JP2016047917A - Non-color shifting multilayer structures and protective coatings on structures - Google Patents

Non-color shifting multilayer structures and protective coatings on structures Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an omnidirectional structural color pigment having a protective coating.SOLUTION: An omnidirectional structural color pigment 10 of the invention has a first layer 110 of a first material and a second layer 120 of a second material, the second layer 120 extending across the first layer 110. In addition, the pigment 10 reflects a band of electromagnetic radiation having a predetermined full width at half maximum (FWHM) of less than 300 nm and a predetermined color shift of less than 30° when the pigment 10 is exposed to broadband electromagnetic radiation and viewed from angles between 0° and 45°. The pigment 10 has a protective coating with a weather resistant coating that covers an outer surface of the pigment and reduces a relative photocatalytic activity of the pigment 10 by at least 50%.SELECTED DRAWING: Figure 24

Description

本発明は、保護コーティングを有する多層薄膜構造体、及び特に、広帯域電磁放射に曝され、様々な角度から観察した場合に最小又は認識不能な色ずれを呈し、保護コーティングを有する多層薄膜構造体に関する。   The present invention relates to a multilayer thin film structure having a protective coating, and more particularly to a multilayer thin film structure having a protective coating that exhibits minimal or unrecognizable color shift when exposed to broadband electromagnetic radiation and viewed from various angles. .

<関連出願の相互参照>
本願は、2014年4月1日出願の米国特許出願第14/242,429号の一部継続出願(CIP)であり、これは更に、2013年12月23日出願の米国特許出願第14/138,499号のCIPであり、これは更に、2013年6月8日出願の米国特許出願第13/913,402号のCIPであり、これは更に、2013年2月6日出願の米国特許出願第13/760,699号のCIPであり、これは更に、2012年8月10日出願の米国特許出願第13/572,071号のCIPであり、これは更に、2012年2月5日出願の米国特許出願第13/021,730号のCIPであり、これは更に、2010年6月4日出願の米国特許出願第112/793,772号(米国特許第8,736,959号)のCIPであり、これは更に、2009年2月18日出願の米国特許出願第12/388,395号(米国特許第8,749,881号)のCIPであり、これは更に、2007年8月12日出願の米国特許出願第11/837,529号(米国特許第7,903,339号)のCIPである。2013年6月8日出願の米国特許出願第13/913,402号は、2011年1月26日出願の米国特許第13/014,398号のCIPであり、これは更に2010年6月4日出願の米国特許第12/793,772号のCIPである。2011年1月26日出願の米国特許出願第13/014,398号は、2010年1月13日出願の米国特許第12/686,861のCIPであり、これは更に2009年2月19日出願の米国特許第12/389,256号(米国特許第8,329,247号)のCIPであり、これらのすべては、それらの全体が参照により援用される。
<Cross-reference of related applications>
This application is a continuation-in-part (CIP) of US patent application Ser. No. 14 / 242,429 filed Apr. 1, 2014, which further includes US patent application Ser. No. 14/14, filed Dec. 23, 2013. No. 138,499, which is further CIP of U.S. Patent Application No. 13 / 913,402, filed June 8, 2013, which is further U.S. Patent, filed Feb. 6, 2013. Application No. 13 / 760,699, which is further CIP of U.S. Patent Application No. 13 / 572,071, filed on August 10, 2012, which is further disclosed on February 5, 2012. CIP of U.S. Patent Application No. 13 / 021,730 filed, which is further U.S. Patent Application No. 112 / 793,772 filed June 4, 2010 (U.S. Patent No. 8,736,959). Is the CIP This is further the CIP of US patent application Ser. No. 12 / 388,395 filed Feb. 18, 2009 (US Pat. No. 8,749,881), which was further filed Aug. 12, 2007. US patent application Ser. No. 11 / 837,529 (US Pat. No. 7,903,339). U.S. Patent Application No. 13 / 913,402 filed June 8, 2013 is a CIP of U.S. Patent No. 13 / 014,398 filed Jan. 26, 2011, which is further referred to as Jun. 4, 2010. US Patent No. 12 / 793,772 of Japanese application. US Patent Application No. 13 / 014,398, filed January 26, 2011, is a CIP of US Patent No. 12 / 686,861 filed January 13, 2010, which is further February 19, 2009. The CIP of US patent application Ser. No. 12 / 389,256 (US Pat. No. 8,329,247), all of which are incorporated by reference in their entirety.

多層積層体から作られる顔料が知られている。さらに、高彩度全方向構造色を呈し、又はもたらす顔料も知られている。しかしながら、これらのような公知技術の顔料は、所望の色特性を得るために、39もの薄膜層を必要としていた。   Pigments made from multilayer laminates are known. In addition, pigments that exhibit or provide high chroma omnidirectional structural colors are also known. However, these prior art pigments required as many as 39 thin film layers to obtain the desired color characteristics.

薄膜多層顔料の製造に関する費用は、必要とされる層の数に比例すると理解されたい。そのため、誘電体材料の多層積層体を使用した高彩度全方向構造色の製造に関する費用は、非常に高額になりうる。それゆえ、最小限の薄膜層を必要とする高彩度全方向構造色が望ましい。   It should be understood that the cost associated with the production of thin film multilayer pigments is proportional to the number of layers required. Thus, the costs associated with producing a high saturation omnidirectional structural color using a multilayer stack of dielectric materials can be very expensive. Therefore, high saturation omnidirectional structural colors that require minimal thin film layers are desirable.

上記に加えて、太陽光、及び特に紫外光に曝すと、顔料は色あせ、変色などを呈することがあると理解されたい。そのため、耐候性のある高彩度全方向構造色顔料がさらに要求されている。   In addition to the above, it should be understood that pigments may fade, discolor, etc. when exposed to sunlight, and particularly ultraviolet light. Therefore, there is a further demand for weather-resistant high chroma omnidirectional structural color pigments.

保護コーティングを有する全方向構造色顔料を提供する。この顔料は、第1の材料の第1層と、第2の材料の第2層を有し、第2層は第1層にわたって延在している。加えて、この顔料を広帯域電磁放射に曝し、0°〜45°の間の角度から観察したとき、この顔料は300nmより小さい所与の半値幅(FWHM)、及び30°より小さい所与の色ずれを有する電磁放射の帯域を反射する。さらに、この顔料は、その外表面を被覆し、かつこの顔料の相対的な光触媒活性を少なくとも50%減少させる、耐候性コーティングを有する。   An omnidirectional structural color pigment having a protective coating is provided. The pigment has a first layer of a first material and a second layer of a second material, the second layer extending over the first layer. In addition, when the pigment is exposed to broadband electromagnetic radiation and viewed from an angle between 0 ° and 45 °, the pigment has a given full width at half maximum (FWHM) less than 300 nm and a given color less than 30 °. Reflects a band of electromagnetic radiation having a shift. In addition, the pigment has a weather resistant coating that coats its outer surface and reduces the relative photocatalytic activity of the pigment by at least 50%.

この耐候性コーティングは、酸化物層を含むことができ、またこの酸化物層は、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、及び/又は酸化セリウムから選択することができる。加えて、耐候性コーティングは、第一の酸化物層及び第二の酸化物層を含むことができ、第二の酸化物層は第一の酸化物層と異なる。さらに、第二の酸化物層は、少なくとも2つの異なる酸化物の組み合わせである混合酸化物層であってよい。最後に、この顔料そのもの、即ち、保護コーティングを除いたこの顔料は、酸化物層を有しない。   The weatherable coating can include an oxide layer, and the oxide layer can be selected from silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, titanium oxide, and / or cerium oxide. In addition, the weatherable coating can include a first oxide layer and a second oxide layer, wherein the second oxide layer is different from the first oxide layer. Further, the second oxide layer may be a mixed oxide layer that is a combination of at least two different oxides. Finally, the pigment itself, ie, except for the protective coating, does not have an oxide layer.

保護コーティングを有する全方向構造色顔料を製造する方法を、さらに公開する。この方法は、上記の構造と特性を有する複数の顔料粒子を供給すること、及びこの複数の顔料粒子を第一の液体に懸濁して顔料懸濁液を形成することを含む。加えて、第二の液体、及び酸化物構成元素、例えばケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、又はセリウムを含んでいる酸化物前駆体を供給する。この顔料懸濁液と、酸化物前駆体を混合すると、耐候性のある酸化物コーティングが施された複数の顔料粒子の沈殿物となり、このコーティングは、この顔料の相対的な光触媒活性を少なくとも50%減少させる。   Further disclosed is a method for producing an omnidirectional structural color pigment having a protective coating. The method includes providing a plurality of pigment particles having the structure and characteristics described above, and suspending the plurality of pigment particles in a first liquid to form a pigment suspension. In addition, an oxide precursor comprising a second liquid and an oxide constituent element such as silicon, aluminum, zirconium, titanium, or cerium is provided. Mixing the pigment suspension with the oxide precursor results in precipitation of a plurality of pigment particles with a weatherable oxide coating, which coating has a relative photocatalytic activity of the pigment of at least 50. % Decrease.

いくつかの例において、第一の液体は、第一の有機溶媒であり、第二の液体は第二の有機溶媒である。さらに、第一及び第二の有機溶媒は、有機極性溶媒、例えばn−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、エタノール、n−ブタノール、及びアセトンであってよい。他の例において、第一の有機溶媒及び第二の有機溶媒は極性プロトン性有機溶媒であってよい。   In some examples, the first liquid is a first organic solvent and the second liquid is a second organic solvent. Furthermore, the first and second organic solvents may be organic polar solvents such as n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, ethanol, n-butanol, and acetone. In other examples, the first organic solvent and the second organic solvent may be polar protic organic solvents.

酸化物前駆体に関して、この酸化物構成元素であるケイ素は、テトラエトキシシランの形態であってよく、この酸化物構成元素であるアルミニウムは、硫酸アルミニウム、及びアルミニウム−トリ−sec−ブトキシドのうち少なくとも一つの形態であってよく、この酸化物構成元素であるジルコニウムは、ジルコニウムブトキシドの形態であってよく、この酸化物構成元素であるセリウムは、硝酸セリウム六水和物、及び硫酸セリウムのうち少なくとも一つの形態であってよく、かつこの酸化物構成元素であるチタンは、チタンエトキシド、チタンイソプロポキシド、及びチタンブトキシドのうち少なくとも一つの形態であってよい。   With respect to the oxide precursor, the oxide constituent silicon may be in the form of tetraethoxysilane, and the oxide constituent aluminum is at least aluminum sulfate and aluminum-tri-sec-butoxide. The oxide constituent zirconium may be in the form of zirconium butoxide, and the oxide constituent cerium is at least one of cerium nitrate hexahydrate and cerium sulfate. One form may be used, and the oxide constituent element titanium may be at least one form of titanium ethoxide, titanium isopropoxide, and titanium butoxide.

他の例において、第1の液体は、第1の水性液体であり、第2の液体は第2の水性液体である。さらに、この酸化物構成元素であるケイ素は、ケイ酸ナトリウムの形態であってよく、この酸化物構成元素であるアルミニウムは硫酸アルミニウム、硫酸アルミニウム水和物、アルミン酸ナトリウムのうち少なくとも一つの形態であってよく、この酸化物構成元素であるジルコニウムは、塩化ジルコニウム八水和物の形態であってよく、この酸化物構成元素であるセリウムは、硝酸セリウム六水和物の形態であってよく、この酸化物構成元素であるチタンは、四塩化チタンの形態であってよい。   In another example, the first liquid is a first aqueous liquid and the second liquid is a second aqueous liquid. Furthermore, the oxide constituent element silicon may be in the form of sodium silicate, and the oxide constituent element aluminum is in at least one of aluminum sulfate, aluminum sulfate hydrate, and sodium aluminate. The oxide constituent zirconium may be in the form of zirconium chloride octahydrate, the oxide constituent cerium may be in the form of cerium nitrate hexahydrate, This oxide constituent element titanium may be in the form of titanium tetrachloride.

図1Aは、入射する電磁放射を反射、又は透過している誘電体層(DL)の略図である。FIG. 1A is a schematic illustration of a dielectric layer (DL) reflecting or transmitting incident electromagnetic radiation. 図1Bは、入射する電磁放射を反射している反射体層(RL)の略図である。FIG. 1B is a schematic illustration of a reflector layer (RL) reflecting incident electromagnetic radiation. 図1Cは、入射する電磁放射を吸収している吸収体層(AL)の略図である。FIG. 1C is a schematic illustration of an absorber layer (AL) absorbing incident electromagnetic radiation. 図1Dは、入射する電磁放射を反射、吸収、及び透過している選択的吸収体層(SAL)の略図である。FIG. 1D is a schematic illustration of a selective absorber layer (SAL) that reflects, absorbs, and transmits incident electromagnetic radiation. 図2は、複数の誘電体層から作られた第1世代の全方向構造色多層薄膜による入射電磁放射の反射及び透過の略図である。FIG. 2 is a schematic representation of the reflection and transmission of incident electromagnetic radiation by a first generation omnidirectional structural color multilayer film made from a plurality of dielectric layers. 図3は、複数の誘電体層から作られた第1世代の全方向構造色多層薄膜の略図である。FIG. 3 is a schematic diagram of a first generation omnidirectional structural color multilayer film made from a plurality of dielectric layers. 図4は、電磁放射のTMモードとTEモードについての0.2%のレンジ対ミッドレンジ百分率の比較を表すグラフである。FIG. 4 is a graph representing a comparison of 0.2% range to mid-range percentage for TM and TE modes of electromagnetic radiation. 図5は、図4に示されるケース2についての波長の関数としての反射率グラフである。FIG. 5 is a reflectance graph as a function of wavelength for Case 2 shown in FIG. 図6は、図4に示されるケース1、2、及び3における中心波長の散乱を表すグラフである。FIG. 6 is a graph showing the scattering of the center wavelength in cases 1, 2, and 3 shown in FIG. 図7は複数の誘電体層及び一つの吸収体層から作られた第2世代の全方向構造色多層薄膜による入射電磁放射の反射及び吸収の略図である。FIG. 7 is a schematic diagram of the reflection and absorption of incident electromagnetic radiation by a second generation omnidirectional structural color multilayer film made of a plurality of dielectric layers and one absorber layer. 図8は、複数の誘電体層、一つの吸収体層、及び/又は反射体層から作られた第2世代の全方向構造色多層薄膜の略図である。FIG. 8 is a schematic diagram of a second generation omnidirectional structural color multilayer film made of multiple dielectric layers, an absorber layer, and / or a reflector layer. 図9Aは、彩度(C*)が100であり、かつ反射率(最大反射率)が60%である複数の誘電体層及び吸収体層/反射体層から作られた第2世代の5層全方向構造色多層薄膜の略図である。FIG. 9A shows a second generation 5 made from a plurality of dielectric layers and absorber / reflector layers with a chroma (C *) of 100 and a reflectivity (maximum reflectivity) of 60%. 1 is a schematic diagram of a layer omnidirectional structural color multilayer film. 図9Bは、0°〜45°の間の角度から観察された、第1世代の11層全方向構造色多層薄膜と比較した、図9Aにおいて示される第2世代の5層全方向構造色多層薄膜の反射率対波長のグラフである。FIG. 9B shows the second generation five-layer omnidirectional structural color multilayer shown in FIG. 9A compared to the first generation eleven-layer omnidirectional structural color multilayer film observed from an angle between 0 ° and 45 °. It is a graph of the reflectance of a thin film versus wavelength. 図10は、誘電体層、選択的吸収体層(SAL)、及び反射体層から作られた第3世代の全方向構造色多層薄膜の略図である。FIG. 10 is a schematic diagram of a third generation omnidirectional structural color multilayer film made from a dielectric layer, a selective absorber layer (SAL), and a reflector layer. 図11Aは、500nmの波長を有する電磁放射(EMR)に曝されたZnS誘電体層内の、ゼロ又はほぼゼロの電場点の略図である。FIG. 11A is a schematic representation of zero or near zero electric field points in a ZnS dielectric layer exposed to electromagnetic radiation (EMR) having a wavelength of 500 nm. 図11Bは、300nm、400nm、500nm、600nm、及び700nmの波長を有するEMRに曝されたときの、電場の二乗の絶対値(|E|)対図1Aに示されるZnS誘電体層の厚さのグラフである。FIG. 11B shows the absolute value of the square of the electric field (| E | 2 ) versus the thickness of the ZnS dielectric layer shown in FIG. 1A when exposed to EMR having wavelengths of 300 nm, 400 nm, 500 nm, 600 nm, and 700 nm. This is a graph. 図12は、基盤又は反射体層にわたって延在しており、かつ誘電体層の外表面の垂直方向から角度θで電磁放射に曝されたときの誘電体層の略図である。FIG. 12 is a schematic representation of a dielectric layer when it is exposed to electromagnetic radiation at an angle θ from the normal direction of the outer surface of the dielectric layer, extending over the substrate or reflector layer. 図13は、434nmの波長を有するEMRに対するZnS誘電体層内のゼロ又はほぼゼロの電場点に、Cr吸収体層が配置された、ZnS誘電体層の略図である。FIG. 13 is a schematic diagram of a ZnS dielectric layer with a Cr absorber layer disposed at a zero or near zero electric field point in the ZnS dielectric layer for EMR having a wavelength of 434 nm. 図14は、Cr吸収体層を有しない多層積層体(例えば図1A)、及びCr吸収体層を有する多層積層体(例えば図3A)が白色光に曝されたときの、反射百分率対反射EMR波長のグラフである。FIG. 14 shows the percentage of reflection versus reflection EMR when a multilayer stack without a Cr absorber layer (eg, FIG. 1A) and a multilayer stack with a Cr absorber layer (eg, FIG. 3A) are exposed to white light. It is a graph of a wavelength. 図15Aは、Al反射体層にわたって延在するZnS誘電体層(例えば図4A)が表す第1の高調波、及び第2の高調波のグラフである。FIG. 15A is a graph of first and second harmonics represented by a ZnS dielectric layer (eg, FIG. 4A) extending across the Al reflector layer. 図15Bは、Al反射体層にわたってZnS誘電体層が延在し、かつ図8Aにおいて示されるこの第2の高調波が吸収されるようにCr吸収体層がZnS誘電体層内に配置されている、多層積層体についての、反射百分率対EMR波長のグラフである。FIG. 15B shows that the ZnS dielectric layer extends over the Al reflector layer and the Cr absorber layer is placed in the ZnS dielectric layer so that this second harmonic shown in FIG. 8A is absorbed. FIG. 6 is a graph of percent reflection versus EMR wavelength for a multilayer stack. 図15CはAl反射体層にわたってZnS誘電体層が延在し、かつ図8Aにおいて示されるこの第1の高調波が吸収されるようにCr吸収体層がZnS誘電体層内に配置されている、多層積層体についての、反射百分率対EMR波長のグラフである。FIG. 15C shows that the ZnS dielectric layer extends over the Al reflector layer and that the Cr absorber layer is disposed in the ZnS dielectric layer so that this first harmonic shown in FIG. 8A is absorbed. FIG. 6 is a graph of percent reflection versus EMR wavelength for a multilayer stack. 図16Aは0°〜45°の間の角度からの入射光の曝露に対するCr吸収体層の電場の角度依存性を示す、電場の二乗対誘電体層の厚さのグラフである。FIG. 16A is a graph of the square of the electric field versus the thickness of the dielectric layer showing the angular dependence of the electric field of the Cr absorber layer on the exposure of incident light from an angle between 0 ° and 45 °. 図16Bは外表面に対する垂線(表面に対する垂線に対して0°)に対して0°〜45°の間の角度から白色光に曝されたときのCr吸収体層による吸収率%対反射EMR波長のグラフである。FIG. 16B shows% Absorption vs. Reflected EMR wavelength by Cr absorber layer when exposed to white light from an angle between 0 ° and 45 ° to the normal to the outer surface (0 ° to the normal to the surface). It is a graph of. 図17Aは、本発明の実施形態に基づく、赤色全方向構造色多層積層体の略図である。FIG. 17A is a schematic representation of a red omnidirectional structural color multilayer stack, in accordance with an embodiment of the present invention. 図17Bは、図10Aに示されるCu吸収体層の吸収率%対図10Aに示される多層積層体に対する0°〜45°の間の角度からの白色光の曝露についての反射EMR波長のグラフである。FIG. 17B is a graph of reflected EMR wavelength for% light absorption of the Cu absorber layer shown in FIG. 10A versus white light exposure from an angle between 0 ° and 45 ° for the multilayer stack shown in FIG. 10A. is there. 図18は、0°の角度から白色光を曝したときの赤色全方向構造色多層積層体の概念の証明のため計算値/シミュレーション値のデータ及び実験データ間の反射率%対反射EMR波長を比較したグラフである。FIG. 18 shows the reflectance% versus the reflected EMR wavelength between the calculated / simulated data and the experimental data to prove the concept of the red omnidirectional structural color multilayer stack when white light is exposed from an angle of 0 °. It is the graph compared. 図19は、本発明の実施形態に基づく全方向構造色多層積層体についての反射率%対波長のグラフである。FIG. 19 is a graph of reflectance% versus wavelength for an omnidirectional structural color multilayer stack according to an embodiment of the present invention. 図20は、本発明の実施形態に基づく全方向構造色多層積層体についての反射率%対波長のグラフである。FIG. 20 is a graph of reflectance% versus wavelength for an omnidirectional structural color multilayer stack according to an embodiment of the present invention. 図21は、本発明の実施形態に基づく全方向構造色多層積層体についての反射率%対波長のグラフである。FIG. 21 is a graph of reflectance% versus wavelength for an omnidirectional structural color multilayer stack according to an embodiment of the present invention. 図22は、本発明の実施形態に基づく全方向構造色多層積層体についての反射率%対波長のグラフである。FIG. 22 is a graph of reflectance% versus wavelength for an omnidirectional structural color multilayer stack according to an embodiment of the present invention. 図23は、彩度及び色相シフトを、従来の塗料と本発明の実施形態に基づく顔料から作成された塗料(試料(b))との間で比較した、CIELAB色空間を用いたa*b*カラーマップの一部を示すグラフである。FIG. 23 shows a * b using CIELAB color space, comparing saturation and hue shift between a conventional paint and a paint made from a pigment according to an embodiment of the present invention (sample (b)). * A graph showing a part of the color map. 図24は、本発明の実施形態に基づく全方向構造色多層積層体の略図である。FIG. 24 is a schematic diagram of an omnidirectional structural color multilayer stack according to an embodiment of the present invention. 図25は、本発明の実施形態に基づく全方向構造色多層積層体の略図である。FIG. 25 is a schematic diagram of an omnidirectional structural color multilayer stack according to an embodiment of the present invention. 図26は、本発明の実施形態に基づく全方向構造色多層積層体の略図である。FIG. 26 is a schematic diagram of an omnidirectional structural color multilayer stack according to an embodiment of the present invention. 図27は、本発明の実施形態に基づく4層全方向構造色顔料の略図である。FIG. 27 is a schematic diagram of a four-layer omnidirectional structural color pigment according to an embodiment of the present invention. 図28は、本発明の実施形態に基づく7層全方向構造色顔料の略図である。FIG. 28 is a schematic diagram of a seven-layer omnidirectional structural color pigment according to an embodiment of the present invention. 図29は、本発明の実施形態に基づく、保護コーティングを有する11層全方向構造色顔料の略図である。FIG. 29 is a schematic representation of an 11-layer omnidirectional structural color pigment with a protective coating, according to an embodiment of the present invention. 図30は、本発明の実施形態に基づく、2又はそれ以上の層を含む保護コーティングの略図である。FIG. 30 is a schematic illustration of a protective coating comprising two or more layers according to an embodiment of the present invention. 図31は、いくつかの保護コーティングを有する全方向構造色顔料の、正常化された相対的な光触媒活性のプロットグラフである。FIG. 31 is a plot of normalized relative photocatalytic activity of omnidirectional structural color pigments having several protective coatings. 図32Aは、保護コーティングを有しない、複数の七層全方向構造色顔料についての、一対の走査型電子顕微鏡(SEM)画像のうちの一つである。FIG. 32A is one of a pair of scanning electron microscope (SEM) images for a plurality of seven-layer omnidirectional structural color pigments without a protective coating. 図32Bは、酸化ケイ素及び酸化ジルコニウム‐酸化アルミニウムの保護コーティングを有する複数の七層全方向構造色顔料についての、一対の走査型電子顕微鏡(SEM)画像のうちの一つである。FIG. 32B is one of a pair of scanning electron microscope (SEM) images of a plurality of seven-layer omnidirectional structural color pigments having a silicon oxide and zirconium oxide-aluminum oxide protective coating.

全方向構造色を提供する。この全方向構造色は、0°〜45°の間の角度から観察した場合に、可視スペクトルにおいて電磁放射の狭帯域を反射し、かつ小さい又は識別不能な色ずれを有する多層薄膜(また、本明細書において多層積層体とも呼ばれる)の形態を有している。この多層薄膜は、塗料組成中の顔料、構造体上の連続的な薄膜、及びその他同種のものに使用することができる。   Provides an omnidirectional structural color. This omnidirectional structural color reflects a narrow band of electromagnetic radiation in the visible spectrum and has a small or indistinguishable color shift when viewed from an angle between 0 ° and 45 ° In the specification, it is also called a multilayer laminate. This multilayer thin film can be used for pigments in paint compositions, continuous thin films on structures, and the like.

この多層薄膜は、第1の層及び第1の層にわたって延在する第2の層を有する多層積層体含んでいる。ある例において、この多層積層体は、300nmより小さい、より好ましくは200nmより小さい、いくつかの例においては150nmより小さいFWMHを有する電磁放射の狭帯域を反射する。この多層薄膜を広帯域電磁放射、例えば白色光に曝し、かつ0°〜45°の間の角度から観察したときに、この多層薄膜は、50nmより小さく、より好ましくは40nmより小さく、さらに好ましくは30nmより小さい色ずれをさらに有している。さらに、多層積層体はUV領域及び/又はIR領域に電磁放射の個別の反射帯域を有していてよく、有していなくてもよい。   The multilayer thin film includes a multilayer stack having a first layer and a second layer extending across the first layer. In certain examples, the multilayer stack reflects a narrow band of electromagnetic radiation having a FWMH of less than 300 nm, more preferably less than 200 nm, and in some examples less than 150 nm. When the multilayer film is exposed to broadband electromagnetic radiation, such as white light, and viewed from an angle between 0 ° and 45 °, the multilayer film is less than 50 nm, more preferably less than 40 nm, and even more preferably 30 nm. It also has a smaller color shift. Furthermore, the multilayer stack may or may not have a separate reflection band of electromagnetic radiation in the UV and / or IR region.

この多層積層体の全厚は、2μmより小さく、好ましくは1.5μmより小さく、さらにより好ましくは1.0μmより小さい。したがって、多層積層体は薄層塗料コーティングの塗料顔料として利用することができる。   The total thickness of this multilayer stack is less than 2 μm, preferably less than 1.5 μm, and even more preferably less than 1.0 μm. Therefore, the multilayer laminate can be used as a paint pigment for a thin paint coating.

第1、及び第2の層は誘電体材料から作ることができ、代替的に、第1及び/又は第2の層は吸収体材料から作ることができる。吸収体材料は、選択的吸収体材料、例えばCu、Au、Zn、Sn、これらの合金、及び同種のもの、又は代替的に、有色誘電体材料、例えばFe、CuO、これらの組み合わせ、及び同種のものを含んでいる。この吸収体材料は、さらに、非選択吸収材料、例えばCr、Ta、W、Mo、Ti、窒化Ti、Nb、Co、Si、Ge、Ni、Pd、V、酸化第二鉄、これらの組み合わせ又は合金、並びに同種のものであってよい。選択的吸収体材料から作られるこの吸収体層の厚さが20〜80nmの間であるのに対して、非選択的吸収体材料から作られる吸収体層の厚さは5〜30nmである。 The first and second layers can be made from a dielectric material, and alternatively, the first and / or second layer can be made from an absorber material. The absorber material may be a selective absorber material such as Cu, Au, Zn, Sn, alloys thereof, and the like, or alternatively, a colored dielectric material such as Fe 2 O 3 , Cu 2 O, these And combinations of the same. This absorber material may further comprise a non-selective absorption material such as Cr, Ta, W, Mo, Ti, Ti nitride, Nb, Co, Si, Ge, Ni, Pd, V, ferric oxide, combinations thereof or Alloys as well as the same may be used. The thickness of this absorber layer made from the selective absorber material is between 20-80 nm, whereas the thickness of the absorber layer made from the non-selective absorber material is 5-30 nm.

この多層積層体はさらに、第1の層及びそれにわたって第2の層が延在する反射体層を含んでおり、この反射体層は、例えばAl、Ag、Pt、Cr、Cu、Zn、Au、Sn、これらの合金及び同種のもののような材料から作られる。この反射体層は通常30〜200nmの間の厚さを有している。   The multilayer stack further includes a first layer and a reflector layer over which the second layer extends, the reflector layer comprising, for example, Al, Ag, Pt, Cr, Cu, Zn, Au , Sn, these alloys and the like. This reflector layer usually has a thickness of between 30 and 200 nm.

この多層積層体は、可視スペクトルにおいて対称的なピークの形態を有する電磁放射の反射狭帯域を有していてよい。代替的に、可視スペクトルにおける電磁放射の反射狭帯域は、UV領域に隣接していることができ、これにより、電磁放射の反射帯域の一部、即ちUV部分は、人の目には見えない。代替的に、電磁放射の反射帯域は、IR領域にその一部を有していることができ、これにより、IR部分は、同様に人の目には見えない。   The multilayer stack may have a reflected narrow band of electromagnetic radiation having a symmetrical peak shape in the visible spectrum. Alternatively, the reflected narrow band of electromagnetic radiation in the visible spectrum can be adjacent to the UV region, so that part of the reflected band of electromagnetic radiation, ie the UV part, is not visible to the human eye. . Alternatively, the reflection band of electromagnetic radiation can have a portion thereof in the IR region, so that the IR portion is likewise invisible to the human eye.

可視スペクトルにおけるこの電磁放射の反射帯域がUV領域、IR領域に隣接していようと、可視スペクトルにおいて対称的なピークを有していようとを問わず、本明細書により開示される多層薄膜は、低く、小さい又は認識できない色ずれを有する、可視スペクトル内の電磁放射の反射狭帯域を有する。この低い又は認識できない色ずれは、電磁放射の反射狭帯域の中心波長の小さいシフトの形態であってよい。代替的に、低い又は認識不能な色ずれは、それぞれ、IR領域又はUV領域に隣接する電磁放射の反射帯域のUV側端又はIR側端の小さいシフトの形態であってよい。0°〜45°の間の角度から多層薄膜を観察したとき、中心波長、UV側端、及び/又はIR側端のこのような小さいシフトは、通常は50nm未満であり、いくつかの例においては40nmより小さく、また他の例においては30nmより小さい。   Regardless of whether the reflection band of this electromagnetic radiation in the visible spectrum is adjacent to the UV region, the IR region, or has a symmetric peak in the visible spectrum, the multilayer thin film disclosed herein is: It has a narrow band of reflection of electromagnetic radiation in the visible spectrum with low, small or unrecognizable color shift. This low or unrecognizable color shift may be in the form of a small shift in the central wavelength of the reflected narrow band of electromagnetic radiation. Alternatively, the low or unrecognizable color shift may be in the form of a small shift of the UV side edge or IR side edge of the reflection band of electromagnetic radiation adjacent to the IR region or UV region, respectively. When observing multilayer thin films from angles between 0 ° and 45 °, such small shifts in the center wavelength, UV side edge, and / or IR side edge are usually less than 50 nm, in some examples Is less than 40 nm, and in other examples is less than 30 nm.

上記に加えて、多層薄膜の形態であるこの全方向構造色は、保護コーティングが施された複数の顔料粒子の形態であってよい。これにより、耐候性のある顔料を提供できる。保護コーティングは、顔料粒子の相対的な光触媒活性を減少させる、一つ又はそれ以上の酸化物層を含んでいることができる。この酸化物層は、当業者にとって公知であるいかなる酸化物層であってよく、実例として酸化ケイ素層、酸化アルミニウム層、酸化ジルコニウム層、酸化チタン層、酸化セリウム層、これらの組み合わせ、及び同種のものを含んでいることができる。いくつかの例において、保護コーティングは第1の酸化物層及び第2の酸化物層を含んでいる。さらに、第1の酸化物層及び/又は第2の酸化物層は、混合酸化物層、即ち2種類の酸化物の組み合わせである酸化物層であってよい。さらに、また上述のとおり、顔料そのものは酸化物層を含まない多層薄膜の形態であってよい。   In addition to the above, this omnidirectional structural color in the form of a multilayer thin film may be in the form of a plurality of pigment particles with a protective coating. Thereby, a weather-resistant pigment can be provided. The protective coating can include one or more oxide layers that reduce the relative photocatalytic activity of the pigment particles. The oxide layer may be any oxide layer known to those skilled in the art, illustratively a silicon oxide layer, an aluminum oxide layer, a zirconium oxide layer, a titanium oxide layer, a cerium oxide layer, combinations thereof, and the like Can contain things. In some examples, the protective coating includes a first oxide layer and a second oxide layer. Furthermore, the first oxide layer and / or the second oxide layer may be a mixed oxide layer, that is, an oxide layer that is a combination of two types of oxides. Furthermore, as described above, the pigment itself may be in the form of a multilayer thin film that does not include an oxide layer.

全方向構造色顔料を製造する方法は、酸、酸性化合物、酸性溶媒、及び同種のものを利用することを含んでいてよく、含んでいなくてもよい。言い換えると、複数の全方向構造色顔料粒子は、酸性溶媒による処理がされることもされないこともできる。全方向構造色顔料及び、この顔料の製造方法のさらなる教示および詳細を本明細書において後述する。   The method of producing the omnidirectional structural color pigment may or may not involve the use of acids, acidic compounds, acidic solvents, and the like. In other words, the plurality of omnidirectional structural color pigment particles may or may not be treated with an acidic solvent. Further teaching and details of omnidirectional structural color pigments and methods of making the pigments are provided later in this specification.

図1を参照すると、図1A〜Dは全方向構造色設計の基本的な構成要素を表している。特に、図1Aは入射電磁放射に曝された誘電体層を示している。さらに、誘電体層(DL)は入射電磁放射の一部を反射し、その他の部分を透過する。加えて、入射電磁放射は、透過した部分及び反射された部分に等しく、通常、透過した部分は反射された部分よりも十分に大きい。誘電体層は誘電体材料、例えばSiO,TiO、ZnS、MgF、及び同種のものから作られる。 Referring to FIG. 1, FIGS. 1A-D represent the basic components of an omnidirectional structural color design. In particular, FIG. 1A shows a dielectric layer exposed to incident electromagnetic radiation. Furthermore, the dielectric layer (DL) reflects a portion of incident electromagnetic radiation and transmits the other portion. In addition, incident electromagnetic radiation is equal to the transmitted and reflected portions, which are typically much larger than the reflected portions. The dielectric layer is made of a dielectric material, for example SiO 2, TiO 2, ZnS, from MgF 2, and the like.

明確な対称として、図1Bは、全ての入射電磁放射が反射され、本質的に透過率がゼロである反射体層(RL)を表している。反射体層は通常、アルミニウム、金、及びその他同種のもののような材料から作られる。   As a clear symmetry, FIG. 1B represents a reflector layer (RL) in which all incident electromagnetic radiation is reflected and has essentially zero transmission. The reflector layer is typically made from materials such as aluminum, gold, and the like.

図1Cは、入射電磁放射がこの層によって吸収され、かつ反射又は透過しない、吸収体層(AL)を示している。このような吸収体層は、例えばグラファイトから作られる。さらに、全入射電磁放射が吸収され、そして透過及び反射は約ゼロである。
図1Dは、入射電磁放射の一部がこの層により吸収され、一部が透過し、一部が反射される、選択的吸収体層(SAL)を表している。したがって、透過し、吸収され、及び反射される電磁放射の量は、入射電磁放射の量と等しい。加えて、このような選択的吸収体層は、クロムの薄層、銅、真鍮、及び青銅の層、並びに同種のもののような材料から作ることができる。
FIG. 1C shows an absorber layer (AL) in which incident electromagnetic radiation is absorbed by this layer and is not reflected or transmitted. Such an absorber layer is made of, for example, graphite. Further, all incident electromagnetic radiation is absorbed and transmission and reflection are about zero.
FIG. 1D represents a selective absorber layer (SAL) in which some of the incident electromagnetic radiation is absorbed by this layer, partially transmitted and partially reflected. Thus, the amount of electromagnetic radiation that is transmitted, absorbed, and reflected is equal to the amount of incident electromagnetic radiation. In addition, such selective absorber layers can be made from materials such as thin layers of chromium, copper, brass, and bronze layers, and the like.

本発明について、全方向構造色の薄層の3つの世代の設計及び製造を開示する。   For the present invention, the design and manufacture of three generations of thin layers of omnidirectional structural color is disclosed.

<第1世代>
図2を参照すると、複数の誘電体層を有する多層薄膜の略図が示されている。加えて、入射電磁放射の反射及び透過が模式的に示されている。上記のとおり、入射電磁放射の通常の透過は、それについての反射よりも非常に大きく、したがって多くの層が要求される。
<First generation>
Referring to FIG. 2, a schematic diagram of a multilayer thin film having a plurality of dielectric layers is shown. In addition, the reflection and transmission of incident electromagnetic radiation is schematically shown. As noted above, the normal transmission of incident electromagnetic radiation is much greater than the reflections on it, and thus many layers are required.

図3は、第1の屈折率(DL)及び第2の屈折率(DL)を有する誘電体層から作られている多層薄膜の一部分を示している。層間の二重線は、異なる層間の境界を単に示しているに過ぎないと理解されたい。 FIG. 3 shows a portion of a multilayer thin film made from a dielectric layer having a first refractive index (DL 1 ) and a second refractive index (DL 2 ). It should be understood that the double lines between the layers merely indicate the boundaries between the different layers.

原理によって限定されるものではないが、所望の多層積層体を得るための、ある設計及び製造方法又は手段は下記のとおりである。   Without being limited by principle, one design and manufacturing method or means for obtaining the desired multilayer stack is as follows.

電磁放射が材料の表面に衝突したとき、この放射の波は材料から反射され、又は透過される。さらに、電磁放射が多層積層体10の第1の終端12に、角度θで衝突したとき、この電磁波が屈折率の高い層及び低い層の表面に対する反射角は、それぞれθ及びθである。スネルの法則を利用して、
屈折率n及びnが既知であれば、この角度θ及びθを決めることができる。
When electromagnetic radiation strikes the surface of the material, this wave of radiation is reflected or transmitted from the material. Further, when electromagnetic radiation collides with the first end 12 of the multilayer laminate 10 at an angle θ 0 , the reflection angles of the electromagnetic wave with respect to the surfaces of the high refractive index layer and the low layer are θ H and θ L , respectively. is there. Using Snell's law,
If the refractive indexes n H and n L are known, the angles θ H and θ L can be determined.

全方向性反射率について、電磁放射のTEモード及びTMモードの必要であるが不十分である条件として、第1層内の最大屈折角度(θH,Max)が、第1の層及び第2の層の間の境界面のブルースター角(θ)よりも小さいことが必要である。この条件が満たされない場合、電磁放射のTMモードは第2及びそれに引き続く境界面で反射せず、したがってこの構造体を透過する。
この考察を用いると、
及び
それゆえに、次のことが必要である:
For omni-directional reflectivity, the maximum refraction angle (θ H, Max ) in the first layer is the first layer and second as a necessary but insufficient condition for the TE and TM modes of electromagnetic radiation. It is necessary to be smaller than the Brewster angle (θ B ) of the interface between the layers. If this condition is not met, the TM mode of electromagnetic radiation does not reflect at the second and subsequent interfaces and therefore penetrates the structure.
Using this consideration,
as well as
Therefore, it is necessary to:

式4により表現される必要条件に加えて、波長λの電磁波が角度θ0で多層構造に向かい、かつ多層構造の個々の二重層が、それぞれ屈折率n及びnを伴う厚さd及びdを有する場合、特性変換マトリクス(F)は、以下のように表現される。
これは次のようにも表現可能であり:
ここで:
及び
である。
さらに、
ここで、
及び
である。
TE及びTMについて明確にρを解くと:
及び
In addition to the requirements expressed by Equation 4, the electromagnetic wave of wavelength λ is directed to the multilayer structure at an angle θ 0, and the individual bilayers of the multilayer structure have thicknesses d H and refractive indices n H and n L , respectively. If having a d L, characteristic conversion matrix (F T) can be expressed as follows.
This can also be expressed as:
here:
as well as
It is.
further,
here,
as well as
It is.
Clearly solving ρ T for TE and TM:
as well as

観測角度に依存する帯域構造は、全反射領域の、帯域端としても知られている、端部についての境界条件から得ることが可能である。本発明の目的のため、帯域端は、所与の帯域構造について全反射領域と透過領域とを分ける線(ライン)の方程式として定義される。   A band structure depending on the observation angle can be obtained from the boundary conditions for the edge, also known as the band edge, of the total reflection region. For the purposes of the present invention, the band edge is defined as a line equation that separates the total reflection and transmission areas for a given band structure.

高反射バンドのバンド周波数を決定する境界条件は、以下の条件によって与えられる。
したがって、式3から:
又は別の表現で:
式15及び7を結合すると、以下のバンド端の式が得られる:
ここで:
及び:
上記のバンド端の式の+の記号は、長波長(λlong)の場合のバンド端を表し、及び−の記号は、短波長(λshort)の場合のバンド端を表す。
式20及び21を再編すると:
TEモードについて:
及び、
TMモードについて:
である。
The boundary condition for determining the band frequency of the high reflection band is given by the following condition.
Thus, from Equation 3:
Or another expression:
Combining Equations 15 and 7 yields the following band edge equation:
here:
as well as:
The symbol “+” in the above band edge formula represents the band edge in the case of the long wavelength (λ long ), and the symbol “−” represents the band edge in the case of the short wavelength (λ short ).
Reorganizing equations 20 and 21:
About TE mode:
as well as,
About TM mode:
It is.

バンド端の近似解は、以下の表現により確定することができる:
4分の1波長の設計(以下でより詳細に記載される)、及び互いに等しくなるように選択された交互の層の光学的な厚さを考慮すれば、この近似解は妥当である。さらに、交互の層の光学的な厚さが比較的小さいと、コサインは1に近づく。このようにして、式23及び24は近似的なバンド端の式をもたらす:
TEモードについて:
及び、TMモードについて:
The approximate solution at the band edge can be determined by the following expression:
This approximate solution is reasonable considering the quarter wavelength design (described in more detail below) and the optical thicknesses of the alternating layers selected to be equal to each other. Furthermore, the cosine approaches 1 when the alternating layer optical thickness is relatively small. Thus, equations 23 and 24 yield approximate band edge equations:
About TE mode:
And about TM mode:

入射角の関数としてのL+及びpTMの値は、式7,8,14,15,20、及び21から得ることができ、それによって入射角の関数としてのTE及びTMモードにおけるλlong及びλshortについての計算が可能となる。   The values of L + and pTM as a function of angle of incidence can be obtained from equations 7, 8, 14, 15, 20, and 21 so that for λlong and λshort in TE and TM modes as a function of angle of incidence. Calculation is possible.

全方向反射体の中心波長(λc)は:
の関係式により確定することができる。
中心波長は重要なパラメーターとなる場合があり、というはその値が反射される電磁波長い及び/又は色スペクトルの近似範囲を示唆するからである。反射帯域の幅に関する示唆をもたらすことのできる、もう一つの重要なパラメーターは、全方向性反射帯域内の波長のレンジ対全方向性反射帯域内の波長のミッドレンジ比として定義される。この「レンジ対ミッドレンジ比」(η)は数学的に以下のように表現される:
TEモードについて、
TMモードについて:
レンジ対ミッドレンジ比は百分率として表現することができ、本発明の目的に関して、この用語「レンジ対ミッドレンジ比」と「レンジ対ミッドレンジ比百分率」は同義的に使用されると理解されたい。さらに、「%」記号を伴って提示される「レンジ対ミッドレンジ比」の値は、「レンジ対ミッドレンジ比」の百分率の値であると理解されたい。TMモード及びTEモードの「レンジ対ミッドレンジ比」の値は、式28及び29から数値的に計算可能であり、高屈折率及び低屈折率の関数としてプロットすることができる。
The central wavelength (λc) of the omnidirectional reflector is:
It can be determined by the relational expression
The center wavelength can be an important parameter, since its value suggests a long electromagnetic wave and / or an approximate range of the color spectrum to be reflected. Another important parameter that can provide suggestions regarding the width of the reflection band is defined as the range of wavelengths within the omni-directional reflection band to the mid-range ratio of wavelengths within the omni-directional reflection band. This “range to mid-range ratio” (η) is mathematically expressed as:
About TE mode
About TM mode:
Range to mid-range ratio can be expressed as a percentage, and for the purposes of the present invention, it is to be understood that the terms “range to mid-range ratio” and “range to mid-range ratio percentage” are used interchangeably. Further, it should be understood that the “range to mid range ratio” value presented with the “%” symbol is a percentage value of the “range to mid range ratio”. The “range to mid-range ratio” values for TM and TE modes can be calculated numerically from Equations 28 and 29 and can be plotted as a function of high and low refractive indices.

狭い全方向性バンドを得るためには、中心波長の分散を最小限にしなければならないと理解されたい。   It should be understood that in order to obtain a narrow omnidirectional band, the dispersion of the central wavelength must be minimized.

したがって、式27から、中心波長の分散は:
と表現することができ:
ここで:
中心波長分散ファクターFは、次のように表現可能である:
Thus, from Equation 27, the dispersion of the center wavelength is:
Can be expressed as:
here:
The central chromatic dispersion factor F c can be expressed as:

上記から、所望の低中心波長シフト(Δλ)を有する多層積層体は、nの屈折率を有し、かつ一又は複数の層が厚さdを有する低屈折率材料、及びnの屈折率を有し、かつ一又は複数の層が厚さdを有する高屈折率材料から設計することができる。 From the above, the multilayer stack having the desired low center wavelength shift (Δλ c ) has a refractive index of n L and one or more layers have a thickness d L , and n H It has a refractive index of, and can be designed from the high refractive index material one or a plurality of layers have a thickness d H.

特に、図4は電磁放射のTMモードとTEモードについての0.2%のレンジ対ミッドレンジ比を、高屈折率対低屈折率の関数としてプロットしたものを比較したグラフである。図において示されるとおり、3つのケースが示されており、ケースIはTMモードとTEモード間の大きな違いに関しており、ケースIIはTMモードとTEモード間の差が小さい場合に関しており、ケースIIIはTMモードとTEモード間の差が非常に小さい場合に関している。さらに、図5は、ケースIIの類似ケースについての反射された電磁放射の反射率パーセント対波長を表している。   In particular, FIG. 4 is a graph comparing a 0.2% range-to-mid-range ratio for the TM and TE modes of electromagnetic radiation, plotted as a function of high refractive index versus low refractive index. As shown in the figure, three cases are shown, Case I relates to a large difference between TM mode and TE mode, Case II relates to a case where the difference between TM mode and TE mode is small, and Case III This relates to the case where the difference between the TM mode and the TE mode is very small. Further, FIG. 5 represents the reflectance percent of reflected electromagnetic radiation versus wavelength for a similar case of Case II.

図5において示されるとおり、ケースIIIに対応する多層薄膜についての中心波長の小さい散乱が示されている。加えて、図6についての参照と合わせて、多層薄膜を0°〜45°の間の角度から観察したときに、ケース2は中心波長の50nm(ケースII)より小さい色ずれをもたらし、かつ多層薄膜を0°〜45°の間の角度から観察したときに、ケースIIIは中心波長の25nm(ケースIII)より小さい色ずれをもたらす。   As shown in FIG. 5, scattering with a small center wavelength is shown for the multilayer thin film corresponding to Case III. In addition, in conjunction with the reference to FIG. 6, when the multilayer film is viewed from an angle between 0 ° and 45 °, Case 2 results in a color shift less than the center wavelength of 50 nm (Case II), and the multilayer When the film is observed from an angle between 0 ° and 45 °, Case III results in a color shift that is less than the central wavelength of 25 nm (Case III).

<第2世代>
図7を参照すると、第2世代に基づく、例示的な構造/設計が示されている。図7に示されている多層積層体は、複数の誘電体層及び、その下にある吸収体層を有している。加えて、入射電磁放射のうち、この構造体を透過するものはなく、即ち、全ての入射電磁放射は反射又は吸収される。図7に示されるようなこのような構造体は、十分な量の反射を得るために必要な誘電体層の数を減少することを可能にする。
<2nd generation>
Referring to FIG. 7, an exemplary structure / design based on the second generation is shown. The multi-layer stack shown in FIG. 7 has a plurality of dielectric layers and an underlying absorber layer. In addition, no incident electromagnetic radiation is transmitted through this structure, ie all incident electromagnetic radiation is reflected or absorbed. Such a structure as shown in FIG. 7 makes it possible to reduce the number of dielectric layers required to obtain a sufficient amount of reflection.

例えば、図8は、多層積層体が、Crから作られている中央の吸収体層、Cr吸収体層にわたって延在する第1の誘電体材料層(DL)、DL層にわたって延在する第2の誘電体材料層(DL)、及びそしてDL層にわたって延在するDL層を有する、このような構造の略図をもたらしている。このような設計において、第1の誘電体層第3の誘電体層の厚さは同じ又は異なっていてよい。 For example, FIG. 8 shows that a multilayer stack extends over a central absorber layer made of Cr, a first dielectric material layer (DL 1 ) extending over the Cr absorber layer, DL 1 layer. This provides a schematic representation of such a structure having a second dielectric material layer (DL 2 ) and a DL 1 layer extending over the DL 2 layer. In such a design, the thickness of the first dielectric layer and the third dielectric layer may be the same or different.

特に、図9Aは、中心のCr層が2つのTiO層に結合され、これが更に2つのSiO層によって結合されている構造のグラフ表示を示している。プロットによって示されるとおり、TiO及びSiOの層の厚さは互いに等しくない。さらに、図9Bは、図9Aに示される5層構造及び第1世代の設計に基づく13層構造体を比較した、反射率対波長スペクトルを示している。図9Bに示されるとおり、この構造を0°〜45°の間の角度から観察したときに、50nmより小さく、好ましくは25nmより小さい中心波長のシフトがもたらされる。第2世代に基づく5層構造が第1世代の13層構造と基本的に同等にふるまうという事実が、図9Bにおいて、さらに示されている。 In particular, FIG. 9A shows a graphical representation of a structure in which the central Cr layer is bonded to two TiO 2 layers, which are further bonded by two SiO 2 layers. As shown by the plot, the layer thicknesses of TiO 2 and SiO 2 are not equal to each other. In addition, FIG. 9B shows the reflectance versus wavelength spectrum comparing the five-layer structure shown in FIG. 9A and the 13-layer structure based on the first generation design. As shown in FIG. 9B, viewing this structure from an angle between 0 ° and 45 ° results in a shift of the central wavelength that is less than 50 nm, preferably less than 25 nm. The fact that a five-layer structure based on the second generation behaves essentially the same as a 13-layer structure of the first generation is further illustrated in FIG. 9B.

<第3世代>
図10を参照すると、下部の反射体層(RL)が、これにわたって延在する第1の誘電体材料層DL、及びDL層にわたって延在する選択的吸収体層SALを有している、第3世代の設計が示されている。加えて、もう一つのDL1層は提供されても、されなくてもよく、かつ選択的吸収体層にわたって延在していても、していなくてもよい。入射する全ての電磁放射が多層積層体によって反射され、又は選択的に吸収されている図が、さらに図において示されている。
<3rd generation>
Referring to FIG. 10, the lower reflector layer (RL) has a first dielectric material layer DL 1 extending over it and a selective absorber layer SAL extending over the DL 1 layer. A third generation design is shown. In addition, another DL1 layer may or may not be provided and may or may not extend across the selective absorber layer. A diagram in which all incident electromagnetic radiation is reflected or selectively absorbed by the multilayer stack is further shown in the figure.

図10に示されるようなこのような設計は、所望の多層積層体を設計及び製造するために利用される、異なる方式に対応している。特に、誘電体層の、ゼロ又はほぼゼロの電場点の厚さを下記において利用し、論じる。   Such a design as shown in FIG. 10 corresponds to the different schemes utilized to design and manufacture the desired multilayer stack. In particular, zero or near zero field point thickness of the dielectric layer is utilized and discussed below.

例えば、図11Aは、Al反射体層にわたって延在するZnS誘電体層の略図である。このZnS誘電体層は、143nmの全厚を有し、かつ500nmの波長を有する入射電磁放射について、77nmの位置にゼロ又はほぼゼロの電場点を有する。言い換えると、ZnS誘電体層は500nmの波長を有する入射EMRについて、Al反射体層から77nmの距離にゼロ又はほぼゼロの電場点を有する。加えて、図11Bは、異なるEMR波長について、ZnS誘電体層にわたる電場のグラフを提供している。グラフにおいて示されるように、誘電体層は500nmの波長を有する入射EMRについて、77nmの厚さにおいてゼロ又はほぼゼロの電場点を有するが、しかし400nm、600nm、及び700nmの波長を有する入射EMRについて、ゼロ又はほぼゼロの電場点を有しない。   For example, FIG. 11A is a schematic illustration of a ZnS dielectric layer extending over an Al reflector layer. This ZnS dielectric layer has a total thickness of 143 nm and a zero or nearly zero electric field point at 77 nm for incident electromagnetic radiation having a wavelength of 500 nm. In other words, the ZnS dielectric layer has a zero or nearly zero electric field point at a distance of 77 nm from the Al reflector layer for incident EMR having a wavelength of 500 nm. In addition, FIG. 11B provides a graph of the electric field across the ZnS dielectric layer for different EMR wavelengths. As shown in the graph, the dielectric layer has zero or nearly zero electric field points at a thickness of 77 nm for incident EMR having a wavelength of 500 nm, but for incident EMR having wavelengths of 400 nm, 600 nm, and 700 nm. , Zero or nearly zero electric field point.

ゼロ又はほぼゼロの電場点の計算について言及すると、図12は反射率nを有する基盤又は中心層2上の、全厚「D、」増分の厚さ「d」、及び反射率「n」を有する誘電体層4を表している。入射光は誘電体層4の外表面5を、外表面5に対して垂直な線6に対して角度θで当たり、そして同じ角度で外表面5から反射する。入射光は外表面5を透過して、線6に対して角度θで誘電体層4に入り、基盤層の表面3に角度θで当たる。 When referring to the calculation of the zero or near-zero field point, 12 on the base or central layer 2 having a reflectance n s, the total thickness "D," the thickness of the increment "d", and reflectivity "n" The dielectric layer 4 having Incident light strikes the outer surface 5 of the dielectric layer 4 at an angle θ with respect to a line 6 perpendicular to the outer surface 5 and reflects from the outer surface 5 at the same angle. Incident light passes through the outer surface 5 and enters the dielectric layer 4 at an angle θ F with respect to the line 6 and strikes the surface 3 of the substrate layer at an angle θ s .

一つの誘電体層について、θs=θFかつ電場/電界(E)はz=dのとき、E(z)と表現することができる。
マクスウェルの方程式から、電場は、s偏光について:
及びp偏光について:
したがって、s偏光について、
及びp偏光について
である。
For one dielectric layer, θs = θF and electric field / electric field (E) can be expressed as E (z) when z = d.
From Maxwell's equations, the electric field is s-polarized:
And for p-polarized light:
Therefore, for s-polarized light,
And p-polarized light
It is.

誘電体層4のz軸方向の電場の変化は、下記のように表現される、未知のパラメーターu(z)及びv(z)を計算することにより概算することができると理解されたい。
s偏光についてq=ncosθ(39)
p偏光についてq=n/cosθ(40)
s偏光についてq=ncosθ (41)
p偏光についてq=n/cosθ (42)
φ=k・n・dcos(θ)(43)
u(z)及びv(z)は、下記のように表現することができる:
及び
及びp偏光について
ここで、
及び
It should be understood that the change in the electric field in the z-axis direction of the dielectric layer 4 can be approximated by calculating the unknown parameters u (z) and v (z) expressed as follows:
For s-polarized light, q s = n s cos θ s (39)
For p-polarized light, q s = n s / cos θ s (40)
For s-polarized light q = n cos θ F (41)
For p-polarized light q = n / cos θ F (42)
φ = k · n · dcos (θ F ) (43)
u (z) and v (z) can be expressed as follows:
as well as
And p-polarized light
here,
as well as

このように、θ=0又は垂直な入射であり、φ=k・n・d、及びα=0である簡単な状態において:
これにより「d」を、即ち、誘電体層中の電場がゼロである場所を解くことができる。
Thus, in a simple state where θ F = 0 or normal incidence, φ = k · n · d, and α = 0:
This can solve "d", i.e. where the electric field in the dielectric layer is zero.

図13を参照すると、434nmの波長を有するEMRに曝したときの図11Aに示されるZnS誘電体層のゼロ又はほぼゼロの電場点が、70nm(500nmの波長について77nmである代わりに)にあることを計算するために、方程式52が使用された。加えて、15nmの厚さのCr吸収体層が、Al反射体層から70nmの厚さに挿入され、これによりゼロ又はほぼゼロの電場のZnS−Cr境界が得られる。このようは発明の構造は、434nmの波長を有する光がCr−ZnS境界を通過させるが、しかし434nmの波長を有しない光を吸収する。言い換えると、このCr−ZnS境界は434nmの波長を有する光に関してゼロ又はほぼゼロの電場を有し、これにより434nmの光はこの境界を通過する。しかしながら、Cr−ZnS境界は434nmの波長を有しない光についてはゼロ又はほぼゼロの電場を有しないため、このような光はCr吸収体層及び/又はCr−ZnS境界によって吸収され、Al反射体層によって反射されない。   Referring to FIG. 13, the zero or nearly zero electric field point of the ZnS dielectric layer shown in FIG. 11A when exposed to EMR having a wavelength of 434 nm is at 70 nm (instead of 77 nm for a wavelength of 500 nm). Equation 52 was used to calculate this. In addition, a 15 nm thick Cr absorber layer is inserted from the Al reflector layer to a thickness of 70 nm, resulting in a zero or near zero electric field ZnS-Cr boundary. Thus, the inventive structure absorbs light having a wavelength of 434 nm through the Cr-ZnS boundary, but not having a wavelength of 434 nm. In other words, this Cr-ZnS boundary has a zero or near zero electric field for light having a wavelength of 434 nm, so that 434 nm light passes through this boundary. However, since the Cr—ZnS boundary does not have a zero or nearly zero electric field for light that does not have a wavelength of 434 nm, such light is absorbed by the Cr absorber layer and / or the Cr—ZnS boundary, and the Al reflector. Not reflected by the layer.

所望の434nmの+/−10nm以内の光の数パーセントは、Cr−ZnS境界を通過することを理解されたい。しかしながら、このような反射光の狭帯域、例えば434+/−10nmは、それでも人の目には鮮明な構造色をもたらすことを、さらに理解されたい。   It should be understood that a few percent of light within +/− 10 nm of the desired 434 nm passes through the Cr—ZnS boundary. However, it should be further understood that such a narrow band of reflected light, for example 434 +/− 10 nm, still provides a clear structural color to the human eye.

図13の多層積層体中のCr吸収体層があることによる結果が、反射率パーセント対反射EMRの波長が示されている図14において示されている。図13に示されるZnS誘電体層であってCr吸収体層を有しないものに対応する、この点線で示されるとおり、狭い反射ピークが約400nmに存在するが、しかしより広いピークが約500+nmにおいて存在する。加えて、500nmの波長の領域において、未だ多量の光が反射される。したがって、多層積層体が構造色をもたらすことを妨げる、二つのピークが存在する。   The result due to the presence of the Cr absorber layer in the multilayer stack of FIG. 13 is shown in FIG. As shown by this dotted line, corresponding to the ZnS dielectric layer shown in FIG. 13 without the Cr absorber layer, a narrow reflection peak is present at about 400 nm, but a wider peak is at about 500+ nm. Exists. In addition, a large amount of light is still reflected in the 500 nm wavelength region. Thus, there are two peaks that prevent the multilayer stack from providing a structural color.

対照的に、図14の実線は、Cr吸収体層が存在する、図13に示される構造体に対応している。図において示されるとおり、約434nmにおいて鋭いピークが存在し、434nmより大きい波長に関する反射率の鋭い降下が、Cr吸収体層によってもたらされる。実線により示される鋭いピークは、視覚的に鮮明な/構造色として見えると理解されたい。さらに、図14は、反射されたピーク又は帯域の幅が測定される場所を示しており、即ち、帯域の幅は、さらに半値幅(FWHM)として知られる、最大反射波長の50%の反射率の部分で測定される。   In contrast, the solid line in FIG. 14 corresponds to the structure shown in FIG. 13 where the Cr absorber layer is present. As shown in the figure, there is a sharp peak at about 434 nm and a sharp drop in reflectivity for wavelengths greater than 434 nm is provided by the Cr absorber layer. It should be understood that the sharp peak indicated by the solid line appears as a visually sharp / structural color. Furthermore, FIG. 14 shows where the reflected peak or band width is measured, ie the band width is also known as the half-width (FWHM), a reflectivity of 50% of the maximum reflection wavelength. Measured in part.

図13に示される多層積層体の全方向作用について言及すると、このZnS誘電体層のこの厚さを設計し、又は定めることができ、これより反射光の第一高調波のみがもたらされる。これは「青」色には十分であるが、しかし「赤」色をもたらすためにはさらなる考慮が必要であると理解されたい。例えば、赤色について、非角度依存性の調整は困難であり、これは、より厚い誘電体層を要するためであり、これにより、高い調和設計をもたらし、即ち、第2及びあるべき第3の高調波が不可避となってしまう。さらに、暗褐色色空間は非常に狭い。したがって、赤色多層積層体は高い角度変化を有する。   Referring to the omnidirectional action of the multilayer stack shown in FIG. 13, this thickness of the ZnS dielectric layer can be designed or determined, which results in only the first harmonic of the reflected light. It should be understood that this is sufficient for a “blue” color, but further consideration is necessary to produce a “red” color. For example, for red, non-angle-dependent adjustment is difficult because it requires a thicker dielectric layer, which results in a high harmonic design, i.e. the second and third harmonics that should be. Waves are inevitable. Furthermore, the dark brown color space is very narrow. Thus, the red multilayer stack has a high angular change.

赤色のこの高い角度変化を克服するため、本出願は、独特かつ新規な、角度非依存性の赤色をもたらす設計/構造を開示する。例えば、図15Aは、0°〜45°の角度から観察した時にこの誘電体層の外表を観察したときに、入射白色光について第1及び第2の高調波を呈する誘電体層を表している。このグラフに示されるように、低い角度依存性(小さいΔλ)が誘電体層の厚さによりもたらされるが、しかしこのような多層積層体は青色(第1の高調波)と赤色(第2の高調波)の組み合わせを有しており、ゆえに所望の「赤のみ」の色には適さない。ゆえに、吸収体層を利用して所望でない高調波の群を吸収する、この理論/構造が発展してきた。図15Aは、所与の反射ピークに関する反射帯域の中心波長(λ)の位置、及びこの試料を0°〜45°の間の角度から観察した場合のこの中心波長の分散又はシフト(Δλ)を更に表している。 In order to overcome this high angular change in red, this application discloses a design / structure that provides a unique and novel, angle-independent red. For example, FIG. 15A shows a dielectric layer that exhibits first and second harmonics for incident white light when the outer surface of the dielectric layer is observed from an angle of 0 ° to 45 °. . As shown in this graph, low angular dependence (small Δλ c ) is provided by the thickness of the dielectric layer, but such multilayer stacks are blue (first harmonic) and red (second For example, it is not suitable for the desired “red only” color. Hence, this theory / structure has been developed that utilizes absorber layers to absorb undesired groups of harmonics. FIG. 15A shows the position of the central wavelength (λ c ) of the reflection band for a given reflection peak and the dispersion or shift (Δλ c) of this central wavelength when the sample is viewed from an angle between 0 ° and 45 °. ).

図15Bについて言及すると、図15Aにおいて示される第2の高調波が、Cr吸収体層によって、適切な誘電体層の厚さ(例えば72nm)において吸収され、そして鮮明な青色がもたらされる。さらに本発明において重要なことに、図15Cは、第1の高調波をCr吸収体層によって異なる誘電体層の厚さ(例えば125nm)において吸収することにより,赤色がもたらされる。しかしながら、図15Cは、Cr吸収体層の使用は、この多層積層体の所望のものよりも高い角度依存性、即ち、所望のΔλよりも大きくなることを、さらに表している。 Referring to FIG. 15B, the second harmonic shown in FIG. 15A is absorbed by the Cr absorber layer at a suitable dielectric layer thickness (eg, 72 nm) and results in a sharp blue color. More importantly in the present invention, FIG. 15C provides a red color by absorbing the first harmonic by the Cr absorber layer at different dielectric layer thicknesses (eg, 125 nm). However, FIG. 15C further illustrates that the use of a Cr absorber layer is higher than the desired angular dependence of this multilayer stack, ie, greater than the desired Δλ c .

青色と比較した赤色に関する相対的に大きいシフトは、この暗赤色の色空間が非常に狭いことと、Cr吸収体層がゼロでない、又はほぼゼロでない電場に対応する色を吸収すること、即ちこの電場がゼロ又はほぼゼロのときに、光を吸収しないという事実によると理解されたい。したがって、図16Aは、異なる入射角度によって、光波長に対するこのゼロ又はほぼゼロの電場点が異なることを示している。この様な要因は、図16Bに示される角度非依存吸収性、即ち、0°及び45°における吸収率曲線の違いをもたらす。したがって、多層積層体の設計及び角度非依存性の性能をさらに向上させるため、電場がゼロか否かによらずに、例えば青色光を吸収する吸収体層を使用する。   The relatively large shift for red compared to blue is that this dark red color space is very narrow and that the Cr absorber layer absorbs a color corresponding to a non-zero or nearly non-zero electric field, i.e. this It should be understood that due to the fact that it does not absorb light when the electric field is zero or nearly zero. Thus, FIG. 16A shows that this zero or near-zero electric field point for the light wavelength is different for different angles of incidence. Such a factor leads to the angle-independent absorptivity shown in FIG. Therefore, in order to further improve the design of the multilayer stack and the angle-independent performance, for example, an absorber layer that absorbs blue light is used regardless of whether the electric field is zero or not.

特に、図17Aは、Cr吸収体層の代わりにCu吸収体層がZnS層にわたって延在している多層積層体を示している。このような「有色」又は「選択的な」吸収体層を使用した結果が図17Bにおいて示され、これは図17Aに示される多層積層体の0°及び45°の吸収率線の、より「厳しい」組み分けを表している。したがって、図16B及び図16Bとの間の比較は、非選択的吸収体層の代わりに選択的吸収体層を使用することにより、吸収率の角度非依存性の顕著な向上があることを示している。   In particular, FIG. 17A shows a multilayer stack in which a Cu absorber layer extends over a ZnS layer instead of a Cr absorber layer. The result of using such a “colored” or “selective” absorber layer is shown in FIG. 17B, which is more from the 0 ° and 45 ° absorption lines of the multilayer stack shown in FIG. 17A. It represents a “serious” grouping. Therefore, a comparison between FIG. 16B and FIG. 16B shows that there is a significant improvement in the angle independence of the absorption rate by using a selective absorber layer instead of a non-selective absorber layer. ing.

上記に基づいて、概念を証明するための多層積層体構造を設計し、作製した。加えて、概念を証明するための試料についての計算/シミュレーション結果、及び実際の実験データを比較した。特に、また図18のグラフプロットにおいて示すように、鮮明な赤色がもたらされ(700nmより大きい波長は通常人の目には見えない)、また、計算/シミュレーション及び実際の試料から得られた実験の光のデータとの間で、非常に良好な一致が得られた。言い換えると、計算/シミュレーションは、本発明の一つ又はそれ以上実施形態及び/又は公知の多層積層体の多層積層体設計の結果をシミュレートし、又はシミュレートするために使用することができる。   Based on the above, a multilayer laminate structure for proof of concept was designed and fabricated. In addition, the calculation / simulation results for the samples to prove the concept and the actual experimental data were compared. In particular, and as shown in the graph plot of FIG. 18, a bright red color is produced (wavelengths greater than 700 nm are usually not visible to the human eye), and calculations / simulations and experiments obtained from actual samples A very good agreement was obtained with the light data. In other words, the calculation / simulation can be used to simulate or simulate the results of one or more embodiments of the present invention and / or the multilayer stack design of known multilayer stacks.

シミュレートし、及び/又は実際に作製した多層積層体の試料の目録を、下記の表1において提供する。表において示すとおり、本明細書で開示されるこの発明の設計は、少なくとも5層の異なる層構造を含んでいる。加えて、この試料は、広い領域の材料からシミュレートし、及び/又は作製した。高い彩度、低い色ずれ、完全な反射率を呈した試料をもたらした。さらに、この3及び5層の試料は120〜200nmの間の全厚を有し;この7層の試料は350〜600nmの全厚を有し;この9層の試料は440〜500nmの全厚を有し、この11層の試料は600〜660nmの全厚を有していた。   An inventory of simulated and / or actually produced multilayer stack samples is provided in Table 1 below. As shown in the table, the inventive design disclosed herein includes at least five different layer structures. In addition, this sample was simulated and / or made from a wide area of material. The result was a sample exhibiting high saturation, low color shift, and perfect reflectivity. Further, the 3 and 5 layer samples have a total thickness between 120 and 200 nm; the 7 layer sample has a total thickness of 350 to 600 nm; the 9 layer sample has a total thickness of 440 to 500 nm. The 11-layer sample had a total thickness of 600-660 nm.

図19について言及すると、反射体の表面に対して0°及び45°の角度から白色光に曝したときの全方向反射体についての、反射率パーセント対反射EMR波長のプロットを示している。プロットで示すように、0°及び45°の曲線は、500nmより大きい波長について全方向反射体がもたらす、非常に低い反射率、例えば20%より小さい反射率を表している。しかしながら、この反射体は、曲線によって示すように、400〜500nmの間の波長において反射率の鋭い増加をもたらし、かつ450nmにおいて約90%の最大値に到達する。この曲線の左手側(UV側)にある、グラフの部分又は領域は、この反射体によりもたらされる反射帯域のUV部分を表していることを理解されたい。   Referring to FIG. 19, a plot of percent reflectance versus reflected EMR wavelength is shown for an omnidirectional reflector when exposed to white light from angles of 0 ° and 45 ° relative to the surface of the reflector. As shown in the plot, the 0 ° and 45 ° curves represent the very low reflectivity provided by the omni-directional reflector for wavelengths greater than 500 nm, eg less than 20%. However, this reflector provides a sharp increase in reflectivity at wavelengths between 400 and 500 nm, as shown by the curve, and reaches a maximum of about 90% at 450 nm. It should be understood that the portion or area of the graph on the left hand side (UV side) of this curve represents the UV portion of the reflection band provided by this reflector.

この全方向反射体によってもたらされる反射率のこの鋭い増加は、500nmより大きい波長にある低反射率部分から高反射率部分、例えば>70%の部分まで延長する各曲線のIR側端によって特徴づけられる。IR端側の直線部分200は、x軸に関して60°より大きい角度(β)に傾いており、反射率軸上の約50の長さL及び1.2の傾きを有している。ある例において、直線部分はx軸に関して70°より大きい角度に傾いており、他方、他の例ではβは75°よりも大きい。さらに、反射帯域は200nmより小さい可視FWMHを有しており、ある例において、150nmより小さい可視FWMHを、他の例において100nmより小さい可視FWMHを有する。加えて、図19で表すような可視反射帯域の中心波長λは、反射帯域のIR側端と可視FWHMのUVスペクトルのUV端から等距離にある波長として定義される。 This sharp increase in reflectivity provided by this omnidirectional reflector is characterized by the IR side edge of each curve extending from a low reflectivity portion at a wavelength greater than 500 nm to a high reflectivity portion, eg,> 70%. It is done. The straight line portion 200 on the IR end side is inclined at an angle (β) larger than 60 ° with respect to the x-axis, and has a length L of about 50 on the reflectance axis and an inclination of 1.2. In one example, the straight portion is inclined at an angle greater than 70 ° with respect to the x-axis, while in other examples β is greater than 75 °. Further, the reflection band has a visible FWMH of less than 200 nm, in some examples a visible FWMH of less than 150 nm and in other examples a visible FWMH of less than 100 nm. In addition, the center wavelength λ c of the visible reflection band as shown in FIG. 19 is defined as a wavelength that is equidistant from the IR side end of the reflection band and the UV end of the UV spectrum of the visible FWHM.

用語「可視FWHM」は、この曲線のIR端側と、これを超えると全方向反射体によって供給される反射は人の目には見えないUVスペクトル領域の端部との間の反射帯域の幅を言及していると理解されたい。このように、本明細書で開示される本発明の設計品及び多層積層体は、鮮明な構造色をもたらすために、電磁放射の不可視UV部分を使用する。言い換えると、反射体が、UV領域に延在するさらに広い電磁放射の帯域を反射するという事実にかかわらず、本明細書が開示する全方向反射体は、反射される可視光の狭帯域を提供するために、電磁放射スペクトルの不可視UV部分を利用している。   The term “visible FWHM” is the width of the reflection band between the IR end of this curve and the end of the UV spectral region beyond which the reflection provided by the omnidirectional reflector is not visible to the human eye. Should be understood as referring to. Thus, the inventive designs and multi-layer laminates disclosed herein use the invisible UV portion of electromagnetic radiation to provide a sharp structural color. In other words, despite the fact that the reflector reflects a wider band of electromagnetic radiation that extends into the UV region, the omnidirectional reflector disclosed herein provides a narrow band of reflected visible light. In order to do so, the invisible UV portion of the electromagnetic radiation spectrum is utilized.

図20を参照すると、本発明の実施形態に基づく多層積層体を0°及び45°から観察した時にもたらされる、全体的に対照的な反射帯域を示している。図において表すとおり、本発明の実施形態に基づく多層積層体を0°から観察した時にもたらされる反射帯域は、多層積層体を45°(λ(45))から観察した時に、50nmより小さい中心波長(λ(0))の色ずれ、即ち、Δλ(0−45)<50nmを有する。加えて、この0度の反射帯域及び45°の反射帯域のFWMHは200nmより小さい。 Referring to FIG. 20, there is shown a generally contrasting reflection band that results when a multilayer stack according to an embodiment of the present invention is observed from 0 ° and 45 °. As shown in the figure, the reflection band produced when a multilayer stack according to an embodiment of the present invention is observed from 0 ° is less than 50 nm when the multilayer stack is observed from 45 ° (λ c (45 o )). It has a color shift of the center wavelength (λ c (0 o )), ie Δλ c (0-45 o ) <50 nm. In addition, the FWMH of this 0 degree reflection band and 45 ° reflection band is less than 200 nm.

図21は、この反射体の表面に対して0°及び45°の角度から白色光に曝したときの、もう一つの全方向反射体設計についての反射率パーセント対反射EMR波長のプロットを示している。図19と同様に、またプロットにおいて示されるように、0°及び45°の曲線は、550nmより小さい波長についてこの全方向反射体がもたらす、非常に低い反射率、例えば10%より小さい反射率を示している。しかしながら、この反射体は、曲線によって示されるように、560〜570nmの間の波長において反射率の鋭い増加をもたらし、かつ700nmにおいて約90%の最大値に到達する。この曲線の右手側(IR側)にある、グラフの部分又は領域は、この反射体によりもたらされる反射帯域のIR部分を表していることを理解されたい。   FIG. 21 shows a plot of percent reflectance versus reflected EMR wavelength for another omnidirectional reflector design when exposed to white light from 0 ° and 45 ° angles to the surface of the reflector. Yes. As in FIG. 19 and as shown in the plot, the 0 ° and 45 ° curves show the very low reflectivity that this omni-directional reflector provides for wavelengths less than 550 nm, eg less than 10%. Show. However, this reflector provides a sharp increase in reflectivity at wavelengths between 560 and 570 nm, as shown by the curve, and reaches a maximum of about 90% at 700 nm. It should be understood that the portion or area of the graph on the right hand side (IR side) of this curve represents the IR portion of the reflection band provided by this reflector.

この全方向反射体によってもたらされる反射率のこの鋭い増加は、550nmより小さい波長にある低反射率部分から高反射率部分、例えば>70%の部分まで延長する各曲線のUV側端によって特徴づけられる。UV端側の直線部分200は、x軸に関して60°より大きい角度(β)に傾いており、反射率軸上の約40の長さL及び1.4の傾きを有している。ある例において、直線部分はx軸に関して70°より大きい角度に傾いており、他方、他の例ではβは75°よりも大きい。さらに、反射帯域は200nmより小さい可視FWMHを有しており、ある例において、150nmより小さい可視FWMHを、他の例において100nmより小さい可視FWMHを有する。さらに、図18において表すこの可視反射帯域の中心波長λは、反射帯域のUV側端と可視FWHMのIRスペクトルのIR端から等距離にある波長として定義される。 This sharp increase in reflectivity provided by this omnidirectional reflector is characterized by the UV side edge of each curve extending from a low reflectivity portion at a wavelength less than 550 nm to a high reflectivity portion, eg,> 70%. It is done. The straight line portion 200 on the UV end side is inclined at an angle (β) larger than 60 ° with respect to the x-axis, and has a length L of about 40 on the reflectance axis and an inclination of 1.4. In one example, the straight portion is inclined at an angle greater than 70 ° with respect to the x-axis, while in other examples β is greater than 75 °. Further, the reflection band has a visible FWMH of less than 200 nm, in some examples a visible FWMH of less than 150 nm and in other examples a visible FWMH of less than 100 nm. Furthermore, the center wavelength λ c of this visible reflection band shown in FIG. 18 is defined as a wavelength that is equidistant from the UV side end of the reflection band and the IR end of the IR spectrum of the visible FWHM.

用語「可視FWHM」は、この曲線のUV端側と、これを超えると全方向反射体によって供給される反射は人の目には見えないIRスペクトル領域の端部との間の反射帯域の幅を言及していると理解されたい。このように、本明細書で開示される本発明の設計品及び多層積層体は、鮮明な構造色をもたらすために、電磁放射の不可視IR部分を使用する。言い換えると、反射体が、IR領域に延在するさらに広い電磁放射の帯域を反射するという事実にかかわらず、本明細書が開示する全方向反射体は、反射される可視光の狭帯域を提供するために、電磁放射スペクトルの不可視IR部分を利用している。   The term “visible FWHM” is the width of the reflection band between the UV end of this curve and the end of the IR spectral region beyond which the reflection supplied by the omnidirectional reflector is not visible to the human eye. Should be understood as referring to. Thus, the inventive designs and multi-layer laminates disclosed herein use the invisible IR portion of electromagnetic radiation to provide a sharp structural color. In other words, despite the fact that the reflector reflects a wider band of electromagnetic radiation that extends into the IR region, the omnidirectional reflector disclosed herein provides a narrow band of reflected visible light. In order to do so, the invisible IR portion of the electromagnetic radiation spectrum is utilized.

図22について言及すると、この反射体の表面に対して0°及び45°の角度から白色光に曝してときの、もう一つの7層設計の全方向反射体についての反射率パーセント対波長を示している。加えて、本明細書により開示する全方向反射体によってもたらされる全方向特性の定義又は評価を示している。特に、また本発明の反射体によりもたらされる反射帯域が最大、即ち図に示されるようなピークを持つとき、各曲線は最大反射率を呈し又は経験する波長として定義される中心波長(λ)を有する。最大反射波長の用語はλとしても使用される。 Referring to FIG. 22, the percent reflectance versus wavelength for an omnidirectional reflector of another seven layer design when exposed to white light from 0 ° and 45 ° angles to the surface of the reflector is shown. ing. In addition, it provides a definition or evaluation of the omnidirectional characteristics provided by the omnidirectional reflector disclosed herein. In particular, and when the reflection band produced by the reflector of the present invention is maximum, i.e., has a peak as shown in the figure, each curve exhibits a maximum reflectance or a center wavelength (λ c ) defined as the wavelength experienced. Have The term maximum reflection wavelength is also used as λ c .

図22において示されるように、この表面を角度0°((λ(0))、即ち表面に垂直に観察したときと比較して、全方向反射体の外表面を角度45°(λ(45)) As shown in FIG. 22, the outer surface of the omnidirectional reflector has an angle of 45 ° (λ) as compared to when the surface is observed at an angle of 0 ° ((λ c (0 o )), ie perpendicular to the surface. c (45 o ))

例えばこの外表が、この表面を見る人の目からは相対的に45°に傾いて見える角度から観察したときにλのシフト又は置換がある。このλ(Δλc)のシフトは、この全方向反射体の全方向特性の尺度をもたらす。当然に、ゼロシフト、即ちシフトが全くないとき、完全な全方向反射体となる。しかしながら、本明細書で開示する全方向反射体は、反射体の表面の色が変わっていないかのように人の目に映り、これにより、実用的見地から反射体が全方向性である、50nm未満のΔλを提供することができる。いくつかの例において、本明細書で開示する全方向反射体は40nm未満のΔλを提供することができ、他の例では30nm未満のΔλを、さらに他の例においては20nm未満のΔλを、さらにより他の例においては15nm未満のΔλを提供することができる。このようなΔλのシフトは、反射体の実際の反射率対波長のプロット、及び/又は代替的に、材料及び層の厚さが既知であれば、反射体のモデリングをすることにより測定することができる。 For example, there is a shift or substitution of λ c when the outer surface is viewed from an angle that appears to be inclined at 45 ° relative to the eyes of the viewer viewing this surface. This shift in λ c (Δλc) provides a measure of the omnidirectional characteristics of the omnidirectional reflector. Of course, when there is zero shift, i.e. no shift, a complete omnidirectional reflector is obtained. However, the omnidirectional reflector disclosed herein appears to the human eye as if the surface color of the reflector has not changed, so that the reflector is omnidirectional from a practical standpoint, A Δλ c of less than 50 nm can be provided. In some examples, the omnidirectional reflector disclosed herein can provide a Δλ c of less than 40 nm, in other examples a Δλ c of less than 30 nm, and in yet other examples a Δλ c of less than 20 nm. c , and in yet other examples, can provide a Δλ c of less than 15 nm. Such a shift in Δλ c is measured by plotting the actual reflectivity versus wavelength of the reflector, and / or by modeling the reflector if the material and layer thickness are known. be able to.

反射体の全方向特性のもう一つの定義又は特性評価は、所与の一連の角度反射帯域の側辺のシフトによって測定することができる。例えば、また図19の参照により、45°(SIR(45))から観察した同じ反射体からの反射に対するIR−側端と比較した、0°(SIR(0))から観察した全方向反射体からの反射に対するIR−側端のシフト又は置換(ΔSIR)は、全方向反射体の全方向特性の度合いを提供する。加えて、Δλ、例えば、図19に示されるうちの一つに似た反射帯域を供給する反射体のΔλ、即ち、可視領域にない最大反射波長に対応するピークのある反射バンド(図19及び21参照)を使用するために、ΔSIRを全方向反射性の尺度として使用することが好ましい。IR側端の(ΔSIR)シフトは、可視FWHMにおいて測定され、及び/又はされることができると理解されたい。 Another definition or characterization of the omnidirectional characteristics of the reflector can be measured by shifting the sides of a given series of angular reflection bands. For example, also with reference to FIG. 19, observed from 0 ° (S IR (0 o )), compared to the IR-side edge for reflection from the same reflector observed from 45 ° (S IR (45 o )). The IR-side edge shift or substitution (ΔS IR ) for reflection from the omni-directional reflector provides a measure of the omni-directional characteristics of the omni-directional reflector. In addition, [Delta] [lambda] c, for example, [Delta] [lambda] c, i.e., the reflection band (diagram a peak corresponding to the maximum reflection wavelength not in the visible region of the one to the reflector supplies a reflection band similar among shown in FIG. 19 to use the 19 and reference 21), it is preferable to use a [Delta] S IR as a measure omnidirectional reflectivity. It should be understood that the (ΔS IR ) shift of the IR side edge can be measured and / or done in the visible FWHM.

図21の参照により、45°(SUV(45))から観察された同じ反射体からの反射に対するIR−側端と比較した、0°(SUV(0))から観察された全方向反射体からの反射に対するIR−側端のシフト又は置換(ΔSIR)は、全方向反射体の全方向特性の度合いを提供する。UV側端の(ΔSUV)シフトは、可視FWHMにおいて測定され、及び/又はされることができると理解されたい。 With reference to FIG. 21, the total observed from 0 ° (S UV (0 o )) compared to the IR-side edge for reflection from the same reflector observed from 45 ° (S UV (45 o )). The IR-side edge shift or substitution (ΔS IR ) for reflection from the directional reflector provides a measure of the omnidirectional characteristics of the omnidirectional reflector. It should be understood that the UV side edge (ΔS UV ) shift can be measured and / or measured in the visible FWHM.

当然に、ゼロシフト、即ちまったくシフトがない(ΔS=0nm;i=IR,UV)ことは、完全な全方向反射体を特徴づけている。しかしながら、本明細書が開示する全方向反射体は、人の目にはあたかも反射体の表面の色が変わらないかのように見え、そのため、実用的見地からこの反射体は全方向性である、50nm未満のΔSを提供することができる。いくつかの例において、本明細書が開示する全方向反射体は40nm未満のΔSを提供することができ、他の例において30nm未満のΔSを提供することができ,さらに他の例において、20nm未満のΔSを提供することができ,さらにいっそう他の例において、15nm未満のΔSLを提供することができる。この様なΔSのシフトは、反射体の実際の反射率対波長のプロット、及び/又は代替的に、材料及び層の厚さが既知であれば、反射体のモデリングによって測定することができる。 Of course, the zero shift, ie no shift at all (ΔS i = 0 nm; i = IR, UV), characterizes a perfect omnidirectional reflector. However, the omnidirectional reflector disclosed herein appears to the human eye as if the color of the reflector's surface does not change, so from a practical standpoint, the reflector is omnidirectional. , ΔS L of less than 50 nm can be provided. In some examples, the omnidirectional reflectors disclosed herein can provide ΔS i of less than 40 nm, in other examples, can provide ΔS i of less than 30 nm, and in other examples , ΔS i of less than 20 nm can be provided, and in yet other examples, ΔSL of less than 15 nm can be provided. Such a shift in ΔS i can be measured by plotting the actual reflectivity versus wavelength of the reflector and / or alternatively by modeling the reflector if the material and layer thickness are known. .

全方向反射体のこのシフトは、低い色ずれによってさらに測定することができる。例えば、本発明の実施形態に基づく多層積層体から作製された顔料の色ずれは、図23に示されるように30°以下であり(Δθ参照)、いくつかの例においてこの色ずれは25°以下であり、好ましくは20°より小さく、さらに好ましくは15°より小さく、さらにより好ましくは10°より小さい。対照的に、従前の顔料は45°又はそれより大きい色ずれ(Δθ参照)を呈する。 This shift of the omnidirectional reflector can be further measured by a low color shift. For example, the color shift of a pigment made from a multilayer laminate according to an embodiment of the present invention is 30 ° or less (see Δθ 1 ) as shown in FIG. 23, and in some examples this color shift is 25 Or less, preferably less than 20 °, more preferably less than 15 °, and even more preferably less than 10 °. In contrast, conventional pigments exhibit a color shift of 45 ° or greater (see Δθ 2 ).

まとめると、第1の層110がこれにわたって延在する第2の層120を有する、本発明の実施態様に基づく全方向多層薄膜の略図が、図24に示されている。随意の反射体層100が含まれていてもよい。さらに、対称的な一対の層が反射体層100を挟んでいることができ、即ち、反射体層100は図において示される層110の反対側に配置される、第1の層110を有していることができ、これにより反射体層100は一対の第1の層110の間に挟まれる。加えて、第2の層120は反射体層100の反対側に配置されていることができ、これによって5層構造がもたらされる。それゆえに、本明細書においてもたらされる多層薄膜の議論は、一つ以上の中心層に関する鏡構造の可能性も含んでいると理解されたい。したがって、図24は5層多層積層体の半分を表している。   In summary, a schematic representation of an omnidirectional multilayer thin film according to an embodiment of the present invention, with the first layer 110 having a second layer 120 extending therethrough, is shown in FIG. An optional reflector layer 100 may be included. Furthermore, a pair of symmetrical layers can sandwich the reflector layer 100, i.e. the reflector layer 100 has a first layer 110 disposed on the opposite side of the layer 110 shown in the figure. Thereby, the reflector layer 100 is sandwiched between the pair of first layers 110. In addition, the second layer 120 can be disposed on the opposite side of the reflector layer 100, resulting in a five-layer structure. Therefore, it should be understood that the discussion of multilayer thin films provided herein also includes the possibility of mirror structures with respect to one or more central layers. Accordingly, FIG. 24 represents half of a five layer multilayer stack.

この第1の層110及び第2の層120は誘電体層であってよく、即ち誘電体材料から作られていてよい。代替的に、この層の一つは吸収体層、例えば選択的吸収体層又は非選択的吸収体層であってよい。例えば、第1の層110は誘電体層であってよく、第2の層120は吸収体層であってよい。   The first layer 110 and the second layer 120 may be dielectric layers, i.e. made of a dielectric material. Alternatively, one of the layers may be an absorber layer, such as a selective absorber layer or a non-selective absorber layer. For example, the first layer 110 may be a dielectric layer and the second layer 120 may be an absorber layer.

図25は、参照番号20により、7層設計の半分を表している。この多層積層体20は、第2の層120にわたって延在する追加の層130を有している。例えば、この追加の層130は吸収体層110にわたって延在する誘電体層であってよい。この層130は層110の材料と同じ又は異なるものであってよいと理解されたい。加えて、層100、110及び/又は120を積層する方法、例えばゾル・ゲル法と同様又は異なる方法によって、層130を多層積層体20上に加えることができる。   In FIG. 25, reference numeral 20 represents half of the seven-layer design. The multilayer stack 20 has an additional layer 130 that extends across the second layer 120. For example, this additional layer 130 may be a dielectric layer that extends across the absorber layer 110. It should be understood that this layer 130 may be the same as or different from the material of layer 110. In addition, the layer 130 can be added on the multilayer stack 20 by a method of laminating the layers 100, 110 and / or 120, for example, a method similar to or different from the sol-gel method.

図26は、参照番号24により9層設計を表しており、これは追加の層105が、随意の反射体層100と第1の層110との間に配置されている。例えば、この追加の層105は、反射体層100及び誘電体層110との間に延在する吸収体層105であってよい。完全に網羅されているわけではないが、多様な層を作ることができる材料の一覧を下記の表2に示す。   FIG. 26 represents a nine-layer design by reference numeral 24, which has an additional layer 105 disposed between the optional reflector layer 100 and the first layer 110. For example, this additional layer 105 may be an absorber layer 105 that extends between the reflector layer 100 and the dielectric layer 110. A list of materials that can be used to make various layers, although not completely covered, is shown in Table 2 below.

本明細書において開示される多層積層体を作製する方法は、当業者において知られているいかなる方法又は工程であってよく、又は当業者に未だ知られていない方法であってよい。通常の知られている方法は、湿系方法、例えばゾル‐ゲル法、レイヤー‐バイ‐レイヤー法、スピンコーティング法及び同種のものを含む。他の知られている乾式方法は、化学気相成長法、及び物理気相成長法、例えばスパッタリング法、電子ビーム蒸着法、及び同種のものを含む。   The method of making the multilayer laminate disclosed herein may be any method or process known to those skilled in the art, or may be a method not yet known to those skilled in the art. Commonly known methods include wet-type methods such as sol-gel methods, layer-by-layer methods, spin coating methods and the like. Other known dry methods include chemical vapor deposition and physical vapor deposition, such as sputtering, electron beam evaporation, and the like.

本明細書により開示するこの多層積層体は、いかなる塗装材、例えば塗料用の顔料、表面にほどこされる薄膜、及び同種のものにも使用することができる。   The multilayer laminate disclosed herein can be used for any coating material, such as paint pigments, thin films on surfaces, and the like.

上述のとおり、保護/環境耐性コーティングを有する全方向構造色顔料をもたらす。例えば、図28及び28を参照すると、コーティングできる例示的な顔料を示している。特に、図27は、中心層100、第1の非酸化物層112、選択的吸収体層114、及び選択的吸収体層にわたって延在する追加の非酸化物層116のある3層顔料12の略図である。図28は、顔料12aの略図であり、これは図28Aのように、追加の層112a、114a、及び追加の非酸化物層116aがあることを除いて、顔料12と同様である。層112‐112a、114−114、及び/又は116−116aは、同種の材料から作られていてもいなくてもよく、同じ厚さを持っていてもいなくてもよいことを理解されたい。   As described above, omnidirectional structural color pigments with protective / environmental resistant coatings are provided. For example, referring to FIGS. 28 and 28, exemplary pigments that can be coated are shown. In particular, FIG. 27 shows a three-layer pigment 12 with a central layer 100, a first non-oxide layer 112, a selective absorber layer 114, and an additional non-oxide layer 116 extending across the selective absorber layer. It is a schematic diagram. FIG. 28 is a schematic diagram of pigment 12a, which is similar to pigment 12 except that there are additional layers 112a, 114a and an additional non-oxide layer 116a as in FIG. 28A. It should be understood that layers 112-112a, 114-114, and / or 116-116a may or may not be made of the same type of material and may or may not have the same thickness.

図29は、顔料22の概略図を示しており、これは保護コーティング200を有する顔料12aを示している。加えて、図30は保護コーティング200が単層又は代替的に2以上の層、例えば第1の層202及び第2の層204で得有ってよいことを表している。第1の層202及び/又は第2の層204は、単一の酸化物による層、又は代替的に、2以上の酸化物から作られ、又は含んでいる混合酸化物の層であることができることを理解されたい。例えば、保護コーティング200は、単一の酸化物の層、例えば酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、又は酸化セリウムの単一の層であることができる。代替的に、保護コーティング200は、第1の層202及び第2の層204を含むことができ、かつこの第1の層202及び第2の層204はそれぞれ酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン又は酸化セリウムの単一の層であることができる。もう一つの代替として、この第1の層202は単一の酸化物の層であってよく、かつこの第2の礎204は、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン又は酸化セリウムのうち少なくとも2つの組み合わせである混合酸化物の層であってよい。さらにもう一つの代替として、この第2の層204は単一の酸化物層であってよく、かつこの第1の層204は酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン又は酸化セリウムのうち少なくとも2つの組み合わせである混合酸化物の層であってよい。   FIG. 29 shows a schematic diagram of the pigment 22, which shows the pigment 12 a having a protective coating 200. In addition, FIG. 30 illustrates that the protective coating 200 may be a single layer or alternatively two or more layers, such as the first layer 202 and the second layer 204. The first layer 202 and / or the second layer 204 may be a single oxide layer, or alternatively a mixed oxide layer made of or containing two or more oxides. Please understand that you can. For example, the protective coating 200 can be a single oxide layer, such as a single layer of silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, or cerium oxide. Alternatively, the protective coating 200 can include a first layer 202 and a second layer 204, and the first layer 202 and the second layer 204 are silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, It can be a single layer of titanium oxide or cerium oxide. As another alternative, the first layer 202 may be a single oxide layer and the second foundation 204 is made of silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, titanium oxide or cerium oxide. It may be a layer of mixed oxide that is a combination of at least two. As yet another alternative, the second layer 204 may be a single oxide layer, and the first layer 204 is at least one of silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, titanium oxide, or cerium oxide. It may be a mixed oxide layer that is a combination of the two.

本発明をより説明するため、しかしいかなる方法によってもその範囲を限定するものではないものとして、耐候性のある全方向構造色顔料、及びこのような顔料を製造するための作製工程を下記において論じる。   To better illustrate the present invention, but not to limit its scope in any way, the weather resistant omnidirectional structural color pigments and the fabrication process for making such pigments are discussed below. .

<手順1>リン酸を用いてエッチングを行い、かつSiO層によってコーティングした7層顔料 <Procedure 1> Seven-layer pigment etched with phosphoric acid and coated with SiO 2 layer

110mlのアセトンに分散した、10gの7層設計顔料を含む懸濁液に、0.13mlのリン酸(85%)を加え、室温で30分間かき混ぜた。この懸濁液をその後ろ過し、2回アセトンで洗浄した。固体粒子をろ過することにより、リン酸処理した7層顔料を得た。この7層顔料は、図28Bに表現されるような構造を有しており、Alの中心層、このAl層に結合している一対のZnS層、この一対のZnS層に結合している一対のCr選択的吸収体層、及びこのCr吸収体層に結合しているもう一つのZnS層を有する。   To a suspension containing 10 g of 7-layer designed pigment dispersed in 110 ml of acetone, 0.13 ml of phosphoric acid (85%) was added and stirred at room temperature for 30 minutes. This suspension was then filtered and washed twice with acetone. By filtering the solid particles, a seven-layer pigment treated with phosphoric acid was obtained. The seven-layer pigment has a structure as shown in FIG. 28B, and includes a central layer of Al, a pair of ZnS layers bonded to the Al layer, and a pair bonded to the pair of ZnS layers. A Cr selective absorber layer and another ZnS layer bonded to the Cr absorber layer.

このリン酸処理した7層顔料を、その後環流冷却器を備える丸底フラスコ中の160mlのエタノールに懸濁した。この懸濁液に35gの水及び3.5gの28%アンモニア水溶液を加えて、65℃に加熱した。次に、10gのテトラエトキシシランを13mlのエタノールで希釈した溶剤を、この加熱した懸濁液に少量ずつかき混ぜながら加えた。この反応混合物を65℃で14時間かき混ぜ、その後、液体から固体粒子をろ過し、エタノールで洗浄し、そしてイソプロパノール(IPA)で洗浄した。固体粒子を100℃で24時間乾燥して、SiOコートされた7層顔料を得た。 This phosphated seven-layer pigment was then suspended in 160 ml of ethanol in a round bottom flask equipped with a reflux condenser. 35 g of water and 3.5 g of 28% aqueous ammonia solution were added to this suspension and heated to 65 ° C. Next, a solvent prepared by diluting 10 g of tetraethoxysilane with 13 ml of ethanol was added to the heated suspension while stirring little by little. The reaction mixture was stirred at 65 ° C. for 14 hours, after which the solid particles were filtered from the liquid, washed with ethanol, and washed with isopropanol (IPA). The solid particles were dried at 100 ° C. for 24 hours to obtain a SiO 2 coated 7 layer pigment.

<手順1A>SiO層でコートされた7層顔料
10gの量の7層顔料を、手順1のようなリン酸による処理を行わずに、環流冷却器を備える丸底フラスコ中の160mlのエタノールに懸濁した。この懸濁液に35gの水及び3.5gの28%アンモニア水溶液を加えた後、65℃で加熱した。次に、10gのテトラエトキシシランを13mlのエタノールで希釈した溶剤を、この加熱した懸濁液に少量ずつかき混ぜながら加えた。この反応混合物を65℃で14時間かき混ぜ、その後、液体から固体粒子をろ過し、エタノールで洗浄し、そしてイソプロパノール(IPA)で洗浄した。固体粒子を100℃で24時間乾燥して、SiOコートされた7層顔料を得た。
A seven-layer pigment of the amount of <Step 1A> 7-layer pigment 10g coated with SiO 2 layer, without treatment with phosphoric acid, such as steps 1, 160 ml of ethanol in a round bottom flask equipped with a reflux condenser It was suspended in. To this suspension, 35 g of water and 3.5 g of 28% aqueous ammonia solution were added, and then heated at 65 ° C. Next, a solvent prepared by diluting 10 g of tetraethoxysilane with 13 ml of ethanol was added to the heated suspension while stirring little by little. The reaction mixture was stirred at 65 ° C. for 14 hours, after which the solid particles were filtered from the liquid, washed with ethanol, and washed with isopropanol (IPA). The solid particles were dried at 100 ° C. for 24 hours to obtain a SiO 2 coated 7 layer pigment.

<手順2>水溶液を使用した、SiOのコートがされた7層顔料
15gの7層顔料を250ml3つ口フラスコ内に入れた。そして、100mlのDI水を加え、この溶液を80℃に加熱したエチレングリコールバス内で撹拌した。この溶液に数滴の1MのNaOH溶液を加えてpHを7.5に調整した。次に、20mlのNaSiO(13wt%SiO)を、シリンジポンプを使用して定流量0.1ml/minでの溶液に加えた。NaSiOを加える際に、自動pH調節装置を使用して、1MのHCl水溶液をさらに加えてpHを7.5に維持した。この混合物を室温まで冷却し、ろ過し、IPAで洗浄し、そして100℃で24時間乾燥させた。このコートされた材料は、さらに200℃で24時間アニールしてもよい。
<Procedure 2> Seven-layer pigment coated with SiO 2 using an aqueous solution 15 g of seven-layer pigment was placed in a 250 ml three-necked flask. 100 ml of DI water was then added and the solution was stirred in an ethylene glycol bath heated to 80 ° C. To this solution was added a few drops of 1M NaOH solution to adjust the pH to 7.5. Next, 20 ml of Na 2 SiO 3 (13 wt% SiO 2 ) was added to the solution at a constant flow rate of 0.1 ml / min using a syringe pump. When adding Na 2 SiO 3 , an automatic pH adjuster was used to further add 1M aqueous HCl to maintain the pH at 7.5. The mixture was cooled to room temperature, filtered, washed with IPA, and dried at 100 ° C. for 24 hours. This coated material may be further annealed at 200 ° C. for 24 hours.

<手順3>SiO層及び混合SiO−Al層でコートした7層顔料
手順1又は1−AのSiOでコートされた顔料2gを水20mlに懸濁し、pHを約10にした(希釈NaOH溶液により調節)。この懸濁液を100ml丸底フラスコ内で撹拌しつつ60℃で加熱した。そして、18wt%NaSi0溶液0.5ml及び0.5MAl(SO溶液1mlを、この顔料懸濁液に定流量で1時間以内に、同時に滴定した。このスラリーのpHは調整しなかった。滴定後、この懸濁液を撹拌しつつ30分間放置した。この混合物をろ過して、残留した固体粒子をDI水で洗浄し、その後IPAで洗浄した。残留した固体粒子を100℃で24時間乾燥することにより、SiO層及びAl層を有する7層顔料を得た。
<Procedure 3> Seven-layer pigment coated with Si 2 O layer and mixed Si 2 O—Al 2 O 3 layer 2 g of pigment coated with SiO 2 of Procedure 1 or 1-A is suspended in 20 ml of water, and the pH is about 10 (adjusted with dilute NaOH solution). This suspension was heated at 60 ° C. with stirring in a 100 ml round bottom flask. Then, 0.5 ml of 18 wt% Na 2 SiO 3 solution and 1 ml of 0.5 MAl 2 (SO 4 ) 3 solution were titrated simultaneously to the pigment suspension at a constant flow rate within 1 hour. The pH of this slurry was not adjusted. After titration, the suspension was left for 30 minutes with stirring. The mixture was filtered and the remaining solid particles were washed with DI water followed by IPA. The remaining solid particles were dried at 100 ° C. for 24 hours to obtain a seven-layer pigment having a SiO 2 layer and an Al 2 O 3 layer.

<手順4>SiO2層及びZrO+Al混合層のコートを有する7層顔料
手順1又は1−AのSiOでコートされた顔料3gを100mlの丸底フラスコ内のエタノール20mlに懸濁し、室温で撹拌した。さらに、アルミニウム−トリ−sec−ブトキシド0.66g及びジルコニウムブトキシド2.47mlをIPA15mlに溶解した。アルミニウム−トリ−sec−ブトキシド+ジルコニウムブトキシド混合物を、この顔料懸濁液に一定流量で2時間以内に滴定した。同時に、エタノール2mlに希釈したDI水0.66mlを適量投与した。滴定後、この懸濁液をさらに30分撹拌した。この混合物をろ過して、残留した固体粒子をDI水で洗浄し、その後IPAで洗浄した。残留した固体粒子を100℃で24時間乾燥することにより、又は代替的にさらに200℃で24時間アニールすることにより、SiO層及びZrO+Al混合層を有する7層顔料を得た。
<Step 4> SiO2 layer and ZrO 2 + Al 2 O 3 pigment 3g coated with SiO 2 of the seven-layer pigment Step 1 or 1-A with a coating of the mixed layer is suspended in ethanol 20ml round bottom flask 100ml And stirred at room temperature. Further, 0.66 g of aluminum-tri-sec-butoxide and 2.47 ml of zirconium butoxide were dissolved in 15 ml of IPA. The aluminum-tri-sec-butoxide + zirconium butoxide mixture was titrated to this pigment suspension at a constant flow rate within 2 hours. At the same time, an appropriate amount of 0.66 ml of DI water diluted in 2 ml of ethanol was administered. After the titration, the suspension was stirred for another 30 minutes. The mixture was filtered and the remaining solid particles were washed with DI water followed by IPA. Residual solid particles were dried at 100 ° C. for 24 hours, or alternatively further annealed at 200 ° C. for 24 hours to obtain a 7-layer pigment having a SiO 2 layer and a ZrO 2 + Al 2 O 3 mixed layer .

<手順5>SiO層及びZrO+Al混合層のコートを有する7層顔料
手順1又は1−AのSiOでコートされた顔料3gを100mlの丸底フラスコ内のエタノール20mlに懸濁し、50℃に加熱しつつ撹拌した。その後、5wt%NaAlO溶液0.5ml及びZrOCl10wt%溶液0.5mlをこの顔料懸濁液に定流量で30分以内に、同時に滴定した。スラリーのpHは希釈したHCl又はNaOHを加えることで8に調整した。滴定後、この懸濁液を撹拌しつつ30分間放置した。この混合物をろ過し、DI水で洗浄し、その後IPAで洗浄した。残留した固体粒子を100℃で24時間乾燥し、又は代替的にさらに200℃で24時間アニールした。
<Procedure 5> Seven-layer pigment having coat of SiO 2 layer and ZrO 2 + Al 2 O 3 mixed layer Procedure 1 or 3 g of pigment coated with 1-A SiO 2 was suspended in 20 ml of ethanol in a 100 ml round bottom flask. It became cloudy and stirred while heating to 50 ° C. Thereafter, 0.5 ml of 5 wt% NaAlO 2 solution and 0.5 ml of ZrOCl 2 10 wt% solution were titrated simultaneously into the pigment suspension at a constant flow rate within 30 minutes. The pH of the slurry was adjusted to 8 by adding diluted HCl or NaOH. After titration, the suspension was left for 30 minutes with stirring. The mixture was filtered and washed with DI water followed by IPA. The remaining solid particles were dried at 100 ° C. for 24 hours, or alternatively further annealed at 200 ° C. for 24 hours.

<手順6>SiO層、CeO層及びZrO+Al混合層のコートを有する7層顔料
手順1又は1−Aの酸化ケイ素(SiO2)でコートされた顔料(3.5g)を100mlの丸底フラスコ内のエタノール26.83mlに懸濁し、70℃に加熱しつつ20分間撹拌した。その後、HO1.18ml中のCe(NO・6HO0.33gをこの顔料懸濁液に2mL/hrの定流量で滴定し、この混合物を滴定後からさらに1.5時間撹拌した。この反応において、希釈NaOHを使用してこの溶液のpHを7.0に維持した。この混合物の残留した固体粒子をろ過し、水で3回洗浄し、その後IPAで3回洗浄した。残留した固体粒子を100℃で24時間乾燥して、SiO層及びCeO層を有する7層顔料を得た。
<Procedure 6> Seven-layer pigment having a coating of SiO 2 layer, CeO 2 layer and ZrO 2 + Al 2 O 3 mixed layer Procedure 1 or pigment coated with 1-A silicon oxide (SiO 2) (3.5 g) Was suspended in 26.83 ml of ethanol in a 100 ml round bottom flask and stirred for 20 minutes while heating to 70 ° C. Then, H 2 was titrated with a constant flow rate of 2 mL / hr and Ce (NO 3) 3 · 6H 2 O0.33g in O1.18ml to the pigment suspension and further 1.5 h stirring the mixture after titration did. In this reaction, diluted NaOH was used to maintain the pH of the solution at 7.0. The remaining solid particles of this mixture were filtered, washed 3 times with water and then washed 3 times with IPA. The remaining solid particles were dried at 100 ° C. for 24 hours to obtain a seven-layer pigment having a SiO 2 layer and a CeO 2 layer.

次に、このコートされた顔料3gを100ml丸底フラスコ内のエタノール20mlに希釈して、室温で撹拌した。アルミニウム−トリ−sec−ブトキシド0.66g及びジルコニウムブトキシド2.47mlをIPA15mlに溶解した混合物を、一定流量で2時間以内にこの顔料懸濁液に加えた。同時に、エタノール2mlに希釈したDI水0.66mlを適量投与した。滴定後、この懸濁液をさらに30分撹拌した。この混合物をろ過して、残留した固体粒子をDI水で洗浄し、その後IPAで洗浄した。残留した固体粒子を100℃で24時間乾燥することにより、又は代替的にさらに200℃で24時間アニールすることにより、SiO層、CeO層及びZrO+Al混合層を有する7層顔料を得た。 Next, 3 g of this coated pigment was diluted with 20 ml of ethanol in a 100 ml round bottom flask and stirred at room temperature. A mixture of 0.66 g aluminum-tri-sec-butoxide and 2.47 ml zirconium butoxide in 15 ml IPA was added to the pigment suspension at a constant flow rate within 2 hours. At the same time, an appropriate amount of 0.66 ml of DI water diluted in 2 ml of ethanol was administered. After the titration, the suspension was stirred for another 30 minutes. The mixture was filtered and the remaining solid particles were washed with DI water followed by IPA. 7 layers with SiO 2 layer, CeO 2 layer and ZrO 2 + Al 2 O 3 mixed layer by drying the remaining solid particles at 100 ° C. for 24 hours or alternatively further annealing at 200 ° C. for 24 hours A pigment was obtained.

<手順7>CeO層及びZrO+Al混合層によりコートされた7層顔料 <Procedure 7> Seven-layer pigment coated with CeO 2 layer and ZrO 2 + Al 2 O 3 mixed layer

7層設計顔料3gを100ml丸底フラスコ中のIPA20mlに懸濁して、75℃で撹拌した。Ce(NO・6HO0.44gをIPA20mlに溶解した溶液を、1時間、定流量で滴定した。同時に、DI水0.9mlに希釈したエチレンジアミン(EDA)0.15mlを秤量した。さらなるDI水0.9mlに希釈したEDA0.15mlを秤量した。滴定後、この懸濁液をさらに15分間撹拌した。この混合液をろ過し、残留した固体粒子をIPAで洗浄した。残留した固体粒子を100℃で5時間乾燥することにより、CeO層を有する7層顔料を得た。 3 g of the 7-layer designed pigment was suspended in 20 ml of IPA in a 100 ml round bottom flask and stirred at 75 ° C. Ce solution dissolved in IPA20ml a (NO 3) 3 · 6H 2 O0.44g, 1 hour, was titrated with constant flow. At the same time, 0.15 ml of ethylenediamine (EDA) diluted in 0.9 ml of DI water was weighed. An additional 0.15 ml of EDA diluted in 0.9 ml of DI water was weighed. After the titration, the suspension was stirred for an additional 15 minutes. The mixture was filtered and the remaining solid particles were washed with IPA. The remaining solid particles were dried at 100 ° C. for 5 hours to obtain a 7-layer pigment having a CeO 2 layer.

その後、CeOによりコートされた顔料を100ml丸底フラスコ内のエタノール20mlに希釈して、室温で撹拌した。次に、アルミニウム−トリ−sec−ブトキシド0.66g及びジルコニウムブトキシド2.47mlをIPA15mlに希釈した混合物を、2時間レートで顔料懸濁液に滴定した。同時に、エタノール2mlに希釈したDI水0.66mlを秤量した。滴定後、この懸濁液をさらに30分間撹拌した。この混合液をろ過し、残留した固体粒子をエタノールで洗浄し、その後IPAで洗浄した。残留した固体粒子を100℃で24時間乾燥し、又は代替的にさらに200℃で24時間アニールして、CeO層及びのZrO+Al混合層を有する7層顔料を得た。 Thereafter, the pigment coated with CeO 2 was diluted with 20 ml of ethanol in a 100 ml round bottom flask and stirred at room temperature. Next, a mixture of 0.66 g aluminum-tri-sec-butoxide and 2.47 ml zirconium butoxide in 15 ml IPA was titrated into the pigment suspension at a rate of 2 hours. At the same time, 0.66 ml of DI water diluted in 2 ml of ethanol was weighed. After the titration, the suspension was stirred for an additional 30 minutes. The mixture was filtered, and the remaining solid particles were washed with ethanol and then washed with IPA. The remaining solid particles were dried at 100 ° C. for 24 hours, or alternatively further annealed at 200 ° C. for 24 hours to obtain a seven-layer pigment having a CeO 2 layer and a ZrO 2 + Al 2 O 3 mixed layer.

<手順8>ZrO層を有する7層顔料
7層設計顔料2gを、100ml丸底フラスコ内のエタノール30mlに懸濁して、室温で撹拌した。ジルコニウムブトキシド(1−ブタノール中80%)2.75mlをエタノール10mlに溶解した溶液を1時間レートで滴定した。同時に、エタノール3mlに希釈したDI水1mlを秤量した。滴定後、この懸濁液をさらに15分間撹拌した。残留固体粒子を溶液からろ過し、エタノールで洗浄しそして100℃で5時間乾燥して、又は代替的にさらに200℃で24時間アニールして、ZrO層を有する7層顔料を得た。
<手順9>SiO層及びAl層でコートされた7層顔料
手順1又は1AのSiOコートされた顔料2gを、100ml丸底フラスコ内の約8のpHを有する(希釈NaOH溶液で調整された)水20mlに懸濁し、50℃に加熱して継続的に撹拌した。その後、5wt%NaAlO溶液0.5mlをこの顔料懸濁液に30分レートで滴定した。このスラリーのpHは1MのHCl溶液を用いて8に調整した。滴定後、この懸濁液を撹拌しつつ30分間放置した。この混合物をろ過し、DI水で洗浄し、その後IPAで洗浄した。100℃で24時間乾燥して、コートされた顔料を得た。
<Procedure 8> Seven-layer pigment having two layers of ZrO 2 g of the seven-layer designed pigment was suspended in 30 ml of ethanol in a 100 ml round bottom flask and stirred at room temperature. A solution of 2.75 ml of zirconium butoxide (80% in 1-butanol) dissolved in 10 ml of ethanol was titrated at a rate of 1 hour. At the same time, 1 ml of DI water diluted in 3 ml of ethanol was weighed. After the titration, the suspension was stirred for an additional 15 minutes. Residual solid particles were filtered from the solution, washed with ethanol and dried at 100 ° C. for 5 hours, or alternatively further annealed at 200 ° C. for 24 hours to obtain a 7-layer pigment having a ZrO 2 layer.
<Step 9> the SiO 2 coated pigment 2g of the SiO 2 layer and the Al 2 O 3 layer Coated with seven layers pigments Step 1 or 1A, having a pH of about 8 in 100ml round bottom flask (dilute NaOH solution Suspended in 20 ml of water (adjusted with Thereafter, 0.5 ml of 5 wt% NaAlO 2 solution was titrated into the pigment suspension at a rate of 30 minutes. The pH of the slurry was adjusted to 8 using 1M HCl solution. After titration, the suspension was left for 30 minutes with stirring. The mixture was filtered and washed with DI water followed by IPA. The coated pigment was obtained by drying at 100 ° C. for 24 hours.

<手順10>SiO層及びTiO層でコートされた7層顔料
250ml3口丸底フラスコをエチレングリコールオイルバスに設置して、温度を80℃に設定した。その後、手順1又は1AのSiOコートがされた小片15g及びDI水100mlをフラスコに入れ、400rpmで撹拌した。この溶液を数滴の濃縮HCl溶液を滴下してpH2に調節した。その後、事前に希釈した35%TiCl溶液をシリンジポンプによって0.1ml/minでこの混合物に滴定した。pHを一定に維持するため、ベース溶液であるNaOH溶液(8M)を児童pH調整装置によってフラスコ内に滴定した。析出中、層厚を測定するために、特定の時間間隔で小片試料を摘出した。この混合物を室温まで冷却し、その後ろ過し、IPAで洗浄し、100℃で24時間乾燥し、又は代替的にさらに200℃で24時間アニールした。
<Procedure 10> Seven-layer pigment coated with SiO 2 layer and TiO 2 layer A 250 ml 3-neck round bottom flask was placed in an ethylene glycol oil bath, and the temperature was set at 80 ° C. Thereafter, 15 g of the procedure 1 or 1A SiO 2 coated piece and 100 ml of DI water were placed in a flask and stirred at 400 rpm. The solution was adjusted to pH 2 by adding a few drops of concentrated HCl solution. The pre-diluted 35% TiCl 4 solution was then titrated to this mixture at 0.1 ml / min with a syringe pump. In order to keep the pH constant, a NaOH solution (8M) as a base solution was titrated into the flask by a child pH adjuster. During the deposition, small sample pieces were extracted at specific time intervals in order to measure the layer thickness. The mixture was cooled to room temperature and then filtered, washed with IPA, dried at 100 ° C. for 24 hours, or alternatively further annealed at 200 ° C. for 24 hours.

コートされた顔料の耐候性特性を、下記の方法によって試験した。7つの円柱状の耐熱ガラスフラスコ(容量120ml)を光反応容器として使用した。各フラスコは蛍光赤色染料(エオシンB)溶液(1x10-5M)40mlを含んでおり、顔料13.3mgを試験した。この顔料‐エオシンB溶液を30分暗条件で電磁的に撹拌し、その後ソーラーシミュレーター(オリオル社Sol2A クラスABA ソーラーシミュレータ)の光に曝した。各顔料について、同種の顔料をアルミニウムフォイルで包んだものを、直接標準対照として用いた。さらに、商用TiO(デグサP25)を同様の実験条件下における光触媒活性を比較するための参照として用いた。各試料の光触媒活性を検出するために、65時間光に曝した後のUV/Vis吸収スペクトルを記録した。 The weathering properties of the coated pigments were tested by the following method. Seven cylindrical heat-resistant glass flasks (capacity 120 ml) were used as photoreaction vessels. Each flask contained 40 ml of a fluorescent red dye (eosin B) solution (1 × 10 −5 M) and 13.3 mg of pigment was tested. This pigment-eosin B solution was electromagnetically stirred under dark conditions for 30 minutes, and then exposed to light from a solar simulator (Oliol Sol2A class ABA solar simulator). For each pigment, the same type of pigment wrapped in aluminum foil was used as a direct standard control. In addition, commercial TiO 2 (Degussa P25) was used as a reference to compare photocatalytic activity under similar experimental conditions. To detect the photocatalytic activity of each sample, a UV / Vis absorption spectrum after exposure to light for 65 hours was recorded.

図31に示すように試験の結果を、相対的光触媒活性対顔料タイプとしてプロットした。加えて、保護コーティングを有しない7層顔料を100%の光触媒活性を表すものとして設定し、コートのある顔料試料との比較として用いた。図31に示されるように、全てのコートされた顔料試料は、コートされていない試料と比較して光触媒活性の減少を表した。加えて、SiOコーティングを有する7層顔料(P/Sで標識される)、SiOコーティング層及びZrO+Al2O混合コーティング層を有する7層顔料(P/S/Z−Aで標識される)、SiOコーティング層、CeOコーティング層及びZrO+Al2O混合コーティング層を有する7層顔料(P/S/C/Z−Aで標識される)、及びCeOコーティング層及びZrO+Al2O混合コーティング層を有する7層顔料(P/C/Z−Aで標識される)は、コートされていない顔料と比較して、少なくとも50%の光触媒活性の減少を表した。対照的に、SiOコーティング層を有する7層顔料、及びSiO+Alコーティング層を有する7層顔料は、わずか33.8%の光触媒活性の減少しかあらわさなかった。 The results of the test were plotted as relative photocatalytic activity versus pigment type as shown in FIG. In addition, a 7-layer pigment without a protective coating was set to represent 100% photocatalytic activity and was used as a comparison with a coated pigment sample. As shown in FIG. 31, all coated pigment samples exhibited a decrease in photocatalytic activity compared to the uncoated sample. In addition, 7-layer pigment with SiO 2 coating (labeled with P / S), 7-layer pigment with SiO 2 coating layer and ZrO 2 + Al 2 O 3 mixed coating layer (labeled with P / S / Z-A) ), A 7-layer pigment (labeled P / S / C / ZA) with a SiO 2 coating layer, a CeO 2 coating layer and a ZrO 2 + Al 2 O 3 mixed coating layer, and a CeO 2 coating layer and ZrO 2 + Al 2 O 3 Seven-layer pigments with mixed coating layers (labeled with P / C / ZA) exhibited a reduction in photocatalytic activity of at least 50% compared to uncoated pigments. In contrast, the 7-layer pigment with the SiO 2 coating layer and the 7-layer pigment with the SiO 2 + Al 2 O 3 coating layer showed only a 33.8% reduction in photocatalytic activity.

SiO層及びZrO−Al層(手順4)によるコーティングがされる前後の7層顔料の走査電子顕微鏡画像を、それぞれ図32A及び32Bにおいて示した。画像において示すとおり、顔料の表面はなめらかであり、コートされた後の物理的形状及び構造保存性はコートされる前の顔料と同様である。加えて、外表のZnS層が第1のSiO層及び第2のZrO−Al(手順4)混合層保護コーティングによりコートされている7層全方向構造色顔料のEDXドットマップ画像は、コーティング構造においてZn、S、Si、Zr、及びAlが相対的に高く集中していることを示している。 Scanning electron microscope images of the seven-layer pigment before and after being coated with the SiO 2 layer and the ZrO 2 —Al 2 O 3 layer (Procedure 4) are shown in FIGS. 32A and 32B, respectively. As shown in the image, the surface of the pigment is smooth, and the physical shape and structure preservation after coating are the same as the pigment before coating. In addition, an EDX dot map image of a seven-layer omnidirectional structural color pigment in which the outer surface ZnS layer is coated with a first SiO 2 layer and a second ZrO 2 —Al 2 O 3 (Procedure 4) mixed layer protective coating Indicates that Zn, S, Si, Zr, and Al are concentrated relatively high in the coating structure.

コーティングの要約として、コーティングを作製するために使用した工程、コーティングの厚さ、コーティングの厚さの均一性、及び光触媒活性を下記の表3に示す。   As a summary of the coating, the process used to make the coating, coating thickness, coating thickness uniformity, and photocatalytic activity are shown in Table 3 below.

上述から、表4は本教示における、様々な酸化物層、コートすることのできる基盤、コーティングの厚さの範囲を提供する。   From the above, Table 4 provides various oxide layers, substrates that can be coated, and coating thickness ranges in the present teachings.

上記に加えて、保護コーティングを有する全方向構造色顔料は、オルガノシラン表面処理を施してもよい。例えば、ある例示的なオルガノシラン工程処理では、上述の一つ以上の保護層を有する顔料0.5gを、100ml丸底フラスコ内の約5.0(希釈した酢酸溶液により調整した)のpHを有するEtOH/水(4:1)10mlに懸濁した。このスラリーを20秒間超音波処理し、500rpmで15分撹拌した。次に0.1〜0.5vol%のオルガノシランが薬品をスラリーに加え、溶液を500rpmでさらに2時間撹拌した。このスラリーを、DI水を使用して遠心分離し、又はろ過し、そして残留顔料をEtOH/水(4:1)溶液10mlに再分散した。この顔料‐EtOH/水スラリーを還流下で65℃に加熱し、500rpmで30分撹拌した。そしてこのスラリーを、DI水、その後IPAを使用して遠心分離し、又はろ過して、顔料粒子のケーキを得た。最後に、このケーキを100℃で12時間乾燥した。   In addition to the above, the omnidirectional structural color pigment having a protective coating may be subjected to an organosilane surface treatment. For example, in one exemplary organosilane process, 0.5 g of pigment having one or more protective layers as described above is added to a pH of about 5.0 (adjusted with dilute acetic acid solution) in a 100 ml round bottom flask. Suspended in 10 ml of EtOH / water (4: 1). The slurry was sonicated for 20 seconds and stirred at 500 rpm for 15 minutes. Next, 0.1-0.5 vol% organosilane added the chemical to the slurry and the solution was stirred at 500 rpm for an additional 2 hours. The slurry was centrifuged using DI water or filtered, and the residual pigment was redispersed in 10 ml of EtOH / water (4: 1) solution. The pigment-EtOH / water slurry was heated to 65 ° C. under reflux and stirred at 500 rpm for 30 minutes. The slurry was then centrifuged using DI water and then IPA or filtered to obtain a cake of pigment particles. Finally, the cake was dried at 100 ° C. for 12 hours.

オルガノシラン工程は、当業者にとって公知であるいかなるオルガノシランカップリング剤を使用することもでき、例えばN−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(APTMS)、N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミン3−メソアルキルオキシプロピルトリメトキシ‐シラン(MAPTMS)、N−[2(ビニルベンジルアミノ)−エチル]−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−グリシド−オキシプロピルトリメトキシシラン及び同種のものを含む。   The organosilane process can use any organosilane coupling agent known to those skilled in the art, such as N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane (APTMS), N- [3- (Trimethoxysilyl) propyl] ethylenediamine 3-mesoalkyloxypropyltrimethoxy-silane (MAPTMS), N- [2 (vinylbenzylamino) -ethyl] -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycid-oxypropyltri Includes methoxysilane and the like.

上述の例及び実施形態は、説明のみを目的とし、当業者にとって明らかな変更、修正、及び同種のものは本発明の範囲に含まれる。したがって、本発明の範囲は請求項及びこれと同等な全てものによって定義される。   The above examples and embodiments are for illustrative purposes only, and variations, modifications, and the like apparent to those skilled in the art are within the scope of the present invention. Accordingly, the scope of the invention is defined by the claims and all equivalents thereof.

本発明はさらに下記の実施形態も含む:
1.第1の材料の第1の層及び第2の材料の第2の層を有する顔料であって、前記第2の層は前記第1の層にわたって延在し、前記顔料を広帯域電磁放射に曝し、かつ0°〜45°の間の角度から観察したときに、前記顔料が300nmより小さい所与の半値幅(FWMH)及びCIELAB色空間において30°より小さい所与の色ずれを有する電磁放射の帯域を反射する顔料、及び前記顔料の外表面を被覆している耐候性コーティングであって、かつ前記顔料の光触媒活性を、耐候性コーティングを有しない前記顔料と比較して、少なくとも50%減少させる耐候性コーティングを有する、全方向構造色顔料。
2.前記耐候性コーティングが酸化物層を有する、前記2に記載の、保護コーティングを有する全方向構造色顔料。
3.前記酸化物層が酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、及び酸化セリウムからなる群より選択される、前記2に記載の、保護コーティングを有する全方向構造色顔料。
4.前記天候訂正コーティングが、第1の酸化物層及び第2の酸化物層を有し、前記第2の酸化物層が、前記第1の酸化物層と異なる、前記3に記載の、保護コーティングを有する全方向構造色顔料。
5.前記第2の酸化物層が、2つの異なる酸化物の組み合わせである混合酸化物層である、前記4に記載の、保護コーティングを有する全方向構造色顔料。
6.前記第1の酸化物層が、酸化ケイ素であり、かつ前記第2の酸化物層が、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化セリウムからなる群の少なくとも2つから選択され、前記5に記載の、保護コーティングを有する全方向構造色顔料。
7.前記顔料が酸化物層を含まない、前記1に記載の、保護コーティングを有する全方向構造色顔料。
The present invention further includes the following embodiments:
1. A pigment having a first layer of a first material and a second layer of a second material, wherein the second layer extends across the first layer and exposes the pigment to broadband electromagnetic radiation. And when viewed from an angle between 0 ° and 45 °, the pigment has a given full width at half maximum (FWMH) less than 300 nm and a given color shift less than 30 ° in the CIELAB color space. A pigment reflecting the band and a weathering coating covering the outer surface of the pigment, and reducing the photocatalytic activity of the pigment by at least 50% compared to the pigment without the weathering coating An omnidirectional structural color pigment having a weather resistant coating.
2. 3. The omnidirectional structural color pigment having a protective coating as described in 2 above, wherein the weather-resistant coating has an oxide layer.
3. 3. The omnidirectional structural color pigment having a protective coating according to 2, wherein the oxide layer is selected from the group consisting of silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, titanium oxide, and cerium oxide.
4). The protective coating of claim 3, wherein the weather correction coating has a first oxide layer and a second oxide layer, and the second oxide layer is different from the first oxide layer. An omnidirectional structural color pigment.
5). 5. The omnidirectional structural color pigment having a protective coating according to 4, wherein the second oxide layer is a mixed oxide layer that is a combination of two different oxides.
6). The first oxide layer is silicon oxide, and the second oxide layer is selected from at least two of the group consisting of silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, titanium oxide, and cerium oxide; 6. An omnidirectional structural color pigment having a protective coating according to claim 5.
7). The omnidirectional structural color pigment having a protective coating according to 1, wherein the pigment does not include an oxide layer.

本発明はさらに下記の実施形態も含む:
1.第1の材料の第1の層及び第2の材料の第2の層を有する顔料であって、前記第2の層は前記第1の層にわたって延在し、前記顔料を広帯域電磁放射に曝し、かつ0°〜45°の間の角度から観察したときに、前記顔料が300nmより小さい所与の半値幅(FWMH)及び30°より小さい所与の色ずれを有する電磁放射の帯域を反射する顔料、及び前記顔料の外表面を被覆している耐候性コーティングであって、かつ前記顔料の光触媒活性を、前記耐候性コーティングを有しない前記顔料と比較して、少なくとも50%減少させる耐候性コーティングを有する、保護コーティングを有する全方向構造色顔料。
2.前記耐候性コーティングが酸化物層を有する、前記1に記載の、保護コーティングを有する全方向構造色顔料。
3.前記酸化物層が、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、及び酸化セリウムからなる群より選択される、前記2に記載の、保護コーティングを有する全方向構造色顔料。
4.前記耐候性コーティングが、第1の酸化物層及び第2の酸化物層を有し、前記第2の酸化物層が、前記第1の酸化物層と異なる、前記3に記載の、保護コーティングを有する全方向構造色顔料。
5.前記第2の酸化物層が、2つの異なる酸化物の組み合わせである混合酸化物層である、前記4に記載の、保護コーティングを有する全方向構造色顔料。
6.前記第1の酸化物層が、酸化ケイ素であり、かつ前記第2の酸化物層が、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、及び酸化セリウムからなる群の少なくとも2つである、前記5に記載の、保護コーティングを有する全方向構造色顔料。
7.前記顔料が酸化物層を含まない、前記1に記載の、保護コーティングを有する全方向構造色顔料。
8.複数の顔料粒子を供給すること、ここで、各前記顔料粒子は第1の材料の第1の層、及び第2の材料の第2の層を有し、前記第2の層は前記第1の層にわたって延在し、前記顔料は、広帯域電磁放射に曝らされ、かつ0°〜45°の間の角度から観察したときに、300nmより小さい所与の半値幅(FWMH)、及び30°より小さい所与の色ずれを有する電磁放射の帯域を反射する複数の前記顔料粒子を第1の液体に懸濁して顔料懸濁液を形成すること、第2の液体、並びにケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、セリウム及びチタンから選択される酸化物構成元素を有する酸化物前駆体を供給すること、顔料懸濁液及び酸化物前駆体を混合すること、ここで、この混合は複数の前記顔料粒子の上に耐候性酸化物コーティングを堆積させ、耐候性コーティングを有する複数の顔料粒子と比較して、複数の前記顔料粒子の光触媒活性を少なくとも50%減少させることを含む、保護コーティングを有する全方向構造色顔料の製造方法。
9.第1の液体が第1の有機溶媒であり、かつ第2の液体が第2の有機溶媒である、前記8に記載の方法。
10.第1の有機溶媒及び第2の有機溶媒が有機極性溶媒である、前記9に記載の方法。
11.第1の有機溶媒及び第2の有機溶媒がn−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、エタノール、n−ブタノール、及びアセトンからなる群より選択される、前記10に記載方法。
12.第1の有機溶媒及び第2の有機溶媒がプロトン性有機極性溶媒である、前記11に記載方法。
13.第1の有機溶媒及び第2の有機溶媒が同じプロトン性有機極性溶媒である、前記12に記載の方法。
14.酸化物構成元素であるケイ素がテトラエトキシシランの形態であり、酸化物構成元素であるアルミニウムが、硫酸アルミニウム及びアルミニウム−トリ−sec−ブトキシドのうち少なくとも一つの形態であり、酸化物構成元素であるジルコニウムが、ジルコニウムブトキシドの形態であり、酸化物構成元素であるセリウムが、硝酸セリウム六水和物、硫酸セリウムのうち少なくとも一つの形態であり、また酸化物構成元素であるチタンが、チタンエトキシド、チタンイソプロポキシド、及びチタン‐n‐ブトキシドのうち少なくとも一つの形態であってよい、前記13に記載の方法。
15.第1の液体が第1の水性液体であり、第2の液体が第2の水性液体である、前記8に記載の方法。
16.酸化物構成元素が、ケイ酸ナトリウムの形態であり、酸化物構成元素であるアルミニウムが、硫酸アルミニウム、硫酸アルミニウム水和物、及びアルミン酸ナトリウムのうち少なくとも一つの形態であり、酸化物構成元素であるジルコニウムが、塩化ジルコニウム八水和物の形態であり、酸化物構成元素であるセリウムが、硝酸セリウム六水和物の形態であり、酸化物構成元素であるチタンが、四塩化チタンの形態である、前記15に記載の方法。
The present invention further includes the following embodiments:
1. A pigment having a first layer of a first material and a second layer of a second material, wherein the second layer extends across the first layer and exposes the pigment to broadband electromagnetic radiation. And when viewed from an angle between 0 ° and 45 °, the pigment reflects a band of electromagnetic radiation having a given half-width (FWMH) less than 300 nm and a given color shift less than 30 °. A weathering coating covering the pigment and the outer surface of the pigment and reducing the photocatalytic activity of the pigment by at least 50% compared to the pigment without the weathering coating An omnidirectional structural color pigment having a protective coating.
2. The omnidirectional structural color pigment having a protective coating according to 1 above, wherein the weatherable coating has an oxide layer.
3. 3. The omnidirectional structural color pigment having a protective coating according to 2, wherein the oxide layer is selected from the group consisting of silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, titanium oxide, and cerium oxide.
4). 4. The protective coating of claim 3, wherein the weatherable coating has a first oxide layer and a second oxide layer, and the second oxide layer is different from the first oxide layer. An omnidirectional structural color pigment.
5. 5. The omnidirectional structural color pigment having a protective coating according to 4, wherein the second oxide layer is a mixed oxide layer that is a combination of two different oxides.
6). The first oxide layer is silicon oxide, and the second oxide layer is at least two of the group consisting of silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, titanium oxide, and cerium oxide, 6. An omnidirectional structural color pigment having a protective coating according to claim 5.
7). The omnidirectional structural color pigment having a protective coating according to 1, wherein the pigment does not include an oxide layer.
8). Providing a plurality of pigment particles, wherein each of the pigment particles has a first layer of a first material and a second layer of a second material, the second layer being the first layer; The pigment is exposed to broadband electromagnetic radiation and has a given full width at half maximum (FWMH) less than 300 nm and 30 ° when viewed from an angle between 0 ° and 45 °. Suspending a plurality of said pigment particles reflecting a band of electromagnetic radiation having a smaller given color shift in a first liquid to form a pigment suspension; a second liquid; and silicon, aluminum, zirconium Supplying an oxide precursor having an oxide constituent selected from cerium and titanium, mixing a pigment suspension and an oxide precursor, wherein the mixing is performed on a plurality of the pigment particles. Deposit a weathering oxide coating on the Compared with a plurality of pigment particles having a weather resistant coating, comprising decreasing the photocatalytic activity of a plurality of said pigment particles at least 50%, omnidirectional structural color manufacturing method of a pigment having a protective coating.
9. 9. The method according to 8, wherein the first liquid is a first organic solvent and the second liquid is a second organic solvent.
10. 10. The method according to 9 above, wherein the first organic solvent and the second organic solvent are organic polar solvents.
11. 11. The method according to 10, wherein the first organic solvent and the second organic solvent are selected from the group consisting of n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, ethanol, n-butanol, and acetone.
12 12. The method according to 11 above, wherein the first organic solvent and the second organic solvent are protic organic polar solvents.
13. 13. The method according to 12 above, wherein the first organic solvent and the second organic solvent are the same protic organic polar solvent.
14 Silicon that is an oxide constituent element is in the form of tetraethoxysilane, and aluminum that is an oxide constituent element is at least one of aluminum sulfate and aluminum-tri-sec-butoxide, and is an oxide constituent element. Zirconium is in the form of zirconium butoxide, the cerium oxide constituent element is at least one of cerium nitrate hexahydrate and cerium sulfate, and the titanium oxide constituent element is titanium ethoxide. 14. The method according to 13 above, which may be in the form of at least one of titanium isopropoxide, and titanium-n-butoxide.
15. 9. The method according to 8 above, wherein the first liquid is a first aqueous liquid and the second liquid is a second aqueous liquid.
16. The oxide constituent element is in the form of sodium silicate, and the oxide constituent aluminum is at least one of aluminum sulfate, aluminum sulfate hydrate, and sodium aluminate, and the oxide constituent element A certain zirconium is in the form of zirconium chloride octahydrate, the cerium oxide constituent is in the form of cerium nitrate hexahydrate, and the titanium constituent oxide is in the form of titanium tetrachloride. 16. The method according to 15 above.

Claims (16)

第1の材料の第1の層及び第2の材料の第2の層を有する顔料であって、前記第2の層は前記第1の層にわたって延在し、前記顔料を広帯域電磁放射に曝し、かつ0°〜45°の間の角度から観察したときに、前記顔料が300nmより小さい所与の半値幅(FWMH)及び30°より小さい所与の色ずれを有する電磁放射の帯域を反射する顔料、及び
前記顔料の外表面を被覆している耐候性コーティングであって、かつ前記顔料の光触媒活性を、前記耐候性コーティングを有しない前記顔料と比較して、少なくとも50%減少させる耐候性コーティング
を有する、保護コーティングを有する全方向構造色顔料。
A pigment having a first layer of a first material and a second layer of a second material, wherein the second layer extends across the first layer and exposes the pigment to broadband electromagnetic radiation. And when viewed from an angle between 0 ° and 45 °, the pigment reflects a band of electromagnetic radiation having a given half-width (FWMH) less than 300 nm and a given color shift less than 30 °. A weathering coating covering an outer surface of the pigment and reducing the photocatalytic activity of the pigment by at least 50% compared to the pigment without the weathering coating An omnidirectional structural color pigment having a protective coating.
前記耐候性コーティングが酸化物層を有する、請求項1に記載の、保護コーティングを有する全方向構造色顔料。   The omnidirectional structural color pigment with protective coating according to claim 1, wherein the weatherable coating has an oxide layer. 前記酸化物層が、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、及び酸化セリウムからなる群より選択される、請求項2に記載の、保護コーティングを有する全方向構造色顔料。   The omnidirectional structural color pigment having a protective coating according to claim 2, wherein the oxide layer is selected from the group consisting of silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, titanium oxide, and cerium oxide. 前記天候訂正コーティングが、第1の酸化物層及び第2の酸化物層を有し、前記第2の酸化物層が、前記第1の酸化物層と異なる、請求項3に記載の、保護コーティングを有する全方向構造色顔料。   The protection of claim 3, wherein the weather correction coating has a first oxide layer and a second oxide layer, and the second oxide layer is different from the first oxide layer. An omnidirectional structural color pigment having a coating. 前記第2の酸化物層が、2つの異なる酸化物の組み合わせである混合酸化物層である、請求項4に記載の、保護コーティングを有する全方向構造色顔料。   The omnidirectional structural color pigment with protective coating according to claim 4, wherein the second oxide layer is a mixed oxide layer that is a combination of two different oxides. 前記第1の酸化物層が、酸化ケイ素であり、かつ前記第2の酸化物層が、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化セリウムからなる群の少なくとも2つから選択される、請求項5に記載の、保護コーティングを有する全方向構造色顔料。   The first oxide layer is silicon oxide, and the second oxide layer is selected from at least two of the group consisting of silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, titanium oxide, and cerium oxide; 6. An omnidirectional structural color pigment having a protective coating according to claim 5. 前記顔料が酸化物層を含まない、請求項1に記載の、保護コーティングを有する全方向構造色顔料。   The omnidirectional structural color pigment with protective coating according to claim 1, wherein the pigment does not comprise an oxide layer. 複数の顔料粒子を供給すること、ここで、各前記顔料粒子は第1の材料の第1の層、及び第2の材料の第2の層を有し、前記第2の層は前記第1の層にわたって延在し、前記顔料は、広帯域電磁放射に曝らされ、かつ0°〜45°の間の角度から観察したときに、300nmより小さい所与の半値幅(FWMH)、及び30°より小さい所与の色ずれを有する電磁放射の帯域を反射する
複数の前記顔料粒子を第1の液体に懸濁して顔料懸濁液を形成すること、
第2の液体、並びにケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、セリウム及びチタンから選択される酸化物構成元素を有する酸化物前駆体を供給すること、
顔料懸濁液及び酸化物前駆体を混合すること、ここで、この混合は複数の前記顔料粒子の上に耐候性酸化物コーティングを堆積させ、耐候性コーティングを有する複数の顔料粒子と比較して、複数の前記顔料粒子の光触媒活性を少なくとも50%減少させることを含む、保護コーティングを有する全方向構造色顔料の製造方法。
Providing a plurality of pigment particles, wherein each of the pigment particles has a first layer of a first material and a second layer of a second material, the second layer being the first layer; The pigment is exposed to broadband electromagnetic radiation and has a given full width at half maximum (FWMH) less than 300 nm and 30 ° when viewed from an angle between 0 ° and 45 °. Suspending a plurality of said pigment particles in a first liquid reflecting a band of electromagnetic radiation having a smaller given color shift to form a pigment suspension;
Providing an oxide precursor having a second liquid and an oxide constituent selected from silicon, aluminum, zirconium, cerium and titanium;
Mixing a pigment suspension and an oxide precursor, wherein the mixing deposits a weatherable oxide coating on the plurality of pigment particles, as compared to a plurality of pigment particles having a weatherable coating; Reducing the photocatalytic activity of the plurality of pigment particles by at least 50%.
第1の液体が第1の有機溶媒であり、かつ第2の液体が第2の有機溶媒である、請求項8に記載の方法。   The method of claim 8, wherein the first liquid is a first organic solvent and the second liquid is a second organic solvent. 第1の有機溶媒及び第2の有機溶媒が有機極性溶媒である、請求項9に記載の方法。   The method according to claim 9, wherein the first organic solvent and the second organic solvent are organic polar solvents. 第1の有機溶媒及び第2の有機溶媒がn−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、エタノール、n−ブタノール、及びアセトンからなる群より選択される、請求項10に記載方法。   The method of claim 10, wherein the first organic solvent and the second organic solvent are selected from the group consisting of n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, ethanol, n-butanol, and acetone. 第1の有機溶媒及び第2の有機溶媒がプロトン性有機極性溶媒である、請求項11に記載方法。   The method according to claim 11, wherein the first organic solvent and the second organic solvent are protic organic polar solvents. 第1の有機溶媒及び第2の有機溶媒が同じプロトン性有機極性溶媒である、請求項12に記載の方法。   13. The method of claim 12, wherein the first organic solvent and the second organic solvent are the same protic organic polar solvent. 酸化物構成元素であるケイ素がテトラエトキシシランの形態であり、酸化物構成元素であるアルミニウムが、硫酸アルミニウム及びアルミニウム−トリ−sec−ブトキシドのうち少なくとも一つの形態であり、酸化物構成元素であるジルコニウムが、ジルコニウムブトキシドの形態であり、酸化物構成元素であるセリウムが、硝酸セリウム六水和物、硫酸セリウムのうち少なくとも一つの形態であり、また酸化物構成元素であるチタンが、チタンエトキシド、チタンイソプロポキシド、及びチタン‐n‐ブトキシドのうち少なくとも一つの形態であってよい、請求項13に記載の方法。   Silicon that is an oxide constituent element is in the form of tetraethoxysilane, and aluminum that is an oxide constituent element is at least one of aluminum sulfate and aluminum-tri-sec-butoxide, and is an oxide constituent element. Zirconium is in the form of zirconium butoxide, the cerium oxide constituent element is at least one of cerium nitrate hexahydrate and cerium sulfate, and the titanium oxide constituent element is titanium ethoxide. 14. The method of claim 13, which may be in at least one form of titanium isopropoxide, and titanium-n-butoxide. 第1の液体が第1の水性液体であり、第2の液体が第2の水性液体である、請求項8に記載の方法。   The method of claim 8, wherein the first liquid is a first aqueous liquid and the second liquid is a second aqueous liquid. 酸化物構成元素が、ケイ酸ナトリウムの形態であり、酸化物構成元素であるアルミニウムが、硫酸アルミニウム、硫酸アルミニウム水和物、及びアルミン酸ナトリウムのうち少なくとも一つの形態であり、酸化物構成元素であるジルコニウムが、塩化ジルコニウム八水和物の形態であり、酸化物構成元素であるセリウムが、硝酸セリウム六水和物の形態であり、酸化物構成元素であるチタンが、四塩化チタンの形態である、請求項15に記載の方法。   The oxide constituent element is in the form of sodium silicate, and the oxide constituent aluminum is at least one of aluminum sulfate, aluminum sulfate hydrate, and sodium aluminate, and the oxide constituent element A certain zirconium is in the form of zirconium chloride octahydrate, the cerium oxide constituent is in the form of cerium nitrate hexahydrate, and the titanium constituent oxide is in the form of titanium tetrachloride. 16. The method of claim 15, wherein
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