JP2015186822A - Laser processing device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laser processing device which can easily eliminate deviation of the average power of a pulse laser beam output to two processing routes.SOLUTION: An acoustic optical element outputs a laser beam output from a laser source to one of a first processing route and a second processing route. A first measuring instrument measures a power or energy of the laser beam output to the first processing route. A second measuring instrument measures a power or energy of the laser beam output to the second processing route. An attitude adjustment mechanism changes an attitude of the acoustic optical element so as to change an angle of incidence of the laser beam to the acoustic optical element. A control device controls the attitude adjustment mechanism based on measurement results of the first measuring instrument and the second measuring instrument, and instructs the acoustic optical element about the route to which the laser beam is output, out of the first processing route and the second processing route.

Description

本発明は、レーザビームの経路を音響光学素子で少なくとも２つの経路に分岐させて、２軸でレーザ加工を行うレーザ加工装置に関する。   The present invention relates to a laser processing apparatus that performs laser processing in two axes by branching a laser beam path into at least two paths with an acoustooptic device.

下記の特許文献１に、レーザ光源から出力されたパルスレーザビームを、音響光学素子で２本の加工経路に分岐させ、２軸で加工を行うレーザ加工装置が開示されている。このレーザ加工装置においては、それぞれの加工経路を伝搬するパルスレーザビームのパルスエネルギと、許容下限値とを比較する。加工経路を伝搬するパルスレーザビームのパルスエネルギが許容下限値を下回る場合には、追加のショットを加工対象物に入射する。これにより、加工不良を防止することができる。   Patent Document 1 below discloses a laser processing apparatus in which a pulse laser beam output from a laser light source is branched into two processing paths by an acousto-optic element and processing is performed on two axes. In this laser processing apparatus, the pulse energy of the pulse laser beam propagating through each processing path is compared with the allowable lower limit value. When the pulse energy of the pulse laser beam propagating through the machining path is below the allowable lower limit value, an additional shot is incident on the workpiece. Thereby, processing defects can be prevented.

特開２００９−１４８８１２号公報JP 2009-148812 A

２つの加工経路に出力されるパルスレーザビームの平均パワーは、音響光学素子へのレーザビームの入射角に依存する。レーザ加工装置の調整時に、２つの加工経路に出力されるパルスレーザビームの平均パワーが等しくなるように、音響光学素子へのパルスレーザビームの入射角が調整される。ところが、レーザ発振器の使用条件（例えば周波数やパルス幅）、及び環境条件（例えば水温や気温）によって、パルスレーザビームの出射方向が変動する。このため、音響光学素子への入射角を一定に維持することが困難である。入射角が変動すると、２つの加工経路に出力されるパルスレーザビームの平均パワーに差が生じてしまう。   The average power of the pulse laser beam output to the two processing paths depends on the incident angle of the laser beam on the acoustooptic device. When adjusting the laser processing apparatus, the incident angle of the pulse laser beam to the acousto-optic element is adjusted so that the average power of the pulse laser beams output to the two processing paths is equal. However, the emission direction of the pulse laser beam varies depending on the use conditions (for example, frequency and pulse width) of the laser oscillator and the environmental conditions (for example, water temperature and temperature). For this reason, it is difficult to maintain a constant incident angle to the acoustooptic device. When the incident angle varies, a difference occurs in the average power of the pulse laser beam output to the two processing paths.

本発明の目的は、２つの加工経路に出力されるパルスレーザビームの平均パワーのずれを、容易に解消することが可能なレーザ加工装置を提供することである。   An object of the present invention is to provide a laser processing apparatus capable of easily eliminating the deviation of the average power of pulse laser beams output to two processing paths.

本発明の一観点によると、
レーザビームを出力するレーザ光源と、
前記レーザ光源から出力されたレーザビームを、第１の加工経路及び第２の加工経路の一方の経路に出力する音響光学素子と、
前記第１の加工経路に出力された前記レーザビームのパワーまたはエネルギを測定する第１の測定器と、
前記第２の加工経路に出力された前記レーザビームのパワーまたはエネルギを測定する第２の測定器と、
前記音響光学素子への前記レーザビームの入射角が変化するように、前記音響光学素子の姿勢を変化させる姿勢調整機構と、
前記第１の測定器及び前記第２の測定器の測定結果に基づいて、前記姿勢調整機構を制御するとともに、前記第１の加工経路及び前記第２の加工経路のうち、前記レーザビームを出力させる経路を前記音響光学素子に指令する制御装置と
を有するレーザ加工装置が提供される。 According to one aspect of the invention,
A laser light source for outputting a laser beam;
An acoustooptic device that outputs a laser beam output from the laser light source to one of a first processing path and a second processing path;
A first measuring device for measuring the power or energy of the laser beam output to the first processing path;
A second measuring device for measuring the power or energy of the laser beam output to the second processing path;
A posture adjusting mechanism that changes the posture of the acoustooptic device so that the incident angle of the laser beam to the acoustooptic device changes;
Based on the measurement results of the first measuring device and the second measuring device, the posture adjustment mechanism is controlled, and the laser beam is output from the first processing path and the second processing path. There is provided a laser processing apparatus having a control device for instructing the acoustooptic device to make a path to be performed.

第１の測定器及び第２の測定器の測定結果の差に基づいて、制御装置が姿勢調整機構を制御することにより、第１の加工経路及び第２の加工経路に出力されるレーザビームの平均パワーのずれを容易に解消することができる。   Based on the difference between the measurement results of the first measuring instrument and the second measuring instrument, the control device controls the attitude adjustment mechanism, so that the laser beams output to the first processing path and the second processing path are controlled. The deviation in average power can be easily eliminated.

図１は、実施例によるレーザ加工装置の概略図である。FIG. 1 is a schematic diagram of a laser processing apparatus according to an embodiment. 図２Ａは、音響光学素子と、パルスレーザビームの経路との関係を示す図であり、図２Ｂは、各経路を伝搬するパルスレーザビームの波形の一例を示すグラフである。FIG. 2A is a diagram showing the relationship between the acoustooptic device and the path of the pulse laser beam, and FIG. 2B is a graph showing an example of the waveform of the pulse laser beam propagating through each path. 図３は、音響光学素子へのパルスレーザビームの入射角θと、第１の加工経路及び第２の加工経路に出力されたパルスレーザビームの平均パワーとの関係を示すグラフである。FIG. 3 is a graph showing the relationship between the incident angle θ of the pulse laser beam to the acoustooptic device and the average power of the pulse laser beam output to the first processing path and the second processing path. 図４は、実施例によるレーザ加工装置の音響光学素子の姿勢を調整する手順のフローチャートである。FIG. 4 is a flowchart of a procedure for adjusting the posture of the acousto-optic element of the laser processing apparatus according to the embodiment.

図１に、実施例によるレーザ加工装置の概略図を示す。レーザ光源１０からパルスレーザビームが出力される。レーザ光源１０には、例えば炭酸ガスレーザが用いられる。レーザ光源１０から出力されたパルスレーザビームが、ビームエキスパンダ１１、及びアパーチャ１２を透過して、音響光学素子１４に入射する。   FIG. 1 shows a schematic diagram of a laser processing apparatus according to an embodiment. A pulsed laser beam is output from the laser light source 10. For example, a carbon dioxide laser is used for the laser light source 10. The pulse laser beam output from the laser light source 10 passes through the beam expander 11 and the aperture 12 and enters the acousto-optic element 14.

ビームエキスパンダ１１は、パルスレーザビームの広がり角及びビーム径を変化させる。アパーチャ１２は、パルスレーザビームのビーム断面を整形する。   The beam expander 11 changes the divergence angle and beam diameter of the pulse laser beam. The aperture 12 shapes the beam cross section of the pulse laser beam.

音響光学素子１４は、入射したパルスレーザビームを、ダンパ経路２０、第１の加工経路２１Ａ、及び第２の加工経路２１Ｂから選択された１つの経路に出力する。制御装置４０が、ダンパ経路２０、第１の加工経路２１Ａ、及び第２の加工経路２１Ｂのうちパルスレーザビームを出力すべき経路を音響光学素子１４に指令する。ダンパ経路２０に出力されたパルスレーザビームＬＢ３は、ビームダンパ２５に入射する。   The acoustooptic device 14 outputs the incident pulse laser beam to one path selected from the damper path 20, the first processing path 21A, and the second processing path 21B. The control device 40 instructs the acoustooptic device 14 to output a pulse laser beam among the damper path 20, the first processing path 21A, and the second processing path 21B. The pulsed laser beam LB3 output to the damper path 20 enters the beam damper 25.

第１の加工経路２１Ａに出力されたパルスレーザビームＬＢ１は、第１の導光光学系３０Ａを経由して、第１の加工対象物５５Ａに入射する。第２の加工経路２１Ｂに出力されたパルスレーザビームＬＢ２は、第２の導光光学系３０Ｂを経由して、第２の加工対象物５５Ｂに入射する。第１の導光光学系３０Ａと第２の導光光学系３０Ｂとは、同一の構成を有する。   The pulse laser beam LB1 output to the first processing path 21A enters the first processing target 55A via the first light guide optical system 30A. The pulsed laser beam LB2 output to the second processing path 21B is incident on the second processing target 55B via the second light guide optical system 30B. The first light guide optical system 30A and the second light guide optical system 30B have the same configuration.

第１の加工対象物５５Ａ及び第２の加工対象物５５Ｂは、例えば穴あけ加工が行われていないプリント基板である。プリント基板にパルスレーザビームＬＢ１、ＬＢ２を入射させることにより、穴あけ加工が行われる。第１の加工対象物５５Ａは、第１のステージ５０Ａに保持されており、第２の加工対象物５５Ｂは、第２のステージ５０Ｂに保持されている。第１のステージ５０Ａは、第１の加工対象物５５Ａを、その表面に平行な二次元方向に移動させることができる。第２のステージ５０Ｂは、第２の加工対象物５５Ｂを、その表面に平行な二次元方向に移動させることができる。   The first processing object 55A and the second processing object 55B are, for example, printed boards that are not drilled. Drilling is performed by making the pulse laser beams LB1 and LB2 incident on the printed circuit board. The first workpiece 55A is held on the first stage 50A, and the second workpiece 55B is held on the second stage 50B. The first stage 50A can move the first workpiece 55A in a two-dimensional direction parallel to the surface. The second stage 50B can move the second workpiece 55B in a two-dimensional direction parallel to the surface.

第１の導光光学系３０Ａは、折り返しミラー３１Ａ、ビーム走査器３２Ａ、及び対物レンズ３３Ａを含む。音響光学素子１４から第１の加工経路２１Ａに出力されたパルスレーザビームＬＢ１は、折り返しミラー３１Ａで反射し、ビーム走査器３２Ａに入射する。ビーム走査器３２Ａは、パルスレーザビームＬＢ１の進行方向を二次元方向に振る。ビーム走査器３２Ａには、例えば一対のガルバノスキャナが用いられる。   The first light guide optical system 30A includes a folding mirror 31A, a beam scanner 32A, and an objective lens 33A. The pulsed laser beam LB1 output from the acoustooptic device 14 to the first processing path 21A is reflected by the folding mirror 31A and enters the beam scanner 32A. The beam scanner 32A swings the traveling direction of the pulse laser beam LB1 in a two-dimensional direction. For example, a pair of galvano scanners is used for the beam scanner 32A.

ビーム走査器３２Ａを通過したパルスレーザビームＬＢ１は、対物レンズ３３Ａを透過して第１の加工対象物５５Ａに入射する。対物レンズ３３Ａには、例えばｆθレンズが用いられる。対物レンズ３３Ａによって、アパーチャ１２の開口部が第１の加工対象物５５Ａの表面に縮小投影される。ビーム走査器３２Ａを動作させることにより、第１の加工対象物５５Ａの表面において、パルスレーザビームＬＢ１の入射位置を移動させることができる。   The pulse laser beam LB1 that has passed through the beam scanner 32A passes through the objective lens 33A and enters the first workpiece 55A. For example, an fθ lens is used as the objective lens 33A. The opening of the aperture 12 is reduced and projected onto the surface of the first workpiece 55A by the objective lens 33A. By operating the beam scanner 32A, the incident position of the pulse laser beam LB1 can be moved on the surface of the first workpiece 55A.

第１のステージ５０Ａ及び第２のステージ５０Ｂに、それぞれ第１の測定器５１Ａ及び第２の測定器５１Ｂが取り付けられている。第１のステージ５０Ａ及びビーム走査器３２Ａを動作させることにより、パルスレーザビームＬＢ１を第１の測定器５１Ａに入射させることができる。同様に、第２のステージ５０Ｂ及びビーム走査器３２Ｂを動作させることにより、パルスレーザビームＬＢ２を第２の測定器５１Ｂに入射させることができる。第１の測定器５１Ａ及び第２の測定器５１Ｂには、例えばパルスレーザビームの平均パワーを測定するパワーメータが用いられる。   A first measuring instrument 51A and a second measuring instrument 51B are attached to the first stage 50A and the second stage 50B, respectively. By operating the first stage 50A and the beam scanner 32A, the pulse laser beam LB1 can be incident on the first measuring device 51A. Similarly, by operating the second stage 50B and the beam scanner 32B, the pulse laser beam LB2 can be incident on the second measuring device 51B. For the first measuring instrument 51A and the second measuring instrument 51B, for example, a power meter that measures the average power of the pulse laser beam is used.

第２の導光光学系３０Ｂの構成は、第１の導光光学系３０Ａと同一であり、折り返しミラー３１Ｂ、ビーム走査器３２Ｂ、及び対物レンズ３３Ｂを含む。   The configuration of the second light guide optical system 30B is the same as that of the first light guide optical system 30A, and includes a folding mirror 31B, a beam scanner 32B, and an objective lens 33B.

図２Ａに、音響光学素子１４と、パルスレーザビームの経路との関係を示す。音響光学素子１４に、アパーチャ１２（図１）を透過したパルスレーザビームＬＢ０が入射する。音響光学素子１４へのパルスレーザビームＬＢ０の入射角をθで表す。音響光学素子１４は、制御装置４０から制御されることにより、入射したパルスレーザビームＬＢ０を、ダンパ経路２０、第１の加工経路２１Ａ、及び第２の加工経路２１Ｂから選択された１つの経路に出力する。   FIG. 2A shows the relationship between the acoustooptic device 14 and the path of the pulsed laser beam. The pulsed laser beam LB0 that has passed through the aperture 12 (FIG. 1) is incident on the acoustooptic device 14. The angle of incidence of the pulsed laser beam LB0 on the acoustooptic device 14 is represented by θ. The acoustooptic device 14 is controlled by the control device 40, and the incident pulse laser beam LB0 is transmitted to one path selected from the damper path 20, the first processing path 21A, and the second processing path 21B. Output.

姿勢調整機構１５が、制御装置４０から制御されて、入射角θが変化する向きに音響光学素子１４の姿勢を変化させる。   The attitude adjustment mechanism 15 is controlled by the control device 40 to change the attitude of the acousto-optic element 14 in the direction in which the incident angle θ changes.

図２Ｂに、音響光学素子１４に入射するパルスレーザビームＬＢ０、第１の加工経路２１Ａに出力されるパルスレーザビームＬＢ１、第２の加工経路２１Ｂに出力されるパルスレーザビームＬＢ２、及びダンパ経路２０に出力されるパルスレーザビームＬＢ３の波形の一例を示す。   2B shows a pulse laser beam LB0 incident on the acoustooptic device 14, a pulse laser beam LB1 output to the first processing path 21A, a pulse laser beam LB2 output to the second processing path 21B, and a damper path 20. Shows an example of the waveform of the pulsed laser beam LB3 output in FIG.

時刻ｔ１において、パルスレーザビームＬＢ０が立ち上がる。この時点では、音響光学素子１４は、入射するパルスレーザビームＬＢ０をダンパ経路２０に出力する状態に設定されている。時刻ｔ２において、パルスレーザビームが第１の加工経路２１Ａに出力されるように、制御装置４０が音響光学素子１４に指令を送出する。これにより、第１の加工経路２１Ａに出力されるパルスレーザビームＬＢ１が立ち上がる。同時に、ダンパ経路２０に出力されていたパルスレーザビームＬＢ３が立ち下がる。   At time t1, the pulse laser beam LB0 rises. At this time, the acoustooptic device 14 is set to output the incident pulse laser beam LB0 to the damper path 20. At time t2, the control device 40 sends a command to the acoustooptic device 14 so that the pulse laser beam is output to the first machining path 21A. Thereby, the pulse laser beam LB1 output to the first processing path 21A rises. At the same time, the pulse laser beam LB3 output to the damper path 20 falls.

時刻ｔ３において、パルスレーザビームが第２の加工経路２１Ｂに出力されるように、制御装置４０が音響光学素子１４に指令を送出する。これにより、第２の加工経路２１Ｂに出力されるパルスレーザビームＬＢ２が立ち上がる。同時に、第１の加工経路２１Ａに出力されていたパルスレーザビームＬＢ１が立ち下がる。   At time t3, the control device 40 sends a command to the acoustooptic device 14 so that the pulse laser beam is output to the second machining path 21B. Thereby, the pulse laser beam LB2 output to the second processing path 21B rises. At the same time, the pulse laser beam LB1 output to the first processing path 21A falls.

時刻ｔ４において、パルスレーザビームがダンパ経路２０に出力されるように、制御装置４０が音響光学素子１４に指令を送出する。これにより、ダンパ経路２０に出力されるパルスレーザビームＬＢ３が立ち上がる。同時に、第２の加工経路２１Ｂに出力されていたパルスレーザビームＬＢ２が立ち下がる。   At time t4, the control device 40 sends a command to the acoustooptic device 14 so that the pulsed laser beam is output to the damper path 20. As a result, the pulse laser beam LB3 output to the damper path 20 rises. At the same time, the pulse laser beam LB2 output to the second processing path 21B falls.

図２Ｂに示したように、レーザ光源１０（図１）から出力されたパルスレーザビームＬＢ０の１つのレーザパルスから、パルスレーザビームＬＢ１、ＬＢ２を構成する２つのレーザパルスを切り出し、それぞれ第１の加工対象物５５Ａ及び第２の加工対象物５５Ｂに入射させることができる。音響光学素子１４を切り替えるタイミングを調整することにより、パルスレーザビームＬＢ１、ＬＢ２のパルス幅を調整することができる。   As shown in FIG. 2B, two laser pulses constituting the pulse laser beams LB1 and LB2 are cut out from one laser pulse of the pulse laser beam LB0 output from the laser light source 10 (FIG. 1), and each of the first laser pulses is extracted. The light can enter the processing object 55A and the second processing object 55B. By adjusting the timing for switching the acoustooptic device 14, the pulse widths of the pulse laser beams LB1 and LB2 can be adjusted.

図３に、音響光学素子１４（図２）へのパルスレーザビームＬＢ０の入射角θと、第１の加工経路２１Ａ及び第２の加工経路２１Ｂに出力されたパルスレーザビームＬＢ１、ＬＢ２の平均パワーとの関係を示す。横軸は、入射角θを表し、縦軸はパルスレーザビームＬＢ１、ＬＢ２の平均パワーを表す。なお、パルスレーザビームＬＢ１とＬＢ２とのパルス幅は同一である。パルスレーザビームＬＢ１、ＬＢ２の平均パワーは、第１の測定器５１Ａ及び第２の測定器５１Ｂで測定することができる。   FIG. 3 shows the incident angle θ of the pulse laser beam LB0 on the acoustooptic device 14 (FIG. 2) and the average power of the pulse laser beams LB1 and LB2 output to the first processing path 21A and the second processing path 21B. Shows the relationship. The horizontal axis represents the incident angle θ, and the vertical axis represents the average power of the pulse laser beams LB1 and LB2. The pulse widths of the pulse laser beams LB1 and LB2 are the same. The average power of the pulse laser beams LB1 and LB2 can be measured by the first measuring device 51A and the second measuring device 51B.

入射角θが目標値θ０に一致するとき、パルスレーザビームＬＢ１、ＬＢ２の平均パワーが最大になる。両者の最大値はほぼ等しい。入射角θが目標値θ０からずれると、パルスレーザビームＬＢ１及びＬＢ２の平均パワーが低下する。ただし、両者の低下の程度は異なる。このため、パルスレーザビームＬＢ１とＬＢ２との平均パワーに差が生じてしまう。 When the incident angle theta is equal to the target value theta 0, the average power of the pulsed laser beam LB1, LB2 is maximized. The maximum value of both is almost equal. The incident angle theta deviates from the target value theta 0, the average power of the pulsed laser beam LB1 and LB2 is lowered. However, the degree of decline of both is different. For this reason, a difference occurs in the average power between the pulse laser beams LB1 and LB2.

図４に、実施例によるレーザ加工装置の音響光学素子１４の姿勢を調整する手順のフローチャートを示す。ステップＳ１において、レーザ光源１０から出力されるパルスレーザビームが第１の測定器５１Ａ及び第２の測定器５１Ｂに入射するように、ビーム走査器３２Ａ、３２Ｂ、及び第１のステージ５０Ａ、第２のステージ５０Ｂを制御する。   FIG. 4 shows a flowchart of a procedure for adjusting the posture of the acousto-optic element 14 of the laser processing apparatus according to the embodiment. In step S1, the beam scanners 32A, 32B, the first stage 50A, the second stage 50A, the second stage 51A, the second stage 51A, and the second stage 51A, so that the pulse laser beam output from the laser light source 10 enters the first measuring instrument 51A and the second measuring instrument 51B. The stage 50B is controlled.

ステップＳ２において、レーザ光源１０からパルスレーザビームＬＢ０を出力する。ステップＳ３において、図２Ｂに示したように、パルスレーザビームＬＢ０から一部分を切り出し、第１の加工経路２１Ａ及び第２の加工経路２１Ｂに、それぞれパルスレーザビームＬＢ１、ＬＢ２を出力する。ステップＳ４において、第１の測定器５１Ａ及び第２の測定器５１Ｂで、それぞれパルスレーザビームＬＢ１、ＬＢ２の平均パワーを測定する。測定結果が、制御装置４０（図１）に入力される。   In step S2, the pulsed laser beam LB0 is output from the laser light source 10. In step S3, as shown in FIG. 2B, a part is cut out from the pulse laser beam LB0, and the pulse laser beams LB1 and LB2 are output to the first processing path 21A and the second processing path 21B, respectively. In step S4, the average power of the pulse laser beams LB1 and LB2 is measured by the first measuring device 51A and the second measuring device 51B, respectively. The measurement result is input to the control device 40 (FIG. 1).

ステップＳ５において、パルスレーザビームＬＢ１及びパルスレーザビームＬＢ２の平均パワーの差（２軸の平均パワーの差）を算出する。平均パワーの差が許容上限値以下であるか否かを判定する。２軸の平均パワーの差が許容上限値を超えている場合には、ステップＳ６において、制御装置４０が姿勢調整機構１５（図２）を制御することにより、音響光学素子１４の姿勢を調整する。具体的には、音響光学素子１４へのパルスレーザビームＬＢ０の入射角θを増減させる。例えば、入射角θの変化角は、予め決められている。入射角θを増加させるか減少させるか決められない場合には、増加か減少かのいずれかを任意に選択する。   In step S5, the difference between the average powers of the pulse laser beam LB1 and the pulse laser beam LB2 (the difference between the two axes of average power) is calculated. It is determined whether or not the difference in average power is less than or equal to the allowable upper limit value. If the difference between the average powers of the two axes exceeds the allowable upper limit value, the control device 40 adjusts the attitude of the acousto-optic element 14 by controlling the attitude adjustment mechanism 15 (FIG. 2) in step S6. . Specifically, the incident angle θ of the pulse laser beam LB0 to the acoustooptic device 14 is increased or decreased. For example, the change angle of the incident angle θ is determined in advance. If it is not possible to increase or decrease the incident angle θ, either increase or decrease is arbitrarily selected.

音響光学素子１４の姿勢を調整した後、ステップＳ４に戻って、パルスレーザビームＬＢ１、ＬＢ２の平均パワーを再測定する。   After adjusting the posture of the acoustooptic device 14, the process returns to step S4, and the average power of the pulse laser beams LB1 and LB2 is measured again.

ステップＳ５において、平均パワーの差が許容上限値以下であると判定された場合には、音響光学素子１４の姿勢の調整手順を終了する。   If it is determined in step S5 that the average power difference is equal to or smaller than the allowable upper limit value, the procedure for adjusting the posture of the acoustooptic device 14 is terminated.

一般的に、音響光学素子１４の姿勢を変化させるときの入射角θの変化量は、高々０．１°である。このため、音響光学素子１４の姿勢を調整しても、第１の加工経路２１Ａ及び第２の加工経路２１Ｂの方向は、殆ど変化しない。従って、音響光学素子１４の姿勢を変化させても、音響光学素子１４より後段の光学系の光軸を再調整する必要はない。   In general, the amount of change in the incident angle θ when changing the posture of the acoustooptic device 14 is at most 0.1 °. For this reason, even if the attitude | position of the acoustooptic device 14 is adjusted, the direction of the 1st process path | route 21A and the 2nd process path | route 21B hardly changes. Therefore, even if the attitude of the acoustooptic element 14 is changed, it is not necessary to readjust the optical axis of the optical system subsequent to the acoustooptic element 14.

図３に示したように、２軸の平均パワーの差は、入射角θの目標値θ０からのずれ量に依存する。２軸の平均パワーの差と、入射角θの目標値θ０からのずれ量との対応関係を予め求めておいてもよい。この対応関係が制御装置４０に記憶される。制御装置４０は、ステップＳ６（図４）において、２軸の平均パワーの差と、この対応関係とから、音響光学素子１４の入射角の修正量を推定することができる。 As shown in FIG. 3, the difference between the average power of the two axes is dependent on the amount of deviation from the target value theta 0 of the incident angle theta. The difference between the average power of the two axes, the correspondence between the amount of deviation from the target value theta 0 of the incident angle theta may be obtained in advance. This correspondence relationship is stored in the control device 40. In step S6 (FIG. 4), the control device 40 can estimate the correction amount of the incident angle of the acoustooptic element 14 from the difference between the average powers of the two axes and this correspondence.

上記実施例では、第１の加工経路２１Ａに出力されるパルスレーザビームＬＢ１と、第２の加工経路２１Ｂに出力されるパルスレーザビームＬＢ２との平均パワーを自動的に一致させることができる。このため、２軸の平均パワーの差が許容上限値を超えた時の再調整時間を短縮し、生産性の低下を回避することができる。   In the above embodiment, the average power of the pulse laser beam LB1 output to the first processing path 21A and the pulse laser beam LB2 output to the second processing path 21B can be automatically matched. For this reason, the readjustment time when the difference between the average powers of the two axes exceeds the allowable upper limit value can be shortened, and a decrease in productivity can be avoided.

上記実施例では、第１の測定器５１Ａ及び第２の測定器５１Ｂで、それぞれパルスレーザビームＬＢ１、ＬＢ２の平均パワーを測定した。平均パワーに代えて、１パルスあたりのエネルギを測定してもよい。この場合には、１パルスあたりのエネルギの差に基づいて、音響光学素子１４の姿勢を調整すればよい。   In the said Example, the average power of pulse laser beam LB1 and LB2 was measured with the 1st measuring device 51A and the 2nd measuring device 51B, respectively. Instead of the average power, the energy per pulse may be measured. In this case, the posture of the acoustooptic device 14 may be adjusted based on the energy difference per pulse.

以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。   Although the present invention has been described with reference to the embodiments, the present invention is not limited thereto. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications, improvements, combinations, and the like can be made.

１０ レーザ光源
１１ ビームエキスパンダ
１２ アパーチャ
１４ 音響光学素子
１５ 姿勢調整機構
２０ ダンパ経路
２１Ａ 第１の加工経路
２１Ｂ 第２の加工経路
２５ ビームダンパ
３０Ａ 第１の導光光学系
３０Ｂ 第２の導光光学系
３１Ａ、３１Ｂ 折り返しミラー
３２Ａ、３２Ｂ ビーム走査器
３３Ａ、３３Ｂ 対物レンズ
４０ 制御装置
５０Ａ 第１のステージ
５０Ｂ 第２のステージ
５１Ａ 第１の測定器
５１Ｂ 第２の測定器
５５Ａ 第１の加工対象物
５５Ｂ 第２の加工対象物 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Laser light source 11 Beam expander 12 Aperture 14 Acousto-optic device 15 Attitude adjustment mechanism 20 Damper path | route 21A 1st process path | route 21B 2nd process path | route 25 Beam damper 30A 1st light guide optical system 30B 2nd light guide optical system 31A, 31B Folding mirrors 32A, 32B Beam scanners 33A, 33B Objective lens 40 Controller 50A First stage 50B Second stage 51A First measuring instrument 51B Second measuring instrument 55A First workpiece 55B First processing object 55B 2 processing object

Claims (3)

レーザビームを出力するレーザ光源と、
前記レーザ光源から出力されたレーザビームを、第１の加工経路及び第２の加工経路の一方の経路に出力する音響光学素子と、
前記第１の加工経路に出力された前記レーザビームのパワーまたはエネルギを測定する第１の測定器と、
前記第２の加工経路に出力された前記レーザビームのパワーまたはエネルギを測定する第２の測定器と、
前記音響光学素子への前記レーザビームの入射角が変化するように、前記音響光学素子の姿勢を変化させる姿勢調整機構と、
前記第１の測定器及び前記第２の測定器の測定結果に基づいて、前記姿勢調整機構を制御するとともに、前記第１の加工経路及び前記第２の加工経路のうち、前記レーザビームを出力させる経路を前記音響光学素子に指令する制御装置と
を有するレーザ加工装置。 A laser light source for outputting a laser beam;
An acoustooptic device that outputs a laser beam output from the laser light source to one of a first processing path and a second processing path;
A first measuring device for measuring the power or energy of the laser beam output to the first processing path;
A second measuring device for measuring the power or energy of the laser beam output to the second processing path;
A posture adjusting mechanism that changes the posture of the acoustooptic device so that the incident angle of the laser beam to the acoustooptic device changes;
Based on the measurement results of the first measuring device and the second measuring device, the posture adjustment mechanism is controlled, and the laser beam is output from the first processing path and the second processing path. And a control device that commands the acoustooptic device to make a path to be operated. 前記制御装置は、第１の測定器の測定結果と、前記第２の測定器の測定結果との差が許容上限値を超えたら、前記許容上限値より小さくなるまで前記音響光学素子の姿勢を変化させる請求項１に記載のレーザ加工装置。   When the difference between the measurement result of the first measuring instrument and the measurement result of the second measuring instrument exceeds the allowable upper limit value, the control device adjusts the attitude of the acousto-optic element until it becomes smaller than the allowable upper limit value. The laser processing apparatus according to claim 1 to be changed. さらに、
前記第１の加工経路に出力された前記レーザビームが入射する位置に第１の加工対象物を保持する第１のステージと、
前記第１の加工対象物の表面において、前記第１の加工経路に出力された前記レーザビームの入射位置を移動させる第１のビーム走査器と、
前記第２の加工経路に出力された前記レーザビームが入射する位置に第２の加工対象物を保持する第２のステージと、
前記第２の加工対象物の表面において、前記第２の加工経路に出力された前記レーザビームの入射位置を移動させる第２のビーム走査器と
を有し、
前記第１の測定器が、前記第１のステージに取り付けられており、
前記第２の測定器が、前記第２のステージに取り付けられている請求項１または２に記載のレーザ加工装置。 further,
A first stage for holding a first workpiece at a position where the laser beam output to the first machining path is incident;
A first beam scanner that moves an incident position of the laser beam output to the first processing path on the surface of the first processing object;
A second stage for holding a second object to be processed at a position where the laser beam output to the second processing path is incident;
A second beam scanner for moving an incident position of the laser beam output to the second processing path on the surface of the second processing object;
The first measuring instrument is attached to the first stage;
The laser processing apparatus according to claim 1, wherein the second measuring device is attached to the second stage.
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