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。
<Binder resin>
As described above, the antireflection layer may further contain a binder resin.
The binder resin is preferably formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of a curable compound (preferably an ionizing radiation curable compound) that is a compound having a polymerizable group. As the curable compound, an ionizing radiation curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer can be used.
The functional group of the ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer is preferably a light, electron beam, or radiation polymerizable group, and among them, a photopolymerizable functional group is preferable.
Examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated polymerizable functional groups such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group is preferable.

重合性不飽和基を有する化合物の具体例としては、ネオペンチルグリコールアクリレート、1,6−ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート等の多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
2,2−ビス{4−(アクリロキシ・ジエトキシ)フェニル}プロパン、2−2−ビス{4−(アクリロキシ・ポリプロポキシ)フェニル}プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類;等を挙げることができる。
Specific examples of the compound having a polymerizable unsaturated group include (meth) acrylic acid diesters of alkylene glycol such as neopentyl glycol acrylate, 1,6-hexanediol (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate;
(Meth) acrylic acid diesters of polyoxyalkylene glycols such as triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate;
(Meth) acrylic acid diesters of polyhydric alcohols such as pentaerythritol di (meth) acrylate;
(Meth) acrylic acid diesters of ethylene oxide or propylene oxide adducts such as 2,2-bis {4- (acryloxy · diethoxy) phenyl} propane and 2-bis {4- (acryloxy · polypropoxy) phenyl} propane And the like.

さらにはエポキシ(メタ)アクリレート類、ウレタン(メタ)アクリレート類、ポリエステル(メタ)アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。   Furthermore, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, and polyester (meth) acrylates are also preferably used as the photopolymerizable polyfunctional monomer.

中でも、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。例えば、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性リン酸トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート等が挙げられる。   Among these, esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid are preferable. More preferably, a polyfunctional monomer having 3 or more (meth) acryloyl groups in one molecule is preferable. For example, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, PO modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO Modified tri (meth) acrylate phosphate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa ( (Meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-chlorohexane tetramethacrylate, polyurethane polyacrylate Over DOO, polyester polyacrylate and caprolactone-modified tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate.

(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類の具体化合物としては、KAYARAD DPHA、同DPHA−2C、同PET−30、同TMPTA、同TPA−320、同TPA−330、同RP−1040、同T−1420、同D−310、同DPCA−20、同DPCA−30、同DPCA−60、同GPO−303(日本化薬(株)製)、NKエステルA−TMPT、A−TMMT、A−TMM3、A−TMM3L、A−9550(新中村化学工業(株)製)、V#3PA、V#400、V#36095D、V#1000、V#1080、ビスコート#802(大阪有機化学工業(株)製)等のポリオールと(メタ)アクリル酸のエステル化物、SIRIUS‐501、SUBARU‐501(大阪有機化学工業(株)製)等のデンドリマー型多官能アクリレートを挙げることができる。また紫光UV−1400B、同UV−1700B、同UV−6300B、同UV−7550B、同UV−7600B、同UV−7605B、同UV−7610B、同UV−7620EA、同UV−7630B、同UV−7640B、同UV−6630B、同UV−7000B、同UV−7510B、同UV−7461TE、同UV−3000B、同UV−3200B、同UV−3210EA、同UV−3310EA、同UV−3310B、同UV−3500BA、同UV−3520TL、同UV−3700B、同UV−6100B、同UV−6640B、同UV−2000B、同UV−2010B、同UV−2250EA、同UV−2750B(日本合成化学(株)製)、UL−503LN(共栄社化学(株)製)、ユニディック17−806、同17−813、同V−4030、同V−4000BA(大日本インキ化学工業(株)製)、EB−1290K、EB−220、EB−5129、EB−1830,EB−4858(ダイセルUCB(株)製)、ハイコープAU−2010、同AU−2020((株)トクシキ製)、アロニックスM−1960(東亜合成(株)製)、アートレジンUN−3320HA,UN−3320HC,UN−3320HS、UN−904(根上工業(株)製)、NKオリゴU−4HA、U−15HA(新中村化学工業(株)製)などの3官能以上のウレタンアクリレート化合物、アロニックスM−8100,M−8030,M−9050(東亞合成(株)製、KRM−8307(ダイセルサイテック(株)製)などの3官能以上のポリエステル化合物なども好適に使用することができる。特にDPHAやPET−30が好ましく用いられる。   Specific compounds of polyfunctional acrylate compounds having a (meth) acryloyl group include KAYARAD DPHA, DPHA-2C, PET-30, TMPTA, TPA-320, TPA-330, RP-1040, T-1420, D-310, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, GPO-303 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), NK ester A-TMPT, A-TMMT, A -TMM3, A-TMM3L, A-9550 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), V # 3PA, V # 400, V # 36095D, V # 1000, V # 1080, Biscote # 802 (Osaka Organic Chemical ( Co., Ltd.) and the esterified product of (meth) acrylic acid, SIRIUS-501, SUBARU-501 (Osaka Organic Chemical Industry) Dendrimers polyfunctional acrylate Ltd.)), and the like. Also, purple light UV-1400B, UV-1700B, UV-6300B, UV-7550B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7610B, UV-7620EA, UV-7630B, UV-7630B, UV-7640B. UV-6630B, UV-7000B, UV-7510B, UV-7461TE, UV-3000B, UV-3200B, UV-3210EA, UV-3210EA, UV-3310EA, UV-3310B, UV-3500BA , UV-3520TL, UV-3700B, UV-6100B, UV-6640B, UV-2000B, UV-2010B, UV-2250EA, UV-2750B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.), UL-503LN (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Unidic 17-80 17-813, V-4030, V-4000BA (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), EB-1290K, EB-220, EB-5129, EB-1830, EB-4858 (Daicel UCB ( Ltd.), High Corp AU-2010, AU-2020 (manufactured by Tokushi Co., Ltd.), Aronix M-1960 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), Art Resin UN-3320HA, UN-3320HC, UN-3320HS, UN -904 (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), NK Oligo U-4HA, U-15HA (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), etc., trifunctional or more urethane acrylate compounds, Aronix M-8100, M-8030, M -9050 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., KRM-8307 (manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.)) Things like can be suitably used. Particularly DPHA and PET-30 is preferably used.

さらに、3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する樹脂、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物などのオリゴマー又はプレポリマー等も挙げられる。   Furthermore, resins having three or more (meth) acryloyl groups, such as relatively low molecular weight polyester resins, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins And oligomers or prepolymers such as polyfunctional compounds such as polyhydric alcohols.

また、特開2005−76005号、同2005−36105号公報に記載されたデンドリマーや、特開2005−60425号公報に記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。   Further, dendrimers described in JP-A-2005-76005 and JP-A-2005-36105 and norbornene ring-containing monomers as described in JP-A-2005-60425 can also be used.

金属酸化物微粒子との結合性に優れることから、重合性基を有するシランカップリング剤も用いることが出来、(メタ)アクリロキシ基を有するシラン化合物を好適に用いることが出来る。例えば3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、2−(メタ)アクリロキシエチルトリメトキシシラン、2−(メタ)アクリロキシエチルトリエトキシシラン、4−(メタ)アクリロキシブチルトリメトキシシラン、4−(メタ)アクリロキシブチルトリエトキシシラン等を上げることが出来る。具体的には、KBM−503、KBM−5103、X−40(信越化学(株)製)や、特開2014−123091記載のシランカップリング剤X−12−1048、X−12−1049、X−12−1050(信越化学(株)製)等を用いることが出来る。   A silane coupling agent having a polymerizable group can be used because of its excellent binding property to metal oxide fine particles, and a silane compound having a (meth) acryloxy group can be preferably used. For example, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyldimethylmethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, 2- (meth) acryloxyethyltrimethoxysilane, 2- (meth) acryloxyethyltriethoxysilane, 4- (meth) acryloxybutyltrimethoxysilane, 4- (Meth) acryloxybutyltriethoxysilane can be raised. Specifically, KBM-503, KBM-5103, X-40 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and silane coupling agents X-12-1048, X-12-1049, X described in JP-A-2014-123091 -12-1050 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) can be used.

多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。   Two or more polyfunctional monomers may be used in combination. Polymerization of the monomer having an ethylenically unsaturated group can be performed by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photo radical initiator or a thermal radical initiator.

<分散剤>
本発明の反射防止フィルムの反射防止層には、粒子の凝集防止の観点で、分散剤を含有してもよい。分散剤としては、特に限定されないが、硫酸塩、リン酸塩などのアニオン性化合物、脂肪族アミン塩、四級アンモニウム塩などのカチオン性化合物、非イオン性化合物、高分子化合物が好ましく、吸着基と立体反発基それぞれの選択の自由度が高いため高分子化合物がより好ましい。
分散剤としては市販品を用いることもできる。例えば、DISPERBYK160、DISPERBYK161、DISPERBYK162、DISPERBYK163、DISPERBYK164、DISPERBYK166、DISPERBYK167、DISPERBYK171、DISPERBYK180、DISPERBYK182、DISPERBYK2000、DISPERBYK2001、DISPERBYK2164、Bykumen、BYK−P104、BYK−P104S、BYK−220S、Anti−Terra203、Anti−Terra204、Anti−Terra205(ビックケミー・ジャパン(株)製)、ソルスパース20000、ソルスパース55000(日本ルブリゾール(株)製)、EFKA4310、EFKA4320(BASFジャパン(株)製)などが挙げられる。
反射防止層が分散剤を含む場合、分散剤の含有量は、粒子量に対して、0.01質量%以上20質量%以下であることが好ましく、0.05質量%以上10質量%以下であることがより好ましく、0.1質量%以上5質量%以下であることが更に好ましい。
<Dispersant>
The antireflection layer of the antireflection film of the present invention may contain a dispersant from the viewpoint of preventing aggregation of particles. The dispersant is not particularly limited, but is preferably an anionic compound such as a sulfate or phosphate, a cationic compound such as an aliphatic amine salt or a quaternary ammonium salt, a nonionic compound or a polymer compound. And a steric repulsion group are more preferred because they have a high degree of freedom in selection.
A commercial item can also be used as a dispersing agent. For example, DISPERBYK160, DISPERBYK161, DISPERBYK162, DISPERBYK163, DISPERBYK164, DISPERBYK166, DISPERBYK167, DISPERBYK171, DISPERBYK180, DISPERBYK182, DISPERBYK2000, DISPERBYK2001, DISPERBYK2164, Bykumen, BYK-P104, BYK-P104S, BYK-220S, Anti-Terra203, Anti-Terra204, Anti-Terra 205 (manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.), Solsperse 20000, Solsperse 55000 (manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd.), EFKA4310, EFKA4320 (BASF JA) Made emissions Co., Ltd.), and the like.
When the antireflection layer contains a dispersant, the content of the dispersant is preferably 0.01% by mass or more and 20% by mass or less, and 0.05% by mass or more and 10% by mass or less with respect to the amount of particles. More preferably, it is 0.1% by mass or more and 5% by mass or less.

<レベリング剤>
本発明の反射防止フィルムの反射防止層には、レベリング剤(防汚剤とも呼ぶ)を含有してもよい。
レベリング剤の具体例としては、フッ素系又はシリコーン系等の従来公知のレベリング剤を用いることが出来る。レベリング剤を添加した反射防止層形成用塗布組成物は、塗布又は乾燥時に塗膜表面に対して塗工安定性、滑り性、防汚性、及び耐擦傷性を付与することができる。
<Leveling agent>
The antireflection layer of the antireflection film of the present invention may contain a leveling agent (also referred to as an antifouling agent).
As a specific example of the leveling agent, a conventionally known leveling agent such as fluorine-based or silicone-based can be used. The coating composition for forming an antireflection layer to which a leveling agent is added can impart coating stability, slipperiness, antifouling property, and scratch resistance to the coating film surface during coating or drying.

本発明の反射防止フィルムは、波長380〜780nmの全域にわたって積分反射率が3%以下であることが好ましく、2%以下であることがより好ましい。
本発明の反射防止フィルムは、ヘイズ値が5%以下であることが好ましく、3%以下であることがより好ましい。
In the antireflection film of the present invention, the integrated reflectance is preferably 3% or less over the entire wavelength range of 380 to 780 nm, and more preferably 2% or less.
The antireflection film of the present invention preferably has a haze value of 5% or less, more preferably 3% or less.

〔ハードコート層〕
本発明においては、上記プラスチック基材と浸透層との間に、ハードコート層を有していてもよい。
ハードコート層は、反射防止層のバインダー樹脂と同じ素材により形成することができる。
ハードコート層上に反射防止層を積層したときに浸透層を形成するためには、反射防止層形成用組成物を塗布した際に、分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物が浸透できるようにハードコート層を予めハーフキュアにしておき、浸透層が形成された後にフルキュアする方法等が好ましい。このような方法を用いて作製すれば、反射防止性とともにハードコート性を持たせることができる。
[Hard coat layer]
In the present invention, a hard coat layer may be provided between the plastic substrate and the permeation layer.
The hard coat layer can be formed of the same material as the binder resin of the antireflection layer.
In order to form a permeation layer when an antireflection layer is laminated on the hard coat layer, a (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less can permeate when the antireflection layer forming composition is applied. A method in which the hard coat layer is half-cured in advance and is fully cured after the penetration layer is formed is preferable. If produced using such a method, it is possible to provide hard coat properties as well as antireflection properties.

ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、ハードコート層の厚さは通常0.5μm〜50μm程度であり、好ましくは1μm〜20μmである。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。さらに、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
From the viewpoint of imparting sufficient durability and impact resistance to the film, the thickness of the hard coat layer is usually about 0.5 μm to 50 μm, and preferably 1 μm to 20 μm.
Further, the strength of the hard coat layer is preferably H or more, more preferably 2H or more, and most preferably 3H or more in a pencil hardness test. Furthermore, in the Taber test according to JIS K5400, the smaller the wear amount of the test piece before and after the test, the better.

<その他の成分>
ハードコート層形成用塗布組成物には、上記成分のほかに、更に溶剤、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等を適宜添加することもできる。更に、反応性又は非反応性レベリング剤、各種増感剤等の各種添加剤が混合されていても良い。
<Other ingredients>
In addition to the above components, a solvent, a polymerization initiator, an antistatic agent, an antiglare agent, and the like can be appropriately added to the coating composition for forming a hard coat layer. Furthermore, various additives, such as a reactive or non-reactive leveling agent and various sensitizers, may be mixed.

<ハードコート層形成用塗布組成物の溶剤>
溶剤の具体例としては、イソプロパノール(IPA)、メチルエチルケトン(MEK)、及びメチルイソブチルケトン(MIBK)、トルエン等が挙げられる。
<Solvent of coating composition for forming hard coat layer>
Specific examples of the solvent include isopropanol (IPA), methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), toluene and the like.

<重合開始剤>
必要に応じてラジカル及びカチオン重合開始剤等を適宜選択して用いても良い。これらの重合開始剤は、光照射及び/又は加熱により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。
<Polymerization initiator>
If necessary, radicals and cationic polymerization initiators may be appropriately selected and used. These polymerization initiators are decomposed by light irradiation and / or heating to generate radicals or cations to advance radical polymerization and cationic polymerization.

<帯電防止剤>
帯電防止剤の具体例としては、第4級アンモニウム塩、導電性ポリマー、導電性微粒子等の従来公知の帯電防止剤を、反射防止層を積層したときに浸透層を形成することが出来る範囲で用いることができる。
<Antistatic agent>
Specific examples of the antistatic agent include a conventionally known antistatic agent such as a quaternary ammonium salt, a conductive polymer, and conductive fine particles within a range in which the permeation layer can be formed when the antireflection layer is laminated. Can be used.

<防眩剤>
防眩剤としてはスチレンビーズ(屈折率1.59)、ポリメタクリル酸メチルビーズ(屈折率1.49)、メタクリル酸メチル−スチレン共重合体等の微粒子の防眩剤など従来公知の防眩剤を反射防止層を積層したときに浸透層を形成することが出来る範囲で用いて良い。微粒子の防眩剤を用いる場合その添加量は、硬化性樹脂組成物100質量部に対し、好ましくは2〜30質量部、より好ましくは10〜25質量部である。
<Anti-glare agent>
Anti-glare agents such as styrene beads (refractive index 1.59), polymethyl methacrylate beads (refractive index 1.49), and fine anti-glare agents such as methyl methacrylate-styrene copolymer are conventionally known anti-glare agents. May be used as long as the permeation layer can be formed when the antireflection layer is laminated. When using a fine grain anti-glare agent, the addition amount is preferably 2 to 30 parts by mass, more preferably 10 to 25 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curable resin composition.

<屈折率調整剤>
ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、屈折率調整剤として高屈折率モノマーまたは無機粒子、或いは両者を反射防止層を積層したときに浸透層を形成することが出来る範囲で加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、上記多官能モノマーおよび/又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。
<Refractive index modifier>
For the purpose of controlling the refractive index of the hard coat layer, the binder of the hard coat layer is formed with a permeation layer when a high refractive index monomer or inorganic particles or both are laminated with an antireflection layer as a refractive index adjusting agent. Can be added as much as possible. In addition to the effect of controlling the refractive index, the inorganic particles also have the effect of suppressing cure shrinkage due to the crosslinking reaction. In the present invention, after the hard coat layer is formed, a polymer formed by polymerizing the polyfunctional monomer and / or the high refractive index monomer and the like and inorganic particles dispersed therein are referred to as a binder.

<レベリング剤>
レベリング剤としては、反射防止層と同じものを用いることができる。。レベリング剤を添加したハードコート層形成用塗布組成物は、塗布又は乾燥時に塗膜表面に対して塗工安定性を付与することができ、反射防止層を積層し浸透層をムラなく形成するため、また耐擦傷性を向上させるためには、反射防止層形成用塗布液を塗工した際に上層に抽出されて機能層表面に残りにくい化合物が好ましく、例えば特許第4474114号広報に記載の化合物などを好ましく用いることが出来る。
<Leveling agent>
As the leveling agent, the same as the antireflection layer can be used. . The coating composition for forming a hard coat layer to which a leveling agent is added can impart coating stability to the coating film surface during coating or drying, and an antireflection layer is laminated to form a permeation layer evenly. In order to improve the scratch resistance, a compound that is extracted to the upper layer and hardly remains on the surface of the functional layer when a coating solution for forming an antireflection layer is applied is preferable. For example, a compound described in Japanese Patent No. 4474114 Etc. can be preferably used.

[反射防止フィルムの製造方法]
本発明の反射防止フィルムの製造方法は、
プラスチック基材と、浸透層と、平均一次粒径が50nm以上250nm以下の金属酸化物微粒子及び増粘性化合物を含む反射防止層と、をこの順に有し、上記反射防止層が、上記プラスチック基材側の界面とは反対側の表面に上記金属酸化物微粒子により形成された凹凸形状からなるモスアイ構造を有する反射防止フィルムの製造方法であって、
プラスチック基材又はプラスチック基材の上に設けられた機能層に、増粘性化合物と、分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物と、平均一次粒子径が50nm以上250nm以下の金属酸化物微粒子と、溶媒とを含む反射防止層形成用組成物を塗布し、上記(メタ)アクリレート化合物を上記プラスチック基材又はプラスチック基材の上に設けられた機能層中に浸透させ、上記金属酸化物微粒子を上記プラスチック基材側の界面とは反対側の表面から突出させる工程と、
上記(メタ)アクリレート化合物を重合させて、上記(メタ)アクリレート化合物の重合物を含む浸透層、及び上記金属酸化物微粒子により形成されたモスアイ構造を有する反射防止層を形成する工程と、
を有する反射防止フィルムの製造方法である。
なお、上記製造方法において、溶媒は加熱等により揮発される。
反射防止層形成用組成物中の各成分の詳細は前述のとおりである。
[Method for producing antireflection film]
The production method of the antireflection film of the present invention is as follows:
A plastic substrate, a permeation layer, and an antireflection layer containing metal oxide fine particles having an average primary particle size of 50 nm or more and 250 nm or less and a thickening compound in this order, and the antireflection layer includes the plastic substrate. A method for producing an antireflection film having a moth-eye structure having a concavo-convex shape formed by the metal oxide fine particles on the surface opposite to the side interface,
A functional layer provided on a plastic substrate or a plastic substrate, a thickening compound, a (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less, metal oxide fine particles having an average primary particle size of 50 nm or more and 250 nm or less, A composition for forming an antireflection layer containing a solvent is applied, the (meth) acrylate compound is allowed to permeate into the plastic substrate or a functional layer provided on the plastic substrate, and the metal oxide fine particles are introduced into the functional layer. Projecting from the surface opposite to the plastic substrate side interface;
Polymerizing the (meth) acrylate compound to form a permeation layer containing a polymer of the (meth) acrylate compound, and an antireflection layer having a moth-eye structure formed by the metal oxide fine particles;
It is a manufacturing method of the antireflection film which has this.
In the above production method, the solvent is volatilized by heating or the like.
Details of each component in the composition for forming an antireflection layer are as described above.

(プラスチック基材に対する浸透性を有する溶媒)
本発明におけるプラスチック基材に対する浸透性を有する溶媒(基材浸透性溶媒)について説明する。
プラスチック基材に対する浸透性を有する溶媒とは、プラスチック基材の表面に対する溶解能を有する溶剤である。
溶媒がプラスチック基材の表面に対して溶解能を有することで、分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物がプラスチック基材に浸透し、モスアイ構造を均一に形成することができる。
ここで、本発明において透明基材に対して溶解能を有する溶剤とは、24mm×36mm(厚み80μm)の大きさの基材フィルムを上記溶剤の入った15mlの瓶に室温下(25℃)で60秒浸漬させて取り出した後に、浸漬させた溶液をゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で分析したとき、基材成分(基材が複数の層を有している場合には、その表面の成分)のピーク面積が400mV/sec以上である溶剤のことを意味する。若しくは24mm×36mm(厚み80μm)の大きさの基材フィルムを上記溶剤の入った15mlの瓶に室温下(25℃)で24時間経時させ、適宜瓶を揺らすなどして、フィルムが完全に溶解して形をなくすものも、基材に対して溶解能を有する溶剤を意味する。基材に対して膨潤性を有さない溶剤とは、24mm×36mm(厚み80μm)の大きさの基材フィルムを上記溶剤の入った15mlの瓶に室温下(25℃)で24時間経時させた後に溶媒から取り出して各辺を測長し、元のサイズより大きくなるものを指す。
基材浸透性溶媒としては、プラスチック基材を構成する成分によって異なるが、セルロースアシレート基材の場合は、エタノール、IPA、炭酸ジメチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、等を好ましく用いることが出来るが基材を膨潤しないものであればこれによらない。アセトン、エタノールが金属酸化物微粒子との相溶性も良いためより好ましい。
アクリル基材の場合は、エタノール、IPA、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル等が好ましい。
機能層として、例えばハードコート層を有している場合は、エタノール、IPA、メチルエチルケトン(MEK)、アセトン等が好ましい。
(Solvent with permeability to plastic substrate)
The solvent (substrate permeable solvent) having permeability to the plastic substrate in the present invention will be described.
The solvent having permeability to the plastic substrate is a solvent having a solubility to the surface of the plastic substrate.
Since the solvent has a solubility to the surface of the plastic substrate, a (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less penetrates into the plastic substrate, and a moth-eye structure can be uniformly formed.
Here, in the present invention, the solvent having the ability to dissolve the transparent substrate is a substrate film having a size of 24 mm × 36 mm (thickness 80 μm) in a 15 ml bottle containing the solvent at room temperature (25 ° C.). When the soaked solution was analyzed by gel permeation chromatography (GPC) after being soaked for 60 seconds, the base material component (if the base material has a plurality of layers, the surface It means a solvent having a peak area of (component) of 400 mV / sec or more. Alternatively, a base film with a size of 24 mm × 36 mm (thickness 80 μm) is allowed to age for 24 hours at room temperature (25 ° C.) in a 15 ml bottle containing the above solvent, and the film is completely dissolved by shaking the bottle as appropriate. What loses its shape also means a solvent having solubility in the substrate. A solvent that does not swell with respect to the base material is a base film having a size of 24 mm × 36 mm (thickness 80 μm) that is allowed to age for 24 hours at room temperature (25 ° C.) in a 15 ml bottle containing the solvent. After that, it is taken out from the solvent and measured on each side, and it becomes larger than the original size.
As the substrate-penetrating solvent, ethanol, IPA, dimethyl carbonate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, acetone, etc. are preferably used in the case of a cellulose acylate substrate, although it varies depending on the components constituting the plastic substrate. However, it does not depend on this if it does not swell the substrate. Acetone and ethanol are more preferable because they have good compatibility with the metal oxide fine particles.
In the case of an acrylic substrate, ethanol, IPA, dimethyl carbonate, methyl ethyl carbonate, diethyl carbonate, acetone, methyl ethyl ketone (MEK), cyclopentanone, cyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate and the like are preferable.
For example, when the functional layer has a hard coat layer, ethanol, IPA, methyl ethyl ketone (MEK), acetone and the like are preferable.

上記反射防止層形成用組成物は、基材浸透性溶媒以外の溶媒を含んでいてもよい。   The composition for forming an antireflection layer may contain a solvent other than the substrate-penetrating solvent.

上記反射防止層形成用組成物において、バインダー浸透を阻害せず塗布性を付与する観点から、基材浸透性溶媒の含有量は、反射防止層形成用組成物の全質量に対して、5質量%以上90質量%以下であることが好ましい。   In the antireflection layer forming composition, from the viewpoint of imparting coating properties without inhibiting binder penetration, the content of the base material penetrating solvent is 5 masses with respect to the total mass of the antireflection layer forming composition. % Or more and 90% by mass or less is preferable.

上記反射防止層形成用組成物の固形分濃度は、浸透層を効率よく形成できる観点から、5質量%以上90質量%以下であることが好ましい。   The solid content concentration of the antireflection layer forming composition is preferably 5% by mass or more and 90% by mass or less from the viewpoint of efficiently forming the permeation layer.

上記反射防止層形成用組成物において、浸透層を効率よく形成できる観点から、分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物、増粘性化合物及びバインダー樹脂の含有量の合計は、反射防止層形成用組成物の全固形分の質量に対して、50質量%以上97質量%以下であることが好ましい。   In the composition for forming an antireflective layer, the total content of the (meth) acrylate compound, the thickening compound and the binder resin having a molecular weight of 400 or less is the composition for forming the antireflective layer from the viewpoint of efficiently forming the permeation layer. It is preferable that it is 50 mass% or more and 97 mass% or less with respect to the mass of the total solid of a thing.

<重合開始剤>
反射防止層形成用組成物には、重合開始剤を含んでいてもよい。
反射防止層形成用組成物に含まれる重合可能な化合物が光重合性化合物である場合は、光重合開始剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開2009−098658号公報の段落[0133]〜[0151]に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
<Polymerization initiator>
The composition for forming an antireflection layer may contain a polymerization initiator.
When the polymerizable compound contained in the composition for forming an antireflection layer is a photopolymerizable compound, it preferably contains a photopolymerization initiator.
As photopolymerization initiators, acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, Examples include fluoroamine compounds, aromatic sulfoniums, lophine dimers, onium salts, borate salts, active esters, active halogens, inorganic complexes, and coumarins. Specific examples, preferred embodiments, commercially available products, and the like of the photopolymerization initiator are described in paragraphs [0133] to [0151] of JP-A-2009-098658, and can be suitably used in the present invention as well. it can.

「最新UV硬化技術」{(株)技術情報協会}(1991年)、p.159、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著(平成元年、総合技術センター発行)、p.65〜148にも種々の例が記載されており本発明に有用である。   “Latest UV Curing Technology” {Technical Information Association, Inc.} (1991), p. 159, and “UV Curing System” written by Kiyomi Kato (published by the General Technology Center in 1989), p. Various examples are also described in 65-148 and are useful in the present invention.

反射防止層形成用組成物中の光重合開始剤の含有量は、反射防止層形成用組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、反射防止層形成用組成物中の全固形分に対して、0.5〜8質量%が好ましく、1〜5質量%がより好ましい。   The content of the photopolymerization initiator in the antireflective layer forming composition is sufficiently high to polymerize the polymerizable compound contained in the antireflective layer forming composition, and low enough not to increase the starting point excessively. For the reason that the amount is set, 0.5 to 8% by mass is preferable and 1 to 5% by mass is more preferable with respect to the total solid content in the composition for forming an antireflection layer.

反射防止層形成用組成物の塗布方法としては、特に限定されず公知の方法を用いることができる。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等が挙げられる。   A method for applying the composition for forming an antireflection layer is not particularly limited, and a known method can be used. Examples include dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, and die coating.

反射防止層形成用組成物をプラスチック基材上に塗布すると、プラスチック基材に対する浸透性を有する溶媒がプラスチック基材中に浸透する。この際、分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物もプラスチック基材中に浸透する。その後、電離放射線照射又は加熱によりバインダー樹脂形成用重合性化合物を硬化させて、浸透層、及び反射防止層を形成する。このとき、浸透層の膜厚が、反射防止層の膜厚の2倍より厚くなるように浸透させることが好ましい。このように形成することで、塗布前に粒子が凝集することなく、塗布後には均一なモスアイ構造を形成することが出来る。   When the composition for forming an antireflection layer is applied onto a plastic substrate, a solvent having permeability to the plastic substrate penetrates into the plastic substrate. At this time, a (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less also penetrates into the plastic substrate. Thereafter, the binder resin-forming polymerizable compound is cured by irradiation with ionizing radiation or heating to form a permeation layer and an antireflection layer. At this time, it is preferable to permeate so that the thickness of the permeation layer is greater than twice the thickness of the antireflection layer. By forming in this way, a uniform moth-eye structure can be formed after coating without aggregation of the particles before coating.

反射防止層形成用組成物における金属酸化物微粒子の含有率は、固形分中5質量%以上50質量%以下であることが好ましく、10質量%以上45質量%以下であることがより好ましく、15質量%以上40質量%以下であることが更に好ましい。下限以上では、モスアイ構造の凸部が数多く形成できるため反射防止性がより向上しやすく、上限以下であると、液中での凝集が生じにくく、モスアイ構造をうまく形成しやすい。
反射防止層形成用組成物における増粘性化合物または重合して増粘性化合物となる化合物の含有率は、固形分中1質量%以上95質量%以下であることが好ましく、5質量%以上90質量%以下であることがより好ましく、10質量%以上85質量%以下であることが更に好ましい。
The content of the metal oxide fine particles in the composition for forming an antireflection layer is preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less in the solid content, more preferably 10% by mass or more and 45% by mass or less, and 15 More preferably, it is at least 40% by mass. Above the lower limit, many convex portions of the moth-eye structure can be formed, so that the antireflection property is more easily improved. When the upper limit is below the upper limit, aggregation in the liquid hardly occurs and the moth-eye structure is easily formed.
The content of the thickening compound or the compound that becomes a thickening compound by polymerization in the composition for forming an antireflection layer is preferably 1% by mass to 95% by mass in the solid content, and preferably 5% by mass to 90% by mass. The content is more preferably 10% by mass or more and 85% by mass or less.

また、反射防止層形成用組成物における金属酸化物微粒子と増粘性化合物との含有比は、(金属酸化物微粒子の質量/増粘性化合物とバインダ樹脂と分子量400以下の(メタ)アクリレート化合物の合計の質量)が10/90以上95/5以下が好ましく、20/80以上90/10以下がより好ましく、30/70以上85/15以下が更に好ましい。(金属酸化物微粒子の質量/増粘性化合物または重合して増粘性化合物となる化合物の質量)が10/90以上であるとモスアイ構造の凹凸形状のB/Aが大きくなり、反射率が低下するため好ましい。(金属酸化物微粒子の質量/増粘性化合物または重合して増粘性化合物となる化合物の質量)が95/5以下であると金属酸化物微粒子と基材との密着性が高くなったり、製造過程で金属酸化物微粒子が凝集しにくく、故障やヘイズ、反射率の悪化を招かないため好ましい。   Further, the content ratio of the metal oxide fine particles and the thickening compound in the composition for forming an antireflection layer is (the total of the metal oxide fine particles / thickening compound, the binder resin, and the (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less. Is preferably 10/90 to 95/5, more preferably 20/80 to 90/10, and even more preferably 30/70 to 85/15. When (mass of metal oxide fine particle / mass of thickening compound or compound which becomes polymerized thickening compound) is 10/90 or more, B / A of the concavo-convex shape of the moth-eye structure increases, and the reflectance decreases. Therefore, it is preferable. When the mass of the metal oxide fine particles / the viscosity increasing compound or the mass of the compound that is polymerized to become the viscosity increasing compound is 95/5 or less, the adhesion between the metal oxide fine particles and the substrate is increased, or the production process This is preferable because the metal oxide fine particles hardly aggregate and do not cause failure, haze, or deterioration of reflectance.

[偏光板用保護フィルム]
本発明の反射防止フィルムは、偏光膜の表面保護フィルム(偏光板用保護フィルム)として用いることができる。
2枚の偏光子保護フィルムのうち、本発明の反射防止フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム(位相差フィルム)は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開2001−100042号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
[Protective film for polarizing plate]
The antireflection film of the present invention can be used as a surface protective film for a polarizing film (protective film for polarizing plate).
Of the two polarizer protective films, the film other than the antireflection film of the present invention is preferably an optical compensation film having an optical compensation layer comprising an optically anisotropic layer. The optical compensation film (retardation film) can improve the viewing angle characteristics of the liquid crystal display screen. A known film can be used as the optical compensation film, but the optical compensation film described in JP-A-2001-100042 is preferable in terms of widening the viewing angle.

偏光子との貼り合せの前に、本発明の反射防止フィルムをケン化処理することもできる。ケン化処理は、加温したアルカリ水溶液中に一定時間光学フィルムを浸漬し、水洗を行った後、中和するための酸洗浄を行う処理である。透明支持体の偏光膜と貼り合わせる側の面が親水化されればどのような処理条件でも構わないため、処理剤の濃度、処理剤液の温度、処理時間は適宜決定されるが、通常生産性を確保する必要から3分以内で処理可能なように処理条件を決定する。一般的な条件としては、アルカリ濃度が3質量%〜25質量%であり、処理温度は30℃〜70℃、処理時間は15秒〜5分である。アルカリ処理に用いるアルカリ種としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好適であり、酸洗浄に使用する酸としては硫酸が好適であり、水洗に用いる水はイオン交換水又は純水が好適である。
本発明の反射防止層を設けたのと反対側のプラスチック基材表面をケン化処理し、ポリビニルアルコール水溶液を用いて偏光子に貼りあわせる。
Prior to the bonding with the polarizer, the antireflection film of the present invention can be saponified. The saponification treatment is a treatment in which an optical film is immersed in a heated alkaline aqueous solution for a certain period of time and washed with water, followed by acid washing for neutralization. As long as the surface of the transparent support to be bonded to the polarizing film is hydrophilized, any processing conditions can be used. The concentration of the processing agent, the temperature of the processing agent solution, and the processing time are appropriately determined. The processing conditions are determined so that processing can be performed within 3 minutes from the need to ensure the performance. As general conditions, the alkali concentration is 3% by mass to 25% by mass, the treatment temperature is 30 ° C. to 70 ° C., and the treatment time is 15 seconds to 5 minutes. Sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferable as the alkali species used for the alkali treatment, sulfuric acid is preferable as the acid used for the acid cleaning, and ion-exchanged water or pure water is preferable as the water used for the water cleaning.
The surface of the plastic substrate opposite to the side where the antireflection layer of the present invention is provided is saponified and bonded to a polarizer using an aqueous polyvinyl alcohol solution.

また本発明の反射防止フィルムと偏光子との貼りあわせに、紫外線硬化型の接着剤を使用することもできる。本発明の反射防止層を設けたのと反対側のプラスチック基材表面に紫外線硬化型の接着剤層を設けることが好ましく、特に短時間乾燥による生産性向上を目的として、特定の紫外線硬化樹脂を用いて、偏光子に貼りあわせることが好ましい。   An ultraviolet curable adhesive can also be used for bonding the antireflection film of the present invention and the polarizer. It is preferable to provide an ultraviolet curable adhesive layer on the surface of the plastic substrate opposite to the one provided with the antireflection layer of the present invention. In particular, for the purpose of improving productivity by drying for a short time, a specific ultraviolet curable resin is used. It is preferable to use and attach to a polarizer.

[偏光板]
本発明の偏光板は、偏光子と上記偏光子を保護する少なくとも1枚の保護フィルムを有する偏光板であって、上記保護フィルムの少なくとも1枚が本発明の反射防止フィルムである。偏光子は保護フィルムと位相差フィルムに挟まれていても良いし、保護フィルムと偏光子との組み合わせでも良い。
[Polarizer]
The polarizing plate of the present invention is a polarizing plate having a polarizer and at least one protective film for protecting the polarizer, and at least one of the protective films is the antireflection film of the present invention. The polarizer may be sandwiched between the protective film and the retardation film, or may be a combination of the protective film and the polarizer.

偏光子には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。   Examples of the polarizer include an iodine polarizing film, a dye polarizing film using a dichroic dye, and a polyene polarizing film. The iodine-based polarizing film and the dye-based polarizing film can be generally produced using a polyvinyl alcohol film.

[カバーガラス]
本発明のカバーガラスは、本発明の反射防止フィルムを保護フィルムとして有する。
[cover glass]
The cover glass of the present invention has the antireflection film of the present invention as a protective film.

[画像表示装置]
本発明の画像表示装置は、本発明の反射防止フィルム又は偏光板を有する。
本発明の反射防止フィルム及び偏光板は液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)のような画像表示装置に好適に用いることができ、特に液晶表示装置が好ましい。
一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された2枚の偏光板を有し、液晶セルは、2枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に2枚配置されることもある。液晶セルは、TNモード、VAモード、OCBモード、IPSモード又はECBモードであることが好ましい。
[Image display device]
The image display device of the present invention has the antireflection film or the polarizing plate of the present invention.
The antireflection film and polarizing plate of the present invention are preferably used for image display devices such as liquid crystal display devices (LCD), plasma display panels (PDP), electroluminescence displays (ELD), and cathode ray tube display devices (CRT). In particular, a liquid crystal display device is preferable.
In general, a liquid crystal display device has a liquid crystal cell and two polarizing plates arranged on both sides thereof, and the liquid crystal cell carries a liquid crystal between two electrode substrates. Furthermore, one optically anisotropic layer may be disposed between the liquid crystal cell and one polarizing plate, or two optically anisotropic layers may be disposed between the liquid crystal cell and both polarizing plates. The liquid crystal cell is preferably in TN mode, VA mode, OCB mode, IPS mode or ECB mode.

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。   The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The materials, reagents, amounts and ratios of substances, operations, and the like shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the gist of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the following specific examples.

[シリカ粒子a−1の合成]
撹拌機、滴下装置および温度計を備えた容量200Lの反応器に、メチルアルコール67.54kgと、28質量%アンモニア水(水および触媒)26.33kgとを仕込み、撹拌しながら液温を33℃に調節した。一方、滴下装置に、テトラメトキシシラン12.70kgをメチルアルコール5.59kgに溶解させた溶液を仕込んだ。反応器中の液温を33℃に保持しながら、滴下装置から上記溶液を1時間かけて滴下し、滴下終了後、さらに1時間、液温を上記温度に保持しながら撹拌することにより、テトラメトキシシランの加水分解および縮合を行い、シリカ粒子前駆体を含有する分散液を得た。この分散液を、瞬間真空蒸発装置((ホソカワミクロン(株)社製クラックス・システムCVX−8B型)を用いて加熱管温度175℃、減圧度200torr(27kPa)の条件で気流乾燥させることにより、シリカ粒子a−1を得た。平均一次粒径は200nm、粒子径の分散度(Cv値):3.5%であった。また、押し込み硬度は330MPaであった。
[Synthesis of Silica Particles a-1]
A 200 L reactor equipped with a stirrer, a dropping device and a thermometer was charged with 67.54 kg of methyl alcohol and 26.33 kg of 28% by mass aqueous ammonia (water and catalyst), and the liquid temperature was kept at 33 ° C. while stirring. Adjusted. Meanwhile, a dropping device was charged with a solution prepared by dissolving 12.70 kg of tetramethoxysilane in 5.59 kg of methyl alcohol. While maintaining the liquid temperature in the reactor at 33 ° C., the above solution was dropped from the dropping device over 1 hour, and after completion of the dropping, stirring was further performed for 1 hour while maintaining the liquid temperature at the above temperature. Hydrolysis and condensation of methoxysilane was performed to obtain a dispersion containing a silica particle precursor. This dispersion was subjected to air-drying under the conditions of a heating tube temperature of 175 ° C. and a reduced pressure of 200 torr (27 kPa) using an instantaneous vacuum evaporation apparatus (Crox System CVX-8B type manufactured by Hosokawa Micron Co., Ltd.). Particles a-1 were obtained, the average primary particle size was 200 nm, the particle size dispersion (Cv value) was 3.5%, and the indentation hardness was 330 MPa.

[シリカ粒子a−2の作製]
シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420−120、平均粒径120nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノ−ル、粒子屈折率1.20)25kgをルツボに入れ、100℃のオーブンでイソプロパノールを蒸発させ、シリカ粒子a−2とした。得られたシリカ粒子の平均一次粒径は120nm、粒径の分散度(Cv値):5.0%であった。また、押し込み硬度は300MPaであった。
[Preparation of Silica Particles a-2]
25 kg of silica-based hollow fine particle dispersion sol (Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: Thruria 1420-120, average particle size 120 nm, concentration 20.5 wt%, dispersion medium: isopropanol, particle refractive index 1.20) in a crucible Then, isopropanol was evaporated in an oven at 100 ° C. to obtain silica particles a-2. The average primary particle size of the obtained silica particles was 120 nm, and the degree of particle size dispersion (Cv value) was 5.0%. The indentation hardness was 300 MPa.

[焼成シリカ粒子b−1の作製]
シリカ粒子a−1 5kgをルツボに入れ、電気炉を用いて900℃で1時間焼成した後、冷却して、次いで粉砕機を用いて粉砕し、分級前焼成シリカ粒子を得た。さらにジェット粉砕分級機(日本ニューマ社製IDS−2型)を用いて解砕および分級を行うことにより焼成シリカ粒子b−1を得た。得られたシリカ粒子の平均粒径は200nm、粒径の分散度(Cv値):3.5%であった。また、押し込み硬度は400MPaであった。
[Preparation of calcined silica particles b-1]
5 kg of silica particles a-1 were placed in a crucible, fired at 900 ° C. for 1 hour using an electric furnace, cooled, and then ground using a grinder to obtain pre-classified fired silica particles. Furthermore, calcination silica classification b-1 was obtained by performing crushing and classification using a jet crushing and classifying machine (IDS-2 type, manufactured by Nippon Puma Co., Ltd.). The average particle diameter of the obtained silica particles was 200 nm, and the degree of dispersion (Cv value) of the particle diameter was 3.5%. The indentation hardness was 400 MPa.

[シランカップリング剤処理シリカ粒子c−1の作製]
分級前焼成シリカ粒子b−1 5kgを、加熱ジャケットを備えた容量20Lのヘンシェルミキサ(三井鉱山株式会社製FM20J型)に仕込んだ。焼成シリカ粒子b−1を撹拌しているところに、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製KBM5103)45gを、メチルアルコール90gに溶解させた溶液を滴下して混合した。その後、混合撹拌しながら150℃まで約1時間かけて昇温し、150℃で12時間保持して加熱処理を行った。加熱処理では、掻き落とし装置を撹拌羽根とは逆方向に常時回転させながら、壁面付着物の掻き落としを行った。また、適宜、へらを用いて壁面付着物を掻き落とすことも行った。加熱後、冷却し、ジェット粉砕分級機を用いて解砕および分級を行い、シランカップリング剤処理シリカ粒子c−1を得た。平均一次粒径は200nm、粒径の分散度(Cv値):3.7%であった。また、押し込み硬度は400MPaであった。
[Production of Silane Coupling Agent-treated Silica Particles c-1]
5 kg of pre-classified sintered silica particles b-1 were charged into a 20 L Henschel mixer (FM20J type, manufactured by Mitsui Mining Co., Ltd.) equipped with a heating jacket. A solution prepared by dissolving 45 g of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane (KBM5103 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) in 90 g of methyl alcohol was added dropwise to the stirred silica particles b-1. Then, it heated up to 150 degreeC over about 1 hour, mixing and stirring, and heat-processed by hold | maintaining at 150 degreeC for 12 hours. In the heat treatment, scrapes on the wall surface were scraped while the scraping device was always rotated in the direction opposite to the stirring blade. Moreover, the wall deposits were also scraped off using a spatula as appropriate. After heating, the mixture was cooled and pulverized and classified using a jet pulverizer to obtain silane coupling agent-treated silica particles c-1. The average primary particle size was 200 nm, and the degree of dispersion (Cv value) of the particle size was 3.7%. The indentation hardness was 400 MPa.

[金属酸化物粒子の押し込み硬度の測定]
各金属酸化物粒子8g、イルガキュア184(BASFジャパン(株)社製)0.3g、KAYARAD PET30(日本化薬(株)社製)7.7gをエタノール91gに投入し、10分間攪拌後、超音波分散機により10分間分散して15質量%の分散液を得た。この分散液をガラス板にWet塗布量約3ml/mで塗布し、酸素濃度が0.1体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら空冷メタルハライドランプで照射量600mJ/cmの紫外線を照射して硬化した。その後、金属酸化物粒子が一段以上に積み重なっていないことをSEMで観察した。この試料をトライボインデンター(ハイジトロン社製TI−950)を用いて直径1μmのダイヤモンド圧子、押し込み荷重0.05mNの測定条件で金属酸化物粒子の押し込み硬度を測定した。
[Measurement of indentation hardness of metal oxide particles]
8 g of each metal oxide particle, 0.3 g of Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan Ltd.), 7.7 g of KAYARAD PET30 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were added to 91 g of ethanol, and after stirring for 10 minutes, The dispersion was carried out for 10 minutes with a sonic disperser to obtain a 15 mass% dispersion. This dispersion is applied to a glass plate at a wet application amount of about 3 ml / m 2 , and an ultraviolet ray with an irradiation amount of 600 mJ / cm 2 is applied with an air-cooled metal halide lamp while purging with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 0.1% by volume or less. Was cured by irradiation. Thereafter, it was observed with SEM that the metal oxide particles were not stacked in one or more stages. This sample was measured for indentation hardness of the metal oxide particles using a triboindenter (TI-950 manufactured by Heiditron Co., Ltd.) under the measurement conditions of a diamond indenter with a diameter of 1 μm and an indentation load of 0.05 mN.

[シリカ粒子分散液の調製]
エタノール70質量部、上記シリカ粒子a−1 30質量部をガラス製ミキシングタンクに投入し、10分間攪拌後、攪拌を継続しながら30分間超音波分散することにより、固形分濃度30%のシリカ粒子分散液a−1を調製した。同様に、シリカ粒子a−1及びエタノールを下記表1に示す組成となるように変更した他は、シリカ粒子分散液a−1と同様の方法でシリカ粒子分散液a−2〜4を調整した。なお、塗布液濃度の単位は「質量%」である。
[Preparation of silica particle dispersion]
70 parts by mass of ethanol and 30 parts by mass of the above silica particles a-1 are put into a glass mixing tank, stirred for 10 minutes, and then ultrasonically dispersed for 30 minutes while continuing the stirring, whereby silica particles having a solid content concentration of 30% Dispersion liquid a-1 was prepared. Similarly, silica particle dispersions a-2 to 4 were prepared in the same manner as silica particle dispersion a-1, except that silica particles a-1 and ethanol were changed to have the composition shown in Table 1 below. . The unit of the coating solution concentration is “mass%”.

Figure 2016061794
Figure 2016061794

[反射防止層形成用組成物の調製]
下記表2に記載の反射防止層形成用組成物A−1の組成となるように各成分を添加し、得られた組成物をミキシングタンクに投入、60分間攪拌し、30分間超音波分散機により分散し、孔径5μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して反射防止層形成用塗布液A−1(固形分濃度20質量%)とした。
反射防止層形成用組成物A−1と同様の方法で、各成分を下記表2の組成になるように混合して表2記載の組成比率(質量基準)になるように調整し、反射防止層形成用組成物A−2〜A−13を作製した。
下記表2において、各成分の数値は添加した量(質量部)を表す。また、塗布液濃度の単位は「質量%」である。
[Preparation of composition for forming antireflection layer]
Each component was added so that it might become a composition of antireflection layer forming composition A-1 of following Table 2, the obtained composition was thrown into a mixing tank, it stirred for 60 minutes, and an ultrasonic disperser for 30 minutes And filtered through a polypropylene filter having a pore size of 5 μm to obtain a coating solution A-1 for forming an antireflection layer (solid content concentration 20% by mass).
In the same manner as in the composition A-1 for forming an antireflection layer, each component was mixed so as to have the composition shown in Table 2 below, and adjusted so that the composition ratio (mass basis) shown in Table 2 was obtained. Layer forming compositions A-2 to A-13 were prepared.
In the following Table 2, the numerical value of each component represents the amount (parts by mass) added. The unit of the coating solution concentration is “mass%”.

(粘度の測定方法)
増粘性化合物、バインダー樹脂、分子量400以下の(メタ)アクリレート化合物の粘度は、熱レオメーターPhysica MCR301(Anton Paar社製)を用い、加熱温度100℃、せん断速度17.8(1/s)で測定した。
(Measurement method of viscosity)
The viscosity of the thickening compound, the binder resin, and the (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less was measured using a thermal rheometer Physica MCR301 (manufactured by Anton Paar) at a heating temperature of 100 ° C. and a shear rate of 17.8 (1 / s). It was measured.

Figure 2016061794
Figure 2016061794


それぞれ使用した化合物を以下に示す。
DPHA・・日本化薬(株)社製KAYARAD DPHA
#802・・大阪有機化学工業(株)社製ビスコート #802
PET30・・日本化薬(株)社製KAYARAD PET30
U−4HA・・新中村化学工業(株)社製NKオリゴ U−4HA
A−TMPT・・新中村化学工業(株)社製NKエステル A−TMPT
GMR・・日油(株)社製ブレンマー GMR
BR−85・・三菱レイヨン(株)社製PMMA ダイヤナール BR−85
UR−8300・・東洋紡(株)社製ウレタン変性共重合ポリエステル樹脂 バイロンUR−8300
イルガキュア184・・BASFジャパン(株)社製 光重合開始剤
The compounds used are shown below.
DPHA ・ ・ KAYARAD DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
# 802 Biscoat # 802 manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.
PET30 ・ ・ KAYARAD PET30 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
U-4HA ·· NK Oligo U-4HA manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
A-TMPT, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. NK ester A-TMPT
BMR made by GMR, NOF Corporation GMR
BR-85--Mitsubishi Rayon Co., Ltd. PMMA Dianar BR-85
UR-8300 ・ ・ Toyobo Co., Ltd. urethane modified copolymer polyester resin Byron UR-8300
Irgacure 184, a photopolymerization initiator manufactured by BASF Japan Ltd.

[実施例1]
〔反射防止フィルムの作製〕
厚さ100μmの基材として、PET(コスモシャインA4100、東洋紡(株)製)上に、反射防止層形成用塗布液A−1をグラビアコーターを用いてWet塗布量約2.8ml/mで塗布、120℃で5分間乾燥した後、酸素濃度が0.1体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら空冷メタルハライドランプで照射量600mJ/cmの紫外線を照射して硬化し、反射防止フィルムA−1を作製した。このとき、Wet塗布量は微調整して粒子占有率を測定し、最も高くなったものを反射防止フィルムA−1として採用した。基材をPETからセルローストリアセテートフィルム(TG40UL、富士フイルム(株)製、タック)にかえて、反射防止層形成用塗布液A−1を用いて、上記と同様にして反射防止フィルムA−2を作製した。また、基材をPETからセルローストリアセテートフィルム(TG40UL、富士フイルム(株)製、タック)にかえて、反射防止層形成用塗布液A−1の代わりに反射防止層形成用塗布液A−2〜A−13を用い、Wet塗布量を反射防止フィルムA−1を作製したときと同じにした以外は同様の方法で反射防止フィルムA−3〜A−14を作製した。
[Example 1]
[Preparation of antireflection film]
As a base material having a thickness of 100 μm, on a PET (Cosmo Shine A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.), a coating solution A-1 for forming an antireflection layer is applied at a wet coating amount of about 2.8 ml / m 2 using a gravure coater. After coating and drying at 120 ° C. for 5 minutes, the film is cured by irradiation with an ultraviolet ray with an irradiation amount of 600 mJ / cm 2 with an air-cooled metal halide lamp while purging with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 0.1% by volume or less. Prevention film A-1 was produced. At this time, the wet coating amount was finely adjusted to measure the particle occupancy, and the highest one was adopted as the antireflection film A-1. The base material is changed from PET to a cellulose triacetate film (TG40UL, manufactured by Fuji Film Co., Ltd., tack), and the antireflection film A-2 is applied in the same manner as described above using the coating solution A-1 for forming an antireflection layer. Produced. Further, the substrate is changed from PET to a cellulose triacetate film (TG40UL, manufactured by Fuji Film Co., Ltd., tack), and instead of the antireflection layer-forming coating solution A-1, an antireflection layer-forming coating solution A-2 to Antireflection films A-3 to A-14 were prepared in the same manner except that A-13 was used and the wet coating amount was the same as when antireflection film A-1 was prepared.

(反射防止フィルムの評価)
以下の方法により反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表3に示す。
(Evaluation of antireflection film)
Various characteristics of the antireflection film were evaluated by the following methods. The results are shown in Table 3.

(浸透層の確認)
3mm角程度に切り出した試料の断面を、ミクロトーム及び電解研磨により片数10nmの切片を作製まで薄くし、TEM(透過型電子顕微鏡)で観察して浸透層の有無を観察した。
(Confirmation of penetration layer)
The cross section of the sample cut out to about 3 mm square was thinned until a section of several 10 nm was produced by microtome and electrolytic polishing, and observed with a TEM (transmission electron microscope) to observe the presence or absence of the permeation layer.

(積分反射率)
反射防止フィルムの裏面(セルローストリアセテートフィルム側)をサンドペーパーで粗面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、分光光度計V−550(日本分光(株)製)にアダプターARV−474を装着して、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における積分反射率を測定し、平均反射率を算出して反射防止性を評価した。
(Integral reflectance)
The back surface of the antireflection film (cellulose triacetate film side) is roughened with sandpaper, then treated with black ink, and the back surface reflection is eliminated. The adapter is attached to the spectrophotometer V-550 (manufactured by JASCO Corporation). With ARV-474 attached, the integrated reflectance at an incident angle of 5 ° was measured in the wavelength region of 380 to 780 nm, and the average reflectance was calculated to evaluate the antireflection property.

(B/A、Aの分布の半値幅)
反射防止フィルム試料をミクロトームで切削して断面を出し、断面にカーボン蒸着後10分間エッチング処理した。走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて5000倍で20視野観察、撮影した。得られた画像で、空気と試料が作る界面において、隣り合う凸部の頂点間の距離A、隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離Bを100点測長し、B/Aの平均値として算出した。またAの分布の半値幅も算出した。
(B / A, half width of A distribution)
The antireflection film sample was cut with a microtome to obtain a cross section, and the cross section was etched for 10 minutes after carbon deposition. Using a scanning electron microscope (SEM), 20 fields of view were observed and photographed at a magnification of 5000 times. In the obtained image, at the interface between the air and the sample, the distance A between the vertices of the adjacent convex portions and the distance B between the vertices of the adjacent convex portions and the concave portion are measured by 100 points, and B / A It was calculated as an average value. The half-value width of the A distribution was also calculated.

(スチールウール耐擦傷性評価)
反射防止フィルムの反射防止層表面をラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストを行うことで、耐擦傷性の指標とした。
評価環境条件:25℃、55%RH
こすり材:スチールウール(日本スチールウール(株)製、ゲレードNo.0000)
試料と接触するテスターのこすり先端部(1cm×1cm)に巻いて、バンド固定
移動距離(片道):13cm、
こすり速度:13cm/秒、
荷重:150g/cm
先端部接触面積:1cm×1cm、
こすり回数:10往復
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を評価した。
A :非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
B :非常に注意深く見ると弱い傷が見えるが僅かであり問題にならない。
C :注意深く見ると弱い傷が見えるが、問題にならない
D :中程度の傷が見え、傷が目立ってしまう。
E :一目見ただけで分かる傷があり、非常に目立つ
(Steel wool scratch resistance evaluation)
A rubbing test was performed on the surface of the antireflection layer of the antireflection film using a rubbing tester to obtain an index of scratch resistance.
Evaluation environmental conditions: 25 ° C., 55% RH
Rubbing material: Steel wool (Nippon Steel Wool Co., Ltd., gelled No. 0000)
Wrap around the tip (1 cm x 1 cm) of the tester that comes into contact with the sample. Band fixing Movement distance (one way): 13 cm,
Rubbing speed: 13 cm / second,
Load: 150 g / cm 2
Tip contact area: 1 cm × 1 cm,
Number of rubs: 10 reciprocations The oily black ink was applied to the back side of the rubbed sample and visually observed with reflected light to evaluate the scratches on the rubbed part.
A: Even if you look very carefully, no scratches are visible.
B: When looked very carefully, weak scratches are visible, but they are slight and not a problem.
C: A weak flaw can be seen if looked carefully, but it does not matter. D: A moderate flaw is seen and the flaw is conspicuous.
E: There are scratches that can be seen at first glance and are very conspicuous

(ヘイズ)
JIS−K7136に準じて、得られたフィルムの全ヘイズ値(%)を測定した。装置には日本電色工業(株)製ヘーズメーターNDH4000を用いた。
(Haze)
The total haze value (%) of the obtained film was measured according to JIS-K7136. Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. haze meter NDH4000 was used for the apparatus.

Figure 2016061794
Figure 2016061794

表3に示すように、本発明の反射防止試料では、モスアイ構造、並びに浸透層が確認でき、いずれも優れた反射率と耐擦傷性を示した。増粘性化合物としてウレタン化合物を用いた試料(A−6,7,8,10)では、特に反射率とヘイズが低く、粒子の凝集が効果的に抑制できていることがわかる。また、増粘性化合物がバインダー機能を兼ねている場合には、特に耐擦傷性に優れることもわかる(A−4〜6,11〜13)。一方、比較例試料A−1では、ヘイズがなく、粒子は凝集していないが、浸透層がないためにモスアイ構造が形成出来ておらず、反射率が高くなってしまっている。比較例試料A−2でも、分子量400以下の(メタ)アクリル化合物がないために浸透層が薄く、モスアイ構造が不明瞭で反射率が高い。比較例試料A−14では、増粘性化合物がないために粒子が凝集し、反射率とヘイズが悪化している。   As shown in Table 3, in the antireflection sample of the present invention, a moth-eye structure and a permeation layer could be confirmed, and both exhibited excellent reflectance and scratch resistance. In the samples (A-6, 7, 8, 10) using the urethane compound as the thickening compound, it can be seen that the reflectance and haze are particularly low, and the aggregation of particles can be effectively suppressed. Moreover, when a thickening compound serves also as a binder function, it turns out that it is excellent in especially abrasion resistance (A-4-6, 11-13). On the other hand, in Comparative Sample A-1, there is no haze and the particles are not agglomerated, but since there is no osmotic layer, the moth-eye structure cannot be formed and the reflectance is high. Even in Comparative Example Sample A-2, since there is no (meth) acrylic compound having a molecular weight of 400 or less, the permeation layer is thin, the moth-eye structure is unclear, and the reflectance is high. In Comparative Sample A-14, since there is no thickening compound, the particles aggregate and the reflectance and haze are deteriorated.

[実施例2]
〔ハードコート層付きのプラスチック基材の作製〕
(ハードコート層形成用組成物の調製)
ミキシングタンクに酢酸メチル10.5質量部、MEK10.5質量部、PET30 22.52質量部、ウレタンモノマー(U−4HA)6.30質量部、イルガキュア184 0.84質量部を投入し、攪拌して、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用組成物B−1(固形分濃度58質量%)とした。
同様に、表4の組成となるように比率を変更した他は、ハードコート層用組成物B−1と同様にしてハードコート層用組成物B−2を作製した。表4の各成分の数値は質量部である。
[Example 2]
[Production of plastic substrate with hard coat layer]
(Preparation of composition for forming hard coat layer)
Into the mixing tank, 10.5 parts by mass of methyl acetate, 10.5 parts by mass of MEK, 22.52 parts by mass of PET30, 6.30 parts by mass of urethane monomer (U-4HA), 0.84 parts by mass of Irgacure 184 are added and stirred. Then, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm to obtain a hard coat layer composition B-1 (solid content concentration: 58 mass%).
Similarly, a hard coat layer composition B-2 was produced in the same manner as the hard coat layer composition B-1, except that the ratio was changed to the composition shown in Table 4. The numerical value of each component of Table 4 is a mass part.

(ハードコート層付きのプラスチック基材の作製)
セルローストリアセテートフィルム(TG40UL、富士フイルム(株)製)上に、上記ハードコート層用塗布液B−1をグラビアコーターを用いて塗布した。60℃で乾燥した後、酸素濃度を1体積%の雰囲気になるように窒素パージしながら160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照射量20mJ/cmの紫外線を照射して塗布層を硬化させて膜厚6μmのハードコート層を形成し、ハードコート層付きのプラスチック基材B−1を作製した。
同様に、ハードコート層用塗布液B−1をハードコート層用塗布液B−2に変更した以外は同様の方法で、ハードコート層付きのプラスチック基材B−2を作製した。さらに、ハードコート層用塗布液B−1をハードコート層用塗布液B−2に、照射量を300mJ/cmに変更した以外は同様の方法で、ハードコート層付きのプラスチック基材B−3を作製した。
(Production of plastic substrate with hard coat layer)
On the cellulose triacetate film (TG40UL, manufactured by FUJIFILM Corporation), the hard coat layer coating solution B-1 was applied using a gravure coater. After drying at 60 ° C., a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) is used while purging with nitrogen so that the oxygen concentration becomes 1% by volume, and an irradiation dose of 20 mJ / cm 2 . The coating layer was cured by irradiating with ultraviolet rays to form a hard coat layer having a film thickness of 6 μm, and a plastic substrate B-1 with a hard coat layer was produced.
Similarly, a plastic substrate B-2 with a hard coat layer was produced in the same manner except that the hard coat layer coating solution B-1 was changed to the hard coat layer coating solution B-2. Further, a plastic substrate B- with a hard coat layer was prepared in the same manner except that the hard coat layer coating solution B-1 was changed to a hard coat layer coating solution B-2 and the irradiation amount was changed to 300 mJ / cm 2. 3 was produced.

〔反射防止フィルムの作製〕
(反射防止層形成用組成物の調製)
実施例1の反射防止層形成用組成物A−1と同様の方法で、フィルム試料B−1〜3上に反射防止層形成用組成物A−12をグラビアコーターを用いて塗布、120℃で5分間乾燥した後、酸素濃度が0.1体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら空冷メタルハライドランプで照射量600mJ/cmの紫外線を照射して硬化し、反射防止フィルムB−1〜B−3を作製した。
[Preparation of antireflection film]
(Preparation of composition for forming antireflection layer)
In the same manner as in the antireflection layer forming composition A-1 of Example 1, the antireflection layer forming composition A-12 was applied onto the film samples B-1 to B-3 using a gravure coater at 120 ° C. After drying for 5 minutes, the film is cured by irradiating with an ultraviolet ray with an irradiation amount of 600 mJ / cm 2 with an air-cooled metal halide lamp while purging with nitrogen so that the oxygen concentration becomes 0.1% by volume or less, and antireflection film B-1 -B-3 was produced.

Figure 2016061794
Figure 2016061794

(鉛筆硬度)
JIS K5400に記載の鉛筆硬度評価を行った。反射防止フィルム試料を温度25℃、湿度60%RHで3時間調湿した後、JIS S6006に規定する試験用鉛筆を用いて反射防止層表面に対して試験を行い、下記の基準で評価した。
A:試験後にあとが見られない
B:試験後に弱いあとが見えるが問題にならない
C:試験後に著しいあとが見えて目立つ
(Pencil hardness)
The pencil hardness evaluation described in JIS K5400 was performed. The antireflection film sample was conditioned at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% RH for 3 hours, then tested on the antireflection layer surface using a test pencil specified in JIS S6006, and evaluated according to the following criteria.
A: After the test you can't see the rest B: You can see the weak after the test but there is no problem

Figure 2016061794
Figure 2016061794

試料B−1,2は、プラスチック基材がハードコート層を有する基材であっても良好な反射率と耐擦傷性を示した。さらに、鉛筆硬度2H試験でも傷つきが弱く、優れたレベルであった。一方、比較例試料B−3は、反射防止層形成用塗布液を塗布する際の基材が半硬化状態ではなかったために浸透層が形成できておらず、反射率が悪化した。   Samples B-1 and B-2 showed good reflectance and scratch resistance even when the plastic substrate was a substrate having a hard coat layer. Furthermore, even in the pencil hardness 2H test, the scratch was weak and was an excellent level. On the other hand, in Comparative Sample B-3, the base material when the antireflection layer-forming coating solution was applied was not in a semi-cured state, so that the osmotic layer was not formed, and the reflectance deteriorated.

1 プラスチック基材
2 反射防止層
3 金属酸化物微粒子
4 バインダー樹脂
5 浸透層
10 反射防止フィルム
A 隣り合う凸部の頂点間の距離
B 隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Plastic base material 2 Antireflection layer 3 Metal oxide fine particle 4 Binder resin 5 Penetration layer 10 Antireflection film A Distance between the vertexes of adjacent convex parts B Distance between the center between the vertexes of adjacent convex parts and the concave parts

Claims (20)

プラスチック基材と、浸透層と、平均一次粒子径が50nm以上250nm以下の金属酸化物微粒子及び増粘性化合物を含む反射防止層と、をこの順に有する反射防止フィルムであって、
前記浸透層は、分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物の重合物を含み、
前記反射防止層は、前記金属酸化物微粒子により形成された凹凸形状からなるモスアイ構造を有する、反射防止フィルム。
An antireflection film having a plastic substrate, a permeation layer, an antireflection layer containing metal oxide fine particles having an average primary particle size of 50 nm to 250 nm and a thickening compound in this order,
The permeation layer includes a polymer of a (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less,
The antireflection layer is an antireflection film having a moth-eye structure having an uneven shape formed by the metal oxide fine particles.
前記反射防止層が、更にバインダー樹脂を含む請求項1に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 1, wherein the antireflection layer further contains a binder resin. 前記反射防止層に含まれる前記増粘性化合物が、バインダー樹脂を兼ねるものである請求項1に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 1, wherein the thickening compound contained in the antireflection layer also serves as a binder resin. 前記浸透層が、更に前記増粘性化合物を含む請求項1〜3のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 1, wherein the osmotic layer further contains the thickening compound. 前記浸透層中における前記増粘性化合物の濃度が、前記反射防止層中における前記増粘性化合物の濃度よりも低い、請求項4に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 4, wherein the concentration of the thickening compound in the permeation layer is lower than the concentration of the thickening compound in the antireflection layer. 前記反射防止層の凹凸形状は、隣り合う凸部の頂点間の距離Aと、隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離Bとの比であるB/Aが0.6以上である請求項1〜5のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。   The concave-convex shape of the antireflection layer is such that B / A, which is a ratio of the distance A between the vertices of adjacent convex portions and the distance B between the centers of the adjacent convex portions and the concave portions, is 0.6 or more. The antireflection film according to any one of claims 1 to 5. 前記金属酸化物微粒子として、平均一次粒径が50nm以上250nm以下の金属酸化物微粒子のみを含有する請求項1〜6のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to any one of claims 1 to 6, comprising only metal oxide fine particles having an average primary particle size of 50 nm or more and 250 nm or less as the metal oxide fine particles. 前記増粘性化合物は、ウレタン化合物である請求項1〜7のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 1, wherein the thickening compound is a urethane compound. 前記ウレタン化合物は、4官能以上のウレタン(メタ)アクリレートである請求項8に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 8, wherein the urethane compound is a tetrafunctional or higher urethane (meth) acrylate. 前記増粘性化合物は、100℃における粘度が15〜100000mPa・sである請求項1〜9のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。   The anti-reflection film according to claim 1, wherein the thickening compound has a viscosity at 100 ° C. of 15 to 100,000 mPa · s. 前記プラスチック基材は、セルロースアシレートを含有する基材である請求項1〜10のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。   The said plastic base material is a base material containing a cellulose acylate, The antireflection film of any one of Claims 1-10. 前記金属酸化物微粒子がシリカ粒子である請求項1〜11のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 1, wherein the metal oxide fine particles are silica particles. 前記金属酸化物微粒子の押し込み硬度が400MPa以上である請求項1〜12のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 1, wherein the indentation hardness of the metal oxide fine particles is 400 MPa or more. 前記金属酸化物微粒子が、(メタ)アクリロイル基を有する化合物で表面修飾された焼成シリカ粒子である、請求項1〜13のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to any one of claims 1 to 13, wherein the metal oxide fine particles are fired silica particles whose surface is modified with a compound having a (meth) acryloyl group. 前記距離Aの分布の半値幅が200nm以下である請求項6〜14のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to any one of claims 6 to 14, wherein a half-value width of the distribution of the distance A is 200 nm or less. 請求項1〜15のいずれか1項に記載の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして有する偏光板。   The polarizing plate which has an antireflection film of any one of Claims 1-15 as a protective film for polarizing plates. 請求項1〜15のいずれか1項に記載の反射防止フィルムを保護フィルムとして有するカバーガラス。   A cover glass having the antireflection film according to any one of claims 1 to 15 as a protective film. 請求項1〜15のいずれか1項に記載の反射防止フィルム、又は請求項16に記載の偏光板を有する画像表示装置。   The image display apparatus which has an antireflection film of any one of Claims 1-15, or the polarizing plate of Claim 16. プラスチック基材と、浸透層と、平均一次粒径が50nm以上250nm以下の金属酸化物微粒子及び増粘性化合物を含む反射防止層と、をこの順に有し、前記反射防止層が、前記プラスチック基材側の界面とは反対側の表面に前記金属酸化物微粒子により形成された凹凸形状からなるモスアイ構造を有する反射防止フィルムの製造方法であって、
プラスチック基材又はプラスチック基材の上に設けられた機能層に、増粘性化合物と、分子量が400以下の(メタ)アクリレート化合物と、平均一次粒子径が50nm以上250nm以下の金属酸化物微粒子と、溶媒とを含む反射防止層形成用組成物を塗布し、前記(メタ)アクリレート化合物を前記プラスチック基材又はプラスチック基材の上に設けられた機能層中に浸透させ、前記金属酸化物微粒子を前記プラスチック基材側の界面とは反対側の表面から突出させる工程と、
前記(メタ)アクリレート化合物を重合させて、前記(メタ)アクリレート化合物の重合物を含む浸透層、及び前記金属酸化物微粒子により形成されたモスアイ構造を有する反射防止層を形成する工程と、
を有する反射防止フィルムの製造方法。
A plastic substrate, an infiltration layer, and an antireflection layer containing metal oxide fine particles having an average primary particle size of 50 nm or more and 250 nm or less and a thickening compound in this order, and the antireflection layer includes the plastic substrate. A method for producing an antireflection film having a moth-eye structure having a concavo-convex shape formed by the metal oxide fine particles on the surface opposite to the side interface,
A functional layer provided on a plastic substrate or a plastic substrate, a thickening compound, a (meth) acrylate compound having a molecular weight of 400 or less, metal oxide fine particles having an average primary particle size of 50 nm or more and 250 nm or less, An antireflection layer-forming composition containing a solvent is applied, the (meth) acrylate compound is infiltrated into the plastic substrate or a functional layer provided on the plastic substrate, and the metal oxide fine particles are Projecting from the surface opposite to the plastic substrate side interface;
Polymerizing the (meth) acrylate compound to form a permeation layer containing a polymer of the (meth) acrylate compound and an antireflection layer having a moth-eye structure formed by the metal oxide fine particles;
The manufacturing method of the antireflection film which has this.
前記反射防止層形成用組成物は、100℃における粘度が15〜100mPa・sである請求項19に記載の反射防止フィルムの製造方法。   The method for producing an antireflection film according to claim 19, wherein the composition for forming an antireflection layer has a viscosity at 100 ° C. of 15 to 100 mPa · s.
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