JP2016041799A - Curable composition, cured product, semiconductor sealing material, semiconductor device, prepreg, print circuit board, flexible wiring board, build-up film, build-up substrate, fiber-reinforced composite material, and molding - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable composition that has high adhesion and can yield a cured product with excellent properties of heat resistance, dielectric properties, and low expansion rate, and provide the cured product, a semiconductor sealing material, a semiconductor device, a prepreg, a print circuit board, a flexible wiring board, a build-up film, a build-up substrate, a fiber-reinforced composite material, and a molding.SOLUTION: A curable composition comprises one or more condensed polycyclic aromatic cyanate ester compound (A) selected from compounds represented by formula (A1) and structural formula (A2), and a monocyclic aromatic cyanate ester compound (B) wherein a plurality of monocyclic compounds having cyanato groups on aromatic nuclei are bonded together directly or through linking groups.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、硬化物において、優れた耐熱性、誘電特性、低熱膨張率性、密着性を発現させることのできる硬化性組成物、上記機能を有する硬化物、半導体封止材料、半導体装置、プリプレグ、プリント回路基板、フレキシルブル配線基板、ビルドアップフィルム、ビルドアップ基板、繊維強化複合材料、成形品に関する。   The present invention relates to a curable composition capable of exhibiting excellent heat resistance, dielectric properties, low thermal expansion property, and adhesion in a cured product, a cured product having the above functions, a semiconductor sealing material, a semiconductor device, and a prepreg. The present invention relates to a printed circuit board, a flexible wiring board, a build-up film, a build-up board, a fiber reinforced composite material, and a molded product.

近年、コンピューターなどの分野において使用される周波数が、ギガヘルツ帯のような高周波領域に移行しつつある。このような高周波領域で用いられる樹脂材料には、通信速度の高速化に対応するため、硬化物において低誘電率、低誘電正接の機能を発現することが求められている。   In recent years, frequencies used in the field of computers and the like are shifting to a high frequency region such as a gigahertz band. Resin materials used in such a high frequency region are required to exhibit functions of a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent in a cured product in order to cope with an increase in communication speed.

上記分野の中でも、プリント回路基板の分野では、環境問題に対する法規制等により、鉛を使用しない高融点はんだ(鉛フリーはんだ)を使用することが主流となっている。そのため、プリント回路基板に用いられる樹脂材料には、硬化物において優れた耐熱性の機能を発現することも求められている。   Among the above-mentioned fields, in the field of printed circuit boards, the use of high melting point solder (lead-free solder) that does not use lead has become the mainstream due to environmental regulations and the like. Therefore, the resin material used for the printed circuit board is also required to exhibit an excellent heat resistance function in the cured product.

また、プリント回路基板の分野では、配線ピッチの狭小化による高密度化が著しく、これに対応した実装方法として、フリップチップ接続方式が広く用いられている。しかし、フリップチップ接続方式では、プリント回路基板を作成するときに配線板自体が高熱環境に晒されるため、プリント回路基板が熱収縮し、プリント回路基板上に配置された配線が接続不良を起こす場合がある。そのため、プリント回路基板に用いられる樹脂材料には、硬化物において低熱膨張率性の機能を発現することが求められている。   Further, in the field of printed circuit boards, the density of wiring has been greatly increased by narrowing the wiring pitch, and a flip chip connection method is widely used as a mounting method corresponding to this. However, in the flip-chip connection method, when the printed circuit board is created, the wiring board itself is exposed to a high heat environment, so that the printed circuit board is thermally contracted, and the wiring arranged on the printed circuit board causes poor connection. There is. Therefore, the resin material used for the printed circuit board is required to exhibit a function of low thermal expansion coefficient in the cured product.

このような、プリント回路基板は、導体層となる銅箔と絶縁層となる樹脂層とを積層したのち、加熱圧着し、次いで銅箔をエッチングすることにより得られる。しかし、上記方法で製造されるプリント回路基板は、銅箔と樹脂層との密着性が不十分な場合がある。そのため、プリント回路基板に用いられる樹脂材料には、硬化物において優れた密着性の機能を発現することが求められている。   Such a printed circuit board can be obtained by laminating a copper foil serving as a conductor layer and a resin layer serving as an insulating layer, then thermocompression bonding, and then etching the copper foil. However, the printed circuit board manufactured by the above method may have insufficient adhesion between the copper foil and the resin layer. Therefore, the resin material used for the printed circuit board is required to exhibit an excellent adhesion function in the cured product.

上記特性を有する樹脂材料として、シアン酸エステル樹脂が注目されている。シアン酸エステル樹脂は、熱硬化時に生じるトリアジン環によって、硬化物において優れた耐熱性、誘電特性の機能を発現させることができる。   As a resin material having the above characteristics, a cyanate ester resin has attracted attention. The cyanate ester resin can exhibit functions of excellent heat resistance and dielectric properties in a cured product by a triazine ring generated during heat curing.

特許文献1には、シアン酸エステルにおける樹脂組成物として、フェノールノボラック型シアン酸エステル樹脂と、ビスフェノールAシアン酸エステル樹脂と、エポキシ樹脂とを含む樹脂組成物が記載されている。   Patent Document 1 describes a resin composition containing a phenol novolac-type cyanate ester resin, a bisphenol A cyanate ester resin, and an epoxy resin as a resin composition in the cyanate ester.

しかしながら、特許文献1の樹脂組成物は、硬化物における耐熱性、誘電特性、低熱膨張率性については、ある程度改善されるものの、近年要求されている水準に及ぶものではなかった。また、特許文献1の樹脂組成物は、銅箔などとの密着性が低いため、上記樹脂組成物を用いて製造されたプリント回路基板は、基板内で層間剥離が生じるという問題もあった。   However, although the resin composition of Patent Document 1 is improved to some extent with respect to heat resistance, dielectric properties, and low thermal expansion coefficient in the cured product, it has not reached the level required in recent years. Moreover, since the resin composition of patent document 1 has low adhesiveness with copper foil etc., the printed circuit board manufactured using the said resin composition also had the problem that delamination occurred in a board | substrate.

特開2004−182850号公報JP 2004-182850 A

従って、本発明が解決しようとする課題は、硬化物において優れた耐熱性、誘電特性、低膨張率性、密着性を発現させることのできる硬化性組成物、上記機能を有する硬化物、半導体封止材料、半導体装置、プリプレグ、プリント回路基板、フレキシルブル配線基板、ビルドアップフィルム、ビルドアップ基板、繊維強化複合材料、成形品を提供することにある。   Therefore, the problem to be solved by the present invention is to provide a curable composition capable of exhibiting excellent heat resistance, dielectric properties, low expansion coefficient and adhesion in a cured product, a cured product having the above functions, and a semiconductor encapsulation. It is to provide a stopping material, a semiconductor device, a prepreg, a printed circuit board, a flexible wiring board, a buildup film, a buildup board, a fiber reinforced composite material, and a molded product.

本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)と、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)とを有する硬化性組成物が、硬化物において優れた耐熱性、誘電特性、低膨張率性、密着性を発現させることができることから、プリント回路基板などの電子部材用材料として有用性が高いことを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a curable composition having a condensed polycyclic aromatic cyanate ester compound (A) and a monocyclic aromatic cyanate ester compound (B), In order to complete the present invention, it is found that the cured product can exhibit excellent heat resistance, dielectric properties, low expansion coefficient, and adhesion, and is highly useful as a material for electronic members such as printed circuit boards. It came.

即ち、本発明は、下記構造式(A1)および下記構造式(A2)で表される化合物からなる群から選択される1種以上の縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)と、芳香核上にシアナト基を有する単環化合物が直接または連接基を介して複数結合された単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)とを有する硬化性組成物に関する。   That is, the present invention relates to one or more condensed polycyclic aromatic cyanate ester compounds (A) selected from the group consisting of compounds represented by the following structural formula (A1) and the following structural formula (A2); The present invention relates to a curable composition having a monocyclic aromatic cyanate ester compound (B) in which a plurality of monocyclic compounds having a cyanate group are bonded directly or via a connecting group.

Figure 2016041799
Figure 2016041799

但し、上記構造式(A1)、上記構造式(A2)において、
はそれぞれ独立してシアナト基以外の1価の置換基を示し、jは1〜3の整数を示し、kは0〜2j+4の整数を示し、lは0〜5の整数を示し、mは0〜2の整数を示し、nはそれぞれ独立して0〜6の整数を示す。
However, in the structural formula (A1) and the structural formula (A2),
R 1 each independently represents a monovalent substituent other than a cyanato group, j represents an integer of 1 to 3, k represents an integer of 0 to 2j + 4, l represents an integer of 0 to 5, m Represents an integer of 0 to 2, and n represents an integer of 0 to 6 independently.

本発明は更に、上記硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物に関する。   The present invention further relates to a cured product obtained by curing the curable composition.

本発明は更に、上記硬化性組成物と、無機質充填材とを含有する半導体封止材料に関する。   The present invention further relates to a semiconductor sealing material containing the curable composition and an inorganic filler.

本発明は更に、上記半導体封止材料を加熱硬化させて得られる半導体装置に関する。   The present invention further relates to a semiconductor device obtained by heat curing the semiconductor sealing material.

本発明は更に、上記硬化性組成物を有機溶剤に希釈したものを補強基材に含浸し、得られる含浸基材を半硬化させることにより得られるプリプレグに関する。   The present invention further relates to a prepreg obtained by impregnating a reinforcing substrate with a solution obtained by diluting the curable composition in an organic solvent and semi-curing the resulting impregnated substrate.

本発明は更に、上記プリプレグを板状に賦形したものを銅箔と積層し、加熱加圧成型して得られるプリント回路基板に関する。   The present invention further relates to a printed circuit board obtained by laminating a prepreg shaped into a plate shape with a copper foil and heating and pressing.

本発明は更に、上記硬化性組成物に有機溶剤を配合させたものを電気絶縁性フィルムに塗布したのち、上記電気絶縁性フィルムと金属箔を一体化させて得られるフレキシルブル配線基板に関する。   The present invention further relates to a flexible wiring board obtained by applying a mixture of an organic solvent to the curable composition to an electrically insulating film and then integrating the electrically insulating film and a metal foil.

本発明は更に、上記硬化性組成物を有機溶剤に希釈したものを基材フィルム上に塗布し、乾燥させることにより得られるビルドアップフィルムに関する。   The present invention further relates to a buildup film obtained by applying a solution obtained by diluting the curable composition in an organic solvent onto a base film and drying it.

本発明は更に、上記ビルドアップフィルムを回路が形成されたプリント回路基板に塗布し、加熱硬化させて得られるプリント回路基板に凹凸を形成し、次いで上記プリント回路基板にめっき処理を行うことにより得られるビルドアップ基板に関する。   The present invention is further obtained by applying the build-up film to a printed circuit board on which a circuit is formed, heat-curing the printed circuit board to form irregularities, and then subjecting the printed circuit board to plating. Related to the build-up substrate.

本発明は更に、上記硬化性組成物と強化繊維とを含有する繊維強化複合材料に関する。   The present invention further relates to a fiber-reinforced composite material containing the curable composition and reinforcing fibers.

本発明は更に、上記繊維強化複合材料を硬化させてなる成形品に関する。   The present invention further relates to a molded product obtained by curing the fiber-reinforced composite material.

本発明によれば、硬化物において優れた耐熱性、誘電特性、低膨張率性、密着性を発現させることのできる硬化性組成物、上記機能を有する硬化物、半導体封止材料、半導体装置、プリプレグ、プリント回路基板、ビルドアップフィルム、ビルドアップ基板、繊維強化複合材料、及び成形品を提供することができる。   According to the present invention, a curable composition capable of exhibiting excellent heat resistance, dielectric properties, low expansion coefficient, and adhesion in a cured product, a cured product having the above functions, a semiconductor sealing material, a semiconductor device, A prepreg, a printed circuit board, a buildup film, a buildup board, a fiber-reinforced composite material, and a molded product can be provided.

<硬化性組成物>
本発明の硬化性組成物は、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)と、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)とを有する。以下で、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)と、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)について説明する。
<Curable composition>
The curable composition of this invention has a condensed polycyclic aromatic cyanate ester compound (A) and a monocyclic aromatic cyanate ester compound (B). Hereinafter, the condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A) and the monocyclic aromatic cyanate compound (B) will be described.

・縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)
縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)は、複数の芳香環が縮合した縮合芳香環上にシアナト基を有するシアン酸たエステル化合物である。
・ Condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A)
The condensed polycyclic aromatic cyanate ester compound (A) is a cyanate ester compound having a cyanate group on a condensed aromatic ring in which a plurality of aromatic rings are condensed.

そのような縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)としては、下記構造式(A1)、または下記構造式(A2)で表されるシアン酸エステル化合物から構成される。   Such a condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A) is composed of a cyanate ester compound represented by the following structural formula (A1) or the following structural formula (A2).

Figure 2016041799
Figure 2016041799

但し、構造式(A1)、(A2)において、Rはそれぞれ独立してシアナト基以外の1価の置換基を示し、jは1〜3の整数を示し、kは0〜2j+4の整数を示し、lは0〜5の整数を示し、mは0〜2の整数を示し、nはそれぞれ独立して0〜6の整数を示している。 However, in Structural Formulas (A1) and (A2), each R 1 independently represents a monovalent substituent other than a cyanato group, j represents an integer of 1 to 3, and k represents an integer of 0 to 2j + 4. 1 represents an integer of 0 to 5, m represents an integer of 0 to 2, and n represents each independently an integer of 0 to 6.

構造式(A1)において、jは縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物における芳香環の繰り返し単位数を示している。例えば、kが1の場合、構造式(A1)としてはナフタレン構造を示し、jが2の場合、アントラセン構造を示す。kは縮合した芳香環に置換したRの合計数を示す。構造式(A2)において、mは繰り返し単位数を示している。例えば、mが0の場合、構造式(A2)としてはビナフタレン構造を示し、kが1の場合、ターナフタレン構造を示す。lとnは、それぞれ縮合した芳香環に置換したRの合計数を示している。なお、構造式(A1)、(A2)において、シアナト基は、芳香環が縮合した縮合芳香環の任意の位置に配置されていることを示している。 In the structural formula (A1), j represents the number of repeating units of the aromatic ring in the condensed polycyclic aromatic cyanate ester compound. For example, when k is 1, the structural formula (A1) indicates a naphthalene structure, and when j is 2, an anthracene structure is indicated. k represents the total number of R 1 substituted on the condensed aromatic ring. In Structural Formula (A2), m represents the number of repeating units. For example, when m is 0, the structural formula (A2) indicates a binaphthalene structure, and when k is 1, it indicates a tanaphthalene structure. l and n each represent the total number of R 1 substituted with condensed aromatic rings. In the structural formulas (A1) and (A2), the cyanate group is located at any position of the condensed aromatic ring in which the aromatic ring is condensed.

は、上記のようにシアナト基以外の1価の置換基を示している。Rが示す置換基としては、水素原子、炭素原子数が1〜6の炭化水素基、炭素原子数が1〜6のアルコキシ基、水酸基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子、又は炭素原子数が1〜6の炭化水素基、炭素原子数が1〜6のアルコキシ基、水酸基、アリール基、若しくはアラルキル基に含まれる1以上の水素原子が、水酸基、ハロゲン原子の何れかで置換された構造の何れかを挙げることができる。 R 1 represents a monovalent substituent other than the cyanate group as described above. Examples of the substituent represented by R 1 include a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group, an aryl group, an aralkyl group, a halogen atom, or the number of carbon atoms. Is a structure in which one or more hydrogen atoms contained in a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group, an aryl group, or an aralkyl group are substituted with either a hydroxyl group or a halogen atom Any of these can be mentioned.

が、炭素原子数が1〜6の炭化水素基から構成される場合、Rとしては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基などを挙げることができる。 When R 1 is composed of a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, examples of R 1 include an alkyl group, an alkenyl group, and an alkynyl group.

アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、セカンダリーブチル基、ターシャリーブチル基、ペンチル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、3−メチルブチル基、1,1−ジメチルプロピル基、1,2−ジメチルプロピル基、へキシル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、4−メチルペンチル基、1,1−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、シクロへキシル基等が挙げられる。
アルケニル基としては、ビニル基、1−メチルビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ペンテニル基等が挙げられる。
アルキニル基としては、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基、へキシニル基等が挙げられる。
As the alkyl group, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, secondary butyl group, tertiary butyl group, pentyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group, 3-methylbutyl group, 1,1-dimethylpropyl group, 1,2-dimethylpropyl group, hexyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 4-methylpentyl group, 1,1-dimethylbutyl Group, 1,2-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, cyclohexyl group and the like.
Examples of the alkenyl group include a vinyl group, 1-methylvinyl group, propenyl group, butenyl group, butenyl group, pentenyl group, pentenyl group and the like.
Examples of the alkynyl group include ethynyl group, propynyl group, butynyl group, pentynyl group, hexynyl group and the like.

が、炭素原子数1〜6のアルコキシ基から構成される場合、Rとしては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、セカンダリーブトキシ基、ターシャリーブトキシ基、ペンタノキシ基、1−メチルブトキシ基、2−メチルブトキシ基、3−メチルブトキシ基、1,1−ジメチルプロポキシ基、1,2−ジメチルプロポキシ基、へキサノキシ基、1−メチルペンタノキシ基、2−メチルペンタノキシ基、3−メチルペンタノキシ基、4−メチルペンタノキシ基、1,1−ジメチルブトキシ基、1,2−ジメチルブトキシ基、1,3−ジメチルブトキシ基、シクロヘキサノキシ基等が挙げられる。 When R 1 is composed of an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, R 1 includes methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group, isobutoxy group, secondary butoxy group, tertiary butoxy Group, pentanoxy group, 1-methylbutoxy group, 2-methylbutoxy group, 3-methylbutoxy group, 1,1-dimethylpropoxy group, 1,2-dimethylpropoxy group, hexanoxy group, 1-methylpentanoxy group 2-methylpentanoxy group, 3-methylpentanoxy group, 4-methylpentanoxy group, 1,1-dimethylbutoxy group, 1,2-dimethylbutoxy group, 1,3-dimethylbutoxy group, cyclohexene Examples include a sanoxy group.

が、アリール基から構成される場合、Rとしては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等が挙げられる。 When R 1 is composed of an aryl group, examples of R 1 include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, and a naphthyl group.

が、アラルキル基から構成される場合、Rとしては、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、トリルメチル基、トリルエチル基、トリルプロピル基、キシリルメチル基、キシリルエチル基、キシリルプロピル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基、ナフチルプロピル基等が挙げられる。 When R 1 is composed of an aralkyl group, R 1 includes benzyl, phenylethyl, phenylpropyl, tolylmethyl, tolylethyl, tolylpropyl, xylylmethyl, xylylethyl, xylylpropyl, naphthyl. A methyl group, a naphthylethyl group, a naphthylpropyl group, etc. are mentioned.

が、炭素原子数1〜6のアルキル基に含まれる1つ以上の水素原子が、水酸基、ハロゲン原子のいずれかで置換された置換基から構成される場合、Rとしては、水酸基含有アルキル基、ハロゲン化アルキル基、水酸基含有アルケニル基、ハロゲン化アルケニル基、水酸基含有アルキニル基、ハロゲン化アルキニル基等が挙げられる。 When R 1 is composed of a substituent in which one or more hydrogen atoms contained in an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is substituted with either a hydroxyl group or a halogen atom, R 1 contains a hydroxyl group Examples thereof include an alkyl group, a halogenated alkyl group, a hydroxyl group-containing alkenyl group, a halogenated alkenyl group, a hydroxyl group-containing alkynyl group, and a halogenated alkynyl group.

水酸基含有アルキル基としては、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基等が挙げられる。ハロゲン化アルキル基としては、クロロメチル基、クロロエチル基、クロロプロピル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、ブロモプロピル基、フルオロメチル基、フルオロエチル基、フルオロプロピル基等が挙げられる。水酸基含有アルケニル基としては、1−ヒドロキシ−2,3−プロペニル基、2−ヒドロキシ−4,5−ペンテニル基等が挙げられる。ハロゲン化アルケニル基としては、1−クロロ−3,4−ブテニル基、2−ブロモ−4,5−ヘキセニル基等が挙げられる。水酸基含有アルキニル基としては、2−ヒドロキシ−4,5−ペンチニル基、2−ヒドロキシ−3,4−ヘキシニル等が挙げられる。ハロゲン化アルキニル基としては、1−クロロ−3,4−ブチニル基、3−ブロモ−5,6−ヘキシニル基等が挙げられる。   Examples of the hydroxyl group-containing alkyl group include a hydroxyethyl group and a hydroxypropyl group. Examples of the halogenated alkyl group include a chloromethyl group, a chloroethyl group, a chloropropyl group, a bromomethyl group, a bromoethyl group, a bromopropyl group, a fluoromethyl group, a fluoroethyl group, and a fluoropropyl group. Examples of the hydroxyl group-containing alkenyl group include 1-hydroxy-2,3-propenyl group and 2-hydroxy-4,5-pentenyl group. Examples of the halogenated alkenyl group include a 1-chloro-3,4-butenyl group and a 2-bromo-4,5-hexenyl group. Examples of the hydroxyl group-containing alkynyl group include 2-hydroxy-4,5-pentynyl group and 2-hydroxy-3,4-hexynyl. Examples of the halogenated alkynyl group include a 1-chloro-3,4-butynyl group and a 3-bromo-5,6-hexynyl group.

が、炭素原子数1〜6のアルコキシ基に含まれる1つ以上の水素原子が、水酸基、ハロゲン原子のいずれかで置換された置換基から構成される場合、Rとしては、水酸基含有アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基などが挙げられる。 When R 1 is composed of a substituent in which one or more hydrogen atoms contained in an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms is substituted with either a hydroxyl group or a halogen atom, R 1 contains a hydroxyl group An alkoxy group, a halogenated alkoxy group, etc. are mentioned.

水酸基含有アルコキシ基としては、ヒドロキシエチルオキシ基等が挙げられる。ハロゲン化アルコキシ基としては、クロロプロピルオキシ基等が挙げられる。   A hydroxyethyloxy group etc. are mentioned as a hydroxyl-containing alkoxy group. A chloropropyloxy group etc. are mentioned as a halogenated alkoxy group.

が、アリール基に含まれる1つ以上の水素原子が、水酸基、ハロゲン原子のいずれかで置換された置換基から構成される場合、Rとしては、水酸基含有アリール基、ハロゲン化アリール基が挙げられる。水酸基含有アリール基としては、ヒドロキシフェニル基、ヒドロキシナフチル基等が挙げられる。ハロゲン化アリール基としては、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロナフチル基、ブロモナフチル基、フルオロナフチル基等が挙げられる。 When R 1 is composed of a substituent in which one or more hydrogen atoms contained in the aryl group are substituted with either a hydroxyl group or a halogen atom, R 1 is a hydroxyl group-containing aryl group or a halogenated aryl group. Is mentioned. Examples of the hydroxyl group-containing aryl group include a hydroxyphenyl group and a hydroxynaphthyl group. Examples of the halogenated aryl group include a chlorophenyl group, a bromophenyl group, a fluorophenyl group, a chloronaphthyl group, a bromonaphthyl group, and a fluoronaphthyl group.

がハロゲン原子から構成される場合、Rとしては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。 When R 1 is composed of a halogen atom, examples of R 1 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

上記のほか、Rは、アルコキシ基含有アルキル基、アルコキシ基含有アリール基、不飽和炭化水素基含有アリール基であってもよい。アルコキシ基含有アルキル基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、メトキシプロピル基、アリルオキシメチル基、アリルオキシプロピル基、プロパルギルオキシメチル基、プロパルギルオキシプロピル基などが挙げられる。アルコキシ基含有アリール基としては、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、プロパルギルオキシフェニル基等が挙げられる。不飽和炭化水素基含有アリール基としては、ビニルフェニル、アリルフェニル、エチニルフェニル、プロパルギルフェニル等が挙げられる。 In addition to the above, R 1 may be an alkoxy group-containing alkyl group, an alkoxy group-containing aryl group, or an unsaturated hydrocarbon group-containing aryl group. Examples of the alkoxy group-containing alkyl group include a methoxymethyl group, a methoxyethyl group, a methoxypropyl group, an allyloxymethyl group, an allyloxypropyl group, a propargyloxymethyl group, and a propargyloxypropyl group. Examples of the alkoxy group-containing aryl group include a methoxyphenyl group, an ethoxyphenyl group, an allyloxyphenyl group, and a propargyloxyphenyl group. Examples of the unsaturated hydrocarbon group-containing aryl group include vinylphenyl, allylphenyl, ethynylphenyl, propargylphenyl and the like.

上記の中でも、Rとしては、水素原子、アルキル基、アラルキル基であることが好ましく、硬化物において優れた耐熱性を発現させることができる点から、Rとしては水素原子から構成されることがさらに好ましい。 Among them, R 1 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an aralkyl group, and R 1 is composed of a hydrogen atom from the viewpoint that excellent heat resistance can be expressed in a cured product. Is more preferable.

そのような構造式(A1)で表される縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)としては、例えば、1,2−ジシアナトナフタレン、1,3−ジシアナトナフタレン、1,4−ジシアナトナフタレン、1,5−ジシアナトナフタレン、1,6−ジシアナトナフタレン、1,7−ジシアナトナフタレン、1,8−ジシアナトナフタレン、2,3−ジシアナトナフタレン、2,6−ジシアナトナフタレン、2,7−ジシアナトナフタレン等のジシアナトナフタレン、1,2−ジヒドロキアントラセン、1,3−ジシアナトアントラセン、1,4−ジシアナトアントラセン、1,5−ジシアナトアントラセン、1,6−ジシアナトアントラセン、1,7−ジシアナトアントラセン、1,8−ジシアナトアントラセン、2,3−ジシアナトアントラセン、2,6−ジシアナトアントラセン、2,7−ジシアナトアントラセン9,10−ジシアナトアントラセン、1,9−ジシアナトアントラセン、1,10−ジシアナトアントラセン、2,9−ジシアナトアントラセン、2,10−ジシアナトアントラセン等のジシアナトアントラセンなどが挙げられる。   Examples of the condensed polycyclic aromatic cyanate ester compound (A) represented by the structural formula (A1) include 1,2-dicyanatonaphthalene, 1,3-dicyanatonaphthalene, 1,4-disi Anatonaphthalene, 1,5-dicyanatonaphthalene, 1,6-dicyanatonaphthalene, 1,7-dicyanatonaphthalene, 1,8-dicyanatonaphthalene, 2,3-dicyanatonaphthalene, 2,6-dicyanatonaphthalene Dicyanatonaphthalene such as 2,7-dicyanatonaphthalene, 1,2-dihydroanthracene, 1,3-dicyanatoanthracene, 1,4-dicyanatoanthracene, 1,5-dicyanatoanthracene, 1,6- Dicyanatoanthracene, 1,7-dicyanatoanthracene, 1,8-dicyanatoanthracene, 2,3-dicyanatoanthane Sen, 2,6-dicyanatoanthracene, 2,7-dicyanatoanthracene 9,10-dicyanatoanthracene, 1,9-dicyanatoanthracene, 1,10-dicyanatoanthracene, 2,9-dicyanatoanthracene, 2 , 10-dicyanatoanthracene and the like.

構造式(A2)で表される縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)としては、2,2’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、2,3’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、2,4’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、2,5’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、2,6’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、2,7’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、2,8’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、2,3’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、2,4’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、2,5’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、2,6’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、2,7’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、2,8’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、2,4’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、3,4’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、4,4’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、4,5’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、4,6’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、4,7’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、4,8’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、2,5’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、3,5’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、4,5’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、5,5’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、5,6’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、5,7’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、5,8’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、2,6’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、3,6’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、4,6’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、5,6’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、6,6’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、6,7’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、6,8’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、2,7’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、3,6’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、4,6’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、5,6’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、6,6’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、7,6’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、7,7’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、7,8’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、2,8’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、3,8’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、4,8’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、5,8’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、6,8’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、7,8’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、8,8’−ジシアナト−1,1’−ビナフタレン、2,2’’,5’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、2,3’’,5’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、2,4’’,5’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、2,5’,5’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、2,5’,6’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、2,5’,7’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、2,5’,8’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、2,3’’,8’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、3,3’’,5’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、3,4’’,5’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、3,5’,5’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、3,5’,6’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、3,5’,7’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、3,5’,8’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、2,4’’,8’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、3,4’’,8’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、4,4’’,5’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、4,5’,5’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、4,5’,6’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、4,5’,7’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、4,5’,8’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、2,5’’,8’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、3,5’’,8’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、4,5’’,8’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、4,5’,5’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、5,5’,5’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、4,5’,6’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、4,5’,7’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、5,5’,8’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、2,6’’,8’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、3,6’’,8’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、4,6’’,8’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、5,6’’,8’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、5’,6,6’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、5’,6,7’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、5’,6,8’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、2,7’’,8’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、3,7’’,8’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、4,7’’,8’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、5,7’’,8’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、5’,6’’,7−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、5’,7,7’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、5’,7,8’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、2,8’,8’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、3,8’,8’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、4,8’,8’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、5,8’,8’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、5’,6’’,8−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、5’,7’’,8−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレン、5’,8,8’’−トリシアナト−1,1’:4’,1’’−ターナフタレンなどを挙げることができる。   Examples of the condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A) represented by the structural formula (A2) include 2,2′-dicyanato-1,1′-binaphthalene and 2,3′-dicyanato-1,1′-. Binaphthalene, 2,4'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 2,5'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 2,6'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 2,7'-dicyanato -1,1'-binaphthalene, 2,8'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 2,3'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 2,4'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 2,5'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 2,6'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 2,7'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 2,8'-dicyanato-1 , 1'-Binaphthalene, 2,4'- Dicyanato-1,1'-binaphthalene, 3,4'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 4,4'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 4,5'-dicyanato-1,1'-binaphthalene 4,6'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 4,7'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 4,8'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 2,5'-dicyanato- 1,1′-binaphthalene, 3,5′-dicyanato-1,1′-binaphthalene, 4,5′-dicyanato-1,1′-binaphthalene, 5,5′-dicyanato-1,1′-binaphthalene, 5 , 6'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 5,7'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 5,8'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 2,6'-dicyanato-1, 1'-Binaphthalene, 3, 6 -Dicyanato-1,1'-binaphthalene, 4,6'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 5,6'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 6,6'-dicyanato-1,1'- Binaphthalene, 6,7'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 6,8'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 2,7'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 3,6'-dicyanato -1,1'-binaphthalene, 4,6'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 5,6'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 6,6'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 7,6′-dicyanato-1,1′-binaphthalene, 7,7′-dicyanato-1,1′-binaphthalene, 7,8′-dicyanato-1,1′-binaphthalene, 2,8′-dicyanato-1 , 1'-Binaphthalene, 3 8'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 4,8'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 5,8'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 6,8'-dicyanato-1,1 '-Binaphthalene, 7,8'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 8,8'-dicyanato-1,1'-binaphthalene, 2,2 ", 5'-tricyanato-1,1': 4 ' , 1 ″ -Thanaphthalene, 2,3 ″, 5′-Tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Turnaphthalene, 2,4 ″, 5′-Tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene, 2,5 ′, 5 ″ -Tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Turnaphthalene, 2,5 ′, 6 ″ -Tricyanato-1,1 ': 4', 1 ″ -Thaphthalene, 2,5 ′, 7 ″ -tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene, 2,5 ′, 8 ″ -Tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Turnaphthalene, 2,3 ″, 8′-Tricyanato-1,1 ′: 4 ′ , 1 ″ -Thanaphthalene, 3,3 ″, 5′-Tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Turnaphthalene, 3,4 ″, 5′-Tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene, 3,5 ′, 5 ″ -Tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Turnaphthalene, 3,5 ′, 6 ″ -Tricyanato-1,1 ': 4', 1 "-Thanaphthalene, 3,5 ', 7" -Tricyanato-1, 1': 4 ', 1 "-Thanaphthalene, 3, 5', 8" -Tricyanato-1 , 1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene, 2,4 ″, 8′-Tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene, 3,4 ′ , 8′-tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -turnaphthalene, 4,4 ″, 5′-tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -turnaphthalene, 4,5 ', 5 ″ -tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -turnaphthalene, 4,5 ′, 6 ″ -tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -turnaphthalene, 4 , 5 ′, 7 ″ -tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -turnaphthalene, 4,5 ′, 8 ″ -tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -turnaphthalene 2,5 ″, 8′-tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Turnaphthalene, 3,5 ″, 8′-tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ − Turnaphthalene, 4,5 ″, 8′-tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Turnaphthalene, 4,5 ′, 5 ″ -tricyanato-1,1 ′ 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene, 5,5 ′, 5 ″ -Tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Turnaphthalene, 4,5 ′, 6 ″ -Tricyanato-1,1 ': 4', 1 ''-Thanaphthalene, 4,5 ', 7' '-Tricyanato-1,1': 4 ', 1' '-Turnaphthalene, 5,5', 8 ''-Tricyanato-1 , 1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene, 2,6 ″, 8′-Tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Turnaphthalene, 3,6 ″, 8′-Tricyanato −1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene, 4,6 ″, 8′-Tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene, 5,6 ″, 8 ′ -Tricyanato-1,1 ': 4', 1 "-Turnaphthalene, 5 ', 6,6" -Tricyanato-1,1': 4 ', 1' '-Turnaphthalene 5 ′, 6,7 ″ -tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thaphthalene, 5 ′, 6,8 ″ -Tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Tur Naphthalene, 2,7 ″, 8′-tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -turnaphthalene, 3,7 ″, 8′-tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ Turnaphthalene, 4,7 ″, 8′-tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thaphthalene, 5,7 ″, 8′-tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Turnaphthalene, 5 ′, 6 ″, 7-tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Turnaphthalene, 5 ′, 7,7 ″ -tricyanato-1,1 ′: 4 ′ , 1 ″ -Thanaphthalene, 5 ′, 7,8 ″ -Tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Turnaphthalene, 2,8 ′, 8 ″ -Tricyanato −1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene, 3,8 ′, 8 ″ -Tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene, 4,8 ′, 8 ″ -Tricyanato-1,1 ': 4', 1 "-Turnaphthalene, 5,8 ', 8" -Tricyanato-1,1': 4 ', 1' '-Turnaphthalene, 5', 6 '' , 8-tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -turnaphthalene, 5 ′, 7 ″, 8-tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -turnaphthalene, 5 ′, 8 , 8 ″ -tricyanato-1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -turnaphthalene and the like.

さらに、構造式(A1)、(A2)で表される縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)としては、下記構造式(A1−a)、(A2−a)で表されるシアン酸エステル化合物であることが、さらに好ましい。上記縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)を含む硬化性組成物は、成形時において優れた流動性を有する。   Furthermore, as the condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A) represented by the structural formulas (A1) and (A2), cyanic acid represented by the following structural formulas (A1-a) and (A2-a) More preferably, it is an ester compound. The curable composition containing the condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A) has excellent fluidity during molding.

Figure 2016041799
Figure 2016041799

但し、構造式(A1−a)、(A2−a)において、Rはそれぞれ独立してシアナト基以外の1価の置換基を示し、kは0〜6の整数を示し、nはそれぞれ独立して0〜6の整数を示している。Rが示す具体的な置換基の種類は上述の通りである。 However, in Structural Formulas (A1-a) and (A2-a), R 1 independently represents a monovalent substituent other than a cyanato group, k represents an integer of 0 to 6, and n represents each independently. The integer of 0-6 is shown. Specific types of substituents represented by R 1 are as described above.

さらに、構造式(A1−a)、(A2−a)で表される縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)についても同様に、Rとしては、水素原子、アルキル基、アラルキル基であることが好ましく、硬化物において優れた耐熱性を発現させることができることから、Rとしては水素原子であることがより好ましい。すなわち、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)が上記構造式(A1−a)、(A2−a)で表される化合物である場合において、Rが水素原子である場合には、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物を含む硬化性組成物は、成形時の流動性に優れ、硬化物において優れた耐熱性を発現させることができるようになる。 Furthermore, similarly for the condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A) represented by the structural formulas (A1-a) and (A2-a), R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group, or an aralkyl group. It is preferable that R 1 is a hydrogen atom because it is possible to develop excellent heat resistance in the cured product. That is, when the condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A) is a compound represented by the structural formulas (A1-a) and (A2-a), when R 1 is a hydrogen atom, The curable composition containing the condensed polycyclic aromatic cyanate ester compound is excellent in fluidity during molding and can exhibit excellent heat resistance in the cured product.

・縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)の製造方法
上記で説明した縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)は、縮合多環芳香族のヒドロキシ化合物(a)と、ハロゲン化シアンとを反応させることにより、得ることができる。具体的には、上記反応において、縮合多環芳香族のヒドロキシ化合物(a)中のヒドロキシ基1モルに対し、ハロゲン化シアンを1.05モル〜1.5モルとなる割合で用いて反応させる。その後、反応液に適量の水を加えて生成塩を溶解し、水洗を繰り返して系内の生成塩を除去した後に、脱水や濾別でさらに精製して、有機溶媒を蒸留で除去することで縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)を得ることができる。
-Method for Producing Condensed Polycyclic Aromatic Cyanate Compound (A) The condensed polycyclic aromatic cyanate ester compound (A) described above includes a condensed polycyclic aromatic hydroxy compound (a) and a cyanogen halide. Can be obtained by reacting with. Specifically, in the above reaction, the cyanogen halide is reacted at a ratio of 1.05 mol to 1.5 mol with respect to 1 mol of the hydroxy group in the condensed polycyclic aromatic hydroxy compound (a). . Thereafter, an appropriate amount of water is added to the reaction solution to dissolve the produced salt, and after washing with water repeatedly to remove the produced salt in the system, it is further purified by dehydration and filtration, and the organic solvent is removed by distillation. A condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A) can be obtained.

このようにして得られるシアン酸エステル(A)は、シアナト基当量が80g/eq〜250g/eqの範囲であることが好ましく、100g/eq〜200g/eqの範囲であることがさらに好ましい。得られるシアン酸エステル(A)のシアナト基当量が80g/eq〜250g/eqの範囲であると、得られる硬化物が優れた耐熱性、誘電特性、低熱膨張性を発現させることができるようになり、100g/eq〜200g/eqの範囲にあると、得られる硬化物が、さらに優れた耐熱性、誘電特性、低熱膨張性を発現させることができるようになる。   The cyanate ester (A) thus obtained preferably has a cyanato group equivalent in the range of 80 g / eq to 250 g / eq, and more preferably in the range of 100 g / eq to 200 g / eq. When the cyanate group equivalent of the obtained cyanate ester (A) is in the range of 80 g / eq to 250 g / eq, the resulting cured product can exhibit excellent heat resistance, dielectric properties, and low thermal expansion. Thus, when it is in the range of 100 g / eq to 200 g / eq, the obtained cured product can exhibit further excellent heat resistance, dielectric properties, and low thermal expansion.

縮合多環芳香族のヒドロキシ化合物(a)としては、下記構造式(a1)、下記構造式(a2)で表される化合物が挙げられる。

Figure 2016041799
Examples of the condensed polycyclic aromatic hydroxy compound (a) include compounds represented by the following structural formula (a1) and the following structural formula (a2).
Figure 2016041799

ただし、構造式(a1)、(a2)において、Rはそれぞれ独立して水酸基以外の1価の置換基を示し、jは1〜3の整数を示し、kは0〜2j+4の整数を示し、lは0〜5の整数を示し、mは0〜2の整数を示し、nはそれぞれ独立して0〜6の整数を示している。なお、Rが示す置換基は、水素原子、炭素原子数が1〜6の炭化水素基、炭素原子数が1〜6のアルコキシ基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子、又は炭素原子数が1〜6の炭化水素基、炭素原子数が1〜6のアルコキシ基、アリール基、若しくはアラルキル基に含まれる1以上の水素原子が、ハロゲン原子で置換された構造の何れかである。これらが示す具体的な構造については、上記の通りである。 In Structural Formulas (a1) and (a2), R 1 independently represents a monovalent substituent other than a hydroxyl group, j represents an integer of 1 to 3, and k represents an integer of 0 to 2j + 4. , L represents an integer of 0-5, m represents an integer of 0-2, and n independently represents an integer of 0-6. Note that the substituent represented by R 1 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group, a halogen atom, or a carbon atom number. One or more hydrogen atoms contained in a 1-6 hydrocarbon group, an alkoxy group having 1-6 carbon atoms, an aryl group, or an aralkyl group are substituted with a halogen atom. The specific structure shown by these is as described above.

構造式(a1)で示される縮合多環芳香族のヒドロキシ化合物(a)としては、例えば、1,2−ジヒドロキシナフタレン、1,3−ジヒドロキシナフタレン、1,4−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、1,7−ジヒドロキシナフタレン、1,8−ジヒドロキシナフタレン、2,3−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレン等のジヒドロキシナフタレン、1,2−ジヒドロキアントラセン、1,3−ジヒドロキシアントラセン、1,4−ジヒドロキシアントラセン、1,5−ジヒドロキシアントラセン、1,6−ジヒドロキシアントラセン、1,7−ジヒドロキシアントラセン、1,8−ジヒドロキシアントラセン、2,3−ジヒドロキシアントラセン、2,6−ジヒドロキシアントラセン、2,7−ジヒドロキシアントラセン9,10−ジヒドロキシアントラセン、1,9−ジヒドロキシアントラセン、1,10−ジヒドロキシアントラセン、2,9−ジヒドロキシアントラセン、2,10−ジヒドロキシアントラセン等のジヒドロキシアントラセンなどが挙げられる。   Examples of the condensed polycyclic aromatic hydroxy compound (a) represented by the structural formula (a1) include 1,2-dihydroxynaphthalene, 1,3-dihydroxynaphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, and 1,5-dihydroxy. Dihydroxynaphthalene such as naphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 1,7-dihydroxynaphthalene, 1,8-dihydroxynaphthalene, 2,3-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, 1, 2-dihydroanthracene, 1,3-dihydroxyanthracene, 1,4-dihydroxyanthracene, 1,5-dihydroxyanthracene, 1,6-dihydroxyanthracene, 1,7-dihydroxyanthracene, 1,8-dihydroxyanthracene, 2, -Dihydroxyanthracene, 2,6-dihydroxyanthracene, 2,7-dihydroxyanthracene 9,10-dihydroxyanthracene, 1,9-dihydroxyanthracene, 1,10-dihydroxyanthracene, 2,9-dihydroxyanthracene, 2,10-dihydroxy And dihydroxyanthracene such as anthracene.

上記の中でも、最終的に得られる硬化物の難燃性が一層良好なものとなり、さらに該硬化物における誘電正接が低くなる点からジヒドロキシナフタレンが好ましく、ジヒドロキシナフタレンの中でも1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、又は2,7−ジヒドロキシナフタレンがさらに好ましく、その中でも2,7−ジヒドロキシナフタレンが特に好ましい。   Among the above, dihydroxynaphthalene is preferred from the viewpoint that the flame retardancy of the cured product finally obtained is further improved and the dielectric loss tangent in the cured product is low, and among the dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene or 2,7-dihydroxynaphthalene is more preferable, and 2,7-dihydroxynaphthalene is particularly preferable among them.

構造式(a2)で示される縮合多環芳香族のヒドロキシ化合物(a)としては、例えば、[1,1’−ビナフタレン]−2,2’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−2,3’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−2,4’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−2,5’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−2,6’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−2,7’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−2,8’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−3,2’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−3,3’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−3,4’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−3,5’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−3,6’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−3,7’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−3,8’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−4,2’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−4,3’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−4,4’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−4,5’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−4,6’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−4,7’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−4,8’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−5,2’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−5,3’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−5,4’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−5,5’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−5,6’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−5,7’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−5,8’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−6,2’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−6,3’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−6,4’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−6,5’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−6,6’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−6,7’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−6,8’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−7,2’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−7,3’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−7,4’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−7,5’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−7,6’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−7,7’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−7,8’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−8,2’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−8,3’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−8,4’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−8,5’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−8,6’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−8,7’−ジオール、[1,1’−ビナフタレン]−8,8’−ジオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−2,2’’,5’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−2,3’’,5’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−2,4’’,5’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−2,5’,5’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−2,5’,6’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−2,5’,7’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−2,5’,8’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−3,3’’,5’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−3,4’’,5’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−3,5’,5’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−3,5’,6’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−3,5’,7’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−3,5’,8’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−2,4’’,8’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−3,4’’,8’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−4,4’’,5’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−4,5’,5’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−4,5’,6’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−4,5’,7’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−4,5’,8’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−2,5’’,8’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−3,5’’,8’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−4,5’’,8’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−5,5’,6’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−5,5’,7’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−5,5’,8’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−2,6’’,8’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−3,6’’,8’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−4,6’’,8’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−5,6’’,8’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−5’,6,7’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−5’,6,8’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−2,7’’,8’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−3,7’’,8’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−4,7’’,8’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−5,7’’,8’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−5’,7,7’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−5’,7,8’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−2,8’,8’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−3,8’,8’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−4,8’,8’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−5,8’,8’’−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−5’,6’’,8−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−5’,7’’,8−トリオール、[1,1’:4’,1’’-ターナフタレン]−5’,8,8’’−トリオールなどが挙げられる。   Examples of the condensed polycyclic aromatic hydroxy compound (a) represented by the structural formula (a2) include [1,1′-binaphthalene] -2,2′-diol and [1,1′-binaphthalene] -2. , 3′-diol, [1,1′-binaphthalene] -2,4′-diol, [1,1′-binaphthalene] -2,5′-diol, [1,1′-binaphthalene] -2,6 '-Diol, [1,1'-binaphthalene] -2,7'-diol, [1,1'-binaphthalene] -2,8'-diol, [1,1'-binaphthalene] -3,2'- Diol, [1,1′-Binaphthalene] -3,3′-diol, [1,1′-Binaphthalene] -3,4′-diol, [1,1′-Binaphthalene] -3,5′-diol, [1,1′-binaphthalene] -3,6′-diol, [1,1 ′ Binaphthalene] -3,7'-diol, [1,1'-binaphthalene] -3,8'-diol, [1,1'-binaphthalene] -4,2'-diol, [1,1'-binaphthalene] -4,3'-diol, [1,1'-binaphthalene] -4,4'-diol, [1,1'-binaphthalene] -4,5'-diol, [1,1'-binaphthalene] -4 , 6′-diol, [1,1′-binaphthalene] -4,7′-diol, [1,1′-binaphthalene] -4,8′-diol, [1,1′-binaphthalene] -5,2 '-Diol, [1,1'-binaphthalene] -5,3'-diol, [1,1'-binaphthalene] -5,4'-diol, [1,1'-binaphthalene] -5,5'- Diol, [1,1′-Binaphthalene] -5,6′-diol, [1,1 -Binaphthalene] -5,7'-diol, [1,1'-Binaphthalene] -5,8'-diol, [1,1'-Binaphthalene] -6,2'-diol, [1,1'-Binaphthalene ] -6,3'-diol, [1,1'-binaphthalene] -6,4'-diol, [1,1'-binaphthalene] -6,5'-diol, [1,1'-binaphthalene]- 6,6′-diol, [1,1′-binaphthalene] -6,7′-diol, [1,1′-binaphthalene] -6,8′-diol, [1,1′-binaphthalene] -7, 2'-diol, [1,1'-binaphthalene] -7,3'-diol, [1,1'-binaphthalene] -7,4'-diol, [1,1'-binaphthalene] -7,5 ' -Diol, [1,1'-binaphthalene] -7,6'-diol, [1,1 '-Binaphthalene] -7,7'-diol, [1,1'-Binaphthalene] -7,8'-diol, [1,1'-Binaphthalene] -8,2'-diol, [1,1'- Binaphthalene] -8,3′-diol, [1,1′-binaphthalene] -8,4′-diol, [1,1′-binaphthalene] -8,5′-diol, [1,1′-binaphthalene] -8,6'-diol, [1,1'-binaphthalene] -8,7'-diol, [1,1'-binaphthalene] -8,8'-diol, [1,1 ': 4', 1 '' -Thanaphthalene] -2,2 '', 5′-triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene] -2,3 ″, 5′-triol, [1,1 ': 4', 1 ″ -Turnaphthalene] -2,4 ″, 5′-triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Turnaphthalate ] -2,5 ′, 5 ″ -triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -turnaphthalene] -2,5 ′, 6 ″ -triol, [1,1 ′: 4 ′ , 1 ″ -Thanaphthalene] -2,5 ′, 7 ″ -triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene] -2,5 ′, 8 ″ -triol, [1 , 1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene] -3,3 ″, 5′-triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene] -3,4 ″, 5 '-Triol, [1,1': 4 ', 1 "-turnaphthalene] -3,5', 5" -triol, [1,1 ': 4', 1 "-turnaphthalene] -3 , 5 ′, 6 ″ -triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -turnaphthalene] -3,5 ′, 7 ″ -triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene] -3,5 ', 8' '-triol, [ 1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -turnaphthalene] -2,4 ″, 8′-triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -turnaphthalene] -3,4 ″, 8′-triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -turnaphthalene] -4,4 ″, 5′-triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -turnaphthalene] − 4,5 ′, 5 ″ -triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -turnaphthalene] -4,5 ′, 6 ″ -triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ′ '-Thanaphthalene] -4,5', 7 "-triol, [1,1 ': 4', 1" -Thanaphthalene] -4,5 ', 8 "-triol, [1,1' : 4 ', 1 "-Thanaphthalene] -2,5", 8'-triol, [1,1': 4 ', 1 "-Thanaphthalene] -3,5", 8'-triol , [1,1 ': 4', 1 ''-Tannaphthalene ] -4,5 ″, 8′-triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -turnaphthalene] -5,5 ′, 6 ″ -triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene] -5,5 ′, 7 ″ -triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene] -5,5 ′, 8 ″ -triol, [1, 1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene] -2,6 ″, 8′-triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene] -3,6 ″, 8 ′ Triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene] -4,6 ″, 8′-Triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene] -5 6 ″, 8′-triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -turnaphthalene] -5 ′, 6,7 ″ -triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″- Turnaphthalene] -5 ′, 6,8 ″ -triol, [1 1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene] -2,7 ″, 8′-triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene] -3,7 ″, 8 ′ Triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene] -4,7 ″, 8′-Triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene] -5 7 ″, 8′-triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -turnaphthalene] -5 ′, 7,7 ″ -triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″- Turnaphthalene] -5 ′, 7,8 ″ -triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene] -2,8 ′, 8 ″ -triol, [1,1 ′: 4 ', 1 ″ -Thanaphthalene] -3,8 ′, 8 ″ -triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene] -4,8 ′, 8 ″ -triol, [ 1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Tannaphthalene] − , 8 ′, 8 ″ -triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -turnaphthalene] -5 ′, 6 ″, 8-triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene] -5 ′, 7 ″, 8-triol, [1,1 ′: 4 ′, 1 ″ -Thanaphthalene] -5 ′, 8,8 ″ -triol and the like.

これらの中でも最終的に得られる硬化性組成物における硬化物の難燃性が一層良好なものとなり、また、該硬化物の誘電正接も低くなって誘電特性が良好になる点から[1,1’−ビナフタレン]−2,2’−ジオールが特に好ましい。   Among these, from the point that the flame retardancy of the cured product in the finally obtained curable composition is further improved, and the dielectric loss tangent of the cured product is lowered to improve the dielectric properties [1,1. '-Binaphthalene] -2,2'-diol is particularly preferred.

ハロゲン化シアンとしては、塩化シアン、臭化シアン等が挙げられる。   Examples of the cyanogen halide include cyanogen chloride and cyanogen bromide.

なお、上記反応は、塩基性触媒の存在下を行うことが、反応性が良好となる点から好まし。ここで用いる塩基性触媒としては、トリエチルアミンやトリメチルアミン等の3級アミン類;水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物;などの塩基性物質が挙げられる。   In addition, it is preferable to perform the said reaction in presence of a basic catalyst from the point that reactivity becomes favorable. Examples of the basic catalyst used here include basic substances such as tertiary amines such as triethylamine and trimethylamine; alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide;

なお、上記反応は、有機溶媒存在下で行うことが好ましい。その際使用する有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒やメチルエチルケトンやメチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒、THFなどのエーテル系溶媒等が挙げられる。   The above reaction is preferably performed in the presence of an organic solvent. Examples of the organic solvent used here include aromatic solvents such as benzene, toluene and xylene, ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, and ether solvents such as THF.

・単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)
次に、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)について説明する。
・ Monocyclic aromatic cyanate compound (B)
Next, the monocyclic aromatic cyanate ester compound (B) will be described.

単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)は、芳香環上にシアナト基を有する単環化合物が直接または連接基を介して複数結合された化合物である。   The monocyclic aromatic cyanate ester compound (B) is a compound in which a plurality of monocyclic compounds having a cyanate group on an aromatic ring are bonded directly or via a connecting group.

そのような単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)としては、下記構造式(B1)、または下記構造式(B2)で表されるシアン酸エステル化合物を挙げることができる。   As such a monocyclic aromatic cyanate ester compound (B), a cyanate ester compound represented by the following structural formula (B1) or the following structural formula (B2) can be given.

Figure 2016041799
Figure 2016041799

ただし、構造式(B1)、(B2)において、Lは2価の連結基を示し、Rはそれぞれ独立して水素原子、炭素原子数が1〜6の炭化水素基、炭素原子数が1〜6のアルコキシ基、水酸基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子、又は炭素原子数が1〜6の炭化水素基、炭素原子数が1〜6のアルコキシ基、アリール基、若しくはアラルキル基に含まれる1以上の水素原子が、水酸基、ハロゲン原子の何れかで置換された構造の何れかを示し、pはそれぞれ独立して0〜4の整数を示す。 However, in Structural Formulas (B1) and (B2), L represents a divalent linking group, R 2 is independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, or 1 carbon atom. -6 alkoxy groups, hydroxyl groups, aryl groups, aralkyl groups, halogen atoms, hydrocarbon groups having 1 to 6 carbon atoms, alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms, aryl groups, or aralkyl groups. One of the structures in which one or more hydrogen atoms are substituted with either a hydroxyl group or a halogen atom, and p independently represents an integer of 0 to 4.

上記のように、Lは2価の連結基を示している。Lが示す2価の連結基としては、2価の炭化水素基、2価の炭化水素基に含まれる1以上の水素原子が水酸基、アルコキシ基、若しくはハロゲン原子で置換された2価の基、2価のヘテロ原子、又はヘテロ原子を含む2価の原子団等が挙げられる。本発明でいう「2価の炭化水素基」とは、炭化水素基から2つの水素を取り除いた炭化水素のことで、「−R−(Rは炭化水素)」で表されるものを示す。また、「炭化水素」とは、脂肪族飽和炭化水素、脂肪族不飽和炭化水素、芳香族炭化水素、またはこれらを組み合わせたものを示す。   As described above, L represents a divalent linking group. As the divalent linking group represented by L, a divalent hydrocarbon group, a divalent group in which one or more hydrogen atoms contained in the divalent hydrocarbon group are substituted with a hydroxyl group, an alkoxy group, or a halogen atom, Examples thereof include a divalent heteroatom or a divalent atomic group containing a heteroatom. The “divalent hydrocarbon group” referred to in the present invention refers to a hydrocarbon obtained by removing two hydrogens from a hydrocarbon group, and represents “—R— (R is a hydrocarbon)”. The “hydrocarbon” indicates an aliphatic saturated hydrocarbon, an aliphatic unsaturated hydrocarbon, an aromatic hydrocarbon, or a combination thereof.

Lが2価の炭化水素基を示す場合、Lとしては、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基(アルキレン基及びアリーレン基を有する2価の基で、例えば「−R−Ar−R−(Rは脂肪族炭化水素、Arは芳香族炭化水素)」で表されるもの)などを挙げることができる。   When L represents a divalent hydrocarbon group, L is an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, a cycloalkylene group, an arylene group, an aralkylene group (a divalent group having an alkylene group and an arylene group, for example, “ -R-Ar-R- (wherein R is an aliphatic hydrocarbon, Ar is an aromatic hydrocarbon) "and the like.

かかる場合、アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、エチリデン基、プロピリデン基、プロピレン基、トリメチレン基、イソプロピリデン基、ブチリデン基、ブチレン基、イソブチリデン基、ペンチレン基、ペンチリデン基、イソペンチリデン基、へキシレン基、ヘキシリデン基、イソヘキシリデン基等が挙げられる。アルケニレン基としては、ビニレン基、1−メチルビニレン基、プロペニレン基、ブテニレン基、ブテニレン基、ペンテニレン基、ペンテニレン基等が挙げられる。アルキニレン基としては、エチニレン基、プロピニレン基、ブチニレン基、ペンチニレン基、へキシニレン基等が挙げられる。シクロアルキレン基としては、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロへキシレン基等が挙げられる。アリーレン基としては、フェニレン基、トリレン基、キシリレン基、ナフチレン基等が挙げられる。アラルキレン基としては、「−R−Ar−R−(Rはアルキレン基、Arはアリーレン)」で表され、上記アルキレン基とアリーレン基を有する炭素数7〜20のアラルキレン基等が挙げられる。   In this case, as the alkylene group, methylene group, ethylene group, ethylidene group, propylidene group, propylene group, trimethylene group, isopropylidene group, butylidene group, butylene group, isobutylidene group, pentylene group, pentylidene group, isopentylidene group, Examples include a hexylene group, a hexylidene group, and an isohexylidene group. Examples of the alkenylene group include a vinylene group, a 1-methylvinylene group, a propenylene group, a butenylene group, a butenylene group, a pentenylene group, and a pentenylene group. Examples of the alkynylene group include an ethynylene group, a propynylene group, a butynylene group, a pentynylene group, and a hexynylene group. Examples of the cycloalkylene group include a cyclopropylene group, a cyclobutylene group, a cyclopentylene group, and a cyclohexylene group. Examples of the arylene group include a phenylene group, a tolylene group, a xylylene group, and a naphthylene group. The aralkylene group is represented by “—R—Ar—R— (wherein R is an alkylene group, Ar is an arylene)”, and examples thereof include an aralkylene group having 7 to 20 carbon atoms having the alkylene group and the arylene group.

Lが、2価の炭化水素基に含まれる1以上の水素原子が、水酸基、アルコキシ基、又はハロゲン原子で置換された2価の基を示す場合、Lとしては、水酸基含有アルキレン基、アルコキシ基含有アルキレン基、ハロゲン化アルキレン基、水酸基含有アルケニレン基、アルコキシ基含有アルケニレン基、ハロゲン化アルケニレン基、水酸基含有アルキニレン基、アルコキシ基含有アルキニレン基、ハロゲン化アルキニレン基、水酸基含有シクロアルキレン基、アルコキシ基含有シクロアルキレン基、ハロゲン化シクロアルキレン基、水酸基含有アリーレン基、アルコキシ基含有アリーレン基、ハロゲン化アリーレン基、水酸基含有アラルキレン基、アルコキシ基含有アラルキレン基、ハロゲン化アラルキレン基が挙げられる。   When L represents a divalent group in which one or more hydrogen atoms contained in the divalent hydrocarbon group are substituted with a hydroxyl group, an alkoxy group, or a halogen atom, L is a hydroxyl group-containing alkylene group or an alkoxy group. Containing alkylene group, halogenated alkylene group, hydroxyl group-containing alkenylene group, alkoxy group-containing alkenylene group, halogenated alkenylene group, hydroxyl group-containing alkynylene group, alkoxy group-containing alkynylene group, halogenated alkynylene group, hydroxyl group-containing cycloalkylene group, alkoxy group-containing Examples include cycloalkylene groups, halogenated cycloalkylene groups, hydroxyl group-containing arylene groups, alkoxy group-containing arylene groups, halogenated arylene groups, hydroxyl group-containing aralkylene groups, alkoxy group-containing aralkylene groups, and halogenated aralkylene groups.

水酸基含有アルキレン基としては、ヒドロキシメチレン基、ヒドロキシエチレン基、ヒドロキシプロピレン基等が挙げられる。アルコキシ基含有アルキレン基としては、メトキシメチレン基、メトキシエチレン基、メトキシプロピレン基、アリルオキシメチレン基、アリルオキシプロピレン基、プロパルギルオキシメチレン基、プロパルギルオキシプロピレン基などが挙げられる。ハロゲン化アルキレン基としては、クロロメチレン基、クロロエチレン基、クロロプロピレン基、ブロモメチレン基、ブロモエチレン基、ブロモプロピレン基、フルオロメチレン基、フルオロエチレン基、フルオロプロピレン基等が挙げられる。水酸基含有アルケニレン基としては、ヒドロキシブテニレン基、ヒドロキシペンテニレン基等が挙げられる。アルコキシ基含有アルケニレン基としては、メトキシブテニレン基、エトキシヘキセニレン基等が挙げられる。ハロゲン化アルケニレン基としては、クロロプロペニレン基、ブロモペンテニレン基等が挙げられる。水酸基含有アルキニレン基としては、ヒドロキシペンチニレン基、ヒドロキシヘキシニレン基等が挙げられる。アルコキシ基含有アルキニレン基としては、エトキシヘキシニレン基、メトキシへプチニレン基等が挙げられる。ハロゲン化アルキニレン基としては、クロロヘキシニレン基、フルオロオクチニレン基等が挙げられる。水酸基含有シクロアルキレン基としては、ヒドロキシシクロヘキサニレン基等が挙げられる。アルコキシ基含有シクロアルキレン基としては、メトキシシクロペンタニレン基等が挙げられる。ハロゲン化シクロアルキレン基としては、ジクロロシクロペンタニレン基等が挙げられる。水酸基含有アリーレン基としては、ヒドロキシフェニレン基等が挙げられる。アルコキシ基含有アリーレン基としては、メトキシフェニレン基、エトキシフェニレン基、アリルオキシフェニレン基、プロパルギルオキシフェニレン基等が挙げられる。ハロゲン化アリーレン基としては、クロロフェニレン基、ブロモフェニレン基、フルオロフェニレン基、クロロナフチレン基、ブロモナフチレン基、フルオロナフチレン基等が挙げられる。上記のほか、Lとしては不飽和炭化水素基含有アリーレン基であってもよい。不飽和炭化水素基含有アリーレン基としては、ビニルフェニレン基、アリルフェニレン基、エチニルフェニレン基、プロパルギルフェニレン基等が挙げられる。   Examples of the hydroxyl group-containing alkylene group include a hydroxymethylene group, a hydroxyethylene group, and a hydroxypropylene group. Examples of the alkoxy group-containing alkylene group include a methoxymethylene group, a methoxyethylene group, a methoxypropylene group, an allyloxymethylene group, an allyloxypropylene group, a propargyloxymethylene group, and a propargyloxypropylene group. Examples of the halogenated alkylene group include a chloromethylene group, a chloroethylene group, a chloropropylene group, a bromomethylene group, a bromoethylene group, a bromopropylene group, a fluoromethylene group, a fluoroethylene group, and a fluoropropylene group. Examples of the hydroxyl group-containing alkenylene group include a hydroxybutenylene group and a hydroxypentenylene group. Examples of the alkoxy group-containing alkenylene group include a methoxybutenylene group and an ethoxyhexenylene group. Examples of the halogenated alkenylene group include a chloropropenylene group and a bromopentenylene group. Examples of the hydroxyl group-containing alkynylene group include a hydroxypentynylene group and a hydroxyhexynylene group. Examples of the alkoxy group-containing alkynylene group include an ethoxyhexynylene group and a methoxyheptynylene group. Examples of the halogenated alkynylene group include a chlorohexynylene group and a fluorooctynylene group. Examples of the hydroxyl group-containing cycloalkylene group include a hydroxycyclohexanylene group. Examples of the alkoxy group-containing cycloalkylene group include a methoxycyclopentanylene group. Examples of the halogenated cycloalkylene group include a dichlorocyclopentanylene group. Examples of the hydroxyl group-containing arylene group include a hydroxyphenylene group. Examples of the alkoxy group-containing arylene group include a methoxyphenylene group, an ethoxyphenylene group, an allyloxyphenylene group, and a propargyloxyphenylene group. Examples of the halogenated arylene group include a chlorophenylene group, a bromophenylene group, a fluorophenylene group, a chloronaphthylene group, a bromonaphthylene group, and a fluoronaphthylene group. In addition to the above, L may be an unsaturated hydrocarbon group-containing arylene group. Examples of the unsaturated hydrocarbon group-containing arylene group include a vinylphenylene group, an allylphenylene group, an ethynylphenylene group, and a propargylphenylene group.

Lが2価のヘテロ原子、又はヘテロ原子を含む2価の原子団を示す場合、Lとしては、エーテル結合基(−O−基)、カルボニル基(−CO−基)、エステル基(−COO−基)、アミド基(−CONH−基)、イミノ基(−CCN−基)、アゾ基(−N=N−基)、スルフィド基(−S−基)、スルホニル基(―SO―)などが挙げられる。 When L represents a divalent hetero atom or a divalent atomic group containing a hetero atom, L may be an ether bond group (—O— group), a carbonyl group (—CO— group), an ester group (—COO). - group), amide groups (-CONH- group), an imino group (-CCN- group), an azo group (-N = N-group), sulfide groups (-S- group), a sulfonyl group (-SO 2 -) Etc.

上記の中でも、2価の連結基Lとしては、メチレン基、エチリデン基、イソプロピリデン基であることが好ましい。上記のような単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)が含まれる硬化性組成物から得られる硬化物は、優れた耐熱性を発現させることができる。   Among these, the divalent linking group L is preferably a methylene group, an ethylidene group, or an isopropylidene group. The hardened | cured material obtained from the curable composition containing the above monocyclic aromatic cyanate ester compounds (B) can express the outstanding heat resistance.

なお、Rは、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数が1〜6の炭化水素基、炭素原子数が1〜6のアルコキシ基、水酸基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子、又は炭素原子数が1〜6の炭化水素基、炭素原子数が1〜6のアルコキシ基、アリール基、若しくはアラルキル基に含まれる1以上の水素原子が、水酸基、ハロゲン原子の何れかで置換された構造の何れを示すが、そのようなRとしては、Rで説明したものと同様のものを挙げることができる。 R 2 is independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group, an aryl group, an aralkyl group, a halogen atom, or carbon. A structure in which one or more hydrogen atoms contained in a hydrocarbon group having 1 to 6 atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group, or an aralkyl group are substituted with either a hydroxyl group or a halogen atom As such R 2, the same as those described for R 1 can be mentioned.

上記で説明した単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)として、具体的には、例えば、ビスフェノールA型シアン酸エステル化合物、ビスフェノールF型シアン酸エステル化合物、ビスフェノールE型シアン酸エステル化合物、ビスフェノールS型シアン酸エステル化合物、ビスフェノールM型シアン酸エステル化合物、ビスフェノールP型シアン酸エステル化合物、ビスフェノールZ型シアン酸エステル化合物、ビスフェノールAP型シアン酸エステル化合物、ビスフェノールスルフィド型シアン酸エステル化合物、フェニレンエーテル型シアン酸エステル化合物、ビフェニル型シアン酸エステル化合物、テトラメチルビフェニル型シアン酸エステル化合物、ベンジル変性テトラメチルビフェニル型シアン酸エステル化合物、テトラメチルビスフェノールF型シアン酸エステル化合物、ジシクロペンタジエン-フェノール付加型シアン酸エステル化合物、ビスフェノールフルオレン型シアン酸エステル化合物などを挙げることができる。   Specific examples of the monocyclic aromatic cyanate compound (B) described above include, for example, bisphenol A type cyanate ester compound, bisphenol F type cyanate ester compound, bisphenol E type cyanate ester compound, and bisphenol S. Type cyanate ester compound, bisphenol M type cyanate ester compound, bisphenol P type cyanate ester compound, bisphenol Z type cyanate ester compound, bisphenol AP type cyanate ester compound, bisphenol sulfide type cyanate ester compound, phenylene ether type cyanide Acid ester compound, biphenyl type cyanate ester compound, tetramethyl biphenyl type cyanate ester compound, benzyl modified tetramethyl biphenyl type cyanate ester compound, tetramethyl Bisphenol F type cyanate ester compound, dicyclopentadiene - phenol addition type cyanate ester compound, and the like bisphenol fluorene type cyanate ester compound.

さらに、具体的には、下記構造式(B1−1)〜(B1−20)で表される単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)が挙げられる。   Specific examples include monocyclic aromatic cyanate ester compounds (B) represented by the following structural formulas (B1-1) to (B1-20).

Figure 2016041799
Figure 2016041799

上記構造式(B1−1)〜(B1−20)において、pは1〜4の整数を示し、Rが示す具体的な構造は、上記に示す通りである。 In the structural formulas (B1-1) to (B1-20), p represents an integer of 1 to 4, and the specific structure represented by R 2 is as described above.

さらに、構造式(B1)、(B2)で表される単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)としては、下記構造式(B1−a)、(B2−a)で表されるシアン酸エステル化合物が、さらに好ましい。上記単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)を含む硬化性組成物は、得られる硬化物において優れた低熱膨張性を発現させることができる。   Furthermore, as the monocyclic aromatic cyanate compound (B) represented by structural formulas (B1) and (B2), cyanate esters represented by the following structural formulas (B1-a) and (B2-a) More preferred are compounds. The curable composition containing the monocyclic aromatic cyanate compound (B) can exhibit excellent low thermal expansibility in the obtained cured product.

Figure 2016041799
Figure 2016041799

ただし、構造式(B1−a)、(B2−a)において、Lは2価の連結基、Rは、それぞれ独立して水素原子、炭素原子数が1〜6の炭化水素基、炭素原子数が1〜6のアルコキシ基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子、又は炭素原子数が1〜6の炭化水素基、炭素原子数が1〜6のアルコキシ基、アリール基、若しくはアラルキル基に含まれる1以上の水素原子がハロゲン原子で置換された構造を示し、pは1〜4の整数を示している。L、Rが示す上記置換基の具体的な構造は、上記の通りである。 However, in Structural Formulas (B1-a) and (B2-a), L is a divalent linking group, R 2 is independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, or a carbon atom. Included in an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group, or an aralkyl group 1 or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms, and p is an integer of 1 to 4. Specific structures of the substituents represented by L and R 2 are as described above.

さらに、構造式(B1−a)で表される単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)について、2価の連結基Lは、メチレン基、エチリデン基、イソプロピリデン基、アルキリデン基から構成されることが好ましく、得られる硬化物が優れた耐熱性を発現させることができることから、2価の連結基Lはメチレン基、エチリデン基、イソプロピリデン基から構成されることがより好ましい。   Furthermore, in the monocyclic aromatic cyanate ester compound (B) represented by the structural formula (B1-a), the divalent linking group L is composed of a methylene group, an ethylidene group, an isopropylidene group, and an alkylidene group. The divalent linking group L is more preferably composed of a methylene group, an ethylidene group, and an isopropylidene group because the resulting cured product can exhibit excellent heat resistance.

さらに、構造式(B1−a)、(B2−a)で表される単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)について、置換基Rとしては、水素原子、アルキル基、アラルキル基であることが好ましく、硬化物において優れた耐熱性を発現する硬化性組成物が得られることから、水素原子から構成されることがさらに好ましい。すなわち、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)が上記構造式(B1−a)、(B2−a)で表される化合物である場合において、置換基Rが水素原子から構成される場合には、得られる硬化物が優れた耐熱性に加え、優れた低熱膨張性を発現させることができるようになる。 Furthermore, regarding the monocyclic aromatic cyanate ester compound (B) represented by the structural formulas (B1-a) and (B2-a), the substituent R 2 is a hydrogen atom, an alkyl group, or an aralkyl group. It is more preferable that it is composed of hydrogen atoms because a curable composition that exhibits excellent heat resistance in the cured product can be obtained. That is, when the monocyclic aromatic cyanate compound (B) is a compound represented by the structural formulas (B1-a) and (B2-a), the substituent R 2 is composed of a hydrogen atom. In addition to the excellent heat resistance, the resulting cured product can exhibit an excellent low thermal expansion property.

・単環芳香族シアン酸エステル(B)の製造方法
上記で説明した単環芳香族シアン酸エステル(B)は、単環芳香族のヒドロキシ化合物(b)と、ハロゲン化シアンとを反応させることにより得ることができる。具体的には、単環芳香族のヒドロキシ化合物(b)中のヒドロキシ基の1モルに対し、ハロゲン化シアンを1.05モル〜1.5モルとなる割合で用いて反応させる。その後、反応液に適量の水を加えて生成塩を溶解し、水洗を繰り返して系内の生成塩を除去した後に、脱水や濾別でさらに精製して、有機溶媒を蒸留で除去することで単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)を得ることができる。
-Manufacturing method of monocyclic aromatic cyanate ester (B) The monocyclic aromatic cyanate ester (B) described above is obtained by reacting a monocyclic aromatic hydroxy compound (b) with cyanogen halide. Can be obtained. Specifically, cyanogen halide is reacted at a ratio of 1.05 mol to 1.5 mol with respect to 1 mol of the hydroxy group in the monocyclic aromatic hydroxy compound (b). Thereafter, an appropriate amount of water is added to the reaction solution to dissolve the produced salt, and after washing with water repeatedly to remove the produced salt in the system, it is further purified by dehydration and filtration, and the organic solvent is removed by distillation. A monocyclic aromatic cyanate ester compound (B) can be obtained.

このようにして得られる単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)は、シアナト基当量が80g/eq〜250g/eqの範囲であることが得られる硬化物において耐熱性、誘電特性に優れ、低熱膨張性に優れる点から好ましい。さらに好ましくは100g/eq〜200g/eqの範囲であることである。   The monocyclic aromatic cyanate ester compound (B) thus obtained has excellent heat resistance and dielectric properties in a cured product obtained by having a cyanate group equivalent in the range of 80 g / eq to 250 g / eq, and has low heat It is preferable from the viewpoint of excellent expandability. More preferably, it is in the range of 100 g / eq to 200 g / eq.

単環芳香族のヒドロキシ化合物(b)としては、下記構造式(b1)、下記構造式(b2)で表される化合物が挙げられる。

Figure 2016041799
Examples of the monocyclic aromatic hydroxy compound (b) include compounds represented by the following structural formula (b1) and the following structural formula (b2).
Figure 2016041799

ただし、構造式(b1)、(b2)において、Rは水酸基以外の1価の置換基を示し、pは0〜4の整数を示している。なお、Rが示す具体的な置換基は上記の通りである。 In Structural Formulas (b1) and (b2), R 2 represents a monovalent substituent other than a hydroxyl group, and p represents an integer of 0 to 4. Specific substituents represented by R 2 are as described above.

構造式(b1)で示される単環芳香族のヒドロキシ化合物(b)としては、例えば、2,2’−メチレンジフェノール、2−(3−ヒドロキシベンジル)フェノール、2−(4−ヒドロキシベンジル)フェノール、3,3’−メチレンジフェノール、3−(4−ヒドロキシベンジル)フェノール、4,4’−メチレンジフェノール、2,2’−(エタン−1,2−ジニル)ジフェノール、2−(3−ヒドロキシフェネチル)フェノール、2−(4−ヒドロキシフェネチル)フェノール、3,3’−(エタン−1,2−ジニル)ジフェノール、3−(4−ヒドロキシフェネチル)フェノール、4,4’−(エタン−1,2−ジニル)ジフェノール、などが挙げられる。   Examples of the monocyclic aromatic hydroxy compound (b) represented by the structural formula (b1) include 2,2′-methylenediphenol, 2- (3-hydroxybenzyl) phenol, and 2- (4-hydroxybenzyl). Phenol, 3,3′-methylenediphenol, 3- (4-hydroxybenzyl) phenol, 4,4′-methylenediphenol, 2,2 ′-(ethane-1,2-dinyl) diphenol, 2- ( 3-hydroxyphenethyl) phenol, 2- (4-hydroxyphenethyl) phenol, 3,3 ′-(ethane-1,2-dinyl) diphenol, 3- (4-hydroxyphenethyl) phenol, 4,4 ′-( Ethane-1,2-dinyl) diphenol, and the like.

構造式(b2)で示される単環芳香族のヒドロキシ化合物(b)としては、例えば、[1,1’−ビフェニル]−2,2’−ジオール、[1,1’−ビフェニル]−2,3’−ジオール、[1,1’−ビフェニル]−2,4’−ジオール、[1,1’−ビフェニル]−3,3’−ジオール、[1,1’−ビフェニル]−3,4’−ジオール、[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジオールなどが挙げられる。   Examples of the monocyclic aromatic hydroxy compound (b) represented by the structural formula (b2) include [1,1′-biphenyl] -2,2′-diol, [1,1′-biphenyl] -2, 3′-diol, [1,1′-biphenyl] -2,4′-diol, [1,1′-biphenyl] -3,3′-diol, [1,1′-biphenyl] -3,4 ′ -Diol, [1,1'-biphenyl] -4,4'-diol and the like.

これらの中でも、硬化物の難燃性と誘電特性が一層良好となる硬化性組成物が得られることから、[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジオールが好ましい。   Among these, [1,1′-biphenyl] -4,4′-diol is preferable because a curable composition can be obtained in which the flame retardancy and dielectric properties of the cured product are further improved.

なお、本発明の硬化性組成物は、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)と単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)において、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)1質量部に対し、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)を0.1質量部〜5質量部の割合で含んでいることが好ましい。縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)と、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)が、上記の範囲で含まれていると、得られる硬化物において熱伝導率と、耐熱分解性が向上する。   In addition, the curable composition of this invention is the condensed polycyclic aromatic cyanate ester compound (A) 1 in the condensed polycyclic aromatic cyanate ester compound (A) and the monocyclic aromatic cyanate ester compound (B). It is preferable that the monocyclic aromatic cyanate ester compound (B) is contained in an amount of 0.1 to 5 parts by mass with respect to parts by mass. When the condensed polycyclic aromatic cyanate ester compound (A) and the monocyclic aromatic cyanate ester compound (B) are contained in the above range, the resulting cured product has a thermal conductivity and a thermal decomposition resistance. Will improve.

なお、本発明の硬化性組成物として、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)と単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)を溶融混合し、プレポリマー化させたもの(縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)または芳香族シアン酸エステル化合物(B)が有するシアナト基の一部が3量化され、トリアジン環が生成したもの)を用いてもよい。かかる場合、シアナト基の3量化反応が過度に進行したものを用いると、上記硬化性組成物はゲル化して流動性を失ったものとなるため、硬化性組成物としては、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)または芳香族シアン酸エステル化合物(B)におけるシアナト基の反応割合が10%〜70%の範囲であるものを用いることが好ましい。さらに好ましくは20%〜60%の範囲であるものを用いることである。なお、上記シアナト基の反応割合は、赤外分光計(IR)におけるシアナト基(2270cm−1)、トリアジン環(1370cm−1)の吸収ピーク強度を、反応で変化しない芳香環由来の吸収ピーク(例えば1500cm−1)を基準にして算出することができる。 As the curable composition of the present invention, a fused polycyclic aromatic cyanate ester compound (A) and a monocyclic aromatic cyanate ester compound (B) are melt-mixed and prepolymerized (condensed polycyclic A part of the cyanate group of the aromatic cyanate ester compound (A) or the aromatic cyanate ester compound (B) may be trimerized to form a triazine ring). In such a case, if a compound in which the trimerization reaction of cyanate group has proceeded excessively is used, the curable composition is gelled and loses fluidity. Therefore, the curable composition may be a condensed polycyclic aromatic. It is preferable to use a cyanate ester compound (A) or an aromatic cyanate ester compound (B) having a cyanate group reaction rate in the range of 10% to 70%. More preferably, the range of 20% to 60% is used. In addition, the reaction rate of the said cyanato group is the absorption peak (the aromatic ring origin which does not change by reaction with the absorption peak intensity | strength of the cyanate group (2270cm < -1 >) in a infrared spectrometer (IR) and a triazine ring (1370cm < -1 >)). For example, it is computable on the basis of 1500cm < -1 >).

・ビスマレイミド(C)
さらに、本発明の硬化性組成物は、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)に加え、更にビスマレイミド(C)が配合されていてもよい。かかる場合、硬化性組成物において、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)1質量部に対し、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)が0.1質量部〜5質量部、ビスマレイミド(C)が0.1質量部〜5質量部の割合で含まれていることが好ましい。硬化性組成物において、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)と、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)と、ビスマレイミド(C)とが、上記の割合で含まれていると、得られる硬化物の耐熱性と耐熱分解性が向上する。
・ Bismaleimide (C)
Furthermore, the curable composition of the present invention may contain bismaleimide (C) in addition to the condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A) and monocyclic aromatic cyanate compound (B). Good. In such a case, in the curable composition, the monocyclic aromatic cyanate ester compound (B) is 0.1 parts by mass to 5 parts by mass with respect to 1 part by mass of the condensed polycyclic aromatic cyanate ester compound (A). It is preferable that maleimide (C) is contained in a proportion of 0.1 to 5 parts by mass. In the curable composition, the condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A), the monocyclic aromatic cyanate compound (B), and the bismaleimide (C) are contained in the above ratio. The heat resistance and heat decomposition resistance of the resulting cured product are improved.

上記ビスマレイミドとは、1分子中に2個以上のマレイミド基を有する化合物であれば、特に限定されるものではない。その具体的な例としては、4,4’―ジフェニルメタンビスマレイミド、4,4’―ジフェニルスルホンビスマレイミド、m―フェニレンビスマレイミド、ビス(3−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3−エチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3、5−ジメチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3,5−ジエチル−4−マレイミドフェニル)メタン等のビスマレイミド類が挙げられる。   The bismaleimide is not particularly limited as long as it is a compound having two or more maleimide groups in one molecule. Specific examples thereof include 4,4′-diphenylmethane bismaleimide, 4,4′-diphenylsulfone bismaleimide, m-phenylene bismaleimide, bis (3-methyl-4-maleimidophenyl) methane, bis (3- Ethyl-4-maleimidophenyl) methane, bis (3,5-dimethyl-4-maleimidophenyl) methane, bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane, bis (3,5-diethyl-4 -Bismaleimides such as -maleimidophenyl) methane.

これらの中でも特に硬化物の耐熱性が良好なものとなる点から、ビスマレイミド(C)としては、4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、ビス(3,5−ジメチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3、5−ジエチル−4−マレイミドフェニル)メタンが好ましい。   Among these, since the heat resistance of the cured product is particularly good, as bismaleimide (C), 4,4′-diphenylmethane bismaleimide, bis (3,5-dimethyl-4-maleimidophenyl) methane, Bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane and bis (3,5-diethyl-4-maleimidophenyl) methane are preferred.

・エポキシ樹脂(D)
さらに、本発明の硬化性組成物は、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)に加え、エポキシ樹脂(D)を含んでいても良い。かかる場合、硬化性組成物において、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)1質量部に対し、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)が0.1質量部〜5質量部、エポキシ樹脂(D)が0.1質量部〜5質量部の割合で含まれていることが好ましい。硬化性組成物が、上記の割合で縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)と、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)と、エポキシ樹脂(D)とを含んでいると、得られる硬化物の機械強度が向上する。
・ Epoxy resin (D)
Furthermore, the curable composition of the present invention may contain an epoxy resin (D) in addition to the condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A) and the monocyclic aromatic cyanate compound (B). In such a case, in the curable composition, the monocyclic aromatic cyanate ester compound (B) is 0.1 to 5 parts by mass with respect to 1 part by mass of the condensed polycyclic aromatic cyanate ester compound (A). It is preferable that the resin (D) is contained in a proportion of 0.1 to 5 parts by mass. When the curable composition contains the condensed polycyclic aromatic cyanate ester compound (A), the monocyclic aromatic cyanate ester compound (B), and the epoxy resin (D) at the above-mentioned ratios, it is obtained. The mechanical strength of the cured product is improved.

さらに、本発明の硬化性組成物は、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)、ビスマレイミド(C)に加え、エポキシ樹脂(D)を含んでいてもよい。かかる場合、硬化性組成物において、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)1質量部に対し、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)を0.1質量部〜5質量部、ビスマレイミド(C)を0.1質量部〜5質量部、エポキシ樹脂(D)を0.1質量部〜5質量部の割合で含んでいることが好ましい。硬化性組成物が、上記の割合で縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)と、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)と、ビスマレイミド(C)と、エポキシ樹脂(D)とを含んでいると、得られる硬化物において耐熱分解性、機械強度が向上する。   Furthermore, the curable composition of the present invention comprises an epoxy resin (D) in addition to the condensed polycyclic aromatic cyanate ester compound (A), monocyclic aromatic cyanate ester compound (B), and bismaleimide (C). May be included. In such a case, in the curable composition, 0.1 part by mass to 5 parts by mass of the monocyclic aromatic cyanate ester compound (B) is added to 1 part by mass of the condensed polycyclic aromatic cyanate ester compound (A). It is preferable to contain maleimide (C) in a proportion of 0.1 to 5 parts by mass and epoxy resin (D) in a proportion of 0.1 to 5 parts by mass. The curable composition comprises the condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A), the monocyclic aromatic cyanate compound (B), the bismaleimide (C), and the epoxy resin (D) at the above ratio. When it contains, the heat-resistant decomposition property and mechanical strength improve in the hardened | cured material obtained.

ここで用いるエポキシ樹脂(D)は、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール付加反応型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル変性フェノール型エポキシ樹脂(フェノール骨格とビフェニル骨格がビスメチレン基で連結された多価フェノール化合物)、ビフェニル変性ナフトール型エポキシ樹脂(フェノール骨格とビフェニル骨格がビスメチレン基で連結された多価ナフトール化合物)、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、キサンテン型エポキシ樹脂、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂等が挙げられる。   The epoxy resin (D) used here is, for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, tetramethylbiphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolak type. Epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, tetraphenylethane type epoxy resin, dicyclopentadiene-phenol addition reaction type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, naphthol novolak type epoxy resin, naphthol aralkyl type Epoxy resin, naphthol-phenol co-condensed novolac type epoxy resin, naphthol-cresol co-condensed novolac type epoxy resin, biphenyl modified phen Type epoxy resin (polyhydric phenol compound in which phenol skeleton and biphenyl skeleton are linked by bismethylene group), biphenyl-modified naphthol type epoxy resin (polyvalent naphthol compound in which phenol skeleton and biphenyl skeleton are linked by bismethylene group), aromatic And aromatic hydrocarbon formaldehyde resin-modified phenol resin type epoxy resin, biphenyl novolac type epoxy resin, xanthene type epoxy resin, naphthylene ether type epoxy resin and the like.

これらのなかでもフェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂や、ナフタレン骨格を含有するナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂や、結晶性のビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂、キサンテン型エポキシ樹脂や、アルコキシ基含有芳香環変性ノボラック型エポキシ樹脂(ホルムアルデヒドでグリシジル基含有芳香環及びアルコキシ基含有芳香環が連結された化合物)、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂等が耐熱性に優れる硬化物が得られる点から特に好ましい。   Among these, phenol aralkyl type epoxy resins, biphenyl novolak type epoxy resins, naphthol novolak type epoxy resins containing a naphthalene skeleton, naphthol aralkyl type epoxy resins, naphthol-phenol co-condensed novolac type epoxy resins, naphthol-cresol co-condensed novolacs. Type epoxy resin, crystalline biphenyl type epoxy resin, tetramethyl biphenyl type epoxy resin, xanthene type epoxy resin, alkoxy group-containing aromatic ring-modified novolak type epoxy resin (formaldehyde glycidyl group-containing aromatic ring and alkoxy group-containing aromatic ring Are particularly preferable in that a cured product having excellent heat resistance can be obtained.

・硬化促進剤(E)
さらに、本発明の硬化性組成物は、必要に応じて、硬化促進剤(E)を含んでいても良い。硬化促進剤(E)としては種々のものが使用できるが、例えば、フェノール類、アミン類、ルイス酸類、3級スルホニウム塩、4級アンモニウム塩、4級ホスホニウム塩、エポキシ基含有化合物などが挙げられる。これらの中でも、硬化性組成物が縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)と、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)から構成される場合、ノニルフェノール、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、銅、鉛、スズ、マンガン、ニッケル、鉄、亜鉛、コバルト等のカルボン酸塩、チタンテトラ-n-ブトキシドとそのポリマー、銅、ニッケル、コバルト等のペンタジオナート塩、臭化テトラブチルアンモニウム、塩化テトラブチルホスホニウム、テトラフェニルホスホニウムテトラ(メチルフェニル)ボレート、オクチル酸亜鉛が好ましい。硬化促進剤が上記のように構成されると、硬化促進剤は、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)と、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)との相溶性が高くなり、硬化反応が円滑に進行する。さらに、これらの中でも硬化促進剤としては、テトラフェニルホスホニウムテトラ(メチルフェニル)ボレートが特に好ましい。硬化促進剤がテトラフェニルホスホニウムテトラ(メチルフェニル)ボレートから構成されると、さらに早く硬化反応が進行する。かかる場合、硬化促進剤(B)の使用量は、例えば、シアン酸エステル化合物(A)100質量部あたり0.001質量部〜1.00質量部であることが好ましい。
・ Curing accelerator (E)
Furthermore, the curable composition of this invention may contain the hardening accelerator (E) as needed. Various curing accelerators (E) can be used, and examples thereof include phenols, amines, Lewis acids, tertiary sulfonium salts, quaternary ammonium salts, quaternary phosphonium salts, and epoxy group-containing compounds. . Among these, when the curable composition is composed of the condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A) and the monocyclic aromatic cyanate compound (B), nonylphenol, 2,4,6-tris ( Dimethylaminomethyl) Phenol, copper, lead, tin, manganese, nickel, iron, zinc, cobalt and other carboxylates, titanium tetra-n-butoxide and its polymers, copper, nickel, cobalt and other pentadionate salts, odor Tetrabutylammonium chloride, tetrabutylphosphonium chloride, tetraphenylphosphonium tetra (methylphenyl) borate and zinc octylate are preferred. When the curing accelerator is configured as described above, the curing accelerator is highly compatible with the condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A) and the monocyclic aromatic cyanate compound (B). The curing reaction proceeds smoothly. Further, among these, tetraphenylphosphonium tetra (methylphenyl) borate is particularly preferable as the curing accelerator. When the curing accelerator is composed of tetraphenylphosphonium tetra (methylphenyl) borate, the curing reaction proceeds faster. In this case, it is preferable that the usage-amount of a hardening accelerator (B) is 0.001 mass part-1.00 mass part per 100 mass parts of cyanate ester compound (A), for example.

なお、硬化性組成物が、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)と、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)に加え、ビスマレイミド(C)やエポキシ樹脂(D)も含む場合には、得られる硬化物が優れた硬化性、耐熱性、電気特性、耐湿信頼性等を発現させることができるようになる点から、硬化促進剤としては、トリフェニルフォスフィン、1,8−ジアザビシクロ−[5.4.0]−ウンデセン(DBU)、ベンジルジメチルアミン、イミダゾ−ルを用いることが好ましい。   The curable composition contains bismaleimide (C) and epoxy resin (D) in addition to the condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A) and monocyclic aromatic cyanate compound (B). From the point that the obtained cured product can express excellent curability, heat resistance, electrical characteristics, moisture resistance reliability, etc., as the curing accelerator, triphenylphosphine, 1,8- Diazabicyclo- [5.4.0] -undecene (DBU), benzyldimethylamine, and imidazole are preferably used.

・硬化剤
さらに、本発明の硬化性組成物は、必要に応じて、硬化剤を適宜含んでいても良い。ここで用いることのできる硬化剤としては、例えばアミン系化合物、アミド系化合物、酸無水物系化合物、フェノ−ル系化合物などの硬化剤を使用できる。具体的には、アミン系化合物としてはジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、イミダゾ−ル、BF3−アミン錯体、グアニジン誘導体等が挙げられ、アミド系化合物としては、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンとより合成されるポリアミド樹脂等が挙げられ、酸無水物系化合物としては、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等が挙げられ、フェノール系化合物としては、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール付加型樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、トリメチロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂(フェノール骨格とビフェニル骨格がビスメチレン基で連結された多価フェノール化合物)、ビフェニル変性ナフトール樹脂(ビスメチレン基でフェノール核が連結された多価ナフトール化合物)、アミノトリアジン変性フェノール樹脂(メラミン、ベンゾグアナミンなどでフェノール核が連結された多価フェノール化合物)やアルコキシ基含有芳香環変性ノボラック樹脂(ホルムアルデヒドでフェノール核及びアルコキシ基含有芳香環が連結された多価フェノール化合物)、ナフチレンエーテル樹脂等の多価フェノール化合物が挙げられる。
-Curing agent Furthermore, the curable composition of this invention may contain the hardening | curing agent suitably as needed. Examples of curing agents that can be used here include curing agents such as amine compounds, amide compounds, acid anhydride compounds, and phenol compounds. Specifically, examples of the amine compound include diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, imidazole, BF3-amine complex, and guanidine derivatives. Examples of the amide compound include dicyandiamide, Examples include polyamide resins synthesized from dimer of linolenic acid and ethylenediamine. Examples of acid anhydride compounds include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, and tetrahydrophthalic anhydride. , Methyltetrahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, etc., and phenolic compounds include phenol novolac resins, cresol novolac resins, Aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenol resin, dicyclopentadiene-phenol addition type resin, phenol aralkyl resin, naphthol aralkyl resin, trimethylol methane resin, tetraphenylol ethane resin, naphthol novolak resin, naphthol-phenol co-condensed novolak resin, Naphthol-cresol co-condensed novolak resin, biphenyl-modified phenol resin (polyhydric phenol compound in which phenol skeleton and biphenyl skeleton are linked by bismethylene group), biphenyl modified naphthol resin (polyvalent naphthol compound in which phenol nucleus is linked by bismethylene group) , Aminotriazine modified phenolic resin (polyhydric phenol compound with phenolic nuclei linked by melamine, benzoguanamine, etc.) and alkoxy group-containing aromatic ring modified Rack resin (polyhydric phenol compound phenol nucleus and an alkoxy group-containing aromatic ring are connected by formaldehyde), polyhydric phenol compounds such as naphthylene ether resins.

上記の中でも、得られる硬化物において、優れた難燃効果を発現させたい場合は、特に芳香族骨格を分子構造内に多く含む樹脂を用いることが好ましい。そのような樹脂としては、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂、ビフェニル変性ナフトール樹脂、アミノトリアジン変性フェノール樹脂、ナフチレンエーテル樹脂を挙げることができる。また、上記の中でも、得られる硬化物において、優れた誘電特性を発現させたい場合は、ジシクロペンタジエン−フェノール付加型樹脂が好ましい。   Among the above, it is preferable to use a resin containing a large amount of an aromatic skeleton in the molecular structure when it is desired to develop an excellent flame retardant effect in the obtained cured product. Such resins include phenol novolac resin, cresol novolak resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenol resin, phenol aralkyl resin, naphthol aralkyl resin, naphthol novolak resin, naphthol-phenol co-condensed novolak resin, naphthol-cresol co-condensed. Examples thereof include novolak resins, biphenyl-modified phenol resins, biphenyl-modified naphthol resins, aminotriazine-modified phenol resins, and naphthylene ether resins. Of the above, dicyclopentadiene-phenol addition type resin is preferable when it is desired to develop excellent dielectric properties in the obtained cured product.

上記した硬化剤を併用する場合、その使用量は、本発明が奏する効果が十分に発揮されることから、全硬化性組成物中、10質量%〜50質量%の範囲で含まれることが好ましい。   When the above-described curing agent is used in combination, the amount used is preferably included in the range of 10% by mass to 50% by mass in the total curable composition because the effect exhibited by the present invention is sufficiently exhibited. .

・熱硬化性樹脂
さらに、上記硬化性組成物には、熱硬化性樹脂を適宜含んでいても良い。熱硬化性樹脂としては、例えば、シアン酸エステル樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、1分子中に1個のマレイミド基を有するモノマレイミド化合物、活性エステル樹脂、ビニルベンジル化合物、アクリル化合物、スチレンとマレイン酸無水物の共重合物などが挙げられる。上記した他の熱硬化性樹脂を併用する場合、その使用量は本発明の効果を阻害しなければ特に制限をうけないが、硬化性組成物100質量部中、1質量部〜50質量部の範囲であることが好ましい。
-Thermosetting resin Furthermore, the said curable composition may contain the thermosetting resin suitably. Examples of thermosetting resins include cyanate ester resins, benzoxazine resins, monomaleimide compounds having one maleimide group per molecule, active ester resins, vinyl benzyl compounds, acrylic compounds, styrene and maleic anhydride. And the like. When the other thermosetting resins described above are used in combination, the amount used is not particularly limited as long as the effect of the present invention is not impaired, but in 100 parts by mass of the curable composition, 1 part by mass to 50 parts by mass. A range is preferable.

上記シアン酸エステル樹脂は、例えば、ナフチレンエーテル型シアン酸エステル樹脂、ポリヒドロキシナフタレン型シアン酸エステル樹脂、フェノールノボラック型シアン酸エステル樹脂、クレゾールノボラック型シアン酸エステル樹脂、トリフェニルメタン型シアン酸エステル樹脂、テトラフェニルエタン型シアン酸エステル樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール付加反応型シアン酸エステル樹脂、フェノールアラルキル型シアン酸エステル樹脂、ナフトールノボラック型シアン酸エステル樹脂、ナフトールアラルキル型シアン酸エステル樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック型シアン酸エステル樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック型シアン酸エステル樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂型シアン酸エステル樹脂、ビフェニル変性ノボラック型シアン酸エステル樹脂、アントラセン型シアン酸エステル樹脂等が挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いても良いし、2種類以上を併用しても良い。   Examples of the cyanate ester resins include naphthylene ether type cyanate ester resins, polyhydroxynaphthalene type cyanate ester resins, phenol novolac type cyanate ester resins, cresol novolac type cyanate ester resins, and triphenylmethane type cyanate esters. Resin, tetraphenylethane type cyanate ester resin, dicyclopentadiene-phenol addition reaction type cyanate ester resin, phenol aralkyl type cyanate ester resin, naphthol novolak type cyanate ester resin, naphthol aralkyl type cyanate ester resin, naphthol- Phenol-condensed novolac-type cyanate ester resin, naphthol-cresol co-condensed novolak-type cyanate ester resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin-modified phenolic tree Type cyanate ester resin, biphenyl-modified novolak type cyanate ester resins, anthracene type cyanate ester resins. These may be used alone or in combination of two or more.

これらのシアン酸エステル樹脂の中でも、特に耐熱性に優れる硬化物が得られる点においては、ポリヒドロキシナフタレン型シアン酸エステル樹脂、ナフチレンエーテル型シアン酸エステル樹脂、フェノールノボラック型シアン酸エステル樹脂、クレゾールノボラック型シアン酸エステル樹脂、ナフトールノボラック型シアン酸エステル樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック型シアン酸エステル樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック型シアン酸エステル樹脂、ビフェニル変性ノボラック型シアン酸エステル樹脂を用いることが好ましく、誘電特性に優れる硬化物が得られる点においては、ジシクロペンタジエン−フェノール付加反応型シアン酸エステル樹脂が好ましい。   Among these cyanate ester resins, polyhydroxynaphthalene-type cyanate ester resins, naphthylene ether-type cyanate ester resins, phenol novolac-type cyanate ester resins, and cresols are particularly useful in that cured products having excellent heat resistance can be obtained. Use novolak-type cyanate ester resin, naphthol novolak-type cyanate ester resin, naphthol-phenol co-condensed novolak-type cyanate ester resin, naphthol-cresol co-condensed novolac-type cyanate ester resin, biphenyl-modified novolac-type cyanate ester resin In terms of obtaining a cured product having excellent dielectric properties, a dicyclopentadiene-phenol addition reaction type cyanate ester resin is preferable.

上記ベンゾオキサジン樹脂としては、特に制限はないが、例えば、ビスフェノールFとホルマリンとアニリンの反応生成物(F−a型ベンゾオキサジン樹脂)やジアミノジフェニルメタンとホルマリンとフェノールの反応生成物(P−d型ベンゾオキサジン樹脂)、ビスフェノールAとホルマリンとアニリンの反応生成物、ジヒドロキシジフェニルエーテルとホルマリンとアニリンの反応生成物、ジアミノジフェニルエーテルとホルマリンとフェノールの反応生成物、ジシクロペンタジエン−フェノール付加型樹脂とホルマリンとアニリンの反応生成物、フェノールフタレインとホルマリンとアニリンの反応生成物、ジフェニルスルフィドとホルマリンとアニリンの反応生成物などが挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いても良いし、2種類以上を併用しても良い。   The benzoxazine resin is not particularly limited. For example, a reaction product of bisphenol F, formalin and aniline (Fa type benzoxazine resin) or a reaction product of diaminodiphenylmethane, formalin and phenol (Pd type). Benzoxazine resin), reaction product of bisphenol A, formalin and aniline, reaction product of dihydroxydiphenyl ether, formalin and aniline, reaction product of diaminodiphenyl ether, formalin and phenol, dicyclopentadiene-phenol addition resin and formalin and aniline Reaction products of phenolphthalein, formalin and aniline, reaction products of diphenyl sulfide, formalin and aniline, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

1分子中に1個のマレイミド基を有するモノマレイミド化合物は、例えば、下記構造式(i)で表される各種の化合物等が挙げられる。   Examples of the monomaleimide compound having one maleimide group in one molecule include various compounds represented by the following structural formula (i).

Figure 2016041799
Figure 2016041799

上記式(i)中、Rはシアナト基以外の1価の置換基であり、x及びyはそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基の何れかを示している。   In the above formula (i), R is a monovalent substituent other than a cyanato group, and x and y each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, or an aryl group.

Rとしては、R、Rで説明した置換基と同様の置換基を挙げることができるが、特に、ヒドロキシフェニル基、プロペニル基、プロピニル基、アリルフェニル基、プロパルギルフェニル基、アリルヒドロキシフェニル基、プロパルギルヒドロキシフェニル基であることが好ましい。上記のように、Rが構成されると、得られる硬化物において耐熱性が向上する。 Examples of R include the same substituents as those described for R 1 and R 2 , and in particular, a hydroxyphenyl group, a propenyl group, a propynyl group, an allylphenyl group, a propargylphenyl group, and an allylhydroxyphenyl group. It is preferably a propargyl hydroxyphenyl group. As described above, when R is configured, the heat resistance of the obtained cured product is improved.

活性エステル樹脂としては、特に制限はないが、一般にフェノールエステル類、チオフェノールエステル類、N−ヒドロキシアミンエステル類、複素環ヒドロキシ化合物のエステル類等の反応活性の高いエステル基を1分子中に2個以上有する化合物が好ましく用いられる。上記の他の活性エステル樹脂は、カルボン酸化合物及び/又はチオカルボン酸化合物と、ヒドロキシ化合物及び/又はチオール化合物との縮合反応によって得られるものが好ましい。特に耐熱性向上の観点から、カルボン酸化合物又はそのハライドとヒドロキシ化合物とから得られる活性エステル樹脂が好ましく、カルボン酸化合物又はそのハライドと、フェノール化合物及び/又はナフトール化合物とから得られる活性エステル樹脂がより好ましい。カルボン酸化合物としては、例えば安息香酸、酢酸、コハク酸、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ピロメリット酸等、又はそのハライドが挙げられる。フェノール化合物又はナフトール化合物としては、ハイドロキノン、レゾルシン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フェノールフタリン、メチル化ビスフェノールA、メチル化ビスフェノールF、メチル化ビスフェノールS、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、カテコール、α−ナフトール、β−ナフトール、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、フロログルシン、ベンゼントリオール、ジシクロペンタジエン−フェノール付加型樹脂等が挙げられる。活性エステル樹脂として、具体的にはジシクロペンタジエン−フェノール付加構造を含む活性エステル系樹脂、ナフタレン構造を含む活性エステル樹脂、フェノールノボラックのアセチル化物である活性エステル樹脂、フェノールノボラックのベンゾイル化物である活性エステル樹脂等が好ましく、なかでもピール強度の向上に優れるという点で、ジシクロペンタジエン−フェノール付加構造を含む活性エステル樹脂、ナフタレン構造を含む活性エステル樹脂がより好ましい。ジシクロペンタジエン−フェノール付加構造を含む活性エステル樹脂として、より具体的には下記一般式(ii)で表される化合物が挙げられる。   Although there is no restriction | limiting in particular as active ester resin, Generally ester groups with high reaction activity, such as phenol ester, thiophenol ester, N-hydroxyamine ester, ester of a heterocyclic hydroxy compound, are 2 in 1 molecule. A compound having at least one is preferably used. The other active ester resin is preferably obtained by a condensation reaction between a carboxylic acid compound and / or a thiocarboxylic acid compound and a hydroxy compound and / or a thiol compound. In particular, from the viewpoint of improving heat resistance, an active ester resin obtained from a carboxylic acid compound or a halide thereof and a hydroxy compound is preferred, and an active ester resin obtained from a carboxylic acid compound or a halide thereof and a phenol compound and / or a naphthol compound is preferred. More preferred. Examples of the carboxylic acid compound include benzoic acid, acetic acid, succinic acid, maleic acid, itaconic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, pyromellitic acid, and the like, or a halide thereof. Examples of the phenol compound or naphthol compound include hydroquinone, resorcin, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, phenolphthaline, methylated bisphenol A, methylated bisphenol F, methylated bisphenol S, phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, catechol, α-naphthol, β-naphthol, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, dihydroxybenzophenone, trihydroxybenzophenone, tetrahydroxybenzophenone, phloroglucin, benzenetriol , Dicyclopentadiene-phenol addition resin and the like. Specific examples of the active ester resin include an active ester resin containing a dicyclopentadiene-phenol addition structure, an active ester resin containing a naphthalene structure, an active ester resin that is an acetylated product of phenol novolac, and an activity that is a benzoylated product of phenol novolac. An ester resin or the like is preferable, and an active ester resin including a dicyclopentadiene-phenol addition structure and an active ester resin including a naphthalene structure are more preferable because they are excellent in improving peel strength. More specifically, examples of the active ester resin containing a dicyclopentadiene-phenol addition structure include compounds represented by the following general formula (ii).

Figure 2016041799
Figure 2016041799

式中、Rはフェニル基又はナフチル基であり、kは0又は1を表し、nは繰り返し単位の平均で0.05〜2.5を示す。   In formula, R is a phenyl group or a naphthyl group, k represents 0 or 1, and n shows 0.05-2.5 on the average of a repeating unit.

なお、硬化物の誘電正接を低下させ、耐熱性を向上させるという観点から、Rはナフチル基が好ましく、kは0が好ましく、また、nは0.25〜1.5が好ましい。   From the viewpoint of reducing the dielectric loss tangent of the cured product and improving the heat resistance, R is preferably a naphthyl group, k is preferably 0, and n is preferably 0.25 to 1.5.

・難燃剤
また、上記硬化性組成物は、難燃性を発揮させるために、信頼性を低下させない範囲で、実質的にハロゲン原子を含有しない非ハロゲン系難燃剤を適宜含んでいても良い。
-Flame retardant Moreover, in order to exhibit a flame retardance, the said curable composition may contain the non-halogen-type flame retardant which does not contain a halogen atom substantially in the range which does not reduce reliability.

上記非ハロゲン系難燃剤としては、例えば、リン系難燃剤、窒素系難燃剤、シリコーン系難燃剤、無機系難燃剤、有機金属塩系難燃剤等が挙げられ、それらの使用に際しても何等制限されるものではなく、単独で使用しても、同一系の難燃剤を複数用いても良く、また、異なる系の難燃剤を組み合わせて用いることも可能である。   Examples of the non-halogen flame retardants include phosphorus flame retardants, nitrogen flame retardants, silicone flame retardants, inorganic flame retardants, and organic metal salt flame retardants. The flame retardants may be used alone or in combination, and a plurality of flame retardants of the same system may be used, or different types of flame retardants may be used in combination.

上記リン系難燃剤としては、無機系、有機系のいずれも使用することができる。無機系化合物としては、例えば、赤リン、リン酸一アンモニウム、リン酸二アンモニウム、リン酸三アンモニウム、ポリリン酸アンモニウム等のリン酸アンモニウム類、リン酸アミド等の無機系含窒素リン化合物が挙げられる。   As the phosphorus-based flame retardant, both inorganic and organic can be used. Examples of the inorganic compounds include red phosphorus, monoammonium phosphate, diammonium phosphate, triammonium phosphate, ammonium phosphates such as ammonium polyphosphate, and inorganic nitrogen-containing phosphorus compounds such as phosphate amide. .

また、上記赤リンは、加水分解等の防止を目的として表面処理が施されていることが好ましく、表面処理方法としては、例えば、(1)水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化亜鉛、水酸化チタン、酸化ビスマス、水酸化ビスマス、硝酸ビスマス又はこれらの混合物等の無機化合物で被覆処理する方法、(2)水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化亜鉛、水酸化チタン等の無機化合物、及びフェノール樹脂等の熱硬化性樹脂の混合物で被覆処理する方法、(3)水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化亜鉛、水酸化チタン等の無機化合物の被膜の上にフェノール樹脂等の熱硬化性樹脂で二重に被覆処理する方法等が挙げられる。   The red phosphorus is preferably surface-treated for the purpose of preventing hydrolysis and the like. Examples of the surface treatment method include (1) magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, zinc hydroxide, water A method of coating with an inorganic compound such as titanium oxide, bismuth oxide, bismuth hydroxide, bismuth nitrate or a mixture thereof; (2) an inorganic compound such as magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, zinc hydroxide, titanium hydroxide; and Method of coating with a mixture of thermosetting resins such as phenolic resin, (3) Thermosetting of phenolic resin on a film of inorganic compound such as magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, zinc hydroxide, titanium hydroxide For example, a method of double coating with a resin may be used.

上記有機リン系化合物としては、例えば、リン酸エステル化合物、ホスホン酸化合物、ホスフィン酸化合物、ホスフィンオキシド化合物、ホスホラン化合物、有機系含窒素リン化合物等の汎用有機リン系化合物の他、9,10−ジヒドロ−9−オキサー10−ホスファフェナントレン=10−オキシド、10−(2,5―ジヒドロオキシフェニル)―10H−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン=10−オキシド、10―(2,7−ジヒドロオキシナフチル)−10H−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン=10−オキシド等の環状有機リン化合物、及びそれをエポキシ樹脂やフェノール樹脂等の化合物と反応させた誘導体等が挙げられる。   Examples of the organic phosphorus compound include, for example, general-purpose organic phosphorus compounds such as phosphate ester compounds, phosphonic acid compounds, phosphinic acid compounds, phosphine oxide compounds, phospholane compounds, organic nitrogen-containing phosphorus compounds, and 9,10- Dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene = 10-oxide, 10- (2,5-dihydrooxyphenyl) -10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene = 10-oxide, 10- (2,7- Examples thereof include cyclic organophosphorus compounds such as dihydrooxynaphthyl) -10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene = 10-oxide, and derivatives obtained by reacting them with compounds such as epoxy resins and phenol resins.

それらの配合量としては、リン系難燃剤の種類、硬化性組成物の他の成分、所望の難燃性の程度によって適宜選択されるものであるが、例えば、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)、非ハロゲン系難燃剤、及びその他の充填材や添加剤等全てを配合した硬化性組成物100質量部中、赤リンを非ハロゲン系難燃剤として使用する場合は0.1質量部〜2.0質量部の範囲で配合することが好ましく、有機リン化合物を使用する場合は同様に0.1質量部〜10.0質量部の範囲で配合することが好ましく、特に0.5質量部〜6.0質量部の範囲で配合することが好ましい。   The blending amount thereof is appropriately selected according to the type of the phosphorus-based flame retardant, the other components of the curable composition, and the desired degree of flame retardancy. For example, a condensed polycyclic aromatic cyanate ester Red phosphorus is non-halogenated in 100 parts by mass of the curable composition containing the compound (A), monocyclic aromatic cyanate ester compound (B), non-halogen flame retardant, and other fillers and additives. When used as a system flame retardant, it is preferably blended in the range of 0.1 parts by mass to 2.0 parts by mass, and when an organic phosphorus compound is used, it is similarly 0.1 parts by mass to 10.0 parts by mass. It is preferable to mix | blend in the range, and it is preferable to mix | blend especially in the range of 0.5 mass part-6.0 mass parts.

また上記リン系難燃剤を使用する場合、該リン系難燃剤にハイドロタルサイト、水酸化マグネシウム、ホウ化合物、酸化ジルコニウム、黒色染料、炭酸カルシウム、ゼオライト、モリブデン酸亜鉛、活性炭等を併用してもよい。   In addition, when using the above phosphorus flame retardant, hydrotalcite, magnesium hydroxide, boric compound, zirconium oxide, black dye, calcium carbonate, zeolite, zinc molybdate, activated carbon, etc. may be used in combination with the phosphorus flame retardant. Good.

上記窒素系難燃剤としては、例えば、トリアジン化合物、シアヌル酸化合物、イソシアヌル酸化合物、フェノチアジン等が挙げられ、トリアジン化合物、シアヌル酸化合物、イソシアヌル酸化合物が好ましい。   Examples of the nitrogen-based flame retardant include triazine compounds, cyanuric acid compounds, isocyanuric acid compounds, phenothiazines, and the like, and triazine compounds, cyanuric acid compounds, and isocyanuric acid compounds are preferable.

上記トリアジン化合物としては、例えば、メラミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、メロン、メラム、サクシノグアナミン、エチレンジメラミン、ポリリン酸メラミン、トリグアナミン等の他、例えば、(1)硫酸グアニルメラミン、硫酸メレム、硫酸メラムなどの硫酸アミノトリアジン化合物、(2)フェノール、クレゾール、キシレノール、ブチルフェノール、ノニルフェノール等のフェノール類と、メラミン、ベンゾグアナミン、アセトグアナミン、ホルムグアナミン等のメラミン類およびホルムアルデヒドとの共縮合物、(3)上記(2)の共縮合物とフェノールホルムアルデヒド縮合物等のフェノール樹脂類との混合物、(4)上記(2)、(3)を更に桐油、異性化アマニ油等で変性したもの等が挙げられる。   Examples of the triazine compound include melamine, acetoguanamine, benzoguanamine, melon, melam, succinoguanamine, ethylene dimelamine, melamine polyphosphate, triguanamine, and the like, for example, (1) guanylmelamine sulfate, melem sulfate, sulfate Aminotriazine sulfate compounds such as melam, (2) cocondensates of phenols such as phenol, cresol, xylenol, butylphenol and nonylphenol with melamines such as melamine, benzoguanamine, acetoguanamine and formguanamine and formaldehyde, (3) Mixtures of the above (2) cocondensates and phenol resins such as phenol formaldehyde condensates, (4) (2) and (3) further modified with tung oil, isomerized linseed oil, etc. .

上記シアヌル酸化合物の具体例としては、例えば、シアヌル酸、シアヌル酸メラミン等を挙げることができる。   Specific examples of the cyanuric acid compound include cyanuric acid and cyanuric acid melamine.

上記窒素系難燃剤の配合量としては、窒素系難燃剤の種類、硬化性組成物の他の成分、所望の難燃性の程度によって適宜選択されるものであるが、例えば、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)、非ハロゲン系難燃剤、及びその他の充填材や添加剤等全てを配合した硬化性組成物100質量部中、0.05質量部〜10質量部の範囲で配合することが好ましく、特に0.1質量部〜5質量部の範囲で配合することが好ましい。   The compounding amount of the nitrogen-based flame retardant is appropriately selected depending on the type of the nitrogen-based flame retardant, the other components of the curable composition, and the desired degree of flame retardancy. In 100 parts by mass of curable composition containing all of aromatic cyanate ester compound (A), monocyclic aromatic cyanate ester compound (B), non-halogen flame retardant, and other fillers and additives, etc. It is preferable to mix | blend in the range of 0.05 mass part-10 mass parts, and it is preferable to mix | blend especially in the range of 0.1 mass part-5 mass parts.

また上記窒素系難燃剤を使用する際、金属水酸化物、モリブデン化合物等を併用してもよい。   Moreover, when using the said nitrogen-type flame retardant, you may use a metal hydroxide, a molybdenum compound, etc. together.

上記シリコーン系難燃剤としては、ケイ素原子を含有する有機化合物であれば特に制限がなく使用でき、例えば、シリコーンオイル、シリコーンゴム、シリコーン樹脂等が挙げられる。   The silicone flame retardant is not particularly limited as long as it is an organic compound containing a silicon atom, and examples thereof include silicone oil, silicone rubber, and silicone resin.

上記シリコーン系難燃剤の配合量としては、シリコーン系難燃剤の種類、硬化性組成物の他の成分、所望の難燃性の程度によって適宜選択されるものであるが、例えば、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)、非ハロゲン系難燃剤、及びその他の充填材や添加剤等全てを配合した硬化性組成物100質量部中、0.05質量部〜20質量部の範囲で配合することが好ましい。また上記シリコーン系難燃剤を使用する際、モリブデン化合物、アルミナ等を併用してもよい。   The amount of the silicone flame retardant is appropriately selected depending on the type of the silicone flame retardant, the other components of the curable composition, and the desired degree of flame retardancy. In 100 parts by mass of curable composition containing all of aromatic cyanate ester compound (A), monocyclic aromatic cyanate ester compound (B), non-halogen flame retardant, and other fillers and additives, etc. It is preferable to blend in the range of 0.05 parts by mass to 20 parts by mass. Moreover, when using the said silicone type flame retardant, you may use a molybdenum compound, an alumina, etc. together.

上記無機系難燃剤としては、例えば、金属水酸化物、金属酸化物、金属炭酸塩化合物、金属粉、ホウ素化合物、低融点ガラス等が挙げられる。   Examples of the inorganic flame retardant include metal hydroxide, metal oxide, metal carbonate compound, metal powder, boron compound, and low melting point glass.

上記金属水酸化物の具体例としては、例えば、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、ドロマイト、ハイドロタルサイト、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化ジルコニウム等を挙げることができる。   Specific examples of the metal hydroxide include aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, dolomite, hydrotalcite, calcium hydroxide, barium hydroxide, zirconium hydroxide and the like.

上記金属酸化物の具体例としては、例えば、モリブデン酸亜鉛、三酸化モリブデン、スズ酸亜鉛、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化チタン、酸化マンガン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化モリブデン、酸化コバルト、酸化ビスマス、酸化クロム、酸化ニッケル、酸化銅、酸化タングステン等を挙げることができる。   Specific examples of the metal oxide include, for example, zinc molybdate, molybdenum trioxide, zinc stannate, tin oxide, aluminum oxide, iron oxide, titanium oxide, manganese oxide, zirconium oxide, zinc oxide, molybdenum oxide, and cobalt oxide. Bismuth oxide, chromium oxide, nickel oxide, copper oxide, tungsten oxide and the like.

上記金属炭酸塩化合物の具体例としては、例えば、炭酸亜鉛、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、塩基性炭酸マグネシウム、炭酸アルミニウム、炭酸鉄、炭酸コバルト、炭酸チタン等を挙げることができる。   Specific examples of the metal carbonate compound include zinc carbonate, magnesium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, basic magnesium carbonate, aluminum carbonate, iron carbonate, cobalt carbonate, and titanium carbonate.

上記金属粉の具体例としては、例えば、アルミニウム、鉄、チタン、マンガン、亜鉛、モリブデン、コバルト、ビスマス、クロム、ニッケル、銅、タングステン、スズ等を挙げることができる。   Specific examples of the metal powder include aluminum, iron, titanium, manganese, zinc, molybdenum, cobalt, bismuth, chromium, nickel, copper, tungsten, tin, and the like.

上記ホウ素化合物の具体例としては、例えば、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、ホウ酸、ホウ砂等を挙げることができる。   Specific examples of the boron compound include zinc borate, zinc metaborate, barium metaborate, boric acid, and borax.

上記低融点ガラスの具体例としては、例えば、シープリー(ボクスイ・ブラウン社)、水和ガラスSiO−MgO−HO、PbO−B系、ZnO−P−MgO系、P−B−PbO−MgO系、P−Sn−O−F系、PbO−V−TeO系、Al−HO系、ホウ珪酸鉛系等のガラス状化合物を挙げることができる。 Specific examples of the low-melting-point glass include, for example, Sheepley (Bokusui Brown), hydrated glass SiO 2 —MgO—H 2 O, PbO—B 2 O 3 system, ZnO—P 2 O 5 —MgO system, P 2 O 5 —B 2 O 3 —PbO—MgO, P—Sn—O—F, PbO—V 2 O 5 —TeO 2 , Al 2 O 3 —H 2 O, lead borosilicate, etc. The glassy compound can be mentioned.

上記無機系難燃剤の配合量としては、無機系難燃剤の種類、硬化性組成物の他の成分、所望の難燃性の程度によって適宜選択されるものであるが、例えば、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)、非ハロゲン系難燃剤、及びその他の充填材や添加剤等全てを配合した硬化性組成物100質量部中、0.05質量部〜20質量部の範囲で配合することが好ましく、特に0.5質量部〜15質量部の範囲で配合することが好ましい。   The blending amount of the inorganic flame retardant is appropriately selected depending on the type of the inorganic flame retardant, the other components of the curable composition, and the desired degree of flame retardancy. In 100 parts by mass of curable composition containing all of aromatic cyanate ester compound (A), monocyclic aromatic cyanate ester compound (B), non-halogen flame retardant, and other fillers and additives, etc. It is preferable to mix | blend in the range of 0.05 mass part-20 mass parts, and it is preferable to mix | blend especially in the range of 0.5 mass part-15 mass parts.

上記有機金属塩系難燃剤としては、例えば、フェロセン、アセチルアセトナート金属錯体、有機金属カルボニル化合物、有機コバルト塩化合物、有機スルホン酸金属塩、金属原子と芳香族化合物又は複素環化合物がイオン結合又は配位結合した化合物等が挙げられる。   Examples of the organometallic salt flame retardant include ferrocene, acetylacetonate metal complex, organometallic carbonyl compound, organocobalt salt compound, organosulfonic acid metal salt, metal atom and aromatic compound or heterocyclic compound or an ionic bond or Examples thereof include a coordinated compound.

上記有機金属塩系難燃剤の配合量としては、有機金属塩系難燃剤の種類、硬化性組成物の他の成分、所望の難燃性の程度によって適宜選択されるものであるが、例えば、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)、非ハロゲン系難燃剤、及びその他の充填材や添加剤等全てを配合した硬化性組成物100質量部中、0.005質量部〜10質量部の範囲で配合することが好ましい。   The amount of the organometallic salt-based flame retardant is appropriately selected depending on the type of the organometallic salt-based flame retardant, the other components of the curable composition, and the desired degree of flame retardancy. 100 mass of curable composition containing all of condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A), monocyclic aromatic cyanate compound (B), non-halogen flame retardant, and other fillers and additives It is preferable to mix | blend in 0.005 mass part-10 mass parts in a part.

・無機充填材
上記硬化性組成物には、必要に応じて無機質充填材を適宜含んでいても良い。上記無機質充填材としては、例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、窒化珪素、水酸化アルミ等が挙げられる。上記無機充填材の配合量を特に大きくする場合は溶融シリカを用いることが好ましい。上記溶融シリカは破砕状、球状のいずれでも使用可能であるが、溶融シリカの配合量を高め且つ成形材料の溶融粘度の上昇を抑制するためには、球状のものを主に用いる方が好ましい。更に球状シリカの配合量を高めるためには、球状シリカの粒度分布を適当に調整することが好ましい。その充填率は難燃性を考慮して、高い方が好ましく、硬化性組成物の全体量に対して20質量%以上が特に好ましい。また導電ペーストなどの用途に使用する場合は、銀粉や銅粉等の導電性充填剤を用いることができる。
-Inorganic filler The said curable composition may contain the inorganic filler suitably as needed. Examples of the inorganic filler include fused silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride, and aluminum hydroxide. When particularly increasing the blending amount of the inorganic filler, it is preferable to use fused silica. The fused silica can be used in either a crushed shape or a spherical shape. However, in order to increase the blending amount of the fused silica and suppress an increase in the melt viscosity of the molding material, it is preferable to mainly use a spherical shape. In order to further increase the blending amount of the spherical silica, it is preferable to appropriately adjust the particle size distribution of the spherical silica. The filling rate is preferably higher in consideration of flame retardancy, and particularly preferably 20% by mass or more with respect to the total amount of the curable composition. Moreover, when using for uses, such as an electrically conductive paste, electroconductive fillers, such as silver powder and copper powder, can be used.

・有機溶剤
さらに、本発明の硬化性組成物は、有機溶剤を適宜含んでいても良い。ここで使用し得る上記有機溶剤としては、メチルエチルケトン、アセトン、ジメチルホルムアミド、メチルイソブチルケトン、メトキシプロパノール、シクロヘキサノン、メチルセロソルブ、エチルジグリコールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられ、その選択や適正な使用量は用途によって適宜選択し得る。
-Organic solvent Furthermore, the curable composition of this invention may contain the organic solvent suitably. Examples of the organic solvent that can be used here include methyl ethyl ketone, acetone, dimethylformamide, methyl isobutyl ketone, methoxypropanol, cyclohexanone, methyl cellosolve, ethyl diglycol acetate, and propylene glycol monomethyl ether acetate. The amount used can be appropriately selected depending on the application.

・配合剤
本発明の硬化性組成物は、必要に応じて、シランカップリング剤、離型剤、顔料、乳化剤等の種々の配合剤を含んでいても良い。
-Compounding agent The curable composition of this invention may contain various compounding agents, such as a silane coupling agent, a mold release agent, a pigment, and an emulsifier, as needed.

・硬化物
本発明の硬化性組成物は、従来知られている方法と同様の方法で容易に硬化物とすることができる。そのような硬化物としては積層物、注型物、接着層、塗膜、フィルム等の成形硬化物が挙げられる。なお、硬化物を得る方法としては、一般的な硬化性組成物の硬化方法に準拠すればよいが、例えば加熱温度条件は、組み合わせる硬化剤の種類や用途等によって、適宜選択すればよいが、上記方法によって得られた組成物を、20℃〜300℃程度の温度範囲で加熱すればよい。
-Hardened | cured material The curable composition of this invention can be easily made into hardened | cured material by the method similar to the method known conventionally. Examples of such cured products include molded cured products such as laminates, cast products, adhesive layers, coating films, and films. In addition, as a method for obtaining a cured product, it may be in accordance with a curing method of a general curable composition, for example, the heating temperature condition may be appropriately selected depending on the type of curing agent to be combined and the use, What is necessary is just to heat the composition obtained by the said method in the temperature range of about 20 degreeC-300 degreeC.

<硬化性組成物の用途>
本発明の硬化性組成物の用途としては、プリント配線板材料、フレキシルブル配線基板用組成物、ビルドアップ基板用層間絶縁材料、ビルドアップ用接着フィルム等の回路基板用絶縁材料、樹脂注型材料、接着剤、半導体封止材料、半導体装置、プリプレグ、導電ペースト、ビルドアップフィルム、ビルドアップ基板、繊維強化複合材料、上記複合材料を硬化させてなる成形品等が挙げられる。これら各種用途のうち、プリント配線板材料、回路基板用絶縁材料、ビルドアップ用接着フィルム用途では、コンデンサ等の受動部品やICチップ等の能動部品を基板内に埋め込んだ所謂電子部品内蔵用基板用の絶縁材料として用いることができる。なお、上記の中でも、硬化物が優れた耐熱性、誘電特性、低膨張率性を発現させることのできるといった特性を生かし、本発明の硬化性組成物は、半導体封止材料、半導体装置、プリプレグ、フレキシルブル配線基板、回路基板、ビルドアップフィルム、ビルドアップ基板、多層プリント配線板、繊維強化複合材料、上記複合材料を硬化させてなる成形品に用いることが好ましい。以下に、本発明の硬化性組成物から、上記半導体封止材料などを製造する方法について説明する。
<Use of curable composition>
Applications of the curable composition of the present invention include printed wiring board materials, flexible wiring board compositions, interlayer insulating materials for build-up boards, insulating materials for circuit boards such as build-up adhesive films, and resin casting materials. , Adhesives, semiconductor sealing materials, semiconductor devices, prepregs, conductive pastes, build-up films, build-up substrates, fiber reinforced composite materials, molded products obtained by curing the composite materials, and the like. Among these various applications, for printed wiring board materials, circuit board insulation materials, and build-up adhesive film applications, passive components such as capacitors and active components such as IC chips are embedded in the substrate for so-called electronic component-embedded substrates. It can be used as an insulating material. Among the above, the curable composition of the present invention is a semiconductor encapsulating material, a semiconductor device, a prepreg, taking advantage of the characteristics that the cured product can exhibit excellent heat resistance, dielectric properties, and low expansion coefficient. It is preferably used for flexible wiring boards, circuit boards, build-up films, build-up boards, multilayer printed wiring boards, fiber reinforced composite materials, and molded products obtained by curing the composite materials. Below, the method to manufacture the said semiconductor sealing material etc. from the curable composition of this invention is demonstrated.

・半導体封止材料
上記硬化性組成物から半導体封止材料を得る方法としては、必要に応じて押出機、ニ−ダ、ロ−ル等を用いて、硬化性組成物、硬化促進剤、及び無機充填剤等の配合剤とを均一になるまで充分に溶融混合する方法が挙げられる。その際、無機充填剤としては、通常、溶融シリカが用いられるが、パワートランジスタ、パワーIC用高熱伝導半導体封止材を製造する場合は、溶融シリカよりも熱伝導率の高い結晶シリカ,アルミナ,窒化ケイ素などの高充填化、又は溶融シリカ、結晶性シリカ、アルミナ、窒化ケイ素などを用いるとよい。その充填率は硬化性組成物100質量部当たり、無機充填剤を30質量部〜95質量部の範囲で用いることが好ましく、中でも、難燃性や耐湿性や耐ハンダクラック性の向上、線膨張係数の低下を図るためには、70質量部以上がより好ましく、80質量部以上であることがさらに好ましい。
Semiconductor encapsulating material As a method for obtaining a semiconductor encapsulating material from the curable composition, as necessary, using an extruder, a kneader, a roll, etc., a curable composition, a curing accelerator, and Examples thereof include a method in which a compounding agent such as an inorganic filler is sufficiently melt-mixed until uniform. At that time, fused silica is usually used as the inorganic filler. However, when manufacturing a high thermal conductive semiconductor encapsulant for power transistors and power ICs, crystalline silica, alumina, which has higher thermal conductivity than fused silica, High filling such as silicon nitride, or fused silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride, or the like may be used. As for the filling rate, it is preferable to use an inorganic filler in the range of 30 to 95 parts by mass per 100 parts by mass of the curable composition, and among them, improvement in flame resistance, moisture resistance and solder crack resistance, and linear expansion. In order to reduce the coefficient, the amount is more preferably 70 parts by mass or more, and further preferably 80 parts by mass or more.

・半導体装置
上記硬化性組成物から半導体装置を得る方法としては、上記半導体封止材料を注型、或いはトランスファー成形機、射出成形機などを用いて成形し、さらに50℃〜200℃で2時間〜10時間の間、加熱すればよい。
Semiconductor device As a method for obtaining a semiconductor device from the curable composition, the semiconductor sealing material is cast or molded using a transfer molding machine, an injection molding machine, and the like, and further at 50 ° C. to 200 ° C. for 2 hours. What is necessary is just to heat for 10 hours.

・プリプレグ
上記硬化性組成物からプリプレグを得る方法としては、有機溶剤を配合してワニス化した硬化性組成物を、補強基材(紙、ガラス布、ガラス不織布、アラミド紙、アラミド布、ガラスマット、ガラスロービング布など)に含浸したのち、用いた溶剤種に応じた加熱温度、好ましくは50℃〜170℃で加熱することによって、得る方法が挙げられる。この時用いる組成物と補強基材の質量割合としては、特に限定されないが、通常、プリプレグ中の樹脂分が、全体の20質量%〜60質量%となるように調製することが好ましい。
-Prepreg As a method for obtaining a prepreg from the above curable composition, a curable composition blended with an organic solvent and varnished is used as a reinforcing substrate (paper, glass cloth, glass nonwoven fabric, aramid paper, aramid cloth, glass mat). And a glass roving cloth, etc.), followed by heating at a heating temperature corresponding to the solvent type used, preferably 50 ° C to 170 ° C. The mass ratio of the composition and the reinforcing substrate used at this time is not particularly limited, but it is usually preferable that the resin content in the prepreg is adjusted to 20% to 60% by mass.

ここで用いる有機溶剤としては、メチルエチルケトン、アセトン、ジメチルホルムアミド、メチルイソブチルケトン、メトキシプロパノール、シクロヘキサノン、メチルセロソルブ、エチルジグリコールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられ、その選択や適正な使用量は用途によって適宜選択し得るが、例えば、下記のようにプリプレグからプリント回路基板をさらに製造する場合には、メチルエチルケトン、アセトン、ジメチルホルムアミド等の沸点が160℃以下の極性溶剤を用いることが好ましく、また、不揮発分が、全体の40質量%〜80質量%となる割合で用いることが好ましい。   Examples of the organic solvent used here include methyl ethyl ketone, acetone, dimethylformamide, methyl isobutyl ketone, methoxy propanol, cyclohexanone, methyl cellosolve, ethyl diglycol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, etc. For example, when a printed circuit board is further produced from a prepreg as described below, it is preferable to use a polar solvent having a boiling point of 160 ° C. or lower, such as methyl ethyl ketone, acetone, dimethylformamide, etc. The non-volatile content is preferably 40% to 80% by mass of the total.

・回路基板
上記硬化性組成物から回路基板を得る方法としては、上記プリプレグを、常法により積層し、適宜銅箔を重ねて、1MPa〜10MPaの加圧下に170℃〜300℃で10分〜3時間、加熱圧着させる方法が挙げられる。
-Circuit board As a method of obtaining a circuit board from the said curable composition, the said prepreg is laminated | stacked by a conventional method, a copper foil is laminated | stacked suitably, and it is 170 degreeC-300 degreeC under the pressurization of 1 MPa-10 MPa-10 minutes- The method of carrying out thermocompression bonding for 3 hours is mentioned.

・フレキシルブル配線基板
上記硬化性組成物からレキシルブル配線基板を得る方法としては、以下に示す3つの工程から製造する方法が挙げられる。
工程1:リバースロールコータ、コンマコータ等の塗布機を用いて、電気絶縁性フィルム上に、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)と単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)と有機溶剤を配合した硬化性組成物からなる樹脂絶縁層を形成する工程。
工程2:加熱機を用いて60℃〜170℃で1分〜15分の間、樹脂絶縁層が形成された電気絶縁性フィルム加熱し、溶媒を電気絶縁性フィルムから揮発させて、樹脂絶縁層をB−ステージ化する工程。
工程3:加熱ロール等を用いて、樹脂絶縁層と金属箔を熱圧着(圧着圧力は20N/cm〜200N/cm、圧着温度は40℃〜200℃が好ましい)する工程。
-Flexible wiring board As a method of obtaining a lexible wiring board from the said curable composition, the method of manufacturing from the three processes shown below is mentioned.
Step 1: Using a coating machine such as a reverse roll coater or a comma coater, the condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A), the monocyclic aromatic cyanate compound (B), and an organic solvent are formed on the electrically insulating film. The process of forming the resin insulation layer which consists of a curable composition which mix | blended.
Step 2: Heat the electrically insulating film on which the resin insulating layer is formed at 60 ° C. to 170 ° C. for 1 minute to 15 minutes using a heater, volatilize the solvent from the electric insulating film, and resin insulating layer B-stage.
Process 3: The process of thermocompression-bonding a resin insulation layer and metal foil using a heating roll etc. (crimping pressure is 20 N / cm-200 N / cm, and crimping | compression-bonding temperature is 40 to 200 degreeC is preferable).

なお、上記の3つの工程を経ることで、樹脂絶縁層と金属箔との間で十分な接着性能が得られれば、ここで終えても構わないが、完全な接着性能が必要な場合は、さらに100℃〜200℃、1時間〜24時間の間、樹脂絶縁層を後硬化させることが好ましい。最終的に硬化させた後の樹脂絶縁層の厚みは、5μm〜100μmの範囲が好ましい。   In addition, if sufficient adhesion performance is obtained between the resin insulating layer and the metal foil through the above three steps, the process may be finished here, but when complete adhesion performance is required, Furthermore, it is preferable that the resin insulating layer is post-cured for 1 to 24 hours at 100 to 200 ° C. The thickness of the resin insulation layer after finally curing is preferably in the range of 5 μm to 100 μm.

・ビルドアップ基板
上記硬化性組成物からビルドアップ基板を得る方法としては、以下に示す3つの工程から製造する方法が挙げられる。
工程1:ゴム、フィラーなどを適宜配合した上記硬化性組成物を、回路が形成された回路基板にスプレーコーティング法、カーテンコーティング法等を用いて塗布した後、硬化させ、回路基板上に硬化性組成物からなる樹脂絶縁層を形成する工程。
工程2:必要に応じて、回路基板に所定のスルーホール部等の穴あけと表面処理を行い、凹凸を形成したのち、銅などの金属をめっき処理する工程。
工程3:所望に応じて、上記操作を順次繰り返し、樹脂絶縁層と金属めっき導電層を交互にビルドアップして形成する工程。
-Build-up board | substrate As a method of obtaining a build-up board | substrate from the said curable composition, the method manufactured from three processes shown below is mentioned.
Step 1: The above curable composition containing rubber, filler, etc., as appropriate is applied to a circuit board on which a circuit is formed using a spray coating method, a curtain coating method, etc., and then cured to be curable on the circuit board. Forming a resin insulation layer comprising the composition;
Step 2: A step of drilling a predetermined through-hole portion and the like on the circuit board and surface treatment as necessary to form irregularities, and then plating a metal such as copper.
Process 3: The process of repeating the said operation sequentially as needed, and building up and forming a resin insulating layer and a metal plating conductive layer alternately.

なお、本発明のビルドアップ基板は、銅箔上で上記硬化性組成物を半硬化させた樹脂付き銅箔を、回路を形成した配線基板上に、170℃〜250℃で加熱圧着することで、作製することも可能である。   In addition, the build-up board | substrate of this invention is thermocompression-bonding at 170 to 250 degreeC on the wiring board which formed the circuit the copper foil with resin which semi-hardened the said curable composition on copper foil. It is also possible to produce.

・ビルドアップフィルム
上記硬化性組成物からビルドアップ基板を得る方法としては、支持フィルム上に上記硬化性組成物を塗布する方法を挙げることができる。
・ Build-up film
Examples of a method for obtaining a buildup substrate from the curable composition include a method of applying the curable composition on a support film.

上記ビルドアップフィルムを製造する場合、支持フィルムは、真空ラミネート法におけるラミネートの温度条件(通常70℃〜140℃)で軟化し、回路基板へのラミネートと同時に、回路基板に存在するビアホール或いはスルーホール内の樹脂充填が可能な場所に流動することが肝要であり、このような特性を発現するよう上記各成分を配合することが好ましい。   When manufacturing the build-up film, the support film is softened under the lamination temperature condition (usually 70 ° C. to 140 ° C.) in the vacuum laminating method, and simultaneously with the lamination to the circuit board, via holes or through holes existing in the circuit board. It is important to flow to a place where the resin can be filled, and it is preferable to blend the above-described components so as to exhibit such characteristics.

ここで、回路基板のスルホールの直径は通常0.1mm〜0.5mm、深さは通常0.1mm〜1.2mmであり、通常この範囲で樹脂充填を可能とするのが好ましい。なお回路基板の両面をラミネートする場合はスルーホールの1/2程度充填されることが望ましい。   Here, the diameter of the through hole of the circuit board is usually 0.1 mm to 0.5 mm, and the depth is usually 0.1 mm to 1.2 mm, and it is usually preferable to allow resin filling in this range. When laminating both surfaces of the circuit board, it is desirable to fill about 1/2 of the through hole.

上記した接着フィルムは、具体的には、ワニス状の上記硬化性組成物を調製した後、支持フィルムの表面に、上記ワニス状の組成物を塗布し、更に加熱、あるいは熱風吹きつけ等により有機溶剤を乾燥させて硬化性組成物からなる樹脂絶縁層を支持フィルム上に形成することにより製造することができる。   Specifically, the adhesive film described above is prepared by preparing the varnish-like curable composition, coating the surface of the support film with the varnish-like composition, and further heating or blowing hot air, etc. It can manufacture by drying a solvent and forming the resin insulating layer which consists of a curable composition on a support film.

形成される樹脂絶縁層の厚さは、通常、導体層の厚さ以上とする。回路基板が有する導体層の厚さは通常5μm〜70μmの範囲であるので、組成物層の厚さは10μm〜100μmの厚みを有するのが好ましい。   The thickness of the resin insulating layer to be formed is usually equal to or greater than the thickness of the conductor layer. Since the thickness of the conductor layer of the circuit board is usually in the range of 5 μm to 70 μm, the thickness of the composition layer is preferably 10 μm to 100 μm.

なお、本発明における樹脂絶縁層は、後述する保護フィルムで保護されていてもよい。保護フィルムで保護することにより、組成物層表面へのゴミ等の付着やキズを防止することができる。   In addition, the resin insulating layer in this invention may be protected with the protective film mentioned later. By protecting with a protective film, it is possible to prevent dust from adhering to the surface of the composition layer and scratches.

上記した支持フィルムと保護フィルムは、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート(以下「PET」と略称することがある。)、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、更には離型紙や銅箔、アルミニウム箔等の金属箔などを挙げることができる。なお、支持フィルム及び保護フィルムはマッド処理、コロナ処理の他、離型処理を施してあってもよい。   The above support film and protective film are made of polyolefins such as polyethylene, polypropylene, and polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate (hereinafter sometimes referred to as “PET”), polyesters such as polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyimide, and further. Examples thereof include metal foil such as pattern paper, copper foil, and aluminum foil. In addition, the support film and the protective film may be subjected to a release treatment in addition to the mud treatment and the corona treatment.

支持フィルムの厚さは特に限定されないが、通常10μm〜150μmであり、好ましくは25μm〜50μmの範囲で用いられる。また保護フィルムの厚さは1μm〜40μmとするのが好ましい。   Although the thickness of a support film is not specifically limited, Usually, it is 10 micrometers-150 micrometers, Preferably it is used in the range of 25 micrometers-50 micrometers. Moreover, it is preferable that the thickness of a protective film shall be 1 micrometer-40 micrometers.

支持フィルムは、回路基板にラミネートした後に、或いは加熱硬化することにより絶縁層を形成した後に、剥離される。接着フィルムを加熱硬化した後に支持フィルムを剥離すれば、硬化工程でのゴミ等の付着を防ぐことができる。硬化後に剥離する場合、通常、支持フィルムには予め離型処理が施される。   The support film is peeled off after being laminated on the circuit board or after the insulating layer is formed by heat curing. If the support film is peeled after the adhesive film is heat-cured, adhesion of dust and the like in the curing process can be prevented. In the case of peeling after curing, the support film is usually subjected to a release treatment in advance.

・多層プリント配線板
なお、上記のようして得られたフィルムを用いて多層プリント配線板を製造することもできる。そのような多層プリント配線板の製造方法は、例えば、樹脂絶縁層が保護フィルムで保護されている場合はこれらを剥離した後、樹脂絶縁層を回路基板に直接、回路基板の片面又は両面に、例えば真空ラミネート法によりラミネートする。ラミネートの方法はバッチ式であってもロールでの連続式であってもよい。またラミネートを行う前に接着フィルム及び回路基板を必要により加熱(プレヒート)しておいてもよい。
-Multilayer printed wiring board In addition, a multilayer printed wiring board can also be manufactured using the film obtained as mentioned above. For example, when the resin insulating layer is protected with a protective film, the method for producing such a multilayer printed wiring board is to remove these, and then directly attach the resin insulating layer to the circuit board on one or both sides of the circuit board. For example, lamination is performed by a vacuum laminating method. The laminating method may be a batch method or a continuous method using a roll. Further, the adhesive film and the circuit board may be heated (preheated) as necessary before lamination.

ラミネートの条件は、圧着温度(ラミネート温度)を好ましくは70℃〜140℃、圧着圧力を好ましくは9.8×10Pa〜107.9×10Paとし、空気圧を26.7hPa以下の減圧下でラミネートすることが好ましい。 The lamination conditions are preferably 70 ° C. to 140 ° C. The bonding temperature (lamination temperature), the crimping pressure preferably set to 9.8 × 10 4 Pa~107.9 × 10 4 Pa, vacuum following 26.7hPa air pressure Laminating below is preferred.

・繊維強化複合材料
上記硬化性組成物から繊維強化複合材料(上記硬化性組成物が強化繊維に含浸したシート状中間素材)を製造する方法としては、硬化性組成物を構成する各成分を均一に混合してワニスを調整し、次いでこれを強化繊維からなる強化基材に含浸した後、重合反応させることにより製造することができる。
・ Fiber reinforced composite material As a method for producing a fiber reinforced composite material (a sheet-like intermediate material in which the curable composition is impregnated in the reinforced fiber) from the curable composition, each component constituting the curable composition is uniformly used. The varnish is prepared by mixing, and then impregnated into a reinforcing substrate made of reinforcing fibers, and then subjected to a polymerization reaction.

かかる重合反応を行う際の硬化温度は、具体的には、50℃〜250℃の温度範囲であることが好ましく、特に、50℃〜100℃で硬化させ、タックフリー状の硬化物にした後、更に、120℃〜200℃の温度条件で処理することが好ましい。   Specifically, the curing temperature at the time of performing the polymerization reaction is preferably in the temperature range of 50 ° C. to 250 ° C., and in particular, after curing at 50 ° C. to 100 ° C. to obtain a tack-free cured product. Furthermore, it is preferable to perform the treatment under a temperature condition of 120 ° C to 200 ° C.

ここで、強化繊維は、有撚糸、解撚糸、又は無撚糸などいずれでも良いが、解撚糸や無撚糸が、繊維強化プラスチック製部材の成形性と機械強度を両立することから、好ましい。さらに、強化繊維の形態は、繊維方向が一方向に引き揃えたものや、織物が使用できる。織物では、平織り、朱子織りなどから、使用する部位や用途に応じて自由に選択することができる。具体的には、機械強度や耐久性に優れることから、炭素繊維、ガラス繊維、アラミド繊維、ボロン繊維、アルミナ繊維、炭化ケイ素繊維などが挙げられ、これらの2種以上を併用することもできる。これらの中でもとりわけ成形品の強度が良好なものとなる点から炭素繊維が好ましく、かかる、炭素繊維は、ポリアクリロニトリル系、ピッチ系、レーヨン系などの各種のものが使用できる。中でも、容易に高強度の炭素繊維が得られるポリアクリロニトリル系のものが好ましい。ここで、ワニスを強化繊維からなる強化基材に含浸して繊維強化複合材料とする際の強化繊維の使用量は、該繊維強化複合材料中の強化繊維の体積含有率が40%〜85%の範囲となる量であることが好ましい。   Here, the reinforced fiber may be any of a twisted yarn, an untwisted yarn, or a non-twisted yarn, but an untwisted yarn or a non-twisted yarn is preferable because both the formability and mechanical strength of the fiber-reinforced plastic member are compatible. Furthermore, the form of a reinforced fiber can use what the fiber direction arranged in one direction, and a textile fabric. The woven fabric can be freely selected from plain weaving, satin weaving, and the like according to the site and use. Specifically, since it is excellent in mechanical strength and durability, carbon fiber, glass fiber, aramid fiber, boron fiber, alumina fiber, silicon carbide fiber and the like can be mentioned, and two or more of these can be used in combination. Among these, carbon fiber is preferable from the viewpoint that the strength of the molded product is particularly good. As the carbon fiber, various types such as polyacrylonitrile-based, pitch-based, and rayon-based can be used. Among these, a polyacrylonitrile-based one that can easily obtain a high-strength carbon fiber is preferable. Here, the amount of reinforcing fibers used when a reinforced varnish made of reinforcing fibers is impregnated into a fiber-reinforced composite material is such that the volume content of the reinforcing fibers in the fiber-reinforced composite material is 40% to 85%. It is preferable that the amount be in the range.

・成形品
本発明の硬化性組成物から成形品(組成物が強化繊維に含浸したシート状部材が硬化したもの)を得る方法としては、上記繊維強化複合材料を所定の寸法に裁断後、所定枚数を積層した積層物に熱と圧力を加えながら、硬化性組成物を硬化させる方法を用いることができる。
-Molded product As a method of obtaining a molded product (one obtained by curing a sheet-like member in which the composition is impregnated with reinforcing fibers) from the curable composition of the present invention, the fiber-reinforced composite material is cut into a predetermined size, and then a predetermined size is obtained. A method of curing the curable composition while applying heat and pressure to the laminate obtained by laminating the number of sheets can be used.

熱と圧力を加えながら、硬化性組成物を加熱硬化させる方法には、プレス成形法、オートクレーブ成形法、バッギング成形法、ラッピングテープ法、および内圧成形法などがある。   Methods for heat-curing the curable composition while applying heat and pressure include a press molding method, an autoclave molding method, a bagging molding method, a wrapping tape method, and an internal pressure molding method.

例えば、板状の成形品を成形する方法としては、シート状の繊維強化複合材料を所定の寸法に裁断後、剛体ツール上に所定枚数、所定の繊維軸方向に積層する。次に、繊維強化複合材料を可撓性フィルムでシールし、剛体ツールと可撓性フィルムの間を真空ポンプにて吸引して脱気したのち、オートクレーブに設置し、加熱、加圧することで成形品を得ることができる。   For example, as a method of forming a plate-shaped molded article, a sheet-like fiber reinforced composite material is cut into a predetermined size and then laminated on a rigid tool in a predetermined fiber axis direction. Next, the fiber reinforced composite material is sealed with a flexible film, and the space between the rigid tool and the flexible film is sucked with a vacuum pump and degassed, then placed in an autoclave, heated and pressurized to form. Goods can be obtained.

ここで、剛体ツールの材質としては、スチールやアルミニウム等の金属、繊維強化プラスチック(FRP)、木材および石膏など既存の各種のものが用いられる。可撓性のフィルムの材料には、ナイロン、フッ素樹脂およびシリコーン樹脂等が用いられる。   Here, as the material of the rigid tool, various existing materials such as metals such as steel and aluminum, fiber reinforced plastic (FRP), wood, and plaster are used. Nylon, fluorine resin, silicone resin, or the like is used as the material for the flexible film.

成形品を成形する温度としては、通常80℃〜220℃の温度範囲で調整される。より好ましくは、50℃〜250℃の温度範囲であり、特に、50℃〜100℃で予備硬化させ、タックフリー状の硬化物にした後、更に、120℃〜200℃の温度条件で処理することが好ましい。かかる成形温度が低すぎると、十分な速硬化性が得られない場合があり、逆に高すぎると、熱歪みによる反りが発生しやすくなったりする場合がある。   As temperature which shape | molds a molded article, it is normally adjusted in the temperature range of 80 to 220 degreeC. More preferably, it is a temperature range of 50 ° C. to 250 ° C., and in particular, after pre-curing at 50 ° C. to 100 ° C. to form a tack-free cured product, it is further treated at a temperature condition of 120 ° C. to 200 ° C. It is preferable. If the molding temperature is too low, sufficient rapid curability may not be obtained. Conversely, if the molding temperature is too high, warping due to thermal strain may be likely to occur.

また、成形品を成形する圧力としては、プリプレグの厚みや体積含有率などにより異なるが、通常9.8Pa〜980Paの圧力範囲で調整される。かかる成形圧力が低すぎると、繊維強化複合材料の内部まで十分に熱が伝わらず、局所的に未硬化となったり、反りが発生したりする場合がある。逆に高すぎると、樹脂が硬化する前に周囲に流れ出してしまい、成形品に未含浸部分が発生したり、目的とする体積含有率が得られなかったりする場合がある。   Moreover, as a pressure which shape | molds a molded article, although it changes with the thickness, volume content rate, etc. of a prepreg, it is normally adjusted in the pressure range of 9.8 Pa-980 Pa. If the molding pressure is too low, heat may not be sufficiently transmitted to the inside of the fiber reinforced composite material, resulting in local uncuring or warping. On the other hand, if it is too high, the resin may flow out to the surroundings before it is cured, and an unimpregnated portion may be generated in the molded product, or the target volume content may not be obtained.

本発明の硬化性組成物から成形品を得る他の方法としては、金型に繊維骨材を敷き、ワニスを多重積層してゆくハンドレイアップ法やスプレーアップ法、オス型・メス型のいずれかを使用し、強化繊維からなる基材にワニスを含浸させながら積み重ねて成形、圧力を成形物に作用させることのできるフレキシブルな型をかぶせ、気密シールしたものを真空(減圧)成型する真空バッグ法、あらかじめ強化繊維を含有するワニスをシート状にしたものを金型で圧縮成型するSMCプレス法、繊維を敷き詰めた合わせ型に上記ワニスを注入するRTM法などにより、強化繊維に上記ワニスを含浸させたプリプレグを製造し、これを大型のオートクレーブで焼き固める方法などが挙げられる。なお、上記で得られた成形品は、強化繊維と硬化性組成物の硬化物とを有する成形品であり、具体的には、成形品中の強化繊維の体積含有率は、40%〜85%の範囲であることが好ましく、強度の点から50%〜70%の範囲であることが特に好ましい。   Other methods for obtaining a molded product from the curable composition of the present invention include a hand lay-up method, a spray-up method, a male type and a female type in which a fiber aggregate is laid on a mold and multiple varnishes are laminated. Vacuum bags that are molded in a vacuum (reduced pressure) after being sealed with a flexible mold capable of applying pressure to the molded product. The varnish is impregnated with the varnish by the SMC press method in which the varnish containing the reinforcing fiber is formed into a sheet in a mold, or the RTM method in which the varnish is injected into a mating die in which the fibers are laid. For example, there is a method of producing a prepreg that has been prepared and baking it in a large autoclave. In addition, the molded article obtained above is a molded article having reinforcing fibers and a cured product of the curable composition. Specifically, the volume content of the reinforcing fibers in the molded article is 40% to 85%. %, Preferably in the range of 50% to 70% from the viewpoint of strength.

・硬化物
上記硬化性組成物から硬化物を製造する方法としては、一般的な硬化性組成物の硬化方法に準拠することにより製造することができる。例えば加熱温度条件は、組み合わせる硬化剤の種類や用途等によって、適宜選択すればよい。
-Hardened | cured material As a method of manufacturing hardened | cured material from the said curable composition, it can manufacture by complying with the hardening method of a general curable composition. For example, the heating temperature condition may be appropriately selected depending on the type and application of the curing agent to be combined.

この様にして得られる硬化物は、上記した通り優れた耐熱性、誘電特性、低膨張率性、密着性に優れ、種々の電子材料に用いることができるものである。   The cured product thus obtained is excellent in heat resistance, dielectric properties, low expansion coefficient, and adhesion as described above, and can be used for various electronic materials.

従って、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)と、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)とを含有する硬化性組成物は、硬化物において優れた耐熱性、誘電特性、低膨張率性、密着性を発現させることができ、最先端の電子材料として使用できるものである。   Accordingly, the curable composition containing the condensed polycyclic aromatic cyanate ester compound (A) and the monocyclic aromatic cyanate ester compound (B) has excellent heat resistance, dielectric properties, and low expansion in the cured product. It can exhibit efficiency and adhesion, and can be used as a state-of-the-art electronic material.

次に本発明を実施例、比較例により具体的に説明するが、以下において「部」及び「%」は特に断わりのない限り質量基準である。尚、MSスペクトル、IRスペクトルは以下の条件にて測定した。   Next, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. In the following, “parts” and “%” are based on mass unless otherwise specified. The MS spectrum and IR spectrum were measured under the following conditions.

FD−MS:日本電子株式会社製「JMS−T100GC AccuTOF」を用いて測定した。
測定範囲:m/z=4.00〜2000.00
変化率:51.2mA/min
最終電流値:45mA
カソード電圧:−10kV
記録間隔:0.07sec
FD-MS: Measured using “JMS-T100GC AccuTOF” manufactured by JEOL Ltd.
Measurement range: m / z = 4.00-2000.00
Rate of change: 51.2 mA / min
Final current value: 45 mA
Cathode voltage: -10 kV
Recording interval: 0.07 sec

IR:サーモフィッシャーサイエンティフィック社製「Nicolet iS10」を用い、KBr法で測定した。   IR: Measured by KBr method using “Nicolet iS10” manufactured by Thermo Fisher Scientific.

〔合成例1〕 縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)の合成
滴下ロート、温度計、攪拌装置、加熱装置、冷却還流管を取り付けた4つ口フラスコに窒素ガスを流しながら、臭化シアン106g(1.0モル)と2,7−ジヒドロキシナフタレン80.0g(0.5モル)を仕込みアセトン1000gに溶解させた後、−3℃に冷却した。次に、トリエチルアミン111g(1.1モル)を滴下ロートに仕込み、攪拌しながらフラスコ内温が10℃以上にならない様な速度で滴下した。滴下終了後、2時間10℃以下の温度下で攪拌し、生じた沈澱を濾過により除いた。その後、アセトンを除去、塩化メチレン1000gを加え、水洗することにより反応物を得た。次に、得られた反応物について、IRスペクトル測定とMSスペクトル測定を行った。その結果、得られたIRスペクトルにおいて2260cm−1(シアン酸エステル基)の吸収を観測できたが、水酸基由来の吸収は観測できなかった。また、得られたマススペクトルにおいてM=210のピークを観測することができた。上記の結果より、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A−1)が合成できたことを確認した。
[Synthesis Example 1] Synthesis of Condensed Polycyclic Aromatic Cyanate Compound (A) While flowing nitrogen gas through a four-necked flask equipped with a dropping funnel, thermometer, stirring device, heating device, and cooling reflux tube, bromide 106 g (1.0 mol) of cyanide and 80.0 g (0.5 mol) of 2,7-dihydroxynaphthalene were charged and dissolved in 1000 g of acetone, and then cooled to -3 ° C. Next, 111 g (1.1 mol) of triethylamine was charged into the dropping funnel and added dropwise at a rate such that the temperature inside the flask did not exceed 10 ° C. while stirring. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred for 2 hours at a temperature of 10 ° C. or lower, and the resulting precipitate was removed by filtration. Then, acetone was removed, 1000 g of methylene chloride was added, and the reaction product was obtained by washing with water. Next, the obtained reaction product was subjected to IR spectrum measurement and MS spectrum measurement. As a result, although absorption of 2260 cm −1 (cyanate group) could be observed in the obtained IR spectrum, absorption derived from a hydroxyl group could not be observed. In the obtained mass spectrum, a peak of M + = 210 could be observed. From the above results, it was confirmed that the condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A-1) could be synthesized.

〔合成例2〕縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)の合成
合成例1の2,7−ジヒドロキシナフタレン80.0g(0.5モル)を1,6−ジヒドロキシナフタレン80.0g(0.5モル)に変更する以外は、合成例1と同様の操作で、反応物を得た。次に、得られた反応物について、IRスペクトル測定と、MSスペクトル測定を行った。その結果、得られたIRスペクトルにおいて2260cm−1(シアナト基)の吸収を観測できたが、水酸基由来の吸収は観測できなかった。また、得られたマススペクトルにおいてM=210のピークを観測することができた。上記の結果より、反応物は、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A−2)であることを確認した。
Synthesis Example 2 Synthesis of Condensed Polycyclic Aromatic Cyanate Compound (A) 80.0 g (0.5 mol) of 2,7-dihydroxynaphthalene of Synthesis Example 1 was converted to 80.0 g of 1,6-dihydroxynaphthalene (0 The reaction product was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the amount was changed to 5 mol). Next, the obtained reaction product was subjected to IR spectrum measurement and MS spectrum measurement. As a result, although absorption of 2260 cm −1 (cyanato group) could be observed in the obtained IR spectrum, absorption derived from a hydroxyl group could not be observed. In the obtained mass spectrum, a peak of M + = 210 could be observed. From the above results, it was confirmed that the reaction product was a condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A-2).

〔実施例1〜比較例2〕硬化性組成物、硬化物の作成
次に、表1に示すように、縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)、単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)、ビスマレイミド(C)、エポキシ樹脂(D)、硬化促進剤(E)、水酸化アルミニウム(F)、溶融シリカ(G)とをそれぞれ調整して、実施例1〜比較例2の硬化性組成物を得た。表1に示された各記号については、以下の化合物又は樹脂を示す。
(1)縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)
A−1:合成例1で得たシアン酸エステル化合物
A−2:合成例2で得たシアン酸エステル化合物
(2)単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)
B−1:2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン
東京化成工業株式会社製
B−2:1,1−ビス(4−シアナトフェニル)エタン
Lonza社製 「LECy」
(3)ビスマレイミド(C)
C−1:4,4'-ジフェニルメタンビスマレイミド
大和化成工業株式会社製 「BMI−1000」
(4)エポキシ樹脂(D)
D−1:ビスフェノールA型エポキシ樹脂
DIC株式会社製 「850−S」
D−2:ナフタレン型エポキシ樹脂
DIC株式会社製 「HP−6000」
(5)硬化促進剤(E)
E−1:ジメチルベンジルアミン
E−2:テトラフェニルホスホニウムテトラ(メチルフェニル)ボレート
北興化学工業株式会社製 「TPP−MK」
(6)水酸化アルミニウム(F)
F−1:水酸化アルミニウム
住友化学株式会社製 「CL303」
(7)溶融シリカ(G)
G−1:溶融シリカ
電気化学工業株式会社製 「FB3SDC」
[Example 1 to Comparative Example 2] Preparation of curable composition and cured product Next, as shown in Table 1, condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A), monocyclic aromatic cyanate compound ( B), bismaleimide (C), epoxy resin (D), curing accelerator (E), aluminum hydroxide (F), and fused silica (G) were respectively adjusted to cure Examples 1 to Comparative Example 2. Sex composition was obtained. For each symbol shown in Table 1, the following compounds or resins are shown.
(1) Condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A)
A-1: Cyanate ester compound obtained in Synthesis Example 1 A-2: Cyanate ester compound obtained in Synthesis Example 2 (2) Monocyclic aromatic cyanate ester compound (B)
B-1: 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane
B-2: 1,1-bis (4-cyanatophenyl) ethane manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.
“LECy” manufactured by Lonza
(3) Bismaleimide (C)
C-1: 4,4′-diphenylmethane bismaleimide
“BMI-1000” manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.
(4) Epoxy resin (D)
D-1: Bisphenol A type epoxy resin
“850-S” manufactured by DIC Corporation
D-2: Naphthalene type epoxy resin
“HP-6000” manufactured by DIC Corporation
(5) Curing accelerator (E)
E-1: Dimethylbenzylamine E-2: Tetraphenylphosphonium tetra (methylphenyl) borate
“TPP-MK” manufactured by Hokuko Chemical Co., Ltd.
(6) Aluminum hydroxide (F)
F-1: Aluminum hydroxide
“CL303” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.
(7) Fused silica (G)
G-1: Fused silica
“FB3SDC” manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.

次に、上記で得られた硬化性組成物について、プレス機を用いて200℃の温度で10分間成型したのち、200℃の温度で5時間、加熱して厚さ0.8mmの硬化物を得た。得られた硬化物について、ガラス転移温度、熱膨張性、誘電正接、耐熱分解性、熱伝導性の測定を行った。上記測定の測定方法を下記に示し、その結果を表1に示す。   Next, the curable composition obtained above was molded at a temperature of 200 ° C. for 10 minutes using a press machine, and then heated at a temperature of 200 ° C. for 5 hours to obtain a cured product having a thickness of 0.8 mm. Obtained. About the obtained hardened | cured material, the glass transition temperature, thermal expansibility, dielectric loss tangent, thermal decomposition resistance, and thermal conductivity were measured. The measurement methods for the above measurements are shown below, and the results are shown in Table 1.

<ガラス転移温度>
硬化物を厚さ0.8mm、幅5mm、長さ54mmのサイズに切り出し、これを試験片1とした。この試験片1を粘弾性測定装置(DMA:レオメトリック社製固体粘弾性測定装置「RSAII」、レクタンギュラーテンション法:周波数1Hz、昇温速度3℃/分)を用いて、弾性率変化が最大となる(tanδ変化率が最も大きい)温度をガラス転移温度とした。
<Glass transition temperature>
The cured product was cut into a size of 0.8 mm in thickness, 5 mm in width, and 54 mm in length, and this was used as test piece 1. Using this test piece 1 with a viscoelasticity measuring device (DMA: solid viscoelasticity measuring device “RSAII” manufactured by Rheometric Co., Ltd., rectangular tension method: frequency 1 Hz, heating rate 3 ° C./min) The temperature at which the tan δ change rate is the highest was taken as the glass transition temperature.

<熱膨張性>
硬化物を厚さ0.8mm、幅5mm、長さ5mmのサイズに切り出し、これを試験片2とした。この試験片2を熱機械分析装置(エスアイアイナノテクノロジー株式会社製、TMA/SS 6100、昇温速度:3℃/分)を用いて40℃〜60℃の範囲の膨張率を測定した。
<Thermal expansion>
The cured product was cut into a size of 0.8 mm in thickness, 5 mm in width, and 5 mm in length, and this was used as test piece 2. The test piece 2 was measured for an expansion coefficient in the range of 40 ° C. to 60 ° C. using a thermomechanical analyzer (manufactured by SII Nano Technology Inc., TMA / SS 6100, heating rate: 3 ° C./min).

<誘電正接>
JIS−C−6481に準拠し、アジレント・テクノロジー株式会社製インピーダンス・マテリアル・アナライザ「HP4291B」により、絶乾後23℃、湿度50%の室内に24時間保管した後の試験片1の1GHzでの誘電正接を測定した。
<Dielectric loss tangent>
In accordance with JIS-C-6481, the impedance material analyzer “HP4291B” manufactured by Agilent Technologies, Inc. is used to dry the test piece 1 at 1 GHz after being stored in a room at 23 ° C. and a humidity of 50% for 24 hours. The dielectric loss tangent was measured.

<耐熱分解性>
示差熱−熱重量同時測定装置(メトラー・トレド社製「TGA/DSC1」)を用い、質量が6mgとなる大きさに切り出した試験片を150℃で15分間保持した後、窒素ガスフロー条件下、毎分5℃で昇温し、質量の5%が減少した時の温度を測定した。
<Heat-resistant decomposition>
Using a differential thermal-thermogravimetric simultaneous measurement device ("TGA / DSC1" manufactured by METTLER TOLEDO), a test piece cut into a mass of 6 mg was held at 150 ° C for 15 minutes, and then under nitrogen gas flow conditions The temperature was raised at 5 ° C. per minute, and the temperature when 5% of the mass decreased was measured.

<熱伝導性>
熱導率計(京都電子株式社製QTM−500)を用いて試験片1の熱伝導性を非定常熱線法により測定した。
<Thermal conductivity>
The thermal conductivity of the test piece 1 was measured by the unsteady hot wire method using a thermal conductivity meter (QTM-500 manufactured by Kyoto Electronics Co., Ltd.).

<密着性>
密着性の測定は、JIS−C6481に準拠しピール強度を測定することにより行った。その結果を表1に示す。なお、密着性の測定に使用した硬化物は、実施例1〜比較例2で得られた硬化性組成物の下に18μmの銅箔(日鉱金属株式会社製 TCR箔)を置き、プレス機器を用いて200℃の温度で10分間成型した後、5時間の間200℃の温度をかけることにより得られた硬化物(厚さ:0.8mm)を用いた。
<Adhesion>
The measurement of adhesion was performed by measuring peel strength in accordance with JIS-C6481. The results are shown in Table 1. In addition, the hardened | cured material used for the measurement of adhesiveness puts 18 micrometers copper foil (Nikko Metal Co., Ltd. TCR foil) under the curable composition obtained in Example 1-Comparative Example 2, and presses a press machine. A cured product (thickness: 0.8 mm) obtained by molding at a temperature of 200 ° C. for 10 minutes and then applying a temperature of 200 ° C. for 5 hours was used.

Figure 2016041799
Figure 2016041799

Claims (19)

下記構造式(A1)および下記構造式(A2)で表される化合物からなる群から選択される1種以上の縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)と、芳香核上にシアナト基を有する単環化合物が直接または連結基を介して複数結合された単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)とを有する硬化性組成物。
Figure 2016041799
[但し、前記構造式(A1)、前記構造式(A2)において、
は、それぞれ独立してシアナト基以外の1価の置換基を示し、jは1〜3の整数を示し、kは0〜2j+4の整数を示し、lは0〜5の整数を示し、mは0〜2の整数を示し、nはそれぞれ独立して0〜6の整数を示す。]
One or more condensed polycyclic aromatic cyanate compounds (A) selected from the group consisting of compounds represented by the following structural formula (A1) and the following structural formula (A2), and a cyanate group on the aromatic nucleus A curable composition having a monocyclic aromatic cyanate ester compound (B) in which a plurality of monocyclic compounds are bonded directly or via a linking group.
Figure 2016041799
[However, in the structural formula (A1) and the structural formula (A2),
R 1 each independently represents a monovalent substituent other than a cyanato group, j represents an integer of 1 to 3, k represents an integer of 0 to 2j + 4, l represents an integer of 0 to 5, m shows the integer of 0-2, n shows the integer of 0-6 each independently. ]
前記Rが、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数が1〜6の炭化水素基、炭素原子数が1〜6のアルコキシ基、水酸基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子、又は炭素原子数が1〜6の炭化水素基、炭素原子数が1〜6のアルコキシ基、アリール基、若しくはアラルキル基に含まれる1以上の水素原子が、水酸基、ハロゲン原子の何れかで置換された構造の何れかである請求項1に記載の硬化性組成物。 Each R 1 is independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group, an aryl group, an aralkyl group, a halogen atom, or a carbon atom; One or more hydrogen atoms contained in a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group, or an aralkyl group are substituted with either a hydroxyl group or a halogen atom. The curable composition according to claim 1, which is any one of them. 前記単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)が、下記構造式(B1)および下記構造式(B2)で表される化合物からなる群から選択される1種以上の単環芳香族シアン酸エステルである請求項1に記載の硬化性組成物。
Figure 2016041799
[ただし、前記構造式(B1)、前記構造式(B2)において、
Lは2価の連結基を示し、Rはそれぞれ独立して、水素原子、炭素原子数が1〜6の炭化水素基、炭素原子数が1〜6のアルコキシ基、水酸基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子、又は炭素原子数が1〜6の炭化水素基、炭素原子数が1〜6のアルコキシ基、アリール基、若しくはアラルキル基に含まれる1以上の水素原子が、水酸基、ハロゲン原子の何れかで置換された構造の何れかを示し、pはそれぞれ独立して0〜4の整数を示す。]
The monocyclic aromatic cyanate ester compound (B) is one or more monocyclic aromatic cyanate esters selected from the group consisting of compounds represented by the following structural formula (B1) and the following structural formula (B2) The curable composition according to claim 1.
Figure 2016041799
[However, in the structural formula (B1) and the structural formula (B2),
L represents a divalent linking group, and each R 2 independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group, an aryl group, or aralkyl. 1 or more hydrogen atoms contained in a group, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group, or an aralkyl group, Any one of the structures substituted by each is shown, and p independently represents an integer of 0 to 4. ]
前記Lは、2価の炭化水素基、2価の炭化水素基に含まれる1以上の水素原子が水酸基、アルコキシ基、若しくはハロゲン原子で置換された2価の基、2価のヘテロ原子、又はヘテロ原子を含む2価の原子団の何れかである請求項3に記載の硬化性組成物。   L is a divalent hydrocarbon group, a divalent group in which one or more hydrogen atoms contained in the divalent hydrocarbon group are substituted with a hydroxyl group, an alkoxy group, or a halogen atom, a divalent heteroatom, or The curable composition according to claim 3, which is any one of divalent atomic groups containing a hetero atom. 前記縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)と前記単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)とが、前記縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)1質量部に対し、前記単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)を0.1〜5質量部の割合で含む請求項1に記載の硬化性組成物。   The condensed polycyclic aromatic cyanate ester compound (A) and the monocyclic aromatic cyanate ester compound (B) are mixed with the monocyclic aromatic cyanate ester compound (A) per 1 part by mass of the monocyclic aromatic cyanate ester compound (A). The curable composition of Claim 1 which contains a cyclic | annular aromatic cyanate ester compound (B) in the ratio of 0.1-5 mass parts. 前記縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)、前記単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)に加え、更にビスマレイミド(C)を含む請求項1に記載の硬化性組成物。   The curable composition according to claim 1, further comprising a bismaleimide (C) in addition to the condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A) and the monocyclic aromatic cyanate compound (B). 前記縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)と前記単環芳香族シアン酸エステル(B)と前記ビスマレイミド(C)とが、前記縮合多環芳香族シアン酸エステル(A)1質量部に対し、前記単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)を0.1〜5質量部、前記ビスマレイミド(C)を0.1〜5質量部の割合で含む請求項6に記載の硬化性組成物。   The condensed polycyclic aromatic cyanate ester compound (A), the monocyclic aromatic cyanate ester (B) and the bismaleimide (C) are 1 part by mass of the condensed polycyclic aromatic cyanate ester (A). The curability according to claim 6, comprising 0.1 to 5 parts by mass of the monocyclic aromatic cyanate ester compound (B) and 0.1 to 5 parts by mass of the bismaleimide (C). Composition. 前記縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)、前記単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)に加え、更にエポキシ樹脂(D)を含む請求項1に記載の硬化性組成物。   The curable composition according to claim 1, further comprising an epoxy resin (D) in addition to the condensed polycyclic aromatic cyanate compound (A) and the monocyclic aromatic cyanate compound (B). 前記縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)と前記単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)と前記エポキシ樹脂(D)とが、前記縮合多環芳香族シアン酸エステル化合物(A)1質量部に対し、前記単環芳香族シアン酸エステル化合物(B)を0.1〜5質量部、前記エポキシ樹脂(D)を0.1〜5質量部の割合で含む請求項8に記載の硬化性組成物。   The condensed polycyclic aromatic cyanate ester compound (A), the monocyclic aromatic cyanate ester compound (B), and the epoxy resin (D) are converted into the condensed polycyclic aromatic cyanate ester compound (A) 1. The said monocyclic aromatic cyanate ester compound (B) is 0.1-5 mass parts with respect to a mass part, The said epoxy resin (D) is included in the ratio of 0.1-5 mass parts of Claim 8. Curable composition. 請求項1〜9の何れか一つに記載の硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物。   Hardened | cured material obtained by hardening the curable composition as described in any one of Claims 1-9. 請求項1〜9の何れか一つに記載の硬化性組成物と、無機質充填材とを含有する半導体封止材料。   The semiconductor sealing material containing the curable composition as described in any one of Claims 1-9, and an inorganic filler. 請求項11に記載の半導体封止材料を加熱硬化させて得られる半導体装置。   A semiconductor device obtained by heat-curing the semiconductor sealing material according to claim 11. 請求項1〜9の何れか一つに記載の硬化性組成物を有機溶剤に希釈したものを補強基材に含浸し、得られる含浸基材を半硬化させることにより得られるプリプレグ。   A prepreg obtained by impregnating a reinforcing substrate with the curable composition according to any one of claims 1 to 9 diluted in an organic solvent and semi-curing the resulting impregnated substrate. 請求項13に記載のプリプレグを板状に賦形したものを銅箔と積層し、加熱加圧成型して得られるプリント回路基板。   A printed circuit board obtained by laminating a prepreg according to claim 13 in a plate shape with a copper foil and molding by heating and pressing. 請求項1〜9の何れか一つに記載の硬化性組成物に有機溶剤を配合させたものを電気絶縁性フィルムに塗布したのち、前記電気絶縁性フィルムと金属箔を一体化させて得られるフレキシルブル配線基板   The curable composition according to any one of claims 1 to 9, obtained by blending an organic solvent with an electrically insulating film, and then integrating the electrically insulating film and a metal foil. Flexible wiring board 請求項1〜9の何れか一つに記載の硬化性組成物を有機溶剤に希釈したものを基材フィルム上に塗布し、乾燥させることにより得られるビルドアップフィルム。   The buildup film obtained by apply | coating what dried the curable composition as described in any one of Claims 1-9 in the organic solvent on a base film, and making it dry. 請求項16に記載のビルドアップフィルムを回路が形成された回路基板に塗布し、加熱硬化させて得られる回路基板に凹凸を形成し、次いで前記回路基板にめっき処理を行うことにより得られるビルドアップ基板。   A build-up film obtained by applying the build-up film according to claim 16 to a circuit board on which a circuit is formed, heat-curing the circuit board to form irregularities, and then plating the circuit board. substrate. 請求項1〜9の何れか一つに記載の硬化性組成物と、強化繊維とを含有する繊維強化複合材料。   The fiber reinforced composite material containing the curable composition as described in any one of Claims 1-9, and a reinforced fiber. 請求項18に記載の繊維強化複合材料を硬化させてなる成形品。   A molded product obtained by curing the fiber-reinforced composite material according to claim 18.
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