JP2015127274A - Infrared radiation shielding sheet and application thereof - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new infrared radiation shielding sheet in which transparency in a visible light region, radio wave transmittance, and infrared radiation shielding performance are substantially improved.SOLUTION: In a lamination film in which high refractive index resin layers including fine particles and low refractive index resin layers at least one of which includes fine particles (ITO etc.) showing a relatively lower refractive index than that of the high refractive index resin layers in an infrared radiation region are alternatively coated to form lamination, the value obtained by subtracting a refractive index at an arbitrary wavelength which is 780 nm or more from the refractive index at 550 nm is 0.1 or more in at least one layer of the low refractive index resin layers, and QWOT of at least one layer of either the high refractive index layers or the low refractive index layers is 1.5 or more.

Description

本発明は、効率的に赤外線を吸収、反射するとともに透明性に優れ、低ヘイズ性の新たな赤外線遮蔽シートならびにその用途に関するものである。 The present invention relates to a new infrared shielding sheet that efficiently absorbs and reflects infrared rays and has excellent transparency and low haze, and uses thereof.

近年、省エネルギーや地球環境問題の観点から、空調機器の負荷を軽減することが求められている。例えば、住宅や自動車の分野では太陽光からの赤外線を遮蔽できる赤外線遮蔽材料を窓ガラスへ敷設し、室内や車内の温度を制御することが求められている。 In recent years, from the viewpoint of energy saving and global environmental problems, it has been demanded to reduce the load on air conditioning equipment. For example, in the field of houses and automobiles, it is required to lay an infrared shielding material capable of shielding infrared rays from sunlight on a window glass to control the temperature in a room or in a vehicle.

赤外線遮蔽性を有する材料は様々あるが、特許文献1では赤外線領域の特定波長の光線を反射させる為に高屈折率層と低屈折率層の誘電体多層膜と、ITO等の微粒子膜を積層した断熱部材が開示されている。この断熱部材は誘電体多層膜と微粒子層を別々に製膜するため、製造コストの問題がある。 There are various materials having infrared shielding properties. However, in Patent Document 1, a dielectric multilayer film of a high refractive index layer and a low refractive index layer and a fine particle film such as ITO are laminated in order to reflect light having a specific wavelength in the infrared region. An insulated member is disclosed. Since this heat insulating member forms the dielectric multilayer film and the fine particle layer separately, there is a problem of manufacturing cost.

特許文献2では透明導電層と赤外線領域における屈折率が相対的に高い高屈折率層とが積層された断熱部材が開示されている。しかし、赤外線領域の低屈折率層として導電層が用いられているため、携帯電話、テレビ、GPS等室内外と電波送受信を行うための電波透過性能が求められるシステムに対しては使用できないという問題がある。さらにスパッタ等の真空設備が必要なため製造コストの問題がある。 Patent Document 2 discloses a heat insulating member in which a transparent conductive layer and a high refractive index layer having a relatively high refractive index in the infrared region are laminated. However, since a conductive layer is used as a low refractive index layer in the infrared region, it cannot be used for systems that require radio wave transmission performance for transmitting and receiving radio waves indoors and outdoors, such as mobile phones, TVs, and GPS. There is. Furthermore, there is a problem of manufacturing cost because vacuum equipment such as sputtering is required.

国際公開第2007/020791号パンフレットInternational Publication No. 2007/020791 Pamphlet 特開2010−202465号公報JP 2010-202465 A

本発明は、可視光領域における透明性、電波透過性、赤外線遮蔽性、製造コストを大幅に改善した新たな赤外線遮蔽シートを提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the new infrared shielding sheet which improved the transparency in a visible light region, radio wave permeability, infrared shielding property, and manufacturing cost significantly.

本発明者らは、従来技術のこのような問題に対して鋭意検討した結果、微粒子を含有する高屈折率樹脂層と赤外線領域で前記高屈折率樹脂層中に含有される微粒子よりも相対的に低屈折率を示す微粒子を含有する低屈折率樹脂層を塗布にて積層する積層膜において、各層の光学膜厚を最適化することにより、透明性、電波透過性を有し、且つ製造コスト、赤外線遮蔽性が大幅に改善された新たな赤外線遮蔽シートを得ることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies on such problems in the prior art, the present inventors have found that the high refractive index resin layer containing fine particles and the fine particles contained in the high refractive index resin layer in the infrared region are more relative to each other. In a laminated film in which a low refractive index resin layer containing fine particles having a low refractive index is laminated by coating, by optimizing the optical film thickness of each layer, it has transparency, radio wave transparency, and manufacturing cost. The present inventors have found that a new infrared shielding sheet having significantly improved infrared shielding properties is obtained, and have completed the present invention.

即ち、本発明は
(1)透明支持体上に微粒子を含有した高屈折率樹脂層(A)と微粒子を含有し、780nm〜2500nmの赤外線領域で層(A)よりも低屈折率を示す低屈折率樹脂層(B)が交互に積層した積層膜において、低屈折率樹脂層(B)の少なくとも1層が550nmでの屈折率から780nm以上での任意波長における屈折率を差し引いた値が0.1以上であって、かつ、高屈折率樹脂層(A)の少なくとも1層、及び/または低屈折率樹脂層の少なくとも1層の光学膜厚のQWOT係数が1.5以上である事を特徴とする赤外線遮蔽シート、
(2)(A)、(B)各層の表面抵抗が1kΩ/□以上であり、前記(A)、(B)の層数の合計が4以上である(1)に記載の赤外線遮蔽シート、
(3)可視光透過率が50%以上、ヘイズが8%以下である(1)または(2)に記載の赤外線遮蔽シート、
(4)前記高屈折率樹脂層(A)に含有される微粒子が酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化セリウム、酸化鉛、ダイヤモンド、酸化亜鉛、ホウ化物、窒化物からなる群より選択される少なくとも一種の微粒子である(1)乃至(3)の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート、
(5)前記低屈折率樹脂層(B)に含有される微粒子が酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステン、シリカの群から選択される少なくとも一種の微粒子である(1)乃至(4)の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート、
(6)前記低屈折率樹脂層(B)に含有される微粒子がSbドープ酸化スズ(ATO)、Snドープ酸化インジウム(ITO)、Gaドープ酸化亜鉛(GZO)、酸素欠乏酸化タングステン、Csドープ酸化タングステン、中空シリカの群から選択される少なくとも一種である(1)乃至(5)の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート、
(7)高屈折率樹脂層又は低屈折率樹脂層に含有される微粒子の含有率が90重量%以下である(1)及至(6)の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート、
(8)高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層が塗布により形成されることを特徴とする(1)及至(7)の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート、
(9)(1)乃至(8)の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シートと、780nm〜2000nmを選択的に反射するコレステリック液晶膜、複屈折多層膜、又は780nm〜2500nmを選択的に吸収する赤外線吸収色素の少なくとも1種を組み合わせて為る赤外線遮蔽シート、
(10)(1)乃至(9)の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シートのいずれか一方の最外層の上に中間膜を有する合わせガラス用中間膜、
(11)ポリビニルブチラールを含む(10)に記載の合わせガラス用中間膜、
(12)複数のガラス板間に、(10)または(11)に記載の合わせガラス用中間膜を挿入して得られる合わせガラス、
(13)(1)乃至(9)の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シートおよび(10)または(11)に記載の合わせガラス用中間膜、または(12)に記載の合わせガラスを積層して得られる窓用部材、
に関する。
That is, the present invention comprises (1) a high refractive index resin layer (A) containing fine particles on a transparent support and fine particles, and has a lower refractive index than the layer (A) in the infrared region of 780 nm to 2500 nm. In the laminated film in which the refractive index resin layers (B) are alternately laminated, at least one of the low refractive index resin layers (B) has a value obtained by subtracting the refractive index at an arbitrary wavelength at 780 nm or more from the refractive index at 550 nm. 1. The QWOT coefficient of the optical film thickness of at least one high refractive index resin layer (A) and / or at least one low refractive index resin layer is 1.5 or more. Infrared shielding sheet,
(2) (A), (B) The infrared ray shielding sheet according to (1), wherein the surface resistance of each layer is 1 kΩ / □ or more, and the total number of layers of (A) and (B) is 4 or more,
(3) The infrared ray shielding sheet according to (1) or (2), wherein the visible light transmittance is 50% or more and the haze is 8% or less,
(4) Fine particles contained in the high refractive index resin layer (A) are titanium oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, tantalum oxide, tungsten oxide, niobium oxide, cerium oxide, lead oxide, diamond, zinc oxide, boride, The infrared shielding sheet according to any one of (1) to (3), which is at least one kind of fine particles selected from the group consisting of nitrides,
(5) The fine particles contained in the low refractive index resin layer (B) are at least one kind of fine particles selected from the group consisting of tin oxide, indium oxide, zinc oxide, tungsten oxide, and silica (1) to (4). Infrared shielding sheet according to any one of
(6) Fine particles contained in the low refractive index resin layer (B) are Sb-doped tin oxide (ATO), Sn-doped indium oxide (ITO), Ga-doped zinc oxide (GZO), oxygen-deficient tungsten oxide, Cs-doped oxide. The infrared shielding sheet according to any one of (1) to (5), which is at least one selected from the group consisting of tungsten and hollow silica,
(7) The infrared shielding sheet according to any one of (1) to (6), wherein the content of fine particles contained in the high refractive index resin layer or the low refractive index resin layer is 90% by weight or less,
(8) The infrared shielding sheet according to any one of (1) to (7), wherein a high refractive index resin layer and a low refractive index resin layer are formed by coating;
(9) The infrared ray shielding sheet according to any one of (1) to (8) and a cholesteric liquid crystal film, a birefringent multilayer film, or a 780 nm to 2500 nm that selectively reflects 780 nm to 2000 nm An infrared shielding sheet formed by combining at least one of infrared absorbing pigments,
(10) An interlayer film for laminated glass having an interlayer film on the outermost layer of any one of the infrared shielding sheets according to any one of (1) to (9),
(11) The interlayer film for laminated glass according to (10), comprising polyvinyl butyral,
(12) Laminated glass obtained by inserting the interlayer film for laminated glass according to (10) or (11) between a plurality of glass plates,
(13) The infrared shielding sheet according to any one of (1) to (9) and the interlayer film for laminated glass according to (10) or (11), or the laminated glass according to (12) are laminated. Window member obtained by
About.

本発明の赤外線遮蔽シートは、赤外線の広い領域に対して良好な吸収特性に加え反射特性を有し且つ、電波透過性、透明性、製造コストに優れ、低ヘイズ性であり赤外線遮蔽性能を効果的に大幅に向上させることができ、冬季暖房費低減効果および夏期温度低減効果を両方ともに向上させることができる。 The infrared shielding sheet of the present invention has a reflection property in addition to a good absorption property for a wide infrared region, is excellent in radio wave transmission, transparency and manufacturing cost, has low haze, and has an infrared shielding effect. Therefore, both the effect of reducing the heating cost in winter and the effect of reducing the temperature in summer can be improved.

本発明の実施例1に係る赤外線遮蔽シートの波長に対する透過率・反射率、及び地表へ到達する太陽光のエネルギーを示すグラフである。It is a graph which shows the transmittance | permeability and reflectance with respect to the wavelength of the infrared shielding sheet which concerns on Example 1 of this invention, and the energy of the sunlight which reaches | attains the ground surface. 本発明の比較例に係る赤外線遮蔽シートの波長に対する屈折率・反射率を示すグラフである。It is a graph which shows the refractive index and reflectance with respect to the wavelength of the infrared shielding sheet which concerns on the comparative example of this invention. 本発明の実施形態に係る合わせガラス用中間膜の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically an example of the intermediate film for laminated glasses which concerns on embodiment of this invention. 図3に示す合わせガラス用中間膜を用いた合わせガラスの一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically an example of the laminated glass using the intermediate film for laminated glasses shown in FIG.

本発明の赤外線遮蔽シートは、透明支持体上に微粒子を含有した高屈折率樹脂層(A)と微粒子を含有し、780nm〜2500nmの赤外線領域で層(A)よりも低屈折率を示す低屈折率樹脂層(B)が交互に積層した積層膜において、低屈折率樹脂層(B)の少なくとも1層が550nmでの屈折率から780nm以上での任意波長における屈折率を差し引いた値が0.1以上であって、かつ、高屈折率樹脂層(A)の少なくとも1層、及び/または低屈折率樹脂層の少なくとも1層の光学膜厚のQWOT係数が1.5以上である事を特徴とする。なお、本発明での赤外線領域とは780nm〜2500nmの事を示す。 The infrared shielding sheet of the present invention contains a high refractive index resin layer (A) containing fine particles on a transparent support and fine particles, and has a lower refractive index than the layer (A) in the infrared region of 780 nm to 2500 nm. In the laminated film in which the refractive index resin layers (B) are alternately laminated, at least one of the low refractive index resin layers (B) has a value obtained by subtracting the refractive index at an arbitrary wavelength at 780 nm or more from the refractive index at 550 nm. 1. The QWOT coefficient of the optical film thickness of at least one high refractive index resin layer (A) and / or at least one low refractive index resin layer is 1.5 or more. Features. In addition, the infrared region in this invention shows a thing of 780 nm-2500 nm.

本発明に用いられる透明支持体としては、種々の樹脂フィルム、ガラスを用いることができ、ポリオレフィンフィルム(ポリエチレン、ポリプロピレン等)、ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレート(以下、PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート(以下、PEN)等)、ポリカーボネート(以下、PC)、ポリ塩化ビニル、三酢酸セルロース、ポリアミド、ポリイミド等を用いることができる。 As the transparent support used in the present invention, various resin films and glass can be used, polyolefin film (polyethylene, polypropylene, etc.), polyester film (polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as PET), polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate. (Hereinafter referred to as PEN), polycarbonate (hereinafter referred to as PC), polyvinyl chloride, cellulose triacetate, polyamide, polyimide, and the like can be used.

高屈折率樹脂層と低屈折率樹脂層とを交互に積層してなる赤外線遮蔽シートは、赤外線領域における両者の屈折率差と、高屈折率樹脂層の屈折率の絶対値とが赤外線反射機能を決定するのに重要となる。即ち、屈折率差、屈折率の絶対値とも大きい方が赤外線反射機能は大きくなる。 Infrared shielding sheet made by alternately laminating high refractive index resin layer and low refractive index resin layer is the infrared reflection function with both refractive index difference in infrared region and absolute value of refractive index of high refractive index resin layer It is important to decide. That is, the infrared reflection function becomes larger as the refractive index difference and the absolute value of the refractive index are larger.

本発明において、少なくとも隣接した2層(高屈折率樹脂層と低屈折率樹脂層)の屈折率差が反射させる赤外線波長において0.1以上であることを特徴とする。好ましくは0.3以上であり、さらに好ましくは0.35以上である。 In the present invention, a difference in refractive index between at least two adjacent layers (a high refractive index resin layer and a low refractive index resin layer) is 0.1 or more at an infrared wavelength to be reflected. Preferably it is 0.3 or more, More preferably, it is 0.35 or more.

屈折率差が0.2未満の場合は、赤外線反射率を所望の値にする為には積層数が多くなり、可視透過率が低下し、また製造コストが増加するため好ましくない。 If the difference in refractive index is less than 0.2, the number of laminated layers is increased to make the infrared reflectance a desired value, the visible transmittance is reduced, and the production cost is increased, which is not preferable.

反射させる赤外線波長λは一般的に式(1)で与えられる。n、dは高屈折率樹脂層の屈折率、幾何学膜厚、n、dは低屈折率樹脂層の屈折率、幾何学膜厚である。
式(1)
+n=λ/2
The infrared wavelength λ to be reflected is generally given by equation (1). n H and d H are the refractive index and geometric film thickness of the high refractive index resin layer, and n L and d L are the refractive index and geometric film thickness of the low refractive index resin layer.
Formula (1)
n H d H + n L d L = λ / 2

ここで、図1に示すように地表に到達する太陽光の赤外線領域はエネルギーの山がいくつかあり、太陽光の赤外線領域を遮蔽したい場合は、これらエネルギーの山を効率的に遮蔽する事が重要となる。そこで鋭意検討した結果、高屈折率樹脂層又は低屈折率樹脂層いずれかの少なくとも1層の光学膜厚のQWOT係数を1.5以上にすることで、太陽光の赤外線領域を効率的に遮断できることを見出した。ここで、QWOT(quarter wave optical thickness)係数はnd=λ/4のときを1とする。n、dは高屈折率樹脂層若しくは低屈折率樹脂層の屈折率、幾何学膜厚、λは反射させる赤外線波長である。 Here, as shown in FIG. 1, the infrared region of sunlight that reaches the earth's surface has several mountains of energy, and when it is desired to shield the infrared region of sunlight, it is possible to effectively shield these mountains of energy. It becomes important. As a result of intensive studies, the infrared region of sunlight is effectively blocked by increasing the QWOT coefficient of the optical film thickness of at least one of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer to 1.5 or more. I found that I can do it. Here, a QWOT (quarter wave optical thickness) coefficient is set to 1 when nd = λ / 4. n and d are the refractive index of the high refractive index resin layer or the low refractive index resin layer, the geometric film thickness, and λ is the infrared wavelength to be reflected.

また、反射させる赤外線波長は780nm以上が好ましい。780nm未満の場合は、可視光領域になるため可視光透過率が低下するので好ましくない。 The infrared wavelength to be reflected is preferably 780 nm or more. If it is less than 780 nm, the visible light transmittance is lowered because it is in the visible light region, which is not preferable.

本発明の赤外線遮蔽シートの層数は、4層〜30層であること好ましく、より好ましくは4層〜20層、特に好ましくは4層〜15層である。多層膜の層数が4未満であると赤外線の反射機能が不十分であり、また、30層以上になると製造コストの増加、可視光透過率、耐久性の低下、膜応力増加によるフィルムのカールが問題となるので好ましくない。 The number of layers of the infrared shielding sheet of the present invention is preferably 4 to 30 layers, more preferably 4 to 20 layers, and particularly preferably 4 to 15 layers. If the number of layers of the multilayer film is less than 4, the infrared reflection function is insufficient, and if it exceeds 30 layers, the manufacturing cost increases, the visible light transmittance, the durability decreases, and the curl of the film due to an increase in film stress. Is not preferable because it becomes a problem.

赤外線遮蔽シートの光学性能としては、可視光透過率が高く、日射透過率が低いものが理想的であるが、一般的には両者は比例関係にあり、どちらの性能を重視するかにより光学性能を決定することになる。種々検討した結果、照明コスト並びに冬季の暖房コストの上昇を最小限にするためには、本発明の赤外線遮蔽シートの可視光透過率が50%以上、好ましくは70%以上とするが良い。さらに赤外線遮蔽シートのヘイズ値は、透明性を損なわないものとする必要があり、8%以下とするのが良く、好ましくは3%以下とするのが良い。 The ideal optical performance of the infrared shielding sheet is that it has a high visible light transmittance and a low solar transmittance, but generally there is a proportional relationship between them, and the optical performance depends on which performance is important. Will be determined. As a result of various studies, the visible light transmittance of the infrared shielding sheet of the present invention is 50% or more, preferably 70% or more, in order to minimize the increase in lighting cost and winter heating cost. Furthermore, the haze value of the infrared shielding sheet needs to be such that transparency is not impaired, and should be 8% or less, preferably 3% or less.

塗布による屈折率差を利用した多層膜を作製する場合、従来の技術では高屈折率樹脂層に屈折率が高い誘電体微粒子(酸化チタン等)を含有させ、低屈折率樹脂層に屈折率が低い誘電体微粒子(シリカ等)を含有させていた(例えば、特開2012−93481)。可視光領域から赤外線領域における前記誘電体微粒子の屈折率は概ね一定である。 In the case of producing a multilayer film using the difference in refractive index by coating, in the conventional technique, a high refractive index resin layer contains dielectric fine particles (such as titanium oxide) having a high refractive index, and the low refractive index resin layer has a refractive index. Low dielectric fine particles (silica or the like) were contained (for example, JP 2012-93481 A). The refractive index of the dielectric fine particles in the visible light region to the infrared region is substantially constant.

しかし、本発明者らは鋭意検討した結果、可視光領域の屈折率と赤外線領域の屈折率が異なる微粒子群を発見し、さらに赤外吸収能も有していることから、前記微粒子群と従来の誘電体微粒子群を組み合わせることで、より効率的に赤外線領域を遮蔽することが可能となることを見出した。 However, as a result of intensive studies, the present inventors have discovered a group of fine particles having a refractive index in the visible light region and a refractive index in the infrared region, and further have an infrared absorption capability. It was found that the infrared region can be shielded more efficiently by combining the dielectric fine particle groups.

微粒子が含有された高屈折率樹脂層は550nmでの屈折率から780nm以上での任意波長における屈折率を差し引いた値が0.1以下である事が好ましい。また、少なくとも1層の低屈折率樹脂層は550nmでの屈折率から780nm以上での任意波長における屈折率を差し引いた値が0.1以上であって、かつ当該差分の波長領域において、低屈折率樹脂層の屈折率が高屈折率樹脂層より低い屈折率である事が好ましい。 The high refractive index resin layer containing fine particles preferably has a value obtained by subtracting the refractive index at an arbitrary wavelength of 780 nm or more from the refractive index at 550 nm of 0.1 or less. In addition, at least one low refractive index resin layer has a refractive index at 550 nm minus a refractive index at an arbitrary wavelength at 780 nm or more, which is 0.1 or more, and has a low refractive index in the difference wavelength region. The refractive index of the refractive index resin layer is preferably lower than that of the high refractive index resin layer.

前記条件が満たされる高屈折率樹脂層に含有される微粒子は可視光領域の吸収が少なく、赤外線領域で高屈折率を示す微粒子が適している。そのような微粒子としては酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化セリウム、酸化鉛、酸化亜鉛、ダイヤモンド等の誘電体微粒子を例示することができる。これらのうち、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、ダイヤモンドが好適である。また、前記誘電体微粒子ではないが、赤外線領域で高屈折率を示すかつ、赤外吸収能を有する電気伝導性の金属酸化物微粒子としてホウ化物、窒化物を例示することができる。具体的には六ホウ化ランタン、窒化チタンが好適である。 The fine particles contained in the high refractive index resin layer satisfying the above conditions are suitably fine particles that absorb less in the visible light region and exhibit a high refractive index in the infrared region. Examples of such fine particles include dielectric fine particles such as titanium oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, tantalum oxide, tungsten oxide, niobium oxide, cerium oxide, lead oxide, zinc oxide, and diamond. Of these, titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, and diamond are preferable. Further, although not the dielectric fine particles, borides and nitrides can be exemplified as electrically conductive metal oxide fine particles having a high refractive index in the infrared region and having infrared absorption ability. Specifically, lanthanum hexaboride and titanium nitride are suitable.

これら赤外線領域で高屈折率を示す微粒子は単独または2種類以上で用いても良く、さらに積層膜中の各々の高屈折率樹脂層において別々の微粒子を用いても構わない。 These fine particles exhibiting a high refractive index in the infrared region may be used singly or in combination of two or more, and separate fine particles may be used in each high refractive index resin layer in the laminated film.

高屈折率樹脂層中の微粒子の含有率は40〜95重量%、好ましくは60〜90重量%、より好ましくは70〜90重量%である。95重量%より多くなると、バインダー成分が少なくなる為、シート状に作製できなくなる。また、40重量%より少なくなると、樹脂バインダーの屈折率が支配的となり、効果的に赤外領域を反射する事ができない。 The content of fine particles in the high refractive index resin layer is 40 to 95% by weight, preferably 60 to 90% by weight, more preferably 70 to 90% by weight. If it exceeds 95% by weight, the binder component decreases, and it becomes impossible to produce a sheet. On the other hand, if the amount is less than 40% by weight, the refractive index of the resin binder becomes dominant and the infrared region cannot be effectively reflected.

また、少なくとも1層の低屈折率樹脂層に含有される微粒子は、可視光領域の吸収が少なく、赤外線領域で良好な吸収を有し、且つ屈折率が高屈折率樹脂層含有微粒子よりも相対的に低い屈折率を有しているものが適している。そのようなものとして、赤外線領域にプラズマ波長を持っている電気伝導性の金属酸化物微粒子が挙げられる。具体的には、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステン、酸化クロム、酸化モリブデン等を例示することができる。これらのうち、可視光領域に光吸収性の少ない酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステンが好ましく、その中でも酸化インジウムがさらに好ましい。 Further, the fine particles contained in at least one low refractive index resin layer have less absorption in the visible light region, have good absorption in the infrared region, and have a higher refractive index than the fine particles containing the high refractive index resin layer. Those having a particularly low refractive index are suitable. As such, there may be mentioned electrically conductive metal oxide fine particles having a plasma wavelength in the infrared region. Specific examples include tin oxide, indium oxide, zinc oxide, tungsten oxide, chromium oxide, and molybdenum oxide. Among these, tin oxide, indium oxide, zinc oxide, and tungsten oxide having a low light absorption property in the visible light region are preferable, and indium oxide is more preferable among them.

また、これらの金属酸化物微粒子の電気導電性を向上させるために第三成分をドープすることが好ましい。このためのドーパントとしては、酸化スズに対してはSb、V、Nb、Ta等が挙げられ、酸化インジウムに対してはZn、Al、Sn、Sb、Ga、Ge等が挙げられ、酸化亜鉛に対しては、Al、Ga、In、Sn、Sb、Nb等が挙げられ、酸化タングステンに対してはCs、Rb、K、Tl、In、Ba、Li、Ca、Sr、Fe、Sn、Al、Cu等が挙げられる。これらの中でも、Snドープ酸化インジウムが好ましい。また、これらの金属酸化物微粒子の電気導電性を向上させるために第三成分を酸素欠陥にすることも好ましい。このための酸素欠陥としては、酸化タングステンに対して酸素欠陥WO(但し、2.45≦x≦2.999)等が挙げられる。 Moreover, it is preferable to dope the third component in order to improve the electrical conductivity of these metal oxide fine particles. Examples of dopants for this include Sb, V, Nb, Ta, etc. for tin oxide, and Zn, Al, Sn, Sb, Ga, Ge, etc. for indium oxide. On the other hand, Al, Ga, In, Sn, Sb, Nb and the like can be mentioned. For tungsten oxide, Cs, Rb, K, Tl, In, Ba, Li, Ca, Sr, Fe, Sn, Al, Cu etc. are mentioned. Among these, Sn-doped indium oxide is preferable. It is also preferable to make the third component oxygen deficient in order to improve the electrical conductivity of these metal oxide fine particles. Examples of oxygen defects for this purpose include oxygen defects WO x (where 2.45 ≦ x ≦ 2.999) with respect to tungsten oxide.

さらに前記金属酸化物微粒子は、60MPaで圧縮した際の粉体抵抗が100Ω・cm以下、好ましくは10Ω・cm以下、より好ましくは1Ω・cm以下の微粒子が用いられる。粉体抵抗が100Ω・cmより高い微粒子を用いた場合、微粒子のプラズマ共鳴に由来する吸収が2500nmより大きくなり赤外線遮蔽効果が低減する。なお、紛体抵抗の測定法として、紛体抵抗測定システムMCP−PD51型(三菱化学アナリテック製)が好ましいが、これに限定されるものではない。 Further, as the metal oxide fine particles, fine particles having a powder resistance of 100 Ω · cm or less, preferably 10 Ω · cm or less, more preferably 1 Ω · cm or less when compressed at 60 MPa are used. When fine particles having a powder resistance higher than 100 Ω · cm are used, the absorption due to the plasma resonance of the fine particles is larger than 2500 nm, and the infrared shielding effect is reduced. As a method for measuring powder resistance, a powder resistance measurement system MCP-PD51 (Mitsubishi Chemical Analytech) is preferable, but is not limited thereto.

また、電気伝導性の金属酸化物微粒子(以下、電気伝導性微粒子)の他に、低屈折率樹脂層に低屈折率の誘電体微粒子を用いる事ができる。前記誘電体微粒子としてはシリカ、フッ化マグネシウム等を用いることができる。 In addition to electrically conductive metal oxide fine particles (hereinafter referred to as electrically conductive fine particles), low refractive index dielectric fine particles can be used for the low refractive index resin layer. As the dielectric fine particles, silica, magnesium fluoride, or the like can be used.

さらに低屈折率の誘電体微粒子として中空微粒子も用いる事ができる。前記中空微粒子としては中空シリカ、中空アクリルビーズ等の中空微粒子を挙げることができる。中空微粒子の空孔率は10体積%〜90体積%が好ましい。空孔率が10体積%未満の場合は中空微粒子の屈折率が低下せず、低屈折率樹脂層に用いることができない。また空孔率が90体積%より高い場合、中空粒子の機械的強度が低下し、中空を保てなくなるので好ましくない。 Further, hollow fine particles can be used as the dielectric fine particles having a low refractive index. Examples of the hollow fine particles include hollow fine particles such as hollow silica and hollow acrylic beads. The porosity of the hollow fine particles is preferably 10% to 90% by volume. When the porosity is less than 10% by volume, the refractive index of the hollow fine particles does not decrease and cannot be used for the low refractive index resin layer. On the other hand, when the porosity is higher than 90% by volume, the mechanical strength of the hollow particles decreases, and the hollow cannot be maintained, which is not preferable.

低屈折率樹脂層に用いる微粒子(電気伝導性微粒子、誘電体微粒子、中空微粒子)は単独または2種類以上で用いても良く、さらに積層膜中の各々の低屈折率樹脂層において別々の微粒子を用いても構わない。 The fine particles (electrically conductive fine particles, dielectric fine particles, hollow fine particles) used for the low refractive index resin layer may be used alone or in combination of two or more kinds. Further, separate fine particles are used in each low refractive index resin layer in the laminated film. You may use.

低屈折率樹脂層中の微粒子の含有率は40〜95重量%、好ましくは60〜90重量%、より好ましくは70〜90重量%である。95重量%より多くなると、バインダー成分が少なくなる為、シート状に作製できなくなり、かつ微粒子同士が繋がるため電波透過性能が付与できなくなる。40重量%より少なくなると、樹脂バインダーの屈折率が支配的となり、効果的に赤外領域を反射する事ができない。 The content of fine particles in the low refractive index resin layer is 40 to 95% by weight, preferably 60 to 90% by weight, more preferably 70 to 90% by weight. If it exceeds 95% by weight, the binder component decreases, so that it cannot be produced in a sheet form, and the fine particles are connected to each other, so that radio wave transmission performance cannot be imparted. If it is less than 40% by weight, the refractive index of the resin binder becomes dominant, and the infrared region cannot be effectively reflected.

低屈折率樹脂層に電気伝導性微粒子と誘電体微粒子又は中空微粒子を組み合わせる場合、低屈折率樹脂層に含有される微粒子の内、電気伝導性微粒子の割合は10重量%〜90重量%が好ましく、より好ましくは20重量%〜90重量%である。電気伝導性微粒子が10重量%未満の場合は金属酸化物による赤外線吸収能が不足するので好ましくない。90重量%より多い場合は中空微粒子の割合が少なくなり好ましくない。 When electrically conductive fine particles and dielectric fine particles or hollow fine particles are combined with the low refractive index resin layer, the proportion of the electrically conductive fine particles in the low refractive index resin layer is preferably 10% by weight to 90% by weight. More preferably, it is 20 to 90% by weight. When the amount of the electrically conductive fine particles is less than 10% by weight, the infrared absorbing ability by the metal oxide is insufficient, which is not preferable. When the amount is more than 90% by weight, the proportion of hollow fine particles decreases, which is not preferable.

さらに本発明の赤外線遮蔽シートに用いる微粒子は、一次粒子径が300nm以下、好ましくは1nm〜200nmのものが用いられる。一次粒子径が300nmより大きくなると赤外線遮蔽シートにした際、ヘイズ値が高くなり視認性が劣ってしまう。なお、粒径はBET法で測定された比表面積より算出されたものである。 Further, fine particles used in the infrared shielding sheet of the present invention are those having a primary particle diameter of 300 nm or less, preferably 1 nm to 200 nm. When the primary particle diameter is larger than 300 nm, when an infrared shielding sheet is used, the haze value is increased and the visibility is deteriorated. The particle size is calculated from the specific surface area measured by the BET method.

赤外線遮蔽シートの赤外線遮蔽性能、平滑性、低ヘイズ、電波透過性を満たす為に微粒子を適切に分散する事は重要である。分散方法として、サンドミル、アトライター、ボールミル、ホモジナイザー、ロールミル、ビーズミルを用いることが好ましい。これらの中でもビーズミルが特に好ましい。ビーズミルを用いた場合、周速は3m/s〜10m/sが好ましい。3m/sより低くなると、微粒子を十分分散できずに、10m/sより高くなると特に低屈折率樹脂層に含有される電気伝導性微粒子の表面が傷つけられ、赤外線吸収性能が低下する。適正な範囲は用いる装置、バインダー、分散時の微粒子濃度等によって若干異なるが、比較的低い分散エネルギーで分散させた方が良い。さらに、粗粒子が残る場合は更に濾過、遠心分離などの処理で粗粒子を除く事が好ましい。 In order to satisfy the infrared shielding performance, smoothness, low haze, and radio wave permeability of the infrared shielding sheet, it is important to appropriately disperse the fine particles. As a dispersion method, it is preferable to use a sand mill, an attritor, a ball mill, a homogenizer, a roll mill, or a bead mill. Among these, a bead mill is particularly preferable. When a bead mill is used, the peripheral speed is preferably 3 m / s to 10 m / s. If it is lower than 3 m / s, the fine particles cannot be sufficiently dispersed. If it is higher than 10 m / s, the surface of the electrically conductive fine particles contained in the low refractive index resin layer is particularly damaged, and the infrared absorption performance is lowered. The appropriate range varies slightly depending on the apparatus used, the binder, the fine particle concentration at the time of dispersion, etc., but it is better to disperse with a relatively low dispersion energy. Furthermore, when coarse particles remain, it is preferable to remove the coarse particles by a treatment such as filtration or centrifugation.

分散に使用する溶媒とは、特に限定されるものではないが、本発明では水や有機溶媒、また、各々配合し混合物として使用しても良い。有機溶媒としては、例えば炭化水素系溶媒(トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、n−ヘプタン等)、アルコール系溶媒(メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、t−ブタノール、ベンジルアルコール等)、ケトン系溶媒(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセチルアセトン等)、エステル系溶媒(酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸セロソルブ、酢酸アミル等)、エーテル系溶媒(イソプロピルエーテル、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、1、4−ジオキサン等)、グリコール系溶媒(エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール等)、グリコールエーテル系溶媒(ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等)、グリコールエステル系溶媒(エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等)、グライム系溶媒(モノグライム、ジグライム等)、ハロゲン系溶媒(ジクロロメタン、クロロホルム等)、アミド系溶媒(N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン)や、ピリジン、テトラヒドロフラン、スルホラン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシドが挙げられる。好ましくは、水、ケトン系溶媒、アルコール系溶媒、アミド系溶媒、炭化水素系溶媒であり、より好ましくは、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトンである。 The solvent used for dispersion is not particularly limited, but in the present invention, water or an organic solvent may be blended and used as a mixture. Examples of the organic solvent include hydrocarbon solvents (toluene, xylene, hexane, cyclohexane, n-heptane, etc.), alcohol solvents (methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, t-butanol, benzyl alcohol, etc.), ketone solvents. (Acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, acetylacetone, etc.), ester solvents (ethyl acetate, methyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, amyl acetate, etc.), ether solvents (isopropyl ether, methyl cellosolve, butyl cellosolve) 1,4-dioxane, etc.), glycol solvents (ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, etc.), glycol ether solvents Diethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, etc.), glycol ester solvents (ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, etc.), glyme solvents (monoglyme, diglyme, etc.), halogenated solvents ( Dichloromethane, chloroform, etc.), amide solvents (N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone), pyridine, tetrahydrofuran, sulfolane, acetonitrile, dimethyl sulfoxide. Preferred are water, ketone solvents, alcohol solvents, amide solvents, and hydrocarbon solvents, and more preferred are toluene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and acetylacetone.

分散剤としては、脂肪酸塩(石けん)、α−スルホ脂肪酸エステル塩(MES)、アルキルベンゼンスルホン酸塩(ABS)、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩(LAS)、アルキル硫酸塩(AS)、アルキルエーテル硫酸エステル塩(AES)、アルキル硫酸トリエタノールといった低分子陰イオン性(アニオン性)化合物、脂肪酸エタノールアミド、ポリオキシエチレンアルキルエーテル(AE)、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル(APE)、ソルビトール、ソルビタンといった低分子非イオン系化合物、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウムクロリド、アルキルピリジニウムクロリド、といった低分子陽イオン性(カチオン性)化合物、アルキルカルボキシルベタイン、スルホベタイン、レシチンといった低分子両性系化合物や、ナフタレンスルホン酸塩のホルマリン縮合物、ポリスチレンスルホン酸塩、ポリアクリル酸塩、ビニル化合物とカルボン酸系単量体の共重合体塩、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコールなどに代表される高分子水系分散剤、ポリアクリル酸部分アルキルエステル、ポリアルキレンポリアミンといった高分子非水系分散剤、ポリエチレンイミン、アミノアルキルメタクリレート共重合体といった高分子カチオン系分散剤が代表的なものであるが、本発明の粒子に好適に適用されるものであれば、ここに例示したような形態のもの以外の構造を有するものを排除しない。 Dispersants include fatty acid salts (soap), α-sulfo fatty acid ester salts (MES), alkylbenzene sulfonates (ABS), linear alkylbenzene sulfonates (LAS), alkyl sulfates (AS), alkyl ether sulfates Low molecular weight anionic (anionic) compounds such as salt (AES) and alkyl sulfate triethanol, fatty acid ethanolamide, polyoxyethylene alkyl ether (AE), polyoxyethylene alkylphenyl ether (APE), sorbitol, sorbitan Nonionic compounds, low molecular weight cationic (cationic) compounds such as alkyltrimethylammonium salt, dialkyldimethylammonium chloride, alkylpyridinium chloride, alkylcarboxyl betaine, sulfobetatai Low molecular amphoteric compounds such as lecithin, formalin condensate of naphthalene sulfonate, polystyrene sulfonate, polyacrylate, copolymer salt of vinyl compound and carboxylic acid monomer, carboxymethyl cellulose, polyvinyl alcohol, etc. Typical examples are polymeric water-based dispersants such as polyacrylic acid partial alkyl esters and polyalkylene polyamines, and polymer cationic dispersants such as polyethyleneimine and aminoalkyl methacrylate copolymers. However, as long as it is suitably applied to the particles of the present invention, those having a structure other than the ones exemplified here are not excluded.

添加する分散剤としては、具体的名称を挙げると次のようなものが知られている。フローレンDOPA−15B、フローレンDOPA−17(共栄社化学株式会社製)、ソルプラスAX5、ソルプラスTX5、ソルスパース9000、ソルスパース12000、ソルスパース17000、ソルスパース20000、ソルスパース21000、ソルスパース24000、ソルスパース26000、ソルスパース27000、ソルスパース28000、ソルスパース32000、ソルスパース35100、ソルスパース54000、ソルシックス250、(日本ルーブリゾール株式会社製)、EFKA4008、EFKA4009、EFKA4010、EFKA4015、EFKA4046、EFKA4047、EFKA4060、EFKA4080、EFKA7462、EFKA4020、EFKA4050、EFKA4055、EFKA4400、EFKA4401、EFKA4402、EFKA4403、EFKA4300、EFKA4320、EFKA4330、EFKA4340、EFKA6220、EFKA6225、EFKA6700、EFKA6780、EFKA6782、EFKA8503(エフカアディディブズ社製)、アジスパーPA111、アジスパーPB711、アジスパーPB821、アジスパーPB822、アジスパーPN411、フェイメックスL−12(味の素ファインテクノ株式会社製)、TEXAPHOR−UV21、TEXAPHOR−UV61(コグニスジャパン株式会社製)、DisperBYK101、DisperBYK102、DisperBYK106、DisperBYK108、DisperBYK111、DisperBYK116、DisperBYK130、DisperBYK140、DisperBYK142、DisperBYK145、DisperBYK161、DisperBYK162、DisperBYK163、DisperBYK164、DisperBYK166、DisperBYK167、DisperBYK168、DisperBYK170、DisperBYK171、DisperBYK174、DisperBYK180、DisperBYK182、DisperBYK192、DisperBYK193、DisperBYK2000、DisperBYK2001、DisperBYK2020、DisperBYK2025、DisperBYK2050、DisperBYK2070、DisperBYK2155、DisperBYK2164、BYK220S、BYK300、BYK306、BYK320、BYK322、BYK325、BYK330、BYK340、BYK350、BYK377、BYK378、BYK380N、BYK410、BYK425、BYK430(ビックケミー・ジャパン株式会社製)、ディスパロン1751N、ディスパロン1831、ディスパロン1850、ディスパロン1860、ディスパロン1934、ディスパロンDA−400N、ディスパロンDA−703−50、ディスパロンDA−725、ディスパロンDA−705、ディスパロンDA−7301、ディスパロンDN−900、ディスパロンNS−5210、ディスパロンNVI−8514L、ヒップラードED−152、ヒップラードED−216、ヒップラードED−251、ヒップラードED−360(楠本化成株式会社)、FTX−207S、FTX−212P、FTX−220P、FTX−220S、FTX−228P、FTX−710LL、FTX−750LL、フタージェント212P、フタージェント220P、フタージェント222F、フタージェント228P、フタージェント245F、フタージェント245P、フタージェント250、フタージェント251、フタージェント710FM、フタージェント730FM、フタージェント730LL、フタージェント730LS、フタージェント750DM、フタージェント750FM(株式会社ネオス製)、AS−1100、AS−1800、AS−2000(東亞合成株式会社製)、カオーセラ2000、カオーセラ2100、KDH−154、MX−2045L、ホモゲノールL−18、ホモゲノールL−95、レオドールSP−010V、レオドールSP−030V、レオドールSP−L10、レオドールSP−P10(花王株式会社製)、エバンU103、シアノールDC902B、ノイゲンEA−167、ブライサーフA219B、ブライサーフAL(第一工業製薬株式会社製)、メガファックF−477、メガファック480SF、メガファックF−482、(DIC株式会社製)、シルフェイスSAG503A、ダイノール604(日信化学工業株式会社製)、SNスパーズ2180、SNスパーズ2190、SNレベラーS−906(サンノプコ株式会社製)、S−386、S−420(AGCセイミケミカル株式会社製)といったものが例示できる。 The following are known as specific dispersants to be added. Florene DOPA-15B, Florene DOPA-17 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Solplus AX5, Solplus TX5, Solsperse 9000, Solsperse 12000, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse 21000, Solsperse 24000, Solsperse 26000, Solsperse 27000, Solsperse 28000, Solsperse 32000, Solsperse 35100, Solsperse 54000, Sol Six 250, (manufactured by Nippon Lubrizol Corporation), EFKA4008, EFKA4009, EFKA4010, EFKA4015, EFKA4046, EFKA4047, EFKA4060, EFKA7440E, EFKA7440E EFKA4400, EFKA4401, EFKA4402, EFKA4403, EFKA4300, EFKA4320, EFKA4330, EFKA4340, EFKA6220, EFKA6225, EFKA6700, EFKA6780, EFKA8583, EFKA8583 PN411, Famex L-12 (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.), TEXAPHOR-UV21, TEXAPHOR-UV61 (manufactured by Cognis Japan Co., Ltd.), DisperBYK101, DisperBYK102, DisperBYK106, DisperBYK108, DisperBYK111 DisperBYK116, DisperBYK130, DisperBYK140, DisperBYK142, DisperBYK145, DisperBYK161, DisperBYK162, DisperBYK163, DisperBYK164, DisperBYK166, DisperBYK167, DisperBYK168, DisperBYK170, DisperBYK171, DisperBYK174, DisperBYK180, DisperBYK182, DisperBYK192, DisperBYK193, DisperBYK2000, DisperBYK2001, DisperBYK2020, DisperBYK2025, DisperBYK2050, DisperBYK2070, Di SuperBYK2155, DisperBYK2164, BYK220S, BYK300, BYK306, BYK320, BYK322, BYK325, BYK330, BYK340, BYK350, BYK377, BYK378, BYK380N, BYK410, BYK410, BYK410, BYK410, BYK410 , Disparon 1860, Disparon 1934, Disparon DA-400N, Disparon DA-703-50, Disparon DA-725, Disparon DA-705, Disparon DA-7301, Disparon DN-900, Disparon NS-5210, Disparon NVI-8514L, Hip LARD ED-152, Plard ED-216, Hiplard ED-251, Hiplard ED-360 (Enomoto Kasei Co., Ltd.), FTX-207S, FTX-212P, FTX-220P, FTX-220S, FTX-228P, FTX-710LL, FTX-750LL , Aftergent 212P, aftergent 220P, aftergent 222F, aftergent 228P, aftergent 245F, aftergent 245P, aftergent 250, aftergent 251, aftergent 710FM, aftergent 730FM, aftergent 730LL, aftergent 730LS, after Gento 750DM, Aftergent 750FM (manufactured by Neos Co., Ltd.), AS-1100, AS-1800, AS-2000 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), Kao Sera 2000, Kaosela 2100, KDH-154, MX-2045L, Homogenol L-18, Homogenol L-95, Rheodor SP-010V, Rheodor SP-030V, Rheodor SP-L10, Rheodor SP-P10 (manufactured by Kao Corporation), Evan U103, Cyanol DC902B, Neugen EA-167, Blysurf A219B, Blysurf AL (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), MegaFuck F-477, MegaFuck 480SF, MegaFuck F-482 (Dic Corporation) , Sylface SAG503A, Dinol 604 (Nisshin Chemical Co., Ltd.), SN Spurs 2180, SN Spurs 2190, SN Leveler S-906 (San Nopco), S-386, S-420 (AGC Seimi Chemical Co., Ltd.) (Made by company).

本発明に用いる樹脂バインダーとしては微粒子を分散維持できる樹脂であれば、特に制限はなく、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等が挙げられる。 The resin binder used in the present invention is not particularly limited as long as it can disperse and maintain fine particles, and examples thereof include thermoplastic resins, thermosetting resins, and photocurable resins.

熱可塑性樹脂としては、高密度ポリエチレン樹脂、低密度ポリエチレン樹脂、直鎖状低密度ポリエチレン樹脂、超低密度ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリスチレン樹脂、エチレン酢酸ビニルコポリマー、アイオノマー樹脂、エチレンビニルアルコール共重合樹脂、エチレンアクリル酸エチル共重合体、アクリロニトリル・スチレン樹脂、アクリロニトリル・塩素化ポリスチレン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・アクリルゴム・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・EPDM・スチレン共重合樹脂、シリコーンゴム・アクリロニトリル・スチレン共重合樹脂、セルロース・アセテート・ブチレート樹脂、酢酸セルロース樹脂、メタクリル樹脂、エチレン・メチルメタクリレートコポリマー樹脂、エチレン・エチルアクリレート樹脂、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ4フッ化エチレン樹脂、4フッ化エチレン・6フッ化プロピレン共重合樹脂、4フッ化エチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂、4フッ化エチレン・エチレン共重合樹脂、ポリ3フッ化塩化エチレン樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、ナイロン4、6、ナイロン6、ナイロン6、6、ナイロン6、10、ナイロン6、12、ナイロン12、ナイロン6、T、ナイロン9、T、芳香族ナイロン樹脂、ポリアセタール樹脂、超高分子量ポリエチレン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、非晶性コポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、熱可塑性ポリウレタンエラストマー、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、液晶ポリマー、ポリテトラフロロエチレン樹脂、ポリフロロアルコキシ樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリケトン樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、生分解樹脂、バイオマス樹脂が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらの樹脂2種以上を混合させたものであっても良い。 The thermoplastic resins include high density polyethylene resin, low density polyethylene resin, linear low density polyethylene resin, ultra low density polyethylene resin, polypropylene resin, polybutadiene resin, cyclic olefin resin, polymethylpentene resin, polystyrene resin, ethylene acetate Vinyl copolymer, ionomer resin, ethylene vinyl alcohol copolymer resin, ethylene ethyl acrylate copolymer, acrylonitrile / styrene resin, acrylonitrile / chlorinated polystyrene / styrene copolymer resin, acrylonitrile / acrylic rubber / styrene copolymer resin, acrylonitrile / butadiene・ Styrene copolymer resins, acrylonitrile, EPDM, styrene copolymer resins, silicone rubber, acrylonitrile, styrene copolymer resins, cellulose, acetate, Rate resin, cellulose acetate resin, methacrylic resin, ethylene / methyl methacrylate copolymer resin, ethylene / ethyl acrylate resin, vinyl chloride resin, chlorinated polyethylene resin, polytetrafluoroethylene resin, tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene copolymer Resin, tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl vinyl ether copolymer resin, tetrafluoroethylene / ethylene copolymer resin, polytrifluorinated ethylene chloride resin, polyvinylidene fluoride resin, nylon 4, 6, nylon 6, nylon 6, 6 , Nylon 6, 10, nylon 6, 12, nylon 12, nylon 6, T, nylon 9, T, aromatic nylon resin, polyacetal resin, ultrahigh molecular weight polyethylene resin, polybutylene terephthalate resin, polyethylene terephthalate resin, polyester Lena naphthalate resin, amorphous copolyester resin, polycarbonate resin, modified polyphenylene ether resin, thermoplastic polyurethane elastomer, polyphenylene sulfide resin, polyether ether ketone resin, liquid crystal polymer, polytetrafluoroethylene resin, polyfluoroalkoxy resin, polyether Examples include, but are not limited to, imide resins, polysulfone resins, polyketone resins, thermoplastic polyimide resins, polyamideimide resins, polyarylate resins, polysulfone resins, polyethersulfone resins, biodegradable resins, and biomass resins. . Also, a mixture of two or more of these resins may be used.

熱硬化性樹脂としては、加熱により硬化可能な官能基を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、エポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテルを有する硬化性化合物が挙げられる。また、光硬化性樹脂としては、光照射により硬化可能な官能基を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、ビニル基、ビニルエーテル基、アリル基、マレイミド基、(メタ)アクリル基等の不飽和二重結合を有する硬化性化合物を有する樹脂が挙げられる。 The thermosetting resin is not particularly limited as long as it has a functional group curable by heating, and examples thereof include a curable compound having a cyclic ether such as an epoxy group or an oxetanyl group. The photocurable resin is not particularly limited as long as it is a compound having a functional group that can be cured by light irradiation. For example, a vinyl group, vinyl ether group, allyl group, maleimide group, (meth) acryl group, etc. Examples thereof include resins having a curable compound having a saturated double bond.

上記環状エーテルを有する熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、フラン樹脂等が挙げられる。なかでも、反応速度や汎用性の観点からエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、オキセタン樹脂が好適である。上記エポキシ樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビフェニルノボラック型、トリスフェノールノボラック型、ジシクロペンタジエンノボラック型等のノボラック型;ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、2、2’−ジアリルビスフェノールA型、水添ビスフェノール型、ポリオキシプロピレンビスフェノールA型等のビスフェノール型等が挙げられる。また、その他にグリシジルアミン等も挙げられる。 It does not specifically limit as a thermosetting resin which has the said cyclic ether, For example, an epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, an oxetane resin, a furan resin etc. are mentioned. Of these, epoxy resins, alicyclic epoxy resins, and oxetane resins are preferred from the viewpoint of reaction rate and versatility. The epoxy resin is not particularly limited, and examples thereof include novolak types such as phenol novolak type, cresol novolak type, biphenyl novolak type, trisphenol novolak type, dicyclopentadiene novolak type; bisphenol A type, bisphenol F type, 2, 2 Examples thereof include bisphenol types such as' -diallyl bisphenol A type, hydrogenated bisphenol type, and polyoxypropylene bisphenol A type. Other examples include glycidylamine.

上記エポキシ樹脂の市販品としては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、エピクロンN−740、N−770、N−775(以上、いずれも大日本インキ化学社製)、エピコート152、エピコート154(以上、いずれもジャパンエポキシレジン社製)等が挙げられる。クレゾールノボラック型としては、例えば、エピクロンN−660、N−665、N−670、N−673、N−680、N−695、N−665−EXP、N−672−EXP(以上、いずれも大日本インキ化学社製);ビフェニルノボラック型としては、例えば、NC−3000P(日本化薬社製);トリスフェノールノボラック型としては、例えば、EP1032S50、EP1032H60(以上、いずれもジャパンエポキシレジン社製);ジシクロペンタジエンノボラック型としては、例えば、XD−1000−L(日本化薬社製)、HP−7200(大日本インキ化学社製);ビスフェノールA型エポキシ化合物としては、例えば、エピコート828、エピコート834、エピコート1001、エピコート1004(以上、いずれもジャパンエポキシレジン社製)、エピクロン850、エピクロン860、エピクロン4055(以上、いずれも大日本インキ化学工業社製);ビスフェノールF型エポキシ化合物の市販品としては、例えば、エピコート807(ジャパンエポキシレジン社製)、エピクロン830(大日本インキ化学工業社製);2、2’−ジアリルビスフェノールA型としては、例えば、RE−810NM(日本化薬社製);水添ビスフェノール型としては、例えば、ST−5080(東都化成社製);ポリオキシプロピレンビスフェノールA型としては、例えば、EP−4000、EP−4005(以上、いずれも旭電化工業社製)等が挙げられる。 As a commercially available product of the above epoxy resin, for example, as a phenol novolak type epoxy resin, Epicron N-740, N-770, N-775 (all of which are manufactured by Dainippon Ink and Chemicals), Epicoat 152, Epicoat 154 ( As mentioned above, all are Japan Epoxy Resin Co., Ltd.). Examples of the cresol novolac type include epiclone N-660, N-665, N-670, N-673, N-680, N-695, N-665-EXP, N-672-EXP (all of which are large. As a biphenyl novolak type, for example, NC-3000P (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.); As a trisphenol novolak type, for example, EP1032S50, EP1032H60 (all of these are manufactured by Japan Epoxy Resin); Examples of the dicyclopentadiene novolac type include XD-1000-L (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), HP-7200 (manufactured by Dainippon Ink &Chemicals); and examples of the bisphenol A type epoxy compound include epicoat 828 and epicoat 834 Epicoat 1001, Epicoat 1004 (above, Izu Are manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), Epicron 850, Epicron 860, Epicron 4055 (all of which are manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.); Commercially available bisphenol F type epoxy compounds include, for example, Epicoat 807 (Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) ), Epicron 830 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.); 2,2′-diallyl bisphenol A type, for example, RE-810NM (Nippon Kayaku Co., Ltd.); Hydrogenated bisphenol type, for example, ST -5080 (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.); Examples of the polyoxypropylene bisphenol A type include EP-4000 and EP-4005 (all of which are manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.).

上記オキセタン化合物の市販品として、例えば、エタナコールEHO、エタナコールOXBP、エタナコールOXTP、エタナコールOXMA(以上、いずれも宇部興産社製)等が挙げられる。また、上記脂環式エポキシ化合物としては特に限定されず、例えば、セロキサイド2021、セロキサイド2080、セロキサイド3000(以上、いずれもダイセル・ユーシービー社製)等が挙げられる。これらの環状エーテル基を有する硬化性化合物は、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。 Examples of commercially available oxetane compounds include etanacol EHO, etanacol OXBP, etanacol OXTP, etanacol OXMA (all of which are manufactured by Ube Industries, Ltd.). Moreover, it does not specifically limit as said alicyclic epoxy compound, For example, Celoxide 2021, Celoxide 2080, Celoxide 3000 (all are the Daicel UCB company make) etc. are mentioned. These curable compounds having a cyclic ether group may be used alone or in combination of two or more.

上記不飽和二重結合を有する光硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、ビニル基、ビニルエーテル基、アリル基、マレイミド基、(メタ)アクリル基等を有する樹脂が挙げられ、なかでも反応性や汎用性の面より(メタ)アクリル基を有する樹脂が好ましい。なお、本明細書において、(メタ)アクリル基とは、アクリル基又はメタクリル基のことをいう。 The photocurable resin having an unsaturated double bond is not particularly limited, and examples thereof include resins having a vinyl group, a vinyl ether group, an allyl group, a maleimide group, a (meth) acryl group, and the like. From the viewpoint of versatility, a resin having a (meth) acryl group is preferred. In addition, in this specification, a (meth) acryl group means an acryl group or a methacryl group.

(メタ)アクリル基を有する樹脂としては例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、1、4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート、カルビトール(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリン、水酸基含有(メタ)アクリレートと多カルボン酸化合物の酸無水物の反応物であるハーフエステル、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ(メタ)アクリレート、グリセリンポリプロポキシトリ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジ(メタ)アクリレート(例えば日本化薬(株)製、KAYARAD HX−220、HX−620等)、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールとε−カプロラクトンの反応物のポリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレート(例えば日本化薬(株)製、KAYARAD DPHA等)、モノ又はポリグリシジル化合物と(メタ)アクリル酸の反応物であるエポキシ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。 Examples of the resin having a (meth) acryl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 1,4-butanediol mono (meth) acrylate, carbitol (meth) acrylate, and acryloyl. Morpholine, half ester which is a reaction product of hydroxyl group-containing (meth) acrylate and acid anhydride of polycarboxylic acid compound, polyethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate , Di (meth) acrylate of ε-caprolactone adduct of trimethylolpropane polyethoxytri (meth) acrylate, glycerin polypropoxytri (meth) acrylate, and neopentyl glycol hydroxypivalate (For example, KAYARAD HX-220, HX-620, etc., manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), pentaerythritol tetra (meth) acrylate, poly (meth) acrylate, dipentaerythritol and ε-caprolactone reaction product, dipenta Examples include erythritol poly (meth) acrylate (for example, KAYARAD DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), epoxy (meth) acrylate that is a reaction product of a mono- or polyglycidyl compound and (meth) acrylic acid, and the like.

モノ又はポリグリシジル化合物と(メタ)アクリル酸の反応物であるエポキシ(メタ)アクリレートに用いられるグリシジル化合物としては、特に制限はなく、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、4、4’−ビフェニルフェノール、テトラメチルビスフェノールA、ジメチルビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールF、ジメチルビスフェノールF、テトラメチルビスフェノールS、ジメチルビスフェノールS、テトラメチル−4、4’−ビフェノール、ジメチル−4、4’−ビフェニルフェノール、1−(4−ヒドロキシフェニル)−2−[4−(1、1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)エチル)フェニル]プロパン、2、2’−メチレン−ビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、4、4’−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、トリスヒドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ジイソプロピリデン骨格を有するフェノール類、1、1−ジ−4−ヒドロキシフェニルフルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類、フェノール化ポリブタジエン、ブロム化ビスフェノールA、ブロム化ビスフェノールF、ブロム化ビスフェノールS、ブロム化フェノールノボラック、ブロム化クレゾールノボラック、クロル化ビスフェノールS、クロル化ビスフェノールA等のポリフェノール類のグリシジルエーテル化物が挙げられる。 There is no restriction | limiting in particular as a glycidyl compound used for the epoxy (meth) acrylate which is a reaction material of a mono- or polyglycidyl compound and (meth) acrylic acid, For example, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, 4, 4'- Biphenylphenol, tetramethylbisphenol A, dimethylbisphenol A, tetramethylbisphenol F, dimethylbisphenol F, tetramethylbisphenol S, dimethylbisphenol S, tetramethyl-4,4'-biphenol, dimethyl-4,4'-biphenylphenol, 1- (4-hydroxyphenyl) -2- [4- (1,1-bis- (4-hydroxyphenyl) ethyl) phenyl] propane, 2,2′-methylene-bis (4-methyl-6-tert- Butylphenol 4,4'-butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylphenol), trishydroxyphenylmethane, resorcinol, hydroquinone, pyrogallol, phenols having a diisopropylidene skeleton, 1,1-di-4-hydroxy Phenols having a fluorene skeleton such as phenylfluorene, phenolized polybutadiene, brominated bisphenol A, brominated bisphenol F, brominated bisphenol S, brominated phenol novolac, brominated cresol novolac, chlorinated bisphenol S, chlorinated bisphenol A, etc. And glycidyl etherified products of polyphenols.

これらモノ又はポリグリシジル化合物と(メタ)アクリル酸の反応物であるエポキシ(メタ)アクリレートは、そのエポキシ基に当量の(メタ)アクリル酸をエステル化反応させる事によって得ることができる。この合成反応は一般的に知られている方法により行うことが出来る。例えば、レゾルシンジグリシジルエーテルにその当量の(メタ)アクリル酸を、触媒(例えば、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアミン、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、トリフェニルホスフィン、トリフェニルスチビン等)及び重合防止剤(例えば、メトキノン、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、フェノチアジン、ジブチルヒドロキシトルエン等)と共に添加して、例えば80℃〜110℃でエステル化反応を行う。こうして得られた(メタ)アクリル化レゾルシンジグリシジルエーテルは、ラジカル重合性の(メタ)アクリロイル基を有する樹脂である。 The epoxy (meth) acrylate which is a reaction product of these mono- or polyglycidyl compounds and (meth) acrylic acid can be obtained by esterifying an equivalent amount of (meth) acrylic acid to the epoxy group. This synthesis reaction can be performed by a generally known method. For example, resorcin diglycidyl ether with an equivalent amount of (meth) acrylic acid, a catalyst (for example, benzyldimethylamine, triethylamine, benzyltrimethylammonium chloride, triphenylphosphine, triphenylstibine, etc.) and a polymerization inhibitor (for example, methoquinone, Hydroquinone, methylhydroquinone, phenothiazine, dibutylhydroxytoluene and the like) and, for example, an esterification reaction is performed at 80 ° C to 110 ° C. The (meth) acrylated resorcin diglycidyl ether thus obtained is a resin having a radically polymerizable (meth) acryloyl group.

また、本発明の赤外線遮蔽シートの樹脂バインダーは、必要に応じて、光反応開始剤や熱硬化剤を加える事ができる。光反応開始剤としては、光照射により、硬化性樹脂中の不飽和二重結合やエポキシ基等を重合反応させるためのものであれば特に制限は無く、例えば、カチオン重合型光開始剤やラジカル重合型光開始剤が挙げられる。また、熱硬化剤としては、加熱により硬化性樹脂中の不飽和二重結合やエポキシ基等を反応させ、架橋させるためのものであれば特に制限は無く、例えば酸無水物、アミン類、フェノール類、イミダゾール類、ジヒドラジン類、ルイス酸、ブレンステッド酸塩類、ポリメルカプトン類、イソシアネート類、ブロックイソシアネート類等が挙げられる。 Moreover, the resin binder of the infrared shielding sheet of this invention can add a photoreaction initiator and a thermosetting agent as needed. The photoinitiator is not particularly limited as long as it is for polymerizing an unsaturated double bond or an epoxy group in the curable resin by light irradiation. For example, a cationic polymerization type photoinitiator or a radical is used. A polymerization type photoinitiator is mentioned. The thermosetting agent is not particularly limited as long as it is for reacting and crosslinking the unsaturated double bond or epoxy group in the curable resin by heating. For example, acid anhydride, amines, phenol Imidazoles, dihydrazines, Lewis acids, Bronsted acid salts, polymercaptons, isocyanates, blocked isocyanates and the like.

赤外線遮蔽シート中の各層の微粒子の含有率は40重量%〜95重量%、好ましくは50重量%〜90重量%、より好ましくは60重量%〜90重量%である。95重量%より多くなると、バインダー成分が少なくなる為、膜が硬化しなくなり、積層することが困難となる。さらに、電気伝導性微粒子の場合、微粒子同士が繋がるため電波透過性能が付与できなくなる。また、40重量%より少なくなると、樹脂バインダーの屈折率が支配的となり赤外反射性能を付与できなくなる。 The content of fine particles in each layer in the infrared shielding sheet is 40% to 95% by weight, preferably 50% to 90% by weight, more preferably 60% to 90% by weight. If it exceeds 95% by weight, the binder component decreases, so that the film is not cured and it becomes difficult to laminate. Furthermore, in the case of electrically conductive fine particles, the fine particles are connected to each other, so that radio wave transmission performance cannot be imparted. On the other hand, when the amount is less than 40% by weight, the refractive index of the resin binder is dominant and the infrared reflection performance cannot be imparted.

本発明において高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層の表面抵抗は10Ω/□以上、好ましくは10Ω/□以上、より好ましくは10Ω/□以上である。10Ω/□より低いと、電波を透過しなくなるので好ましくない。 In the present invention, the surface resistance of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer is 10 3 Ω / □ or more, preferably 10 4 Ω / □ or more, more preferably 10 6 Ω / □ or more. If it is lower than 10 3 Ω / □, radio waves cannot be transmitted, which is not preferable.

また、各層の表面の最大高低差は70nm以下、好ましくは60nm以下、より好ましくは50nm以下である。凝集微粒子がなくなるまで分散させてから薄膜塗工をすると、好ましい微粒子層表面の最大高低差が得られる。また、70nm以上の表面粗さがあると、膜表面で入射した近赤外光の散乱が起きてしまい、良好な反射性能を付与できなくなる。 Further, the maximum height difference of the surface of each layer is 70 nm or less, preferably 60 nm or less, more preferably 50 nm or less. When thin film coating is performed after dispersing until the aggregated fine particles disappear, a preferable maximum height difference on the surface of the fine particle layer can be obtained. On the other hand, if there is a surface roughness of 70 nm or more, near-infrared light incident on the film surface will scatter, and good reflection performance cannot be imparted.

本発明の赤外線遮蔽シートは、高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層を、公知の塗布方式から適宜選択して、支持体上に塗布、乾燥して製造することが好ましい。塗布方式について特に限定しないが、コンマコーター、スプレーコーター、ロールコーター、ナイフコーター等が挙げられるが、各層の平滑性の為に好ましくはバーコーター、スピンコーター、ダイコーター、マイクログラビアコーター等の薄膜作製に適したコーティング装置の使用が良い。 The infrared shielding sheet of the present invention is preferably produced by appropriately selecting a high refractive index resin layer and a low refractive index resin layer from known coating methods and applying and drying on a support. Although it does not specifically limit about a coating system, A comma coater, a spray coater, a roll coater, a knife coater, etc. are mentioned, but thin film production such as a bar coater, a spin coater, a die coater, and a micro gravure coater is preferable for the smoothness of each layer. Use a coating device suitable for

また、赤外線遮蔽シート中若しくは新たに別の層に、必要に応じ、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤等の各種添加剤を添加することができる。さらに目的に応じて赤外線遮蔽シートの上に粘着層、ハードコート層等の機能性シートを積層させて赤外線遮蔽積層シートとしても構わない。 Moreover, various additives, such as a ultraviolet absorber, antioxidant, a light stabilizer, can be added to an infrared shielding sheet or a new layer as needed, for example. Furthermore, depending on the purpose, functional sheets such as an adhesive layer and a hard coat layer may be laminated on the infrared shielding sheet to form an infrared shielding laminated sheet.

本発明の赤外線遮蔽シートでは遮蔽できない赤外領域については、赤外線吸収色素、コレステリック液晶膜、複屈折多層膜等の公知の材料を組み合わせても良い。 For the infrared region that cannot be shielded by the infrared shielding sheet of the present invention, known materials such as an infrared absorbing dye, a cholesteric liquid crystal film, and a birefringent multilayer film may be combined.

本発明の赤外線遮蔽シートと組み合わせる赤外線吸収色素としては、特に限定されるものではないが、具体的には、700nm〜2500nmに吸収極大をもつ赤外線吸収色素、好ましく750〜1500nmに吸収極大をもつ赤外線吸収色素、より好ましくは780〜1100nmに吸収極大をもつ赤外線吸収色素である。例えば、フタロシアニン系色素、アントラキノン系色素、ジチオール系色素、ジイモニウム系色素、アンスラキノン系色素、ジチオール金属錯体系色素、スクアリリウム系色素、ナフタロシアニン系色素、アミニウム系色素、有機金属錯体系色素、シアニン系色素、アゾ色素、ポリメチン系色素、キノン系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素、メルカプトナフトール系色素を用いることができる。 The infrared absorbing dye to be combined with the infrared shielding sheet of the present invention is not particularly limited, but specifically, an infrared absorbing dye having an absorption maximum at 700 nm to 2500 nm, preferably an infrared having an absorption maximum at 750 to 1500 nm. Absorbing dyes, more preferably infrared absorbing dyes having an absorption maximum at 780 to 1100 nm. For example, phthalocyanine dyes, anthraquinone dyes, dithiol dyes, diimonium dyes, anthraquinone dyes, dithiol metal complex dyes, squarylium dyes, naphthalocyanine dyes, aminium dyes, organometallic complex dyes, cyanine dyes Dyes, azo dyes, polymethine dyes, quinone dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, and mercaptonaphthol dyes can be used.

これらの中でも、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、アントラキノン系色素が好適に用いられる。 Among these, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, and anthraquinone dyes are preferably used.

赤外線吸収色素は、高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層にそれぞれ含有されても良く、また赤外線吸収色素を含有する層を新たに設けても良い。 The infrared absorbing dye may be contained in each of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer, or a layer containing the infrared absorbing dye may be newly provided.

本発明の赤外線遮蔽シートと組み合わせるコレステリック液晶膜は、一平面上では分子軸が一定の方向に並んでいるが、次の平面では分子軸の方向が少し角度をなしてずれ、さらに次の平面では角度がずれるという具合に、該平面の法線方向に分子軸の角度が次々にずれていく構造である。このような分子軸の方向がねじれていく構造はカイラル構造と呼ばれる。該平面の法線(カイラル軸)はコレステリック液晶層の厚み方向に略平行になっていることが好ましい。 In the cholesteric liquid crystal film combined with the infrared shielding sheet of the present invention, the molecular axes are aligned in a certain direction on one plane, but the molecular axes are shifted slightly from each other on the next plane, and further on the next plane. In this structure, the angles of the molecular axes are shifted one after another in the normal direction of the plane such that the angles are shifted. Such a structure in which the direction of the molecular axis is twisted is called a chiral structure. The normal line (chiral axis) of the plane is preferably substantially parallel to the thickness direction of the cholesteric liquid crystal layer.

コレステリック液晶材料に光が入射すると、特定波長領域の左回り及び右回りのうち一方の円偏光が反射される。カイラル構造において分子軸がねじれる時の回転軸を表すらせん軸と、コレステリック液晶材料の法線とが平行である場合、カイラル構造のピッチ長pと反射される円偏光の波長λとは下記式(2)および式(3)の関係を有する。
式(2)
式(3)
式(2)及び式(3)中、λは反射させる波長領域の中心波長、nは液晶化合物の短軸方向の屈折率、nは液晶化合物の長軸方向の屈折率、nは(n+n)/2、θは光の入射角(面法線からの角度)を表す。
When light is incident on the cholesteric liquid crystal material, one of the circularly polarized light in the counterclockwise direction and the clockwise direction in the specific wavelength region is reflected. When the helical axis representing the rotation axis when the molecular axis is twisted in the chiral structure and the normal line of the cholesteric liquid crystal material are parallel, the pitch length p of the chiral structure and the wavelength λ c of the circularly polarized light reflected are as follows: It has the relationship of (2) and Formula (3).
Formula (2)
Formula (3)
In the formula (2) and (3), lambda c is the center wavelength of the wavelength region to be reflected, n o is the minor axis direction of the refractive index of the liquid crystal compounds, n e is the refractive index of the long axis of the liquid crystal compounds, n (N o + n e ) / 2, θ represents the incident angle of light (angle from the surface normal).

これより、反射させる波長領域の中心波長は、コレステリック液晶材料におけるカイラル構造のピッチ長に依存する。このカイラル構造のピッチ長を変えることにより反射させる中心波長を変えることができる。 Thus, the center wavelength of the wavelength region to be reflected depends on the pitch length of the chiral structure in the cholesteric liquid crystal material. The central wavelength to be reflected can be changed by changing the pitch length of the chiral structure.

コレステリック液晶材料の層数は、1層でもよく、2層以上でもよい。層数が2層以上あると、反射できる赤外線の波長帯域を広げることができるので好ましい。 The number of layers of the cholesteric liquid crystal material may be one or two or more. It is preferable that the number of layers is two or more because the wavelength band of infrared rays that can be reflected can be expanded.

コレステリック液晶材料を2層以上にする場合、反射させる中心波長領域をより効率的に反射させるには、分子軸のねじれ方向が異なるコレステリック液晶層を組み合わせることが好ましい。つまり右円偏光と左円偏光の両方を反射することが可能となり、効果的な反射率を実現することができる。また、コレステリック液晶材料を2層以上にする際、反射させる波長領域を広範囲にしたい場合は、ピッチ長のことなるコレステリック液晶層を組み合わせることが好ましく、さらにねじれ方向が異なるコレステリック液晶層を組み合わせることでより広範囲な近赤外波長領域を高効率に反射することが可能である。層数、右円偏光、左円偏光コレステリック液晶層等の組合せは、製造コスト、可視光透過率等を鑑みて適切な組み合わせを用いることができる。 When two or more cholesteric liquid crystal materials are used, it is preferable to combine cholesteric liquid crystal layers having different molecular axis twist directions in order to more efficiently reflect the central wavelength region to be reflected. That is, both right circularly polarized light and left circularly polarized light can be reflected, and an effective reflectance can be realized. In addition, when two or more cholesteric liquid crystal materials are used, it is preferable to combine cholesteric liquid crystal layers having different pitch lengths when combining a wide range of reflected wavelengths. A wider range of near-infrared wavelength regions can be reflected with high efficiency. As the combination of the number of layers, the right circularly polarized light, the left circularly polarized cholesteric liquid crystal layer, and the like, an appropriate combination can be used in view of manufacturing cost, visible light transmittance, and the like.

コレステリック液晶材料は、硬化性の液晶組成物を用いるのが好ましい。前記液晶組成物の一例は、棒状液晶化合物、光学活性化合物(キラル化合物)及び重合開始剤を少なくとも含有する。各成分を2種以上含んでいてもよい。例えば、重合性の液晶化合物と非重合性の液晶化合物との併用が可能である。また、低分子液晶化合物と高分子液晶化合物との併用も可能である。更に、配向の均一性や塗布適性、膜強度を向上させるために、水平配向性、ムラ防止剤、ハジキ防止剤、及び重合性モノマー等の種々の添加剤から選ばれる少なくとも一種を含有していてもよい。また、前記液晶組成物中には、必要に応じて、さらに重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、色材、金属酸化物微粒子等を、光学性能を低下させない範囲で添加することができる。 As the cholesteric liquid crystal material, a curable liquid crystal composition is preferably used. An example of the liquid crystal composition contains at least a rod-like liquid crystal compound, an optically active compound (chiral compound), and a polymerization initiator. Two or more of each component may be included. For example, a polymerizable liquid crystal compound and a non-polymerizable liquid crystal compound can be used in combination. Also, a combination of a low-molecular liquid crystal compound and a high-molecular liquid crystal compound is possible. Furthermore, in order to improve the uniformity of alignment, applicability, and film strength, it contains at least one selected from various additives such as horizontal alignment, unevenness inhibitor, repellency inhibitor, and polymerizable monomer. Also good. Further, in the liquid crystal composition, a polymerization inhibitor, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a colorant, metal oxide fine particles, and the like are further added as necessary so as not to deteriorate the optical performance. can do.

(1)棒状液晶化合物
棒状液晶化合物としては、棒状ネマチック液晶化合物である。前記棒状ネマチック液晶化合物の例には、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類等の低分子液晶化合物および高分子液晶化合物が好ましく用いられる。
(1) Rod-like liquid crystal compound The rod-like liquid crystal compound is a rod-like nematic liquid crystal compound. Examples of the rod-like nematic liquid crystal compound include azomethines, azoxys, cyanobiphenyls, cyanophenyl esters, benzoic acid esters, cyclohexanecarboxylic acid phenyl esters, cyanophenylcyclohexanes, cyano-substituted phenylpyrimidines, phenyldioxane. Low molecular liquid crystal compounds and high molecular liquid crystal compounds such as alkenyl, tolanes and alkenylcyclohexylbenzonitriles are preferably used.

本発明に使用する棒状液晶化合物は、重合性であっても非重合性であってもよい。重合性基を有しない棒状液晶化合物については、様々な文献(例えば、Y.Goto et.al.、 Mol.Cryst. Liq. Cryst. 1995、 Vol. 260、 pp.23−28)に記載がある。
重合性棒状液晶化合物は、重合性基を棒状液晶化合物に導入することにより得られる。重合性基の例には、不飽和重合性基、エポキシ基、及びアジリジニル基が含まれ、不飽和重合性基が好ましく、エチレン性不飽和重合性基が特に好ましい。重合性基は種々の方法で、棒状液晶化合物の分子中に導入できる。重合性棒状液晶化合物が有する重合性基の個数は、好ましくは1個〜6個、より好ましくは1個〜3個である。重合性棒状液晶化合物の例は、Makromol.Chem.、190巻、2255頁(1989年)、Advanced Materials 5巻、107頁(1993年)、米国特許第4683327号明細書、同5622648号明細書、同5770107号明細書、国際公開WO95/22586号公報、同95/24455号公報、同97/00600号公報、同98/23580号公報、同98/52905号公報、特開平1−272551号公報、同6−16616号公報、同7−110469号公報、同11−80081号公報、及び特開2001−328973号公報などに記載の化合物が含まれる。2種類以上の重合性棒状液晶化合物を併用してもよい。2種類以上の重合性棒状液晶化合物を併用すると、配向温度を低下させることができる。
The rod-like liquid crystal compound used in the present invention may be polymerizable or non-polymerizable. The rod-like liquid crystal compound having no polymerizable group is described in various documents (for example, Y. Goto et.al., Mol. Cryst. Liq. Cryst. 1995, Vol. 260, pp. 23-28). .
The polymerizable rod-like liquid crystal compound can be obtained by introducing a polymerizable group into the rod-like liquid crystal compound. Examples of the polymerizable group include an unsaturated polymerizable group, an epoxy group, and an aziridinyl group, preferably an unsaturated polymerizable group, and particularly preferably an ethylenically unsaturated polymerizable group. The polymerizable group can be introduced into the molecule of the rod-like liquid crystal compound by various methods. The number of polymerizable groups possessed by the polymerizable rod-like liquid crystal compound is preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 3. Examples of the polymerizable rod-like liquid crystal compound are described in Makromol. Chem. 190, 2255 (1989), Advanced Materials 5, 107 (1993), US Pat. Nos. 4,683,327, 5,622,648, and 5770107, International Publication WO95 / 22586 No. 95/24455, No. 97/00600, No. 98/23580, No. 98/52905, JP-A-1-272551, No. 6-16616, and No. 7-110469. 11-80081 and JP-A 2001-328773, and the like. Two or more kinds of polymerizable rod-like liquid crystal compounds may be used in combination. When two or more kinds of polymerizable rod-like liquid crystal compounds are used in combination, the alignment temperature can be lowered.

(2)光学活性化合物(キラル剤)
前記液晶組成物は、コレステリック液晶相を示すものであり、そのためには、光学活性化合物を含有しているのが好ましい。ただし、上記棒状液晶化合物が不斉炭素原子を有する分子である場合には、光学活性化合物を添加しなくても、コレステリック液晶層を安定的に形成可能である場合もある。前記光学活性化合物は、公知の種々のキラル剤(例えば、液晶デバイスハンドブック、第3章4−3項、TN、STN用カイラル剤、199頁、日本学術振興会第142委員会編、1989に記載)から選択することができる。光学活性化合物は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物あるいは面性不斉化合物もカイラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン及びこれらの誘導体が含まれる。光学活性化合物(キラル剤)は、重合性基を有していてもよい。光学活性化合物が重合性基を有するとともに、併用する棒状液晶化合物も重合性基を有する場合は、重合性光学活性化合物と重合性棒状液晶化合物との重合反応により、棒状液晶化合物から誘導される繰り返し単位と、光学活性化合物から誘導される繰り返し単位とを有するポリマーを形成することができる。この態様では、重合性光学活性化合物が有する重合性基は、重合性棒状液晶化合物が有する重合性基と、同種の基であることが好ましい。したがって、光学活性化合物の重合性基も、不飽和重合性基、エポキシ基又はアジリジニル基であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることが特に好ましい。また、光学活性化合物は、液晶化合物であってもよい。
(2) Optically active compound (chiral agent)
The liquid crystal composition exhibits a cholesteric liquid crystal phase, and for that purpose, it preferably contains an optically active compound. However, when the rod-like liquid crystal compound is a molecule having an asymmetric carbon atom, the cholesteric liquid crystal layer may be formed stably without adding an optically active compound. The optically active compound is known in various known chiral agents (for example, liquid crystal device handbook, Chapter 3-4-3, TN, chiral agent for STN, 199 pages, edited by Japan Society for the Promotion of Science, 142nd Committee, 1989). ) Can be selected. The optically active compound generally contains an asymmetric carbon atom, but an axially asymmetric compound or a planar asymmetric compound that does not contain an asymmetric carbon atom can also be used as a chiral agent. Examples of the axial asymmetric compound or the planar asymmetric compound include binaphthyl, helicene, paracyclophane, and derivatives thereof. The optically active compound (chiral agent) may have a polymerizable group. When the optically active compound has a polymerizable group and the rod-shaped liquid crystal compound used in combination also has a polymerizable group, the repetition is derived from the rod-shaped liquid crystal compound by a polymerization reaction between the polymerizable optically active compound and the polymerizable rod-shaped liquid crystal compound. Polymers having units and repeating units derived from optically active compounds can be formed. In this embodiment, the polymerizable group possessed by the polymerizable optically active compound is preferably the same group as the polymerizable group possessed by the polymerizable rod-like liquid crystal compound. Therefore, the polymerizable group of the optically active compound is also preferably an unsaturated polymerizable group, an epoxy group or an aziridinyl group, more preferably an unsaturated polymerizable group, and an ethylenically unsaturated polymerizable group. Is particularly preferred. The optically active compound may be a liquid crystal compound.

前記液晶組成物中の光学活性化合物は、併用される液晶化合物に対して、0.1モル%〜30モル%であることが好ましい。光学活性化合物の使用量は、より少なくしたほうが液晶性に影響を及ぼさないことが多いため好まれる。したがって、キラル剤として用いられる光学活性化合物は、少量でも所望の螺旋ピッチの捻れ配向を達成可能なように、強い捩り力のある化合物が好ましい。この様な、強い捻れ力を示すキラル剤としては、例えば、特開2003−287623号公報に記載のキラル剤が挙げられ、本発明に好ましく用いることができる。 The optically active compound in the liquid crystal composition is preferably 0.1 mol% to 30 mol% with respect to the liquid crystal compound used in combination. A smaller amount of the optically active compound is preferred because it often does not affect the liquid crystallinity. Therefore, the optically active compound used as the chiral agent is preferably a compound having a strong twisting power so that a twisted orientation with a desired helical pitch can be achieved even with a small amount. As such a chiral agent exhibiting a strong twisting force, for example, a chiral agent described in JP-A No. 2003-287623 can be mentioned and can be preferably used in the present invention.

(3)重合開始剤
前記光反射層の形成に用いる液晶組成物は、重合性液晶組成物であるのが好ましく、そのためには、重合開始剤を含有しているのが好ましい。本発明では、紫外線照射により硬化反応を進行させるので、使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であるのが好ましい。上記光重合開始剤は特に限定されず、例えば、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン(チバスペシャリティーケミカルズ社製「イルガキュアー907」)、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバスペシャリティーケミカルズ社製「イルガキュアー184」)、4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン(チバスペシャリティーケミカルズ社製「イルガキュアー2959」)、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン(メルク社製「ダロキュアー953」)、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン(メルク社製「ダロキュアー1116」)、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン(チバスペシャリティーケミカルズ社製「イルガキュアー1173」)、ジエトキシアセトフェノン等のアセトフェノン化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、2、2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン(チバスペシャリティーケミカルズ社製「イルガキュアー651」)等のベンゾイン化合物、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド、3、3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン(日本化薬社製「カヤキュアーMBP」)等のベンゾフェノン化合物、チオキサントン、2−クロルチオキサントン(日本化薬社製「カヤキュアーCTX」)、2−メチルチオキサントン、2、4−ジメチルチオキサントン(日本化薬社製「カヤキュアーRTX」)、イソプロピルチオキサントン、2、4−ジクロオチオキサントン(日本化薬社製「カヤキュアーCTX」)、2、4−ジエチルチオキサントン(日本化薬社製「カヤキュアーDETX」)、2、4−ジイソプロピルチオキサントン(日本化薬社製「カヤキュアーDITX 」)等のチオキサントン化合物等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。
(3) Polymerization initiator The liquid crystal composition used for forming the light reflecting layer is preferably a polymerizable liquid crystal composition, and for that purpose, it preferably contains a polymerization initiator. In the present invention, since the curing reaction is advanced by irradiation with ultraviolet rays, the polymerization initiator to be used is preferably a photopolymerization initiator capable of starting the polymerization reaction by irradiation with ultraviolet rays. The photopolymerization initiator is not particularly limited. For example, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one (“Irgacure 907” manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone ("Irgacure 184" manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl (2-hydroxy-2-propyl) ketone ("Irgacure" manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 2959 "), 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one (" Darocur 953 "manufactured by Merck & Co.), 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2- Methylpropan-1-one (Merck "Darocur 1116"), -Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one ("Irgacure 1173" manufactured by Ciba Specialty Chemicals), acetophenone compounds such as diethoxyacetophenone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether Benzoin compounds such as benzoin isobutyl ether, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone (“Irgacure 651” manufactured by Ciba Specialty Chemicals), benzoylbenzoic acid, methyl benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, 3,3′-dimethyl-4-methoxybenzophenone (“Kayacure MBP” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), etc. Benzophenone compound, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone (“Kayacure CTX” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 2-methylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone (“Kayacure RTX” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), isopropylthioxanthone, 2, 4 -Diclothiothioxanthone (“Kayacure CTX” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 2,4-diethylthioxanthone (“Kayacure DETX” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 2,4-Diisopropylthioxanthone (“Kayacure DITX” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) ) And the like. These photoinitiators may be used independently and 2 or more types may be used together.

組成物中の上記光重合開始剤の含有量は特に限定されないが、上記重合性液晶化合物や(メタ)アクリレート系のモノマー組成物100重量部に対して、好ましい下限は0.5重量部、好ましい上限は10重量部以下であり、より好ましい下限は2重量部、より好ましい上限は8重量部である。 The content of the photopolymerization initiator in the composition is not particularly limited, but the preferred lower limit is preferably 0.5 parts by weight, preferably 100 parts by weight of the polymerizable liquid crystal compound or the (meth) acrylate monomer composition. The upper limit is 10 parts by weight or less, the more preferable lower limit is 2 parts by weight, and the more preferable upper limit is 8 parts by weight.

上記光重合開始剤として、上記ベンゾフェノン化合物や上記チオキサントン化合物を用いる場合には、光重合反応を促進させるために、反応助剤を併用することが好ましい。上記反応助剤としては特に限定されず、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、n−ブチルアミン、N−メチルジエタノールアミン、ジエチルアミノエチルメタアクリレート、ミヒラーケトン、4、4’−ジエチルアミノフェノン、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸(n−ブトキシ)エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等のアミン化合物が挙げられる。 When the benzophenone compound or the thioxanthone compound is used as the photopolymerization initiator, it is preferable to use a reaction aid together in order to promote the photopolymerization reaction. The reaction aid is not particularly limited, and examples thereof include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, n-butylamine, N-methyldiethanolamine, diethylaminoethyl methacrylate, Michler's ketone, 4,4′-diethylaminophenone, 4- Examples include amine compounds such as ethyl dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate (n-butoxy), and isoamyl 4-dimethylaminobenzoate.

上記重合性液晶組成物中の上記反応助剤の含有量は特に限定されないが、上記重合性液晶組成物の液晶性に影響を与えない範囲で使用することが好ましく、上記重合性液晶化合物と紫外線硬化型の重合性化合物の合計100重量部に対して、好ましい下限は0.5重量部、好ましい上限は10重量部以下であり、より好ましい下限は2重量部、より好ましい上限は8重量部である。また、上記反応助剤の含有量は、上記光重合開始剤の含有量に対して、0.5倍量〜2倍量であることが好ましい。 The content of the reaction aid in the polymerizable liquid crystal composition is not particularly limited, but is preferably used in a range that does not affect the liquid crystal properties of the polymerizable liquid crystal composition. A preferred lower limit is 0.5 parts by weight, a preferred upper limit is 10 parts by weight or less, a more preferred lower limit is 2 parts by weight, and a more preferred upper limit is 8 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the curable polymerizable compound. is there. Moreover, it is preferable that content of the said reaction adjuvant is 0.5 to 2 times amount with respect to content of the said photoinitiator.

更に、上記組成物には必要に応じてレベリング剤、消泡剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、酸化防止剤、重合禁止剤架橋剤、可塑剤、無機微粒子、フィラー等を添加し、それぞれ目的とする機能性を付与することも可能である。レベリング剤としてはフッ素系化合物、シリコーン系化合物、アクリル系化合物等が挙げられる。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物等が挙げられ、光安定化剤としてはヒンダードアミン系化合物、ベンゾエート系化合物等が挙げられ、酸化防止剤としてはフェノール系化合物等が挙げられる。
重合禁止剤としては、メトキノン、メチルハイドロキノン、ハイドロキノン等が挙げられ、架橋剤としては、前記ポリイソシアネート類、メラミン化合物等が挙げられる。
可塑剤としてはジメチルフタレートやジエチルフタレートのようなフタル酸エステル、トリス(2−エチルヘキシル)トリメリテートのようなトリメリト酸エステル、ジメチルアジペートやジブチルアジペートのような脂肪族二塩基酸エステル、トリブチルホスフェートやトリフェニルホスフェートのような正燐酸エステル、グリセルトリアセテートや2−エチルヘキシルアセテートのような酢酸エステルが挙げられる。
Furthermore, a leveling agent, an antifoaming agent, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antioxidant, a polymerization inhibitor, a crosslinking agent, a plasticizer, inorganic fine particles, a filler, and the like are added to the above composition as necessary. It is also possible to impart the desired functionality. Examples of the leveling agent include fluorine compounds, silicone compounds, acrylic compounds, and the like. Examples of ultraviolet absorbers include benzotriazole compounds, benzophenone compounds, and triazine compounds. Examples of light stabilizers include hindered amine compounds and benzoate compounds. Examples of antioxidants include phenol compounds. Is mentioned.
Examples of the polymerization inhibitor include methoquinone, methylhydroquinone, hydroquinone and the like, and examples of the crosslinking agent include the polyisocyanates and melamine compounds.
Plasticizers include phthalates such as dimethyl phthalate and diethyl phthalate, trimellitic esters such as tris (2-ethylhexyl) trimellitate, aliphatic dibasic esters such as dimethyl adipate and dibutyl adipate, tributyl phosphate and triphenyl. Examples thereof include orthophosphate esters such as phosphate and acetate esters such as glyceryl triacetate and 2-ethylhexyl acetate.

コレステリック液晶層の塗布の方法に関しては特に限定しないが、コンマコーター、スプレーコーター、ロールコーター、ナイフコーター、等が挙げられるが、微粒子含有層表面の平滑性の為に好ましくはバーコーター、スピンコーター、ダイコーター、マイクログラビアコーター等の薄膜作製に適したコーティング装置の使用が良い。また、コレステリック液晶層中の液晶化合物の配向方向をより精密に規定するために、コレステリック液晶層を塗布する層(微粒子層、基板等)の表面を配向させてもよい。配向するためには基板の表面をラビング処理して配向面を形成するのが好ましい。 The method for applying the cholesteric liquid crystal layer is not particularly limited, and examples thereof include a comma coater, a spray coater, a roll coater, a knife coater, and the like, but preferably a bar coater, a spin coater, Use of a coating apparatus suitable for thin film production such as a die coater and a micro gravure coater is preferable. Further, in order to more precisely define the alignment direction of the liquid crystal compound in the cholesteric liquid crystal layer, the surface of the layer (fine particle layer, substrate, etc.) to which the cholesteric liquid crystal layer is applied may be aligned. In order to align, it is preferable to form an alignment surface by rubbing the surface of the substrate.

本発明の赤外線遮蔽シートと組み合わせる複屈折多層膜は、複屈折(好ましくは正の複屈折)を有する層(以下、複屈折層)と等方屈折または負の複屈折を有する層(以下、等方屈折層)とを交互に積層して構成されており、複屈折層と等方屈折層との間の屈折率差およびそれぞれの幾何学膜厚によって引き起こされるコヒーレント干渉に基づいている。平面内屈折率が複屈折層と等方屈折層との間で異なる時、前記2層の間の境界面は反射面を形成する。 The birefringent multilayer film combined with the infrared shielding sheet of the present invention includes a layer having birefringence (preferably positive birefringence) (hereinafter, birefringent layer) and a layer having isotropic refraction or negative birefringence (hereinafter, etc.). Birefringent layers), and is based on the coherent interference caused by the refractive index difference between the birefringent layer and the isotropic refractive layer and the respective geometric film thicknesses. When the in-plane refractive index is different between the birefringent layer and the isotropic refractive layer, the interface between the two layers forms a reflective surface.

複屈折とは直交x、yおよびz方向の屈折率がすべて同じであるとは限らないこと意味する。x軸およびy軸が層の平面内であり、z軸が層の平面に対して直角であり、配向ポリマーの場合、x軸は最大屈折率を有する平面内方向であるように選択され、その方向は光学体が配向される(例えば、延伸される)方向の一つに対応する。 Birefringence means that the refractive indices in the orthogonal x, y and z directions are not all the same. In the case of an oriented polymer, the x-axis and y-axis are in the plane of the layer, the z-axis is perpendicular to the plane of the layer, and for oriented polymers, the x-axis is chosen to be the in-plane direction with the highest refractive index, The direction corresponds to one of the directions in which the optical body is oriented (eg, stretched).

複屈折層と等方屈折層両方の平面内屈折率は層間で異なる(すなわち、n1x≠n2x、n1y≠n2y、ここでn1xおよびn1yは、複屈折層の平面内屈折率であり、n2xおよびn2yは等方屈折層の平面内屈折率である)。また、複屈折層、等方屈折層のz軸屈折率が等しい場合、p偏光の反射は光の入射角に依存しない為、視角の範囲に渡って反射率が均一となるので、好ましい。 The in-plane refractive indexes of both the birefringent layer and the isotropic refractive layer are different between the layers (ie, n 1x ≠ n 2x , n 1y ≠ n 2y , where n 1x and n 1y are the in-plane refractive indices of the birefringent layer And n 2x and n 2y are the in-plane refractive indices of the isotropic refractive layer). Further, it is preferable that the z-axis refractive indexes of the birefringent layer and the isotropic refractive layer are equal, since the reflection of p-polarized light does not depend on the incident angle of light, and the reflectance becomes uniform over the range of viewing angles.

複屈折層の平面内屈折率を増加させるために一軸配向、好ましくは二軸配向されている複屈折ポリマー(好ましくは正の複屈折を有するポリマー)を用いることで、複屈折層と等方屈折層の屈折率差を増加させる。 In order to increase the in-plane refractive index of the birefringent layer, a birefringent polymer (preferably a polymer having positive birefringence) that is uniaxially or preferably biaxially oriented is used, and isotropically refracted with the birefringent layer. Increase the refractive index difference of the layer.

各層の光学膜厚は反射させる波長領域の中心波長をλとすると、λ/4となるように制御されている。複屈折層材料は延伸によって(正の複屈折に)配向する材料が用いられ、例えばPEN(ポリエチレンナフタレート)、PET等が用いられる。等方屈折材料は延伸によっても配向しない材料(若しくは延伸によって負に複屈折する材料)が用いられ、例えばPMMA(ポリメチルメタクリレート)等が用いられる。また、複屈折多層構造材料は例えば特表2008−528313の記載されている同時共押出法によって多層膜を形成し、延伸することで作製することができる。前記複屈折層と等方屈折層間の屈折率差は小さい為、多数積層する必要がある。積層数は反射させたい反射領域、製造コスト等を鑑みて3層以上、1000層以下が好ましい。 The optical film thickness of each layer is controlled to be λ c / 4 where λ c is the center wavelength of the wavelength region to be reflected. As the birefringent layer material, a material that is oriented by stretching (positive birefringence) is used. For example, PEN (polyethylene naphthalate), PET, or the like is used. As the isotropic refractive material, a material that is not oriented by stretching (or a material that is negatively birefringent by stretching) is used. For example, PMMA (polymethyl methacrylate) or the like is used. In addition, the birefringent multilayer structure material can be produced by forming a multilayer film and stretching it by, for example, a co-extrusion method described in JP-T-2008-528313. Since the refractive index difference between the birefringent layer and the isotropic refractive layer is small, a large number of layers must be laminated. The number of stacked layers is preferably 3 or more and 1000 or less in view of the reflection region to be reflected, the manufacturing cost, and the like.

「合わせガラス用中間膜」
本発明の合わせガラス用中間膜は、本発明の赤外線遮蔽シートを用いて形成され、前記赤外線遮蔽シートのいずれか一方の最外層の上に中間膜を有することを特徴とする。本発明の合わせガラス用中間膜は、中間膜を本発明の赤外線遮蔽シートの両方の最外層の上にそれぞれ含むことが、合わせガラス化の容易化の観点から好ましい。
"Interlayer film for laminated glass"
The interlayer film for laminated glass of the present invention is formed using the infrared shielding sheet of the present invention, and has an interlayer film on one outermost layer of the infrared shielding sheet. The intermediate film for laminated glass of the present invention preferably includes an intermediate film on both outermost layers of the infrared shielding sheet of the present invention, from the viewpoint of facilitating laminated glass formation.

本発明の合わせガラス用中間膜はさらに第二の中間膜を含むことが好ましい。通常の合わせガラスでは前記赤外線遮蔽シートの両側の前記第一及び第二の中間膜の膜厚は同じであるが、本発明はそのような態様の合わせガラス用中間膜の製造方法に限定されず、前記第一および第二の中間膜の厚さが異なるように積層体を製造することもできる。また、前記第一および第二の中間膜の組成についても、同じであっても異なっていてもよい。 It is preferable that the interlayer film for laminated glass of the present invention further includes a second interlayer film. In ordinary laminated glass, the film thicknesses of the first and second intermediate films on both sides of the infrared shielding sheet are the same, but the present invention is not limited to the method for producing an interlayer film for laminated glass in such an aspect. The laminate can also be manufactured so that the first and second intermediate films have different thicknesses. Further, the compositions of the first and second intermediate films may be the same or different.

第一および第二の中間膜の合わせガラス用中間膜を加熱しながら圧着する工程の前後における熱収縮率は、そのときの加熱温度の範囲において1〜20%であることが好ましく、2〜15%であることがより好ましく、2〜10%であることが特に好ましい。第一および第二の中間膜の厚みは、100〜1000μmであることが好ましく、200〜800μmであることがより好ましく、300〜500μmであることが特に好ましい。また、第一および第二の中間膜は複数のシートを重ねることによって厚膜化してもよい。 The heat shrinkage rate before and after the step of pressure bonding the intermediate film for laminated glass of the first and second intermediate films while heating is preferably 1 to 20% in the range of the heating temperature at that time, and 2 to 15 % Is more preferable, and 2 to 10% is particularly preferable. The thickness of the first and second interlayer films is preferably 100 to 1000 μm, more preferably 200 to 800 μm, and particularly preferably 300 to 500 μm. The first and second intermediate films may be thickened by overlapping a plurality of sheets.

また、第一および第二の中間膜の脆性の基準としては、引張り試験による破断伸びが100〜800%であることが好ましく、100〜600%であることがより好ましく、200〜500%であることが特に好ましい。 Further, as a criterion for brittleness of the first and second interlayer films, the elongation at break by a tensile test is preferably 100 to 800%, more preferably 100 to 600%, and more preferably 200 to 500%. It is particularly preferred.

第一および第二の中間膜は、樹脂中間膜であることが好ましい。樹脂中間膜は、主成分がポリビニルアセタール系の樹脂フィルムであることが好ましい。前記ポリビニルアセタール系の樹脂フィルムとしては特に制限はなく、例えば特開平6−000926号公報や特開2007−008797号公報などに記載のものを好ましく用いることができる。前記ポリビニルアセタール系の樹脂フィルムの中でも、本発明ではポリビニルブチラール樹脂フィルムを用いることが好ましい。前記ポリビニルブチラール樹脂フィルムは、それぞれ、ポリビニルブチラールを主成分とする樹脂フィルムであれば、特に定めるものは無く、広く公知の合わせガラス用中間膜としてのポリビニルブチラール樹脂フィルムを採用できる。その中でも、本発明では、前記中間膜は、ポリビニルブチラールを主成分とする樹脂中間膜またはエチレンビニルアセテートを主成分とする樹脂中間膜であることが好ましく、ポリビニルブチラールを主成分とする樹脂中間膜であることが特に好ましい。なお、主成分である樹脂とは、前記樹脂中間膜の50質量%以上の割合を占める樹脂のことをいう。 The first and second intermediate films are preferably resin intermediate films. The resin interlayer is preferably a polyvinyl acetal-based resin film as a main component. There is no restriction | limiting in particular as said polyvinyl acetal type-resin film, For example, what is described in Unexamined-Japanese-Patent No. 6-000926, Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-008797 etc. can be used preferably. Among the polyvinyl acetal resin films, a polyvinyl butyral resin film is preferably used in the present invention. The polyvinyl butyral resin film is not particularly defined as long as it is a resin film mainly composed of polyvinyl butyral, and a widely known polyvinyl butyral resin film as an interlayer film for laminated glass can be employed. Among them, in the present invention, the intermediate film is preferably a resin intermediate film mainly composed of polyvinyl butyral or a resin intermediate film mainly composed of ethylene vinyl acetate, and a resin intermediate film mainly composed of polyvinyl butyral. It is particularly preferred that In addition, resin which is a main component means resin which occupies the ratio of 50 mass% or more of the said resin intermediate film.

第一および第二の中間膜は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、例えば、熱線遮蔽用の微粒子および遮音用の微粒子、可塑剤を挙げることができる。熱線遮蔽用の微粒子および遮音用の微粒子としては、例えば、無機微粒子、金属微粒子を挙げることができる。このような微粒子を第一または第二の中間膜などの弾性体内に分散混在せしめることにより、遮熱の効果を得られる。同時に、このような構成により、音波の伝搬を阻害し、振動減衰効果を得ることが好ましい。また微粒子の構造は球状が望ましいが、真球でなくともよい。またその形状を変えることはしてもよい。また、微粒子は中間膜(好ましくはポリビニルブチラール「以下、PVB」)内で分散していることが望ましく、適当なカプセルに入れることや分散剤とともに添加することもよい。この場合の添加量は、特に制限はないが、樹脂成分の0.1〜10質量%であることも好ましい。 The first and second interlayer films may contain an additive within a range not departing from the gist of the present invention. Examples of the additive include fine particles for heat ray shielding, fine particles for sound insulation, and a plasticizer. Examples of the heat ray shielding fine particles and the sound insulation fine particles include inorganic fine particles and metal fine particles. By dispersing and mixing such fine particles in an elastic body such as the first or second intermediate film, a heat shielding effect can be obtained. At the same time, with such a configuration, it is preferable to inhibit the propagation of sound waves and obtain a vibration damping effect. The structure of the fine particles is preferably spherical, but may not be true. The shape may be changed. The fine particles are desirably dispersed in an intermediate film (preferably polyvinyl butyral “hereinafter PVB”), and may be added in an appropriate capsule or added together with a dispersant. The addition amount in this case is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 10% by mass of the resin component.

無機微粒子としては、炭酸カルシウム、アルミナ、カオリンクレー、珪酸カルシウム、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、炭酸マグネシウム、タルク、長石粉、マイカ、バライト、炭酸バリウム、酸化チタン、シリカ、ガラスビ−ズ等が挙げられる。これらは単独で用いられてもよく、混合して用いられてもよい。 Inorganic fine particles include calcium carbonate, alumina, kaolin clay, calcium silicate, magnesium oxide, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, magnesium carbonate, talc, feldspar powder, mica, barite, barium carbonate, titanium oxide, silica, glass beads. Etc. These may be used alone or in combination.

また、熱線遮蔽微粒子としては、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)、インジウムドープ酸化亜鉛(IZO) 、錫ドープ酸化亜鉛、珪素ドープ酸化亜鉛、アンチモン酸亜鉛、6ホウ化ランタン、6ホウ化セリウム、金微粉、銀微粉、白金微粉、アルミニウム微粉、鉄、ニッケル、銅、ステンレス、スズ、コバルト及びこれらを含む合金粉末等が挙げられる。遮光剤としては、カーボンブラック、赤色酸化鉄等が挙げられる。顔料としては、黒色顔料カーボンブラックと赤色顔料(C.I.Pigmentred)と青色顔料(C.I.Pigmentblue)と黄色顔料(C.I.Pigmentyellow)の4 種を混合してなる暗赤褐色の混合顔料等が挙げられる。 Further, as the heat ray shielding fine particles, tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), aluminum-doped zinc oxide (AZO), indium-doped zinc oxide (IZO), tin-doped zinc oxide, silicon-doped zinc oxide, Examples thereof include zinc antimonate, lanthanum hexaboride, cerium hexaboride, fine gold powder, fine silver powder, fine platinum powder, fine aluminum powder, iron, nickel, copper, stainless steel, tin, cobalt, and alloy powders containing these. Examples of the light shielding agent include carbon black and red iron oxide. The pigment is a dark reddish-brown mixture formed by mixing four types of pigments: black pigment carbon black, red pigment (CI Pigmentred), blue pigment (CI Pigmentblue), and yellow pigment (CI Pigmentyellow). And pigments.

可塑剤としては、特に限定されず、この種の中間膜用の可塑剤として一般的に用いられている公知の可塑剤を用いることができる。例えば、トリエチレングリコール−ジ−2−エチルブチレート(3GH)、トリエチレングリコール−ジ−2−エチルヘキサノエート(3GO)、トリエチレングリコール−ジ−n−ヘプタノエート(3G7) 、テトラエチレングリコール−ジ−2−エチルヘキサノエート(4GO) 、テトラエチレングリコール−ジ−n−ヘプタノエート(4G7)、オリゴエチレングリコール−ジ−2−エチルヘキサノエート(NGO)などが好適に用いられる。これらの可塑剤は、一般に、前記樹脂中間膜の主成分である樹脂(好ましくは、ポリビニルアセタール樹脂)100質量部に対して25〜70質量部の範囲で用いられる。 It does not specifically limit as a plasticizer, The well-known plasticizer generally used as a plasticizer for this kind of intermediate film can be used. For example, triethylene glycol-di-2-ethylbutyrate (3GH), triethylene glycol-di-2-ethylhexanoate (3GO), triethylene glycol-di-n-heptanoate (3G7), tetraethylene glycol- Di-2-ethylhexanoate (4GO), tetraethylene glycol-di-n-heptanoate (4G7), oligoethylene glycol-di-2-ethylhexanoate (NGO) and the like are preferably used. These plasticizers are generally used in a range of 25 to 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass of a resin (preferably polyvinyl acetal resin) that is a main component of the resin interlayer.

本発明の合わせガラス用中間膜の製造方法は、本発明の赤外線遮蔽シート/中間膜の順に積層後に前記中間膜と前記赤外線遮蔽シートを熱接着する工程を含むことが好ましい。熱接着の方法としては特に制限はなく、加熱体を押し当てる熱圧着や、レーザー照射による加熱での熱融着などを採用することができる。その中でも本発明の積層体の製造方法は、中間膜に対して赤外線遮蔽シートを熱接着する工程が熱圧着であることが好ましい。
熱圧着の方法としては特に制限はないが、例えば80〜140℃の加熱体を押し当てる方法が好ましい。加熱体としては、平面でも曲面でもよく、ローラーでもよい。熱圧着には、複数の加熱ローラーや、加熱可能な平面の挟圧面などを用いることができ、これらを組み合わせて用いてもよい。また、熱圧着は前記赤外線遮蔽シート/中間膜の積層体の両方の面に対して行っても、片面のみに行なってもよく、その場合は、熱圧着に用いるローラーの一方が加熱していないローラーや挟圧面であってもよい。これらの中でも本発明の積層体の製造方法は、前記熱圧着工程で加熱ローラーを用いることが好ましく、加熱ローラーと非加熱ローラーを組み合わせて用いることがより好ましい。
It is preferable that the manufacturing method of the intermediate film for laminated glasses of this invention includes the process of heat-bonding the said intermediate film and the said infrared shielding sheet after laminating | stacking in order of the infrared shielding sheet / intermediate film of this invention. There is no restriction | limiting in particular as the method of thermal bonding, The thermocompression bonding which presses a heating body, the heat sealing | fusion by the heating by laser irradiation, etc. are employable. Among them, in the method for producing a laminate of the present invention, it is preferable that the step of thermally bonding the infrared shielding sheet to the intermediate film is thermocompression bonding.
Although there is no restriction | limiting in particular as the method of thermocompression bonding, For example, the method of pressing a 80-140 degreeC heating body is preferable. The heating body may be a flat surface, a curved surface, or a roller. For thermocompression bonding, a plurality of heating rollers, a heatable flat pressing surface, or the like can be used, and these may be used in combination. Further, the thermocompression bonding may be performed on both surfaces of the infrared shielding sheet / interlayer laminate, or only on one surface. In that case, one of the rollers used for thermocompression bonding is not heated. It may be a roller or a pressing surface. Among these, the method for producing a laminate of the present invention preferably uses a heating roller in the thermocompression bonding step, and more preferably uses a combination of a heating roller and a non-heating roller.

通常、中間膜は貼着の際に空気が逃げ易いように表面がエンボス加工などにより粗面状態にされている。貼り合わせた面は被着面に倣って平滑になり、光学性能が良くなるが、もう一方の面はガラス板等に貼り合わせる為に粗面状態を保持する必要がある。従って、熱圧着ローラーのうち中間膜に接する側のローラーの表面は粗面状態にして、中間膜の粗面状態を保つようにすることが好ましい。すなわち、中間膜の少なくとも一方の表面がエンボス加工されてあり、エンボス加工された表面が本発明のシートと接するように積層することが好ましい。また、熱圧着後に中間膜の赤外線遮蔽シートと接していない面を積極的にエンボス加工してもよい。 Usually, the surface of the intermediate film is roughened by embossing or the like so that air can easily escape during sticking. The bonded surface becomes smooth following the adherend surface, and the optical performance is improved. However, the other surface needs to be maintained in a rough state in order to be bonded to a glass plate or the like. Therefore, it is preferable that the surface of the roller on the side in contact with the intermediate film in the thermocompression-bonding roller is roughened so as to keep the roughened state of the intermediate film. That is, it is preferable to laminate so that at least one surface of the intermediate film is embossed and the embossed surface is in contact with the sheet of the present invention. Moreover, you may actively emboss the surface which is not in contact with the infrared shielding sheet of an intermediate film after thermocompression bonding.

なお、赤外線遮蔽シート作製時に使用した透明支持体は前記熱接着工程前後で剥離しても良いし、剥離せずに合わせガラス用中間膜の一部としても良い。 In addition, the transparent support body used at the time of infrared shielding sheet preparation may peel before and after the said heat bonding process, and is good also as a part of intermediate film for laminated glasses, without peeling.

本発明の合わせガラス用中間膜の製造方法は第一の中間膜が積層された赤外線遮蔽シートの反対面に第二の中間膜を積層する工程を含むことが好ましい。すなわち、本発明の合わせガラス用中間膜は、第二の中間膜を有することが好ましい。赤外線遮蔽シート2と第二の中間膜3’は隣接していてもよいし、それらの間に他の構成層を含んでいてもよいが、赤外線遮蔽シート2と第二の中間膜3’は隣接していることが好ましい。
これらの積層体は、第一の中間膜と赤外線遮蔽シートの熱圧着工程と同様の方法で熱圧着されることが好ましい。
It is preferable that the manufacturing method of the intermediate film for laminated glasses of this invention includes the process of laminating | stacking a 2nd intermediate film on the opposite surface of the infrared shielding sheet with which the 1st intermediate film was laminated | stacked. That is, the interlayer film for laminated glass of the present invention preferably has a second interlayer film. The infrared shielding sheet 2 and the second intermediate film 3 ′ may be adjacent to each other and may include other constituent layers therebetween, but the infrared shielding sheet 2 and the second intermediate film 3 ′ are It is preferable that it adjoins.
These laminates are preferably thermocompression bonded by the same method as in the thermocompression bonding process of the first intermediate film and the infrared shielding sheet.

前記赤外線遮蔽シートと前記中間膜を含む合わせガラス用中間膜は、加工に際し刃物を用いて切断したり、レーザー、ウオータージェットや熱によって切断したりしてもよい。 The interlayer film for laminated glass including the infrared shielding sheet and the interlayer film may be cut with a blade during processing, or may be cut with a laser, a water jet or heat.

本発明の合わせガラスの用途は、特に制限はないが、住宅や自動車等の窓ガラス用であることが好ましい。本発明の合わせガラスは、上記により得られた本発明の合わせガラス用中間膜と、少なくとも2枚のガラス板を有し、前記2枚のガラス中に前記合わせガラス用中間膜が挿入されたことを特徴とする。また、本発明の合わせガラスは任意のサイズに好ましく裁断することができる。 Although the use of the laminated glass of this invention does not have a restriction | limiting in particular, It is preferable for window glass, such as a house and a motor vehicle. The laminated glass of the present invention has the interlayer film for laminated glass of the present invention obtained as described above and at least two glass plates, and the interlayer film for laminated glass is inserted into the two glasses. It is characterized by. Moreover, the laminated glass of this invention can be preferably cut | judged to arbitrary sizes.

合わせガラス用中間膜を、第一のガラスまたは第二のガラスと積層する方法は、特に制限はなく、公知の方法により2枚のガラス板の間に挿入して積層することができる。 There is no restriction | limiting in particular in the method of laminating | stacking the intermediate film for laminated glasses with 1st glass or 2nd glass, It can insert and laminate | stack between two glass plates by a well-known method.

ガラス板に挟持された積層体は、ガラス板/中間膜/赤外線遮蔽シート/中間膜/ガラス板の順に積層された構成となる。 The laminate sandwiched between the glass plates has a configuration in which the glass plate / intermediate film / infrared shielding sheet / intermediate film / glass plate are laminated in this order.

図4は、本発明の製造方法で得られる、ガラス板に挟持された合わせガラス用中間膜を含む合わせガラスの構造の一例を示す概略図である。赤外線遮蔽シート2の端部が、ガラス板5および5’端部および第一の中間膜3および第二の中間膜3’の端部よりも内側にあってもよい。また、ガラス板5および5’の端部と、第一の中間膜3および第二の中間膜3’端部は、同じ位置であっても、いずれかが突出していてもよい。
また、ガラス板に挟持された積層体は、図4に示すように赤外線遮蔽シート2の端部が、ガラス板の端部および中間膜の端部と同じ位置にあってもよい。一方、赤外線遮蔽シート2の端部は、ガラス板5および5’の端部および第一の中間膜3および第二の中間膜3’の端部よりも突出した構成であってもよい。
FIG. 4 is a schematic view showing an example of the structure of a laminated glass including an interlayer film for laminated glass sandwiched between glass plates, which is obtained by the production method of the present invention. The edge part of the infrared shielding sheet 2 may exist inside the glass plate 5 and 5 'edge part and the edge part of 1st intermediate film 3 and 2nd intermediate film 3'. Moreover, even if the edge part of glass plate 5 and 5 'and the 1st intermediate film 3 and 2nd intermediate film 3' end are the same positions, either may protrude.
Moreover, as shown in FIG. 4, as for the laminated body pinched | interposed into the glass plate, the edge part of the infrared shielding sheet 2 may exist in the same position as the edge part of a glass plate, and the edge part of an intermediate film. On the other hand, the edge part of the infrared shielding sheet 2 may be configured to protrude beyond the end parts of the glass plates 5 and 5 ′ and the end parts of the first intermediate film 3 and the second intermediate film 3 ′.

ガラス板に挟持された積層体は、赤外線遮蔽シート2と第一の中間膜3、および赤外線遮蔽シート2と第二の中間膜3’は、それぞれ隣接していてもよいし、他の構成層を有していてもよい。 In the laminate sandwiched between the glass plates, the infrared shielding sheet 2 and the first intermediate film 3, and the infrared shielding sheet 2 and the second intermediate film 3 ′ may be adjacent to each other, or other constituent layers. You may have.

本発明の合わせガラスの製造方法では、ガラス板が曲率を有さないガラスであっても、曲面ガラスであることが好ましい。また、合わせガラス用中間膜を挟持する2枚のガラス板は厚みが異なっていてもよく、着色されていてもよい。特に、遮熱性を目的として自動車のフロントガラス等に用いる場合は、合わせガラス状態の可視光線透過率がJIS−R3211で定められている70%を下回らない程度にガラス中に金属などの着色成分を混入させてもよく、一般的にはグリーンガラスを用いることで効果的に遮熱性を向上させることができる。グリーンガラスの色濃度については、添加する金属成分の量を調整したり、厚みを調整したりすることで目的に合った濃度に調節することが好ましい。 In the method for producing a laminated glass of the present invention, it is preferable that the glass plate is a curved glass even if the glass plate has no curvature. The two glass plates sandwiching the interlayer film for laminated glass may have different thicknesses or may be colored. In particular, when used for a windshield of an automobile for the purpose of heat insulation, a coloring component such as a metal is added to the glass so that the visible light transmittance in a laminated glass state does not fall below 70% defined in JIS-R3211. The heat shielding property can be effectively improved by using green glass in general. About the color density of green glass, it is preferable to adjust to the density | concentration suitable for the objective by adjusting the quantity of the metal component to add or adjusting thickness.

本発明の合わせガラスの製造方法は、ガラス板に挟持された本発明の合わせガラス用中間膜を加熱しながら圧着する工程を含むことが好ましい。
ガラス板に挟持された本発明の積層体とガラス板との貼りあわせは、例えば、真空
バッグなどで減圧下において、温度80〜120℃、時間30〜60分で予備圧着した後、オートクレーブ中、1.0〜1.5MPaの加圧下で120〜150℃の温度で貼り合せ、2枚のガラスに積層体が挟まれた合わせガラスとすることができる。
加熱圧着終了後、放冷の仕方については特に制限はなく、適宜圧力を開放しながら放冷して、合わせガラス体を得てもよい。本発明では、加熱圧着終了後、圧力を保持した状態で降温を行うことが、得られる合わせガラス体のシワや割れをさらに改善する観点から好ましい。
本発明では、圧力を保持した状態で降温を行った後、次いで圧力を開放する工程を含む
ことが好ましい。具体的には、圧力を保持した状態で降温を行った後、オートクレーブ内の温度が40℃以下になった後に圧力を開放して降温することが好ましい。
It is preferable that the manufacturing method of the laminated glass of this invention includes the process of crimping | bonding, heating the intermediate film for laminated glasses of this invention pinched | interposed into the glass plate.
The lamination of the laminate of the present invention sandwiched between glass plates and the glass plate is, for example, pre-pressed at a temperature of 80 to 120 ° C. for 30 to 60 minutes under reduced pressure with a vacuum bag or the like, and then in an autoclave. Lamination can be performed at a temperature of 120 to 150 ° C. under a pressure of 1.0 to 1.5 MPa, and a laminated glass in which a laminate is sandwiched between two glasses can be obtained.
After the thermocompression bonding, there is no particular limitation on the method of cooling, and the laminated glass body may be obtained by cooling while releasing the pressure as appropriate. In the present invention, it is preferable to lower the temperature while maintaining the pressure after completion of the thermocompression bonding from the viewpoint of further improving the wrinkles and cracks of the obtained laminated glass body.
In the present invention, it is preferable to include a step of releasing the pressure after the temperature is lowered while the pressure is maintained. Specifically, it is preferable to lower the temperature by releasing the pressure after the temperature in the autoclave becomes 40 ° C. or lower after the temperature is lowered while the pressure is maintained.

以下実施例により本発明を更に詳細に説明する。実施例において部は重量部を、%は重量%をそれぞれ意味する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. In Examples, “part” means “part by weight” and “%” means “% by weight”.

(表面抵抗の測定)
表面抵抗計(三菱化学アナリテック社製 ハイレスターUP、ロレスターGP)を用いて測定した。
(屈折率、消衰係数の測定)
各層の波長に対する屈折率、消衰係数はPET基材上に各々作製し、分光エリプソメータ(M−2000、ジェー・エー・ウーラム製)にて測定した。
(Measurement of surface resistance)
The surface resistance was measured using a surface resistance meter (High Lester UP, Lorestar GP, manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.).
(Measurement of refractive index and extinction coefficient)
The refractive index and the extinction coefficient with respect to the wavelength of each layer were prepared on a PET substrate and measured with a spectroscopic ellipsometer (M-2000, manufactured by JA Woollam).

実施例1
(高屈折率樹脂塗布液1の作製)
平均粒子径35nmである酸化チタン(TTO−51A、石原産業製)1.4部、KAYARAD DPHA0.4部、イルガキュアー907 0.05部、アミノアルキルメタクリレート共重合体分散剤0.3部をトルエン7部中に加え、ビーズミルを用いて周速10m/sにて分散させ、高屈折率樹脂層塗布液(高屈液1)を作製した。
Example 1
(Preparation of high refractive index resin coating solution 1)
1.4 parts of titanium oxide (TTO-51A, manufactured by Ishihara Sangyo) having an average particle diameter of 35 nm, 0.4 parts of KAYARAD DPHA, 0.05 parts of Irgacure 907, 0.3 parts of aminoalkyl methacrylate copolymer dispersant are added to toluene. In addition to 7 parts, it was dispersed at a peripheral speed of 10 m / s using a bead mill to prepare a high refractive index resin layer coating solution (high flexure solution 1).

(低屈折率樹脂塗布液1の作製)
平均粒子径25.6nm、粉体抵抗0.8Ω・cmである錫ドープ酸化インジウム(以下、ITO)1.4部、KAYARAD DPHA0.4部、イルガキュアー184 0.05部、アミノアルキルメタクリレート共重合体分散剤0.3部をトルエン7部中に加え、ビーズミルを用いて周速10m/sにて分散させ、低屈折率樹脂層塗布液(低屈液1)を作製した。
(Preparation of low refractive index resin coating solution 1)
1.4 parts of tin-doped indium oxide (hereinafter referred to as ITO) having an average particle diameter of 25.6 nm and a powder resistance of 0.8 Ω · cm, 0.4 parts of KAYARAD DPHA, 0.05 parts of Irgacure 184, aminoalkyl methacrylate 0.3 part of the coalesced dispersant was added to 7 parts of toluene and dispersed at a peripheral speed of 10 m / s using a bead mill to prepare a low refractive index resin layer coating liquid (low bending liquid 1).

(低屈折率樹脂塗布液2の作製)
KAYARAD DPHA(商品名、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製)0.4部、イルガキュアー184(光重合開始剤、BASFジャパン製)0.05部をメチルエチルケトン(以下、MEK)4部に溶解した中に、中空シリカ(V8216、平均粒子径50nm、固形分濃度20重量%、日揮触媒化成製)3部を分散させ、低屈折率樹脂層塗布液(低屈液2)を調製した。
(Preparation of low refractive index resin coating solution 2)
KAYARAD DPHA (trade name, dipentaerythritol hexaacrylate, Nippon Kayaku) 0.4 parts, Irgacure 184 (photopolymerization initiator, BASF Japan) 0.05 parts dissolved in methyl ethyl ketone (hereinafter MEK) 4 parts In this process, 3 parts of hollow silica (V8216, average particle size 50 nm, solid content concentration 20% by weight, manufactured by JGC Catalysts & Chemicals) was dispersed to prepare a low refractive index resin layer coating solution (low bending solution 2).

(積層膜の作製)
反射させる波長を1000nmに設定し、PET基材にQWOT係数が表1の値になるように塗布液を適宜希釈して各層を積層し、層数が8の本発明の赤外線遮蔽シートを作製した。なお、各層はワイヤーバーにて塗布し、100℃、2分間乾燥させ溶媒を蒸発させた後、UV照射によって作製した。
(Production of laminated film)
The reflection wavelength was set to 1000 nm, and the coating liquid was appropriately diluted on the PET substrate so that the QWOT coefficient was the value shown in Table 1, and each layer was laminated to produce an infrared shielding sheet of the present invention having 8 layers. . Each layer was applied by a wire bar, dried at 100 ° C. for 2 minutes to evaporate the solvent, and then produced by UV irradiation.

実施例2
反射させる波長を1000nmに設定し、QWOT係数が表2の値になるように積層した以外は実施例1と同様に層数8の本発明の赤外線遮蔽シートを作製した。
Example 2
An infrared shielding sheet of the present invention having 8 layers was produced in the same manner as in Example 1 except that the wavelength to be reflected was set to 1000 nm and the QWOT coefficient was laminated so as to have the value shown in Table 2.

実施例3
反射させる波長を1000nmに設定し、QWOT係数が表3の値になるように積層した以外は実施例1と同様に層数12の本発明の赤外線遮蔽シートを作製した。
Example 3
The infrared shielding sheet of the present invention having 12 layers was prepared in the same manner as in Example 1 except that the wavelength to be reflected was set to 1000 nm and the QWOT coefficient was laminated so as to have the values shown in Table 3.

実施例4
(低屈折率樹脂塗布液3の作製)
平均粒子径25.6nm、粉体抵抗0.8Ω・cmである錫ドープ酸化インジウム(以下、ITO)1.1部、KAYARAD DPHA0.4部、イルガキュアー184 0.05部、アミノアルキルメタクリレート共重合体分散剤0.3部をトルエン7部中に加え、ビーズミルを用いて周速10m/sにて分散させた。前記作製したITO分散液に中空シリカ(V8216、平均粒子径50nm、固形分濃度20重量%、日揮触媒化成製)1.5部を分散させ、低屈折率樹脂層塗布液(低屈液3)を調製した。
Example 4
(Preparation of low refractive index resin coating solution 3)
1.1 parts of tin-doped indium oxide (hereinafter referred to as ITO) having an average particle diameter of 25.6 nm and a powder resistance of 0.8 Ω · cm, 0.4 parts of KAYARAD DPHA, 0.05 parts of Irgacure 184, co-polymerized with aminoalkyl methacrylate 0.3 part of the coalesced dispersant was added to 7 parts of toluene and dispersed at a peripheral speed of 10 m / s using a bead mill. 1.5 parts of hollow silica (V8216, average particle size 50 nm, solid content concentration 20% by weight, manufactured by JGC Catalysts & Chemicals) is dispersed in the prepared ITO dispersion liquid, and a low refractive index resin layer coating liquid (low bending liquid 3). Was prepared.

(積層膜の作製)
反射させる波長を1000nmに設定し、QWOT係数が表4の値になるように積層した以外は実施例1と同様に層数6の本発明の赤外線遮蔽シートを作製した。
(Production of laminated film)
An infrared shielding sheet of the present invention having 6 layers was produced in the same manner as in Example 1 except that the wavelength to be reflected was set to 1000 nm and the QWOT coefficient was laminated so as to be the value shown in Table 4.

実施例5
(赤外吸収色素合成例)
スルホラン120部にナフタル酸無水物15.9部、尿素29部、モリブデン酸アンモニウム0.40部及び塩化バナジル(V)3.5部加え、200℃まで昇温し、同温度で11時間反応させた。反応終了後65℃まで冷却し、N、N−ジメチルホルムアミド(DMF)100部加え、析出固体をろ過分離した。得られた固体をDMF50部で洗浄し、ウェットケーキ20.3部得た。得られたウェットケーキをDMF100部に加え、80℃に昇温し、同温度で2時間撹拌した。析出固体をろ過分離し、水200部で洗浄しウェットケーキを18.9部得た。得られたウェットケーキを水150部に加え、90に昇温し、同温度で2時間撹拌した。析出固体をろ過分離し、水200部で洗浄してウェットケーキ16.1部を得た。得られたウェットケーキを80℃で乾燥し、赤外吸収色素を12.3部得た。
Example 5
(Infrared absorbing dye synthesis example)
To 120 parts of sulfolane, 15.9 parts of naphthalic anhydride, 29 parts of urea, 0.40 part of ammonium molybdate and 3.5 parts of vanadyl chloride (V) were added, and the temperature was raised to 200 ° C. and reacted at the same temperature for 11 hours. It was. After completion of the reaction, the reaction mixture was cooled to 65 ° C., 100 parts of N, N-dimethylformamide (DMF) was added, and the precipitated solid was separated by filtration. The obtained solid was washed with 50 parts of DMF to obtain 20.3 parts of a wet cake. The obtained wet cake was added to 100 parts of DMF, heated to 80 ° C., and stirred at the same temperature for 2 hours. The precipitated solid was separated by filtration and washed with 200 parts of water to obtain 18.9 parts of a wet cake. The obtained wet cake was added to 150 parts of water, heated to 90, and stirred at the same temperature for 2 hours. The precipitated solid was separated by filtration and washed with 200 parts of water to obtain 16.1 parts of a wet cake. The obtained wet cake was dried at 80 ° C. to obtain 12.3 parts of an infrared absorbing dye.

(赤外吸収色素層の作製)
前記合成した赤外吸収色素 0.02部、KAYARAD DPHA1部、イルガキュアー184 0.05部、アミノアルキルメタクリレート共重合体分散剤0.01部をトルエン7部中に加え、ビーズミルを用いて周速10m/sにて分散させ、赤外吸収色素層塗布液を作製した。
(Preparation of infrared absorbing dye layer)
0.02 part of the synthesized infrared absorbing dye, 1 part of KAYARAD DPHA, 0.05 part of Irgacure 184 and 0.01 part of an aminoalkyl methacrylate copolymer dispersant are added to 7 parts of toluene, and the peripheral speed is measured using a bead mill. An infrared absorbing dye layer coating solution was prepared by dispersing at 10 m / s.

PET基材に赤外吸収色素塗布液を幾何学膜厚が4μmとなるようワイヤーバーにて塗布し、100℃、2分間乾燥させ溶媒を蒸発させた後、UV照射によって赤外吸収色素層を作製した。 The infrared absorbing dye coating solution is applied to a PET substrate with a wire bar so that the geometric film thickness is 4 μm, dried at 100 ° C. for 2 minutes to evaporate the solvent, and then the infrared absorbing dye layer is formed by UV irradiation. Produced.

(積層膜の作製)
前記作製した赤外吸収色素層上に実施例1と同様にして積層し、本発明の赤外線遮蔽シートを作製した。
(Production of laminated film)
It laminated | stacked on the produced infrared absorption pigment | dye layer like Example 1, and the infrared shielding sheet of this invention was produced.

実施例6
(コレステリック液晶膜作製)
LC−242(棒状液晶化合物、BASF製)10部、LC−756(キラル剤、BASF製)0.25部、ルシリンTPO(重合開始剤、BASF)0.5部をシクロペンタノン26部中に加え、液晶膜塗布液1を作製した。
また、液晶膜塗布液1中のLC−756を0.3部に変更して液晶塗布液2を作製した。
Example 6
(Cholesteric liquid crystal film production)
10 parts of LC-242 (rod-like liquid crystal compound, manufactured by BASF), 0.25 part of LC-756 (manufactured by BASF), 0.5 part of lucillin TPO (polymerization initiator, BASF) in 26 parts of cyclopentanone In addition, a liquid crystal film coating solution 1 was prepared.
Moreover, LC-756 in the liquid crystal film coating solution 1 was changed to 0.3 part to prepare a liquid crystal coating solution 2.

PET基材に液晶膜塗布液1、2を幾何学膜厚がそれぞれ4μmとなるようワイヤーバーにて塗布し、130℃、2分間乾燥させ溶媒を蒸発させた後、UV照射によってコレステリック液晶層を作製した。 The liquid crystal film coating solutions 1 and 2 are applied to a PET substrate with a wire bar so that the geometric film thickness is 4 μm respectively, dried at 130 ° C. for 2 minutes to evaporate the solvent, and then UV-irradiated to form a cholesteric liquid crystal layer. Produced.

(積層膜の作製)
前記作製したコレステリック液晶層とは反対のPET基材面に反射させる波長を1000nmに設定し、QWOT係数が表5の値になるように積層した以外は実施例1と同様に層数6の本発明の赤外線遮蔽シートを作製した。
(Production of laminated film)
The number of layers is 6 as in Example 1 except that the wavelength reflected on the PET substrate surface opposite to the prepared cholesteric liquid crystal layer is set to 1000 nm and laminated so that the QWOT coefficient becomes the value shown in Table 5. An infrared shielding sheet of the invention was produced.

比較例1
(低屈折率層の作製)
KAYARAD DPHA(商品名、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製)1部、イルガキュアー184(光重合開始剤、BASFジャパン製)0.01部をメチルエチルケトン(以下、MEK)10部に溶解した中に、酸化ケイ素(MEK−ST、平均粒子径15nm、日産化学製)3.8部を分散させ、低屈折率層塗布液(低屈液4)を調製した。
Comparative Example 1
(Preparation of low refractive index layer)
While dissolving 1 part of KAYARAD DPHA (trade name, dipentaerythritol hexaacrylate, Nippon Kayaku) and 0.01 part of Irgacure 184 (photopolymerization initiator, manufactured by BASF Japan) in 10 parts of methyl ethyl ketone (hereinafter MEK) Then, 3.8 parts of silicon oxide (MEK-ST, average particle size 15 nm, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was dispersed to prepare a low refractive index layer coating solution (low flexion solution 4).

(積層膜の作製)
反射させる波長を1000nmに設定し、QWOT係数が表6の値になるように積層した以外は実施例1と同様に層数8の比較用の赤外線遮蔽シートを作製した。
(Production of laminated film)
A comparative infrared shielding sheet having 8 layers was prepared in the same manner as in Example 1 except that the wavelength to be reflected was set to 1000 nm and the QWOT coefficient was laminated so as to have the values shown in Table 6.

実施例1〜6および比較例1の赤外線遮蔽シートの可視光透過率、ヘイズ、全日射エネルギーを測定した結果を表7に示す。
(可視光透過率の測定)
分光光度計(島津製作所社製 UV−3100)を用いて、JIS R3106に準拠して、得られた赤外線遮蔽シートの波長380nm〜780nmにおける上記可視光透過率を測定した。
(全日射エネルギー(Tts)の測定)
全日射エネルギー(Tts;Total Solar Transmittance)は太陽からの熱的エネルギーのうち、対象となる材料をどの程度透過するかという尺度であり、ISO13837に定義されている計算式にて算出した。算出された数値が小さいほど全日射エネルギーが小さいことを示し、熱線遮蔽性が高いことを示す。
(ヘイズ値の測定)
ヘーズメーター(東京電色社製 TC−HIIIDPK)を用いて、JIS K6714に準拠して、得られた赤外線遮蔽シートのヘイズ値を測定した。
Table 7 shows the results of measuring the visible light transmittance, haze, and total solar radiation energy of the infrared shielding sheets of Examples 1 to 6 and Comparative Example 1.
(Measurement of visible light transmittance)
The visible light transmittance at a wavelength of 380 nm to 780 nm of the obtained infrared shielding sheet was measured using a spectrophotometer (UV-3100 manufactured by Shimadzu Corporation) in accordance with JIS R3106.
(Measurement of total solar energy (Tts))
Total solar energy (Tts) is a measure of how much of the thermal energy from the sun is transmitted through the target material, and was calculated using a formula defined in ISO13837. The smaller the calculated numerical value, the smaller the total solar radiation energy, and the higher the heat ray shielding property.
(Measurement of haze value)
Using a haze meter (TC-HIIIDPK manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd.), the haze value of the obtained infrared shielding sheet was measured according to JIS K6714.

図1、図2、表7より本発明の赤外線遮蔽シートは比較例に比べて、波長780nm〜1500nm領域を効率的に反射していることに加え、波長1500nm〜2500nm領域を吸収していることで、Ttsが大幅に改善されていた。 1, FIG. 2 and Table 7 show that the infrared shielding sheet of the present invention absorbs the wavelength of 1500 nm to 2500 nm in addition to efficiently reflecting the wavelength of 780 nm to 1500 nm compared to the comparative example. Thus, Tts was greatly improved.

実施例5,6は本発明の赤外線遮蔽シートと組み合わせることで、透過率を維持しつつ、赤外線をより効果的に遮蔽することができた。 In Examples 5 and 6, when combined with the infrared shielding sheet of the present invention, infrared rays could be shielded more effectively while maintaining the transmittance.

比較例1は図2より、微粒子による近赤外吸収が無い為、Ttsが不十分であり、さらに人がジリジリ感を感じる1500nm以降の熱線が遮蔽されていない為、不快に感じてしまう事が懸念される。 Since Comparative Example 1 has no near-infrared absorption by fine particles, Tts is insufficient, and heat rays after 1500 nm at which a person feels irritating is not shielded, so that it may feel uncomfortable. Concerned.

実施例7
「合わせガラス用中間膜の作製」
作製した各実施例の赤外線遮蔽シート上に中間膜であるPVBを重ね合わせて積層体を得た。得られた積層体の表面側と裏面側に配置された2つのラミネート用加熱ローラーで全周(4辺)の赤外線遮蔽シートの端部から1mm以下の位置を挟圧し、赤外線遮蔽シートと中間膜を熱圧着して貼り合わせた。このとき、ラミネート用加熱ローラーは中間膜の裏面のエンボスをつぶさないように中間膜側のラミネートローラーは25℃とし、逆に中間膜の赤外線遮蔽シート側表面のエンボスを十分につぶして中間膜3と赤外線遮蔽シート2の接着性を高めるように透明支持体(PET)側のラミネート用加熱ローラーを120℃とした。その後、第二の中間膜であるPVBを積層し、各実施例の合わせガラス用中間膜を作製した。
Example 7
"Preparation of interlayer film for laminated glass"
A laminate was obtained by overlaying PVB, which is an intermediate film, on the infrared shielding sheet of each example produced. A position of 1 mm or less from the end of the infrared shielding sheet on the entire circumference (4 sides) is sandwiched between two laminating heating rollers arranged on the front side and the back side of the obtained laminate, and the infrared shielding sheet and the intermediate film Were bonded by thermocompression bonding. At this time, the laminating heating roller is set to 25 ° C. so that the embossing on the back surface of the intermediate film is not crushed, and conversely, the embossing on the infrared shielding sheet side surface of the intermediate film is sufficiently crushed. The heating roller for laminating on the transparent support (PET) side was set to 120 ° C. so as to enhance the adhesion between the infrared shielding sheet 2 and the infrared shielding sheet 2. Then, PVB which is a 2nd intermediate film was laminated | stacked, and the intermediate film for laminated glasses of each Example was produced.

「合わせガラス化」
前記作製した合わせガラス用中間膜を、ガラス/中間膜/赤外線遮蔽シート/第二の中間膜/ガラスとなるように、重ね合わせてガラス板に挟持された積層体を製造した。ここで、ガラス板の端部と中間膜の端部は同じ位置であった。また、前記ガラス板は厚さが2mmのものを用いた。得られたガラス板に挟持された積層体を真空下、95℃で30分予備圧着をおこなった。予備圧着後、ガラス板に挟持された積層体をオートクレーブ内で1.3MPa、120℃ の条件で加熱しながら圧着処理し、合わせガラスを作製した。
“Laminated glass”
The produced laminated film was laminated and sandwiched between glass plates so that the intermediate film for laminated glass was glass / intermediate film / infrared shielding sheet / second intermediate film / glass. Here, the edge part of the glass plate and the edge part of the intermediate film were the same positions. The glass plate having a thickness of 2 mm was used. The laminate sandwiched between the obtained glass plates was pre-pressed under vacuum at 95 ° C. for 30 minutes. After preliminary pressure bonding, the laminate sandwiched between the glass plates was pressure-bonded while being heated in an autoclave at 1.3 MPa and 120 ° C. to produce a laminated glass.

実施例7で作製した、各実施例の赤外線遮蔽シートを含む合わせガラスの性能を評価し
たところ、顕著な欠陥やスジのない良好かつ、ヘイズが0.5以下の透明な遮熱ガラスとして働くことを確認した
When the performance of the laminated glass including the infrared shielding sheet of each example, which was prepared in Example 7, was evaluated, it works as a transparent heat-shielding glass that is free from significant defects and streaks and has a haze of 0.5 or less. It was confirmed

本発明によれば微粒子の赤外線吸収能に加え屈折率差を利用した赤外線反射能を付与する事で、従来の赤外線遮蔽シートと比較して、赤外線による温度上昇を抑えることを見出した。これにより住宅や自動車の空間の温度上昇を抑え、空調機器の負荷を軽減し、省エネルギーや地球環境問題に貢献できる。さらに、赤外線領域を選択的に遮蔽できるので、建造物用の窓用部材、車両用の窓用部材、冷蔵、冷凍ショーケースの窓ガラス、IRカットフィルター、偽造防止等に利用可能である。 According to the present invention, it has been found that, by providing infrared reflectivity utilizing a difference in refractive index in addition to the infrared absorption capability of fine particles, temperature increase due to infrared rays is suppressed as compared with conventional infrared shielding sheets. As a result, the temperature rise in the space of houses and cars can be suppressed, the load on the air conditioning equipment can be reduced, and energy saving and global environmental problems can be contributed. Furthermore, since the infrared region can be selectively shielded, it can be used for building window members, vehicle window members, refrigeration, frozen showcase window glass, IR cut filters, forgery prevention, and the like.

1・・・合わせガラス用中間膜
2・・・赤外線遮蔽シート(透明支持体を含んでもよい)
3、3’・・・中間膜
4・・・合わせガラス
5、5’・・・ガラス板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Intermediate film for laminated glass 2 ... Infrared shielding sheet (a transparent support may be included)
3, 3 '... intermediate film 4 ... laminated glass 5, 5' ... glass plate

Claims (13)

透明支持体上に微粒子を含有した高屈折率樹脂層(A)と微粒子を含有し、780nm〜2500nmの赤外線領域で層(A)よりも低屈折率を示す低屈折率樹脂層(B)が交互に積層した積層膜において、低屈折率樹脂層(B)の少なくとも1層が550nmでの屈折率から780nm以上での任意波長における屈折率を差し引いた値が0.1以上であって、かつ、高屈折率樹脂層(A)の少なくとも1層、及び/または低屈折率樹脂層の少なくとも1層の光学膜厚のQWOT係数が1.5以上である事を特徴とする赤外線遮蔽シート。 A high refractive index resin layer (A) containing fine particles on a transparent support and a low refractive index resin layer (B) containing fine particles and exhibiting a lower refractive index than the layer (A) in the infrared region of 780 nm to 2500 nm. In the laminated film alternately laminated, at least one layer of the low refractive index resin layer (B) has a value obtained by subtracting the refractive index at an arbitrary wavelength at 780 nm or more from the refractive index at 550 nm, and An infrared shielding sheet, wherein the QWOT coefficient of the optical film thickness of at least one layer of the high refractive index resin layer (A) and / or at least one layer of the low refractive index resin layer is 1.5 or more. (A)、(B)各層の表面抵抗が1kΩ/□以上であり、前記(A)、(B)の層数の合計が4以上である請求項1に記載の赤外線遮蔽シート。 2. The infrared shielding sheet according to claim 1, wherein (A) and (B) each layer has a surface resistance of 1 kΩ / □ or more, and the total number of layers of (A) and (B) is 4 or more. 可視光透過率が50%以上、ヘイズが8%以下である請求項1または2に記載の赤外線遮蔽シート。 The infrared shielding sheet according to claim 1 or 2, wherein the visible light transmittance is 50% or more and the haze is 8% or less. 前記高屈折率樹脂層(A)に含有される微粒子が酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化セリウム、酸化鉛、ダイヤモンド、酸化亜鉛、ホウ化物、窒化物からなる群より選択される少なくとも一種の微粒子である請求項1乃至3の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。 Fine particles contained in the high refractive index resin layer (A) are titanium oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, tantalum oxide, tungsten oxide, niobium oxide, cerium oxide, lead oxide, diamond, zinc oxide, boride and nitride. The infrared shielding sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the infrared shielding sheet is at least one kind of fine particles selected from the group consisting of: 前記低屈折率樹脂層(B)に含有される微粒子が酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステン、シリカの群から選択される少なくとも一種の微粒子である請求項1乃至4の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。 The fine particles contained in the low refractive index resin layer (B) are at least one kind of fine particles selected from the group consisting of tin oxide, indium oxide, zinc oxide, tungsten oxide, and silica. The infrared shielding sheet according to 1. 前記低屈折率樹脂層(B)に含有される微粒子がSbドープ酸化スズ(ATO)、Snドープ酸化インジウム(ITO)、Gaドープ酸化亜鉛(GZO)、酸素欠乏酸化タングステン、Csドープ酸化タングステン、中空シリカの群から選択される少なくとも一種である請求項1乃至5の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。 Fine particles contained in the low refractive index resin layer (B) are Sb-doped tin oxide (ATO), Sn-doped indium oxide (ITO), Ga-doped zinc oxide (GZO), oxygen-deficient tungsten oxide, Cs-doped tungsten oxide, hollow The infrared shielding sheet according to claim 1, which is at least one selected from the group of silica. 高屈折率樹脂層(A)又は低屈折率樹脂層(B)に含有される微粒子の含有率が90重量%以下である請求項1及至6の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。 The infrared shielding sheet according to any one of claims 1 to 6, wherein the content of fine particles contained in the high refractive index resin layer (A) or the low refractive index resin layer (B) is 90% by weight or less. 高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層が塗布により形成されることを特徴とする請求項1及至7の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。。 The infrared shielding sheet according to any one of claims 1 to 7, wherein the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer are formed by coating. . 請求項1乃至8の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シートと、780nm〜2000nmを選択的に反射するコレステリック液晶膜、複屈折多層膜、又は780nm〜2500nmを選択的に吸収する赤外線吸収色素の少なくとも1種を組み合わせて為る赤外線遮蔽シート。 An infrared shielding sheet according to any one of claims 1 to 8, a cholesteric liquid crystal film that selectively reflects 780 nm to 2000 nm, a birefringent multilayer film, or an infrared absorbing dye that selectively absorbs 780 nm to 2500 nm. An infrared shielding sheet formed by combining at least one kind. 請求項1乃至9の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シートのいずれか一方の最外層の上に中間膜を有する合わせガラス用中間膜。 The intermediate film for laminated glasses which has an intermediate film on the outermost layer of any one of the infrared shielding sheets as described in any one of Claims 1 thru | or 9. ポリビニルブチラールを含む請求項10に記載の合わせガラス用中間膜。 The interlayer film for laminated glass according to claim 10, comprising polyvinyl butyral. 複数のガラス板間に、請求項10または請求項11に記載の合わせガラス用中間膜を挿入して得られる合わせガラス。 Laminated glass obtained by inserting the interlayer film for laminated glass according to claim 10 or 11 between a plurality of glass plates. 請求項1乃至9の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シートおよび請求項10または11に記載の合わせガラス用中間膜、または請求項12に記載の合わせガラスを積層して得られる窓用部材。
The member for windows obtained by laminating | stacking the infrared shielding sheet as described in any one of Claims 1 thru | or 9, the intermediate film for laminated glasses of Claim 10 or 11, or the laminated glass of Claim 12.
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