JP2016053657A - Manufacturing method for optical film having periodic structure - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method for an optical film having a periodic structure, which facilitates manufacturing of an optical film having a periodic structure with sufficiently advanced periodicity formed thereon.SOLUTION: A manufacturing method for an optical film with a periodic structure includes steps of; preparing a film made of a polymerizable composition containing a first polymerizable compound and a second polymerizable compound that requires longer time to complete polymerization than the first polymerizable compound when both are polymerized under same conditions, where at least one of the first polymerizable compound, the second polymerizable compound, and a compound obtained after polymerization is a compound that exhibits a liquid crystalline property; starting polymerization of the polymerizable composition from a partial region of the film; competing the polymerization by continuously moving a border of the region toward an unpolymerized region at a speed that allows the compound with the liquid crystalline property to be oriented; and cooling the polymerized film to obtain an optical film with a periodic structure. The polymerization is done while heating the film at a heating temperature of 80-150°C, and the cooling of the film is done at a cooling rate of 0.1-30°C/minute at least until the temperature of the film is reduced to 60°C from temperature that equals the heating temperature used while polymerizing the film.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、周期構造を有する光学フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing an optical film having a periodic structure.

一般に、物体が光の波長オーダーの周期構造を有する場合、その周期に応じた特定の波長の光に強く作用する特徴がある。そのような周期構造を有する物体により光が反射される場合、その光の反射方向は波長に応じて異なり、光は異なる波長成分に分解される。そのような周期構造を有する物体の一例としては、回折格子やフォトニック結晶等が挙げられる。そして、このような回折格子としては、例えば、格子パターンとして直線状の溝がマイクロメートルオーダーの周期で等間隔に平行に並んで構成されているものが広く知られている。このような回折格子は、従来よりスペクトロメーターやモノクロメーター等の分光素子として利用されるなど利用価値が高い素子である。また、前記フォトニック結晶は、例えば、2006年8月1日発行の「物質材料研究アウトルック,P227−P231(非特許文献1)」や2004年発行の「フォトニック結晶入門(非特許文献2)」に例示されるように、粒径の等しい微粒子を光の波長オーダーの間隔で周期的に配列させた場合に形成されるものである。このように、光の波長オーダーで配列した微粒子の周期構造体(フォトニック結晶)中においては、光のエネルギー禁制帯(フォトニックバンドギャップ)が結晶中のすべての方位に形成され、ある特定の波長の光が存在し得ない状態が形成される。そのような構造を有する結晶中に、例えば、微小な欠陥構造を導入することで、閉じ込められ増幅された光を効率よく取り出すことができ、非常に閾値の低い微小レーザーを作製することが可能となると考えられている。   In general, when an object has a periodic structure in the order of the wavelength of light, there is a characteristic that it strongly acts on light having a specific wavelength corresponding to the period. When light is reflected by an object having such a periodic structure, the reflection direction of the light varies depending on the wavelength, and the light is decomposed into different wavelength components. Examples of objects having such a periodic structure include a diffraction grating and a photonic crystal. As such a diffraction grating, for example, a grating pattern in which linear grooves are arranged in parallel at equal intervals with a period of a micrometer order is widely known. Such a diffraction grating is an element having high utility value such as being used as a spectroscopic element such as a spectrometer or a monochromator. The photonic crystal is, for example, “Materials Research Outlook, P227-P231 (Non-Patent Document 1)” issued on August 1, 2006, or “Introduction to Photonic Crystal (Non-Patent Document 2)” issued in 2004. As illustrated in the above, the fine particles having the same particle diameter are formed periodically at intervals of the wavelength order of light. Thus, in the periodic structure (photonic crystal) of fine particles arranged in the order of the wavelength of light, the light energy forbidden band (photonic band gap) is formed in all orientations in the crystal, A state is formed in which light of a wavelength cannot exist. For example, by introducing a minute defect structure into a crystal having such a structure, it is possible to efficiently extract confined and amplified light, and to produce a minute laser with a very low threshold. It is thought to be.

このような回折格子やフォトニック結晶に関して、先ず、回折格子の工業的な製造方法としては、例えば、ミクロンオーダーの直線状の溝を機械的に彫り付ける手法により製造する方法、フォトリソグラフィやレーザの2干渉露光を利用したホログラフィック露光法等の光学的な手法により製造する方法等が知られている。しかしながら、このような従来の回折格子の製造方法においては、溝を彫り付ける際に特殊な機械が必要となったり、光学的な手法を利用する場合においても露光される材料として感光性を有する特殊な材料を使用する必要がある等、製造上の制約が多く、必ずしも簡便に回折格子を製造することができなかった。一方、上述のようなフォトニック結晶を製造する際には、光の波長オーダーで粒径がほぼ均一に揃った微粒子を均一に3次元的に配列させる必要がある。そのため、フォトニック結晶を製造する際には、そのような粒子を配列させるための元型となる基板(フォトニック結晶を成長させるためのテンプレート)として微細な周期構造を有する構造体が必要であるが、そのような微細な周期構造を有する構造体の製造は、上述の回折格子と同様に、必ずしも簡便に製造できるものではなかった。従って、回折格子や、フォトニック結晶を成長させるためのテンプレート等に利用可能となるような、十分に高度な周期性を有する周期構造が形成された光学フィルムを、より簡便に製造することが可能な光学フィルムの製造方法の出現が望まれている。   Regarding such a diffraction grating or photonic crystal, first, as an industrial manufacturing method of a diffraction grating, for example, a method of manufacturing by a method of mechanically engraving a linear groove of a micron order, photolithography or laser A method of manufacturing by an optical method such as a holographic exposure method using two-interference exposure is known. However, in such a conventional method for manufacturing a diffraction grating, a special machine is required for engraving a groove, or a special material having photosensitivity as an exposed material even when using an optical technique. There are many manufacturing restrictions such as the need to use a new material, and it has not always been possible to easily manufacture a diffraction grating. On the other hand, when manufacturing the photonic crystal as described above, it is necessary to uniformly arrange three-dimensionally the fine particles having a substantially uniform particle size in the wavelength order of light. Therefore, when manufacturing a photonic crystal, a structure having a fine periodic structure is required as a substrate (a template for growing a photonic crystal) serving as a base for arranging such particles. However, the manufacture of a structure having such a fine periodic structure has not always been easy to manufacture, like the diffraction grating described above. Therefore, it is possible to more easily manufacture an optical film on which a periodic structure having a sufficiently high periodicity that can be used for a diffraction grating or a template for growing a photonic crystal is formed. A new method for producing optical films is desired.

「2006年度 物質材料研究アウトルック」,独立行政法人 物質・材料研究機構,2006年8月1日発行,P227−P231"Fiscal 2006 Materials and Materials Research Outlook", National Institute for Materials Science, August 1, 2006, P227-P231 迫田和彰著,「フォトニック結晶入門」,森北出版,2004年発行Kazuaki Sakoda, “Introduction to Photonic Crystals”, published by Morikita Publishing, 2004

本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、十分に高度な周期性を有する周期構造が形成された光学フィルムをより簡便に製造することが可能な、周期構造を有する光学フィルムの製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and has a periodic structure capable of more easily producing an optical film on which a periodic structure having a sufficiently high periodicity is formed. It aims at providing the manufacturing method of an optical film.

本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、第一の重合性化合物と、同一条件で重合させた場合に前記第一の重合性化合物よりも重合完了時間が長い第二の化合物とを含有し、且つ、前記第一の重合性化合物、前記第二の化合物及び重合後に得られる化合物のうちの少なくとも1種が液晶性を示す化合物である、重合性組成物からなる膜を用いて、前記膜の一部の領域から前記重合性組成物の重合を開始し、前記液晶性を示す化合物が配向するような速度で前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させて重合した後、重合後の膜を冷却する工程を施し、その工程中、前記重合時に前記膜を80〜150℃の加熱温度に加熱しながら重合し、かつ、前記冷却の際に、前記膜の温度が少なくとも前記重合時に採用した加熱温度と同じ温度から60℃になるまでの間、0.1〜30℃/分の冷却速度で前記膜を冷却することにより、驚くべきことに、重合後の光学フィルム内に十分に高度な周期性を有する周期構造を形成することが可能となることを見出して、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that when the first polymerizable compound is polymerized under the same conditions, the polymerization completion time is longer than that of the first polymerizable compound. And a polymerizable composition comprising at least one of the first polymerizable compound, the second compound, and the compound obtained after polymerization, wherein the compound exhibits liquid crystallinity. Using the film, polymerization of the polymerizable composition is started from a partial region of the film, and the boundary of the region is continuously directed toward the unpolymerized region at such a rate that the compound exhibiting liquid crystallinity is aligned. After the polymerization, the film after polymerization is cooled, during the polymerization, the film is polymerized while being heated to a heating temperature of 80 to 150 ° C., and the cooling is performed. Furthermore, the temperature of the film is adopted at least during the polymerization. By cooling the film at a cooling rate of 0.1 to 30 ° C./min from the same temperature as the heating temperature to 60 ° C., surprisingly, it is sufficiently advanced in the optical film after polymerization. The inventors have found that it is possible to form a periodic structure having periodicity, and have completed the present invention.

すなわち、本発明の周期構造を有する光学フィルムの製造方法は、第一の重合性化合物と、同一条件で重合させた場合に前記第一の重合性化合物よりも重合完了時間が長い第二の化合物とを含有し、且つ、前記第一の重合性化合物、前記第二の化合物及び重合後に得られる化合物のうちの少なくとも1種が液晶性を示す化合物である、重合性組成物からなる膜を用いて、
前記膜の一部の領域から前記重合性組成物の重合を開始し、前記液晶性を示す化合物が配向するような速度で前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させて重合した後、重合後の膜を冷却して、周期構造を有する光学フィルムを得る工程を含み、
前記重合時に前記膜を80〜150℃の加熱温度で加熱しながら重合し、かつ、
前記冷却の際に、前記膜の温度が少なくとも前記重合時に採用した加熱温度と同じ温度から60℃になるまでの間、0.1〜30℃/分の冷却速度で前記膜を冷却すること、
を特徴とする方法である。
That is, the method for producing an optical film having a periodic structure according to the present invention includes the first polymerizable compound and the second compound having a polymerization completion time longer than that of the first polymerizable compound when polymerized under the same conditions. And a film made of a polymerizable composition, wherein at least one of the first polymerizable compound, the second compound and the compound obtained after polymerization is a compound exhibiting liquid crystallinity And
Polymerization of the polymerizable composition is started from a partial region of the film, and the boundary of the region is continuously moved toward an unpolymerized region at such a speed that the compound exhibiting liquid crystallinity is aligned. After polymerization, the step of cooling the polymerized film to obtain an optical film having a periodic structure,
Polymerizing the film while heating at a heating temperature of 80 to 150 ° C. during the polymerization; and
During the cooling, the film is cooled at a cooling rate of 0.1 to 30 ° C./min until the temperature of the film reaches at least 60 ° C. from the same heating temperature employed during the polymerization,
It is the method characterized by this.

上記本発明の周期構造を有する光学フィルムの製造方法においては、前記周期構造を有する光学フィルムが、
該光学フィルムの任意の3点以上の測定点に対してそれぞれ波長633nmのヘリウムネオンレーザーを垂直な方向から照射したときに測定される1次回折光の回折強度の平均値と、
前記冷却の際に、前記冷却速度で冷却する方法を採用せずに、前記重合後の膜を液体窒素に5秒間浸漬して前記膜を冷却する方法を採用する以外は、上記本発明の光学フィルムの製造方法と同様の方法を採用して得られる透過光測定用のフィルムの任意の3点以上の測定点に対してそれぞれ波長633nmのヘリウムネオンレーザーを垂直な方向から照射したときに測定される透過光の強度の平均値と、
に基いて、下記式(1):
[E]=([Is]/[Ir])×100 (1)
[式(1)中、Isは前記光学フィルムの1次回折光の回折強度の平均値(単位:mW)を示し、Irは透過光測定用のフィルムの透過光の強度の平均値(単位:mW)を示し、Eは回折効率(単位:%)を示す。]
を計算して求められる回折効率が5%以上となる光学フィルムであることが好ましい。
In the method for producing an optical film having the periodic structure of the present invention, the optical film having the periodic structure is:
An average value of diffraction intensities of the first-order diffracted light measured when a helium neon laser having a wavelength of 633 nm is irradiated from a perpendicular direction to any three or more measurement points of the optical film;
The method of the present invention except that the method of cooling the film by immersing the polymerized film in liquid nitrogen for 5 seconds without using the method of cooling at the cooling rate is adopted at the time of cooling. Measured when a helium neon laser with a wavelength of 633 nm is irradiated from a perpendicular direction to any three or more measurement points of a transmitted light measurement film obtained by adopting the same method as the film production method. The average value of transmitted light intensity,
Based on the following formula (1):
[E] = ([Is] / [Ir]) × 100 (1)
[In the formula (1), Is represents the average value (unit: mW) of the diffraction intensity of the first-order diffracted light of the optical film, and Ir represents the average value (unit: mW) of the transmitted light intensity of the transmitted light measurement film. ) And E represents diffraction efficiency (unit:%). ]
It is preferable that the optical film has a diffraction efficiency of 5% or more obtained by calculating.

上記本発明の周期構造を有する光学フィルムの製造方法においては、前記冷却速度が0.8〜12℃/分の冷却速度であることが好ましい。   In the method for producing an optical film having a periodic structure according to the present invention, the cooling rate is preferably a cooling rate of 0.8 to 12 ° C./min.

上記本発明の周期構造を有する光学フィルムの製造方法においては、前記第一の重合性化合物が1以上の重合性官能基を有する化合物であり、且つ、該重合性官能基の数が前記第二の化合物の有する重合性官能基の数より1以上大きいことが好ましい。   In the method for producing an optical film having a periodic structure according to the present invention, the first polymerizable compound is a compound having one or more polymerizable functional groups, and the number of the polymerizable functional groups is the second number. It is preferable that it is 1 or more larger than the number of polymerizable functional groups possessed by the compound.

また、上記本発明の周期構造を有する光学フィルムの製造方法においては、前記重合性組成物の重合を光重合により行い、且つ、前記境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させるために、光の照射領域の境界を光の未照射の領域に向けて連続的に移動させることが好ましい。   In the method for producing an optical film having a periodic structure of the present invention, the polymerizable composition is polymerized by photopolymerization, and the boundary is continuously moved toward an unpolymerized region. It is preferable that the boundary of the light irradiation region is continuously moved toward the non-light irradiation region.

さらに、上記本発明の周期構造を有する光学フィルムの製造方法においては、前記光重合の際にフォトマスクを利用し、該フォトマスクを連続的に移動させることにより前記光の照射領域の境界を光の未照射の領域に向けて連続的に移動させることが好ましい。   Furthermore, in the method for producing an optical film having a periodic structure according to the present invention, a photomask is used for the photopolymerization, and the photomask is continuously moved to light the boundary of the light irradiation region. It is preferable to move continuously toward the unirradiated region.

また、上記本発明の周期構造を有する光学フィルムの製造方法においては、前記境界を移動させる速度が1×10−7〜4×10−1m/sであることが好ましい。 Moreover, in the manufacturing method of the optical film which has the periodic structure of the said invention, it is preferable that the speed | rate which moves the said boundary is 1 * 10 < -7 > -4 * 10 < -1 > m / s.

さらに、上記本発明の周期構造を有する光学フィルムの製造方法においては、前記第一の重合性化合物が下記化合物C11〜15からなる群から選択される少なくとも1種の化合物であり、且つ、前記第二の化合物が下記化合物C21〜24からなる群から選択される少なくとも1種の化合物であることが好ましい。このように、前記重合性組成物中の前記第一の重合性化合物及び第二の化合物の組み合わせとしては、下記化合物C11〜15からなる群から選択される少なくとも1種の化合物と、下記化合物C21〜24からなる群から選択される少なくとも1種の化合物との組み合わせが好ましい。   Furthermore, in the method for producing an optical film having a periodic structure according to the present invention, the first polymerizable compound is at least one compound selected from the group consisting of the following compounds C11 to 15; The two compounds are preferably at least one compound selected from the group consisting of the following compounds C21 to 24. Thus, as a combination of the first polymerizable compound and the second compound in the polymerizable composition, at least one compound selected from the group consisting of the following compounds C11 to 15 and the following compound C21: A combination with at least one compound selected from the group consisting of ˜24 is preferred.

ここで、前記第一の重合性化合物として選択され得る化合物C11〜C13は、それぞれ、下記一般式(1):
p−M−L−(M−L)q−M−Zr (1)
で表される化合物であって、
化合物C11は、式(1)中のZおよびZは同一であっても異なっていてもよく、それぞれ式:−L−S−Fで表わされる基であり、Fがアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Sが単結合及び炭素数1から12の直鎖アルキレン基のうちのいずれかであり、Lがエーテル基、エステル基及びカーボネート基のうちのいずれか(より好ましくはエーテル基)であり、pが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが単結合及び−COO−のうちのいずれか(より好ましくは単結合)であり、qが0であり、Mが1,4−フェニレン基であり、且つ、rが1である化合物であり、
化合物C12は、式(1)中のZおよびZは同一であっても異なっていてもよく、それぞれ式:−L−S−Fで表わされる基であり、Fがアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Sが単結合若しくは炭素数1から12の直鎖アルキレン基のうちのいずれかであり、Lがエーテル基、エステル基及びカーボネート基のうちのいずれか(より好ましくはエーテル基)であり、pが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが−COO−であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが−OCO−であり、qが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、且つ、rが1である化合物であり、
化合物C13は、式(1)中のZおよびZは同一であっても異なっていてもよく、それぞれ式:−L−S−Fで表わされる基であり、Fがアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Sが式:(CHCHO)z(zは2及び3のうちのいずれかである。)で表される基であり、Lが単結合であり、pが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが単結合及びエステル基のいずれか(より好ましくは単結合)であり、qが0であり、Mが1,4−フェニレン基であり、且つ、rが1である化合物である。
Here, the compounds C11 to C13 that can be selected as the first polymerizable compound are represented by the following general formula (1):
Z 1 p-M 1 -L 1 - (M 2 -L 2) q-M 3 -Z 2 r (1)
A compound represented by:
In the compound C11, Z 1 and Z 2 in the formula (1) may be the same or different, and each is a group represented by the formula: -L 3 -S 1 -F 1 , and F 1 is acrylic Any one of a group and a methacryl group, S 1 is any one of a single bond and a linear alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and L 3 is an ether group, an ester group or a carbonate group. Any (more preferably an ether group), p is 1, M 1 is a 1,4-phenylene group, and L 1 is either a single bond or —COO— (more preferably a single bond). ), Q is 0, M 3 is a 1,4-phenylene group, and r is 1.
In the compound C12, Z 1 and Z 2 in the formula (1) may be the same or different, and each is a group represented by the formula: -L 3 -S 1 -F 1 , and F 1 is acrylic Any one of a group and a methacryl group, S 1 is either a single bond or a linear alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and L 3 is an ether group, an ester group or a carbonate group. Any one (preferably an ether group), p is 1, M 1 is a 1,4-phenylene group, L 1 is —COO—, and M 2 is a 1,4-phenylene group. , L 2 is —OCO—, q is 1, M 3 is a 1,4-phenylene group, and r is 1,
In the compound C13, Z 1 and Z 2 in the formula (1) may be the same or different and each is a group represented by the formula: -L 3 -S 1 -F 1 , and F 1 is an acrylic group Or a methacryl group, and S 1 is a group represented by the formula: (CH 2 CH 2 O) z (z is any one of 2 and 3), and L 3 Is a single bond, p is 1, M 1 is a 1,4-phenylene group, L 1 is either a single bond or an ester group (more preferably a single bond), and q is 0. , M 3 is a 1,4-phenylene group, and r is 1.

また、前記第一の重合性化合物として選択され得る化合物C14は、下記一般式(2):   The compound C14 that can be selected as the first polymerizable compound is represented by the following general formula (2):

(式中、Rが水素及びメチル基のうちのいずれかであり、xは2又は3である。)
で表される化合物であり、
前記第一の重合性化合物として選択され得る化合物C15は、下記一般式(3):
(In the formula, R 5 is either hydrogen or a methyl group, and x is 2 or 3.)
A compound represented by
The compound C15 that can be selected as the first polymerizable compound is represented by the following general formula (3):

(式中、Rが水素及びメチル基のうちのいずれかであり、yは2から12の整数である。)
で表される化合物である。
(In the formula, R 5 is either hydrogen or a methyl group, and y is an integer of 2 to 12.)
It is a compound represented by these.

また、前記第二の化合物として選択され得る化合物C21〜C24は、それぞれ、下記一般式(1):
p−M−L−(M−L)q−M−Zr (1)
で表される化合物であって、
化合物C21は、式(1)中のZが式:−L−S−Fで表わされる基であり、Fがアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Sが単結合であり、Lが単結合であり、pが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが単結合であり、qが0であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Zが水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜12のアルキル基及び炭素数1〜12のアルコキシ基の中から選択される1種(より好ましくはシアノ基)であり、且つ、rが1である化合物であり、
化合物C22は、式(1)中のZが式:−L−S−Fで表わされる基であり、Fがアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Sが炭素数1から12の直鎖アルキレン基であり、Lがエーテル基であり、pが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが単結合であり、qが0であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Zが水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜12のアルキル基及び炭素数1〜12のアルコキシ基の中から選択される1種(より好ましくはシアノ基)であり、且つ、rが1である化合物であり、
化合物C23は、式(1)中のZが式:−L−S−Fで表わされる基であり、Fがアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Sが式:(CHCHO)z(zは2若しくは3である。)で表わされる基であり、Lが単結合であり、pが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが単結合であり、qが0であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Zが水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜12のアルキル基及び炭素数1〜12のアルコキシ基の中から選択される1種(より好ましくはシアノ基)であり、且つ、rが1である化合物であり、
化合物C24は、Zが式:−L−S−Fで表わされる基であり、Fがアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Sが炭素数1から12の直鎖アルキレン基であり、Lがエーテル基であり、pが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが−COO−であり、qが0であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Zが水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜12のアルキル基及び炭素数1〜12のアルコキシ基の中から選択される1種(より好ましくはシアノ基)であり、rが1である化合物である。
Compounds C21 to C24 that can be selected as the second compound are represented by the following general formula (1):
Z 1 p-M 1 -L 1 - (M 2 -L 2) q-M 3 -Z 2 r (1)
A compound represented by:
In compound C21, Z 1 in formula (1) is a group represented by the formula: -L 3 -S 1 -F 1 , F 1 is any one of an acryl group and a methacryl group, and S 1 is A single bond, L 3 is a single bond, p is 1, M 1 is a 1,4-phenylene group, L 1 is a single bond, q is 0, M 3 is 1, 4-phenylene group, and Z 2 is selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms (more preferably Is a cyano group) and r is 1.
In compound C22, Z 1 in formula (1) is a group represented by the formula: -L 3 -S 1 -F 1 , F 1 is any one of an acryl group and a methacryl group, and S 1 is A linear alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, L 3 is an ether group, p is 1, M 1 is a 1,4-phenylene group, L 1 is a single bond, and q is 0 M 3 is a 1,4-phenylene group, Z 2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. A compound selected from one (more preferably a cyano group) and r is 1.
In compound C23, Z 1 in formula (1) is a group represented by the formula: -L 3 -S 1 -F 1 , F 1 is any one of an acryl group and a methacryl group, and S 1 is A group represented by the formula: (CH 2 CH 2 O) z (z is 2 or 3), L 3 is a single bond, p is 1, M 1 is a 1,4-phenylene group. L 1 is a single bond, q is 0, M 3 is a 1,4-phenylene group, Z 2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, or a carbon number of 1 to 12. A compound selected from an alkyl group and an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms (more preferably a cyano group), and r is 1.
In Compound C24, Z 1 is a group represented by the formula: -L 3 -S 1 -F 1 , F 1 is any one of an acryl group and a methacryl group, and S 1 has 1 to 12 carbon atoms A linear alkylene group, L 3 is an ether group, p is 1, M 1 is a 1,4-phenylene group, L 1 is —COO—, q is 0, and M 3 Is a 1,4-phenylene group, and Z 2 is selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms (More preferably a cyano group) and r is 1.

なお、本発明においては、重合時に液晶性を示す化合物(前記第一の重合性化合物、前記第二の化合物及び重合後に得られる化合物のうちの少なくとも1種の化合物)を配向させながら重合し、重合後、膜を冷却する際に、少なくとも上記所定の温度域において上記所定の冷却速度で冷却することによりフィルム中に周期構造を形成する。このような配向や周期構造が形成される原理を、前記第一の重合性化合物や前記第二の化合物として光重合性の化合物を用いた場合の好適な一実施形態を例に挙げて、図面を参照しながら簡単に説明する。以下の説明及び図面中、同一又は相当する要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。   In the present invention, polymerization is performed while orienting a compound exhibiting liquid crystallinity during polymerization (at least one of the first polymerizable compound, the second compound and the compound obtained after polymerization), After the polymerization, when the film is cooled, the periodic structure is formed in the film by cooling at the predetermined cooling rate at least in the predetermined temperature range. The principle of the formation of such an orientation or periodic structure is described with reference to an example of a preferred embodiment in which a photopolymerizable compound is used as the first polymerizable compound or the second compound. This will be briefly described with reference to FIG. In the following description and drawings, the same or corresponding elements are denoted by the same reference numerals, and redundant descriptions are omitted.

図1は、重合性組成物からなる膜に対して光重合を開始する前の状態を模式的に示す概略縦断面図である。また、図2は、光源から光を照射して膜の一部の領域から重合を開始した状態を模式的に示す概略縦断面図であり、図3は、図2中の重合領域の境界を未重合の領域に向けて移動させた後の状態を模式的に示す概略縦断面図であり、図4は、図3の重合領域の境界を未重合の領域に向けて移動させた後の状態を模式的に示す概略縦断面図である。なお、図中、点線Sは重合領域の境界を示しており、矢印Aは重合領域の境界Sを移動させる方向を概念的に示しており、矢印Lは光源から照射される光を概念的に示すものであり、A1は光Lが照射されて重合された領域(重合領域:露光部)を概念的に示し、A2は光Lが照射されていない未重合の領域(未重合領域:遮光部)を概念的に示し、A3は配向が形成されている領域を概念的に示す。   FIG. 1 is a schematic longitudinal sectional view schematically showing a state before starting photopolymerization on a film made of a polymerizable composition. 2 is a schematic longitudinal sectional view schematically showing a state in which polymerization is started from a partial region of the film by irradiating light from a light source, and FIG. 3 shows the boundary of the polymerization region in FIG. FIG. 4 is a schematic longitudinal sectional view schematically showing a state after being moved toward an unpolymerized region, and FIG. 4 is a state after the boundary of the polymerized region in FIG. 3 is moved toward the unpolymerized region. It is a schematic longitudinal cross-sectional view which shows typically. In the figure, the dotted line S indicates the boundary of the overlapping region, the arrow A conceptually indicates the direction in which the boundary S of the overlapping region is moved, and the arrow L conceptually indicates the light emitted from the light source. A1 conceptually shows a region polymerized by irradiation with light L (polymerization region: exposed portion), and A2 shows an unpolymerized region not irradiated with light L (unpolymerized region: light shielding portion). ) Conceptually, and A3 conceptually indicates a region where orientation is formed.

このような図1〜4に示す実施形態においては、光重合により配向を形成する際に、先ず、図1に示すように、光源11と、光源11から照射される光を透過させることが可能な2枚の基板12と、前記2枚の基板12の間に配置した重合性組成物からなる膜13と、光源11から照射される光を遮光することが可能なフォトマスク14とを準備し、前記2つの基板12のうちの一方の基板側に光源11を配置し、膜13の一部の領域のみに光源11からの光が照射されるように、膜13と光源11との間に、膜13の一部を遮光することが可能なフォトマスク14を配置する。次に、図2に示すように、光源11を点灯し、光源11から光Lを照射する。このようにして光Lを照射すると、遮光部A2では反応は進行せず未重合のままであるが、光が照射される露光部A1においては重合が進行する。このようにして一部の領域を露光して、膜13の一部の領域(露光部)A1から前記重合性組成物の重合を開始する。そして、このようにして重合された領域(重合領域:露光部)A1においては、重合完了時間がより短い第一の重合性化合物から優先的に光重合が進行して、第一の重合性化合物が優先的に消費されていくため、重合領域(露光部)A1と未重合領域(遮光部)A2との間では重合性組成物中の化合物の濃度に偏りが生じる。このようにして、組成物中に化合物の濃度に偏りが生じると、通常は、物質の拡散現象により濃度勾配を解消する方向に物質の拡散が生じる。そのため、上述のように光を照射すると、重合領域(露光部)A1と未重合領域(遮光部)A2の境界Sにおいては、濃度勾配を解消する方向に化合物の拡散が誘起され、未重合領域である遮光部A2から重合領域である露光部A1へと化合物の流れ(主に第一の重合性化合物の流れ)が発生する。このようにして未重合領域A2から重合領域A1への化合物の流れが生じると、その流れにより液晶性を示す化合物(重合領域に存在する前記第一の重合性化合物、前記第二の化合物及び重合後に得られる化合物のうちの少なくとも1種の化合物)には一種のずり応力が加わり、液晶性を示す化合物が重合領域(露光部)A1と未重合領域(遮光部)A2の境界Sの近傍の領域において配向し、配向領域A3が形成(誘起)される。なお、このような化合物の移動による流れが生じる方向は重合領域(露光部)A1と未重合領域(遮光部)A2の境界Sに対して略垂直な方向となるため、液晶性を示す化合物が棒状のものである場合、通常、平均的な配向方向は境界Sに対して略垂直な方向となる。このように、膜13の一部の領域から前記重合性組成物の重合を開始した後(図2参照)、例えば、フォトマスク14を連続的に移動させて重合領域の境界Sを未重合の領域A2に向けて連続的に移動させることにより(図2〜4参照)、境界Sの移動していく先々において(新たな位置で)化合物の拡散が誘起され、光重合と拡散誘起による配向とを連続的に引き起こすことが可能となる。この際、前記液晶性を示す化合物が配向するような速度で(前述の化合物の移動により生じる一種のずり応力が、配向を形成するために前記液晶性を示す化合物に十分に加えられるような速度で)、境界Sを連続的に移動させることにより、拡散誘起による配向を連続的に生じさせることが可能である。そして、本発明においては、上述のようにして配向を形成しながら重合した後(より好ましくは膜全体の重合を促進させた後)、重合後の膜を、少なくとも重合時に採用した加熱温度と同じ温度から60℃となるまでの間、所定の冷却速度で冷却することにより、周期構造を形成させる。すなわち、本発明者らは、前記重合時に加熱温度を80〜150℃としながら重合して配向を形成した後、膜の冷却の際に、前記膜の温度が少なくとも前記重合時に採用した加熱温度と同じ温度から60℃になるまでの間、冷却速度を0.1〜30℃/分に制御しながら前記膜を冷却することにより、驚くべきことに、配向状態が形成された重合後の膜中に、液晶分子の渦状や球状等の所定の配向を有する周期構造を形成することが可能となることを見出しており、本発明によれば、そのような冷却時の温度制御によって周期構造が形成された光学フィルムを簡便に製造することが可能となる。   In the embodiment shown in FIGS. 1 to 4, when the alignment is formed by photopolymerization, first, as shown in FIG. 1, the light source 11 and the light emitted from the light source 11 can be transmitted. Two substrates 12, a film 13 made of a polymerizable composition disposed between the two substrates 12, and a photomask 14 capable of blocking light emitted from the light source 11. The light source 11 is disposed on one of the two substrates 12 and the light from the light source 11 is irradiated only on a partial region of the film 13 between the film 13 and the light source 11. A photomask 14 capable of shielding a part of the film 13 is disposed. Next, as shown in FIG. 2, the light source 11 is turned on and the light L is emitted from the light source 11. When the light L is irradiated in this manner, the reaction does not proceed and remains unpolymerized in the light shielding portion A2, but the polymerization proceeds in the exposed portion A1 where the light is irradiated. In this way, a part of the area is exposed, and polymerization of the polymerizable composition is started from a part of the film 13 (exposed part) A1. And in area | region (polymerization area | region: exposure part) A1 superposed | polymerized in this way, photopolymerization progresses preferentially from the 1st polymeric compound with shorter polymerization completion time, and the 1st polymeric compound Is preferentially consumed, so that the concentration of the compound in the polymerizable composition is biased between the polymerization region (exposed portion) A1 and the unpolymerized region (light-shielding portion) A2. Thus, when the concentration of the compound is biased in the composition, the diffusion of the substance usually occurs in the direction of eliminating the concentration gradient due to the diffusion phenomenon of the substance. Therefore, when light is irradiated as described above, the diffusion of the compound is induced in the direction of eliminating the concentration gradient at the boundary S between the superposed region (exposed portion) A1 and the non-polymerized region (light-shielding portion) A2, and the unpolymerized region Thus, a compound flow (mainly the flow of the first polymerizable compound) is generated from the light shielding portion A2 to the exposure portion A1 which is the polymerization region. When the flow of the compound from the unpolymerized region A2 to the polymerized region A1 occurs in this way, the compound exhibiting liquid crystallinity by the flow (the first polymerizable compound, the second compound and the polymer present in the polymerized region). At least one compound among the compounds obtained later is subjected to a kind of shear stress, and the compound exhibiting liquid crystallinity is in the vicinity of the boundary S between the polymerization region (exposed portion) A1 and the unpolymerized region (light-shielding portion) A2. In the region, the alignment region A3 is formed (induced). Note that the direction in which the flow due to the movement of such a compound occurs is substantially perpendicular to the boundary S between the polymerization region (exposure portion) A1 and the non-polymerization region (light-shielding portion) A2. In the case of a rod-like one, the average orientation direction is usually a direction substantially perpendicular to the boundary S. Thus, after the polymerization of the polymerizable composition is started from a partial region of the film 13 (see FIG. 2), for example, the photomask 14 is continuously moved so that the boundary S of the polymerization region is unpolymerized. By continuously moving toward the region A2 (see FIGS. 2 to 4), the diffusion of the compound is induced (at a new position) before the boundary S moves, and the orientation caused by photopolymerization and diffusion induction Can be caused continuously. At this time, at a speed at which the compound exhibiting liquid crystallinity is aligned (a speed at which a kind of shear stress generated by the movement of the compound is sufficiently applied to the compound exhibiting liquid crystallinity to form alignment. Thus, by continuously moving the boundary S, it is possible to continuously cause orientation induced by diffusion. And in this invention, after superposing | polymerizing, forming an orientation as mentioned above (preferably after promoting the superposition | polymerization of the whole film | membrane), the film | membrane after superposition | polymerization is at least the heating temperature employ | adopted at the time of superposition | polymerization The periodic structure is formed by cooling at a predetermined cooling rate until the temperature reaches 60 ° C. That is, the present inventors polymerized while forming a heating temperature at 80 to 150 ° C. at the time of the polymerization, and then at the time of cooling the film, the temperature of the film was at least the heating temperature adopted at the time of the polymerization. By cooling the film while controlling the cooling rate from 0.1 to 30 ° C./min from the same temperature to 60 ° C., surprisingly, in the film after polymerization in which the alignment state was formed In addition, it has been found that it is possible to form a periodic structure having a predetermined orientation such as a vortex or a spherical shape of liquid crystal molecules. According to the present invention, the periodic structure is formed by such temperature control during cooling. The manufactured optical film can be easily produced.

ここで、図5は、周期構造形成後の光学フィルムの一実施形態を模式的に示す概略縦断面図であり、図6は、図5に示す実施形態の光学フィルムを模式的に示す概略平面図である。なお、このような実施形態の光学フィルムは、図5に示すような渦状にみえる配向状態が、図5の紙面に対する垂直な方向(紙面奥行き方向)に連続して配列されている構造を有する(図5及び図6参照)。また、図6に示す概略平面図では、配列状態がより分かり易くなるように、図5に示す渦状の液晶分子の配列状態を、基板12側から見て、深さ方向に渦の半個分(渦の最外層を形成する液晶分子の数で基板12側から深さ方向に3個分)の液晶分子の配向状態を模式的に表している。ここにおいて、図6中の符号Dは、周期構造の格子周期(一つの周期の幅)を概念的に示すものである。このように、図5に示す縦断面図中の渦状に見える部分を底辺とし、紙面奥行き方向に幅を持つ(渦状の配向状態が連続して並んでいる)状態(以下、「シリンダー状」という。)の配向が形成されている。このような図5の点線で囲まれた渦状の配列が形成されている領域A4を底面にして、渦状の配列構造が紙面の厚み方向に向かって3列分並んだ状態を、シリンダーに模した円柱の図面を利用して図7に模式的に示す。ここで、図7においては、見易さを考慮して、渦状の配向状態の最外層のみを模式的に示している。なお、図5中の矢印Aが重合時における前記境界Sの移動方向であり、上述のシリンダーに模した構造(図7に示すシリンダーに模した円柱)の配列は、そのような重合時の前記境界Sの移動方向に対して垂直な方向に配列する。なお、本発明の冷却条件を適用することにより、液晶分子は、図5〜7に示すようにシリンダー状に配向するだけでなく、その条件を適宜選定することで、球状に配向する場合も生じ得る。この場合の球状の構造は前記重合の進行方向(境界Sの移動していく方向)に配向する。   Here, FIG. 5 is a schematic longitudinal sectional view schematically showing an embodiment of the optical film after formation of the periodic structure, and FIG. 6 is a schematic plan view schematically showing the optical film of the embodiment shown in FIG. FIG. In addition, the optical film of such an embodiment has a structure in which the alignment state that looks like a spiral as shown in FIG. 5 is continuously arranged in a direction perpendicular to the paper surface of FIG. 5 (depth direction of the paper surface) ( (See FIGS. 5 and 6). Further, in the schematic plan view shown in FIG. 6, the arrangement state of the vortex-like liquid crystal molecules shown in FIG. 5 is shown for half of the vortices in the depth direction when viewed from the substrate 12 side so that the arrangement state becomes easier to understand. The alignment state of the liquid crystal molecules (the number of liquid crystal molecules forming the outermost layer of the vortex in the depth direction from the substrate 12 side) is schematically shown. Here, the symbol D in FIG. 6 conceptually shows the lattice period (width of one period) of the periodic structure. As described above, a portion that looks like a vortex in the longitudinal cross-sectional view shown in FIG. 5 is the bottom, and has a width in the depth direction of the paper (the vortex alignment state is continuously arranged) (hereinafter referred to as “cylinder shape”). .) Orientation is formed. A state in which the vortex array structure is arranged in three rows in the thickness direction of the paper surface with the region A4 where the vortex array surrounded by dotted lines in FIG. This is schematically shown in FIG. 7 using a cylindrical drawing. Here, in FIG. 7, only the outermost layer in a vortex-like orientation state is schematically shown in consideration of easy viewing. In addition, the arrow A in FIG. 5 is the moving direction of the boundary S at the time of polymerization, and the arrangement of the structure imitating the above-described cylinder (the cylinder imitating the cylinder shown in FIG. 7) They are arranged in a direction perpendicular to the moving direction of the boundary S. In addition, by applying the cooling conditions of the present invention, the liquid crystal molecules are not only aligned in a cylindrical shape as shown in FIGS. 5 to 7, but may be aligned in a spherical shape by appropriately selecting the conditions. obtain. The spherical structure in this case is oriented in the polymerization progress direction (direction in which the boundary S moves).

本発明は、前述のように、配向構造を形成しながら重合する際に、重合時の膜の加熱温度を80〜150℃としながら重合し、かつ、少なくとも前記重合時に採用した加熱温度と同じ温度(前記重合時の温度:80〜150℃の温度)から60℃になるまでの間の冷却速度を0.1〜30℃/分として、重合後の膜を冷却することにより、周期構造を有する構造体を得る方法である。なお、周期構造が形成される原理は必ずしも定かではないが、重合によりモノマー溶液中でポリマーが生成されていき、ポリマーとモノマーの混合状態から徐々に冷却することで熱力学的に安定なモノマー成分が過多の領域とポリマー成分が過多の領域へ相分離が起こり、周期構造の原型となる図5〜7に模式的に示すようなシリンダー状の構造体や、場合により球状の構造体が形成されるものと本発明者らは推察する。なお、このような周期構造を形成させる方法においては、その原理から、液晶分子を面内配向させるため配向規制力を持たせるための前処理を施していない基板(例えばラビング処理を施していないような基板)等を用いた場合においても、周期構造の前駆構造となる配向構造を効率よく形成した後に、周期構造を有する光学フィルムを効率よく製造することができることは明らかである。そのため、ラビング処理により生じる発塵や静電気の問題、光学フィルムへのほこりの付着や混入等の問題も効率よく回避することが可能であるばかりか、基板やセルに予め周期構造の前駆構造となる液晶分子を面内配向させるための配向規制力を持たせるための前処理を施す必要もなく、作業性の点においても効率的な方法といえる。   In the present invention, as described above, when the polymerization is performed while forming an alignment structure, the polymerization is performed while the heating temperature of the film during polymerization is 80 to 150 ° C., and at least the same temperature as the heating temperature employed during the polymerization. (The temperature at the time of the polymerization: a temperature of 80 to 150 ° C.) to 60 ° C., the cooling rate is 0.1 to 30 ° C./min, and the film after polymerization has a periodic structure. This is a method for obtaining a structure. The principle that the periodic structure is formed is not necessarily clear, but the polymer is generated in the monomer solution by polymerization, and the monomer component that is thermodynamically stable by gradually cooling from the mixed state of the polymer and the monomer. Phase separation occurs in an excessively large area and an excessively large polymer component area, and a cylindrical structure as shown in FIGS. The present inventors infer that. Note that, in the method of forming such a periodic structure, a substrate that has not been subjected to a pretreatment for imparting an alignment regulating force to align liquid crystal molecules in-plane (for example, a rubbing treatment is not performed). It is clear that an optical film having a periodic structure can be efficiently manufactured even after an alignment structure that becomes a precursor structure of the periodic structure is efficiently formed even in the case of using a simple substrate. Therefore, it is possible to efficiently avoid problems such as dust generation and static electricity generated by the rubbing process, dust adhesion and mixing on the optical film, and a periodic structure precursor structure in advance on the substrate or cell. It can be said that it is an efficient method from the viewpoint of workability because it is not necessary to carry out pretreatment for imparting alignment regulating force for aligning liquid crystal molecules in the plane.

なお、図1〜7に示す例においては前記第一の重合性化合物や前記第二の化合物として光重合性の化合物を用いた場合を例にして、配向が形成される原理や周期構造の形成について説明しているが、本発明は、重合領域(露光部)A1と未重合領域(遮光部)A2の境界Sを未重合領域A2に向けて移動させることにより生じる物質の拡散現象を利用して、周期構造の前駆構造となる液晶分子の面内配向を誘起させた後、重合後の膜を所定の冷却条件で冷却して周期構造を形成させることを可能とする方法であることから、前記第一の重合性化合物や前記第二の化合物としては、面内配向を誘起させることが可能なものであればよく、光重合性の化合物に限定されるものではなく、光重合性の化合物以外の化合物(例えば熱重合性の化合物等)を利用してもよい。また、前記液晶性を示す化合物の周期構造の形成方法が、重合を開始した後に膜中において未重合領域から重合領域に移動する化合物を利用して、前記液晶性を示す化合物の面内配向を誘起させた後、上述のような相分離を利用して周期構造(好ましくは渦状の配列が周期的に並んだ周期構造)を形成させる方法であることから、その化合物が移動する方向(前記領域の境界にほぼ垂直な方向)に配向の方向を制御しながら、周期構造を形成することが可能である。そのため、例えば、重合を光重合で行う場合にはマスクの形状に応じて様々な方向に配向を制御して周期構造の特性を変更することも可能となる。   In addition, in the example shown in FIGS. 1-7, the case where the photopolymerizable compound is used as the first polymerizable compound or the second compound is taken as an example, and the principle of orientation formation or formation of a periodic structure is used. However, the present invention uses a diffusion phenomenon of a substance generated by moving the boundary S between the polymerization region (exposure portion) A1 and the unpolymerization region (light-shielding portion) A2 toward the unpolymerization region A2. Since the in-plane orientation of the liquid crystal molecules that become the precursor structure of the periodic structure is induced, the film after polymerization is cooled under a predetermined cooling condition, thereby enabling the formation of the periodic structure. The first polymerizable compound and the second compound are not limited to photopolymerizable compounds as long as they can induce in-plane orientation, and are not photopolymerizable compounds. Other compounds (for example, thermally polymerizable compounds) It may be used. Further, the method for forming the periodic structure of the compound exhibiting liquid crystallinity uses a compound that migrates from an unpolymerized region to a polymerized region in the film after the start of polymerization, and performs in-plane alignment of the compound exhibiting liquid crystallinity After the induction, the phase separation as described above is used to form a periodic structure (preferably a periodic structure in which vortex arrays are periodically arranged). It is possible to form a periodic structure while controlling the direction of orientation in a direction substantially perpendicular to the boundary of. Therefore, for example, when polymerization is performed by photopolymerization, it is possible to change the characteristics of the periodic structure by controlling the orientation in various directions according to the shape of the mask.

本発明によれば、十分に高度な周期性を有する周期構造が形成された光学フィルムをより簡便に製造することが可能な周期構造を有する光学フィルムの製造方法を提供することが可能となる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it becomes possible to provide the manufacturing method of the optical film which has a periodic structure which can manufacture the optical film in which the periodic structure which has sufficiently high periodicity was formed more simply.

このような本発明の周期構造を有する光学フィルムの製造方法は、原理的に分子構造の制約が少なく、様々な分子の配向や高次構造の制御に応用可能であることから、これにより得られる周期構造を有する光学フィルムは幅広い機能性フィルムへの展開が期待でき、例えば、回折格子やフォトニック結晶を成長させるためのテンプレートに利用することも可能である。   Such a method for producing an optical film having a periodic structure according to the present invention is obtained in principle because there are few restrictions on the molecular structure and it can be applied to the control of various molecular orientations and higher order structures. An optical film having a periodic structure can be expected to develop into a wide range of functional films, and can be used, for example, as a template for growing a diffraction grating or a photonic crystal.

重合性組成物からなる膜に対して光重合を開始する前の状態を模式的に示す概略縦断面図である。It is a schematic longitudinal cross-sectional view which shows typically the state before starting photopolymerization with respect to the film | membrane which consists of polymeric compositions. 光源から光を照射して膜の一部の領域から重合を開始した状態を模式的に示す概略縦断面図であり、It is a schematic longitudinal sectional view schematically showing a state in which polymerization is started from a partial region of the film by irradiating light from a light source, 図2中の重合領域の境界を未重合の領域に向けて移動させた後の状態を模式的に示す概略縦断面図である。It is a schematic longitudinal cross-sectional view which shows typically the state after moving the boundary of the superposition | polymerization area | region in FIG. 2 toward the unpolymerization area | region. 図3中の重合領域の境界を未重合の領域に向けて移動させた後の状態を模式的に示す概略縦断面図である。It is a schematic longitudinal cross-sectional view which shows typically the state after moving the boundary of the superposition | polymerization area | region in FIG. 3 toward the unpolymerization area | region. 周期構造を有する光学フィルムの好適な一実施形態の状態を模式的に示す概略縦断面図である。It is a schematic longitudinal cross-sectional view which shows typically the state of suitable one Embodiment of the optical film which has a periodic structure. 図5に示す光学フィルムの周期構造を基材側から見た場合の状態を模式的に示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows typically the state at the time of seeing the periodic structure of the optical film shown in FIG. 5 from the base material side. 図5及び図6に示す光学フィルムの、いわゆるシリンダー状の周期構造を概念的に示す模式図である。It is a schematic diagram which shows notionally what is called a cylindrical periodic structure of the optical film shown in FIG.5 and FIG.6. 図8(a)は、光源側から見た場合におけるフォトマスクと基板との光重合開始前の関係(光照射領域の境界を移動させる前の状態)を模式的に示す概略平面図であり、図8(b)は、光源側から見た場合におけるフォトマスクと基板との光重合開始後の関係(光照射領域の境界を移動させた状態)を模式的に示す概略平面図である。FIG. 8A is a schematic plan view schematically showing a relationship before starting photopolymerization between the photomask and the substrate when viewed from the light source side (state before moving the boundary of the light irradiation region), FIG. 8B is a schematic plan view schematically showing the relationship after the start of photopolymerization between the photomask and the substrate when the light source side is viewed (a state where the boundary of the light irradiation region is moved). 光源側から見た場合における、エッジを斜めに形成したフォトマスクと基板との光重合開始前の関係を模式的に示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows typically the relationship before the photoinitiation of the photomask and substrate which formed the edge diagonally when it sees from the light source side. 光源側から見た場合における、複数の略長方形状の開口部を有するフォトマスクと基板との光重合開始前の関係を模式的に示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows typically the relationship before the photopolymerization start of the photomask which has a some rectangular opening part, and a board | substrate when it sees from the light source side. 光源側から見た場合における、複数の略長方形状の開口部を有するフォトマスクと基板との光重合開始前の関係を模式的に示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows typically the relationship before the photopolymerization start of the photomask which has a some rectangular opening part, and a board | substrate when it sees from the light source side. 実施例1においてガラスセル中に形成されたフィルム(薄膜)の写真である。2 is a photograph of a film (thin film) formed in a glass cell in Example 1. 実施例1において、アナライザの振動方向とフォトマスクの移動方向とがなす角度が45°である場合におけるフィルムの状態を示す偏光顕微鏡写真である。In Example 1, it is a polarizing microscope photograph which shows the state of a film in case the angle which the vibration direction of an analyzer and the moving direction of a photomask make is 45 degrees. 実施例1において、アナライザの振動方向に対して、フォトマスクの移動方向が平行となる方向におけるフィルムの状態を示す偏光顕微鏡写真である。In Example 1, it is a polarizing microscope photograph which shows the state of the film in the direction in which the moving direction of a photomask is parallel with respect to the vibration direction of an analyzer. 実施例1において、アナライザの振動方向とフォトマスクの移動方向とがなす角度が45°である場合におけるフィルムの状態を示す偏光顕微鏡写真である。In Example 1, it is a polarizing microscope photograph which shows the state of a film in case the angle which the vibration direction of an analyzer and the moving direction of a photomask make is 45 degrees. 検板の光学軸の方向とフォトマスクの移動方向とが平行である場合のフィルムの状態の偏光顕微鏡写真である。It is a polarizing microscope photograph of the state of a film in case the direction of the optical axis of a test plate and the moving direction of a photomask are parallel. 検板の光学軸の方向とフォトマスクの移動方向とがなす角度が45°である場合のフィルムの状態の偏光顕微鏡写真である。It is a polarizing microscope photograph of the state of a film in case the angle which the direction of the optical axis of a test plate and the moving direction of a photomask make is 45 degrees. 検板の光学軸の方向とフォトマスクの移動方向とが平行である場合のフィルムの状態の偏光顕微鏡写真である。It is a polarizing microscope photograph of the state of a film in case the direction of the optical axis of a test plate and the moving direction of a photomask are parallel. 図13及び図16に示す偏光顕微鏡写真から確認される液晶化合物(分子)の配向方向を概念的に示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows notionally the orientation direction of the liquid crystal compound (molecule | numerator) confirmed from the polarizing microscope photograph shown in FIG.13 and FIG.16. 図14及び図17に示す偏光顕微鏡写真から確認される液晶化合物(分子)の配向方向を概念的に示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows notionally the orientation direction of the liquid crystal compound (molecule | numerator) confirmed from the polarizing microscope photograph shown in FIG.14 and FIG.17. 図15及び図18に示す偏光顕微鏡写真から確認される液晶化合物(分子)の配向方向を概念的に示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows notionally the orientation direction of the liquid crystal compound (molecule) confirmed from the polarization micrographs shown in FIG.15 and FIG.18. 実施例1で得られたフィルムを透過した光をスクリーン上に投射した回折光のパターン(回折像)の写真である。It is a photograph of the pattern (diffraction image) of the diffracted light which projected the light which permeate | transmitted the film obtained in Example 1 on the screen. 実施例2においてガラスセル中に形成されたフィルム(薄膜)の写真である。It is a photograph of the film (thin film) formed in the glass cell in Example 2. 実施例2で得られたフィルムを透過した光をスクリーン上に投射した回折光のパターン(回折像)の写真である。It is a photograph of the pattern (diffraction image) of the diffracted light which projected the light which permeate | transmitted the film obtained in Example 2 on the screen. 実施例2で得られたフィルム(薄膜)の偏光顕微鏡写真である。2 is a polarizing micrograph of the film (thin film) obtained in Example 2. 比較例1においてガラスセル中に形成されたフィルム(薄膜)の写真である。2 is a photograph of a film (thin film) formed in a glass cell in Comparative Example 1. 比較例1で得られたフィルムを透過した光をスクリーン上に投射した、光のパターンの写真である。It is the photograph of the pattern of the light which projected the light which permeate | transmitted the film obtained in the comparative example 1 on the screen. 比較例2においてガラスセル中に形成されたフィルム(薄膜)の写真である。It is a photograph of the film (thin film) formed in the glass cell in the comparative example 2. 比較例2で得られたフィルムを透過した光をスクリーン上に投射した回折光のパターン(回折像)の写真である。It is a photograph of the pattern (diffraction image) of the diffracted light which projected the light which permeate | transmitted the film obtained in the comparative example 2 on the screen.

以下、本発明をその好適な実施形態に即して詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to preferred embodiments thereof.

本発明の周期構造を有する光学フィルムの製造方法は、第一の重合性化合物と、同一条件で重合させた場合に前記第一の重合性化合物よりも重合完了時間が長い第二の化合物とを含有し、且つ、前記第一の重合性化合物、前記第二の化合物及び重合後に得られる化合物のうちの少なくとも1種が液晶性を示す化合物である、重合性組成物からなる膜を用いて、
前記膜の一部の領域から前記重合性組成物の重合を開始し、前記液晶性を示す化合物が配向するような速度で前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させて重合した後、重合後の膜を冷却して、周期構造を有する光学フィルムを得る工程を含み、
前記重合時に前記膜を80〜150℃の加熱温度で加熱しながら重合し、かつ、
前記冷却の際に、前記膜の温度が少なくとも前記重合時に採用した加熱温度と同じ温度から60℃になるまでの間、0.1〜30℃/分の冷却速度で前記膜を冷却すること、
を特徴とする方法である。
The method for producing an optical film having a periodic structure according to the present invention includes a first polymerizable compound and a second compound having a polymerization completion time longer than that of the first polymerizable compound when polymerized under the same conditions. And a film made of a polymerizable composition, wherein at least one of the first polymerizable compound, the second compound and the compound obtained after polymerization is a compound exhibiting liquid crystallinity,
Polymerization of the polymerizable composition is started from a partial region of the film, and the boundary of the region is continuously moved toward an unpolymerized region at such a speed that the compound exhibiting liquid crystallinity is aligned. After polymerization, the step of cooling the polymerized film to obtain an optical film having a periodic structure,
Polymerizing the film while heating at a heating temperature of 80 to 150 ° C. during the polymerization; and
During the cooling, the film is cooled at a cooling rate of 0.1 to 30 ° C./min until the temperature of the film reaches at least 60 ° C. from the same heating temperature employed during the polymerization,
It is the method characterized by this.

先ず、重合性組成物からなる膜について説明する。このような重合性組成物としては、第一の重合性化合物と、同一条件で重合させた場合に前記第一の重合性化合物よりも重合完了時間が長い第二の化合物とを含有するものを用いる。   First, the film | membrane which consists of polymeric composition is demonstrated. As such a polymerizable composition, a composition containing a first polymerizable compound and a second compound having a polymerization completion time longer than that of the first polymerizable compound when polymerized under the same conditions. Use.

このような第一の重合性化合物や第二の化合物としては、同一条件で重合させた場合に重合完了時間が異なるものを用いる。ここで、重合完了時間が長い及び短いといった事項は、第一の重合性化合物と第二の化合物との間において相対的に求められるものであり、ここにいう「同一条件で重合させた場合」とは、第一の重合性化合物を重合させることが可能な条件(熱重合の場合には温度条件、光重合の場合には光の照射条件等)を適宜選択して、その選択した同一条件で重合させた場合をいう。また、「重合完了時間」は、例えば、重合性組成物の重合を光重合で行う場合には、一定の温度条件(例えば85℃)で保持しながら、光(例えば366nmの光)を照射して、第一の重合性化合物と第二の化合物とをそれぞれ用いて、これらをそれぞれセル中に導入して別途重合させて、それぞれの化合物の重合が完了するまでの時間を、フィルムが形成されるまでの時間として測定することによって求めてもよい。このように、本発明においては、セル内で重合を開始し、フィルムが形成された場合に重合が完了したものと判断してもよい。例えば、大きさ25mm角、厚さ1.1mmのソーダガラス基板2枚を用い、これらを100μm厚のポリイミドテープをスペーサー(左右の2箇所)として貼り合わせて、セル厚100μmのガラスセルを作製し(なお、かかるセルは、スペーサーをガラス基板の平行な縦の2辺(左右)の2箇所に形成し、上下の基板の平面部分の重なる領域が縦15mm、横25mmとなるようにして(スペーサーの長辺方向に平行な辺が15mm重なるようにして)貼り合わせ、スペーサーを形成していないガラス基板の部分はそれぞれ開口部とし、セルの内部の大きさを縦15mm、横10mm、厚み100μmとしてもよい。)、重合完了時間を測定するための化合物に対して、光重合開始剤を含有量が所定量(例えば1mol%)となるようにして混合した混合物を準備し、次いで、前記ガラスセル中に前記混合物を100℃の温度条件で融解させつつ毛細管現象によりセル内が満たされるまで注入し、85℃まで0.5℃/分の速度で降温した後、85℃で3分保持して重合性組成物の膜(膜の大きさ:縦15mm、横10mm、厚み100μm)を形成した後、前記膜に、高圧水銀灯からフィルターで取り出した366nmの光を1.9mW/cmの強度で照射して光重合させて、所定の時間ごと(例えば5秒、15秒、30秒、及び60秒)に光を照射した前記膜を前記ガラスセルから取り出し、表面をクロロホルムで洗浄して、フィルムが形成されているか否かを目視で確認することにより、重合完了までの時間を測定してもよい。そして、本発明においては、用いる第一の重合性化合物と第二の化合物とを比較して、重合完了時間がより短い化合物を第一の重合性化合物として用い、重合完了時間がより長い化合物(第一の重合性化合物の重合条件では重合が進行せず、重合完了時間が無限大となるような化合物(非重合性の化合物)も含む。)を第二の化合物として用いる。 As such a first polymerizable compound and a second compound, those having different polymerization completion times when polymerized under the same conditions are used. Here, the matters such as the long and short polymerization completion time are relatively required between the first polymerizable compound and the second compound, and here, “when polymerized under the same conditions” Is a condition that allows the first polymerizable compound to be polymerized (temperature condition in the case of thermal polymerization, light irradiation condition in the case of photopolymerization, etc.) as appropriate, and the same selected condition This is the case where polymerization is carried out. The “polymerization completion time” is, for example, when the polymerizable composition is polymerized by photopolymerization, and is irradiated with light (for example, light of 366 nm) while being held at a constant temperature condition (for example, 85 ° C.). Then, using each of the first polymerizable compound and the second compound, each of them is introduced into the cell and separately polymerized, and the time until the polymerization of each compound is completed is determined as the film is formed. You may obtain | require by measuring as time until it comes. Thus, in this invention, you may judge that superposition | polymerization was completed when a superposition | polymerization is started in a cell and a film is formed. For example, two soda glass substrates having a size of 25 mm square and a thickness of 1.1 mm are used, and these are bonded to each other with 100 μm-thick polyimide tape as spacers (two places on the left and right sides) to produce a glass cell with a cell thickness of 100 μm. (Note that in this cell, spacers are formed in two places on two parallel vertical sides (left and right) of the glass substrate so that the overlapping area of the planar portions of the upper and lower substrates is 15 mm long and 25 mm wide (spacer The glass substrate portions where the spacers are not formed are openings, and the internal size of the cell is 15 mm long, 10 mm wide, and 100 μm thick. The photopolymerization initiator may be contained in a predetermined amount (for example, 1 mol%) with respect to the compound for measuring the polymerization completion time. A mixed mixture is prepared, and then the mixture is poured into the glass cell while melting at 100 ° C. until the inside of the cell is filled by capillarity, and up to 85 ° C. at a rate of 0.5 ° C./min. After the temperature was lowered, the film was held at 85 ° C. for 3 minutes to form a film of the polymerizable composition (film size: length 15 mm, width 10 mm, thickness 100 μm), and then the film was removed from the high pressure mercury lamp with a filter at 366 nm The glass cell is coated with the film irradiated with light at an intensity of 1.9 mW / cm 2 for photopolymerization and irradiated with light every predetermined time (for example, 5 seconds, 15 seconds, 30 seconds, and 60 seconds). The time until the completion of polymerization may be measured by taking out the sample and washing the surface with chloroform and visually confirming whether or not a film is formed. In the present invention, the first polymerizable compound and the second compound to be used are compared, and a compound having a shorter polymerization completion time is used as the first polymerizable compound. A compound (including a non-polymerizable compound) in which polymerization does not proceed under the polymerization conditions of the first polymerizable compound and the polymerization completion time is infinite is used as the second compound.

このような第一の重合性化合物及び第二の化合物としては、前記第一の重合性化合物が1以上の重合性官能基を有する化合物であり、且つ、該重合性官能基の数が前記第二の化合物の有する重合性官能基の数(0であってもよい)より1以上大きいという条件を満たすものが好ましく、このような好適な条件を満たす範囲において、前記第一の重合性化合物が1以上(より好ましくは2以上、さらに好ましくは2〜4)の重合性官能基を有する化合物であり、且つ、前記第二の化合物が0又は1(より好ましくは1)の重合性官能基を有する化合物であることがより好ましい。このように重合性官能基の数が異なる化合物を第一の重合性化合物及び第二の化合物としてそれぞれ用いることで、これらの化合物間において重合速度の差を大きくすることができ、重合時に重合領域の境界近傍において、化合物濃度の偏りをより効率よく生じせしめることが可能となり、化合物の拡散をより効率よく引き起こして、重合領域の境界近傍に、より効率よく配向を形成することが可能となる。また、このような第一の重合性化合物の重合性官能基の数が前記下限未満では、重合しないか、又は、十分に早い速度で第一の重合性化合物を重合させることが困難となり、効率よく配向領域を拡大させることが困難となる傾向にある。また、このような第一の重合性化合物の重合性官能基の数が前記上限を超えると化合物の拡散よりも重合が速く進みすぎるため、拡散に伴う配向を形成することが困難となる傾向にある。   As the first polymerizable compound and the second compound, the first polymerizable compound is a compound having one or more polymerizable functional groups, and the number of the polymerizable functional groups is the first number. Those satisfying the condition that it is 1 or more larger than the number of polymerizable functional groups (may be 0) of the two compounds are preferable. It is a compound having 1 or more (more preferably 2 or more, more preferably 2 to 4) polymerizable functional groups, and the second compound has 0 or 1 (more preferably 1) polymerizable functional groups. More preferably, it is a compound having By using compounds having different numbers of polymerizable functional groups in this way as the first polymerizable compound and the second compound, respectively, it is possible to increase the difference in polymerization rate between these compounds, and the polymerization region during polymerization In the vicinity of the boundary, the concentration of the compound can be generated more efficiently, and the diffusion of the compound can be caused more efficiently, and the alignment can be formed more efficiently near the boundary of the polymerization region. In addition, when the number of polymerizable functional groups of the first polymerizable compound is less than the lower limit, it does not polymerize or it becomes difficult to polymerize the first polymerizable compound at a sufficiently high speed, and the efficiency It tends to be difficult to enlarge the alignment region well. In addition, if the number of polymerizable functional groups of the first polymerizable compound exceeds the upper limit, the polymerization proceeds faster than the diffusion of the compound, so that it tends to be difficult to form an orientation associated with the diffusion. is there.

また、このような重合性官能基としては、特に制限されず、公知のものを適宜利用することができ、例えば、ビニル基、アリル基、ビニルエーテル基、アクリル基、メタクリル基、オキセタン基、エポキシ基、シンナモイル基、カルコン基、クマリン基等が挙げられ、中でも、化合物の合成の容易さ、取り扱い性等の観点から、ビニルエーテル基、アクリル基、メタクリル基、オキセタン基、エポキシ基、シンナモイル基、カルコン基が好ましく、アクリル基、メタクリル基、オキセタン基、エポキシ基がより好ましい。   In addition, such a polymerizable functional group is not particularly limited, and a known functional group can be appropriately used. For example, a vinyl group, an allyl group, a vinyl ether group, an acrylic group, a methacryl group, an oxetane group, an epoxy group. , Cinnamoyl group, chalcone group, coumarin group and the like. Among them, vinyl ether group, acryl group, methacryl group, oxetane group, epoxy group, cinnamoyl group, chalcone group from the viewpoint of ease of synthesis of compound, handling property, etc. Are preferable, and an acrylic group, a methacryl group, an oxetane group, and an epoxy group are more preferable.

さらに、本発明においては、液晶が持つ自己組織化能により周期構造の前駆構造となる液晶分子の面内での配向が誘起され、その後、膜を少なくとも所定の温度域において上記冷却速度で冷却することによって、前述のような相分離を効率よく誘起させることができ、液晶が持つ自己組織化能によって周期構造が形成されるという観点から、第一の重合性化合物、第二の化合物及び重合後に得られる化合物のうちの少なくとも1種が、液晶性を示す化合物である必要がある。すなわち、前記第一の重合性化合物及び前記第二の化合物のうちの少なくとも1種は、重合前及び/又は重合後に液晶性を示す化合物である必要がある。なお、ここにいう「重合後に得られる化合物」とは、前記重合性組成物を重合させた場合に得られる化合物をいい、例えば、第一の重合性化合物の単独重合体、第二の化合物の単独重合体及び第一の重合性化合物と第二の化合物との共重合体を含む。また、前記液晶性を示す化合物としては、所定の温度範囲で液晶性を示すような化合物(いわゆるサーモトロピック液晶化合物)であることが好ましい。なお、このようなサーモトロピック液晶化合物としては、昇温及び降温を行った場合に液晶相の挙動を確認した場合に、昇温過程及び降温過程の両方で液晶性を示すエナンチオトロピック液晶化合物であっても、昇温過程及び降温過程のうちの一方の過程においてのみ液晶性を示すモノトロピック液晶化合物であってもよい。なお、本発明においては、第一の重合性化合物、第二の化合物及び重合後に得られる化合物のうちの少なくとも1種を液晶性を示す化合物(液晶性を有する化合物)とすることにより、重合の開始により膜中において化合物の拡散が励起されて前記液晶性を示す化合物にずり応力(せん断応力)を加えることが可能となり、これにより、一旦、前記液晶性を有する化合物の配向が始まると、液晶が持つ自己組織化能力によって配向が増幅されるため効率よく配向を形成することが可能である。   Further, in the present invention, the in-plane alignment of the liquid crystal molecules that become the precursor structure of the periodic structure is induced by the self-organization ability of the liquid crystal, and then the film is cooled at the above cooling rate at least in a predetermined temperature range From the viewpoint that the phase separation as described above can be induced efficiently and the periodic structure is formed by the self-organizing ability of the liquid crystal, the first polymerizable compound, the second compound and after the polymerization At least one of the obtained compounds needs to be a compound exhibiting liquid crystallinity. That is, at least one of the first polymerizable compound and the second compound needs to be a compound exhibiting liquid crystallinity before and / or after polymerization. Here, the “compound obtained after polymerization” refers to a compound obtained when the polymerizable composition is polymerized, for example, a homopolymer of a first polymerizable compound, a second compound A homopolymer and a copolymer of a first polymerizable compound and a second compound are included. The compound exhibiting liquid crystallinity is preferably a compound exhibiting liquid crystallinity in a predetermined temperature range (so-called thermotropic liquid crystal compound). Note that such a thermotropic liquid crystal compound is an enantiotropic liquid crystal compound that exhibits liquid crystallinity in both the temperature rising process and the temperature lowering process when the behavior of the liquid crystal phase is confirmed when the temperature is raised and lowered. Alternatively, it may be a monotropic liquid crystal compound exhibiting liquid crystallinity only in one of the temperature raising process and the temperature lowering process. In the present invention, at least one of the first polymerizable compound, the second compound, and the compound obtained after the polymerization is a compound exhibiting liquid crystallinity (a compound having liquid crystallinity). By starting, the diffusion of the compound in the film is excited, and it becomes possible to apply shear stress (shear stress) to the compound exhibiting liquid crystallinity. Thus, once the alignment of the compound having liquid crystallinity starts, the liquid crystal Since the orientation is amplified by the self-organizing ability of the material, the orientation can be formed efficiently.

前記液晶性を示す化合物としては、下記一般式(1):
p−M−L−(M−L)q−M−Zr (1)
[式中、Z及びZはそれぞれ独立して、水素原子;ハロゲン原子(より好ましくはF、Cl、Br);CN;NO;OCF;炭素数1から18の直鎖又は分岐したアルキル基{なお、前記アルキル基は、前記アルキル基のうち、1個または複数の炭素が連続して結合することのない酸素原子、−COO−、−OCO−、−OCOO−、−CONR−、−NRCO−、−OCO−NR−、又は−NRCOO−に置換されていても良い(式中:Rは水素原子、または炭素数1から6のアルキル基を表す。)。};炭素数1から18のアルコキシ基;及び、式:−L−S−F
{式中:Fは下記式(F−1)から(F−20):
As the compound exhibiting liquid crystallinity, the following general formula (1):
Z 1 p-M 1 -L 1 - (M 2 -L 2) q-M 3 -Z 2 r (1)
[Wherein, Z 1 and Z 2 are each independently a hydrogen atom; a halogen atom (more preferably F, Cl, Br); CN; NO 2 ; OCF 3 ; a linear or branched group having 1 to 18 carbon atoms. Alkyl group {in addition, the alkyl group is an oxygen atom, —COO—, —OCO—, —OCOO—, —CONR 1 —, in which one or a plurality of carbons are not continuously bonded. , —NR 1 CO—, —OCO—NR 1 —, or —NR 1 COO— may be substituted (wherein R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms). . }; Alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms; and the formula: -L 3 -S 1 -F 1
{In the formula: F 1 represents the following formulas (F-1) to (F-20):

(式中、Rは水素原子、または炭素数1から6のアルキル基を表す。)、
で表わされる基のいずれかを表し、
は、単結合、炭素数1から18の直鎖または分岐したアルキレン基(なお、前記アルキレン基は、前記アルキレン基のうち、1個又は複数の炭素が、連続して結合することのない酸素原子、−COO−、−OCO−、−OCOO−、−CONR−、−NRCO−、−OCO−NR−、または−NRCOO−に置換されていても良い(式中、Rは水素原子、または炭素数1から6のアルキル基を表す。)。)のうちのいずれかであり、
は、単結合、−O−、−S−、−OCH−、−CHO−、−CO−、−CH−CH―、−CF−CF−、―COO−、−OCO−、−OCOO−、−CONR−、−NRCO−、−OCO−NR−、−NRCOO−、−CH=CH−、−CF=CF−、−CH=CH−COO−、−OCO−CH=CH−、または−C≡C−を表す(式中、Rは水素原子、または炭素数1から6のアルキル基を表す。)。}
で表わされる基のうちのいずれかを示し、
、Lは、それぞれ独立に、単結合、−O−、−S−、−OCH−、−CHO−、−CO−、−CH−CH―、−CF−CF−、―COO−、−OCO−、−CONR−、−NRCO−、−OCO−NR−、−NRCOO−、−CH=CH−、−CF=CF−、−CH=CH−COO−、−OCO−CH=CH−、または−C≡C−を表し(式中、Rは水素原子、または炭素数1から6のアルキル基を表す)、
およびMは、それぞれ独立して、1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、ピリジン−2,5−ジイル基、ピリミジン−2,5−ジイル基、ナフタレン−2,6−ジイル基、ナフタレン−1,4−ジイル基、1,3−ジオキサン−2,6−ジイル基、1,3,4−ベンゼントルイル基、1,3,5−ベンゼントルイル基、1,3,4,5−ベンゼンテトライル基を表し、Mは、1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、ピリジン−2,5−ジイル基、ピリミジン−2,5−ジイル基、ナフタレン−2,6−ジイル基、ナフタレン−1,4−ジイル基または1,3−ジオキサン−2,6−ジイル基を表し、
、MおよびMとして選択される基に含まれる水素原子は、それぞれ独立してアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基、シアノ基、ニトロ基で置換されていてもよく、
pおよびrはそれぞれ独立に1、2、または3を表し、
qは0、1、または2を表し、
および/またはZが複数の場合は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。]
で表わされる化合物が好ましい。なお、このような液晶性を示す化合物は1種を単独で或は2種以上を組み合わせて利用してもよい。
(Wherein R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms),
Any one of the groups represented by
S 1 is a single bond, a linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms (in the alkylene group, one or a plurality of carbons in the alkylene group are not continuously bonded). oxygen atom, -COO -, - OCO -, - OCOO -, - CONR 3 -, - NR 3 CO -, - OCO-NR 3 -, or -NR 3 may be substituted with COO- (wherein, R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms)).
L 3 represents a single bond, -O -, - S -, - OCH 2 -, - CH 2 O -, - CO -, - CH 2 -CH 2 -, - CF 2 -CF 2 -, - COO-, -OCO -, - OCOO -, - CONR 4 -, - NR 4 CO -, - OCO-NR 4 -, - NR 4 COO -, - CH = CH -, - CF = CF -, - CH = CH-COO -, -OCO-CH = CH-, or -C≡C- (wherein, R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms). }
Any one of the groups represented by
L 1, L 2 are each independently a single bond, -O -, - S -, - OCH 2 -, - CH 2 O -, - CO -, - CH 2 -CH 2 -, - CF 2 -CF 2 -, - COO -, - OCO -, - CONR 4 -, - NR 4 CO -, - OCO-NR 4 -, - NR 4 COO -, - CH = CH -, - CF = CF -, - CH = CH—COO—, —OCO—CH═CH—, or —C≡C— (wherein R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms),
M 1 and M 3 are each independently 1,4-phenylene group, 1,4-cyclohexylene group, pyridine-2,5-diyl group, pyrimidine-2,5-diyl group, naphthalene-2,6. -Diyl group, naphthalene-1,4-diyl group, 1,3-dioxane-2,6-diyl group, 1,3,4-benzenetoluyl group, 1,3,5-benzenetoluyl group, 1,3,3 4,5-benzenetetrayl group, M 2 is 1,4-phenylene group, 1,4-cyclohexylene group, pyridine-2,5-diyl group, pyrimidine-2,5-diyl group, naphthalene- Represents a 2,6-diyl group, a naphthalene-1,4-diyl group or a 1,3-dioxane-2,6-diyl group;
The hydrogen atoms contained in the groups selected as M 1 , M 2 and M 3 may each independently be substituted with an alkyl group, a halogenated alkyl group, an alkoxy group, a halogen group, a cyano group or a nitro group. ,
p and r each independently represent 1, 2, or 3;
q represents 0, 1, or 2;
When there are a plurality of Z 1 and / or Z 2 , they may be the same or different. ]
The compound represented by these is preferable. In addition, you may utilize such a compound which shows liquid crystallinity individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

前記液晶性を示す化合物以外に使用できる化合物としては、液晶性を示す化合物と同様に、ビニル基、アリル基、ビニルエーテル基、アクリル基、メタクリル基、オキセタン基、エポキシ基、シンナモイル基、カルコン基、クマリン基等の官能基を有する化合物を使用することができる。このような液晶性を示す化合物以外に使用できる化合物として利用可能な各種熱重合化合物や光重合化合物としては、市販されているものも多く、それらを適宜使用することができる。   As a compound that can be used in addition to the compound exhibiting liquid crystallinity, similarly to the compound exhibiting liquid crystallinity, vinyl group, allyl group, vinyl ether group, acrylic group, methacryl group, oxetane group, epoxy group, cinnamoyl group, chalcone group, A compound having a functional group such as a coumarin group can be used. There are many commercially available thermal polymerization compounds and photopolymerization compounds that can be used as compounds that can be used in addition to the compound exhibiting liquid crystallinity, and these can be used as appropriate.

前記ビニル基を有するビニル系化合物の例としては、スチレン、α−メチルスチレン、酢酸ビニル、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム等が挙げられる。   Examples of the vinyl-based compound having a vinyl group include styrene, α-methylstyrene, vinyl acetate, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam and the like.

前記ビニルエーテル基を有するビニルエーテル系化合物の例としては、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、トリシクロデカンビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、ジシクロペンタジエンビニルエーテル等を挙げることができる。   Examples of the vinyl ether group compound having a vinyl ether group include n-propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, cyclohexane dimethanol monovinyl ether, Examples include cyclodecane vinyl ether, benzyl vinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether, cyclohexane dimethanol divinyl ether, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, and dicyclopentadiene vinyl ether.

前記アクリル基、メタクリル基を有する(メタ)アクリル系の化合物としては、1官能モノマーとして、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート及び2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート及び2−ヒドロキシ−3−フェニルプロピルアクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート等の飽和又は不飽和脂環式アルキル(メタ)アクリレート;ベンジル(メタ)アクリレート等の置換アリール(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート及び2−エトキシエチル(メタ)アクリレート等のアルコシキ(メタ)アクリレート;(メタ)アクリロイルモルホリン等の不飽和アミド化合物;フタル酸モノヒドロキシエチル(メタ)アクリレート及びコハク酸モノヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等のカルボキシル基含有(メタ)アクリレート;ヘキサヒドロフタルイミドエチル(メタ)アクリレート及びコハクイミドエチル(メタ)アクリレート等のイミド(メタ)アクリレート等が挙げられる。   As the (meth) acrylic compound having an acrylic group or a methacrylic group, as a monofunctional monomer, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate and 2-ethylhexyl Alkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate; hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate and 2-hydroxy-3-phenylpropyl acrylate; cyclohexyl ( Saturated or unsaturated alicyclic alkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate Relate; Substituted aryl (meth) acrylate such as benzyl (meth) acrylate, Alkoxy (meth) acrylate such as 2-methoxyethyl (meth) acrylate and 2-ethoxyethyl (meth) acrylate; Unsaturation such as (meth) acryloylmorpholine Amide compounds; carboxyl group-containing (meth) acrylates such as monohydroxyethyl (meth) acrylate phthalate and monohydroxyethyl (meth) acrylate succinate; hexahydrophthalimidoethyl (meth) acrylate and succinimide ethyl (meth) acrylate Examples thereof include imide (meth) acrylate.

(メタ)アクリル系の多官能モノマーとしては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリス((メタ)アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。   Examples of the (meth) acrylic polyfunctional monomer include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, Tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, tris ((meth) acryloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylol Propane tetra (meth) acrylate and the like can be mentioned.

前記エポキシ基を有する化合物としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、3‘、4’−エポキシシクロヘキシルメチル3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、1,2−エポキシ−4−(2−メチルオキシラニル)−1−メチルシクロヘキサン、1,2−エポキシ−4−ビニルシクロヘキサン、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、1,2:8,9−ジエポキシリモネンなどを挙げることができる。   Examples of the compound having an epoxy group include ethylene glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, cyclohexanedimethanol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, and triethylene glycol. Diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, dipropylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether Hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, 3 ', 4'-epoxy Cyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 1,2-epoxy-4- (2-methyloxiranyl) -1-methylcyclohexane, 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane, vinylcyclohexene monooxide, 1 , 2: 8,9-diepoxy limonene.

前記オキセタン基を有する化合物としては、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、2−エチルヘキシルオキセタン、キシリレンビスオキセタン、3−エチル−3(((3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ)メチル)オキセタン、1,4−ビス(((3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ)メチル)ベンゼン、3−エチル−3−(フェニキシメチル)オキセタン、ビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、3−エチル−3−(2−エチルヘキシロキシメチル)オキセタンなどを挙げることができる。   Examples of the compound having an oxetane group include 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 2-ethylhexyloxetane, xylylenebisoxetane, 3-ethyl-3 (((3-ethyloxetane-3-yl) methoxy) methyl) Oxetane, 1,4-bis (((3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy) methyl) benzene, 3-ethyl-3- (phenoxymethyl) oxetane, bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, And 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane.

また、前記重合性組成物に含有させる前記第一の重合性化合物及び前記第二の化合物としては、重合時に重合領域と未重合領域の境界の位置の制御が容易であり、より効率よく所望の周期構造を有するフィルムを形成することが可能となって、作業効率をより向上させることが可能であることから、光重合性の化合物を用いることが好ましい。すなわち、本発明においては、第一の重合性化合物及び第二の化合物のうちの少なくとも一方あるいは双方を光重合性の化合物とし、前記重合性組成物の重合を光重合により行うことが好ましく、第一の重合性化合物及び第二の化合物の双方を光重合性の化合物を用いることがより好ましい。なお、ここで言う光重合性の化合物とは、ビニル基、アリル基、ビニルエーテル基、アクリル基、メタクリル基、オキセタン基、エポキシ基のように、光開始剤の存在により官能基が反応する化合物でもよいし、光開始剤がなくとも官能基が光により反応する化合物でもよい。光開始剤がなくても官能基が反応する光重合性化合物の例としては、シンナモイル基やカルコン基、クマリン基のような光2量化反応が可能な官能基を有する化合物等を例示することができる。   Further, as the first polymerizable compound and the second compound to be contained in the polymerizable composition, it is easy to control the position of the boundary between the polymerized region and the unpolymerized region at the time of polymerization, and more efficiently as desired. Since a film having a periodic structure can be formed and the working efficiency can be further improved, it is preferable to use a photopolymerizable compound. That is, in the present invention, it is preferable that at least one or both of the first polymerizable compound and the second compound is a photopolymerizable compound, and the polymerizable composition is polymerized by photopolymerization. It is more preferable to use a photopolymerizable compound as both the one polymerizable compound and the second compound. In addition, the photopolymerizable compound mentioned here is a compound in which a functional group reacts due to the presence of a photoinitiator such as vinyl group, allyl group, vinyl ether group, acrylic group, methacryl group, oxetane group, and epoxy group. Alternatively, a compound in which a functional group reacts with light without a photoinitiator may be used. Examples of photopolymerizable compounds that react with functional groups without a photoinitiator include compounds having functional groups capable of photodimerization such as cinnamoyl groups, chalcone groups, and coumarin groups. it can.

また、前記第一の重合性化合物としては、より効率よく重合を進行させることが可能なモノマーであるという観点から、前記一般式(1)で表される化合物であって、式中のZ及びZがいずれも−L−S−Fで表わされる基であり(なお、Z及びZは同一であっても異なっていてもよく、合成の容易さの観点からは、同一の基であることが好ましい。)、Fがアクリル基若しくはメタクリル基であり、Sが単結合若しくは炭素数1から12の直鎖アルキレン基であり、Lがエーテル基(−O−)、エステル基(−COO−、−OCO−)及びカーボネート基(−OCOO−)のうちのいずれか(より好ましくはエーテル基)であり、pが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが単結合及び−COO−のうちのいずれか(より好ましくは単結合)であり、qが0であり、Mが1,4−フェニレン基であり、且つ、rが1である化合物C11、
前記一般式(1)で表される化合物であって、式中のZ及びZがいずれも−L−S−Fで表わされる基であり(なお、Z及びZは同一であっても異なっていてもよく、合成の容易さの観点からは、同一の基であることが好ましい。)、Fがアクリル基若しくはメタクリル基であり、Sが単結合若しくは炭素数1から12の直鎖アルキレン基であり、Lがエーテル基、エステル基及びカーボネート基のうちのいずれか(より好ましくはエーテル基)であり、pが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが−COO−であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが−OCO−であり、qが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、且つ、rが1である化合物C12、
前記一般式(1)で表される化合物であって、式中のZおよびZがいずれも−L−S−Fで表わされる基であり(なお、Z及びZは同一であっても異なっていてもよく、合成の容易さの観点からは、同一の基であることが好ましい。)、Fがアクリル基若しくはメタクリル基であり、Sが式:(CHCHO)z(zは2若しくは3である。)で表わされる基であり、Lが単結合であり、pが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが単結合及びエステル基のいずれか(より好ましくは単結合)であり、qが0であり、Mが1,4−フェニレン基であり、且つ、rが1である化合物C13、
下記一般式(2):
In addition, the first polymerizable compound is a compound represented by the general formula (1) from the viewpoint of being a monomer capable of proceeding polymerization more efficiently, and Z 1 in the formula And Z 2 are groups represented by -L 3 -S 1 -F 1 (Z 1 and Z 2 may be the same or different, and from the viewpoint of ease of synthesis, F 1 is an acrylic group or a methacryl group, S 1 is a single bond or a linear alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and L 3 is an ether group (—O—). ), An ester group (—COO—, —OCO—) and a carbonate group (—OCOO—) (preferably an ether group), p is 1, M 1 is 1,4-phenylene. a group, L 1 is a single bond and -C Any of O- (more preferably single bond) and, q is 0, M 3 is 1,4-phenylene group, and a compound wherein r is 1 C11,
The compound represented by the general formula (1), wherein Z 1 and Z 2 are both groups represented by -L 3 -S 1 -F 1 (wherein Z 1 and Z 2 are They may be the same or different, and are preferably the same group from the viewpoint of ease of synthesis.), F 1 is an acrylic group or a methacryl group, and S 1 is a single bond or a carbon number. 1 to 12 linear alkylene groups, L 3 is an ether group, an ester group or a carbonate group (more preferably an ether group), p is 1, M 1 is 1,4- A phenylene group, L 1 is —COO—, M 2 is a 1,4-phenylene group, L 2 is —OCO—, q is 1, and M 3 is a 1,4-phenylene group. And Compound C12 wherein r is 1;
The compound represented by the general formula (1), wherein both Z 1 and Z 2 are groups represented by -L 3 -S 1 -F 1 (wherein Z 1 and Z 2 are They may be the same or different, and are preferably the same group from the viewpoint of ease of synthesis.), F 1 is an acrylic group or a methacryl group, and S 1 is represented by the formula: (CH 2 CH 2 O) z (z is 2 or 3), L 3 is a single bond, p is 1, M 1 is a 1,4-phenylene group, and L 1 Is a single bond or an ester group (more preferably a single bond), q is 0, M 3 is a 1,4-phenylene group, and r is 1, Compound C13,
The following general formula (2):

(式中、Rが水素及びメチル基のうちのいずれかであり(なお、複数のRは同一のものであっても異なるものであってもよい。)、xは2又は3である。)
で表される化合物C14、及び、
下記一般式(3):
(In the formula, R 5 is either hydrogen or a methyl group (in addition, a plurality of R 5 may be the same or different), and x is 2 or 3. .)
Compound C14 represented by:
The following general formula (3):

(式中、Rが水素及びメチル基のうちのいずれかであり(なお、複数のRは同一のものであっても異なるものであってもよい。)、yは2から12の整数である。)
で表される化合物C15、
も好ましい。これらは重合前後の少なくとも一方において液晶性を示す重合性化合物であってもよいし、後述する第二の化合物が液晶性を示す場合は、液晶性を示さないものでもよい。
(Wherein R 5 is any one of hydrogen and methyl group (in addition, a plurality of R 5 may be the same or different), and y is an integer of 2 to 12) .)
Compound C15 represented by
Is also preferable. These may be a polymerizable compound exhibiting liquid crystallinity at least before and after polymerization, or may not exhibit liquid crystallinity when a second compound described later exhibits liquid crystallinity.

また、このような第一の重合性化合物としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、4,4’−ビス(8−(メタ)アクリロイルオキシ−3,6−ジオキサオクチル−1−オキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(9−(メタ)アクリロイルオキシ)ノニルオキシビフェニル、4,4’−ビス(6−(メタ)アクリロイルオキシ)ヘキシロキシビフェニル、1,4−ビス(6−(メタ)アクリロイルオキシヘキシロキシ)メチルヒドロキノンが特に好ましい。   Examples of the first polymerizable compound include ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, 4,4′-bis (8- (meth) acryloyloxy-3,6-dioxaoctyl-1-oxy) biphenyl, 4,4′-bis (9- (meth) acryloyloxy) nonyloxybiphenyl, 4, 4′-bis (6- (meth) acryloyloxy) hexyloxybiphenyl and 1,4-bis (6- (meth) acryloyloxyhexyloxy) methylhydroquinone are particularly preferred.

また、前記重合性組成物に含有させる前記第二の化合物としては、より効率よく光学フィルムを形成するという観点から、重合の前後の少なくとも一方において液晶性を示す化合物であることが好ましいが、前記第一の重合性化合物が液晶性を示す場合には、必ずしも液晶性を示す化合物である必要はない。   In addition, the second compound to be contained in the polymerizable composition is preferably a compound that exhibits liquid crystallinity at least before and after polymerization from the viewpoint of forming an optical film more efficiently. When the first polymerizable compound exhibits liquid crystallinity, it is not necessarily required to be a compound exhibiting liquid crystallinity.

さらに、このような第二の化合物としては、第二の化合物に液晶性を示す化合物を利用することにより、より効率よく光学フィルムを形成することが可能となることから、前記一般式(1)で表される化合物であって、式中のZが−L−S−Fで表わされ、Fがアクリル基若しくはメタクリル基であり、Sが単結合であり、Lが単結合であり、pが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが単結合であり、qが0であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Zが水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜12のアルキル基及び炭素数1〜12のアルコキシ基の中から選択される1種(より好ましくはシアノ基)であり、且つ、rが1である化合物C21、
前記一般式(1)で表される化合物であって、式中のZが−L−S−Fで表わされ、Fがアクリル基若しくはメタクリル基であり、Sが炭素数1から12の直鎖アルキレン基であり、Lがエーテル基であり、pが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが単結合であり、qが0であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Zが水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜12のアルキル基及び炭素数1〜12のアルコキシ基の中から選択される1種(より好ましくはシアノ基)であり、且つ、rが1である化合物C22、
前記一般式(1)で表される化合物であって、式中のZが−L−S−Fで表わされ、Fがアクリル基若しくはメタクリル基であり、Sが式:(CHCHO)z(zは2若しくは3である。)で表わされる基であり、Lが単結合であり、pが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが単結合であり、qが0であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Zが水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜12のアルキル基及び炭素数1〜12のアルコキシ基の中から選択される1種(より好ましくはシアノ基)であり、且つ、rが1である化合物C23、及び
前記一般式(1)で表される化合物であって、式中のZが−L−S−Fで表わされ、Fがアクリル基若しくはメタクリル基であり、Sが炭素数1から12の直鎖アルキレン基であり、Lがエーテル基であり、pが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが−COO−であり、qが0であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Zが水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜12のアルキル基及び炭素数1〜12のアルコキシ基の中から選択される1種(より好ましくはシアノ基)であり、且つ、rが1である化合物C24、
が好ましい。
Furthermore, as such a second compound, since an optical film can be formed more efficiently by using a compound exhibiting liquid crystallinity as the second compound, the general formula (1) In which Z 1 is represented by -L 3 -S 1 -F 1 , F 1 is an acryl group or a methacryl group, S 1 is a single bond, and L 3 Is a single bond, p is 1, M 1 is a 1,4-phenylene group, L 1 is a single bond, q is 0, M 3 is a 1,4-phenylene group, Z 2 is one selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms (more preferably a cyano group); And compound C21 wherein r is 1;
A compound represented by the general formula (1), wherein Z 1 is represented by -L 3 -S 1 -F 1 , F 1 is an acryl group or a methacryl group, and S 1 is carbon. A linear alkylene group of 1 to 12, L 3 is an ether group, p is 1, M 1 is a 1,4-phenylene group, L 1 is a single bond, and q is 0 Yes, M 3 is a 1,4-phenylene group, and Z 2 is selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms A compound C22 in which r is 1 (more preferably a cyano group) and r is 1;
A compound represented by the general formula (1), wherein Z 1 is represented by -L 3 -S 1 -F 1 , F 1 is an acrylic group or a methacryl group, and S 1 is represented by the formula : (CH 2 CH 2 O) z (z is 2 or 3), L 3 is a single bond, p is 1, M 1 is a 1,4-phenylene group. Yes, L 1 is a single bond, q is 0, M 3 is a 1,4-phenylene group, Z 2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, or an alkyl having 1 to 12 carbon atoms. A compound selected from the group consisting of a group and an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms (more preferably a cyano group) and r is 1, and a compound represented by the general formula (1) In which Z 1 is represented by -L 3 -S 1 -F 1 and F 1 is an acrylic group Is a methacryl group, S 1 is a linear alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, L 3 is an ether group, p is 1, M 1 is a 1,4-phenylene group, and L 1 Is —COO—, q is 0, M 3 is a 1,4-phenylene group, Z 2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and carbon. Compound C24, which is one type (more preferably a cyano group) selected from the alkoxy groups of 1 to 12, and r is 1.
Is preferred.

このような第二の化合物としては、4−(6−(メタ)アクリロイルオキシヘキシロキシ)−4’−シアノビフェニル、4−(9−(メタ)アクリロイルオキシノニルオキシ)−4’−シアノビフェニル、4−(5−(メタ)アクリロイルオキシ−3−オキサペンチル−1−オキシ)−4‘−シアノビフェニル、4−(8−(メタ)アクリロイルオキシ−3,6−ジオキサオクチル−1−オキシ)−4’−シアノビフェニル、4−シアノフェニル−4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)ベンゾエートを用いることが特に好ましい。   Examples of the second compound include 4- (6- (meth) acryloyloxyhexyloxy) -4′-cyanobiphenyl, 4- (9- (meth) acryloyloxynonyloxy) -4′-cyanobiphenyl, 4- (5- (meth) acryloyloxy-3-oxapentyl-1-oxy) -4′-cyanobiphenyl, 4- (8- (meth) acryloyloxy-3,6-dioxaoctyl-1-oxy) It is particularly preferable to use -4'-cyanobiphenyl or 4-cyanophenyl-4- (2-acryloyloxyethoxy) benzoate.

また、前記重合性組成物中に含有させる前記第一の重合性化合物と前記第二の化合物の含有比率としては、特に制限されるものではないが、前記第一の重合性化合物と前記第二の化合物のモル比([第一の重合性化合物]:[第二の化合物])が0.1:99.9〜99.9:0.1であることが好ましく、0.5:99.5〜99.5:0.5であることがより好ましく、2:98〜98:2であることが更に好ましい。なお、前記第一の重合性化合物と前記第二の化合物のモル比([第一の重合性化合物]:[第二の化合物])は、組み合わせる化合物の種類によっては、5:95〜95:5とすることがより好ましく、10:90〜80:20とすることが更に好ましい。このような第一の重合性化合物の含有比率が前記下限未満では拡散速度が遅くなるため、境界を移動させる速度が遅くなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると化合物の拡散よりも重合が速く進みすぎるため、拡散に伴う配向を形成することが困難となる傾向にある。   Further, the content ratio of the first polymerizable compound and the second compound to be contained in the polymerizable composition is not particularly limited, but the first polymerizable compound and the second compound are not limited. The molar ratio of the compound ([first polymerizable compound]: [second compound]) is preferably 0.1: 99.9 to 99.9: 0.1, and 0.5: 99. More preferably, it is 5-99.5: 0.5, and it is still more preferable that it is 2: 98-98: 2. The molar ratio of the first polymerizable compound to the second compound ([first polymerizable compound]: [second compound]) is 5:95 to 95: depending on the type of compound to be combined. 5 is more preferable, and 10:90 to 80:20 is even more preferable. When the content ratio of the first polymerizable compound is less than the lower limit, the diffusion rate is slow, and therefore, the rate of moving the boundary tends to be slow.On the other hand, when the upper limit is exceeded, polymerization is performed rather than compound diffusion. Since it progresses too quickly, it tends to be difficult to form an orientation accompanying diffusion.

さらに、このような重合性組成物においては、前記第一の重合性化合物及び第二の化合物以外にも、本発明の効果を損なわない範囲で各種溶媒、光重合開始剤、粘度調整剤、可塑剤、重合禁止剤、界面活性剤などを適宜含有させることができる。なお、このように重合性組成物中に各種添加剤等を含有させる場合において、前記重合性組成物中の前記第一の重合性化合物と前記第二の化合物の総量はモル比で70モル%以上(より好ましくは80モル%以上)であることが好ましい。このような前記第一の重合性化合物と前記第二の化合物の総量が前記下限未満では液晶性が低下し、周期構造の形成が困難となる傾向にある。   Further, in such a polymerizable composition, in addition to the first polymerizable compound and the second compound, various solvents, photopolymerization initiators, viscosity modifiers, plastics are used within a range not impairing the effects of the present invention. An agent, a polymerization inhibitor, a surfactant and the like can be appropriately contained. In addition, when various additives and the like are included in the polymerizable composition in this way, the total amount of the first polymerizable compound and the second compound in the polymerizable composition is 70 mol% in molar ratio. It is preferable that it is more (more preferably 80 mol% or more). When the total amount of the first polymerizable compound and the second compound is less than the lower limit, the liquid crystallinity is lowered and it is difficult to form a periodic structure.

また、前記重合性組成物を光重合させる場合には、より効率よく重合を進行せしめることが可能となることから光重合開始剤を用いることが好ましい。このような光重合開始剤としては特に制限されず、公知のものを適宜利用することができ、市販のもの(例えば、BASF社製の商品名「イルガキュア651」等)を用いてもよい。また、このような光重合開始剤を用いる場合においては、その使用量は用いる重合性組成物中の化合物の種類や光の吸収波長、等に応じて適宜設計することができ、例えば、重合性組成物中の全化合物に対して0.1〜10モル%としてもよい。なお、このような光重合開始剤の含有比率が前記下限未満では光重合開始剤を用いる効果が十分に得られなくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると液晶性を低下させる傾向にあり、これにより良好な周期構造が効率よく得られなくなる傾向にある。   In the case of photopolymerizing the polymerizable composition, it is preferable to use a photopolymerization initiator because the polymerization can proceed more efficiently. Such a photopolymerization initiator is not particularly limited, and known ones can be used as appropriate, and commercially available products (for example, trade name “Irgacure 651” manufactured by BASF) may be used. In the case of using such a photopolymerization initiator, the amount used can be appropriately designed according to the type of compound in the polymerizable composition to be used, the light absorption wavelength, and the like. It is good also as 0.1-10 mol% with respect to all the compounds in a composition. In addition, when the content ratio of such a photopolymerization initiator is less than the lower limit, the effect of using the photopolymerization initiator tends to be insufficient, and on the other hand, when the upper limit is exceeded, liquid crystallinity tends to be reduced, This tends to prevent a good periodic structure from being obtained efficiently.

また、このような重合性組成物からなる膜の形態(厚み等を含む大きさ)は、特に制限されず、目的の設計に応じて適宜その形態を変更することができ、例えば、厚みを0.1〜200μmとしてもよい。また、このような重合性組成物からなる膜としては、基板上に前記重合性組成物を塗布することにより得られる塗膜であってもよく、いわゆるセル中に重合性組成物を導入してセルにより重合性組成物を膜状としたものであってもよく、その膜の形成方法やその製造時の基板の使用の有無等も特に制限されず、公知の方法を適宜利用でき、その条件等は重合性組成物の種類、重合の方式(光重合や熱重合)、最終製品の用途等に応じて適宜選択することができる。更に、前記重合性組成物からなる膜を基板上やセル中に製造する場合において、用いる基板等は水平なものではなくてもよい。   Moreover, the form (size including thickness etc.) of such a polymerizable composition is not particularly limited, and the form can be appropriately changed according to the intended design. It is good also as 1-200 micrometers. Further, the film made of such a polymerizable composition may be a coating film obtained by applying the polymerizable composition on a substrate, and the polymerizable composition is introduced into a so-called cell. The polymerizable composition may be in the form of a film by a cell, and there is no particular limitation on the method of forming the film and the presence or absence of use of the substrate at the time of production, and a known method can be used as appropriate. Etc. can be appropriately selected according to the type of the polymerizable composition, the polymerization method (photopolymerization or thermal polymerization), the use of the final product, and the like. Furthermore, when manufacturing the film | membrane which consists of said polymeric composition on a board | substrate or in a cell, the board | substrate etc. to be used may not be horizontal.

また、このような重合性組成物からなる膜としては、膜の形状や均一性を十分に維持しつつ光学フィルムを形成するという観点から、2枚の基板の間に重合性組成物の膜を配置して基板により膜を支持すること(例えば2枚の基板を含むセルを利用してセル中に膜を配置する等)や、1枚の基板上に前記重合性組成物からなる膜を形成し、もう一方の面は気相界面としたものが好ましい。また、このような基板やセルの材料は特に制限されず、公知の材料(例えばガラスやプラスチック等)を適宜利用することができる。また、重合を光重合により行う場合において、前記膜の光の入射面側に基板が接触しているような場合には、その基板を介して光を入射させる必要があることから、該基板は少なくとも光重合に使用される波長の光を透過可能な材料からなるものとすることが好ましい。   In addition, as a film made of such a polymerizable composition, from the viewpoint of forming an optical film while sufficiently maintaining the shape and uniformity of the film, a film of the polymerizable composition is provided between two substrates. Arrange and support the film by the substrate (for example, arrange a film in the cell using a cell including two substrates), or form a film made of the polymerizable composition on one substrate The other surface is preferably a gas phase interface. Moreover, the material of such a substrate or cell is not particularly limited, and a known material (for example, glass or plastic) can be appropriately used. Further, in the case where the polymerization is performed by photopolymerization, in the case where the substrate is in contact with the light incident surface side of the film, it is necessary to make light incident through the substrate. It is preferable to be made of a material that can transmit at least light having a wavelength used for photopolymerization.

次に、前記膜の一部の領域から前記重合性組成物の重合を開始し、前記液晶性を示す化合物が配向するような速度で前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させて重合した後、重合後の膜を冷却して、周期構造を有する光学フィルムを得る工程について説明する。   Next, polymerization of the polymerizable composition is started from a partial region of the film, and the boundary of the region is continuously directed toward the unpolymerized region at such a speed that the compound exhibiting liquid crystallinity is aligned. A process of obtaining an optical film having a periodic structure by cooling and polymerizing the polymerized film after being transferred and polymerized will be described.

このような工程においては、先ず、前記重合性組成物からなる膜を用いて、該膜の一部の領域から前記重合性組成物の重合を開始する。なお、ここにいう「膜の一部の領域から前記重合性組成物の重合を開始する」といった事項には、例えば、当初より膜の一部分を重合を開始させるための領域として設定し、その領域から重合を開始する場合(例えば、光重合の場合に、予め光源からの光が照射される部分(露光部)に膜の一部が存在するような状態にし、その膜の露光部から前記重合性組成物の重合を開始するような場合)の他、重合するための領域を徐々に形成させながら膜の一部の領域から重合を開始する場合(例えば、フォトマスクを用いる光重合の場合に、前記マスクで膜の全体を覆い、前記マスクで遮光されている部分に膜が全て入るような状態とした後、光の照射の際に膜を光の照射領域に徐々に露出させて行き、膜の露光されている部分(膜の一部の領域)から重合を開始するような場合:なお、この場合、光の照射領域に前記液晶性を示す化合物が配向するような速度で前記膜を導入(露出)させることが好ましい。)を含む。   In such a process, first, using the film | membrane which consists of the said polymeric composition, superposition | polymerization of the said polymeric composition is started from the one part area | region of this film | membrane. In addition, in the matter such as “start polymerization of the polymerizable composition from a partial region of the film”, for example, a part of the film is set as a region for starting the polymerization from the beginning, and the region (For example, in the case of photopolymerization, a part of the film is previously present in the part irradiated with light from the light source (exposure part), and the polymerization is performed from the exposed part of the film. In the case of starting polymerization from a partial region of the film while gradually forming a region for polymerization (for example, in the case of photopolymerization using a photomask) Then, after covering the entire film with the mask and making all the film enter the portion shielded from light by the mask, the film is gradually exposed to the light irradiation region during light irradiation, Exposed part of film (partial area of film) If so as to initiate et Polymerization: Note, including this case, introducing the film at a rate such that the compound in the irradiated region of the light indicating the liquid crystal is oriented (exposure) is to be preferred)..

このように、前記重合性組成物からなる膜を一部の領域から重合する方法としては特に制限されるものではなく、公知の方法を適宜採用することができる。このような膜の一部の領域から重合を開始する方法としては、例えば、一部の領域に光(X線、電子線、紫外線、可視光線、赤外線(熱線)等)を照射して、その照射領域から重合を開始する光重合による方法や、一部の領域から加熱を開始して、その加熱領域から重合を開始する熱重合による方法等が挙げられる。このような重合の方法としては、重合させる領域の制御がより容易であるという観点や、取り扱いの容易さ、照射する光の照射強度や照射エネルギーの設定や管理の容易さの観点から、一部の領域に光を照射する光重合による方法を採用することが好ましい。なお、このような光重合において、光重合の対象物である膜をセル等で支持している場合において、光照射面側の基板等が透明でない場合には電子線を用いることで光重合することが可能であり、電子線の利用は基板が透明でない場合に有用である。   As described above, the method for polymerizing the film composed of the polymerizable composition from a partial region is not particularly limited, and a known method can be appropriately employed. As a method for starting polymerization from a partial region of such a film, for example, light (X-ray, electron beam, ultraviolet ray, visible light, infrared ray (heat ray), etc.) is irradiated on a partial region, Examples thereof include a photopolymerization method in which polymerization is started from an irradiation region, and a thermal polymerization method in which heating is started from a partial region and polymerization is started from the heating region. As such a polymerization method, in part from the viewpoint of easier control of the region to be polymerized, ease of handling, ease of setting and management of irradiation intensity and irradiation energy of light to be irradiated. It is preferable to employ a photopolymerization method in which light is irradiated to the region. In such photopolymerization, when the film that is the object of photopolymerization is supported by a cell or the like, if the substrate on the light irradiation surface side is not transparent, photopolymerization is performed by using an electron beam. And the use of electron beams is useful when the substrate is not transparent.

また、本発明においては、前記重合性組成物の重合方法によらず、前記膜の一部の領域から前記重合性組成物の重合を開始し、前記液晶性を示す化合物が配向するような速度で前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させて重合する際(重合時)に、前記膜を80〜150℃(より好ましくは85〜140℃、更に好ましくは90〜130℃)に加熱する温度条件を採用する必要がある。このような重合時に採用する加熱温度の条件が前記下限未満では、重合性組成物もしくはその中の1成分が結晶化するなどにより、重合反応や配向膜の形成を効率よく進行させることが困難となったり、重合性組成物の粘度が高くなることによって、重合反応の速度が遅くなる等といった問題が生じ、他方、前記上限を超えると、熱によって膜全体の重合が進行し易くなり、配向構造を形成できなくなったり、空気中で反応を行う場合に重合性化合物が分解される可能性が高くなり、安定して光学フィルムを得ることが困難となる。なお、いわゆる後重合工程を実施する場合においても、前記重合時の温度条件と同様の温度条件(80〜150℃、より好ましくは85〜140℃、更に好ましくは90〜130℃)を採用することが好ましい。   Further, in the present invention, regardless of the polymerization method of the polymerizable composition, the polymerization composition starts from a partial region of the film, and the rate at which the liquid crystalline compound is aligned is obtained. In the polymerization by continuously moving the boundary of the region toward the unpolymerized region (at the time of polymerization), the film is 80 to 150 ° C. (more preferably 85 to 140 ° C., still more preferably 90 to 130). It is necessary to adopt a temperature condition of heating to ° C. When the heating temperature condition employed during the polymerization is less than the lower limit, it is difficult to efficiently advance the polymerization reaction or the formation of the alignment film due to crystallization of the polymerizable composition or one component therein. Or the viscosity of the polymerizable composition is increased, resulting in a problem that the rate of the polymerization reaction is slowed.On the other hand, when the upper limit is exceeded, polymerization of the entire film easily proceeds by heat, and the orientation structure When the reaction is carried out in air, there is a high possibility that the polymerizable compound is decomposed, and it becomes difficult to obtain an optical film stably. Even when the so-called post-polymerization step is performed, the same temperature conditions (80 to 150 ° C., more preferably 85 to 140 ° C., still more preferably 90 to 130 ° C.) as the temperature conditions during the polymerization should be adopted. Is preferred.

さらに、前記重合性組成物の重合方法として光重合を採用する場合には、より効率よく重合反応を進行させることが可能となることから、紫外線又は可視光を利用することが好ましい。このような光を照射するための光源としては特に制限されず、光重合に利用可能な公知の光源を適宜利用することができ、例えば、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライドランプ、LEDランプ等を利用してもよい。   Furthermore, when photopolymerization is employed as the polymerization method of the polymerizable composition, it is possible to proceed the polymerization reaction more efficiently, and it is preferable to use ultraviolet rays or visible light. A light source for irradiating such light is not particularly limited, and a known light source that can be used for photopolymerization can be used as appropriate. A lamp or the like may be used.

また、このような光重合の際に利用する光の照射波長としては特に限定は無く、化合物の吸収スペクトルと、光開始剤の推奨使用波長等を勘案して決定すればよい。また、例えば、重合性組成物からなる膜が基板上に形成され、膜の一方の界面が周囲の雰囲気ガスに接触するような状態において重合を行う場合において、アクリル基やメタクリル基を含む化合物を用いてラジカル反応を利用する場合には、酸素が存在すると酸素阻害により重合が進み難い等といった観点から、窒素等の不活性ガス雰囲気下で重合を行うことが好ましい。オキセタン基やエポキシ基のようにカチオン反応を用いた酸素阻害の影響のない重合性官能基の場合には、特に不活性雰囲気下で重合を行う必要はなく、大気中で重合を行ってよい。一方、セルなどを用いて重合性組成物からなる膜が、雰囲気ガスと接触しないような状態にある場合には、大気中において重合を開始してもよい。このように、本発明においては、重合性組成物からなる膜が雰囲気ガスと接触する状態(膜の界面が気相と接触する状態)で重合を行ってもよく、重合性組成物からなる膜が雰囲気ガスと接触しないような状態(膜の界面がセルの壁面(固相)と接触する状態)で重合を行ってもよい。   Moreover, there is no limitation in particular as the irradiation wavelength of the light utilized in such photopolymerization, What is necessary is just to consider and consider the absorption spectrum of a compound, the recommended use wavelength of a photoinitiator, etc. Further, for example, in the case where polymerization is performed in a state where a film made of a polymerizable composition is formed on a substrate and one interface of the film is in contact with the surrounding atmospheric gas, a compound containing an acryl group or a methacryl group is used. When a radical reaction is used, polymerization is preferably performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen from the viewpoint that, when oxygen is present, it is difficult for the polymerization to proceed due to oxygen inhibition. In the case of a polymerizable functional group having no influence of oxygen inhibition using a cation reaction such as an oxetane group or an epoxy group, it is not necessary to perform polymerization in an inert atmosphere, and the polymerization may be performed in the air. On the other hand, when the film made of the polymerizable composition using a cell or the like is not in contact with the atmospheric gas, the polymerization may be started in the air. Thus, in the present invention, the polymerization may be performed in a state where the film made of the polymerizable composition is in contact with the atmospheric gas (the state where the interface of the film is in contact with the gas phase), and the film made of the polymerizable composition The polymerization may be carried out in such a state that does not come into contact with the atmospheric gas (a state in which the interface of the film is in contact with the cell wall (solid phase)).

また、このような光重合の際には、0.1μW/cm〜30mW/cmの強度で光を照射することが好ましく、0.5μW/cm〜10mW/cmの強度で光を照射することがより好ましい。このような光の照度が前記下限未満では反応速度が遅くなるため、前記境界の移動速度が遅くなり、生産性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると重合性化合物が拡散する速度よりも重合反応速度の方が速くなり過ぎることにより、化合物の拡散が十分に起こらず、フィルム中に十分に配向構造を形成することが困難となり、結果として冷却時に周期構造を形成することが困難となる傾向にある。 At the time of the photopolymerization, it is preferable to irradiate light at an intensity of 0.1μW / cm 2 ~30mW / cm 2 , the light intensity of 0.5μW / cm 2 ~10mW / cm 2 Irradiation is more preferable. When the illuminance of such light is less than the lower limit, the reaction rate is slow, so the moving speed of the boundary is slow, and the productivity tends to decrease. On the other hand, the rate at which the polymerizable compound diffuses when the upper limit is exceeded. When the polymerization reaction rate is too high, the compound does not sufficiently diffuse and it is difficult to form a sufficient orientation structure in the film, and as a result, it is difficult to form a periodic structure during cooling. It tends to be.

さらに、このような光重合の際に、一部の領域から光を照射するための方法は特に制限されず、例えば、一部の領域のみに光を照射できるようにした光源を利用してもよく、あるいは、フォトマスクを利用して一部の領域から光を照射してもよいが、重合領域と未重合領域の制御がより容易となるため、フォトマスクを利用することが好ましい。   Furthermore, the method for irradiating light from a part of the region during such photopolymerization is not particularly limited. For example, a light source that can irradiate only part of the region can be used. Alternatively, light may be irradiated from a part of the region using a photomask, but it is preferable to use a photomask because the control of the polymerized region and the unpolymerized region becomes easier.

また、本発明においては、上述のようにして、前記重合性組成物からなる膜の一部の領域から前記重合性組成物の重合を開始し、前記液晶性を示す化合物が配向するような速度で前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させる。このようにして重合領域と未重合領域との境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させることにより、連続的に重合を行って、移動して行く境界の近傍の領域において、物質の拡散現象を順次連続的に引き起こすことが可能となり、これにより配向領域を連続的に増大させて周期構造の前駆構造となる液晶分子の面内配向、および周期構造を有する構造体を形成することが可能となる。なお、このように前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させる際における重合条件は、前述の重合開始時の重合条件と同様の条件を採用すればよい。   Further, in the present invention, as described above, the polymerization composition is started from a partial region of the film made of the polymerizable composition, and the rate at which the compound exhibiting liquid crystallinity is aligned. The boundary of the region is continuously moved toward the unpolymerized region. In this way, by continuously moving the boundary between the polymerized region and the unpolymerized region toward the unpolymerized region, the polymerization is continuously performed, and in the region near the moving boundary, It is possible to cause the diffusion phenomenon sequentially and continuously, thereby increasing the alignment region continuously to form the in-plane alignment of the liquid crystal molecules that become the precursor structure of the periodic structure and the structure having the periodic structure. It becomes possible. As the polymerization conditions for continuously moving the boundary of the region toward the unpolymerized region in this way, the same conditions as the polymerization conditions at the start of the polymerization described above may be employed.

ここで、前記境界を移動させる際の移動速度である「液晶性を示す化合物が配向するような速度」は、液晶性を示す化合物の種類、拡散移動する化合物の種類、重合して形成される化合物(重合物)の種類(第一の重合性化合物、第二の化合物の種類、重合後に得られる化合物の種類)、重合時に採用する重合の条件(例えば光重合を採用する場合の光の照射条件等)等によっても、前記膜中の液晶性を示す化合物を配向させるために必要となる時間等が異なることから、一概に言えるようなものではない。すなわち、本発明においては、重合領域と未重合領域とにおいて生じる化合物の濃度勾配に起因して、重合領域と未重合領域との境界の近傍において前記重合性組成物中の化合物の拡散移動(流れ)を引き起こし、前記重合性組成物中に存在する液晶性を示す化合物に、一種のずり応力を付加して、前記境界の近傍において前記液晶性を示す化合物を配向させるため、「液晶性を示す化合物が配向するような速度」は、その液晶性を示す化合物の種類や拡散移動する化合物の種類、更には重合して形成される化合物(重合物)の種類等によって異なるものとなる。例えば、第二の化合物に液晶性を示す化合物を利用し、重合の開始により第一の重合性化合物を重合させて、第一の重合性化合物の重合領域への移動を引き起こさせるようにして、第一の重合性化合物及び第二の化合物を利用する場合について考慮すると、第一の重合性化合物の重合速度が非常に速く、重合領域と未重合領域において化合物の濃度勾配が急激に生じて、第一の重合性化合物の重合領域への移動速度が非常に速いものとなるような場合には、前記境界の移動速度を比較的早くしても、第一の重合性化合物の重合領域への移動に伴って生じるずり応力を、重合領域に存在する液晶性を示す化合物に十分に加えることができ、液晶性を示す化合物を十分に配向させることが可能となるのに対して、第一の重合性化合物の重合速度が遅く、重合領域と未重合領域において化合物の濃度勾配が穏やかに発生し、第一の重合性化合物の重合領域への移動速度が遅くなるような場合には、液晶性を示す化合物に十分にずり応力を付与するためには時間がかかるため、前記境界の移動速度を早くすると、前記境界の近傍において、十分に液晶性を示す化合物を配向させることが困難となる。このように、「液晶性を示す化合物が配向するような速度」は、液晶性を示す化合物の種類や拡散移動する化合物の種類、更には重合して形成される化合物(重合物)の種類、重合条件等に応じて適宜配向が生じるように決定すればよく、その速度の設定は適宜変更することができる。   Here, “the speed at which the compound exhibiting liquid crystallinity is oriented”, which is the moving speed when moving the boundary, is formed by polymerization, the type of compound exhibiting liquid crystallinity, the type of compound that diffuses and moves, and polymerization. Type of compound (polymerized product) (first polymerizable compound, type of second compound, type of compound obtained after polymerization), polymerization conditions employed during polymerization (for example, light irradiation when employing photopolymerization) The time required for aligning the compound exhibiting liquid crystallinity in the film differs depending on the conditions and the like. That is, in the present invention, due to the concentration gradient of the compound that occurs in the polymerized region and the unpolymerized region, the diffusion movement (flow of the compound in the polymerizable composition near the boundary between the polymerized region and the unpolymerized region) ) And applying a kind of shear stress to the liquid crystal compound present in the polymerizable composition to align the liquid crystal compound in the vicinity of the boundary. The “speed at which the compound is aligned” varies depending on the type of the compound exhibiting liquid crystallinity, the type of the compound that diffuses and moves, the type of the compound formed by polymerization (polymer), and the like. For example, using a compound exhibiting liquid crystallinity as the second compound, polymerizing the first polymerizable compound at the start of polymerization, causing the first polymerizable compound to move to the polymerization region, Considering the case of using the first polymerizable compound and the second compound, the polymerization rate of the first polymerizable compound is very fast, and the concentration gradient of the compound suddenly occurs in the polymerized region and the unpolymerized region, In the case where the moving speed of the first polymerizable compound to the polymerization region is very high, even if the moving speed of the boundary is relatively high, the first polymerizable compound can move to the polymerization region. The shear stress generated along with the movement can be sufficiently applied to the compound exhibiting liquid crystallinity existing in the polymerization region, and the compound exhibiting liquid crystallinity can be sufficiently aligned. The polymerization rate of the polymerizable compound is In the case where the concentration gradient of the compound is gently generated in the polymerized region and the unpolymerized region, and the moving speed of the first polymerizable compound to the polymerized region is slow, the compound exhibiting liquid crystallinity is sufficiently displaced. Since it takes time to apply the stress, if the moving speed of the boundary is increased, it becomes difficult to align a compound exhibiting sufficient liquid crystallinity in the vicinity of the boundary. Thus, “the rate at which a compound exhibiting liquid crystallinity is aligned” refers to the type of compound exhibiting liquid crystallinity, the type of compound that diffuses and moves, the type of compound formed by polymerization (polymer), What is necessary is just to determine so that orientation may arise suitably according to superposition | polymerization conditions etc., and the setting of the speed | rate can be changed suitably.

また、このような液晶性を示す化合物が配向するような速度(前記境界を移動させる移動速度)としては、1×10−7〜4×10−1m/sとすることが好ましく、1×10−6〜4×10−2m/sとすることがより好ましい。このような速度が前記下限未満では化合物の拡散よりも重合反応が早く進行するため、粘性が高くなることにより化合物の拡散移動が却って抑制されてしまい、液晶性を示す化合物にずり応力を十分に付与することができなくなり、広範囲を効率よく配向させることが困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、速度が速くなり過ぎて、境界近傍において十分に化合物の拡散移動を行うことが困難となり、重合領域において配向を形成することが困難となる傾向にある。また、前記第一の重合性化合物と第二の化合物の組み合わせが前述の好適な組み合わせのうちのいずれかであり、重合性組成物の重合に際して、0.1μW/cm〜30mW/cmの強度で照射する光重合法を採用する場合においては、前記液晶性を示す化合物が配向するような速度(前記境界を移動させる移動速度)は、光学フィルムを効率よく形成することが可能であるという観点から、1×10−7〜4×10−1m/sに設定することが好ましい。 Moreover, it is preferable to set it as 1 * 10 < -7 > -4 * 10 < -1 > m / s as a speed | rate (moving speed which moves the said boundary) that such a compound which shows liquid crystallinity aligns, 1 *. It is more preferable to set it as 10 < -6 > -4 * 10 <-2 > m / s. When such a rate is less than the lower limit, the polymerization reaction proceeds faster than the diffusion of the compound, so that the diffusion transfer of the compound is suppressed by increasing the viscosity, and the shear stress is sufficiently applied to the compound exhibiting liquid crystallinity. Tends to become difficult to orient in a wide range, and on the other hand, if the upper limit is exceeded, the speed becomes too high, and the compound can sufficiently diffuse and move in the vicinity of the boundary. It becomes difficult and it tends to be difficult to form an orientation in the polymerization region. Also, the combination of the first polymerizable compound and the second compound is any of a suitable combination of the foregoing, the polymerization of the polymerizable composition, of 0.1μW / cm 2 ~30mW / cm 2 In the case of adopting a photopolymerization method that irradiates with an intensity, the speed at which the compound exhibiting liquid crystallinity is oriented (moving speed for moving the boundary) can efficiently form an optical film. From the viewpoint, it is preferably set to 1 × 10 −7 to 4 × 10 −1 m / s.

また、前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させる方法としては、特に制限されず、例えば、重合方法が熱重合である場合には、加熱領域を未重合の領域に連続的に移動させていくことが可能な方法を適宜採用すればよく、また、重合方法が光重合である場合には、光の照射領域を未照射の領域に連続的に移動させていくことが可能な方法を適宜採用すればよい。   In addition, the method of continuously moving the boundary of the region toward the unpolymerized region is not particularly limited. For example, when the polymerization method is thermal polymerization, the heating region is continuously connected to the unpolymerized region. It is only necessary to adopt a method that can be moved in an appropriate manner, and when the polymerization method is photopolymerization, the light irradiation region may be continuously moved to an unirradiated region. Any possible method may be adopted as appropriate.

また、このような領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させる方法としては、境界の移動速度をより容易に制御でき、より効率よく配向領域を形成させることが可能であることから、前記重合性組成物の重合を光重合により行い、且つ、前記境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させるために、光の照射領域の境界を光の未照射の領域に向けて連続的に移動させる方法を採用することが好ましい。また、光の照射領域の境界を光の未照射の領域に向けて連続的に移動させる方法としては、境界を移動させることが可能な方法であればよく特に制限されず、前記重合性組成物膜に対して、一部の領域のみに光を照射できるようにした光源自体を連続的に移動させるような方法や、前記光源を固定しつつ前記重合性組成物の膜を連続的に移動させる方法、フォトマスクを利用し、フォトマスクを連続的に移動させる方法、更には、フォトマスクを利用し、フォトマスクを固定しつつ前記重合性組成物の膜を連続的に移動させる方法を利用してもよい。   In addition, as a method of continuously moving the boundary of such a region toward an unpolymerized region, the moving speed of the boundary can be controlled more easily, and an alignment region can be formed more efficiently. In order to perform polymerization of the polymerizable composition by photopolymerization, and to continuously move the boundary toward the unpolymerized region, the boundary of the light irradiation region is directed to the unexposed region of light. It is preferable to adopt a method of continuously moving them. Further, the method of continuously moving the boundary of the light irradiation region toward the non-irradiated region is not particularly limited as long as it is a method capable of moving the boundary, and the polymerizable composition A method of continuously moving the light source itself so that only a part of the region can be irradiated with light, or a film of the polymerizable composition is continuously moved while fixing the light source. A method of using a photomask to move the photomask continuously, and a method of using a photomask to move the polymerizable composition film continuously while fixing the photomask. May be.

また、このような光の照射領域の境界を光の未照射の領域に向けて連続的に移動させる方法の中でも、前記光重合の際にフォトマスクを利用し、そのフォトマスクを連続的に移動させる方法や、前記光重合の際にフォトマスクを利用し、そのフォトマスクを固定しつつ前記重合性組成物の膜を連続的に移動させる方法を採用することが好ましい。このように、前記重合性組成物の重合に光重合を採用し、フォトマスクを利用することで、前記光の照射領域の境界を光の未照射の領域に向けて連続的に移動させることを、より容易に達成することが可能である。   Further, among the methods of continuously moving the boundary of the light irradiation region toward the light non-irradiation region, a photomask is used during the photopolymerization, and the photomask is continuously moved. It is preferable to employ a method of using a photomask during the photopolymerization and a method of continuously moving the film of the polymerizable composition while fixing the photomask. As described above, by adopting photopolymerization for the polymerization of the polymerizable composition and using a photomask, the boundary of the light irradiation region can be continuously moved toward the light non-irradiation region. Can be achieved more easily.

ここで、前記重合性組成物の重合を光重合により行い、その光重合の際にフォトマスクを利用する場合の好適な実施形態について、図1〜4を参照して簡単に説明する。図1〜4に示す好適な実施形態においては、先ず、膜13の一部の領域のみに光源11からの光が照射されるように膜13と光源11との間に光を遮蔽することが可能なフォトマスク14を配置した後(図1)、光源11から光を照射することにより膜13の一部の領域A1から前記重合性組成物の重合を開始し(図2参照)、その後、液晶性を示す化合物が配向するような速度でフォトマスク14を連続的に移動させることにより、液晶性を示す化合物が配向するような速度で重合領域の境界Sを未重合の領域A2に向けて(矢印Aの方向に向けて)連続的に移動させて(図3〜4参照)、配向構造を形成しつつ膜を重合させることができる。このように、前記重合性組成物の重合に光重合を利用した場合には、フォトマスク14を移動させる方法のような簡便な方法で、重合領域と未重合領域の境界Sを移動させることを達成でき、配向構造が形成された重合フィルム(周期構造を有する光学フィルムの前駆体としての配向性フィルム)を形成することが可能となる。なお、膜を重合する際にフォトマスクを利用する場合の好適な実施形態について図1〜4を参照して説明したが、フォトマスクを利用する場合の実施形態は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記図1〜4に示す実施形態においては、重合領域と未重合領域の境界Sを移動させるために、フォトマスク14の移動させる方法を採用しているが、フォトマスク14を固定して膜13自体を移動させる方法を採用してもよい。また、上記図1〜4に示す実施形態においては、膜13の一部の領域A1に光が照射されるような状態とした後に前記重合性組成物の重合を開始しているが、本発明の光学フィルムの製造方法において採用可能な重合方法は、かかる実施形態において採用したような方法に制限されるものではなく、例えば、フォトマスクにより膜の全てを覆い、光の照射開始とともに、液晶性を示す化合物が配向するような速度でフォトマスク又は膜を連続的に移動させて、膜が前記速度で光の照射領域(露光部)に導入されていくようにすることにより、その光の照射領域(露光部)に導入された領域(膜の一部の領域)から重合を開始し、そのまま液晶性を示す化合物が配向するような速度で重合領域の境界を未重合の領域に向けて移動させて重合させるような方法を採用してもよい。   Here, with reference to FIGS. 1-4, the suitable embodiment in case the superposition | polymerization of the said polymeric composition is performed by photopolymerization and a photomask is utilized in the case of the photopolymerization is demonstrated easily. In the preferred embodiment shown in FIGS. 1 to 4, first, light is shielded between the film 13 and the light source 11 so that only a part of the film 13 is irradiated with light from the light source 11. After disposing a possible photomask 14 (FIG. 1), polymerization of the polymerizable composition is started from a partial region A1 of the film 13 by irradiating light from the light source 11 (see FIG. 2). By continuously moving the photomask 14 at a speed at which the compound exhibiting liquid crystallinity is aligned, the boundary S of the polymerization region is directed toward the unpolymerized region A2 at a speed at which the compound exhibiting liquid crystallinity is aligned. The film can be polymerized while forming an alignment structure by continuously moving (toward the direction of arrow A) (see FIGS. 3 to 4). Thus, when photopolymerization is used for the polymerization of the polymerizable composition, the boundary S between the polymerized region and the unpolymerized region can be moved by a simple method such as a method of moving the photomask 14. It can be achieved, and it is possible to form a polymerized film (an oriented film as a precursor of an optical film having a periodic structure) in which an oriented structure is formed. In addition, although suitable embodiment in the case of utilizing a photomask when superposing | polymerizing a film | membrane was described with reference to FIGS. 1-4, embodiment in the case of utilizing a photomask is limited to the said embodiment. is not. For example, in the embodiment shown in FIGS. 1 to 4 described above, a method of moving the photomask 14 is adopted to move the boundary S between the overlapped region and the unpolymerized region. A method of moving the film 13 itself may be employed. In the embodiment shown in FIGS. 1 to 4, the polymerization of the polymerizable composition is started after the light is applied to a part of the region A1 of the film 13. The polymerization method that can be employed in the method for producing an optical film is not limited to the method employed in such an embodiment. For example, the entire film is covered with a photomask, and with the start of light irradiation, liquid crystallinity. The photomask or film is continuously moved at such a speed that the compound showing the orientation is aligned, and the film is introduced into the light irradiation region (exposure portion) at the speed, thereby irradiating the light. Polymerization starts from the area (partial area of the film) introduced into the area (exposed area), and the boundary of the polymerized area moves toward the unpolymerized area at such a speed that the liquid crystalline compound is oriented as it is. Let it polymerize The method may be employed, such as.

また、前記重合性組成物の重合を光重合により行い、その光重合の際にフォトマスクを利用する場合、フォトマスクのエッジ形状に応じて、周期構造の前駆構造となる液晶分子の配向方向を容易に制御することが可能である。以下、このようなフォトマスクのエッジ形状に応じた配向の制御に関して、図8及び9にそれぞれ示す実施形態を参照しながら簡単に説明する。例えば、フォトマスクとして、図8に示すようなフォトマスク14を用いた場合には、図8に示す境界Sに対してほぼ垂直な方向に化合物の流れが生じ、境界Sに対してほぼ垂直に周期構造の前駆構造となる液晶分子の配向方向が制御できる。また、フォトマスクとして、図9に示すようなエッジが斜め方向に形成されたフォトマスク14を利用した場合、基本的に、図9に示す境界Sに対してほぼ垂直な方向に化合物の流れが生じ、その斜めの境界Sに対してほぼ垂直、又は境界Sの移動速度が速い場合には境界Sの移動方向のベクトル(矢印A)と境界Sに対して垂直方向のベクトル(矢印P)とのベクトル和の方向に配向方向が制御できる。そのため、フォトマスクを利用した光重合を行う場合には、フォトマスクのエッジ形状に応じて周期構造の前駆構造となる液晶分子の配向方向を所望の方向により容易に制御することが可能となる。従って、所望の周期構造の前駆構造となる液晶分子の配向方向を形成するために、フォトマスクのエッジ形状を適宜変更しながら利用してもよく、これにより簡便に周期構造の前駆構造となる液晶分子の配向方向を制御することが可能である。   In addition, when the polymerizable composition is polymerized by photopolymerization and a photomask is used for the photopolymerization, the orientation direction of the liquid crystal molecules that become the precursor structure of the periodic structure is changed according to the edge shape of the photomask. It can be easily controlled. Hereinafter, the control of the orientation according to the edge shape of the photomask will be briefly described with reference to the embodiments shown in FIGS. For example, when a photomask 14 as shown in FIG. 8 is used as a photomask, the compound flows in a direction substantially perpendicular to the boundary S shown in FIG. The orientation direction of the liquid crystal molecules that are the precursor structure of the periodic structure can be controlled. In addition, when a photomask 14 having an edge formed in an oblique direction as shown in FIG. 9 is used as the photomask, the flow of the compound is basically in a direction substantially perpendicular to the boundary S shown in FIG. Occurs, when the boundary S is substantially perpendicular to the oblique boundary S, or when the movement speed of the boundary S is high, a vector in the direction of movement of the boundary S (arrow A) and a vector in the direction perpendicular to the boundary S (arrow P) The orientation direction can be controlled in the direction of the vector sum. Therefore, when photopolymerization using a photomask is performed, the alignment direction of liquid crystal molecules serving as a precursor structure of a periodic structure can be easily controlled in a desired direction according to the edge shape of the photomask. Accordingly, in order to form the alignment direction of the liquid crystal molecules to be a precursor structure of a desired periodic structure, the edge shape of the photomask may be changed as appropriate, and thereby the liquid crystal to easily form the precursor structure of the periodic structure. It is possible to control the orientation direction of the molecules.

また、前記重合性組成物の重合を光重合により行い、その光重合の際にフォトマスクを利用する場合、前記フォトマスクとして、複数の略長方形状の開口部が、各開口部の長辺が略平行となるようにして形成されたフォトマスクを好適に利用することができる。以下、このような複数の略長方形状の開口部が各開口部の長辺が略平行となるように形成されたマスクを利用した場合における光重合の方法の好適な実施形態を、図10や図11を参照しながら簡単に説明する。図10及び図11は、それぞれ、光源側(照射する光の光軸方向)から見た場合におけるフォトマスク14と基板12との関係を模式的に示す概略平面図である。なお、これらの実施形態においては、開口部14Aを介して透過した光により基板12上に配置された膜の光重合が可能となるように、光源とフォトマスク14と基板12とが配置されている。   When the polymerizable composition is polymerized by photopolymerization and a photomask is used for the photopolymerization, a plurality of substantially rectangular openings are used as the photomask, and the long sides of the openings are A photomask formed so as to be substantially parallel can be preferably used. Hereinafter, a preferred embodiment of a photopolymerization method in the case of using a mask in which a plurality of such substantially rectangular openings are formed so that the long sides of each opening are substantially parallel will be described with reference to FIG. This will be briefly described with reference to FIG. 10 and 11 are schematic plan views schematically showing the relationship between the photomask 14 and the substrate 12 when viewed from the light source side (in the optical axis direction of the irradiated light). In these embodiments, the light source, the photomask 14 and the substrate 12 are disposed so that the film disposed on the substrate 12 can be photopolymerized by the light transmitted through the opening 14A. Yes.

このような図10及び図11に示すフォトマスク14は、複数の略長方形状の開口部14Aを有する。ここで、「略長方形状」とは、図10に示す開口部14Aのような長方形の形状の他、長方形の四隅が円弧状となっている形状、長方形の長辺又は短辺に対応する部分が円弧状の辺となっている形状、更には、図11に示す開口部14Aのような四隅の角度が90度ではない平行四辺形の形状(なお、このような形状の場合にも、四隅が円弧状のものや、長辺又は短辺に対応する部分が円弧状の辺となっている形状も含む。)をも含む概念である。このように、略長方形状の開口部とは、開口部が、長方形の様に長辺(円弧状の辺でもよい)に相当する辺が短辺(円弧状の辺でもよい。)に相当する辺よりも長くなっている細長い形状であることを意図する表現である。   The photomask 14 shown in FIGS. 10 and 11 has a plurality of substantially rectangular openings 14A. Here, the “substantially rectangular shape” means a shape corresponding to a rectangular shape such as the opening 14A shown in FIG. 11 is an arcuate side shape, or a parallelogram shape such as the opening 14A shown in FIG. 11 where the angle of the four corners is not 90 degrees. Includes arc-shaped ones and shapes in which a portion corresponding to a long side or a short side is an arc-shaped side). Thus, the substantially rectangular opening is such that the side of the opening corresponding to the long side (or an arcuate side) as in the rectangle corresponds to the short side (or an arcuate side). It is an expression intended to be an elongated shape that is longer than the side.

このような開口部14Aの略長方形状(細長い形状)は特に制限されず、長辺の長さYが短辺の長さXよりも長ければよい。このような長辺の長さYと短辺の長さXとの比(Y/X)が2.0以上であることが好ましく、5.0〜2.0×10であることがより好ましい。)。 Such a substantially rectangular shape (elongate shape) of the opening 14A is not particularly limited, and the long side length Y may be longer than the short side length X. The ratio (Y / X) of the long side length Y to the short side length X is preferably 2.0 or more, more preferably 5.0 to 2.0 × 10 5. preferable. ).

また、このような開口部14Aの短辺の長さXとしては、重合させる際に用いる基板12や膜の大きさ等によっても異なるものであり、一概には言えないが、1μm〜10mmであることが好ましく、10μm〜1mmであることがより好ましい。このような開口部14Aの短辺の長さXが前記下限未満では、配向が生じ難くなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、膜面内の配向が均一なフィルムが得られ難くなる傾向にある。   Further, the length X of the short side of the opening 14A varies depending on the substrate 12 used in the polymerization, the size of the film, and the like, and cannot be generally described, but is 1 μm to 10 mm. It is preferably 10 μm to 1 mm. When the length X of the short side of the opening 14A is less than the lower limit, the orientation tends to hardly occur. On the other hand, when the upper limit exceeds the upper limit, it is difficult to obtain a film having a uniform in-plane orientation. There is a tendency.

また、このような開口部14Aは、各開口部の長辺が略平行に配置されている。このように開口部14Aを、各開口部の長辺が略平行になるように配置することで、大面積に配向フィルムを形成する際に、その配向方向が基本的に一様な方向になるように制御することが可能となる。また、このような開口部14Aを有するマスクとしては、開口部14Aが周期的に形成されていることが好ましく、同様の形状の開口部14Aが周期的に形成されていることがより好ましい。このように、開口部14Aは周期的に形成されている場合、開口部14Aのピッチは特に制限されるものではないが、1μm〜10mmであることが好ましく、10μm〜1mmであることがより好ましい。このような開口部14Aのピッチが前記下限未満では配向が生じ難くなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、膜面内の配向が均一なフィルムが得られ難くなる傾向にある。なお、このような開口部を複数有するフォトマスクにおいて、開口部の数は2以上であればよく、特に制限されず、マスクや基板の大きさ等に応じて、その設計を適宜変更することができる。   In addition, in such an opening 14A, the long sides of the openings are arranged substantially in parallel. Thus, by arranging the openings 14A so that the long sides of the openings are substantially parallel, when the oriented film is formed in a large area, the orientation direction is basically uniform. It becomes possible to control. Moreover, as such a mask having the openings 14A, the openings 14A are preferably formed periodically, and it is more preferable that the openings 14A having the same shape are formed periodically. As described above, when the openings 14A are periodically formed, the pitch of the openings 14A is not particularly limited, but is preferably 1 μm to 10 mm, and more preferably 10 μm to 1 mm. . When the pitch of the openings 14A is less than the lower limit, the orientation tends to be difficult to occur. On the other hand, when the pitch exceeds the upper limit, a film having a uniform in-plane orientation tends to be hardly obtained. Note that in such a photomask having a plurality of openings, the number of openings may be two or more and is not particularly limited, and the design may be changed as appropriate depending on the size of the mask and the substrate. it can.

このような複数の長方形状の開口部が略平行に形成されたマスク14を用いて、例えば、基板12を方向Aと同じ方向に向かって動かしながら基板上に形成された膜に対して、開口部14Aを介して光を照射して光重合を行った場合、各開口部14Aごとに重合領域の境界Sが形成され、各境界Sをそれぞれ未重合の領域に向けて連続的に移動させることが可能となり、各開口部14Aごとにそれぞれ配向領域を形成していくことが可能となる。そのため、複数の長方形状の開口部が略平行に形成されたマスク14を用いた場合には、マスクを、隣り合う開口部の間隔(距離)と同じ長さ移動させることにより、大面積に配向領域を形成することが可能となり、効率よく周期構造の前駆構造となる液晶分子の配向を形成することが可能となる。   Using such a mask 14 in which a plurality of rectangular openings are formed substantially in parallel, for example, an opening is formed in the film formed on the substrate while moving the substrate 12 in the same direction as the direction A. When photopolymerization is performed by irradiating light through the portion 14A, the boundary S of the polymerization region is formed for each opening 14A, and each boundary S is continuously moved toward the unpolymerized region. Thus, it is possible to form an alignment region for each opening 14A. Therefore, when using a mask 14 in which a plurality of rectangular openings are formed substantially in parallel, the mask is moved to the same length as the interval (distance) between adjacent openings, and oriented in a large area. It becomes possible to form a region, and it is possible to efficiently form alignment of liquid crystal molecules that becomes a precursor structure of a periodic structure.

また、このような複数の長方形状の開口部が略平行に形成されたマスク14を用いる場合においては、開口部14Aのエッジの形状に応じて、配向方向を制御することも可能であり、例えば、図10に示す実施形態において、基板12を方向Aに向かって動かしながら光重合を行った場合、配向方向を開口部14Aの長辺に対して垂直な方向に制御することが可能である。また、図11に示す実施形態においては、基板12を方向Aと同じ方向に向かって動かしながら光重合を行った場合、光源側から見た場合に、開口部14Aのエッジが基板12の2辺に対して斜め方向に形成されているため、重合により開口部14Aの長辺に対してほぼ垂直な方向に化合物の流れが生じ、その長辺に対してほぼ垂直、又は、基板12の移動速度が速い場合には、その移動方向のベクトル(矢印A)と長辺に対してほぼ垂直方向のベクトル(矢印P)とのベクトル和の方向に配向方向が制御できる。なお、図10〜11を参照して本発明に好適に採用することが可能な光重合の方法について説明したが、本発明において採用することが可能な光重合の方法は、これらの方法に限定されるものではない。例えば、上述の実施形態においては基板12を移動させる方法を説明しているが、基板12を固定化し、マスクと光源とを移動させる方法等を適宜採用して光重合を行なってもよい。   Further, in the case of using the mask 14 in which such a plurality of rectangular openings are formed substantially in parallel, the orientation direction can be controlled according to the shape of the edge of the opening 14A. In the embodiment shown in FIG. 10, when the photopolymerization is performed while moving the substrate 12 in the direction A, the orientation direction can be controlled in a direction perpendicular to the long side of the opening 14A. In the embodiment shown in FIG. 11, when the photopolymerization is performed while moving the substrate 12 in the same direction as the direction A, the edge of the opening 14 </ b> A has two sides of the substrate 12 when viewed from the light source side. The compound flows in a direction substantially perpendicular to the long side of the opening 14A due to the polymerization, and is substantially perpendicular to the long side, or the moving speed of the substrate 12 Is fast, the orientation direction can be controlled in the direction of the vector sum of the vector in the moving direction (arrow A) and the vector in the direction substantially perpendicular to the long side (arrow P). In addition, although the photopolymerization method which can be suitably employ | adopted for this invention was demonstrated with reference to FIGS. 10-11, the photopolymerization method which can be employ | adopted in this invention is limited to these methods. Is not to be done. For example, although the method of moving the substrate 12 has been described in the above-described embodiment, photopolymerization may be performed by appropriately adopting a method of fixing the substrate 12 and moving the mask and the light source.

また、本発明においては、重合性組成物からなる膜の一部の領域から前記重合性組成物の重合を開始し、前記液晶性を示す化合物が配向するような速度で前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させて、膜中に周期構造の前駆構造となる液晶分子の配向構造を形成して重合するが、このような重合に用いる重合性組成物からなる膜としては、予備重合を施した膜を利用してもよい。このような予備重合を施した膜を利用することにより、重合領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させる速度をより速くしても十分に配向構造を形成することが可能となり、より効率よくフィルムの大面積に周期構造を形成することが可能となる傾向にある。なお、ここにいう「予備重合」とは、前記重合性組成物の膜を、重合性組成物の流動性が損なわれない程度にわずかに重合させること(例えば予備重合及び本重合の双方に光重合を利用する場合、前記重合性組成物の膜に対して、本重合よりも強度の弱い光を照射することで、流動性が損なわれない程度に膜中の成分をわずかに重合させること)をいう。   Further, in the present invention, the polymerization of the polymerizable composition is started from a partial region of the film made of the polymerizable composition, and the boundary between the regions is not set at such a speed that the compound exhibiting liquid crystallinity is aligned. The film is made by continuously moving toward the polymerization region to form an alignment structure of liquid crystal molecules that becomes a precursor structure of a periodic structure in the film, and as a film made of a polymerizable composition used for such polymerization. Alternatively, a prepolymerized film may be used. By using such a pre-polymerized film, it becomes possible to form a sufficiently oriented structure even if the speed of continuously moving the boundary of the polymerization region toward the unpolymerized region is increased. There is a tendency that a periodic structure can be formed in a large area of the film more efficiently. As used herein, “preliminary polymerization” means that the film of the polymerizable composition is slightly polymerized to such an extent that the fluidity of the polymerizable composition is not impaired (for example, light is applied to both prepolymerization and main polymerization). When using polymerization, the film of the polymerizable composition is irradiated with light that is weaker than the main polymerization to slightly polymerize the components in the film to such an extent that fluidity is not impaired. Say.

このように、本発明においては、重合領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させる速度をより速くして、なるべく短時間で光学フィルムを形成させるという観点から、予備重合後の膜を好適に利用することができる。このような予備重合の方法としては、特に制限されず、例えば、予備重合に光重合を採用する場合には、フォトマスクを用いた予備的な重合であっても、フォトマスクを利用せずに行なう予備的な重合であってもよい。このように、前記予備重合は、例えば、複数の略長方形状の開口部が各開口部の長辺が略平行となるようにして形成されたフォトマスクを用いた光重合による予備的な重合であってもよい。   Thus, in the present invention, from the viewpoint of forming an optical film in as short a time as possible by increasing the speed of continuously moving the boundary of the polymerization region toward the unpolymerized region, A membrane can be suitably used. Such a prepolymerization method is not particularly limited. For example, when photopolymerization is employed for the prepolymerization, even if the prepolymerization is performed using a photomask, the photomask is not used. It may be a preliminary polymerization. Thus, the preliminary polymerization is, for example, preliminary polymerization by photopolymerization using a photomask in which a plurality of substantially rectangular openings are formed so that the long sides of each opening are substantially parallel. There may be.

このような予備重合の際に、光重合を採用する場合には、0.001μW/cm〜10mW/cmの強度で光を照射することが好ましく、0.05μW/cm〜1mW/cmの強度で光を照射することがより好ましい。このような光の照度が前記下限未満では反応が不十分となり予備重合の効果が得られ難くなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると重合性化合物の重合が進み過ぎた膜となり、前記重合性組成物からなる膜の一部の領域から前記重合性組成物の重合を開始した後に、前記液晶性を示す化合物が配向するような速度で前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させても、化合物の拡散が十分に起こらず、重合時にフィルムに十分な配向が形成されなくなり、結果として周期構造を十分に形成することが困難となる傾向にある。なお、このような予備重合の際に光重合を採用する場合、光重合の条件としては、前記光の照度に関する条件以外は、前記重合性組成物の重合方法として説明した光重合の条件と同様の条件を採用することができる。 During such preliminary polymerization, when using the photopolymerization, it is preferable to irradiate light at an intensity of 0.001μW / cm 2 ~10mW / cm 2 , 0.05μW / cm 2 ~1mW / cm More preferably, the light is irradiated with an intensity of 2 . If the illuminance of light is less than the lower limit, the reaction tends to be inadequate and the effect of prepolymerization tends to be difficult to obtain. On the other hand, when the upper limit is exceeded, polymerization of the polymerizable compound proceeds excessively, resulting in the polymerization. After the polymerization of the polymerizable composition is started from a partial region of the film made of the conductive composition, the boundary of the region is continuously directed toward the unpolymerized region at such a rate that the compound exhibiting liquid crystallinity is oriented. Even if it is moved, the compound does not sufficiently diffuse, and sufficient orientation is not formed on the film during polymerization, and as a result, it tends to be difficult to sufficiently form a periodic structure. In addition, when adopting photopolymerization in the case of such preliminary polymerization, the photopolymerization conditions are the same as the photopolymerization conditions described as the polymerization method of the polymerizable composition, except for the conditions relating to the illuminance of the light. The following conditions can be adopted.

このようにして、本発明においては、第一の重合性化合物と、同一条件で重合させた場合に前記第一の重合性化合物よりも重合完了時間が長い第二の化合物とを含有し、且つ、前記第一の重合性化合物、前記第二の化合物及び重合後に得られる化合物のうちの少なくとも1種が液晶性を示す化合物である、重合性組成物からなる膜を用いて、前記膜の一部の領域から前記重合性組成物の重合を開始し、前記液晶性を示す化合物が配向するような速度で前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させて重合する。なお、このような配向の形成方法は、重合を開始した後に膜中において未重合領域から重合領域に移動する化合物により生じる一種のずり応力を利用して、前記液晶性を示す化合物を配向させる方法であることから、基本的に、その化合物が移動する方向(前記領域の境界に垂直な方向)に配向の方向を制御することが可能であり、重合を光重合で行う場合にはマスクの形状に応じて様々な方向に配向を制御することや場所により周期構造の前駆構造となる液晶分子の配向方向を変えたパターン配向も可能となる。   Thus, in the present invention, the first polymerizable compound and the second compound having a polymerization completion time longer than that of the first polymerizable compound when polymerized under the same conditions, and A film composed of a polymerizable composition, wherein at least one of the first polymerizable compound, the second compound and the compound obtained after polymerization is a compound exhibiting liquid crystallinity. Polymerization of the polymerizable composition is started from the region of the part, and the boundary of the region is continuously moved toward the unpolymerized region at a speed such that the compound exhibiting liquid crystallinity is aligned. In addition, the method for forming such an orientation is a method of orienting the compound exhibiting liquid crystallinity using a kind of shear stress generated by a compound that moves from an unpolymerized region to a polymerized region in the film after polymerization is started. Therefore, it is basically possible to control the orientation direction in the direction in which the compound moves (direction perpendicular to the boundary of the region), and the shape of the mask when polymerization is performed by photopolymerization. Accordingly, it is possible to control the orientation in various directions according to the pattern orientation and change the orientation direction of the liquid crystal molecules that become the precursor structure of the periodic structure depending on the location.

また、前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させて、膜中に配向領域を形成させた後においては、その重合反応を完了させるとの観点から、いわゆる後重合工程を施してもよい。なお、このような後重合工程は、配向領域中に残存する未重合成分を更に効率よく重合させるために更に光を照射する等して、重合を更に進行せしめる工程であり、前記重合領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させて、膜中に配向領域を形成させた後に形成された配向領域を更に重合させる工程である。このように、本発明においては、重合領域の境界を移動させながら物質の拡散現象を利用して配向を形成するが、その境界の移動に伴う重合工程で膜中の成分が完全に重合されていない場合には、前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させた後、重合を更に進行させる工程(後重合工程)を実施して、重合反応を完了(より促進)させてもよい。なお、このような後重合工程の条件は、特に制限されず、用いる重合性組成物中の成分の種類等に応じて適宜変更しながら実施すればよい。なお、本発明においては、後重合工程の重合時に採用する温度条件は、80〜150℃(より好ましくは85〜140℃、更に好ましくは90〜130℃)に膜を加熱する温度条件とすることが好ましい。また、このようにしてフィルム内に配向構造を形成する場合には、基板に長尺の基板フィルム等を使用して、ロール・ツー・ロールで長尺の配向構造を形成してもよい。   In addition, after the boundary of the region is continuously moved toward the unpolymerized region to form the alignment region in the film, a so-called post-polymerization step is performed from the viewpoint of completing the polymerization reaction. You may give it. Note that such a post-polymerization step is a step of further proceeding the polymerization by irradiating light in order to more efficiently polymerize the unpolymerized component remaining in the alignment region, and the boundary of the polymerization region. Is a process of continuously polymerizing the alignment region formed after forming the alignment region in the film by continuously moving toward the unpolymerized region. As described above, in the present invention, the alignment is formed by utilizing the diffusion phenomenon of the substance while moving the boundary of the polymerization region. If not, after the boundary of the region is continuously moved toward the unpolymerized region, a step of further proceeding the polymerization (post-polymerization step) is performed to complete (more accelerate) the polymerization reaction. May be. The conditions for such a post-polymerization step are not particularly limited, and may be carried out while appropriately changing according to the type of components in the polymerizable composition to be used. In the present invention, the temperature condition employed during the polymerization in the post-polymerization step is a temperature condition for heating the film to 80 to 150 ° C. (more preferably 85 to 140 ° C., more preferably 90 to 130 ° C.). Is preferred. Moreover, when forming an oriented structure in a film in this way, a long oriented structure may be formed by roll-to-roll using a long board | substrate film etc. for a board | substrate.

また、このようにして膜を重合した後においては、前記膜を重合時に採用した加熱温度よりも高温に加熱(昇温)して、前記液晶性を示す化合物(液晶性化合物)が等方相となるような温度に保持してもよい。このようにして、配向構造を形成した後に、前記液晶性を示す化合物(液晶性化合物)が等方相となるような温度に加熱することで、より効率よく周期構造を形成することができる。なお、ここにいう「液晶性化合物が等方相となるような温度」とは、化合物が液晶相を示す温度よりも高い温度(等方相に相転移を起こす温度)であり、その温度においては液晶分子の運動性が高まりランダムな配向状態となるため、長時間その温度を継続(維持)すると液晶分子が示す光学的な異方性が消失し始めるような温度である。このように、膜の重合後、冷却工程を施す前に加熱(昇温)工程を施す場合には、その加熱温度を、重合時に採用した加熱温度よりも高温で、かつ、前記液晶性を示す化合物(液晶性化合物)を等方相とすることが可能となるような温度とすることが好ましい。なお、このような加熱(昇温)工程を施す場合には、加熱温度の上限は200℃とすることが好ましい。このような加熱温度が液晶性化合物が等方相となるような温度よりも低い場合には、より効率よく周期構造を形成することが難しくなる傾向にあり、他方、前記上限の温度よりも高い場合には、分子の運動性が高くなりすぎて、重合時に形成された液晶性化合物の配向方向の秩序が失われ、規則正しい周期構造の形成が困難となる傾向にある。なお、このように等方相となるような温度に加熱する工程における加熱時間としては、0.5〜10分(より好ましくは1〜5分)であることが好ましい。このような加熱時間が前記下限未満では、より効率の良い周期構造形成を達成することが難しくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると分子の運動性が高くなりすぎ、重合時に形成された液晶性化合物の配向方向の秩序が失われ、却って規則正しい周期構造の形成が困難となる傾向にある。   In addition, after polymerizing the film in this way, the film is heated (heated) to a temperature higher than the heating temperature employed during the polymerization, so that the compound exhibiting liquid crystallinity (liquid crystalline compound) is isotropic. You may hold | maintain to the temperature which becomes. Thus, after forming the alignment structure, the periodic structure can be formed more efficiently by heating to a temperature at which the compound exhibiting liquid crystallinity (liquid crystalline compound) becomes an isotropic phase. The “temperature at which the liquid crystal compound becomes isotropic phase” is a temperature higher than the temperature at which the compound exhibits a liquid crystal phase (temperature at which a phase transition occurs in the isotropic phase). Since the mobility of the liquid crystal molecules is increased and the liquid crystal molecules are in a random alignment state, the optical anisotropy of the liquid crystal molecules starts to disappear when the temperature is continued (maintained) for a long time. As described above, after the film is polymerized, when the heating (temperature raising) step is performed before the cooling step, the heating temperature is higher than the heating temperature employed during the polymerization, and the liquid crystal property is exhibited. The temperature is preferably such that the compound (liquid crystalline compound) can be in an isotropic phase. In addition, when performing such a heating (temperature rising) process, it is preferable that the upper limit of heating temperature shall be 200 degreeC. When such a heating temperature is lower than the temperature at which the liquid crystalline compound becomes isotropic, it tends to be difficult to form a periodic structure more efficiently, and on the other hand, it is higher than the upper limit temperature. In some cases, the mobility of the molecules becomes too high, and the order of the alignment direction of the liquid crystal compound formed at the time of polymerization is lost, and the formation of a regular periodic structure tends to be difficult. In addition, it is preferable that it is 0.5 to 10 minutes (more preferably 1 to 5 minutes) as a heating time in the process of heating to such a temperature that becomes an isotropic phase. When the heating time is less than the lower limit, it tends to be difficult to achieve more efficient periodic structure formation. On the other hand, when the upper limit is exceeded, the mobility of the molecule becomes too high and formed during polymerization. The order of the alignment direction of the liquid crystal compound is lost, and on the contrary, the formation of a regular periodic structure tends to be difficult.

また、本発明においては、上述のようにして前記重合性組成物からなる膜を80〜150℃の加熱温度で加熱する温度条件下において、前記液晶性を示す化合物が配向するような速度で重合領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させて重合した後(場合により、前述のように、前記重合を行った後に液晶性化合物を等方相となるような温度に加熱した後)、重合後の膜を冷却する。このような冷却の際には、前記膜の温度が、少なくとも前記重合時に採用した加熱温度と同じ温度(80〜150℃の間の温度であり、前記液晶性を示す化合物が配向するような速度で重合領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させて重合する際(重合時)に採用した温度である。)から60℃になるまでの間は、0.1〜30℃/分の冷却速度で前記膜を冷却する。なお、前記膜の温度に関する「前記重合時に採用した加熱温度」とは、前記液晶性を示す化合物が配向するような速度で重合領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させて重合させる際に採用した温度(後重合工程を採用する際の後重合の際に採用した加熱温度ではなく、液晶性を示す化合物が配向するように重合する際に採用した温度)をいう。ここにおいて、このような膜の温度は熱電対を貼りつけ、キーエンス社製の商品名「データロガーGR−3500」を用いることにより測定することができ、ガラスセル中に膜が存在している場合には、ガラスセルに熱電対を貼り付けて測定される温度を採用することができる。   Further, in the present invention, polymerization is performed at such a rate that the compound exhibiting liquid crystallinity is aligned under the temperature condition in which the film composed of the polymerizable composition is heated at a heating temperature of 80 to 150 ° C. as described above. After polymerization by continuously moving the boundary of the region toward the unpolymerized region (in some cases, after performing the polymerization, the liquid crystalline compound was heated to a temperature at which it becomes an isotropic phase as described above. After), the film after polymerization is cooled. In such cooling, the temperature of the film is at least the same temperature as the heating temperature employed during the polymerization (a temperature between 80 ° C. and 150 ° C., and the rate at which the compound exhibiting liquid crystallinity is aligned. In this case, the temperature is from 0.1 to 30 ° C. until the temperature reaches 60 ° C. (when the polymerization is performed by continuously moving the boundary of the polymerization region toward the unpolymerized region at the time of polymerization). The membrane is cooled at a cooling rate of / min. The “heating temperature employed during the polymerization” relating to the temperature of the film means that the boundary of the polymerization region is continuously moved toward the unpolymerized region at a speed at which the compound exhibiting liquid crystallinity is aligned. This refers to the temperature employed when polymerizing (not the heating temperature employed during post-polymerization when employing the post-polymerization step, but the temperature employed when polymerizing so that the compound exhibiting liquid crystallinity is aligned). Here, the temperature of such a film can be measured by attaching a thermocouple and using the trade name “Data Logger GR-3500” manufactured by Keyence Corporation. When the film is present in the glass cell The temperature measured by attaching a thermocouple to the glass cell can be employed.

なお、このような冷却速度の制御を、前述のような「重合時に採用した加熱温度と同じ温度」から始めることで、冷却速度の制御の始点となる温度においては膜中の液晶性化合物の流動性が十分に維持された状態となっているため、冷却速度に応じた周期構造を形成することが可能となる。なお、重合後、特に昇温工程を施すことなく、そのまま冷却工程を施す場合には、重合終了後、そのまま前記冷却速度で膜を冷却すればよく(重合終了後、重合終了時の温度から60℃になるまでの間、前記冷却速度に制御しながら膜を冷却すればよく)、他方、上述のような更なる昇温工程を施す場合には、昇温後、重合時に採用した加熱温度と同じ温度に戻し、その後、冷却条件を制御しながら冷却してもよく、あるいは、昇温後、その昇温後の温度からそのまま上記冷却速度に制御しながら前記膜を冷却することで、少なくとも「重合時に採用した加熱温度と同じ温度」から60℃になるまでの間の温度域において、上記冷却速度で膜を冷却するようにしてもよい。   It should be noted that such control of the cooling rate is started from “the same temperature as the heating temperature employed during the polymerization” as described above, so that the liquid crystalline compound flows in the film at the temperature that is the starting point of the control of the cooling rate. Therefore, the periodic structure corresponding to the cooling rate can be formed. In the case where the cooling step is directly performed after the polymerization without performing the temperature raising step, the film may be cooled as it is after the completion of the polymerization at the above cooling rate (from the temperature at the end of the polymerization after the completion of the polymerization). The film may be cooled while controlling at the cooling rate until the temperature reaches 0 ° C.). On the other hand, when the further temperature raising step as described above is performed, The temperature may be returned to the same temperature and then cooled while controlling the cooling conditions. Alternatively, after the temperature is raised, the film is cooled while controlling the cooling rate from the temperature after the temperature rise as it is. The film may be cooled at the cooling rate in the temperature range from the same temperature as the heating temperature employed during the polymerization to 60 ° C.

また、本発明においては、前述のように、重合後の膜を冷却する際(場合により、重合後の膜を、前記液晶性化合物が等方相となるような温度に加熱した後、冷却する際)に、前記膜の温度が少なくとも重合時に採用した加熱温度と同じ温度から60℃になるまでの間、冷却速度を0.1〜30℃/分(より好ましくは0.5〜20℃/分、更に好ましくは0.8〜12℃/分)とする必要がある。このような冷却速度が前記下限未満では周期構造が形成されなくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、配向構造が形成された膜中に十分に高度な周期性を有する周期構造を形成することが困難となる傾向にある。なお、本発明にいう「冷却速度」とは、膜又は膜を収容するセル(例えばガラスセル等)に熱電対を貼りつけ、キーエンス社製の商品名「データロガーGR−3500」を用いて測定することが可能な、重合時の加熱温度から60℃になるまでの各タイミング(瞬間)における冷却速度(いわゆる瞬間速度)を採用する(なお、重合時に採用した加熱温度と同じ温度(重合工程の加熱時に採用した温度と同じ高さの温度)から60℃になるまでの時間を測定して、前記加熱温度から60℃を引いた温度をその時間により除して求められるような単位時間あたりの平均冷却速度ではない。)。そのため、本発明にかかる前記冷却工程においては、前記膜の温度が前記重合時に採用した加熱温度と同じ温度から60℃になるまでの間において、いずれのタイミングにおいても前記測定装置(キーエンス社製の商品名「データロガーGR−3500」)を用いて測定される冷却速度が0.1〜30℃/分の範囲にあることとなる。   In the present invention, as described above, when the polymerized film is cooled (in some cases, the polymerized film is heated to a temperature at which the liquid crystalline compound becomes isotropic phase, and then cooled. The cooling rate is 0.1 to 30 ° C./min (more preferably 0.5 to 20 ° C./min) until the temperature of the film reaches at least 60 ° C. from the same temperature as the heating temperature employed during the polymerization. Min, more preferably 0.8 to 12 ° C./min). If the cooling rate is less than the lower limit, the periodic structure tends not to be formed. On the other hand, if the cooling rate exceeds the upper limit, a periodic structure having a sufficiently high periodicity is formed in the film in which the alignment structure is formed. Tend to be difficult. The “cooling rate” referred to in the present invention is measured by attaching a thermocouple to a membrane or a cell (for example, a glass cell) containing the membrane and using a trade name “Data Logger GR-3500” manufactured by Keyence Corporation. The cooling rate (so-called instantaneous rate) at each timing (instantaneous) from the heating temperature at the time of polymerization to 60 ° C. is adopted (the same temperature as the heating temperature employed at the time of polymerization (in the polymerization step)). Per unit time as determined by measuring the time from the same temperature as the temperature adopted at the time of heating) to 60 ° C. and dividing the temperature obtained by subtracting 60 ° C. from the heating temperature. Not the average cooling rate.) Therefore, in the cooling step according to the present invention, the measuring device (manufactured by Keyence Corporation) is used at any timing until the temperature of the film reaches 60 ° C. from the same temperature as the heating temperature employed during the polymerization. The cooling rate measured using the product name “Data Logger GR-3500”) is in the range of 0.1 to 30 ° C./min.

また、本発明においては、前記膜の温度が、少なくとも前記重合時に採用した加熱温度と同じ温度から60℃になるまでの間において、冷却速度を前記範囲に制御するが、これにより、自己組成的に周期構造(分子配向が周期的に変化する周期構造)が形成されることとなる。なお、このような周期構造が形成された光学フィルム中における配向の状態としては、例えば、重合の進行方向に対して分子が平行に配向している層と、垂直に配向している層が交互に形成されており、その中間層では分子が斜めに配向している状態を挙げることができる(図5〜7等参照)。また、このような配向の状態や周期構造は、偏光顕微鏡においても確認することができる。   Further, in the present invention, the cooling rate is controlled within the above range until the temperature of the film reaches at least 60 ° C. from the same temperature as the heating temperature employed during the polymerization. Thus, a periodic structure (periodic structure in which molecular orientation changes periodically) is formed. The orientation state in the optical film in which such a periodic structure is formed is, for example, that a layer in which molecules are oriented in parallel to the direction of polymerization and a layer in which the orientation is perpendicular are alternated. In the intermediate layer, molecules can be obliquely oriented (see FIGS. 5 to 7). Such orientation state and periodic structure can also be confirmed with a polarizing microscope.

また、このような冷却に際しては、周期構造をより安定的に固定化することが可能となるため、重合後の膜の温度が前記重合時に採用した加熱温度と同じ温度から30℃(より好ましくは室温(25℃)程度)になるまでの間、前記冷却速度の範囲で冷却することが好ましい。   Further, in such cooling, since it becomes possible to fix the periodic structure more stably, the temperature of the film after polymerization is 30 ° C. (more preferably, from the same temperature as the heating temperature employed during the polymerization). It is preferable to cool within the range of the cooling rate until it reaches room temperature (about 25 ° C.).

また、このように冷却速度を制御する方法としては、特に制限されず、上記冷却速度を達成することが可能な方法を適宜採用することができ、例えば、温度制御手段(例えば、ホットステージ等の加熱手段等:膜を配置して冷却速度に応じて熱を加えることが可能となるようなもの等)を利用して所望の冷却速度(ほぼ一定)となるように膜の温度を調節しながら冷却する方法等を採用してもよい。なお、冷却に際しては、重合終了後の膜を冷却用の基板(例えば、温度制御用のホットステージの基板等)を利用せずに、雰囲気ガスを接触させて、雰囲気ガスの温度を制御しながら冷却してもよく、あるいは、前記冷却用の基板を利用して、該冷却用の基板上で冷却してもよいが、厳密な温度制御をより効率よく行うことが可能であるという観点から、前記冷却用の基板を用いながら冷却することが好ましい。なお、ここにいう「冷却用の基板上で冷却」とは、膜自体を直接的に前記冷却用の基板に接触させて、その基板からの加熱や基板の熱伝導率を利用しながら冷却する場合の他、例えば、セル中の重合膜を冷却する場合においては、該セルを冷却用の基板に接触させて、雰囲気ガスのみによる冷却ではなく、セルを介して、間接的に冷却用の基板からの加熱や冷却用の基板の熱伝導率を利用しながら冷却するような場合を含む。   In addition, the method for controlling the cooling rate is not particularly limited, and a method capable of achieving the cooling rate can be appropriately employed. For example, a temperature control unit (for example, a hot stage) Heating means, etc .: A film is arranged and heat can be applied according to the cooling rate, etc.) while adjusting the temperature of the film so that the desired cooling rate (almost constant) is obtained. A cooling method or the like may be employed. During cooling, the film after polymerization is not contacted with an atmospheric gas without using a cooling substrate (for example, a temperature-controlled hot stage substrate), and the temperature of the atmospheric gas is controlled. It may be cooled, or may be cooled on the cooling substrate using the cooling substrate, but from the viewpoint that strict temperature control can be performed more efficiently, It is preferable to cool the substrate while using the cooling substrate. Here, “cooling on a cooling substrate” means that the film itself is brought into direct contact with the cooling substrate and is cooled using the heating from the substrate or the thermal conductivity of the substrate. In addition to the case, for example, in the case of cooling the polymer film in the cell, the cell is brought into contact with the cooling substrate, and the cooling substrate is not indirectly cooled by only the atmospheric gas but indirectly through the cell. It includes the case of cooling while utilizing the thermal conductivity of the substrate for heating and cooling from the outside.

このような冷却条件を採用して重合後の膜を冷却することで周期構造を有する光学フィルムを製造できる。なお、本発明にいう「周期構造」とは、該光学フィルムの任意の3点以上の測定点に対してそれぞれ波長633nmのヘリウムネオンレーザーを垂直な方向から照射したときに測定される1次回折光の回折強度の平均値と、透過光測定用のフィルムの任意の3点以上の測定点に対してそれぞれ波長633nmのヘリウムネオンレーザーを垂直な方向から照射したときに測定される透過光の強度の平均値とに基いて、下記式(1):
[E]=([Is]/[Ir])×100 (1)
[式(1)中、Isは前記光学フィルムの1次回折光の回折強度の平均値(単位:mW)を示し、Irは透過光測定用のフィルムの透過光の強度の平均値(単位:mW)を示し、Eは回折効率(単位:%)を示す。]
を計算して求められる回折効率が5%以上となるような構造をいう。ここにおいて、透過光測定用のフィルムは、前記冷却の際に、前記膜の温度が少なくとも前記重合時に採用した加熱温度と同じ温度から60℃になるまでの間、0.1〜30℃/分の冷却速度で前記膜を冷却する方法を採用せずに、前記重合後の膜を液体窒素に5秒間浸漬して前記膜を冷却する方法を採用する以外は、本発明の周期構造を有する光学フィルムの製造方法と同様の方法を採用して得られるフィルムを利用する。すなわち、本発明においては、前記冷却の際に、前記冷却速度で冷却する方法を採用せずに、前記重合後の膜を液体窒素に5秒間浸漬して前記膜を冷却する方法を採用する以外は、本発明の周期構造を有する光学フィルムの製造方法と同様の方法を採用して得られるフィルムを透過光測定用のフィルムとして用いる。このように、冷却工程のみを、前記重合後の膜を液体窒素に5秒間浸漬して前記膜を冷却する工程に変更して得られるフィルムは、その冷却条件(膜の固定化の条件)から、重合後の状態(配列状態)がそのまま固定化されたフィルムであるものと擬制でき、かかるフィルム中には、周期構造の前駆構造である配向構造のみが形成されているものとみなせる。そのため、このような透過光測定用のフィルムは、本発明の周期構造を有する光学フィルムの製造方法により得られる光学フィルムと同一の成分からなるものの、周期構造が形成されていないフィルムであるものとみなせる。そして、このような周期構造が形成されていない透過光測定用のフィルムの透過光(0次光)の平均値に対する、前記光学フィルムの1次回折光の回折強度の平均値の比率から回折効率(E)を求めることができる。このような回折効率(E)がより高い値(より大きな比率)となるほど、周期構造がより周期性の高いもの(周期性の均一性が高いもの)となることは明白である。このような観点から、本発明においては、前記回折効率(E)が5%以上となるような周期性を有するものを周期構造を有する光学フィルムと判断する。すなわち、回折効率(E)が5%未満となるようなものは、回折光が確認されても十分に規則的な回折が起きるような周期性がないことが明らかであり、その場合、フィルム内に、基本的に十分に規則的な繰り返し構造(周期的な構造)が形成されていないこととなる。このような観点で、本発明においては、回折効率が5%未満となるようなものは、回折光が確認されても周期構造が形成されていないフィルムと判断する。
By adopting such cooling conditions and cooling the polymerized film, an optical film having a periodic structure can be produced. The “periodic structure” referred to in the present invention is a first-order diffracted light measured when a helium neon laser having a wavelength of 633 nm is irradiated from a perpendicular direction to any three or more measurement points of the optical film. And the intensity of transmitted light measured when a helium neon laser having a wavelength of 633 nm is irradiated from a perpendicular direction to any three or more measurement points of the transmitted light measurement film. Based on the average value, the following formula (1):
[E] = ([Is] / [Ir]) × 100 (1)
[In the formula (1), Is represents the average value (unit: mW) of the diffraction intensity of the first-order diffracted light of the optical film, and Ir represents the average value (unit: mW) of the transmitted light intensity of the transmitted light measurement film. ) And E represents diffraction efficiency (unit:%). ]
A structure in which the diffraction efficiency obtained by calculating the above is 5% or more. Here, the film for measuring transmitted light has a temperature of 0.1 to 30 ° C./min during the cooling until the temperature of the film reaches at least 60 ° C. from the same temperature as the heating temperature employed during the polymerization. The optical system having the periodic structure of the present invention, except that the method of cooling the film by immersing the polymerized film in liquid nitrogen for 5 seconds without using the method of cooling the film at a cooling rate of A film obtained by adopting the same method as the film production method is used. That is, in the present invention, the method of cooling the film by immersing the polymerized film in liquid nitrogen for 5 seconds without adopting the method of cooling at the cooling rate at the time of the cooling is employed. Uses a film obtained by adopting a method similar to the method for producing an optical film having a periodic structure of the present invention as a film for measuring transmitted light. Thus, the film obtained by changing only the cooling step to the step of cooling the membrane by immersing the polymerized membrane in liquid nitrogen for 5 seconds is based on the cooling condition (condition for immobilizing the membrane). It can be assumed that the state after polymerization (arrangement state) is a fixed film as it is, and in this film, it can be considered that only an orientation structure which is a precursor structure of a periodic structure is formed. Therefore, such a film for measuring transmitted light is composed of the same components as the optical film obtained by the method for producing an optical film having a periodic structure of the present invention, but is a film in which no periodic structure is formed. It can be considered. Then, the diffraction efficiency (from the ratio of the average value of the diffraction intensity of the first-order diffracted light of the optical film to the average value of the transmitted light (0th-order light) of the film for transmitted light measurement in which such a periodic structure is not formed ( E) can be determined. It is clear that the higher the diffraction efficiency (E) is, the higher the value (the larger the ratio), the higher the periodic structure (the higher the uniformity of periodicity). From such a viewpoint, in the present invention, a film having a periodicity such that the diffraction efficiency (E) is 5% or more is determined as an optical film having a periodic structure. That is, it is clear that the case where the diffraction efficiency (E) is less than 5% is not periodic enough to cause regular diffraction even if diffracted light is confirmed. In addition, a sufficiently regular repeating structure (periodic structure) is basically not formed. From such a viewpoint, in the present invention, a film having a diffraction efficiency of less than 5% is determined as a film in which a periodic structure is not formed even when diffracted light is confirmed.

なお、ここにいう透過光の平均値及び1次回折光の平均値は、波長633nmのヘリウムネオンレーザー(He−Neレーザー)を、透過光又は1次回折光の測定対象物(光学フィルム及び透過光測定用のフィルム)上の任意の3点以上の測定点に対して、該測定対象物に対して垂直な方向から照射して、各測定点における透過光又は1次回折光の強度のピークを求めて、平均化することにより求められる。例えば、前記周期構造を有する光学フィルムの任意の3点以上の測定点に、波長633nmのヘリウムネオンレーザー(He−Neレーザー)を該光学フィルムに対して垂直な方向から照射して、各測定点における、構造体から平行方向に任意の距離(例えば74mm)離れた位置における回折光強度のピークをそれぞれ測定し、その平均値を求めることで、前記光学フィルムの1次回折光の回折強度の平均値を求めることができ、また、測定対象物を光学フィルムから透過光測定用のフィルムに変更する以外は、1次回折光の回折強度の平均値を求める場合と同一の条件を採用して任意の3点以上の測定点で透過光のピークをそれぞれ測定し、その平均値を求めることで、透過光測定用のフィルムの透過光の強度の平均値を求めることができる。なお、顕微鏡で観察できる程度に周期が大きい周期構造の場合には、偏光顕微鏡観察により液晶分子の配向方向の周期的な変動を確認することで、その周期構造を確認することもできる。   The average value of the transmitted light and the average value of the first-order diffracted light referred to here are measured using a helium neon laser (He-Ne laser) having a wavelength of 633 nm, and an object to be measured for the transmitted light or the first-order diffracted light (optical film and transmitted light measurement). Irradiate any three or more measurement points on the film) from the direction perpendicular to the object to be measured, and obtain the intensity peak of transmitted light or first-order diffracted light at each measurement point. It is obtained by averaging. For example, an arbitrary three or more measurement points of the optical film having the periodic structure are irradiated with a helium neon laser (He-Ne laser) having a wavelength of 633 nm from a direction perpendicular to the optical film, and each measurement point is measured. In this case, the average value of the diffraction intensity of the first-order diffracted light of the optical film is measured by measuring the peak of the diffracted light intensity at a position away from the structure in an arbitrary distance (for example, 74 mm) in the parallel direction. In addition, except that the object to be measured is changed from an optical film to a film for measuring transmitted light, the same conditions as those for obtaining the average value of the diffraction intensity of the first-order diffracted light are employed, and an arbitrary 3 By measuring the peak of transmitted light at each measurement point above the point and calculating the average value, the average value of the transmitted light intensity of the transmitted light measurement film can be determined. That. In the case of a periodic structure having a period large enough to be observed with a microscope, the periodic structure can also be confirmed by confirming periodic fluctuations in the alignment direction of liquid crystal molecules by observation with a polarizing microscope.

また、前記回折光強度のピークの平均値及び前記透過光の強度の平均値の測定方法、および回折効率の算出方法としては、より具体的には、以下に記載のような方法を採用することができる。すなわち、先ず、測定装置として、日置電機社製の商品名「光パワーメータ3664」及び商品名「光センサ9742」を用い、レーザー光源としてMELLES GRIOT社製のHe−Neレーザー(商品名「05−LHR−151」)を用いて、前記周期構造を有する光学フィルムに対して垂直な方向から、フィルム上の任意の測定点に対して、波長633nmのヘリウムネオンレーザー(He−Neレーザー)を照射し、フィルムと平行に配置されたスクリーン上の1次回折光強度のピークを測定する。このとき、構造体と平行に設置するスクリーンまでの距離は任意に設定してよく、回折光を測定装置の測定範囲内に収めるためにレンズ等を用いて集光させてもよい。このような測定は、フィルム上の測定点を任意の位置に順次変更しながら、少なくとも3回行う(任意の3点以上の測定点において測定を行う。)。そして、各測定点において求められた各回折光強度のピークの値に基いて、その平均を求めることにより、前記1次回折光強度のピークの平均値を求めることができる。また、光学フィルムの代わりに透過光測定用のフィルムを用い、更に回折光の代わりに透過光を測定する以外は、上記1次回折光強度のピークの平均値を求める方法と同様にすることで、前記透過光の強度の平均値を求めることができる。このようにして、重合後の冷却を液体窒素により急冷させて均一な配向を固定化することで周期構造が全く発生しないサンプル(透過光測定用のフィルム)の透過光の強度の平均値を求めることができる。そして、これらの平均値に基づいて、下記式(1):
[E]=([Is]/[Ir])×100 (1)
[式(1)中、Isは前記光学フィルムの1次回折光の回折強度の平均値(単位:mW)を示し、Irは透過光測定用のフィルムの透過光の強度の平均値(単位:mW)を示し、Eは回折効率(単位:%)を示す。]
を計算することにより、周期構造を有する光学フィルムの回折効率(%)を求めることができる。
Further, as a method for measuring the average value of the peak of the diffracted light intensity and the average value of the intensity of the transmitted light and a method for calculating the diffraction efficiency, more specifically, a method as described below is adopted. Can do. That is, first, a trade name “Optical Power Meter 3664” and a trade name “Optical Sensor 9742” manufactured by Hioki Electric Co., Ltd. are used as measurement devices, and a He—Ne laser manufactured by MELLES GRIOT (trade name “05- LHR-151 ") is used to irradiate a helium neon laser (He-Ne laser) having a wavelength of 633 nm to an arbitrary measurement point on the film from a direction perpendicular to the optical film having the periodic structure. The peak of the first-order diffracted light intensity on the screen arranged in parallel with the film is measured. At this time, the distance to the screen installed in parallel with the structure may be arbitrarily set, and the diffracted light may be condensed using a lens or the like so as to be within the measurement range of the measurement apparatus. Such measurement is performed at least three times while sequentially changing the measurement points on the film to arbitrary positions (measurement is performed at three or more arbitrary measurement points). Based on the peak value of each diffracted light intensity obtained at each measurement point, the average value of the peak of the first-order diffracted light intensity can be obtained by obtaining the average. In addition, by using a film for measuring transmitted light instead of an optical film and measuring the transmitted light instead of diffracted light, the same as the method for obtaining the average value of the first-order diffracted light intensity peak, An average value of the intensity of the transmitted light can be obtained. In this way, the average value of the intensity of transmitted light of the sample (film for measuring transmitted light) in which no periodic structure is generated is obtained by rapidly cooling the polymerization with liquid nitrogen and fixing the uniform orientation. be able to. And based on these average values, the following formula (1):
[E] = ([Is] / [Ir]) × 100 (1)
[In the formula (1), Is represents the average value (unit: mW) of the diffraction intensity of the first-order diffracted light of the optical film, and Ir represents the average value (unit: mW) of the transmitted light intensity of the transmitted light measurement film. ) And E represents diffraction efficiency (unit:%). ]
By calculating the diffraction efficiency (%) of the optical film having a periodic structure can be obtained.

なお、本発明の周期構造を有する光学フィルムの製造方法によれば、前記回折効率が5%以上(より好ましくは7%以上、)となる、十分に高い周期性を有する周期構造を確実に製造することが可能となる。このような回折効率が前記下限未満の場合には、周期性の程度が十分なものではなく、フィルム中に様々な用途に利用できるような周期構造が形成されていないこととなる。   In addition, according to the method for producing an optical film having a periodic structure of the present invention, a periodic structure having a sufficiently high periodicity in which the diffraction efficiency is 5% or more (more preferably 7% or more) is reliably produced. It becomes possible to do. If the diffraction efficiency is less than the lower limit, the degree of periodicity is not sufficient, and a periodic structure that can be used for various purposes is not formed in the film.

また、このような周期構造には、1次回折光が重合移動方向のみ2箇所に確認される場合と、重合移動方向の2箇所に加えて、垂直方向に2箇所、計4箇所に確認される場合がある。特に1次回折光が重合移動方向のみ2箇所に発生する場合は、前記シリンダー状の配向状態を形成しており、重合移動方向に液晶の配向方向が周期的に変化している。一方、1次回折光が4箇所に発生する場合は、前記球状の配向状態を形成しており、重合移動方向、および重合移動方向と垂直方向に液晶の配向方向が周期的に変化している。この1次回折光の発生数は、使用する液晶化合物や配合比、添加剤の濃度、重合移動方向、重合時の温度、光強度、重合後の冷却速度等により変動する。また、このような周期構造としては、2次元の周期構造を形成させる場合には、回折光が縦方向(垂直方向:上下2方向)と横方向(重合移動方向:左右2方向)の四方向(4箇所)に確認されるようなものが好ましく、1次元の周期構造を形成させる場合には、1次回折光が重合移動方向のみ2箇所に確認されるようなものが好ましい。   Moreover, in such a periodic structure, when the first-order diffracted light is confirmed only in two positions in the polymerization movement direction and in two positions in the polymerization movement direction, two positions in the vertical direction are confirmed in a total of four positions. There is a case. In particular, when the first-order diffracted light is generated only at two positions in the polymerization movement direction, the cylindrical alignment state is formed, and the alignment direction of the liquid crystal periodically changes in the polymerization movement direction. On the other hand, when the first-order diffracted light is generated at four locations, the spherical alignment state is formed, and the alignment direction of the liquid crystal periodically changes in the polymerization movement direction and in the direction perpendicular to the polymerization movement direction. The number of generated first-order diffracted light varies depending on the liquid crystal compound to be used, the compounding ratio, the concentration of additives, the direction of polymerization movement, the temperature during polymerization, the light intensity, the cooling rate after polymerization, and the like. In addition, as such a periodic structure, when a two-dimensional periodic structure is formed, diffracted light is transmitted in four directions: a vertical direction (vertical direction: two vertical directions) and a horizontal direction (overlapping movement direction: two horizontal directions). Those that are confirmed at (four locations) are preferable, and when a one-dimensional periodic structure is formed, those in which the first-order diffracted light is confirmed at two locations only in the polymerization movement direction are preferable.

また、このような周期構造としては、周期構造体の用途に応じて異なるため一概にいうことはできないが、例えば、格子周期0・3〜5.0μmであることが好ましく、0.5〜3.0μmであることがより好ましい。なお、このような格子周期としては、以下のようにして算出される値を採用する。すなわち、先ず、前述の前記回折光強度のピークの測定方法と同様の方法を採用して、フィルム上の任意の点に対して、フィルムに対して垂直な方向から波長633nmのヘリウムネオンレーザー(He−Neレーザー)を照射し、フィルムと平行に配置されたスクリーンに回折光を投射させる。そして、フィルムとスクリーンとの間の距離をLとし、1次光のうち最も0次光に近い点と0次光との間の距離をDとして、下記計算式(2):
[回折角(α)]=arctan(D/L) (2)
を計算して回折角αを求める。次いで、このようにして求められる回折角αと、照射光の波長λ(=633nm)と、回折次数m(=1)とに基いて、下記計算式(3):
[格子周期(Λ)]=(m×λ)/sinα (3)
を計算することで、格子周期を算出することができる。
In addition, since such a periodic structure differs depending on the use of the periodic structure, it cannot be generally described. For example, the grating period is preferably 0.3 to 5.0 μm, and preferably 0.5 to 3 More preferably, it is 0.0 μm. As such a grating period, a value calculated as follows is adopted. That is, first, by adopting a method similar to the above-described method for measuring the peak of diffracted light intensity, a helium neon laser (He) having a wavelength of 633 nm from an arbitrary point on the film from a direction perpendicular to the film. -Ne laser) and diffracted light is projected onto a screen arranged in parallel with the film. Then, assuming that the distance between the film and the screen is L, and the distance between the point closest to the 0th order light and the 0th order light among the primary lights is D, the following formula (2):
[Diffraction angle (α)] = arctan (D / L) (2)
To obtain the diffraction angle α. Next, based on the diffraction angle α thus determined, the wavelength λ (= 633 nm) of the irradiation light, and the diffraction order m (= 1), the following calculation formula (3):
[Lattice period (Λ)] = (m × λ) / sin α (3)
The lattice period can be calculated by calculating.

このようにして本発明の周期構造を有する光学フィルムの製造方法により得られる周期構造を有する光学フィルムは、回折格子やフォトニック結晶等のテンプレート等に好適に利用することが可能である。   Thus, the optical film having a periodic structure obtained by the method for producing an optical film having a periodic structure of the present invention can be suitably used for a template such as a diffraction grating or a photonic crystal.

以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example, this invention is not limited to a following example.

(合成例1:A6CBの合成及びそのホモポリマーの合成)
4−(6−アクリロイルオキシヘキシロキシ)−4’−シアノビフェニル(A6CB)を、以下に示す方法により合成した。すなわち、4−シアノー4‘−ヒドロキシビフェニル(100mmol)を120mLのN,N−ジメチルフォルムアミド(DMF)中に溶解して溶解液を得た。次に、前記溶解液に1−ブロモヘキサノール(110mmol)、炭酸カリウム(110mmol)及びヨウ化カリウム(触媒量:炭酸カルシウム1molに対して1mmolの割合)を加えて、100℃で5時間加熱攪拌した。次いで、加熱攪拌を中止して反応を終了せしめた後、得られた反応液を酢酸エチルで抽出し、形成された有機層を1規定の塩酸、飽和食塩水の順で洗浄した。次いで、洗浄後の有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、乾燥剤をろ過により取り除いた後、溶媒を減圧留去した。その後、シリカゲルクロマトグラフィーで目的物(4−シアノー4’−(6−ヒドロキシヘキシルオキシ)ビフェニル)を分離、精製した後、クロロホルムとヘキサンで再結晶することにより白色固体状の化合物A(4−シアノー4’−(6−ヒドロキシヘキシルオキシ)ビフェニル)21.3g(72mmol)を得た。
(Synthesis Example 1: Synthesis of A6CB and homopolymer thereof)
4- (6-acryloyloxyhexyloxy) -4′-cyanobiphenyl (A6CB) was synthesized by the method shown below. That is, 4-cyano-4′-hydroxybiphenyl (100 mmol) was dissolved in 120 mL of N, N-dimethylformamide (DMF) to obtain a solution. Next, 1-bromohexanol (110 mmol), potassium carbonate (110 mmol), and potassium iodide (amount of catalyst: 1 mmol with respect to 1 mol of calcium carbonate) were added to the solution, and the mixture was heated and stirred at 100 ° C. for 5 hours. . Next, the heating and stirring was stopped to complete the reaction, and the obtained reaction solution was extracted with ethyl acetate, and the formed organic layer was washed with 1N hydrochloric acid and saturated brine in this order. Next, the washed organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the desiccant was removed by filtration, and the solvent was distilled off under reduced pressure. Thereafter, the target product (4-cyano-4 ′-(6-hydroxyhexyloxy) biphenyl) is separated and purified by silica gel chromatography, and then recrystallized from chloroform and hexane to give a white solid compound A (4-cyano-). 21.3 g (72 mmol) of 4 ′-(6-hydroxyhexyloxy) biphenyl) was obtained.

次に、前記化合物A(50mmol)、トリエチルアミン20.7mL(150mmol)、THF30mLをナスフラスコ中で混合し、ヒドロキノン(触媒量:前記化合物1molに対して2mmolの割合)を加えて混合物を得た後、前記ナスフラスコを23℃の水浴に沈め、ナスフラスコ内部の雰囲気を窒素雰囲気とした後に、前記混合物に対して、窒素雰囲気下、攪拌しながら塩化アクリロイル(150mmol)をゆっくりと滴下して反応溶液を得た。このようにして窒素雰囲気下、48時間攪拌を行った後、前記反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を300mL加え、更に30分攪拌を行った。その後、得られた反応溶液をクロロホルムで抽出し、有機層を1規定の塩酸、飽和食塩水の順で洗浄した。次いで、得られた有機層から溶媒を室温で減圧留去し,シリカゲルクロマトグラフィーで目的物(4−(6−アクリロイルオキシヘキシロキシ)−4’−シアノビフェニル)を分離精製した後、メタノールで再結晶することにより、4−(6−アクリロイルオキシヘキシロキシ)−4’−シアノビフェニル9.8g(28mmol)を得た。なお、このようにして得られた化合物の構造をNMR及びIR測定により確認したところ、下記一般式(4)で表される4−(6−アクリロイルオキシヘキシロキシ)−4’−シアノビフェニルであることが確認された。   Next, after compound A (50 mmol), triethylamine 20.7 mL (150 mmol), and THF 30 mL were mixed in an eggplant flask, hydroquinone (amount of catalyst: ratio of 2 mmol to 1 mol of the compound) was added to obtain a mixture. The eggplant flask was submerged in a 23 ° C. water bath, and the atmosphere inside the eggplant flask was changed to a nitrogen atmosphere. Then, acryloyl chloride (150 mmol) was slowly added dropwise to the mixture with stirring in a nitrogen atmosphere. Got. After stirring in this manner for 48 hours under a nitrogen atmosphere, 300 mL of a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added to the reaction solution, followed by further stirring for 30 minutes. Thereafter, the obtained reaction solution was extracted with chloroform, and the organic layer was washed with 1N hydrochloric acid and saturated brine in this order. Subsequently, the solvent was distilled off from the obtained organic layer under reduced pressure at room temperature, and the target product (4- (6-acryloyloxyhexyloxy) -4′-cyanobiphenyl) was separated and purified by silica gel chromatography, and then re-reacted with methanol. By crystallizing, 9.8 g (28 mmol) of 4- (6-acryloyloxyhexyloxy) -4′-cyanobiphenyl was obtained. In addition, when the structure of the compound thus obtained was confirmed by NMR and IR measurement, it was 4- (6-acryloyloxyhexyloxy) -4′-cyanobiphenyl represented by the following general formula (4). It was confirmed.

このようにして得られた4−(6−アクリロイルオキシヘキシロキシ)−4’−シアノビフェニルは、上記式(4)からも明らかなように、剛直なシアノビフェニル構造をメソゲンとして有する化合物である。また、示差走査熱量計(DSCエスアイアイ・ナノテクノロジー製DSC6220)を用いて、1℃/分の速度で昇温及び降温を行い、4−(6−アクリロイルオキシヘキシロキシ)−4‘−シアノビフェニルからなる液晶相の挙動を確認したところ、液晶性を示さず、昇温過程では69℃で結晶層から等方相へと相転移し、降温過程では53℃で等方相から結晶性へと相転移した。   The 4- (6-acryloyloxyhexyloxy) -4'-cyanobiphenyl thus obtained is a compound having a rigid cyanobiphenyl structure as a mesogen, as is clear from the above formula (4). Moreover, using a differential scanning calorimeter (DSC 6220 manufactured by DSC SII NanoTechnology), the temperature was raised and lowered at a rate of 1 ° C./min to give 4- (6-acryloyloxyhexyloxy) -4′-cyanobiphenyl. As a result of confirming the behavior of the liquid crystal phase, the liquid crystal phase is not shown, and the phase transition from the crystal layer to the isotropic phase is 69 ° C. during the temperature rising process, and the phase is changed from isotropic phase to crystallinity at 53 ° C. during the temperature lowering process. Phase transition.

このようにして得られた4−(6−アクリロイルオキシヘキシロキシ)−4’−シアノビフェニル15mmolを35mLのN,N−ジメチルフォルムアミド(DMF)中に添加した後、更に、0.75mmolのアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を熱重合開始剤として添加して、70℃の温度条件で6時間攪拌し、反応を進行せしめて重合溶液を得た。次に、反応終了後の前記重合溶液を0.5Lのメタノール中に投入し、ポリマーを析出させ、再度0.5Lのメタノール中で洗浄してから濾別して固形分を得た。次いで、得られた固形分を室温(25℃)で24時間真空乾燥することにより4.7gのポリマーを得た。   After 15 mmol of 4- (6-acryloyloxyhexyloxy) -4′-cyanobiphenyl thus obtained was added to 35 mL of N, N-dimethylformamide (DMF), 0.75 mmol of azobenzene was further added. Bisisobutyronitrile (AIBN) was added as a thermal polymerization initiator and stirred at a temperature of 70 ° C. for 6 hours to allow the reaction to proceed to obtain a polymerization solution. Next, the polymerization solution after completion of the reaction was put into 0.5 L of methanol to precipitate a polymer, washed again in 0.5 L of methanol, and then filtered to obtain a solid content. Subsequently, the obtained solid content was vacuum-dried at room temperature (25 ° C.) for 24 hours to obtain 4.7 g of a polymer.

このようにして得られたポリマーに対してGPC測定を行ったところ、前記ポリマーの数平均分子量Mnは、ポリスチレン標準で換算したところ、8000g/molであることが確認された。更に、前記ポリマーを示差走査熱量計(DSC)を用いて示差走査熱量分析したところ、昇温過程では38℃においてガラス転移温度を示し、38〜126℃で液晶性を示し、降温過程では124〜29℃まで液晶性を示し、29℃においてガラス転移温度を示した。このように、4−(6−アクリロイルオキシヘキシロキシ)−4’−シアノビフェニルは重合後に液晶性を示す化合物であることが分かった。   When GPC measurement was performed on the polymer thus obtained, it was confirmed that the number average molecular weight Mn of the polymer was 8000 g / mol when converted to polystyrene standards. Further, when the polymer was subjected to differential scanning calorimetry using a differential scanning calorimeter (DSC), it exhibited a glass transition temperature at 38 ° C. in the temperature rising process, liquid crystallinity at 38 to 126 ° C., and 124 to 124 in the temperature decreasing process. The liquid crystallinity was exhibited up to 29 ° C., and the glass transition temperature was exhibited at 29 ° C. Thus, 4- (6-acryloyloxyhexyloxy) -4'-cyanobiphenyl was found to be a compound exhibiting liquid crystallinity after polymerization.

(実施例1)
先ず、第一の重合性化合物(化合物1)として下記一般式(5):
(Example 1)
First, as the first polymerizable compound (compound 1), the following general formula (5):

で表される1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート(HDDMA:東京化成工業社製:2官能メタクリレート)を用い、第二の化合物(化合物2)として合成例1で得られた4−(6−アクリロイルオキシヘキシロキシ)−4’−シアノビフェニル(A6CB:1官能アクリレート)を用いて、これらを混合比がモル比([第一の重合性化合物]:[第二の化合物])で2:98となるようにして混合した後、光重合開始剤としてイルガキュア651(BASF社製)を全化合物に対して1モル%となる割合で添加し、ジクロロメタンに一旦溶解してから溶媒を留去することにより、重合性組成物を調製した。 4- (6-acryloyl) obtained in Synthesis Example 1 as the second compound (compound 2) using 1,6-hexanediol dimethacrylate represented by the formula (HDDMA: manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd .: bifunctional methacrylate). Using oxyhexyloxy) -4′-cyanobiphenyl (A6CB: 1 functional acrylate), the mixing ratio was 2:98 in a molar ratio ([first polymerizable compound]: [second compound]). After mixing in such a manner, Irgacure 651 (manufactured by BASF) as a photopolymerization initiator was added at a ratio of 1 mol% with respect to all the compounds, and once dissolved in dichloromethane, the solvent was distilled off. A polymerizable composition was prepared.

また、第一の重合性化合物と第二の化合物の重合完了時間は、それぞれ、次のようにして測定した。大きさ25mm角、厚さ1.1mmのソーダガラス基板2枚を、100μm厚のポリイミドテープをスペーサーとし、上下の基板の平面部分の重なる領域が縦15mm、横25mmとなるようにして(スペーサーの長辺方向に平行な辺が15mm重なるようにして)貼り合わせて、セル厚100μmのガラスセルを作製した(なお、かかるセルは、スペーサーをガラス基板の平行な縦の2辺(左右)の2箇所に形成し、スペーサーを形成していないガラス基板の部分はそれぞれ開口部とし、セル内部の大きさを縦15mm、横10mm、厚み100μmとした。)。次に、重合完了時間を測定するための化合物に対して、光重合開始剤イルガキュア651を含有量が1mol%となるようにして混合した混合物を準備した。次いで、前記ガラスセルをホットステージ(メトラートレド社製の商品名「FP−90、FP−82HT」)上に設置した後、100℃の温度条件で前記混合物を融解させつつ毛細管現象により、前記ガラスセル中に前記混合物(光重合開始剤イルガキュア651を1mol%含む)をセル内部が満たされるまで注入した後、85℃まで0.5℃/分の速度で降温し、85℃で3分保持して重合性組成物の膜(膜の大きさ:縦1.5cm、横1.0cm、厚み100μm)を得た。次いで、前記膜に、高圧水銀灯からフィルターで取り出した366nmの光を、1.9mW/cmの強度で照射して光重合させた。このような光重合を開始後、光を5秒、15秒、30秒、及び60秒間照射した後に、それぞれ前記膜を前記ガラスセルから取り出し、表面をクロロホルムで洗浄してフィルムの形成状態を目視で確認した。前記第一の重合性化合物(HDDMA)は、照射時間30秒でフィルムの形成が確認され、重合完了時間は15秒超30秒以下の間であることが確認され、前記第二の化合物(A6CB)は、照射時間60秒でフィルムの形成が確認され、重合完了時間は30秒超60秒以下の間にあることが確認された。 Further, the polymerization completion times of the first polymerizable compound and the second compound were measured as follows. Two soda glass substrates with a size of 25 mm square and a thickness of 1.1 mm are made with a polyimide tape with a thickness of 100 μm as a spacer, and the overlapping area of the planar portions of the upper and lower substrates is 15 mm long and 25 mm wide (spacer A glass cell having a cell thickness of 100 μm was produced by bonding the parallel surfaces so that the sides parallel to the long side direction overlap each other by 15 mm (in this cell, the spacers were formed by two parallel vertical two sides (left and right) of the glass substrate). The portions of the glass substrate that were formed at the locations and were not formed with spacers were openings, and the size inside the cell was 15 mm long, 10 mm wide, and 100 μm thick. Next, a mixture in which the photopolymerization initiator Irgacure 651 was mixed with the compound for measuring the polymerization completion time so as to have a content of 1 mol% was prepared. Next, after the glass cell was placed on a hot stage (trade names “FP-90, FP-82HT” manufactured by METTLER TOLEDO), the glass was obtained by capillary action while melting the mixture at a temperature of 100 ° C. After pouring the mixture (containing 1 mol% of photopolymerization initiator Irgacure 651) into the cell until the inside of the cell was filled, the temperature was lowered to 85 ° C. at a rate of 0.5 ° C./min, and held at 85 ° C. for 3 minutes. Thus, a film of the polymerizable composition (film size: length 1.5 cm, width 1.0 cm, thickness 100 μm) was obtained. Next, the film was photopolymerized by irradiating 366 nm light extracted from a high pressure mercury lamp with a filter at an intensity of 1.9 mW / cm 2 . After starting photopolymerization, after irradiating with light for 5 seconds, 15 seconds, 30 seconds, and 60 seconds, the film was taken out from the glass cell and the surface was washed with chloroform to visually check the film formation state. Confirmed with. The first polymerizable compound (HDDMA) was confirmed to form a film with an irradiation time of 30 seconds, and the polymerization completion time was confirmed to be between 15 seconds and 30 seconds, and the second compound (A6CB). ), Film formation was confirmed at an irradiation time of 60 seconds, and polymerization completion time was confirmed to be between 30 seconds and 60 seconds or less.

次に、大きさ25mm角、厚さ1.1mmのソーダガラス基板2枚を、直径2μmのシリカ粒子を混合したエポキシ系接着剤をガラス基板の左右の端部(左右の平行な2辺)に縦25mm、幅2.5mmで塗って、貼り合わせることでセル厚2μmのガラスセル(該接着剤はスペーサーとしても機能する。該接着剤を塗っていない部分はそれぞれ開口部とした。)を作製した。なお、前記ソーダガラス基板は、中性洗剤、イオン交換水、アセトン、イソプロパノールの順に超音波洗浄を行った後、UVオゾン処理を行ったものを使用した。   Next, two soda glass substrates each having a size of 25 mm square and a thickness of 1.1 mm are mixed with epoxy adhesive mixed with silica particles having a diameter of 2 μm on the left and right ends (two parallel sides) of the glass substrate. A glass cell having a cell thickness of 2 μm was applied by applying and adhering them with a length of 25 mm and a width of 2.5 mm (the adhesive also functions as a spacer. The portions not applied with the adhesive were used as openings). did. The soda glass substrate used was subjected to UV ozone treatment after ultrasonic cleaning in the order of neutral detergent, ion-exchanged water, acetone and isopropanol.

次いで、前記ガラスセルをホットステージ(メトラートレド社製の商品名「FP−90、FP−82HT」)上に設置した後、150℃の温度条件で重合性組成物を融解させつつ前記ガラスセルの一方の開口部から、前記ガラスセル中に毛細管現象により重合性組成物を開口部から2分間かけて注入した後、120℃まで降温した後、120℃で3分保持して重合性組成物の膜(膜の大きさ:縦20mm、横20mm、厚み2μm)を得た。次に、120℃の温度条件を維持しつつ、縦:30mm、横30mmの正方形の形状のフォトマスクを、前記ガラスセル中の前記膜の全体を覆うように(遮光部に膜が入るように)配置した。次いで、光源から光の照射を開始し、光を照射しながら、前記ガラスセル中の膜に光が照射されるように、前記フォトマスクを20μm/sで移動させることで膜の一部の領域から重合を開始し、そのまま光照射領域と光の未照射領域の境界が未照射領域に向けて20μm/sで移動するようにフォトマスクを移動させ続けて、120℃の温度条件下(加熱条件下)で光重合を行った。ここで、このようなフォトマスクを移動させる工程を図8を参照して説明すると、フォトマスクを移動させる前のセルのソーダガラス基板12上の露光部A1を縦:5mm、横25mmの長方形の領域とし(該領域は重合性組成物を注入していない側の開口部から縦に5mmの領域となっており、その領域中に前記膜は存在していない。また、ここにいう縦方向は、図中の矢印Aの示す方向をいう。)、また、フォトマスクの移動方向は、図8(a)〜(b)に示すように、光照射領域A1の境界Sと垂直な方向(図中の矢印Aに示す方向)とした。なお、図8は、光源側(照射する光の光軸方向)から基板及びフォトマスクを見た状態を模式的に示す概略平面図である。また、このような光重合においては、光源として高圧水銀灯(ウシオ社製の商品名「SX−UI501HQ」)を用い、照度1.2mW/cm(ピーク波長:366nm)の紫外光を照射した。このようにして、一部の領域から重合を開始して、重合領域と未重合領域の境界を移動させながら前記重合性組成物を重合し、前記膜状の重合性組成物の全領域に光を照射して光重合を行った。このようにして前記膜状の重合性組成物にフォトマスクを移動させながら光を照射して光重合を行った後に、120℃の温度条件で5分間、照度1.2mW/cm(ピーク波長:366nm)の紫外光を照射させることにより前記膜の重合を完了させる後重合を行った。次いで、このような後重合を行った後の膜の温度を120℃から150℃に昇温させて3分間保持することで、液晶性化合物が等方相となるような温度に保持した後、150℃から重合時に採用した加熱温度と同温(120℃)になるまで降温(冷却)させた。 Next, after the glass cell was placed on a hot stage (trade names “FP-90, FP-82HT” manufactured by METTLER TOLEDO), the polymerizable composition was melted under a temperature condition of 150 ° C. From one opening, the polymerizable composition was injected into the glass cell by capillary action from the opening over 2 minutes, then cooled to 120 ° C., and then held at 120 ° C. for 3 minutes to maintain the polymerizable composition. A membrane (membrane size: 20 mm long, 20 mm wide, 2 μm thick) was obtained. Next, while maintaining the temperature condition of 120 ° C., a photomask having a square shape of 30 mm in length and 30 mm in width so as to cover the entire film in the glass cell (so that the film enters the light shielding portion) ) Arranged. Next, irradiation of light from the light source is started, and while the light is irradiated, the photomask is moved at 20 μm / s so that the film in the glass cell is irradiated with light, so that a partial region of the film Polymerization is started, and the photomask is continuously moved so that the boundary between the light irradiation region and the light non-irradiation region moves toward the non-irradiation region at 20 μm / s. Photopolymerization was carried out in (below). Here, the process of moving such a photomask will be described with reference to FIG. 8. The exposed portion A1 on the soda glass substrate 12 of the cell before the photomask is moved is a rectangle of 5 mm in length and 25 mm in width. (The region is a region of 5 mm vertically from the opening on the side where the polymerizable composition is not injected, and the film does not exist in the region. , And the direction of movement of the photomask is a direction perpendicular to the boundary S of the light irradiation area A1 (see FIG. 8). The direction indicated by the arrow A in the middle). FIG. 8 is a schematic plan view schematically showing a state in which the substrate and the photomask are viewed from the light source side (the optical axis direction of light to be irradiated). In such photopolymerization, a high pressure mercury lamp (trade name “SX-UI501HQ” manufactured by Ushio Inc.) was used as a light source, and ultraviolet light with an illuminance of 1.2 mW / cm 2 (peak wavelength: 366 nm) was irradiated. In this way, polymerization is started from a part of the region, the polymerizable composition is polymerized while moving the boundary between the polymerized region and the unpolymerized region, and light is applied to the entire region of the film-like polymerizable composition. And photopolymerization was carried out. Thus, after carrying out photopolymerization by irradiating light while moving a photomask to the film-like polymerizable composition, the illuminance is 1.2 mW / cm 2 (peak wavelength) at a temperature condition of 120 ° C. for 5 minutes. : After completion of polymerization of the film by irradiation with ultraviolet light of 366 nm). Next, after maintaining the temperature of the film after performing such post-polymerization from 120 ° C. to 150 ° C. and maintaining it for 3 minutes, the liquid crystalline compound is maintained at a temperature at which it becomes an isotropic phase, The temperature was lowered (cooled) from 150 ° C. to the same temperature (120 ° C.) as the heating temperature employed during the polymerization.

その後、ガラスセルをホットステージに設置したまま、ガラスセル中の重合膜を、冷却速度(降温速度:冷却の瞬間速度)が1℃/分(ほぼ一定)となるようにホットステージの温度を調整しながら、重合時に採用した加熱温度(フォトマスクを移動させながら光を照射して光重合した際に採用していた温度)と同温である120℃〜室温(25℃)になるまで冷却した。なお、120℃〜60℃までの冷却速度(瞬間速度)及び120℃〜室温(25℃)になるまでの冷却速度(瞬間速度)は、ともに、ガラスセルに熱電対を貼りつけ、キーエンス社製の商品名「データロガーGR−3500」で測定したところ、1℃/分(ほぼ一定)であった。なお、このような120℃〜室温(25℃)になるまでの冷却速度は、常に0.1〜30℃/分の範囲内の速度であった。このようにして室温まで冷却した後に、ガラスセルをホットステージから取り出してガラスセル中に形成されたフィルム(色:白色)を得た。得られたガラスセル中に形成されたフィルム(薄膜)の写真を図12に示す。   After that, with the glass cell installed on the hot stage, the temperature of the hot stage is adjusted so that the polymer film in the glass cell has a cooling rate (temperature decrease rate: instantaneous cooling rate) of 1 ° C / min (almost constant). However, it was cooled to 120 ° C. to room temperature (25 ° C.), which is the same temperature as the heating temperature employed during polymerization (the temperature employed when photopolymerization was performed by irradiating light while moving the photomask). . The cooling rate from 120 ° C. to 60 ° C. (instantaneous rate) and the cooling rate from 120 ° C. to room temperature (25 ° C.) (instantaneous rate) are both made by attaching a thermocouple to a glass cell and manufactured by Keyence Corporation. The product name “Data Logger GR-3500” was 1 ° C./min (almost constant). It should be noted that the cooling rate from 120 ° C. to room temperature (25 ° C.) was always within a range of 0.1 to 30 ° C./min. After cooling to room temperature in this way, the glass cell was removed from the hot stage to obtain a film (color: white) formed in the glass cell. The photograph of the film (thin film) formed in the obtained glass cell is shown in FIG.

このようにして得られたフィルムの特性を確認するため、偏光顕微鏡(オリンパス社製の商品名「BX50」)により直交に配置した2枚の偏光板の間に前記ガラスセルを挿入し、かかる2枚の偏光板を直交配置のまま回転させながら測定した。このような測定の結果として、2枚の偏光板(アナライザ及びポラライザ)を直交配置のまま回転させた場合のアナライザの振動方向とフォトマスクの移動方向とのなす角度が45°である場合におけるフィルムの偏光顕微鏡写真を図13に示し、2枚の偏光板を直交配置のまま回転させ、フィルム膜厚方向に焦点を変え、アナライザの振動方向と前記フォトマスクの移動方向が平行となる方向に設定した際のフィルムの偏光顕微鏡写真を図14に示し、さらに2枚の偏光板を直交配置のまま回転させ、フィルム膜厚方向に焦点を変え、アナライザの振動方向とフォトマスクの移動方向とのなす角度が45°である場合におけるフィルムの偏光顕微鏡写真を図15に示す。なお、図13〜図15中、ANは検光子(アナライザ)の振動方向を示し、POは偏光子(ポラライザ)の振動方向を示し、Aはフォトマスクの移動方向を示す。また、得られたフィルムに対して、検板を利用することにより偏光顕微鏡を用いてフィルムの状態を測定した。このような測定の結果として、検板の光学軸の方向を変化させた場合におけるフィルムの状態の偏光顕微鏡写真を図16〜18に示す。なお、図13に示すフィルムと図16に示すフィルムとが、顕微鏡に対して同じ向きにフィルムをセットして測定されたものであり、図14に示すフィルムと図17に示すフィルムとが、顕微鏡に対して同じ向きにフィルムをセットして測定されたものであり、図15に示すフィルムと図18に示すフィルムとが、顕微鏡に対して同じ向きにフィルムをセットして測定されたものである。なお、図16〜18中、Oは検板の光学軸の方向を示す。   In order to confirm the properties of the film thus obtained, the glass cell was inserted between two polarizing plates arranged orthogonally with a polarizing microscope (trade name “BX50” manufactured by Olympus), and the two sheets The measurement was carried out while rotating the polarizing plate in an orthogonal arrangement. As a result of such measurement, the film in the case where the angle between the vibration direction of the analyzer and the moving direction of the photomask when the two polarizing plates (analyzer and polarizer) are rotated while being orthogonally arranged is 45 °. FIG. 13 shows a polarizing microscope photograph of the above, and the two polarizing plates are rotated in an orthogonal arrangement, the focal point is changed in the film thickness direction, and the analyzer is set so that the vibration direction and the moving direction of the photomask are parallel to each other. FIG. 14 shows a polarizing microscope photograph of the film when the film is applied. Further, the two polarizing plates are rotated in an orthogonal arrangement, the focus is changed in the film thickness direction, and the vibration direction of the analyzer and the moving direction of the photomask are made. A polarizing micrograph of the film when the angle is 45 ° is shown in FIG. 13 to 15, AN indicates the vibration direction of the analyzer (analyzer), PO indicates the vibration direction of the polarizer (polarizer), and A indicates the moving direction of the photomask. Moreover, with respect to the obtained film, the state of the film was measured using a polarizing microscope by utilizing a test plate. As a result of such measurement, polarizing micrographs of the state of the film when the direction of the optical axis of the test plate is changed are shown in FIGS. The film shown in FIG. 13 and the film shown in FIG. 16 were measured by setting the film in the same direction with respect to the microscope. The film shown in FIG. 14 and the film shown in FIG. The film shown in FIG. 15 and the film shown in FIG. 18 were measured by setting the film in the same direction with respect to the microscope. . 16-18, O shows the direction of the optical axis of a test plate.

図13〜18に示す偏光顕微鏡写真からも明らかなように、重合進行方向(フォトマスクの移動方向)と垂直な方向に明暗のストライプ状のパターンが確認され、図13〜図15に示す結果からはフィルム膜厚方向に焦点を変えることで異なるテクスチャーが確認できることが分かった。また図16〜図18に示すように、検板を用いて各層における分子の配向方向を調べたところ、フォトマスクの移動方向に対して分子が平行に配向している層と垂直に配向している層が交互に形成されており、その中間層では分子が斜めに配向していることが明らかとなった。   As is clear from the polarization micrographs shown in FIGS. 13 to 18, bright and dark stripe-like patterns were confirmed in the direction perpendicular to the polymerization progress direction (moving direction of the photomask), and from the results shown in FIGS. 13 to 15. It was found that different textures can be confirmed by changing the focus in the film thickness direction. Also, as shown in FIGS. 16 to 18, when the orientation direction of the molecules in each layer was examined using a test plate, the molecules were oriented perpendicular to the layer in which the molecules were oriented parallel to the moving direction of the photomask. It was revealed that the layers were alternately formed, and in the intermediate layer, the molecules were oriented obliquely.

また、図13〜18に示す偏光顕微鏡写真の結果からも明らかなように、ガラスセル面と垂直方向から見た場合、図13及び図16に示す結果からは、重合進行方向(フォトマスクの移動方向)に配列した液晶分子が確認され(図13及び図16に示す測定結果により確認された液晶分子の配列方向を概念的に示す図面を図19に示す。)、図14及び図17に示す結果から重合進行方向(フォトマスクの移動方向)に対してなす角度が45°となるように配列した液晶分子が確認され(図14及び図17に示す測定結果により確認された液晶分子の配列方向を概念的に示す図面を図20に示す。)、図15及び図18に示す結果から重合進行方向(フォトマスクの移動方向)に対して垂直な方向に配列した液晶分子が確認された(図15及び図18に示す測定結果により確認された液晶分子の配列方向を概念的に示す図面を図21に示す。)。このような結果から、得られたフィルムにおいては、重合進行方向で隣接する液晶分子の配向方向が段階的に変化する構造が形成されていることが分かり、得られたフィルム中には図6〜7に示すようなシリンダー状の配向構造が形成されていると考えられる結果が得られた。   Further, as is apparent from the results of the polarizing micrographs shown in FIGS. 13 to 18, when viewed from the direction perpendicular to the glass cell surface, the results shown in FIGS. The liquid crystal molecules arranged in the direction) are confirmed (FIG. 19 conceptually shows the alignment direction of the liquid crystal molecules confirmed by the measurement results shown in FIGS. 13 and 16), and shown in FIGS. From the results, liquid crystal molecules arranged such that the angle formed with respect to the polymerization progress direction (moving direction of the photomask) is 45 ° were confirmed (the alignment direction of the liquid crystal molecules confirmed by the measurement results shown in FIGS. FIG. 20 is a diagram conceptually showing the above.) From the results shown in FIGS. 15 and 18, liquid crystal molecules arranged in a direction perpendicular to the polymerization progress direction (moving direction of the photomask) were confirmed (FIG. 15 and The drawings conceptually showing the arrangement direction of liquid crystal molecules was confirmed by the measurement results shown in FIG. 18 is shown in FIG. 21.). From these results, it can be seen that in the obtained film, a structure in which the alignment direction of the liquid crystal molecules adjacent in the polymerization progress direction is changed stepwise is formed. The result considered that the cylindrical alignment structure as shown in 7 was formed was obtained.

また、このようにして得られたフィルム上の任意の3点の測定点に対して、それぞれ、波長633nmのヘリウムネオンレーザー(He−Neレーザー、MELLES GRIOT社製の商品名「05−LHR−151」)を照射し、ガラスセルと平行に配置されたスクリーン上に回折光を投射し、その投射された回折光の測定を行った。なお、このような測定に際しては、ガラスセルとスクリーンとの間に集光用のレンズ(直径30mm、焦点距離40mmの片凸レンズ)を設置し、検出器に回折光を集光させた。このようなガラスセル上の測定点のうちの任意の1点に関して、スクリーン上に投射された回折光のパターンの写真を図22に示す。このようなスクリーン上に投射された回折光のパターン(回折像)から、縦方向、横方向(重合領域と未重合領域の境界の移動方向)に光が回折していることが確認された。   Further, with respect to any three measurement points on the film thus obtained, a helium neon laser having a wavelength of 633 nm (He-Ne laser, trade name “05-LHR-151 manufactured by MELLES GRIOT Co., Ltd.) was used. )), Diffracted light was projected onto a screen arranged in parallel with the glass cell, and the projected diffracted light was measured. In such a measurement, a condensing lens (a single convex lens having a diameter of 30 mm and a focal length of 40 mm) was installed between the glass cell and the screen, and the diffracted light was condensed on the detector. FIG. 22 shows a photograph of the pattern of diffracted light projected on the screen at an arbitrary one of the measurement points on the glass cell. From the pattern (diffracted image) of the diffracted light projected on such a screen, it was confirmed that the light was diffracted in the vertical direction and the horizontal direction (movement direction of the boundary between the superposed region and the unpolymerized region).

また、光の強度の測定装置として日置電機社製の商品名「光パワーメータ3664」及び商品名「光センサ9742」を用い、上記3点の各測定点に関して、1次回折光の強度のピークを測定したところ、回折光強度のピークの平均値は0.90mWであった。なお、重合後の冷却の方法を液体窒素に5秒間浸漬することにより急冷させる方法に変更した以外は上記光学フィルムと同様の製造方法を採用して得られた透過光測定用フィルム(均一配向を固定化することで周期構造が全く発生していない透明なサンプル:後述の比較例1で得られた透明フィルム)を用い、1次回折光の強度のピークを測定した方法と同様にして、透過光測定用フィルムの透過光の強度の平均値を測定すると、その透過光強度の平均値は5.72mWとなっていた。このような1次回折光の強度のピークの平均値と透過光強度の平均値の結果から、前述の式(1)に基づいて回折効率(%)を求めたところ、回折効率(E)は15.7%となった。このような高い回折効率が確認されたことから、得られたフィルム中には、十分に高い周期性を有する周期構造が形成されていることが分かった。また、回折光の強度の測定の際に、前述のようにして格子周期も算出したところ、格子周期は1.14μmとなっていた。なお、図12に示すフィルム(薄膜)の写真からも明らかなように、得られたフィルムは全面に亘って光の散乱が見られることが確認された
以上の結果から、実施例1で得られたフィルムにおいては、十分な回折効率が得られ、十分に高度な周期性を有する周期構造が形成されていることが確認された。このような結果から、実施例1で得られたフィルムは、周期構造を有する光学フィルムとなっていることが分かった。得られた結果を表1に示す。
In addition, the product name “Optical Power Meter 3664” and the product name “Optical Sensor 9742” manufactured by Hioki Electric Co., Ltd. are used as light intensity measuring devices, and the peak of the intensity of the first-order diffracted light is obtained at each of the three measurement points. When measured, the average peak of the diffracted light intensity was 0.90 mW. In addition, the transmitted light measurement film (with uniform orientation) obtained by adopting the same manufacturing method as the above optical film except that the method of cooling after polymerization was changed to a method of quenching by immersing in liquid nitrogen for 5 seconds. In the same manner as the method of measuring the intensity peak of the first-order diffracted light using a transparent sample in which no periodic structure is generated by fixing: a transparent film obtained in Comparative Example 1 described later) When the average value of the transmitted light intensity of the measurement film was measured, the average value of the transmitted light intensity was 5.72 mW. From the results of the average value of the peak of the intensity of the first-order diffracted light and the average value of the transmitted light intensity, the diffraction efficiency (%) is determined based on the above-described formula (1). It was 7%. Since such a high diffraction efficiency was confirmed, it was found that a periodic structure having a sufficiently high periodicity was formed in the obtained film. When the intensity of the diffracted light was measured, the grating period was also calculated as described above, and the grating period was 1.14 μm. As is clear from the photograph of the film (thin film) shown in FIG. 12, it was confirmed that light scattering was seen over the entire surface. From the above results, it was obtained in Example 1. It was confirmed that the film had a sufficient diffraction efficiency and a periodic structure having a sufficiently high periodicity was formed. From these results, it was found that the film obtained in Example 1 was an optical film having a periodic structure. The obtained results are shown in Table 1.

(実施例2)
ガラスセル中の重合膜を冷却する際に、120℃〜室温(25℃)になるまでの冷却速度及び120℃〜60℃までの冷却速度(ホットステージの温度を調整しながら、ガラスセルに熱電対を貼りつけ、キーエンス社製の商品名「データロガーGR−3500」で測定した値:瞬間速度)をともに、1℃/分(ほぼ一定)から10℃/分(ほぼ一定)に変更した以外は、実施例1と同様にしてガラスセル中に形成されたフィルム(色:白色)を得た。なお、このような120℃〜室温(25℃)になるまでの冷却速度は、常に0.1〜30℃/分の範囲内の速度であった。このようにして得られたガラスセル中に形成されたフィルム(薄膜)の写真を図23に示す。
(Example 2)
When the polymer film in the glass cell is cooled, a cooling rate from 120 ° C. to room temperature (25 ° C.) and a cooling rate from 120 ° C. to 60 ° C. (thermoelectricity is applied to the glass cell while adjusting the temperature of the hot stage. Aside from changing the value measured with the Keyence Corporation product name “Data Logger GR-3500: instantaneous speed” from 1 ° C./min (almost constant) to 10 ° C./min (almost constant). Obtained the film (color: white) formed in the glass cell like Example 1. FIG. It should be noted that the cooling rate from 120 ° C. to room temperature (25 ° C.) was always within a range of 0.1 to 30 ° C./min. A photograph of the film (thin film) formed in the glass cell thus obtained is shown in FIG.

また、このようにして得られたフィルム上の任意の3点の測定点に対して、実施例1と同様にして回折光の測定を行った。このようなフィルム上の測定点のうちの任意の1点に関して、スクリーン上に投射された回折光のパターンの写真を図24に示す。このようなスクリーン上に投射された回折光のパターン(回折像)から、横方向(重合移動方向:重合領域と未重合領域の境界の移動方向)に特に強い回折が確認され、得られたフィルムには格子状の周期構造が形成されていることが分かった。また、測定装置として日置電機社製の商品名「光パワーメータ3664」及び商品名「光センサ9742」を用い、各測定点に関して回折光強度のピークを測定したところ、回折光強度のピークの平均値は0.522mWであることが確認され、更に、実施例1と同様にして回折効率(%)を求めたところ、回折効率は9.1%であることが分かった。このような高い回折効率が確認されたことから、得られるフィルムにおいては、十分に高い周期性を有する周期構造が形成されていることが分かった。また、前述のようにして、格子周期を算出したところ、格子周期は1.14μmとなっていた。   Further, diffracted light was measured in the same manner as in Example 1 at any three measurement points on the film thus obtained. FIG. 24 shows a photograph of the pattern of diffracted light projected on the screen at any one of the measurement points on the film. From such a diffracted light pattern (diffraction image) projected on the screen, particularly strong diffraction was confirmed in the lateral direction (polymerization movement direction: movement direction of the boundary between the polymerized region and the unpolymerized region), and the obtained film It was found that a lattice-like periodic structure was formed in. Further, when the product name “Optical Power Meter 3664” and the product name “Optical Sensor 9742” manufactured by Hioki Electric Co., Ltd. were used as measuring devices, the peak of the diffracted light intensity was measured at each measurement point. The value was confirmed to be 0.522 mW, and when the diffraction efficiency (%) was determined in the same manner as in Example 1, it was found that the diffraction efficiency was 9.1%. Since such a high diffraction efficiency was confirmed, it was found that a periodic structure having a sufficiently high periodicity was formed in the obtained film. Further, when the grating period was calculated as described above, the grating period was 1.14 μm.

また、偏光顕微鏡(オリンパス社製の商品名「BX50」)を用いて観察することにより、得られたフィルムの構造を確認した。得られた偏光顕微鏡写真を図25に示す。図25に示す偏光顕微鏡写真からも明らかなように、フォトマスクの移動方向(図25の左から右に向かう方向であって、図25中の矢印POと垂直な方向)において、2μmの長さに2本の格子状の周期構造が確認され、偏光顕微鏡にて確認された格子周期は1.0μmとなり、上記算出値とほぼ一致した。このような偏光顕微鏡による測定によっても、得られたフィルム中に格子状の周期構造(いわゆるシリンダー状の周期構造)が形成されていることが確認された。なお、図23に示すフィルム(薄膜)の写真からも明らかなように、得られたフィルムは全面に亘って光の散乱が見られることが確認された。   Moreover, the structure of the obtained film was confirmed by observing using a polarizing microscope (The brand name "BX50" by Olympus). The obtained polarizing microscope photograph is shown in FIG. As is clear from the polarization micrograph shown in FIG. 25, the length of 2 μm in the moving direction of the photomask (the direction from the left to the right in FIG. 25 and perpendicular to the arrow PO in FIG. 25). Two grating-like periodic structures were confirmed, and the grating period confirmed by a polarizing microscope was 1.0 μm, which was almost in agreement with the above calculated value. Measurement by such a polarizing microscope also confirmed that a lattice-like periodic structure (a so-called cylindrical periodic structure) was formed in the obtained film. As is clear from the photograph of the film (thin film) shown in FIG. 23, it was confirmed that light scattering was observed over the entire surface of the obtained film.

以上の結果から、実施例2で得られたフィルムにおいては、十分に高度な周期性を有する周期構造が形成されていることが確認された。このような結果から、実施例2で得られたフィルムは、周期構造を有する光学フィルムとなっていることが分かった。得られた結果を表1に示す。   From the above results, it was confirmed that the periodic structure having a sufficiently high periodicity was formed in the film obtained in Example 2. From these results, it was found that the film obtained in Example 2 was an optical film having a periodic structure. The obtained results are shown in Table 1.

(比較例1)
ガラスセル中の重合膜を冷却する際に、冷却速度(降温速度)を1℃/分(ほぼ一定)で室温(25℃)まで冷却する代わりに、ガラスセルをホットステージから取り出し、液体窒素中に5秒間浸漬させて、液体窒素によりガラスセル中の膜を急冷し、その後、冷却後のガラスセルを液体窒素中から取り出して膜の温度を室温(25℃)とした以外は、実施例1と同様にしてガラスセル中に形成されたフィルム(色:無色透明)を得た。得られたガラスセル中に形成されたフィルム(薄膜)の写真を図26に示す。
(Comparative Example 1)
When cooling the polymer film in the glass cell, the glass cell is taken out of the hot stage in liquid nitrogen instead of cooling to room temperature (25 ° C.) at a cooling rate (temperature decrease rate) of 1 ° C./min (almost constant). Example 1 except that the film in the glass cell was rapidly cooled with liquid nitrogen, the glass cell after cooling was taken out of the liquid nitrogen, and the temperature of the film was set to room temperature (25 ° C.). In the same manner as above, a film (color: colorless and transparent) formed in the glass cell was obtained. The photograph of the film (thin film) formed in the obtained glass cell is shown in FIG.

このようにして得られたフィルムの特性を確認するため、直交に配置した2枚の偏光板の間に前記ガラスセルを挿入し、かかるガラスセルを回転させながら観察したところ、暗視野と明視野を有し、得られたフィルムは、約20mm角の領域で、ほぼ均一に配向した配向性フィルムであることが確認された。なお、暗視野となる方向は、直交に配置した2枚の偏光板の吸収軸に対して、フォトマスク移動方向と平行又は垂直の方向であった。   In order to confirm the characteristics of the film thus obtained, the glass cell was inserted between two orthogonally arranged polarizing plates and observed while rotating the glass cell. And it was confirmed that the obtained film was an orientation film oriented almost uniformly in an area of about 20 mm square. The dark field direction was parallel or perpendicular to the photomask movement direction with respect to the absorption axes of the two polarizing plates arranged orthogonally.

また、このようにして得られたフィルム上の任意の3点の測定点に対して、実施例1と同様にして回折光の測定を行った。このようなフィルム上の測定点のうちの任意の1点に関して、スクリーン上に投射された光のパターンの写真を図27に示す。このようなスクリーン上に投射された光のパターン(光の投射像)からは光の回折が確認されず、得られたフィルムには周期構造が何ら形成されていないことが分かった。なお、測定装置として日置電機社製の商品名「光パワーメータ3664」及び商品名「光センサ9742」を用い、かかるフィルムの任意の3点の測定点における透過光の強度の平均値を求めたところ、該フィルムの透過光の強度の平均値は5.72mWであった。   Further, diffracted light was measured in the same manner as in Example 1 at any three measurement points on the film thus obtained. FIG. 27 shows a photograph of the light pattern projected on the screen for any one of the measurement points on the film. From the light pattern projected on the screen (light projection image), no light diffraction was confirmed, and it was found that no periodic structure was formed on the obtained film. In addition, the product name “Optical Power Meter 3664” and the product name “Optical Sensor 9742” manufactured by Hioki Electric Co., Ltd. were used as measurement devices, and the average value of the intensity of transmitted light at any three measurement points of the film was obtained. However, the average value of the transmitted light intensity of the film was 5.72 mW.

以上の結果から、比較例1で得られたフィルムにおいては、液晶性を有する化合物(A6CBに由来する構造単位を有する重合物)が配向するものの、周期構造は形成されないことが確認された。得られた結果を表1に示す。   From the above results, it was confirmed that in the film obtained in Comparative Example 1, although a compound having liquid crystallinity (polymer having a structural unit derived from A6CB) is oriented, no periodic structure is formed. The obtained results are shown in Table 1.

(比較例2)
ガラスセル中の重合膜を冷却する際に、冷却速度(降温速度)を1℃/分(ほぼ一定)として室温(25℃)まで冷却する代わりに、ガラスセルをホットステージから取り出し、5℃の冷蔵庫内の冷気(庫内の雰囲気ガス)にセルの全面が接触できるように、ガラスセルを冷蔵庫内に吊り下げて配置し、光重合後の膜を冷気中(空気中)で冷却し、その後、そのままの条件で、冷蔵庫内で室温(25℃)まで冷却した以外は、実施例1と同様にしてガラスセル中に形成されたフィルム(色:白色で部分的に透明)を得た。なお、ガラスセル中の膜の温度が120℃〜60℃となるまでの時間を測定して、温度差60℃(120℃−60℃)を、測定された時間により割ることで求めた平均冷却速度は37℃/分(なお、膜の温度自体はガラスセルに熱電対を貼りつけ、キーエンス社製の商品名「データロガーGR−3500」で測定した。)であった。このようにして得られたガラスセル中に形成されたフィルム(薄膜)の写真を図28に示す。
(Comparative Example 2)
When cooling the polymer film in the glass cell, instead of cooling to room temperature (25 ° C.) with a cooling rate (temperature decrease rate) of 1 ° C./min (almost constant), the glass cell is taken out of the hot stage and 5 ° C. The glass cell is hung in the refrigerator so that the entire surface of the cell can come into contact with the cold air (atmosphere gas in the refrigerator), the film after photopolymerization is cooled in the cold air (in air), and then A film (color: white and partially transparent) formed in the glass cell was obtained in the same manner as in Example 1 except that the solution was cooled to room temperature (25 ° C.) in the refrigerator under the same conditions. In addition, the time until the temperature of the film | membrane in a glass cell becomes 120 to 60 degreeC was measured, and the average cooling calculated | required by dividing the temperature difference 60 degreeC (120 degreeC-60 degreeC) by the measured time The speed was 37 ° C./minute (note that the temperature of the film itself was measured by attaching a thermocouple to a glass cell and using a trade name “Data Logger GR-3500” manufactured by Keyence Corporation). A photograph of the film (thin film) formed in the glass cell thus obtained is shown in FIG.

このようにして得られたフィルムの特性を確認するため、直交に配置した2枚の偏光板の間に前記ガラスセルを挿入し、かかるガラスセルを回転させながら観察したところ、一部の領域で暗視野と明視野を有し、得られたフィルムは、約20mm角の領域で、部分的に配向し、一部の領域である程度の周期性があることが分かった。なお、暗視野となる方向は、直交に配置した2枚の偏光板の吸収軸に対して、平行又は垂直の方向であった。   In order to confirm the characteristics of the film thus obtained, the glass cell was inserted between two polarizing plates arranged orthogonally and observed while rotating the glass cell. It was found that the obtained film was partially oriented in a region of about 20 mm square and had some periodicity in some regions. The dark field direction was parallel or perpendicular to the absorption axes of the two polarizing plates arranged orthogonally.

また、このようにして得られたフィルム上の任意の3点の測定点に対して、実施例1と同様にして回折光の測定を行った。このようなフィルム上の測定点のうちの任意の1点に関して、スクリーン上に投射された回折光のパターンの写真を図29に示す。このようなスクリーン上に投射された回折光のパターン(回折像)から、縦方向、横方向(重合移動方向)に回折光は確認できるものの、測定装置として日置電機社製の商品名「光パワーメータ3664」及び商品名「光センサ9742」を用い、各測定点に関して1次回折光強度のピークを測定したところ、1次回折光強度のピークの平均値は0.025mWであり、実施例1と同様にして回折効率を算出したとこと、得られたフィルムの回折効率(%)は0.4%となっていた。このような結果から、得られたフィルムにおいては周期性が十分に確認されず、回折効率は5%以上となるような周期構造が形成されていないことが分かった。なお、十分な周期性を有する周期構造は形成されていないものの、確認された回折光からフィルムの格子周期を算出してみたところ、格子周期は1.14μmとなっていた。また、図28に示すフィルム(薄膜)の写真からも明らかなように、得られたフィルムにおいては光の散乱(白色)が全面には確認されなかった。   Further, diffracted light was measured in the same manner as in Example 1 at any three measurement points on the film thus obtained. FIG. 29 shows a photograph of the pattern of diffracted light projected on the screen at any one of the measurement points on the film. Although the diffracted light can be confirmed in the vertical direction and the horizontal direction (polymerization movement direction) from the pattern (diffracted image) of the diffracted light projected on such a screen, the product name “optical power” manufactured by Hioki Electric Co., Ltd. is used as a measuring device. When the peak of the first-order diffracted light intensity was measured at each measurement point using the “Meter 3664” and the trade name “Optical Sensor 9742”, the average peak of the first-order diffracted light intensity was 0.025 mW, which was the same as in Example 1. The diffraction efficiency was calculated as described above, and the diffraction efficiency (%) of the obtained film was 0.4%. From these results, it was found that the periodicity was not sufficiently confirmed in the obtained film, and a periodic structure having a diffraction efficiency of 5% or more was not formed. In addition, although the periodic structure which has sufficient periodicity was not formed, when the grating period of the film was calculated from the confirmed diffracted light, the grating period was 1.14 μm. Further, as is apparent from the photograph of the film (thin film) shown in FIG. 28, no light scattering (white) was observed on the entire surface of the obtained film.

以上の結果から、比較例2で得られたフィルムにおいては、液晶性を有する化合物(A6CBに由来する構造単位を有する重合物)が配向するものの、回折効率は5%以上となるような周期構造は形成されていないことが確認された。得られた結果を表1に示す。   From the above results, in the film obtained in Comparative Example 2, although the compound having liquid crystallinity (polymer having a structural unit derived from A6CB) is oriented, the periodic structure such that the diffraction efficiency is 5% or more. It was confirmed that was not formed. The obtained results are shown in Table 1.

上述のような結果からも明らかなように、実施例1〜2で得られたフィルムにおいては、十分に高度な周期性を有する周期構造が形成された光学フィルムが形成されていることが確認され、本発明の光学フィルムの製造方法によれば、周期構造がフィルム中に形成された光学フィルムを製造する際に、ミクロンオーダーの直線状の溝をフィルムに機械的に彫り付ける方法や、フォトリソグラフィ等の光学的な方法等を採用することなく、より簡便に周期構造を有する光学フィルムを製造することが可能であることが分かった。   As is clear from the results as described above, in the films obtained in Examples 1 and 2, it was confirmed that an optical film in which a periodic structure having a sufficiently high periodicity was formed was formed. According to the method for producing an optical film of the present invention, when producing an optical film having a periodic structure formed in the film, a method of mechanically engraving a micron-order linear groove on the film, photolithography, It was found that an optical film having a periodic structure can be more easily produced without employing an optical method such as the above.

以上説明したように、本発明によれば、十分に高度な周期性を有する周期構造が形成された光学フィルムをより簡便に製造することが可能な、周期構造を有する光学フィルムの製造方法を提供することが可能となる。このように、本発明の周期構造を有する光学フィルムの製造方法は、全面に亘って均一に周期構造を形成することが可能であるため、例えば、回折格子やフォトニック結晶を成長させるためのテンプレート等に利用するための周期構造を有する光学フィルムを製造するための方法として特に有用である。   As described above, according to the present invention, there is provided a method for producing an optical film having a periodic structure, which can more easily produce an optical film in which a periodic structure having a sufficiently high periodicity is formed. It becomes possible to do. As described above, the method for producing an optical film having a periodic structure according to the present invention can form a periodic structure uniformly over the entire surface. For example, a template for growing a diffraction grating or a photonic crystal is used. It is particularly useful as a method for producing an optical film having a periodic structure for use in, for example.

11:光源、12:基板、13:重合性組成物からなる膜、14:フォトマスク、14A:開口部、X:開口部14Aの短辺の長さ、Y:開口部14Aの長辺の長さ、S:重合領域の境界、A:重合領域の境界Sを移動させる方向を概念的に示す矢印、P:重合領域の境界Sに垂直な方向を概念的に示す矢印、L:光源から照射される光、A1:光が照射されて重合された領域(重合領域:露光部)、A2:光が照射されていない未重合の領域(未重合領域:遮光部)、A3:配向が形成されている領域、A4:1つの渦状の配列が形成されている領域、D:周期構造の格子周期(一つの周期の幅)、AN:検光子(アナライザ)の振動方向、PO:偏光子(ポラライザ)の振動方向、O:検板の光学軸の方向。   11: light source, 12: substrate, 13: film made of polymerizable composition, 14: photomask, 14A: opening, X: length of short side of opening 14A, Y: length of long side of opening 14A S: boundary of overlapping region, A: arrow conceptually indicating a direction in which the boundary S of overlapping region is moved, P: arrow conceptually indicating a direction perpendicular to the boundary S of overlapping region, L: irradiation from a light source Light, A1: region irradiated with light (polymerized region: exposed portion), A2: unpolymerized region not irradiated with light (unpolymerized region: light-shielding portion), A3: orientation formed A4: a region in which one spiral array is formed, D: a grating period of a periodic structure (width of one period), AN: vibration direction of an analyzer (analyzer), PO: polarizer (polarizer) ) Vibration direction, O: direction of the optical axis of the test plate.

Claims (8)

第一の重合性化合物と、同一条件で重合させた場合に前記第一の重合性化合物よりも重合完了時間が長い第二の化合物とを含有し、且つ、前記第一の重合性化合物、前記第二の化合物及び重合後に得られる化合物のうちの少なくとも1種が液晶性を示す化合物である、重合性組成物からなる膜を用いて、
前記膜の一部の領域から前記重合性組成物の重合を開始し、前記液晶性を示す化合物が配向するような速度で前記領域の境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させて重合した後、重合後の膜を冷却して、周期構造を有する光学フィルムを得る工程を含み、
前記重合時に前記膜を80〜150℃の加熱温度で加熱しながら重合し、かつ、
前記冷却の際に、前記膜の温度が少なくとも前記重合時に採用した加熱温度と同じ温度から60℃になるまでの間、0.1〜30℃/分の冷却速度で前記膜を冷却すること、
を特徴とする、周期構造を有する光学フィルムの製造方法。
Containing a first polymerizable compound and a second compound having a polymerization completion time longer than that of the first polymerizable compound when polymerized under the same conditions, and the first polymerizable compound, Using a film made of a polymerizable composition, wherein at least one of the second compound and the compound obtained after polymerization is a compound exhibiting liquid crystallinity,
Polymerization of the polymerizable composition is started from a partial region of the film, and the boundary of the region is continuously moved toward an unpolymerized region at such a speed that the compound exhibiting liquid crystallinity is aligned. After polymerization, the step of cooling the polymerized film to obtain an optical film having a periodic structure,
Polymerizing the film while heating at a heating temperature of 80 to 150 ° C. during the polymerization; and
During the cooling, the film is cooled at a cooling rate of 0.1 to 30 ° C./min until the temperature of the film reaches at least 60 ° C. from the same heating temperature employed during the polymerization,
A method for producing an optical film having a periodic structure.
前記周期構造を有する光学フィルムが、
該光学フィルムの任意の3点以上の測定点に対してそれぞれ波長633nmのヘリウムネオンレーザーを垂直な方向から照射したときに測定される1次回折光の回折強度の平均値と、
前記冷却の際に、前記冷却速度で冷却する方法を採用せずに、前記重合後の膜を液体窒素に5秒間浸漬して前記膜を冷却する方法を採用する以外は、請求項1に記載の光学フィルムの製造方法と同様の方法を採用して得られる透過光測定用のフィルムの任意の3点以上の測定点に対してそれぞれ波長633nmのヘリウムネオンレーザーを垂直な方向から照射したときに測定される透過光の強度の平均値と、
に基いて、下記式(1):
[E]=([Is]/[Ir])×100 (1)
[式(1)中、Isは前記光学フィルムの1次回折光の回折強度の平均値(単位:mW)を示し、Irは透過光測定用のフィルムの透過光の強度の平均値(単位:mW)を示し、Eは回折効率(単位:%)を示す。]
を計算して求められる回折効率が5%以上となる光学フィルムであることを特徴とする請求項1に記載の周期構造を有する光学フィルムの製造方法。
An optical film having the periodic structure,
An average value of diffraction intensities of the first-order diffracted light measured when a helium neon laser having a wavelength of 633 nm is irradiated from a perpendicular direction to any three or more measurement points of the optical film;
2. The method according to claim 1, except that a method of cooling the film by immersing the polymerized film in liquid nitrogen for 5 seconds without using a method of cooling at the cooling rate is adopted at the time of cooling. When a helium neon laser having a wavelength of 633 nm is irradiated from a perpendicular direction to any three or more measurement points of a transmitted light measurement film obtained by adopting the same method as the optical film manufacturing method of An average value of the intensity of transmitted light to be measured;
Based on the following formula (1):
[E] = ([Is] / [Ir]) × 100 (1)
[In the formula (1), Is represents the average value (unit: mW) of the diffraction intensity of the first-order diffracted light of the optical film, and Ir represents the average value (unit: mW) of the transmitted light intensity of the transmitted light measurement film. ) And E represents diffraction efficiency (unit:%). ]
2. The method for producing an optical film having a periodic structure according to claim 1, wherein the optical film has a diffraction efficiency of 5% or more obtained by calculating.
前記冷却速度が0.8〜12℃/分の冷却速度であることを特徴とする請求項1又は2に記載の周期構造を有する光学フィルムの製造方法。   The method for producing an optical film having a periodic structure according to claim 1, wherein the cooling rate is a cooling rate of 0.8 to 12 ° C./min. 前記第一の重合性化合物が1以上の重合性官能基を有する化合物であり、且つ、該重合性官能基の数が前記第二の化合物の有する重合性官能基の数より1以上大きいことを特徴とする請求項1〜3のうちのいずれか一項に記載の周期構造を有する光学フィルムの製造方法。   The first polymerizable compound is a compound having one or more polymerizable functional groups, and the number of the polymerizable functional groups is one or more larger than the number of the polymerizable functional groups of the second compound. The manufacturing method of the optical film which has the periodic structure as described in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. 前記重合性組成物の重合を光重合により行い、且つ、前記境界を未重合の領域に向けて連続的に移動させるために、光の照射領域の境界を光の未照射の領域に向けて連続的に移動させることを特徴とする請求項1〜4のうちのいずれか一項に記載の周期構造を有する光学フィルムの製造方法。   In order to perform polymerization of the polymerizable composition by photopolymerization and continuously move the boundary toward the unpolymerized region, the boundary of the light irradiation region is continuously directed toward the unirradiated region. The method for producing an optical film having a periodic structure according to any one of claims 1 to 4, wherein the optical film has a periodic structure. 前記光重合の際にフォトマスクを利用し、該フォトマスクを連続的に移動させることにより前記光の照射領域の境界を光の未照射の領域に向けて連続的に移動させることを特徴とする請求項5に記載の周期構造を有する光学フィルムの製造方法。   A photomask is used during the photopolymerization, and the photomask is continuously moved so that the boundary of the light irradiation region is continuously moved toward an unirradiated region of light. The manufacturing method of the optical film which has a periodic structure of Claim 5. 前記境界を移動させる速度が1×10−7〜4×10−1m/sであることを特徴とする請求項1〜6のうちのいずれか一項に記載の周期構造を有する光学フィルムの製造方法。 The speed of moving the boundary is 1 × 10 −7 to 4 × 10 −1 m / s, The optical film having a periodic structure according to claim 1. Production method. 前記第一の重合性化合物が、下記一般式(1):
p−M−L−(M−L)q−M−Zr (1)
で表わされ且つ式中のZ、Z、M、M、M、L、L、p、q、rがそれぞれ以下に示すものである化合物C11〜C13[化合物C11において、式(1)中のZ及びZは同一であっても異なっていてもよく、それぞれ式:−L−S−Fで表わされる基であり、Fがアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Sが単結合及び炭素数1から12の直鎖アルキレン基のうちのいずれかであり、Lがエーテル基、エステル基及びカーボネート基のうちのいずれかであり、pが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが単結合及び−COO−のうちのいずれかであり、qが0であり、Mが1,4−フェニレン基であり、且つ、rが1であり、
化合物C12において、式(1)中のZ及びZは同一であっても異なっていてもよく、それぞれ式:−L−S−Fで表わされる基であり、Fがアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Sが単結合及び炭素数1から12の直鎖アルキレン基のうちのいずれかであり、Lがエーテル基、エステル基及びカーボネート基のうちのいずれかであり、pが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが−COO−であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが−OCO−であり、qが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、且つ、rが1であり、
化合物C13において、式(1)中のZ及びZは同一であっても異なっていてもよく、それぞれ式:−L−S−Fで表わされる基であり、Fがアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Sが式:(CHCHO)z(zは2及び3のうちのいずれかである。)で表わされる基であり、Lが単結合であり、pが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが単結合及びエステル基のいずれかであり、qが0であり、Mが1,4−フェニレン基であり、且つ、rが1である。]、下記一般式(2):
(式中、Rが水素及びメチル基のうちのいずれかであり、xは2又は3である。)
で表される化合物C14、及び、下記一般式(3):
(式中、Rが水素及びメチル基のうちのいずれかであり、yは2から12の整数である。)
で表される化合物C15からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物であり、且つ、
前記第二の化合物が、下記一般式(1):
p−M−L−(M−L)q−M−Zr (1)
で表わされ且つ式中のZ、Z、M、M、M、L、L、p、q、rがそれぞれ以下に示すものである化合物C21〜C24[化合物C21において、式(1)中のZは式:−L−S−Fで表わされる基であり、Fがアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Sが単結合であり、Lが単結合であり、pが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが単結合であり、qが0であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Zが水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜12のアルキル基及び炭素数1〜12のアルコキシ基の中から選択される1種であり、且つ、rが1であり、
化合物C22において、式(1)中のZが式:−L−S−Fで表わされる基であり、Fがアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Sが炭素数1から12の直鎖アルキレン基であり、Lがエーテル基であり、pが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが単結合であり、qが0であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Zが水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜12のアルキル基及び炭素数1〜12のアルコキシ基の中から選択される1種であり、且つ、rが1であり、
化合物C23において、式(1)中のZが式:−L−S−Fで表わされる基であり、Fがアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Sが式:(CHCHO)z(zは2及び3のうちのいずれかである。)で表わされる基であり、Lが単結合であり、pが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが単結合であり、qが0であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Zが水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜12のアルキル基及び炭素数1〜12のアルコキシ基の中から選択される1種であり、且つ、rが1であり、
化合物C24において、式(1)中のZが式:−L−S−Fで表わされる基であり、Fがアクリル基及びメタクリル基のうちのいずれかであり、Sが炭素数1から12の直鎖アルキレン基であり、Lがエーテル基であり、pが1であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Lが−COO−であり、qが0であり、Mが1,4−フェニレン基であり、Zが水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜12のアルキル基及び炭素数1〜12のアルコキシ基の中から選択される1種であり、且つ、rが1である。]
からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物であること、
を特徴とする請求項1〜7のうちのいずれか一項に記載の周期構造を有する光学フィルムの製造方法。
The first polymerizable compound is represented by the following general formula (1):
Z 1 p-M 1 -L 1 - (M 2 -L 2) q-M 3 -Z 2 r (1)
And each of Z 1 , Z 2 , M 1 , M 2 , M 3 , L 1 , L 2 , p, q, and r in the formula is represented by the following compounds C11 to C13 [in the compound C11: Z 1 and Z 2 in the formula (1) may be the same or different, and each is a group represented by the formula: -L 3 -S 1 -F 1 , and F 1 is an acryl group and a methacryl group. Any one of the groups, S 1 is any one of a single bond and a linear alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and L 3 is any one of an ether group, an ester group, and a carbonate group. Yes, p is 1, M 1 is a 1,4-phenylene group, L 1 is either a single bond or —COO—, q is 0, and M 3 is 1,4- A phenylene group and r is 1,
In the compound C12, Z 1 and Z 2 in the formula (1) may be the same or different, and each is a group represented by the formula: -L 3 -S 1 -F 1 , and F 1 is acrylic Any one of a group and a methacryl group, S 1 is any one of a single bond and a linear alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and L 3 is an ether group, an ester group or a carbonate group. Any one, p is 1, M 1 is a 1,4-phenylene group, L 1 is —COO—, M 2 is a 1,4-phenylene group, and L 2 is —OCO—. Q is 1, M 3 is a 1,4-phenylene group, and r is 1.
In the compound C13, Z 1 and Z 2 in the formula (1) may be the same or different, and each is a group represented by the formula: -L 3 -S 1 -F 1 , and F 1 is acrylic Or a methacryl group, S 1 is a group represented by the formula: (CH 2 CH 2 O) z (z is any one of 2 and 3), and L 3 is A single bond, p is 1, M 1 is a 1,4-phenylene group, L 1 is either a single bond or an ester group, q is 0, and M 3 is 1,4- A phenylene group and r is 1. ], The following general formula (2):
(In the formula, R 5 is either hydrogen or a methyl group, and x is 2 or 3.)
And a compound C14 represented by the following general formula (3):
(In the formula, R 5 is either hydrogen or a methyl group, and y is an integer of 2 to 12.)
And at least one compound selected from the group consisting of compound C15 represented by:
The second compound is represented by the following general formula (1):
Z 1 p-M 1 -L 1 - (M 2 -L 2) q-M 3 -Z 2 r (1)
And each of Z 1 , Z 2 , M 1 , M 2 , M 3 , L 1 , L 2 , p, q, and r in the formula is represented by the following compounds C21 to C24 [in the compound C21: Z 1 in formula (1) is a group represented by the formula: -L 3 -S 1 -F 1 , F 1 is one of an acrylic group and a methacryl group, and S 1 is a single bond And L 3 is a single bond, p is 1, M 1 is a 1,4-phenylene group, L 1 is a single bond, q is 0, and M 3 is 1,4-phenylene. Z 2 is one selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and r Is 1,
In Compound C22, Z 1 in Formula (1) is a group represented by the formula: -L 3 -S 1 -F 1 , F 1 is any one of an acryl group and a methacryl group, and S 1 is A linear alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, L 3 is an ether group, p is 1, M 1 is a 1,4-phenylene group, L 1 is a single bond, and q is 0 M 3 is a 1,4-phenylene group, Z 2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. One selected, and r is 1,
In compound C23, Z 1 in formula (1) is a group represented by the formula: -L 3 -S 1 -F 1 , F 1 is any one of an acryl group and a methacryl group, and S 1 is A group represented by the formula: (CH 2 CH 2 O) z (z is any one of 2 and 3), L 3 is a single bond, p is 1, M 1 is 1 , 4-phenylene group, L 1 is a single bond, q is 0, M 3 is a 1,4-phenylene group, Z 2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, carbon One selected from an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and r is 1.
In compound C24, Z 1 in formula (1) is a group represented by the formula: -L 3 -S 1 -F 1 , F 1 is one of an acryl group and a methacryl group, and S 1 is A linear alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, L 3 is an ether group, p is 1, M 1 is a 1,4-phenylene group, L 1 is —COO—, and q is 0, M 3 is a 1,4-phenylene group, and Z 2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. And r is 1. ]
Being at least one compound selected from the group consisting of:
The manufacturing method of the optical film which has the periodic structure as described in any one of Claims 1-7 characterized by these.
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