JP2015189714A - Method of producing aromatic dicarboxylic acid - Google Patents

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渉 寺▲崎▼
Wataru Terasaki
渉 寺▲崎▼
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To produce an aromatic dicarboxylic acid stably and continuously by discharging wet cake of an aromatic dicarboxylic acid stably out of a container and transferring.SOLUTION: A method of producing an aromatic dicarboxylic acid is based on liquid phase oxidation of a dialkyl aromatic hydrocarbon with molecular oxygen in a reaction medium and includes a transfer step of receiving, in a container, wet cake containing the aromatic dicarboxylic acid and liquid substances produced by the liquid phase oxidation and transferring the wet cake out of the container. The fluctuation range of the pressure difference between the pressure of the inside of the container and the pressure of the outside of the container, or the destination of the transfer step, is kept within the ±0.2 MPa range.

Description

本発明は、ジアルキル芳香族炭化水素を液相酸化して芳香族ジカルボン酸を製造する方法に関する。詳しくは、液相酸化により得られる、常温下で固体であって、液状物質を含有した芳香族ジカルボン酸混合物を所定圧力下の容器内に収納し、この容器外に芳香族ジカルボン酸を安定的に移送させる工程を含む製造方法である。さらに詳しくは、液相酸化により得られる、水、又は水と酢酸を含む混合物からなる液状物質を含有した芳香族ジカルボン酸を容器内に収納し、さらにこの容器外へ安定的に移送する工程を含む製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing an aromatic dicarboxylic acid by liquid phase oxidation of a dialkyl aromatic hydrocarbon. Specifically, an aromatic dicarboxylic acid mixture obtained by liquid phase oxidation, which is solid at room temperature and containing a liquid substance, is stored in a container under a predetermined pressure, and the aromatic dicarboxylic acid is stably contained outside the container. It is a manufacturing method including the process made to transfer to. More specifically, the step of storing aromatic dicarboxylic acid containing a liquid substance composed of water or a mixture containing water and acetic acid, obtained by liquid phase oxidation, in a container and further stably transferring it to the outside of the container. It is related with the manufacturing method containing.

芳香族ジカルボン酸は、一般的に、重金属触媒等を用い、反応媒体中でジアルキル芳香族炭化水素を大気圧より高い圧力、反応媒体の大気圧における沸点以上の温度下、分子状酸素により液相酸化して得られる。このようにして得られた芳香族ジカルボン酸生成物はスラリー状を呈しているが、一例として、芳香族ジカルボン酸が高純度テレフタル酸である場合には、該スラリーから、晶析、固液分離、洗浄及び乾燥(以上を、以下「CTA工程」と称する場合がある。)、引き続いて水による再溶解、水素化処理、固液分離、洗浄及び乾燥(以上を、以下「PTA工程」と称する場合がある。)などの単位操作を経て、テレフタル酸の固体粒子状製品が得られる。CTA工程及びPTA工程いずれにおいても、特に固液分離や、固液分離と洗浄を同時に行う工程、及び乾燥工程等によって得られる芳香族ジカルボン酸は、若干の反応媒体等の液状物質を含む(以下、芳香族ジカルボン酸及び液状物質を含有する混合物を「湿ケーキ」と称する場合がある。)。しかしながら、これらの湿ケーキを槽、塔、固液分離装置等の容器に移送して収納し、続いて他の容器へ排出する時には、容器内壁面や粉面計等の内部構造物への湿ケーキの付着、あるいは該湿ケーキ排出機構の連動性の不具合や容器内外の圧力バランスの変動による排出速度の不安定化等、安定的な移送が極めて困難であり、芳香族ジカルボン酸製造装置の安定運転継続の面で解決すべき問題が残っている。   Aromatic dicarboxylic acids generally use a heavy metal catalyst or the like to convert dialkyl aromatic hydrocarbons into a liquid phase with molecular oxygen at a pressure higher than atmospheric pressure or higher than the boiling point at atmospheric pressure of the reaction medium. Obtained by oxidation. The aromatic dicarboxylic acid product thus obtained is in the form of a slurry. As an example, when the aromatic dicarboxylic acid is high-purity terephthalic acid, crystallization and solid-liquid separation are performed from the slurry. , Washing and drying (hereinafter may be referred to as “CTA process”), followed by re-dissolution with water, hydrogenation, solid-liquid separation, washing and drying (hereinafter referred to as “PTA process”). A solid particulate product of terephthalic acid can be obtained through unit operations such as In both the CTA step and the PTA step, the aromatic dicarboxylic acid obtained by solid-liquid separation, a step of performing solid-liquid separation and washing at the same time, a drying step, etc. contains a liquid substance such as a slight reaction medium (hereinafter referred to as “reaction medium”). A mixture containing an aromatic dicarboxylic acid and a liquid substance may be referred to as a “wet cake”). However, when these wet cakes are transferred to and stored in vessels such as tanks, towers, and solid-liquid separators, and subsequently discharged to other containers, the moisture on internal structures such as the inner wall surface of the vessel and powder level gauges can be reduced. Stable transfer is extremely difficult due to the adhesion of cake or malfunction of the wet cake discharge mechanism and unstable discharge speed due to fluctuations in pressure balance inside and outside the container. There are still problems to be solved in terms of continued operation.

これらの問題を解決する方法として、例えば、特許文献1には、加圧ろ過器から湿ケーキを排出する際の圧力漏出を回避するために、一つ以上の電極センサーを配置して湿ケーキ高さを検知して、粘性油などの液状シーラーを湿ケーキ上部に投入し、押し出す方法が記載されている。   As a method for solving these problems, for example, Patent Document 1 discloses that one or more electrode sensors are arranged to avoid pressure leakage when discharging a wet cake from a pressure filter. A method is described in which a liquid sealer such as viscous oil is introduced into the top of the wet cake and pushed out.

また、特許文献2には、加圧回転ろ過器で固液分離、洗浄した湿ケーキを、圧力を遮断した状態で効率よく閉塞させずに取り出すにあたり、ロータリーバルブを使用する記載がある。   In addition, Patent Document 2 describes that a rotary valve is used to take out a wet cake that has been solid-liquid separated and washed with a pressure rotary filter without blocking it in a state where the pressure is cut off.

しかし、特許文献3に報告されているように、設備の大型化に伴い、ロータリーバルブが大型化するとバルブの空間遮断機能が低下し、漏洩ガスが下流側の乾燥機等に悪影響を及ぼす可能性がある。そこで、特許文献3においては、加圧式ろ過器から低圧側へのガス漏洩を防止する固形分回収システムを提案している。   However, as reported in Patent Document 3, when the size of the rotary valve is increased as the size of the facility is increased, the space blocking function of the valve is lowered, and the leakage gas may adversely affect the dryer on the downstream side. There is. Therefore, Patent Document 3 proposes a solid content recovery system that prevents gas leakage from the pressure filter to the low pressure side.

また、特許文献4には、PTA工程での乾燥工程から得られた芳香族ジカルボン酸製品の一部を湿ケーキに混合して合成ケーキとする方法が報告されている。   Patent Document 4 reports a method in which a part of an aromatic dicarboxylic acid product obtained from the drying step in the PTA step is mixed with a wet cake to obtain a synthetic cake.

さらに、特許文献5には、チャンバーに滞留させた湿ケーキを間欠的又は連続的に粉体槽へ抜き出す方法が報告されている。   Furthermore, Patent Document 5 reports a method of extracting a wet cake retained in a chamber intermittently or continuously into a powder tank.

WO91/09661号公報WO91 / 09661 Publication 特開平11−179115号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-179115 特開2005−118754号公報JP 2005-118754 A 特開2004−217595号公報JP 2004-217595 A 特開2002−336687号公報JP 2002-336687 A

しかし、特許文献1に記載の方法では、シーラーの使用による製品への混入や、スクリューコンベアの使用などコスト増加要因がある。   However, in the method described in Patent Document 1, there are cost increase factors such as mixing into a product by using a sealer and using a screw conveyor.

また、特許文献3に記載の発明は加圧ろ過器下流にスクリューコンベアを設置して、第一ロータリーバルブまで搬送し、下流のバッファータンク(大気圧)に移送し、更にスクリューコンベアを設置して第二ロータリーバルブを使用して取り出す方法を提案しており、極めて装置が複雑化している。加圧状態で固液分離する際の湿ケーキの取り出し方法だけに限定してみても、前記したように改良の余地は大きく、湿ケーキから乾燥粉体まで一体的に処理できる技術はいまだ完成されていない。   In addition, the invention described in Patent Document 3 has a screw conveyor installed downstream of the pressure filter, transported to the first rotary valve, transferred to a downstream buffer tank (atmospheric pressure), and further installed with a screw conveyor. A method of taking out using the second rotary valve is proposed, and the apparatus is extremely complicated. Even if it is limited only to the method of taking out the wet cake at the time of solid-liquid separation in the pressurized state, as described above, there is a lot of room for improvement, and the technology that can integrally process from wet cake to dry powder is still completed. Not.

さらに、特許文献4に記載の方法では、槽内での湿ケーキの付着は幾分かは改良されるが、抜本的な効果は得られていない。   Furthermore, in the method described in Patent Document 4, adhesion of the wet cake in the tank is somewhat improved, but a drastic effect is not obtained.

さらにまた、特許文献5には、チャンバーと粉体槽との気相同士が連通することを抑制する旨の記載はなく、チャンバー内の圧力変動が生じるおそれが高い。このため、湿ケーキの局在化等が生じやすく、安定的移送が困難となるおそれがある。   Furthermore, Patent Document 5 has no description that suppresses communication between the gas phases of the chamber and the powder tank, and there is a high possibility that pressure fluctuations in the chamber will occur. For this reason, the localization of the wet cake or the like is likely to occur, and there is a risk that stable transfer becomes difficult.

そこで、この発明は、芳香族ジカルボン酸湿ケーキを容器外に安定して排出し、移送する方法を提供する。より具体的には、容器内に収納された湿ケーキを、圧漏れによる容器内外の圧力変動や排出速度の変動がなく、湿ケーキに含まれる液状物質がガス化し容器外への吹き抜けがない状況で、容器外に安定して排出し、移送することにより、芳香族ジカルボン酸を安定してかつ継続して製造を行うことを目的とする。
また、前記容器がウェットケーキホッパーの場合、気相同士の連通を抑制することにより、湿ケーキの移送を安定化させ、また、気相同士の連通を抑制することにより容器内の圧力を保持し、固液分離工程及び/又は洗浄工程の操作を安定化させ、後の工程における乾燥操作を効率よく実施することを可能とすることを目的とする。
Therefore, the present invention provides a method for stably discharging and transferring the aromatic dicarboxylic acid wet cake to the outside of the container. More specifically, the wet cake stored in the container is free from fluctuations in pressure inside and outside of the container due to pressure leaks and fluctuations in the discharge speed, and the liquid substance contained in the wet cake is gasified and does not blow out of the container. Thus, it is an object to stably and continuously produce an aromatic dicarboxylic acid by discharging and transferring it out of the container.
Further, when the container is a wet cake hopper, the transfer of the wet cake is stabilized by suppressing the communication between the gas phases, and the pressure in the container is maintained by suppressing the communication between the gas phases. An object of the present invention is to stabilize the operation of the solid-liquid separation step and / or the washing step and to efficiently perform the drying operation in the subsequent step.

本発明者らは前記課題に鑑み鋭意検討を重ねたところ、当該容器内部の圧力と、移送工程の移送先である前記容器外の圧力との圧力差の変動幅を一定範囲内とすることにより、容器外へ湿ケーキの安定的な移送が可能になり、芳香族ジカルボン酸を安定してかつ継続して製造することができることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明の要旨は下記[1]〜[12]に存する。   The inventors of the present invention have made extensive studies in view of the above problems, and by setting the fluctuation range of the pressure difference between the pressure inside the container and the pressure outside the container, which is the transfer destination of the transfer process, within a certain range. The inventors have found that stable transfer of the wet cake to the outside of the container is possible, and that the aromatic dicarboxylic acid can be produced stably and continuously, and the present invention has been completed. That is, the gist of the present invention resides in the following [1] to [12].

[1]ジアルキル芳香族炭化水素を反応媒体中で、分子状酸素により液相酸化して芳香族ジカルボン酸を製造する方法において、前記液相酸化により得られる、前記芳香族ジカルボン酸及び液状物質を含有する湿ケーキを容器に収納し、次いで、前記湿ケーキを容器外に移送する移送工程を有し、当該容器内部の圧力と、移送工程の移送先である当該容器外の圧力との圧力差の変動幅を±0.2MPaの範囲内に保つことを特徴とする芳香族ジカルボン酸の製造方法。 [1] In a method for producing an aromatic dicarboxylic acid by liquid phase oxidation of a dialkyl aromatic hydrocarbon with molecular oxygen in a reaction medium, the aromatic dicarboxylic acid and a liquid substance obtained by the liquid phase oxidation are obtained. Storing the wet cake contained in a container, and then transferring the wet cake to the outside of the container, and the pressure difference between the pressure inside the container and the pressure outside the container, which is the transfer destination of the transfer process A method for producing an aromatic dicarboxylic acid, characterized in that the fluctuation range of is maintained within a range of ± 0.2 MPa.

[2]前記容器内に湿ケーキを実質的に常に一定量以上滞留させ、前記容器出口を前記湿ケーキにより常にシールされた状態に施用し、前記容器内における前記湿ケーキの滞留量が、前記湿ケーキの1時間当たりの移送量を1としたとき、0.001以上0.5以下であることを特徴とする[1]に記載の芳香族ジカルボン酸の製造方法。
[3]前記容器内の前記湿ケーキ上面の位置を粉面計により検知し、この検知された粉面高さより下部の湿ケーキ滞留量が、前記湿ケーキの1時間当たりの移送量を1としたとき、0.001以上0.5以下であることを特徴とする[1]又は[2]に記載の芳香族ジカルボン酸の製造方法。
[4]前記容器外への前記湿ケーキの移送と共に、前記湿ケーキに含有する液状物質の少なくとも一部を蒸発させることを特徴とする[1]〜[3]のいずれか1項に記載の芳香族ジカルボン酸の製造方法。
[5]前記容器内部の圧力と、前記容器外の圧力との圧力差が0.001MPa以上5MPa以下であることを特徴とする[1]〜[4]のいずれか1項に記載の芳香族ジカルボン酸の製造方法。
[6]前記容器内部の圧力が0.001MPaG以上5MPaG以下であることを特徴とする[1]〜[5]のいずれか1項に記載の芳香族ジカルボン酸の製造方法。
[7]前記液状物質が水、又は水と酢酸の混合物を含むことを特徴とする[1]〜[6]のいずれか1項に記載の芳香族ジカルボン酸の製造方法。
[8]前記湿ケーキ中の液状物質の含有量が芳香族ジカルボン酸の含有量に対して、0.01重量%以上25重量%以下であることを特徴とする[1]〜[7]のいずれか1項に記載の芳香族ジカルボン酸の製造方法。
[9]前記容器内の前記湿ケーキの滞留量を粉面計により検知し、前記容器に接続された移送機能を有する機構に連動させて、前記容器出口より前記湿ケーキを移送することを特徴とする[1]〜[8]のいずれか1項に記載の芳香族ジカルボン酸の製造方法。
[10]前記粉面計が接触式粉面計であることを特徴とする[9]に記載の芳香族ジカルボン酸の製造方法。
[11]前記芳香族ジカルボン酸がテレフタル酸であることを特徴とする[1]〜[10]のいずれか1項に記載の芳香族ジカルボン酸の製造方法。
[2] A wet cake is retained in the container substantially always at a predetermined amount or more, and the container outlet is applied in a state of being always sealed by the wet cake. The method for producing an aromatic dicarboxylic acid according to [1], wherein the amount per hour transferred of the wet cake is 0.001 or more and 0.5 or less.
[3] The position of the upper surface of the wet cake in the container is detected by a powder level meter, and the wet cake retention amount below the detected powder surface height is defined as 1 for the transfer amount of the wet cake per hour. The method for producing an aromatic dicarboxylic acid according to [1] or [2], wherein the method is 0.001 or more and 0.5 or less.
[4] At least a part of the liquid substance contained in the wet cake is evaporated together with the transfer of the wet cake to the outside of the container, [1] to [3] A method for producing an aromatic dicarboxylic acid.
[5] The aromatic according to any one of [1] to [4], wherein a pressure difference between the pressure inside the container and the pressure outside the container is 0.001 MPa or more and 5 MPa or less. A method for producing dicarboxylic acid.
[6] The method for producing an aromatic dicarboxylic acid according to any one of [1] to [5], wherein the pressure inside the container is 0.001 MPaG or more and 5 MPaG or less.
[7] The method for producing an aromatic dicarboxylic acid according to any one of [1] to [6], wherein the liquid substance contains water or a mixture of water and acetic acid.
[8] The content of the liquid substance in the wet cake is 0.01% by weight or more and 25% by weight or less with respect to the content of the aromatic dicarboxylic acid. The manufacturing method of aromatic dicarboxylic acid of any one.
[9] The amount of the wet cake in the container is detected by a powder meter, and the wet cake is transferred from the container outlet in conjunction with a mechanism having a transfer function connected to the container. The method for producing an aromatic dicarboxylic acid according to any one of [1] to [8].
[10] The method for producing an aromatic dicarboxylic acid according to [9], wherein the powder level meter is a contact type powder level meter.
[11] The method for producing an aromatic dicarboxylic acid according to any one of [1] to [10], wherein the aromatic dicarboxylic acid is terephthalic acid.

芳香族ジカルボン酸及び液状物質を含有する混合物を、容器内部の圧力と、移送工程の移送先である前記容器外の圧力との圧力差の変動幅を一定範囲内とすることにより、容器からの安定的な移送が可能になることを見出し、本発明を完成させた。本発明により、容器・配管内での閉塞や蓄積が少ない状況で、また圧漏れによる容器圧力の低下や、液状物質の蒸気を含む容器内のガスの吹き抜けがない状況で、該容器外に安定して排出させる芳香族ジカルボン酸の製造に関する方法の提供が可能となった。
さらに、前記容器がウェットケーキホッパーの場合、容器内部の圧力と容器外の圧力差の変動を抑制して保持するので、湿ケーキは、圧力低下が抑制され、後工程における乾燥工程において、この圧力差を有効に利用し、有用な乾燥を行うことができる。
The mixture containing the aromatic dicarboxylic acid and the liquid substance is separated from the container by setting the fluctuation range of the pressure difference between the pressure inside the container and the pressure outside the container, which is the transfer destination of the transfer process, within a certain range. The present inventors have found that stable transfer is possible and completed the present invention. According to the present invention, in a situation where there is little blockage or accumulation in the container / pipe, and there is no drop in the container pressure due to pressure leakage, or there is no gas blow-through inside the container containing liquid substance vapor, it is stable outside the container. Thus, it has become possible to provide a method relating to the production of aromatic dicarboxylic acid to be discharged.
Furthermore, when the container is a wet cake hopper, the pressure difference between the pressure inside the container and the pressure outside the container is suppressed and held. The difference can be used effectively and useful drying can be performed.

芳香族ジカルボン酸の製造工程の例を示すフロー図Flow diagram showing an example of an aromatic dicarboxylic acid production process 湿ケーキの移送工程の例を示す模式図Schematic diagram showing an example of the wet cake transfer process 粉面計の例を示す模式図Schematic diagram showing an example of powder level meter 粉面計で用いられるケーブルの例を示す断面図Sectional view showing an example of a cable used in powder level meter

この発明は、ジアルキル芳香族炭化水素を反応媒体中で、分子状酸素により液相酸化して芳香族ジカルボン酸を製造する方法についての発明であり、具体的には、液相酸化により得られる、芳香族ジカルボン酸及び液状物質を含有する混合物(以下、単に「湿ケーキ」と称する場合がある。)を容器に収納し、次いで、この湿ケーキを容器外に移送する移送工程を有する芳香族ジカルボン酸の製造方法についての発明である。   The present invention relates to a method for producing an aromatic dicarboxylic acid by liquid phase oxidation of a dialkyl aromatic hydrocarbon with molecular oxygen in a reaction medium, specifically, obtained by liquid phase oxidation. A mixture containing an aromatic dicarboxylic acid and a liquid substance (hereinafter sometimes simply referred to as “wet cake”) is placed in a container, and then the aromatic dicarboxylic acid having a transfer step of transferring the wet cake to the outside of the container. It is invention about the manufacturing method of an acid.

前記芳香族ジカルボン酸の一例としてテレフタル酸を挙げる。テレフタル酸は、一般的に、重金属触媒を用い、反応媒体中でジアルキル芳香族炭化水素としてパラキシレンを用い、大気圧より高い圧力、反応媒体の大気圧における沸点以上の温度下、分子状酸素により液相酸化して得られる。このようにして得られたテレフタル酸生成物はスラリー状を呈しているが、該スラリーはさらに、晶析工程、固液分離工程及び又は固液分離・洗浄工程、蒸発・乾燥工程からなる粗製テレフタル酸製造工程(CTA工程)を経た後、さらには水溶解、水素化反応、晶析工程、固液分離工程及び又は固液分離・洗浄工程、蒸発・乾燥工程からなる精製テレフタル酸製造工程(PTA工程)を経て製品のテレフタル酸が得られる。   An example of the aromatic dicarboxylic acid is terephthalic acid. Terephthalic acid generally uses a heavy metal catalyst, uses para-xylene as a dialkyl aromatic hydrocarbon in the reaction medium, and is formed by molecular oxygen at a pressure higher than atmospheric pressure, at a temperature equal to or higher than the boiling point at atmospheric pressure of the reaction medium. Obtained by liquid phase oxidation. The terephthalic acid product thus obtained is in the form of a slurry, and the slurry further comprises a crude terephthalate comprising a crystallization step, a solid-liquid separation step and / or a solid-liquid separation / washing step, and an evaporation / drying step. After passing through the acid production process (CTA process), a purified terephthalic acid production process (PTA) further comprising water dissolution, hydrogenation reaction, crystallization process, solid-liquid separation process and / or solid-liquid separation / washing process, and evaporation / drying process The product terephthalic acid is obtained through the process.

前記のCTA工程及びPTA工程のいずれにおいても、各工程における固液分離操作後や洗浄操作後、乾燥操作後の芳香族ジカルボン酸は、若干の反応媒体等の液状物質を含む湿ケーキとなる。これらの湿ケーキを槽、塔等の容器に移送して収納し、さらに他の容器へ排出する時には、容器内壁面や粉面計等の内部構造物への湿ケーキの付着、あるいは該湿ケーキ排出機構との連動性の不具合や、容器内外の圧力バランスの変動による排出速度の不安定化等、安定的な移送が極めて困難である。さらに、固液分離を高圧で実施する場合、固液分離後の湿ケーキを容器から排出する際に大きな圧力の変動が伴うと、固液分離操作の不安定化につながる。このように、安定運転継続の面で解決すべき問題が残っている。   In both the CTA step and the PTA step, the aromatic dicarboxylic acid after the solid-liquid separation operation, the washing operation, and the drying operation in each step becomes a wet cake containing a liquid substance such as a slight reaction medium. When these wet cakes are transferred to and stored in a container such as a tank or tower and then discharged to another container, the wet cake adheres to internal structures such as the inner wall surface of the container or powder level gauge, or the wet cake. Stable transfer is extremely difficult due to the malfunction of the linkage with the discharge mechanism and the instability of the discharge speed due to fluctuations in the pressure balance inside and outside the container. Furthermore, when solid-liquid separation is performed at a high pressure, if a large pressure fluctuation occurs when the wet cake after solid-liquid separation is discharged from the container, the solid-liquid separation operation becomes unstable. Thus, there remains a problem to be solved in terms of continued stable operation.

以下にテレフタル酸の製造に関し、本発明の対象となる湿ケーキの移送に関する具体的な工程と容器の例を、図1を用いて詳細に説明する。   In the following, specific processes and examples of containers relating to the transfer of a wet cake that is the subject of the present invention will be described in detail with reference to FIG.

前記の容器としては、種々の装置が考えられるが、前記テレフタル酸の製造に関し、本発明の対象となる付着液状物質を含有する湿ケーキの移送に関する場合における容器としては、ウエットケーキホッパーやドライケーキホッパー等のホッパーがあげられる。   Although various apparatuses can be considered as the container, the container in the case of the transfer of the wet cake containing the attached liquid substance that is the object of the present invention in relation to the production of the terephthalic acid is a wet cake hopper or a dry cake. Examples include a hopper such as a hopper.

[CTA工程]
図1の前半に、CTA工程において本発明で使用される湿ケーキの取り扱いの一態様の例を示す。芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸を代表して示す。
テレフタル酸は、コバルト、マンガンなどの重金属触媒下、臭化水素などを存在させ、反応媒体として脂肪族カルボン酸及び/又は水などの反応媒体中で、パラキシレン等の原料100を高温高圧下、分子状酸素を用いて酸化反応装置1で液相酸化させる。反応後の酸化反応スラリー101を晶析槽2で晶析後、得られた晶析スラリー102を分離洗浄乾燥装置14に供する。この分離洗浄乾燥装置14は、固液分離・洗浄装置3、ウエットケーキホッパー4、蒸発・乾燥装置5、及びドライケーキホッパー6の装置群から構成される。これらの装置は、独立した個別の装置であってもよく、1つの装置が1つ又は2つ以上の装置の機能を兼ね備えてもよい。
[CTA process]
In the first half of FIG. 1, an example of one aspect of handling of the wet cake used in the present invention in the CTA process is shown. As the aromatic dicarboxylic acid, terephthalic acid is representatively shown.
The terephthalic acid is present in the presence of hydrogen bromide or the like under a heavy metal catalyst such as cobalt or manganese, and in a reaction medium such as an aliphatic carboxylic acid and / or water as a reaction medium, the raw material 100 such as paraxylene is subjected to high temperature and high pressure. Liquid phase oxidation is performed in the oxidation reaction apparatus 1 using molecular oxygen. After the oxidation reaction slurry 101 after the reaction is crystallized in the crystallization tank 2, the obtained crystallization slurry 102 is supplied to the separation washing and drying apparatus 14. The separation washing / drying device 14 is composed of a group of devices including a solid-liquid separation / washing device 3, a wet cake hopper 4, an evaporation / drying device 5, and a dry cake hopper 6. These devices may be independent individual devices, and one device may combine the functions of one or more devices.

この分離洗浄乾燥装置14においては、まず固液分離操作及びケーキ洗浄操作を、固液分離・洗浄を合わせて実施できる機能を有する分離・洗浄設備3を用いて加圧下で固液分離を行い、液状物質の含有濃度が5〜25重量%である分離洗浄済み湿ケーキ103を得る。次いで、一旦、ウエットケーキホッパー4に収納し、しかる後に蒸発・乾燥装置5に移送し、蒸発・乾燥装置5で分離洗浄済み湿ケーキ103中の液状物質の含有濃度が0.01〜1重量%となるように液状物質を除去した後、ドライケーキホッパー6に収納し、次の移送に供する。ウエットケーキホッパー4は、分離・洗浄設備3の装置の一部分に備え付けられていてもよい。   In this separation washing and drying apparatus 14, first, solid-liquid separation operation and cake washing operation are performed under pressure using a separation / washing facility 3 having a function capable of performing both solid-liquid separation and washing, under pressure, A separated and washed wet cake 103 having a liquid substance content of 5 to 25% by weight is obtained. Next, it is once stored in the wet cake hopper 4 and then transferred to the evaporation / drying device 5 where the concentration of liquid substance in the wet cake 103 separated and washed by the evaporation / drying device 5 is 0.01 to 1% by weight. After removing the liquid substance so as to become, it is stored in the dry cake hopper 6 and used for the next transfer. The wet cake hopper 4 may be provided in a part of the apparatus of the separation / cleaning facility 3.

このドライケーキホッパー6に移送された乾燥済み湿ケーキ104は、任意の手段で他の工程(例えばバケットコンベアなどを用いて前記のPTA工程)に移送される。他の態様としては、液状物質の含有濃度が5〜25重量%である湿ケーキを前記ウエットケーキホッパー4に収納した後、このウエットケーキホッパー4の圧力よりも低い圧力のドライケーキホッパー6に、乾燥機を通さずに直接放出して、湿ケーキに含有する液状物質の少なくとも一部を蒸発(フラッシュ)させる事により、分離洗浄乾燥装置14で固液分離・洗浄・乾燥の少なくとも一部を一体化して行う方法があげられる。このドライケーキホッパー6に収納された乾燥済み湿ケーキ104は、任意の手段で他の工程(例えばバケットコンベアなどを用いて前記のPTA工程)に移送される。いずれの態様においても、乾燥済み湿ケーキ104をホッパーに収納することなく、任意の手段で他の工程に直接移送してもよい。   The dried wet cake 104 transferred to the dry cake hopper 6 is transferred to another process (for example, the PTA process using a bucket conveyor) by an arbitrary means. As another embodiment, after a wet cake having a liquid substance content concentration of 5 to 25% by weight is stored in the wet cake hopper 4, the dry cake hopper 6 having a pressure lower than the pressure of the wet cake hopper 4 is used. By directly discharging without passing through the dryer and evaporating (flashing) at least part of the liquid substance contained in the wet cake, at least part of solid-liquid separation, washing and drying is integrated in the separation washing and drying apparatus 14. The method to be performed is given. The dried wet cake 104 stored in the dry cake hopper 6 is transferred to another process (for example, the PTA process using a bucket conveyor or the like) by any means. In any embodiment, the dried wet cake 104 may be directly transferred to another process by any means without being stored in the hopper.

[PTA工程]
図1の後半に、PTA工程における、本発明で使用される湿ケーキの取扱いの他の態様の例を示した。すなわち、本例で示す湿ケーキの取扱いは、前記図1の前半で示めしたドライケーキホッパー6から排出された乾燥ケーキ105を精製して高純度テレフタル酸111を製造する場合である。すなわち、前記乾燥ケーキ105を水に溶解し、この乾燥ケーキ中の不純物を、還元反応器7で高温・高圧状態にてパラジウムなど貴金属触媒等の存在下、水添原料等110にて水素還元して得られた還元反応スラリー106を晶析槽8で晶析し、得られた晶析スラリー107を分離洗浄乾燥装置15に供する。この分離洗浄乾燥装置15は、固液分離・洗浄装置9、ウエットケーキホッパー10、蒸発・乾燥装置11、及びドライケーキホッパー12の装置群から構成される。これらの装置は、独立した個別の装置であってもよく、1つの装置が1つ又は2つ以上の装置の機能を兼ね備えてもよい。
[PTA process]
In the latter half of FIG. 1, an example of another aspect of handling the wet cake used in the present invention in the PTA process is shown. That is, the handling of the wet cake shown in this example is a case where the high purity terephthalic acid 111 is produced by purifying the dry cake 105 discharged from the dry cake hopper 6 shown in the first half of FIG. That is, the dry cake 105 is dissolved in water, and impurities in the dry cake are reduced with a hydrogenation raw material 110 in the presence of a noble metal catalyst such as palladium in a reduction reactor 7 at high temperature and high pressure. The reduction reaction slurry 106 thus obtained is crystallized in the crystallization tank 8, and the obtained crystallization slurry 107 is supplied to the separation washing and drying apparatus 15. The separation washing / drying device 15 is composed of a group of solid-liquid separation / washing device 9, wet cake hopper 10, evaporation / drying device 11, and dry cake hopper 12. These devices may be independent individual devices, and one device may combine the functions of one or more devices.

この分離洗浄乾燥装置15においては、固液分離、洗浄を行った液状物質の含有濃度が5〜25重量%の分離洗浄済み湿ケーキ108を、一旦、ウエットケーキホッパー10に収納した後に移送し、さらにはこの分離洗浄済み湿ケーキ108を蒸発・乾燥装置11にかけて液状物質の含有濃度が0.01〜1重量%となるように乾燥処理を施した乾燥済み湿ケーキ109をドライケーキホッパー12に収納し、次の移送に供する。ウエットケーキホッパー10は、分離・洗浄設備9の装置の一部分に備え付けられていてもよい。他の態様としては、液状物質の含有濃度が5〜25重量%である分離洗浄済み湿ケーキ108をこのウエットケーキホッパー10に収納した後、このウエットケーキホッパー10の圧力よりも低い圧力のドライケーキホッパー12に、乾燥機を通さずに直接放出して、湿ケーキ中の液状物質の少なくとも一部を蒸発(フラッシュ)させる事により、蒸発・乾燥装置11で固液分離・洗浄・乾燥の少なくとも一部を一体化して行う方法があげられる。このドライケーキホッパー12に収納された湿ケーキは、任意に他の工程に移送されるが、通常は追加乾燥装置13に供され、製品である高純度テレフタル酸111となる。いずれの態様においても、乾燥済み湿ケーキ109をホッパーに収納することなく、任意の他の工程に直接移送してもよい。   In this separation washing and drying apparatus 15, the separated and washed wet cake 108 having a concentration of 5 to 25% by weight of the liquid substance that has undergone solid-liquid separation and washing is once stored in the wet cake hopper 10, and then transferred. Further, the wet cake 109, which has been subjected to a drying treatment so that the concentration of the liquid substance is 0.01 to 1% by weight by applying the separated and washed wet cake 108 to the evaporation / drying device 11, is stored in the dry cake hopper 12. To be used for the next transfer. The wet cake hopper 10 may be provided in a part of the apparatus of the separation / cleaning facility 9. As another embodiment, after the separated and washed wet cake 108 having a liquid substance content concentration of 5 to 25% by weight is stored in the wet cake hopper 10, the dry cake having a pressure lower than the pressure of the wet cake hopper 10 is used. Evaporating (flashing) at least a part of the liquid substance in the wet cake directly to the hopper 12 without passing through the dryer, the evaporation / drying device 11 performs at least one of solid-liquid separation, washing and drying. One method is to integrate the parts. The wet cake stored in the dry cake hopper 12 is optionally transferred to another process, but is usually supplied to an additional drying device 13 to become high-purity terephthalic acid 111 as a product. In any embodiment, the dried wet cake 109 may be directly transferred to any other process without being stored in the hopper.

以上、図1で示したCTA工程及びPTA工程におけるウエットケーキホッパー4,10やドライケーキホッパー6,12に収容された湿ケーキ(分離洗浄済み湿ケーキ103、108、乾燥済み湿ケーキ104、105、109)は、従来において、含有される液状物質の濃度差やこれに伴う性状の差があるものの、液状物質の蒸気を含む容器内のガスの吹き抜けや、圧漏れや容器内圧変動による圧力低下が生じた場合、安定した移送に問題を生じていた。本発明は以上のような容器に収容された湿ケーキを安定的に移送させるために、容器内部の圧力と、移送工程の移送先である前記容器外の圧力との圧力差の変動幅を一定範囲内とすることにより、設備容器間の安定的な移送が可能になることを見出し、本発明を完成させた。   As described above, wet cakes (separated and washed wet cakes 103 and 108, dried wet cakes 104 and 105, and dried wet cakes 104 and 105, which are accommodated in the wet cake hoppers 4 and 10 and the dry cake hoppers 6 and 12 in the CTA process and the PTA process shown in FIG. 109), in the past, although there is a difference in the concentration of the contained liquid material and a difference in properties, there is a pressure drop due to blow-off of gas in the container containing the vapor of the liquid substance, pressure leakage, or fluctuation in the container internal pressure. If it occurred, there was a problem with stable transport. In order to stably transfer the wet cake accommodated in the container as described above, the fluctuation range of the pressure difference between the pressure inside the container and the pressure outside the container, which is the transfer destination of the transfer process, is constant. It was found that by making it within the range, stable transfer between equipment containers becomes possible, and the present invention was completed.

[CTA工程の詳細]
以下、図1に基づきCTA工程において用いられる本発明の態様について工程別に順次、さらに詳細に説明する。
[Details of CTA process]
In the following, the embodiment of the present invention used in the CTA process will be described in more detail in order according to the process with reference to FIG.

〔酸化工程〕
酸化反応装置1において、ジアルキル芳香族炭化水素を反応媒体中で液相酸化して、芳香族ジカルボン酸スラリー101を得る。製造する前記芳香族ジカルボン酸がテレフタル酸である場合は、該ジアルキル芳香族炭化水素がパラキシレンとなる。この際、パラキシレンの90重量%以上を、好ましくは95重量%以上をテレフタル酸に酸化することが望ましい。
[Oxidation process]
In the oxidation reaction apparatus 1, the dialkyl aromatic hydrocarbon is subjected to liquid phase oxidation in a reaction medium to obtain an aromatic dicarboxylic acid slurry 101. When the aromatic dicarboxylic acid to be produced is terephthalic acid, the dialkyl aromatic hydrocarbon is paraxylene. At this time, it is desirable to oxidize 90% by weight or more, preferably 95% by weight or more of paraxylene to terephthalic acid.

また、前記反応媒体としては酢酸を用いる。酢酸の使用量は、通常、アルキル芳香族化合物に対して2〜6重量倍である。酢酸溶媒中には反応に影響しない程度、例えば15重量%以下の水等その他の成分を含んでいても良い。この酢酸溶媒には後述する固液分離・洗浄工程で得られるリサイクル液、酸化反応で副生する水を除去するための脱水操作などから得られる回収酢酸などを再利用できる。   In addition, acetic acid is used as the reaction medium. The amount of acetic acid used is usually 2 to 6 times the weight of the alkyl aromatic compound. The acetic acid solvent may contain other components such as water of not more than 15% by weight, which does not affect the reaction. As the acetic acid solvent, recycle liquid obtained in the solid-liquid separation / washing process described later, recovered acetic acid obtained from dehydration operation for removing water by-produced by the oxidation reaction, and the like can be reused.

前記ジアルキル芳香族炭化水素としては、アルキル基又は一部酸化したアルキル基を2個有する芳香族炭化水素が使用できる。単環でも多環でも良く、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基及びイソプロピル基等の炭素数1〜4のアルキル基、また一部酸化したアルキル基としては、例えばアルデヒド基、アシル基、カルボキシル基及びヒドロキシアルキル基等を挙げることができる。具体的なものとしては、例えば、m−ジイソプロピルベンゼン、p―ジイソプロピルベンゼン、m―シメン、p―シメン、m−キシレン、p−キシレン、トリメチルベンゼン類等の炭素数1−4のアルキル基を2〜4個有するジもしくはポリアルキルべンゼン類、ジメチルナフタレン類、ジエチルナフタレン類及びジイソプロピルナフタレン類等の炭素数1〜4のアルキル基を2個有するジアルキルナフタレン類、ジメチルビフェニル類等のジアルキルビフェニル類などを挙げることができる。また一部酸化したアルキル置換基を有する芳香族化合物は、前記のアルキル基を2個有する芳香族炭化水素の1個あるいは2個のアルキル基が一部酸化されたアルキル基となったものであり、具体的なものとしては、例えば、3−メチルベンズアルデヒド、4−メチルベンズアルデヒド、m−トルイル酸、p−トルイル酸、3−ホルミル安息香酸、4−ホルミル安息香酸及び2−メチル6−ホルミルナフタレン類等を挙げることができる。これらは単独で、又は2種以上の混合物としても用いられる。   As the dialkyl aromatic hydrocarbon, an alkyl group or an aromatic hydrocarbon having two partially oxidized alkyl groups can be used. The alkyl group may be monocyclic or polycyclic, and examples of the alkyl group include alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, and an isopropyl group. Examples thereof include an aldehyde group, an acyl group, a carboxyl group, and a hydroxyalkyl group. Specific examples thereof include 2 alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms such as m-diisopropylbenzene, p-diisopropylbenzene, m-cymene, p-cymene, m-xylene, p-xylene, and trimethylbenzenes. Dialkylpolyphenyls such as dialkylnaphthalenes having 2 to 1 carbon atoms such as di- or polyalkylbenzenes having 4 to 4 carbon atoms, dimethylnaphthalenes, diethylnaphthalenes and diisopropylnaphthalenes, and dimethylbiphenyls, etc. Can be mentioned. An aromatic compound having a partially oxidized alkyl substituent is one in which one or two alkyl groups of the aromatic hydrocarbon having two alkyl groups are partially oxidized alkyl groups. Specific examples include 3-methylbenzaldehyde, 4-methylbenzaldehyde, m-toluic acid, p-toluic acid, 3-formylbenzoic acid, 4-formylbenzoic acid, and 2-methyl6-formylnaphthalene. Etc. These may be used alone or as a mixture of two or more.

前記酸化工程において、ジアルキル芳香族炭化水素は、通常分子状酸素含有ガスにより酸化される。分子状酸素含有ガスとしては、例えば空気、不活性ガスで希釈された酸素、酸素富化空気等の分子状酸素を含んだガスが用いられる。実用的には空気が用いられる。   In the oxidation step, the dialkyl aromatic hydrocarbon is usually oxidized with a molecular oxygen-containing gas. As the molecular oxygen-containing gas, for example, a gas containing molecular oxygen such as air, oxygen diluted with an inert gas, or oxygen-enriched air is used. In practice, air is used.

本発明の芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸、イソフタル酸、2.6−ナフタレンジカルボン酸、4.4’―ビフェニルジカルボン酸等が挙げられる。これらの中でも特にテレフタル酸が好ましい。   Examples of the aromatic dicarboxylic acid of the present invention include terephthalic acid, isophthalic acid, 2.6-naphthalenedicarboxylic acid, 4.4'-biphenyldicarboxylic acid and the like. Among these, terephthalic acid is particularly preferable.

前記のジアルキル芳香族炭化水素を酸化する際に用いる触媒としては、ジアルキル芳香族炭化水素を酸化し、芳香族ジカルボン酸に転化する能力があれば、特に制限はない。通常、重金属化合物が使用され、必要に応じて触媒助剤として、臭素化合物を用いても良い。重金属化合物における重金属としては、たとえば、コバルト、マンガン、ニッケル、クロム、ジルコニウム、銅、鉛、ハフニウム、及びセリウムなどを上げることができる。これらは単独で、又は組み合わせで用いることができるが、特にコバルトとマンガンを組み合わせるのが好ましい。このような重金属の化合物としては、例えば、酢酸塩、硝酸塩、アセチルアセテート塩、ナフテン酸塩、ステアリン酸塩及び臭化物を挙げることができるが、特に酢酸塩、臭化物が好ましい。   The catalyst used when oxidizing the dialkyl aromatic hydrocarbon is not particularly limited as long as it has the ability to oxidize the dialkyl aromatic hydrocarbon and convert it to an aromatic dicarboxylic acid. Usually, a heavy metal compound is used, and a bromine compound may be used as a catalyst auxiliary as necessary. Examples of the heavy metal in the heavy metal compound include cobalt, manganese, nickel, chromium, zirconium, copper, lead, hafnium, and cerium. These can be used alone or in combination, but it is particularly preferable to combine cobalt and manganese. Examples of such heavy metal compounds include acetate, nitrate, acetylacetate, naphthenate, stearate and bromide, with acetate and bromide being particularly preferred.

また、前記臭素化合物としては、例えば、分子状臭素、臭化水素、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化コバルト及び臭化マンガン等の無機化合物や、臭化メチル、臭化メチレン、ブロモホルム、臭化ベンジル、ブロモメチルトルエン、ジブロモエタン、トリブロモエタン及びテトラブロモエタン等の有機臭素化合物などをあげることができる。これらの臭素化合物も単独で又は2種以上の混合物として、用いられる。   Examples of the bromine compound include inorganic compounds such as molecular bromine, hydrogen bromide, sodium bromide, potassium bromide, cobalt bromide and manganese bromide, methyl bromide, methylene bromide, bromoform, odor And organic bromine compounds such as benzyl bromide, bromomethyltoluene, dibromoethane, tribromoethane, and tetrabromoethane. These bromine compounds are also used alone or as a mixture of two or more.

ジアルキル芳香族炭化水素を酸化する触媒としては、具体的にはコバルト、マンガン、臭素の組み合わせが挙げられ、特に酢酸コバルト、酢酸マンガン、臭化水素の組み合わせ、または臭化コバルト、臭化マンガンを用いた組合せが好ましい。本発明において、前記重金属化合物と前記臭素化合物との組み合わせからなる触媒は、重金属原子1モルに対して、通常、臭素原子0.05モル以上であり、好ましくは0.1モル以上である。一方で、通常臭素原子10モル以下であり、好ましくは5モル以下である。また、このような触媒は、反応溶媒中の重金属濃度として、通常10ppm以上であり、好ましくは100ppm以上である。一方で通常、10,000ppm以下であり、3,000ppm以下が好ましい。   Specific examples of the catalyst for oxidizing a dialkyl aromatic hydrocarbon include a combination of cobalt, manganese, and bromine. In particular, a combination of cobalt acetate, manganese acetate, and hydrogen bromide, or cobalt bromide and manganese bromide is used. Preferred combinations. In the present invention, the catalyst composed of a combination of the heavy metal compound and the bromine compound is usually 0.05 mol or more, preferably 0.1 mol or more, per 1 mol of the heavy metal atom. On the other hand, it is usually 10 mol or less of bromine atom, preferably 5 mol or less. Moreover, such a catalyst is 10 ppm or more normally as a heavy metal density | concentration in a reaction solvent, Preferably it is 100 ppm or more. On the other hand, it is usually 10,000 ppm or less, and preferably 3,000 ppm or less.

酸化反応装置1の反応温度は、通常140℃以上であり、好ましくは150℃以上であり、より好ましくは170℃以上である。一方で、通常は230℃以下であり、210℃以下であると好ましく、200℃以下であるとより好ましい。反応温度が230℃を超えると、酢酸溶媒が燃焼により損失する量が増大するので好ましくない。   The reaction temperature of the oxidation reaction apparatus 1 is usually 140 ° C. or higher, preferably 150 ° C. or higher, more preferably 170 ° C. or higher. On the other hand, it is usually 230 ° C. or lower, preferably 210 ° C. or lower, and more preferably 200 ° C. or lower. If the reaction temperature exceeds 230 ° C., the amount of acetic acid solvent lost by combustion increases, which is not preferable.

酸化反応装置1の反応圧力は、少なくとも前記の反応温度において、反応混合物が液相を保持できる圧力以上である必要があり、常圧を上回る必要がある。具体的には、0.2MPaG以上であると好ましく、さらには1MPaG以上であることがより好ましい。一方で、5MPaG以下であると好ましく、2MPaG以下であるとより好ましい。具体的には、反応混合物の組成や設定反応温度での沸騰状態を維持する圧力となる。   The reaction pressure of the oxidation reaction apparatus 1 needs to be equal to or higher than the pressure at which the reaction mixture can maintain a liquid phase at least at the above reaction temperature, and needs to exceed the normal pressure. Specifically, it is preferably 0.2 MPaG or more, and more preferably 1 MPaG or more. On the other hand, it is preferably 5 MPaG or less, and more preferably 2 MPaG or less. Specifically, the pressure is a pressure at which the composition of the reaction mixture and the boiling state at the set reaction temperature are maintained.

前記酸化反応は通常連続的に実施され、その反応時間(平均滞留時間)は30分以上であることが好ましく、40分以上であることが特に好ましい。30分未満では反応は不十分となり、目的の品質が得られないことがある。一方で、300分以下であることが好ましく、150分以下であることがより好ましい。300分を超えると酢酸の燃焼が増大し、また、酸化反応装置容量も増加し経済的でない。   The oxidation reaction is usually carried out continuously, and the reaction time (average residence time) is preferably 30 minutes or more, particularly preferably 40 minutes or more. If it is less than 30 minutes, the reaction becomes insufficient and the desired quality may not be obtained. On the other hand, it is preferably 300 minutes or less, and more preferably 150 minutes or less. If it exceeds 300 minutes, the combustion of acetic acid increases and the capacity of the oxidation reactor also increases, which is not economical.

反応溶媒である前記酢酸溶媒の水分濃度を調整するには、例えば、酸化反応装置1で発生した反応ガスを凝縮して得られる凝縮液の一部を系外にパージする。   In order to adjust the water concentration of the acetic acid solvent as the reaction solvent, for example, a part of the condensate obtained by condensing the reaction gas generated in the oxidation reaction apparatus 1 is purged out of the system.

酸化反応装置1は、攪拌機付の槽であるのが好ましいが、必ずしも攪拌機付である必要はなく、気泡塔タイプのものでもよい。反応器1には分子状酸素含有ガスの供給口があり、必要に応じて反応器上部に凝縮器(図示せず)を設けてもよい。分子状酸素含有ガスは、アルキル芳香族化合物の酸化反応に利用された後、多量の酢酸蒸気を同伴した反応ガスとして反応器より抜き出され、凝縮器(図示せず)にて酢酸を主とする凝縮液を分離した後、排ガスとして排出される。通常凝縮液は水分を含有しており、系内の水分調整のためにその一部が系外にパージされ、残りは酸化反応装置1に還流される。   The oxidation reaction apparatus 1 is preferably a tank equipped with a stirrer, but does not necessarily need to be equipped with a stirrer and may be of a bubble column type. The reactor 1 has a supply port for a molecular oxygen-containing gas, and a condenser (not shown) may be provided above the reactor as necessary. After the molecular oxygen-containing gas is used for the oxidation reaction of the alkyl aromatic compound, it is withdrawn from the reactor as a reaction gas accompanied by a large amount of acetic acid vapor, and mainly contains acetic acid in a condenser (not shown). After separating the condensate to be discharged, it is discharged as exhaust gas. Usually, the condensate contains water, and a part of the condensate is purged outside the system to adjust the water in the system, and the rest is refluxed to the oxidation reaction apparatus 1.

また酸化反応の後に追酸化反応を行うこともある。この追酸化反応では、酸化反応装置1で得られた反応混合物を一段目の反応よりも低温で追酸化させる。ジアルキル芳香族炭化水素がパラキシレンであれば、通常前記反応温度から5℃から20℃低温に保持した追酸化反応装置(図示せず)に、ジアルキル芳香族炭化水素を追加供給することなく、分子状酸素含有ガスを供給して処理する。追酸化処理時の圧力は、少なくとも反応温度において内部の反応混合物が液相を保持できる圧力以上であることが必要であり、具体的には0.2MPaG以上であると望ましい。また一方で5MPaG以下であることが望ましい。反応時間は5分以上である。また120分以下であるとよい。前記追酸化反応は二度以上行なってもよい。必要に応じて引き続き前記した反応温度よりも高温で追酸化処理をしてもよい。   Further, a further oxidation reaction may be performed after the oxidation reaction. In this additional oxidation reaction, the reaction mixture obtained in the oxidation reaction apparatus 1 is subjected to additional oxidation at a lower temperature than the first-stage reaction. If the dialkyl aromatic hydrocarbon is para-xylene, the molecule is usually added to the additional oxidation reactor (not shown) maintained at a low temperature of 5 ° C. to 20 ° C. from the reaction temperature without additional supply of the dialkyl aromatic hydrocarbon. Process by supplying gaseous oxygen-containing gas. The pressure at the time of the additional oxidation treatment needs to be at least the pressure at which the internal reaction mixture can maintain the liquid phase at least at the reaction temperature, and specifically 0.2 MPaG or more. On the other hand, it is desirable that it is 5 MPaG or less. The reaction time is 5 minutes or more. Moreover, it is good for it to be 120 minutes or less. The additional oxidation reaction may be performed twice or more. If necessary, additional oxidation treatment may be continued at a temperature higher than the reaction temperature described above.

[晶析]
前記の追酸化反応の施用有無に係わらず、得られた酸化反応スラリー101を必要に応じて晶析槽2において晶析処理を行ってもよい。この場合、前記の酸化工程の圧力よりも低圧にして放圧蒸発することにより冷却され、溶媒中に溶解している芳香族ジカルボン酸が更に析出され、回収量が増加する。しかし、晶析により冷却されると、続く固液分離工程の操作温度が低下し、系内に留保される内部エネルギーが減少するので、晶析操作は省略するのが好ましい。
[Crystallization]
Regardless of whether or not the additional oxidation reaction is applied, the obtained oxidation reaction slurry 101 may be subjected to crystallization treatment in the crystallization tank 2 as necessary. In this case, the pressure is reduced by evaporation under reduced pressure below the pressure in the oxidation step, and the aromatic dicarboxylic acid dissolved in the solvent is further precipitated to increase the recovery amount. However, when cooled by crystallization, the operation temperature of the subsequent solid-liquid separation step is lowered, and the internal energy retained in the system is reduced. Therefore, the crystallization operation is preferably omitted.

[固液分離・洗浄]
固液分離工程と洗浄工程は従来は別々の設備で実施されてきたが、最近の技術の進歩により、まとめて一つの装置で実施できるようになり工程が簡素化されている。このように固液分離工程と洗浄工程をまとめて行うことのできる固液分離・洗浄装置3としては、例えばスクリーンボウル型遠心分離機、ロータリーバキュームフィルター、水平ベルトフィルター、ロータリー加圧フィルターなどが例証される。この中でも、本発明においては、高温・高圧領域での耐熱性に優れたスクリーンボウル型遠心分離機、ロータリー加圧フィルターが好ましい。スクリーンボウル型遠心分離機は、遠心力によって固体と液体が分離される。
[Solid-liquid separation and washing]
Conventionally, the solid-liquid separation process and the washing process have been carried out in separate facilities, but recent advances in technology have made it possible to carry out the process in a single apparatus, thereby simplifying the process. Examples of the solid-liquid separation / washing apparatus 3 that can perform the solid-liquid separation process and the washing process in this way include, for example, a screen bowl type centrifuge, a rotary vacuum filter, a horizontal belt filter, and a rotary pressure filter. Is done. Among these, in the present invention, a screen bowl type centrifugal separator and a rotary pressure filter excellent in heat resistance in a high temperature / high pressure region are preferable. In the screen bowl type centrifuge, solid and liquid are separated by centrifugal force.

ろ過材の材質及び形状に制約はなく、セラミックフィルター、金網、金属バースクリーンなどが用いられ、耐食性や目詰まりを考慮して選定される。酸化反応スラリー101又は晶析スラリー102を固液分離・洗浄装置3にて処理する際の圧力は常圧を上回り、分離操作温度における分離母液の蒸気圧より大きな圧力が必要である。このような圧力を維持することにより、実質的に前記スラリー101,102の温度レベルを維持して内部エネルギーを留保することが可能である。具体的には、0.2MPaG以上であると好ましく、0.3MPaG以上であるとより好ましい。一方で上限は通常22MPaG以下、好ましくは12MPaG以下、より好ましくは7MPaG以下、特に好ましくは1.5MPaG以下である。固液分離・洗浄装置3では引き続き固液分離された分離ケーキの洗浄を行ない、分離ケーキに付着している不純物や副生物を除去する。   There are no restrictions on the material and shape of the filter medium, and ceramic filters, wire meshes, metal bar screens, etc. are used, and are selected in consideration of corrosion resistance and clogging. The pressure when the oxidation reaction slurry 101 or the crystallization slurry 102 is processed by the solid-liquid separation / washing apparatus 3 is higher than the normal pressure and needs to be higher than the vapor pressure of the separation mother liquor at the separation operation temperature. By maintaining such a pressure, it is possible to substantially maintain the temperature level of the slurry 101, 102 and retain internal energy. Specifically, it is preferably 0.2 MPaG or more, and more preferably 0.3 MPaG or more. On the other hand, the upper limit is usually 22 MPaG or less, preferably 12 MPaG or less, more preferably 7 MPaG or less, and particularly preferably 1.5 MPaG or less. The solid-liquid separation / washing device 3 continues to wash the separated cake separated into solid and liquid to remove impurities and by-products attached to the separated cake.

洗浄液には、酢酸、水、又はこれらの混合物が用いられる。洗浄時の圧力は、前記した固液分離の場合と同じである。洗浄液は内部エネルギーを低減させないように分離ケーキと同温度、もしくはそれ以上の温度であることが望ましい。分離母液及び洗浄済み液中には、酢酸溶媒や芳香族カルボン酸などの有価成分が含まれているので、前記の常圧を上回る圧力を維持したまま、リサイクル母液とパージ母液に分岐させ、リサイクル母液は放圧冷却されないままに圧力を維持して酸化工程にリサイクルするのが望ましい。パージ母液からは有価成分を回収処理して再利用され、残分は廃棄処理される。   Acetic acid, water, or a mixture thereof is used for the cleaning liquid. The pressure at the time of washing is the same as in the case of the solid-liquid separation described above. The cleaning liquid is preferably at the same temperature as or higher than the separation cake so as not to reduce internal energy. Since the separated mother liquor and the washed liquor contain valuable components such as acetic acid solvent and aromatic carboxylic acid, the recycle mother liquor and purge mother liquor are branched and recycled while maintaining the pressure above the normal pressure. It is desirable to recycle the mother liquor to the oxidation process while maintaining the pressure without being cooled by releasing pressure. From the purge mother liquor, valuable components are recovered and reused, and the remainder is discarded.

[乾燥・湿ケーキの収納]
分離された分離洗浄済み湿ケーキ103は、ウエットケーキホッパー4に収納される。このウエットケーキホッパー4は、固液分離・洗浄装置3とは独立した個別の容器でもよいし、固液分離・洗浄装置3の一部分を成す湿ケーキの滞留部であってもよい。分離洗浄済み湿ケーキ103には、酢酸、水、又は酢酸と水の混合物からなる液状物質が芳香族ジカルボン酸に対して0.01〜25重量%含まれる。ウエットケーキホッパー4の温度は、湿ケーキの内部エネルギーを維持するよう、固液分離・洗浄装置3の温度からできるだけ低下させない事が望ましい。
[Storage of dry and wet cake]
The separated and cleaned wet cake 103 is stored in the wet cake hopper 4. The wet cake hopper 4 may be an individual container independent of the solid-liquid separation / washing device 3 or may be a wet cake retaining part forming a part of the solid-liquid separation / washing device 3. The separated and washed wet cake 103 contains 0.01 to 25% by weight of a liquid substance composed of acetic acid, water, or a mixture of acetic acid and water with respect to the aromatic dicarboxylic acid. It is desirable that the temperature of the wet cake hopper 4 is not lowered as much as possible from the temperature of the solid-liquid separation / washing device 3 so as to maintain the internal energy of the wet cake.

また、ウエットケーキホッパー4の圧力は、液状物質の蒸発による温度低下を防ぐために、0.001MPaG以上が好ましく、0.3MPaG以上がより好ましい。また、上限は5MPaG以下が好ましく、1.5MPaG以下がより好ましい。   Further, the pressure of the wet cake hopper 4 is preferably 0.001 MPaG or more, and more preferably 0.3 MPaG or more in order to prevent a temperature drop due to evaporation of the liquid substance. Further, the upper limit is preferably 5 MPaG or less, and more preferably 1.5 MPaG or less.

次いで、湿ケーキは、蒸発・乾燥装置5に送られ、該液状物質含有濃度が0.01〜1重量%とさらに液状物質含有濃度が低減化されたものとなる。用いられる乾燥機は、本発明においては特に制限はないが、ロータリーキルン乾燥機や流動層乾燥機などが好適なものとして例証される。蒸発・乾燥装置5の圧力は、ウエットケーキホッパー4の圧力よりも低い。蒸発・乾燥装置5に導入される湿ケーキの内部エネルギーが前工程で有効に保持され、湿ケーキの温度が、含有する液状物質の常圧における沸点に近いかあるいは高い場合、蒸発・乾燥装置5に導入される段階で湿ケーキの内部エネルギーによる液状物質の蒸発が発生し、蒸発・乾燥工程の役割の少なくとも一部が達成されるため、当該蒸発・乾燥装置5のエネルギー消費を低減する事が可能である。乾燥ケーキ104は、ドライケーキホッパー6に収納されるが、ドライケーキホッパー6に収納せずに、直接、還元反応工程7に移送してもよい。   Next, the wet cake is sent to the evaporation / drying device 5 where the liquid substance-containing concentration is 0.01 to 1% by weight and the liquid substance-containing concentration is further reduced. The dryer used is not particularly limited in the present invention, but a rotary kiln dryer, a fluidized bed dryer, and the like are exemplified as suitable ones. The pressure of the evaporation / drying device 5 is lower than the pressure of the wet cake hopper 4. When the internal energy of the wet cake introduced into the evaporation / drying device 5 is effectively maintained in the previous step and the temperature of the wet cake is close to or higher than the boiling point at normal pressure of the contained liquid substance, the evaporation / drying device 5 The evaporation of the liquid substance due to the internal energy of the wet cake occurs at the stage of being introduced into the cake, and at least a part of the role of the evaporation / drying process is achieved. Therefore, the energy consumption of the evaporation / drying apparatus 5 can be reduced. Is possible. The dry cake 104 is stored in the dry cake hopper 6 but may be directly transferred to the reduction reaction step 7 without being stored in the dry cake hopper 6.

別の態様として、分離洗浄済み湿ケーキ103が、圧力の低下によって、その内部エネルギーにより液状物質を蒸発させて含有量を減ずるに足る温度を保持している場合は、前記蒸発・乾燥装置5を使用せずに、ウエットケーキホッパー4よりも低い圧力のドライケーキホッパーに、液状物質の蒸発を伴いながら直接収納する事も可能である。   As another aspect, when the separated and washed wet cake 103 maintains a temperature sufficient to evaporate the liquid substance by its internal energy and reduce the content due to a decrease in pressure, the evaporation / drying device 5 is used. Without using it, it is also possible to store directly in a dry cake hopper with a pressure lower than that of the wet cake hopper 4 with evaporation of the liquid substance.

このような条件で、湿ケーキを前記容器中の排出機構付近に実質的に常に滞留させる事により、前記容器内で湿ケーキからなる圧力シール層を形成・保持させ、容器内外の気相部が連通しない状態を保持し、この容器出口を前記湿ケーキにより常にシールされた状態に施用することができる。これにより、付着液状物質の蒸気を含む容器内の気相ガスが排出機構を通過する、すなわち、吹き抜けが生じるのを防ぐ。これにより、前記湿ケーキは、圧力低下が抑制され、湿ケーキを容器外に安定して排出させることが可能となると共に、ウエットケーキホッパーの後工程における乾燥工程において、この圧力差を有効に利用し、有用な乾燥を行うことが可能となる。湿ケーキによる容器内での圧力シール層を常に保持するために、容器内の湿ケーキの滞留量を検知する粉面検出機構と、この検出機構により制御される、移送速度及び/又は排出頻度が可変である湿ケーキ排出機構を具備し、移送能力を適切に調節する事により、容器内の湿ケーキ滞留量が常に適切に保たれる。   Under such conditions, the wet cake is substantially always retained in the vicinity of the discharge mechanism in the container, so that a pressure seal layer made of the wet cake is formed and held in the container. The state which does not communicate can be maintained and this container exit can be applied in the state always sealed with the said wet cake. This prevents the gas phase gas in the container containing the vapor of the attached liquid substance from passing through the discharge mechanism, that is, the occurrence of blow-through. As a result, the pressure of the wet cake is suppressed and the wet cake can be stably discharged out of the container, and this pressure difference is effectively utilized in the drying process in the subsequent process of the wet cake hopper. In addition, useful drying can be performed. In order to always maintain the pressure seal layer in the container by the wet cake, the powder level detection mechanism for detecting the amount of the wet cake in the container, and the transfer speed and / or the discharge frequency controlled by this detection mechanism are By providing a wet cake discharging mechanism that is variable and appropriately adjusting the transfer capability, the wet cake retention amount in the container is always kept appropriately.

また、容器内の圧力を適切に管理するために、この容器内の気相ガスが必要に応じて容器に設置されたベント管により排出される。また、必要に応じて、高圧ガスが概容器内に補充される。   Further, in order to appropriately manage the pressure in the container, the gas phase gas in the container is discharged by a vent pipe installed in the container as necessary. Moreover, high pressure gas is replenished in the container as needed.

これにより、上記固液分離・洗浄工程で得られた湿ケーキを前記容器(ウエットケーキホッパー4等)に収納し、次いで蒸発・乾燥装置5またはドライケーキホッパー6に移送する移送工程において、容器内部の圧力とこの容器外の圧力との圧力差を保持することができる。その圧力差は、0.001MPa以上が好ましく、0.2MPa以上がより好ましく、さらに好ましくは0.3MPa以上である。圧力差が上記範囲より低いと、圧力差を利用して湿ケーキを排出する排出機構を採用した場合、排出機構付近での湿ケーキの付着や排出不良といった問題を生じる場合がある。一方、圧力差の上限に関しては、5MPa以下が好ましく、2MPa以下がより好ましく、さらに好ましくは1.5MPa以下である。圧力差が上記範囲より高いと、排出機構が排出速度を適切に抑制できなくなったり、排出機構の耐圧を超えるといった問題を生じる場合がある。なお、このとき、後工程の圧力の方が、前記容器内の圧力より低い。
ところで、前記の「容器外」とは、前記容器の外部をいい、具体的には、この移送工程のうち、前記容器より後の工程(以下、「後工程」と称する。)、すなわち、次の移送先をいう。
As a result, in the transfer step of storing the wet cake obtained in the solid-liquid separation / washing process in the container (wet cake hopper 4 or the like) and then transferring it to the evaporation / drying device 5 or the dry cake hopper 6, And the pressure difference between the pressure outside the container. The pressure difference is preferably 0.001 MPa or more, more preferably 0.2 MPa or more, and further preferably 0.3 MPa or more. When the pressure difference is lower than the above range, when a discharge mechanism that discharges the wet cake using the pressure difference is employed, problems such as adhesion of the wet cake near the discharge mechanism and defective discharge may occur. On the other hand, the upper limit of the pressure difference is preferably 5 MPa or less, more preferably 2 MPa or less, and still more preferably 1.5 MPa or less. When the pressure difference is higher than the above range, there may be a problem that the discharge mechanism cannot appropriately suppress the discharge speed or exceeds the pressure resistance of the discharge mechanism. At this time, the pressure in the post-process is lower than the pressure in the container.
By the way, the “outside of the container” means the outside of the container. Specifically, in this transfer process, the process after the container (hereinafter referred to as “post-process”), that is, the next. Refers to the destination.

ところで、本発明は、この圧力差(ΔP)の変動幅が所定範囲内に抑制されるように粉面検出機構と排出機構の連動を調整する事が好ましい。これは、湿ケーキの移送時間の制御や抜き出しバルブ開度の制御等による湿ケーキ移送量の調整、容器内の湿ケーキ上面の位置や湿ケーキの前記滞留量の設定値を調整することで達成される。これにより、仮に、容器内の湿ケーキ上面に凸凹状態があり、湿ケーキに貫通孔が生じ、圧力が変動する可能性があったとしても、ガスが吹き抜けたりするのを抑制することができる。   By the way, in the present invention, it is preferable to adjust the interlocking of the powder level detection mechanism and the discharge mechanism so that the fluctuation range of the pressure difference (ΔP) is suppressed within a predetermined range. This is achieved by adjusting the wet cake transfer amount by controlling the transfer time of the wet cake, controlling the extraction valve opening, etc., and adjusting the position of the upper surface of the wet cake in the container and the set value of the retention amount of the wet cake. Is done. Thereby, even if there is an uneven state on the upper surface of the wet cake in the container, a through-hole is formed in the wet cake, and the pressure may fluctuate, it is possible to prevent the gas from being blown through.

この変動幅ΔPは、±0.2MPaの範囲内であり、好ましくは、±0.15MPaの範囲内であり、より好ましくは、±0.1MPaの範囲内である。この範囲を外れると、湿ケーキによるシール層に予期せぬ貫通孔が生じてガスが吹き抜け、湿ケーキの排出速度の不安定化を生じさせたり、排出機構に圧力変動による機械的疲労を生じさせたりする場合がある。また、固液分離・洗浄工程が該容器と実質的に同じ圧力区分で操作される場合、固液分離・洗浄操作の不安定化を生じる場合がある。   This fluctuation range ΔP is within a range of ± 0.2 MPa, preferably within a range of ± 0.15 MPa, and more preferably within a range of ± 0.1 MPa. Outside this range, an unexpected through-hole is formed in the seal layer of the wet cake, causing gas to blow through, destabilizing the discharge speed of the wet cake, and causing mechanical fatigue due to pressure fluctuations in the discharge mechanism. Sometimes. Further, when the solid-liquid separation / washing process is operated in substantially the same pressure section as the vessel, the solid-liquid separation / washing operation may become unstable.

上記のような、湿ケーキによるシールを形成させる各条件を満たすことにより、シール層が適切に保持され、容器と後工程の圧力差が安定して保たれ、設備容器間の安定的な移送が可能になる。そして、これにより、前記の容器や各配管内での閉塞や蓄積がない状況で、また圧漏れによる圧力低下・変動による吹き抜けがない状況で、この容器外に前記湿ケーキを安定よく排出させることができる。   By satisfying each condition for forming a seal with a wet cake as described above, the seal layer is appropriately held, the pressure difference between the container and the post-process is stably maintained, and stable transfer between the equipment containers is possible. It becomes possible. And this allows the wet cake to be stably discharged out of the container in a state where there is no blockage or accumulation in the container or each pipe, and where there is no blowout due to pressure drop or fluctuation due to pressure leakage. Can do.

なお、ドライケーキホッパー6は、前記のウエットケーキホッパー4が容器として用いられる場合と同様にして用いることができる。ドライケーキホッパー6を容器として用いる場合、前記のウエットケーキホッパー4が容器として用いられる場合と相違する点は、該容器内外の圧力差ΔPが0.001〜0.2MPaとなる点のみである。   The dry cake hopper 6 can be used in the same manner as when the wet cake hopper 4 is used as a container. When the dry cake hopper 6 is used as a container, the only difference from the case where the wet cake hopper 4 is used as a container is that the pressure difference ΔP inside and outside the container is 0.001 to 0.2 MPa.

ところで、前記の圧力シール効果が損なわれて容器内の気相が排出機構を通して後工程と連通した場合、前記容器内部と前記後工程とが直結する、すなわち、湿ケーキに両者を貫通する孔ができることとなる。この場合、この孔によって、前記容器の入口側と出口側との圧力差が減少し、湿ケーキ全体の移動が困難となる事があると共に、次工程に大量の液状物質の蒸気を含む気相ガスが移動してしまう。これにより、前記容器内に湿ケーキの残存が生じるおそれがあると共に、次工程の圧力が上昇し、容器や装置の破損を生じさせたり、フラッシュ乾燥等の乾燥が阻害されるおそれがあるほか、乾燥ケーキ等への液状物質の再付着が起こる場合がある。   By the way, when the pressure sealing effect is impaired and the gas phase in the container communicates with the subsequent process through the discharge mechanism, the inside of the container and the subsequent process are directly connected, that is, there is a hole penetrating both in the wet cake. It will be possible. In this case, this hole reduces the pressure difference between the inlet side and the outlet side of the container, which may make it difficult to move the entire wet cake, and a gas phase containing a large amount of liquid substance vapor in the next step. Gas moves. As a result, there is a risk that a wet cake may remain in the container, and the pressure in the next process is increased, causing damage to the container and the device, and drying such as flash drying may be hindered. In some cases, re-adhesion of a liquid substance to a dry cake or the like may occur.

前記の容器外への移送は、湿ケーキが含有する液状物質の少なくとも一部の蒸発を伴うことが望ましい。すなわち、分離された分離洗浄済み湿ケーキ103が収納されてなるウエットケーキホッパー4から液状物質を除去するにあたり、液状物質をより低圧状態に移行させて、液状物質をその留保する内部エネルギーで放圧蒸発させることが望ましい。放圧蒸発とは高圧状態でかつその温度が移行後の低圧での沸点以上にある液体が、低圧状態に急激に移行させられることによって、湿ケーキの持つ熱により液状物質が蒸発する現象をいう。加圧側から低圧側に湿ケーキ103を排出する排出機構としてはディスチャージバルブが例証される。具体的には、WO91/09661号公報、US−5589079号公報などに公開されているバルブが使用できる。また、ディスチャージバルブ以外の例えばロータリーバルブを使用したり、複数のバルブを使用しても良い。ウエットケーキホッパー4内の圧力は、固液分離・洗浄装置3内部と同じかわずかに低圧である。蒸発した液状物質は蒸発ガスとなって、ベントラインを通じて処理設備に送られ、同伴する芳香族ジカルボン酸固体などが、洗浄液として使用された酢酸などとともに回収され再利用される。液状物質の蒸発熱をすべて供給するほどの内部エネルギーがあるのが望ましいが、不十分な場合には必要に応じて更に加熱乾燥する。   The transfer to the outside of the container is preferably accompanied by evaporation of at least a part of the liquid substance contained in the wet cake. That is, when removing the liquid substance from the wet cake hopper 4 in which the separated wet cake 103 that has been separated and washed is stored, the liquid substance is shifted to a lower pressure state, and the liquid substance is released with internal energy for retaining the liquid substance. It is desirable to evaporate. Evaporation under pressure refers to a phenomenon in which a liquid substance evaporates due to the heat of a wet cake when a liquid whose pressure is higher than the boiling point at the low pressure after the transition is rapidly transferred to the low pressure state. . As a discharge mechanism for discharging the wet cake 103 from the pressure side to the low pressure side, a discharge valve is exemplified. Specifically, valves disclosed in WO91 / 09661 and US-55889079 can be used. Further, for example, a rotary valve other than the discharge valve may be used, or a plurality of valves may be used. The pressure in the wet cake hopper 4 is the same as or slightly lower than that in the solid-liquid separation / washing device 3. The evaporated liquid substance becomes evaporative gas and is sent to the processing facility through the vent line, and the accompanying aromatic dicarboxylic acid solid is recovered and reused together with acetic acid used as the cleaning liquid. It is desirable that the internal energy is sufficient to supply all the heat of evaporation of the liquid material, but if it is insufficient, it is further dried by heating if necessary.

なお、前記の容器内部の圧力及び前記容器外の圧力は、圧力容器内の圧力を測定する圧力計36a、41、圧力容器(ウェットケーキホッパー31)外の圧力を測定する圧力計36b(図2においては、ドライケーキホッパー37に設置)を用いて検知することができ、それらの圧力の差は、検知されたデータに基づき算出され、かつ、管理することができる。なお、圧力容器(ドライケーキホッパー37)外の圧力は常圧となる。   The pressure inside the container and the pressure outside the container are pressure gauges 36a and 41 that measure the pressure inside the pressure container, and the pressure gauge 36b that measures the pressure outside the pressure container (wet cake hopper 31) (FIG. 2). Can be detected using a dry cake hopper 37), and the pressure difference between them can be calculated and managed based on the detected data. Note that the pressure outside the pressure vessel (dry cake hopper 37) is a normal pressure.

本発明では、CTA工程において各装置及び容器3、4、5、6間のウエットケーキホッパー及びドライケーキホッパーにおける湿ケーキ移送の安定化が本発明の目指すところであり、以下にさらに詳細説明する。   In the present invention, stabilization of the wet cake transfer in the wet cake hopper and the dry cake hopper between the apparatuses and the containers 3, 4, 5, and 6 in the CTA process is the aim of the present invention, which will be described in more detail below.

[固液分離・洗浄・乾燥・湿ケーキの収納の一体化]
本発明では、前記した[固液分離・洗浄]、[乾燥・湿ケーキの収納]を一体化、すなわち、前記移送工程を一体化した設備で操作できる簡略なプロセスを使用することが好ましく、該プロセスでの湿ケーキの安定的な移送方法を確立して安定運転を目指すものである。さらに晶析工程も省略して酸化反応スラリー101を直接前記一体化された設備に投入して処理するプロセスがより望ましい。図2にそのイメージ図を掲載した。
[Integration of solid-liquid separation, washing, drying and wet cake storage]
In the present invention, it is preferable to use a simple process in which the above-mentioned [solid-liquid separation / washing] and [drying / wet cake storage] are integrated, that is, the operation can be performed with the equipment integrated with the transfer step. It aims at stable operation by establishing a stable transfer method of wet cake in the process. Further, a process of omitting the crystallization step and processing the oxidation reaction slurry 101 by directly feeding it into the integrated equipment is more desirable. Figure 2 shows the image.

反応スラリー液状物aを高温・高圧状態を維持したままで、固液分離洗浄装置30に投入して、固液分離・洗浄を行い、分離母液・洗浄液cを系外に排出すると共に、湿ケーキbをウエットケーキホッパー31に収納し、抜き出しバルブ34を経由してドライケーキホッパー37に間欠的に抜出して、ウエットケーキホッパー31とドライケーキホッパー37の圧力差と湿ケーキbの保持する内部エネルギーにより液状物質を蒸発乾燥させて、液状物質の含有量の減少した湿ケーキを得る。蒸発除去された液状物質eは、蒸気として系外に排出される。次いで抜き出しバルブ40を経由して次工程に移送される。酸化反応又は晶析工程の高温・高圧条件を実質的に維持したままで、固液分離・洗浄装置30にて、固液分離・洗浄を行い、次いで放圧蒸発乾燥する。しかしながら本プロセスでは、湿ケーキbを収納するウエットケーキホッパー31や、次のドライケーキホッパー37において、下記のような問題がある。   While maintaining the high temperature and high pressure state of the reaction slurry liquid substance a, it is put into the solid-liquid separation and washing apparatus 30 to perform solid-liquid separation and washing, and the separated mother liquor and washing liquid c are discharged out of the system, and the wet cake b is stored in the wet cake hopper 31 and is intermittently withdrawn to the dry cake hopper 37 via the extraction valve 34, and the pressure difference between the wet cake hopper 31 and the dry cake hopper 37 and the internal energy held by the wet cake b The liquid material is evaporated to dryness to obtain a wet cake having a reduced content of the liquid material. The liquid substance e removed by evaporation is discharged out of the system as vapor. Subsequently, it is transferred to the next process via the extraction valve 40. Solid-liquid separation / washing apparatus 30 performs solid-liquid separation / washing while substantially maintaining the high-temperature / high-pressure conditions of the oxidation reaction or crystallization process, followed by pressure-release evaporation drying. However, in this process, there are the following problems in the wet cake hopper 31 for storing the wet cake b and the next dry cake hopper 37.

イ.蒸留のウエットケーキホッパー31内の圧力と下流のドライケーキホッパー37内の圧力との差が大きいため、ウエットケーキホッパー内の高圧ガスが下流側に噴出しやすく、ウエットケーキホッパー31の圧力を保持するために大量の補給ガスが必要になるなど、適切な固液分離洗浄操作の条件維持を困難にする。また、圧力が不安定になる事により、ドライケーキホッパー37との圧力差が不安定化し、湿ケーキのドライケーキホッパー37への安定的な移送を阻害する。
ロ.ウエットケーキホッパー31よりドライケーキホッパー37へ大量のガスが移動するために、ドライケーキホッパー37の圧力を急激に上昇させ、ホッパー本体や付帯する排出機構であるバルブ40などを破損させるおそれがある。
などの種々の現象が発生し、これらが原因となって該ホッパー内の湿ケーキの安定的移送が損なわれる。
A. Since the difference between the pressure in the wet cake hopper 31 for distillation and the pressure in the downstream dry cake hopper 37 is large, the high-pressure gas in the wet cake hopper tends to be ejected downstream, and the pressure of the wet cake hopper 31 is maintained. For this reason, it is difficult to maintain conditions for proper solid-liquid separation and washing operations, such as requiring a large amount of supplementary gas. Further, the pressure becomes unstable, the pressure difference with the dry cake hopper 37 becomes unstable, and the stable transfer of the wet cake to the dry cake hopper 37 is hindered.
B. Since a large amount of gas moves from the wet cake hopper 31 to the dry cake hopper 37, the pressure of the dry cake hopper 37 is rapidly increased, and the hopper body or the valve 40 as an accompanying discharge mechanism may be damaged.
Various phenomena such as the above occur, and these cause the stable transfer of the wet cake in the hopper.

ハ.液状物質の蒸気が下流機器へ噴出し、乾燥し移送された湿ケーキに液状物質が凝縮・再付着して湿ケーキの流動性を悪化させ、下流機器内での固着などを引き起こす事により湿ケーキ移送が不能になる。
ニ.排出弁軸など排出機構が圧力差の変動により損傷して、湿ケーキの移送が不能になる。
ホ.液状物質の蒸気が腐食性を伴う場合は、下流機器が噴出蒸気により腐食して、修理のために運転停止する。
C. Wet cake by causing vapor of liquid material to blow down to downstream equipment, condensing and reattaching liquid material to wet cake transferred after drying, causing fluidity of wet cake to deteriorate and causing sticking in downstream equipment Transfer becomes impossible.
D. The discharge mechanism such as the discharge valve shaft is damaged by the pressure difference, and the wet cake cannot be transferred.
E. If the vapor of the liquid material is corrosive, the downstream equipment will be corroded by the ejected steam and shut down for repair.

上部に抜き出しバルブ34、下部に抜き出しバルブ40を備えているドライケーキホッパー37では、圧力は上流のウエットケーキホッパー31よりも低圧で、大気圧か大気圧よりもやや高い圧力であり、しかもバルブ34は間欠的に開閉し、内圧の変動が大きいので、上記の問題ハ.〜ホ.などの種々の現象が発生し、これらが原因となって該ホッパー内の湿ケーキの安定的移送が損なわれる。   In the dry cake hopper 37 having the extraction valve 34 at the upper part and the extraction valve 40 at the lower part, the pressure is lower than that of the upstream wet cake hopper 31 and is atmospheric pressure or slightly higher than atmospheric pressure. Since the valve opens and closes intermittently and the fluctuation of internal pressure is large, the above problems c. ~ Ho. Various phenomena such as the above occur, and these cause the stable transfer of the wet cake in the hopper.

前記したように、固液分離・洗浄装置30→ウエットケーキホッパー31→ドライケーキホッパー37→次工程(図示せず)の装置、容器間で湿ケーキを安定移送するには多くの問題が未解決で残っており、安定運転に支障をきたしている。   As described above, the solid-liquid separation / washing device 30 → the wet cake hopper 31 → the dry cake hopper 37 → the device for the next process (not shown), and many problems are still unsolved to stably transfer the wet cake between the containers. The problem remains in the stable operation.

そこで、鋭意検討した結果、前記したように、例えば、ウェットケーキホッパー等の容器内に湿ケーキを一定範囲内で滞留させる、当該容器出口を前記湿ケーキにより常にシールされた状態に施用する、又は、容器内で貫通孔が発生しやすい箇所に粉面検出機構を備え常時監視する等により、容器内部の圧力と容器外の圧力との圧力差の変動幅を一定範囲内に抑えることができ、液状物質の蒸気を含む容器内のガスの吹き抜けや、圧漏れや容器内圧変動による圧力低下を抑制することができ、設備容器間の安定的な移送や、後工程の乾燥工程における乾燥が容易になる事を見出した。   Therefore, as a result of intensive studies, as described above, for example, the wet cake is retained in a certain range in a container such as a wet cake hopper, the container outlet is applied in a state that is always sealed by the wet cake, or By providing a powder level detection mechanism at a place where a through-hole is likely to occur in the container and constantly monitoring it, the fluctuation range of the pressure difference between the pressure inside the container and the pressure outside the container can be suppressed within a certain range. It is possible to suppress pressure drop due to gas blow-through in containers containing liquid substance vapor, pressure leakage and fluctuations in internal pressure of the container, and stable transfer between equipment containers and easy drying in the subsequent drying process I found out.

さらに、前記圧力差が存在するので、ウエットケーキホッパー31とドライケーキホッパー37との間に特別な蒸発・乾燥装置を設けずとも、単に、ウエットケーキホッパー31とドライケーキホッパー37とを連結し、前記容器の出口から出た段階で、圧力の急減によるフラッシュ乾燥により、蒸発・乾燥を行うことができる。   Furthermore, since the pressure difference exists, the wet cake hopper 31 and the dry cake hopper 37 are simply connected without providing a special evaporation / drying device between the wet cake hopper 31 and the dry cake hopper 37. Evaporation / drying can be performed by flash drying with a sudden decrease in pressure when the container exits from the outlet.

[図2に係る装置の詳細]
以下にさらに詳細な実施形態を説明する。
ウエットケーキホッパーからの湿ケーキの移送は、一般的には前記したようにウエットケーキホッパー31内部または周辺部に粉面計を設置して、ドライケーキホッパー37との境界に設置した抜き出しバルブ34を間欠的にまたは開度を調節しながら連続的に開いてウエットケーキbを下部装置(ドライケーキホッパー)に移送する。しかし湿ケーキ面は液面と異なり凹凸が発生し水平ではないので、粉面計では、内容物を抜き出す機構(例えば、抜き出しバルブ)に不適切な時期に開放指示を与えるなどの問題がある。本発明では、ケーキ面上部粉面計(以下、単に「上部センサー」と称する場合がある。)32、38やケーキ面下部粉面計(以下、単に「下部センサー」と称する場合がある。)33、39に用いられる粉面計の具体例として、粉面計検知装置の改良及び検知結果に基づく操作方法の改良を行った下記の粉面計を用いるとともに、シール状態を下記の圧力計を用いることにより確認する仕組みを付加したものが好適に使用される。これにより、容器内の湿ケーキbの滞留量を、下記粉面計により検知し、前記容器に接続された移送機能を有する機構に連動させて、前記容器出口より前記湿ケーキbを移送することが可能となる。
[Details of apparatus according to FIG. 2]
A more detailed embodiment will be described below.
In general, the wet cake is transferred from the wet cake hopper by installing a powder level meter in or around the wet cake hopper 31 as described above, and using the extraction valve 34 installed at the boundary with the dry cake hopper 37. The wet cake b is opened intermittently or while adjusting the opening, and the wet cake b is transferred to the lower device (dry cake hopper). However, unlike the liquid surface, the wet cake surface has irregularities and is not horizontal, so the powder level meter has a problem in that an opening instruction is given to the mechanism for extracting the contents (for example, an extraction valve) at an inappropriate time. In the present invention, cake surface upper powder level meter (hereinafter may be simply referred to as “upper sensor”) 32, 38 and cake surface lower powder level meter (hereinafter may be simply referred to as “lower sensor”). As a specific example of the powder level meter used for 33, 39, the following powder level meter with improved powder level meter detection device and improved operation method based on the detection result is used, and the following pressure gauge is used for the sealing state: What added the structure confirmed by using is used suitably. Thereby, the retention amount of the wet cake b in the container is detected by the following powder level meter, and the wet cake b is transferred from the container outlet in conjunction with a mechanism having a transfer function connected to the container. Is possible.

前記の上部センサ32、38は、ウェットケーキホッパー31やドライケーキホッパー37等の容器の内壁から中心軸に向けて突き出すように設置され、湿ケーキの管理範囲の上限付近に配される。そして、出口からの距離は、湿ケーキの前記滞留量の設定値の上限にあわせて設定される。これにより、湿ケーキが容器内に溜まりすぎると、上部センサ32、38が湿ケーキ内に埋もれる状態が続くので、容器内に湿ケーキを導入する量を抑制する、または容器内から排出する湿ケーキの量を増加させたり、あるいは間欠的に排出機構を作動させて湿ケーキを排出する必要があると判断することができる。一方、湿ケーキの滞留量が前記滞留量を下回る状態になると、上部センサ32、38が湿ケーキ内に接触しない状態が続くので、容器内に湿ケーキを導入する量を増大する、または容器内から排出する湿ケーキの量を減少させたり、あるいは間欠的に排出機構を停止させる必要があると判断することができる。   The upper sensors 32 and 38 are installed so as to protrude from the inner walls of containers such as the wet cake hopper 31 and the dry cake hopper 37 toward the central axis, and are arranged near the upper limit of the wet cake management range. And the distance from an exit is set according to the upper limit of the setting value of the said residence amount of a wet cake. As a result, if the wet cake accumulates too much in the container, the upper sensors 32 and 38 remain buried in the wet cake, so that the amount of wet cake introduced into the container is suppressed or the wet cake discharged from the container. It is possible to determine that the wet cake needs to be discharged by increasing the amount of water or by intermittently operating the discharge mechanism. On the other hand, if the wet cake stays below the stay, the upper sensors 32 and 38 are not in contact with the wet cake, so that the amount of wet cake introduced into the container is increased, It can be determined that it is necessary to reduce the amount of the wet cake discharged from the water or to intermittently stop the discharge mechanism.

また、前記下部センサー33、39は、ウェットケーキホッパー31やドライケーキホッパー37等の容器内の出口付近に配され、出口からの距離は、湿ケーキの前記滞留量の設定値の下限にあわせて設定される。このため、前記下部センサー33、39は、正常な運転が達成できている場合は、湿ケーキ内に埋もれる状態となる。これにより、湿ケーキに空洞が生じたり、湿ケーキの滞留量が異常に減少した場合、前記下部センサー33、39は、湿ケーキと接触しない状態が生じるため、適正な湿ケーキの滞留量が確保できていないと認識することができ、この状態を解消する対処行動をとることが可能となる。   The lower sensors 33 and 39 are arranged in the vicinity of outlets in containers such as the wet cake hopper 31 and the dry cake hopper 37, and the distance from the outlet is set in accordance with the lower limit of the set value of the retention amount of the wet cake. Is set. For this reason, the lower sensors 33 and 39 are buried in the wet cake when normal operation is achieved. As a result, when a cavity is formed in the wet cake or the retention amount of the wet cake is abnormally reduced, the lower sensors 33 and 39 are not in contact with the wet cake, so that an appropriate retention amount of the wet cake is ensured. It can be recognized that it has not been made, and it is possible to take a coping action to eliminate this state.

以下に本発明で使用される粉面計及び圧力計について説明する。
(粉面計)
本発明に用いられる粉面計の代表例を図3に示す。図3に示す代表的な粉面計は、接触式粉面計であり、センサーAA、ケーブルBB、電流増幅器CCから構成される。センサーAAは検知対象物質が収納されるホッパー等DDの側面又は上部に設置され、センサーAAが検知した電気特性が信号としてケーブルBBを経由して電流増幅器CCに送られて、製造工程の制御信号に変えられ、運転制御に使用される。
The powder level gauge and pressure gauge used in the present invention will be described below.
(Powder level meter)
A representative example of the powder level meter used in the present invention is shown in FIG. A typical powder level meter shown in FIG. 3 is a contact-type powder level meter, and includes a sensor AA, a cable BB, and a current amplifier CC. The sensor AA is installed on the side or upper part of the DD such as a hopper in which the detection target substance is stored, and the electrical characteristic detected by the sensor AA is sent as a signal to the current amplifier CC via the cable BB to control the manufacturing process. And is used for operation control.

センサーAAはハウジング61、フランジ62、接地電極部63、絶縁部64、検出電極部65から構成される。フランジ62等でホッパー(ウエットポッパー31、ドライケーキホッパー37)内部に挿入設置される。該ホッパー内部の湿ケーキが、空もしくは低レベルである場合は、検出電極部65の周辺には空気しか存在しないが、湿ケーキが堆積して検出電極部65及び設置電極部63に接触すると、周辺の環境が空気から湿ケーキに変化することにより、電気特性が変化して、該信号がケーブルBBでホッパー外部に設置される電流増幅器CCに伝送され、電気特性の変化が認識される。電気特性の変化は、接地電極部63及び検出電極部65の2電極間に生じる変化量を測定する場合、又は該ホッパー及び検出電極65の間に生じる変化量を測定する場合などであるが、その際には該ホッパーと接地電極63がフランジ62により、金属製のホッパー壁面に密着されて電気的に導通している状態にある場合である。接地電極部63及び検出電極部65の2極間に生じる変化量を測定する場合は、双方の電極部周辺とも同一環境にあることが前提になるので、センサーAAはホッパー上部からの挿入ではなく、側面から水平もしくは斜めに挿入することが好ましい。   The sensor AA includes a housing 61, a flange 62, a ground electrode part 63, an insulating part 64, and a detection electrode part 65. It is inserted and installed inside the hopper (wet popper 31, dry cake hopper 37) by the flange 62 or the like. When the wet cake inside the hopper is empty or at a low level, there is only air around the detection electrode unit 65, but when the wet cake accumulates and contacts the detection electrode unit 65 and the installation electrode unit 63, When the surrounding environment changes from air to a wet cake, the electrical characteristics change, and the signal is transmitted to the current amplifier CC installed outside the hopper via the cable BB, and the change in the electrical characteristics is recognized. The change in electrical characteristics is when measuring the amount of change that occurs between the two electrodes of the ground electrode portion 63 and the detection electrode portion 65, or when measuring the amount of change that occurs between the hopper and the detection electrode 65. In this case, the hopper and the ground electrode 63 are in close contact with the metal hopper wall surface by the flange 62 and are in electrical conduction. When measuring the amount of change occurring between the two electrodes of the ground electrode portion 63 and the detection electrode portion 65, it is assumed that both electrode portions are in the same environment, so the sensor AA is not inserted from the top of the hopper. It is preferable to insert horizontally or obliquely from the side.

電流増幅器CCは発振回路、増幅回路、スイッチング回路及び電源部のほか、電気特性変化を検出するに必要な回路から構成されるのが好ましい。発振回路ではコンデンサー、抵抗、コイルなどが直列又は並列に接続されていて、高周波発振器に連結されて電気特性の変化量を検出する。電気特性変化を増幅する増幅回路、電流・電圧切り替え、感度調整などを行うスイッチング回路などが含まれるのが好ましい。   The current amplifier CC is preferably composed of an oscillation circuit, an amplifier circuit, a switching circuit, and a power supply unit, as well as a circuit necessary for detecting a change in electrical characteristics. In the oscillation circuit, a capacitor, a resistor, a coil, and the like are connected in series or in parallel, and are connected to a high-frequency oscillator to detect a change in electrical characteristics. It is preferable to include an amplifier circuit that amplifies a change in electrical characteristics, a switching circuit that performs current / voltage switching, sensitivity adjustment, and the like.

電極数は2つの電極から構成される2極式及び3つの電極から構成される3極式があるが、特に限定されるものではなくいずれも使用できる。   The number of electrodes includes a two-pole type constituted by two electrodes and a three-pole type constituted by three electrodes, but is not particularly limited and any of them can be used.

材質はフランジ62、電極部63及び検出電極部65とも、オーステナイト系ステンレス、チタン類、ニッケル合金などから使用条件に応じて耐食性を考慮して選択される。絶縁部64はフッ素系樹脂、ポリアセタール樹脂など絶縁性樹脂が使用され、電源部のハウジング61はアルミニウムなど軽量金属が使用される。   The material of the flange 62, the electrode part 63, and the detection electrode part 65 is selected from austenitic stainless steel, titanium, nickel alloy, etc. in consideration of corrosion resistance according to use conditions. The insulating part 64 is made of an insulating resin such as a fluorine-based resin or a polyacetal resin, and the power source housing 61 is made of a light metal such as aluminum.

(ケーブル)
さらにケーブルBBにも下記の改良が加えられている。従来の方式では該センサーがケーキに接触した時に示す電気特性の変化が、該センサーと電流増幅器を結ぶ該ケーブル間、及び該ケーブル本体で発生する電気特性の変化に比べ差が小さく、センサーで検知する電気特性変化の測定値の精度及び信頼性を著しく低下させていたことを見出し、該ケーブル内構造に、独自の改良を施した。すなわち、該ケーブル間及び該ケーブル本体で発生する電気特性の変化を限りなく小さくし、該センサーがケーキに接触した時に、該ケーブル間及び該ケーブル本体に発生する電気特性の変化が、センサーによって検出される電気特性の変化に対して低減させる改良を施した。具体的には、該ケーブル内に導電性の遮蔽層を配置して2層以上の絶縁物で保護されてなる構造とした点である。
(cable)
Further, the following improvements have been added to the cable BB. In the conventional method, the change in electrical characteristics when the sensor touches the cake is smaller than the change in electrical characteristics between the cable connecting the sensor and the current amplifier and in the cable body, and is detected by the sensor. As a result, it was found that the accuracy and reliability of the measured value of the electrical characteristic change was significantly reduced, and the cable internal structure was uniquely improved. That is, the change in electrical characteristics generated between the cables and in the cable body is minimized, and the change in electrical characteristics generated between the cables and in the cable body is detected by the sensor when the sensor contacts the cake. Improved to reduce the change in electrical properties. Specifically, a conductive shielding layer is disposed in the cable and the structure is protected by two or more insulators.

図4には、本発明で使用される該ケーブルの断面を示す代表的な例を概念図として示した。尚、ここに示された該ケーブル構造の断面図はその概念を示す一例であり、これらに限定されるものではない。   In FIG. 4, the typical example which shows the cross section of this cable used by this invention was shown as a conceptual diagram. The cross-sectional view of the cable structure shown here is an example showing the concept, and is not limited to these.

前記のような改良を施したケーブルの形状は、検出電極65に接続される同軸ケーブル及び接地電極63又はホッパー等DDに接続される同軸ケーブルが、ケース1のように2本独立して電流増幅器CCに連結されてもよいし、ケース2のように前記2本のケーブルをひとまとめにして1本のケーブルの形状で電流増幅器CCに連結されてもよい。前記2本の同軸ケーブルは、少なくとも一方が導電性の遮蔽層を導線と同軸上に配置し、2層以上の絶縁物で保護される状態が好ましい。2本のケーブルをひとまとめにした1本のケーブルを使用する場合には、ケーブル中にある2本の導線の少なくとも一方に関して、導電性の遮蔽層を導線と同軸上に配置し、2層以上の絶縁層で保護する状態が好ましい。   The shape of the cable which has been improved as described above is such that the coaxial cable connected to the detection electrode 65 and the coaxial cable connected to the ground electrode 63 or the hopper DD such as the hopper are independently current amplifiers as in the case 1. The two cables may be connected together to the current amplifier CC in the form of one cable as in the case 2. It is preferable that at least one of the two coaxial cables has a conductive shielding layer disposed coaxially with the conductor and is protected by two or more insulators. When using one cable that is a group of two cables, a conductive shielding layer is arranged coaxially with the conductor for at least one of the two conductors in the cable. The state of protection with an insulating layer is preferred.

遮蔽層は、銅など導電性の大きい金属製のネット状ワイヤを用いる。絶縁層にはポリエチレン、ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂などの絶縁性樹脂を使用する。   For the shielding layer, a metal net-like wire having high conductivity such as copper is used. An insulating resin such as polyethylene, polyvinyl chloride, or fluororesin is used for the insulating layer.

以下に、本発明に使用されうる該ケーブルの断面を更に詳細を説明する。
ケース1は、同軸ケーブル2本で検出する場合で、ケース2は、それらをひとまとめにしたケーブル1本で検出する場合である。71は検出電極65からの導線で、72は接地電極63又はホッパー等からの導線である。
Below, the cross section of the cable that can be used in the present invention will be described in more detail.
Case 1 is a case where detection is performed using two coaxial cables, and Case 2 is a case where detection is performed using a single cable in which the cables are combined. Reference numeral 71 denotes a conductive wire from the detection electrode 65, and 72 denotes a conductive wire from the ground electrode 63 or a hopper.

ケース1では、同軸ケーブル2本の両方とも遮蔽層73及び2層以上の絶縁層74を設けた1例(1a)及び片側のみ遮蔽層を設けた1例(1b)及び片側のみ絶縁層を設けた1例(1c)をそれぞれ示す。   In case 1, both of the two coaxial cables are provided with a shielding layer 73 and two or more insulating layers 74 (1a), one example (1b) provided with a shielding layer on one side, and an insulating layer only on one side. One example (1c) is shown respectively.

ケース2では、2本の導線71及び導線72の周囲に個別に遮蔽層73及び2層以上の絶縁層74を設けた一例(2a)及び1本の導線の周囲のみに設けた2例(2b,2c)をそれぞれ示す。   In case 2, one example (2a) in which a shielding layer 73 and two or more insulating layers 74 are individually provided around two conductors 71 and 72, and two examples (2b) provided only around one conductor. , 2c).

前記図3で示される検知装置は、その一例を示すもので、本発明はこれに限定されるものではない。前記図3以外に使用される他の検知装置の具体例としては、センサーと電流増幅器を結ぶ外部ケーブルがない、電流増幅器内蔵型検知装置(図示せず)が例示される。   The detection apparatus shown in FIG. 3 shows an example, and the present invention is not limited to this. As a specific example of another detection device used in addition to FIG. 3, a current amplifier built-in detection device (not shown) having no external cable connecting the sensor and the current amplifier is exemplified.

該検知装置は、センサーが設置されてなるホッパー等の外部に設置される電流増幅器を結ぶケーブル間及び該ケーブル本体で発生する特有の電気特性の変化を限りなく小さくする為に、センサーと電流増幅器を結ぶケーブルをなくし、電気増幅器を電源部に内蔵したものである。該検知装置は、電気増幅器とセンサー管を接続する内部ケーブル長さが短く、従ってこのケーブルによって生じる電気特性の変化による影響は、センサーと電流増幅器を結ぶ外部ケーブル方式に比べ、限りなく小さくできる。しかしながら、本発明では、該検知装置の内部ケーブルにも、前記したような導電性の遮蔽層を配置して2層以上の絶縁物で保護されてなる構造を有することが最良の態様である。   The detection device includes a sensor and a current amplifier in order to minimize changes in electrical characteristics between the cables connecting the current amplifiers installed outside the hopper or the like where the sensors are installed and in the cable body. The cable which connects is eliminated, and the electric amplifier is built in the power supply unit. The detection device has a short internal cable length connecting the electric amplifier and the sensor tube, and therefore the influence of the change in the electrical characteristics caused by this cable can be made as small as possible compared to the external cable system connecting the sensor and the current amplifier. However, in the present invention, it is the best mode to have a structure in which the above-described conductive shielding layer is disposed on the internal cable of the detection device and is protected by two or more insulators.

電気特性はキャパシタンス、レジスタンス、インピーダンス、アドミッタンスなどが好ましく用いられる。   As the electrical characteristics, capacitance, resistance, impedance, admittance and the like are preferably used.

以下にこれらの内容を定義し、解説する。
<キャパシタンス>
キャパシタンスとは静電容量のことで、絶縁された、又は離されて配置された2つの導電体間で貯蔵される電荷量である。例えば、平らな金属板が平行して2枚置かれている場合には、キャパシタンスCの値は金属板の面積Sと金属板同士の距離L、及び金属板の間にある絶縁体の誘電率εsにより決定され、次式で示される。
C=εo・εs・S/L
εo:真空下での誘電率、単位はファラッド(F)、ピコファラッド(PF)が用いられる。
These contents are defined and explained below.
<Capacitance>
Capacitance refers to capacitance, which is the amount of charge stored between two conductors that are isolated or spaced apart. For example, when two flat metal plates are placed in parallel, the value of the capacitance C depends on the area S of the metal plates, the distance L between the metal plates, and the dielectric constant εs of the insulator between the metal plates. It is determined and expressed by the following formula.
C = εo · εs · S / L
[epsilon] o: dielectric constant under vacuum, unit is Farad (F) or picofarad (PF).

本発明において電気特性の変化としてキャパシタンスという場合、該式で示されるCの変化をとらえて物質の検知・計測が行われることを意味するものである。ここで、誘電率とは物質の持つ基本的な電気的定数で、各物質は固有の誘電率を持っている。例えば、空の状態でのCは空気の比誘電率(真空下での誘電率との比=ε/ε)が1であり、Cは2PFとなる場合に、該空間に比誘電率3の粉体が蓄積された場合、Cは6PFとなり、Cの差は4PFとなるので、その変化を検出することになる。 In the present invention, when capacitance is referred to as a change in electrical characteristics, it means that a substance is detected / measured by capturing a change in C represented by the above equation. Here, the dielectric constant is a basic electrical constant of a substance, and each substance has a specific dielectric constant. For example, when C in an empty state has a relative permittivity of air (ratio with permittivity under vacuum = ε / ε 0 ) of 1 and C is 2PF, a relative permittivity of 3 in the space Is accumulated, C is 6 PF, and the difference of C is 4 PF. Therefore, the change is detected.

<レジスタンス>
レジスタンスとは、電気抵抗のことで、電気の流れを抑制し、抵抗が大きいほど電圧が降下する。記号としては、通常Rを使用し、単位はオーム(Ω)が用いられる。絶縁性物質の場合は、電気抵抗は無限大となり、電気は流れない。導電性物質の場合は、導電性の程度に応じて電気が流れるので、その変化を検出することが出来る。
<Resistance>
Resistance is an electrical resistance that suppresses the flow of electricity, and the voltage decreases as the resistance increases. As a symbol, R is usually used, and the unit is ohm (Ω). In the case of an insulating material, the electric resistance becomes infinite, and electricity does not flow. In the case of a conductive substance, electricity flows according to the degree of conductivity, so that the change can be detected.

<インピーダンス>
インピーダンスとは、交流回路における電圧と電流の比で、電気の流れ難さを表し、直流における電気抵抗の概念を拡張して交流に適用したものである。記号としては通常Zを使用し,単位はオーム(Ω)が用いられる。
<Impedance>
Impedance is the ratio of voltage to current in an AC circuit and represents the difficulty of electricity flow. The concept of electrical resistance in DC is expanded and applied to AC. The symbol is usually Z, and the unit is ohm (Ω).

<アドミッタンス>
アドミッタンスとは交流回路における電気の流れ易さのことで、インピーダンスの逆数である。記号はY,単位はジーメンス(S)が用いられる。前記電気特性の変化を認識して、本発明の測定対象となる湿ケーキ上面を把握する検知装置の具体例としては、キャパシタンス、レジスタンス又はこれら2種の組み合わせから選ばれる電気特性の変化を検知できるキャパシタンス式検知装置、アドミッタンスを検知するアドミッタンス式検知装置、インピーダンスを検知するインピーダンス式検知装置、さらにはこれらアドミッタンスを検知するアドミッタンス式検知装置とインピーダンスを検知するインピーダンス式検知装置の2種の組み合わせからなる検知装置などを挙げることができる。
<Admittance>
Admittance is the ease of electricity flow in an AC circuit and is the reciprocal of impedance. The symbol is Y and the unit is Siemens (S). As a specific example of the detection device that recognizes the change in the electrical characteristics and grasps the upper surface of the wet cake to be measured according to the present invention, it can detect a change in electrical characteristics selected from capacitance, resistance, or a combination of the two. Capacitance type detection device, admittance type detection device for detecting admittance, impedance type detection device for detecting impedance, and further, an admittance type detection device for detecting admittance and an impedance type detection device for detecting impedance. Examples include a detection device.

このような中で、本発明において用いられるものとしては、好ましくはキャパシタンス式検知装置、より好ましくはインピーダンス式検知装置、最も好ましくはアドミッタンス式検知装置である。   Under such circumstances, the capacitance detection device is preferably used in the present invention, more preferably an impedance detection device, and most preferably an admittance detection device.

また、容器に稼動部分が無く、付帯する動機器からの振動を効果的に遮断できる等、容器の重量を連続的に測定するのに好適な条件が整う場合は、前記粉面計以外に、ロードセル等の粉面計を用いることにより、湿ケーキの付着を引き起こす接触式の粉面計を容器内部に設置する事なしに、内部の湿ケーキの滞留量の測定が可能である。   In addition, if there are no working parts in the container, and conditions suitable for continuously measuring the weight of the container, such as being able to effectively cut off vibrations from accompanying moving equipment, other than the powder level meter, By using a powder level meter such as a load cell, it is possible to measure the amount of residence of the internal wet cake without installing a contact-type powder level meter that causes adhesion of the wet cake inside the container.

(圧力計)
圧力計は市販されている計器の中から任意選択できるが、使用条件が高温、高圧で、酢酸などの腐食性物質が含有される場合は、接液部の材質はチタン製が好ましい。
(Pressure gauge)
The pressure gauge can be arbitrarily selected from commercially available instruments, but when the usage conditions are high temperature and high pressure and a corrosive substance such as acetic acid is contained, the material of the wetted part is preferably made of titanium.

図2に基づき、ウエットケーキホッパー31における粉体量の測定方法と操作方法を説明する。
ウエットケーキホッパー31では内部に粉面計を設置して、湿ケーキ上面の状態を検知し、ドライケーキホッパー37との境界に設置した抜き出しバルブ34を間欠的に開閉して湿ケーキbをドライケーキホッパー37に移送する。このときの問題点は、
(1)湿ケーキが移送されて湿ケーキ面が下がったときに、粉面計の表面に湿ケーキが残留していると、次なる測定の測定精度が低下する。
(2)センサーの設置位置は外壁面に近いと測定精度が低下し、また上下2箇所にのみ設置する方法では湿ケーキ特有の湿ケーキ面のばらつきが検知できず、局所的に湿ケーキ面が低い状況を認知せずに、抜き出しバルブ34開の指示を出してしまい、局所的に湿ケーキの吹き抜けが起こり、内部圧力の変動による移送速度の不安定化や、次工程への高圧ガスの流入による機器の損傷等を引き起こす。
(3)本発明が取り扱う湿ケーキは付着性が高く、センサー表面のみならず、槽壁面、抜き出しバルブなどに付着して、ウエットケーキホッパー31及びドライケーキホッパー37内部に蓄積し閉塞に至る事態が発生する。
Based on FIG. 2, the measurement method and operation method of the amount of powder in the wet cake hopper 31 will be described.
In the wet cake hopper 31, a powder level meter is installed to detect the state of the upper surface of the wet cake, and the extraction valve 34 installed at the boundary with the dry cake hopper 37 is opened and closed intermittently to open the wet cake b into the dry cake. Transfer to hopper 37. The problem at this time is
(1) When the wet cake is transferred and the wet cake surface is lowered, if the wet cake remains on the surface of the powder level meter, the measurement accuracy of the next measurement is lowered.
(2) If the sensor is located close to the outer wall surface, the measurement accuracy will drop, and the method of installing only in two places, upper and lower, will not detect the wet cake surface variation specific to the wet cake, and the wet cake surface will be locally Without recognizing the low situation, an instruction to open the extraction valve 34 is issued, and the wet cake blows off locally, destabilizing the transfer speed due to fluctuations in internal pressure, and inflow of high-pressure gas to the next process Cause damage to equipment.
(3) The wet cake handled by the present invention has high adhesiveness, and it adheres not only to the sensor surface but also to the tank wall surface, the extraction valve, etc., and accumulates in the wet cake hopper 31 and the dry cake hopper 37, leading to clogging. Occur.

前記問題点の解決策を鋭意検討し、下記内容の改良を行った。
(1)センサー表面における湿ケーキ残留による測定精度低下対策は、
1)センサー金属表面を平滑化して固体が滑り落ちやすくする。
2)センサー挿入角度に配慮する。
3)堆積する湿ケーキが上部センサー32、38(Hレベル)全体を埋没する高さまで堆積した後に、抜出指示が出される条件設定にする。
4)センサーの根元または先端部に付着物除去のための気体を噴出する機構を設ける。
事が好ましい。
The solution to the above problem was intensively studied and the following contents were improved.
(1) Measures to reduce measurement accuracy due to wet cake remaining on the sensor surface
1) The sensor metal surface is smoothed to make it easier for the solid to slide off.
2) Consider the sensor insertion angle.
3) After the wet cake to be deposited is deposited to a height at which the entire upper sensors 32 and 38 (H level) are buried, the condition is set so that an extraction instruction is issued.
4) A mechanism for ejecting gas for removing deposits is provided at the base or tip of the sensor.
Things are preferable.

2)のセンサー挿入角度については、センサーのウエットケーキホッパー及びドライケーキホッパーへの好ましい挿入角度は水平より下方に15度〜60度、特に好ましくは20度から40度である。
3)の設定条件としては、上部センサー32、38(Hレベル)よりも高い位置に堆積した湿ケーキがホッパー内を落下する際に、摩擦抵抗によりセンサー表面に付着した湿ケーキを同伴して落下させるに十分な速度(又は時間)とすれば、センサー表面に実質的に残留しなくなる。
Regarding the sensor insertion angle of 2), the preferred insertion angle of the sensor into the wet cake hopper and the dry cake hopper is 15 to 60 degrees below horizontal, particularly preferably 20 to 40 degrees.
3) As setting conditions, when the wet cake deposited at a position higher than the upper sensors 32 and 38 (H level) falls in the hopper, the wet cake attached to the sensor surface by the frictional resistance is dropped. If the speed (or time) is sufficient, the sensor surface does not substantially remain.

(2)のセンサー設置位置に関しては、
1)外壁面にセンサーが近接しすぎると、測定精度が低下するので、センサーの先端が壁面から少なくとも100mm以上、好ましくは150mm以上隔離する。
2)粉面計の粉面感知センサーを上下に少なくとも1基ずつ設置し、上部には同じ高さに少なくとも2基で合計3基以上設置することが好ましい。
設置位置はホッパー内下部(Lレベル)センサーについては、ホッパー内に常に湿ケーキが滞留してシールを形成するよう、ホッパー底部から少なくとも100mm以上、好ましくは150mm以上の高さに設置する事が好ましい。また、上部(Hレベル)センサーは、Lレベルセンサーよりも高い任意の位置への任意の数の設置が可能であるが、ホッパーが湿ケーキで満充填されて前工程からの湿ケーキの受入れに支障の出ないよう湿ケーキ面を管理できる位置に設置する事が好ましい。
Regarding the sensor installation position in (2),
1) If the sensor is too close to the outer wall surface, the measurement accuracy is lowered. Therefore, the tip of the sensor is separated from the wall surface by at least 100 mm, preferably 150 mm or more.
2) It is preferable that at least one powder level sensor of the powder level meter is installed at the top and bottom, and at least two at the same height are installed at a total of three or more.
The installation position of the hopper inner lower part (L level) sensor is preferably installed at a height of at least 100 mm, preferably 150 mm or more from the hopper bottom so that a wet cake always stays in the hopper to form a seal. . The upper (H level) sensor can be installed in any number of positions higher than the L level sensor, but the hopper is fully filled with wet cake to receive wet cake from the previous process. It is preferable to install the wet cake surface at a position where it can be managed so as not to hinder.

(3)のウエットケーキホッパー31及びドライケーキホッパー37内部に蓄積し閉塞に至る問題に関しては、壁面外部に、空気圧駆動や磁気駆動等による打撃装置、加震装置などを設置し、さらにウエットケーキホッパー31の内壁面温度を内温より5℃〜100℃、好ましくは、10℃〜50℃以上の温度に保温するなどの防止策が好ましい。保温方法は、ウエットケーキホッパー31外部にコイル(図示せず)を巻きつけて蒸気又はホットオイルなどを通す。また、テフロン等の付着防止性に優れた材質をホッパー内面の湿ケーキ接触部に配置する事も、閉塞防止に効果的である。また、付着防止の為には、湿ケーキの含液率を好ましくは25重量%以下、好ましくは20重量%以下、さらに好ましくは15重量%以下に抑制することが効果的である。 Regarding the problem of (3) accumulation in the wet cake hopper 31 and dry cake hopper 37 leading to blockage, a hammering device, a vibration device, etc. by pneumatic drive or magnetic drive are installed outside the wall surface, and the wet cake hopper A preventive measure such as keeping the inner wall surface temperature of 31 at a temperature of 5 ° C. to 100 ° C., preferably 10 ° C. to 50 ° C. or higher from the internal temperature is preferable. As a heat retaining method, a coil (not shown) is wound around the wet cake hopper 31 and steam or hot oil is passed through. It is also effective to prevent clogging by disposing a material having excellent anti-adhesion properties such as Teflon at the wet cake contact portion on the inner surface of the hopper. In order to prevent adhesion, it is effective to suppress the liquid content of the wet cake to 25% by weight or less, preferably 20% by weight or less, and more preferably 15% by weight or less.

さらには、圧力ロスを極力抑制する厳密な圧力制御が必要で、関連してバルブの開放時間の制御も重要である。Hレベルに達すると、抜き出しバルブ34を間欠的に開放して、排出するが、開放指示を出す条件はHレベルにある少なくとも1対のセンサーの双方が同時に検知、又は片方のみが20秒以上粉面を検知し、しかも下部センサー33(Lレベル)が湿ケーキ面を継続的に検知し、さらに最前の開放操作終了後少なくとも8〜10秒経過している場合である。   Furthermore, strict pressure control that suppresses pressure loss as much as possible is necessary, and control of the valve opening time is also important. When the H level is reached, the extraction valve 34 is intermittently opened and discharged, but the condition for issuing the opening instruction is that both at least one pair of sensors at the H level are detected simultaneously, or only one of the powders is 20 seconds or longer. This is a case where the surface is detected, and the lower sensor 33 (L level) continuously detects the wet cake surface, and at least 8 to 10 seconds have elapsed after the end of the previous opening operation.

本発明で重要なことは、容器内外の圧力差の変動幅を±0.2MPaの範囲内に保持すること、さらに、前記容器内における前記湿ケーキの滞留量が、前記湿ケーキの1時間当たりの移送量を1としたとき、0.001以上0.5以下とすることにより、容器内外の気相部の連通が常に防止されていることである。   What is important in the present invention is that the fluctuation range of the pressure difference between the inside and outside of the container is kept within a range of ± 0.2 MPa, and further, the retention amount of the wet cake in the container is per hour of the wet cake. When the transfer amount is set to 1, 0.001 to 0.5, the communication between the gas phase inside and outside the container is always prevented.

また、前記容器内の前記湿ケーキ上面の位置を粉面計により検知し、この検知された粉面高さより下部の湿ケーキ滞留量が、前記湿ケーキの1時間当たりの移送量を1としたとき、0.001以上0.5以下とすると、前記した容器内外の圧力差の変動幅を範囲内に管理することが容易となり、気相部の連通の防止をより確実に行うことができる。   Further, the position of the upper surface of the wet cake in the container is detected by a powder level meter, and the wet cake retention amount below the detected powder surface height is set to 1 for the transfer amount of the wet cake per hour. When it is set to 0.001 or more and 0.5 or less, it becomes easy to manage the fluctuation range of the pressure difference between the inside and outside of the container within the range, and the communication of the gas phase part can be more reliably prevented.

開放時間は好ましくは2〜8秒、更に好ましくは3〜7秒、もっとも好ましくは4〜6秒である。開放時間が長いと一定量の残留量の確保ができず、圧力の漏出がおこる。ウエットケーキホッパー31の内部圧力の減少量は、最大0.5MPa未満、好ましくは0.2MPa未満、さらに好ましくは0.1MPa未満である。具体的には、下部センサー33(Lレベル)を活用して、一連の開放操作の結果低下した粉面の高さがなおシール性を確保できるよう、ディスチャージバルブ33の開閉時間を最適値に設定する等により達成される。一連の操作はDCS(分散制御システム)35を通じて行うのが好ましい。   The opening time is preferably 2 to 8 seconds, more preferably 3 to 7 seconds, and most preferably 4 to 6 seconds. If the opening time is long, a certain amount of residual amount cannot be secured and pressure leaks. The amount of decrease in the internal pressure of the wet cake hopper 31 is less than a maximum of 0.5 MPa, preferably less than 0.2 MPa, and more preferably less than 0.1 MPa. Specifically, using the lower sensor 33 (L level), the opening / closing time of the discharge valve 33 is set to an optimum value so that the height of the powder surface that has decreased as a result of a series of opening operations can still ensure sealing performance. This is achieved by doing so. A series of operations is preferably performed through a DCS (Distributed Control System) 35.

[容器からの湿ケーキの抜き出し]
本発明においては、前記湿ケーキの表面近傍に、この湿ケーキの滞留量を検知する前記粉面計が配置され、前記容器に接続された排出機能を有する機構(バルブ等)に連動させて、上記出口よりこの湿ケーキが移送される。この移送機能としては、抜き出しバルブ34、40等があげられる。
[Removal of wet cake from container]
In the present invention, in the vicinity of the surface of the wet cake, the powder level meter that detects the residence amount of the wet cake is arranged, and in conjunction with a mechanism (valve or the like) having a discharge function connected to the container, The wet cake is transferred from the outlet. Examples of the transfer function include the extraction valves 34 and 40.

前記抜き出しバルブ34は、ウエットケーキホッパー31の圧力漏れを極力抑制できるものが好ましい。バルブの例として、ボールバルブ、バタフライバルブ、ロータリーバルブ、フラップダンパー、スライドダンパー、スピンドル式バルブなどが挙げられるが、シール部が線接触で、円形のものが好ましく用いられ、具体的にはスピンドル式で弁体がほぼ円錐型のバルブが望ましい。バルブを複数設置して、ホッパーも追加する方式では圧力漏れに対する制約がやや緩和されるので、面接触式などの他のバルブも使用できる。   The extraction valve 34 is preferably one that can suppress pressure leakage of the wet cake hopper 31 as much as possible. Examples of the valve include a ball valve, a butterfly valve, a rotary valve, a flap damper, a slide damper, a spindle type valve, etc., but the seal part is in line contact, and a circular one is preferably used, specifically a spindle type A valve with a substantially conical valve body is desirable. In the method of installing multiple valves and adding a hopper, restrictions on pressure leakage are slightly relaxed, so other valves such as a surface contact type can also be used.

次に、図2に基づき、以下にドライケーキホッパー37における粉体量の測定方法と操作方法を説明する。
ドライケーキホッパー37は、容器の上部に抜き出しバルブ34を備え、下部には液状付着物濃度が減少した湿ケーキの排出バルブ40を備えている耐圧性の容器であり、ウエットケーキホッパー31から排出された湿ケーキの付着液状物質が圧力低下により蒸発して発生する蒸発ガスeの移送ラインが設けられて、蒸発ガスはスクラバーなどの回収装置を経由して、有価物を回収リサイクルし、残りが排出される。湿ケーキbが、抜き出しバルブ34からドライケーキホッパー37に排出され、ホッパー31とホッパー37との圧力差及び湿ケーキbの保持する内部エネルギーの放出により、ケーキの付着液が蒸発乾燥される。蒸発乾燥された液状付着物濃度が低減化した湿ケーキ中の該液状付着物濃度は、0.01〜1重量%になる。液状付着物濃度が低減化した湿ケーキは、抜き出しバルブ40を通じて、次工程に移送される。
Next, based on FIG. 2, the measurement method and operation method of the powder amount in the dry cake hopper 37 are demonstrated below.
The dry cake hopper 37 is a pressure-resistant container having an extraction valve 34 at the top of the container and a wet cake discharge valve 40 having a reduced liquid deposit concentration at the bottom, and is discharged from the wet cake hopper 31. A transfer line for evaporative gas e, which is generated by evaporating the wet cake adhering liquid material due to pressure drop, is provided, and the evaporative gas is recovered and recycled through a recovery device such as a scrubber, and the rest is discharged. Is done. The wet cake b is discharged from the extraction valve 34 to the dry cake hopper 37, and the cake adhering liquid is evaporated and dried by the pressure difference between the hopper 31 and the hopper 37 and the release of internal energy held by the wet cake b. The concentration of the liquid deposit in the wet cake having a reduced concentration of the evaporated deposit is 0.01 to 1% by weight. The wet cake having a reduced liquid deposit concentration is transferred to the next process through the extraction valve 40.

前記抜き出しバルブ40は、通常ロータリーバルブが使用される。ロータリーバルブは数枚の羽根を放射状に取り付けたローターを水平円筒内で回転させて粉体を排出又は供給するもので、本発明ではドライケーキホッパーのケーキの抜出しに使用するが、圧力差による内圧変動で抜出し量が影響を受け、噴出、吹き抜けが起こり、下流での液状付着物濃度が低減化した湿ケーキに蒸発ガスが再度凝縮付着して流動性を悪化させるなどの問題が発生しないよう、また圧力変動でロータリーバルブ回転軸が破損する問題が発生しないよう湿ケーキ面を常に保持する必要がある。   The extraction valve 40 is usually a rotary valve. A rotary valve rotates a rotor with several blades attached radially in a horizontal cylinder to discharge or supply powder. In the present invention, it is used to extract cake from a dry cake hopper. The amount of extraction is affected by fluctuations, and jetting and blow-through occur, so that problems such as deterioration of fluidity due to evaporation gas recondensing and adhering to the wet cake with reduced liquid deposit concentration downstream will not occur. In addition, it is necessary to always hold the wet cake surface so as not to cause the problem of damage to the rotary valve rotating shaft due to pressure fluctuation.

本発明では、ロータリーバルブの回転数を粉面計で感知した湿ケーキ面により制御して、湿ケーキ面が常に確保されるよう、常に容器がシールされている状態が維持されていることを特徴とする。ドライケーキホッパー37に使用される粉面計及び圧力計41は、ウエットケーキホッパー31に使用する粉面計、圧力計36a、36bと同様品を使用できる。センサー設置位置、センサー基数の考え方も同様である。別の態様として、ロードセル等の粉面計を用いることにより、湿ケーキの付着を引き起こす粉面計を容器内部に設置する事なしに、内部の湿ケーキの滞留量の測定も可能である。この場合においても、湿ケーキ面を抜き出しのための機構(ロータリーバルブ等)の回転数により制御して、常に容器がシールされている常態を維持する考え方は同様である。この事により、本発明のポイントである容器内外の圧力差がウエットケーキホッパー周辺では、0.2〜1.5MPa、ドライケーキホッパー周辺ではΔPが0.001〜0.2MPaに安定して保持される。   In the present invention, the rotational speed of the rotary valve is controlled by the wet cake surface sensed by the powder level meter, and the state where the container is always sealed is maintained so that the wet cake surface is always secured. And The powder level gauge and pressure gauge 41 used for the dry cake hopper 37 can be the same as the powder level gauge and pressure gauges 36a and 36b used for the wet cake hopper 31. The same applies to the sensor installation position and the number of sensor bases. As another aspect, by using a powder level meter such as a load cell, it is possible to measure the amount of dwell of the internal wet cake without installing a powder level meter that causes adhesion of the wet cake inside the container. In this case as well, the concept of maintaining the normal state where the container is always sealed by controlling the wet cake surface by the number of rotations of a mechanism (such as a rotary valve) for extracting is the same. As a result, the pressure difference inside and outside the container, which is the point of the present invention, is stably maintained at 0.2 to 1.5 MPa around the wet cake hopper and ΔP around 0.001 to 0.2 MPa around the dry cake hopper. The

前記接触式粉面計を用いた場合、前記容器内における湿ケーキの滞留量は、前記容器内における前記接触式粉面計の検知部より下部の体積が、この湿ケーキの1時間当たりの移送量を1としたとき、0.001以上0.5以下であることが望ましい。この下限を下回ると、圧力差の変動幅を管理して範囲内に抑える事が困難となり、気相部の局部的な連通が生じて、適切な圧力シール効果が失われ、圧力差を一定に保つことが困難になる場合がある。またこの上限を上回ると、容器の必要容量が増大し経済性を損なう。   When the contact-type powder level meter is used, the dwell amount of the wet cake in the container is lower than the detection unit of the contact-type powder level meter in the container. When the amount is 1, it is preferably 0.001 or more and 0.5 or less. Below this lower limit, it will be difficult to control the fluctuation range of the pressure difference to keep it within the range, local communication in the gas phase will occur, the appropriate pressure sealing effect will be lost, and the pressure difference will be kept constant. It can be difficult to keep. If this upper limit is exceeded, the required capacity of the container increases and the economy is impaired.

[PTA工程(精製工程)の詳細]
芳香族ジカルボン酸の製造法において、図1の前半に示したCTA工程に加えて、更に高純度製品を得るために、精製操作を加える製造法が知られている。該精製プロセスにおいても本発明を適用して、プロセスの簡略化、一体化が可能になるので図1の後半に基づき、高純度テレフタル酸を一例として説明する。
図1前半に基づいて、パラキシレンを原料とし、酢酸を主体とする溶媒中、触媒の存在下、分子状酸素によって酸化し粗テレフタル酸を得る前記CTA工程の後、図1後半に基づいて、高純度テレフタル酸が製造される(PTA工程)。このとき、晶析工程、固液分離・洗浄工程、乾燥工程等の工程は、CTA工程と同様な工程であり、下記に記す以外は、CTA工程と同様な条件及び方法を採用することができる。
[Details of PTA process (purification process)]
In the method for producing an aromatic dicarboxylic acid, in addition to the CTA step shown in the first half of FIG. 1, a production method is known in which a purification operation is added to obtain a higher purity product. Since the present invention can be applied to the purification process to simplify and integrate the process, high purity terephthalic acid will be described as an example based on the latter half of FIG.
Based on the first half of FIG. 1, after the CTA step of obtaining crude terephthalic acid by oxidation with molecular oxygen in the presence of a catalyst in a solvent mainly composed of acetic acid based on para-xylene, based on the latter half of FIG. High purity terephthalic acid is produced (PTA process). At this time, steps such as a crystallization step, a solid-liquid separation / washing step, and a drying step are the same steps as the CTA step, and conditions and methods similar to those of the CTA step can be adopted except as described below. .

図1において、CTA工程におけるドライケーキホッパー6に収納された液状付着物濃度が低減化された湿ケーキ105には不純物として、典型的には4−カルボキシベンズアルデヒド(以下「4−CBA」と称する)が最も多く含まれ、通常500〜5000ppm程度存在しており、さらに高純度が求められる場合には精製操作(PTA工程)が必要である。精製操作は、主要不純物の4−CBAを水素による還元反応によりパラトルイル酸に変換して、テレフタル酸との水への溶解度差を利用してパラトルイル酸を選択的に水相に分配した後に固液分離し、固体側の高純度テレフタル酸を取り出し乾燥し、一方、水溶液中のパラトルイル酸をリサイクル使用する。   In FIG. 1, the wet cake 105 having a reduced liquid deposit concentration stored in the dry cake hopper 6 in the CTA process typically has 4-carboxybenzaldehyde (hereinafter referred to as “4-CBA”) as an impurity. Is usually present in an amount of about 500 to 5000 ppm, and a purification operation (PTA process) is required when higher purity is required. In the purification operation, 4-CBA, a main impurity, is converted to p-toluic acid by a reduction reaction with hydrogen, and p-toluic acid is selectively distributed to an aqueous phase using a difference in water solubility with terephthalic acid. Separate and remove the high purity terephthalic acid on the solid side and dry, while recycling the paratoluic acid in the aqueous solution.

還元反応を行うにはテレフタル酸を水を主体とする溶媒に溶解させる必要があるために、通常230〜330℃、好ましくは250〜310℃に昇温させる。反応圧力は溶媒を液体として維持するために反応温度における水の蒸気圧より高い圧力を必要とし、通常3〜12MPaG、好ましくは5〜10MPaGである。溶解したテレフタル酸水溶液を還元反応器7にて反応させる。触媒としてはルテニウム、ロジウム、パラジウム、白金、オスミウムなどの金属を通常活性炭などの担体に担持して、固定床として用いる。この中でも活性炭に担持させたパラジウムが好ましい。温度は通常260〜320℃、好ましくは270〜300℃、水素分圧は通常0.5〜20kg/cmGである。 Since it is necessary to dissolve terephthalic acid in a solvent mainly composed of water in order to carry out the reduction reaction, the temperature is usually raised to 230 to 330 ° C., preferably 250 to 310 ° C. The reaction pressure requires a pressure higher than the vapor pressure of water at the reaction temperature in order to maintain the solvent as a liquid, and is usually 3 to 12 MPaG, preferably 5 to 10 MPaG. The dissolved terephthalic acid aqueous solution is reacted in the reduction reactor 7. As a catalyst, a metal such as ruthenium, rhodium, palladium, platinum or osmium is usually supported on a carrier such as activated carbon and used as a fixed bed. Among these, palladium supported on activated carbon is preferable. The temperature is usually 260 to 320 ° C., preferably 270 to 300 ° C., and the hydrogen partial pressure is usually 0.5 to 20 kg / cm 2 G.

[晶析]
還元反応で得られた反応液の温度と圧力を低下させ、テレフタル酸を晶析槽8にて晶析させる。通常は連続で2段〜6段、好ましくは3段〜5段で段階的に降圧させると、溶媒はフラッシュ蒸発し、系内温度が低下する。4−CBAが還元されたパラトルイル酸はテレフタル酸よりも水溶性が高いので、晶析ではテレフタル酸が優先的に析出する。しかし、大気圧まで降下すると、パラトルイル酸が共晶するので望ましくない。最終圧力は0.2MPaG以上、好ましくは0.3MPaG以上、さらに好ましくは0.5MPaG以上である。また、圧力範囲の上限は、3MPaG以下好ましくは1MPaG以下、さらに好ましくは0.7MPaG以下である。
[Crystallization]
The temperature and pressure of the reaction solution obtained by the reduction reaction are lowered, and terephthalic acid is crystallized in the crystallization tank 8. Usually, when the pressure is reduced stepwise in a continuous manner from 2 to 6 stages, preferably from 3 to 5 stages, the solvent flashes and the temperature in the system decreases. Since p-toluic acid obtained by reducing 4-CBA has higher water solubility than terephthalic acid, terephthalic acid is preferentially precipitated during crystallization. However, when the pressure falls to atmospheric pressure, p-toluic acid is eutectic, which is undesirable. The final pressure is 0.2 MPaG or more, preferably 0.3 MPaG or more, more preferably 0.5 MPaG or more. The upper limit of the pressure range is 3 MPaG or less, preferably 1 MPaG or less, and more preferably 0.7 MPaG or less.

[固液分離・洗浄]
晶析スラリー107を固液分離・洗浄装置9に移送し、大気圧以上の圧力で、精製された高純度テレフタル酸とパラトルイル酸などの副生物を含む水溶液を分離し、次いで水で洗浄する。高純度テレフタル酸中の4−CBA濃度としては、30ppm以下に減少している。固液分離の圧力範囲の下限は0.2MPaG以上、好ましくは0.3MPaG以上である。また、圧力範囲の上限は、3MPaG以下好ましくは1MPaG以下、さらに好ましくは0.7MPaG以下である。装置は、前記のCTA工程にて示したスクリーンボウルデカンターや、加圧ロータリーフィルターが望ましい。
[Solid-liquid separation and washing]
The crystallization slurry 107 is transferred to the solid-liquid separation / washing device 9, and the purified high-purity terephthalic acid and the aqueous solution containing by-products such as p-toluic acid are separated at a pressure higher than atmospheric pressure, and then washed with water. The 4-CBA concentration in high-purity terephthalic acid is reduced to 30 ppm or less. The lower limit of the solid-liquid separation pressure range is 0.2 MPaG or more, preferably 0.3 MPaG or more. The upper limit of the pressure range is 3 MPaG or less, preferably 1 MPaG or less, and more preferably 0.7 MPaG or less. The apparatus is preferably the screen bowl decanter or the pressure rotary filter shown in the CTA process.

[乾燥・湿ケーキの収納]
分離洗浄済み湿ケーキ108をウエットケーキホッパー10に送って、湿ケーキを収納後、乾燥装置11に移送して加熱するか、あるいは圧力を大気圧まで低下させて、付着液の少なくとも一部をフラッシュ蒸発させて除去する。
[Storage of dry and wet cake]
The separated and washed wet cake 108 is sent to the wet cake hopper 10, and after storing the wet cake, it is transferred to the drying device 11 and heated, or the pressure is reduced to atmospheric pressure, and at least a part of the adhering liquid is flushed. Remove by evaporation.

[固液分離・洗浄・乾燥・湿ケーキの収納の一体化]
図2のイメージ図と同様な方法で、前記した[固液分離・洗浄]、[乾燥・湿ケーキの収納]装置を一体化した設備15を採用して、プロセスの簡略化を達成できる。図1のCTA工程では晶析工程を経由せずに固液分離・洗浄装置に投入したが、精製操作の場合には晶析工程を経由する事が望ましい。晶析後のスラリー107を一体化設備15に投入して、固液分離・洗浄・乾燥・湿ケーキの収納を行う。晶析操作で内部エネルギーは一部消費され、残存エネルギーが減少していることと、精製テレフタル酸ケーキの液状付着液成分は水が主成分で蒸発潜熱が酢酸などよりも大きいので、すべての付着液を蒸発・乾燥させるほどではなく、含水率は、ウエットケーキホッパー10にて5〜25重量%である。高温高圧で還元反応した反応液の保持する内部エネルギーを無駄にすることなく、晶析及び蒸発乾燥に消費する仕組みを完成することができる。蒸発乾燥装置11をみたす、内部エネルギー差を利用してフラッシュして液状付着物質が低減化された湿ケーキは、ドライケーキホッパー12に収納され、最終的に乾燥機に移送されて製品化される。ドライケーキホッパーに収納された液状付着物濃度は1〜15重量%であるので、追加乾燥装置13で乾燥することになる。
[Integration of solid-liquid separation, washing, drying and wet cake storage]
The process 15 can be simplified by adopting the equipment 15 in which the above-mentioned [solid-liquid separation / washing] and [dry / wet cake storage] devices are integrated in the same manner as in the image diagram of FIG. In the CTA process of FIG. 1, the solid-liquid separation / washing apparatus is used without passing through the crystallization process, but in the case of a purification operation, it is desirable to pass through the crystallization process. The slurry 107 after crystallization is put into the integrated equipment 15 to perform solid-liquid separation, washing, drying, and storage of the wet cake. In the crystallization operation, some of the internal energy is consumed, the residual energy is reduced, and the liquid adhering liquid component of the purified terephthalic acid cake is mainly composed of water and has a larger latent heat of vaporization than acetic acid. Rather than allowing the liquid to evaporate and dry, the moisture content is 5-25% by weight in the wet cake hopper 10. It is possible to complete a mechanism for crystallization and evaporating and drying without wasting internal energy held by the reaction solution reduced at high temperature and pressure. The wet cake in which the liquid adhering substance is reduced by flushing using the internal energy difference in the evaporating and drying apparatus 11 is stored in the dry cake hopper 12 and finally transferred to the dryer for commercialization. . Since the concentration of the liquid deposit contained in the dry cake hopper is 1 to 15% by weight, it is dried by the additional drying device 13.

前記PTA工程においてウエットケーキホッパー及びドライケーキホッパーに収納された湿ケーキの移送は、液状付着物質が水である以外は、前記CTA工程で述べたウエットケーキホッパーやドライケーキホッパーと同じ条件、操作、及び装置により安定的に移送しうる。   The transfer of the wet cake stored in the wet cake hopper and the dry cake hopper in the PTA step is the same conditions and operations as the wet cake hopper and the dry cake hopper described in the CTA step, except that the liquid adhesion substance is water. And can be stably transferred by the apparatus.

以下、実施例、比較例により本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例になんら限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention more concretely, this invention is not limited to a following example at all.

(実施例1)
高純度テレフタル酸の生産量が100Ton/hrの設備において液相酸化反応装置に連続的にパラキシレンの約5重量倍の酢酸、約0.4重量倍の水、触媒として酢酸コバルト、酢酸マンガン、臭化水素を供給し、温度197℃、圧力1.45MPaG、反応時間(平均滞留時間)60分で酸化反応を行った。触媒使用量はコバルト成分及びマンガン成分が溶媒に対し、金属換算でそれぞれ300重量ppm、臭素成分は、700ppmである。分子状酸素による酸化反応を行うためのガスとしては空気を用いた。このとき空気の酸素含有率は21%である。そして反応器から排出されるガス中の酸素濃度が6体積%になるように反応器中に圧縮空気を供給した。
(Example 1)
In an equipment with high-purity terephthalic acid production of 100 Ton / hr, acetic acid approximately 5 times by weight of paraxylene, water approximately 0.4 times by weight of paraxylene, cobalt acetate, manganese acetate as catalyst, Hydrogen bromide was supplied, and the oxidation reaction was performed at a temperature of 197 ° C., a pressure of 1.45 MPaG, and a reaction time (average residence time) of 60 minutes. The amount of catalyst used is 300 ppm by weight in terms of metal for the cobalt component and the manganese component with respect to the solvent, and 700 ppm for the bromine component. Air was used as a gas for performing an oxidation reaction with molecular oxygen. At this time, the oxygen content of the air is 21%. Then, compressed air was supplied into the reactor so that the oxygen concentration in the gas discharged from the reactor was 6% by volume.

次いで追酸化反応装置に連続的に酸化スラリーを移送し、温度190℃、圧力は1.3MPaG,反応時間40分で酸化反応を行うためのガスとして圧縮空気(酸素含有率21%)を、排ガス中の酸素濃度が6体積%になるように供給し、追酸化反応を行った。   Next, the oxidation slurry is continuously transferred to the additional oxidation reaction apparatus, and the temperature is 190 ° C., the pressure is 1.3 MPaG, and the reaction time is 40 minutes. It supplied so that the oxygen concentration in it might be 6 volume%, and the additional oxidation reaction was performed.

反応終了した粗テレフタル酸ケーキスラリーを温度及び圧力を維持したまま、固液分離・洗浄及び蒸発・乾燥が一体的に処理できる図2のイメージ図に記載の装置に投入した。固液分離・洗浄は前記装置内のスクリーンボウルデカンターにより固液分離し、酢酸水溶液にて洗浄した。分離・洗浄された湿ケーキは、液状付着物質として酢酸と水の混合物でテレフタル酸に対して、10重量%であり、前記装置内のウエットケーキホッパーに収納された。該ホッパーの温度は、200℃であり、圧力は1.2MPaGでほぼ維持された。   The crude terephthalic acid cake slurry after the reaction was put into the apparatus shown in the image diagram of FIG. 2 where solid-liquid separation / washing and evaporation / drying could be integrally processed while maintaining the temperature and pressure. Solid-liquid separation / washing was performed by solid-liquid separation using a screen bowl decanter in the apparatus and washing with an aqueous acetic acid solution. The wet cake thus separated and washed was a mixture of acetic acid and water as a liquid adhering substance and was 10% by weight with respect to terephthalic acid, and was stored in a wet cake hopper in the apparatus. The temperature of the hopper was 200 ° C., and the pressure was almost maintained at 1.2 MPaG.

装置内に滞留させる湿ケーキの滞留量は、概装置で1時間に処理される湿ケーキの量を1としたときに、約0.01とした。
また、圧力を維持するために、装置内圧よりも高い元圧をもつガス供給ラインと、大気放出のためのガス放出ラインを装置に接続し、これらのラインに設置された自動制御弁の開度を、装置内圧の変化に応じて自動的に制御させた。
The amount of the wet cake retained in the apparatus was about 0.01 when the amount of the wet cake processed in one hour in the general apparatus was 1.
In order to maintain the pressure, a gas supply line having a source pressure higher than the internal pressure of the apparatus and a gas discharge line for releasing to the atmosphere are connected to the apparatus, and the opening degree of the automatic control valve installed in these lines Was automatically controlled according to changes in the internal pressure of the apparatus.

次いで上部にディスチャージバルブ,下部にロータリーバルブを備える前記装置内のドライケーキホッパーにディスチャージバルブを通じて湿ケーキが間欠的に抜き出され、同時に付着液はフラッシュ蒸発されて、乾燥された湿ケーキはロータリーバルブを通じてさらに下流に抜き出される。このときのウエットケーキホッパー内外の圧力差ΔPは約1.2MPaであった。   Next, the wet cake is intermittently extracted through the discharge valve to the dry cake hopper in the apparatus having the discharge valve at the top and the rotary valve at the bottom. At the same time, the adhering liquid is flashed and evaporated, and the dried wet cake is the rotary valve. Is further extracted downstream. At this time, the pressure difference ΔP inside and outside the wet cake hopper was about 1.2 MPa.

ウエットケーキホッパー内部には電気特性の変化を測定する接触方式のアドミッタンス式センサーを備えてなる粉面の検知測定装置を設置して、粉面計と抜き出しのための機構(ディスチャージバルブ等)を連動させて、一定の条件に達すると間欠的に開放する仕組みとした。ディスチャージバルブはほぼ円錐型弁体の形状を有する油圧シリンダー式バルブを使用した。ウエットケーキホッパー内の湿ケーキ上面近傍に上部センサー(Hレベル)を1対(H1&H2)対照的に配置し、該ホッパー下部の湿ケーキ中に下部センサー(Lレベル)を1基設置して、また該センサーと電流増幅器を接続するケーブルは、図7に示したケース1の1aに示した導線部、遮蔽層及び絶縁層からなる同軸ケーブル2本で検出するものを使用した。   Inside the wet cake hopper, a powder level detection and measurement device equipped with a contact-type admittance sensor that measures changes in electrical characteristics is installed, and the powder level gauge and the mechanism for discharging (such as a discharge valve) are linked. In this way, the system opens intermittently when a certain condition is reached. As the discharge valve, a hydraulic cylinder type valve having a substantially conical valve body shape was used. A pair of upper sensors (H level) are arranged in the wet cake hopper near the upper surface of the wet cake (H1 & H2), and one lower sensor (L level) is installed in the lower cake of the hopper. As a cable connecting the sensor and the current amplifier, a cable that detects with two coaxial cables composed of a conductor portion, a shielding layer, and an insulating layer shown in 1a of case 1 shown in FIG. 7 was used.

センサーに使用された材質はTi、ウエットケーキホッパー内壁の材質はTiを使用した。H1及びH2センサーが同時に粉面の存在を検知し、又はH1又はH2センサーの片方が20秒間、粉面の存在を検知した上で、Lセンサーが粉面の存在を検知している事を確認し、最前のバルブ開放操作終了後少なくとも10秒間経過後 ディスチャージバルブを4秒間開放する指示をDCS(分散制御システム)を通じて送信し、間欠的に抜き出した。これらの条件は、内部圧力の変動幅が平均して±0.1MPa以下になるように決定された。   The material used for the sensor was Ti, and the material for the inner wall of the wet cake hopper was Ti. H1 and H2 sensors detect the presence of the powder surface at the same time, or one of the H1 or H2 sensors detects the presence of the powder surface for 20 seconds, and then confirm that the L sensor detects the presence of the powder surface Then, at least 10 seconds after the end of the last valve opening operation, an instruction to open the discharge valve for 4 seconds was transmitted through DCS (Distributed Control System) and extracted intermittently. These conditions were determined so that the fluctuation range of the internal pressure averaged to be ± 0.1 MPa or less.

ドライケーキホッパー内の湿ケーキは、該ホッパー内での滞留湿ケーキ上面の位置を確認しつつ、湿ケーキ面が消滅しないように、ロータリーバルブの回転数を制御してケーキ回収装置に抜き出した。ドライケーキホッパー内の湿ケーキの滞留量は、ドライケーキホッパーにロードセルを設置して監視し、ドライケーキホッパー内の気相部がロータリーバルブ部と連通しないようシールされた状態で存在することを確認しながら、抜き出し速度を抜き出しのための機構、例えばバルブ回転数を制御して調節した。ドライケーキホッパー内で発生する蒸発ガスは、ベントラインを通じて排ガス処理工程にて除外処理され、大気に放出させる事により、ドライケーキホッパー内の圧力を大気圧に近い圧力に維持させた。ウエットケーキホッパー及びドライケーキホッパー外壁面の温度は、ホッパー壁面外部にコイルを巻きつけてホットオイルを通して加温し、各装置の内温より、30℃高い温度に設定した。回収された湿ケーキ中の含液率は0.05重量%であった。   The wet cake in the dry cake hopper was pulled out to the cake collection device by controlling the number of rotations of the rotary valve so that the wet cake surface would not disappear while checking the position of the upper surface of the staying wet cake in the hopper. The amount of wet cake in the dry cake hopper is monitored by installing a load cell in the dry cake hopper, and it is confirmed that the gas phase in the dry cake hopper is sealed so that it does not communicate with the rotary valve. However, the extraction speed was adjusted by controlling a mechanism for extraction, for example, the valve rotation speed. Evaporated gas generated in the dry cake hopper was excluded in the exhaust gas treatment process through the vent line, and released into the atmosphere to maintain the pressure in the dry cake hopper at a pressure close to atmospheric pressure. The temperature of the outer wall surface of the wet cake hopper and the dry cake hopper was set to a temperature 30 ° C. higher than the internal temperature of each device by winding a coil around the outer surface of the hopper and heating it with hot oil. The liquid content in the collected wet cake was 0.05% by weight.

該方法により、圧漏れが生じず、湿ケーキ移送が安定移送されたために、長時間運転停止して閉塞の対応をする事態が発生せず、2ヶ月以上のプラント連続運転が実現できた。   By this method, no pressure leakage occurred, and the wet cake transfer was stably transferred, so that there was no situation where the operation was stopped for a long time to cope with the blockage, and continuous plant operation for 2 months or more could be realized.

(実施例2)
実施例1と同様にして得られたテレフタル酸には4−CBAを主成分とする不純物が2000ppm程度含有されるので、さらに精製して高純度テレフタル酸として提供する。
(Example 2)
Since terephthalic acid obtained in the same manner as in Example 1 contains about 2000 ppm of impurities mainly composed of 4-CBA, it is further purified and provided as high-purity terephthalic acid.

前記4−CBA等を含有するテレフタル酸ケーキは混合槽で水と混合され、次いで蒸気と熱媒油で290℃、8.6MPaGに加熱、加圧され溶解後、パラジウム−活性炭を固定床とする水素化反応塔に水素と共に導入され水添反応を行う。反応後のテレフタル酸水溶液は、連続的に晶析槽におくられ、4段の晶析工程で順次に放圧冷却、晶析させて晶析スラリーを得る。大気圧まで圧力低下させると、4−CBAが還元されて生成したパラトルイル酸がテレフタル酸と共晶形成して精製効果が得られないために、圧力は0.62MPaG、温度160℃まで低下させて、加圧・加温状態の晶析スラリーを固液分離・洗浄乾燥装置に投入する。装置は固液分離・洗浄及び乾燥・湿ケーキの収納が一体的に処理できる図3のイメージ図に記載の装置を用いた。固液分離・洗浄は前記装置内のスクリーンボウルデカンターにより固液分離し、水洗浄した。分離・洗浄された湿ケーキは、液状付着物質としては水であり、テレフタル酸固体に対して10重量%であった。前記装置内のウエットケーキホッパーに収納された。該ホッパーの温度は160℃、圧力は0.7MPaGであった。
また、装置内に滞留させる湿ケーキの蓄積量は、概装置で1時間に処理される湿ケーキの量を1としたときに、約0.01とした。
The terephthalic acid cake containing 4-CBA or the like is mixed with water in a mixing tank, and then heated, pressurized and melted at 290 ° C. and 8.6 MPaG with steam and heat transfer oil, and then palladium-activated carbon is used as a fixed bed. A hydrogenation reaction is performed by introducing the hydrogenation reaction tower together with hydrogen. The aqueous solution of terephthalic acid after the reaction is continuously placed in a crystallization tank, and is successively subjected to pressure-release cooling and crystallization in a four-stage crystallization process to obtain a crystallization slurry. When the pressure is reduced to atmospheric pressure, the paratoluic acid produced by reduction of 4-CBA forms a eutectic with terephthalic acid and a purification effect cannot be obtained. Then, the pressurized and heated crystallization slurry is put into a solid-liquid separation / washing / drying apparatus. As the apparatus, the apparatus described in the image diagram of FIG. 3 capable of integrally processing solid-liquid separation / washing and drying / wet cake storage was used. For solid-liquid separation / washing, solid-liquid separation was performed with a screen bowl decanter in the apparatus, followed by washing with water. The wet cake separated and washed was water as a liquid adhering substance and was 10% by weight based on the solid terephthalic acid. It was stored in a wet cake hopper in the apparatus. The temperature of the hopper was 160 ° C., and the pressure was 0.7 MPaG.
Further, the accumulated amount of the wet cake retained in the apparatus was about 0.01 when the amount of the wet cake processed in one hour in the general apparatus was 1.

次いで上部にディスチャージバルブ,下部にロータリーバルブを備える前記装置内のドライケーキホッパー内にディスチャージバルブを通じて間欠的に抜き出され、同時に付着液の水はフラッシュ蒸発されて、蒸発乾燥された湿ケーキはロータリーバルブを通じてドライケーキホッパーに抜き出される。このときのウエットケーキホッパー内外の圧力差ΔP=0.7MPaであった。粉面計はアドミッタンス式センサー(CTAと同じもの)を使用し、粉面計と抜き出しのための機構(例えば、ディスチャージバルブ)を連動させて、一定の条件に達すると間欠的に開放する仕組みとした。ディスチャージバルブはほぼ円錐型弁体の形状を有するスピンドル式バルブ(CTAと同じ)を使用した。ウエットケーキホッパー内の湿ケーキ近傍に上部センサーを1対(H1&H2)対照的に配置し、ウエットケーキホッパー下部の湿ケーキ中に下部センサーを1基設置して、H1及びH2センサーが同時に粉面(入口側の面の粉面)の存在を検知し、又はH1又はH2センサーの片方が20秒間、粉面の存在を検知した上で、下部センサーが湿ケーキの存在を検知している状況でディスチャージバルブを4秒間開放する指示をDCS(分散制御システム)を通じて制御させて、間欠的に抜き出した。これらの条件は、内部圧力の変動幅が平均して±0.1MPa以下となるように決定された。   Next, the discharge valve is intermittently withdrawn through the discharge valve into the dry cake hopper in the apparatus having the discharge valve at the upper part and the rotary valve at the lower part. It is extracted to the dry cake hopper through the valve. At this time, the pressure difference ΔP = 0.7 MPa between the inside and outside of the wet cake hopper. The powder level meter uses an admittance type sensor (same as CTA), and the powder level meter is linked with a mechanism for extraction (for example, a discharge valve) to open intermittently when a certain condition is reached. did. As the discharge valve, a spindle type valve (same as CTA) having a substantially conical valve body shape was used. A pair of upper sensors (H1 & H2) are placed in the wet cake hopper in the vicinity of the wet cake, and one lower sensor is installed in the wet cake at the lower part of the wet cake hopper. Discharge in the situation where the presence of the powder surface on the inlet side) or the presence of the wet cake is detected by the lower sensor after one of the H1 or H2 sensors detects the presence of the powder surface for 20 seconds. The instruction to open the valve for 4 seconds was controlled through DCS (Distributed Control System) and extracted intermittently. These conditions were determined so that the fluctuation range of the internal pressure averaged ± 0.1 MPa or less.

ドライケーキホッパー内に回収された湿ケーキの含水率は6%であった。次いで、湿ケーキはスチームチューブ乾燥機にて乾燥され、含水率0.1wt%、4−CBA含量10ppmの高純度テレフタル酸ケーキが得られた。該方法により、湿ケーキ移送が安定なために長時間運転停止して閉塞の対応をする事態が発生せず、10ヶ月以上のプラント連続運転が実現できた。   The moisture content of the wet cake recovered in the dry cake hopper was 6%. Subsequently, the wet cake was dried with a steam tube dryer to obtain a high purity terephthalic acid cake having a water content of 0.1 wt% and a 4-CBA content of 10 ppm. By this method, since the wet cake transfer was stable, there was no situation where the operation was stopped for a long time to cope with the blockage, and continuous operation of the plant for 10 months or more could be realized.

(比較例1)
実施例1に対する比較例である。実施例1で追酸化反応を行って得られるスラリーaを圧力・温度を維持したまま、図3に示すような固液分離洗浄及び蒸発乾燥処理の一体化を目指して製作した設備に投入して、固液分離・洗浄・乾燥・湿ケーキの収納を行った。該設備では固液分離洗浄を行うスクリーンボウルデカンター、ケーキの貯槽(ウエットケーキホッパー)、ケーキ回収槽(ドライケーキホッパー)から構成され、ウエットケーキホッパーの下部及びドライケーキホッパーの下部にバルブが設置され,各ホッパーからの抜き出しを制御する。スクリーンボウルデカンターからとりだされる湿ケーキはウエットケーキホッパーに収納され、湿ケーキ面が一定高さに達するのを検知して、抜き出し弁で下流に抜き出し、同時にフラッシュ蒸発により、付着液状物を蒸発乾燥させる構造である。湿ケーキ面の検知方法としては、実施例1と同様に、ウエットケーキホッパー内部の上部に一対の上部センサー(H1とH2)を設置し、これらが同時に粉面を検知した時等に、抜き出しバルブを一定時間開放するようDCSで制御した。ただし、下部センサー位置での湿ケーキ検知は、抜き出しバルブ開放の必要条件としなかった。
(Comparative Example 1)
It is a comparative example with respect to Example 1. While maintaining the pressure and temperature of the slurry a obtained by performing the additional oxidation reaction in Example 1, the slurry a is put into the equipment manufactured for the purpose of integrating the solid-liquid separation cleaning and the evaporation drying process as shown in FIG. Solid-liquid separation, washing, drying, and storage of wet cake were performed. The equipment consists of a screen bowl decanter that performs solid-liquid separation and washing, a cake storage tank (wet cake hopper), and a cake collection tank (dry cake hopper). Valves are installed below the wet cake hopper and below the dry cake hopper. , Controls extraction from each hopper. The wet cake taken out from the screen bowl decanter is stored in the wet cake hopper, and when the wet cake surface reaches a certain height, it is extracted downstream by the extraction valve, and at the same time, the attached liquid is evaporated by flash evaporation. It is a structure to be dried. As a wet cake surface detection method, in the same manner as in Example 1, a pair of upper sensors (H1 and H2) are installed in the upper part of the wet cake hopper, and when the powder surface is detected at the same time, an extraction valve is used. Was controlled by DCS so as to be opened for a certain period of time. However, wet cake detection at the lower sensor position was not a necessary condition for opening the extraction valve.

しかしながら該方式では、上部センサーの一時的な誤作動により、下部センサー位置に十分な湿ケーキの滞留量が確保されていない状態で、抜き出しバルブの開放操作が頻繁に行なわれ、湿ケーキを滞留させてのシール層の常時確保が担保されなかった。この結果、ウエットケーキホッパー内の気相部と抜き出しバルブの間に連通が生じ、ホッパー内の高圧ガスが大量にドライケーキホッパーに吹き抜けた。この時、ウエットケーキホッパー内外の圧力差の変動幅を管理範囲内に抑える事ができず、0.2MPa以上と大きく変動し、その結果、ウエットケーキホッパー内での湿ケーキの部分的な乾燥により流動性が低下し局部的な湿ケーキの閉塞を引き起こしたり、上部のスクリーンボウルデカンター機器に接触して損傷を与えたり、大量の高圧ガスがドライケーキホッパー内の圧力の大きな変動を引き起こしロータリーバルブを破損させたりといった事態などが発生し、長時間運転停止して対応せざるを得ない事態も生じ、長期間の連続安定運転が継続しにくい状況であった。   However, in this method, due to a temporary malfunction of the upper sensor, the extraction valve is frequently opened in a state where a sufficient amount of wet cake is not secured at the lower sensor position, and the wet cake is retained. It was not ensured that all the sealing layers were always secured. As a result, communication occurred between the gas phase portion in the wet cake hopper and the extraction valve, and a large amount of high-pressure gas in the hopper was blown through the dry cake hopper. At this time, the fluctuation range of the pressure difference between the inside and outside of the wet cake hopper cannot be kept within the control range, and greatly fluctuates to 0.2 MPa or more. As a result, the wet cake hopper partially drys in the wet cake hopper. Fluidity is reduced, causing localized wet cake blockage, contact with the upper screen bowl decanter equipment and damage, and large amounts of high pressure gas can cause large fluctuations in pressure in the dry cake hopper, causing the rotary valve to There was a situation such as damage that occurred, and there was a situation where it was unavoidable to stop the operation for a long time, and it was difficult to continue the continuous stable operation for a long time.

1 酸化反応装置
2 晶析槽
3 固液分離・洗浄装置
4 ウエットケーキホッパー
5 蒸発・乾燥装置
6 ドライケーキホッパー
7 還元反応器
8 晶析槽
9 固液分離・洗浄装置
10 ウエットケーキホッパー
11 蒸発・乾燥装置
12 ドライケーキホッパー
13 追加乾燥装置
14 分離洗浄乾燥装置
15 分離洗浄乾燥装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Oxidation reaction apparatus 2 Crystallization tank 3 Solid-liquid separation and washing apparatus 4 Wet cake hopper 5 Evaporation and drying apparatus 6 Dry cake hopper 7 Reduction reactor 8 Crystallization tank 9 Solid-liquid separation and washing apparatus 10 Wet cake hopper 11 Evaporation and drying Drying device 12 Dry cake hopper 13 Additional drying device 14 Separation washing drying device 15 Separation washing drying device

30 固液分離・洗浄装置
31 ウエットケーキホッパー
32 ケーキ面上部粉面計
33 ケーキ面下部粉面計
34 抜き出しバルブ
35 分散制御システム
36a 圧力計
36b 圧力計
37 ドライケーキホッパー
38 ケーキ面上部粉面計
39 ケーキ面下部粉面計
40 抜き出しバルブ
41 圧力計
42 分散制御システム
30 Solid-liquid separation / washing device 31 Wet cake hopper 32 Cake surface upper powder level meter 33 Cake surface lower powder level meter 34 Extraction valve 35 Dispersion control system 36a Pressure gauge 36b Pressure gauge 37 Dry cake hopper 38 Cake surface upper powder level meter 39 Lower cake surface powder level meter 40 Extraction valve 41 Pressure gauge 42 Distributed control system

61 ハウジング
62 フランジ
63 接地電極部
64 絶縁部
65 検出電極部
61 Housing 62 Flange 63 Grounding electrode part 64 Insulating part 65 Detection electrode part

71 検出電極からの導線
72 接地電極又はホッパーからの導線
73 遮蔽層
74 絶縁層
71 Lead wire from detection electrode 72 Lead wire from ground electrode or hopper 73 Shielding layer 74 Insulating layer

100 原料等(リサイクルを含む)
101 酸化反応スラリー
102 晶析スラリー
103 分離洗浄済み湿ケーキ
104 乾燥済み湿ケーキ
105 乾燥ケーキ
106 還元反応スラリー
107 晶析スラリー
108 分離洗浄済み湿ケーキ
109 乾燥済み湿ケーキ
110 水添原料等
111 高純度テレフタル酸
100 Raw materials, etc. (including recycling)
101 Oxidation reaction slurry 102 Crystallization slurry 103 Separated and washed wet cake 104 Dry wet cake 105 Dry cake 106 Reduction reaction slurry 107 Crystallization slurry 108 Separated and washed wet cake 109 Dry wet cake 110 Hydrogenated raw material 111 High purity terephthalate acid

a スラリー液状物
b 湿ケーキ
c 分離母液・洗浄液
d ケーキ
e ケーキ付着液状物
AA センサー
BB ケーブル
CC 電流増幅器
a slurry liquid b wet cake c separation mother liquor / cleaning liquid d cake e cake adhering liquid AA sensor BB cable CC current amplifier

Claims (11)

ジアルキル芳香族炭化水素を反応媒体中で、分子状酸素により液相酸化して芳香族ジカルボン酸を製造する方法において、
前記液相酸化により得られる、前記芳香族ジカルボン酸及び液状物質を含有する湿ケーキを容器に収納し、次いで、前記湿ケーキを容器外に移送する移送工程を有し、
当該容器内部の圧力と、移送工程の移送先である当該容器外の圧力との圧力差の変動幅を±0.2MPaの範囲内に保つことを特徴とする芳香族ジカルボン酸の製造方法。
In a method for producing an aromatic dicarboxylic acid by liquid phase oxidation of a dialkyl aromatic hydrocarbon with molecular oxygen in a reaction medium,
Storing the wet cake containing the aromatic dicarboxylic acid and the liquid substance obtained by the liquid phase oxidation in a container, and then transferring the wet cake to the outside of the container;
A method for producing an aromatic dicarboxylic acid, characterized in that a fluctuation range of a pressure difference between a pressure inside the container and a pressure outside the container, which is a transfer destination in a transfer step, is maintained within a range of ± 0.2 MPa.
前記容器内に湿ケーキを実質的に常に一定量以上滞留させ、前記容器出口を前記湿ケーキにより常にシールされた状態に施用し、
前記容器内における前記湿ケーキの滞留量が、前記湿ケーキの1時間当たりの移送量を1としたとき、0.001以上0.5以下であることを特徴とする請求項1に記載の芳香族ジカルボン酸の製造方法。
The wet cake is substantially always retained in a certain amount or more in the container, and the container outlet is applied in a state that is always sealed by the wet cake,
The fragrance according to claim 1, wherein the amount of the wet cake retained in the container is 0.001 or more and 0.5 or less when the transfer amount of the wet cake per hour is 1. For producing aromatic dicarboxylic acids.
前記容器内の前記湿ケーキ上面の位置を粉面計により検知し、この検知された粉面高さより下部の湿ケーキ滞留量が、前記湿ケーキの1時間当たりの移送量を1としたとき、0.001以上0.5以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の芳香族ジカルボン酸の製造方法。   When the position of the upper surface of the wet cake in the container is detected by a powder level meter, and the wet cake retention amount below the detected powder surface height is 1 when the transfer amount of the wet cake per hour is 1, It is 0.001 or more and 0.5 or less, The manufacturing method of aromatic dicarboxylic acid of Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned. 前記容器外への前記湿ケーキの移送と共に、前記湿ケーキに含有する液状物質の少なくとも一部を蒸発させることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の芳香族ジカルボン酸の製造方法。   The aromatic dicarboxylic acid according to any one of claims 1 to 3, wherein at least a part of the liquid substance contained in the wet cake is evaporated together with the transfer of the wet cake to the outside of the container. Production method. 前記容器内部の圧力と、前記容器外の圧力との圧力差が0.001MPa以上5MPa以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の芳香族ジカルボン酸の製造方法。   The method for producing an aromatic dicarboxylic acid according to any one of claims 1 to 4, wherein a pressure difference between the pressure inside the container and the pressure outside the container is 0.001 MPa or more and 5 MPa or less. . 前記容器内部の圧力が0.001MPaG以上5MPaG以下であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の芳香族ジカルボン酸の製造方法。   The method for producing an aromatic dicarboxylic acid according to any one of claims 1 to 5, wherein the pressure inside the container is 0.001 MPaG or more and 5 MPaG or less. 前記液状物質が水、又は水と酢酸の混合物を含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の芳香族ジカルボン酸の製造方法。   The method for producing an aromatic dicarboxylic acid according to claim 1, wherein the liquid substance contains water or a mixture of water and acetic acid. 前記湿ケーキ中の液状物質の含有量が芳香族ジカルボン酸の含有量に対して、0.01重量%以上25重量%以下であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の芳香族ジカルボン酸の製造方法。   The content of the liquid substance in the wet cake is 0.01 wt% or more and 25 wt% or less with respect to the content of the aromatic dicarboxylic acid. The manufacturing method of aromatic dicarboxylic acid of description. 前記容器内の前記湿ケーキの滞留量を粉面計により検知し、前記容器に接続された移送機能を有する機構に連動させて、前記容器出口より前記湿ケーキを移送することを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の芳香族ジカルボン酸の製造方法。   The amount of the wet cake in the container is detected by a powder level meter, and the wet cake is transferred from the container outlet in conjunction with a mechanism having a transfer function connected to the container. Item 9. A method for producing an aromatic dicarboxylic acid according to any one of Items 1 to 8. 前記粉面計が接触式粉面計であることを特徴とする請求項9に記載の芳香族ジカルボン酸の製造方法。   The method for producing an aromatic dicarboxylic acid according to claim 9, wherein the powder level meter is a contact-type powder level meter. 前記芳香族ジカルボン酸がテレフタル酸であることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の芳香族ジカルボン酸の製造方法。   The method for producing an aromatic dicarboxylic acid according to any one of claims 1 to 10, wherein the aromatic dicarboxylic acid is terephthalic acid.
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