JP2016035836A - Self-fusion insulated wire and wire for coil - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a self-fusion insulated wire that facilitates fastening between wires and prevents dust emission.SOLUTION: A self-fusion insulated wire comprises a linear metal conductor, an insulating layer put on the peripheral surface side of the metal conductor, an expansion layer that is put on the peripheral surface side of the insulating layer and expands by heating, and a thermal fusion layer put on the peripheral surface side of the expansion layer. The expansion layer preferably comprises a matrix predominantly composed of synthetic resin, and chemical foaming agents or thermally expandable microcapsules dispersed in the matrix. It is preferable that an average thickness expansion rate of the expansion layer after heating is 1.1 times or more and 5 times or less. It is preferable that a porosity of the expansion layer after heating is 10% or more and 80% or less. It is preferable that an average thickness of the expansion layer is 5 μm or more and 200 μm or less.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、自己融着性絶縁電線及びコイル用電線に関する。   The present invention relates to a self-bonding insulated wire and a coil wire.

絶縁電線を用いて例えばモーター用コイルを製造する場合、コアに電線を捲回した後、電線同士の隙間及び電線とコアとの隙間にワニスを含浸させて電線間及び電線−コア間を固着させるのが一般的である。しかしながら、ワニスの完全な含浸を担保することは難しく、電線の固定が部分的に不十分となるおそれがある。また、ワニスの含浸により工数が増え、コイルが高価となるおそれがある。   For example, when manufacturing a coil for a motor using an insulated wire, after winding the wire on the core, the gap between the wires and the gap between the wires and the core are impregnated with varnish to fix the wires and between the wires and the core. It is common. However, it is difficult to ensure complete impregnation of the varnish, and there is a possibility that the fixing of the electric wire is partially insufficient. Moreover, man-hours increase by impregnation of the varnish, and the coil may be expensive.

これに対し、モーター製造工程の簡略化のために導体の外周に互いに融着し合う熱融着層を設けた自己融着性絶縁電線が使用されることがある。このような自己融着性絶縁電線を使用する場合、電線の捲回密度が小さいと、電線間又は電線−コア間の融着が不十分となるおそれがあり、融着性を高めるために熱融着層を厚くすると捲線の密度が低下してコイルの体積効率が低くなるおそれがある。また電線の皮膜厚が厚くなることにより、電線をモーターに挿入する際の作業性が悪化するおそれがある。   On the other hand, in order to simplify the motor manufacturing process, a self-bonding insulated wire provided with a heat-sealing layer that is fused to the outer periphery of the conductor may be used. When such a self-bonding insulated wire is used, if the winding density of the wire is small, there is a possibility that the fusion between the wires or between the wire and the core may be insufficient, and heat is used to improve the fusion property. If the fusion layer is thickened, the density of the windings is lowered, and the volumetric efficiency of the coil may be lowered. Moreover, there exists a possibility that the workability | operativity at the time of inserting an electric wire in a motor may deteriorate because the film thickness of an electric wire becomes thick.

そこで、熱融着層に発泡剤を添加し、捲線加工後に熱融着層を発泡させて電線間の融着性を向上させる技術が提案されている(特開平4−87214号公報参照)。   Therefore, a technique has been proposed in which a foaming agent is added to the heat-sealing layer, and the heat-sealing layer is foamed after the winding process to improve the fusion property between the wires (see Japanese Patent Laid-Open No. 4-87214).

特開平4−87214号公報JP-A-4-87214

上記公報に開示される自己融着性絶縁電線は、熱融着層の発泡により膨張して熱融着層同士の当接圧力を高めることができるが、熱融着層に含まれる発泡剤が熱融着層同士の当接面積を減少させるため、融着性を十分に向上できない場合がある。また、上記公報に開示される自己融着性絶縁電線は、発泡剤が熱融着層から脱離したり、発泡により熱融着層の一部が脆くなるおそれもある。   The self-bonding insulated wire disclosed in the above publication can be expanded by foaming of the heat-sealing layer to increase the contact pressure between the heat-sealing layers. Since the contact area between the heat-sealing layers is reduced, the fusing property may not be sufficiently improved. In the self-bonding insulated wire disclosed in the above publication, the foaming agent may be detached from the heat-sealing layer, or a part of the heat-sealing layer may become brittle due to foaming.

本発明は、上述のような事情に基づいてなされたものであり、電線間を固着しやすく、かつ融着層が十分な強度を有する自己融着性絶縁電線及び電線間の固着の信頼性が高く発塵し難いコイル用電線を提供することを課題とする。   The present invention has been made on the basis of the circumstances as described above. The self-bonding insulated wire and the bonding reliability between the wires are easy to bond between the wires and the fusion layer has sufficient strength. It is an object of the present invention to provide a coil electric wire that is highly resistant to dust generation.

上記課題を解決するためになされた本発明の一態様に係る自己融着性絶縁電線は、線状の金属導体と、この金属導体の外周面側に積層される絶縁層と、この絶縁層の外周面側に積層され、加熱により膨張する膨張層と、この膨張層の外周面側に積層される熱融着層とを備える。   A self-bonding insulated electric wire according to an aspect of the present invention made to solve the above-described problems includes a linear metal conductor, an insulating layer laminated on the outer peripheral surface side of the metal conductor, and the insulating layer. An expansion layer that is laminated on the outer peripheral surface side and expands by heating, and a heat fusion layer that is laminated on the outer peripheral surface side of the expansion layer are provided.

本発明の一態様に係る自己融着性絶縁電線及びコイル用電線は、電線間を固着しやすくかつ融着層が十分な強度を有する。   The self-bonding insulated wire and the coil wire according to one embodiment of the present invention are easy to fix between the wires, and the fusion layer has sufficient strength.

図1は、本発明の一実施形態の自己融着性絶縁電線を示す模式的断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a self-bonding insulated wire according to an embodiment of the present invention.

[本発明の実施形態の説明]
本発明の一態様に係る自己融着性絶縁電線は、線状の金属導体と、この金属導体の外周面側に積層される絶縁層と、この絶縁層の外周面側に積層され、加熱により膨張する膨張層と、この膨張層の外周面側に積層される熱融着層とを備える。
[Description of Embodiment of the Present Invention]
The self-bonding insulated wire according to one aspect of the present invention includes a linear metal conductor, an insulating layer laminated on the outer peripheral surface side of the metal conductor, and an outer peripheral surface side of the insulating layer, and is heated. An expansion layer that expands, and a thermal fusion layer that is laminated on the outer peripheral surface side of the expansion layer.

当該自己融着性絶縁電線は、膨張層の外周面側に熱融着層が積層されているので、発泡剤等の膨張に寄与するものの融着を阻害し得る成分を含まない熱融着層同士が融着することにより高い融着性を発揮して電線間の固着が容易であると共に、熱融着層が膨張層を封止して発塵を防止する。   The self-bonding insulated electric wire has a heat-sealing layer laminated on the outer peripheral surface side of the expansion layer, so that it does not contain a component that contributes to expansion of a foaming agent or the like but can inhibit fusion. By fusing each other, high fusion properties are exhibited and the electric wires are easily fixed, and the heat fusion layer seals the expansion layer to prevent dust generation.

上記膨張層が、合成樹脂を主成分とするマトリックスと、このマトリックス中に分散する化学発泡剤又は熱膨張性マイクロカプセルとを有するとよい。このように、膨張層がマトリックス中に化学発泡剤又は熱膨張性マイクロカプセルを分散したものであることによって、膨張率を大きくすることができる。その結果、熱融着層同士をより強く圧着し、電線間及び電線−コア間の固着をより確実にできる。   The expansion layer may have a matrix mainly composed of a synthetic resin and a chemical foaming agent or thermally expandable microcapsules dispersed in the matrix. In this way, the expansion rate can be increased by the chemical expansion agent or the thermally expandable microcapsules dispersed in the matrix. As a result, the heat-sealing layers can be more strongly bonded to each other, and adhesion between the wires and between the wires and the core can be more reliably performed.

上記膨張層の加熱後の平均厚さ膨張率としては、1.1倍以上5倍以下が好ましい。このように、膨張層の膨張率が上記範囲内であることによって、隣接する熱融着層同士をより確実に圧着して融着できると共に、熱融着層の断裂を防止することができる。   The average thickness expansion coefficient after heating of the expansion layer is preferably 1.1 to 5 times. As described above, when the expansion coefficient of the expansion layer is within the above range, the adjacent heat-sealing layers can be more securely pressed and fused together, and tearing of the heat-sealing layer can be prevented.

上記膨張層の加熱後の空隙率としては、10%以上80%以下が好ましい。このように、膨張層の加熱後の空隙率を上記範囲内とすることによって、一定の膨張率を確保しつつ膨張層のマトリックスの連続性を担保して膨張層をより均一に膨張させることで、熱融着層の融着を確実にすることができる。   The porosity of the expanded layer after heating is preferably 10% or more and 80% or less. As described above, by setting the porosity after heating the expansion layer within the above range, the expansion layer can be expanded more uniformly while ensuring the constant expansion rate and ensuring the continuity of the matrix of the expansion layer. The heat fusion layer can be surely fused.

上記熱融着層の平均厚さが5μm以上200μm以下であるとよい。このように、熱融着層の平均厚さを上記範囲内とすることによって、融着性を確保すると共に不必要な厚さの増加(大径化)を防止できる。   The average thickness of the heat sealing layer is preferably 5 μm or more and 200 μm or less. As described above, by setting the average thickness of the heat-sealing layer within the above range, it is possible to ensure the fusion property and prevent an unnecessary increase in thickness (increase in diameter).

本発明の一態様に係るコイル用電線は、当該自己融着性絶縁電線を捲線加工してコイル化した後に、膨張層を膨張させて形成される。   The coil wire according to one embodiment of the present invention is formed by expanding the expansion layer after the self-bonding insulated wire is coiled by coiling.

当該コイル用電線は、このように捲線加工してコイル化した後に膨張層を膨張させることで自己融着性絶縁電線の熱融着層が互いに融着するので、電線同士及び電線−コア間の固着の信頼性が高い。   Since the heat-sealing layer of the self-bonding insulated wire is fused with each other by expanding the expansion layer after the coiled wire is coiled and coiled in this way, the wire for the coil is between the wires and between the wire and the core. High reliability of fixing.

ここで、「平均厚さ膨張率」とは、加熱による膨張後の膨張層の平均厚さの加熱前の膨張層の平均厚さに対する比を意味する。また、膨張層の「空隙率」とは、膨張層のみかけの体積に対する膨張層内の空隙(気体)の容積の百分率であり、膨張層のマトリックス及び熱膨張性マイクロカプセルの外殻の含有質量と密度とから算出される実体積をV0、膨張層の空隙を含む体積をV1とするとき、(V1−V0)/V1×100で算出される量である。   Here, the “average thickness expansion coefficient” means the ratio of the average thickness of the expanded layer after expansion by heating to the average thickness of the expanded layer before heating. The “porosity” of the expansion layer is the percentage of the volume of the void (gas) in the expansion layer with respect to the apparent volume of the expansion layer, and the mass contained in the matrix of the expansion layer and the outer shell of the thermally expandable microcapsule This is an amount calculated by (V1−V0) / V1 × 100, where V0 is the actual volume calculated from the density and V1, and V1 is the volume including the voids of the expanded layer.

[本発明の実施形態の詳細]
以下、本発明に係る自己融着性絶縁電線の一つの実施形態について図面を参照しつつ詳説する。
[Details of the embodiment of the present invention]
Hereinafter, one embodiment of a self-bonding insulated wire according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1の自己融着性絶縁電線は、線状の金属導体1と、この金属導体1の外周面側に積層される絶縁層2と、この絶縁層2の外周面側に積層され、加熱により膨張する膨張層3と、この膨張層3の外周面側に積層される熱融着層4とを備える。   The self-bonding insulated electric wire shown in FIG. 1 includes a linear metal conductor 1, an insulating layer 2 laminated on the outer peripheral surface side of the metal conductor 1, and an outer peripheral surface side of the insulating layer 2. The expansion layer 3 which expand | swells and the heat sealing | fusion layer 4 laminated | stacked on the outer peripheral surface side of this expansion layer 3 are provided.

<金属導体>
金属導体1は、例えば断面が円形状の丸線とされるが、断面が正方形状又は長方形状の平角線や、複数の素線を撚り合わせた撚り線であってもよい。
<Metal conductor>
The metal conductor 1 is, for example, a round wire having a circular cross section, but may be a rectangular wire having a square or rectangular cross section or a stranded wire obtained by twisting a plurality of strands.

金属導体1の材質としては、導電率が高くかつ機械的強度が大きい金属が好ましい。このような金属としては、例えば銅、銅合金、アルミニウム、ニッケル、銀、鉄、鋼、ステンレス鋼等が挙げられる。金属導体1は、これらの金属を線状に形成した材料や、このような線状の材料にさらに別の金属を被覆した多層構造のもの、例えばニッケル被覆銅線、銀被覆銅線、銅被覆アルミ線、銅被覆鋼線等を用いることができる。   The material of the metal conductor 1 is preferably a metal having high conductivity and high mechanical strength. Examples of such metals include copper, copper alloys, aluminum, nickel, silver, iron, steel, and stainless steel. The metal conductor 1 is a material in which these metals are formed in a linear shape, or a multilayer structure in which such a linear material is further coated with another metal, such as a nickel-coated copper wire, a silver-coated copper wire, a copper-coated wire. Aluminum wires, copper-coated steel wires, etc. can be used.

金属導体1の平均断面積の下限としては、0.01mmが好ましく、0.1mmがより好ましい。一方、金属導体1の平均断面積の上限としては、100mmが好ましく、50mmがより好ましい。金属導体1の平均断面積が上記下限に満たない場合、金属導体1に対する膨張層3の体積が大きくなり、当該自己融着性絶縁電線を用いて形成されるコイル等の体積効率が低くなるおそれがある。逆に、金属導体1の平均断面積が上記上限を超える場合、従来の絶縁電線にワニスを含浸する方法でも比較的容易かつ安価にコイルを形成できるため、従来の絶縁電線に対して有利性が得られないおそれがある。 The lower limit of the average cross-sectional area of the metal conductor 1 is preferably 0.01 mm 2, 0.1 mm 2 is more preferable. On the other hand, the upper limit of the average cross-sectional area of the metal conductor 1 is preferably 100 mm 2, 50 mm 2 is more preferable. When the average cross-sectional area of the metal conductor 1 is less than the lower limit, the volume of the expansion layer 3 with respect to the metal conductor 1 is increased, and the volume efficiency of a coil or the like formed using the self-bonding insulated wire may be reduced. There is. Conversely, when the average cross-sectional area of the metal conductor 1 exceeds the above upper limit, the coil can be formed relatively easily and inexpensively by the method of impregnating the conventional insulated wire with varnish, which is advantageous over the conventional insulated wire. May not be obtained.

<絶縁層>
絶縁層2は、絶縁性を有する樹脂組成物で形成される。絶縁層2を形成する樹脂組成物としては、特に限定されないが、例えばポリビニールホルマール、熱硬化ポリウレタン、熱硬化アクリル、エポキシ、熱硬化ポリエステル、熱硬化ポリエステルイミド、熱硬化ポリエステルアミドイミド、芳香族ポリアミド、熱硬化ポリアミドイミド、熱硬化ポリイミド等の熱硬化性樹脂や、例えば熱可塑性ポリイミド、ポリフェニルサルフォン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルフォン等の熱可塑性樹脂を主成分とするものが使用できる。絶縁樹脂層は2種類以上の樹脂の複合体又は積層体であってもよく、また熱硬化性樹脂と熱可塑性樹脂との複合体又は積層体であってもよい。
<Insulating layer>
The insulating layer 2 is formed of an insulating resin composition. Although it does not specifically limit as a resin composition which forms the insulating layer 2, For example, polyvinyl formal, thermosetting polyurethane, thermosetting acrylic, epoxy, thermosetting polyester, thermosetting polyester imide, thermosetting polyester amide imide, aromatic polyamide Mainly thermosetting resins such as thermosetting polyamideimide and thermosetting polyimide, and thermoplastic resins such as thermoplastic polyimide, polyphenylsulfone, polyphenylene sulfide, polyetherimide, polyetheretherketone and polyethersulfone. What is used as a component can be used. The insulating resin layer may be a composite or laminate of two or more kinds of resins, or may be a composite or laminate of a thermosetting resin and a thermoplastic resin.

絶縁層2を構成する樹脂組成物のガラス転移温度(融点を有する熱可塑性樹脂の場合はその融点)は、後述する膨張層3のマトリックス5及び熱融着層4のガラス転移温度よりも高い。   The glass transition temperature of the resin composition constituting the insulating layer 2 (in the case of a thermoplastic resin having a melting point, the melting point) is higher than the glass transition temperature of the matrix 5 of the expansion layer 3 and the thermal fusion layer 4 described later.

絶縁層2の平均厚さの下限としては、5μmが好ましく、10μmがより好ましい。一方、絶縁層2の平均厚さの上限としては、200μmが好ましく、150μmがより好ましい。絶縁層2の平均厚さが上記下限に満たない場合、絶縁層2に破れが生じ、金属導体1の絶縁が不十分となるおそれがある。逆に、絶縁層2の平均厚さが上記上限を超える場合、当該自己融着性絶縁電線を用いて形成されるコイル等の体積効率が低くなるおそれがある。   As a minimum of average thickness of insulating layer 2, 5 micrometers is preferred and 10 micrometers is more preferred. On the other hand, the upper limit of the average thickness of the insulating layer 2 is preferably 200 μm, and more preferably 150 μm. If the average thickness of the insulating layer 2 is less than the lower limit, the insulating layer 2 may be broken and the metal conductor 1 may be insufficiently insulated. On the other hand, when the average thickness of the insulating layer 2 exceeds the upper limit, the volume efficiency of a coil or the like formed using the self-bonding insulated wire may be lowered.

<膨張層>
膨張層3は、合成樹脂を主成分とするマトリックス5と、このマトリックス5中に分散する発泡剤6とを有する。
<Expanded layer>
The expansion layer 3 includes a matrix 5 mainly composed of a synthetic resin and a foaming agent 6 dispersed in the matrix 5.

膨張層3は、加熱により発泡剤6が膨張することによって全体的に膨張する。   The expansion layer 3 expands as a whole when the foaming agent 6 expands by heating.

膨張層3の加熱前の平均厚さの下限としては、10μmが好ましく、20μmがより好ましい。一方、膨張層3の加熱前の平均厚さの上限としては、300μmが好ましく、200μmがより好ましい。膨張層3の加熱前の平均厚さが上記下限に満たない場合、当該自己融着性絶縁電線同士の固着が不十分となるおそれがある。逆に、膨張層3の加熱前の平均厚さが上記上限を超える場合、当該自己融着性絶縁電線を用いて形成されるコイル等の体積効率が低くなるおそれがある。   As a minimum of average thickness before heating of expansion layer 3, 10 micrometers is preferred and 20 micrometers is more preferred. On the other hand, the upper limit of the average thickness of the expanded layer 3 before heating is preferably 300 μm, and more preferably 200 μm. If the average thickness of the expansion layer 3 before heating is less than the lower limit, the self-bonding insulated wires may not be firmly fixed. Conversely, when the average thickness of the expansion layer 3 before heating exceeds the above upper limit, the volume efficiency of a coil or the like formed using the self-bonding insulated wire may be lowered.

膨張層3の加熱後の平均厚さ膨張率の下限としては、1.1倍が好ましく、2倍がより好ましい。一方、膨張層3の加熱後の平均厚さ膨張率の上限としては、5倍であり、4倍が好ましい。膨張層3の加熱後の平均厚さ膨張率が上記下限に満たない場合、当該自己融着性絶縁電線を捲線加工したときに、隣接し合う熱融着層4同士の融着が不十分となるおそれがある。逆に、膨張層3の加熱後の平均厚さ膨張率が上記上限を超える場合、膨張層3の密度が不十分となることにより却って当該自己融着性絶縁電線の強度が不十分となるおそれがある。膨張層3の膨張率は発泡剤6の種類及び量、並びにマトリックス5のガラス転移温度(Tg)を選択することにより制御できる。   The lower limit of the average thickness expansion coefficient after heating of the expansion layer 3 is preferably 1.1 times and more preferably 2 times. On the other hand, the upper limit of the average thickness expansion coefficient after heating of the expansion layer 3 is 5 times, and preferably 4 times. When the average thickness expansion coefficient after heating of the expansion layer 3 is less than the lower limit, when the self-bonding insulated wire is subjected to a winding process, the adjacent heat-bonding layers 4 are not sufficiently bonded to each other. There is a risk. On the contrary, when the average thickness expansion coefficient after heating of the expansion layer 3 exceeds the above upper limit, the density of the expansion layer 3 may be insufficient, and the strength of the self-bonding insulated wire may be insufficient. There is. The expansion rate of the expansion layer 3 can be controlled by selecting the type and amount of the foaming agent 6 and the glass transition temperature (Tg) of the matrix 5.

膨張層3の加熱後の空隙率の下限としては、10%が好ましく、50%がより好ましい。一方、膨張層3の加熱後の空隙率の上限としては、80%が好ましく、70%がより好ましい。膨張層3の加熱後の空隙率が上記下限に満たない場合、隣接する熱融着層4間の当接圧力が不足して融着が不十分となるおそれがある。逆に、膨張層3の加熱後の空隙率が上記上限を超える場合、膨張した後の膨張層3の強度が不十分となるおそれがある。   As a minimum of the porosity after heating of expansion layer 3, 10% is preferred and 50% is more preferred. On the other hand, the upper limit of the porosity after heating of the expansion layer 3 is preferably 80% and more preferably 70%. When the porosity of the expanded layer 3 after heating is less than the lower limit, the contact pressure between the adjacent heat-sealing layers 4 may be insufficient, resulting in insufficient fusion. On the contrary, when the porosity after heating of the expansion layer 3 exceeds the upper limit, the strength of the expansion layer 3 after expansion may be insufficient.

(マトリックス)
膨張層3のマトリックス5は、発泡剤6の分解温度で流動性を示す樹脂組成物で構成される。つまり、マトリックス5を構成する樹脂組成物のガラス転移温度は、発泡剤6の分解温度に近く、例えば50℃以上250℃以下である。このように、マトリックス5が発泡剤6の発泡温度領域において流動性を示す樹脂であることによって、膨張層3の膨張を均一にできると共に膨張率を所望の値に制御することが容易となる。なお、「膨張層の膨張開始温度」とは、膨張層のみかけの体積が、膨張前(常温:25℃)の1.05倍となる温度をいう。なお、発泡剤6の「分解温度」とは、発泡剤6からのガスの発生が確認される温度又は発泡剤6の体積が膨張前(常温:25℃)の1.05倍となる温度をいう。
(matrix)
The matrix 5 of the expansion layer 3 is composed of a resin composition that exhibits fluidity at the decomposition temperature of the foaming agent 6. That is, the glass transition temperature of the resin composition constituting the matrix 5 is close to the decomposition temperature of the foaming agent 6 and is, for example, 50 ° C. or higher and 250 ° C. or lower. Thus, when the matrix 5 is a resin exhibiting fluidity in the foaming temperature region of the foaming agent 6, the expansion of the expansion layer 3 can be made uniform and the expansion coefficient can be easily controlled to a desired value. The “expansion start temperature of the expansion layer” refers to a temperature at which the apparent volume of the expansion layer is 1.05 times that before expansion (normal temperature: 25 ° C.). The “decomposition temperature” of the foaming agent 6 is a temperature at which generation of gas from the foaming agent 6 is confirmed or a temperature at which the volume of the foaming agent 6 is 1.05 times that before expansion (normal temperature: 25 ° C.). Say.

このマトリックス5を構成する樹脂組成物の主成分としては、例えばフェノキシ樹脂、ポリアミド、ブチラール樹脂等の熱可塑性樹脂が使用でき、中でもフェノキシ樹脂が好適に使用される。また、上記熱可塑性樹脂にエポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、イソシアネートなどを添加することにより架橋させて、一部熱硬化タイプにすることも可能である。さらに、熱硬化性樹脂であっても硬化条件を調整して半硬化状態とすることにより、マトリックス5を構成する樹脂組成物の主成分として使用することができる。あるいは熱硬化性樹脂であっても、熱硬化性樹脂の硬化状態を制御することによって発泡剤6の発泡温度領域において流動性を示すものであれば使用することができる。また、マトリックス5を構成する樹脂組成物は、密着向上剤等の添加剤を含んでもよい。   As a main component of the resin composition constituting the matrix 5, for example, a thermoplastic resin such as phenoxy resin, polyamide, butyral resin can be used, and among them, phenoxy resin is preferably used. Moreover, it is also possible to make it a part thermosetting type by making it crosslink by adding an epoxy resin, a melamine resin, a phenol resin, isocyanate, etc. to the said thermoplastic resin. Furthermore, even if it is a thermosetting resin, it can be used as a main component of the resin composition which comprises the matrix 5 by adjusting hardening conditions and making it a semi-hardened state. Or even if it is a thermosetting resin, if it shows fluidity | liquidity in the foaming temperature area | region of the foaming agent 6 by controlling the hardening state of a thermosetting resin, it can be used. Moreover, the resin composition which comprises the matrix 5 may contain additives, such as an adhesion improving agent.

上記フェノキシ樹脂としては、ビスフェノールA、ビスフェノールS、ビスフェノールFを主成分とした樹脂や変性フェノキシ樹脂が例示される。フェノキシ樹脂は、硬化剤の添加により融着処理後に硬化させることが可能であることから、比較的大きな空孔を形成する熱膨張性マイクロカプセルを使用した場合でも膨張層の強度を十分に確保することができる。   Examples of the phenoxy resin include resins mainly composed of bisphenol A, bisphenol S, and bisphenol F, and modified phenoxy resins. Since the phenoxy resin can be cured after the fusion treatment by adding a curing agent, sufficient strength of the expansion layer is ensured even when a thermally expandable microcapsule that forms relatively large pores is used. be able to.

上記ポリアミド樹脂としては、例えば各種共重合ポリアミド、6−ナイロン、6,6−ナイロン、6,10−ナイロン等が例示される。   Examples of the polyamide resin include various copolymerized polyamides, 6-nylon, 6,6-nylon, and 6,10-nylon.

上記ブチラール樹脂としては、例えばポリビニルブチラール等が例示される。   Examples of the butyral resin include polyvinyl butyral.

マトリックス5を構成する樹脂組成物の主成分として使用可能なその他の熱可塑性樹脂としては、例えば共重合ポリエステル、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、熱可塑性ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリフェニレンオキシド、ポリフェニレンスルフィド、ポリサルフォン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニルサルフォン、半芳香族ポリアミド、熱可塑性ポリアミドイミド、熱可塑性ポリイミド等が例示される。   Other thermoplastic resins that can be used as the main component of the resin composition constituting the matrix 5 include, for example, copolyester, polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate, thermoplastic polyurethane, polycarbonate, polyphenylene oxide, polyphenylene sulfide, polysulfone, poly Examples include ether imide, polyether ether ketone, polyether ketone, polyether sulfone, polyphenyl sulfone, semi-aromatic polyamide, thermoplastic polyamide imide, and thermoplastic polyimide.

(発泡剤)
発泡剤6としては、化学発泡剤又は物理発泡剤を用いることができる。
(Foaming agent)
As the foaming agent 6, a chemical foaming agent or a physical foaming agent can be used.

〈化学発泡剤〉
発泡剤6として用いられる化学発泡剤は、加熱することにより分解して、例えば窒素ガス、炭酸ガス、一酸化炭素、アンモニアガス等を発生するものであり、有機発泡剤又は無機発泡剤が使用できる。
<Chemical foaming agent>
The chemical foaming agent used as the foaming agent 6 is decomposed by heating to generate, for example, nitrogen gas, carbon dioxide gas, carbon monoxide, ammonia gas, etc., and an organic foaming agent or an inorganic foaming agent can be used. .

有機発泡剤としては、例えばアゾジカルボンアミド(A.D.C.A)、アゾビスイソブチロニトリル(A.I.B.N)等のアゾ系発泡剤、例えばジニトロソペンタメチレンテトラミン(D.P.T)、N,N’ジニトロソ−N,N’−ジメチルテレフタルアミド(D.N.D.M.T.A)等のニトロソ系発泡剤、例えばP−トルエンスルホニルヒドラジド(T.S.H)、P,P−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジド(O.B.S.H)、ベンゼンスルホニルヒドラジド(B.S.H)等のヒドラジド系、他にはトリヒドラジノトリアジン(T.H.T)、アセトン−P−スルホニルヒドラゾンなどが例示され、これらを単独で、又は二種類以上合わせて使用できる。   Examples of the organic blowing agent include azo blowing agents such as azodicarbonamide (A.D.C.A) and azobisisobutyronitrile (A.I.B.N), such as dinitrosopentamethylenetetramine (D P.T), N, N′dinitroso-N, N′-dimethyl terephthalamide (DNDMTA), and the like, for example, P-toluenesulfonyl hydrazide (T.S. H), P, P-oxybisbenzenesulfonyl hydrazide (OBSH), benzenesulfonyl hydrazide (BSH), and others, and trihydrazinotriazine (TH T), acetone-P-sulfonylhydrazone and the like are exemplified, and these can be used alone or in combination of two or more.

また、無機発泡剤としては、例えば重炭酸ナトリウム、炭酸アンモニウム、重炭酸アンモニウム、ホウ化水素ナトリウム、ソジウムボロンハイドライド、シリコンオキシハイドライド等が例示される。一般的に無機発泡剤は、ガス発生速度が有機発泡剤より緩慢でありガス発生の調整が難しい。そのため、化学発泡剤としては、有機発泡剤が好ましい。   Examples of the inorganic foaming agent include sodium bicarbonate, ammonium carbonate, ammonium bicarbonate, sodium borohydride, sodium boron hydride, silicon oxyhydride and the like. In general, an inorganic foaming agent has a slower gas generation rate than an organic foaming agent, and adjustment of gas generation is difficult. Therefore, an organic foaming agent is preferable as the chemical foaming agent.

マトリックス5の膨張層3における含有率に対する化学発泡剤の含有量の下限としては、0.1質量%が好ましく、1質量%がより好ましい。一方、上記化学発泡剤の含有量の上限としては、35質量%が好ましく、20質量%がより好ましい。上記化学発泡剤の含有量が上記下限に満たない場合、膨張層3の膨張率が不十分となるおそれがある。逆に、上記化学発泡剤の含有量が上記上限を超える場合、膨張層3の機械的強度が不足するおそれがある。   As a minimum of content of a chemical foaming agent to content rate in expansion layer 3 of matrix 5, 0.1 mass% is preferred and 1 mass% is more preferred. On the other hand, as an upper limit of content of the said chemical foaming agent, 35 mass% is preferable and 20 mass% is more preferable. When content of the said chemical foaming agent is less than the said minimum, there exists a possibility that the expansion coefficient of the expansion layer 3 may become inadequate. On the contrary, when the content of the chemical foaming agent exceeds the upper limit, the mechanical strength of the expansion layer 3 may be insufficient.

化学発泡剤の分解温度の下限としては、60℃が好ましく、70℃がより好ましい。一方、化学発泡剤の分解温度の上限としては、250℃が好ましく、200℃がより好ましい。化学発泡剤の分解温度が上記下限に満たない場合、当該自己融着性絶縁電線製造時、輸送時又は保管時に化学発泡剤が意図せず発泡してしまうおそれがある。逆に、化学発泡剤の分解温度が上記上限を超える場合、膨張工程でコイル以外のモーター部品に過剰な熱負荷がかかるために悪影響が出たり、発泡剤を発泡させるために必要なエネルギーコストが過大となるおそれがある。   As a minimum of the decomposition temperature of a chemical foaming agent, 60 ° C is preferred and 70 ° C is more preferred. On the other hand, the upper limit of the decomposition temperature of the chemical foaming agent is preferably 250 ° C and more preferably 200 ° C. When the decomposition temperature of the chemical foaming agent is less than the above lower limit, the chemical foaming agent may unintentionally foam during production of the self-bonding insulated wire, during transportation, or during storage. Conversely, if the decomposition temperature of the chemical foaming agent exceeds the above upper limit, an excessive heat load is applied to the motor parts other than the coil in the expansion process, and the energy cost required for foaming the foaming agent is increased. May be excessive.

膨張層3には、化学発泡剤と共に、発泡助剤を配合してもよい。発泡助剤としては、化学発泡剤の熱分解を促進するものであれば特に限定されず、例えば加硫促進剤、充填剤、加硫促進助剤、PVC用安定剤、老化防止剤、加硫剤、尿素化合物等が挙げられる。このような発泡助剤は、化学発泡剤の分解を促進し、発泡温度を低下させる。   The expansion layer 3 may contain a foaming aid together with the chemical foaming agent. The foaming aid is not particularly limited as long as it promotes thermal decomposition of the chemical foaming agent. For example, the vulcanization accelerator, filler, vulcanization acceleration aid, PVC stabilizer, anti-aging agent, vulcanization Agents, urea compounds and the like. Such a foaming aid accelerates the decomposition of the chemical foaming agent and lowers the foaming temperature.

加硫促進剤としては、例えばグアジニン系、アルデヒド−アンモニア系、スルフェンアミド系、チウラム系、ザンテート系、アルデヒド−アミン系、チアゾール系、チオ尿素系、ジチオカルバメート系のもの等が挙げられる。充填剤としては、例えばシリカ、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、炭酸アルミニウム、タルク、硫酸バリウム、硫酸アルミニウム、硫酸カルシウム等が挙げられる。加硫促進助剤としては、例えば亜鉛華、活性亜鉛華、炭酸亜鉛、酸化マグネシウム、一酸化鉛、塩基性炭酸鉛、水酸化カルシウム、ステアリン酸、オレイン酸、ラウリン酸、ジエチレングルコール、ジ−n−ブチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジエタノールアミン、有機アミン等が挙げられる。PVC用安定剤としては、例えば三塩基性硫酸鉛、ジブチルすずジラウレート、ジブチルすずジマレート、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カドミウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸カルシウム等が挙げられる。老化防止剤としては、例えばナフチルアミン系、ジフェニルアミン系、P−フェニレン系、キノリン系、モノフェノール系、ポリフェノール系、チオビスフェノール系、亜りん酸エステル系のもの等が挙げられる。加硫剤としては、例えばタイク、硫黄安息香酸アンモニウム等が挙げられる。その他薬品として無水フタル酸、サリチル酸、安息香酸、三酸化アンチモン、白色ワセリン、酸化チタン、酸化カドミウム、ホウ砂、グリセリン、ジブチルチンジマレート等が挙げられる。発泡助剤としては、これらの中でも、亜鉛華、三塩基性硫酸鉛、及び各種加硫促進剤が好ましい。   Examples of the vulcanization accelerator include guanidine, aldehyde-ammonia, sulfenamide, thiuram, xanthate, aldehyde-amine, thiazole, thiourea, and dithiocarbamate. Examples of the filler include silica, magnesium carbonate, calcium carbonate, magnesium silicate, aluminum carbonate, talc, barium sulfate, aluminum sulfate, and calcium sulfate. Examples of vulcanization accelerators include zinc white, activated zinc white, zinc carbonate, magnesium oxide, lead monoxide, basic lead carbonate, calcium hydroxide, stearic acid, oleic acid, lauric acid, diethylene glycol, di- Examples thereof include n-butylamine, dicyclohexylamine, diethanolamine, and organic amine. Examples of the stabilizer for PVC include tribasic lead sulfate, dibutyltin dilaurate, dibutyltin dimaleate, zinc stearate, cadmium stearate, barium stearate, calcium stearate and the like. Examples of the anti-aging agent include naphthylamine, diphenylamine, P-phenylene, quinoline, monophenol, polyphenol, thiobisphenol, and phosphite esters. Examples of the vulcanizing agent include Thaik and ammonium sulfur benzoate. Other chemicals include phthalic anhydride, salicylic acid, benzoic acid, antimony trioxide, white petrolatum, titanium oxide, cadmium oxide, borax, glycerin, dibutyltin dimaleate and the like. Among these, zinc oxide, tribasic lead sulfate, and various vulcanization accelerators are preferable as the foaming aid.

これらの発泡助剤の化学発泡剤100質量部に対する配合量の下限としては、5質量部が好ましく、50質量部がより好ましい。一方、上記発泡助剤の配合量の上限としては、200質量部が好ましく、150質量部がより好ましい。上記発泡助剤の配合量が上記下限に満たない場合、化学発泡剤を分解させる効果が不十分となるおそれがある。逆に、上記発泡助剤の配合量が上記上限を超える場合、当該自己融着性絶縁電線の製造時や保管時等に膨張層3が意図せず膨張してしまうおそれがある。   As a minimum of the compounding quantity with respect to 100 mass parts of chemical foaming agents of these foaming adjuvants, 5 mass parts are preferred and 50 mass parts are more preferred. On the other hand, the upper limit of the blending amount of the foaming aid is preferably 200 parts by weight, and more preferably 150 parts by weight. When the compounding quantity of the said foaming adjuvant is less than the said minimum, there exists a possibility that the effect which decomposes | disassembles a chemical foaming agent may become inadequate. On the contrary, when the blending amount of the foaming aid exceeds the upper limit, the expansion layer 3 may expand unintentionally during the production or storage of the self-bonding insulated wire.

〈物理発泡剤〉
発泡剤6として用いられる物理発泡剤としては、例えば熱膨張性マイクロカプセル、ミクロバルーン等が挙げられる。上記熱膨張性マイクロカプセルは、内部発泡剤からなる芯材(内包物)と、この芯材を包む外殻とを有し、芯材の膨張によって外殻が膨張する。一方、上記ミクロバルーンは、外殻内に加圧したガスを封止しており、加熱により外殻が熱分解してガスを解放する。
<Physical foaming agent>
Examples of the physical foaming agent used as the foaming agent 6 include thermally expandable microcapsules and microballoons. The thermally expandable microcapsule has a core material (inner package) made of an internal foaming agent and an outer shell that encloses the core material, and the outer shell expands due to the expansion of the core material. On the other hand, the microballoon seals pressurized gas in the outer shell, and the outer shell is thermally decomposed by heating to release the gas.

中でも、発泡剤6として用いられる物理発泡剤としては、独立気泡を形成することにより膨張層3の比較的均一な膨張を促進できる熱膨張マイクロカプセルが好ましい。   Especially, as a physical foaming agent used as the foaming agent 6, the thermal expansion microcapsule which can promote the comparatively uniform expansion | swelling of the expansion layer 3 by forming a closed cell is preferable.

熱膨張性マイクロカプセルの内部発泡剤は、加熱により膨張又は気体を発生するものであればよく、その原理は問わない。熱膨張性マイクロカプセルの内部発泡剤としては、例えば低沸点液体、化学発泡剤及びこれらの混合物を使用することができる。   The internal foaming agent of the heat-expandable microcapsule may be anything that expands or generates gas when heated, and its principle is not limited. As the internal foaming agent of the thermally expandable microcapsule, for example, a low boiling point liquid, a chemical foaming agent and a mixture thereof can be used.

上記低沸点液体としては、例えばブタン、i−ブタン、n−ペンタン、i−ペンタン、ネオペンタン等のアルカンや、トリクロロフルオロメタン等のフレオン類などが好適に用いられる。   As the low boiling point liquid, for example, alkanes such as butane, i-butane, n-pentane, i-pentane and neopentane, and freons such as trichlorofluoromethane are preferably used.

上記化学発泡剤としては、加熱によりNガスを発生するアゾビスイソブチロニトリル等の熱分解性を有する物質が好適に用いられる。 As the chemical foaming agent, a thermally decomposable substance such as azobisisobutyronitrile that generates N 2 gas by heating is preferably used.

熱膨張性マイクロカプセルの内部発泡剤の分解温度、つまり低沸点液体の沸点又は化学発泡剤の熱分解温度としては、後述する熱膨張性マイクロカプセルの外殻の軟化温度以上とされる。   The decomposition temperature of the internal foaming agent of the thermally expandable microcapsule, that is, the boiling point of the low boiling liquid or the thermal decomposition temperature of the chemical foaming agent is equal to or higher than the softening temperature of the outer shell of the thermally expandable microcapsule described later.

より詳しくは、熱膨張性マイクロカプセルの内部発泡剤の分解温度の下限としては、60℃が好ましく、70℃がより好ましい。一方、熱膨張性マイクロカプセルの内部発泡剤の分解温度の上限としては、250℃が好ましく、200℃がより好ましい。熱膨張性マイクロカプセルの内部発泡剤の分解温度が上記下限に満たない場合、当該自己融着性絶縁電線製造時、輸送時又は保管時に熱膨張性マイクロカプセルが意図せず膨張してしまうおそれがある。逆に、熱膨張性マイクロカプセルの内部発泡剤の分解温度が上記上限を超える場合、膨張工程でコイル以外のモーター部品に過剰な熱負荷がかかるために悪影響が出たり、熱膨張性マイクロカプセルを膨張させるために必要なエネルギーコストが過大となるおそれがある。   More specifically, the lower limit of the decomposition temperature of the internal foaming agent of the thermally expandable microcapsule is preferably 60 ° C., more preferably 70 ° C. On the other hand, the upper limit of the decomposition temperature of the internal foaming agent of the thermally expandable microcapsule is preferably 250 ° C., more preferably 200 ° C. If the decomposition temperature of the internal foaming agent of the thermally expandable microcapsule is less than the above lower limit, the thermally expandable microcapsule may expand unintentionally during the production of the self-bonding insulated wire, during transportation or storage. is there. Conversely, when the decomposition temperature of the internal foaming agent of the thermally expandable microcapsule exceeds the above upper limit, an excessive heat load is applied to the motor parts other than the coil in the expansion process, and the thermal expandable microcapsule is There is a possibility that the energy cost required for the expansion is excessive.

一方、熱膨張性マイクロカプセルの外殻は、上記内部発泡剤の膨張時に破断することなく膨張し、発生したガスを包含するマイクロバルーンを形成できる延伸性を有する材質から形成される。この熱膨張性マイクロカプセルの外殻を形成する材質としては、通常は、熱可塑性樹脂等の高分子を主成分とする樹脂組成物が用いられる。   On the other hand, the outer shell of the thermally expandable microcapsule is formed of a stretchable material that can expand without breaking when the internal foaming agent expands and can form a microballoon containing the generated gas. As a material for forming the outer shell of the thermally expandable microcapsule, a resin composition mainly composed of a polymer such as a thermoplastic resin is usually used.

熱膨張性マイクロカプセルの外殻の主成分とされる熱可塑性樹脂としては、例えば塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、アクリル酸、メタアクリル酸、アクリレート、メタアクリレート、スチレン等の単量体から形成された重合体、あるいは2種以上の単量体から形成された共重合体が好適に用いられる。好ましい熱可塑性樹脂の一例としては、アクリロニトリル系共重合体が挙げられ、この場合の内部発泡剤の分解温度は、70℃以上250℃以下とされる。   The thermoplastic resin used as the main component of the outer shell of the thermally expandable microcapsule is formed from monomers such as vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylonitrile, acrylic acid, methacrylic acid, acrylate, methacrylate, styrene, etc. Polymers formed from two or more types of monomers are preferably used. An example of a preferred thermoplastic resin is an acrylonitrile copolymer. In this case, the decomposition temperature of the internal foaming agent is 70 ° C. or higher and 250 ° C. or lower.

加熱前の熱膨張性マイクロカプセルの平均径の下限としては、1μmが好ましく、5μmがより好ましい。一方、加熱前の熱膨張性マイクロカプセルの平均径の上限としては、50μmが好ましく、40μmがより好ましい。加熱前の熱膨張性マイクロカプセルの平均径が上記下限に満たない場合、十分な膨張率が得られないおそれがある。逆に、加熱前の熱膨張性マイクロカプセルの平均径が上記上限を超える場合、膨張層3が不必要に厚くなるおそれや、膨張層3の膨張が不均一になるおそれがある。なお、熱膨張性マイクロカプセルの「平均径」とは、熱膨張性マイクロカプセルの10以上のサンプルを顕微鏡観察した際の平面視における最大径とこの最大径に直交する方向の径との平均値をいうものとする。   The lower limit of the average diameter of the thermally expandable microcapsules before heating is preferably 1 μm and more preferably 5 μm. On the other hand, the upper limit of the average diameter of the thermally expandable microcapsules before heating is preferably 50 μm, and more preferably 40 μm. When the average diameter of the thermally expandable microcapsules before heating is less than the above lower limit, a sufficient expansion rate may not be obtained. Conversely, when the average diameter of the thermally expandable microcapsules before heating exceeds the above upper limit, the expansion layer 3 may be unnecessarily thick or the expansion of the expansion layer 3 may be nonuniform. The “average diameter” of the thermally expandable microcapsule is an average value of the maximum diameter in a plan view when 10 or more samples of the thermally expandable microcapsule are observed with a microscope and the diameter in a direction perpendicular to the maximum diameter. It shall be said.

熱膨張性マイクロカプセルの膨張層3における含有率の下限としては、膨張層のマトリックス5の樹脂成分に対して、0.5質量%が好ましく、1質量%がより好ましい。一方、熱膨張性マイクロカプセルの膨張層3における含有率の上限としては、10質量%が好ましく、6質量%がより好ましい。熱膨張性マイクロカプセルの膨張層3における含有率が上記下限に満たない場合、膨張層3の膨張率が小さく、当該自己融着性絶縁電線間の固着が不十分となるおそれがある。逆に、熱膨張性マイクロカプセルの膨張層3における含有率が上記上限を超える場合、相対的にマトリックス5が少なくなることにより、膨張層3の強度及び融着性が不十分となるおそれがある。   As a minimum of the content rate in the expansion layer 3 of a thermally expansible microcapsule, 0.5 mass% is preferable with respect to the resin component of the matrix 5 of an expansion layer, and 1 mass% is more preferable. On the other hand, as an upper limit of the content rate in the expansion layer 3 of a thermally expansible microcapsule, 10 mass% is preferable and 6 mass% is more preferable. When the content rate in the expansion layer 3 of a thermally expansible microcapsule is less than the said minimum, the expansion rate of the expansion layer 3 is small, and there exists a possibility that the adhering between the said self-fusing insulated wires may become inadequate. On the other hand, when the content of the thermally expandable microcapsule in the expanded layer 3 exceeds the upper limit, the matrix 5 is relatively decreased, which may result in insufficient strength and fusibility of the expanded layer 3. .

熱膨張性マイクロカプセルの平均径の膨張層3の平均厚さに対する比の下限としては、1/16が好ましく、1/8がより好ましい。一方、熱膨張性マイクロカプセルの平均径の膨張層3の平均厚さに対する比の上限としては、9/10が好ましく、8/10がより好ましい。熱膨張性マイクロカプセルの平均径が上記下限に満たない場合、外殻の厚さが不足して膨張時に破れるおそれや、内容積が小さくなり発泡剤が不足して十分に膨張できないおそれがある。逆に、熱膨張性マイクロカプセルの平均径が上記上限を超える場合、熱膨張性マイクロカプセルがマトリックス5から突出して、膨張層3を十分に膨張させられないおそれや、膨張層3が部分的に膨張して均一に膨張できないおそれがある。   The lower limit of the ratio of the average diameter of the thermally expandable microcapsule to the average thickness of the expansion layer 3 is preferably 1/16 and more preferably 1/8. On the other hand, the upper limit of the ratio of the average diameter of the thermally expandable microcapsule to the average thickness of the expansion layer 3 is preferably 9/10, and more preferably 8/10. When the average diameter of the thermally expandable microcapsule is less than the above lower limit, there is a possibility that the thickness of the outer shell is insufficient and it may be broken during expansion, or the internal volume becomes small and the foaming agent is insufficient so that it cannot expand sufficiently. On the contrary, when the average diameter of the thermally expandable microcapsule exceeds the above upper limit, the thermally expandable microcapsule may protrude from the matrix 5 and the expandable layer 3 may not be sufficiently expanded. There is a possibility that it cannot expand uniformly.

熱膨張性マイクロカプセルの膨張率の下限としては、3倍が好ましく、5倍がより好ましい。一方、熱膨張性マイクロカプセルの膨張率の上限としては、20倍が好ましく、10倍がより好ましい。熱膨張性マイクロカプセルの膨張率が上記下限に満たない場合、膨張層3の膨張率が不十分となるおそれがある。逆に、熱膨張性マイクロカプセルの膨張率が上記上限を超える場合、膨張層3のマトリックス5が熱膨張性マイクロカプセルに追従することができず、膨張層3を全体的に膨張させられないおそれがある。なお、熱膨張性マイクロカプセルの「膨張率」とは、熱膨張性マイクロカプセルの加熱前の平均径に対する加熱時の平均径の最大値の比をいう。   The lower limit of the expansion coefficient of the thermally expandable microcapsule is preferably 3 times, and more preferably 5 times. On the other hand, the upper limit of the expansion coefficient of the thermally expandable microcapsule is preferably 20 times, and more preferably 10 times. When the expansion coefficient of the thermally expandable microcapsule is less than the lower limit, the expansion coefficient of the expansion layer 3 may be insufficient. On the contrary, when the expansion coefficient of the thermally expandable microcapsule exceeds the above upper limit, the matrix 5 of the expanded layer 3 cannot follow the thermally expandable microcapsule, and the expanded layer 3 may not be expanded as a whole. There is. The “expansion coefficient” of the thermally expandable microcapsule means a ratio of the maximum value of the average diameter during heating to the average diameter before heating of the thermally expandable microcapsule.

<熱融着層>
熱融着層4は、膨張層3の膨張可能温度で流動性及び融着性を示す樹脂組成物で構成される。この熱融着層4を構成する樹脂組成物の主成分としては、上記膨張層3のマトリックス5と同様の樹脂を用いることができる。
<Heat-fusion layer>
The heat-sealing layer 4 is composed of a resin composition that exhibits fluidity and fusibility at the expandable temperature of the expansion layer 3. As the main component of the resin composition constituting the heat fusion layer 4, the same resin as the matrix 5 of the expansion layer 3 can be used.

熱融着層4の平均厚さの下限としては、5μmが好ましく、10μmがより好ましい。一方、熱融着層4の平均厚さの上限としては、200μmが好ましく、150μmがより好ましい。熱融着層4の平均厚さが上記下限に満たない場合、当該自己融着性絶縁電線間の固着が不十分となるおそれがある。逆に、熱融着層4の平均厚さが上記上限を超える場合、当該自己融着性絶縁電線の径が不必要に大きくなり、当該自己融着性絶縁電線を用いて形成されるコイル等の体積効率が低くなるおそれがある。   The lower limit of the average thickness of the heat fusion layer 4 is preferably 5 μm, and more preferably 10 μm. On the other hand, the upper limit of the average thickness of the heat fusion layer 4 is preferably 200 μm, and more preferably 150 μm. When the average thickness of the heat-fusible layer 4 is less than the above lower limit, there is a possibility that the adhesion between the self-bonding insulated wires is insufficient. On the contrary, when the average thickness of the heat-fusible layer 4 exceeds the above upper limit, the diameter of the self-bonding insulated wire becomes unnecessarily large, and a coil formed using the self-bonding insulated wire, etc. There is a risk that the volumetric efficiency of the resin becomes low.

[自己融着性絶縁電線の製造方法]
当該自己融着性絶縁電線は、絶縁層2の主成分が熱硬化性樹脂である場合、金属導体1の外周面側に絶縁層形成用熱硬化性樹脂組成物を塗布する工程と、加熱により塗布した絶縁層形成用熱硬化性樹脂組成物を硬化する工程と、上記絶縁層形成用熱硬化性樹脂組成物の外周面側に、溶媒で希釈したマトリックス5中に発泡剤6を分散した膨張層形成用組成物を塗布する工程と、溶媒を揮発させて膨張層形成用組成物を乾燥する工程と、乾燥した膨張層形成用組成物の外周面側に溶媒で希釈した熱融着層形成用組成物を塗布する工程と、溶媒を揮発させて熱融着層形成用組成物を乾燥する工程とを備える方法により製造できる。
[Method of manufacturing self-bonding insulated wire]
When the main component of the insulating layer 2 is a thermosetting resin, the self-bonding insulated electric wire includes a step of applying a thermosetting resin composition for forming an insulating layer to the outer peripheral surface side of the metal conductor 1, and heating. A step of curing the applied thermosetting resin composition for forming an insulating layer, and an expansion in which a foaming agent 6 is dispersed in a matrix 5 diluted with a solvent on the outer peripheral surface side of the thermosetting resin composition for forming an insulating layer. The step of applying the layer forming composition, the step of volatilizing the solvent and drying the composition for forming the expansion layer, and the formation of the heat-fusible layer diluted with the solvent on the outer peripheral surface side of the dried composition for forming the expansion layer Can be produced by a method comprising: a step of applying the composition for heating, and a step of evaporating the solvent and drying the composition for forming the heat-fusible layer.

<絶縁層形成用熱硬化性樹脂組成物塗布工程>
絶縁層形成用熱硬化性樹脂組成物塗布工程では、金属導体1の外周面側に絶縁層形成用熱硬化性樹脂組成物を塗布する。絶縁層形成用熱硬化性樹脂組成物を金属導体1の外周面側に塗布する方法としては、例えば液状の絶縁層形成用熱硬化性樹脂組成物を貯留した液状組成物槽と塗布ダイスとを備える塗布装置を用いた方法を挙げることができる。この塗布装置によれば、導体が液状組成物槽内を挿通することで液状組成物が導体外周面側に付着し、その後塗布ダイスを通過することで、この液状組成物が略均一な厚さに塗布される。なお、この絶縁層形成用熱硬化性樹脂組成物の塗布に先駆けて金属導体1の外周面にプライマー処理層を公知の方法で形成してもよい。
<Thermosetting resin composition application process for insulating layer formation>
In the insulating layer forming thermosetting resin composition application step, the insulating layer forming thermosetting resin composition is applied to the outer peripheral surface side of the metal conductor 1. As a method of applying the thermosetting resin composition for forming an insulating layer to the outer peripheral surface side of the metal conductor 1, for example, a liquid composition tank storing a liquid thermosetting resin composition for forming an insulating layer and a coating die are used. Examples thereof include a method using a coating apparatus provided. According to this coating apparatus, the liquid composition adheres to the outer peripheral surface of the conductor as the conductor passes through the liquid composition tank, and then passes through the coating die so that the liquid composition has a substantially uniform thickness. To be applied. Prior to the application of the insulating layer forming thermosetting resin composition, a primer treatment layer may be formed on the outer peripheral surface of the metal conductor 1 by a known method.

<絶縁層形成用熱硬化性樹脂組成物硬化工程>
絶縁層形成用熱硬化性樹脂組成物硬化工程では、加熱することによって絶縁層形成用熱硬化性樹脂組成物を硬化させて、絶縁層2を形成する。この加熱に用いる装置としては、特に限定されないが、例えば導体の走行方向に長い筒状の焼付炉を用いることができる。加熱方法は特に限定されないが、例えば熱風加熱、赤外線加熱、高周波加熱等、従来公知の方法により行うことができる。また、加熱温度としては、例えば300℃以上600℃以下とされる。
<Thermosetting resin composition curing process for insulating layer formation>
In the insulating layer forming thermosetting resin composition curing step, the insulating layer forming thermosetting resin composition is cured by heating to form the insulating layer 2. The apparatus used for this heating is not particularly limited, but for example, a cylindrical baking furnace that is long in the running direction of the conductor can be used. The heating method is not particularly limited, but can be performed by a conventionally known method such as hot air heating, infrared heating, high frequency heating, or the like. Moreover, as heating temperature, it is set as 300 to 600 degreeC, for example.

上記絶縁層形成用熱硬化性樹脂組成物塗布工程と絶縁層形成用熱硬化性樹脂組成物硬化工程とは、複数回繰り返して行ってもよい。このようにすることで、絶縁層の厚さを順次増加させていくことができる。このとき、塗布ダイスの孔径と繰り返し回数とは、導体径及び絶縁層の狙い塗布膜厚にあわせて適宜調整される。   The insulating layer forming thermosetting resin composition coating step and the insulating layer forming thermosetting resin composition curing step may be repeated a plurality of times. In this way, the thickness of the insulating layer can be increased sequentially. At this time, the hole diameter and the number of repetitions of the coating die are appropriately adjusted according to the conductor diameter and the target coating film thickness of the insulating layer.

<膨張層形成用組成物塗布工程>
膨張層形成用組成物塗布工程では、マトリックス5を構成する樹脂組成物を溶媒で希釈した溶液に発泡剤6を分散した膨張層形成用組成物を、上記絶縁層2の外周面側に塗布する。塗布方法としては、上記絶縁層形成用熱硬化性樹脂組成物塗布工程と同様とすることができる。
<Expansion layer forming composition application step>
In the expansion layer forming composition application step, the expansion layer forming composition in which the foaming agent 6 is dispersed in a solution obtained by diluting the resin composition constituting the matrix 5 with a solvent is applied to the outer peripheral surface side of the insulating layer 2. . As a coating method, it can be made to be the same as that of the said thermosetting resin composition application | coating process for insulating layer formation.

<膨張層形成用組成物を乾燥工程>
膨張層形成用組成物を乾燥工程では、発泡剤6の分解温度よりも低い温度で溶媒を揮発させることにより、膨張層形成用組成物を乾燥して、膨張層3を形成する。乾燥方法としては、例えば熱風加熱、赤外線加熱、高周波加熱等、従来公知の方法により行うことができる。
<Drying step of the composition for forming the expansion layer>
In the step of drying the expansion layer forming composition, the expansion layer 3 is formed by drying the expansion layer forming composition by volatilizing the solvent at a temperature lower than the decomposition temperature of the foaming agent 6. As a drying method, it can be performed by a conventionally known method such as hot air heating, infrared heating, high-frequency heating, or the like.

<熱融着層形成用組成物塗布工程>
熱融着層形成用組成物塗布工程では、熱融着層4を構成する樹脂組成物を溶媒で希釈した熱融着層形成用組成物を、上記膨張層3の外周面側に塗布する。塗布方法としては、上記絶縁層形成用熱硬化性樹脂組成物塗布工程及び膨張層形成用組成物塗布工程と同様の方法を用いることができる。
<The process of applying a composition for forming a heat-fusible layer>
In the heat sealing layer forming composition application step, the heat sealing layer forming composition obtained by diluting the resin composition constituting the heat sealing layer 4 with a solvent is applied to the outer peripheral surface side of the expansion layer 3. As a coating method, the same method as the thermosetting resin composition application process for insulating layer formation and the composition application process for expansion layer formation can be used.

<熱融着層形成用組成物乾燥工程>
熱融着層形成用組成物乾燥工程では、発泡剤6の分解温度よりも低い温度で溶媒を揮発させることにより、熱融着層形成用組成物を乾燥して、熱融着層4を形成する。乾燥方法としては、例えば熱風加熱、赤外線加熱、高周波加熱等、従来公知の方法により行うことができる。
<The process for drying the composition for forming the heat-fusible layer>
In the heat-sealable layer-forming composition drying step, the heat-sealable layer-forming composition is dried to evaporate the solvent at a temperature lower than the decomposition temperature of the foaming agent 6 to form the heat-sealable layer 4. To do. As a drying method, it can be performed by a conventionally known method such as hot air heating, infrared heating, high-frequency heating, or the like.

[コイル用電線]
本発明の別の実施形態に係るコイル用電線は、上述の自己融着性絶縁電線を捲線加工し、膨張層3を膨張させて形成される。
[Coil wire]
A coil wire according to another embodiment of the present invention is formed by subjecting the above self-bonding insulated wire to a winding process and expanding the expansion layer 3.

膨張層3を膨張させるための加熱方法としては、例えば熱風加熱、赤外線加熱、高周波加熱等、従来公知の方法により行うことができる他、金属導体1への通電により発生する熱を用いる方法が適用できる。   As a heating method for expanding the expansion layer 3, for example, a method using heat generated by energization of the metal conductor 1 can be applied in addition to a conventionally known method such as hot air heating, infrared heating, and high frequency heating. it can.

[利点]
当該自己融着性絶縁電線は、膨張層3の外周面側に積層される熱融着層4を備えるので、膨張層3の膨張に伴って熱融着層4同士又は熱融着層4とコア間を圧着して融着させられる。熱融着層4は、発泡剤を含まないため、十分な強度を有し、容易かつ確実に電線間及び電線−コア間を固着することができる。
[advantage]
Since the self-bonding insulated electric wire includes the heat-sealing layer 4 laminated on the outer peripheral surface side of the expansion layer 3, the heat-bonding layers 4 or the heat-fusion layer 4 It can be fused by crimping between the cores. Since the heat-fusible layer 4 does not contain a foaming agent, it has sufficient strength and can easily and reliably adhere between the wires and between the wires and the core.

また、当該自己融着性絶縁電線は、膨張層3を熱融着層4で覆っているため、膨張層3の発泡剤等の落脱を防止して発塵を抑制できる。   Moreover, since the said self-bonding insulated wire has covered the expansion layer 3 with the heat sealing | fusion layer 4, falling of the foaming agent etc. of the expansion layer 3 can be prevented and dust generation can be suppressed.

従って、当該自己融着性絶縁電線を捲線加工し、膨張層3を膨張させて形成される当該コイル用電線は、熱融着層4間及び熱融着層4−コア間の融着が容易かつ確実で、電線間及び電線−コア間の固着の信頼性が高い。   Therefore, the coil electric wire formed by subjecting the self-bonding insulated wire to a winding process and expanding the expansion layer 3 can be easily fused between the thermal fusion layer 4 and between the thermal fusion layer 4 and the core. And it is reliable and the reliability of the adhesion between the wires and between the wires and the core is high.

[その他の実施形態]
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記実施形態の構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
[Other Embodiments]
The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is not limited to the configuration of the above-described embodiment, but is defined by the scope of the claims, and is intended to include all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of the claims. The

例えば、当該自己融着性絶縁電線において、金属導体と絶縁層との間、絶縁層と膨張層との間、又は膨張層と熱融着層との間にプライマー処理層等のさらなる層が設けられてもよい。   For example, in the self-bonding insulated wire, an additional layer such as a primer treatment layer is provided between the metal conductor and the insulating layer, between the insulating layer and the expansion layer, or between the expansion layer and the heat fusion layer. May be.

(プライマー処理層)
プライマー処理層は、層間の密着性を高めるために設けられる層であり、例えば公知の樹脂組成物により形成することができる。
(Primer treatment layer)
A primer process layer is a layer provided in order to improve the adhesiveness between layers, for example, can be formed with a well-known resin composition.

金属導体と絶縁層との間にプライマー処理層を設ける場合、このプライマー処理層を形成する樹脂組成物は、例えばポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリエステル及びフェノキシ樹脂の中の一種又は複数種の樹脂を含むとよい。また、プライマー処理層を形成する樹脂組成物は、密着向上剤等の添加剤を含んでもよい。このような樹脂組成物によって金属導体と絶縁層との間にプライマー処理層を形成することで、金属導体と絶縁層との間の密着性を向上することが可能であり、その結果、当該自己融着性絶縁電線の可とう性、耐摩耗性、耐傷性、耐加工性等の特性を効果的に高めることができる。   When providing the primer treatment layer between the metal conductor and the insulating layer, the resin composition forming the primer treatment layer is, for example, one or more kinds of resins among polyimide, polyamideimide, polyesterimide, polyester and phenoxy resin. It is good to include. Moreover, the resin composition forming the primer treatment layer may contain an additive such as an adhesion improver. By forming a primer treatment layer between the metal conductor and the insulating layer with such a resin composition, it is possible to improve the adhesion between the metal conductor and the insulating layer. Properties such as flexibility, wear resistance, scratch resistance, and workability of the fusible insulated wire can be effectively enhanced.

また、プライマー処理層を形成する樹脂組成物は、上記樹脂と共に他の樹脂、例えばエポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、メラミン樹脂等を含んでもよい。   Moreover, the resin composition which forms a primer process layer may contain other resin, for example, an epoxy resin, a phenoxy resin, a melamine resin, etc. with the said resin.

また、プライマー処理層を形成する樹脂組成物に含まれる各樹脂として、市販の液状組成物(絶縁ワニス)を使用してもよい。   Moreover, you may use a commercially available liquid composition (insulation varnish) as each resin contained in the resin composition which forms a primer process layer.

プライマー処理層の平均厚さの下限としては、1μmが好ましく、2μmがより好ましい。一方、プライマー処理層の平均厚さの上限としては、20μmが好ましく、10μmがより好ましい。プライマー処理層の平均厚さが上記下限に満たない場合、金属導体との十分な密着性を発揮できないおそれがある。逆に、プライマー処理層の平均厚さが上記上限を超える場合、当該自己融着性絶縁電線が不必要に大径化するおそれがある。   As a minimum of the average thickness of a primer processing layer, 1 micrometer is preferable and 2 micrometers is more preferable. On the other hand, the upper limit of the average thickness of the primer treatment layer is preferably 20 μm, and more preferably 10 μm. When the average thickness of the primer treatment layer is less than the lower limit, there is a possibility that sufficient adhesion with the metal conductor cannot be exhibited. Conversely, when the average thickness of the primer-treated layer exceeds the above upper limit, the self-bonding insulated wire may be unnecessarily enlarged.

また、絶縁層と膨張層との間又は膨張層と熱融着層との間にプライマー処理層を設ける場合も、公知技術に基づいて、各層に対して高い接着性を有する樹脂組成物が選択される。なお、膨張層と熱融着層間との接着性を向上させる方法としては、プライマー処理層を設けることよりも、熱融着層の主成分と膨張層のマトリックスの主成分とを同じ樹脂とすることが好ましい。   In addition, when providing a primer treatment layer between the insulating layer and the expansion layer or between the expansion layer and the heat-sealing layer, a resin composition having high adhesion to each layer is selected based on a known technique. Is done. In addition, as a method for improving the adhesion between the expansion layer and the heat-sealing layer, the main resin of the heat-fusion layer and the main component of the matrix of the expansion layer are made of the same resin rather than providing a primer treatment layer. It is preferable.

また、当該自己融着性絶縁電線の製造方法は、上述の方法に限られない。例えば、絶縁層の主成分を熱可塑性樹脂とする場合には、上記膨張層及び熱融着層の積層方法と同様に溶剤で希釈して乾燥する方法や、溶融した樹脂組成物を塗布ダイスで塗布して冷却硬化させる方法等が適用できる。また、絶縁層、膨張層及び熱融着層を例えば吹付塗装等のさらに他の方法により積層してもよい。   Moreover, the manufacturing method of the self-bonding insulated wire is not limited to the above-described method. For example, in the case where the main component of the insulating layer is a thermoplastic resin, a method of diluting with a solvent and drying in the same manner as the laminating method of the expansion layer and the heat-fusible layer, or a molten resin composition with a coating die. A method of applying and cooling and curing can be applied. Moreover, you may laminate | stack an insulating layer, an expansion layer, and a heat sealing | fusion layer by other methods, such as spray coating, for example.

また、当該自己融着性絶縁電線は、コイルを形成する以外にも、複数の絶縁電線を平行に配置した状態とするような他の用途にも使用することができる。   In addition to forming a coil, the self-bonding insulated wire can also be used for other applications in which a plurality of insulated wires are arranged in parallel.

以下、実施例に基づき本発明を詳述するが、この実施例の記載に基づいて本発明が限定的に解釈されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is explained in full detail based on an Example, this invention is not interpreted limitedly based on description of this Example.

<自己融着性絶縁電線No.1〜18>
直径1.0mmの銅線に、平均厚さ40μmの絶縁層、平均厚さ15μmの膨張層、及び平均厚さ12.5μmの熱融着層をこの順に積層することによって、自己融着性絶縁電線No.1〜18を試作した。絶縁層、膨張層及び熱融着層は、それぞれ表1及び2に記載する組成の樹脂組成物を塗布ダイスを用いて塗布し、炉長3mの横炉を用いて乾燥(焼付)した。なお、膨張層及び熱融着層の乾燥温度は、膨張層の発泡剤を分解温度以下に維持できる温度とした。
<Self-fusing insulated wire No. 1-18>
Self-fusing insulation is obtained by laminating an insulating layer with an average thickness of 40 μm, an expansion layer with an average thickness of 15 μm, and a thermal fusion layer with an average thickness of 12.5 μm in this order on a copper wire with a diameter of 1.0 mm. Electric wire No. 1 to 18 were prototyped. The insulating layer, the expansion layer, and the heat fusion layer were each coated with a resin composition having the composition shown in Tables 1 and 2 using a coating die, and dried (baked) using a horizontal furnace having a furnace length of 3 m. In addition, the drying temperature of the expansion layer and the heat-sealing layer was set to a temperature at which the foaming agent of the expansion layer can be maintained below the decomposition temperature.

Figure 2016035836
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Figure 2016035836
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(絶縁層形成用樹脂組成物)
絶縁層形成用樹脂としては、樹脂A1〜A7のいずれかを使用した。樹脂A1はポリエステルイミドを主成分とするワニス(大日精化工業社製)であり、樹脂A2はポリアミドイミドを主成分とするワニスであり、樹脂A3はポリイミドを主成分とするワニスであり、樹脂A4はポリエーテルケトンを主成分とするワニスであり、樹脂A5はポリフェニレンスルファイドを主成分とするワニスであり、樹脂A6はポリフェニレンサルフォンを主成分とするワニスであり、樹脂A7はポリエーテルイミドを主成分とするワニスである。
(Insulating layer forming resin composition)
Any of the resins A1 to A7 was used as the insulating layer forming resin. Resin A1 is a varnish (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) whose main component is polyesterimide, resin A2 is a varnish whose main component is polyamideimide, resin A3 is a varnish whose main component is polyimide, and resin A4 is a varnish whose main component is polyetherketone, resin A5 is a varnish whose main component is polyphenylene sulfide, resin A6 is a varnish whose main component is polyphenylenesulfone, and resin A7 is a polyetherimide. Is a varnish mainly composed of

(膨張層形成用樹脂組成物)
膨張層形成用樹脂組成物としては、樹脂B1〜B3のいずれかと、発泡剤1〜7のいずれかと、硬化剤とを配合し、東邦化学工業社の溶剤「ハイソルブDM」に固形分25質量%となるよう溶解したものを用いた。樹脂B1は新日鉄住金社のフェノキシ樹脂「YPS−007A30」であり、樹脂B2は電気化学工業社のブチラール樹脂「デンカブチラール#3000」であり、樹脂B3はダイセル・エボニック社の共重合ナイロン「ダイアミドT−251」である。また、発泡剤B1は永和化成工業社の化学発泡剤「ネオセルボンN#1000M」(分解温度:160℃)であり、発泡剤B2は永和化成工業社の化学発泡剤「ビニホールAC#3C−K2」(分解温度:200℃)であり、発泡剤B3は松本油脂製薬社の熱膨張性マイクロカプセル「マツモトマイクロスフェアーFN−100SD」(分解温度:130℃)であり、発泡剤B4は松本油脂製薬社の熱膨張性マイクロカプセル「マツモトマイクロスフェアーFN−180SD」(分解温度:150℃)であり、発泡剤B5は松本油脂製薬社の熱膨張性マイクロカプセル「マツモトマイクロスフェアーFN−260D」(分解温度:195℃)であり、発泡剤B6は日本フィライト社の熱膨張性マイクロカプセル「Expancel920DU40」(分解温度:128℃)であり、発泡剤B7は積水化学社の熱膨張性マイクロカプセル「ADVANCELL EM501」(分解温度:170℃)である。硬化剤は日本ポリウレタン工業社のポリイソシアネート「MILLIONATE MS−50」である。
(Expansion layer forming resin composition)
As the resin composition for forming an intumescent layer, any one of the resins B1 to B3, any one of the foaming agents 1 to 7, and a curing agent are blended, and the solid content is 25% by mass in the solvent “Hisolv DM” of Toho Chemical Industry Co., Ltd. What was melt | dissolved so that it might become was used. Resin B1 is Nippon Steel & Sumitomo Metal's phenoxy resin “YPS-007A30”, Resin B2 is a butyral resin “Denka Butyral # 3000” manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. -251 ". Further, the foaming agent B1 is a chemical foaming agent “Neocerbon N # 1000M” (decomposition temperature: 160 ° C.) manufactured by Eiwa Kasei Kogyo Co., Ltd., and the foaming agent B2 is a chemical foaming agent “Vinihole AC # 3C-K2” manufactured by Eiwa Kasei Kogyo Co., Ltd. (Decomposition temperature: 200 ° C.), foaming agent B3 is Matsumoto Yushi Seiyaku's thermally expandable microcapsule “Matsumoto Microsphere FN-100SD” (decomposition temperature: 130 ° C.), and blowing agent B4 is Matsumoto Yushi Seiyaku. Thermally expandable microcapsule “Matsumoto Microsphere FN-180SD” (decomposition temperature: 150 ° C.), and foaming agent B5 is Matsumoto Yushi Seiyaku's thermally expandable microcapsule “Matsumoto Microsphere FN-260D” ( Decomposition temperature: 195 ° C.), and the foaming agent B6 is a thermally expandable microcapsule “Expancel 920DU” manufactured by Nippon Philite Co., Ltd. 0 "(decomposition temperature: 128 ° C.) a and, blowing agents B7 Sekisui Chemical Co. of the thermally expandable microcapsule" ADVANCELL EM501 "(decomposition temperature: 170 ° C.) is. The curing agent is polyisocyanate “MILLIONATE MS-50” manufactured by Nippon Polyurethane Industry.

(熱融着層形成用樹脂組成物)
熱融着層形成用樹脂組成物としては、樹脂Cと硬化剤とを配合し、東邦化学工業社の溶剤「ハイソルブDM」に固形分25質量%となるよう溶解したものを用いた。樹脂Cは新日鉄住金社のフェノキシ樹脂「YPS−007A30」であり、硬化剤は日本ポリウレタン工業社のポリイソシアネート「MILLIONATE MS−50」である。
(Resin composition for forming a heat-fusible layer)
As the resin composition for forming a heat-fusible layer, a resin C and a curing agent were blended and dissolved in a solvent “Hisolv DM” manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd. so as to have a solid content of 25% by mass. Resin C is a phenoxy resin “YPS-007A30” manufactured by Nippon Steel & Sumikin Co., Ltd., and a curing agent is a polyisocyanate “MILLIONATE MS-50” manufactured by Nippon Polyurethane Industry.

<評価>
以上のようにして得られた自己融着性絶縁電線No.1〜18について、膨張層の膨張前の可とう性及び絶縁性、膨張層の膨張率、並びに膨張層の膨張後の固着力を評価した。この評価結果は、表1及び2に合わせて示す。
<Evaluation>
The self-bonding insulated wire No. obtained as described above was obtained. About 1-18, the flexibility and insulation before expansion | swelling of an expansion layer, the expansion rate of an expansion layer, and the adhering force after expansion | swelling of an expansion layer were evaluated. The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

(可とう性)
自己融着性絶縁電線を10%予備伸張した後、銅線の3倍径(直径3mm)の棒状体に捲き付けて空芯ヘリカルコイルを作製し、30ターン中の皮膜割れ(熱融着層に顕在する割れ)の発生有無を目視により確認し、皮膜割れが発見されなかったものを「A」、皮膜割れが発見されたものを「B」とした。
(Flexibility)
After pre-stretching the self-bonding insulated wire by 10%, it is attached to a rod-shaped body having a diameter three times that of copper wire (diameter 3 mm) to produce an air-core helical coil, and the film cracks in 30 turns (thermal fusion layer) The presence or absence of occurrence of cracks was visually confirmed, and “A” indicates that no crack was found, and “B” indicates that the crack was found.

(絶縁性)
JIS−C3003に従い、2個撚り法にて作製した電線の絶縁破壊電圧を測定した。試験片の長さ12cmの間を規定のより回数に撚り合わせ、線間に交流電圧を加え500V/秒で昇圧し、破壊したときの電圧を求め、規定の電圧以上となったものを「A」、規定の電圧未満であったものを「B」とした。
(Insulation)
According to JIS-C3003, the dielectric breakdown voltage of the electric wire produced by the two-strand method was measured. Twist the length of the test piece 12cm more than the specified number of times, apply an AC voltage between the wires, increase the voltage at 500V / sec, determine the voltage when it breaks, “B” was less than the specified voltage.

(膨張率)
上記可とう性の評価と同様にヘリカルコイルを作成し、180℃で20分間加熱処理したものと加熱処理をしていないものとを切断し、自己融着性絶縁電線断面を光学顕微鏡により観察して膨張層の厚さをそれぞれ複数箇所測定して平均し、次の計算式により膨張率を算出した。
膨張率=(加熱処理した膨張層の平均厚さ)/(未加熱処理の膨張層の平均厚さ)
(Expansion rate)
Similar to the evaluation of flexibility, a helical coil was prepared, cut at 20 ° C. for 20 minutes and cut at 20 ° C., and the self-fusing insulated wire cross section was observed with an optical microscope. Then, the thickness of the expanded layer was measured at a plurality of locations and averaged, and the expansion coefficient was calculated by the following formula.
Expansion rate = (average thickness of heat-treated expansion layer) / (average thickness of unheated expansion layer)

(固着力)
自己融着性絶縁電線を直径6.4mmのステンレス棒に捲き付けて空芯ヘリカルコイルを作製し、この空芯ヘリカルコイルに軸方向に400gfの圧縮力を作用させながら使用した発泡剤の分解温度で20分間加熱処理した後、JIS−K7171(2008)に準拠した3点曲げ試験を行い、空芯コイルの曲げ応力を測定した。
(Fixing force)
A self-bonding insulated wire is attached to a stainless steel rod having a diameter of 6.4 mm to produce an air-core helical coil, and the decomposition temperature of the foaming agent used while applying a compressive force of 400 gf in the axial direction to the air-core helical coil. Then, a three-point bending test based on JIS-K7171 (2008) was performed to measure the bending stress of the air-core coil.

自己融着性絶縁電線No.1〜18は、膨張層の膨張前に十分な絶縁性を有し、かつ膨張層の膨張後に十分な固着力を有していた。中でも自己融着性絶縁電線No.1〜18は、膨張層の膨張前の可とう性も良好であった。   Self-bonding insulated wire No. 1-18 had sufficient insulation before expansion | swelling of an expansion layer, and had sufficient adhering force after expansion | swelling of an expansion layer. Among them, self-bonding insulated wire No. Nos. 1 to 18 had good flexibility before expansion of the expansion layer.

本発明に係る自己融着性絶縁電線は、コイルやモーター等を形成するために好適に利用することができる。   The self-bonding insulated electric wire according to the present invention can be suitably used for forming a coil, a motor or the like.

1 金属導体
2 絶縁層
3 膨張層
4 熱融着層
5 マトリックス
6 発泡剤
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Metal conductor 2 Insulating layer 3 Expansion layer 4 Heat-fusion layer 5 Matrix 6 Foaming agent

Claims (6)

線状の金属導体と、この金属導体の外周面側に積層される絶縁層と、この絶縁層の外周面側に積層され、加熱により膨張する膨張層と、この膨張層の外周面側に積層される熱融着層とを備える自己融着性絶縁電線。   A linear metal conductor, an insulating layer stacked on the outer peripheral surface side of the metal conductor, an expanded layer stacked on the outer peripheral surface side of the insulating layer and expanded by heating, and stacked on the outer peripheral surface side of the expanded layer A self-bonding insulated wire comprising a heat-sealable layer. 上記膨張層が、合成樹脂を主成分とするマトリックスと、このマトリックス中に分散する化学発泡剤又は熱膨張性マイクロカプセルとを有する請求項1に記載の自己融着性絶縁電線。   The self-bonding insulated wire according to claim 1, wherein the expansion layer has a matrix mainly composed of a synthetic resin, and a chemical foaming agent or a thermally expandable microcapsule dispersed in the matrix. 上記膨張層の加熱後の平均厚さ膨張率が1.1倍以上5倍以下である請求項1又は請求項2に記載の自己融着性絶縁電線。   The self-bonding insulated electric wire according to claim 1 or 2, wherein an average thickness expansion coefficient after heating of the expansion layer is 1.1 to 5 times. 上記膨張層の加熱後の空隙率が10%以上80%以下である請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の自己融着性絶縁電線。   The self-bonding insulated wire according to any one of claims 1 to 3, wherein a porosity of the expanded layer after heating is 10% or more and 80% or less. 上記熱融着層の平均厚さが5μm以上200μm以下である請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の自己融着性絶縁電線。   The self-fusible insulated wire according to any one of claims 1 to 4, wherein an average thickness of the heat-sealing layer is 5 µm or more and 200 µm or less. 請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の自己融着性絶縁電線を捲線加工し、膨張層を膨張させて形成されるコイル用電線。   A coil wire formed by subjecting the self-bonding insulated wire according to any one of claims 1 to 5 to a winding process and expanding an expansion layer.
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