JP2006008671A - Method for producing high-purity terephthalic acid - Google Patents

Method for producing high-purity terephthalic acid Download PDF

Info

Publication number
JP2006008671A
JP2006008671A JP2005152494A JP2005152494A JP2006008671A JP 2006008671 A JP2006008671 A JP 2006008671A JP 2005152494 A JP2005152494 A JP 2005152494A JP 2005152494 A JP2005152494 A JP 2005152494A JP 2006008671 A JP2006008671 A JP 2006008671A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
terephthalic acid
pressure
cooling
mother liquor
purity terephthalic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005152494A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsuhiko Fukui
勝彦 福井
Motomiki Numata
元幹 沼田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Priority to JP2005152494A priority Critical patent/JP2006008671A/en
Publication of JP2006008671A publication Critical patent/JP2006008671A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing high-purity terephthalic acid, increased in recovery of secondary crystals precipitated by cooling a first separated mother liquor and capable of yielding a second separated mother liquor having low turbidity (SS content) in production of the high-purity terephthalic acid. <P>SOLUTION: The method comprises a oxidation step (a), a dissolving step (b), a reduction step (c), a first crystallization step (d), a solid-liquid separation step (e) and a second crystallization step (f), wherein cooling in the second crystallization step (f) is performed by decreasing pressure, and using multiple steps of cooling vessels for performing the cooling, in which vessels the final cooling vessel is decompressed to be lower than atmospheric pressure and 40-70°C temperature. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

この発明は、高純度テレフタル酸の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing high-purity terephthalic acid.

高純度テレフタル酸製造プロセスでは、パラキシレンから高純度テレフタル酸を製造するために、まず原料パラキシレンを酸化して粗テレフタル酸を生成させ、次いで、これに含まれる中間体生成物である4−カルボキシベンズアルデヒドを還元し、パラトルイル酸にして除去することで、高純度テレフタル酸を製造する。   In the high-purity terephthalic acid production process, in order to produce high-purity terephthalic acid from paraxylene, first, raw paraxylene is oxidized to produce crude terephthalic acid, and then intermediate product 4- High purity terephthalic acid is produced by reducing carboxybenzaldehyde and removing it as p-toluic acid.

その工程は次の通りである。原料であるパラキシレンを高温高圧の酢酸溶媒中で触媒により、テレフタル酸に空気酸化する。このときテレフタル酸とともに、中間体である4−カルボキシベンズアルデヒドが副生成する。これらを含んだスラリーを晶析、固液分離して粗テレフタル酸結晶を得る。次いで、この粗テレフタル酸結晶を高温高圧条件下で水に溶解させて水溶液にし、上記粗テレフタル酸に含まれる4−カルボキシベンズアルデヒドを、水溶性の高いパラトルイル酸に水素還元する。その後放圧冷却して、水溶性の低いテレフタル酸を水溶液から晶析させ、高純度テレフタル酸として回収する。   The process is as follows. The raw material para-xylene is air-oxidized to terephthalic acid with a catalyst in acetic acid solvent at high temperature and high pressure. At this time, 4-carboxybenzaldehyde as an intermediate is by-produced together with terephthalic acid. The slurry containing these is crystallized and solid-liquid separated to obtain crude terephthalic acid crystals. Next, this crude terephthalic acid crystal is dissolved in water under high-temperature and high-pressure conditions to form an aqueous solution, and 4-carboxybenzaldehyde contained in the crude terephthalic acid is reduced with hydrogen to highly soluble p-toluic acid. Thereafter, it is cooled by releasing pressure, and terephthalic acid having low water solubility is crystallized from the aqueous solution and recovered as high-purity terephthalic acid.

ここで、高純度テレフタル酸を分離した一次分離母液には、テレフタル酸やパラトルイル酸などの有効成分が含有されており、生産性の向上や排水負荷の低減のため、晶析槽において攪拌しながら冷却して二次結晶を回収することが知られている(特許文献1、特許文献2)。   Here, the primary separation mother liquor from which high-purity terephthalic acid has been separated contains active ingredients such as terephthalic acid and p-toluic acid, and while stirring in the crystallization tank to improve productivity and reduce drainage load It is known to recover secondary crystals by cooling (Patent Documents 1 and 2).

しかしながら、この一次分離母液を一挙に所定の最終温度まで冷却すると、結晶の粒径が細かくなり、ろ過機などの回収装置を用いて二次結晶を回収するに当たり、フィルターの目詰まりや、回収率の低減などの不具合が生じる。また、この二次結晶物は付着性が高く、プロペラ型攪拌翼やパドル型攪拌翼を用いた晶析では槽の内壁付近までは十分な攪拌をすることができず、内壁側面に付着物が形成される。さらに、上記晶析処理によって生じる蒸気に飛沫同伴する微粉が晶析槽内の気相部の側面に付着する。これらの装置付着物が成長して脱離すると配管などの閉塞を招く原因にもなるため、定期的に設備を止めて洗浄するなどの清掃作業を行う必要があった。   However, when the primary separation mother liquor is cooled to a predetermined final temperature all at once, the crystal grain size becomes fine, and when collecting secondary crystals using a recovery device such as a filter, the filter is clogged and the recovery rate Inconveniences such as reduction of In addition, this secondary crystal has high adhesion, and in the crystallization using a propeller type stirring blade or paddle type stirring blade, sufficient stirring cannot be performed up to the vicinity of the inner wall of the tank, and there is an adhesion on the side surface of the inner wall. It is formed. Furthermore, fine powder entrained in the vapor generated by the crystallization treatment adheres to the side surface of the gas phase portion in the crystallization tank. If these device deposits grow and detach, it may cause clogging of pipes and the like, and it has been necessary to perform a cleaning operation such as periodically stopping and cleaning the equipment.

特開昭52−128344号公報JP-A-52-128344 特開平5−58948号公報JP-A-5-58948

そこでこの発明は、高純度テレフタル酸を製造するにあたり、上記一次分離母液を冷却して析出される二次結晶の回収率を高め、濁度(SS濃度)の低い二次分離母液を得ることができる、高純度テレフタル酸の製造方法を提供することを目的とする。また、冷却処理に際して、閉塞の原因となる系内付着物の形成や、塊状物の発生を抑制できる高純度テレフタル酸の製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, in the production of high-purity terephthalic acid, the present invention increases the recovery rate of the secondary crystals precipitated by cooling the primary separation mother liquor, thereby obtaining a secondary separation mother liquor having a low turbidity (SS concentration). An object of the present invention is to provide a method for producing high-purity terephthalic acid. It is another object of the present invention to provide a method for producing high-purity terephthalic acid capable of suppressing the formation of deposits in the system that cause clogging and the generation of lumps during cooling treatment.

本発明者等は上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、一次分離母液を多段で放圧冷却し晶析することにより上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明の要旨は下記(1)〜(11)に存する。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by releasing and cooling the primary separation mother liquor in multiple stages, and the present invention has been completed. That is, the gist of the present invention resides in the following (1) to (11).

(1)(a)パラキシレンを酸化して、4−カルボキシベンズアルデヒドを含有する粗テレフタル酸を得る酸化工程、
(b)上記粗テレフタル酸を、高温高圧下で水溶媒に溶解させて粗テレフタル酸水溶液を得る溶解工程、
(c)上記粗テレフタル酸水溶液を、触媒の存在下で水素と接触させることにより、上記4−カルボキシベンズアルデヒドをパラトルイル酸に還元した還元反応液を得る還元工程、
(d)上記還元反応液を、放圧蒸発させて、温度が120〜200℃に冷却し、高純度テレフタル酸からなる一次結晶を晶析させる第一晶析工程、
(e)上記第一晶析工程(d)により得られたスラリーを、上記一次結晶と、一次分離母液とに固液分離する固液分離工程、
(f)上記一次分離母液を冷却することにより、この一次分離母液に含有されるテレフタル酸及びパラトルイル酸を主とする二次結晶を晶析させる第二晶析工程
を有する高純度テレフタル酸の製造方法において、
上記第二晶析工程(f)における冷却を、圧力を下げることにより行い、この冷却を行う冷却槽を複数段用い、そのうち最後の冷却槽を大気圧未満に減圧し、かつ、温度を40〜70℃とする、高純度テレフタル酸の製造方法。
(1) (a) an oxidation step of oxidizing paraxylene to obtain crude terephthalic acid containing 4-carboxybenzaldehyde;
(B) a dissolving step in which the crude terephthalic acid is dissolved in an aqueous solvent under high temperature and pressure to obtain a crude terephthalic acid aqueous solution;
(C) A reduction step of obtaining a reduction reaction solution obtained by reducing the 4-carboxybenzaldehyde to p-toluic acid by bringing the crude aqueous terephthalic acid solution into contact with hydrogen in the presence of a catalyst;
(D) a first crystallization step of evaporating the reduction reaction solution under reduced pressure, cooling the temperature to 120 to 200 ° C., and crystallizing a primary crystal made of high-purity terephthalic acid;
(E) a solid-liquid separation step in which the slurry obtained by the first crystallization step (d) is solid-liquid separated into the primary crystal and the primary separation mother liquor,
(F) Production of high-purity terephthalic acid having a second crystallization step of crystallization of secondary crystals mainly composed of terephthalic acid and paratoluic acid contained in the primary separation mother liquor by cooling the primary separation mother liquor In the method
The cooling in the second crystallization step (f) is performed by lowering the pressure, and a plurality of cooling tanks are used for this cooling, of which the last cooling tank is reduced to less than atmospheric pressure and the temperature is set to 40 to A method for producing high-purity terephthalic acid at 70 ° C.

(2)上記第二晶析工程(f)で用いる冷却槽のうち、最初の冷却槽は、放圧蒸発させることにより、温度を100℃〜上記固液分離工程(e)における固液分離時の温度未満に冷却する(1)に記載の高純度テレフタル酸の製造方法。
(3)最初の冷却槽を、大気圧まで放圧蒸発させる(2)に記載の高純度テレフタル酸の製造方法。
(2) Among the cooling tanks used in the second crystallization step (f), the first cooling tank is subjected to pressure release evaporation, so that the temperature is 100 ° C. to the solid-liquid separation in the solid-liquid separation step (e). The method for producing high-purity terephthalic acid according to (1), wherein the method is cooled to less than the temperature of 1.
(3) The method for producing high-purity terephthalic acid according to (2), wherein the first cooling tank is evaporated under pressure to atmospheric pressure.

(4)上記第二晶析工程(f)で用いられる冷却槽が、アンカー型撹拌翼を有する冷却槽である(1)乃至(3)のいずれかに記載の高純度テレフタル酸の製造方法。
(5)上記第二晶析工程(f)で用いる冷却槽のうち、少なくとも一つが、その冷却槽の内壁との間隔が10mm以上かつ50mm以下である攪拌翼を有する、(1)乃至(4)のいずれかに記載の高純度テレフタル酸の製造方法。
(4) The method for producing high-purity terephthalic acid according to any one of (1) to (3), wherein the cooling tank used in the second crystallization step (f) is a cooling tank having an anchor type stirring blade.
(5) Among the cooling tanks used in the second crystallization step (f), at least one has a stirring blade having an interval with the inner wall of the cooling tank of 10 mm or more and 50 mm or less (1) to (4 ). The manufacturing method of the high purity terephthalic acid in any one of.

(6)(g)上記第二晶析工程(f)で得られるスラリーを、ろ過機を用いて、二次結晶と二次分離母液とに固液分離するろ過工程、
を有する(1)乃至(5)のいずれかに記載の高純度テレフタル酸の製造方法。
(7)上記ろ過工程(g)で分離される上記二次結晶を、上記酸化工程(a)に供与する、(6)に記載の高純度テレフタル酸の製造方法。
(6) (g) A filtration step in which the slurry obtained in the second crystallization step (f) is solid-liquid separated into a secondary crystal and a secondary separation mother liquor using a filter;
The method for producing high-purity terephthalic acid according to any one of (1) to (5).
(7) The method for producing high-purity terephthalic acid according to (6), wherein the secondary crystal separated in the filtration step (g) is donated to the oxidation step (a).

(8)上記ろ過工程(g)で、上記ろ過機のフィルター下流側を大気圧以上の圧力状態とし、このろ過機のフィルター上流側を上記のフィルター下流側より高い圧力状態として、上記ろ過機の順方向へケーキろ過により固液分離を行う、(6)又は(7)に記載の高純度テレフタル酸の製造方法。
(9)上記ろ過工程(g)で得られた上記二次分離母液を、直接に、又は間接的に、上記溶解工程(b)に供与する、(6)乃至(8)のいずれかに記載の高純度テレフタル酸の製造方法。
(8) In the filtration step (g), the filter downstream side of the filter is set to a pressure state of atmospheric pressure or higher, and the filter upstream side of the filter is set to a pressure state higher than the filter downstream side. The method for producing high-purity terephthalic acid according to (6) or (7), wherein solid-liquid separation is performed by cake filtration in the forward direction.
(9) The secondary separation mother liquor obtained in the filtration step (g) is provided directly or indirectly to the dissolution step (b), according to any one of (6) to (8) Of high purity terephthalic acid.

(10)上記ろ過工程(g)で得られた上記二次分離母液を、合成吸着材と接触させてパラトルイル酸を除去した後、上記溶解工程(b)に供与する(6)乃至(8)のいずれかに記載の高純度テレフタル酸の製造方法。
(11)上記ろ過工程(g)で得られた上記二次分離母液内の懸濁物濃度が200mg/L以下である、(4)乃至(7)のいずれかに記載の高純度テレフタル酸の製造方法。
(10) The secondary separation mother liquor obtained in the filtration step (g) is contacted with a synthetic adsorbent to remove paratoluic acid, and then provided to the dissolution step (b) (6) to (8) The manufacturing method of the highly purified terephthalic acid in any one of.
(11) The high-purity terephthalic acid according to any one of (4) to (7), wherein the suspension concentration in the secondary separation mother liquor obtained in the filtration step (g) is 200 mg / L or less. Production method.

本発明により、高純度テレフタル酸を製造するにあたり、一次分離母液を冷却して析出される二次結晶の回収率を高め、濁度(SS濃度)の低い二次分離母液を得ることができる、高純度テレフタル酸の製造方法を提供することができる。また、冷却処理に際して、閉塞の原因となる系内付着物の形成や、塊状物の発生を抑制できる高純度テレフタル酸の製造方法を提供することができる。   According to the present invention, in producing high-purity terephthalic acid, the primary separation mother liquor can be cooled to increase the recovery rate of secondary crystals deposited, and a secondary separation mother liquor with low turbidity (SS concentration) can be obtained. A method for producing high-purity terephthalic acid can be provided. Moreover, the manufacturing method of the high purity terephthalic acid which can suppress formation of the deposit | attachment in a system | system | group which becomes a cause of obstruction | occlusion at the time of a cooling process, and generation | occurrence | production of a lump can be provided.

以下、この発明について詳細に説明する。
この発明は、酸化工程(a)、溶解工程(b)、還元工程(c)、第一晶析工程(d)、固液分離工程(e)、及び第二晶析工程(f)を有する高純度テレフタル酸の製造方法において、上記第二晶析工程(f)における冷却を、圧力を下げることにより行い、この冷却を行う冷却槽を複数段用い、そのうち最後の冷却槽を大気圧未満に減圧し、かつ、温度を40〜70℃とする、高純度テレフタル酸の製造方法である。上記の工程(a)〜(f)は下記の内容を示す。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
This invention has an oxidation step (a), a dissolution step (b), a reduction step (c), a first crystallization step (d), a solid-liquid separation step (e), and a second crystallization step (f). In the method for producing high-purity terephthalic acid, the cooling in the second crystallization step (f) is performed by lowering the pressure, and a plurality of cooling tanks are used for this cooling, of which the last cooling tank is below atmospheric pressure. This is a method for producing high-purity terephthalic acid under reduced pressure and at a temperature of 40 to 70 ° C. Said process (a)-(f) shows the following content.

酸化工程(a)…パラキシレンを酸化して、4−カルボキシベンズアルデヒドを含有する粗テレフタル酸を得る工程。
溶解工程(b)…上記粗テレフタル酸を、高温高圧下で水溶媒に溶解させて粗テレフタル酸水溶液を得る工程。
Oxidation step (a): A step of oxidizing crude paraxylene to obtain crude terephthalic acid containing 4-carboxybenzaldehyde.
Dissolving step (b): A step of dissolving the crude terephthalic acid in an aqueous solvent under high temperature and high pressure to obtain a crude terephthalic acid aqueous solution.

還元工程(c)…上記粗テレフタル酸水溶液を、触媒の存在下で水素と接触させることにより、上記4−カルボキシベンズアルデヒドをパラトルイル酸に還元した還元反応液を得る工程。
第一晶析工程(d)…上記還元反応液を、放圧蒸発させて、温度が120〜200℃に冷却し、高純度テレフタル酸からなる一次結晶を晶析させる工程。
Reduction step (c): A step of obtaining a reduction reaction solution obtained by reducing the 4-carboxybenzaldehyde to p-toluic acid by bringing the crude terephthalic acid aqueous solution into contact with hydrogen in the presence of a catalyst.
First crystallization step (d): a step of evaporating the reduction reaction solution under reduced pressure, cooling the temperature to 120 to 200 ° C., and crystallizing a primary crystal composed of high-purity terephthalic acid.

固液分離工程(e)…上記第一晶析工程(d)により得られたスラリーを、上記一次結晶と、一次分離母液とに固液分離する工程。
第二晶析工程(f)…上記一次分離母液を冷却することにより、この一次分離母液に含有されるテレフタル酸及びパラトルイル酸を主とする二次結晶を晶析させる工程。
Solid-liquid separation step (e): A step of solid-liquid separation of the slurry obtained in the first crystallization step (d) into the primary crystal and the primary separation mother liquor.
Second crystallization step (f): A step of crystallizing secondary crystals mainly composed of terephthalic acid and p-toluic acid contained in the primary separation mother liquor by cooling the primary separation mother liquor.

以下、本発明の製造方法の詳細について、図1を用いて説明する。
まず、酸化工程(a)においては、触媒の存在下、酢酸溶媒中で分子状酸素BによりパラキシレンAを液相酸化することにより粗テレフタル酸を生成させる。この工程は周知であり、触媒としては、従来よりこの反応に用い得ることが知られている触媒が用いられ、具体的には、コバルト化合物、マンガン化合物、鉄化合物、クロム化合物などの重金属化合物及び臭素化合物等が挙げられる。これらは溶解した状態で反応系に存在している。なかでも好ましいのは、コバルト化合物又はマンガン化合物と臭素化合物との組み合わせである。この場合、これらの化合物は、通常、溶媒に対して、コバルト原子が10〜5000ppm、マンガン原子が10〜5000ppm、臭素原子が10〜10000ppmとなるように用いられる。
Hereinafter, the detail of the manufacturing method of this invention is demonstrated using FIG.
First, in the oxidation step (a), crude terephthalic acid is produced by liquid phase oxidation of paraxylene A with molecular oxygen B in an acetic acid solvent in the presence of a catalyst. This step is well known, and as the catalyst, a catalyst conventionally known to be usable for this reaction is used. Specifically, a heavy metal compound such as a cobalt compound, a manganese compound, an iron compound, a chromium compound, and the like are used. Examples thereof include bromine compounds. These are present in the reaction system in a dissolved state. Among these, a combination of a cobalt compound or a manganese compound and a bromine compound is preferable. In this case, these compounds are usually used so that the cobalt atom is 10 to 5000 ppm, the manganese atom is 10 to 5000 ppm, and the bromine atom is 10 to 10,000 ppm with respect to the solvent.

分子状酸素としては、通常は不活性ガスと酸素との混合ガスが用いられ、例えば、空気や酸素富化空気が用いられる。反応器に供給するパラキシレンに対する分子状酸素のモル比は、通常3〜20モル倍、好ましくは2〜4モル倍である。   As the molecular oxygen, a mixed gas of an inert gas and oxygen is usually used. For example, air or oxygen-enriched air is used. The molar ratio of molecular oxygen to para-xylene supplied to the reactor is usually 3 to 20 times, preferably 2 to 4 times.

上記反応器に供給する酢酸に対するパラキシレンの比率は、通常1〜50重量%である。反応系内の水分濃度は、通常5〜20重量%であり、好ましくは5〜15重量%である。   The ratio of para-xylene to acetic acid fed to the reactor is usually 1 to 50% by weight. The water concentration in the reaction system is usually 5 to 20% by weight, preferably 5 to 15% by weight.

酸化反応の温度は、通常160〜260℃、好ましくは170〜210℃、圧力は、反応温度において反応系が液相を保持できる圧力以上であればよく、通常0.5〜5MPa、好ましくは1〜2MPa、滞留時間は通常10〜200分である。 The temperature of the oxidation reaction is usually 160 to 260 ° C., preferably 170 to 210 ° C., and the pressure is not less than the pressure at which the reaction system can maintain the liquid phase at the reaction temperature, and usually 0.5 to 5 MPa, preferably 1 ˜2 MPa, residence time is usually 10 to 200 minutes.

テレフタル酸は溶媒である酢酸に溶け難いため、通常、酸化反応工程で生成したテレフタル酸は結晶として析出し、スラリーを形成する。しかしながら、溶媒の量、反応温度、圧力によっては、テレフタル酸が溶解している場合がある。この場合には、反応液を冷却等する晶析工程を設けてテレフタル酸を析出させ、スラリーを形成させる。このスラリーを固液分離して、粗テレフタル酸結晶を取得する。酸化反応工程で得られたテレフタル酸スラリーは加圧状態にあるが、そのまま固液分離しても、放圧冷却等してから固液分離してもよい。固液分離の方法としては、結晶と母液とが分離できるものであればよく、ろ過、遠心分離などが挙げられる。必要に応じて洗浄、乾燥を行い粗テレフタル酸結晶(粗テレフタル酸C)を得る。   Since terephthalic acid is difficult to dissolve in acetic acid as a solvent, terephthalic acid produced in the oxidation reaction step usually precipitates as crystals to form a slurry. However, terephthalic acid may be dissolved depending on the amount of solvent, reaction temperature, and pressure. In this case, a crystallization step for cooling the reaction solution is provided to deposit terephthalic acid to form a slurry. This slurry is subjected to solid-liquid separation to obtain crude terephthalic acid crystals. Although the terephthalic acid slurry obtained in the oxidation reaction step is in a pressurized state, it may be solid-liquid separated as it is, or may be solid-liquid separated after it is cooled by releasing pressure. Any solid-liquid separation method may be used as long as the crystal and the mother liquor can be separated, and examples thereof include filtration and centrifugation. Washing and drying are performed as necessary to obtain crude terephthalic acid crystals (crude terephthalic acid C).

なお、本発明における「粗テレフタル酸」は、4−カルボキシベンズアルデヒドを1000〜10000ppm含有するテレフタル酸を意味する。   In addition, "crude terephthalic acid" in the present invention means terephthalic acid containing 1000 to 10,000 ppm of 4-carboxybenzaldehyde.

上記の酸化工程(a)においてパラキシレンAを酸化する際には、上記テレフタル酸だけではなく、片方のアルキル基の酸化反応が完全に進行していない4−カルボキシベンズアルデヒド(以下、「4CBA」と略す。)をはじめとする副生成物が生成する。粗テレフタル酸Cからこれらの副生成物を取り除き、高純度テレフタル酸を得るために以下の工程を行う。   When paraxylene A is oxidized in the oxidation step (a), not only the terephthalic acid but also 4-carboxybenzaldehyde (hereinafter referred to as “4CBA”) in which the oxidation reaction of one alkyl group has not completely proceeded. By-products such as abbreviated) are produced. In order to remove these by-products from the crude terephthalic acid C and obtain high purity terephthalic acid, the following steps are performed.

上記溶解工程(b)として、上記の粗テレフタル酸Cをスラリー化槽12において水Dでスラリー化し、この開始スラリーEをポンプ12a及びヒーター12bにより高温高圧にして水に溶解させ、水溶液E’にする。上記テレフタル酸は水への溶解度が低く、上記の高温高圧とは、上記テレフタル酸が水に溶解することができる状態であることが必要である。この温度はスラリー濃度によるが、230℃以上、320℃以下が望ましい。230℃未満では溶解度が十分ではなく、320℃を超えてしまうと、エネルギーが無駄になり、さらに温度が高すぎるとテレフタル酸が分解して別の物質を生じるおそれがあるからである。また、この圧力は、上記の温度範囲で液相を維持できるだけの圧力である必要があり、2.8MPa以上、11.3MPa以下であることが望ましい。   In the dissolution step (b), the crude terephthalic acid C is slurried with water D in the slurrying tank 12, and this starting slurry E is dissolved in water at a high temperature and high pressure by the pump 12a and the heater 12b, and is dissolved in an aqueous solution E ′. To do. The terephthalic acid has low solubility in water, and the high temperature and high pressure need to be in a state where the terephthalic acid can be dissolved in water. Although this temperature depends on the slurry concentration, it is preferably 230 ° C. or higher and 320 ° C. or lower. If the temperature is lower than 230 ° C., the solubility is not sufficient. If the temperature exceeds 320 ° C., energy is wasted, and if the temperature is too high, terephthalic acid may decompose to produce another substance. Moreover, this pressure needs to be a pressure which can maintain a liquid phase in said temperature range, and it is desirable that it is 2.8 MPa or more and 11.3 MPa or less.

なお、溶解工程(b)において得られるスラリーの濃度は、通常20〜40重量%であり、好ましくは25〜35重量%である。スラリー濃度が高すぎると装置内における閉塞を引き起こし、低すぎると母液量が増え、生産量見合いの設備が大型化してしまう。閉塞防止の観点から、スラリー濃度は一定に保持されることが好ましい。   In addition, the density | concentration of the slurry obtained in a melt | dissolution process (b) is 20 to 40 weight% normally, Preferably it is 25 to 35 weight%. If the slurry concentration is too high, it will cause clogging in the apparatus, and if it is too low, the amount of the mother liquor will increase and the equipment for the production volume will be enlarged. From the viewpoint of preventing clogging, the slurry concentration is preferably kept constant.

次に還元工程(c)として、上記溶解工程により得られたテレフタル酸の水溶液E’は、水添反応器13へ送り、触媒存在下において、導入した水素Fにより接触還元させて、還元反応液Gを得る。この触媒と水添反応器13内の条件とは、上記4CBAを還元し、上記テレフタル酸は還元しないものである必要がある。水溶液E’に含まれる上記4CBAを、水溶性の高いパラトルイル酸に還元するためである。この還元は、出来るだけ高い率で行うことが望ましい。   Next, as the reduction step (c), the aqueous solution E ′ of terephthalic acid obtained in the dissolution step is sent to the hydrogenation reactor 13 and contact-reduced with the introduced hydrogen F in the presence of the catalyst to obtain a reduction reaction solution. Get G. The catalyst and the conditions in the hydrogenation reactor 13 need to reduce the 4CBA and not the terephthalic acid. This is because the 4CBA contained in the aqueous solution E ′ is reduced to p-toluic acid having high water solubility. It is desirable to perform this reduction at a rate as high as possible.

この水素添加も周知であり、水素添加触媒としては、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、白金、オスミウムなどの8〜10族(IUPAC無機化学命名法改訂版(1998)による)金属触媒が用いられ、通常、活性炭などの担体に担持して固定床として用いる。これらのなかでも活性炭に担持させたパラジウムが好ましい。水素添加の温度は、通常260〜320℃、好ましくは270〜300℃、水素の分圧は通常0.5〜20kg/cm2Gである。 This hydrogenation is also well known. As the hydrogenation catalyst, a metal catalyst such as ruthenium, rhodium, palladium, platinum, osmium (in accordance with the revised IUPAC inorganic chemical nomenclature (1998)) metal catalyst is used. It is supported on a carrier such as activated carbon and used as a fixed bed. Among these, palladium supported on activated carbon is preferable. The hydrogenation temperature is usually 260 to 320 ° C., preferably 270 to 300 ° C., and the hydrogen partial pressure is usually 0.5 to 20 kg / cm 2 G.

さらに、第一晶析工程(d)として、上記還元工程(c)で得られた還元反応液Gを晶析槽14に導入し、上記パラトルイル酸を溶解させたままとなる範囲で温度と圧力とを下げ、上記テレフタル酸からなる一次結晶を晶析させてスラリーHにする。ここで、晶析槽14を直列に複数段、好ましくは3〜6段設けて、段階的に温度と圧力を下げて冷却(放圧蒸発冷却)し、上記テレフタル酸を晶析させるとより望ましい。最後の晶析槽14の温度は、パラトルイル酸がテレフタル酸と共晶しない温度条件にコントロールすればよく、具体的には、120℃以上、180℃以下であることが必要であり、130℃以上、170℃以下であると望ましい。この際の圧力は、0.20MPa以上、1.56MPa以下であることが必要であり、0.27MPa以上、1.00MPa以下であると望ましい。これらの条件よりもさらに低温低圧になると、上記テレフタル酸だけではなく、パラトルイル酸も共晶してしまい、得られる高純度テレフタル酸結晶の純度を下げてしまう。一方で、これらの条件よりも高温高圧のままであると、得られるテレフタル酸の晶析量が少なくなり、効率が悪くなる。   Further, as the first crystallization step (d), the reduction reaction solution G obtained in the reduction step (c) is introduced into the crystallization tank 14, and the temperature and pressure are maintained within the range in which the paratoluic acid remains dissolved. And the primary crystal composed of the terephthalic acid is crystallized to make slurry H. Here, it is more desirable that the crystallization tank 14 is provided in a plurality of stages, preferably 3 to 6 stages in series, and the temperature and pressure are gradually lowered to cool (pressure-evaporative cooling) to crystallize the terephthalic acid. . The temperature of the last crystallization tank 14 may be controlled to a temperature condition in which p-toluic acid does not co-crystallize with terephthalic acid. Specifically, the temperature needs to be 120 ° C. or higher and 180 ° C. or lower, and 130 ° C. or higher. , 170 ° C. or less is desirable. The pressure at this time needs to be 0.20 MPa or more and 1.56 MPa or less, and is preferably 0.27 MPa or more and 1.00 MPa or less. When the temperature and pressure are lower than these conditions, not only the terephthalic acid but also p-toluic acid are co-crystallized, and the purity of the resulting high-purity terephthalic acid crystal is lowered. On the other hand, if the temperature and pressure are kept higher than these conditions, the amount of crystallization of terephthalic acid obtained decreases and the efficiency deteriorates.

その次に固液分離工程(e)として、上記スラリーHを固液分離機に導入し、このスラリーHから一次分離母液Jを分離して、高純度の上記テレフタル酸の結晶を含んだ高純度テレフタル酸ケーキを得る。この高純度テレフタル酸ケーキは、洗浄装置において洗浄した後、乾燥して高純度テレフタル酸結晶からなる一次結晶とすると望ましく、上記固液分離機と上記洗浄装置とで行う工程を、一つの固液分離・洗浄装置15においてまとめて行うと、工程が簡素化でき、より望ましい。   Next, as a solid-liquid separation step (e), the slurry H is introduced into a solid-liquid separator, the primary separation mother liquor J is separated from the slurry H, and the high purity containing the high-purity terephthalic acid crystals is obtained. Get a terephthalic acid cake. The high-purity terephthalic acid cake is preferably washed and then dried to form primary crystals composed of high-purity terephthalic acid crystals, and the step performed by the solid-liquid separator and the washing device is performed as one solid-liquid. It is more desirable that the separation / cleaning apparatus 15 collectively perform the process because the process can be simplified.

上記のように、一つの固液分離・洗浄装置15によって上記スラリーHを固液分離し、洗浄するときの作業は以下のようになる。固液分離・洗浄装置15にスラリーHと洗浄液Iとを導入する。洗浄液Iとしては、水がより望ましい。スラリーHを固液分離し、分離されたケーキを洗浄液Iにより洗浄して、高純度テレフタル酸ケーキLを一次分離母液Jから分離して取り出し、一次分離母液Jと、主に洗浄液Iの成分からなる洗浄排出液Kを排出する。ここで、固液分離・洗浄装置15から排出される一次分離母液Jの温度は、第一晶析工程(d)における晶析条件と同等であり、120℃以上、200℃以下が望ましく、130℃以上、180℃以下であるとより望ましく、また圧力については、放圧による温度低下を抑えるために、晶析工程(d)の最終晶析槽の圧力よりも高い圧力であることが必要である。具体的には、晶析工程(d)の最終晶析槽の圧力よりも0〜1MPa高い圧力であることが望ましい。この固液分離工程(e)において、供給されるスラリーHが冷却されないように操作することが望ましい。このように固液分離と洗浄とをまとめて行うことのできる固液分離・洗浄装置15としては、例えばスクリーンボウル型遠心分離機やロータリーバキュームフィルター、水平ベルトフィルター等が挙げられ、特に好ましくはスクリーンボウル型遠心分離機である。   As described above, the operation when the slurry H is solid-liquid separated and washed by one solid-liquid separation / washing device 15 is as follows. Slurry H and cleaning liquid I are introduced into the solid-liquid separation / cleaning device 15. As the cleaning liquid I, water is more desirable. The slurry H is separated into solid and liquid, the separated cake is washed with the washing liquid I, and the high-purity terephthalic acid cake L is separated from the primary separation mother liquor J and taken out from the primary separation mother liquor J and mainly the components of the washing liquid I. The cleaning discharge liquid K is discharged. Here, the temperature of the primary separation mother liquor J discharged from the solid-liquid separation / washing device 15 is equivalent to the crystallization conditions in the first crystallization step (d), preferably 120 ° C. or more and 200 ° C. or less, and 130 More preferably, the pressure is higher than or equal to 180 ° C. and lower than or equal to 180 ° C., and the pressure needs to be higher than the pressure of the final crystallization tank in the crystallization step (d) in order to suppress the temperature drop due to the release pressure. is there. Specifically, the pressure is preferably 0 to 1 MPa higher than the pressure in the final crystallization tank in the crystallization step (d). In this solid-liquid separation step (e), it is desirable to operate so that the supplied slurry H is not cooled. Examples of the solid-liquid separation / washing device 15 that can collectively perform solid-liquid separation and washing include a screen bowl type centrifuge, a rotary vacuum filter, a horizontal belt filter, and the like, and particularly preferably a screen. A bowl-type centrifuge.

このようにして得られた高純度テレフタル酸ケーキLを、乾燥装置16で乾燥させることにより、残留する付着液を除去することで、高純度テレフタル酸結晶Mを得ることができる。上記乾燥装置16は回転式乾燥機や流動床式乾燥機等が挙げられ、通気ガスの存在下、水蒸気等の熱源に用いて乾燥出口操作温度が70℃〜180℃で実施される。   The high-purity terephthalic acid crystal M can be obtained by drying the high-purity terephthalic acid cake L thus obtained with the drying device 16 to remove the remaining adhering liquid. Examples of the drying device 16 include a rotary dryer, a fluidized bed dryer, and the like. In the presence of aeration gas, the drying device 16 is used as a heat source such as water vapor at a drying outlet operating temperature of 70 ° C. to 180 ° C.

一方で、上記の一次分離母液Jと洗浄排出液Kには、まだ有効成分が含まれており、これらを出来るだけ多く回収して、高純度テレフタル酸結晶にする必要がある。なお上記有効成分とは、上記テレフタル酸と、例えばパラトルイル酸のように酸化等により上記テレフタル酸にすることができるその他の化合物とをいい、溶解している成分と固形分とをどちらも含む。また、上記固形分とは、上記有効成分のうち、析出している成分を示す。   On the other hand, the primary separation mother liquor J and the washing effluent K described above still contain active ingredients, and it is necessary to collect these as much as possible to obtain high-purity terephthalic acid crystals. The active ingredient refers to the terephthalic acid and other compounds that can be converted to the terephthalic acid by oxidation or the like, such as p-toluic acid, and includes both dissolved components and solids. Moreover, the said solid content shows the component which has precipitated among the said active ingredients.

まず、洗浄排出液Kは、パラトルイル酸の含有量が少ないため、直接的に上記の溶解工程(b)の溶媒として戻すと望ましい。   First, since the washing | cleaning discharge liquid K has little content of paratoluic acid, it is desirable to return directly as a solvent of said melt | dissolution process (b).

また、洗浄排出液Kが固形分を含んでいる場合には、溶解工程(b)に戻す前に、別の固液分離装置によって固液分離してもよい。上記の固液分離・洗浄装置15で固液分離と洗浄とをまとめて行うと、目漏れが発生しやすいために、洗浄排出液Kには固形分が含まれていることがあるためである。また、上記の別の固液分離装置によって分離する前に、予め晶析を行っておくと、固液分離により回収できる成分量が向上する。その際には、固形分を晶析槽14などに送って回収してもよいし、分離した液体分を上記のスラリー化槽12で用いる溶媒として用いてもよい。   Moreover, when the washing | cleaning discharge liquid K contains solid content, before returning to a melt | dissolution process (b), you may carry out solid-liquid separation with another solid-liquid separation apparatus. This is because when the solid-liquid separation and washing are performed together in the solid-liquid separation / washing device 15, since leakage easily occurs, the washing discharge liquid K may contain a solid content. . In addition, if the crystallization is performed in advance before the separation by the other solid-liquid separation device, the amount of components that can be recovered by the solid-liquid separation is improved. At that time, the solid content may be sent to the crystallization tank 14 and recovered, or the separated liquid content may be used as the solvent used in the slurrying tank 12.

次に、上記一次分離母液Jについては、第二晶析工程(f)として、一次分離母液Jを複数段の冷却槽を用いて冷却を、圧力を下げることにより行い、一次分離母液Jに含有される上記テレフタル酸及びパラトルイル酸を主とする二次結晶を晶析させて、これを回収する。上記の複数段とは、直列に冷却槽を2段以上設置した構成をいい、各槽において圧力見合いで、それぞれの温度を順次下げることにより溶解成分を析出させる。   Next, for the primary separation mother liquor J, as the second crystallization step (f), the primary separation mother liquor J is cooled by lowering the pressure using a plurality of cooling tanks, and contained in the primary separation mother liquor J. The secondary crystals mainly composed of the terephthalic acid and p-toluic acid are crystallized and recovered. The above-mentioned plurality of stages refers to a configuration in which two or more cooling tanks are installed in series. In each tank, the dissolved components are precipitated by sequentially lowering the respective temperatures in accordance with the pressure.

なお、上記冷却槽としては、放圧冷却槽を用いる。この放圧冷却槽とは、導入する液体の圧力よりも低圧にした槽であり、その槽内の圧力における上記液体の主成分の沸点が、導入前の上記液体の温度以下であるようにしたものをいう。この放圧冷却槽に液体を導入すると、液体の一部は蒸発し、液体の残りは変化後の圧力下における沸点まで冷却される。このとき、液体が溶液である場合には、冷却後の溶解度を超えた分の溶質を晶析させる。   In addition, a pressure relief cooling tank is used as the cooling tank. This pressure-release cooling tank is a tank whose pressure is lower than the pressure of the liquid to be introduced, and the boiling point of the main component of the liquid at the pressure in the tank is set to be equal to or lower than the temperature of the liquid before introduction. Say things. When the liquid is introduced into the pressure-reducing cooling tank, a part of the liquid evaporates, and the rest of the liquid is cooled to the boiling point under the changed pressure. At this time, when the liquid is a solution, the solute that exceeds the solubility after cooling is crystallized.

複数段の上記放圧冷却槽を用いて段階的に冷却し、晶析させることによって、一段のみの放圧冷却や、一段の放圧冷却と熱交換による冷却とを組み合わせて晶析させる場合に比べて、冷却・晶析が不均一化するのを抑えることができるので、より徹底した晶析を行えることにより得られる固形物の量が増し、かつその得られる固形物の性状が取り扱いやすいものとなる。また、上記放圧冷却槽内や、上記放圧冷却槽に導入する配管で上記有効成分の結晶が固着するのを抑えることもできる。   When crystallization is carried out step by step using the above-mentioned multiple pressure relief cooling tanks, and crystallization is carried out by combining only one-stage pressure relief cooling, or one-stage pressure relief cooling and cooling by heat exchange. Compared with cooling and crystallization, it is possible to suppress unevenness of cooling and crystallization, so that more thorough crystallization can be performed and the amount of solids obtained is increased, and the properties of the obtained solids are easy to handle. It becomes. Moreover, it can also suppress that the crystal | crystallization of the said active ingredient adheres in the said discharge pressure cooling tank or piping introduced into the said pressure reduction cooling tank.

このため、上記の複数段の放圧冷却槽のうち、最初の放圧冷却槽である第一冷却槽17は、圧力が大気圧以上であり、かつ上記固液分離工程(e)から排出される一次分離母液Jの圧力未満であることが望ましく、温度は100℃以上であり、かつ上記固液分離工程(e)から排出される一次分離母液Jの温度未満(例えば、放圧蒸発させて100℃〜固液分離工程(e)における固液分離時の温度未満に冷却すればよく、放圧蒸発は、大気圧まで放圧蒸発させることが好ましい。)であることが望ましい。大気圧未満にまで一挙に減圧すると、減圧幅が大きすぎて晶析が不均一化したり、得られる結晶の大きさが小さくなったりして、複数段の放圧冷却槽を設ける意義が薄れてしまう。また温度は、大気圧における水の沸点が100℃であるため、それ以上となる。一方、一次分離母液Jの圧力と温度を下回らなければ晶析が出来ない。   For this reason, the first cooling tank 17, which is the first pressure-reducing cooling tank among the plurality of stages of pressure-reducing cooling tanks, has a pressure of atmospheric pressure or higher and is discharged from the solid-liquid separation step (e). The primary separation mother liquor J is preferably less than the pressure of the primary separation mother liquor J, the temperature is 100 ° C. or higher, and is less than the temperature of the primary separation mother liquor J discharged from the solid-liquid separation step (e). It may be cooled to 100 ° C. to a temperature lower than that at the time of solid-liquid separation in the solid-liquid separation step (e), and it is desirable that the pressure-release evaporation is performed by pressure-release to atmospheric pressure. If the pressure is reduced to less than atmospheric pressure all at once, the pressure reduction width becomes too large and the crystallization becomes non-uniform, or the size of the resulting crystal becomes small, and the significance of providing a multi-stage pressure-reducing cooling bath is diminished. End up. Further, the temperature becomes higher because the boiling point of water at atmospheric pressure is 100 ° C. On the other hand, crystallization cannot be performed unless the pressure and temperature of the primary separation mother liquor J are lower.

また、上記の複数段の放圧冷却槽のうち、少なくとも一つは、その放圧冷却槽の内壁との間隔が10mm以上かつ50mm以下である攪拌翼を有するものであると望ましい。また、この攪拌翼は、上記の間隔で上記放圧冷却槽の内壁と近接している部分が長いほど望ましく、アンカー型攪拌翼であるとより望ましい。上記放圧冷却槽では純度の比較的低いテレフタル酸が晶析するため、通常の攪拌翼を用いているだけでは、壁面に上記テレフタル酸等の結晶が付着して固化してしまうおそれがある。そこで、槽の壁面に近接して回転する攪拌翼によって、壁面近傍の液体を適度に流動させると、上記壁面への上記テレフタル酸等の付着を抑えることができる。ただし、近すぎると上記放圧冷却槽そのものを傷つけるおそれがあるので、上記攪拌翼と上記壁面との間隔は10mm以上であることが望ましい。特に、最初の放圧冷却槽である第一冷却槽17は、最も晶析量が多くなる可能性が高いため、第一放却槽17に上記の攪拌翼が設けられているとより望ましい。また、これらの複数段の放圧冷却槽のすべてに上記の攪拌翼が設けられていてもよい。   Moreover, it is desirable that at least one of the plurality of stages of the pressure-reducing cooling tanks has a stirring blade whose distance from the inner wall of the pressure-reducing cooling tank is 10 mm or more and 50 mm or less. In addition, it is desirable that the stirring blade has a longer portion close to the inner wall of the pressure-reducing cooling tank at the above-described interval, and more desirably an anchor-type stirring blade. Since the terephthalic acid having a relatively low purity is crystallized in the pressure relief cooling tank, there is a possibility that crystals such as terephthalic acid adhere to the wall surface and solidify only by using a normal stirring blade. Therefore, when the liquid near the wall surface is appropriately flowed by the stirring blade that rotates in the vicinity of the wall surface of the tank, adhesion of the terephthalic acid or the like to the wall surface can be suppressed. However, if the pressure is too close, the pressure relief cooling tank itself may be damaged. Therefore, the distance between the stirring blade and the wall surface is preferably 10 mm or more. In particular, the first cooling tank 17, which is the first pressure-reducing cooling tank, is more likely to have the largest amount of crystallization. Therefore, it is more desirable that the first discharging tank 17 is provided with the above-described stirring blade. In addition, the above-described stirring blades may be provided in all of the multiple-stage pressure-release cooling tanks.

上記の放圧冷却槽で、上記アンカー型攪拌翼を用いて一次分離母液Jから上記二次結晶を晶析させる際、上記アンカー型攪拌翼の回転数は3.0rpm以上、30rpm以下であることが好ましく、5rpm以上、20rpm以下であるとより望ましい。3.0rpmに満たないと、攪拌の効果が発揮しきれずに、液面より下の内壁側面に晶析した結晶が塊として付着するおそれがある。一方、30rpmの速度があれば攪拌には十分であり、それ以上速くしてもエネルギーの無駄であるばかりでなく、一次分離母液Jが放圧冷却槽内で飛び散らされることで、槽の液面より上に塊が付着する要因となる。   When the secondary crystal is crystallized from the primary separation mother liquor J using the anchor-type stirring blade in the pressure-release cooling tank, the rotation speed of the anchor-type stirring blade is 3.0 rpm or more and 30 rpm or less. Is preferable, and is more desirably 5 rpm or more and 20 rpm or less. If it is less than 3.0 rpm, the effect of stirring cannot be fully exerted, and crystals crystallized on the inner wall side surface below the liquid level may adhere as a lump. On the other hand, a speed of 30 rpm is sufficient for stirring, and not only is it wasteful of energy, but also the primary separation mother liquor J is scattered in the pressure-reducing cooling tank, so that the liquid in the tank It becomes a factor that clumps adhere to the surface.

さらに、上記の複数段の放圧冷却槽では、上記テレフタル酸だけではなく、上記パラトルイル酸やその他の副生成物も出来うるかぎり晶析させることが望ましい。この第二晶析工程(f)でも晶析できない成分は、後述のろ過工程(g)で回収することができず、二次分離母液Pとして排出されるため、晶析させる物質を上記テレフタル酸に限らず、全ての有効成分を出来る限り晶析させて、回収できるようにする。   Furthermore, it is desirable to crystallize not only the terephthalic acid but also the p-toluic acid and other by-products as much as possible in the multi-stage pressure-relief cooling tank. The components that cannot be crystallized even in the second crystallization step (f) cannot be recovered in the filtration step (g) described later and are discharged as the secondary separation mother liquor P. In addition to the above, all active ingredients are crystallized as much as possible so that they can be recovered.

このため、上記の複数段の冷却槽(放圧冷却槽)のうち、最後の冷却槽(放圧冷却槽)である最終冷却槽18の圧力を大気圧未満に減圧し、冷却槽の温度を40〜80℃、好ましくは50〜70℃とする。具体的には、最終冷却槽18の圧力は、0.007MPa以上、0.03MPa以下であり、好ましくは0.021MPa以上、0.031MPa以下である。圧力が0.03MPaを超え、また、温度が高すぎる(80℃を超える)と、晶析が徹底せず、回収が不十分になってしまうおそれがある。一方で、圧力が0.007MPa未満であり、温度が低すぎる(40℃未満となる)と、減圧度が高いので最終冷却槽18への負担が大きくなりすぎるおそれがある。   For this reason, the pressure of the last cooling tank 18 which is the last cooling tank (releasing pressure cooling tank) among the above-mentioned cooling tanks (releasing pressure cooling tanks) is reduced to less than atmospheric pressure, and the temperature of the cooling tank is reduced. 40 to 80 ° C., preferably 50 to 70 ° C. Specifically, the pressure in the final cooling bath 18 is 0.007 MPa or more and 0.03 MPa or less, preferably 0.021 MPa or more and 0.031 MPa or less. If the pressure exceeds 0.03 MPa and the temperature is too high (above 80 ° C.), the crystallization is not thorough and there is a possibility that the recovery becomes insufficient. On the other hand, if the pressure is less than 0.007 MPa and the temperature is too low (below 40 ° C.), the degree of pressure reduction is high, so the burden on the final cooling bath 18 may be too great.

なお、上記の第一冷却槽17と最終冷却槽18との間に、さらに単数、又は複数の放圧冷却槽を設けて、段階的な晶析を行ってもよい。   Note that one or more pressure-release cooling tanks may be provided between the first cooling tank 17 and the final cooling tank 18 to perform stepwise crystallization.

上記の第二晶析工程(f)で上記テレフタル酸等を晶析することによって得られた二次スラリーOは、ろ過工程(g)としてろ過機19に導入し、二次分離母液Pと二次結晶Qとを固液分離する。   The secondary slurry O obtained by crystallizing the terephthalic acid or the like in the second crystallization step (f) is introduced into the filter 19 as the filtration step (g), and the secondary separation mother liquor P and the second slurry O The next crystal Q is solid-liquid separated.

ここで用いるろ過機19は、フィルター下流側を大気圧以上の圧力状態にし、さらに、ろ過機のフィルター上流側をフィルター下流側よりも高い圧力状態にできるものであり、かつ順方向へケーキろ過により固液分離を行うものであると、ろ過を進行させやすくなり望ましい。上記の二次スラリーOは、上記の複数段の放圧冷却槽で晶析させることにより取り扱いやすくはなっているものの、付着しやすい性状ではあるので、通常のろ過では進行しにくいためである。なお、上記フィルター上流側とは上記第二晶析工程(f)から送られてきた側をいい、上記フィルター下流側とは二次分離母液Pを排出する側をいい、順方向とは二次スラリーOや二次分離母液Pの流れが上記フィルター上流側から上記フィルター下流側へ向かう方向をいう。また上記のケーキろ過とは、フィルター細孔上で架橋現象によって粒子が捕捉され、ろ過開始後間もなく、フィルター面上にろ過ケーキ層が形成され、そのケーキ層がその後のろ過に対してフィルターの作用をしつつろ過が進行する機構である。このように操作するろ過機19としては、例えば、石川島播磨重工業(株)製のフンダバックフィルター、月島機械(株)製のクリケットフィルターなどが挙げられる。   The filter 19 used here is capable of setting the downstream side of the filter to a pressure state equal to or higher than atmospheric pressure, and further enabling the upstream side of the filter to be in a higher pressure state than the downstream side of the filter, and by cake filtration in the forward direction. It is desirable that solid-liquid separation is performed because filtration is facilitated. This is because the secondary slurry O is easy to handle by being crystallized in the above-described multiple-stage pressure-reducing cooling tanks, but is easy to adhere, and thus is difficult to proceed by normal filtration. The upstream side of the filter means the side sent from the second crystallization step (f), the downstream side of the filter means the side from which the secondary separation mother liquor P is discharged, and the forward direction is the secondary direction. The direction of the flow of the slurry O and the secondary separation mother liquor P is from the upstream side of the filter toward the downstream side of the filter. Also, the above cake filtration means that particles are trapped by the cross-linking phenomenon on the filter pores, and soon after the start of filtration, a filter cake layer is formed on the filter surface, and the cake layer acts on the filter for subsequent filtration. It is a mechanism in which filtration proceeds while performing. Examples of the filter 19 to be operated in this way include a Fundaback filter manufactured by Ishikawajima-Harima Heavy Industries, Ltd., a cricket filter manufactured by Tsukishima Kikai Co., Ltd., and the like.

上記の二次結晶Qは上記の工程のいずれかに戻して有効成分を再利用することが望ましいが、特に上記の酸化工程(a)に戻すとより望ましい。上記の通り、二次結晶Qには上記テレフタル酸だけではなく、部分還元された上記パラトルイル酸などの不純物が含まれているが、これらはそのままでは上記テレフタル酸の製品として使えない。そこで、上記の酸化工程(a)で酸化することにより、これらの不純物を上記テレフタル酸とすることができ、この発明にかかる高純度テレフタル酸の製造方法全体の収率を向上させることができる。   The secondary crystal Q is preferably returned to any of the above steps to reuse the active ingredient, but more preferably returned to the oxidation step (a). As described above, the secondary crystal Q contains not only the terephthalic acid but also partially reduced impurities such as p-toluic acid, which cannot be used as they are as the terephthalic acid product. Then, by oxidizing in said oxidation process (a), these impurities can be made into the said terephthalic acid, and the yield of the whole manufacturing method of the high purity terephthalic acid concerning this invention can be improved.

一方、上記の二次分離母液Pは、その懸濁物濃度が200mg/L以下であることが望ましく、100mg/L以下であることが更に望ましく、50mg/L以下であると特に望ましい。なお、ここで懸濁物濃度とは、二次分離母液Pの全体重量に対する、溶媒に溶けずに分散しているパラトルイル酸などの浮遊物の重量を意味し、JIS K 0101に記載された方法に従って分析される。二次分離母液Pの少なくとも一部は、系内の不純物濃度を高くしすぎないために系外に排出されるため、二次分離母液Pに含まれるパラトルイル酸が廃棄されることになり、この発明にかかるテレフタル酸の製造方法全体の収率を下げることになってしまうからである。更に、二次分離母液Pの少なくとも一部を直接に又は間接的に製造工程の溶媒として再利用する場合には、パラトルイル酸の系内蓄積を抑制する必要がある。   On the other hand, the concentration of the suspension of the secondary separation mother liquor P is desirably 200 mg / L or less, more desirably 100 mg / L or less, and particularly desirably 50 mg / L or less. Here, the suspension concentration means the weight of suspended matter such as p-toluic acid dispersed without dissolving in the solvent with respect to the total weight of the secondary separation mother liquor P, and is a method described in JIS K 0101. Analyzed according to At least a portion of the secondary separation mother liquor P is discharged out of the system because the concentration of impurities in the system is not excessively high, so that the paratoluic acid contained in the secondary separation mother liquor P is discarded. This is because the yield of the entire process for producing terephthalic acid according to the invention will be lowered. Furthermore, in the case where at least a part of the secondary separation mother liquor P is reused directly or indirectly as a solvent in the production process, it is necessary to suppress the accumulation of p-toluic acid in the system.

二次分離母液Pに含まれるパラトルイル酸の除去には、二次分離母液Pを合成吸着材と接触させる方法がある。上記合成吸着材としては、通常は有機合成吸着剤を用いる。例えば、SEPABEADS SP825、SP850、SP207(SEPABEADSは三菱化学(株)の登録商標)、AMBERLITE XAD−4、XAD−16(AMBERLITEはローム&ハース社の登録商標)などのスチレン−ジビニルベンゼン系の合成吸着剤や、DIAION HP2MG(DIAIONは三菱化学(株)の登録商標)、AMBERLITE XAD−7、XAD−8などのアクリル系合成吸着剤を用いることができる。好ましくは無極性の有機合成吸着剤、特にモノビニル化合物とポリビニル化合物との多孔質共重合体からなる合成吸着剤、なかでもスチレン−ジビニルベンゼン系合成吸着剤を用いる。パラトルイル酸はベンゼン環を有しているので、スチレン−ジビニルベンゼン系の合成吸着剤に吸着され易い。   For removal of paratoluic acid contained in the secondary separation mother liquor P, there is a method of bringing the secondary separation mother liquor P into contact with a synthetic adsorbent. As the synthetic adsorbent, an organic synthetic adsorbent is usually used. For example, synthetic adsorption of styrene-divinylbenzene system such as SEPABEADS SP825, SP850, SP207 (SEPABEADS is a registered trademark of Mitsubishi Chemical Corporation), AMBERLITE XAD-4, XAD-16 (AMBERLITE is a registered trademark of Rohm & Haas) And acrylic synthetic adsorbents such as DIAION HP2MG (DIAION is a registered trademark of Mitsubishi Chemical Corporation), AMBERLITE XAD-7, and XAD-8. Preferably, a nonpolar organic synthetic adsorbent, particularly a synthetic adsorbent composed of a porous copolymer of a monovinyl compound and a polyvinyl compound, in particular, a styrene-divinylbenzene synthetic adsorbent is used. Since p-toluic acid has a benzene ring, it is easily adsorbed by a synthetic adsorbent based on styrene-divinylbenzene.

上記吸着材の比表面積は通常400〜1500m2/g、好ましくは600〜1000m2/g、細孔容積は通常0.5〜3mL/g、好ましくは1.0〜2.0mL/g、細孔径は通常10〜1000Å、好ましくは50〜500Åである。吸着剤は、通常は充填層高が1.5〜4.0m程度となるように吸着塔に充填する。被処理液の供給停止をどの時点で行うかにもよるが、一般に充填層高が低すぎると吸着剤の利用効率が低下する。 The specific surface area of the adsorbent is usually 400~1500m 2 / g, preferably 600~1000m 2 / g, a pore volume of usually 0.5-3 ml / g, preferably 1.0~2.0mL / g, fine The pore diameter is usually 10 to 1000 mm, preferably 50 to 500 mm. The adsorbent is usually packed in the adsorption tower so that the packed bed height is about 1.5 to 4.0 m. Although depending on at which point the supply of the liquid to be treated is stopped, generally, if the packed bed height is too low, the utilization efficiency of the adsorbent is lowered.

上記吸着塔への被処理液の供給速度は、LVが通常0.5〜30m/hr、SVが通常0.5〜20hr-1である。吸着処理された二次分離母液Pはパラトルイル酸濃度が低減されており、好ましくは溶解工程の溶媒や固液分離工程後の分離ケーキ洗浄液として製造工程へ再利用が容易となる。また、パラトルイル酸はパラキシレンからテレフタル酸へ酸化される際の酸化中間体であり、合成吸着剤に吸着させたパラトルイル酸は脱離液を用いて回収し、酸化工程へ供給することが好ましい。 Regarding the supply speed of the liquid to be treated to the adsorption tower, LV is usually 0.5 to 30 m / hr, and SV is usually 0.5 to 20 hr −1 . The adsorbed secondary separation mother liquor P has a reduced p-toluic acid concentration, and is preferably easily reused in the production process as a solvent in the dissolution process or as a separation cake washing liquid after the solid-liquid separation process. In addition, paratoluic acid is an oxidation intermediate when oxidized from paraxylene to terephthalic acid, and it is preferable that the paratoluic acid adsorbed on the synthetic adsorbent is recovered using a desorbing solution and supplied to the oxidation step.

以下、実施例によりこの発明を具体的に説明する。
[懸濁物質濃度の測定方法(JIS K 0101)]
懸濁物質(水中に懸濁している物質)は次の操作にしたがって、試料をろ過し、ろ過材上に残留した物質を105〜110℃で乾燥し、質量をはかる。
(a)ガラス繊維ろ紙を用いる場合はあらかじめろ過器に取り付け、水で十分に吸引洗浄した後、このろ過材を、時計皿上に置き、105〜110℃で約1時間加熱し、デシケーター中で放冷した後、その質量をはかる。
(b)ろ過材をろ過器に取り付け、試料の適量をろ過器に注ぎいれて吸引ろ過する。試料容器及びろ過管の器壁に付着した物質は、水でろ過材上に洗い落とし、ろ過材上の残留物質に合わせ、これを水で数回洗浄する。
(c)残留物は、ろ過材とともにピンセットなどを用いてろ過器から注意して取り外し、(a)で用いた時計皿上に移し、105〜110℃で2時間加熱し、先のデシケーター中で放冷した後、その質量をはかる。
(d)次の式<1>によって懸濁物質(mg/L)を算出する。
S=(a−b)×1000/V …<1>
ここで、Sは、懸濁物質(mg/L)、aは、懸濁物質を含んだろ過材及び時計皿の質量(mg)、bは、ろ過材及び時計皿の質量(mg)、Vは、試料(mL)を意味する。
Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples.
[Method for Measuring Suspension Concentration (JIS K 0101)]
The suspended substance (substance suspended in water) is filtered according to the following operation, the substance remaining on the filter medium is dried at 105 to 110 ° C., and the mass is measured.
(A) When using glass fiber filter paper, attach it to a filter in advance and thoroughly wash it with water, and then place this filter medium on a watch glass and heat it at 105-110 ° C for about 1 hour, in a desiccator. After standing to cool, measure the mass.
(B) A filter medium is attached to the filter, and an appropriate amount of the sample is poured into the filter and suction filtered. The material adhering to the wall of the sample container and the filter tube is washed off on the filter medium with water, matched with the residual substance on the filter medium, and washed several times with water.
(C) The residue is carefully removed from the filter using tweezers together with the filter medium, transferred onto the watch glass used in (a), heated at 105-110 ° C. for 2 hours, and then in the desiccator. After standing to cool, measure the mass.
(D) A suspended substance (mg / L) is calculated by the following formula <1>.
S = (a−b) × 1000 / V (1)
Here, S is a suspended substance (mg / L), a is a mass of the filter medium and watch glass (mg) containing the suspended substance, b is a mass of the filter medium and the watch glass (mg), V Means sample (mL).

(実施例1)
[工程(a)]
パラキシレン、触媒(酢酸コバルト、酢酸マンガンの酢酸溶液および臭化水素)を含む酢酸溶液、後段の固液分離工程からリサイクルされる分離母液及び、空気を撹拌槽に連続的に供給し、操作温度190℃、操作圧力1.23MPa(絶対圧)で、滞留時間1時間になるように液面を調整しながら酸化反応を行った。また、留出蒸気は多段の凝縮器により最終的に40℃まで冷却させ、排ガス中の酸素濃度が2.5vol%に調整して運転を実施した。また各凝縮器から得られる凝縮液は統合して酸化反応器に還流し、その一部は反応抜き出しスラリーの母液中水分濃度が10重量%となるように抜き出した。酸化反応器から抜き出されるスラリーのスラリー濃度は35重量%、反応母液中のコバルト/マンガン/臭素濃度が300/300/1000重量ppmであった。
Example 1
[Step (a)]
Acetic acid solution containing para-xylene, catalyst (cobalt acetate, manganese acetate acetic acid solution and hydrogen bromide), separation mother liquor recycled from the subsequent solid-liquid separation process, and air are continuously supplied to the stirring tank, and the operating temperature The oxidation reaction was carried out while adjusting the liquid level so that the residence time was 1 hour at 190 ° C. and an operating pressure of 1.23 MPa (absolute pressure). The distillate vapor was finally cooled to 40 ° C. by a multistage condenser, and the operation was carried out with the oxygen concentration in the exhaust gas adjusted to 2.5 vol%. The condensate obtained from each condenser was integrated and refluxed to the oxidation reactor, and a part of the condensate was withdrawn so that the water concentration in the mother liquor of the reaction withdrawal slurry was 10% by weight. The slurry concentration of the slurry extracted from the oxidation reactor was 35% by weight, and the cobalt / manganese / bromine concentration in the reaction mother liquor was 300/300/1000 ppm by weight.

酸化反応器から抜き出されたスラリーは、空気と共に撹拌槽に連続的に供給し、操作温度181℃、操作圧力1.15MPa(絶対圧)で、滞留時間15分になるように液面調整しながら低温追酸化反応を行った。また、留出蒸気は多段の凝縮器により最終的に40℃まで冷却させ、排ガス中の酸素濃度が6vol%に調整して運転を実施した。また各凝縮器から得られる凝縮液は統合して低温追酸化反応器に還流した。   The slurry extracted from the oxidation reactor is continuously supplied to the stirring tank together with air, and the liquid level is adjusted so that the residence time is 15 minutes at an operating temperature of 181 ° C. and an operating pressure of 1.15 MPa (absolute pressure). The low temperature additional oxidation reaction was performed. The distillate vapor was finally cooled to 40 ° C. by a multistage condenser, and the operation was carried out with the oxygen concentration in the exhaust gas adjusted to 6 vol%. In addition, the condensate obtained from each condenser was integrated and refluxed to the low temperature additional oxidation reactor.

低温追酸化反応器から抜き出されたスラリーは、90℃まで晶析した後に、この晶析で得られたスラリーをロータリーバキュームフィルターに供給して固液分離と洗浄を行った。ここで操作圧力は大気圧であった。分離された粗テレフタル酸ケーキはスチームロータリードライヤーで乾燥させて粗テレフタル酸結晶を得た。   The slurry extracted from the low temperature additional oxidation reactor was crystallized to 90 ° C., and then the slurry obtained by this crystallization was supplied to a rotary vacuum filter to perform solid-liquid separation and washing. Here, the operating pressure was atmospheric pressure. The separated crude terephthalic acid cake was dried with a steam rotary dryer to obtain crude terephthalic acid crystals.

[工程(b)〜工程(c)]
得られた粗テレフタル酸を、図1に示す高純度テレフタル酸の製造工程に供与した。溶媒として水Dを使用して粗テレフタル酸を30重量%含む高温高圧である水溶液E’を得た。上記図1に示す工程において、水添反応器13に送られる水溶液E’の温度及び圧力を、それぞれ、290℃、8.7MPa(89kgf/cm2・ゲージ)とした。
[Step (b) to Step (c)]
The obtained crude terephthalic acid was donated to the production process of high purity terephthalic acid shown in FIG. Using water D as a solvent, an aqueous solution E ′ having a high temperature and high pressure containing 30% by weight of crude terephthalic acid was obtained. In the process shown in FIG. 1, the temperature and pressure of the aqueous solution E ′ fed to the hydrogenation reactor 13 were 290 ° C. and 8.7 MPa (89 kgf / cm 2 · gauge), respectively.

[工程(d)〜工程(e)]
これに引き続く第一晶析工程(d)では、5つの上記晶析槽を直列に接続した晶析槽14を用いて段階的に放圧蒸発により冷却させ、最終的に温度155℃まで冷却し、溶質を晶析させた。晶析により得られたスラリーHは、固液分離・洗浄装置15で、一次結晶を含んだ高純度テレフタル酸ケーキLと、一次分離母液Jとに分離させ、上記高純度テレフタル酸ケーキLは洗浄水で洗浄後、乾燥装置16で乾燥させた後、高純度テレフタル酸結晶Mとして回収した。
[Step (d) to Step (e)]
In the subsequent first crystallization step (d), the crystallization tank 14 in which the five crystallization tanks are connected in series is cooled stepwise by pressure release evaporation, and finally cooled to a temperature of 155 ° C. The solute was crystallized. The slurry H obtained by crystallization is separated into a high-purity terephthalic acid cake L containing primary crystals and a primary separation mother liquor J by a solid-liquid separation / washing device 15, and the high-purity terephthalic acid cake L is washed. After washing with water and drying with a drying device 16, it was recovered as high-purity terephthalic acid crystals M.

[工程(f)]
一方で、一次分離母液Jは、アンカー型攪拌翼を設けた第一冷却槽17において、圧力を大気圧まで低下させ、100℃まで放圧冷却させて、一段目の第二晶析工程(f)となる晶析を行った。上記アンカー型攪拌翼の回転数は10rpm、上記アンカー型攪拌翼と内壁側面との隙間は10mmとした。
[Step (f)]
On the other hand, the primary separation mother liquor J is subjected to first-stage second crystallization step (f) by reducing the pressure to atmospheric pressure and releasing it to 100 ° C. in the first cooling tank 17 provided with an anchor type stirring blade. Was crystallized. The rotation speed of the anchor type stirring blade was 10 rpm, and the gap between the anchor type stirring blade and the inner wall side face was 10 mm.

次いで、得られた100℃の中間スラリーNを、スチームエジェクターを備えた最終冷却槽18に導入し、操作圧力を0.02MPaとし、60℃まで減圧冷却した。こうして得られた二次スラリーOを、ろ過機19として石川島播磨重工業(株)製のフンダバックフィルター(R56−86−25型)に投入し、固液分離した。ここで得られた二次分離母液Pの懸濁物濃度をJIS K 0101に記載された方法に従って測定したところ、30mg/Lであった。   Subsequently, the obtained intermediate slurry N at 100 ° C. was introduced into a final cooling bath 18 equipped with a steam ejector, the operation pressure was set to 0.02 MPa, and the mixture was cooled to 60 ° C. under reduced pressure. The secondary slurry O obtained in this way was put into a Fondaback filter (R56-86-25 type) manufactured by Ishikawajima-Harima Heavy Industries, Ltd. as a filter 19 and separated into solid and liquid. The suspension concentration of the secondary separation mother liquor P obtained here was measured according to the method described in JIS K 0101 and found to be 30 mg / L.

この結果、上記の第一冷却槽17及び最終冷却槽18では、1ヶ月間、内壁側面に析出物が付着、成長することが無く安定して二次結晶Qの回収処理をすることができた。   As a result, in the first cooling tank 17 and the final cooling tank 18, the secondary crystal Q could be stably recovered without deposits growing on the inner wall side surface for one month. .

この発明にかかるテレフタル酸の製造方法の例を示すフロー図Flow chart showing an example of a method for producing terephthalic acid according to the present invention

符号の説明Explanation of symbols

12 スラリー化槽
12a ポンプ
12b ヒーター
13 水添反応器
14 晶析槽
15 固液分離・洗浄装置
16 乾燥装置
17 第一冷却槽
18 最終冷却槽
19 ろ過機
A パラキシレン
B 分子状酸素
C 粗テレフタル酸
D 水
E 開始スラリー
E’ 水溶液
F 水素
G 還元反応液
H スラリー
I 洗浄液
J 一次分離母液
K 洗浄排出液
L 高純度テレフタル酸ケーキ
M 高純度テレフタル酸結晶
N 中間スラリー
O 二次スラリー
P 二次分離母液
Q 二次結晶
12 Slurry tank 12a Pump 12b Heater 13 Hydrogenation reactor 14 Crystallization tank 15 Solid-liquid separation / washing apparatus 16 Drying apparatus 17 First cooling tank 18 Final cooling tank 19 Filter A Paraxylene B Molecular oxygen C Crude terephthalic acid D Water E Starting slurry E 'Aqueous solution F Hydrogen G Reduction reaction liquid H Slurry I Cleaning liquid J Primary separation mother liquor K Cleaning discharge liquid L High purity terephthalic acid cake M High purity terephthalic acid crystal N Intermediate slurry O Secondary slurry P Secondary separation mother liquid Q secondary crystal

Claims (11)

(a)パラキシレンを酸化して、4−カルボキシベンズアルデヒドを含有する粗テレフタル酸を得る酸化工程、
(b)上記粗テレフタル酸を、高温高圧下で水溶媒に溶解させて粗テレフタル酸水溶液を得る溶解工程、
(c)上記粗テレフタル酸水溶液を、触媒の存在下で水素と接触させることにより、上記4−カルボキシベンズアルデヒドをパラトルイル酸に還元した還元反応液を得る還元工程、
(d)上記還元反応液を、放圧蒸発させて、温度が120〜200℃に冷却し、高純度テレフタル酸からなる一次結晶を晶析させる第一晶析工程、
(e)上記第一晶析工程(d)により得られたスラリーを、上記一次結晶と、一次分離母液とに固液分離する固液分離工程、
(f)上記一次分離母液を冷却することにより、この一次分離母液に含有されるテレフタル酸及びパラトルイル酸を主とする二次結晶を晶析させる第二晶析工程
を有する高純度テレフタル酸の製造方法において、
上記第二晶析工程(f)における冷却を、圧力を下げることにより行い、この冷却を行う冷却槽を複数段用い、そのうち最後の冷却槽を大気圧未満に減圧し、かつ、温度を40〜70℃とする、高純度テレフタル酸の製造方法。
(A) an oxidation step of oxidizing paraxylene to obtain crude terephthalic acid containing 4-carboxybenzaldehyde;
(B) a dissolving step in which the crude terephthalic acid is dissolved in an aqueous solvent under high temperature and pressure to obtain a crude terephthalic acid aqueous solution;
(C) A reduction step of obtaining a reduction reaction solution obtained by reducing the 4-carboxybenzaldehyde to p-toluic acid by bringing the crude aqueous terephthalic acid solution into contact with hydrogen in the presence of a catalyst;
(D) a first crystallization step of evaporating the reduction reaction solution under reduced pressure, cooling the temperature to 120 to 200 ° C., and crystallizing a primary crystal made of high-purity terephthalic acid;
(E) a solid-liquid separation step in which the slurry obtained by the first crystallization step (d) is solid-liquid separated into the primary crystal and the primary separation mother liquor,
(F) Production of high-purity terephthalic acid having a second crystallization step of crystallization of secondary crystals mainly composed of terephthalic acid and paratoluic acid contained in the primary separation mother liquor by cooling the primary separation mother liquor In the method
The cooling in the second crystallization step (f) is performed by lowering the pressure, and a plurality of cooling tanks are used for this cooling, of which the last cooling tank is reduced to less than atmospheric pressure and the temperature is set to 40 to A method for producing high-purity terephthalic acid at 70 ° C.
上記第二晶析工程(f)で用いる冷却槽のうち、最初の冷却槽は、放圧蒸発させることにより、温度を100℃〜上記固液分離工程(e)における固液分離時の温度未満に冷却する請求項1に記載の高純度テレフタル酸の製造方法。   Among the cooling tanks used in the second crystallization step (f), the first cooling tank is subjected to pressure-pressure evaporation, so that the temperature is 100 ° C. to less than the temperature during solid-liquid separation in the solid-liquid separation step (e). The method for producing high-purity terephthalic acid according to claim 1, wherein the method is cooled to a low temperature. 最初の冷却槽を、大気圧まで放圧蒸発させる請求項2に記載の高純度テレフタル酸の製造方法。   The method for producing high-purity terephthalic acid according to claim 2, wherein the first cooling bath is evaporated under reduced pressure to atmospheric pressure. 上記第二晶析工程(f)で用いられる冷却槽が、アンカー型撹拌翼を有する冷却槽である請求項1乃至3のいずれかに記載の高純度テレフタル酸の製造方法。   The method for producing high-purity terephthalic acid according to any one of claims 1 to 3, wherein the cooling tank used in the second crystallization step (f) is a cooling tank having an anchor type stirring blade. 上記第二晶析工程(f)で用いる冷却槽のうち、少なくとも一つが、その冷却槽の内壁との間隔が10mm以上かつ50mm以下である攪拌翼を有する、請求項1乃至4のいずれかに記載の高純度テレフタル酸の製造方法。   5. The cooling tank used in the second crystallization step (f), wherein at least one of the cooling tanks has a stirring blade having an interval with the inner wall of the cooling tank of 10 mm or more and 50 mm or less. The manufacturing method of high-purity terephthalic acid as described. (g)上記第二晶析工程(f)で得られるスラリーを、ろ過機を用いて、二次結晶と二次分離母液とに固液分離するろ過工程、
を有する請求項1乃至5のいずれかに記載の高純度テレフタル酸の製造方法。
(G) A filtration step in which the slurry obtained in the second crystallization step (f) is solid-liquid separated into a secondary crystal and a secondary separation mother liquor using a filter;
The method for producing high-purity terephthalic acid according to any one of claims 1 to 5.
上記ろ過工程(g)で分離される上記二次結晶を、上記酸化工程(a)に供与する、請求項6に記載の高純度テレフタル酸の製造方法。   The method for producing high-purity terephthalic acid according to claim 6, wherein the secondary crystals separated in the filtration step (g) are donated to the oxidation step (a). 上記ろ過工程(g)で、上記ろ過機のフィルター下流側を大気圧以上の圧力状態とし、このろ過機のフィルター上流側を上記のフィルター下流側より高い圧力状態として、上記ろ過機の順方向へケーキろ過により固液分離を行う、請求項6又は7に記載の高純度テレフタル酸の製造方法。   In the filtration step (g), the filter downstream side of the filter is set to a pressure state equal to or higher than the atmospheric pressure, and the filter upstream side of the filter is set to a pressure state higher than the filter downstream side in the forward direction of the filter. The method for producing high-purity terephthalic acid according to claim 6 or 7, wherein solid-liquid separation is performed by cake filtration. 上記ろ過工程(g)で得られた上記二次分離母液を、直接に、又は間接的に、上記溶解工程(b)に供与する、請求項6乃至8のいずれかに記載の高純度テレフタル酸の製造方法。   The high-purity terephthalic acid according to any one of claims 6 to 8, wherein the secondary separation mother liquor obtained in the filtration step (g) is directly or indirectly provided to the dissolution step (b). Manufacturing method. 上記ろ過工程(g)で得られた上記二次分離母液を、合成吸着材と接触させてパラトルイル酸を除去した後、上記溶解工程(b)に供与する請求項6乃至8のいずれかに記載の高純度テレフタル酸の製造方法。   The secondary separation mother liquor obtained in the filtration step (g) is contacted with a synthetic adsorbent to remove paratoluic acid, and then supplied to the dissolution step (b). Of high purity terephthalic acid. 上記ろ過工程(g)で得られた上記二次分離母液内の懸濁物濃度が200mg/L以下である、請求項4乃至7のいずれかに記載の高純度テレフタル酸の製造方法。   The method for producing high-purity terephthalic acid according to any one of claims 4 to 7, wherein the suspension concentration in the secondary separation mother liquor obtained in the filtration step (g) is 200 mg / L or less.
JP2005152494A 2004-05-28 2005-05-25 Method for producing high-purity terephthalic acid Pending JP2006008671A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005152494A JP2006008671A (en) 2004-05-28 2005-05-25 Method for producing high-purity terephthalic acid

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004159786 2004-05-28
JP2005152494A JP2006008671A (en) 2004-05-28 2005-05-25 Method for producing high-purity terephthalic acid

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006008671A true JP2006008671A (en) 2006-01-12

Family

ID=35776299

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005152494A Pending JP2006008671A (en) 2004-05-28 2005-05-25 Method for producing high-purity terephthalic acid

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006008671A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009141968A1 (en) * 2008-05-20 2009-11-26 株式会社日立プラントテクノロジー Method for treating separated mother liquor from terephthalic acid refinement
WO2012114434A1 (en) * 2011-02-21 2012-08-30 株式会社日立プラントテクノロジー Method for treating purified terephthalic acid mother liquor
JP2015129444A (en) * 2014-01-06 2015-07-16 住友金属鉱山株式会社 Sealing water supply device for pump

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009141968A1 (en) * 2008-05-20 2009-11-26 株式会社日立プラントテクノロジー Method for treating separated mother liquor from terephthalic acid refinement
WO2012114434A1 (en) * 2011-02-21 2012-08-30 株式会社日立プラントテクノロジー Method for treating purified terephthalic acid mother liquor
JP2015129444A (en) * 2014-01-06 2015-07-16 住友金属鉱山株式会社 Sealing water supply device for pump

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3729284B2 (en) Method for producing high purity terephthalic acid
JP3342011B2 (en) Improved method for recovering purified terephthalic acid
NL8201046A (en) METHOD FOR PREPARING TERFHTALIC ACID.
JP2000504741A (en) Production of aromatic polycarboxylic acid
TWI328002B (en) Process for producing high-purity terephthalic acid
WO2004043893A1 (en) Process for producing terephthalic acid
US7102029B2 (en) Method of crystallization
JP2014221791A (en) Improved method for recovering terephthalic acid
JP2006008671A (en) Method for producing high-purity terephthalic acid
JP2006298905A (en) Method for production of high-purity terephthalic acid
JP2017095391A (en) Manufacturing method of aromatic dicarboxylic acid
JP5802115B2 (en) Method for purifying crude terephthalic acid
KR102354799B1 (en) Process and apparatus for purification of acrylic acid
JP4628653B2 (en) Method for treating distillation residue of maleic anhydride
JP2006008673A (en) Method for producing high-purity terephthalic acid
JP2006045201A (en) Method for producing high-purity terephthalic acid
CA2295650C (en) Improved process for separating pure terephthalic acid
JP2010202552A (en) Crystallizer for aromatic carboxylic acid
JP2004175797A (en) Method for producing terephthalic acid
KR100883288B1 (en) Process for producing high-purity terephthalic acid
JP2005247839A (en) Method for producing aromatic carboxylic acid
BRPI0721363A2 (en) processes for the production of a crude aromatic carboxylic acid and a crude aromatic dicarboxylic acid
JP7169241B2 (en) Method for producing mixture of aromatic carboxylic acid and aliphatic organic acid
JPWO2017014264A1 (en) Method for producing high purity terephthalic acid
JPH01121283A (en) Method for recovering aromatic carboxylic acid anhydride