JP2016014674A - 角度分解逆対称光波散乱計測 - Google Patents
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Abstract
【課題】オーバーレイ構造を持つ測定対象のオーバーレイオフセット量を特定する方法を提供する。【解決手段】オーバーレイオフセットを特定するための方法は、第1の散乱測定セルに関する第1の逆対称差分信号ΔS1の取得1010と、第2の散乱測定セルに関する第2の逆対称差分信号ΔS2の取得1020、及び、第1の散乱測定セルに関する第1の逆対称差分信号ΔS1及び第2の散乱測定セルに関する第2の逆対称差分信号ΔS2からオーバーレイオフセットを計算する1030。【選択図】図11
Description
薄いフィルムの厚さ及び光学特性の他に限界寸法(CD)及び半導体ウエハ上の周期構造の輪郭形状の測定にも半導体業界で光波散乱計測が現在使用されている。原則として、光波散乱計測は現在のオーバーレイ計測の画像技術に対して明らかな利点を有する。光波散乱計測は画像化では分解不可能なデバイスサイズ構造の測定が可能なことがある。光波散乱計測は計測構造の輪郭の変動及び非対称の処理により頑強であると考えられることも可能である。
輪郭非対称の測定方法は限界寸法走査電子顕微鏡法(CD−SEM)及び光波散乱計測を含む。CD−SEM手法は非常に遅く高価なことがある。(輪郭非対称を含む)輪郭の特性のモニタリングに適切なこともある、光波散乱計測CD計測の現在の運用は詳細モデリングに依存しそれゆえ又かなり遅いことがある。加えて、場合によって層になった平らでないフィルムによって分けられる2つの回折格子(1つが他方の上)のような、複雑な輪郭の正確なモデル作成が非常に困難なことがある。
オーバーレイオフセットを特定するための方法は:第1の散乱測定セルに関する第1の逆対称差分信号(ΔS1)の取得;第2の散乱測定セルに関する第2の逆対称差分信号(ΔS2)の取得及び第1の散乱測定セルに関する第1の逆対称差分信号(ΔS1)及び第2の散乱測定セルに関する第2の逆対称差分信号(ΔS2)からのオーバーレイオフセットの計算を含むがそれらに制限されるものではない。
前記の一般的な説明及び以下の詳細な説明は具体例であって、例示だけを目的としており、特許請求されている本発明の範囲の限定を必ずしも意図するものではない。本明細書に取り入れられると共にその一部を構成する添付の図面は本発明の実施例を示し一般的な記述と共に本発明の原理を説明する役割をなす。
開示の多くの利点は添付の図面を参照することで当業者により良く理解いただけるであろう。
パターン化された散乱測定セルを示す。
パターン化された散乱測定セルを含む散乱測定ターゲット示す。
パターン化された散乱測定セルを含む散乱測定ターゲット示す。
パターン化された散乱測定セルを含む散乱測定ターゲット示す。
散乱測定システムを示す。
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偏光子構成を示す。
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照明瞳を示す。
収集瞳を示す。
照明瞳を示す。
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散乱測定の実行のための方法を示す。
散乱測定の実行のための方法を示す。
散乱測定の実行のための方法を示す。
散乱測定の実行のための方法を示す。
散乱測定の実行のための方法を示す。
散乱測定の実行のための方法を示す。
散乱測定の実行のための方法を示す。
散乱測定の実行のための方法を示す。
散乱測定の実行のための方法を示す。
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散乱測定システムを示す。
散乱測定システムを示す。
典型的な実施形態の以下の詳細な説明において、本明細書の一部をなす添付の図面が参照される。いくつかの図面において、同様な参照番号は同様な要素を指す。詳細な説明及び図面は典型的な実施形態を示す。本明細書に提示される内容の趣旨又は範囲を逸脱すること無しに他の実施形態が用いられても良く、他の変更が行われて良い。以下の詳細な説明はそれゆえ限定的な意味で解されるべきでなく請求の範囲は付属の特許請求の範囲によって定義されて良い。以下の記述は本発明を記載された実施形態に限定することを意図することではないことを理解いただきたい。逆に、付属の特許請求の範囲によって定義される本発明の趣旨及び範囲内に含まれるような代替案、変更形態及び均等物を対象とすることを意図される。
本発明は差分信号散乱測定オーバーレイ(SCOL)の測定に関する。オーバーレイターゲットはその間でオーバーレイが測定される少なくとも2つのパターンを各々有する1つ以上のセルを備えて良い。各セルは、各々が同じ又は異なる層のウエハ内にあって良い、概ね重なるパターンを備えてよい。セルの幾何構造(パターンピッチ、CD等)は、セルごとに異なって良い2つのパターンの間のプログラムされたオフセット以外は、同一であって良い。2つのパターンは頂及び底パターンと呼ばれて良く、オーバーレイ情報は頂及び底パターンの間のずれをさす。典型的なオーバーレイターゲットが図1に示される。頂パターン120及び底パターン121はプログラムされたオフセット及び製造関連のオーバーレイを含む合計オフセット(v)だけ互いにずらされてよい。
セルの合計オフセットvは2つの寄与因子:プログラムされたオフセット及びオーバーレイオフセット(存在する場合)の和であって良い。プログラムされたオフセットはセル内に設計されて良い。オーバーレイオフセットは製造ばらつきにより生じる特定されるべき未知の量であって良い。かくして、本発明の実施形態による散乱測定の準備において、ターゲットは、各々が合計オフセットをもたらすプログラムされたオフセットを有する、複数のセルを備えるように設計されて良い。特定のセルは、x方向のオーバーレイ及びy方向のオーバーレイの独立した測定のための、互いに直交する格子方向(例えば、第1の「水平の」セル及び第2の「垂直の」セル)を有して良い。
散乱測定信号は各セルについて測定されて良く、それから信号間の差分が計算されそこからオーバーレイの値が抽出されてよい。他の散乱測定手順に対するこの方法の利点はオーバーレイの測定が測定された信号を擬似参照信号と詳細に比較するよりは測定された信号そのものの間の対称特性に依存することである。その結果、擬似参照信号の大きなライブラリーの回帰又は生成が不要である。しかしながら、こうした差分法はいくつかのセルからなる大きなターゲットを必要とすることがある、例として、SCOLターゲットは4つがXオーバーレイ測定のための及び4つがYオーバーレイのための、8つのセルからなってよい。
この発明の構造は1対のセルからの差分信号の代わりに各セルからの1つ以上の差分信号の抽出を可能にする具体的な構成内の各セルの多重測定を提供する。これはターゲットあたりに必要なセルの数、かくしてターゲットのサイズを減らすことに役立つことがある。
例えば、オーバーレイターゲットの分析に2つの検査信号が用いられて良い。検査信号応答は各セルのための各検査信号のために取得されて良い。第1の検査信号に関する信号応答と第2の検査信号に関する信号応答の間の差分が以下のように逆対称特性を示すかもしれないことがある:
こうした差分はゼロのオフセットで消えて良くオフセットの小さい値のためのオフセットの線形関数であってよい。特定の方向のオーバーレイオフセットに沿ったこうした線形関数の傾斜は異なるプログラムされたオフセットを有する2つのセルの測定から特定可能である(すなわち、2つの測定された差分信号が未知の傾斜及びオーバーレイを特定するために用いられて良い)。かくして、オフセット計算を促進するためにこうした逆対称を示す信号応答を生成するためのシステム及び方法を提供することが望ましいことがある。
例えば、図2Aに示すように、オーバーレイターゲット113は複数のセル127を含んで良い。セル127はセルの対128として配置されてよい。セルの対128Aのセル127の格子はx方向及びy方向の両方でオーバーレイ測定を可能にするためにセルの対128Bのセル127の格子に垂直であって良い。各セル127Aは頂及び底格子の間でプログラムされたオフセットv1を有して良く各セル127Bはプログラムされたオフセットv2を有して良く、ここでv1≠v2である。こうしたセル構成を有するオーバーレイターゲット113を照射するための(以下に記すような)第1の偏光を有する照射ビーム及び第2の偏光を有する照射ビームの併用は逆対称挙動を示す各セル127の信号応答差分を生じて良い。交互偏光状態でオーバーレイターゲット113の順次照射によって追加の直交情報が提供されるにつれてこうした逆対称挙動は方向ごとに2つのセル127のみでゼロ次散乱測定の実行を可能にする。
図2Bに示される特定の構成において、第1の散乱測定セル127Aは第1の方向(例えば、x方向)の第1のプログラムされたオフセット(例えば、v1)及び第2の方向(例えば、y方向)の第2の非ゼロプログラムされたオフセット(例えば、v2)を有する2次元の格子パターンを含んで良い。更に、第2の散乱測定セル127Bは第1の散乱測定セルの第1のプログラムされたオフセットに等しくない(例えば、v1≠v3)第1の方向(例えば、x方向)の第1のプログラムされたオフセット(例えば、v3)及び第1の散乱測定セルの第2のプログラムされたオフセットに等しい(例えば、v2=v4)第2の方向(例えば、y方向)の第2の非ゼロプログラムされたオフセット(例えば、v4)を有する2次元の格子パターンを含んで良い。
図2Cに示される代替構成において、オーバーレイターゲット113は第1のセル127A、第2のセル127B及び第3のセル127Cを含んで良い。各セル127は2次元の格子を含んで良い。3つのセル127は各々x方向及びy方向の両方のプログラムされたオフセットを有して良い。プログラムされたオフセットはx方向のオーバーレイオフセットの測定がセル127A及びセル127Bを用いる一方y方向のオーバーレイオフセットの測定がセル127B及びセル127Cを用いるように構成されて良い。x方向及びy方向のセルのプログラムされたオフセットはそれぞれvi (x)及びvi (y)と呼ばれて良い。3つのセルの構成のそれぞれのプログラムされたオフセットの特定の例は以下のようであってよい:
ここでf0 (x)及びf0 (y)はそれぞれx方向及びy方向の基本オフセットである。基本オフセットf0 (x)及びf0 (y)は散乱測定セル127の格子のためのパターンピッチより著しく小さくて良い。例えば、基本オフセットf0 (x)及びf0 (y)は約10nm〜15nmで良い。
図3は散乱測定システムを示すハイレベルブロック図である。システムは照射側の偏光子111及び収集側の偏光子115を備えてよい。偏光子111及び偏光子115は入射光に様々な偏光を与えるような構成で良い。光源110から送られた入射光118は偏光子111及び焦点レンズ112を通って伝わり試料によって散乱されて良い。試料は少なくとも1つのオーバーレイターゲット113を備える半導体ウエハであってよい。オーバーレイターゲット113の1つ以上の散乱測定セル127付きの入射光118の相互作用は入射光118を散乱しそれによって入射光118の偏光の状態を変更する。散乱光119は集光レンズ114及び偏光子115を通って伝わりそこで検出器116によって検出されてよい。
図4はオーバーレイターゲット113の散乱測定セル127との相互作用の前後の偏光の状態の変化を示す、及び散乱光119を検出するための電荷結合素子(CCD)検出器116を示す散乱測定システムの構成の別の図表示を示す。例えば、偏光子111は入射光118Aに第1の偏光を行い偏光118C(例えば、垂直の偏光)を生じるような構成で良い。偏光子115は散光119Aに第2の偏光を与えて良い。偏光子111及び偏光子115のために様々な偏光の組み合わせが用いられて良い。例えば偏光子111及び偏光子115は以下の各々の偏光を与えても良い:水平/垂直、垂直/水平、方位角方向/半径方向、及び/又は半径方向方位角方向。
ターゲットオーバーレイオフセットの計算に用いられる逆対称差分信号は下記のように散乱測定システムの照明経路及び集光経路の様々な光学的構成を用いてセル上の2つの測定を行うことによって取得されて良い。図10を参照して逆対称差分信号を用いた試料のオーバーレイオフセットの推定のための方法1000が示される。
操作のフロー、記述及び説明は例示の図1〜9Bに関して、及び/又は他の実施例及び文脈に関してなされる。操作のフローは多くの他の環境及び文脈、及び/又は図1〜9Bの修正版において行われて良いことを理解いただきたい。加えて、様々な操作フローは図示の順序で示されるが、様々な操作が示されるもの以外の順番及び組み合わせで行われて良いことを理解いただきたい。例えば、いかなる操作手順がいかなる他の操作手順といかなる順序で組み合わされて良い。
図10を参照して、操作1010は第1の散乱測定セルに関する第1の逆対称差分信号(ΔS1)の取得を表す。例えば、図1〜4に示されるように、光源110は散光119を生成するためにセルの対128の第1の散乱測定セル127Aを入射光118の第1のビーム(例えば第1の偏光を有するビーム)で照射してよい。CCD検出器116は散光119を受けその光を計算装置126によって処理されるべき電気信号に変換してよい。更に、光源110は散光119を生成するためにセルの対128の第1の散乱測定セル127Aを入射光118の第2のビーム(例えば第2の偏光を有するビーム)で照射してよい。CCD検出器116は散光119を受けその光を計算装置126によって処理されるべき電気信号に変換してよい。計算装置126は散乱測定セル127Aの各照射に関する電子信号応答を受け信号間の差分を計算して良い。
操作1020は第2の散乱測定セルに関する第2の逆対称差分信号(ΔS2)の取得を表す。例えば、図1〜4に示されるように、光源110は散光119を生成するためにセルの対128の第2の散乱測定セル127Bを入射光118の第1のビーム(例えば第1の偏光を有するビーム)で照射してよい。CCD検出器116は散光119を受けその光を計算装置126によって処理されるべき電気信号に変換してよい。更に、光源110は散光119を生成するためにセルの対128の第2の散乱測定セル127Bを入射光118の第2のビーム(例えば第2の偏光を有するビーム)で照射してよい。CCD検出器116は散光119を受けその光を計算装置126によって処理されるべき電気信号に変換してよい。計算装置126は散乱測定セル127Bの各照射に関する電子信号応答を受け信号間の差分を計算して良い。
操作1030は第1の散乱測定セルに関する第1の逆対称差分(ΔS1)信号及び第2の散乱測定セルに関する第2の逆対称差分信号(ΔS2)からオーバーレイオフセットを計算することを示す。例えば、操作1110に示されるように、所定の方向のプログラムされたオフセットv1=f0及びv1=−f0及び(操作1010に規定されるように)差分信号ΔS1及び(操作1020に規定されるような)逆対称な差分信号ΔS2を有するセルの対128Aの第1のセル127A及び第2のセル127Bの場合、オーバーレイ及びプログラムされたオフセットの両方が小さければ、差分信号は合計オフセットの線形関数であると想定されうる:
ΔS1∝f0+オーバーレイ;ΔS2∝−f0+オーバーレイ
それゆえ、(例えばx方向に沿った)セルの対128のオーバーレイオフセットは以下として計算されうる:
オーバーレイオフセット
ΔS1∝f0+オーバーレイ;ΔS2∝−f0+オーバーレイ
それゆえ、(例えばx方向に沿った)セルの対128のオーバーレイオフセットは以下として計算されうる:
1つの実施形態において、図12に示されるように操作1010の第1の散乱測定セルに関する第1の逆対称差分信号(ΔS1)の取得は追加の操作1210及び1220を含んで良く、及び操作1020の第2の散乱測定セルに関する第2の逆対称差分信号(ΔS2)の取得は追加の操作1230及び1240を含んで良い。
操作1210は第1の照射ビームによる照射に応答して第1の散乱測定セルによって生成された散乱信号及び第2の照射ビームによる照射に応答して第1の散乱測定セルによって生成された散乱信号の取得を記す。例えば、図1〜4に示されるように、光源110は散光119を生成するためにセルの対128の第1の散乱測定セル127Aを入射光118の第1のビーム(例えば第1の偏光を有するビーム)で照射してよい。CCD検出器116は散光119を受けその光を計算装置126によって処理されるべき電気信号に変換してよい。更に、光源110は散光119を生成するためにセルの対128の第1の散乱測定セル127Aを入射光118の第2のビーム(例えば第2の偏光を有するビーム)で照射してよい。CCD検出器116は散光119を受けその光を計算装置126によって処理されるべき電気信号に変換してよい。
操作1220は第1の照射ビームによる照射に応答して第1の散乱測定セルによって生成された散乱信号及び第2の照射ビームによる照射に応答して第1の散乱測定セルによって生成された散乱信号との間の差分信号(ΔS1)の計算を記す。例えば、計算装置126はセルの対128の第1のセル127Aによる第1の照射光線(例えば第1の偏光を有するビーム)の散光に応答して生成された検出器116からの第1の電子信号を受けて良い。計算装置126は更にセルの対128の第1のセル127Aによる第2の照射光線(例えば第2の偏光を有するビーム)の散光に応答して生成された検出器116からの第2の電子信号を受けて良い。計算装置126はバックグラウンド効果、ノイズ等を除去するために第1の及び第2の電子信号に1つ以上の最適化計算(正規化、暗信号の除去、等)を実行して良い。そうした計算に従い、計算装置126はそれから第1の電子信号及び第2の電子信号の間の差分を計算して良い。
操作1230は第1の照射ビームによる照射に応答して第2の散乱測定セルによって生成された散乱信号及び第2の照射ビームによる照射に応答して第2の散乱測定セルによって生成された散乱信号の取得を記す。例えば、図1〜4に示されるように、光源110は散光119を生成するためにセルの対128の第2の散乱測定セル127Bを入射光118の第1のビーム(例えば第1の偏光を有するビーム)で照射してよい。CCD検出器116は散光119を受けその光を計算装置126によって処理されるべき電気信号に変換してよい。更に、光源110は散光119を生成するためにセルの対128の第2の散乱測定セル127Bを入射光118の第2のビーム(例えば第2の偏光を有するビーム)で照射してよい。CCD検出器116は散光119を受けその光を計算装置126によって処理されるべき電気信号に変換してよい。
操作1240は第1の照射ビームによる照射に応答して第2の散乱測定セルによって生成された散乱信号及び第2の照射ビームによる照射に応答して第2の散乱測定セルによって生成された散乱信号との間の第2の差分信号(ΔS2)の計算を記す。例えば、計算装置126はセルの対128の第2のセル127Bによる第1の照射光線(例えば第1の偏光を有するビーム)の散光に応答して生成される検出器116からの第1の電子信号を受けて良い。計算装置126は更にセルの対128の第2のセル127Bによる第2の照射光線(例えば第2の偏光を有するビーム)の散光に応答して生成された検出器116からの第2の電子信号を受けて良い。計算装置126はそれから第1の電子信号及び第2の電子信号の間の差分を計算して良い。
実施形態において、図13Aおよび図13Bに示されるように第1の照射ビームによる照射に応答して第1の散乱測定セルによって生成された散乱信号及び操作1210の第2の照射ビームによる照射に応答して第1の散乱測定セルによって生成された散乱信号の取得は追加の操作1310〜1340を含んで良く、第1の照射ビームによる照射に応答して第2の散乱測定セルによって生成された散乱信号及び操作1230の第2の照射ビームによる照射に応答して第2の散乱測定セルによって生成された散乱信号の取得は追加の操作1350〜1380を含んで良い。
操作1310は第1の偏光を有する照射ビームでの第1の散乱測定セルの照射を表す。例えば、図2から6Bに示されるように、偏光子111は入射光118Aに第1の偏光を行い第1の偏光を有する偏光118Bを生じるような構成で良い。偏光子111の回転角は特定の偏光構成を設定するように調整されて良い。偏光118Bは第1のセル127Aを照射するためにレンズ112を収束することでオーバーレイターゲット113のセルの対128(例えばセルの対128A)の第1のセル127Aの方に向けられて良い。偏光118Bは第1のセル127Aによって散乱され散光119Aを生じて良い。
操作1320は第1の偏光を有する照射ビームによる照射に応答して第1の散乱測定セルによって生成された散乱信号に第2の偏光を与えることを示す。例えば、図2から6Bに示されるように、偏光子115は散光119Aに第2の偏光を行い第2の偏光を有する偏光散乱光119Aを生じるような構成であって良い。偏光子111の回転角は特定の偏光構成を設定するように調整されて良い。
操作1330は第2の偏光を有する照射ビームでの第1の散乱測定セルの照射を表す。例えば、図2から6Bに示されるように、偏光子111は(例えば操作1015にあるように)散光子115によって先に散光119Aに与えられた第2の偏光を入射光118Aに行い第2の偏光を有する偏光118Bを生じるような構成で良い。偏光子111の回転角は特定の偏光構成を設定するように調整されて良い。第2の偏光を有する偏光118Bは第1のセル127Aを照射するためにレンズ112を収束することでオーバーレイターゲット113の第1のセル127Aの方に向けられて良い。偏光118Bは第1のセル127Aによって散乱され散光119Aを生じて良い。
操作1340は第2の偏光を有する照射ビームによる照射に応答して第1の散乱測定セルによって生成された散乱信号に第1の偏光を与えることを示す。例えば、図2から6Bに示されるように、偏光子115は(例えば操作1010にあるように)散光子111によって先に入射光118Bに与えられた第1の偏光を散光119Aに行い第1の偏光を有する偏光散乱光119Bを生じるような構成で良い。偏光子115の回転角は特定の偏光構成を設定するように調整されて良い。
図5Aを参照して、(操作1310〜1320に関して先に記載されたように)第1の散乱測定セルに関する第1の散乱測定において、偏光子111は第1の直線偏光(例えば、垂直偏光)を入射光118Aに行う構成であって良く偏光子115は第1の直線偏光(例えば、水平偏光)に直交する第2の直線偏光を散光119Aに与える構成で良い。図5Bを参照して、(操作1330〜1340に関して先に記載されたように)第1の散乱測定セルに関する第2の散乱測定において、偏光子111は第2の直線偏光(例えば、水平偏光)を入射光118Aに与える構成であって良く偏光子115は第2の直線偏光(例えば、垂直偏光)に直交する第1の直線偏光を散光119Aに与える構成で良い。
代わりに、図6Aを参照して、(操作1310〜1320に関して先に記載されたように)第1の散乱測定セルに関する第1の散乱測定において、偏光子111は環状偏光を入射光118Aに行う構成であって良く偏光子115はラジアル偏光を散光119Aに与える構成であって良い。図6Bを参照して、(操作1330〜1340に関して先に記載されたように)第1の散乱測定セルに関する第2の散乱測定において、偏光子111はラジアル偏光を入射光118Aに行う構成であって良く偏光子115は環状偏光を散光119Aに与える構成であって良い。
操作1350は第1の偏光を有する照射ビームでの第2の散乱測定セルの照射を表す。例えば、図2から6Bに示されるように、偏光子111は入射光118Aに第1の偏光を与え第1の偏光を有する偏光118Bを生じるような構成で良い。偏光子111の回転角は特定の偏光構成を設定するように調整されて良い。偏光118Bは第2の127Bを照射するためにレンズ112を収束することでオーバーレイターゲット113のセルの対128(例えばセルの対128A)の第2のセル127Bの方に向けられて良い。偏光118Bは第2のセル127Bによって散乱され散光119Aを生じて良い。
操作1360は第2の偏光を有する照射ビームによる照射に応答して第2の散乱測定セルによって生成された散乱信号に第1の偏光を与えることを示す。例えば、図2から6Bに示されるように、偏光子115は散光119Aに第2の偏光を行い第2の偏光を有する偏光散乱光119Aを生じるような構成で良い。偏光子111の回転角は特定の偏光構成を設定するように調整されて良い。
操作1370は第2の偏光を有する照射ビームでの第2の散乱測定セルの照射を表す。例えば、図2から6Bに示されるように、偏光子111は(例えば操作1035にあるように)散光子115によって先に散光119Aに与えられた第2の偏光を入射光118Aに与え第2の偏光を有する偏光118Bを生じるような構成で良い。偏光子111の回転角は特定の偏光構成を設定するように調整されて良い。第2の偏光を有する偏光118Bは第2のセル127を照射するためにレンズ112を収束することでオーバーレイターゲット113の第2のセル127Bの方に向けられて良い。偏光118Bは第2のセル127Bによって散乱され散光119Aを生じて良い。
操作1370は第2の偏光を有する照射ビームによる照射に応答して第2の散乱測定セルによって生成された散乱信号に第1の偏光を与えることを示す。例えば、図2から6Bに示されるように、偏光子115は(例えば操作1030にあるように)散光子111によって先に入射光118Bに与えられた第1の偏光を散光119Aに行い第1の偏光を有する散光119Bを生じるような構成で良い。偏光子115の回転角は特定の偏光構成を設定するように調整されて良い。
図5Aを参照して、(操作1350〜1360に関して先に記載されたように)第2の散乱測定セルに関する第1の散乱測定において、偏光子111は第1の直線偏光(例えば、垂直偏光)を入射光118Aに行う構成であって良く偏光子115は第1の直線偏光(例えば、水平偏光)に直交する第2の直線偏光を散光119Aに与える構成で良い。図5Bを参照して、(操作1370〜1380に関して先に記載されたように)第2の散乱測定セルに関する第2の散乱測定において、偏光子111は第2の直線偏光(例えば、水平偏光)を入射光118Aに与える構成であって良く偏光子115は第2の直線偏光(例えば、垂直偏光)に直交する第1の直線偏光を散光119Aに与える構成で良い。
代わりに、図6Aを参照して、(操作1350〜1360に関して先に記載されたように)第1の散乱測定セルに関する第1の散乱測定において、偏光子111は環状偏光を入射光118Aに与える構成であって良く偏光子115はラジアル偏光を散光119Aに与える構成であって良い。図6Bを参照して、(操作1370〜1380に関して先に記載されたように)第1の散乱測定セルに関する第2の散乱測定において、偏光子111はラジアル偏光を入射光118Aに与える構成であって良く偏光子115は環状偏光を散光119Aに与える構成であって良い。
実施形態において、図14に示されるように第1の照射ビームによる照射に応答して第1の散乱測定セルによって生成された散乱信号及び操作1210の第2の照射ビームによる照射に応答して第1の散乱測定セルによって生成された散乱信号の取得は追加の操作1410〜1420を含んで良く、第1の照射ビームによる照射に応答して第2の散乱測定セルによって生成された散乱信号及び操作1230の第2の照射ビームによる照射に応答して第2の散乱測定セルによって生成された散乱信号の取得は追加の操作1430〜1440を含んで良い。
1つの実施形態において、図12に示されるように操作1010の第1の散乱測定セルに関する第1の逆対称差分信号(ΔS1)の取得は追加の操作1410及び1420を含んで良く、及び操作1020の第2の散乱測定セルに関する第2の逆対称差分信号(ΔS2)の取得は追加の操作1430及び1440を含んで良い。
操作1410及び1430は少なくとも1つの波長板を通じた第1の偏光及び第2の偏光の少なくとも1つを有する照射ビームのルーティングを示す。操作1420は少なくとも1つの波長板を通じた1つ以上の散乱信号のルーティングを示す。例えば、図19Aに示されるように、逆対称差分信号は照明経路内の偏光子111、照明経路内の波長板130A(例えば四分の一波長板)、集光経路内の波長130B(例えば四分の一波長板)及び集光経路内の偏光子115を含む光学的設定で取得されて良い。偏光子及び波長板は適切な偏光子及び波長板の角度で測定された差分信号が逆対称条件に従うように構成されて良い。例えば、照明経路内の偏光子111の角度はセルの第1の測定で0度及びセルの第2の測定で90度でよい。集光経路内の偏光子115の角度はセルの第1の測定で90度及びセルの第2の測定で0度でよい。照明経路内の波長板130Aの角度はセルの両方の測定で45度でよい。集光経路内の波長板130Bの角度はセルの両方の測定で−135度でよい。こうした測定スキームの利点は偏光の柔軟性及びオーバーレイに最適な感度のための相含有量を可能にすることである。加えて、こうした光学的構成は比較的小さい入射角に最適なオーバーレイ感度を有するように調整されてよい。この場合、アポダイジング開口131によるアポディゼーション照明瞳122はオーバーレイへの感度の損失なしにスポットサイズを減少するために用いられて良い。
図19Bに示される代替の構成において、逆対称差分信号は両方の波長板130が2度(例えば、ウエハの照射前に入射光118によって一度及び散乱測定セル127によって入射光118の散光に続いて散光119によって2回目)通過されるように、照明経路内の偏光子111、集光経路内の偏光子115及び照明経路及び集光経路に共通な位置内の少なくとも2つの波長板(例えば、半波長板130A四分の一波長板130B)を含む光学的構成で取得されて良い。例えば、セルの第1の測定に対して偏光子111は0度、半波長板130Aは205度、四分の一波長板130Bは5度及び偏光子115は90度であってよい。セルの第2の測定に対して、偏光子111は90度、半波長板130Aは300度、四分の一波長板130Bは15度及び偏光子115は0度であってよい。
代替の実施形態において、図15に示されるように方法1000は追加の操作1510を含んで良い。
操作1510は源からの1つ以上の照射ビームの供給を示す。例えば、光源110は入射光118を発して良い。図7Aに示されるように、光源110は環状部123を有する照明瞳122を含んで良い。環状部123を含む照明瞳122の使用は鏡面反射(すなわちゼロ次回折)経由で瞳内の複数の位置で測定されるべき散乱信号を可能にしてよい。代替として、図8Aに示されるように、全照明瞳122が用いられて良い。代替として、図9Aに示されるように、アポダイズ照明瞳122が用いられて良い。更に、入射光118は単色照射ビーム又は多波長の連続を含む照射ビームであってよい。
代替の実施形態において、図16に示されるように方法1000は追加の操作1610を含んで良い。
操作1610は1つ以上の散乱信号の受信を示す。例えば、図3〜4及び7B、8B及び9Bに示されるように、CCD検出器116は散光119Bを受けその光を計算装置126によって処理されるべき電気信号に変換してよい。図7Bに示されるように、検出器116は隙間125を有する収集瞳124を含んで良い。図7Bの収集瞳124を含む検出器116は図7Aの照明瞳122を含む光源110と組み合わせて用いられて良い。代替として、図8Bに示されるように、検出器116は受光ピクセル125を有する収集瞳124を含んで良い。図8Bの収集瞳124を含む検出器116は図8Aの照明瞳122を含む光源110と組み合わせて用いられて良い。代替として、図9Bに示されるように、検出器116は受光ピクセル125を有する収集瞳124を含んで良い。図9Bの収集瞳124を含む検出器116は図9Aの照明瞳122を含む光源110と組み合わせて用いられて良い。計算装置126はオーバーレイターゲット113の1つ以上の散乱測定セル127の光散乱特性を示すCCD検出器116によって生成された電子信号を受けて良い。計算装置は電子信号から試料の1つ以上の計測特性(例えばオーバーレイオフセット、臨界距離等)を計算して良い。
代替の実施形態において、図17に示されるように方法1000は追加の操作1710及び1720を含んで良い。
操作1710は第3の散乱測定セルに関する第3の逆対称差分信号(ΔS3)の取得を表す。例えば、図1〜4に示されるように、光源110は散光119を生成するためにオーバーレイターゲット113の第3の散乱測定セル127Cを入射光118の第1のビーム(例えば第1の偏光を有するビーム)で照射してよい。CCD検出器116は散光119を受けその光を計算装置126によって処理されるべき電気信号に変換してよい。更に、光源110は散光119を生成するためにオーバーレイターゲット113の第3の散乱測定セル127Cを入射光118の第2のビーム(例えば第2の偏光を有するビーム)で照射してよい。CCD検出器116は散光119を受けその光を計算装置126によって処理されるべき電気信号に変換してよい。計算装置126は散乱測定セル127Cの各照射に関する電子信号応答を受け信号間の差分を計算して良い。
操作1720は第2の散乱測定セルに関する第2の逆対称差分信号(ΔS2)及び第3の散乱測定セルに関する第3の逆対称差分信号(ΔS3)からオーバーレイオフセットを計算することを示す。例えば、所定の方向のプログラムされたオフセットv2=f0及びv3=−f0及び(操作1020に規定されるように)差分信号ΔS2及び(操作1710に規定されるような)逆対称な差分信号ΔS3を有するオーバーレイターゲット113の第2のセル127B及び第3のセル127Cの場合、オーバーレイ及びプログラムされたオフセットの両方が小さければ、差分信号は合計オフセットの線形関数であると想定されうる:
ΔS2∝f0+オーバーレイ;ΔS1∝−f0+オーバーレイ
それゆえ、セルの対128Bのオーバーレイオフセットは以下として計算されうる:
オーバーレイオフセット
ΔS2∝f0+オーバーレイ;ΔS1∝−f0+オーバーレイ
それゆえ、セルの対128Bのオーバーレイオフセットは以下として計算されうる:
本発明の前述の実施形態は図及び説明で提供されて良い。これらは本発明を記載される詳細な形式に制限することを意図するものではない。例えば、散乱測定との関連で本明細書に記載される方法は偏光反射法に等しくあてはまる。その他の変形例及び実施形態は上記教示を踏まえて可能であり、かくして本発明の範囲は詳細な説明でなく付属の特許請求の範囲によって限定される。
前述の詳細な説明はブロック図、フローチャート及び/又は実施例の使用を通じて装置及び/又はプロセスの様々な実施形態を説明した。こうしたブロック図、フローチャート及び/又は実施例が1つ以上の機能及び/又は運用を包含する限り、こうしたブロック図、フローチャート又は実施例内の各機能及び/又は運用はハードウェア、ソフトウェア、ファームウェア又は事実上そのいかなる組み合わせの広い範囲によって個別に及び/又は集合的に実施されうることを当業者は理解するだろう。1つの実施形態において、本明細書に記載される内容のいくつかの部分は特定用途向け集積回路(ASICs)、フィールド・プログラマブル・ゲート・アレー(FPGAs)、デジタル・シグナル・プロセッサ(DSP)又はその他の統合形式で実施されて良い。しかしながら、本明細書で開示される実施形態のいくつかの態様は、1つ以上のコンピューターで作動する1つ以上のコンピュータープログラムとして(例えば、1つ以上のコンピューターシステム上で作動する1つ以上のプログラムとして)、1つ以上のプロセッサで作動する1つ以上のプログラムとして(例えば、1つ以上のマイクロプロセッサで作動する1つ以上のプログラムとして)、ファームウェアとして又は実質そのいかなる組み合わせとして、全体又は部分的に、集積回路に均等に実施可能で、回路の設計及び/又はソフトウェア及び又はファームウェアのためのコードの書き込みは本開示に照らして当業者の技能の範囲内であることを当業者は理解するだろう。加えて、本明細書に記載される内容の機構は様々な形式でプログラム製品として提供可能であって良く、提供を実際に実行するために用いられる信号搬送媒体の特定の種類に関わらず本明細書に記載される内容の例示的な実施形態が当てはまることを当業者は理解するだろう。信号搬送媒体の実施例は以下を含むが、それに制限されるものではない:フレキシブルディスク、ハードディスクドライブ、コンパクトディスク(CD)、デジタルビデオディスク(DVD)、デジタルテープ、コンピューターメモリー等の記録可能式媒体;デジタル及び/又はアナログ通信媒体(例えば、光ファイバーケーブル、導波管、有線通信リンク、無線通信リンク(例えば、送信機、受信機、送信論理、受信論理等)等)のような伝送式媒体。
一般的に、広い範囲のハードウェア、ソフトウェア、ファームウェア又はその組み合わせによって個別及び/又は一括で実施されうる本明細書に記載される様々な態様は様々な種類の「電気回路」からなると考えられることを当業者は認識するだろう。その結果、本明細書で用いられる「電気回路」は少なくとも1つのディスクリート電気回路を有する電気回路、少なくとも1つの集積回路を有する電気回路、少なくとも1つの特定用途向け集積回路を有する電気回路、コンピュータープログラムによって構成される汎用計算装置を形成する電気回路(例えば、少なくとも部分的にプロセスを実行するコンピュータープログラムによって構成される汎用計算装置及び/又は本明細書に記載される装置)、メモリー装置を形成する電気回路(例えば、ランダムアクセスメモリーの形式)、及び/又は通信装置を形成する電気回路(例えば、モデム、通信スイッチ、又は光電気装置)を含むが、これに限定されるものではない。当業者は本明細書に記載される内容がアナログ又はデジタル形式又はその組み合わせで運用されて良いことを理解するだろう。
本明細書に記載された内容は異なるその他の部分の中、又は接続された異なる部分を示すことがある。こうした描かれた構造は例示的のみであって良く、同じ機能を達成する多くの他の構造が事実上運用されてよい。概念的な意味で、同じ機能を達成するための部品のいかなる配置も所望の機能が達成されるように効果的に「関連」してよい。かくして、特定の機能を達成するために組み合わされた本明細書に記載されるいかなる2つの部品も構造又は中間の部品に関わらず、所望の機能が達成されるように互いに「関連する」と見なされうる。同様に、そのように関連したいかなる2つの部品も所望の機能を達成するために「操作可能に接続される」又は「操作可能に連結される」と考えることも可能であり、そのように関連されうるいかなる2つの部品も所望の機能を達成するために互いに「操作可能に連結可能」であるとも見なされうる。操作可能に連結可能な具体的な実施例は物理的に組み付け可能な及び/又は物理的に相互作用する部品、及び/又は無線で相互作用可能な、及び/又は無線で相互作用する部品、及び/又は論理的に相互作用する、及び/又は論理的に相互作用可能な部品を含むがそれらに制限されるものではない。
場合によって、1つ以上の部品は本明細書で「構成される」、「構成可能」、「操作可能/作用する」、「適応する/適応可能な」、「可能な」、「適合可能な/適合する」等として呼ばれうる。当業者は文脈上他の意味に解すべき場合を除き、「構成される」が活動状態の部品及び/又は非活動状態の部品及び/又は待機状態の部品を広く包括しうることを理解するだろう。本明細書に記載される本内容の特定の態様は図示され既述されるが、本明細書の教示に基づき、本明細書に記載される内容から逸脱することなく変更又は修正が成されて良く、より広い態様及び、それゆえ付属の特許請求の範囲が本明細書に記載される内容の真の趣旨及び範囲内であるように全てのこうした変更及び修正をその範囲内に包含すべきものであってよい。一般に本明細書で、及び特に付属の特許請求の範囲(例えば、付属の特許請求の範囲の本文)で用いられる用語は広く「開かれた」用語(例えば、「含む」という用語は「含むが制限されない」として解釈されるべきで、「有する」という用語は「少なくとも有する」として解釈されるべきで、「含む」という用語は「含むが制限されない」として解釈されるべき、等)として意図されてよい。特定の数の導入された請求項の記載が意図される場合、そうした意図は請求項内に明示的に示されそうした記載が無い場合、そうした意図は存在しないものとされてよいことが更に当業者に理解されるであろう。例えば、理解の助けとして、以下の付属の特許請求の範囲は請求項の記載を導入するために導入句「少なくとも1つの」及び「1つ以上の」の使用を包含してよい。しかしながら、同じ請求項が導入句「1つ以上の」又は「少なくとも1つの」及び「ある」のような不定冠詞(例えば、「ある」は「少なくとも1つの」又は「1つ以上の」を意味すると一般的に解釈される)を含む場合でも、こうした句の使用は「ある」という不定冠詞によって請求項の記載の導入がこうした導入された請求項の記載を包含するいかなる特定の請求項をこうした記載1つのみを包含する請求項に限定することを暗示すると解釈されるべきではない;同じことは請求項の記載を導入するために用いられる定冠詞の使用にあてはまる。加えて、特定の数の導入された請求項の記載が明示的に述べる場合であっても、こうした記載は一般的に少なくとも記載された数を意味すると解釈されるべきである(例えば、他の修飾語句の無い単なる記述の「2つの記述」は一般的に少なくとも2つの記述、又は2つ以上の記述を意味する)と当業者は認識するであろう。更に、「A、B、及びCの少なくとも1つ等」に似た規則が用いられる場合、一般にこうした構成は当業者が規則を理解するであろう様な意味を意図される(例えば、「A、B及びCの少なくとも1つを有するシステム」はAのみ、Bのみ、Cのみ、AとBが一緒、AとCが一緒、BとCが一緒、及び/又はA、B及びCが一緒を有するシステムを含むがそれらに制限されるものではない、等)。「A、B、又はCの少なくとも1つ等」に似た規則が用いられる場合、一般にこうした構成は当業者が規則を理解するであろう様な意味を意図される(例えば、「A、B又はCの少なくとも1つを有するシステム」はAのみ、Bのみ、Cのみ、AとBが一緒、AとCが一緒、BとCが一緒、及び/又はA、B及びCが一緒を有するシステムを含むがそれらに制限されるものではない、等)。一般的に2つ以上の代替用語を表す離接語及び/又は句は、説明、特許請求の範囲又は図面で用いられようが、用語の内の1つを含む、用語のいずれか、又は両方の用語の可能性を考慮すべきと理解されるべきということを当業者によって更に理解されるであろう。例えば、句「A又はB」は一般的に「A」又は「B」又は「A及びB」の可能性を含むと理解されるであろう。
付属の特許請求の範囲に関し、当業者はそこに記載された操作が一般にいかなる順に行われて良いことを理解するであろう。又、様々な操作フローが順番で示されるが、様々な操作が示されるもの以外の順番に行われて良く、又、同時に行われて良いことを理解いただきたい。前後関係で示されない限り、こうした代替順序の実施例は重複、交互的、中断、並べ替え、段階的、予備的、補助的、同時、逆順、又はその他の異なる順を含んで良い。前後関係に関して、「応答する」、「関する」、又はその他の過去形の形容詞のような用語でさえ、前後関係で示されない限りそうした異なるものを概して排除することを意図しなくてよい。
具体的な従属が特許請求の範囲内に特定されるが、特許請求の範囲の特長の全ての可能な組み合わせが本出願内に想定されて良いことに留意いただきたく、それゆえ特許請求の範囲は全ての可能な複数の従属を含むと解釈されて良い。本開示及びその付随の利点の多くは先の記載により理解されると思われ、開示された内容から逸脱することなく又は物質的利点の全てを犠牲にすることなく部品の形式、構造及び配置に様々な変更がなされうることは明らかであろう。記載された形式は例示のみであって良く、以下の特許請求の範囲がこうした変更を包含することが意図されて良い。
Claims (21)
- オーバーレイオフセットを特定するための方法において、
第1の散乱測定セルに関する第1の逆対称差分信号(ΔS1)の取得と、
第2の散乱測定セルに関する第2の逆対称差分信号(ΔS2)の取得と、
前記第1の散乱測定セルに関する前記第1の逆対称差分(ΔS1)信号及び前記第2の散乱測定セルに関する前記第2の逆対称差分信号(ΔS2)からオーバーレイオフセットを計算することと、を備える方法。 - 請求項1に記載の方法において、
第1の散乱測定セルに関する第1の逆対称差分信号(ΔS1)の前記取得は、
第1の照射ビームによる照射に応答した第1の散乱測定セルによって生成された散乱信号及び第2の照射ビームによる照射に応答した前記第1の散乱測定セルによって生成された散乱信号の取得と、
前記第1の照射ビームによる照射に応答した前記第1の散乱測定セルによって生成された前記散乱信号及び前記第2の照射ビームによる照射に応答した前記第1の散乱測定セルによって生成された前記散乱信号の間の差分信号(ΔS1)の計算と、を備え、
第2の散乱測定セルに関する第2の逆対称差分信号(ΔS2)の前記取得は、
第1の照射ビームによる照射に応答して第2の散乱測定セルによって生成された散乱信号及び第2の照射ビームによる照射に応答して前記第2の散乱測定セルによって生成された散乱信号の取得と、
前記第1の照射ビームによる照射に応答して前記第2の散乱測定セルによって生成された前記散乱信号及び前記第2の照射ビームによる照射に応答して前記第2の散乱測定セルによって生成された前記散乱信号の間の第2の差分信号(ΔS2)の計算と、を備える方法。 - 請求項3に記載の方法において、
第1の照射ビームによる照射に応答した第1の散乱測定セルによって生成された散乱信号及び第2の照射ビームによる照射に応答した前記第1の散乱測定セルによって生成された散乱信号の前記取得は、
第1の偏光を有する照射ビームでの前記第1の散乱測定セルの照射と、
前記第1の偏光を有する前記照射ビームによる照射に応答して前記第1の散乱測定セルによって生成された散乱信号に第2の偏光を与えることと、
前記第2の偏光を有する照射ビームでの前記第1の散乱測定セルの照射と、
前記第2の偏光を有する照射ビームによる照射に応答して前記第1の散乱測定セルによって生成された散乱信号に前記第1の偏光を与えることと、を備え、
第1の照射ビームによる照射に応答して第2の散乱測定セルによって生成された散乱信号及び第2の照射ビームによる照射に応答して前記第2の散乱測定セルによって生成された散乱信号の前記取得は、
前記第1の偏光を有する照射ビームでの前記第2の散乱測定セルの照射と、
前記第1の偏光を有する照射ビームによる照射に応答して前記第2の散乱測定セルによって生成された散乱信号に前記第2の偏光を与えることと、
前記第2の偏光を有する照射ビームでの前記第2の散乱測定セルの照射と、
前記第2の偏光を有する照射ビームによる照射に応答して前記第2の散乱測定セルによって生成された散乱信号に前記第1の偏光を与えることと、を備える方法。 - 請求項4に記載の方法において、さらに、
前記第1の偏光及び前記第2の偏光の少なくとも1つを有する照射ビームに位相シフトを与えることと、
前記第1の散乱測定セル及び前記第2の散乱測定セルの少なくとも1つによって生成された散乱信号に位相シフトを与えることと、を備える方法。 - 請求項5に記載の方法において、さらに、
前記第1の偏光及び前記第2の偏光の少なくとも1つを有する照射ビームに第2の位相シフトを与えることと、
前記第1の散乱測定セル及び前記第2の散乱測定セルの少なくとも1つによって生成された散乱信号に第2の位相シフトを与えることと、を備える方法。 - 請求項4に記載の方法において、さらに、
少なくとも1つの波長板を通じた前記第1の偏光及び前記第2の偏光の少なくとも1つを有する照射ビームのルーティングと、
前記少なくとも1つの波長板を通じた1つ以上の散乱信号のルーティングと、を備える方法。 - 請求項4に記載の方法において、
前記第1の偏光及び前記第2の偏光は直交する直線偏光である方法。 - 請求項4に記載の方法において、
前記第1の偏光は方位角偏光で、前記第2の偏光はラジアル偏光である方法。 - 請求項1に記載の方法において、さらに、
源からの1つ以上の照射ビームの供給を備える方法。 - 請求項10に記載の方法において、
源からの1つ以上の照射ビームの前記供給は、
少なくとも部分的に環状の照明瞳を有する源からの1つ以上の照射ビームの供給を備える方法。 - 請求項10に記載の方法において、
源からの1つ以上の照射ビームの前記供給は、
少なくとも部分的にアポダイズされた照明瞳を有する源からの1つ以上の照射ビームの供給を備える方法。 - 請求項10に記載の方法において、
源からの1つ以上の照射ビームの前記供給は、
源からの単色の照射ビームの供給を備える方法。 - 請求項10に記載の方法において、
源からの1つ以上の照射ビームの前記供給は、
波長の列を備える源からの照射ビームの供給を備える方法。 - 請求項1に記載の方法において、
前記第1の散乱測定セルは、第1の方向の第1のプログラムされたオフセットと前記第1の方向に直行する第2の方向の第2の非ゼロのプログラムされたオフセットとを有する2次元の格子パターンを備え、
前記第2の散乱測定セルは、前記第1の散乱測定セルの前記第1のプログラムされたオフセットに等しくない前記第1の方向の第1のプログラムされたオフセットと前記第1の散乱測定セルの前記第2のプログラムされたオフセットに等しい前記第2の方向の非ゼロのプログラムされたオフセットとを有する2次元の格子パターンを備える方法。 - 請求項1に記載の方法において、さらに、
1つ以上の散乱信号の受信を備える方法。 - 請求項1に記載の方法において、さらに、
第3の散乱測定セルに関する第3の逆対称差分信号(ΔS1)の取得を備える方法。 - 請求項17に記載の方法において、さらに、
前記第2の散乱測定セルに関する前記第2の逆対称差分信号(ΔS2)及び第3の散乱測定セルに関する第3の逆対称差分信号(ΔS3)からオーバーレイオフセットを計算することを備える方法。 - 請求項18に記載の方法において、
前記第1の散乱測定セルに関する前記第1の逆対称差分(ΔS1)信号及び前記第2の散乱測定セルに関する前記第2の逆対称差分信号(ΔS2)からオーバーレイオフセットを前記計算することは、第1の方向のオーバーレイオフセットの計算を備え、
前記第2の散乱測定セルに関する前記第2の逆対称差分信号(ΔS2)及び第3の散乱測定セルに関する第3の逆対称差分信号(ΔS3)からオーバーレイオフセットを前記計算することは、前記第1の方向に直交する第2の方向のオーバーレイオフセットの計算を備える方法。 - 第1の散乱測定セルに関する第1の逆対称差分信号(ΔS1)の取得のための手段と、
第2の散乱測定セルに関する第2の逆対称差分信号(ΔS2)の取得のための手段と、
前記第1の散乱測定セルに関する前記第1の逆対称差分(ΔS1)信号及び前記第2の散乱測定セルに関する前記第2の逆対称差分信号(ΔS2)からオーバーレイオフセットを計算するための手段と、を備えるオーバーレイオフセットの特定のためのシステム。 - 第1の散乱測定セルに関する第1の逆対称差分信号(ΔS1)の取得のための回路と、
第2の散乱測定セルに関する第2の逆対称差分信号(ΔS2)の取得のための回路と、
前記第1の散乱測定セルに関する前記第1の逆対称差分(ΔS1)信号及び前記第2の散乱測定セルに関する前記第2の逆対称差分信号(ΔS2)からオーバーレイオフセットを計算するための回路と、を備えるオーバーレイオフセットの特定のためのシステム。
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