JP2016030860A - Magnesium member comprising film with excellent conductivity and corrosion resistance, and method for producing the same - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a magnesium member comprising a film with excellent conductivity and corrosion resistance, by a simple method.SOLUTION: A method for producing a magnesium member has a preparation step of preparing a magnesium material predominantly composed of magnesium, and a film formation step of forming a film by bringing a cyclic compound having a π electron and water into contact with at least part of the surface of the magnesium material, in an atmosphere of heating and pressurization.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、導電性及び耐食性に優れた皮膜を備えるマグネシウム系部材及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a magnesium-based member having a film excellent in conductivity and corrosion resistance and a method for producing the same.

マグネシウム又はマグネシウム合金は、軽量である点、樹脂材料に比べて高剛性である点、リサイクル可能である点、等の利点を有することから、近年、携帯電話(スマートフォンを含む)、携帯情報端末、カメラ、パソコン等の電子機器類の筐体などに利用されている。   Magnesium or magnesium alloy has advantages such as light weight, high rigidity compared to resin materials, recyclable points, etc., and in recent years, mobile phones (including smartphones), portable information terminals, It is used in the case of electronic devices such as cameras and personal computers.

しかし、卑金属のマグネシウムは非常に活性が高い金属であるため、マグネシウム又はマグネシウム合金(以下、これらをまとめて「マグネシウム系素材」ということがある)は、表面が酸化等されて腐食し易いという欠点がある。
そこで、マグネシウム系素材の耐食性を向上させるための表面処理方法が検討されてきた。
例えば、耐食性の高い皮膜を安価に形成することができるマグネシウム基材の表面処理方法として、マグネシウムまたはマグネシウム合金からなるマグネシウム基材を、加湿雰囲気中で加熱処理して、表面に酸化マグネシウムの皮膜を形成するマグネシウム基材の表面処理方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。
また、環境問題を引き起こさず、経済的にマグネシウムまたはその合金製品を表面処理できる方法として、マグネシウムまたはマグネシウム合金製品を、リン酸水素二アンモニウムを含む処理液により処理する表面処理方法が知られている(例えば、特許文献2参照)。
また、有害なクロム酸塩を使用せず、高い耐食性を有するマグネシウム材またはマグネシウム合金の表面処理方法として、マグネシウム材またはマグネシウム合金の表面に、中性溶液またはアルカリ性溶液を処理液として、化学的方法または電気化学的方法のいずれかの方法により酸化皮膜を形成させた後、高圧蒸気雰囲気中で処理するマグネシウム材またはマグネシウム合金の表面処理方法が知られている(例えば、特許文献3参照)。
また、低コストで人体への影響の懸念のない鋳造物の表面処理方法として、マグネシウム、マグネシウム合金等を鋳造してなる鋳造物をリン酸塩等の水溶液中で加熱・加圧処理することにより上記鋳造物の表面処理をする鋳造物の表面処理方法が知られている(例えば、特許文献4参照)。
また、薬剤を使用せず、かつ生産効率の高いマグネシウム材またはマグネシウム合金の表面処理方法として、マグネシウム材またはマグネシウム合金の表面を湿式ブラスト処理するブラスト処理工程と、このブラスト処理工程後に上記マグネシウム材またはマグネシウム合金を相対湿度80%以上で加熱処理する水蒸気処理工程とを有するマグネシウム材またはマグネシウム合金の表面処理方法が知られている(例えば、特許文献5参照)。
また、耐食性、耐衝撃性に優れたマグネシウム合金材を製造するためのマグネシウム合金材の表面処理方法として、マグネシウム合金の表面にブラスト処理、塗装処理、化成処理、酸洗処理、防錆処理、除錆処理、酸化膜除去処理および脱脂処理から選ばれる少なくとも一種の前処理をすることなく、マグネシウム合金を水により蒸気養生することにより、水酸化マグネシウム皮膜を形成するマグネシウム合金の表面処理方法が知られている(例えば、特許文献6参照)。
また、電気伝導性と優れた耐食性とを兼ね備えた陽極酸化皮膜をその表面に有するマグネシウム又はマグネシウム合金製品を製造する方法として、リン酸根(遊離のリン酸、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩として電解液中に含まれるもの)を0.1〜1mol/L含有し、pHが8〜14である電解液にマグネシウム又はマグネシウム合金を浸漬し、その表面を陽極酸化処理するマグネシウム又はマグネシウム合金製品の製造方法が知られている(例えば、特許文献7参照)。
However, since the base metal magnesium is a highly active metal, magnesium or a magnesium alloy (hereinafter, these may be collectively referred to as “magnesium-based materials”) is susceptible to corrosion due to oxidation of the surface. There is.
Therefore, surface treatment methods for improving the corrosion resistance of magnesium-based materials have been studied.
For example, as a surface treatment method for a magnesium substrate that can form a highly corrosion-resistant film at a low cost, a magnesium substrate made of magnesium or a magnesium alloy is heat-treated in a humidified atmosphere to form a magnesium oxide film on the surface. A surface treatment method of a magnesium base to be formed is known (for example, see Patent Document 1).
Further, as a method for economically treating magnesium or its alloy product without causing environmental problems, a surface treatment method for treating magnesium or a magnesium alloy product with a treatment liquid containing diammonium hydrogen phosphate is known. (For example, refer to Patent Document 2).
Further, as a surface treatment method of magnesium material or magnesium alloy having high corrosion resistance without using harmful chromate, a chemical method using a neutral solution or an alkaline solution as a treatment solution on the surface of the magnesium material or magnesium alloy Alternatively, a surface treatment method of a magnesium material or a magnesium alloy that is processed in a high-pressure steam atmosphere after forming an oxide film by any one of electrochemical methods is known (see, for example, Patent Document 3).
In addition, as a surface treatment method for castings that is low-cost and has no concern about human influence, the castings made by casting magnesium, magnesium alloys, etc. are heated and pressurized in an aqueous solution such as phosphate. A casting surface treatment method for performing the surface treatment of the casting is known (see, for example, Patent Document 4).
In addition, as a surface treatment method of magnesium material or magnesium alloy that does not use chemicals and has high production efficiency, a blast treatment step of performing wet blast treatment on the surface of the magnesium material or magnesium alloy, and the magnesium material or A surface treatment method of a magnesium material or a magnesium alloy having a water vapor treatment step of heat treating a magnesium alloy at a relative humidity of 80% or more is known (for example, see Patent Document 5).
In addition, as a surface treatment method of magnesium alloy material for producing a magnesium alloy material with excellent corrosion resistance and impact resistance, the surface of the magnesium alloy is subjected to blasting, coating treatment, chemical conversion treatment, pickling treatment, rust prevention treatment, removal A surface treatment method for a magnesium alloy that forms a magnesium hydroxide film by steam curing the magnesium alloy with water without performing at least one pretreatment selected from rust treatment, oxide film removal treatment, and degreasing treatment is known. (For example, refer to Patent Document 6).
In addition, as a method for producing a magnesium or magnesium alloy product having an anodic oxide film having both electrical conductivity and excellent corrosion resistance on its surface, phosphate radicals (free phosphoric acid, phosphate, hydrogen phosphate, phosphorus Magnesium containing 0.1 to 1 mol / L of acid dihydrogen salt) and immersing magnesium or a magnesium alloy in an electrolyte having a pH of 8 to 14 and anodizing the surface Or the manufacturing method of a magnesium alloy product is known (for example, refer patent document 7).

特開2006−28539号公報JP 2006-28539 A 特開平11−29874号公報JP-A-11-29874 特開2000−64057号公報JP 2000-64057 A 特開2002−322567号公報JP 2002-322567 A 特開2005−54238号公報JP 2005-54238 A 特開2010−7147号公報JP 2010-7147 A 特開2008−214761号公報JP 2008-214761 A

上述した通り、マグネシウム系素材の耐食性を向上させるために、マグネシウム系素材の表面に耐食性の皮膜を形成する技術が知られている(例えば、上記特許文献1〜6)。
しかし、マグネシウム系素材の表面に耐食性の皮膜が形成された構造のマグネシウム系部材では、耐食性の皮膜によってマグネシウム系部材全体の導電性が損なわれる場合がある。例えば、導電性が損なわれた上記マグネシウム系部材を電子機器類の筐体として使用した場合には、電子機器類の筐体に帯電が生じ、この帯電が電子回路に悪影響を及ぼすことがある。
また、皮膜の耐食性自体についても、より優れた耐食性が求められることがある。
As described above, in order to improve the corrosion resistance of the magnesium-based material, a technique for forming a corrosion-resistant film on the surface of the magnesium-based material is known (for example, Patent Documents 1 to 6 above).
However, in a magnesium-based member having a structure in which a corrosion-resistant film is formed on the surface of the magnesium-based material, the conductivity of the entire magnesium-based member may be impaired by the corrosion-resistant film. For example, when the magnesium-based member whose conductivity is impaired is used as a casing of an electronic device, charging occurs in the casing of the electronic device, and this charging may adversely affect the electronic circuit.
Further, the corrosion resistance of the coating itself may be required to be more excellent.

上述した導電性(電気伝導性)に鑑み、上記特許文献7では、電気伝導性と優れた耐食性とを兼ね備えた陽極酸化皮膜をその表面に有するマグネシウム系部材(マグネシウム又はマグネシウム合金製品)及びその製造方法が提案されている。
しかし、上記特許文献7に記載の製造方法は、煩雑である傾向がある。例えば、この特許文献7に記載の製造方法では、陽極酸化のための複雑な装置が必要であり、しかも、厚い皮膜を形成するためには装置を大型化する必要がある。
In view of the above-described conductivity (electric conductivity), in Patent Document 7, a magnesium-based member (magnesium or magnesium alloy product) having an anodized film on its surface that has both electrical conductivity and excellent corrosion resistance, and its manufacture. A method has been proposed.
However, the manufacturing method described in Patent Document 7 tends to be complicated. For example, the manufacturing method described in Patent Document 7 requires a complicated apparatus for anodization, and the apparatus needs to be enlarged to form a thick film.

本発明は上記に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明の目的は、導電性及び耐食性に優れた皮膜を備えるマグネシウム系部材を、簡易な方法によって製造することができるマグネシウム系部材の製造方法を提供することである。
また、本発明の目的は、導電性及び耐食性に優れた皮膜を備えるマグネシウム系部材を提供することである。
This invention is made | formed in view of the above, and makes it a subject to achieve the following objectives.
That is, the objective of this invention is providing the manufacturing method of the magnesium-type member which can manufacture the magnesium-type member provided with the film | membrane excellent in electroconductivity and corrosion resistance with a simple method.
Moreover, the objective of this invention is providing the magnesium-type member provided with the film | membrane excellent in electroconductivity and corrosion resistance.

上記課題を解決するための具体的手段は以下のとおりである。
<1> マグネシウムを主成分とするマグネシウム系素材を準備する準備工程と、加熱加圧雰囲気下、前記マグネシウム系素材の表面の少なくとも一部に対し、π電子を有する環状化合物と、水と、を接触させることにより皮膜を形成する皮膜形成工程と、を有するマグネシウム系部材の製造方法。
<2> 前記接触は、前記マグネシウム系素材の表面の少なくとも一部に対し、前記環状化合物及び水を含有する水溶液から生じた蒸気を接触させること、及び、前記マグネシウム系素材の少なくとも一部を、前記環状化合物及び水を含有する水溶液に浸漬すること
の少なくとも一方によって行う<1>に記載のマグネシウム系部材の製造方法。
<3> 前記加熱加圧雰囲気の圧力が、0.2MPa〜1.2MPaである<1>又は<2>に記載のマグネシウム系部材の製造方法。
<4> 前記加熱加圧雰囲気の温度が、120℃〜200℃である<1>〜<3>のいずれか1項に記載のマグネシウム系部材の製造方法。
<5> 前記環状化合物が、一分子中に、π電子を有する5員環構造及びπ電子を有する6員環構造の少なくとも一方と、水酸基と、を含む<1>〜<4>のいずれか1項に記載のマグネシウム系部材の製造方法。
<6> 前記環状化合物が、一分子中に、不飽和ラクトン構造と水酸基とを含む<1>〜<5>のいずれか1項に記載のマグネシウム系部材の製造方法。
<7> 前記環状化合物の分子量が、1000以下である<1>〜<6>のいずれか1項に記載のマグネシウム系部材の製造方法。
<8> 前記環状化合物が、アスコルビン酸及びその塩の少なくとも一方である<1>〜<7>のいずれか1項に記載のマグネシウム系部材の製造方法。
<9> 前記皮膜の厚さが、0.5μm〜100μmである<1>〜<8>のいずれか1項に記載のマグネシウム系部材の製造方法。
<10> 前記皮膜形成工程は、前記マグネシウム系素材の表面に対し、ブラスト処理、塗装処理、化成処理、酸洗処理、防錆処理、除錆処理、酸化膜除去処理、及び脱脂処理からなる群から選択される少なくとも一種の前処理を行うことなく、前記皮膜を形成する<1>〜<9>のいずれか1項に記載のマグネシウム系部材の製造方法。
<11> マグネシウムを主成分とするマグネシウム系素材と、前記マグネシウム系素材の表面の少なくとも一部を被覆する皮膜であって、水酸化マグネシウムとπ電子を有する炭素原子とを含む複合材料からなり、炭素原子含有量が10原子%〜60原子%である皮膜と、を備えたマグネシウム系部材。
Specific means for solving the above-described problems are as follows.
<1> A preparation step of preparing a magnesium-based material containing magnesium as a main component, a cyclic compound having π electrons, and water for at least a part of the surface of the magnesium-based material in a heating and pressurizing atmosphere. And a film forming step of forming a film by bringing it into contact with each other.
<2> The contact includes bringing at least part of the surface of the magnesium-based material into contact with vapor generated from the aqueous solution containing the cyclic compound and water, and at least part of the magnesium-based material. The method for producing a magnesium-based member according to <1>, which is performed by at least one of immersion in an aqueous solution containing the cyclic compound and water.
<3> The method for producing a magnesium-based member according to <1> or <2>, wherein the pressure in the heating and pressurizing atmosphere is 0.2 MPa to 1.2 MPa.
<4> The method for producing a magnesium-based member according to any one of <1> to <3>, wherein the temperature of the heating and pressurizing atmosphere is 120 ° C to 200 ° C.
<5> Any one of <1> to <4>, wherein the cyclic compound includes at least one of a 5-membered ring structure having π electrons and a 6-membered ring structure having π electrons and a hydroxyl group in one molecule. 2. A method for producing a magnesium-based member according to item 1.
<6> The method for producing a magnesium-based member according to any one of <1> to <5>, wherein the cyclic compound includes an unsaturated lactone structure and a hydroxyl group in one molecule.
<7> The method for producing a magnesium-based member according to any one of <1> to <6>, wherein the molecular weight of the cyclic compound is 1000 or less.
<8> The method for producing a magnesium-based member according to any one of <1> to <7>, wherein the cyclic compound is at least one of ascorbic acid and a salt thereof.
<9> The method for producing a magnesium-based member according to any one of <1> to <8>, wherein the film has a thickness of 0.5 μm to 100 μm.
<10> The film forming step is a group consisting of blast treatment, coating treatment, chemical conversion treatment, pickling treatment, rust prevention treatment, rust removal treatment, oxide film removal treatment, and degreasing treatment on the surface of the magnesium-based material. The method for producing a magnesium-based member according to any one of <1> to <9>, wherein the film is formed without performing at least one kind of pretreatment selected from:
<11> A magnesium-based material containing magnesium as a main component, and a film covering at least a part of the surface of the magnesium-based material, comprising a composite material containing magnesium hydroxide and carbon atoms having π electrons, And a film having a carbon atom content of 10 atomic% to 60 atomic%.

本発明によれば、導電性及び耐食性に優れた皮膜を備えるマグネシウム系部材を、簡易な方法によって製造することができるマグネシウム系部材の製造方法が提供される。
また、本発明によれば、導電性及び耐食性に優れた皮膜を備えるマグネシウム系部材が提供される。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the magnesium-type member which can manufacture the magnesium-type member provided with the film | membrane excellent in electroconductivity and corrosion resistance with a simple method is provided.
Moreover, according to this invention, a magnesium-type member provided with the film | membrane excellent in electroconductivity and corrosion resistance is provided.

実施例1〜3及び比較例1のMg合金サンプルの皮膜のX線回折図である。2 is an X-ray diffraction diagram of films of Mg alloy samples of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1. FIG. 実施例1〜3及び比較例1のMg合金サンプル、並びに、皮膜によって被覆されていないMg合金基材1の分極特性である。It is a polarization characteristic of Mg alloy sample 1 of Examples 1-3 and comparative example 1, and Mg alloy substrate 1 which is not coat | covered with the membrane | film | coat. 実施例1のMg合金サンプルの塩水浸漬前の外観写真である。It is an external appearance photograph before the salt water immersion of the Mg alloy sample of Example 1. 実施例1のMg合金サンプルの塩水浸漬後(塩水に72時間浸漬させた後)の外観写真である。It is an external appearance photograph after salt water immersion of the Mg alloy sample of Example 1 (after being immersed in salt water for 72 hours). 比較例1のMg合金サンプルの塩水浸漬前の外観写真である。It is an external appearance photograph before the salt water immersion of the Mg alloy sample of the comparative example 1. 比較例1のMg合金サンプルの塩水浸漬後(塩水に72時間浸漬させた後)の外観写真である。It is an external appearance photograph after the salt water immersion of the Mg alloy sample of the comparative example 1 (after being immersed in salt water for 72 hours).

本明細書中において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
以下、本発明のマグネシウム系部材及その製造方法について詳細に説明する。
In the present specification, a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
Hereinafter, the magnesium-based member of the present invention and the manufacturing method thereof will be described in detail.

≪マグネシウム系部材の製造方法≫
本発明のマグネシウム系部材の製造方法(以下、「本発明の製造方法」ともいう)は、マグネシウム(Mg)を主成分とするマグネシウム系素材を準備する準備工程と、加熱加圧雰囲気下、上記マグネシウム系素材の表面の少なくとも一部に対し、π電子を有する環状構造を含む化合物と、水と、を接触させることにより皮膜を形成する皮膜形成工程と、を有する。本発明のマグネシウム系部材の製造方法は、必要に応じ、その他の工程を有していてもよい。
<Manufacturing method of magnesium-based member>
The method for producing a magnesium-based member of the present invention (hereinafter also referred to as “manufacturing method of the present invention”) includes a preparation step of preparing a magnesium-based material containing magnesium (Mg) as a main component, and a heating and pressurizing atmosphere. A film forming step of forming a film by bringing a compound containing a cyclic structure having π electrons into contact with water on at least a part of the surface of the magnesium-based material; The manufacturing method of the magnesium-type member of this invention may have another process as needed.

本発明において、「マグネシウム系素材」とは、皮膜形成工程の処理(即ち、皮膜の形成)が施される対象物を指す。
また、本発明において、「マグネシウム系部材」とは、マグネシウム系素材に対し皮膜形成工程の処理(即ち、皮膜の形成)が施された後の結果物を指す。
また、本発明のマグネシウム系部材の製造方法は、マグネシウム系素材の表面処理方法と言い換えることもできる。
In the present invention, the “magnesium-based material” refers to an object to be subjected to a film formation process (that is, film formation).
Further, in the present invention, the “magnesium-based member” refers to a resultant product after the film-forming process (that is, film formation) is performed on the magnesium-based material.
Moreover, the manufacturing method of the magnesium-type member of this invention can also be paraphrased as the surface treatment method of a magnesium-type raw material.

本発明の製造方法によれば、導電性及び耐食性に優れた皮膜を備えるマグネシウム系部材を、簡易な方法によって製造することができる。
上記「簡易な方法」について、より詳細には、本発明における皮膜形成工程では、加熱加圧雰囲気下、マグネシウム系素材の表面の少なくとも一部に対し、π電子を有する環状構造を含む化合物と、水と、を接触させるという簡易な方法によって皮膜を形成することができる。
ここで、「水」の概念には、液体状態の水だけでなく、気体状態の水(即ち、水蒸気)も包含される。
According to the production method of the present invention, a magnesium-based member having a film excellent in conductivity and corrosion resistance can be produced by a simple method.
More specifically, in the film forming step of the present invention, the above “simple method”, in a heating and pressurizing atmosphere, at least a part of the surface of the magnesium-based material, a compound containing a cyclic structure having π electrons, A film can be formed by a simple method of contacting water.
Here, the concept of “water” includes not only liquid water but also gaseous water (ie, water vapor).

本発明の製造方法によって形成される皮膜が、導電性及び耐食性に優れる理由は以下のように推測される。
即ち、上記皮膜は、水酸化マグネシウム系の皮膜であり、この水酸化マグネシウム系の皮膜が、耐食性に寄与すると考えられる。
更に、この水酸化マグネシウム系の皮膜は、水酸化マグネシウムと、π電子を有する環状化合物に由来する炭素原子(即ち、π電子を有する炭素原子)と、を含む複合材料からなる皮膜(コンポジット皮膜)であり、皮膜中にπ電子が含まれていると考えられる。皮膜中に含まれるπ電子が、導電性に寄与すると考えられる。
The reason why the film formed by the production method of the present invention is excellent in conductivity and corrosion resistance is presumed as follows.
That is, the film is a magnesium hydroxide-based film, and this magnesium hydroxide-based film is considered to contribute to corrosion resistance.
Further, this magnesium hydroxide film is a film (composite film) made of a composite material containing magnesium hydroxide and carbon atoms derived from a cyclic compound having π electrons (that is, carbon atoms having π electrons). It is considered that π electrons are included in the film. It is considered that π electrons contained in the film contribute to conductivity.

更に、本発明の製造方法によって形成される皮膜は、従来の水酸化マグネシウム皮膜(例えば上記特許文献6に記載の水酸化マグネシウム皮膜)と比較しても、耐食性に優れる。
この理由は、本発明における皮膜は、水酸化マグネシウム粒子と、水酸化マグネシウム粒子とはサイズが異なるカーボン粒子(炭素粒子)と、を含む複合材料からなるコンポジット皮膜であることにより、水酸化マグネシウム粒子のみからなる皮膜と比較して、皮膜の緻密性が高いため、と考えられる。
Furthermore, the film formed by the production method of the present invention is excellent in corrosion resistance as compared with a conventional magnesium hydroxide film (for example, the magnesium hydroxide film described in Patent Document 6).
This is because the film in the present invention is a composite film made of a composite material containing magnesium hydroxide particles and carbon particles (carbon particles) having a size different from that of the magnesium hydroxide particles. This is thought to be because the denseness of the film is higher than that of the film consisting only of the above.

更に、本発明の製造方法では、皮膜形成工程において、π電子を有する環状化合物の量を調整することにより、皮膜の導電性を調整することもできる。   Furthermore, in the manufacturing method of this invention, the electroconductivity of a film | membrane can also be adjusted by adjusting the quantity of the cyclic compound which has (pi) electron in a film | membrane formation process.

また、従来、マグネシウム系素材に設けられる皮膜として、樹脂皮膜が用いられることがあった。
従来の樹脂皮膜に対し、本発明の製造方法で製造される皮膜は、無機材料を主体とする皮膜であるため、高剛性であるという利点も有する。
Conventionally, a resin film is sometimes used as a film provided on a magnesium-based material.
Compared to the conventional resin film, the film produced by the production method of the present invention is a film mainly composed of an inorganic material, and thus has an advantage of high rigidity.

また、本発明の製造方法は、陽極酸化法による従来の皮膜の形成方法と比較して、簡易な方法であり、より詳細には以下の利点を有している。   Further, the production method of the present invention is a simple method as compared with the conventional method for forming a film by an anodic oxidation method, and more specifically has the following advantages.

即ち、陽極酸化法は、陽極酸化のための電極を備えた複雑な装置を用いて実施する必要があるが、本発明の製造方法は、より簡易な装置を用いて実施することができる。   That is, the anodic oxidation method needs to be performed using a complicated apparatus including an electrode for anodic oxidation, but the manufacturing method of the present invention can be performed using a simpler apparatus.

また、陽極酸化法では、溶液中にマグネシウム系素材を浸漬させて電気を通して行うので、マグネシウム系素材表面の皮膜の膜厚が厚くなると大きな電圧が必要となり、装置を大型化する必要がある。
これに対し、本発明の製造方法では、マグネシウム系素材表面の皮膜の膜厚が厚くなったとしても装置を大型化する必要はない。
従って、本発明の製造方法は、陽極酸化法と比較して、一定スペース(一定の装置設置面積)での大量生産に適している。
Further, in the anodic oxidation method, since a magnesium-based material is immersed in a solution and conducted through electricity, a large voltage is required when the film thickness on the surface of the magnesium-based material is increased, and it is necessary to enlarge the apparatus.
On the other hand, in the manufacturing method of the present invention, it is not necessary to enlarge the apparatus even if the film thickness of the film on the surface of the magnesium-based material is increased.
Therefore, the manufacturing method of the present invention is suitable for mass production in a fixed space (fixed apparatus installation area) as compared with the anodizing method.

また、陽極酸化法では、基材(マグネシウム系素材)の表面に皮膜を付けているだけであるので、基材と皮膜との密着性が悪い場合がある。例えば、陽極酸化法では、基材が撓んだ場合に皮膜にひび割れが生じる場合がある。
これに対し、本発明における皮膜は、基材との密着性に優れており、上述したひび割れが生じ難い。
この理由は、本発明における皮膜は、基材(マグネシウム系素材)の材料から直接成長しているためと考えられる。言い換えれば、本発明における皮膜は、基材(マグネシウム系素材)の表層部が改質(転化)することによって形成された膜であるためと考えられる。
Further, in the anodic oxidation method, since the film is only applied to the surface of the base material (magnesium-based material), the adhesion between the base material and the film may be poor. For example, in the anodic oxidation method, a crack may occur in the film when the substrate is bent.
On the other hand, the film in the present invention is excellent in adhesion to the base material, and the above-described cracks are difficult to occur.
The reason for this is considered that the film in the present invention grows directly from the material of the base material (magnesium-based material). In other words, it is considered that the film in the present invention is a film formed by modifying (converting) the surface layer portion of the base material (magnesium-based material).

また、陽極酸化法では、基材がパイプ形状を有する場合には、パイプ形状の外周面には皮膜を形成できるが、パイプ形状の内周面には皮膜を形成できないという問題点を有している。また、陽極酸化法では、基材が凹凸形状を有する場合には、凹凸形状の凹んだ部分等は表面処理できないという問題点を有している。
これに対して、本発明の製造方法では、複雑な形状(パイプ形状、凹凸形状等)を有する基材に対しても、効率良く、かつ、均一性良く皮膜を形成することができる。
更に、本発明の製造方法では、大型の基材に対しても、効率良く、かつ、均一性良く皮膜を形成することができる。
Further, in the anodic oxidation method, when the substrate has a pipe shape, a film can be formed on the outer peripheral surface of the pipe shape, but a film cannot be formed on the inner peripheral surface of the pipe shape. Yes. In addition, the anodic oxidation method has a problem that when the substrate has a concavo-convex shape, the concave and convex portions of the concavo-convex shape cannot be surface treated.
On the other hand, in the manufacturing method of the present invention, a film can be efficiently and uniformly formed on a substrate having a complicated shape (pipe shape, uneven shape, etc.).
Furthermore, in the production method of the present invention, a film can be efficiently and uniformly formed on a large-sized substrate.

皮膜形成工程における上記接触は、
上記マグネシウム系素材の表面の少なくとも一部に対し、上記環状化合物及び水を含有する水溶液から生じた蒸気を接触させること(以下、「操作1」や「蒸気養生」ともいう)、及び、
上記マグネシウム系素材の少なくとも一部を、上記環状化合物及び水を含有する水溶液に浸漬すること(以下、「操作2」や「浸漬」ともいう)
の少なくとも一方によって行うことが好ましい。
The contact in the film forming process is
Contacting at least part of the surface of the magnesium-based material with steam generated from an aqueous solution containing the cyclic compound and water (hereinafter also referred to as “operation 1” or “steam curing”); and
Immersing at least a part of the magnesium-based material in an aqueous solution containing the cyclic compound and water (hereinafter also referred to as “operation 2” or “immersion”).
It is preferable to carry out by at least one of the above.

操作1(蒸気養生)は、接触の操作をより簡易に行うことができるという利点を有する。
操作2(浸漬)は、皮膜の形成効率に優れるという利点を有する。また、操作2(浸漬)は、環状化合物の蒸気圧の制約を受けにくいため、環状化合物の種類の選択の幅が広いという利点も有する。
上記接触は、操作1及び操作2のいずれか一方によって行ってもよいし、操作1及び操作2の両方によって行ってもよい。
上記接触を操作1及び操作2の両方によって行う場合、操作1及び操作2のうちのいずれを先に行ってもよい。
Operation 1 (steam curing) has the advantage that the contact operation can be performed more easily.
Operation 2 (immersion) has an advantage of excellent film formation efficiency. In addition, since the operation 2 (immersion) is less likely to be restricted by the vapor pressure of the cyclic compound, there is an advantage that the range of selection of the type of the cyclic compound is wide.
The contact may be performed by either one of the operation 1 and the operation 2, or may be performed by both the operation 1 and the operation 2.
When the contact is performed by both the operation 1 and the operation 2, either the operation 1 or the operation 2 may be performed first.

上記操作1(蒸気養生)及び上記操作2(浸漬)では、いずれも上記環状化合物及び水を含有する水溶液を用いる。
水溶液中における上記環状化合物の含有量は、上記環状化合物の水に対する溶解度に応じて適宜設定することができるが、例えば、水溶液全量に対し、0.2〜2.0質量%とすることができる。
In the operation 1 (steam curing) and the operation 2 (dipping), an aqueous solution containing the cyclic compound and water is used.
Although content of the said cyclic compound in aqueous solution can be suitably set according to the solubility with respect to the water of the said cyclic compound, it can be 0.2-2.0 mass% with respect to aqueous solution whole quantity, for example. .

上記加熱加圧雰囲気の圧力は、0.2MPa〜1.2MPaであることが好ましい。
上記圧力が0.2MPa以上であると、皮膜の形成効率がより向上する。
上記圧力が1.2MPa以下であると、生産性やコストの点で有利である。例えば、上記圧力が1.2MPa以下であると、皮膜形成工程に用いる装置(例えばオートクレーブ)として、1.2MPa超の圧力に対する耐性を有する高価な装置を用いる必要がない。このため、装置のコストを低減できる。
The pressure of the heating and pressurizing atmosphere is preferably 0.2 MPa to 1.2 MPa.
When the pressure is 0.2 MPa or more, the film formation efficiency is further improved.
When the pressure is 1.2 MPa or less, it is advantageous in terms of productivity and cost. For example, when the pressure is 1.2 MPa or less, it is not necessary to use an expensive device having resistance to a pressure exceeding 1.2 MPa as an apparatus (for example, an autoclave) used in the film forming process. For this reason, the cost of an apparatus can be reduced.

上記圧力としては、0.5MPa〜1.2MPaがより好ましく、0.8MPa〜1.2MPaが更に好ましく、1.0MPa〜1.15MPaが特に好ましい。   The pressure is more preferably 0.5 MPa to 1.2 MPa, still more preferably 0.8 MPa to 1.2 MPa, and particularly preferably 1.0 MPa to 1.15 MPa.

上記加熱加圧雰囲気の温度は、120℃〜200℃である。
上記温度が120℃以上であると、皮膜の形成効率がより向上する。
上記温度が200℃以下であると、生産性やコストの点で有利である。例えば、上記温度が200℃以下であると、皮膜形成工程に用いる装置(例えばオートクレーブ)として、200℃超の温度に起因する高い圧力に対する耐性を有する高価な装置を用いる必要がない。このため、装置のコストを低減できる。
The temperature of the heating and pressurizing atmosphere is 120 ° C to 200 ° C.
When the temperature is 120 ° C. or higher, the film formation efficiency is further improved.
When the temperature is 200 ° C. or less, it is advantageous in terms of productivity and cost. For example, when the temperature is 200 ° C. or lower, it is not necessary to use an expensive device having resistance to a high pressure due to a temperature higher than 200 ° C. as an apparatus (for example, an autoclave) used in the film forming process. For this reason, the cost of an apparatus can be reduced.

上記温度としては、150℃〜200℃がより好ましく、170℃〜200℃が更に好ましく、180℃〜195℃が特に好ましい。   As said temperature, 150 to 200 degreeC is more preferable, 170 to 200 degreeC is still more preferable, and 180 to 195 degreeC is especially preferable.

皮膜形成工程において、π電子を有する環状化合物としては、π電子を有し、かつ、環状構造を有する化合物を特に制限なく用いることができる。
π電子を有する環状化合物は、一分子中に、π電子を有する環状構造を含むことが好ましく、一分子中に、π電子を有する5員環構造及びπ電子を有する6員環構造の少なくとも一方を含むことがより好ましく、一分子中に、π電子を有する5員環構造及びπ電子を有する6員環構造の少なくとも一方と、水酸基と、を含むことが特に好ましい。
π電子を有する環状化合物が、一分子中に水酸基を有することにより、操作1(蒸気養生)及び操作2(浸漬)における水溶液を調製する際に、水への溶解度をより向上させることができる。
In the film forming step, as the cyclic compound having π electrons, a compound having π electrons and having a cyclic structure can be used without particular limitation.
The cyclic compound having π electrons preferably includes a cyclic structure having π electrons in one molecule, and at least one of a five-membered ring structure having π electrons and a six-membered ring structure having π electrons in one molecule. It is more preferable that one molecule contains at least one of a 5-membered ring structure having π electrons and a 6-membered ring structure having π electrons, and a hydroxyl group.
When the cyclic compound having π electrons has a hydroxyl group in one molecule, the solubility in water can be further improved when preparing an aqueous solution in operation 1 (steam curing) and operation 2 (immersion).

また、上記環状化合物は、低分子化合物であっても高分子化合物であってもよい。
上記環状化合物は、上述した操作1(蒸気養生)を行う場合において蒸気を得やすい観点からは、低分子化合物が好ましい。
上記環状化合物が低分子化合物である場合、上記環状化合物の分子量は、1000以下が好ましい。
上記環状化合物の分子量は、800以下がより好ましく、600以下が更に好ましく、400以下が特に好ましい。
The cyclic compound may be a low molecular compound or a high molecular compound.
The cyclic compound is preferably a low molecular compound from the viewpoint of easily obtaining steam when performing the above-described operation 1 (steam curing).
When the cyclic compound is a low molecular compound, the molecular weight of the cyclic compound is preferably 1000 or less.
The molecular weight of the cyclic compound is more preferably 800 or less, still more preferably 600 or less, and particularly preferably 400 or less.

また、上記環状化合物としては、一分子中に、不飽和ラクトン構造と、水酸基と、を含む化合物が好ましい。
ここで、不飽和ラクトン構造は、π電子を有する5員環構造の一例である。
The cyclic compound is preferably a compound containing an unsaturated lactone structure and a hydroxyl group in one molecule.
Here, the unsaturated lactone structure is an example of a 5-membered ring structure having π electrons.

上記環状化合物として、具体的には、アスコルビン酸及びその塩の少なくとも一方(以下、「アスコルビン酸等」ともいう)が挙げられる。
アスコルビン酸等は、皮膜の形成性や水への溶解性に優れるという利点に加え、環境負荷が少ない、入手が容易である等の利点も有する。
アスコルビン酸の塩としては、アスコルビン酸ナトリウム、アスコルビン酸カリウム、アスコルビン酸カルシウム等が挙げられる。
Specific examples of the cyclic compound include at least one of ascorbic acid and a salt thereof (hereinafter also referred to as “ascorbic acid and the like”).
Ascorbic acid and the like have advantages such as low environmental burden and easy availability in addition to the advantages of excellent film formability and water solubility.
Examples of the salt of ascorbic acid include sodium ascorbate, potassium ascorbate, and calcium ascorbate.

なお、上記環状化合物としては、アスコルビン酸等以外の化合物を用いることもできるが、上述した利点を有する観点から、アスコルビン酸等が特に好ましい。   In addition, as said cyclic compound, although compounds other than ascorbic acid etc. can also be used, from a viewpoint which has the advantage mentioned above, ascorbic acid etc. are especially preferable.

また、上記皮膜形成工程で形成される皮膜の厚さは、0.5μm〜100μmが好ましい。
皮膜の厚さが0.5μm以上であると、皮膜による耐食性向上の効果がより効果的に発揮される。
皮膜の厚さが100μm以下であると、熱衝撃や応力等による、皮膜の剥がれやひび割れ(クラック)をより抑制できる。
上記皮膜の厚さは、3μm〜100μmがより好ましく、3μm〜50μmが特に好ましい。
Moreover, as for the thickness of the membrane | film | coat formed at the said membrane | film | coat formation process, 0.5 micrometer-100 micrometers are preferable.
When the thickness of the film is 0.5 μm or more, the effect of improving the corrosion resistance by the film is more effectively exhibited.
When the thickness of the coating is 100 μm or less, peeling of the coating and cracking (crack) due to thermal shock or stress can be further suppressed.
The thickness of the film is more preferably 3 μm to 100 μm, and particularly preferably 3 μm to 50 μm.

また、上記皮膜形成工程は、上記マグネシウム系素材の表面に対し、ブラスト処理、塗装処理、化成処理、酸洗処理、防錆処理、除錆処理、酸化膜除去処理、及び脱脂処理からなる群から選択される少なくとも一種の前処理を行うことなく上記皮膜を形成することが好ましい。これにより、マグネシウム系部材をより簡易に製造することができる。例えばブラスト処理を行わないことにより、ブラスト処理で生じることがある微粉の飛散を抑制できる。
また、本発明における皮膜形成工程では、これらの前処理を行わなくても、良質な皮膜を形成することができる。
In addition, the film forming step is performed from the group consisting of blasting, coating, chemical conversion, pickling, rust prevention, rust removal, oxide film removal, and degreasing on the surface of the magnesium-based material. It is preferable to form the film without performing at least one selected pretreatment. Thereby, a magnesium-type member can be manufactured more simply. For example, by not performing the blasting process, scattering of fine powder that may occur in the blasting process can be suppressed.
Moreover, in the film formation process in the present invention, a high-quality film can be formed without performing these pretreatments.

以下、本発明の製造方法の各工程について説明する。   Hereinafter, each process of the manufacturing method of this invention is demonstrated.

<準備工程>
準備工程は、マグネシウムを主成分とするマグネシウム系素材を準備する工程である。
準備工程は、便宜上の工程であり、既に製造されていたマグネシウム系素材を準備する工程であってもよいし、マグネシウム系素材を製造する工程であってもよい。
<Preparation process>
The preparation step is a step of preparing a magnesium-based material containing magnesium as a main component.
The preparation step is a step for convenience, and may be a step of preparing a magnesium-based material that has already been manufactured, or a step of manufacturing a magnesium-based material.

ここで、「マグネシウムを主成分とするマグネシウム系素材」とは、含有量(質量%)が最も多い成分がマグネシウムである素材を指す。
マグネシウム系素材としては、マグネシウム(純マグネシウム)、マグネシウム合金が挙げられる。
マグネシウム系素材中におけるマグネシウムの含有量は、マグネシウム系素材の全量に対し、50重量%以上が好ましく、70重量%以上がより好ましく、80重量%以上が更に好ましく、90重量%以上が更に好ましく、95重量%以上が特に好ましい。
Here, the “magnesium-based material containing magnesium as a main component” refers to a material in which the component having the largest content (mass%) is magnesium.
Examples of the magnesium-based material include magnesium (pure magnesium) and a magnesium alloy.
The magnesium content in the magnesium-based material is preferably 50% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, still more preferably 80% by weight or more, still more preferably 90% by weight or more, based on the total amount of the magnesium-based material. 95 weight% or more is especially preferable.

マグネシウム合金に含有される金属元素として、マグネシウム(Mg)以外の金属元素には特に制限はないが、例えば、アルミニウム(Al)、亜鉛(Zn)、マンガン(Mn)、カルシウム(Ca)等が挙げられる。   The metal element contained in the magnesium alloy is not particularly limited to metal elements other than magnesium (Mg), and examples thereof include aluminum (Al), zinc (Zn), manganese (Mn), and calcium (Ca). It is done.

マグネシウム系素材の形状には特に制限はなく、基板形状、塊形状、パイプ形状、凹凸を有する形状等、あらゆる形状とすることができる。
マグネシウム系素材の形状として、より具体的には、電子機器類(携帯電話(スマートフォンを含む)、携帯情報端末、カメラ、パソコン等)の筐体の形状、プラズマディスプレイ等の各種ディスプレイの構成部材の形状、輸送機器の構造部材の形状、等が挙げられる。
There is no restriction | limiting in particular in the shape of a magnesium-type raw material, It can be set as all shapes, such as a board | substrate shape, a lump shape, a pipe shape, and a shape which has an unevenness | corrugation.
More specifically, as the shape of the magnesium-based material, the shape of the casing of electronic devices (cell phones (including smartphones), personal digital assistants, cameras, personal computers, etc.), the constituent members of various displays such as plasma displays, etc. The shape, the shape of the structural member of the transportation equipment, and the like.

<皮膜形成工程>
皮膜形成工程は、加熱加圧雰囲気下、上記マグネシウム系素材の表面の少なくとも一部に対し、π電子を有する環状構造を含む化合物と、水と、を接触させることにより皮膜を形成する工程である。
皮膜形成工程の好ましい態様は前述したとおりである。
上記接触の時間は、形成しようとする皮膜の膜厚に応じて適宜選択できるが、例えば、2時間〜12時間の範囲内とすることができる。
<Film formation process>
The film forming step is a step of forming a film by bringing a compound containing a cyclic structure having π electrons into contact with water and at least a part of the surface of the magnesium-based material in a heated and pressurized atmosphere. .
The preferred embodiment of the film forming step is as described above.
Although the time of the said contact can be suitably selected according to the film thickness of the membrane | film | coat to form, it can be set within the range of 2 hours-12 hours, for example.

本発明の製造方法は、必要に応じ、準備工程及び皮膜形成工程以外のその他の工程を有していてもよい。
その他の工程としては、マグネシウム系素材又はマグネシウム系部材を洗浄する洗浄工程、添加工程によって得られた皮膜を後処理する後処理工程、等の公知の工程が挙げられる。
但し、前述のとおり、製造工程を簡易にする観点からは、本発明の製造方法は、ブラスト処理、塗装処理、化成処理、酸洗処理、防錆処理、除錆処理、酸化膜除去処理、及び脱脂処理からなる群から選択される少なくとも一種の前処理を含まないことが好ましい。
The manufacturing method of this invention may have other processes other than a preparatory process and a film formation process as needed.
Other processes include known processes such as a cleaning process for cleaning the magnesium-based material or the magnesium-based member and a post-processing process for post-processing the film obtained by the adding process.
However, as described above, from the viewpoint of simplifying the production process, the production method of the present invention includes blast treatment, coating treatment, chemical conversion treatment, pickling treatment, rust prevention treatment, rust removal treatment, oxide film removal treatment, and It is preferable not to include at least one kind of pretreatment selected from the group consisting of degreasing treatments.

≪マグネシウム系部材≫
本発明のマグネシウム系部材は、マグネシウムを主成分とするマグネシウム系素材と、上記マグネシウム系素材の表面の少なくとも一部を被覆する皮膜であって、水酸化マグネシウムとπ電子を有する炭素原子とを含む複合材料からなり、炭素原子含有量が10原子%〜60原子%である皮膜と、を備える。本発明のマグネシウム系部材は、必要に応じ、その他の部材を備えていてもよい。
本発明のマグネシウム系部材は、導電性及び耐食性に優れた皮膜を備えるので、部材全体として、導電性及び耐食性に優れる。
≪Magnesium-based material≫
The magnesium-based member of the present invention includes a magnesium-based material containing magnesium as a main component and a film covering at least a part of the surface of the magnesium-based material, and includes magnesium hydroxide and carbon atoms having π electrons. A film made of a composite material and having a carbon atom content of 10 atomic% to 60 atomic%. The magnesium-based member of the present invention may include other members as necessary.
Since the magnesium-based member of the present invention includes a film excellent in conductivity and corrosion resistance, the entire member is excellent in conductivity and corrosion resistance.

本発明のマグネシウム系部材における皮膜が、導電性及び耐食性に優れる理由は、前述の本発明の製造方法の説明で述べた理由が考えられる。
本発明のマグネシウム系部材において、マグネシウム系素材及び皮膜の好ましい範囲は、それぞれ、本発明の製造方法におけるマグネシウム系素材及び皮膜の好ましい範囲と同様である。
The reason why the film in the magnesium-based member of the present invention is excellent in conductivity and corrosion resistance can be the reason described in the description of the production method of the present invention.
In the magnesium-based member of the present invention, the preferable ranges of the magnesium-based material and the film are the same as the preferable ranges of the magnesium-based material and the film in the production method of the present invention, respectively.

上記皮膜において、炭素原子含有量は、エネルギー分散型X線分光装置によって測定された値を指す。
上記皮膜における炭素原子含有量は10原子%〜60原子%である。
炭素原子含有量が10原子%以上であることは、皮膜中に、不純物としての炭素原子(後述の比較例1参照)以外に、意図的に添加されている炭素原子が含まれていることを意味する。炭素原子含有量は、20原子%以上が好ましく、25原子%がより好ましい。
一方、上記皮膜における炭素原子含有量は60原子%以下であることは、皮膜中に、充分な量の水酸化マグネシウムが含まれていることを意味する。炭素原子含有量は、50原子%以下がより好ましい。
In the above film, the carbon atom content refers to a value measured by an energy dispersive X-ray spectrometer.
The carbon atom content in the coating is 10 atomic% to 60 atomic%.
The carbon atom content of 10 atomic% or more means that the film contains intentionally added carbon atoms in addition to carbon atoms as impurities (see Comparative Example 1 described later). means. The carbon atom content is preferably 20 atomic percent or more, and more preferably 25 atomic percent.
On the other hand, the carbon atom content in the film being 60 atom% or less means that a sufficient amount of magnesium hydroxide is contained in the film. As for carbon atom content, 50 atomic% or less is more preferable.

また、上記皮膜において、π電子を有する炭素原子とは、sp2混成軌道を有する炭素原子を意味する。
上記皮膜において、π電子を有する炭素原子の存在は、電子スピン共鳴法(Electron Spin Resonance;ESR)によって確認することができる。
In the above film, a carbon atom having π electrons means a carbon atom having sp2 hybrid orbitals.
In the above film, the presence of carbon atoms having π electrons can be confirmed by electron spin resonance (ESR).

本発明のマグネシウム系部材を製造する方法には特に制限はないが、上述した本発明の製造方法が好適である。   Although there is no restriction | limiting in particular in the method to manufacture the magnesium-type member of this invention, The manufacturing method of this invention mentioned above is suitable.

以上で説明した、本発明のマグネシウム系部材、及び、本発明の製造方法によって製造されるマグネシウム系部材の用途としては、電子機器類(携帯電話(スマートフォンを含む)、携帯情報端末、カメラ、パソコン等)の筐体、プラズマディスプレイ等の各種ディスプレイの構成部材、輸送機器の構造部材、等の用途が挙げられる。   Applications of the magnesium-based member of the present invention described above and the magnesium-based member manufactured by the manufacturing method of the present invention include electronic devices (mobile phones (including smartphones), portable information terminals, cameras, personal computers. Etc.), structural members of various displays such as plasma displays, and structural members of transportation equipment.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention is not limited to a following example.

〔実施例1〕
<マグネシウム系部材の製造>
(準備工程)
マグネシウム系素材として、縦20mm×横20mm×厚さ1.5mmサイズのMg合金基材1を準備した。このMg合金基材1は、ケーエステクノス(株)製の押し出し材を、上記サイズにカットしたものである。上記押し出し材の材質(即ち、Mg合金基材1の材質)は、ASTM規格で規定されるAZ31(アルミニウムを約3質量%および亜鉛を約1質量%含むマグネシウム合金)である。
[Example 1]
<Manufacture of magnesium-based members>
(Preparation process)
As the magnesium-based material, a Mg alloy base material 1 having a size of 20 mm long × 20 mm wide × 1.5 mm thick was prepared. This Mg alloy base material 1 is obtained by cutting an extruded material manufactured by Kieste Knos Co., Ltd. into the above size. The material of the extruded material (that is, the material of the Mg alloy base material 1) is AZ31 (a magnesium alloy containing about 3% by mass of aluminum and about 1% by mass of zinc) defined by the ASTM standard.

(皮膜形成工程)
オートクレーブ内に、アスコルビン酸(以下、「AA」(Ascorbic Acid)ともいう)0.3gを含む水溶液20mLを入れ、次いでこの水溶液中に上記Mg合金基材1を浸漬させた。
次に、オートクレーブ内を、温度190℃、圧力1.1MPaに調整し、この温度及び圧力にて3時間の加熱処理を行った。これにより、Mg合金基材1の表層部を改質(転化)させて皮膜とした。
以上により、Mg合金基材1の表層部が皮膜に改質(転化)した構造のMg合金サンプル(マグネシウム系部材)を得た。
(Film formation process)
20 mL of an aqueous solution containing 0.3 g of ascorbic acid (hereinafter also referred to as “AA” (Ascorbic Acid)) was placed in the autoclave, and then the Mg alloy substrate 1 was immersed in this aqueous solution.
Next, the inside of the autoclave was adjusted to a temperature of 190 ° C. and a pressure of 1.1 MPa, and heat treatment was performed at this temperature and pressure for 3 hours. Thereby, the surface layer part of the Mg alloy base material 1 was modified (converted) to form a film.
Thus, an Mg alloy sample (magnesium-based member) having a structure in which the surface layer portion of the Mg alloy base material 1 was modified (converted) into a film was obtained.

<測定及び評価>
(Mg合金サンプルの皮膜のX線回折測定)
上記で得られたMg合金サンプルの皮膜について、X線回折測定を行った。
結果を図1に示す。
<Measurement and evaluation>
(X-ray diffraction measurement of film of Mg alloy sample)
X-ray diffraction measurement was performed on the film of the Mg alloy sample obtained above.
The results are shown in FIG.

(Mg合金サンプルの皮膜の膜厚測定)
上記で得られたMg合金サンプルの断面を、走査型電子顕微鏡(日本電子(株)製、商品名「JSM−6010LA」)によって観察し、Mg合金サンプルの皮膜の膜厚を測定した。
結果を表1に示す。
(Measurement of film thickness of Mg alloy sample film)
The cross section of the Mg alloy sample obtained above was observed with a scanning electron microscope (manufactured by JEOL Ltd., trade name “JSM-6010LA”), and the film thickness of the film of the Mg alloy sample was measured.
The results are shown in Table 1.

(Mg合金サンプルの皮膜中の炭素含有量の測定)
上記走査型電子顕微鏡に付属されたエネルギー分散型X線分光装置を用い、上記Mg合金サンプルの皮膜中の炭素含有量の測定を行った。
結果を表1に示す。
(Measurement of carbon content in film of Mg alloy sample)
The carbon content in the film of the Mg alloy sample was measured using an energy dispersive X-ray spectrometer attached to the scanning electron microscope.
The results are shown in Table 1.

(Mg合金サンプルの皮膜の導電性評価)
Mg合金サンプルの皮膜の導電性評価として、四探針法により、上記皮膜の体積抵抗率を測定した。
結果を表1に示す。
(Evaluation of conductivity of Mg alloy sample film)
As the conductivity evaluation of the Mg alloy sample film, the volume resistivity of the film was measured by a four-point probe method.
The results are shown in Table 1.

(Mg合金サンプルの皮膜の耐食性評価)
密閉容器内に5質量%の塩水溶液(関東化学(株)製)を入れて35℃に調温し、調温された上記塩水溶液中にMg合金サンプルを72時間浸漬させた。
次いで塩水溶液からMg合金サンプルを取り出し、目視により腐食の有無を観察し、下記評価基準によって皮膜の耐食性を評価した。
結果を下記表1に示す。
−評価基準−
A ・・・ 目視により腐食が確認されなかった。
B ・・・ 目視により腐食が確認された。
(Evaluation of corrosion resistance of Mg alloy sample film)
A 5 mass% salt aqueous solution (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) was placed in a sealed container and the temperature was adjusted to 35 ° C., and the Mg alloy sample was immersed in the temperature-controlled salt aqueous solution for 72 hours.
Subsequently, the Mg alloy sample was taken out from the salt aqueous solution, visually observed for the presence or absence of corrosion, and the corrosion resistance of the film was evaluated according to the following evaluation criteria.
The results are shown in Table 1 below.
-Evaluation criteria-
A: Corrosion was not confirmed by visual inspection.
B: Corrosion was confirmed by visual inspection.

(Mg合金サンプルの分極特性の測定)
ポテンシオスタットを用い、Mg合金サンプルの分極特性を測定した。本測定において、電位の掃引速度は0.5mV/sとした。
結果を図2に示す。
(Measurement of polarization characteristics of Mg alloy samples)
Using a potentiostat, the polarization characteristics of the Mg alloy sample were measured. In this measurement, the potential sweep rate was 0.5 mV / s.
The results are shown in FIG.

〔実施例2、実施例3、及び比較例1〕
実施例1の皮膜形成工程において、AAの量(0.3g)を、表1に示す量に変更したこと以外は実施例1と同様の操作を行った。
比較例1では、AAの質量を0gとした。即ち、比較例1の皮膜形成工程では、AAの水溶液ではなく水を用いた。
結果を表1並びに図1及び図2に示す。
[Example 2, Example 3, and Comparative Example 1]
In the film forming step of Example 1, the same operation as in Example 1 was performed except that the amount of AA (0.3 g) was changed to the amount shown in Table 1.
In Comparative Example 1, the mass of AA was 0 g. That is, in the film forming process of Comparative Example 1, water was used instead of an AA aqueous solution.
The results are shown in Table 1 and FIGS.

表1中、「体積抵抗率(Ω・cm)」は、桁数(オーダー)のみを示している。
表1中、「at%」は、原子%を示す。
In Table 1, “volume resistivity (Ω · cm)” indicates only the number of digits (order).
In Table 1, “at%” indicates atomic%.

表1に示すように、皮膜形成工程においてアスコルビン酸(AA)の水溶液を用いた実施例1〜3のMg合金サンプルでは、皮膜形成工程においてAAの水溶液ではなく水を用いた比較例1のMg合金サンプルと比較して、皮膜の耐食性に優れ、かつ、皮膜の体積抵抗率が低く導電性に優れていた。
具体的には、比較例1のMg合金サンプルの皮膜は、体積抵抗率は1011Ω・cmオーダーであり、絶縁体であった。これに対し、実施例1〜3に示すように、皮膜形成工程における水にアスコルビン酸(AA)を添加すると体積抵抗率が低下した。実施例1〜3では、AAの量の増加に従って体積抵抗率が低下する傾向が見られた。
また、実施例1〜3における皮膜の炭素含有量は、比較例1における皮膜の炭素含有量よりも高い値を示した。実施例1〜3では、AAの添加量の増加に従って皮膜中の炭素含有量が増加する傾向が見られた。
As shown in Table 1, in the Mg alloy samples of Examples 1 to 3 using an aqueous solution of ascorbic acid (AA) in the film forming step, Mg of Comparative Example 1 using water instead of the AA aqueous solution in the film forming step. Compared with the alloy sample, the corrosion resistance of the coating was excellent, and the volume resistivity of the coating was low and the conductivity was excellent.
Specifically, the film of the Mg alloy sample of Comparative Example 1 was an insulator having a volume resistivity on the order of 10 11 Ω · cm. On the other hand, as shown in Examples 1 to 3, when ascorbic acid (AA) was added to water in the film forming step, the volume resistivity was lowered. In Examples 1 to 3, the volume resistivity tended to decrease as the amount of AA increased.
Moreover, the carbon content of the film | membrane in Examples 1-3 showed the value higher than the carbon content of the film | membrane in the comparative example 1. FIG. In Examples 1 to 3, the carbon content in the film tended to increase as the amount of AA added increased.

実施例1〜3の皮膜が比較例1の皮膜よりも耐食性に優れる理由は、実施例1〜3の皮膜には、水酸化マグネシウム粒子が含まれていることに加え、水酸化マグネシウム粒子とはサイズが異なるカーボン(炭素)粒子が分散されていることにより、比較例1の皮膜と比較して、皮膜の緻密性が向上したためと考えられる。   The reason why the films of Examples 1 to 3 are more excellent in corrosion resistance than the film of Comparative Example 1 is that the films of Examples 1 to 3 contain magnesium hydroxide particles and It is considered that the denseness of the film was improved as compared with the film of Comparative Example 1 because the carbon (carbon) particles having different sizes were dispersed.

実施例1〜3の皮膜が導電性に優れる理由は、実施例1〜3の皮膜中に、原料であるアスコルビン酸(AA)に由来する、π電子を有する炭素原子が含まれているためと考えられる。皮膜中にπ電子を有する炭素原子が含まれていることは、理論上、電子スピン共鳴法(Electron Spin Resonance;ESR)によって確認することができる。   The reason why the films of Examples 1 to 3 are excellent in conductivity is because the films of Examples 1 to 3 contain carbon atoms having π electrons derived from ascorbic acid (AA) as a raw material. Conceivable. The fact that carbon atoms having π electrons are contained in the film can be theoretically confirmed by an electron spin resonance (ESR) method.

図1は、実施例1〜3及び比較例1のMg合金サンプルの皮膜のX線回折図である。
図1中、(a)、(b)、(c)、及び(d)は、それぞれ、比較例1、実施例3、実施例2、及び実施例1におけるX線回折図である。
図1中の(a)〜(d)では、いずれも、2θ=18.5、32.8、37.9、50.8、58.7、62.1、68.1および72.1°の位置に、回折線が観察された。これらは、それぞれ、水酸化マグネシウム(Mg(OH))の001、100、101、102、110、111、200および201回折線に相当する(JCPDS No.44−1482)。
以上の結果から、実施例1〜3及び比較例1における皮膜は、いずれも、水酸化マグネシウムを含む皮膜であることが確認された。
FIG. 1 is an X-ray diffraction diagram of films of Mg alloy samples of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1.
In FIG. 1, (a), (b), (c), and (d) are X-ray diffraction patterns in Comparative Example 1, Example 3, Example 2, and Example 1, respectively.
In each of (a) to (d) in FIG. 1, 2θ = 18.5, 32.8, 37.9, 50.8, 58.7, 62.1, 68.1, and 72.1 °. A diffraction line was observed at the position of. These correspond to the 001, 100, 101, 102, 110, 111, 200, and 201 diffraction lines of magnesium hydroxide (Mg (OH) 2 ), respectively (JCPDS No. 44-1482).
From the above results, it was confirmed that the films in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 were films containing magnesium hydroxide.

図2は、実施例1〜3及び比較例1のMg合金サンプル(即ち、皮膜によって被覆されているMg合金)、並びに、皮膜形成工程の処理を行わなかったMg合金基材1(即ち、皮膜によって被覆されていないMg合金)の分極特性の測定結果である。
図2中、(a)は、皮膜によって被覆されていないMg合金基材1(「Bare AZ31」)の分極特性であり、(b)、(c)、(d)、及び(e)は、それぞれ、比較例1(「AA: 0g」)、実施例3(「AA: 0.1g」)、実施例2(「AA: 0.2g」)、及び実施例1(「AA: 0.3g」)のMg合金サンプルの分極特性である。
FIG. 2 shows the Mg alloy samples of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 (that is, the Mg alloy coated with the film), and the Mg alloy substrate 1 that was not subjected to the film forming process (that is, the film). It is a measurement result of the polarization characteristic of Mg alloy which is not covered with.
In FIG. 2, (a) is the polarization characteristics of the Mg alloy substrate 1 (“Bare AZ31”) not covered with the film, and (b), (c), (d), and (e) are In Comparative Example 1 (“AA: 0 g”), Example 3 (“AA: 0.1 g”), Example 2 (“AA: 0.2 g”), and Example 1 (“AA: 0.3 g”), respectively. It is a polarization characteristic of a Mg alloy sample.

図2中、(e)及び(a)より、(e)実施例1のMg合金サンプルの腐食電位、及び、(a)皮膜によって被覆されていないMg合金基材1の腐食電位は、それぞれ、−0.955V(vs.Ag/AgCl)及び−1.482V(vs.Ag/AgCl)であった。このように、皮膜によって被覆されている実施例1のMg合金サンプルの腐食電位は、皮膜によって被覆されていないMg合金基材1の腐食電位と比較して、500mV以上貴であった。
また、(e)実施例1のMg合金サンプルの腐食電流、及び、(a)皮膜によって被覆されていないMg合金基材1の腐食電流は、それぞれ、1.5×10−9A/cm及び8.5×10−5A/cmであった。このように、皮膜によって被覆されている実施例1のMg合金サンプルの腐食電流は、皮膜によって被覆されていないMg合金基材1の腐食電流と比較して、4桁以上小さい値を示した。
以上の結果は、皮膜によって被覆されている実施例1のMg合金サンプルの方が、皮膜によって被覆されていないMg合金基材1よりも耐食性に優れることを示す。
2, (e) From (e) and (a), (e) the corrosion potential of the Mg alloy sample of Example 1 and (a) the corrosion potential of the Mg alloy substrate 1 not covered with the film are respectively -0.955 V (vs. Ag / AgCl) and -1.482 V (vs. Ag / AgCl). Thus, the corrosion potential of the Mg alloy sample of Example 1 coated with the coating was no less than 500 mV compared to the corrosion potential of the Mg alloy substrate 1 not coated with the coating.
Further, (e) the corrosion current of the Mg alloy sample of Example 1 and (a) the corrosion current of the Mg alloy base material 1 not covered with the film were 1.5 × 10 −9 A / cm 2 , respectively. And 8.5 × 10 −5 A / cm 2 . Thus, the corrosion current of the Mg alloy sample of Example 1 covered with the film showed a value smaller by 4 digits or more than the corrosion current of the Mg alloy substrate 1 not covered with the film.
The above results show that the Mg alloy sample of Example 1 coated with a film is superior in corrosion resistance to the Mg alloy base material 1 not coated with the film.

図2中、(c)(実施例3(「AA: 0.1g」))及び(d)(実施例2(「AA: 0.2g」))においても、(e)(実施例1(「AA: 0.3g」))と同様に、皮膜によって被覆されていないMg合金基材1よりも耐食性に優れることが確認された。   In FIG. 2, (c) (Example 3 (“AA: 0.1 g”)) and (d) (Example 2 (“AA: 0.2 g”)) are also shown in (e) (Example 1 (“AA” : 0.3g ")), it was confirmed that the corrosion resistance was superior to that of the Mg alloy substrate 1 not covered with the film.

図2中、(b)(比較例1(「AA: 0g」))においても、皮膜によって被覆されていないMg合金基材1よりも耐食性に優れることが確認された。
しかし、(b)(比較例1(「AA: 0g」))は、(c)(実施例3(「AA: 0.1g」))、(d)(実施例2(「AA: 0.2g」))、及び(e)(実施例1(「AA: 0.3g」))に対し、耐食性に劣っていた。
In FIG. 2, (b) (Comparative Example 1 (“AA: 0 g”)) was also confirmed to have better corrosion resistance than the Mg alloy substrate 1 not covered with the film.
However, (b) (Comparative Example 1 (“AA: 0 g”)) is equivalent to (c) (Example 3 (“AA: 0.1 g”)), (d) (Example 2 (“AA: 0.2 g”). )) And (e) (Example 1 (“AA: 0.3 g”)) were inferior in corrosion resistance.

図3Aは、実施例1のMg合金サンプルの塩水浸漬前の外観写真であり、図3Bは、実施例1のMg合金サンプルの塩水浸漬後(塩水に72時間浸漬させた後)の外観写真である。
図4Aは、比較例1のMg合金サンプルの塩水浸漬前の外観写真であり、図4Bは、比較例1のMg合金サンプルの塩水浸漬後(塩水に72時間浸漬させた後)の外観写真である。
図3Aと図3Bとの対比から明らかなように、実施例1のMg合金サンプルでは、塩水浸漬前後において、外観に変化は見られなかった。
しかし、図4Aと図4Bとの対比から明らかなように、比較例1のMg合金サンプルでは、塩水浸漬後(図4B)に顕著な腐食が発生した。
3A is an appearance photograph of the Mg alloy sample of Example 1 before immersion in salt water, and FIG. 3B is an appearance photograph of the Mg alloy sample of Example 1 after immersion in salt water (after immersion in salt water for 72 hours). is there.
4A is an appearance photograph of the Mg alloy sample of Comparative Example 1 before being immersed in salt water, and FIG. 4B is an appearance photograph of the Mg alloy sample of Comparative Example 1 after being immersed in salt water (after being immersed in salt water for 72 hours). is there.
As is clear from the comparison between FIG. 3A and FIG. 3B, the Mg alloy sample of Example 1 showed no change in appearance before and after immersion in salt water.
However, as apparent from the comparison between FIG. 4A and FIG. 4B, the Mg alloy sample of Comparative Example 1 showed significant corrosion after immersion in salt water (FIG. 4B).

Claims (11)

マグネシウムを主成分とするマグネシウム系素材を準備する準備工程と、
加熱加圧雰囲気下、前記マグネシウム系素材の表面の少なくとも一部に対し、π電子を有する環状化合物と、水と、を接触させることにより皮膜を形成する皮膜形成工程と、
を有するマグネシウム系部材の製造方法。
A preparation step of preparing a magnesium-based material containing magnesium as a main component;
A film forming step of forming a film by bringing a cyclic compound having π electrons into contact with water at least part of the surface of the magnesium-based material in a heating and pressurizing atmosphere;
The manufacturing method of the magnesium-type member which has this.
前記接触は、
前記マグネシウム系素材の表面の少なくとも一部に対し、前記環状化合物及び水を含有する水溶液から生じた蒸気を接触させること、及び、
前記マグネシウム系素材の少なくとも一部を、前記環状化合物及び水を含有する水溶液に浸漬すること
の少なくとも一方によって行う請求項1に記載のマグネシウム系部材の製造方法。
The contact is
Contacting at least part of the surface of the magnesium-based material with vapor generated from an aqueous solution containing the cyclic compound and water; and
The manufacturing method of the magnesium-type member of Claim 1 performed by at least one of immersing at least one part of the said magnesium-type raw material in the aqueous solution containing the said cyclic compound and water.
前記加熱加圧雰囲気の圧力が、0.2MPa〜1.2MPaである請求項1又は請求項2に記載のマグネシウム系部材の製造方法。   The method for producing a magnesium-based member according to claim 1 or 2, wherein a pressure of the heating and pressurizing atmosphere is 0.2 MPa to 1.2 MPa. 前記加熱加圧雰囲気の温度が、120℃〜200℃である請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のマグネシウム系部材の製造方法。   The method for producing a magnesium-based member according to any one of claims 1 to 3, wherein a temperature of the heating and pressurizing atmosphere is 120 ° C to 200 ° C. 前記環状化合物が、一分子中に、π電子を有する5員環構造及びπ電子を有する6員環構造の少なくとも一方と、水酸基と、を含む請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のマグネシウム系部材の製造方法。   5. The method according to claim 1, wherein the cyclic compound includes at least one of a five-membered ring structure having π electrons and a six-membered ring structure having π electrons in one molecule, and a hydroxyl group. The manufacturing method of the magnesium-type member of description. 前記環状化合物が、一分子中に、不飽和ラクトン構造と水酸基とを含む請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載のマグネシウム系部材の製造方法。   The method for producing a magnesium-based member according to any one of claims 1 to 5, wherein the cyclic compound contains an unsaturated lactone structure and a hydroxyl group in one molecule. 前記環状化合物の分子量が、1000以下である請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載のマグネシウム系部材の製造方法。   The molecular weight of the said cyclic compound is 1000 or less, The manufacturing method of the magnesium-type member of any one of Claims 1-6. 前記環状化合物が、アスコルビン酸及びその塩の少なくとも一方である請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載のマグネシウム系部材の製造方法。   The said cyclic compound is at least one of ascorbic acid and its salt, The manufacturing method of the magnesium-type member of any one of Claims 1-7. 前記皮膜の厚さが、0.5μm〜100μmである請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載のマグネシウム系部材の製造方法。   The method for producing a magnesium-based member according to any one of claims 1 to 8, wherein a thickness of the coating is 0.5 µm to 100 µm. 前記皮膜形成工程は、前記マグネシウム系素材の表面に対し、ブラスト処理、塗装処理、化成処理、酸洗処理、防錆処理、除錆処理、酸化膜除去処理、及び脱脂処理からなる群から選択される少なくとも一種の前処理を行うことなく、前記皮膜を形成する請求項1〜請求項9のいずれか1項に記載のマグネシウム系部材の製造方法。   The film forming step is selected from the group consisting of blasting, painting, chemical conversion, pickling, rust prevention, rust removal, oxide film removal, and degreasing on the surface of the magnesium-based material. The method for producing a magnesium-based member according to any one of claims 1 to 9, wherein the coating is formed without performing at least one kind of pretreatment. マグネシウムを主成分とするマグネシウム系素材と、
前記マグネシウム系素材の表面の少なくとも一部を被覆する皮膜であって、水酸化マグネシウムとπ電子を有する炭素原子とを含む複合材料からなり、炭素原子含有量が10原子%〜60原子%である皮膜と、
を備えたマグネシウム系部材。
A magnesium-based material mainly composed of magnesium;
A film covering at least a part of the surface of the magnesium-based material, comprising a composite material containing magnesium hydroxide and π-electron carbon atoms, and having a carbon atom content of 10 atomic% to 60 atomic% A film,
Magnesium-based member with
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