JP2016040420A5 - - Google Patents

Claims (5)

1. 染色面に染料が付着した樹脂体を加熱することで、前記樹脂体に前記染料を定着させて前記樹脂体を染色する染色装置であって、
   電磁波を発生させる電磁波発生手段と、
   前記染色装置の動作を制御する制御部と、
   を備え、
   前記制御部は、
   前記電磁波発生手段によって発生された電磁波が単位時間当たりに前記樹脂体に加える熱量である印加熱量を制御可能であり、
   前記樹脂体に電磁波を照射させる第１照射ステップと、
   前記第１照射ステップの以後に実行されるステップであり、前記印加熱量を前記第１照射ステップにおける前記印加熱量よりも小さい熱量に制御して前記樹脂体に電磁波を照射させる第２照射ステップと、
   を含む定着工程を、前記染色装置に実行させることが可能であることを特徴とする染色装置。
2. 請求項１に記載の染色装置であって、
   前記制御部が前記染色装置に実行させる前記第２照射ステップは、
   前記印加熱量を前記第１照射ステップにおける前記印加熱量よりも小さい熱量に制御することで、前記第１照射ステップによって昇温した前記樹脂体の平均温度を低下させる温度低下ステップと、
   前記温度低下ステップの以後に実行されるステップであり、前記第１照射ステップにおける前記印加熱量よりも小さく且つ前記温度低下ステップにおける前記印加熱量よりも大きい熱量に前記印加熱量を制御して前記樹脂体に電磁波を照射させる低下後ステップと、
   を含むことを特徴とする染色装置。
3. 請求項１又は２に記載の染色装置であって、
   前記制御部は、
   染色する前記樹脂体の形状に関する情報の入力を受け付けると共に、
   受け付けた前記形状に関する情報に応じて前記定着工程を変化させることを特徴とする染色装置。
4. 請求項１から３のいずれかに記載の染色装置であって、
   前記樹脂体の周囲を閉塞する閉塞室と、
   前記閉塞室内の気圧を低下させる気圧低下手段と、
   をさらに備え、
   前記制御部は、
   昇華性の前記染料が付着された染色用基体の付着面が、前記閉塞室内で前記樹脂体に非接触で対向した状態で、前記閉塞室内の気圧を前記気圧低下手段によって低下させて、前記電磁波発生手段が発生させた電磁波を前記染色用基体に照射させることで、前記染料を昇華させて前記樹脂体に蒸着させる蒸着ステップを、前記定着工程よりも前に前記染色装置に実行させることを特徴とする染色装置。
5. 染色面に染料が付着した樹脂体を加熱することで、前記樹脂体に前記染料を定着させる染色樹脂体の製造方法であって、
   前記樹脂体に前記染料を定着させる定着工程の少なくとも一部は、
   電磁波発生手段によって発生された電磁波を前記樹脂体に照射させる第１照射ステップと、
   前記第１照射ステップの以後に実行されるステップであり、電磁波が単位時間当たりに前記樹脂体に加える熱量である印加熱量を、前記第１照射ステップにおける前記印加熱量よりも小さい熱量にして、前記樹脂体に電磁波を照射させる第２照射ステップと、
   を含むことを特徴とする染色樹脂体の製造方法。