JP2015163601A - High-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound and method for producing the same - Google Patents

High-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound and method for producing the same Download PDF

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crude
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米田 康洋
Yasuhiro Yoneda
康洋 米田
洋治 小俣
Yoji Komata
洋治 小俣
秀好 島
Hideyoshi Shima
秀好 島
哲郎 島野
Tetsuo Shimano
哲郎 島野
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dihalogenobenzobisthiazole compound that has a sufficiently high purity as to be usable as a synthetic intermediate of an organic semiconductor material and a method of producing the same.SOLUTION: Provided are a high-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound of formula (1) which has a sulfur content of 1 wt% or less and a method for producing the high-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound. A tetraaminobenzene compound (including a base) and a halogenating agent are reacted in a halogenated hydrocarbon solvent in the presence of a base to produce a crude dihalogenobenzobisthiazole compound and subjecting the resultant compound and a halogenated hydrocarbon is subjected to contact treatment to produce a high-purity dihalogenobenzobisthiazole.

Description

本発明は、硫黄含有量が低減された高純度なジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物に関する。ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物は、例えば、各種有機半導体材料を製造するための原料として有用な化合物である。   The present invention relates to a highly pure dihalogenobenzobisthiadiazole compound having a reduced sulfur content. A dihalogenobenzobisthiadiazole compound is a useful compound as a raw material for producing various organic semiconductor materials, for example.

従来、ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物の製造方法としては、例えば、1,2,4,5−テトラアミノベンゼン四臭化水素塩と臭化チオニルとを反応させて、収率87%で4,8−ジブロモベンゾビスチアジアゾ−ルを製造する方法が開示されている(例えば、非特許文献1参照)。   Conventionally, as a method for producing a dihalogenobenzobisthiadiazole compound, for example, 1,2,4,5-tetraaminobenzene tetrahydrobromide is reacted with thionyl bromide to yield 4,8 at a yield of 87%. -A method for producing dibromobenzobisthiadiazole is disclosed (for example, see Non-Patent Document 1).

また、2,5−ジブロモ−3,4−ジアミンベンゾチアゾールと塩化チオニルとを反応させた後、得られた固体を水、メタノールで洗浄後、粗生成物を200℃、10−6Torrで昇華・精製して、収率74%で4,8−ジブロモベンゾビスチアジアゾ−ルを得る方法が開示されている(例えば、非特許文献2参照)。 In addition, after reacting 2,5-dibromo-3,4-diaminebenzothiazole and thionyl chloride, the obtained solid was washed with water and methanol, and the crude product was sublimated at 200 ° C. and 10 −6 Torr. A method for purification to obtain 4,8-dibromobenzobisthiadiazole with a yield of 74% is disclosed (for example, see Non-Patent Document 2).

4,8−ジブロモベンゾビスチアジアゾ−ルは、有用な有機半導体材料の中間体として、好適に使用されることも知られている(例えば、特許文献1参照)。   It is also known that 4,8-dibromobenzobisthiadiazole is suitably used as an intermediate for useful organic semiconductor materials (see, for example, Patent Document 1).

Organic Lett.,Vol.12,No.15,p.3340(2010)Organic Lett. , Vol. 12, no. 15, p. 3340 (2010) Tetrahedron,Vol.53,No.29,p.10169(1997)Tetrahedron, Vol. 53, no. 29, p. 10169 (1997)

国際公開第2013/141182号International Publication No. 2013/141182

しかしながら、非特許文献1の方法を本発明者らが追試実験をしたところ、次の4,8−ジブロモベンゾビスチアジアゾ−ルとトリ(n−ブチル)(チエニル)スズとの反応がほとんど進行しないことが分かった(後述する比較例1及び2参照)。   However, when the present inventors conducted a follow-up experiment on the method of Non-Patent Document 1, the reaction between the following 4,8-dibromobenzobisthiadiazole and tri (n-butyl) (thienyl) tin almost progressed. (See Comparative Examples 1 and 2 described later).

また、非特許文献2では、過酷な条件下(分解温度260℃に対して、昇華温度が200℃)にて昇華・精製を行わなければならないため、工業的に好適な製造方法と言えるものではなかった。さらに、この処理方法では、低沸点成分や揮発成分が昇華で同伴するという問題もあった。   In Non-Patent Document 2, sublimation / purification must be performed under severe conditions (sublimation temperature is 200 ° C. with respect to decomposition temperature of 260 ° C.). There wasn't. Furthermore, this processing method has a problem that low boiling point components and volatile components are accompanied by sublimation.

更に、非特許文献1及び2において、ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物中の不純物については、全く注意が払われておらず、その純度や精製方法、分析方法などについても何ら言及されていなかった。   Furthermore, in Non-Patent Documents 1 and 2, no attention is paid to impurities in the dihalogenobenzobisthiadiazole compound, and no mention is made of its purity, purification method, analysis method, or the like.

本発明の課題は、即ち、工業的に好適な製造方法で、有機半導体材料の合成中間体として使用できるほど十分に高純度なジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物及びその製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a dihalogenobenzobisthiadiazole compound having a sufficiently high purity that can be used as a synthetic intermediate of an organic semiconductor material by an industrially suitable production method, and a production method thereof.

本発明の課題は、下記の測定方法で測定される硫黄含有量が、1重量%以下である一般式(1)   The subject of this invention is general formula (1) whose sulfur content measured by the following measuring method is 1 weight% or less.

Figure 2015163601
Figure 2015163601

(式中、Xはハロゲン原子を示す。)
で示される高純度ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物によって解決される。
(In the formula, X represents a halogen atom.)
It is solved by a high-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound represented by

ただし、硫黄含有量が、0重量%である場合を除く。   However, the case where the sulfur content is 0% by weight is excluded.

硫黄測定方法;
ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物と1,2−ジクロロベンゼンとを混合し、加熱溶解させた後に、室温まで冷却して濾過する。
Sulfur measurement method;
A dihalogenobenzobisthiadiazole compound and 1,2-dichlorobenzene are mixed and dissolved by heating, and then cooled to room temperature and filtered.

得られた濾液中の硫黄を高速液体クロマトグラフィーで分析し、標準品の硫黄のピーク面積値とから作成された検量線を用いて、ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物中の硫黄量を測定する。   Sulfur in the obtained filtrate is analyzed by high performance liquid chromatography, and the amount of sulfur in the dihalogenobenzobisthiadiazole compound is measured using a calibration curve prepared from the peak area value of sulfur of the standard product.

本発明の課題は、又、塩基の存在下、一般式(2)   The subject of the present invention is also a general formula (2) in the presence of a base.

Figure 2015163601
Figure 2015163601

で示されるテトラアミノベンゼン化合物(その酸塩も含む)とハロゲン化剤とを、ハロゲン化炭化水素溶媒中で反応させて、粗ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物を得、次いで、得られた粗ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物とハロゲン化炭化水素とを接触処理させる、高純度ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物の製造方法によっても解決される。   Is reacted with a halogenating agent in a halogenated hydrocarbon solvent to obtain a crude dihalogenobenzobisthiadiazole compound, and then the resulting crude dihalogeno compound is obtained. This can also be solved by a method for producing a high-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound in which a benzobisthiadiazole compound and a halogenated hydrocarbon are contact-treated.

本発明により、硫黄含有量が低減された高純度なジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物を提供することができる。また、本発明により、有機半導体材料の合成中間体として使用できるほど、十分に高純度なこのジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物を提供することができる。   According to the present invention, a high-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound having a reduced sulfur content can be provided. In addition, according to the present invention, this dihalogenobenzobisthiadiazole compound having a sufficiently high purity that can be used as a synthetic intermediate for organic semiconductor materials can be provided.

ソックスレー抽出器の概略図である。It is the schematic of a Soxhlet extractor.

(高純度ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物)
本発明の高純度ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物は、一般式(1)で示される化合物であり、以下の測定方法で測定される硫黄含有量が、1重量%以下であるジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物を示す。有機半導体材料の合成中間体として使用する上で、硫黄含有量は0.5重量%以下であることが好ましく、0.3重量%以下であることがさらに好ましい。ただし、硫黄含有量が、0重量%である場合を除く。
(High purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound)
The high-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound of the present invention is a compound represented by the general formula (1), and the sulfur content measured by the following measurement method is 1% by weight or less. Indicates. When used as a synthetic intermediate for organic semiconductor materials, the sulfur content is preferably 0.5% by weight or less, and more preferably 0.3% by weight or less. However, the case where the sulfur content is 0% by weight is excluded.

ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物の硫黄含有量を1重量%以下とすることで、良好な収率で触媒反応が進行し、有機半導体材料の合成中間体として使用することができる。   By setting the sulfur content of the dihalogenobenzobisthiadiazole compound to 1% by weight or less, the catalytic reaction proceeds in a good yield and can be used as a synthetic intermediate for organic semiconductor materials.

(高純度ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物の硫黄含有量の測定方法)
高純度ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物の硫黄含有量の測定は、以下の手順で行う。
(1)ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物と1,2−ジクロロベンゼンとを混合し、加熱溶解(140℃〜160℃)させた後、室温(20℃〜30℃)まで冷却して濾過する。
(2)得られた濾液中の硫黄を高速液体クロマトグラフィーで分析する。
(3)標準品の硫黄のピーク面積値とから作成された検量線を用いて、ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物中の硫黄量を測定する。
(Method for measuring sulfur content of high-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compounds)
The sulfur content of the high purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound is measured by the following procedure.
(1) A dihalogenobenzobisthiadiazole compound and 1,2-dichlorobenzene are mixed and dissolved by heating (140 ° C. to 160 ° C.), then cooled to room temperature (20 ° C. to 30 ° C.) and filtered.
(2) The sulfur in the obtained filtrate is analyzed by high performance liquid chromatography.
(3) The amount of sulfur in the dihalogenobenzobisthiadiazole compound is measured using a calibration curve created from the standard sulfur peak area value.

本測定方法において、1,2−ジクロロベンゼンの使用量は適宜調節するが、ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物1gに対して、100mL〜1L使用することが好ましい。前記範囲とすることで、ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物中の硫黄が完全に溶解し、1回の測定で効率よく硫黄含有量を測定することができる。   In this measurement method, the amount of 1,2-dichlorobenzene used is adjusted as appropriate, but it is preferably used in an amount of 100 mL to 1 L with respect to 1 g of the dihalogenobenzobisthiadiazole compound. By setting it as the said range, sulfur in a dihalogeno benzobis thiadiazole compound melt | dissolves completely, and it can measure sulfur content efficiently by one measurement.

本測定方法において、1,2−ジクロロベンゼンの使用量や濃縮量、ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物の使用量、測定機器等を適宜変更することにより、0重量%を除く任意の濃度の硫黄含有量を測定することができるが、工業的に好適な範囲の使用量及び濃縮量において、測定可能な硫黄含有量は、ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物に対して10ppm以上、好ましくは30ppm以上である。   In this measurement method, the sulfur content at any concentration except 0% by weight can be changed by appropriately changing the amount and concentration of 1,2-dichlorobenzene, the amount of dihalogenobenzobisthiadiazole compound used, and the measuring equipment. However, the measurable sulfur content is 10 ppm or more, preferably 30 ppm or more, based on the dihalogenobenzobisthiadiazole compound in the industrially preferred range of use and concentration.

ここで、標準品の硫黄のピーク面積値とから作成された検量線とは、標準品(市販品)硫黄を1,2−ジクロロベンゼンに溶解した溶液を、一定量採取して分析することにより、硫黄のピーク面積と硫黄量の相関を表すものである。   Here, the calibration curve created from the peak value of sulfur of the standard product is obtained by analyzing a sample of a standard solution (commercial product) obtained by dissolving sulfur in 1,2-dichlorobenzene and analyzing it. Represents the correlation between the peak area of sulfur and the amount of sulfur.

(高純度ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物の合成)
本発明の高純度ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物は、塩基の存在下、一般式(2)
(Synthesis of high-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compounds)
The high-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound of the present invention is represented by the general formula (2) in the presence of a base.

Figure 2015163601
Figure 2015163601

で示されるテトラアミノベンゼン化合物(その酸塩も含む)とハロゲン化剤とを、ハロゲン化炭化水素溶媒中で反応させて、粗ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物を得、次いで、得られた粗ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物とハロゲン化炭化水素とを接触処理させることによって製造される。 Is reacted with a halogenating agent in a halogenated hydrocarbon solvent to obtain a crude dihalogenobenzobisthiadiazole compound, and then the resulting crude dihalogeno compound is obtained. It is produced by contacting a benzobisthiadiazole compound with a halogenated hydrocarbon.

以下、塩基の存在下、テトラアミノベンゼン化合物(その酸塩も含む)とハロゲン化剤とを、ハロゲン化炭化水素溶媒中で反応させて、粗ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物を得る工程を「本発明の反応」、そして、得られた粗ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物とハロゲン化炭化水素とを接触処理させる工程を「本発明の処理」と称する。   Hereinafter, a process of obtaining a crude dihalogenobenzobisthiadiazole compound by reacting a tetraaminobenzene compound (including its acid salt) with a halogenating agent in a halogenated hydrocarbon solvent in the presence of a base is described as “the present invention”. And the step of contacting the resulting crude dihalogenobenzobisthiadiazole compound with the halogenated hydrocarbon is referred to as “treatment of the present invention”.

(「本発明の反応」について)
本発明の反応において使用するテトラアミノベンゼン化合物は、そのまま又はその酸塩として使用しても良く、酸塩を形成させる際の酸としては、例えば、フッ化水素、塩化水素、臭化水素酸、ヨウ化水素酸などのハロゲン化水素酸が挙げられるが、好ましくはハロゲン化剤とハロゲン原子が同一のハロゲン化水素酸が使用される。ハロゲン化水素塩となっているテトラアミノベンゼン化合物としては、例えば、1,2,4,5−テトラアミノベンゼン塩酸塩、1,2,4,5−テトラアミノベンゼン臭化水素酸塩などが挙げられる。
(About “the reaction of the present invention”)
The tetraaminobenzene compound used in the reaction of the present invention may be used as it is or as an acid salt thereof. Examples of the acid for forming the acid salt include hydrogen fluoride, hydrogen chloride, hydrobromic acid, A hydrohalic acid such as hydroiodic acid can be used, and a hydrohalic acid having the same halogen atom as that of the halogenating agent is preferably used. Examples of the tetraaminobenzene compound that is a hydrogen halide salt include 1,2,4,5-tetraaminobenzene hydrochloride, 1,2,4,5-tetraaminobenzene hydrobromide, and the like. It is done.

本発明の反応に使用するハロゲン化剤としては、例えば、塩化チオニル、臭化チオニルであり、好ましくは、臭化チオニルが使用される。なお、これらのハロゲン化剤は、ハロゲン原子が同一であれば、二種以上を混合して使用しても良い。   Examples of the halogenating agent used in the reaction of the present invention include thionyl chloride and thionyl bromide, and preferably thionyl bromide is used. These halogenating agents may be used in combination of two or more as long as the halogen atoms are the same.

前記ハロゲン化剤の使用量は、テトラアミノベンゼン化合物1モルに対して、好ましくは2〜100モル、更に好ましくは3〜50モル、より好ましくは4〜20モルである。前記範囲とすることで、収率、操作性、及び経済性良く反応を実施することができる。   The amount of the halogenating agent to be used is preferably 2 to 100 mol, more preferably 3 to 50 mol, more preferably 4 to 20 mol, per 1 mol of the tetraaminobenzene compound. By setting it as the said range, reaction can be implemented with a yield, operativity, and economical efficiency.

本発明の反応に使用する塩基としては、例えば、ピリジン、N−メチルピリジン、2−クロロピリジン、2−ブロモピリジン、ピペリジン、ピリミジン、キノリン、アクリジン、ピコリン、ビピリジン、2,6−ルチジン等の芳香族アミン類、トリメチルアミン、N,N−ジメチルエチルアミン、N,N−ジエチルメチルアミン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルプロピルアミン、N,N−ジメチルブチルアミン、N,N−ジメチルペンチルアミン、N,N−ジエチルプロピルアミン、N,N−ジプロピルエチルアミン、N,N−ジプロピルメチルアミン、N,N−ジエチルペンチルアミン、N−エチル−N−メチルペンチルアミン、トリブチルアミン、トリプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、等の脂肪族3級アミン類等が挙げられるが、好ましくは、芳香族アミン類、更に好ましくは、ピリジンが使用される。なお、これらの塩基は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。   Examples of the base used in the reaction of the present invention include fragrances such as pyridine, N-methylpyridine, 2-chloropyridine, 2-bromopyridine, piperidine, pyrimidine, quinoline, acridine, picoline, bipyridine, and 2,6-lutidine. Group amines, trimethylamine, N, N-dimethylethylamine, N, N-diethylmethylamine, triethylamine, N, N-dimethylpropylamine, N, N-dimethylbutylamine, N, N-dimethylpentylamine, N, N- Diethylpropylamine, N, N-dipropylethylamine, N, N-dipropylmethylamine, N, N-diethylpentylamine, N-ethyl-N-methylpentylamine, tributylamine, tripropylamine, triisopropylamine, Aliphatic tertiary amines such as It is, but preferably, aromatic amines, more preferably, pyridine is used. In addition, you may use these bases individually or in mixture of 2 or more types.

前記塩基の使用量は、テトラアミノベンゼン化合物1モルに対して、好ましくは2モル〜100モル、更に好ましくは3モルか〜50モル、より好ましくは4モル〜20モルである。前記範囲とすることで、収率や操作性、経済性良く反応を実施することができる。   The amount of the base used is preferably 2 mol to 100 mol, more preferably 3 mol to 50 mol, and more preferably 4 mol to 20 mol with respect to 1 mol of the tetraaminobenzene compound. By setting it as the said range, reaction can be implemented with a sufficient yield, operativity, and economical efficiency.

本発明の反応において使用するハロゲン化炭化水素としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエチレン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族ハロゲン化炭化水素が挙げられるが、好ましくは、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエチレンが使用される。なお、これらのハロゲン化炭化水素は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。   Examples of the halogenated hydrocarbon used in the reaction of the present invention include aliphatic halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and 1,2-dichloroethylene, and aromatic halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene and dichlorobenzene. However, preferably methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethylene is used. In addition, you may use these halogenated hydrocarbons individually or in mixture of 2 or more types.

前記ハロゲン化炭化水素は、テトラアミノベンゼン化合物1モルに対して、好ましくは
1L〜100L、更に好ましくは4L〜10Lである。前記範囲とすることで、収率や操作性、経済性良く反応を実施することができる。
The halogenated hydrocarbon is preferably 1 L to 100 L, more preferably 4 L to 10 L with respect to 1 mol of the tetraaminobenzene compound. By setting it as the said range, reaction can be implemented with a sufficient yield, operativity, and economical efficiency.

本発明の反応は、例えば、テトラアミノベンゼン、ハロゲン化剤、塩基及びハロゲン化炭化水素溶媒を混合して、攪拌しながら反応させるなどの方法によって行われる。その際の反応温度は、好ましくは−30℃〜200℃、更に好ましくは0℃〜100℃であり、反応圧力は特に制限されない。反応温度を前記範囲とすることで、副反応を抑制しつつ、円滑に反応を進行させ、効率良く目的物を取得できる。   The reaction of the present invention is carried out, for example, by a method of mixing tetraaminobenzene, a halogenating agent, a base and a halogenated hydrocarbon solvent and reacting them with stirring. The reaction temperature at that time is preferably −30 ° C. to 200 ° C., more preferably 0 ° C. to 100 ° C., and the reaction pressure is not particularly limited. By making reaction temperature into the said range, reaction can be advanced smoothly, suppressing a side reaction, and the target object can be acquired efficiently.

本発明の反応終了後、反応物を濾過し、粗ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物を濾過により取得するが、必要に応じて乾燥を行った後に次の処理で使用する。   After completion of the reaction of the present invention, the reaction product is filtered and a crude dihalogenobenzobisthiadiazole compound is obtained by filtration, but is used in the next treatment after drying if necessary.

(「本発明の処理」について)
本発明の処理において使用する(本発明の反応によって得られた粗ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物と接触処理させる)ハロゲン化炭化水素としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエチレン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族ハロゲン化炭化水素が挙げられるが、好ましくは、クロロホルム、1,2−ジクロロエチレン、クロロベンゼン、1,2−ジクロロベンゼン、更に好ましくは、クロロホルム、1,2−ジクロロエチレン、クロロベンゼンが使用される。なお、これらのハロゲン化炭化水素は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
(About “Processing of the Present Invention”)
Examples of the halogenated hydrocarbon used in the treatment of the present invention (contact treatment with the crude dihalogenobenzobisthiadiazole compound obtained by the reaction of the present invention) include fatty acids such as methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethylene, etc. Aromatic halogenated hydrocarbons such as aromatic halogenated hydrocarbons, chlorobenzene, dichlorobenzene and the like, preferably chloroform, 1,2-dichloroethylene, chlorobenzene, 1,2-dichlorobenzene, more preferably chloroform, 1 , 2-dichloroethylene and chlorobenzene are used. In addition, you may use these halogenated hydrocarbons individually or in mixture of 2 or more types.

前記ハロゲン化炭化水素の使用量は、粗ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物1gに対して、好ましくは1mL〜10L、更に好ましくは10mL〜500mLである。前記範囲とすることで、収率、操作性、及び経済性良く処理を実施することができる。   The amount of the halogenated hydrocarbon to be used is preferably 1 mL to 10 L, more preferably 10 mL to 500 mL, per 1 g of the crude dihalogenobenzobisthiadiazole compound. By setting it as the said range, a process can be implemented with sufficient yield, operativity, and economical efficiency.

本発明の処理における接触処理とは、粗ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物とハロゲン化炭化水素を撹拌や抽出などによって十分に接触させる処理を示す。この接触処理は、不純物が十分に取り除かれ、高純度ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物とする態様ならば特に限定されないが、以下の(1)、(2)、及び(3)からなる群より選ばれた少なくとも1つを含む方法が好ましい実施態様である。
(1)粗ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物とハロゲン化炭化水素との接触処理を、混合加熱攪拌により行う方法、
(2)粗ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物とハロゲン化炭化水素との接触処理を、ソックスレー抽出によって行う方法、
(3)粗ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物とハロゲン化炭化水素との接触処理を、再結晶によって行う方法
なお、これらの反応処理は、単独で行っても複数の処理を組み合わせて行っても良く、まず混合加熱攪拌による処理を行った後に、ソックスレー抽出又は再結晶を行う方法がより好ましい。
The contact treatment in the treatment of the present invention refers to a treatment in which a crude dihalogenobenzobisthiadiazole compound and a halogenated hydrocarbon are sufficiently brought into contact by stirring or extraction. This contact treatment is not particularly limited as long as impurities are sufficiently removed and a high purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound is used, but it is selected from the group consisting of the following (1), (2), and (3). A method comprising at least one is a preferred embodiment.
(1) A method in which a contact treatment of a crude dihalogenobenzobisthiadiazole compound and a halogenated hydrocarbon is carried out by mixing and stirring,
(2) A method in which a contact treatment of a crude dihalogenobenzobisthiadiazole compound and a halogenated hydrocarbon is performed by Soxhlet extraction,
(3) Method of performing contact treatment of crude dihalogenobenzobisthiadiazole compound and halogenated hydrocarbon by recrystallization Note that these reaction treatments may be carried out alone or in combination of a plurality of treatments, A method in which Soxhlet extraction or recrystallization is performed after first performing a process by mixing and stirring is more preferable.

(1)混合加熱攪拌により行う方法
粗ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物をハロゲン化炭化水素溶媒に加えて混合し、加熱攪拌させた後、得られた溶液を室温(20℃〜30℃)まで冷却して濾過する。この際、硫黄はハロゲン化炭化水素溶媒に溶けるため、濾液側に分離される。取得した濾物を乾燥し、高純度のジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物を得ることができる。本方法において、加熱温度は、使用する溶媒や圧力に応じて適宜変更するが、40℃以上であることが好ましく、50℃以上であることがより好ましく、60℃以上であることがさらに好ましい。
(1) Method by mixing and stirring The crude dihalogenobenzobisthiadiazole compound is added to a halogenated hydrocarbon solvent, mixed, heated and stirred, and then the resulting solution is cooled to room temperature (20 ° C to 30 ° C). And filter. At this time, since sulfur dissolves in the halogenated hydrocarbon solvent, it is separated to the filtrate side. The obtained filtrate can be dried to obtain a high-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound. In this method, the heating temperature is appropriately changed according to the solvent and pressure to be used, but it is preferably 40 ° C. or higher, more preferably 50 ° C. or higher, and further preferably 60 ° C. or higher.

(2)ソックスレー抽出によって行う方法
本発明の高純度のジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物を得る一例を、図1を用いて説明する。粗ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物(固体)を円筒濾紙に入れ、ソックスレー抽出装置内に設置し、フラスコにハロゲン化炭化水素溶媒を入れ、加熱還流を行う。この加熱温度は、使用する溶媒や圧力に応じて適宜変更することができる。フラスコ内で発生したハロゲン化炭化水素溶媒の蒸気は側管(3)を通じて、冷却器(4)に達し、凝結する。凝結したハロゲン化炭化水素溶媒は円筒濾紙(5)内に滴下し、滴下した溶媒によって、円筒濾紙内の固体からジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物は抽出され、溶液として溜る。一定量溶液が溜まるとサイフォン(6)によって、溜まった溶液はフラスコ (1) に流れ落ちる。この繰返しにより、抽出されたジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物がフラスコ(1)に濃縮されていき、フラスコ内に固体として沈殿する。ソックスレー抽出終了後、室温に冷却し、抽出液中の沈殿物を濾取する。この際、硫黄はハロゲン化炭化水素溶媒に溶けるため、濾液側に分離される。取得した沈殿物を乾燥し、高純度のジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物を得ることができる。
(2) Method Performed by Soxhlet Extraction An example of obtaining the high purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound of the present invention will be described with reference to FIG. The crude dihalogenobenzobisthiadiazole compound (solid) is placed in a cylindrical filter paper, placed in a Soxhlet extraction apparatus, a halogenated hydrocarbon solvent is placed in the flask, and heated to reflux. This heating temperature can be appropriately changed according to the solvent and pressure used. The halogenated hydrocarbon solvent vapor generated in the flask reaches the cooler (4) through the side pipe (3) and condenses. The condensed halogenated hydrocarbon solvent is dropped into the cylindrical filter paper (5), and the dihalogenobenzobisthiadiazole compound is extracted from the solid in the cylindrical filter paper by the dropped solvent and stored as a solution. When a certain amount of solution is accumulated, the accumulated solution flows down into the flask (1) by the siphon (6). By this repetition, the extracted dihalogenobenzobisthiadiazole compound is concentrated in the flask (1) and precipitated as a solid in the flask. After completion of Soxhlet extraction, the mixture is cooled to room temperature, and the precipitate in the extract is collected by filtration. At this time, since sulfur dissolves in the halogenated hydrocarbon solvent, it is separated to the filtrate side. The obtained precipitate can be dried to obtain a highly pure dihalogenobenzobisthiadiazole compound.

(3)再結晶によって行う方法
粗ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物をハロゲン化炭化水素溶媒に加え、加熱還流させて完全に溶解させる。この加熱温度は、使用する溶媒や圧力に応じて適宜変更することができる。前記溶液を室温(20℃〜30℃)まで冷却し、沈殿物を濾取する。この際、硫黄はハロゲン化炭化水素溶媒に溶けるため、濾液側に分離される。取得した濾物を乾燥し、高純度のジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物を得ることができる。
(3) Method performed by recrystallization A crude dihalogenobenzobisthiadiazole compound is added to a halogenated hydrocarbon solvent and heated to reflux to be completely dissolved. This heating temperature can be appropriately changed according to the solvent and pressure used. The solution is cooled to room temperature (20 ° C. to 30 ° C.), and the precipitate is collected by filtration. At this time, since sulfur dissolves in the halogenated hydrocarbon solvent, it is separated to the filtrate side. The obtained filtrate can be dried to obtain a high-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound.

本発明の処理によって高純度ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物が得られるが、これは、前記の硫黄測定方法で測定される硫黄含有量が、1重量%以下であることが特定された高純度ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物である。ただし、硫黄含有量が0重量%である場合を除く。   By the treatment of the present invention, a high-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound is obtained. This is because the sulfur content measured by the above-described sulfur measurement method is specified to be 1% by weight or less. It is a benzobisthiadiazole compound. However, the case where the sulfur content is 0% by weight is excluded.

なお、前記の高純度ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物は、ベンゾビスチアジアゾールを主骨格とする有機半導体材料の製造において使用できる(例えば後述する実施例5、6、7及び8参照)。   The high-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound can be used in the production of an organic semiconductor material having benzobisthiadiazole as the main skeleton (for example, see Examples 5, 6, 7 and 8 described later).

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、略称は以下の通りである。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to a following example. Abbreviations are as follows.

DBBBT;4,8−ジブロモベンゾビスチアジアゾール
粗体、粗DBBBT;前述の3種類の接触処理(混合加熱攪拌、ソックスレー抽出、再結晶)をいずれも行っていない4,8−ジブロモベンゾビスチアジアゾール
C8TBBT;4,8−ビス(5−オクチル−2−チエニル)ベンゾビスチアジアゾール
DBBBT; 4,8-dibromobenzobisthiadiazole crude, crude DBBBT; 4,8-dibromobenzobisthiadiazole C8TBBT not subjected to any of the above-mentioned three types of contact treatment (mixing heating stirring, Soxhlet extraction, recrystallization); 4,8-bis (5-octyl-2-thienyl) benzobisthiadiazole

また、高速液体カラムクロマトグラフィーの分析条件は以下の通りである。
(硫黄の分析)
カラム:CHIRALPAK IA(ダイセル化学製) 4.6×250mmID
移動相:n−ヘキサン
測定波長:300nm
カラム温度:30℃
流速:1.0mL/min
(DBBBT及びC8TBBTの分析)
カラム:CHIRALPAK IA(ダイセル化学製) 4.6×250mmID
移動相:(A)n−ヘキサン:(B)クロロホルム
Bの濃度:20%(0min)→90%(10min)→90%(24min)→20%(25min)→20%(40min)
測定波長:345nm
カラム温度:40℃
流速:1.0mL/min
Analytical conditions for high performance liquid column chromatography are as follows.
(Sulfur analysis)
Column: CHIRALPAK IA (manufactured by Daicel Chemical Industries) 4.6 × 250 mm ID
Mobile phase: n-hexane Measurement wavelength: 300 nm
Column temperature: 30 ° C
Flow rate: 1.0 mL / min
(Analysis of DBBBT and C8TBBT)
Column: CHIRALPAK IA (manufactured by Daicel Chemical Industries) 4.6 × 250 mm ID
Mobile phase: (A) n-hexane: (B) Concentration of chloroform B: 20% (0 min) → 90% (10 min) → 90% (24 min) → 20% (25 min) → 20% (40 min)
Measurement wavelength: 345 nm
Column temperature: 40 ° C
Flow rate: 1.0 mL / min

実施例1(高純度4,8−ジブロモベンゾビスチアジアゾール(DBBBT)の合成)
攪拌装置、滴下漏斗及び還流冷却器を備えた内容積1000mLの4つ口フラスコに、1,2,4,5−テトラアミノベンゼン四臭化水素塩19.9g(0.0431mol)とクロロホルム300mLを混合した後、臭化チオニル33.4mL(0.431mol)、ピリジン48mL(0.60mol)の順で加え、攪拌しながら室温(20℃〜30℃)で3時間、還流下(55℃〜65℃)で12時間反応させた。
Example 1 (Synthesis of high purity 4,8-dibromobenzobisthiadiazole (DBBBT))
Into a four-necked flask having an internal volume of 1000 mL equipped with a stirrer, a dropping funnel and a reflux condenser, 19.9 g (0.0431 mol) of 1,2,4,5-tetraaminobenzenetetrahydrobromide and 300 mL of chloroform were added. After mixing, 33.4 mL (0.431 mol) of thionyl bromide and 48 mL (0.60 mol) of pyridine were added in this order, and the mixture was refluxed (55 ° C. to 65 ° C.) at room temperature (20 ° C. to 30 ° C.) for 3 hours with stirring. (C) for 12 hours.

反応終了後、反応液を室温まで冷却し、メタノール300mLを加えた後に反応液を濾過した。濾物を塩酸、水、メタノールの順で洗浄した後、減圧下にて70℃で乾燥させて、粗DBBBT11.3gを得た。   After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature, 300 mL of methanol was added, and the reaction solution was filtered. The residue was washed with hydrochloric acid, water and methanol in this order, and then dried at 70 ° C. under reduced pressure to obtain 11.3 g of crude DBBBT.

攪拌装置及び還流冷却器を備えた内容積500mLの4つ口フラスコに、得られた粗DBBBT11.3g及びクロロホルム300mLを加え、撹拌させながら還流下(55℃〜65℃)で3時間反応させた。得られた溶液を室温(20℃〜30℃)まで冷却して濾過し、濾物をクロロホルムで洗浄した。得られた固体を減圧下にて60℃で乾燥させ、DBBBT9.9gを得た(粗体取得収率;65%)。   11.3 g of the obtained crude DBBBT and 300 mL of chloroform were added to a 500 mL four-necked flask equipped with a stirrer and a reflux condenser, and reacted under reflux (55 ° C. to 65 ° C.) for 3 hours while stirring. . The obtained solution was cooled to room temperature (20 ° C. to 30 ° C.) and filtered, and the residue was washed with chloroform. The obtained solid was dried at 60 ° C. under reduced pressure to obtain 9.9 g of DBBBT (crude acquisition yield; 65%).

前記DBBBT(固体)3gを円筒濾紙に入れ、図1で示すソックスレー抽出装置内に設置し、フラスコにクロロベンゼン250mLを入れ、還流下(130℃〜140℃)で14時間撹拌した。得られた濾液を室温(20℃〜30℃)まで冷却した後、析出した固体を濾過した。濾過後、濾物を減圧下にて70℃で乾燥させ、暗赤褐色の固体として、DBBBT2.23gを得た(精製回収率;74%)。   3 g of the DBBBT (solid) was placed in a cylindrical filter paper, placed in a Soxhlet extraction apparatus shown in FIG. 1, 250 mL of chlorobenzene was placed in the flask, and the mixture was stirred under reflux (130 ° C. to 140 ° C.) for 14 hours. The obtained filtrate was cooled to room temperature (20 ° C. to 30 ° C.), and then the precipitated solid was filtered. After filtration, the residue was dried at 70 ° C. under reduced pressure to obtain 2.23 g of DBBBT as a dark reddish brown solid (purification recovery rate: 74%).

得られたDBBBT0.05gと1,2−ジクロロベンゼン30mLを混合し、150℃で加熱し、硫黄を溶出させた後、室温(20℃〜30℃)まで冷却して濾過した。次いで、濾液中の硫黄を高速液体クロマトグラフィーで分析し、標準品の硫黄のピーク面積値とから作成された検量線を用いて、ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物中の硫黄量を測定したところ、硫黄含有量は検出限界以下であり、得られたDBBBTが高純度品であることが分かった。   0.05 g of the obtained DBBBT and 30 mL of 1,2-dichlorobenzene were mixed, heated at 150 ° C. to elute sulfur, cooled to room temperature (20 ° C. to 30 ° C.), and filtered. Next, sulfur in the filtrate was analyzed by high performance liquid chromatography, and the amount of sulfur in the dihalogenobenzobisthiadiazole compound was measured using a calibration curve created from the standard sulfur peak area value. The content was below the detection limit, and the obtained DBBBT was found to be a high purity product.

実施例2(高純度4,8−ジブロモベンゾビスチアジアゾール(DBBBT)の合成)
攪拌装置、滴下漏斗及び還流冷却器を備えた内容積500mLの4つ口フラスコに、1,2,4,5−テトラアミノベンゼン四臭化水素塩20.0g(0.0431mol)とクロロホルム300mLを混合した後、臭化チオニル34.0mL(0.431mol)、ピリジン49mL(0.60mol)の順で加え、攪拌しながら室温(20℃〜30℃)で1時間、還流下(55℃〜65℃)で12時間反応させた。
Example 2 (Synthesis of high purity 4,8-dibromobenzobisthiadiazole (DBBBT))
To a 500 mL four-necked flask equipped with a stirrer, a dropping funnel and a reflux condenser, 20.0 g (0.0431 mol) of 1,2,4,5-tetraaminobenzenetetrahydrobromide and 300 mL of chloroform were added. After mixing, 34.0 mL (0.431 mol) of thionyl bromide and 49 mL (0.60 mol) of pyridine were added in this order, and the mixture was refluxed (55 ° C. to 65 ° C.) for 1 hour at room temperature (20 ° C. to 30 ° C.) with stirring. (C) for 12 hours.

反応終了後、反応液を室温まで冷却し、メタノール300mLを加えた後に反応液を濾過した。濾物を塩酸、水、メタノールの順で洗浄した後、減圧下にて70℃で乾燥させて、粗DBBBT11.3gを得た。   After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature, 300 mL of methanol was added, and the reaction solution was filtered. The residue was washed with hydrochloric acid, water and methanol in this order, and then dried at 70 ° C. under reduced pressure to obtain 11.3 g of crude DBBBT.

攪拌装置及び還流冷却器を備えた内容積500mLの4つ口フラスコに、得られた粗DBBBT11.3g及びクロロホルム300mLを加え、撹拌させながら還流下(55℃〜65℃)で1時間反応させた。得られた溶液を室温(20℃〜30℃)まで冷却して濾過し、濾物をクロロホルムで洗浄した。得られた固体を減圧下にて60℃で乾燥させた。   11.3 g of the obtained crude DBBBT and 300 mL of chloroform were added to a 500 mL four-necked flask equipped with a stirrer and a reflux condenser, and reacted under reflux (55 ° C. to 65 ° C.) for 1 hour while stirring. . The obtained solution was cooled to room temperature (20 ° C. to 30 ° C.) and filtered, and the residue was washed with chloroform. The resulting solid was dried at 60 ° C. under reduced pressure.

得られたDBBBT(固体)を2分割して、一方を円筒濾紙に入れ、図1で示すソックスレー抽出装置内に設置し、フラスコにクロロベンゼン250mLを入れ、還流下(130℃〜140℃)で14時間撹拌した。得られた濾液を室温(20℃〜30℃)まで冷却した後、析出した固体を濾過した。濾過後、濾物を減圧下にて60℃で乾燥させ、暗赤褐色の固体としてDBBBTを得た。分割したもう一方のDBBBTについて、同様にソックスレー抽出を行った。合わせて、DBBBT8.2gを得た(精製体の取得収率;55%)。   The obtained DBBBT (solid) was divided into two parts, one was placed in a cylindrical filter paper, placed in the Soxhlet extraction apparatus shown in FIG. 1, 250 mL of chlorobenzene was placed in the flask, and the mixture was refluxed (130 ° C. to 140 ° C.) at 14 Stir for hours. The obtained filtrate was cooled to room temperature (20 ° C. to 30 ° C.), and then the precipitated solid was filtered. After filtration, the residue was dried at 60 ° C. under reduced pressure to obtain DBBBT as a dark reddish brown solid. Soxhlet extraction was performed in the same manner on the other divided DBBBT. Together, 8.2 g of DBBBT was obtained (acquired yield of purified product; 55%).

同様の実験をさらに3回行い、合計4回の実験で合わせて28.1gの精製体のDBBBTを得た。   The same experiment was further performed three times, and 28.1 g of purified DBBBT was obtained in a total of four experiments.

得られたDBBBT50mgと1,2−ジクロロベンゼン約5gを各々精秤して混合し、150℃で15分間加熱し、硫黄を溶出させた後、室温(20℃〜30℃)まで冷却して濾過した。次いで、濾液中の硫黄を高速液体クロマトグラフィーで分析し、標準品の硫黄のピーク面積値とから作成された検量線を用いて、ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物中の硫黄量を測定したところ、硫黄含有量は32ppmであった。このように高濃度のDBBBT溶液を用いて、硫黄含有量を測定することができた。   The obtained DBBBT (50 mg) and 1,2-dichlorobenzene (about 5 g) were precisely weighed and mixed, heated at 150 ° C. for 15 minutes to elute sulfur, cooled to room temperature (20 ° C. to 30 ° C.) and filtered. did. Next, sulfur in the filtrate was analyzed by high performance liquid chromatography, and the amount of sulfur in the dihalogenobenzobisthiadiazole compound was measured using a calibration curve created from the standard sulfur peak area value. The content was 32 ppm. In this way, the sulfur content could be measured using the DBBBT solution having a high concentration.

実施例3(高純度4,8−ジブロモベンゾビスチアジアゾール(DBBBT)の合成)
攪拌装置、滴下漏斗及び還流冷却器を備えた内容積1000mLの4つ口フラスコに、1,2,4,5−テトラアミノベンゼン四臭化水素塩19.9g(0.0431mol)とクロロホルム300mLを混合した後、臭化チオニル33.4mL(0.431mol)、ピリジン48mL(0.60mol)の順で加え、攪拌しながら室温(20℃〜30℃)で3時間、還流下(55℃〜65℃)で12時間反応させた。
Example 3 (Synthesis of high purity 4,8-dibromobenzobisthiadiazole (DBBBT))
Into a four-necked flask having an internal volume of 1000 mL equipped with a stirrer, a dropping funnel and a reflux condenser, 19.9 g (0.0431 mol) of 1,2,4,5-tetraaminobenzenetetrahydrobromide and 300 mL of chloroform were added. After mixing, 33.4 mL (0.431 mol) of thionyl bromide and 48 mL (0.60 mol) of pyridine were added in this order, and the mixture was refluxed (55 ° C. to 65 ° C.) at room temperature (20 ° C. to 30 ° C.) for 3 hours with stirring. (C) for 12 hours.

反応終了後、反応液を室温(20℃〜30℃)まで冷却し、メタノール300mLを加えた後に反応液を濾過した。濾物を塩酸、水、メタノールの順で洗浄した後、減圧下にて70℃で乾燥させて、粗DBBBT11.3gを得た。   After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature (20 ° C. to 30 ° C.), 300 mL of methanol was added, and the reaction solution was filtered. The residue was washed with hydrochloric acid, water and methanol in this order, and then dried at 70 ° C. under reduced pressure to obtain 11.3 g of crude DBBBT.

攪拌装置及び還流冷却器を備えた内容積500mLの4つ口フラスコに、得られた粗DBBBT11.3g及びクロロホルム300mLを加え、撹拌させながら還流下(55℃〜65℃)で3時間反応させた。得られた溶液を室温(20℃〜30℃)まで冷却して濾過し、濾物をクロロホルムで洗浄した。得られた固体を減圧下にて60℃で乾燥させDBBBT9.9gを得た(粗体取得収率;65%)。   11.3 g of the obtained crude DBBBT and 300 mL of chloroform were added to a 500 mL four-necked flask equipped with a stirrer and a reflux condenser, and reacted under reflux (55 ° C. to 65 ° C.) for 3 hours while stirring. . The obtained solution was cooled to room temperature (20 ° C. to 30 ° C.) and filtered, and the residue was washed with chloroform. The obtained solid was dried at 60 ° C. under reduced pressure to obtain 9.9 g of DBBBT (crude acquisition yield: 65%).

攪拌装置、還流冷却器を備えた内容積300mLのナスフラスコに前記DBBBT1g及びクロロベンゼン100mLを加え、撹拌させながら還流下(130℃〜140℃)で6時間反応させた。得られた溶液を室温(20℃〜30℃)まで冷却して濾過し、濾物を減圧下にて70℃で乾燥させ、暗赤褐色の固体として、DBBBT0.86g(精製回収率;86%)を得た。   1 g of DBBBT and 100 mL of chlorobenzene were added to an eggplant flask having an internal volume of 300 mL equipped with a stirrer and a reflux condenser, and reacted for 6 hours under reflux (130 ° C. to 140 ° C.) while stirring. The resulting solution was cooled to room temperature (20 ° C. to 30 ° C.) and filtered, and the residue was dried under reduced pressure at 70 ° C. to give DBBBT 0.86 g (purification recovery rate: 86%) as a dark reddish brown solid. Got.

得られたDBBBT0.05gと1,2−ジクロロベンゼン30mLを混合し、150℃で加熱溶解させた後、室温(20℃〜30℃)まで冷却して濾過した。次いで、濾液中の硫黄を高速液体クロマトグラフィーで分析し、標準品の硫黄のピーク面積値とから作成された検量線を用いて、ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物中の硫黄量を測定したところ、硫黄含有量は検出限界以下であり、得られたDBBBTが高純度品であることが分かった。   0.05 g of the obtained DBBBT and 30 mL of 1,2-dichlorobenzene were mixed and dissolved by heating at 150 ° C., and then cooled to room temperature (20 ° C. to 30 ° C.) and filtered. Next, sulfur in the filtrate was analyzed by high performance liquid chromatography, and the amount of sulfur in the dihalogenobenzobisthiadiazole compound was measured using a calibration curve created from the standard sulfur peak area value. The content was below the detection limit, and the obtained DBBBT was found to be a high purity product.

実施例4(高純度4,8−ジブロモベンゾビスチアジアゾール(DBBBT)の合成)
攪拌装置、滴下漏斗及び還流冷却器を備えた内容積1000mLの4つ口フラスコに、1,2,4,5−テトラアミノベンゼン四臭化水素塩20g(0.0433mol)とクロロホルム300mLを混合した後、臭化チオニル33.6mL(0.433mol)、ピリジン49mL(0.61mol)の順で加え、攪拌しながら室温(20℃〜30℃)で3時間、還流下(55℃〜65℃)で12時間反応させた。
Example 4 (Synthesis of high purity 4,8-dibromobenzobisthiadiazole (DBBBT))
Into a four-necked flask having an internal volume of 1000 mL equipped with a stirrer, a dropping funnel and a reflux condenser, 20 g (0.0433 mol) of 1,2,4,5-tetraaminobenzenetetrahydrobromide and 300 mL of chloroform were mixed. Thereafter, 33.6 mL (0.433 mol) of thionyl bromide and 49 mL (0.61 mol) of pyridine were added in this order, and the mixture was stirred at room temperature (20 ° C. to 30 ° C.) for 3 hours under reflux (55 ° C. to 65 ° C.). For 12 hours.

反応終了後、反応液を室温まで冷却し、メタノール400mLを加えた後に反応液を濾過した。濾物を塩酸、水、メタノールの順で洗浄した後、減圧下にて70℃で乾燥させて、粗DBBBT14.8gを得た(粗体取得収率;97%)。   After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature, and after adding 400 mL of methanol, the reaction solution was filtered. The residue was washed with hydrochloric acid, water, and methanol in that order, and then dried at 70 ° C. under reduced pressure to obtain 14.8 g of crude DBBBT (crude product yield: 97%).

攪拌装置、還流冷却器を備えた内容積500mLのナスフラスコに、合成した粗DBBBT14.5gを入れ、クロロホルム300mLに加え、撹拌させながら還流下(55℃〜65℃)で5時間反応させた。室温(20℃〜30℃)に冷却した後、沈殿をろ取し、クロロホルムで洗浄した。得られた固体を70℃で減圧乾燥し、暗赤褐色の固体としてDBBBT12.7gを得た(精製回収率;88%)。   14.5 g of the synthesized crude DBBBT was placed in an eggplant flask having an internal volume of 500 mL equipped with a stirrer and a reflux condenser, added to 300 mL of chloroform, and reacted under reflux (55 ° C. to 65 ° C.) for 5 hours while stirring. After cooling to room temperature (20 ° C. to 30 ° C.), the precipitate was collected by filtration and washed with chloroform. The obtained solid was dried under reduced pressure at 70 ° C. to obtain 12.7 g of DBBBT as a dark reddish brown solid (purification recovery rate: 88%).

得られたDBBBT0.05gと1,2−ジクロロベンゼン30mLを混合し、150℃で加熱溶解させた後、室温(20℃〜30℃)まで冷却して濾過した。次いで、濾液中の硫黄を高速液体クロマトグラフィーで分析し、標準品の硫黄のピーク面積値とから作成された検量線を用いて、ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物中の硫黄量を測定したところ、硫黄含有量は0.3重量%であり、得られたDBBBTが高純度品であることが分かった。   0.05 g of the obtained DBBBT and 30 mL of 1,2-dichlorobenzene were mixed and dissolved by heating at 150 ° C., and then cooled to room temperature (20 ° C. to 30 ° C.) and filtered. Next, sulfur in the filtrate was analyzed by high performance liquid chromatography, and the amount of sulfur in the dihalogenobenzobisthiadiazole compound was measured using a calibration curve created from the standard sulfur peak area value. The content was 0.3% by weight, and the obtained DBBBT was found to be a high-purity product.

比較例1(4,8−ジブロモベンゾビスチアジアゾール(DBBBT)の合成)
攪拌装置、滴下漏斗及び還流冷却器を備えた内容積1000mLの4つ口フラスコに、1,2,4,5−テトラアミノベンゼン四臭化水素塩20.0g(0.0433mol)とクロロホルム300mLを混合した後、臭化チオニル33.6mL(0.433mol)、ピリジン48mL(0.60mol)の順で加え、攪拌しながら室温で3時間、加熱還流で12時間反応を行った。
Comparative Example 1 (Synthesis of 4,8-dibromobenzobisthiadiazole (DBBBT))
To a four-necked flask with an internal volume of 1000 mL equipped with a stirrer, a dropping funnel and a reflux condenser, 20.0 g (0.0433 mol) of 1,2,4,5-tetraaminobenzenetetrahydrobromide and 300 mL of chloroform were added. After mixing, 33.6 mL (0.433 mol) of thionyl bromide and 48 mL (0.60 mol) of pyridine were added in this order, and the reaction was carried out with stirring at room temperature for 3 hours and with heating under reflux for 12 hours.

反応終了後、反応液を室温まで冷却し、メタノール300mLを加えた後に反応液を濾過した。濾物を塩酸、水、メタノールの順で洗浄した後、減圧下にて70℃で乾燥させて、DBBBT14.8gを得た(取得収率;97%)。   After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature, 300 mL of methanol was added, and the reaction solution was filtered. The residue was washed with hydrochloric acid, water, and methanol in that order and then dried at 70 ° C. under reduced pressure to obtain 14.8 g of DBBBT (acquisition yield: 97%).

得られたDBBBT0.05gと1,2−ジクロロベンゼン30mLを混合し、150℃で加熱溶解させた後、室温(20℃〜30℃)まで冷却して濾過した。次いで、濾液中の硫黄を高速液体クロマトグラフィーで分析し、標準品の硫黄のピーク面積値とから作成された検量線を用いて、ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物中の硫黄量を測定したところ、硫黄含有量は23重量%であった。   0.05 g of the obtained DBBBT and 30 mL of 1,2-dichlorobenzene were mixed and dissolved by heating at 150 ° C., and then cooled to room temperature (20 ° C. to 30 ° C.) and filtered. Next, sulfur in the filtrate was analyzed by high performance liquid chromatography, and the amount of sulfur in the dihalogenobenzobisthiadiazole compound was measured using a calibration curve created from the standard sulfur peak area value. The content was 23% by weight.

実施例5(4,8−ビス(5−オクチル−2−チエニル)ベンゾビスチアジアゾール(C8TBBT)の合成)
撹拌装置を備えた内容量10mLのガラス製反応容器に、実施例1で合成したDBBBT100mg(0.284mmol)、トリ(n−ブチル)(5−オクチル−2−チエニル)スズ)551mg(1.14mmol)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム60mg(0.085mmol)及びトルエン3mLを加え、攪拌しながら100℃で1時間反応させた。
Example 5 (Synthesis of 4,8-bis (5-octyl-2-thienyl) benzobisthiadiazole (C8TBBT))
In a glass reaction vessel having an internal volume of 10 mL equipped with a stirrer, DBBBT synthesized in Example 1 100 mg (0.284 mmol), tri (n-butyl) (5-octyl-2-thienyl) tin) 551 mg (1.14 mmol) ), 60 mg (0.085 mmol) of dichlorobis (triphenylphosphine) palladium and 3 mL of toluene were added and reacted at 100 ° C. for 1 hour with stirring.

反応終了後、反応液を分析したところ、C8TBBTが156mg生成していた(反応収率;94%)。   When the reaction solution was analyzed after completion of the reaction, 156 mg of C8TBBT was produced (reaction yield; 94%).

実施例6(4,8−ビス(5−オクチル−2−チエニル)ベンゾビスチアジアゾール(C8TBBT)の合成)
撹拌装置を備えた内容量10mLのガラス製反応容器に、実施例3で合成したDBBBT100mg(0.284mmol)、トリ(n−ブチル)(5−オクチル−2−チエニル)スズ)551mg(1.14mmol)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム60mg(0.085mmol)及びトルエン3mLを加え、攪拌しながら100℃で1時間反応させた。
Example 6 (Synthesis of 4,8-bis (5-octyl-2-thienyl) benzobisthiadiazole (C8TBBT))
In a glass reaction vessel having an internal volume of 10 mL equipped with a stirrer, DBBBT synthesized in Example 3 100 mg (0.284 mmol), tri (n-butyl) (5-octyl-2-thienyl) tin) 551 mg (1.14 mmol) ), 60 mg (0.085 mmol) of dichlorobis (triphenylphosphine) palladium and 3 mL of toluene were added and reacted at 100 ° C. for 1 hour with stirring.

反応終了後、反応液を分析したところ、C8TBBTが144mg生成していた(反応収率;87%)。   When the reaction solution was analyzed after completion of the reaction, 144 mg of C8TBBT was produced (reaction yield; 87%).

実施例7(4,8−ビス(5−オクチル−2−チエニル)ベンゾビスチアジアゾール(C8TBBT)の合成)
撹拌装置を備えた内容量10mLのガラス製反応容器に、実施例4で合成したDBBBT100mg(0.284mmol)、トリ(n−ブチル)(5−オクチル−2−チエニル)スズ)551mg(1.14mmol)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム60mg(0.085mmol)及びトルエン3mLを加え、攪拌しながら100℃で1時間反応させた。
Example 7 (Synthesis of 4,8-bis (5-octyl-2-thienyl) benzobisthiadiazole (C8TBBT))
In a glass reaction vessel having an internal volume of 10 mL equipped with a stirrer, DBBBT synthesized in Example 4 100 mg (0.284 mmol), tri (n-butyl) (5-octyl-2-thienyl) tin) 551 mg (1.14 mmol) ), 60 mg (0.085 mmol) of dichlorobis (triphenylphosphine) palladium and 3 mL of toluene were added and reacted at 100 ° C. for 1 hour with stirring.

反応終了後、反応液を分析したところ、C8TBBTが132mg生成していた(反応収率;80%)。   When the reaction solution was analyzed after completion of the reaction, 132 mg of C8TBBT was produced (reaction yield; 80%).

実施例8(4,8−ビス(5−オクチル−2−チエニル)ベンゾビスチアジアゾール(C8TBBT)の合成)
撹拌装置を備えた内容量10mLのガラス製反応容器に、実施例1で合成したDBBBT100mg(0.284mmol)に標準品の硫黄1mgを加え、DBBBT中の硫黄含有量が1重量%となるように調整した。さらに、この反応容器にトリ(n−ブチル)(5−オクチル−2−チエニル)スズ)551mg(1.14mmol)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム60mg(0.085mmol)及びトルエン3mLを加え、攪拌しながら100℃で1時間反応させた。
Example 8 (Synthesis of 4,8-bis (5-octyl-2-thienyl) benzobisthiadiazole (C8TBBT))
1 mg of standard sulfur is added to 100 mg (0.284 mmol) of DBBBT synthesized in Example 1 in a glass reaction vessel having an internal volume of 10 mL equipped with a stirrer so that the sulfur content in DBBBT is 1 wt%. It was adjusted. Further, 551 mg (1.14 mmol) of tri (n-butyl) (5-octyl-2-thienyl) tin, 60 mg (0.085 mmol) of dichlorobis (triphenylphosphine) palladium and 3 mL of toluene were added to the reaction vessel, and the mixture was stirred. The reaction was carried out at 100 ° C. for 1 hour.

反応終了後、反応液を分析したところ、C8TBBTが137mg生成していた(反応収率;83%)。   When the reaction solution was analyzed after completion of the reaction, 137 mg of C8TBBT was produced (reaction yield; 83%).

比較例2(4,8−ビス(5−オクチル−2−チエニル)ベンゾビスチアジアゾール(C8TBBT)の合成)
撹拌装置を備えた内容量10mLのガラス製反応容器に、比較例1で合成した粗DBBBT100mg、トリ(n−ブチル)(5−オクチル−2−チエニル)スズ)551mg(1.14mmol)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム60mg(0.085mmol)及びトルエン3mLを加え、攪拌しながら100℃で1時間反応させた。
Comparative Example 2 (Synthesis of 4,8-bis (5-octyl-2-thienyl) benzobisthiadiazole (C8TBBT))
In a glass reaction vessel having an internal volume of 10 mL equipped with a stirrer, 100 mg of crude DBBBT synthesized in Comparative Example 1, 551 mg (1.14 mmol) of tri (n-butyl) (5-octyl-2-thienyl) tin, dichlorobis ( Triphenylphosphine) palladium (60 mg, 0.085 mmol) and toluene (3 mL) were added, and the mixture was reacted at 100 ° C. for 1 hour with stirring.

反応終了後、反応液を分析したところ、C8TBBTは生成していなかった。   When the reaction solution was analyzed after completion of the reaction, C8TBBT was not produced.

以上の通り、ハロゲン化炭化水素との接触処理により、硫黄含有量が1重量%以下まで低減された高純度なジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物を提供することができた。また、このジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物は有機半導体材料の合成中間体として使用できるほど、十分に高純度であることが分かった。   As described above, a high-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound having a sulfur content reduced to 1 wt% or less could be provided by contact treatment with a halogenated hydrocarbon. It was also found that this dihalogenobenzobisthiadiazole compound is sufficiently high in purity so that it can be used as a synthetic intermediate for organic semiconductor materials.

本発明は、硫黄含有量が低減された高純度なジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物に関する。ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物は、例えば、各種有機半導体材料を製造するための原料として有用な化合物である。   The present invention relates to a highly pure dihalogenobenzobisthiadiazole compound having a reduced sulfur content. A dihalogenobenzobisthiadiazole compound is a useful compound as a raw material for producing various organic semiconductor materials, for example.

Claims (7)

塩基の存在下、一般式(2)
Figure 2015163601
で示されるテトラアミノベンゼン化合物(その酸塩も含む)とハロゲン化剤とを、ハロゲン化炭化水素溶媒中で反応させて、粗ジハロゲノベンゾビスチアジアゾ−ル化合物を得、次いで、得られた粗ジハロゲノベンゾビスチアジアゾ−ル化合物とハロゲン化炭化水素とを接触処理させることで、下記の測定方法で測定される硫黄含有量が1重量%以下である一般式(1)
Figure 2015163601
(式中、Xはハロゲン原子を示す。)
で示される高純度ジハロゲノベンゾビスチアジアゾ−ル化合物の製造方法。
ただし、硫黄含有量が0重量%である場合を除く。
硫黄測定方法;
ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物と1,2−ジクロロベンゼンとを混合し、加熱溶解させた後に、室温まで冷却して濾過する。
得られた濾液中の硫黄を高速液体クロマトグラフィーで分析し、標準品の硫黄のピーク面積値とから作成された検量線を用いて、ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物中の硫黄量を測定する。
In the presence of a base, general formula (2)
Figure 2015163601
A tetraaminobenzene compound (including an acid salt thereof) represented by the above and a halogenating agent were reacted in a halogenated hydrocarbon solvent to obtain a crude dihalogenobenzobisthiadiazole compound, and then obtained. General formula (1) in which the sulfur content measured by the following measurement method is 1% by weight or less by contacting a crude dihalogenobenzobisthiadiazole compound with a halogenated hydrocarbon.
Figure 2015163601
(In the formula, X represents a halogen atom.)
A method for producing a high-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound represented by the formula:
However, the case where the sulfur content is 0% by weight is excluded.
Sulfur measurement method;
A dihalogenobenzobisthiadiazole compound and 1,2-dichlorobenzene are mixed and dissolved by heating, and then cooled to room temperature and filtered.
Sulfur in the obtained filtrate is analyzed by high performance liquid chromatography, and the amount of sulfur in the dihalogenobenzobisthiadiazole compound is measured using a calibration curve prepared from the peak area value of sulfur of the standard product.
粗ジハロゲノベンゾビスチアジアゾ−ル化合物とハロゲン化炭化水素との接触処理を、混合加熱攪拌により行う方法、ソックスレー抽出によって行う方法、及び再結晶によって行う方法からなる群から選ばれた少なくとも1つを含む方法により行うことを特徴とする、請求項1記載の高純度ジハロゲノベンゾビスチアジアゾ−ル化合物の製造方法。   At least one selected from the group consisting of a method in which the contact treatment between the crude dihalogenobenzobisthiadiazole compound and the halogenated hydrocarbon is performed by mixing and heating, a method in which soxhlet extraction is performed, and a method in which recrystallization is performed. The method for producing a high-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound according to claim 1, wherein the method comprises: 粗ジハロゲノベンゾビスチアジアゾ−ル化合物とハロゲン化炭化水素との接触処理を、混合加熱攪拌により行う請求項2記載の高純度ジハロゲノベンゾビスチアジアゾ−ル化合物の製造方法。   The method for producing a high-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound according to claim 2, wherein the contact treatment between the crude dihalogenobenzobisthiadiazole compound and the halogenated hydrocarbon is carried out by mixing and stirring. 粗ジハロゲノベンゾビスチアジアゾ−ル化合物とハロゲン化炭化水素との接触処理を、ソックスレー抽出によって行う請求項2記載の高純度ジハロゲノベンゾビスチアジアゾ−ル化合物の製造方法。   The method for producing a high-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound according to claim 2, wherein the contact treatment between the crude dihalogenobenzobisthiadiazole compound and the halogenated hydrocarbon is performed by Soxhlet extraction. 粗ジハロゲノベンゾビスチアジアゾ−ル化合物とハロゲン化炭化水素との接触処理を、再結晶によって行う請求項2記載の高純度ジハロゲノベンゾビスチアジアゾ−ル化合物の製造方法。   The method for producing a high-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound according to claim 2, wherein the contact treatment between the crude dihalogenobenzobisthiadiazole compound and the halogenated hydrocarbon is performed by recrystallization. 下記の測定方法で測定される硫黄含有量が、1重量%以下である一般式(1)
Figure 2015163601
(式中、Xはハロゲン原子を示す。)
で示される高純度ジハロゲノベンゾビスチアジアゾ−ル化合物。
ただし、硫黄含有量が0重量%である場合を除く。
硫黄測定方法;
ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物と1,2−ジクロロベンゼンとを混合し、加熱溶解させた後に、室温まで冷却して濾過する。
得られた濾液中の硫黄を高速液体クロマトグラフィーで分析し、標準品の硫黄のピーク面積値とから作成された検量線を用いて、ジハロゲノベンゾビスチアジアゾール化合物中の硫黄量を測定する。
General formula (1) whose sulfur content measured with the following measuring method is 1 weight% or less
Figure 2015163601
(In the formula, X represents a halogen atom.)
A high-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound represented by the formula:
However, the case where the sulfur content is 0% by weight is excluded.
Sulfur measurement method;
A dihalogenobenzobisthiadiazole compound and 1,2-dichlorobenzene are mixed and dissolved by heating, and then cooled to room temperature and filtered.
Sulfur in the obtained filtrate is analyzed by high performance liquid chromatography, and the amount of sulfur in the dihalogenobenzobisthiadiazole compound is measured using a calibration curve prepared from the peak area value of sulfur of the standard product.
ベンゾビスチアジアゾ−ルを主骨格とする有機半導体材料の製造における、請求項6記載の高純度ジハロゲノベンゾビスチアジアゾ−ル化合物の使用。   Use of the high-purity dihalogenobenzobisthiadiazole compound according to claim 6 in the production of an organic semiconductor material having benzobisthiadiazole as a main skeleton.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN109476997A (en) * 2016-07-19 2019-03-15 默克专利股份有限公司 Liquid crystal media

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