JP2016034912A - Method for producing alkyl silane compound (or aryl silane compound) - Google Patents

Method for producing alkyl silane compound (or aryl silane compound) Download PDF

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茂 島田
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一彦 佐藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a new alkyl silane compound by finding a compound effective for alkylation to obtain an alkyl silane compound (or an aryl silane compound).SOLUTION: There can be efficiently produced an alkyl silane compound by alkylation (or arylation) by reacting an alkoxy silane compound represented by the following formulas (A-1), (A-2), (A-3) or (A-4) with an alkyl manganese compound (or an aryl manganese compound) (Among the formulas (A-1), (A-2), (A-3) and (A-4), Reach independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms; Reach independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain at least one selected from the group consisting of an oxygen atom and a silicon atom.)SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、アルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)の製造方法に関し、より詳しくはアルコキシシラン化合物をアルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物)と反応させてアルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)を製造する方法に関する。   The present invention relates to a method for producing an alkylsilane compound (or arylsilane compound), and more specifically, an alkylsilane compound (or arylsilane compound) is produced by reacting an alkoxysilane compound with an alkylmanganese compound (or arylmanganese compound). Regarding the method.

アルキルシラン化合物やアリールシラン化合物(以下、「アルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)」と略す場合がある。)は、シリコーン樹脂の原料や反応剤等の様々な用途に用いることができる非常に有用な化合物であり、アルコキシシランやハロゲン化シランと並び有機ケイ素化学における最も重要な化合物の1つである。
アルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)を製造するための代表的な方法としては、アルコキシシラン化合物に対し、グリニャール試薬やリチウム試薬を用いてアルキル化する反応が知られている(特許文献1、非特許文献1、2参照)。
一方、遷移金属化合物を使ったアリール化反応も報告されており、具体的にはビス(シクロペンタジエニル)−ジメチルジルコニウム等の有機ジルコニウム化合物を用いてアリール化する反応が報告されている。
Alkyl silane compounds and aryl silane compounds (hereinafter sometimes abbreviated as “alkyl silane compounds (or aryl silane compounds)”) can be used for various applications such as raw materials and reactants of silicone resins. It is one of the most important compounds in organosilicon chemistry, along with alkoxysilanes and halogenated silanes.
As a typical method for producing an alkylsilane compound (or arylsilane compound), a reaction of alkylating an alkoxysilane compound with a Grignard reagent or a lithium reagent is known (Patent Document 1, Non-Patent Document 1). (See Patent Documents 1 and 2).
On the other hand, an arylation reaction using a transition metal compound has also been reported, and specifically, an arylation reaction using an organic zirconium compound such as bis (cyclopentadienyl) -dimethylzirconium has been reported.

米国特許第2380057号明細書US Patent No. 2380057 米国特許出願公開第2001/0047102号明細書US Patent Application Publication No. 2001/0047102

E. T. McBee et al., J. Am. Chem. Soc. 1955, 77(5), 1292-1293E. T. McBee et al., J. Am. Chem. Soc. 1955, 77 (5), 1292-1293 Amy S. Manoso et al., 2004, 69, 8305-8314Amy S. Manoso et al., 2004, 69, 8305-8314

特許文献1等で用いられているグリニャール試薬やリチウム試薬は、反応性が非常に高いために、反応の制御が困難という難点がある。そのため、副生成物が生じ易く、また多段階のアルキル化(又はアリール化)が進行する反応においては、各段階の生成物の混合物として得られるなどの問題がある。
本発明は、アルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)を得るためのアルキル化(又はアリール化)に有効な化合物を見出し、新規なアルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)の製造方法を提供することを目的とする。
The Grignard reagent and the lithium reagent used in Patent Document 1 and the like have a problem that it is difficult to control the reaction because of their very high reactivity. For this reason, there is a problem that by-products are easily generated, and in the reaction in which multi-stage alkylation (or arylation) proceeds, the product is obtained as a mixture of products at each stage.
The present invention finds a compound effective for alkylation (or arylation) to obtain an alkylsilane compound (or arylsilane compound), and provides a method for producing a novel alkylsilane compound (or arylsilane compound). Objective.

本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、アルコキシシラン化合物をアルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物)と反応させることにより、アルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)を効率良く製造できることを見出し、本発明を完成させた。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have made an alkylsilane compound (or arylsilane compound) efficient by reacting an alkoxysilane compound with an alkylmanganese compound (or arylmanganese compound). The inventors have found that it can be manufactured well and have completed the present invention.

即ち、本発明は以下の通りである。
<1> 下記式(A−1)、(A−2)、(A−3)、又は(A−4)で表されるアルコ
キシシラン化合物を、アルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物)と反応させて、アルキル化(又はアリール化)する反応工程を含むアルキルシラン化合物(又はア
リールシラン化合物)の製造方法。

Figure 2016034912
(式(A−1)、(A−2)、(A−3)、及び(A−4)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を、Rはそれぞれ独立して酸素原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも1種を含んでいてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を表す。)
<2> 前記アルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物)が、下記式(B−
1)で表される化合物である、<1>に記載のアルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)の製造方法。
LMnR (B−1)
(式(B−1)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を、Lは任意の配位子を表す。)
<3> 前記アルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物)が、下記式(B−
2)で表される化合物である、<1>に記載のアルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)の製造方法。
Figure 2016034912
(式(B−2)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を、Lはそれぞれ独立して任意の配位子を表す。)
<4> 前記アルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物)が、下記式(B−
3)で表される化合物である、<1>に記載のアルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)の製造方法。
(MnR (B−3)
(式(B−3)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を、nは1以上、1000以下の整数を表す。) That is, the present invention is as follows.
<1> An alkoxysilane compound represented by the following formula (A-1), (A-2), (A-3), or (A-4) is reacted with an alkylmanganese compound (or arylmanganese compound). A method for producing an alkylsilane compound (or arylsilane compound) comprising a reaction step of alkylating (or arylating).
Figure 2016034912
(In Formulas (A-1), (A-2), (A-3), and (A-4), R 1 is independently a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and R 2 is each It represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain at least one selected from the group consisting of an oxygen atom and a silicon atom independently.)
<2> The alkyl manganese compound (or aryl manganese compound) is represented by the following formula (B-
The manufacturing method of the alkylsilane compound (or arylsilane compound) as described in <1> which is a compound represented by 1).
LMnR 3 2 (B-1)
(In Formula (B-1), R 3 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and L represents an arbitrary ligand.)
<3> The alkyl manganese compound (or aryl manganese compound) is represented by the following formula (B-
The manufacturing method of the alkylsilane compound (or arylsilane compound) as described in <1> which is a compound represented by 2).
Figure 2016034912
(In Formula (B-2), R 3 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and L independently represents any ligand.)
<4> The alkyl manganese compound (or aryl manganese compound) is represented by the following formula (B-
The manufacturing method of the alkylsilane compound (or arylsilane compound) as described in <1> which is a compound represented by 3).
(MnR 3 2 ) n (B-3)
(In formula (B-3), R 3 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and n represents an integer of 1 or more and 1000 or less.)

本発明によれば、アルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)を効率良く製造することができる。   According to the present invention, an alkylsilane compound (or arylsilane compound) can be efficiently produced.

本発明のアルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)の製造方法の詳細を説明するに当たり、具体例を挙げて説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り以下の内容に限定されるものではなく、適宜変更して実施することができる。   In explaining the details of the production method of the alkylsilane compound (or arylsilane compound) of the present invention, it will be described with a specific example, but is not limited to the following contents without departing from the gist of the present invention, It can be implemented with appropriate changes.

<アルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)の製造方法>
本発明の一態様であるアルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)の製造方法(以下、「本発明の製造方法」と略す場合がある。)は、下記式(A−1)、(A−2)、(A−3)、又は(A−4)で表されるアルコキシシラン化合物を、アルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物)と反応させて、アルキル化(又はアリール化)する反応工程を含むことを特徴とする。

Figure 2016034912
(式(A−1)、(A−2)、(A−3)、及び(A−4)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を、Rはそれぞれ独立して酸素原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも1種を含んでいてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を表す。)
本発明者らは、新規なアルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)の製造方法を求め検討を重ねた結果、アルコキシシラン化合物をアルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物)と反応させることにより、アルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)を効率良く製造できることを見出したのである。アルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物)は、グリニャール試薬やリチウム試薬と比べて穏和な求核剤として働くため、副生成物が生じ難く、また多段階のアルキル化(又はアリール化)が進行する反応において生成物を選択的に得ることも可能である。また、マンガンは、環境負荷が少なく、安価で汎用的な金属であるため、環境やコストの観点でも優れた製造方法となり得るのである。
なお、「アルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)」、「アルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物)」、「アルキル化(又はアリール化)」は、アルキルマンガン化合物と反応させる場合にはアルキル化してアルキルシラン化合物が得られ、アリールマンガン化合物と反応させる場合にはアリール化してアリールシラン化合物が得られることを意味する。
また、「アルキルマンガン化合物」は、マンガン(Mn)原子にアルキル基が結合した構造を有する化合物を、「アリールマンガン化合物」は、マンガン(Mn)原子にアリール基が結合した構造を有する化合物を意味し、その他の構造は特に限定されないものとする。
また、「アルキル化(又はアリール化)する」とは、下記反応式に示される反応のように、アルコキシシラン化合物のケイ素(Si)原子にアルキル基(又はアリール基)を少なくとも1つ導入(求核置換反応)することを意味する。
Figure 2016034912
従って、テトラメトキシシランをメチル化する場合、製造されるアルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)は、下記に示されるようなトリメトキシメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、メトキシトリメチルシラン、テトラメチルシラン、又はこれらの混合物の何れであってもよいことを意味する。
Figure 2016034912
<Method for producing alkylsilane compound (or arylsilane compound)>
The method for producing an alkylsilane compound (or arylsilane compound) which is one embodiment of the present invention (hereinafter sometimes abbreviated as “the production method of the present invention”) is represented by the following formulas (A-1) and (A-2). ), (A-3), or an alkoxysilane compound represented by (A-4) is reacted with an alkylmanganese compound (or arylmanganese compound) to include a reaction step of alkylating (or arylating). It is characterized by.
Figure 2016034912
(In Formulas (A-1), (A-2), (A-3), and (A-4), R 1 is independently a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and R 2 is each It represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain at least one selected from the group consisting of an oxygen atom and a silicon atom independently.)
As a result of repeated investigations for obtaining a novel method for producing an alkylsilane compound (or arylsilane compound), the present inventors have reacted an alkoxysilane compound with an alkylmanganese compound (or arylmanganese compound) to obtain an alkylsilane compound. It has been found that (or an arylsilane compound) can be produced efficiently. Alkylmanganese compounds (or arylmanganese compounds) act as milder nucleophiles than Grignard reagents and lithium reagents, so that by-products are unlikely to form, and multistage alkylation (or arylation) proceeds. It is also possible to selectively obtain the product in Further, manganese is an inexpensive and general-purpose metal that has a low environmental load, and therefore can be an excellent manufacturing method from the viewpoint of environment and cost.
“Alkylsilane compound (or arylsilane compound)”, “alkylmanganese compound (or arylmanganese compound)” and “alkylation (or arylation)” are alkylated and reacted when reacted with an alkylmanganese compound. It means that when a silane compound is obtained and reacted with an arylmanganese compound, the arylsilane compound is obtained by arylation.
In addition, “alkyl manganese compound” means a compound having a structure in which an alkyl group is bonded to a manganese (Mn) atom, and “aryl manganese compound” means a compound having a structure in which an aryl group is bonded to a manganese (Mn) atom. However, other structures are not particularly limited.
In addition, “alkylating (or arylating)” means introducing at least one alkyl group (or aryl group) into a silicon (Si) atom of an alkoxysilane compound as in the reaction shown in the following reaction formula. Nuclear substitution reaction).
Figure 2016034912
Accordingly, when methylating tetramethoxysilane, the alkylsilane compound (or arylsilane compound) produced is trimethoxymethylsilane, dimethoxydimethylsilane, methoxytrimethylsilane, tetramethylsilane, or these as shown below. It means that any of the above mixtures may be used.
Figure 2016034912

(アルコキシシラン化合物)
反応工程は、下記式(A−1)、(A−2)、(A−3)、又は(A−4)で表されるアルコキシシラン化合物を、アルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物)と反応させる工程であるが、原料となるアルコキシシラン化合物の具体的種類は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。

Figure 2016034912
(式(A−1)、(A−2)、(A−3)、及び(A−4)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を、Rはそれぞれ独立して酸素原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも1種を含んでいてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を表す。)
はそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を表しているが、Rの炭素数は、好ましくは13以下、より好ましくは10以下、さらに好ましくは8以下である。
また、Rは直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい(分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも1種を有していてもよい。)。
具体的なRとしては、メチル基(−CH)、エチル基(−C)、n−プロピル基(−CHCHCH)、イソプロピル基(−CH(CH)CH)、n−ブチル基(−CHCHCHCH)、t−ブチル基(−C(CH)、フェニル基(−C)等が挙げられる。
はそれぞれ独立して酸素原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも1種を含んでいてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を表しているが、「酸素原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも1種を含んでいてもよい」とは、ヒドロキシル基(−OH)、トリメチルシリル基(−Si(CH)、トリメチルシロキシ基(−OSi(CH)等の酸素原子及び/又はケイ素原子を含む官能基を含んでいてもよいことを意味するほか、エーテル基(−O−)等の酸素原子及び/又ケイ素原子を含む連結基を炭素骨格の内部又は末端に含んでいてもよいことを意味する。従って、「酸素原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも1種を含んでいてもよい」炭化水素基には、例えば−CH−CH−OHのようにヒドロキシル基を含んでいる炭素数2の炭化水素基、−CH−O−CHのようにエーテル基を炭素骨格の内部に含んでいる炭素数2の炭化水素基、及び−O−CH−CHのようにエーテル基を炭素骨格の末端に含んでいる炭素数2の炭化水素基等が含まれる。
の炭素数は、好ましくは13以下、より好ましくは10以下、さらに好ましくは8以下である。
また、Rは直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい(分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも1種を有していてもよい。)。
具体的なRとしては、メチル基(−CH)、エチル基(−C)、n−プロピル基(−CHCHCH)、イソプロピル基(−CH(CH)CH)、n−ブチル基(−CHCHCHCH)、t−ブチル基(−C(CH)、トリフルオロメチル基(−CF)等が挙げられる。 (Alkoxysilane compound)
In the reaction step, an alkoxysilane compound represented by the following formula (A-1), (A-2), (A-3), or (A-4) is reacted with an alkyl manganese compound (or aryl manganese compound). The specific type of the alkoxysilane compound as a raw material is not particularly limited, and can be appropriately selected depending on the purpose.
Figure 2016034912
(In Formulas (A-1), (A-2), (A-3), and (A-4), R 1 is independently a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and R 2 is each It represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain at least one selected from the group consisting of an oxygen atom and a silicon atom independently.)
Each R 1 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the carbon number of R 1 is preferably 13 or less, more preferably 10 or less, and still more preferably 8 or less.
R 1 is not limited to a linear saturated hydrocarbon group and may have a branched structure, a cyclic structure, or a carbon-carbon unsaturated bond (branched structure, cyclic structure, and carbon-carbon unsaturated group). It may have at least one selected from the group consisting of saturated bonds.)
Specific examples of R 1 include a methyl group (—CH 3 ), an ethyl group (—C 2 H 5 ), an n-propyl group (—CH 2 CH 2 CH 3 ), and an isopropyl group (—CH (CH 3 ) CH. 3 ), n-butyl group (—CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ), t-butyl group (—C (CH 3 ) 3 ), phenyl group (—C 6 H 5 ) and the like.
R 2 represents each independently a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain at least one selected from the group consisting of an oxygen atom and a silicon atom. It may contain at least one selected from the group consisting of hydroxyl group (—OH), trimethylsilyl group (—Si (CH 3 ) 3 ), trimethylsiloxy group (—OSi (CH 3 ) 3 ). It means that a functional group containing an oxygen atom and / or a silicon atom such as an ether group (—O—) and a connecting group containing an oxygen atom and / or a silicon atom such as an ether group (—O—) inside the carbon skeleton. Or it means that it may be contained at the terminal. Accordingly, the hydrocarbon group “which may contain at least one selected from the group consisting of an oxygen atom and a silicon atom” includes a carbon containing a hydroxyl group such as —CH 2 —CH 2 —OH. A hydrocarbon group having 2 carbon atoms, a hydrocarbon group having 2 carbon atoms containing an ether group inside the carbon skeleton such as —CH 2 —O—CH 3 , and an ether such as —O—CH 2 —CH 3. C 2 hydrocarbon groups containing a group at the end of the carbon skeleton are included.
The carbon number of R 2 is preferably 13 or less, more preferably 10 or less, and still more preferably 8 or less.
R 2 is not limited to a linear saturated hydrocarbon group and may have a branched structure, a cyclic structure, or a carbon-carbon unsaturated bond (branched structure, cyclic structure, and carbon-carbon unsaturated group). It may have at least one selected from the group consisting of saturated bonds.)
Specific examples of R 2 include a methyl group (—CH 3 ), an ethyl group (—C 2 H 5 ), an n-propyl group (—CH 2 CH 2 CH 3 ), and an isopropyl group (—CH (CH 3 ) CH. 3 ), n-butyl group (—CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ), t-butyl group (—C (CH 3 ) 3 ), trifluoromethyl group (—CF 3 ) and the like.

アルコキシシラン化合物としては、下記式で表されるものが挙げられる。なお、これらの化合物は、市販されているものがあり、それを適宜用いることができる。

Figure 2016034912
Examples of the alkoxysilane compound include those represented by the following formula. These compounds are commercially available, and can be used as appropriate.
Figure 2016034912

(アルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物))
反応工程は、アルコキシシラン化合物をアルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物)と反応させる工程であるが、アルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物)は、マンガン(Mn)原子にアルキル基(又はアリール基)が結合した構造を有する化合物であれば、具体的種類は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。
アルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物)としては、下記式(B−1)で表される化合物が挙げられる。
LMnR (B−1)
(式(B−1)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を、Lは任意の配位子を表す。)
はそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を表しているが、Rの炭素数は、好ましくは13以下、より好ましくは10以下、さらに好ましくは8以下である。
また、Rは直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい(分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも1種を有していてもよい。)。
具体的なRとしては、メチル基(−CH)、エチル基(−C)、n−プロピル基(−CHCHCH)、イソプロピル基(−CH(CH)CH)、n−ブチル基(−CHCHCHCH)、t−ブチル基(−C(CH)、フェニル基(−C)等が挙げられる。
(Alkyl manganese compound (or aryl manganese compound))
The reaction step is a step of reacting an alkoxysilane compound with an alkyl manganese compound (or aryl manganese compound), but the alkyl manganese compound (or aryl manganese compound) has an alkyl group (or aryl group) on the manganese (Mn) atom. The specific type is not particularly limited as long as it is a compound having a bonded structure, and can be appropriately selected according to the purpose.
Examples of the alkyl manganese compound (or aryl manganese compound) include a compound represented by the following formula (B-1).
LMnR 3 2 (B-1)
(In Formula (B-1), R 3 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and L represents an arbitrary ligand.)
Each R 3 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the carbon number of R 3 is preferably 13 or less, more preferably 10 or less, and still more preferably 8 or less.
R 3 is not limited to a linear saturated hydrocarbon group, and may have a branched structure, a cyclic structure, or a carbon-carbon unsaturated bond (branched structure, cyclic structure, and carbon-carbon unsaturated group). It may have at least one selected from the group consisting of saturated bonds.)
Specific examples of R 3 include a methyl group (—CH 3 ), an ethyl group (—C 2 H 5 ), an n-propyl group (—CH 2 CH 2 CH 3 ), and an isopropyl group (—CH (CH 3 ) CH. 3 ), n-butyl group (—CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ), t-butyl group (—C (CH 3 ) 3 ), phenyl group (—C 6 H 5 ) and the like.

Lは任意の配位子を表しているが、具体的な配位子としては、チオフェン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、フェナントロリン、チアゾール、オキサゾール、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール等の構造を有するヘテロ
環化合物;アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、イミノ基等の窒素含有官能基を有する炭化水素化合物;アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基、カルボニル基、エーテル基等の酸素含有官能基を有する炭化水素化合物;アルキルチオ基、アリールチオ基、チオエーテル基等の硫黄含有官能基を有する炭化水素化合物;及びジアルキルホスフィノ基、ジアリールホスフィノ基、トリアルキルホスフィン、トリアリールホスフィン、ホスフィニン基等のリン含有官能基を有する炭化水素化合物等が挙げられる。なお、配位子が芳香族炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常6以上であり、通常30以下、好ましくは26以下、好ましくは24以下である。配位子がヘテロ環化合物である場合の炭素数は、通常2以上であり、通常30以下、好ましくは16以下、好ましくは8以下である。配位子が窒素含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常1以上、好ましくは3以上であり、通常30以下、好ましくは16以下である。配位子が酸素含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常1以上、好ましくは3以上であり、通常30以下、好ましくは16以下である。配位子が硫黄含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常1以上、好ましくは3以上であり、通常30以下、好ましくは16以下である。配位子がリン含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常1以上、好ましくは3以上であり、通常30以下、好ましくは16以下である。
L represents an arbitrary ligand, and specific ligands include thiophene, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, triazine, phenanthroline, thiazole, oxazole, pyrrole, imidazole, pyrazole, triazole and the like. A hydrocarbon compound having a nitrogen-containing functional group such as an alkylamino group, arylamino group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonylamino group, imino group; alkoxy group, aryl Hydrocarbon compounds having oxygen-containing functional groups such as oxy groups, acyloxy groups, silyloxy groups, carbonyl groups, ether groups; hydrocarbon compounds having sulfur-containing functional groups such as alkylthio groups, arylthio groups, thioether groups; and dialkyl Sufino groups, diarylphosphino groups, trialkylphosphine, triarylphosphine, such as hydrocarbon compounds having phosphorus-containing functional group such as phosphinines group. In addition, carbon number in case a ligand is an aromatic hydrocarbon compound is 6 or more normally, and is 30 or less normally, Preferably it is 26 or less, Preferably it is 24 or less. When the ligand is a heterocyclic compound, the carbon number is usually 2 or more, usually 30 or less, preferably 16 or less, preferably 8 or less. When the ligand is a hydrocarbon compound having a nitrogen-containing functional group, the carbon number is usually 1 or more, preferably 3 or more, and usually 30 or less, preferably 16 or less. When the ligand is a hydrocarbon compound having an oxygen-containing functional group, the carbon number is usually 1 or more, preferably 3 or more, and usually 30 or less, preferably 16 or less. When the ligand is a hydrocarbon compound having a sulfur-containing functional group, the carbon number is usually 1 or more, preferably 3 or more, and usually 30 or less, preferably 16 or less. When the ligand is a hydrocarbon compound having a phosphorus-containing functional group, the carbon number is usually 1 or more, preferably 3 or more, and usually 30 or less, preferably 16 or less.

配位子としては、下記式(L1)で表されるトリアルキルホスフィン配位子(又はトリアリールホスフィン配位子)が好ましい。

Figure 2016034912
(式(L1)中、Rはそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜20の炭化水素基を表す。)
はそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を表しているが、Rの炭素数は、好ましくは18以下、より好ましくは15以下、さらに好ましくは12以下である。
また、Rは直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい(分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも1種を有していてもよい。)。
具体的なRとしては、水素原子、メチル基(−CH)、エチル基(−C)、n−プロピル基(−CHCHCH)、イソプロピル基(−CH(CH)CH)、n−ブチル基(−CHCHCHCH)、t−ブチル基(−C(CH)、シクロへキシル基(−C11)、フェニル基(−C)等が挙げられる。
式(L1)で表されるトリアルキルホスフィン配位子(又はトリアリールホスフィン配位子)としては、トリシクロへキシルホスフィンが挙げられる。
Figure 2016034912
As the ligand, a trialkylphosphine ligand (or triarylphosphine ligand) represented by the following formula (L1) is preferable.
Figure 2016034912
(In formula (L1), R 4 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.)
Each R 4 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the carbon number of R 4 is preferably 18 or less, more preferably 15 or less, and even more preferably 12 or less.
R 4 is not limited to a linear saturated hydrocarbon group, and may have a branched structure, a cyclic structure, or a carbon-carbon unsaturated bond (branched structure, cyclic structure, and carbon-carbon unsaturated group). It may have at least one selected from the group consisting of saturated bonds.)
Specific examples of R 4 include a hydrogen atom, a methyl group (—CH 3 ), an ethyl group (—C 2 H 5 ), an n-propyl group (—CH 2 CH 2 CH 3 ), and an isopropyl group (—CH (CH 3) CH 3), n- butyl (-CH 2 CH 2 CH 2 CH 3), t- butyl group (-C (CH 3) 3) , cyclohexyl group (-C 6 H 11), a phenyl group (-C 6 H 5), and the like.
Examples of the trialkylphosphine ligand (or triarylphosphine ligand) represented by the formula (L1) include tricyclohexylphosphine.
Figure 2016034912

また、配位子としては、下記式(L2−1)、(L2−2)、又は(L2−3)で表されるエーテル配位子、下記式(L3−1)、(L3−2)、又は(L3−3)で表されるスルフィド配位子、又は下記式(L4)で表されるアミン配位子が好ましい。

Figure 2016034912
(式(L2−1)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を表す。)
Figure 2016034912
(式(L2−2)及び(L2−3)中、Rはそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜20の炭化水素基を表す。)
Figure 2016034912
(式(L3−1)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を表す。)
Figure 2016034912
(式(L3−2)及び(L3−3)中、Rはそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜20の炭化水素基を表す。)
Figure 2016034912
(式(L4)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を表す。)
はそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を表しているが、Rの炭素数は、好ましくは18以下、より好ましくは15以下、さらに好ましくは12以下である。
また、Rは直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい(分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも1種を有していてもよい。)。
具体的なRとしては、メチル基(−CH)、エチル基(−C)、n−プロピル基(−CHCHCH)、イソプロピル基(−CH(CH)CH)、n−ブチル基(−CHCHCHCH)、t−ブチル基(−C(CH)、フェニル基(−C)、トリメチルフェニル基等が挙げられる。
はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜20の炭化水素基を表しているが、Rが炭化水素基である場合の炭素数は、好ましくは13以下、より好ましくは10以下、さらに好ましくは8以下である。
また、Rが炭化水素基である場合、直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、
環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい(分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも1種を有していてもよい。)。
具体的なRとしては、水素原子、メチル基(−CH)、エチル基(−C)、n−プロピル基(−CHCHCH)、イソプロピル基(−CH(CH)CH)、n−ブチル基(−CHCHCHCH)、t−ブチル基(−C(CH)、フェニル基(−C)等が挙げられる。 Moreover, as a ligand, the ether ligand represented by following formula (L2-1), (L2-2), or (L2-3), following formula (L3-1), (L3-2) Or a sulfide ligand represented by (L3-3) or an amine ligand represented by the following formula (L4).
Figure 2016034912
(In formula (L2-1), R 5 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.)
Figure 2016034912
(In formulas (L2-2) and (L2-3), R 6 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.)
Figure 2016034912
(In formula (L3-1), R 5 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.)
Figure 2016034912
(In formulas (L3-2) and (L3-3), R 6 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.)
Figure 2016034912
(In formula (L4), R 5 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.)
R 5 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the carbon number of R 5 is preferably 18 or less, more preferably 15 or less, and still more preferably 12 or less.
R 5 is not limited to a linear saturated hydrocarbon group and may have a branched structure, a cyclic structure, or a carbon-carbon unsaturated bond (branched structure, cyclic structure, and carbon-carbon unsaturated group). It may have at least one selected from the group consisting of saturated bonds.)
Specific examples of R 5 include a methyl group (—CH 3 ), an ethyl group (—C 2 H 5 ), an n-propyl group (—CH 2 CH 2 CH 3 ), and an isopropyl group (—CH (CH 3 ) CH. 3 ), n-butyl group (—CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ), t-butyl group (—C (CH 3 ) 3 ), phenyl group (—C 6 H 5 ), trimethylphenyl group and the like. .
R 6 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and when R 6 is a hydrocarbon group, the carbon number is preferably 13 or less, more preferably 10 or less, More preferably, it is 8 or less.
In addition, when R 6 is a hydrocarbon group, it is not limited to a linear saturated hydrocarbon group, but a branched structure,
Each may have a cyclic structure and a carbon-carbon unsaturated bond (may have at least one selected from the group consisting of a branched structure, a cyclic structure, and a carbon-carbon unsaturated bond). ).
Specific examples of R 6 include a hydrogen atom, a methyl group (—CH 3 ), an ethyl group (—C 2 H 5 ), an n-propyl group (—CH 2 CH 2 CH 3 ), and an isopropyl group (—CH (CH 3) CH 3), n- butyl (-CH 2 CH 2 CH 2 CH 3), t- butyl group (-C (CH 3) 3) , and the like phenyl (-C 6 H 5) is.

式(B−1)で表される化合物としては、ジフェニルトリシクロヘキシルホスフィンマンガンが挙げられる。

Figure 2016034912
Examples of the compound represented by the formula (B-1) include diphenyltricyclohexylphosphine manganese.
Figure 2016034912

また、アルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物)としては、下記式(B−2)で表される化合物が挙げられる。

Figure 2016034912
(式(B−2)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を、Lはそれぞれ独立して任意の配位子を表す。)
はそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を表しているが、Rの炭素数は、好ましくは13以下、より好ましくは10以下、さらに好ましくは8以下である。
また、Rは直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい(分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも1種を有していてもよい。)。
具体的なRとしては、メチル基(−CH)、エチル基(−C)、n−プロピル基(−CHCHCH)、イソプロピル基(−CH(CH)CH)、n−ブチル基(−CHCHCHCH)、t−ブチル基(−C(CH)、フェニル基(−C)等が挙げられる。 Moreover, as an alkyl manganese compound (or aryl manganese compound), the compound represented by a following formula (B-2) is mentioned.
Figure 2016034912
(In Formula (B-2), R 3 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and L independently represents any ligand.)
Each R 3 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the carbon number of R 3 is preferably 13 or less, more preferably 10 or less, and still more preferably 8 or less.
R 3 is not limited to a linear saturated hydrocarbon group, and may have a branched structure, a cyclic structure, or a carbon-carbon unsaturated bond (branched structure, cyclic structure, and carbon-carbon unsaturated group). It may have at least one selected from the group consisting of saturated bonds.)
Specific examples of R 3 include a methyl group (—CH 3 ), an ethyl group (—C 2 H 5 ), an n-propyl group (—CH 2 CH 2 CH 3 ), and an isopropyl group (—CH (CH 3 ) CH. 3 ), n-butyl group (—CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ), t-butyl group (—C (CH 3 ) 3 ), phenyl group (—C 6 H 5 ) and the like.

Lはそれぞれ独立して任意の配位子を表しているが、具体的な配位子としては、チオフェン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、フェナントロリン、チアゾール、オキサゾール、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール等の構造を有するヘテロ環化合物;アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、イミノ基等の窒素含有官能基を有する炭化水素化合物;アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基、カルボニル基、エーテル基等の酸素含有官能基を有する炭化水素化合物;アルキルチオ基、アリールチオ基、チオエーテル基等の硫黄含有官能基を有する炭化水素化合物;及びジアルキルホスフィノ基、ジアリールホスフィノ基、トリアルキルホスフィン、トリアリールホスフィン、ホスフィニン基等のリン含有官能基を有する炭化水素化合物等が挙げられる。なお、配位子が芳香族炭化水素化合物である
場合の炭素数は、通常6以上であり、通常30以下、好ましくは26以下、好ましくは24以下である。配位子がヘテロ環化合物である場合の炭素数は、通常2以上であり、通常30以下、好ましくは16以下、好ましくは8以下である。配位子が窒素含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常1以上、好ましくは3以上であり、通常30以下、好ましくは16以下である。配位子が酸素含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常1以上、好ましくは3以上であり、通常30以下、好ましくは16以下である。配位子が硫黄含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常1以上、好ましくは3以上であり、通常30以下、好ましくは16以下である。配位子がリン含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常1以上、好ましくは3以上であり、通常30以下、好ましくは16以下である。
具体的なRとしては、
L each independently represents an arbitrary ligand. Specific ligands include thiophene, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, triazine, phenanthroline, thiazole, oxazole, pyrrole, imidazole, pyrazole, A heterocyclic compound having a structure such as triazole; a hydrocarbon compound having a nitrogen-containing functional group such as an alkylamino group, arylamino group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonylamino group, imino group; Hydrocarbon compounds having oxygen-containing functional groups such as alkoxy groups, aryloxy groups, acyloxy groups, silyloxy groups, carbonyl groups, ether groups; hydrocarbon compounds having sulfur-containing functional groups such as alkylthio groups, arylthio groups, thioether groups And dialkyl phosphino group, a diarylphosphino group, trialkylphosphine, triarylphosphine, such as hydrocarbon compounds having phosphorus-containing functional group such as phosphinines group. In addition, carbon number in case a ligand is an aromatic hydrocarbon compound is 6 or more normally, and is 30 or less normally, Preferably it is 26 or less, Preferably it is 24 or less. When the ligand is a heterocyclic compound, the carbon number is usually 2 or more, usually 30 or less, preferably 16 or less, preferably 8 or less. When the ligand is a hydrocarbon compound having a nitrogen-containing functional group, the carbon number is usually 1 or more, preferably 3 or more, and usually 30 or less, preferably 16 or less. When the ligand is a hydrocarbon compound having an oxygen-containing functional group, the carbon number is usually 1 or more, preferably 3 or more, and usually 30 or less, preferably 16 or less. When the ligand is a hydrocarbon compound having a sulfur-containing functional group, the carbon number is usually 1 or more, preferably 3 or more, and usually 30 or less, preferably 16 or less. When the ligand is a hydrocarbon compound having a phosphorus-containing functional group, the carbon number is usually 1 or more, preferably 3 or more, and usually 30 or less, preferably 16 or less.
As specific R 3 ,

配位子としては、下記式(L1)で表されるトリアルキルホスフィン配位子(又はトリアリールホスフィン配位子)が好ましい。

Figure 2016034912
(式(L1)中、Rはそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜20の炭化水素基を表す。)
はそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を表しているが、Rの炭素数は、好ましくは18以下、より好ましくは15以下、さらに好ましくは12以下である。
また、Rは直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい(分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも1種を有していてもよい。)。
具体的なRとしては、水素原子、メチル基(−CH)、エチル基(−C)、n−プロピル基(−CHCHCH)、イソプロピル基(−CH(CH)CH)、n−ブチル基(−CHCHCHCH)、t−ブチル基(−C(CH)、シクロへキシル基(−C11)、フェニル基(−C)等が挙げられる。
式(L1)で表されるトリアルキルホスフィン配位子(又はトリアリールホスフィン配位子としては、トリシクロへキシルホスフィンが挙げられる。
Figure 2016034912
As the ligand, a trialkylphosphine ligand (or triarylphosphine ligand) represented by the following formula (L1) is preferable.
Figure 2016034912
(In formula (L1), R 4 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.)
Each R 4 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the carbon number of R 4 is preferably 18 or less, more preferably 15 or less, and even more preferably 12 or less.
R 4 is not limited to a linear saturated hydrocarbon group, and may have a branched structure, a cyclic structure, or a carbon-carbon unsaturated bond (branched structure, cyclic structure, and carbon-carbon unsaturated group). It may have at least one selected from the group consisting of saturated bonds.)
Specific examples of R 4 include a hydrogen atom, a methyl group (—CH 3 ), an ethyl group (—C 2 H 5 ), an n-propyl group (—CH 2 CH 2 CH 3 ), and an isopropyl group (—CH (CH 3) CH 3), n- butyl (-CH 2 CH 2 CH 2 CH 3), t- butyl group (-C (CH 3) 3) , cyclohexyl group (-C 6 H 11), a phenyl group (-C 6 H 5), and the like.
Examples of the trialkylphosphine ligand (or triarylphosphine ligand) represented by the formula (L1) include tricyclohexylphosphine.
Figure 2016034912

また、配位子としては、下記式(L2−1)、(L2−2)、又は(L2−3)で表されるエーテル配位子、下記式(L3−1)、(L3−2)、又は(L3−3)で表されるで表されるスルフィド配位子、又は下記式(L4)で表されるアミン配位子が好ましい。

Figure 2016034912
(式(L2−1)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を表す。)
Figure 2016034912
(式(L2−2)及び(L2−3)中、Rはそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜20の炭化水素基を表す。)
Figure 2016034912
(式(L3−1)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を表す。)
Figure 2016034912
(式(L3−2)及び(L3−3)中、Rはそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜20の炭化水素基を表す。)
Figure 2016034912
(式(L4)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を表す。) Moreover, as a ligand, the ether ligand represented by following formula (L2-1), (L2-2), or (L2-3), following formula (L3-1), (L3-2) Or a sulfide ligand represented by (L3-3) or an amine ligand represented by the following formula (L4).
Figure 2016034912
(In formula (L2-1), R 5 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.)
Figure 2016034912
(In formulas (L2-2) and (L2-3), R 6 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.)
Figure 2016034912
(In formula (L3-1), R 5 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.)
Figure 2016034912
(In formulas (L3-2) and (L3-3), R 6 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.)
Figure 2016034912
(In formula (L4), R 5 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.)

また、アルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物)としては、下記式(B−3)で表される化合物が挙げられる。
(MnR (B−3)
(式(B−3)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を、nは1以上、1000以下の整数を表す。)
はそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を表しているが、Rの炭素数は、好ましくは18以下、より好ましくは15以下、さらに好ましくは12以下である。
また、Rは直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい(分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも1種を有していてもよい。)。
具体的なRとしては、メチル基(−CH)、エチル基(−C)、n−プロピル基(−CHCHCH)、イソプロピル基(−CH(CH)CH)、n−ブチル基(−CHCHCHCH)、t−ブチル基(−C(CH)、フェニル基(−C)、トリメチルフェニル基等が挙げられる。
nは、通常1以上、1000以下の整数である。
Moreover, as an alkyl manganese compound (or aryl manganese compound), the compound represented by a following formula (B-3) is mentioned.
(MnR 3 2 ) n (B-3)
(In formula (B-3), R 3 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and n represents an integer of 1 or more and 1000 or less.)
Each R 3 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the carbon number of R 3 is preferably 18 or less, more preferably 15 or less, and even more preferably 12 or less.
R 3 is not limited to a linear saturated hydrocarbon group, and may have a branched structure, a cyclic structure, or a carbon-carbon unsaturated bond (branched structure, cyclic structure, and carbon-carbon unsaturated group). It may have at least one selected from the group consisting of saturated bonds.)
Specific examples of R 3 include a methyl group (—CH 3 ), an ethyl group (—C 2 H 5 ), an n-propyl group (—CH 2 CH 2 CH 3 ), and an isopropyl group (—CH (CH 3 ) CH. 3 ), n-butyl group (—CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ), t-butyl group (—C (CH 3 ) 3 ), phenyl group (—C 6 H 5 ), trimethylphenyl group and the like. .
n is an integer of usually 1 or more and 1000 or less.

反応工程におけるアルコキシシラン化合物とアルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物)の仕込比率は、目的に応じて適宜変更することができるが、アルコキシシ
ラン化合物の仕込量/アルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物)の仕込量として、通常1以上、好ましくは2以上、より好ましくは5以上であり、通常20以下、好ましくは10以下、より好ましくは8以下である。上記範囲内であると、アルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)をより収率良く製造することができる。
The charge ratio of the alkoxysilane compound and the alkylmanganese compound (or arylmanganese compound) in the reaction step can be appropriately changed according to the purpose, but the amount of the alkoxysilane compound charged / alkylmanganese compound (or arylmanganese compound) The charging amount is usually 1 or more, preferably 2 or more, more preferably 5 or more, and usually 20 or less, preferably 10 or less, more preferably 8 or less. Within the above range, the alkylsilane compound (or arylsilane compound) can be produced with higher yield.

反応工程は、溶媒を使用しても、使用しなくてもよいが、使用する場合の具体的な溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF)等のエーテル系溶媒、アセトン、ジメチルアセトアミド(DMA)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N−メチルピロリドン(NMP)、ジメチルスルホキシド(DMSO)等の非プロトン性極性溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。   The reaction step may or may not use a solvent. Specific solvents for use include hydrocarbon solvents such as hexane, benzene, and toluene, diethyl ether, and 1,4-dioxane. Ether solvents such as tetrahydrofuran (THF), aprotic polar solvents such as acetone, dimethylacetamide (DMA), N, N-dimethylformamide (DMF), N-methylpyrrolidone (NMP), dimethylsulfoxide (DMSO), Examples include benzene, toluene, xylene and the like.

反応工程における反応温度、反応時間等の条件は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。
反応温度は、通常25℃以上、好ましくは50℃以上であり、通常200℃以下、好ましくは150℃以下である。上記範囲内であると、アルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)をより収率良く製造することができる。
反応時間は、通常1時間以上、好ましくは3時間以上、より好ましくは5時間以上であり、通常50時間以下、好ましくは20時間以下、より好ましくは10時間以下である。
反応は、通常窒素、アルゴン等の不活性雰囲気下で行う。
Conditions such as reaction temperature and reaction time in the reaction step are not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose.
The reaction temperature is usually 25 ° C. or higher, preferably 50 ° C. or higher, and is usually 200 ° C. or lower, preferably 150 ° C. or lower. Within the above range, the alkylsilane compound (or arylsilane compound) can be produced with higher yield.
The reaction time is usually 1 hour or longer, preferably 3 hours or longer, more preferably 5 hours or longer, and usually 50 hours or shorter, preferably 20 hours or shorter, more preferably 10 hours or shorter.
The reaction is usually carried out under an inert atmosphere such as nitrogen or argon.

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention can be modified as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Accordingly, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the specific examples shown below.

<実施例1>
窒素充填ドライボックスにおいて、ガラスシュレンク管に下記式で表されるアリールマンガン化合物(30.0mg,0.062mmol)と内標のエイコサン(10.1mg,0.036mmol)を充填し、トルエンを加えて2.5mLとした。別のバイアルに用意したSi(OEt)(12.8mg,0.061mmol)をベンゼン1.5mLを使ってこれに加えた。反応は、100℃で撹拌しながら27時間行った。
Shimadzu GC−2010 ガスクロマトグラフにより、SiPh(OEt)が73%、SiPh(OEt)が11%生成していることを確認した。

Figure 2016034912
<Example 1>
In a nitrogen-filled dry box, a glass Schlenk tube is filled with an arylmanganese compound (30.0 mg, 0.062 mmol) represented by the following formula and eicosane (10.1 mg, 0.036 mmol) as an internal standard, and toluene is added. 2.5 mL. Si (OEt) 4 (12.8 mg, 0.061 mmol) prepared in a separate vial was added to this using 1.5 mL of benzene. The reaction was carried out at 100 ° C. with stirring for 27 hours.
By Shimadzu GC-2010 gas chromatograph, it was confirmed that SiPh (OEt) 3 was produced by 73% and SiPh 2 (OEt) 2 was produced by 11%.
Figure 2016034912

<実施例2>
窒素充填ドライボックスにおいて、ガラスバイアルに下記式で表されるアリールマンガン化合物(30.0mg,0.039mmol)と内標のエイコサン(10.0mg,0.035mmol)を充填し、トルエンを加えて1mLとした。別のバイアルに用意したSi(OEt)(16.0mg,0.077mmol)をトルエン1mLを使ってこれに加えた。反応は、100℃で撹拌しながら24時間行った。
Shimadzu GC−2010 ガスクロマトグラフにより、SiPh(OEt)が80%、SiPh(OEt)が11%生成していることを確認した。

Figure 2016034912
なお、使用した(MnPhのnの値は未確定であるが、Reinald Fischer et al., Journal of Organometallic Chemistry 694 (2009) 1107-1111.に記載されている方法
により準備したものである。 <Example 2>
In a nitrogen-filled dry box, a glass vial is filled with an arylmanganese compound (30.0 mg, 0.039 mmol) represented by the following formula and an internal standard eicosane (10.0 mg, 0.035 mmol), and toluene is added to add 1 mL. It was. Si (OEt) 4 (16.0 mg, 0.077 mmol) prepared in a separate vial was added to this using 1 mL of toluene. The reaction was carried out at 100 ° C. with stirring for 24 hours.
By Shimadzu GC-2010 gas chromatograph, it was confirmed that SiPh (OEt) 3 was produced at 80% and SiPh 2 (OEt) 2 was produced at 11%.
Figure 2016034912
In addition, although the value of n of (MnPh 2 ) n used is uncertain, it was prepared by the method described in Reinald Fischer et al., Journal of Organometallic Chemistry 694 (2009) 1107-1111. .

<実施例3>
テトラエトキシシランの量を8倍量に、反応時間を40時間に変更した以外は、実施例2と同様の方法により反応を行った。SiPh(OEt)が87%、SiPh(OEt)が1.1%生成していることを確認した。

Figure 2016034912
<Example 3>
The reaction was performed in the same manner as in Example 2 except that the amount of tetraethoxysilane was changed to 8 times and the reaction time was changed to 40 hours. It was confirmed that SiPh (OEt) 3 was 87% and SiPh 2 (OEt) 2 was 1.1%.
Figure 2016034912

<実施例4>
アリールマンガン化合物を下記式で表されるアリールマンガン化合物に、反応時間を20時間に変更した以外は、実施例2と同様の方法により反応を行った。SiXyl(OEt)が27%生成していることを確認した。

Figure 2016034912
なお、使用した(MnXylのnの値は未確定であるが、Reinald Fischer et al., Journal of Organometallic Chemistry 694 (2009) 1107-1111.に記載されている方
法と同様の方法により準備したものである。 <Example 4>
The reaction was conducted in the same manner as in Example 2 except that the arylmanganese compound was changed to an arylmanganese compound represented by the following formula and the reaction time was changed to 20 hours. It was confirmed that 27% of SiXyl (OEt) 3 was produced.
Figure 2016034912
Note that the value of n of (MnXyl 2 ) n used is uncertain, but prepared by a method similar to the method described in Reinald Fischer et al., Journal of Organometallic Chemistry 694 (2009) 1107-1111. It is a thing.

<実施例5>
Si(OEt)をSi(OMe)に、反応温度を100℃から80℃に、反応時間を2時間に変更した以外は、実施例2と同様の方法により反応を行った。SiPh(OMe)が12%、SiPh(OMe)が77%生成していることを確認した。

Figure 2016034912
<Example 5>
The reaction was performed in the same manner as in Example 2 except that Si (OEt) 4 was changed to Si (OMe) 4 , the reaction temperature was changed from 100 ° C. to 80 ° C., and the reaction time was changed to 2 hours. It was confirmed that SiPh (OMe) 3 was produced at 12% and SiPh 2 (OMe) 2 was produced at 77%.
Figure 2016034912

本発明の製造方法によって得られたアルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)は、様々な材料の原料として使用することができる。   The alkylsilane compound (or arylsilane compound) obtained by the production method of the present invention can be used as a raw material for various materials.

Claims (4)

下記式(A−1)、(A−2)、(A−3)、又は(A−4)で表されるアルコキシシラン化合物を、アルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物)と反応させて、アルキル化(又はアリール化)する反応工程を含むアルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)の製造方法。
Figure 2016034912
(式(A−1)、(A−2)、(A−3)、及び(A−4)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を、Rはそれぞれ独立して酸素原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも1種を含んでいてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を表す。)
An alkoxysilane compound represented by the following formula (A-1), (A-2), (A-3), or (A-4) is reacted with an alkylmanganese compound (or arylmanganese compound) to produce an alkyl The manufacturing method of the alkylsilane compound (or arylsilane compound) including the reaction process of forming (or arylating).
Figure 2016034912
(In Formulas (A-1), (A-2), (A-3), and (A-4), R 1 is independently a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and R 2 is each It represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain at least one selected from the group consisting of an oxygen atom and a silicon atom independently.)
前記アルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物)が、下記式(B−1)で表される化合物である、請求項1に記載のアルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)の製造方法。
LMnR (B−1)
(式(B−1)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を表す。Lは任意の配位子を表す。)
The method for producing an alkylsilane compound (or arylsilane compound) according to claim 1, wherein the alkylmanganese compound (or arylmanganese compound) is a compound represented by the following formula (B-1).
LMnR 3 2 (B-1)
(In Formula (B-1), R 3 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. L represents an arbitrary ligand.)
前記アルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物)が、下記式(B−2)で表される化合物である、請求項1に記載のアルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)の製造方法。
Figure 2016034912
(式(B−2)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を、Lはそれぞれ独立して任意の配位子を表す。)
The method for producing an alkylsilane compound (or arylsilane compound) according to claim 1, wherein the alkylmanganese compound (or arylmanganese compound) is a compound represented by the following formula (B-2).
Figure 2016034912
(In Formula (B-2), R 3 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and L independently represents any ligand.)
前記アルキルマンガン化合物(又はアリールマンガン化合物)が、下記式(B−3)で表される化合物である、請求項1に記載のアルキルシラン化合物(又はアリールシラン化合物)の製造方法。
(MnR (B−3)
(式(B−3)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基を、nは1以上、1000以下の整数を表す。)
The method for producing an alkylsilane compound (or arylsilane compound) according to claim 1, wherein the alkylmanganese compound (or arylmanganese compound) is a compound represented by the following formula (B-3).
(MnR 3 2 ) n (B-3)
(In formula (B-3), R 3 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and n represents an integer of 1 or more and 1000 or less.)
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3782599A1 (en) 2019-08-19 2021-02-24 VOCO GmbH Dental polymerizable composition based on condensed silanes

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2380057A (en) * 1941-10-23 1945-07-10 Corning Glass Works Dialkylated silicon esters and method of making them
WO2001042250A2 (en) * 1999-12-08 2001-06-14 Nusil Silicone Technology Process for production of diphenyl-dialkoxysilane, phenylalkyl-dialkoxysilane, octaphenylcyclotetrasiloxane and sym-tetraalkyltetraphenyl-cyclotetrasiloxane
US20010047102A1 (en) * 2000-04-05 2001-11-29 General Electric Company Method for making organooxysilanes
JP2005089319A (en) * 2003-09-12 2005-04-07 Univ Of Tsukuba Mixed reactant and method for alkylating acetal compounds therewith
CN103113400A (en) * 2013-03-12 2013-05-22 天津楷美肽生物科技有限公司 Method for synthesizing phenyl methyl dialkoxyl silane with high selectivity

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2380057A (en) * 1941-10-23 1945-07-10 Corning Glass Works Dialkylated silicon esters and method of making them
WO2001042250A2 (en) * 1999-12-08 2001-06-14 Nusil Silicone Technology Process for production of diphenyl-dialkoxysilane, phenylalkyl-dialkoxysilane, octaphenylcyclotetrasiloxane and sym-tetraalkyltetraphenyl-cyclotetrasiloxane
US20010047102A1 (en) * 2000-04-05 2001-11-29 General Electric Company Method for making organooxysilanes
JP2005089319A (en) * 2003-09-12 2005-04-07 Univ Of Tsukuba Mixed reactant and method for alkylating acetal compounds therewith
CN103113400A (en) * 2013-03-12 2013-05-22 天津楷美肽生物科技有限公司 Method for synthesizing phenyl methyl dialkoxyl silane with high selectivity

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JOURNAL OF ORGANIC CHEMISTRY, vol. Vol. 69, JPN6017048542, 2004, pages pp. 8305-8314 *
JOURNAL OF ORGANOMETALLIC CHEMISTRY, vol. Vol. 694, JPN6017048546, 2009, pages pp. 1107-1111 *
JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, JPN6017048544, 1955, pages pp. 1292-1293 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3782599A1 (en) 2019-08-19 2021-02-24 VOCO GmbH Dental polymerizable composition based on condensed silanes
US11992538B2 (en) 2019-08-19 2024-05-28 Voco Gmbh Polymerizable dental composition based on condensed silanes

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