JP2016057299A - Pyroelectric sensor and method for manufacturing the same - Google Patents

Pyroelectric sensor and method for manufacturing the same Download PDF

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藤井 淳
Atsushi Fujii
淳 藤井
山田 実
Minoru Yamada
実 山田
島田 勝
Masaru Shimada
勝 島田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pyroelectric sensor capable of improving absorption efficiency of infrared and reducing warp of a pyroelectric material and a method for manufacturing the same.SOLUTION: A pyroelectric sensor includes: a pyroelectric material 11; an upper surface electrode 13 that is formed on the upper surface of the pyroelectric material 11 and takes out a signal; a first infrared absorption film 14 that is formed on the upper surface of the upper surface electrode 13 and absorbs infrared; a lower surface electrode 15 that is formed on the lower surface of the pyroelectric material 11 and takes out a signal; a second infrared absorption film 16 that is formed on the lower surface of the lower surface electrode 15 and absorbs infrared; and a holding base 12 for holding the pyroelectric material 11.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、焦電効果を利用して赤外線を電気信号に変換する焦電センサ及びその製造方法に関し、特に、赤外線の吸収効率を向上し焦電体の反りを軽減することができる焦電センサ及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a pyroelectric sensor that converts infrared light into an electrical signal by using the pyroelectric effect and a method for manufacturing the same, and more particularly, a pyroelectric sensor that can improve infrared absorption efficiency and reduce warping of the pyroelectric body. And a manufacturing method thereof.

フーリエ変換型赤外分光装置用途の赤外線センサとして、焦電型赤外線センサ(以下、焦電センサと称する。)が知られている。この焦電センサには、赤外線を吸収するための赤外線吸収膜が成膜されている。   A pyroelectric infrared sensor (hereinafter referred to as a pyroelectric sensor) is known as an infrared sensor for Fourier transform infrared spectroscopy. This pyroelectric sensor is formed with an infrared absorption film for absorbing infrared rays.

この赤外線吸収膜の材料としては、赤外線吸収効率に非常に優れた金属黒膜、特に金黒膜が例示できる(特許文献1)。この金黒膜の場合、膜厚が3μmであり、90%程度の赤外線吸収率を得ることができる。しかし、10%程度の赤外線が金黒膜を透過してしまう。焦電体の膜厚が数μmであるため、透過した赤外線を焦電体自身で吸収することはできない。   Examples of the material of the infrared absorption film include a metal black film, particularly a gold black film, which is very excellent in infrared absorption efficiency (Patent Document 1). In the case of this gold black film, the film thickness is 3 μm, and an infrared absorption rate of about 90% can be obtained. However, about 10% of infrared rays pass through the gold black film. Since the thickness of the pyroelectric material is several μm, the transmitted infrared light cannot be absorbed by the pyroelectric material itself.

また、焦電体は、焦電体に成膜した赤外線吸収膜の内部応力の影響により、反りが発生する。このため、クラックや剥離などが生じ易くなる。   Further, the pyroelectric material is warped by the influence of the internal stress of the infrared absorption film formed on the pyroelectric material. For this reason, cracks and peeling easily occur.

特許文献2に記載された技術では、赤外線吸収膜を分割して反りを低減している。しかし、赤外線吸収膜を分割するためのスリット部には赤外線吸収膜はないため、スリット部では赤外線を吸収することはできない。   In the technique described in Patent Document 2, warpage is reduced by dividing the infrared absorption film. However, since there is no infrared absorption film in the slit portion for dividing the infrared absorption film, the slit portion cannot absorb infrared rays.

特開平8−148663号公報JP-A-8-148663 特許2737597号公報Japanese Patent No. 2737597

また、赤外線の吸収効率を上げるために、金黒膜の厚みをさらに大きくすると、焦電体はさらに反りが大きくなり、クラックや剥離が生じやくなる。   Further, when the thickness of the gold black film is further increased in order to increase the infrared absorption efficiency, the pyroelectric body is further warped, and cracks and peeling are likely to occur.

本発明の課題は、赤外線の吸収効率を向上し、焦電体の反りを低減することができる焦電センサ及びその製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a pyroelectric sensor that can improve infrared absorption efficiency and reduce warping of the pyroelectric body, and a method for manufacturing the same.

本発明に係る焦電センサは、上記課題を解決するために、焦電センサ素子と、前記焦電センサ素子の上面に形成され且つ信号を取り出すための上面電極と、前記上面電極の上面に形成され且つ赤外線を吸収するための第1赤外線吸収膜と、前記焦電センサ素子の下面に形成され且つ前記信号を取り出すための下面電極と、前記下面電極の下面に形成され且つ前記赤外線を吸収するための第2赤外線吸収膜と、前記焦電センサ素子を保持する保持台とを備えることを特徴とする。   In order to solve the above problems, a pyroelectric sensor according to the present invention is formed on a pyroelectric sensor element, an upper electrode formed on the upper surface of the pyroelectric sensor element and for taking out a signal, and an upper surface of the upper electrode. And a first infrared absorption film for absorbing infrared rays, a lower electrode formed on the lower surface of the pyroelectric sensor element for extracting the signal, and formed on the lower surface of the lower electrode and absorbing the infrared rays. And a holding base for holding the pyroelectric sensor element.

本発明に係る焦電センサの製造方法は、焦電センサ素子の下面に信号を取り出すための下面電極を形成するステップと、前記下面電極の下面に赤外線を吸収するための第2赤外線吸収膜を形成するステップと、前記焦電センサ素子の上面に前記信号を取り出すための上面電極を形成するステップと、前記上面電極上に前記赤外線を吸収するための第1赤外線吸収膜を形成するステップと、前記焦電センサ素子を保持台に保持するステップを含むことを特徴とする。   A method for manufacturing a pyroelectric sensor according to the present invention includes a step of forming a bottom electrode for extracting a signal on the bottom surface of a pyroelectric sensor element, and a second infrared absorbing film for absorbing infrared rays on the bottom surface of the bottom electrode. Forming a top electrode for extracting the signal on the top surface of the pyroelectric sensor element, forming a first infrared absorbing film for absorbing the infrared light on the top electrode, and The method includes the step of holding the pyroelectric sensor element on a holding table.

本発明によれば、焦電体センサ素子に入射した赤外線は、第1赤外線吸収膜により吸収され、第1赤外線吸収膜を透過した赤外線は、焦電体センサ素子を透過して、第2赤外線吸収膜により吸収される。即ち、第1赤外線吸収膜で吸収しきれなかった赤外線は、第2赤外線吸収膜により吸収できるため、赤外線の吸収効率が向上する。   According to the present invention, the infrared light incident on the pyroelectric sensor element is absorbed by the first infrared absorbing film, and the infrared light transmitted through the first infrared absorbing film is transmitted through the pyroelectric sensor element and is transmitted to the second infrared light. Absorbed by the absorption film. That is, since the infrared rays that could not be absorbed by the first infrared absorbing film can be absorbed by the second infrared absorbing film, the infrared absorption efficiency is improved.

また、焦電体センサ素子を第1赤外線吸収膜と第2赤外線吸収膜とで挟み込んだ構造となっているため、焦電体センサ素子の反りを低減することができる。   In addition, since the pyroelectric sensor element is sandwiched between the first infrared absorbing film and the second infrared absorbing film, warping of the pyroelectric sensor element can be reduced.

実施例1の焦電センサの断面図である。It is sectional drawing of the pyroelectric sensor of Example 1. FIG. 実施例1の焦電センサの上面図である。It is a top view of the pyroelectric sensor of Example 1. 実施例1の焦電センサの製造工程を示す断面図である。6 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the pyroelectric sensor of Example 1. FIG. 実施例2の焦電センサの断面図である。It is sectional drawing of the pyroelectric sensor of Example 2. FIG.

以下、本発明の焦電センサの実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the pyroelectric sensor of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1は、実施例1の焦電センサの断面図である。図2は、実施例1の焦電センサの上面図である。図1に示す焦電センサの断面図は、図2に示す焦電センサの上面図におけるB−B´間の断面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view of the pyroelectric sensor of the first embodiment. FIG. 2 is a top view of the pyroelectric sensor according to the first embodiment. The cross-sectional view of the pyroelectric sensor shown in FIG. 1 is a cross-sectional view taken along the line BB ′ in the top view of the pyroelectric sensor shown in FIG.

図1に示す焦電センサは、焦電体11、保持台12、上面電極13、1次赤外線吸収膜14(第1赤外線吸収膜)、下面電極15、2次赤外線吸収膜16(第2赤外線吸収膜)、上面電極信号取り出し線17、下面電極パッド18、下面電極信号取り出し線19を有して構成されている。   The pyroelectric sensor shown in FIG. 1 includes a pyroelectric body 11, a holding base 12, a top electrode 13, a primary infrared absorption film 14 (first infrared absorption film), a bottom electrode 15, and a secondary infrared absorption film 16 (second infrared radiation). Absorption film), upper surface electrode signal extraction line 17, lower surface electrode pad 18, and lower surface electrode signal extraction line 19.

焦電センサは、入射する赤外線を電気信号に変換する。FTIR(フーリエ変換型赤外分光装置)において、入射赤外線は、数十から数キロHz程度で変調されている。   The pyroelectric sensor converts incident infrared light into an electrical signal. In an FTIR (Fourier transform infrared spectrometer), incident infrared light is modulated at about several tens to several kiloHz.

焦電体11(焦電センサ素子)は、DLATGS(Deuterated L-Alanine Triglycine Sulphate(重水素化L−アラニンド−プトリグリシン硫酸結晶))、LiTaO(リチウムタンタレート)、LiNbO(リチウムナイオベート)、のいずれかからなる。あるいは、焦電体11として、PZT、PbTiO、PGO、前述したDLATGSが含まれるTGSなどを用いることもできる。焦電体11の外形は、四角形状であるが、熱膨張による反りを回避するために焦電体11の四隅の角を切除したり、あるいは円形状とすることも可能であり、点対称の形状であれば良い。 The pyroelectric material 11 (pyroelectric sensor element) is DLATGS (Deuterated L-Alanine Triglycine Sulphate), LiTaO 3 (lithium tantalate), LiNbO 3 (lithium niobate) , Either. Alternatively, as the pyroelectric body 11, PZT, PbTiO 3 , PGO, TGS including the above-described DLATGS, or the like can be used. Although the external shape of the pyroelectric body 11 is a quadrangular shape, the corners of the four corners of the pyroelectric body 11 can be cut out or circularly shaped to avoid warping due to thermal expansion. Any shape is acceptable.

保持台12は、焦電体11を保持し、Si単結晶基板やガラス基板、セラミック基板のいずれかからなる。保持台12は、開口部12aを有し、開口部12aが2次赤外線吸収膜16の受光面積よりも大きくなるように形成され、焦電体11から保持台12への熱の逃げを回避するために、保持台12の4点(4隅部分)で焦電体11を保持している。   The holding table 12 holds the pyroelectric body 11 and is made of any one of a Si single crystal substrate, a glass substrate, and a ceramic substrate. The holding table 12 has an opening 12a, and the opening 12a is formed so as to be larger than the light receiving area of the secondary infrared absorption film 16, thereby avoiding the escape of heat from the pyroelectric body 11 to the holding table 12. Therefore, the pyroelectric body 11 is held at four points (four corners) of the holding table 12.

焦電体11の上面には、上面電極13が形成されている。さらに、上面電極13の上面には1次赤外線吸収膜14が形成されている。   A top electrode 13 is formed on the top surface of the pyroelectric body 11. Further, a primary infrared absorption film 14 is formed on the upper surface of the upper electrode 13.

また、焦電体11の下面には、下面電極15が形成されている。さらに、下面電極15の下面には2次赤外線吸収膜16が形成されている。   A lower surface electrode 15 is formed on the lower surface of the pyroelectric body 11. Further, a secondary infrared absorption film 16 is formed on the lower surface of the lower electrode 15.

上面電極13及び下面電極15のそれぞれは、金、銅やアルミニウムなどの導電性金属からなる。1次赤外線吸収膜14及び2次赤外線吸収膜16のそれぞれは、金黒膜などの金属黒膜からなる。あるいは、1次赤外線吸収膜14及び2次赤外線吸収膜16のそれぞれは、白金黒膜などの金属黒膜を用いてもよい。   Each of the upper surface electrode 13 and the lower surface electrode 15 is made of a conductive metal such as gold, copper, or aluminum. Each of the primary infrared absorption film 14 and the secondary infrared absorption film 16 is made of a metal black film such as a gold black film. Alternatively, each of the primary infrared absorption film 14 and the secondary infrared absorption film 16 may be a metal black film such as a platinum black film.

上面電極12には信号取り出し用の上面電極信号取り出し線17がボンディングされている。上面電極信号取り出し線17は、上面電極13を介して焦電体11で発生した電気信号を読み出す。下面電極パッド18は、保持台12に形成され、導電性ペーストやハンダにより下面電極15に接合され、電気的に導通する。   An upper surface electrode signal extraction line 17 for signal extraction is bonded to the upper surface electrode 12. The upper surface electrode signal extraction line 17 reads out an electric signal generated in the pyroelectric body 11 through the upper surface electrode 13. The lower surface electrode pad 18 is formed on the holding table 12 and is joined to the lower surface electrode 15 by a conductive paste or solder to be electrically conductive.

下面電極信号取り出し線19は、下面電極パッド18にボンディングされている。このため、下面電極信号取り出し線19は、下面電極15と下面電極パッド18とを介して焦電体11で発生した電気信号を読み出す。   The lower electrode signal extraction line 19 is bonded to the lower electrode pad 18. For this reason, the lower electrode signal extraction line 19 reads out an electric signal generated in the pyroelectric body 11 via the lower electrode 15 and the lower electrode pad 18.

次に、このように構成された実施例1の焦電センサの動作を説明する。焦電体11の上面に1次赤外線吸収膜14が形成され、焦電体11の下面に2次赤外線吸収膜16が形成されている。従って、焦電体11に入射した赤外線は、焦電体11の上面に形成された1次赤外線吸収膜14により吸収される。   Next, the operation of the pyroelectric sensor of Example 1 configured as described above will be described. A primary infrared absorption film 14 is formed on the upper surface of the pyroelectric body 11, and a secondary infrared absorption film 16 is formed on the lower surface of the pyroelectric body 11. Therefore, the infrared rays incident on the pyroelectric body 11 are absorbed by the primary infrared absorption film 14 formed on the upper surface of the pyroelectric body 11.

次に、1次赤外線吸収膜14を透過した赤外線は、焦電体11を透過して、焦電体11の下面に形成された2次赤外線吸収膜16により吸収される。即ち、1次赤外線吸収膜14で吸収しきれなかった赤外線は、2次赤外線吸収膜16により吸収できるため、赤外線の吸収効率が向上する。   Next, the infrared rays that have passed through the primary infrared absorbing film 14 pass through the pyroelectric body 11 and are absorbed by the secondary infrared absorbing film 16 formed on the lower surface of the pyroelectric body 11. That is, since the infrared rays that could not be absorbed by the primary infrared absorption film 14 can be absorbed by the secondary infrared absorption film 16, the infrared absorption efficiency is improved.

また、焦電体11を1次赤外線吸収膜14と2次赤外線吸収膜16とで挟み込んだ構造となっているため、焦電体11の反りを低減することができる。   Further, since the pyroelectric body 11 is sandwiched between the primary infrared absorption film 14 and the secondary infrared absorption film 16, the warpage of the pyroelectric body 11 can be reduced.

さらに、開口部12aの面積が2次赤外線吸収膜16の面積よりも大きくなるように形成され、保持台12の4点で焦電体11を保持しているので、焦電体11から保持台12への熱の逃げを回避することができる。   Further, the pyroelectric body 11 is held at the four points of the holding base 12 so that the area of the opening 12a is larger than the area of the secondary infrared absorption film 16, so Heat escape to 12 can be avoided.

次に、実施例1に係る焦電センサの製造方法について、図3に示す焦電センサの製造工程を参照しながら詳細に説明する。   Next, the manufacturing method of the pyroelectric sensor according to the first embodiment will be described in detail with reference to the manufacturing process of the pyroelectric sensor shown in FIG.

まず、図3(a)に示すように、例えばLiTaOからなる焦電体11を所望の形状に加工する。次に、図3(b)に示すように、焦電体11の下面に、金からなる下面電極15を蒸着によって成膜する。 First, as shown in FIG. 3A, a pyroelectric body 11 made of, for example, LiTaO 3 is processed into a desired shape. Next, as shown in FIG. 3B, a lower electrode 15 made of gold is formed on the lower surface of the pyroelectric body 11 by vapor deposition.

次に、図3(c)に示すように、焦電体11の下面に、金黒膜パターンを形成するためのマスク21を焦電体11に取り付ける。次に、図3(d)に示すように、1000Pa程度の低真空度下で金を蒸着すことにより、多孔質の金が焦電体11の下面に成膜されて、金黒膜(2次赤外線吸収膜16)が形成される。   Next, as shown in FIG. 3C, a mask 21 for forming a gold black film pattern is attached to the pyroelectric body 11 on the lower surface of the pyroelectric body 11. Next, as shown in FIG. 3D, porous gold is deposited on the lower surface of the pyroelectric body 11 by vapor-depositing gold under a low vacuum of about 1000 Pa, and a gold black film (2 A next infrared absorption film 16) is formed.

次に、図3(e)に示すように、マスク21を取り外す。さらに、図3(f)に示すように、焦電体11の下面に、ガラス基板22を接着する。   Next, as shown in FIG. 3E, the mask 21 is removed. Further, as shown in FIG. 3 (f), a glass substrate 22 is bonded to the lower surface of the pyroelectric body 11.

次に、図3(g)に示すように、焦電体11を所望の厚みまで研磨した後、図3(h)に示すように、焦電体11の上面に金からなる上面電極13を蒸着する。   Next, as shown in FIG. 3G, after the pyroelectric body 11 is polished to a desired thickness, as shown in FIG. 3H, the upper surface electrode 13 made of gold is formed on the upper surface of the pyroelectric body 11. Evaporate.

次に、図3(i)に示すように、焦電体11の上面に、金黒膜パターンを形成するためのマスク23を焦電体11に取り付ける。次に、図3(j)に示すように、1000Pa程度の低真空度下で金を蒸着すことにより、多孔質の金が焦電体11の上面に成膜されて、金黒膜(1次赤外線吸収膜14)が形成される。   Next, as shown in FIG. 3I, a mask 23 for forming a gold black film pattern is attached to the pyroelectric body 11 on the upper surface of the pyroelectric body 11. Next, as shown in FIG. 3 (j), by depositing gold under a low vacuum of about 1000 Pa, porous gold is formed on the upper surface of the pyroelectric body 11, and the gold black film (1 A next infrared absorbing film 14) is formed.

次に、図3(k)に示すように、マスク23を取り外す。さらに、図3(l)に示すように、ガラス基板22を焦電体11から剥離する。   Next, as shown in FIG. 3 (k), the mask 23 is removed. Further, as shown in FIG. 3L, the glass substrate 22 is peeled from the pyroelectric body 11.

最後に、図3(m)に示すように、焦電体11の下面電極と保持台12上の下面電極パッド18との間を導電性ペースト(導電性部材)により接着、若しくはハンダで接合する。   Finally, as shown in FIG. 3 (m), the lower surface electrode of the pyroelectric body 11 and the lower surface electrode pad 18 on the holding base 12 are bonded or bonded with a conductive paste (conductive member). .

図3(a)〜図3(m)の工程を実施することにより、実施例1に係る焦電センサを容易に製造することができる。   By performing the steps of FIG. 3A to FIG. 3M, the pyroelectric sensor according to the first embodiment can be easily manufactured.

図4は、実施例2の焦電センサの断面図である。実施例2の焦電センサは、1次赤外線吸収膜14及び2次赤外線吸収膜16aが金黒膜からなる。   FIG. 4 is a cross-sectional view of the pyroelectric sensor of the second embodiment. In the pyroelectric sensor of Example 2, the primary infrared absorption film 14 and the secondary infrared absorption film 16a are made of a gold black film.

1次赤外線吸収膜14は、赤外線反射率が所定値よりも小さい金黒膜からなる。例えば、金黒膜を成膜する際の真空度を図3(d)時の成膜条件(1000Pa以下)よりも高い真空度にすることで得られる。   The primary infrared absorption film 14 is made of a gold black film having an infrared reflectance smaller than a predetermined value. For example, the degree of vacuum at the time of forming the gold black film can be obtained by setting the degree of vacuum higher than the film forming condition (1000 Pa or less) in FIG.

2次赤外線吸収膜16aは、赤外線反射率が1次赤外線吸収膜14よりも大きい金黒膜からなる。例えば、金黒膜を成膜する際の真空度を一次赤外線吸収膜14の成膜時の真空度よりも低い真空度にすることで得られる。   The secondary infrared absorption film 16 a is made of a gold black film having an infrared reflectance higher than that of the primary infrared absorption film 14. For example, the degree of vacuum when forming the gold black film can be obtained by setting the degree of vacuum lower than the degree of vacuum when forming the primary infrared absorption film 14.

このような実施例2の焦電センサによれば、1次赤外線吸収膜14は、赤外線反射率が所定値よりも小さい金黒膜からなるので、赤外線を十分に吸収することができる。1次赤外線吸収膜14により、入射された赤外線の例えば、約90%を吸収することができる。   According to the pyroelectric sensor of Example 2 as described above, the primary infrared absorption film 14 is made of a gold black film having an infrared reflectance smaller than a predetermined value, and therefore can sufficiently absorb infrared rays. For example, about 90% of incident infrared rays can be absorbed by the primary infrared absorption film 14.

また、2次赤外線吸収膜16aは、赤外線反射率が前記所定値よりも大きい金黒膜からなるので、2次赤外線吸収膜16aに入射した赤外線は、2次赤外線吸収膜16aで吸収されるとともに、殆ど透過せずに反射されて、焦電体11に戻る。   In addition, since the secondary infrared absorption film 16a is made of a gold black film having an infrared reflectance greater than the predetermined value, the infrared light incident on the secondary infrared absorption film 16a is absorbed by the secondary infrared absorption film 16a. Reflected with almost no transmission, returns to the pyroelectric body 11.

このため、例えば残った10%の赤外線の殆どが2次赤外線吸収膜16aで吸収される。従って、2次赤外線吸収膜16aにより赤外線吸収率がさらに向上するので、実施例2の焦電センサは、実施例1の焦電センサの効果よりも大きくなる。   For this reason, for example, most of the remaining 10% infrared light is absorbed by the secondary infrared absorption film 16a. Therefore, since the infrared absorption rate is further improved by the secondary infrared absorption film 16a, the pyroelectric sensor of the second embodiment is larger than the effect of the pyroelectric sensor of the first embodiment.

本発明に係る焦電センサは、フーリエ変換型赤外線分光装置に適用可能である。   The pyroelectric sensor according to the present invention can be applied to a Fourier transform infrared spectrometer.

11 焦電体
12 保持台
12a 開口部
13 上面電極
14 1次赤外線吸収膜
15 下面電極
16,16a 2次赤外線吸収膜
17 上面電極信号取り出し線
18 下面電極パッド
19 下面電極信号取り出し線
21,23 マスク
22 ガラス基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Pyroelectric body 12 Holding stand 12a Opening part 13 Upper surface electrode 14 Primary infrared absorption film 15 Lower surface electrode 16, 16a Secondary infrared absorption film 17 Upper surface electrode signal extraction line 18 Lower surface electrode pad 19 Lower surface electrode signal extraction line 21, 23 Mask 22 Glass substrate

Claims (6)

焦電センサ素子と、
前記焦電センサ素子の上面に形成され且つ信号を取り出すための上面電極と、
前記上面電極の上面に形成され且つ赤外線を吸収するための第1赤外線吸収膜と、
前記焦電センサ素子の下面に形成され且つ前記信号を取り出すための下面電極と、
前記下面電極の下面に形成され且つ前記赤外線を吸収するための第2赤外線吸収膜と、
前記焦電センサ素子を保持する保持台と、
を備えることを特徴とする焦電センサ。
A pyroelectric sensor element;
An upper surface electrode formed on the upper surface of the pyroelectric sensor element and for taking out a signal;
A first infrared absorbing film formed on the upper surface of the upper electrode and absorbing infrared rays;
A lower electrode formed on the lower surface of the pyroelectric sensor element and for taking out the signal;
A second infrared absorbing film formed on the lower surface of the lower electrode and for absorbing the infrared rays;
A holding base for holding the pyroelectric sensor element;
A pyroelectric sensor comprising:
前記保持台は、前記第1赤外線吸収膜及び前記第2赤外線吸収膜のそれぞれの受光面積よりも大きい開口部を有することを特徴とする請求項1記載の焦電センサ。   2. The pyroelectric sensor according to claim 1, wherein the holding table has an opening that is larger than a light receiving area of each of the first infrared absorbing film and the second infrared absorbing film. 前記第1赤外線吸収膜及び前記第2赤外線吸収膜のそれぞれは、金黒膜又は白金黒膜からなることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の焦電センサ。   3. The pyroelectric sensor according to claim 1, wherein each of the first infrared absorption film and the second infrared absorption film is made of a gold black film or a platinum black film. 前記焦電センサ素子は、DLATGS、LiTaO、LiNbOのいずれかからなることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の焦電センサ。 The pyroelectric sensor according to claim 1, wherein the pyroelectric sensor element is made of any one of DLATGS, LiTaO 3 , and LiNbO 3 . 前記第2赤外線吸収膜の赤外線反射率は、前記第1赤外線吸収膜の赤外線反射率よりも大きいことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の焦電センサ。   5. The pyroelectric sensor according to claim 1, wherein an infrared reflectance of the second infrared absorbing film is larger than an infrared reflectance of the first infrared absorbing film. 6. 焦電センサ素子の下面に信号を取り出すための下面電極を形成するステップと、
前記下面電極の下面に赤外線を吸収するための第2赤外線吸収膜を形成するステップと、
前記焦電センサ素子の上面に前記信号を取り出すための上面電極を形成するステップと、
前記上面電極上に前記赤外線を吸収するための第1赤外線吸収膜を形成するステップと、
前記焦電センサ素子を保持台に保持するステップと、
を含むことを特徴とする焦電センサの製造方法。
Forming a bottom electrode for extracting a signal on the bottom surface of the pyroelectric sensor element;
Forming a second infrared absorbing film for absorbing infrared rays on the lower surface of the lower electrode;
Forming an upper surface electrode for extracting the signal on the upper surface of the pyroelectric sensor element;
Forming a first infrared absorption film for absorbing the infrared ray on the upper surface electrode;
Holding the pyroelectric sensor element on a holding table;
A method of manufacturing a pyroelectric sensor, comprising:
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