JP2015167226A - organic thin film solar cell module - Google Patents

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淳 八木澤
Atsushi Yagisawa
淳 八木澤
寛 竹下
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寛 竹下
崇志 藤原
Takashi Fujiwara
崇志 藤原
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic thin film solar cell module, having high mechanical strength against an external load, excellent in exterior appearance, having high durability.SOLUTION: The organic thin film solar cell module includes: a support body 3; an organic thin film solar cell element 4; an adhesive layer 5; and an encapsulation base material 6 in this order. The organic thin film solar cell element 4 has a pair of transparent electrodes. The adhesive layer 5 contains a polyolefin resin.

Description

本発明は、有機薄膜太陽電池モジュールに関する。   The present invention relates to an organic thin film solar cell module.

近年、太陽光エネルギーを利用した太陽電池の開発が盛んに行われており、なかでも、シリコン太陽電池に続く次世代型太陽電池の一種として、有機薄膜太陽電池の開発が盛んに行われている。有機薄膜太陽電池の一態様としては、シースルー型の太陽電池が検討されている。シースルー型の有機太陽電池は、高い光透過性が求められるために、太陽電池を構成する部材を工夫する必要があり、特に有機太陽電池の電極の光透過性を検討する必要がある。例えば、特許文献1、非特許文献1、及び非特許文献2には、光透過性を確保するためにグリッド電極又はメッシュ電極を用いた有機太陽電池が記載されている。   In recent years, solar cells using solar energy have been actively developed, and in particular, organic thin-film solar cells have been actively developed as a type of next-generation solar cell following silicon solar cells. . As one aspect of the organic thin film solar cell, a see-through solar cell has been studied. Since the see-through type organic solar cell is required to have high light transmittance, it is necessary to devise a member constituting the solar cell, and in particular, it is necessary to examine the light transmittance of the electrode of the organic solar cell. For example, Patent Document 1, Non-Patent Document 1, and Non-Patent Document 2 describe organic solar cells that use grid electrodes or mesh electrodes to ensure light transmission.

特開2011−205149号公報JP 2011-205149 A

Solar Energy Material & Solar Cells 114,214(2013)Solar Energy Material & Solar Cells 114, 214 (2013) ACS Nano vol.6 7185−7190(2012)ACS Nano vol. 6 7185-7190 (2012)

シースルー型の有機太陽電池の実現化のためには、光透過性のみならず、耐久性を向上させることは重要な課題である。特に、有機太陽電池を構成する活性層等は有機半導体化合物により形成されるために水等の外的要因により影響を受けやすく、活性層等に水分が浸入してしまうと太陽電池の変換効率が大幅に低下してしまう傾向がある。しかしながら、本発明者等の検討によると、特許文献1、非特許文献1及び非特許文献2に記載されるようなグリッド電極又はメッシュ電極を用いた場合には、耐久性の高い有機太陽電池を製造することが困難であることが判明した。この理由としては、グリッド電極及びメッシュ電極はいずれも電極自体に開口を有する構成であるために、太陽電池を構成する素子が封止されていても依然として活性層への水分の浸入が起きやすいためであると考えられる。また、グリッド電極又はメッシュ電極を用いると開口部以外は光を通さないために透光性が不十分であり、さらには外観を損ねてしまうという問題もある。そこで、本発明者等は耐久性の向上、光透過率の向上及び外観性向上のために、グリッド電極又はメッシュ電極の代わりに、金属酸化物含有層又は薄い金属層を用いた透明電極を使用することを検討した。しかしながら、本発明者等の検討によると、金属酸化物含有層は柔軟性が低く、また薄い金属層は機械的強度が低いために、有機太陽電池として使用する際や有機太陽電池の製造工程において、外的負荷が掛かかると、透明電極にクラックが生じて外観性を損ねるのみならず、変換効率が低下してしまう可能性があることが判明した。   In order to realize a see-through type organic solar cell, it is an important issue to improve not only light transmittance but also durability. In particular, since the active layer and the like constituting the organic solar cell is formed of an organic semiconductor compound, it is easily affected by external factors such as water, and if the water enters the active layer or the like, the conversion efficiency of the solar cell is increased. There is a tendency to drop significantly. However, according to the study by the present inventors, when a grid electrode or a mesh electrode as described in Patent Document 1, Non-Patent Document 1 and Non-Patent Document 2 is used, a highly durable organic solar cell is used. It has proven difficult to manufacture. The reason for this is that since both the grid electrode and the mesh electrode have an opening in the electrode itself, moisture can still enter the active layer even if the elements constituting the solar cell are sealed. It is thought that. Moreover, when a grid electrode or a mesh electrode is used, light is not transmitted through the portions other than the openings, and therefore, there is a problem in that the translucency is insufficient and the appearance is impaired. Therefore, the present inventors use a transparent electrode using a metal oxide-containing layer or a thin metal layer instead of the grid electrode or mesh electrode in order to improve durability, light transmittance and appearance. Considered to do. However, according to the study by the present inventors, the metal oxide-containing layer has low flexibility, and the thin metal layer has low mechanical strength. Therefore, when used as an organic solar cell or in the manufacturing process of an organic solar cell. It has been found that when an external load is applied, cracks are generated in the transparent electrode to deteriorate the appearance, and the conversion efficiency may be lowered.

本発明は、上記問題を解決するものであり、外的負荷に対する機械的強度が高く、外観性に優れた高い耐久性を有する有機薄膜太陽電池モジュールを提供することを目的とする。   This invention solves the said problem, and it aims at providing the organic thin film solar cell module which has the high mechanical strength with respect to an external load, and has the high durability which was excellent in the external appearance property.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、特定の樹脂を含有する接
着層を用いることで上記課題を解決し、本発明を達成するに至った。すなわち、本発明は以下を要旨とする。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have solved the above problems by using an adhesive layer containing a specific resin, and have achieved the present invention. That is, the gist of the present invention is as follows.

[1] 支持体と、有機薄膜太陽電池素子と、接着層と、封止基材と、をこの順に有する有機薄膜太陽電池モジュールであって、前記有機薄膜太陽電池素子は一対の透明電極を有し、前記接着層はポリオレフィン系樹脂を含有することを特徴とする有機薄膜太陽電池モジュール。
[2] 第1の封止基材と、第1の接着層と、支持体と、有機薄膜太陽電池素子と、第2の接着層と、第2の封止基材と、をこの順に有する有機薄膜太陽電池モジュールであって、前記有機薄膜太陽電池素子は一対の透明電極を有し、前記第1の接着層と前記第2の接着層とがポリオレフィン系樹脂を含有することを特徴とする有機薄膜太陽電池モジュール。
[3] 前記有機薄膜太陽電池素子が、前記第1の接着層の端部と前記第2の接着層の端部とが貼り合わされて、前記第1の接着層及び前記第2の接着層により包覆されていることを特徴とする[2]に記載の有機薄膜太陽電池モジュール。
[4] 前記第1の封止基材及び前記第2の封止基材がガラス基材であることを特徴とする[2]又は[3]に記載の有機薄膜太陽電池モジュール。
[5] 前記第1の接着層及び前記第2の接着層の膜厚50μmあたりの水蒸気透過率が20g/m2/day以下であることを特徴とする[2]〜[4]のいずれかに記載の有
機薄膜太陽電池モジュール。
[1] An organic thin film solar cell module having a support, an organic thin film solar cell element, an adhesive layer, and a sealing substrate in this order, wherein the organic thin film solar cell element has a pair of transparent electrodes. And the said adhesion layer contains polyolefin resin, The organic thin-film solar cell module characterized by the above-mentioned.
[2] It has a first sealing substrate, a first adhesive layer, a support, an organic thin film solar cell element, a second adhesive layer, and a second sealing substrate in this order. In the organic thin film solar cell module, the organic thin film solar cell element has a pair of transparent electrodes, and the first adhesive layer and the second adhesive layer contain a polyolefin resin. Organic thin-film solar cell module.
[3] In the organic thin-film solar cell element, an end portion of the first adhesive layer and an end portion of the second adhesive layer are bonded together, and the first adhesive layer and the second adhesive layer The organic thin-film solar cell module according to [2], which is covered.
[4] The organic thin film solar cell module according to [2] or [3], wherein the first sealing substrate and the second sealing substrate are glass substrates.
[5] Any one of [2] to [4], wherein a water vapor transmission rate per 50 μm thickness of the first adhesive layer and the second adhesive layer is 20 g / m 2 / day or less. The organic thin film solar cell module according to 1.

本発明により、外的負荷に対する機械的強度が高く、外観性に優れた高い耐久性を有する有機薄膜太陽電池モジュールを提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an organic thin-film solar cell module having high durability with high mechanical strength against an external load and excellent appearance.

本発明の一実施形態としての有機薄膜太陽電池素子の層構成を表す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram showing the layer structure of the organic thin-film solar cell element as one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態としての有機薄膜太陽電池モジュールの構成を表す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram showing the structure of the organic thin film solar cell module as one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態としての有機薄膜太陽電池モジュールの構成を表す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram showing the structure of the organic thin film solar cell module as one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態としての有機薄膜太陽電池素子の層構成を表す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram showing the layer structure of the organic thin-film solar cell element as one Embodiment of this invention.

以下に、本発明の実施の形態を詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施形態の一例(代表例)であり、本発明はその要旨を超えない限り、これらの内容に特定はされない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. The description of the constituent requirements described below is an example (representative example) of an embodiment of the present invention, and the present invention is not specified in these contents unless it exceeds the gist.

<1.有機薄膜太陽電池モジュール>
本発明の一実施形態に係る有機薄膜太陽電池モジュールは、図4に示すように、少なくとも、支持体3と、有機薄膜太陽電池素子4と、接着層5と、封止基材6と、をこの順に有する。なお、本発明に係る有機薄膜太陽電池モジュールは図4の構造に限定されず、図4の構成に加えて別の層を有していてもよい。例えば、本発明に係る有機薄膜太陽電池モジュールは、支持基材側にも接着層及び封止基材を有していてもよい。すなわち、本発明に係る有機薄膜太陽電池モジュールは、図2に示すように、少なくとも、第1の封止基材1と、第1の接着層2と、支持体3と、有機薄膜太陽電池素子4と、第2の接着層5と、第2の封止基材6と、を有していてもよい。なお、図2に示すように有機薄膜太陽電池が2つの封止基材を有する場合、便宜上、それぞれの封止基材を第1の封止基材、第2の封
止基材と称す。同様に、有機薄膜太陽電池モジュールが2つの接着層を有する場合、便宜上、それぞれの接着層を第1の接着層、第2の接着層と称す。
<1. Organic thin film solar cell module>
As shown in FIG. 4, the organic thin film solar cell module according to one embodiment of the present invention includes at least a support 3, an organic thin film solar cell element 4, an adhesive layer 5, and a sealing substrate 6. In this order. The organic thin-film solar cell module according to the present invention is not limited to the structure shown in FIG. 4 and may have another layer in addition to the configuration shown in FIG. For example, the organic thin film solar cell module according to the present invention may have an adhesive layer and a sealing substrate also on the support substrate side. That is, as shown in FIG. 2, the organic thin film solar cell module according to the present invention includes at least a first sealing substrate 1, a first adhesive layer 2, a support 3, and an organic thin film solar cell element. 4, the second adhesive layer 5, and the second sealing substrate 6 may be included. In addition, as shown in FIG. 2, when an organic thin-film solar cell has two sealing base materials, each sealing base material is called a 1st sealing base material and a 2nd sealing base material for convenience. Similarly, when the organic thin-film solar cell module has two adhesive layers, the respective adhesive layers are referred to as a first adhesive layer and a second adhesive layer for convenience.

以下、図2に示す有機薄膜太陽電池モジュールを構成する各構成部材について詳細に説明する。なお、本発明に係る有機薄膜太陽電池モジュールは、外観性に優れ、また窓等の建材に適用できるシースルー型の有機太陽電池であることが好ましい。シースルー型の有機太陽電池とは、第1の封止基材から入射し、第2の封止基材を透過する光の、JIS R3106で定義される可視光透過率の平均値が10%以上の有機太陽電池のことを意味する。   Hereafter, each structural member which comprises the organic thin film solar cell module shown in FIG. 2 is demonstrated in detail. The organic thin-film solar cell module according to the present invention is preferably a see-through type organic solar cell that has excellent appearance and can be applied to building materials such as windows. The see-through type organic solar cell is an average value of 10% or more of the visible light transmittance defined by JIS R3106 of light incident from the first sealing substrate and transmitted through the second sealing substrate. Means organic solar cells.

<1−1.封止基材(第1の封止基材1、第2の封止基材6)>
第1の封止基材1及び第2の封止基材6は、水および酸素の透過を防止する層である。後述する有機薄膜太陽電池素子4を、第1の封止基材1及び第2の封止基材6により被覆することにより、有機薄膜太陽電池素子4を外部からの水分及び酸素から保護し、有機薄膜太陽電池素子4の機能が劣化するのを防ぐことができる。
<1-1. Sealing substrate (first sealing substrate 1, second sealing substrate 6)>
The first sealing substrate 1 and the second sealing substrate 6 are layers that prevent permeation of water and oxygen. By covering the organic thin film solar cell element 4 described later with the first sealing substrate 1 and the second sealing substrate 6, the organic thin film solar cell element 4 is protected from moisture and oxygen from the outside, It can prevent that the function of the organic thin-film solar cell element 4 deteriorates.

第1の封止基材1及び第2の封止基材6に要求される防湿能力は、有機薄膜太陽電池素子に応じて様々であるが、単位面積(1m2)の1日あたりの水蒸気透過率が、通常1×
10-1g/m2/day以下であることが好ましく、下限に制限はない。また、第1の封
止基材1及び第2の封止基材6に要求される酸素透過性の程度は、有機薄膜太陽電池素子に応じて様々であるが、単位面積(1m2)の1日あたりの酸素透過率が、通常1×10-1cc/m2/day/atm以下であることが好ましく、下限に制限はない。
Proof capability required in the first sealing substrate 1 and the second sealing substrate 6, but vary depending on the organic thin-film solar cell element, per day of the unit area (1 m 2) steam Transmittance is usually 1x
It is preferably 10 −1 g / m 2 / day or less, and the lower limit is not limited. Further, the degree of oxygen permeability required for the first sealing substrate 1 and the second sealing substrate 6 varies depending on the organic thin film solar cell element, but the unit area (1 m 2 ). It is preferable that the oxygen permeability per day is usually 1 × 10 −1 cc / m 2 / day / atm or less, and the lower limit is not limited.

第1の封止基材1及び第2の封止基材6は、シースルー型の有機薄膜太陽電池モジュールを作製するために必要な透光性を有する。本発明において、透光性を有するとは、可視光波長領域(360nm〜830nm)における平均光透過率が40%以上であることを意味する。なお、太陽電池モジュールの変換効率を向上させるためには、第1の封止基材1、及び第2の封止基材の該平均光透過率は70%以上であることが好ましい。該平均光透過率は、JIS R3106に記載の方法などにより、通常の分光光度計により測定することができる。   The 1st sealing base material 1 and the 2nd sealing base material 6 have translucency required in order to produce a see-through type organic thin film solar cell module. In the present invention, having translucency means that the average light transmittance in a visible light wavelength region (360 nm to 830 nm) is 40% or more. In order to improve the conversion efficiency of the solar cell module, the average light transmittance of the first sealing substrate 1 and the second sealing substrate is preferably 70% or more. The average light transmittance can be measured with an ordinary spectrophotometer by the method described in JIS R3106.

有機薄膜太陽電モジュールは、光を受けて熱せられることが多いために、第1の封止基材1及び第2の封止基材6は、耐熱性を有することが好ましい。この観点から、第1の封止基材1及び第2の封止基材6の融点は、通常100℃以上、350℃以下である。ただし、第1の封止基材1又は第2の封止基材6がガラスなどの無機物から構成される場合には、この限りではない。   Since the organic thin-film solar power module is often heated by receiving light, it is preferable that the first sealing substrate 1 and the second sealing substrate 6 have heat resistance. From this viewpoint, the melting points of the first sealing substrate 1 and the second sealing substrate 6 are usually 100 ° C. or higher and 350 ° C. or lower. However, this is not the case when the first sealing substrate 1 or the second sealing substrate 6 is made of an inorganic material such as glass.

第1の封止基材1及び第2の封止基材6の具体的な構成は、有機薄膜太陽電池素子を水分や酸素から保護できる限り任意である。ただし、第1の封止基材1及び第2の封止基材6を透過しうる水蒸気や酸素の量を少なくできるものほど、製造コストが高くなる傾向があるため、これらの点を総合的に勘案して適切なものを使用することが好ましい。   The specific structure of the 1st sealing base material 1 and the 2nd sealing base material 6 is arbitrary as long as an organic thin film solar cell element can be protected from a water | moisture content or oxygen. However, the manufacturing cost tends to increase as the amount of water vapor or oxygen that can permeate the first sealing substrate 1 and the second sealing substrate 6 tends to increase. It is preferable to use an appropriate one in consideration of the above.

なかでも、第1の封止基材1及び第2の封止基材6として、例えば、ガラス基材、樹脂層と金属酸化物層との積層、又は樹脂層と金属層との積層が挙げられる。また、樹脂層、金属酸化物層、金属層との積層であってもよい。   Especially, as the 1st sealing substrate 1 and the 2nd sealing substrate 6, the lamination of a glass substrate, a resin layer, and a metal oxide layer, or lamination of a resin layer and a metal layer is mentioned, for example. It is done. Further, it may be a laminate of a resin layer, a metal oxide layer, and a metal layer.

ガラス基材としては、例えば、コーニング社製1737、旭硝子社製レオフレックス、アヴァンストレート社製NA32SGを用いることができる。ガラス基材の厚さに特段の制限はないが、加工時、施工時のハンドリング性および設置時の機械強度確保のために通常0.3mm以上であり、0.4mm以上であることが好ましく、0.5mm以上である
ことが特に好ましい。一方、フィルム基材上にも形成できる有機太陽電池の軽量性を生かすために、ガラス基材の厚さは、通常2mm以下であり、1.5mm以下であることが好ましく、1mm以下であることが特に好ましい。
As the glass substrate, for example, Corning Corporation 1737, Asahi Glass Co., Ltd. Leofrex, Avant Straight Corporation NA32SG can be used. Although there is no particular limitation on the thickness of the glass substrate, it is usually 0.3 mm or more, preferably 0.4 mm or more, in order to ensure handling at the time of processing, construction and mechanical strength at the time of installation, It is especially preferable that it is 0.5 mm or more. On the other hand, the thickness of the glass substrate is usually 2 mm or less, preferably 1.5 mm or less, and preferably 1 mm or less in order to take advantage of the light weight of the organic solar cell that can be formed on the film substrate. Is particularly preferred.

樹脂層の樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)或いはポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル、ナイロン6等のポリアミドが挙げられ、価格状の理由でPET、耐熱性を考慮するとPENが好ましい。樹脂層の厚さは通常1μm以上、好ましくは2μm以上、より好ましくは5μm以上であり、通常200μm以下、好ましくは50μm以下、より好ましくは30μm以下である。上記上限以下であることによりフィルムの柔軟性の点で好ましい。上記下限以上であることによりフィルム強度の確保の点で好ましい。   Examples of the resin for the resin layer include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate (PEN), and polyamides such as nylon 6. PEN is preferable in consideration of PET and heat resistance because of price. The thickness of the resin layer is usually 1 μm or more, preferably 2 μm or more, more preferably 5 μm or more, and usually 200 μm or less, preferably 50 μm or less, more preferably 30 μm or less. It is preferable from the point of the softness | flexibility of a film by being below the said upper limit. It is preferable at the point of ensuring film strength by being more than the said minimum.

金属酸化物層の金属酸化物としては、SiOx、AlOxが挙げられ、高いバリア性を容易に確保するためには、SiOxが好ましい。   Examples of the metal oxide of the metal oxide layer include SiOx and AlOx. In order to easily ensure high barrier properties, SiOx is preferable.

金属酸化物層の厚さに特段の制限はないが、欠陥を低減するために、通常5nm以上であり、10nm以上であることが好ましく、20nm以上であることが特に好ましい。一方、低コスト化、及び透光性を確保するために、金属酸化物層の厚さは、通常5μm以下であり、2μm以下であることが好ましく、0.5μm以下であることが特に好ましい。   Although there is no special restriction | limiting in the thickness of a metal oxide layer, in order to reduce a defect, it is 5 nm or more normally, it is preferable that it is 10 nm or more, and it is especially preferable that it is 20 nm or more. On the other hand, in order to reduce cost and ensure translucency, the thickness of the metal oxide layer is usually 5 μm or less, preferably 2 μm or less, and particularly preferably 0.5 μm or less.

金属層の金属としては、金、銀、銅、アルミニウム、ステンレスが挙げられ、コスト上の理由でアルミニウムが好ましい。   Examples of the metal of the metal layer include gold, silver, copper, aluminum, and stainless steel, and aluminum is preferable for cost reasons.

金属層の厚さに特段の制限はないが、バリア性確保および欠陥低減のため、通常は1nm以上であり、2nm以上であることが好ましく、5nm以上であることが特に好ましい。一方、透光性を確保するために、金属層の厚さは、通常100nm以下であり、50nm以下であることが好ましく、20nm以下であることが特に好ましい。   The thickness of the metal layer is not particularly limited, but is usually 1 nm or more, preferably 2 nm or more, and particularly preferably 5 nm or more in order to ensure barrier properties and reduce defects. On the other hand, in order to ensure translucency, the thickness of the metal layer is usually 100 nm or less, preferably 50 nm or less, and particularly preferably 20 nm or less.

なお、第1の封止基材1及び第2の封止基材6は、同じ構成であってもよいし、異なる構成であってもよい。   Note that the first sealing substrate 1 and the second sealing substrate 6 may have the same configuration or different configurations.

上述の中でも、本発明においては、第1の封止基材1及び第2の封止基材6が共にガラス基材であることが特に好ましい。ガラス基材は、金属層又は/及び金属酸化物層と、PEN又はPET等の樹脂との積層体と比較して、水蒸気透過率が極めて小さいために、有機薄膜太陽電池素子4が劣化しにくい傾向がある。さらに、ガラス基材は、PEN、PET等の樹脂層と比較して、後述するポリオレフィン系樹脂を含有する接着層と高い接着性を有するために、第1の封止基材1又は第2の封止基材6がガラス基材であれば、各封止基材に隣接する各接着層との界面から水分や酸素が有機薄膜太陽電池素子4に侵入することを極力防止することができるために、有機薄膜太陽電池素子4の劣化を抑えることができる。さらに、第1の封止基材1及び第2の封止基材6が、共にガラス基材であれば、モジュール全体が対称性をもつ構造になるだけでなく、基材自身が高い剛性を持つためモジュール全体に反りが発生しにくくなり、高い耐久性能を有する有機薄膜太陽電池モジュールを提供できることになる。   Among the above, in the present invention, both the first sealing substrate 1 and the second sealing substrate 6 are particularly preferably glass substrates. Since the glass substrate has a very low water vapor transmission rate as compared with a laminate of a metal layer or / and a metal oxide layer and a resin such as PEN or PET, the organic thin film solar cell element 4 is hardly deteriorated. Tend. Furthermore, since the glass substrate has higher adhesiveness with an adhesive layer containing a polyolefin-based resin, which will be described later, as compared with a resin layer such as PEN or PET, the first sealing substrate 1 or the second sealing substrate 1 If the sealing substrate 6 is a glass substrate, it is possible to prevent moisture and oxygen from entering the organic thin film solar cell element 4 from the interface with each adhesive layer adjacent to each sealing substrate as much as possible. Moreover, deterioration of the organic thin film solar cell element 4 can be suppressed. Further, if the first sealing substrate 1 and the second sealing substrate 6 are both glass substrates, not only the entire module has a symmetrical structure but also the substrate itself has high rigidity. Therefore, the entire module is less likely to warp, and an organic thin film solar cell module having high durability can be provided.

また、有機薄膜太陽電池モジュールを特に屋外、すなわち風雨や日光が直接当たる場所に設置する場合、モジュール最表層は高い耐候性が求められる。一般にPEN又はPETなどの樹脂の耐候性は低いため、その上に耐候性、防水性などを有する特殊な樹脂の保護層が必要となる。モジュール最表層がガラス基材であることは、ガラス自体の耐候性が高いため、このような耐候性が必要となる用途において優位である。
以上の点から、本発明において、第1の封止基材1及び/又は第2の封止基材6がガラ
ス基材であることにより、高い耐久性を有する有機薄膜太陽電池モジュールを提供することが可能となる。
In addition, when the organic thin-film solar cell module is installed outdoors, that is, in a place directly exposed to wind and rain or sunlight, the module outermost layer is required to have high weather resistance. In general, since the weather resistance of a resin such as PEN or PET is low, a protective layer made of a special resin having weather resistance, waterproofness and the like is required on the resin. The module outermost layer being a glass substrate is advantageous in applications that require such weather resistance because the glass itself has high weather resistance.
From the above points, in the present invention, the first sealing substrate 1 and / or the second sealing substrate 6 is a glass substrate, thereby providing an organic thin film solar cell module having high durability. It becomes possible.

第1の封止基材1又は/及び第2の封止基材6は、支持体あるいは建材の一部をなす場合、強化処理を施されたガラスなど、機械的強度が大きいことが好ましい。   When the 1st sealing base material 1 or / and the 2nd sealing base material 6 makes a part of a support body or building materials, it is preferable that mechanical strength is large, such as glass by which the tempering process was performed.

また、第1の封止基材1又は/及び第2の封止基材6は、その外側に飛散防止フィルム、紫外線カットフィルム、遮熱フィルムなどが貼合されていてもよい。   Moreover, the 1st sealing base material 1 or / and the 2nd sealing base material 6 may have the scattering prevention film, the ultraviolet-ray cut film, the heat shielding film, etc. bonded on the outer side.

<1−2.接着層(第1の接着層2、第2の接着層5)>
第1の接着層2は、第1の封止基材1と、有機薄膜太陽電池素子4が配置される支持体3とを貼合するための層である。また、第2の接着層5は、第2の封止基材6と、有機薄膜太陽電池素子4とを貼合させるための層である。なお、第1の接着層2及び第2の接着層5は、それぞれポリオレフィン系樹脂を含有する。
<1-2. Adhesive layer (first adhesive layer 2, second adhesive layer 5)>
The 1st contact bonding layer 2 is a layer for bonding the 1st sealing base material 1 and the support body 3 by which the organic thin-film solar cell element 4 is arrange | positioned. The second adhesive layer 5 is a layer for bonding the second sealing substrate 6 and the organic thin film solar cell element 4 together. The first adhesive layer 2 and the second adhesive layer 5 each contain a polyolefin resin.

本発明におけるポリオレフィン系樹脂としては、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン等のオレフィンの単独重合体又はこれらのオレフィンの2種以上のランダムあるいはブロック共重合体を幹ポリマーとする高分子化合物を指す。また、本発明におけるポリオレフィン系樹脂は、酸無水物、アクリレート、芳香族ビニル単量体、不飽和カルボン酸無水物などをグラフト重合させた変性ポリオレフィンであってもよい。   Examples of the polyolefin resin in the present invention include homopolymers of olefins such as ethylene, propylene, 1-butene, 1-hexene, 4-methyl-1-pentene, or random or block copolymers of two or more of these olefins. Refers to a high molecular compound having a backbone polymer. The polyolefin resin in the present invention may be a modified polyolefin obtained by graft polymerization of an acid anhydride, an acrylate, an aromatic vinyl monomer, an unsaturated carboxylic acid anhydride, or the like.

これらのポリオレフィン系樹脂の具体例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のオレフィンの単独重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−プロピレン共重合体等のエチレン・α−オレフィンの共重合体、又はこれらのグラフト変性体等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性、透明性、柔軟性、耐プロセス安定性等などの観点から、エチレン・α−オレフィンの共重合体およびそのグラフト変性体を含む樹脂組成物が好ましい。   Specific examples of these polyolefin resins include homopolymers of olefins such as polyethylene, polypropylene, and polybutylene, ethylene / α-olefin copolymers such as ethylene-butene copolymers and ethylene-propylene copolymers, or These graft | denatured modified bodies etc. are mentioned. Among these, from the viewpoints of heat resistance, transparency, flexibility, process stability resistance, and the like, a resin composition containing an ethylene / α-olefin copolymer and a graft modified product thereof is preferable.

また、ポリオレフィン系樹脂の分子量に特段の制限はないが、重量平均分子量(Mw)は、7×10以上であることが好ましく、1.5×10以上であることがさらに好ましく、一方、3.0×10以下であることが好ましく、2.5×10以下であることがさらに好ましい。ポリオレフィン系樹脂が上記範囲であれば、適切な、耐熱性及び柔軟性を担保することができる。 The molecular weight of the polyolefin-based resin is not particularly limited, but the weight average molecular weight (Mw) is preferably 7 × 10 4 or more, more preferably 1.5 × 10 5 or more, It is preferably 3.0 × 10 5 or less, and more preferably 2.5 × 10 5 or less. If polyolefin resin is the said range, appropriate heat resistance and a softness | flexibility can be ensured.

第1の接着層2及び第2の接着層5がポリオレフィン系樹脂を含有することで、以下のような効果が期待できる。   The following effects can be expected when the first adhesive layer 2 and the second adhesive layer 5 contain a polyolefin resin.

ポリオレフィン系樹脂を含有する接着層は、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂からなる接着層と比較して、水蒸気透過率が低い。そのため、酸素や水分が第1の封止基材1及び第2の封止基材6を通過してしまっても、第1の接着層2及び第2の接着層5により有機薄膜太陽電池素子4に水分や酸素が侵入するのを防ぐことができ、有機薄膜太陽電池モジュールの耐久性を向上させることができる。   The adhesive layer containing a polyolefin resin has a lower water vapor transmission rate than an adhesive layer made of an ethylene-vinyl acetate copolymer resin. Therefore, even if oxygen or moisture passes through the first sealing substrate 1 and the second sealing substrate 6, the organic thin film solar cell element is formed by the first adhesive layer 2 and the second adhesive layer 5. It is possible to prevent moisture and oxygen from entering 4 and to improve the durability of the organic thin film solar cell module.

また、ポリオレフィン系樹脂は疎水性材料からなるため、親水基を含むエチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、エポキシ樹脂などと比較して、樹脂の含水量が少ない。このため第1の接着層2及び第2の接着層5が有機薄膜太陽電池素子4に持ち込む微量な水分による有機薄膜太陽電池素子4へのダメージを軽減することができる。また、接着層中に、ヘイズ(白濁)が発生することが少ないために外観性が低下するのを防ぐことができる。   Further, since the polyolefin-based resin is made of a hydrophobic material, the water content of the resin is small as compared with ethylene-vinyl acetate copolymer resin, epoxy resin, and the like containing a hydrophilic group. For this reason, the damage to the organic thin film solar cell element 4 by the trace amount water | moisture content which the 1st adhesive layer 2 and the 2nd adhesive layer 5 bring into the organic thin film solar cell element 4 can be reduced. Moreover, since there is little generation | occurrence | production of haze (white turbidity) in a contact bonding layer, it can prevent that an external appearance property falls.

さらに、ポリオレフィン系樹脂を含有する接着層は硬化型のエチレン−酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂などと比較して接着後の弾性率が低く、適度な柔軟性を有する。適度な柔軟性を有することは薄膜の積層体である有機薄膜太陽電池を保護する目的で重要である。一般に有機薄膜太陽電池を構成する各層の機械強度および層間の接着強度は弱く、そのため外部から押し付け、折り曲げなどの刺激により、層内の割れあるいは層間の剥離が発生することが多い。そのため、適度な柔軟性を有する接着層を用いることは、この刺激に対する緩衝層を設けることに相当し、有機太陽電池を機械的な刺激から保護することができる。   Furthermore, the adhesive layer containing a polyolefin resin has a low elasticity modulus after bonding as compared with a curable ethylene-vinyl acetate copolymer, an epoxy resin, and the like, and has an appropriate flexibility. Having appropriate flexibility is important for the purpose of protecting the organic thin-film solar cell which is a laminate of thin films. In general, the mechanical strength of each layer constituting the organic thin-film solar cell and the adhesive strength between the layers are weak, and therefore, cracks in the layers or delaminations often occur due to external pressing or bending. Therefore, the use of an adhesive layer having appropriate flexibility is equivalent to providing a buffer layer against this stimulus, and can protect the organic solar cell from mechanical stimulus.

この柔軟性による保護効果は、透光性を有するシースルー型の有機薄膜太陽電池モジュールにおいて特に重要である。本発明において、シースルー型の有機薄膜太陽電池モジュールは、後述するように有機薄膜太陽電池素子4を構成する電極として、透明電極が使用される。透明電極の構成としては、後述するように、例えば、金属酸化物含有層等の透明導電膜が挙げられる。第2の接着層5は、このような透明電極と接触する形態をとることが多いが、金属酸化物含有層は一般的に柔軟性が低いために、成膜後の残留応力の影響で機械的刺激に極めて弱く、微小な刺激により透明電極にクラック(割れ)が生じてしまい、成膜時以外にも、外的負荷により、同様に透明電極にクラックが生じてしまう。また、透明電極が、透明導電膜と金属層との積層構造を有する場合も、透光性を確保するために可能な限り金属層を薄く形成する必要がある。しかしながら、このように薄い金属層は、金属酸化物層と同様に、機械的刺激や外的負荷によりクラックが生じてしまう。このように、クラックが発生したモジュールは外観を損ねることになり、意匠性が求められるシースルー型の有機薄膜太陽電池モジュールの場合、特に大きな問題となりうる。また、外観が損なわれるだけでなく、太陽電池としての発電特性も低下する。接着層が柔軟性を有する、すなわち弾性率が小さい場合は、外部からの刺激のエネルギーを接着層が吸収することができ、透明電極層に伝搬するエネルギーを低下させることができる。そのため、接着層に弾性率が小さいポリオレフィン系樹脂を用いることで、外的負荷により透明電極が破損するのを防ぐことができるため、有機薄膜太陽電池モジュールの外観が損なわれるのを防ぐことができ、さらには有機薄膜太陽電池素子が破損するのを防ぐことができる。   This protective effect by flexibility is particularly important in a see-through type organic thin film solar cell module having translucency. In the present invention, in the see-through type organic thin film solar cell module, a transparent electrode is used as an electrode constituting the organic thin film solar cell element 4 as described later. As a structure of a transparent electrode, transparent conductive films, such as a metal oxide content layer, are mentioned so that it may mention later. The second adhesive layer 5 is often in contact with such a transparent electrode. However, since the metal oxide-containing layer is generally low in flexibility, it is mechanically affected by the residual stress after film formation. The transparent electrode is very vulnerable to cracks, and cracks are generated in the transparent electrode due to minute stimuli, and cracks are similarly generated in the transparent electrode due to external loads other than during film formation. In addition, even when the transparent electrode has a laminated structure of a transparent conductive film and a metal layer, it is necessary to form the metal layer as thin as possible in order to ensure translucency. However, such a thin metal layer, like the metal oxide layer, is cracked by mechanical stimulation or an external load. As described above, the module in which the crack is generated deteriorates the appearance, and can be a particularly serious problem in the case of a see-through type organic thin-film solar cell module that requires design. Moreover, not only the appearance is impaired, but also the power generation characteristics as a solar cell are deteriorated. When the adhesive layer has flexibility, that is, when the elastic modulus is small, the adhesive layer can absorb the energy of external stimulation, and the energy propagated to the transparent electrode layer can be reduced. Therefore, by using a polyolefin-based resin having a low elastic modulus for the adhesive layer, the transparent electrode can be prevented from being damaged by an external load, and thus the appearance of the organic thin film solar cell module can be prevented from being damaged. Furthermore, the organic thin film solar cell element can be prevented from being damaged.

さらに、本発明で用いるポリオレフィン系樹脂は、接着性を上げるための接着工程後の追加加熱工程(後キュア工程)が不要であることが多いため、高温かつ長時間の加熱による素子効率低下を避け、さらには生産性を向上させることができる。   Furthermore, since the polyolefin resin used in the present invention often does not require an additional heating step (post-curing step) after the bonding step to improve the adhesion, avoid lowering device efficiency due to high temperature and long heating. Moreover, productivity can be improved.

なお、各接着層中におけるポリオレフィン系樹脂の占める割合に特段の制限はないが、接着性、耐熱性、及び透明性をより向上させるために、各接着層中におけるポリオレフィン系樹脂の占める割合は、接着層全量に対して、90質量%以上であることが好ましく、95質量%以上であることがさらに好ましく、98質量%以上であることが特に好ましい。なお、上限については特に限定はない。   In addition, although there is no special restriction | limiting in the ratio for which the polyolefin resin accounts in each contact bonding layer, in order to improve adhesiveness, heat resistance, and transparency more, the ratio for which the polyolefin resin accounts in each contact bonding layer, It is preferably 90% by mass or more, more preferably 95% by mass or more, and particularly preferably 98% by mass or more with respect to the total amount of the adhesive layer. The upper limit is not particularly limited.

第1の接着層2及び第2の接着層5はシースルー型の有機薄膜太陽電池モジュールを作製するために必要な透光性を有することが好ましい。透光性の範囲に特段の制限はないが、太陽電池モジュールの変換効率を向上させるためには、第1の接着層2及び第2の接着層5の該平均光透過率は70%以上であることが好ましい。該平均光透過率は、封止基材1および封止基材6と同様にJIS R3106に記載の方法などにより、通常の分光光度計を用いて測定することができる。   It is preferable that the 1st contact bonding layer 2 and the 2nd contact bonding layer 5 have translucency required in order to produce a see-through type organic thin film solar cell module. Although there is no particular limitation on the range of translucency, in order to improve the conversion efficiency of the solar cell module, the average light transmittance of the first adhesive layer 2 and the second adhesive layer 5 is 70% or more. Preferably there is. The average light transmittance can be measured using a normal spectrophotometer by the method described in JIS R3106 as in the case of the sealing substrate 1 and the sealing substrate 6.

第1の接着層2及び第2の接着層5は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、ポリオレフィン系樹脂以外に、酸化防止剤、金属不活性剤、燐系加工安定剤、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、蛍光増白剤、金属石鹸、制酸吸着剤等の安定剤、または架橋剤、連鎖移動剤、核剤、滑剤、可塑剤、充填材、強化材、顔料、染料、難燃剤、帯電防止剤等の添加剤
を含んでいてもよい。
As long as the first adhesive layer 2 and the second adhesive layer 5 do not impair the effects of the present invention, in addition to the polyolefin resin, an antioxidant, a metal deactivator, a phosphorus processing stabilizer, an ultraviolet absorber, Stabilizers such as UV stabilizers, optical brighteners, metal soaps, antacid adsorbents, or crosslinking agents, chain transfer agents, nucleating agents, lubricants, plasticizers, fillers, reinforcing materials, pigments, dyes, flame retardants, An additive such as an antistatic agent may be contained.

添加剤として用いられる例としては、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(例、アデカ社製 AO−20,BASF社製 Irganox1010)、紫外線吸収剤として、アデカ社製 LA−20、紫外線安定剤として、ヒンダードアミン系酸化防止剤(例 アデカ社製 LA−52)などが挙げられる。金属不活性剤の例としては、BASF社製 Irganox MD1024、難燃剤の例としては、アデカ社製 FP−600などが挙げられる。また、ガラス、フィルムなどとの接着性を上げるための架橋剤としてシランカップリング剤が挙げられる。   Examples of additives used include hindered phenolic antioxidants (eg, Adeka AO-20, BASF Irganox 1010), UV absorbers Adeka LA-20, UV stabilizers, hindered amines. System antioxidants (for example, LA-52 manufactured by Adeka) and the like. Examples of metal deactivators include Irganox MD1024 manufactured by BASF, and examples of flame retardants include FP-600 manufactured by Adeka. Moreover, a silane coupling agent is mentioned as a crosslinking agent for improving adhesiveness with glass, a film, etc.

第1の接着層2の第1の封止基材1に対する引張せん断接着強さは、0.1MPa以上であることが好ましく、0.5MPa以上であることがさらに好ましく、1MPa以上であることが特に好ましい。同様に、第2の接着層5の第2の封止基材6に対する引張せん断接着強さは、0.1MPa以上であることが好ましく、0.5MPa以上であることがさらに好ましく、1MPa以上であることが特に好ましい。なお、引張せん断接着強さはJISK6850に記載に方法にて測定することができる。   The tensile shear bond strength of the first adhesive layer 2 to the first sealing substrate 1 is preferably 0.1 MPa or more, more preferably 0.5 MPa or more, and 1 MPa or more. Particularly preferred. Similarly, the tensile shear bond strength of the second adhesive layer 5 to the second sealing substrate 6 is preferably 0.1 MPa or more, more preferably 0.5 MPa or more, and 1 MPa or more. It is particularly preferred. The tensile shear bond strength can be measured by the method described in JISK6850.

第1の接着層2、及び前記第2の接着層5の膜厚50μmあたりの水蒸気透過率は、有機薄膜太陽電池素子に水分が侵入するのを防ぐために、20g/m2/day以下である
ことが好ましく、10g/m2/day以下であることがさらに好ましく、5g/m2/day以下であることが特に好ましく、特に下限はない。なお、第1の接着層2及び第2の接着層5の水蒸気透過率は、差圧法(DELTAPERMなど)で測定することができる。なお、膜厚50μmあたりの水蒸気透過率とは、膜厚50μmあたりに換算した際の水蒸気透過率を意味し、水蒸気透過量は接着層の厚さと反比例の関係にあり、具体的には下記式により算出することができる。
The water vapor permeability per 50 μm thickness of the first adhesive layer 2 and the second adhesive layer 5 is 20 g / m 2 / day or less in order to prevent moisture from entering the organic thin film solar cell element. It is preferably 10 g / m 2 / day or less, more preferably 5 g / m 2 / day or less, and there is no particular lower limit. The water vapor permeability of the first adhesive layer 2 and the second adhesive layer 5 can be measured by a differential pressure method (such as DELTAPERRM). In addition, the water vapor transmission rate per 50 μm film thickness means the water vapor transmission rate when converted per 50 μm film thickness, and the water vapor transmission amount is inversely proportional to the thickness of the adhesive layer. Can be calculated.

膜厚50μmあたりの水蒸気透過率(g/m2/day)=水蒸気透過率測定値(g/
2/day)×測定に用いた接着層の厚さ(μm)÷50(μm)
Water vapor transmission rate per 50 μm film thickness (g / m 2 / day) = Measured value of water vapor transmission rate (g / m
m 2 / day) × Adhesive layer thickness used for measurement (μm) ÷ 50 (μm)

第1の接着層2、及び前記第2の接着層5の膜厚50μmあたりの酸素透過率は、有機薄膜太陽電池素子に酸素が侵入するのを防ぐために、200cc/m2/day/atm
以下であることが好ましく、100cc/m2/day/atm以下であることがさらに
好ましく、50cc/m2/day/atm以下であることが特に好ましく、特に下限は
ない。なお、第1の接着層2及び第2の接着層5の酸素透過率は、酸素透過量計(OX−TRAN Model 2/61など)で測定することができる。なお、膜厚50μmあたりの酸素透過率とは、膜厚50μmあたりに換算した際の酸素透過率を意味し、酸素透過量は接着層の厚さと反比例の関係にあり、具体的には下記式により算出することができる。
The oxygen permeability per 50 μm thickness of the first adhesive layer 2 and the second adhesive layer 5 is 200 cc / m 2 / day / atm in order to prevent oxygen from entering the organic thin film solar cell element.
Is preferably 100 cc / m 2 / day / atm or less, particularly preferably 50 cc / m 2 / day / atm or less, and there is no particular lower limit. Note that the oxygen permeability of the first adhesive layer 2 and the second adhesive layer 5 can be measured with an oxygen transmission meter (such as OX-TRAN Model 2/61). The oxygen permeability per 50 μm film thickness means the oxygen permeability when converted per 50 μm film thickness, and the oxygen permeation amount is inversely proportional to the thickness of the adhesive layer. Can be calculated.

膜厚50μmあたりの酸素透過率(cc/m2/day/atm)=酸素透過率測定値
(cc/m2/day/atm)×測定に用いた接着層の厚さ(μm)÷50(μm)
Oxygen permeability per film thickness of 50 μm (cc / m 2 / day / atm) = Measured value of oxygen permeability (cc / m 2 / day / atm) × Thickness of adhesive layer used for measurement (μm) ÷ 50 ( μm)

また、第1の接着層2及び第2の接着層5の厚さに特段の制限はないが、通常2μm以上であり、700μm以下である。なお、支持体や集電線等の段差を埋めたり、又は貼合プロセス時のハンドリング性の低下を防止するために、10μm以上であることが好ましく、50μm以上であることが特に好ましく、一方、接着層端面からの水蒸気侵入を防止するために、500μm以下であることが好ましく、400μm以下であることが特に好ましい。   Moreover, although there is no special restriction | limiting in the thickness of the 1st contact bonding layer 2 and the 2nd contact bonding layer 5, Usually, it is 2 micrometers or more and is 700 micrometers or less. In addition, in order to fill a step such as a support or a current collector or prevent a reduction in handling properties during the bonding process, it is preferably 10 μm or more, particularly preferably 50 μm or more, In order to prevent water vapor intrusion from the end face of the layer, the thickness is preferably 500 μm or less, and particularly preferably 400 μm or less.

なお、第1の接着層2及び/又は第2の接着層5として、市販のポリオレフィン系樹脂
含有の接着シートを用いてもよい。例えば、三菱樹脂株式会社製のPROCELLIER(登録商標)が挙げられる。
In addition, as the 1st contact bonding layer 2 and / or the 2nd contact bonding layer 5, you may use the commercially available adhesive sheet containing polyolefin resin. For example, PROCELLER (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Plastics, Inc. may be mentioned.

なお、図2においては、第1の接着層2及び第2の接着層5は、支持体3と有機薄膜太陽電池素子4とを挟み込むように積層されている状態を示しているが、本発明に係る有機薄膜太陽電池モジュールは、この構成に限定されるわけではない。   2 shows a state in which the first adhesive layer 2 and the second adhesive layer 5 are laminated so as to sandwich the support 3 and the organic thin film solar cell element 4, but the present invention is not limited thereto. The organic thin film solar cell module according to the above is not limited to this configuration.

例えば、図3に示すように、有機薄膜太陽電池モジュールの断面において、前記第1の接着層2の端部と、前記第2の接着層5の端部とが貼り合わされて、前記有機薄膜太陽電池素子4が、前記第1の接着層2及び前記第2の接着層5により包覆されていることが好ましい。このような構成の場合、有機薄膜太陽電池素子4の端部も第1の接着層2及び第2の接着層5により覆われる構成となっているために、有機薄膜太陽電池素子の端部側から水分や酸素等が侵入するのを防ぐことができる。さらに、第1の接着層2と第2の接着層5が、直接貼合されているために、第1の接着層2と支持体3との界面、及び第2の接着層5と有機薄膜太陽電池素子4の界面において膜剥がれが発生しにくくなり、当該部材間の接着性が向上する。これにより、長時間、有機薄膜太陽電池モジュールを外部環境下で使用しても素子の劣化を抑えられ、耐久性の高い有機薄膜太陽電池モジュールを提供することができることとなる。なお、前記第1の接着層2の端部と、前記第2の接着層5の端部とが貼り合わされて、前記有機薄膜太陽電池素子4が、前記第1の接着層2及び前記第2の接着層5により包覆されている場合、有機薄膜太陽電池モジュールの端部からの気体成分侵入防止をより向上させ、さらには接着強度を確保するために、第1の接着層2と第2の接着層5が貼合される領域(以下、第1の接着層2及び第2の接着層5との貼合領域と称す場合がある)の幅は、2mm以上が好ましく、5mm以上であることがより好ましく、10mm以上であることが特に好ましい。一方で、モジュールパネル面積あたりの有効発電面積を確保するために、第1の接着層2及び第2の接着層5との貼合領域の幅は、100mm以下であることが好ましく、50mm以下であることがより好ましく、30mm以下であることが特に好ましい。なお、本発明において、第1の接着層2及び第2の接着層5との貼合領域の幅とは、図3において、有機薄膜太陽電池素子4の端部と支持体3の端部間における第1の接着層2及び第2の接着層5との貼合領域の幅を意味する。   For example, as shown in FIG. 3, in the cross section of the organic thin film solar cell module, the end of the first adhesive layer 2 and the end of the second adhesive layer 5 are bonded together, and the organic thin film solar The battery element 4 is preferably covered with the first adhesive layer 2 and the second adhesive layer 5. In the case of such a configuration, since the end portion of the organic thin film solar cell element 4 is also covered with the first adhesive layer 2 and the second adhesive layer 5, the end side of the organic thin film solar cell element Intrusion of moisture, oxygen, etc. can be prevented. Furthermore, since the first adhesive layer 2 and the second adhesive layer 5 are directly bonded, the interface between the first adhesive layer 2 and the support 3 and the second adhesive layer 5 and the organic thin film Film peeling is less likely to occur at the interface of the solar cell element 4, and the adhesion between the members is improved. Thereby, even if an organic thin film solar cell module is used in an external environment for a long time, degradation of an element can be suppressed and an organic thin film solar cell module with high durability can be provided. In addition, the edge part of the said 1st contact bonding layer 2 and the edge part of the said 2nd contact bonding layer 5 are bonded together, and the said organic thin film solar cell element 4 is the said 1st contact bonding layer 2 and the said 2nd contact | adhesion. In order to improve the prevention of gas component intrusion from the end portion of the organic thin film solar cell module and to secure the adhesive strength, the first adhesive layer 2 and the second adhesive layer 2 are covered with the adhesive layer 5. 2 mm or more is preferable and the width | variety of the area | region (Hereinafter, it may be called the bonding area | region with the 1st adhesive layer 2 and the 2nd adhesive layer 5) where the adhesive layer 5 of this is bonded is 5 mm or more. It is more preferable that it is 10 mm or more. On the other hand, in order to ensure an effective power generation area per module panel area, the width of the bonding region between the first adhesive layer 2 and the second adhesive layer 5 is preferably 100 mm or less, and is 50 mm or less. More preferably, it is particularly preferably 30 mm or less. In addition, in this invention, the width | variety of the bonding area | region with the 1st contact bonding layer 2 and the 2nd contact bonding layer 5 is between the edge part of the organic thin-film solar cell element 4 and the edge part of the support body 3 in FIG. Means the width of the bonding region between the first adhesive layer 2 and the second adhesive layer 5.

また、限定されるわけではないが、有機薄膜太陽電池モジュールの外観性を向上させるために、第1の封止基材1の端部と第1の接着層2の端部は揃っていることが好ましい。同様の理由で、第2の封止基材6の端部と第2の接着層5の端部も揃っていることが好ましい。さらに、限定されるわけではないが、第1の接着層2及び第2の接着層5の端部も揃っていることが好ましい。   Moreover, although it is not necessarily limited, in order to improve the external appearance property of an organic thin film solar cell module, the edge part of the 1st sealing base material 1 and the edge part of the 1st contact bonding layer 2 must have gathered. Is preferred. For the same reason, it is preferable that the end of the second sealing substrate 6 and the end of the second adhesive layer 5 are also aligned. Furthermore, although not necessarily limited, it is preferable that the ends of the first adhesive layer 2 and the second adhesive layer 5 are also aligned.

<1−3.有機薄膜太陽電池素子4>
本発明において、有機薄膜太陽電池素子は、少なくとも一対の透明電極を有する。以下、図1を参照して、有機薄膜太陽電池素子の一実施形態について説明する。本発明の一実施形態に係る有機薄膜太陽電池素子は、図1に示すように、支持体3上に、下部電極101、下部バッファ層102、有機光電変換層103(p型半導体化合物とn型半導体材料とを含む層)、上部バッファ層104、上部電極105が順次形成された層構造を有する。なお、図1において下部電極101は上部電極105よりも上部に存在するが、本明細書において上部電極及び下部電極とは、支持体3をボトムとした際に、それぞれ上部に存在する電極及び下部に存在する電極を意味するものとし、基材3に積層される電極を下部電極と称する。また、下部電極101及び上部電極105とを合わせて一対の電極と称する。
<1-3. Organic Thin Film Solar Cell Element 4>
In the present invention, the organic thin film solar cell element has at least a pair of transparent electrodes. Hereinafter, with reference to FIG. 1, one Embodiment of an organic thin-film solar cell element is described. As shown in FIG. 1, an organic thin-film solar cell element according to an embodiment of the present invention has a lower electrode 101, a lower buffer layer 102, an organic photoelectric conversion layer 103 (a p-type semiconductor compound and an n-type) on a support 3. A layer including a semiconductor material), an upper buffer layer 104, and an upper electrode 105 are sequentially formed. In FIG. 1, the lower electrode 101 exists above the upper electrode 105. In this specification, the upper electrode and the lower electrode refer to the upper electrode and the lower electrode, respectively, when the support 3 is the bottom. The electrode laminated on the base material 3 is referred to as a lower electrode. The lower electrode 101 and the upper electrode 105 are collectively referred to as a pair of electrodes.

<1−3−1.一対の電極(下部電極101、上部電極105)>
下部電極101、及び上部電極105は、光吸収により生じた正孔及び電子を捕集する
機能を有する。具体的に、一対の電極のうち一方の電極は、正孔の捕集に適した(アノードと称す場合もある)と、他方の電極は電子の捕集に適した電極(以下、カソードと称す場合もある)である。そのため、下部電極101がアノードの場合、上部電極105はカソードであり、下部電極101がカソードの場合、上部電極105はアノードである。
<1-3-1. Pair of electrodes (lower electrode 101, upper electrode 105)>
The lower electrode 101 and the upper electrode 105 have a function of collecting holes and electrons generated by light absorption. Specifically, one of the pair of electrodes is suitable for collecting holes (sometimes referred to as an anode), and the other electrode is suitable for collecting electrons (hereinafter referred to as a cathode). In some cases). Therefore, when the lower electrode 101 is an anode, the upper electrode 105 is a cathode, and when the lower electrode 101 is a cathode, the upper electrode 105 is an anode.

下部電極101及び上部電極105は、シースルー型の有機薄膜太陽電池モジュールを作製するために透明電極である。なお、本発明における透明電極とは、透明導電膜を有して構成される電極である。本発明において、透明導電膜とは、導電性を有しかつ膜自体の可視光線透過率が40%以上である膜を意味する。なお、透明導電膜の可視光線透過率は70%以上であることが、より多くの光を光電変換層に到達させるために好ましい。なお、可視光線透過率はJIS R3106に定義された方法により測定することができる。   The lower electrode 101 and the upper electrode 105 are transparent electrodes in order to produce a see-through type organic thin film solar cell module. In addition, the transparent electrode in this invention is an electrode comprised by having a transparent conductive film. In the present invention, the transparent conductive film means a film having conductivity and having a visible light transmittance of 40% or more. Note that the visible light transmittance of the transparent conductive film is preferably 70% or more in order to cause more light to reach the photoelectric conversion layer. The visible light transmittance can be measured by a method defined in JIS R3106.

透明電極が有する透明導電膜の材料としては、例えば、酸化ニッケル、酸化スズ、酸化インジウム、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、酸化チタン、酸化亜鉛等の導電性の金属酸化物含有層が挙げられる。なお、透明電極は、単層であってもよいし、積層であってもよい。例えば、透明電極は上記の透明導電膜に加えて、金、白金、銀、アルミニウム、クロム、コバルト等の金属又はその合金からなる薄膜層が積層されて形成されていてもよい。また、ポリチオフェン誘導体にポリスチレンスルホン酸をドーピングしたPEDOT:PSSや、ポリピロール又はポリアニリン等にヨウ素等をドーピングした導電性高分子材料が分散された、金属酸化物含有層又は金属層を透明電極として使用することもできる。また本発明における電極はこれらの材料からなる2層以上の積層構造を有していてもよい。これらの中でも、高い透光性、低いシート抵抗、成膜プロセス性などの観点から、酸化インジウムスズ(ITO)または酸化インジウム亜鉛(IZO)の単層、あるいは酸化インジウムスズ(ITO)または酸化インジウム亜鉛(IZO)と金属との積層体が好ましい。   Examples of the material for the transparent conductive film included in the transparent electrode include conductive metal oxides such as nickel oxide, tin oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), titanium oxide, and zinc oxide. A content layer is mentioned. The transparent electrode may be a single layer or a stacked layer. For example, the transparent electrode may be formed by laminating a thin film layer made of a metal such as gold, platinum, silver, aluminum, chromium, cobalt, or an alloy thereof in addition to the transparent conductive film. Further, a metal oxide-containing layer or metal layer in which a conductive polymer material doped with iodine or the like in polypyrrole or polyaniline or the like is used as a transparent electrode. You can also. The electrode in the present invention may have a laminated structure of two or more layers made of these materials. Among these, from the viewpoint of high translucency, low sheet resistance, film forming processability, etc., a single layer of indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), or indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide A laminate of (IZO) and a metal is preferred.

なお、上記の透明電極の中でも、アノードには、カソードよりも仕事関数の大きい透明電極を用い、カソードには、アノードよりも仕事関数の小さい透明電極を用いることが好ましい。   Of the transparent electrodes, it is preferable to use a transparent electrode having a work function larger than that of the cathode for the anode and a transparent electrode having a work function smaller than that of the anode for the cathode.

上述の通り、透明電極は、単層であってもよいし積層であってもよい。透明電極の全体の膜厚は特に制限は無いが、通常5nm以上、好ましくは10nm以上、さらに好ましくは、20nm以上である。一方、通常2μm以下、好ましくは1μm以下、さらに好ましくは500nm以下である。膜厚が5nm以上であることによりシート抵抗が抑えられ、2μm以下であることにより、光透過率を低下させずに効率よく光を電気に変換することができる。膜厚は光透過率とシート抵抗とを両立できる領域に制御する必要がある。   As described above, the transparent electrode may be a single layer or a stacked layer. The total film thickness of the transparent electrode is not particularly limited, but is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and more preferably 20 nm or more. On the other hand, it is usually 2 μm or less, preferably 1 μm or less, and more preferably 500 nm or less. When the film thickness is 5 nm or more, the sheet resistance is suppressed, and when the film thickness is 2 μm or less, light can be efficiently converted into electricity without lowering the light transmittance. The film thickness must be controlled in a region where both light transmittance and sheet resistance can be achieved.

透明電極のシート抵抗は、特段の制限はないが、通常0.1Ω/□以上、一方、1000Ω/□以下、好ましくは500Ω/□以下、さらに好ましくは100Ω/□以下である。   The sheet resistance of the transparent electrode is not particularly limited, but is usually 0.1Ω / □ or more, on the other hand, 1000Ω / □ or less, preferably 500Ω / □ or less, more preferably 100Ω / □ or less.

透明電極の形成方法としては、蒸着法若しくはスパッタ法等の真空成膜方法、又はナノ粒子や前駆体を含有するインクを塗布して成膜する湿式塗布法が挙げられる。   Examples of the method for forming the transparent electrode include a vacuum film forming method such as a vapor deposition method or a sputtering method, or a wet coating method in which an ink containing nanoparticles or a precursor is applied to form a film.

透明電極を積層した後に、有機薄膜太陽電池素子を通常50℃以上、好ましくは80℃以上、一方、通常300℃以下、好ましくは280℃以下、より好ましくは250℃以下の温度範囲において、加熱処理を行ってもよい(この工程をアニーリング処理工程と称する場合がある)。アニーリング処理工程を50℃以上の温度で行うことにより、有機薄膜太陽電池素子の各層間の密着性が向上する効果が得られるため、好ましい。各層間の密着性が向上することにより、有機薄膜太陽電池素子の熱安定性や耐久性等が向上しうる。ア
ニーリング処理工程の温度を300℃以下にすることは、有機光電変換層内の有機化合物が熱分解する可能性が低くなるため、好ましい。アニーリング処理工程においては、上記の温度範囲内で段階的な加熱を行ってもよい。
After laminating the transparent electrode, the organic thin film solar cell element is usually heat-treated at a temperature range of 50 ° C. or higher, preferably 80 ° C. or higher, usually 300 ° C. or lower, preferably 280 ° C. or lower, more preferably 250 ° C. or lower. (This process may be referred to as an annealing process). It is preferable to perform the annealing process at a temperature of 50 ° C. or higher because an effect of improving the adhesion between the layers of the organic thin film solar cell element can be obtained. By improving the adhesion between the layers, the thermal stability and durability of the organic thin film solar cell element can be improved. It is preferable to set the temperature of the annealing treatment step to 300 ° C. or lower because the organic compound in the organic photoelectric conversion layer is less likely to be thermally decomposed. In the annealing treatment step, stepwise heating may be performed within the above temperature range.

<1−3−2.下部バッファ層(102)、上部バッファ層(104)>
下部バッファ層102及び上部バッファ層104は、それぞれ、有機光電変換層103からカソードへの電子取り出し効率又は有機光電変換層103からアノードへの正孔取り出し効率を向上させる機能を有する。なお、有機光電変換層103からカソードへの電子取り出し効率を向上させる機能を有するバッファ層を電子取り出し層、有機光電変換層103からカソードへの電子取り出し効率を向上させる機能を有するバッファ層を正孔取り出し層という。なお、下部バッファ層102及び上部バッファ層104は、必須の構成部材ではなく、有機薄膜太陽電池素子4は、下部バッファ層102及び上部バッファ層104を有していなくてもよい。また、どちらか一方の層のみを有していてもよい。
<1-3-2. Lower buffer layer (102), upper buffer layer (104)>
The lower buffer layer 102 and the upper buffer layer 104 each have a function of improving the electron extraction efficiency from the organic photoelectric conversion layer 103 to the cathode or the hole extraction efficiency from the organic photoelectric conversion layer 103 to the anode. The buffer layer having a function of improving the electron extraction efficiency from the organic photoelectric conversion layer 103 to the cathode is an electron extraction layer, and the buffer layer having a function of improving the electron extraction efficiency from the organic photoelectric conversion layer 103 to the cathode is a hole. This is called a take-out layer. Note that the lower buffer layer 102 and the upper buffer layer 104 are not essential components, and the organic thin-film solar cell element 4 may not have the lower buffer layer 102 and the upper buffer layer 104. Moreover, you may have only any one layer.

また、下部バッファ層102及び上部バッファ層104は、どちらが電子取り出し層でも、正孔取り出し層でもよいが、下部電極101がカソードで、上部電極105がアノードの場合、下部バッファ層102は電子取り出し層であり、上部バッファ層104は正孔取り出し層である。一方、下部電極101がアノードで、上部電極105がカソードの場合、下部バッファ層102は正孔取り出し層であり、上部バッファ層104は電子取り出し層である。   The lower buffer layer 102 and the upper buffer layer 104 may be either an electron extraction layer or a hole extraction layer, but when the lower electrode 101 is a cathode and the upper electrode 105 is an anode, the lower buffer layer 102 is an electron extraction layer. The upper buffer layer 104 is a hole extraction layer. On the other hand, when the lower electrode 101 is an anode and the upper electrode 105 is a cathode, the lower buffer layer 102 is a hole extraction layer and the upper buffer layer 104 is an electron extraction layer.

<1−3−2−1.電子取り出し層>
電子取り出し層の材料は、有機光電変換層からカソードへ電子の取り出し効率を向上させる材料であれば特段の制限はないが、無機化合物又は有機化合物が挙げられる。
<1-3-2-1. Electron extraction layer>
The material of the electron extraction layer is not particularly limited as long as it is a material that improves the efficiency of extracting electrons from the organic photoelectric conversion layer to the cathode, and examples thereof include inorganic compounds and organic compounds.

無機化合物の材料の例としては、Li、Na、K又はCs等のアルカリ金属の塩;酸化チタン(TiOx)や酸化亜鉛(ZnO)のようなn型半導体酸化物等が挙げられる。なかでも、アルカリ金属の塩としては、LiF、NaF、KF又はCsFのようなフッ化物塩が好ましく、n型半導体酸化物としては、酸化亜鉛(ZnO)が好ましい。このような材料の動作機構は不明であるが、Al等で構成されるカソードと組み合わされた際にカソードの仕事関数を小さくし、太陽電池素子内部に印加される電圧を上げる事が考えられる。   Examples of the material of the inorganic compound include salts of alkali metals such as Li, Na, K or Cs; n-type semiconductor oxides such as titanium oxide (TiOx) and zinc oxide (ZnO). Among them, the alkali metal salt is preferably a fluoride salt such as LiF, NaF, KF or CsF, and the n-type semiconductor oxide is preferably zinc oxide (ZnO). Although the operation mechanism of such a material is unknown, it is conceivable to reduce the work function of the cathode when combined with a cathode made of Al or the like and increase the voltage applied to the solar cell element.

有機化合物の材料の例としては、例えば、トリアリールホスフィンオキシド化合物のようなリン原子と第16族元素との二重結合を有するホスフィン化合物;バソキュプロイン(BCP)又はバソフェナントレン(Bphen)のような、置換基を有してもよく、1位及び10位がヘテロ原子で置き換えられていてもよいフェナントレン化合物;トリアリールホウ素のようなホウ素化合物;(8−ヒドロキシキノリナト)アルミニウム(Alq3)のような有機金属酸化物;オキサジアゾール化合物又はベンゾイミダゾール化合物のような、置換基を有していてもよい1又は2の環構造を有する化合物;ナフタレンテトラカルボン酸無水物(NTCDA)又はペリレンテトラカルボン酸無水物(PTCDA)のような、ジカルボン酸無水物のような縮合ジカルボン酸構造を有する芳香族化合物等が挙げられる。   Examples of organic compound materials include, for example, phosphine compounds having a double bond between a phosphorus atom and a group 16 element such as triarylphosphine oxide compounds; bathocuproin (BCP) or bathophenanthrene (Bphen), A phenanthrene compound which may have a substituent and may be substituted at the 1-position and the 10-position with a heteroatom; a boron compound such as triarylboron; and (8-hydroxyquinolinato) aluminum (Alq3) Organometallic oxide; Compound having 1 or 2 ring structure which may have a substituent such as oxadiazole compound or benzimidazole compound; Naphthalenetetracarboxylic anhydride (NTCDA) or perylenetetracarboxylic acid Of dicarboxylic anhydrides, such as anhydrides (PTCDA) Aromatic compounds having Unachijimigo dicarboxylic acid structure.

電子取り出し層の膜厚は、通常0.1nm以上、好ましくは1nm以上、より好ましくは10nm以上である。一方、通常400nm以下、好ましくは200nm以下である。電子取り出し層の膜厚が0.1nm以上であることでバッファ材料としての機能を果たすことになり、電子取り出し層の膜厚が400nm以下であることで、電子が取り出しやすくなり、光電変換効率が向上しうる。   The thickness of the electron extraction layer is usually 0.1 nm or more, preferably 1 nm or more, more preferably 10 nm or more. On the other hand, it is usually 400 nm or less, preferably 200 nm or less. When the film thickness of the electron extraction layer is 0.1 nm or more, it functions as a buffer material. When the film thickness of the electron extraction layer is 400 nm or less, electrons are easily extracted and the photoelectric conversion efficiency is improved. Can improve.

電子取り出し層の材料のLUMOエネルギー準位は、特に限定は無いが、通常−4.0eV以上、好ましくは−3.9eV以上である。一方、通常−1.9eV以下、好ましくは−2.0eV以下である。電子取り出し層の材料のLUMOエネルギー準位が−1.9eV以下であることは、電荷移動が促進されうる点で好ましい。電子取り出し層の材料のLUMOエネルギー準位が−4.0eV以上であることは、n型半導体材料への逆電子移動が防がれうる点で好ましい。   The LUMO energy level of the material of the electron extraction layer is not particularly limited, but is usually −4.0 eV or more, preferably −3.9 eV or more. On the other hand, it is usually −1.9 eV or less, preferably −2.0 eV or less. It is preferable that the LUMO energy level of the material for the electron extraction layer is −1.9 eV or less because charge transfer can be promoted. It is preferable that the LUMO energy level of the material for the electron extraction layer is −4.0 eV or more in terms of preventing reverse electron transfer to the n-type semiconductor material.

電子取り出し層の材料のHOMOエネルギー準位は、特に限定は無いが、通常−9.0eV以上、好ましくは−8.0eV以上である。一方、通常−5.0eV以下、好ましくは−5.5eV以下である。電子取り出し層の材料のHOMOエネルギー準位が−5.0eV以下であることは、正孔が移動してくることを阻止しうる点で好ましい。   The HOMO energy level of the material for the electron extraction layer is not particularly limited, but is usually −9.0 eV or more, preferably −8.0 eV or more. On the other hand, it is usually −5.0 eV or less, preferably −5.5 eV or less. The HOMO energy level of the material for the electron extraction layer is preferably −5.0 eV or less from the viewpoint of preventing movement of holes.

電子取り出し層の材料のLUMOエネルギー準位及びHOMOエネルギー準位の算出方法としては、サイクリックボルタモグラム測定法が挙げられる。例えば、公知文献(国際公開第2011/016430号)に記載の方法を参考にして実施することができる。   As a method for calculating the LUMO energy level and the HOMO energy level of the material of the electron extraction layer, a cyclic voltammogram measurement method may be mentioned. For example, it can implement with reference to the method as described in well-known literature (International Publication 2011/016430).

電子取り出し層の材料が有機化合物である場合、DSC法により測定した場合のこの化合物のガラス転移温度(以下、Tgと記載する場合もある)は、特段の制限はないが、観測されないか、又は55℃以上であることが好ましい。DSC法によりガラス転移温度が観測されないとは、ガラス転移温度がないことを意味する。具体的には400℃以下のガラス転移温度の有無により判別する。DSC法によるガラス転移温度が観測されない材料は、熱的に高い安定性を有している点で好ましい。   When the material of the electron extraction layer is an organic compound, the glass transition temperature (hereinafter sometimes referred to as Tg) of this compound as measured by the DSC method is not particularly limited, but is not observed, or It is preferable that it is 55 degreeC or more. That the glass transition temperature is not observed by the DSC method means that there is no glass transition temperature. Specifically, the determination is made based on the presence or absence of a glass transition temperature of 400 ° C. or lower. A material in which the glass transition temperature by the DSC method is not observed is preferable in that it has high thermal stability.

また、DSC法により測定した場合のガラス転移温度が55℃以上である化合物の中でも、ガラス転移温度が、好ましくは65℃以上、より好ましくは80℃以上、さらに好ましくは110℃以上、特に好ましくは120℃以上である化合物が望ましい。一方、ガラス転移温度の上限は特に限定はないが、通常400℃以下、好ましくは350℃以下、より好ましくは300℃以下である。また、電子取り出し層の材料は、DSC法によるガラス転移温度が30℃以上55度未満に観測されないものであることが好ましい。   Among the compounds having a glass transition temperature of 55 ° C. or higher as measured by the DSC method, the glass transition temperature is preferably 65 ° C. or higher, more preferably 80 ° C. or higher, more preferably 110 ° C. or higher, particularly preferably. A compound having a temperature of 120 ° C. or higher is desirable. On the other hand, the upper limit of the glass transition temperature is not particularly limited, but is usually 400 ° C. or lower, preferably 350 ° C. or lower, more preferably 300 ° C. or lower. Moreover, it is preferable that the material of an electron taking-out layer is a thing by which the glass transition temperature by DSC method is not observed below 30 degreeC or more and less than 55 degree | times.

本明細書におけるガラス転移温度とは、アモルファス状態の固体において、熱エネルギーにより局所的な分子運動が開始される温度とされており、比熱が変化する点として定義される。Tgよりさらに温度が上がると、固体構造が変化して結晶化が起こる(この時の温度を結晶化温度(Tc)とする)。さらに温度が上がると、融点(Tm)で融解し液体状態に変化することが一般的である。但し、高温で分子が分解したり、昇華したりして、これらの相転移が見られないこともある。   The glass transition temperature in the present specification is defined as a point at which specific heat changes in an amorphous solid, which is a temperature at which local molecular motion is started by thermal energy. When the temperature rises further than Tg, the solid structure changes and crystallization occurs (the temperature at this time is defined as the crystallization temperature (Tc)). When the temperature rises further, it generally melts at the melting point (Tm) and changes to a liquid state. However, these phase transitions may not be observed due to molecular decomposition or sublimation at high temperatures.

DSC法とは、JIS K−0129“熱分析通則”に定義された熱物性の測定法(示差走査熱量測定法)である。ガラス転移温度をより明確に決める為には、一度ガラス転移点以上の温度に加熱したサンプルを急冷した後に測定することが望ましい。例えば、公知文献(国際公開第2011/016430号)に記載の方法により、測定を実施することができる。   The DSC method is a thermophysical property measurement method (differential scanning calorimetry method) defined in JIS K-0129 “General Rules for Thermal Analysis”. In order to determine the glass transition temperature more clearly, it is desirable to measure after rapidly cooling a sample once heated to a temperature higher than the glass transition temperature. For example, the measurement can be carried out by a method described in a known document (International Publication No. 2011/016430).

電子取り出し層に用いられる化合物のガラス転移温度が55℃以上である場合、この化合物は、印加される電場、流れる電流、曲げや温度変化による応力等の外部ストレスに対して構造が変化しにくいため、耐久性の面で好ましい。さらに、化合物の薄膜の結晶化が進みにくい傾向も有すことから、使用温度範囲においてこの化合物がアモルファス状態と結晶状態との間で変化しにくくなることにより、電子取り出し層としての安定性が良くなるため、耐久性の面で好ましい。この効果は、材料のガラス転移温度が高ければ高いほど、より顕著に表れる。   When the glass transition temperature of the compound used for the electron extraction layer is 55 ° C. or higher, the structure of this compound is difficult to change against external stress such as applied electric field, flowing current, stress due to bending or temperature change. It is preferable in terms of durability. Furthermore, since there is a tendency that the crystallization of the thin film of the compound does not proceed easily, the stability of the electron extraction layer is improved by making it difficult for the compound to change between the amorphous state and the crystalline state in the operating temperature range. Therefore, it is preferable in terms of durability. This effect becomes more prominent as the glass transition temperature of the material is higher.

電子取り出し層の形成方法に制限はない。例えば、昇華性を有する材料を用いる場合は真空蒸着法等により形成することができる。また、例えば、溶媒に可溶な材料を用いる場合は、スピンコートやインクジェット等の湿式塗布法等により形成することができる。
塗布法により電子取り出し層を形成する場合は、塗布液にさらに界面活性剤を含有させてもよい。界面活性剤の使用により、微小な泡若しくは異物等の付着による凹み及び/又は乾燥工程での塗布むら等の発生が抑制される。界面活性剤としては、公知の界面活性剤(カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤)を用いることができる。なかでも、ケイ素系界面活性剤、アセチレンジオール系界面活性剤又はフッ素系界面活性剤が好ましい。なお、界面活性剤としては1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
具体的には、例えばアルカリ金属塩を電子取り出し層の材料として用いる場合、真空蒸着、スパッタ等の真空成膜方法を用いて電子取り出し層を成膜することが可能である。なかでも、抵抗加熱による真空蒸着によって、電子取り出し層を形成するのが望ましい。真空蒸着を用いることにより、有機光電変換層等の他の層へのダメージを小さくすることができる。
There is no restriction | limiting in the formation method of an electronic taking-out layer. For example, when a material having sublimation property is used, it can be formed by a vacuum deposition method or the like. Further, for example, when a material soluble in a solvent is used, it can be formed by a wet coating method such as spin coating or inkjet.
When the electron extraction layer is formed by a coating method, a surfactant may be further contained in the coating solution. By using the surfactant, the occurrence of dents due to adhesion of fine bubbles or foreign matters and / or uneven coating in the drying process is suppressed. Known surfactants (cationic surfactants, anionic surfactants, nonionic surfactants) can be used as the surfactant. Of these, silicon-based surfactants, acetylenic diol-based surfactants, and fluorine-based surfactants are preferable. In addition, as surfactant, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together by arbitrary combinations and a ratio.
Specifically, for example, when an alkali metal salt is used as a material for the electron extraction layer, the electron extraction layer can be formed by using a vacuum film formation method such as vacuum deposition or sputtering. Especially, it is desirable to form an electron taking-out layer by vacuum vapor deposition by resistance heating. By using vacuum deposition, damage to other layers such as an organic photoelectric conversion layer can be reduced.

一方、n型半導体の金属酸化物については、例えば、酸化亜鉛ZnOを電子取り出し層の材料として用いる場合には、スパッタ法等の真空成膜方法を用いることもできるが、塗布法を用いて電子取り出し層を成膜することが望ましい。例えば、Sol−Gel Science、C.J.Brinker,G.W.Scherer著、Academic Press(1990)に記載のゾルゲル法に従って、酸化亜鉛で構成される電子取り出し層を形成できる。この場合の膜厚は、通常0.1nm以上、好ましくは2nm以上、より好ましくは5nm以上であり、通常1μm以下、好ましくは100nm以下、より好ましくは50nm以下である。電子取り出し層が薄すぎると、電子の取り出し効率を向上させる効果が十分でなくなり、厚すぎると、電子取り出し層が直列抵抗成分として作用することにより素子の特性を損なう傾向がある。   On the other hand, for metal oxides of n-type semiconductors, for example, when zinc oxide ZnO is used as the material for the electron extraction layer, a vacuum film formation method such as sputtering can be used. It is desirable to form the extraction layer. For example, Sol-Gel Science, C.I. J. et al. Brinker, G.M. W. According to the sol-gel method described by Scherer, Academic Press (1990), an electron extraction layer composed of zinc oxide can be formed. In this case, the film thickness is usually 0.1 nm or more, preferably 2 nm or more, more preferably 5 nm or more, and usually 1 μm or less, preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less. If the electron extraction layer is too thin, the effect of improving the electron extraction efficiency is not sufficient, and if it is too thick, the electron extraction layer tends to deteriorate the characteristics of the device by acting as a series resistance component.

<1−3−2−2.正孔取り出し層>
正孔取り出し層の材料に特に限定は無く、有機光電変換層からアノードへの正孔の取り出し効率を向上させることが可能な材料であれば特に限定されない。具体的には、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアセチレン、トリフェニレンジアミン又はポリアニリン等に、スルホン酸及び/又はヨウ素等がドーピングされた導電性ポリマー、スルホニル基を置換基に有するポリチオフェン誘導体、アリールアミン等の導電性有機化合物、酸化銅、酸化ニッケル、酸化マンガン、酸化モリブデン、酸化バナジウム又は酸化タングステン等の金属酸化物、ナフィオン、後述のp型半導体等が挙げられる。その中でも好ましくは、スルホン酸をドーピングした導電性ポリマーであり、より好ましくは、ポリチオフェン誘導体にポリスチレンスルホン酸をドーピングした(3,4−エチレンジオキシチオフェン)ポリ(スチレンスルホン酸)(PEDOT:PSS)である。また、金、インジウム、銀又はパラジウム等の金属等の薄膜も使用することができる。金属等の薄膜は、単独で形成してもよいし、上記の有機材料と組み合わせて用いることもできる。
<1-3-2-2. Hole extraction layer>
The material for the hole extraction layer is not particularly limited as long as it is a material capable of improving the efficiency of extracting holes from the organic photoelectric conversion layer to the anode. Specifically, conductive polymers in which polythiophene, polypyrrole, polyacetylene, triphenylenediamine, polyaniline, etc. are doped with sulfonic acid and / or iodine, polythiophene derivatives having a sulfonyl group as a substituent, conductive organics such as arylamine Examples thereof include compounds, copper oxide, nickel oxide, manganese oxide, molybdenum oxide, vanadium oxide, metal oxide such as tungsten oxide, Nafion, and a p-type semiconductor described later. Among them, a conductive polymer doped with sulfonic acid is preferable, and (3,4-ethylenedioxythiophene) poly (styrenesulfonic acid) (PEDOT: PSS) in which a polythiophene derivative is doped with polystyrene sulfonic acid is more preferable. It is. A thin film of metal such as gold, indium, silver or palladium can also be used. A thin film of metal or the like may be formed alone or in combination with the above organic material.

正孔取り出し層の膜厚は、通常0.1nm以上である。一方、通常400nm以下、好ましくは200nm以下である。正孔取り出し層の膜厚が0.1nm以上であることでバッファ材料としての機能を果たすことになり、正孔取り出し層の膜厚が400nm以下であることで、正孔が取り出し易くなり、光電変換効率が向上しうる。   The film thickness of the hole extraction layer is usually 0.1 nm or more. On the other hand, it is usually 400 nm or less, preferably 200 nm or less. When the film thickness of the hole extraction layer is 0.1 nm or more, it functions as a buffer material. When the film thickness of the hole extraction layer is 400 nm or less, holes are easily extracted, Conversion efficiency can be improved.

正孔取り出し層の形成方法に制限はない。例えば、昇華性を有する材料を用いる場合は真空蒸着法等により形成することができる。また、例えば、溶媒に可溶な材料を用いる場合は、スピンコート法やインクジェット法等の湿式塗布法等により形成することができる
。正孔取り出し層に半導体材料を用いる場合は、後述の有機光電変換層の低分子有機半導体化合物と同様に、前駆体を用いて層を形成した後に前駆体を半導体化合物に変換してもよい。
なかでも、正孔取り出し層の材料としてPEDOT:PSSを用いる場合、分散液を塗布する方法によって正孔取り出し層を形成することが好ましい。PEDOT:PSSの分散液としては、ヘレウス社製のCLEVIOSTMシリーズや、アグファ社製のORGACONTMシリーズ等が挙げられる。
There is no restriction | limiting in the formation method of a positive hole taking-out layer. For example, when a material having sublimation property is used, it can be formed by a vacuum deposition method or the like. For example, when a material soluble in a solvent is used, it can be formed by a wet coating method such as a spin coating method or an ink jet method. When a semiconductor material is used for the hole extraction layer, the precursor may be converted into a semiconductor compound after the layer is formed using the precursor, similarly to the low-molecular organic semiconductor compound of the organic photoelectric conversion layer described later.
Especially, when using PEDOT: PSS as a material of a hole taking-out layer, it is preferable to form a hole taking-out layer by the method of apply | coating a dispersion liquid. Examples of the dispersion of PEDOT: PSS include CLEVIOSTM series manufactured by Heraeus, ORGACONTM series manufactured by Agfa, and the like.

塗布法により正孔取り出し層を形成する場合は、塗布液にさらに界面活性剤を含有させてもよい。界面活性剤の使用により、微小な泡若しくは異物等の付着による凹み及び/又は乾燥工程での塗布むら等の発生が抑制される。界面活性剤としては、公知の界面活性剤(カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤)を用いることができる。なかでも、ケイ素系界面活性剤、アセチレンジオール系界面活性剤又はフッ素系界面活性剤が好ましい。なお、界面活性剤としては1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。   When the hole extraction layer is formed by a coating method, a surfactant may be further contained in the coating solution. By using the surfactant, the occurrence of dents due to adhesion of fine bubbles or foreign matters and / or uneven coating in the drying process is suppressed. Known surfactants (cationic surfactants, anionic surfactants, nonionic surfactants) can be used as the surfactant. Of these, silicon-based surfactants, acetylenic diol-based surfactants, and fluorine-based surfactants are preferable. In addition, as surfactant, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together by arbitrary combinations and a ratio.

<1−3−3.有機光電変換層103>
有機光電変換層103は、通常p型半導体化合物とn型半導体化合物をと含む。p型半導体化合物とは、p型半導体材料として働く化合物であり、n型半導体化合物とは、n型半導体材料として働く化合物である。有機薄膜太陽電池素子が光を受けると、光が有機光電変換層に吸収され、p型半導体化合物とn型半導体化合物との界面で電気が発生し、発生した電気が電極から取り出される。
<1-3-3. Organic photoelectric conversion layer 103>
The organic photoelectric conversion layer 103 usually includes a p-type semiconductor compound and an n-type semiconductor compound. The p-type semiconductor compound is a compound that works as a p-type semiconductor material, and the n-type semiconductor compound is a compound that works as an n-type semiconductor material. When the organic thin-film solar cell element receives light, the light is absorbed by the organic photoelectric conversion layer, electricity is generated at the interface between the p-type semiconductor compound and the n-type semiconductor compound, and the generated electricity is extracted from the electrode.

有機光電変換層103の材料に有機化合物を用いると、簡易な塗布プロセスにより形成しうるため好ましい。有機光電変換層103の層構成としては、p型半導体化合物層とn型半導体化合物層とが積層された薄膜積層型、p型半導体化合物とn型半導体化合物とが混合した層を有するバルクヘテロ接合型、p型半導体化合物層と、p型半導体化合物とn型半導体化合物とが混合した層(i層)と、n型半導体化合物層とが積層されたもの、等が挙げられる。なかでも、p型半導体化合物とn型半導体化合物が混合した層を有するバルクヘテロ接合型が好ましい。   An organic compound is preferably used for the material of the organic photoelectric conversion layer 103 because it can be formed by a simple coating process. The layer structure of the organic photoelectric conversion layer 103 includes a thin film stack type in which a p-type semiconductor compound layer and an n-type semiconductor compound layer are stacked, and a bulk heterojunction type having a layer in which a p-type semiconductor compound and an n-type semiconductor compound are mixed. , A p-type semiconductor compound layer, a layer in which a p-type semiconductor compound and an n-type semiconductor compound are mixed (i-layer), and an n-type semiconductor compound layer are stacked. Among these, a bulk heterojunction type having a layer in which a p-type semiconductor compound and an n-type semiconductor compound are mixed is preferable.

p型半導体化合物としては、低分子有機化合物又は高分子有機化合物が挙げられ、n型半導体化合物としては、フラーレン誘導体等が挙げられる。p型半導体化合物及びn型半導体化合物としては、例えば、Solar Energy Materials&Solar Cells 96(2012)155−159、国際公開第2011/016430号又は特開2012−191194号公報等に記載の化合物が挙げられる。   Examples of the p-type semiconductor compound include a low molecular organic compound or a high molecular organic compound, and examples of the n-type semiconductor compound include fullerene derivatives. Examples of the p-type semiconductor compound and the n-type semiconductor compound include compounds described in Solar Energy Materials & Solar Cells 96 (2012) 155-159, International Publication No. 2011-016430, or Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-191194.

有機光電変換層103の膜厚は特に限定されないが、通常10nm以上、好ましくは50nm以上であり、一方通常500nm以下、好ましくは400nm以下、より好ましくは300nm以下である。有機光電変換層103の膜厚が10nm以上であることは、一定以上の光吸収により発電効率を確保できる点、および膜の均一性が保たれ、短絡を起こしにくくなるため、好ましい。また、有機光電変換層の厚さが500nm以下であることは、適当な透光性を確保できる点、内部抵抗が小さくなる点、及び電極間が離れすぎず電荷の拡散が良好となる点で、好ましい。   The film thickness of the organic photoelectric conversion layer 103 is not particularly limited, but is usually 10 nm or more, preferably 50 nm or more, and is usually 500 nm or less, preferably 400 nm or less, more preferably 300 nm or less. It is preferable that the film thickness of the organic photoelectric conversion layer 103 is 10 nm or more because power generation efficiency can be ensured by light absorption of a certain level or more, and the uniformity of the film is maintained and short-circuiting is unlikely to occur. Moreover, the thickness of the organic photoelectric conversion layer being 500 nm or less means that appropriate translucency can be ensured, that the internal resistance becomes small, and that the diffusion of charges is good without the electrodes being too far apart. ,preferable.

有機光電変換層103の作成方法としては、特段に制限はないが、塗布法が好ましい。塗布法としては、任意の方法を用いることができるが、例えば、スピンコート法、リバースロールコート法、グラビアコート法、キスコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアナイフコート法、ワイヤーバーバーコート法、パイプドクター法、含浸・コート法、カーテンコート法等が挙げられる。
例えば、p型半導体化合物層及びn型半導体化合物層は、p型半導体化合物又はn型半導体化合物を含む塗布液を塗布することにより作製しうる。また、p型半導体化合物とn型半導体化合物とが混合した層は、p型半導体化合物及びn型半導体化合物を含む塗布液を塗布することにより作製しうる。後述するように、半導体化合物前駆体を含む塗布液を塗布した後で、半導体化合物前駆体を半導体化合物へと変換してもよい。
なお、有機光電変換層103は、ロール・ツー・ロールにより製造されることが好ましく、その場合には、塗布法により形成されることが好ましい。
Although there is no restriction | limiting in particular as a preparation method of the organic photoelectric converting layer 103, The application | coating method is preferable. As the coating method, any method can be used, for example, spin coating method, reverse roll coating method, gravure coating method, kiss coating method, roll brush method, spray coating method, air knife coating method, wire barber coating method, Examples include the pipe doctor method, the impregnation / coating method, and the curtain coating method.
For example, the p-type semiconductor compound layer and the n-type semiconductor compound layer can be produced by applying a coating liquid containing a p-type semiconductor compound or an n-type semiconductor compound. Moreover, the layer in which the p-type semiconductor compound and the n-type semiconductor compound are mixed can be prepared by applying a coating solution containing the p-type semiconductor compound and the n-type semiconductor compound. As will be described later, the semiconductor compound precursor may be converted into a semiconductor compound after the coating liquid containing the semiconductor compound precursor is applied.
The organic photoelectric conversion layer 103 is preferably manufactured by roll-to-roll, and in that case, it is preferably formed by a coating method.

<1−3−4.光電変換特性>
有機薄膜太陽電池素子4の光電変換特性は次のようにして求めることができる。有機薄膜太陽電池素子にソーラシュミレーターでAM1.5G条件の光を照射強度100mW/cm2で照射して、電流−電圧特性を測定する。得られた電流−電圧曲線から、光電変換
効率(PCE)、短絡電流密度(Jsc)、開放電圧(Voc)、フィルファクター(FF)、直列抵抗、シャント抵抗といった光電変換特性を求めることができる。
有機薄膜太陽電池素子の光電変換効率は、特段の制限はないが、通常1%以上、好ましくは1.5%以上、より好ましくは2%以上である。一方、上限に特段の制限はなく、高ければ高いほどよい。
<1-3-4. Photoelectric conversion characteristics>
The photoelectric conversion characteristics of the organic thin film solar cell element 4 can be obtained as follows. The organic thin-film solar cell element is irradiated with AM1.5G light with a solar simulator at an irradiation intensity of 100 mW / cm 2 to measure current-voltage characteristics. From the obtained current-voltage curve, photoelectric conversion characteristics such as photoelectric conversion efficiency (PCE), short circuit current density (Jsc), open circuit voltage (Voc), fill factor (FF), series resistance, and shunt resistance can be obtained.
The photoelectric conversion efficiency of the organic thin film solar cell element is not particularly limited, but is usually 1% or more, preferably 1.5% or more, and more preferably 2% or more. On the other hand, there is no particular limitation on the upper limit, and the higher the better.

<1−4.支持体3>
支持体3は、有機薄膜光電変換素子4を保持・形成するための部材であり、当該機能を有する限り、特にその種類は限定されないが、第1の封止基材1及び第2の封止基材6と同様に透光性を有することが好ましい。第1の封止基材1、支持体3及び第2の封止基材6が透光性を有していれば、外観性に優れたシースルー型の有機薄膜太陽電池モジュールとすることができる。
<1-4. Support 3>
The support 3 is a member for holding and forming the organic thin film photoelectric conversion element 4, and the type thereof is not particularly limited as long as it has the function, but the first sealing substrate 1 and the second sealing It is preferable to have translucency similarly to the substrate 6. If the 1st sealing base material 1, the support body 3, and the 2nd sealing base material 6 have translucency, it can be set as the see-through type organic thin film solar cell module excellent in the external appearance property. .

支持体3を構成する材料としては、本発明の効果を著しく損なわない限り特に限定されないが、好適な例としては、石英、ガラス、サファイア又はチタニア等の無機材料;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ナイロン、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール共重合体、フッ素樹脂フィルム、塩化ビニル又はポリエチレン等のポリオレフィン;セルロース、ポリ塩化ビニリデン、アラミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリノルボルネン又はエポキシ樹脂等の有機材料;紙又は合成紙等の紙材料;ステンレス、チタン又はアルミニウム等の金属に、絶縁性を付与するために表面をコート又はラミネートしたもの等の複合材料等が挙げられる。可撓性を有する、フレキシブルなフィルム状の基材とする場合は有機材料、紙材料、および複合材料が好ましく、有機材料および複合材料がより好ましく、有機材料が特に好ましい。   The material constituting the support 3 is not particularly limited as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Preferred examples include inorganic materials such as quartz, glass, sapphire, and titania; polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, poly Ethersulfone, polyimide, nylon, polystyrene, polyvinyl alcohol, ethylene vinyl alcohol copolymer, fluororesin film, polyolefin such as vinyl chloride or polyethylene; cellulose, polyvinylidene chloride, aramid, polyphenylene sulfide, polyurethane, polycarbonate, polyarylate, poly Organic material such as norbornene or epoxy resin; paper material such as paper or synthetic paper; surface or coating to give insulation to metal such as stainless steel, titanium or aluminum And the like composite materials such as those that. In the case of a flexible film-like substrate having flexibility, an organic material, a paper material, and a composite material are preferable, an organic material and a composite material are more preferable, and an organic material is particularly preferable.

また、支持体3の膜厚に制限はないが、通常5μm以上、好ましくは20μm以上であり、一方、通常20mm以下、好ましくは10mm以下である。支持体3の膜厚が5μm以上であることは、有機電子デバイスの強度が不足する可能性が低くなるために好ましい。支持体3の膜厚が20mm以下であることは、コストが抑えられ、かつ重量が重くならないために好ましい。   Moreover, although there is no restriction | limiting in the film thickness of the support body 3, it is 5 micrometers or more normally, Preferably it is 20 micrometers or more, on the other hand, it is 20 mm or less normally, Preferably it is 10 mm or less. The film thickness of the support 3 is preferably 5 μm or more because the possibility that the strength of the organic electronic device is insufficient is reduced. It is preferable that the thickness of the support 3 is 20 mm or less because the cost is suppressed and the weight does not increase.

<1−5.その他の層>
本実施形態に係る有機薄膜太陽電池モジュールは、上述の通り、第1の封止基材1、第1の接着層2、支持体3、有機薄膜太陽電池素子4、第2の接着層5、第2の封止基材6と、をこの順に有するが、他の層を有していても良い。その他の層としては、ゲッター材層、紫外線カット層等が挙げられる。
<1-5. Other layers>
As described above, the organic thin film solar cell module according to the present embodiment includes the first sealing substrate 1, the first adhesive layer 2, the support 3, the organic thin film solar cell element 4, the second adhesive layer 5, Although it has the 2nd sealing base material 6 in this order, you may have another layer. Examples of other layers include a getter material layer and an ultraviolet cut layer.

ゲッター材層とは、水分及び/又は酸素を吸収する機能を有する層である。ゲッター材
層を設ける位置は任意であり、例えば、第1の接着層2と支持体3との間、有機薄膜太陽電池素子4と第2の接着層5との間に設けることができる。また、これらの両方に設けてもよい。本発明においては、ゲッター材層を設けなくても、水分や酸素に対して、十分に高いバリア性を有しているが、ゲッター材層を設けることにより、例え、各部材を介して、水分や酸素が有機薄膜太陽電池素子4側に侵入したとしてもゲッター材層により水分や酸素を捕捉することができるために有機薄膜太陽電池素子が劣化するのを防ぐことができる。またゲッター材層はシースルー型の有機薄膜太陽電池モジュールを作製するために必要な透光性を有することが好ましい。
A getter material layer is a layer having a function of absorbing moisture and / or oxygen. The position where the getter material layer is provided is arbitrary. For example, the getter material layer can be provided between the first adhesive layer 2 and the support 3 and between the organic thin film solar cell element 4 and the second adhesive layer 5. Moreover, you may provide in both of these. In the present invention, even if a getter material layer is not provided, it has a sufficiently high barrier property against moisture and oxygen. However, if a getter material layer is provided, for example, moisture can be passed through each member. Even if oxygen or oxygen enters the organic thin film solar cell element 4 side, moisture and oxygen can be captured by the getter material layer, so that the organic thin film solar cell element can be prevented from deteriorating. Moreover, it is preferable that a getter material layer has the translucency required in order to produce a see-through type organic thin-film solar cell module.

ゲッター材層の水分吸収能力の程度は、通常0.1mg/cm2以上であり、上限に制
限は無いが、通常10mg/cm2以下である。またゲッター材層の酸素吸収能力は、通
常10μl/cm2以上であり、上限に制限は無いが、通常1ml/cm2以下である。
The degree of water absorption ability of the getter material layer is usually 0.1 mg / cm 2 or more, and although there is no upper limit, it is usually 10 mg / cm 2 or less. Further, the oxygen absorption capacity of the getter material layer is usually 10 μl / cm 2 or more, and although there is no upper limit, it is usually 1 ml / cm 2 or less.

さらに、有機薄膜太陽電池は光を受けて熱せされることが多いため、ゲッター材層も熱に対する耐性を有することが好ましい。この観点から、ゲッター材層の構成材料の融点は、通常100℃以上350℃以下である。   Furthermore, since organic thin film solar cells are often heated by receiving light, it is preferable that the getter material layer also has heat resistance. From this viewpoint, the melting point of the constituent material of the getter material layer is usually 100 ° C. or higher and 350 ° C. or lower.

ゲッター材層を構成する材料は、水分及び/又は酸素を吸収することができるものであれば任意である。その材料の例を挙げると、水分を吸収する物質としてアルカリ金属、アルカリ土類金属又はアルカリ土類金属の酸化物;アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物;シリカゲル、ゼオライト系化合物、硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム又は硫酸ニッケル等の硫酸塩;アルミニウム金属錯体又はアルミニウムオキサイドオクチレート等の有機金属化合物等が挙げられる。具体的には、アルカリ土類金属としては、Ca、Sr又はBa等が挙げられる。アルカリ土類金属の酸化物としては、CaO、SrO又はBaO等が挙げられる。その他にZr−Al−BaOやアルミニウム金属錯体等も挙げられる。具体的な商品名を挙げると、例えば、OleDry(双葉電子社製)やモイストキャッチ(共同印刷社製)等が挙げられる。   The material constituting the getter material layer is arbitrary as long as it can absorb moisture and / or oxygen. Examples of the material include alkali metal, alkaline earth metal or alkaline earth metal oxides; alkali metal or alkaline earth metal hydroxides; silica gel, zeolitic compounds, magnesium sulfate. And sulfates such as sodium sulfate and nickel sulfate; and organometallic compounds such as aluminum metal complexes and aluminum oxide octylates. Specifically, examples of the alkaline earth metal include Ca, Sr, and Ba. Examples of the alkaline earth metal oxide include CaO, SrO, and BaO. In addition, Zr-Al-BaO and aluminum metal complexes are also included. Specific product names include, for example, OleDry (manufactured by Futaba Electronics Co., Ltd.) and moist catch (manufactured by Kyodo Printing Co., Ltd.).

酸素を吸収する物質としては、活性炭、シリカゲル、活性アルミナ、モレキュラーシーブ、酸化マグネシウム及び酸化鉄等が挙げられる。またFe、Mn、Zn、及びこれら金属の硫酸塩・塩化物塩・硝酸塩等の無機塩も挙げられる。   Examples of the substance that absorbs oxygen include activated carbon, silica gel, activated alumina, molecular sieve, magnesium oxide, and iron oxide. In addition, Fe, Mn, Zn, and inorganic salts such as sulfates, chlorides, and nitrates of these metals are also included.

なお、ゲッター材層は1種の材料で形成されていてもよく、2種以上の材料で形成されていてもよい。また、ゲッター材層は単層であってもよいし2層以上の積層であってもよい。
ゲッター材層の厚みは特に限定されないが、通常5μm以上200μm以下である。
The getter material layer may be formed of one type of material or may be formed of two or more types of materials. Further, the getter material layer may be a single layer or a laminate of two or more layers.
Although the thickness of a getter material layer is not specifically limited, Usually, they are 5 micrometers or more and 200 micrometers or less.

紫外線カット層とは、紫外線の透過を防止する層である。紫外線カット層を有機薄膜太陽電池モジュールの受光部分に設け、紫外線カット層で有機薄膜太陽電池素子モジュールの受光面を覆うことにより、有機薄膜太陽電池素子及び封止基材等を紫外線から保護し、発電能力が低下するのを防ぐことができる。   The ultraviolet cut layer is a layer that prevents transmission of ultraviolet rays. By providing a UV cut layer on the light receiving portion of the organic thin film solar cell module and covering the light receiving surface of the organic thin film solar cell module with the UV cut layer, the organic thin film solar cell element and the sealing substrate are protected from ultraviolet rays. It is possible to prevent the power generation capacity from being lowered.

紫外線カット層に要求される紫外線の透過抑制能力の程度は、紫外線(例えば、波長300nm)の透過率が50%以下であることが好ましく、下限に制限はない。また、紫外線カット層は、有機薄膜太陽電池素子の光吸収を妨げない観点から可視光を透過させることが好ましい。例えば、可視光(波長360〜830nm)の透過率が80%以上であることが好ましく、上限に制限はない。   The degree of the ability to suppress the transmission of ultraviolet rays required for the ultraviolet cut layer is such that the transmittance of ultraviolet rays (for example, wavelength 300 nm) is preferably 50% or less, and there is no limit on the lower limit. Moreover, it is preferable that a ultraviolet-ray cut layer permeate | transmits visible light from a viewpoint which does not prevent the light absorption of an organic thin-film solar cell element. For example, the transmittance of visible light (wavelength 360 to 830 nm) is preferably 80% or more, and the upper limit is not limited.

さらに、有機薄膜太陽電池モジュールは光を受けて熱せられることが多いため、紫外線カット層も熱に対する耐性を有することが好ましい。この観点から、紫外線カット層の構
成材料の融点は、通常100℃以上350℃以下である。
また、紫外線カット層は、柔軟性が高く、隣接するフィルムとの接着性が良好であり、水蒸気や酸素をカットしうることが好ましい。
Further, since the organic thin film solar cell module is often heated by receiving light, it is preferable that the ultraviolet cut layer also has heat resistance. From this viewpoint, the melting point of the constituent material of the ultraviolet cut layer is usually 100 ° C. or higher and 350 ° C. or lower.
Moreover, it is preferable that an ultraviolet cut layer has a high softness | flexibility, adhesiveness with an adjacent film is favorable, and can cut water vapor | steam and oxygen.

紫外線カット層を構成する材料は、紫外線の強度を弱めることができるものであれば任意である。その材料の例を挙げると、エポキシ系、アクリル系、ウレタン系又はエステル系の樹脂に紫外線吸収剤を配合して成膜したフィルム等が挙げられる。また、紫外線吸収剤を樹脂中に分散あるいは溶解させたものの層(以下、適宜「紫外線吸収層」という)を基材フィルム上に形成したフィルムを用いてもよい。   The material constituting the ultraviolet cut layer is arbitrary as long as it can weaken the intensity of ultraviolet rays. Examples of the material include films formed by blending an ultraviolet absorber with an epoxy, acrylic, urethane, or ester resin. Further, a film in which a layer of an ultraviolet absorbent dispersed or dissolved in a resin (hereinafter referred to as “ultraviolet absorbing layer” as appropriate) is formed on a base film may be used.

紫外線吸収剤としては、例えば、サリチル酸系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系のもの等を用いることができる。なお、紫外線吸収剤は、1種を用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。上述のように、紫外線吸収フィルムとしては紫外線吸収層を基材フィルム上に形成したフィルムを用いることもできる。このようなフィルムは、例えば、紫外線吸収剤を含む塗布液を基材フィルム上に塗布し、乾燥させることで作製できる。
基材フィルムの材質は特に限定されないが、耐熱性、柔軟性のバランスが良好なフィルムが得られる点で、例えばポリエステルが挙げられる。
Examples of the ultraviolet absorber that can be used include salicylic acid-based, benzophenone-based, benzotriazole-based, and cyanoacrylate-based ones. In addition, a ultraviolet absorber may use 1 type and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio. As described above, a film in which an ultraviolet absorbing layer is formed on a base film can also be used as the ultraviolet absorbing film. Such a film can be produced, for example, by applying a coating solution containing an ultraviolet absorber on a substrate film and drying it.
Although the material of a base film is not specifically limited, For example, polyester is mentioned at the point from which the balance of heat resistance and a softness | flexibility is obtained.

紫外線カット層の具体的な商品の例を挙げると、カットエース(MKVプラスティック株式会社)等が挙げられる。なお、紫外線カット層は1種の材料で形成されていてもよく、2種以上の材料で形成されていてもよい。
また、紫外線カット層は単層フィルムにより形成されていてもよいが、2層以上のフィルムを備えた積層フィルムであってもよい。紫外線カット層の厚みは特に規定されないが、通常5μm以上200μm以下である。
As an example of a specific product of the ultraviolet cut layer, cut ace (MKV Plastic Co., Ltd.) and the like can be mentioned. In addition, the ultraviolet cut layer may be formed of one type of material or may be formed of two or more types of materials.
Moreover, the ultraviolet cut layer may be formed of a single layer film, but may be a laminated film including two or more films. The thickness of the ultraviolet cut layer is not particularly limited, but is usually 5 μm or more and 200 μm or less.

紫外線カット層は、有機薄膜太陽電池素子の受光面の少なくとも一部を覆う位置に設ければよいが、好ましくは有機薄膜太陽電池素子の受光面の全てを覆う位置に設ける。ただし、有機薄膜太陽電池素子の受光面を覆う位置以外の位置にも紫外線カット層が設けられていてもよい。   Although an ultraviolet cut layer should just be provided in the position which covers at least one part of the light-receiving surface of an organic thin-film solar cell element, Preferably it is provided in the position which covers all the light-receiving surfaces of an organic thin-film solar cell element. However, the ultraviolet cut layer may be provided at a position other than the position covering the light receiving surface of the organic thin film solar cell element.

また、有機薄膜太陽電池素子により発生した電気を取り出すために、有機薄膜太陽電池モジュールは、有機薄膜太陽電池素子と、電気取り出し部を介して接続される集電線を有していてもよい。電子取り出し部及び集電線の構成や形成方法は、公知の材料や方法により形成することができる。例えば、特開2014−239087号公報に記載の材料や方法により形成することができる。   Moreover, in order to take out the electricity generated by the organic thin film solar cell element, the organic thin film solar cell module may have a current collector connected to the organic thin film solar cell element via an electric extraction portion. The configuration and forming method of the electron take-out portion and the current collecting wire can be formed by known materials and methods. For example, it can be formed by the materials and methods described in JP-A-2014-239087.

<2.有機薄膜太陽電池モジュールの製造方法>
以下、本発明に係る有機薄膜太陽電池モジュールの製造方法について説明するが、本発明に係る有機薄膜太陽電池モジュールの製造方法は以下に限定されるものではなく、本発明に係る有機薄膜太陽電池モジュールが製造できる限りにおいては、どのように製造してもよい。本発明に係る有機薄膜太陽電池モジュールは、支持体3上に有機薄膜太陽電池素子4を製造する工程、及び、有機薄膜太陽電池素子4を封止する工程により製造することができる。
<2. Manufacturing method of organic thin film solar cell module>
Hereinafter, although the manufacturing method of the organic thin film solar cell module which concerns on this invention is demonstrated, the manufacturing method of the organic thin film solar cell module which concerns on this invention is not limited to the following, The organic thin film solar cell module which concerns on this invention As long as can be manufactured, it may be manufactured in any way. The organic thin film solar cell module according to the present invention can be manufactured by a step of manufacturing the organic thin film solar cell element 4 on the support 3 and a step of sealing the organic thin film solar cell element 4.

<2−1.支持体上に有機薄膜太陽電池素子を製造する工程>
支持体3上に有機薄膜太陽電池素子4を製造する工程としては、有機薄膜太陽電池素子4を構成する各部材を、上記の方法により支持体3上に順次積層させて形成すればよい。なお、有機薄膜太陽電池素子4の各構成部材を積層させる際には、支持体3を枚葉として個々に取り扱ってもよいし、いわゆるロール・ツー・ロールと呼ばれる連続搬送作業にて
取り扱ってもよいが、支持体3が、可撓性を有する場合は、生産性を向上させるために、各構成部材をロール・ツー・ロール方式により積層させて有機薄膜太陽電池素子4を製造することが好ましい。
<2-1. Process for producing organic thin-film solar cell element on support>
What is necessary is just to form each member which comprises the organic thin film solar cell element 4 by laminating | stacking sequentially on the support body 3 by said method as a process of manufacturing the organic thin film solar cell element 4 on the support body 3. FIG. In addition, when laminating the constituent members of the organic thin film solar cell element 4, the support 3 may be handled individually as a single sheet, or may be handled by a so-called roll-to-roll continuous conveyance operation. However, when the support 3 has flexibility, in order to improve productivity, it is preferable to manufacture the organic thin-film solar cell element 4 by laminating each constituent member by a roll-to-roll method. .

<2−2.封止工程>
次に、支持体3と有機薄膜太陽電池素子4の積層体を、第1の接着層2と第1の封止基材1との積層体と、第2の接着層5と第2の封止基材6との積層体により貼合して、封止することにより、有機薄膜太陽電池モジュールを製造することができる。
<2-2. Sealing process>
Next, the laminated body of the support body 3 and the organic thin film solar cell element 4 is combined with the laminated body of the first adhesive layer 2 and the first sealing substrate 1, the second adhesive layer 5 and the second sealing member. An organic thin film solar cell module can be manufactured by bonding and sealing with a laminated body with the stop base material 6.

第1の接着層2と第1の封止基材1との積層体、及び第2の接着層5と第2の接着層6との積層体の製造方法に特段の制限はなく、公知の方法により製造することができる。例えば、第1の封止基材1とシート状に形成された第1の接着層2、及び第2の封止基材6とシート状に形成された第2の接着層5を、それぞれオートクレーブ接着、ホットプレス、真空ラミネーション、またはロールラミネーションで貼り合わせることにより各積層体を作製することができる。これらの処理は、どのような環境下で行っても良いが、異物の混入を避けるために、クリーンルーム内で行うことが好ましく、ドライクリーンルーム内で行うことが特に好ましい。ドライクリーンルーム内で行うことで、作製した積層体に水分が含まれるのを防ぐことができる。   There are no particular restrictions on the manufacturing method of the laminate of the first adhesive layer 2 and the first sealing substrate 1 and the laminate of the second adhesive layer 5 and the second adhesive layer 6, which are publicly known. It can be manufactured by a method. For example, the first sealing substrate 1 and the first adhesive layer 2 formed in a sheet shape, and the second sealing substrate 6 and the second adhesive layer 5 formed in a sheet shape are respectively autoclaved. Each laminated body can be produced by bonding by bonding, hot pressing, vacuum lamination, or roll lamination. These treatments may be performed in any environment, but are preferably performed in a clean room and particularly preferably performed in a dry clean room in order to avoid contamination by foreign substances. By performing it in a dry clean room, it is possible to prevent moisture from being contained in the manufactured laminate.

ラミネーションを行う際の温度は、各封止基材及び各接着層を構成する材料によって異なるが、第1の封止基材1及び第2の封止基材6が熱による変性するのを防ぐために、室温以上、150℃以下で行うことが好ましい。   The temperature at which lamination is carried out varies depending on the materials constituting each sealing substrate and each adhesive layer, but prevents the first sealing substrate 1 and the second sealing substrate 6 from being denatured by heat. In order to prevent this, it is preferable to carry out at a temperature of room temperature to 150 ° C.

また、第1の封止基材1、第2の封止基材6に、溶媒に溶解させた接着材を塗布し、乾燥させることで、各積層体を作製しても良い。塗布の方法としては、エアスプレー塗布、エアレススプレー塗布、またはロールコーターによる塗布が挙げられる。なお、生産効率の面から考えると、ロールコーターによる塗布が好ましい。いずれの場合においても、異物の混入を避けるために、クリーンルーム内で行うことが好ましく、ドライクリーンルーム内で行うことが特に好ましい。ドライクリーンルーム内で塗布を行うことで、作製した積層体に水分が含まれるのを防ぐことができる。なお、第1の封止基材1と第1の接着層2、及び第2の封止基材6と第2の接着層5は、それぞれ、積層面が同一面積であることが好ましい。   Moreover, you may produce each laminated body by apply | coating the adhesive material dissolved in the solvent to the 1st sealing base material 1 and the 2nd sealing base material 6, and making it dry. Examples of the application method include air spray application, airless spray application, and application using a roll coater. In view of production efficiency, application by a roll coater is preferable. In any case, in order to avoid mixing of foreign substances, it is preferable to perform in a clean room, particularly preferably in a dry clean room. By applying in a dry clean room, it is possible to prevent moisture from being contained in the manufactured laminate. In addition, it is preferable that the 1st sealing base material 1 and the 1st contact bonding layer 2, and the 2nd sealing base material 6 and the 2nd contact bonding layer 5 respectively have the same laminated surface.

第1の封止基材1と第1の接着層2の積層体、及び第2の封止基材6と第2の接着層5の積層体の作製は、これらの積層体が、有機薄膜太陽電池に設置される形状に加工させる前に行っても、後に行っても良いが、生産効率を高めるために、当該積層体の作製は、加工前に行うことが好ましい。   The laminated body of the first sealing substrate 1 and the first adhesive layer 2 and the laminated body of the second sealing substrate 6 and the second adhesive layer 5 are produced by using the organic thin film. Although it may be performed before or after being processed into a shape to be installed in the solar cell, the laminate is preferably manufactured before processing in order to increase production efficiency.

支持体3と有機薄膜太陽電池素子4との積層体を、第1の封止基材1と第1の接着層2との積層体、及び第2の封止基材6と第2の接着層5との積層体により封止する際には、図2に示す構成で各部材が積層されるように準備し、ロールラミネーション、或いは真空ラミネーションで貼合することで封止することができる。ラミネーション温度は、使用する材料により異なるが、第1の封止基材1、支持体3、及び第2の封止基材6が熱による変性するのを防ぐため、室温以上、150℃以下であることが好ましい。   The laminated body of the support body 3 and the organic thin film solar cell element 4, the laminated body of the 1st sealing base material 1 and the 1st contact bonding layer 2, and the 2nd sealing base material 6 and 2nd adhesion | attachment. When sealing with the laminated body with the layer 5, it can seal by preparing so that each member may be laminated | stacked by the structure shown in FIG. 2, and bonding by roll lamination or vacuum lamination. The lamination temperature varies depending on the material used, but is not less than room temperature and not more than 150 ° C. in order to prevent the first sealing substrate 1, the support 3, and the second sealing substrate 6 from being denatured by heat. Preferably there is.

なお、図3に示すように、第1の接着層2の一部と、第2の接着層5との一部が貼合され、支持体3と有機薄膜太陽電池素子4の積層体を包含するような構成とする場合は、まず有機薄膜太陽電池素子4が形成された支持体3を所定の大きさに切断し、次いでこれを包含できる大きさの第1の封止基材1と第1の接着層2との積層体、及び第2の封止基材6と第2の接着層5との積層体を準備し、図3の積層順序になるように、真空ラミネーシ
ョンなどの方法により貼合させればよい。
In addition, as shown in FIG. 3, a part of 1st contact bonding layer 2 and a part of 2nd contact bonding layer 5 are bonded, and the laminated body of the support body 3 and the organic thin film solar cell element 4 is included. In the case of such a configuration, first, the support 3 on which the organic thin-film solar cell element 4 is formed is cut into a predetermined size, and then the first sealing base material 1 and the first sealing substrate 1 having a size that can include the support 3. A laminated body with one adhesive layer 2 and a laminated body with the second sealing substrate 6 and the second adhesive layer 5 are prepared, and the lamination order of FIG. What is necessary is just to paste.

貼り合わせ環境は、特に指定されないが、異物の混入を抑えるために、クリーンルーム内で行うことが好ましく、さらには、水分が侵入するのを防止するためにドライクリーンルーム内で、当該貼合を行うことが好ましい。   Although the bonding environment is not particularly specified, it is preferably performed in a clean room in order to suppress the entry of foreign matter, and further, the bonding is performed in a dry clean room in order to prevent moisture from entering. Is preferred.

なお、支持体3と有機薄膜太陽電池素子4の積層体の封止工程は、枚葉方式で行ってもよいし、ロール・ツー・ロール方式で行ってもよいが、第1の封止基材、支持体、及び第2の封止基材がそれぞれ可撓性を有する場合は、生産性を向上させるためにも、ロール・ツー・ロール方式で行うことが好ましい。   In addition, the sealing process of the laminated body of the support body 3 and the organic thin-film solar cell element 4 may be performed by a single wafer method or a roll-to-roll method. When the material, the support, and the second sealing substrate have flexibility, it is preferable to perform the roll-to-roll method in order to improve productivity.

第1の接着層2および第2の接着層5にポリオレフィン系樹脂を使用することは製造工程上、好ましい点が複数ある。第一に、ポリオレフィン系樹脂は一般的に熱硬化型のエチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、エポキシ樹脂と違い、高温での硬化工程が不必要である。このためラミネーション時間、すなわち封止工程に要する時間を短縮できるとともに、有機薄膜太陽電池素子4を構成する各部材への熱ダメージを軽減することができる。第二に、ポリオレフィン系樹脂は疎水性材料からなるため、親水基を含むエチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、エポキシ樹脂などと比較して、樹脂の含水量が少ない。このため第1の接着層2及び第2の接着層5が有機薄膜太陽電池素子4に持ち込む微量な水分による有機薄膜太陽電池素子4へのダメージを軽減することができる。第三に、ポリオレフィン系樹脂は硬化型のエチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、エポキシ樹脂に比べて、接着後(素子封止後)の収縮率が小さい。したがって、有機薄膜太陽電池モジュールの製造工程において、硬化収縮による素子へのダメージを軽減できるとともに、大面積太陽電池モジュール作製時の支持体の反りを抑制することができる。   The use of a polyolefin-based resin for the first adhesive layer 2 and the second adhesive layer 5 has a plurality of preferable points in the manufacturing process. First, polyolefin resins generally do not require a curing step at high temperatures, unlike thermosetting ethylene-vinyl acetate copolymer resins and epoxy resins. For this reason, while being able to shorten lamination time, ie, the time which a sealing process requires, the thermal damage to each member which comprises the organic thin film solar cell element 4 can be reduced. Secondly, since the polyolefin-based resin is made of a hydrophobic material, the water content of the resin is less than that of an ethylene-vinyl acetate copolymer resin, an epoxy resin or the like containing a hydrophilic group. For this reason, the damage to the organic thin film solar cell element 4 by the trace amount water | moisture content which the 1st adhesive layer 2 and the 2nd adhesive layer 5 bring into the organic thin film solar cell element 4 can be reduced. Thirdly, the polyolefin resin has a smaller shrinkage ratio after adhesion (after element sealing) than the curable ethylene-vinyl acetate copolymer resin and epoxy resin. Therefore, in the manufacturing process of the organic thin film solar cell module, damage to the element due to curing shrinkage can be reduced, and warping of the support during the production of the large area solar cell module can be suppressed.

上述の方法により、本発明に係る有機薄膜太陽電池モジュールを形成することができる。
なお、本発明の一実施形態に係る図2に示す有機薄膜太陽電池素子について上述の通りであるが、他の実施形態に係る図4に示す有機薄膜太陽電池モジュールに関しても、各構成層は上述の各構成層で挙げた材料及び方法を用いて形成することができる。すなわち、有機薄膜太陽電池素子は一対の透明電極を有しており、接着層はポリオレフィン系樹脂を含有する。
The organic thin film solar cell module according to the present invention can be formed by the above-described method.
In addition, although it is as above-mentioned about the organic thin-film solar cell element shown in FIG. 2 which concerns on one Embodiment of this invention, each component layer is the above-mentioned also regarding the organic thin-film solar cell module shown in FIG. 4 which concerns on other embodiment. It can form using the material and method quoted by each structure layer. That is, the organic thin film solar cell element has a pair of transparent electrodes, and the adhesive layer contains a polyolefin resin.

以下、本発明の実施例を示して本発明についてさらに具体的に説明するが、本発明はその要旨を逸脱しない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
<コポリマーAの合成例>
EXAMPLES Hereinafter, although the Example of this invention is shown and this invention is demonstrated more concretely, this invention is not limited to a following example, unless it deviates from the summary.
<Synthesis example of copolymer A>

窒素下50mL二口ナスフラスコに、モノマーとして、公知文献WO2013/180243に記載の方法を参考にして得られた4,4−ビス(2−エチルヘキシル)−2,6−ビス(トリメチルスズ)−ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]シロール(化合物E1,107mg,0.144mmol)と、公知文献WO2013/180243に記載の方法を参考にして得られた4,4−ジオクチル−2,6−ビス(トリメチルスズ)−ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]シロール(化合物E2,107mg,0.144mmol))と、公知文献(Organic Letters 6巻,3381−3384ページ,2004年)に記載の方法を参考にして得られたイミドチオフェンジブロミド(化合物E3:1,3−ジブロモ−5−(n−オクチル)−4H−チエノ[3,4−c]ピロール−4,6−(5H)−ジオン,61mg,0.144mmol)と、公知文献(Organic Letters 6巻,3381−3384ページ,2004年)に記載の方法を参考にして得られたイミドチオフェンジブロミド(化合物E4:1,3−ジブロモ−5−(4−n−オクチルオキシフェニル)−4H−チエノ[3,4−c]ピロール−4,6−(5H)−ジオン,74mg,0.144mmol)、を入れ、さらにテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(10mg,3mol%)、不均一系錯体触媒Pd−EnCatTPP30(Aldrich社製,13mg,テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)の1.3重量比)、トルエン(8mL)、及びN,N−ジメチルホルムアミド(1.6mL)を入れ、90℃で1時間、続いて100℃で10時間攪拌した。反応液にトルエンを8mL加えて希釈してさらに0.5時間加熱撹拌した後、末端処理として、トリメチル(フェニル)スズ(0.4mL)を加えて2時間加熱撹拌し、さらにブロモベンゼン(4mL)を加えて8時間加熱攪拌して、反応溶液をメタノール中に注ぎ、析出した沈殿をろ取した。得られた固体をクロロホルムに溶解させ、ジアミンシリカゲル(Fujiシリシア化学製)を加えて10分室温で攪拌し、酸性シリカゲルのショートカラムを通した。溶液を濃縮し、クロロホルム/酢酸エチルを溶媒として再結晶を行い、析出した沈殿を濾別して、目的とするコポリマー10を収率65%で得た。重量平均分子量Mwは269000であり、PDIは5.0であった。   4,4-bis (2-ethylhexyl) -2,6-bis (trimethyltin) -dithieno obtained as a monomer in a 50 mL two-necked eggplant flask under nitrogen with reference to the method described in the known document WO2013 / 180243. [3,2-b: 2 ′, 3′-d] silole (Compound E1, 107 mg, 0.144 mmol) and 4,4-dioctyl- obtained by referring to the method described in the known document WO2013 / 180243 2,6-bis (trimethyltin) -dithieno [3,2-b: 2 ′, 3′-d] silole (compound E2, 107 mg, 0.144 mmol)) and known literature (Organic Letters Vol. 6, 3381- 3384, 2004) obtained by referring to the method described in Compound (E3: 1,3-dibromide). Mo-5- (n-octyl) -4H-thieno [3,4-c] pyrrole-4,6- (5H) -dione, 61 mg, 0.144 mmol) and known literature (Organic Letters Vol. 6, 3381- 3384, 2004), obtained by referring to the method described in Compound (E4: 1,3-dibromo-5- (4-n-octyloxyphenyl) -4H-thieno [3,4] -C] pyrrole-4,6- (5H) -dione, 74 mg, 0.144 mmol), tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (10 mg, 3 mol%), heterogeneous complex catalyst Pd- EnCatTPP30 (manufactured by Aldrich, 13 mg, 1.3 weight ratio of tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0)), Ene (8 mL), and N, placed N- dimethylformamide (1.6 mL), 1 hour at 90 ° C., followed by stirring for 10 hours at 100 ° C.. After adding and diluting 8 mL of toluene to the reaction solution and further heating and stirring for 0.5 hour, as a terminal treatment, trimethyl (phenyl) tin (0.4 mL) was added and stirring was continued for 2 hours, and further bromobenzene (4 mL). Was added with stirring for 8 hours, the reaction solution was poured into methanol, and the deposited precipitate was collected by filtration. The obtained solid was dissolved in chloroform, diamine silica gel (Fuji Silysia Chemical) was added, and the mixture was stirred for 10 minutes at room temperature, and passed through a short column of acidic silica gel. The solution was concentrated, recrystallized using chloroform / ethyl acetate as a solvent, and the deposited precipitate was separated by filtration to obtain the target copolymer 10 in a yield of 65%. The weight average molecular weight Mw was 269000, and PDI was 5.0.

(有機発電層インクの作製)
p型半導体化合物として合成例により得られたコポリマーAと、n型半導体化合物としてC60PCBMとC70PCBMの混合物(フロンティアカーボン社製 NanomSpectra−E123)とを、質量比が1:4となるように混合し、混合物が5.6質量%の濃度となるようにオルトキシレンとテトラリンとの混合溶媒(体積比9:1)に溶解させた。この溶液をホットスターラー上で80℃の温度にて1時間攪拌混合した。攪拌混合後の溶液をPTFEフィルターで濾過することにより、活性層形成用インクを作製した。
(Preparation of organic power generation layer ink)
Copolymer A obtained in the synthesis example as a p-type semiconductor compound and a mixture of C 60 PCBM and C 70 PCBM (Nanom Spectra-E123 manufactured by Frontier Carbon Co.) as an n-type semiconductor compound so as to have a mass ratio of 1: 4 And dissolved in a mixed solvent of ortho-xylene and tetralin (volume ratio 9: 1) so that the mixture has a concentration of 5.6% by mass. This solution was stirred and mixed on a hot stirrer at a temperature of 80 ° C. for 1 hour. The solution after stirring and mixing was filtered with a PTFE filter to prepare an ink for forming an active layer.

(電子取り出し層形成用インクの作製)
ジアクリル酸亜鉛(日本触媒社製,24g)およびエチレングリコール(和光純薬工業社製,12g)をエタノール(和光純薬工業社製,364g)に溶解させ、10分間超音波分散処理をしたのち、0.5μm径のPTFEメンブランフィルターで減圧濾過し、無色透明の電子取り出し層インクを作製した。
(Preparation of ink for forming the electron take-out layer)
Zinc diacrylate (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., 24 g) and ethylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., 12 g) were dissolved in ethanol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., 364 g) and subjected to ultrasonic dispersion treatment for 10 minutes. Filtration under reduced pressure was performed with a PTFE membrane filter having a diameter of 0.5 μm to produce a colorless and transparent electron extraction layer ink.

<実施例1:光電変換素子の封止体1の作製>
125μm厚のポリエチレンナフタレート(PEN,帝人デュポン社製) フィルム上に、インジウム・スズ酸化物(ITO)膜/銀膜/ITOのから構成される透明電極付き基板を準備し、Nd:YAGレーザー(532nm)を利用したレーザーマーカ(キーエンス社製)にて、電極パターニングを実施した。電極パターニング後、イソプロパノールを浸透させた布で基板を洗浄し、窒素ブローで乾燥させた。
<Example 1: Production of sealed element 1 of photoelectric conversion element>
125 μm thick polyethylene naphthalate (PEN, manufactured by Teijin DuPont) A transparent electrode substrate composed of indium tin oxide (ITO) film / silver film / ITO was prepared on a film, and an Nd: YAG laser ( Electrode patterning was performed with a laser marker (manufactured by Keyence Corporation) using 532 nm. After electrode patterning, the substrate was washed with a cloth impregnated with isopropanol and dried by nitrogen blowing.

洗浄した基板に、スロットダイコータを用いてウェット膜厚が6.4μmとなるように、1m/minの速度で電子取り出し層形成用インクを塗布した。電子取り出し層形成用インクを塗布した後に、基板を、大気中において150℃の条件下で20分間の加熱処理を行い、約40nmの酸化亜鉛含有層からなる電子取り出し層を形成した。   An electron extraction layer forming ink was applied to the cleaned substrate at a rate of 1 m / min using a slot die coater so that the wet film thickness was 6.4 μm. After applying the electron extraction layer forming ink, the substrate was heated in the atmosphere at 150 ° C. for 20 minutes to form an electron extraction layer composed of a zinc oxide-containing layer of about 40 nm.

次に、電子取り出し層上に、スロットダイコータを用いて、ウェット膜厚が8μmとなるように、0.4m/minの速度で活性層形成用インクを塗布した。活性層形成用インクを塗布した後に、基板を窒素雰囲気下にて 40℃×10分の加熱処理を行うことによ
り、約350nmの活性層を形成した。
Next, the active layer forming ink was applied onto the electron extraction layer at a rate of 0.4 m / min using a slot die coater so that the wet film thickness was 8 μm. After applying the ink for forming the active layer, the substrate was heated at 40 ° C. for 10 minutes in a nitrogen atmosphere to form an active layer of about 350 nm.

活性層を形成した後に、スロットダイコータを用い、0.25m/minの速度でポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)ポリ(スチレンスルホン酸)分散液(PEDOT−PSS)を塗布した。該分散液を塗布した後に、基板を窒素雰囲気下において、40℃×10分の加熱処理をすることにより、約400nmの正孔取り出し層を形成した。   After forming the active layer, a poly (3,4-ethylenedioxythiophene) poly (styrenesulfonic acid) dispersion (PEDOT-PSS) was applied at a rate of 0.25 m / min using a slot die coater. After applying the dispersion, the substrate was subjected to a heat treatment at 40 ° C. for 10 minutes in a nitrogen atmosphere to form a hole extraction layer of about 400 nm.

次に、正孔取り出し層上に、スパッタリング法により、30nmのインジウム・亜鉛酸化物(IZO)膜、8nmの銀膜、40nmのIZO膜をこの順に、成膜して透明電極を形成し、7mm角のシースルー型の光電変換素子を完成させた。   Next, a 30 nm indium / zinc oxide (IZO) film, an 8 nm silver film, and a 40 nm IZO film are formed in this order on the hole extraction layer by a sputtering method to form a transparent electrode. A corner see-through photoelectric conversion element was completed.

得られた光電変換素子に対して、0.7mm厚のガラス基板(アヴァンストレート社製
NA32SG)およびポリオレフィン樹脂シート(大日本印刷社製 Z―74)を用い、ガラス基板、ポリオレフィン樹脂シート、光電変換素子、ポリオレフィン樹脂シート、ガラス基板の順番で積層し、これを真空加熱ラミネータ(NPC社製)を用いて、130℃条件下で、真空引きを5分間行い、次に15分間の圧着によりラミネート処理し、シースルー型の光電変換素子の封止体を作製した。
For the obtained photoelectric conversion element, a 0.7 mm thick glass substrate (NA32SG manufactured by Avant Straight) and a polyolefin resin sheet (Z-74 manufactured by Dai Nippon Printing Co., Ltd.) were used, a glass substrate, a polyolefin resin sheet, and a photoelectric conversion. The element, polyolefin resin sheet, and glass substrate are stacked in this order, and this is vacuum-laminated using a vacuum heating laminator (manufactured by NPC) at 130 ° C for 5 minutes, and then laminated by pressing for 15 minutes. And the sealing body of the see-through type photoelectric conversion element was produced.

(光電変換素子の評価)
作製した光電変換素子の封止体に6mm角のメタルマスクを付け、照射光源としてエアマス(AM)1.5G、放射照度100mW/cmのソーラシミュレータを用い、ソースメーター(ケイスレー社製、2400型)により、電極間における電流−電圧特性を測定し、変換効率を算出した。得られた結果を表1に示す。
(Evaluation of photoelectric conversion element)
A 6 mm square metal mask is attached to the sealing body of the produced photoelectric conversion element, a solar simulator with an air mass (AM) of 1.5 G and an irradiance of 100 mW / cm 2 is used as an irradiation light source, and a source meter (Model 2400 manufactured by Keithley). ), Current-voltage characteristics between the electrodes were measured, and conversion efficiency was calculated. The obtained results are shown in Table 1.

(光電変換素子の耐久性評価)
恒温恒湿槽(エスペック社製)を用い、光電変換素子の封止体を85℃、相対湿度85%の条件下で100時間晒した。光電変換素子の封止体を常温に戻した後に、上記と同様の装置・方法にて、電極間における電流−電圧特性を測定し、変換効率を算出した。得られた結果を表1に示す。
(Durability evaluation of photoelectric conversion elements)
Using a thermo-hygrostat (manufactured by Espec Corp.), the sealed body of the photoelectric conversion element was exposed for 100 hours under the conditions of 85 ° C. and relative humidity of 85%. After returning the sealing body of the photoelectric conversion element to room temperature, the current-voltage characteristics between the electrodes were measured by the same apparatus and method as described above, and the conversion efficiency was calculated. The obtained results are shown in Table 1.

<比較例1:光電変換素子の封止体2の作製>
ポリオレフィン樹脂シート(大日本印刷社製 Z―74)の代わりに、エチレン・酢酸ビニル共重合樹脂シート(EVA,シーアイ化成社製 UFHCE−400)を用いて、ガラス基板、エチレン・酢酸ビニル共重合樹脂シート、光電変換素子、エチレン・酢酸ビニル共重合樹脂シート、ガラス基板の順番で積層したこと、及びラミネート処理の際の圧着時間を25分としたこと以外は、実施例1と同様の方法により光電変換素子の封止体2を作製し、実施例1と同様の方法により評価した。得られた結果を表1に示す。
<Comparative Example 1: Production of sealed element 2 of photoelectric conversion element>
Instead of the polyolefin resin sheet (Dai Nippon Printing Co., Ltd. Z-74), an ethylene / vinyl acetate copolymer resin sheet (EVA, UF Kasei UFHCE-400) was used to make a glass substrate, ethylene / vinyl acetate copolymer resin. Sheets, photoelectric conversion elements, ethylene / vinyl acetate copolymer resin sheets, glass substrates were laminated in that order, and the photoelectric bonding was performed in the same manner as in Example 1 except that the crimping time during the lamination process was 25 minutes. The sealing element 2 of the conversion element was produced and evaluated by the same method as in Example 1. The obtained results are shown in Table 1.

表1において、維持率とは、初期変換効率に対する耐久試験後の変換効率の維持率を意味する。すなわち、維持率=(耐久試験後の変換効率/初期変換効率)×100%として算出した。   In Table 1, the maintenance rate means the maintenance rate of the conversion efficiency after the durability test with respect to the initial conversion efficiency. That is, the maintenance factor was calculated as (conversion efficiency after durability test / initial conversion efficiency) × 100%.

表1に示すように、実施例1により得られた光電変換素子の封止体は、比較例1により得られた光電変換素子の封止体と比較して、初期値として高い光電変換効率を示した。さらに、比較例1においては、耐久性試験後に変換効率が低下しているのに対して、実施例1においては耐久性試験後も変換効率の低下が少ないことが分かる。この理由としては、比較例1において使用した接着層であるエチレン−酢酸ビニル共重合体は、熱硬化後の収縮が大きく、接着層と直接接触する透明電極が封止工程時にダメージを受けてしまい、変換効率が低下していると考えられる。また高温高湿耐久性試験後の特性の差は実施例と比較例では顕著であり、これは本発明における封止構成にて、高い耐水性を確保できていることによる。その第一の理由としては、ポリオレフィン樹脂の疎水性が挙げられ、透湿度がエチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂に比べて大幅に小さいため、ポリオレフィン樹脂を用いた場合、封止端部からの侵入水蒸気が光電変換素子に到達する速度をきわめて遅くできるためである。また第二の理由として、ポリオレフィン樹脂自身の耐湿性が挙げられる。エチレン−酢酸ビニル共重合は高温高湿下で加水分解が起こる可能性があり、接着性の低下やまた加水分解の結果として生じる酸による腐食が起こりうるが、ポリオレフィン樹脂ではこうした心配がない。以上の結果として、本発明における封止構成にてポリオレフィン樹脂を用いた場合には、高い耐久性を達成できる。   As shown in Table 1, the photoelectric conversion element sealing body obtained in Example 1 has a higher photoelectric conversion efficiency as an initial value than the photoelectric conversion element sealing body obtained in Comparative Example 1. Indicated. Furthermore, in Comparative Example 1, it can be seen that the conversion efficiency decreases after the durability test, whereas in Example 1, the conversion efficiency decreases little after the durability test. The reason for this is that the ethylene-vinyl acetate copolymer, which is the adhesive layer used in Comparative Example 1, has a large shrinkage after thermosetting, and the transparent electrode in direct contact with the adhesive layer is damaged during the sealing process. It is considered that the conversion efficiency is lowered. Further, the difference in characteristics after the high temperature and high humidity durability test is remarkable between the examples and the comparative examples, and this is due to the fact that high water resistance can be secured by the sealing configuration of the present invention. The first reason is the hydrophobicity of the polyolefin resin, and the moisture permeability is much smaller than that of the ethylene-vinyl acetate copolymer resin. This is because the speed at which water vapor reaches the photoelectric conversion element can be extremely slow. A second reason is the moisture resistance of the polyolefin resin itself. Ethylene-vinyl acetate copolymer may be hydrolyzed at high temperature and high humidity, and the adhesiveness may be deteriorated or corrosion by acid as a result of hydrolysis may occur. However, polyolefin resin does not have such a concern. As a result, when the polyolefin resin is used in the sealing configuration according to the present invention, high durability can be achieved.

1 第1の封止基材
2 第1の接着層
3 支持体
4 有機薄膜太陽電池素子
5 第2の接着層
6 第2の封止基材
101 下部電極
102 電子取り出し層
103 有機光電変換層
104 正孔取り出し層
105 上部電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st sealing base material 2 1st contact bonding layer 3 Support body 4 Organic thin film solar cell element 5 2nd contact bonding layer 6 2nd sealing base material 101 Lower electrode 102 Electron extraction layer 103 Organic photoelectric converting layer 104 Hole extraction layer 105 Upper electrode

Claims (5)

支持体と、有機薄膜太陽電池素子と、接着層と、封止基材と、をこの順に有する有機薄膜太陽電池素子であって、
前記有機薄膜太陽電池モジュールは一対の透明電極を有し、
前記接着層はポリオレフィン系樹脂を含有することを特徴とする有機薄膜太陽電池モジュール。
An organic thin film solar cell element having a support, an organic thin film solar cell element, an adhesive layer, and a sealing substrate in this order,
The organic thin film solar cell module has a pair of transparent electrodes,
The said adhesion layer contains polyolefin resin, The organic thin film solar cell module characterized by the above-mentioned.
第1の封止基材と、第1の接着層と、支持体と、有機薄膜太陽電池素子と、第2の接着層と、第2の封止基材と、をこの順に有する有機薄膜太陽電池モジュールであって、
前記有機薄膜太陽電池素子は一対の透明電極を有し、
前記第1の接着層と前記第2の接着層とがポリオレフィン系樹脂を含有することを特徴とする有機薄膜太陽電池モジュール。
The organic thin film solar which has a 1st sealing base material, a 1st contact bonding layer, a support body, an organic thin film solar cell element, a 2nd contact bonding layer, and a 2nd sealing base material in this order. A battery module,
The organic thin film solar cell element has a pair of transparent electrodes,
The organic thin film solar cell module, wherein the first adhesive layer and the second adhesive layer contain a polyolefin-based resin.
前記有機薄膜太陽電池素子が、前記第1の接着層の端部と前記第2の接着層の端部とが貼り合わされて、前記第1の接着層及び前記第2の接着層により包覆されていることを特徴とする請求項2に記載の有機薄膜太陽電池モジュール。   The organic thin film solar cell element is covered with the first adhesive layer and the second adhesive layer by bonding the end of the first adhesive layer and the end of the second adhesive layer together. The organic thin film solar cell module according to claim 2, wherein 前記第1の封止基材及び前記第2の封止基材がガラス基材であることを特徴とする請求項2又は3に記載の有機薄膜太陽電池モジュール。   The organic thin-film solar cell module according to claim 2 or 3, wherein the first sealing substrate and the second sealing substrate are glass substrates. 前記第1の接着層及び前記第2の接着層の膜厚50μmあたりの水蒸気透過率が20g/m2/day以下であることを特徴とする請求項2〜4のいずれか1項に記載の有機薄
膜太陽電池モジュール。
5. The water vapor transmission rate per 50 μm thickness of each of the first adhesive layer and the second adhesive layer is 20 g / m 2 / day or less. 5. Organic thin-film solar cell module.
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