JP2015201494A - Electronic component - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electronic component capable of improving sealability of an opening which is formed by insert molding.SOLUTION: In the state where a plate part 11 of a metal conductor is supported by a supporting projection 21 within a metal mold 20, a molten resin is injected and a bottom wall 3a of a substrate 3 is formed. Therefore, an opening 3d is formed on the bottom wall 3a after molding. Around the opening 3d, a connecting resin layer 30 is interposed which is formed from an insulator resin layer 31 and an adhesive resin layer 32, and the adhesive resin layer 32 is being compatible with a synthetic resin forming the bottom wall 3a. Since the connecting resin layer 30 is present around openings 3d and 3e, sealability in peripheral portions of the openings 3d and 3e can be improved.

Description

本発明は、ハウジングなどを構成する合成樹脂製の基体に金属導体がインサートされている電子部品に関する。   The present invention relates to an electronic component in which a metal conductor is inserted into a synthetic resin base constituting a housing or the like.

電子部品のハウジングやケースには、金属導体が埋設された合成樹脂製の基体が使用されることが多く、この種の基体はいわゆるインサート成形法で製造される。   Synthetic resin bases in which metal conductors are embedded are often used for housings and cases of electronic components, and this type of base is manufactured by a so-called insert molding method.

特許文献1に記載された電子部品では、金属端子がインサート成形で埋設された蓋体と、ハウジングとで収納室が形成されている。この蓋体を製造するインサート成形工程では、端子が金型内で押さえピンで押さえられた状態で、金型内に樹脂が射出成形され、樹脂圧によって金型内で端子の位置がずれるのが防止されている。この成形工程では、成形後の蓋体に、前記押さえピンの形状に対応したピン孔が形成される。   In the electronic component described in Patent Document 1, a storage chamber is formed by a cover body in which metal terminals are embedded by insert molding and a housing. In the insert molding process for manufacturing the lid body, the resin is injection molded in the mold while the terminal is pressed by the pressing pin in the mold, and the position of the terminal is shifted in the mold by the resin pressure. It is prevented. In this molding step, pin holes corresponding to the shape of the pressing pins are formed in the molded lid.

特開平10−55906号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-55906

金属板材から形成された端子は、表面にメッキが施されその表面に防腐処理などが施されているのが一般的である。そのため、インサート成形において、金属端子の表面と蓋体を構成する樹脂との密着性があまり良好ではなく、蓋体とハウジングとで形成される収納室の気密性を保つのに限界がある。   In general, terminals formed from a metal plate material are plated on the surface and subjected to antiseptic treatment on the surface. Therefore, in the insert molding, the adhesion between the surface of the metal terminal and the resin constituting the lid is not so good, and there is a limit to maintaining the airtightness of the storage chamber formed by the lid and the housing.

特に、特許文献1に記載のように、蓋体の表面から内部の端子まで通じるピン孔が形成されている構造では、ピン孔の周囲部分において金属端子と蓋体との密着性が低下して、ピン孔の周囲のシール性が損なわれやすくなり、ピン孔の周囲から収納室に液体が浸透する可能性が高くなる。   In particular, as described in Patent Document 1, in the structure in which the pin hole leading from the surface of the lid to the internal terminal is formed, the adhesion between the metal terminal and the lid is reduced in the peripheral portion of the pin hole. The sealing performance around the pin hole is likely to be impaired, and the possibility of liquid permeating from the periphery of the pin hole into the storage chamber is increased.

本発明は上記従来の課題を解決するものであり、いわゆるインサート成形工程で形成される開口部の周囲において、金属導体と基体と間のシール性を高めることができる電子部品を提供することを目的としている。   The present invention solves the above-described conventional problems, and an object of the present invention is to provide an electronic component that can improve the sealing performance between a metal conductor and a base around an opening formed by a so-called insert molding process. It is said.

本発明は、合成樹脂製の基体の内部に金属導体が埋設されている電子部品において、
前記基体には、前記金属導体の表面まで到達するように開口部が形成され、前記金属導体の表面には、少なくとも前記開口部を囲む全周領域に、単層または複層の繋ぎ樹脂層が形成されており、前記繋ぎ樹脂層の表面層が前記基体を形成する合成樹脂と相溶性を有することを特徴とするものである。
The present invention is an electronic component in which a metal conductor is embedded in a synthetic resin base,
An opening is formed in the base body so as to reach the surface of the metal conductor, and a single-layer or multi-layer connecting resin layer is formed on the entire surface of the metal conductor at least around the opening. It is formed, and the surface layer of the joining resin layer is compatible with the synthetic resin forming the base.

本発明の電子部品は、開口部の周囲の全周領域において、金属導体と基体との間が繋ぎ樹脂層で埋められるため、開口部の周囲でのシール性を高めることができ、基体で形成されるハウジングの内部の気密性を高めることができる。   In the electronic component of the present invention, the metal conductor and the base are connected and filled with the resin layer in the entire peripheral area around the opening, so that the sealing performance around the opening can be improved and formed with the base. The airtightness inside the housing can be increased.

本発明では、前記基体はインサート成形されており、前記金属導体を金型内に支持する支持突体によって前記開口部が形成されるものである。   In the present invention, the base body is insert-molded, and the opening is formed by a support protrusion that supports the metal conductor in a mold.

本発明の電子部品は、前記繋ぎ樹脂層の表面層と、前記基体を形成する前記合成樹脂が、同じ系の主成分を有していることが好ましい。例えば、前記主成分はポリアミド樹脂である。   In the electronic component of the present invention, it is preferable that the surface layer of the connecting resin layer and the synthetic resin forming the base have the same main component. For example, the main component is a polyamide resin.

前記のように同じ系を主成分とする樹脂を使用することで、繋ぎ樹脂層と基体との密着性をさらに向上させることができる。   By using the resin having the same system as the main component as described above, the adhesion between the connecting resin layer and the substrate can be further improved.

本発明では、前記繋ぎ樹脂層の表面層は、前記基体よりも高い弾性を有することが好ましい。   In this invention, it is preferable that the surface layer of the said connection resin layer has elasticity higher than the said base | substrate.

このように設定すると、基体が成形される際の冷却工程などにおいて基体を構成する合成樹脂が収縮したときでも、繋ぎ樹脂層がこの変形に追従でき、繋ぎ樹脂層と基体との密着性を維持できるようになる。   With this setting, even when the synthetic resin constituting the substrate contracts in the cooling process when the substrate is molded, the connecting resin layer can follow this deformation, and the adhesion between the connecting resin layer and the substrate is maintained. become able to.

本発明の電子部品は、前記繋ぎ樹脂層が形成されている金属導体の表面は活性化処理されていることが好ましい。
この活性化処理によって、金属導体と繋ぎ樹脂層との密着性を高めることができる。
As for the electronic component of this invention, it is preferable that the surface of the metal conductor in which the said connection resin layer is formed is activated.
By this activation treatment, the adhesion between the metal conductor and the connecting resin layer can be enhanced.

本発明は、前記金属導体は、帯状の金属板材で形成されており、前記繋ぎ樹脂層が前記金属板材の表面において幅方向の全域に形成されていることが好ましい。   In the present invention, it is preferable that the metal conductor is formed of a band-shaped metal plate material, and the connecting resin layer is formed on the entire surface of the metal plate material in the width direction.

上記構成では、開口部の位置が公差によりずれたとしても、開口部の周囲の全周に繋ぎ樹脂層を配置しやすくなる。   In the above configuration, even if the position of the opening is shifted due to tolerance, it is easy to arrange the resin layer on the entire circumference around the opening.

本発明は、インサート成形で基体に開口部が形成されている構造において、開口部の周囲全周で、金属導体と基体との間に繋ぎ樹脂層が形成されているため、開口部の周囲全周でシール性を高めることができ、例えば基体でハウジングを形成したときにハウジング内の密閉度を高めることが可能になる。   In the present invention, in the structure in which the opening is formed in the base body by insert molding, since the connecting resin layer is formed between the metal conductor and the base on the entire periphery of the opening, the entire periphery of the opening is formed. For example, when the housing is formed of a base, it is possible to increase the sealing degree in the housing.

(A)は、本発明の製造方法で製造される電子部品の一例を示す斜視図、(B)はその平面図、(A) is a perspective view which shows an example of the electronic component manufactured with the manufacturing method of this invention, (B) is the top view, 図1(A)に示す電子部品をII−II線で切断した断面図、Sectional drawing which cut | disconnected the electronic component shown in FIG. 1 (A) by the II-II line | wire, 図2の一部を示す拡大断面図、FIG. 2 is an enlarged sectional view showing a part of FIG. 図3のIV部の部分拡大断面図、FIG. 3 is a partially enlarged cross-sectional view of a part IV in FIG. 図3のV部の部分拡大断面図、The partial expanded sectional view of the V section of FIG. 図3のVI部の部分拡大断面図、FIG. 3 is a partially enlarged cross-sectional view of the VI part of FIG. 接着樹脂層の熱処理時の性質を示す線図、Diagram showing the properties of the adhesive resin layer during heat treatment, 金属導体と基体との接合部を示す断面写真、A cross-sectional photograph showing the joint between the metal conductor and the substrate,

図1(A)(B)と図2に示す電子部品1は、ハウジング2を有している。ハウジング2は基体3と蓋体4とで構成されている。蓋体4は撓み変形できる合成樹脂材料で形成されている。基体3は合成樹脂により形成され底壁部3aと4つの側壁部3bを有している。基体3は側壁部3bの上端で囲まれた開口部を有しており、この開口部が蓋体4で閉鎖されて、ハウジング2の内部に密閉空間である収納空間5が形成されている。ハウジング2は微小な構造であり、立方体や直方体で、1辺の最大値が5mm以下、さらには2mm以下に形成される。   The electronic component 1 shown in FIGS. 1A and 1B and FIG. 2 has a housing 2. The housing 2 includes a base 3 and a lid 4. The lid 4 is made of a synthetic resin material that can be bent and deformed. The base 3 is formed of a synthetic resin and has a bottom wall 3a and four side walls 3b. The base 3 has an opening surrounded by the upper end of the side wall 3 b, and this opening is closed by a lid 4, and a housing space 5 that is a sealed space is formed inside the housing 2. The housing 2 has a minute structure, and is formed in a cube or a rectangular parallelepiped so that the maximum value of one side is 5 mm or less, and further 2 mm or less.

ハウジング2の収納空間5の内部に検知素子6が収納されている。検知素子6はMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)素子であり、シリコン基板を主体として構成されている。検知素子6は力センサであり、外部の圧力で変形部が撓み、その撓み量が電荷の変化によって検出されるものである。蓋体4が可撓性の樹脂材料で形成されているため、外部の圧力に応じて蓋体4が変形し、そのときの収納空間5の内部圧力の変化が検知素子6で検知される。したがって、収納空間5は外部空気から遮断された気密空間であることが必要である。   The detection element 6 is accommodated in the storage space 5 of the housing 2. The detection element 6 is a MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) element, and is mainly composed of a silicon substrate. The detecting element 6 is a force sensor, and the deforming portion is bent by an external pressure, and the bending amount is detected by a change in electric charge. Since the lid body 4 is formed of a flexible resin material, the lid body 4 is deformed according to the external pressure, and the change in the internal pressure of the storage space 5 at that time is detected by the detection element 6. Therefore, the storage space 5 needs to be an airtight space cut off from outside air.

図1(A)(B)と図2および図3に示すように、基体3の底壁部3aの内部に4枚の金属導体10がいわゆるインサート成形法によって埋設されて固定されている。   As shown in FIGS. 1A, 1B, 2 and 3, four metal conductors 10 are embedded and fixed in the bottom wall portion 3a of the base 3 by a so-called insert molding method.

図2と図3に示すように、それぞれの金属導体10は、第1の板部11と第2の板部12を有している。第1の板部11は、底壁部3aの底面3cと平行に延びており、第2の板部12は、第1の板部11からほぼ直角に折り曲げられ、底面3cと垂直に上向きに延びている。第1の板部11と第2の板部12の境界が屈曲部15である。金属導体10には、第1の板部11に連続する外部端子部14と、第2の板部12に連続する内部端子部13とが一体に形成されている。内部端子部13は第2の板部12からほぼ直角に折り曲げられ、底面3cとほぼ平行に延びている。   As shown in FIGS. 2 and 3, each metal conductor 10 has a first plate portion 11 and a second plate portion 12. The first plate portion 11 extends in parallel with the bottom surface 3c of the bottom wall portion 3a, and the second plate portion 12 is bent at a substantially right angle from the first plate portion 11 and vertically upwards with respect to the bottom surface 3c. It extends. The boundary between the first plate portion 11 and the second plate portion 12 is a bent portion 15. The metal conductor 10 is integrally formed with an external terminal portion 14 that is continuous with the first plate portion 11 and an internal terminal portion 13 that is continuous with the second plate portion 12. The internal terminal portion 13 is bent at a substantially right angle from the second plate portion 12 and extends substantially parallel to the bottom surface 3c.

金属導体10は、第1の板部11と第2の板部12が、基体3の底壁部3aの内部に埋設されている。外部端子部14は、基体3の側方へ突出している。内部端子部13は、その上側表面13bが収納空間5内に露出した状態でそれ以外の部分が底壁部3aに埋設されている。収納空間5の内部では、4枚の金属導体10の内部端子部13の上側表面13bが露出している。検知素子6には4か所に電極が形成されており、それぞれの電極とそれぞれの内部端子部13とが一対一の関係で半田フィレット7によって接続されている。   In the metal conductor 10, a first plate portion 11 and a second plate portion 12 are embedded in the bottom wall portion 3 a of the base 3. The external terminal portion 14 protrudes to the side of the base 3. The other portion of the internal terminal portion 13 is embedded in the bottom wall portion 3 a with the upper surface 13 b exposed in the storage space 5. Inside the storage space 5, the upper surface 13b of the internal terminal portion 13 of the four metal conductors 10 is exposed. The detection element 6 has electrodes formed at four locations, and the electrodes and the internal terminal portions 13 are connected by solder fillets 7 in a one-to-one relationship.

図2と図3に示すように、基体3の底壁部3aでは、底面3cから第1の板部11の下側表面11aにかけて第1の開口部3dが開口しており、底面3cから内部端子部13の下側表面13aにかけて第2の開口部3eが開口している。   As shown in FIGS. 2 and 3, in the bottom wall portion 3a of the base 3, a first opening 3d is opened from the bottom surface 3c to the lower surface 11a of the first plate portion 11, and from the bottom surface 3c to the inside. A second opening 3 e is opened to the lower surface 13 a of the terminal portion 13.

基体3を製造するインサート形成工程では、図5と図6に一部が示されている金型20の内部に金属導体10が設置される。このとき、図5に示すように、第1の板部11が金型20内に設けられた支持突体21で支持され、図6に示すように、内部端子部13が支持突体22で支持された状態で、金型20の内部に溶融樹脂が射出される。金属導体10が、支持突体21,22で支持されることで、金型20のキャビティ内で金属導体10を正確に位置決めして、基体3の射出成形を行うことができる。   In the insert forming process for manufacturing the base 3, the metal conductor 10 is installed inside the mold 20 partly shown in FIGS. 5 and 6. At this time, as shown in FIG. 5, the first plate portion 11 is supported by a support protrusion 21 provided in the mold 20, and as shown in FIG. 6, the internal terminal portion 13 is a support protrusion 22. The molten resin is injected into the mold 20 while being supported. Since the metal conductor 10 is supported by the support protrusions 21 and 22, the metal conductor 10 can be accurately positioned in the cavity of the mold 20, and the base 3 can be injection-molded.

金型20内に射出された溶融樹脂が冷却されて固化すると、支持突体21,22が金型20内で後退して底壁部3aから抜き出され、さらに金型20が分離されて成形後の基体3が取り出される。基体3は、支持突体21が抜き出された場所に第1の開口部3dが形成され、支持突体22が抜き出された場所に第2の開口部3eが形成される。   When the molten resin injected into the mold 20 is cooled and solidified, the support protrusions 21 and 22 are retracted in the mold 20 and extracted from the bottom wall portion 3a, and the mold 20 is separated and molded. The subsequent substrate 3 is taken out. In the base 3, a first opening 3 d is formed where the support protrusion 21 is extracted, and a second opening 3 e is formed where the support protrusion 22 is extracted.

図3に示すように、金属導体10は、場所に応じて表面処理の条件が相違している。その条件の違いに応じて、金属導体10を区分(i)(ii)(iii)(iv)に分けることができる。   As shown in FIG. 3, the metal conductor 10 has different surface treatment conditions depending on the location. The metal conductor 10 can be divided into sections (i), (ii), (iii), and (iv) according to the difference in the conditions.

図3に示す区間(i)では、第1の板部11の下側表面11aならびに第2の板部12の左側表面12aと、内部端子部13の下側表面13aに同じ表面処理が施されている。   In the section (i) shown in FIG. 3, the same surface treatment is applied to the lower surface 11 a of the first plate portion 11, the left surface 12 a of the second plate portion 12, and the lower surface 13 a of the internal terminal portion 13. ing.

図4、図5、図6は、図3のIV部、V部、VI部を拡大して示している。これら各図に現れているように、区間(i)では、第1の板部11の下側表面11aならびに第2の板部12の左側表面12aと、内部端子部13の下側表面13aに、繋ぎ樹脂層30が形成されている。繋ぎ樹脂層30は、前記表面11a,12a,12aに密着して形成される絶縁樹脂層31と、前記絶縁樹脂層31の上に積層された接着樹脂層32とで構成されている。前記接着樹脂層32が、繋ぎ樹脂層30の表面層である。図4と図5に示すように、区間(ii)では、第1の板部11の上側表面11bと、第2の板部12の右側表面12bに接着樹脂層32のみが形成される。   4, FIG. 5, and FIG. 6 show the IV, V, and VI parts of FIG. 3 in an enlarged manner. As shown in each of these drawings, in the section (i), the lower surface 11a of the first plate portion 11 and the left surface 12a of the second plate portion 12 and the lower surface 13a of the internal terminal portion 13 The connecting resin layer 30 is formed. The connecting resin layer 30 includes an insulating resin layer 31 formed in close contact with the surfaces 11a, 12a, and 12a, and an adhesive resin layer 32 laminated on the insulating resin layer 31. The adhesive resin layer 32 is a surface layer of the connecting resin layer 30. As shown in FIGS. 4 and 5, only the adhesive resin layer 32 is formed on the upper surface 11 b of the first plate portion 11 and the right surface 12 b of the second plate portion 12 in the section (ii).

区間(i)においては、金属導体10の表面11a,12a,13aと、繋ぎ樹脂層30の下層となる前記絶縁樹脂層31との密着性を高める必要があり、区間(ii)では、金属導体10の表面11b,12bと前記接着樹脂層32との密着性を高める必要がある。そのため、区間(i)における表面11a,12a,13aと、区間(ii)における表面11b,12bに対して、前記樹脂層31,32を形成する前の工程で活性化処理が施される。   In the section (i), it is necessary to improve the adhesion between the surfaces 11a, 12a and 13a of the metal conductor 10 and the insulating resin layer 31 which is the lower layer of the connecting resin layer 30, and in the section (ii), the metal conductor It is necessary to improve the adhesion between the surfaces 11b and 12b of the adhesive 10 and the adhesive resin layer 32. Therefore, activation treatment is performed on the surfaces 11a, 12a, and 13a in the section (i) and the surfaces 11b and 12b in the section (ii) in a step before the resin layers 31 and 32 are formed.

実施の形態での金属導体10はリン青銅板の両表面に銀メッキが施されており、さらに銀メッキの表面に、フッ素系の硫化防止剤や防錆剤などの各種保護剤が塗布されている。前記活性化処理としては、金属導体10を形成する金属板材の表面に真空紫外光が照射される。真空紫外光の光源としては、キセノンガスを封入したエキシマUVランプ(波長172nm)などが好適に用いられる。真空紫外光は大気中での減衰が大きいため、金属導体10とランプとの距離は数mmから十数mmと近接させて照射する。真空紫外光が照射されると、低波長の紫外光で金属導体10表面の有機物の結合が切断され、また、ランプと金属導体10との間の空気中の酸素が分解されてオゾンが形成されるなどし、表面の前記保護剤が除去される。これとともに、金属導体10の表面の極性化が促進されて表面自由エネルギーが高められ濡れ性が向上する。   The metal conductor 10 in the embodiment is silver-plated on both surfaces of the phosphor bronze plate, and various protective agents such as a fluorine-based sulfidation inhibitor and a rust preventive agent are applied to the surface of the silver plating. Yes. As the activation treatment, the surface of the metal plate forming the metal conductor 10 is irradiated with vacuum ultraviolet light. As a light source for vacuum ultraviolet light, an excimer UV lamp (wavelength: 172 nm) in which xenon gas is sealed is preferably used. Since the vacuum ultraviolet light is greatly attenuated in the atmosphere, the distance between the metal conductor 10 and the lamp is set close to several mm to several tens mm. When the vacuum ultraviolet light is irradiated, the organic substance on the surface of the metal conductor 10 is cut by the low wavelength ultraviolet light, and oxygen in the air between the lamp and the metal conductor 10 is decomposed to form ozone. For example, the protective agent on the surface is removed. At the same time, the polarization of the surface of the metal conductor 10 is promoted, the surface free energy is increased, and the wettability is improved.

繋ぎ樹脂層30を構成する前記絶縁樹脂層31と接着樹脂層32は、互いに親和性がある樹脂材料が選択されて形成される。また、絶縁樹脂層31が形成された後に、その表面に真空紫外光を照射し、絶縁樹脂層31の表面自由エネルギーを高めた後に、その上に接着樹脂層32を形成することにより、絶縁樹脂層31と接着樹脂層32との密着性をより高めることができる。   The insulating resin layer 31 and the adhesive resin layer 32 constituting the connecting resin layer 30 are formed by selecting resin materials having an affinity for each other. Further, after the insulating resin layer 31 is formed, the surface is irradiated with vacuum ultraviolet light to increase the surface free energy of the insulating resin layer 31, and then the adhesive resin layer 32 is formed thereon, whereby the insulating resin layer 31 is formed. The adhesion between the layer 31 and the adhesive resin layer 32 can be further increased.

接着樹脂層32は、基体3を構成する合成樹脂と相溶性を有するものであり、接着樹脂層32と基体3を構成する合成樹脂は同系のものが選択されて使用される。実施の形態では、基体3を構成する合成樹脂がポリアミド系であり、いわゆるエンジニアプラスチックの1種であるナイロン9Tが使用されている。接着樹脂層32は、2液混合タイプの接着用樹脂を用いて形成される。実施の形態での接着用樹脂は、ナイロン系の主剤とイソシアネート系の硬化剤とが混合されてポリアミド樹脂が形成され、熱処理により架橋反応を生じる。   The adhesive resin layer 32 is compatible with the synthetic resin constituting the substrate 3, and the synthetic resin constituting the adhesive resin layer 32 and the substrate 3 is selected and used. In the embodiment, the synthetic resin constituting the substrate 3 is a polyamide, and nylon 9T, which is a kind of so-called engineer plastic, is used. The adhesive resin layer 32 is formed using a two-liquid mixed type adhesive resin. In the adhesive resin in the embodiment, a nylon resin and an isocyanate curing agent are mixed to form a polyamide resin, and a crosslinking reaction is caused by heat treatment.

図7には、ナイロン系の前記接着用樹脂の温度上昇と状態変化との関係が示されている。横軸は加熱温度であり、縦軸は熱変化を示し、縦軸のプラス側は発熱反応を示し、マイナス側は吸熱反応を示している。   FIG. 7 shows the relationship between temperature rise and state change of the nylon adhesive resin. The horizontal axis represents the heating temperature, the vertical axis represents the heat change, the positive side of the vertical axis represents the exothermic reaction, and the negative side represents the endothermic reaction.

図7に示す(a)の範囲は、接着用樹脂を乾燥させている過程であり、接着用樹脂はいわゆるホットメルト状態である。109℃付近まで加熱されて溶剤が蒸発すると、(b)の範囲に入って乾燥状態となり、温度上昇とともに架橋反応が開始される。さらに温度が150℃または160℃を超えて(c)の範囲になると、三次元架橋が促進されて水不溶性になる。   The range of (a) shown in FIG. 7 is a process of drying the adhesive resin, and the adhesive resin is in a so-called hot melt state. When the solvent evaporates by being heated to around 109 ° C., it enters the range (b) and becomes a dry state, and the crosslinking reaction is started as the temperature rises. When the temperature further exceeds 150 ° C. or 160 ° C. and falls within the range of (c), the three-dimensional crosslinking is promoted to become water insoluble.

前記接着樹脂層32は、接着用樹脂を、金属導体10を構成する金属板材の表面に塗布し、図7において(b)で示す範囲の温度条件で加熱した状態で使用される。すなわち110℃〜150℃または110〜160℃の加熱条件で接着用樹脂が乾燥された状態であって、完全な架橋状態になっていない仮硬化状態すなわち部分架橋状態で使用される。インサート成形法では、金型内に射出される溶融樹脂と接触することで接着樹脂層32が加熱されて溶融し、接着樹脂層32と基体3を形成する合成樹脂とが相溶状態となる。したがって、成形後の基体3は金属導体10と固着される。   The adhesive resin layer 32 is used in a state in which an adhesive resin is applied to the surface of the metal plate constituting the metal conductor 10 and heated under the temperature condition in the range shown in FIG. That is, the adhesive resin is dried under heating conditions of 110 ° C. to 150 ° C. or 110 to 160 ° C., and is used in a temporarily cured state that is not in a completely crosslinked state, that is, in a partially crosslinked state. In the insert molding method, the adhesive resin layer 32 is heated and melted by coming into contact with the molten resin injected into the mold, and the adhesive resin layer 32 and the synthetic resin forming the substrate 3 are in a compatible state. Therefore, the molded base 3 is fixed to the metal conductor 10.

また、接着樹脂層32は、基体3よりも高い弾性を有する、すなわち、弾性係数の低い状態とされるのが好ましい。接着樹脂層32の弾性係数を、基体3を構成する合成樹脂よりも低くしておくと、インサート成形の冷却工程で、基体3を構成する合成樹脂に熱収縮が生じた場合であっても、接着樹脂層32がその変形に追従し、接着樹脂層32と基体3との相溶状態を保てるようになる。   Moreover, it is preferable that the adhesive resin layer 32 has a higher elasticity than the base 3, that is, has a low elastic coefficient. If the elastic modulus of the adhesive resin layer 32 is set lower than that of the synthetic resin constituting the base body 3, even when heat shrinkage occurs in the synthetic resin constituting the base body 3 in the cooling process of insert molding, The adhesive resin layer 32 follows the deformation, and the compatible state of the adhesive resin layer 32 and the substrate 3 can be maintained.

前述のように、前記絶縁樹脂層31と接着樹脂層32は、互いに親和性があり密着性が良い樹脂材料で形成される。実施の形態では、絶縁樹脂層31がウレタン樹脂で形成され、硬化剤にイソシアネートが使用される。接着樹脂層32を形成しているナイロン樹脂とウレタン樹脂は、化学的構造が近似しているのが周知であり、さらに絶縁樹脂層31と接着樹脂層32とで同じイソシアネート系の硬化剤を使用している。絶縁樹脂層31と接着樹脂層32として前記樹脂を選択することで樹脂層間の密着性がよくなる。   As described above, the insulating resin layer 31 and the adhesive resin layer 32 are formed of a resin material having an affinity and good adhesion. In the embodiment, the insulating resin layer 31 is formed of a urethane resin, and isocyanate is used as a curing agent. The nylon resin and urethane resin forming the adhesive resin layer 32 are well known to have similar chemical structures, and the insulating resin layer 31 and the adhesive resin layer 32 use the same isocyanate curing agent. doing. By selecting the resin as the insulating resin layer 31 and the adhesive resin layer 32, the adhesion between the resin layers is improved.

絶縁樹脂層31は、接着樹脂層32のような仮硬化状態ではなく、3次元架橋が促進されてほぼ不溶性となった状態に形成される。すなわち、前記接着樹脂層32は架橋の程度が低い仮硬化の状態で形成されるが、絶縁樹脂層31は、接着樹脂層32よりも3次元架橋が促進されたものが使用される。そのために、絶縁樹脂層31は接着樹脂層32よりも高い温度で加熱処理されて使用される。絶縁樹脂層31の加熱処理温度は、例えば180℃以上が好ましい。インサート成形法では、前述のように接着樹脂層32が基体3を構成する合成樹脂と相溶状態となるが、絶縁樹脂層31は、基体3を構成する合成樹脂と完全な相溶状態とはなりにくく、絶縁樹脂層31として、金属導体10の表面に残ることになる。   The insulating resin layer 31 is not in a temporarily cured state as in the adhesive resin layer 32, but is formed in a state in which the three-dimensional crosslinking is promoted and becomes almost insoluble. That is, the adhesive resin layer 32 is formed in a pre-cured state with a low degree of cross-linking, but the insulating resin layer 31 is one in which three-dimensional cross-linking is promoted more than the adhesive resin layer 32. Therefore, the insulating resin layer 31 is used after being heated at a temperature higher than that of the adhesive resin layer 32. The heat treatment temperature of the insulating resin layer 31 is preferably, for example, 180 ° C. or higher. In the insert molding method, the adhesive resin layer 32 is compatible with the synthetic resin constituting the base 3 as described above, but the insulating resin layer 31 is completely compatible with the synthetic resin constituting the base 3. The insulating resin layer 31 remains on the surface of the metal conductor 10.

図8は、金属導体10がインサートされた基体3の一部断面を撮影した電子顕微鏡写真である。金属導体10は、表面を真空紫外光照射で活性化処理した後に絶縁樹脂層31を形成し、さらに絶縁樹脂層31の表面を真空紫外光照射で活性化させてから接着樹脂層32を形成したものである。この写真は50,000倍である。図8では、10が金属導体、10aがメッキ層である。メッキ層10aの表面に絶縁樹脂層31が密着し、さらに接着樹脂層32が基体3の合成樹脂と相溶状態となっている構造が現れている。   FIG. 8 is an electron micrograph of a partial cross-section of the substrate 3 with the metal conductor 10 inserted therein. After the surface of the metal conductor 10 was activated by irradiation with vacuum ultraviolet light, the insulating resin layer 31 was formed, and after the surface of the insulating resin layer 31 was activated by irradiation with vacuum ultraviolet light, the adhesive resin layer 32 was formed. Is. This photo is 50,000x. In FIG. 8, 10 is a metal conductor and 10a is a plating layer. A structure in which the insulating resin layer 31 is in close contact with the surface of the plating layer 10 a and the adhesive resin layer 32 is in a compatible state with the synthetic resin of the substrate 3 appears.

インサート成形後の基体3では、金属導体10の第1の板部11の2つの表面11a,11bに形成された接着樹脂層32が、基体3を構成する合成樹脂と相溶状態となっており、第2の板部12の2つの表面12a,12bに形成された接着樹脂層32が、基体3を構成する合成樹脂と相溶状態となっている。そのため、金属導体10と基体3の底壁部3aとの密着部に隙間が形成されにくくなり、図2に示すハウジング2の内部の収納空間5の気密性を高めることができる。その結果、前記隙間から収納空間5の内部に水分やフラックス等の溶剤やその他の液体が浸透する可能性を低下させることができる。   In the base body 3 after the insert molding, the adhesive resin layer 32 formed on the two surfaces 11 a and 11 b of the first plate portion 11 of the metal conductor 10 is in a compatible state with the synthetic resin constituting the base body 3. The adhesive resin layer 32 formed on the two surfaces 12 a and 12 b of the second plate portion 12 is compatible with the synthetic resin constituting the base 3. Therefore, it is difficult to form a gap in the close contact portion between the metal conductor 10 and the bottom wall portion 3a of the base body 3, and the airtightness of the storage space 5 inside the housing 2 shown in FIG. 2 can be improved. As a result, it is possible to reduce the possibility that a solvent such as moisture or flux or other liquid penetrates into the storage space 5 from the gap.

金属導体10では、第1の板部11と第2の板部12の境界の屈曲部15の両面にも接着樹脂層32が形成されているため、この屈曲部15においても、金属導体10と基体3を構成している合成樹脂とを強固に固着させることができる。   In the metal conductor 10, the adhesive resin layer 32 is also formed on both surfaces of the bent portion 15 at the boundary between the first plate portion 11 and the second plate portion 12. The synthetic resin constituting the substrate 3 can be firmly fixed.

屈曲部15を有する金属導体10を用いたインサート成形法では、屈曲部15の周囲で溶融樹脂の流れが悪くなるため、樹脂が冷却されて固化するときに、屈曲部15の周囲にヒケと称される変形が発生しやすくなる。また底壁部3aが薄いと、屈曲部15が埋設されている部分で樹脂強度が低下しやすい。しかし、屈曲部15を挟む両側に位置する第1の板部11と第2の板部12の両面に接着樹脂層32が設けられ、さらに屈曲部15の表面にも接着樹脂層32が設けられているため、屈曲部15を含む領域で金属導体10と基体3とが強固に固着されるようになり、ヒケの問題や強度低下の問題が生じにくくなる。   In the insert molding method using the metal conductor 10 having the bent portion 15, the flow of the molten resin is deteriorated around the bent portion 15, so that when the resin is cooled and solidified, the sink around the bent portion 15 is called sink. Deformation is likely to occur. If the bottom wall portion 3a is thin, the resin strength tends to decrease at the portion where the bent portion 15 is embedded. However, the adhesive resin layer 32 is provided on both surfaces of the first plate portion 11 and the second plate portion 12 located on both sides of the bent portion 15, and the adhesive resin layer 32 is also provided on the surface of the bent portion 15. Therefore, the metal conductor 10 and the base 3 are firmly fixed in the region including the bent portion 15, and the problem of sink marks and the problem of strength reduction are less likely to occur.

図4に示すように、基体3から外部端子部14が突出している部分では、第1の板部11の2つの表面11a,11bに形成された接着樹脂層32が基体3を構成する樹脂と相溶状態となって、第1の板部11と基体3とが強固に固着されている。よって、外部端子部14の突出基部において、金属導体10と基体3との間に隙間が形成されることがなく、収納空間5の気密性を高い状態に保つことができる。さらに、外部端子部14の突出基部の周囲での基体3の強度を高めることもできる。   As shown in FIG. 4, the adhesive resin layer 32 formed on the two surfaces 11 a and 11 b of the first plate portion 11 is formed of the resin constituting the substrate 3 at the portion where the external terminal portion 14 protrudes from the substrate 3. In a compatible state, the first plate portion 11 and the base 3 are firmly fixed. Therefore, no gap is formed between the metal conductor 10 and the base body 3 at the protruding base portion of the external terminal portion 14, and the airtightness of the storage space 5 can be kept high. Furthermore, the strength of the base 3 around the protruding base portion of the external terminal portion 14 can be increased.

金属導体10は、2つの表面に絶縁樹脂層31と接着樹脂層32が形成された金属板材(いわゆるフープ基材)から切断されるため、金属導体10は、下側に向く表面11a,12a,13aに絶縁樹脂層31と接着樹脂層32が形成され、上側に向く表面11b,12bに接着樹脂層32が形成されるが、切断加工の際の切断面となる側面(板厚が現れる側面)は、いずれの樹脂層も形成されない。ただし、インサート成形工程で、金属導体10が加熱されるため、板部11の2つ表面11a,11bと板部12の2つの表面12a,12bならびに板部13の表面13aに形成されている接着樹脂層32が加熱されて溶融状態となり、射出成形時の溶融樹脂の圧力により溶融状態となった接着樹脂32の一部が金属導体10の側面に回り込む。これにより、金属導体10の側面と基体3の底壁部3aとの間で、少なくとも一部に接着樹脂層32が存在することになり、金属導体10の側面と底壁部3aとの間に隙間が形成されにくくなり、ハウジング2の内部の収納空間5の気密性を高めることができる。   Since the metal conductor 10 is cut from a metal plate (so-called hoop base material) in which the insulating resin layer 31 and the adhesive resin layer 32 are formed on two surfaces, the metal conductor 10 has the surfaces 11a, 12a, The insulating resin layer 31 and the adhesive resin layer 32 are formed on 13a, and the adhesive resin layer 32 is formed on the surfaces 11b and 12b facing upward. The side surface that serves as a cut surface during the cutting process (the side surface on which the plate thickness appears) Neither resin layer is formed. However, since the metal conductor 10 is heated in the insert molding process, the adhesion is formed on the two surfaces 11a and 11b of the plate part 11, the two surfaces 12a and 12b of the plate part 12, and the surface 13a of the plate part 13. The resin layer 32 is heated to be in a molten state, and a part of the adhesive resin 32 that is in a molten state due to the pressure of the molten resin at the time of injection molding wraps around the side surface of the metal conductor 10. As a result, the adhesive resin layer 32 is present at least partially between the side surface of the metal conductor 10 and the bottom wall portion 3a of the base 3, and between the side surface of the metal conductor 10 and the bottom wall portion 3a. It becomes difficult to form a gap, and the airtightness of the storage space 5 inside the housing 2 can be enhanced.

図3に示す区分(iii)では、内部端子部13の下側表面13aが接着樹脂層32によって基体3を構成する合成樹脂に固着させられている。一方、図6にも示すように、内部端子部13の上側表面13bは底壁部3aから露出している。この上側表面13bには絶縁樹脂層31や接着樹脂層32が形成されておらず、真空紫外光を使用した前記活性化処理が施されていない状態であり、銀メッキが硫化防止剤などの保護剤で覆われたままである。   In the section (iii) shown in FIG. 3, the lower surface 13 a of the internal terminal portion 13 is fixed to the synthetic resin constituting the substrate 3 by the adhesive resin layer 32. On the other hand, as shown in FIG. 6, the upper surface 13b of the internal terminal portion 13 is exposed from the bottom wall portion 3a. The upper surface 13b is not formed with the insulating resin layer 31 or the adhesive resin layer 32, and is not subjected to the activation treatment using vacuum ultraviolet light. It remains covered with the agent.

区分(iv)では、外部端子部14が基体3の側方に突出しているが、外部端子部14の上側表面14aと下側表面14bにも、絶縁樹脂層31や接着樹脂層32が形成されておらず、真空紫外光を使用した前記活性化処理も施されていない。よって、表面14a,14bは、銀メッキが硫化防止剤などの保護剤で覆われたままである。   In the section (iv), the external terminal portion 14 protrudes to the side of the base 3, but the insulating resin layer 31 and the adhesive resin layer 32 are also formed on the upper surface 14 a and the lower surface 14 b of the external terminal portion 14. Further, the activation treatment using vacuum ultraviolet light is not performed. Therefore, the surfaces 14a and 14b remain silver-plated with a protective agent such as an antisulfurizing agent.

したがって、内部端子部13の上側表面13bと、外部端子部14の下側表面14aならびに上側表面14bは、銀メッキが腐食しにくい状態を保つことができる。   Therefore, the upper surface 13b of the internal terminal portion 13, the lower surface 14a and the upper surface 14b of the external terminal portion 14 can be kept in a state in which silver plating is hardly corroded.

図5と図6に示すように、基体3をインサート成形する工程では、金型内において、第1の板部11の下側表面11aが支持突体21に当接して支持され、内部端子部13の下側表面13aも支持突体22に当接して支持された状態で、金型および支持突体21,22が加熱される。このとき、支持突体21,22が当接している部分で、仮硬化状態の接着樹脂層32が溶融し、支持突体21,22が当接する部分で接着樹脂層32が除去される。また、接着樹脂層32は、図7に示す(b)の範囲で加熱処理されており、(a)の範囲のホットメルト状態に比べて粘着性が低下している。そのため、溶融した接着樹脂層32は、支持突体21,22の先端面などに付着しにくい。   As shown in FIG. 5 and FIG. 6, in the step of insert-molding the base 3, the lower surface 11 a of the first plate portion 11 is supported in contact with the support protrusion 21 in the mold, and the internal terminal portion The molds and the support protrusions 21 and 22 are heated in a state where the lower surface 13a of 13 is also in contact with and supported by the support protrusion 22. At this time, the temporarily cured adhesive resin layer 32 is melted at the portion where the support protrusions 21 and 22 are in contact, and the adhesive resin layer 32 is removed at the portion where the support protrusions 21 and 22 are in contact. Moreover, the adhesive resin layer 32 is heat-processed in the range of (b) shown in FIG. 7, and adhesiveness has fallen compared with the hot-melt state of the range of (a). Therefore, the molten adhesive resin layer 32 is unlikely to adhere to the tip surfaces of the support protrusions 21 and 22.

一方、絶縁樹脂層31は三次元架橋状態に形成されているため、金型温度によって溶解することがなく、支持突体21,22が当接する部分においても、金属導体10の表面が絶縁樹脂層31で覆われた状態に維持される。   On the other hand, since the insulating resin layer 31 is formed in a three-dimensional cross-linked state, it does not melt due to the mold temperature, and the surface of the metal conductor 10 is the insulating resin layer even at the part where the support protrusions 21 and 22 abut. The state covered with 31 is maintained.

インサート成形後の基体3では、図2と図3に示すように、基体3の底壁部3aに底面3cから金属導体10に通じる開口部3d,3eが複数箇所に形成される。   In the base 3 after the insert molding, as shown in FIGS. 2 and 3, openings 3 d and 3 e that lead from the bottom surface 3 c to the metal conductor 10 are formed in a plurality of locations on the bottom wall portion 3 a of the base 3.

図5と図6に示すように、開口部3d,3eの周囲では、繋ぎ樹脂層30の表面層となる接着樹脂層32と基体3を構成する樹脂とが相溶状態となってから硬化する。そのため、開口部3d,3eの周囲全周は、絶縁樹脂層31と接着樹脂層32の2層構造となる繋ぎ樹脂層30で埋められた構造となり、この周囲部分で、金属導体10と基体3との間に隙間が形成されることがなくなってシール性が高められる。よって、収納空間5内の気密性をさらに高めることができる。   As shown in FIGS. 5 and 6, around the openings 3d and 3e, the adhesive resin layer 32 serving as the surface layer of the connecting resin layer 30 and the resin constituting the substrate 3 are cured after being in a compatible state. . Therefore, the entire circumference of the openings 3d and 3e is a structure filled with the connecting resin layer 30 that is a two-layer structure of the insulating resin layer 31 and the adhesive resin layer 32. In this peripheral portion, the metal conductor 10 and the base 3 No gap is formed between the two and the sealing performance is improved. Therefore, the airtightness in the storage space 5 can be further enhanced.

また、底壁部3aの底面3cに開口する開口部3d,3eの内部に金属導体10が露出するが、図5と図6に示すように、開口部3d,3eの内部で、金属導体10の表面が絶縁樹脂層31で覆われているため、金属導体10の絶縁が保たれている。   Further, the metal conductor 10 is exposed inside the openings 3d and 3e that open to the bottom surface 3c of the bottom wall 3a. However, as shown in FIGS. 5 and 6, the metal conductor 10 is formed inside the openings 3d and 3e. Since the surface is covered with the insulating resin layer 31, the insulation of the metal conductor 10 is maintained.

ハウジング2は1辺が5mm以下さらには2mm以下の微小な立方体または直方体であるため、基体3の底面3cに液体(フラックス等の溶剤も含む)が付着することがあると、液体が複数箇所の開口部3d,3eに同時に入り込みやすくなる。しかし、開口部3d,3eの底部に現れている金属導体10の表面が絶縁樹脂層31で覆われて、絶縁されているため、液体により金属導体10どうしが短絡することを防止できる。   Since the housing 2 is a small cube or a rectangular parallelepiped having a side of 5 mm or less and further 2 mm or less, when liquid (including a solvent such as flux) may adhere to the bottom surface 3 c of the base 3, the liquid may be in multiple locations. It becomes easy to enter the openings 3d and 3e at the same time. However, since the surface of the metal conductor 10 appearing at the bottom of the openings 3d and 3e is covered and insulated by the insulating resin layer 31, it is possible to prevent the metal conductors 10 from being short-circuited by the liquid.

それぞれの金属導体10は帯状であり、図1(B)の左右方向が長手方向で、上下方向が幅方向である。繋ぎ樹脂層30は、金属導体10の幅方向の全域にわたって形成されているため、金型内で金属導体10が支持されるときに、支持突体21,22と金属導体10との間に、幅方向(図1(B)の図示上下方向)での位置の公差ずれが生じていたとしても、開口部3d,3eの周囲全周に繋ぎ樹脂層30が位置する状態を構成しやすい。また、図5と図6に示すように、繋ぎ樹脂層30は長手方向の長い範囲に形成されているため、支持突体21,22と金属導体10との間に図1(B)の左右方向において位置の公差ずれが生じていたとしても、開口部3d,3eの周囲全周に繋ぎ樹脂層30が位置する状態を構成しやすい。   Each metal conductor 10 has a strip shape, and the horizontal direction in FIG. 1B is the longitudinal direction, and the vertical direction is the width direction. Since the connecting resin layer 30 is formed over the entire width direction of the metal conductor 10, when the metal conductor 10 is supported in the mold, between the support protrusions 21 and 22 and the metal conductor 10, Even if the positional deviation in the width direction (the vertical direction in FIG. 1B) occurs, it is easy to configure a state in which the resin layer 30 is connected to the entire periphery of the openings 3d and 3e. Further, as shown in FIGS. 5 and 6, since the connecting resin layer 30 is formed in a long range in the longitudinal direction, the left and right sides of FIG. 1B are interposed between the support protrusions 21 and 22 and the metal conductor 10. Even if a positional tolerance shift occurs in the direction, it is easy to configure a state in which the resin layer 30 is connected to the entire periphery of the openings 3d and 3e.

なお、前記実施の形態では、少なくとも開口部3d,3eの周囲部分に、絶縁樹脂層31と接着樹脂層32の2層構造となる繋ぎ樹脂層30が形成されているが、金属導体10の下側表面11aと下側表面13aに接着樹脂層32のみの1層構造の繋ぎ樹脂層が形成されてもよい。この場合、開口部3d,3eの周囲全周では、金属導体10と基体3との間に接着樹脂層32が介在し、この接着樹脂層32が基体3を構成する合成樹脂と相溶状態となるため、開口部3d,3eの周囲全周のシール性を高めることができる。 なお、前記実施の形態では、基体3を構成する合成樹脂をナイロン9T、接着樹脂層32を構成する接着用樹脂をナイロン樹脂、絶縁樹脂層31を形成する樹脂をウレタン樹脂として説明したが、これら樹脂は相互に相溶性や親和性があれば前記組み合わせに限られない。例えば、ウレタン系―ウレタン系、アクリル系―アクリル系、オレフィン系―オレフィン系、エポキシ系―エポキシ系、イソシアネート系―イソシアネート系などの同一系の材料のほか、エポキシ系―ウレタン系、ウレタン系―イソシアネート系、エポキシ系―イソシアネート系などの組み合わせが可能である。また、極性化を促進する活性化処理は、真空紫外光の照射に限られるものではなく、プラズマ処理、UVオゾン処理、コロナ処理、化成処理、火炎処理、加熱処理、陽極酸化処理等であってもよい。   In the embodiment, the connecting resin layer 30 having a two-layer structure of the insulating resin layer 31 and the adhesive resin layer 32 is formed at least around the openings 3d and 3e. A one-layered connecting resin layer having only the adhesive resin layer 32 may be formed on the side surface 11a and the lower surface 13a. In this case, an adhesive resin layer 32 is interposed between the metal conductor 10 and the base 3 around the periphery of the openings 3d and 3e, and the adhesive resin layer 32 is compatible with the synthetic resin constituting the base 3. Therefore, it is possible to improve the sealing performance around the peripheries of the openings 3d and 3e. In the above embodiment, the synthetic resin constituting the substrate 3 is described as nylon 9T, the adhesive resin constituting the adhesive resin layer 32 as nylon resin, and the resin forming the insulating resin layer 31 as urethane resin. The resins are not limited to the above combinations as long as they have compatibility and affinity with each other. For example, in addition to the same materials such as urethane-urethane, acrylic-acrylic, olefin-olefin, epoxy-epoxy, isocyanate-isocyanate, epoxy-urethane, urethane-isocyanate Combinations such as epoxy and isocyanate-isocyanate are possible. In addition, the activation treatment for promoting the polarization is not limited to the irradiation with vacuum ultraviolet light, but includes plasma treatment, UV ozone treatment, corona treatment, chemical conversion treatment, flame treatment, heat treatment, anodizing treatment, etc. Also good.

1 電子部品
2 ハウジング
3 基体
3a 底壁部
3d,3e 開口部
5 収納空間
6 検知素子
10 金属導体
11 第1の板部
11a 下側表面
11b 上側表面
12 第2の板部
12a 左側表面
12b 右側表面
13 内部端子部
13a 下側表面
13b 上側表面
14 外部端子部
15 屈曲部
20 金型
21,22 支持突体
30 繋ぎ樹脂層
31 絶縁樹脂層
32 接着樹脂層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electronic component 2 Housing 3 Base | substrate 3a Bottom wall part 3d, 3e Opening part 5 Storage space 6 Sensing element 10 Metal conductor 11 1st board part 11a Lower surface 11b Upper surface 12 Second board part 12a Left surface 12b Right surface 13 Internal terminal portion 13a Lower surface 13b Upper surface 14 External terminal portion 15 Bent portion 20 Molds 21, 22 Supporting protrusion 30 Connecting resin layer 31 Insulating resin layer 32 Adhesive resin layer

Claims (7)

合成樹脂製の基体の内部に金属導体が埋設されている電子部品において、
前記基体には、前記金属導体の表面まで到達するように開口部が形成され、前記金属導体の表面には、少なくとも前記開口部を囲む全周領域に、単層または複層の繋ぎ樹脂層が形成されており、前記繋ぎ樹脂層の表面層が前記基体を形成する合成樹脂と相溶性を有することを特徴とする電子部品。
In an electronic component in which a metal conductor is embedded inside a synthetic resin base,
An opening is formed in the base body so as to reach the surface of the metal conductor, and a single-layer or multi-layer connecting resin layer is formed on the entire surface of the metal conductor at least around the opening. An electronic component, wherein the electronic component is formed, and the surface layer of the connecting resin layer is compatible with a synthetic resin forming the base.
前記基体はインサート成形されており、前記金属導体を金型内に支持する支持突体によって前記開口部が形成されている請求項1記載の電子部品。   The electronic component according to claim 1, wherein the base is insert-molded, and the opening is formed by a support protrusion that supports the metal conductor in a mold. 前記繋ぎ樹脂層の表面層と、前記基体を形成する前記合成樹脂が、同じ系の主成分を有している請求項1または2記載の電子部品。   The electronic component according to claim 1, wherein the surface layer of the connecting resin layer and the synthetic resin forming the base have the same main component. 前記主成分はポリアミド樹脂である請求項3記載の電子部品。   The electronic component according to claim 3, wherein the main component is a polyamide resin. 前記繋ぎ樹脂層の表面層は、前記基体よりも高い弾性を有する請求項1ないし4のいずれかに記載の電子部品。   The electronic component according to claim 1, wherein a surface layer of the connecting resin layer has higher elasticity than the base. 前記繋ぎ樹脂層が形成されている金属導体の表面は活性化処理されている請求項1ないし5のいずれかに記載の電子部品。   The electronic component according to claim 1, wherein a surface of the metal conductor on which the connecting resin layer is formed is activated. 前記金属導体は、帯状の金属板材で形成されており、前記繋ぎ樹脂層が前記金属板材の表面において幅方向の全域に形成されている請求項1ないし6のいずれかに記載の電子部品。   The electronic component according to any one of claims 1 to 6, wherein the metal conductor is formed of a band-shaped metal plate material, and the connecting resin layer is formed on the entire surface of the metal plate material in the width direction.
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