JP2015215237A - 光導波路の検査方法 - Google Patents

光導波路の検査方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2015215237A
JP2015215237A JP2014098128A JP2014098128A JP2015215237A JP 2015215237 A JP2015215237 A JP 2015215237A JP 2014098128 A JP2014098128 A JP 2014098128A JP 2014098128 A JP2014098128 A JP 2014098128A JP 2015215237 A JP2015215237 A JP 2015215237A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical waveguide
light
optical
inspection method
surface portion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2014098128A
Other languages
English (en)
Inventor
大地 酒井
Daichi Sakai
大地 酒井
黒田 敏裕
Toshihiro Kuroda
敏裕 黒田
忍 栗田
Shinobu Kurita
忍 栗田
富生 小川
Tomio Ogawa
富生 小川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2014098128A priority Critical patent/JP2015215237A/ja
Publication of JP2015215237A publication Critical patent/JP2015215237A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Abstract

【課題】検査を効率的に実施できる光導波路の検査方法を提供する。
【解決手段】本発明の光導波路の検査方法は、光照射部から検査光を光導波路部20a〜20cの光入力部25に照射し、撮像部により光導波路の光出力部23を撮像して画像データを生成する撮像工程と、画像データを解析し、光出力部23の位置、寸法及び形状並びにコアパターン21の光の相対損失の少なくとも1つを算出し、その算出結果に基づき光導波路の合否判定を実施する合否判定工程と、光照射部及び撮像部の位置関係を規定した状態で、光導波路集合体1と、光照射部及び撮像部とをY方向に相対移動させる移動工程とを含む。
【選択図】図1

Description

本発明は光導波路の検査方法に関する。
情報容量の増大に伴い、幹線やアクセス系といった通信分野のみならず、ルータやサーバ内の情報処理や、民生機器ではパソコン、携帯電話にも光信号を用いる光インターコネクション技術の開発が進められている。光伝送路としては、光ファイバに比べ、配線の自由度が高く、かつ高密度化が可能な光導波路を用いることが望ましく、中でも加工性や経済性に優れたポリマー材料を用いた光導波路が有望である。このような光導波路を製造するに当たり、光導波路の寸法や光導通性等を検査する必要がある。例えば、光導波路の光導通性を検査する検査方法として、光導波路の光入力ポートに光を照射し、光導波路の光出力ポートから出力される光の画像をイメージセンサ等で取得し、その画像から光出力ポートから出力される光の強度及び分布を解析することにより光導波路の光導通性を検査する検査方法が知られている(非特許文献1)。この検査方法によれば、複数の光導波路の出力ポートを一つの画像に含まれるようにすることによって複数の出力ポートの一括検査が可能になる。
JPCA−PE02−05−03S−2010、「光配線板の光導通検査方法」
しかしながら、非特許文献1に記載されているような従来の光導波路の検査方法では、光導波路を一つずつ可動ステージに配置して、光導波路の位置合わせをしなければならないので、光導波路の検査に時間が非常にかかっていた。そこで、本発明は、効率的な光導波路の検査方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、以下に示す構成を採用することにより、上記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は以下のとおりである。
[1]X方向にそれぞれ延在する複数の光導波路部と、複数の光導波路部のそれぞれの間に設けられた切断しろとを有し、個片化することにより光導波路が得られる光導波路集合体を用いて光導波路の検査を実施する光導波路の検査方法であって、複数の光導波路部のそれぞれは、1つ以上のコアパターンとコアパターンを埋設するクラッド層とを備え、コアパターンに光を入射させる光入力部とコアパターンを通過した光を出射させる光出力部とを備え、複数の光導波路部は、X方向と略垂直をなすY方向に並列し、複数の光導波路部のY方向のピッチ間距離は、任意の距離で規定されてなり、光導波路の検査方法は、光照射部から検査光を光導波路部の光入力部に照射し、撮像部により光導波路部の光出力部を撮像して画像データを生成する撮像工程と、画像データを解析し、光出力部の位置、寸法及び形状並びにコアパターンの光の相対損失の少なくとも1つを算出し、その算出結果に基づき光導波路の合否判定を実施する合否判定工程と、光照射部及び撮像部の位置関係を規定した状態で、光導波路集合体と、光照射部及び撮像部とをY方向に相対移動させる移動工程とを含む光導波路の検査方法。
[2]撮像工程の前に、複数の光導波路部において少なくとも1つの光導波路部を間引きながら撮像部の光出力部に対する焦点距離を順次測定する焦点距離測定工程を含み、撮像工程は、焦点距離測定工程において測定された焦点距離に基づいて、撮像部が光出力部を撮像するときの焦点距離を決定する、上記[1]に記載の光導波路の検査方法。
[3]複数の光導波路部は、X方向の少なくとも一方の一端に第1の端面、及び第1の端面に近接するY方向の両側に第1の側面部及び第2の側面部をそれぞれ有する、上記[1]又は[2]に記載の光導波路の検査方法。
[4]複数の光導波路部は、X方向の他方の一端に第2の端面及び、第2の端面に近接するY方向の両側に第3の側面部及び第4の側面部をそれぞれ有する、上記[3]に記載の光導波路の検査方法。
[5]複数の光導波路部は、光導波路部のX方向の中央の領域において、Y方向の両側に第5の側面部及び第6の側面部をそれぞれ有する、上記[1]又は[2]に記載の光導波路の検査方法。
[6]複数の光導波路部の第1の端面のX方向の位置が略同一位置である、上記[3]又は[4]に記載の光導波路の検査方法。
[7]第1の端面、及び/又は、第1の側面及び第2の側面が、コアパターンの光軸方向とY方向とにより形成される平面と略垂直をなす、上記[3]又は[4]に記載の光導波路の検査方法。
[8]複数の光導波路部は、X方向及びY方向と略垂直をなすZ方向の少なくとも一方側に第1の側面をそれぞれ有し、第1の側面及び第1の端面に、又は、第1の端面及び第2の端面に、又は、第1の側面に光入力部及び光出力部をそれぞれ備える、上記[1]〜[7]のいずれかに記載の光導波路の検査方法。
[9]複数の光導波路部は、第1の端面に光出力部をそれぞれ備える、上記[8]に記載の光導波路の検査方法。
[10]光導波路集合体を個片化して、複数の光導波路を作製したとき、光導波路の第1の端面と、第1の側面部及び/又は第2の側面部が、外部の筐体の位置合わせの基準面として使用できる、上記[3]又は[4]に記載の光導波路の検査方法。
[11]切断しろは、コアパターンの材質及び/又はクラッド層の材質からなる、上記[1]〜[10]のいずれかに記載の光導波路の検査方法。
[12]複数の光導波路部は、X方向及びY方向と略垂直をなすZ方向の少なくとも一方側に第2の側面をそれぞれ有し、複数の光導波路部の第2の側面上に、隣接する光導波路部を接続する保持基板を備え、切断しろは保持基板からなる、上記[1]〜[10]のいずれかに記載の光導波路の検査方法。
[13]合否判定工程は、コアパターンの光の相対損失を算出する上記[1]〜[12]のいずれかに記載の光導波路の検査方法。
[14]合否判定工程は、光導波路の第1の側面部とコアパターンとの間の距離を算出する、上記[3]又は[4]に記載の光導波路の検査方法。
[15]合否判定工程は、光導波路の第1の側面部と第2の側面部との間の距離を算出する、上記[3]又は[4]に記載の光導波路の検査方法。
本発明によれば、効率的な光導波路の検査方法を提供することができる。
図1は、本発明の一実施形態における光導波路の検査方法で使用する光導波路集合体を説明するための図である。 図2は、光導波路検査装置の概略図である。 図3は、光導波路検査装置による光導波路の検査を説明するための図である。 図4は、光導波路集合体を個片化する工程を説明するための図である。 図5は、焦点距離測定工程を説明するための図である。 図6は、本発明の一実施形態における光導波路の検査方法の変形例3に使用する光導波路集合体を説明するための図である。 図7は、外部の筐体に取り付けた光導波路を示す図である。 図8は、本発明の一実施形態における光導波路の検査方法の変形例3に使用する光導波路集合体におけるコアパターンの光軸方向とY方向とにより形成される平面を説明するための図である。 図9は、本発明の一実施形態における光導波路の検査方法の変形例3を説明するための図である。 図10は、本発明の一実施形態における光導波路の検査方法の変形例4に使用する光導波路集合体を説明するための図である。 図11は、本発明の一実施形態における光導波路の検査方法の変形例5に使用する光導波路集合体を説明するための図である。 図12は、本発明の一実施形態における光導波路の検査方法の変形例6に使用する光導波路集合体を説明するための図である。
以下、本発明の一実施形態の光導波路の検査方法を説明する。なお、本発明の一実施形態の光導波路の検査方法は本発明の光導波路の検査方法を限定しない。本発明の一実施形態における光導波路の検査方法は、光導波路集合体を用いて光導波路の検査を実施する。まず、図1を参照して、本発明の一実施形態における光導波路の検査方法に使用する光導波路集合体について説明する。図1(a)は、本発明の一実施形態における光導波路の検査方法で使用する光導波路集合体の斜視図であり、図2(b)は、その光導波路集合体をX方向から見たときの図である。
図1(a)に示すように、光導波路集合体1は、X方向にそれぞれ延在する複数の光導波路部20a〜20cと、複数の光導波路部20a〜20cのそれぞれの間に設けられた切断しろ40a,40bとを有する。そして、光導波路集合体1を個片化することにより光導波路が得られる。
複数の光導波路部20a〜20cのそれぞれは、1つ以上のコアパターン21とコアパターン21を埋設するクラッド層22とを備える。また、複数の光導波路部20a〜20cのそれぞれは、コアパターン21に光を入射させる光入力部25とコアパター21を通過した光を出射させる光出力部23とを備える。さらに、複数の光導波路部20a〜20cは、X方向と略垂直をなすY方向に並列する。なお、略垂直としたのは、光導波路集合体1が歪んだり反ったりする場合があり、その場合、複数の光導波路部20a〜20cが並ぶ方向が、X方向と垂直をなす方向から多少ずれる場合があるからである。
図1(a)に示すように、複数の光導波路部20a〜20cのそれぞれは、X方向の一方の端に第1の端面31を有し、他方の端に第2の端面32を有する。また、複数の光導波路部20a〜20cのそれぞれは、X方向及びY方向と略垂直をなすZ方向の一方側に第1の側面35を有し、他方側に第2の側面36を有する。なお、第1の端面31、第2の端面32、第1の側面35及び第2の側面36は、光入力部及び/又は光出力部を有する面である場合、光の入出力に悪影響のない範囲の平坦面(又は曲面)であればよく、コネクタ等の外部の筐体に嵌合させる部分の面である場合、嵌合に悪影響のない範囲で平坦面(又は曲面)であればよく、さらに検査時に測定が可能である範囲で、傾斜していても湾曲していても問題はない。上述する光入力部23及びそれと対をなす光出力部25は、X方向に略平行に配置させているとよい。これにより光導波路の検査を順次行うことが容易となる。
コアパターン21は、クラッド層22よりも屈折率が高い透明な樹脂からなり、光信号はコアパターン21の中を伝搬する。コアパターン21のZ方向の厚さは特に限定されないが、通常は10〜100μmである。クラッド層22は、コアパターン21よりも屈折率が低い樹脂からなる。これにより、コアパターン21とクラッド層22との間の界面に入射した光は反射するようになり、コアパターン21から光信号が漏れ出すことを抑制できる。
光導波路部20a〜20cの第1の端面31では、コアパターン21の端面が露出しており、そのコアパターン21の露出部分が光導波路部20a〜20cの光出力部23となる。すなわち、光導波路部20a〜20は、第1の端面31に光出力部23を備える。また、光導波路部20a〜20cの第2の端面32側のコアパターン21の端部にはミラー24が設けられている。そして、ミラ−24に光を入射させる光入力部25が光導波路部20a〜20cの第1の側面35の第2の端面32の近傍に設けられている。なお、光導波路部は、コアパターンの光軸上の2箇所にミラーを備え、第1の側面に光を入射し、第1の側面から光を出力するミラー付き光導波路部であってもよい。また、光導波路部は、第1の端面及び第2の端面に光出力部及び光入力部をそれぞれ備えるようにしてもよい。すなわち、複数の光導波路部は、第1の端面及び第2の端面に、又は、第1の側面に光入力部及び光出力部を備えてもよい。
図1(b)に示すように複数の光導波路部20a〜20bのY方向のピッチ間距離(P1,P2)は任意の距離に規定されている。なお、ピッチ間距離(P1,P2)が規定されていれば、ピッチ間距離P1とピッチ間距離P2とは同一であってもよいし、異なっていてもよい。複数の光導波路部20a〜20cのY方向のピッチ間距離とは、隣接する光導波路部20a〜20cのY方向の中心13間の距離である。これにより、1つの光導波路部の検査が終了した後、光導波路集合体1をY方向に、ピッチ送りしただけで、次の光導波路部(先とは別の光導波路部)を検査することが可能となり、光導波路部20a〜20cの検査を効率的に実施できる。なお、ピッチ送りは、後述の光導波路集合体1と、光照射部110及び撮像部140とをY方向に相対移動させる移動工程であり、少なくともY方向の成分を有する相対移動である。なお、上記相対移動は、複数のコアパターンを有する光導波路部20a〜20cにおいて、該複数のコアパターン21の光出力部23や、複数の光導波路部20a〜20cの光出力部23が、同一の視野に入りきれない場合に行われる。本発明の一実施形態における光導波路の検査方法において、光導波路集合体1はY方向に光導波路部20a〜20cが配列されているため、少なくとも1回以上の相対移動が行われる。
検査する際に個片化された光導波路をそれぞれ検査するための後述の可動ステージに設置するのではなく、光導波路集合体1を一括して、その可動ステージに設置できるため、1つの光導波路当たりの設置時間も短縮できる。また、検査完了後に光導波路を取り外す際も、光導波路集合体1として一括して取り外しが可能であるため、1つの光導波路当たりの取り外し時間も短縮できる。さらに、上記のように光導波路集合体1の状態で、光導波路を可動ステージに設置及び取り外しを行うため、可動ステージに設置及び取り外しを行う回数が、個片化された光導波路をそれぞれ可動ステージに設置及び取り外しを行う回数よりも減少する。したがって、異物等の付着によって光導波路を汚染したり、傷つけたりするリスクを低減することができる。
複数の光導波路部20a〜20bのY方向のピッチ間距離(P1,P2)が同一である場合、1つの光導波路部の検査が終了した後、次の光導波路部を検査するために実施する光導波路集合体1のY方向のピッチ送りの距離を一定にできるので、光導波路部20a〜20cの検査をさらに効率的に実施できる。
切断しろ40a,40bは、複数の光導波路部20a〜20cのそれぞれの間に設けられている。切断しろ40a,40bは、光導波路部20a〜20bのクラッド層22と同じ材質からなる。また、切断しろ40a,40bは、光導波路部20a〜20bのコアパターン21と同じ材質からなるようにしてもよい。さらに、切断しろ40a,40bは、光導波路部20a〜20bのクラッド層22と同じ材質と光導波路部20a〜20bのコアパターン21と同じ材質とからなるようにしてもよい。これにより、光導波路部20a〜20cを形成するときに一緒に切断しろ40a,40bも形成できるので、切断しろ40a,40bの形成が容易になる。
光導波路集合体1は、例えば、以下のように作製される。クラッド層を形成するフィルムの上に、コアパターンを形成するためのフィルムを積層する。このフィルムに対して露光処理を行ない、コアパターンを形成する。そして、クラッド層を形成するフィルムをさらに積層して、光導波路集合体1を作製する。
また、光導波路集合体1を作製するとき、適宜光路変換ミラー、光入力部及び光出力部等を形成するための加工を行ってもよい。さらに、光導波路集合体には、光導波路部以外の箇所に、可動ステージに対してX方向及びY方向を規定する嵌合部等を有してもよい。例えば、後述の可動ステージに凸部を形成し、光導波路集合体に嵌合穴を設ける。そして、可動ステージの凸部と光導波路集合体の嵌合穴とを嵌合させることによって、任意の位置に光導波路集合体を可動ステージにセットできる。嵌合部は光導波路集合体に2箇所以上設けると、可動ステージに光導波路集合体を配置するときの角度ずれを抑制でいるため、光導波路集合体には、勘合部を2箇所以上設けることがより好ましい。
次に、図2及び図3を参照して、上述の光導波路集合体を用いて光導波路の検査を実施する、本発明の一実施形態における光導波路の検査方法を詳細に説明する。図2は、本発明の一実施形態の光導波路の検査方法で使用する光導波路検査装置の概略図である。図3は、光導波路検査装置による光導波路の検査を説明するための図である。
本発明の一実施形態の光導波路の検査方法で使用する光導波路検査装置100は、光照射部110、可動ステージ120、ステージコントローラ130、撮像部140及び画像取込処理装置150を含む。光照射部110は、光導波路部20a〜20cの第1の側面35の第2の端面32の近傍に設けられた光入力部25に光を照射する。光照射部110には、例えば、スーパールミネッセントダイオード(SLD)光源、自然放出光(ASE)光源、発行ダイオード(LED)等を用いることができる。可動ステージ120は、検査する光導波路集合体1を載置する。また、可動ステージ120は、光導波路集合体1のX方向、Y方向、Z方向に移動可能である。これにより、光導波路集合体1をY方向にピッチ送りすることができる。ステージコントローラ130は可動ステージ120のX方向及びY方向の移動を制御する。
光照射部110からの検査光は、光導波路集合体1における光入力部25に照射される。光導波路集合体における検査光のスポット径は、少なくとも光入力部25を内包する大きさであるとよく、複数の光入力部25を内包する大きさであると、一括して光損失の検査が行えるためより好ましい。なお、検査光のスポットでは、光は均一な強度部分布を有していることが好ましい。これにより、光照射部110と光入力部25との間に微視的な位置ズレが発生しても良好に検査が行える。
撮像部140は、光導波路部20a〜20cの第1の端面31を撮像し、画像データを生成する。第1の端面31の光出力部23から放出される光の輝度分布の分解能を確保するために、高階調のエリアイメージセンサを備えた撮像部を使用することが好ましい。画像取込処理装置150は、画像データを取得し、解析して、それに基づいて、光出力部23の位置、形状及び寸法並びにコアパターン21を通過した光の相対損失等を算出する。なお、相対損失とは、標準サンプルから出射された光強度を基準値とし、被検査サンプルから出射された光強度より算出される損失(デシベル)の差のことをいう。撮像部140は、少なくとも1つの光出力部23を撮像できればよい。しかし、一視野で複数の光出力部23を撮像できると検査効率を向上できるため、撮像部140は、複数の光出力部23を一度に撮像できることがより好ましい。
本発明の一実施形態における光導波路の検査方法は、光照射部110から検査光を光導波路部20a〜20cの光入力部25に照射し、撮像部140により光導波路部20a〜20cの光出力部23を撮像し、画像データを生成する撮像工程(工程A)と、画像データを解析し、光出力部23の位置、寸法及び形状並びにコアパターン21の光の相対損失の少なくとも1つを算出し、その算出結果に基づき光導波路部20a〜20cの合否判定を実施する合否判定工程(工程B)と、光照射部110及び撮像部140の位置関係を規定した状態で、光導波路集合体1と、光照射部110及び撮像部140とをY方向に相対移動させる移動工程(工程C)とを含む。
(工程A)
工程Aでは、光照射部110から検査光を光導波路部20a〜20cの光入力部25に照射し、撮像部140により光導波路の光出力部23を撮像する。例えば、図3(a)に示すように、光導波路部20aを検査するとき、光照射部110から領域2に検査光を照射して、光導波路部20aの第2の側面35の3つの光入力部25に光を照射する。そして、撮像部130を使用して、光導波路部20aの第1の端面31を撮像して、光導波路部20aの第1の端面31の画像データを生成する。
(工程B)
工程Bでは、画像データを解析し、光出力部23の位置、寸法及び形状並びにコアパターン21の光の相対損失の少なくとも1つを算出し、その算出結果に基づき光導波路の合否判定を実施する。例えば、光導波路部20aを検査するとき、画像取込処理装置150は、撮像部140において生成された画像データを解析して、光出力部23の位置、形状及び寸法並びにコアパターン21の光の相対損失等を算出する。そして、算出した値が、所定の基準を満足するか否かにより、光導波路集合体1が個片化されて得られる、光導波路部20aに対応する光導波路部の合否を判定する。
(工程C)
工程Cでは、光照射部110及び撮像部140の位置関係を規定した状態で、光導波路集合体1と、光照射部110及び撮像部140とをY方向に相対移動させる。例えば、光照射部110及び撮像部140の位置関係を保持した状態で、図3(a)の矢印3に示す方向に可動ステージ120を、光導波路集合体1における複数の光導波路部20a〜20cが並ぶ方向であるY方向に所定距離移動させる。なお、光導波路集合体1と、光照射部110及び撮像部140とをY方向に相対移動させることができれば、可動ステージ120を固定して、光照射部110及び撮像部140の位置関係を規定した状態で光照射部110及び撮像部140を図3(a)の矢印3に示す方向の反対方向に移動させるようにしてもよい。さらに、可動ステージ120を図3(a)の矢印3に示す方向に移動させ、光照射部110及び撮像部140の位置関係を規定した状態で光照射部110及び撮像部140を図3(a)の矢印3に示す方向の反対方向に移動させるようにしてもよい。
そして、図3(b)に示すように、光導波路部20aに隣接する光導波路部20bについて、上記工程A及び工程Bを実施する。さらに、工程Cを実施した後、光導波路部20bに隣接する光導波路部20cについても上記工程A及び工程Bを実施する。
なお、本発明の一実施形態における光導波路の検査方法による検査が終了した光導波路集合体は、分割されて、個片化された複数の光導波路となる。例えば、図4(a)に示すように、ブレードソー及びレーザー等を利用してA−A一点鎖線に沿って光導波路集合体1を切断して光導波路集合体1の切断しろ40a,40bを除去する。その結果、図4(b)に示すように、光導波路集合体1は個片化され、光導波路20A〜20Cが得られる。
[変形例]
以上、説明した本発明の一実施形態における光導波の検査方法を次のように変形することができる。
[変形例1]
本発明の一実施形態における光導波路の検査工程の撮像工程(工程A)の前に、複数の光導波路部20a〜20cにおいて少なくとも1つの光導波路を間引きながら撮像部140の光出力部23に対する焦点距離を順次測定する焦点距離測定工程を実施し、撮像工程では、焦点距離測定工程において測定された焦点距離に基づいて、撮像部140が光出力部23を撮像するときの焦点距離を決定するようにしてもよい。これにより、撮像部140が光出力部23を撮像するときの焦点距離の決定に要する時間を短くすることができ、より効率的に光導波路の検査を実施することができる。
例えば、11個の光導波路部(a〜k)がY方向に並べて設けられた光導波路集合体について、光導波路検査装置100の撮像部140をY方向に走査して、1つおきの光導波路部(a,c,e,g,i,k)の光出力部に対する焦点距離を測定する。光導波路集合体が少し歪んでいたり反っていたりすると、図5(a)に示すように、光導波路によって、光出力部に対する焦点距離が変化する場合がある。このように変化した焦点距離を所定の曲線(例えば、サインカーブ及び正規曲線等)にカーブフィッティングさせ、カーブフィッティングさせた曲線Cに基づいて、図5(b)に示すように、焦点距離を測定しなかった光導波路部(b,d,f,h,j)の焦点距離を決定する。そして、撮像工程では、測定した焦点距離及びカーブフィッティングさせた曲線に基づいて決定した焦点距離で、光出力部23を撮像する。この場合、Y方向の相対移動の前、相対移動と同時、相対移動の後に、光導波路集合体1と、撮像部110とをX方向に相対移動させ所定の焦点距離に移動させればよい。X方向の相対移動の方法は、光照射部110と撮像部140とを同時にX方向に移動させてもよく、撮像部140のみをX方向に移動させてもよい。
[変形例2]
本発明の一実施形態における光導波路の検査方法で使用される光導波路集合体1に含まれる光導波路部20a〜20cの数は3であったが、1又は2でもよいし、4以上でもよい。また、本発明の一実施形態における光導波路の検査方法で使用される光導波路集合体1の光導波路部20a〜20cのそれぞれに含まれるコアパターン21の数は3であったが、1又は2でもよいし、4以上でもよい。
[変形例3]
本発明の一実施形態の光導波路の検査方法では、上述の図1に示す光導波路集合体1を使用した。しかし、図6に示すような次の光集合重合体1Aを光導波路の検査に使用してもよい。光導波路集合体1Aは、複数の光導波路部20a〜20cは、第1の端面31、第1の端面31に近接するY方向の両側に第1の側面部33a及び第2の側面部34aを有してもよい。すなわち、図6に示す光導波路集合体1AにおけるX方向及びY方向により形成される平面に投影した形状が、いわゆる櫛形形状であってもよい。これにより、光導波路集合体1Aをピッチ送りすることにより、光導波路部20a〜20cの第1の端面31の外形の形状及び寸法、光導波路部20a〜20cの第1の端面31の光出力部23の形状及び寸法、光導波路部20a〜20cの第1の端面31の外形を基準とした光出力部23の位置等を、効率的に検査することができる。なお、第1の端面部33a及び第2の側面部34aは、コネクタ等の外部の筐体に嵌合させる部分の面である場合、嵌合に悪影響のない範囲で平坦面(又は曲面)であればよく、さらに検査時に測定が可能である範囲で、傾斜していても湾曲していても問題はない。また、第1の側面部33a及び第2の側面部34aは、本発明の一実施形態における光導波路集合体1の切断しろ40a,40bの一部を、ブレードソー及びレーザー等を利用して除去することにより形成することができる。
また、第1の側面部33a及び第2の側面部34aの大きさは、光導波路部20a〜20cの第1の端面31の外形(YZ平面の外形)が観察できれば、特に限定されない。光導波路部20a〜20cがコネクタ等の外部の筐体と嵌合させて使用するものである場合、第1の側面部33a及び第2の側面部34aの大きさは、筐体と良好に嵌合可能な範囲の大きさであることが好ましい。これにより、光導波路の外部の筐体と嵌合させる部分の検査を効率的に実施できる。また、光出力部23が第1の端面31ではなく、第1の側面35に設けられている場合、第1の端面31からコアパターン(光出力部)までの距離は、筐体と良好に嵌合可能な距離であることが好ましい。
第1の側面部33a及び第2の側面部34aは切断しろ40a,40bから露出している部分であるので、上述の光導波路検査装置100の撮像部140を使用して、光導波路部20a〜20cの第1の端面31を撮影すると、その撮影した画像から光導波路部20a〜20cの第1の端面31の外形を容易に認識することができる。そして、画像取込処理装置150は、撮影された第1の端面31の画像を解析して、光導波路部20a〜20cの第1の端面31の外形の形状及び寸法、光導波路部20a〜20cの第1の端面31の光出力部23の形状及び寸法、並びに光導波路部20a〜20cの第1の端面31の外形を基準とした光出力部23の位置等を算出することができる。
光導波路集合体1Aの切断しろ40a,40bを除去して光導波路集合体1Aを個片化された後も第1の側面部33a及び第2の側面部34aは残り、光導波路の端部形状を画定する。光導波路がコネクタ等の外部の筐体と嵌合させて使用するものである場合、外部の筐体と嵌合させる光導波路部20a〜20cの端部の形状及び寸法の精度は重要である。本発明の一実施形態の変形例2によれば、このような形状及び寸法の精度が重要である部分の検査を、光導波路集合体を個片化する前に実施できるので、その検査を効率的に実施することができる。
上述したように、光導波路集合体1Aを個片化した後も第1の側面部33a及び第2の側面部34aは残る。したがって、図7(a)に示すように、外部の筐体60Aに光導波路20を嵌合させて光導波路20を使用する場合、光導波路20の第1の端面31、第1の側面部33a及び第2の側面部34aは、外部の筐体60Aの位置合わせの基準面として使用できる。これにより、外部の筐体60Aの位置合わせの基準面を光導波路部20a〜20cに効率的に検査できる。また、図7(b)に示すように、外部の筐体60Bに、光導波路20の第1の端面31及び第1の側面部33aを接触させて、外部の筐体60に取り付ける場合、光導波路20の第1の端面31及び第1の側面部33aは、外部の筐体60Aの位置合わせの基準面として使用できる。さらに、図示しないが、外部の筐体に、光導波路20の第1の端面31及び第2の側面部34aを接触させて、外部の筐体に取り付ける場合、光導波路20の第1の端面31及び第2の側面部34aは、外部の筐体の位置合わせの基準面として使用できる。これらの場合も、光導波路部20a〜20cにおける外部の筐体60の位置合わせの基準面を効率的に検査できる。
変形例2の光導波路集合体1Aでは、複数の光導波路部20a〜20cの第1の端面31のX方向の位置が略同一位置であることが好ましく、同じであることがより好ましい。これにより、観察光学系140の焦点を光導波路部20a〜20cの第1の端面31に精度よく合わせることができ、第1の端面31の形状や寸法に関する検査精度を上昇させることができる。本発明の光導波路集合体は、光導波路集合体に歪みやたわみがあっても、複数の光導波路部間が連結されているため、それぞれの光導波路の焦点距離は緩やかに変化することになり、焦点を合わせやすい。歪みやたわみのない光導波路集合体の場合には、観察光学系140を光導波路集合体のY方向に相対的に移動するだけで検査が可能となる。
図8に示すように、第1の端面31、及び/又は、第1の側面部33a及び第2の側面部34aが、コアパターンの光軸71方向とY方向とにより形成される平面70と略垂直をなすことが好ましい。これにより、第1の側面部33a及び第2の側面部34aと第1の端面31との位置関係、第1の端面31の形状及び第1の側面部33a及び第2の側面部34aの形状が同一視野から検査可能になるので、光導波路部20a〜20cの検査をさらに効率的に実施できる。なお、第1の端面31が光出力部を有する面である場合、光の出力に悪影響のない範囲で、及び/又は、検査時に測定が可能である範囲で、第1の端面31とコアパターンの光軸71方向及びY方向とにより形成される平面70とがなす角度は90°からずれていてもよい。また、第1の側面部33a及び第2の側面部34aがコネクタ等の外部の筐体に嵌合させる部分の面である場合、嵌合に悪影響のない範囲で、及び/または検査時に測定が可能である範囲で、第1の側面部33a及び第2の側面部34aと、コアパターンの光軸71方向及びY方向とにより形成される平面70とがなす角度は90°からずれていてもよい。
上述の光導波路集合体1Aを使用して光導波路の検査を実施する場合、光導波路の検査で、光導波路部20a〜20cの第1の側面部33aとコアパターン21との間の距離を測定する検査を実施してもよい。また、光導波路の第1の側面部33aと第2の側面部34aとの間の距離を測定する検査を実施してもよい。
例えば、図9(a)に示すように、上述の光導波路検査装置100により、光導波路部20a〜20cの第1の側面33の画像を取得し、その画像を解析して第1の側面部33aと第1の端面31の3つの光出力部23の中心との間のそれぞれの距離(Y1,Y2,Y3)を算出することにより、光導波路部20a〜20cの第1の側面部33aとコアパターン21との間の距離を測定する検査を実施してもよい。これにより、第1の端面31の外形を基準とした光出力部23の位置の検査を効率的に実施できる。また、図9(b)に示すように、上述の光導波路検査装置100により、光導波路部20a〜20cの第1の側面33の画像を取得し、その画像を解析して第1の側面部33aと第2の側面部34aとの間の距離(Y4)を算出することにより、光導波路部20a〜20cの第1の側面部33aと第2の側面部34aとの間の距離を測定する検査を実施してもよい。これにより、第1の端面31の外形の検査を効率的に実施できる。
[変形例4]
上述の変形例3の光導波路の検査では、複数の光導波路部20a〜20cが、第1の側面部33a及び第2の側面部34aを有する光導波路集合体1Aを使用した。しかし、図10に示すように、複数の光導波路部20a〜20cが第2の端面32に近接するY方向の両側に第3の側面部33b及び第4の側面部34bをさらにそれぞれ有する光導波路集合体1Bを使用して光導波路の検査を実施してもよい。すなわち、図10に示す光導波路集合体1BにおけるX方向及びY方向により形成される平面に投影した形状が、いわゆる魚の骨型形状であってもよい。これにより、光導波路集合体1Bの歪みや反りを低減することができ、光導波路の検査をさらに効率的に実施することができる。
[変形例5]
図11に示すように、複数の光導波路部20a〜20cが、光導波路部20a〜20cの中央の領域において、Y方向側の両面に第5の側面33c及び第6の側面34cをそれぞれ有する光導波路集合体1Cを使用して光導波路の検査を実施してもよい。すなわち、図11に示す光導波路集合体1CにおけるX方向及びY方向により形成される平面に投影した形状が、いわゆる梯子型形状であってもよい。これにより、光導波路集合体1Cの歪みや反りを低減することができ、光導波路の検査をさらに効率的に実施することができる。
[変形例6]
以上の一実施形態の光導波路の検査方法では、切断しろ40a,40bは、光導波路部20a〜20bのクラッド層22と同じ材質からなる光導波路集合体1を使用した。しかし、図12に示すように、複数の光導波路部の第2の側面36上に、隣接する光導波路部20a〜20cを接続する保持基板80を備え、切断しろ40a,40bは、保持基板80からなる光導波路集合体1Dを使用してもよい。これにより、光導波路部20a〜20cを保持基板80から剥がすことにより、光導波路集合体1Dを容易に個片化することができる。
なお、このような光導波路集合体1Dは、本発明の一実施形態における光導波路の検査方法で使用した光導波路集合体1に保持基板80を貼り付けた後、ダイサー等を使用して、保持基板80を切断せずに光導波路集合体1を切断することにより作製することができる。
保持基板80には、例えば、ガラスエポキシ樹脂基板、セラミック基板、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板、金属基板、樹脂層付き基板、金属層付き基板、プラスチックフィルム、樹脂層付きプラスチックフィルム、金属層付きプラスチックフィルム及び電気配線板等が挙げられる。保持基板80には、可撓性があるフレキシブルな基板でも、非可撓性の固い材質の基板でも使用することができる。保持基板80の厚さは、特に限定されないが、例えば、5μm〜10mmであることが好ましく、5μm〜250μmであることがさらに好ましい。
以上で説明した実施形態及び変形例はあくまで例示に過ぎず、発明の特徴が損なわれない限り本発明はこれらの内容に限定されない。また、発明の特徴が損なわれない限り、以上で説明した実施形態及び変形例又は変形例同士を組み合わせてもよい。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。なお、実施例は、本発明を限定するものではない。
[実施例1]
(光導波路集合体の作製)
基板としてポリイミドフィルム(ポリイミド;ユーピレックスRN(宇部日東化成(株)製)、厚み;25μm)を大きさ100×100μmに裁断し、該基板上に、屈折率が1.536となる15μm厚の下部クラッド層を形成した。
次に、上記の下部クラッド層面にコア層形成用の樹脂層(厚さ;45μm)を積層し、露光及び現像することによって、幅45μm×高さ45μm、長さ9cmのコアパターンを250μmピッチで12CH配列(1つの光導波路に対して12CHのコアパターン)し、該12CHのコアパターンの組みを7mm間隔で5組配置した(コアパターンの屈折率;1.555)。次いで、光導波路部の両外側(光導波路集合体のY方向の端部付近)にφ3.1mmの嵌合用の穴をドリルで形成した。
次いで、コアパターン形成面側からコアパターンの側面及び上面を覆うように上部クラッド層を形成し、光導波路シートとした。形成後の上部クラッド層の厚みはコアパターンの上面から30μmであった。
得られた光導波路シートの上部クラッド層側から、ダイシングソー(DAC552、(株)ディスコ)を用いて、コアパターンの両端面のそれぞれ1cm内側の位置でコアパターンに直交する方向(Y方向)に光導波路シートを切断した。光導波路シートの一方のコアパターン端面から1cm内側の位置では、45°の傾斜面が形成されるように切断し、傾斜面45°の光路変換ミラーを形成した。もう一方の端面から1cm内側の位置では光導波路シートの平面方向に対して垂直な端面を形成した。この垂直な端面が光導波路部の第1の端面となる。なお、光伝搬に用いられるコアパターン長は7cmであった。
次に、12CHのコアパターンが並ぶ方向における12CHのコアパターンの両側を、12CHのコアパターンが中心になるように、上記垂直な端面から3.5cmの位置まで、上記ダイシングソーで切削し、第1の側面部及び第2の側面部を形成し、12個のコアパターンをそれぞれ有する5つの光導波路部を備えた光導波路集合体を形成した。なお、1つの光導波路部における第1の側面部と第2の側面部との間の距離の設計値は2.998mm(許容値±0.002mm)であった。
(光導波路集合体の検査)
得られた光導波路集合体を、光導波路の形状及び光損失を測定する測定機である光テスタ(商品名;OPT−002、シナジーオプトシステムズ(株)製)のXYZステージが可動するサンプルステージ上にセットし、光導波路部に設けられたミラーに検査光が入射できる位置に、光源を配置し、第1の端面方向に受光部(CCD)を配置した。なお、検査に先立ってあらかじめ光損失値が既知の基準サンプル(2.5dB)を、上記光テスタを用いて光量を測定し、相対損失算出時の基準光量を測定した。なお、サンプルステージにはφ3.0mmの嵌合用の凸部が2箇所形成されており、先に光導波路集合体に形成した嵌合穴と、該凸部を併せてセットした。
次に、受光部方向から落射照明にて光導波路部の第1端面方向から第1の側面部及び第2の側面部間の距離を測定した。その後に、3CHごとに4回サンプルステージを光導波路集合体のY方向に移動させて第1端面方向から出射される光損失の相対損失を測定した。さらに、第1端面方向から第1の側面部及び第2の側面部間の距離に対する出射される光の位置を測定した。
次いで、サンプルステージを光導波路集合体のY方向に7mm移動させ、上記と同様に第1の側面及び第2の側面間の距離及び、相対損失の測定、出射光の位置をそれぞれ測定した。上記の測定を5回繰り返し、光導波路部の測定を行った。測定に要した時間は2分であった。また、サンプルステージへのセットは容易であり、0.5分で可能であった。
(光導波路の評価)
上記光導波路集合体の切断しろ部分(3.5cm(X方向))を上記ダイシングソーで切断し、光導波路を個片化した。上記検査で第1の側面及び第2の側面間の距離及び、相対損失の測定、出射光の位置が良好であった個片化した光導波路をコネクタ(嵌合部幅3.0mm)に嵌め併せたところ、良好に位置合わせができ、光損失も良好であった。
[実施例2]
(光導波路集合体の作製及び検査)
コアパターン長を2.0cmにし、切断しろ部分を1.0cmにした以外は実施例1と同様の方法で光導波路集合体を作製した。得られた光導波路集合体を光テスタ(商品名;OPT−002、シナジーオプトシステムズ(株)製)のXYZステージが可動するサンプルステージ上にセットし、光導波路に設けられたミラーに検査光が入射できる位置に、光源を配置し、第1の端面方向に受光部(CCD)を配置した。なお、検査に先立ってあらかじめ光損失値が既知の基準サンプル(2.0dB)を、上記光テスタを用いて光量を測定し、相対損失算出時の基準光量を測定した。
次に、受光部方向から落射照明にて光導波路の第1端面方向から第1の側面部及び第2の側面部間の距離を測定した。その後に、3CHごとに4回サンプルステージを光導波路集合体のY方向に移動させて第1端面方向から出射される光損失の相対損失を測定した。さらに、第1端面方向から第1の側面部及び第2の側面部間の距離に対する出射される光の位置を測定した。本光導波路集合体はゆがみが発生していたため、測定視野ごとにCCDをY方向に前後させて±10μmの範囲でオートフォーカスを行った。
次いで、サンプルステージを光導波路集合体のY方向に7mm移動させ、上記と同様に第1の側面部及び第2の側面部間の距離及び、相対損失の測定、出射光の位置をそれぞれ測定した。上記の測定を5回繰り返し、光導波路の測定を行った。本光導波路集合体はゆがみが発生していたため、7mm移動させるごとに前測定箇所を基準にしてCCDをY方向に前後させて±10μmの範囲でオートフォーカスを行った。
測定に要した時間は2.5分であった。また、サンプルステージへのセットは容易であり、0.5分で可能であった。
[実施例3]
(光導波路集合体の作製)
光導波路シートの各コアパターンの両端面からそれぞれ1cm内側の位置にミラーをそれぞれ形成した。次に上部クラッド層形成面側から保持基板としてパナプロテクトET−50k−B(商品名、パナック(株))をラミネートした。そして、12CHのコアパターンの両側を、保持基板を切断しないように、12CHのコアパターンが中心になるように、切断された光導波路シートの垂直な端面から3.5cmの位置まで、上記ダイシングソーで切削し、12個のコアパターンをそれぞれ有する5つの光導波路部を備えた光導波路集合体を形成した。この光導波路集合体の光導波路部における光入力部及び光出力部は、上述の第1の側面に該当する面に設けられている。
なお、1つの光導波路部における第1の側面部と第2の側面部との間の設計値は2.998mm(許容値±0.002mm)とし、コアパターン長を8cmとし、ミラー位置は第1の端面及び第2の端面からそれぞれ0.5mm内側の位置になるようにした。
(光導波路集合体の検査)
得られた光導波路集合体を光テスタ(商品名;OPT−002、シナジーオプトシステムズ(株)製)のXYZステージが可動するサンプルステージ上にセットし、光導波路に設けられた一方のミラーに検査光が入射できる位置に、光源を配置し、もう一方のミラー上に受光部(CCD)を配置した。なお、検査に先立ってあらかじめ光損失値が既知の基準サンプル(3.5dB)を、上記光テスタを用いて光量を測定し、相対損失算出時の基準光量を測定した。
次に、受光部方向から落射照明にて光導波路の第1端面方向から第1の側面部及び第2の側面部間の距離を測定し、その後に、3CHごとに4回サンプルステージを光導波路集合体のY方向に移動させて一方のミラーから出射される光損失の相対損失を測定し、さらに、第1端面方向から第1の側面部及び第2の側面部間の距離に対する出射される光の位置を測定した。
次いで、サンプルステージを光導波路集合体のY方向に7mm移動させ、上記と同様に第1の側面部及び第2の側面部間の距離及び、相対損失の測定、出射光の位置をそれぞれ測定した。上記の測定を5回繰り返し、光導波路の測定を行った。測定に要した時間は2.0分であった。また、サンプルステージへのセットは容易であり、0.5分で可能であった。
(光導波路の評価)
上記光導波路集合体の光導波路部を保持基板からそれぞれ剥離して、光導波路を個片化した。上記検査で第1の側面部及び第2の側面部間の距離及び、相対損失の測定、出射光の位置が良好であった個片化した光導波路をコネクタ(嵌合部幅3.0mm)に嵌め併せたところ、良好に位置合わせができ、光損失も良好であった。
[比較例1]
(光導波路の作製及び検査)
第1の側面部及び第2の側面部を形成しなかった点を除いて実施例1と同様の方法で作製した光導波路集合体を個片化して得られた5本の光導波路を光テスタ(商品名;OPT−002、シナジーオプトシステムズ(株)製)のXYZステージが可動するサンプルステージ上にそれぞれ配置し、光導波路に設けられたミラーに検査光が入射できる位置に、光源を配置し、第1の端面方向に受光部(CCD)を配置した。尚、検査に先立ってあらかじめ光損失値が既知の基準サンプル(2.5dB)を、上記光テスタを用いて光量を測定し、相対損失算出時の基準光量を測定した。
次に、受光部方向から落射照明にて光導波路の第1端面方向から第1の側面部及び第2の側面部間の距離を測定し、その後に、3CHごとに4回サンプルステージを光導波路集合体のY方向に移動させて第1端面方向から出射される光損失の相対損失を測定し、さらに、第1端面方向から第1の側面部及び第2の側面部間の距離に対する出射される光の位置を測定した。
次いで、サンプルステージを光導波路集合体のY方向に7mm移動させ、上記と同様に第1の側面部及び第2の側面部間の距離及び、相対損失の測定、出射光の位置をそれぞれ測定した。上記の測定を5回繰り返し、光導波路の測定を行った。すると、それぞれの端面位置(X方向)はそれぞれの測定視野ごとにランダムに±500μmずれており、CCDを用いたオートフォーカスも時間がかかった。また、光導波路のミラーと光源との位置関係にもばらつきがあり、光導波路の位置を調整する必要であった。測定に要した時間は15分であった。また、サンプルステージへのセットにも10分要した。
[結果]
以上の実施例1〜3と比較例1とを比較することにより、本発明によれば、光導波路の検査を効率的に実施できることがわかる。
1,1A〜1D 光導波路集合体
20,20A〜20C 光導波路
20a〜20c 光導波路部
21 コアパターン
22 クラッド層
25 光入力部
23 光出力部
24 ミラー
40a,40b 切断しろ
60A,60B 外部の筐体
80 保持基板
100 光導波路検査装置
110 光照射部
120 可動ステージ
130 ステージコントローラ
140 撮像部
150 画像取込処理装置

Claims (15)

  1. X方向にそれぞれ延在する複数の光導波路部と、前記複数の光導波路部のそれぞれの間に設けられた切断しろとを有し、個片化することにより光導波路が得られる光導波路集合体を用いて光導波路の検査を実施する光導波路の検査方法であって、
    前記複数の光導波路部のそれぞれは、1つ以上のコアパターンと前記コアパターンを埋設するクラッド層とを備え、前記コアパターンに光を入射させる光入力部と前記コアパターンを通過した光を出射させる光出力部とを備え、
    前記複数の光導波路部は、X方向と略垂直をなすY方向に並列し、
    前記複数の光導波路部のY方向のピッチ間距離は、任意の距離で規定されてなり、
    前記光導波路の検査方法は、光照射部から検査光を前記光導波路部の前記光入力部に照射し、撮像部により前記光導波路部の前記光出力部を撮像して画像データを生成する撮像工程と、
    前記画像データを解析し、前記光出力部の位置、寸法及び形状並びに前記コアパターンの光の相対損失の少なくとも1つを算出し、その算出結果に基づき前記光導波路の合否判定を実施する合否判定工程と、
    前記光照射部及び前記撮像部の位置関係を規定した状態で、前記光導波路集合体と、前記光照射部及び前記撮像部とをY方向に相対移動させる移動工程とを含む光導波路の検査方法。
  2. 前記撮像工程の前に、前記複数の光導波路部において少なくとも1つの光導波路部を間引きながら前記撮像部の前記光出力部に対する焦点距離を順次測定する焦点距離測定工程を含み、
    前記撮像工程は、前記焦点距離測定工程において測定された焦点距離に基づいて、前記撮像部が前記光出力部を撮像するときの焦点距離を決定する、請求項1に記載の光導波路の検査方法。
  3. 前記複数の光導波路部は、X方向の少なくとも一方の一端に第1の端面、及び前記第1の端面に近接するY方向の両側に第1の側面部及び第2の側面部をそれぞれ有する、請求項1又は2に記載の光導波路の検査方法。
  4. 前記複数の光導波路部は、X方向の他方の一端に第2の端面及び、前記第2の端面に近接するY方向の両側に第3の側面部及び第4の側面部をそれぞれ有する、請求項3に記載の光導波路の検査方法。
  5. 前記複数の光導波路部は、前記光導波路部のX方向の中央の領域において、Y方向の両側に第5の側面部及び第6の側面部をそれぞれ有する、請求項1又は2に記載の光導波路の検査方法。
  6. 前記複数の光導波路部の第1の端面のX方向の位置が略同一位置である、請求項3又は4に記載の光導波路の検査方法。
  7. 前記第1の端面、及び/又は、前記第1の側面及び前記第2の側面が、前記コアパターンの光軸方向とY方向とにより形成される平面と略垂直をなす、請求項3又は4に記載の光導波路の検査方法。
  8. 前記複数の光導波路部は、X方向及びY方向と略垂直をなすZ方向の少なくとも一方側に第1の側面をそれぞれ有し、前記第1の側面及び前記第1の端面に、又は、前記第1の端面及び前記第2の端面に、又は、第1の側面に前記光入力部及び前記光出力部をそれぞれ備える、請求項1〜7のいずれか1項に記載の光導波路の検査方法。
  9. 前記複数の光導波路部は、前記第1の端面に前記光出力部をそれぞれ備える、請求項8に記載の光導波路の検査方法。
  10. 前記光導波路集合体を個片化して、複数の光導波路を作製したとき、前記光導波路の前記第1の端面と、前記第1の側面部及び/又は前記第2の側面部が、外部の筐体の位置合わせの基準面として使用できる、請求項3又は4に記載の光導波路の検査方法。
  11. 前記切断しろは、前記コアパターンの材質及び/又は前記クラッド層の材質からなる、請求項1〜10のいずれか1項に記載の光導波路の検査方法。
  12. 前記複数の光導波路部は、X方向及びY方向と略垂直をなすZ方向の少なくとも一方側に第2の側面をそれぞれ有し、前記複数の光導波路部の前記第2の側面上に、隣接する光導波路部を接続する保持基板を備え、
    前記切断しろは前記保持基板からなる、請求項1〜10のいずれか1項に記載の光導波路の検査方法。
  13. 前記合否判定工程は、前記コアパターンの光の相対損失を算出する請求項1〜12のいずれか1項に記載の光導波路の検査方法。
  14. 前記合否判定工程は、前記光導波路の前記第1の側面部と前記コアパターンとの間の距離を算出する、請求項3又は4に記載の光導波路の検査方法。
  15. 前記合否判定工程は、前記光導波路の前記第1の側面部と前記第2の側面部との間の距離を算出する、請求項3又は4に記載の光導波路の検査方法。
JP2014098128A 2014-05-09 2014-05-09 光導波路の検査方法 Pending JP2015215237A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014098128A JP2015215237A (ja) 2014-05-09 2014-05-09 光導波路の検査方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014098128A JP2015215237A (ja) 2014-05-09 2014-05-09 光導波路の検査方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2015215237A true JP2015215237A (ja) 2015-12-03

Family

ID=54752253

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014098128A Pending JP2015215237A (ja) 2014-05-09 2014-05-09 光導波路の検査方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2015215237A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017111025A (ja) * 2015-12-17 2017-06-22 日東電工株式会社 光導波路の検査方法およびそれを用いた光導波路の製法
JP2018146437A (ja) * 2017-03-07 2018-09-20 日東電工株式会社 光導波路の検査方法およびそれを用いた光導波路の製法
WO2019187073A1 (ja) * 2018-03-30 2019-10-03 日東電工株式会社 光導波路の検査方法およびそれを用いた光導波路の製法
US11029206B2 (en) 2018-11-07 2021-06-08 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for waveguide metrology
WO2021214879A1 (ja) * 2020-04-21 2021-10-28 日本電信電話株式会社 光回路評価装置、光回路評価方法及びプログラム

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017111025A (ja) * 2015-12-17 2017-06-22 日東電工株式会社 光導波路の検査方法およびそれを用いた光導波路の製法
WO2017104522A1 (ja) * 2015-12-17 2017-06-22 日東電工株式会社 光導波路の検査方法およびそれを用いた光導波路の製法
CN108291853A (zh) * 2015-12-17 2018-07-17 日东电工株式会社 光波导路的检查方法和使用该检查方法的光波导路的制造方法
JP2018146437A (ja) * 2017-03-07 2018-09-20 日東電工株式会社 光導波路の検査方法およびそれを用いた光導波路の製法
WO2019187073A1 (ja) * 2018-03-30 2019-10-03 日東電工株式会社 光導波路の検査方法およびそれを用いた光導波路の製法
US11029206B2 (en) 2018-11-07 2021-06-08 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for waveguide metrology
WO2021214879A1 (ja) * 2020-04-21 2021-10-28 日本電信電話株式会社 光回路評価装置、光回路評価方法及びプログラム
JPWO2021214879A1 (ja) * 2020-04-21 2021-10-28
JP7385157B2 (ja) 2020-04-21 2023-11-22 日本電信電話株式会社 光回路評価装置、光回路評価方法及びプログラム

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11946950B2 (en) Electro-optical circuit board for contacting photonic integrated circuits
JP2015215237A (ja) 光導波路の検査方法
JP6358092B2 (ja) 光プローブ、検査装置、検査方法
KR20240066189A (ko) 광 섬유 대 칩 광 커플러
US11688652B2 (en) Wafer level testing of optical components
JP2009145656A (ja) 光結合素子およびこれを備えた光モジュール
TWI506242B (zh) 薄膜曲率量測裝置及其方法
CN103630986B (zh) 用于印刷电路板的光通孔
Glebov et al. Integration technologies for pluggable backplane optical interconnect systems
US10520391B1 (en) Optical measurement apparatus
JP2014199229A (ja) 傾斜角度測定方法および傾斜角度測定装置
TWI743741B (zh) 檢查用連接裝置
JP2016085120A (ja) 光導波路の検査方法及び検査装置
JP2007085739A (ja) 配向計
JP2015215469A (ja) 光導波路、光導波路集合体及び光導波路の製造方法
US10151878B2 (en) Optical interconnection substrate including optical transmitter with light source and mark or optical receiver with light receiving unit and mark
US20200256762A1 (en) Method of inspecting optical waveguide and method of manufacturing optical waveguide using same
JP2018146437A (ja) 光導波路の検査方法およびそれを用いた光導波路の製法
KR101394436B1 (ko) 3차원 표면 형상 측정장치 및 3차원 표면 형상 측정방법
JP2015081779A (ja) 光検出方法および光伝送損失測定方法
JP2005128319A (ja) 光機能素子およびその製造方法
JP5065352B2 (ja) 光導波路及び光軸調整方法
KR102654216B1 (ko) 검사용 접속 장치
JP7443017B2 (ja) 検査プローブ、検査プローブの製造方法および検査装置
JP2014048577A (ja) 光ファイバの接合方法及び光ファイバの接合装置