JP2015162392A - Conductive paste, electric/electronic component, and method of manufacturing the same - Google Patents

Conductive paste, electric/electronic component, and method of manufacturing the same Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive paste which can be sintered by low-temperature heating and can give a solid excellent in electrical conductivity and thermal conductivity, an electric/electronic component which has an electrode obtained by bringing the conductive paste into contact with a noble metal and sintering it, and a method of manufacturing the electric/electronic component.SOLUTION: There are provided: the conductive paste which contains (A) a flaky silver powder having an average particle diameter of 2-20 μm, a tap density (TD) of 2.0-7.0 g/cm, and a carbon-containing compound content of 0.5 mass% or less, (B) silver nanoparticles having an average particle diameter of 10-500 nm, and (C) a thermosetting resin; the electric/electronic component having an external electrode or an internal electrode formed using the conductive paste; and the method of manufacturing the electric/electronic component.

Description

本発明は、主成分として、フレーク状銀粉と、銀ナノ粒子と、熱硬化性樹脂と、を含有してなり、作業性に優れた導電性ペースト、それを用いた信頼性の高い電気・電子部品及びその製造方法に関する。   The present invention contains, as main components, flaky silver powder, silver nanoparticles, and a thermosetting resin, and is a conductive paste excellent in workability, and highly reliable electric / electronic using the same. The present invention relates to a component and a manufacturing method thereof.

導電性ペーストにより電極を形成して得られる電気・電子部品として、コンデンサやインダクタがある。例えば、固体電解コンデンサは、金属からなる陽極体上に誘電体層を形成し、この誘電体層上に半導体層、カーボン層、陰極層を形成した構成を有し、このような固体電解コンデンサにおいては、導電性ペーストで形成した陰極層を陰極リードフレームに接着固定している。陰極層は陰極リードフレームとの電気的な接続層および機械的な接合層として機能するものである。また、インダクタでは内部の銅芯コイルと電気的な接合性を保つためにも導電性ペーストが用いられている。   There are capacitors and inductors as electrical / electronic components obtained by forming electrodes with conductive paste. For example, a solid electrolytic capacitor has a configuration in which a dielectric layer is formed on an anode body made of metal, and a semiconductor layer, a carbon layer, and a cathode layer are formed on the dielectric layer. Has a cathode layer formed of a conductive paste bonded and fixed to a cathode lead frame. The cathode layer functions as an electrical connection layer and a mechanical bonding layer with the cathode lead frame. In the inductor, a conductive paste is also used to maintain electrical connection with the internal copper core coil.

上述した電極形成材料や導電性接着剤等として用いられる導電性ペーストとしては、例えば、エポキシ樹脂やアクリル樹脂をベース樹脂(バインダ樹脂)とし、これに銀粉末等を配合したものが知られている(例えば、特許文献1〜3参照)。また、導電性無機フィラーとしては、作業性および価格の観点からミクロンサイズの銀粉が使用されることが多いが、被着金属体との間に樹脂層が介在するために、下記のような対策が図られていた。   As the conductive paste used as the electrode forming material or the conductive adhesive described above, for example, an epoxy resin or an acrylic resin is used as a base resin (binder resin), and a mixture of silver powder or the like is known. (For example, see Patent Documents 1 to 3). As the conductive inorganic filler, micron-sized silver powder is often used from the viewpoint of workability and cost. However, since a resin layer is interposed between the metal deposit and the conductive inorganic filler, the following measures are taken. Was planned.

導電性ペーストを外部電極として用いた場合、コンデンサでは内部電極と銀粉接点を銀粉の高充填により、低抵抗化を図り、同様にインダクタでは内部の銅芯と同様の方法により低抵抗化を図っている。しかしながら、使用外部環境を想定した信頼性試験において、コンデンサでは内部電極、インダクタでは銅芯との間に熱硬化性樹脂が介在しているため、抵抗の悪化を招いていた。   When conductive paste is used as the external electrode, the capacitor reduces the internal electrode and silver powder contacts by high filling of silver powder to reduce the resistance. Similarly, the inductor reduces the resistance by the same method as the internal copper core. Yes. However, in a reliability test assuming an external environment in use, since a thermosetting resin is interposed between the internal electrode in the capacitor and the copper core in the inductor, the resistance is deteriorated.

上述した導電性ペーストには、通常、球状やフレーク状のミクロンサイズの銀粉が使用されているが、昨今の電子部品の低抵抗値化に対する要求や高信頼性化の要求の高まりによって、従来の導電性ペーストでは、効果が十分でなく適用が難しくなってきている。   In the conductive paste described above, spherical or flaky micron-sized silver powder is usually used. However, due to the recent increase in demand for lower resistance and higher reliability of electronic components, The conductive paste is not sufficiently effective and is difficult to apply.

特開平6−267784号公報JP-A-6-267784 特開2002−97215号公報JP 2002-97215 A 国際公開第2009/98938号International Publication No. 2009/98938

特許文献1では、熱硬化性樹脂であるバインダー樹脂に銀などの導電性粉末を混合した熱硬化性導電ペーストを、積層セラミック複合体の内部電極の取り出し面に塗布後、約200℃で熱硬化を実施して、外部電極下地を形成している。ところが、硬化温度が低いために、熱硬化性導電性ペースト中の銀などの導電性粉末と内部電極とが共晶することができず、設計した電気特性が得られずに信頼性が十分に高くならない問題がある。   In Patent Document 1, a thermosetting conductive paste in which a conductive resin such as silver is mixed with a binder resin, which is a thermosetting resin, is applied to the take-out surface of the internal electrode of the multilayer ceramic composite, and then thermoset at about 200 ° C. To form an external electrode substrate. However, since the curing temperature is low, the conductive powder such as silver in the thermosetting conductive paste and the internal electrode cannot be eutectic, and the designed electrical characteristics cannot be obtained and the reliability is sufficiently high. There is a problem that does not increase.

一方、高温焼結型の導電性ペーストである特許文献2では、500℃〜1100℃の高温で導電性ペーストが焼成されるため、樹脂が熱分解されて金属粉末が焼結するのに、長時間を必要とし、生産性に問題がある。   On the other hand, in Patent Document 2, which is a high-temperature sintering type conductive paste, the conductive paste is fired at a high temperature of 500 ° C. to 1100 ° C., so that the resin is thermally decomposed and the metal powder is sintered. Time is required and productivity is a problem.

また、特許文献3では、特定(スズ銀)の合金粉末を使用しなければならず、形成された電極が十分な信頼性を得られない問題がある。   Further, in Patent Document 3, a specific (tin silver) alloy powder must be used, and there is a problem that the formed electrode cannot obtain sufficient reliability.

また、導電性ペーストを、インダクタの外部電極として使用する場合、インダクタでは内部の銅芯が酸化されることにより抵抗値が悪化するおそれがあるため、300℃以下での硬化が望まれていたが、超音波振動や加圧を必要としない常態での300℃以下での硬化が可能な製品は未だ開発されていない。   Further, when the conductive paste is used as the external electrode of the inductor, the resistance value may be deteriorated due to the oxidation of the internal copper core in the inductor, so that curing at 300 ° C. or lower has been desired. A product capable of curing at 300 ° C. or lower in a normal state that does not require ultrasonic vibration or pressurization has not been developed yet.

このような電気・電子部品用の導電性ペーストは、外部電極として端子への塗布の際に一般的に浸漬(ディップ)塗布されるが、浸漬時にディップ槽の表面が荒らされるため、スキージングにより平坦化され、連続的に素子へ導電性ペーストが浸漬塗布される。   Such a conductive paste for electric / electronic parts is generally applied by dip coating when applied to a terminal as an external electrode, but the surface of the dip tank is roughened during immersion, so that squeezing The conductive paste is flattened and continuously applied to the device by dip coating.

しかし、このとき使用する従来の導電性粉末(ミクロン銀、銀ナノ粒子の組み合わせ)では、上記スキージングの際に徐々に粘度が上昇していき、場合によっては、銀ナノ粒子が凝集し生産性に影響を与えるというような問題があった。   However, with the conventional conductive powder used at this time (a combination of micron silver and silver nanoparticles), the viscosity gradually increases during the squeezing, and in some cases, the silver nanoparticles aggregate to increase productivity. There was a problem that affected.

さらに、導電性ペーストのチクソ比が5.0以上であると浸漬塗布時に素子の下部に角立ちが発生し、外観不良を生じるという問題もあった。   Furthermore, when the thixotropy ratio of the conductive paste is 5.0 or more, there is a problem in that cornering occurs at the bottom of the element during dip coating, resulting in poor appearance.

そこで、本発明は、低温加熱により焼結可能で、電気伝導性と熱伝導性に優れた固形物が得られる導電性ペースト、該導電性ペーストを貴金属と接触させ焼結して得られる電極を有する電気・電子部品及びその製造方法の提供を目的とする。   Therefore, the present invention provides a conductive paste that can be sintered by low-temperature heating, and can obtain a solid material excellent in electrical conductivity and thermal conductivity, and an electrode obtained by sintering the conductive paste in contact with a noble metal. It is an object of the present invention to provide an electric / electronic component and a manufacturing method thereof.

本発明者らは鋭意検討した結果、導電性無機充填材として、特定の充填材を組み合わせて使用することで、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above problems can be solved by using a specific filler in combination as the conductive inorganic filler, and have completed the present invention.

すなわち、本発明の導電性ペーストは、(A)平均粒径が2〜20μm、タップ密度(TD)が2.0〜7.0g/cm、かつ、炭素含有化合物の含有割合が0.5質量%以下であるフレーク状銀粉と、(B)平均粒径が10〜500nmである銀ナノ粒子と、(C)熱硬化性樹脂と、を含有することを特徴とする。 That is, the conductive paste of the present invention has (A) an average particle diameter of 2 to 20 μm, a tap density (TD) of 2.0 to 7.0 g / cm 3 , and a carbon-containing compound content of 0.5. It contains flaky silver powder having a mass% or less, (B) silver nanoparticles having an average particle diameter of 10 to 500 nm, and (C) a thermosetting resin.

本発明の電気・電子部品の製造方法は、上記導電性ペーストを貴金属と接触させた後、100〜300℃で低温焼結して外部電極又は内部電極を形成することを特徴とする。   The method for producing an electric / electronic component of the present invention is characterized in that after the conductive paste is brought into contact with a noble metal, it is sintered at a low temperature at 100 to 300 ° C. to form an external electrode or an internal electrode.

また、本発明の電気・電子部品は、上記導電性ペーストを貴金属と接触させた状態で焼結させて得られ、焼結後の体積抵抗率が1×10−5Ω・cm以下である外部電極又は内部電極を有することを特徴とする。 The electrical / electronic component of the present invention is obtained by sintering the conductive paste in contact with a noble metal, and has an external volume resistivity of 1 × 10 −5 Ω · cm or less after sintering. It has an electrode or an internal electrode.

本発明の導電性ペーストは、低温加熱により焼結可能で、電気伝導性と熱伝導性に優れた固形物を得ることができる。したがって、この導電性ペーストを使用して得られる電気・電子部品は、被着体が金、銀、白金、銅などの貴金属である部材と、低温加熱により十分焼結して金属結合を形成でき、また、耐湿試験において非常に優れた信頼性を有する。さらに、本発明の導電性ペーストは、特定の銀粉と銀ナノ粒子とを使用することにより、浸漬塗布時の連続作業性を良好にするものであり、電気・電子部品の電極形成を効率的にでき、量産安定性に優れるものである。   The conductive paste of the present invention can be sintered by low-temperature heating, and a solid material excellent in electrical conductivity and thermal conductivity can be obtained. Therefore, the electrical / electronic parts obtained using this conductive paste can be sufficiently sintered with a member whose adherend is a noble metal such as gold, silver, platinum, or copper by low-temperature heating to form a metal bond. Moreover, it has very excellent reliability in the moisture resistance test. Furthermore, the conductive paste of the present invention improves the continuous workability at the time of dip coating by using specific silver powder and silver nanoparticles, thereby efficiently forming electrodes of electrical / electronic components. Can be produced and has excellent mass production stability.

以下、本発明について詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

上記したように、本発明の導電性ペーストは、(A)平均粒径が2〜20μm、タップ密度(TD)が2.0〜7.0g/cm、かつ、炭素含有化合物の含有割合が0.5質量%以下であるフレーク状銀粉と、(B)平均粒径が10〜500nmである銀ナノ粒子と、(C)熱硬化性樹脂と、を含有してなる。 As described above, the conductive paste of the present invention has (A) an average particle diameter of 2 to 20 μm, a tap density (TD) of 2.0 to 7.0 g / cm 3 , and a content ratio of the carbon-containing compound. It contains flaky silver powder of 0.5% by mass or less, (B) silver nanoparticles having an average particle diameter of 10 to 500 nm, and (C) a thermosetting resin.

本発明における(A)成分のフレーク状銀粉は、平均粒径が2〜20μm、タップ密度(TD)が2.0〜7.0g/cm、かつ、炭素含有化合物の含有割合が0.5質量%以下であって、フレーク状のものであればよく、例えば、市販の各種銀粉を使用することができる。 The flaky silver powder of component (A) in the present invention has an average particle size of 2 to 20 μm, a tap density (TD) of 2.0 to 7.0 g / cm 3 , and a carbon-containing compound content of 0.5. What is necessary is just mass% or less, and what is a flaky thing, for example, commercially available various silver powder can be used.

この(A)成分のフレーク状銀粉は、その平均粒径が2〜20μmである。平均粒径がこの範囲であると、導電性ペーストの形状保持性が良好となる。この平均粒径が2μm未満になると、チクソ性が高く浸漬塗布時の外観不良が発生しやすくなり、20μmを超えると、焼結性が低下し、導電性および熱伝導性が損なわれるおそれがある。さらに、この(A)成分のフレーク状銀粉の平均粒径は、2.5〜15μmであることが好ましい。   The average particle size of the flaky silver powder of component (A) is 2 to 20 μm. When the average particle size is within this range, the shape retention of the conductive paste is good. If this average particle size is less than 2 μm, the thixotropy is high, and appearance defects during dip coating tend to occur. If it exceeds 20 μm, the sinterability is lowered and the conductivity and thermal conductivity may be impaired. . Furthermore, it is preferable that the average particle diameter of this (A) component flaky silver powder is 2.5-15 micrometers.

また、(A)成分のフレーク状銀粉は、そのタップ密度(TD)が2.0〜7.0g/cmである。タップ密度がこの範囲であると、導電性ペーストの硬化物の体積抵抗率を低く保つことができ、チクソトロピー性も良好となって、導電性ペースト塗布時における糸引きの発生が抑制される。このタップ密度(TD)は、2.5〜6.5g/cmであることが好ましい。 Moreover, the flaky silver powder of the component (A) has a tap density (TD) of 2.0 to 7.0 g / cm 3 . When the tap density is within this range, the volume resistivity of the cured product of the conductive paste can be kept low, the thixotropy is improved, and the occurrence of stringing at the time of applying the conductive paste is suppressed. The tap density (TD) is preferably 2.5 to 6.5 g / cm 3 .

なお、フレーク状銀粉は、平均粒径、あるいはタップ密度(TD)が異なる2種以上の銀粉を混合して使用することができるが、その場合、混合したフレーク状銀粉全体として上記要件、平均粒径が2〜20μmであって、タップ密度(TD)が2.0〜7.0g/cmを満たしていればよい。 In addition, although flaky silver powder can mix and use 2 or more types of silver powders from which average particle diameter or tap density (TD) differs, in that case, it is the said requirements and average particle | grains as the whole mixed flaky silver powder. It is only necessary that the diameter is 2 to 20 μm and the tap density (TD) satisfies 2.0 to 7.0 g / cm 3 .

ここで、銀粉の平均粒径は、レーザー回折式粒度分布測定装置(例えば、(株)堀場製作所製、商品名:LA−500等)などを用いて測定した粒度分布において積算体積が50%となる粒径(50%粒径D50)をいう。また、タップ密度(TD)は、Tap−Pak Volummeterにて、振動させた容器内の粉末の単位体積当たりの質量(単位:g/cm)として測定される。 Here, the average particle diameter of the silver powder is 50% of the cumulative volume in the particle size distribution measured using a laser diffraction particle size distribution measuring device (for example, product name: LA-500 manufactured by Horiba, Ltd.). The particle size (50% particle size D 50 ). The tap density (TD) is measured as a mass (unit: g / cm 3 ) per unit volume of the powder in the container which is vibrated by a Tap-Pak Volumemeter.

また、この(A)成分のフレーク状銀粉は、その炭素含有化合物の含有量を0.5質量%以下のものを使用する。炭素含有化合物の含有量を0.5質量%以下とすることで、スキージ塗布後の導電性ペーストの増粘が抑制できる。   In addition, as the flaky silver powder of the component (A), a carbon-containing compound having a content of 0.5% by mass or less is used. By setting the content of the carbon-containing compound to 0.5% by mass or less, thickening of the conductive paste after squeegee coating can be suppressed.

この(A)成分のフレーク状銀粉において、炭素含有化合物の含有量を0.5質量%以下とするには、主にフレーク状銀粉の凝集防止目的で添加されている炭素含有化合物の含有量を減量することで達成できる。   In the flaky silver powder of the component (A), in order to make the content of the carbon-containing compound 0.5% by mass or less, the content of the carbon-containing compound added mainly for the purpose of preventing aggregation of the flaky silver powder is This can be achieved by reducing the weight.

ここで、炭素含有化合物としては、長鎖脂肪酸または長鎖脂肪酸誘導体であることが好ましい。長鎖脂肪酸としては、飽和脂肪酸及び不飽和脂肪酸のいずれでもよいが、フレーク状銀粉の凝集防止の観点から炭素数8以上の脂肪酸が好ましい。また、長鎖脂肪酸は、炭素数が8〜30が好ましく、12〜24がより好ましい。この長鎖脂肪酸としては、例えば、ミリスチル酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸等が例示される。長鎖脂肪酸の誘導体としては、上記説明した長鎖脂肪酸の誘導体が挙げられ、長鎖脂肪酸金属塩、長鎖脂肪酸エステル、長鎖脂肪酸アミドなどが例示される。   Here, the carbon-containing compound is preferably a long-chain fatty acid or a long-chain fatty acid derivative. The long chain fatty acid may be either a saturated fatty acid or an unsaturated fatty acid, but is preferably a fatty acid having 8 or more carbon atoms from the viewpoint of preventing aggregation of the flaky silver powder. Further, the long chain fatty acid preferably has 8 to 30 carbon atoms, and more preferably 12 to 24 carbon atoms. Examples of the long chain fatty acid include myristic acid, palmitic acid, stearic acid, oleic acid, linoleic acid, and the like. Examples of the long-chain fatty acid derivatives include the long-chain fatty acid derivatives described above, and examples include long-chain fatty acid metal salts, long-chain fatty acid esters, and long-chain fatty acid amides.

また、この(A)成分のフレーク状銀粉は、その形状をフレーク状とすることで銀ナノ粒子との焼結性に優れた硬化物を形成でき、低抵抗値の硬化物が得られる。したがって、球状、球塊状、樹脂状等の銀粉は含まれない。ここでフレーク状とは、鱗片状の薄い板状や片状の板状のような形状をした銀粉である。   Further, the flaky silver powder of the component (A) can be formed into a flaky shape to form a cured product having excellent sinterability with silver nanoparticles, and a cured product having a low resistance value can be obtained. Therefore, silver powder of spherical shape, spherical block shape, resinous shape or the like is not included. Here, the flake shape is a silver powder having a shape like a flaky thin plate or a flaky plate.

また、本発明における(B)成分の銀ナノ粒子は、その平均粒径が10〜500nmの銀粒子である。平均粒径がこの範囲であると、導電性ペーストの焼結性が向上し、低抵抗値化が達成できる。この平均粒径が10nm未満になると、粒子が不安定となり、500nm超になると、焼結性が阻害されるおそれがある。この(B)成分の銀ナノ粒子の平均粒径は、20〜400nmであることが好ましい。   Moreover, the silver nanoparticle of the (B) component in this invention is a silver particle whose average particle diameter is 10-500 nm. When the average particle size is within this range, the sinterability of the conductive paste is improved, and a low resistance value can be achieved. If the average particle size is less than 10 nm, the particles become unstable, and if it exceeds 500 nm, the sinterability may be hindered. The average particle diameter of the silver nanoparticles as the component (B) is preferably 20 to 400 nm.

ここで、(B)成分の銀ナノ粒子の平均粒径は、散乱式粒度分析計(日機装株式会社製、マイクロトラックシリーズ)等により動的光散乱法(DLS)で測定される平均粒径である。   Here, the average particle diameter of the silver nanoparticles of the component (B) is an average particle diameter measured by a dynamic light scattering method (DLS) with a scattering particle size analyzer (Nikkiso Co., Ltd., Microtrac Series). is there.

また、本発明における(C)熱硬化性樹脂としては、一般に、接着剤用途として使用される熱硬化性樹脂であれば特に限定されずに使用できる。中でも、液状樹脂であることが好ましく、室温(25℃)で液状である樹脂がより好ましい。この(C)熱硬化性樹脂としては、例えば、シアネート樹脂、エポキシ樹脂、ラジカル重合性のアクリル樹脂、マレイミド樹脂などが挙げられる。   Moreover, as (C) thermosetting resin in this invention, if it is a thermosetting resin generally used as an adhesive agent, it can be used without being specifically limited. Among these, a liquid resin is preferable, and a resin that is liquid at room temperature (25 ° C.) is more preferable. Examples of the (C) thermosetting resin include cyanate resin, epoxy resin, radical polymerizable acrylic resin, maleimide resin, and the like.

シアネート樹脂は、分子内に−NCO基を有する化合物であり、加熱により−NCO基が反応することで3次元的網目構造を形成し、硬化する樹脂である。具体的に例示すると、1,3−ジシアナトベンゼン、1,4−ジシアナトベンゼン、1,3,5−トリシアナトベンゼン、1,3−ジシアナトナフタレン、1,4−ジシアナトナフタレン、1,6−ジシアナトナフタレン、1,8−ジシアナトナフタレン、2,6−ジシアナトナフタレン、2,7−ジシアナトナフタレン、1,3,6−トリシアナトナフタレン、4,4´−ジシアナトビフェニル、ビス(4−シアナトフェニル)メタン、ビス(3,5−ジメチル−4−シアナトフェニル)メタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジブロモ−4−シアナトフェニル)プロパン、ビス(4−シアナトフェニル)エーテル、ビス(4−シアナトフェニル)チオエーテル、ビス(4−シアナトフェニル)スルホン、トリス(4−シアナトフェニル)ホスファイト、トリス(4−シアナトフェニル)ホスフェート、及びノボラック樹脂とハロゲン化シアンとの反応により得られるシアネート類などが挙げられ、これらの多官能シアネート樹脂のシアネート基を三量化することによって形成されるトリアジン環を有するプレポリマーも使用できる。このプレポリマーは、上記の多官能シアネート樹脂モノマーを、例えば、鉱酸、ルイス酸などの酸、ナトリウムアルコラート、第三級アミン類などの塩基、炭酸ナトリウムなどの塩類を触媒として重合させることにより得られる。   The cyanate resin is a compound having an —NCO group in the molecule, and forms a three-dimensional network structure by the reaction of the —NCO group by heating to be cured. Specifically, 1,3-dicyanatobenzene, 1,4-dicyanatobenzene, 1,3,5-tricyanatobenzene, 1,3-dicyanatonaphthalene, 1,4-dicyanatonaphthalene, 1, 6-dicyanatonaphthalene, 1,8-dicyanatonaphthalene, 2,6-dicyanatonaphthalene, 2,7-dicyanatonaphthalene, 1,3,6-tricyanatonaphthalene, 4,4'-dicyanatobiphenyl, bis (4-cyanatophenyl) methane, bis (3,5-dimethyl-4-cyanatophenyl) methane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane, 2,2-bis (3,5-dibromo -4-Cyanatophenyl) propane, bis (4-cyanatophenyl) ether, bis (4-cyanatophenyl) thioether, bis (4-cyanatophenyl) Examples of the polyfunctional cyanate resins include luphone, tris (4-cyanatophenyl) phosphite, tris (4-cyanatophenyl) phosphate, and cyanates obtained by reacting novolac resins with cyanogen halides. A prepolymer having a triazine ring formed by trimerizing a cyanate group can also be used. This prepolymer is obtained by polymerizing the above-mentioned polyfunctional cyanate resin monomer using, for example, an acid such as mineral acid or Lewis acid, a base such as sodium alcoholate or tertiary amine, or a salt such as sodium carbonate as a catalyst. It is done.

シアネート樹脂の硬化促進剤としては、一般に公知のものが使用できる。例えば、オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛、アセチルアセトン鉄などの有機金属錯体、塩化アルミニウム、塩化錫、塩化亜鉛などの金属塩、トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミンなどのアミン類が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの硬化促進剤は1種又は2種以上混合して用いることができる。また、シアネート樹脂は、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、アクリル樹脂、マレイミド樹脂などの他の樹脂と併用することも可能である。   As the curing accelerator for the cyanate resin, generally known ones can be used. Examples include organometallic complexes such as zinc octylate, tin octylate, cobalt naphthenate, zinc naphthenate and acetylacetone iron, metal salts such as aluminum chloride, tin chloride and zinc chloride, and amines such as triethylamine and dimethylbenzylamine. However, it is not limited to these. These curing accelerators can be used alone or in combination. In addition, the cyanate resin can be used in combination with other resins such as an epoxy resin, an oxetane resin, an acrylic resin, and a maleimide resin.

エポキシ樹脂は、グリシジル基を分子内に1つ以上有する化合物であり、加熱によりグリシジル基が反応することで3次元的網目構造を形成し、硬化する樹脂である。グリシジル基は1分子に2つ以上含まれていることが好ましいが、これはグリシジル基が1つの化合物のみでは反応させても十分な硬化物特性を示すことができないからである。グリシジル基を1分子に2つ以上含む化合物としては、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビフェノールなどのビスフェノール化合物又はこれらの誘導体、水素添加ビスフェノールA、水素添加ビスフェノールF、水素添加ビフェノール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、シクロヘキサンジエタノールなどの脂環構造を有するジオール又はこれらの誘導体、ブタンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジオール、ノナンジオール、デカンジオールなどの脂肪族ジオール又はこれらの誘導体などをエポキシ化した2官能のもの、トリヒドロキシフェニルメタン骨格、アミノフェノール骨格を有する3官能のもの、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ビフェニルアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂などをエポキシ化した多官能のものなどが挙げられるがこれらに限定されるわけではなく、また、樹脂組成物として室温でペースト状又は液状とするため、単独で又は混合物として室温で液状のものが好ましい。通常行われるように反応性の希釈剤を使用することも可能である。反応性希釈剤としては、フェニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテルなどの1官能の芳香族グリシジルエーテル類、脂肪族グリシジルエーテル類などが挙げられる。   The epoxy resin is a compound having one or more glycidyl groups in the molecule, and is a resin that forms a three-dimensional network structure by the reaction of the glycidyl groups by heating and cures. It is preferable that two or more glycidyl groups are contained in one molecule, but this is because sufficient cured product characteristics cannot be exhibited even if the glycidyl group is reacted with only one compound. Compounds containing two or more glycidyl groups per molecule include bisphenol compounds such as bisphenol A, bisphenol F, and biphenol or derivatives thereof, hydrogenated bisphenol A, hydrogenated bisphenol F, hydrogenated biphenol, cyclohexanediol, and cyclohexanedimethanol. Diols having an alicyclic structure such as cyclohexanediethanol or derivatives thereof, bifunctional ones obtained by epoxidizing aliphatic diols such as butanediol, hexanediol, octanediol, nonanediol, decanediol, or derivatives thereof, Hydroxyphenylmethane skeleton, trifunctional one having aminophenol skeleton, phenol novolac resin, cresol novolac resin, phenol aralkyl resin, biphenyla Examples include, but are not limited to, polyfunctional ones obtained by epoxidizing rualkyl resin, naphthol aralkyl resin, and the like, and the resin composition is paste-like or liquid at room temperature, either alone or as a mixture Those which are liquid at room temperature are preferred. It is also possible to use reactive diluents as is usual. Examples of the reactive diluent include monofunctional aromatic glycidyl ethers such as phenyl glycidyl ether and cresyl glycidyl ether, and aliphatic glycidyl ethers.

このとき、エポキシ樹脂を硬化させる目的で硬化剤を使用するが、エポキシ樹脂の硬化剤としては、例えば、脂肪族アミン、芳香族アミン、ジシアンジアミド、ジヒドラジド化合物、酸無水物、フェノール樹脂などが挙げられる。ジヒドラジド化合物としては、アジピン酸ジヒドラジド、ドデカン酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、p−オキシ安息香酸ジヒドラジドなどのカルボン酸ジヒドラジドなどが挙げられ、酸無水物としてはフタル酸無水物、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸無水物、ドデセニルコハク酸無水物、無水マレイン酸とポリブタジエンの反応物、無水マレイン酸とスチレンの共重合体などが挙げられる。   At this time, a curing agent is used for the purpose of curing the epoxy resin. Examples of the curing agent for the epoxy resin include aliphatic amines, aromatic amines, dicyandiamide, dihydrazide compounds, acid anhydrides, and phenol resins. . Examples of the dihydrazide compound include carboxylic acid dihydrazides such as adipic acid dihydrazide, dodecanoic acid dihydrazide, isophthalic acid dihydrazide, p-oxybenzoic acid dihydrazide, and the acid anhydrides include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydroanhydride. Examples thereof include phthalic acid, endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, a reaction product of maleic anhydride and polybutadiene, and a copolymer of maleic anhydride and styrene.

エポキシ樹脂の硬化剤として用いられるフェノール樹脂としては1分子内にフェノール性水酸基を2つ以上有する化合物であり、1分子内にフェノール性水酸基を1つ有する化合物の場合には架橋構造をとることができないため硬化物特性が悪化し使用できない。   A phenol resin used as a curing agent for an epoxy resin is a compound having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule. In the case of a compound having one phenolic hydroxyl group in one molecule, a cross-linked structure may be taken. Therefore, the cured product characteristics deteriorate and cannot be used.

また1分子内のフェノール性水酸基数は2つ以上であれば使用可能であるが、好ましいフェノール性水酸基の数は2〜5である。これより多い場合には分子量が大きくなりすぎるので導電性ペーストの粘度が高くなりすぎるため好ましくない。より好ましい1分子内のフェノール性水酸基数は2つ又は3つである。   The number of phenolic hydroxyl groups in one molecule can be used as long as it is 2 or more, but the number of phenolic hydroxyl groups is preferably 2 to 5. When the amount is larger than this, the molecular weight becomes too large, and the viscosity of the conductive paste becomes too high, which is not preferable. The number of phenolic hydroxyl groups in one molecule is more preferably 2 or 3.

このような化合物としては、ビスフェノールF、ビスフェノールA、ビスフェノールS、テトラメチルビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールF、テトラメチルビスフェノールS、ジヒドロキシジフェニルエーテル、ジヒドロキシベンゾフェノン、テトラメチルビフェノール、エチリデンビスフェノール、メチルエチリデンビス(メチルフェノール)、シクロへキシリデンビスフェノール、ビフェノールなどのビスフェノール類及びその誘導体、トリ(ヒドロキシフェニル)メタン、トリ(ヒドロキシフェニル)エタンなどの3官能のフェノール類及びその誘導体、フェノールノボラック、クレゾールノボラックなどのフェノール類とホルムアルデヒドを反応することで得られる化合物で2核体又は3核体がメインのもの及びその誘導体などが挙げられる。   Such compounds include bisphenol F, bisphenol A, bisphenol S, tetramethyl bisphenol A, tetramethyl bisphenol F, tetramethyl bisphenol S, dihydroxy diphenyl ether, dihydroxy benzophenone, tetramethyl biphenol, ethylidene bisphenol, methyl ethylidene bis (methyl phenol). ), Bisphenols such as cyclohexylidene bisphenol and biphenol and derivatives thereof, trifunctional phenols such as tri (hydroxyphenyl) methane and tri (hydroxyphenyl) ethane, and phenols such as phenol novolac and cresol novolac A compound obtained by reacting formaldehyde with formaldehyde, which is mainly dinuclear or trinuclear and its derivatives Body and the like.

さらに、硬化を促進するために硬化促進剤を配合でき、エポキシ樹脂の硬化促進剤としては、イミダゾール類、トリフェニルホスフィン又はテトラフェニルホスフィン及びそれらの塩類、ジアザビシクロウンデセンなどのアミン系化合物及びその塩類などが挙げられるが、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−C1123−イミダゾール、2−メチルイミダゾールと2,4−ジアミノ−6−ビニルトリアジンとの付加物などのイミダゾール化合物が好適に用いられる。なかでも特に好ましいのは融点が180℃以上のイミダゾール化合物である。また、エポキシ樹脂は、シアネート樹脂、アクリル樹脂、マレイミド樹脂との併用も好ましい。 Furthermore, a curing accelerator can be blended in order to accelerate curing. Examples of epoxy resin curing accelerators include imidazoles, triphenylphosphine or tetraphenylphosphine and salts thereof, amine compounds such as diazabicycloundecene, and the like. Examples thereof include 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl- 4,5-dihydroxy methyl imidazole, 2-C 11 H 23 -, imidazole compounds such as the adduct of 2-methylimidazole and 2,4-diamino-6-vinyl-triazine is preferably used. Particularly preferred is an imidazole compound having a melting point of 180 ° C. or higher. The epoxy resin is also preferably used in combination with a cyanate resin, an acrylic resin, or a maleimide resin.

ラジカル重合性のアクリル樹脂とは、分子内に(メタ)アクリロイル基を有する化合物であり、(メタ)アクリロイル基が反応することで3次元的網目構造を形成し、硬化する樹脂である。(メタ)アクリロイル基は分子内に1つ以上含まれていることが好ましい。特に好ましいアクリル樹脂は分子量が100〜10000のポリエーテル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ(メタ)アクリレートで(メタ)アクリル基を有する化合物である。   The radical polymerizable acrylic resin is a compound having a (meth) acryloyl group in the molecule, and is a resin that forms a three-dimensional network structure by the reaction of the (meth) acryloyl group and cures. It is preferable that one or more (meth) acryloyl groups are contained in the molecule. Particularly preferred acrylic resins are polyethers, polyesters, polycarbonates, poly (meth) acrylates having a molecular weight of 100 to 10,000 and compounds having a (meth) acrylic group.

ここで、ポリエーテルとしては、炭素数が1〜6の有機基がエーテル結合を介して繰り返したものが好ましく、芳香族環を含まないものが好ましい。ポリエーテルポリオールと(メタ)アクリル酸又はその誘導体との反応により得ることが可能である。   Here, as a polyether, what a C1-C6 organic group repeated via the ether bond is preferable, and what does not contain an aromatic ring is preferable. It can be obtained by reacting a polyether polyol with (meth) acrylic acid or a derivative thereof.

ポリエステルとしては、炭素数が1〜6の有機基がエステル結合を介して繰り返したものが好ましく、芳香族環を含まないものが好ましい。ポリエステルポリオールと(メタ)アクリル酸又はその誘導体との反応により得ることが可能である。   The polyester is preferably a group in which an organic group having 1 to 6 carbon atoms is repeated via an ester bond, and preferably does not contain an aromatic ring. It can be obtained by reacting a polyester polyol with (meth) acrylic acid or a derivative thereof.

ポリカーボネートとしては、炭素数が1〜6の有機基がカーボネート結合を介して繰り返したものが好ましく、芳香族環を含まないものが好ましい。ポリカーボネートポリオールと(メタ)アクリル酸又はその誘導体との反応により得ることが可能である。   As a polycarbonate, what a C1-C6 organic group repeated via the carbonate bond is preferable, and the thing which does not contain an aromatic ring is preferable. It can be obtained by reacting a polycarbonate polyol with (meth) acrylic acid or a derivative thereof.

ポリ(メタ)アクリレートとしては、(メタ)アクリル酸と(メタ)アクリレートとの共重合体又は極性基を有する(メタ)アクリレートと極性基を有さない(メタ)アクリレートとの共重合体などが好ましい。これら共重合体とカルボキシル基と反応する場合には水酸基を有するアクリレート、水酸基と反応する場合には(メタ)アクリル酸又はその誘導体を反応することにより得ることが可能である。   Examples of the poly (meth) acrylate include a copolymer of (meth) acrylic acid and (meth) acrylate or a copolymer of (meth) acrylate having a polar group and (meth) acrylate having no polar group. preferable. In the case of reacting these copolymers with a carboxyl group, it can be obtained by reacting with an acrylate having a hydroxyl group, and when reacting with a hydroxyl group, (meth) acrylic acid or a derivative thereof.

必要により、以下に示す化合物を併用することも可能である。例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、1,2−シクロヘキサンジオールモノ(メタ)アクリレート、1,3−シクロヘキサンジオールモノ(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールモノ(メタ)アクリレート、1,2−シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート、1,3−シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート、1,2−シクロヘキサンジエタノールモノ(メタ)アクリレート、1,3−シクロヘキサンジエタノールモノ(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジエタノールモノ(メタ)アクリレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ(メタ)アクリレートなどの水酸基を有する(メタ)アクリレートやこれら水酸基を有する(メタ)アクリレートとジカルボン酸又はその誘導体を反応して得られるカルボキシ基を有する(メタ)アクリレートなどが挙げられる。ここで使用可能なジカルボン酸としては、例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸及びこれらの誘導体が挙げられる。   If necessary, the following compounds can be used in combination. For example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxy Butyl (meth) acrylate, 1,2-cyclohexanediol mono (meth) acrylate, 1,3-cyclohexanediol mono (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanediol mono (meth) acrylate, 1,2-cyclohexanedimethanol mono (Meth) acrylate, 1,3-cyclohexanedimethanol mono (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol mono (meth) acrylate, 1,2-cyclohexanediethanol mono (meth) acrylate 1,3-cyclohexanediethanol mono (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanediethanol mono (meth) acrylate, glycerin mono (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, trimethylolpropane mono (meth) acrylate, tri (Meth) acrylate having a hydroxyl group such as methylolpropane di (meth) acrylate, pentaerythritol mono (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, neopentyl glycol mono (meth) acrylate, Examples thereof include (meth) acrylates having a carboxy group obtained by reacting these (meth) acrylates having a hydroxyl group with dicarboxylic acids or derivatives thereof. Examples of the dicarboxylic acid usable here include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, maleic acid, fumaric acid, phthalic acid, and tetrahydrophthalic acid. Examples include acids, hexahydrophthalic acid, and derivatives thereof.

上記以外にもメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ターシャルブチル−(メタ)アタリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、べへニル(メタ)アクリレート、2−エチルへキシル(メタ)アクリレート、その他のアルキル(メタ)アクリレート、シクロへキシル(メタ)アクリレート、ターシャルブチルシクロへキシル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジンクモノ(メタ)アクリレート、ジンクジ(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール(メタ)アクリレート、トリフロロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3−テトラフロロプロピル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,4,4−ヘキサフロロブチル(メタ)アクリレート、パーフロロオクチル(メタ)アクリレート、パーフロロオクチルエチル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート、テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリアルキレングリコールモノ(メタ)アタリレート、オクトキシポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ラウロキシポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ステアロキシポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート、アリロキシポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート、アクリロイルモルフォリン、ヒドロキシエチルアクリルアミド、N,N´−メチレンビス(メタ)アクリルアミド、N,N´−エチレンビス(メタ)アクリルアミド、1,2−ジ(メタ)アクリルアミドエチレングリコール、ジ(メタ)アクリロイロキシメチルトリシクロデカン、N−(メタ)アクリロイロキシエチルマレイミド、N−(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、N−(メタ)アクリロイロキシエチルフタルイミド、n−ビニル−2−ピロリドン、スチレン誘導体、α−メチルスチレン誘導体などを使用することも可能である。   In addition to the above, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, tertiary butyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) Acrylate, tridecyl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, behenyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate , Other alkyl (meth) acrylates, cyclohexyl (meth) acrylate, tertiary butyl cyclohexyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, Noxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, zinc mono (meth) acrylate, zinc di (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl ( (Meth) acrylate, neopentyl glycol (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,4,4-hexafluoro Butyl (meth) acrylate, perfluorooctyl (meth) acrylate, perfluorooctylethyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate, tetramethylene glycol di (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolyalkylene glycol mono (meth) Atalylate, Octoxy polyalkylene glycol mono (meth) acrylate, Lauroxy polyalkylene glycol mono (meth) acrylate, Stearoxy polyalkylene glycol mono (meth) acrylate, Allyloxy polyal Xylene glycol mono (meth) acrylate, nonylphenoxypolyalkylene glycol mono (meth) acrylate, acryloylmorpholine, hydroxyethylacrylamide, N, N′-methylenebis (meth) acrylamide, N, N′-ethylenebis (meth) acrylamide, 1,2-di (meth) acrylamide ethylene glycol, di (meth) acryloyloxymethyl tricyclodecane, N- (meth) acryloyloxyethylmaleimide, N- (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalimide, N- (Meth) acryloyloxyethylphthalimide, n-vinyl-2-pyrrolidone, a styrene derivative, an α-methylstyrene derivative and the like can also be used.

ここで、熱硬化性樹脂の重合反応にあたって、一般に重合開始剤が使用されるが、重合開始剤としては熱ラジカル重合開始剤が好ましく、公知の熱ラジカル重合開始剤であれば特に限定されずに使用できる。また、熱ラジカル重合開始剤としては、急速加熱試験(試料1gを電熱板の上にのせ、4℃/分で昇温した時の分解開始温度)における分解温度が40〜140℃となるものが好ましい。分解温度が40℃未満だと、導電性ペーストの常温における保存性が悪くなり、140℃を超えると硬化時間が極端に長くなってしまう。このような特性を満たす熱ラジカル重合開始剤の具体例としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルアセトアセテートパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(4,4−ジ−t−ブチルパーオキシシクロへキシル)プロパン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロドデカン、n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレレート、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−2−メチルシクロヘキサン、t−ブチルハイドロパーオキサイド、p−メンタンハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、t−ヘキシルハイドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、α,α´−ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルパーオキシ)へキシン−3、イソブチリルパーオキサイド、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、桂皮酸パーオキサイド、m−トルオイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス(4−t−ブチルシクロへキシル)パーオキシジカーボネート、ジ−3−メトキシブチルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルへキシルパーオキシジカーボネート、ジ−sec−ブチルパーオキシジカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、ジ(4−t−ブチルシクロへキシル)パーオキシジカーボネート、α,α´−ビス(ネオデカノイルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、クミルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシネオデカノエート、t−へキシルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ヘキシルパーオキシビバレート、t−ブチルパーオキシビバレート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−へキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシイソブチレート、t−ブチルパーオキシマレイックアシッド、t−ブチルパーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルへキシルモノカーボネート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシアセテート、t−へキシルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシ−m−トルオイルベンゾエート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ビス(t−ブチルパーオキシ)イソブタレート、t−ブチルパーオキシアリルモノカーボネート、3,3´,4,4´−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノンなどが挙げられるが、これらは単独又は硬化性を制御するため2種類以上を混合して用いることもできる。また、上記のラジカル重合性のアクリル樹脂は、シアネート樹脂、エポキシ樹脂、マレイミド樹脂との併用も好ましい。   Here, in the polymerization reaction of the thermosetting resin, a polymerization initiator is generally used, but the polymerization initiator is preferably a thermal radical polymerization initiator, and is not particularly limited as long as it is a known thermal radical polymerization initiator. Can be used. In addition, as the thermal radical polymerization initiator, those having a decomposition temperature of 40 to 140 ° C. in a rapid heating test (decomposition start temperature when 1 g of a sample is placed on an electric heating plate and heated at 4 ° C./min). preferable. When the decomposition temperature is less than 40 ° C., the storage stability of the conductive paste at normal temperature is deteriorated, and when it exceeds 140 ° C., the curing time becomes extremely long. Specific examples of the thermal radical polymerization initiator satisfying such characteristics include methyl ethyl ketone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, methyl acetoacetate peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (t-butylperoxy) 3, 3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) 3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t- Butylperoxy) cyclohexane, 2,2-bis (4,4-di-t-butylperoxycyclohexyl) propane, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclododecane, n-butyl-4, 4-bis (t-butylperoxy) valerate, 2,2-bis (t-butyl) -Oxy) butane, 1,1-bis (t-butylperoxy) -2-methylcyclohexane, t-butyl hydroperoxide, p-menthane hydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide , T-hexyl hydroperoxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexane, α, α'-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, t -Butyl cumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexyne-3, isobutyryl peroxide, 3,5,5-trimethylhexa Noyl peroxide, octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, cinnamic acid peroxide Xoxide, m-toluoyl peroxide, benzoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-3-methoxybutyl peroxydicarbonate, di-2-ethyl Hexyl peroxydicarbonate, di-sec-butyl peroxydicarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, α, α′-bis (neodecanoylperoxy) diisopropylbenzene, cumylperoxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy Neodecanoate, t-hexi Peroxyneodecanoate, t-butylperoxyneodecanoate, t-hexylperoxybivalate, t-butylperoxybivalate, 2,5-dimethyl-2,5-bis (2-ethylhexanoyl) Peroxy) hexane, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy-2-ethylhexanoate, t-hexylperoxy 2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxyisobutyrate, t-butylperoxymaleic acid, t-butylperoxylaurate, t-butyl Peroxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate T-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, 2,5-dimethyl-2,5-bis (benzoylperoxy) hexane, t-butylperoxyacetate, t-hexylperoxybenzoate, t -Butylperoxy-m-toluoylbenzoate, t-butylperoxybenzoate, bis (t-butylperoxy) isobutarate, t-butylperoxyallyl monocarbonate, 3,3 ', 4,4'-tetra (t -Butylperoxycarbonyl) benzophenone and the like can be mentioned, but these can be used alone or in combination of two or more in order to control curability. The radical polymerizable acrylic resin is also preferably used in combination with a cyanate resin, an epoxy resin, or a maleimide resin.

マレイミド樹脂は、1分子内にマレイミド基を1つ以上含む化合物であり、加熱によりマレイミド基が反応することで3次元的網目構造を形成し、硬化する樹脂である。例えば、N,N´−(4,4´−ジフェニルメタン)ビスマレイミド、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、2,2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパンなどのビスマレイミド樹脂が挙げられる。より好ましいマレイミド樹脂は、ダイマー酸ジアミンと無水マレイン酸の反応により得られる化合物、マレイミド酢酸、マレイミドカプロン酸といったマレイミド化アミノ酸とポリオールの反応により得られる化合物である。マレイミド化アミノ酸は、無水マレイン酸とアミノ酢酸又はアミノカプロン酸とを反応することで得られ、ポリオールとしては、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリ(メタ)アクリレートポリオールが好ましく、芳香族環を含まないものが特に好ましい。   The maleimide resin is a compound that contains one or more maleimide groups in one molecule, and forms a three-dimensional network structure when the maleimide group reacts by heating, and is cured. For example, N, N ′-(4,4′-diphenylmethane) bismaleimide, bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane, 2,2-bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl ] A bismaleimide resin such as propane may be mentioned. More preferred maleimide resins are compounds obtained by reaction of dimer acid diamine and maleic anhydride, and compounds obtained by reaction of maleimidated amino acids such as maleimide acetic acid and maleimide caproic acid with polyols. The maleimidated amino acid is obtained by reacting maleic anhydride with aminoacetic acid or aminocaproic acid. As the polyol, polyether polyol, polyester polyol, polycarbonate polyol, poly (meth) acrylate polyol is preferable, and an aromatic ring is formed. What does not contain is especially preferable.

マレイミド基は、アリル基と反応可能であるのでアリルエステル樹脂との併用も好ましい。アリルエステル樹脂としては、脂肪族のものが好ましく、中でも特に好ましいのはシクロヘキサンジアリルエステルと脂肪族ポリオールのエステル交換により得られる化合物である。アリルエステル系化合物の数平均分子量は、特に限定されないが、500〜10,000が好ましく、特に500〜8,000が好ましい。数平均分子量が上記範囲内であると、硬化収縮を特に小さくすることができ、密着性の低下を防止することができる。またシアネート樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂との併用も好ましい。   Since the maleimide group can react with an allyl group, the combined use with an allyl ester resin is also preferable. The allyl ester resin is preferably an aliphatic one, and particularly preferred is a compound obtained by transesterification of a cyclohexane diallyl ester and an aliphatic polyol. The number average molecular weight of the allyl ester compound is not particularly limited, but is preferably 500 to 10,000, and particularly preferably 500 to 8,000. When the number average molecular weight is within the above range, curing shrinkage can be particularly reduced, and deterioration of adhesion can be prevented. Moreover, combined use with cyanate resin, an epoxy resin, and an acrylic resin is also preferable.

本発明の導電性ペーストは、導電性ペースト中に(A)成分のフレーク状銀粉を40〜94.5質量%、好ましくは55〜90質量%含有し、(B)成分の銀ナノ粒子を5〜50質量%、好ましくは10〜45質量%含有し、(C)成分の熱硬化性樹脂を0.5〜20質量%、好ましくは1〜15質量%含有するものである。
ここで、(A)成分と(B)成分とは、その合量[(A)成分+(B)成分]に対して、(A)成分を50〜95質量%、(B)成分を5〜50質量%含有することが低抵抗化の観点から好ましく、(A)成分を55〜90質量%、(B)成分を10〜45質量%含有することがより好ましい。
The conductive paste of the present invention contains 40-94.5% by mass, preferably 55-90% by mass of the flaky silver powder of component (A) in the conductive paste, and 5 silver nanoparticles of component (B). -50 mass%, Preferably it contains 10-45 mass%, and contains 0.5-20 mass%, Preferably 1-15 mass% of thermosetting resin of (C) component.
Here, (A) component and (B) component are 50-95 mass% of (A) component and 5 (B) component with respect to the total amount [(A) component + (B) component]. It is preferable to contain -50 mass% from a viewpoint of resistance reduction, and it is more preferable to contain (A) component 55-90 mass% and (B) component 10-45 mass%.

本発明の熱硬化性樹脂には、以上の各成分の他、本発明の効果を阻害しない範囲で、この種の組成物に一般に配合される、硬化促進剤、ゴムやシリコーン等の低応力化剤、カップリング剤、消泡剤、界面活性剤、着色剤(顔料、染料)、各種重合禁止剤、酸化防止剤、その他の各種添加剤を、必要に応じて配合することができる。これらの各添加剤はいずれも1種を単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。   In the thermosetting resin of the present invention, in addition to each of the above components, a curing accelerator, a rubber, a silicone, and the like, which are generally blended in this type of composition within a range that does not impair the effects of the present invention. Agents, coupling agents, antifoaming agents, surfactants, colorants (pigments, dyes), various polymerization inhibitors, antioxidants, and other various additives can be blended as necessary. Each of these additives may be used alone or in combination of two or more.

このような添加剤としては、エポキシシラン、メルカプトシラン、アミノシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン、スルフィドシランなどのシランカップリング剤や、チタネートカップリング剤、アルミニウムカップリング剤、アルミニウム/ジルコニウムカップリング剤などのカップリング剤、カーボンブラックなどの着色剤、シリコーンオイル、シリコーンゴムなどの固形低応力化成分、ハイドロタルサイトなどの無機イオン交換体、などが挙げられる。   Such additives include silane coupling agents such as epoxy silane, mercapto silane, amino silane, alkyl silane, ureido silane, vinyl silane, sulfide silane, titanate coupling agent, aluminum coupling agent, aluminum / zirconium coupling agent. Coupling agents such as carbon black, colorants such as carbon black, solid stress reducing components such as silicone oil and silicone rubber, and inorganic ion exchangers such as hydrotalcite.

本発明の導電性ペーストは、上記した(A)〜(C)成分、及び必要に応じて配合されるカップリング剤等の添加剤及び溶剤等を十分に混合した後、さらにディスパース、ニーダー、3本ロールミル等により混練処理を行い、次いで、脱泡することにより、調製することができる。   The conductive paste of the present invention, after thoroughly mixing the above-described components (A) to (C), and additives such as coupling agents and solvents, etc., blended as necessary, further disperse, kneader, It can be prepared by performing a kneading process with a three-roll mill or the like and then defoaming.

このように得られる導電性ペーストは、電気・電子部品の電極等を形成するのに好適であり、そのチクソ比(25℃における、0.5rpmの粘度と5rpmの粘度の比率)が1.5〜4.5であることが好ましい。チクソ比が1.5未満であると電子部品製造時のディップ塗布時に糸引きが起こり、一方、チクソ比が4.5超であるとディップ塗布時に電気・電子部品の外部電極として用いた場合、角立ちが発生し寸法安定性が悪く、いずれの場合も電気・電子部品としての歩留まりが悪化する。   The conductive paste thus obtained is suitable for forming electrodes of electric / electronic parts, and has a thixo ratio (ratio of viscosity at 0.5 rpm and viscosity at 5 rpm at 25 ° C.) of 1.5. It is preferable that it is -4.5. If the thixo ratio is less than 1.5, stringing occurs at the time of dip coating at the time of electronic component manufacturing, while if the thixo ratio is more than 4.5, when used as an external electrode for electrical / electronic components at the time of dip coating, Cornering occurs and the dimensional stability is poor, and in either case, the yield as an electric / electronic component is deteriorated.

また、電気・電子部品の外部電極として形成される導電性ペースト硬化物の膜厚は5〜100μmであることが好ましい。膜厚が5μm未満では、意図した部分への塗布性が悪く塗膜均一性に欠けピンホールが発生し、100μm超ではペースト硬化時に垂れが発生し、塗膜均一性にかける。   Moreover, it is preferable that the film thickness of the electrically conductive paste hardened | cured material formed as an external electrode of an electrical / electronic component is 5-100 micrometers. If the film thickness is less than 5 μm, the coating property to the intended portion is poor and the coating film uniformity is poor, and pinholes are generated. If it exceeds 100 μm, dripping occurs when the paste is cured, and the coating film uniformity is applied.

電気・電子部品の製造工程において、導電性ペーストを浸漬塗布する際にスキージによりディップ槽の表面が平坦化されるが、連続作業の効率上、導電性ペーストの粘度変化率(増粘率)が200%以下であることが必要とされる。   In the manufacturing process of electrical / electronic parts, the surface of the dip tank is flattened by the squeegee when the conductive paste is applied by dip coating. However, the viscosity change rate (thickening rate) of the conductive paste is increased due to the efficiency of continuous work. It is required to be 200% or less.

このようにして得られる本発明の導電性ペーストは、高熱伝導性、熱放散性に優れ、電子部品の内部電極または外部電極として使用した場合に、著しい特性の向上が見られる。例えば、インダクタの外部電極として使用した場合、コイルと直接金属結合をすることが可能なため、抵抗値の低減および信頼性の向上に寄与することができる。   The conductive paste of the present invention thus obtained is excellent in high thermal conductivity and heat dissipation, and when used as an internal electrode or external electrode of an electronic component, a remarkable improvement in characteristics is observed. For example, when it is used as an external electrode of an inductor, it can be directly metal-bonded with the coil, which can contribute to a reduction in resistance value and an improvement in reliability.

次に、本発明の電気・電子部品及びその製造方法について説明する。
本発明の電気・電子部品は、上記した本発明の導電性ペーストを貴金属と接触させた状態で焼結させて得られ、焼結後の体積抵抗率が1×10−5Ω・cm以下である外部電極又は内部電極を有するものである。体積抵抗率が1×10−5Ω・cm超では焼結性が十分に得られていないために、信頼性の悪化を招くおそれがある。
Next, the electric / electronic component and the manufacturing method thereof according to the present invention will be described.
The electrical / electronic component of the present invention is obtained by sintering the conductive paste of the present invention in contact with a noble metal, and the volume resistivity after sintering is 1 × 10 −5 Ω · cm or less. It has a certain external electrode or internal electrode. When the volume resistivity is more than 1 × 10 −5 Ω · cm, the sinterability is not sufficiently obtained, and thus the reliability may be deteriorated.

本発明の電気・電子部品の製造にあたっては、上記した本発明の導電性ペーストを貴金属と接触させた後、焼結して外部電極又は内部電極を形成すればよい。このとき、本発明においては、従来通りの加熱により焼結でき、さらに、100〜300℃の低温で焼結させても、十分に導電性を確保できる。また、この導電性ペーストは、浸漬塗布時の連続作業性が良好で、電極形成を効率的に行える。   In manufacturing the electric / electronic component of the present invention, the above-described conductive paste of the present invention is brought into contact with a noble metal and then sintered to form an external electrode or an internal electrode. At this time, in this invention, it can sinter by the conventional heating, and even if it sinters at the low temperature of 100-300 degreeC, electroconductivity can fully be ensured. In addition, this conductive paste has good continuous workability during dip coating and can efficiently form electrodes.

次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。   EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples at all.

(実施例1〜5、比較例1〜4)
表1の配合に従って各成分を混合し、ロールで混練し、樹脂ペーストを得た。得られた樹脂ペーストを以下の方法で評価した。その結果を表1に示す。なお、実施例及び比較例で用いた材料は、下記の通りの特性を有するものを使用した。
(Examples 1-5, Comparative Examples 1-4)
Each component was mixed according to the composition of Table 1 and kneaded with a roll to obtain a resin paste. The obtained resin paste was evaluated by the following method. The results are shown in Table 1. In addition, the material used by the Example and the comparative example used what has the following characteristics.

(A)成分
フレーク状銀粉A(平均粒径:4.0μm、Tap密度:5.5g/cm、炭素含有化合物の含有量:0.3質量%)
フレーク状銀粉B(平均粒径:3.0μm、Tap密度:3.8g/cm、炭素含有化合物の含有量:0.4質量%)
Component (A) Flaky silver powder A (average particle size: 4.0 μm, Tap density: 5.5 g / cm 3 , content of carbon-containing compound: 0.3 mass%)
Flaky silver powder B (average particle size: 3.0 μm, Tap density: 3.8 g / cm 3 , content of carbon-containing compound: 0.4 mass%)

(A)´成分
フレーク状銀粉C(平均粒径:1.5μm、Tap密度:1.5g/cm、炭素含有化合物の含有量:0.3質量%)
フレーク状銀粉D(平均粒径:25μm、Tap密度:1.5g/cm、炭素含有化合物の含有量:0.3質量%)
フレーク状銀粉E(平均粒径:4.0μm、Tap密度:5.5g/cm、炭素含有化合物の含有量:1.2質量%)
(A) ′ component Flaky silver powder C (average particle size: 1.5 μm, Tap density: 1.5 g / cm 3 , content of carbon-containing compound: 0.3 mass%)
Flaky silver powder D (average particle size: 25 μm, Tap density: 1.5 g / cm 3 , content of carbon-containing compound: 0.3 mass%)
Flaky silver powder E (average particle size: 4.0 μm, Tap density: 5.5 g / cm 3 , content of carbon-containing compound: 1.2% by mass)

ここで、(A)成分及び(A´)成分のフレーク状銀粉は、化学還元法を用いた公知の方法にて、所望の炭素含有化合物を含むフレーク形状の銀粉を形成し、分級により特定の平均粒径及びTap密度を有するフレーク状銀粉としたものである。   Here, the flaky silver powder of the component (A) and the component (A ′) is formed by a known method using a chemical reduction method to form a flaky silver powder containing a desired carbon-containing compound, and is classified by classification. It is a flaky silver powder having an average particle diameter and a Tap density.

(B)成分
銀ナノ粒子A(DOWAエレクトロニクス(株)製、商品名:Ag nano powder−1;平均粒径:20nm)
銀ナノ粒子B(DOWAエレクトロニクス(株)製、商品名:Ag nano powder−2;平均粒径:60nm)
(B) Component Silver nanoparticle A (made by DOWA Electronics Co., Ltd., trade name: Ag nano powder-1; average particle size: 20 nm)
Silver nanoparticles B (manufactured by DOWA Electronics Co., Ltd., trade name: Ag nano powder-2; average particle size: 60 nm)

(C)成分
アクリル樹脂:ヒドロキシルエチルアクリルアミド((株)興人製、HEAA)
エポキシ樹脂:ビスフェノールF型液状エポキシ樹脂(三菱化学(株)製、商品名:YL983U)
フェノール樹脂:ビスフェノールF(本州化学工業(株)製、商品名:ビスフェノールF)
(C) Component Acrylic resin: Hydroxylethylacrylamide (manufactured by Kojin Co., Ltd., HEAA)
Epoxy resin: Bisphenol F type liquid epoxy resin (Mitsubishi Chemical Corporation, trade name: YL983U)
Phenol resin: Bisphenol F (Honshu Chemical Industry Co., Ltd., trade name: Bisphenol F)

その他の成分
重合開始剤:ジクミルパーオキサイド(日本油脂(株)製、商品名:パークミルD ;急速加熱試験における分解温度:126℃)
溶剤:ブチルカルビトール(東京化成工業(株)製)
硬化促進剤:1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール(四国化成工業(株)製、商品名:1B2PZ)
Other components Polymerization initiator: Dicumyl peroxide (manufactured by NOF Corporation, trade name: Park Mill D; decomposition temperature in rapid heating test: 126 ° C.)
Solvent: Butyl carbitol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Curing accelerator: 1-benzyl-2-phenylimidazole (manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd., trade name: 1B2PZ)

Figure 2015162392
Figure 2015162392

<評価方法>
[粘度]
E型粘度計(3°コーン)を用いて、25℃、0.5rpmでの値を測定した。
<Evaluation method>
[viscosity]
Using an E-type viscometer (3 ° cone), the value at 25 ° C. and 0.5 rpm was measured.

[チクソ比]
E型粘度計(3°コーン)を用いて、25℃で、0.5rpm及び5rpmでの粘度を測定し、5rpmに対する0.5rpmの粘度の比(0.5rpmの粘度/5rpmの粘度)をチクソ比とした。
[Thixo ratio]
Using an E-type viscometer (3 ° cone), the viscosity at 0.5 rpm and 5 rpm was measured at 25 ° C., and the ratio of the viscosity of 0.5 rpm to 5 rpm (0.5 rpm viscosity / 5 viscosity) The thixo ratio was used.

[フレーク状銀粉の炭素含有化合物の含有量]
示差熱天秤−ガスクロマトグラフィ質量分析同時測定装置(TG−DTA/GC−MS)(リガク製)を用いて、フレーク状銀粉の長鎖脂肪酸由来の質量減少量を測定した。
[Content of carbon-containing compound in flaky silver powder]
Using a differential thermobalance-gas chromatography mass spectrometry simultaneous measurement apparatus (TG-DTA / GC-MS) (manufactured by Rigaku), the mass loss derived from long chain fatty acids in the flaky silver powder was measured.

[体積抵抗]
導電ペーストを、ガラス基板(厚み1mm)にスクリーン印刷法により厚み30μmに塗布し、200℃、60分で硬化した。得られた配線を製品名「MCP−T600」(三菱化学(株)製)を用い4端子法にて電気抵抗を測定した。
[Volume resistance]
The conductive paste was applied to a glass substrate (thickness 1 mm) to a thickness of 30 μm by screen printing and cured at 200 ° C. for 60 minutes. The electrical resistance of the obtained wiring was measured by a 4-terminal method using a product name “MCP-T600” (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).

[連続浸漬塗布後の増粘率]
メタルスキージを使用して、500回連続でスキージした後の導電性ペーストの粘度を測定し、増粘率を次の式により算出した。粘度の測定条件は、E型粘度計(3°コーン)を用いて25℃、0.5rpmの値とした。
スキージ後の増粘率(%)=スキージ試験後の導電ペースト粘度/導電性ペースト初期粘度×100
[Thickening rate after continuous dipping]
Using a metal squeegee, the viscosity of the conductive paste after squeezing 500 times continuously was measured, and the thickening rate was calculated by the following formula. The measurement conditions for the viscosity were 25 ° C. and 0.5 rpm using an E-type viscometer (3 ° cone).
Thickening rate after squeegee (%) = conductive paste viscosity after squeegee test / conductive paste initial viscosity × 100

[塗布外観]
導電性ペーストを、ディップ塗布により、電子部品の両端に成膜し、200℃、60分の加熱硬化を行った。この際の電子部品で導電性ペーストの角立ちなどにより寸法安定性の得られないものをNGとした。寸法安定性が得られるか否かの判断は、0.1mm長以上の角立ちが発生するか否かを光学顕微鏡により観察し、判定した。
[Applying appearance]
A conductive paste was formed on both ends of the electronic component by dip coating, and heat-cured at 200 ° C. for 60 minutes. In this case, an electronic component that could not obtain dimensional stability due to the angle of the conductive paste was determined as NG. Judgment as to whether or not dimensional stability can be obtained was made by observing with an optical microscope whether or not a corner having a length of 0.1 mm or more occurred.

[固着強度]
導電性ペーストを、ディップ塗布により、電子部品の両端に成膜し、200℃、60分の加熱硬化を行った。これにNiおよびSnメッキを施し、半田により基板に実装し、電子部品を作成した。この電子部品を20mm/分で横押しでせん断強度を測定し、破壊したときの荷重を固着強度(N)とした。
[Fixing strength]
A conductive paste was formed on both ends of the electronic component by dip coating, and heat-cured at 200 ° C. for 60 minutes. This was plated with Ni and Sn and mounted on a substrate with solder to produce an electronic component. The shear strength was measured by laterally pushing this electronic component at 20 mm / min, and the load when it was broken was defined as the fixing strength (N).

[耐湿通電試験後の抵抗値変化率]
導電性ペーストを、ディップ塗布により、電子部品の両端に成膜し、200℃、60分の加熱硬化を行った。これにNiおよびSnメッキを施し、半田により基板に実装し、電子部品を作成した。
当該電子部品を恒温恒湿槽(温度85℃、湿度85%)に入れ、この状態で通電試験(1A)を実施し、500時間経過後、1000時間経過後、2000時間経過後の初期値に対する相対値を算出した。
[Rate of change in resistance value after moisture resistance test]
A conductive paste was formed on both ends of the electronic component by dip coating, and heat-cured at 200 ° C. for 60 minutes. This was plated with Ni and Sn and mounted on a substrate with solder to produce an electronic component.
The electronic component is placed in a constant temperature and humidity chamber (temperature 85 ° C., humidity 85%), and an energization test (1A) is performed in this state. After 500 hours, 1000 hours, and 2000 hours, Relative values were calculated.

以上の結果より、本発明の導電性ペーストを使用した電子部品は、いずれの特性も良好で高信頼性の電子部品が得られることがわかった。   From the above results, it was found that an electronic component using the conductive paste of the present invention has a good reliability and a highly reliable electronic component.

Claims (7)

(A)平均粒径が2〜20μm、タップ密度(TD)が2.0〜7.0g/cm、かつ、炭素含有化合物の含有割合が0.5質量%以下であるフレーク状銀粉と、
(B)平均粒径が10〜500nmである銀ナノ粒子と、
(C)熱硬化性樹脂と、
を含有することを特徴とする導電性ペースト。
(A) Flaky silver powder having an average particle diameter of 2 to 20 μm, a tap density (TD) of 2.0 to 7.0 g / cm 3 , and a carbon-containing compound content of 0.5% by mass or less;
(B) silver nanoparticles having an average particle diameter of 10 to 500 nm;
(C) a thermosetting resin;
An electrically conductive paste characterized by containing.
前記(A)成分のフレーク状銀粉と前記(B)成分の銀ナノ粒子の合量に対する各成分の比率が、(A)成分のフレーク状銀粉 50〜95質量%、(B)成分の銀ナノ粒子 5〜50質量%であることを特徴とする請求項1に記載の導電性ペースト。   The ratio of each component to the total amount of the flaky silver powder of the component (A) and the silver nanoparticles of the component (B) is 50 to 95% by mass of the flaky silver powder of the component (A), and the silver nanoparticle of the component (B). The conductive paste according to claim 1, wherein the particle content is 5 to 50% by mass. 前記(A)成分の炭素含有化合物が、長鎖脂肪酸又は長鎖脂肪酸誘導体であることを特徴とする請求項1又は2に記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to claim 1 or 2, wherein the carbon-containing compound of the component (A) is a long chain fatty acid or a long chain fatty acid derivative. チクソ比(25℃における、0.5rpmの粘度と5rpmの粘度の比率)が1.5〜4.5であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to any one of claims 1 to 3, wherein a thixo ratio (ratio of a viscosity of 0.5 rpm to a viscosity of 5 rpm at 25 ° C) is 1.5 to 4.5. . 前記(A)成分のフレーク状銀粉が40〜94.5質量%、前記(B)成分の銀ナノ粒子を5〜50質量%、前記(C)成分の熱硬化性樹脂を0.5〜20質量%、含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の導電性ペースト。   The flaky silver powder of the component (A) is 40 to 94.5% by mass, the silver nanoparticles of the component (B) is 5 to 50% by mass, and the thermosetting resin of the component (C) is 0.5 to 20%. The conductive paste according to claim 1, wherein the conductive paste is contained by mass%. 請求項1〜5のいずれか1項に記載の導電性ペーストを貴金属と接触させた後、100〜300℃で低温焼結して外部電極又は内部電極を形成することを特徴とする電気・電子部品の製造方法。   An electrical / electron comprising: forming the external electrode or the internal electrode by bringing the conductive paste according to any one of claims 1 to 5 into contact with a noble metal, followed by low-temperature sintering at 100 to 300 ° C. A manufacturing method for parts. 請求項1〜5のいずれか1項に記載の導電性ペーストを貴金属と接触させた状態で焼結させて得られる、焼結後の体積抵抗率が1×10−5Ω・cm以下である外部電極又は内部電極を有することを特徴とする電気・電子部品。 The volume resistivity after sintering obtained by sintering the conductive paste according to any one of claims 1 to 5 in contact with a precious metal is 1 × 10 −5 Ω · cm or less. An electric / electronic component having an external electrode or an internal electrode.
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