JP2015132780A - Coating liquid feed system - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coating liquid feed system capable of continuously and stably supplying, to a coating device, coating liquid of a physical property varying with a lapse of time or the like in a state appropriate for uniform coating.SOLUTION: The coating liquid feed system includes: a preparation oven 101 that is used for preparing coating liquid containing a polymer and includes a decompression device; a storage oven 104 for sequentially receiving, from the preparation oven, the coating liquid prepared by the preparation oven, and storing the coating liquid; a circulation passage R1 for sequentially receiving, from the storage oven, the coating liquid stored in the storage oven and guiding it to the storage oven again; and a dispersion device 106 that is disposed in a midway of the circulation passage and disperses the coating liquid flowing through the circulation passage.

Description

本発明は、塗布液送液システムに関する。   The present invention relates to a coating liquid feeding system.

光線を透過または反射吸収し、また、様々な効果を与えることを目的とした、光学フィルムが知られている。この光学フィルムは、屈折、複屈折、反射防止、視野角拡大、光拡散、および輝度向上等の光学機能を発揮しうる。   Optical films that transmit or reflect and absorb light and have various effects are known. This optical film can exhibit optical functions such as refraction, birefringence, antireflection, wide viewing angle, light diffusion, and brightness improvement.

そのような光学フィルムとして、赤外遮蔽フィルム、反射防止フィルム、配向フィルム、偏光フィルム、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、視野角拡大フィルム、輝度向上フィルム、および電磁波シールドフィルム等として液晶ディスプレイ(LCD)やプラズマディスプレイ(PDP)等のフラットパネルディスプレイ(FPD)、建物や車両の窓ガラス等に使用されている。   As such an optical film, an infrared shielding film, an antireflection film, an orientation film, a polarizing film, a polarizing plate protective film, a retardation film, a viewing angle widening film, a brightness enhancement film, an electromagnetic wave shielding film, etc. ) And flat panel displays (FPD) such as plasma displays (PDP), and window glass of buildings and vehicles.

近年、光学フィルムに光学機能を提供する光学機能層には、ナノオーダーの薄膜化が求められている。光学機能層の薄膜化によって、たとえば赤外遮蔽フィルムの屈折率層であれば赤外光の遮蔽性能が向上するといった、種々の効果が得られる。さらに、光学機能層には高いレベルの膜厚均一性が求められている。膜厚を均一化することによって、色ムラ等のない高品質な光学フィルムが提供できる。   In recent years, an optical functional layer that provides an optical function to an optical film has been required to have a nano-order thinning. By reducing the thickness of the optical functional layer, various effects can be obtained, for example, if the refractive index layer of the infrared shielding film, the infrared light shielding performance is improved. Furthermore, the optical functional layer is required to have a high level of film thickness uniformity. By making the film thickness uniform, a high-quality optical film without color unevenness can be provided.

薄膜化された光学機能層を形成する方法として、高分子を含有した塗布液(以下、塗布液という)を透明な基材に塗布して乾燥させる技術が知られている(たとえば、特許文献1参照)。   As a method for forming a thin optical functional layer, a technique is known in which a coating liquid containing a polymer (hereinafter referred to as a coating liquid) is applied to a transparent substrate and dried (for example, Patent Document 1). reference).

特開2008−183882号公報JP 2008-183882 A

しかしながら、塗布液は、時間の経過により粘度等の物性が変わることがあり、その場合、上記の従来技術においては、連続して安定的に、均一に基材に塗布することが難しいという問題がある。塗布液が調製された時点では均一な塗布に適した物性であっても、基材に塗布するまでの間に不適切な物性に変化してしまうと、塗布液を基材に適切に塗布できず、光学フィルムに欠陥が発生してしまう。たとえば、塗布液の粘度が不適切に大きくなり過ぎると、塗布液が基材上を滑らかに流れなかったり、塗布液中に凝固による異物が生じたりしてしまう。これでは、連続して安定的に塗布液を均一に塗布することができず、その結果として、高品質な光学フィルムの生産性を向上させることができなくなり、問題となる。   However, physical properties such as viscosity may change with the passage of time, and in this case, in the above-described conventional technology, there is a problem that it is difficult to apply continuously and stably to a substrate. is there. Even if the properties are suitable for uniform application when the coating solution is prepared, the coating solution can be properly applied to the substrate if it changes to an inappropriate property before it is applied to the substrate. Therefore, a defect occurs in the optical film. For example, if the viscosity of the coating solution becomes excessively large, the coating solution does not flow smoothly on the substrate, or foreign matter due to coagulation occurs in the coating solution. In this case, the coating solution cannot be continuously and uniformly applied stably, and as a result, the productivity of a high-quality optical film cannot be improved, resulting in a problem.

本発明は、上述した課題に鑑みてなされたものであり、時間の経過等により物性が変わる塗布液を、均一な塗布に適した状態で、連続して安定的に塗布装置に供給できる塗布液送液システムを提供する。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and is capable of continuously and stably supplying a coating solution whose physical properties change over time in a state suitable for uniform coating to a coating apparatus. A liquid delivery system is provided.

上記目的は、下記の発明のいずれかを提供することによって達成される。   The above object can be achieved by providing any of the following inventions.

(1)高分子を含有する塗布液を調製するための、減圧装置を備えた調製釜と、前記調製釜で調製された前記塗布液を順次前記調製釜から流出し、前記塗布液を貯蔵する、貯蔵釜と、前記貯蔵釜に貯蔵された前記塗布液を順次前記貯蔵釜から流出し、再度前記貯蔵釜に導く循環経路と、前記循環経路の途中に設けられ、前記循環経路を通る前記塗布液を分散する分散装置と、を有する、塗布液送液システム。   (1) A preparation kettle equipped with a pressure reducing device for preparing a coating solution containing a polymer, and the coating solution prepared in the preparation kettle are sequentially discharged from the preparation kettle and the coating solution is stored. A storage tank, a circulation path that sequentially flows the coating liquid stored in the storage tank out of the storage tank, and again leads to the storage tank; and the coating that is provided in the middle of the circulation path and passes through the circulation path And a dispersion device for dispersing the liquid.

(2)前記減圧装置による減圧度が、1.3332〜66.660kPa(10〜500Torr)である、(1)に記載の塗布液送液システム。   (2) The coating liquid feeding system according to (1), wherein the degree of pressure reduction by the pressure reducing device is 1.3332 to 66.660 kPa (10 to 500 Torr).

(3)前記調製釜は、前記塗布液を撹拌するための撹拌装置をさらに備え、前記撹拌装置の撹拌周速が、0.2〜2m/secである、(1)または(2)に記載の塗布液送液システム。   (3) The preparation kettle further includes a stirring device for stirring the coating solution, and a stirring peripheral speed of the stirring device is 0.2 to 2 m / sec. (1) or (2) Coating liquid delivery system.

(4)前記調製釜から流出した前記塗布液の溶存酸素量が、1〜5mg/Lである、(1)〜(3)のいずれか1つに記載の塗布液送液システム。   (4) The coating liquid feeding system according to any one of (1) to (3), wherein the dissolved oxygen amount of the coating liquid flowing out of the preparation kettle is 1 to 5 mg / L.

(5)前記塗布液の物性を測定する測定装置をさらに有し、前記分散装置は、前記測定装置により測定された測定値に基づいて分散強度を異ならせる、(1)〜(4)のいずれか1つに記載の塗布液送液システム。   (5) The apparatus further includes a measuring device that measures the physical properties of the coating liquid, and the dispersing device varies the dispersion strength based on the measured value measured by the measuring device. The coating liquid feeding system according to any one of the above.

(6)前記測定装置は、粘性に関する物性を測定し、前記分散装置は、前記測定値が所定の上限値よりも大きい場合は分散強度を大きくし、前記測定値が所定の下限値よりも小さい場合は分散強度を小さくする、(5)に記載の塗布液送液システム。   (6) The measuring device measures physical properties related to viscosity, and the dispersing device increases the dispersion strength when the measured value is larger than a predetermined upper limit value, and the measured value is smaller than the predetermined lower limit value. In the case, the coating liquid feeding system according to (5), in which the dispersion strength is reduced.

(7)前記循環経路の途中に設けられ、前記塗布液を濾過する濾過装置をさらに有する、(1)〜(6)のいずれか1つに記載の塗布液送液システム。   (7) The coating liquid feeding system according to any one of (1) to (6), further including a filtering device that is provided in the middle of the circulation path and filters the coating liquid.

(8)前記塗布液を基材に塗布する塗布装置と、前記貯蔵釜または前記循環経路上に接続され、前記塗布液を前記塗布装置に順次導く供給経路と、をさらに有する、(1)〜(7)のいずれか1つに記載の塗布液送液システム。   (8) It further has a coating device that applies the coating liquid to a substrate, and a supply path that is connected to the storage tank or the circulation path and sequentially guides the coating liquid to the coating apparatus. (7) The coating liquid feeding system according to any one of the above.

(9)システム内を流れる塗布液の量を、前記貯蔵釜の貯蔵量を超えさせることで、前記塗布装置に、前記供給経路を通じて導かれた前記塗布液を途絶えることなく供給し、前記塗布液を前記基材に連続的に塗布する、(8)に記載の塗布液送液システム。   (9) The amount of the coating liquid flowing in the system exceeds the storage amount of the storage tank, so that the coating liquid guided through the supply path is supplied to the coating device without interruption, and the coating liquid The coating liquid feeding system according to (8), wherein the coating liquid is continuously coated on the substrate.

(10)前記貯蔵釜に貯蔵された前記塗布液がすべて流出する前に、前記調製釜で調製された前記塗布液を前記貯蔵釜に送液する、(9)に記載の塗布液送液システム。   (10) The coating liquid feeding system according to (9), wherein the coating liquid prepared in the preparation kettle is fed to the storage kettle before all the coating liquid stored in the storage kettle flows out. .

(11)前記測定装置は、前記循環経路上、前記供給経路上および前記貯蔵釜内の少なくとも一箇所に設けられる、(7)〜(10)のいずれか1つに記載の塗布液送液システム。   (11) The coating liquid feeding system according to any one of (7) to (10), wherein the measuring device is provided on at least one place on the circulation path, the supply path, and the storage hook. .

(12)前記基材上に塗布された塗膜を乾燥する、乾燥装置をさらに有し、前記塗布液の前記基材上への塗布および乾燥を複数回繰り返すことによって、基材上に複数層の塗膜が形成されてなる積層体を作製する、(7)〜(11)のいずれか1つに記載の塗布液送液システム。   (12) The apparatus further includes a drying device for drying the coating film applied on the substrate, and a plurality of layers are formed on the substrate by repeating the application and drying of the coating solution onto the substrate a plurality of times. The coating liquid feeding system according to any one of (7) to (11), in which a laminated body in which the coating film is formed is prepared.

(13)前記積層体が、相互に屈折率の異なる、高屈折率層および低屈折率層が交互に積層されてなるものであり、前記高屈折率層および前記低屈折率層の少なくとも一層が、金属酸化物粒子と、水溶性樹脂とを含む、赤外遮蔽フィルムである、(12)に記載の塗布液送液システム。   (13) The laminate is formed by alternately laminating a high refractive index layer and a low refractive index layer having different refractive indexes, and at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer is formed. The coating liquid feeding system according to (12), which is an infrared shielding film containing metal oxide particles and a water-soluble resin.

(14)(1)〜(13)のいずれか1つに記載の塗布液送液システムを用いて製造された塗布液を基材上に塗布する工程と、前記基材上の塗布液を乾燥させる工程と、を有する光学フィルムの製造方法。   (14) A step of applying a coating solution produced using the coating solution feeding system according to any one of (1) to (13) on a substrate, and drying the coating solution on the substrate. And a process for producing an optical film.

本発明の塗布液送液システムによれば、高分子を含有する塗布液(本明細書中、「塗布液」とも称する)を循環させつつ、塗布液に対して継続的に分散処理を施す。したがって、時間の経過等により粘度等の物性が変わる塗布液であっても、均一な塗布に適した状態で、連続して安定的に塗布装置に供給できる。   According to the coating liquid feeding system of the present invention, the coating liquid is continuously dispersed while circulating the coating liquid containing a polymer (also referred to as “coating liquid” in the present specification). Therefore, even a coating liquid whose physical properties such as viscosity change with the passage of time can be continuously and stably supplied to a coating apparatus in a state suitable for uniform coating.

また、本発明の塗布液送液システムは、塗布液を調製するための減圧装置を備えた調製釜を有しており、その減圧装置を使った減圧処理を行うことで、塗布液に含まれる気泡を除去または低減することができる。そうすることで、塗布故障を抑え、また、減圧処理を施さないものと比較して、短時間で高品質な塗膜を提供することができ、生産性も向上させることができる。   Further, the coating liquid feeding system of the present invention has a preparation kettle equipped with a decompression device for preparing the coating liquid, and is included in the coating liquid by performing a decompression treatment using the decompression device. Bubbles can be removed or reduced. By doing so, a coating failure can be suppressed, and a high-quality coating film can be provided in a short time and productivity can be improved as compared with a case where no decompression treatment is performed.

第1実施形態に係る光学フィルム製造システムの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the optical film manufacturing system which concerns on 1st Embodiment. 分散装置の一形態であるマイルダーの模式図である。It is a schematic diagram of the milder which is one form of a dispersing device. 分散装置の一形態である圧力式ホモジナイザーの模式図である。It is a schematic diagram of the pressure type homogenizer which is one form of a dispersing device. 第2実施形態に係る光学フィルム製造システムの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the optical film manufacturing system which concerns on 2nd Embodiment. 第3実施形態に係る光学フィルム製造システムの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the optical film manufacturing system which concerns on 3rd Embodiment.

以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態のみには限定されない。また、本明細書において、範囲を示す「X〜Y」は「X以上Y以下」を意味し、「重量」と「質量」、「重量%」と「質量%」および「重量部」と「質量部」は同義語として扱う。また、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温(20〜25℃)/相対湿度40〜50%の条件で測定する。また、図面の比率は説明のために誇張されている場合もある。   Embodiments of the present invention will be described below. In addition, this invention is not limited only to the following embodiment. In the present specification, “X to Y” indicating a range means “X or more and Y or less”, and “weight” and “mass”, “wt%” and “mass%”, “part by weight” and “ “Part by mass” is treated as a synonym. Unless otherwise specified, measurement of operation and physical properties is performed under conditions of room temperature (20 to 25 ° C.) / Relative humidity 40 to 50%. Moreover, the ratio of drawing may be exaggerated for description.

本発明は、高分子を含有する塗布液を調製するための、減圧装置を備えた調製釜と、前記調製釜で調製された前記塗布液を順次前記調製釜から流出し、前記塗布液を貯蔵する、貯蔵釜と、前記貯蔵釜に貯蔵された前記塗布液を順次前記貯蔵釜から流出し、再度前記貯蔵釜に導く循環経路と、前記循環経路の途中に設けられ、前記循環経路を通る前記塗布液を分散する分散装置と、を有する、塗布液送液システムである。   The present invention provides a preparation kettle equipped with a decompression device for preparing a coating liquid containing a polymer, and the coating liquid prepared in the preparation kettle sequentially flows out of the preparation kettle and stores the coating liquid. A storage tank, a circulation path for sequentially flowing out the coating liquid stored in the storage tank from the storage tank, and again leading to the storage tank; and provided in the middle of the circulation path, and passing through the circulation path And a dispersion device that disperses the coating liquid.

このように、本発明は、塗布液送液システムに関する。本発明の好ましい形態によれば、本発明の塗布液送液システムは、光学フィルム製造システムの一部に適用される。そこで、以下、光学フィルム製造システム全般について説明しつつ、本発明の一実施形態である塗布液送液システムを説明する。   Thus, the present invention relates to a coating liquid feeding system. According to a preferred embodiment of the present invention, the coating liquid feeding system of the present invention is applied to a part of an optical film manufacturing system. Therefore, hereinafter, a coating liquid feeding system which is an embodiment of the present invention will be described while explaining the overall optical film manufacturing system.

(第1実施形態)
図1は、第1実施形態に係る光学フィルム製造システムの概略構成図である。
(First embodiment)
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an optical film manufacturing system according to the first embodiment.

光学フィルム製造システム10は、複数の装置を接続して構成されており、各装置により実現する複数の工程を通じて光学フィルムを製造する。図1に示す例では、光学フィルム製造システム10は、大きく分けて、調製工程、循環工程、供給工程および塗布工程を実行する。   The optical film manufacturing system 10 is configured by connecting a plurality of devices, and manufactures an optical film through a plurality of steps realized by each device. In the example shown in FIG. 1, the optical film manufacturing system 10 roughly divides and performs a preparation process, a circulation process, a supply process, and a coating process.

各工程に含まれる装置の構造や作用について説明する。   The structure and operation of the device included in each process will be described.

(調製工程)
光学フィルム製造システム10は、調製工程において、光学フィルムの光学機能層を形成する塗布液を調製する。調製工程は、塗布液調製釜101(本明細書では、単に「調製釜101」とも称する)、送液装置102および濾過装置103を含む。
(Preparation process)
The optical film manufacturing system 10 prepares a coating liquid for forming an optical functional layer of the optical film in the preparation step. The preparation process includes a coating liquid preparation pot 101 (also simply referred to as “preparation pot 101” in the present specification), a liquid feeding apparatus 102, and a filtration apparatus 103.

調製釜101は、塗布液を調製するための容器である。本発明の調製釜101は、減圧装置を備えている。その減圧装置を使った減圧処理を行うことで、塗布液に含まれる気泡を除去または低減することができ、塗布故障を抑えながら、減圧処理を施さないものと比較して、短時間で高品質な塗膜を提供することができる。   The preparation pot 101 is a container for preparing a coating solution. The preparation kettle 101 of the present invention includes a decompression device. By performing the decompression process using the decompression device, it is possible to remove or reduce bubbles contained in the coating liquid, and in a short period of time, high quality compared to those that do not perform the decompression process while suppressing application failures. A coating film can be provided.

塗布液の調製方法は、特に制限されず、たとえば、高分子、および必要に応じて架橋剤、金属酸化物粒子等の添加剤を溶媒に添加し、撹拌混合する方法である。この際、各成分の添加順も特に制限されず、撹拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、撹拌しながら一度に添加し混合してもよい。これらの塗布液の調製方法は、塗布液ごとに適宜決められる。   The method for preparing the coating solution is not particularly limited, and is, for example, a method in which a polymer and, if necessary, additives such as a crosslinking agent and metal oxide particles are added to a solvent and mixed by stirring. At this time, the order of addition of the respective components is not particularly limited, and the respective components may be sequentially added and mixed while stirring, or may be added and mixed at one time while stirring. The method for preparing these coating solutions is appropriately determined for each coating solution.

調製釜101の容量としては、好ましくは100〜5000L程度、より好ましくは500〜3000L程度である。   The capacity of the preparation kettle 101 is preferably about 100 to 5000 L, more preferably about 500 to 3000 L.

また、調製釜101の釜内径φとしては、好ましくは0.5〜2m程度、より好ましくは0.9〜1.7m程度である。   Further, the inner diameter φ of the preparation pot 101 is preferably about 0.5 to 2 m, more preferably about 0.9 to 1.7 m.

調製釜101において調製された塗布液は、調製釜101に備えられている減圧装置によって減圧される。減圧装置による減圧度としては、1.3332〜66.660kPa(10〜500Torr)であると、高品質な塗膜を提供することができるという点で好ましい。より好ましくは50〜400Torrであり、さら好ましくは80〜300Torrである。また、減圧装置による減圧処理の時間としては、好ましくは、20〜200分間程度、より好ましくは30〜150分間程度である。また、減圧処理の方法には特に制限はないが、好ましくは真空ポンプを用いて行う。真空ポンプの種類にも特に制限はない。また、調製釜101と、真空ポンプとの間に、吸い込んだ気泡を真空ポンプ内に流入しないように、トラップを設けておくことが好ましい。   The coating liquid prepared in the preparation kettle 101 is decompressed by a decompression device provided in the preparation kettle 101. The degree of decompression by the decompression device is preferably 1.3332 to 66.660 kPa (10 to 500 Torr) in that a high-quality coating film can be provided. More preferably, it is 50-400 Torr, More preferably, it is 80-300 Torr. The time for the decompression treatment by the decompression device is preferably about 20 to 200 minutes, more preferably about 30 to 150 minutes. Moreover, there is no restriction | limiting in particular in the method of pressure reduction processing, However, Preferably it carries out using a vacuum pump. There are no particular restrictions on the type of vacuum pump. Moreover, it is preferable to provide a trap between the preparation kettle 101 and the vacuum pump so that the sucked bubbles do not flow into the vacuum pump.

調製釜101は、撹拌装置をさらに備えていると好ましい。そして、撹拌装置の撹拌周速は、ピッチドパドル翼を使用する場合は、0.2〜2m/secであると好ましい。より好ましくは0.3〜1.5m/secであり、さらに好ましくは0.4〜1.0m/secである。0.2m/sec未満では、撹拌が弱く、溶存酸素量を低下させるのに長い時間を要してしまう場合がある。他方、2m/secを超えると、気泡を巻き込んでしまい、気泡を効率的に除去することができなくなってしまう場合がある。   It is preferable that the preparation kettle 101 further includes a stirring device. And the stirring peripheral speed of a stirring apparatus is preferable in it being 0.2-2 m / sec, when using a pitched paddle blade. More preferably, it is 0.3-1.5 m / sec, More preferably, it is 0.4-1.0 m / sec. If it is less than 0.2 m / sec, the stirring is weak, and it may take a long time to reduce the amount of dissolved oxygen. On the other hand, if it exceeds 2 m / sec, bubbles may be involved and the bubbles may not be efficiently removed.

なお、ピッチドパドル翼の大きさ(翼径φ)/釜内径φとしては、撹拌効率の観点から、0.3〜0.7が好ましく、0.4〜0.6がより好ましい。   In addition, as a size (blade diameter (phi)) / hook inner diameter (phi) of a pitched paddle blade, 0.3-0.7 are preferable and 0.4-0.6 are more preferable from a viewpoint of stirring efficiency.

調製釜101は、循環工程に含まれる貯蔵釜に塗布液を供給するために、塗布液貯蔵釜104(本明細書では、単に「貯蔵釜104」とも称する)に接続されている。   The preparation tank 101 is connected to a coating liquid storage tank 104 (also simply referred to as “storage tank 104” in this specification) in order to supply the coating liquid to a storage tank included in the circulation process.

送液装置102は、調製釜101から塗布液を流出する経路に設けられている。送液装置102は、たとえば、ポンプであり、調製された塗布液の流出、流出の停止を制御可能である。送液装置102は、塗布液を流出させる際には、塗布液の流量や速度を適宜設定可能である。   The liquid feeding device 102 is provided in a path through which the coating liquid flows out from the preparation pot 101. The liquid feeding device 102 is, for example, a pump, and can control the outflow of the prepared coating liquid and stop of the outflow. The liquid delivery device 102 can appropriately set the flow rate and speed of the coating liquid when the coating liquid is allowed to flow out.

濾過装置103は、調製釜101から塗布液を流出する経路に設けられている。濾過装置103は、塗布液に混ざった異物や、塗布液中に発生した気泡や凝集による異物を除去する。異物が除去された塗布液は、循環工程に送られる。   The filtration device 103 is provided in a path through which the coating liquid flows out from the preparation pot 101. The filtration device 103 removes foreign matters mixed in the coating liquid, and foreign matters due to bubbles or aggregation generated in the coating liquid. The coating liquid from which the foreign matter has been removed is sent to a circulation process.

濾過装置103としては、特に制限はないが、例えば、株式会社ロキテクノ社製の円筒型のフィルタを好適に用いることができる。フィルタの種類も、特に制限はなく、また塗布液の種類により適宜選択すればよいが、塗布液中の異物を低圧損で効率よく捕捉するため、デプスタイプ、あるいはプリーツタイプが好ましい。濾過流量も特に制限はないが、5〜40L/minとするのが好ましい。また、濾過圧力も小さい程、異物の通過が抑制できるので、通常0.2MPa以下で用いるのが好ましい。なお、実際の処理に際して、濾材は予め塗布液と同一の液中に浸漬し、濾材内部の空気を抜いておくことが望ましい。また、この濾過処理では、気泡の除去とともに、塗布液に含まれる不純物や不溶解物を同時に取り除くことができるという利点も有する。なお、本発明においては、濾過装置103を経ずに、貯蔵釜104に塗布液を供給してもよい。   Although there is no restriction | limiting in particular as the filtration apparatus 103, For example, the cylindrical filter made from Loki Techno Co., Ltd. can be used suitably. The type of filter is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the type of coating solution. However, a depth type or a pleated type is preferable in order to efficiently capture foreign matter in the coating solution with a low pressure loss. The filtration flow rate is not particularly limited, but is preferably 5 to 40 L / min. Moreover, since the passage of foreign substances can be suppressed as the filtration pressure is smaller, it is usually preferable to use at 0.2 MPa or less. In the actual treatment, it is desirable to immerse the filter medium in the same liquid as the coating liquid in advance and remove the air inside the filter medium. Further, this filtration treatment has an advantage that impurities and insoluble matters contained in the coating liquid can be removed at the same time as the removal of bubbles. In the present invention, the coating liquid may be supplied to the storage tank 104 without passing through the filtration device 103.

(循環工程)
光学フィルム製造システム10は、循環工程(塗布液循環システム)において、調製された塗布液を、適正な物性に保ちつつ循環させる。本形態においては、循環工程は、貯蔵釜104、送液装置105、分散装置106、脱泡装置107、濾過装置108および循環経路R1を含む。
(Circulation process)
The optical film manufacturing system 10 circulates the prepared coating liquid while maintaining appropriate physical properties in a circulation process (coating liquid circulation system). In this embodiment, the circulation step includes a storage tank 104, a liquid feeding device 105, a dispersion device 106, a defoaming device 107, a filtration device 108, and a circulation path R1.

貯蔵釜104は、連続的に塗布液を供給できるように、塗布液を貯蔵する。これにより、貯蔵釜104内の塗布液の物性を均一にできる。貯蔵釜104には、塗布液を貯蔵釜104から流出させ、流出させた塗布液を再び貯蔵釜104に戻すための循環経路R1が接続されている。また、貯蔵釜104には、塗布液を供給工程および塗布工程に送るための供給経路L1も接続されている。   The storage pot 104 stores the coating liquid so that the coating liquid can be continuously supplied. Thereby, the physical property of the coating liquid in the storage pot 104 can be made uniform. The storage tank 104 is connected to a circulation path R <b> 1 for allowing the coating liquid to flow out of the storage tank 104 and returning the discharged coating liquid to the storage tank 104 again. The storage tank 104 is also connected to a supply path L1 for sending the coating liquid to the supply process and the application process.

送液装置105は、循環経路R1上に設けられている。送液装置105は、たとえば、ポンプであり、貯蔵釜104に貯蔵されている塗布液の流出、流出の停止を制御可能である。送液装置105は、塗布液を流出させる際には、塗布液の流量や速度を適宜設定可能である。   The liquid feeding device 105 is provided on the circulation path R1. The liquid feeding device 105 is a pump, for example, and can control the outflow of the coating liquid stored in the storage pot 104 and the stoppage of the outflow. The liquid feeding device 105 can appropriately set the flow rate and speed of the coating liquid when the coating liquid is allowed to flow out.

分散装置106は、循環経路R1上に設けられている。分散装置106は、塗布液に分散処理、あるいは、せん断処理を施す。これにより、塗布液は、高分子の分子間および分子内の末端基による結合(ファンデルワールス結合等)が切断され、分子どうしの絡み合いが解消され、結果として、粘度が低減される。   The dispersion device 106 is provided on the circulation path R1. The dispersion device 106 performs a dispersion process or a shearing process on the coating liquid. As a result, in the coating solution, the bonds (van der Waals bonds, etc.) between the molecules of the polymer and the terminal groups in the molecule are broken, so that the entanglement between the molecules is eliminated, and as a result, the viscosity is reduced.

分散装置106は、塗布液を、分散、せん断できれば、構成は特に制限されず、市販のマイルダー、圧力式ホモジナイザー、高速回転せん断型ホモジナイザー等であってもよい。マイルダーの場合、分散装置106は、たとえば、固定歯と可動歯との間に塗布液を流し、固定歯と可動歯との速度勾配により生じるせん断力により、塗布液を分散処理あるいはせん断処理する。   The configuration of the dispersing device 106 is not particularly limited as long as the coating liquid can be dispersed and sheared, and may be a commercially available milder, a pressure type homogenizer, a high-speed rotary shearing type homogenizer, or the like. In the case of a milder, for example, the dispersing device 106 causes the coating liquid to flow between the fixed tooth and the movable tooth, and performs a dispersion process or a shearing process on the coating liquid by a shearing force generated by a velocity gradient between the fixed tooth and the movable tooth.

図2は、分散装置の一形態であるマイルダーの模式図である。図2のマイルダーは、固定歯であるステーター歯1と、回転歯であるローター歯2とを有する。前記ステーター歯1と前記ローター歯2との間隙(せん断間隙)Laを移動する塗布液4は、ローター歯2の半径方向に速度勾配(ずり速度)が生じる。当該速度勾配によって、前記ステーター歯1および前記ローター歯2間に内部摩擦力(せん断力)が発生する。塗布液4中に含有される気泡は、せん断力を受けながらせん断間隙Laを通過するため、分割され、気液界面が増加する。   FIG. 2 is a schematic diagram of a milder that is one form of a dispersing device. The milder shown in FIG. 2 has a stator tooth 1 that is a fixed tooth and a rotor tooth 2 that is a rotating tooth. The coating liquid 4 moving in the gap (shear gap) La between the stator teeth 1 and the rotor teeth 2 generates a velocity gradient (shear velocity) in the radial direction of the rotor teeth 2. Due to the velocity gradient, an internal frictional force (shearing force) is generated between the stator teeth 1 and the rotor teeth 2. Since the bubbles contained in the coating liquid 4 pass through the shear gap La while receiving a shearing force, they are divided and the gas-liquid interface increases.

ここで、本明細書において、「せん断速度」とは、下記式(1)により算出される。   Here, in this specification, the “shear rate” is calculated by the following formula (1).

「最小間隙」とは、塗布前駆液が移動する流路のうち、せん断力が付与される最小の間隙をいう。また、「速度」とは、前記最小間隙を塗布前駆液が通過する際の塗布前駆液の移動速度をいう。この際、一定の速度で塗布前駆液を移動させた場合には、最小間隙を通過するときに最も高いせん断力が付与される。   The “minimum gap” refers to the minimum gap to which a shearing force is applied in the flow path through which the coating precursor solution moves. The “speed” refers to the moving speed of the coating precursor solution when the coating precursor solution passes through the minimum gap. At this time, when the coating precursor solution is moved at a constant speed, the highest shearing force is applied when passing through the minimum gap.

図2において、せん断間隙Laが式(1)における「最小間隙」に該当し、最小間隙であるせん断間隙Laを移動する際の塗布液4の速度が式(1)における「速度」に該当する。なお、せん断間隙への塗布液5の導入は、ローター歯2のスリット間隙から前記半径方向に行っているため、せん断間隙Laに流れる塗布液4と導入した塗布液5とは、連続的に衝突を繰り返していることとなる。すなわち、図2のマイルダーによれば、塗布液に対してせん断および混合が連続的に行われていることとなる。   In FIG. 2, the shear gap La corresponds to the “minimum gap” in the equation (1), and the speed of the coating liquid 4 when moving through the shear gap La, which is the minimum gap, corresponds to the “speed” in the equation (1). . Since the introduction of the coating liquid 5 into the shear gap is performed in the radial direction from the slit gap of the rotor tooth 2, the coating liquid 4 flowing into the shear gap La and the introduced coating liquid 5 collide continuously. Will be repeated. That is, according to the milder of FIG. 2, the coating solution is continuously sheared and mixed.

前記マイルダーにおいて、せん断間隙におけるステーター歯とローター歯との最小間隙は0.05〜0.8mmであることが好ましく、0.1〜0.6mmであることがより好ましい。また、ローター歯の回転速度としては、500〜50,000rpmであることが好ましく、1,000〜20,000rpmであることがより好ましい。せん断間隙におけるステーター歯とローター歯との最小間隙やローター歯の回転速度等を適宜設定することで、せん断速度を調節することができる。このような回転数であると、塗布液中に含まれる気泡と前記塗布液とが接触する面積を増加させる。また、せん断速度にも特に制限はないが、好ましくは1000(1/sec)以上、より好ましくは5000〜10000000(1/sec)、さらに好ましくは10000〜1600000(1/sec)である。   In the milder, the minimum gap between the stator teeth and the rotor teeth in the shear gap is preferably 0.05 to 0.8 mm, and more preferably 0.1 to 0.6 mm. Moreover, as a rotational speed of a rotor tooth | gear, it is preferable that it is 500-50,000 rpm, and it is more preferable that it is 1,000-20,000 rpm. The shear rate can be adjusted by appropriately setting the minimum gap between the stator teeth and the rotor teeth in the shear gap and the rotational speed of the rotor teeth. With such a rotational speed, the area in which the bubbles contained in the coating solution come into contact with the coating solution is increased. Moreover, although there is no restriction | limiting in particular also in a shear rate, Preferably it is 1000 (1 / sec) or more, More preferably, it is 5000-10000000 (1 / sec), More preferably, it is 10000-1600000 (1 / sec).

上記のようなマイルダーとしては、例えば、エバラマイルダー(株式会社荏原製作所製)、マイルダー(大平洋機工株式会社製)等を用いることができる。   As such a milder, for example, Ebara Milder (manufactured by Ebara Manufacturing Co., Ltd.), Milder (manufactured by Taihei Kiko Co., Ltd.), or the like can be used.

図3は、分散装置の一形態である圧力式ホモジナイザーの模式図である。図3の圧力式ホモジナイザーは、バルブシート11と、バルブ12とを有する。加圧機構(図示せず)により供給された塗布液14は、バルブシート11間を高圧かつ高速で移動する。当該塗布液が、バルブシート11およびバルブ12の狭い間隙Lbを通過する際、バルブ12に衝突して流れの方向が変わった塗布液と、間隙Lbを通過しようとする塗布液との間で液同士の摩擦が発生し、その結果として、塗布液に大きなせん断力が生じると考えられる。このせん断力は、最小間隙Lbに比例する。図3において、間隙Lbは、せん断力が付与される最小の間隙であり、式(1)における「最小間隙」に該当する。また、最小間隙である間隙Lbを移動する際の塗布液14の速度が式(1)における「速度」に該当する。前記圧力式ホモジナイザーにおいて、バルブシートとバルブとの距離は0.05〜0.5mmであることが好ましく、0.1〜0.3mmであることがより好ましい。また、バルブシートおよびバルブ間を通過する際の速度としては、1〜500m/sであることが好ましく、3〜300m/sであることがより好ましい。バルブシートとバルブとの距離や加圧機構における塗布液の供給条件等を適宜設定することで、せん断速度を調節することができる。塗布液の供給の際の圧力にも特に制限はないが、例えば400〜600bar程度が好ましい。   FIG. 3 is a schematic diagram of a pressure homogenizer that is one form of a dispersing device. The pressure type homogenizer in FIG. 3 has a valve seat 11 and a valve 12. The coating liquid 14 supplied by a pressurizing mechanism (not shown) moves between the valve seats 11 at high pressure and at high speed. When the coating liquid passes through the narrow gap Lb between the valve seat 11 and the valve 12, the liquid between the coating liquid that has collided with the valve 12 and changed the flow direction and the coating liquid that is about to pass through the gap Lb. It is considered that friction between the two occurs, and as a result, a large shearing force is generated in the coating solution. This shear force is proportional to the minimum gap Lb. In FIG. 3, the gap Lb is the minimum gap to which a shearing force is applied, and corresponds to the “minimum gap” in Equation (1). Further, the speed of the coating liquid 14 when moving through the gap Lb, which is the minimum gap, corresponds to the “speed” in Expression (1). In the pressure type homogenizer, the distance between the valve seat and the valve is preferably 0.05 to 0.5 mm, and more preferably 0.1 to 0.3 mm. Moreover, as a speed | rate at the time of passing between a valve seat and a valve | bulb, it is preferable that it is 1-500 m / s, and it is more preferable that it is 3-300 m / s. The shear rate can be adjusted by appropriately setting the distance between the valve seat and the valve, the supply condition of the coating liquid in the pressurizing mechanism, and the like. Although there is no restriction | limiting in particular also in the pressure at the time of supply of a coating liquid, For example, about 400-600 bar is preferable.

上記のような圧力式ホモジナイザーとしては、例えば、圧力式ホモジナイザーLAB1000(株式会社エスエムテー製)等を用いることができる。   As the pressure homogenizer as described above, for example, a pressure homogenizer LAB1000 (manufactured by SMT Co., Ltd.) or the like can be used.

なお、高速回転せん断型ホモジナイザーは、マイルダーと類似した構成を有しており、高速回転するローターと狭い間隙を経て近接するステーターとの間でせん断処理を行う処理装置である。高速で回転するローターにより塗布液が流動し、ステーターとの間で生じる速度勾配で発生したせん断と、塗布液同士の衝突によるせん断で、塗布液4中に含有される気泡は分割され、気液界面が増加する。   The high-speed rotary shearing homogenizer is a processing device that has a configuration similar to that of a milder and performs a shearing process between a rotor that rotates at high speed and a stator that is adjacent via a narrow gap. The coating liquid flows by the rotor rotating at high speed, and the bubbles contained in the coating liquid 4 are divided by the shear generated by the velocity gradient generated between the stator and the collision between the coating liquids, and the gas liquid The interface increases.

高速回転せん断型ホモジナイザーとしては、例えば、T.K.ロボミックス(プライミクス株式会社製)、クレアミックスCLM−0.8S(エム・テクニック株式会社製)、ホモジナイザー(マイクロテック・ニチオン社製)等を用いることができる。   As a high-speed rotational shear type homogenizer, for example, T.M. K. ROBOMIX (manufactured by PRIMIX Co., Ltd.), CLEARMIX CLM-0.8S (manufactured by M Technique Co., Ltd.), homogenizer (manufactured by Microtech Nichion Co., Ltd.) and the like can be used.

なお、塗布液に含まれる気泡の量が多いと判断される場合は、脱泡処理を行ってもよい。脱泡装置107は、塗布液中に含まれる気泡や塗布液内に溶け込んでいる溶存空気を除去する。脱泡の原理はたとえば、遠心力により気泡と液体を分離して、気泡を真空引きにより排出するものや、超音波を利用するものが考えられる。ただし、脱泡できれば、脱泡装置107は、他のいかなる原理を利用する装置であってもよい。   If it is determined that the amount of bubbles contained in the coating liquid is large, a defoaming process may be performed. The defoaming device 107 removes bubbles contained in the coating liquid and dissolved air dissolved in the coating liquid. As a principle of defoaming, for example, a method of separating bubbles and liquid by centrifugal force and discharging the bubbles by evacuation or a method using ultrasonic waves can be considered. However, as long as defoaming can be performed, the defoaming device 107 may be a device using any other principle.

濾過装置108は、塗布液に混ざった異物や、塗布液中に発生した気泡や凝集による異物を除去する。異物が除去された塗布液は、循環経路R1を通じて貯蔵釜104に戻る。濾過装置108としては、上記で説明したようなものを使用することができる。   The filtering device 108 removes foreign matters mixed in the coating liquid, and foreign matters due to bubbles or aggregation generated in the coating liquid. The coating liquid from which the foreign matter has been removed returns to the storage pot 104 through the circulation path R1. As the filtering device 108, the one described above can be used.

以上のように、循環工程において、塗布液は、貯蔵釜104から循環経路R1に流出し、分散装置106、脱泡装置107および濾過装置108による処理を施された後、貯蔵釜104に戻る。貯蔵釜104に戻った塗布液は、貯蔵釜104内で分散されつつ移動した後、再び循環経路R1に流出し、上記の処理が繰り返し行われる。   As described above, in the circulation step, the coating liquid flows out from the storage tank 104 to the circulation path R1, is subjected to processing by the dispersing device 106, the defoaming device 107, and the filtration device 108, and then returns to the storage tank 104. The coating liquid returned to the storage pot 104 moves while being dispersed in the storage pot 104, and then flows out to the circulation path R1 again, and the above processing is repeated.

循環工程における分散装置106、脱泡装置107および濾過装置108の処理強度は、光学フィルムの用途や使用する塗布液の性質等の条件に応じて、塗布液の物性が適正な範囲内に保たれるように適宜設定できる。なお、濾過装置108が、循環経路上に設けられると、塗布液に混ざった異物や、塗布液中に発生した気泡や凝集による異物を除去することができる。   The processing strength of the dispersion device 106, the defoaming device 107, and the filtration device 108 in the circulation process was such that the physical properties of the coating liquid were kept within an appropriate range depending on conditions such as the use of the optical film and the properties of the coating liquid used. Can be set as appropriate. When the filtering device 108 is provided on the circulation path, it is possible to remove foreign matters mixed in the coating liquid, bubbles generated in the coating liquid, and foreign matters due to aggregation.

循環工程においては、たとえば、塗布液の粘度が適正な範囲よりも大きいと、基材に塗布する際に塗布液が基材上を滑らかに流れず、塗布液を均一に塗布することは困難となる可能性がある。さらに、塗布液の凝集による異物が存在した状態で塗布されてしまうことも考えられる。逆に、塗布液の粘度が適正な範囲よりも小さいと、塗布された塗布液が安定せず、搬送時の空気の流れや乾燥時の風圧等により塗布液が流れてしまい、光学フィルムのスジやムラ(本明細書においては、それを「塗布故障」とも称する)の原因となる場合がある。また、他の塗布液と重ねて塗布する際に他の塗布液と混ざってしまい、光学フィルムの白濁の原因となる場合がある。   In the circulation process, for example, if the viscosity of the coating solution is larger than the appropriate range, the coating solution does not flow smoothly on the substrate when applied to the substrate, and it is difficult to uniformly apply the coating solution. There is a possibility. Furthermore, it is conceivable that the coating is applied in the presence of foreign matter due to aggregation of the coating solution. Conversely, if the viscosity of the coating solution is smaller than the proper range, the applied coating solution will not be stable, and the coating solution will flow due to the air flow during transportation or the wind pressure during drying, etc. And unevenness (in the present specification, this is also referred to as “application failure”). Moreover, when it coats and overlaps with another coating liquid, it may mix with another coating liquid and may cause the cloudiness of an optical film.

これに対し、本発明においては、循環経路R1で、上記の処理が繰り返し行われるため、調製された塗布液を循環させつつ、適切な強度において分散処理、脱泡処理、濾過処理等を連続的に施すことにより、塗布液の粘度等の物性を塗布に適した範囲内に保つことができる。   On the other hand, in the present invention, since the above processing is repeatedly performed in the circulation path R1, the dispersion treatment, the defoaming treatment, the filtration treatment and the like are continuously performed at an appropriate strength while circulating the prepared coating liquid. By applying to, physical properties such as the viscosity of the coating solution can be kept within a range suitable for coating.

ここで、塗布液の粘度としては、後述する塗布装置によって塗布される直前において、好ましくは100〜1000mPa・sであり、より好ましくは120〜700mPa・sであり、さらに好ましくは150〜650mPa・sである。このような粘度であると、塗布液における気泡等を効率的に除去することができ、ひいては、高品質な塗膜を提供することができる。なお、1000mPa・sを超えると、粘度が高すぎるため、減圧処理を行っても気泡の除去が不十分となり塗布故障が発生してしまう場合がある。   Here, the viscosity of the coating solution is preferably 100 to 1000 mPa · s, more preferably 120 to 700 mPa · s, and even more preferably 150 to 650 mPa · s, just before coating by a coating apparatus described later. It is. With such a viscosity, bubbles and the like in the coating solution can be efficiently removed, and as a result, a high-quality coating film can be provided. In addition, when it exceeds 1000 mPa · s, the viscosity is too high, and even if the decompression process is performed, the removal of bubbles may be insufficient and a coating failure may occur.

また、調製釜から流出した前記塗布液の溶存酸素量が、好ましくは、1〜5mg/Lであり、より好ましくは1.5〜4mg/Lである。溶存酸素量が5mg/Lを超えると、塗布膜における気泡の溶解が少なく、減圧処理による気泡の除去が不十分となり、塗布故障を防げない場合がある。他方、1mg/L未満であると、減圧処理に要する時間が長くなって連続塗布することができなくなる場合がある。   Moreover, the dissolved oxygen amount of the coating solution that has flowed out of the preparation kettle is preferably 1 to 5 mg / L, and more preferably 1.5 to 4 mg / L. When the amount of dissolved oxygen exceeds 5 mg / L, there is little dissolution of bubbles in the coating film, and the removal of bubbles by the decompression process becomes insufficient, and application failure may not be prevented. On the other hand, if it is less than 1 mg / L, the time required for the decompression treatment may become long and continuous coating may not be possible.

なお、循環工程においては、塗布液を循環させる回数が予め定められているものではなく、送液装置105の設定等に応じて、一定時間あたり所定の流量の塗布液が、貯蔵釜104から循環経路R1に順次送られて循環する。循環された塗布液は貯蔵釜104に戻り攪拌されるので、貯蔵釜104に収容される塗布液全体の物性を、常に塗布に適した状態に保つことができる。   In the circulation process, the number of times the coating liquid is circulated is not predetermined, and a predetermined flow rate of the coating liquid is circulated from the storage tank 104 according to a setting of the liquid feeding device 105 or the like. It is sequentially sent to the route R1 and circulated. Since the circulated coating liquid returns to the storage tank 104 and is stirred, the physical properties of the entire coating liquid contained in the storage tank 104 can always be kept in a state suitable for coating.

貯蔵釜104に収容されている塗布液のうちの一部は、貯蔵釜104に接続された供給経路L1を通じて、供給工程に送られる。   A part of the coating liquid stored in the storage tank 104 is sent to the supply process through the supply path L <b> 1 connected to the storage tank 104.

なお、循環経路R1上に、分散装置106、脱泡装置107および濾過装置108の順に装置が並んでいる。しかし、これらの装置の順序は、適宜変更可能である。また、複数の上記装置の機能を統合した1つの装置が循環工程に提供されてもよい。たとえば、分散装置106および脱泡装置107の機能が統合した分散脱泡装置が循環工程に提供されてもよい。   In addition, the apparatus is located in order of the dispersion | distribution apparatus 106, the defoaming apparatus 107, and the filtration apparatus 108 on circulation path | route R1. However, the order of these devices can be changed as appropriate. In addition, one device that integrates the functions of a plurality of the above devices may be provided for the circulation process. For example, a dispersion defoaming device in which the functions of the dispersion device 106 and the defoaming device 107 are integrated may be provided for the circulation process.

また、循環工程には、上記以外の装置が設けられていてもよく、また上記装置のいずれかが設けられていなくてもよい。特に、本発明においては、調製釜101に減圧処理を行う減圧装置が備えられているため、脱泡装置107を省略しても、高品質な塗膜を提供することができ、装置を省けるという観点でも生産性も向上する。   Further, in the circulation step, a device other than the above may be provided, or any of the above devices may not be provided. In particular, in the present invention, the preparation kettle 101 is equipped with a decompression device that performs a decompression process. Therefore, even if the defoaming device 107 is omitted, a high-quality coating film can be provided and the device can be omitted. Productivity is also improved from a viewpoint.

(供給工程)
光学フィルム製造システム10は、供給工程において、調製および循環された塗布液を、塗布工程へ供給する。供給工程は、送液装置109、流量計110、分散装置111、脱泡装置112、濾過装置113および供給経路L1を含む。供給経路L1は、循環工程の貯蔵釜104から、塗布工程に、塗布液を供給するための経路である。送液装置109、流量計110、分散装置111、脱泡装置112および濾過装置113は、供給経路L1に設けられている。
(Supply process)
In the supplying process, the optical film manufacturing system 10 supplies the prepared and circulated coating liquid to the coating process. The supply process includes a liquid feeding device 109, a flow meter 110, a dispersion device 111, a defoaming device 112, a filtration device 113, and a supply path L1. The supply path L1 is a path for supplying the coating liquid from the storage pot 104 in the circulation process to the coating process. The liquid feeding device 109, the flow meter 110, the dispersion device 111, the defoaming device 112, and the filtration device 113 are provided in the supply path L1.

送液装置109は、循環工程の貯蔵釜104から流出させた塗布液を、供給経路L1に設けられる各装置に送る。送液装置109については、上述の説明が同様に妥当する。   The liquid feeding device 109 sends the coating liquid that has flowed out of the storage tank 104 in the circulation process to each device provided in the supply path L1. For the liquid delivery device 109, the above description is valid as well.

流量計110は、供給経路L1を通過する塗布液の流量を計測する装置である。流量計110によって計測された塗布液の流量に応じて、送液装置109の流量が適切に制御されてもよい。流量計110としては、たとえば、フラップ式、熱線式、カルマン渦式、または負圧感知方式等の流量計が使用される。流量計に加えて、または流量計の替わりに、供給経路L1内における塗布液の圧力を計測する圧力計が設けられてもよい。   The flow meter 110 is a device that measures the flow rate of the coating liquid passing through the supply path L1. The flow rate of the liquid feeding device 109 may be appropriately controlled according to the flow rate of the coating liquid measured by the flow meter 110. As the flow meter 110, for example, a flap type, a hot wire type, a Karman vortex type, or a negative pressure sensing type flow meter is used. In addition to the flow meter or instead of the flow meter, a pressure gauge that measures the pressure of the coating liquid in the supply path L1 may be provided.

分散装置111、脱泡装置112および濾過装置113は、上記で説明したものと同様のものを用いることができ、これらの操作を経て異物が除去された塗布液は、供給経路L1を通じて塗布工程に送られる。   The dispersing device 111, the defoaming device 112, and the filtering device 113 can be the same as those described above. The coating liquid from which foreign matters have been removed through these operations is applied to the coating process through the supply path L1. Sent.

なお、供給経路L1上に、流量計110、分散装置111、脱泡装置112、濾過装置113の順に装置が並んでいる。しかし、これらの装置の順序は、適宜変更可能である。また、複数の上記装置の機能を統合した1つの装置が供給工程に提供されてもよい。たとえば、分散装置111および脱泡装置112の機能が統合した分散脱泡装置が供給工程に提供されてもよい。また、供給工程には、上記以外の装置が設けられていてもよく、また上記装置のいずれかが設けられていなくてもよい。   In addition, the apparatus is located in order of the flowmeter 110, the dispersion | distribution apparatus 111, the defoaming apparatus 112, and the filtration apparatus 113 on the supply path | route L1. However, the order of these devices can be changed as appropriate. Moreover, one apparatus which integrated the function of the said several apparatus may be provided for a supply process. For example, a dispersion defoaming device in which the functions of the dispersion device 111 and the defoaming device 112 are integrated may be provided in the supply process. Further, in the supply process, a device other than the above may be provided, or any of the above devices may not be provided.

(塗布工程)
光学フィルム製造システム10は、塗布工程において、基材に、塗布液を塗布し、高分子膜(塗膜)を作製する。塗布工程は、塗布装置114、セット装置115および乾燥装置116を含む。
(Coating process)
In the coating process, the optical film manufacturing system 10 applies a coating solution to a substrate to produce a polymer film (coating film). The coating process includes a coating device 114, a setting device 115, and a drying device 116.

塗布装置114は、基材に、塗布液を塗布する。塗布装置114は、基材に、塗布液を単層で塗布してもよく、また、複数の層で塗布してもよい。塗布液を複数層に重ねて基材に塗布(いわゆる重層塗布)する場合、少なくとも隣り合って重ねられる塗布液は、異なる配分や材料によって調製されている。したがって、図1では、1つの調製釜101を示しているが、実際は、複数の調製釜が用意され、別個の調製工程および供給工程を経て、複数種類の塗布液が塗布装置114に供給されてもよい。   The coating device 114 applies a coating solution to the substrate. The coating device 114 may apply the coating solution to the base material in a single layer or may be applied in a plurality of layers. In the case where a plurality of coating liquids are applied to a base material in multiple layers (so-called multilayer coating), at least the adjacent coating liquids are prepared with different distributions and materials. Therefore, in FIG. 1, one preparation pot 101 is shown, but actually, a plurality of preparation pots are prepared, and a plurality of types of coating liquids are supplied to the coating apparatus 114 through separate preparation steps and supply steps. Also good.

セット装置115は、基材上に形成された高分子膜を、一旦冷却する。塗布直後の高分子膜は粘度が低いため、塗布直後に熱風を当てて乾燥させると、熱風によって一部で膜厚が変わり、全面に均等な屈折率等が得られないことが起こり得る。また、重層塗布を行った場合には、層間において成分が移動し、所望の光学性能に悪影響を与えるほど層間の境界が曖昧となりうる。しかし、得られた高分子膜を一度冷却することで、熱風を当てても膜厚が変わらず、また、所望の光学性能に悪影響を与えるほど層間の境界が曖昧になることを抑制できる。無論、光学フィルム製造システム10においては、セット装置115が省略されてもよい。   The set device 115 once cools the polymer film formed on the substrate. Since the polymer film immediately after coating has a low viscosity, if hot air is applied and dried immediately after coating, the film thickness may partially change due to the hot air, and a uniform refractive index may not be obtained over the entire surface. In addition, when multi-layer coating is performed, the components move between the layers, and the boundary between the layers can be vague enough to adversely affect the desired optical performance. However, once the obtained polymer film is cooled, the film thickness does not change even when hot air is applied, and it is possible to prevent the boundary between layers from becoming ambiguous enough to adversely affect the desired optical performance. Of course, in the optical film manufacturing system 10, the setting device 115 may be omitted.

乾燥装置116は、たとえば、熱風を基材上の高分子膜に与えて、高分子膜を乾燥させてさらに安定化させ、光学フィルムとして完成させる。   For example, the drying device 116 applies hot air to the polymer film on the base material to dry the polymer film to further stabilize it, thereby completing the optical film.

以上のように、光学フィルム製造システム10によれば、塗布液を循環させて継続的に分散処理を加える。したがって、時間の経過等により物性が変わる塗布液を、均一な塗布に適した状態で、連続して安定的に供給できる。   As described above, according to the optical film manufacturing system 10, the coating liquid is circulated and the dispersion treatment is continuously applied. Therefore, the coating liquid whose physical properties change with the passage of time or the like can be continuously and stably supplied in a state suitable for uniform coating.

また、光学フィルム製造システム10は、塗布液を基材に塗布する塗布装置114と、塗布液を塗布装置114に供給する供給経路L1を有している。したがって、均一な塗布に適した状態の塗布液を塗布装置に供給でき、効率的に光学フィルムを製造できる。   The optical film manufacturing system 10 also has a coating device 114 that applies the coating liquid to the substrate, and a supply path L1 that supplies the coating liquid to the coating device 114. Therefore, the coating liquid in a state suitable for uniform coating can be supplied to the coating apparatus, and the optical film can be efficiently manufactured.

さらに、供給経路L1と循環経路R1とは、並列に設けられている。したがって、塗布液の供給を止めることなく連続して安定的に供給しながら、塗布液を循環経路R1に循環させて塗布に適した物性を保つことができる。   Further, the supply path L1 and the circulation path R1 are provided in parallel. Therefore, it is possible to maintain physical properties suitable for coating by circulating the coating liquid to the circulation path R1 while continuously supplying the coating liquid without stopping supply.

加えて、光学フィルム製造システム10は、循環経路R1の途中に濾過装置108を有している。したがって、塗布液に混ざった異物や、塗布液中に発生した気泡や凝集による異物を取り除くことができ、塗布液を、均一な塗布に適した状態で、連続して安定的に供給できる。   In addition, the optical film manufacturing system 10 has a filtration device 108 in the middle of the circulation path R1. Accordingly, foreign matters mixed in the coating liquid, bubbles generated in the coating liquid and foreign matters due to aggregation can be removed, and the coating liquid can be continuously and stably supplied in a state suitable for uniform application.

そして、本発明においては、調製釜101に減圧処理を行う減圧装置が備えられている。そのため、その減圧装置を使った減圧処理を行うことで、塗布液に含まれる気泡を除去または低減することができ、塗布故障を抑えながら、短時間で高品質な塗膜を提供することができる。無論、減圧装置を備えていないものであっても、塗布液を調製釜101内に所定時間静置したりすることで、気泡と塗布液との質量差を利用して、ある程度気泡を除去することが可能である。しかし、このような質量差による気泡の除去方法では、特に塗布液の粘度が高くなると、気泡の浮上に長時間を要する。そして、静置する時間が長くなると、貯蔵釜104に貯蔵している塗布液のすべてが流出されて塗布に回ってしまい、連続して塗布することができなくなってしまう。他方、所定の時間内に塗布を完了させなければならない状況下では、静置できる時間も限られてしまい、結果、気泡が多く含まれている状態で塗布に回ってしまい、塗布故障が防げない。   In the present invention, the preparation kettle 101 is provided with a decompression device that performs a decompression process. Therefore, by performing a decompression process using the decompression device, bubbles contained in the coating liquid can be removed or reduced, and a high-quality coating film can be provided in a short time while suppressing a coating failure. . Of course, even if the device is not equipped with a decompression device, the bubbles are removed to some extent by using the mass difference between the bubbles and the coating solution by leaving the coating solution in the preparation vessel 101 for a predetermined time. It is possible. However, in the method of removing bubbles due to such a mass difference, it takes a long time for the bubbles to float, particularly when the viscosity of the coating liquid increases. And if the time to stand still becomes long, all the coating liquids stored in the storage pot 104 will flow out and go to coating, and it will not be possible to apply continuously. On the other hand, in a situation where the application must be completed within a predetermined time, the time that can be allowed to stand still is limited, and as a result, the application turns in a state where a lot of bubbles are contained, and the application failure cannot be prevented. .

これに対して、本発明においては、調製釜101に減圧処理を行う減圧装置が備えられているため、貯蔵釜104に貯蔵できる塗布液以上の塗布液を塗布装置114に供給できるため、連続生産が可能となる。つまり、光学フィルム製造システム10を流れる塗布液の量を、貯蔵釜104の貯蔵量を超えさせることで、塗布装置114に、供給経路L1を通じて導かれた塗布液を途絶えることなく供給し、塗布液を基材に連続的に塗布することができ、このようにしても、塗布液に含まれる気泡を除去または低減することができ、塗布故障を抑えることができ、短時間で高品質な塗膜を提供することができる。なお、供給経路L1を通じて導かれた塗布液を途絶えることなく供給し、塗布液を基材に連続的に塗布する方法としては、貯蔵釜104に貯蔵された塗布液がすべて流出する前に、調製釜101で調製された塗布液を貯蔵釜104に送液することが好ましい。このようにすることで、基材上に塗布液を塗布すると並行して、調製釜101で塗布液を調製でき、貯蔵釜104中の塗布液を枯渇させず、連続して塗布作業を行うことができる。   On the other hand, in the present invention, the preparation pot 101 is provided with a pressure reducing device for performing a pressure reduction process, and therefore, a coating liquid higher than the coating liquid that can be stored in the storage pot 104 can be supplied to the coating apparatus 114. Is possible. That is, by making the amount of the coating liquid flowing through the optical film manufacturing system 10 exceed the storage amount of the storage tank 104, the coating liquid guided to the coating device 114 through the supply path L1 is supplied without interruption. In this way, air bubbles contained in the coating solution can be removed or reduced, coating failures can be suppressed, and high-quality coating films can be obtained in a short time. Can be provided. In addition, as a method for supplying the coating liquid guided through the supply path L1 without interruption and continuously coating the coating liquid on the base material, the preparation liquid is prepared before all the coating liquid stored in the storage tank 104 flows out. It is preferable to feed the coating solution prepared in the pot 101 to the storage pot 104. By doing so, the coating liquid can be prepared in the preparation tank 101 in parallel with the application of the coating liquid on the substrate, and the coating operation can be continuously performed without depleting the coating liquid in the storage tank 104. Can do.

なお、本実施形態において、循環工程は、調製工程の後に設けられるものとして説明したが、これに限定されない。循環工程は、塗布液が調製されてから塗布されるまでの間のいかなる部分に位置してもよい。また、本実施形態において、循環工程は、光学フィルム製造システム10の中に一つ設けられるものとして説明したが、これに限定されない。循環工程は、光学フィルム製造システム10の中に複数設けられてもよい。   In addition, in this embodiment, although the circulation process demonstrated as what is provided after a preparation process, it is not limited to this. The circulation step may be located at any part between the time when the coating liquid is prepared and the time when it is applied. Moreover, in this embodiment, although the one circulation process was demonstrated as what is provided in the optical film manufacturing system 10, it is not limited to this. A plurality of circulation steps may be provided in the optical film manufacturing system 10.

(第2実施形態)
次に、第2実施形態の光学フィルム製造システムについて説明する。
(Second Embodiment)
Next, the optical film manufacturing system of 2nd Embodiment is demonstrated.

第1実施形態においては、循環経路R1と供給経路L1とは、循環工程の貯蔵釜104にそれぞれ別々の経路として接続され、それぞれの経路に送液装置、分散装置等が設けられている。しかし、循環経路R1と供給経路L1とは、経路や装置の一部を共用し、片方の経路における設備が省略されてもよい。第2実施形態においては、供給経路L1を循環経路R1の途中に接続し、供給経路L1上の経路や装置の一部を省略する場合について説明する。   In the first embodiment, the circulation path R1 and the supply path L1 are connected as separate paths to the storage tank 104 in the circulation process, and a liquid feeding device, a dispersion device, and the like are provided in each path. However, the circulation route R1 and the supply route L1 may share a part of the route and the apparatus, and the equipment in one route may be omitted. In the second embodiment, a case where the supply path L1 is connected in the middle of the circulation path R1 and a part of the path and the apparatus on the supply path L1 is omitted will be described.

図4は、第2実施形態に係る光学フィルム製造システムの概略構成図である。図4においては、第1実施形態と同様の構成には同じ参照番号を付している。第1実施形態と同様の構成については、説明を省略し、第1実施形態と異なる構成について説明する。   FIG. 4 is a schematic configuration diagram of an optical film manufacturing system according to the second embodiment. In FIG. 4, the same reference numerals are given to the same components as those in the first embodiment. The description of the same configuration as that of the first embodiment will be omitted, and a configuration different from that of the first embodiment will be described.

図4に示すように、光学フィルム製造システム20の調製工程および塗布工程は、第1実施形態と同様であり、循環工程および供給工程が、第1実施形態と異なる。   As shown in FIG. 4, the preparation process and the coating process of the optical film manufacturing system 20 are the same as those in the first embodiment, and the circulation process and the supply process are different from those in the first embodiment.

なお、光学フィルム製造システム20は、塗布液を基材に塗布する塗布装置114を有しており、貯蔵釜101または循環経路R1上に接続され、塗布液を塗布装置114に順次導く供給経路L1をさらに有している。   The optical film manufacturing system 20 has a coating device 114 that applies a coating liquid to a substrate, and is connected to the storage tank 101 or the circulation path R1 to supply a coating path L1 that sequentially guides the coating liquid to the coating device 114. It has further.

(循環工程)
光学フィルム製造システム20の循環工程は、供給経路L1が、濾過装置108に接続されている点が第1実施形態と異なる。
(Circulation process)
The circulation process of the optical film manufacturing system 20 is different from the first embodiment in that the supply path L1 is connected to the filtration device 108.

循環工程において、塗布液は、貯蔵釜104から循環経路R1に流出し、分散装置106、脱泡装置107を経て、濾過装置108に送られる。塗布液は、濾過装置108において異物が除去された後、循環経路R1を通じて再び貯蔵釜104に戻る。ここで、濾過装置108を通過する塗布液のうちの一部は、濾過装置108に接続された供給経路L1を通じて、供給工程に送られる。   In the circulation step, the coating liquid flows out from the storage tank 104 to the circulation path R1, and is sent to the filtration device 108 via the dispersion device 106 and the defoaming device 107. After the foreign substance is removed by the filtering device 108, the coating liquid returns to the storage pot 104 again through the circulation path R1. Here, a part of the coating liquid that passes through the filtration device 108 is sent to the supply process through the supply path L <b> 1 connected to the filtration device 108.

(供給工程)
光学フィルム製造システム20の供給工程は、流量計110および供給経路L1を含む。供給経路L1は、循環工程の濾過装置108に接続されている。そのため、第1実施形態とは異なり、供給経路L1上の送液装置、分散装置、脱泡装置および濾過装置は省略されている。
(Supply process)
The supply process of the optical film manufacturing system 20 includes a flow meter 110 and a supply path L1. The supply path L1 is connected to the filtration device 108 in the circulation process. Therefore, unlike the first embodiment, the liquid feeding device, the dispersing device, the defoaming device, and the filtering device on the supply path L1 are omitted.

循環工程から供給経路L1に導かれた塗布液は、流量計110を通過し、塗布工程の塗布装置に送られる。   The coating liquid guided from the circulation process to the supply path L1 passes through the flow meter 110 and is sent to the coating apparatus in the coating process.

第2実施形態の光学フィルム製造システム20は、第1実施形態の光学フィルム製造システム10が達成する効果に加えて、以下の効果を奏する。   In addition to the effect which the optical film manufacturing system 10 of 1st Embodiment achieves, the optical film manufacturing system 20 of 2nd Embodiment has the following effects.

光学フィルム製造システム20によれば、供給経路L1が循環経路R1上に接続され、供給経路L1の経路や装置等の設備を省略できるため、設備投資を抑えつつ、コンパクトな光学フィルム製造システムを構築できる。   According to the optical film manufacturing system 20, the supply path L1 is connected to the circulation path R1, and equipment such as the supply path L1 and equipment can be omitted, so a compact optical film manufacturing system can be constructed while suppressing capital investment. it can.

なお、本実施形態では、供給経路L1が濾過装置108に接続されるものとして説明したが、これに限定されない。供給経路L1は、循環経路R1に設けられた他の装置に接続されてもよい。あるいは、循環経路R1上に経路を分岐するための装置を設けて、供給経路L1がその装置に接続されるようにしてもよい。   In the present embodiment, the supply path L1 is described as being connected to the filtration device 108, but the present invention is not limited to this. The supply path L1 may be connected to another device provided in the circulation path R1. Alternatively, a device for branching the route may be provided on the circulation route R1, and the supply route L1 may be connected to the device.

また、本実施形態では、供給経路L1上には流量計110のみが設けられるものとして説明したが、これに限定されない。供給経路L1上には、流量計110以外の装置が設けられていてもよい。   Moreover, although this embodiment demonstrated that only the flow meter 110 was provided on the supply path | route L1, it is not limited to this. Devices other than the flow meter 110 may be provided on the supply path L1.

(第3実施形態)
次に、第3実施形態の光学フィルム製造システムついて説明する。
(Third embodiment)
Next, an optical film manufacturing system according to the third embodiment will be described.

第3実施形態は、第1実施形態の構成に加えて、循環工程において、塗布液の物性を測定する測定装置と、測定装置の測定結果に応じて分散装置を制御する装置とを備えている点が第1実施形態と異なる。   In addition to the configuration of the first embodiment, the third embodiment includes a measurement device that measures the physical properties of the coating liquid and a device that controls the dispersion device according to the measurement result of the measurement device in the circulation step. This is different from the first embodiment.

図3は、第3実施形態に係る光学フィルム製造システムの概略構成図である。図3においては、第1実施形態と同様の構成には同じ参照番号を付している。第1実施形態と同様の構成については、説明を省略し、第1実施形態と異なる構成について説明する。   FIG. 3 is a schematic configuration diagram of an optical film manufacturing system according to the third embodiment. In FIG. 3, the same reference numerals are given to the same components as those in the first embodiment. The description of the same configuration as that of the first embodiment will be omitted, and a configuration different from that of the first embodiment will be described.

図3に示すように、光学フィルム製造システム30の調製工程、供給工程および塗布工程は、第1実施形態と同様であり、循環工程のみが、第1実施形態と異なる。   As shown in FIG. 3, the preparation process, the supply process, and the coating process of the optical film manufacturing system 30 are the same as those in the first embodiment, and only the circulation process is different from that in the first embodiment.

(循環工程)
光学フィルム製造システム30の循環工程は、第1実施形態と同様の構成に加えて、さらに、測定装置117と制御装置118とを含む。
(Circulation process)
The circulation process of the optical film manufacturing system 30 further includes a measurement device 117 and a control device 118 in addition to the same configuration as in the first embodiment.

測定装置117は、循環経路R1上に設けられ、循環経路R1を通過する塗布液の物性を測定する。測定装置117は、たとえば塗布液の粘度を測定する粘度計である。粘度計としては、回転式、振動式、細管式等いかなる方法の粘度計が使用されてもよい。測定装置117は、測定結果を示す情報を制御装置118に通知する。   The measuring device 117 is provided on the circulation path R1 and measures the physical properties of the coating liquid passing through the circulation path R1. The measuring device 117 is, for example, a viscometer that measures the viscosity of the coating liquid. As the viscometer, a viscometer of any method such as a rotary type, a vibration type, or a thin tube type may be used. The measuring device 117 notifies the control device 118 of information indicating the measurement result.

このように、測定装置117が、循環経路R1上、供給経路L1上および貯蔵釜104内の少なくとも一箇所に設けられると好ましい。   Thus, it is preferable that the measuring device 117 is provided on at least one place on the circulation path R1, the supply path L1, and the storage tank 104.

制御装置118は、プログラムに従って演算するCPU、各種データやプログラムを記録するメモリやハードディスク等を有する。制御装置118は、測定装置117から通知された測定結果を示す情報に基づいて、分散装置106を制御する。   The control device 118 includes a CPU that operates according to a program, a memory that records various data and programs, a hard disk, and the like. The control device 118 controls the distribution device 106 based on information indicating the measurement result notified from the measurement device 117.

制御装置118は、たとえば、測定装置117が粘度計である場合、測定装置117によって測定された塗布液の粘度に基づいて、分散装置106を制御する。塗布液の粘度が所定の適正な範囲よりも大きい場合、制御装置118は、分散装置106の分散強度を高めるように制御する。分散装置106がマイルダーの場合、制御装置118は、可動歯の回転速度を高めるように分散装置106を制御する。あるいは、塗布液の粘度が所定の適正な範囲よりも小さい場合、制御装置118は、分散装置106の分散強度を低めるように制御する。   For example, when the measuring device 117 is a viscometer, the control device 118 controls the dispersing device 106 based on the viscosity of the coating liquid measured by the measuring device 117. When the viscosity of the coating liquid is larger than a predetermined appropriate range, the control device 118 controls to increase the dispersion strength of the dispersion device 106. When the dispersing device 106 is a milder, the control device 118 controls the dispersing device 106 so as to increase the rotational speed of the movable teeth. Alternatively, when the viscosity of the coating liquid is smaller than a predetermined appropriate range, the control device 118 performs control so that the dispersion strength of the dispersion device 106 is lowered.

第3実施形態の光学フィルム製造システム30は、第1実施形態の光学フィルム製造システム10が達成する効果に加えて、以下の効果を奏する。   In addition to the effect which the optical film manufacturing system 10 of 1st Embodiment achieves, the optical film manufacturing system 30 of 3rd Embodiment has the following effects.

光学フィルム製造システム30によれば、測定装置117により測定された塗布液の物性に基づいて、分散装置106の分散強度を制御する。したがって、循環する塗布液をより確実に、均一な塗布に適した物性に保つことができる。   According to the optical film manufacturing system 30, the dispersion strength of the dispersion device 106 is controlled based on the physical properties of the coating liquid measured by the measurement device 117. Therefore, the circulating coating liquid can be more reliably maintained with physical properties suitable for uniform coating.

また、光学フィルム製造システム30は、測定装置117により塗布液の粘度を測定し、粘度が所定の適正な範囲よりも大きい場合は分散強度を大きくし、粘度が所定の適正な範囲よりも小さい場合は分散強度を小さくするように分散装置106を制御する。したがって、循環する塗布液の粘度を適正な範囲に保つことができ、均一な塗布に適した状態で供給できる。   Further, the optical film manufacturing system 30 measures the viscosity of the coating liquid with the measuring device 117, and increases the dispersion strength when the viscosity is larger than a predetermined proper range, and when the viscosity is smaller than the predetermined proper range. Controls the dispersing device 106 to reduce the dispersion strength. Therefore, the viscosity of the circulating coating liquid can be maintained in an appropriate range, and can be supplied in a state suitable for uniform coating.

なお、第3実施形態においては、測定装置117が塗布液の粘度を測定する例を説明したが、これに限定されない。測定装置117は、塗布液の動粘度や密度、粘弾性、温度等、塗布液のいかなる物性を測定してもよい。   In the third embodiment, the example in which the measuring device 117 measures the viscosity of the coating liquid has been described. However, the present invention is not limited to this. The measuring device 117 may measure any physical property of the coating liquid, such as the kinematic viscosity, density, viscoelasticity, and temperature of the coating liquid.

また、第3実施形態においては、制御装置118が塗布液の粘度に基づいて分散装置106を制御する例を説明したが、これに限定されない。制御装置118は、測定装置117が測定した様々な物性に基づいて、分散装置106だけでなく、脱泡装置107や濾過装置108を制御してもよい。たとえば、制御装置118は、塗布液の密度に基づいて脱泡装置107と濾過装置108を制御してもよい。具体的には、密度が所定の範囲よりも小さい場合には、塗布液中の気泡や溶存空気の割合が大きいと判断し、脱泡装置107の脱泡強度を高めるように制御してもよい。あるいは、密度が所定の範囲よりも大きい場合には、塗布液中に凝固による異物等が発生していると判断し、濾過装置108の濾過強度を高めるように濾過フィルタのメンテナンスを行うように制御してもよい。   In the third embodiment, the example in which the control device 118 controls the dispersion device 106 based on the viscosity of the coating liquid has been described. However, the present invention is not limited to this. The control device 118 may control not only the dispersion device 106 but also the defoaming device 107 and the filtration device 108 based on various physical properties measured by the measurement device 117. For example, the control device 118 may control the defoaming device 107 and the filtering device 108 based on the density of the coating liquid. Specifically, when the density is smaller than a predetermined range, it may be determined that the ratio of bubbles or dissolved air in the coating liquid is large, and the defoaming strength of the defoaming device 107 may be controlled to be increased. . Alternatively, when the density is larger than the predetermined range, it is determined that foreign matter or the like due to coagulation has occurred in the coating liquid, and control is performed to perform maintenance of the filtration filter so as to increase the filtration strength of the filtration device 108. May be.

また、第3実施形態においては、測定装置117が循環工程に設けられるものとして説明したが、これに限定されない。測定装置117は、循環経路R1だけでなく、供給経路L1や貯蔵釜104内等、塗布液が通過するいかなる場所に設けられてもよい。また、測定装置117が複数設けられ、複数の測定結果に基づいて複数の装置が制御されてもよい。これにより、より塗布に適した状態で塗布液を供給できる。   In the third embodiment, the measurement device 117 is described as being provided in the circulation process, but the present invention is not limited to this. The measuring device 117 may be provided not only in the circulation path R1 but also in any place where the coating liquid passes, such as in the supply path L1 and the storage tank 104. A plurality of measurement devices 117 may be provided, and a plurality of devices may be controlled based on a plurality of measurement results. Thereby, a coating liquid can be supplied in the state more suitable for application | coating.

以上、第1実施形態〜第3実施形態において、光学フィルム製造システムのバリエーションを説明してきた。しかし、上記実施形態は一例であり、様々な改変が可能である。たとえば、分散装置を上記実施形態1〜3とは異なる位置に配置してもよい。また、各装置は、図示される順番ではなく、別の順番に配置されて処理を実行してもよい。   As above, in the first to third embodiments, the variations of the optical film manufacturing system have been described. However, the above embodiment is merely an example, and various modifications can be made. For example, you may arrange | position a dispersion | distribution apparatus in the position different from the said Embodiment 1-3. In addition, the apparatuses may be arranged in a different order instead of the illustrated order to execute the processing.

(材料等)
次に、第1実施形態〜第3実施形態において、製造される光学フィルム、光学フィルムの製造に用いる材料、光学フィルムの製造工程等について詳細に説明する。
(Materials, etc.)
Next, in 1st Embodiment-3rd Embodiment, the optical film manufactured, the material used for manufacture of an optical film, the manufacturing process of an optical film, etc. are demonstrated in detail.

<光学フィルム>
本形態に係る製造方法で製造される光学フィルムは、基材上に、膜厚が1〜1000nmである光学機能層が少なくとも1層形成されてなる。
<Optical film>
The optical film manufactured by the manufacturing method according to this embodiment is formed by forming at least one optical functional layer having a film thickness of 1 to 1000 nm on a substrate.

光学フィルムは、光学機能層の組成、構成等によって発揮する機能が異なる。したがって、本発明に係る技術的思想は、適宜公知の事項を参酌することによって、種々の光学フィルム、例えば、赤外遮蔽フィルム、反射防止フィルム、配向フィルム、偏光フィルム、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、視野角拡大フィルム、輝度向上フィルム、および電磁波シールドフィルム等に用いることができる。   The optical film has different functions depending on the composition and configuration of the optical functional layer. Therefore, the technical idea according to the present invention is various optical films, for example, an infrared shielding film, an antireflection film, an alignment film, a polarizing film, a polarizing plate protective film, a retardation film, by appropriately considering known matters. It can be used for a film, a viewing angle widening film, a brightness enhancement film, an electromagnetic wave shielding film, and the like.

以下の説明では、屈折率の異なる屈折率層(高分子膜)が積層されてなる赤外遮蔽フィルムについて説明するが、本発明を限定するものではない。なお、赤外遮蔽フィルムは光学フィルムに該当し、屈折率層は光学機能層に該当する。   In the following description, an infrared shielding film in which refractive index layers (polymer films) having different refractive indexes are laminated will be described, but the present invention is not limited thereto. The infrared shielding film corresponds to an optical film, and the refractive index layer corresponds to an optical functional layer.

一般に、赤外遮蔽フィルムにおいては、隣接する屈折率層間の屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で赤外反射率を高くすることができるという観点から好ましい。本形態では、隣接する屈折率層間の屈折率差の少なくとも1つが0.1以上であることが好ましく、0.3以上であることがより好ましく、0.4以上であることが特に好ましい。また、前記積層された屈折率層間のすべての屈折率差が上記好適な範囲内にあることが好ましい。ただし、この場合でも、反射層を構成する屈折率層のうち、最表層や最下層に関しては、上記好適な範囲外の構成であってもよい。   In general, in an infrared shielding film, it is preferable to design a large difference in refractive index between adjacent refractive index layers from the viewpoint that the infrared reflectance can be increased with a small number of layers. In this embodiment, at least one of the refractive index differences between adjacent refractive index layers is preferably 0.1 or more, more preferably 0.3 or more, and particularly preferably 0.4 or more. Moreover, it is preferable that all the refractive index differences between the laminated refractive index layers are within the preferable range. However, even in this case, the outermost layer and the lowermost layer among the refractive index layers constituting the reflective layer may have a configuration outside the above preferred range.

特定波長領域の反射率は、隣接する2層の屈折率差と積層数で決まり、屈折率の差が大きいほど、少ない層数で同じ反射率を得られる。この屈折率差と必要な層数については、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。例えば、赤外反射率90%以上を得るためには、屈折率差が0.1より小さいと、100層以上の積層が必要となる。このような場合、生産性の低下、積層界面における散乱の増大、透明性の低下、および製造時の塗布故障が生じうる。   The reflectance in the specific wavelength region is determined by the difference in refractive index between two adjacent layers and the number of stacked layers, and the larger the difference in refractive index, the same reflectance can be obtained with a smaller number of layers. The refractive index difference and the required number of layers can be calculated using commercially available optical design software. For example, in order to obtain an infrared reflectance of 90% or more, if the refractive index difference is smaller than 0.1, it is necessary to stack 100 layers or more. In such a case, the productivity may decrease, the scattering at the laminated interface increases, the transparency may decrease, and the coating failure may occur during manufacturing.

さらには、本形態の赤外遮蔽フィルムの光学特性として、JIS R3106−1998で示される可視光領域の透過率が50%以上、好ましくは75%以上、より好ましくは85%以上であることが好ましく、また、波長900nm〜1400nmの領域に反射率50%を超える領域を有することが好ましい。   Furthermore, as an optical characteristic of the infrared shielding film of this embodiment, the transmittance in the visible light region shown in JIS R3106-1998 is 50% or more, preferably 75% or more, more preferably 85% or more. In addition, it is preferable that the region having a wavelength of 900 nm to 1400 nm has a region where the reflectance exceeds 50%.

赤外遮蔽フィルムは、屈折率層が積層された構成を有することにより、基材の側から、または積層された屈折率層の側から赤外光を照射した場合に、少なくとも赤外光の一部を遮蔽して赤外遮蔽効果を発揮することができる。   The infrared shielding film has a configuration in which a refractive index layer is laminated, so that at least one infrared light is irradiated when infrared light is irradiated from the base material side or from the laminated refractive index layer side. The part can be shielded to exhibit an infrared shielding effect.

一実施形態において、前記積層された屈折率層は、高屈折率層および低屈折率層が交互に積層されてなる。積層された高屈折率層および低屈折率層は、それぞれ同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。屈折率層が高屈折率層であるか低屈折率層であるかは、隣接する屈折率層との屈折率の対比によって判断される。具体的には、ある屈折率層を基準層としたとき、当該基準層に隣接する屈折率層が基準層より屈折率が低ければ、基準層は高屈折率層である(隣接層は低屈折率層である)と判断される。一方、基準層より隣接層の屈折率が高ければ、基準層は低屈折率層である(隣接層は高屈折率層である)と判断される。   In one embodiment, the stacked refractive index layers are formed by alternately stacking high refractive index layers and low refractive index layers. The laminated high refractive index layer and low refractive index layer may be the same or different. Whether the refractive index layer is a high refractive index layer or a low refractive index layer is determined by comparing the refractive index with the adjacent refractive index layer. Specifically, when a refractive index layer is used as a reference layer, if the refractive index layer adjacent to the reference layer has a lower refractive index than the reference layer, the reference layer is a high refractive index layer (the adjacent layer is a low refractive index layer). It is judged to be a rate layer. On the other hand, if the refractive index of the adjacent layer is higher than that of the reference layer, it is determined that the reference layer is a low refractive index layer (the adjacent layer is a high refractive index layer).

上述のように、高屈折率層であるか低屈折率層であるかは隣接する屈折率層との関係で定まる相対的なものであるが、高屈折率層の屈折率(nH)は1.60〜2.50であることが好ましく、1.70〜2.50であることがより好ましく、1.80〜2.20であることがさらに好ましく、1.90〜2.20であることが特に好ましい。一方、低屈折率層の屈折率(nL)は、1.10〜1.60であることが好ましく、1.30〜1.55であることがより好ましく、1.30〜1.50であることがさらに好ましい。なお、各屈折率層の屈折率の値は、以下のように測定した値を採用するものとする。具体的には、支持体上に測定対象となる屈折率層を単層で塗布して得られた塗膜を10cm×10cmに断裁してサンプルを作製する。当該サンプルは、裏面での光の反射を防止するため、測定面とは反対側の面(裏面)を粗面化処理し、黒色スプレーで光吸収処理を行う。このように作製したサンプルを、分光光度計U−4000型(株式会社日立製作所製)を用いて、5度正反射の条件にて可視領域(400nm〜700nm)の反射率を25点測定して平均値を求め、その測定結果より平均屈折率を求める。   As described above, whether the layer is a high refractive index layer or a low refractive index layer is a relative one determined by the relationship with the adjacent refractive index layer, but the refractive index (nH) of the high refractive index layer is 1. It is preferably .60 to 2.50, more preferably 1.70 to 2.50, further preferably 1.80 to 2.20, and 1.90 to 2.20. Is particularly preferred. On the other hand, the refractive index (nL) of the low refractive index layer is preferably 1.10 to 1.60, more preferably 1.30 to 1.55, and 1.30 to 1.50. More preferably. In addition, the value measured as follows shall be employ | adopted for the value of the refractive index of each refractive index layer. Specifically, a sample is prepared by cutting a coating film obtained by applying a refractive index layer to be measured as a single layer on a support to a size of 10 cm × 10 cm. In order to prevent reflection of light on the back surface of the sample, a surface (back surface) opposite to the measurement surface is roughened, and light absorption processing is performed with a black spray. Using the spectrophotometer U-4000 type (manufactured by Hitachi, Ltd.), 25 samples of the reflectance in the visible region (400 nm to 700 nm) were measured using the spectrophotometer U-4000 type (manufactured by Hitachi, Ltd.). An average value is obtained, and an average refractive index is obtained from the measurement result.

屈折率層の総層数の範囲としては、生産性の観点から、好ましくは200層以下であり、より好ましくは100層以下であり、さらに好ましくは50層以下である。   The range of the total number of refractive index layers is preferably 200 layers or less, more preferably 100 layers or less, and even more preferably 50 layers or less from the viewpoint of productivity.

屈折率層の1層あたりの厚さは、1〜1000nmであり、好ましくは20〜800nmであり、より好ましくは50〜350nmである。   The thickness per layer of the refractive index layer is 1-1000 nm, preferably 20-800 nm, more preferably 50-350 nm.

<高分子を含有する塗布液(塗布液)>
赤外遮蔽フィルムの製造においては、通常、塗布液として、高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の少なくとも2種の塗布液を調製する。
<Coating liquid containing polymer (coating liquid)>
In the production of an infrared shielding film, usually, at least two kinds of coating liquids, ie, a coating liquid for a high refractive index layer and a coating liquid for a low refractive index layer are prepared as the coating liquid.

[塗布液の組成]
塗布液は、高分子を含む。さらに、必要に応じて溶媒、架橋剤、金属酸化物粒子、エマルジョン樹脂、その他の添加剤を含んでいてもよい。
[Composition of coating solution]
The coating solution contains a polymer. Furthermore, a solvent, a crosslinking agent, metal oxide particles, an emulsion resin, and other additives may be included as necessary.

(高分子)
用いられうる高分子としては、特に制限されないが、水溶性高分子が挙げられる。水溶性高分子としては、特に制限されないが、反応性官能基を有するポリマー、変性ポリビニルアルコール、ゼラチン、および増粘多糖類等が挙げられる。なお、本明細書において、「水溶性高分子」とは、水溶性高分子が最も溶解する温度で0.5質量%の濃度となるように水に溶解させた場合において、G2グラスフィルタ(最大細孔40〜50μm)で濾過した際に濾別される不溶物の質量が、加えた水溶性高分子の50質量%以内であるものを意味する。
(High molecular)
The polymer that can be used is not particularly limited, and examples thereof include water-soluble polymers. The water-soluble polymer is not particularly limited, and examples thereof include a polymer having a reactive functional group, modified polyvinyl alcohol, gelatin, and thickening polysaccharide. In this specification, “water-soluble polymer” means a G2 glass filter (maximum) when dissolved in water so that the concentration of 0.5% by mass is obtained at the temperature at which the water-soluble polymer is most dissolved. It means that the mass of the insoluble matter that is separated by filtration through pores of 40 to 50 μm is within 50 mass% of the added water-soluble polymer.

反応性官能基を有するポリマー
本発明で用いられうる反応性官能基を有するポリマーとしては、例えば、未変性ポリビニルアルコール類、ポリビニルピロリドン類、ポリアクリル酸、アクリル酸−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸カリウム−アクリロニトリル共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、もしくはアクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのアクリル樹脂、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、もしくはスチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのスチレンアクリル酸樹脂、スチレン−スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、スチレン−2−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、スチレン−2−ヒドロキシエチルアクリレート−スチレンスルホン酸カリウム共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン−アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体などの酢酸ビニル系共重合体およびそれらの塩が挙げられる。これらの中でも、未変性ポリビニルアルコール類、ポリビニルピロリドン類、およびこれらの共重合体を用いることが好ましい。
Polymers having reactive functional groups Examples of polymers having reactive functional groups that can be used in the present invention include unmodified polyvinyl alcohols, polyvinyl pyrrolidones, polyacrylic acid, acrylic acid-acrylonitrile copolymers, and potassium acrylate. -Acrylic resins such as acrylonitrile copolymer, vinyl acetate-acrylic acid ester copolymer, or acrylic acid-acrylic acid ester copolymer, styrene-acrylic acid copolymer, styrene-methacrylic acid copolymer, styrene-methacrylic acid Styrene acrylic resin such as acid-acrylic acid ester copolymer, styrene-α-methylstyrene-acrylic acid copolymer, or styrene-α-methylstyrene-acrylic acid-acrylic acid ester copolymer, styrene-styrene sulfone Sodium acid salt Styrene-2-hydroxyethyl acrylate copolymer, styrene-2-hydroxyethyl acrylate-potassium styrene sulfonate copolymer, styrene-maleic acid copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, vinyl naphthalene-acrylic Vinyl acetate copolymers such as acid copolymers, vinyl naphthalene-maleic acid copolymers, vinyl acetate-maleic acid ester copolymers, vinyl acetate-crotonic acid copolymers, vinyl acetate-acrylic acid copolymers, and These salts are mentioned. Among these, it is preferable to use unmodified polyvinyl alcohols, polyvinyl pyrrolidones, and copolymers thereof.

なお、上記反応性官能基を有するポリマーが共重合体である場合の共重合体の形態は、ブロック共重合体、ランダム共重合体、グラフト共重合体、交互共重合体のいずれであってもよい。   The form of the copolymer when the polymer having the reactive functional group is a copolymer may be any of a block copolymer, a random copolymer, a graft copolymer, and an alternating copolymer. Good.

変性ポリビニルアルコール
本発明において用いられうる変性ポリビニルアルコールは、未変性ポリビニルアルコールに任意の変性処理の1または2以上を施したものである。例えば、アミン変性ポリビニルアルコール、エチレン変性ポリビニルアルコール、カルボン酸変性ポリビニルアルコール、ジアセトン変性ポリビニルアルコール、チオール変性ポリビニルアルコール、アセタール変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコールは、市販品を使用してもよく、あるいは当該分野で公知の方法で製造したものを使用してもよい。
Modified Polyvinyl Alcohol The modified polyvinyl alcohol that can be used in the present invention is one obtained by subjecting unmodified polyvinyl alcohol to one or more arbitrary modification treatments. Examples thereof include amine-modified polyvinyl alcohol, ethylene-modified polyvinyl alcohol, carboxylic acid-modified polyvinyl alcohol, diacetone-modified polyvinyl alcohol, thiol-modified polyvinyl alcohol, and acetal-modified polyvinyl alcohol. As these modified polyvinyl alcohols, commercially available products may be used, or those produced by methods known in the art may be used.

また、末端をカチオン変性したポリビニルアルコールやアニオン性基を有するアニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール等の変性ポリビニルアルコールも用いてもよい。   Further, modified polyvinyl alcohols such as polyvinyl alcohol having a cation-modified terminal, anion-modified polyvinyl alcohol having an anionic group, and nonionic modified polyvinyl alcohol may also be used.

カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭61−10483号公報に記載されているような第1級〜第3級アミノ基や第4級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコールが挙げられ、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。   Examples of the cation-modified polyvinyl alcohol include primary to tertiary amino groups and quaternary ammonium groups as described in JP-A No. 61-10383 in the main chain or side chain of the polyvinyl alcohol. It can be obtained by saponifying a copolymer of an ethylenically unsaturated monomer having a cationic group and vinyl acetate.

カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル−(2−アクリルアミド−2,2−ジメチルエチル)アンモニウムクロライド、トリメチル−(3−アクリルアミド−3,3−ジメチルプロピル)アンモニウムクロライド、N−ビニルイミダゾール、N−ビニル−2−メチルイミダゾール、N−(3−ジメチルアミノプロピル)メタクリルアミド、ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−(2−メタクリルアミドプロピル)アンモニウムクロライド、N−(1,1−ジメチル−3−ジメチルアミノプロピル)アクリルアミド等が挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体の比率は、酢酸ビニルに対して0.1〜10モル%、好ましくは0.2〜5モル%である。   Examples of the ethylenically unsaturated monomer having a cationic group include trimethyl- (2-acrylamido-2,2-dimethylethyl) ammonium chloride and trimethyl- (3-acrylamido-3,3-dimethylpropyl) ammonium chloride. N-vinylimidazole, N-vinyl-2-methylimidazole, N- (3-dimethylaminopropyl) methacrylamide, hydroxyethyltrimethylammonium chloride, trimethyl- (2-methacrylamidopropyl) ammonium chloride, N- (1, 1-dimethyl-3-dimethylaminopropyl) acrylamide and the like. The ratio of the ethylenically unsaturated monomer having a cationic group of the cation-modified polyvinyl alcohol is 0.1 to 10 mol%, preferably 0.2 to 5 mol%, relative to vinyl acetate.

アニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平1−206088号公報に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭61−237681号公報および同63−307979号公報に記載されているようなビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体、および特開平7−285265号公報に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。   Examples of the anion-modified polyvinyl alcohol include polyvinyl alcohol having an anionic group as described in JP-A-1-206088, JP-A-61-237681 and JP-A-63-307979. Examples thereof include a copolymer of vinyl alcohol and a vinyl compound having a water-soluble group, and modified polyvinyl alcohol having a water-soluble group as described in JP-A-7-285265.

そして、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平7−9758号公報に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平8−25795号公報に記載されている疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体等が挙げられる。   Nonionic modified polyvinyl alcohol includes, for example, a polyvinyl alcohol derivative in which a polyalkylene oxide group as described in JP-A-7-9758 is added to a part of vinyl alcohol, and JP-A-8-25795. The block copolymer of the vinyl compound and vinyl alcohol which have the described hydrophobic group is mentioned.

ここで、未変性ポリビニルアルコールとしては、平均重合度が好ましくは約100〜10000、より好ましくは平均重合度が約500〜5000、さらに好ましくは平均重合度約900〜2500である。また、未変性ポリビニルアルコールのケン化度は、好ましくは約60〜100モル%、より好ましくは78〜99モル%である。このようなケン化ポリビニルアルコールは、酢酸ビニルをラジカル重合し、得られたポリ酢酸ビニルを適宜、ケン化することによって製造することができ、所望の未変性ポリビニルアルコールを製造するためには、適宜、重合度、ケン化度をそれ自体公知の方法で制御することによって達成される。   Here, the unmodified polyvinyl alcohol preferably has an average degree of polymerization of about 100 to 10000, more preferably an average degree of polymerization of about 500 to 5000, and still more preferably an average degree of polymerization of about 900 to 2500. The degree of saponification of unmodified polyvinyl alcohol is preferably about 60 to 100 mol%, more preferably 78 to 99 mol%. Such a saponified polyvinyl alcohol can be produced by radical polymerization of vinyl acetate and appropriately saponifying the obtained polyvinyl acetate. In order to produce a desired unmodified polyvinyl alcohol, The polymerization degree and saponification degree are controlled by a method known per se.

なお、こうした部分ケン化ポリビニルアルコールとしては、市販品を使用することも可能であり、好ましい未変性ポリビニルアルコールの市販品としては、例えばゴーセノールEG05、EG25(日本合成化学工業株式会社製)、PVA203(株式会社クラレ製)、PVA204(株式会社クラレ製)、PVA205(株式会社クラレ製)、JP−04(日本酢ビ・ポバール株式会社製)、JP−05(日本酢ビ・ポバール株式会社製)等が挙げられる。あるいは、(株)クラレ製のPVA124(ケン化度:98.0〜99.0モル%)、PVA117(ケン化度:98.0〜99.0モル%)、PVA624(ケン化度:95.0〜96.0モル%)およびPVA617(ケン化度:94.5〜95.5モル%);例えば日本合成化学工業(株)製のAH−26(ケン化度:97.0〜98.8モル%)、AH−22(ケン化度:97.5〜98.5モル%)、NH−18(ケン化度:98.0〜99.0モル%)およびN−300(ケン化度:98.0〜99.0モル%);例えば日本酢ビ・ポバール(株)のJF−17(ケン化度:98.0〜99.0モル%)、JF−17L(ケン化度:98.0〜99.0モル%)およびJF−20(ケン化度:98.0〜99.0モル%)などが挙げられる。   In addition, as such a partially saponified polyvinyl alcohol, it is possible to use a commercially available product. Examples of preferable commercially available unmodified polyvinyl alcohol include Gohsenol EG05, EG25 (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), PVA203 ( Kuraray Co., Ltd.), PVA204 (Kuraray Co., Ltd.), PVA205 (Kuraray Co., Ltd.), JP-04 (Nippon Vinegar Pover Co., Ltd.), JP-05 (Nippon Vinegar Pover Co., Ltd.) Is mentioned. Alternatively, PVA124 (degree of saponification: 98.0 to 99.0 mol%), PVA117 (degree of saponification: 98.0 to 99.0 mol%), PVA624 (degree of saponification: 95.%) manufactured by Kuraray Co., Ltd. 0-96.0 mol%) and PVA617 (degree of saponification: 94.5-95.5 mol%); for example, AH-26 (degree of saponification: 97.0-98. 0) manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. 8 mol%), AH-22 (degree of saponification: 97.5-98.5 mol%), NH-18 (degree of saponification: 98.0-99.0 mol%) and N-300 (degree of saponification) : 98.0-99.0 mol%); for example, JF-17 (degree of saponification: 98.0-99.0 mol%), JF-17L (degree of saponification: 98) of Nippon Vinegar Poval Co., Ltd. 0.0-99.0 mol%) and JF-20 (degree of saponification: 98.0-99.0 mol%) It is below.

未変性(変性)ポリビニルアルコールと重合させる重合性ビニル単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸類またはそれらの塩(例えばアルカリ金属塩、アンモニウム塩、アルキルアミン塩)、それらのエステル類(例えば置換または非置換のアルキルエステル、環状アルキルエステル、ポリアルキレングリコールエステル)、不飽和ニトリル類、不飽和アミド類、芳香族ビニル類、脂肪族ビニル類、不飽和結合含有複素環類等が挙げられる。具体的には、(a)アクリル酸エステル類としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート(ポリエチレングリコールとアクリル酸とのエステル)、ポリプロピレングリコールアクリレート(ポリプロピレングリコールとアクリル酸とのエステル)などが、(b)メタクリル酸エステル類としては、例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ポリエチレングリコールメタクリレート(ポリエチレングリコールとメタクリル酸とのエステル)などが、(c)不飽和ニトリル類としては、例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリルなどが、(d)不飽和アミド類としては例えばアクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、メタクリルアミドなどが、(e)芳香族ビニル類としてはスチレン、α−メチルスチレンなどが、(f)脂肪族ビニル類としては、酢酸ビニルなどが、(g)不飽和結合含有複素環類としては、N−ビニルピロリドン、アクリロイルモルホリンなどが例示される。   Examples of polymerizable vinyl monomers to be polymerized with unmodified (modified) polyvinyl alcohol include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, fumaric acid, maleic acid, itaconic acid, or salts thereof (for example, alkali metals). Salts, ammonium salts, alkylamine salts), esters thereof (eg, substituted or unsubstituted alkyl esters, cyclic alkyl esters, polyalkylene glycol esters), unsaturated nitriles, unsaturated amides, aromatic vinyls, fats Group vinyls and unsaturated bond-containing heterocycles. Specifically, (a) acrylic acid esters include, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, isobutyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, hydroxyethyl acrylate, polyethylene glycol acrylate (polyethylene glycol and acrylic acid Ester) and polypropylene glycol acrylate (ester of polypropylene glycol and acrylic acid). (B) Examples of methacrylic acid esters include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, and 2-ethylhexyl. Methacrylate, hydroxyethyl methacrylate, polyethylene glycol Tacrylate (ester of polyethylene glycol and methacrylic acid), etc. (c) Unsaturated nitriles such as acrylonitrile, methacrylonitrile, etc. (d) Unsaturated amides such as acrylamide, dimethylacrylamide, methacrylamide (E) aromatic vinyls such as styrene, α-methylstyrene, (f) aliphatic vinyls such as vinyl acetate, and (g) unsaturated bond-containing heterocycles such as N -Vinylpyrrolidone, acryloylmorpholine and the like are exemplified.

上述の変性ポリビニルアルコールは、未変性ポリビニルアルコールまたはその誘導体をそれ自体公知の方法で変性処理することにより製造することができる。   The above-mentioned modified polyvinyl alcohol can be produced by modifying unmodified polyvinyl alcohol or a derivative thereof by a method known per se.

特に、変性ポリビニルアルコールとしての上記グラフト共重合体を製造する方法としては、ラジカル重合、例えば溶液重合、懸濁重合、乳化重合および塊状重合などのそれ自体公知の方法を挙げることができ、各々の通常の重合条件下で実施することができる。この重合反応は、通常、重合開始剤の存在下、必要に応じて還元剤(例えば、エリソルビン酸ナトリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム、アスコルビン酸)、連鎖移動剤(例えば2−メルカプトエタノール、α−メチルスチレンダイマー、2−エチルヘキシルチオグリコレート、ラウリルメルカプタン)あるいは分散剤(例えばソルビタンエステル、ラウリルアルコールなどの界面活性剤)等の存在下、水、有機溶媒(例えばメタノール、エタノール、セロソルブ、カルビトール)あるいはそれらの混合物中で実施される。また、未反応の単量体の除去方法、乾燥、粉砕方法等も公知の方法でよく、特に制限はない。   In particular, examples of the method for producing the graft copolymer as the modified polyvinyl alcohol include methods known per se such as radical polymerization, for example, solution polymerization, suspension polymerization, emulsion polymerization and bulk polymerization. It can be carried out under normal polymerization conditions. This polymerization reaction is usually performed in the presence of a polymerization initiator, if necessary, as a reducing agent (for example, sodium erythorbate, sodium metabisulfite, ascorbic acid), a chain transfer agent (for example, 2-mercaptoethanol, α-methylstyrene). In the presence of a dimer, 2-ethylhexylthioglycolate, lauryl mercaptan) or a dispersant (for example, a surfactant such as sorbitan ester or lauryl alcohol), water, an organic solvent (for example, methanol, ethanol, cellosolve, carbitol) or the like In a mixture of Moreover, the removal method of an unreacted monomer, drying, a grinding | pulverization method, etc. may be a well-known method, and there is no restriction | limiting in particular.

ゼラチン
本発明で用いられうるゼラチンとしては、従来、ハロゲン化銀写真感光材料分野で広く用いられてきた各種ゼラチンを挙げることができる。例えば、酸処理ゼラチン、アルカリ処理ゼラチンの他に、ゼラチンの製造過程で酵素処理をする酵素処理ゼラチンおよびゼラチン誘導体、すなわち分子中に官能基としてのアミノ基、イミノ基、ヒドロキシ基、またはカルボキシ基を有し、それと反応して得る基を持った試薬で処理し改質したものでもよい。ゼラチンの一般的製造法に関しては良く知られており、例えば、T.H.James:The Theory of Photographic Process 4th.ed.1977(Macmillan)55頁、科学写真便覧(上)72〜75頁(丸善株式会社)、写真工学の基礎−銀塩写真編 119〜124頁(コロナ社)等の記載を参考にすることができる。また、リサーチ・ディスクロージャー誌第176巻、No.17643(1978年12月)のIXページに記載されているゼラチンを挙げることができる。
Gelatin Gelatin that can be used in the present invention includes various gelatins that have been widely used in the field of silver halide photographic materials. For example, in addition to acid-treated gelatin and alkali-treated gelatin, enzyme-treated gelatin and gelatin derivatives that undergo enzyme treatment in the gelatin production process, that is, amino, imino, hydroxy, or carboxy groups as functional groups in the molecule It may be modified by treating with a reagent having a group obtained by reacting with it. The general method for producing gelatin is well known and is described, for example, in T.W. H. James: The Theory of Photographic Process 4th. ed. Reference can be made to descriptions such as 1977 (Maccillan), p. 55, Science Photo Handbook (above), p. 72-75 (Maruzen Co., Ltd.), Photographic Engineering Basics-Silver Salt Photography, p. 119-124 (Corona). . Also, Research Disclosure Magazine Vol. 176, No. The gelatin described in IX page of 17643 (December, 1978) can be mentioned.

増粘多糖類
本発明で用いられる増粘多糖類としては、特に制限はなく、例えば、一般に知られている天然単純多糖類、天然複合多糖類、合成単純多糖類および合成複合多糖類などを挙げることができる。これら増粘多糖類の詳細については、「生化学辞典(第2版)」(東京化学同人)、「食品工業」第31巻(1988)21頁等を参照することができる。
Thickening polysaccharide There is no restriction | limiting in particular as thickening polysaccharide used by this invention, For example, generally known natural simple polysaccharide, natural complex polysaccharide, synthetic simple polysaccharide, synthetic complex polysaccharide, etc. are mentioned. be able to. For details of these thickening polysaccharides, reference can be made to “Biochemical Dictionary (2nd edition)” (Tokyo Kagaku Dojin), “Food Industry”, Vol. 31 (1988), p.

前記増粘多糖類とは、糖類の重合体で、分子内に水素結合基を多数有するものであり、温度による分子間の水素結合力の違いにより、低温時の粘度と高温時の粘度との差が大きいという特性を備えた多糖類であり、さらに金属酸化物粒子や多価金属化合物を添加すると、低温時に金属酸化物粒子または多価金属化合物との反応により金属酸化物粒子または多価金属化合物との水素結合またはイオン結合を形成して、粘度上昇またはゲル化を引き起こすものである。粘度の上昇幅は、金属酸化物粒子または多価金属化合物の添加前の15℃における粘度と比較して、15℃の粘度で、1.0mPa・s以上であることが好ましい。粘度上昇幅は、より好ましくは5.0mPa・s以上であり、さらに好ましくは10.0mPa・s以上である。   The thickening polysaccharide is a polymer of saccharides and has a large number of hydrogen bonding groups in the molecule. Due to the difference in hydrogen bonding strength between molecules depending on the temperature, the viscosity at low temperature and the viscosity at high temperature are different. It is a polysaccharide with the characteristic that the difference is large, and when metal oxide particles or polyvalent metal compounds are added, the metal oxide particles or polyvalent metals react with the metal oxide particles or polyvalent metal compounds at low temperatures. It forms a hydrogen bond or ionic bond with the compound, causing an increase in viscosity or gelation. The increase in viscosity is preferably 1.0 mPa · s or more at 15 ° C. compared to the viscosity at 15 ° C. before the addition of the metal oxide particles or the polyvalent metal compound. The viscosity increase width is more preferably 5.0 mPa · s or more, and further preferably 10.0 mPa · s or more.

本発明に適用可能な増粘多糖類のさらに具体的な例としては、例えば、ペクチン、ガラクタン(例えば、アガロース、アガロペクチン等)、ガラクトマンノグリカン(例えば、ローカストビーンガム、グアラン等)、キシログルカン(例えば、タマリンドガム、タマリンドシードガム等)、グルコマンノグリカン(例えば、蒟蒻マンナン、木材由来グルコマンナン、キサンタンガム等)、ガラクトグルコマンノグリカン(例えば、針葉樹材由来グリカン)、アラビノガラクトグリカン(例えば、大豆由来グリカン、微生物由来グリカン等)、グルコラムノグリカン(例えば、ゲランガム等)、グリコサミノグリカン(例えば、ヒアルロン酸、ケラタン硫酸等)、アルギン酸およびアルギン酸塩、寒天、κ−カラギーナン、λ−カラギーナン、ι−カラギーナン、ファーセレラン等の紅藻類に由来する天然高分子多糖類、カルボキシメチルセルロース(セルロースカルボキシメチルエーテル)、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のセルロース類が挙げられる。塗布液中に共存しうる金属酸化物粒子の分散安定性を低下させないという観点から、その構成単位がカルボン酸基やスルホン酸基を有しないものが好ましい。その様な多糖類としては、例えば、L−アラビトース、D−リボース、2−デオキシリボース、D−キシロースなどのペントース、D−グルコース、D−フルクトース、D−マンノース、D−ガラクトースなどのヘキソースのみからなる多糖類であることが好ましい。具体的には、主鎖がグルコースであり、側鎖もグルコースであるキシログルカンとして知られるタマリンドシードガムや、主鎖がマンノースで側鎖がグルコースであるガラクトマンナンとして知られるグアーガム、カチオン化グアーガム、ヒドロキシプロピルグアーガム、ローカストビーンガム、タラガムや、主鎖がガラクトースで側鎖がアラビノースであるアラビノガラクタンを好ましく使用することができる。   More specific examples of thickening polysaccharides applicable to the present invention include, for example, pectin, galactan (eg, agarose, agaropectin, etc.), galactomannoglycan (eg, locust bean gum, guaran, etc.), xyloglucan, etc. (Eg, tamarind gum, tamarind seed gum, etc.), glucomannoglycan (eg, salmon mannan, wood-derived glucomannan, xanthan gum, etc.), galactoglucomannoglycan (eg, softwood-derived glycan), arabinogalactoglycan ( For example, soybean-derived glycans, microbial-derived glycans, etc.), glucoraminoglycans (eg, gellan gum, etc.), glycosaminoglycans (eg, hyaluronic acid, keratan sulfate, etc.), alginic acid and alginate, agar, κ-carrageenan, λ -Carrageenan, ι Carrageenan, natural polymer polysaccharides, carboxymethylcellulose derived from red algae such as furcellaran (cellulose carboxymethyl ether), carboxymethyl cellulose, methyl cellulose, hydroxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, celluloses such as hydroxypropyl cellulose can be mentioned. From the viewpoint of not reducing the dispersion stability of the metal oxide particles that can coexist in the coating solution, those in which the structural unit does not have a carboxylic acid group or a sulfonic acid group are preferable. Such polysaccharides include, for example, pentoses such as L-arabitose, D-ribose, 2-deoxyribose and D-xylose, and hexoses such as D-glucose, D-fructose, D-mannose and D-galactose only. It is preferable that it is a polysaccharide. Specifically, tamarind seed gum known as xyloglucan whose main chain is glucose and side chain is glucose, guar gum known as galactomannan whose main chain is mannose and side chain is glucose, cationized guar gum, Hydroxypropyl guar gum, locust bean gum, tara gum, and arabinogalactan whose main chain is galactose and whose side chain is arabinose can be preferably used.

上述の高分子は単独で用いてもよいし、2種類以上を混合して用いてもよい。   The above polymers may be used alone or in combination of two or more.

また、高分子の質量平均分子量は特に制限はないが、5000〜1000000を好ましく用いる事ができる。なお、本明細書において、質量平均分子量とは、TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxLまたはTSKgel G2000HxL(東ソー株式会社製)のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトフラフィ(GPC)分析装置(溶媒:テトラヒドロフラン(THF))により、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量を意味する。   The mass average molecular weight of the polymer is not particularly limited, but 5000 to 1000000 can be preferably used. In the present specification, the mass average molecular weight is a gel permeation chromatography (GPC) analyzer (solvent: tetrahydrofuran (THF)) using a column of TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL or TSKgel G2000HxL (manufactured by Tosoh Corporation). ) Means the molecular weight expressed in terms of polystyrene by differential refractometer detection.

また、塗布液中の高分子の濃度は、高分子の種類に応じて適宜変更することができるが、0.01〜20質量%であることが好ましく、0.1〜10質量%であることがより好ましく、3〜9.5質量%であることがさらに好ましい。高分子の濃度が上記範囲にあると、塗布液が一定の粘性を有し成膜に有利となりうることから好ましい。なお、気泡の除去の効率を考えると濃度が低い方が好ましい。   Moreover, although the density | concentration of the polymer in a coating liquid can be changed suitably according to the kind of polymer, it is preferable that it is 0.01-20 mass%, and it is 0.1-10 mass%. Is more preferable, and it is further more preferable that it is 3-9.5 mass%. It is preferable for the concentration of the polymer to be in the above range since the coating solution has a certain viscosity and can be advantageous for film formation. In view of the efficiency of removing bubbles, a lower concentration is preferable.

(溶媒)
本発明で用いられうる溶媒は、特に制限されないが、水、有機溶媒、またはその混合溶媒等が挙げられる。
(solvent)
The solvent that can be used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include water, an organic solvent, or a mixed solvent thereof.

前記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−ブタノールなどのアルコール類;酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類;ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類;ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド類;アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもまたは2種以上を混合して用いてもよい。環境面、操作の簡便性などから、塗布液の溶媒としては、水、または水とメタノール、エタノール、もしくは酢酸エチルとの混合溶媒を用いることが好ましく、水を用いることがより好ましい。   Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol, and 1-butanol; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and propylene glycol monoethyl ether acetate; diethyl ether; Examples thereof include ethers such as propylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; amides such as dimethylformamide and N-methylpyrrolidone; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, acetylacetone and cyclohexanone. These organic solvents may be used alone or in admixture of two or more. From the viewpoint of environment and simplicity of operation, the solvent of the coating solution is preferably water or a mixed solvent of water and methanol, ethanol, or ethyl acetate, and more preferably water.

(架橋剤)
架橋剤は、高分子を硬化させる機能を有する。硬化によって、屈折率層に耐水性が付与されうる。
(Crosslinking agent)
The crosslinking agent has a function of curing the polymer. By curing, water resistance can be imparted to the refractive index layer.

用いられうる架橋剤としては、高分子と硬化反応を起こすものであれば特に制限されない。例えば、高分子が未変性ポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールである場合には、ホウ酸およびその塩(ホウ素原子を中心原子とする酸素酸およびその塩)、具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸、および八ホウ酸またはそれらの塩を用いることが好ましい。ホウ酸およびその塩は、単独の水溶液でも、また、2種以上を混合して使用してもよく、ホウ酸およびホウ砂の混合水溶液を用いることが特に好ましい。他にも公知の化合物を使用することができ、一般的には高分子と反応しうる基を有する化合物、または樹脂が有する異なる基同士の反応を促進するような化合物であり、樹脂の種類に応じて適宜選択して用いられる。架橋剤の具体例としては、例えば、ジグリシジルエチルエ−テル、エチレングリコ−ルジグリシジルエーテル、1,4一ブタンジオ−ルジグリシジルエーテル、1,6−ジグリシジルシクロヘキサン、N,N−ジグリシジル−4−グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロ−ルポリグリシジルエーテル等のエポキシ系架橋剤;ホルムアルデヒド、グリオキザ−ル等のアルデヒド系架橋剤;2,4−ジクロロ−4−ヒドロキシ−1,3,5−S−トリアジン等の活性ハロゲン系架橋剤;1.3.5−トリス−アクリロイル−ヘキサヒドロ−S−トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等の活性ビニル系化合物;アルミニウム明礬等が挙げられる。   The crosslinking agent that can be used is not particularly limited as long as it causes a curing reaction with a polymer. For example, when the polymer is unmodified polyvinyl alcohol or modified polyvinyl alcohol, boric acid and its salt (oxygen acid and its salt centered on a boron atom), specifically, orthoboric acid and diboric acid , Metaboric acid, tetraboric acid, pentaboric acid, and octaboric acid or salts thereof are preferably used. Boric acid and its salt may be used alone or in admixture of two or more, and it is particularly preferable to use a mixed aqueous solution of boric acid and borax. Other known compounds can also be used, and are generally compounds having a group capable of reacting with a polymer, or compounds that promote the reaction between different groups of a resin. It is appropriately selected and used accordingly. Specific examples of the crosslinking agent include, for example, diglycidyl ethyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, 1,4-dibutanediol diglycidyl ether, 1,6-diglycidyl cyclohexane, N, N-diglycidyl-4- Epoxy crosslinking agents such as glycidyloxyaniline, sorbitol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether; aldehyde crosslinking agents such as formaldehyde and glycoxal; 2,4-dichloro-4-hydroxy-1,3,5- Active halogen-based crosslinking agents such as S-triazine; 1.3.5-tris-acryloyl-hexahydro-S-triazine, active vinyl-based compounds such as bisvinylsulfonylmethyl ether; aluminum alum and the like.

また、樹脂としてゼラチンを用いる場合は、架橋剤として、例えば、ビニルスルホン化合物、尿素−ホルマリン縮合物、メラニン−ホルマリン縮合物、エポキシ系化合物、アジリジン系化合物、活性オレフィン類、イソシアネート系化合物などの有機硬膜剤、クロム、アルミニウム、ジルコニウムなどの無機多価金属塩類などを用いるとよい。   When gelatin is used as the resin, examples of the crosslinking agent include organic compounds such as vinylsulfone compounds, urea-formalin condensates, melanin-formalin condensates, epoxy compounds, aziridine compounds, active olefins, and isocyanate compounds. Hardeners, inorganic polyvalent metal salts such as chromium, aluminum and zirconium may be used.

塗布液中の架橋剤の濃度は、0.001〜20質量%であることが好ましく、0.01〜10質量%であることがより好ましい。架橋剤が上記範囲にあると、塗布液が一定の曳糸性や粘性を有し成膜に有利となり、また、形成される屈折率層が好適な耐水性を有しうることから好ましい。   The concentration of the crosslinking agent in the coating solution is preferably 0.001 to 20% by mass, and more preferably 0.01 to 10% by mass. When the crosslinking agent is in the above range, the coating solution has a certain spinnability and viscosity, which is advantageous for film formation, and the formed refractive index layer can have suitable water resistance.

(金属酸化物粒子)
用いられうる金属酸化物粒子としては、特に制限されないが、酸化チタン(TiO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化ジルコニウム(ZrO)、酸化ニオブ(Nb)、酸化アルミニウム(Al)、酸化ケイ素(SiO)、フッ化カルシウム(CaF)、フッ化マグネシウム(MgF)、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化アンチモンスズ(ATO)等が挙げられる。これらのうち、高屈折率層用塗布液には酸化チタン(TiO)を、低屈折率層用塗布液には酸化ケイ素(SiO)を、それぞれ用いることが好ましい。
(Metal oxide particles)
The metal oxide particles which can be used is not particularly limited, titanium oxide (TiO 2), zinc oxide (ZnO), zirconium oxide (ZrO 2), niobium oxide (Nb 2 O 5), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), silicon oxide (SiO 2 ), calcium fluoride (CaF 2 ), magnesium fluoride (MgF 2 ), indium tin oxide (ITO), antimony tin oxide (ATO), and the like. Of these, titanium oxide (TiO 2 ) is preferably used for the high refractive index layer coating solution, and silicon oxide (SiO 2 ) is preferably used for the low refractive index layer coating solution.

前記酸化チタン(TiO)としては、特に屈折率が高く、触媒活性が低いルチル型の酸化チタンを用いることが好ましい。なお、触媒活性が低いと、屈折率層や隣接する層で生じる副反応(光触媒反応)が抑制されて耐候性が高くなりうる。 As the titanium oxide (TiO 2 ), it is particularly preferable to use a rutile type titanium oxide having a high refractive index and low catalytic activity. If the catalytic activity is low, side reactions (photocatalytic reactions) that occur in the refractive index layer and adjacent layers can be suppressed, and the weather resistance can be increased.

また、前記酸化チタンは、pHが1.0〜3.0かつチタン粒子のゼータ電位が正である水系の酸化チタンゾルの表面を疎水化して有機溶剤に分散可能な状態にしたものを用いることが好ましい。前記水系の酸化チタンゾルの調製方法としては、たとえば、特開昭63−17221号公報、特開平7−819号公報、特開平9−165218号公報、特開平11−43327号公報、特開昭63−17221号公報、特開平7−819号公報、特開平9−165218号公報、特開平11−43327号公報等に記載された事項を参照することができる。   In addition, the titanium oxide should be prepared by hydrophobizing the surface of an aqueous titanium oxide sol having a pH of 1.0 to 3.0 and a positive zeta potential of titanium particles so that the surface can be dispersed in an organic solvent. preferable. Examples of the method for preparing the aqueous titanium oxide sol include Japanese Patent Laid-Open Nos. 63-17221, 7-819, 9-165218, 11-43327, and 63. Reference can be made to the matters described in JP-A-17221, JP-A-7-819, JP-A-9-165218, JP-A-11-43327, and the like.

また、酸化チタン粒子のその他の製造方法については、たとえば、「酸化チタン−物性と応用技術」(清野学 p255〜258(2000年)技報堂出版株式会社)に記載の方法、またはWO2007/039953号明細書の段落「0011」〜「0023」に記載の工程(2)の方法を参考にすることができる。この工程(2)による製造方法とは、二酸化チタン水和物をアルカリ金属の水酸化物およびアルカリ土類金属の水酸化物からなる群から選択される少なくとも1種の塩基性化合物で処理する工程(1)で得られた二酸化チタン分散物を、カルボン酸基含有化合物および無機酸で処理するものである。本発明では、工程(2)における無機酸によりpHが1.0〜3.0に調整された酸化チタンの水系ゾルを用いることができる。   As for other production methods of titanium oxide particles, for example, the method described in “Titanium oxide—physical properties and applied technology” (Kagino Seino p255-258 (2000) Gihodo Publishing Co., Ltd.), or WO2007 / 039953 The method of the step (2) described in paragraphs “0011” to “0023” of the book can be referred to. The production method according to this step (2) is a step of treating titanium dioxide hydrate with at least one basic compound selected from the group consisting of alkali metal hydroxides and alkaline earth metal hydroxides. The titanium dioxide dispersion obtained in (1) is treated with a carboxylic acid group-containing compound and an inorganic acid. In the present invention, an aqueous sol of titanium oxide having a pH adjusted to 1.0 to 3.0 with an inorganic acid in step (2) can be used.

前記酸化ケイ素(SiO)としては、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等が挙げられる。これらのうち、酸性のコロイダルシリカゾルを用いることがより好ましく、水および/または有機溶媒に分散させたコロイダルシリカゾルを用いることがさらに好ましい。上記のコロイダルシリカは、ケイ酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られうる。かようなコロイダルシリカは、例えば、特開昭57−14091号公報、特開昭60−219083号公報、特開昭60−219084号公報、特開昭61−20792号公報、特開昭61−188183号公報、特開昭63−17807号公報、特開平4−93284号公報、特開平5−278324号公報、特開平6−92011号公報、特開平6−183134号公報、特開平6−297830号公報、特開平7−81214号公報、特開平7−101142号公報、特開平7−179029号公報、特開平7−137431号公報、および国際公開第94/26530号パンフレット等に記載されている。また、コロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。 Examples of the silicon oxide (SiO 2 ) include synthetic amorphous silica and colloidal silica. Among these, it is more preferable to use an acidic colloidal silica sol, and it is more preferable to use a colloidal silica sol dispersed in water and / or an organic solvent. The colloidal silica can be obtained by heating and aging a silica sol obtained by metathesis with an acid of sodium silicate or the like and passing through an ion exchange resin layer. Such colloidal silicas are disclosed in, for example, JP-A-57-14091, JP-A-60-219083, JP-A-60-219084, JP-A-61-20792, JP-A-61- No. 188183, JP-A-63-17807, JP-A-4-93284, JP-A-5-278324, JP-A-6-92011, JP-A-6-183134, JP-A-6-297830 No. 7, JP-A-7-81214, JP-A-7-101142, JP-A-7-179029, JP-A-7-137431, International Publication No. 94/26530, etc. . Colloidal silica may be a synthetic product or a commercially available product.

上記金属酸化物粒子は、単独で用いても、2種以上を混合して用いてもよい。   The metal oxide particles may be used alone or in combination of two or more.

金属酸化物粒子の平均粒径は、2〜100nmであることが好ましく、3〜50nmであることがより好ましく、4〜30nmであることがさらに好ましい。当該金属酸化物粒子の平均粒径は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、1000個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値(個数平均)として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。   The average particle size of the metal oxide particles is preferably 2 to 100 nm, more preferably 3 to 50 nm, and further preferably 4 to 30 nm. The average particle size of the metal oxide particles is determined by observing the particles themselves or the particles appearing on the cross section or surface of the refractive index layer with an electron microscope, measuring the particle size of 1000 arbitrary particles, and calculating the simple average value ( (Number average). Here, the particle diameter of each particle is represented by a diameter assuming a circle equal to the projected area.

塗布液中の金属酸化物粒子の濃度は、屈折率層の固形分100質量%に対して、20〜70質量%であることが好ましく、30〜70質量%であることがより好ましい。金属酸化物粒子の含有量が20質量%以上であると、所望の屈折率が得られることから好ましい。また、金属酸化物粒子の含有量が70質量%以下であると、膜の柔軟性を得ることができ、製膜が容易となることから好ましい。   The concentration of the metal oxide particles in the coating solution is preferably 20 to 70% by mass and more preferably 30 to 70% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the refractive index layer. It is preferable that the content of the metal oxide particles is 20% by mass or more because a desired refractive index can be obtained. Further, it is preferable that the content of the metal oxide particles is 70% by mass or less because flexibility of the film can be obtained and film formation becomes easy.

また、屈折率の異なる屈折率層(例えば、高屈折率層と低屈折率層)がいずれも金属酸化物粒子を含む場合には、アニオン化処理またはカチオン化処理を行い、金属酸化物粒子が同一のイオン性(電荷)を有することが好ましい。アニオン化処理またはカチオン化処理を行うことによって、2種の金属酸化物粒子との間に斥力が生じ、これによって、例えば、重層塗布して屈折率層を形成する際に層界面での凝集等が起こりにくくなりうる。   In addition, when both refractive index layers having different refractive indexes (for example, a high refractive index layer and a low refractive index layer) include metal oxide particles, anionization treatment or cationization treatment is performed, and the metal oxide particles It is preferable to have the same ionicity (charge). By performing anionization treatment or cationization treatment, a repulsive force is generated between the two types of metal oxide particles. For example, when a refractive index layer is formed by multilayer coating, aggregation at the layer interface, etc. Can be difficult to occur.

金属酸化物粒子のアニオン化処理として、例えば、酸化チタンのアニオン処理を例示すると、当該酸化チタン粒子は、含ケイ素の水和酸化物で被覆することによりアニオン化することができる。含ケイ素の水和化合物の被覆量は、通常、3〜30質量%であり、好ましくは3〜10質量%であり、より好ましくは3〜8質量%である。被覆量が30質量%以下であると高屈折率層の所望の屈折率化が得られることから好ましく、被覆量が3%以上であると粒子を安定に形成することができることから好ましい。   As an anionization treatment of metal oxide particles, for example, anion treatment of titanium oxide is exemplified, and the titanium oxide particles can be anionized by coating with a silicon-containing hydrated oxide. The coating amount of the silicon-containing hydrated compound is usually 3 to 30% by mass, preferably 3 to 10% by mass, and more preferably 3 to 8% by mass. When the coating amount is 30% by mass or less, a desired refractive index of the high refractive index layer can be obtained, and when the coating amount is 3% or more, particles can be stably formed.

金属酸化物粒子のカチオン化処理は、例えば、カチオン性化合物を用いることにより行うことができる。前記カチオン性化合物の例としては、カチオン性ポリマー、多価金属塩等が挙げられるが、吸着力・透明性の観点から多価金属塩が好ましい。多価金属塩としては、アルミニウム、カルシウム、マグネシウム、亜鉛、鉄、ストロンチウム、バリウム、ニッケル、銅、スカンジウム、ガリウム、インジウム、チタン、ジルコニウム、スズ、鉛等の金属の塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩、ギ酸塩、コハク酸塩、マロン酸塩、クロロ酢酸塩等が挙げられる。これらのうち、水溶性アルミニウム化合物、水溶性カルシウム化合物、水溶性マグネシウム化合物、水溶性亜鉛化合物、水溶性ジルコニウム化合物を用いることが好ましく、水溶性アルミニウム化合物、水溶性ジルコニウム化合物を用いることがより好ましい。前記水溶性アルミニウム化合物の具体例としては、ポリ塩化アルミニウム(塩基性塩化アルミニウム)、硫酸アルミニウム、塩基性硫酸アルミニウム、硫酸アルミニウムカリウム(ミョウバン)、硫酸アンモニウムアルミニウム(アンモニウムミョウバン)、硫酸ナトリウムアルミニウム、硝酸アルミニウム、リン酸アルミニウム、炭酸アルミニウム、ポリ硫酸ケイ酸アルミニウム、酢酸アルミニウム、塩基性乳酸アルミニウム等が挙げられる。当該カチオン性化合物の被覆量は、金属酸化物粒子の形状や粒径等によって異なるが、金属酸化物粒子に対しては1質量%〜15質量%であることが好ましい。   The cationization treatment of the metal oxide particles can be performed by using, for example, a cationic compound. Examples of the cationic compound include a cationic polymer and a polyvalent metal salt, and a polyvalent metal salt is preferred from the viewpoint of adsorption power and transparency. Examples of polyvalent metal salts include aluminum, calcium, magnesium, zinc, iron, strontium, barium, nickel, copper, scandium, gallium, indium, titanium, zirconium, tin, lead, and other metal hydrochlorides, sulfates, nitrates, Examples include acetate, formate, succinate, malonate, chloroacetate and the like. Of these, water-soluble aluminum compounds, water-soluble calcium compounds, water-soluble magnesium compounds, water-soluble zinc compounds, and water-soluble zirconium compounds are preferably used, and water-soluble aluminum compounds and water-soluble zirconium compounds are more preferably used. Specific examples of the water-soluble aluminum compound include polyaluminum chloride (basic aluminum chloride), aluminum sulfate, basic aluminum sulfate, aluminum potassium sulfate (alum), ammonium aluminum sulfate (ammonium alum), sodium aluminum sulfate, aluminum nitrate, Examples thereof include aluminum phosphate, aluminum carbonate, polysulfuric acid aluminum silicate, aluminum acetate, and basic aluminum lactate. The coating amount of the cationic compound varies depending on the shape and particle size of the metal oxide particles, but is preferably 1% by mass to 15% by mass with respect to the metal oxide particles.

(エマルジョン樹脂)
エマルジョン樹脂は、通常、塗布液に分散されたポリマーである。エマルジョン樹脂は、油溶性のモノマーを、高分子分散剤等を用いてエマルジョン重合して得られる。
(Emulsion resin)
The emulsion resin is usually a polymer dispersed in a coating solution. The emulsion resin is obtained by emulsion polymerization of an oil-soluble monomer using a polymer dispersant or the like.

用いられうる油溶性のモノマーは、特に制限されないが、エチレン、プロピレン、ブタジエン、酢酸ビニルおよびその部分加水分解物、ビニルエーテル、アクリル酸およびそのエステル類、メタクリル酸およびそのエステル類、アクリルアミドおよびその誘導体、メタクリルアミドおよびその誘導体、スチレン、ジビニルベンゼン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、マレイン酸、ビニルピロリドンなどが挙げられる。これらのうち、透明性と粒径の観点から、アクリル酸およびそのエステル類、酢酸ビニル系を用いることが好ましい。   Oil-soluble monomers that can be used are not particularly limited, but ethylene, propylene, butadiene, vinyl acetate and its partial hydrolyzate, vinyl ether, acrylic acid and its esters, methacrylic acid and its esters, acrylamide and its derivatives, Examples thereof include methacrylamide and derivatives thereof, styrene, divinylbenzene, vinyl chloride, vinylidene chloride, maleic acid, vinyl pyrrolidone and the like. Of these, acrylic acid, its esters, and vinyl acetate are preferably used from the viewpoint of transparency and particle size.

アクリル酸および/またはそのエステル類、酢酸ビニル系エマルジョンとしては、市販されているものを用いてもよく、例えば、アクリットUW−309、UW−319SX、UW−520(大成ファインケミカル株式会社製)、およびモビニール(日本合成化学工業株式会社製)等が挙げられる。   As acrylic acid and / or its esters and vinyl acetate emulsion, commercially available ones may be used, for example, Acryt UW-309, UW-319SX, UW-520 (manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.), and Mobile vinyl (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) and the like.

また、用いられうる分散剤は、特に制限されないが、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、ジエチルアミン、エチレンジアミン、第4級アンモニウム塩のような低分子の分散剤の他に、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエキシエチレンラウリル酸エーテル、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビニルピロリドンのような高分子分散剤が挙げられる。   Further, the dispersant that can be used is not particularly limited, but in addition to a low-molecular dispersant such as alkyl sulfonate, alkylbenzene sulfonate, diethylamine, ethylenediamine, and quaternary ammonium salt, polyoxyethylene nonylphenyl is used. Examples thereof include polymer dispersants such as ether, polyethylene ethylene laurate, hydroxyethyl cellulose, and polyvinyl pyrrolidone.

上述したエマルジョンは、柔軟性を高める観点から、ガラス転移温度(Tg)が20℃以下であることが好ましく、−30〜10℃であることがより好ましい。   The emulsion described above preferably has a glass transition temperature (Tg) of 20 ° C. or lower, more preferably −30 to 10 ° C., from the viewpoint of enhancing flexibility.

(その他の添加剤)
本発明の好ましい形態として、光学フィルムに用いられうる屈折率層に適用可能なその他の添加剤を、以下に列挙する。例えば、特開昭57−74193号公報、特開昭57−87988号公報、および特開昭62−261476号公報に記載の紫外線吸収剤、アニオン、カチオン、またはノニオンの各種界面活性剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のpH調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、防黴剤、帯電防止剤、マット剤、酸化防止剤、難燃剤、赤外線吸収剤、色素、顔料等の公知の各種添加剤などが挙げられる。
(Other additives)
As a preferable embodiment of the present invention, other additives applicable to the refractive index layer that can be used in the optical film are listed below. For example, various surfactants such as ultraviolet absorbers, anions, cations, or nonions described in JP-A-57-74193, JP-A-57-87988, and JP-A-62-261476, sulfuric acid, PH adjusters such as phosphoric acid, acetic acid, citric acid, sodium hydroxide, potassium hydroxide and potassium carbonate, antifoaming agents, lubricants such as diethylene glycol, preservatives, antifungal agents, antistatic agents, matting agents, antioxidants And various known additives such as additives, flame retardants, infrared absorbers, dyes and pigments.

本発明においては、上記の塗布液送液システムを用いて製造された塗布液を基材上に塗布する工程と、前記基材上の塗布液を乾燥させる工程と、を有する光学フィルムの製造方法が提供される。以下に、詳細に説明する。   In this invention, the manufacturing method of the optical film which has the process of apply | coating the coating liquid manufactured using said coating liquid feeding system on a base material, and the process of drying the coating liquid on the said base material Is provided. This will be described in detail below.

[塗布液の調製]
塗布液の調製方法は、特に制限されず、例えば、高分子、および必要に応じて架橋剤、金属酸化物粒子等の添加剤を溶媒に添加し、撹拌混合する方法が挙げられる。この際、各成分の添加順も特に制限されず、撹拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、撹拌しながら一度に添加し混合してもよい。
[Preparation of coating solution]
The method for preparing the coating solution is not particularly limited, and examples thereof include a method in which a polymer and, if necessary, an additive such as a crosslinking agent and metal oxide particles are added to a solvent and mixed by stirring. At this time, the order of addition of the respective components is not particularly limited, and the respective components may be sequentially added and mixed while stirring, or may be added and mixed at one time while stirring.

[基材]
本発明の光学フィルムに適用する基材としては、特に制限されることはなく、公知の樹脂フィルムを用いることができる。具体的には、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン(PS)、ポリアリレート、ポリメタクリル酸メチル、ポリアミド、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、芳香族ポリアミド、ポリエーテルイミド等が挙げられる。これらのうち、コストや入手の容易性の観点から、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリカーボネート(PC)等を用いることが好ましい。
[Base material]
The substrate applied to the optical film of the present invention is not particularly limited, and a known resin film can be used. Specifically, polyethylene (PE), polypropylene (PP), polystyrene (PS), polyarylate, polymethyl methacrylate, polyamide, polycarbonate (PC), polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene naphthalate. Examples include phthalate (PEN), polysulfone, polyethersulfone, polyetheretherketone, polyimide, aromatic polyamide, and polyetherimide. Of these, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate (PC), and the like are preferably used from the viewpoints of cost and availability.

また、上記樹脂フィルムを用いた基材は、未延伸フィルムであっても、延伸フィルムであってもよいが、PETやPENのような結晶性を有する樹脂フィルムの場合には、強度の向上、熱膨張抑制の観点から延伸後、熱固定化されるフィルムであることが好ましい。   The substrate using the resin film may be an unstretched film or a stretched film, but in the case of a resin film having crystallinity such as PET or PEN, the strength is improved. From the viewpoint of suppressing thermal expansion, a film that is heat-set after stretching is preferred.

上記樹脂フィルムを用いた基材は、従来公知の一般的な方法により製造することができる。例えば、材料となる樹脂を押し出し機により溶融し、環状ダイやTダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸フィルムを製造することができる。また、前記未延伸フィルムを一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、樹脂フィルムの流れ(縦軸)方向、および/または樹脂フィルムの流れ方向と直角(横軸)方向に延伸することにより延伸フィルムを製造することができる。この場合の延伸倍率は、基材の原料となる樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向および横軸方向にそれぞれ2〜10倍であることが好ましい。   The base material using the resin film can be produced by a conventionally known general method. For example, an unstretched film that is substantially amorphous and not oriented can be produced by melting a resin as a material with an extruder, extruding it with an annular die or a T-die, and quenching. Further, the unstretched film is subjected to a known method such as uniaxial stretching, tenter-type sequential biaxial stretching, tenter-type simultaneous biaxial stretching, tubular-type simultaneous biaxial stretching, and the resin film flow (vertical axis) direction, and / or Alternatively, a stretched film can be produced by stretching in the direction perpendicular to the flow direction of the resin film (horizontal axis). The draw ratio in this case can be appropriately selected according to the resin as the raw material of the substrate, but is preferably 2 to 10 times in the vertical axis direction and the horizontal axis direction, respectively.

本発明に係る基材の厚さは、5〜300μmであることが好ましく、15〜150μmであることがより好ましい。また、基材は、2枚以上を重ねたものであってもよく、この際、基材の種類は同じであっても、異なっていてもよい。   The thickness of the substrate according to the present invention is preferably 5 to 300 μm, and more preferably 15 to 150 μm. Moreover, the base material may be a laminate of two or more, and in this case, the type of the base material may be the same or different.

また、基材は、寸法安定性の観点から、弛緩処理およびオフライン熱処理を行ってもよい。弛緩処理は前記樹脂フィルムの延伸製膜工程中の熱固定した後、横延伸のテンター内、またはテンターを出た後の巻き取りまでの工程で行われることが好ましい。弛緩処理は処理温度が80〜200℃で行われることが好ましく、100〜180℃で行われることがより好ましい。また長手方向、幅手方向ともに、弛緩率が0.1〜10%に処理されることが好ましく、2〜6%に処理されることがより好ましい。弛緩処理された基材は、さらにオフライン熱処理を施すことにより耐熱性が向上し、より寸法安定性が向上しうる。   In addition, the base material may be subjected to relaxation treatment and off-line heat treatment from the viewpoint of dimensional stability. It is preferable that the relaxation treatment is performed in the process from the heat setting in the stretching process of the resin film to the winding in the transversely stretched tenter or after exiting the tenter. The relaxation treatment is preferably performed at a treatment temperature of 80 to 200 ° C, more preferably 100 to 180 ° C. Further, in both the longitudinal direction and the width direction, the relaxation rate is preferably processed to 0.1 to 10%, more preferably 2 to 6%. The relaxed base material is further subjected to off-line heat treatment to improve heat resistance and further improve dimensional stability.

前記基材は、製膜過程で片面または両面に、下引層を設けることが好ましい。当該下引層は、インラインでまたは製膜後に形成されうる。下引層の形成方法としては、例えば、下引層塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥する方法が挙げられる。下引層塗布液は、通常、樹脂を含む。当該樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル変性ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリエチレンイミンビニリデン樹脂、ポリスチレンブタジエン樹脂、ポリエチレンイミン樹脂、ポリビニルアルコール、およびゼラチン等が挙げられる。前記下引層塗布液には、さらに公知の添加剤を加えてもよい。下引層塗布液の塗布量は、乾燥状態で約0.01〜2g/mとなるように塗布することが好ましい。下引層塗布液の塗布方法としては、特に制限されないが、ロールコート法、グラビアコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法等の公知の方法が用いられうる。得られた塗膜は延伸させてもよく、通常、塗布液を塗布した後にテンター内で横延伸を行いながら80〜120℃で乾燥させることで、下引層が形成されうる。なお、下引層は、単層構造であっても、積層構造であってもよい。 The substrate is preferably provided with an undercoat layer on one side or both sides during the film forming process. The undercoat layer can be formed in-line or after film formation. Examples of the method for forming the undercoat layer include a method of applying an undercoat layer coating solution and drying the obtained coating film. The undercoat layer coating solution usually contains a resin. Examples of the resin include polyester resins, acrylic-modified polyester resins, polyurethane resins, acrylic resins, vinyl resins, vinylidene chloride resins, polyethyleneimine vinylidene resins, polystyrene butadiene resins, polyethyleneimine resins, polyvinyl alcohol, and gelatin. . A known additive may be further added to the undercoat layer coating solution. The coating amount of the undercoat layer coating solution is preferably applied so as to be about 0.01 to 2 g / m 2 in a dry state. The coating method of the undercoat layer coating solution is not particularly limited, and known methods such as a roll coating method, a gravure coating method, a knife coating method, a dip coating method, and a spray coating method can be used. The obtained coating film may be stretched. Usually, an undercoat layer can be formed by drying at 80 to 120 ° C. while performing lateral stretching in a tenter after coating a coating solution. The undercoat layer may have a single layer structure or a laminated structure.

本発明に係る基材は、さらに導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易接着層(接着層)、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、ハードコート層、耐摩耗性層、粘着層、中間膜層等の公知の機能層を有していてもよい。   The substrate according to the present invention further includes a conductive layer, an antistatic layer, a gas barrier layer, an easy adhesion layer (adhesion layer), an antifouling layer, a deodorant layer, a droplet layer, an easy slip layer, a hard coat layer, and wear resistance. May have a known functional layer such as an adhesive layer, an adhesive layer, and an interlayer film layer.

基材が、上述の下引層や機能層等の中間層を有する場合には、基材および中間層の総膜厚は、5〜500μmであることが好ましく、25〜250μmであることがより好ましい。   When a base material has intermediate layers, such as the above-mentioned undercoat layer and a functional layer, it is preferable that the total film thickness of a base material and an intermediate layer is 5-500 micrometers, and it is more preferable that it is 25-250 micrometers. preferable.

[塗布]
塗布装置において、上記基材に所定の温度、所定の速度で塗布液を塗布して塗膜を形成する。
[Application]
In the coating apparatus, the coating liquid is applied to the substrate at a predetermined temperature and a predetermined speed to form a coating film.

塗布液の塗布方式としては、特に制限されず、例えば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、カーテン塗布方法、あるいは米国特許第2,761,419号明細書、米国特許第2,761,791号明細書に記載のホッパーを使用するスライドビード塗布方法、エクストルージョンコート法等が好ましく用いられる。   The coating method of the coating liquid is not particularly limited, and for example, roll coating method, rod bar coating method, air knife coating method, spray coating method, curtain coating method, or US Pat. No. 2,761,419, US The slide bead coating method using the hopper described in Japanese Patent No. 2,761,791 and the extrusion coating method are preferably used.

前記塗布方式がスライドビード塗布方式を用いた同時重層塗布である場合には、塗布液の粘度は1〜2000mPa・sであることが好ましく、1〜1000mPa・sであることがより好ましい。   When the coating method is simultaneous multi-layer coating using a slide bead coating method, the viscosity of the coating solution is preferably 1 to 2000 mPa · s, and more preferably 1 to 1000 mPa · s.

塗布温度は、20〜60℃であることが好ましい。塗布温度が60℃以下であると、塗布液を高温に保つための設備が比較的簡素化でき、コストを抑えることができることから好ましい。一方、塗布温度が20℃以上であると、塗布液を冷却するための設備が不要となり、コストを抑えることができ、また、作業の安全性が向上しうることから好ましい。   The coating temperature is preferably 20 to 60 ° C. A coating temperature of 60 ° C. or lower is preferable because facilities for keeping the coating solution at a high temperature can be relatively simplified and costs can be reduced. On the other hand, it is preferable that the coating temperature is 20 ° C. or higher because a facility for cooling the coating solution becomes unnecessary, the cost can be suppressed, and the safety of the work can be improved.

塗布速度は、1m/min以上であることが好ましく、1〜500m/minであることがより好ましい。塗布速度が1m/min以上であると、高い生産性が得られることから好ましい。   The coating speed is preferably 1 m / min or more, and more preferably 1 to 500 m / min. A coating speed of 1 m / min or more is preferable because high productivity can be obtained.

[乾燥]
乾燥装置において、塗膜を乾燥させることにより、屈折率層が形成されうる。
[Dry]
In the drying apparatus, the refractive index layer can be formed by drying the coating film.

乾燥の方法としては、特に制限されず、公知の方法で行われうる。乾燥方法の例としては、自然乾燥、加熱乾燥、熱風を当てる方法、冷風を当てる方法等が挙げられる。迅速に乾燥を行う観点から、加熱乾燥により乾燥を行うことが好ましい。この際、加熱温度としては、形成された塗膜の組成等によっても異なるが、15〜120℃であることが好ましく、20〜90℃であることがより好ましい。   The drying method is not particularly limited, and may be performed by a known method. Examples of the drying method include natural drying, heat drying, a method of applying hot air, a method of applying cold air, and the like. From the viewpoint of rapid drying, it is preferable to perform drying by heat drying. At this time, the heating temperature varies depending on the composition of the formed coating film and the like, but is preferably 15 to 120 ° C, more preferably 20 to 90 ° C.

[冷却]
光学フィルムの製造において、基材上に生成された塗膜を、乾燥前に一度冷却してもよい。冷却することにより、屈折率層の表面(積層されている場合には界面)がより均一となりうる。
[cooling]
In the production of the optical film, the coating film formed on the substrate may be cooled once before drying. By cooling, the surface of the refractive index layer (the interface when stacked) can be made more uniform.

塗布直後の塗膜は粘度が低いため、例えば、塗布直後の塗膜に熱風を当てて乾燥させる場合には、得られる屈折率層の表面は熱風によって膜厚のバラツキが生じうる。また、重層塗布を行った場合には、層間において塗膜成分が移動し、得られる屈折率層間の境界が光学性能に悪影響を与えるほど曖昧となりうる。しかし、得られた塗膜を一度冷却すると、塗膜の粘性が急激に上昇して塗膜が安定化しうる。その結果、熱風等の乾燥による膜厚のバラツキの発生、層間の塗膜成分の移動を抑制しうる。ただし、層間の塗布成分の移動によって、赤外遮蔽フィルムの性能が異なる場合もありうることから、冷却を行うか否かは、赤外遮蔽フィルムの所望の性能に応じて適宜決定されうる。   Since the coating film immediately after application has a low viscosity, for example, when hot air is applied to the coating film immediately after application and dried, the surface of the obtained refractive index layer may vary in film thickness due to the hot air. In addition, when the multilayer coating is performed, the coating film component moves between the layers, and the boundary between the obtained refractive index layers may be so vague that it adversely affects the optical performance. However, once the obtained coating film is cooled, the viscosity of the coating film increases rapidly, and the coating film can be stabilized. As a result, it is possible to suppress the occurrence of film thickness variation due to drying of hot air or the like, and the movement of coating film components between layers. However, since the performance of the infrared shielding film may be different depending on the movement of the coating component between layers, whether or not to perform cooling can be appropriately determined according to the desired performance of the infrared shielding film.

冷却を行う場合には、塗膜の冷却によって粘性が上昇しやすい高分子を塗布液の成分とすることが好ましい。上述のように、粘性は、塗布液中の高分子の分子間および分子内の末端基による結合、架橋剤における結合、分子どうしの絡み合い等によって生じうる。よって、塗布液の成分として、官能基を多数有している高分子、分子量が大きい高分子を使用し、架橋剤を含むことが好ましい。   In the case of cooling, it is preferable to use a polymer whose viscosity is easily increased by cooling the coating film as a component of the coating solution. As described above, the viscosity can be generated by bonding between end groups of the polymer in the coating liquid and within the molecule, bonding in the cross-linking agent, entanglement between molecules, and the like. Therefore, it is preferable to use a polymer having a large number of functional groups or a polymer having a large molecular weight as a component of the coating solution and including a crosslinking agent.

冷却温度は、用いる塗布液によっても異なるが、−20〜20℃であることが好ましく、−5〜10℃であることがより好ましい。   Although cooling temperature changes also with the coating liquid to be used, it is preferable that it is -20-20 degreeC, and it is more preferable that it is -5-10 degreeC.

<用途>
上記で得られた赤外遮蔽フィルムは、幅広い分野に応用することができる。例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備に貼り合せ、赤外遮蔽効果を付与する赤外遮蔽フィルム等の窓貼用フィルム、農業用ビニールハウス用フィルム等として、主として耐候性を高める目的で用いられる。
<Application>
The infrared shielding film obtained above can be applied to a wide range of fields. For example, pasting to facilities exposed to sunlight for a long time, such as outdoor windows of buildings and automobile windows, films for window pasting such as infrared shielding films that give an infrared shielding effect, films for agricultural greenhouses, etc. As, it is mainly used for the purpose of improving the weather resistance.

特に、本発明に係る赤外遮蔽フィルムが直接または接着剤を介してガラスまたはガラス代替の樹脂などの基体に貼合されている部材には、赤外遮蔽フィルムは好適に適用されうる。   In particular, the infrared shielding film can be suitably applied to a member in which the infrared shielding film according to the present invention is bonded to a substrate such as glass or a glass substitute resin directly or via an adhesive.

すなわち、本発明のさらに他の形態によれば、上記赤外遮蔽フィルムを、基体の少なくとも一方の面に設けた、赤外遮蔽体をも提供する。   That is, according to still another aspect of the present invention, there is also provided an infrared shielding body in which the above infrared shielding film is provided on at least one surface of a substrate.

前記基体の具体的な例としては、例えば、ガラス、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフィド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、金属板、セラミック等が挙げられる。樹脂の種類は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂のいずれでもよく、これらを2種以上組み合わせて用いても良い。本発明で使用されうる基体は、押出成形、カレンダー成形、射出成形、中空成形、圧縮成形等、公知の方法で製造することができる。基体の厚さは特に制限されないが、通常0.1mm〜5cmである。   Specific examples of the substrate include, for example, glass, polycarbonate resin, polysulfone resin, acrylic resin, polyolefin resin, polyether resin, polyester resin, polyamide resin, polysulfide resin, unsaturated polyester resin, epoxy resin, melamine resin, Examples thereof include phenol resin, diallyl phthalate resin, polyimide resin, urethane resin, polyvinyl acetate resin, polyvinyl alcohol resin, styrene resin, vinyl chloride resin, metal plate, ceramic and the like. The type of the resin may be any of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and an ionizing radiation curable resin, and two or more of these may be used in combination. The substrate that can be used in the present invention can be produced by a known method such as extrusion molding, calendar molding, injection molding, hollow molding, compression molding and the like. The thickness of the substrate is not particularly limited, but is usually 0.1 mm to 5 cm.

赤外遮蔽フィルムと基体とを貼り合わせる接着層または粘着層は、赤外遮蔽フィルムを日光(熱線)入射面側に設置することが好ましい。また、本発明に係る赤外遮蔽フィルムを、窓ガラスと基体との間に挟持すると、水分等の周囲のガスから封止でき耐久性に優れるため好ましい。本発明に係る赤外遮蔽フィルムを屋外や車の外側(外貼り用)に設置しても環境耐久性があって好ましい。   The adhesive layer or adhesive layer that bonds the infrared shielding film and the substrate is preferably provided with the infrared shielding film on the sunlight (heat ray) incident surface side. In addition, it is preferable to sandwich the infrared shielding film according to the present invention between a window glass and a substrate because it can be sealed from surrounding gas such as moisture and has excellent durability. Even if the infrared shielding film according to the present invention is installed outdoors or outside a car (for external application), it is preferable because of environmental durability.

本発明に適用可能な接着剤としては、光硬化性もしくは熱硬化性の樹脂を主成分とする接着剤を用いることができる。   As an adhesive applicable to the present invention, an adhesive mainly composed of a photocurable or thermosetting resin can be used.

接着剤は紫外線に対して耐久性を有するものが好ましく、アクリル系粘着剤またはシリコーン系粘着剤が好ましい。更に粘着特性やコストの観点から、アクリル系粘着剤が好ましい。特に剥離強さの制御が容易なことから、アクリル系粘着剤において、溶剤系が好ましい。アクリル溶剤系粘着剤として溶液重合ポリマーを使用する場合、そのモノマーとしては公知のものを使用できる。   The adhesive preferably has durability against ultraviolet rays, and is preferably an acrylic adhesive or a silicone adhesive. Furthermore, an acrylic adhesive is preferable from the viewpoint of adhesive properties and cost. In particular, a solvent system is preferable in the acrylic pressure-sensitive adhesive because the peel strength can be easily controlled. When a solution polymerization polymer is used as the acrylic solvent-based pressure-sensitive adhesive, known monomers can be used as the monomer.

また、合わせガラスの中間層として用いられるポリビニルブチラール系樹脂、あるいはエチレン−酢酸ビニル共重合体系樹脂を用いてもよい。具体的には可塑性ポリビニルブチラール(積水化学工業社製、三菱モンサント社製等)、エチレン−酢酸ビニル共重合体(デュポン社製、武田薬品工業社製、デュラミン)、変性エチレン−酢酸ビニル共重合体(東ソー社製、メルセンG)等である。なお、接着層には紫外線吸収剤、抗酸化剤、帯電防止剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等を適宜添加配合してもよい。   Moreover, you may use the polyvinyl butyral resin used as an intermediate | middle layer of a laminated glass, or ethylene-vinyl acetate copolymer type resin. Specifically, plastic polyvinyl butyral (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., Mitsubishi Monsanto Co., Ltd.), ethylene-vinyl acetate copolymer (manufactured by DuPont, Takeda Pharmaceutical Co., Ltd., duramin), modified ethylene-vinyl acetate copolymer (Mersen G, manufactured by Tosoh Corporation). In addition, you may add and mix | blend an ultraviolet absorber, an antioxidant, an antistatic agent, a heat stabilizer, a lubricant, a filler, coloring, an adhesion adjusting agent etc. suitably in a contact bonding layer.

赤外遮蔽フィルムまたは赤外遮蔽体の断熱性能、日射熱遮蔽性能は、一般的にJIS R 3209(複層ガラス)、JIS R 3106(板ガラス類の透過率・反射率・放射率・日射熱取得率の試験方法)、JIS R 3107(板ガラス類の熱抵抗および建築における熱貫流率の算定方法)に準拠した方法により求めることができる。   Insulation performance and solar heat shielding performance of an infrared shielding film or an infrared shielding body are generally JIS R 3209 (multi-layer glass), JIS R 3106 (obtain transmittance, reflectance, emissivity, and solar heat of glass sheets). Rate test method) and JIS R 3107 (calculation method of thermal resistance of plate glass and heat transmissivity in architecture).

日射透過率、日射反射率、放射率、可視光透過率の測定は、(1)波長(300〜2500nm)の分光測光器を用い、各種単板ガラスの分光透過率、分光反射率を測定する。また、波長5.5〜50μmの分光測定器を用いて放射率を測定する。なお、フロート板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、熱線吸収板ガラスの放射率は既定値を用いる。(2)日射透過率、日射反射率、日射吸収率、修正放射率の算出は、JIS R 3106に従い、日射透過率、日射反射率、日射吸収率、垂直放射率を算出する。修正放射率に関しては、JIS R 3107に示されている係数を、垂直放射率に乗ずることにより求める。断熱性、日射熱遮蔽性の算出は、(1)厚さの測定値、修正放射率を用いJIS R 3209に従って複層ガラスの熱抵抗を算出する。ただし中空層が2mmを超える場合はJIS R 3107に従って中空層の気体熱コンダクタンスを求める。(2)断熱性は、複層ガラスの熱抵抗に熱伝達抵抗を加えて熱貫流抵抗で求める。(3)日射熱遮蔽性はJIS R 3106により日射熱取得率を求め、1から差し引いて算出する。   The solar transmittance, solar reflectance, emissivity, and visible light transmittance are measured by (1) using a spectrophotometer having a wavelength (300 to 2500 nm) to measure the spectral transmittance and spectral reflectance of various single plate glasses. Further, the emissivity is measured using a spectrophotometer having a wavelength of 5.5 to 50 μm. In addition, a predetermined value is used for the emissivity of float plate glass, polished plate glass, mold plate glass, and heat ray absorbing plate glass. (2) The solar transmittance, solar reflectance, solar absorption rate, and modified emissivity are calculated according to JIS R 3106 by calculating the solar transmittance, solar reflectance, solar absorption rate, and vertical emissivity. The corrected emissivity is obtained by multiplying the coefficient shown in JIS R 3107 by the vertical emissivity. The heat insulation and solar heat shielding properties are calculated by (1) calculating the thermal resistance of the multilayer glass according to JIS R 3209 using the measured thickness value and the corrected emissivity. However, when the hollow layer exceeds 2 mm, the gas thermal conductance of the hollow layer is determined in accordance with JIS R 3107. (2) The heat insulation is obtained by adding a heat transfer resistance to the heat resistance of the double-glazed glass and calculating the heat flow resistance. (3) Solar heat shielding properties are calculated by obtaining the solar heat acquisition rate according to JIS R 3106 and subtracting from 1.

また、上記で得られた赤外遮蔽フィルムは薄膜化されたものであることから、ディスプレイパネルの表面に適用してもよい。例えば、プラズマディスプレイパネルでは、赤外遮蔽フィルムを高透明PETフィルムに貼り合わせて、ディスプレイ画面に導入することができる。これによって、プラズマディスプレイパネルから放射される赤外線を遮蔽し、人体の保護、電子機器相互の誤動作防止、およびリモコンの誤動作防止等に寄与しうる。   Moreover, since the infrared shielding film obtained above is thinned, it may be applied to the surface of a display panel. For example, in a plasma display panel, an infrared shielding film can be bonded to a highly transparent PET film and introduced into a display screen. This shields infrared rays radiated from the plasma display panel, which can contribute to protection of the human body, prevention of malfunction between electronic devices, prevention of malfunction of the remote control, and the like.

上記のように、本発明の塗布液送液システムにおいては、基材上に塗布された塗膜を乾燥する、乾燥装置をさらに有し、前記塗布液の前記基材上への塗布および乾燥を複数回繰り返すことによって、基材上に複数層の塗膜が形成されてなる積層体を作製することができる。   As described above, the coating liquid feeding system of the present invention further includes a drying device for drying the coating film coated on the substrate, and the coating liquid is coated and dried on the substrate. By repeating a plurality of times, it is possible to produce a laminate in which a plurality of coating films are formed on a substrate.

そして、かかる積層体が、相互に屈折率の異なる、高屈折率層および低屈折率層が交互に積層されてなるものであり、前記高屈折率層および前記低屈折率層の少なくとも一層が、金属酸化物粒子と、水溶性樹脂とを含む、ことによって、赤外遮蔽フィルムとして使用することができる。   Then, such a laminate is formed by alternately laminating a high refractive index layer and a low refractive index layer, each having a different refractive index, and at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer, By including metal oxide particles and a water-soluble resin, it can be used as an infrared shielding film.

以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to a following example at all.

まず、高分子を含有する塗布液を調製し、塗膜(高分子膜)を作製するまでの全体の流れを説明する。図4に示されるように、減圧装置を備えた塗布液調製釜101に原料を添加して塗布液を調製する。この際、通常、気泡が混入してしまう。この気泡を減圧装置による減圧処理により除去する。そして、気泡を除去した塗布液を、送液装置102を使って、濾過装置103を経ることなく、塗布液貯蔵釜104に供給する。この段階で気泡の数を確認する。これは、後述の<目視での液中の泡の有無>にて評価する。   First, the entire flow from preparation of a coating solution containing a polymer to production of a coating film (polymer film) will be described. As shown in FIG. 4, the coating liquid is prepared by adding the raw material to the coating liquid preparation pot 101 equipped with a decompression device. At this time, bubbles are usually mixed. The bubbles are removed by a decompression process using a decompression device. Then, the coating liquid from which bubbles have been removed is supplied to the coating liquid storage tank 104 by using the liquid feeding device 102 without passing through the filtering device 103. Check the number of bubbles at this stage. This is evaluated by <presence / absence of bubbles in liquid visually> described later.

次に、塗布液貯蔵釜104の塗布液を、送液装置105を使って分散装置106に供給し、脱泡装置107を経ることなく、濾過装置108に供給後、循環経路R1を使い、再度、塗布液貯蔵釜104に戻す。この循環処理を繰り返し行う。   Next, the coating solution in the coating solution storage tank 104 is supplied to the dispersion device 106 using the liquid feeding device 105, supplied to the filtration device 108 without passing through the defoaming device 107, and then again using the circulation path R1. Return to the coating liquid storage pot 104. This circulation process is repeated.

最後に、循環処理を経た塗布液を用いて、塗布装置114および乾燥装置116によって、塗膜(高分子膜)を作製する。この段階でも気泡の数を確認する。これは、後述の<塗膜の塗布故障>にて評価する。   Finally, a coating film (polymer film) is produced by the coating device 114 and the drying device 116 using the coating liquid that has undergone the circulation treatment. Also check the number of bubbles at this stage. This is evaluated in <Coating failure of coating film> described later.

より簡単にまとめると、1.塗布液を調製し、粘度を測定する(a)。2.減圧処理を行う。3.減圧処理終了後に、粘度測定を測定する(b)。送液を行い、4.貯蔵釜へ貯蔵し、この時点で、溶存酸素量測定(c)、粘度測定(d)、気泡数確認(e)を行う。送液を行い、5.せん断処理を行う。送液を行い、6.濾過処理を行う。送液(循環経路R1)を行い、7.貯蔵釜に貯蔵する。8. 5〜7を繰り返す循環を行い、循環を終了させ粘度測定(f)を行う。送液を行い、9.塗布を行う。10.乾燥を行い、塗布故障評価(g)を行う。以下、具体的操作について詳説する。   To summarize more simply: A coating solution is prepared and the viscosity is measured (a). 2. A decompression process is performed. 3. After completion of the decompression process, the viscosity measurement is measured (b). 3. Deliver the solution. It stores in a storage pot, At this time, dissolved oxygen amount measurement (c), viscosity measurement (d), and bubble number confirmation (e) are performed. 4. Deliver the solution. Shearing is performed. 5. Pump the solution. Perform filtration. 6. Perform liquid feeding (circulation path R1); Store in storage pot. 8). Circulation is repeated 5 to 7, the circulation is terminated and viscosity measurement (f) is performed. 8. Pump the solution. Apply. 10. Dry and perform coating failure evaluation (g). Hereinafter, specific operations will be described in detail.

<実施例1>
減圧装置と撹拌装置とを備えた釜内径φ0.95mの塗布液調製釜101(減圧可能な蓋付き釜:減圧浮上槽)に、濃度7.4質量%に調製したポリビニルアルコール(PVA−124、平均重合度2400、ケン化度98〜99モル%、株式会社クラレ製)水溶液500Lを入れ、40℃に加熱し、塗布液1を調製した。この塗布液1の粘度は、450mPa・sであった(a)。なお、本明細書中の粘度は、回転式粘度計(ブルックフィールド デジタル粘度計 DV−E)による測定から得られる値とする。なお、塗布液の温度は、すべての実施例、比較例を通して、40℃に維持している。
<Example 1>
Polyvinyl alcohol (PVA-124, adjusted to a concentration of 7.4% by mass in a coating liquid preparation kettle 101 having a kettle inner diameter φ0.95 m equipped with a pressure reducing device and an agitating device (pot with a depressurizable lid: vacuum levitation tank). 500L aqueous solution (average polymerization degree 2400, saponification degree 98-99 mol%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) was added and heated to 40 ° C. to prepare coating liquid 1. The coating solution 1 had a viscosity of 450 mPa · s (a). In addition, let the viscosity in this specification be a value obtained from the measurement by a rotary viscometer (Brookfield digital viscometer DV-E). In addition, the temperature of the coating liquid is maintained at 40 ° C. throughout all the examples and comparative examples.

この塗布液1には気泡が混入されている。そこで、撹拌装置による翼径φ475mmの4枚ピッチドパドル翼で、周速0.5m/secで撹拌しながら、減圧度100Torrで、30分間、減圧処理を行って、減圧処理が施された塗布液1を得た。この減圧処理が施された塗布液1の粘度は、450mPa・sであった(b)。   Air bubbles are mixed in the coating liquid 1. Therefore, the coating liquid 1 was subjected to a decompression process for 30 minutes at a reduced pressure of 100 Torr while stirring at a peripheral speed of 0.5 m / sec with four pitched paddle blades having a blade diameter of 475 mm by a stirring device. Got. The viscosity of the coating solution 1 subjected to the pressure reduction treatment was 450 mPa · s (b).

続いて、送液装置102としてのロータリーポンプを用いて20L/minの流量で、(濾過装置103を経ることなく)、釜内径φ0.95mの塗布液貯蔵釜104に、減圧処理が施された塗布液1を供給し、貯蔵した。この時点での溶存酸素量は、3.1mg/Lであった(c)。なお、本明細書の溶存酸素量は、溶存酸素計(飯島電子工業製 DOメーター B−506)による測定から得られる値とする。また、この貯蔵釜に貯蔵された塗布液1の粘度は、430mPa・sであった(d)。また、この段階で気泡の数を確認した(<目視での液中の泡の有無>:(e))。   Subsequently, the coating liquid storage tank 104 having a pot inner diameter of 0.95 m was subjected to a decompression process at a flow rate of 20 L / min using a rotary pump as the liquid feeding apparatus 102 (without passing through the filtration apparatus 103). Coating solution 1 was supplied and stored. The dissolved oxygen amount at this time was 3.1 mg / L (c). In addition, let the amount of dissolved oxygen of this specification be a value obtained from the measurement by a dissolved oxygen meter (DO meter B-506 by Iijima Electronics). Moreover, the viscosity of the coating liquid 1 stored in this storage pot was 430 mPa · s (d). In addition, the number of bubbles was confirmed at this stage (<presence / absence of bubbles in the liquid visually>: (e)).

続いて、塗布液貯蔵釜104に貯蔵された塗布液は、送液装置105としてのロータリーポンプを用いて20L/minの流量で、分散装置マイルダーMDN306V(分散装置106)に送液されせん断処理を行った。かかる分散装置は、標準タイプのローター及びステーターを備えたマイルダー処理装置である。かかるマイルダー処理装置を用いて、5000rpmの回転速度でローターを回転させて、減圧処理が施された塗布液1のせん断処理を行った。   Subsequently, the coating solution stored in the coating solution storage tank 104 is fed to a dispersing device Milder MDN306V (dispersing device 106) at a flow rate of 20 L / min using a rotary pump as the feeding device 105 and subjected to a shearing process. went. Such a dispersing device is a milder processing device with a standard type of rotor and stator. Using such a milder processing apparatus, the rotor was rotated at a rotational speed of 5000 rpm, and the coating liquid 1 subjected to the decompression process was subjected to a shearing process.

続いて、濾過装置108により塗布液1の濾過を行った。濾過は、フィルタ250L−SLP−200(株式会社ロキテクノ製)、ロータリーポンプを用いて20L/minの流量でフィルタに塗布液1を通液させて濾過を行った。なお、濾過圧力は0.05〜0.1MPaであった。   Subsequently, the coating liquid 1 was filtered by the filtration device 108. Filtration was performed by passing the coating liquid 1 through the filter at a flow rate of 20 L / min using a filter 250L-SLP-200 (manufactured by Loki Techno Co., Ltd.) and a rotary pump. The filtration pressure was 0.05 to 0.1 MPa.

濾過処理が施された塗布液1を、循環経路R1により再び塗布液貯蔵釜104に戻した。この循環工程を30分実施し、循環工程が施された塗布液1を得た。なお、この循環工程が施された塗布液1の粘度は、400mPa・sであった(f)。   The coating liquid 1 subjected to the filtration treatment was returned again to the coating liquid storage tank 104 through the circulation path R1. This circulation process was carried out for 30 minutes to obtain a coating solution 1 subjected to the circulation process. The viscosity of the coating liquid 1 subjected to this circulation step was 400 mPa · s (f).

最後に、濾過装置108から、供給経路L1を通じて、循環工程が施された塗布液1を塗布装置114としてのスライドコータ塗布装置に供給し、かかるスライドコータ塗布装置を用いて、厚さ100μmのPETからなる基材上に、速度50m/分で、塗布液1の塗布を行い、乾燥装置116を用いて、50℃で乾燥させて、塗膜1を作製した。この段階でも気泡の数を確認した(<塗膜の塗布故障>:(g))。   Finally, the coating liquid 1 subjected to the circulation process is supplied from the filtration device 108 to the slide coater coating device as the coating device 114 through the supply path L1, and the PET having a thickness of 100 μm is used by using the slide coater coating device. The coating liquid 1 was applied onto the substrate made of the above at a speed of 50 m / min, and dried at 50 ° C. using the drying device 116 to prepare the coating film 1. Even at this stage, the number of bubbles was confirmed (<Coating failure of coating film>: (g)).

<実施例2>
濃度を8.0質量%にした以外は、塗布液1の調製と同様にして、塗布液2を調製し、実施例1と同様にして塗膜2を作製した。
<Example 2>
A coating solution 2 was prepared in the same manner as in the preparation of the coating solution 1 except that the concentration was 8.0% by mass.

なお、調製した塗布液2の粘度は、650mPa・sであった(a)。また、減圧処理が施された塗布液2の粘度は、650mPa・sであった(b)。また、溶存酸素量は3.4mg/Lであった(c)。また、貯蔵釜に貯蔵された塗布液2の粘度は、620mPa・sであった(d)。また、循環処理が施された塗布液2の粘度は、600mPa・sであった(f)。   The viscosity of the prepared coating solution 2 was 650 mPa · s (a). Moreover, the viscosity of the coating liquid 2 subjected to the decompression treatment was 650 mPa · s (b). Moreover, the dissolved oxygen amount was 3.4 mg / L (c). Moreover, the viscosity of the coating liquid 2 stored in the storage pot was 620 mPa · s (d). Moreover, the viscosity of the coating liquid 2 subjected to the circulation treatment was 600 mPa · s (f).

<実施例3>
濃度を8.5質量%にした以外は、塗布液1の調製と同様にして、塗布液3を調製し、実施例1と同様にして塗膜3を作製した。
<Example 3>
A coating solution 3 was prepared in the same manner as in the preparation of the coating solution 1 except that the concentration was 8.5% by mass, and a coating film 3 was produced in the same manner as in Example 1.

なお、調製した塗布液3の粘度は、850mPa・sであった(a)。また、減圧処理が施された塗布液3の粘度は、840mPa・sであった(b)。また、溶存酸素量は3.9mg/Lであった(c)。また、貯蔵釜に貯蔵された塗布液3の粘度は、820mPa・sであった(d)。また、循環処理が施された塗布液3の粘度は、800mPa・sであった(f)。   The viscosity of the prepared coating solution 3 was 850 mPa · s (a). Moreover, the viscosity of the coating liquid 3 subjected to the decompression treatment was 840 mPa · s (b). Moreover, the dissolved oxygen amount was 3.9 mg / L (c). Moreover, the viscosity of the coating liquid 3 stored in the storage pot was 820 mPa · s (d). Moreover, the viscosity of the coating liquid 3 subjected to the circulation treatment was 800 mPa · s (f).

<実施例4>
濃度を9.1質量%にした以外は、塗布液1の調製と同様にして、塗布液4を調製し、減圧度を20Torrに変更した以外は、実施例1と同様にして塗膜4を作製した。
<Example 4>
The coating film 4 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid 4 was prepared in the same manner as the coating liquid 1 except that the concentration was 9.1% by mass, and the degree of vacuum was changed to 20 Torr. Produced.

なお、調製した塗布液4の粘度は、1100mPa・sであった(a)。また、減圧処理が施された塗布液4の粘度は、1100mPa・sであった(b)。また、溶存酸素量は3.8mg/Lであった(c)。また、貯蔵釜に貯蔵された塗布液4の粘度は、1050mPa・sであった(d)。また、循環処理が施された塗布液4の粘度は、1000mPa・sであった(f)。   The prepared coating solution 4 had a viscosity of 1100 mPa · s (a). Further, the viscosity of the coating solution 4 subjected to the decompression treatment was 1100 mPa · s (b). Moreover, the dissolved oxygen amount was 3.8 mg / L (c). Moreover, the viscosity of the coating liquid 4 stored in the storage pot was 1050 mPa · s (d). Further, the viscosity of the coating solution 4 subjected to the circulation treatment was 1000 mPa · s (f).

<実施例5>
濃度を6.0質量%にした以外は、塗布液1の調製と同様にして、塗布液5を調製し、減圧度を400Torrに変更した以外は、実施例1と同様にして塗膜5を作製した。
<Example 5>
The coating film 5 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid 5 was prepared in the same manner as the coating liquid 1 except that the concentration was 6.0% by mass, and the degree of vacuum was changed to 400 Torr. Produced.

なお、調製した塗布液5の粘度は、150mPa・sであった(a)。また、減圧処理が施された塗布液5の粘度は、150mPa・sであった(b)。また、溶存酸素量は3.0mg/Lであった(c)。また、貯蔵釜に貯蔵された塗布液5の粘度は、110mPa・sであった(d)。また、循環処理が施された塗布液5の粘度は、100mPa・sであった(f)。   The viscosity of the prepared coating solution 5 was 150 mPa · s (a). Moreover, the viscosity of the coating liquid 5 subjected to the decompression treatment was 150 mPa · s (b). Moreover, the dissolved oxygen amount was 3.0 mg / L (c). Moreover, the viscosity of the coating liquid 5 stored in the storage pot was 110 mPa · s (d). Moreover, the viscosity of the coating liquid 5 subjected to the circulation treatment was 100 mPa · s (f).

<実施例6>
塗布液調製釜の撹拌速度を周速0.2m/secとした以外は、実施例1と同様にして塗膜6を作製した。
<Example 6>
A coating film 6 was produced in the same manner as in Example 1 except that the stirring speed of the coating liquid preparation kettle was changed to a peripheral speed of 0.2 m / sec.

なお、減圧処理が施された塗布液6の粘度は、450mPa・sであった(b)。また、溶存酸素量は3.7mg/Lであった(c)。また、貯蔵釜に貯蔵された塗布液6の粘度は、410mPa・sであった(d)。また、循環処理が施された塗布液6の粘度は、400mPa・sであった(f)。   In addition, the viscosity of the coating liquid 6 subjected to the decompression treatment was 450 mPa · s (b). Moreover, the dissolved oxygen amount was 3.7 mg / L (c). Moreover, the viscosity of the coating liquid 6 stored in the storage pot was 410 mPa · s (d). Moreover, the viscosity of the coating liquid 6 subjected to the circulation treatment was 400 mPa · s (f).

<実施例7>
塗布液調製釜の撹拌速度を周速2.0m/secとした以外は、実施例1と同様にして塗膜7を作製した。
<Example 7>
A coating film 7 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the stirring speed of the coating liquid preparation kettle was changed to a peripheral speed of 2.0 m / sec.

なお、減圧処理が施された塗布液7の粘度は、440mPa・sであった(b)。また、溶存酸素量は4.1mg/Lであった(c)。また、貯蔵釜に貯蔵された塗布液7の粘度は、410mPa・sであった(d)。また、循環処理が施された塗布液7の粘度は、400mPa・sであった(f)。   In addition, the viscosity of the coating liquid 7 subjected to the decompression treatment was 440 mPa · s (b). The dissolved oxygen amount was 4.1 mg / L (c). Moreover, the viscosity of the coating liquid 7 stored in the storage pot was 410 mPa · s (d). Moreover, the viscosity of the coating liquid 7 subjected to the circulation treatment was 400 mPa · s (f).

<実施例8>
塗布液調製釜での減圧処理の時間を30分間から10分間に変更した以外は、実施例1と同様にして塗膜8を作製した。
<Example 8>
A coating film 8 was produced in the same manner as in Example 1 except that the time for the decompression treatment in the coating solution preparation kettle was changed from 30 minutes to 10 minutes.

なお、減圧処理が施された塗布液8の粘度は、450mPa・sであった(b)。また、溶存酸素量は4.8mg/Lであった(c)。また、貯蔵釜に貯蔵された塗布液8の粘度は、410mPa・sであった(d)。また、循環処理が施された塗布液8の粘度は、400mPa・sであった(f)。   In addition, the viscosity of the coating liquid 8 subjected to the decompression treatment was 450 mPa · s (b). The dissolved oxygen amount was 4.8 mg / L (c). Moreover, the viscosity of the coating liquid 8 stored in the storage pot was 410 mPa · s (d). Moreover, the viscosity of the coating liquid 8 subjected to the circulation treatment was 400 mPa · s (f).

<実施例9>
塗布液調製釜での減圧度を100Torrから510Torrに変更した以外は、実施例1と同様にして塗膜9を作製した。
<Example 9>
A coating film 9 was produced in the same manner as in Example 1 except that the degree of vacuum in the coating solution preparation kettle was changed from 100 Torr to 510 Torr.

なお、減圧処理が施された塗布液9の粘度は、450mPa・sであった(b)。また、溶存酸素量は4.5mg/Lであった(c)。また、貯蔵釜に貯蔵された塗布液9の粘度は、410mPa・sであった(d)。また、循環処理が施された塗布液9の粘度は、400mPa・sであった(f)。   In addition, the viscosity of the coating liquid 9 subjected to the decompression treatment was 450 mPa · s (b). Moreover, the dissolved oxygen amount was 4.5 mg / L (c). Moreover, the viscosity of the coating liquid 9 stored in the storage pot was 410 mPa · s (d). Further, the viscosity of the coating liquid 9 subjected to the circulation treatment was 400 mPa · s (f).

<比較例1>
塗布液調製釜にて減圧処理を行わなかった以外は、実施例1と同様にして塗膜10を作製した。
<Comparative Example 1>
A coating film 10 was produced in the same manner as in Example 1 except that the vacuum treatment was not performed in the coating solution preparation kettle.

なお、溶存酸素量は6.9mg/Lであった(c)。また、貯蔵釜に貯蔵された塗布液10の粘度は、410mPa・sであった(d)。また、循環処理が施された塗布液10の粘度は、400mPa・sであった(f)。   The dissolved oxygen amount was 6.9 mg / L (c). Moreover, the viscosity of the coating liquid 10 stored in the storage pot was 410 mPa · s (d). Moreover, the viscosity of the coating liquid 10 subjected to the circulation treatment was 400 mPa · s (f).

<比較例2>
循環経路を使用しなかった以外は、実施例1と同様にして塗膜11を作製した。
<Comparative Example 2>
A coating film 11 was produced in the same manner as in Example 1 except that the circulation route was not used.

<目視での液中の泡の有無>
循環経路を経る前の塗布液貯蔵釜104から、透明ビーカーに約1Lの塗布液(塗布液)を採取(サンプリング)し、目視で1mm以下のサイズの泡個数をカウントした。
<Visual presence or absence of bubbles in the liquid>
About 1 L of the coating liquid (coating liquid) was collected (sampled) in a transparent beaker from the coating liquid storage tank 104 before passing through the circulation path, and the number of bubbles having a size of 1 mm or less was counted visually.

◎:0個/1L
〇:1〜5個/1L
△:6〜10個/1L
×:11〜50個/1L
××:51〜100個/1L
×××:101個以上/1L
<塗膜の塗布故障>
1m×10mの、乾燥後の塗布サンプルを見て、泡起因および凝集物起因の塗布故障の個数をそれぞれ目視でカウントし、10で除することによって、1m×1mあたりの塗布故障の数をカウントした。
A: 0 / 1L
○: 1 to 5 / 1L
Δ: 6-10 pieces / 1L
×: 11-50 pieces / 1L
XX: 51-100 pieces / 1L
XXX: 101 or more / 1L
<Coating failure of coating film>
Look at the coating sample after drying of 1m x 10m, count the number of coating failures due to foam and agglomerates visually, and divide by 10 to count the number of coating failures per 1m x 1m did.

◎:0個/m
〇:0超〜0.1個/m
△:0.1超〜1.0個/m
×:1.0超〜10個/m
××:10超〜50個/m
×××:50個超/m
結果を下記表1に示す。
A: 0 / m 2
◯: More than 0 to 0.1 / m 2
Δ: More than 0.1 to 1.0 piece / m 2
×: More than 1.0 to 10 pieces / m 2
XX: More than 10-50 / m 2
XXX: Over 50 / m 2
The results are shown in Table 1 below.

10、20、30 光学フィルム製造システム、
101 調製釜、
102、105、109 送液装置、
103、108、113 濾過装置、
104 貯蔵釜、
106、111 分散装置、
107、112 脱泡装置、
110 流量計、
114 塗布装置、
115 セット装置、
116 乾燥装置、
117 測定装置、
118 制御装置、
R1 循環経路、
L1 供給経路、
1 ステーター歯、
2 ローター歯、
4、5 塗布液、
La、Lb 間隙、
11 バルブシート、
12 バルブ。
10, 20, 30 Optical film manufacturing system,
101 preparation kettle,
102, 105, 109 liquid feeding device,
103, 108, 113 filtration device,
104 Storage pot,
106, 111 disperser,
107, 112 deaerator,
110 flow meter,
114 coating device,
115 set device,
116 drying equipment,
117 measuring device,
118 controller,
R1 circulation path,
L1 supply path,
1 stator teeth,
2 rotor teeth,
4, 5 coating solution,
La, Lb gap,
11 Valve seat,
12 Valve.

Claims (14)

高分子を含有する塗布液を調製するための、減圧装置を備えた調製釜と、
前記調製釜で調製された前記塗布液を順次前記調製釜から流出し、前記塗布液を貯蔵する、貯蔵釜と、
前記貯蔵釜に貯蔵された前記塗布液を順次前記貯蔵釜から流出し、再度前記貯蔵釜に導く循環経路と、
前記循環経路の途中に設けられ、前記循環経路を通る前記塗布液を分散する分散装置と、
を有する、塗布液送液システム。
A preparation kettle equipped with a pressure reducing device for preparing a coating solution containing a polymer;
A storage pot for sequentially flowing out the coating liquid prepared in the preparation pot from the preparation pot and storing the coating liquid;
A circulation path for sequentially flowing out the coating liquid stored in the storage pot from the storage pot and guiding it again to the storage pot;
A dispersing device that is provided in the middle of the circulation path and disperses the coating liquid passing through the circulation path;
A coating liquid feeding system.
前記減圧装置による減圧度が、1.3332〜66.660kPa(10〜500Torr)である、請求項1に記載の塗布液送液システム。   The coating liquid feeding system according to claim 1, wherein the degree of pressure reduction by the pressure reducing device is 1.3332 to 66.660 kPa (10 to 500 Torr). 前記調製釜は、前記塗布液を撹拌するための撹拌装置をさらに備え、
前記撹拌装置の撹拌周速が、0.2〜2m/secである、請求項1または2に記載の塗布液送液システム。
The preparation kettle further comprises a stirring device for stirring the coating solution,
The coating liquid feeding system according to claim 1 or 2, wherein a stirring peripheral speed of the stirring device is 0.2 to 2 m / sec.
前記調製釜から流出した前記塗布液の溶存酸素量が、1〜5mg/Lである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の塗布液送液システム。   The coating liquid feeding system according to any one of claims 1 to 3, wherein a dissolved oxygen amount of the coating liquid flowing out of the preparation kettle is 1 to 5 mg / L. 前記塗布液の物性を測定する測定装置をさらに有し、
前記分散装置は、前記測定装置により測定された測定値に基づいて分散強度を異ならせる、請求項1〜4のいずれか1項に記載の塗布液送液システム。
A measuring device for measuring physical properties of the coating solution;
The coating liquid feeding system according to any one of claims 1 to 4, wherein the dispersion device varies the dispersion strength based on a measurement value measured by the measurement device.
前記測定装置は、粘性に関する物性を測定し、
前記分散装置は、前記測定値が所定の上限値よりも大きい場合は分散強度を大きくし、前記測定値が所定の下限値よりも小さい場合は分散強度を小さくする、請求項5に記載の塗布液送液システム。
The measuring device measures physical properties related to viscosity,
The coating apparatus according to claim 5, wherein the dispersion device increases the dispersion strength when the measured value is larger than a predetermined upper limit value and decreases the dispersion strength when the measured value is smaller than a predetermined lower limit value. Liquid feeding system.
前記循環経路の途中に設けられ、前記塗布液を濾過する濾過装置をさらに有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の塗布液送液システム。   The coating liquid feeding system according to any one of claims 1 to 6, further comprising a filtering device that is provided in the middle of the circulation path and filters the coating liquid. 前記塗布液を基材に塗布する塗布装置と、
前記貯蔵釜または前記循環経路上に接続され、前記塗布液を前記塗布装置に順次導く供給経路と、
をさらに有する、請求項1〜7のいずれか1項に記載の塗布液送液システム。
A coating apparatus for coating the coating liquid on a substrate;
A supply path that is connected to the storage tank or the circulation path and sequentially guides the coating liquid to the coating apparatus;
The coating liquid delivery system according to any one of claims 1 to 7, further comprising:
システム内を流れる塗布液の量を、前記貯蔵釜の貯蔵量を超えさせることで、前記塗布装置に、前記供給経路を通じて導かれた前記塗布液を途絶えることなく供給し、前記塗布液を前記基材に連続的に塗布する、請求項8に記載の塗布液送液システム。   By making the amount of the coating liquid flowing in the system exceed the storage amount of the storage tank, the coating liquid guided through the supply path is supplied to the coating apparatus without interruption, and the coating liquid is supplied to the base. The coating liquid feeding system according to claim 8, wherein the coating liquid feeding system is continuously applied to a material. 前記貯蔵釜に貯蔵された前記塗布液がすべて流出する前に、前記調製釜で調製された前記塗布液を前記貯蔵釜に送液する、請求項9に記載の塗布液送液システム。   The coating liquid feeding system according to claim 9, wherein the coating liquid prepared in the preparation kettle is fed to the storage kettle before all the coating liquid stored in the storage kettle flows out. 前記測定装置は、前記循環経路上、前記供給経路上および前記貯蔵釜内の少なくとも一箇所に設けられる、請求項5〜10のいずれか1項に記載の塗布液送液システム。   The said measuring apparatus is a coating liquid feeding system of any one of Claims 5-10 provided in at least one place on the said circulation path | route, the said supply path | route, and the said storage hook. 前記基材上に塗布された塗膜を乾燥する、乾燥装置をさらに有し、
前記塗布液の前記基材上への塗布および乾燥を複数回繰り返すことによって、基材上に複数層の塗膜が形成されてなる積層体を作製する、請求項8〜11のいずれか1項に記載の塗布液送液システム。
A drying device for drying the coating film applied on the substrate;
The laminated body in which the coating film of a several layer is formed on a base material is produced by repeating the application | coating and drying of the said coating liquid on the said base material in multiple times. The coating liquid delivery system described in 1.
前記積層体が、相互に屈折率の異なる、高屈折率層および低屈折率層が交互に積層されてなるものであり、前記高屈折率層および前記低屈折率層の少なくとも一層が、金属酸化物粒子と、水溶性樹脂とを含む、赤外遮蔽フィルムである、請求項12に記載の塗布液送液システム。   The laminate is formed by alternately laminating a high refractive index layer and a low refractive index layer, each having a different refractive index, and at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer is a metal oxide. The coating liquid feeding system according to claim 12, which is an infrared shielding film containing product particles and a water-soluble resin. 請求項1〜13のいずれか1項に記載の塗布液送液システムを用いて製造された塗布液を基材上に塗布する工程と、
前記基材上の塗布液を乾燥させる工程と、
を有する光学フィルムの製造方法。
The process of apply | coating the coating liquid manufactured using the coating liquid feeding system of any one of Claims 1-13 on a base material,
Drying the coating solution on the substrate;
The manufacturing method of the optical film which has this.
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