JP2015166335A - Method for producing epoxy compound and catalyst composition for epoxidation reaction - Google Patents

Method for producing epoxy compound and catalyst composition for epoxidation reaction Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing an epoxy compound without needing a cumbersome purification process and the like where, in production of the epoxy compound, a content of heavy metals such as tungsten is extremely small, further preferably a content of a nitrogen-containing compound derived from an onium salt is small, and further more preferably a content of chlorine is small.SOLUTION: Provided is a method for producing an epoxy compound comprising epoxidizing a carbon-carbon double bond of a compound having a carbon-carbon double bond by reacting the same with hydrogen peroxide in the presence of at least either of a tungsten compound and a molybdenum compound, and an onium salt. The onium salt has four or more acyloxy groups of 1 to 4 carbon atoms and a total carbon number of the onium salt is 20 or more.

Description

本発明は、エポキシ化合物の製造方法及びそれに用いる新規のエポキシ化反応用触媒組成物に関する。   The present invention relates to a method for producing an epoxy compound and a novel catalyst composition for epoxidation reaction used therefor.

エポキシ化合物は、エポキシ樹脂の原料となるエポキシモノマーや、各種化学製品の原料として幅広く利用されている。
近年、電子部品、光学部品の高性能化に伴い、これに用いられるエポキシ樹脂及びその原料となるエポキシモノマー等のエポキシ化合物の高純度化が求められている。特に電子部品用途では、ハロゲン化合物が配線の腐食の原因となるため、エポキシ化合物の低ハロゲン化、特に低塩素化が求められている。
Epoxy compounds are widely used as epoxy monomers as raw materials for epoxy resins and as raw materials for various chemical products.
In recent years, with the improvement in performance of electronic parts and optical parts, there has been a demand for higher purity of epoxy compounds such as epoxy resins and epoxy monomers used as raw materials thereof. In particular, in the use of electronic parts, since halogen compounds cause corrosion of wiring, it is required to reduce the halogen of epoxy compounds, particularly to reduce chlorination.

従来、エポキシ化合物の製造方法として、目的のエポキシ化合物に対応するアルコール化合物やフェノール化合物に、エピクロロヒドリンを作用させ、グリシジルエーテルとする方法が一般的であった。
しかし、上記方法はエポキシ化合物の低ハロゲン化には不向きである。その理由は次のとおりである。エピクロルヒドリンに由来する塩素原子が、得られたエポキシ化合物と化学的に結合した有機塩素化合物になり、該エポキシ化合物中に、不純物として混入する。そのためエポキシ化合物中に含まれる塩素の濃度が高くなり、具体的には通常1000ppm以上程度含まれる。このような塩素濃度の高いエポキシ化合物(エポキシモノマー)を原料とするエポキシ樹脂を、例えばIC封止材に使用した場合には、高集積化による回路の微細化により配線の腐食、断線がおきやすくなるという問題があった。
Conventionally, as a method for producing an epoxy compound, a method in which epichlorohydrin is allowed to act on an alcohol compound or a phenol compound corresponding to the target epoxy compound to form a glycidyl ether has been common.
However, the above method is not suitable for reducing the halogen content of epoxy compounds. The reason is as follows. A chlorine atom derived from epichlorohydrin becomes an organic chlorine compound chemically bonded to the obtained epoxy compound, and is mixed as an impurity in the epoxy compound. Therefore, the concentration of chlorine contained in the epoxy compound becomes high, and specifically, it is usually contained at about 1000 ppm or more. When an epoxy resin made from such an epoxy compound (epoxy monomer) with a high chlorine concentration is used as an IC encapsulant, for example, wiring corrosion and disconnection are likely to occur due to circuit miniaturization due to high integration. There was a problem of becoming.

そのためエピクロルヒドリンを用いないエポキシ化方法が求められている。その製造方法として、アリルアルコールを、パラジウム触媒等の金属触媒を用いてフェノール類と縮合し、アリルエーテルとした後、過酸化物を用いてエポキシ化合物を得る方法が提唱されている(特許文献1)。
また、塩素含有量の低いアリルエーテル類を製造し、このアリルエーテル類を酸化してエポキシ化合物に変換し、塩素含有量の低いグリシジルエーテルを合成する方法も近年開発されている。(例えば、特許文献2及び3参照)
これらの製造方法において用いられるエポキシ化反応には、アンモニウム塩等のオニウム塩類と、タングステン化合物及びモリブデン化合物類のうち少なくとも一方を触媒組成物として共存させ、過酸化水素を酸化剤(エポキシ化剤)として用いる方法が知られている。
Therefore, there is a need for an epoxidation method that does not use epichlorohydrin. As a production method thereof, a method has been proposed in which allyl alcohol is condensed with phenols using a metal catalyst such as a palladium catalyst to form an allyl ether, and then an epoxy compound is obtained using a peroxide (Patent Document 1). ).
In recent years, a method for producing allyl ethers having a low chlorine content, oxidizing the allyl ethers to convert them into epoxy compounds, and synthesizing a glycidyl ether having a low chlorine content has been developed. (For example, see Patent Documents 2 and 3)
In the epoxidation reaction used in these production methods, an onium salt such as an ammonium salt and at least one of a tungsten compound and a molybdenum compound coexist as a catalyst composition, and hydrogen peroxide is an oxidizing agent (epoxidizing agent). The method used as is known.

このエポキシ化反応は、副生成物が水のみであることから、過酢酸に代表される有機過酸化物によるエポキシ化反応と比べ、廃棄物の少ないクリーンな反応である。また、30〜45質量%過酸化水素水を用いるため、入手が容易で取り扱いが簡便である。更に、このエポキシ化反応は、アルキル基やアルコキシル基を有する芳香族を酸化することなく、アリル基を選択的に酸化することができる。また、このエポキシ化反応は、アリルエーテル以外の炭素−炭素二重結合を有する化合物(オレフィン化合物)のエポキシ化にも適用できるため、グリシジルエーテル類以外のエポキシ化合物全般、即ちエポキシ環を有する環状脂肪族化合物、スチレンオキサイド類等の合成に適した有用な反応である。   This epoxidation reaction is a clean reaction with less waste compared to an epoxidation reaction with an organic peroxide typified by peracetic acid because the by-product is only water. Moreover, since 30-45 mass% hydrogen peroxide water is used, acquisition is easy and handling is simple. Furthermore, this epoxidation reaction can selectively oxidize an allyl group without oxidizing an aromatic group having an alkyl group or an alkoxyl group. In addition, since this epoxidation reaction can be applied to epoxidation of a compound (olefin compound) having a carbon-carbon double bond other than allyl ether, all epoxy compounds other than glycidyl ethers, that is, cyclic fat having an epoxy ring. This is a useful reaction suitable for the synthesis of group compounds, styrene oxides and the like.

しかしながら、このエポキシ化反応において、通常触媒として共存させるオニウム塩は、塩化メチルトリオクチルアンモニウム塩等の長鎖アルキル基を有するアンモニウム塩や、セチルピリジニウム塩等の長鎖アルキル基を有するピリジニウム塩を使用して調製され
る。しかし前記長鎖アルキル基を有するオニウム塩は、有機溶媒への分配率が高く、反応後に有機相に溶解しているエポキシ化合物と、触媒組成物由来の成分、具体的にはタングステンや、オニウム塩、オニウム塩由来の含窒素化合物との分離、精製が極めて困難であるという問題がある。さらにタングステンや含窒素化合物等を、再結晶や懸洗といった方法により除去すると、エポキシ化合物の精製収率(回収率)が低いという問題がある。
However, in this epoxidation reaction, the onium salt that usually coexists as a catalyst uses an ammonium salt having a long chain alkyl group such as methyltrioctylammonium chloride or a pyridinium salt having a long chain alkyl group such as cetylpyridinium salt. Prepared. However, the onium salt having a long-chain alkyl group has a high distribution ratio to an organic solvent, and an epoxy compound dissolved in the organic phase after the reaction and a component derived from the catalyst composition, specifically tungsten or onium salt. However, there is a problem that separation and purification from an onium salt-derived nitrogen-containing compound is extremely difficult. Furthermore, when tungsten, nitrogen-containing compounds, and the like are removed by a method such as recrystallization or hanging washing, there is a problem that the purification yield (recovery rate) of the epoxy compound is low.

そのため、得られるエポキシ化合物中に、タングステンやモリブデンといった触媒由来の重金属成分や、オニウム塩等のイオン性化合物が残留する。これらはエポキシ化合物からエポキシ樹脂を製造した際にも残留し、製品に悪影響を及ぼすことがあった。
具体的には、エポキシ化合物中にタングステン等の重金属が残存した場合、そのエポキシ化合物を用いて製造したエポキシ樹脂は、高温条件下で放置した場合、着色が著しくなることが報告されている(例えば、特許文献4参照)。また、そのエポキシ樹脂を電子材料に用いた場合、エポキシ化合物中に残留した塩素等のハロゲンは配線の腐食の原因となり、残留した金属や、オニウム塩等のイオン性化合物は配線の短絡や腐食の原因となる。
Therefore, heavy metal components derived from catalysts such as tungsten and molybdenum and ionic compounds such as onium salts remain in the resulting epoxy compound. These remained even when an epoxy resin was produced from an epoxy compound, and the product could be adversely affected.
Specifically, when heavy metals such as tungsten remain in an epoxy compound, it is reported that an epoxy resin produced using the epoxy compound is markedly colored when left under high temperature conditions (for example, , See Patent Document 4). In addition, when the epoxy resin is used as an electronic material, halogen such as chlorine remaining in the epoxy compound causes corrosion of the wiring, and residual metal and ionic compounds such as onium salts cause short circuit or corrosion of the wiring. Cause.

この問題を解決する方法として、いくつかの精製や除去方法が報告されている(例えば特許文献5〜9)。   As a method for solving this problem, several purification and removal methods have been reported (for example, Patent Documents 5 to 9).

特表平10−511721号公報Japanese National Patent Publication No. 10-511721 特開2011−213716号公報JP 2011-213716 A 国際公開第2011/019061号International Publication No. 2011/019061 特開2009−185274号公報JP 2009-185274 A 特開2010−70480号公報JP 2010-70480 A 特開2010−235649号公報JP 2010-235649 A 特開2002−69079号公報JP 2002-69079 A 特開2001−17863号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2001-17863 特開2013−112639号公報JP 2013-1112639 A

しかし上記のような従来のいずれの方法によっても、タングステン等の重金属成分やオニウム塩由来の含窒素化合物の少ないエポキシ化合物を製造することは困難であった。
本発明は、エポキシ化合物の製造において、タングステン等の重金属含有量が極めて少ない、好ましくはさらにオニウム塩由来の含窒素化合物量(以下、単に窒素含有量という)の少ない、より好ましくはさらに塩素含有量の少ないエポキシ化合物を、煩雑な精製工程等を要さずに製造する方法を提供することを課題とする。
However, it is difficult to produce an epoxy compound with a small amount of nitrogen-containing compounds derived from heavy metal components such as tungsten and onium salts by any of the conventional methods as described above.
In the production of an epoxy compound according to the present invention, the content of heavy metals such as tungsten is extremely small, preferably the content of nitrogen-containing compounds derived from onium salts (hereinafter simply referred to as nitrogen content), more preferably the content of chlorine. It is an object of the present invention to provide a method for producing an epoxy compound having a small amount without requiring a complicated purification step.

本発明者は、触媒として共存させるオニウム塩に、除去が容易な化合物に変換可能な構造を導入するという新しい概念を組み込み、化合物を設計し、エポキシ化反応に用いた。
具体的には、活性水素を含む官能基またはその塩に変換可能な置換基を、分子内に少なくとも1つ以上有しているオニウム塩を共存させて反応を行った。その結果、目的とするエポキシ化合物が得られ、エポキシ化反応後に活性水素を含む官能基またはその塩に変換したところ、エポキシ化合物とエポキシ化剤由来成分とが分離され、純度の高いエポキシ化合物が得られることを見出した。
The inventor incorporated a new concept of introducing a structure that can be converted into a compound that can be easily removed into an onium salt that coexists as a catalyst, designed the compound, and used it in the epoxidation reaction.
Specifically, the reaction was carried out in the presence of an onium salt having at least one substituent in the molecule that can be converted into a functional group containing active hydrogen or a salt thereof. As a result, the desired epoxy compound was obtained and converted to a functional group containing active hydrogen or a salt thereof after the epoxidation reaction. As a result, the epoxy compound and the component derived from the epoxidizing agent were separated to obtain a highly pure epoxy compound. I found out that

本発明者は発明を完成させ、PCT/JP2013/059401として特許出願している。この際、当該オニウム塩の調製プロセスが煩雑であったり、オニウム塩の調製にハ
ロゲン化合物を用いていた。また、当該オニウム塩はエポキシ化反応後、活性水素を含む官能基またはその塩に変換し、分離した後に再生する事が困難であった。
しかし本発明者のさらなる検討により、前記活性水素を含む官能基またはその塩に変換可能な置換基として、特定の構造を有するものを使用することにより、ハロゲン化合物を用いることなく、効率的にオニウム塩を調製でき、かつ、当該オニウム塩が繰り返し使用できることを見出し、本発明を完成するに至った。
The inventor has completed the invention and has filed a patent application as PCT / JP2013 / 059401. At this time, the process for preparing the onium salt is complicated, or a halogen compound is used for preparing the onium salt. In addition, after the epoxidation reaction, the onium salt is difficult to regenerate after being converted into a functional group containing active hydrogen or a salt thereof and separated.
However, as a result of further studies by the present inventor, by using a substituent having a specific structure as a substituent that can be converted into the functional group containing active hydrogen or a salt thereof, an onium can be efficiently obtained without using a halogen compound. The present inventors have found that a salt can be prepared and that the onium salt can be used repeatedly, thereby completing the present invention.

即ち、本発明の要旨は、下記に存する。
[1]タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方と、オニウム塩との存在下、炭素−炭素二重結合を有する化合物の炭素−炭素二重結合に過酸化水素を反応させてエポキシ化するエポキシ化合物の製造方法であって、
前記オニウム塩が、炭素数1〜4のアシルオキシ基を4つ以上又はベンジルオキシ基を1つ以上有し、かつ前記オニウム塩が有する全炭素数が20以上であることを特徴とするエポキシ化合物の製造方法。
[2]前記オニウム塩が、下記一般式(1)〜(3)のいずれかで表わされる化合物であることを特徴とする上記[1]に記載のエポキシ化合物の製造方法。
That is, the gist of the present invention is as follows.
[1] An epoxy compound that is epoxidized by reacting hydrogen peroxide with a carbon-carbon double bond of a compound having a carbon-carbon double bond in the presence of at least one of a tungsten compound and a molybdenum compound and an onium salt. A manufacturing method comprising:
An epoxy compound, wherein the onium salt has 4 or more acyloxy groups having 1 to 4 carbon atoms or one or more benzyloxy groups, and the onium salt has a total carbon number of 20 or more. Production method.
[2] The method for producing an epoxy compound according to the above [1], wherein the onium salt is a compound represented by any one of the following general formulas (1) to (3).

Figure 2015166335
Figure 2015166335

上記一般式(1)において、
〜Rは、それぞれ独立して置換基を有していてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基を表わし、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよく、いずれか2以上が結合して環を形成していてもよい。またR〜Rの少なくとも1つは、炭素数1〜4のアシルオキシ基又はベンジルオキシ基を1つ以上有する。
In the general formula (1),
R 1 to R 4 each independently represents an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms, and some of the carbon atoms may be substituted with hetero atoms, Any two or more may be bonded to form a ring. At least one of R 1 to R 4 has one or more acyloxy groups or benzyloxy groups having 1 to 4 carbon atoms.

上記一般式(2)において
は、置換基を有していてもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基を表す。
〜R10は、それぞれ独立して置換基を有していてもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基、N−アルキルカルバモイル基、又はN−アルキルスルファモイル基を表わす。
In the general formula (2), R 5 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent and a part of carbon atoms may be substituted with a hetero atom.
R 6 to R 10 may each independently have a substituent, and a part of carbon atoms may be substituted with a hetero atom, a C 1-25 aliphatic hydrocarbon group, a hydrogen atom , A halogen atom, a cyano group, a nitro group, a phenyl group, a phenoxy group, a benzyl group, an N-alkylcarbamoyl group, or an N-alkylsulfamoyl group.

またR〜R10は、いずれか2以上が結合して環を形成していてもよく、少なくとも1つは、炭素数1〜4のアシルオキシ基又はベンジルオキシ基を1つ以上置換基として有する。
上記一般式(3)において
11及びR13は、それぞれ独立して置換基を有していてもよく、一部の炭素原子が
ヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基を表わす。
In addition, any one or more of R 5 to R 10 may be bonded to form a ring, and at least one of them has one or more acyloxy groups or benzyloxy groups having 1 to 4 carbon atoms as substituents. .
In the general formula (3), R 11 and R 13 may each independently have a substituent, and a part of carbon atoms may be substituted with a hetero atom, and the fatty acid having 1 to 25 carbon atoms. Represents a hydrocarbon group.

12、R14、及びR15は、それぞれ独立して置換基を有していてもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基、N−アルキルカルバモイル基、又はN−アルキルスルファモイル基を表わす。
11〜R15は、いずれか2以上が結合して環を形成していてもよく、少なくとも1つの基は、炭素数1〜4のアシルオキシ基又はベンジルオキシ基を1つ以上置換基として有する。
R 12 , R 14 , and R 15 may each independently have a substituent, and a C 1-25 aliphatic hydrocarbon in which some of the carbon atoms may be substituted with a hetero atom A group, a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a phenyl group, a phenoxy group, a benzyl group, an N-alkylcarbamoyl group, or an N-alkylsulfamoyl group;
Any one or more of R 11 to R 15 may be bonded to form a ring, and at least one group has one or more acyloxy groups or benzyloxy groups having 1 to 4 carbon atoms as substituents. .

は、アニオンを表わす。
[3]タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方と、オニウム塩との存在下、炭素−炭素二重結合を有する化合物の炭素−炭素二重結合に過酸化水素を反応させてエポキシ化するエポキシ化合物の製造方法であって、
前記オニウム塩が、下記一般式(4)で表わされる化合物であることを特徴とするエポキシ化合物の製造方法。
X represents an anion.
[3] An epoxy compound that is epoxidized by reacting hydrogen peroxide with a carbon-carbon double bond of a compound having a carbon-carbon double bond in the presence of at least one of a tungsten compound and a molybdenum compound and an onium salt. A manufacturing method comprising:
The said onium salt is a compound represented by following General formula (4), The manufacturing method of the epoxy compound characterized by the above-mentioned.

Figure 2015166335
Figure 2015166335

上記一般式(4)において、
16及びR17は、それぞれ独立して置換基を有していてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基を表わし、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよく、またそれぞれが結合して環を形成していてもよい。
18及びR20は、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の脂肪族炭化水素基を表わし、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい。
In the general formula (4),
R 16 and R 17 each independently represent an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and some of the carbon atoms may be substituted with heteroatoms; In addition, each may be bonded to form a ring.
R 18 and R 20 represent an optionally substituted divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and some of the carbon atoms may be substituted with hetero atoms.

19及びR21は、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基を表わす。
k、mはそれぞれ独立に1〜5の整数を表わし、k、mがそれぞれ2以上のとき、複数のR19及びR21はそれぞれ同一であっても、異なっていてもよい。
Y及びZは、それぞれ独立にハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基、N−アルキルカルバモイル基、又はN−アルキルスルファモイル基を表わし、pは0≦p≦5−kの整数を表わし、qは0≦q≦5−mの整数を表わす。Xは、アニオンを表わす。
[4]前記エポキシ化を、リン酸類及びホスホン酸類の少なくとも一方の共存下で行なうことを特徴とする、上記[1]〜[3]のいずれかに記載のエポキシ化合物の製造方法。[5]前記エポキシ化を、前記タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方を含む水相と、前記炭素−炭素二重結合を有する化合物を含む有機相とからなる二相系
溶液中で行なうことを特徴とする上記[1]〜[4]のいずれかに記載のエポキシ化合物の製造方法。
[6]前記水相のpHが、2以上6以下であることを特徴とする、上記[5]に記載のエポキシ化合物の製造方法。
[7]前記エポキシ化を、キレート化剤の共存下で行なうことを特徴とする、上記[1]〜[6]のいずれかに記載のエポキシ化合物の製造方法、
[8]前記炭素−炭素二重結合を有する化合物が、エポキシ化をする前に酸性水溶液で洗浄処理されたものであることを特徴とする、上記[1]〜[7]のいずれかに記載のエポキシ化合物の製造方法。
[9]前記炭素−炭素二重結合を有する化合物が、エポキシ化をする前にキレート化剤で洗浄処理されたものであることを特徴とする、上記[1]〜[8]のいずれかに記載のエポキシ化合物の製造方法。
[10]前記オニウム塩が、炭素数1〜4のアシルオキシ基を4つ以上有し、かつ前記炭素−炭素二重結合を有する化合物をエポキシ化した後に、前記オニウム塩を塩基性化合物で加溶媒分解する工程をさらに有することを特徴とする、上記[1]、[2]、[4]〜[9]のいずれかに記載のエポキシ化合物の製造方法。
[11]前記加溶媒分解工程後に、加溶媒分解されたオスニウム塩を再生する工程を有することを特徴とする、上記[10]に記載のエポキシ化合物の製造方法。
[12]前記オニウム塩が、ベンジルオキシ基を1つ以上有するものであり、かつ前記炭素−炭素二重結合を有する化合物をエポキシ化した後に、該オニウム塩を接触水素化する工程をさらに有することを特徴とする、上記[1]、[2]、[4]〜[9]のいずれかに記載のエポキシ化合物の製造方法。
[13]前記炭素−炭素二重結合を有する化合物をエポキシ化した後に、前記オニウム塩を塩基性化合物で加溶媒分解する工程をさらに有することを特徴とする、上記[3]〜[9]のいずれかに記載のエポキシ化合物の製造方法。
[14]エポキシ化合物を重合してエポキシ樹脂を製造する方法であって、上記[1]〜[13]のいずれかに記載の方法でエポキシ化合物を製造する工程と、前記工程で得られたエポキシ化合物を重合する工程を含むことを特徴とする、エポキシ樹脂の製造方法。
[15]下記一般式(4)で表わされるオニウム塩。
R 19 and R 21 represent an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
k and m each independently represent an integer of 1 to 5, and when k and m are each 2 or more, the plurality of R 19 and R 21 may be the same or different.
Y and Z each independently represent a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a phenyl group, a phenoxy group, a benzyl group, an N-alkylcarbamoyl group, or an N-alkylsulfamoyl group, and p is 0 ≦ p ≦ 5. -K represents an integer, and q represents an integer of 0 ≦ q ≦ 5-m. X represents an anion.
[4] The method for producing an epoxy compound according to any one of [1] to [3], wherein the epoxidation is performed in the presence of at least one of phosphoric acids and phosphonic acids. [5] The epoxidation is performed in a two-phase solution comprising an aqueous phase containing at least one of the tungsten compound and molybdenum compound and an organic phase containing the compound having a carbon-carbon double bond. The method for producing an epoxy compound according to any one of the above [1] to [4].
[6] The method for producing an epoxy compound according to the above [5], wherein the pH of the aqueous phase is 2 or more and 6 or less.
[7] The method for producing an epoxy compound according to any one of the above [1] to [6], wherein the epoxidation is performed in the presence of a chelating agent,
[8] The compound according to any one of [1] to [7], wherein the compound having a carbon-carbon double bond is washed with an acidic aqueous solution before epoxidation. A method for producing an epoxy compound.
[9] Any of the above [1] to [8], wherein the compound having a carbon-carbon double bond is washed with a chelating agent before epoxidation. The manufacturing method of the epoxy compound of description.
[10] After the onium salt has 4 or more acyloxy groups having 1 to 4 carbon atoms and epoxidizes the compound having the carbon-carbon double bond, the onium salt is solvated with a basic compound. The method for producing an epoxy compound according to any one of the above [1], [2], and [4] to [9], further comprising a step of decomposing.
[11] The method for producing an epoxy compound according to the above [10], comprising a step of regenerating the solvated osmium salt after the solvolysis step.
[12] The onium salt further includes a step of catalytically hydrogenating the onium salt after epoxidizing the compound having one or more benzyloxy groups and having the carbon-carbon double bond. The method for producing an epoxy compound according to any one of [1], [2], and [4] to [9] above.
[13] The process according to any one of [3] to [9] above, further comprising a step of solvating the onium salt with a basic compound after epoxidizing the compound having a carbon-carbon double bond The manufacturing method of the epoxy compound in any one.
[14] A method for producing an epoxy resin by polymerizing an epoxy compound, the step of producing an epoxy compound by the method according to any one of the above [1] to [13], and the epoxy obtained in the step The manufacturing method of an epoxy resin characterized by including the process of superposing | polymerizing a compound.
[15] An onium salt represented by the following general formula (4).

Figure 2015166335
Figure 2015166335

上記一般式(4)において、
16及びR17は、それぞれ独立して置換基を有していてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基を表わし、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよく、またそれぞれが結合して環を形成していてもよい。
18及びR20は、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の脂肪族炭化水
素基を表わし、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい。
In the general formula (4),
R 16 and R 17 each independently represent an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and some of the carbon atoms may be substituted with heteroatoms; In addition, each may be bonded to form a ring.
R 18 and R 20 represent an optionally substituted divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and some of the carbon atoms may be substituted with hetero atoms.

19及びR21は、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基を表わす。
k、mはそれぞれ独立に1〜5の整数を表わし、k、mがそれぞれ2以上のとき、複数のR19及びR21はそれぞれ同一であっても、異なっていてもよい。
Y及びZは、それぞれ独立にハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基、N−アルキルカルバモイル基、又はN−アルキルスルファモイル基を表わし、pは0≦p≦5−kの整数を表わし、qは0≦q≦5−mの整数を表わす。
R 19 and R 21 represent an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
k and m each independently represent an integer of 1 to 5, and when k and m are each 2 or more, the plurality of R 19 and R 21 may be the same or different.
Y and Z each independently represent a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a phenyl group, a phenoxy group, a benzyl group, an N-alkylcarbamoyl group, or an N-alkylsulfamoyl group, and p is 0 ≦ p ≦ 5. -K represents an integer, and q represents an integer of 0 ≦ q ≦ 5-m.

は、アニオンを表わす。
[16]前記一般式(4)において、R16、R17、R18及びR20が有する全炭素数が14以下であり、かつR19及びR21が有する全炭素数が6以上であることを特徴とする上記[15]に記載のオニウム塩。
[17]タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方と、下記一般式(1)〜(4)で表わされる少なくとも1つのオニウム塩とを含むエポキシ化反応用触媒組成物。
X represents an anion.
[16] In general formula (4), R 16 , R 17 , R 18 and R 20 have a total carbon number of 14 or less, and R 19 and R 21 have a total carbon number of 6 or more. The onium salt according to [15], wherein
[17] A catalyst composition for epoxidation reaction comprising at least one of a tungsten compound and a molybdenum compound and at least one onium salt represented by the following general formulas (1) to (4).

Figure 2015166335
Figure 2015166335

上記一般式(1)において、
〜Rは、それぞれ独立して置換基を有していてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基を表わし、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよく、いずれか2以上が結合して環を形成していてもよい。またR〜Rの少なくとも1つは、炭素数1〜4のアシルオキシ基又はベンジルオキシ基を1つ以上有する。
In the general formula (1),
R 1 to R 4 each independently represents an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms, and some of the carbon atoms may be substituted with hetero atoms, Any two or more may be bonded to form a ring. At least one of R 1 to R 4 has one or more acyloxy groups or benzyloxy groups having 1 to 4 carbon atoms.

上記一般式(2)において
は、置換基を有していてもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基を表す。
〜R10は、それぞれ独立して置換基を有していてもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基、N−アルキルカルバモイル基、又はN−アルキルスルファモイル基を表わす。
In the general formula (2), R 5 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent and a part of carbon atoms may be substituted with a hetero atom.
R 6 to R 10 may each independently have a substituent, and a part of carbon atoms may be substituted with a hetero atom, a C 1-25 aliphatic hydrocarbon group, a hydrogen atom , A halogen atom, a cyano group, a nitro group, a phenyl group, a phenoxy group, a benzyl group, an N-alkylcarbamoyl group, or an N-alkylsulfamoyl group.

またR〜R10は、いずれか2以上が結合して環を形成していてもよく、少なくとも1つは、炭素数1〜4のアシルオキシ基又はベンジルオキシ基を1つ以上置換基として有する。
上記一般式(3)において
11及びR13は、それぞれ独立して置換基を有していてもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基を表わす。
In addition, any one or more of R 5 to R 10 may be bonded to form a ring, and at least one of them has one or more acyloxy groups or benzyloxy groups having 1 to 4 carbon atoms as substituents. .
In the general formula (3), R 11 and R 13 may each independently have a substituent, and a part of carbon atoms may be substituted with a hetero atom, and the fatty acid having 1 to 25 carbon atoms. Represents a hydrocarbon group.

12、R14、及びR15は、それぞれ独立して置換基を有していてもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基、N−アルキルカルバモイル基、又はN−アルキルスルファモイル基を表わす。
11〜R15は、いずれか2以上が結合して環を形成していてもよく、少なくとも1つの基は、炭素数1〜4のアシルオキシ基又はベンジルオキシ基を1つ以上置換基として有する。
R 12 , R 14 , and R 15 may each independently have a substituent, and a C 1-25 aliphatic hydrocarbon in which some of the carbon atoms may be substituted with a hetero atom A group, a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a phenyl group, a phenoxy group, a benzyl group, an N-alkylcarbamoyl group, or an N-alkylsulfamoyl group;
Any one or more of R 11 to R 15 may be bonded to form a ring, and at least one group has one or more acyloxy groups or benzyloxy groups having 1 to 4 carbon atoms as substituents. .

上記一般式(4)において、
16及びR17は、それぞれ独立して置換基を有していてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基を表わし、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよく、またそれぞれが結合して環を形成していてもよい。
18及びR20は、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の脂肪族炭化水素基を表わし、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい。
In the general formula (4),
R 16 and R 17 each independently represent an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and some of the carbon atoms may be substituted with heteroatoms; In addition, each may be bonded to form a ring.
R 18 and R 20 represent an optionally substituted divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and some of the carbon atoms may be substituted with hetero atoms.

19及びR21は、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基を表わす。
k、mはそれぞれ独立に1〜5の整数を表わし、k、mがそれぞれ2以上のとき、複数のR19及びR21はそれぞれ同一であっても、異なっていてもよい。
Y及びZは、それぞれ独立にハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基、N−アルキルカルバモイル基、又はN−アルキルスルファモイル基を表わし、pは0≦p≦5−kの整数を表わし、qは0≦q≦5−mの整数を表わす。
R 19 and R 21 represent an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
k and m each independently represent an integer of 1 to 5, and when k and m are each 2 or more, the plurality of R 19 and R 21 may be the same or different.
Y and Z each independently represent a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a phenyl group, a phenoxy group, a benzyl group, an N-alkylcarbamoyl group, or an N-alkylsulfamoyl group, and p is 0 ≦ p ≦ 5. -K represents an integer, and q represents an integer of 0 ≦ q ≦ 5-m.

は、アニオンを表わす。 X represents an anion.

本発明の製造方法によれば、タングステン等の金属不純物の含有量が極めて少ないエポキシ化合物を得ることができる。またオニウム塩由来の窒素化合物及び塩素の含有量が極めて少ない高純度のエポキシ化合物を、煩雑な精製等の工程を要さず、簡便な方法で製造することを可能とする。
さらには、蒸留や結晶化精製ができないようなエポキシ化合物の製造にも適用でき、汎用性に優れる。本発明の方法で得られたエポキシ化合物を電子材料、光学材料等及び医農薬の原料として使用した場合、不純物に起因する問題が低減し、高純度、高品質な製品を得ることができる。
According to the production method of the present invention, an epoxy compound having a very small content of metal impurities such as tungsten can be obtained. In addition, it is possible to produce a high-purity epoxy compound having a very small content of nitrogen compound and chlorine derived from an onium salt by a simple method without requiring complicated steps such as purification.
Furthermore, it can be applied to the production of an epoxy compound that cannot be distilled or crystallized and is excellent in versatility. When the epoxy compound obtained by the method of the present invention is used as a raw material for electronic materials, optical materials, and medical and agricultural chemicals, problems due to impurities are reduced, and a product with high purity and high quality can be obtained.

そして特定の置換基を有するオニウム塩を使用することにより、オニウム塩を回収し、繰り返し利用することが可能となり、製造効率を向上させることができる。
また本発明のオニウム塩を用いることにより、タングステン等の金属不純物の含有量が
極めて少ないエポキシ化合物を得ることができる。またオニウム塩由来の窒素化合物及び塩素の含有量が極めて少ない高純度のエポキシ化合物を得ることができ、また再生して利用することができるため、製造効率が大きく、環境負荷を下げることができる。
And by using the onium salt which has a specific substituent, it becomes possible to collect | recover onium salt and to utilize repeatedly, and to improve manufacturing efficiency.
Further, by using the onium salt of the present invention, an epoxy compound having an extremely small content of metal impurities such as tungsten can be obtained. In addition, since a high-purity epoxy compound having an extremely small content of nitrogen compounds and chlorine derived from an onium salt can be obtained and regenerated and used, the production efficiency is high and the environmental load can be reduced.

また活性水素を含む官能基またはその塩に変換可能な置換基を、分子内に少なくとも1つ以上有しているオニウム塩は、エポキシ化反応に限らず、種々の酸化反応においても適用可能で、アルデヒド、カルボン酸、スルホン化合物等の合成に有用である。   An onium salt having at least one functional group containing active hydrogen or a salt that can be converted to a salt thereof in the molecule is not limited to epoxidation reaction, and can be applied in various oxidation reactions. It is useful for the synthesis of aldehydes, carboxylic acids, sulfone compounds and the like.

以下、本発明の実施の形態について更に詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施態様の一例であり、本発明はこれらの内容に限定されるものではなく、その要旨の範囲で種々変形して実施することができる。
本発明のエポキシ化合物の製造方法は、その第一の態様として、炭素−炭素二重結合を有する化合物(以下、「オレフィン化合物」と称することがある。)に、タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方と、炭素数1〜4のアシルオキシ基を4つ以上又はベンジルオキシ基を1つ以上有し、かつ前記オニウム塩の有する全炭素数が20以上であるオニウム塩との存在下、過酸化水素を反応させることを特徴とする。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail. However, the description of the constituent elements described below is an example of embodiments of the present invention, and the present invention is not limited to these contents. Various modifications can be made within the scope of the gist.
The first aspect of the method for producing an epoxy compound of the present invention is a compound having a carbon-carbon double bond (hereinafter sometimes referred to as “olefin compound”), and at least one of a tungsten compound and a molybdenum compound. Hydrogen peroxide in the presence of four or more acyloxy groups having 1 to 4 carbon atoms or one or more benzyloxy groups and the onium salt having a total carbon number of 20 or more. It is made to react.

また第二の態様として、オレフィン化合物に、タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方と、上記一般式(4)に記載のオニウム塩との存在下、過酸化水素を反応させることを特徴とする。
なお、本明細書において、「タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方」を「触媒金属」ということがあり、「炭素数1〜4のアシルオキシ基を4つ以上又はベンジルオキシ基を1つ以上有し、かつ炭素原子を20以上含むオニウム塩」及び「一般式(4)で表される化合物」を単に「オニウム塩」といい、前記「触媒金属」と「オニウム塩」を含むものを「エポキシ化反応用触媒組成物」又は単に「触媒組成物」といい、前記触媒組成物が、過酸化水素により酸化されたものを、「活性触媒」ということがある。
In a second aspect, the olefin compound is reacted with hydrogen peroxide in the presence of at least one of a tungsten compound and a molybdenum compound and the onium salt described in the general formula (4).
In this specification, “at least one of tungsten compound and molybdenum compound” is sometimes referred to as “catalyst metal”, and “having four or more acyloxy groups having 1 to 4 carbon atoms or one or more benzyloxy groups. In addition, “onium salts containing 20 or more carbon atoms” and “compounds represented by the general formula (4)” are simply referred to as “onium salts”, and those containing the above “catalyst metals” and “onium salts” are referred to as “epoxidation” The catalyst composition for reaction is simply referred to as “catalyst composition” or simply “catalyst composition”, and the catalyst composition oxidized with hydrogen peroxide is sometimes referred to as “active catalyst”.

(タングステン化合物及びモリブデン化合物)
本発明において用いられる触媒金属としてのタングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方は、炭素−炭素二重結合を有する化合物の炭素−炭素二重結合を、過酸化水素を用いてエポキシ化する際に、過酸化水素と共に反応系内に存在することで触媒として作用する金属種である。以下、タングステン化合物及びモリブデン化合物を「触媒金属」ともいう。
(Tungsten compounds and molybdenum compounds)
At least one of a tungsten compound and a molybdenum compound as a catalyst metal used in the present invention is a catalyst that is used when a carbon-carbon double bond of a compound having a carbon-carbon double bond is epoxidized with hydrogen peroxide. It is a metal species that acts as a catalyst by being present in the reaction system together with hydrogen oxide. Hereinafter, the tungsten compound and the molybdenum compound are also referred to as “catalyst metal”.

上記タングステン化合物は、タングステンを含有し、上記の触媒としての作用を有するものであれば特に限定はされないが、具体的にはタングステン酸やその塩等(以下、これらを「タングステン酸類」と総称する)等が挙げられる。
前記タングステン酸類としては、具体的には例えば、タングステン酸;タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム等のタングステン酸塩;前記タングステン酸塩の水和物;12−タングストリン酸、18−タングストリン酸等のリンタングステン酸;12−タングストケイ酸等のケイタングステン酸;12−タングストホウ酸または金属タングステン等が挙げられ、タングステン酸、タングステン酸塩、リンタングステン酸が好ましく、入手しやすさの点で、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カルシウム、12−タングストリン酸がより好ましい。
The tungsten compound is not particularly limited as long as it contains tungsten and has an effect as the above catalyst, but specifically, tungstic acid and its salts (hereinafter these are collectively referred to as “tungstic acids”). ) And the like.
Specific examples of the tungstic acids include tungstic acid; tungstates such as sodium tungstate, potassium tungstate, calcium tungstate, and ammonium tungstate; hydrates of the tungstates; 12-tungstophosphoric acid Phosphotungstic acid such as 18-tungstophosphoric acid; silicotungstic acid such as 12-tungstosilicic acid; 12-tungstoboric acid or metallic tungsten, etc. In this respect, tungstic acid, sodium tungstate, calcium tungstate, and 12-tungstophosphoric acid are more preferable.

上記モリブデン化合物は、モリブデンを含有し、上記の触媒としての作用を有するものであれば特に限定はされないが、具体的にはモリブデン酸やその塩等(以下、これらを「モリブデン酸類」と総称する)等が挙げられる。
前記モリブデン酸類としては、モリブデン酸;モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム等のモリブデン酸塩;前記モリブデン酸塩の水和物が挙げられる。
The molybdenum compound is not particularly limited as long as it contains molybdenum and has an effect as the above-mentioned catalyst. Specifically, molybdic acid or a salt thereof (hereinafter collectively referred to as “molybdic acids”). ) And the like.
Examples of the molybdic acids include molybdic acid; molybdates such as sodium molybdate, potassium molybdate, and ammonium molybdate; and hydrates of the molybdates.

上記タングステン化合物及びモリブデン化合物の中では、入手しやすさの点で、タングステン化合物が好ましく、タングステン酸類、即ちタングステン酸ナトリウム及びその水和物、タングステン酸カルシウム及びその水和物がより好ましい。
本発明における触媒金属は、単独又は2種以上を適宜組み合わせて使用することができる。前記触媒金属の使用量は、使用する前記オレフィン化合物等の性質により適宜調整することができ、特に限定されるものではないが、通常、前記オレフィン化合物中に含まれる炭素−炭素二重結合のモル数(前記オレフィン化合物中に含まれる炭素−炭素二重結合の数に前記オレフィン化合物1分子のモル数を乗じたもの)に対して触媒金属原子(例えばタングステン化合物を用いる場合はタングステン原子)に換算して、通常0.001モル以上、好ましくは0.005モル以上、より好ましくは0.01モル以上であり、通常1.0モル以下、好ましくは0.50モル以下、より好ましくは0.10モル以下である。前記範囲内に調整することで、反応が進行しやすく、また経済性がよいためである。
Among the tungsten compounds and molybdenum compounds, tungsten compounds are preferable in terms of availability, and tungstic acids, that is, sodium tungstate and its hydrate, calcium tungstate and its hydrate are more preferable.
The catalyst metals in the present invention can be used alone or in combination of two or more. The amount of the catalyst metal used can be appropriately adjusted depending on the properties of the olefin compound and the like to be used, and is not particularly limited, but is usually a mole of carbon-carbon double bonds contained in the olefin compound. Converted to catalytic metal atoms (for example, tungsten atoms when tungsten compounds are used) with respect to the number (the number of carbon-carbon double bonds contained in the olefin compound multiplied by the number of moles of one molecule of the olefin compound) And usually 0.001 mol or more, preferably 0.005 mol or more, more preferably 0.01 mol or more, and usually 1.0 mol or less, preferably 0.50 mol or less, more preferably 0.10. It is below the mole. This is because the reaction is likely to proceed and the economy is good by adjusting within the above range.

前記触媒金属を用いる際には、オレフィン化合物と反応系内で混合して用いても、予め反応系外でオレフィン化合物と混合してから用いてもよく、また前記混合の際に、後述する過酸化水素を併せて混合し、触媒金属を活性化させてから用いることもできる。また後述するオニウム塩、有機溶媒、及びその他の添加物も併せて適宜混合して用いることもできる。   When the catalyst metal is used, it may be used after being mixed with the olefin compound in the reaction system, or after being previously mixed with the olefin compound outside the reaction system. Hydrogen oxide may be mixed and mixed to activate the catalyst metal before use. Further, an onium salt, an organic solvent, and other additives, which will be described later, can be appropriately mixed and used.

(過酸化水素)
本発明で用いる過酸化水素は、通常は過酸化水素水を用いる。
過酸化水素水を用いる場合、その濃度は特に限定されないが、通常1重量%以上、好ましくは20質量%以上、通常60質量%以下であり、より好ましくは、入手のしやすさや生産性、運搬コスト等を考慮すると、30質量%以上、45質量%以下である。
(hydrogen peroxide)
As the hydrogen peroxide used in the present invention, a hydrogen peroxide solution is usually used.
When hydrogen peroxide water is used, its concentration is not particularly limited, but is usually 1% by weight or more, preferably 20% by weight or more and usually 60% by weight or less, and more preferably, availability, productivity, transportation Considering the cost and the like, it is 30% by mass or more and 45% by mass or less.

反応系中に水を添加したり、過酸化水素を逐次添加することにより、反応時に系内の過酸化水素濃度を低く保つことが、安全性、生産性の面から更に好ましい。
過酸化水素の使用量は、オレフィン化合物の反応性等に応じ適宜調整することができ、特に限定はされないが、前記オレフィン化合物のモル数にオレフィン化合物1分子中に有する炭素−炭素二重結合の数を乗じた値に対し、通常0.5倍モル以上、好ましくは1倍モル以上、通常10倍モル以下、好ましくは3倍モル以下を用いる。前記範囲内の使用量であれば、生産性よく、効率のよいエポキシ化ができるためである。
なお、ここでいう「使用量」は、前記オレフィン化合物からエポキシ化合物を製造する際に使用する過酸化水素の総量をいう。
From the viewpoint of safety and productivity, it is more preferable to keep the hydrogen peroxide concentration in the system low during the reaction by adding water to the reaction system or sequentially adding hydrogen peroxide.
The amount of hydrogen peroxide used can be appropriately adjusted according to the reactivity of the olefin compound, and is not particularly limited. However, the number of moles of the olefin compound includes the number of carbon-carbon double bonds in one molecule of the olefin compound. The amount multiplied by the number is usually 0.5 times mol or more, preferably 1 time mol or more, usually 10 times mol or less, preferably 3 times mol or less. This is because if the amount used is within the above range, the epoxidation can be performed efficiently and efficiently.
The “use amount” here refers to the total amount of hydrogen peroxide used in producing an epoxy compound from the olefin compound.

(オニウム塩)
本発明において用いられるオニウム塩は、炭素数1〜4のアシルオキシ基を4つ以上又はベンジルオキシ基を1つ以上有し、かつ炭素原子を20以上(全炭素数が20以上)有するもの(第一の態様のオニウム塩)、又は一般式(4)で表される化合物(第二の態様のオニウム塩)である。
前記オニウム塩は、炭素原子を20個以上(全炭素数20以上)含むので、エポキシ化反応時には脂溶性であり、反応溶媒に可溶であり、かつ水相と有機相に分離した場合は有機相側に分配する。また、前記オニウム塩は、エポキシ化反応条件下で安定、または、エポキシ化反応中に構造が変化しても触媒能が著しく低下しない性質を有する。
(Onium salt)
The onium salt used in the present invention has four or more acyloxy groups having 1 to 4 carbon atoms or one or more benzyloxy groups, and has 20 or more carbon atoms (total carbon number of 20 or more). Onium salt of one embodiment) or a compound represented by the general formula (4) (onium salt of the second embodiment).
Since the onium salt contains 20 or more carbon atoms (total carbon number of 20 or more), it is liposoluble during the epoxidation reaction, soluble in the reaction solvent, and organic when separated into an aqueous phase and an organic phase. Distribute to the phase side. The onium salt is stable under epoxidation reaction conditions, or has a property that the catalytic ability is not significantly reduced even if the structure is changed during the epoxidation reaction.

該オニウム塩は、前記触媒金属及び過酸化水素と混合して用いることで、活性型のエポ
キシ化触媒を形成すると考えられる。具体的には、該オニウム塩は、前記触媒金属と複合体を形成し、好ましくは後述するリン酸類及びホスホン酸類のうち少なくとも一方との複合体を形成し、該複合体が過酸化水素によって酸化されることで、反応活性の高い活性型のエポキシ化触媒(活性触媒)になると考えられる。
前記活性触媒は、脂溶性であり、エポキシ化反応の際には、通常、必要に応じて用いられる溶媒に、前記オレフィン化合物とともに安定に溶解する。
It is considered that the onium salt forms an active epoxidation catalyst by mixing with the catalyst metal and hydrogen peroxide. Specifically, the onium salt forms a complex with the catalytic metal, and preferably forms a complex with at least one of phosphoric acids and phosphonic acids described later, and the complex is oxidized by hydrogen peroxide. By doing so, it is considered that an active epoxidation catalyst (active catalyst) with high reaction activity is obtained.
The active catalyst is fat-soluble, and normally dissolves together with the olefin compound in a solvent used as needed during the epoxidation reaction.

<第一の態様のオニウム塩>
第一の態様のオニウム塩は、炭素数1〜4のアシルオキシ基を4つ以上又はベンジルオキシ基を1つ以上有し、かつ炭素原子を20以上(全炭素数が20以上)有するものである。これらは、活性水素を含む官能基またはその塩に変換可能な置換基として、炭素数1〜4のアシルオキシ基又はベンジルオキシ基を含む。以下、炭素数1〜4のアシルオキシ基を含むオニウム塩を「アシル化オニウム塩」、ベンジルオキシ基を含むオニウム塩を「ベンジル化オニウム塩」と略す。
<Onium salt of the first aspect>
The onium salt of the first aspect has 4 or more acyloxy groups having 1 to 4 carbon atoms or one or more benzyloxy groups, and 20 or more carbon atoms (total carbon number is 20 or more). . These include a C1-C4 acyloxy group or benzyloxy group as a substituent which can be converted into a functional group containing active hydrogen or a salt thereof. Hereinafter, an onium salt containing an acyloxy group having 1 to 4 carbon atoms is abbreviated as “acylated onium salt”, and an onium salt containing a benzyloxy group is abbreviated as “benzylated onium salt”.

アシルオキシ基は、塩基性溶液と接触させることで、簡便に、かつ、エポキシ基を分解することなく、加溶媒分解され、水洗等の簡便な処理で除去可能な、水酸基を有するオニウム塩とカルボン酸基及びそれらの塩、またはカルボン酸エステルに分解でき、合成も簡便である。さらに炭素数1〜4のアシルオキシ基は、酸無水物等を作用させることにより、容易に再生し、再利用することが可能である。   Acyloxy group is solvated and decomposed easily by contact with a basic solution without decomposing the epoxy group, and can be removed by simple treatment such as washing with water. It can be decomposed into a group and a salt thereof, or a carboxylic acid ester, and the synthesis is also simple. Furthermore, an acyloxy group having 1 to 4 carbon atoms can be easily regenerated and reused by the action of an acid anhydride or the like.

また炭素数1〜4のアシルオキシ基を4つ以上有することで、脂溶性が向上するため、オレフィン化合物を含む有機相に効率よく分配される。
他方、ベンジルオキシ基は、脂溶性が高く、還元、好ましくは接触水素化により、簡便に、かつエポキシ基を分解することなく、水酸基、及びその塩に変換できる。また、中性〜酸性条件下で接触還元を行うため、塩基条件下で分解するエステル基を有するエポキシ化合物の製造に適している。
Moreover, since fat solubility improves by having four or more C1-C4 acyloxy groups, it distributes efficiently to the organic phase containing an olefin compound.
On the other hand, a benzyloxy group has high fat solubility, and can be converted into a hydroxyl group and a salt thereof simply and without decomposition of an epoxy group by reduction, preferably catalytic hydrogenation. Moreover, since catalytic reduction is performed under neutral to acidic conditions, it is suitable for the production of an epoxy compound having an ester group that decomposes under basic conditions.

第一の態様のオニウム塩のカチオン種(以下、単に「オニウム」という)としては、通常アンモニウムや、ピリジニウム、イミダゾリニウム等の含窒素ヘテロ環の4級カチオン、ホスホニウム等が挙げられる。すなわち、オニウム塩としては、アンモニウム塩、ピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩及びホスホニウム塩等が挙げられる。好ましくは合成が簡便である点でアンモニウム塩、ピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩が用いられる。   Examples of the cationic species of the onium salt of the first embodiment (hereinafter simply referred to as “onium”) include ammonium, quaternary cations of nitrogen-containing heterocycles such as pyridinium and imidazolinium, and phosphonium. That is, examples of the onium salt include ammonium salts, pyridinium salts, imidazolinium salts, and phosphonium salts. Ammonium salts, pyridinium salts, and imidazolinium salts are preferably used because they are easily synthesized.

第一の態様のオニウム塩のアニオン種Xは、特に限定はされないが、具体的には硫酸水素イオン、モノメチル硫酸イオン、ハロゲン化物イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、炭酸水素イオン、リン酸二水素イオン、スルホン酸イオン、カルボン酸イオン、水酸化物イオン等1価のアニオン、リン酸水素イオン、硫酸イオン等の2価のアニオンが挙げられ、調整が容易である点から1価のアニオンが好ましい。このうちアニオン種が反応生成物であるエポキシ化合物のエポキシ基や原料化合物であるオレフィン化合物の炭素−炭素二重結合に付加しない点や、調製が容易である点からモノメチル硫酸イオン、硫酸水素イオン、酢酸イオン、リン酸二水素イオン又は水酸化物イオンが好ましい。なおアニオン種は単独でも2種以上適宜組み合わせて使用してもよい。 The anion species X of the onium salt of the first embodiment is not particularly limited, but specifically, hydrogen sulfate ion, monomethyl sulfate ion, halide ion, nitrate ion, acetate ion, hydrogen carbonate ion, dihydrogen phosphate Examples include monovalent anions such as ions, sulfonate ions, carboxylate ions, and hydroxide ions, and divalent anions such as hydrogen phosphate ions and sulfate ions, and monovalent anions are preferred in terms of easy adjustment. . Of these, monomethyl sulfate ion, hydrogen sulfate ion from the point that the anion species is not added to the epoxy group of the epoxy compound that is the reaction product or the carbon-carbon double bond of the olefin compound that is the raw material compound, or because it is easy to prepare. Acetate ions, dihydrogen phosphate ions or hydroxide ions are preferred. The anionic species may be used alone or in combination of two or more.

第一の態様のオニウム塩としては、具体的には下記一般式(1)〜(3)で表わされるオニウム塩が好ましい。   Specifically, the onium salt of the first aspect is preferably an onium salt represented by the following general formulas (1) to (3).

Figure 2015166335
Figure 2015166335

上記一般式(1)において、R〜Rは、それぞれ独立して置換基を有していてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基を表わす。炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状、分岐状、環状構造のいずれでもよい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ドデカニル基、ペンタデカニル基等の直鎖脂肪族炭化水素基、これらにさらにアルキル鎖が結合した分岐脂肪族炭化水素、及びシクロヘキシル等の環状脂肪族炭化水素基が挙げられる。 In the general formula (1), R 1 ~R 4 represent independently of carbon atoms 1 to 25 which may have a substituent aliphatic hydrocarbon group. The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms may be linear, branched or cyclic. Specifically, a straight chain aliphatic hydrocarbon group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a dodecanyl group, or a pentadecanyl group, and a branched chain in which an alkyl chain is further bonded thereto. Examples include aliphatic hydrocarbons and cyclic aliphatic hydrocarbon groups such as cyclohexyl.

このうち、炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基が好ましい。
また炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基は、その一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい。具体的にはメチレン基が、−O−、−S−、−SO−、−SO−、−NH−、−NR27−(R27は炭素数1〜25の1価の脂肪族炭化水素基、又は1価の芳香族炭化水素基を表す)、−CONR28−(R28は水素原子、炭素数1〜25の1価の脂肪族炭化水素基、又は1価の芳香族炭化水素基を表す)、―NHCONH−、―CONHCO−、−SONR28−(R28は前述と同義)等のヘテロ原子を含む構造に置換されていてもよい。
Among these, a C1-C18 aliphatic hydrocarbon group is preferable.
Moreover, as for a C1-C25 aliphatic hydrocarbon group, the one part carbon atom may be substituted by the hetero atom. Specifically, the methylene group is —O—, —S—, —SO—, —SO 2 —, —NH—, —NR 27 — (R 27 is a monovalent aliphatic hydrocarbon having 1 to 25 carbon atoms. Group, or a monovalent aromatic hydrocarbon group), —CONR 28 — (R 28 is a hydrogen atom, a monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms, or a monovalent aromatic hydrocarbon group) ), —NHCONH—, —CONHCO—, —SO 2 NR 28 — (R 28 has the same meaning as described above), and the like, may be substituted.

上記炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基は、置換基を有していてもよいが、通常R〜Rの少なくとも1つは、炭素数1〜4のアシルオキシ基又はベンジルオキシ基を1つ以上置換基として有する。1つの炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基は、前記アシルオキシ基又はベンジルオキシ基を置換基として1つだけ有していても複数有していてもよい。
具体的には炭素数1〜4のアシルオキシ基を置換基として有する場合、1つの炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基中に、アシルオキシ基を1〜4個、またはそれ以上有していてもよい。
The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms may have a substituent, but usually at least one of R 1 to R 4 represents an acyloxy group or benzyloxy group having 1 to 4 carbon atoms. One or more substituents are included. One aliphatic hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms may have only one or plural acyloxy groups or benzyloxy groups as a substituent.
Specifically, when an acyloxy group having 1 to 4 carbon atoms is used as a substituent, 1 to 4 or more acyloxy groups are contained in one aliphatic hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms. Also good.

さらにR〜Rは、いずれか2以上が結合してピロリジン環、ピペリジン環等の環を形成していてもよい。
〜Rが、アシルオキシ基を置換基として有する場合、例えば、アセトキシエチル基、2,3−ジアセトキシプロピル基、2,3−プロピオニルオキシプロピル基が挙げられ、このうち安価な資材から簡便に合成でき、再生も容易である2,3−ジアセトキシプロピル基が好ましい。
Furthermore, any one or more of R 1 to R 4 may be bonded to form a ring such as a pyrrolidine ring or a piperidine ring.
When R 1 to R 4 have an acyloxy group as a substituent, examples include an acetoxyethyl group, a 2,3-diacetoxypropyl group, and a 2,3-propionyloxypropyl group. A 2,3-diacetoxypropyl group that can be easily synthesized and regenerated is preferable.

〜Rが、ベンジルオキシ基を置換基として有する場合、例えば、ベンジルオキシエチル基、t−ブチルベンジルオキシエチル基、トリフェニルメチルオキシエチル基等が挙げられ、このうち接触水添後、減圧乾燥することにより芳香族部位が簡便に除去できるベンジルオキシエチル基が好ましい。
〜Rのうち、アシルオキシ基及びベンジルオキシ基を置換基として有さない基の
置換基は、好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデカニル基、ペンタデカニル基等の直鎖脂肪族炭化水素基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、2−エトキシエトキシエチル基等の直鎖脂肪族炭化水素エーテル基、R〜Rのいずれか2つの基が結合してピロリジン環、ピペリジン環を形成しているものが挙げられる。
When R 1 to R 4 have a benzyloxy group as a substituent, examples thereof include a benzyloxyethyl group, a t-butylbenzyloxyethyl group, a triphenylmethyloxyethyl group, and the like. A benzyloxyethyl group from which an aromatic moiety can be easily removed by drying under reduced pressure is preferred.
Among R 1 to R 4, the substituent of a group that does not have an acyloxy group and a benzyloxy group as a substituent is preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, a dodecanyl group, A linear aliphatic hydrocarbon group such as a pentadecanyl group, a linear aliphatic hydrocarbon ether group such as a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, or a 2-ethoxyethoxyethyl group, or any two groups of R 1 to R 4 are bonded. And pyrrolidine ring and piperidine ring.

上記一般式(2)において、Rは、置換基を有していてもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基を表す。Rは、上記一般式(1)におけるR〜Rと同義である。
〜R10は、それぞれ独立してR〜Rと同義の置換基を有していてもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基、又は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基、N−アルキルカルバモイル基、及びN−アルキルスルファモイル基から選ばれる少なくとも1つを表わす。
In the above general formula (2), R 5 represents a C 1-25 aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent and a part of carbon atoms may be substituted with a hetero atom. . R 5 has the same meaning as R 1 to R 4 in the general formula (1).
R 6 to R 10 may each independently have a substituent having the same meaning as R 1 to R 4, and some of the carbon atoms may have 1 to 25 carbon atoms optionally substituted with a heteroatom. Represents an aliphatic hydrocarbon group or at least one selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a phenyl group, a phenoxy group, a benzyl group, an N-alkylcarbamoyl group, and an N-alkylsulfamoyl group; .

またR〜R10は、いずれか2以上が結合してキノリン環等の環を形成していてもよい。
またR〜R10は、その少なくとも1つは、炭素数1〜4のアシルオキシ基又はベンジルオキシ基を1つ以上置換基として有する。
がアシルオキシ基又はベンジルオキシ基を置換基として有する場合は、上記R〜Rと同様である。またR〜R10がアシルオキシ基又はベンジルオキシ基を置換基として有する場合は、一般式(2)のピリジン環に直接置換基として有していても、アルキル基等の置換基に対する置換基として有していてもよく、その場合は1つだけでも複数有していてもよい。
In addition, any one or more of R 5 to R 10 may be bonded to form a ring such as a quinoline ring.
Moreover, at least one of R 5 to R 10 has one or more acyloxy groups or benzyloxy groups having 1 to 4 carbon atoms as substituents.
When R 5 has an acyloxy group or a benzyloxy group as a substituent, it is the same as R 1 to R 4 above. Moreover, when R < 6 > -R < 10 > has an acyloxy group or a benzyloxy group as a substituent, even if it has as a direct substituent in the pyridine ring of General formula (2), as a substituent with respect to substituents, such as an alkyl group, You may have, and in that case, you may have only one or more.

〜R10のうちアシルオキシ基及びベンジルオキシ基を置換基として有さない基の置換基は、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデカニル基、ペンタデカニル基等の直鎖脂肪族炭化水素基である。
上記一般式(3)において
11及びR13は、それぞれ独立して置換基を有していてもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基を表わす。R11及びR13は上記R〜Rと同義である。
Among R 6 to R 10, the substituent of the group having no acyloxy group and benzyloxy group as a substituent is preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, or dodecanyl. Group, a linear aliphatic hydrocarbon group such as a pentadecanyl group.
In the general formula (3), R 11 and R 13 may each independently have a substituent, and a part of carbon atoms may be substituted with a hetero atom, and the fatty acid having 1 to 25 carbon atoms. Represents a hydrocarbon group. R 11 and R 13 have the same meanings as R 1 to R 4 described above.

12、R14、及びR15は、それぞれ独立して置換基を有していてもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基、又は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基、N−アルキルカルバモイル基、及びN−アルキルスルファモイル基から選ばれる少なくとも1つを表わし、上記一般式(2)におけるR〜R10と同義である。 R 12 , R 14 , and R 15 may each independently have a substituent, and a C 1-25 aliphatic hydrocarbon in which some of the carbon atoms may be substituted with a hetero atom Or at least one selected from a hydrogen atom, halogen atom, cyano group, nitro group, phenyl group, phenoxy group, benzyl group, N-alkylcarbamoyl group, and N-alkylsulfamoyl group, It is synonymous with R < 6 > -R < 10 > in (2).

11〜R15は、いずれか2以上が結合して環を形成していてもよい。
またR11〜R15の少なくとも1つの基は、炭素数1〜4のアシルオキシ基又はベンジルオキシ基を1つ以上置換基として有する。
11及びR13がアシルオキシ基又はベンジルオキシ基を置換基として有する場合は、上記R〜Rと同様である。
Any one or more of R 11 to R 15 may be bonded to form a ring.
Further, at least one group of R 11 to R 15 has one or more acyloxy groups or benzyloxy groups having 1 to 4 carbon atoms as a substituent.
When R 11 and R 13 have an acyloxy group or a benzyloxy group as a substituent, they are the same as R 1 to R 5 described above.

12、R14、及びR15がアシルオキシ基又はベンジルオキシ基を置換基として有する場合は、上記一般式(2)におけるR〜R10と同様である。
12、R14、及びR15のうちアシルオキシ基及びベンジルオキシ基を置換基として有さない基についてはR〜R10と同様である。
は、オニウム塩のアニオンを表す。アニオン種は特に限定はされないが、通常は1
価のアニオン、2価のアニオン等が挙げられる。具体的には硫酸水素イオン、モノメチル硫酸イオン、ハロゲン化物イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、炭酸水素イオン、リン酸二水素イオン、スルホン酸イオン、カルボン酸イオン、水酸化物イオン等の1価のアニオン、リン酸水素イオン、硫酸イオン等の2価のアニオンが挙げられ、調製が容易である点から一価のアニオンが好ましく、このうちアニオン種が反応生成物であるエポキシ化合物のエポキシ基や原料化合物であるオレフィン化合物の炭素−炭素二重結合に付加しない点や、調製が容易である点からモノメチル硫酸イオン、硫酸水素イオン、酢酸イオン、リン酸二水素イオン又は水酸化物イオンが好ましい。
When R 12 , R 14 , and R 15 have an acyloxy group or a benzyloxy group as a substituent, they are the same as R 6 to R 10 in the general formula (2).
Among R 12 , R 14 , and R 15, a group that does not have an acyloxy group and a benzyloxy group as a substituent is the same as R 6 to R 10 .
X represents an anion of an onium salt. The anionic species is not particularly limited, but is usually 1
A valent anion, a divalent anion, and the like. Specifically, monovalent anions such as hydrogen sulfate ion, monomethyl sulfate ion, halide ion, nitrate ion, acetate ion, hydrogen carbonate ion, dihydrogen phosphate ion, sulfonate ion, carboxylate ion and hydroxide ion Divalent anions such as hydrogen phosphate ion and sulfate ion are preferred, and monovalent anions are preferred from the viewpoint of easy preparation. Among them, epoxy groups and raw material compounds of epoxy compounds whose anion species is a reaction product Monomethyl sulfate ion, hydrogen sulfate ion, acetate ion, dihydrogen phosphate ion or hydroxide ion is preferable from the viewpoint of not adding to the carbon-carbon double bond of the olefin compound and the ease of preparation.

本発明において用いられるオニウム塩として、より好ましいものとしては、具体的には以下の一般式(5)や(6)のようなものが挙げられる。   More preferred examples of the onium salt used in the present invention include the following general formulas (5) and (6).

Figure 2015166335
Figure 2015166335

上記一般式(5)において、R29及びR30はそれぞれ独立に、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜24のアルキル基又はベンジル基を表わし、炭素数1〜24のアルキル基が好ましい。具体的な置換基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、デカニル基、ドデカニル基、ヘキサデカニル基、オクタデカニル基等がより好ましい。このうちR29及びR30の炭素数の合計が10以上であることが好ましい。 In the above general formula (5), R 29 and R 30 each independently represent an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms or a benzyl group in which some carbon atoms may be substituted with hetero atoms, and 1 carbon atom. ~ 24 alkyl groups are preferred. As specific substituents, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, a decanyl group, a dodecanyl group, a hexadecanyl group, an octadecanyl group, and the like are more preferable. Of these, the total number of carbon atoms of R 29 and R 30 is preferably 10 or more.

31及びR32は、それぞれ独立に一部の炭素がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜11のアルキレン基を表わし、炭素数1〜5のアルキレン基がより好ましく、メチレン基が入手容易な資材から簡便に合成できるため、さらに好ましい。
33、R34としては、炭素数1〜4のアルキル基を表し、メチル基又はエチル基が好ましい。これらの置換基を有するアシルオキシ基は、加溶媒してエポキシ化合物と分離した後、無水酢酸や無水プロピオン酸などの安価な酸無水物等の化合物と反応させることにより、容易に加溶媒前のオニウム塩を再生することが可能で、オニウム塩を繰り返し使用することができ、経済的な面からより好ましい。
R 31 and R 32 each independently represents an alkylene group having 1 to 11 carbon atoms in which part of the carbon atoms may be substituted with a hetero atom, more preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and a methylene group being It is more preferable because it can be easily synthesized from readily available materials.
R 33 and R 34 represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and a methyl group or an ethyl group is preferable. The acyloxy group having these substituents is separated from the epoxy compound by solvent addition, and then reacted with an inexpensive acid anhydride compound such as acetic anhydride or propionic anhydride to facilitate the onium before solvent addition. The salt can be regenerated, and the onium salt can be used repeatedly, which is more preferable from the economical viewpoint.

また式中のカチオン部分に含まれる炭素原子数の合計は20以上である。
はアニオンを表し、一価のアニオンが好ましく、更にはモノメチル硫酸イオン、硫酸水素イオン、リン酸二水素イオン又は酢酸イオンが好ましい。
The total number of carbon atoms contained in the cation moiety in the formula is 20 or more.
X represents an anion, preferably a monovalent anion, and more preferably monomethyl sulfate ion, hydrogen sulfate ion, dihydrogen phosphate ion or acetate ion.

Figure 2015166335
Figure 2015166335

上記一般式(6)において、
35及びR36は各々独立に、芳香族環で置換されていてもよい、また一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよいアルキル基である。具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデカニル基、ペンタデカニル基などの直鎖脂肪族炭化水素基、ベンジル基、t−ブチルベンジル基等のアルキル基で置換されたベンジル基、及びベンジルオキシエチル基、t-ブチルベンジルオキシエチル基等
のベンジルオキシアルキル基が挙げられ、さらには各々独立にt−ブチルベンジル基、ベンジルオキシエチル基がより好ましい。
In the general formula (6),
R 35 and R 36 are each independently an alkyl group which may be substituted with an aromatic ring, or which may have some carbon atoms substituted with heteroatoms. Specifically, a straight chain aliphatic hydrocarbon group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, a dodecanyl group or a pentadecanyl group, an alkyl group such as a benzyl group or a t-butylbenzyl group. Examples thereof include a substituted benzyl group, and a benzyloxyalkyl group such as a benzyloxyethyl group and a t-butylbenzyloxyethyl group, and a t-butylbenzyl group and a benzyloxyethyl group are more preferable.

37は、一部の炭素がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数2〜11のアルキレン基を表わし、炭素数1〜5のアルキレン基が好ましく、入手容易な資材から簡便に合成できるため、エチレン基がより好ましい。
38は、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、又はフェニル基を表し、水素原子、メチル基、又はフェニル基が好ましく、安価な資材を用いて合成することができ、接触水添後、減圧乾燥することにより芳香族部位が簡便に除去できる水素原子がさらに好ましい。
R 37 represents an alkylene group having 2 to 11 carbon atoms in which part of the carbon may be substituted with a heteroatom, preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and can be easily synthesized from readily available materials. An ethylene group is more preferable.
R 38 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group, preferably a hydrogen atom, a methyl group, or a phenyl group, which can be synthesized using an inexpensive material, and after contact hydrogenation A hydrogen atom from which an aromatic moiety can be easily removed by drying under reduced pressure is more preferred.

aは0〜2の整数を表し、入手容易な資材から簡便に合成できるため、0または1が好ましい。
39は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜25のアルキル基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基、アルコキシカルボニル基、N−アルキルカルバモイル基又はN−アルキルスルファモイル基を表し、水素原子、炭素数3〜25のアルキル基、フェニル基、フェノキシ基、アルコキシカルボニル基が好ましく、簡便に除去できる水素原子がさらに好ましい。
a represents an integer of 0 to 2 and is preferably 0 or 1 because it can be easily synthesized from readily available materials.
R 39 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms in which some of the carbon atoms may be substituted with hetero atoms, a phenyl group, a phenoxy group, a benzyl group, an alkoxycarbonyl group. Group, an N-alkylcarbamoyl group or an N-alkylsulfamoyl group, preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 3 to 25 carbon atoms, a phenyl group, a phenoxy group or an alkoxycarbonyl group, and a hydrogen atom which can be removed easily. preferable.

bは0〜5の整数を表し、入手容易な資材から簡便に合成できるため、0または1が好ましい。
なお、同一化合物中に存在する複数のR38及びR39は、同一であっても異なっていてもよい。また式中のカチオン部分に含まれる炭素原子数の合計は20以上である。
はアニオンを表し、モノメチル硫酸イオン、硫酸水素イオン、リン酸二水素イオン、又は酢酸イオンが好ましい。
b represents an integer of 0 to 5 and is preferably 0 or 1 because it can be easily synthesized from readily available materials.
A plurality of R 38 and R 39 present in the same compound may be the same or different. The total number of carbon atoms contained in the cation moiety in the formula is 20 or more.
X - is an anion, monomethyl sulfate ion, hydrogen sulfate ion, dihydrogen phosphate ion, or an acetate ion.

<第二の態様のオニウム塩>
第二の態様のオニウム塩は、下記一般式(4)で表わされる化合物であり、活性水素を含む官能基またはその塩に変換可能な置換基として、ベンゾイルオキシ基を2つ有する。以下、下記一般式(4)で表されるオニウム塩を「ベンゾイル化オニウム塩」という。
なお下記一般式(4)及び後述する一般式(8)で表される化合物は、本発明のオニウム塩として好適な新規の化合物である。
<Onium salt of the second aspect>
The onium salt of the second embodiment is a compound represented by the following general formula (4), and has two benzoyloxy groups as substituents that can be converted into a functional group containing active hydrogen or a salt thereof. Hereinafter, the onium salt represented by the following general formula (4) is referred to as “benzoylated onium salt”.
In addition, the compound represented by the following general formula (4) and the general formula (8) described later is a novel compound suitable as the onium salt of the present invention.

Figure 2015166335
Figure 2015166335

上記一般式(4)において、R16及びR17は、それぞれ独立して置換基を有していてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基を表わし、好ましくは炭素数1〜9のアルキル基で、R16及びR17の炭素数の合計は10以下のものが好ましく、8以下がより好ましい。一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい。
18及びR20は、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の脂肪族炭化水素基を表わし、好ましくは炭素数1〜4のアルキレン基を表わし、より好ましくはエチレン基である。加溶媒により生成するオニウム塩が水洗浄容易に除去でき、合成原料が安価に入手できるためである。
In the general formula (4), R 16 and R 17 each independently represent an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 9 carbon atoms. In the alkyl group, the total number of carbon atoms of R 16 and R 17 is preferably 10 or less, and more preferably 8 or less. Some carbon atoms may be substituted with heteroatoms.
R 18 and R 20 represent an optionally substituted divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, preferably an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably ethylene. It is a group. This is because the onium salt produced by the solvation can be easily removed by washing with water, and the synthetic raw materials can be obtained at low cost.

また、R18及びR20は、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよく、またそれぞれが結合して環を形成していてもよい。
19及びR21は、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基を表わす。合成の容易さから、R19及びR21は、同一であることが好ましく、特に合成原料が安価に入手できるt−ブチル基がより好ましい。
In R 18 and R 20 , some of the carbon atoms may be substituted with heteroatoms, or each may be bonded to form a ring.
R 19 and R 21 represent an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent. From the viewpoint of ease of synthesis, R 19 and R 21 are preferably the same, and more preferably a t-butyl group from which a synthetic raw material can be obtained at low cost.

k、mはそれぞれ独立に1〜5の整数を表わし、k、mがそれぞれ2以上のとき、複数のR19及びR21はそれぞれ同一であっても、異なっていてもよい。
Y及びZは、それぞれ独立にハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基、N−アルキルカルバモイル基、又はN−アルキルスルファモイル基を表わす。
k and m each independently represent an integer of 1 to 5, and when k and m are each 2 or more, the plurality of R 19 and R 21 may be the same or different.
Y and Z each independently represent a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a phenyl group, a phenoxy group, a benzyl group, an N-alkylcarbamoyl group, or an N-alkylsulfamoyl group.

pは0≦p≦5−kの整数、
qは0≦q≦5−mの整数、
は、アニオンを表わす。Xは、上記第一の態様のオニウム塩と同義である。
そしてR16、R17、R18及びR20が有する全炭素数が14以下であり、かつR19及びR21が有する全炭素数が6以上であることが好ましい。オニウム塩の炭素数が加溶媒分解の前と後で大きく異なるため、反応中には高い脂溶性を有するため有機相に分配し、高い活性を示し、加溶媒分解後は水溶性化合物となり水洗除去しやすいためである。
p is an integer of 0 ≦ p ≦ 5-k,
q is an integer of 0 ≦ q ≦ 5-m,
X represents an anion. X is synonymous with the onium salt of the first aspect.
The R 16, R 17, R 18 and R total carbon number 20 has is 14 or less, and is preferably the total number of carbon atoms of the R 19 and R 21 is 6 or more. Since the number of carbons in the onium salt is significantly different from before and after solvolysis, it has a high fat solubility during the reaction, so it is distributed to the organic phase and shows high activity. After solvolysis, it becomes a water-soluble compound and is removed by washing with water. It is because it is easy to do.

さらに好ましくはR16、R17、R18及びR20が有する全炭素数が9以上12以下であり、かつR19及びR21が有する全炭素数が6以上8以下であることが好ましい。R19及びR21の全炭素数がこの範囲であることにより、オニウム塩の反応時の脂溶性と、加溶媒分解して生成する置換安息香酸の除去の容易さを両立することができる。さらに、R16、R17、R18及びR20が有する全炭素数がこの範囲であることにより
、オニウム塩の反応時の脂溶性と、加溶媒後のオニウム塩の除去の容易さを両立することができる。
More preferably, R 16 , R 17 , R 18 and R 20 have 9 to 12 carbon atoms in total, and R 19 and R 21 have 6 to 8 carbon atoms in total. When the total number of carbon atoms of R 19 and R 21 is within this range, both the lipophilicity during the reaction of the onium salt and the ease of removal of the substituted benzoic acid produced by solvolysis can be achieved. Furthermore, when the total number of carbon atoms of R 16 , R 17 , R 18 and R 20 is within this range, both the lipophilicity during the reaction of the onium salt and the ease of removal of the onium salt after solvation are achieved. be able to.

合成の容易さから、R19及びR21は、同一であることが好ましく、特に合成原料が安価に入手できるt−ブチル基がより好ましい。
上記一般式(4)に記載の化合物の具体的な例として、下記構造式(8)に記載の化合物が挙げられる。
From the viewpoint of ease of synthesis, R 19 and R 21 are preferably the same, and more preferably a t-butyl group from which a synthetic raw material can be obtained at low cost.
Specific examples of the compound described in the general formula (4) include a compound described in the following structural formula (8).

Figure 2015166335
Figure 2015166335

上記構造式(8)のオニウム塩は、加溶媒により、末端構造が水酸基に変換されたオニウム塩が得られ、その炭素数が9であることから、加溶媒の親水性が高く、分液等の精製工程での除去が容易であることから好ましい。また、1級水酸基のエステルであるため、2級水酸基のエステルと比較して合成しやすく、かつ加溶媒しやすいという特徴を持つ。また安定で純度良好に合成することができる点でも好ましく、さらに合成原料、反応資材も安価で入手しやすい点でも好ましい。   The onium salt of the structural formula (8) can be obtained by solvating an onium salt in which the terminal structure is converted to a hydroxyl group and having 9 carbon atoms. This is preferable because it can be easily removed in the purification step. Further, since it is an ester of a primary hydroxyl group, it is characterized in that it is easier to synthesize and solvate than an ester of a secondary hydroxyl group. Moreover, it is preferable also from the point that it can synthesize | combine stably and with sufficient purity, and also a synthetic | combination raw material and reaction material are also preferable also at the point which is easy to acquire at low cost.

(オニウム塩の合成法)
本発明で用いるオニウム塩の合成法は、特に限定されないが、例えばアシルオキシ基またはベンジルオキシ基を有する、3級アミンやピリジン環化合物、イミダゾール環化合物等の含窒素ヘテロ環化合物を合成し、これをオニウム塩にする方法や、水酸基、ハロゲン等の脱離基を有するオニウム塩にアシルオキシ基またはベンジルオキシ基を導入する方法が挙げられる。
(Synthesis method of onium salt)
The method for synthesizing the onium salt used in the present invention is not particularly limited. For example, a nitrogen-containing heterocyclic compound having an acyloxy group or a benzyloxy group, such as a tertiary amine, a pyridine ring compound, or an imidazole ring compound, is synthesized. Examples thereof include an onium salt method and a method of introducing an acyloxy group or a benzyloxy group into an onium salt having a leaving group such as a hydroxyl group or halogen.

アシルオキシ基の導入方法としては例えば、対応するアルコールとカルボン酸との脱水縮合反応、対応するアルコールとカルボン酸との縮合剤を用いた縮合反応、対応するアルコールとカルボン酸クロライドとの反応、エステル交換反応、酸無水物と反応する方法、対応するハロアルキル基とカルボン酸塩を縮合させる方法等を用いることができる。
これらの方法のうち工業的にはコストの面や、ハロゲンの混入を防ぐ観点から、脱水縮合反応を用いる方法が好ましい。
Examples of the method for introducing an acyloxy group include a dehydration condensation reaction between the corresponding alcohol and carboxylic acid, a condensation reaction using a corresponding alcohol and carboxylic acid condensing agent, a reaction between the corresponding alcohol and carboxylic acid chloride, and transesterification. A reaction, a method of reacting with an acid anhydride, a method of condensing a corresponding haloalkyl group and a carboxylate, and the like can be used.
Among these methods, industrially, a method using a dehydration condensation reaction is preferable from the viewpoint of cost and from the viewpoint of preventing mixing of halogen.

なお反応後、アシルオキシ基が脱離した後のオニウム塩の再生方法は、上記の合成方法と同様の方法を適用することができる。
上記脱水縮合反応またはエステル交換反応を行う際は、対応するアルコールを酸触媒存在下、反応させる方法が挙げられる。この際、反応に伴い生成する水やアルコールを留去、吸着などの方法により除去しながら行うのが好ましい。
In addition, the method similar to said synthesis method is applicable to the regeneration method of onium salt after reaction after acyloxy group elimination | elimination.
When performing the said dehydration condensation reaction or transesterification, the method of making the corresponding alcohol react in presence of an acid catalyst is mentioned. At this time, it is preferable to carry out while removing water and alcohol produced by the reaction by a method such as distillation and adsorption.

前記の酸触媒は、特に限定はされないが、例えば硫酸、硝酸及び塩酸等の鉱酸類;ホスフィン酸、ホスホン酸、リン酸等のリン酸類;ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、トリクロロメタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸及び酢酸等の有機酸類;HPW1240、HSiW1240、HTiW1240、HCoW12 40、HPMo1240等のタングステン酸/モリブデン酸類;前記タングステン酸/モリブデン酸類の水和物またはヘテロポリ酸;アンバーリストI
R120等の陽イオン交換樹脂;H−ZSM−5等のH型ゼオライト等を使用することができる。
The acid catalyst is not particularly limited. For example, mineral acids such as sulfuric acid, nitric acid and hydrochloric acid; phosphoric acids such as phosphinic acid, phosphonic acid and phosphoric acid; benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, dimethylbenzenesulfonic acid, methane Organic acids such as sulfonic acid, ethanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, trichloromethanesulfonic acid, trifluoroacetic acid, trichloroacetic acid and acetic acid; H 3 PW 12 O 40 , H 4 SiW 12 O 40 , H 4 TiW 12 O 40 , H 5 CoW 12 O 40, H 3 PMo 12 tungstate / molybdate acids O 40 and the like; hydrate or heteropoly acid of the tungstic acid / molybdenum acids; Amberlyst I
Cation exchange resin such as R120; H-type zeolite such as H-ZSM-5 can be used.

これらのうち、有機酸類が塩析出することなく、反応が良好に進行するため好ましい。これらのうちトルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸が、反応後、水洗により有機相と水相とに分離し、水相をトルエン等で共沸脱水することにより、回収、再利用することができる点でより好ましい。トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸、は反応系内でトルエンまたはキシレンと硫酸により調製することができるため、コストの面でさらに好ましい。   Of these, organic acids are preferable because the reaction proceeds well without salt precipitation. Of these, toluenesulfonic acid, dimethylbenzenesulfonic acid, and methanesulfonic acid are separated into an organic phase and an aqueous phase by water washing after the reaction, and the aqueous phase is recovered and reused by azeotropic dehydration with toluene or the like. It is more preferable at the point which can do. Toluenesulfonic acid and dimethylbenzenesulfonic acid are more preferable in terms of cost because they can be prepared with toluene or xylene and sulfuric acid in the reaction system.

酸触媒の使用量は、基質に対して0.1〜300質量%、好ましくは1〜200質量%
の範囲で使用することができる。
オニウム塩へのアシルオキシ基の導入時に用いる溶媒としては、アシルオキシ基を導入する反応に関与しないものであれば、特に限定されるものではないが、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ドデカン等の脂肪族炭化水素類が挙げられる。このうち、水と共沸し、反応に必要な温度以上の沸点を有することから、トルエン、キシレンが好ましい。
The amount of the acid catalyst used is 0.1 to 300% by mass, preferably 1 to 200% by mass, based on the substrate.
Can be used in a range of
The solvent used at the time of introducing the acyloxy group into the onium salt is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction for introducing the acyloxy group, but aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, Aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, octane, and dodecane are listed. Of these, toluene and xylene are preferred because they azeotrope with water and have a boiling point higher than the temperature required for the reaction.

ベンジルオキシ基の導入法は具体的には例えば、対応するアルコールとベンジルアルコールとの縮合剤を用いた縮合反応、対応するアルコールとベンジルハライドとの縮合反応、ハロアルキル基とベンジルアルコールとの縮合反応を用いることができる。
これらの方法のうち工業的にはコストの面から対応するアルコールとベンジルクロライドとの縮合反応が好ましい。
Specifically, the method for introducing a benzyloxy group includes, for example, a condensation reaction using a condensing agent between the corresponding alcohol and benzyl alcohol, a condensation reaction between the corresponding alcohol and benzyl halide, and a condensation reaction between the haloalkyl group and benzyl alcohol. Can be used.
Among these methods, industrially, a condensation reaction between a corresponding alcohol and benzyl chloride is preferable from the viewpoint of cost.

ベンジルオキシ基の導入時に用いる溶媒としては、ベンジルオキシ基を導入する反応に関与しないものであれば、特に限定されるものではないが、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ドデカン等の脂肪族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ピリジン等の含窒素芳香族炭化水素類が挙げられる。   The solvent used at the time of introducing the benzyloxy group is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction for introducing the benzyloxy group, but aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, hexane, Examples thereof include aliphatic hydrocarbons such as heptane, octane and dodecane, ethers such as diethyl ether, dibutyl ether and tetrahydrofuran, and nitrogen-containing aromatic hydrocarbons such as pyridine.

アシルオキシ基及びベンジルオキシ基の導入時に用いる溶媒の量は特に限定されないが、基質に対して0.5〜10倍量が好ましく、当該範囲においては十分な反応速度が得られ、十分な撹拌が可能である。
本発明において、前記オニウム塩は単独でも2種以上適宜組み合わせて使用してもよい。
The amount of the solvent used for introducing the acyloxy group and benzyloxy group is not particularly limited, but it is preferably 0.5 to 10 times the amount of the substrate, and within this range, a sufficient reaction rate can be obtained and sufficient stirring is possible. It is.
In the present invention, the onium salts may be used alone or in combination of two or more.

前記オニウム塩の使用量は、使用するオレフィン化合物等の性質により適宜調整可能であり、特に制限はされないが、反応時に使用する前記触媒金属に対して、通常モル比で0.1倍モル以上、好ましくは0.2倍モル以上、より好ましくは0.3倍モル以上、通常5.0倍モル以下であり、好ましくは2.0倍モルであり、より好ましくは1.0倍モル以下である。   The amount of the onium salt used can be appropriately adjusted depending on the properties of the olefin compound to be used and is not particularly limited, but is usually 0.1 times mole or more in a molar ratio with respect to the catalyst metal used in the reaction, Preferably it is 0.2 times mol or more, more preferably 0.3 times mol or more, usually 5.0 times mol or less, preferably 2.0 times mol or less, more preferably 1.0 times mol or less. .

触媒組成物の調製方法は、反応に用いるオレフィン化合物やその反応性に応じて適宜選択することができ、特に制限されるものではないが、反応系内で前記触媒金属と前記オニウム塩を混合する方法、又は予め反応系外で前記触媒金属と前記オニウム塩を混合してから反応に用いる方法のいずれの方法でもよい。また、後述のリン酸類の添加方法も反応系内で混合する方法、予め反応系外で混合する方法のいずれの方法でもよい。   The method for preparing the catalyst composition can be appropriately selected according to the olefin compound used in the reaction and the reactivity thereof, and is not particularly limited, but the catalyst metal and the onium salt are mixed in the reaction system. Either a method or a method of mixing the catalyst metal and the onium salt in advance outside the reaction system and then using them for the reaction may be used. Further, the method for adding phosphoric acids described later may be either a method of mixing in the reaction system or a method of previously mixing outside the reaction system.

反応系内で前記触媒金属と前記オニウム塩を混合する場合、混合方法や混合順序は特に制限されないが、具体的には、通常オレフィン化合物を含んだ反応系内に、前記触媒金属
と前記オニウム塩を添加することで調製することができる。その添加順序は特に制限されるものではなく、前記触媒金属、前記オニウム塩のいずれを先に添加してもよく、また同時に添加してもよい。
When the catalyst metal and the onium salt are mixed in the reaction system, the mixing method and mixing order are not particularly limited, but specifically, the catalyst metal and the onium salt are usually included in the reaction system containing an olefin compound. It can be prepared by adding. The order of addition is not particularly limited, and either the catalyst metal or the onium salt may be added first, or may be added simultaneously.

また予め反応系外で前記触媒金属と前記オニウム塩を混合してから用いることもできる。その場合、混合方法や混合順序、及び混合物の使用態様は特に制限されないが、前記触媒金属と前記オニウム塩を混合してそのまま用いても、触媒組成物中に生成した前記触媒金属と前記オニウム塩との複合体を単離して用いてもよい。中でも前記触媒金属と前記オニウム塩を混合し、単離や活性化を行わず、そのまま用いるのが簡便で好ましい。   Alternatively, the catalyst metal and the onium salt can be mixed before use outside the reaction system. In this case, the mixing method, mixing order, and usage mode of the mixture are not particularly limited, but the catalyst metal and the onium salt produced in the catalyst composition can be used as they are by mixing the catalyst metal and the onium salt. You may isolate and use a complex with. Among them, it is convenient and preferable to mix the catalyst metal and the onium salt and use them as they are without isolation or activation.

(リン酸類及びホスホン酸類)
本発明の製造方法においては、リン酸類及びホスホン酸類の少なくとも一方を使用することができる。特に前記オニウム塩等を用いて、前記触媒金属を前記活性触媒としてエポキシ化反応を行なう際には、さらにリン酸類及びホスホン酸類の少なくとも一方を用いることが反応性の向上の点で好ましい。
(Phosphoric acids and phosphonic acids)
In the production method of the present invention, at least one of phosphoric acids and phosphonic acids can be used. In particular, when the epoxidation reaction is performed using the onium salt or the like using the catalytic metal as the active catalyst, it is preferable to use at least one of phosphoric acids and phosphonic acids from the viewpoint of improving the reactivity.

本発明におけるリン酸類としては、具体的には例えばリン酸、亜リン酸等の無機リン酸;ポリリン酸、ピロリン酸等のリン酸重合体;リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素カリウム、リン酸水素アンモニウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素カルシウム等の無機リン酸塩;モノメチルリン酸、ジメチルリン酸、トリメチルリン酸、トリエチルリン酸、トリフェニルリン酸等のリン酸エステル類;等が挙げられる。このうちリン酸が好ましい。   Specific examples of phosphoric acids in the present invention include inorganic phosphoric acids such as phosphoric acid and phosphorous acid; phosphoric acid polymers such as polyphosphoric acid and pyrophosphoric acid; sodium phosphate, potassium phosphate, ammonium phosphate, phosphorus Inorganic phosphates such as sodium hydrogen phosphate, potassium hydrogen phosphate, ammonium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, calcium dihydrogen phosphate; monomethyl phosphate, dimethyl phosphate, trimethyl phosphate, And phosphoric acid esters such as triethyl phosphoric acid and triphenyl phosphoric acid; Of these, phosphoric acid is preferred.

ホスホン酸類としては、アミノメチルホスホン酸、フェニルホスホン酸などが挙げられる。
これらのうち本発明では安価なリン酸を用いることが好ましい。
リン酸類及びホスホン酸類の使用量は、特に限定されるものではなく、その種類や触媒金属の種類によって適宜使用量を調整できるが、好ましくは前記活性触媒を使用する二相系反応の水相のpHが適切な範囲になるように使用量を調整する。該リン酸類及びホスホン酸類のいずれかに含まれるリンの当量としては、使用する前記触媒金属中の金属に対して通常モル比で0.1倍モル以上、好ましくは0.2倍モル以上、より好ましくは0.3倍モル以上であり、通常5.0倍モル以下、好ましくは2.0倍モル以下、より好ましくは1.0倍モル以下である。
リン酸類及びホスホン酸類の少なくとも一方は、反応液の水相のpHが適切な範囲になるように添加することができ、また必要に応じて他の酸や塩基を添加し、pHの調製を行うこともできる。
Examples of phosphonic acids include aminomethylphosphonic acid and phenylphosphonic acid.
Of these, in the present invention, it is preferable to use inexpensive phosphoric acid.
The amount of phosphoric acid and phosphonic acid used is not particularly limited, and the amount used can be appropriately adjusted depending on the type and the type of the catalyst metal, but preferably the aqueous phase of the two-phase reaction using the active catalyst. The amount used is adjusted so that the pH is in an appropriate range. The equivalent amount of phosphorus contained in any of the phosphoric acids and phosphonic acids is usually 0.1 times mol or more, preferably 0.2 times mol or more, in a molar ratio with respect to the metal in the catalyst metal used. Preferably it is 0.3 times mole or more, and is usually 5.0 times mole or less, preferably 2.0 times mole or less, more preferably 1.0 times mole or less.
At least one of phosphoric acids and phosphonic acids can be added so that the pH of the aqueous phase of the reaction solution is in an appropriate range, and other acids and bases are added as necessary to adjust the pH. You can also.

(有機溶媒)
本発明では、必要に応じ有機溶媒を用いることができ、オレフィン化合物が固体である場合など、有機溶媒を含む反応液は操作性が向上する点で用いることが好ましい。
本発明のエポキシ化反応において有機溶媒を使用した際、オレフィン化合物は、有機溶媒中に溶解していても、懸濁状態でもよいが、通常、反応温度条件下で有機溶媒に溶解していることが好ましい。
(Organic solvent)
In the present invention, an organic solvent can be used if necessary, and a reaction liquid containing an organic solvent is preferably used in terms of improving operability, such as when the olefin compound is a solid.
When an organic solvent is used in the epoxidation reaction of the present invention, the olefin compound may be dissolved or suspended in the organic solvent, but is usually dissolved in the organic solvent under the reaction temperature conditions. Is preferred.

本発明において用いられる有機溶媒は、使用するオレフィン化合物や、前記活性触媒に対して不活性であれば特に限定はされないが、具体的にはベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ドデカン等の脂肪族炭化水素類;メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール等のアルコール類;クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒;テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン類;アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、蟻酸メチルなどのエステル化合物;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類;N,N’−ジメチルイミダゾリジノン等のウレア類;及びこれら溶媒の混合物が挙げられ、芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類、及びこれら有機溶媒の混合物が好ましい。
The organic solvent used in the present invention is not particularly limited as long as it is inactive with respect to the olefin compound to be used and the active catalyst, but specifically, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, etc .; hexane Aliphatic hydrocarbons such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, hexanol, cyclohexanol; halogen solvents such as chloroform, dichloromethane, dichloroethane; ethers such as tetrahydrofuran, dioxane; Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone and cyclohexanone; nitriles such as acetonitrile and butyronitrile; ester compounds such as ethyl acetate, butyl acetate and methyl formate; N, N-dimethylphenol Amides such as muamide, N, N-dimethylacetamide; ureas such as N, N′-dimethylimidazolidinone; and mixtures of these solvents, aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, and these A mixture of organic solvents is preferred.

さらに反応に対して安定である芳香族炭化水素が好ましく、より好ましくは反応温度より高い沸点を有するトルエンが挙げられる。特に反応活性の高い前記活性触媒を使用する際に、水と二相系を形成する有機溶媒を用いて、二相系反応で行なうことが反応の効率や操作上好ましいためである。
なお前記の二相系反応を円滑に行なうため、有機溶媒以外に更に適宜水を反応液に追加して使用してもよい。水を使用する際の使用量は特に限定されない。
Furthermore, aromatic hydrocarbons that are stable to the reaction are preferable, and toluene having a boiling point higher than the reaction temperature is more preferable. This is because when using the active catalyst having a particularly high reaction activity, it is preferable to carry out a two-phase reaction using an organic solvent that forms a two-phase system with water in terms of reaction efficiency and operation.
In addition, in order to perform the two-phase reaction smoothly, water may be added to the reaction solution as appropriate in addition to the organic solvent. The amount of water used is not particularly limited.

本発明における溶媒の使用量は、オレフィン化合物の溶解度や各種物性により適宜調整して使用することができ、特に限定されるものではないが、生産性と安全性の観点から使用するオレフィン化合物の通常0.1倍量以上、10倍量以下であり、好ましくは5倍量以下、より好ましくは3倍量以下である。   The amount of the solvent used in the present invention can be appropriately adjusted depending on the solubility and various physical properties of the olefin compound, and is not particularly limited, but is usually the olefin compound used from the viewpoint of productivity and safety. The amount is 0.1 times or more and 10 times or less, preferably 5 times or less, more preferably 3 times or less.

(キレート化剤)
本発明においてエポキシ化合物の製造は、キレート化剤の共存下で行なってもよい。
キレート化剤を共存させることにより、後述する金属不純物との間でキレート化合物を形成すると考えられ、過酸化水素の分解を生じることなく、安全にエポキシ化反応を行なうことができる。
本発明におけるキレート化剤とは、金属イオンと結合してキレート化合物を形成する多座配位子をもつ化合物をいう。
(Chelating agent)
In the present invention, the epoxy compound may be produced in the presence of a chelating agent.
By allowing the chelating agent to coexist, it is considered that a chelate compound is formed with the metal impurities described later, and the epoxidation reaction can be performed safely without causing decomposition of hydrogen peroxide.
The chelating agent in the present invention refers to a compound having a multidentate ligand that binds to a metal ion to form a chelate compound.

前記キレート化剤としては、特に限定はされないが、具体的には、エチレンジアミン四酢酸及びその塩、ジエチレントリアミン五酢酸及びその塩、トリエチレントリアミン六酢酸及びその塩、イミノ酢酸及びその塩等のアミノカルボン酸類;クエン酸、グリコール酸及びこれらの塩等のオキシカルボン酸類;ヒドロキシエタンジホスホンなどの有機リン酸類;ピロリン酸ナトリウム、ポリリン酸ナトリウム等の縮合リン酸塩;エチレンジアミン、サイクレン等のアミン化合物、ビピリジン、フェナントロリン、ポルフィリン等の含窒素ヘテロ環、クラウンエーテル等のエーテル化合物等が挙げられる。これらのうち、分子内にアミノ基とカルボキシル基を有するアミノカルボン酸類が本発明で得られる効果が大きい点から好ましく、特にエチレンジアミン四酢酸及びその塩が安価で入手容易であることから好ましく、さらには、pH調製の容易さから、エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩が好ましい。また、キレート化剤の配位可能な置換基数は多い方がより強固に金属に配位するため好ましく、通常2以上、好ましくは3以上、更に好ましくは4以上である。   The chelating agent is not particularly limited, and specific examples include aminocarboxylic acids such as ethylenediaminetetraacetic acid and salts thereof, diethylenetriaminepentaacetic acid and salts thereof, triethylenetriaminehexaacetic acid and salts thereof, iminoacetic acid and salts thereof, and the like. Acids; oxycarboxylic acids such as citric acid, glycolic acid and their salts; organic phosphoric acids such as hydroxyethane diphosphones; condensed phosphates such as sodium pyrophosphate and sodium polyphosphate; amine compounds such as ethylenediamine and cyclene; bipyridine And nitrogen-containing heterocycles such as phenanthroline and porphyrin, and ether compounds such as crown ether. Of these, aminocarboxylic acids having an amino group and a carboxyl group in the molecule are preferred from the viewpoint that the effect obtained by the present invention is large, and particularly preferred because ethylenediaminetetraacetic acid and its salt are inexpensive and readily available. From the viewpoint of easy pH adjustment, ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt is preferred. The number of substituents that can be coordinated by the chelating agent is more preferably coordinated to the metal more strongly, and is usually 2 or more, preferably 3 or more, and more preferably 4 or more.

また、キレート化剤は単独でも2種類以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
本発明において用いられるキレート化剤の使用量は、後述する金属不純物の含有量により適宜調整することができ、特に制限されるものではないが、通常、金属不純物の含有量に対して等モル以上である。また上限も制限はされないが、通常、キレート化剤が析出しない範囲の量である。
The chelating agents may be used alone or in combination of two or more.
The amount of the chelating agent used in the present invention can be appropriately adjusted depending on the content of metal impurities described later, and is not particularly limited, but is usually equimolar or more with respect to the content of metal impurities. It is. Moreover, although an upper limit is also not restrict | limited, Usually, it is the quantity of the range which does not precipitate a chelating agent.

またエポキシ化反応時の反応液中の前記キレート化剤の濃度としては、特に限定はされないが、通常反応液中の濃度で、特に二相系反応における水相中のキレート化剤の濃度で、通常1ppm以上であり、好ましくは50ppm以上、通常10000ppm以下であり、好ましくは5000ppmであり、さらに好ましくは2000ppm以下である。   Further, the concentration of the chelating agent in the reaction solution at the time of the epoxidation reaction is not particularly limited, but is usually the concentration in the reaction solution, particularly the concentration of the chelating agent in the aqueous phase in a two-phase reaction, Usually, it is 1 ppm or more, preferably 50 ppm or more, usually 10,000 ppm or less, preferably 5000 ppm, more preferably 2000 ppm or less.

(炭素−炭素二重結合を有する化合物)
本発明において原料として使用する炭素−炭素二重結合を有する化合物(オレフィン化合物)は、分子中に炭素−炭素二重結合を一つ以上有する化合物であれば、特に限定はされない。
前記オレフィン化合物の具体例としては、特開2011−213716号公報に記載されている化合物が挙げられる。特に高純度化、特に低ハロゲン化されたエポキシ化合物を製造できる点で、下記の一般式(9)〜(14)で表わされるオレフィン化合物を原料とすることが好ましい。このうち(10)で表されるオレフィン化合物が好ましく、中でも、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビス(2−プロペン−1−イルオキシ)−1,1’−ビフェニル(別名称 3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビフェノール ジアリルエーテル)が好ましい。
(Compound having a carbon-carbon double bond)
The compound (olefin compound) having a carbon-carbon double bond used as a raw material in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having one or more carbon-carbon double bonds in the molecule.
Specific examples of the olefin compound include compounds described in JP2011-213716A. In particular, it is preferable to use an olefin compound represented by the following general formulas (9) to (14) as a raw material from the viewpoint that a highly purified, particularly low halogenated epoxy compound can be produced. Of these, the olefin compound represented by (10) is preferable, among which 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-bis (2-propen-1-yloxy) -1,1′- Biphenyl (other name 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-biphenol diallyl ether) is preferred.

[数1]
(R23n1−(A)−(OR)m1 ・・・(9)
[Equation 1]
(R 23 ) n1- (A 1 )-(OR) m1 (9)

一般式(9)中、Aは芳香族炭化水素基、芳香族炭化水素基の少なくともその一部が還元された基、及び脂肪族炭化水素基のいずれかを表し、OR基、R23以外の置換基を有していてもよい。
における芳香族炭化水素基としては、特に限定はされず、フェニル基等の単環式芳香族炭化水素基、ナフチル基等の縮合環芳香族炭化水素基、複素環芳香族炭化水素基、または式(9)のRが水素原子で置き換えられた化合物が、トリス(4−ヒドロキシフェニル)−トリアジン、1,1‘−メチレンビス−ナフタレンジオール、メチリデントリスフェノール等である前記芳香族が複数連結したものであってもよい。好ましくは炭素数6〜22の芳香族炭化水素基、芳香族炭化水素基が複数連結したものが挙げられる。
In General Formula (9), A 1 represents any one of an aromatic hydrocarbon group, a group in which at least a part of the aromatic hydrocarbon group is reduced, and an aliphatic hydrocarbon group, and other than the OR group and R 23 You may have the substituent of.
The aromatic hydrocarbon group for A 1 is not particularly limited, and is a monocyclic aromatic hydrocarbon group such as a phenyl group, a condensed ring aromatic hydrocarbon group such as a naphthyl group, a heterocyclic aromatic hydrocarbon group, Or, the compound in which R in formula (9) is replaced with a hydrogen atom is a combination of a plurality of aromatics such as tris (4-hydroxyphenyl) -triazine, 1,1′-methylenebis-naphthalenediol, methylidenetrisphenol, etc. It may be what you did. Preferably, those having a plurality of aromatic hydrocarbon groups having 6 to 22 carbon atoms and aromatic hydrocarbon groups linked to each other can be mentioned.

同様に芳香族炭化水素基の少なくともその一部が還元された基としては、特に限定はされないが、炭素数6〜14の芳香族炭化水素の少なくとも一部が還元された基が挙げられ、具体的にはシクロへキシル基等が挙げられる。
同様に脂肪族基としては特に限定はされないが、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよく、かつ置換基を有していてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基である。具体的には、炭素数1〜25の直鎖脂肪族炭化水素、エチレンオキシ基等のエーテル結合を有する脂肪族炭化水素が挙げられる。
Similarly, the group in which at least a part of the aromatic hydrocarbon group is reduced is not particularly limited, and examples thereof include a group in which at least a part of the aromatic hydrocarbon having 6 to 14 carbon atoms is reduced. Specific examples include a cyclohexyl group.
Similarly, the aliphatic group is not particularly limited, but a part of carbon atoms may be substituted with a heteroatom, and the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent. It is. Specific examples include C1-C25 linear aliphatic hydrocarbons and aliphatic hydrocarbons having an ether bond such as an ethyleneoxy group.

Rはアリル基、又はグリシジル基を表し、これらはアルキル基、フェニル基、アルコキシカルボニル基等の置換基を有していてもよいが、好ましくは無置換のアリル基、又はグリシジル基である。なおOR基を複数有するときは、それぞれのOR基は同一でも異なっていてもよい。
が有するORおよびR23以外の置換基としては、グリシジル基、フェニル基、フェニルオキシ基、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
R represents an allyl group or a glycidyl group, which may have a substituent such as an alkyl group, a phenyl group, or an alkoxycarbonyl group, but is preferably an unsubstituted allyl group or a glycidyl group. In addition, when it has two or more OR groups, each OR group may be the same or different.
Examples of the substituent other than OR and R 23 that A 1 has include a glycidyl group, a phenyl group, a phenyloxy group, an alkyl group, an alkoxy group, and a halogen atom.

23は、アリル基を表し、これらはアルキル基、フェニル基、アルコキシカルボニル基等の置換基を有していてもよいが、好ましくは無置換のアリル基である。
OR基、R23以外の置換基としては特に限定されないが、グリシジル基、フェニル基、フェニルオキシ基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
は1以上の整数を表わし、Aで表される置換基上の置換可能な水素原子の数により異なり限定されないが、好ましくは2以上、4以下である。
R 23 represents an allyl group, which may have a substituent such as an alkyl group, a phenyl group, or an alkoxycarbonyl group, but is preferably an unsubstituted allyl group.
OR group is not particularly limited as substituents other than R 23, a glycidyl group, a phenyl group, a phenyl group, an alkoxy group and a halogen atom.
m 1 represents an integer of 1 or more and is not limited and varies depending on the number of substitutable hydrogen atoms on the substituent represented by A 1 , but is preferably 2 or more and 4 or less.

なおmが2以上のとき、Rは互いに同一でも異なっていてもよい。
は0以上の整数を表わし、mとnの合計は2以上である。
一般式(9)で表わされるものとしては具体的には1,6−ビス(2−プロペン−1−
イルオキシ)−ナフタレン、1,4−ビス(2−プロペン−1−イルオキシ)−ベンゼン、1,4−ビス(2−プロペン−1−イルオキシ)メチル]−シクロヘキサン、1,1,1,1−テトラ(アリルオキシメチル)メタン、1,1’−メチレンビス−2,7−ナフタレンジオールテトラアリルエーテル、2,4,6−トリス[4−(2−アリルオキシ)フェニル]−1,3,5−トリアジン、1,3―ジアリル−2,4−ジグリシジルオキシベンゼン、2−アリル−1,5−ジグリシジルオキシナフタレン等が挙げられる。
When m 1 is 2 or more, Rs may be the same or different.
n 1 represents an integer of 0 or more, and the sum of m 1 and n 1 is 2 or more.
Specifically, the one represented by the general formula (9) is 1,6-bis (2-propene-1-
Yloxy) -naphthalene, 1,4-bis (2-propen-1-yloxy) -benzene, 1,4-bis (2-propen-1-yloxy) methyl] -cyclohexane, 1,1,1,1-tetra (Allyloxymethyl) methane, 1,1′-methylenebis-2,7-naphthalenediol tetraallyl ether, 2,4,6-tris [4- (2-allyloxy) phenyl] -1,3,5-triazine, Examples include 1,3-diallyl-2,4-diglycidyloxybenzene and 2-allyl-1,5-diglycidyloxynaphthalene.

Figure 2015166335
Figure 2015166335

一般式(10)中、A、Aはそれぞれ独立に、2価の芳香族炭化水素基、芳香族炭化水素基の少なくともその一部が還元された基、及び脂肪族炭化水素基のいずれかを表し、OR基、X、R23以外の置換基を有していてもよい。それぞれの価数が2価である以外は、上記Aと同義である。
は、直接結合又は置換基を有していてもよい2価の連結基を表わす。
In general formula (10), A 2 and A 3 are each independently any of a divalent aromatic hydrocarbon group, a group in which at least a part of the aromatic hydrocarbon group is reduced, and an aliphatic hydrocarbon group. And may have a substituent other than the OR group, X 1 and R 23 . Except each valence is bivalent, the same meanings as in A 1.
X 1 represents a divalent linking group which may have a direct bond or a substituent.

2価の連結基としては、ヘテロ元素で置換されていてもよく、かつ置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基や芳香族炭化水素基、−O−、−S−、−SO−、−SO−等が挙げられ、連結基中には不飽和結合を有していても、環状構造を有していてもよい。
としては、直接結合、炭素数1〜4の2価アルキレン基、架橋縮合環構造を有する炭素数7〜10の脂環式炭化水素が好ましく、直接結合、炭素数1〜2のアルキレン基がより好ましい。
As the divalent linking group, an aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group which may be substituted with a hetero element and may have a substituent, -O-, -S-, -SO 2- , -SO-, etc. are mentioned, and the linking group may have an unsaturated bond or a cyclic structure.
X 1 is preferably a direct bond, a divalent alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, or an alicyclic hydrocarbon having 7 to 10 carbon atoms having a crosslinked condensed ring structure, and a direct bond or an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms. Is more preferable.

また、Xを介して連結する隣接するAとAは、また複数のAは、その置換基が更に連結しての環を形成していてもよい。例えば、キサンテン環、スピロジベンゾピラン環、スピロビインダン環等が挙げられる。
R、R23、nは一般式(9)と同義である。
上記A、Aが有するORおよびR23以外の置換基は、一般式(9)と同じである。
In addition, adjacent A 2 and A 3 connected via X 1 may also form a ring in which a plurality of A 3 are further connected by substituents thereof. For example, a xanthene ring, a spirodibenzopyran ring, a spirobiindane ring and the like can be mentioned.
R, R 23 , and n 1 have the same meaning as in general formula (9).
Substituents other than OR and R 23 included in A 2 and A 3 are the same as those in General Formula (9).

は1以上の整数を表し、Aで表される置換基上の置換可能な水素原子の数により異なり限定されないが、通常4以下であり、好ましくは2以下である。
なおmが2以上のときは、Rは互いに同一でも異なっていてもよい。mとnの合計は2以上であり、好ましくはm2の合計が2であり、n1の合計が0または2であり、更に好ましくはn1が0である。
m 2 represents an integer of 1 or more, and varies depending on the number of substitutable hydrogen atoms on the substituent represented by A 2 and is not limited, but is usually 4 or less, preferably 2 or less.
When m 2 is 2 or more, Rs may be the same or different from each other. The sum of m 1 and n 1 is 2 or more, preferably the sum of m2 is 2, the sum of n1 is 0 or 2, and more preferably n1 is 0.

nは0または1以上の整数を表し、通常5以下であり、好ましくは3以下であり、より好ましくは0である。
なおnが2以上のときは、Aは互いに同一でも異なっていてもよい。
一般式(10)で表わされるものとして具体的には3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビス(2−プロペン−1−イルオキシ)−1,1’−ビフェニル(別名称 3,3’,5,5’−テトラメチルビフェノール ジアリルエーテル)、1,1’−(1−メチルエチリデン)ビス[4−(2−プロペン−1−イルオキシ)−ベンゼン](別名称 ビスフェノールA ジアリルエーテル)、1,1’−[2,2,2−トリフルオロ−1−(トリフルオロメチル)エチリデン]ビス[4−(2−プロペン−1−イルオキシ)−ベンゼン]、1,1’−スルホニルビス[4−(2−プロペン−1−イルオキシ)−ベ
ンゼン]、4,4’−ビス(2−プロペン−1−イルオキシ)−1,1’−ビフェニル、1,1’−(1−メチルエチリデン)ビス[4−(2−プロペン−1−イルオキシ)]−シクロヘキサン]、3,3’−ジアリルビフェニル−4,4’−ジグリシジルエーテル(別名称 3,3’−ジアリル−4,4’−ジグリシジルオキシ―1,1’−ビフェニル)、3,3’−ジアリルビフェニル−4,4’−ジアリルエーテル(別名称 3,3’−ジアリル−4,4’−ジアリルオキシ−1,1’−ビフェニル)、3,3’−ジアリルビスフェノールA−ジグリシジルエーテル(別名称 2,2−ビス(3−アリル−4-グリシ
ジルオキシフェニル)プロパン)、3,3’−ジアリルビスフェノールA−ジアリルエーテル(別名称 2,2−ビス(3−アリル−4-アリルオキシフェニル)プロパン)等が
挙げられる。
n represents 0 or an integer of 1 or more, and is usually 5 or less, preferably 3 or less, more preferably 0.
When n is 2 or more, A 3 may be the same as or different from each other.
Specifically, as represented by the general formula (10), 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-bis (2-propen-1-yloxy) -1,1′-biphenyl ( Other names 3,3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenol diallyl ether), 1,1 ′-(1-methylethylidene) bis [4- (2-propen-1-yloxy) -benzene] (other names bisphenol A diallyl ether), 1,1 ′-[2,2,2-trifluoro-1- (trifluoromethyl) ethylidene] bis [4- (2-propen-1-yloxy) -benzene], 1,1 ′. -Sulfonylbis [4- (2-propen-1-yloxy) -benzene], 4,4′-bis (2-propen-1-yloxy) -1,1′-biphenyl, 1,1 ′-(1- Methylethylidene) bis [4- (2- Propen-1-yloxy)]-cyclohexane], 3,3′-diallylbiphenyl-4,4′-diglycidyl ether (also known as 3,3′-diallyl-4,4′-diglycidyloxy-1,1 ′ -Biphenyl), 3,3′-diallylbiphenyl-4,4′-diallyl ether (alternative name 3,3′-diallyl-4,4′-diallyloxy-1,1′-biphenyl), 3,3′- Diallyl bisphenol A-diglycidyl ether (other name 2,2-bis (3-allyl-4-glycidyloxyphenyl) propane), 3,3′-diallyl bisphenol A-diallyl ether (other name 2,2-bis (3 -Allyl-4-allyloxyphenyl) propane) and the like.

[数3]
H−[(R23n1−(A(OR)m2)−X]−H (11)
[Equation 3]
H - [(R 23) n1 - (A 2 (OR) m2) -X 2] i -H (11)

一般式(11)中、A、m、n、OR基以外の置換基は一般式(10)と同義である。
R、R23は一般式(9)と同義である。
は、直接結合、置換基を有していてもよいアルキレン基または2つ以上のアルキレン基を置換基として有するフェニレン基を表す。アルキレン基の炭素数は通常1〜4、好ましくは炭素数1又は2のアルキレン基である。
In General Formula (11), substituents other than A 2 , m 2 , n 1 , and OR group have the same meaning as in General Formula (10).
R and R 23 have the same meaning as in the general formula (9).
X 2 represents a direct bond, an alkylene group which may have a substituent, or a phenylene group having two or more alkylene groups as a substituent. Carbon number of an alkylene group is 1-4 normally, Preferably it is a C1-C2 alkylene group.

iは2以上の整数を表わし、通常20以下であり、好ましくは10以下である。
一般式(11)で表される化合物の具体例としては、4−(2−プロペン−1−イルオキシ)安息香酸−1,1’−(1,4−フェニレン)エステル、トリス[4−アリルオキシフェニル)メタン、クレゾールノボラックのポリアリルエーテル、トリス[3−アリル−4−グリシジルオキシフェニル)メタン、アリルクレゾールノボラックのポリアリルエーテル、アリルクレゾールノボラックのポリグリシジルエーテル等が挙げられる。
i represents an integer of 2 or more and is usually 20 or less, preferably 10 or less.
Specific examples of the compound represented by the general formula (11) include 4- (2-propen-1-yloxy) benzoic acid-1,1 ′-(1,4-phenylene) ester, tris [4-allyloxy Phenyl) methane, polyallyl ether of cresol novolak, tris [3-allyl-4-glycidyloxyphenyl) methane, polyallyl ether of allyl cresol novolak, polyglycidyl ether of allyl cresol novolak, and the like.

上記一般式(9)〜(11)に記載の化合物に、本発明の製造方法を適用することで、タングステン等の重金属含有量が極めて少なく、さらに塩素含有量の少ないエポキシ化合物を製造することができる。   By applying the production method of the present invention to the compounds described in the general formulas (9) to (11), it is possible to produce an epoxy compound having a very small content of heavy metals such as tungsten and a low content of chlorine. it can.

Figure 2015166335
Figure 2015166335

上記式(12)において、m41及びn41はそれぞれ独立して1〜4の整数を表し、A41〜A48はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、ニトロ基、アルコキシル基、アシルオキシ基、カルボニル基、カルボキシル基もしくはその塩を表す。
ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。
In the above formula (12), m 41 and n 41 each independently represent an integer of 1 to 4, and A 41 to A 48 may each independently have a hydrogen atom, a halogen atom or a substituent. An alkyl group, an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, a nitro group, an alkoxyl group, an acyloxy group, a carbonyl group, a carboxyl group or a salt thereof is represented.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom.

アルキル基としては、炭素数1〜20のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エ
チル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、セチル基、ステアリル基などの直鎖状または分岐状のアルキル基;シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基などのシクロアルキル基などが挙げられる。これらのアルキル基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシル基;ニトロ基;カルボキシル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などのアルコキシカルボニル基;アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基などのアシルオキシ基などが挙げられる。
As the alkyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable. For example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a t-butyl group, a pentyl group, Linear or branched alkyl group such as hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, cetyl group, stearyl group; cycloalkyl group such as cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclooctyl group, etc. Is mentioned. These alkyl groups may have a substituent. Examples of the substituent include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom and bromine atom; methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group. Examples include alkoxyl groups such as nitro groups; carboxyl groups; alkoxycarbonyl groups such as methoxycarbonyl groups and ethoxycarbonyl groups; acyloxy groups such as acetyloxy groups and propionyloxy groups.

芳香族炭化水素基としては、例えばフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
芳香族炭化水素基は置換基を有していてもよく、その置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシル基;ニトロ基;カルボキシル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などのアルコキシカルボニル基;アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基などのアシル基;アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基などのアシルオキシ基などが挙げられる。
Examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group and a naphthyl group.
The aromatic hydrocarbon group may have a substituent. Examples of the substituent include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom and bromine atom; methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, Alkoxy group such as butoxy group; nitro group; carboxyl group; alkoxycarbonyl group such as methoxycarbonyl group and ethoxycarbonyl group; acyl group such as acetyl group, propionyl group and benzoyl group; acyloxy group such as acetyloxy group and propionyloxy group Etc.

アルコキシル基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。
またアシルオキシ基としては、例えば、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。
カルボニル基としてはアルコキシカルボニル、カルボキシル基またはその塩としては、やカルボン酸、およびそのナトリウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩を挙げることができる。
Examples of the alkoxyl group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, and a butoxy group.
Examples of the acyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, and a benzoyloxy group.
Examples of the carbonyl group include alkoxycarbonyl, the carboxyl group or a salt thereof, carboxylic acid, and alkali metal salts such as sodium salt and potassium salt thereof.

なお、A41〜A48のうちいずれか2以上が互いに結合して、環を形成していてもよい。2分子は同一であっても、単一であってもよい。
結合部位としてはヘテロ原子で置換されていてもよいアルキレン、エステル、アミド、ウレア結合などが挙げられる。
一般式(12)で示される環状オレフィンとしては、例えば1,4−シクロヘキサジエン、1,5−シクロオクタジエン、1,5,9−シクロドデカトリエン、1,5−ジメチル−1,5−シクロオクタジエン、ジシクロペンタジエン、2,5−ノルボルナジエンなどの環状非共役オレフィン類、エステル架橋構造を有する3−シクロヘキセン−1−カルボン酸 3−シクロヘキセン−1−イルメチルエステル(セロキサイド前駆体)が挙げられる。
In addition, any two or more of A 41 to A 48 may be bonded to each other to form a ring. The two molecules may be the same or single.
Examples of the bonding site include alkylene, ester, amide, urea bond and the like which may be substituted with a hetero atom.
Examples of the cyclic olefin represented by the general formula (12) include 1,4-cyclohexadiene, 1,5-cyclooctadiene, 1,5,9-cyclododecatriene, 1,5-dimethyl-1,5-cyclo Examples thereof include cyclic non-conjugated olefins such as octadiene, dicyclopentadiene, and 2,5-norbornadiene, and 3-cyclohexen-1-carboxylic acid 3-cyclohexen-1-ylmethyl ester (celloxide precursor) having an ester bridge structure. .

本発明において原料として使用する炭素−炭素二重結合を有する化合物の別の例としては、下記一般式(13)で表されるスチレン化合物が挙げられる。   Another example of the compound having a carbon-carbon double bond used as a raw material in the present invention is a styrene compound represented by the following general formula (13).

Figure 2015166335
Figure 2015166335

上記式(13)において、A51〜A55はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数3〜7のシクロアルキル基、芳香族炭化水素基、アラルキル基、アシル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、カルボキシル基又はアシルオキシ基を示す。
56は、水素原子、炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数2〜8のアルコキシカルボニル基、炭素数3〜7のシクロアルキル基、芳香族炭化水素基、アラルキル基、アシル基、カルボキシル基又はアシルオキシ基が挙げられる。炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状のアルキル基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、2−エチル−1,3−インダンジオン、トリクロロメチル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、N−アルキルスルファモイルが挙げられる。A57及びA58はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数2〜8のアルコキシカルボニル基、炭素数3〜7のシクロアルキル基、芳香族炭化水素基、アラルキル基、アシル基、カルボキシル基又はアシルオキシ基を示す。
In the above formula (13), A 51 to A 55 are each independently a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, or 3 to 3 carbon atoms. 7 cycloalkyl group, aromatic hydrocarbon group, aralkyl group, acyl group, hydroxy group, halogen atom, carboxyl group or acyloxy group.
A 56 is a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 8 carbon atoms, or a cycloalkyl having 3 to 7 carbon atoms. Group, aromatic hydrocarbon group, aralkyl group, acyl group, carboxyl group or acyloxy group. The linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms may have a substituent, and examples of the substituent include 2-ethyl-1,3-indandione, trichloromethyl group, imidazolyl group, A triazolyl group and N-alkylsulfamoyl are mentioned. A 57 and A 58 are each independently a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 8 carbon atoms, carbon A cycloalkyl group, an aromatic hydrocarbon group, an aralkyl group, an acyl group, a carboxyl group, or an acyloxy group having a number of 3 to 7 is shown.

なお、A51〜A58のうちいずれか2つ以上が互いに結合し、環を形成していてもよい。)
一般式(13)で表されるスチレン類の具体例としては、スチレン、4−メチルスチレン、4−フルオロスチレン、2,4−ジフルオロスチレン、3−クロロスチレン、4−クロロスチレン、4−ブロモスチレン、4−ニトロスチレン、4−ビニル安息香酸、α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、1−フェニル−1−シクロヘキセン、インデン、ジヒドロナフタレン、2−[2−(3−クロロフェニル)−2−プロペン−1−イル]−2−エチル−1H−インデン−1,3(2H)−ジオン(インダノファン前駆体)、1,3−ジクロロー5−(3,3,3−トリクロロー1−メチレンプロピル)−ベンゼン(タンデム前駆体)、1−[2−(2,4−ジフロロフェニル)−2−プロペンー1−イル]−1H−1,2,4−トリアゾール等が挙げられる。
Note that any two or more of A 51 to A 58 may be bonded to each other to form a ring. )
Specific examples of the styrene represented by the general formula (13) include styrene, 4-methylstyrene, 4-fluorostyrene, 2,4-difluorostyrene, 3-chlorostyrene, 4-chlorostyrene, and 4-bromostyrene. 4-nitrostyrene, 4-vinylbenzoic acid, α-methylstyrene, β-methylstyrene, 1-phenyl-1-cyclohexene, indene, dihydronaphthalene, 2- [2- (3-chlorophenyl) -2-propene- 1-yl] -2-ethyl-1H-indene-1,3 (2H) -dione (indanophan precursor), 1,3-dichloro-5- (3,3,3-trichloro-1-methylenepropyl) -benzene ( Tandem precursor), 1- [2- (2,4-difluorophenyl) -2-propen-1-yl] -1H-1,2,4-triazole Etc.

Figure 2015166335
Figure 2015166335

一般式(14)中、Aは芳香族炭化水素基、または脂肪族炭化水素基を表し、X
外の置換基を有していてもよい。
としては、具体的にはアルキル基、アルケニル基、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ビフェニルスルホン等が挙げられる。
が有するX以外の置換基としては、特に限定されないが具体的にはアリル基、グリシジル基、アリルオキシ基、グリシジルオキシ基、フェニル基、フェニルオキシ基、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
In General Formula (14), A 6 represents an aromatic hydrocarbon group or an aliphatic hydrocarbon group, and may have a substituent other than X 3 .
Specific examples of A 6 include alkyl groups, alkenyl groups, phenyl groups, naphthyl groups, biphenyl groups, and biphenyl sulfones.
The substituent other than X 3 of A 6 is not particularly limited, but specifically, an allyl group, glycidyl group, allyloxy group, glycidyloxy group, phenyl group, phenyloxy group, alkyl group, alkoxy group, halogen atom, etc. Is mentioned.

Rは窒素原子上の置換基で一般式(9)と同義である。
は1または2を表わす。
は水素原子、芳香族炭化水素基、及び脂肪族炭化水素基のいずれかを表し、好ましくは水素原子、アリル基、フェニル基、アルキル基が挙げられる。
は0または1を表し、m+n=2である。
R is a substituent on the nitrogen atom and has the same meaning as in the general formula (9).
m 3 represents 1 or 2.
A 7 represents any one of a hydrogen atom, an aromatic hydrocarbon group, and an aliphatic hydrocarbon group, and preferably a hydrogen atom, an allyl group, a phenyl group, or an alkyl group.
n 3 represents 0 or 1, and m 3 + n 3 = 2.

は、−SO−、−CO−、−SONHCO−、−O−CO−、及び−N−CO−のいずれかのヘテロ原子を有する結合を表し、好ましくは−SO−、−CO−である。
は1以上の整数を表し、Aの置換可能な水素原子の数により異なり限定されないが、好ましくは2以上4以下である。
X 3 is, -SO 2 -, - CO - , - SO 2 NHCO -, - O-CO-, and represents a bond with -N-CO- or heteroatoms, preferably -SO 2 -, -CO-.
m 4 represents an integer of 1 or more, and varies depending on the number of substitutable hydrogen atoms of A 6 and is not limited, but is preferably 2 or more and 4 or less.

なおmが2以上のとき、Aの置換基Xは、それぞれ同一でも異なっていてもよく、さらにXに結合する窒素原子上の置換基R、Aも同一でも異なっていてもよい。
一般式(14)で表されるものとしては、具体的にN,N−ジアリルベンゼンスルホンアミド、N,N−ジアリル−p−トルエンスルホンアミドが挙げられる。
When m 4 is 2 or more, the substituents X of A 6 may be the same or different, and the substituents R and A 7 on the nitrogen atom bonded to X may be the same or different.
Specific examples of the compound represented by the general formula (14) include N, N-diallylbenzenesulfonamide and N, N-diallyl-p-toluenesulfonamide.

(エポキシ化合物の製造方法)
本発明の製造方法は、前記オレフィン化合物を、触媒金属、過酸化水素及び前記オニウム塩の共存下でエポキシ化することを特徴とするものである。具体的な反応操作としては特に限定されるものではないが、オレフィン化合物に、前記触媒金属、過酸化水素、前記オニウム塩を加え、必要に応じリン酸類及びホスホン酸類、更に必要に応じ前記有機溶媒、前記キレート化剤、のいずれかを加えてもよい。
特に二相系反応となる場合は必要に応じ更に水を加えてもよい。
(Method for producing epoxy compound)
The production method of the present invention is characterized in that the olefin compound is epoxidized in the presence of a catalyst metal, hydrogen peroxide and the onium salt. The specific reaction operation is not particularly limited, but the catalyst metal, hydrogen peroxide, and the onium salt are added to the olefin compound, and phosphoric acids and phosphonic acids as necessary, and further the organic solvent as necessary. Any of the chelating agents may be added.
In particular, in the case of a two-phase reaction, water may be further added as necessary.

(オレフィン化合物の前処理)
本発明におけるオレフィン化合物は、本発明のエポキシ化反応に用いる際に、必要に応じ、前処理を行なってから用いてもよい。前処理を行なうことで、金属不純物の量を軽減することができるため、本発明の効果を顕著に得る上では、下記する前処理を行なってから用いることが好ましい。
(Pretreatment of olefin compounds)
The olefin compound in the present invention may be used after pretreatment if necessary when used in the epoxidation reaction of the present invention. By performing the pretreatment, the amount of metal impurities can be reduced. Therefore, in order to obtain the effects of the present invention remarkably, it is preferable to use after performing the following pretreatment.

前記前処理の方法として前記オレフィン化合物を、酸性水溶液で洗浄する方法やキレート化剤水溶液で洗浄する方法が挙げられる。
前処理の方法としては、前記オレフィン化合物に直接酸性水溶液やキレート化剤水溶液を作用させて処理することもできれば、前記オレフィン化合物を有機溶媒等に溶解させた後混合し、処理することもできる。
Examples of the pretreatment method include a method of washing the olefin compound with an acidic aqueous solution and a method of washing with an aqueous chelating agent solution.
As a pretreatment method, an acidic aqueous solution or a chelating agent aqueous solution can be directly applied to the olefin compound for treatment, or the olefin compound can be dissolved in an organic solvent and then mixed and treated.

前記酸性水溶液に用いる酸の種類は、特に限定はされないが、具体的には塩酸、硫酸、硝酸、リン酸などの無機酸;酢酸、クエン酸などの有機酸が挙げられる。
酸性水溶液のpHは特に限定はされず、用いるオレフィン化合物の安定性により異なるが、通常pHは1以上、好ましくは3以上、通常5以下、好ましくは4以下で行う。pHの調整の目的で、各種の塩を加えてもよく、例えば硫酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、クエン酸ナトリウム等を添加してもよい。
The type of acid used in the acidic aqueous solution is not particularly limited, and specific examples include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, and phosphoric acid; and organic acids such as acetic acid and citric acid.
The pH of the acidic aqueous solution is not particularly limited, and varies depending on the stability of the olefin compound to be used. Usually, the pH is 1 or more, preferably 3 or more, usually 5 or less, preferably 4 or less. For the purpose of adjusting pH, various salts may be added. For example, sodium sulfate, sodium acetate, sodium phosphate, disodium hydrogen phosphate, sodium citrate and the like may be added.

具体的には、酢酸と硫酸ナトリウムの混合水溶液が好ましい。例えば4%の酢酸と1%硫酸ナトリウムを含むpH=4の水溶液がより好ましい。上記の洗浄処理を行なうことで金属が水に可溶化し、水相と共に除去される。
前記キレート化剤水溶液としては、金属とのキレート化能力を有する化合物を含む水溶液であれば、特に限定はされないが、好ましくは、いわゆる金属マスク剤を含む水溶液が好ましい。前記キレート化剤水溶液に用いるキレート化剤としては、上述したキレート化剤と同じであり、操作性や汎用性の面でエチレンジアミン四酢酸、ピロリン酸が好ましい。
Specifically, a mixed aqueous solution of acetic acid and sodium sulfate is preferable. For example, a pH = 4 aqueous solution containing 4% acetic acid and 1% sodium sulfate is more preferable. By performing the above washing treatment, the metal is solubilized in water and removed together with the aqueous phase.
The aqueous chelating agent solution is not particularly limited as long as it is an aqueous solution containing a compound capable of chelating with a metal, but an aqueous solution containing a so-called metal mask agent is preferable. The chelating agent used in the aqueous chelating agent solution is the same as the above-mentioned chelating agent, and ethylenediaminetetraacetic acid and pyrophosphoric acid are preferable in terms of operability and versatility.

なお前記キレート化剤水溶液に用いるキレート化剤は、反応系内に共存させるキレート化剤と同じであっても、異なるものであってもよい。
酸性水溶液やキレート化剤水溶液で洗浄する条件は特に限定はされないが、洗浄時間は通常30分間以上、2時間以下であり、洗浄温度は通常10℃以上、30℃以下である。これらの処理を行なうことで金属が水に可溶化し、水相と共に除去される。
The chelating agent used in the aqueous chelating agent solution may be the same as or different from the chelating agent that coexists in the reaction system.
The conditions for washing with an aqueous acid solution or an aqueous chelating agent solution are not particularly limited, but the washing time is usually from 30 minutes to 2 hours, and the washing temperature is usually from 10 ° C. to 30 ° C. By performing these treatments, the metal is solubilized in water and removed together with the aqueous phase.

(反応条件)
本発明の製造方法における反応温度は、反応が阻害されない限り、特に限定されないが、通常10℃以上、好ましくは35℃以上、より好ましくは60℃以上であり、通常90℃以下、好ましくは80℃以下、より好ましくは75℃以下である。前記温度範囲で反応させることにより、反応速度の低下がなく反応を進行させることができ、またより安全に反応を進行させることができるためである。
(Reaction conditions)
The reaction temperature in the production method of the present invention is not particularly limited as long as the reaction is not inhibited, but is usually 10 ° C. or higher, preferably 35 ° C. or higher, more preferably 60 ° C. or higher, and usually 90 ° C. or lower, preferably 80 ° C. Below, more preferably 75 ° C. or less. This is because by reacting in the above temperature range, the reaction can proceed without lowering the reaction rate, and the reaction can proceed more safely.

本発明の製造方法における反応時間は反応温度、触媒量、原料の種類等によって適宜選択でき、特に限定されるものではないが、通常1時間以上、好ましくは3時間以上、より好ましくは4時間以上であり、通常48時間以下、好ましくは36時間以下、より好ましくは24時間以下である。
本発明の製造方法において、前記オレフィン化合物に過酸化水素を反応させる際、反応系内に含まれる過酸化水素の量は特に限定はされないが、少ない方が好ましく、具体的には前記オレフィン化合物に含まれる二重結合の数に前記炭素−炭素二重結合を有する化合物のモル数を乗じた値に対し、通常0.5倍モル以下であり、0.3倍モル以下が好ましい。特にオレフィン原料が消費され、反応終盤になった際は過酸化水素の消費速度が低下するため、0.25倍モルがより好ましい。
The reaction time in the production method of the present invention can be appropriately selected depending on the reaction temperature, the amount of catalyst, the type of raw material and the like, and is not particularly limited, but is usually 1 hour or longer, preferably 3 hours or longer, more preferably 4 hours or longer. Usually, it is 48 hours or less, preferably 36 hours or less, more preferably 24 hours or less.
In the production method of the present invention, when hydrogen peroxide is reacted with the olefin compound, the amount of hydrogen peroxide contained in the reaction system is not particularly limited, but a smaller amount is preferable. It is 0.5 times mole or less normally with respect to the value which multiplied the number of moles of the compound which has the said carbon-carbon double bond to the number of double bonds contained, and 0.3 times mole or less is preferable. In particular, when the olefin raw material is consumed and the end of the reaction is reached, the consumption rate of hydrogen peroxide decreases, so 0.25-fold mol is more preferable.

反応系内の過酸化水素の量が多い場合、金属不純物の混入で過酸化水素が分解した場合、または急激な反応による温度上昇により過酸化水素が分解した場合、酸素ガスの急激な発生や温度上昇、これに伴う発泡が起こり、安全上好ましくない。反応系内に存在する過酸化水素の量が上記の量以下である場合、この過酸化水素が瞬時に分解、または反応した場合でも、その発熱量は系内の水、溶媒及び前記オレフィン化合物等の比熱、または潜熱により吸収可能な発熱量であるため、より安全に反応を行なうことができる。   When the amount of hydrogen peroxide in the reaction system is large, when hydrogen peroxide is decomposed due to contamination with metal impurities, or when hydrogen peroxide is decomposed due to a rapid temperature increase, oxygen gas is rapidly generated or Ascending, foaming accompanying this occurs, which is not preferable for safety. When the amount of hydrogen peroxide present in the reaction system is less than the above amount, even when this hydrogen peroxide is instantly decomposed or reacted, the amount of heat generated is the water, solvent in the system, the olefin compound, etc. Therefore, the reaction can be carried out more safely.

このとき限定はされないが、反応は二相系溶液で行なってもよい。
本発明の製造方法を二相系反応で行なう場合、水相の過酸化水素濃度は特に限定はされないが、より低いことが好ましく、5質量%以下が好ましく、4質量%以下がより好ましく、通常0.1質量%以上であり、0.3質量%以上が好ましい。前記範囲内であれば、触媒金属の再酸化が起こり、反応速度の低下や停止することが避けられるためである。
At this time, although not limited, the reaction may be performed in a two-phase solution.
When the production method of the present invention is carried out by a two-phase reaction, the concentration of hydrogen peroxide in the aqueous phase is not particularly limited, but is preferably lower, preferably 5% by mass or less, more preferably 4% by mass or less, usually It is 0.1 mass% or more, and 0.3 mass% or more is preferable. This is because, within the above range, reoxidation of the catalytic metal occurs, and a reduction or stop of the reaction rate can be avoided.

また本発明の製造方法を二相系溶液で行なう場合、水相及び有機相の量は特に限定されないが、前記水相の質量は、前記オレフィン化合物の質量に対し、反応熱や過酸化水素の分解熱を水の比熱や潜熱で吸収するため、及び上記のとおり金属不純物による分解を抑え
る目的で過酸化水素水濃度を低くするため、水で希釈するのが好ましい点から通常1.5倍以上であり、1.8倍以上、さらには2.0倍以上がより好ましい。上限は過酸化水素の濃度が下がりすぎることで反応が進行しない限りにおいて限定はされないが、生産性等の面で、通常10倍以下、好ましくは6倍以下である。
Further, when the production method of the present invention is carried out with a two-phase solution, the amount of the aqueous phase and the organic phase is not particularly limited, but the mass of the aqueous phase is the amount of reaction heat or hydrogen peroxide relative to the mass of the olefin compound. In order to absorb the heat of decomposition by the specific heat or latent heat of water, and to reduce the concentration of hydrogen peroxide solution for the purpose of suppressing decomposition by metal impurities as described above, it is usually 1.5 times or more from the point that it is preferably diluted with water. It is more preferably 1.8 times or more, and more preferably 2.0 times or more. The upper limit is not limited as long as the reaction does not proceed because the concentration of hydrogen peroxide is too low, but it is usually 10 times or less, preferably 6 times or less in terms of productivity.

また前記有機相の質量は、特に限定されないが前記オレフィン化合物の質量に対し、通常5倍以下であり、有機相中の基質及びオニウム塩の濃度の低下により反応速度が低下するため、3倍以下が好ましく、2倍以下がより好ましい。下限は特に限定されないが、通常1.1倍以上である。
尚、有機相には通常、溶媒、オレフィン化合物、オニウム塩が溶解しており、有機相の重量とは有機相に溶解しているこれらすべてを合わせた重量を表す。
Further, the mass of the organic phase is not particularly limited, but is usually 5 times or less with respect to the mass of the olefin compound, and the reaction rate is lowered due to a decrease in the concentration of the substrate and the onium salt in the organic phase. Is preferably 2 times or less. Although a minimum is not specifically limited, Usually, it is 1.1 times or more.
In addition, a solvent, an olefin compound, and an onium salt are normally dissolved in the organic phase, and the weight of the organic phase represents the combined weight of all of these dissolved in the organic phase.

有機相と水相の総量は、特に限定されないが、安全性の面からは、反応熱や過酸化水素の分解熱を吸収する観点からは、基質に対し通常質量比で2倍以上であり、生産性の面からは8倍以下である。
有機相/水相の比は限定されないが、通常1以下であり、0.5以下が好ましい。反応速度は有機相中のオレフィン化合物とオニウム塩化合物の濃度には影響されるが、過酸化水素の濃度の影響を受けないため、反応速度を低下することなく、反応熱や過酸化水素の分解熱を吸収する観点から、水の割合が多い方が好ましいからである。
The total amount of the organic phase and the aqueous phase is not particularly limited, but in terms of safety, from the viewpoint of absorbing the heat of reaction and the heat of decomposition of hydrogen peroxide, it is usually more than twice the mass ratio to the substrate. In terms of productivity, it is 8 times or less.
Although the ratio of the organic phase / aqueous phase is not limited, it is usually 1 or less, preferably 0.5 or less. Although the reaction rate is affected by the concentration of the olefin compound and onium salt compound in the organic phase, it is not affected by the concentration of hydrogen peroxide, so it does not decrease the reaction rate and decomposes the heat of reaction and hydrogen peroxide. This is because a higher proportion of water is preferable from the viewpoint of absorbing heat.

前記二相系反応の水相の過酸化水素濃度を保つ方法は、特に限定されないが、過酸化水素添加前、あるいは添加中に、水を添加することが好ましい。水を添加することにより、過酸化水素濃度を低く保つことができるだけでなく、反応系の比熱吸収及び潜熱吸収が大きくなり、安全性が更に向上するためである。
水の全添加量は、特に限定はされないが、通常オレフィン化合物に対し、質量比で通常0.1倍量以上、好ましくは0.5倍量以上、より好ましくは1倍量以上であり、通常5倍量以下、好ましくは3倍量以下である。
The method for maintaining the hydrogen peroxide concentration in the aqueous phase of the two-phase reaction is not particularly limited, but it is preferable to add water before or during the addition of hydrogen peroxide. This is because by adding water, not only can the hydrogen peroxide concentration be kept low, but also the specific heat absorption and latent heat absorption of the reaction system increase, and the safety is further improved.
The total amount of water added is not particularly limited, but is usually 0.1 times or more, preferably 0.5 times or more, more preferably 1 time or more, in terms of mass ratio to the normal olefin compound. The amount is 5 times or less, preferably 3 times or less.

本発明の製造方法における反応時のpHは、反応に供するオレフィン化合物の構造や性質等により適宜調整が可能であり、特に限定されるものではないが、通常pHは2以上、好ましくは2.5以上、通常6以下である。前記オニウム塩を反応に使用し、二相系反応である場合は、その水相のpHが上記範囲であることが好ましい。
例えばオレフィン化合物が環状オレフィンである場合は、エポキシ化されやすい一方、生成したエポキシ環が転移や開裂しやすい傾向があるため、中性に近いpHでの反応が好ましい。一方オレフィン化合物がアリルエーテルの場合は、環状オレフィンと比較してエポキシ化されにくく、開裂しにくい傾向があるため、環状オレフィンの場合に比べ酸性、すなわち低いpHで反応を行なうことが好ましい傾向がある。反応時、前記オニウム塩を使用した場合は、二相系反応の水相中の過酸化水素の量によりpHが変化する、また、反応後半では生成したエポキシが酸性条件下で開裂するため、反応の進行具合に応じて適宜、酸または塩基を添加して、pHを最適な範囲に保つことが好ましい。
The pH during the reaction in the production method of the present invention can be appropriately adjusted depending on the structure and properties of the olefin compound to be subjected to the reaction and is not particularly limited, but the pH is usually 2 or more, preferably 2.5. As described above, it is usually 6 or less. When the onium salt is used for the reaction and the reaction is a two-phase reaction, the pH of the aqueous phase is preferably within the above range.
For example, when the olefin compound is a cyclic olefin, the reaction is preferably carried out at a pH close to neutrality because it tends to be epoxidized but the produced epoxy ring tends to be transferred or cleaved. On the other hand, when the olefin compound is allyl ether, it tends to be less epoxidized and less prone to cleavage than the cyclic olefin, so that the reaction tends to be more acidic, that is, at a lower pH than the cyclic olefin. . When the onium salt is used during the reaction, the pH changes depending on the amount of hydrogen peroxide in the aqueous phase of the two-phase reaction, and the epoxy produced in the latter half of the reaction is cleaved under acidic conditions. It is preferable to keep the pH within the optimum range by adding an acid or a base as appropriate according to the degree of progress.

本発明の製造方法においては必要に応じて緩衝液を使用することもできる。緩衝液の種類としては、反応を阻害しないものであれば、目的のpHに合わせた緩衝液を適宜用いることができる。緩衝液の例としては、リン酸塩水溶液、リン酸水素塩、又はリン酸二水素塩、又はフェニルリン酸の組み合わせとしては、クエン酸とクエン酸ナトリウム、酢酸と酢酸ナトリウムなどが挙げられる。場合によっては先のタングステン酸類を組み合わせて緩衝液としてもよい。   In the production method of the present invention, a buffer may be used as necessary. As the type of the buffer, any buffer that matches the target pH can be used as long as it does not inhibit the reaction. Examples of the buffer solution include citric acid and sodium citrate, acetic acid and sodium acetate, and the like as a combination of an aqueous phosphate solution, hydrogen phosphate, dihydrogen phosphate, or phenyl phosphate. In some cases, the above tungstic acids may be combined to form a buffer solution.

本発明の製造方法においては、反応を円滑に進行させる目的で、共酸化剤を使用することもできる。具体的には、カルボン酸、好ましくは炭素数1〜10の脂肪族カルボン酸を
触媒組成物中に含んでいてもよい。共酸化剤は組成物中に添加してもよく、例えばエステル基を有するオニウム塩の場合、エステル基が加溶媒を受けて発生したものであっても
よい。
In the production method of the present invention, a co-oxidant can be used for the purpose of causing the reaction to proceed smoothly. Specifically, the catalyst composition may contain a carboxylic acid, preferably an aliphatic carboxylic acid having 1 to 10 carbon atoms. The cooxidant may be added to the composition. For example, in the case of an onium salt having an ester group, the ester group may be generated by receiving a solvent.

本発明の製造方法における反応は、安全上の観点から、常圧、窒素気流下で行うことが好ましい。
本発明において、エポキシ化反応終了後に、必要に応じ還元剤を加えて過剰な過酸化水素のクエンチ処理を行う。反応に前記のオニウム塩を使用した場合は、二相系反応の水相を廃棄後、有機相を水洗後、上記クエンチ処理を行なうことが好ましい。上記クエンチ処理に用いる還元剤としては特に限定されないが、亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、ヒドラジン、シュウ酸などが挙げられる。
The reaction in the production method of the present invention is preferably performed under normal pressure and a nitrogen stream from the viewpoint of safety.
In the present invention, after the epoxidation reaction is completed, a reducing agent is added as necessary to quench excess hydrogen peroxide. When the onium salt is used in the reaction, it is preferable to perform the quenching treatment after discarding the aqueous phase of the two-phase reaction and washing the organic phase with water. Although it does not specifically limit as a reducing agent used for the said quench process, Sodium sulfite, sodium thiosulfate, hydrazine, an oxalic acid etc. are mentioned.

(精製)
上記の方法で得られたエポキシ化合物は、必要に応じて更に精製してもよい。特に本発明の製造方法において使用した触媒由来の金属、タングステン及びモリブデン化合物の少なくとも一方や、必要に応じ使用したオニウム塩は、通常、精製により除去する。具体的な精製方法は、特に限定されるものではなく、公知の方法を適宜使用することができる。エポキシ化合物が固体の場合は晶析、懸洗、分液、吸着、昇華等が挙げられ、エポキシ化合物が液体の場合は分液、洗浄、吸着、蒸留が挙げられる。
(Purification)
You may further refine | purify the epoxy compound obtained by said method as needed. In particular, the catalyst-derived metal used in the production method of the present invention, at least one of tungsten and molybdenum compounds, and the onium salt used as necessary are usually removed by purification. A specific purification method is not particularly limited, and a known method can be appropriately used. When the epoxy compound is a solid, crystallization, hanging washing, liquid separation, adsorption, sublimation and the like can be mentioned, and when the epoxy compound is a liquid, liquid separation, washing, adsorption and distillation can be mentioned.

分液、洗浄による精製は、水と水に不溶または難溶な有機溶媒を組み合わせる場合と、互いに混合しない複数の有機溶媒同士を組み合わせる場合がある。水と水に不溶または難溶な有機溶媒の組み合わせとしては、例えば酢酸エチル、トルエン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、n−へキサン等の有機溶媒と水の組み合わせが挙げられる。互いに混合しない複数の有機溶媒同士の組合せとしては例えばN,N’−ジメチルホルムアミドとn−ヘプタン、n−へキサン、n−ペンタン、ジイソプロピルエーテル、キシレンのうち少なくともひとつとの組合せ、ジメチルスルホキシドとn−ヘプタン、n−へキサン、n−ペンタン、ジイソプロピルエーテル、ジエチルエーテル、キシレンのうち少なくともひとつとの組合せ、アセトニトリルとn−ヘプタン、n−へキサン、n−ペンタン、シクロへキサン、シクロペンタンのうち少なくともひとつとの組合せ、メタノールとn−ヘプタン、n−へキサン、n−ペンタンのうち少なくともひとつとの組合せがある。   Purification by separation and washing may be performed by combining water and an organic solvent that is insoluble or hardly soluble in water, or combining a plurality of organic solvents that are not mixed with each other. Examples of the combination of water and an organic solvent insoluble or hardly soluble in water include a combination of an organic solvent such as ethyl acetate, toluene, diethyl ether, diisopropyl ether, n-hexane, and water. Examples of combinations of a plurality of organic solvents that are not mixed with each other include, for example, a combination of N, N′-dimethylformamide and n-heptane, n-hexane, n-pentane, diisopropyl ether, xylene, dimethyl sulfoxide and n -In combination with at least one of heptane, n-hexane, n-pentane, diisopropyl ether, diethyl ether, xylene, acetonitrile and n-heptane, n-hexane, n-pentane, cyclohexane, cyclopentane There is a combination with at least one and a combination with at least one of methanol and n-heptane, n-hexane and n-pentane.

晶析による精製には、溶媒を減圧留去する、または留去することなしに冷却して晶析させる方法、化合物の溶解度の低い溶媒、いわゆる貧溶媒を加え析出する方法、化合物の溶解度の高い溶媒、いわゆる易溶媒と貧溶媒を組み合わせて析出する方法、反応終了後、水を加えて晶析させる方法等のいずれでも良い。溶媒としては有機溶媒、水、またはその混合物、有機溶媒同士を組み合わせる等、いずれでも良く、化合物の溶解度により適切なものを選択する。有機溶媒としては、酢酸エチル等のエステル類、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサンなど脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン等の非プロトン性溶媒、メタノール、エタノール、2-プロパノール、n−ブタノール等のア
ルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキサイド等の非プロトン性極性溶媒が挙げられる。
For purification by crystallization, the solvent is distilled off under reduced pressure, or it is cooled and crystallized without distilling off, a solvent having a low solubility of the compound, a method of adding a so-called poor solvent to precipitate, and a compound having a high solubility. Any of a method of precipitation by combining a solvent, a so-called easy solvent and a poor solvent, a method of crystallization by adding water after completion of the reaction, and the like may be used. The solvent may be an organic solvent, water, a mixture thereof, a combination of organic solvents, or the like, and an appropriate one is selected depending on the solubility of the compound. Examples of the organic solvent include esters such as ethyl acetate, aliphatic hydrocarbons such as heptane, hexane, and cyclohexane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene, acetonitrile, tetrahydrofuran, dioxane, 1,2-dimethoxyethane, and the like. Aprotic solvents, alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol and n-butanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, aprotic such as N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone and dimethyl sulfoxide A polar solvent.

懸洗による精製には、化合物の溶解度の低い溶媒、いわゆる貧溶媒を用いる。好ましい貧溶媒は化合物により異なるが、メタノールなどのアルコール類などの極性の高いものや、逆にプタン、ヘキサン、シクロヘキサンなど極性の低い脂肪族炭化水素が上げられる。
水溶性の溶媒としては、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、N,N-ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド等が挙げられ、これらは水と混合して用いるこ
とができる。溶媒量は少なすぎる場合は精製効果が十分ではなく、多すぎる場合には、回収率の低下につながる。懸洗終了後、固形物をろ過回収し、乾燥することによって目的物を得ることができる。
For purification by hanging washing, a solvent having a low compound solubility, a so-called poor solvent is used. Although a preferable poor solvent changes with compounds, highly polar things, such as alcohols, such as methanol, and low polarity aliphatic hydrocarbons, such as a pentane, hexane, and a cyclohexane, are raised conversely.
Examples of the water-soluble solvent include tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide and the like, and these can be used by mixing with water. When the amount of the solvent is too small, the purification effect is not sufficient, and when it is too large, the recovery rate is lowered. After completion of the hanging washing, the target product can be obtained by collecting the solid by filtration and drying.

吸着による精製は、含塩素系不純物と吸着剤として、活性炭、活性白土、モレキュラーシーブス、アルミナ、ゼオライト、イオン交換樹脂等が挙げられる。
上記精製法の中でも、操作法の点からは、エポキシ化合物の性状に関わらず分液法、吸着法が好ましい。エポキシ化合物が固体の場合は晶析法が有効である。
Purification by adsorption includes activated carbon, activated clay, molecular sieves, alumina, zeolite, ion exchange resin and the like as chlorine-containing impurities and adsorbents.
Among the above purification methods, from the viewpoint of operation methods, a liquid separation method and an adsorption method are preferable regardless of the properties of the epoxy compound. When the epoxy compound is solid, the crystallization method is effective.

<オニウム塩の分解・除去工程>
前記オニウム塩を、エポキシ化反応後に、活性水素を含む官能基またはその塩を有するオニウム塩化合物に変換し、エポキシ化合物と分離する。活性水素を含む官能基またはその塩を有するオニウム塩は水溶性であるため、洗浄等により簡便に除去することができる。これに伴い、オニウム塩と複合体を形成している触媒金属成分も除去される。
活性水素を含む官能基またはその塩に変換する方法としては、エポキシ化合物を損なわない方法であれば特に限定はされないが、通常は以下の方法が用いられる。
<Decomposition / removal process of onium salt>
After the epoxidation reaction, the onium salt is converted into an onium salt compound having a functional group containing active hydrogen or a salt thereof and separated from the epoxy compound. Since the onium salt having a functional group containing active hydrogen or a salt thereof is water-soluble, it can be easily removed by washing or the like. Along with this, the catalytic metal component forming a complex with the onium salt is also removed.
The method for converting to a functional group containing active hydrogen or a salt thereof is not particularly limited as long as it does not damage the epoxy compound, but the following methods are usually used.

(i)オニウム塩が、アシル化オニウム塩である場合や、ベンゾイル化オニウム塩である場合は、塩基性化合物の存在下、加溶媒分解し、分解物を水洗にて除去するのが好ましい。加溶媒分解工程で使用する塩基性化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素ナトリウムなどの無機塩基:アンモニア、メチルアミン、エチルアミンなどの有機塩基が挙げられ、このうち水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸カリウムが好ましく、中でも水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、炭酸カリウムが好ましい。加溶媒分解工程で使用される溶媒は、通常水または/及びアルコールであり、アルコールとしてはメタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールが好ましいが、中でもメタノールが好ましい。 (I) When the onium salt is an acylated onium salt or a benzoylated onium salt, it is preferable to perform solvolysis in the presence of a basic compound and remove the decomposition product by washing with water. Examples of the basic compound used in the solvolysis step include sodium hydroxide, lithium hydroxide, potassium hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, cesium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate. Inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium phosphate and sodium hydrogen phosphate: organic bases such as ammonia, methylamine and ethylamine, of which sodium hydroxide, lithium hydroxide, potassium carbonate, carbonate Sodium, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, and potassium carbonate are preferable, and sodium hydroxide, lithium hydroxide, and potassium carbonate are particularly preferable. The solvent used in the solvolysis step is usually water or / and alcohol. As the alcohol, methanol, ethanol, propanol, and ethylene glycol are preferable, and methanol is particularly preferable.

前記塩基性溶液の濃度、pH、温度は、特に限定されないが、エポキシ化合物の分解しない範囲で選択できる。具体的には、水溶液の場合は濃度として通常、0.1規定〜5規定、好ましくは0.3規定〜3規定、更に好ましくは0.5規定〜2規定の塩基性水溶液を用いる。水溶液のpHは通常10〜12である。温度は通常0℃以上、好ましくは20℃以上、通常60℃以下、好ましくは45℃以下で処理する。
上記の工程で、オニウム塩は活性水素を含む官能基またはその塩を有するオニウム塩化合物と、それ以外の構造に由来する化合物へと分解される。例えば、アシル化オニウム塩およびベンゾイル化オニウム塩の場合、水中で上記の処理を行った場合はカルボン酸が、アルコール溶媒中で反応を行った場合はカルボン酸エステルが生成する。ベンゾイル化オニウム塩の場合は、還元により対応する芳香族が生成する。例えばベンゾイル基の場合は、接触水素化によりトルエンが生成する。これらの生成物とエポキシ化合物の分離はエポキシ化合物を損なわない方法であれば特に限定はされないが、通常は塩基水洗浄、塩基水処理または減圧留去により除去する。
The concentration, pH, and temperature of the basic solution are not particularly limited, but can be selected within a range where the epoxy compound does not decompose. Specifically, in the case of an aqueous solution, a basic aqueous solution having a concentration of usually 0.1 N to 5 N, preferably 0.3 N to 3 N, and more preferably 0.5 N to 2 N is used. The pH of the aqueous solution is usually 10-12. The temperature is usually 0 ° C. or higher, preferably 20 ° C. or higher, usually 60 ° C. or lower, preferably 45 ° C. or lower.
In the above step, the onium salt is decomposed into an onium salt compound having a functional group containing active hydrogen or a salt thereof and a compound derived from other structures. For example, in the case of acylated onium salts and benzoylated onium salts, a carboxylic acid is produced when the above treatment is carried out in water, and a carboxylic acid ester is produced when the reaction is carried out in an alcohol solvent. In the case of benzoylated onium salts, the corresponding aromatics are produced by reduction. For example, in the case of a benzoyl group, toluene is produced by catalytic hydrogenation. Separation of these products and the epoxy compound is not particularly limited as long as it is a method that does not impair the epoxy compound, but it is usually removed by washing with basic water, treatment with basic water or distillation under reduced pressure.

尚、オニウム塩が、アシル化オニウム塩である場合、上記加溶媒分解工程にてアシル基が脱離する事により生成する水酸基を有するオニウム塩は、アシル化オニウム塩の合成前駆体なので、これを再びアシル化してアシル化オニウム塩として使用することができる。よって、アシル化オニウム塩の加溶媒分解工程の後に、加溶媒分解されたオニウム塩を再生する工程を有してもよい。
(ii)オニウム塩が、ベンジル化オニウム塩である場合は、還元、好ましくは接触水素
化を行った後、分解後のオニウム塩を水洗にて除去することが好ましい。
In the case where the onium salt is an acylated onium salt, the onium salt having a hydroxyl group produced by the elimination of the acyl group in the solvolysis step is a synthetic precursor of the acylated onium salt. It can be acylated again and used as an acylated onium salt. Therefore, a step of regenerating the solvated onium salt may be provided after the solvolysis step of the acylated onium salt.
(Ii) When the onium salt is a benzylated onium salt, it is preferable to perform reduction, preferably catalytic hydrogenation, and then remove the decomposed onium salt by washing with water.

(エポキシ化合物)
本発明の製造方法により得られるエポキシ化合物は、上記のオレフィン化合物の炭素−炭素二重結合がエポキシ基に変換されたものが得られ、炭素−炭素二重結合がすべてエポキシ化されたものが好ましい。
上記エポキシ化反応、前記触媒金属や、必要に応じ用いたオニウム塩等の分離・除去工程、必要に応じ精製工程を経て、エポキシ化合物を得る。
(Epoxy compound)
The epoxy compound obtained by the production method of the present invention is preferably one in which the carbon-carbon double bond of the olefin compound is converted to an epoxy group, and all the carbon-carbon double bonds are epoxidized. .
An epoxy compound is obtained through the above epoxidation reaction, separation / removal step of the catalyst metal and onium salt used if necessary, and purification step as necessary.

本発明の製造方法により得られたエポキシ化合物は、触媒金属由来の金属元素の含有量量は特に限定されるものではないが、通常200ppm以下、好ましくは100ppm以下に、より好ましくは10ppm以下に、更に好ましくは1ppm以下である。
同様に、本発明の製造方法により得られたエポキシ化合物は、オニウム塩由来の窒素含有量は通常500ppm以下、好ましくは200ppm以下、より好ましくは10ppm以下に、更に好ましくは1ppm以下である。
In the epoxy compound obtained by the production method of the present invention, the content of the metal element derived from the catalyst metal is not particularly limited, but is usually 200 ppm or less, preferably 100 ppm or less, more preferably 10 ppm or less, More preferably, it is 1 ppm or less.
Similarly, in the epoxy compound obtained by the production method of the present invention, the nitrogen content derived from the onium salt is usually 500 ppm or less, preferably 200 ppm or less, more preferably 10 ppm or less, and further preferably 1 ppm or less.

本発明の製造方法により得られたエポキシ化合物は、反応に供した化合物の塩素含有量にもよるが、一般的にエピクロルヒドリンを用いて合成したエポキシ化合物に比べ、塩素含有量が少ないという特徴を有する。
通常ハロゲン原子の含有量が少ないものとなり、その含有量は通常200ppm以下、好ましくは50ppm以下、より好ましくは10ppm以下、更に好ましくは1ppm以下である。
The epoxy compound obtained by the production method of the present invention has a characteristic that the chlorine content is generally smaller than that of an epoxy compound synthesized using epichlorohydrin, although it depends on the chlorine content of the compound subjected to the reaction. .
Usually, the halogen atom content is low, and the content is usually 200 ppm or less, preferably 50 ppm or less, more preferably 10 ppm or less, and even more preferably 1 ppm or less.

本発明の製造方法は、後述するエポキシ樹脂の他、エポキシ構造を有する医薬中間体や、農薬の原体の製造に用いることができる。例えば、ハロゲン置換スチレンオキサイド構造を有する抗真菌剤や糖尿病薬の中間体等の製造が上げられる。本発明の方法で得られたエポキシ化合物は、不純物が少ないため、不純物に由来する毒性の懸念が低減する。   The production method of the present invention can be used for the production of a pharmaceutical intermediate having an epoxy structure and a raw material for agricultural chemicals in addition to the epoxy resin described later. For example, production of an antifungal agent having a halogen-substituted styrene oxide structure, an intermediate of a diabetic drug, and the like can be raised. Since the epoxy compound obtained by the method of the present invention has few impurities, the concern about toxicity derived from the impurities is reduced.

(エポキシ樹脂)
本発明の製造方法によって得られたエポキシ化合物は、重合することによりエポキシ樹脂を製造することができる。重合反応は、公知の方法を適用することができ、具体的には特開2007−246819号公報等に記載の方法等により行なうことができる。
本発明の方法で得られた高純度エポキシ樹脂は、電子材料、光学材料、接着剤、建築分野等で用いることができる。半導体封止材、プリント配線基板、ビルドアップ配線板、ソルダーレジスト等の電子部品材料として用いた場合、不純物が原因で起きる配線の腐食や短絡の、照明の封止剤等の光学材料として用いた場合、着色や劣化の低減や回避が可能となる。
(Epoxy resin)
The epoxy compound obtained by the production method of the present invention can produce an epoxy resin by polymerization. A known method can be applied to the polymerization reaction. Specifically, the polymerization reaction can be performed by a method described in JP-A-2007-246819.
The high-purity epoxy resin obtained by the method of the present invention can be used in electronic materials, optical materials, adhesives, construction fields and the like. Used as optical materials such as lighting sealants for wiring corrosion and short circuits caused by impurities when used as electronic component materials such as semiconductor encapsulants, printed wiring boards, build-up wiring boards, solder resists, etc. In this case, it is possible to reduce or avoid coloring and deterioration.

本発明において用いられるオニウム塩は、前記のエポキシ化反応に限らず、種々の酸化反応においても適用可能である。
発明者がPCT/JP2013/059401として特許出願した「活性水素を含む官能基またはその塩に変換可能な置換基を1つ以上有し、炭素原子を20以上含むオニウム塩」、具体的には本発明のオニウム塩は、過酸化水素と組み合わせた各種の酸化反応においても使用することができる。
The onium salt used in the present invention is not limited to the epoxidation reaction described above, and can be applied to various oxidation reactions.
The inventor has filed a patent application as PCT / JP2013 / 059401, “an onium salt having one or more substituents that can be converted into a functional group containing active hydrogen or a salt thereof and containing 20 or more carbon atoms”, specifically, The onium salt of the invention can also be used in various oxidation reactions combined with hydrogen peroxide.

具体的な使用方法としては、1級水酸基を有する化合物からアルデヒド、カルボン酸を製造する方法、炭素−炭素二重結合を有する化合物から1,2−ジオールを製造する方法、チオエーテル結合を有する化合物からスルホン化合物を製造する方法等に用いられる。
アルデヒドの製造方法としては具体的には、タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方と、炭素原子を20以上有しかつ活性水素を含む官能基またはその塩に
変換可能な置換基を1つ以上有するオニウム塩の存在下、1級水酸基を有する化合物に過酸化水素を反応させ、アルデヒドを得ることができる。
Specific usage methods include a method for producing an aldehyde and a carboxylic acid from a compound having a primary hydroxyl group, a method for producing a 1,2-diol from a compound having a carbon-carbon double bond, and a compound having a thioether bond. Used in a method for producing a sulfone compound.
Specifically, the aldehyde production method includes at least one of a tungsten compound and a molybdenum compound, and an onium having one or more substituents that have 20 or more carbon atoms and can be converted into a functional group containing active hydrogen or a salt thereof. An aldehyde can be obtained by reacting a compound having a primary hydroxyl group with hydrogen peroxide in the presence of a salt.

カルボン酸の製造方法としては具体的には、タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方と、炭素原子を20以上有しかつ活性水素を含む官能基またはその塩に変換可能な置換基を1つ以上有するオニウム塩の存在下、1級水酸基を有する化合物に過酸化水素を反応させ、カルボン酸を得ることができる。
1,2−ジオールの製造方法としては、タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方と、炭素原子を20以上有しかつ活性水素を含む官能基またはその塩に変換可能な置換基を1つ以上有するオニウム塩の存在下、酸性条件下、炭素−炭素二重結合を有する化合物に過酸化水素を反応させ、1,2−ジオールを得ることができる。
Specifically, the carboxylic acid production method has at least one of a tungsten compound and a molybdenum compound, and one or more substituents that have 20 or more carbon atoms and can be converted into a functional group containing active hydrogen or a salt thereof. Carboxylic acid can be obtained by reacting a compound having a primary hydroxyl group with hydrogen peroxide in the presence of an onium salt.
The production method of 1,2-diol includes at least one of a tungsten compound and a molybdenum compound, and an onium having one or more substituents having 20 or more carbon atoms and capable of being converted into a functional group containing active hydrogen or a salt thereof. Hydrogen peroxide can be reacted with a compound having a carbon-carbon double bond under acidic conditions in the presence of a salt to give 1,2-diol.

スルホン化合物の製造方法としては、タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方と、炭素原子を20以上有しかつ活性水素を含む官能基またはその塩に変換可能な置換基を1つ以上有するオニウム塩の存在下、チオエーテル結合を有する化合物に過酸化水素を反応させ、スルホン化合物を得ることができる。
上記の各種の製造方法において、オニウム塩としては、上記本発明のオニウム塩が好ましい。また製造条件は特に制限されず、原料や目的物の反応性に応じ、適宜調整して使用することができる。
As a method for producing a sulfone compound, there is at least one of a tungsten compound and a molybdenum compound, and the presence of an onium salt having at least one substituent having at least 20 carbon atoms and having a functional group containing active hydrogen or a salt thereof. Then, a sulfone compound can be obtained by reacting a compound having a thioether bond with hydrogen peroxide.
In the various production methods described above, the onium salt of the present invention is preferred as the onium salt. The production conditions are not particularly limited, and can be appropriately adjusted according to the reactivity of the raw material and the target product.

以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例により何等限定されるものではない。
H−NMR分析条件>
装置:BRUKER社製 AVANCE400, 400MHz
溶媒:0.03体積%テトラメチルシラン含有重クロロホルム
合成例4のみ0.005体積%トリフルオロ酢酸を追加
積算回数:16回
実施例中のデータは、H−NMR(400MHz、CDCl)におけるδ値を表す。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention is not limited at all by the following examples.
<1 H-NMR analysis conditions>
Equipment: AVANCE400, 400MHz manufactured by BRUKER
Solvent: 0.03 volume% tetramethylsilane-containing deuterated chloroform Only Synthesis Example 4 was added with 0.005 volume% trifluoroacetic acid. Accumulation count: 16 times Data in the examples are in 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ). Represents the δ value.

<LC分析条件>
LC装置:島津製作所社製 SPD−10Avp
温度 :35℃
カラム :Mightysil RP−18GP aqua 150−4.6(5μ
m)(関東化学社製)
(以下、分析条件1とする。)
検出器 :UV 280nm
溶離液 :アセトニトリル/0.1体積%トリフルオロ酢酸水溶液=90/10
(体積%)
流量 :0.5ml/分
(以下、分析条件2とする。)
検出器 :UV 254nm
溶離液 :アセトニトリル/0.1体積%トリフルオロ酢酸水溶液=60/40
(体積%)→20分間で100/0(体積%)、その後100/0(体
積%)で10分間保持
流量 :0.5ml/分
<LC analysis conditions>
LC device: SPD-10Avp manufactured by Shimadzu Corporation
Temperature: 35 ° C
Column: Mightysil RP-18GP aqua 150-4.6 (5μ
m) (manufactured by Kanto Chemical)
(Hereinafter referred to as analysis condition 1)
Detector: UV 280nm
Eluent: Acetonitrile / 0.1% by volume trifluoroacetic acid aqueous solution = 90/10
(volume%)
Flow rate: 0.5 ml / min (hereinafter referred to as analysis condition 2)
Detector: UV 254nm
Eluent: acetonitrile / 0.1% by volume trifluoroacetic acid aqueous solution = 60/40
(Volume%) → 100/0 (volume%) in 20 minutes, then 100/0 (body
Held for 10 minutes at a flow rate of 0.5 ml / min.

<Mass分析条件>
LC装置 :Applied Biosystems Voyager−DE STR
質量分析計
イオン化法:MALDI(+)
<Mass analysis conditions>
LC device: Applied Biosystems Voyager-DE STR
Mass spectrometer
Ionization method: MALDI (+)

<GC分析条件>
装置 :島津製作所製 GC−1700
カラム :phenomenex社製 ZB−5(30m×0.25mmφ、粒子径
0.25μm)
検出器 :水素炎イオン検出器 (FID)
キャリヤーガス(窒素流量):28ml/分
カラム温度:100℃より、10℃/分で300℃まで昇温
INJ温度:250℃
DET温度:300℃
<GC analysis conditions>
Apparatus: GC-1700 manufactured by Shimadzu Corporation
Column: ZB-5 (30 m × 0.25 mmφ, particle diameter, manufactured by phenomenex)
0.25μm)
Detector: Hydrogen flame ion detector (FID)
Carrier gas (nitrogen flow rate): 28 ml / min Column temperature: Increased from 100 ° C to 300 ° C at 10 ° C / min INJ temperature: 250 ° C
DET temperature: 300 ° C

<窒素含有量の測定方法>
窒素含有量(重量ppm)は、以下の方法で測定した。試料8mgを酸素及びアルゴン雰囲気内で燃焼させ、発生した分解ガスを燃焼・減圧化学発光法を用いた微量窒素分析装置(三菱化学アナリテック社製 TN−10型)にて測定した。また、標準試料としてアニリンをトルエンに溶解し使用した。
<Method for measuring nitrogen content>
The nitrogen content (weight ppm) was measured by the following method. A sample of 8 mg was combusted in an oxygen and argon atmosphere, and the generated decomposition gas was measured with a trace nitrogen analyzer (TN-10 model manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.) using a combustion / reduced pressure chemiluminescence method. Further, aniline was dissolved in toluene and used as a standard sample.

<塩素含有量の検出条件>
塩素含有量(重量ppm)は、無機および有機を合わせた全塩素量を以下の方法で測定した。試料を燃焼し、吸収液に吸収させた後、イオンクロマトグラフにて測定を行った。燃焼装置は三菱化学社製AQF−100を、イオンクロマトグラフ装置はDIONEX社製DX−500を用いた。イオンクロマトグラフは、カラムにDIONEX社製Ion Pac AS12Aを用い、電気伝導度で検出を行った。
<Conditions for detection of chlorine content>
The chlorine content (ppm by weight) was measured by the following method for the total amount of chlorine combined with inorganic and organic. The sample was burned and absorbed in the absorbing solution, and then measured with an ion chromatograph. AQF-100 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation was used as the combustion apparatus, and DX-500 manufactured by DIONEX was used as the ion chromatograph apparatus. The ion chromatograph used Ion Pac AS12A made from DIONEX for the column, and detected by electrical conductivity.

<ICP−MS分析条件>
前処理法:乾式灰化−酸溶解法
分析装置:Agilent Technologies社製 ICP質量分析装置 7500ce型
なお以下の実施例において「LC面積」とは、液体クロマトグラフ(LC)分析で得られた分析対象化合物のピーク面積をいい、「LC面積%」とは、組成物全量のピーク面積に対する対象化合物のピーク面積の割合をいう。
<ICP-MS analysis conditions>
Pretreatment method: dry ashing-acid dissolution method analyzer: ICP mass spectrometer 7500ce type manufactured by Agilent Technologies
In the following examples, “LC area” refers to the peak area of the analysis target compound obtained by liquid chromatography (LC) analysis, and “LC area%” refers to the target compound relative to the peak area of the total amount of the composition. The ratio of the peak area.

また「GC面積」も同様であり、GC分析で得られた分析対象化合物のピーク面積をいい、「GC面積%」とは、組成物全量のピーク面積に対する対象化合物のピーク面積の割合をいう。
また実施例における「収率」は、得られた化合物の重量に、純度として「LC面積%」または「GC面積%」を乗じたものを収量とみなして算出した。
Similarly, “GC area” refers to the peak area of the target compound obtained by GC analysis, and “GC area%” refers to the ratio of the peak area of the target compound to the peak area of the total amount of the composition.
The “yield” in the examples was calculated by regarding the weight of the compound obtained by multiplying the purity by “LC area%” or “GC area%” as the yield.

また以下の実施例において、エポキシ化反応中にエポキシ環が開環したジオール化合物、熱または酸によりアルデヒド異性化後、酸化されたカルボン酸化合物等、エポキシ化合物より極性が高く、上記LC分析条件でエポキシ化合物より早い保持時間を与える化合物が副生した。これらの化合物を総称して、実施例中で「極性化合物」と称することがある。   In the following examples, a diol compound whose epoxy ring was opened during the epoxidation reaction, an carboxylic acid compound oxidized after aldehyde isomerization with heat or acid, and the like are higher in polarity than the epoxy compound. A compound giving a faster retention time than the epoxy compound was by-produced. These compounds may be collectively referred to as “polar compounds” in the examples.

(合成例1)
(エポキシ化反応原料の合成)
3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビス(2−プロペン−1−イルオキシ)−1,1’−ビフェニル(別名称:3,3’,5,5’−テトラメチルビフノール ジ
アリルエーテル)は、特開2011−213716号公報の実施例2に準ずる方法で合成したものを用いた。この化合物中の約60元素の金属含有量を上記のICP−MS分析法で全定性・半定量測定を行った(検出下限:約1ppm)。反応装置から混入する懸念があり、ごく微量で過酸化水素を分解するクロム、コバルトに関しては、定量分析を行った(検出下限0.01ppm)。分析の結果、鉄2ppm、クロム0.02ppmを含んでいた。コバルトは検出限界以下であった。
(Synthesis Example 1)
(Synthesis of epoxidation reaction raw materials)
3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-bis (2-propen-1-yloxy) -1,1′-biphenyl (alternative name: 3,3 ′, 5,5′-tetra Methyl bifunol diallyl ether) synthesized by a method according to Example 2 of JP 2011-213716 A was used. The metal content of about 60 elements in this compound was subjected to total qualitative and semi-quantitative measurement by the above ICP-MS analysis method (detection lower limit: about 1 ppm). Quantitative analysis was performed on chromium and cobalt that decompose hydrogen peroxide in a very small amount due to the possibility of contamination from the reactor (detection lower limit 0.01 ppm). As a result of the analysis, 2 ppm of iron and 0.02 ppm of chromium were contained. Cobalt was below the detection limit.

上記で得られた3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビス(2−プロペン−1−イルオキシ)−1,1’−ビフェニル10.0g(31.0mmol)をトルエン10mlに溶解した溶液を、無水硫酸ナトリウム1質量%及び酢酸を1体積%含む水溶液30mlで洗浄した後、3質量%ピロリン酸ナトリウム水溶液0.26ml、10質量%エチレンジアミン四酢酸溶液0.12ml、水30mlの混合液で洗浄した。水30mlで洗浄した後、濃縮し、粗結晶を得た(以下の実施例において単に「反応原料」ということがある。)。反応原料の純度は99.9%(LC面積%、上記分析条件1)であった。この化合物中の鉄およびクロムの含有量をICP−MSで定量分析したところ、鉄は0.3ppm、クロムは検出限界(0.01ppm)以下であった。   10.0 g (31.0 mmol) of 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-bis (2-propen-1-yloxy) -1,1′-biphenyl obtained above was dissolved in toluene. The solution dissolved in 10 ml was washed with 30 ml of an aqueous solution containing 1% by weight of anhydrous sodium sulfate and 1% by volume of acetic acid, 0.26 ml of 3% by weight sodium pyrophosphate aqueous solution, 0.12 ml of 10% by weight ethylenediaminetetraacetic acid solution, water Washed with 30 ml of mixture. After washing with 30 ml of water, it was concentrated to obtain crude crystals (sometimes simply referred to as “reaction raw material” in the following examples). The purity of the reaction raw material was 99.9% (LC area%, the above analysis condition 1). When the contents of iron and chromium in this compound were quantitatively analyzed by ICP-MS, iron was 0.3 ppm and chromium was below the detection limit (0.01 ppm).

(合成例2)
(オニウム塩[1]の合成)
4−t−ブチル安息香酸 80.0g(440mmol)、トルエン240ml、トリエチルアミン0.68g(6.7mmol)の混合溶液を75℃に加温した後、塩化チオニル64.1g(539mmol)を1.5時間で添加し、更に75℃で1.5時間反応させた。反応終了後、常圧でトルエン100mlを加え、余剰の塩化チオニルを留去し、更に減圧条件下でトルエン50mlを加えて減圧条件下で余剰の塩化チオニルを留去し、4−t−ブチル安息香酸クロライド90.8gを得た。
(Synthesis Example 2)
(Synthesis of onium salt [1])
A mixed solution of 8-t-butylbenzoic acid 80.0 g (440 mmol), toluene 240 ml, and triethylamine 0.68 g (6.7 mmol) was heated to 75 ° C., and then 64.1 g (539 mmol) of thionyl chloride was added to 1.5. The mixture was added over time, and further reacted at 75 ° C. for 1.5 hours. After completion of the reaction, 100 ml of toluene was added at normal pressure, excess thionyl chloride was distilled off, 50 ml of toluene was further added under reduced pressure, and excess thionyl chloride was distilled off under reduced pressure to give 4-t-butylbenzoic acid. 90.8 g of acid chloride was obtained.

N−ブチルジエタノールアミン1.00g(6.2mmol)、トリエチルアミン1.88g(18.6mmol)、トルエン10mlの混合溶液に、室温で得られた4−t−ブチル安息香酸クロライド2.68g(13.6mmol)を滴下した。40℃にて4.5時間攪拌反応後、60℃にて10時間攪拌反応した。反応終了後、水10mlで2回洗浄後、濃縮した。得られた粗体をカラムクロマトグラフィー(関東化学社製 シリカ60N 150g、展開溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=6/1)で精製し、N−ブチル−N,N−ジ[2−(4−t−ブチルベンゾイルオキシ)エチル]アミン2.78gを得た。純度99%(LC分析条件2)、収率93%であった。   To a mixed solution of 1.00 g (6.2 mmol) of N-butyldiethanolamine, 1.88 g (18.6 mmol) of triethylamine and 10 ml of toluene, 2.68 g (13.6 mmol) of 4-tert-butylbenzoic acid chloride obtained at room temperature. ) Was added dropwise. The mixture was stirred at 40 ° C. for 4.5 hours and then stirred at 60 ° C. for 10 hours. After completion of the reaction, the mixture was washed twice with 10 ml of water and concentrated. The obtained crude product was purified by column chromatography (silica 60N 150 g, developed by Kanto Chemical Co., Inc., developing solvent: hexane / ethyl acetate = 6/1), and N-butyl-N, N-di [2- (4-t -Butylbenzoyloxy) ethyl] amine 2.78 g was obtained. The purity was 99% (LC analysis condition 2), and the yield was 93%.

上記で得た、N−ブチル−N,N−ジ[2−(4−t−ブチルベンゾイルオキシ)エチル]アミン0.20g(0.42mmol)にトルエン0.6mlを80℃に加温し、硫酸ジメチル30mg(2.5mmol)を添加し、2時間反応した後、更に硫酸ジメチル30mg(2.5mmol)を添加し、3.5時間反応した。LC面積97%(分析条件2)でN−ブチル−N,N−ジ[2−(4−t−ブチルベンゾイルオキシ)エチル]−N−メチルアンモニウムモノメチル硫酸塩(上記構造式(8)において、対イオンがモノメチル硫酸である化合物、以下、オニウム塩[1]とする)の生成を確認した。この反応溶液を精製することなくそのままエポキシ化反応に供した。   To 0.20 g (0.42 mmol) of N-butyl-N, N-di [2- (4-t-butylbenzoyloxy) ethyl] amine obtained above, 0.6 ml of toluene was heated to 80 ° C., After adding 30 mg (2.5 mmol) of dimethyl sulfate and reacting for 2 hours, 30 mg (2.5 mmol) of dimethyl sulfate was further added and reacted for 3.5 hours. N-butyl-N, N-di [2- (4-t-butylbenzoyloxy) ethyl] -N-methylammonium monomethyl sulfate (with the above structural formula (8)) with an LC area of 97% (analysis condition 2) Formation of a compound whose counter ion is monomethyl sulfate (hereinafter referred to as onium salt [1]) was confirmed. This reaction solution was directly subjected to epoxidation reaction without purification.

上記の測定方法により測定した各化合物のNMRデータは以下の通りであった。
N−ブチル−N,N−ジ[2−(4−t−ブチルベンゾイルオキシ)エチル]アミン:
0.88(3H,t,J=7.3Hz),1.32(18H,s,t−Bu),1.35−1.40(2H,m,−CH−),1.40−1.51(2H,m,−CH−),2.64(2H,t,J=5.3),2.96(4H,t,J=6.0Hz,N−CH−),4.39(4H,t,J=6.0Hz,O−CH−),7.41(4H,dd
d,J=2.0,3,8,8.6Hz,Ar),7.98(4H,ddd、J=2.0,4.0,8.8Hz,Ar).
オニウム塩[1]:
0.09(3H,t, J=7.3Hz,Me),1.30−1.33(2H,m,−CH−),1.32(18H,s,t−Bu),1.70−1.85(2H,m,−CH−), 3.45(3H,s,N−Me), 3.50−3.60(2H,m、N−CH−C)3.66(3H,s,MeSO),4.08−4.15(4H,m,O−CH−),4.82−4.89(4H,m,N−CH),7.41(4H,d,J=8.6Hz,Ar),7.89(4H,d,J=8.6Hz,Ar).
The NMR data of each compound measured by the above measuring method was as follows.
N-butyl-N, N-di [2- (4-t-butylbenzoyloxy) ethyl] amine:
0.88 (3H, t, J = 7.3Hz), 1.32 (18H, s, t-Bu), 1.35-1.40 (2H, m, -CH 2 -), 1.40- 1.51 (2H, m, —CH 2 —), 2.64 (2H, t, J = 5.3), 2.96 (4H, t, J = 6.0 Hz, N—CH 2 —), 4.39 (4H, t, J = 6.0 Hz, O—CH 2 −), 7.41 (4H, dd
d, J = 2.0, 3, 8, 8.6 Hz, Ar), 7.98 (4H, ddd, J = 2.0, 4.0, 8.8 Hz, Ar).
Onium salt [1]:
0.09 (3H, t, J = 7.3Hz, Me), 1.30-1.33 (2H, m, -CH 2 -), 1.32 (18H, s, t-Bu), 1. 70-1.85 (2H, m, -CH 2 -), 3.45 (3H, s, N-Me), 3.50-3.60 (2H, m, N-CH 2 -C 3 H 7 ) 3.66 (3H, s, MeSO 2), 4.08-4.15 (4H, m, O-CH 2 -), 4.82-4.89 (4H, m, N-CH 2), 7.41 (4H, d, J = 8.6 Hz, Ar), 7.89 (4H, d, J = 8.6 Hz, Ar).

(実施例1)
合成例1で得られた反応原料2.50g(7.8mmol)、タングステン酸ナトリウム二水和物(和光純薬社製)256mg(0.78mol)、8.5%(重量/体積)リン酸水溶液0.98ml(0.85mmol)、上記オニウム塩[1]236mg(0.39mmol)、トルエン2.5ml及び水1.5mlの混合溶液を調製した。
Example 1
Reaction material 2.50 g (7.8 mmol) obtained in Synthesis Example 1, sodium tungstate dihydrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 256 mg (0.78 mol), 8.5% (weight / volume) phosphoric acid A mixed solution of 0.98 ml (0.85 mmol) of the aqueous solution, 236 mg (0.39 mmol) of the onium salt [1], 2.5 ml of toluene and 1.5 ml of water was prepared.

窒素気流下、この混合溶液を65℃に加温し、42質量%過酸化水素水0.13ml(1.77mmol)を反応開始時、及び反応開始30分後に添加し、更に反応開始から1時間後、2時間後、3時間後、4時間後、6時間後に各0.25ml(3.6mmol)を加え、64〜66℃にて計7時間反応した。混合溶液は二相系であり、その有機相の組成比は、LC面積%で3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビフェノール ジ
グリシジルエーテル(ジエポキシ体と略す)76.7%、と反応中間体の4,4’−ジヒドロキシー3,3’ ,5,5’−テトラメチルビフェニル モノアリルエーテル モノ
グリシジルエーテル(以下、モノエポキシ体と略す)10.6%、極性化合物10.4%であった。
This mixed solution was heated to 65 ° C. under a nitrogen stream, and 0.13 ml (1.77 mmol) of 42% by mass hydrogen peroxide was added at the start of the reaction and 30 minutes after the start of the reaction, and further for 1 hour from the start of the reaction. Thereafter, 0.25 ml (3.6 mmol) was added after 2 hours, 3 hours, 4 hours, and 6 hours, and reacted at 64-66 ° C. for a total of 7 hours. The mixed solution is a two-phase system, and the composition ratio of the organic phase is 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-biphenol diglycidyl ether (abbreviated as diepoxy) 76 in LC area%. .7%, and 4,4'-dihydroxy-3,3 ', 5,5'-tetramethylbiphenyl monoallyl ether monoglycidyl ether (hereinafter abbreviated as monoepoxy compound) 10.6%, polar Compound 10.4%.

反応終了後、トルエン10mlを加えて、分離した水相を排出し、有機相を水5mlで洗浄後、5質量%チオ硫酸ナトリウム水溶液5mlで洗浄し、還元処理を行った。続いて1規定水酸化ナトリウム水溶液10mlを加え、40℃にて30分間処理し、水相を排出した。LC分析(条件2)で有機相中のオニウム塩[1]の消失を確認し、更に同様の塩基水処理操作を2回行った。水10mlで洗浄後、得られた有機相を濃縮し、上記ジエポキシ体を粗結晶として2.45g得た。LC面積84.2%(LC分析条件2)、収率75%。得られたジエポキシ体粗結晶の窒素含有量は49ppmであった。反応前後の化合物のNMRデータは以下の通りであった。   After completion of the reaction, 10 ml of toluene was added, and the separated aqueous phase was discharged. The organic phase was washed with 5 ml of water and then washed with 5 ml of a 5 mass% aqueous sodium thiosulfate solution for reduction treatment. Subsequently, 10 ml of a 1N aqueous sodium hydroxide solution was added, the mixture was treated at 40 ° C. for 30 minutes, and the aqueous phase was discharged. The disappearance of the onium salt [1] in the organic phase was confirmed by LC analysis (Condition 2), and the same basic water treatment operation was further performed twice. After washing with 10 ml of water, the obtained organic phase was concentrated to obtain 2.45 g of the diepoxy compound as crude crystals. LC area 84.2% (LC analysis condition 2), yield 75%. The nitrogen content of the obtained diepoxy crude crystal was 49 ppm. The NMR data of the compound before and after the reaction were as follows.

3,3’,5,5’−テトラメチルビフェノール ジアリルエーテル:2.32(12H,s,−CH),4.34(4H,td,J=1.5,5.1Hz,O−CH−),5.27(2H,ddd,J=2.3,2.8,10.6Hz,−CH=CH ),5.44(2H,ddd,J=1.5,3.3,17.2Hz,−CH=CH ),6.06−6.19(2H,m,−CH=CH),7.18(4H,s,−C(Me)−).
3,3’,5,5’−テトラメチルビフェノール ジグリシジルエーテル:2.34(12H,s,−CH),2.75(2H,dd,J=2.8,4.9Hz,−O−CH−),2.90(2H,dd,J=4.3,4.9Hz,−O−CH−),3.36-3.41(2H,m,−CH−),3.73(2H,dd,J=5.8,11.0Hz
,−O−CH−),4.07(2H,dd,J=3.3,11.0Hz,−O−CH−),7.18(4H,s,−C(Me)−).
3,3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenol diallyl ether: 2.32 (12H, s, —CH 3 ), 4.34 (4H, td, J = 1.5, 5.1 Hz, O—CH 2- ), 5.27 (2H, ddd, J = 2.3, 2.8, 10.6 Hz, -CH = CH 2 ), 5.44 (2H, ddd, J = 1.5, 3.3). , 17.2Hz, -CH = CH 2) , 6.06-6.19 (2H, m, - CH = CH 2), 7.18 (4H, s, -C 6 H 2 (Me) 2 -) .
3,3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenol diglycidyl ether: 2.34 (12H, s, —CH 3 ), 2.75 (2H, dd, J = 2.8, 4.9 Hz, —O -CH 2 -), 2.90 (2H , dd, J = 4.3,4.9Hz, -O-CH 2 -), 3.36-3.41 (2H, m, -CH -), 3 .73 (2H, dd, J = 5.8, 11.0 Hz
, —O—CH 2 —), 4.07 (2H, dd, J = 3.3, 11.0 Hz, —O—CH 2 —), 7.18 (4H, s, —C 6 H 2 (Me 2 ).

(合成例3)
(オニウム塩[2]の合成)
1−クロロ−2、3−プロパンジオール4.0g(36.2mol)とトリブチルアミン7.4g(39.8mmol)、アセトニトリル4mlの混合溶液を、60℃で3.5時間加熱攪拌した。その後炭酸カリウム2.5g(18.1mol)を加え、80℃で8時間反応した。アセトニトリル10mlを加え、析出した沈殿物を濾別後、減圧乾燥し、粗2,3−ジヒドロキシプロピルトリブチルアンモニウムクロライド6.28gを得た。粗収率67%。
(Synthesis Example 3)
(Synthesis of onium salt [2])
A mixed solution of 4.0 g (36.2 mol) of 1-chloro-2,3-propanediol, 7.4 g (39.8 mmol) of tributylamine and 4 ml of acetonitrile was heated and stirred at 60 ° C. for 3.5 hours. Thereafter, 2.5 g (18.1 mol) of potassium carbonate was added and reacted at 80 ° C. for 8 hours. 10 ml of acetonitrile was added, and the deposited precipitate was filtered off and dried under reduced pressure to obtain 6.28 g of crude 2,3-dihydroxypropyltributylammonium chloride. Crude yield 67%.

上記の方法で得られた粗2,3−ジヒドロキシプロピルトリブチルアンモニウムクロライド1.0g、トルエン20ml、トリエチルアミン1.17g(11.5mmol)の混合液に、室温で上記の方法で合成した4−t−ブチル安息香酸クロライド1.66g(8.4mmol)を加え、60℃で12時間反応を行った。放冷後、酢酸エチル10mlを加え、水10mlで2回洗浄後、溶媒を留去し、粗2,3−ジ(4−t−ブチル−フェニルオキシ)プロピルトリブチルアンモニウムクロライドを得た。   4-t- synthesized by the above method at room temperature into a mixture of 1.0 g of crude 2,3-dihydroxypropyltributylammonium chloride obtained by the above method, 20 ml of toluene and 1.17 g (11.5 mmol) of triethylamine. 1.66 g (8.4 mmol) of butylbenzoic acid chloride was added, and the reaction was performed at 60 ° C. for 12 hours. After allowing to cool, 10 ml of ethyl acetate was added, and after washing twice with 10 ml of water, the solvent was distilled off to obtain crude 2,3-di (4-t-butyl-phenyloxy) propyltributylammonium chloride.

上記で得られた粗2,3−ジ(4−t−ブチル−フェニルオキシ)プロピルトリブチルアンモニウムクロライドをダイヤイオンHP120(三菱化学社製)100mlにて精製し(展開溶媒:エタノール)濃縮した。得られた残渣0.15gをトルエン3mlに溶解し、10%(体積/体積)硫酸水3mlで2回洗浄後濃縮し、2,3−ジ(4−t−ブチル−ベンゾイルオキシ)−N、N、N−トリブチル−1−プロパンアンモニウム硫酸水素塩(以下、オニウム塩[2]という)を0.19g得た。純度68%(LC分析条件2)であった。得られたオニウム塩[2]のNMRデータは以下の通りであった。   The crude 2,3-di (4-t-butyl-phenyloxy) propyltributylammonium chloride obtained above was purified with 100 ml of Diaion HP120 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) (developing solvent: ethanol) and concentrated. 0.15 g of the obtained residue was dissolved in 3 ml of toluene, washed twice with 3 ml of 10% (volume / volume) sulfuric acid and concentrated, and 2,3-di (4-tert-butyl-benzoyloxy) -N, 0.19 g of N, N-tributyl-1-propaneammonium hydrogen sulfate (hereinafter referred to as onium salt [2]) was obtained. The purity was 68% (LC analysis condition 2). The NMR data of the obtained onium salt [2] were as follows.

オニウム塩[2]:
0.86(9H,t,J=8.0Hz,n−Bu),1.26(6H、dd,J=4.0,8.0Hz,n−Bu)1.24(9H,s,t−Bu),1.34(9H,s,t−Bu),1.62−1.82(6H,m,n−Bu),3.26−3.5(6H,m,n−Bu),4.24−4.55(2H,m,−CH−O−CO),4.60−4.80(2H,m,−CH−N),5.94−5.98(1H,m,−CH−),7.35−7.52(4H,m,−Ar),7.90−8.09(4H,m,−Ar)
Onium salt [2]:
0.86 (9H, t, J = 8.0 Hz, n-Bu), 1.26 (6H, dd, J = 4.0, 8.0 Hz, n-Bu) 1.24 (9H, s, t -Bu), 1.34 (9H, s, t-Bu), 1.62-1.82 (6H, m, n-Bu), 3.26-3.5 (6H, m, n-Bu) , 4.24-4.55 (2H, m, -CH 2 -O-CO), 4.60-4.80 (2H, m, -CH 2 -N), 5.94-5.98 (1H , M, -CH-), 7.35-7.52 (4H, m, -Ar), 7.90-8.09 (4H, m, -Ar)

(実施例2)
合成例1で得られた反応原料1.20g(3.72mmol)、タングステン酸ナトリウム二水和物(和光純薬製)123mg(0.372mmol)、8.5%(重量/体積)リン酸水溶液0.47ml(0.41mmol),上記オニウム塩[2]126mg(0.186mmol)、トルエン1.2ml及び水0.73mlの混合液を調製した。
(Example 2)
Reaction material 1.20 g (3.72 mmol) obtained in Synthesis Example 1, sodium tungstate dihydrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 123 mg (0.372 mmol), 8.5% (weight / volume) phosphoric acid aqueous solution A mixed solution of 0.47 ml (0.41 mmol), 126 mg (0.186 mmol) of the onium salt [2], 1.2 ml of toluene and 0.73 ml of water was prepared.

窒素気流下、この混合液を65℃に加温し、42質量%過酸化水素水0.060ml(0.86mmol)を反応開始時及び反応開始30分後にそれぞれ添加し、更に反応開始から1時間後、2時間後、3時間後、4時間後に各0.12ml(1.72mmol)を加え、64〜66℃にて計8時間反応した。反応液は二相系であり、その有機相の組成比はLC面積%でジエポキシ体85.1%、モノエポキシ体5.5%、極性化合物6.8%であった。   The mixture was heated to 65 ° C. under a nitrogen stream, and 0.060 ml (0.86 mmol) of 42% by mass hydrogen peroxide was added at the start of the reaction and 30 minutes after the start of the reaction, respectively, and further for 1 hour from the start of the reaction. Thereafter, 0.12 ml (1.72 mmol) was added after 2 hours, 3 hours, and 4 hours, and reacted at 64-66 ° C. for a total of 8 hours. The reaction solution was a two-phase system, and the composition ratio of the organic phase was 85.1% diepoxy, 5.5% monoepoxy, and 6.8% polar compound in LC area%.

反応終了後、トルエン4.8mlを加えて、分離した水相を排出し、有機相を水2.4mlで洗浄後、5質量%チオ硫酸ナトリウム水溶液3mlで洗浄し、還元処理を行った。
続いて1規定水酸化ナトリウム水溶液4.8mlを加え、40℃にて30分間処理する操作を行った。LC分析(条件2)でオニウム塩[2]の消失を確認後、同様の操作を更に2回行った。水4.8mlで洗浄後、得られた有機相を濃縮し、上記ジエポキシ体の粗結晶1.37gを得た。純度85.2%(LC分析条件2)、収率88%であった。得られた粗結晶の窒素含有量は70ppmであった。
After completion of the reaction, 4.8 ml of toluene was added, and the separated aqueous phase was discharged. The organic phase was washed with 2.4 ml of water and then washed with 3 ml of a 5% by mass sodium thiosulfate aqueous solution for reduction treatment.
Subsequently, 4.8 ml of 1N aqueous sodium hydroxide solution was added, and an operation of treating at 40 ° C. for 30 minutes was performed. After confirming disappearance of the onium salt [2] by LC analysis (condition 2), the same operation was further performed twice. After washing with 4.8 ml of water, the obtained organic phase was concentrated to obtain 1.37 g of the diepoxy crude crystals. The purity was 85.2% (LC analysis condition 2) and the yield was 88%. The nitrogen content of the obtained crude crystal was 70 ppm.

(合成例4)
(オニウム塩[3]の合成)
ステアリルアミン5.0g(18.6mmol)、トルエン5ml溶液を40℃に加熱後、グリシドール3.02g(40.8mmol)を加え、1時間反応後、70℃に加温して7時間反応し、N,N−ビス(2,3−ジヒドロキシプロピル)ステアリルアミンのトルエン溶液を得た。
(Synthesis Example 4)
(Synthesis of onium salt [3])
Stearylamine 5.0 g (18.6 mmol) and a toluene 5 ml solution were heated to 40 ° C., 3.02 g (40.8 mmol) of glycidol was added, reacted for 1 hour, heated to 70 ° C. and reacted for 7 hours, A toluene solution of N, N-bis (2,3-dihydroxypropyl) stearylamine was obtained.

上記アミンに硫酸ジメチル2.81g(22.3mmol)を加え50℃に加温した。加温途中にトルエン5mlを添加し、1時間反応し、N,N−ビス(2,3-ジヒドロキシプロピル)−N−メチルステアリルアンモニウムモノメチル硫酸塩のトルエン溶液を得た

上記トルエン溶液に無水酢酸11.4g(111mmol)を加え、60℃に加温し4.5時間反応した。余剰のトルエンと無水酢酸を減圧留去し、ジ(2,3-ジアセトキシプロピル)メチルステアリルアンモニウムモノメチル硫酸塩(以下、オニウム塩[3])を
6.87g得た。トルエン、酢酸、無水酢酸を計31質量%含み、純度は61%と推定(NMR)。収率41%(ステアリルアミン基準)であった。
To the above amine, 2.81 g (22.3 mmol) of dimethyl sulfate was added and heated to 50 ° C. During the heating, 5 ml of toluene was added and reacted for 1 hour to obtain a toluene solution of N, N-bis (2,3-dihydroxypropyl) -N-methylstearylammonium monomethyl sulfate.
11.4 g (111 mmol) of acetic anhydride was added to the toluene solution, heated to 60 ° C. and reacted for 4.5 hours. Excess toluene and acetic anhydride were distilled off under reduced pressure to obtain 6.87 g of di (2,3-diacetoxypropyl) methylstearylammonium monomethyl sulfate (hereinafter referred to as onium salt [3]). It contains 31% by mass of toluene, acetic acid and acetic anhydride, and the purity is estimated to be 61% (NMR). The yield was 41% (based on stearylamine).

得られたオニウム塩[3](ジアステレオマー混合物)はLC−Massでm/z 600.3のピークを与えた。NMRデータは以下の通りであった。
オニウム塩[3]:
0.88(3H,t,J=8.0Hz,−CH),1.20−1.45(32H,m,−C1632−),2.09−2.15(12H,m,Ac),3.15−3.30(5H,m,N−Me+N−CH−),3.78(3H,s,MeSO),3.70−4.590(8H,m,O−CH−,N−CH−),5.50−5.70(2H,m,−CH(OAc)−).
The obtained onium salt [3] (diastereomer mixture) gave a peak at m / z 600.3 by LC-Mass. NMR data were as follows.
Onium salt [3]:
0.88 (3H, t, J = 8.0Hz, -CH 3), 1.20-1.45 (32H, m, -C 16 H 32 -), 2.09-2.15 (12H, m , Ac), 3.15-3.30 (5H, m, N-Me + N-CH 2 -), 3.78 (3H, s, MeSO 2), 3.70-4.590 (8H, m, O -CH 2 -, N-CH 2 -), 5.50-5.70 (2H, m, -CH (OAc) -).

(実施例3)
合成例1で得られた反応原料5.0g(15.5mmol)、タングステン酸ナトリウム二水和物(和光純薬社製)512mg(1.55mmol)、8.5%(重量/体積)リン酸水溶液1.25ml(1.08mmol),上記オニウム塩[3]512mg(0.776mmol)、トルエン2ml及び水1.5mlの混合溶液を調製した。
(Example 3)
Reaction raw material 5.0 g (15.5 mmol) obtained in Synthesis Example 1, sodium tungstate dihydrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 512 mg (1.55 mmol), 8.5% (weight / volume) phosphoric acid A mixed solution of 1.25 ml (1.08 mmol) of an aqueous solution, 512 mg (0.776 mmol) of the onium salt [3], 2 ml of toluene and 1.5 ml of water was prepared.

窒素気流下、この混合溶液を65℃に加温し、42質量%過酸化水素水0.25ml(3.64mmol)を反応開始時、及び反応開始30分後に添加し、更に反応開始から1時間後、2時間後、3時間後、4時間後に各0.50ml(7.28mmol)を加え、64〜70℃にて計10時間反応した。反応液は二相系となり、その有機相の組成比は、LC面積%でジエポキシ体66.8%、モノエポキシ体17.8%、極性化合物11.0%であった。   This mixed solution was heated to 65 ° C. under a nitrogen stream, and 0.25 ml (3.64 mmol) of 42% by mass hydrogen peroxide was added at the start of the reaction and 30 minutes after the start of the reaction, and further for 1 hour from the start of the reaction. Thereafter, 0.50 ml (7.28 mmol) was added after 2 hours, 3 hours, and 4 hours, and reacted at 64-70 ° C. for a total of 10 hours. The reaction liquid became a two-phase system, and the composition ratio of the organic phase was 66.8% diepoxy compound, 17.8% monoepoxy compound, and 11.0% polar compound in LC area%.

反応終了後、トルエン20mlを加えて、分離した水相を排出し、有機相を水10mlで洗浄後、5質量%チオ硫酸ナトリウム水溶液12.5mlで洗浄し、還元処理を行った。続いて1規定水酸化ナトリウム水溶液20mlを加え、40℃にて30分間処理する操作を3回行った。NMR分析でオニウム塩[3]の消失を確認した後、水20mlで洗浄し、得られた有機相を濃縮し、ジエポキシ体粗結晶を5.00g得た。純度60%(LC分析条件2)、収率55%であった。
このジエポキシ体粗結晶4.70gにメタノール33mlを加え、65℃に加温して2時間懸洗を行った。8℃まで冷却後、析出した結晶を濾取し2.55gを得た。純度87.4%(LC分析条件2)、回収率79%であった。
After completion of the reaction, 20 ml of toluene was added, and the separated aqueous phase was discharged. The organic phase was washed with 10 ml of water, and then washed with 12.5 ml of a 5% by mass aqueous sodium thiosulfate solution, followed by reduction treatment. Subsequently, 20 ml of a 1N sodium hydroxide aqueous solution was added, and an operation of treating at 40 ° C. for 30 minutes was performed three times. After confirming disappearance of the onium salt [3] by NMR analysis, it was washed with 20 ml of water, and the obtained organic phase was concentrated to obtain 5.00 g of diepoxy crude crystals. The purity was 60% (LC analysis condition 2), and the yield was 55%.
33 ml of methanol was added to 4.70 g of this diepoxy crude crystal, and the mixture was heated to 65 ° C. and washed for 2 hours. After cooling to 8 ° C., the precipitated crystals were collected by filtration to obtain 2.55 g. The purity was 87.4% (LC analysis condition 2), and the recovery rate was 79%.

(合成例5)
(オニウム塩[4]の合成)
トリエタノールアミン塩酸塩2.00g(10.8mmol)、THF40mlの溶液中に60%水素化ナトリウム1.94g(48.5mmol)を加え、氷水冷却下、ベンジルブロマイド5.53g(32.3mmol)とTHF2.0ml、DMF2.0mlの混合溶液を内温を20℃以下に保ち、1時間かけて分割添加した。室温で1時間反応後、60℃で1時間、70℃で4時間反応した。反応終了後、反応内容物を攪拌しながら氷水に注ぎ、ヘキサン100mlで抽出、更に酢酸エチル50mlで2回抽出し、合わせた有機相を水20mlで洗浄後、濃縮した。得られた油状物をシリカゲルクロマトグラフィー(関東化学製 シリカ60N 150g、展開溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製し、N,N,N−トリ(2−ベンジルオキシエチル)アミンを3.0g得た。純度98%(LC面積%、分析条件2)、収率66%であった。
(Synthesis Example 5)
(Synthesis of onium salt [4])
To a solution of 2.00 g (10.8 mmol) of triethanolamine hydrochloride and 40 ml of THF, 1.94 g (48.5 mmol) of 60% sodium hydride was added, and while cooling with ice water, 5.53 g (32.3 mmol) of benzyl bromide and A mixed solution of 2.0 ml of THF and 2.0 ml of DMF was added in portions over 1 hour while keeping the internal temperature at 20 ° C. or lower. After reacting at room temperature for 1 hour, it reacted at 60 ° C for 1 hour and at 70 ° C for 4 hours. After completion of the reaction, the reaction contents were poured into ice water with stirring, extracted with 100 ml of hexane, and further extracted twice with 50 ml of ethyl acetate, and the combined organic phases were washed with 20 ml of water and concentrated. The obtained oil was purified by silica gel chromatography (silica 60N 150 g, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: hexane / ethyl acetate = 1/1), and 3 N, N, N-tri (2-benzyloxyethyl) amine was obtained. 0.0 g was obtained. The purity was 98% (LC area%, analysis condition 2), and the yield was 66%.

上記N,N,N−トリ(2−ベンジルオキシエチル)アミン0.36g(0.86mmol)、エタノール0.72ml、t−ブチルベンジルクロライド0.16g(0.86mmol)、テトラブチルアンモニウムブロマイド28mg(0.086mmol)の混合溶液を80℃に加熱し14時間反応後、エタノールを減圧留去し、トルエン5ml、水5mlを加えて分液し、得られた有機相を1%(重量/重量)硫酸水溶液5mlで洗浄、さらに水5mlで洗浄後、これを濃縮し、粗トリ(2−ベンジルオキシエチル)−t−ブチルベンジルアンモニウム硫酸水素塩(以下、オニウム塩[4]という)を得た。純度52%(LC面積%)であった。t−ブチルベンジルエチルエーテル(NMRより構造推定)27%、未反応のt−ブチルベンジルクロライド9.2%含む(いずれもLC面積%)。これを精製することなく、酸化反応に供した。   0.36 g (0.86 mmol) of N, N, N-tri (2-benzyloxyethyl) amine, 0.72 ml of ethanol, 0.16 g (0.86 mmol) of t-butylbenzyl chloride, 28 mg of tetrabutylammonium bromide ( 0.086 mmol) was heated to 80 ° C. and reacted for 14 hours, ethanol was distilled off under reduced pressure, 5 ml of toluene and 5 ml of water were added for liquid separation, and the obtained organic phase was 1% (weight / weight). After washing with 5 ml of aqueous sulfuric acid and further with 5 ml of water, this was concentrated to obtain crude tri (2-benzyloxyethyl) -t-butylbenzylammonium hydrogen sulfate (hereinafter referred to as onium salt [4]). The purity was 52% (LC area%). It contains 27% of t-butylbenzyl ethyl ether (structure estimated from NMR) and 9.2% of unreacted t-butylbenzyl chloride (all LC area%). This was subjected to an oxidation reaction without purification.

得られたオニウム塩[4]のNMRデータは以下の通り。
オニウム塩[4]:
1.31(9H,s,t−Bu),3.80−3.84(2H,m,O−CH−),4.02−4.06(2H,m,N−CH−),4.93(2H、N−CH−Ph),7.26−7.36(15H,m,Ph),7.40(2H,d,J=8.4Hz,Ar),7.59(2H,d,J=8.4Hz,Ar).
The NMR data of the obtained onium salt [4] are as follows.
Onium salt [4]:
1.31 (9H, s, t- Bu), 3.80-3.84 (2H, m, O-CH 2 -), 4.02-4.06 (2H, m, N-CH 2 -) , 4.93 (2H, N-CH 2 -Ph), 7.26-7.36 (15H, m, Ph), 7.40 (2H, d, J = 8.4Hz, Ar), 7.59 (2H, d, J = 8.4 Hz, Ar).

(実施例4)
1,5−シクロオクタジエン2.0g(18.5mmol;東京化成社製)、トルエン4ml、タングステン酸ナトリウム二水和物0.122g(0.37mmol)、8.5%(重量/体積)リン酸水溶液0.107ml(0.092mmol)、水0.1m及び上記のオニウム塩[4]0.12g(0.19mmol)を添加し攪拌した。この混合液を50℃に加温した後、窒素気流下、42%過酸化水素水0.30ml(4.3mmol)を反応開始時、30分後に添加し、0.50ml(8.6mmol)をその1時間後、2時間後、3時間後、4時間後の計4回添加した。内温50〜51℃で計9時間反応し、上記GC分析により、76%(GC面積%)で1,2,5,6−ジエポキシシクロオクタンが生成していることを確認した。その他に、反応中間体であるモノエポキシ化合物が6.0%(GC面積%)生成していた。
Example 4
1,5-cyclooctadiene 2.0 g (18.5 mmol; manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), toluene 4 ml, sodium tungstate dihydrate 0.122 g (0.37 mmol), 8.5% (weight / volume) phosphorus 0.107 ml (0.092 mmol) of an aqueous acid solution, 0.1 m of water and 0.12 g (0.19 mmol) of the above onium salt [4] were added and stirred. After warming this mixture to 50 ° C., 0.30 ml (4.3 mmol) of 42% hydrogen peroxide was added 30 minutes after the start of the reaction under a nitrogen stream, and 0.50 ml (8.6 mmol) was added. 1 hour later, 2 hours later, 3 hours later, and 4 hours later, a total of 4 times was added. The reaction was conducted at an internal temperature of 50 to 51 ° C. for a total of 9 hours, and it was confirmed by the above GC analysis that 1,2,5,6-diepoxycyclooctane was produced at 76% (GC area%). In addition, 6.0% (GC area%) of a monoepoxy compound as a reaction intermediate was produced.

得られた1,2,5,6−ジエポキシシクロオクタンのNMRデータは以下の通り。
1.82−2.05(8H,m,−CH−),3.08−3.90(4H,m,−CH−O−)
反応液の水相を分離し、これに酢酸エチル4mlを加え抽出を行い、この酢酸エチル溶液を反応有機相と合わせた。これを5質量%チオ硫酸ナトリウム水溶液5ml、次に水2mlで洗浄後、濃縮し、純度76%(GC)の粗1,2,5,6−ジエポキシシクロオクタン2.2gを得た。収率64%。
NMR data of the obtained 1,2,5,6-diepoxycyclooctane are as follows.
1.82-2.05 (8H, m, -CH 2 -), 3.08-3.90 (4H, m, -CH-O-)
The aqueous phase of the reaction solution was separated, 4 ml of ethyl acetate was added thereto for extraction, and this ethyl acetate solution was combined with the reaction organic phase. This was washed with 5 ml of 5% by mass aqueous sodium thiosulfate solution and then with 2 ml of water, and then concentrated to obtain 2.2 g of crude 1,2,5,6-diepoxycyclooctane having a purity of 76% (GC). Yield 64%.

上記方法で得られた、粗1,2,5,6−ジエポキシシクロオクタン0.5gにエタノール20mlを加え、これに5%Pd−C(PH)wet(川研ファインケミカル製)を34mg添加後、反応容器内に水素を導入し6時間撹拌した。反応液のNMR分析よりオニウム塩[4]の消失を確認した。   After adding 20 ml of ethanol to 0.5 g of crude 1,2,5,6-diepoxycyclooctane obtained by the above method, 34 mg of 5% Pd—C (PH) wet (manufactured by Kawaken Fine Chemical) was added thereto. Then, hydrogen was introduced into the reaction vessel and stirred for 6 hours. The disappearance of the onium salt [4] was confirmed by NMR analysis of the reaction solution.

(比較例1)
実施例1と同様の方法で、合成例1で得られた反応原料150.0g(0.47mol)をアンモニウム塩としてメチルトリオクチルアンモニウム硫酸塩(23.5mmol)を用いて反応した。反応生成物の組成比は、上記ジエポキシ体が84%(LC面積%であった。反応終了後、同様の方法で処理し、上記ジエポキシ体の粗結晶を147gを得た。収率76%、純度91.2%(LC面積%、LC分析条件2)であった。該粗結晶にはメチルトリオクチルアンモニウム塩が含まれており、NMR分析でオクチル基の末端メチルのプロトン積算比より6mol%(ジエポキシ体を100とした場合の比率で表す)と推定された。上記の分析方法により窒素及びタングステンの含有量をそれぞれ測定したところ、タングステン142ppm、窒素1600ppmであった。
(Comparative Example 1)
In the same manner as in Example 1, the reaction raw material 150.0 g (0.47 mol) obtained in Synthesis Example 1 was reacted with methyltrioctylammonium sulfate (23.5 mmol) as an ammonium salt. The composition ratio of the reaction product was 84% for the diepoxy compound (LC area%. After completion of the reaction, 147 g of crude crystals of the diepoxy compound were obtained in the same manner. Yield 76%. The purity was 91.2% (LC area%, LC analysis condition 2) The crude crystal contained methyltrioctylammonium salt, and 6 mol% from the proton integration ratio of terminal methyl of the octyl group by NMR analysis. (Represented by the ratio when the diepoxy compound is 100) The nitrogen and tungsten contents were measured by the above analysis method, and were found to be 142 ppm tungsten and 1600 ppm nitrogen.

(比較例2)
比較例1の方法で得られた3,3’,5,5’−テトラメチルビフェノール ジグリシジルエーテル1.5gにメタノール10.5mlを加え、50℃にて2時間懸洗後、6℃まで冷却し、懸洗結晶0.89gを濾取した。回収率62%。純度95.2%(LC面積%、LC分析条件2)。この懸洗結晶にはメチルトリオクチルアンモニウム塩が含まれていたおり、含有率は1.75mol%(上記と同様のNMR分析、窒素残存量690ppmに相当)であった。
(Comparative Example 2)
10.5 ml of methanol was added to 1.5 g of 3,3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenol diglycidyl ether obtained by the method of Comparative Example 1, and after rinsing at 50 ° C. for 2 hours, cooling to 6 ° C. Then, 0.89 g of the washed crystal was collected by filtration. Recovery rate 62%. Purity 95.2% (LC area%, LC analysis condition 2). The hanging crystal contained a methyltrioctylammonium salt, and its content was 1.75 mol% (same NMR analysis as described above, corresponding to a residual nitrogen amount of 690 ppm).

(合成例6)
(オニウム塩[1]の含塩素化合物を用いない合成)
p−トルエンスルホン酸一水和物47.2g(0.25mol)、トルエン60mlをデーンスターク管付き200mlのナスフラスコに仕込み、ジャケット温度120℃で加熱し、水を共沸留去した。これに4−t−ブチル安息香酸44.2g(0.25mol)、N−ブチルジエタノールアミン20.0g(0.12mol)を加え、ジャケット温度135℃で10時間、生成する水を留去しながら反応した。更に、p−キシレン30mlを添加し、窒素を反応液面近くに毎分300mlでフィードしながら、ジャケット温度140℃で7時間、生成する水を留去しながら反応した。反応液の組成比はLC面積%(分析条件2)でN−ブチル−N,N−ジ[2−(4−t−ブチルベンゾイルオキシ)エチル]アミン81.7%、N−ブチル−N−エタノール−N−[2−(4−t−ブチルベンゾイルオキシ)エチル]アミン9.8%、4−t−ブチル安息香酸6.0%の混合物であった。
(Synthesis Example 6)
(Synthesis of onium salt [1] without using a chlorine-containing compound)
47.2 g (0.25 mol) of p-toluenesulfonic acid monohydrate and 60 ml of toluene were charged into a 200 ml eggplant flask equipped with a Dane-Stark tube and heated at a jacket temperature of 120 ° C. to distill off water azeotropically. To this was added 44.2 g (0.25 mol) of 4-t-butylbenzoic acid and 20.0 g (0.12 mol) of N-butyldiethanolamine, and the reaction was carried out while distilling off the generated water at a jacket temperature of 135 ° C. for 10 hours. did. Furthermore, 30 ml of p-xylene was added, and the reaction was carried out while distilling off generated water at a jacket temperature of 140 ° C. for 7 hours while feeding nitrogen at a rate of 300 ml per minute near the reaction surface. The composition ratio of the reaction solution was LC area% (analysis condition 2), N-butyl-N, N-di [2- (4-t-butylbenzoyloxy) ethyl] amine 81.7%, N-butyl-N- It was a mixture of ethanol-N- [2- (4-t-butylbenzoyloxy) ethyl] amine 9.8% and 4-t-butylbenzoic acid 6.0%.

反応終了後、トルエン200ml、飽和重曹水150mlを加えて中和後、水相を排出し、更に飽和重曹水100mlで洗浄した。得られた有機相を濃縮し、粗N−ブチル−N,N−ジ[2−(4−t−ブチルベンゾイルオキシ)エチル]アミン60.0gを得た。純度81%(LC分析条件2)、収率81%であった。
得られた粗N−ブチル−N,N−ジ[2−(4−t−ブチルベンゾイルオキシ)エチル]アミンを、カラムクロマトグラフィー(関東化学社製 シリカ60N 300g、展開溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製した。
After completion of the reaction, 200 ml of toluene and 150 ml of saturated aqueous sodium hydrogen carbonate were added for neutralization, the aqueous phase was discharged, and further washed with 100 ml of saturated aqueous sodium hydrogen carbonate. The obtained organic phase was concentrated to obtain 60.0 g of crude N-butyl-N, N-di [2- (4-t-butylbenzoyloxy) ethyl] amine. The purity was 81% (LC analysis condition 2), and the yield was 81%.
The obtained crude N-butyl-N, N-di [2- (4-t-butylbenzoyloxy) ethyl] amine was subjected to column chromatography (300 g of silica 60N manufactured by Kanto Chemical Co., Inc., developing solvent: hexane / ethyl acetate = Purified in 4/1).

得られた精製物5.13gを上記合成例2と同様の方法でメチル化し、得られた反応液にヘキサン30mlを添加し結晶化、これを濾取、乾燥しオニウム塩[1]の結晶を5.73g得た。純度92%(LC分析条件2)、メチル化工程収率82%であった。   5.13 g of the purified product thus obtained was methylated in the same manner as in Synthesis Example 2 above, and 30 ml of hexane was added to the resulting reaction solution to crystallize. This was filtered and dried to obtain crystals of onium salt [1]. 5.73 g was obtained. The purity was 92% (LC analysis condition 2) and the methylation step yield was 82%.

(実施例5)
特許2539648号記載に準ずる方法で合成した3,3’−ジアリルビフェニル −4,4’−ジグリシジルエーテル(別名称 3,3’−ジアリル−4,4’−グリシジルオキシ―1,1’-ビフェニル)0.50g(1.32mmol)、タングステン酸ナト
リウム二水和物(和光純薬社製)52mg(0.16mol)、8.5%(重量/体積)リン酸水溶液0.15ml(0.13mmol)、上記合成例6で得られたオニウム塩[1]48mg(0.079mmol)、トルエン2.0ml、及び水0.10mlの混合溶液を調製した。
(Example 5)
3,3′-diallylbiphenyl-4,4′-diglycidyl ether (also known as 3,3′-diallyl-4,4′-glycidyloxy-1,1′-biphenyl) synthesized according to the method described in Japanese Patent No. 2539648 ) 0.50 g (1.32 mmol), sodium tungstate dihydrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 52 mg (0.16 mol), 8.5% (weight / volume) phosphoric acid aqueous solution 0.15 ml (0.13 mmol) ), A mixed solution of 48 mg (0.079 mmol) of the onium salt [1] obtained in Synthesis Example 6 above, 2.0 ml of toluene, and 0.10 ml of water was prepared.

この混合溶液を、窒素気流下、65℃に加温し、42質量%過酸化水素水0.03ml(0.44mmol)を反応開始時、及び反応開始30分後に5分間で添加し、更に反応開始から45分後、1,5時間後、2時間後に各0.05ml(0.73mmol)を加え、63〜66℃にて計3時間反応した。混合溶液は二相系であり、その有機相の組成比は、LC面積%(分析条件1)で3,3’−ジグリシジルビフェノール ジグリシジルエーテルが79.3%、3−アリル−3’−グリシジルビフェノール ジグリシジルエーテルが8.4%、極性化合物8.9%であった。   This mixed solution was heated to 65 ° C. under a nitrogen stream, and 0.03 ml (0.44 mmol) of 42% by mass hydrogen peroxide was added at the start of the reaction and 30 minutes after the start of the reaction for 5 minutes to further react. After 45 minutes from the start, 0.05 ml (0.73 mmol) was added after 1.5 hours and 2 hours, respectively, and reacted at 63 to 66 ° C. for a total of 3 hours. The mixed solution is a two-phase system, and the composition ratio of the organic phase is LC area% (analysis condition 1), 3,3′-diglycidylbiphenol diglycidyl ether is 79.3%, 3-allyl-3′- Glycidyl biphenol diglycidyl ether was 8.4% and polar compound was 8.9%.

反応終了後、トルエン5ml、水2mlを加えて分液後、分離した水相を排出し、有機相を5質量%チオ硫酸ナトリウム水溶液2mlで洗浄し、還元処理を行った。水相を排出後、メタノール2ml、炭酸カリウム90mgを加え、室温にて30分間処理し、更に水2mlを加えて無機塩を溶解し、水相を排出した。LC分析(条件2)で有機相中のオニウム塩[1]の消失を確認した。得られた有機相を濃縮し、3,3’−ジグリシジルビフェノール ジグリシジルエーテル(別名称 3,3’−グリシジル−4,4’−グリシジルオキシ―1,1’-ビフェニル)を白色固体として0.48g得た。純度83%(LC
分析条件2)、収率73%。
After completion of the reaction, 5 ml of toluene and 2 ml of water were added for liquid separation, and the separated aqueous phase was discharged. The organic phase was washed with 2 ml of 5% by mass aqueous sodium thiosulfate solution and subjected to reduction treatment. After discharging the aqueous phase, 2 ml of methanol and 90 mg of potassium carbonate were added, and the mixture was treated at room temperature for 30 minutes. Further, 2 ml of water was added to dissolve the inorganic salt, and the aqueous phase was discharged. The disappearance of the onium salt [1] in the organic phase was confirmed by LC analysis (Condition 2). The obtained organic phase was concentrated, and 3,3′-diglycidylbiphenol diglycidyl ether (another name 3,3′-glycidyl-4,4′-glycidyloxy-1,1′-biphenyl) was added as a white solid. .48 g was obtained. 83% purity (LC
Analysis condition 2), yield 73%.

3,3’−ジグリシジルビフェノール ジグリシジルエーテルのNMRデータは以下の通りであった。
2.58−2.64(2H、m、C−グリシジル末端)、2.77−2.82(2H+2H、m、C−グリシジル末端、O−グリシジル末端)、2.87−2.96(2H+2H、m、C−C −CH−、O−グリシジル末端)、2.97−3.06(2H、m、C−CH−C−)、3.25(2H、m、C−CH−C−)、3.39(2H、m、O−CH−C−)、3.95−4.05(2H、m、O−CH −CH)、4.27−4.34(2H、m、O−CH −CH)、6.88−6.92(2H、m、Ar)7.37−7.41(4H、m、Ar)
The NMR data of 3,3′-diglycidyl biphenol diglycidyl ether was as follows.
2.58-2.64 (2H, m, C-glycidyl terminus), 2.77-2.82 (2H + 2H, m, C-glycidyl terminus, O-glycidyl terminus), 2.87-2.96 (2H + 2H) , m, C-C H 2 -CH-, O- glycidyl terminal), 2.97-3.06 (2H, m, C-CH 2 -C H -), 3.25 (2H, m, C- CH 2 -C H -), 3.39 (2H, m, O-CH 2 -C H -), 3.95-4.05 (2H, m, O- CH 2 -CH), 4.27- 4.34 (2H, m, O- CH 2 -CH), 6.88-6.92 (2H, m, Ar) 7.37-7.41 (4H, m, Ar)

(合成例7)
(エポキシ化反応原料の合成)
2,2’−ジアリルビスフェノールA(アルドリッチ社製)5.00g(16.2mmol)、アセトン20ml、N,N−ジメチルホルムアミド10m、炭酸カリウム5.63g(41mmol)の混合液中に室温でアリルブロマイド4.32g(36mmol)を室温で4時間かけて添加した。その後60℃まで加温し3時間反応した。更にアリルブロマイド1.43g(12mmol)、炭酸カリウム1.88g(13mmol)を追加し、内温65℃で1.5時間、内温70℃で6時間反応した。
(Synthesis Example 7)
(Synthesis of epoxidation reaction raw materials)
Allyl bromide in a mixed solution of 5.00 g (16.2 mmol) of 2,2′-diallylbisphenol A (Aldrich), 20 ml of acetone, 10 m of N, N-dimethylformamide and 5.63 g (41 mmol) of potassium carbonate at room temperature 4.32 g (36 mmol) was added at room temperature over 4 hours. Thereafter, the mixture was heated to 60 ° C. and reacted for 3 hours. Furthermore, 1.43 g (12 mmol) of allyl bromide and 1.88 g (13 mmol) of potassium carbonate were added and reacted at an internal temperature of 65 ° C. for 1.5 hours and at an internal temperature of 70 ° C. for 6 hours.

反応終了後、水20mlを反応混合物に加え、遊離した油状物を分離した後、水相にヘキサン30mlを加え分液抽出した。ヘキサン相を先に分離した油状物と合わせ、これを1規定水酸化ナトリウム水溶液3mlで洗浄、更に水4mlで2回洗浄し、得られた有機相を濃縮し、油状物として2,2−ビス(3−アリル−4-アリルオキシフェニル)プロ
パンを5.80g得た。LC純度86%(分析条件2)、収率79%。
After completion of the reaction, 20 ml of water was added to the reaction mixture to separate the free oily substance, and 30 ml of hexane was added to the aqueous phase for separation and extraction. The hexane phase was combined with the oil separated earlier, and this was washed with 3 ml of 1N aqueous sodium hydroxide solution and further washed twice with 4 ml of water. The resulting organic phase was concentrated to give 2,2-bis 5.80 g of (3-allyl-4-allyloxyphenyl) propane was obtained. LC purity 86% (analysis condition 2), yield 79%.

得られた2,2−ビス(3−アリル−4-アリルオキシフェニル)プロパンのNMRデ
ータは以下の通り。
1.62(6H、s、−Me)、3.35−3.38(4H、m、C−C −C=)、4.50−4.51(4H、m、O−CH −C=)、4.95−5.10(4H、m、C−CH=C )、5.24(2H、dd、J=1.6、10.6、O−CH=C)、5.41(2H、dd、J=1.7、17.2、O−CH=C)、5.90−6.12(2H+2H、m−CH=)、6.72(2H、d、J=8.3、Ar)、6.95−7.15(4H、m、Ar)
NMR data of the obtained 2,2-bis (3-allyl-4-allyloxyphenyl) propane are as follows.
1.62 (6H, s, -Me) , 3.35-3.38 (4H, m, C-C H 2 -C =), 4.50-4.51 (4H, m, O- CH 2 -C =), 4.95-5.10 (4H, m, C-CH 2 = C H 2), 5.24 (2H, dd, J = 1.6,10.6, O-CH 2 = C H ), 5.41 (2H, dd, J = 1.7, 17.2, O-CH 2 = C H ), 5.90-6.12 (2H + 2H, m-CH 2 =), 6. 72 (2H, d, J = 8.3, Ar), 6.95-7.15 (4H, m, Ar)

(実施例6)
上記方法で合成した2,2−ビス(3−アリル−4-アリルオキシフェニル)プロパン
4.00g(10.3mmol)、タングステン酸ナトリウム二水和物(和光純薬社製)410mg(1.24mol)、85%(重量/体積)リン酸水溶液154mg(130mmol)、合成例6の方法で調製したオニウム塩[1]417mg(0.62mmol)、トルエン16ml、及び水2mlの混合溶液を調製した。
(Example 6)
4.00 g (10.3 mmol) of 2,2-bis (3-allyl-4-allyloxyphenyl) propane synthesized by the above method, sodium tungstate dihydrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 410 mg (1.24 mol) ), 154 mg (130 mmol) of 85% (weight / volume) phosphoric acid aqueous solution, 417 mg (0.62 mmol) of the onium salt [1] prepared by the method of Synthesis Example 6, 16 ml of toluene, and 2 ml of water were prepared.

この混合溶液を、窒素気流下72℃に加温し、42質量%過酸化水素水0.44ml(0.60mmol)を反応開始時、反応開始30分後、1時間後、1.5時間後、2時間後、2.5時間後、3時間後、4時間後、4.5時間後、5時間後、6時間後に添加し、72〜73℃にて計9時間反応した。
反応溶液は二相系であり、その有機相の組成比は、LC面積%(分析条件2)で一分子中の4つのアリル基が酸化された化合物2,2−ビス[4−(2,3−エポキシプロポキシ)−3−(2,3−エポキシプロピル)フェニル]−プロパン(以下テトラエポキシ体と略す)が78.5%、2−[4−(2,3−プロペニルオキシ)−3−(2,3−エポキシプロピル)フェニル]−2−[4−(2,3−エポキシプロポキシ)−3−(2,3−エポキシプロピル)フェニル]−プロパン(以下トリエポキシ体1と略す)および2−[4−(2,3−エポキシプロポキシ)−3−(2,3−プロペニル)フェニル]−2−[4−(2,3−エポキシプロポキシ)−3−(2,3−エポキシプロピル)フェニル]−プロパン(以下トリエポキシ体2と略す)が合わせて10.0%、極性化合物が7.2%であった。
This mixed solution was heated to 72 ° C. under a nitrogen stream, and 0.44 ml (0.60 mmol) of 42% by mass hydrogen peroxide was added at the start of the reaction, 30 minutes after the start of the reaction, 1 hour later, and 1.5 hours later. 2 hours later, 2.5 hours later, 3 hours later, 4 hours later, 4.5 hours later, 5 hours later, 6 hours later, the reaction was carried out at 72-73 ° C. for a total of 9 hours.
The reaction solution is a two-phase system, and the composition ratio of the organic phase is the compound 2,2-bis [4- (2,2) in which four allyl groups in one molecule are oxidized at LC area% (analysis condition 2). 3-epoxypropoxy) -3- (2,3-epoxypropyl) phenyl] -propane (hereinafter abbreviated as tetraepoxy compound) is 78.5%, 2- [4- (2,3-propenyloxy) -3- (2,3-epoxypropyl) phenyl] -2- [4- (2,3-epoxypropoxy) -3- (2,3-epoxypropyl) phenyl] -propane (hereinafter abbreviated as triepoxy compound 1) and 2 -[4- (2,3-epoxypropoxy) -3- (2,3-propenyl) phenyl] -2- [4- (2,3-epoxypropoxy) -3- (2,3-epoxypropyl) phenyl ] -Propane (hereinafter triepoxy) 2 abbreviated) is combined 10.0%, polar compound was 7.2%.

反応終了後、水相を排出し、有機相にトルエン8ml、水4mlを加えて分液後水相を排出、有機相を5質量%チオ硫酸ナトリウム水溶液8mlで洗浄し、還元処理を行った。メタノール4ml、炭酸カリウム1.42gを加え、内温40℃にて1時間処理し、更に1規定水酸化ナトリウム水溶液4mlを加えて内温40℃にて1時間処理した。水相を排出後、有機相を4mlの水で洗浄した。LC分析(条件2)で有機相中のオニウム塩[1]の消失を確認した後、得られた有機相を濃縮し、テトラエポキシ体およびトリエポキシ体を含む液体3.13gを得た。   After completion of the reaction, the aqueous phase was discharged, 8 ml of toluene and 4 ml of water were added to the organic phase, and after separation, the aqueous phase was discharged. The organic phase was washed with 8 ml of a 5% by weight aqueous sodium thiosulfate solution and subjected to reduction treatment. 4 ml of methanol and 1.42 g of potassium carbonate were added, and the mixture was treated at an internal temperature of 40 ° C. for 1 hour. Further, 4 ml of a 1N aqueous sodium hydroxide solution was added and treated at an internal temperature of 40 ° C. for 1 hour. After draining the aqueous phase, the organic phase was washed with 4 ml of water. After confirming disappearance of the onium salt [1] in the organic phase by LC analysis (condition 2), the obtained organic phase was concentrated to obtain 3.13 g of a liquid containing a tetraepoxy compound and a triepoxy compound.

同様の方法で2,2−ビス(3−アリル−4-アリルオキシフェニル)プロパン16.
00gより合成したテトラエポキシ体およびトリエポキシ体を含む液体を合わせて、シリカゲルカラム精製(シリカゲル60N、関東化学製、展開溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=2/1→1/1)し、テトラエポキシ体9.34g(純度98.1%、LC分析条件2)およびトリエポキシ体1.07g(純度96.1%、LC分析条件2)をそれぞれ収率44%、4.6%で得た。トリエポキシ体はトリエポキシ体1とトリエポキシ体2の混合物であり、NMRのO−アリル基およびC−アリル基のプロトンピークの積分比よりトリエポキシ体1とトリエポキシ体2のおよそ87:13の混合物であることが分かった。
In a similar manner 2,2-bis (3-allyl-4-allyloxyphenyl) propane 16.
A liquid containing a tetraepoxy compound and a triepoxy compound synthesized from 00 g was combined and purified on a silica gel column (silica gel 60N, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: hexane / ethyl acetate = 2/1 → 1/1). 9.34 g (purity 98.1%, LC analysis condition 2) and 1.07 g of triepoxy compound (purity 96.1%, LC analysis condition 2) were obtained with a yield of 44% and 4.6%, respectively. The triepoxy compound is a mixture of the triepoxy compound 1 and the triepoxy compound 2, and is approximately 87:13 of the triepoxy compound 1 and the triepoxy compound 2 from the integral ratio of the proton peaks of the O-allyl group and the C-allyl group in NMR. It was found to be a mixture of

得られたテトラエポキシ体のNMRデータは以下の通り。
1.63(6H、s、Me)、2.52−2.56(2H、m、C−グリシジル末端)、2.72−2.83(2H+2H+2H、m、C−グリシジル末端、O−グリシジル末端、C−C −CH)、2.86−2.94(4H、m、O−グリシジル末端、C−C −CH)、3.13−3.20(2H、m、C−CH−C−)、3.32−3.38(2H、m、O−CH−C−)、3.90−3.98(2H、m、O−C −CH−)、4.19−4.26(2H、m、O−C −CH−)、6.72−6.76(2H、m、Ar)、7.00−7.08(4H、m、Ar)
NMR data of the resulting tetraepoxy compound is as follows.
1.63 (6H, s, Me), 2.52-2.56 (2H, m, C-glycidyl terminus), 2.72-2.83 (2H + 2H + 2H, m, C-glycidyl terminus, O-glycidyl terminus) , C-C H 2 -CH) , 2.86-2.94 (4H, m, O- glycidyl terminal, C-C H 2 -CH) , 3.13-3.20 (2H, m, C- CH 2 -C H -), 3.32-3.38 (2H, m, O-CH 2 -C H -), 3.90-3.98 (2H, m, O-C H 2 -CH- ), 4.19-4.26 (2H, m, O-C H 2 -CH -), 6.72-6.76 (2H, m, Ar), 7.00-7.08 (4H, m , Ar)

得られたトリエポキシ体1のNMRデータは以下の通り。
1.63(6H、s、Me)、2.50−2.56(2H、m、C−グリシジル末端)、2.70−2.80(2H+2H+1H、m、C−グリシジル末端、C−C −CH、O−グリシジル末端)、2.88−2.96(2H+1H、m、C−C −CH、O−グリシジル末端)、3.11−3.22(2H、m、C−CH−C−)3.31−3.37(1H、m、O−CH−C−)、3.92−4.00(1H、m、O−C −CH−)、4.18−4.25(1H、m、O−C −CH−)、4.52(2H、d、J=0.5、−O−C −CH=CH)、5.22−5.29(1H、m、CH=C )、5.36−5.44(1H、m、CH=C )、5.96−6.09(1H、m、−C=CH)、6.70−6.77(2H、m、Ar)、7.00−7.15(4H、m、Ar)
The NMR data of the resulting triepoxy compound 1 are as follows.
1.63 (6H, s, Me), 2.50-2.56 (2H, m, C-glycidyl terminal), 2.70-2.80 (2H + 2H + 1H, m, C-glycidyl terminal, C-C H 2 -CH, O-glycidyl-terminated), 2.88-2.96 (2H + 1H, m, C-C H 2 -CH, O- glycidyl terminal), 3.11-3.22 (2H, m, C- CH 2 -C H -) 3.31-3.37 ( 1H, m, O-CH 2 -C H -), 3.92-4.00 (1H, m, O-C H 2 -CH-) 4.18-4.25 (1H, m, O—C H 2 —CH—), 4.52 (2H, d, J = 0.5, —O—C H 2 —CH═CH 2 ), 5.22-5.29 (1H, m, CH = C H 2), 5.36-5.44 (1H, m, CH = C H 2), 5.96-6.09 (1H, m , -C H = CH 2), 6.70-6.77 (2H, m, Ar), 7.00-7.15 (4H, m, Ar)

(実施例7)
合成例1で得られた反応原料4.0g(12.4mmol)、タングステン酸ナトリウム二水和物(和光純薬社製)205mg(0.62mol)、85%リン酸水溶液0.102g(0.87mmol)、合成例6の方法で調製したオニウム塩[1]201mg(0.31mmol)、トルエン4ml及び水8mlの混合溶液を調製した。
(Example 7)
4.0 g (12.4 mmol) of the reaction raw material obtained in Synthesis Example 1, 205 mg (0.62 mol) of sodium tungstate dihydrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 0.102 g (0.002 mol) of 85% aqueous phosphoric acid solution. 87 mmol), 201 mg (0.31 mmol) of the onium salt [1] prepared by the method of Synthesis Example 6, a mixed solution of 4 ml of toluene and 8 ml of water was prepared.

窒素気流下、この混合溶液を72℃に加温し、35質量%過酸化水素水0.27ml(3.1mmol)を反応開始時、及び反応開始30分後、1時間後、1.5時間後、2時間後、2.5時間後、3時間後、4時間後、5時間後、6.5時間後、8時間後に5分間で分割添加しながら加え、内温71.5〜74℃にて計10時間反応した。混合溶液は二相系であり、その有機相の組成比は、LC面積%(分析条件1)で3,3’,5,5’−テトラメチルビフェノール ジグリシジルエーテル(ジエポキシ体と略す)75.5%、モノエポキシ体12.5%、極性化合物9.3%であった。   This mixed solution was heated to 72 ° C. under a nitrogen stream, and 0.27 ml (3.1 mmol) of 35% by mass hydrogen peroxide was added at the start of the reaction, 30 minutes after the start of the reaction, 1 hour later, 1.5 hours later. Thereafter, 2 hours later, 2.5 hours later, 3 hours later, 4 hours later, 5 hours later, 6.5 hours later, 8 hours later while adding in 5 minutes, the inner temperature is 71.5 to 74 ° C. For a total of 10 hours. The mixed solution is a two-phase system, and the composition ratio of the organic phase is 3,3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenol diglycidyl ether (abbreviated as diepoxy) in LC area% (analysis condition 1). 5%, monoepoxy compound 12.5%, polar compound 9.3%.

同様の方法にて反応原料6.0gより調製した反応液を合わせ、水相を排出し、有機相にトルエン20ml、水10mlを加えて分液後水相を排出、有機相を5質量%チオ硫酸ナトリウム水溶液10mlで洗浄し、還元処理を行った。得られた有機相にメタノール10ml、炭酸カリウム2.0gを加え、内温40℃にて2時間処理した。水10mlを加え洗浄後、1規定水酸化ナトリウム水溶液5mlを加え内温40℃にて1時間処理後、有
機相を10mlの水で洗浄した。LC分析(条件2)で有機相中のオニウム塩[1]の消失を確認した後、得られた有機相を濃縮し、9.9gのジエポキシ体の粗結晶を得た。純度79%(LC分析条件2)、収率71%。
The reaction liquid prepared from 6.0 g of the reaction raw materials was combined in the same manner, the aqueous phase was discharged, 20 ml of toluene and 10 ml of water were added to the organic phase, and after separation, the aqueous phase was discharged. It was washed with 10 ml of an aqueous sodium sulfate solution and subjected to a reduction treatment. To the obtained organic phase, 10 ml of methanol and 2.0 g of potassium carbonate were added and treated at an internal temperature of 40 ° C. for 2 hours. After adding 10 ml of water and washing, 5 ml of 1N aqueous sodium hydroxide solution was added and treated at an internal temperature of 40 ° C. for 1 hour, and then the organic phase was washed with 10 ml of water. After confirming disappearance of the onium salt [1] in the organic phase by LC analysis (condition 2), the obtained organic phase was concentrated to obtain 9.9 g of crude crystals of diepoxy compound. Purity 79% (LC analysis condition 2), yield 71%.

この粗結晶にトルエン10ml、メタノール50mlを加え溶解した後、これにメタノール20mlを加えて内温2℃まで冷却し、結晶を析出させた。これを濾取し、5.3gのジエポキシ体の結晶を得た。純度91.8%(LC分析条件2)、回収率80%。得られたジエポキシ体の塩素含有量は検出限界(10ppm)以下であった。
実施例1〜7ではオニウム塩の分解が確認された。実施例1、2では窒素残存量の少ないエポキシ化合物が得られた。実施例7では、塩素残存量の少ないエポキシ化合物が得ら
れた。
To this crude crystal, 10 ml of toluene and 50 ml of methanol were added for dissolution, and then 20 ml of methanol was added thereto and cooled to an internal temperature of 2 ° C. to precipitate crystals. This was collected by filtration to obtain 5.3 g of diepoxy crystals. Purity 91.8% (LC analysis condition 2), recovery 80%. The chlorine content of the obtained diepoxy compound was below the detection limit (10 ppm).
In Examples 1 to 7, decomposition of the onium salt was confirmed. In Examples 1 and 2, an epoxy compound with a small residual amount of nitrogen was obtained. In Example 7, an epoxy compound with little residual chlorine was obtained.

一方、比較例1で得られた従来のオニウム塩を用いた場合は、これらの不純物が残存し、比較例2で結晶化精製を行っても、結晶化によるロスが大きいものの、十分な低減効果は得られなかった。
本発明において用いられるオニウム塩により、タングステン等の金属や窒素化合物等の不純物が十分に低減された、塩素含有量が少ないエポキシ化合物を得ることができる。
On the other hand, when the conventional onium salt obtained in Comparative Example 1 is used, these impurities remain, and even if crystallization purification is performed in Comparative Example 2, the loss due to crystallization is large, but a sufficient reduction effect Was not obtained.
With the onium salt used in the present invention, it is possible to obtain an epoxy compound with a low chlorine content, in which impurities such as metals such as tungsten and impurities such as nitrogen compounds are sufficiently reduced.

本発明のエポキシ化合物の製造方法により、タングステン等の重金属不純物の含有量が極めて少ないエポキシ化合物を得ることができる。またオニウム塩由来の窒素化合物及び塩素の含有量が極めて少ない高純度のエポキシ化合物を、煩雑な精製等の工程を要さず、簡便な方法で製造することを可能とする。
更には、蒸留や結晶化精製ができないようなエポキシ化合物の製造にも適用でき、汎用性に優れる。
By the method for producing an epoxy compound of the present invention, an epoxy compound having a very small content of heavy metal impurities such as tungsten can be obtained. In addition, it is possible to produce a high-purity epoxy compound having a very small content of nitrogen compound and chlorine derived from an onium salt by a simple method without requiring complicated steps such as purification.
Furthermore, it can be applied to the production of epoxy compounds that cannot be distilled or crystallized and is excellent in versatility.

また、含塩素化合物を用いることが無いので、塩素含有量の少ないエポキシ化合物の製造にも適用できる。
本発明の方法で得られたエポキシ化合物を電子材料、光学材料等及び医農薬の原料として使用した場合、不純物に起因する問題が低減し、高純度、高品質な製品を得ることができる。
Moreover, since a chlorine-containing compound is not used, it can be applied to the production of an epoxy compound having a low chlorine content.
When the epoxy compound obtained by the method of the present invention is used as a raw material for electronic materials, optical materials, and medical and agricultural chemicals, problems due to impurities are reduced, and a product with high purity and high quality can be obtained.

そして特定の置換基を有するオニウム塩を使用することにより、オニウム塩を回収し、繰り返し利用することが可能となり、製造効率を向上させることができる。   And by using the onium salt which has a specific substituent, it becomes possible to collect | recover onium salt and to utilize repeatedly, and to improve manufacturing efficiency.

Claims (17)

タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方と、オニウム塩との存在下、炭素−炭素二重結合を有する化合物の炭素−炭素二重結合に過酸化水素を反応させてエポキシ化するエポキシ化合物の製造方法であって、
前記オニウム塩が、炭素数1〜4のアシルオキシ基を4つ以上又はベンジルオキシ基を1つ以上有し、かつ前記オニウム塩が有する全炭素数が20以上であることを特徴とするエポキシ化合物の製造方法。
In a method for producing an epoxy compound, hydrogen peroxide is reacted with a carbon-carbon double bond of a compound having a carbon-carbon double bond in the presence of at least one of a tungsten compound and a molybdenum compound and an onium salt. There,
An epoxy compound, wherein the onium salt has 4 or more acyloxy groups having 1 to 4 carbon atoms or one or more benzyloxy groups, and the onium salt has a total carbon number of 20 or more. Production method.
前記オニウム塩が、下記一般式(1)〜(3)のいずれかで表わされる化合物であることを特徴とする請求項1に記載のエポキシ化合物の製造方法。
Figure 2015166335
(上記一般式(1)において、
〜Rは、それぞれ独立して置換基を有していてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基を表わし、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよく、いずれか2以上が結合して環を形成していてもよい。またR〜Rの少なくとも1つは、炭素数1〜4のアシルオキシ基又はベンジルオキシ基を1つ以上有する。
上記一般式(2)において
は、置換基を有していてもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基を表す。
〜R10は、それぞれ独立して置換基を有していてもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基、N−アルキルカルバモイル基、又はN−アルキルスルファモイル基を表わす。
またR〜R10は、いずれか2以上が結合して環を形成していてもよく、少なくとも1つは、炭素数1〜4のアシルオキシ基又はベンジルオキシ基を1つ以上置換基として有する。
上記一般式(3)において
11及びR13は、それぞれ独立して置換基を有していてもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基を表わす。
12、R14、及びR15は、それぞれ独立して置換基を有していてもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基、N−アルキルカルバモイル基、又はN−アルキルスルファモイル基を表わす。
11〜R15は、いずれか2以上が結合して環を形成していてもよく、少なくとも1つの基は、炭素数1〜4のアシルオキシ基又はベンジルオキシ基を1つ以上置換基として有する。
は、アニオンを表わす。)
The said onium salt is a compound represented by either of following General formula (1)-(3), The manufacturing method of the epoxy compound of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
Figure 2015166335
(In the above general formula (1),
R 1 to R 4 each independently represents an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms, and some of the carbon atoms may be substituted with hetero atoms, Any two or more may be bonded to form a ring. At least one of R 1 to R 4 has one or more acyloxy groups or benzyloxy groups having 1 to 4 carbon atoms.
In the general formula (2), R 5 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent and a part of carbon atoms may be substituted with a hetero atom.
R 6 to R 10 may each independently have a substituent, and a part of carbon atoms may be substituted with a hetero atom, a C 1-25 aliphatic hydrocarbon group, a hydrogen atom , A halogen atom, a cyano group, a nitro group, a phenyl group, a phenoxy group, a benzyl group, an N-alkylcarbamoyl group, or an N-alkylsulfamoyl group.
In addition, any one or more of R 5 to R 10 may be bonded to form a ring, and at least one of them has one or more acyloxy groups or benzyloxy groups having 1 to 4 carbon atoms as substituents. .
In the general formula (3), R 11 and R 13 may each independently have a substituent, and a part of carbon atoms may be substituted with a hetero atom, and the fatty acid having 1 to 25 carbon atoms. Represents a hydrocarbon group.
R 12 , R 14 , and R 15 may each independently have a substituent, and a C 1-25 aliphatic hydrocarbon in which some of the carbon atoms may be substituted with a hetero atom A group, a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a phenyl group, a phenoxy group, a benzyl group, an N-alkylcarbamoyl group, or an N-alkylsulfamoyl group;
Any one or more of R 11 to R 15 may be bonded to form a ring, and at least one group has one or more acyloxy groups or benzyloxy groups having 1 to 4 carbon atoms as substituents. .
X represents an anion. )
タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方と、オニウム塩との存在下、炭素−炭素二重結合を有する化合物の炭素−炭素二重結合に過酸化水素を反応させてエポキシ化するエポキシ化合物の製造方法であって、
前記オニウム塩が、下記一般式(4)で表わされる化合物であることを特徴とするエポキシ化合物の製造方法。
Figure 2015166335
上記一般式(4)において、
16及びR17は、それぞれ独立して置換基を有していてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基を表わし、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよく、またそれぞれが結合して環を形成していてもよい。
18及びR20は、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の脂肪族炭化水素基を表わし、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい。
19及びR21は、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基を表わす。
k、mはそれぞれ独立に1〜5の整数を表わし、k、mがそれぞれ2以上のとき、複数のR19及びR21はそれぞれ同一であっても、異なっていてもよい。
Y及びZは、それぞれ独立にハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基、N−アルキルカルバモイル基、又はN−アルキルスルファモイル基を表わし、pは0≦p≦5−kの整数を表わし、qは0≦q≦5−mの整数を表わす。
は、アニオンを表わす。)
In a method for producing an epoxy compound, hydrogen peroxide is reacted with a carbon-carbon double bond of a compound having a carbon-carbon double bond in the presence of at least one of a tungsten compound and a molybdenum compound and an onium salt. There,
The said onium salt is a compound represented by following General formula (4), The manufacturing method of the epoxy compound characterized by the above-mentioned.
Figure 2015166335
In the general formula (4),
R 16 and R 17 each independently represent an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and some of the carbon atoms may be substituted with heteroatoms; In addition, each may be bonded to form a ring.
R 18 and R 20 represent an optionally substituted divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and some of the carbon atoms may be substituted with hetero atoms.
R 19 and R 21 represent an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
k and m each independently represent an integer of 1 to 5, and when k and m are each 2 or more, the plurality of R 19 and R 21 may be the same or different.
Y and Z each independently represent a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a phenyl group, a phenoxy group, a benzyl group, an N-alkylcarbamoyl group, or an N-alkylsulfamoyl group, and p is 0 ≦ p ≦ 5. -K represents an integer, and q represents an integer of 0 ≦ q ≦ 5-m.
X represents an anion. )
前記エポキシ化を、リン酸類及びホスホン酸類の少なくとも一方の共存下で行なうことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載のエポキシ化合物の製造方法。   The method for producing an epoxy compound according to any one of claims 1 to 3, wherein the epoxidation is performed in the presence of at least one of phosphoric acids and phosphonic acids. 前記エポキシ化を、前記タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方を含む水相と、前記炭素−炭素二重結合を有する化合物を含む有機相とからなる二相系溶液中で行なうことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のエポキシ化合物の製造方法。   The epoxidation is performed in a two-phase solution comprising an aqueous phase containing at least one of the tungsten compound and a molybdenum compound and an organic phase containing the compound having a carbon-carbon double bond. Item 5. The method for producing an epoxy compound according to any one of Items 1 to 4. 前記水相のpHが、2以上6以下であることを特徴とする、請求項5に記載のエポキシ化合物の製造方法。   The method for producing an epoxy compound according to claim 5, wherein the pH of the aqueous phase is 2 or more and 6 or less. 前記エポキシ化を、キレート化剤の共存下で行なうことを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載のエポキシ化合物の製造方法。   The method for producing an epoxy compound according to any one of claims 1 to 6, wherein the epoxidation is carried out in the presence of a chelating agent. 前記炭素−炭素二重結合を有する化合物が、酸性水溶液で洗浄処理されたものであることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載のエポキシ化合物の製造方法。   The method for producing an epoxy compound according to any one of claims 1 to 7, wherein the compound having a carbon-carbon double bond is washed with an acidic aqueous solution. 前記炭素−炭素二重結合を有する化合物が、キレート化剤で洗浄処理されたものであることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載のエポキシ化合物の製造方法。   The method for producing an epoxy compound according to claim 1, wherein the compound having a carbon-carbon double bond is washed with a chelating agent. 前記オニウム塩が、炭素数1〜4のアシルオキシ基を4つ以上有し、かつ前記炭素−炭素二重結合を有する化合物をエポキシ化した後に、前記オニウム塩を塩基性化合物で加溶媒分解する工程をさらに有することを特徴とする、請求項1、2、4〜9のいずれか1項に記載のエポキシ化合物の製造方法。   A step of solvating the onium salt with a basic compound after the onium salt has four or more acyloxy groups having 1 to 4 carbon atoms and epoxidizes the compound having the carbon-carbon double bond. The method for producing an epoxy compound according to any one of claims 1, 2, 4 to 9, further comprising: 前記加水分解工程後に、加溶媒分解されたオニウム塩を再生する工程をさらに有することを特徴とする、請求項10に記載のエポキシ化合物の製造方法。   The method for producing an epoxy compound according to claim 10, further comprising a step of regenerating the solvated onium salt after the hydrolysis step. 前記オニウム塩が、ベンジルオキシ基を1つ以上有し、かつ前記炭素−炭素二重結合を有する化合物をエポキシ化した後に、前記オニウム塩を接触水素化する工程をさらに有することを特徴とする、請求項1、2、4〜9のいずれか1項に記載のエポキシ化合物の製造方法。   The onium salt further comprises a step of catalytically hydrogenating the onium salt after epoxidizing the compound having one or more benzyloxy groups and having the carbon-carbon double bond, The manufacturing method of the epoxy compound of any one of Claims 1, 2, 4-9. 前記炭素−炭素二重結合を有する化合物をエポキシ化した後に、前記オニウム塩を塩基性化合物で加溶媒分解する工程をさらに有することを特徴とする、請求項3〜9のいずれか1項に記載のエポキシ化合物の製造方法。 10. The method according to claim 3, further comprising a step of solvating the onium salt with a basic compound after epoxidizing the compound having a carbon-carbon double bond. 11. A method for producing an epoxy compound. エポキシ化合物を重合してエポキシ樹脂を製造する方法であって、請求項1〜13のいずれか1項に記載の製造方法でエポキシ化合物を製造する工程と、前記工程で得られたエポキシ化合物を重合してエポキシ樹脂を製造する工程を含むことを特徴とする、エポキシ樹脂の製造方法。   A method for producing an epoxy resin by polymerizing an epoxy compound, the step of producing an epoxy compound by the production method according to any one of claims 1 to 13, and the polymerization of the epoxy compound obtained in the step And a method for producing an epoxy resin, comprising the step of producing an epoxy resin. 下記一般式(4)で表わされるオニウム塩。
Figure 2015166335
上記一般式(4)において、
16及びR17は、それぞれ独立して置換基を有していてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基を表わし、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよく、またそれぞれが結合して環を形成していてもよい。
18及びR20は、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の脂肪族炭化水素基を表わし、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい。
19及びR21は、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基を表わす。
k、mはそれぞれ独立に1〜5の整数を表わし、k、mがそれぞれ2以上のとき、複数
のR19及びR21はそれぞれ同一であっても、異なっていてもよい。
Y及びZは、それぞれ独立にハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基、N−アルキルカルバモイル基、又はN−アルキルスルファモイル基を表わし、pは0≦p≦5−kの整数を表わし、qは0≦q≦5−mの整数を表わす。
は、アニオンを表わす。)
An onium salt represented by the following general formula (4).
Figure 2015166335
In the general formula (4),
R 16 and R 17 each independently represent an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and some of the carbon atoms may be substituted with heteroatoms; In addition, each may be bonded to form a ring.
R 18 and R 20 represent an optionally substituted divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and some of the carbon atoms may be substituted with hetero atoms.
R 19 and R 21 represent an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
k and m each independently represent an integer of 1 to 5, and when k and m are each 2 or more, the plurality of R 19 and R 21 may be the same or different.
Y and Z each independently represent a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a phenyl group, a phenoxy group, a benzyl group, an N-alkylcarbamoyl group, or an N-alkylsulfamoyl group, and p is 0 ≦ p ≦ 5. -K represents an integer, and q represents an integer of 0 ≦ q ≦ 5-m.
X represents an anion. )
前記一般式(4)において、R16、R17、R18及びR20が有する全炭素数が14以下であり、かつR19及びR21が有する全炭素数が6以上であることを特徴とする請求項15に記載のオニウム塩。 In the general formula (4), R 16 , R 17 , R 18 and R 20 have a total carbon number of 14 or less, and R 19 and R 21 have a total carbon number of 6 or more. The onium salt according to claim 15. タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方と、下記一般式(1)〜(4)で表わされる少なくとも1つのオニウム塩とを含むエポキシ化反応用触媒組成物。
Figure 2015166335
(上記一般式(1)において、
〜Rは、それぞれ独立して置換基を有していてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基を表わし、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよく、いずれか2以上が結合して環を形成していてもよい。またR〜Rの少なくとも1つは、炭素数1〜4のアシルオキシ基又はベンジルオキシ基を1つ以上有する。
上記一般式(2)において
は、置換基を有していてもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基を表す。
〜R10は、それぞれ独立して置換基を有していてもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基、N−アルキルカル
バモイル基、又はN−アルキルスルファモイル基を表わす。
またR〜R10は、いずれか2以上が結合して環を形成していてもよく、少なくとも1つは、炭素数1〜4のアシルオキシ基又はベンジルオキシ基を1つ以上置換基として有する。
上記一般式(3)において
11及びR13は、それぞれ独立して置換基を有していてもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基を表わす。
12、R14、及びR15は、それぞれ独立して置換基を有していてもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基、N−アルキルカルバモイル基、又はN−アルキルスルファモイル基を表わす。
11〜R15は、いずれか2以上が結合して環を形成していてもよく、少なくとも1つの基は、炭素数1〜4のアシルオキシ基又はベンジルオキシ基を1つ以上置換基として有する。
上記一般式(4)において、
16及びR17は、それぞれ独立して置換基を有していてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基を表わし、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよく、またそれぞれが結合して環を形成していてもよい。
18及びR20は、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の脂肪族炭化水素基を表わし、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換されていてもよい。
19及びR21は、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基を表わす。
k、mはそれぞれ独立に1〜5の整数を表わし、k、mがそれぞれ2以上のとき、複数のR19及びR21はそれぞれ同一であっても、異なっていてもよい。
Y及びZは、それぞれ独立にハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基、N−アルキルカルバモイル基、又はN−アルキルスルファモイル基を表わし、pは0≦p≦5−kの整数を表わし、qは0≦q≦5−mの整数を表わす。
は、アニオンを表わす。)
A catalyst composition for epoxidation reaction comprising at least one of a tungsten compound and a molybdenum compound and at least one onium salt represented by the following general formulas (1) to (4).
Figure 2015166335
(In the above general formula (1),
R 1 to R 4 each independently represents an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms, and some of the carbon atoms may be substituted with hetero atoms, Any two or more may be bonded to form a ring. At least one of R 1 to R 4 has one or more acyloxy groups or benzyloxy groups having 1 to 4 carbon atoms.
In the general formula (2), R 5 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent and a part of carbon atoms may be substituted with a hetero atom.
R 6 to R 10 may each independently have a substituent, and a part of carbon atoms may be substituted with a hetero atom, a C 1-25 aliphatic hydrocarbon group, a hydrogen atom , A halogen atom, a cyano group, a nitro group, a phenyl group, a phenoxy group, a benzyl group, an N-alkylcarbamoyl group, or an N-alkylsulfamoyl group.
In addition, any one or more of R 5 to R 10 may be bonded to form a ring, and at least one of them has one or more acyloxy groups or benzyloxy groups having 1 to 4 carbon atoms as substituents. .
In the general formula (3), R 11 and R 13 may each independently have a substituent, and a part of carbon atoms may be substituted with a hetero atom, and the fatty acid having 1 to 25 carbon atoms. Represents a hydrocarbon group.
R 12 , R 14 , and R 15 may each independently have a substituent, and a C 1-25 aliphatic hydrocarbon in which some of the carbon atoms may be substituted with a hetero atom A group, a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a phenyl group, a phenoxy group, a benzyl group, an N-alkylcarbamoyl group, or an N-alkylsulfamoyl group;
Any one or more of R 11 to R 15 may be bonded to form a ring, and at least one group has one or more acyloxy groups or benzyloxy groups having 1 to 4 carbon atoms as substituents. .
In the general formula (4),
R 16 and R 17 each independently represent an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and some of the carbon atoms may be substituted with heteroatoms; In addition, each may be bonded to form a ring.
R 18 and R 20 represent an optionally substituted divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and some of the carbon atoms may be substituted with hetero atoms.
R 19 and R 21 represent an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
k and m each independently represent an integer of 1 to 5, and when k and m are each 2 or more, the plurality of R 19 and R 21 may be the same or different.
Y and Z each independently represent a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a phenyl group, a phenoxy group, a benzyl group, an N-alkylcarbamoyl group, or an N-alkylsulfamoyl group, and p is 0 ≦ p ≦ 5. -K represents an integer, and q represents an integer of 0 ≦ q ≦ 5-m.
X represents an anion. )
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