JP2016040348A - Resin composition and light-emitting element - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition from which a resin layer excellent in optical characteristics, particularly, having a high refractive index can be formed by a heat treatment at a lower temperature in a shorter time, while having little coloring by the heat treatment.SOLUTION: The resin composition comprises an aromatic polyether polymer and inorganic oxide fine particles, in which the inorganic oxide fine particles are surface-modified with at least one compound selected from a fluorine-containing silane coupling agent, a cyano group-containing phosphate compound, and a cyano group-containing phosphonate. The inorganic oxide fine particles are at least one of titanium oxide, zirconium oxide, and barium titanate.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、特定の修飾剤で表面処理した金属酸化物粒子を含有する樹脂組成物、該樹脂組成物から得られる樹脂層を有する発光素子に関する。   The present invention relates to a resin composition containing metal oxide particles surface-treated with a specific modifier, and a light emitting device having a resin layer obtained from the resin composition.

発光素子は、透明陽電極層、発光材料層および陰電極層がこの順に積層された基本構成を有する。例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子は、その陽電極層から正孔を、その陰電極層から電子を、有機材料からなる発光材料層の内部に注入し、発光材料層の内部で正孔と電子とを再結合させることによって、励起子(エキシトン)を生成させ、この励起子が失活する際の光の放出(蛍光、燐光)により発光する発光素子であり、この発光材料層で発生した光は、透明陽電極層側から発光素子の外部(空気)に取り出される。   The light emitting element has a basic configuration in which a transparent positive electrode layer, a light emitting material layer, and a negative electrode layer are laminated in this order. For example, an organic electroluminescence element injects holes from its positive electrode layer, electrons from its negative electrode layer, into the inside of the light emitting material layer made of organic material, and injects holes and electrons inside the light emitting material layer. This is a light-emitting element that emits light by emission (fluorescence or phosphorescence) when excitons (excitons) are generated by recombination, and the excitons are deactivated. It is taken out of the light emitting element (air) from the transparent positive electrode layer side.

この場合、光の取り出し効率を高めるために、透明陽電極層および空気の屈折率がこの順で小さくなる発光素子が好ましいと考えられている。このような構成の発光素子を得るために、透明陽電極層の空気側に樹脂層などを設けることが知られており、通常、透明陽電極層は屈折率が高いため、前記樹脂層には、透明陽電極層にあわせて、透明でかつ高屈折率を有することが求められている。   In this case, in order to increase the light extraction efficiency, it is considered that a light-emitting element in which the refractive index of the transparent positive electrode layer and air decreases in this order is preferable. In order to obtain a light emitting device having such a structure, it is known to provide a resin layer or the like on the air side of the transparent positive electrode layer. Usually, since the transparent positive electrode layer has a high refractive index, the resin layer includes Therefore, it is required to be transparent and have a high refractive index in accordance with the transparent positive electrode layer.

このような樹脂層として、特許文献1には、ガラス転移温度が230〜350℃である芳香族ポリエーテル系重合体を含む樹脂層が記載されている。
一方、重合体マトリックスに無機微粒子を配合して屈折率を高くすることは知られていた(特許文献2など)。
As such a resin layer, Patent Document 1 describes a resin layer containing an aromatic polyether polymer having a glass transition temperature of 230 to 350 ° C.
On the other hand, it has been known to increase the refractive index by blending inorganic fine particles in a polymer matrix (Patent Document 2, etc.).

特開2012−221554号公報JP 2012-221554 A 特開2013−040239号公報JP2013-040239A

特許文献1に記載の樹脂層を用いることによって、ある程度の光の取り出し効率を示す樹脂層を得ることができる。しかしながら、さらに光の取り出し効率を高めるために、より高屈折率の樹脂層が望まれている。   By using the resin layer described in Patent Document 1, it is possible to obtain a resin layer that exhibits a certain degree of light extraction efficiency. However, in order to further increase the light extraction efficiency, a resin layer having a higher refractive index is desired.

なお、重合体マトリックスに無機酸化物微粒子を配合することで屈折率を調整する場合、無機酸化物微粒子を重合体マトリックスに均一に分散させることが、透明でかつ目的の屈折率に調整するために必要となる。たとえば、特許文献2には、高屈折率ポリマーのポリイミドに無機酸化物微粒子からなるナノコンポジットを用いることが開示されているが、ポリイミドに、無機酸化物微粒子を均一に配合する際に、窒素雰囲気下で、高温(〜300℃)で長時間(2時間以上)の熱処理が必要であり、得られる樹脂層はHazeが高く、高温熱処理による着色が大きいという問題点がある。   In order to adjust the refractive index by blending inorganic oxide fine particles in the polymer matrix, it is necessary to uniformly disperse the inorganic oxide fine particles in the polymer matrix in order to adjust the refractive index to the desired refractive index. Necessary. For example, Patent Document 2 discloses that a nanocomposite composed of inorganic oxide fine particles is used for polyimide having a high refractive index polymer, but when the inorganic oxide fine particles are uniformly mixed with polyimide, a nitrogen atmosphere is disclosed. Underneath, heat treatment at high temperature (˜300 ° C.) for a long time (2 hours or more) is necessary, and the resulting resin layer has a high haze and is highly colored by the high temperature heat treatment.

有機エレクトロルミネッセンス素子の光取出し効率向上層として高屈折率層を利用する場合には、有機エレクトロルミネッセンス素子作製時の熱負荷による着色が大きいと、吸収により光の損失が起こり、光取出し効率が低下する問題があり、高屈折率層の着色を出来るだけ低く抑制する必要がある。   When a high refractive index layer is used as a layer for improving the light extraction efficiency of an organic electroluminescence device, if the coloring due to the thermal load during the production of the organic electroluminescence device is large, light loss occurs due to absorption, resulting in a decrease in light extraction efficiency. It is necessary to suppress the coloring of the high refractive index layer as low as possible.

そこで本発明は、光学特性に優れ、特に高屈折率の樹脂層をより低温、短時間の熱処理で形成可能であり、熱処理による着色が小さい樹脂組成物を提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a resin composition that is excellent in optical properties, particularly capable of forming a resin layer having a high refractive index by heat treatment at a lower temperature and in a shorter time, and is less colored by heat treatment.

本発明者は、前記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の修飾剤で表面処理した金属酸化物粒子と特定の重合体からなる組成物を使用することにより、前記目的を達成しうることを見出し、本発明を完成した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor can achieve the above object by using a composition comprising metal oxide particles surface-treated with a specific modifier and a specific polymer. As a result, the present invention has been completed.

本発明の構成例は、以下の[1]〜[7]である。
[1]芳香族ポリエーテル重合体、および無機酸物微粒子を含む樹脂組成物であって、前記無機酸化物粒子は、フッ素含有シランカップリング剤、シアノ基含有リン酸エステル化合物、およびシアノ基含有ホスホン酸エステル化合物から選ばれる少なくとも1種で表面修飾されていることを特徴とする樹脂組成物。
[2]前記無機酸化物微粒子が、酸化チタン、酸化ジルコニウム、及びチタン酸バリウムの少なくとも1種であることを特徴とする請求項1に記載の樹脂組成物。
[3]前記無機酸化物微粒子の平均粒子径が1nm〜100nmである[1]または[2]の樹脂組成物。
[4]前記フッ素含有シランカップリング剤が、下記一般式(1)で表される[1]〜[3]の樹脂組成物。
Configuration examples of the present invention are the following [1] to [7].
[1] A resin composition comprising an aromatic polyether polymer and inorganic acid fine particles, wherein the inorganic oxide particles comprise a fluorine-containing silane coupling agent, a cyano group-containing phosphate ester compound, and a cyano group-containing A resin composition characterized by being surface-modified with at least one selected from phosphonic acid ester compounds.
[2] The resin composition according to claim 1, wherein the inorganic oxide fine particles are at least one of titanium oxide, zirconium oxide, and barium titanate.
[3] The resin composition according to [1] or [2], wherein the inorganic oxide fine particles have an average particle diameter of 1 nm to 100 nm.
[4] The resin composition of [1] to [3], wherein the fluorine-containing silane coupling agent is represented by the following general formula (1).

Figure 2016040348
(式(1)中、Xは一価のハロゲン原子、炭素数1〜5のアルコキシ基を示し、Xが複数の場合、それぞれは同一でも異なっても良い。nは1〜10の整数、mは1〜5の整数、pは1〜3の整数を示す。)
[5]前記シアノ基含有リン酸エステル化合物が、下記一般式(2)で表される化合物である[1]〜[3]の樹脂組成物。
Figure 2016040348
(In formula (1), X represents a monovalent halogen atom or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and when X is plural, each may be the same or different. N is an integer of 1 to 10, m Represents an integer of 1 to 5, and p represents an integer of 1 to 3.)
[5] The resin composition of [1] to [3], wherein the cyano group-containing phosphate ester compound is a compound represented by the following general formula (2).

Figure 2016040348
(式(2)中、R1はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基を示す。qは0〜10の整数、rは1〜5の整数を示す。)
[6]前記シアノ基含有ホスホン酸エステル化合物が、下記一般式(3)で表される化合物である[1]〜[3]の樹脂組成物。
Figure 2016040348
(In formula (2), R 1 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Q represents an integer of 0 to 10, and r represents an integer of 1 to 5.)
[6] The resin composition of [1] to [3], wherein the cyano group-containing phosphonic acid ester compound is a compound represented by the following general formula (3).

Figure 2016040348
(式(3)中、R1はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基を示す。qは0〜10の整数、rは1〜5の整数を示す。)
[7]基板と第一電極と発光層と第二電極と[1]〜[6]の樹脂組成物からなる樹脂層とを備える発光素子であって、前記基板と前記第一電極と前記発光層と前記第二電極とがこの順に積層されてなり、前記樹脂層は、
(a)前記第一電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、および、
(b)前記第二電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、
の少なくとも一方に形成された発光素子。
Figure 2016040348
(In formula (3), R 1 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Q represents an integer of 0 to 10, and r represents an integer of 1 to 5.)
[7] A light emitting device comprising a substrate, a first electrode, a light emitting layer, a second electrode, and a resin layer made of the resin composition of [1] to [6], wherein the substrate, the first electrode, and the light emitting The layer and the second electrode are laminated in this order, and the resin layer is
(A) a side of the first electrode opposite to the side on which the light emitting layer is formed; and
(B) The side of the second electrode opposite to the side on which the light emitting layer is formed,
A light emitting device formed on at least one of the above.

本発明によれば、芳香族ポリエーテル重合体に、特定の表面修飾無機酸物微粒子を組み合わせているので、光学特性に優れ、特に高屈折率の樹脂層をより低温、短時間の熱処理で形成可能であり、熱処理による着色が小さい樹脂組成物を提供することができる。従って、このような樹脂組成物を用いることで、光の取り出し効率に優れる発光素子等を得ることができる。   According to the present invention, the specific surface-modified inorganic acid fine particles are combined with the aromatic polyether polymer, so that the optical properties are excellent, and in particular, a high refractive index resin layer is formed at a lower temperature in a shorter time. It is possible to provide a resin composition that is small in color by heat treatment. Therefore, by using such a resin composition, a light emitting element or the like having excellent light extraction efficiency can be obtained.

また、本発明の樹脂組成物を用いて得られる樹脂層は、耐久性にも優れるため、厳しい使用条件下であっても、長期に亘って性能が低下し難い発光素子等を得ることができる。   In addition, since the resin layer obtained using the resin composition of the present invention is excellent in durability, it is possible to obtain a light-emitting element or the like whose performance is not easily lowered over a long period even under severe use conditions. .

≪樹脂組成物≫
本発明に係る樹脂組成物は、芳香族ポリエーテル系重合体(以下「重合体(I)」ともいう。)と、含フッ素シランカップリング剤、シアノ基含有リン酸エステル化合物、およびシアノ基含有ホスホン酸エステル化合物から選ばれる1種以上の化合物で表面修飾した無機酸化物微粒子(以下「粒子(I)」という。)を含む。
≪Resin composition≫
The resin composition according to the present invention includes an aromatic polyether polymer (hereinafter also referred to as “polymer (I)”), a fluorine-containing silane coupling agent, a cyano group-containing phosphate ester compound, and a cyano group-containing resin. Inorganic oxide fine particles (hereinafter referred to as “particle (I)”) surface-modified with one or more compounds selected from phosphonate compounds.

このような樹脂組成物によれば、光学特性に優れ、特に高屈折率の樹脂層を形成することができる。
前記屈折率は、重合体や粒子(I)と組成比や粒子(I)の分散状態にもよるが、重合体(I)単独で樹脂層を形成した場合よりも大きくなり、1.70以上が好ましく、1.75以上がより好ましく、更に1.83以上が好ましい。屈折率が前記範囲にある樹脂組成物を用いることで、光の取り出し効率の高い発光素子等を得ることができる。 屈折率はプリズムカプラ モデル2010(Metricon社製)を用いて測定することができる。
According to such a resin composition, a resin layer having excellent optical characteristics and a particularly high refractive index can be formed.
Although the refractive index depends on the composition ratio of the polymer and particles (I) and the dispersion state of the particles (I), it is larger than that when the resin layer is formed by the polymer (I) alone, and is 1.70 or more. Is preferable, 1.75 or more is more preferable, and 1.83 or more is more preferable. By using a resin composition having a refractive index in the above range, a light emitting element having high light extraction efficiency can be obtained. The refractive index can be measured using a prism coupler model 2010 (manufactured by Metricon).

従来では、屈折率を高くしようとすれば、透過率が低下し、透過率を高くまたは樹脂が有する透過率を維持しようとすれば、高屈折率の樹脂層を得ることができなかったが、本発明の樹脂組成物を用いることで、屈折率が高いにもかかわらず、高い全光線透過率を有する樹脂層を形成することができる。本発明の樹脂組成物を使用すれば、80%以上の全光線透過率が達成できる。   Conventionally, if the refractive index is increased, the transmittance is decreased, and if the transmittance is increased or the transmittance of the resin is maintained, a resin layer having a high refractive index cannot be obtained. By using the resin composition of the present invention, a resin layer having a high total light transmittance can be formed even though the refractive index is high. If the resin composition of the present invention is used, a total light transmittance of 80% or more can be achieved.

全光線透過率は、ヘイズガード2((株)東洋精機製作所製)を用いて測定することができる。
本発明の樹脂組成物は、[A]重合体(I)、および[B]粒子(I)を含めば特に制限されないが、本発明の効果を損なわない範囲で、[C]分散剤、[D]溶媒、および[E]その他の成分を含んでもよい。
The total light transmittance can be measured using a haze guard 2 (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho).
The resin composition of the present invention is not particularly limited as long as it includes the [A] polymer (I) and the [B] particles (I). However, the [C] dispersant, [ D] a solvent, and [E] may contain other components.

以下、各成分について説明する。
[A]芳香族ポリエーテル系重合体(重合体(I))
前記重合体(I)のTgは200〜350℃であり、好ましくは220〜330℃、より好ましくは250〜300℃である。
Hereinafter, each component will be described.
[A] Aromatic polyether polymer (polymer (I))
The polymer (I) has a Tg of 200 to 350 ° C, preferably 220 to 330 ° C, more preferably 250 to 300 ° C.

前記Tgは、Rigaku社製8230型DSC測定装置を用いて測定することができる。
本発明の樹脂組成物がこのような重合体(I)を含むことで、耐熱性、力学的強度および電気的特性等にバランスよく優れる樹脂層を得ることができる。
The Tg can be measured using a Rigaku 8230 DSC measuring apparatus.
When the resin composition of the present invention contains such a polymer (I), a resin layer excellent in heat resistance, mechanical strength, electrical characteristics and the like can be obtained.

本発明で使用される重合体(I)を本願明細書で記載の方法で測定した、屈折率は、1.62〜1.68の範囲にある。
本発明の樹脂組成物は、1種類の重合体(I)を含んでもよく、2種以上の重合体(I)を含んでもよい。
The refractive index of the polymer (I) used in the present invention, measured by the method described herein, is in the range of 1.62 to 1.68.
The resin composition of the present invention may contain one type of polymer (I) or two or more types of polymers (I).

前記重合体(I)としては、芳香族ポリエーテル系の重合体であれば特に制限されず、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルアミド樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂などであってもよいが、主鎖にエーテル結合を形成する反応により得られる重合体であることが好ましく、下記式(3)で表される構造単位(以下「構造単位(3)」ともいう。)および下記式(4)で表される構造単位(以下「構造単位(4)」ともいう。)からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位(i)を有する重合体(以下「重合体(II)」ともいう。)であることがより好ましい。重合体が構造単位(i)を有することで、Tgが前記範囲にあるポリエーテル系重合体となる。本発明の樹脂組成物がこのような重合体(II)を含むことで、耐熱性、耐久性、電気的特性および透明性に優れ、高い屈折率を有する樹脂層を容易に形成することができる。さらに、重合体(II)を含む樹脂組成物を用いることで、光の取り出し効率に優れる発光素子等を得ることができる。   The polymer (I) is not particularly limited as long as it is an aromatic polyether polymer, such as polyethersulfone resin, polyetherimide resin, polyetheramide resin, polyetherketone resin, polyphenylene oxide resin, and the like. However, it is preferably a polymer obtained by a reaction that forms an ether bond in the main chain, and is a structural unit represented by the following formula (3) (hereinafter also referred to as “structural unit (3)”). And a polymer having at least one structural unit (i) selected from the group consisting of structural units represented by the following formula (4) (hereinafter also referred to as “structural unit (4)”) (hereinafter referred to as “polymer (II) It is also referred to as “)”. When the polymer has the structural unit (i), it becomes a polyether polymer having Tg in the above range. When the resin composition of the present invention contains such a polymer (II), a resin layer having excellent heat resistance, durability, electrical characteristics and transparency and having a high refractive index can be easily formed. . Furthermore, by using a resin composition containing the polymer (II), a light emitting device having excellent light extraction efficiency can be obtained.

また、重合体(II)は、ポリエーテルスルホン樹脂やポリエーテルイミド樹脂等と比べ、可視域での光の吸収が少なく、可視光や熱による樹脂の劣化が起こりにくい。このため、重合体(II)を含む樹脂層は、特に耐久性に優れ、熱による着色が小さいため好ましい。   In addition, the polymer (II) has less light absorption in the visible region than the polyethersulfone resin and the polyetherimide resin, and the resin is hardly deteriorated by visible light or heat. For this reason, the resin layer containing the polymer (II) is preferable because it is particularly excellent in durability and is less colored by heat.

Figure 2016040348
前記式(3)中、R2〜R5は、それぞれ独立に炭素数1〜12の1価の有機基を示す。a〜dは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、好ましくは0または1である。
Figure 2016040348
In said formula (3), R < 2 > -R < 5 > shows a C1-C12 monovalent organic group each independently. a to d each independently represent an integer of 0 to 4, preferably 0 or 1.

炭素数1〜12の1価の有機基としては、炭素数1〜12の1価の炭化水素基、ならびに酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の1価の有機基等を挙げることができる。   The monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms includes a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and 1 to 1 carbon atoms containing at least one atom selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom. And 12 monovalent organic groups.

炭素数1〜12の1価の炭化水素基としては、炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖の炭化水素基、炭素数3〜12の脂環式炭化水素基および炭素数6〜12の芳香族炭化水素基等が挙げられる。   Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include a linear or branched hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and 6 to 12 carbon atoms. An aromatic hydrocarbon group etc. are mentioned.

前記炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖の炭化水素基としては、炭素数1〜8の直鎖または分岐鎖の炭化水素基が好ましく、炭素数1〜5の直鎖または分岐鎖の炭化水素基がより好ましい。   The linear or branched hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms is preferably a linear or branched hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and the linear or branched carbon group having 1 to 5 carbon atoms. A hydrogen group is more preferable.

前記直鎖または分岐鎖の炭化水素基の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基およびn−ヘプチル基が挙げられる。   Preferable specific examples of the linear or branched hydrocarbon group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, and n-pentyl. Group, n-hexyl group and n-heptyl group.

前記炭素数3〜12の脂環式炭化水素基としては、炭素数3〜8の脂環式炭化水素基が好ましく、炭素数3または4の脂環式炭化水素基がより好ましい。
炭素数3〜12の脂環式炭化水素基の好適な具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基およびシクロへキシル基等のシクロアルキル基;シクロブテニル基、シクロペンテニル基およびシクロヘキセニル基等のシクロアルケニル基が挙げられる。当該脂環式炭化水素基の結合部位は、脂環上のいずれの炭素でもよい。
As said C3-C12 alicyclic hydrocarbon group, a C3-C8 alicyclic hydrocarbon group is preferable, and a C3-C4 alicyclic hydrocarbon group is more preferable.
Preferable specific examples of the alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms include cycloalkyl groups such as cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, and cyclohexyl group; cyclobutenyl group, cyclopentenyl group, and cyclohexenyl group. And the like. The bonding site of the alicyclic hydrocarbon group may be any carbon on the alicyclic ring.

前記炭素数6〜12の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニル基およびナフチル基等が挙げられる。当該芳香族炭化水素基の結合部位は、芳香族環上のいずれの炭素でもよい。   Examples of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms include a phenyl group, a biphenyl group, and a naphthyl group. The bonding site of the aromatic hydrocarbon group may be any carbon on the aromatic ring.

酸素原子を含む炭素数1〜12の有機基としては、水素原子、炭素原子および酸素原子からなる有機基が挙げられ、中でも、エーテル結合、カルボニル基またはエステル結合と炭化水素基とからなる総炭素数1〜12の有機基等を好ましく挙げることができる。   Examples of the organic group having 1 to 12 carbon atoms including an oxygen atom include an organic group consisting of a hydrogen atom, a carbon atom and an oxygen atom, and among them, a total carbon consisting of an ether bond, a carbonyl group or an ester bond and a hydrocarbon group. Preferable examples include organic groups of formulas 1 to 12.

エーテル結合を有する総炭素数1〜12の有機基としては、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数2〜12のアルケニルオキシ基、炭素数2〜12のアルキニルオキシ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基および炭素数1〜12のアルコキシアルキル基などを挙げることができる。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、プロペニルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基およびメトキシメチル基等が挙げられる。   Examples of the organic group having 1 to 12 carbon atoms having an ether bond include an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyloxy group having 2 to 12 carbon atoms, an alkynyloxy group having 2 to 12 carbon atoms, and 6 to 12 carbon atoms. And an aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms and the like. Specific examples include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropyloxy group, a butoxy group, a phenoxy group, a propenyloxy group, a cyclohexyloxy group, and a methoxymethyl group.

また、カルボニル基を有する総炭素数1〜12の有機基としては、炭素数2〜12のアシル基等を挙げることができる。具体的には、アセチル基、プロピオニル基、イソプロピオニル基およびベンゾイル基等が挙げられる。   Moreover, as a C1-C12 organic group which has a carbonyl group, a C2-C12 acyl group etc. can be mentioned. Specific examples include an acetyl group, a propionyl group, an isopropionyl group, and a benzoyl group.

エステル結合を有する総炭素数1〜12の有機基としては、炭素数2〜12のアシルオキシ基等が挙げられる。具体的には、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、イソプロピオニルオキシ基およびベンゾイルオキシ基等が挙げられる。   As a C1-C12 organic group which has an ester bond, a C2-C12 acyloxy group etc. are mentioned. Specific examples include an acetyloxy group, a propionyloxy group, an isopropionyloxy group, and a benzoyloxy group.

窒素原子を含む炭素数1〜12の有機基としては、水素原子、炭素原子および窒素原子からなる有機基が挙げられ、具体的には、シアノ基、イミダゾール基、トリアゾール基、ベンズイミダゾール基およびベンズトリアゾール基等が挙げられる。   Examples of the organic group having 1 to 12 carbon atoms including a nitrogen atom include an organic group composed of a hydrogen atom, a carbon atom and a nitrogen atom. Specifically, a cyano group, an imidazole group, a triazole group, a benzimidazole group and a benzine. A triazole group etc. are mentioned.

酸素原子および窒素原子を含む炭素数1〜12の有機基としては、水素原子、炭素原子、酸素原子および窒素原子からなる有機基が挙げられ、具体的には、オキサゾール基、オキサジアゾール基、ベンズオキサゾール基およびベンズオキサジアゾール基等が挙げられる。   Examples of the organic group having 1 to 12 carbon atoms including an oxygen atom and a nitrogen atom include an organic group consisting of a hydrogen atom, a carbon atom, an oxygen atom and a nitrogen atom. Specifically, an oxazole group, an oxadiazole group, Examples include a benzoxazole group and a benzoxadiazole group.

前記式(1)におけるR2〜R5としては、炭素数1〜12の1価の炭化水素基が好ましく、炭素数6〜12の芳香族炭化水素基がより好ましく、フェニル基がさらに好ましい。 As R < 2 > -R < 5 > in said Formula (1), a C1-C12 monovalent hydrocarbon group is preferable, a C6-C12 aromatic hydrocarbon group is more preferable, and a phenyl group is further more preferable.

Figure 2016040348
前記式(4)中、R2〜R5およびa〜dは、それぞれ独立に前記式(3)中のR2〜R5およびa〜dと同義であり、Zは、単結合、−SO2−または>C=Oを示し、R6およびR7は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数1〜12の1価の有機基またはニトロ基を示し、tは、0または1を示す。但し、tが0の時、R6はシアノ基ではない。fおよびgは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、好ましくは0である。
Figure 2016040348
In the formula (4), R 2 to R 5 and a~d has the same meaning as R 2 to R 5 and a~d each independently the formula (3), Z represents a single bond, -SO 2- or> C = O, R 6 and R 7 each independently represent a halogen atom, a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms or a nitro group, and t represents 0 or 1. However, when t is 0, R 6 is not a cyano group. f and g each independently represent an integer of 0 to 4, preferably 0.

炭素数1〜12の1価の有機基としては、前記式(3)における炭素数1〜12の1価の有機基と同様の有機基等を挙げることができる。
前記重合体(II)は、前記構造単位(3)と前記構造単位(4)とのモル比(但し、両者(構造単位(3)+構造単位(4))の合計は100である。)が、光学特性、耐熱性および力学的特性等に優れる重合体となるなどの点から構造単位(3):構造単位(4)=50:50〜100:0であることが好ましく、構造単位(3):構造単位(4)=70:30〜100:0であることがより好ましく、構造単位(3):構造単位(4)=80:20〜100:0であることがさらに好ましい。
Examples of the monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms include the same organic groups as the monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms in the formula (3).
The polymer (II) has a molar ratio of the structural unit (3) to the structural unit (4) (provided that the total of both (structural unit (3) + structural unit (4)) is 100.) However, it is preferable that the structural unit (3): structural unit (4) = 50: 50 to 100: 0 from the viewpoint of becoming a polymer having excellent optical properties, heat resistance, mechanical properties, and the like. 3): Structural unit (4) = 70: 30 to 100: 0 is more preferable, and structural unit (3): structural unit (4) = 80: 20 to 100: 0 is more preferable.

ここで、力学的特性とは、重合体の引張強度、破断伸びおよび引張弾性率等の性質のことをいう。
また、前記重合体(II)は、さらに、下記式(4)で表される構造単位および下記式(5)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位(ii)を有してもよい。前記重合体(II)がこのような構造単位(ii)を有すると、該重合体(II)を有する樹脂組成物を用いて得られる樹脂層の力学的特性が向上するため好ましい。
Here, the mechanical properties refer to properties such as the tensile strength, breaking elongation and tensile elastic modulus of the polymer.
The polymer (II) further comprises at least one structural unit (ii) selected from the group consisting of a structural unit represented by the following formula (4) and a structural unit represented by the following formula (5). You may have. It is preferable that the polymer (II) has such a structural unit (ii) because the mechanical properties of the resin layer obtained using the resin composition having the polymer (II) are improved.

Figure 2016040348
前記式(5)中、R8およびR9は、それぞれ独立に炭素数1〜12の1価の有機基を示し、Jは、単結合、−O−、−S−、−SO2−、>C=O、−CONH−、−COO−または炭素数1〜12の2価の有機基を示し、uは、0または1を示す。hおよびiは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、好ましくは0である。
Figure 2016040348
In the formula (5), R 8 and R 9 each independently represent a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms, J represents a single bond, —O—, —S—, —SO 2 —, > C═O, —CONH—, —COO— or a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms, and u represents 0 or 1. h and i each independently represent an integer of 0 to 4, preferably 0.

炭素数1〜12の1価の有機基としては、前記式(3)における炭素数1〜12の1価の有機基と同様の有機基等を挙げることができる。
炭素数1〜12の2価の有機基としては、炭素数1〜12の2価の炭化水素基、炭素数1〜12の2価のハロゲン化炭化水素基、酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の2価の有機基、ならびに酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の2価のハロゲン化有機基等を挙げることができる。
Examples of the monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms include the same organic groups as the monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms in the formula (3).
The divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms includes a divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, a divalent halogenated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an oxygen atom, and a nitrogen atom. A divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms containing at least one atom selected from the above, and a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms containing at least one atom selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom. And halogenated organic groups.

炭素数1〜12の2価の炭化水素基としては、炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖の2価の炭化水素基、炭素数3〜12の2価の脂環式炭化水素基および炭素数6〜12の2価の芳香族炭化水素基等が挙げられる。   Examples of the divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and Examples thereof include a bivalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms.

炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖の2価の炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、イソプロピリデン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基およびヘプタメチレン基等が挙げられる。   Examples of the linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, an isopropylidene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, and a heptamethylene group.

炭素数3〜12の2価の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基等のシクロアルキレン基;シクロブテニレン基、シクロペンテニレン基およびシクロヘキセニレン基等のシクロアルケニレン基などが挙げられる。   Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms include cycloalkylene groups such as cyclopropylene group, cyclobutylene group, cyclopentylene group and cyclohexylene group; cyclobutenylene group, cyclopentenylene group and And cycloalkenylene groups such as a cyclohexenylene group.

炭素数6〜12の2価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基およびビフェニレン基等が挙げられる。
炭素数1〜12の2価のハロゲン化炭化水素基としては、炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖の2価のハロゲン化炭化水素基、炭素数3〜12の2価のハロゲン化脂環式炭化水素基および炭素数6〜12の2価のハロゲン化芳香族炭化水素基等が挙げられる。
Examples of the divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms include a phenylene group, a naphthylene group, and a biphenylene group.
Examples of the divalent halogenated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include a linear or branched divalent halogenated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and a divalent halogenated fat having 3 to 12 carbon atoms. Examples thereof include a cyclic hydrocarbon group and a divalent halogenated aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms.

炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖の2価のハロゲン化炭化水素基としては、ジフロオロメチレン基、ジクロロメチレン基、テトラフルオロエチレン基、テトラクロロエチレン基、ヘキサフルオロトリメチレン基、ヘキサクロロトリメチレン基、ヘキサフルオロイソプロピリデン基およびヘキサクロロイソプロピリデン基等が挙げられる。   Examples of the linear or branched divalent halogenated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include a difluoromethylene group, a dichloromethylene group, a tetrafluoroethylene group, a tetrachloroethylene group, a hexafluorotrimethylene group, and a hexachlorotrimethylene group. Group, hexafluoroisopropylidene group, hexachloroisopropylidene group and the like.

炭素数3〜12の2価のハロゲン化脂環式炭化水素基としては、前記炭素数3〜12の2価の脂環式炭化水素基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。   As the divalent halogenated alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, at least a part of the hydrogen atoms exemplified in the divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms is a fluorine atom. And a group substituted with a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.

炭素数6〜12の2価のハロゲン化芳香族炭化水素基としては、前記炭素数6〜12の2価の芳香族炭化水素基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。   As the divalent halogenated aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms, at least a part of the hydrogen atoms exemplified in the divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms is a fluorine atom, chlorine And a group substituted with an atom, a bromine atom or an iodine atom.

酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の有機基としては、水素原子および炭素原子と、酸素原子および/または窒素原子とからなる有機基が挙げられ、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合またはアミド結合と炭化水素基とを有する総炭素数1〜12の2価の有機基等が挙げられる。   Examples of the organic group having 1 to 12 carbon atoms including at least one atom selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom include an organic group consisting of a hydrogen atom and a carbon atom and an oxygen atom and / or a nitrogen atom. And a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms and having an ether bond, a carbonyl group, an ester bond or an amide bond and a hydrocarbon group.

酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の2価のハロゲン化有機基としては、具体的には、酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の2価の有機基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。   The divalent halogenated organic group having 1 to 12 carbon atoms containing at least one kind of atom selected from the group consisting of oxygen atom and nitrogen atom is specifically selected from the group consisting of oxygen atom and nitrogen atom Examples include a group in which at least a part of the hydrogen atoms exemplified in the divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms containing at least one atom is substituted with a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom. .

前記式(5)におけるJとしては、単結合、−O−、−SO2−、>C=Oまたは炭素数1〜12の2価の有機基が好ましく、炭素数1〜12の2価の炭化水素基、炭素数1〜12の2価のハロゲン化炭化水素基または炭素数3〜12の2価の脂環式炭化水素基がより好ましい。 As J in the formula (5), a single bond, —O—, —SO 2 —,> C═O or a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms is preferable, and a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms is preferable. A hydrocarbon group, a divalent halogenated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms is more preferable.

Figure 2016040348
前記式(6)中、R6、R7、Z、t、fおよびgは、それぞれ独立に前記式(4)中のR6、R7、Z、t、fおよびgと同義であり、R8、R9、J、u、hおよびiは、それぞれ独立に前記式(5)中のR8、R9、J、u、hおよびiと同義である。なお、tが0の時、R6はシアノ基ではない。
Figure 2016040348
In the formula (6), R 6 , R 7 , Z, t, f and g are each independently synonymous with R 6 , R 7 , Z, t, f and g in the formula (4), R 8, R 9, J, u, h and i are each R 8 in independent to the formula (5), R 9, J , u, synonymous with h and i. When t is 0, R 6 is not a cyano group.

前記重合体(II)は、前記構造単位(i)と前記構造単位(ii)とのモル比(但し、両者((i)+(ii))の合計は100である。)が、光学特性、耐熱性および力学的特性等に優れる重合体となるなどの点から(i):(ii)=50:50〜100:0であることが好ましく、(i):(ii)=70:30〜100:0であることがより好ましく、(i):(ii)=80:20〜100:0であることがさらに好ましい。   In the polymer (II), the molar ratio of the structural unit (i) to the structural unit (ii) (however, the sum of both ((i) + (ii)) is 100) is an optical property. (I) :( ii) = 50: 50 to 100: 0 is preferable from the viewpoint of becoming a polymer having excellent heat resistance and mechanical properties, and (i) :( ii) = 70: 30 It is more preferable that it is ˜100: 0, and it is more preferable that (i) :( ii) = 80: 20 to 100: 0.

ここで、力学的特性とは、重合体の引張強度、破断伸びおよび引張弾性率等の性質のことをいう。
前記重合体(II)は、光学特性、耐熱性および力学的特性等に優れる重合体となるなどの点から前記構造単位(i)および前記構造単位(ii)を全構造単位中70モル%以上含むことが好ましく、全構造単位中95モル%以上含むことがより好ましい。
Here, the mechanical properties refer to properties such as the tensile strength, breaking elongation and tensile elastic modulus of the polymer.
The polymer (II) contains the structural unit (i) and the structural unit (ii) in an amount of 70 mol% or more in the total structural units from the viewpoint of becoming a polymer excellent in optical properties, heat resistance, mechanical properties, and the like. It is preferable to include, and more preferably 95 mol% or more in all the structural units.

前記重合体(II)は、例えば、下記式(7)で表される化合物(以下「化合物(7)」ともいう。)および下記式(9)で表される化合物(以下「化合物(8)」ともいう。)からなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物を含む成分(以下「(A)成分」ともいう。)と、下記式(8)で表される化合物を含む成分(以下「(B)成分」ともいう。)とを、反応させることにより得ることができる。   Examples of the polymer (II) include a compound represented by the following formula (7) (hereinafter also referred to as “compound (7)”) and a compound represented by the following formula (9) (hereinafter “compound (8)”). And a component (hereinafter also referred to as “component (A)”) containing at least one compound selected from the group consisting of a compound represented by the following formula (8) (hereinafter referred to as “(B)”. ) Component ") can be obtained by reaction.

Figure 2016040348
前記式(7)中、Qは独立してハロゲン原子を示し、フッ素原子が好ましい。
Figure 2016040348
In the formula (7), Q independently represents a halogen atom, preferably a fluorine atom.

Figure 2016040348
前記式(9)中、R6、R7、Z、t、fおよびgは、それぞれ独立に前記式(4)中のR6、R7、Z、t、fおよびgと同義であり、Qは、独立に前記式(7)中のQと同義である。但し、tが0の時、R6はシアノ基ではない。
Figure 2016040348
In the formula (9), R 6 , R 7 , Z, t, f and g are each independently synonymous with R 6 , R 7 , Z, t, f and g in the formula (4), Q is independently synonymous with Q in the formula (7). However, when t is 0, R6 is not a cyano group.

Figure 2016040348
前記式(8)中、Raは、それぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、アセチル基、メタンスルホニル基またはトリフルオロメチルスルホニル基を示し、この中でも水素原子が好ましい。なお、式(8)中、R2〜R5およびa〜dは、それぞれ独立に前記式(3)中のR2〜R5およびa〜dと同義である。
Figure 2016040348
In the formula (8), each R a independently represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an acetyl group, a methanesulfonyl group or a trifluoromethylsulfonyl group, and among them, a hydrogen atom is preferable. In the formula (8), R 2 to R 5 and a~d have the same meanings as R 2 to R 5 and a~d each independently to the formula (3).

前記化合物(7)としては、具体的には、2,6−ジフルオロベンゾニトリル(DFBN)、2,5−ジフルオロベンゾニトリル、2,4−ジフルオロベンゾニトリル、2,6−ジクロロベンゾニトリル、2,5−ジクロロベンゾニトリル、2,4−ジクロロベンゾニトリルおよびこれらの反応性誘導体等を挙げることができる。特に、反応性および経済性等の観点から、2,6−ジフルオロベンゾニトリルおよび2,6−ジクロロベンゾニトリルが好適に用いられる。これらの化合物は2種以上を組み合わせて用いることも可能である。   Specific examples of the compound (7) include 2,6-difluorobenzonitrile (DFBN), 2,5-difluorobenzonitrile, 2,4-difluorobenzonitrile, 2,6-dichlorobenzonitrile, 2, Examples include 5-dichlorobenzonitrile, 2,4-dichlorobenzonitrile, and reactive derivatives thereof. In particular, 2,6-difluorobenzonitrile and 2,6-dichlorobenzonitrile are preferably used from the viewpoints of reactivity and economy. These compounds can be used in combination of two or more.

前記式(8)で表される化合物(以下「化合物(8)」ともいう。)としては、具体的には、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン(BPFL)、9,9−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3,5−ジフェニル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−シクロヘキシルフェニル)フルオレンおよびこれらの反応性誘導体等が挙げられる。上述の化合物の中でも、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンおよび9,9−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレンが好適に用いられる。これらの化合物は2種以上を組み合わせて用いることも可能である。   Specific examples of the compound represented by the formula (8) (hereinafter also referred to as “compound (8)”) include 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene (BPFL), 9,9- Bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (3,5-diphenyl-4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene, 9 , 9-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-cyclohexylphenyl) fluorene and reactive derivatives thereof. Among the above-mentioned compounds, 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene and 9,9-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) fluorene are preferably used. These compounds can be used in combination of two or more.

前記化合物(9)としては、具体的には、4,4'−ジフルオロベンゾフェノン、4,4'−ジフルオロジフェニルスルホン(DFDS)、2,4'−ジフルオロベンゾフェノン、2,4'−ジフルオロジフェニルスルホン、2,2'−ジフルオロベンゾフェノン、2,2'−ジフルオロジフェニルスルホン、3,3'−ジニトロ−4,4'−ジフルオロベンゾフェノン、3,3'−ジニトロ−4,4'−ジフルオロジフェニルスルホン、4,4'−ジクロロベンゾフェノン、4,4'−ジクロロジフェニルスルホン、2,4'−ジクロロベンゾフェノン、2,4'−ジクロロジフェニルスルホン、2,2'−ジクロロベンゾフェノン、2,2'−ジクロロジフェニルスルホン、3,3'−ジニトロ−4,4'−ジクロロベンゾフェノンおよび3,3'−ジニトロ−4,4'−ジクロロジフェニルスルホン等を挙げることができる。これらの中でも、4,4'−ジフルオロベンゾフェノン、4,4'−ジフルオロジフェニルスルホンが好ましい。これらの化合物は2種以上を組み合わせて用いることも可能である。   As the compound (9), specifically, 4,4′-difluorobenzophenone, 4,4′-difluorodiphenylsulfone (DFDS), 2,4′-difluorobenzophenone, 2,4′-difluorodiphenylsulfone, 2,2′-difluorobenzophenone, 2,2′-difluorodiphenylsulfone, 3,3′-dinitro-4,4′-difluorobenzophenone, 3,3′-dinitro-4,4′-difluorodiphenylsulfone, 4, 4'-dichlorobenzophenone, 4,4'-dichlorodiphenyl sulfone, 2,4'-dichlorobenzophenone, 2,4'-dichlorodiphenyl sulfone, 2,2'-dichlorobenzophenone, 2,2'-dichlorodiphenyl sulfone, 3 , 3′-dinitro-4,4′-dichlorobenzophenone and 3,3′-dinitro-4, 4'-dichlorodiphenyl sulfone and the like can be mentioned. Among these, 4,4′-difluorobenzophenone and 4,4′-difluorodiphenyl sulfone are preferable. These compounds can be used in combination of two or more.

化合物(7)および化合物(9)からなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物は、(A)成分100モル%中に、80モル%〜100モル%含まれていることが好ましく、90モル%〜100モル%含まれていることがより好ましい。   It is preferable that at least one compound selected from the group consisting of the compound (7) and the compound (9) is contained in 80 mol% to 100 mol% in 100 mol% of the component (A), More preferably, it is contained at 100 mol%.

また、(B)成分は、必要に応じて下記式(10)で表される化合物(以下「化合物(10)」ともいう。)を含んでいてもよい。化合物(8)は、(B)成分100モル%中に、50モル%〜100モル%含まれていることが好ましく、80モル%〜100モル%含まれていることがより好ましく、90モル%〜100モル%含まれていることがさらに好ましい。   Moreover, (B) component may contain the compound (henceforth "compound (10)") represented by following formula (10) as needed. Compound (8) is preferably contained in 100 mol% of component (B) in an amount of 50 mol% to 100 mol%, more preferably 80 mol% to 100 mol%, and more preferably 90 mol%. More preferably, it is contained in an amount of ˜100 mol%.

Figure 2016040348
前記式(10)中、R8、R9、J、h、iおよびuは、それぞれ独立に前記式(5)中のR8、R9、J、h、iおよびuと同義であり、Raは、それぞれ独立に前記式(8)中のRaと同義である。
Figure 2016040348
In the formula (10), R 8 , R 9 , J, h, i and u are each independently synonymous with R 8 , R 9 , J, h, i and u in the formula (5); R a has the same meaning as R a each independently in the formula (8) in.

前記化合物(10)としては、ヒドロキノン、レゾルシノール、2−フェニルヒドロキノン、4,4'−ビフェノール、3,3'−ビフェノール、4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン、3,3'−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4'−ジヒドロキシベンゾフェノン、3,3'−ジヒドロキシベンゾフェノン、1,1'−ビ−2−ナフトール、1,1'−ビ−4−ナフトール、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンおよびこれらの反応性誘導体等が挙げられる。上述の化合物の中でも、レゾルシノール、4,4'−ビフェノール、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンが好ましく、反応性および力学的特性の観点から、4,4'−ビフェノールが好適に用いられる。これらの化合物は2種以上を組み合わせて用いることも可能である。   Examples of the compound (10) include hydroquinone, resorcinol, 2-phenylhydroquinone, 4,4′-biphenol, 3,3′-biphenol, 4,4′-dihydroxydiphenylsulfone, 3,3′-dihydroxydiphenylsulfone, 4 , 4′-dihydroxybenzophenone, 3,3′-dihydroxybenzophenone, 1,1′-bi-2-naphthol, 1,1′-bi-4-naphthol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, Examples include 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane and reactive derivatives thereof. . Among the above-mentioned compounds, resorcinol, 4,4′-biphenol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 2,2-bis (4-hydroxy) Phenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane is preferred, and 4,4′-biphenol is suitably used from the viewpoint of reactivity and mechanical properties. These compounds can be used in combination of two or more.

(A)成分と(B)成分の使用割合は、(A)成分と(B)成分との合計を100モル%とした場合に、(A)成分が好ましくは45モル%以上55モル%以下、より好ましくは50モル%以上52モル%以下、さらに好ましくは50モル%を超えて52モル%以下であり、(B)成分が好ましくは45モル%以上55モル%以下、より好ましくは48モル%以上50モル%以下であり、さらに好ましくは48モル%以上50モル%未満である。   The proportion of component (A) and component (B) used is preferably 45 mol% or more and 55 mol% or less when component (A) is 100 mol% in total of component (A) and component (B). More preferably, it is 50 mol% or more and 52 mol% or less, more preferably more than 50 mol% and 52 mol% or less, and the component (B) is preferably 45 mol% or more and 55 mol% or less, more preferably 48 mol%. % Or more and 50 mol% or less, more preferably 48 mol% or more and less than 50 mol%.

また、反応温度は、好ましくは60〜250℃、より好ましくは80〜200℃の範囲である。反応時間は、好ましくは15分〜100時間、より好ましくは1時間〜24時間の範囲である。   Moreover, reaction temperature becomes like this. Preferably it is 60-250 degreeC, More preferably, it is the range of 80-200 degreeC. The reaction time is preferably in the range of 15 minutes to 100 hours, more preferably 1 hour to 24 hours.

前記重合体(I)は、TOSOH製HLC−8220型GPC装置(カラム:TSKgelα―M、展開溶剤:テトラヒドロフラン(以下「THF」ともいう。))で測定した、ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)が、好ましくは5,000〜500,000、より好ましくは15,000〜400,000、さらに好ましくは30,000〜300,000である。   The polymer (I) is a polystyrene-reduced weight average molecular weight (Mw) measured by a TOSOH HLC-8220 GPC apparatus (column: TSKgel α-M, developing solvent: tetrahydrofuran (hereinafter also referred to as “THF”)). However, Preferably it is 5,000-500,000, More preferably, it is 15,000-400,000, More preferably, it is 30,000-300,000.

前記重合体(I)は、熱重量分析法(TGA)で測定した熱分解温度が、好ましくは450℃以上、より好ましくは475℃以上、さらに好ましくは490℃以上である。
本発明の樹脂組成物としては、前記の方法(I')で得られた重合体(II)と有機溶媒との混合物をそのまま使用してもよい。
The polymer (I) has a thermal decomposition temperature measured by thermogravimetric analysis (TGA) of preferably 450 ° C. or higher, more preferably 475 ° C. or higher, and further preferably 490 ° C. or higher.
As the resin composition of the present invention, a mixture of the polymer (II) obtained by the method (I ′) and an organic solvent may be used as it is.

[B]粒子(I)
無機酸化物微粒子
本発明の樹脂組成物に用いられる無機酸化物微粒子としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、チタン酸バリウム、イットリア添加酸化ジルコニウム、ジルコン酸鉛、チタン酸ストロンチウム、チタン酸スズ、酸化スズ、酸化ビスマス、酸化ニオブ、酸化タンタル、タンタル酸カリウム、酸化タングステン、酸化セリウム、酸化ランタン、酸化ガリウム、二酸化ケイ素/二酸化ジルコニウム/二酸化スズ/酸化カリウム含有酸化チタン等が挙げられる。無機酸化物微粒子は、1種単独で用いてもよく、種類が異なる2種以上を用いてもよく、平均粒子径等の異なる2種以上を用いてもよい。これらのうち、屈折率の高い酸化チタン、酸化ジルコニウム、チタン酸バリウムを用いることが好ましい。酸化チタンはルチル型とアナターゼ型の2種類の結晶構造を有するが、アナターゼ型は光触媒活性が高いため、ルチル型を使用することが好ましい。上記無機酸化物微粒子として、屈折率が高く、光触媒活性が低いチタン酸バリウムを使用することが最も好ましい。
[B] Particle (I)
Inorganic oxide fine particles The inorganic oxide fine particles used in the resin composition of the present invention include titanium oxide, zirconium oxide, barium titanate, yttria-added zirconium oxide, lead zirconate, strontium titanate, tin titanate, tin oxide, Examples thereof include bismuth oxide, niobium oxide, tantalum oxide, potassium tantalate, tungsten oxide, cerium oxide, lanthanum oxide, gallium oxide, and silicon dioxide / zirconium dioxide / tin dioxide / potassium oxide-containing titanium oxide. One kind of inorganic oxide fine particles may be used alone, two or more kinds of different kinds may be used, and two or more kinds having different average particle diameters may be used. Of these, titanium oxide, zirconium oxide, and barium titanate having a high refractive index are preferably used. Titanium oxide has two types of crystal structures, a rutile type and an anatase type. Since anatase type has high photocatalytic activity, it is preferable to use a rutile type. As the inorganic oxide fine particles, it is most preferable to use barium titanate having a high refractive index and low photocatalytic activity.

前記無機酸化物微粒子は、平均粒子径が、好ましくは1nm以上100nm未満、より好ましくは3〜70nm、特に好ましくは5〜50nmである。平均粒子径が1nm未満であると、粒子が不安定となり二次凝集が起こり、樹脂組成物塗膜の白濁の可能性がある。一方、平均粒子径が100nm以上になると、樹脂組成物塗膜が不均一となり、塗膜の透明性が損なわれ、透過率が大幅に低下する可能性がある。平均粒子径が前記範囲内であると、透明性に優れた樹脂層を得ることができる。なお、平均粒子径は動的光散乱法を測定原理とする粒子分布測定装置で測定することができる。   The inorganic oxide fine particles have an average particle diameter of preferably 1 nm or more and less than 100 nm, more preferably 3 to 70 nm, and particularly preferably 5 to 50 nm. If the average particle size is less than 1 nm, the particles become unstable and secondary aggregation occurs, and the resin composition coating film may become cloudy. On the other hand, when the average particle diameter is 100 nm or more, the resin composition coating film becomes non-uniform, the transparency of the coating film is impaired, and the transmittance may be significantly reduced. When the average particle diameter is within the above range, a resin layer having excellent transparency can be obtained. The average particle diameter can be measured with a particle distribution measuring apparatus based on the dynamic light scattering method.

なお、本発明では、無機酸化物微粒子の平均粒子径は、微粒子分散液(重合体(I)を含む場合もある)中で評価した平均粒子径であり、分散粒径ということもある。
本発明の樹脂組成物に配合される無機酸化物微粒子は、粉体状であってもよいし、溶媒分散ゾルであってもよい。溶媒分散ゾルに含まれる溶媒としては、例えば、2−ブタノール、メタノール、エタノール、2−メトキシエタノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、N−メチル−2−ピロリドン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、γ−ブチロラクトン、N,N−ジメチアセトアミドが挙げられる。これら溶媒の中で、2-メトキシエタノール、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミドが特に好ましい。
In the present invention, the average particle size of the inorganic oxide fine particles is an average particle size evaluated in a fine particle dispersion (which may contain the polymer (I)), and may be referred to as a dispersed particle size.
The inorganic oxide fine particles blended in the resin composition of the present invention may be in the form of a powder or a solvent-dispersed sol. Examples of the solvent contained in the solvent dispersion sol include 2-butanol, methanol, ethanol, 2-methoxyethanol, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, N-methyl-2-pyrrolidone, propylene glycol monomethyl ether, γ-butyrolactone, N, N-dimethylacetamide may be mentioned. Of these solvents, 2-methoxyethanol, N-methyl-2-pyrrolidone, and N, N-dimethylacetamide are particularly preferable.

無機酸化物微粒子の配合量は、重合体(I)、粒子(I)からなる樹脂組成物100重量%に対し、好ましくは30〜99質量%、より好ましくは40〜95質量%、さらに好ましくは45〜90質量%である。無機酸化物微粒子の配合量が前記範囲にあると、特に高い屈折率で透明性に優れた樹脂層を得ることができ、光の取り出し効率に優れる発光素子等を得ることができる。 なお、無機酸化物微粒子が溶媒分散ゾルである場合、無機酸化物微粒子の配合量は、溶媒を含まない質量を意味する。   The blending amount of the inorganic oxide fine particles is preferably 30 to 99% by mass, more preferably 40 to 95% by mass, and still more preferably 100% by weight of the resin composition comprising the polymer (I) and the particles (I). It is 45-90 mass%. When the blending amount of the inorganic oxide fine particles is within the above range, a resin layer having a particularly high refractive index and excellent transparency can be obtained, and a light emitting element having excellent light extraction efficiency can be obtained. In addition, when inorganic oxide microparticles | fine-particles are solvent dispersion sol, the compounding quantity of inorganic oxide microparticles means the mass which does not contain a solvent.

表面修飾剤
本発明の樹脂組成物に使用される無機酸化物微粒子は、その表面が含フッ素シランカップリング剤、シアノ基含有リン酸エステル化合物、およびシアノ基含有ホスホン酸エステル化合物から選ばれる1種以上の化合物で表面修飾されたものを使用する。このような表面修飾剤で無機酸化物微粒子を表面修飾すると、前記重合体を含む樹脂組成物中への分散性を高くすることが可能であり、高屈折率、高光線透過率、低いHazeおよび低消衰係数などの光学特性に優れる樹脂層を得ることが可能となる。
Surface modifier The inorganic oxide fine particles used in the resin composition of the present invention has one surface selected from fluorine-containing silane coupling agents, cyano group-containing phosphate compounds, and cyano group-containing phosphonate compounds. Those whose surface is modified with the above compounds are used. When the inorganic oxide fine particles are surface-modified with such a surface modifier, the dispersibility in the resin composition containing the polymer can be increased, and the high refractive index, high light transmittance, low Haze and It is possible to obtain a resin layer having excellent optical characteristics such as a low extinction coefficient.

含フッ素シランカップリング剤としては、下記一般式(1)で示されるシランカップリング剤が用いられる。   As the fluorine-containing silane coupling agent, a silane coupling agent represented by the following general formula (1) is used.

Figure 2016040348
式(1)中、nは1〜10の整数、mは1〜5の整数を示す。
Figure 2016040348
In formula (1), n represents an integer of 1 to 10, and m represents an integer of 1 to 5.

Xはハロゲン原子、炭素数1〜5のアルコキシ基またはハロゲン原子から選ばれた基を示し、Xが複数の場合、それぞれの基は同種であっても異種であっても良い。pは1〜3の整数を示す。   X represents a group selected from a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or a halogen atom. When X is plural, each group may be the same or different. p shows the integer of 1-3.

一般式(1)で示されるシランカップリング剤の具体例としては、
CF3CH2Si(OCH33、CF3(CH22Si(OCH33
CF3(CH23Si(OCH33、CF3(CH24Si(OCH33
CF3(CH25Si(OCH33
CF3(CH22SiCl3、CF3(CH23SiCl3
CF3CH2Si(OCH2CH33、CF3(CH22Si(OCH2CH33
CF3(CH23Si(OCH2CH33、CF3CH2Si(CH3)(OCH32
CF3(CH22Si(CH3)(OCH32
CF3(CH23Si(CH3)(OCH32
CF3CH2Si(CH3)(OCH2CH32
CF3(CH22Si(CH3)(OCH2CH32
CF3(CH23Si(CH3)(OCH2CH32
25CH2Si(OCH33、C37CH2Si(OCH33
49CH2Si(OCH33、C25(CH22Si(OCH33
37(CH22Si(OCH33、C49(CH22Si(OCH33
25(CH23Si(OCH33
37(CH23Si(OCH33、C49(CH23Si(OCH33
511(CH23Si(OCH33、C613(CH23Si(OCH33
715(CH23Si(OCH33、C817(CH23Si(OCH33
CF3(CH23SiCl(CH32、CF3(CH23SiCl2(OCH3)等が挙げられる。上記シランカップリング剤は1種単独で使用しても良いが、2種以上を用いても良い。これらの化合物の中で、CF3(CH25Si(OCH33が好適に使用される。
As a specific example of the silane coupling agent represented by the general formula (1),
CF 3 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 ,
CF 3 (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CH 2 ) 4 Si (OCH 3 ) 3 ,
CF 3 (CH 2 ) 5 Si (OCH 3 ) 3 ,
CF 3 (CH 2 ) 2 SiCl 3 , CF 3 (CH 2 ) 3 SiCl 3
CF 3 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3 , CF 3 (CH 2 ) 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3 ,
CF 3 (CH 2 ) 3 Si (OCH 2 CH 3 ) 3 , CF 3 CH 2 Si (CH 3 ) (OCH 3 ) 2
CF 3 (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) (OCH 3 ) 2 ,
CF 3 (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) (OCH 3 ) 2 ,
CF 3 CH 2 Si (CH 3 ) (OCH 2 CH 3 ) 2
CF 3 (CH 2 ) 2 Si (CH 3 ) (OCH 2 CH 3 ) 2 ,
CF 3 (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) (OCH 2 CH 3 ) 2 ,
C 2 F 5 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 , C 3 F 7 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 ,
C 4 F 9 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 , C 2 F 5 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 ,
C 3 F 7 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , C 4 F 9 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 ,
C 2 F 5 (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 ,
C 3 F 7 (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 , C 4 F 9 (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 ,
C 5 F 11 (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 , C 6 F 13 (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 ,
C 7 F 15 (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 , C 8 F 17 (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 ,
CF 3 (CH 2 ) 3 SiCl (CH 3 ) 2 , CF 3 (CH 2 ) 3 SiCl 2 (OCH 3 ) and the like can be mentioned. Although the said silane coupling agent may be used individually by 1 type, you may use 2 or more types. Among these compounds, CF 3 (CH 2 ) 5 Si (OCH 3 ) 3 is preferably used.

上記カップリング剤(1)の使用量は無機酸化物微粒子に対して、好ましくは0.01〜10質量%、より好ましくは0.1〜3質量%、さらに好ましくは0.5〜1質量%である。   The amount of the coupling agent (1) used is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 3% by mass, and still more preferably 0.5 to 1% by mass with respect to the inorganic oxide fine particles. It is.

シアノ基含有リン酸エステル化合物としては、下記一般式(2)で表される化合物が用いられる。   As the cyano group-containing phosphate compound, a compound represented by the following general formula (2) is used.

Figure 2016040348
式(2)中、R1は水素原子、炭素数1〜10のアルキル基を示す。Yは-(CH2)q−、-(CH2)q−O−から選ばれる基であり、qは0〜10の整数を示す。rは1〜5の整数を示す。
一般式(2)で示される化合物の具体例としては、以下等が挙げられる。
Figure 2016040348
In formula (2), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Y is - (CH 2) q -, - (CH 2) a group selected from q-O-, q is an integer of 0. r shows the integer of 1-5.
Specific examples of the compound represented by the general formula (2) include the following.

Figure 2016040348
上記シアノ基含有リン酸エステル化合物は単独で用いることもできるが、2種以上を用いることもできる。
Figure 2016040348
Although the said cyano group containing phosphate ester compound can also be used independently, 2 or more types can also be used.

シアノ基含有ホスホン酸エステル化合物としては、下記一般式(3)で表される化合物が用いられる。   As the cyano group-containing phosphonate compound, a compound represented by the following general formula (3) is used.

Figure 2016040348
式(3)中、R1はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基を示す。qは0〜10の整数、rは1〜5の整数を示す。
一般式(3)で示される化合物の具体例としては、以下等が挙げられる。
Figure 2016040348
In Formula (3), R 1 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. q represents an integer of 0 to 10, and r represents an integer of 1 to 5.
Specific examples of the compound represented by the general formula (3) include the following.

Figure 2016040348
上記シアノ基含有ホスホン酸エステル化合物は単独で用いることもできるが、2種以上を用いることもできる。
Figure 2016040348
Although the said cyano group containing phosphonic acid ester compound can also be used independently, 2 or more types can also be used.

また、上記シアノ基含有リン酸エステル化合物、シアノ基含有ホスホン酸エステル化合物はどちらか単独で用いることもできるし、両者を同時に用いることもできる。
これらの化合物の中で、
The cyano group-containing phosphate compound and the cyano group-containing phosphonate compound can be used alone or both can be used simultaneously.
Among these compounds,

Figure 2016040348
が好適に用いられる。
Figure 2016040348
Are preferably used.

上記シアノ基含有リン酸エステル化合物、シアノ基含有ホスホン酸エステル化合物の使用量は、無機酸化物微粒子に対して、好ましくは0.01〜10質量%、より好ましくは0.1〜3質量%、さらに好ましくは0.5〜1質量%である。   The amount of the cyano group-containing phosphate compound and the cyano group-containing phosphonate compound is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 3% by mass, based on the inorganic oxide fine particles. More preferably, it is 0.5-1 mass%.

表面修飾方法としては、公知の方法を採用でき、たとえば、前記無機酸化物微粒子分散液に表面修飾剤を添加し、必要に応じて加熱下に、混合して表面に反応させたのち、固液分離すればよい。   As the surface modification method, a known method can be adopted. For example, a surface modifier is added to the inorganic oxide fine particle dispersion, and the mixture is heated and mixed as necessary to react with the surface. What is necessary is just to separate.

[C]分散剤
通常、無機酸化物微粒子を重合体中に分散させるために、アニオン系分散剤、カチオン系分散剤、ノニオン系分散剤などが使用される。
[C] Dispersant Usually, an anionic dispersant, a cationic dispersant, a nonionic dispersant, or the like is used to disperse the inorganic oxide fine particles in the polymer.

従来、無機酸化物微粒子を重合体中に均一分散させるためには、大量の分散剤の添加が必要であるため、得られる樹脂組成物の屈折率が低下する問題点がある。更に、これら分散剤は、高温での熱安定性が低いため、樹脂組成物の高温での着色が大きい問題点があり、発光素子に使用する上で光取出し効率の低下を招くなど問題となることが多い。   Conventionally, in order to uniformly disperse the inorganic oxide fine particles in the polymer, it is necessary to add a large amount of a dispersant, so that there is a problem that the refractive index of the obtained resin composition is lowered. Furthermore, since these dispersants have low thermal stability at high temperatures, there is a problem that the resin composition is highly colored at high temperatures, which causes problems such as a decrease in light extraction efficiency when used in a light emitting device. There are many cases.

これに対し、本発明では、含フッ素シランカップリング剤、リン酸エステル化合物、ホスホン酸エステル化合物を無機酸化物微粒子の表面修飾剤として用いることにより、分散剤を少量の使用ないし無使用で無機酸化物微粒子を重合体中に均一分散させることが可能となり高屈折率の樹脂組成物を得ることができる。また、これら含フッ素シランカップリング剤、リン酸エステル化合物、ホスホン酸エステル化合物は高温での熱安定性に優れるため、高温での着色が抑制された樹脂組成物を得ることが可能となり、高い光取出し効率の光取出し高屈折率層を得ることができる。   In contrast, in the present invention, a fluorine-containing silane coupling agent, a phosphoric acid ester compound, and a phosphonic acid ester compound are used as a surface modifier for inorganic oxide fine particles, so that the dispersant can be used with a small amount or no use. The fine particles can be uniformly dispersed in the polymer, and a resin composition having a high refractive index can be obtained. In addition, since these fluorine-containing silane coupling agents, phosphate ester compounds, and phosphonate ester compounds are excellent in thermal stability at high temperatures, it is possible to obtain a resin composition in which coloring at high temperatures is suppressed, and high light A light extraction high refractive index layer having an extraction efficiency can be obtained.

分散剤の使用量は、屈折率や透明性を考慮して、適宜選択されるが、重合体(I)および無機酸化物(I)の合計を100質量%とするときに、5質量%以下であればよいがこの限りでない。   The amount of the dispersant used is appropriately selected in consideration of the refractive index and transparency, but when the total of the polymer (I) and the inorganic oxide (I) is 100% by mass, it is 5% by mass or less. This is not necessary.

[D]溶媒
本発明の樹脂組成物は、必要に応じて溶媒を含んでもよい。
溶媒は、1種単独で用いてもよく、2種以上を用いてもよい。
[D] Solvent The resin composition of the present invention may contain a solvent as necessary.
A solvent may be used individually by 1 type and may use 2 or more types.

このような溶媒としては、前記重合体(I)を均一に溶解、分散させることのできる溶媒であることが好ましく、前記重合体(II)の合成の際に使用する有機溶媒として挙げた溶媒と同様の溶媒であってもよい(第1溶媒という)。   Such a solvent is preferably a solvent capable of uniformly dissolving and dispersing the polymer (I), and the solvents mentioned as the organic solvent used in the synthesis of the polymer (II) A similar solvent may be used (referred to as a first solvent).

好ましい溶媒(第1溶媒)としては、例えば、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドンおよびγ−ブチロラクトンが挙げられ、塗工性、経済性の観点から、好ましくは、塩化メチレン、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチル−2−ピロリドンが挙げられる。   Preferred solvents (first solvent) include, for example, methylene chloride, tetrahydrofuran, cyclohexanone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone and γ-butyrolactone. From the viewpoints of properties and economy, preferably, methylene chloride, cyclohexanone, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are used.

また、塗工時の乾燥性や均一性、表面平滑性などの向上を狙い、例えば、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、炭化水素系有機溶媒、アルコール系有機溶媒から選ばれる1種、あるいは2種以上の第2溶媒を適宜組み合わせて使用することが好ましい。この場合、大気圧下(1,013hPa)での沸点が200℃以下、さらには50〜150℃の範囲内にある低沸点有機溶媒が好適である。   In addition, aiming at improving the drying property, uniformity, surface smoothness, etc. during coating, for example, selected from ether organic solvents, ester organic solvents, ketone organic solvents, hydrocarbon organic solvents, alcohol organic solvents It is preferable to use an appropriate combination of one kind or two or more kinds of second solvents. In this case, a low boiling point organic solvent having a boiling point under atmospheric pressure (1,013 hPa) of 200 ° C. or lower, more preferably in the range of 50 to 150 ° C. is preferable.

本発明の樹脂組成物が溶媒を含む場合、該溶媒が低沸点有機溶媒であることで、容易に高屈折率の樹脂層を形成することができ、また、200℃以下の低温で樹脂層を形成できるため、樹脂層が形成される基材等が制限されないため好ましい。   When the resin composition of the present invention contains a solvent, a resin layer having a high refractive index can be easily formed because the solvent is a low boiling point organic solvent, and the resin layer can be formed at a low temperature of 200 ° C. or lower. Since it can form, the base material etc. in which a resin layer is formed are not restrict | limited, It is preferable.

これらの低沸点有機溶媒の好ましい例としては、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類;エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類;乳酸エチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチルなどのエステル類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルなどのジエチレングリコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトンなどのケトン類が挙げられる。これらは、1種または2種以上を組み合わせて用いることも可能である。   Preferred examples of these low-boiling organic solvents include glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether and propylene glycol monomethyl ether; ethylene glycol alkyl ether acetates such as ethyl cellosolve acetate, propylene glycol methyl ether acetate and propylene glycol ethyl ether acetate. Esters such as ethyl lactate and ethyl 2-hydroxypropionate; diethylene glycols such as diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol ethyl methyl ether; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone, cyclohexanone and methyl amyl ketone Kind. These can be used alone or in combination of two or more.

前記溶媒は、重合体(I)の分子量にもよるが、重合体(I)を均一に溶解させることのできる範囲で用いられることが好ましく、具体的には、本発明の樹脂組成物中の重合体(I)の濃度が、通常、1〜40質量%、好ましくは5〜25質量%となるような量で使用することが望ましい。本発明の樹脂組成物中の重合体(I)の濃度が前記範囲にあると、厚膜化可能で、ピンホールが生じにくく、表面平滑性に優れる樹脂層を形成することができる。   Although the said solvent is based also on the molecular weight of polymer (I), it is preferable to be used in the range which can dissolve polymer (I) uniformly, Specifically, in the resin composition of this invention It is desirable to use the polymer (I) in such an amount that the concentration is usually 1 to 40% by mass, preferably 5 to 25% by mass. When the concentration of the polymer (I) in the resin composition of the present invention is in the above range, it is possible to form a resin layer that can be thickened, hardly causes pinholes, and has excellent surface smoothness.

[E]その他の成分
本発明の樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、前記[A]〜[D]以外のその他の成分を含んでもよい。
[E] Other components The resin composition of the present invention may contain other components other than the above [A] to [D] as long as the effects of the present invention are not impaired.

前記その他の成分としては、アセチルアセトン等の分散助剤、金属酸化物粒子や有機粒子等の粒子、シリコーン系界面活性剤等の界面活性剤、ヒンダードフェノール系化合物等の老化防止剤、硬化性化合物、紫外線吸収剤などが挙げられる。   Examples of the other components include dispersion aids such as acetylacetone, particles such as metal oxide particles and organic particles, surfactants such as silicone surfactants, anti-aging agents such as hindered phenol compounds, and curable compounds. And ultraviolet absorbers.

<樹脂組成物の製造方法>
本発明の樹脂組成物は、前記重合体(I)と表面修飾された無機酸化物微粒子(I)と、溶媒などの必要に応じて配合される他の任意成分を混合することによって調製することができる。
<Method for producing resin composition>
The resin composition of the present invention is prepared by mixing the polymer (I), the surface-modified inorganic oxide fine particles (I), and other optional components blended as necessary, such as a solvent. Can do.

特に高屈折率、高光線透過率、低いHazeおよび低消衰係数などの光学特性に優れる樹脂層を得るためには、無機酸化物微粒子の分散性を向上させることが好ましいと考えられる。このような分散性が向上した樹脂組成物を得る等の点から、本発明の樹脂組成物の製造方法としては、シランカップリング剤、リン酸(ホスホン酸)エステルで表面修飾した無機酸化物微粒子の均一分散溶液と重合体(I)を溶媒に溶解させた溶液とを、均一に撹拌する方法が好ましい。   In particular, in order to obtain a resin layer excellent in optical properties such as high refractive index, high light transmittance, low haze and low extinction coefficient, it is considered preferable to improve the dispersibility of the inorganic oxide fine particles. From the standpoint of obtaining such a resin composition with improved dispersibility, the production method of the resin composition of the present invention includes inorganic oxide fine particles surface-modified with a silane coupling agent and phosphoric acid (phosphonic acid) ester. A method of uniformly stirring the uniformly dispersed solution and a solution in which the polymer (I) is dissolved in a solvent is preferable.

≪コーティング用組成物≫
本発明のコーティング用組成物は、前記樹脂組成物そのものを使用することもできるし、前記樹脂組成物と沸点(大気圧下(1,013hPa))が200℃以下の上記第2溶剤とを混合することもできる。
≪Coating composition≫
In the coating composition of the present invention, the resin composition itself can be used, or the resin composition and the second solvent having a boiling point (under atmospheric pressure (1,013 hPa)) of 200 ° C. or lower are mixed. You can also

前記コーティング用組成物に用いられる樹脂組成物および溶剤は、それぞれ、1種単独でもよく、2種以上でもよい。
前記沸点が200℃以下の溶剤としては、沸点が50〜150℃の溶剤であることが好ましく、非水溶性であることがより好ましい。
Each of the resin composition and the solvent used in the coating composition may be used alone or in combination of two or more.
The solvent having a boiling point of 200 ° C. or lower is preferably a solvent having a boiling point of 50 to 150 ° C., and more preferably water-insoluble.

このような溶剤としては、前記低沸点有機溶媒と同様の溶媒等が挙げられる。
コーティング用の樹脂組成物の粘度は、重合体(I)の分子量や濃度にもよるが、好ましくは50〜100,000mPa・s、より好ましくは500〜50,000mPa・s、さらに好ましくは1000〜20,000mPa・sである。ハンドリング性を考慮して、この範囲に粘度を調整するように、有機溶媒と混合したりすればよい。樹脂組成物の粘度が前記範囲にあると、該コーティング組成物を用いて樹脂層を形成する際の該組成物の滞留性に優れ、厚みの調整が容易であるため、樹脂層の成形が容易である。
Examples of such a solvent include the same solvents as the low boiling point organic solvent.
The viscosity of the resin composition for coating depends on the molecular weight and concentration of the polymer (I), but is preferably 50 to 100,000 mPa · s, more preferably 500 to 50,000 mPa · s, and still more preferably 1000 to It is 20,000 mPa · s. In consideration of handling properties, it may be mixed with an organic solvent so as to adjust the viscosity within this range. When the viscosity of the resin composition is in the above range, the resin composition is excellent in the retention property when the resin layer is formed using the coating composition, and the thickness can be easily adjusted. It is.

≪樹脂層≫
本発明の樹脂層としては、特に制限されないが、前記樹脂組成物を用いて形成されることが好ましく、前記コーティング用組成物から形成されることが好ましい。
≪Resin layer≫
The resin layer of the present invention is not particularly limited, but is preferably formed using the resin composition, and is preferably formed from the coating composition.

本発明の樹脂層は、重合体(I)、好ましくは重合体(II)を含むため、屈折率が高い傾向にある。このため、高い光の取り出し効率を有する樹脂層が得られる。
さらに、前記重合体(I)とともに、分散性の高い特定の表面修飾無機酸化物微粒子を含んでいるので、透明でかつ高い屈折率を有し、優れた耐熱性を有する樹脂層を形成できる。このため、このような樹脂層は、発光素子の材料として好適に用いることができる。
Since the resin layer of the present invention contains polymer (I), preferably polymer (II), the refractive index tends to be high. For this reason, a resin layer having high light extraction efficiency can be obtained.
Furthermore, since the specific surface-modified inorganic oxide fine particles having high dispersibility are included together with the polymer (I), a transparent resin layer having a high refractive index and excellent heat resistance can be formed. For this reason, such a resin layer can be used suitably as a material of a light emitting element.

本発明の樹脂層は、具体的には、前記コーティング用組成物を基板や該樹脂層が用いられる部材(例:光学素子を構成する層)等に塗布して塗膜を形成し、次いで必要に応じて該塗膜から溶剤を除去する方法で製造することができる。   Specifically, the resin layer of the present invention is formed by coating the coating composition on a substrate or a member (eg, a layer constituting an optical element) in which the resin layer is used, and then forming a coating film. Depending on the method, the solvent can be removed from the coating film.

前記基板としては、特に制限されないが、機械的強度、熱的安定性、透明性、表面平滑性、取扱容易性および防水性に優れるガラス基板または透明プラスチック基板が望ましい。   Although it does not restrict | limit especially as said board | substrate, The glass substrate or transparent plastic substrate excellent in mechanical strength, thermal stability, transparency, surface smoothness, ease of handling, and waterproofness is desirable.

前記コーティング用組成物を塗布して塗膜を形成する方法としては、ロールコート法、グラビアコート法、スピンコート法、スリットコート法およびドクターブレードを用いる方法等が挙げられる。   Examples of the method for forming the coating film by applying the coating composition include a roll coating method, a gravure coating method, a spin coating method, a slit coating method, and a method using a doctor blade.

また、塗膜から前記溶剤を除去する方法としては、特に制限されないが、例えば、塗膜を加熱する方法が挙げられる。塗膜を加熱することにより、該塗膜中の溶剤を蒸発させて除去することができる。前記加熱の条件は、溶剤が蒸発すればよく、熱変形や熱による各種材料の変性等が発生しないよう適宜決めればよいが、例えば加熱温度は30℃〜200℃であることが好ましい。   Further, the method for removing the solvent from the coating film is not particularly limited, and examples thereof include a method of heating the coating film. By heating the coating film, the solvent in the coating film can be evaporated and removed. The heating conditions may be determined as appropriate as long as the solvent evaporates and does not cause thermal deformation or modification of various materials due to heat. For example, the heating temperature is preferably 30 ° C to 200 ° C.

前記加熱時間としては、10分〜5時間であることが好ましい。なお、加熱は二段階以上で行ってもよい。具体的には、30〜150℃の温度で1分〜2時間乾燥後、100℃〜200℃でさらに10分〜2時間加熱するなどである。また、必要に応じて、窒素雰囲気下もしくは減圧下にて加熱を行ってもよい。好ましくは、60〜100℃で20分〜1時間乾燥後、200〜260℃で20分〜1時間、さらに好ましくは、80℃で30分乾燥後、250℃で30分加熱することが好ましい。   The heating time is preferably 10 minutes to 5 hours. Note that heating may be performed in two or more stages. Specifically, after drying at a temperature of 30 to 150 ° C. for 1 minute to 2 hours, heating is further performed at 100 ° C. to 200 ° C. for 10 minutes to 2 hours. Further, if necessary, heating may be performed under a nitrogen atmosphere or under reduced pressure. Preferably, after drying at 60 to 100 ° C. for 20 minutes to 1 hour, 200 to 260 ° C. for 20 minutes to 1 hour, more preferably after drying at 80 ° C. for 30 minutes and then heating at 250 ° C. for 30 minutes.

本発明では、前記樹脂組成物を使用しているので、低温、短時間の熱処理で樹脂層が形成可能でとなる。このため発光素子作製時の熱負荷が少なく済むために、着色や変形などを少なくできる。   In the present invention, since the resin composition is used, the resin layer can be formed by heat treatment at a low temperature for a short time. For this reason, since the heat load at the time of manufacturing a light emitting element can be reduced, coloring and deformation can be reduced.

前記樹脂層の厚みは、所望の用途に応じて適宜選択されるが、好ましくは20nm〜100μm、より好ましくは80nm〜50μmで、さらに好ましくは、100nm〜10μmある。   The thickness of the resin layer is appropriately selected according to the desired application, but is preferably 20 nm to 100 μm, more preferably 80 nm to 50 μm, and still more preferably 100 nm to 10 μm.

前記樹脂層は、波長632.8nmにおける屈折率が、好ましくは1.70以上、より好ましくは1.75以上、さらに好ましくは1.83以上である。屈折率が前記範囲にある樹脂層を用いることで、光の取り出し効率の高い発光素子等を得ることができる。   The resin layer has a refractive index at a wavelength of 632.8 nm of preferably 1.70 or more, more preferably 1.75 or more, and further preferably 1.83 or more. By using a resin layer having a refractive index in the above range, a light emitting element having high light extraction efficiency can be obtained.

屈折率はプリズムカプラ モデル2010(Metricon社製)を用いて測定することができる。
前記樹脂層は、厚さ約2μmにおけるJIS K7361に基づいて測定された全光線透過率が、好ましくは80%以上、より好ましくは85%以上、特に好ましくは87%以上である。屈折率が前記範囲にある樹脂層は、光透過性に優れ、該樹脂層を用いることで、より光の取り出し効率の高い発光素子等を得ることができる。
The refractive index can be measured using a prism coupler model 2010 (manufactured by Metricon).
The total light transmittance measured based on JIS K7361 at a thickness of about 2 μm is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and particularly preferably 87% or more. A resin layer having a refractive index in the above range is excellent in light transmittance, and by using the resin layer, a light emitting element or the like having higher light extraction efficiency can be obtained.

全光線透過率は、ヘイズガード2((株)東洋精機製作所製)を用いて測定することができる。
また、前記樹脂層は、Rigaku社製8230型DSC測定装置(昇温速度20℃/分)によるTgが、好ましくは230〜350℃、より好ましくは240〜330℃、さらに好ましくは250〜300℃である。前記樹脂層が、このようなTgを有すると、該層上に電極等を形成する際の加熱や熱処理を高温で行うことができるため、このようにして得られる電極は低抵抗で高透過率となり、光の取り出し効率および耐久性等に優れる発光素子等を容易に製造することができる。
The total light transmittance can be measured using a haze guard 2 (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho).
The resin layer has a Tg of 8230 type DSC measuring apparatus (temperature increase rate 20 ° C./min) manufactured by Rigaku, preferably 230 to 350 ° C., more preferably 240 to 330 ° C., and further preferably 250 to 300 ° C. It is. When the resin layer has such a Tg, heating and heat treatment when forming an electrode or the like on the layer can be performed at a high temperature. Therefore, the electrode obtained in this way has low resistance and high transmittance. Thus, a light-emitting element having excellent light extraction efficiency and durability can be easily manufactured.

前記樹脂層は、厚さ約2μmにおけるJIS K7136に基づいて測定されたHazeが、好ましくは30%以下、より好ましくは25%以下、さらに好ましくは10%以下である。Hazeが前記範囲にある樹脂層は、光透過性に優れ、該樹脂層を用いることで、より光の取り出し効率の高い発光素子等を得ることができる。
Hazeは、ヘイズガード2((株)東洋精機製作所製)を用いて測定することができる。
The resin layer has a Haze measured based on JIS K7136 at a thickness of about 2 μm, preferably 30% or less, more preferably 25% or less, and even more preferably 10% or less. A resin layer having a haze in the above range is excellent in light transmittance, and by using the resin layer, a light emitting element or the like having higher light extraction efficiency can be obtained.
Haze can be measured using a haze guard 2 (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho).

前記樹脂層は、大気中200℃で30分加熱した後の消衰係数(k値)が、好ましくは3×10-4以下、より好ましくは2×10-4以下である。k値が前記範囲にある樹脂層は、光透過性および耐久性に優れ、該樹脂層を用いることで、より光の取り出し効率の高い発光素子等を得ることができる。 The resin layer has an extinction coefficient (k value) of 30 × 10 −4 or less, more preferably 2 × 10 −4 or less after heating at 200 ° C. for 30 minutes in the atmosphere. A resin layer having a k value in the above range is excellent in light transmittance and durability, and by using the resin layer, a light emitting element or the like having higher light extraction efficiency can be obtained.

k値は、具体的には、下記実施例に記載の方法で測定することができる。
前記樹脂層は、引張強度が、50〜200MPaであることが好ましく、80〜150MPaであることがより好ましい。引張強度は、引張試験機5543(INSTRON社製)を用いて測定することができる。
Specifically, the k value can be measured by the method described in the Examples below.
The resin layer preferably has a tensile strength of 50 to 200 MPa, and more preferably 80 to 150 MPa. The tensile strength can be measured using a tensile tester 5543 (manufactured by INSTRON).

前記樹脂層は、破断伸びが、5〜100%であることが好ましく、15〜100%であることがより好ましい。破断伸びは、引張試験機5543(INSTRON社製)を用いて測定することができる。   The resin layer preferably has an elongation at break of 5 to 100%, more preferably 15 to 100%. The elongation at break can be measured using a tensile tester 5543 (manufactured by INSTRON).

前記樹脂層は、引張弾性率が、2.5〜4.0GPaであることが好ましく、2.7〜3.7GPaであることがより好ましい。引張弾性率は、引張試験機5543(INSTRON社製)を用いて測定することができる。   The resin layer preferably has a tensile modulus of 2.5 to 4.0 GPa, and more preferably 2.7 to 3.7 GPa. The tensile elastic modulus can be measured using a tensile tester 5543 (manufactured by INSTRON).

前記樹脂層は、SeikoInstruments社製SSC−5200型TMA測定装置を用いて測定した線膨張係数が、好ましくは80ppm/K以下、より好ましくは75ppm/K以下である。   The resin layer preferably has a linear expansion coefficient of 80 ppm / K or less, more preferably 75 ppm / K or less, measured using an SSC-5200 type TMA measuring device manufactured by Seiko Instruments.

前記樹脂層は、湿度膨張係数が、15ppm/%RH以下であることが好ましく、12ppm/%RH以下であることがより好ましい。湿度膨張係数は、MA(SIIナノテクノロジー社製、TMA−SS6100)湿度制御オプションを用いて測定することができる。前記樹脂層の膨張係数が前記範囲にあると、寸法安定性(環境信頼性)が高いことを示すため、該樹脂層は発光素子等に好適に用いることができる。   The resin layer preferably has a humidity expansion coefficient of 15 ppm /% RH or less, and more preferably 12 ppm /% RH or less. The humidity expansion coefficient can be measured using MA (SII Nanotechnology, TMA-SS6100) humidity control option. When the expansion coefficient of the resin layer is within the above range, it indicates that the dimensional stability (environmental reliability) is high, and thus the resin layer can be suitably used for a light emitting element or the like.

前記樹脂層は、比誘電率が2.0〜4.0であることが好ましく、2.3〜3.5であることがより好ましく、2.5〜3.2であることがさらに好ましい。比誘電率は、HP(株)製の4284A型LCRメーターを用いて測定することができる。比誘電率が前記範囲にあると、前記樹脂層を発光素子に使用した際、安定した発光状態を示す傾向が高い。   The resin layer preferably has a relative dielectric constant of 2.0 to 4.0, more preferably 2.3 to 3.5, and still more preferably 2.5 to 3.2. The relative dielectric constant can be measured using a 4284A type LCR meter manufactured by HP. When the relative dielectric constant is in the above range, when the resin layer is used for a light emitting device, a stable light emitting state tends to be exhibited.

前記樹脂層は、厚みが30μmである場合に、YI値(イエローインデックス)が、3.0以下であることが好ましく、2.5以下であることがより好ましく、2.0以下であることがさらに好ましい。YI値は、スガ試験機(株)製SM−T型色彩測定器を用いて測定することができる。   When the thickness of the resin layer is 30 μm, the YI value (yellow index) is preferably 3.0 or less, more preferably 2.5 or less, and 2.0 or less. Further preferred. The YI value can be measured using an SM-T type color measuring device manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.

前記樹脂層は、厚みが30μmである場合に、熱風乾燥機にて大気中230℃で1時間の加熱を行った後のYI値が3.0以下であることが好ましく、2.5以下であることがより好ましく、2.0以下であることがさらに好ましい。   When the resin layer has a thickness of 30 μm, the YI value after heating for 1 hour at 230 ° C. in the air with a hot air dryer is preferably 3.0 or less, and 2.5 or less. More preferably, it is 2.0 or less.

≪発光素子≫
本発明の発光素子は、第1電極と発光層と第2電極と前記樹脂層とを備え、前記第1電極と前記発光層と前記第2電極とがこの順に積層されてなる。前記樹脂層は、(a)前記第1電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、および、(b)前記第2電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、の少なくとも一方に形成されている。
このような発光素子は、前記樹脂層を含むため、光の取り出し効率が高く、耐久性に優れる。
≪Light emitting element≫
The light emitting device of the present invention includes a first electrode, a light emitting layer, a second electrode, and the resin layer, and the first electrode, the light emitting layer, and the second electrode are laminated in this order. The resin layer is (a) the side of the first electrode opposite to the side where the light emitting layer is formed, and (b) the side of the second electrode opposite to the side where the light emitting layer is formed. , At least one of them.
Since such a light emitting element includes the resin layer, the light extraction efficiency is high and the durability is excellent.

[第一電極]
前記第1電極は、第1電極形成用物質を用い、蒸着法またはスパッタリング法などにより製造できる。透過型電極を形成する場合には、第1電極形成用物質として、透明であって導電性に優れる酸化インジウムスズ(ITO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、酸化スズ(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)などを用いることができる。
[First electrode]
The first electrode can be manufactured by vapor deposition or sputtering using a first electrode forming material. When forming a transmissive electrode, the first electrode forming material is transparent and has excellent conductivity, such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), tin oxide (SnO 2 ), zinc oxide ( ZnO) or the like can be used.

また、反射型電極を形成する場合には、第1電極形成用物質として、マグネシウム(Mg)、アルミニウム(Al)、アルミニウム−リチウム(Al−Li)、カルシウム(Ca)、マグネシウム−インジウム(Mg−In)、マグネシウム−銀(Mg−Ag)などを用いることができる。第1電極の厚さは、所望の目的に応じて適宜選択すればよい。   When a reflective electrode is formed, magnesium (Mg), aluminum (Al), aluminum-lithium (Al—Li), calcium (Ca), magnesium-indium (Mg—) are used as the first electrode forming material. In), magnesium-silver (Mg-Ag), or the like can be used. What is necessary is just to select the thickness of a 1st electrode suitably according to the desired objective.

[発光層]
前記発光層は、電界が印加されることにより発光現象を示す物質により成膜されたものであることが好ましい。このような物質としては、付活硫化亜鉛ZnS:X(但し、Xは、Mn、Tb、Cu,Sm等の付活元素である。)、CaS:Eu、SrS:Ce、SrGa24:Ce、CaGa24:Ce、CaS:Pb、BaAl24:Eu等の無機エレクトロルミネッセンス(EL)物質、8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体、芳香族アミン類、アントラセン単結晶等の低分子色素系の有機EL物質、ポリ(p−フェニレンビニレン)、ポリ[2−メトキシ−5−(2−エチルヘキシルオキシ)−1,4−フェニレンビニレン]、ポリ(3−アルキルチオフェン)、ポリビニルカルバゾールなどの共役高分子系の有機EL物質等、従来より使用されているEL物質を用いることができる。
[Light emitting layer]
The light emitting layer is preferably formed of a material that exhibits a light emission phenomenon when an electric field is applied. Such materials include activated zinc sulfide ZnS: X (where X is an activated element such as Mn, Tb, Cu, Sm), CaS: Eu, SrS: Ce, SrGa 2 S 4 : Inorganic electroluminescent (EL) materials such as Ce, CaGa 2 S 4 : Ce, CaS: Pb, BaAl 2 S 4 : Eu, low molecular dyes such as aluminum complexes of 8-hydroxyquinoline, aromatic amines, anthracene single crystals Conjugated organic EL materials, poly (p-phenylenevinylene), poly [2-methoxy-5- (2-ethylhexyloxy) -1,4-phenylenevinylene], poly (3-alkylthiophene), polyvinylcarbazole, etc. Conventionally used EL materials such as polymer organic EL materials can be used.

これらの中でも前記樹脂層は重合体(I)を含むため、発光層は有機EL物質を用いて形成される層であることが好ましい。このように、発光層が有機EL物質を用いて形成される層である場合、有機EL素子が得られる。発光層の厚さは、通常10〜1000nm、好ましくは30〜500nm、さらに好ましくは50〜200nmである。発光層は、蒸着やスパッタリング等の真空成膜プロセス、あるいはクロロホルム等を溶媒とする塗布プロセスにより形成することができる。   Among these, since the resin layer contains the polymer (I), the light emitting layer is preferably a layer formed using an organic EL material. Thus, when a light emitting layer is a layer formed using an organic EL substance, an organic EL element is obtained. The thickness of the light emitting layer is usually 10 to 1000 nm, preferably 30 to 500 nm, and more preferably 50 to 200 nm. The light emitting layer can be formed by a vacuum film formation process such as vapor deposition or sputtering, or a coating process using chloroform or the like as a solvent.

[第2電極]
前記第2電極は、第2電極形成用物質を用いて、蒸着法またはスパッタリング法などにより製造できる。第2電極形成用物質としては、リチウム(Li)、マグネシウム(Mg)、アルミニウム(Al)、アルミニウム−リチウム(Al−Li)、カルシウム(Ca)、マグネシウム−インジウム(Mg−In)、マグネシウム−銀(Mg−Ag)などが挙げられる。
[Second electrode]
The second electrode can be manufactured by vapor deposition or sputtering using a second electrode forming material. As the second electrode forming substance, lithium (Li), magnesium (Mg), aluminum (Al), aluminum-lithium (Al-Li), calcium (Ca), magnesium-indium (Mg-In), magnesium-silver (Mg—Ag) and the like.

これらの物質から薄膜を形成することによって、透過型電極を得ることができる。また、ITO、IZOを含んでなる透過型電極であってもよい。第2電極の厚さは、所望の目的に応じて適宜選択すればよい。   A transmissive electrode can be obtained by forming a thin film from these substances. Further, a transmissive electrode containing ITO or IZO may be used. What is necessary is just to select the thickness of a 2nd electrode suitably according to the desired objective.

前記第2電極は、電子注入電極であるカソードであることが好ましい。
前記第2電極は透過型電極であることが好ましく、この場合、発光層で生じた光は、第2電極および前記樹脂層を通過して、発光素子の外部に取り出されることが好ましい。
The second electrode is preferably a cathode that is an electron injection electrode.
The second electrode is preferably a transmissive electrode. In this case, light generated in the light emitting layer preferably passes through the second electrode and the resin layer and is extracted outside the light emitting element.

この発光素子は、前記樹脂層を備えているので、発光層で生じた光が第2電極を通過して空気中に進入する時に、光の屈折によって、発光素子の外部に取り出される効率を高めることができ、第2電極の屈折率、樹脂層の屈折率、空気の屈折率(約1.0)がこの順で小さくなる発光素子が好ましい。また、第2電極と樹脂層との屈折率の差、樹脂層と空気との屈折率の差が小さいことが好ましい。第2電極、樹脂層および空気の屈折率がこのような関係にあると、発光層で生じた光が発光素子の外部に取り出される工程で、第2電極と樹脂層との界面および樹脂層と空気との界面で全反射しにくくなるため、光の取り出し効率が高くなると考えられる。   Since this light-emitting element includes the resin layer, when light generated in the light-emitting layer passes through the second electrode and enters the air, the light is refracted to increase the efficiency of being extracted outside the light-emitting element. A light emitting element in which the refractive index of the second electrode, the refractive index of the resin layer, and the refractive index of air (about 1.0) become smaller in this order is preferable. Moreover, it is preferable that the difference in refractive index between the second electrode and the resin layer and the difference in refractive index between the resin layer and air are small. When the refractive index of the second electrode, the resin layer, and air is in such a relationship, the interface between the second electrode and the resin layer, the resin layer, and the step of extracting the light generated in the light emitting layer to the outside of the light emitting element Since it becomes difficult to totally reflect at the interface with air, it is considered that the light extraction efficiency is increased.

なお、前記発光素子には、必要によって多様な層がさらに設けられていてもよい。
また、発光素子の密封のための公知の密封層がさらに設けられてもよく、多様な変形例が可能である。
Note that the light emitting element may be further provided with various layers as necessary.
Further, a known sealing layer for sealing the light emitting element may be further provided, and various modifications are possible.

以下、本発明を実施例によってさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。
(1)構造分析
下記合成例で得られた重合体の構造分析は、IR(ATR法、FT−IR,6700(NICOLET社製))およびNMR(ADVANCE500型,BRUKAR社製)により行った。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
(1) Structural analysis The structural analysis of the polymer obtained in the following synthesis example was performed by IR (ATR method, FT-IR, 6700 (manufactured by NICOLET)) and NMR (ADVANCE500 type, manufactured by BRUKAAR).

(2)重量平均分子量(Mw)
下記合成例で得られた重合体の重量平均分子量(Mw)は、TOSOH製HLC−8220型GPC装置(カラム:TSKgelα―M、展開溶剤:THF)を用いて測定した。
(2) Weight average molecular weight (Mw)
The weight average molecular weight (Mw) of the polymer obtained in the following synthesis example was measured using an HLC-8220 type GPC apparatus (column: TSKgelα-M, developing solvent: THF) manufactured by TOSOH.

(3)ガラス転移温度(Tg)
下記合成例で得られた重合体、または下記実施例および比較例で得られた評価用樹脂層のガラス転移温度は、Rigaku社製8230型DSC測定装置を用いて、昇温速度20℃/minとして測定した。
(3) Glass transition temperature (Tg)
The glass transition temperature of the polymer obtained in the following synthesis example, or the resin layer for evaluation obtained in the following examples and comparative examples, was measured using a Rigaku 8230 DSC measuring apparatus using a temperature increase rate of 20 ° C./min. As measured.

(4)光学特性
下記実施例および比較例で得られた評価用樹脂層について、全光線透過率を、それぞれJIS K7361およびJIS K7136に準拠して測定した。具体的には、全光線透過率は(株)東洋精機製作所 ヘイズガード2を用いて測定した。
(4) Optical characteristics About the resin layer for evaluation obtained by the following Example and comparative example, the total light transmittance was measured based on JISK7361 and JISK7136, respectively. Specifically, the total light transmittance was measured using a Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd. haze guard 2.

また、波長450nmにおける消衰係数(=k値)は、下記実施例および比較例で得られた評価用樹脂層をホットプレートにて大気中200℃で30分間の加熱した後、(株)日立ハイテクノロジー製の分光光度計U−4100を用いて該評価用樹脂層の透過率および反射率を測定し、さらに該評価用樹脂層の厚みを大塚電子(株)製の反射分光膜厚計FE−3000を用いて測定し、ベールの法則より算出した。   The extinction coefficient (= k value) at a wavelength of 450 nm was determined by heating the evaluation resin layers obtained in the following Examples and Comparative Examples in the air at 200 ° C. for 30 minutes in the atmosphere, and then Hitachi, Ltd. The transmittance and reflectance of the evaluation resin layer are measured using a spectrophotometer U-4100 manufactured by High Technology, and the thickness of the evaluation resin layer is further measured by a reflective spectral film thickness meter FE manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. -3000 and calculated from Beer's law.

実施例および比較例で得られた評価用樹脂層の屈折率は、プリズムカプラ モデル2010(Metricon社製)を用いて測定した。なお、屈折率は、波長632.8nmを用いて測定した。   The refractive indexes of the evaluation resin layers obtained in the examples and comparative examples were measured using a prism coupler model 2010 (manufactured by Metricon). The refractive index was measured using a wavelength of 632.8 nm.

[合成例1]
<重合体の合成>
3Lの4つ口フラスコに(A)成分:2,6−ジフルオロベンゾニトリル35.12g(0.253mol)、(B)成分:9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン87.60g(0.250mol)、炭酸カリウム41.46g(0.300mol)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)443gおよびトルエン111gを添加した。続いて、4つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、Dean−Stark管および冷却管を取り付けた。
[Synthesis Example 1]
<Synthesis of polymer>
In a 3 L four-necked flask, component (A): 35.12 g (0.253 mol) of 2,6-difluorobenzonitrile, component (B): 87.60 g (0,9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene 250 mol), 41.46 g (0.300 mol) of potassium carbonate, 443 g of N, N-dimethylacetamide (DMAc) and 111 g of toluene were added. Subsequently, a thermometer, a stirrer, a three-way cock with a nitrogen introduction tube, a Dean-Stark tube and a cooling tube were attached to the four-necked flask.

次いで、フラスコ内を窒素置換した後、得られた溶液を140℃で3時間反応させ、生成する水をDean−Stark管から随時取り除いた。水の生成が認められなくなったところで、徐々に温度を160℃まで上昇させ、そのままの温度で6時間反応させた。室温(25℃)まで冷却後、生成した塩をろ紙で除去し、ろ液をメタノールに投じて再沈殿させ、ろ別によりろ物(残渣)を単離した。得られたろ物を60℃で一晩真空乾燥し、白色粉末(重合体)を得た(収量95.67g、収率95%)。   Next, after the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen, the obtained solution was reacted at 140 ° C. for 3 hours, and water produced was removed from the Dean-Stark tube as needed. When no more water was observed, the temperature was gradually raised to 160 ° C. and reacted at that temperature for 6 hours. After cooling to room temperature (25 ° C.), the produced salt was removed with a filter paper, the filtrate was poured into methanol for reprecipitation, and the filtrate (residue) was isolated by filtration. The obtained filtrate was vacuum dried at 60 ° C. overnight to obtain a white powder (polymer) (yield 95.67 g, yield 95%).

得られた重合体の構造分析およびMwの測定を行った。結果は、赤外吸収スペクトルの特性吸収は、3035cm-1(C−H伸縮)、2229cm-1(CN)、1574cm-1、1499cm-1(芳香環骨格吸収)、1240cm-1(−O−)にあり、Mwは130,000であった。得られた重合体は下記構造単位(A)を有していた。また、得られた重合体のガラス転移温度は280℃であった。 The resulting polymer was subjected to structural analysis and Mw measurement. The results show that the characteristic absorption of the infrared absorption spectrum is 3035 cm −1 (CH stretching), 2229 cm −1 (CN), 1574 cm −1 , 1499 cm −1 (aromatic ring skeleton absorption), 1240 cm −1 (—O—). ) And Mw was 130,000. The obtained polymer had the following structural unit (A). Moreover, the glass transition temperature of the obtained polymer was 280 degreeC.

Figure 2016040348
Figure 2016040348

[調製例1]
<チタン酸バリウムナノ粒子分散液(1)の調製>
撹拌装置付の反応容器に2−メトキシエタノール55.83gを入れ、窒素雰囲気下で金属バリウム1.318gオルトチタン酸テトラエチル2.305gを加え、撹拌しながら完全に溶解させ、金属アルコキシド溶液を調製した。続いてこの溶液を2時間加熱還流し、脱イオン水32.40gと2−メトキシエタノール26.62gの混合溶液を加えて70℃に保った恒温槽内で5時間撹拌させ、チタン酸バリウムナノ粒子分散液を調製した。30分超音波照射した後、(4−シアノベンジル)ホスホン酸ジエチル0.462gと3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン0.390gを添加し、70℃で1時間反応させた。室温まで冷却後、遠心分離により固形分を分取し、4mLのN−メチル−2−ピロリドン(NMP)を加え、チタン酸バリウムナノ粒子のNMP分散液を得た。
[Preparation Example 1]
<Preparation of Barium Titanate Nanoparticle Dispersion (1)>
A reaction vessel equipped with a stirrer was charged with 55.83 g of 2-methoxyethanol, 1.318 g of barium metal and 2.305 g of tetraethyl orthotitanate were added under a nitrogen atmosphere, and completely dissolved with stirring to prepare a metal alkoxide solution. . Subsequently, this solution was heated to reflux for 2 hours, and a mixed solution of 32.40 g of deionized water and 26.62 g of 2-methoxyethanol was added and stirred for 5 hours in a thermostatic bath maintained at 70 ° C. to obtain barium titanate nanoparticles. A dispersion was prepared. After ultrasonic irradiation for 30 minutes, 0.462 g of diethyl (4-cyanobenzyl) phosphonate and 0.390 g of 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane were added and reacted at 70 ° C. for 1 hour. After cooling to room temperature, the solid content was collected by centrifugation, and 4 mL of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) was added to obtain an NMP dispersion of barium titanate nanoparticles.

実施例1
合成例1で得られた重合体を重合体濃度が4.7質量%となるようDMAcに溶解させた(合成例1で得られた重合体を重合体濃度が24質量%となるようにDMAcに溶解させた)溶液(以下「樹脂溶液(1)」ともいう。)0.175gに対して、前記チタン酸バリウムナノ粒子分散液(1) 1.331gを加え、自転・公転ミキサー(あわとり錬太郎)を用いて5分間撹拌して、混合溶液を調製した。得られた混合溶液のチタン酸バリウム粒子の分散粒径を、測定した波長632nmの透過率からレイリー散乱式を用いて算出した値は21nmであった。得られた混合溶液を、孔径5μmのフィルターでろ過後、ガラス基板上にスピンコートした。この塗布基板を強制攪拌式の乾燥機を用いて、80℃で30分間加熱した後、250℃で30分間加熱した後に、乾燥機から取出し、大気中で室温まで冷却することにより約1.7μm厚の膜を得た。得られた塗布層の屈折率は1.87.全光線透過率は87%、消衰係数は2×10-4であった。
Example 1
The polymer obtained in Synthesis Example 1 was dissolved in DMAc so that the polymer concentration was 4.7% by mass (the polymer obtained in Synthesis Example 1 was dissolved in DMAc so that the polymer concentration became 24% by mass. 1.75 g of the barium titanate nanoparticle dispersion (1) is added to 0.175 g of a solution (hereinafter also referred to as “resin solution (1)”), and a rotating / revolving mixer (Awatori) is added. A mixed solution was prepared by stirring for 5 minutes. The dispersion particle diameter of the barium titanate particles in the obtained mixed solution was 21 nm calculated from the measured transmittance at a wavelength of 632 nm using the Rayleigh scattering formula. The obtained mixed solution was filtered with a filter having a pore size of 5 μm, and then spin-coated on a glass substrate. This coated substrate was heated at 80 ° C. for 30 minutes using a forced stirring dryer, then heated at 250 ° C. for 30 minutes, then taken out from the dryer and cooled to room temperature in the atmosphere to about 1.7 μm. A thick film was obtained. The refractive index of the obtained coating layer is 1.87. The total light transmittance was 87%, and the extinction coefficient was 2 × 10 −4 .

実施例2
チタン酸バリウムナノ粒子分散液(1)1.331gを樹脂溶液(1) 0.279gに添加した以外は、実施例1と同様に混合溶液の調製、塗布基板の作製を行った。得られた混合溶液のチタン酸バリウム粒子の分散粒径は21nmであった。得られた塗布層の膜厚2.2μm、屈折率は1.87.全光線透過率は87%、消衰係数は2×10-4であった。
Example 2
A mixed solution was prepared and a coated substrate was prepared in the same manner as in Example 1 except that 1.331 g of the barium titanate nanoparticle dispersion (1) was added to 0.279 g of the resin solution (1). The dispersed particle diameter of the barium titanate particles in the obtained mixed solution was 21 nm. The resulting coating layer has a thickness of 2.2 μm and a refractive index of 1.87. The total light transmittance was 87%, and the extinction coefficient was 2 × 10 −4 .

実施例3
チタン酸バリウムナノ粒子分散液(1)2.130gを樹脂溶液(1)0.842gに添加した以外は、実施例1と同様に混合溶液の調製、塗布基板の作製を行った。得られた混合溶液のチタン酸バリウム粒子の分散粒径は21nmであった。得られた塗布層の膜厚2.0μm、屈折率は1.87.全光線透過率は87%、消衰係数は2×10-4であった。
Example 3
A mixed solution and a coated substrate were prepared in the same manner as in Example 1 except that 2.130 g of the barium titanate nanoparticle dispersion (1) was added to 0.842 g of the resin solution (1). The dispersed particle diameter of the barium titanate particles in the obtained mixed solution was 21 nm. The resulting coating layer has a thickness of 2.0 μm and a refractive index of 1.87. The total light transmittance was 87%, and the extinction coefficient was 2 × 10 −4 .

実施例4
チタン酸バリウムナノ粒子分散液(1)1.684gを樹脂溶液(1)2.130gに添加した以外は、実施例1と同様に混合溶液の調製、塗布基板の作製を行った。得られた混合溶液のチタン酸バリウム粒子の分散粒径は21nmであった。得られた塗布層の膜厚2.2μm、屈折率は1.87.全光線透過率は87%、消衰係数は2×10-4であった。
Example 4
A mixed solution and a coated substrate were prepared in the same manner as in Example 1 except that 1.684 g of the barium titanate nanoparticle dispersion (1) was added to 2.130 g of the resin solution (1). The dispersed particle diameter of the barium titanate particles in the obtained mixed solution was 21 nm. The resulting coating layer has a thickness of 2.2 μm and a refractive index of 1.87. The total light transmittance was 87%, and the extinction coefficient was 2 × 10 −4 .

実施例5
チタン酸バリウムナノ粒子分散液(1) 3.087gを樹脂溶液(1)3.124gに添加した以外は、実施例1と同様に混合溶液の調製、塗布基板の作製を行った。得られた混合溶液のチタン酸バリウム粒子の分散粒径は21nmであった。得られた塗布層の膜厚1.5μm、屈折率は1.87.全光線透過率は87%、消衰係数は2×10-4であった。
Example 5
A mixed solution was prepared and a coated substrate was prepared in the same manner as in Example 1 except that 3.087 g of the barium titanate nanoparticle dispersion (1) was added to 3.124 g of the resin solution (1). The dispersed particle diameter of the barium titanate particles in the obtained mixed solution was 21 nm. The obtained coating layer has a thickness of 1.5 μm and a refractive index of 1.87. The total light transmittance was 87%, and the extinction coefficient was 2 × 10 −4 .

[調製例2]
<チタン酸バリウムナノ粒子分散液(2)の調製>
PFA容器にチタン酸バリウム(シグマアルドリッチ社製、一次粒子径100nm未満)100質量部に対して、松本油脂製薬(株)製マーボンAC−F3(ポリオキシエチレンセカンダリーアルキルエーテル)11質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル192質量部を加え、さらに粒径0.1mmのジルコニアビーズ(ニッカトー社製)900質量部を加えて、ペイントコンディショナー(RED DEVIL社製)を用いて、1時間振とうして、チタン酸バリウムのナノ粒子をプロピレングリコールモノメチルエーテルに分散させた後、ジルコニアビーズを除去することでチタン酸バリウムナノ粒子分散液(2)を得た。
[Preparation Example 2]
<Preparation of Barium Titanate Nanoparticle Dispersion (2)>
11 parts by mass of Marbon AC-F3 (polyoxyethylene secondary alkyl ether) manufactured by Matsumoto Yushi Seiyaku Co., Ltd. with respect to 100 parts by mass of barium titanate (Sigma Aldrich, less than 100 nm primary particle size) in a PFA container, propylene glycol Add 192 parts by weight of monomethyl ether, add 900 parts by weight of zirconia beads having a particle size of 0.1 mm (manufactured by Nikkato), shake using paint conditioner (manufactured by RED DEVIL) for 1 hour, and titanate After barium nanoparticles were dispersed in propylene glycol monomethyl ether, the zirconia beads were removed to obtain a barium titanate nanoparticle dispersion (2).

比較例1
チタン酸バリウムナノ粒子分散液(2)を用いた以外は実施例1と同様にして、コート液組成物を調製したこと以外は、実施例1と同様に混合溶液の調製、塗布基板の作製を行った。得られた混合溶液のチタン酸バリウム粒子の分散粒径は800nmであった。得られた塗布層の膜厚2.0μm、屈折率は1.72、全光線透過率は70%、消衰係数は5×10-2と乾燥後の着色が認められた。
Comparative Example 1
The mixed solution and the coated substrate were prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the barium titanate nanoparticle dispersion (2) was used. went. The dispersion diameter of the barium titanate particles in the obtained mixed solution was 800 nm. The obtained coating layer had a thickness of 2.0 μm, a refractive index of 1.72, a total light transmittance of 70%, an extinction coefficient of 5 × 10 −2 and coloring after drying.

Figure 2016040348
Figure 2016040348

Claims (7)

芳香族ポリエーテル重合体、および無機酸物微粒子を含む樹脂組成物であって、前記無機酸化物粒子は、フッ素含有シランカップリング剤、シアノ基含有リン酸エステル化合物、およびシアノ基含有ホスホン酸エステル化合物から選ばれる少なくとも1種で表面修飾されていることを特徴とする樹脂組成物。   A resin composition comprising an aromatic polyether polymer and inorganic acid fine particles, wherein the inorganic oxide particles comprise a fluorine-containing silane coupling agent, a cyano group-containing phosphate ester compound, and a cyano group-containing phosphonate ester A resin composition characterized by being surface-modified with at least one selected from compounds. 前記無機酸化物微粒子が、酸化チタン、酸化ジルコニウム、及びチタン酸バリウムの少なくとも1種であることを特徴とする請求項1に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 1, wherein the inorganic oxide fine particles are at least one of titanium oxide, zirconium oxide, and barium titanate. 前記無機酸化物微粒子の平均粒子径が1nm〜100nmであることを特徴とする請求項1または2に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 1 or 2, wherein the inorganic oxide fine particles have an average particle diameter of 1 nm to 100 nm. 前記フッ素含有シランカップリング剤が、下記一般式(1)で表されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
Figure 2016040348
(式(1)中、Xは一価のハロゲン原子、炭素数1〜5のアルコキシ基を示し、Xが複数の場合、それぞれは同一でも異なっても良い。nは1〜10の整数、mは1〜5の整数、pは1〜3の整数を示す。)
The said fluorine-containing silane coupling agent is represented by following General formula (1), The resin composition of any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.
Figure 2016040348
(In formula (1), X represents a monovalent halogen atom or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and when X is plural, each may be the same or different. N is an integer of 1 to 10, m Represents an integer of 1 to 5, and p represents an integer of 1 to 3.)
前記シアノ基含有リン酸エステル化合物が、下記一般式(2)で表される化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
Figure 2016040348
(式(2)中、R1はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基を示す。qは0〜10の整数、rは1〜5の整数を示す。)
The resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the cyano group-containing phosphate ester compound is a compound represented by the following general formula (2).
Figure 2016040348
(In formula (2), R 1 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Q represents an integer of 0 to 10, and r represents an integer of 1 to 5.)
前記シアノ基含有ホスホン酸エステル化合物が、下記一般式(3)で表される化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
Figure 2016040348
(式(3)中、R1はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基を示す。qは0〜10の整数、rは1〜5の整数を示す。)
The resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the cyano group-containing phosphonic acid ester compound is a compound represented by the following general formula (3).
Figure 2016040348
(In formula (3), R 1 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Q represents an integer of 0 to 10, and r represents an integer of 1 to 5.)
基板と第一電極と発光層と第二電極と請求項1〜6のいずれか1項に記載の樹脂組成物からなる樹脂層とを備える発光素子であって、前記基板と前記第一電極と前記発光層と前記第二電極とがこの順に積層されてなり、前記樹脂層は、
(a)前記第一電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、および、
(b)前記第二電極の、前記発光層が形成された側とは反対側、
の少なくとも一方に形成された発光素子。
A light emitting device comprising a substrate, a first electrode, a light emitting layer, a second electrode, and a resin layer comprising the resin composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the substrate, the first electrode, The light emitting layer and the second electrode are laminated in this order, and the resin layer is
(A) a side of the first electrode opposite to the side on which the light emitting layer is formed; and
(B) The side of the second electrode opposite to the side on which the light emitting layer is formed,
A light emitting device formed on at least one of the above.
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