JP2015184410A - Optically anisotropic hard coat transfer film and manufacturing method thereof, and touch panel and manufacturing method thereof - Google Patents

Optically anisotropic hard coat transfer film and manufacturing method thereof, and touch panel and manufacturing method thereof Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: an optically anisotropic hard coat transfer film which has excellent scratch resistance and small thickness and can decrease rainbow unevenness and blackouts in a touch panel-equipped display; a manufacturing method thereof; a touch panel with decreased rainbow unevenness and blackouts; and a manufacturing method thereof.SOLUTION: An optically anisotropic hard coat transfer film comprises, on one surface of a temporary support, at least one hard coat layer and at least one optically anisotropic layer.

Description

本発明は、光学異方性ハードコート転写フィルムおよびその製造方法、並びにタッチパネルおよびその製造方法に関する。   The present invention relates to an optically anisotropic hard coat transfer film and a manufacturing method thereof, and a touch panel and a manufacturing method thereof.

近年、ディスプレイ画面に触れることで情報入力が可能なタッチパネルを搭載した画像表示装置(例えば、携帯情報端末及び携帯電話)が急速に普及している。タッチパネルディスプレイの厚さを薄くすることは最近の開発の傾向である。   In recent years, image display devices (for example, portable information terminals and mobile phones) equipped with a touch panel capable of inputting information by touching a display screen are rapidly spreading. Reducing the thickness of the touch panel display is a recent development trend.

特許文献1には、基材の上に、少なくともハードコート層と接着層とをこの順に積層してなるハードコート層転写シートであって、ハードコート層が感光性基を設けたシリカを使用したアクリル−シリカハイブリッド樹脂からなり、接着層にシランカップリング剤を含有することを特徴とするハードコート層転写シートが記載されている。   Patent Document 1 is a hard coat layer transfer sheet obtained by laminating at least a hard coat layer and an adhesive layer in this order on a substrate, and the hard coat layer uses silica provided with a photosensitive group. A hard coat layer transfer sheet comprising an acrylic-silica hybrid resin and containing a silane coupling agent in the adhesive layer is described.

特許文献2には、透光性保護フィルムと、液晶層からなる光学異方素子と、偏光素子と、透光性保護フィルムとが、この順に積層されている楕円偏光板が記載されており、特に光学異方素子としてλ/4位相差板を使用することが記載されている。   Patent Document 2 describes an elliptically polarizing plate in which a translucent protective film, an optical anisotropic element composed of a liquid crystal layer, a polarizing element, and a translucent protective film are laminated in this order, In particular, it is described that a λ / 4 retardation plate is used as an optical anisotropic element.

特開2011−83912号公報JP 2011-83912 A 特開2009−186659号公報JP 2009-186659 A

上記の通りタッチパネルディスプレイの厚さを薄くすることが要求されているが、タッチセンサーを保護するためのハードコートフィルムの厚さを薄くすると、加工や貼合時にシワが発生しやすくなるという問題がある。
また、スマートフォン、タブレット、車載カーナビゲーション及び自動販売機等のタッチパネル搭載ディスプレイの急速な普及に伴い、屋外での利用が増加している。このため、偏光特性を有するサングラスを掛けたまま、タッチパネル搭載ディスプレイを観察する機会が増えており、干渉色が見える虹ムラの問題や、見る角度によって画像が黒くなるブラックアウトの問題が近年注目されている。
As mentioned above, it is required to reduce the thickness of the touch panel display, but if the thickness of the hard coat film for protecting the touch sensor is reduced, wrinkles are likely to occur during processing and bonding. is there.
In addition, with the rapid spread of touch panel-mounted displays such as smartphones, tablets, in-vehicle car navigation systems, and vending machines, outdoor use is increasing. For this reason, there are increasing opportunities to observe touch panel mounted displays while wearing sunglasses with polarization characteristics, and the problem of rainbow unevenness where interference colors appear and the problem of blackout where the image becomes black depending on the viewing angle have recently attracted attention. ing.

上記した特許文献1には、仮支持体上に形成したハードコート層を転写する方法が提案されているが、ブラックアウトの問題を解決することができないという問題がある。また、特許文献2は、虹ムラおよびブラックアウトの問題を低減するものではあるが、耐傷性を付与することはできない。
本発明は、耐傷性に優れ、厚さが薄く、かつタッチパネル搭載ディスプレイにおける虹ムラおよびブラックアウトを低減することができる光学異方性ハードコート転写フィルムおよびその製造方法を提供することを解決すべき課題とした。さらに本発明は、虹ムラおよびブラックアウトを低減したタッチパネルおよびその製造方法を提供することを解決すべき課題とした。
Patent Document 1 described above proposes a method for transferring a hard coat layer formed on a temporary support, but has a problem that the blackout problem cannot be solved. Moreover, although patent document 2 reduces the problem of a rainbow nonuniformity and blackout, it cannot provide scratch resistance.
The present invention should solve the problem of providing an optically anisotropic hard coat transfer film having excellent scratch resistance, thin thickness, and capable of reducing rainbow unevenness and blackout in a touch panel mounted display, and a method for producing the same. It was an issue. Furthermore, this invention made it the subject which should be solved to provide the touchscreen which reduced the rainbow nonuniformity and blackout, and its manufacturing method.

本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、仮支持体の一方の表面上にハードコート層および光学異方層を有する光学異方性ハードコート転写フィルムを使用した場合には、耐傷性に優れ、かつタッチパネル搭載ディスプレイにおける虹ムラおよびブラックアウトを低減できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
具体的に、本発明は、以下の構成を有する。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have used an optically anisotropic hardcoat transfer film having a hardcoat layer and an optically anisotropic layer on one surface of a temporary support. Has found that it is excellent in scratch resistance and can reduce rainbow unevenness and blackout in a display equipped with a touch panel, and has completed the present invention.
Specifically, the present invention has the following configuration.

<1> 仮支持体の一方の表面上に、少なくとも1層のハードコート層と少なくとも1層の光学異方層とを有する、光学異方性ハードコート転写フィルム。
<2> 光学異方層の波長550nmにおける面内方向のリタデーションReが40〜240nmである、<1>に記載の光学異方性ハードコート転写フィルム;
但し、光学異方層の面内遅相軸方向の屈折率をnx、面内進相軸方向の屈折率をny、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をdとすると、面内方向のリタデーションRe=(nx−ny)×dで表される。
<3> 仮支持体、ハードコート層および光学異方層がこの順に積層している、<1>または<2>に記載の光学異方性ハードコート転写フィルム。
<4> 仮支持体およびハードコート層が互いに隣接して積層している、<1>〜<3>のいずれかに記載の光学異方性ハードコート転写フィルム。
<5> 仮支持体と光学異方層との間に少なくとも1層の配向層を有し、配向層と光学異方層が互いに隣接して積層している、<1>〜<4>のいずれかに記載の光学異方性ハードコート転写フィルム。
<6> 仮支持体、ハードコート層、配向層および光学異方層がこの順で互いに隣接して積層している、<5>に記載の光学異方性ハードコート転写フィルム。
<7> 仮支持体側と反対側の最表面に粘着層を有する、<1>〜<6>のいずれかに記載の光学異方性ハードコート転写フィルム。
<8> 仮支持体上にハードコート層用塗工液、および光学異方層用塗工液を塗布する工程を含む、<1>〜<7>のいずれかに記載の光学異方性ハードコート転写フィルムの製造方法。
<9>少なくとも1層のハードコート層、少なくとも1層の光学異方層、粘着層およびタッチセンサーを有し、タッチセンサーの波長550nmにおける40度方向のリタデーションRe40が、0〜1000nmであるタッチパネル;
ただし、リタデーションRe40は、面内の遅相軸を回転軸として面内の法線方向に対して±40度タッチセンサーを傾斜させた時のリタデーションReの平均値を表し、光学異方層の面内遅相軸方向の屈折率をnx、面内進相軸方向の屈折率をny、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をdとすると、面内方向のリタデーションRe=(nx−ny)×dで表される。
<10> 光学異方層の波長550nmにおける面内方向のリタデーションReが、40〜240nmである、<9>に記載のタッチパネル;
ただし、光学異方層の面内遅相軸方向の屈折率をnx、面内進相軸方向の屈折率をny、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をdとすると、面内方向のリタデーションRe=(nx−ny)×dで表される。
<11> タッチセンサー、光学異方層およびハードコート層がこの順に積層している、<9>または<10>に記載のタッチパネル。
<12> ハードコート層が最表面層である、<9>〜<11>のいずれかに記載のタッチパネル。
<13> 光学異方層のタッチセンサー側と反対側に少なくとも1つの配向層を有し、配向層と光学異方層が互いに隣接して積層している、<9>〜<12>のいずれかに記載のタッチパネル。
<14> タッチセンサー、粘着層、光学異方層、配向層およびハードコート層がこの順で互いに隣接して積層している、<13>に記載のタッチパネル。
<15> タッチパネル上に、<1>〜<7>のいずれかに記載の光学異方性ハードコート転写フィルムを転写することによって製造される、<9>〜<14>のいずれかに記載のタッチパネル。
<16> <1>〜<6>のいずれかに記載の光学異方性ハードコート転写フィルムの仮支持体側と反対側の最表面に粘着層を形成する工程と、粘着層を介してハードコート転写フィルムをタッチセンサーに転写する工程と、仮支持体を剥離する工程とを含む、タッチパネルの製造方法。
<17> <7>に記載の光学異方性ハードコート転写フィルムをタッチセンサーに転写する工程と、仮支持体を剥離する工程とを含む、タッチパネルの製造方法。
<1> An optically anisotropic hard coat transfer film having at least one hard coat layer and at least one optical anisotropic layer on one surface of the temporary support.
<2> The optically anisotropic hard coat transfer film according to <1>, wherein the in-plane retardation Re of the optically anisotropic layer at a wavelength of 550 nm is 40 to 240 nm;
However, when the refractive index in the in-plane slow axis direction of the optical anisotropic layer is nx, the refractive index in the in-plane fast axis direction is ny, the refractive index in the thickness direction is nz, and the film thickness is d, the in-plane direction Retardation Re = (nx−ny) × d.
<3> The optically anisotropic hard coat transfer film according to <1> or <2>, wherein the temporary support, the hard coat layer, and the optically anisotropic layer are laminated in this order.
<4> The optically anisotropic hard coat transfer film according to any one of <1> to <3>, wherein the temporary support and the hard coat layer are laminated adjacent to each other.
<5> At least one orientation layer is provided between the temporary support and the optically anisotropic layer, and the orientation layer and the optically anisotropic layer are laminated adjacent to each other, <1> to <4> The optically anisotropic hard coat transfer film according to any one of the above.
<6> The optically anisotropic hardcoat transfer film according to <5>, wherein the temporary support, the hardcoat layer, the alignment layer, and the optically anisotropic layer are laminated adjacent to each other in this order.
<7> The optically anisotropic hard coat transfer film according to any one of <1> to <6>, having an adhesive layer on the outermost surface opposite to the temporary support.
<8> The optically anisotropic hard according to any one of <1> to <7>, comprising a step of applying a hard coat layer coating solution and an optical anisotropic layer coating solution on a temporary support. A method for producing a coat transfer film.
<9> A touch panel having at least one hard coat layer, at least one optically anisotropic layer, an adhesive layer, and a touch sensor, and having a 40 degree retardation Re40 of 0 to 1000 nm at a wavelength of 550 nm of the touch sensor;
Retardation Re40 represents the average value of retardation Re when the touch sensor is tilted ± 40 degrees with respect to the normal direction in the plane with the in-plane slow axis as the rotation axis, and the surface of the optical anisotropic layer When the refractive index in the inner slow axis direction is nx, the refractive index in the in-plane fast axis direction is ny, the refractive index in the thickness direction is nz, and the film thickness is d, the retardation in the in-plane direction Re = (nx−ny) Xd.
<10> The touch panel according to <9>, wherein the in-plane retardation Re of the optically anisotropic layer at a wavelength of 550 nm is 40 to 240 nm;
However, when the refractive index in the in-plane slow axis direction of the optical anisotropic layer is nx, the refractive index in the in-plane fast axis direction is ny, the refractive index in the thickness direction is nz, and the film thickness is d, the in-plane direction Retardation Re = (nx−ny) × d.
<11> The touch panel according to <9> or <10>, wherein the touch sensor, the optically anisotropic layer, and the hard coat layer are laminated in this order.
<12> The touch panel according to any one of <9> to <11>, wherein the hard coat layer is an outermost surface layer.
<13> Any one of <9> to <12>, wherein the optical anisotropic layer has at least one alignment layer on the side opposite to the touch sensor side, and the alignment layer and the optical anisotropic layer are laminated adjacent to each other. The touch panel as described in Crab.
<14> The touch panel according to <13>, wherein the touch sensor, the adhesive layer, the optically anisotropic layer, the alignment layer, and the hard coat layer are laminated adjacent to each other in this order.
<15> The method according to any one of <9> to <14>, which is produced by transferring the optically anisotropic hard coat transfer film according to any one of <1> to <7> on a touch panel. Touch panel.
<16> A step of forming an adhesive layer on the outermost surface opposite to the temporary support side of the optically anisotropic hard coat transfer film according to any one of <1> to <6>, and a hard coat via the adhesive layer A method for manufacturing a touch panel, comprising: a step of transferring a transfer film to a touch sensor; and a step of peeling a temporary support.
<17> A method for producing a touch panel, comprising a step of transferring the optically anisotropic hard coat transfer film according to <7> to a touch sensor and a step of peeling the temporary support.

本発明によれば、耐傷性に優れ、厚さが薄く、かつタッチパネル搭載ディスプレイにおける虹ムラおよびブラックアウトを低減することができる、光学異方性ハードコート転写フィルムおよびその製造方法が提供される。さらに本発明によれば、虹ムラおよびブラックアウトを低減したタッチパネルおよびその製造方法が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the optically anisotropic hard coat transfer film which is excellent in damage resistance, is thin, and can reduce the rainbow nonuniformity and blackout in a touch panel mounting display, and its manufacturing method are provided. Furthermore, according to this invention, the touchscreen which reduced the rainbow nonuniformity and the blackout, and its manufacturing method are provided.

本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the optically anisotropic hard coat transfer film of this invention. 本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムの他の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows another example of the optically anisotropic hard coat transfer film of this invention. 本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムの他の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows another example of the optically anisotropic hard coat transfer film of this invention. 本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムの他の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows another example of the optically anisotropic hard coat transfer film of this invention. 本発明のタッチパネルの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the touchscreen of this invention. 本発明のタッチパネルの実施形態の断面図である。It is sectional drawing of embodiment of the touchscreen of this invention. 本発明のタッチパネルの他の実施形態の断面図である。It is sectional drawing of other embodiment of the touchscreen of this invention. タッチセンサーの一実施形態を示す平面図である。It is a top view which shows one Embodiment of a touch sensor. 図8中に示した切断線A−Aに沿って切断した断面図である。It is sectional drawing cut | disconnected along the cutting line AA shown in FIG. 第1検出電極の拡大平面図である。It is an enlarged plan view of a 1st detection electrode. 極角と方位角との関係を示す概略図である。It is the schematic which shows the relationship between a polar angle and an azimuth.

以下において、本発明について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、代表的な実施形態や具体例に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は「〜」前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
Reは、面内方向のレタデーションを表し、Re40は、40度方向のレタデーションを表す。40度方向のレタデーションとは、より具体的には、面内の遅相軸を回転軸として面内の法線方向に対して±40度サンプルを傾斜させたときのレターデーションの平均値である。ReおよびRe40はKOBRA 21ADH、またはWR(王子計測機器(株)製)において、フィルム法線方向に光を入射することで測定できる。
また、本明細書において、角度(例えば「90°」等の角度)、およびその関係(例えば「直交」、「平行」等)については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。この時、許容される誤差としては、例えば、厳密な角度±5°未満の範囲内であることなどを意味し、具体的に厳密な角度との誤差は、3°以下であることが好ましい。より具体的には、直交とは90°±5°を意図し、平行とは0°±5°を意図する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. The description of the constituent elements described below may be made based on representative embodiments and specific examples, but the present invention is not limited to such embodiments. In the present specification, a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
Re represents retardation in the in-plane direction, and Re40 represents retardation in the 40 degree direction. More specifically, the retardation in the direction of 40 degrees is an average value of retardation when the sample is inclined ± 40 degrees with respect to the normal direction in the plane with the in-plane slow axis as the rotation axis. . Re and Re40 can be measured by making light incident in the normal direction of the film in KOBRA 21ADH or WR (manufactured by Oji Scientific Instruments).
Further, in this specification, an angle (for example, an angle such as “90 °”) and a relationship thereof (for example, “orthogonal”, “parallel”, etc.) are within an allowable error range in the technical field to which the present invention belongs. Shall be included. At this time, the allowable error means, for example, that it is within a range of a strict angle ± 5 ° or less, and the error from the strict angle is preferably 3 ° or less. More specifically, orthogonal means 90 ° ± 5 °, and parallel means 0 ° ± 5 °.

(光学異方性ハードコート転写フィルム)
本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムは、仮支持体の一方の表面上に、少なくとも1層のハードコート層と少なくとも1層の光学異方層とを有することを特徴とする。
本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムは、ハードコート層を有することで耐傷性に優れ、また光学異方層を有することで、タッチパネル搭載ディスプレイにおける虹ムラおよびブラックアウトを低減できるようになる。
また、本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムにおいては、ハードコート層と光学異方層を一つの仮支持体上に設けた転写フィルムとすることで、光学異方性転写フィルムとハードコート転写フィルムをそれぞれ貼合する場合に比べて、転写工程を1回削減することができる。ここで、光学異方性転写フィルムとは、仮支持体と光学異方層とを有する転写フィルムをいい、ハードコート転写フィルムとは、仮支持体とハードコート層とを有する転写フィルムをいう。
本発明では、光学異方性転写フィルムとハードコート転写フィルムをそれぞれ貼合する場合に必要なハードコート層と光学異方層との間の粘着層は必ずしも必要ではなく、省略することが可能である。その場合、粘着層を介してハードコート層と光学異方層とを積層させた場合と比較して光学異方層が割れにくくなるという利点があり、また、上記光学異方性ハードコート転写フィルムを用いて製造されるタッチパネルの厚さをより薄くすることができる。
本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムにおいては、ハードコート層と光学異方層とを塗布により形成することが好ましく、これによりハードコート層と光学異方層とを密着させることができる。
なお、ハードコート層と光学異方層との間に、上記粘着層とは区別される粘着性を有する薄層を形成し、ハードコート層と光学異方層との密着性を向上させてもよい。なお、上記薄層は塗布により形成することができる。
(Optically anisotropic hard coat transfer film)
The optically anisotropic hard coat transfer film of the present invention has at least one hard coat layer and at least one optical anisotropic layer on one surface of the temporary support.
The optically anisotropic hard coat transfer film of the present invention has excellent scratch resistance by having a hard coat layer, and can reduce rainbow unevenness and blackout in a touch panel mounted display by having an optical anisotropic layer. .
Further, in the optically anisotropic hard coat transfer film of the present invention, the optically anisotropic transfer film and the hard coat can be obtained by forming a hard coat layer and an optically anisotropic layer on one temporary support. The transfer process can be reduced once compared to the case where each transfer film is bonded. Here, the optically anisotropic transfer film refers to a transfer film having a temporary support and an optically anisotropic layer, and the hard coat transfer film refers to a transfer film having a temporary support and a hard coat layer.
In the present invention, the adhesive layer between the hard coat layer and the optically anisotropic layer, which is necessary when laminating the optically anisotropic transfer film and the hardcoat transfer film, respectively, is not necessarily required and can be omitted. is there. In that case, there is an advantage that the optical anisotropic layer is less likely to break compared to the case where the hard coat layer and the optical anisotropic layer are laminated via the adhesive layer, and the optical anisotropic hard coat transfer film described above The thickness of the touch panel manufactured using can be made thinner.
In the optically anisotropic hard coat transfer film of the present invention, the hard coat layer and the optical anisotropic layer are preferably formed by coating, whereby the hard coat layer and the optical anisotropic layer can be adhered to each other.
In addition, even if the adhesiveness of a hard-coat layer and an optically anisotropic layer is formed between the hard-coat layer and an optically anisotropic layer, the adhesive thin layer distinguished from the said adhesive layer is formed, and adhesiveness is improved. Good. The thin layer can be formed by coating.

光学異方性ハードコート転写フィルムの硬度としては、JIS K−5600−5−4に従う鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましい。このような硬度を有することで、タッチパネル用途に有用である。   The hardness of the optically anisotropic hard coat transfer film is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, in a pencil hardness test according to JIS K-5600-5-4. Having such hardness is useful for touch panel applications.

光学異方性ハードコート転写フィルムのうち仮支持体および粘着層を除いた厚さの上限は特に限定されるものではないが、タッチパネルディスプレイの厚さを薄くするというニーズの観点から40μm未満が好ましく、35μm未満がより好ましく、上記厚さの下限は、薄くなりすぎると仮支持体から剥離する際に破れが発生しやすくなるため0.5μm以上が好ましく、5μm以上がより好ましい。   The upper limit of the thickness of the optically anisotropic hard coat transfer film excluding the temporary support and the adhesive layer is not particularly limited, but is preferably less than 40 μm from the viewpoint of the need to reduce the thickness of the touch panel display. The lower limit of the thickness is preferably 0.5 μm or more, more preferably 5 μm or more, because if the thickness is too thin, the film tends to break when peeled from the temporary support.

本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムは、仮支持体、ハードコート層、および光学異方層の間にその他の層を有していてもよい。その他の層としては、配向層等が挙げられる。
以下、光学異方性ハードコート転写フィルムを構成する各層について説明する。
The optically anisotropic hard coat transfer film of the present invention may have other layers between the temporary support, the hard coat layer, and the optically anisotropic layer. Examples of other layers include an alignment layer.
Hereinafter, each layer constituting the optically anisotropic hard coat transfer film will be described.

<仮支持体>
本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムは、仮支持体を有する。本発明で用いる仮支持体は、透明でも不透明でもよく特に限定はない。仮支持体を構成するポリマーの例には、セルロースエステル(例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート)、ポリオレフィン(例、ポリエチレン、ポリプロピレン)、環状オレフィン(例、ノルボルネン系ポリマー、ノルボルネン系コポリマー)、ポリ(メタ)アクリル酸エステル(例、ポリメチルメタクリレート)、ポリカーボネート、ポリエステルおよびポリスルホンが含まれる。製造工程において光学特性を検査する目的には、透明支持体は透明で低複屈折の材料が好ましく、低複屈折性の観点からはセルロースエステルおよび環状オレフィンが好ましい。市販のノルボルネン系ポリマーとしては、アートン(JSR(株)製)、ゼオネックス、ゼオノア(以上、日本ゼオン(株)製)、TOPAS(ポリプラスチックス(株)製)などを用いることができる。また安価なポリカーボネートやポリエチレンテレフタレート等も好ましく用いられる。
仮支持体の厚さは特に限定されないが、一般的には10μm〜1000μmであり、好ましくは10μm〜200μmである。
<Temporary support>
The optically anisotropic hard coat transfer film of the present invention has a temporary support. The temporary support used in the present invention may be transparent or opaque and is not particularly limited. Examples of polymers constituting the temporary support include cellulose esters (eg, cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate), polyolefins (eg, polyethylene, polypropylene), cyclic olefins (eg, norbornene-based polymers, norbornene-based). Copolymer), poly (meth) acrylic acid esters (eg, polymethyl methacrylate), polycarbonate, polyester and polysulfone. For the purpose of inspecting optical properties in the production process, the transparent support is preferably a transparent and low birefringent material, and cellulose ester and cyclic olefin are preferred from the viewpoint of low birefringence. Arton (manufactured by JSR Co., Ltd.), Zeonex, Zeonore (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), TOPAS (manufactured by Polyplastics Co., Ltd.) and the like can be used as commercially available norbornene polymers. Inexpensive polycarbonate, polyethylene terephthalate, and the like are also preferably used.
Although the thickness of a temporary support body is not specifically limited, Generally, they are 10 micrometers-1000 micrometers, Preferably they are 10 micrometers-200 micrometers.

<ハードコート層>
本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムは、仮支持体上に少なくとも1層のハードコート層を有する。ハードコート層は、耐傷性を付与するためのものである。ハードコート層は、以下に記載する第一の態様及び第二の態様のいずれでもよい。
<Hard coat layer>
The optically anisotropic hard coat transfer film of the present invention has at least one hard coat layer on a temporary support. The hard coat layer is for imparting scratch resistance. The hard coat layer may be either the first aspect or the second aspect described below.

<<第一の態様>>
第一の態様のハードコート層は、紫外線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂と光重合開始剤とを含有するハードコート層用組成物を用いて形成されたものである。
<< First Aspect >>
The hard coat layer of the first embodiment is formed using a composition for hard coat layer containing an ionizing radiation curable resin which is a resin curable by ultraviolet rays and a photopolymerization initiator.

電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の1または2以上の不飽和結合等の反応性基を有する化合物を挙げることができ、本発明ではハードコート層がアクリレートを含むことが、光学異方層とハードコート層の湿熱経時後との密着性を向上させる観点から、好ましい。1の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等を挙げることができる。2以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等およびこれらをエチレンオキサイド(EО)等で変性した多官能化合物、または、上記多官能化合物と(メタ)アクリレート等の反応生成物(例えば多価アルコールのポリ(メタ)アクリレートエステル)等を挙げることができる。なお、本明細書において「(メタ)アクリレート」は、メタクリレートおよびアクリレートを指すものである。アクリレートとして好ましい化合物としては、3以上の不飽和結合を有する化合物等が挙げられる。このような化合物を用いると形成するハードコート層の架橋密度を高めることができ、硬度を良好にできる。具体的には、本発明においては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ポリエステル多官能アクリレートオリゴマー(3〜15官能)、ウレタン多官能アクリレートオリゴマー(3〜15官能)等を適宜組み合わせて用いることが好ましく、市販品としては、例えばA−DPH、A−TMMT(ともに新中村化学社製)等が挙げられる。   Examples of the ionizing radiation curable resin include a compound having a reactive group such as one or more unsaturated bonds such as a compound having an acrylate functional group. In the present invention, the hard coat layer is an acrylate. It is preferable from the viewpoint of improving the adhesion between the optically anisotropic layer and the hard coat layer after wet heat aging. Examples of the compound having one unsaturated bond include ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone and the like. Examples of the compound having two or more unsaturated bonds include polymethylolpropane tri (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and the like and ethylene oxide ( A polyfunctional compound modified with EEO) or the like, or a reaction product such as (meth) acrylate with the polyfunctional compound (for example, poly (meth) acrylate ester of polyhydric alcohol) It can gel. In the present specification, “(meth) acrylate” refers to methacrylate and acrylate. Preferred compounds as the acrylate include compounds having 3 or more unsaturated bonds. When such a compound is used, the crosslink density of the hard coat layer to be formed can be increased, and the hardness can be improved. Specifically, in the present invention, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, polyester polyfunctional acrylate oligomer (3 to 15 functional), urethane polyfunctional acrylate oligomer (3 to 15 functional) and the like are used in appropriate combination. Preferred examples of commercially available products include A-DPH and A-TMMT (both manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.).

上記化合物のほかに、不飽和二重結合等の反応性基を有する比較的低分子量(数平均分子量300〜8万、好ましくは400〜5000)のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。なお、この場合の樹脂とは、モノマー以外のダイマー、オリゴマー、ポリマー全てを含む。   In addition to the above compounds, polyester resins, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins having a relatively low molecular weight (number average molecular weight 300 to 80,000, preferably 400 to 5000) having reactive groups such as unsaturated double bonds. Urethane resin, alkyd resin, spiroacetal resin, polybutadiene resin, polythiol polyene resin, and the like can also be used as the ionizing radiation curable resin. The resin in this case includes all dimers, oligomers, and polymers other than monomers.

電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂(熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂)と併用して使用することもできる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができる。電離放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。   The ionizing radiation curable resin should be used in combination with a solvent-drying resin (such as a thermoplastic resin that can be used as a coating only by drying the solvent added to adjust the solid content during coating). You can also. By using the solvent-drying resin in combination, film defects on the coated surface can be effectively prevented. The solvent dry resin that can be used in combination with the ionizing radiation curable resin is not particularly limited, and a thermoplastic resin can be generally used.

熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂およびゴムまたはエラストマー等を挙げることができる。熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒(特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒)に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性の観点から、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体(セルロースエステル類等)等が好ましい。市販品としては、例えば、アクリベースMH−101−5(藤倉化成社製)等が挙げられる。   The thermoplastic resin is not particularly limited. For example, styrene resin, (meth) acrylic resin, vinyl acetate resin, vinyl ether resin, halogen-containing resin, alicyclic olefin resin, polycarbonate resin, polyester resin. And polyamide resins, cellulose derivatives, silicone resins and rubbers or elastomers. The thermoplastic resin is preferably amorphous and soluble in an organic solvent (particularly a common solvent capable of dissolving a plurality of polymers and curable compounds). In particular, from the viewpoints of film forming properties, transparency, and weather resistance, styrene resins, (meth) acrylic resins, alicyclic olefin resins, polyester resins, cellulose derivatives (cellulose esters, etc.) and the like are preferable. As a commercial item, acrylic base MH-101-5 (made by Fujikura Kasei Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.

また、ハードコート層用組成物は、熱硬化性樹脂を含有していてもよい。熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。   Moreover, the composition for hard-coat layers may contain the thermosetting resin. The thermosetting resin is not particularly limited. For example, phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine-urea cocondensation resin , Silicon resin, polysiloxane resin and the like.

光重合開始剤としては特に限定されず、公知のものを用いることができ、例えば、光重合開始剤としては、具体例には、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類等が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホスフィン等が挙げられる。   The photopolymerization initiator is not particularly limited and known ones can be used. For example, specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, α-amyloxime ester. Thioxanthones, propiophenones, benzyls, benzoins, acylphosphine oxides and the like. In addition, it is preferable to use a mixture of photosensitizers, and specific examples thereof include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine, and the like.

光重合開始剤としては、電離放射線硬化型樹脂がラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独または混合して用いることが好ましい。また、電離放射線硬化型樹脂がカチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤としては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独または混合物として用いることが好ましい。   As the photopolymerization initiator, acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether, etc. may be used alone or in combination when the ionizing radiation curable resin is a resin system having a radical polymerizable unsaturated group. Is preferred. When the ionizing radiation curable resin is a resin system having a cationic polymerizable functional group, the photopolymerization initiator may be an aromatic diazonium salt, an aromatic sulfonium salt, an aromatic iodonium salt, a metallocene compound, a benzoin sulfonate ester. Etc. are preferably used alone or as a mixture.

光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する電離放射線硬化型樹脂の場合、IRGACURE184(BASF社製)として市販されている1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンが、電離放射線硬化型樹脂との相溶性、および、黄変も少ないという理由から好ましい。   As the photopolymerization initiator, in the case of an ionizing radiation curable resin having a radical polymerizable unsaturated group, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone commercially available as IRGACURE 184 (manufactured by BASF) is an ionizing radiation curable resin. It is preferable for the reason that it is compatible with and less yellowing.

ハードコート層用組成物における光重合開始剤の含有量は、電離放射線硬化型樹脂100質量部に対して、1〜10質量部であることが好ましい。1質量部以上とすることで、ハードコート層を所望の硬度とすることができ、10質量部以下とすることで、塗設した膜の深部まで電離放射線が届くようになり内部硬化が促進される。
光重合開始剤の含有量のより好ましい下限は2質量部であり、より好ましい上限は8質量部である。光重合開始剤の含有量がこの範囲にあることで、膜厚方向に硬度分布が発生せず、均一な硬度になりやすくなる。
The content of the photopolymerization initiator in the hard coat layer composition is preferably 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ionizing radiation curable resin. By setting it to 1 part by mass or more, the hard coat layer can have a desired hardness, and by setting it to 10 parts by mass or less, ionizing radiation reaches the deep part of the coated film and internal curing is promoted. The
The minimum with more preferable content of a photoinitiator is 2 mass parts, and a more preferable upper limit is 8 mass parts. When the content of the photopolymerization initiator is in this range, a hardness distribution does not occur in the film thickness direction, and uniform hardness is likely to occur.

ハードコート層には、平均粒子10μm以下の無機微粒子を含有させてもよい。微粒子の硬さで膜の硬度や屈折率を調整したり、親疎水性基で変性した微粒子を用いることでハードコート層表面の濡れ性やハードコート層上に形成した層との層間密着力を制御することができる。また、平均粒径0.2〜10μmの粒子を含有させて防眩機能(アンチグレア機能)を付与することもできる。
ここで平均粒子径は、分散した粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた写真から求めることができる。粒子の投影面積を求め、そこから円相当径を求め平均粒子径(平均一次粒子径)とする。本明細書における平均粒子径は、300個以上の粒子について投影面積を測定して、円相当径を求めて算出することができる。
The hard coat layer may contain inorganic fine particles having an average particle size of 10 μm or less. The hardness and refractive index of the film are adjusted by the hardness of the fine particles, and the wettability of the hard coat layer surface and the interlayer adhesion with the layer formed on the hard coat layer are controlled by using fine particles modified with a hydrophilic / hydrophobic group. can do. Moreover, the glare-proof function (anti-glare function) can also be provided by containing particles having an average particle size of 0.2 to 10 μm.
Here, the average particle diameter can be obtained from a photograph obtained by observing dispersed particles with a transmission electron microscope. The projected area of the particles is obtained, and the equivalent circle diameter is obtained therefrom, which is taken as the average particle size (average primary particle size). The average particle diameter in this specification can be calculated by measuring the projected area of 300 or more particles and obtaining the equivalent circle diameter.

無機微粒子としては、透明導電膜の直上に用いられるため透明で絶縁性の金属酸化物微粒子等があげられる。金属酸化物の具体例としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタンからなる微粒子を用いることが好ましく、変性のしやすさから、シリカ微粒子を用いることより好ましい。   Examples of the inorganic fine particles include transparent and insulating metal oxide fine particles because they are used immediately above the transparent conductive film. As a specific example of the metal oxide, it is preferable to use fine particles composed of silica, alumina, zirconia, and titanium, and it is more preferable to use fine silica particles because of easy modification.

シリカ微粒子としては、四塩化ケイ素の燃焼によって製造される乾燥粉末状のシリカを用いることもできるが、二酸化ケイ素が溶媒中に分散したコロイダルシリカを用いることがより好ましい。特に限定されないが、具体的にはMEK−ST、MEK−ST−L、MEK−ST−XLなどの日産化学工業(株)製のスノーテックスシリーズ等が挙げられる。   As the silica fine particles, dry powdery silica produced by combustion of silicon tetrachloride can be used, but colloidal silica in which silicon dioxide is dispersed in a solvent is more preferably used. Although not particularly limited, specific examples include Snowtex series manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. such as MEK-ST, MEK-ST-L, and MEK-ST-XL.

ハードコート層には、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。   Various surfactants may be added to the hard coat layer from the viewpoint of further improving coatability. As the surfactant, various surfactants such as a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone-based surfactant can be used.

フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックF171、同F172、同F173、同F176、同F177、同F141、同F142、同F143、同F144、同R30、同F437、同F475、同F479、同F482、同F554、同F780、同F781(以上、DIC(株)製)、フロラードFC430、同FC431、同FC171(以上、住友スリーエム(株)製)、サーフロンS−382、同SC−101、同SC−103、同SC−104、同SC−105、同SC1068、同SC−381、同SC−383、同S393、同KH−40(以上、旭硝子(株)製)、PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(OMNOVA社製)等が挙げられる。   Examples of the fluorosurfactant include Megafac F171, F172, F173, F176, F176, F177, F141, F142, F143, F144, R30, F437, F475, F479, F482, F554, F780, F780, F781 (above DIC Corporation), Florard FC430, FC431, FC171 (above, Sumitomo 3M Limited), Surflon S-382, SC-101, Same SC-103, Same SC-104, Same SC-105, Same SC1068, Same SC-381, Same SC-383, Same S393, Same KH-40 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), PF636, PF656, PF6320 PF6520, PF7002 (manufactured by OMNOVA), and the like.

ノニオン系界面活性剤として具体的には、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート(例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセリンエトキシレート等)、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル(BASF社製のプルロニックL10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2、テトロニック304、701、704、901、904、150R1、パイオニンD−6512、D−6414、D−6112、D−6115、D−6120、D−6131、D−6108−W、D−6112−W、D−6115−W、D−6115−X、D−6120−X(竹本油脂(株)製)、ソルスパース20000(日本ルーブリゾール(株)製)、ナロアクティーCL−95、HN−100(三洋化成工業(株)製)等が挙げられる。   Specific examples of nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane, and ethoxylates and propoxylates thereof (for example, glycerol propoxylate, glycerin ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene Stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester (Pluronic L10, L31, L61, L62 manufactured by BASF, 10R5, 17R2, 25R2, Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, 150R1, Pi Nin D-6512, D-6414, D-6112, D-6115, D-6120, D-6131, D-6108-W, D-6112-W, D-6115-W, D-6115-X, D -6120-X (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.), Solsperse 20000 (manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd.), NAROACTY CL-95, HN-100 (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) and the like.

カチオン系界面活性剤として具体的には、フタロシアニン誘導体(商品名:EFKA−745、森下産業(株)製)、オルガノシロキサンポリマーKP341(信越化学工業(株)製)、(メタ)アクリル酸系(共)重合体ポリフローNo.75、No.90、No.95(共栄社化学(株)製)、W001(裕商(株)製)等が挙げられる。   Specific examples of the cationic surfactant include phthalocyanine derivatives (trade name: EFKA-745, manufactured by Morishita Sangyo Co., Ltd.), organosiloxane polymer KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), (meth) acrylic acid ( Co) polymer polyflow no. 75, no. 90, no. 95 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), W001 (manufactured by Yusho Co., Ltd.) and the like.

アニオン系界面活性剤として具体的には、W004、W005、W017(裕商(株)社製)、サンデッドBL(三洋化成工業(株)製)等が挙げられる。   Specific examples of the anionic surfactant include W004, W005, W017 (manufactured by Yusho Co., Ltd.), sanded BL (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.), and the like.

シリコーン系界面活性剤としては、例えば、東レ・ダウコーニング(株)製「トーレシリコーンDC3PA」、「トーレシリコーンSH7PA」、「トーレシリコーンDC11PA」、「トーレシリコーンSH21PA」、「トーレシリコーンSH28PA」、「トーレシリコーンSH29PA」、「トーレシリコーンSH30PA」、「トーレシリコーンSH8400」、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製「TSF−4440」、「TSF−4300」、「TSF−4445」、「TSF−4460」、「TSF−4452」、信越シリコーン株式会社製「KP341」、「KF6001」、「KF6002」、ビックケミー社製「BYK307」、「BYK323」、「BYK330」等が挙げられる。
界面活性剤は、1種のみを用いてもよいし、2種類以上を組み合わせてもよい。
界面活性剤の添加量は、水性組成物の全質量に対して、0.001質量%〜2.0質量%が好ましく、より好ましくは0.005質量%〜1.0質量%である。
Examples of the silicone surfactant include “Toray Silicone DC3PA”, “Toray Silicone SH7PA”, “Tore Silicone DC11PA”, “Tore Silicone SH21PA”, “Tore Silicone SH28PA”, “Toray Silicone” manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. “Silicone SH29PA”, “Toresilicone SH30PA”, “Toresilicone SH8400”, “TSF-4440”, “TSF-4300”, “TSF-4445”, “TSF-4460”, “TSF” manufactured by Momentive Performance Materials, Inc. -4552 "," KP341 "," KF6001 "," KF6002 "manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.," BYK307 "," BYK323 "," BYK330 "manufactured by Big Chemie.
Only one type of surfactant may be used, or two or more types may be combined.
The addition amount of the surfactant is preferably 0.001% by mass to 2.0% by mass, and more preferably 0.005% by mass to 1.0% by mass with respect to the total mass of the aqueous composition.

<<第二の態様>>
第二の態様のハードコート層は、エポキシ基含有アルコキシシランと、エポキシ基非含有アルコキシシランと、金属錯体とを含むものであり、このハードコート層を採用することにより、アルカリ耐性の高いハードコート層を得ることができる。第二の態様の組成物を用いて形成したハードコート層は高いアルカリ耐性を持つため、ハードコート層をアルカリ溶液に浸漬させた場合であっても、ハードコート層が溶解することを極力抑えることができる。これにより、アルカリ処理の前後において、ハードコート層のヘイズ値が上昇することがなく、光学特性に優れたハードコート層を得ることができる。
<< Second Aspect >>
The hard coat layer of the second aspect includes an epoxy group-containing alkoxysilane, an epoxy group-free alkoxysilane, and a metal complex. By adopting this hard coat layer, a hard coat with high alkali resistance is used. A layer can be obtained. Since the hard coat layer formed using the composition of the second aspect has high alkali resistance, even when the hard coat layer is immersed in an alkaline solution, it is possible to suppress the dissolution of the hard coat layer as much as possible. Can do. Thereby, the haze value of a hard-coat layer does not raise before and after alkali treatment, and the hard-coat layer excellent in the optical characteristic can be obtained.

第二の態様では、エポキシ基含有アルコキシシランと、エポキシ基非含有アルコキシシランを含む。これらのアルコキシシランは、水溶性又は水分散性の素材を使用することが好ましい。水溶性又は水分散性の素材を使用することは、VOC(volatile organic compounds)による環境汚染を低減する観点からも特に好ましい。   In the second embodiment, an epoxy group-containing alkoxysilane and an epoxy group-free alkoxysilane are included. These alkoxysilanes are preferably water-soluble or water-dispersible materials. The use of a water-soluble or water-dispersible material is particularly preferable from the viewpoint of reducing environmental pollution caused by VOC (volatile organic compounds).

エポキシ基含有アルコキシシランとエポキシ基非含有アルコキシシランは、各々、加水分解性基を有する。この加水分解性基が酸性の水溶液中で加水分解されることによりシラノールが生成され、シラノール同士が縮合することによって、オリゴマーが生成される。本発明の水性組成物中においては、エポキシ基含有アルコキシシランとエポキシ基非含有アルコキシシランの一部は加水分解されていても良い。   The epoxy group-containing alkoxysilane and the epoxy group-free alkoxysilane each have a hydrolyzable group. Silanol is generated by hydrolyzing the hydrolyzable group in an acidic aqueous solution, and an oligomer is generated by condensation between the silanols. In the aqueous composition of the present invention, a part of the epoxy group-containing alkoxysilane and the epoxy group-free alkoxysilane may be hydrolyzed.

エポキシ基含有アルコキシシランとエポキシ基非含有アルコキシシランからなる全アルコキシシランに対して、エポキシ基含有アルコキシシランが占める割合は20〜85質量%であればよく、下限として、25質量%以上であることが好ましく、30質量%以上であることがより好ましい。また、上限としては、80質量%以下であることが好ましく、75質量%以下であることがより好ましい。全アルコキシシランに対してエポキシ基含有アルコキシシランが占める割合を上記範囲内とすることにより、ハードコート層形成組成物の安定性を高めることができ、さらに、アルカリ耐性の強いハードコート層を形成することができる。   The ratio of the epoxy group-containing alkoxysilane to the total alkoxysilane composed of the epoxy group-containing alkoxysilane and the epoxy group-free alkoxysilane may be 20 to 85% by mass, and the lower limit is 25% by mass or more. Is preferable, and it is more preferable that it is 30 mass% or more. Moreover, as an upper limit, it is preferable that it is 80 mass% or less, and it is more preferable that it is 75 mass% or less. By setting the proportion of the epoxy group-containing alkoxysilane in the above range relative to the total alkoxysilane, the stability of the hard coat layer forming composition can be improved, and further, a hard coat layer having strong alkali resistance is formed. be able to.

エポキシ基含有アルコキシシランは、エポキシ基を有するアルコキシシランである。エポキシ基含有アルコキシシランとしては、1分子中に1つ以上エポキシ基を有するものであればよく、エポキシ基の数は特に限定されない。エポキシ基含有アルコキシシランは、エポキシ基の他に、さらに、アルキル基、アミド基、ウレタン基、ウレア基、エステル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基など基を有していても良い。   The epoxy group-containing alkoxysilane is an alkoxysilane having an epoxy group. Any epoxy group-containing alkoxysilane may be used as long as it has one or more epoxy groups in one molecule, and the number of epoxy groups is not particularly limited. In addition to the epoxy group, the epoxy group-containing alkoxysilane may further have a group such as an alkyl group, an amide group, a urethane group, a urea group, an ester group, a hydroxy group, or a carboxyl group.

本発明で用いるエポキシ基含有アルコキシシランとしては、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。市販品としては、KBE−403(信越化学工業(株)製)等が挙げられる。   Examples of the epoxy group-containing alkoxysilane used in the present invention include 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, and 2- (3,4-epoxy. Cyclohexyl) ethyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3- Examples thereof include glycidoxypropyltriethoxysilane. Examples of commercially available products include KBE-403 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

エポキシ基非含有アルコキシシランは、エポキシ基を有さないアルコキシシランである。エポキシ基非含有アルコキシシランは、エポキシ基を有さないアルコキシシランであればよく、アルキル基、アミド基、ウレタン基、ウレア基、エステル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基などの基を有していても良い。   The epoxy group-free alkoxysilane is an alkoxysilane having no epoxy group. The epoxy group-free alkoxysilane may be an alkoxysilane having no epoxy group, and may have a group such as an alkyl group, an amide group, a urethane group, a urea group, an ester group, a hydroxy group, or a carboxyl group. good.

エポキシ基非含有アルコキシシランは、テトラアルコキシシランまたはトリアルコキシシランであるか、これらの混合物であることが好ましい。テトラアルコキシシランまたはトリアルコキシシランの混合物であることが好ましく、テトラアルコキシシランとトリアルコキシシランを混合して含有することにより、ハードコート層を形成した際に、適度な柔軟性を有しつつも、十分な硬度を得ることができる。   The epoxy group-free alkoxysilane is preferably a tetraalkoxysilane or trialkoxysilane, or a mixture thereof. It is preferably a mixture of tetraalkoxysilane or trialkoxysilane, and contains a mixture of tetraalkoxysilane and trialkoxysilane, so that when a hard coat layer is formed, while having appropriate flexibility, Sufficient hardness can be obtained.

エポキシ基非含有アルコキシシランが、テトラアルコキシシランとトリアルコキシシランの混合物である場合、テトラアルコキシシランとトリアルコキシシランのモル比は、25:75〜85:15であることが好ましく、30:70〜80:20であることがより好ましく、30:70〜65:35であることがさらに好ましい。モル比を上記範囲内とすることにより、アルコキシシランの重合度を所望の範囲内に制御することや加水分解速度及びアルミキレートの溶解性の制御が容易となる。   When the epoxy group-free alkoxysilane is a mixture of tetraalkoxysilane and trialkoxysilane, the molar ratio of tetraalkoxysilane and trialkoxysilane is preferably 25:75 to 85:15, and 30:70 to 80:20 is more preferable, and 30:70 to 65:35 is even more preferable. By setting the molar ratio within the above range, it becomes easy to control the degree of polymerization of the alkoxysilane within a desired range and to control the hydrolysis rate and the solubility of the aluminum chelate.

テトラアルコキシシランは、4官能のアルコキシシランであり、各アルコキシ基の炭素数が1〜4のものがより好ましい。中でも、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランが特に好ましく用いられる。炭素数を4以下とすることにより、酸性水と混ぜたときのテトラアルコキシシランの加水分解速度が遅くなりすぎることがなく、均一な水溶液にするまでの溶解に要する時間がより短くなる。これにより、ハードコート層を製造する際の製造効率を高めることができる。市販品としては、KBE−04(信越化学工業(株)製)等が挙げられる。   Tetraalkoxysilane is a tetrafunctional alkoxysilane, more preferably having 1 to 4 carbon atoms in each alkoxy group. Of these, tetramethoxysilane and tetraethoxysilane are particularly preferably used. By setting the number of carbon atoms to 4 or less, the hydrolysis rate of tetraalkoxysilane when mixed with acidic water does not become too slow, and the time required for dissolution until a uniform aqueous solution is shortened. Thereby, the manufacturing efficiency at the time of manufacturing a hard-coat layer can be improved. Examples of commercially available products include KBE-04 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

トリアルコキシシランは、下記一般式(1)で表される3官能のアルコキシシランである。
RSi(OR13 …(1)
ここで、Rはアミノ基を含まない炭素数が1〜15の有機基、R1はメチル、エチル基等炭素数4以下のアルキル基である。
The trialkoxysilane is a trifunctional alkoxysilane represented by the following general formula (1).
RSi (OR 1 ) 3 (1)
Here, R is an organic group having 1 to 15 carbon atoms not containing an amino group, and R 1 is an alkyl group having 4 or less carbon atoms such as methyl and ethyl groups.

一般式(1)で表される3官能のアルコキシシランは、アミノ基を官能基として含まない。つまり、この3官能のアルコキシシランは、アミノ基を持たない有機基Rを有している。Rがアミノ基を有する場合は、4官能のアルコキシシランと混合して加水分解すると、生成するシラノール同士で脱水縮合が促進されてしまう。このため、水性組成物が不安定となり好ましくない。   The trifunctional alkoxysilane represented by the general formula (1) does not contain an amino group as a functional group. That is, this trifunctional alkoxysilane has an organic group R having no amino group. When R has an amino group, if it is mixed with a tetrafunctional alkoxysilane and hydrolyzed, dehydration condensation is promoted between the produced silanols. For this reason, an aqueous composition becomes unstable and is not preferable.

一般式(1)のRは、炭素数が1〜15の範囲であるような分子鎖長をもつ有機基であれば良い。炭素数を15以下とすることにより、ハードコート層を形成した際の柔軟性が過度に大きくならず、十分な硬度を得ることができる。Rの炭素数を上記範囲内とすることにより、脆性がより改善されたハードコート層を得ることができる。また、支持体等の他のフィルムとハードコート層の密着性を高めることができる。   R in the general formula (1) may be an organic group having a molecular chain length that has 1 to 15 carbon atoms. By setting the number of carbon atoms to 15 or less, the flexibility when the hard coat layer is formed is not excessively increased, and sufficient hardness can be obtained. By setting the carbon number of R within the above range, a hard coat layer with improved brittleness can be obtained. Moreover, the adhesiveness of other films, such as a support body, and a hard-coat layer can be improved.

さらに、Rで示す有機基は、酸素、窒素、硫黄などのヘテロ原子を有しても良い。有機基がヘテロ原子をもつことにより、他のフィルムとの密着性をより向上させることができる。   Furthermore, the organic group represented by R may have a heteroatom such as oxygen, nitrogen, or sulfur. When the organic group has a hetero atom, the adhesion with other films can be further improved.

トリアルコキシシランとしては、ビニルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリエトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシランを挙げることができる。中でも、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシランは特に好ましく用いられる。市販品としては、KBE−13(信越化学工業(株)製)等が挙げられる。   As trialkoxysilane, vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, propyltrimethoxysilane, Phenyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 3-chloropropyltriethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyl Trimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, propyltriethoxysilane, propyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenol It can be exemplified Le trimethoxysilane. Of these, methyltriethoxysilane and methyltrimethoxysilane are particularly preferably used. Examples of commercially available products include KBE-13 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

第二の態様のハードコート層は、金属錯体(硬化剤)を含む。金属錯体としては、Al、Mg、Mn、Ti、Cu、Co、Zn、Hf及びZrよりなる金属錯体が好ましく、これらを併用することもできる。   The hard coat layer of the second aspect includes a metal complex (curing agent). As the metal complex, a metal complex composed of Al, Mg, Mn, Ti, Cu, Co, Zn, Hf and Zr is preferable, and these can be used in combination.

これらの金属錯体は、金属アルコキシドにキレート化剤を反応させることにより容易に得ることができる。キレート化剤の例としては、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタンなどのβ−ジケトン、アセト酢酸エチル、ベンゾイル酢酸エチルなどのβ−ケト酸エステルなどを用いることができる。   These metal complexes can be easily obtained by reacting a metal alkoxide with a chelating agent. Examples of chelating agents include β-diketones such as acetylacetone, benzoylacetone and dibenzoylmethane, β-keto acid esters such as ethyl acetoacetate and ethyl benzoylacetate.

金属錯体の好ましい具体的な例としては、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセテートビス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)等のアルミニウムキレート化合物、エチルアセトアセテートマグネシウムモノイソプロピレート、マグネシウムビス(エチルアセトアセテート)、アルキルアセトアセテートマグネシウムモノイソプロピレート、マグネシウムビス(アセチルアセトネート)等のマグネシウムキレート化合物、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムトリブトキシアセチルアセトナート、ジルコニウムアセチルアセトナートビス(エチルアセトアセテート)、マンガンアセチルアセトナート、コバルトアセチルアセトナート、銅アセチルアセトナート、チタンアセチルアセトナート、チタンオキシアセチルアセトナート等が挙げられる。これらのうち、好ましくは、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、マグネシウムビス(アセチルアセトネート)、マグネシウムビス(エチルアセトアセテート)、ジルコニウムテトラアセチルアセトナートであり、保存安定性、入手容易さを考慮すると、アルミニウムキレート錯体であるアルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)が特に好ましい。市販品としては、アルミキレートA(W)、アルミキレートD、アルミキレートM(川研ファインケミカル(株)製)等が挙げられる。   Preferable specific examples of the metal complex include ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate), alkyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum monoacetyl acetate bis (ethyl acetoacetate), aluminum tris (acetyl) Magnesium chelate compounds such as ethyl acetoacetate magnesium monoisopropylate, magnesium bis (ethylacetoacetate), alkyl acetoacetate magnesium monoisopropylate, magnesium bis (acetylacetonate), zirconium tetraacetylacetate Narate, zirconium tributoxyacetylacetonate, zirconium acetate Le acetonate bis (ethyl acetoacetate), manganese acetylacetonate, cobalt acetylacetonate, copper acetylacetonate, titanium acetylacetonate and titanium oxy acetylacetonate. Of these, aluminum tris (acetylacetonate), aluminum tris (ethylacetoacetate), magnesium bis (acetylacetonate), magnesium bis (ethylacetoacetate), and zirconium tetraacetylacetonate are preferred, and storage stability Considering availability, aluminum tris (acetylacetonate) and aluminum tris (ethylacetoacetate), which are aluminum chelate complexes, are particularly preferable. Examples of commercially available products include aluminum chelate A (W), aluminum chelate D, aluminum chelate M (manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.), and the like.

エポキシ基含有アルコキシシランに対して、金属錯体が占める割合は、17〜70モル%である。金属錯体が占める割合は、17%モル以上であれば良く、20モル%以上であることがより好ましい。また、金属錯体の含有率は、70モル%以下であれば良く、65モル%以下であることが好ましく、60モル%以下であることがより好ましい。
本発明では、金属錯体を上記下限値以上含むことにより、ハードコート層を形成した際に優れたアルカリ耐性を得ることができる。また、上記上限値以下とすることにより、水性水溶液中の分散性を良好とし、かつ、製造コストを抑えることができる。
The ratio for which a metal complex accounts with respect to an epoxy-group-containing alkoxysilane is 17-70 mol%. The proportion of the metal complex may be 17% mol or more, and more preferably 20 mol% or more. Moreover, the content rate of a metal complex should just be 70 mol% or less, it is preferable that it is 65 mol% or less, and it is more preferable that it is 60 mol% or less.
In the present invention, when the metal complex is contained in the above lower limit value or more, excellent alkali resistance can be obtained when the hard coat layer is formed. Moreover, by setting it as the said upper limit or less, the dispersibility in aqueous solution can be made favorable, and manufacturing cost can be suppressed.

第二の態様のハードコート層は、無機微粒子をさらに含むことが好ましい。無機微粒子をさらに含む場合、水性組成物中に含まれる全固形分に対して無機微粒子が占める割合(単位:質量%)をxとすると、0<x≦80である。xは1以上であることが好ましく、3以上であることがより好ましい。また、xは、80以下であれば良く、70以下であることが好ましく、65以下であることがより好ましい。水性組成物中において無機微粒子が占める割合を上記範囲とすることにより、ハードコート層を形成した際により高いアルカリ耐性を得ることができる。   The hard coat layer of the second aspect preferably further contains inorganic fine particles. When inorganic fine particles are further included, 0 <x ≦ 80, where x is the ratio (unit: mass%) of the inorganic fine particles to the total solid content contained in the aqueous composition. x is preferably 1 or more, and more preferably 3 or more. Moreover, x should just be 80 or less, it is preferable that it is 70 or less, and it is more preferable that it is 65 or less. By setting the proportion of the inorganic fine particles in the aqueous composition within the above range, higher alkali resistance can be obtained when the hard coat layer is formed.

水性組成物中に含まれる全固形分に対して、無機微粒子が占める割合(単位:質量%)をxとして、全アルコキシシランに対してエポキシ基含有アルコキシシランが占める割合(単位:質量%)をyとすると、y≧x−5であることが好ましい。さらに、y≧xであることがより好ましい。yとxの関係を上記範囲とすることにより、より高い耐アルカリ耐性を得ることができ、アルカリ溶液に浸漬させた際のヘイズ値の変化を抑えることができる。さらに、ハードコート層用塗工液の安定性を高めることができる。   The ratio (unit: mass%) of the epoxy group-containing alkoxysilane to the total alkoxysilane is x, where x is the ratio (unit: mass%) of the inorganic fine particles to the total solid content in the aqueous composition. When y, y ≧ x−5 is preferable. Furthermore, it is more preferable that y ≧ x. By setting the relationship between y and x in the above range, higher alkali resistance can be obtained, and a change in haze value when immersed in an alkaline solution can be suppressed. Furthermore, the stability of the hard coat layer coating solution can be enhanced.

無機微粒子としては、透明導電膜の直下に用いられるため透明で絶縁性の金属酸化物微粒子等があげられる。金属酸化物の具体例としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタンからなる微粒子を用いることが好ましく、特に、アルコキシシランとの架橋の観点からシリカ微粒子を用いることが好ましい。   Examples of the inorganic fine particles include transparent and insulating metal oxide fine particles because they are used immediately below the transparent conductive film. As a specific example of the metal oxide, it is preferable to use fine particles made of silica, alumina, zirconia, and titanium. In particular, it is preferable to use fine silica particles from the viewpoint of crosslinking with alkoxysilane.

シリカ微粒子としては、四塩化ケイ素の燃焼によって製造される乾燥粉末状のシリカを用いることもできるが、二酸化ケイ素又はその水和物が水に分散したコロイダルシリカを用いることがより好ましい。特に限定されないが、具体的にはスノーテックス033、スノーテックスO−Lなどの日産化学工業(株)製のスノーテックスシリーズ等が挙げられる。コロイダルシリカの平均粒子径は3nm〜50nmであり、4nm〜50nmの範囲にあることが好ましく、4nm〜40nmの範囲にあることがより好ましく、5nm〜35nmの範囲にあることが特に好ましい。
ここで平均粒子径は、分散した粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた写真から求めることができる。粒子の投影面積を求め、そこから円相当径を求め平均粒子径(平均一次粒子径)とする。本明細書における平均粒子径は、300個以上の粒子について投影面積を測定して、円相当径を求めて算出することができる。
As the silica fine particles, dry powdery silica produced by combustion of silicon tetrachloride can be used, but colloidal silica in which silicon dioxide or a hydrate thereof is dispersed in water is more preferable. Specific examples include, but are not limited to, Snowtex series manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. such as Snowtex 033 and Snowtex OL. The average particle diameter of colloidal silica is 3 nm to 50 nm, preferably 4 nm to 50 nm, more preferably 4 nm to 40 nm, and particularly preferably 5 nm to 35 nm.
Here, the average particle diameter can be obtained from a photograph obtained by observing dispersed particles with a transmission electron microscope. The projected area of the particles is obtained, and the equivalent circle diameter is obtained therefrom, which is taken as the average particle size (average primary particle size). The average particle diameter in this specification can be calculated by measuring the projected area of 300 or more particles and obtaining the equivalent circle diameter.

なお、コロイダルシリカは、水性組成物中に添加される時点でのpHが2〜7の範囲に調整されていることがより好ましい。このpHが2〜7であると、2よりも小さいあるいは7よりも大きい場合に比べて、アルコキシシランの加水分解物であるシラノールの安定性がより良好で、このシラノールの脱水縮合反応が速く進行することによる塗布液の粘度上昇を抑制することができる。   In addition, as for colloidal silica, it is more preferable that pH at the time of adding in an aqueous composition is adjusted to the range of 2-7. When this pH is 2 to 7, the stability of silanol, which is a hydrolyzate of alkoxysilane, is better than when it is less than 2 or greater than 7, and the dehydration condensation reaction of this silanol proceeds faster. It is possible to suppress an increase in the viscosity of the coating liquid due to this.

第二の態様のハードコート層では、ハードコート層の平滑性を向上させて塗膜表面の摩擦を軽減する目的で、第一の態様のハードコート層の場合と同様の界面活性剤を添加しても良い。また、顔料や染料、その他微粒子等を分散させることによってハードコート層を着色しても良い。さらに、耐候性を向上させる目的で紫外線吸収剤や酸化防止剤等を添加しても良く、酸(工業用酢酸1質量%水溶液(ダイセル化学工業社製))等を添加してもよい。   In the hard coat layer of the second embodiment, the same surfactant as in the case of the hard coat layer of the first embodiment is added for the purpose of improving the smoothness of the hard coat layer and reducing the friction on the coating film surface. May be. Further, the hard coat layer may be colored by dispersing pigments, dyes, and other fine particles. Furthermore, for the purpose of improving weather resistance, an ultraviolet absorber, an antioxidant, or the like may be added, or an acid (a 1% by weight aqueous solution of industrial acetic acid (manufactured by Daicel Chemical Industries)) may be added.

<<ハードコート層の耐傷性>>
ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、0.2〜10μmであることが好ましく、より好ましくは0.5〜7μmである。
ハードコート層の厚みは、ハードコート層用塗工液の塗布量を調整することにより制御することができる。
ハードコート層の硬度は、JIS K−5400に従う鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
<< Scratch resistance of hard coat layer >>
The film thickness of the hard coat layer can be appropriately designed depending on the application. The film thickness of the hard coat layer is preferably 0.2 to 10 μm, more preferably 0.5 to 7 μm.
The thickness of the hard coat layer can be controlled by adjusting the coating amount of the hard coat layer coating solution.
The hardness of the hard coat layer is preferably H or more, more preferably 2H or more, and most preferably 3H or more in a pencil hardness test according to JIS K-5400.

<光学異方層>
本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムは、仮支持体上に少なくとも1層の光学異方層を有する。
<Optical anisotropic layer>
The optically anisotropic hard coat transfer film of the present invention has at least one optically anisotropic layer on a temporary support.

光学異方層を形成する材料(光学異方層形成用材料)は、塗布等により光学異方性を与えることができる材料であれば、特に限定されない。
光学異方層形成用材料の1例としては、高分子を含む材料等が挙げられる。高分子はアクリル基、メタクリル基、ビニルエーテル基、オキセタン基、及びエポキシ基からなる群から選択される少なくとも1つの重合性基を有することが好ましい。
光学異方層形成用材料の好ましい例としては、液晶性化合物を含む材料等が挙げられる。特に光学異方層が、液晶性化合物を含む溶液が塗布され、液晶相形成温度で熟成・配向されたあと、その状態のまま熱または電離放射線照射して固化することによって得られた層であることが好ましい。この態様につき、以下に詳しく説明する。
The material for forming the optically anisotropic layer (the material for forming the optically anisotropic layer) is not particularly limited as long as the material can provide optical anisotropy by coating or the like.
An example of the material for forming an optically anisotropic layer includes a material containing a polymer. The polymer preferably has at least one polymerizable group selected from the group consisting of an acryl group, a methacryl group, a vinyl ether group, an oxetane group, and an epoxy group.
Preferable examples of the material for forming an optically anisotropic layer include a material containing a liquid crystal compound. In particular, the optically anisotropic layer is a layer obtained by applying a solution containing a liquid crystal compound, aging and aligning at the liquid crystal phase formation temperature, and solidifying by irradiation with heat or ionizing radiation in that state. It is preferable. This aspect will be described in detail below.

<<液晶性化合物>>
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が100以上のものを指す(高分子物理・相転移ダイナミクス,土井 正男 著,2頁,岩波書店,1992)。本発明では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物を用いるのが好ましい。また、2種以上の棒状液晶性化合物、2種以上の円盤状液晶性化合物、又は棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。温度変化や湿度変化を小さくできることから、反応性基を有する液晶性化合物を用いて形成することがより好ましく、少なくとも1つは1液晶分子中の反応性基が2以上あることがさらに好ましい。液晶性化合物が二種類以上の混合物の場合、少なくとも1つが2以上の反応性基を有していることが好ましい。
上記光学異方層の厚さは、0.1〜20μmであることが好ましく、0.5〜10μmであることがさらに好ましい。
<< Liquid crystal compound >>
In general, liquid crystal compounds can be classified into a rod-shaped type and a disk-shaped type based on their shapes. In addition, there are low and high molecular types, respectively. Polymer generally refers to a polymer having a degree of polymerization of 100 or more (Polymer Physics / Phase Transition Dynamics, Masao Doi, 2 pages, Iwanami Shoten, 1992). In the present invention, any liquid crystalline compound can be used, but a rod-like liquid crystalline compound is preferably used. Two or more kinds of rod-like liquid crystalline compounds, two or more kinds of disc-like liquid crystalline compounds, or a mixture of a rod-like liquid crystalline compound and a disk-like liquid crystalline compound may be used. Since the temperature change and humidity change can be reduced, it is more preferable to use a liquid crystal compound having a reactive group, and at least one of the two or more reactive groups in one liquid crystal molecule is more preferable. When the liquid crystalline compound is a mixture of two or more, it is preferable that at least one has two or more reactive groups.
The thickness of the optically anisotropic layer is preferably 0.1 to 20 μm, and more preferably 0.5 to 10 μm.

棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。上記高分子液晶性化合物は、低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物が重合した高分子化合物である。特に好ましく用いられる上記低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物としては、例えば特開2008−281989号公報の段落0045〜0060に記載の棒状液晶性化合物が挙げられ、かかる内容は本明細書に組み込まれる。具体的には、例えば、以下の棒状液晶化合物を用いることができる。   Examples of rod-like liquid crystalline compounds include azomethines, azoxys, cyanobiphenyls, cyanophenyl esters, benzoic acid esters, cyclohexanecarboxylic acid phenyl esters, cyanophenylcyclohexanes, cyano-substituted phenylpyrimidines, alkoxy-substituted phenylpyrimidines. , Phenyldioxanes, tolanes and alkenylcyclohexylbenzonitriles are preferably used. Not only the above low-molecular liquid crystalline compounds but also high-molecular liquid crystalline compounds can be used. The polymer liquid crystalline compound is a polymer compound obtained by polymerizing a rod-like liquid crystalline compound having a low molecular reactive group. As the rod-like liquid crystalline compound having a low molecular reactive group that is particularly preferably used, for example, rod-like liquid crystalline compounds described in paragraphs 0045 to 0060 of JP-A-2008-281989 can be mentioned, and the contents thereof are described in this specification. Incorporated into. Specifically, for example, the following rod-like liquid crystal compounds can be used.

Figure 2015184410
Figure 2015184410

棒状液晶性化合物は、市販品を使用することができ、例えばLC−242(BASF社製)、RM−257(MERCK社製)等が挙げられる。   A commercial item can be used for a rod-like liquid crystalline compound, for example, LC-242 (made by BASF), RM-257 (made by MERCK), etc. are mentioned.

液晶性化合物は円盤状(ディスコティック)化合物であってもよい。ディスコティック化合物の例としては、C.Destradeらの研究報告、Mol.Cryst.71巻、111頁(1981年)に記載されているベンゼン誘導体、C.Destradeらの研究報告、Mol.Cryst.122巻、141頁(1985年)、Physicslett,A,78巻、82頁(1990)に記載されているトルキセン誘導体、B.Kohneらの研究報告、Angew.Chem.96巻、70頁(1984年)に記載されたシクロヘキサン誘導体およびJ.M.Lehnらの研究報告、J.Chem.Commun.,1794頁(1985年)、J.Zhangらの研究報告、J.Am.Chem.Soc.116巻、2655頁(1994年)に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。上記ディスコティック(円盤状)化合物は、一般的にこれらを分子中心の円盤状の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等の基(L)が放射線状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般的にディスコティック液晶とよばれるものが含まれる。ただし、このような分子の集合体が一様に配向した場合は負の一軸性を示すが、この記載に限定されるものではない。また、本発明において、円盤状化合物から形成したとは、最終的にできた物が上記化合物である必要はなく、例えば、上記低分子ディスコティック液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。   The liquid crystalline compound may be a discotic compound. Examples of discotic compounds include C.I. Destrade et al., Mol. Cryst. 71, 111 (1981), benzene derivatives described in C.I. Destrade et al., Mol. Cryst. 122, 141 (1985), Physicslett, A, 78, 82 (1990); Kohne et al., Angew. Chem. 96, page 70 (1984) and the cyclohexane derivatives described in J. Am. M.M. Lehn et al. Chem. Commun. , 1794 (1985), J. Am. Zhang et al., J. Am. Chem. Soc. 116, page 2655 (1994), and azacrown-based and phenylacetylene-based macrocycles. The above discotic (discotic) compounds generally have a discotic nucleus at the center of the molecule, and groups (L) such as linear alkyl groups, alkoxy groups, and substituted benzoyloxy groups are substituted in a radial pattern. In other words, it has liquid crystallinity and generally includes a so-called discotic liquid crystal. However, when such an aggregate of molecules is uniformly oriented, it exhibits negative uniaxiality, but is not limited to this description. In addition, in the present invention, it is not necessary that the final product is formed from a discotic compound, for example, the low molecular discotic liquid crystal has a group that reacts with heat, light, or the like. As a result, it may be polymerized or cross-linked by reaction with heat, light or the like, resulting in high molecular weight and loss of liquid crystallinity.

本発明で用いる円盤状液晶性化合物としては、例えば特開2008−281989号公報の段落0061〜0075に記載の円盤状液晶性化合物が挙げられ、かかる内容は本明細書に組み込まれる。   Examples of the discotic liquid crystalline compound used in the present invention include the discotic liquid crystalline compounds described in paragraphs 0061 to 0075 of JP-A-2008-281989, and the contents thereof are incorporated herein.

光学異方層を、液晶性化合物を含有する組成物から形成する場合、液晶性化合物を含有する組成物(例えば塗工液)を、後述する配向層の表面に塗布し、所望の液晶相を示す配向状態とした後、上記配向状態を熱又は電離放射線の照射により固定することで作製することが好ましい。   When the optically anisotropic layer is formed from a composition containing a liquid crystalline compound, a composition containing a liquid crystalline compound (for example, a coating solution) is applied to the surface of the alignment layer described later, and a desired liquid crystal phase is formed. After the orientation state shown, the orientation state is preferably fixed by heat or ionizing radiation irradiation.

液晶性化合物として、反応性基を有する円盤状液晶性化合物を用いる場合、水平配向、垂直配向、傾斜配向、およびねじれ配向のいずれの配向状態で固定されていてもよい。水平配向とは円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が10度未満の配向を意味するものとする。   When a discotic liquid crystalline compound having a reactive group is used as the liquid crystalline compound, it may be fixed in any alignment state of horizontal alignment, vertical alignment, tilt alignment, and twist alignment. Horizontal alignment means that the disk surface of the core of the discotic liquid crystalline compound is parallel to the horizontal plane of the support, but is not strictly required to be parallel. In this specification, the horizontal plane is defined as the horizontal plane. It shall mean an orientation with an inclination angle of less than 10 degrees.

光学異方層は2層以上の層からなっていてもよく、液晶性化合物からなる層を2層以上積層する場合、液晶性化合物の組み合わせについては特に限定されず、全て円盤状液晶性化合物からなる層の積層体、全て棒状性液晶性化合物からなる層の積層体、円盤状液晶性化合物からなる層と棒状性液晶性化合物からなる層の積層体であってもよい。また、各層の配向状態の組み合わせも特に限定されず、同じ配向状態の光学異方層を積層してもよいし、異なる配向状態の層を積層してもよい。   The optically anisotropic layer may be composed of two or more layers. When two or more layers composed of a liquid crystalline compound are laminated, the combination of the liquid crystalline compounds is not particularly limited, and all of the optically anisotropic layers are composed of discotic liquid crystalline compounds. It may be a laminated body of layers, a laminated body of layers made of a rod-like liquid crystalline compound, a laminated body of a layer made of a discotic liquid crystalline compound and a layer made of a rod-like liquid crystalline compound. The combination of the alignment states of the layers is not particularly limited, and optical anisotropic layers having the same alignment state may be stacked, or layers having different alignment states may be stacked.

液晶性化合物を含有する組成物は、液晶性化合物および下記の重合開始剤や他の添加剤を含む塗工液として、後述する所定の配向層の上に塗布されることが好ましい。塗工液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド(例、N,N−ジメチルホルムアミド)、スルホキシド(例、ジメチルスルホキシド)、ヘテロ環化合物(例、ピリジン)、炭化水素(例、ベンゼン、ヘキサン)、アルキルハライド(例、クロロホルム、ジクロロメタン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸ブチル)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン)、エーテル(例、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン)が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。   The composition containing a liquid crystal compound is preferably applied as a coating liquid containing the liquid crystal compound and the following polymerization initiator and other additives onto a predetermined alignment layer described later. As the solvent used for preparing the coating liquid, an organic solvent is preferably used. Examples of organic solvents include amides (eg, N, N-dimethylformamide), sulfoxides (eg, dimethyl sulfoxide), heterocyclic compounds (eg, pyridine), hydrocarbons (eg, benzene, hexane), alkyl halides (eg, , Chloroform, dichloromethane), esters (eg, methyl acetate, butyl acetate), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone), ethers (eg, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane). Alkyl halides and ketones are preferred. Two or more organic solvents may be used in combination.

[液晶性化合物の配向状態の固定化]
配向させた液晶性化合物は、配向状態を維持して固定することが好ましい。固定化は、液晶性化合物に導入した反応性基の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応がより好ましい。光重合反応としては、ラジカル重合、カチオン重合のいずれでも構わない。ラジカル光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物(米国特許2367661号、同2367670号の各明細書記載)、アシロインエーテル(米国特許2448828号明細書記載)、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物(米国特許2722512号明細書記載)、多核キノン化合物(米国特許3046127号、同2951758号の各明細書記載)、トリアリールイミダゾールダイマーとp−アミノフェニルケトンとの組み合わせ(米国特許3549367号明細書記載)、アクリジンおよびフェナジン化合物(特開昭60−105667号公報、米国特許4239850号明細書記載)およびオキサジアゾール化合物(米国特許4212970号明細書記載)が含まれる。市販品としては、例えばIRGACUREOXE02、IRGACURE819(ともにBASF社製)等が挙げられる。
カチオン光重合開始剤の例には、有機スルフォニウム塩系、ヨードニウム塩系、フォスフォニウム塩系等を例示する事ができる。これら化合物の対イオンとしては、アンチモネート、フォスフェートなどが好ましく用いられる。
[Fixation of alignment state of liquid crystalline compounds]
The aligned liquid crystalline compound is preferably fixed while maintaining the alignment state. The immobilization is preferably carried out by a polymerization reaction of a reactive group introduced into the liquid crystal compound. The polymerization reaction includes a thermal polymerization reaction using a thermal polymerization initiator and a photopolymerization reaction using a photopolymerization initiator, and a photopolymerization reaction is more preferable. The photopolymerization reaction may be either radical polymerization or cationic polymerization. Examples of radical photopolymerization initiators include α-carbonyl compounds (described in US Pat. Nos. 2,367,661 and 2,367,670), acyloin ethers (described in US Pat. No. 2,448,828), α-hydrocarbon substituted aromatics. Aciloin compound (described in US Pat. No. 2,722,512), polynuclear quinone compound (described in US Pat. Nos. 3,046,127 and 2,951,758), a combination of triarylimidazole dimer and p-aminophenyl ketone (US Pat. No. 3,549,367) Acridine and phenazine compounds (JP-A-60-105667, US Pat. No. 4,239,850) and oxadiazole compounds (US Pat. No. 4,212,970). Examples of commercially available products include IRGACUREOXE02 and IRGACURE819 (both manufactured by BASF).
Examples of cationic photopolymerization initiators include organic sulfonium salt systems, iodonium salt systems, phosphonium salt systems, and the like. Antimonates, phosphates and the like are preferably used as counter ions of these compounds.

光重合開始剤の使用量は、塗工液の固形分の0.01〜20質量%であることが好ましく、0.5〜5質量%であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、10mJ/cm2〜10J/cm2であることが好ましく、25〜800mJ/cm2であることがさらに好ましい。照度は10〜1000mW/cm2であることが好ましく、20〜500mW/cm2であることがより好ましく、40〜350mW/cm2であることがさらに好ましい。照射波長としては250〜450nmにピークを有することが好ましく、300〜410nmにピークを有することがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、窒素雰囲気下あるいは加熱条件下で光照射を実施してもよい。 The amount of the photopolymerization initiator used is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 5% by mass, based on the solid content of the coating liquid. Light irradiation for the polymerization of the liquid crystalline compound is preferably performed using ultraviolet rays. Irradiation energy is preferably 10mJ / cm 2 ~10J / cm 2 , further preferably 25~800mJ / cm 2. Illuminance is preferably 10 to 1,000 / cm 2, more preferably 20 to 500 mW / cm 2, further preferably 40~350mW / cm 2. The irradiation wavelength preferably has a peak at 250 to 450 nm, and more preferably has a peak at 300 to 410 nm. In order to accelerate the photopolymerization reaction, light irradiation may be performed under a nitrogen atmosphere or under heating conditions.

[偏光照射による光配向]
上記光学異方層は、偏光照射による光配向で面内方向のリタデーションが発現した層であってもよい。この偏光照射は、上記配向固定化における光重合プロセスと同時に行ってもよいし、先に偏光照射を行ってから非偏光照射でさらに固定化を行ってもよいし、非偏光照射で先に固定化してから偏光照射によって光配向を行ってもよい。大きな面内方向のリタデーションを得るためには、偏光照射は液晶化合物層塗布、配向後に最初に行うことが好ましい。偏光照射は、酸素濃度0.5%以下の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。照射エネルギーは、20mJ/cm2〜10J/cm2であることが好ましく、100〜800mJ/cm2であることがさらに好ましい。照度は20〜1000mW/cm2であることが好ましく、50〜500mW/cm2であることがより好ましく、100〜350mW/cm2であることがさらに好ましい。偏光照射によって硬化する液晶性化合物の種類については特に制限はないが、反応性基としてエチレン不飽和基を有する液晶性化合物が好ましい。照射波長としては300〜450nmにピークを有することが好ましく、350〜400nmにピークを有することがさらに好ましい。
[Optical alignment by polarized irradiation]
The optically anisotropic layer may be a layer in which retardation in the in-plane direction is exhibited by photo-alignment by polarized light irradiation. This polarized light irradiation may be performed at the same time as the photopolymerization process in the above-described orientation fixing, or may be further fixed by non-polarized light irradiation after first polarized light irradiation, or fixed first by non-polarized light irradiation. Then, photo-alignment may be performed by irradiation with polarized light. In order to obtain a large retardation in the in-plane direction, the polarized light irradiation is preferably performed first after the application and alignment of the liquid crystal compound layer. The polarized light irradiation is preferably performed in an inert gas atmosphere having an oxygen concentration of 0.5% or less. The irradiation energy is preferably 20mJ / cm 2 ~10J / cm 2 , further preferably 100 to 800 mJ / cm 2. The illuminance is preferably 20 to 1000 mW / cm 2, more preferably 50 to 500 mW / cm 2, further preferably 100 to 350 mW / cm 2. Although there is no restriction | limiting in particular about the kind of liquid crystalline compound hardened | cured by polarized light irradiation, The liquid crystalline compound which has an ethylenically unsaturated group as a reactive group is preferable. The irradiation wavelength preferably has a peak at 300 to 450 nm, and more preferably has a peak at 350 to 400 nm.

[偏光照射後の紫外線照射による後硬化]
上記光学異方層は、最初の偏光照射(光配向のための照射)の後に、偏光もしくは非偏光紫外線をさらに照射することで反応性基の反応率を高め(後硬化)、密着性等を改良すると共に、大きな搬送速度で生産できるようになる。後硬化は偏光でも非偏光でも構わないが、偏光であることが好ましい。また、2回以上の後硬化をすることが好ましく、偏光のみでも、非偏光のみでも、偏光と非偏光を組み合わせてもよいが、組み合わせる場合は非偏光より先に偏光を照射することが好ましい。紫外線照射は、不活性ガス置換してもしなくてもよいが、酸素濃度0.5%以下の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。照射エネルギーは、20mJ/cm2〜10J/cm2であることが好ましく、100〜800mJ/cm2であることがさらに好ましい。照度は20〜1000mW/cm2であることが好ましく、50〜500mW/cm2であることがより好ましく、100〜350mW/cm2であることがさらに好ましい。照射波長としては偏光照射の場合は300〜450nmにピークを有することが好ましく、350〜400nmにピークを有することがさらに好ましい。非偏光照射の場合は200〜450nmにピークを有することが好ましく、250〜400nmにピークを有することがさらに好ましい。
[Post-curing by UV irradiation after polarized irradiation]
The optically anisotropic layer increases the reaction rate of the reactive group (post-curing) by further irradiating polarized or non-polarized ultraviolet rays after the first polarized irradiation (irradiation for photo-alignment), and improves the adhesion, etc. In addition to improvements, it will be possible to produce at a high transport speed. Post-curing may be polarized or non-polarized, but is preferably polarized. Moreover, it is preferable to carry out post-curing twice or more, and polarized light or non-polarized light may be combined with polarized light and non-polarized light. However, when combined, it is preferable to irradiate polarized light before non-polarized light. Irradiation with ultraviolet rays may or may not be replaced with an inert gas, but is preferably performed in an inert gas atmosphere having an oxygen concentration of 0.5% or less. The irradiation energy is preferably 20mJ / cm 2 ~10J / cm 2 , further preferably 100 to 800 mJ / cm 2. The illuminance is preferably 20 to 1000 mW / cm 2, more preferably 50 to 500 mW / cm 2, further preferably 100 to 350 mW / cm 2. In the case of polarized light irradiation, the irradiation wavelength preferably has a peak at 300 to 450 nm, and more preferably 350 to 400 nm. In the case of non-polarized light irradiation, it preferably has a peak at 200 to 450 nm, and more preferably has a peak at 250 to 400 nm.

[水平配向剤]
液晶化合物を含む溶液などの光学異方層形成用組成物中に水平配向剤を含有させることで、液晶性化合物の分子を実質的に水平配向させることができる。尚、本明細書において「水平配向」とは、棒状液晶の場合、分子長軸と透明支持体の水平面が平行であることをいい、円盤状液晶の場合、円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と透明支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が10度未満の配向を意味するものとする。傾斜角は0〜5度が好ましく、0〜3度がより好ましく、0〜2度がさらに好ましく、0〜1度が最も好ましい。
水平配向剤としては、例えば特開2008−281989号公報の段落0084〜0093に記載の水平配向剤が挙げられ、かかる内容は本明細書に組み込まれる。
具体的には、例えば、以下の水平配向剤を用いることができる。

Figure 2015184410
[Horizontal alignment agent]
By including a horizontal alignment agent in the composition for forming an optical anisotropic layer such as a solution containing a liquid crystal compound, the molecules of the liquid crystal compound can be substantially horizontally aligned. In this specification, “horizontal alignment” means that in the case of a rod-like liquid crystal, the molecular long axis and the horizontal plane of the transparent support are parallel to each other. This means that the horizontal plane of the board surface and the transparent support is parallel, but it does not require that the plane is strictly parallel. And The inclination angle is preferably 0 to 5 degrees, more preferably 0 to 3 degrees, further preferably 0 to 2 degrees, and most preferably 0 to 1 degree.
Examples of the horizontal alignment agent include horizontal alignment agents described in paragraphs 0084 to 0093 of JP-A-2008-281989, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
Specifically, for example, the following horizontal alignment agent can be used.
Figure 2015184410

水平配向剤の添加量としては、液晶性化合物の質量の0.01〜20質量%が好ましく、0.01〜10質量%がより好ましく、0.02〜1質量%が特に好ましい。   The addition amount of the horizontal alignment agent is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.01 to 10% by mass, and particularly preferably 0.02 to 1% by mass of the mass of the liquid crystal compound.

<<光学異方層の光学特性>>
光学異方層の波長550nmにおける面内方向のリタデーションReとしては、タッチパネル搭載ディスプレイにおける虹ムラおよびブラックアウトをより低減できるという観点から、40〜240nmであることが好ましい。ここで、リタデーションReは、光学異方層を薄くするという観点では、40〜140nmがより好ましく、偏光サングラスを掛けたまま見る角度を変えた場合の色味変化を小さくするという観点では、40〜90nmがさらに好ましい。また、偏光サングラスを掛けたまま見る角度を変えた場合のコントラスト変化を小さくするという観点では、リタデーションReは90〜190nmがより好ましい。
ここで、波長550nmにおける面内方向のリタデーションReとは、Re=(nx−ny)×dで表される式により求めることができる。nxは光学異方層の面内遅相軸方向の屈折率を表し、nyは面内進相軸方向の屈折率を表し、nzは厚み方向の屈折率を表し、dは膜厚を表す。
<< Optical characteristics of optically anisotropic layer >>
The retardation Re in the in-plane direction at a wavelength of 550 nm of the optically anisotropic layer is preferably 40 to 240 nm from the viewpoint that rainbow unevenness and blackout in a touch panel-mounted display can be further reduced. Here, the retardation Re is more preferably 40 to 140 nm from the viewpoint of thinning the optically anisotropic layer, and 40 to 140 nm from the viewpoint of reducing the color change when the viewing angle is changed while wearing polarized sunglasses. 90 nm is more preferable. Further, from the viewpoint of reducing the change in contrast when the viewing angle is changed while wearing polarized sunglasses, the retardation Re is more preferably 90 to 190 nm.
Here, the retardation Re in the in-plane direction at a wavelength of 550 nm can be obtained by an expression represented by Re = (nx−ny) × d. nx represents the refractive index in the in-plane slow axis direction of the optical anisotropic layer, ny represents the refractive index in the in-plane fast axis direction, nz represents the refractive index in the thickness direction, and d represents the film thickness.

<その他の層>
本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムは、仮支持体、ハードコート層、および光学異方層の他に、配向層等のその他の層を有していてもよい。
また、本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムは、仮支持体側とは反対側の最表面に粘着層(本明細書中においてこの粘着層のことを第1の粘着層と称する場合がある)を有していてもよい。
<Other layers>
The optically anisotropic hard coat transfer film of the present invention may have other layers such as an alignment layer in addition to the temporary support, the hard coat layer, and the optically anisotropic layer.
In addition, the optically anisotropic hard coat transfer film of the present invention has an adhesive layer on the outermost surface opposite to the temporary support (this adhesive layer may be referred to as a first adhesive layer in the present specification). ).

<<配向層>>
本発明では、光学異方層を形成するために、配向層を利用してもよい。配向層は、仮支持体と光学異方層との間に少なくとも1層有することが好ましい。
配向層は、その上に設けられる液晶性化合物の配向方向を規定するように機能する。配向層は、光学異方層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよい。配向層の好ましい例としては、有機化合物(好ましくはポリマー)のラビング処理された層、無機化合物の斜方蒸着層、およびマイクログルーブを有する層、さらにω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライドおよびステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法(LB膜)により形成される累積膜、あるいは電場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙げることができる。
<< Orientation layer >>
In the present invention, an alignment layer may be used to form the optically anisotropic layer. The alignment layer preferably has at least one layer between the temporary support and the optically anisotropic layer.
The alignment layer functions so as to define the alignment direction of the liquid crystal compound provided thereon. The orientation layer may be any layer as long as it can impart orientation to the optically anisotropic layer. Preferred examples of the alignment layer include a rubbing-treated layer of an organic compound (preferably a polymer), an oblique deposition layer of an inorganic compound, and a layer having a microgroove, ω-tricosanoic acid, dioctadecylmethylammonium chloride, and stearyl. Examples thereof include a cumulative film formed by Langmuir-Blodgett method (LB film) such as methyl acid, or a layer in which a dielectric is oriented by applying an electric field or a magnetic field.

配向層用の有機化合物の例としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸/メタクリル酸共重合体、スチレン/マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ(N−メチロールアクリルアミド)、スチレン/ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル/塩化ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびポリカーボネート等のポリマーおよびシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよびアルキル基(炭素原子数6以上が好ましい)を有するアルキル変性ポリビニルアルコールを挙げることができる。市販品としては、例えばPVA205(クラレ社製)等が挙げられる。   Examples of organic compounds for the alignment layer include polymethyl methacrylate, acrylic acid / methacrylic acid copolymer, styrene / maleimide copolymer, polyvinyl alcohol, poly (N-methylolacrylamide), styrene / vinyltoluene copolymer. Polymers such as chlorosulfonated polyethylene, nitrocellulose, polyvinyl chloride, chlorinated polyolefin, polyester, polyimide, vinyl acetate / vinyl chloride copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer, carboxymethyl cellulose, polyethylene, polypropylene and polycarbonate, and Examples of the compound include a silane coupling agent. Examples of preferable polymers include polyimide, polystyrene, polymers of styrene derivatives, gelatin, polyvinyl alcohol, and alkyl-modified polyvinyl alcohol having an alkyl group (preferably having 6 or more carbon atoms). As a commercial item, PVA205 (made by Kuraray) etc. are mentioned, for example.

配向層の形成には、ポリマーを使用することが好ましい。利用可能なポリマーの種類は、液晶性化合物の配向(特に平均傾斜角)に応じて決定することができる。例えば、液晶性化合物を水平に配向させるためには配向層の表面エネルギーを低下させないポリマー(通常の配向用ポリマー)を用いる。具体的なポリマーの種類については液晶セルまたは光学補償シートについて種々の文献に記載がある。例えば、ポリビニルアルコールもしくは変性ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸もしくはポリアクリル酸エステルとの共重合体、ポリビニルピロリドン、セルロースもしくは変性セルロース等が好ましく用いられる。配向層用素材には液晶性化合物の反応性基と反応できる官能基を有してもよい。反応性基は、側鎖に反応性基を有する繰り返し単位を導入するか、あるいは、環状基の置換基として導入することができる。界面で液晶性化合物と化学結合を形成する配向層を用いることがより好ましく、かかる配向層としては特開平9−152509号公報に記載されており、酸クロライドやカレンズMOI(昭和電工(株)製)を用いて側鎖にアクリル基を導入した変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。配向層の厚さは0.01〜5μmであることが好ましく、0.05〜2μmであることがさらに好ましい。配向層は酸素遮断膜としての機能を有していてもよい。例えば、以下のポリマーや、市販品としては、Luvitec K30(BASF社製)等が挙げられる。

Figure 2015184410
For forming the alignment layer, it is preferable to use a polymer. The type of polymer that can be used can be determined according to the orientation (particularly the average tilt angle) of the liquid crystal compound. For example, in order to align the liquid crystalline compound horizontally, a polymer that does not decrease the surface energy of the alignment layer (ordinary alignment polymer) is used. Specific types of polymers are described in various documents about liquid crystal cells or optical compensation sheets. For example, polyvinyl alcohol or modified polyvinyl alcohol, a copolymer with polyacrylic acid or polyacrylic acid ester, polyvinyl pyrrolidone, cellulose or modified cellulose are preferably used. The alignment layer material may have a functional group capable of reacting with the reactive group of the liquid crystal compound. The reactive group can be introduced by introducing a repeating unit having a reactive group in the side chain or as a substituent of a cyclic group. It is more preferable to use an alignment layer that forms a chemical bond with the liquid crystal compound at the interface. Such an alignment layer is described in JP-A-9-152509, and acid chloride or Karenz MOI (manufactured by Showa Denko KK) The modified polyvinyl alcohol in which an acrylic group is introduced into the side chain by using The thickness of the alignment layer is preferably 0.01 to 5 μm, and more preferably 0.05 to 2 μm. The alignment layer may have a function as an oxygen blocking film. For example, Luvitec K30 (made by BASF) etc. are mentioned as the following polymers and a commercial item.
Figure 2015184410

また、配向層の形成には架橋剤を使用することが好ましく、架橋剤としては、例えばグルタルアルデヒドの50質量%水溶液(関東化学社製)等が挙げられる。   Moreover, it is preferable to use a crosslinking agent for the formation of the alignment layer. Examples of the crosslinking agent include 50% by mass aqueous solution of glutaraldehyde (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.).

液晶性化合物を配向させるために、ラビング処理を行うことが好ましい。このとき、LCD(液晶表示装置)の液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用することができる。即ち、配向層の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
また、ラビング処理の方向は、塗工方向に対して45度傾けて行うことが好ましい。これにより、光学異方層の遅相軸を塗布方向に対して45度の方向にすることができ、LCDの上偏光板の透過軸に対して、45度の向きに効率的に貼り合わせることができる。
In order to align the liquid crystalline compound, rubbing treatment is preferably performed. At this time, a processing method widely adopted as a liquid crystal alignment processing step of the LCD (liquid crystal display device) can be used. That is, a method of obtaining the orientation by rubbing the surface of the orientation layer in a certain direction using paper, gauze, felt, rubber, nylon, polyester fiber or the like can be used. Generally, it is carried out by rubbing several times using a cloth or the like in which fibers having a uniform length and thickness are planted on average.
Further, it is preferable that the rubbing treatment direction is inclined by 45 degrees with respect to the coating direction. As a result, the slow axis of the optically anisotropic layer can be set to 45 degrees with respect to the coating direction, and the optically anisotropic layer can be effectively bonded in the direction of 45 degrees with respect to the transmission axis of the upper polarizing plate of the LCD. Can do.

また、無機斜方蒸着膜の蒸着物質としては、SiO2を代表とし、TiO2、ZnO2等の金属酸化物、あるいやMgF2等のフッ化物、さらにAu、Al等の金属等が挙げられる。尚、金属酸化物は、高誘電率のものであれば斜方蒸着物質として用いることができ、上記に限定されるものではない。無機斜方蒸着膜は、蒸着装置を用いて形成することができる。フィルム(支持体)を固定して蒸着するか、あるいは長尺フィルムを移動させて連続的に蒸着することにより無機斜方蒸着膜を形成することができる。 Moreover, as a vapor deposition material for the inorganic oblique vapor deposition film, SiO 2 is representative, and metal oxides such as TiO 2 and ZnO 2 , fluorides such as MgF 2 , metals such as Au and Al, and the like can be cited. . The metal oxide can be used as an oblique deposition material as long as it has a high dielectric constant, and is not limited to the above. The inorganic oblique deposition film can be formed using a deposition apparatus. An inorganic oblique vapor deposition film can be formed by fixing the film (support) and performing vapor deposition, or moving the long film and performing continuous vapor deposition.

配向層の厚みとしては、0.1〜1μmが好ましく、0.2〜0.8μmがより好ましく、0.3〜0.7μmがさらに好ましい。   As thickness of an orientation layer, 0.1-1 micrometer is preferable, 0.2-0.8 micrometer is more preferable, 0.3-0.7 micrometer is further more preferable.

<<粘着層>>
本発明においては、本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムを用いて形成した積層体とタッチセンサーの密着を担保するための層として、第1の粘着層を設けることができる。
<< Adhesive layer >>
In this invention, a 1st adhesion layer can be provided as a layer for ensuring the close_contact | adherence of the laminated body formed using the optically anisotropic hard coat transfer film of this invention, and a touch sensor.

第1の粘着層を構成する材料としては、公知の粘着性絶縁材料を使用することが好ましく、例えば、ゴム系、アクリル系、天然ゴム系、合成ゴム系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリウレタン系、(変性)ポリオレフィン系、ポリビニルアルコール系、ポリビニルエーテル系、酢酸ビニル/塩化ビニルコポリマー系、エポキシ系、フッ素系等が挙げられる。なかでも、透明性に優れ、適度な濡れ性、凝集性および接着性等の粘着特性を示し、耐候性や耐熱性等にも優れるという点から、アルキル(メタ)アクリレート由来の繰り返し単位を有するアクリル系ポリマーを主成分とするアクリル系が好ましい。市販品としては、例えば、高透明性接着剤転写テープ8146−1(3M社製)等が挙げられる。   As a material constituting the first adhesive layer, a known adhesive insulating material is preferably used. For example, rubber-based, acrylic-based, natural rubber-based, synthetic rubber-based, silicone-based, polyester-based, polyamide-based, Examples include polyurethane, (modified) polyolefin, polyvinyl alcohol, polyvinyl ether, vinyl acetate / vinyl chloride copolymer, epoxy, and fluorine. Among these, acrylics having repeating units derived from alkyl (meth) acrylates are excellent in transparency, exhibiting adhesive properties such as moderate wettability, cohesiveness and adhesiveness, and excellent in weather resistance and heat resistance. Acrylics having a main component of a polymer are preferred. As a commercial item, highly transparent adhesive transfer tape 8146-1 (made by 3M company) etc. are mentioned, for example.

アクリル系粘着性絶縁材料のなかでも、粘着性がより優れる点から、アルキル基の炭素数が1〜12程度であるアルキル(メタ)アクリレート由来の繰り返し単位を有するアクリル系ポリマーであることが好ましい。上記アクリル系ポリマー中の繰り返し単位のなかには、(メタ)アクリル酸由来の繰り返し単位が含まれていてもよい。   Among the acrylic adhesive insulating materials, an acrylic polymer having a repeating unit derived from an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group with about 1 to 12 carbon atoms is preferable because the adhesiveness is more excellent. In the repeating unit in the acrylic polymer, a repeating unit derived from (meth) acrylic acid may be contained.

第1の粘着層の厚みは特に制限されないが、5〜350μmであることが好ましく、20〜150μmであることがより好ましい。また、タッチパネルの薄手化という観点からは、50μm以下がさらに好ましい。   Although the thickness in particular of a 1st adhesion layer is not restrict | limited, It is preferable that it is 5-350 micrometers, and it is more preferable that it is 20-150 micrometers. Further, from the viewpoint of thinning the touch panel, 50 μm or less is more preferable.

上記範囲内であれば所望の可視光の透過率が得られ、且つ、取り扱いも容易である。全光線透過率は、85〜100%であることが好ましく、また、光学等方性を示すことが好ましい。   Within the above range, desired visible light transmittance can be obtained, and handling is easy. The total light transmittance is preferably 85 to 100%, and preferably exhibits optical isotropy.

<光学異方性ハードコート転写フィルムの層構成>
本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムは、仮支持体上に、ハードコート層および光学異方層を有していれば、積層の順番、並びにハードコート層および光学異方層の数は特に制限されないが、仮支持体、ハードコート層および光学異方層がこの順に積層していることが好ましい。また、仮支持体およびハードコート層が互いに隣接して積層していることが好ましい。さらに、仮支持体と光学異方層との間に少なくとも1層の配向層を有し、配向層と光学異方層が互いに隣接して積層していることも好ましい。特に好ましい態様では、仮支持体、ハードコート層、配向層および光学異方層がこの順で互いに隣接して積層している。
本明細書における、互いに隣接して積層とは、その間に他の層を介して積層しておらず、面同士が直接接触して積層している状態を表す。
<Layer structure of optically anisotropic hard coat transfer film>
If the optically anisotropic hard coat transfer film of the present invention has a hard coat layer and an optical anisotropic layer on a temporary support, the order of lamination and the number of hard coat layers and optical anisotropic layers are as follows. Although not particularly limited, it is preferable that the temporary support, the hard coat layer, and the optically anisotropic layer are laminated in this order. The temporary support and the hard coat layer are preferably laminated adjacent to each other. Furthermore, it is preferable that at least one alignment layer is provided between the temporary support and the optical anisotropic layer, and the alignment layer and the optical anisotropic layer are laminated adjacent to each other. In a particularly preferred embodiment, the temporary support, the hard coat layer, the alignment layer, and the optically anisotropic layer are laminated adjacent to each other in this order.
In this specification, the term “stacked adjacent to each other” refers to a state in which the layers are not stacked via another layer, but the surfaces are directly in contact with each other and stacked.

以下、本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムの具体的な層構成について説明する。なお、本明細書における図は模式図であり、各層の厚みの関係や位置関係などは必ずしも実際のものとは一致しない。
図1は、本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムの一例を示す断面図である。 光学異方性ハードコート転写フィルム200は、仮支持体100の一方の表面上に、ハードコート層101、および光学異方層102を有する。仮支持体100、ハードコート層101、および光学異方層102の間や、光学異方性ハードコート転写フィルム200の最表面に、その他の層を有していてもよい。その他の層としては、配向層、粘着性を有する薄層、上記第1の粘着層等が挙げられる。
Hereinafter, a specific layer configuration of the optically anisotropic hard coat transfer film of the present invention will be described. Note that the drawings in this specification are schematic diagrams, and the thickness relationship and positional relationship of each layer do not necessarily match the actual ones.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the optically anisotropic hard coat transfer film of the present invention. The optically anisotropic hard coat transfer film 200 has a hard coat layer 101 and an optically anisotropic layer 102 on one surface of the temporary support 100. Other layers may be provided between the temporary support 100, the hard coat layer 101, and the optical anisotropic layer 102, or on the outermost surface of the optically anisotropic hard coat transfer film 200. Examples of other layers include an alignment layer, an adhesive thin layer, and the first adhesive layer.

ハードコート層101および光学異方層102の積層の順番、並びに各層の積層数は特に制限されないが、図1のように、タッチセンサー転写後にハードコート層が最表面となるように、仮支持体100とハードコート層は互いに隣接して積層していることが好ましい。これにより、タッチパネルの耐傷性を向上させることができる。   The order of lamination of the hard coat layer 101 and the optically anisotropic layer 102 and the number of lamination of each layer are not particularly limited. However, as shown in FIG. 1, the temporary support is used so that the hard coat layer becomes the outermost surface after touch sensor transfer. 100 and the hard coat layer are preferably laminated adjacent to each other. Thereby, the scratch resistance of the touch panel can be improved.

また、図2に一例を示すように、仮支持体100と光学異方層102との間に少なくとも1層の配向層103を有し、配向層103と光学異方層102が互いに隣接して積層していることが好ましい。これにより、光学異方層102のムラを抑制でき、画像ムラを低減することができる。
さらに、図2のように、ハードコート層101と光学異方層102との間に粘着層が存在しないことが好ましい。これにより、粘着層を介してハードコート層101と光学異方層102とを積層させた場合と比較して光学異方層102が割れにくくすることができるだけでなく、粘着層が存在しないことにより、当該光学異方性ハードコート転写フィルムを用いて製造されるタッチパネルの厚さを薄くすることもできる。
In addition, as shown in FIG. 2, at least one alignment layer 103 is provided between the temporary support 100 and the optical anisotropic layer 102, and the alignment layer 103 and the optical anisotropic layer 102 are adjacent to each other. It is preferable to laminate. Thereby, the nonuniformity of the optical anisotropic layer 102 can be suppressed and the image nonuniformity can be reduced.
Furthermore, as shown in FIG. 2, it is preferable that no adhesive layer exists between the hard coat layer 101 and the optically anisotropic layer 102. As a result, the optical anisotropic layer 102 can be made harder to crack than the case where the hard coat layer 101 and the optical anisotropic layer 102 are laminated via the adhesive layer, and the adhesive layer is not present. The thickness of the touch panel produced using the optically anisotropic hard coat transfer film can be reduced.

上記3つの観点を合わせて、図2のように、仮支持体100、ハードコート層101、配向層103および光学異方層102がこの順で互いに隣接して積層していることが最も好ましい。   Combining the above three viewpoints, as shown in FIG. 2, it is most preferable that the temporary support 100, the hard coat layer 101, the alignment layer 103, and the optically anisotropic layer 102 are laminated adjacent to each other in this order.

また、図3や図4に一例を示すように、仮支持体100とは反対側の最表面に第1の粘着層104を有していてもよい。これにより、タッチパネルの作製時に粘着層を用意する手間が省ける。   Further, as shown in FIG. 3 and FIG. 4 as an example, the first adhesive layer 104 may be provided on the outermost surface opposite to the temporary support 100. Thereby, the effort which prepares an adhesion layer at the time of preparation of a touch panel can be saved.

(光学異方性ハードコート転写フィルムの製造方法)
本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムの製造方法は、ハードコート層と光学異方層とを塗布により形成することが好ましく、これによりハードコート層と光学異方層とを密着させることができる。
仮支持体上にハードコート層用塗工液(塗布液)および光学異方層用塗工液を塗布する工程を含む。また、配向層を形成させる場合は、配向層用塗工液を塗布すればよい。
ハードコート層用塗工液、配向層用塗工液、および光学異方層用塗工液を塗布する順序は特に制限はなく、所望の層構成順に各塗工液を塗布することで各層を形成させればよい。
(Method for producing optically anisotropic hard coat transfer film)
In the method for producing an optically anisotropic hardcoat transfer film of the present invention, the hardcoat layer and the optically anisotropic layer are preferably formed by coating, whereby the hardcoat layer and the optically anisotropic layer can be adhered to each other. it can.
A step of applying a hard coat layer coating solution (coating solution) and an optically anisotropic layer coating solution onto the temporary support. Moreover, what is necessary is just to apply | coat the coating liquid for alignment layers, when forming an alignment layer.
The order of applying the coating liquid for hard coat layer, the coating liquid for alignment layer, and the coating liquid for optically anisotropic layer is not particularly limited, and each layer is applied by applying each coating liquid in the desired layer configuration order. What is necessary is just to form.

塗布方法としては、例えば、グラビアコーター、バーコーターなどの公知の塗布方法を利用することができる。
塗工液は、塗布溶媒として水を用いた水系でもよいし、2−ブタノンやシクロヘキサノン等の有機溶媒を用いた溶剤系でもよい。塗布溶媒は、1種類を単独で用いてもよいし、2種類以上を混合して用いてもよい。
As a coating method, for example, a known coating method such as a gravure coater or a bar coater can be used.
The coating liquid may be an aqueous system using water as a coating solvent, or a solvent system using an organic solvent such as 2-butanone or cyclohexanone. A coating solvent may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types.

また、塗工液には、必要に応じて上記界面活性剤を含有させてもよい。
各塗工液を塗布後、乾燥させ、必要に応じて下記のように紫外線等による光照射を行ってもよい。
Moreover, you may make the coating liquid contain the said surfactant as needed.
After applying each coating liquid, it may be dried, and if necessary, light irradiation with ultraviolet rays or the like may be performed as described below.

(タッチパネル)
本発明のタッチパネルは、少なくとも1層のハードコート層、少なくとも1層の光学異方層、1層の粘着層、およびタッチセンサーを有し、上記タッチセンサーの波長550nmにおける40度方向のリタデーションRe40が、0〜1000nmであることを特徴とする。本発明のタッチパネルは、上記した本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムを用いて作製したものでもよいが、それ以外の材料及び方法を用いて作製したものでもよい。本発明のタッチパネルにおいては、虹ムラおよびブラックアウトが低減されている。
(Touch panel)
The touch panel of the present invention has at least one hard coat layer, at least one optical anisotropic layer, one adhesive layer, and a touch sensor. 0 to 1000 nm. The touch panel of the present invention may be produced using the above-described optically anisotropic hard coat transfer film of the present invention, but may be produced using other materials and methods. In the touch panel of the present invention, rainbow unevenness and blackout are reduced.

図5は、本発明のタッチパネルの一例を示す断面図である。図5に示すように、タッチパネル1はタッチセンサー3を有し、タッチセンサー3の一方の面に第1の粘着層104を介して光学異方層102、配向層103およびハードコート層101等を含む本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムを用いて形成した積層体210が貼合されている。また、タッチセンサー3の他方の面には、保護基板50が第2の粘着層42を介して貼合されている。
なお、第2の粘着層42の好ましい様態は、上記第1の粘着層104の好ましい様態と同様である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing an example of the touch panel of the present invention. As shown in FIG. 5, the touch panel 1 includes a touch sensor 3, and an optical anisotropic layer 102, an alignment layer 103, a hard coat layer 101, and the like are provided on one surface of the touch sensor 3 via a first adhesive layer 104. A laminate 210 formed by using the optically anisotropic hard coat transfer film of the present invention is bonded. A protective substrate 50 is bonded to the other surface of the touch sensor 3 via the second adhesive layer 42.
The preferred mode of the second adhesive layer 42 is the same as the preferred mode of the first adhesive layer 104.

図6は、本発明のタッチパネルを搭載した画像表示装置の一例を示した断面図である。本発明のタッチパネルは、タッチセンサー3および画像表示パネル2を少なくとも有し、画像表示パネル2は視認側に直線偏光を出射する。なお、図6においては、矢印の方向から視認する。画像表示パネル2は、画像表示セル4と、視認側に偏光板5とを少なくとも備える。
なお、保護基板50上の視認側に、ハードコート層を設けてもよいし、上記画像表示パネル2とタッチセンサー3との間に粘着層を配置して、貼合してもよい。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing an example of an image display device equipped with the touch panel of the present invention. The touch panel of the present invention has at least a touch sensor 3 and an image display panel 2, and the image display panel 2 emits linearly polarized light to the viewing side. In addition, in FIG. 6, it visually recognizes from the direction of the arrow. The image display panel 2 includes at least an image display cell 4 and a polarizing plate 5 on the viewing side.
Note that a hard coat layer may be provided on the viewing side on the protective substrate 50, or an adhesive layer may be disposed between the image display panel 2 and the touch sensor 3 and bonded.

なお、このタッチパネル1が静電容量式タッチパネルである場合においては、タッチセンサー3上の保護基板50上に指が近接、接触すると、指とタッチセンサー3中の検出電極との静電容量が変化する。ここで、図示しない位置検出ドライバは、指と検出電極との間の静電容量の変化を常に検出している。この位置検出ドライバは、所定値以上の静電容量の変化を検出すると、静電容量の変化が検出された位置を入力位置として検出する。このようにして、タッチパネル1は、入力位置を検出することができる。   When the touch panel 1 is a capacitive touch panel, the capacitance between the finger and the detection electrode in the touch sensor 3 changes when a finger approaches or contacts the protective substrate 50 on the touch sensor 3. To do. Here, a position detection driver (not shown) always detects a change in capacitance between the finger and the detection electrode. When the position detection driver detects a change in capacitance that is equal to or greater than a predetermined value, the position detection driver detects a position where the change in capacitance is detected as an input position. In this way, the touch panel 1 can detect the input position.

(タッチパネルの製造方法)
本発明のタッチパネルの製造方法は、光学異方性ハードコート転写フィルムの仮支持体側とは反対側の最表面に第1の粘着層を形成する工程と、上記第1の粘着層を介して上記ハードコート転写フィルムをタッチセンサーに転写する工程と、仮支持体を剥離する工程とを含むことを特徴とする。また、光学異方性ハードコート転写フィルムが、仮支持体側とは反対側の最表面に第1の粘着層を有する場合、光学異方性ハードコート転写フィルムをタッチセンサーに転写する工程と、仮支持体を剥離する工程とを含む。
(Touch panel manufacturing method)
The method for producing a touch panel of the present invention includes a step of forming a first adhesive layer on the outermost surface opposite to the temporary support side of the optically anisotropic hard coat transfer film, and the above-mentioned via the first adhesive layer. It includes a step of transferring the hard coat transfer film to the touch sensor and a step of peeling the temporary support. When the optically anisotropic hard coat transfer film has the first adhesive layer on the outermost surface opposite to the temporary support side, a step of transferring the optically anisotropic hard coat transfer film to the touch sensor, And a step of peeling the support.

光学異方性ハードコート転写フィルムをタッチセンサー上に転写する方法については特に制限されず、タッチセンサー上に上記光学異方層およびハードコート層を転写できれば特に方法は限定されない。例えば、本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムを、転写接着層面をタッチセンサー表面側にして、ラミネータを用いて加熱および/又は加圧したローラー又は平板で圧着又は加熱圧着して、貼り付けることができる。具体的には、特開平7−110575号公報、特開平11−77942号公報、特開2000−334836号公報、特開2002−148794号公報に記載のラミネータおよびラミネート方法等が挙げられるが、低異物の観点で、特開平7−110575号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。その後、仮支持体は剥離してもよく、剥離によって露出した光学異方層またはハードコート層表面に、他の層、例えば電極層等を形成してもよい。   The method for transferring the optically anisotropic hard coat transfer film onto the touch sensor is not particularly limited, and the method is not particularly limited as long as the optical anisotropic layer and the hard coat layer can be transferred onto the touch sensor. For example, the optically anisotropic hard coat transfer film of the present invention is attached by pressing or thermocompression bonding with a roller or flat plate heated and / or pressurized using a laminator with the transfer adhesive layer side facing the touch sensor surface. be able to. Specific examples include laminators and laminating methods described in JP-A-7-110575, JP-A-11-77942, JP-A-2000-334836, and JP-A-2002-148794. From the viewpoint of foreign matter, it is preferable to use the method described in JP-A-7-110575. Thereafter, the temporary support may be peeled off, and another layer such as an electrode layer may be formed on the surface of the optically anisotropic layer or hard coat layer exposed by peeling.

以下、タッチパネル1の各部材について詳述する。まず、画像表示パネル2について述べる。なお第1の粘着層、光学異方層およびハードコート層については本明細書中の上記の通りである。   Hereinafter, each member of the touch panel 1 will be described in detail. First, the image display panel 2 will be described. The first adhesive layer, optically anisotropic layer, and hard coat layer are as described above in the present specification.

<保護基板>
タッチ面を構成する保護基板50として、絶縁性の透明基板であることが好ましい。また、保護基板50は光学等方性であること、機械強度や耐熱性が高く、寸法安定性がよいことが好ましく、ガラス板が好適に用いられる。また、ガラス板は重いため、プラスチックフィルムおよびプラスチック板を用いてもよい。
<Protection board>
The protective substrate 50 constituting the touch surface is preferably an insulating transparent substrate. The protective substrate 50 is preferably optically isotropic, has high mechanical strength and heat resistance, and preferably has good dimensional stability, and a glass plate is preferably used. Further, since the glass plate is heavy, a plastic film and a plastic plate may be used.

保護基板50としては、ガラス板を用いる場合、より割れにくい強化ガラスが好ましく、さらに割れにくい化学強化ガラスがより好ましい。市販品としては、ゴリラガラス(コーニング社製)、ドラゴントレイル(旭硝子社製)等が挙げられる。   When a glass plate is used as the protective substrate 50, tempered glass that is more difficult to break is preferable, and chemically tempered glass that is more difficult to break is more preferable. Examples of commercially available products include gorilla glass (manufactured by Corning), dragon trail (manufactured by Asahi Glass), and the like.

保護基板50としては、プラスチックフィルムおよびプラスチック板を用いる場合、原料としては、例えば、ポリエステル系樹脂(ポリエチレンテレフタレート:PET、ポリエチレンナフタレート:PEN等)、ポリオレフィン系樹脂(ポリエチレン:PE、ポリプロピレン:PP等)、ビニル系樹脂(ポリスチレン:PS、エチレン−酢酸ビニルコポリマー:EVA、ポリ塩化ビニル:PVC等)、環状オレフィン系樹脂(環状オレフィンポリマー:COP、環状オレフィンコポリマー:COC)、セルロース系樹脂(トリアセチルセルロース:TAC等)、ポリカーボネート樹脂:PC、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂等を用いることができる。
機械強度や寸法安定性、耐熱性の観点から、PETやPEN等のポリエステル系樹脂を主成分とするポリエステルフィルムが好適に用いられるが、延伸製膜による光学異方性によって、虹ムラが発生しやすいため、COPやCOC等の環状オレフィン系樹脂を主成分とする環状オレフィンフィルムが好ましい。また、保護基板50の面内遅相軸と画像表示パネル2から出射される直線偏光の振動方向とのなす角が直角または平行となるように、保護基板50が配置されることが好ましい。これにより、虹ムラを抑制することができる。
When a plastic film and a plastic plate are used as the protective substrate 50, examples of raw materials include polyester resins (polyethylene terephthalate: PET, polyethylene naphthalate: PEN, etc.), polyolefin resins (polyethylene: PE, polypropylene: PP, etc.). ), Vinyl resin (polystyrene: PS, ethylene-vinyl acetate copolymer: EVA, polyvinyl chloride: PVC, etc.), cyclic olefin resin (cyclic olefin polymer: COP, cyclic olefin copolymer: COC), cellulose resin (triacetyl) Cellulose: TAC, etc.), polycarbonate resin: PC, polyamide resin, polyimide resin, acrylic resin, polyurethane resin, and the like can be used.
From the viewpoint of mechanical strength, dimensional stability, and heat resistance, a polyester film mainly composed of a polyester resin such as PET or PEN is preferably used. However, rainbow unevenness occurs due to optical anisotropy caused by stretched film formation. Since it is easy, the cyclic olefin film which has cyclic olefin resin, such as COP and COC, as a main component is preferable. Further, it is preferable that the protective substrate 50 is arranged so that an angle formed by the in-plane slow axis of the protective substrate 50 and the vibration direction of the linearly polarized light emitted from the image display panel 2 is perpendicular or parallel. Thereby, rainbow nonuniformity can be suppressed.

保護基板50は単層であっても、2層以上の複層であってもよい。保護基板50の厚み(保護基板50が2層以上の複層の場合は、それらの合計厚み)は特に制限されないが、5〜350μmであることが好ましく、20〜150μmであることがさらに好ましい。上記範囲内であれば所望の可視光の透過率が得られ、且つ、取り扱いも容易である。全光線透過率は85〜100%であることが好ましい。
また、保護基板50の平面視形状は特に限定されず、例えば、矩形状、円形状、多角形状等が挙げられる。
The protective substrate 50 may be a single layer or a multilayer of two or more layers. The thickness of the protective substrate 50 (when the protective substrate 50 is a multilayer of two or more layers, the total thickness thereof) is not particularly limited, but is preferably 5 to 350 μm, and more preferably 20 to 150 μm. Within the above range, desired visible light transmittance can be obtained, and handling is easy. The total light transmittance is preferably 85 to 100%.
Moreover, the planar view shape of the protective substrate 50 is not specifically limited, For example, rectangular shape, circular shape, polygonal shape etc. are mentioned.

<画像表示パネル>
画像表示パネル2は、画像表示セル4と、視認側に偏光板5(視認側偏光板)とを備える。
画像表示セル4としては、液晶セルや有機ELセル等が用いられる。
液晶セルとしては、外光を利用する反射型液晶セル、バックライト等の光源からの光を利用する透過型液晶セル、外部からの光と光源からの光の両者を利用する半透過半反射型液晶セルのいずれを用いてもよい。また、液晶セルの駆動方式としては、例えばVAモード、IPSモード、TNモード、STNモードやベンド配向(π型)等の任意なタイプのものを用いうる。なお、液晶セルとして、透過型液晶セル、または、半透過半反射型液晶セルを採用する場合、画像表示パネルは、液晶セルの視認側と反対側に光源側偏光板を備え、さらに光源を備えていてもよい。この場合、光源からの出射光が、液晶セルを伝搬中に偏光状態が変換され、液晶セルの視認側に配置された偏光板によって偏光状態に応じた量の光が吸収されるために透過光量が調整され、画像表示を可能としている。そのため、画像表示パネルから視認側に出射する光は、偏光板5の透過軸方向に振動面を有する直線偏光である。
<Image display panel>
The image display panel 2 includes an image display cell 4 and a polarizing plate 5 (viewing-side polarizing plate) on the viewing side.
As the image display cell 4, a liquid crystal cell, an organic EL cell, or the like is used.
Liquid crystal cells include reflective liquid crystal cells that use external light, transmissive liquid crystal cells that use light from a light source such as a backlight, and semi-transmissive and semi-reflective types that use both external light and light from the light source. Any liquid crystal cell may be used. In addition, as a driving method of the liquid crystal cell, for example, any type such as a VA mode, an IPS mode, a TN mode, an STN mode, or a bend alignment (π type) can be used. When a transmissive liquid crystal cell or a transflective liquid crystal cell is adopted as the liquid crystal cell, the image display panel includes a light source side polarizing plate on the side opposite to the viewing side of the liquid crystal cell, and further includes a light source. It may be. In this case, the light emitted from the light source is converted in its polarization state while propagating through the liquid crystal cell, and the amount of transmitted light is absorbed by the polarizing plate arranged on the viewing side of the liquid crystal cell, so that the amount of light corresponding to the polarization state is absorbed. Has been adjusted to enable image display. Therefore, the light emitted from the image display panel to the viewing side is linearly polarized light having a vibration surface in the transmission axis direction of the polarizing plate 5.

有機ELセルとしては、例えば、透明基板上に透明電極と有機発光層と金属電極とを順に積層した発光体(有機エレクトロルミネセンス発光体)が用いられる。有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えばトリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、このような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層の積層体、あるいはこれらの正孔注入層、発光層、および電子注入層の積層体等、種々の組み合わせをもった構成が知られている。有機ELパネルは、有機ELセル自体の発光量を調整することによって画像表示を可能としているため、画像表示において偏光板は必須ではない。しかしながら、有機発光層の厚みがきわめて薄いために、外光が金属電極で反射して再び視認側へ出射され、外部から視認したとき、有機EL表示装置の表示面が鏡面のように見える場合がある。このような外光の鏡面反射を遮蔽するために、図7に示すように、有機ELセル6の視認側に、偏光板5と1/4波長板7を積層した円偏光板8を配置する方法が採用されている。そのため、視認側に円偏光板8を備える有機ELパネル9から視認側に出射する光は、円偏光板8を構成する偏光板5の透過軸方向に振動面を有する直線偏光である。
このように、画像表示セルから出射した光は、偏光板5によって、偏光板5の吸収軸方向の光が吸収され、吸収軸方向と直交する透過軸方向の光のみがタッチセンサー3側へ出射される。
As the organic EL cell, for example, a light emitting body (organic electroluminescent light emitting body) in which a transparent electrode, an organic light emitting layer, and a metal electrode are sequentially laminated on a transparent substrate is used. The organic light emitting layer is a laminate of various organic thin films, for example, a laminate of a hole injection layer made of a triphenylamine derivative or the like and a light emitting layer made of a fluorescent organic solid such as anthracene, or the like Structures having various combinations such as a laminate of an electron injection layer made of a light emitting layer and a perylene derivative, or a laminate of these hole injection layer, light emitting layer, and electron injection layer are known. Since the organic EL panel enables image display by adjusting the light emission amount of the organic EL cell itself, a polarizing plate is not essential for image display. However, since the thickness of the organic light emitting layer is very thin, external light is reflected by the metal electrode and emitted again to the viewing side, and when viewed from the outside, the display surface of the organic EL display device may appear as a mirror surface. is there. In order to shield such specular reflection of external light, a circularly polarizing plate 8 in which a polarizing plate 5 and a quarter-wave plate 7 are laminated is arranged on the viewing side of the organic EL cell 6 as shown in FIG. The method is adopted. Therefore, the light emitted from the organic EL panel 9 including the circularly polarizing plate 8 on the viewing side to the viewing side is linearly polarized light having a vibration surface in the transmission axis direction of the polarizing plate 5 constituting the circularly polarizing plate 8.
As described above, the light emitted from the image display cell is absorbed by the polarizing plate 5 in the absorption axis direction of the polarizing plate 5 and only the light in the transmission axis direction orthogonal to the absorption axis direction is emitted to the touch sensor 3 side. Is done.

偏光板5としては、適宜の吸収型直線偏光子を有する偏光板が用いられる。このような偏光板としては、例えば、ヨウ素を含有するポリビニルアルコール系延伸フィルムからなる偏光子を適宜の透明保護フィルムで挟持したものが好適に用いられる。   As the polarizing plate 5, a polarizing plate having an appropriate absorption linear polarizer is used. As such a polarizing plate, for example, a polarizing plate made of a polyvinyl alcohol-based stretched film containing iodine is suitably used.

<タッチセンサー>
タッチセンサー3は、画像表示パネル2上(操作者側)に配置され、例えば、人間の指などの外部導体が接触(接近)するときに発生する静電容量の変化を利用して、人間の指などの外部導体の位置を検出するセンサーである。
タッチセンサー3としては、指が接触または近接した検出電極(特に、X方向に延びる検出電極およびY方向に延びる検出電極)の静電容量変化を検出することによって、指の座標を特定する投影型静電容量方式のタッチセンサーが好ましく用いられる。タッチセンサー3としては、例えば、抵抗膜方式のタッチセンサーを用いてもよい。
<Touch sensor>
The touch sensor 3 is arranged on the image display panel 2 (operator side), and uses, for example, a change in capacitance that occurs when an external conductor such as a human finger contacts (approaches) to It is a sensor that detects the position of an external conductor such as a finger.
The touch sensor 3 is a projection type that identifies the coordinates of a finger by detecting a change in electrostatic capacitance of a detection electrode (in particular, a detection electrode extending in the X direction and a detection electrode extending in the Y direction) that is in contact with or close to the finger. A capacitive touch sensor is preferably used. For example, a resistive film type touch sensor may be used as the touch sensor 3.

タッチセンサー3の構成は基板と基板の少なくとも一方の表面上に配置された検出電極とを有する導電性フィルムを少なくとも含むことが好ましい。なお、検出電極は、導電性フィルム中の導電部を構成する。   The configuration of the touch sensor 3 preferably includes at least a conductive film having a substrate and a detection electrode disposed on at least one surface of the substrate. The detection electrode constitutes a conductive part in the conductive film.

図8および9は、1枚の導電性フィルムを用いた静電容量式タッチセンサーの例を示す図である。図8に、静電容量式タッチセンサー300の平面図を示す。図9は、図8中の切断線A−Aに沿って切断した断面図である。
なお、図8および9は、タッチセンサーの層構成に対する理解を容易にするために模式的に表したものであり、各層の配置を正確に表した図面ではない。
8 and 9 are diagrams showing examples of a capacitive touch sensor using a single conductive film. FIG. 8 shows a plan view of the capacitive touch sensor 300. FIG. 9 is a cross-sectional view taken along the cutting line AA in FIG.
8 and 9 are schematically shown to facilitate understanding of the layer configuration of the touch sensor, and are not drawings that accurately represent the arrangement of each layer.

静電容量式タッチセンサー300は、支持体12と、支持体12の一方の主面上(表面上)に配置される第1検出電極14と、第1引き出し配線16と、他方の主面上(裏面上)に配置される第2検出電極18と、第2引き出し配線20とを備える。なお、第1検出電極14および第2検出電極18がある領域は、使用者によって入力操作が可能な入力領域EIを構成し、入力領域EIの外側に位置する外側領域EOには第1引き出し配線16、第2引き出し配線20および図示しないフレキシブルプリント配線板が配置される。
なお、上記においては、第1検出電極14および第2検出電極18が支持体12の表面および裏面に配置される態様について詳述したが、タッチセンサーはこの態様には限定されず、各層の順番が異なっていても、他の層が追加されていても、また、接着層を介して2枚以上の導電性フィルムを貼合したものでも問題ない。
The capacitive touch sensor 300 includes a support 12, a first detection electrode 14 disposed on one main surface (on the surface) of the support 12, a first lead-out wiring 16, and the other main surface. A second detection electrode 18 and a second lead-out wiring 20 are provided (on the back surface). The region where the first detection electrode 14 and the second detection electrode 18 are provided constitutes an input region E I that can be input by the user, and the outer region EO located outside the input region E I includes the first region E I. The lead wiring 16, the second lead wiring 20, and a flexible printed wiring board (not shown) are disposed.
In the above description, the aspect in which the first detection electrode 14 and the second detection electrode 18 are arranged on the front surface and the back surface of the support 12 has been described in detail. However, the touch sensor is not limited to this aspect, and the order of each layer Even if they are different, other layers are added, or two or more conductive films are bonded via an adhesive layer.

<<支持体>>
支持体12は、入力領域EIにおいて後述する第1検出電極14および第2検出電極18を支持する役割を担うとともに、外側領域EOにおいて後述する第1引き出し配線16および第2引き出し配線20を支持する役割を担う部材である。
<< Support >>
The support 12 plays a role of supporting a first detection electrode 14 and a second detection electrode 18 described later in the input area E I and supports a first extraction wiring 16 and a second extraction wiring 20 described later in the outer area EO. It is a member that plays the role of

支持体12の波長550nmにおける40度方向のリタデーションRe40は、虹ムラの発生がより抑制される点で、0〜1000nmであり、0〜500nmがより好ましく、0〜40nmであることがさらに好ましい。   The retardation Re40 in the direction of 40 degrees at a wavelength of 550 nm of the support 12 is from 0 to 1000 nm, more preferably from 0 to 500 nm, and further preferably from 0 to 40 nm in that the generation of rainbow unevenness is further suppressed.

支持体12の面内遅相軸と、上述した画像表示パネル2から出射される直線偏光の振動方向とのなす角は、直角または平行であることが好ましく、虹ムラの発生がより抑制される点で、直角であることがさらに好ましい。直角および平行の定義は、上述の通りである。
なお、上記態様は、支持体12の面内遅相軸と、画像表示パネル2中の偏光板5(視認側偏光板)の透過軸とのなす角が直角または平行であることと同義である。
The angle formed by the in-plane slow axis of the support 12 and the vibration direction of the linearly polarized light emitted from the image display panel 2 described above is preferably perpendicular or parallel, and the occurrence of rainbow unevenness is further suppressed. More preferably, the point is a right angle. The definitions of right angle and parallel are as described above.
In addition, the said aspect is synonymous with the angle which the in-plane slow axis of the support body 12 and the transmission axis | shaft of the polarizing plate 5 (viewing side polarizing plate) in the image display panel 2 make at right angle or parallel. .

支持体12は、保護基板50と同様、絶縁性の透明基板であることが好ましい。例えば、プラスチックフィルム、プラスチック板、ガラス板等が挙げられる。中でも、靭性に優れる理由から、プラスチックフィルムが好ましい。   As with the protective substrate 50, the support 12 is preferably an insulating transparent substrate. For example, a plastic film, a plastic plate, a glass plate, etc. are mentioned. Among these, a plastic film is preferable because of its excellent toughness.

支持体12としてプラスチックフィルムおよびプラスチック板を使用する場合、原料としては、保護基板50と同様である。具体的には、ポリエステル系樹脂(ポリエチレンテレフタレート:PET、ポリエチレンナフタレート:PEN等)、ポリオレフィン系樹脂(ポリエチレン:PE、ポリプロピレン:PP等)、ビニル系樹脂(ポリスチレン:PS、エチレン−酢酸ビニルコポリマー:EVA、ポリ塩化ビニル:PVC等)、環状オレフィン系樹脂(環状オレフィンポリマー:COP、環状オレフィンコポリマー:COC)、セルロース系樹脂(トリアセチルセルロース:TAC等)、ポリカーボネート樹脂:PC、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂等を用いることができる。
機械強度や寸法安定性、耐熱性の観点から、PETやPEN等のポリエステル系樹脂を主成分とするフィルムが好適に用いられるが、延伸製膜による光学異方性で虹ムラが発生しやすくなる。このため、光学等方性のCOPやCOC等の環状オレフィン系樹脂を主成分とするフィルムが好ましい。
When a plastic film and a plastic plate are used as the support 12, the raw material is the same as that of the protective substrate 50. Specifically, polyester resins (polyethylene terephthalate: PET, polyethylene naphthalate: PEN, etc.), polyolefin resins (polyethylene: PE, polypropylene: PP, etc.), vinyl resins (polystyrene: PS, ethylene-vinyl acetate copolymer: EVA, polyvinyl chloride: PVC, etc., cyclic olefin resin (cyclic olefin polymer: COP, cyclic olefin copolymer: COC), cellulose resin (triacetyl cellulose: TAC, etc.), polycarbonate resin: PC, polyamide resin, polyimide Resin, acrylic resin, polyurethane resin, etc. can be used.
From the viewpoint of mechanical strength, dimensional stability, and heat resistance, a film mainly composed of a polyester-based resin such as PET or PEN is preferably used, but rainbow unevenness is likely to occur due to optical anisotropy due to stretched film formation. . For this reason, the film which has cyclic olefin resin, such as optically isotropic COP and COC, as a main component is preferable.

支持体12は単層であっても、2層以上の複層であってもよい。支持体12の厚み(支持体12が2層以上の複層の場合は、それらの合計厚み)は特に制限されないが、5〜350μmであることが好ましく、20〜150μmであることがさらに好ましい。上記範囲内であれば所望の可視光の透過率が得られ、且つ、取り扱いも容易である。
全光線透過率は85〜100%であることが好ましい。
また、支持体12の平面視形状は特に限定されず、例えば、矩形状、円形状、多角形状等が挙げられる。
The support 12 may be a single layer or a multilayer of two or more layers. The thickness of the support 12 (when the support 12 is a multilayer of two or more layers, the total thickness thereof) is not particularly limited, but is preferably 5 to 350 μm, and more preferably 20 to 150 μm. Within the above range, desired visible light transmittance can be obtained, and handling is easy.
The total light transmittance is preferably 85 to 100%.
Moreover, the planar view shape of the support body 12 is not specifically limited, For example, rectangular shape, circular shape, polygonal shape etc. are mentioned.

<<<環状オレフィン系樹脂を主成分とするフィルム>>>
環状オレフィン系樹脂を主成分とするフィルム(以下、環状オレフィン系フィルムともいう)の原料となるとなるノルボルネン樹脂(ノルボルネン単位)として、以下に記載する飽和ノルボルネン樹脂−Aと飽和ノルボルネン樹脂−Bを好ましい例として挙げることができる。これらの飽和ノルボルネン樹脂は、いずれも後述の溶液製膜法、溶融製膜法により製膜することができるが、飽和ノルボルネン樹脂−Aは溶融製膜法により製膜することがより好ましく、飽和ノルボルネン樹脂−Bは溶融および溶液製膜法により製膜することがより好ましい。
<<< Film mainly composed of cyclic olefin resin >>>
As the norbornene resin (norbornene unit) to be a raw material for a film containing cyclic olefin resin as a main component (hereinafter also referred to as cyclic olefin film), saturated norbornene resin-A and saturated norbornene resin-B described below are preferable. As an example. Any of these saturated norbornene resins can be formed by the solution film forming method and the melt film forming method described later, but the saturated norbornene resin-A is more preferably formed by the melt film forming method. The resin-B is more preferably formed by melting and solution casting.

(飽和ノルボルネン樹脂−A)
飽和ノルボルネン樹脂−Aとして、(1)ノルボルネン系モノマーの開環(共)重合体に対して、必要に応じてマレイン酸付加、シクロペンタジエン付加のようなポリマー変性を行ない、その後さらに水素添加して得られた樹脂、(2)ノルボルネン系モノマーを付加型重合させて得られた樹脂、(3)ノルボルネン系モノマーとエチレンやα−オレフィンなどのオレフィン系モノマーとを付加型共重合させて得られた樹脂などを挙げることができる。重合方法および水素添加方法は、常法により行なうことができる。
(Saturated norbornene resin-A)
As the saturated norbornene resin-A, (1) a ring-opening (co) polymer of a norbornene-based monomer is subjected to polymer modification such as maleic acid addition or cyclopentadiene addition as necessary, and then further hydrogenated. Obtained resin, (2) Resin obtained by addition polymerization of norbornene monomer, (3) Obtained by addition copolymerization of norbornene monomer and olefin monomer such as ethylene and α-olefin Examples thereof include resins. The polymerization method and the hydrogenation method can be performed by conventional methods.

ノルボルネン系モノマーとしては、例えば、ノルボルネン、およびそのアルキルおよび/またはアルキリデン置換体(例えば、5−メチル−2−ノルボルネン、5−ジメチル−2−ノルボルネン、5−エチル−2−ノルボルネン、5−ブチル−2−ノルボルネン、5−エチリデン−2−ノルボルネン等)、これらのハロゲン等の極性基置換体;ジシクロペンタジエン、2,3−ジヒドロジシクロペンタジエン等;ジメタノオクタヒドロナフタレン、そのアルキルおよび/またはアルキリデン置換体、およびハロゲン等の極性基置換体(例えば、6−メチル−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−エチル−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−エチリデン−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−クロロ−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−シアノ−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−ピリジル−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−メトキシカルボニル−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン等);シクロペンタジエンとテトラヒドロインデン等との付加物;シクロペンタジエンの3〜4量体(例えば、4,9:5,8−ジメタノ−3a,4,4a,5,8,8a,9,9a−オクタヒドロ−1H−ベンゾインデン、4,11:5,10:6,9−トリメタノ−3a,4,4a,5,5a,6,9,9a,10,10a,11,11a−ドデカヒドロ−1H−シクロペンタアントラセン)等が挙げられる。これらのノルボルネン系モノマーは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the norbornene-based monomer include norbornene and alkyl and / or alkylidene substituted products thereof (for example, 5-methyl-2-norbornene, 5-dimethyl-2-norbornene, 5-ethyl-2-norbornene, 5-butyl- 2-norbornene, 5-ethylidene-2-norbornene, etc.), polar group substituents such as halogens thereof; dicyclopentadiene, 2,3-dihydrodicyclopentadiene, etc .; dimethanooctahydronaphthalene, alkyl and / or alkylidene thereof Substituents and polar group substituents such as halogen (for example, 6-methyl-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6- Ethyl-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octa Dronaphthalene, 6-ethylidene-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-chloro-1,4: 5,8-dimethano -1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-cyano-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a -Octahydronaphthalene, 6-pyridyl-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-methoxycarbonyl-1,4: 5 8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, etc.); adducts of cyclopentadiene and tetrahydroindene, etc .; 3-pentamers of cyclopentadiene (for example, 4, 9: 5,8-dimethano-3a, 4,4a, , 8,8a, 9,9a-octahydro-1H-benzoindene, 4,11: 5,10: 6,9-trimethano-3a, 4,4a, 5,5a, 6,9,9a, 10,10a, 11, 11a-dodecahydro-1H-cyclopentanthracene) and the like. These norbornene monomers may be used alone or in combination of two or more.

(飽和ノルボルネン樹脂−B)
飽和ノルボルネン樹脂−Bとして、下記一般式(1)〜(4)で表わされるものを挙げることができる。これらのうち、下記一般式(1)で表されるものが特に好ましい。
(Saturated norbornene resin-B)
Examples of the saturated norbornene resin-B include those represented by the following general formulas (1) to (4). Among these, those represented by the following general formula (1) are particularly preferable.

Figure 2015184410
Figure 2015184410

一般式(1)〜(4)中、R1〜R12は、各々独立に水素原子または1価の置換基(好ましくは有機基)を示し、これらのうち少なくとも1つは極性基であることが好ましい。これらの飽和ノルボルネン樹脂の質量平均分子量は、通常5,000〜1,000,000が好ましく、より好ましくは8,000〜200,000である。 In general formulas (1) to (4), R 1 to R 12 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent (preferably an organic group), and at least one of them is a polar group. Is preferred. The mass average molecular weight of these saturated norbornene resins is usually preferably 5,000 to 1,000,000, more preferably 8,000 to 200,000.

上記の置換基としては、特許第5009512号公報の段落[0036]に記載されたものを例示することができる。また、上記の極性基としては、特許第5009512号公報の段落[0037]に記載されたものを例示することができる。   Examples of the substituent include those described in paragraph [0036] of Japanese Patent No. 5009512. Moreover, as said polar group, what was described in the paragraph [0037] of patent 5009512 can be illustrated.

本発明で用いることができる飽和ノルボルネン樹脂としては、例えば、特開昭60−168708号公報、特開昭62−252406号公報、特開昭62−252407号公報、特開平2−133413号公報、特開昭63−145324号公報、特開昭63−264626号公報、特開平1−240517号公報、特公昭57−8815号公報などに記載されている樹脂などを挙げることができる。
これらの樹脂の中でも、ノルボルネン系モノマーの開環重合体を水素添加して得られる水添重合体が特に好ましい。
Examples of saturated norbornene resins that can be used in the present invention include, for example, JP-A-60-168708, JP-A-62-252406, JP-A-62-2252407, JP-A-2-133413, Examples thereof include resins described in JP-A-63-145324, JP-A-63-264626, JP-A-1-240517, JP-B-57-8815, and the like.
Among these resins, a hydrogenated polymer obtained by hydrogenating a ring-opening polymer of a norbornene monomer is particularly preferable.

本発明では、飽和ノルボルネン樹脂として、下記一般式(5)で表わされる少なくとも1種のテトラシクロドデセン誘導体を単独で、あるいは、当該テトラシクロドデセン誘導体と、これと共重合可能な不飽和環状化合物とをメタセシス重合して得られる重合体を水素添加して得られる水添重合体を用いることもできる。   In the present invention, as the saturated norbornene resin, at least one tetracyclododecene derivative represented by the following general formula (5) alone or an unsaturated cyclic copolymerizable with the tetracyclododecene derivative. A hydrogenated polymer obtained by hydrogenating a polymer obtained by metathesis polymerization with a compound can also be used.

Figure 2015184410
Figure 2015184410

一般式(5)中、R13〜R16は、各々独立に水素原子または1価の置換基(好ましくは有機基)を示し、これらのうち少なくとも1つは極性基であることが好ましい。ここでいう置換基と極性基の具体例と好ましい範囲については、一般式(1)〜(4)について説明したのと同一である。
上記一般式(5)で表わされるテトラシクロドデセン誘導体において、R13〜R16のうち少なくとも1つが極性基であることにより、他の材料との密着性、耐熱性などに優れたフィルムを得ることができる。さらに、この極性基が−(CH2nCOOR(ここで、Rは炭素数1〜20の炭化水素基、nは0〜10の整数を示す。)で表わされる基であることが、最終的に得られる水添重合体(偏光フィルムの基材)が高いガラス転移温度を有するものとなるので好ましい。特に、この−(CH2nCOORで表わされる極性置換基は、一般式(5)のテトラシクロドデセン誘導体の1分子あたりに1個含有されることが吸水率を低下させる点から好ましい。上記極性置換基において、Rで示される炭化水素基の炭素数が多くなるほど得られる水添重合体の吸湿性が小さくなる点では好ましいが、得られる水添重合体のガラス転移温度とのバランスの点から、当該炭化水素基は、炭素数1〜4の鎖状アルキル基または炭素数5以上の(多)環状アルキル基であることが好ましく、特にメチル基、エチル基、シクロヘキシル基であることが好ましい。
In General Formula (5), R 13 to R 16 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent (preferably an organic group), and at least one of these is preferably a polar group. Specific examples and preferred ranges of the substituents and polar groups herein are the same as those described for the general formulas (1) to (4).
In the tetracyclododecene derivative represented by the above general formula (5), when at least one of R 13 to R 16 is a polar group, a film having excellent adhesion to other materials, heat resistance, and the like is obtained. be able to. Further, the polar group is a group represented by — (CH 2 ) n COOR (where R is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and n is an integer of 0 to 10). The resulting hydrogenated polymer (polarizing film substrate) is preferred because it has a high glass transition temperature. In particular, the polar substituent represented by — (CH 2 ) n COOR is preferably contained in one molecule of the tetracyclododecene derivative of the general formula (5) from the viewpoint of reducing the water absorption rate. In the above polar substituent, it is preferable in that the hygroscopicity of the obtained hydrogenated polymer is reduced as the number of carbon atoms of the hydrocarbon group represented by R is increased. From this point, the hydrocarbon group is preferably a chain alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a (poly) cyclic alkyl group having 5 or more carbon atoms, and particularly preferably a methyl group, an ethyl group, or a cyclohexyl group. preferable.

さらに、−(CH2nCOORで表わされる基が結合した炭素原子に、炭素数1〜10の炭化水素基が置換基として結合されている一般式(5)のテトラシクロドデセン誘導体は、得られる水添重合体の吸湿性が低いものとなるので好ましい。特に、この置換基がメチル基またはエチル基である一般式(5)のテトラシクロドデセン誘導体は、その合成が容易な点で好ましい。具体的には、8−メチル−8−メトキシカルボニルテトラシクロ〔4,4,0,12.5,17.10〕ドデカ−3−エンが好ましい。これらのテトラシクロドデセン誘導体、およびこれと共重合可能な不飽和環状化合物の混合物は、例えば特開平4−77520号公報第4頁右上欄12行〜第6頁右下欄第6行に記載された方法によってメタセシス重合、水素添加することができる。
これらのノルボルネン系樹脂は、クロロホルム中、30℃で測定される固有粘度(ηinh)が、0.1〜1.5dl/gであることが好ましく、さらに好ましくは0.4〜1.2dl/gである。また、水添重合体の水素添加率は、60MHz、1H−NMRで測定した値が50%以上であることが好ましく、より好ましくは90%以上、さらに好ましくは98%以上である。水素添加率が高いほど、得られる飽和ノルボルネンフィルムは、熱や光に対する安定性が優れたものとなる。上記水添重合体中に含まれるゲル含有量は5質量%以下であることが好ましく、さらに好ましくは1質量%以下である。
Furthermore, the tetracyclododecene derivative of the general formula (5) in which a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms is bonded as a substituent to a carbon atom to which a group represented by — (CH 2 ) n COOR is bonded, This is preferable because the resulting hydrogenated polymer has low hygroscopicity. In particular, the tetracyclododecene derivative of the general formula (5) in which the substituent is a methyl group or an ethyl group is preferable in terms of easy synthesis. Specifically, 8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4,4,0,1 2.5, 1 7.10] dodeca-3-ene are preferred. These tetracyclododecene derivatives and mixtures of unsaturated cyclic compounds copolymerizable therewith are described, for example, in JP-A-4-77520, page 4, upper right column, line 12 to page 6, lower right column, line 6. Metathesis polymerization and hydrogenation can be carried out by the prepared method.
These norbornene resins preferably have an intrinsic viscosity (η inh ) measured at 30 ° C. in chloroform of 0.1 to 1.5 dl / g, more preferably 0.4 to 1.2 dl / g. g. The hydrogenation rate of the hydrogenated polymer is preferably 50% or more, more preferably 90% or more, and still more preferably 98% or more, as measured by 60 MHz and 1 H-NMR. The higher the hydrogenation rate, the more the saturated norbornene film obtained has better stability to heat and light. The gel content contained in the hydrogenated polymer is preferably 5% by mass or less, and more preferably 1% by mass or less.

(その他の開環重合可能なシクロオレフィン類)
本発明においては、開環重合可能な他のシクロオレフィン類を併用することができる。このようなシクロオレフィンの具体例としては、例えば、シクロペンテン、シクロオクテン、5,6−ジヒドロジシクロペンタジエンなどのごとき反応性の二重結合を1個有する化合物が例示される。これらの開環重合可能なシクロオレフィン類の含有量は、上記ノルボルネン系モノマーに対して0モル%〜50モル%であることが好ましく、0.1モル%〜30モル%であることがより好ましく、0.3モル%〜10モル%であることが特に好ましい。
(Other ring-opening polymerizable cycloolefins)
In the present invention, other cycloolefins capable of ring-opening polymerization can be used in combination. Specific examples of such cycloolefins include compounds having one reactive double bond such as cyclopentene, cyclooctene, and 5,6-dihydrodicyclopentadiene. The content of these ring-opening polymerizable cycloolefins is preferably 0 mol% to 50 mol%, more preferably 0.1 mol% to 30 mol%, relative to the norbornene-based monomer. , 0.3 mol% to 10 mol% is particularly preferable.

環状オレフィン系樹脂は、エチレン単位とノルボルネン単位を含む環状オレフィン系樹脂共重合体であってもよい。エチレン単位は、−CH2CH2−で表される繰り返し単位である。エチレン単位が、上述したノルボルネン単位とビニル重合することによって、環状オレフィン系樹脂共重合体が得られる。ノルボルネン単位とエチレン単位の共重合モル比率が、80:20〜20:80であることが好ましく、80:20〜50:50であることが好ましく、80:20〜60:40であることがより好ましい。 The cyclic olefin resin may be a cyclic olefin resin copolymer containing an ethylene unit and a norbornene unit. An ethylene unit is a repeating unit represented by —CH 2 CH 2 —. A cyclic olefin resin copolymer is obtained by vinyl polymerization of the ethylene unit with the norbornene unit described above. The copolymer molar ratio of norbornene units and ethylene units is preferably 80:20 to 20:80, more preferably 80:20 to 50:50, and more preferably 80:20 to 60:40. preferable.

なお、環状オレフィン系樹脂共重合体は、エチレン単位とノルボルネン単位以外にも他の共重合可能なビニルモノマーからなる繰り返し単位を少量含有していてもよい。他のビニルモノマーとしては、具体的に、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセンのような炭素数3〜18のα−オレフィン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、3−メチルシクロヘキセン、シクロオクテンのようなシクロオレフィン等を挙げることができる。このようなビニルモノマーは単独であるいは2種類以上組み合わせて用いてもよく、またその繰り返し単位が全体の10モル%以下であることが好ましく、5モル%以下であることがより好ましい。   The cyclic olefin-based resin copolymer may contain a small amount of repeating units composed of other copolymerizable vinyl monomers in addition to the ethylene unit and the norbornene unit. Specific examples of the other vinyl monomers include propylene, 1-butene, 1-hexene, 4-methyl-1-pentene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene, 1 -C3-C18 alpha olefins such as octadecene, cycloolefins such as cyclobutene, cyclopentene, cyclohexene, 3-methylcyclohexene and cyclooctene. Such vinyl monomers may be used alone or in combination of two or more, and the repeating unit is preferably 10 mol% or less, more preferably 5 mol% or less.

(その他添加剤)
環状オレフィン系樹脂には、本発明の目的を損なわない範囲で、他の添加剤を添加することができる。添加剤としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、易滑剤、帯電防止剤を挙げることができる。特に、環状オレフィン系樹脂が各種デバイスの表面に設置される場合には、紫外線吸収剤を含むことが好ましい。紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾル系紫外線吸収剤、アクリルニトリル系紫外線吸収剤などを用いることができる。
(Other additives)
Other additives can be added to the cyclic olefin resin as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of the additive include an antioxidant, an ultraviolet absorber, a lubricant, and an antistatic agent. In particular, when the cyclic olefin-based resin is installed on the surface of various devices, it is preferable to include an ultraviolet absorber. As the ultraviolet absorber, a benzophenone-based ultraviolet absorber, a benzotriazole-based ultraviolet absorber, an acrylonitrile-based ultraviolet absorber, or the like can be used.

また、環状オレフィン系樹脂には付加重合型と開環重合型があり、いずれを用いてもよい。開環重合型の環状オレフィン系樹脂としては、例えば、WO2009/041377号、WO2008/108199号、WO2007/001020号、WO2006/112304号、特開2008−037932、WO2007/043573号、WO2007/010830号、特願2007−525979号(特許5233280号)、WO2007/001020号、特開2007−063356号公報、特開2009−210756号公報、特開2008−158088号公報、特開2001−356213号公報、特開2004−212848号公報、特開2003−014901号公報、特開2000−219752号公報、特開2005−008698号公報、WO2007/135887号、特開2012−056322号公報、特開平7−197623号公報、特開2006−215333号公報、特開2006−235085号公報、特開2005−173072号公報、特願2003−578978号(特許4292993号)、特開2004−258188号公報、特開2003−136635号公報、特開2003−236915号公報、特開平10−130402号公報、特開平9−263627号公報、特開平4−361230号公報、特開平4−363312号公報、特開平4−170425号公報、特開平3−223328号公報等に記載の開環重合型の環状オレフィン系樹脂等が挙げられる。   The cyclic olefin-based resin includes an addition polymerization type and a ring-opening polymerization type, and any of them may be used. Examples of the ring-opening polymerization type cyclic olefin resin include, for example, WO2009 / 041377, WO2008 / 108199, WO2007 / 001020, WO2006 / 112304, JP2008-037932, WO2007 / 043573, WO2007 / 010830, Japanese Patent Application No. 2007-525979 (Patent No. 5233280), WO 2007/001020, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-063356, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-210756, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-158088, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-356213, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-212848, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2003-014901, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2000-219752, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2005-008698, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2007-013587, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2012-0563. No. 2, No. 7-197623, No. 2006-215333, No. 2006-235085, No. 2005-173072, Japanese Patent Application No. 2003-578978 (Japanese Patent No. 4292993), JP 2004-258188 A, JP 2003-136635 A, JP 2003-236915 A, JP 10-130402 A, JP 9-263627 A, JP 4-361230 A, and JP 4-4-1. Examples thereof include ring-opening polymerization type cyclic olefin resins described in JP-A No. 363312, JP-A-4-170425, JP-A-3-223328 and the like.

また、付加重合型の環状オレフィン系樹脂としては、例えば、WO2009/139293号、WO2006/030797号、特願2006−535159号(特許4493660号)、特開2007−232874号公報、特開2007−009010号公報、WO2013/179781号、WO2012/114608号、WO2008/078812号、特開平11−142645号公報、特開平10−287713号公報、特願2008−548162号(特許5220616号)、特開平11−142645号公報、特開平10−258025号公報、特開2001−026682号公報、特開平5−025337号公報、特開平3−273043号公報等に記載の付加重合型の環状オレフィン系樹脂等が挙げられる。   Examples of the addition polymerization type cyclic olefin-based resin include, for example, WO2009 / 139293, WO2006 / 030797, Japanese Patent Application No. 2006-535159 (Patent No. 4493660), JP2007-232874A, and JP2007-009010A. No. WO2013 / 1797871, WO2012 / 114608, WO2008 / 078812, JP-A-11-142645, JP-A-10-287713, Japanese Patent Application No. 2008-548162 (Japanese Patent No. 5220616), JP-A-11- No. 142645, JP-A-10-258025, JP-A-2001-026682, JP-A-5-025337, JP-A-3-273043 and the like, and the like. It is done.

環状オレフィン系フィルムとしては、市販品を用いることができる。市販品としては、アートン(JSR(株)製)、ゼオノア(日本ゼオン(株)製)、Fフィルム(グンゼ(株)製)、パナピールNP−75−A(パナック(株)製)等が挙げられる。
また、樹脂のガラス転移温度Tgは耐熱性の観点から150度以上が好ましい。
また、上記環状オレフィン系フィルム以外の市販品を用いることもでき、市販品としては、TD40UL(富士フイルム社製)、磁気材料用ルミラー(東レ社製)等が挙げられる。
A commercial item can be used as a cyclic olefin system film. Examples of commercially available products include Arton (manufactured by JSR Corporation), Zeonoa (manufactured by Nippon Zeon Corporation), F film (manufactured by Gunze Corporation), Panapeel NP-75-A (manufactured by Panac Corporation), and the like. It is done.
The glass transition temperature Tg of the resin is preferably 150 ° C. or more from the viewpoint of heat resistance.
Commercial products other than the above-mentioned cyclic olefin film can also be used, and examples of the commercial products include TD40UL (manufactured by Fujifilm), Lumirror for magnetic materials (manufactured by Toray Industries, Inc.), and the like.

<導電層>
第1検出電極14および第2検出電極18は、静電容量の変化を感知するセンシング電極であり、感知部(センサ部)を構成する。つまり、指先をタッチパネルに接触させると、第1検出電極14および第2検出電極18の間の相互静電容量が変化し、この変化量に基づいて指先の位置をIC回路によって演算する。
第1検出電極14は、入力領域EIに接近した使用者の指のX方向における入力位置の検出を行う役割を有するものであり、指との間に静電容量を発生する機能を有している。第1検出電極14は、第1方向(X方向)に延び、第1方向と直交する第2方向(Y方向)に所定の間隔をあけて配列された電極であり、後述するように所定のパターンを含む。
第2検出電極18は、入力領域EIに接近した使用者の指のY方向における入力位置の検出を行う役割を有するものであり、指との間に静電容量を発生する機能を有している。第2検出電極18は、第2方向(Y方向)に延び、第1方向(X方向)に所定の間隔をあけて配列された電極であり、後述するように所定のパターンを含む。図3においては、第1検出電極14は5つ、第2検出電極18は5つ設けられているが、その数は特に制限されず複数あればよい。
<Conductive layer>
The first detection electrode 14 and the second detection electrode 18 are sensing electrodes that sense a change in capacitance, and constitute a sensing unit (sensor unit). That is, when the fingertip is brought into contact with the touch panel, the mutual capacitance between the first detection electrode 14 and the second detection electrode 18 changes, and the position of the fingertip is calculated by the IC circuit based on the change amount.
First detection electrode 14, which has a role to detect the input position in the X direction of the finger of the user in proximity to the input region E I, has the function of generating an electrostatic capacitance between the finger ing. The first detection electrodes 14 are electrodes that extend in a first direction (X direction) and are arranged at a predetermined interval in a second direction (Y direction) orthogonal to the first direction. Includes patterns.
Second detection electrode 18, which has a role to detect the input position in the Y direction of the finger of the user in proximity to the input region E I, has the function of generating an electrostatic capacitance between the finger ing. The second detection electrodes 18 are electrodes that extend in the second direction (Y direction) and are arranged at a predetermined interval in the first direction (X direction), and include a predetermined pattern as will be described later. In FIG. 3, five first detection electrodes 14 and five second detection electrodes 18 are provided, but the number is not particularly limited and may be plural.

図8中、第1検出電極14および第2検出電極18は、例えば、導電性細線により構成することができる。図10に、第1検出電極14の一部の拡大平面図を示す。図10に示すように、第1検出電極14は、導電性細線30により構成され、交差する導電性細線30による複数の格子32を含んでいる。言い換えると、第1検出電極14は、交差する複数の導電性細線で構成されるメッシュパターンを有する。なお、第2検出電極18も、第1検出電極14と同様に、交差する導電性細線30による複数の格子32を含んでいる。   In FIG. 8, the 1st detection electrode 14 and the 2nd detection electrode 18 can be comprised by a conductive fine wire, for example. FIG. 10 shows an enlarged plan view of a part of the first detection electrode 14. As shown in FIG. 10, the first detection electrode 14 is composed of conductive thin wires 30, and includes a plurality of lattices 32 formed of intersecting conductive thin wires 30. In other words, the first detection electrode 14 has a mesh pattern composed of a plurality of conductive thin wires that intersect. Note that, similarly to the first detection electrode 14, the second detection electrode 18 also includes a plurality of lattices 32 formed by intersecting conductive thin wires 30.

導電性細線30の材料としては、例えば、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、アルミニウム(Al)などの金属や合金、ITO、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化カドミウム、酸化ガリウム、酸化チタンなどの金属酸化物等が挙げられる。なかでも、導電性細線30の導電性が優れる理由から、銀であることが好ましい。   Examples of the material of the conductive thin wire 30 include metals and alloys such as gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), and aluminum (Al), ITO, tin oxide, zinc oxide, cadmium oxide, gallium oxide, Examples thereof include metal oxides such as titanium oxide. Especially, it is preferable that it is silver from the reason for which the electroconductivity of the electroconductive fine wire 30 is excellent.

導電性細線30の中には、導電性細線30と支持体12との密着性の観点から、バインダーが含まれていることが好ましい。
バインダーとしては、導電性細線30と支持体12との密着性がより優れる理由から、水溶性高分子であることが好ましい。バインダーの種類としては、例えば、ゼラチン、カラギナン、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリビニルピロリドン(PVP)、澱粉等の多糖類、セルロースおよびその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリサッカライド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース、アラビアゴム、アルギン酸ナトリウム等が挙げられる。なかでも、導電性細線30と支持体12との密着性がより優れる理由から、ゼラチンが好ましい。
なお、ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンの他、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチンの加水分解物、ゼラチン酵素分解物、その他アミノ基、カルボキシル基を修飾したゼラチン(フタル化ゼラチン、アセチル化ゼラチン)を使用することができる。
It is preferable that a binder is contained in the conductive thin wire 30 from the viewpoint of adhesion between the conductive thin wire 30 and the support 12.
The binder is preferably a water-soluble polymer because the adhesion between the conductive fine wire 30 and the support 12 is more excellent. Examples of the binder include gelatin, carrageenan, polyvinyl alcohol (PVA), polyvinyl pyrrolidone (PVP), polysaccharides such as starch, cellulose and derivatives thereof, polyethylene oxide, polysaccharides, polyvinylamine, chitosan, polylysine, polyacryl. Examples include acid, polyalginic acid, polyhyaluronic acid, carboxycellulose, gum arabic, and sodium alginate. Among these, gelatin is preferable because the adhesion between the conductive fine wire 30 and the support 12 is more excellent.
In addition to lime-processed gelatin, acid-processed gelatin may be used as gelatin, and gelatin hydrolyzate, gelatin enzyme decomposition product, and other gelatins modified with amino groups and carboxyl groups (phthalated gelatin, acetylated gelatin) Can be used.

導電性細線30中における金属とバインダーとの体積比(金属の体積/バインダーの体積)は、1.0以上が好ましく、1.5以上がさらに好ましい。金属とバインダーの体積比を1.0以上とすることで、導電性細線30の導電性をより高めることができる。上限は特に制限されないが、生産性の観点から、4.0以下が好ましく、2.5以下がより好ましい。
なお、金属とバインダーの体積比は、導電性細線30中に含まれる金属およびバインダーの密度より計算することができる。例えば、金属が銀の場合、銀の密度を10.5g/cm3として、バインダーがゼラチンの場合、ゼラチンの密度を1.34g/cm3として計算して求めるものとする。
The volume ratio of metal to binder (metal volume / binder volume) in the conductive thin wire 30 is preferably 1.0 or more, and more preferably 1.5 or more. By setting the volume ratio of the metal and the binder to 1.0 or more, the conductivity of the conductive thin wire 30 can be further increased. The upper limit is not particularly limited, but is preferably 4.0 or less and more preferably 2.5 or less from the viewpoint of productivity.
The volume ratio of the metal and the binder can be calculated from the density of the metal and the binder contained in the conductive thin wire 30. For example, when the metal is silver, the density of silver is 10.5 g / cm 3 , and when the binder is gelatin, the density of gelatin is 1.34 g / cm 3 .

導電性細線30の線幅は特に制限されないが、低抵抗の電極を比較的容易に形成できる観点から、30μm以下が好ましく、15μmがより好ましく、10μmがさらに好ましく、9μm以下が特に好ましく、7μm以下が最も好ましく、0.5μm以上が好ましく、1.0μm以上がより好ましい。
導電性細線30の厚みは特に制限されないが、導電性と視認性との観点から、0.00001〜0.2mmから選択可能であるが、30μm以下が好ましく、20μm以下がより好ましく、0.01〜9μmがさらに好ましく、0.05〜5μmが最も好ましい。
The line width of the conductive thin wire 30 is not particularly limited, but is preferably 30 μm or less, more preferably 15 μm, further preferably 10 μm, particularly preferably 9 μm or less, and particularly preferably 7 μm or less, from the viewpoint that a low-resistance electrode can be formed relatively easily. Is most preferable, 0.5 μm or more is preferable, and 1.0 μm or more is more preferable.
The thickness of the conductive thin wire 30 is not particularly limited, but can be selected from 0.00001 to 0.2 mm from the viewpoint of conductivity and visibility, but is preferably 30 μm or less, more preferably 20 μm or less, 0.01 ˜9 μm is more preferable, and 0.05 to 5 μm is most preferable.

格子32は、導電性配線30で囲まれる開口領域を含んでいる。格子32の一辺の長さWは、800μm以下が好ましく、600μm以下がより好ましく、400μm以上であることが好ましい。
第1検出電極14および第2検出電極18では、可視光透過率の点から開口率は85%以上であることが好ましく、90%以上であることがさらに好ましく、95%以上であることが最も好ましい。開口率とは、所定領域において第1検出電極14または第2検出電極18中の導電性細線30を除いた透過性部分が全体に占める割合に相当する。
The lattice 32 includes an opening region surrounded by the conductive wiring 30. The length W of one side of the grating 32 is preferably 800 μm or less, more preferably 600 μm or less, and preferably 400 μm or more.
In the first detection electrode 14 and the second detection electrode 18, the aperture ratio is preferably 85% or more, more preferably 90% or more, and most preferably 95% or more from the viewpoint of visible light transmittance. preferable. The aperture ratio corresponds to the ratio of the transmissive portion excluding the conductive thin wire 30 in the first detection electrode 14 or the second detection electrode 18 in the predetermined region.

格子32は、略ひし形の形状を有している。但し、その他、多角形状(例えば、三角形、四角形、六角形)としてもよい。また、一辺の形状を直線状の他、湾曲形状でもよいし、円弧状にしてもよい。円弧状とする場合は、例えば、対向する2辺については、外方に凸の円弧状とし、他の対向する2辺については、内方に凸の円弧状としてもよい。また、各辺の形状を、外方に凸の円弧と内方に凸の円弧が連続した波線形状としてもよい。もちろん、各辺の形状を、サイン曲線にしてもよい。
なお、図10においては、導電性細線30はメッシュパターンとして形成されているが、この態様には限定されず、ストライプパターンであってもよい。
The lattice 32 has a substantially rhombus shape. However, other polygonal shapes (for example, a triangle, a quadrangle, and a hexagon) may be used. Further, the shape of one side may be a curved shape or a circular arc shape in addition to a linear shape. In the case of the arc shape, for example, the two opposing sides may have an outwardly convex arc shape, and the other two opposing sides may have an inwardly convex arc shape. The shape of each side may be a wavy shape in which an outwardly convex arc and an inwardly convex arc are continuous. Of course, the shape of each side may be a sine curve.
In FIG. 10, the conductive thin wire 30 is formed as a mesh pattern, but is not limited to this mode, and may be a stripe pattern.

なお、図8においては、第1検出電極14および第2検出電極18は導電性細線のメッシュ構造で構成されていたが、この態様には限定されず、例えば、ITO、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化カドミウム、酸化ガリウム、酸化チタンなどの透明金属酸化物薄膜であってもよい。また、第1検出電極14および第2検出電極18は、金属酸化物粒子、銀ペーストまたは銅ペーストなどの金属ペースト、銀ナノワイヤや銅ナノワイヤなどの金属ナノワイヤ粒子で構成されていてもよい。なかでも導電性と透明性に優れる点で、銀ナノワイヤが好ましい。
また、電極部のパターニングは、電極部の材料に応じて選択でき、金属ペーストの場合は、スクリーン印刷やインクジェット印刷法で、金属や合金薄膜の場合は、スパッタ膜をフォトリソグラフィー法などのパターニング方法が好適に用いられる。
In FIG. 8, the first detection electrode 14 and the second detection electrode 18 have a mesh structure of conductive thin wires, but are not limited to this mode. For example, ITO, tin oxide, zinc oxide, It may be a transparent metal oxide thin film such as cadmium oxide, gallium oxide, or titanium oxide. Moreover, the 1st detection electrode 14 and the 2nd detection electrode 18 may be comprised by metal nanowire particles, such as metal oxide particles, metal pastes, such as silver paste or copper paste, silver nanowire, and copper nanowire. Among these, silver nanowires are preferable because they are excellent in conductivity and transparency.
In addition, the patterning of the electrode part can be selected according to the material of the electrode part. In the case of a metal paste, a screen printing method or an ink jet printing method is used. Are preferably used.

第1引き出し配線16および第2引き出し配線20は、それぞれ上記第1検出電極14および第2検出電極18に電圧を印加するための役割を担う部材である。
第1引き出し配線16は、外側領域EOの支持体12上に配置され、その一端が対応する第1検出電極14に電気的に接続され、その他端はフレキシブルプリント配線板などが配置される外部導通領域GIに位置している。
第2引き出し配線20は、外側領域EOの支持体12上に配置され、その一端が対応する第2検出電極18に電気的に接続され、その他端はフレキシブルプリント配線板などが配置される外部導通領域GIに位置している。
なお、図8においては、第1引き出し配線16は5本、第2引き出し配線20は5本記載されているが、その数は特に制限されず、通常、検出電極の数に応じて複数配置される。
The first lead wiring 16 and the second lead wiring 20 are members that play a role in applying a voltage to the first detection electrode 14 and the second detection electrode 18, respectively.
The first lead-out wiring 16 is disposed on the support 12 in the outer region EO, one end of which is electrically connected to the corresponding first detection electrode 14, and the other end is an external continuity in which a flexible printed wiring board or the like is disposed. It is located in the region G I.
The second lead-out wiring 20 is disposed on the support 12 in the outer region EO, one end of which is electrically connected to the corresponding second detection electrode 18, and the other end is an external continuity in which a flexible printed wiring board or the like is disposed. It is located in the region G I.
In FIG. 8, five first extraction wirings 16 and five second extraction wirings 20 are described, but the number is not particularly limited, and usually a plurality of the first extraction wirings 16 are arranged according to the number of detection electrodes. The

第1引き出し配線16および第2引き出し配線20を構成する配線の材料としては、例えば、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)などの金属や、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化カドミウム、酸化ガリウム、酸化チタンなどの金属酸化物等が挙げられる。なかでも、導電性が優れる理由から、銀であることが好ましい。また、銀ペーストや銅ペーストなどの金属ペーストや、アルミニウム(Al)やモリブデン(Mo)、パラジウム(Pd)などの金属や合金薄膜で構成されていてもよい。金属ペーストの場合は、スクリーン印刷やインクジェット印刷法で、金属や合金薄膜の場合は、スパッタ膜をフォトリソグラフィー法などのパターニング方法が好適に用いられる。
なお、第1引き出し配線16および第2引き出し配線20中には、支持体12との密着性がより優れる点から、バインダーが含まれていることが好ましい。バインダーの種類は、上述の通りである。
Examples of the wiring material constituting the first lead-out wiring 16 and the second lead-out wiring 20 include metals such as gold (Au), silver (Ag), and copper (Cu), tin oxide, zinc oxide, cadmium oxide, Examples thereof include metal oxides such as gallium oxide and titanium oxide. Among these, silver is preferable because of its excellent conductivity. Moreover, you may be comprised by metal or alloy thin films, such as metal pastes, such as a silver paste and a copper paste, aluminum (Al), molybdenum (Mo), and palladium (Pd). In the case of a metal paste, a screen printing or ink jet printing method is used, and in the case of a metal or alloy thin film, a patterning method such as a photolithography method is suitably used for the sputtered film.
In addition, it is preferable that the binder is contained in the 1st lead-out wiring 16 and the 2nd lead-out wiring 20 from the point which adhesiveness with the support body 12 is more excellent. The kind of binder is as above-mentioned.

図8の外部導通領域GIには、図示しないフレキシブルプリント配線板が配置される。フレキシブルプリント配線板とは、基板上に複数の配線および端子が設けられた板であり、第1引き出し配線16のそれぞれの他端および第2引き出し配線20のそれぞれの他端に接続され、タッチセンサー300と外部の装置(例えば、画像表示パネル)とを接続する役割を果たす。 The external conductive region G I in FIG. 8, is disposed the flexible printed wiring board (not shown). The flexible printed wiring board is a board in which a plurality of wirings and terminals are provided on a substrate, and is connected to the other end of each of the first lead-out wirings 16 and the other end of each of the second lead-out wirings 20, and is a touch sensor. It plays a role of connecting 300 and an external device (for example, an image display panel).

<<タッチセンサーの製造方法>>
タッチセンサー300の製造方法は特に制限されず、公知の方法を採用することができる。その一例として、検出電極および引き出し配線の製造方法としては、支持体12の両主面上に形成された金属箔上のフォトレジスト膜を露光、現像処理してレジストパターンを形成し、レジストパターンから露出する金属箔をエッチングする方法が挙げられる。また、支持体12の両主面上に金属微粒子または金属ナノワイヤを含むペーストを印刷し、ペーストに金属めっきを行う方法が挙げられる。また、支持体12上にスクリーン印刷版またはグラビア印刷版によって印刷形成する方法、または、インクジェットにより形成する方法も挙げられる。
<< Touch sensor manufacturing method >>
The manufacturing method of the touch sensor 300 is not particularly limited, and a known method can be adopted. As an example thereof, as a method of manufacturing the detection electrode and the lead-out wiring, a photoresist film on the metal foil formed on both main surfaces of the support 12 is exposed and developed to form a resist pattern. There is a method of etching the exposed metal foil. Further, a method of printing a paste containing metal fine particles or metal nanowires on both main surfaces of the support 12 and performing metal plating on the paste can be mentioned. Moreover, the method of printing and forming on the support body 12 by a screen printing plate or a gravure printing plate, or the method of forming by an inkjet is also mentioned.

さらに、上記方法以外にハロゲン化銀を使用した方法が挙げられる。より具体的には、まず、支持体12上に第1検出電極14および第1引き出し配線16、並びに、第2検出電極18および第2引き出し配線20を形成する方法としては、ハロゲン化銀を使用した方法が挙げられる。より具体的には、支持体12の両面にそれぞれ、ハロゲン化銀とゼラチンとを含有するハロゲン化銀乳剤層(以後、単に感光性層とも称する)を形成する工程(1)、感光性層を露光した後、現像処理することにより第1検出電極14および第1引き出し配線16、並びに、第2検出電極18および第2引き出し配線20を形成する工程(2)を有する方法が挙げられる。
以下に、各工程に関して説明する。
Furthermore, in addition to the above method, a method using silver halide can be mentioned. More specifically, first, silver halide is used as a method of forming the first detection electrode 14 and the first lead wiring 16 and the second detection electrode 18 and the second lead wiring 20 on the support 12. Method. More specifically, the step (1) of forming a silver halide emulsion layer (hereinafter also simply referred to as a photosensitive layer) containing silver halide and gelatin on both surfaces of the support 12 respectively, Examples of the method include a step (2) of forming the first detection electrode 14 and the first lead wiring 16, and the second detection electrode 18 and the second lead wiring 20 by developing after the exposure.
Below, each process is demonstrated.

[工程(1):感光性層形成工程]
工程(1)は、支持体12の両面に、ハロゲン化銀とゼラチンとを含有する感光性層を形成する工程である。
感光性層を形成する方法は特に制限されないが、生産性の点から、ハロゲン化銀およびバインダーを含有する感光性層形成用組成物を支持体12に接触させ、支持体12の両面上に感光性層を形成する方法が好ましい。
以下に、上記方法で使用される感光性層形成用組成物の態様について詳述した後、工程の手順について詳述する。
[Step (1): Photosensitive layer forming step]
Step (1) is a step of forming a photosensitive layer containing silver halide and gelatin on both surfaces of the support 12.
The method for forming the photosensitive layer is not particularly limited, but from the viewpoint of productivity, the photosensitive layer forming composition containing silver halide and a binder is brought into contact with the support 12 and photosensitive on both sides of the support 12. A method of forming a conductive layer is preferred.
Below, after explaining in full detail the aspect of the composition for photosensitive layer formation used with the said method, the procedure of a process is explained in full detail.

感光性層形成用組成物には、ハロゲン化銀およびゼラチンが含有される。
ハロゲン化銀に含有されるハロゲン元素は、塩素、臭素、ヨウ素およびフッ素のいずれであってもよく、これらを組み合わせでもよい。ハロゲン化銀としては、例えば、塩化銀、臭化銀、ヨウ化銀を主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられ、さらに臭化銀や塩化銀を主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられる。
ゼラチンとしては、石灰処理ゼラチンの他、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチンの加水分解物、ゼラチン酵素分解物、その他アミノ基、カルボキシル基を修飾したゼラチン(フタル化ゼラチン、アセチル化ゼラチン)等が挙げられる。
感光性層形成用組成物中に含まれるハロゲン化銀およびゼラチンの体積比は特に制限されず、上述した導電性細線30中における金属とバインダーとの好適な体積比の範囲となるように適宜調整される。
The composition for forming a photosensitive layer contains silver halide and gelatin.
The halogen element contained in the silver halide may be any of chlorine, bromine, iodine and fluorine, or a combination thereof. As the silver halide, for example, silver halides mainly composed of silver chloride, silver bromide and silver iodide are preferably used, and silver halides mainly composed of silver bromide and silver chloride are preferably used.
As gelatin, acid-processed gelatin may be used in addition to lime-processed gelatin, gelatin hydrolyzate, gelatin enzyme decomposition product, and other gelatins modified with amino groups and carboxyl groups (phthalated gelatin, acetylated gelatin), etc. Is mentioned.
The volume ratio of silver halide and gelatin contained in the composition for forming a photosensitive layer is not particularly limited, and is appropriately adjusted so as to be within a suitable volume ratio range of the metal and the binder in the conductive thin wire 30 described above. Is done.

感光性層形成用組成物には、必要に応じて、溶媒が含有される。
使用される溶媒としては、例えば、水、有機溶媒(例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等)、イオン性液体、またはこれらの混合溶媒を挙げることができる。
使用される溶媒の含有量は特に制限されないが、ハロゲン化銀およびバインダーの合計質量に対して、30〜90質量%の範囲が好ましく、50〜80質量%の範囲がより好ましい。
The composition for forming a photosensitive layer contains a solvent, if necessary.
Examples of the solvent used include water, organic solvents (for example, alcohols such as methanol, ketones such as acetone, amides such as formamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, esters such as ethyl acetate, ethers, and the like. Etc.), ionic liquids, or mixed solvents thereof.
The content of the solvent used is not particularly limited, but is preferably in the range of 30 to 90% by mass and more preferably in the range of 50 to 80% by mass with respect to the total mass of the silver halide and the binder.

[工程の手順]
感光性層形成用組成物と支持体12とを接触させる方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、感光性層形成用組成物を支持体12に塗布する方法や、感光性層形成用組成物中に支持体12を浸漬する方法等が挙げられる。
感光性層中におけるハロゲン化銀の含有量は特に制限されないが、導電特性がより優れる点で、銀換算で1.0〜20.0g/m2が好ましく、5.0〜15.0g/m2がより好ましい。
[Process procedure]
The method for bringing the composition for forming a photosensitive layer into contact with the support 12 is not particularly limited, and a known method can be employed. For example, the method of apply | coating the composition for photosensitive layer formation to the support body 12, the method of immersing the support body 12 in the composition for photosensitive layer formation, etc. are mentioned.
The content of the silver halide in the photosensitive layer is not particularly limited, but is preferably 1.0 to 20.0 g / m 2 in terms of silver, and preferably 5.0 to 15.0 g / m in terms of more excellent conductive properties. 2 is more preferable.

感光性層以外に、必要に応じて、以下の下塗層、アンチハレーション層、保護層を設けてもよい。
また、下塗層を設けることで、支持体と感光性層との密着性が向上する。アンチハレーション層を設けることで、導電性細線の細線化が容易になる。また、保護層を設けることにより、擦り傷防止や力学特性が向上する。
In addition to the photosensitive layer, the following undercoat layer, antihalation layer, and protective layer may be provided as necessary.
Moreover, the adhesiveness of a support body and a photosensitive layer improves by providing an undercoat layer. By providing the antihalation layer, it is easy to make the conductive fine wires thinner. Further, by providing a protective layer, scratch prevention and mechanical properties are improved.

(下塗層)
感光性層との密着性を向上させるための下塗層を設けてもよい。
感光性層との密着性を向上させるための下塗層として、原料としては、フェノール系、アルキド系、メラミン系、ユリア系、ビニル系、エポキシ系、ポリエステル系、ポリウレタン系、アクリル系などの合成樹脂が挙げられ、ウレタン系が好ましい。市販品の例としては、タケラックWS5100、タケラックWS4000(ともに三井武田ケミカル社製)等が挙げられる。また、合成樹脂以外の他の樹脂としては、ゼラチンなどを挙げることができる。
また、樹脂成分の他に、必要に応じて架橋剤(エポクロスWS300、エポクロスWS700(ともに日本触媒社製)、カルボジライトV−02−L2(日清紡ケミカル社製)等)、造膜助剤、マット剤(スノーテックスUP(日産化学社製)等)、滑剤(セロゾール524(中京油脂社製)等)、界面活性剤(ナロアクティーCL95(三洋化成工業社製)、ラピゾールA−90(日油社製)等)、消泡剤、抑泡剤、染料、蛍光増白剤、防腐剤、耐水化剤、帯電防止剤、架橋剤の触媒(Cat64(第一工業製薬社製)等)等を含んでいてもよい。
(Undercoat layer)
An undercoat layer may be provided to improve the adhesion with the photosensitive layer.
Synthetic materials such as phenolic, alkyd, melamine, urea, vinyl, epoxy, polyester, polyurethane, acrylic, etc. as an undercoat layer to improve adhesion to the photosensitive layer Examples of the resin include urethane. Examples of commercially available products include Takelac WS5100, Takelac WS4000 (both manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.) and the like. Moreover, as other resin other than the synthetic resin, gelatin and the like can be exemplified.
In addition to the resin component, if necessary, a crosslinking agent (Epocross WS300, Epocross WS700 (both manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.), Carbodilite V-02-L2 (Nisshinbo Chemical Co., Ltd.)), a film-forming aid, a matting agent (Snowtex UP (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.)), lubricant (Cerosol 524 (manufactured by Chukyo Yushi Co., Ltd.), etc.), surfactant (Naroacty CL95 (manufactured by Sanyo Chemical Industries), Rapisol A-90 (manufactured by NOF Corporation) Etc.), antifoaming agents, antifoaming agents, dyes, fluorescent brightening agents, preservatives, water-proofing agents, antistatic agents, crosslinker catalysts (Cat 64 (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), etc.), etc. May be.

下塗層の厚みは、10〜400nmであり、10〜200nmが好ましく、10〜100nmがより好ましく、20〜100nmがさらに好ましい。厚みを10nm以上とすることで剥離応力を吸収できるようになり、感光性層の破壊を抑制することができる。また、厚みを400nm以下とすることで、下塗層が変形して支持体の凝集破壊が抑制される。   The thickness of the undercoat layer is 10 to 400 nm, preferably 10 to 200 nm, more preferably 10 to 100 nm, and still more preferably 20 to 100 nm. By setting the thickness to 10 nm or more, it becomes possible to absorb the peeling stress and suppress the destruction of the photosensitive layer. Further, by setting the thickness to 400 nm or less, the undercoat layer is deformed and cohesive failure of the support is suppressed.

下塗層表面の表面粗さRaは、0.5〜30nmであり、0.5〜25nmが好ましく、1〜25nmがより好ましく、10〜20nmがさらに好ましい。表面粗さRaが0.5nm以上であると、接触面積が上昇し、密着性を向上させることができる。一方、表面粗さ(Ra)が30nm以下であると、樹脂層の凹凸により剥離応力が集中することがなくなり密着不良が起こりにくくなる。表面粗さRaは、例えばレーザー顕微鏡を用いて測定することができる。   The surface roughness Ra of the surface of the undercoat layer is 0.5 to 30 nm, preferably 0.5 to 25 nm, more preferably 1 to 25 nm, and still more preferably 10 to 20 nm. When the surface roughness Ra is 0.5 nm or more, the contact area increases and the adhesion can be improved. On the other hand, when the surface roughness (Ra) is 30 nm or less, peeling stress does not concentrate due to the unevenness of the resin layer, and adhesion failure is unlikely to occur. The surface roughness Ra can be measured using, for example, a laser microscope.

(下塗層の形成方法)
下塗層は、塗布法、共押出法のいずれにより形成してもよく、素材選定範囲の広さ、溶融段階で耐熱性を考慮しなくてもよいという観点から塗布法が好ましい。
まず、下塗層を構成する樹脂を含む溶液、もしくはラテックス水溶液を混合し調製した塗布液を混合して相分離させ、樹脂中に粒子を分散させた液を塗工する。その後乾燥する際に、塗工膜と雰囲気温度に1〜100℃の温度差を付けることが好ましく、3〜80℃がより好ましく、5〜60℃がさらに好ましい。このような温度差を付与することで、樹脂層内部溶媒の乾燥により塗工層内部で対流が発生し、溶剤の揮散の進む箇所は膜厚が薄くなり、溶剤の拡散が進みにくい箇所は膜厚が厚くなる塗膜に凹凸が形成される。雰囲気温度とは、下塗層を形成する際の塗工表面から30cmの外気の温度をいう。なお、必要に応じて、塗工面に凹凸を有する基材を押し当て凹凸を転写することで、所定の表面粗さRaにすることもできる。
(Formation method of undercoat layer)
The undercoat layer may be formed by any of the coating method and the coextrusion method, and the coating method is preferable from the viewpoint that the material selection range is wide and heat resistance does not have to be taken into consideration in the melting stage.
First, a solution containing a resin constituting the undercoat layer or a coating solution prepared by mixing a latex aqueous solution is mixed and phase-separated, and a solution in which particles are dispersed in the resin is applied. When drying after that, it is preferable to give a temperature difference of 1 to 100 ° C. to the coating film and the ambient temperature, more preferably 3 to 80 ° C., and further preferably 5 to 60 ° C. By giving such a temperature difference, convection is generated inside the coating layer due to drying of the solvent inside the resin layer, the film where the solvent volatilization proceeds becomes thin, and the film where the solvent diffusion is difficult to proceed is a film. Concavities and convexities are formed in the coating film where the thickness increases. The atmospheric temperature refers to the temperature of the outside air of 30 cm from the coating surface when the undercoat layer is formed. In addition, as needed, it can also be set as predetermined surface roughness Ra by pressing the base material which has an unevenness | corrugation to a coating surface, and transferring an unevenness | corrugation.

(アンチハレーション層)
導電性細線の細線化を容易にするために、アンチハレーション層を設けてもよい。
アンチハレーション機能を付与するために、染料を添加することが好ましい。染料の例としては、特開2012−6377号公報の[0064]〜[0068]に記載の染料を用いることができ、その中でも以下の固体分散染料Aが好ましい。
固体分散染料A

Figure 2015184410
また、視認性向上の観点から、アンチハレーション層の厚みは、0.2〜10μmであることが好ましく、0.5〜5μmであることが特に好ましい。 (Anti-halation layer)
An antihalation layer may be provided in order to facilitate thinning of the conductive thin wire.
In order to impart an antihalation function, it is preferable to add a dye. As examples of the dye, the dyes described in [0064] to [0068] of JP2012-6377A can be used, and among them, the following solid disperse dye A is preferable.
Solid disperse dye A
Figure 2015184410
Further, from the viewpoint of improving visibility, the thickness of the antihalation layer is preferably 0.2 to 10 μm, and particularly preferably 0.5 to 5 μm.

アンチハレーション層表面の、水の接触角は70度以下であることが好ましく、60度以下であることがより好ましく、55度以下であることがさらに好ましい。
また、親水性樹脂を含むことが水の接触角を上記範囲とできる観点から好ましい。親水性樹脂の好ましい態様は、透明導電層用の感光材料に用いることができる親水性樹脂の好ましい態様と同様である。親水性樹脂の中でもゼラチンを含むことがより好ましい。
The contact angle of water on the surface of the antihalation layer is preferably 70 degrees or less, more preferably 60 degrees or less, and further preferably 55 degrees or less.
Moreover, it is preferable from a viewpoint which can make the contact angle of water into the said range containing a hydrophilic resin. The preferred embodiment of the hydrophilic resin is the same as the preferred embodiment of the hydrophilic resin that can be used for the photosensitive material for the transparent conductive layer. Among the hydrophilic resins, it is more preferable to contain gelatin.

[工程(2):露光現像工程]
工程(2)は、上記工程(1)で得られた感光性層をパターン露光した後、現像処理することにより第1検出電極14および第1引き出し配線16、並びに、第2検出電極18および第2引き出し配線20を形成する工程である。
以下では、パターン露光処理について詳述し、その後現像処理について詳述する。
[Step (2): Exposure and development step]
In the step (2), the photosensitive layer obtained in the above step (1) is subjected to pattern exposure and then developed to thereby perform the first detection electrode 14 and the first lead wiring 16, and the second detection electrode 18 and the second detection electrode. This is a step of forming the two lead wirings 20.
Hereinafter, the pattern exposure process will be described in detail, and then the development process will be described in detail.

(パターン露光)
感光性層に対してパターン状の露光を施すことにより、露光領域における感光性層中のハロゲン化銀が潜像を形成する。この潜像が形成された領域は、後述する現像処理によって第1検出電極14および第1引き出し配線16、並びに、第2検出電極18および第2引き出し配線20を形成する。一方、露光がなされなかった未露光領域では、後述する定着処理の際にハロゲン化銀が溶解して感光性層から流出し、透明な膜が得られる。
露光の際に使用される光源は特に制限されず、可視光線、紫外線などの光、または、X線などの放射線等が挙げられる。
パターン露光を行う方法は特に制限されず、例えば、フォトマスクを利用した面露光で行ってもよいし、レーザービームによる走査露光で行ってもよい。なお、パターンの形状は特に制限されず、形成したい導電性細線のパターンに合わせて適宜調整される。
(Pattern exposure)
By subjecting the photosensitive layer to pattern exposure, the silver halide in the photosensitive layer in the exposed region forms a latent image. In the region where the latent image is formed, the first detection electrode 14 and the first lead-out wiring 16, and the second detection electrode 18 and the second lead-out wiring 20 are formed by a development process described later. On the other hand, in an unexposed area that has not been exposed, the silver halide dissolves and flows out of the photosensitive layer during the fixing process described later, and a transparent film is obtained.
The light source used in the exposure is not particularly limited, and examples thereof include light such as visible light and ultraviolet light, and radiation such as X-rays.
The method for performing pattern exposure is not particularly limited. For example, surface exposure using a photomask may be performed, or scanning exposure using a laser beam may be performed. The shape of the pattern is not particularly limited, and is appropriately adjusted according to the pattern of the conductive fine wire to be formed.

(現像処理)
現像処理の方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、銀塩写真フィルム、印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。
現像処理の際に使用される現像液の種類は特に制限されないが、例えば、PQ現像液、MQ現像液、MAA現像液等を用いることもできる。市販品では、例えば、富士フイルム社処方のCN−16、CR−56、CP45X、FD−3、パピトール、KODAK社処方のC−41、E−6、RA−4、D−19、D−72等の現像液、またはそのキットに含まれる現像液を用いることができる。また、リンス現像液を用いることもできる。
現像処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる定着処理を含むことができる。定着処理は、銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる定着処理の技術を用いることができる。
定着工程における定着温度は、約20℃〜約50℃が好ましく、25〜45℃がより好ましい。また、定着時間は5秒〜1分が好ましく、7秒〜50秒がより好ましい。
現像処理後の露光部(導電性細線)に含まれる金属銀の質量は、露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して50質量%以上の含有率であることが好ましく、80質量%以上であることがさらに好ましい。露光部に含まれる銀の質量が露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して50質量%以上であれば、高い導電性を得ることができるため好ましい。
(Development processing)
The development processing method is not particularly limited, and a known method can be employed. For example, a usual development processing technique used for silver salt photographic film, photographic paper, film for printing plate making, emulsion mask for photomask, and the like can be used.
The type of the developer used in the development process is not particularly limited. For example, PQ developer, MQ developer, MAA developer and the like can be used. Commercially available products include, for example, CN-16, CR-56, CP45X, FD-3, Papitol, C-41, E-6, RA-4, D-19, D-72 prescribed by KODAK. Or a developer contained in a kit thereof can be used. A rinse developer can also be used.
The development process can include a fixing process performed for the purpose of removing and stabilizing the silver salt in the unexposed part. For the fixing process, a technique of fixing process used for silver salt photographic film, photographic paper, film for printing plate making, emulsion mask for photomask, and the like can be used.
The fixing temperature in the fixing step is preferably about 20 ° C. to about 50 ° C., and more preferably 25 to 45 ° C. The fixing time is preferably 5 seconds to 1 minute, and more preferably 7 seconds to 50 seconds.
The mass of the metallic silver contained in the exposed area (conductive thin wire) after the development treatment is preferably a content of 50% by mass or more based on the mass of silver contained in the exposed area before the exposure, More preferably, it is at least mass%. If the mass of silver contained in the exposed portion is 50% by mass or more based on the mass of silver contained in the exposed portion before exposure, it is preferable because high conductivity can be obtained.

[工程(3):加熱工程]
工程(3)は、上記現像処理の後に加熱処理を実施する工程である。本工程を実施することにより、バインダー間で融着が起こり、導電性細線34の硬度がより上昇する。特に、感光性層形成用組成物中にバインダーとしてポリマー粒子を分散している場合(バインダーがラテックス中のポリマー粒子の場合)、本工程を実施することにより、ポリマー粒子間で融着が起こり、所望の硬さを示す導電性細線30が形成される。
加熱処理の条件は使用されるバインダーによって適宜好適な条件が選択されるが、40℃以上であることがポリマー粒子の造膜温度の観点から好ましく、50℃以上がより好ましく、60℃以上がさらに好ましい。また、基板のカール等を抑制する観点から、180℃以下が好ましく、140℃以下がより好ましい。
加熱時間は特に限定されないが、基板のカール等を抑制する観点、および、生産性の観点から、1〜5分間であることが好ましく、1〜3分間であることがより好ましい。
なお、この加熱処理は、通常、露光、現像処理の後に行われる乾燥工程と兼ねることができるため、ポリマー粒子の造膜のために新たな工程を増加させる必要がなく、生産性、コスト等の観点で優れる。
[Step (3): Heating step]
Step (3) is a step of performing heat treatment after the development processing. By performing this step, fusion occurs between the binders, and the hardness of the conductive thin wires 34 is further increased. In particular, when polymer particles are dispersed as a binder in the composition for forming a photosensitive layer (when the binder is polymer particles in latex), by performing this step, fusion occurs between the polymer particles, Conductive thin wires 30 having a desired hardness are formed.
The conditions for the heat treatment are appropriately selected depending on the binder used, but it is preferably 40 ° C. or higher from the viewpoint of the film forming temperature of the polymer particles, more preferably 50 ° C. or higher, and further 60 ° C. or higher. preferable. Further, from the viewpoint of suppressing curling of the substrate, 180 ° C. or lower is preferable, and 140 ° C. or lower is more preferable.
The heating time is not particularly limited, but is preferably 1 to 5 minutes and more preferably 1 to 3 minutes from the viewpoint of suppressing curling of the substrate and the productivity.
In addition, since this heat treatment can be combined with a drying step usually performed after exposure and development processing, it is not necessary to increase a new step for film formation of polymer particles, and productivity, cost, etc. Excellent from a viewpoint.

以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。   The features of the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the specific examples shown below.

(ガラス基板G1の準備)
厚さ550μmのガラス GORILLA−IOX(コーニング社製)を、ガラス基板G1として用いた。
(Preparation of glass substrate G1)
Glass GORILLA-IOX (manufactured by Corning) having a thickness of 550 μm was used as the glass substrate G1.

(粘着フィルムAD1の準備)
厚さ25μmの粘着層D1が2枚の剥離PETフィルムで挟まれた高透明性接着剤転写テープ8146−1(3M社製)を準備し、粘着フィルムAD1として用いた。
(Preparation of adhesive film AD1)
A highly transparent adhesive transfer tape 8146-1 (manufactured by 3M) having a 25 μm thick adhesive layer D1 sandwiched between two peeled PET films was prepared and used as an adhesive film AD1.

(支持体S1の作製)
三酸化アンチモンを主触媒として重縮合した固有粘度0.66のポリエチレンテレフタレート樹脂を含水率50ppm(mg/L)以下に乾燥させ、ヒーター温度が280〜300℃設定の押し出し機内で溶融させた。溶融させたPET樹脂をダイ部より静電印加されたチルロール上に吐出させ、非結晶ベースを得る。得られた非結晶ベースをベース進行方向に3.3倍に延伸後、巾方向に3.8倍に延伸し、厚さ96μmの支持体S1を作製した。
(Preparation of support S1)
A polyethylene terephthalate resin having an intrinsic viscosity of 0.66 polycondensed using antimony trioxide as a main catalyst was dried to a moisture content of 50 ppm (mg / L) or less and melted in an extruder set at a heater temperature of 280 to 300 ° C. The melted PET resin is discharged from a die part onto a chill roll electrostatically applied to obtain an amorphous base. The obtained amorphous base was stretched 3.3 times in the base traveling direction and then stretched 3.8 times in the width direction to produce a support S1 having a thickness of 96 μm.

(支持体S2の準備)
厚さ40μmのアートンフィルム:G7810(JSR社製)を準備し、支持体S2として用いた。
(Preparation of support S2)
Arton film G7810 (manufactured by JSR) having a thickness of 40 μm was prepared and used as the support S2.

(支持体S3の準備)
厚さ40μmのトリアセチルセルロースフィルム:TD40UL(富士フイルム社製)を準備し、支持体S3として用いた。
(Preparation of support S3)
A triacetyl cellulose film having a thickness of 40 μm: TD40UL (manufactured by FUJIFILM Corporation) was prepared and used as the support S3.

(支持体S4の準備)
剥離PETフィルム(パナピールNP−75−A、パナック社製)を準備し、支持体S4として用いた。
(Preparation of support S4)
A release PET film (Panapeel NP-75-A, manufactured by Panac Co., Ltd.) was prepared and used as the support S4.

(支持体S5の準備)
厚さ40μmのゼオノアフィルム:ZF16(日本ゼオン社製)を準備し、支持体S5として用いた。
(Preparation of support S5)
A ZEONOR film having a thickness of 40 μm: ZF16 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) was prepared and used as the support S5.

(支持体S6の準備)
厚さ6μmのポリエステルフィルム:磁気材料用ルミラー(東レ社製)を準備し、支持体S6として用いた。
(Preparation of support S6)
Polyester film having a thickness of 6 μm: Lumirror for magnetic material (manufactured by Toray Industries, Inc.) was prepared and used as support S6.

(支持体S7の準備)
支持体S6を2枚準備し、位相差測定装置KOBRA−WR(王子計測機器社製)を用いて、各々の遅相軸を検出した。粘着フィルムAD1の一方の剥離PETを剥離して、一方の支持体S6上に、ローラーを使用して粘着層D1を貼合し、他方の剥離PETを剥離した。その後、他方の支持体S6とを、2枚の支持体S6の遅相軸が一致するように、ローラーを使用して貼合し、支持体S7として用いた。
(Preparation of support S7)
Two support bodies S6 were prepared, and each slow axis was detected using the phase difference measuring apparatus KOBRA-WR (made by Oji Scientific Instruments). One peeling PET of adhesive film AD1 was peeled off, and adhesive layer D1 was bonded on one support body S6 using a roller, and the other peeling PET was peeled off. Then, the other support body S6 was bonded using a roller so that the slow axis of two support bodies S6 might correspond, and it used as support body S7.

(支持体S8の準備)
厚さ38μmのポリエステルフィルム:A4300(東洋紡社製)を準備し、支持体S8として用いた。
(Preparation of support S8)
A polyester film having a thickness of 38 μm: A4300 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was prepared and used as the support S8.

<下塗層用塗工液PC−1の調製>
ウレタン樹脂:タケラックWS5100(三井武田ケミカル社製) 2.88質量部
架橋剤:エポクロスWS300(日本触媒社製) 0.96質量部
架橋剤:カルボジライトV−02−L2(日清紡ケミカル社製) 0.44質量部
微粒子:スノーテックスUP(日産化学社製) 0.06質量部
滑剤:セロゾール524(中京油脂社製) 0.15質量部
界面活性剤:ナロアクティーCL95(三洋化成工業社製) 0.02質量部
界面活性剤:ラピゾールA−90(日油社製) 0.02質量部
水 95.47質量部
<Preparation of undercoat layer coating solution PC-1>
Urethane resin: Takelac WS5100 (manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.) 2.88 parts by mass Crosslinker: Epocross WS300 (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) 0.96 parts by mass Crosslinker: Carbodilite V-02-L2 (Nisshinbo Chemical Co., Ltd.) 0. 44 parts by mass fine particles: Snowtex UP (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) 0.06 parts by mass Lubricant: Cellosol 524 (manufactured by Chukyo Yushi Co., Ltd.) 0.15 parts by mass Surfactant: NAROACTY CL95 (manufactured by Sanyo Chemical Industries) 0. 02 parts by mass surfactant: Lapisol A-90 (manufactured by NOF Corporation) 0.02 parts by mass water 95.47 parts by mass

<アンチハレーション層用塗工液AH−1の調製>
水 1000質量部
ゼラチン 12質量部
染料D−1 10質量部

Figure 2015184410
<Preparation of coating solution AH-1 for antihalation layer>
Water 1000 parts by weight Gelatin 12 parts by weight Dye D-1 10 parts by weight
Figure 2015184410

(保護層用塗工液PR−1の調製)
水 1000質量部
ゼラチン 12質量部
(Preparation of protective layer coating solution PR-1)
Water 1000 parts by weight Gelatin 12 parts by weight

(ハロゲン化銀乳剤用液EM−1の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入後に攪拌して、ハロゲン化銀乳剤用液EM−1とした。
ハロゲン化銀層用液EM−1
水 750質量部
ゼラチン 9質量部
塩化ナトリウム 3質量部
1,3−ジメチルイミダゾリジン−2−チオン 0.02質量部
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム 0.01質量部
クエン酸 0.7質量部
(Preparation of silver halide emulsion solution EM-1)
The following composition was charged into a mixing tank and stirred to obtain a silver halide emulsion liquid EM-1.
Liquid EM-1 for silver halide layer
Water 750 parts by weight Gelatin 9 parts by weight Sodium chloride 3 parts by weight 1,3-dimethylimidazolidine-2-thione 0.02 parts by weight Sodium benzenethiosulfonate 0.01 part by weight Citric acid 0.7 parts by weight

(ハロゲン化銀乳剤用液EM−2の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入後に攪拌して、ハロゲン化銀乳剤用液EM−2とした。
ハロゲン化銀乳剤用液EM−2
水 300質量部
硝酸銀 150質量部
(Preparation of silver halide emulsion solution EM-2)
The following composition was added to a mixing tank and stirred to obtain a silver halide emulsion liquid EM-2.
EM-2 for silver halide emulsion
Water 300 parts by weight Silver nitrate 150 parts by weight

(ハロゲン化銀乳剤用液EM−3の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入後に攪拌して、ハロゲン化銀乳剤用液EM−3とした。
ハロゲン化銀乳剤用液EM−3
水 300質量部
塩化ナトリウム 38質量部
臭化カリウム 32質量部
ヘキサクロロイリジウム(III)酸カリウム20質量%水溶液(0.005質量%KCl)
8質量部
ヘキサクロロロジウム酸アンモニウム20質量%水溶液(0.001質量%NaCl)
10質量部
(Preparation of silver halide emulsion liquid EM-3)
The following composition was charged into a mixing tank and stirred to obtain a silver halide emulsion liquid EM-3.
Liquid EM-3 for silver halide emulsion
Water 300 parts by mass Sodium chloride 38 parts by mass Potassium bromide 32 parts by mass Potassium hexachloroiridium (III) 20% by mass aqueous solution (0.005% by mass KCl)
8 parts by mass ammonium hexachlororhodate 20% by mass aqueous solution (0.001% by mass NaCl)
10 parts by mass

(ハロゲン化銀乳剤用液EM−4の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入後に攪拌して、ハロゲン化銀乳剤用液EM−4とした。
ハロゲン化銀乳剤用液EM−4
水 100質量部
硝酸銀 50質量部
(Preparation of silver halide emulsion liquid EM-4)
The following composition was added to a mixing tank and stirred to obtain a silver halide emulsion liquid EM-4.
EM-4 for silver halide emulsion
Water 100 parts by weight Silver nitrate 50 parts by weight

(ハロゲン化銀乳剤用液EM−5の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入後に攪拌して、ハロゲン化銀乳剤用液EM−5とした。
ハロゲン化銀乳剤用液EM−5
水 100質量部
塩化ナトリウム 13質量部
臭化カリウム 11質量部
黄血塩 0.005質量部
(Preparation of silver halide emulsion solution EM-5)
The following composition was added to a mixing tank and stirred to obtain a silver halide emulsion liquid EM-5.
EM-5 for silver halide emulsion
Water 100 parts by mass Sodium chloride 13 parts by mass Potassium bromide 11 parts by mass Yellow blood salt 0.005 parts by mass

(感光性層用塗工液PS−1の調製)
38℃、pH4.5に保たれた下記ハロゲン化銀乳剤液EM−1に、上記のハロゲン化銀乳剤液EM−2およびハロゲン化銀乳剤液EM−3の各々90質量%に相当する量を攪拌しながら同時に20分間にわたって加え、0.16μmの核粒子を形成した。続いて上記ハロゲン化銀乳剤液EM−4およびハロゲン化銀乳剤液EM−5を8分間にわたって加え、さらに、上記のハロゲン化銀乳剤液EM−2およびハロゲン化銀乳剤液EM−3の残りの10質量%の量を2分間にわたって加え、0.21μmまで成長させた。さらに、ヨウ化カリウム0.15gを加え、5分間熟成し粒子形成を終了した。
その後、常法に従い、フロキュレーション法によって水洗した。具体的には、温度を35℃に下げ、硫酸を用いてハロゲン化銀が沈降するまでpHを下げた(pH3.6±0.2の範囲であった)。次に、上澄み液を約3リットル除去した(第一水洗)。さらに3リットルの蒸留水を加えてから、ハロゲン化銀が沈降するまで硫酸を加えた。再度、上澄み液を3リットル除去した(第二水洗)。第二水洗と同じ操作をさらに1回繰り返して(第三水洗)、水洗・脱塩工程を終了した。水洗・脱塩後の乳剤をpH6.4、pAg7.5に調整し、ゼラチン3.9g、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム10mg、ベンゼンチオスルフィン酸ナトリウム3mg、チオ硫酸ナトリウム15mgと塩化金酸10mgを加え55℃にて最適感度を得るように化学増感を施し、安定剤として1,3,3a,7−テトラアザインデン100mg、防腐剤としてプロキセル(商品名、ICI Co.,Ltd.製)100mgを加えた。最終的に得られた乳剤は、沃化銀を0.08モル%含み、塩臭化銀の比率を塩化銀70モル%、臭化銀30モル%とする、平均粒子径0.22μm、変動係数9%のヨウ塩臭化銀立方体粒子乳剤であった。
上記乳剤に1,3,3a,7−テトラアザインデン1.2×10-4モル/モルAg、ハイドロキノン1.2×10-2モル/モルAg、クエン酸3.0×10-4モル/モルAg、2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−1,3,5−トリアジンナトリウム塩0.90g/モルAgを添加し、クエン酸を用いて塗工液pHを5.6に調整して、感光性層用塗工液PS−1を得た。
(Preparation of photosensitive layer coating liquid PS-1)
In the following silver halide emulsion liquid EM-1 maintained at 38 ° C. and pH 4.5, an amount corresponding to 90% by mass of each of the above-described silver halide emulsion liquid EM-2 and silver halide emulsion liquid EM-3 was added. Simultaneously added over 20 minutes with stirring to form 0.16 μm core particles. Subsequently, the silver halide emulsion liquid EM-4 and the silver halide emulsion liquid EM-5 are added over 8 minutes, and the remaining silver halide emulsion liquid EM-2 and the remaining silver halide emulsion liquid EM-3 are further added. An amount of 10% by weight was added over 2 minutes and grown to 0.21 μm. Further, 0.15 g of potassium iodide was added and ripened for 5 minutes to complete the grain formation.
Then, it washed with water by the flocculation method according to a conventional method. Specifically, the temperature was lowered to 35 ° C., and the pH was lowered using sulfuric acid until the silver halide precipitated (the pH was in the range of 3.6 ± 0.2). Next, about 3 liters of the supernatant was removed (first water washing). Further, 3 liters of distilled water was added, and sulfuric acid was added until the silver halide settled. Again, 3 liters of the supernatant was removed (second water wash). The same operation as the second water washing was further repeated once (third water washing) to complete the water washing / desalting step. The emulsion after washing with water and desalting was adjusted to pH 6.4 and pAg 7.5, and gelatin 3.9 g, sodium benzenethiosulfonate 10 mg, sodium benzenethiosulfinate 3 mg, sodium thiosulfate 15 mg and chloroauric acid 10 mg were added. Chemical sensitization is performed to obtain an optimum sensitivity at 0 ° C., and 100 mg of 1,3,3a, 7-tetraazaindene is added as a stabilizer and 100 mg of proxel (trade name, manufactured by ICI Co., Ltd.) is used as a preservative. It was. The finally obtained emulsion contains 0.08 mol% of silver iodide, and the ratio of silver chlorobromide is 70 mol% of silver chloride and 30 mol% of silver bromide. It was a silver iodochlorobromide cubic grain emulsion having a coefficient of 9%.
1,3,3a, 7-tetraazaindene 1.2 × 10 −4 mol / mol Ag, hydroquinone 1.2 × 10 −2 mol / mol Ag, citric acid 3.0 × 10 −4 mol / Mol Ag, 2,4-dichloro-6-hydroxy-1,3,5-triazine sodium salt 0.90 g / mol Ag was added, and the coating solution pH was adjusted to 5.6 using citric acid, A coating liquid PS-1 for photosensitive layer was obtained.

(現像液DV−1の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入後に攪拌して、現像液DV−1とした。
現像液DV−1
水 1000g
ハイドロキノン 0.037mol
N−メチルアミノフェノール 0.016mol
メタホウ酸ナトリウム 0.140mol
水酸化ナトリウム 0.360mol
臭化ナトリウム 0.031mol
メタ重亜硫酸カリウム 0.187mol
(Preparation of developer DV-1)
The following composition was added to the mixing tank and stirred to obtain developer DV-1.
Developer DV-1
1000g of water
Hydroquinone 0.037 mol
N-methylaminophenol 0.016 mol
Sodium metaborate 0.140 mol
Sodium hydroxide 0.360 mol
Sodium bromide 0.031 mol
Potassium metabisulfite 0.187 mol

(タッチセンサーフィルムT1の作製)
支持体S2の両面に8kJ/m2でコロナ放電処理を施した後、上記の下塗層用塗工液PC−1を両面塗工し、膜面温度90℃で1分間乾燥して、厚み0.1μmの下塗層を形成した。次いで、上記のアンチハレーション層用塗工液AH−1を両面塗工し、乾燥して、厚さ1.0μmのアンチハレーション層を設けた。さらに、感光性層用塗工液PS−1を両面塗工、乾燥して、感光性層を形成した後、上記の保護層用塗工液PR−1を両面塗工、乾燥して、厚み0.15μmの保護層を設けた。ここで、アンチハレーション層の光学濃度は約1.0、感光性層中の銀量は銀で換算して7g/m2であった。
(Production of touch sensor film T1)
After performing corona discharge treatment on both sides of the support S2 at 8 kJ / m 2 , the above-mentioned undercoat layer coating solution PC-1 is coated on both sides and dried at a film surface temperature of 90 ° C. for 1 minute to obtain a thickness. A 0.1 μm subbing layer was formed. Next, the antihalation layer coating solution AH-1 was coated on both sides and dried to provide an antihalation layer having a thickness of 1.0 μm. Further, the photosensitive layer coating liquid PS-1 is coated on both sides and dried to form a photosensitive layer, and then the protective layer coating liquid PR-1 is coated on both sides and dried to obtain a thickness. A protective layer of 0.15 μm was provided. Here, the optical density of the antihalation layer was about 1.0, and the amount of silver in the photosensitive layer was 7 g / m 2 in terms of silver.

この両面に、図8に示すようなタッチセンサーパターン(第1検出電極および第2検出電極)および引き出し配線部(第1引き出し配線および第2引き出し配線)を配したフォトマスクを介し、高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光を行った。露光後、上記の現像液DV−1で現像し、さらに定着液(商品名:CN16X用N3X−R、富士フィルム社製)を用いて現像処理を行った。さらに、純水でリンスし、乾燥することで、両面にAg細線からなるメッシュパターンを有する検出電極を有する、タッチセンサーフィルムT1を得た。
尚、配置された第1検出電極はX方向にのびる電極で、第2検出電極はY方向に延びる電極であり、X検出電極(長さ:170mm)は32本、Y検出電極(長さ:300mm)は56本であった。また、位相差測定装置KOBRA−WR(王子計測機器社製)を用いて測定したRe40は、3nmであった。
A high pressure mercury lamp is provided via a photomask having a touch sensor pattern (first detection electrode and second detection electrode) and a lead wiring portion (first lead wiring and second lead wiring) as shown in FIG. The exposure was performed using parallel light using as a light source. After the exposure, the film was developed with the developer DV-1 described above, and further developed using a fixing solution (trade name: N3X-R for CN16X, manufactured by Fuji Film Co., Ltd.). Furthermore, the touch sensor film T1 which has the detection electrode which has a mesh pattern which consists of Ag fine wire on both surfaces was obtained by rinsing with pure water and drying.
The arranged first detection electrodes are electrodes extending in the X direction, the second detection electrodes are electrodes extending in the Y direction, 32 X detection electrodes (length: 170 mm), and Y detection electrodes (length: 300 mm) was 56. Moreover, Re40 measured using phase difference measuring apparatus KOBRA-WR (made by Oji Scientific Instruments) was 3 nm.

(下塗層用塗工液PC−2の調製)
下塗層用塗工液PC−2
・ウレタンアクリレート 100.0質量部
(ペンタエリスリトールアクリレートと水添キシレンジイソシアネートの反応物)
・モノマー(A−9300(新中村化学社製)) 20.0質量部
・シリカ粒子(平均粒径1〜3μm) 84.2質量部
・光重合開始剤(IRGACURE184、BASF社製) 6.3質量部
・溶媒(酢酸ブチル) 85.7質量部
・溶媒(メチルエチルケトン) 171.4質量部
(Preparation of undercoat layer coating solution PC-2)
Undercoat layer coating solution PC-2
-Urethane acrylate 100.0 parts by mass (reaction product of pentaerythritol acrylate and hydrogenated xylene diisocyanate)
Monomer (A-9300 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical)) 20.0 parts by mass Silica particles (average particle size 1 to 3 μm) 84.2 parts by mass Photopolymerization initiator (IRGACURE184, manufactured by BASF) 6.3 Part by mass / solvent (butyl acetate) 85.7 parts by mass / solvent (methyl ethyl ketone) 171.4 parts by mass

(ポリマーP−1の合成)
下記組成物をミキシングタンクに投入後に攪拌し、60℃乃至100℃の温度で重合反応させることにより、下記ポリマーP1のPGMEA45質量%溶液(固形分濃度)を得た。分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィ法(GPC)を用いて測定した結果、ポリスチレン換算による質量平均分子量(Mw)は30,000、分子量分布(Mw/Mn)は2.21であった。さらに、PGMEAで希釈して、ポリマーP1のPGMEA40質量%溶液を得た。
ポリマーP−1合成用溶液
モノマー(メタクリル酸) 7.8質量部
モノマー(ベンジルメタクリレート) 37.2質量部
重合開始剤(ABN−R(日本ファインケム社製)) 0.5質量部
溶媒(PGMEA:メトキシプロピルアセテート) 55.0質量部

Figure 2015184410
(Synthesis of polymer P-1)
The following composition was stirred in the mixing tank and polymerized at a temperature of 60 ° C. to 100 ° C. to obtain a 45 mass% PGMEA solution (solid content concentration) of the following polymer P1. The molecular weight was measured using gel permeation chromatography (GPC). As a result, the weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene was 30,000, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.21. Furthermore, it diluted with PGMEA, and obtained the PGMEA 40 mass% solution of the polymer P1.
Polymer P-1 synthesis solution monomer (methacrylic acid) 7.8 parts by mass monomer (benzyl methacrylate) 37.2 parts by mass polymerization initiator (ABN-R (manufactured by Nippon Finechem)) 0.5 part by mass solvent (PGMEA: Methoxypropyl acetate) 55.0 parts by mass
Figure 2015184410

(感光性層用塗工液PS−2の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入後に攪拌して、感光性層用塗工液PS−2とした。
感光性層用塗工液PS−2
ポリマー溶液(ポリマーP−1のPGMEA40質量%溶液) 3.80質量部
モノマー(KAYARAD DPHA(日本化薬社製)) 1.59質量部
光重合開始剤(IRGACURE379(BASF社製)) 0.16質量部
架橋剤(EHPE−3150(ダイセル化学社製)) 0.15質量部
界面活性剤(メガファックF781F(DIC社製)) 0.002質量部
溶媒(PGMEA) 19.3質量部
(Preparation of photosensitive layer coating liquid PS-2)
The following composition was added to the mixing tank and stirred to obtain a photosensitive layer coating solution PS-2.
Photosensitive layer coating solution PS-2
Polymer solution (PGMEA 40% by mass solution of polymer P-1) 3.80 parts by mass monomer (KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)) 1.59 parts by mass photopolymerization initiator (IRGACURE 379 (manufactured by BASF)) 0.16 Mass part cross-linking agent (EHPE-3150 (manufactured by Daicel Chemical Industries)) 0.15 parts by mass surfactant (Megafac F781F (manufactured by DIC)) 0.002 parts by mass Solvent (PGMEA) 19.3 parts by mass

(タッチセンサーフィルムT2の作製)
支持体S2の表面に、下塗層用塗工液PC−2をグラビアリバース法にて塗工、70℃40秒乾燥し、300mJ/cm2でUV照射して、膜厚1.7μmの下塗層を形成した。その後、下塗層表面にAr流量300sccm、出力700V/0.05Aにてプラズマ処理を施し、スパッタリング装置内に配置し、真空排気を行いながらローラーを140℃に加熱し、圧力を2×10-1Paに保持し、アルゴンガスおよび酸素ガス流入下で、ターゲットとして質量比In23/SnO3=90/10の酸化物混合体を用いたスパッタリングにより、フィルムのプラズマ処理を施した面に、ITOからなる透明導電層を厚さ200オングストロームで積層して、導電性透明フィルムを得た。
上記透明導電フィルムのITO層上に、ワイヤーバーを用いて感光性層用塗工液PS−2を塗工後、150℃のオーブンで5分間乾燥して、厚み5μmの感光性層を得た。
次いで、タッチセンサーT1と同様の検出電極が形成可能な露光ガラスマスクを用いて、高圧水銀灯i線(波長365nm)を400mJ/cm2(照度50mW/cm2)露光後、1質量%水酸化ナトリウム水溶液(35℃)、シャワー圧0.08MPaで1分間シャワー現像し、純水のシャワーでリンスした後、50℃1分間乾燥した。
続いて、3質量%シュウ酸水溶液(35℃)に2分間浸漬してITOエッチング処理後、エアーナイフでサンプル表面の水を吹き飛ばしてから60℃5分間乾燥した。
さらに、2.38質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(35℃)、シャワー圧3.0MPaで75秒間シャワー現像し、純水のシャワーでリンスした後、エアーナイフでサンプル表面の水を吹き飛ばしてから60℃5分間乾燥して、電極パターンを形成した。
尚、X方向に32本の検出電極(長さ:170mm)が伸びる電極パターンを有する透明導電フィルムX1と、Y方向に56本の検出電極(長さ:300mm)が伸びる透明導電フィルムY1をそれぞれ1枚ずつ作製した。
最後に、透明導電フィルムX1、透明導電フィルムY1、粘着層D1を有する粘着フィルムAD1を用いて、支持体S2/ITO層(Y方向)/粘着層D1/支持体S2/ITO層(X方向)の順で構成される積層体を作製し、タッチセンサーフィルムT2を得た。
ここで、タッチセンサーフィルムT2中の2枚の支持体S2の遅相軸のなす角度が0°となるように積層した。また、位相差測定装置KOBRA−WR(王子計測機器社製)を用いて測定したRe40は、3nmであった。
(Preparation of touch sensor film T2)
The undercoat layer coating solution PC-2 is applied to the surface of the support S2 by the gravure reverse method, dried at 70 ° C. for 40 seconds, and irradiated with UV at 300 mJ / cm 2 to obtain a film thickness of 1.7 μm below. A coating layer was formed. Thereafter, the surface of the undercoat layer was subjected to plasma treatment at an Ar flow rate of 300 sccm and an output of 700 V / 0.05 A, placed in a sputtering apparatus, and heated to 140 ° C. while evacuating to a pressure of 2 × 10 − On the surface subjected to plasma treatment of the film by sputtering using an oxide mixture having a mass ratio of In 2 O 3 / SnO 3 = 90/10 as a target under argon gas and oxygen gas inflow. A transparent conductive layer made of ITO was laminated at a thickness of 200 Å to obtain a conductive transparent film.
On the ITO layer of the transparent conductive film, a photosensitive layer coating solution PS-2 was applied using a wire bar and then dried in an oven at 150 ° C. for 5 minutes to obtain a photosensitive layer having a thickness of 5 μm. .
Next, using an exposure glass mask capable of forming the same detection electrode as that of the touch sensor T1, a high-pressure mercury lamp i-line (wavelength 365 nm) is exposed to 400 mJ / cm 2 (illuminance 50 mW / cm 2 ) and then 1% by mass sodium hydroxide. The film was developed with an aqueous solution (35 ° C.) and a shower pressure of 0.08 MPa for 1 minute, rinsed with a shower of pure water, and then dried at 50 ° C. for 1 minute.
Subsequently, after immersion in an aqueous 3% by mass oxalic acid solution (35 ° C.) for 2 minutes and ITO etching treatment, the water on the sample surface was blown off with an air knife and then dried at 60 ° C. for 5 minutes.
Further, after 2.75 mass% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution (35 ° C.) and shower pressure of 3.0 MPa for 75 seconds, the sample was rinsed with pure water shower, and then water on the sample surface was blown off with an air knife. The electrode pattern was formed by drying at 60 ° C. for 5 minutes.
Incidentally, a transparent conductive film X1 having an electrode pattern in which 32 detection electrodes (length: 170 mm) extend in the X direction and a transparent conductive film Y1 in which 56 detection electrodes (length: 300 mm) extend in the Y direction, respectively. One by one was produced.
Finally, using adhesive film AD1 having transparent conductive film X1, transparent conductive film Y1, adhesive layer D1, support S2 / ITO layer (Y direction) / adhesion layer D1 / support S2 / ITO layer (X direction) The laminated body comprised in order of these was produced, and touch sensor film T2 was obtained.
Here, it laminated | stacked so that the angle which the slow axis of two support body S2 in touch sensor film T2 makes might be set to 0 degree. Moreover, Re40 measured using phase difference measuring apparatus KOBRA-WR (made by Oji Scientific Instruments) was 3 nm.

(タッチセンサーT3の作製)
支持体S5を用いた以外は、タッチセンサーフィルムT1と同様の方法で作製した、タッチセンサーフィルムT3を得た。位相差測定装置KOBRA−WR(王子計測機器社製)を用いて測定したRe40は、5nmであった。
(Production of touch sensor T3)
The touch sensor film T3 produced by the same method as the touch sensor film T1 was obtained except that the support S5 was used. Re40 measured using the phase difference measuring device KOBRA-WR (made by Oji Scientific Instruments) was 5 nm.

(タッチセンサーT4の作製)
支持体S6を用いた以外は、タッチセンサーフィルムT1と同様の方法で作製した、タッチセンサーフィルムT4を得た。位相差測定装置KOBRA−WR(王子計測機器社製)を用いて測定したRe40は、480nmであった。
(Production of touch sensor T4)
A touch sensor film T4 produced in the same manner as the touch sensor film T1 was obtained except that the support S6 was used. Re40 measured using a phase difference measuring device KOBRA-WR (manufactured by Oji Scientific Instruments) was 480 nm.

(タッチセンサーT5の作製)
支持体S7を用いた以外は、タッチセンサーフィルムT1と同様の方法で作製した、タッチセンサーフィルムT5を得た。位相差測定装置KOBRA−WR(王子計測機器社製)を用いて測定したRe40は、960nmであった。
(Production of touch sensor T5)
A touch sensor film T5 produced in the same manner as the touch sensor film T1 was obtained except that the support S7 was used. Re40 measured using the phase difference measuring device KOBRA-WR (made by Oji Scientific Instruments) was 960 nm.

(タッチセンサーT6の作製)
支持体S8を用いた以外は、タッチセンサーフィルムT1と同様の方法で作製した、タッチセンサーフィルムT6を得た。位相差測定装置KOBRA−WR(王子計測機器社製)を用いて測定したRe40は、1150nmであった。
(Production of touch sensor T6)
A touch sensor film T6 produced in the same manner as the touch sensor film T1 was obtained except that the support S8 was used. Re40 measured using the phase difference measuring device KOBRA-WR (made by Oji Scientific Instruments) was 1150 nm.

(ハードコート層用塗工液HC−1の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入後に攪拌して、ハードコート層用塗工液HC−1とした。
ハードコート層用塗工液HC−1
ポリマー(アクリベースMH−101−5(藤倉化成社製)) 60質量部
光硬化性モノマー(A−DPH(新中村化学社製)) 20質量部
光硬化性モノマー(A−TMMT(新中村化学社製) 20質量部
微粒子(MEK−ST−L(日産化学工業社製)) 200質量部
光重合開始剤(IRGACURE184(BASF社製)) 5質量部
界面活性剤(メガファックF−780F(DIC社製)) 1質量部
溶媒(2−ブタノン(関東化学社製) 54質量部
(Preparation of hard coat layer coating solution HC-1)
The following composition was added to the mixing tank and stirred to obtain a hard coat layer coating solution HC-1.
Hard coat layer coating solution HC-1
Polymer (Acrybase MH-101-5 (manufactured by Fujikura Kasei)) 60 parts by mass photocurable monomer (A-DPH (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)) 20 parts by mass photocurable monomer (A-TMMT (Shin-Nakamura Chemical) 20 parts by mass fine particles (MEK-ST-L (manufactured by Nissan Chemical Industries)) 200 parts by mass photopolymerization initiator (IRGACURE184 (manufactured by BASF)) 5 parts by mass surfactant (Megafac F-780F (DIC) 1) part by mass solvent (2-butanone (manufactured by Kanto Chemical Co.)) 54 parts by mass

(ハードコート層用塗工液HC−2の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入後に攪拌して、ハードコート層用塗工液HC−2とした。
ハードコート層用塗工液HC−2
アルコキシシラン(KBE−403(信越化学工業社製)) 80質量部
アルコキシシラン(KBE−04(信越化学工業社製)) 20質量部
酸(工業用酢酸1質量%水溶液(ダイセル化学工業社製)) 200質量部
キレート錯体(アルミキレートD(川研ファインケミカル社製)) 25質量部
シリカ微粒子(スノーテックスO−L(日産化学工業社製)) 100質量部
界面活性剤(サンデッドBL(三洋化成工業社製)1質量%水溶液) 20質量部
界面活性剤(ナロアクティーCL−95(三洋化成工業社製)1質量%水溶液)
20質量部
(Preparation of hard coat layer coating solution HC-2)
The following composition was added to the mixing tank and stirred to obtain a hard coat layer coating solution HC-2.
Hard coat layer coating solution HC-2
Alkoxysilane (KBE-403 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)) 80 parts by mass Alkoxysilane (KBE-04 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)) 20 parts by mass Acid (1% by mass aqueous solution of industrial acetic acid (manufactured by Daicel Chemical Industries)) ) 200 parts by mass chelate complex (aluminum chelate D (manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.)) 25 parts by mass silica fine particles (Snowtex OL (manufactured by Nissan Chemical Industries)) 100 parts by mass surfactant (Sanded BL (Sanyo Chemical Industries) 1% by weight aqueous solution) 20 parts by weight surfactant (Naroacty CL-95 (manufactured by Sanyo Chemical Industries) 1% by weight aqueous solution)
20 parts by mass

(配向層用塗工液AL−1の調製)
下記の組成物を調製し、配向層用塗工液AL−1として用いた。
配向層用塗工液AL−1
ポリマー(PVA205(クラレ社製)) 7質量部
ポリマー(Luvitec K30(BASF社製)) 3質量部
溶媒(純水) 120質量部
溶媒(メタノール(関東化学社製)) 80質量部
(Preparation of orientation layer coating liquid AL-1)
The following composition was prepared and used as the alignment layer coating liquid AL-1.
Coating liquid AL-1 for alignment layer
Polymer (PVA205 (manufactured by Kuraray)) 7 parts by mass Polymer (Luvitec K30 (manufactured by BASF)) 3 parts by mass Solvent (pure water) 120 parts by mass Solvent (methanol (manufactured by Kanto Chemical)) 80 parts by mass

(配向層用塗工液AL−2の調製)
下記の組成物を調製し、配向層用塗工液AL−2として用いた。化合物A−1は特許第3907735号記載の方法に準じて製造した。
配向層用塗工液AL−2
ポリマー(化合物A−1) 10質量部
架橋剤(グルタルアルデヒド50質量%水溶液(関東化学社製)) 1質量部
溶媒(純水) 180質量部
溶媒(メタノール(関東化学社製)) 60質量部

Figure 2015184410
(Preparation of orientation layer coating liquid AL-2)
The following composition was prepared and used as alignment layer coating liquid AL-2. Compound A-1 was produced according to the method described in Japanese Patent No. 3907735.
Coating liquid AL-2 for alignment layer
Polymer (Compound A-1) 10 parts by mass crosslinking agent (50% by mass aqueous solution of glutaraldehyde (manufactured by Kanto Chemical Co.)) 1 part by mass solvent (pure water) 180 parts by mass solvent (methanol (manufactured by Kanto Chemical Co.)) 60 parts by mass
Figure 2015184410

(光学異方層用塗工液LC−1の調製)
下記の組成物を調製し、光学異方層用塗工液LC−1として用いた。
光学異方層用塗工液LC−1
重合性液晶モノマー(LC−242(BASF社製)) 100質量部
光重合開始剤(IRGACUREOXE02(BASF社製)) 5質量部
界面活性剤(メガファックF−780F(DIC社製)) 1質量部
溶媒(2−ブタノン(関東化学社製)) 540質量部
(Preparation of coating liquid LC-1 for optical anisotropic layer)
The following composition was prepared and used as the optically anisotropic layer coating liquid LC-1.
Optical anisotropic coating liquid LC-1
Polymerizable liquid crystal monomer (LC-242 (manufactured by BASF)) 100 parts by mass Photopolymerization initiator (IRGACUREOXE02 (manufactured by BASF)) 5 parts by mass of surfactant (Megafac F-780F (manufactured by DIC)) 1 part by mass Solvent (2-butanone (manufactured by Kanto Chemical Co.)) 540 parts by mass

(光学異方層用塗工液LC−2の調製)
下記の組成物を調製し、光学異方層用塗工液LC−2として用いた。
光学異方層用塗工液LC−2
重合性液晶モノマー(RM−257(MERCK社製)) 60質量部
重合性液晶モノマー(LC−242(BASF社製)) 40質量部
光重合開始剤(IRGACUREOXE02(BASF社製)) 5質量部
界面活性剤(メガファックF−780F(DIC社製)) 1質量部
溶媒(2−ブタノン(関東化学社製)) 510質量部
溶媒(シクロヘキサノン(関東化学社製)) 30質量部
(Preparation of coating liquid LC-2 for optical anisotropic layer)
The following composition was prepared and used as optically anisotropic layer coating liquid LC-2.
Optical anisotropic layer coating liquid LC-2
Polymerizable liquid crystal monomer (RM-257 (manufactured by MERCK)) 60 parts by mass Polymerizable liquid crystal monomer (LC-242 (manufactured by BASF)) 40 parts by mass Photopolymerization initiator (IRGACUREOXE02 (manufactured by BASF)) 5 parts by mass interface Activator (Megafac F-780F (manufactured by DIC)) 1 part by mass solvent (2-butanone (manufactured by Kanto Chemical Co.)) 510 parts by mass solvent (cyclohexanone (manufactured by Kanto Chemical Co.)) 30 parts by mass

(光学異方層用塗工液LC−3の調製)
下記の組成物を調製し、光学異方層用塗工液LC−3として用いた。化合物L−2はTetrahedron Lett.誌、第43巻、6793頁(2002)に記載の方法準じて製造した。
光学異方層用塗工液LC−3
重合性液晶モノマー(化合物L−1) 60質量部
重合性液晶モノマー(RM−257(MERCK社製)) 40質量部
光重合開始剤(IRGACURE819(BASF社製)) 5質量部
界面活性剤(化合物L−2) 1質量部
溶媒(2−ブタノン(関東化学社製)) 510質量部
溶媒(シクロヘキサノン(関東化学社製)) 30質量部

Figure 2015184410
(Preparation of optical anisotropic layer coating liquid LC-3)
The following composition was prepared and used as the optically anisotropic layer coating liquid LC-3. Compound L-2 was obtained from Tetrahedron Lett. Magazine, volume 43, page 6793 (2002).
Optical anisotropic layer coating liquid LC-3
Polymerizable liquid crystal monomer (Compound L-1) 60 parts by weight Polymerizable liquid crystal monomer (RM-257 (manufactured by MERCK)) 40 parts by weight photopolymerization initiator (IRGACURE819 (manufactured by BASF)) 5 parts by weight surfactant (compound) L-2) 1 part by mass solvent (2-butanone (manufactured by Kanto Chemical Co.)) 510 parts by mass solvent (cyclohexanone (manufactured by Kanto Chemical Co.)) 30 parts by mass
Figure 2015184410

(実施例1)
<ハードコート層H1の形成>
仮支持体としての支持体S1上に、#10のワイヤーバーを用いて、ハードコート層用塗工液HC−1を塗工し、90℃2分間乾燥した後、酸素濃度1.0%以下の窒素雰囲気下にて160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス社製)を用いて、照射量100mJ/cm2の光量でUV照射して、厚さ5.2μmのハードコート層H1を形成した。
Example 1
<Formation of hard coat layer H1>
On the support S1 as a temporary support, using a # 10 wire bar, the hard coat layer coating solution HC-1 was applied, dried at 90 ° C. for 2 minutes, and then an oxygen concentration of 1.0% or less. Using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) under a nitrogen atmosphere, UV irradiation is performed with a light amount of 100 mJ / cm 2 to form a 5.2 μm thick hard coat layer H1. did.

<配向層A1の形成>
ハードコート層H1上に、#8のワイヤーバーを用いて、配向層用塗工液AL−1を塗工し、60℃1分間、さらに90℃2分間乾燥して厚さ0.5μmの配向層A1を形成した。
<Formation of alignment layer A1>
On the hard coat layer H1, using the # 8 wire bar, the orientation layer coating liquid AL-1 is applied, dried at 60 ° C. for 1 minute, and further at 90 ° C. for 2 minutes, and the thickness is 0.5 μm. Layer A1 was formed.

<光学異方層L1の形成>
配向層A1をラビング処理した後、#4ワイヤーバーを用いて光学異方層用塗工液LC−1を塗工、膜面温度80℃で2分間乾燥して液晶相状態とし、酸素濃度1.0%以下の窒素雰囲気下にて160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス社製)を用いて、照射量100mJ/cm2の光量でUV照射して、その配向状態を固定化し、厚さ0.8μmの光学異方層L1を形成した。ここで、塗工方向は、支持体の遅相軸方向であり、ラビングの方向は、塗工方向に対して45°とした。
<Formation of optical anisotropic layer L1>
After the alignment layer A1 is rubbed, the optically anisotropic layer coating liquid LC-1 is applied using a # 4 wire bar, dried at a film surface temperature of 80 ° C. for 2 minutes to obtain a liquid crystal phase, and an oxygen concentration of 1 Using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) under a nitrogen atmosphere of 0% or less, UV irradiation is performed with a light amount of 100 mJ / cm 2 to fix the orientation state, An optically anisotropic layer L1 having a thickness of 0.8 μm was formed. Here, the coating direction was the slow axis direction of the support, and the rubbing direction was 45 ° with respect to the coating direction.

<粘着層D1の形成>
粘着フィルムAD1の一方の剥離PETを剥離して、粘着層D1を光学異方層L1上に、ローラーを使用して貼合し、他方の剥離PETを剥離して、実施例1の光学異方性ハードコート転写フィルムを得た。
<Formation of adhesive layer D1>
One release PET of the adhesive film AD1 is peeled off, the adhesive layer D1 is bonded onto the optical anisotropic layer L1 using a roller, the other release PET is peeled off, and the optical anisotropic of Example 1 is peeled off. A hard coat transfer film was obtained.

(実施例2)
実施例1において、#4ワイヤーバーを用いて光学異方層L1を形成した代わりに、#0.7ワイヤーバーを用いて、厚さ0.1μmの光学異方層L2を形成した以外は、実施例1と同様の方法で実施例2の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。
(Example 2)
In Example 1, instead of forming the optical anisotropic layer L1 using the # 4 wire bar, except that the optical anisotropic layer L2 having a thickness of 0.1 μm was formed using the # 0.7 wire bar, An optically anisotropic hard coat transfer film of Example 2 was produced in the same manner as in Example 1.

(実施例3)
実施例1において、#4ワイヤーバーを用いて光学異方層L1を形成した代わりに、#1ワイヤーバーを用いて、厚さ0.2μmの光学異方層L3を形成した以外は、実施例1と同様の方法で実施例3の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。
(Example 3)
In Example 1, instead of forming the optical anisotropic layer L1 using the # 4 wire bar, Example 1 except that the optical anisotropic layer L3 having a thickness of 0.2 μm was formed using the # 1 wire bar. 1 was used to produce an optically anisotropic hard coat transfer film of Example 3.

(実施例4)
実施例1において、#4ワイヤーバーを用いて光学異方層L1を形成した代わりに、#2ワイヤーバーを用いて、厚さ0.2μmの光学異方層L4を形成した以外は、実施例1と同様の方法で実施例4の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。
Example 4
In Example 1, instead of forming the optical anisotropic layer L1 using the # 4 wire bar, the optical anisotropic layer L4 having a thickness of 0.2 μm was formed using the # 2 wire bar. 1 was used to prepare an optically anisotropic hard coat transfer film of Example 4.

(実施例5)
実施例1において、#4ワイヤーバーを用いて光学異方層L1を形成した代わりに、#6ワイヤーバーを用いて、厚さ1.2μmの光学異方層L5を形成した以外は、実施例1と同様の方法で実施例5の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。
(Example 5)
In Example 1, instead of forming the optically anisotropic layer L1 using the # 4 wire bar, the Example except that the optically anisotropic layer L5 having a thickness of 1.2 μm was formed using the # 6 wire bar. 1 was used to prepare an optically anisotropic hard coat transfer film of Example 5.

(実施例6)
実施例1において、#4ワイヤーバーを用いて光学異方層L1を形成した代わりに、#7ワイヤーバーを用いて、厚さ1.4μmの光学異方層L6を形成した以外は、実施例1と同様の方法で実施例6の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。
(Example 6)
In Example 1, instead of forming the optical anisotropic layer L1 using the # 4 wire bar, the optical anisotropic layer L6 having a thickness of 1.4 μm was formed using the # 7 wire bar. 1 was used to prepare an optically anisotropic hard coat transfer film of Example 6.

(実施例7)
実施例1において、#4ワイヤーバーを用いて光学異方層L1を形成した代わりに、#8ワイヤーバーを用いて、厚さ1.6μmの光学異方層L7を形成した以外は、実施例1と同様の方法で実施例7の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。
(Example 7)
In Example 1, instead of forming the optical anisotropic layer L1 using the # 4 wire bar, the optical anisotropic layer L7 having a thickness of 1.6 μm was formed using the # 8 wire bar. 1 was used to prepare an optically anisotropic hard coat transfer film of Example 7.

(実施例8)
実施例1において、ハードコート層H1を形成する代わりに、以下の方法でハードコート層H2を形成した以外は、実施例1と同様の方法で実施例8の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。
(Example 8)
In Example 1, instead of forming the hard coat layer H1, the optically anisotropic hard coat transfer film of Example 8 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer H2 was formed by the following method. Produced.

<ハードコート層H2の形成>
仮支持体としての支持体S1上を、コロナ処理をした後、#4のワイヤーバーを用いて、ハードコート層用塗工液HC−2を塗工し、90℃2分間乾燥した後、150℃にて2分間乾燥して、厚さ1.0μmのハードコート層H2を形成した。
<Formation of hard coat layer H2>
After corona treatment on the support S1 as a temporary support, the hard coat layer coating solution HC-2 was applied using a # 4 wire bar, dried at 90 ° C. for 2 minutes, and then 150 The hard coat layer H2 having a thickness of 1.0 μm was formed by drying at 0 ° C. for 2 minutes.

(実施例9)
実施例1において、配向層用塗工液AL−1を用いて配向層A1を形成する代わりに、配向層用塗工液AL−2を用いて配向層A2を形成した以外は、実施例1と同様の方法で実施例9の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。
Example 9
In Example 1, instead of forming the alignment layer A1 using the alignment layer coating liquid AL-1, Example 1 except that the alignment layer A2 was formed using the alignment layer coating liquid AL-2. The optically anisotropic hard coat transfer film of Example 9 was produced in the same manner as described above.

(実施例10)
実施例1において、光学異方層用塗工液LC−1を用いて光学異方層L1を形成する代わりに、光学異方層用塗工液LC−2を用いて光学異方層L8を形成した以外は、実施例1と同様の方法で実施例10の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。
(Example 10)
In Example 1, instead of forming the optical anisotropic layer L1 using the optical anisotropic layer coating liquid LC-1, the optical anisotropic layer L8 is formed using the optical anisotropic layer coating liquid LC-2. An optically anisotropic hard coat transfer film of Example 10 was produced in the same manner as in Example 1 except that it was formed.

(実施例11)
実施例1において、光学異方層用塗工液LC−1を用いて光学異方層L1を形成する代わりに、光学異方層用塗工液LC−3を用いて光学異方層L9を形成した以外は、実施例1と同様の方法で実施例11の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。
(Example 11)
In Example 1, instead of forming the optical anisotropic layer L1 using the optical anisotropic layer coating liquid LC-1, the optical anisotropic layer L9 is formed using the optical anisotropic layer coating liquid LC-3. An optically anisotropic hard coat transfer film of Example 11 was produced in the same manner as in Example 1 except that it was formed.

(実施例12)
実施例1において、光学異方層L1の形成後、粘着層D1の形成前に、光学異方層L1上に実施例8と同様の方法でハードコート層H2を形成した以外は、実施例1と同様の方法で実施例12の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。
(Example 12)
Example 1 Example 1 except that the hard coat layer H2 was formed on the optical anisotropic layer L1 in the same manner as in Example 8 after the optical anisotropic layer L1 was formed and before the adhesive layer D1 was formed. The optically anisotropic hard coat transfer film of Example 12 was produced in the same manner as described above.

(実施例13)
実施例1において、光学異方層L1の形成後、粘着層D1の形成前に、光学異方層L1上に実施例3と同様の方法で光学異方層L3を形成した以外は、実施例1と同様の方法で実施例13の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。
(Example 13)
In Example 1, after forming the optical anisotropic layer L1 and before forming the adhesive layer D1, the optical anisotropic layer L3 was formed on the optical anisotropic layer L1 in the same manner as in Example 3, except that the optical anisotropic layer L3 was formed. 1 was used to produce an optically anisotropic hard coat transfer film of Example 13.

(実施例14)
実施例1において、配向層A1を形成せずに、ハードコート層H1表面をラビング処理したこと以外は、実施例1と同様の方法で実施例14の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。
(Example 14)
In Example 1, the optically anisotropic hard coat transfer film of Example 14 was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface of the hard coat layer H1 was rubbed without forming the alignment layer A1. .

(実施例15)
仮支持体としての支持体S1上をラビング処理した後、光学異方層L1、ハードコート層H1、粘着層D1を実施例1と同様の方法でこの順に形成して、実施例15の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。
(Example 15)
After rubbing the support S1 as a temporary support, the optically anisotropic layer L1, the hard coat layer H1, and the adhesive layer D1 are formed in this order in the same manner as in Example 1, and the optically anisotropic layer of Example 15 is formed. An isotropic hard coat transfer film was prepared.

(実施例16)
実施例1において、仮支持体としての支持体S1を支持体S2に代えたこと以外は、実施例1と同様の方法で実施例16の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。
(Example 16)
In Example 1, the optically anisotropic hard coat transfer film of Example 16 was produced in the same manner as in Example 1 except that the support S1 as the temporary support was replaced with the support S2.

(実施例17)
実施例1において、仮支持体としての支持体S1を支持体S3に代えたこと以外は、実施例1と同様の方法で実施例17の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。
(Example 17)
In Example 1, the optically anisotropic hard coat transfer film of Example 17 was produced in the same manner as in Example 1 except that the support S1 as the temporary support was replaced with the support S3.

(実施例18)
実施例1において、仮支持体としての支持体S1を支持体S4に代えたこと以外は、実施例1と同様の方法で実施例18の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。
(Example 18)
In Example 1, the optically anisotropic hard coat transfer film of Example 18 was produced in the same manner as in Example 1 except that the support S1 as the temporary support was replaced with the support S4.

(実施例19)
実施例18において、仮支持体としての支持体S4上に配向層A1、光学異方層L1、ハードコート層H1を実施例1と同様の方法でこの順に形成した以外は実施例18と同様にして、実施例19の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。
(Example 19)
In Example 18, the same procedure as in Example 18 was performed except that the alignment layer A1, the optically anisotropic layer L1, and the hard coat layer H1 were formed in this order on the support S4 as a temporary support in the same manner as in Example 1. Thus, an optically anisotropic hard coat transfer film of Example 19 was produced.

(比較例1)
仮支持体としての支持体S1上をラビング処理した後、光学異方層L1、粘着層D1を実施例1と同様の方法でこの順に形成して、比較例1の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。
(Comparative Example 1)
After rubbing the support S1 as a temporary support, the optically anisotropic layer L1 and the adhesive layer D1 are formed in this order in the same manner as in Example 1, and the optical anisotropic hard coat transfer of Comparative Example 1 is performed. A film was prepared.

(比較例2)
仮支持体としての支持体S1上に、ハードコート層H1、粘着層D1を実施例1と同様の方法でこの順に形成して、比較例2の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。
(Comparative Example 2)
A hard coat layer H1 and an adhesive layer D1 were formed in this order on the support S1 as a temporary support in the same manner as in Example 1 to produce an optically anisotropic hard coat transfer film of Comparative Example 2.

<光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプルの作製>
実施例1〜19および比較例1〜2の転写フィルムの粘着層D1の転写フィルムの光学異方層L1とガラス基板G1とを、ローラーを使用して貼合し、支持体S1〜S4のいずれかを剥離した。気泡の発生を防止するため、0.5気圧、40℃の環境下で20分間加熱し、オートクレーブ処理を施すことで、実施例1〜19および比較例1〜2の光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプルを作製した。
<Preparation of optical anisotropic hard coat transfer film evaluation sample>
The optically anisotropic layer L1 of the transfer film of the adhesive layer D1 of the transfer film of Examples 1 to 19 and Comparative Examples 1 and 2 and the glass substrate G1 are bonded using a roller, and any of the supports S1 to S4 I peeled. In order to prevent the generation of bubbles, the optical anisotropic hard coat transfer of Examples 1 to 19 and Comparative Examples 1 and 2 was performed by heating in an environment of 0.5 atm and 40 ° C. for 20 minutes and performing autoclave treatment. A sample for film evaluation was prepared.

<タッチパネルの作製>
タッチセンサーフィルムT1の一方の面に、実施例1〜19および比較例1〜2の光学異方性ハードコート転写フィルムの粘着層D1を、ローラーを使用して貼合し、支持体S1〜S4のいずれかを剥離した。このとき、タッチセンサーフィルムの遅相軸と光学異方層の遅相軸のなす角度が45°になるようにした。次に、粘着フィルムAD1の一方の剥離PETを剥離して、粘着層D1(第1の粘着層)をタッチセンサーフィルムT1のもう一方の面上に、ローラーを使用して貼合した。続いて、他方の剥離PETを剥離し、ガラス基板G1を、ローラーを使用して貼合し、その後、気泡の発生を防止するため、0.5気圧、40℃の環境下で20分間加熱し、オートクレーブ処理を施すことで、実施例1〜19および比較例1〜2のタッチパネルを作製した。
<Production of touch panel>
The adhesive layers D1 of the optically anisotropic hard coat transfer films of Examples 1 to 19 and Comparative Examples 1 and 2 are bonded to one surface of the touch sensor film T1 using a roller, and the supports S1 to S4. Any one of was peeled off. At this time, the angle formed by the slow axis of the touch sensor film and the slow axis of the optically anisotropic layer was set to 45 °. Next, one peeling PET of adhesion film AD1 was peeled, and adhesion layer D1 (1st adhesion layer) was pasted on the other side of touch sensor film T1 using a roller. Subsequently, the other peeled PET is peeled off, and the glass substrate G1 is bonded using a roller, and then heated for 20 minutes in an environment of 0.5 atm and 40 ° C. in order to prevent the generation of bubbles. The touch panels of Examples 1 to 19 and Comparative Examples 1 and 2 were produced by applying an autoclave process.

(実施例20)
<タッチパネルの作製>
実施例1において、タッチセンサーフィルムT1の代わりに、タッチセンサーフィルムT2を用いた以外は、実施例1と同様の方法で、実施例20のタッチパネルを作製した。
(Example 20)
<Production of touch panel>
In Example 1, the touch panel of Example 20 was produced in the same manner as in Example 1 except that the touch sensor film T2 was used instead of the touch sensor film T1.

(実施例21)
<タッチパネルの作製>
実施例1において、タッチセンサーフィルムT1の代わりに、タッチセンサーフィルムT3を用いた以外は、実施例1と同様の方法で、実施例21のタッチパネルを作製した。
(Example 21)
<Production of touch panel>
In Example 1, the touch panel of Example 21 was produced in the same manner as in Example 1 except that the touch sensor film T3 was used instead of the touch sensor film T1.

(実施例22)
<タッチパネルの作製>
実施例1において、タッチセンサーフィルムT1の代わりに、タッチセンサーフィルムT4を用いた以外は、実施例1と同様の方法で、実施例22のタッチパネルを作製した。
(Example 22)
<Production of touch panel>
In Example 1, the touch panel of Example 22 was produced in the same manner as in Example 1 except that the touch sensor film T4 was used instead of the touch sensor film T1.

(実施例23)
<タッチパネルの作製>
実施例1において、タッチセンサーフィルムT1の代わりに、タッチセンサーフィルムT5を用いた以外は、実施例1と同様の方法で、実施例23のタッチパネルを作製した。
(Example 23)
<Production of touch panel>
In Example 1, the touch panel of Example 23 was produced by the same method as Example 1 except having used touch sensor film T5 instead of touch sensor film T1.

(比較例3)
<光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプルの作製>
比較例1の光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプル作製中の支持体S1剥離面に対して、さらに、比較例2の光学異方性ハードコート転写フィルムの粘着層D1を貼合した後、支持体S1を剥離する以外は、比較例1と同様の方法で、比較例3のハードコート転写フィルム評価用サンプルを作製した。比較例3は、ハードコート層H1と光学異方層H1との間に粘着層D1を有する態様である。
(Comparative Example 3)
<Preparation of optical anisotropic hard coat transfer film evaluation sample>
After further bonding the adhesive layer D1 of the optically anisotropic hard coat transfer film of Comparative Example 2 to the support S1 peeling surface during the production of the sample for evaluation of the optically anisotropic hard coat transfer film of Comparative Example 1 A sample for evaluating a hard coat transfer film of Comparative Example 3 was prepared in the same manner as in Comparative Example 1, except that the support S1 was peeled off. The comparative example 3 is an aspect which has the adhesion layer D1 between the hard-coat layer H1 and the optically anisotropic layer H1.

<比較例3のタッチパネルの作製>
比較例1の光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプル作製中の支持体S1剥離面に対して、さらに、比較例2の光学異方性ハードコート転写フィルムの粘着層D1を貼合した後、支持体S1を剥離する以外は、比較例1と同様の方法で、比較例3のタッチパネルを作製した。
<Production of Touch Panel of Comparative Example 3>
After further bonding the adhesive layer D1 of the optically anisotropic hard coat transfer film of Comparative Example 2 to the support S1 peeling surface during the production of the sample for evaluation of the optically anisotropic hard coat transfer film of Comparative Example 1 A touch panel of Comparative Example 3 was produced in the same manner as Comparative Example 1 except that the support S1 was peeled off.

(比較例4)
<光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプルの作製>
比較例2の光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプル作製中の支持体S1剥離面に対して、さらに、比較例1の光学異方性ハードコート転写フィルムの粘着層D1を貼合した後、支持体S1を剥離する以外は、比較例2と同様の方法で、比較例4のハードコート転写フィルム評価用サンプルを作製した。比較例4は、ハードコート層H1と光学異方層H1との間に粘着層D1を有する態様である。
(Comparative Example 4)
<Preparation of optical anisotropic hard coat transfer film evaluation sample>
After further bonding the adhesive layer D1 of the optically anisotropic hard coat transfer film of Comparative Example 1 to the support S1 peeling surface during the production of the sample for evaluation of the optically anisotropic hard coat transfer film of Comparative Example 2 A sample for evaluating a hard coat transfer film of Comparative Example 4 was produced in the same manner as in Comparative Example 2, except that the support S1 was peeled off. The comparative example 4 is an aspect which has the adhesion layer D1 between the hard-coat layer H1 and the optically anisotropic layer H1.

<タッチパネルの作製>
比較例2の光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプル作製中の支持体S1剥離面に対して、さらに、比較例1の光学異方性ハードコート転写フィルムの粘着層D1を貼合した後、支持体S1を剥離する以外は、比較例2と同様の方法で、比較例4のタッチパネルを作製した。
<Production of touch panel>
After further bonding the adhesive layer D1 of the optically anisotropic hard coat transfer film of Comparative Example 1 to the support S1 peeling surface during the production of the sample for evaluation of the optically anisotropic hard coat transfer film of Comparative Example 2 A touch panel of Comparative Example 4 was produced in the same manner as Comparative Example 2 except that the support S1 was peeled off.

(比較例5)
<タッチパネルの作製>
タッチセンサーフィルムT1の代わりに、タッチセンサーフィルムT6を用いた以外は、実施例1と同様の方法で、比較例5のタッチパネルを作製した。
(Comparative Example 5)
<Production of touch panel>
A touch panel of Comparative Example 5 was produced in the same manner as in Example 1 except that the touch sensor film T6 was used instead of the touch sensor film T1.

<表示装置の作製>
IPS型液晶テレビ42LS5600(LG電子社製)の上偏光板上に、実施例1〜23および比較例1〜5のタッチパネルをガラス基板が上側になるよう配置して、擬似的なタッチパネルを有する実施例1の表示装置を作製した。尚、タッチパネルの遅相軸と液晶モニターの観測者側の偏光板の吸収軸とのなす角度が45°となるように配置した。
<Production of display device>
The implementation which has a pseudo touch panel by arranging the touch panels of Examples 1 to 23 and Comparative Examples 1 to 5 on the upper polarizing plate of the IPS liquid crystal television 42LS5600 (manufactured by LG Electronics Co., Ltd.). The display device of Example 1 was produced. The angle between the slow axis of the touch panel and the absorption axis of the polarizing plate on the observer side of the liquid crystal monitor was set to 45 °.

<評価>
実施例1〜19および比較例1〜4の光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプルのReの測定、厚みの測定、硬度の評価、および光学異方層の割れの評価を以下のように評価した。また、実施例1〜23および比較例1〜5の表示装置の虹ムラ、ブラックアウト、ムラ、およびボケを以下のように評価した。
<Evaluation>
The measurement of Re, the measurement of the thickness, the evaluation of the hardness, and the evaluation of the crack of the optical anisotropic layer of the samples for evaluating the optically anisotropic hard coat transfer films of Examples 1 to 19 and Comparative Examples 1 to 4 are as follows. evaluated. Further, the rainbow unevenness, blackout, unevenness, and blur of the display devices of Examples 1 to 23 and Comparative Examples 1 to 5 were evaluated as follows.

<<Reの測定>>
位相差測定装置KOBRA−WR(王子計測機器社製)を用いて、実施例1〜19および比較例1〜4の光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプルの波長550nmにおける面内リタデーションReを測定した。
<< Measurement of Re >>
Using retardation measuring apparatus KOBRA-WR (manufactured by Oji Scientific Instruments), in-plane retardation Re at a wavelength of 550 nm of the optically anisotropic hard coat transfer film evaluation samples of Examples 1 to 19 and Comparative Examples 1 to 4 It was measured.

<<厚さの評価>>
実施例1〜19および比較例1〜4の光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプルの厚さからガラス基板G1の厚さ550μmを差し引いた厚さdを測定し、さらに以下の基準で評価した。すなわち、厚さdは、光学異方性ハードコート転写フィルムの仮支持体を除いた厚みを意味する。薄手化のニーズに答えるためには、厚さdは40μm未満であることが好ましい。
A:厚さdが40μm未満
B:厚さdが40μm以上
<< Evaluation of thickness >>
A thickness d obtained by subtracting the thickness of 550 μm of the glass substrate G1 from the thickness of the sample for evaluating an optically anisotropic hard coat transfer film of Examples 1 to 19 and Comparative Examples 1 to 4 was measured, and further evaluated according to the following criteria. did. That is, the thickness d means the thickness excluding the temporary support of the optically anisotropic hard coat transfer film. In order to meet the need for thinning, the thickness d is preferably less than 40 μm.
A: Thickness d is less than 40 μm B: Thickness d is 40 μm or more

<<硬度の評価>>
JIS K5600−5−4に基づき、往復磨耗試験機トライボギアTYPE:30S(新東科学社製)を用いて、実施例1〜19および比較例1〜4の光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプル表面の鉛筆硬度を測定し、さらに以下の基準で評価した。タッチパネル用途として求められる鉛筆硬度は、「H」以上であることが好ましく、「2H」以上であることがより好ましい。
A:鉛筆硬度が2H以上
B:鉛筆硬度がH
C:鉛筆硬度がH未満
<< Evaluation of hardness >>
Based on JIS K5600-5-4, for evaluation of optically anisotropic hard coat transfer films of Examples 1 to 19 and Comparative Examples 1 to 4 using a reciprocating abrasion tester, Tribogear TYPE: 30S (manufactured by Shinto Kagaku Co.). The pencil hardness of the sample surface was measured and further evaluated according to the following criteria. The pencil hardness required for the touch panel application is preferably “H” or more, and more preferably “2H” or more.
A: Pencil hardness is 2H or more B: Pencil hardness is H
C: Pencil hardness is less than H

<<光学異方層の割れの評価>>
実施例1〜19および比較例1〜4の光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプルの硬度の評価を実施した後、目視もしくは顕微鏡観察して、光学異方層のヒビ割れを以下の基準で評価した。
A:光学異方層のヒビ割れが全く確認できない。
B:光学異方層のヒビ割れが目視では確認できないが、顕微鏡観察すると確認できる。
C:光学異方層のヒビ割れが確認できる。
<< Evaluation of cracks in optically anisotropic layer >>
After evaluating the hardness of the samples for optically anisotropic hard coat transfer film evaluation of Examples 1 to 19 and Comparative Examples 1 to 4, the cracks of the optical anisotropic layer were observed visually or microscopically, and the following criteria were used. It was evaluated with.
A: No cracks in the optical anisotropic layer can be confirmed.
B: Cracks in the optically anisotropic layer cannot be visually confirmed, but can be confirmed by microscopic observation.
C: The crack of an optical anisotropic layer can be confirmed.

<<虹ムラの評価>>
実施例1〜23および比較例1〜5の表示装置上に、偏光サングラスを模擬した直線偏光板HLC2−5618(サンリッツ社製)(上偏光板)を設置し、目視観察による虹ムラの評価を行った。ここで、上記直線偏光板の透過軸が、表示装置中の上偏光板の透過軸のなす角が45°になるように直線偏光板を配置した。
虹ムラの具体的な観察方法は、図11に示すように、タッチパネル平面と観察者の視線とのなす角を極角θ1、液晶ディスプレイの上偏光板の吸収軸に対して直交した線と観察者の視線とのなす角を方位角θ2に対し、(θ1、θ2)=(40°、0°)の位置で観察者が虹ムラを観察し、以下の基準で評価した。
A:虹ムラも、画像ムラも確認できない。
B:虹ムラは確認できないが、画像ムラが確認できる。
C:薄い虹ムラが確認できる。
D:強い虹ムラが確認できる。
<< Evaluation of rainbow unevenness >>
On the display devices of Examples 1 to 23 and Comparative Examples 1 to 5, a linear polarizing plate HLC2-5618 (manufactured by Sanritz) (upper polarizing plate) simulating polarized sunglasses was installed, and the rainbow unevenness was evaluated by visual observation. went. Here, the linear polarizing plate was arranged so that the transmission axis of the linear polarizing plate was 45 ° with the transmission axis of the upper polarizing plate in the display device.
As shown in FIG. 11, the specific method for observing rainbow unevenness is to observe the angle between the touch panel plane and the observer's line of sight as the polar angle θ1 and the line orthogonal to the absorption axis of the upper polarizing plate of the liquid crystal display. The observer observed the rainbow unevenness at a position of (θ1, θ2) = (40 °, 0 °) with respect to the azimuth angle θ2 with respect to the azimuth angle θ2, and evaluated based on the following criteria.
A: Neither rainbow unevenness nor image unevenness can be confirmed.
B: Rainbow unevenness cannot be confirmed, but image unevenness can be confirmed.
C: A thin rainbow unevenness can be confirmed.
D: Strong rainbow unevenness can be confirmed.

<<ブラックアウトの評価>>
実施例1〜23および比較例1〜5の表示装置上に、偏光サングラスを模擬した直線偏光板HLC2 −5618(サンリッツ社製)(上偏光板)を設置し、目視観察によるBOの評価を行った。BOの具体的な観察方法は、図8の極角θ1、方位角θ2に対し、(θ1、θ2)=(40°、0°)の位置で観察者の視点を固定しながら、上記直線偏光板HLC2 −5618の方位角を360°回転させた際の、コントラスト変化を以下の基準で観察した。
A:常に画像は見える上、コントラスト変化もほとんどない。
B:常に画像は見えるが、コントラスト変化は大きい。
C:ある角度で、画像が暗くなるが、ブラックアウトはしない。
D:ある角度で、画像が真っ黒で見えなくなり、ブラックアウトしてしまう。
<< Blackout Evaluation >>
On the display devices of Examples 1 to 23 and Comparative Examples 1 to 5, a linear polarizing plate HLC2-5618 (manufactured by Sanritz) (upper polarizing plate) simulating polarized sunglasses was installed, and BO was evaluated by visual observation. It was. A specific method for observing BO is the above-described linear polarization while fixing the observer's viewpoint at a position of (θ1, θ2) = (40 °, 0 °) with respect to the polar angle θ1 and the azimuth angle θ2 in FIG. The contrast change when the azimuth angle of the plate HLC2-5618 was rotated 360 ° was observed according to the following criteria.
A: The image is always visible and there is almost no change in contrast.
B: Although the image can always be seen, the contrast change is large.
C: The image becomes dark at an angle, but no blackout occurs.
D: At a certain angle, the image becomes black and cannot be seen and is blacked out.

<<ボケの評価>>
実施例1〜23および比較例1〜5の表示装置を目視観察して、画像ボケを以下の基準で観察した。
A:画像ボケがほとんどなく、表示装置として問題ないレベル。
B:画像ボケが少しあるが、表示装置として問題ないレベル。
C:画像ボケが大きく、表示装置として問題あるレベル。
<< Bokeh evaluation >>
The display devices of Examples 1 to 23 and Comparative Examples 1 to 5 were visually observed, and image blur was observed according to the following criteria.
A: There is almost no image blur and there is no problem as a display device.
B: Although there is a little image blur, there is no problem as a display device.
C: Image blur is large and there is a problem level as a display device.

Figure 2015184410
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Figure 2015184410
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上記表から、本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムは、硬度が高いことから耐傷性に優れ、光学異方層が割れにくいことがわかる。また、本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムの貼合回数は、比較例3、4に比べて1回少なく、かつ、タッチパネルディスプレイの厚さを薄くするというニーズに応えることが可能である。さらに、比較例3、4は、光学異方層の割れが生じ易いという問題もある。一方、比較例1では、ハードコート層を有さないため、硬度が実施例よりも著しく劣ることが分かる。
また、本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムを用いて作製した表示装置は、虹ムラ、ブラックアウト、ムラおよびボケが改善されていることが分かる。一方、比較例2は光学異方層を有さないため、ブラックアウトが実施例よりも著しく劣ることが分かる。比較例5は、タッチセンサーフィルムT5のRe40が1150nmであり、Re40が0〜1000nmの範囲外となっているため、虹ムラが実施例よりも著しく劣ることが分かる。
From the above table, it can be seen that the optically anisotropic hard coat transfer film of the present invention is excellent in scratch resistance because of its high hardness, and the optically anisotropic layer is hardly cracked. In addition, the number of times of bonding of the optically anisotropic hard coat transfer film of the present invention is one less than that of Comparative Examples 3 and 4, and it is possible to meet the need to reduce the thickness of the touch panel display. . Furthermore, Comparative Examples 3 and 4 also have a problem that the optical anisotropic layer is easily cracked. On the other hand, since Comparative Example 1 does not have a hard coat layer, it can be seen that the hardness is significantly inferior to that of the example.
In addition, it can be seen that the display device manufactured using the optically anisotropic hard coat transfer film of the present invention has improved rainbow unevenness, blackout, unevenness and blur. On the other hand, since the comparative example 2 does not have an optically anisotropic layer, it turns out that blackout is remarkably inferior to an Example. In Comparative Example 5, since Re40 of the touch sensor film T5 is 1150 nm and Re40 is outside the range of 0 to 1000 nm, it can be seen that the rainbow unevenness is significantly inferior to the example.

1 タッチパネル
2 画像表示パネル
3,300,タッチセンサー
4 画像表示セル
5 偏光板
6 有機ELセル
7 1/4波長板
8 円偏向板
9 有機ELパネル
12 支持体
14 第1検出電極
16 第1引き出し配線
18 第2検出電極
20 第2引き出し配線
30 導電性細線
32 格子
42 第2粘着層
50 保護基板
200 光学異方性ハードコート転写フィルム
210 積層体
100 仮支持体
101 ハードコート層
102 光学異方層
103 配向層
104 第1の粘着層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Touch panel 2 Image display panel 3,300, Touch sensor 4 Image display cell 5 Polarizing plate 6 Organic EL cell 7 1/4 wavelength plate 8 Circular deflecting plate 9 Organic EL panel 12 Support body 14 1st detection electrode 16 1st lead-out wiring 18 Second detection electrode 20 Second lead wiring 30 Conductive thin wire 32 Lattice 42 Second adhesive layer 50 Protective substrate 200 Optical anisotropic hard coat transfer film 210 Laminate 100 Temporary support 101 Hard coat layer 102 Optical anisotropic layer 103 Alignment layer 104 First adhesive layer

Claims (17)

仮支持体の一方の表面上に、少なくとも1層のハードコート層と少なくとも1層の光学異方層とを有する、光学異方性ハードコート転写フィルム。 An optically anisotropic hard coat transfer film having at least one hard coat layer and at least one optical anisotropic layer on one surface of a temporary support. 前記光学異方層の波長550nmにおける面内方向のリタデーションReが40〜240nmである、請求項1に記載の光学異方性ハードコート転写フィルム;
但し、前記光学異方層の面内遅相軸方向の屈折率をnx、面内進相軸方向の屈折率をny、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をdとすると、面内方向のリタデーションRe=(nx−ny)×dで表される。
The optically anisotropic hard coat transfer film according to claim 1, wherein retardation Re in the in-plane direction at a wavelength of 550 nm of the optically anisotropic layer is 40 to 240 nm.
However, when the refractive index in the in-plane slow axis direction of the optical anisotropic layer is nx, the refractive index in the in-plane fast axis direction is ny, the refractive index in the thickness direction is nz, and the film thickness is d, the in-plane direction Retardation of Re = (nx−ny) × d.
前記仮支持体、前記ハードコート層および前記光学異方層がこの順に積層している、請求項1または2に記載の光学異方性ハードコート転写フィルム。 The optically anisotropic hard coat transfer film according to claim 1 or 2, wherein the temporary support, the hard coat layer, and the optical anisotropic layer are laminated in this order. 前記仮支持体および前記ハードコート層が互いに隣接して積層している、請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学異方性ハードコート転写フィルム。 The optically anisotropic hard coat transfer film according to claim 1, wherein the temporary support and the hard coat layer are laminated adjacent to each other. 前記仮支持体と前記光学異方層との間に少なくとも1層の配向層を有し、前記配向層と前記光学異方層が互いに隣接して積層している、請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学異方性ハードコート転写フィルム。 5. The apparatus according to claim 1, further comprising at least one alignment layer between the temporary support and the optical anisotropic layer, wherein the alignment layer and the optical anisotropic layer are laminated adjacent to each other. 2. An optically anisotropic hard coat transfer film according to item 1. 前記仮支持体、前記ハードコート層、前記配向層および前記光学異方層がこの順で互いに隣接して積層している、請求項5に記載の光学異方性ハードコート転写フィルム。 The optically anisotropic hard coat transfer film according to claim 5, wherein the temporary support, the hard coat layer, the alignment layer, and the optical anisotropic layer are laminated adjacent to each other in this order. 前記仮支持体側と反対側の最表面に粘着層を有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の光学異方性ハードコート転写フィルム。 The optically anisotropic hard-coat transfer film of any one of Claims 1-6 which has an adhesion layer in the outermost surface on the opposite side to the said temporary support body side. 仮支持体上にハードコート層用塗工液、および光学異方層用塗工液を塗布する工程を含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載の光学異方性ハードコート転写フィルムの製造方法。 The optically anisotropic hard coat transfer film according to any one of claims 1 to 7, comprising a step of applying a hard coat layer coating solution and an optical anisotropic layer coating solution onto a temporary support. Manufacturing method. 少なくとも1層のハードコート層、少なくとも1層の光学異方層、粘着層およびタッチセンサーを有し、前記タッチセンサーの波長550nmにおける40度方向のリタデーションRe40が、0〜1000nmであるタッチパネル;
ただし、リタデーションRe40は、面内の遅相軸を回転軸として面内の法線方向に対して±40度タッチセンサーを傾斜させた時のリタデーションReの平均値を表し、前記光学異方層の面内遅相軸方向の屈折率をnx、面内進相軸方向の屈折率をny、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をdとすると、面内方向のリタデーションRe=(nx−ny)×dで表される。
A touch panel having at least one hard coat layer, at least one optically anisotropic layer, an adhesive layer, and a touch sensor, and a retardation Re40 in a 40-degree direction at a wavelength of 550 nm of the touch sensor is 0 to 1000 nm;
However, the retardation Re40 represents the average value of the retardation Re when the touch sensor is tilted by ± 40 degrees with respect to the normal direction in the plane with the slow axis in the plane as the rotation axis, and the optical anisotropic layer If the refractive index in the in-plane slow axis direction is nx, the refractive index in the in-plane fast axis direction is ny, the refractive index in the thickness direction is nz, and the film thickness is d, the retardation in the in-plane direction Re = (nx−ny ) × d.
前記光学異方層の波長550nmにおける面内方向のリタデーションReが、40〜240nmである、請求項9に記載のタッチパネル;
ただし、前記光学異方層の面内遅相軸方向の屈折率をnx、面内進相軸方向の屈折率をny、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をdとすると、面内方向のリタデーションRe=(nx−ny)×dで表される。
The touch panel according to claim 9, wherein retardation Re in the in-plane direction at a wavelength of 550 nm of the optical anisotropic layer is 40 to 240 nm.
However, when the refractive index in the in-plane slow axis direction of the optical anisotropic layer is nx, the refractive index in the in-plane fast axis direction is ny, the refractive index in the thickness direction is nz, and the film thickness is d, the in-plane direction Retardation of Re = (nx−ny) × d.
前記タッチセンサー、前記光学異方層および前記ハードコート層がこの順に積層している、請求項9または10に記載のタッチパネル。 The touch panel according to claim 9 or 10, wherein the touch sensor, the optically anisotropic layer, and the hard coat layer are laminated in this order. 前記ハードコート層が最表面層である、請求項9〜11のいずれか1項に記載のタッチパネル。 The touch panel according to claim 9, wherein the hard coat layer is an outermost surface layer. 前記光学異方層の前記タッチセンサー側と反対側に少なくとも1つの配向層を有し、前記配向層と前記光学異方層が互いに隣接して積層している、請求項9〜12のいずれか1項に記載のタッチパネル。 The optical anisotropic layer has at least one alignment layer on a side opposite to the touch sensor side, and the alignment layer and the optical anisotropic layer are laminated adjacent to each other. The touch panel according to item 1. 前記タッチセンサー、粘着層、前記光学異方層、前記配向層および前記ハードコート層がこの順で互いに隣接して積層している、請求項13に記載のタッチパネル。 The touch panel according to claim 13, wherein the touch sensor, the adhesive layer, the optically anisotropic layer, the alignment layer, and the hard coat layer are laminated adjacent to each other in this order. 前記タッチパネル上に、請求項1〜7のいずれか1項に記載の光学異方性ハードコート転写フィルムを転写することによって製造される、請求項9〜14のいずれか1項に記載のタッチパネル。 The touch panel according to any one of claims 9 to 14, which is produced by transferring the optically anisotropic hard coat transfer film according to any one of claims 1 to 7 onto the touch panel. 請求項1〜6のいずれか1項に記載の光学異方性ハードコート転写フィルムの仮支持体側と反対側の最表面に粘着層を形成する工程と、前記粘着層を介して前記ハードコート転写フィルムをタッチセンサーに転写する工程と、仮支持体を剥離する工程とを含む、タッチパネルの製造方法。 A step of forming an adhesive layer on the outermost surface opposite to the temporary support side of the optically anisotropic hard coat transfer film according to any one of claims 1 to 6, and the hard coat transfer via the adhesive layer. A method for manufacturing a touch panel, comprising: a step of transferring a film to a touch sensor; and a step of peeling a temporary support. 請求項7に記載の光学異方性ハードコート転写フィルムをタッチセンサーに転写する工程と、仮支持体を剥離する工程とを含む、タッチパネルの製造方法。 A method for manufacturing a touch panel, comprising: a step of transferring the optically anisotropic hard coat transfer film according to claim 7 to a touch sensor; and a step of peeling the temporary support.
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