JP2015204132A - Organic el element, lighting device and method of manufacturing organic el element - Google Patents

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真吾 寳角
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable suppression of short-circuit failure by a simple method.SOLUTION: An organic EL element 10 has a substrate 100 having light transmissivity, a first electrode 121 having light transmissivity and a second electrode 123 which are laminated in turn on the substrate 100, an organic layer 122 containing a light emission layer which is provided between the first electrode 121 and the second electrode 123, and a filling material 140 for sealing the first electrode 121, the second electrode 123 and the organic layer 122. The organic layer 122 has an inactive part 125 which is inactivated by reacting with the filling material 140 infiltrating through the second electrode 123.

Description

本発明は、有機EL(Electro−Luminescence)素子、有機EL素子を備える照明装置、及び、有機EL素子の製造方法に関する。   The present invention relates to an organic EL (Electro-Luminescence) element, a lighting device including the organic EL element, and a method for manufacturing the organic EL element.

従来、有機EL素子を用いた様々なデバイス、例えば、有機EL素子を用いた照明装置及び表示装置などが開発されている。有機EL素子は、一対の電極と、一対の電極間に設けられた発光層とを備える電流駆動型の発光素子である。このため、電極間に異物などが混入した場合、一対の電極間が短絡し、短絡箇所に電流が集中し、他の部分の発光輝度が低下する。   Conventionally, various devices using organic EL elements, for example, lighting devices and display devices using organic EL elements have been developed. An organic EL element is a current-driven light-emitting element including a pair of electrodes and a light-emitting layer provided between the pair of electrodes. For this reason, when a foreign substance etc. mix between electrodes, between a pair of electrodes will short-circuit, an electric current will concentrate on a short circuit location, and the light emission luminance of another part will fall.

これに対して、例えば、特許文献1には、異物などによる欠陥箇所にレーザー照射を行うことで、欠陥箇所をリペアする方法が開示されている。これにより、ショート不良を抑制し、有機EL素子の劣化を抑制している。   On the other hand, for example, Patent Document 1 discloses a method of repairing a defective portion by performing laser irradiation on the defective portion due to a foreign matter or the like. Thereby, short circuit failure is suppressed and deterioration of the organic EL element is suppressed.

特開2012−038616号公報JP 2012-038616 A

しかしながら、上記従来の有機EL素子の製造方法では、レーザー照射を行う箇所を特定する必要がある。除去箇所の特定には、高精細カメラ又は顕微鏡などの装置が必要になる。このため、製造コストが増加するという問題がある。また、除去箇所を見逃す恐れもあり、除去箇所を見逃してしまった場合には、ショート不良などを十分に抑制することができない。   However, in the conventional method for manufacturing an organic EL element, it is necessary to specify a location where laser irradiation is performed. A device such as a high-definition camera or a microscope is required to specify the removal location. For this reason, there exists a problem that manufacturing cost increases. In addition, there is a risk of missing a removed portion. If the removed portion is missed, a short circuit failure or the like cannot be sufficiently suppressed.

そこで、本発明は、簡易な方法でショート不良を抑制することができる有機EL素子、照明装置及び有機EL素子の製造方法を提供する。   Therefore, the present invention provides an organic EL element, a lighting device, and a method for manufacturing the organic EL element that can suppress short-circuit defects by a simple method.

上記課題を解決するため、本発明の一態様に係る有機EL素子は、透光性を有する基板と、前記基板に順に積層された、透光性を有する第1電極、及び、第2電極と、前記第1電極及び前記第2電極の間に設けられた、発光層を含む有機層と、前記第1電極、前記第2電極及び前記有機層を封止するための充填材とを備え、前記有機層は、前記第2電極を介して浸透した前記充填材に反応することで不活性化された不活性部を有する。   In order to solve the above problems, an organic EL element according to one embodiment of the present invention includes a light-transmitting substrate, a light-transmitting first electrode, and a second electrode, which are sequentially stacked on the substrate. An organic layer including a light emitting layer provided between the first electrode and the second electrode, and a filler for sealing the first electrode, the second electrode, and the organic layer, The organic layer has an inactive portion that is inactivated by reacting with the filler that has permeated through the second electrode.

また、本発明の一態様に係る有機EL素子の製造方法は、透光性を有する基板上に、透光性を有する第1電極と、発光層を有する有機層と、第2電極とをこの順で積層する工程と、前記有機層を封止するための充填材を前記第2電極上に塗布する工程と、前記第2電極を介して前記充填材を前記有機層に浸透させることで、前記有機層内に不活性部を形成する工程と、前記不活性部を形成した後に、前記充填材を硬化させる工程とを含む。   In addition, in a method for manufacturing an organic EL element according to one embodiment of the present invention, a first electrode having a light-transmitting property, an organic layer having a light-emitting layer, and a second electrode are formed on a light-transmitting substrate. A step of laminating in order, a step of applying a filler for sealing the organic layer on the second electrode, and impregnating the filler into the organic layer through the second electrode, Forming an inactive part in the organic layer; and curing the filler after forming the inactive part.

本発明によれば、簡易な方法でショート不良を抑制することができる。   According to the present invention, it is possible to suppress short-circuit defects by a simple method.

本発明の実施の形態1に係る有機EL素子を示す概観断面図である。It is a general | schematic sectional drawing which shows the organic EL element which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る有機EL素子の異物周辺を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the foreign material periphery of the organic EL element which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る有機EL素子の不活性部を示す平面図である。It is a top view which shows the inactive part of the organic EL element which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る有機EL素子の製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the organic EL element concerning Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る有機EL素子の製造工程を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the manufacturing process of the organic EL element which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る有機EL素子の製造工程を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the manufacturing process of the organic EL element which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態2に係る有機EL素子の異物周辺を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the foreign material periphery of the organic EL element which concerns on Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態2に係る有機EL素子の製造工程を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the manufacturing process of the organic EL element which concerns on Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態3に係る照明装置を示す概観斜視図である。It is a general-view perspective view which shows the illuminating device which concerns on Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態の変形例に係る有機EL素子の異物周辺を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the foreign material periphery of the organic EL element which concerns on the modification of embodiment of this invention. 本発明の実施の形態の別の変形例に係る有機EL素子の異物周辺を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the foreign material periphery of the organic EL element which concerns on another modification of embodiment of this invention. 本発明の実施の形態の別の変形例に係る有機EL素子の異物周辺を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the foreign material periphery of the organic EL element which concerns on another modification of embodiment of this invention.

以下では、本発明の実施の形態に係る有機EL素子、照明装置及び有機EL素子の製造方法について、図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施の形態は、いずれも本発明の好ましい一具体例を示すものである。したがって、以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置及び接続形態などは、一例であり、本発明を限定する趣旨ではない。よって、以下の実施の形態における構成要素のうち、本発明の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。   Below, the organic EL element which concerns on embodiment of this invention, an illuminating device, and the manufacturing method of an organic EL element are demonstrated in detail using drawing. Note that each of the embodiments described below shows a preferred specific example of the present invention. Therefore, the numerical values, shapes, materials, components, component arrangements, connection forms, and the like shown in the following embodiments are merely examples, and are not intended to limit the present invention. Therefore, among the constituent elements in the following embodiments, constituent elements that are not described in the independent claims showing the highest concept of the present invention are described as optional constituent elements.

また、各図は、模式図であり、必ずしも厳密に図示されたものではない。また、各図において、同じ構成部材については同じ符号を付している。   Each figure is a mimetic diagram and is not necessarily illustrated strictly. Moreover, in each figure, the same code | symbol is attached | subjected about the same structural member.

(実施の形態1)
[有機EL素子の概要]
まず、本発明の実施の形態1に係る有機EL素子の概要について、図1及び図2を用いて説明する。図1は、本実施の形態に係る有機EL素子10を示す概略断面図である。図2は、本実施の形態に係る有機EL素子10の異物周辺を示す概略断面図である。
(Embodiment 1)
[Outline of organic EL device]
First, the outline | summary of the organic EL element which concerns on Embodiment 1 of this invention is demonstrated using FIG.1 and FIG.2. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an organic EL element 10 according to the present embodiment. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the periphery of a foreign substance of the organic EL element 10 according to the present embodiment.

図1に示すように、有機EL素子10は、基板100と、対向基板110と、有機EL部120と、封止材(シール材)130と、充填材(フィル材)140とを備える。また、図2に示すように、有機EL部120は、第1電極121と、有機層122と、第2電極123とを備える。さらに、有機EL素子10は、混入した異物150を有する。   As shown in FIG. 1, the organic EL element 10 includes a substrate 100, a counter substrate 110, an organic EL unit 120, a sealing material (seal material) 130, and a filler (fill material) 140. As shown in FIG. 2, the organic EL unit 120 includes a first electrode 121, an organic layer 122, and a second electrode 123. Further, the organic EL element 10 has a mixed foreign material 150.

基板100は、透光性を有する透光基板である。有機EL部120が設けられる側の主面と反対側の基板100の主面(図1における紙面下側の面)が、有機EL素子10の発光面である。   The substrate 100 is a translucent substrate having translucency. The main surface of the substrate 100 opposite to the main surface on the side where the organic EL unit 120 is provided (the lower surface in FIG. 1) is the light emitting surface of the organic EL element 10.

基板100は、例えば、ソーダガラス、無アルカリガラスなどのガラス基板、又は、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂などの透光性樹脂材料からなる樹脂基板である。例えば、基板100としては、取り扱いの利便性と機械特性とから、厚さが0.03mm〜1.2mmの板状の透明基板を用いることができる。   The substrate 100 is, for example, a glass substrate such as soda glass or non-alkali glass, or a resin substrate made of a translucent resin material such as polycarbonate resin or acrylic resin. For example, as the substrate 100, a plate-shaped transparent substrate having a thickness of 0.03 mm to 1.2 mm can be used from the viewpoint of convenience of handling and mechanical characteristics.

対向基板110は、基板100に対向する基板であり、基板100との間に有機EL部120が位置するように設けられる。対向基板110は、光反射性又は光透過性の板状の部材から構成される。対向基板110に光透過性材料を用いた場合には、有機EL素子10は、両面発光型の照明装置として利用することができる。   The counter substrate 110 is a substrate facing the substrate 100, and is provided so that the organic EL unit 120 is positioned between the counter substrate 110 and the substrate 100. The counter substrate 110 is composed of a light-reflective or light-transmissive plate-like member. When a light-transmitting material is used for the counter substrate 110, the organic EL element 10 can be used as a double-sided light emitting type lighting device.

例えば、対向基板110は、ガラス基板又は樹脂基板から構成される。あるいは、対向基板110は、ステンレス、アルミニウムなどの金属材料から構成されてもよい。例えば、対向基板110としては、基板100と同様に、厚さが0.03mm〜1.2mmの板状の透明基板を用いることができる。なお、基板100と対向基板110とは、6μm〜100μm、一例として、20μm離れて配置される。   For example, the counter substrate 110 is composed of a glass substrate or a resin substrate. Or the opposing board | substrate 110 may be comprised from metal materials, such as stainless steel and aluminum. For example, as the counter substrate 110, similarly to the substrate 100, a plate-shaped transparent substrate having a thickness of 0.03 mm to 1.2 mm can be used. Note that the substrate 100 and the counter substrate 110 are disposed 6 μm to 100 μm apart from each other by 20 μm, for example.

有機EL部120は、電圧が印加された場合に平面状に発光する発光部である。有機EL部120では、第1電極121と、有機層122と、第2電極123とが、基板100にこの順で積層されている。   The organic EL unit 120 is a light emitting unit that emits light in a planar shape when a voltage is applied. In the organic EL unit 120, the first electrode 121, the organic layer 122, and the second electrode 123 are stacked on the substrate 100 in this order.

第1電極121は、発光面側に設けられた電極であり、例えば、基板100上に設けられる。第1電極121は、例えば、陽極であり、有機EL素子10の発光時には、第2電極123よりも高い電位になる。   The first electrode 121 is an electrode provided on the light emitting surface side, and is provided on the substrate 100, for example. The first electrode 121 is, for example, an anode, and has a higher potential than the second electrode 123 when the organic EL element 10 emits light.

第1電極121は、透光性を有する導電性材料から構成される。例えば、第1電極121は、可視光の少なくとも一部を透過する透明の導電性材料から構成される。第1電極121は、例えば、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、アルミニウムをドープした酸化亜鉛(AZO)などから構成される。   The first electrode 121 is made of a light-transmitting conductive material. For example, the first electrode 121 is made of a transparent conductive material that transmits at least part of visible light. The first electrode 121 is made of, for example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide doped with aluminum (AZO), or the like.

なお、第1電極121は、光を透過できる程度に薄膜の銀、アルミニウムなどの金属薄膜でもよい。あるいは、Agナノワイヤ又はAg粒子を分散させてもよい。あるいは、第1電極121としては、PEDOT、ポリアニリンなどの導電性高分子、若しくは、任意のアクセプタなどでドープした導電性高分子、又は、カーボンナノチューブなどの導電性光透過性材料を用いることもできる。   The first electrode 121 may be a thin metal film such as silver or aluminum that can transmit light. Alternatively, Ag nanowires or Ag particles may be dispersed. Alternatively, as the first electrode 121, a conductive polymer such as PEDOT or polyaniline, a conductive polymer doped with any acceptor, or a conductive light-transmitting material such as a carbon nanotube can be used. .

例えば、第1電極121は、蒸着法、塗布法又はスパッタリング法などによって透明導電膜を基板100上に成膜し、成膜した透明導電膜をパターニングすることで形成される。例えば、第1電極121の膜厚は、60nm〜200nmであり、一例として、100nmである。   For example, the first electrode 121 is formed by forming a transparent conductive film on the substrate 100 by vapor deposition, coating, sputtering, or the like, and patterning the formed transparent conductive film. For example, the film thickness of the first electrode 121 is 60 nm to 200 nm, and is 100 nm as an example.

有機層122は、第1電極121及び第2電極123の間に設けられる。有機層122は、発光層を含み、第1電極121及び第2電極123の間に電圧が印加されることで、面状に発光する。   The organic layer 122 is provided between the first electrode 121 and the second electrode 123. The organic layer 122 includes a light emitting layer, and emits light in a planar shape when a voltage is applied between the first electrode 121 and the second electrode 123.

具体的には、有機層122は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層(有機EL層)、電子輸送層及び電子注入層を含んでいる。発光層などの有機層122は、例えば、ジアミン、アントラセン、金属錯体などの有機材料から構成される。有機層122を構成する各層は、蒸着法、スピンコート法、キャスト法、又は、イオンビームアシスト法などにより形成される。例えば、有機層122の膜厚は、150nm〜350nmであり、一例として、210nmである。   Specifically, the organic layer 122 includes a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer (organic EL layer), an electron transport layer, and an electron injection layer. The organic layer 122 such as a light emitting layer is made of an organic material such as diamine, anthracene, or metal complex. Each layer constituting the organic layer 122 is formed by an evaporation method, a spin coating method, a casting method, an ion beam assist method, or the like. For example, the thickness of the organic layer 122 is 150 nm to 350 nm, and is 210 nm as an example.

例えば、発光色が白色の場合には、有機層122は、発光層中に赤色、緑色、青色の3色のドーパント色素をドーピングしてもよく、あるいは、青色正孔輸送性発光層と緑色電子輸送性発光層と赤色電子輸送性発光層との積層構造にしてもよい。また、有機層122は、赤色、緑色、青色の発光ユニットが光透過性及び導電性を有する中間層を介して積層され、電気的に直接的に接続したマルチユニット構造にしてもよい。   For example, when the emission color is white, the organic layer 122 may be doped with a red, green, and blue dopant dye in the emission layer, or the blue hole-transporting emission layer and the green electron A stacked structure of a transporting light emitting layer and a red electron transporting light emitting layer may be used. The organic layer 122 may have a multi-unit structure in which red, green, and blue light-emitting units are stacked via an intermediate layer having light transmission and conductivity, and are electrically connected directly.

第2電極123は、発光面とは反対側に設けられた電極であり、例えば、有機層122上に設けられる。第2電極123は、例えば、陰極であり、有機EL素子10の発光時には、第1電極121よりも低い電位になる。   The second electrode 123 is an electrode provided on the side opposite to the light emitting surface, and is provided on the organic layer 122, for example. The second electrode 123 is, for example, a cathode, and has a lower potential than the first electrode 121 when the organic EL element 10 emits light.

第2電極123は、光反射性を有する導電性材料から構成される。第2電極123は、有機層122から発せられた光を反射し、発光面側に出射させる。第2電極123は、例えば、アルミニウム、銀若しくはマグネシウム、又は、これらの少なくとも1種類を含む合金などから構成される。例えば、第2電極123は、蒸着法、塗布法、スパッタリング法、又は、イオンビームアシスト法などによって導電膜を有機層122上に成膜することで形成される。例えば、第2電極123の膜厚は、20nm〜200nmであり、一例として、100nmである。   The second electrode 123 is made of a conductive material having light reflectivity. The second electrode 123 reflects the light emitted from the organic layer 122 and emits it to the light emitting surface side. The second electrode 123 is made of, for example, aluminum, silver, magnesium, or an alloy containing at least one of these. For example, the second electrode 123 is formed by forming a conductive film on the organic layer 122 by an evaporation method, a coating method, a sputtering method, an ion beam assist method, or the like. For example, the thickness of the second electrode 123 is 20 nm to 200 nm, and is 100 nm as an example.

なお、第2電極123は、透光性を有する導電性材料から構成されてもよい。例えば、第2電極123としては、第1電極121と同じ材料を利用することができる。この場合、対向基板110も光透過性材料で構成されていれば、有機EL素子10は、両面発光型の照明装置として、例えば、建物又は車両の窓などに利用することができる。   Note that the second electrode 123 may be made of a light-transmitting conductive material. For example, the same material as the first electrode 121 can be used for the second electrode 123. In this case, if the counter substrate 110 is also made of a light transmissive material, the organic EL element 10 can be used as a double-sided illuminating device, for example, in a building or a vehicle window.

封止材130は、基板100と対向基板110とを接続する接続部材である。具体的には、封止材130は、基板100と対向基板110とを接着する接着剤である。封止材130は、平面視において基板100及び対向基板110の周端近傍に有機EL部120を囲むように設けられる。具体的には、封止材130は、基板100及び対向基板110の外周に沿って枠状に設けられる。これにより、基板100と、対向基板110と、封止材130とに囲まれた空間を密封封止することができる。   The sealing material 130 is a connection member that connects the substrate 100 and the counter substrate 110. Specifically, the sealing material 130 is an adhesive that bonds the substrate 100 and the counter substrate 110. The sealing material 130 is provided so as to surround the organic EL unit 120 in the vicinity of the peripheral ends of the substrate 100 and the counter substrate 110 in plan view. Specifically, the sealing material 130 is provided in a frame shape along the outer peripheries of the substrate 100 and the counter substrate 110. Thereby, the space surrounded by the substrate 100, the counter substrate 110, and the sealing material 130 can be hermetically sealed.

封止材130としては、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、又は、シリコーン樹脂などの光硬化型、熱硬化型又は二液硬化型の接着性樹脂を用いることができる。あるいは、封止材130としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの酸変成物からなる熱可塑性の接着性樹脂などを用いてもよい。   As the sealing material 130, for example, a photo-curing type, thermosetting type, or two-component curing type adhesive resin such as an epoxy resin, an acrylic resin, or a silicone resin can be used. Alternatively, as the sealing material 130, a thermoplastic adhesive resin made of an acid-modified product such as polyethylene or polypropylene may be used.

なお、封止材130には、無機フィラーなどを混入してもよい。これにより、外部から浸入する水分の透過率をさらに下げることができる。無機フィラーは、例えば、シリカ、水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、その他樹脂材料などである。封止材130に混入される無機フィラーなどの直径(粒径)は、例えば、6μm〜100μmである。   Note that an inorganic filler or the like may be mixed in the sealing material 130. Thereby, the transmittance | permeability of the water | moisture content permeating from the outside can further be reduced. Examples of the inorganic filler include silica, calcium hydroxide, calcium carbonate, and other resin materials. The diameter (particle size) of the inorganic filler or the like mixed in the sealing material 130 is, for example, 6 μm to 100 μm.

充填材140は、有機EL部120を封止するための部材である。例えば、充填材140は、有機EL部120を接触して覆うように基板100と対向基板110との間に設けられる。具体的には、充填材140は、基板100と対向基板110と封止材130とに囲まれた空間に充填されて硬化した樹脂材料である。   The filler 140 is a member for sealing the organic EL unit 120. For example, the filler 140 is provided between the substrate 100 and the counter substrate 110 so as to cover and cover the organic EL unit 120. Specifically, the filler 140 is a resin material that is filled and cured in a space surrounded by the substrate 100, the counter substrate 110, and the sealing material 130.

充填材140としては、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、又は、シリコーン樹脂などの光硬化型、熱硬化型又は二液硬化型の接着性樹脂を用いることができる。あるいは、充填材140としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの酸変成物からなる熱可塑性の接着性樹脂などを用いてもよい。   As the filler 140, for example, a photo-curing, thermosetting, or two-component curable adhesive resin such as an epoxy resin, an acrylic resin, or a silicone resin can be used. Alternatively, as the filler 140, a thermoplastic adhesive resin made of an acid-modified product such as polyethylene or polypropylene may be used.

なお、充填材140は、乾燥剤を含んでいてもよい。乾燥剤は、例えば、水分を吸着する微細孔を有する吸湿材料であり、具体的には、酸化カルシウム(CaO)、ゼオライトなどである。乾燥剤としては、より吸湿容量の大きな材料を用いることが好ましい。   The filler 140 may contain a desiccant. The desiccant is, for example, a hygroscopic material having fine pores that adsorb moisture, and specifically, calcium oxide (CaO), zeolite, and the like. As the desiccant, it is preferable to use a material having a larger moisture absorption capacity.

また、充填材140に含まれる乾燥剤の粒径は、例えば、封止材130に混入される無機フィラーの粒径に基づいて調整される。例えば、封止材130に混入される無機フィラーの粒径よりも小さい粒径の乾燥剤が充填材140に含まれる。   Moreover, the particle size of the desiccant contained in the filler 140 is adjusted based on the particle size of the inorganic filler mixed in the sealing material 130, for example. For example, the filler 140 includes a desiccant having a particle size smaller than that of the inorganic filler mixed in the sealing material 130.

封止材130及び充填材140は、大気中に含まれる水分などが基板100と対向基板110との間に浸入するのを抑制する。つまり、封止材130及び充填材140は、外部から浸入する水分が有機EL部120に到達しにくくすることで、有機EL部120の劣化を抑制することができる。これにより、有機EL素子10の寿命を延ばすことができる。   The sealing material 130 and the filler 140 prevent moisture and the like contained in the atmosphere from entering between the substrate 100 and the counter substrate 110. That is, the sealing material 130 and the filler 140 can suppress deterioration of the organic EL unit 120 by making it difficult for moisture entering from the outside to reach the organic EL unit 120. Thereby, the lifetime of the organic EL element 10 can be extended.

封止材130及び充填材140は、樹脂材料を塗布し、硬化することで形成される。例えば、樹脂材料の粘度及び膜厚に応じて、ロールコート、スピンコート、スクリーン印刷、スプレーコート、スリットコート、スキージ塗布などの印刷法、又は、ディスペンサによる描画塗布などによって樹脂材料が塗布される。   The sealing material 130 and the filler 140 are formed by applying and curing a resin material. For example, the resin material is applied by a printing method such as roll coating, spin coating, screen printing, spray coating, slit coating, squeegee coating, or drawing coating using a dispenser, depending on the viscosity and film thickness of the resin material.

なお、封止材130としては、充填材140よりも粘度が高い材料を用いる。これにより、封止材130は、充填材140を塗布する際のダム材として機能する。つまり、封止材130を塗布した後に充填材140を塗布することで、充填材140が封止材130で囲まれた領域から外方へ漏れ出ないようにすることができる。   As the sealing material 130, a material having a higher viscosity than the filler 140 is used. Thereby, the sealing material 130 functions as a dam material when the filler 140 is applied. That is, by applying the filler 140 after the sealing material 130 is applied, the filler 140 can be prevented from leaking outward from the region surrounded by the sealing material 130.

また、充填材140としては、樹脂の粘度を調整するために比較的低粘度の材料を用いることができる。具体的には、充填材140は、低分子材料を含んでいる。低分子材料は、有機層122を構成する材料の分子よりも軽い分子から構成される材料である。具体的には、低分子材料は、有機溶剤であり、例えば、粘度調整剤又は重合促進剤などである。低分子材料は、有機層122との反応を促進する材料である。   Further, as the filler 140, a material having a relatively low viscosity can be used in order to adjust the viscosity of the resin. Specifically, the filler 140 includes a low molecular material. The low molecular weight material is a material composed of molecules lighter than the molecules of the material constituting the organic layer 122. Specifically, the low molecular weight material is an organic solvent, such as a viscosity modifier or a polymerization accelerator. The low molecular material is a material that promotes the reaction with the organic layer 122.

[異物]
続いて、本実施の形態に係る異物150による影響について説明する。
[Foreign matter]
Then, the influence by the foreign material 150 which concerns on this Embodiment is demonstrated.

異物150は、有機EL素子10の製造工程で混入される。異物150の混入を抑制するためには、有機EL素子10の製造装置内の浄化、及び、基板の洗浄強化などを行えばよい。しかしながら、異物150を完全に除去することは困難である。   The foreign material 150 is mixed in the manufacturing process of the organic EL element 10. In order to suppress contamination of the foreign matter 150, purification within the manufacturing apparatus of the organic EL element 10 and enhancement of cleaning of the substrate may be performed. However, it is difficult to completely remove the foreign material 150.

異物150は、例えば、パーティクルなどの導電性の物質である。例えば、異物150は、製造装置内の汚れに起因する微小物質であり、具体的には、蒸着材料の残留物質などである。異物150の大きさは、例えば、サブミクロンオーダーの大きさであり、具体的には、3μm以下の大きさである。なお、3μmより大きな異物は、例えば、洗浄工程などで(ほとんど)除去される。   The foreign material 150 is, for example, a conductive substance such as particles. For example, the foreign substance 150 is a minute substance caused by dirt in the manufacturing apparatus, and specifically, is a residual substance of a vapor deposition material. The size of the foreign material 150 is, for example, a size on the order of submicrons, specifically, a size of 3 μm or less. Note that foreign matters larger than 3 μm are removed (almost) in, for example, a cleaning process.

有機層122の膜厚が数百nmであるので、有機層122に異物150が混入した場合、図2に示すように、異物150は、有機層122を積層方向に貫通する。具体的には、異物150は、有機層122の一部が異物150を薄く覆っているものの、有機層122の他の部分より突出している。   Since the film thickness of the organic layer 122 is several hundred nm, when the foreign material 150 is mixed into the organic layer 122, the foreign material 150 penetrates the organic layer 122 in the stacking direction as shown in FIG. Specifically, the foreign substance 150 protrudes from the other part of the organic layer 122 although a part of the organic layer 122 covers the foreign substance 150 thinly.

このため、例えば、異物150の上方に第2電極としての導電膜を成膜した場合、異物150に起因して孔部124が形成される。すなわち、第2電極123は、積層方向に貫通する孔部124を有する。   For this reason, for example, when a conductive film is formed as the second electrode above the foreign material 150, the hole 124 is formed due to the foreign material 150. That is, the second electrode 123 has a hole 124 that penetrates in the stacking direction.

孔部124は、第2電極123の膜質が不均一な部分の一例である。このため、孔部124が形成された場所ではショート不良が発生しやすくなる。   The hole 124 is an example of a portion where the film quality of the second electrode 123 is not uniform. For this reason, a short circuit defect is likely to occur at the place where the hole 124 is formed.

第2電極123に接触するように塗布された硬化前の充填材140は、孔部124を介して有機層122に浸透する。孔部124を介して浸透した充填材140と反応することで、有機層122には、異物150の周囲に不活性部125が形成される。   The pre-curing filler 140 applied so as to be in contact with the second electrode 123 penetrates into the organic layer 122 through the hole 124. By reacting with the filler 140 that has permeated through the hole 124, an inactive portion 125 is formed around the foreign material 150 in the organic layer 122.

図3は、本実施の形態に係る有機EL素子10の不活性部125を示す平面図である。孔部124は、例えば、異物150の上方に形成される。したがって、図3に示すように、孔部124と不活性部125とは、平面視において重なっている。具体的には、異物150の周囲に不活性部125が形成されている。すなわち、有機EL素子10は、不活性部125の近傍に異物150を有する。   FIG. 3 is a plan view showing the inactive portion 125 of the organic EL element 10 according to the present embodiment. The hole 124 is formed above the foreign material 150, for example. Therefore, as shown in FIG. 3, the hole 124 and the inactive portion 125 overlap each other in plan view. Specifically, an inactive portion 125 is formed around the foreign material 150. That is, the organic EL element 10 has the foreign material 150 in the vicinity of the inactive portion 125.

不活性部125は、有機層122の一部であり、第2電極123を介して浸透した充填材140に反応することで不活性化されている。具体的には、不活性部125は、第2電極123に形成された孔部124を介して浸透した充填材140と、有機層122の一部とが反応することで、不活性化されている。   The inactive portion 125 is a part of the organic layer 122 and is inactivated by reacting with the filler 140 that has penetrated through the second electrode 123. Specifically, the inactive part 125 is inactivated by the reaction between the filler 140 that has penetrated through the hole 124 formed in the second electrode 123 and a part of the organic layer 122. Yes.

例えば、有機層122の一部は、充填材140に接触することで膨潤する。具体的には、有機層122の一部は、充填材140に接触して溶融し、あるいは、充填材140を吸収して膨張する。   For example, a part of the organic layer 122 swells when in contact with the filler 140. Specifically, a part of the organic layer 122 contacts the filler 140 and melts, or absorbs the filler 140 and expands.

膨潤により膜質が変化することにより形成された不活性部125は、電圧を印加した場合であっても発光しなくなり、ダークスポット化されている。すなわち、不活性部125は、絶縁性を有し、発光しない。不活性部125の平面視における大きさは、例えば、直径20μm以下である。   The inactive portion 125 formed by changing the film quality due to swelling does not emit light even when a voltage is applied, and is a dark spot. That is, the inactive portion 125 has an insulating property and does not emit light. The size of the inactive portion 125 in plan view is, for example, 20 μm or less in diameter.

発光しない不活性部125が大きい場合には、非発光領域が目立つものの、不活性部125が小さい場合には、非発光領域はあまり目立たない。例えば、有機EL素子10を照明装置に利用する場合、発光面側に拡散フィルムなどが設けられる。拡散フィルムによって小さな不活性部125は、より目立たなくなるため、平面視において所定の大きさより小さな不活性部125を備える有機EL素子10は、照明装置などに利用することができる。   When the inactive portion 125 that does not emit light is large, the non-light-emitting region is conspicuous, but when the inactive portion 125 is small, the non-light-emitting region is not so conspicuous. For example, when the organic EL element 10 is used for a lighting device, a diffusion film or the like is provided on the light emitting surface side. Since the small inactive portion 125 is less noticeable by the diffusion film, the organic EL element 10 including the inactive portion 125 smaller than a predetermined size in a plan view can be used for a lighting device or the like.

[有機EL素子の製造方法]
続いて、本実施の形態に係る有機EL素子10の製造方法について、図4、図5A及び図5Bを用いて説明する。図4は、本実施の形態に係る有機EL素子10の製造方法を示すフローチャートである。図5A及び図5Bは、本実施の形態に係る有機EL素子10の製造工程を示す概略断面図である。
[Method of manufacturing organic EL element]
Then, the manufacturing method of the organic EL element 10 which concerns on this Embodiment is demonstrated using FIG.4, FIG.5A and FIG.5B. FIG. 4 is a flowchart showing a method for manufacturing the organic EL element 10 according to this embodiment. 5A and 5B are schematic cross-sectional views showing the manufacturing process of the organic EL element 10 according to the present embodiment.

まず、基板100を洗浄する(S100)。例えば、純水を用いて基板100の表面に付着した汚れなどの異物を洗い落とす。なお、単に純水で洗浄するだけでなく、超音波洗浄、流体洗浄、プラズマ洗浄、又は、薬品(化学)洗浄などを行ってもよい。   First, the substrate 100 is cleaned (S100). For example, foreign substances such as dirt attached to the surface of the substrate 100 are washed away using pure water. In addition to cleaning with pure water, ultrasonic cleaning, fluid cleaning, plasma cleaning, or chemical (chemical) cleaning may be performed.

続いて、洗浄後の基板100上に、第1電極121、有機層122、第2電極123をこの順で積層する(S110)。この積層工程において、異物150が混入する。具体的な積層工程について、図5Aを用いて説明する。   Subsequently, the first electrode 121, the organic layer 122, and the second electrode 123 are stacked in this order on the cleaned substrate 100 (S110). In this lamination process, the foreign material 150 is mixed. A specific lamination process will be described with reference to FIG. 5A.

まず、図5Aの(a)に示すように、基板100上に第1電極121を形成する。例えば、スパッタリングなどによって、100nmのITOを成膜し、必要に応じてパターニングすることで、第1電極121を形成する。   First, as shown in (a) of FIG. 5A, the first electrode 121 is formed on the substrate 100. For example, the first electrode 121 is formed by forming a 100 nm ITO film by sputtering or the like and patterning as necessary.

ここで、図5Aの(b)に示すように、第1電極121を形成した後、有機層122を形成する前に異物150が混入する。   Here, as shown in FIG. 5A (b), after the first electrode 121 is formed, the foreign material 150 is mixed before the organic layer 122 is formed.

次に、図5Aの(c)に示すように、異物150が混入された状態で、第1電極121上に有機層122及び第2電極123を順に積層する。例えば、有機層122は、ディスペンサなどを用いて有機材料を塗布することにより形成される。第2電極123は、例えば、100nmの金属薄膜を成膜し、必要に応じてパターニングすることで形成される。第2電極123は、異物150の上方に形成される。   Next, as illustrated in (c) of FIG. 5A, the organic layer 122 and the second electrode 123 are sequentially stacked on the first electrode 121 in a state where the foreign material 150 is mixed. For example, the organic layer 122 is formed by applying an organic material using a dispenser or the like. The second electrode 123 is formed, for example, by forming a 100 nm metal thin film and patterning as necessary. The second electrode 123 is formed above the foreign material 150.

異物150が混入したために、異物150の直上領域及びその近傍では、第2電極123は、平坦に形成されない。つまり、第2電極123には、膜質が不均一な部分が形成される。具体的には、第2電極123には、孔部124が形成される。   Since the foreign material 150 is mixed, the second electrode 123 is not formed flat in the region immediately above the foreign material 150 and in the vicinity thereof. That is, the second electrode 123 is formed with a portion having a non-uniform film quality. Specifically, a hole 124 is formed in the second electrode 123.

なお、異物150が混入するタイミングは、図5Aに示す例に限らない。例えば、異物150は、基板100の洗浄後、第1電極121を形成する前に混入される場合もある。あるいは、異物150は、有機層122を形成した後、第2電極123を形成する前に混入される場合もある。あるいは、異物150は、第1電極121、有機層122及び第2電極123のいずれかの成膜中に混入される場合もある。いずれのタイミングで混入した異物150であっても、異物150の上方に形成される第2電極123は、異物150の直上領域及びその近傍で平坦には形成されずに、孔部124が形成されうる。   Note that the timing at which the foreign substance 150 is mixed is not limited to the example shown in FIG. 5A. For example, the foreign material 150 may be mixed after the substrate 100 is cleaned and before the first electrode 121 is formed. Alternatively, the foreign material 150 may be mixed after forming the organic layer 122 and before forming the second electrode 123. Alternatively, the foreign material 150 may be mixed during the film formation of any of the first electrode 121, the organic layer 122, and the second electrode 123. Regardless of the timing of the foreign material 150 mixed in at any timing, the second electrode 123 formed above the foreign material 150 is not formed flat in the region immediately above the foreign material 150 and in the vicinity thereof, but a hole 124 is formed. sell.

続いて、封止材130及び充填材140を塗布する(S120)。具体的には、まず、基板100上に、有機EL部120(第1電極121、有機層122及び第2電極123)を囲むように封止材130を、ディスペンサなどを用いて塗布する。その後、封止材130で囲まれた領域に充填材140を、ディスペンサなどを用いて塗布する。具体的には、図5Bの(a)に示すように、第2電極123上に充填材140を塗布する。例えば、充填材140は、点状に塗布(滴下)される。あるいは、充填材140は、パターン状又は面状に塗布(描画)されてもよい。   Subsequently, the sealing material 130 and the filler 140 are applied (S120). Specifically, first, a sealing material 130 is applied on the substrate 100 using a dispenser or the like so as to surround the organic EL unit 120 (the first electrode 121, the organic layer 122, and the second electrode 123). Thereafter, the filler 140 is applied to the region surrounded by the sealing material 130 using a dispenser or the like. Specifically, as shown in FIG. 5B (a), the filler 140 is applied on the second electrode 123. For example, the filler 140 is applied (dropped) in a dot shape. Alternatively, the filler 140 may be applied (drawn) in a pattern or a plane.

次に、所定期間待機する(S130)。所定期間中に、第2電極123を介して充填材140を有機層122に浸透させることで、有機層122内に不活性部125を形成する。また、この所定期間中に、基板100と対向基板110とを貼り合わせる(S130)。   Next, it waits for a predetermined period (S130). The inactive portion 125 is formed in the organic layer 122 by allowing the filler 140 to permeate the organic layer 122 through the second electrode 123 during the predetermined period. Further, during this predetermined period, the substrate 100 and the counter substrate 110 are bonded together (S130).

具体的には、第2電極123上に充填材140が塗布された状態で、所定期間放置する。簡単に言い換えると、充填材140を硬化させることなく、そのままの状態で所定期間放置する。   Specifically, it is left for a predetermined period with the filler 140 applied on the second electrode 123. In other words, the filler 140 is left as it is for a predetermined period without being cured.

これにより、硬化前の充填材140が第2電極123の孔部124を介して有機層122に浸透する。そして、浸透した充填材140の低分子材料が有機層122と反応することで、図5Bの(b)に示すように、有機層122には、不活性部125が形成される。   As a result, the unfilled filler 140 penetrates into the organic layer 122 through the hole 124 of the second electrode 123. And the inactive part 125 is formed in the organic layer 122 by the low molecular material of the infiltrated filler 140 reacting with the organic layer 122 as shown in FIG. 5B (b).

所定期間(以下、待機期間と記載する)が長い程、硬化前の充填材140の浸透量が多くなり、大きな不活性部125が形成される。このため、待機期間を適切に制御することで、図5Bの(c)に示すように、異物150の周囲のみに不活性部125を形成することができる。   The longer the predetermined period (hereinafter referred to as the standby period), the greater the penetration amount of the filler 140 before curing, and the larger inactive portion 125 is formed. For this reason, by appropriately controlling the standby period, the inactive portion 125 can be formed only around the foreign material 150 as shown in FIG. 5B (c).

なお、待機期間中に、例えば、基板全体に40度〜60度の熱を加えてもよい。基板を加熱することにより、充填材140に含まれる低分子材料の浸透を促進し、よって、膨潤反応が促進される。これにより、不活性部125の形成に要する期間を短くすることができる。   During the standby period, for example, heat of 40 degrees to 60 degrees may be applied to the entire substrate. By heating the substrate, the penetration of the low-molecular material contained in the filler 140 is promoted, and thus the swelling reaction is promoted. Thereby, the period required for forming the inactive portion 125 can be shortened.

待機期間は、例えば、形成すべき不活性部125の大きさに基づいて決定される。具体的には、待機期間は、充填材140に含まれる低分子材料、有機層122を構成する材料、及び、有機層122の膜厚の少なくとも1つに基づいて決定される。あるいは、待機期間は、予め定められた一定の期間でもよい。例えば、待機期間は、およそ30秒〜600秒である。   The standby period is determined based on the size of the inactive portion 125 to be formed, for example. Specifically, the waiting period is determined based on at least one of the low molecular weight material included in the filler 140, the material constituting the organic layer 122, and the film thickness of the organic layer 122. Alternatively, the standby period may be a predetermined period. For example, the waiting period is approximately 30 seconds to 600 seconds.

なお、待機期間は、充填材140を塗布してから充填材140を硬化するまでの期間である。したがって、待機期間は、基板100と対向基板110との貼り合わせに要する期間以上の長さになる。このため、例えば、基板の貼り合わせに長い期間を要する場合は、不活性部125が大きくなり過ぎないように、充填材140に含まれる低分子材料を適宜変更すればよい。   Note that the standby period is a period from when the filler 140 is applied to when the filler 140 is cured. Therefore, the standby period is longer than the period required for bonding the substrate 100 and the counter substrate 110 together. For this reason, for example, when a long period of time is required for bonding the substrates, the low-molecular material included in the filler 140 may be appropriately changed so that the inactive portion 125 does not become too large.

基板100と対向基板110との貼り合わせは、例えば、大気圧より低い減圧下で行う。例えば、真空貼り合わせ装置の真空槽内を真空状態にした後で、基板100と対向基板110とを貼り合わせる。真空状態とは、十分な減圧状態であり、例えば、真空度が0.1Paの状態である。真空状態で貼り合わせた基板100と対向基板110とを大気圧下に曝すことで、大気圧によって基板100と対向基板110との密着性を高めることができる。   The bonding of the substrate 100 and the counter substrate 110 is performed under a reduced pressure lower than the atmospheric pressure, for example. For example, after the inside of the vacuum chamber of the vacuum bonding apparatus is evacuated, the substrate 100 and the counter substrate 110 are bonded to each other. The vacuum state is a sufficiently reduced pressure state, for example, a state where the degree of vacuum is 0.1 Pa. By exposing the substrate 100 and the counter substrate 110 bonded together in a vacuum state to atmospheric pressure, adhesion between the substrate 100 and the counter substrate 110 can be increased by the atmospheric pressure.

なお、真空槽は、真空度を調整できることが好ましい。例えば、貼り合わせの完了後に、真空状態から大気圧下まで段階的に真空度を調整することで、気圧の急激な変化により有機EL素子10が変形又は破壊するのを抑制することができる。   In addition, it is preferable that the vacuum chamber can adjust a vacuum degree. For example, by adjusting the degree of vacuum stepwise from the vacuum state to the atmospheric pressure after the bonding is completed, the organic EL element 10 can be prevented from being deformed or broken due to a rapid change in the atmospheric pressure.

また、基板100と対向基板110とを大気圧下で貼りあわせてもよい。例えば、基板100及び対向基板110を治具などに固定し、対向基板110の上面の一方の端部から他方の端部まで、ローラー状の押圧部を押し当てることで、基板100と対向基板110とを貼り合わせてもよい。   Further, the substrate 100 and the counter substrate 110 may be attached under atmospheric pressure. For example, the substrate 100 and the counter substrate 110 are fixed to a jig or the like, and a roller-shaped pressing portion is pressed from one end portion to the other end portion of the upper surface of the counter substrate 110, whereby the substrate 100 and the counter substrate 110 are pressed. And may be pasted together.

そして、不活性部125が形成された後、封止材130及び充填材140を硬化させる(S140)。硬化させる方法は、封止材130及び充填材140として用いた材料に依存する。例えば、封止材130及び充填材140に熱硬化性樹脂を用いた場合は、加熱を行い、光硬化性樹脂を用いた場合は、紫外線などの硬化させるための光を照射する。   And after the inactive part 125 is formed, the sealing material 130 and the filler 140 are hardened (S140). The curing method depends on the materials used as the sealing material 130 and the filler 140. For example, when a thermosetting resin is used for the sealing material 130 and the filler 140, heating is performed, and when a photocurable resin is used, light for curing such as ultraviolet rays is irradiated.

充填材140が硬化した後は、膨潤反応は抑制される。このため、不活性部125は、充填材140が硬化された時点での大きさよりも大きくなることはほとんどない。   After the filler 140 is cured, the swelling reaction is suppressed. For this reason, the inactive part 125 hardly becomes larger than the size at the time when the filler 140 is cured.

[まとめ]
以上のように、本実施の形態に係る有機EL素子10の製造方法は、透光性を有する基板100上に、透光性を有する第1電極121と、発光層を有する有機層122と、第2電極123とをこの順で積層する工程と、有機層122を封止するための充填材140を第2電極123上に塗布する工程と、第2電極123を介して充填材140を有機層122に浸透させることで、有機層122内に不活性部125を形成する工程と、不活性部125を形成した後に、充填材140を硬化させる工程とを含む。
[Summary]
As described above, the method for manufacturing the organic EL element 10 according to the present embodiment includes the first electrode 121 having a light-transmitting property, the organic layer 122 having a light-emitting layer on the substrate 100 having a light-transmitting property, The step of laminating the second electrode 123 in this order, the step of applying the filler 140 for sealing the organic layer 122 on the second electrode 123, and the organic material of the filler 140 via the second electrode 123 By infiltrating the layer 122, a step of forming the inactive portion 125 in the organic layer 122 and a step of curing the filler 140 after forming the inactive portion 125 are included.

これにより、レーザーなどでの縁切りを行わなくても、充填材140と有機層122とを反応させて不活性部125を形成するという簡易な方法で、異物150を起因とするショート不良の発生を抑制することができる。つまり、不良箇所を特定する工程を実施しなくてもよく、製造工程数を削減し、生産性を高めることができる。   Thereby, even if it does not perform edge cutting with a laser etc., the occurrence of a short circuit failure caused by the foreign material 150 can be achieved by a simple method in which the filler 140 and the organic layer 122 are reacted to form the inactive portion 125. Can be suppressed. That is, it is not necessary to carry out a step of identifying a defective portion, and the number of manufacturing steps can be reduced and productivity can be increased.

例えば、レーザーなどで縁切りを行う場合には、レーザーを照射する箇所を特定しなければならない。これに対して、本実施の形態に係る有機EL素子10の製造方法では、第2電極123に接触するように充填材140を塗布するだけで、第2電極123の膜質が不均一な部分を介して充填材140が浸透して不活性部125が形成される。したがって、不良箇所を特定しなくても自動的に不良箇所に不活性部125を形成することができる。   For example, when performing edge cutting with a laser or the like, it is necessary to specify the portion to be irradiated with the laser. On the other hand, in the method for manufacturing the organic EL element 10 according to the present embodiment, a portion where the film quality of the second electrode 123 is non-uniform is obtained simply by applying the filler 140 so as to be in contact with the second electrode 123. Through this, the filler 140 penetrates and the inactive part 125 is formed. Therefore, the inactive portion 125 can be automatically formed at the defective portion without specifying the defective portion.

また、例えば、積層する工程では、有機層122内に位置する異物150の上方に第2電極123を形成する。   In addition, for example, in the stacking process, the second electrode 123 is formed above the foreign material 150 located in the organic layer 122.

これにより、ショート不良の原因となる異物150の上方に第2電極123を形成することで、異物150の直上領域及びその近傍では第2電極123の膜質が不均一になる。このため、異物150の直上領域に孔部124が形成されやすくなる。したがって、孔部124を介して異物150の周囲に充填材140が浸透しやすくなり、異物150の周囲に不活性部125を容易に形成することができる。   Thus, by forming the second electrode 123 above the foreign material 150 that causes a short circuit failure, the film quality of the second electrode 123 becomes nonuniform in the region immediately above the foreign material 150 and in the vicinity thereof. For this reason, the hole 124 is easily formed in the region immediately above the foreign material 150. Therefore, the filler 140 can easily permeate around the foreign material 150 through the hole 124, and the inactive portion 125 can be easily formed around the foreign material 150.

また、上述したように、本実施の形態に係る有機EL素子10は、透光性を有する基板100と、基板100に順に積層された、透光性を有する第1電極121、及び、第2電極123と、第1電極121及び第2電極123の間に設けられた、発光層を含む有機層122と、第1電極121、第2電極123及び有機層122を封止するための充填材140とを備え、有機層122は、第2電極123を介して浸透した充填材140に反応することで不活性化された不活性部125を有する。   In addition, as described above, the organic EL element 10 according to the present embodiment includes the light-transmitting substrate 100, the light-transmitting first electrode 121 and the second electrode 100 that are sequentially stacked on the substrate 100. The electrode 123, the organic layer 122 including the light emitting layer provided between the first electrode 121 and the second electrode 123, and a filler for sealing the first electrode 121, the second electrode 123, and the organic layer 122 The organic layer 122 includes an inactive portion 125 that is inactivated by reacting with the filler 140 that has penetrated through the second electrode 123.

具体的には、本実施の形態に係る有機EL素子10は、密封封止構造を有する。密封封止構造は、図1に示すように、基板100と対向基板110との間を樹脂材料(充填材140)で充填することで、有機EL部120を封止する構造である。   Specifically, the organic EL element 10 according to the present embodiment has a hermetically sealed structure. As shown in FIG. 1, the hermetic sealing structure is a structure that seals the organic EL unit 120 by filling a space between the substrate 100 and the counter substrate 110 with a resin material (filler 140).

なお、大気中の水分から有機EL部120を保護するために封止する別の構造として、中空封止構造がある。中空封止構造は、例えば、掘り込みガラスを基板100又は対向基板110として利用し、掘り込み部分に有機EL部120を配置する。しかしながら、中空封止構造では、ガラスの加工などの複雑な作業が必要な工程数が増加するために、コストを削減することが困難である。また、基板間の接着強度が弱いという問題もある。   In addition, there exists a hollow sealing structure as another structure sealed in order to protect the organic EL part 120 from the water | moisture content in air | atmosphere. In the hollow sealing structure, for example, digging glass is used as the substrate 100 or the counter substrate 110, and the organic EL portion 120 is disposed in the digging portion. However, in the hollow sealing structure, it is difficult to reduce costs because the number of steps that require complicated operations such as glass processing increases. There is also a problem that the adhesive strength between the substrates is weak.

そこで、本実施の形態に係る有機EL素子10では、密封封止構造を利用することで、コストの削減を実現することができる。また、基板間を強固に接着することができるので、本実施の形態に係る有機EL素子10は、丈夫な照明装置として利用することができる。   Therefore, in the organic EL element 10 according to the present embodiment, cost reduction can be realized by using a hermetic sealing structure. In addition, since the substrates can be firmly bonded, the organic EL element 10 according to the present embodiment can be used as a durable lighting device.

また、本実施の形態に係る有機EL素子10のように密封封止構造を有する有機EL素子では、ショート不良が発生した場合、ショート部分の近傍で有機層ごと剥離する素子破壊が発生する恐れがある。   In addition, in the organic EL element having a hermetically sealed structure like the organic EL element 10 according to the present embodiment, when a short circuit defect occurs, there is a risk of element destruction that peels off the entire organic layer in the vicinity of the shorted part. is there.

これに対して、本実施の形態に係る有機EL素子10では、充填材140と有機層122とを反応させて形成された不活性部125を有するので、ショート不良の発生を抑制することができる。   On the other hand, since the organic EL element 10 according to the present embodiment includes the inactive portion 125 formed by reacting the filler 140 and the organic layer 122, occurrence of a short circuit failure can be suppressed. .

また、例えば、第2電極123は、積層方向に貫通する孔部124を有し、不活性部125は、孔部124を介して浸透した充填材140と有機層122の一部とが反応することで不活性化されている。   Further, for example, the second electrode 123 has a hole portion 124 penetrating in the stacking direction, and the inactive portion 125 reacts with the filler 140 that has penetrated through the hole portion 124 and a part of the organic layer 122. It has been inactivated.

これにより、孔部124を介して充填材140が有機層122に浸透するので、不活性部125を短期間で形成することができる。このため、不活性部125が形成されるのが好ましくない領域にまで不活性部125が形成されるのを抑制することができる。例えば、図3に示すように、発光領域と非発光領域との境界部分に不活性部125が形成されて非発光領域の面積が増加するのを抑制することができる。   Thereby, since the filler 140 penetrates into the organic layer 122 through the hole 124, the inactive portion 125 can be formed in a short period of time. For this reason, it can suppress that the inactive part 125 is formed to the area | region where it is not preferable to form the inactive part 125. FIG. For example, as illustrated in FIG. 3, it is possible to suppress an increase in the area of the non-light-emitting region due to the formation of the inactive portion 125 at the boundary between the light-emitting region and the non-light-emitting region.

また、例えば、孔部124と、不活性部125とは、平面視において重なっている。   Further, for example, the hole portion 124 and the inactive portion 125 overlap each other in plan view.

孔部124は、第2電極123の膜質が不均一な場所、つまり、ショート不良が発生しやすい場所に形成される。このため、平面視において孔部124に重なるように不活性部125が設けられることで、ショート不良の発生を抑制することができる。   The hole 124 is formed in a place where the film quality of the second electrode 123 is not uniform, that is, in a place where a short circuit is likely to occur. For this reason, generation | occurrence | production of a short circuit defect can be suppressed by providing the inactive part 125 so that it may overlap with the hole 124 in planar view.

また、例えば、有機EL素子10は、さらに、不活性部125近傍に異物150を有する。   Further, for example, the organic EL element 10 further includes a foreign substance 150 in the vicinity of the inactive portion 125.

これにより、ショート不良の起因となる異物150の近傍に不活性部125が設けられるので、ショート不良の発生を抑制することができる。   Thereby, since the inactive part 125 is provided in the vicinity of the foreign material 150 that causes a short circuit failure, the occurrence of the short circuit failure can be suppressed.

また、例えば、異物150は、有機層122を積層方向に貫通する。   For example, the foreign material 150 penetrates the organic layer 122 in the stacking direction.

これにより、異物150が有機層122を貫通してショート不良がより発生しやすくなっている領域に、不活性部125が設けられるので、ショート不良の発生を適切に抑制することができる。   Thereby, since the inactive part 125 is provided in the region where the foreign substance 150 penetrates the organic layer 122 and the short-circuit defect is more likely to occur, the occurrence of the short-circuit defect can be appropriately suppressed.

また、例えば、充填材140は、有機層122との反応を促進する低分子材料を含む。   Further, for example, the filler 140 includes a low molecular material that promotes a reaction with the organic layer 122.

これにより、有機層122との反応を促進する低分子材料を含むので、不活性部125を短期間で形成することができる。   Thereby, since the low molecular material which accelerates | stimulates reaction with the organic layer 122 is included, the inactive part 125 can be formed in a short period of time.

(実施の形態2)
以下では、本発明の実施の形態2に係る有機EL素子及びその製造方法について説明する。
(Embodiment 2)
Hereinafter, an organic EL element and a manufacturing method thereof according to Embodiment 2 of the present invention will be described.

[有機EL素子の構成]
図6は、本実施の形態に係る有機EL素子20の異物周辺を示す概略断面図である。なお、有機EL素子20の概略構成は、図1と同様である。以下では、実施の形態1と異なる点を中心に説明する。
[Configuration of organic EL element]
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing the periphery of a foreign substance of the organic EL element 20 according to the present embodiment. The schematic configuration of the organic EL element 20 is the same as that shown in FIG. Below, it demonstrates focusing on a different point from Embodiment 1. FIG.

図6に示す有機EL素子20は、図1に示す有機EL素子10と比較して、充填材140の代わりに充填材240を備える点が異なっている。   The organic EL element 20 shown in FIG. 6 is different from the organic EL element 10 shown in FIG. 1 in that a filler 240 is provided instead of the filler 140.

充填材240は、複数の層を有する。具体的には、図6に示すように、充填材240は、第1層241と、第2層242とを有する。第1層241と、第2層242とは、順に第2電極123に積層されている。   The filler 240 has a plurality of layers. Specifically, as illustrated in FIG. 6, the filler 240 includes a first layer 241 and a second layer 242. The first layer 241 and the second layer 242 are sequentially stacked on the second electrode 123.

第1層241は、第2電極123に接触するように設けられた層である。具体的には、第1層241は、第2電極123上に形成されている。第1層241の膜厚は、例えば、100nm〜3μmである。   The first layer 241 is a layer provided in contact with the second electrode 123. Specifically, the first layer 241 is formed on the second electrode 123. The film thickness of the first layer 241 is, for example, 100 nm to 3 μm.

第2層242は、第1層241の第2電極123と反対側に設けられた層である。具体的には、第2層242は、第1層241上に形成されている。第2層242は、基板100と対向基板110と封止材130とに囲まれた空間を充填するように設けられる。   The second layer 242 is a layer provided on the opposite side of the first layer 241 from the second electrode 123. Specifically, the second layer 242 is formed on the first layer 241. The second layer 242 is provided so as to fill a space surrounded by the substrate 100, the counter substrate 110, and the sealing material 130.

第1層241及び第2層242としては、例えば、実施の形態1の充填材140と同じ材料を利用することができる。ただし、このとき、第1層241に含まれる低分子材料の濃度は、第2層242に含まれる低分子材料の濃度より大きい。言い換えると、第1層241の粘度は、第2層242の粘度より小さい。例えば、第1層241の粘度は、0.005Pa・s〜1.0Pa・s(5cP〜1000cP)であり、第2層242の粘度は、0.2Pa・s〜5.0Pa・s(200cP〜5000cP)である。なお、含有する低分子成分は、第1層241では、0.5〜15質量%、第2層242では、0.1〜5質量%程度である。   For the first layer 241 and the second layer 242, for example, the same material as the filler 140 of Embodiment 1 can be used. However, at this time, the concentration of the low molecular material contained in the first layer 241 is higher than the concentration of the low molecular material contained in the second layer 242. In other words, the viscosity of the first layer 241 is smaller than the viscosity of the second layer 242. For example, the viscosity of the first layer 241 is 0.005 Pa · s to 1.0 Pa · s (5 cP to 1000 cP), and the viscosity of the second layer 242 is 0.2 Pa · s to 5.0 Pa · s (200 cP). ~ 5000 cP). In addition, the low molecular component to contain is about 0.5-15 mass% in the 1st layer 241, and is about 0.1-5 mass% in the 2nd layer 242.

低分子材料は、実施の形態1と同様に、有機層122との反応を促進する物質であり、例えば、粘度調整剤などである。第2電極123に接触する第1層241の低分子材料の濃度が大きいので、不活性部125を短期間で形成することができる。なお、第1層241に含まれる低分子材料は、第2層242に含まれる低分子材料と同じでもよく、異なっていてもよい。例えば、第1層241は、第2層242に含まれる低分子材料よりも低分子の材料(分子量が小さい材料)を含んでもよい。   The low molecular weight material is a substance that promotes the reaction with the organic layer 122 as in the first embodiment, and is, for example, a viscosity modifier. Since the concentration of the low molecular weight material of the first layer 241 in contact with the second electrode 123 is large, the inactive portion 125 can be formed in a short period. Note that the low molecular weight material included in the first layer 241 may be the same as or different from the low molecular weight material included in the second layer 242. For example, the first layer 241 may include a low-molecular material (a material having a low molecular weight) than the low-molecular material included in the second layer 242.

[有機EL素子の製造方法]
続いて、本実施の形態に係る有機EL素子20の製造方法について、図7を用いて説明する。図7は、本実施の形態に係る有機EL素子20の製造工程を示す概略断面図である。なお、本実施の形態において、第2電極123を形成し、封止材130を塗布するまでの工程は、実施の形態1と同様であるので、以下では説明を省略する。
[Method of manufacturing organic EL element]
Then, the manufacturing method of the organic EL element 20 which concerns on this Embodiment is demonstrated using FIG. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing process of the organic EL element 20 according to the present embodiment. Note that in this embodiment, the steps from forming the second electrode 123 and applying the sealing material 130 are the same as those in Embodiment 1, and thus the description thereof is omitted below.

封止材130を塗布した後、図7の(a)に示すように、第2電極123上に第1層241を形成する。具体的には、第2電極123上に、低分子材料を含む第1材料を塗布する。例えば、第1材料は、点状に塗布(滴下)される。あるいは、第1材料は、パターン状又は面状に塗布(描画)されてもよい。なお、第1材料は、硬化前の第1層241である。   After the sealing material 130 is applied, the first layer 241 is formed on the second electrode 123 as shown in FIG. Specifically, a first material containing a low molecular material is applied on the second electrode 123. For example, the first material is applied (dropped) in a dot shape. Alternatively, the first material may be applied (drawn) in a pattern or a plane. The first material is the first layer 241 before curing.

次に、図7の(b)に示すように、硬化前の第1層241(第1材料)上に、硬化前の第2層242(第2材料)を形成する。具体的には、塗布した第1材料上に、第1材料よりも低分子材料の濃度が小さい第2材料を塗布する。例えば、第2材料は、点状に塗布(滴下)される。あるいは、第2材料は、パターン状又は面状に塗布(描画)されてもよい。なお、第2材料は、硬化前の第2層242である。   Next, as shown in FIG. 7B, a second layer 242 (second material) before curing is formed on the first layer 241 (first material) before curing. Specifically, a second material having a lower concentration of low molecular weight material than the first material is applied onto the applied first material. For example, the second material is applied (dropped) in a dot shape. Alternatively, the second material may be applied (drawn) in a pattern or a plane. Note that the second material is the second layer 242 before curing.

なお、第1材料の滴下後から、不活性部125の形成が開始される。すなわち、第1材料は、孔部124を介して有機層122に浸透し、有機層122と反応する。   The inactive portion 125 starts to be formed after the first material is dropped. That is, the first material penetrates the organic layer 122 through the hole 124 and reacts with the organic layer 122.

基板100と対向基板110とを貼り合わせた後に、図7の(c)に示すように、有機層122内に不活性部125が形成される。実施の形態1と同様に、第1材料及び第2材料を硬化することで、低分子材料による膨潤反応を停止し、不活性部125が大きく広がるのを抑制する。   After the substrate 100 and the counter substrate 110 are bonded together, an inactive portion 125 is formed in the organic layer 122 as shown in FIG. Similar to the first embodiment, the first material and the second material are cured to stop the swelling reaction by the low molecular weight material and suppress the inactive portion 125 from spreading greatly.

以上のように、本実施の形態に係る有機EL素子20では、充填材240は、第2電極123に接触する第1層241と、第1層241の第2電極123と反対側に設けられた第2層242とを有し、第1層241の低分子材料の濃度は、第2層242の低分子材料の濃度より大きい。   As described above, in the organic EL element 20 according to the present embodiment, the filler 240 is provided on the opposite side of the first layer 241 that contacts the second electrode 123 and the second electrode 123 of the first layer 241. The concentration of the low molecular material of the first layer 241 is greater than the concentration of the low molecular material of the second layer 242.

また、本実施の形態に係る有機EL素子20の製造方法では、塗布する工程では、有機層122との反応を促進する低分子材料を含む第1材料を第2電極123上に塗布する工程と、第1材料上に、第1材料よりも低分子材料の濃度が小さい第2材料を塗布する工程とを含む。   Moreover, in the manufacturing method of the organic EL element 20 according to the present embodiment, in the applying step, a step of applying a first material including a low molecular material that promotes a reaction with the organic layer 122 on the second electrode 123; Applying a second material having a lower concentration of the low-molecular material than the first material on the first material.

これにより、充填材240の材料の選択の幅を広げることができ、例えば、有機EL部120の保護能力を高めることができる。例えば、不活性化を促進するための層を第1層241として設けることで、第2層242の材料を不活性化の能力に寄与しない材料などを自由に選択することができる。例えば、第2層242の材料として、吸湿効果の高い材料などを利用することができる。これにより、有機EL部120へ水分が到達するのを遅くすることができ、有機EL素子20の寿命を延ばすことができる。   Thereby, the selection range of the material of the filler 240 can be expanded, and for example, the protection capability of the organic EL unit 120 can be enhanced. For example, by providing a layer for promoting deactivation as the first layer 241, a material that does not contribute to the deactivation ability of the material of the second layer 242 can be freely selected. For example, a material having a high moisture absorption effect can be used as the material of the second layer 242. As a result, it is possible to delay the arrival of moisture to the organic EL unit 120 and to extend the life of the organic EL element 20.

(実施の形態3)
続いて、実施の形態3に係る照明装置について、図8を用いて説明する。
(Embodiment 3)
Then, the illuminating device which concerns on Embodiment 3 is demonstrated using FIG.

図8は、本実施の形態に係る照明装置30を示す概観斜視図である。   FIG. 8 is a schematic perspective view showing the illumination device 30 according to the present embodiment.

図8に示す照明装置30は、上述した有機EL素子10又は20を備える。例えば、照明装置30は、複数の有機EL素子10からなる発光部31と、発光部31を天井に設置するための吊具32と、発光部31と吊具32とを繋ぐ電源コード33とを備える。   The illuminating device 30 shown in FIG. 8 includes the organic EL element 10 or 20 described above. For example, the lighting device 30 includes a light emitting unit 31 composed of a plurality of organic EL elements 10, a hanging tool 32 for installing the light emitting unit 31 on the ceiling, and a power cord 33 that connects the light emitting unit 31 and the hanging tool 32. Prepare.

発光部31は、例えば、複数の有機EL素子10が互いに隣接するように複数並べて構成される。また、発光部31は、その端部が灯具ケース34で覆われて保護される。吊具32は、その表面にリモコン(図示せず)から送信されたリモコン信号を受信するためのリモコン受光部35を有する。   For example, the light emitting unit 31 is configured by arranging a plurality of organic EL elements 10 so as to be adjacent to each other. Further, the end of the light emitting unit 31 is covered and protected by the lamp case 34. The hanger 32 has a remote control light receiving unit 35 for receiving a remote control signal transmitted from a remote control (not shown) on its surface.

以上のように、本実施の形態に係る照明装置30は、例えば、実施の形態1又は2に係る有機EL素子10又は20を備える。このため、本実施の形態に係る照明装置30は、実施の形態1又は2と同様の効果を奏する。すなわち、簡易な方法でショート不良を抑制することができる。   As described above, the lighting device 30 according to the present embodiment includes, for example, the organic EL element 10 or 20 according to the first or second embodiment. For this reason, the illuminating device 30 which concerns on this Embodiment has an effect similar to Embodiment 1 or 2. FIG. That is, short-circuit defects can be suppressed by a simple method.

なお、照明装置30は、天井に吊り下げられる構成に限らず、壁に設置される構成であっても同等の効果を得ることができる。   Note that the lighting device 30 is not limited to a configuration that is suspended from the ceiling, and the same effect can be obtained even when the illumination device 30 is configured to be installed on a wall.

(変形例)
以下では、実施の形態1に係る有機EL素子10の変形例について図9A〜図9Cを用いて説明する。図9A〜図9Cは、本変形例に係る有機EL素子の異物周辺を示す概略断面図である。
(Modification)
Below, the modification of the organic EL element 10 which concerns on Embodiment 1 is demonstrated using FIG. 9A-FIG. 9C. 9A to 9C are schematic cross-sectional views showing the periphery of a foreign substance of the organic EL element according to this modification.

例えば、図9Aに示す有機EL素子10aのように、第2電極123は、孔部124の代わりに薄膜部124aを有してもよい。例えば、有機層122内に混入した異物の大きさによっては、第2電極123には孔部124が形成されない場合もある。有機層122内に混入した異物150aが有機層122を貫通しない場合、異物150aの上方に孔部124が形成されずに、薄膜部124aが形成される。   For example, like the organic EL element 10a shown in FIG. 9A, the second electrode 123 may have a thin film portion 124a instead of the hole portion 124. For example, the hole 124 may not be formed in the second electrode 123 depending on the size of foreign matter mixed in the organic layer 122. When the foreign material 150a mixed in the organic layer 122 does not penetrate the organic layer 122, the thin film portion 124a is formed without forming the hole portion 124 above the foreign material 150a.

薄膜部124aは、第2電極123の一部であり、他より膜厚が薄い部分である。図9Aのように、薄膜部124aは、異物150aに起因して形成されてもよく、あるいは、成膜時の不具合などに起因して形成されてもよい。   The thin film portion 124a is a part of the second electrode 123 and is a part having a smaller film thickness than the others. As shown in FIG. 9A, the thin film portion 124a may be formed due to the foreign matter 150a, or may be formed due to a defect during film formation.

この場合、硬化前の充填材140は、薄膜部124aを介して有機層122に浸透する。これにより、有機層122内に不活性部125aが形成される。薄膜部124aは、第2電極123の他の部分よりも膜厚が薄いので、他の部分より充填材140が浸透しやすい。したがって、薄膜部124aの下方の異物150の周囲に不活性部125aが形成される。   In this case, the filler 140 before curing permeates the organic layer 122 through the thin film portion 124a. As a result, an inactive portion 125 a is formed in the organic layer 122. Since the thin film portion 124a is thinner than other portions of the second electrode 123, the filler 140 is more easily penetrated than the other portions. Therefore, an inactive portion 125a is formed around the foreign material 150 below the thin film portion 124a.

また、第1電極121の形成前に異物150bが混入した場合は、図9Bに示す有機EL素子10bのように、異物150bは、有機層122だけでなく、第1電極121も貫通する。また、異物150bは、例えば、実施の形態1に係る異物150aより大きく、第2電極123も貫通する。すなわち、異物150bが、第2電極123に孔部124bを形成している。   Further, when the foreign matter 150b is mixed before the formation of the first electrode 121, the foreign matter 150b penetrates not only the organic layer 122 but also the first electrode 121 as in the organic EL element 10b shown in FIG. 9B. Moreover, the foreign material 150b is larger than the foreign material 150a which concerns on Embodiment 1, for example, and penetrates the 2nd electrode 123. FIG. That is, the foreign material 150 b forms the hole 124 b in the second electrode 123.

この場合、実施の形態1と同様に、硬化前の充填材140は、孔部124bを介して有機層122に浸透するので、有機層122内に不活性部125bが形成される。異物150bの周囲に不活性部125bが形成されるので、ショート不良を抑制することができる。   In this case, as in the first embodiment, the filler 140 before curing permeates the organic layer 122 through the hole 124b, so that the inactive portion 125b is formed in the organic layer 122. Since the inactive portion 125b is formed around the foreign material 150b, a short circuit failure can be suppressed.

また、図9Cに示す有機EL素子10cのように、異物が混入していない部分にも孔部124cが形成される場合が考えられる。例えば、上述したように、充填材140は、無機フィラーを含んでいてもよい。この場合、基板100と対向基板110とを貼り合わせる際に、無機フィラーによって物理的に第2電極123が押下されて破損し、孔部124cが形成される場合がある。   Moreover, the case where the hole part 124c is formed also in the part into which a foreign material is not mixed like the organic EL element 10c shown to FIG. 9C can be considered. For example, as described above, the filler 140 may include an inorganic filler. In this case, when the substrate 100 and the counter substrate 110 are bonded to each other, the second electrode 123 may be physically pressed by the inorganic filler and damaged, and the hole 124c may be formed.

この場合も、孔部124cを介して不活性部125cが形成されるので、ショート不良を抑制することができる。   Also in this case, since the inactive part 125c is formed through the hole 124c, a short circuit failure can be suppressed.

(その他)
以上、本発明に係る有機EL素子、照明装置及び有機EL素子の製造方法について、上記実施の形態及びその変形例に基づいて説明したが、本発明は、上記の実施の形態に限定されるものではない。
(Other)
As mentioned above, although the organic EL element which concerns on this invention, the illuminating device, and the manufacturing method of the organic EL element were demonstrated based on the said embodiment and its modification, this invention is limited to said embodiment. is not.

例えば、上記の実施の形態では、充填材140を第2電極123に接触するように塗布したが、これに限らない。例えば、第2電極123上に窒化膜などの防湿膜を形成した後、当該防湿膜上に充填材140を塗布してもよい。これにより、封止の信頼性を高め、有機EL素子の寿命をより長くすることができる。   For example, in the above embodiment, the filler 140 is applied so as to be in contact with the second electrode 123, but the present invention is not limited to this. For example, after forming a moisture-proof film such as a nitride film on the second electrode 123, the filler 140 may be applied on the moisture-proof film. Thereby, the reliability of sealing can be improved and the lifetime of an organic EL element can be made longer.

また、例えば、上記の実施の形態では、図1に示すように、充填材140は、基板100と、対向基板110と、封止材130とによって囲まれた空間内を充填するように設けられている。すなわち、有機EL部120の端面は、充填材140によって覆われているため、図3に示すように、有機EL部120の端部にも不活性部125が形成される。   Further, for example, in the above embodiment, as shown in FIG. 1, the filler 140 is provided so as to fill the space surrounded by the substrate 100, the counter substrate 110, and the sealing material 130. ing. That is, since the end surface of the organic EL unit 120 is covered with the filler 140, an inactive portion 125 is also formed at the end of the organic EL unit 120 as shown in FIG.

これに対して、例えば、有機EL部120の端部を第2電極123、又は、他の無機膜で被覆してもよい。これにより、有機EL部120の端部で充填材140と有機層122とが反応するのを抑制し、不活性部125が形成されるのを抑制することができる。したがって、発光領域が減少するのを抑制することができる。   On the other hand, for example, the end of the organic EL unit 120 may be covered with the second electrode 123 or other inorganic film. Thereby, it can suppress that the filler 140 and the organic layer 122 react with the edge part of the organic EL part 120, and can suppress that the inactive part 125 is formed. Therefore, it is possible to suppress a decrease in the light emitting region.

なお、有機EL部120の端部を第2電極123で被覆する場合は、例えば、第2電極123のパターニングの形状を変更すればよい。したがって、プロセス工程数の増加を抑制し、簡易な工程で有機EL素子10を製造することができる。   In addition, what is necessary is just to change the patterning shape of the 2nd electrode 123, for example, when coat | covering the edge part of the organic EL part 120 with the 2nd electrode 123. FIG. Therefore, the increase in the number of process steps can be suppressed, and the organic EL element 10 can be manufactured by a simple process.

また、例えば、上記の実施の形態では、基板100に封止材130及び充填材140を塗布する例について説明したが、これに限らない。例えば、対向基板110に封止材130及び充填材140を塗布してもよい。つまり、充填材140を第2電極123上に塗布する工程では、直接的に第2電極123上に塗布するのではなく、充填材140を間接的に第2電極123上に塗布してもよい。   For example, in the above-described embodiment, the example in which the sealing material 130 and the filler 140 are applied to the substrate 100 has been described, but the present invention is not limited thereto. For example, the sealing material 130 and the filler 140 may be applied to the counter substrate 110. That is, in the step of applying the filler 140 on the second electrode 123, the filler 140 may be applied indirectly on the second electrode 123 instead of directly on the second electrode 123. .

具体的には、まず、対向基板110の外周に沿って封止材130を塗布した後、封止材130に囲まれた領域内に充填材140を塗布する。その後、有機EL部120が設けられた基板100を、対向基板110の充填材140に浸けるようにして基板100と対向基板110とを貼り合わせてもよい。   Specifically, first, the sealing material 130 is applied along the outer periphery of the counter substrate 110, and then the filler 140 is applied in a region surrounded by the sealing material 130. Thereafter, the substrate 100 and the counter substrate 110 may be bonded so that the substrate 100 provided with the organic EL unit 120 is immersed in the filler 140 of the counter substrate 110.

この場合、充填材140の有機層122への浸透は、貼り合わせたタイミングから開始する。したがって、不活性部125の形成のための待機期間に、貼り合わせに要する期間を考慮に入れる必要がなくなるため、待機期間の制御(すなわち、充填材140の硬化のタイミング)を容易に制御することができる。   In this case, the penetration of the filler 140 into the organic layer 122 starts from the timing of bonding. Therefore, since it is not necessary to take into account the time required for bonding in the standby period for forming the inactive portion 125, the control of the standby period (that is, the timing of curing of the filler 140) can be easily controlled. Can do.

また、例えば、上記の実施の形態及び変形例では、異物150によって孔部124又は薄膜部124aが形成される例について示したが、これに限らない。例えば、積極的に孔部124又は薄膜部124aを形成してもよい。   Further, for example, in the above-described embodiment and modification, the example in which the hole 124 or the thin film portion 124a is formed by the foreign material 150 has been described, but the present invention is not limited thereto. For example, the hole 124 or the thin film portion 124a may be positively formed.

例えば、異物150の上方に第2電極123を積層する工程(S110)では、第2電極123の膜厚、又は、蒸着方向などを調整することにより、より膨潤反応を促進するようにしてもよい。例えば、第2電極123を薄く形成してもよい。   For example, in the step of stacking the second electrode 123 above the foreign material 150 (S110), the swelling reaction may be further promoted by adjusting the film thickness of the second electrode 123 or the deposition direction. . For example, the second electrode 123 may be formed thin.

また、異物150の場所が特定されている場合は、第2電極123を形成した後、孔部124を形成してもよい。例えば、イオンビームスパッタなどにより異物150の上方の第2電極123の一部を除去する。具体的には、単原子イオンビームを0.5keV以上で加速し、異物150の上方の第2電極123の部分に照射する。このとき、イオンビームのガスは、アルゴンガス(Ar)又はキセノンガス(Xe)などの不活性ガスを用いることができる。なお、よりスパッタ能力の高いGCIB(Gas Cluster Ion Beam)を用いてもよい。   Further, when the location of the foreign material 150 is specified, the hole 124 may be formed after the second electrode 123 is formed. For example, a part of the second electrode 123 above the foreign material 150 is removed by ion beam sputtering or the like. Specifically, the monoatomic ion beam is accelerated at 0.5 keV or more, and is irradiated to the portion of the second electrode 123 above the foreign material 150. At this time, an inert gas such as argon gas (Ar) or xenon gas (Xe) can be used as the ion beam gas. Note that GCIB (Gas Cluster Ion Beam) having higher sputtering ability may be used.

また、例えば、上記の実施の形態では、第1電極121が陽極で、第2電極123が陰極である例について示したが、逆でもよい。すなわち、第1電極121が陰極で、第2電極123が陽極でもよい。   Further, for example, in the above embodiment, an example in which the first electrode 121 is an anode and the second electrode 123 is a cathode is shown, but the reverse may be possible. That is, the first electrode 121 may be a cathode and the second electrode 123 may be an anode.

なお、上記の各実施の形態及び変形例に係る有機EL素子の平面視形状は、例えば、矩形である。具体的には、基板100及び対向基板110の平面視形状が矩形である。あるいは、有機EL素子の平面視形状は、多角形、円形又は楕円形などの、直線若しくは曲線で描かれた閉じた形状でもよい。   In addition, the planar view shape of the organic EL element which concerns on each said embodiment and modification is a rectangle, for example. Specifically, the planar view shapes of the substrate 100 and the counter substrate 110 are rectangular. Alternatively, the planar view shape of the organic EL element may be a closed shape drawn by a straight line or a curve, such as a polygon, a circle, or an ellipse.

また、例えば、上記の実施の形態では、有機EL素子10は、対向基板110及び封止材130を備えなくてもよい。   Further, for example, in the above embodiment, the organic EL element 10 may not include the counter substrate 110 and the sealing material 130.

その他、各実施の形態に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で各実施の形態における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本発明に含まれる。   In addition, the embodiment can be realized by arbitrarily combining the components and functions in each embodiment without departing from the scope of the present invention, or a form obtained by subjecting each embodiment to various modifications conceived by those skilled in the art. Forms are also included in the present invention.

10、10a、10b、10c、20 有機EL素子
30 照明装置
100 基板
121 第1電極
122 有機層
123 第2電極
124、124b、124c 孔部
125、125a、125b、125c 不活性部
140、240 充填材
150、150a、150b 異物
241 第1層
242 第2層
10, 10a, 10b, 10c, 20 Organic EL element 30 Lighting device 100 Substrate 121 First electrode 122 Organic layer 123 Second electrode 124, 124b, 124c Hole 125, 125a, 125b, 125c Inactive part 140, 240 Filler 150, 150a, 150b Foreign matter 241 First layer 242 Second layer

Claims (12)

透光性を有する基板と、
前記基板に順に積層された、透光性を有する第1電極、及び、第2電極と、
前記第1電極及び前記第2電極の間に設けられた、発光層を含む有機層と、
前記第1電極、前記第2電極及び前記有機層を封止するための充填材とを備え、
前記有機層は、
前記第2電極を介して浸透した前記充填材に反応することで不活性化された不活性部を有する
有機EL素子。
A substrate having translucency;
A first electrode having translucency and a second electrode, which are sequentially stacked on the substrate;
An organic layer including a light emitting layer provided between the first electrode and the second electrode;
A filler for sealing the first electrode, the second electrode, and the organic layer;
The organic layer is
An organic EL element having an inactive portion that is inactivated by reacting with the filler that has permeated through the second electrode.
前記第2電極は、積層方向に貫通する孔部を有し、
前記不活性部は、前記孔部を介して浸透した前記充填材と前記有機層の一部とが反応することで不活性化されている
請求項1に記載の有機EL素子。
The second electrode has a hole penetrating in the stacking direction,
The organic EL element according to claim 1, wherein the inactive part is inactivated by a reaction between the filler that has permeated through the hole and a part of the organic layer.
前記孔部と、前記不活性部とは、平面視において重なっている
請求項2に記載の有機EL素子。
The organic EL element according to claim 2, wherein the hole portion and the inactive portion overlap in a plan view.
前記有機EL素子は、さらに、前記不活性部近傍に異物を有する
請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機EL素子。
The organic EL element according to claim 1, wherein the organic EL element further has a foreign substance in the vicinity of the inactive portion.
前記異物は、前記有機層を積層方向に貫通する
請求項4に記載の有機EL素子。
The organic EL element according to claim 4, wherein the foreign matter penetrates the organic layer in a stacking direction.
前記充填材は、前記有機層との反応を促進する低分子材料を含む
請求項1〜5のいずれか1項に記載の有機EL素子。
The organic EL device according to claim 1, wherein the filler includes a low molecular material that promotes a reaction with the organic layer.
前記充填材は、
前記第2電極に接触する第1層と、
前記第1層の前記第2電極と反対側に設けられた第2層とを有し、
前記第1層の前記低分子材料の濃度は、前記第2層の前記低分子材料の濃度より大きい
請求項6に記載の有機EL素子。
The filler is
A first layer in contact with the second electrode;
A second layer provided on the opposite side of the first layer from the second electrode,
The organic EL element according to claim 6, wherein the concentration of the low molecular material in the first layer is higher than the concentration of the low molecular material in the second layer.
請求項1〜7のいずれか1項に記載の有機EL素子を備える照明装置。   An illuminating device provided with the organic EL element of any one of Claims 1-7. 透光性を有する基板上に、透光性を有する第1電極と、発光層を有する有機層と、第2電極とをこの順で積層する工程と、
前記有機層を封止するための充填材を前記第2電極上に塗布する工程と、
前記第2電極を介して前記充填材を前記有機層に浸透させることで、前記有機層内に不活性部を形成する工程と、
前記不活性部を形成した後に、前記充填材を硬化させる工程とを含む
有機EL素子の製造方法。
A step of laminating a first electrode having a light transmitting property, an organic layer having a light emitting layer, and a second electrode in this order on a substrate having a light transmitting property;
Applying a filler for sealing the organic layer on the second electrode;
Forming an inactive part in the organic layer by allowing the filler to penetrate the organic layer through the second electrode;
And a step of curing the filler after forming the inactive portion.
前記塗布する工程では、
前記有機層との反応を促進する低分子材料を含む第1材料を前記第2電極上に塗布する工程と、
前記第1材料上に、前記第1材料よりも前記低分子材料の濃度が小さい第2材料を塗布する工程とを含む
請求項9に記載の有機EL素子の製造方法。
In the applying step,
Applying a first material including a low molecular weight material that promotes reaction with the organic layer on the second electrode;
The manufacturing method of the organic EL element of Claim 9. The process of apply | coating the 2nd material with the density | concentration of the said low molecular material smaller than the said 1st material on the said 1st material.
前記積層する工程では、前記有機層内に位置する異物の上方に前記第2電極を形成する
請求項9又は10に記載の有機EL素子の製造方法。
The method for manufacturing an organic EL element according to claim 9 or 10, wherein, in the step of stacking, the second electrode is formed above a foreign substance located in the organic layer.
前記異物は、前記有機層を積層方向に貫通する
請求項11に記載の有機EL素子の製造方法。
The method of manufacturing an organic EL element according to claim 11, wherein the foreign matter penetrates the organic layer in a stacking direction.
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