JP2015150805A - Resin composition for laser engraving, original film for laser engraving type flexographic printing plate and method for manufacturing the same, and flexographic printing plate and method for platemaking the same - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an original film for a laser engraving type flexographic printing plate which can obtain a flexographic printing plate having excellent printing resistance and has excellent engraving sensitivity, thermal stability at the time of manufacture and engraving residue rinsing properties and a method for manufacturing the same; and a method for platemaking a flexographic printing plate; and a resin composition for laser engraving which is suitably used for the original film for the printing plate.SOLUTION: A resin composition for laser engraving contains (component A) polymer particles containing a metathesis catalyst, and (component B) a polymer having an ethylenically unsaturated group.

Description

本発明は、レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版及びその製版方法に関する。   The present invention relates to a resin composition for laser engraving, a laser engraving flexographic printing plate precursor and a method for producing the same, a flexographic printing plate and a method for making the same.

レリーフ形成層をレーザーにより直接彫刻し製版する、いわゆる「直彫りCTP方式」が多く提案されている。この方式では、フレキソ原版に直接レーザーを照射し、光熱変換によりレリーフ形成層に熱分解及び揮発を生じさせ、凹部を形成する。直彫りCTP方式は、原画フィルムを用いたレリーフ形成と異なり、自由にレリーフ形状を制御することができる。このため、抜き文字の如き画像を形成する場合、その領域を他の領域よりも深く彫刻する、又は、微細網点画像では、印圧に対する抵抗を考慮し、ショルダーをつけた彫刻をすることなども可能である。この方式に用いられるレーザーは高出力の炭酸ガスレーザーが用いられることが一般的である。炭酸ガスレーザーの場合、全ての有機化合物が照射エネルギーを吸収して熱に変換できる。一方、安価で小型の半導体レーザーが開発されてきているが、これらは可視及び近赤外光であるため、レーザー光を吸収して熱に変換することが必要となる。
従来のフレキソ印刷版としては、例えば、特許文献1に記載のものが知られている。
Many so-called “direct engraving CTP methods” have been proposed in which a relief forming layer is directly engraved with a laser to make a plate. In this method, the flexographic original plate is directly irradiated with a laser, and thermal decomposition and volatilization are caused in the relief forming layer by photothermal conversion to form a recess. Unlike the relief formation using the original film, the direct engraving CTP method can freely control the relief shape. For this reason, when an image such as a letter is formed, the area is engraved deeper than other areas, or the fine halftone dot image is engraved with a shoulder in consideration of resistance to printing pressure. Is also possible. In general, a high-power carbon dioxide laser is used as a laser for this method. In the case of a carbon dioxide laser, all organic compounds can absorb irradiation energy and convert it into heat. On the other hand, inexpensive and small semiconductor lasers have been developed. However, since these are visible and near infrared light, it is necessary to absorb the laser light and convert it into heat.
As a conventional flexographic printing plate, for example, the one described in Patent Document 1 is known.

特開2007−272080号公報JP 2007-272080 A

本発明が解決しようとする課題は、耐刷性に優れたフレキソ印刷版を得ることができ、彫刻感度、製造時の熱安定性及び彫刻カスのリンス性に優れるレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版及びその製版方法を提供することである。
また、本発明が解決しようとする他の課題は、このような印刷版原版に好適に使用される、レーザー彫刻用樹脂組成物を提供することである。
The problem to be solved by the present invention is that a flexographic printing plate having excellent printing durability can be obtained. It is to provide a manufacturing method thereof, a flexographic printing plate and a plate making method thereof.
Another problem to be solved by the present invention is to provide a resin composition for laser engraving that is suitably used for such a printing plate precursor.

本発明の上記課題は以下の<1>、<8>〜<10>、<14>又は<16>に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である<2>〜<7>、<11>〜<13>及び<15>と共に以下に記載する。
<1>(成分A)メタセシス触媒を含有するポリマー粒子、及び、(成分B)エチレン性不飽和基を有するポリマー、を含有することを特徴とするレーザー彫刻用樹脂組成物、
<2>成分Bの重量平均分子量が、50万以上である、上記<1>に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、
<3>(成分C)架橋剤を更に含有する、上記<1>又は<2>に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、
<4>成分Cが、過酸化物である、上記<3>に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、
<5>成分Bが、20℃においてプラストマーである、上記<1>〜<4>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、
<6>(成分D)光熱変換剤を更に含有する、上記<1>〜<5>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、
<7>成分Dが、カーボンブラックである、上記<6>に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、
<8>上記<1>〜<7>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を有するレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版、
<9>上記<1>〜<7>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を架橋した架橋レリーフ形成層を有するレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版、
<10>上記<1>〜<7>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、及び、前記レリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋し、架橋レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版を得る架橋工程、を含むレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版の製造方法、
<11>上記層形成工程が、上記レーザー彫刻用樹脂組成物を混練する工程、及び、得られた混練物をシート状に成形する工程を含む、上記<10>に記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版の製造方法、
<12>上記シート状に成形する工程が、熱プレス又は押し出しによりシート状に成形する工程である、上記<1>に記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版の製造方法、
<13>上記架橋工程において、上記レリーフ形成層を熱により架橋する、上記<10>〜<12>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版の製造方法、
<14>上記<9>に記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版又は上記<10>〜<13>のいずれか1つに記載の製造方法により製造されたレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版を準備する工程、及び、上記レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版をレーザー彫刻し、レリーフ層を形成する彫刻工程、を含むフレキソ印刷版の製版方法、
<15>上記彫刻工程後、上記レリーフ層表面を水系リンス液によりリンスするリンス工程を更に含む、上記<14>に記載のフレキソ印刷版の製版方法、
<16>上記<14>又は<15>に記載のフレキソ印刷版の製版方法により得られたフレキソ印刷版。
The above-described problems of the present invention have been solved by the means described in <1>, <8> to <10>, <14> or <16> below. It is described below together with <2> to <7>, <11> to <13> and <15> which are preferred embodiments.
<1> A resin composition for laser engraving, comprising (Component A) polymer particles containing a metathesis catalyst, and (Component B) a polymer having an ethylenically unsaturated group,
<2> The resin composition for laser engraving according to <1>, wherein the component B has a weight average molecular weight of 500,000 or more,
<3> (Component C) The resin composition for laser engraving according to <1> or <2>, further containing a crosslinking agent,
<4> The resin composition for laser engraving according to <3>, wherein Component C is a peroxide,
<5> The resin composition for laser engraving according to any one of the above <1> to <4>, wherein Component B is a plastomer at 20 ° C.
<6> (Component D) The resin composition for laser engraving according to any one of <1> to <5>, further containing a photothermal conversion agent,
<7> The resin composition for laser engraving according to <6>, wherein Component D is carbon black,
<8> Laser engraving-type flexographic printing plate precursor having a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving according to any one of <1> to <7> above,
<9> A laser engraving-type flexographic printing plate precursor having a crosslinked relief-forming layer obtained by crosslinking a relief-forming layer made of the resin composition for laser engraving according to any one of the above <1> to <7>,
<10> A layer forming step of forming a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving according to any one of the above <1> to <7>, and the relief forming layer by light and / or heat A method for producing a laser engraving type flexographic printing plate precursor, comprising a crosslinking step of obtaining a flexographic printing plate precursor having a crosslinked relief forming layer by crosslinking
<11> The laser engraving flexographic printing according to <10>, wherein the layer forming step includes a step of kneading the resin composition for laser engraving and a step of molding the obtained kneaded material into a sheet shape. A method for producing an original plate,
<12> The method for producing a laser engraving-type flexographic printing plate precursor according to <1>, wherein the step of forming the sheet into a sheet is a step of forming into a sheet by hot pressing or extrusion,
<13> The method for producing a laser engraving-type flexographic printing plate precursor according to any one of <10> to <12>, wherein the relief forming layer is crosslinked by heat in the crosslinking step,
<14> Prepare the laser engraving type flexographic printing plate precursor described in <9> above or the laser engraving type flexographic printing plate precursor produced by the manufacturing method described in any one of <10> to <13> above. A method for making a flexographic printing plate, comprising: a step, and a engraving step for laser engraving the flexographic printing plate precursor for laser engraving to form a relief layer;
<15> The method for making a flexographic printing plate according to <14>, further comprising a rinsing step of rinsing the relief layer surface with an aqueous rinsing liquid after the engraving step,
<16> A flexographic printing plate obtained by the plate making method of a flexographic printing plate as described in <14> or <15> above.

本発明によれば、耐刷性に優れたフレキソ印刷版を得ることができ、彫刻感度、製造時の熱安定性及び彫刻カスのリンス性に優れるレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版及びその製版方法を提供することができた。
また、本発明によれば、このような印刷版原版に好適に使用される、レーザー彫刻用樹脂組成物を提供することができた。
According to the present invention, a flexographic printing plate excellent in printing durability can be obtained, and a laser engraving type flexographic printing plate precursor excellent in engraving sensitivity, thermal stability during production, and engraving residue rinsing, and a method for producing the same, In addition, a flexographic printing plate and a plate making method thereof could be provided.
Moreover, according to this invention, the resin composition for laser engravings used suitably for such a printing plate precursor could be provided.

以下において、本発明の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本発明において「〜」とは、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
また、本発明において、「(成分A)メタセシス触媒を含有するポリマー粒子」等を、単に「成分A」等ともいう。
更に、本明細書における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
本発明において、「質量部」及び「質量%」はそれぞれ、「重量部」及び「重量%」と同義である。
また、本発明において、好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail. The description of the constituent elements described below may be made based on typical embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments.
In the present invention, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.
In the present invention, “(Component A) polymer particles containing a metathesis catalyst” or the like is also simply referred to as “Component A” or the like.
Furthermore, in the description of the group (atomic group) in this specification, the description which does not describe substitution and unsubstituted includes the thing which has a substituent with the thing which does not have a substituent. For example, the “alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
In the present invention, “parts by mass” and “% by mass” are synonymous with “parts by weight” and “% by weight”, respectively.
Moreover, in this invention, the combination of a preferable aspect is a more preferable aspect.

(レーザー彫刻用樹脂組成物)
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物(以下、単に「樹脂組成物」又は「組成物」ともいう。)は、(成分A)メタセシス触媒を含有するポリマー粒子、及び、(成分B)エチレン性不飽和基を有するポリマー、を含有することを特徴とする。
また、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、熱に対する安定性に優れるため、熱成形に好適に用いることができる。
また、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、後述する(成分C)架橋剤、及び、(成分D)光熱発生剤を更に含有することが好ましい。
更に、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物の全固形分における成分A〜成分Dの総含有量が、80重量%以上であることが好ましく、90重量%以上であることがより好ましく、95重量%以上であることが更に好ましく、98重量%以上であることが特に好ましい。なお、全固形分とは、樹脂組成物を構成する成分から、溶剤などの揮発性成分を除いたものを意味する。
また、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、溶剤を含有しないことが好ましく、また、フレキソ印刷版原版におけるレリーフ形成層を形成する場合、溶剤を使用せず、溶融押し出し法やゴム押し出し法、熱プレス法等の熱成形によりレリーフ形成層を形成することが好ましい。
(Resin composition for laser engraving)
The resin composition for laser engraving of the present invention (hereinafter, also simply referred to as “resin composition” or “composition”) comprises (Component A) polymer particles containing a metathesis catalyst, and (Component B) an ethylenic resin. It contains a polymer having a saturated group.
Moreover, since the resin composition for laser engraving of the present invention is excellent in stability to heat, it can be suitably used for thermoforming.
Moreover, it is preferable that the resin composition for laser engraving of the present invention further contains (Component C) a cross-linking agent and (Component D) a photothermal generator, which will be described later.
Furthermore, the total content of Component A to Component D in the total solid content of the resin composition for laser engraving of the present invention is preferably 80% by weight or more, more preferably 90% by weight or more, and 95% by weight. % Or more is more preferable, and 98% by weight or more is particularly preferable. In addition, total solid means the thing remove | excluding volatile components, such as a solvent, from the component which comprises a resin composition.
Further, the resin composition for laser engraving of the present invention preferably does not contain a solvent, and when forming a relief forming layer in a flexographic printing plate precursor, without using a solvent, a melt extrusion method or a rubber extrusion method, The relief forming layer is preferably formed by thermoforming such as hot pressing.

本発明者が鋭意検討した結果、レーザー彫刻用樹脂組成物が成分A及び成分Bを含有することにより、耐刷性に優れたフレキソ印刷版を得ることができ、レーザー彫刻感度、印刷版原版製造時の熱安定性及びレーザー彫刻時に発生する彫刻カスのリンス性に優れるレーザー彫刻用樹脂組成物を提供することができることを見出した。
詳細な機構は不明であるが、メタセシス触媒をポリマー粒子に含有させて樹脂組成物に添加することにより、ポリマー粒子により耐刷性に優れると共に、樹脂組成物がメタセシス触媒を含有していても熱安定性に優れ、かつレーザー彫刻感度及び彫刻カスのリンス性にも優れると、本発明者は推定している。
また、ポリマー粒子中のメタセシス触媒は、レーザー彫刻時及び/又はレーザー彫刻後の彫刻カス等の分解物中で機能するものと、本発明者は推定している。
As a result of intensive studies by the present inventor, the resin composition for laser engraving contains component A and component B, whereby a flexographic printing plate excellent in printing durability can be obtained, and laser engraving sensitivity, printing plate precursor production It has been found that it is possible to provide a resin composition for laser engraving which is excellent in thermal stability at the time and rinsing property of engraving residue generated during laser engraving.
Although the detailed mechanism is unknown, by adding the metathesis catalyst to the polymer composition and adding it to the resin composition, the polymer particle has excellent printing durability, and even if the resin composition contains the metathesis catalyst, The present inventor presumes that it is excellent in stability, laser engraving sensitivity and engraving residue rinsing properties.
Further, the present inventor presumes that the metathesis catalyst in the polymer particles functions in a decomposition product such as engraving residue during laser engraving and / or after laser engraving.

なお、本明細書では、フレキソ印刷版原版の説明に関し、上記成分A及び成分Bを含有し、レーザー彫刻に供する画像形成層としての、表面が平坦な層であり、かつ未架橋の架橋性層をレリーフ形成層といい、上記レリーフ形成層を架橋した層を架橋レリーフ形成層といい、これをレーザー彫刻して表面に凹凸を形成した層をレリーフ層という。
以下、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物に含有される成分について説明する。
In the present specification, regarding the description of the flexographic printing plate precursor, the component A and the component B are contained, and the surface is a flat layer as an image forming layer to be subjected to laser engraving and is an uncrosslinked crosslinkable layer Is called a relief forming layer, a layer obtained by crosslinking the relief forming layer is called a crosslinked relief forming layer, and a layer in which irregularities are formed on the surface by laser engraving is called a relief layer.
Hereinafter, the components contained in the resin composition for laser engraving of the present invention will be described.

(成分A)メタセシス触媒を含有するポリマー粒子
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、(成分A)メタセシス触媒を含有するポリマー粒子を含有する。
本発明に用いることができるメタセシス触媒とは、下記の反応(A及びBはそれぞれ独立に、有機官能基、ハロゲン原子又は水素原子を表す。)を触媒できる化合物であれば、特に制限はないが、参考文献:R. H. Grubbs著「Handbook of Metathesis Vo. 1〜3」(2003年 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KgaA, Weinheim出版)に記載の化合物に代表されるものなどが挙げられる。
(Component A) Polymer Particles Containing Metathesis Catalyst The resin composition for laser engraving of the present invention contains (Component A) polymer particles containing a metathesis catalyst.
The metathesis catalyst that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound that can catalyze the following reactions (A and B each independently represents an organic functional group, a halogen atom, or a hydrogen atom). References: RH Grubbs, "Handbook of Metathesis Vo. 1-3" (2003 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KgaA, published by Weinheim), and the like.

Figure 2015150805
Figure 2015150805

本発明におけるメタセシス触媒の作用機構は定かではないが、以下のように推定される。
メタセシス触媒によりポリブタジエンのようなポリマーを分解する場合(下図)、まずメタセシス触媒(;下図のMがメタセシス触媒を表す)がポリマー主鎖に挿入され、メタセシス触媒がポリマー主鎖に付加した形態になる(下図(A))。その後、このポリマーが別のポリマー分子と反応し(下図(B))、メタセシス反応によるポリマー主鎖の分解を引き起こす(下図(C))。このような機構でポリマー主鎖の分解(言い換えれば組成物の分解)を引き起こしていると推定される。
The mechanism of action of the metathesis catalyst in the present invention is not clear, but is estimated as follows.
When a polymer such as polybutadiene is decomposed by a metathesis catalyst (lower figure), first, the metathesis catalyst (; M in the lower figure represents the metathesis catalyst) is inserted into the polymer main chain, and the metathesis catalyst is added to the polymer main chain. (Figure (A) below). Then, this polymer reacts with another polymer molecule (lower figure (B)), causing degradation of the polymer main chain by a metathesis reaction (lower figure (C)). It is presumed that this mechanism causes degradation of the polymer main chain (in other words, degradation of the composition).

Figure 2015150805
Figure 2015150805

本発明に用いることができるメタセシス触媒としては、公知のメタセシス触媒が挙げられ、例えば、フィッシャー型カルベン錯体、シュロック型カルベン錯体、テッベ試薬、グラブス触媒、ホベイダ−グラブス触媒、ピアーズ−グラブス触媒、ブッフマイザー−ヌイケン触媒、グレラ触媒等が好ましく挙げられ、グラブス触媒(第1世代、第2世代及び第3世代)、グラブス−ホベイダ触媒(第1世代及び第2世代)がより好ましく挙げられる。
また、本発明に用いることができるメタセシス触媒は、遷移金属触媒であることが好ましく、4〜8族の遷移金属触媒であることがより好ましく、6〜8族の遷移金属触媒であることが更に好ましく、8族の遷移金属触媒であることが特に好ましく、ルテニウム触媒であることが最も好ましい。
また、メタセシス触媒は、カルベン錯体であることが好ましい。
また、本発明に用いることができるメタセシス触媒としては、参考文献:R. H. Grubbs著「Handbook of Metathesis Vo. 1〜3」(2003年 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KgaA, Weinheim出版)に記載のものが代表例として挙げられる。
メタセシス触媒は、ポリマー担体や無機担体に担持又は結合したものであってもよい。
Examples of the metathesis catalyst that can be used in the present invention include known metathesis catalysts such as Fischer-type carbene complexes, Schrock-type carbene complexes, Tebbe reagents, Grubbs catalysts, Hoveyda-Grubbs catalysts, Piers-Grubbs catalysts, Buffs. Preferred examples include a Mizer-Neuken catalyst and a glera catalyst, and more preferred examples include a Grubbs catalyst (first generation, second generation and third generation) and a Grubbs-Hoveyda catalyst (first generation and second generation).
The metathesis catalyst that can be used in the present invention is preferably a transition metal catalyst, more preferably a group 4-8 transition metal catalyst, and further preferably a group 6-8 transition metal catalyst. A group 8 transition metal catalyst is preferable, and a ruthenium catalyst is most preferable.
The metathesis catalyst is preferably a carbene complex.
Further, as a metathesis catalyst that can be used in the present invention, a reference document described in “Handbook of Metathesis Vo. 1-3” by RH Grubbs (2003 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KgaA, published by Weinheim). Is given as a representative example.
The metathesis catalyst may be supported or bonded to a polymer carrier or an inorganic carrier.

メタセシス触媒の触媒能の高さという観点から、メタセシス触媒は下記式(1)で表される触媒であることが好ましい。   From the viewpoint of high catalytic performance of the metathesis catalyst, the metathesis catalyst is preferably a catalyst represented by the following formula (1).

Figure 2015150805
Figure 2015150805

式中、Mは、Os又はRuを表し、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、無置換若しくは1つ以上のアリール基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜20のアルコキシ基若しくは炭素数2〜20のアルコキシカルボニル基で置換されたアルキル基、無置換若しくは1つ以上の炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜20のアルコキシ基若しくは炭素数2〜20のアルコキシカルボニル基で置換されたアルケニル基、又は、無置換若しくは1つ以上の炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、炭素数1〜5のアルコキシ基、アミノ基、ニトロ基若しくはハロゲン原子で置換されたアリール基を表し、X及びXはそれぞれ独立に、アニオン配位子を表し、L及びLはそれぞれ独立に、中性配位子を表し、また、RとLとが結合していてもよい。 In the formula, M represents Os or Ru, and R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an unsubstituted or one or more aryl group, a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or An alkyl group substituted with an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, unsubstituted or one or more alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or An alkenyl group substituted with an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, or an unsubstituted or one or more alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, aryl group, hydroxy group, alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, amino Represents an aryl group substituted with a group, a nitro group or a halogen atom, X and X 1 each independently represent an anionic ligand, L and L Each 1 independently represents a neutral ligand, and R 2 and L 1 may be bonded to each other.

Mは、触媒能及び空気中での安定性の観点から、Ruであることが好ましい。
触媒能及び空気中での安定性の観点から、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、無置換若しくは1つ以上の炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜20のアルコキシ基若しくは炭素数2〜20のアルコキシカルボニル基で置換されたアルケニル基、又は、無置換若しくは1つ以上の炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、炭素数1〜5のアルコキシ基、アミノ基、ニトロ基若しくはハロゲン原子で置換されたアリール基であることが好ましく、水素原子、フェニル基、2,2−ジフェニルエテニル基、2−メチル−1−プロペニル基、又は、2−イソプロポキシフェニル基であることがより好ましい。
及びRの少なくとも1方は、水素原子であることが好ましい。
また、R及びRの少なくとも1方は、フェニル基、2,2−ジフェニルエテニル基、又は、2−メチル−1−プロペニル基であることが好ましい。
X及びXはそれぞれ独立に、Mと共有結合性のアニオン配位子であってもよいし、イオン結合性のアニオン配位子であってもよい。
X及びXはそれぞれ独立に、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、テトラアリールボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオン、硫酸水素イオン、硝酸イオン、亜硝酸イオン、リン酸イオン、リン酸水素イオン、リン酸二水素イオン、又は、カルボキシレートイオンであることが好ましく、ハロゲン化物イオンであることがより好ましく、塩化物イオンであることが特に好ましい。
また、X及びXは、合成上の観点から、同じ基であることが好ましい。
L及びLは結合して、二座の中性配位子であってもよい。
L及びLはそれぞれ独立に、ホスフィン化合物、イミダゾリン−2−イリデン化合物、アルキン化合物、アルシン化合物、β−ジケトン化合物、ケトエステル化合物、エーテル化合物、アミン化合物、ピリジン化合物、又は、イソニトリル化合物であることが好ましく、ホスフィン化合物、又は、イミダゾリン−2−イリデン化合物であることがより好ましい。
また、RとLとが結合する場合は、Rとして、置換基を有していてもよい2−アルコキシフェニル基であることが好ましく、2−イソプロポキシフェニル基、2−イソプロポキシ−5−ジメチルアミノスルホニルフェニル基、2−イソプロポキシ−5−アセトキシフェニル基、又は、2−イソプロポキシ−5−トリフルオロアセトキシフェニル基であることが更に好ましく、2−イソプロポキシフェニル基であることが特に好ましい。
また、触媒能及び空気中での安定性の観点から、L及びLの少なくとも1方は、ホスフィン化合物、又は、イミダゾリン−2−イリデン化合物であることが好ましく、トリシクロヘキシルホスフィン、1,3−ジメシチルイミダゾリン−2−イリデン、又は、1,3−ジ−o−トルイルイミダゾリン−2−イリデンであることがより好ましく、トリシクロヘキシルホスフィン、又は、1,3−ジメシチルイミダゾリン−2−イリデンであることが更に好ましい。
M is preferably Ru from the viewpoint of catalytic ability and stability in air.
From the viewpoint of catalytic ability and stability in air, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, an unsubstituted or one or more alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, a halogen atom, a hydroxy group. An alkenyl group substituted with an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms or an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, or an unsubstituted or one or more alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, a hydroxy group, An alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, an amino group, a nitro group, or an aryl group substituted with a halogen atom is preferable, and a hydrogen atom, a phenyl group, a 2,2-diphenylethenyl group, 2-methyl-1- More preferably, it is a propenyl group or a 2-isopropoxyphenyl group.
At least one of R 1 and R 2 is preferably a hydrogen atom.
Further, at least one of R 1 and R 2 is preferably a phenyl group, a 2,2-diphenylethenyl group, or a 2-methyl-1-propenyl group.
X and X 1 may each independently be an anionic ligand that is covalently bonded to M or an anionic ligand that is ion-bonded.
X and X 1 are each independently a halide ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, tetraarylborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, thiosulfonate ion, sulfate ion, hydrogen sulfate It is preferably an ion, nitrate ion, nitrite ion, phosphate ion, hydrogen phosphate ion, dihydrogen phosphate ion, or carboxylate ion, more preferably a halide ion, and a chloride ion. It is particularly preferred.
X and X 1 are preferably the same group from the viewpoint of synthesis.
L and L 1 may be combined to be a bidentate neutral ligand.
L and L 1 are each independently a phosphine compound, an imidazoline-2-ylidene compound, an alkyne compound, an arsine compound, a β-diketone compound, a ketoester compound, an ether compound, an amine compound, a pyridine compound, or an isonitrile compound. Preferably, it is a phosphine compound or an imidazoline-2-ylidene compound.
When R 2 and L 1 are bonded, R 2 is preferably a 2-alkoxyphenyl group which may have a substituent, such as 2-isopropoxyphenyl group, 2-isopropoxy- 5-dimethylaminosulfonylphenyl group, 2-isopropoxy-5-acetoxyphenyl group, or 2-isopropoxy-5-trifluoroacetoxyphenyl group is more preferable, and 2-isopropoxyphenyl group is preferable. Particularly preferred.
Further, from the viewpoint of catalytic ability and stability in air, at least one of L and L 1 is preferably a phosphine compound or an imidazoline-2-ylidene compound, and tricyclohexylphosphine, 1,3- Dimesitylimidazoline-2-ylidene or 1,3-di-o-toluylimidazoline-2-ylidene is more preferable, and tricyclohexylphosphine or 1,3-dimesitylimidazoline-2-ylidene More preferably.

以下に、本発明で用いるメタセシス触媒の好ましい具体例を挙げるが、全てこれに限定されるわけではない。下式中、Meはメチル基を表し、t−Buはt−ブチル基を表し、Cyはシクロヘキシル基を表し、Arはアリール基を表し、Phはフェニル基を表し、Prはイソプロピル基を表し、Cpsはシクロペンチル基を表し、Mesはメシチル基(1,3,5−トリメチルフェニル基)を表す。   Although the preferable specific example of the metathesis catalyst used by this invention is given to the following, it is not necessarily limited to this. In the following formulae, Me represents a methyl group, t-Bu represents a t-butyl group, Cy represents a cyclohexyl group, Ar represents an aryl group, Ph represents a phenyl group, Pr represents an isopropyl group, Cps represents a cyclopentyl group, and Mes represents a mesityl group (1,3,5-trimethylphenyl group).

Figure 2015150805
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成分Aのポリマー粒子に用いることができるポリマーとしては、特に制限はなく、公知のポリマーを用いることができるが、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリウレア樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、又は、これらの混合物であることが好ましく、ポリウレタン樹脂であることがより好ましい。
成分Aのポリマー粒子に用いることができるポリマーは、エチレン性不飽和基を有しないことが好ましい。
また、成分Aのポリマー粒子に用いることができるポリマーは、架橋ポリマーであることが好ましい。すなわち、成分Aは、メタセシス触媒を含有する架橋ポリマー粒子(以下、「ミクロゲル」ともいう。)であることが好ましい。架橋したポリマーを用いることで、彫刻カスのリンス性及び印刷版の耐刷性により優れる。
中でも、成分Aは、架橋ポリウレタン樹脂粒子であることが特に好ましい。
また、成分Aにおけるポリマー粒子は、コアシェル型のポリマー粒子であってもよい。シェル層は、1層であっても、2層以上であってもよい。
There is no restriction | limiting in particular as a polymer which can be used for the polymer particle of a component A, Although a well-known polymer can be used, a polyurethane resin, an acrylic resin, a polyurea resin, a polyester resin, a polycarbonate resin, a polyamide resin, or these Preferably, it is a polyurethane resin.
The polymer that can be used for the polymer particles of component A preferably has no ethylenically unsaturated groups.
The polymer that can be used for the polymer particles of component A is preferably a crosslinked polymer. That is, Component A is preferably crosslinked polymer particles containing a metathesis catalyst (hereinafter also referred to as “microgel”). By using a crosslinked polymer, the engraving residue rinsing property and the printing plate durability are excellent.
Among them, the component A is particularly preferably a crosslinked polyurethane resin particle.
The polymer particles in component A may be core-shell type polymer particles. The shell layer may be a single layer or two or more layers.

成分Aの製造方法としては、特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。例えば、ポリマーにメタセシス触媒を混合した後、粒子化する方法や、得られた粒子にシェルを更に形成する方法、ポリマー合成に使用する重合性化合物にメタセシス触媒を混合しておき、重合を行い、更に粒子化する方法、水相に分散したポリマー合成に使用する重合性化合物やオリゴマー、ポリマー等を含む油相中にメタセシス触媒を混合しておき、必要に応じて乳化重合を行い、油相中の溶剤を除去し、粒子を製造する方法等が挙げられる。
また、メタセシス触媒を含有する架橋ポリマー粒子を製造する方法としては、下記のミクロゲル(1)の製造方法、及び、ミクロゲル(2)の製造方法を好適に挙げることができる。
There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the component A, A well-known method can be used. For example, after mixing a metathesis catalyst with a polymer, a method of forming particles, a method of further forming a shell on the obtained particles, a metathesis catalyst mixed with a polymerizable compound used for polymer synthesis, polymerization is performed, Further, a metathesis catalyst is mixed in an oil phase containing a polymerizable compound, oligomer, polymer, etc. used for the synthesis of a polymer dispersed in an aqueous phase, and emulsion polymerization is performed as necessary. And a method of producing particles by removing the solvent.
Moreover, as a method of manufacturing the crosslinked polymer particle containing a metathesis catalyst, the manufacturing method of the following microgel (1) and the manufacturing method of microgel (2) can be mentioned suitably.

−ミクロゲル(1)の製造方法−
ミクロゲル(1)は、2個以上のイソシアネート基を有する多官能イソシアネート化合物を水と非混和性の溶剤に溶解させ、この溶液を、イソシアネート基と反応しうる活性水素基を片末端に1つ以上有する親水性ポリマーを含む水溶液に乳化分散させた後、乳化分散液の油滴から溶剤を除去することにより製造される。
-Manufacturing method of microgel (1)-
In the microgel (1), a polyfunctional isocyanate compound having two or more isocyanate groups is dissolved in a water-immiscible solvent, and this solution is dissolved in one or more active hydrogen groups capable of reacting with isocyanate groups at one end. It is manufactured by emulsifying and dispersing in an aqueous solution containing the hydrophilic polymer having, and then removing the solvent from the oil droplets of the emulsified dispersion.

ミクロゲル(1)の製造方法は、操作としては公知の方法が適用できる。すなわち、水と混和しない溶剤に溶解するイソシアネート化合物であり、かつイソシアネート基を2以上有する多官能イソシアネート化合物を水と非混和性の溶剤に溶かした油相溶液と、イソシアネート基と反応しうる活性水素基を片末端に1以上有する親水性ポリマーを含む水溶液を調製した後、両者を混合し、ホモジナイザーなどの乳化分散機を用いて、例えば、12,000rpmで10〜15分間激しく撹拌混合して水相中に油滴を乳化分散する。次いで、得られた乳化分散物を加熱撹拌して溶剤を蒸発させることにより、目的とするミクロゲル粒子の水分散物が得られる。   As a method for producing the microgel (1), a known method can be applied as an operation. That is, an isocyanate compound that is soluble in a solvent immiscible with water, an oil phase solution in which a polyfunctional isocyanate compound having two or more isocyanate groups is dissolved in a solvent immiscible with water, and active hydrogen capable of reacting with isocyanate groups After preparing an aqueous solution containing a hydrophilic polymer having one or more groups at one end, both are mixed, and vigorously stirred and mixed, for example, at 12,000 rpm for 10 to 15 minutes using an emulsifier / disperser such as a homogenizer. Oil droplets are emulsified and dispersed in the phase. Next, the obtained emulsified dispersion is heated and stirred to evaporate the solvent, whereby an objective aqueous dispersion of microgel particles is obtained.

水相には、イソシアネート基と反応しうる活性水素基を片末端に1つ以上有する親水性ポリマー以外に、分子中に2以上の活性水素原子を有する化合物を添加することが好ましい。この様な化合物としては、例えば水の他、エチレングリコール、グリセリン等の多価アルコール系化合物、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン等の多価アミン系化合物等、又はこれらの混合物等が挙げられる。更に、乳化分散安定性向上のため、界面活性剤を含有することが好ましい。   In addition to the hydrophilic polymer having at least one active hydrogen group capable of reacting with an isocyanate group at one end, a compound having two or more active hydrogen atoms in the molecule is preferably added to the aqueous phase. Examples of such compounds include water, polyhydric alcohol compounds such as ethylene glycol and glycerin, polyhydric amine compounds such as ethylenediamine and diethylenetriamine, and mixtures thereof. Furthermore, it is preferable to contain a surfactant in order to improve emulsion dispersion stability.

次に、2以上のイソシアネート基を有する多官能イソシアネート化合物について説明する。
この様な化合物の具体例として、例えば分子中に2個のイソシアネート基を有する2官能化合物としては、m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、ナフタレン−1,4−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート、3,3’−ジメトキシビフェニルジイソシアネート、3,3’−ジメチルジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート、キシリレン−1,4−ジイソシアネート、キシリレン−1,3−ジイソシアネート、4−クロロキシリレン−1,3−ジイソシアネート、2−メチルキシリレン−1,3−ジイソシアネート、4,4’−ジフェニルプロパンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルヘキサフルオロプロパンジイソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、プロピレン−1,2−ジイソシアネート、ブチレン−1,2−ジイソシアネート、シクロヘキシレン−1,2−ジイソシアネート、シクロヘキシレン−1,3−ジイソシアネート、シクロヘキシレン−1,4−ジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート、1,4−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、イソホロンジイソシアネート、リジンジイソシアネート等が挙げられる。
Next, a polyfunctional isocyanate compound having two or more isocyanate groups will be described.
Specific examples of such a compound include, for example, m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, as a bifunctional compound having two isocyanate groups in the molecule. Isocyanate, naphthalene-1,4-diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate, 3,3′-dimethoxybiphenyl diisocyanate, 3,3′-dimethyldiphenylmethane-4,4′-diisocyanate, xylylene-1,4-diisocyanate , Xylylene-1,3-diisocyanate, 4-chloroxylylene-1,3-diisocyanate, 2-methylxylylene-1,3-diisocyanate, 4,4′-diphenylpropane diisocyanate, 4,4′-diphenylhexafluoro Propane diisocyanate, trimethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, propylene-1,2-diisocyanate, butylene-1,2-diisocyanate, cyclohexylene-1,2-diisocyanate, cyclohexylene-1,3-diisocyanate, cyclohexylene-1, Examples include 4-diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate, 1,4-bis (isocyanatemethyl) cyclohexane, 1,3-bis (isocyanatemethyl) cyclohexane, isophorone diisocyanate, and lysine diisocyanate.

本発明では更に3官能以上のイソシアネート化合物も利用できる。この様な化合物の例としては前述の2官能イソシアネート化合物を主原料としこれらの3量体(ビューレット又はイソシアヌレート)、トリメチロールプロパンなどのポリオールと2官能イソシアネート化合物の付加体として多官能としたもの、ベンゼンイソシアネートのホルマリン縮合物、メタクリロイルオキシエチルイソシアネート等の重合性基を有するイソシアネート化合物の重合体、リジントリイソシアネートなども用いることができる。特に、キシレンジイソシアネート及びその水添物、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート及びその水添物を主原料としこれらの3量体(ビューレット又はイソシヌレート)の他、トリメチロールプロパンとのアダクト体として多官能としたものが好ましい。これらの化合物については「ポリウレタン樹脂ハンドブック」(岩田敬治編、日刊工業新聞社発行(1987))に記載されている。   In the present invention, trifunctional or higher functional isocyanate compounds can also be used. As an example of such a compound, the above-mentioned bifunctional isocyanate compound is used as a main raw material, these trimers (burette or isocyanurate), a polyfunctional adduct of a polyol such as trimethylolpropane and a bifunctional isocyanate compound. , Benzene isocyanate formalin condensate, polymers of isocyanate compounds having a polymerizable group such as methacryloyloxyethyl isocyanate, lysine triisocyanate, and the like can also be used. In particular, xylene diisocyanate and its hydrogenated product, hexamethylene diisocyanate, tolylene diisocyanate and its hydrogenated product are used as the main raw materials, and in addition to these trimers (burette or isosinurate), it is polyfunctional as an adduct with trimethylolpropane. These are preferred. These compounds are described in “Polyurethane Resin Handbook” (edited by Keiji Iwata, published by Nikkan Kogyo Shimbun (1987)).

これらの中でも、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、キシリレン−1,4−ジイソシアネート、キシリレン−1,3−ジイソシアネート、トリメチロールプロパンとキシリレン−1,4−ジイソシアネート又はキシリレン−1,3−ジイソシアネートとの付加物が好ましく、キシリレン−1,4−ジイソシアネート、キシリレン−1,3−ジイソシアネート、トリメチロールプロパンとキシリレン−1,4−ジイソシアネート又はキシリレン−1,3−ジイソシアネートとの付加物が特に好ましい。   Among these, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, xylylene-1,4-diisocyanate, xylylene-1,3-diisocyanate, trimethylolpropane and xylylene-1,4-diisocyanate or xylylene- Adducts with 1,3-diisocyanate are preferred, addition of xylylene-1,4-diisocyanate, xylylene-1,3-diisocyanate, trimethylolpropane and xylylene-1,4-diisocyanate or xylylene-1,3-diisocyanate The product is particularly preferred.

次に、イソシアネート基と反応しうる活性水素基を片末端に1つ以上有する親水性ポリマーについて説明する。
イソシアネート基と反応しうる活性水素基としては、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基、カルボキシ基等が挙げられる。中でも、ヒドロキシ基、アミノ基が特に好ましい。この様な活性水素基を有する親水性ポリマーとしては特に限定されないが、例えば、片末端に活性水素基を有するポリエーテル等が好ましく挙げられる。
上記親水性ポリマーの重量平均分子量(Mw)は、300〜500,000であることが好ましく、500〜100,000であることが更に好ましい。上記範囲であると、保護コロイドとして十分な機能を有し、マイクロカプセルの分散安定性が確保でき、また、表面の親水性も十分得られる。
Next, a hydrophilic polymer having at least one active hydrogen group capable of reacting with an isocyanate group at one end will be described.
Examples of the active hydrogen group that can react with the isocyanate group include a hydroxy group, an amino group, a mercapto group, and a carboxy group. Of these, a hydroxy group and an amino group are particularly preferable. Although it does not specifically limit as such a hydrophilic polymer which has an active hydrogen group, For example, the polyether etc. which have an active hydrogen group in one terminal are mentioned preferably.
The hydrophilic polymer has a weight average molecular weight (Mw) of preferably 300 to 500,000, and more preferably 500 to 100,000. When it is in the above range, it has a sufficient function as a protective colloid, can ensure the dispersion stability of the microcapsules, and can sufficiently obtain the hydrophilicity of the surface.

親水性ポリマーの具体例としては、ポリエーテル系としては、例えば、ポリエチレンオキシド、エチレンオキシド・プロピレンオキシド共重合体等が挙げられる。これらのポリマーは、例えばアルコール、アルコキシド、カルボン酸、カルボン酸塩等を重合開始末端としてエチレンオキシド、プロピレンオキシド等の環状化合物を開環重合し、重合開始末端を従来公知の反応(例えば、加水分解反応、還元反応など)により活性水素基であるヒドロキシ基やアミノ基等に変換することで合成できる。また、片末端に活性水素基を有するポリエーテルも利用できる。これらの中でもポリエチレンオキシドのモノエーテル体(該モノエーテルとしてはモノメチルエーテル、モノエチルエーテル等が挙げられる。)、ポリエチレンオキシドのモノエステル体(該モノエステルとしてはモノ酢酸エステル、モノ(メタ)アクリル酸エステル等が挙げられる。)がより好ましい。   Specific examples of the hydrophilic polymer include polyether oxides such as polyethylene oxide and ethylene oxide / propylene oxide copolymers. These polymers are, for example, ring-opening polymerization of a cyclic compound such as ethylene oxide and propylene oxide using alcohol, alkoxide, carboxylic acid, carboxylate, etc. as a polymerization initiation terminal, and the polymerization initiation terminal at a conventionally known reaction (for example, hydrolysis reaction). , Reduction reaction, etc.) can be synthesized by converting into an active hydrogen group such as hydroxy group or amino group. A polyether having an active hydrogen group at one end can also be used. Among these, polyethylene oxide monoethers (the monoethers include monomethyl ether, monoethyl ether, etc.), polyethylene oxide monoesters (the monoesters include monoacetate, mono (meth) acrylic acid) And esters are preferred.).

多官能イソシアネート化合物と親水性ポリマーとの使用量比率は、イソシアネート基と活性水素基とのモル比で100/1〜100/60が好ましく、100/2〜100/30が更に好ましく、100/5〜100/20が最も好ましい。上記範囲であると、分散安定性が良好で、壁架橋密度が低下することなく内包物漏れ出しが生じずに耐汚れ性も良好である。   The usage ratio of the polyfunctional isocyanate compound and the hydrophilic polymer is preferably 100/1 to 100/60, more preferably 100/2 to 100/30, more preferably 100/5 in terms of the molar ratio of isocyanate groups to active hydrogen groups. ~ 100/20 is most preferred. Within the above range, the dispersion stability is good, the wall crosslink density is not lowered, the inclusion leakage does not occur, and the stain resistance is also good.

−ミクロゲル(2)の製造方法−
ミクロゲル(2)は、3以上のイソシアネート基を有するオリゴマー又はポリマーと、3以上のヒドロキシ基を有するオリゴマー又はポリマーとをメタセシス触媒と共に溶剤に溶解及び/又は分散した油相を、水相中へ分散し、溶剤及び水相を順次除去することにより製造される。
3以上のイソシアネート基を有するオリゴマー又はポリマーとしては、3官能以上のポリオール化合物と2官能イソシアネート化合物との付加体であることが好ましく、3官能ポリオール化合物と2官能イソシアネート化合物との付加体であることがより好ましく、3官能フェノール化合物と2官能イソシアネート化合物との付加体であることが更に好ましい。
3以上のヒドロキシ基を有するオリゴマー又はポリマーとしては、3官能以上のポリオール化合物と2官能イソシアネート化合物と1官能アルコール化合物との付加体であることが好ましく、3官能ポリオール化合物と2官能イソシアネート化合物と1官能アルコール化合物との付加体であることがより好ましく、3官能ポリオール化合物と2官能イソシアネート化合物とポリアルキレングリコールモノアルキルエーテルとの付加体であることが更に好ましい。
-Manufacturing method of microgel (2)-
In the microgel (2), an oil phase in which an oligomer or polymer having three or more isocyanate groups and an oligomer or polymer having three or more hydroxy groups are dissolved and / or dispersed in a solvent together with a metathesis catalyst is dispersed in an aqueous phase. In this case, the solvent and the aqueous phase are sequentially removed.
The oligomer or polymer having three or more isocyanate groups is preferably an adduct of a trifunctional or higher functional polyol compound and a bifunctional isocyanate compound, and is an adduct of a trifunctional polyol compound and a bifunctional isocyanate compound. Is more preferable, and an adduct of a trifunctional phenol compound and a bifunctional isocyanate compound is still more preferable.
The oligomer or polymer having 3 or more hydroxy groups is preferably an adduct of a trifunctional or higher functional polyol compound, a bifunctional isocyanate compound and a monofunctional alcohol compound, and a trifunctional polyol compound, a bifunctional isocyanate compound and 1 More preferred are adducts with functional alcohol compounds, and even more preferred are adducts of trifunctional polyol compounds, bifunctional isocyanate compounds and polyalkylene glycol monoalkyl ethers.

ミクロゲル(2)の製造に使用する2官能イソシアネート化合物としては、上述したものが好ましく挙げられ、中でも、イソホロンジイソシアネート、キシリレン−1,4−ジイソシアネート、キシリレン−1,3−ジイソシアネートがより好ましく挙げられる。
ミクロゲル(2)の製造に使用する3官能以上のポリオール化合物としては、グリセロール、2−メチルプロパントリオール、2−メチル−1,2,4−ブタントリオール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ソルビトール、1,2,3,6−ヘキサンテトロール、1,4−ソルビタン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、1,2,4−ブタントリオール、1,2,5−ペンタントリオール等が挙げられる。
また、上記に加え、3官能以上のフェノール化合物としては、3つ以上のフェノール性水酸基を1つの芳香環に有する化合物、1つのフェノール性水酸基を有する芳香環を3以上有する化合物等が挙げられる。
ミクロゲル(2)の製造に使用する1官能アルコール化合物としては、水相への溶解性が小さい、炭素数8以上の1官能アルコール化合物が好ましい。また、1官能アルコール化合物としては、ポリアルキレングリコールモノアルキルエーテル化合物が好ましく挙げられ、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル又はポリプロピレングリコールモノアルキルエーテルがより好ましく挙げられる。
Preferred examples of the bifunctional isocyanate compound used in the production of the microgel (2) include those described above, and among them, isophorone diisocyanate, xylylene-1,4-diisocyanate, and xylylene-1,3-diisocyanate are more preferable.
Examples of the tri- or higher functional polyol compound used for the production of the microgel (2) include glycerol, 2-methylpropanetriol, 2-methyl-1,2,4-butanetriol, trimethylolethane, trimethylolpropane, sorbitol, , 2,3,6-hexanetetrol, 1,4-sorbitan, pentaerythritol, dipentaerythritol, tripentaerythritol, 1,2,4-butanetriol, 1,2,5-pentanetriol and the like.
In addition to the above, examples of the trifunctional or higher functional phenol compound include a compound having three or more phenolic hydroxyl groups in one aromatic ring, a compound having three or more aromatic rings having one phenolic hydroxyl group, and the like.
As the monofunctional alcohol compound used for the production of the microgel (2), a monofunctional alcohol compound having a low solubility in an aqueous phase and having 8 or more carbon atoms is preferable. Moreover, as a monofunctional alcohol compound, a polyalkylene glycol monoalkyl ether compound is mentioned preferably, A polyethylene glycol monoalkyl ether or a polypropylene glycol monoalkyl ether is mentioned more preferably.

上記ポリマー粒子の平均一次粒径は、0.01〜5.0μmが好ましく、0.05〜4.0μmがより好ましく、0.10〜3.0μmが更に好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。
上記ポリマー粒子中のメタセシス触媒の含有量は、ミクロゲルへの合成しやすさと彫刻感度の観点から、ポリマー粒子の全質量に対し、0.001〜1質量%であることが好ましく、0.005〜0.5質量%であることがより好ましく、0.01〜0.1質量%であることが更に好ましい。
また、成分Aの含有量は、耐刷性及び彫刻感度の観点から、樹脂組成物の全固形分に対し、0.1〜60質量%であることが好ましく、1〜40質量%であることがより好ましく、5〜30質量%であることが更に好ましい。
The average primary particle size of the polymer particles is preferably 0.01 to 5.0 μm, more preferably 0.05 to 4.0 μm, still more preferably 0.10 to 3.0 μm, and 0.10 to 1.0 μm. Particularly preferred.
The content of the metathesis catalyst in the polymer particles is preferably 0.001 to 1% by mass with respect to the total mass of the polymer particles, from the viewpoint of ease of synthesis into microgel and engraving sensitivity, More preferably, it is 0.5 mass%, and it is still more preferable that it is 0.01-0.1 mass%.
Moreover, it is preferable that content of the component A is 0.1-60 mass% with respect to the total solid of a resin composition from a viewpoint of printing durability and engraving sensitivity, and it is 1-40 mass%. Is more preferable, and it is still more preferable that it is 5-30 mass%.

(成分B)エチレン性不飽和基を有するポリマー
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、(成分B)エチレン性不飽和基を有するポリマー(以下、「バインダーポリマー」ともいう。)を含有する。
成分Bは、ブタジエンやイソプレン等の共役ジエン由来のモノマー単位を有するポリマーであることが好ましい。
また、成分Bは、ポリブタジエン構造を有するポリマー、ポリイソプレン構造を有するポリマー、及び、ウレタン(メタ)アクリレートよりなる群から選ばれたポリマーであることが好ましい。
成分Bは、非水溶性のポリマーであることが好ましい。
(Component B) Polymer having an ethylenically unsaturated group The resin composition for laser engraving of the present invention contains (Component B) a polymer having an ethylenically unsaturated group (hereinafter also referred to as “binder polymer”).
Component B is preferably a polymer having monomer units derived from conjugated dienes such as butadiene and isoprene.
Component B is preferably a polymer selected from the group consisting of a polymer having a polybutadiene structure, a polymer having a polyisoprene structure, and urethane (meth) acrylate.
Component B is preferably a water-insoluble polymer.

成分Bは、主鎖内部、主鎖末端及び側鎖よりなる群から選ばれる少なくとも1つの部分にエチレン性不飽和結合を有し、主鎖内部及び主鎖末端よりなる群から選ばれる少なくとも1つの部分にエチレン性不飽和結合を有することが好ましく、主鎖内部の少なくとも1つの部分にエチレン性不飽和結合を有することがより好ましい。
なお、本発明において、「主鎖」とは樹脂を構成する高分子化合物の分子中で相対的に最も長い結合鎖を表し、「側鎖」とは主鎖から枝分かれしている炭素鎖を表し、側鎖にはヘテロ原子を含んでもよい。
また、成分Bが有していてもよいエチレン性不飽和基としては、特に制限はないが、ブタジエン又はイソプレン由来のエチレン性不飽和結合、又は、(メタ)アクリル基であることが好ましく、ブタジエン又はイソプレン由来のエチレン性不飽和結合、又は、(メタ)アクリロキシ基であることがより好ましく、ブタジエン又はイソプレン由来のエチレン性不飽和結合であることが更に好ましい。
また、ブタジエン又はイソプレン由来のエチレン性不飽和結合としては、1,4−付加により形成された主鎖内部のエチレン性不飽和結合、1,2−付加又は3,4−付加により形成された側鎖のエチレン性不飽和結合、及び、これらのエチレン性不飽和結合が位置異性化したエチレン性不飽和化合物であってもよいが、成分Bは、ブタジエン又はイソプレンの1,4−付加により形成された主鎖内部のエチレン性不飽和結合を少なくとも有していることが好ましい。
Component B has an ethylenically unsaturated bond in at least one portion selected from the group consisting of the inside of the main chain, the main chain end and the side chain, and at least one selected from the group consisting of the inside of the main chain and the main chain end The portion preferably has an ethylenically unsaturated bond, and more preferably has at least one portion inside the main chain having an ethylenically unsaturated bond.
In the present invention, “main chain” represents a relatively long bond chain in the molecule of the polymer compound constituting the resin, and “side chain” represents a carbon chain branched from the main chain. The side chain may contain a hetero atom.
The ethylenically unsaturated group that Component B may have is not particularly limited, but is preferably an ethylenically unsaturated bond derived from butadiene or isoprene, or a (meth) acryl group, and butadiene. Alternatively, an ethylenically unsaturated bond derived from isoprene or a (meth) acryloxy group is more preferable, and an ethylenically unsaturated bond derived from butadiene or isoprene is still more preferable.
Moreover, as an ethylenically unsaturated bond derived from butadiene or isoprene, an ethylenically unsaturated bond inside the main chain formed by 1,4-addition, a side formed by 1,2-addition or 3,4-addition The ethylenically unsaturated bonds of the chain and ethylenically unsaturated compounds in which these ethylenically unsaturated bonds are regioisomerized may be used, but component B is formed by 1,4-addition of butadiene or isoprene. It is preferable to have at least an ethylenically unsaturated bond inside the main chain.

成分Bは、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ブタジエン及び/若しくはイソプレンを少なくとも共重合した共重合体、並びに、ウレタン(メタ)アクリレートよりなる群から選ばれたポリマーであることが好ましく、ポリブタジエン、ポリイソプレン、並びに、ブタジエン及び/若しくはイソプレンを少なくとも共重合した共重合体よりなる群から選ばれたポリマーであることがより好ましく、ポリブタジエン及びポリイソプレンよりなる群から選ばれたポリマーであることが更に好ましく、ポリブタジエンであることが特に好ましい。上記態様であると、耐刷性及びインキ転移性により優れるフレキソ印刷版が得られ、また、彫刻カスのリンス性により優れる。   Component B is preferably a polymer selected from the group consisting of polybutadiene, polyisoprene, a copolymer obtained by copolymerizing at least butadiene and / or isoprene, and urethane (meth) acrylate, and includes polybutadiene, polyisoprene, and More preferably, the polymer is selected from the group consisting of a copolymer obtained by copolymerizing at least butadiene and / or isoprene, more preferably a polymer selected from the group consisting of polybutadiene and polyisoprene. It is particularly preferred. In the above embodiment, a flexographic printing plate excellent in printing durability and ink transfer property is obtained, and the engraving residue rinsing property is excellent.

成分Bは、20℃においてプラストマーであることが好ましい。上記態様であると強度と柔軟性とを両立でき、また、架橋を行う際に流動性に優れ、十分な架橋を行うことができ、フレキソ印刷版の耐刷性及び画質、並びに、彫刻カスのリンス性に優れる。
本発明において「プラストマー」とは、高分子学会編「新版高分子辞典」(日本国、朝倉書店、1988年発行)に記載されているように、加熱により容易に流動変形し、かつ冷却により変形された形状に固化できるという性質を有する高分子体を意味する。プラストマーは、エラストマー(外力を加えたときに、その外力に応じて瞬時に変形し、かつ外力を除いたときには、短時間に元の形状を回復する性質を有するもの)に対する言葉であり、エラストマーのような弾性変形を示さず、容易に塑性変形するものである。
本発明において、プラストマーは、元の大きさを100%としたときに、室温(20℃)において小さな外力で200%まで変形させることができ、該外力を除いても、130%以下に戻らないものを意味する。小さな外力とは、具体的には、引張強度が1〜100MPaである外力をいう。より詳細には、JIS K 6262−1997の引張永久ひずみ試験に基づき、20℃において引張試験でJIS K 6251−1993に規定するダンベル状4号形の試験片の引張前の標線間距離の2倍に破断せずに伸ばすことが可能であり、かつ、引張前の標線間距離の2倍に伸ばしたところで60分間保持した後、引張外力を除いて5分後に引張永久ひずみが30%以上であるポリマーを意味する。なお、本発明では、試験片をJIS K 6251に規定するダンベル状にすること、保持時間を60分とすること、及び、試験室の温度を20℃とすること以外は、全てJIS K 6262−1997の引張永久ひずみ試験方法に準拠した。
Component B is preferably a plastomer at 20 ° C. In the above embodiment, both strength and flexibility can be achieved, and when crosslinking is performed, the fluidity is excellent and sufficient crosslinking can be performed, so that the printing durability and image quality of the flexographic printing plate can be improved. Excellent rinsability.
In the present invention, “plastomer” means that it is easily deformed by heating and deformed by cooling, as described in “New edition polymer dictionary” edited by the Society of Polymer Science, Japan (Asakura Shoten, published in 1988). It means a polymer having the property that it can be solidified into a shaped shape. Plastomer is a term for an elastomer (having the property of instantly deforming according to the external force when an external force is applied and restoring the original shape in a short time when the external force is removed). It does not show such elastic deformation and easily plastically deforms.
In the present invention, when the original size is 100%, the plastomer can be deformed to 200% with a small external force at room temperature (20 ° C.) and does not return to 130% or less even when the external force is removed. Means things. The small external force specifically refers to an external force having a tensile strength of 1 to 100 MPa. More specifically, based on the tensile permanent strain test of JIS K 6262-1997, the distance between the marked lines before tension of the dumbbell-shaped No. 4 test piece specified in JIS K 6251-1993 in the tensile test at 20 ° C. is 2 It can be stretched without breaking twice, and after holding for 60 minutes when stretched to twice the distance between the marked lines before tension, the tensile permanent strain is 30% or more after 5 minutes excluding the tensile external force Means a polymer. In the present invention, all of the test pieces are JIS K 6262 except that the test piece is made into a dumbbell shape defined in JIS K 6251, the holding time is 60 minutes, and the temperature of the test chamber is 20 ° C. According to the 1997 tensile set test method.

なお、上記の測定ができないポリマーの場合、すなわち、引張試験において、引張外力を加えなくとも変形して元の形状に戻らないポリマーや上記測定時の小さな外力を与えて破断するポリマーはプラストマーに該当する。例えば、20℃において液状のポリマーは、プラストマーである。
更に、プラストマーは、ポリマーのガラス転移温度(Tg)が20℃未満であることから判断してもよい。Tgを2つ以上有するポリマーの場合は、全てのTgが20℃未満である。なお、ポリマーのTgは示差走査熱量測定(DSC)法により測定することができる。
In the case of a polymer that cannot be measured as described above, that is, in a tensile test, a polymer that does not return to its original shape even if a tensile external force is not applied, or a polymer that breaks by applying a small external force at the time of measurement corresponds to a plastomer. To do. For example, a polymer that is liquid at 20 ° C. is a plastomer.
Furthermore, the plastomer may be judged from the glass transition temperature (Tg) of the polymer being less than 20 ° C. In the case of a polymer having two or more Tg, all Tg is less than 20 ° C. The Tg of the polymer can be measured by a differential scanning calorimetry (DSC) method.

ポリブタジエン構造を有するポリマー、又は、ポリイソプレン構造を有するポリマーとしては、ブタジエン又はイソプレンの単独重合体であっても、ブタジエン及び/又はイソプレンを共重合した共重合体であっても、これらを変性した重合体であってもよい。
また、ポリブタジエン構造を有するポリマー、又は、ポリイソプレン構造を有するポリマーは、主鎖が主としてイソプレン又はブタジエンを単量体単位とするポリマーであればよく、一部が水素添加されて飽和結合に変換されていてもよい。また、ポリマーの主鎖中又は末端が、アミド、カルボキシ基、ヒドロキシ基、(メタ)アクリロイル基等で変性されていてもよく、エポキシ化されていてもよい。
共重合可能なモノマーとしては、特に制限はないが、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、p−メチルスチレン、アクリロニトリル、メタアクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタアクリルアミド、メタアクリルアミド酢酸ビニル、アクリル酸エステル、メタアクリル酸エステル、アクリル酸、メタアクリル酸等が挙げられる。
A polymer having a polybutadiene structure or a polymer having a polyisoprene structure may be a butadiene or isoprene homopolymer or a copolymer obtained by copolymerizing butadiene and / or isoprene. It may be a polymer.
In addition, a polymer having a polybutadiene structure or a polymer having a polyisoprene structure may be a polymer having a main chain mainly composed of isoprene or butadiene as a monomer unit, and a part thereof is hydrogenated to be converted to a saturated bond. It may be. In addition, the main chain or the terminal of the polymer may be modified with an amide, a carboxy group, a hydroxy group, a (meth) acryloyl group or the like, or may be epoxidized.
The copolymerizable monomer is not particularly limited, and examples thereof include styrene, α-methylstyrene, o-methylstyrene, p-methylstyrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylamide, methacrylamide, and meta. Examples include vinyl acrylamide, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, acrylic acid, and methacrylic acid.

ブタジエン及び/若しくはイソプレンを少なくとも共重合した共重合体として具体的には、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−イソプレン重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−イソプレン共重合体、アクリル酸エステル−ブタジエン共重合体、アクリル酸エステル−イソプレン共重合体、アクリル酸エステル−クロロプレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、末端(メタ)アクリレート変性ポリブタジエン、末端(メタ)アクリレート変性ポリイソプレン、末端(メタ)アクリレート変性水添ポリブタジエン、末端(メタ)アクリレート変性水添ポリイソプレン等が挙げられる。
これらのポリブタジエン構造を有するポリマー及びポリイソプレン構造を有するポリマーは、乳化重合により製造してもよいし、また、溶液重合により製造してもよい。
Specific examples of the copolymer obtained by copolymerizing at least butadiene and / or isoprene include styrene-butadiene copolymer, styrene-isoprene polymer, acrylonitrile-butadiene copolymer, acrylonitrile-isoprene copolymer, acrylate ester- Butadiene copolymer, acrylic ester-isoprene copolymer, acrylic ester-chloroprene copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, styrene-isoprene-styrene block copolymer, styrene-butadiene-styrene block copolymer Copolymer, terminal (meth) acrylate modified polybutadiene, terminal (meth) acrylate modified polyisoprene, terminal (meth) acrylate modified hydrogenated polybutadiene, terminal (meth) acrylate modified hydrogenated polyisoprene, etc. And the like.
The polymer having a polybutadiene structure and the polymer having a polyisoprene structure may be produced by emulsion polymerization or may be produced by solution polymerization.

本発明において、ポリブタジエン構造を有するポリマー、及び、ポリイソプレン構造を有するポリマーは、主鎖中に占める脂肪族炭化水素(イソプレン、ブタジエン又はそれらの水素添加物)に由来するモノマー単位の割合が80mol%以上であることが好ましい。主鎖中に占める脂肪族炭化水素に由来するモノマー単位の割合が80mol%以上であると、リンス性が良好であるので好ましい。脂肪族炭化水素に由来するモノマー単位の含有量は、成分Aの主鎖を構成する全モノマー単位の90mol%以上であることがより好ましく、95mol%であることが更に好ましく、99mol%以上であることが特に好ましい。
すなわち、例えば、ポリイソプレン構造を有するポリマーは、イソプレン及びイソプレンの水素添加物に由来するモノマー単位の割合が、合計して80mol%以上であることが好ましく、90mol%以上であることがより好ましく、95mol%以上であることが更に好ましく、99mol%以上であることが特に好ましい。
同様に、ポリブタジエン構造を有するポリマーは、ブタジエン及びブタジエンの水素添加物に由来するモノマー単位の割合が、合計して80mol%以上であることが好ましく、90mol%以上であることがより好ましく、95mol%以上であることが更に好ましく、99mol%以上であることが特に好ましい。
また、成分Aとしてイソプレン又はブタジエン共重合体を使用する場合には、イソプレン、ブタジエン及びそれらの水素添加物に由来するモノマー単位を合計して80mol%以上含有することが好ましく、90mol%以上含有することがより好ましく、95mol%以上含有することが更に好ましく、99mol%以上含有することが特に好ましい。
In the present invention, the polymer having a polybutadiene structure and the polymer having a polyisoprene structure have a proportion of monomer units derived from aliphatic hydrocarbons (isoprene, butadiene, or hydrogenated products thereof) in the main chain of 80 mol%. The above is preferable. It is preferable for the proportion of monomer units derived from aliphatic hydrocarbons in the main chain to be 80 mol% or more because the rinsing properties are good. The content of the monomer unit derived from the aliphatic hydrocarbon is more preferably 90 mol% or more of the total monomer units constituting the main chain of the component A, still more preferably 95 mol%, and more preferably 99 mol% or more. It is particularly preferred.
That is, for example, in the polymer having a polyisoprene structure, the ratio of the monomer units derived from the hydrogenated product of isoprene and isoprene is preferably 80 mol% or more in total, more preferably 90 mol% or more, More preferably, it is 95 mol% or more, and it is especially preferable that it is 99 mol% or more.
Similarly, in the polymer having a polybutadiene structure, the proportion of monomer units derived from the hydrogenated product of butadiene and butadiene is preferably 80 mol% or more in total, more preferably 90 mol% or more, and 95 mol%. More preferably, it is more preferably 99 mol% or more.
Further, when isoprene or butadiene copolymer is used as Component A, it is preferable that the monomer units derived from isoprene, butadiene and their hydrogenated substances are contained in a total of 80 mol% or more, preferably 90 mol% or more. More preferably, it is more preferably 95 mol% or more, and particularly preferably 99 mol% or more.

イソプレンは、触媒や反応条件により、1,2−、3,4−又は1,4−付加により重合することが知られているが、本発明は上記のいずれの付加により重合されたポリイソプレンでもよい。これらの中でも所望のムーニー粘度を得る観点から、主成分としてcis−1,4−ポリイソプレンを含有することが好ましい。なお、cis−1,4−ポリイソプレンの含有量は、50質量%以上であることが好ましく、65質量%以上であることがより好ましく、80質量%以上であることが更に好ましく、90質量%以上であることが特に好ましい。
また、ポリイソプレンとしては、上市されているポリイソプレンを使用することもでき、例えば、NIPOL IRシリーズ(日本ゼオン(株)製)が例示される。
Isoprene is known to polymerize by 1,2-, 3,4-, or 1,4-addition, depending on the catalyst and reaction conditions, but the present invention is not limited to polyisoprene polymerized by any of the above additions. Good. Among these, from the viewpoint of obtaining a desired Mooney viscosity, it is preferable to contain cis-1,4-polyisoprene as a main component. The content of cis-1,4-polyisoprene is preferably 50% by mass or more, more preferably 65% by mass or more, still more preferably 80% by mass or more, and 90% by mass. The above is particularly preferable.
Moreover, as a polyisoprene, the commercially available polyisoprene can also be used, for example, a NIPOL IR series (made by Nippon Zeon Co., Ltd.) is illustrated.

ブタジエンは、触媒や反応条件により1,2−又は1,4−付加により重合することが知られているが、本発明は上記のいずれの付加により重合されたポリブタジエンでもよい。これらの中でも、所望のムーニー粘度を得る観点から、1,4−ポリブタジエンが主成分であることがより好ましい。
なお、1,4−ポリブタジエンの含有量は、50質量%以上であることが好ましく、65質量%以上であることがより好ましく、80質量%以上であることが更に好ましく、90質量%以上であることが特に好ましい。
なお、cis体とtrans体の含有量は特に制限はなく、所望の粘度又はムーニー粘度の範囲で適宜選択すればよいが、架橋後においてゴム弾性を発現させる観点から、cis体が好ましく、cis−1,4−ポリブタジエンの含有量が50質量%以上であることが好ましく、65質量%以上であることがより好ましく、80質量%以上であることが更に好ましく、90質量%以上であることが特に好ましい。
ポリブタジエンとしては、上市されている製品を使用してもよく、例えば、NIPOL BRシリーズ(日本ゼオン(株)製)、UBEPOL BRシリーズ(宇部興産(株)製)等が例示される。
Butadiene is known to be polymerized by 1,2- or 1,4-addition depending on the catalyst and reaction conditions, but the present invention may be polybutadiene polymerized by any of the above additions. Among these, it is more preferable that 1,4-polybutadiene is a main component from the viewpoint of obtaining a desired Mooney viscosity.
The content of 1,4-polybutadiene is preferably 50% by mass or more, more preferably 65% by mass or more, further preferably 80% by mass or more, and 90% by mass or more. It is particularly preferred.
The content of the cis body and the trans body is not particularly limited and may be appropriately selected within the range of a desired viscosity or Mooney viscosity. From the viewpoint of developing rubber elasticity after crosslinking, a cis body is preferable, and cis- The content of 1,4-polybutadiene is preferably 50% by mass or more, more preferably 65% by mass or more, still more preferably 80% by mass or more, and particularly preferably 90% by mass or more. preferable.
A commercially available product may be used as the polybutadiene, and examples thereof include the NIPOL BR series (manufactured by ZEON Corporation), the UBEPOL BR series (manufactured by Ube Industries, Ltd.), and the like.

液状ポリブタジエンとしては、上市されている製品が例示され、クラプレンLBR−305((株)クラレ製)、Ricon(Sartomer社製)が挙げられる。
また、液状ポリイソプレンとしては、クラプレンLIR−30、LIR−50((株)クラレ製)等が挙げられる。
(メタ)アクリレート基を有するポリイソプレンとしては、例えば、メタクリレート導入ポリイソプレン(クラプレンUS−203、UC−102、(株)クラレ製)が挙げられる。
また、末端にエチレン性不飽和基を有するポリブタジエンとしては、例えば、(メタ)アクリレート基導入ポリブタジエン(NISSO−PB TEAI−1000、EA−3000、日本曹達(株)製)が挙げられる。
Examples of the liquid polybutadiene include commercially available products such as Claprene LBR-305 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) and Ricon (manufactured by Sartomer).
Examples of the liquid polyisoprene include Claprene LIR-30 and LIR-50 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.).
Examples of the polyisoprene having a (meth) acrylate group include methacrylate-introduced polyisoprene (Kuraprene US-203, UC-102, manufactured by Kuraray Co., Ltd.).
Moreover, as a polybutadiene which has an ethylenically unsaturated group at the terminal, (meth) acrylate group introduction | transduction polybutadiene (NISSO-PB TEAI-1000, EA-3000, Nippon Soda Co., Ltd. product) is mentioned, for example.

これらの中でも、ポリブタジエン構造を有するポリマー、及び、ポリイソプレン構造を有するポリマーとしては、ポリイソプレン、ポリブタジエン、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、又は、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体が更に好ましく、ポリイソプレン、又は、ポリブタジエンが特に好ましい。
また、成分Aとしては、フレキソ印刷版の耐刷性や、彫刻カスのリンス性、取り扱いの観点から、ポリブタジエン、又は、ポリイソプレンが好ましく、ポリブタジエンが特に好ましい。
Among these, as the polymer having a polybutadiene structure and the polymer having a polyisoprene structure, polyisoprene, polybutadiene, styrene-isoprene-styrene block copolymer, or styrene-butadiene-styrene block copolymer is more preferable. Polyisoprene or polybutadiene is particularly preferable.
Component A is preferably polybutadiene or polyisoprene, and particularly preferably polybutadiene, from the viewpoints of printing durability of flexographic printing plates, rinsing properties of engraving residue, and handling.

ウレタン(メタ)アクリレートは、主鎖内部、主鎖末端又は側鎖に(メタ)アクリロキシ基を有するポリウレタン樹脂であり、脂肪族系ウレタン(メタ)アクリレート、芳香族系ウレタン(メタ)アクリレートなどが挙げられる。詳しくは、オリゴマーハンドブック(古川淳二監修、(株)化学工業日報社)を参照することができる。   Urethane (meth) acrylate is a polyurethane resin having a (meth) acryloxy group in the main chain, main chain terminal or side chain, and includes aliphatic urethane (meth) acrylate and aromatic urethane (meth) acrylate. It is done. For details, refer to the oligomer handbook (supervised by Junji Furukawa, Chemical Daily Co., Ltd.).

ウレタン(メタ)アクリレートは、分子内に更にカーボネート結合及びエステル結合よりなる群から選ばれる少なくとも1種の結合を有していることが好ましい。ウレタン(メタ)アクリレートが上記結合を有することにより、印刷で用いられるエステル系溶剤を含有するインキ洗浄剤や炭化水素系溶剤を含有するインキ洗浄剤に対する印刷版の耐性が向上する。   The urethane (meth) acrylate preferably has at least one bond selected from the group consisting of a carbonate bond and an ester bond in the molecule. When the urethane (meth) acrylate has the above bond, resistance of the printing plate to an ink cleaning agent containing an ester solvent used in printing or an ink cleaning agent containing a hydrocarbon solvent is improved.

水酸基を有するポリウレタン樹脂の製造に用いられるカーボネート結合を有するジオール化合物としては、例えば、4,6−ポリアルキレンカーボネートジオール、8,9−ポリアルキレンカーボネートジオール、5,6−ポリアルキレンカーボネートジオール等の脂肪族ポリカーボネートジオール等を挙げることができる。また、芳香環を有するポリカーボネートジオールを用いてもよい。
これらの化合物の末端の水酸基に、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物、トリフェニルメタントリイソシアネート、1−メチルベンゼン−2,4,6−トリイソシアネート、ナフタレン−1,3,7−トリイソシアネート、ビフェニル−2,4,4’−トリイソシアネート等のトリイソシアネート化合物などのポリイソシアネート化合物を縮合反応させることにより、ウレタン結合を導入することができる。
Examples of the diol compound having a carbonate bond used for the production of a polyurethane resin having a hydroxyl group include fats such as 4,6-polyalkylene carbonate diol, 8,9-polyalkylene carbonate diol, and 5,6-polyalkylene carbonate diol. Group polycarbonate diol and the like. Further, polycarbonate diol having an aromatic ring may be used.
The terminal hydroxyl groups of these compounds are tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, tetramethylxylene diisocyanate, xylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, cyclohexylene. Diisocyanate compounds such as diisocyanate, lysine diisocyanate, triphenylmethane diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, 1-methylbenzene-2,4,6-triisocyanate, naphthalene-1,3,7-triisocyanate, biphenyl-2,4 , 4'-Triisocyanate A urethane bond can be introduced by a condensation reaction of a polyisocyanate compound such as a cyanate compound.

ウレタン(メタ)アクリレートは、市販品として、例えば、紫光シリーズのUV−3200、UV−3000B、UV−3700B、UV−3210EA、UV−2000B、UV−3630ID80(以上、日本合成化学(株)製)、EBECRYL230、EBECRYL9227EA(以上、ダイセル・サイテック(株))、ハイコープAUシリーズのAU−3040、AU−3050、AU−3090、AU−3110、AU−3120(以上、(株)トクシキ製)を入手することができる。   Urethane (meth) acrylates are commercially available products such as, for example, the UV-3200, UV-3000B, UV-3700B, UV-3210EA, UV-2000B, and UV-3630ID80 (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.). , EBECRYL230, EBECRYL9227EA (above, Daicel Cytec Co., Ltd.), Hicorp AU series AU-3040, AU-3050, AU-3090, AU-3110, AU-3120 (above, manufactured by Tokushi Co., Ltd.) be able to.

ウレタン(メタ)アクリレート等を得る別法として、前述のポリイソシアネート化合物と(メタ)アクリロキシ基を有するジオール化合物とを重付加反応させポリウレタンを生成する方法などもある。
この場合に用いられる(メタ)アクリロキシ基を有するジオール化合物の好ましい例として、日油(株)製のブレンマ−GLM、ナガセケムテックス(株)製の「デナコールアクリレート」シリーズのDA−212、DA−250、DA−721、DA−722、DA−911M、DA−920、DA−931、DM−201、DM−811、DM−832、DM−851などを挙げることができる。
As another method for obtaining urethane (meth) acrylate and the like, there is also a method of producing a polyurethane by polyaddition reaction of the aforementioned polyisocyanate compound and a diol compound having a (meth) acryloxy group.
Preferred examples of the diol compound having a (meth) acryloxy group used in this case include Blemma-GLM manufactured by NOF Corporation, DA-212, DA-212 of "Denacol Acrylate" series manufactured by Nagase ChemteX Corporation. -250, DA-721, DA-722, DA-911M, DA-920, DA-931, DM-201, DM-811, DM-832, DM-851 and the like.

また、成分Bとしては、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体も好ましく例示できる。上記共重合体としては、エチレン−プロピレン−5−エチリデン−2−ノルボルネン共重合体がより好ましい。   Moreover, as a component B, an ethylene-propylene-diene copolymer can also be illustrated preferably. As the copolymer, an ethylene-propylene-5-ethylidene-2-norbornene copolymer is more preferable.

成分Bの分子量は、重量平均分子量(GPC、ポリスチレン換算)で、1,000以上であることが好ましく、10,000以上であることがより好ましく、100,000以上であることが更に好ましく、500,000以上であることが特に好ましい。また、成分Bの分子量は、重量平均分子量(GPC、ポリスチレン換算)で、3,000,000以下であることが好ましく、2,000,000以下であることがより好ましく、1,500,000以下であることが更に好ましい。上記範囲であると、レーザー彫刻用樹脂組成物の加工が容易であり、また、得られるフレキソ印刷版の耐刷性により優れる。また、成分BのMwが500,000以上であると、メタセシス触媒によるポリマーの分解に伴う本発明の効果をより発揮することができる。
本発明において、重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィ法(GPC)法にて測定され、標準ポリスチレンで換算して求められる。具体的には、例えば、GPCは、HLC−8220GPC(東ソー(株)製)を用い、カラムとして、TSKgeL SuperHZM−H、TSKgeL SuperHZ4000、TSKgeL SuperHZ2000(東ソー(株)製、4.6mmID×15cm)を3本用い、溶離液としてTHF(テトラヒドロフラン)を用いる。また、条件としては、試料濃度を0.35質量%、流速を0.35ml/min、サンプル注入量を10μl、測定温度を40℃とし、IR検出器を用いて行う。また、検量線は、東ソー(株)製「標準試料TSK standard,polystyrene」:「F−40」、「F−20」、「F−4」、「F−1」、「A−5000」、「A−2500」、「A−1000」、「n−プロピルベンゼン」の8サンプルから作製する。
The molecular weight of Component B is a weight average molecular weight (GPC, converted to polystyrene), preferably 1,000 or more, more preferably 10,000 or more, still more preferably 100,000 or more, 500 000 or more is particularly preferable. The molecular weight of Component B is preferably 3,000,000 or less, more preferably 2,000,000 or less, and 1,500,000 or less in terms of weight average molecular weight (GPC, polystyrene conversion). More preferably. Within the above range, processing of the resin composition for laser engraving is easy, and the printing durability of the resulting flexographic printing plate is excellent. Moreover, the effect of this invention accompanying the decomposition | disassembly of the polymer by a metathesis catalyst can be more exhibited as Mw of the component B is 500,000 or more.
In the present invention, the weight average molecular weight and the number average molecular weight are measured by a gel permeation chromatography method (GPC) method and are calculated by standard polystyrene. Specifically, for example, GPC uses HLC-8220GPC (manufactured by Tosoh Corporation), and TSKgeL SuperHZM-H, TSKgeL SuperHZ4000, TSKgeL SuperHZ2000 (4.6 mm ID × 15 cm, manufactured by Tosoh Corporation) are used as columns. Three are used and THF (tetrahydrofuran) is used as an eluent. As conditions, the sample concentration is 0.35% by mass, the flow rate is 0.35 ml / min, the sample injection amount is 10 μl, the measurement temperature is 40 ° C., and an IR detector is used. In addition, the calibration curve is “standard sample TSK standard, polystyrene” manufactured by Tosoh Corporation: “F-40”, “F-20”, “F-4”, “F-1”, “A-5000”, It is prepared from 8 samples of “A-2500”, “A-1000”, “n-propylbenzene”.

本発明において、成分Bのムーニー粘度は、特に限定されないが、溶剤溶解性や混合時の取り扱いの簡便さから、90以下であることが好ましく、70以下であることがより好ましく、60以下であることが更に好ましい。また、ムーニー粘度の下限値は、特に制限はなく、例えば、成分Bは、液状又は水飴状等の状態であってもよい。
本発明において、ムーニー粘度は、JIS6300−1に準拠して測定した値である。具体的には、温度制御が可能なダイ間に円筒状の空間を形成して試料室とすると共に、その試料室の中心部にローターを配置し、試料室内に被測定試料を充填してその温度を所定の温度に保った状態で、ローターを規定回転数で回転させ、溶融した試料の粘性抵抗によって生じるローターの反トルクをロードセルで検出することによって測定される。なお、本発明で用いるムーニー粘度の値はL型ローターを用いて、予熱時間1分、ローター回転時間4分、ゴム試料のムーニー粘度は、100℃で1分間の予熱期間をおいてローターを回転させ、4分後のムーニー粘度(ML1+4)を示している。
In the present invention, the Mooney viscosity of Component B is not particularly limited, but is preferably 90 or less, more preferably 70 or less, and 60 or less, from the viewpoint of solvent solubility and ease of handling during mixing. More preferably. Further, the lower limit value of the Mooney viscosity is not particularly limited, and for example, the component B may be in a liquid or syrupy state.
In the present invention, the Mooney viscosity is a value measured in accordance with JIS 6300-1. Specifically, a cylindrical space is formed between dies capable of temperature control to form a sample chamber, a rotor is disposed in the center of the sample chamber, and a sample to be measured is filled into the sample chamber. While maintaining the temperature at a predetermined temperature, the rotor is rotated at a specified rotational speed, and the rotor counter torque generated by the viscous resistance of the molten sample is detected by a load cell. The Mooney viscosity value used in the present invention is an L-shaped rotor, the preheating time is 1 minute, the rotor rotation time is 4 minutes, and the Mooney viscosity of the rubber sample is rotated at 100 ° C. with a preheating period of 1 minute. The Mooney viscosity (ML 1 + 4 ) after 4 minutes is shown.

成分Bの含有量は、レーザー彫刻用樹脂組成物の全質量に対し、50〜95質量%であることが好ましく、55〜90質量%であることがより好ましく、65〜90質量%であることが更に好ましく、70〜85質量%であることが特に好ましい。成分Bの含有量が上記範囲であると、彫刻カスのリンス性に優れ、インキ転移性に優れるレリーフ層が得られる。   The content of Component B is preferably 50 to 95% by mass, more preferably 55 to 90% by mass, and 65 to 90% by mass with respect to the total mass of the resin composition for laser engraving. Is more preferable, and it is especially preferable that it is 70-85 mass%. When the content of component B is in the above range, a relief layer having excellent engraving residue rinsing properties and excellent ink transfer properties can be obtained.

本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、成分B以外のポリマー、すなわち、エチレン性不飽和結合を有しないポリマーを含有してもよい。成分B以外のポリマーとしては、特開2011−136455号公報に記載されている非エラストマーや、特開2010−208326号公報に記載されている不飽和基含有ポリマー、特開2012−45801号公報の段落0009〜0030に記載のバインダーポリマー等が例示される。
また、例えば、水添ポリブタジエンや水添ポリイソプレンが挙げられる。
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、成分B以外に、他のポリマーを含有する場合、レーザー彫刻用樹脂組成物の全質量に対し、30質量%以下であることが好ましく、10質量%以下であることがより好ましく、5質量%以下であることが更に好ましく、2質量%以下であることが特に好ましく、0質量%である、すなわち、含有しないことが最も好ましい。上記範囲であると、彫刻カスのリンス性に優れ、インキ転移性に優れるレリーフ層が得られる。
The resin composition for laser engraving of the present invention may contain a polymer other than Component B, that is, a polymer having no ethylenically unsaturated bond. Examples of the polymer other than Component B include non-elastomers described in JP2011-136455A, unsaturated group-containing polymers described in JP2010-208326A, and JP2012-45801A. Examples thereof include the binder polymers described in paragraphs 0009 to 0030.
Examples thereof include hydrogenated polybutadiene and hydrogenated polyisoprene.
When the resin composition for laser engraving of the present invention contains other polymer in addition to Component B, it is preferably 30% by mass or less, and preferably 10% by mass or less, based on the total mass of the resin composition for laser engraving. Is more preferably 5% by mass or less, particularly preferably 2% by mass or less, and most preferably 0% by mass, that is, not containing. Within the above range, a relief layer having excellent engraving residue rinsing properties and excellent ink transfer properties can be obtained.

(成分C)架橋剤
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、(成分C)架橋剤を含有することが好ましい。
架橋剤としては、過酸化物、加硫剤、及び、重合開始剤が好ましく挙げられ、過酸化物がより好ましく挙げられる。また、重合開始剤は、後述する重合性化合物と併用することが好ましい。
過酸化物を含有する場合、過酸化物は反応性が高いため、エチレン性不飽和基の重合だけでなく、飽和炭化水素鎖の飽和炭素原子に結合した水素原子を引き抜き、炭素ラジカルを発生させ、炭素原子−炭素原子の架橋を形成することができる。
(Component C) Crosslinking Agent The resin composition for laser engraving of the present invention preferably contains (Component C) a crosslinking agent.
As a crosslinking agent, a peroxide, a vulcanizing agent, and a polymerization initiator are mentioned preferably, and a peroxide is mentioned more preferably. Moreover, it is preferable to use together a polymerization initiator with the polymeric compound mentioned later.
In the case of containing a peroxide, since the peroxide is highly reactive, not only the polymerization of ethylenically unsaturated groups but also the extraction of hydrogen atoms bonded to saturated carbon atoms of saturated hydrocarbon chains to generate carbon radicals. , Carbon atom-carbon atom bridges can be formed.

過酸化物としては、無機過酸化物、及び、有機過酸化物が挙げれるが、有機過酸化物が好ましい。
有機過酸化物としては、ジアルキルパーオキシド、パーオキシケタール、パーオキシエステル、ジアシルパーオキシド、アルキルヒドロパーオキシド、パーオキシジカーボネート、ケトンパーオキシドが好ましく挙げられ、ジアルキルパーオキシド、パーオキシケタール、及び、パーオキシエステルよりなる群から選択された有機過酸化物であることがより好ましい。
ジアルキルパーオキシドとしては、ジ−t−ブチルパーオキシド、ジ−t−ヘキシルパーオキシド、t−ブチルクミルパーオキシド、ジクミルパーオキシド、α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3等が例示できる。
パーオキシケタールとしては、n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレレート、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン等が例示できる。
Examples of peroxides include inorganic peroxides and organic peroxides, with organic peroxides being preferred.
Preferred organic peroxides include dialkyl peroxides, peroxyketals, peroxyesters, diacyl peroxides, alkyl hydroperoxides, peroxydicarbonates, ketone peroxides, dialkyl peroxides, peroxyketals, and More preferably, the organic peroxide is selected from the group consisting of peroxyesters.
Dialkyl peroxides include di-t-butyl peroxide, di-t-hexyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, α, α′-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, Examples include 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexane and 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexyne-3.
As peroxyketals, n-butyl-4,4-bis (t-butylperoxy) valerate, 2,2-bis (t-butylperoxy) butane, 1,1-bis (t-butylperoxy) Cyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) Examples include -3,3,5-trimethylcyclohexane.

パーオキシエステルとしては、α−クミルパーオキシネオデカン酸、1,1−ジメチル−3−ヒドロキシブチルパーオキシ−2−エチルヘキサン酸、t−アミルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシピバリン酸、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ−t−ブチルジパーオキシイソフタレート、ジ−t−ブチルジパーオキシイソフタレート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシ−3−メチルベンゾエート、t−ブチルパーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシピバレート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシネオヘプタノエート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシアセテート、α,α’−ジ(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート等が例示できる。
また、有機過酸化物としては、ジベンゾイルパーオキシド、コハク酸パーオキシド、ジラウロイルパーオキシド、及び、ジデカノイルパーオキシドのようなジアシルパーオキシド、2,5−ジヒドロパーオキシ−2,5−ジメチルヘキサン、クメンヒドロパーオキシド、及び、t−ブチルヒドロパーオキシドのようなアルキルヒドロパーオキシド、ジ(n−プロピル)パーオキシジカーボネート、ジ(sec−ブチル)パーオキシジカーボネート、及びジ(2−エチルヘキシル)パーオキシジカーボネートのようなパーオキシジカーボネートも使用することができる。
これらの中でも、ジクミルパーオキシドが特に好ましい。
有機過酸化物は上市されており、例えば、日油(株)、化薬アクゾ(株)等から市販されている。
本発明に用いることができる重合開始剤として好ましい(c)有機過酸化物としては、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ−t−ブチルジパーオキシイソフタレート、ジ−t−ブチルジパーオキシイソフタレート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシ−3−メチルベンゾエート、t−ブチルパーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシピバレート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシネオヘプタノエート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシアセテート、α,α’−ジ(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネートなどの過酸化エステル系が好ましい。
Peroxyesters include α-cumylperoxyneodecanoic acid, 1,1-dimethyl-3-hydroxybutylperoxy-2-ethylhexanoic acid, t-amylperoxybenzoate, t-butylperoxypivalic acid, 3, 3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-amylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′- Tetra (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (cumylperoxycarbonyl) benzophenone 3,3 ′, 4,4′-tetra (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, di-t-butyl Peroxyisophthalate, di-t-butyldiperoxyisophthalate, t-butylperoxybenzoate, t-butylperoxy-3-methylbenzoate, t-butylperoxylaurate, t-butylperoxypivalate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxyneoheptanoate, t-butylperoxyneodecanoate, t-butyl peroxyacetate, α, α′-di (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, t-butylcumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butyl Peroxy-2-ethylhexyl monocarbonate is an example That.
Examples of organic peroxides include diacyl peroxides such as dibenzoyl peroxide, succinic acid peroxide, dilauroyl peroxide, and didecanoyl peroxide, and 2,5-dihydroperoxy-2,5-dimethyl. Hexane, cumene hydroperoxide, and alkyl hydroperoxides such as t-butyl hydroperoxide, di (n-propyl) peroxydicarbonate, di (sec-butyl) peroxydicarbonate, and di (2- Peroxydicarbonates such as ethylhexyl) peroxydicarbonate can also be used.
Among these, dicumyl peroxide is particularly preferable.
Organic peroxides are commercially available, and are commercially available from, for example, NOF Corporation and Kayaku Akzo Corporation.
(C) Organic peroxides preferable as a polymerization initiator that can be used in the present invention include 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4, 4'-tetra (t-amylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra (t-octyl) Peroxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, di-t -Butyl diperoxyisophthalate, di-t-butyldiperoxyisophthalate, t-butylperoxybenzoate, t-butylperoxy -3-methylbenzoate, t-butylperoxylaurate, t-butylperoxypivalate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate Ate, t-butylperoxyneoheptanoate, t-butylperoxyneodecanoate, t-butylperoxyacetate, α, α'-di (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, t-butylcumylper Peroxide esters such as oxide, di-t-butyl peroxide, t-butyl peroxyisopropyl monocarbonate, t-butyl peroxy-2-ethylhexyl monocarbonate are preferred.

無機過酸化物としては、過酸化カルシウム、過酸化マグネシウム、過酸化ストロンチウム、過酸化バリウム、過酸化リチウム、過酸化ナトリウム、過酸化カリウム、過酸化亜鉛、過酸化銀、過酸化銅、過酸化鉄、過酸化鉛が例示できる。これらの中でも、過酸化カルシウム、過酸化バリウム、過酸化ナトリウム、過酸化亜鉛が好ましく、過酸化カルシウム、過酸化亜鉛が特に好ましい。   Inorganic peroxides include calcium peroxide, magnesium peroxide, strontium peroxide, barium peroxide, lithium peroxide, sodium peroxide, potassium peroxide, zinc peroxide, silver peroxide, copper peroxide, and iron peroxide. And lead peroxide. Among these, calcium peroxide, barium peroxide, sodium peroxide, and zinc peroxide are preferable, and calcium peroxide and zinc peroxide are particularly preferable.

加硫剤としては、元素状硫黄(遊離硫黄)、及び、硫黄供与性有機加硫剤が好ましく挙げられ、元素状硫黄がより好ましく挙げられる。
硫黄供与性有機加硫剤としては、モルホリンジスルフィド、ジチオジカプロラクタム、アルキルフェノール・ジスルフィド、ポリマー性ポリスルフィド等が用いられる。
また、加硫剤としては上市されている製品を使用することもでき、硫黄(鶴見化学工業(株)製)、及び、バルノックR(大内新興化学工業(株)製、モルホリンジスルフィド)が例示できる。
Preferred examples of the vulcanizing agent include elemental sulfur (free sulfur) and a sulfur-donating organic vulcanizing agent, and more preferred is elemental sulfur.
As the sulfur-donating organic vulcanizing agent, morpholine disulfide, dithiodicaprolactam, alkylphenol disulfide, polymeric polysulfide and the like are used.
Commercially available products can also be used as vulcanizing agents, such as sulfur (manufactured by Tsurumi Chemical Co., Ltd.) and Barnock R (manufactured by Ouchi Shinsei Chemical Co., Ltd., morpholine disulfide). it can.

重合開始剤は、当業者間で公知のものを制限なく使用することができる。以下、好ましい重合開始剤であるラジカル重合開始剤について詳述するが、本発明はこれらの記述により制限を受けるものではない。
また、上述した過酸化物も、広くは重合開始剤に含まれる。
重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましい。
また、重合開始剤としては、熱重合開始剤であることが好ましく、熱ラジカル重合開始剤であることがより好ましい。
As the polymerization initiator, those known to those skilled in the art can be used without limitation. Hereinafter, although the radical polymerization initiator which is a preferable polymerization initiator is explained in full detail, this invention is not restrict | limited by these description.
Further, the above-described peroxide is also widely included in the polymerization initiator.
As the polymerization initiator, a radical polymerization initiator is preferable.
Moreover, as a polymerization initiator, it is preferable that it is a thermal polymerization initiator, and it is more preferable that it is a thermal radical polymerization initiator.

本発明において、好ましい重合開始剤としては、(a)芳香族ケトン類、(b)オニウム塩化合物、(c)有機過酸化物、(d)チオ化合物、(e)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(f)ケトオキシムエステル化合物、(g)ボレート化合物、(h)アジニウム化合物、(i)メタロセン化合物、(j)活性エステル化合物、(k)炭素ハロゲン結合を有する化合物、(l)アゾ系化合物等が挙げられる。以下に、上記(a)〜(l)の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   In the present invention, preferred polymerization initiators include (a) aromatic ketones, (b) onium salt compounds, (c) organic peroxides, (d) thio compounds, (e) hexaarylbiimidazole compounds, f) ketoxime ester compounds, (g) borate compounds, (h) azinium compounds, (i) metallocene compounds, (j) active ester compounds, (k) compounds having a carbon halogen bond, (l) azo compounds, etc. Can be mentioned. Specific examples of the above (a) to (l) are given below, but the present invention is not limited to these.

上記(a)芳香族ケトン類、(b)オニウム塩化合物、(d)チオ化合物、(e)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(f)ケトオキシムエステル化合物、(g)ボレート化合物、(h)アジニウム化合物、(i)メタロセン化合物、(j)活性エステル化合物、及び、(k)炭素ハロゲン結合を有する化合物としては、特開2008−63554号公報の段落0074〜0118に挙げられている化合物を好ましく用いることができる。
(c)有機過酸化物としては、上述した化合物を好ましく用いることができる。
また、(l)アゾ系化合物としては、以下に示す化合物が好ましい。
(A) aromatic ketones, (b) onium salt compounds, (d) thio compounds, (e) hexaarylbiimidazole compounds, (f) ketoxime ester compounds, (g) borate compounds, (h) azinium compounds , (I) a metallocene compound, (j) an active ester compound, and (k) a compound having a carbon halogen bond, the compounds listed in paragraphs 0074 to 0118 of JP-A-2008-63554 are preferably used. Can do.
(C) As an organic peroxide, the compound mentioned above can be used preferably.
In addition, as the (l) azo compound, the following compounds are preferable.

(l)アゾ系化合物
本発明に用いることができる重合開始剤として好ましい(l)アゾ系化合物としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビスプロピオニトリル、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸)、2,2’−アゾビスイソ酪酸ジメチル、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミドオキシム)、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]、2,2’−アゾビス{2−メチル−N−[1,1−ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス[N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)等を挙げることができる。
(L) Azo-based compound Preferred as a polymerization initiator that can be used in the present invention (l) As the azo-based compound, 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobispropionitrile, 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2 ′ -Azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 4,4'-azobis (4-cyanovaleric acid), dimethyl 2,2'-azobisisobutyrate, 2,2'-azobis (2-methylpropion) Amidooxime), 2,2′-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane], 2,2′-azobis {2-methyl-N- [1,1-bis (hydroxymethyl) -2 -Hydro Cyethyl] propionamide}, 2,2′-azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) propionamide], 2,2′-azobis (N-butyl-2-methylpropionamide), 2,2 '-Azobis (N-cyclohexyl-2-methylpropionamide), 2,2'-azobis [N- (2-propenyl) -2-methylpropionamide], 2,2'-azobis (2,4,4- Trimethylpentane) and the like.

また、彫刻感度の観点からは、有機過酸化物と、後述する(成分D)光熱変換剤とを組み合わせた態様が特に好ましい。
これは、有機過酸化物を用いてレリーフ形成層を熱架橋により硬化させる際、ラジカル発生に関与しない未反応の有機過酸化物が残存するが、残存した有機過酸化物は、自己反応性の添加剤として働き、レーザー彫刻時に発熱的に分解する。その結果、照射されたレーザーエネルギーに発熱分が加算されるので彫刻感度が高くなったと推定される。
なお、光熱変換剤の説明において詳述するが、この効果は、光熱変換剤としてカーボンブラックを用いる場合に著しい。これは、カーボンブラックから発生した熱が有機過酸化物にも伝達される結果、カーボンブラックだけでなく有機過酸化物からも発熱するため、成分B等の分解に使用されるべき熱エネルギーの発生が相乗的に生じるためと考えている。
Further, from the viewpoint of engraving sensitivity, an embodiment in which an organic peroxide and a (component D) photothermal conversion agent described later are combined is particularly preferable.
This is because when an organic peroxide is used to cure the relief forming layer by thermal crosslinking, unreacted organic peroxide that does not participate in radical generation remains, but the remaining organic peroxide is self-reactive. Works as an additive and decomposes exothermically during laser engraving. As a result, it is presumed that the engraving sensitivity is increased because the heat generated is added to the irradiated laser energy.
In addition, although explained in full detail in description of a photothermal conversion agent, this effect is remarkable when using carbon black as a photothermal conversion agent. This is because the heat generated from carbon black is transferred to the organic peroxide, which generates heat not only from carbon black but also from organic peroxide. Is considered to occur synergistically.

本発明において、成分Cは、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物中に含まれる成分Cの含有量は、樹脂組成物の全質量に対して、0.01質量%以上であることが好ましく、0.1質量%以上であることがより好ましく、0.5質量%以上であることが更に好ましい。また、成分Bの含有量の上限は特に限定されないが、他の成分の配合量の観点から、30質量%以下であることが好ましく、20質量%以下であることがより好ましく、10質量%以下であることが更に好ましい。含有量が上記範囲であると、耐刷性及びインキ転移性により優れるフレキソ印刷版が得られ、また、彫刻カスのリンス性により優れる。
In the present invention, Component C may be used alone or in combination of two or more.
The content of component C contained in the resin composition for laser engraving of the present invention is preferably 0.01% by mass or more, and more preferably 0.1% by mass or more with respect to the total mass of the resin composition. It is more preferable that the content is 0.5% by mass or more. The upper limit of the content of component B is not particularly limited, but is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less from the viewpoint of the blending amount of other components. More preferably. When the content is in the above range, a flexographic printing plate excellent in printing durability and ink transfer property can be obtained, and the engraving residue rinsing property is excellent.

(成分D)光熱変換剤
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、(成分D)光熱変換剤を更に含有することが好ましい。すなわち、本発明における光熱変換剤は、レーザーの光を吸収し発熱することで、レーザー彫刻時の硬化物の熱分解を促進すると考えられる。このため、彫刻に用いるレーザー波長の光を吸収する光熱変換剤を選択することが好ましい。
(Component D) Photothermal Conversion Agent The resin composition for laser engraving of the present invention preferably further contains (Component D) a photothermal conversion agent. That is, it is considered that the photothermal conversion agent in the present invention promotes thermal decomposition of a cured product during laser engraving by absorbing laser light and generating heat. For this reason, it is preferable to select a photothermal conversion agent that absorbs light having a laser wavelength used for engraving.

本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を用いて製造したレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版を、700〜1,300nmの赤外線を発するレーザー(YAGレーザー、半導体レーザー、ファイバーレーザー、面発光レーザー等)を光源としてレーザー彫刻に用いる場合に、光熱変換剤としては、700〜1,300nmに極大吸収波長を有する化合物を用いることが好ましい。
本発明における光熱変換剤としては、種々の染料又は顔料が用いられる。
A laser engraving type flexographic printing plate precursor produced using the resin composition for laser engraving of the present invention is irradiated with a laser (YAG laser, semiconductor laser, fiber laser, surface emitting laser, etc.) emitting infrared rays of 700 to 1,300 nm. As the photothermal conversion agent, it is preferable to use a compound having a maximum absorption wavelength at 700 to 1,300 nm.
Various dyes or pigments are used as the photothermal conversion agent in the present invention.

光熱変換剤のうち、染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、700〜1,300nmに極大吸収波長を有するものが挙げられ、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、ジインモニウム化合物、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が好ましく挙げられる。本発明において好ましく用いられる染料としては、ヘプタメチンシアニン色素等のシアニン系色素、ペンタメチンオキソノール色素等のオキソノール系色素、フタロシアニン系色素及び特開2008−63554号公報の段落0124〜0137に記載の染料を挙げることができる。   Among the photothermal conversion agents, as the dye, commercially available dyes and known ones described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specific examples include those having a maximum absorption wavelength at 700 to 1,300 nm, such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, diimmonium compounds, and quinoneimine dyes. Preferred are dyes such as methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes. Dyes preferably used in the present invention include cyanine dyes such as heptamethine cyanine dyes, oxonol dyes such as pentamethine oxonol dyes, phthalocyanine dyes, and paragraphs 0124 to 0137 of JP-A-2008-63554. Mention may be made of dyes.

本発明において使用される光熱変換剤のうち、顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。また、顔料としては、特開2009−178869号公報の段落0122〜0125に記載の顔料が例示できる。
これらの顔料のうち、好ましいものはカーボンブラックである。
Among the photothermal conversion agents used in the present invention, commercially available pigments and color index (CI) manuals, “latest pigment manuals” (edited by the Japan Pigment Technical Association, published in 1977), “latest pigment application” The pigments described in “Technology” (CMC Publishing, 1986) and “Printing Ink Technology” CMC Publishing, 1984) can be used. Examples of the pigment include pigments described in paragraphs 0122 to 0125 of JP-A-2009-178869.
Of these pigments, carbon black is preferred.

カーボンブラックは、組成物中における分散性などが安定である限り、ASTMによる分類のほか、用途(例えば、カラー用、ゴム用、乾電池用など)の如何に拘らずいずれも使用可能である。カーボンブラックには、例えば、ファーネスブラック、サーマルブラック、チャンネルブラック、ランプブラック、アセチレンブラックなどが含まれる。なお、カーボンブラックなどの黒色着色剤は、分散を容易にするため、必要に応じて分散剤を用い、予めニトロセルロースやバインダーなどに分散させたカラーチップやカラーペーストとして使用することができ、このようなチップやペーストは市販品として容易に入手できる。また、カーボンブラックとしては、特開2009−178869号公報の段落0130〜0134に記載されたものが例示できる。   As long as the dispersibility in the composition is stable, carbon black can be used regardless of the classification according to ASTM or the use (for example, for color, for rubber, for dry battery, etc.). Carbon black includes, for example, furnace black, thermal black, channel black, lamp black, acetylene black and the like. In order to facilitate dispersion, black colorants such as carbon black can be used as color chips or color pastes previously dispersed in nitrocellulose or a binder, if necessary. Such chips and pastes can be easily obtained as commercial products. Examples of carbon black include those described in paragraphs 0130 to 0134 of JP2009-178869A.

本発明の樹脂組成物における光熱変換剤は、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
レーザー彫刻用樹脂組成物中おける光熱変換剤の含有量は、その分子固有の分子吸光係数の大きさにより大きく異なるが、樹脂組成物の全質量に対して、0.01〜30質量%が好ましく、0.05〜20質量%がより好ましく、0.1〜10質量%が特に好ましい。
Only 1 type may be used for the photothermal conversion agent in the resin composition of this invention, and it may use 2 or more types together.
The content of the photothermal conversion agent in the resin composition for laser engraving varies greatly depending on the molecular extinction coefficient inherent to the molecule, but is preferably 0.01 to 30% by mass with respect to the total mass of the resin composition. 0.05 to 20% by mass is more preferable, and 0.1 to 10% by mass is particularly preferable.

(成分E)重合性化合物
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、架橋構造形成を促進するため、(成分E)重合性化合物を更に含有してもよいが、含有しないほうが好ましい。
また、成分Eは、成分B以外の重合性化合物である。
更に、成分Eは、分子量3,000未満の化合物であることが好ましく、分子量2,000未満の化合物であることがより好ましく、分子量1,000未満の化合物であることが更に好ましい。
成分Eは、ラジカル重合性化合物であることが好ましく、また、エチレン性不飽和化合物であることが好ましい。
(Component E) Polymerizable Compound The resin composition for laser engraving of the present invention may further contain (Component E) a polymerizable compound in order to promote the formation of a crosslinked structure, but it is preferably not contained.
Component E is a polymerizable compound other than Component B.
Furthermore, Component E is preferably a compound having a molecular weight of less than 3,000, more preferably a compound having a molecular weight of less than 2,000, and even more preferably a compound having a molecular weight of less than 1,000.
Component E is preferably a radically polymerizable compound, and is preferably an ethylenically unsaturated compound.

本発明に用いることができる重合性化合物は、多官能重合性化合物であることが好ましく、多官能エチレン性不飽和化合物であることがより好ましい。上記態様であると、樹脂組成物は硬化性に優れ、また、耐刷性により優れるフレキソ印刷版が得られる。
また、本発明に用いることができる多官能エチレン性不飽和化合物は、分子量(又は重量平均分子量)が2,000未満であることが好ましい。
多官能エチレン性不飽和化合物とは、エチレン性不飽和基を2個以上有する化合物である。多官能エチレン性不飽和化合物は、1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
また、エチレン性不飽和化合物に属する化合物群は当産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に制限なく用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの共重合体、並びにそれらの混合物などの化学的形態をもつ。
上記多官能エチレン性不飽和化合物としては、多官能モノマーが好ましく使用される。これらの多官能モノマーの分子量(分子量分布を有する場合には、重量平均分子量)は、200以上2,000未満であることが好ましく、200〜1,000であることがより好ましく、200〜700であることが更に好ましい。
The polymerizable compound that can be used in the present invention is preferably a polyfunctional polymerizable compound, and more preferably a polyfunctional ethylenically unsaturated compound. In the above embodiment, the resin composition is excellent in curability, and a flexographic printing plate having excellent printing durability can be obtained.
The polyfunctional ethylenically unsaturated compound that can be used in the present invention preferably has a molecular weight (or weight average molecular weight) of less than 2,000.
The polyfunctional ethylenically unsaturated compound is a compound having two or more ethylenically unsaturated groups. A polyfunctional ethylenically unsaturated compound may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
Moreover, the compound group which belongs to an ethylenically unsaturated compound is widely known in this industry field, and can use these without a restriction | limiting in particular in this invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or copolymers thereof, and mixtures thereof.
A polyfunctional monomer is preferably used as the polyfunctional ethylenically unsaturated compound. The molecular weight of these polyfunctional monomers (when having a molecular weight distribution, the weight average molecular weight) is preferably 200 or more and less than 2,000, more preferably 200 to 1,000, and 200 to 700. More preferably it is.

多官能モノマーとしては、末端エチレン性不飽和基を2個〜20個有する化合物が好ましい。
多官能モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基や、アミノ基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナト基や、エポキシ基、等の親電子性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類との付加反応物、ハロゲン基や、トシルオキシ基、等の脱離性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、ビニル化合物、アリル化合物、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
As the polyfunctional monomer, a compound having 2 to 20 terminal ethylenically unsaturated groups is preferable.
Examples of the polyfunctional monomer include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof. Esters of saturated carboxylic acids and aliphatic polyhydric alcohol compounds, and amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyvalent amine compounds are used. Also, unsaturated carboxylic acid esters having nucleophilic substituents such as hydroxyl groups and amino groups, amides and polyfunctional isocyanates, addition reaction products of epoxies, dehydration condensation reaction products of polyfunctional carboxylic acids Etc. are also preferably used. Further, unsaturated carboxylic acid esters having an electrophilic substituent such as isocyanato group, epoxy group, etc., addition reaction products of amides with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines, halogen groups, tosyloxy A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide with a monofunctional or polyfunctional alcohol or amine having a leaving substituent such as a group is also suitable. As another example, a compound group in which a vinyl compound, an allyl compound, an unsaturated phosphonic acid, styrene, or the like is substituted for the above unsaturated carboxylic acid can be used.

上記の多官能モノマーに含まれるエチレン性不飽和基は、反応性の観点でアクリレート、メタクリレート、ビニル化合物、アリル化合物の各残基が好ましく、アクリレート、メタクリレートが特に好ましい。   The ethylenically unsaturated group contained in the polyfunctional monomer is preferably an acrylate, methacrylate, vinyl compound, or allyl compound residue from the viewpoint of reactivity, and particularly preferably acrylate or methacrylate.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、1,8−オクタンジオールジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、1,10−デカンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等が挙げられる。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, 1, 3 -Butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, dipropylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1 , 4-Cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, polytetramethyl Glycol diacrylate, 1,8-octanediol diacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, 1,10-decanediol diacrylate, tricyclodecane dimethanol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane triacrylate (Acryloyloxypropyl) ether, ditrimethylolpropane tetraacrylate, trimethylolethane triacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, Sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate Sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、1,8−オクタンジオールジメタクリレート、1,9−ノナンジオールジメタクリレート、1,10−デカンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等が挙げられる。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, propylene glycol dimethacrylate, dipropylene glycol dimethacrylate, tripropylene glycol dimethacrylate, polypropylene Glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, 1,8-octanediol dimethacrylate, 1 , 9-Nonanediol dimethacryl 1,10-decanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p -(3-Methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl] dimethylmethane, bis [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethylmethane and the like.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭46−27926号、特公昭51−47334号、特開昭57−196231号各公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−5241号、特開平2−226149号各公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。
上記エステルモノマーは混合物としても使用することができる。
Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, Those having an aromatic skeleton described in JP-A-59-5241 and JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used.
The ester monomers can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビスメタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等が挙げられる。
その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。
Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bisacrylamide, methylene bismethacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. Examples include methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, and xylylene bismethacrylamide.
Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式(i)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
CH2=C(R)COOCH2CH(R’)OH (i)
(ただし、R及びR’は、それぞれ、H又はCH3を示す。)
In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinylurethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following formula (i) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Etc.
CH 2 = C (R) COOCH 2 CH (R ') OH (i)
(However, R and R ′ each represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号各公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。
更に、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号各公報に記載されている、分子内にアミノ構造を有する付加重合性化合物類を用いることによって、短時間で硬化する樹脂組成物を得ることができる。
Further, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654 Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable.
Further, by using addition-polymerizable compounds having an amino structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238, short A resin composition that cures over time can be obtained.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号各公報記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に、日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include reacting polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 and JP-B-52-30490. And polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates. Further, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, JP-B-1-40336, and vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 are also included. be able to. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, the Japan Adhesion Association magazine vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

エチレン性不飽和基を1個のみ有する単官能重合性化合物としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸類及びそれらの塩、エチレン性不飽和基を有する無水物類、(メタ)アクリレート類、(メタ)アクリルアミド類、(メタ)アクリロニトリル類、スチレン類、更に種々の不飽和ポリエステル樹脂、不飽和ポリエーテル樹脂、不飽和ポリアミド樹脂、不飽和ウレタン樹脂等の重合性化合物が挙げられる。
また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類とイソシアネート類又はエポキシ類との付加反応物、及び、単官能又は多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。
Monofunctional polymerizable compounds having only one ethylenically unsaturated group include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid and their salts, ethylenically unsaturated Group-containing anhydrides, (meth) acrylates, (meth) acrylamides, (meth) acrylonitriles, styrenes, various unsaturated polyester resins, unsaturated polyether resins, unsaturated polyamide resins, unsaturated urethanes Examples thereof include polymerizable compounds such as resins.
In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group and an isocyanate or an epoxy, and a monofunctional or polyfunctional carboxylic acid A dehydration condensation reaction product or the like is also preferably used.

更に、イソシアナト基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類とアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲノ基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類とアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。
また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
重合性化合物としては、特に制限はなく、上記例示した化合物の他、公知の種々の化合物を用いることができ、例えば、特開2009−204962号公報に記載の化合物などを使用してもよい。
Furthermore, addition reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having an electrophilic substituent such as an isocyanato group or an epoxy group with alcohols, amines or thiols, and further elimination of a halogeno group or a tosyloxy group. A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a releasing substituent with alcohols, amines or thiols is also suitable.
As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.
There is no restriction | limiting in particular as a polymeric compound, In addition to the compound illustrated above, well-known various compounds can be used, For example, you may use the compound etc. which are described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-204962.

更に単官能エチレン性不飽和化合物としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、カルビトール(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、エポキシ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸誘導体、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム等のN−ビニル化合物類、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が好ましく用いられる。
これらの中でも、多官能エチレン性不飽和化合物としては、単官能(メタ)アクリレート化合物(単官能(メタ)アクリル酸エステル)が好ましい。
Furthermore, as monofunctional ethylenically unsaturated compounds, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, butoxyethyl (Meth) acrylate, carbitol (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, N-methylol (meth) acrylamide, (meth) acrylic acid derivatives such as epoxy (meth) acrylate, N-vinylpyrrolidone N-vinyl compounds such as N-vinylcaprolactam and derivatives of allyl compounds such as allyl glycidyl ether, diallyl phthalate and triallyl trimellitate are preferably used.
Among these, as a polyfunctional ethylenically unsaturated compound, a monofunctional (meth) acrylate compound (monofunctional (meth) acrylic acid ester) is preferable.

これらの中でも、成分Eは、アクリレート(アクリル酸エステル化合物)又はメタクリレート(メタクリル酸エステル化合物)であることが好ましく、特に、脂肪族多価アルコールとアクリル酸又はメタクリル酸とのエステルであることが好ましい。成分Eは(メタ)アクリロイルオキシ基を1分子中に2〜20個有することが好ましく、2〜8個有することがより好ましく、2〜6個有することが更に好ましく、2〜4個有することが特に好ましい。
これらの中でも、成分Eがヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、デカンジオールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、及び、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートよりなる群から選択される少なくとも1つの化合物を含むことが好ましい。
Among these, component E is preferably an acrylate (acrylic ester compound) or methacrylate (methacrylic ester compound), and particularly preferably an ester of an aliphatic polyhydric alcohol and acrylic acid or methacrylic acid. . Component E preferably has 2 to 20 (meth) acryloyloxy groups in one molecule, more preferably 2 to 8, more preferably 2 to 6, and more preferably 2 to 4. Particularly preferred.
Among these, component E is hexanediol di (meth) acrylate, decanediol di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexa (meth). ) It is preferred to contain at least one compound selected from the group consisting of acrylates.

レーザー彫刻用樹脂組成物が成分Eを含有する場合、レーザー彫刻用樹脂組成物中に含まれる成分Eの含有量は、樹脂組成物の全質量に対して、1〜50質量%が好ましく、3〜40質量%がより好ましく、5〜30質量%が更に好ましい。上記範囲であると、レーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層は耐刷性に優れる。
また、耐刷性の向上及び彫刻カスの発生量を抑制する観点は、レーザー彫刻用樹脂組成物中に含まれる成分Eの含有量は、樹脂組成物の全質量に対して、10〜50質量%であることが好ましい。
When the resin composition for laser engraving contains the component E, the content of the component E contained in the resin composition for laser engraving is preferably 1 to 50% by mass with respect to the total mass of the resin composition. -40 mass% is more preferable, and 5-30 mass% is still more preferable. Within the above range, the relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving is excellent in printing durability.
Further, from the viewpoint of improving the printing durability and suppressing the amount of engraving residue, the content of the component E contained in the resin composition for laser engraving is 10 to 50 mass relative to the total mass of the resin composition. % Is preferred.

以下、成分A〜成分E以外に、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物が含有しうる各種成分について説明する。   Hereinafter, in addition to Component A to Component E, various components that can be contained in the resin composition for laser engraving of the present invention will be described.

<溶剤>
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を調製する際に、溶剤を用いてもよいが、使用しないことが好ましい。
溶剤としては、有機溶剤を用いることが好ましい。
非プロトン性有機溶剤の好ましい具体例は、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシドが挙げられる。
プロトン性有機溶剤の好ましい具体例は、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,3−プロパンジオールが挙げられる。
これらの中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが特に好ましく例示できる。
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物における溶剤の含有量としては、樹脂組成物の全質量に対し、10質量%以下であることが好ましく、1質量%以下であることがより好ましく、0.1質量%以下であることが更に好ましく、含有しないことが特に好ましい。
<Solvent>
In preparing the resin composition for laser engraving of the present invention, a solvent may be used, but it is preferably not used.
As the solvent, an organic solvent is preferably used.
Preferred specific examples of the aprotic organic solvent include acetonitrile, tetrahydrofuran, dioxane, toluene, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N -Methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide are mentioned.
Preferable specific examples of the protic organic solvent include methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 1-methoxy-2-propanol, ethylene glycol, diethylene glycol, and 1,3-propanediol.
Among these, propylene glycol monomethyl ether acetate is particularly preferable.
The content of the solvent in the resin composition for laser engraving of the present invention is preferably 10% by mass or less, more preferably 1% by mass or less, based on the total mass of the resin composition. It is more preferable that the content is not more than mass%, and it is particularly preferable that the content is not contained.

<その他の添加剤>
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物には、公知の各種添加剤を、本発明の効果を阻害しない範囲で適宜配合することができる。例えば、可塑剤、充填剤、ワックス、プロセス油、金属酸化物、オゾン分解防止剤、老化防止剤、重合禁止剤、着色剤等が挙げられ、これらは1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
<Other additives>
In the resin composition for laser engraving of the present invention, various known additives can be appropriately blended as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples include plasticizers, fillers, waxes, process oils, metal oxides, antiozonants, antiaging agents, polymerization inhibitors, colorants, etc., and these may be used alone. Two or more kinds may be used in combination.

(レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版及びその製造方法)
本発明のレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版の第1の実施態様は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を有する。
また、本発明のレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版の第2の実施態様は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる層を架橋した架橋レリーフ形成層を有する。
本発明において「レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版」とは、レーザー彫刻用樹脂組成物からなる架橋性を有するレリーフ形成層が、架橋される前の状態、及び、光及び/又は熱により架橋された状態の両方又はいずれか一方のものをいう。
本発明において「レリーフ形成層」とは、架橋される前の状態の層をいい、すなわち、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる層であり、必要に応じ、乾燥が行われていてもよい。
架橋レリーフ形成層を有する印刷版原版をレーザー彫刻することにより「フレキソ印刷版」が作製される。
本発明において「架橋レリーフ形成層」とは、上記レリーフ形成層を架橋した層をいう。上記架橋は、熱及び/又は光により行うことができる。また、上記架橋は樹脂組成物が硬化される反応であれば特に限定されず、成分B及び成分Cの反応などによる架橋構造が例示できる。
また、本発明において「レリーフ層」とは、フレキソ印刷版におけるレーザーにより彫刻された層、すなわち、レーザー彫刻後の上記架橋レリーフ形成層をいう。
(Laser engraving type flexographic printing plate precursor and its manufacturing method)
The first embodiment of the laser engraving-type flexographic printing plate precursor of the present invention has a relief forming layer made of the resin composition for laser engraving of the present invention.
The second embodiment of the laser engraving-type flexographic printing plate precursor of the present invention has a crosslinked relief forming layer obtained by crosslinking the layer made of the resin composition for laser engraving of the present invention.
In the present invention, the “laser engraving type flexographic printing plate precursor” means that the relief forming layer having a crosslinkable property composed of a resin composition for laser engraving is crosslinked by light and / or heat before being crosslinked. It refers to both or either state.
In the present invention, the “relief-forming layer” refers to a layer in a state before being crosslinked, that is, a layer made of the resin composition for laser engraving of the present invention, and may be dried if necessary. Good.
A “flexographic printing plate” is produced by laser engraving a printing plate precursor having a crosslinked relief forming layer.
In the present invention, the “crosslinked relief forming layer” refers to a layer obtained by crosslinking the relief forming layer. The cross-linking can be performed by heat and / or light. The cross-linking is not particularly limited as long as the resin composition is cured, and examples thereof include a cross-linked structure by reaction of Component B and Component C.
In the present invention, the “relief layer” refers to a layer engraved with a laser in a flexographic printing plate, that is, the crosslinked relief forming layer after laser engraving.

本発明のレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版は、上記のような成分を含有するレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層、上記のような成分を含有するレーザー彫刻用樹脂組成物からなる層を架橋した架橋レリーフ形成層を有する。レリーフ形成層及び架橋レリーフ形成層は、支持体上に設けられることが好ましい。
レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版は、必要により更に、支持体とレリーフ形成層又は架橋レリーフ形成層との間に接着層を、また、レリーフ形成層又は架橋レリーフ形成層上にスリップコート層、保護フィルムを有していてもよい。
The laser engraving-type flexographic printing plate precursor of the present invention comprises a relief forming layer comprising a resin composition for laser engraving containing the above components, and a layer comprising a resin composition for laser engraving containing the above components. It has a crosslinked relief forming layer that has been crosslinked. The relief forming layer and the crosslinked relief forming layer are preferably provided on the support.
If necessary, the laser engraving-type flexographic printing plate precursor further comprises an adhesive layer between the support and the relief forming layer or the crosslinked relief forming layer, and a slip coat layer and a protective film on the relief forming layer or the crosslinked relief forming layer. You may have.

<レリーフ形成層>
レリーフ形成層は、上記本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる層であり、熱架橋性の層であることが好ましい。
<Relief forming layer>
The relief forming layer is a layer made of the resin composition for laser engraving of the present invention, and is preferably a thermally crosslinkable layer.

レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版によるフレキソ印刷版の作製態様としては、レリーフ形成層を架橋させて架橋レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版とした後、架橋レリーフ形成層(硬質のレリーフ形成層)をレーザー彫刻することによりレリーフ層を形成してフレキソ印刷版を作製する態様であることが好ましい。レリーフ形成層を架橋することにより、印刷時におけるレリーフ層の摩耗を防ぐことができ、また、レーザー彫刻後にシャープな形状のレリーフ層を有するフレキソ印刷版を得ることができる。   As a production mode of a flexographic printing plate using a laser engraving type flexographic printing plate precursor, a relief forming layer is crosslinked to form a flexographic printing plate precursor having a crosslinked relief forming layer, and then a crosslinked relief forming layer (hard relief forming layer) is used. A mode in which a relief layer is formed by laser engraving to produce a flexographic printing plate is preferred. By crosslinking the relief forming layer, abrasion of the relief layer during printing can be prevented, and a flexographic printing plate having a relief layer having a sharp shape after laser engraving can be obtained.

レリーフ形成層は、レリーフ形成層用の上記の如き成分を有するレーザー彫刻用樹脂組成物を、シート状又はスリーブ状に成形することで形成することができる。レリーフ形成層は、通常、後述する支持体上に設けられるが、製版、印刷用の装置に備えられたシリンダーなどの部材表面に直接形成したり、そこに配置して固定化したりすることもでき、必ずしも支持体を必要としない。
以下、主としてレリーフ形成層をシート状にした場合を例に挙げて説明する。
The relief forming layer can be formed by molding a resin composition for laser engraving having the above components for the relief forming layer into a sheet shape or a sleeve shape. The relief forming layer is usually provided on a support which will be described later. However, the relief forming layer can be directly formed on the surface of a member such as a cylinder provided in an apparatus for plate making and printing, or can be arranged and fixed there. It does not necessarily require a support.
Hereinafter, the case where the relief forming layer is formed into a sheet shape will be mainly described as an example.

<支持体>
レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版の支持体に使用する素材は特に限定されないが、寸法安定性の高いものが好ましく使用され、例えば、スチール、ステンレス、アルミニウムなどの金属、ポリエステル(例えばPET(ポリエチレンテレフタレート)、PBT(ポリブチレンテレフタレート)、PAN(ポリアクリロニトリル))やポリ塩化ビニルなどのプラスチック樹脂、スチレン−ブタジエンゴムなどの合成ゴム、ガラスファイバーで補強されたプラスチック樹脂(エポキシ樹脂やフェノール樹脂など)が挙げられる。支持体としては、PETフィルムやスチール基板が好ましく用いられる。支持体の形態は、レリーフ形成層がシート状であるかスリーブ状であるかによって決定される。
<Support>
The material used for the support of the laser engraving type flexographic printing plate precursor is not particularly limited, but a material having high dimensional stability is preferably used. For example, a metal such as steel, stainless steel, aluminum, polyester (for example, PET (polyethylene terephthalate)) , Plastic resins such as PBT (polybutylene terephthalate), PAN (polyacrylonitrile)) and polyvinyl chloride, synthetic rubbers such as styrene-butadiene rubber, and plastic resins reinforced with glass fibers (such as epoxy resins and phenol resins) It is done. As the support, a PET film or a steel substrate is preferably used. The form of the support is determined depending on whether the relief forming layer is a sheet or a sleeve.

<接着層>
レリーフ形成層を支持体上に形成する場合、両者の間には、層間の接着力を強化する目的で接着層を設けてもよい。
接着層に使用し得る材料(接着剤)としては、例えば、I.Skeist編、「Handbook of Adhesives」、第2版(1977)に記載のものを用いることができる。
<Adhesive layer>
When the relief forming layer is formed on the support, an adhesive layer may be provided between the two for the purpose of enhancing the adhesive strength between the layers.
As a material (adhesive) that can be used for the adhesive layer, for example, I.I. Those described in the edition of Skeist, “Handbook of Adhesives”, the second edition (1977) can be used.

<保護フィルム、スリップコート層>
レリーフ形成層表面又は架橋レリーフ形成層表面への傷や凹み防止の目的で、レリーフ形成層表面又は架橋レリーフ形成層表面に保護フィルムを設けてもよい。保護フィルムの厚さは、25〜500μmが好ましく、50〜200μmがより好ましい。保護フィルムは、例えば、PETのようなポリエステル系フィルム、PE(ポリエチレン)やPP(ポリプロピレン)のようなポリオレフィン系フィルムを用いることができる。またフィルムの表面はマット化されていてもよい。保護フィルムは、剥離可能であることが好ましい。
<Protective film, slip coat layer>
For the purpose of preventing scratches or dents on the surface of the relief forming layer or the surface of the crosslinked relief forming layer, a protective film may be provided on the surface of the relief forming layer or the surface of the crosslinked relief forming layer. The thickness of the protective film is preferably 25 to 500 μm, more preferably 50 to 200 μm. As the protective film, for example, a polyester film such as PET, or a polyolefin film such as PE (polyethylene) or PP (polypropylene) can be used. The surface of the film may be matted. The protective film is preferably peelable.

保護フィルムが剥離不可能な場合や、逆にレリーフ形成層に接着しにくい場合には、両層間にスリップコート層を設けてもよい。スリップコート層に使用される材料は、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、部分鹸化ポリビニルアルコール、ヒドロキシアルキルセルロース、アルキルセルロース、ポリアミド樹脂など、水に溶解又は分散可能で、粘着性の少ない樹脂を主成分とすることが好ましい。   When the protective film cannot be peeled or when it is difficult to adhere to the relief forming layer, a slip coat layer may be provided between both layers. The material used for the slip coat layer is composed mainly of a resin that is soluble or dispersible in water, such as polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, partially saponified polyvinyl alcohol, hydroxyalkyl cellulose, alkyl cellulose, and polyamide resin, and that is less sticky. It is preferable to do.

レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版の製造方法は、特に限定されるものではないが、例えば、レーザー彫刻用樹脂組成物を調製し、必要に応じて、このレーザー彫刻用塗布液組成物から溶剤を除去した後に、支持体上に溶融押し出しする方法が挙げられる。また、レーザー彫刻用樹脂組成物を、支持体上に流延し、これをオーブン中で乾燥して樹脂組成物から溶剤を除去する方法でもよい。
中でも、本発明のレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版の製造方法は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる層を形成する工程、並びに、上記レーザー彫刻用樹脂組成物からなる層を架橋し架橋レリーフ形成層を形成する工程を含む製造方法であることが好ましい。
The method for producing the laser engraving-type flexographic printing plate precursor is not particularly limited. For example, a resin composition for laser engraving is prepared, and the solvent is removed from the coating solution composition for laser engraving as necessary. Then, a method of melt extrusion on a support can be mentioned. Alternatively, the resin composition for laser engraving may be cast on a support and dried in an oven to remove the solvent from the resin composition.
Among them, the method for producing a laser engraving-type flexographic printing plate precursor according to the present invention includes a step of forming a layer made of the resin composition for laser engraving of the present invention, and a cross-linking by cross-linking the layer made of the resin composition for laser engraving. It is preferable that it is a manufacturing method including the process of forming a relief forming layer.

その後、必要に応じてレリーフ形成層の上に保護フィルムをラミネートしてもよい。ラミネートは、加熱したカレンダーロールなどで保護フィルムとレリーフ形成層を圧着することや、表面に少量の溶剤を含浸させたレリーフ形成層に保護フィルムを密着させることによって行うことができる。
保護フィルムを用いる場合には、先ず保護フィルム上にレリーフ形成層を積層し、次いで支持体をラミネートする方法を採ってもよい。
接着層を設ける場合は、接着層を塗布した支持体を用いることで対応できる。スリップコート層を設ける場合は、スリップコート層を塗布した保護フィルムを用いることで対応できる。
Thereafter, a protective film may be laminated on the relief forming layer as necessary. Lamination can be performed by pressure-bonding the protective film and the relief forming layer with a heated calendar roll or the like, or by bringing the protective film into close contact with the relief forming layer impregnated with a small amount of solvent on the surface.
When using a protective film, you may take the method of laminating | stacking a relief forming layer on a protective film first, and laminating a support body then.
When providing an adhesive layer, it can respond by using the support body which apply | coated the adhesive layer. When providing a slip coat layer, it can respond by using the protective film which apply | coated the slip coat layer.

<層形成工程>
本発明のレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版の製造方法は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程を含むことが好ましい。
レリーフ形成層の形成方法としては、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を調製し、支持体上にゴム押し出しする方法や、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を調製し、必要に応じて、このレーザー彫刻用樹脂組成物から溶剤を除去した後に、支持体上に溶融押し出しする方法、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を調製し、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を支持体上に流延し、これをオーブン中で乾燥して溶剤を除去する方法が好ましく例示できる。
中でも、溶剤を使用せず、溶融押し出し法やゴム押し出し法、熱プレス法等の熱成形によりレリーフ形成層を形成することが好ましい。
また、上記層形成工程は、上記レーザー彫刻用樹脂組成物を混練する工程、及び、得られた混練物をシート状に成形する工程を含むことが好ましい。また、上記シート状に成形する工程は、熱プレス又は押し出しによりシート状に成形する工程であることが好ましい。
レーザー彫刻用樹脂組成物は、例えば、成分A及び成分Bを混合し、更に任意成分等を順次混合する方法や、成分A及び成分B、及び、任意成分などを適当な溶剤に溶解又は分散させ、次いで、任意に成分C等を混合する方法によって製造できるが、溶剤を使用しない方法が好ましい。溶剤成分のほとんどは、フレキソ印刷版原版を製造する段階で除去することが好ましいので、溶剤としては、揮発しやすい低分子アルコール(例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル)等を用い、かつ温度を調整するなどして溶剤の全添加量をできるだけ少なく抑えることが好ましい。
<Layer formation process>
The method for producing a laser engraving-type flexographic printing plate precursor of the present invention preferably includes a layer forming step of forming a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving of the present invention.
As a method for forming a relief forming layer, the resin composition for laser engraving of the present invention is prepared, a method of extruding rubber on a support, and a resin composition for laser engraving of the present invention are prepared, if necessary, After removing the solvent from the resin composition for laser engraving, a method of melt extrusion on a support, preparing the resin composition for laser engraving of the present invention, and applying the resin composition for laser engraving of the present invention on the support A method in which the solvent is removed by casting and drying in an oven is preferable.
Among them, it is preferable to form the relief forming layer by thermoforming such as a melt extrusion method, a rubber extrusion method, or a hot press method without using a solvent.
Moreover, it is preferable that the said layer formation process includes the process of knead | mixing the said resin composition for laser engravings, and the process of shape | molding the obtained kneaded material in a sheet form. Moreover, it is preferable that the process shape | molded into the said sheet form is a process shape | molded into a sheet form by hot press or extrusion.
The resin composition for laser engraving is, for example, a method in which component A and component B are mixed, and optional components and the like are sequentially mixed, or component A, component B, and optional components are dissolved or dispersed in an appropriate solvent. Then, although it can manufacture by the method of mixing component C etc. arbitrarily, the method which does not use a solvent is preferable. Since most of the solvent component is preferably removed at the stage of producing the flexographic printing plate precursor, the solvent is a low-molecular alcohol that easily volatilizes (for example, methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, propylene glycol monomethyl ether). It is preferable to keep the total amount of solvent added as small as possible by adjusting the temperature.

レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版における(架橋)レリーフ形成層の厚さは、架橋の前後において、0.05mm以上10mm以下が好ましく、0.05mm以上7mm以下がより好ましく、0.05mm以上3mm以下が更に好ましい。   The thickness of the (crosslinking) relief forming layer in the laser engraving-type flexographic printing plate precursor is preferably 0.05 mm or more and 10 mm or less, more preferably 0.05 mm or more and 7 mm or less, and more preferably 0.05 mm or more and 3 mm or less before and after crosslinking. Further preferred.

<架橋工程>
本発明のレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版の製造方法は、レーザー彫刻用樹脂組成物からなる層を架橋し架橋レリーフ形成層を形成する架橋工程を含む製造方法である。
架橋工程は、熱及び/又は光により架橋を行うことが好ましく、熱により架橋を行うことがより好ましい。
架橋工程における加熱温度は、過酸化物等の分解温度に応じて任意に設定することができるが、90℃〜250℃であることが好ましく、100℃〜180℃であることがより好ましく、100℃〜160℃であることが更に好ましく、120℃〜160℃であることが特に好ましい。上記態様であると、熱による架橋を容易に同時に行うことができる。
架橋工程における加熱手段としては、印刷版原版を熱風オーブンや遠赤外オーブン内で所定時間加熱する方法や、加熱したロールに所定時間接する方法が挙げられる。
<Crosslinking process>
The method for producing a laser engraving-type flexographic printing plate precursor according to the present invention is a production method including a crosslinking step of crosslinking a layer comprising a resin composition for laser engraving to form a crosslinked relief forming layer.
In the crosslinking step, it is preferable to perform crosslinking with heat and / or light, and it is more preferable to perform crosslinking with heat.
The heating temperature in the crosslinking step can be arbitrarily set according to the decomposition temperature of the peroxide or the like, but is preferably 90 ° C. to 250 ° C., more preferably 100 ° C. to 180 ° C., 100 More preferably, the temperature is from 160 ° C to 160 ° C, particularly preferably from 120 ° C to 160 ° C. If it is the said aspect, bridge | crosslinking by a heat | fever can be performed easily simultaneously.
Examples of the heating means in the crosslinking step include a method of heating the printing plate precursor in a hot air oven or a far infrared oven for a predetermined time, or a method of contacting a heated roll for a predetermined time.

また、架橋工程における光の照射は、レリーフ形成層全面に行うのが一般的である。光(「活性光線」ともいう。)としては可視光、紫外光及び電子線が挙げられるが、紫外光が最も好ましい。レリーフ形成層の支持体等、レリーフ形成層を固定化するための基材側を裏面とすれば、表面に光を照射するだけでもよいが、支持体が活性光線を透過する透明なフィルムであれば、更に裏面からも光を照射することが好ましい。表面からの照射は、保護フィルムが存在する場合、これを設けたまま行ってもよいし、保護フィルムを剥離した後に行ってもよい。酸素の存在下では重合阻害が生じる恐れがあるので、レリーフ形成層にポリ塩化ビニルシートを被せて真空引きした上で、活性光線の照射を行ってもよい。   In general, the light irradiation in the crosslinking step is performed on the entire surface of the relief forming layer. Examples of light (also referred to as “active light”) include visible light, ultraviolet light, and electron beam, with ultraviolet light being most preferred. If the substrate side for immobilizing the relief forming layer, such as the support of the relief forming layer, is the back side, the surface may only be irradiated with light, but the support should be a transparent film that transmits actinic rays. For example, it is preferable to irradiate light from the back side. When the protective film exists, the irradiation from the surface may be performed while the protective film is provided, or may be performed after the protective film is peeled off. Since polymerization inhibition may occur in the presence of oxygen, irradiation with actinic rays may be performed after the relief forming layer is covered with a polyvinyl chloride sheet and evacuated.

また、架橋工程後、支持体を架橋レリーフ形成層から剥離してもよいし、また、強度や平滑性の観点から、架橋工程時に設けられていた支持体を架橋レリーフ形成層から剥離した後、架橋レリーフ形成層の上記支持体が設けられていた又は設けられている面とは反対側の面に別の支持体を設けてもよい。   Further, after the crosslinking step, the support may be peeled from the crosslinked relief forming layer, and from the viewpoint of strength and smoothness, after peeling the support provided during the crosslinking step from the crosslinked relief forming layer, You may provide another support body in the surface on the opposite side to the surface in which the said support body of the bridge | crosslinking relief forming layer was provided.

(フレキソ印刷版及びその製版方法)
本発明のフレキソ印刷版の製版方法は、本発明のフレキソ印刷版原版を準備する準備工程、及び、上記架橋レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版をレーザー彫刻する彫刻工程、を含むことが好ましい。
本発明のフレキソ印刷版は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる層を架橋、並びに、レーザー彫刻して得られたレリーフ層を有するフレキソ印刷版であり、本発明のフレキソ印刷版の製版方法により製版されたフレキソ印刷版であることが好ましい。
本発明のフレキソ印刷版の製版方法における準備工程としては、上記層形成工程及び架橋工程が好ましく挙げられ、これら工程は、上記レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版の製造方法における層形成工程及び架橋工程と同義であり、好ましい範囲も同様である。
(Flexographic printing plate and plate making method)
The plate making method of the flexographic printing plate of the present invention preferably includes a preparation step of preparing the flexographic printing plate precursor of the present invention and an engraving step of laser engraving the flexographic printing plate precursor having the crosslinked relief forming layer.
The flexographic printing plate of the present invention is a flexographic printing plate having a relief layer obtained by crosslinking and laser engraving a layer comprising the resin composition for laser engraving of the present invention, and making the flexographic printing plate of the present invention. A flexographic printing plate made by the method is preferred.
As the preparation step in the plate making method of the flexographic printing plate of the present invention, the layer forming step and the crosslinking step are preferably mentioned. It is synonymous and the preferable range is also the same.

<彫刻工程>
本発明のフレキソ印刷版の製版方法は、上記架橋レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版をレーザー彫刻する彫刻工程を含む。
彫刻工程は、上記架橋工程で架橋された架橋レリーフ形成層をレーザー彫刻してレリーフ層を形成する工程である。具体的には、架橋された架橋レリーフ形成層に対して、所望の画像に対応したレーザー光を照射して彫刻を行うことによりレリーフ層を形成することが好ましい。また、所望の画像のデジタルデータを元にコンピューターでレーザーヘッドを制御し、架橋レリーフ形成層に対して走査照射する工程が好ましく挙げられる。
この彫刻工程には、赤外線レーザーが好ましく用いられる。赤外線レーザーが照射されると、架橋レリーフ形成層中の分子が分子振動し、熱が発生する。赤外線レーザーとして炭酸ガスレーザーやYAGレーザーのような高出力のレーザーを用いると、レーザー照射部分に大量の熱が発生し、架橋レリーフ形成層中の分子は分子切断又はイオン化されて選択的な除去、すなわち、彫刻がなされる。レーザー彫刻の利点は、彫刻深さを任意に設定できるため、構造を3次元的に制御することができる点である。例えば、微細な網点を印刷する部分は、浅く又はショルダーをつけて彫刻することで、印圧でレリーフが転倒しないようにすることができ、細かい抜き文字を印刷する溝の部分は深く彫刻することで、溝にインキが埋まりにくくなり、抜き文字つぶれを抑制することが可能となる。
中でも、光熱変換剤の吸収波長に対応した赤外線レーザーで彫刻する場合には、より高感度で架橋レリーフ形成層の選択的な除去が可能となり、シャープな画像を有するレリーフ層が得られる。
<Engraving process>
The plate making method of the flexographic printing plate of the present invention includes an engraving step of laser engraving the flexographic printing plate precursor having the crosslinked relief forming layer.
The engraving step is a step of forming a relief layer by laser engraving the crosslinked relief forming layer crosslinked in the crosslinking step. Specifically, it is preferable to form a relief layer by engraving a crosslinked crosslinked relief forming layer by irradiating a laser beam corresponding to a desired image. Moreover, the process of controlling a laser head with a computer based on the digital data of a desired image, and carrying out scanning irradiation with respect to a bridge | crosslinking relief forming layer is mentioned preferably.
In this engraving process, an infrared laser is preferably used. When irradiated with an infrared laser, the molecules in the crosslinked relief forming layer undergo molecular vibrations and generate heat. When a high-power laser such as a carbon dioxide laser or YAG laser is used as an infrared laser, a large amount of heat is generated in the laser irradiation part, and molecules in the crosslinked relief forming layer are selectively cut by molecular cutting or ionization. That is, engraving is performed. The advantage of laser engraving is that the engraving depth can be set arbitrarily, so that the structure can be controlled three-dimensionally. For example, a portion that prints fine halftone dots can be engraved shallowly or with a shoulder so that the relief does not fall down due to printing pressure, and a portion of a groove that prints fine punched characters is engraved deeply As a result, the ink is less likely to be buried in the groove, and it is possible to suppress the crushing of the extracted characters.
In particular, when engraving with an infrared laser corresponding to the absorption wavelength of the photothermal conversion agent, the crosslinked relief forming layer can be selectively removed with higher sensitivity, and a relief layer having a sharp image can be obtained.

彫刻工程に用いられる赤外線レーザーとしては、生産性、コスト等の面から、炭酸ガスレーザー(CO2レーザー)又は半導体レーザーが好ましい。特に、ファイバー付き半導体赤外線レーザー(FC−LD)が好ましく用いられる。一般に、半導体レーザーは、CO2レーザーに比べレーザー発振が高効率かつ安価で小型化が可能である。また、小型であるためアレイ化が容易である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。
半導体レーザーとしては、波長が700〜1,300nmのものが好ましく、800〜1,200nmのものがより好ましく、860〜1,200nmのものが更に好ましく、900〜1,100nmのものが特に好ましい。
As the infrared laser used in the engraving process, a carbon dioxide laser (CO 2 laser) or a semiconductor laser is preferable from the viewpoints of productivity and cost. In particular, a semiconductor infrared laser with a fiber (FC-LD) is preferably used. In general, a semiconductor laser can be downsized with high efficiency and low cost of laser oscillation compared to a CO 2 laser. Moreover, since it is small, it is easy to form an array. Furthermore, the beam shape can be controlled by processing the fiber.
The semiconductor laser preferably has a wavelength of 700 to 1,300 nm, more preferably 800 to 1,200 nm, still more preferably 860 to 1,200 nm, and particularly preferably 900 to 1,100 nm.

また、ファイバー付き半導体レーザーは、更に光ファイバーを取り付けることで効率よくレーザー光を出力できるため、本発明における彫刻工程には有効である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。例えば、ビームプロファイルはトップハット形状とすることができ、安定に版面にエネルギーを与えることができる。半導体レーザーの詳細は、「レーザーハンドブック第2版」レーザー学会編、「実用レーザー技術」電子通信学会編等に記載されている。
また、本発明のフレキソ印刷版原版を用いたフレキソ印刷版の製版方法に好適に用いることができるファイバー付き半導体レーザーを備えた製版装置は、特開2009−172658号公報及び特開2009−214334号公報に詳細に記載され、これを本発明に係るフレキソ印刷版の製版に使用することができる。
Moreover, since the semiconductor laser with a fiber can output a laser beam efficiently by attaching an optical fiber, it is effective for the engraving process in the present invention. Furthermore, the beam shape can be controlled by processing the fiber. For example, the beam profile can have a top hat shape, and energy can be stably given to the plate surface. Details of the semiconductor laser are described in “Laser Handbook 2nd Edition” edited by Laser Society, “Practical Laser Technology” edited by IEICE.
Also, a plate making apparatus equipped with a fiber-coupled semiconductor laser that can be suitably used in a method for making a flexographic printing plate using the flexographic printing plate precursor of the present invention is disclosed in JP 2009-172658 A and JP 2009-214334 A. It is described in detail in the official gazette and can be used for making a flexographic printing plate according to the present invention.

本発明のフレキソ印刷版の製版方法では、彫刻工程に次いで、更に、必要に応じて下記リンス工程、乾燥工程、及び/又は、後架橋工程を含んでもよい。
リンス工程:彫刻後のレリーフ層表面を、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスする工程。
乾燥工程:彫刻されたレリーフ層を乾燥する工程。
後架橋工程:彫刻後のレリーフ層にエネルギーを付与し、レリーフ層を更に架橋する工程。
上記工程を経た後、彫刻表面に彫刻カスが付着しているため、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスして、彫刻カスを洗い流すリンス工程を追加してもよい。リンスの手段として、水道水で水洗する方法、高圧水をスプレー噴射する方法、感光性樹脂凸版の現像機として公知のバッチ式又は搬送式のブラシ式洗い出し機で、彫刻表面を主に水の存在下でブラシ擦りする方法などが挙げられ、彫刻カスのヌメリがとれない場合は、石鹸や界面活性剤を添加したリンス液を用いてもよい。
彫刻表面をリンスするリンス工程を行った場合、彫刻されたレリーフ形成層を乾燥してリンス液を揮発させる乾燥工程を追加することが好ましい。
更に、必要に応じてレリーフ形成層を更に架橋させる後架橋工程を追加してもよい。追加の架橋工程である後架橋工程を行うことにより、彫刻によって形成されたレリーフをより強固にすることができる。
In the method for making a flexographic printing plate of the present invention, after the engraving step, the following rinsing step, drying step, and / or post-crosslinking step may be included as necessary.
Rinsing step: a step of rinsing the engraved surface of the relief layer surface after engraving with water or a liquid containing water as a main component.
Drying step: a step of drying the engraved relief layer.
Post-crosslinking step: a step of imparting energy to the relief layer after engraving and further crosslinking the relief layer.
Since the engraving residue is attached to the engraving surface after the above steps, a rinsing step of rinsing the engraving residue by rinsing the engraving surface with water or a liquid containing water as a main component may be added. As a means of rinsing, there is a method of washing with tap water, a method of spraying high-pressure water, and a known batch type or conveying type brush type washing machine as a photosensitive resin relief printing machine. For example, when the engraving residue cannot be removed, a rinsing liquid to which soap or a surfactant is added may be used.
When the rinsing process for rinsing the engraving surface is performed, it is preferable to add a drying process for drying the engraved relief forming layer and volatilizing the rinsing liquid.
Furthermore, you may add the post-crosslinking process which further bridge | crosslinks a relief forming layer as needed. By performing the post-crosslinking step, which is an additional cross-linking step, the relief formed by engraving can be further strengthened.

本発明に用いることができるリンス液は、pH8〜14のリンス液であることが好ましい。上記態様であると、レーザー彫刻時に発生する彫刻カスのリンス性により優れる。
また、本発明に用いることができるリンス液のpHは、9以上であることがより好ましく、10以上であることが更に好ましく、11以上であることが特に好ましい。また、リンス液のpHは、13.5以下であることがより好ましく、13.2以下であることが更に好ましい。上記範囲であると、取り扱いが容易であり、また、レーザー彫刻時に発生する彫刻カスのリンス性により優れる。
リンス液を上記のpH範囲とするために、適宜、酸及び/又は塩基を用いてpHを調整すればよく、使用する酸及び塩基は特に限定されない。コスト等の観点からは、塩基として、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物が好ましく挙げられる。
本発明に用いることができるリンス液は、主成分として水を含有する水系リンス液であることが好ましい。
また、リンス液は、水以外の溶剤として、アルコール類、アセトン、テトラヒドロフラン等などの水混和性溶剤を含有していてもよい。
The rinsing liquid that can be used in the present invention is preferably a rinsing liquid having a pH of 8 to 14. In the above embodiment, the rinsing property of engraving residue generated during laser engraving is excellent.
Further, the pH of the rinsing solution that can be used in the present invention is more preferably 9 or more, further preferably 10 or more, and particularly preferably 11 or more. The pH of the rinse liquid is more preferably 13.5 or less, and further preferably 13.2 or less. When it is within the above range, handling is easy and the rinse property of engraving residue generated during laser engraving is excellent.
What is necessary is just to adjust pH using an acid and / or a base suitably in order to make a rinse liquid into said pH range, and the acid and base to be used are not specifically limited. From the viewpoint of cost and the like, the base is preferably an alkali metal or alkaline earth metal hydroxide.
The rinsing liquid that can be used in the present invention is preferably an aqueous rinsing liquid containing water as a main component.
Moreover, the rinse liquid may contain water miscible solvents, such as alcohol, acetone, tetrahydrofuran, etc. as solvents other than water.

リンス液は、界面活性剤を含有することが好ましい。
本発明に用いることができる界面活性剤としては、彫刻カスの除去性、及び、フレキソ印刷版への影響を少なくする観点から、カルボキシベタイン化合物、スルホベタイン化合物、ホスホベタイン化合物、アミンオキシド化合物、又は、ホスフィンオキシド化合物等のベタイン化合物(両性界面活性剤)が好ましく挙げられる。
It is preferable that the rinse liquid contains a surfactant.
As a surfactant that can be used in the present invention, a carboxybetaine compound, a sulfobetaine compound, a phosphobetaine compound, an amine oxide compound, or a viewpoint of reducing engraving residue removal and the influence on the flexographic printing plate Preferred are betaine compounds (amphoteric surfactants) such as phosphine oxide compounds.

また、界面活性剤としては、公知のアニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤等も挙げられる。更に、フッ素系、シリコーン系のノニオン界面活性剤も同様に使用することができる。
界面活性剤は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
界面活性剤の使用量は特に限定する必要はないが、リンス液の全質量に対し、0.01〜20質量%であることが好ましく、0.05〜10質量%であることがより好ましい。
Examples of the surfactant include known anionic surfactants, cationic surfactants, and nonionic surfactants. Furthermore, fluorine-based and silicone-based nonionic surfactants can be used in the same manner.
Surfactant may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
Although the usage-amount of surfactant does not need to specifically limit, it is preferable that it is 0.01-20 mass% with respect to the total mass of a rinse liquid, and it is more preferable that it is 0.05-10 mass%.

以上のようにして、支持体等の任意の基材表面にレリーフ層を有するフレキソ印刷版が得られる。
フレキソ印刷版が有するレリーフ層の厚さは、耐磨耗性やインキ転移性のような種々の印刷適性を満たす観点からは、0.05mm以上10mm以下が好ましく、より好ましくは0.05mm以上7mm以下、特に好ましくは0.05mm以上3mm以下である。
As described above, a flexographic printing plate having a relief layer on the surface of an arbitrary substrate such as a support can be obtained.
The thickness of the relief layer of the flexographic printing plate is preferably 0.05 mm or more and 10 mm or less, more preferably 0.05 mm or more and 7 mm, from the viewpoint of satisfying various printability such as abrasion resistance and ink transferability. Hereinafter, it is particularly preferably 0.05 mm or more and 3 mm or less.

また、フレキソ印刷版が有するレリーフ層のショアA硬度は、50°以上90°以下であることが好ましい。レリーフ層のショアA硬度が50°以上であると、彫刻により形成された微細な網点が凸版印刷機の強い印圧を受けても倒れてつぶれることがなく、正常な印刷ができる。また、レリーフ層のショアA硬度が90°以下であると、印圧がキスタッチのフレキソ印刷でもベタ部での印刷かすれを防止することができる。
なお、本明細書におけるショアA硬度は、25℃において、測定対象の表面に圧子(押針又はインデンタと呼ばれる。)を押し込み変形させ、その変形量(押込み深さ)を測定して、数値化するデュロメータ(スプリング式ゴム硬度計)により測定した値である。
Moreover, it is preferable that the Shore A hardness of the relief layer which a flexographic printing plate has is 50 degree or more and 90 degrees or less. When the Shore A hardness of the relief layer is 50 ° or more, even if the fine halftone dots formed by engraving are subjected to the strong printing pressure of the relief printing press, they do not collapse and can be printed normally. In addition, when the Shore A hardness of the relief layer is 90 ° or less, it is possible to prevent faint printing in a solid portion even in flexographic printing with a kiss touch.
In addition, the Shore A hardness in this specification is a numerical value obtained by indenting and deforming an indenter (called a push needle or an indenter) on a surface to be measured at 25 ° C., and measuring the deformation amount (indentation depth). This is a value measured with a durometer (spring type rubber hardness meter).

本発明のフレキソ印刷版は、フレキソ印刷機による水性インキでの印刷に特に好適であるが、凸版用印刷機による水性インキ、油性インキ及びUVインキ、いずれのインキを用いた場合でも、印刷が可能であり、また、フレキソ印刷機によるUVインキでの印刷も可能である。本発明のフレキソ印刷版は、リンス性に優れており彫刻カスの残存がなく、かつ、得られたレリーフ層が弾性に優れるため、水性インキ転移性及び耐刷性に優れ、長期間にわたりレリーフ層の塑性変形や耐刷性低下の懸念がなく、印刷が実施できる。   The flexographic printing plate of the present invention is particularly suitable for printing with water-based ink by a flexographic printing machine, but printing is possible with any of water-based ink, oil-based ink and UV ink by a relief printing press. In addition, printing with UV ink by a flexographic printing machine is also possible. The flexographic printing plate of the present invention has excellent rinsing properties, no engraving residue remains, and the obtained relief layer is excellent in elasticity, so that it has excellent water-based ink transfer properties and printing durability, and a relief layer over a long period of time. Thus, printing can be carried out without concern for plastic deformation or deterioration of printing durability.

以下に実施例及び比較例を示し、本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。なお、以下の記載における「部」とは、特に断りのない限り「質量部」を示し、「%」は「質量%」を示すものとする。また、後述の表1における各数値の単位は、質量部である。
なお、実施例におけるポリマーの数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)は、特に断りのない限りにおいて、GPC法で測定した値を表示している。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples. However, the present invention is not limited to these examples. In the following description, “part” means “part by mass” unless otherwise specified, and “%” means “% by mass”. Moreover, the unit of each numerical value in Table 1 mentioned later is a mass part.
In addition, the number average molecular weight (Mn) and the weight average molecular weight (Mw) of the polymer in an Example have shown the value measured by GPC method unless there is particular notice.

各実施例及び比較例で使用した成分の詳細は以下の通りである。
<バインダーポリマー>
・BR150L:ポリブタジエン(ムーニー粘度(ML1+4、100℃):43、Mw:467,000、Mn:243,000、Tg:約−103℃、引張永久ひずみ:63%宇部興産(株)製UBEPOL BR150L)
・IR2200L:ポリイソプレン(ムーニー粘度(ML1+4、100℃):70、Mw:135万、Mn:472,000、Tg:約−60℃、引張永久ひずみ:53%、日本ゼオン(株)製NIPOL IR2200L)
・D−1102:スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体(SBS樹脂、Mw:10万、引張永久ひずみ:0%、Kraton社製Kraton D−1102)
・TR2000:SBR(スチレンブタジエンゴム)、JSR(株)製、Tg=−50℃、100℃、Mw=5.6万
・BUTYL365:ブチルゴム(イソブチレン−イソプレン共重合体)、JSR(株)製、Mw=26万
Details of the components used in each example and comparative example are as follows.
<Binder polymer>
BR150L: polybutadiene (Mooney viscosity (ML 1 + 4 , 100 ° C.): 43, Mw: 467,000, Mn: 243,000, Tg: about −103 ° C., tensile permanent strain: 63%, manufactured by Ube Industries, Ltd. UBEPOL BR150L)
IR2200L: polyisoprene (Mooney viscosity (ML 1 + 4 , 100 ° C.): 70, Mw: 1.35 million, Mn: 472,000, Tg: about −60 ° C., tensile set: 53%, Nippon Zeon Co., Ltd. (NIPOL IR2200L)
D1102: Styrene-butadiene-styrene block copolymer (SBS resin, Mw: 100,000, Tensile permanent set: 0%, Kraton D1102 manufactured by Kraton)
TR2000: SBR (styrene butadiene rubber), manufactured by JSR Corporation, Tg = −50 ° C., 100 ° C., Mw = 56,000, BUTYL 365: Butyl rubber (isobutylene-isoprene copolymer), manufactured by JSR Corporation, Mw = 260,000

<重合開始剤>
・PCD−40:ジクミルペルオキシド(有機過酸化物、日油(株)製パークミルD−40、ジクミルパーオキシド40%含有、10時間半減期温度:116.4℃)
・Irgacure 651:光重合開始剤、2−フェニル−2,2−ジメトキシアセトフェノン(IRGACURE 651、チバガイギー社製)
<Polymerization initiator>
-PCD-40: Dicumyl peroxide (organic peroxide, Park Mill D-40 manufactured by NOF Corporation, containing 40% dicumyl peroxide, 10-hour half-life temperature: 116.4 ° C)
Irgacure 651: photopolymerization initiator, 2-phenyl-2,2-dimethoxyacetophenone (IRGACURE 651, manufactured by Ciba Geigy)

<重合性化合物>
・HDDA:ヘキサンジオールジアクリレート(東京化成工業(株)製)
<光熱変換剤>
・#45L:カーボンブラック#45L(三菱化学(株)製、粒子径:24nm、比表面積:125m2/g、DBP吸油量:45ml/100g)
<Polymerizable compound>
HDDA: hexanediol diacrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
<Photothermal conversion agent>
# 45L: Carbon black # 45L (Mitsubishi Chemical Corporation, particle size: 24 nm, specific surface area: 125 m 2 / g, DBP oil absorption: 45 ml / 100 g)

<メタセシス触媒を含有するポリマー粒子(MG−1)の合成>
イソホロンジイソシアネート(IPDI)355.6部(1.60モル当量)と多価フェノール化合物(下記構造)169.6部(0.40モル当量)との酢酸エチル(470.7部)懸濁溶液に、オクチル酸第一錫(スタノクト、吉富製薬(株)製)0.471部を酢酸エチル10部に溶解した溶液を、撹拌しながら1時間にわたって滴下した。滴下後、撹拌を2時間続け、次いで50℃で3時間撹拌を行った。こうして、多価イソシアネート付加物の溶液(溶液A)を得た。
<Synthesis of Polymer Particle (MG-1) Containing Metathesis Catalyst>
In a suspension of ethyl acetate (470.7 parts) with 355.6 parts (1.60 molar equivalents) of isophorone diisocyanate (IPDI) and 169.6 parts (0.40 molar equivalents) of a polyphenol compound (the following structure). A solution prepared by dissolving 0.471 parts of stannous octylate (Stanocto, Yoshitomi Pharmaceutical Co., Ltd.) in 10 parts of ethyl acetate was added dropwise over 1 hour with stirring. After dropping, stirring was continued for 2 hours, and then stirring was performed at 50 ° C. for 3 hours. In this way, a solution (solution A) of the polyvalent isocyanate adduct was obtained.

Figure 2015150805
Figure 2015150805

油相成分として、Grubbs触媒(第1世代)(Cat−1、アルドリッチ社製、下記構造、Cyはシクロヘキシル基を表す。)0.011部をメチルエチルケトン10部に溶かした溶液、上記で作製した溶液Aを20部、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナートとの付加体(三井化学(株)製、タケネートD−110N)1.0部、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナートとポリエチレングリコールモノメチルエーテルとの付加体(三井化学(株)製、タケネートD−116N)5部を混合し、室温(25℃、以下同様)で30分撹拌し、溶液Bを得た。
アルキルベンゼンスルホン酸塩(竹本油脂(株)製、パイオニンA−41C)の4質量%水溶液15部と蒸留水21部からなる水溶液Cを作製した。
Grubbs catalyst (first generation) as an oil phase component (Cat-1, manufactured by Aldrich, the following structure, Cy represents a cyclohexyl group) A solution prepared by dissolving 0.011 part in 10 parts of methyl ethyl ketone, the solution prepared above 20 parts of A, 1.0 part of an adduct of trimethylolpropane and xylene diisocyanate (manufactured by Mitsui Chemicals, Takenate D-110N), trimethylolpropane, xylene diisocyanate and polyethylene glycol monomethyl ether 5 parts of an adduct (manufactured by Mitsui Chemicals, Takenate D-116N) were mixed and stirred at room temperature (25 ° C., the same applies hereinafter) for 30 minutes to obtain Solution B.
An aqueous solution C composed of 15 parts of a 4% by weight aqueous solution of alkylbenzene sulfonate (Takemoto Yushi Co., Ltd., Pionein A-41C) and 21 parts of distilled water was prepared.

Figure 2015150805
Figure 2015150805

溶液Bと水溶液Cとを混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで12分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水13部に添加し、室温で30分撹拌後、40℃で4時間撹拌した。このようにして得られたポリマー粒子液の固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈した後、U−CAT SA102(DBU(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン)−オクチル酸塩、サンアプロ(株)製)4部を加えて、容器に栓をした状態で45℃の恒温室にて48時間静置することで、メタセシス触媒を含有するポリマー粒子(MG−1)分散液を得た。光散乱法により測定したポリマー粒子MG−1の平均粒径は、0.20μmであった。
MG−1分散液をシャーレに注ぎ、室温で15時間放置後、減圧下50℃で8時間乾燥することで、粉体状のMG−1を得た。
Solution B and aqueous solution C were mixed and emulsified for 12 minutes at 12,000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 13 parts of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 40 ° C. for 4 hours. The polymer particle liquid thus obtained was diluted with distilled water to a solid content concentration of 15% by mass, and then diluted with U-CAT SA102 (DBU (1,8-diazabicyclo [5.4.0]. ] -7-Undecene) -octylate (manufactured by San Apro Co., Ltd.) and containing the metathesis catalyst by allowing it to stand for 48 hours in a thermostatic chamber at 45 ° C. with the container plugged. A polymer particle (MG-1) dispersion was obtained. The average particle diameter of the polymer particles MG-1 measured by the light scattering method was 0.20 μm.
The MG-1 dispersion was poured into a petri dish, allowed to stand at room temperature for 15 hours, and then dried at 50 ° C. under reduced pressure for 8 hours to obtain powdery MG-1.

<メタセシス触媒を含有しないポリマー粒子(MG−2)の合成>
Grubbs触媒を添加しなかった以外は、上記MG−1の合成と同様な方法により、メタセシス触媒を含有しないポリマー粒子(MG−2)を作製した。光散乱法により測定したポリマー粒子MG−2の平均粒径は、0.21μmであった。
<Synthesis of polymer particle (MG-2) not containing metathesis catalyst>
A polymer particle (MG-2) containing no metathesis catalyst was produced by the same method as the synthesis of MG-1 except that the Grubbs catalyst was not added. The average particle diameter of the polymer particles MG-2 measured by the light scattering method was 0.21 μm.

<PU−1の合成>
コンデンサーを付けた三口フラスコに、Poly bd R−45HT(ポリブタジエンジオール、出光興産(株)製)とイソホロンジイソシアネート(和光純薬工業(株)製)との混合物200部(NCO/OH=1.05 モル比になるように混合重量を調整)を入れ、窒素雰囲気下、常温(25℃、以下同様)で撹拌しているところに、ウレタン反応触媒としてネオスタンU−600(無機ビスマス系触媒、日東化成(株)製)を0.1部添加して、更に常温で30分間撹拌した。その後、反応溶液を80℃で5時間加熱・撹拌し、1−メトキシ−2−プロパノール(和光純薬工業(株)製)1部を添加して更に1時間加熱・撹拌した。該操作により、高粘度な液状物としてポリブタジエン鎖を有するポリウレタンPU−1を得た。ポリマーの同定は、GPC(Mw=5.6万)、NMR、IRにて行った。
<Synthesis of PU-1>
In a three-necked flask equipped with a condenser, a mixture of Poly bd R-45HT (polybutadiene diol, manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.) and isophorone diisocyanate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) (NCO / OH = 1.05). The mixture is adjusted so that the molar ratio is adjusted) and stirred at room temperature (25 ° C., the same applies hereinafter) under a nitrogen atmosphere. 0.1 part) was added and further stirred at room temperature for 30 minutes. Thereafter, the reaction solution was heated and stirred at 80 ° C. for 5 hours, 1 part of 1-methoxy-2-propanol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added, and the mixture was further heated and stirred for 1 hour. By this operation, polyurethane PU-1 having a polybutadiene chain was obtained as a highly viscous liquid. The polymer was identified by GPC (Mw = 56,000), NMR, and IR.

<PU−2の合成>
1−メトキシ−2−プロパノール1部を、アクリル酸2−ヒドロキシエチル(和光純薬工業(株)製)1部に変更した以外は、上記PU−1の合成と同様にして、高粘度な液状物としてポリブタジエン鎖を有するポリウレタンアクリレートPU−2を得た。ポリマーの同定は、GPC(Mw=5.6万)、NMR、IRにて行った。
<Synthesis of PU-2>
A high-viscosity liquid is obtained in the same manner as in the synthesis of PU-1, except that 1 part of 1-methoxy-2-propanol is changed to 1 part of 2-hydroxyethyl acrylate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.). As a product, polyurethane acrylate PU-2 having a polybutadiene chain was obtained. The polymer was identified by GPC (Mw = 56,000), NMR, and IR.

(実施例1〜8、及び、比較例1〜5)
<レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版の作製>
後述する表1及び表2に記載の素材及び組成に基づき、重合開始剤を除いた各素材を、ラボプラストミル((株)東洋精機製作所製)にて混練した(60℃20分間)。その後、重合開始剤を加え、更に混練(80℃5分間)し、レーザー彫刻用樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物を、ゴム用押し出し機にて厚さ1mmのシートに成形し、これを加熱炉に入れて、140℃で80分間加熱することにより架橋させ、レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版を得た。
(Examples 1-8 and Comparative Examples 1-5)
<Preparation of laser engraving type flexographic printing plate precursor>
Based on the materials and compositions described in Table 1 and Table 2 described later, each material excluding the polymerization initiator was kneaded (60 ° C., 20 minutes) with Labo Plast Mill (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho). Thereafter, a polymerization initiator was added and further kneaded (80 ° C. for 5 minutes) to obtain a resin composition for laser engraving. The obtained resin composition is molded into a sheet having a thickness of 1 mm by a rubber extruder, and this is put into a heating furnace and crosslinked by heating at 140 ° C. for 80 minutes, so that a laser engraving-type flexographic printing plate precursor Got.

<フレキソ印刷版の作製>
架橋後の樹脂組成層(架橋レリーフ形成層)に対し、以下の2種のレーザーにより彫刻した。
炭酸ガスレーザー彫刻機として、レーザー照射による彫刻を、高品位CO2レーザーマーカML−9100シリーズ((株)キーエンス製)を用いた。炭酸ガスレーザー彫刻機で、出力:12W、ヘッド速度:200mm/秒、ピッチ設定:2,400DPIの条件で、1cm四方のベタ部分をラスター彫刻した。
半導体レーザー彫刻機として、最大出力8.0Wのファイバー付き半導体レーザー(FC−LD)SDL−6390(JDSU社製、波長915nm)を装備したレーザー記録装置を用いた。半導体レーザー彫刻機でレーザー出力:7.5W、ヘッド速度:409mm/秒、ピッチ設定:2,400DPIの条件で、1cm四方のベタ部分をラスター彫刻した。
使用した彫刻機は、表2に示した。なお、「FC−LD」は、半導体レーザー彫刻機を使用したことを意味し、「CO2」は、炭酸ガスレーザー彫刻機を使用したことを意味する。
<Preparation of flexographic printing plate>
The crosslinked resin composition layer (crosslinked relief forming layer) was engraved with the following two types of lasers.
As a carbon dioxide laser engraving machine, engraving by laser irradiation was performed using a high-quality CO 2 laser marker ML-9100 series (manufactured by Keyence Corporation). Using a carbon dioxide laser engraving machine, a 1 cm square solid part was raster engraved under the conditions of output: 12 W, head speed: 200 mm / second, pitch setting: 2,400 DPI.
As a semiconductor laser engraving machine, a laser recording apparatus equipped with a fiber-coupled semiconductor laser (FC-LD) SDL-6390 (JDSU, wavelength 915 nm) having a maximum output of 8.0 W was used. A 1 cm square solid part was raster engraved with a semiconductor laser engraving machine under conditions of laser output: 7.5 W, head speed: 409 mm / second, pitch setting: 2,400 DPI.
The engraving machine used is shown in Table 2. “FC-LD” means that a semiconductor laser engraving machine was used, and “CO 2 ” means that a carbon dioxide laser engraving machine was used.

(実施例9)
後述する表1及び表2に記載の素材及び組成に基づき、重合開始剤を除いた各素材を、ラボプラストミル((株)東洋精機製作所製)にて混練した(60℃20分間)。その後、重合開始剤を加え、更に混練(80℃5分間)し、レーザー彫刻用樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物を、ゴム用押し出し機にて厚さ1mmのシートに成形し、これを加熱プレートに設置した紫外線(UV)露光機にて、100℃80分間加熱しながら紫外線露光を行うことにより架橋させ、レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版を得た。
得られたレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版を、実施例1と同様にレーザー彫刻することで、フレキソ印刷版を得た。
Example 9
Based on the materials and compositions described in Table 1 and Table 2 described later, each material excluding the polymerization initiator was kneaded (60 ° C., 20 minutes) with Labo Plast Mill (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho). Thereafter, a polymerization initiator was added and further kneaded (80 ° C. for 5 minutes) to obtain a resin composition for laser engraving. The obtained resin composition is molded into a sheet having a thickness of 1 mm with a rubber extruder, and then subjected to ultraviolet exposure while being heated at 100 ° C. for 80 minutes with an ultraviolet (UV) exposure machine installed on a heating plate. To obtain a laser engraving-type flexographic printing plate precursor.
The obtained laser engraving type flexographic printing plate precursor was laser engraved in the same manner as in Example 1 to obtain a flexographic printing plate.

−レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版及びフレキソ印刷版の評価−
以下の項目により、実施例及び比較例において得られたレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版又はフレキソ印刷版の性能評価を行った。評価結果を表2に併記する。
-Evaluation of laser engraving-type flexographic printing plate precursors and flexographic printing plates-
The performance evaluation of the laser engraving-type flexographic printing plate precursor or the flexographic printing plate obtained in the examples and comparative examples was performed according to the following items. The evaluation results are also shown in Table 2.

<混練安定性評価>
得られた樹脂組成物を使用し、30℃で混練を行った場合のトルク変化、具体的には混練開始から1分後と10分後とのトルクの比を指標とし、評価した。
A:(10分後のトルク/1分後のトルク)=0.9〜1.0
B:(10分後のトルク/1分後のトルク)<0.9
メタセシス触媒によるバインダーポリマーの分解が生起されると、バインダーポリマーの重量平均分子量の低下に伴って混練物の粘度が低下する。結果的に、時間と共に混練時のトルクの低下が生じるので、トルク比の低下が観測され、混練安定性に劣る。混練時にバインダーポリマーの分解が生じなければ、トルク比は1に近い値となり、混練安定性に優れ、性能がより安定し、かつ歩留まりのより少ないフレキソ印刷版原版及びフレキソ印刷版が得られる。
<Kneading stability evaluation>
Using the obtained resin composition, the torque change when kneaded at 30 ° C., specifically, the ratio of the torque after 1 minute and 10 minutes after the start of kneading was used as an index for evaluation.
A: (torque after 10 minutes / torque after 1 minute) = 0.9 to 1.0
B: (torque after 10 minutes / torque after 1 minute) <0.9
When the decomposition of the binder polymer by the metathesis catalyst occurs, the viscosity of the kneaded product decreases as the weight average molecular weight of the binder polymer decreases. As a result, the torque during kneading decreases with time, so a decrease in torque ratio is observed and the kneading stability is poor. If the binder polymer does not decompose during kneading, the torque ratio becomes a value close to 1, and a flexographic printing plate and a flexographic printing plate having excellent kneading stability, more stable performance, and less yield can be obtained.

<彫刻感度(彫刻深さ)評価>
フレキソ印刷版原版が有する架橋レリーフ形成層をレーザー彫刻して得られたレリーフ層の「彫刻深さ」を、以下のように測定した。ここで、「彫刻深さ」とは、レリーフ層の断面を観察した場合の、彫刻された位置(高さ)と彫刻されていない位置(高さ)との差をいう。本実施例における「彫刻深さ」は、レリーフ層の断面を、超深度カラー3D形状測定顕微鏡VK9510((株)キーエンス製)にて観察することにより測定した。彫刻深さが大きいことは、彫刻感度が高いことを意味する。
<Evaluation of engraving sensitivity (sculpture depth)>
The “engraved depth” of the relief layer obtained by laser engraving the crosslinked relief forming layer of the flexographic printing plate precursor was measured as follows. Here, “sculpture depth” refers to the difference between the engraved position (height) and the unengraved position (height) when the cross section of the relief layer is observed. The “engraving depth” in this example was measured by observing the cross section of the relief layer with an ultra-deep color 3D shape measuring microscope VK9510 (manufactured by Keyence Corporation). A large engraving depth means high engraving sensitivity.

<リンス性評価>
レーザー彫刻した版を水に浸漬した。その後、光学顕微鏡でレリーフ層の表面におけるカスの有無を確認した。カスがないものをA、カスが少し残存しているが、実用上問題のないレベルであるものをB、カスが十分除去できていないものをCとした。
<Rinse evaluation>
The laser engraved plate was immersed in water. Then, the presence or absence of debris on the surface of the relief layer was confirmed with an optical microscope. A case where no residue was left was A, a little residue was left, but B was a level where there was no practical problem, and C was a case where the residue was not sufficiently removed.

<耐刷性>
得られたフレキソ印刷版を印刷機(ITM−4型、(株)伊予機械製作所製)にセットした。インクとしては、溶剤インキ(XS−716 507 原色藍(DICグラフィックス(株)製))を用いた。印刷紙として、フルカラーフォームM 70(日本製紙(株)製、厚さ100μm)を用いて印刷を継続し、ハイライト1〜10%を印刷物で確認した。印刷されない網点が生じたところを刷了とし、刷了時までに印刷した紙の長さ(km)を指標とした。数値が大きいほど耐刷性に優れると評価する。
<Print durability>
The obtained flexographic printing plate was set on a printing machine (ITM-4 type, manufactured by Iyo Machinery Co., Ltd.). As the ink, solvent ink (XS-716 507 primary color indigo (manufactured by DIC Graphics Co., Ltd.)) was used. Printing was continued using full-color foam M70 (manufactured by Nippon Paper Industries Co., Ltd., thickness: 100 μm) as printing paper, and highlights of 1 to 10% were confirmed with printed matter. Printing was performed when a halftone dot that was not printed occurred, and the length (km) of the paper printed before the printing was used as an index. The larger the value, the better the printing durability.

Figure 2015150805
Figure 2015150805

Figure 2015150805
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表2に記載の比較例3におけるCat−1は、上述したGrubbs触媒(第1世代)(アルドリッチ社製)を表す。   Cat-1 in Comparative Example 3 described in Table 2 represents the above-described Grubbs catalyst (first generation) (manufactured by Aldrich).

Claims (16)

(成分A)メタセシス触媒を含有するポリマー粒子、及び、
(成分B)エチレン性不飽和基を有するポリマー、を含有することを特徴とする
レーザー彫刻用樹脂組成物。
(Component A) polymer particles containing a metathesis catalyst, and
(Component B) A polymer having an ethylenically unsaturated group, a resin composition for laser engraving.
成分Bの重量平均分子量が、50万以上である、請求項1に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   The resin composition for laser engraving according to claim 1, wherein the component B has a weight average molecular weight of 500,000 or more. (成分C)架橋剤を更に含有する、請求項1又は2に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   The resin composition for laser engraving according to claim 1 or 2, further comprising (Component C) a crosslinking agent. 成分Cが、過酸化物である、請求項3に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   The resin composition for laser engraving according to claim 3, wherein Component C is a peroxide. 成分Bが、20℃においてプラストマーである、請求項1〜4のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   The resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 4, wherein Component B is a plastomer at 20 ° C. (成分D)光熱変換剤を更に含有する、請求項1〜5のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   (Component D) The resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 5, further comprising a photothermal conversion agent. 成分Dが、カーボンブラックである、請求項6に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   The resin composition for laser engraving according to claim 6, wherein Component D is carbon black. 請求項1〜7のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を有するレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版。   A laser engraving-type flexographic printing plate precursor having a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving according to claim 1. 請求項1〜7のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を架橋した架橋レリーフ形成層を有するレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版。   A laser engraving-type flexographic printing plate precursor having a crosslinked relief-forming layer obtained by crosslinking the relief-forming layer made of the resin composition for laser engraving according to claim 1. 請求項1〜7のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、及び、
前記レリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋し、架橋レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版を得る架橋工程、を含む
レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版の製造方法。
A layer forming step of forming a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 7, and
A method for producing a laser engraving type flexographic printing plate precursor, comprising a crosslinking step of crosslinking the relief forming layer with light and / or heat to obtain a flexographic printing plate precursor having a crosslinked relief forming layer.
前記層形成工程が、前記レーザー彫刻用樹脂組成物を混練する工程、及び、得られた混練物をシート状に成形する工程を含む、請求項10に記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版の製造方法。   The production of the laser engraving-type flexographic printing plate precursor according to claim 10, wherein the layer forming step includes a step of kneading the resin composition for laser engraving and a step of forming the kneaded product into a sheet shape. Method. 前記シート状に成形する工程が、熱プレス又は押し出しによりシート状に成形する工程である、請求項11に記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版の製造方法。   The method for producing a laser engraving-type flexographic printing plate precursor according to claim 11, wherein the step of forming into a sheet is a step of forming into a sheet by hot pressing or extrusion. 前記架橋工程において、前記レリーフ形成層を熱により架橋する、請求項10〜12のいずれか1項に記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版の製造方法。   The method for producing a laser engraving-type flexographic printing plate precursor according to any one of claims 10 to 12, wherein in the crosslinking step, the relief forming layer is crosslinked by heat. 請求項9に記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版又は請求項10〜13のいずれか1項に記載の製造方法により製造されたレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版を準備する工程、及び、
前記レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版をレーザー彫刻し、レリーフ層を形成する彫刻工程、を含む
フレキソ印刷版の製版方法。
Preparing a laser engraving type flexographic printing plate precursor according to claim 9 or a laser engraving type flexographic printing plate precursor produced by the production method according to any one of claims 10 to 13; and
A method for making a flexographic printing plate, comprising: engraving a laser beam on the flexographic printing plate precursor for laser engraving to form a relief layer.
前記彫刻工程後、前記レリーフ層表面を水系リンス液によりリンスするリンス工程を更に含む、請求項14に記載のフレキソ印刷版の製版方法。   The method for making a flexographic printing plate according to claim 14, further comprising a rinsing step of rinsing the relief layer surface with an aqueous rinsing liquid after the engraving step. 請求項14又は15に記載のフレキソ印刷版の製版方法により得られたフレキソ印刷版。   A flexographic printing plate obtained by the plate making method of a flexographic printing plate according to claim 14 or 15.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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